(57)【要約】【課題】錆の発生が抑制され、良好な磁気特性が確実に得られる信頼性が高いボンド磁石及びその製造方法を提供する。【解決手段】ボンド磁石１０は、希土類元素を含む磁性粉１２と、結合材料１４と、を含み、シート状に成形され、表面１０Ａにアルキルナフタレンスルホン酸を含む溶液を接触させる表面処理が施されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
希土類元素を含む磁性粉と、結合材料と、アルキルナフタレンスルホン酸の金属塩と、を含むことを特徴とするボンド磁石。
【請求項２】
希土類元素を含む磁性粉と、結合材料と、アルキルナフタレンスルホン酸と、を含むことを特徴とするボンド磁石。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記結合材料は、熱硬化性樹脂であることを特徴とするボンド磁石。
【請求項４】
希土類元素を含む磁性粉と、結合材料と、を含み、所定の形状に成形され、表面にアルキルナフタレンスルホン酸を含む溶液を接触させる表面処理が施されたことを特徴とするボンド磁石。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかにおいて、
前記磁性粉の表面の一部が前記アルキルナフタレンスルホン酸の金属塩で被覆されていることを特徴とするボンド磁石。
【請求項６】
希土類元素を含む磁性粉及び結合材料を含む材料を所定の形状に成形して磁性部材を作製する工程と、この磁性部材の表面に、アルキルナフタレンスルホン酸を含む溶液を接触させる表面処理工程と、を含むことを特徴とするボンド磁石の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、ＩＴ関連機器、コンピュータ周辺機器、ＯＡ機器等の分野で用いられるボンド磁石及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、例えばＩＴ関連機器等に用いられるマイクロモータや、レーザプリンタのマグネットロール等は、機器の小型化や可動部の高速化が求められており、これらを構成する永久磁石の小型化が要望されている。この要望に対し、永久磁石としてボンド磁石を採用した機器が増加している。
【０００３】
ボンド磁石は、磁性粉と、結合材料と、を混練し、押出成形、金型を用いた圧縮成形やロール圧延成形により所望の形状に成形したものである（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
磁性粉の材料は、保磁力が高い、磁気特性に優れた磁性材料であることが好ましい。このような磁性材料として、例えばＮｄ（ネオジウム）−Ｆｅ（鉄）−Ｂ（ホウ素）系材料等の、希土類元素を含む磁性材料が知られている。尚、結合材料としては、樹脂やゴム等が用いられる。
【０００５】
ボンド磁石は成形が容易であるため、小型でも高精度な成形が可能である。又、希土類元素を含む保磁力が高い磁性粉を含むボンド磁石は小型でも強い磁力が得られる。従って、小型の永久磁石として好適である。
【０００６】
一方、希土類元素を含む磁性粉は錆びやすいという欠点があり、個々の磁性粉は結合材料で被覆されているものの、ボンド磁石の表面付近において錆が発生してしまうことがある。この錆のためにボンド磁石の磁気特性が劣化するという問題がある。
【０００７】
これに対し、ボンド磁石の防錆方法として、磁性粉の表面を有機燐酸エステル系化合物又はシリルイソシアネート系化合物で被覆する方法（例えば、特許文献２参照）、磁性粉の表面を金属アルコキシド等で処理する方法（例えば、特許文献３参照）、又、磁性粉の表面にバインダー樹脂を均一に付着させた後、カルボン酸金属塩又は鉄よりも酸化電位が卑な金属粉を吸着或いは付着させる方法が知られている（例えば、特許文献４参照）。
【０００８】
尚、ボンド磁石とは構成が異なるが、焼結により製造される希土類鉄系磁石の防錆方法として、磁石の表面に、カルボン酸、金属せっけん、アンモニウム塩、スルホン酸塩、アミン類、エステル、チオ燐酸塩のうちの１種若しくは２種以上の防錆剤を含む有機皮膜を形成する方法が知られている（例えば、特許文献５参照）。
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−１９７３８号公報
【特許文献２】特開２００２−９３６１１号公報
【特許文献３】特開２００１−１７６７１１号公報
【特許文献４】特開平１−１４７８０６号公報
【特許文献５】特開昭６２−２８６２０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、これらの公知の防錆方法を用いても、ボンド磁石の錆の発生を充分に抑制することは困難であった。
【００１１】
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであって、錆の発生が抑制され、良好な磁気特性が確実に得られる信頼性が高いボンド磁石及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、希土類元素を含む磁性粉と、結合材料と、アルキルナフタレンスルホン酸の金属塩と、を含むことを特徴とするボンド磁石により、上記目的を達成するものである。
【００１３】
又、本発明は、希土類元素を含む磁性粉と、結合材料と、アルキルナフタレンスルホン酸と、を含むことを特徴とするボンド磁石により、上記目的を達成するものである。
【００１４】
又、本発明は、ボンド磁石の表面にアルキルナフタレンスルホン酸を含む溶液を接触させる表面処理を施すことにより、上記目的を達成するものである。
【００１５】
ボンド磁石の表面にアルキルナフタレンスルホン酸を含む溶液を接触させる表面処理を施すことにより、錆の発生が抑制される理由は必ずしも明らかではないが、概ね次のように推定される。
【００１６】
ボンド磁石の表面にアルキルナフタレンスルホン酸が接触することにより化学的に安定な有機スルホン酸の金属塩が生成され、この金属塩で磁性粉の表面が被覆されるため、錆の発生が抑制されると推測される。
【００１７】
又、他の理由としては、有機スルホン酸が、その親水性の官能基においてボンド磁石の表面に強く結びつき、且つ、疎水性のアルキル基においてボンド磁石の表面を被覆するため、ボンド磁石の表面と水分との接触が阻まれ、錆の発生が抑制されていることが推測される。
【００１８】
即ち、次のような本発明により、上記目的を達成することができる。
【００１９】
（１）希土類元素を含む磁性粉と、結合材料と、アルキルナフタレンスルホン酸の金属塩と、を含むことを特徴とするボンド磁石。
【００２０】
（２）希土類元素を含む磁性粉と、結合材料と、アルキルナフタレンスルホン酸と、を含むことを特徴とするボンド磁石。
【００２１】
（３）  （１）又は（２）において、前記結合材料は、熱硬化性樹脂であることを特徴とするボンド磁石。
【００２２】
（４）希土類元素を含む磁性粉と、結合材料と、を含み、所定の形状に成形され、表面にアルキルナフタレンスルホン酸を含む溶液を接触させる表面処理が施されたことを特徴とするボンド磁石。
【００２３】
（５）  （１）乃至（４）のいずれかにおいて、前記磁性粉の表面の一部が前記アルキルナフタレンスルホン酸の金属塩で被覆されていることを特徴とするボンド磁石。
【００２４】
（６）希土類元素を含む磁性粉及び結合材料を含む材料を所定の形状に成形して磁性部材を作製する工程と、この磁性部材の表面に、アルキルナフタレンスルホン酸を接触させる表面処理工程と、を含むことを特徴とするボンド磁石の製造方法。
【００２５】
尚、「ボンド磁石」という用語は一般的には着磁されたものを意味するが、本出願においては、磁性粉と、結合材料と、を含み、所定の形状に成形されたものであれば、着磁される前のものも含む意義で「ボンド磁石」という用語を用いることとする。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、錆の発生が抑制され、良好な磁気特性が確実に得られる信頼性が高いボンド磁石を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００２８】
図１に示されるように、本実施形態に係るボンド磁石１０は、シート状に成形されており、図２に示されるようにＮｄ、Ｓｍ（サマリウム）等の希土類元素を含む磁性粉１２と、結合材料１４と、を含んでいる。
【００２９】
ボンド磁石１０は、表面１０Ａにアルキルナフタレンスルホン酸を含む溶液を接触させる表面処理が施されたことを特徴としている。他の構成については、本発明の理解のために必ずしも必要とは思われないため、説明を適宜省略することとする。
【００３０】
磁性粉１２の具体的な材料としては、例えば、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系材料やＳｍ−Ｆｅ−Ｎ（窒素）系材料を用いることができる。これらのうち、高い保磁力が得られ、低コストで軽量であるという点でＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系材料を用いることが好ましい。
【００３１】
結合材料１４の材料としては、樹脂、ゴム等を用いることができ、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。結合材料１４の材料が熱硬化性樹脂の場合、ボンド磁石１０における結合材料１４の比率が低くても高精度な成形が可能であるとともに、それだけ磁性粉１２の構成比率が高くなるので、良好な磁気特性が得られる。結合材料１４の具体的な材料としては、例えば、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、又はこれらの混合物を用いることができる。これらのうち、残留応力緩和性が少なく、柔軟性、反発性に優れているという点でポリカーボネートポリウレタンを用いることが好ましい。
【００３２】
次に、ボンド磁石１０の前記表面処理の作用について説明する。
【００３３】
ボンド磁石１０は、表面１０Ａにアルキルナフタレンスルホン酸を含む溶液を接触させる表面処理が施されているので、表面１０Ａにおける磁性粉１２の錆の発生が抑制され、良好な磁気特性が確実に得られる。このように錆の発生が抑制される理由は必ずしも明らかではないが、概ね次のように考えられる。
【００３４】
ボンド磁石１０の表面１０Ａにアルキルナフタレンスルホン酸が接触することにより、図３に示されるように化学的に安定なアルキルナフタレンスルホン酸の金属塩１６が生成され、この金属塩１６で磁性粉１２の表面（の一部）が被覆されるため、錆の発生が抑制されると推測される。
【００３５】
又、他の理由としては、図４に示されるように、アルキルナフタレンスルホン酸１８が、その親水性の官能基１８Ａにおいてボンド磁石の表面に強く結びつき、且つ、疎水性のアルキル基１８Ｂにおいてボンド磁石１０の表面１０Ａを被覆するため、水分による錆の発生が抑制されることが推測される。
【００３６】
尚、図３及び図４は、本実施形態のボンド磁石の表面付近の構造を推測して模式的に示したものであり、本発明はこれら図３、図４に示される構造に限定されない。
【００３７】
次に、ボンド磁石１０の製造方法について、図５に示されるフローチャートに沿って説明する。
【００３８】
まず、結合材料１４を有機溶剤に溶解してなるラッカーを調整する（Ｓ１０２）。有機溶剤としては、例えばトルエン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサンやこれらの混合物等を用いることができる。例えば、結合材料１４としてポリカーボネートウレタンを用いる場合、メチルエチルケトンとトルエンとを重量比１：１で混合してなる有機溶媒を使用することができる。尚、ラッカーの全重量に対するラッカー中の結合材料１４の重量の比率が３０％となるようにラッカーを調整することが好ましい。
【００３９】
又、磁性粉１２と表面被覆剤とを混合・攪拌し、磁性粉１２の表面処理を行う（Ｓ１０４）。磁性粉１２はロール急冷法やガスアトマイズ法で作製することができる。尚、ロール急冷法で作製される磁性粉は板状であるのに対し、ガスアトマイズ法で作製される磁性粉は球状である。磁性粉１２が球状の場合、ボンド磁石１０が等方性となり、更に板状の場合よりも比表面積が小さいので、結合材料１４の構成比率を小さくでき、それだけ良好な磁気特性が得られるという利点がある。磁性粉１２としてガスアトマイズ法等により作製したＮｄ―Ｆｅ―Ｂの磁性粉を用いる場合、磁性粉１２に対して０．１ｗｔ％以上、好ましくは０．２ｗｔ％以上のｏ−、又はｍ−フタル酸（表面被覆剤）と、０．５ｗｔ％の水を加え、自動乳鉢を使用してこれらを約３０分混合・攪拌する。これにより、表面被覆剤が磁性粉１２の表面に吸着し、磁性粉１２の表面を被覆する。
【００４０】
このようにして得られたラッカーと磁性粉１２などを混合したものに更に架橋剤を加えて混練し、磁性塗料を調整する（Ｓ１０６）。磁性粉１２の表面に表面被覆剤が吸着されているので、磁性粉１２はラッカーに容易に分散する。
【００４１】
次に、この磁性塗料をフィルム材（図示省略）の上に塗布し、乾燥させてから前記フィルム材から剥離させ、磁性シート（図示省略）を作製する（Ｓ１０８）。
【００４２】
更に磁性シートを加熱して架橋させるとともに圧延、裁断等の加工を施すことにより所定の形状に成形する（Ｓ１１０）。尚、加熱による架橋と圧延の順序は特に限定されない。
【００４３】
次に、成形された磁性シートを、アルキルナフタレンスルホン酸を有機溶剤に溶解してなる溶液に浸漬し、磁性シートの表面にアルキルナフタレンスルホン酸を接触させる表面処理を行う（Ｓ１１２）。尚、有機溶剤としては、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等を用いることができる。
【００４４】
最後に、表面処理を施した磁性シートに外部磁界を印加して着磁する（Ｓ１１４）。これによりボンド磁石１０が得られる。
【００４５】
尚、本実施形態において、磁性シートを加熱して架橋させる例を示しているが、結合材料は熱硬化性樹脂に限定されず、結合材料１４として熱可塑性樹脂等の他の材料を用いたボンド磁石にも本発明を適用可能である。
【００４６】
又、本実施形態において、磁性粉１２の材料としてＮｄ―Ｆｅ―Ｂを例示しているが、磁性粉の材料として例えば、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ等の他の希土類元素を含む磁性材料を用いたボンド磁石にも本発明を適用可能である。
【００４７】
又、本実施形態において、個々の磁性粉１２の表面を表面被覆剤で被覆しているが、磁性粉１２の表面を表面被覆剤で被覆しなくても磁性粉１２がラッカーに容易に分散する場合には、磁性粉表面処理工程（Ｓ１０４）は省略してもよい。
【００４８】
又、本実施形態において、表面処理工程（Ｓ１０８）の後に着磁工程（Ｓ１１０）が設けられているが、成形工程（Ｓ１１０）と、ボンド磁石表面処理工程（Ｓ１１２）と、の間に着磁工程（Ｓ１１０）を設けてもよい。又、着磁していない状態でボンド磁石１０の加工を一旦停止し、他のラインで着磁してもよい。又、着磁していない状態でボンド磁石１０を出荷し、出荷先等で着磁してもよい。
【００４９】
又、本実施形態において、ボンド磁石１０はシート状であるが、ボンド磁石１０の形状は特に限定されず、例えば棒状等の他の形状のボンド磁石についても本発明を適用可能である。
【実施例１】
【００５０】
上記実施形態のとおり、シート状のボンド磁石１０を作製した。
【００５１】
具体的には、結合材料１４としてポリカーボネートウレタンを用い、メチルエチルケトンとトルエンとを重量比１：１で混合してなる有機溶媒で溶解し、ラッカーの全重量に対するラッカー中の結合材料１４の重量の比率が３０％となるようにラッカーを調整した。
【００５２】
又、磁性粉１２としてガスアトマイズ法等により作製した平均粒径が約４５μｍのＮｄ―Ｆｅ―Ｂの磁性粉を用い、磁性粉１２に対して表面被覆剤として２ｗｔ％のｏ−フタル酸と、０．５ｗｔ％の水を加え、これらを約１５分混合・攪拌し、表面被覆剤を磁性粉１２の表面に吸着させた。
【００５３】
次に、上記で得られた磁性粉１２と、ラッカーと、を磁性粉１２と、ラッカー中の結合材料１４と、の重量比が１（磁性粉１２）：２０（結合材料１４）となるように計量して混合し、自動乳鉢（ＡＮＭ１０００型  愛知電機工作所製）で約３０分混練した。尚、磁性粉１２の投入量は約１５０ｇであった。
【００５４】
更に、全重量に対する磁性粉１２及び結合材料１４の重量が８０ｗｔ％になるように、混合有機溶剤を加えると共に、イソシアネート化合物を結合材料１４に対して１０ｗｔ％加えてから、更に約１０分間混練し、磁性塗料を調整した。
【００５５】
このようにして得られた磁性塗料を、シリコン樹脂が塗布された厚さが７５μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（セラピール（登録商標）  東洋メタライジング社製）の上にアプリケーターコーター（ＴＤＫ株式会社製）を用いて乾燥後の厚さが０．５ｍｍとなるように塗布し、乾燥させた後、剥離して磁性シートを作製した。
【００５６】
この磁性シートを約２５Ｎ／ｍの線圧でロール圧延し、更に約１４０℃の温度環境下で約１時間架橋処理してから、所定の寸法に裁断した。
【００５７】
この磁性シートを、ジノニルナフタレンスルホン酸をＩＰＡで溶解した０．５％溶液に約１分間浸漬させて磁性シートの表面にジノニルナフタレンスルホン酸を接触させる表面処理を施し、乾燥させた。
【００５８】
最後に、ボンド磁石１０に着磁コイル（東洋磁気工業株式会社製）を用いて外部磁場を印加し、着磁した。尚、電源は、高圧コンデンサー式着磁器（ＳＣＢ−１５０５Ｓ  日本電磁測器株式会社製）を用いた。ここで、ボンド磁石１０を手で曲げて柔軟性を確認するとともに表面状態を観察した。
【００５９】
次に、ボンド磁石１０の防錆効果を確認した。具体的には、温度が約６０℃、相対湿度が約９０％の高温高湿環境下に約５００時間保存した後、目視によりボンド磁石１０の表面を観察した。僅かな錆が確認されたが、錆の発生は１ｃｍ２あたりに換算して０．０５個以上、０．２個未満だった。
【００６０】
又、ボンド磁石１０の柔軟性及び表面状態を確認した。高温高湿環境下の保存前後で柔軟性、表面状態のいずれについても差は認められなかった。
【００６１】
又、ボンド磁石１０の表面を赤外分光分析法により分析した。ボンド磁石１０の表面処理前には確認されなかったジノニルナフタレンスルホン酸の金属塩が確認された。具体的には、１１００ｃｍ−１付近に吸収ピークが確認された
【実施例２】
【００６２】
上記実施例１に対し、ジノニルナフタレンスルホン酸に代えてジトリデシルナフタレンスルホン酸（アルキルナフタレンスルホン酸）を用いて、ボンド磁石１０の表面処理を行った。具体的には、ジトリデシルナフタレンスルホン酸をＩＰＡで溶解した１％溶液に約１分間浸漬させて磁性シートの表面にジトリデシルナフタレンスルホン酸を接触させた。
【００６３】
その他の条件は実施例１と同様とし、ボンド磁石１０の防錆効果、柔軟性及び表面状態を確認するとともにボンド磁石１０の表面を赤外分光分析法により分析した。
【００６４】
高温高湿環境下に保存した後、目視によりボンド磁石１０の表面を観察したところ、僅かな錆が確認されたが、錆の発生は１ｃｍ２あたりに換算して０．０５個以上、０．２個未満だった。
【００６５】
又、高温高湿環境下の保存前後で柔軟性、表面状態のいずれについても差は認められなかった。
【００６６】
又、ボンド磁石１０の表面を赤外分光分析法により再度分析したところ、ボンド磁石１０の表面処理前には確認されなかったジトリデシルナフタレンスルホン酸の金属塩が確認された。
【実施例３】
【００６７】
上記実施例１に対し、ジノニルナフタレンスルホン酸に代えてジペンタデシルナフタレンスルホン酸（アルキルナフタレンスルホン酸）を用いて、ボンド磁石１０の表面処理を行った。具体的には、ジペンタデシルナフタレンスルホン酸をＩＰＡで溶解した１％溶液に約１分間浸漬させて磁性シートの表面にジペンタデシルナフタレンスルホン酸を接触させた。
【００６８】
その他の条件は実施例１と同様とし、ボンド磁石１０の防錆効果、柔軟性及び表面状態を確認するとともにボンド磁石１０の表面を赤外分光分析法により分析した。
【００６９】
高温高湿環境下に保存した後、目視によりボンド磁石１０の表面を観察したところ、僅かな錆が確認されたが、錆の発生は１ｃｍ２あたりに換算して０．０５個以上、０．２個未満だった。
【００７０】
又、高温高湿環境下の保存前後で柔軟性、表面状態のいずれについても差は認められなかった。
【００７１】
又、ボンド磁石１０の表面を赤外分光分析法により再度分析したところ、ボンド磁石１０の表面処理前には確認されなかったジペンタデシルナフタレンスルホン酸の金属塩が確認された。
【００７２】
[比較例１]
上記実施例１に対し、ジノリルナフタレンスルホン酸に代えてｏ―フタル酸を用いて、ボンド磁石１０の表面処理を行った。具体的には、ｏ―フタル酸をＩＰＡで溶解した１％溶液に約１分間浸漬させて磁性シートの表面にｏ―フタル酸を接触させた。
【００７３】
その他の条件は実施例１と同様とし、ボンド磁石１０の防錆効果、柔軟性及び表面状態を確認した。
【００７４】
高温高湿環境下に保存した後、目視によりボンド磁石１０の表面を観察したところ、１ｃｍ２あたりに換算して０．２個以上、３個未満の錆の発生が確認された。
【００７５】
又、高温高湿環境下の保存前後で柔軟性に差は認められなかったが表面に白色粉末状の異物が析出していた。
【００７６】
[比較例２]
上記実施例１に対し、ジノニルナフタレンスルホン酸に代えて安息香酸を用いて、ボンド磁石１０の表面処理を行った。具体的には、安息香酸をＩＰＡで溶解した１％溶液に約１分間浸漬させて磁性シートの表面に安息香酸を接触させた。
【００７７】
その他の条件は実施例１と同様とし、ボンド磁石１０の防錆効果、柔軟性及び表面状態を確認した。
【００７８】
高温高湿環境下に保存した後、目視によりボンド磁石１０の表面を観察したところ、１ｃｍ２あたりに換算して０．２個以上、３個未満の錆の発生が確認された。
【００７９】
又、高温高湿環境下の保存前後で柔軟性に差は認められなかったが表面に白色粉末状の異物が析出していた。
【００８０】
[比較例３]
上記実施例１に対し、ジノニルナフタレンスルホン酸に代えてアジピン酸を用いて、ボンド磁石１０の表面処理を行った。具体的には、アジピン酸をＩＰＡで溶解した１％溶液に約１分間浸漬させて磁性シートの表面にアジピン酸を接触させた。
【００８１】
その他の条件は実施例１と同様とし、ボンド磁石１０の防錆効果、柔軟性及び表面状態を確認した。
【００８２】
高温高湿環境下に保存した後、目視によりボンド磁石１０の表面を観察したところ、１ｃｍ２あたりに換算して３個以上、１０個未満の錆の発生が確認された。
【００８３】
又、高温高湿環境下の保存前後で柔軟性に差は認められなかったが表面に白色粉末状の異物が析出していた。
【００８４】
[比較例４]
上記実施例１に対し、ジノニルナフタレンスルホン酸に代えてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを用いて、ボンド磁石１０の表面処理を行った。具体的には、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムをＩＰＡで溶解した１％溶液に約１分間浸漬させて磁性シートの表面にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを接触させた。
【００８５】
その他の条件は実施例１と同様とし、ボンド磁石１０の防錆効果、柔軟性及び表面状態を確認した。
【００８６】
高温高湿環境下に保存した後、目視によりボンド磁石１０の表面を観察したところ、１ｃｍ２あたりに換算して０．２個以上、３個未満の錆の発生が確認された。
【００８７】
又、高温高湿環境下の保存前後で柔軟性に差は認められなかったが表面に粘性の異物が析出していた。
【００８８】
[比較例５]
上記実施例１に対し、ジノニルナフタレンスルホン酸に代えてジノニルナフタレンスルホン酸カルシウムを用いて、ボンド磁石１０の表面処理を行った。具体的には、ジノニルナフタレンスルホン酸カルシウムをＩＰＡで溶解した１％溶液に約１分間浸漬させて磁性シートの表面にジノニルナフタレンスルホン酸カルシウムを接触させた。
【００８９】
その他の条件は実施例１と同様とし、ボンド磁石１０の防錆効果、柔軟性及び表面状態を確認した。
【００９０】
高温高湿環境下に保存した後、目視によりボンド磁石１０の表面を観察したところ、１ｃｍ２あたりに換算して０．２個以上、３個未満の錆の発生が確認された。
【００９１】
又、高温高湿環境下の保存前後で柔軟性に差は認められなかったが表面に粘性の異物が確認された。
【００９２】
[比較例６]
上記実施例１に対し、ジノニルナフタレンスルホン酸に代えてジノニルナフタレンスルホン酸アミン塩を用いて、ボンド磁石１０の表面処理を行った。具体的には、ジノニルナフタレンスルホン酸アミン塩をＩＰＡで溶解した１％溶液に約１分間浸漬させて磁性シートの表面にジノニルナフタレンスルホン酸アミン塩を接触させた。
【００９３】
その他の条件は実施例１と同様とし、ボンド磁石１０の防錆効果、柔軟性及び表面状態を確認した。
【００９４】
高温高湿環境下に保存した後、目視によりボンド磁石１０の表面を観察したところ、１ｃｍ２あたりに換算して３個以上、１０個未満の錆の発生が確認された。
【００９５】
又、高温高湿環境下の保存前後で柔軟性、表面状態にいずれについても差は認められなかった。
【００９６】
[比較例７]
上記実施例１に対し、ジノニルナフタレンスルホン酸に代えてジノニルナフタレンスルホン酸マグネシウムを用いて、ボンド磁石１０の表面処理を行った。具体的には、ジノニルナフタレンスルホン酸マグネシウムをＩＰＡで溶解した１％溶液に約１分間浸漬させて磁性シートの表面にジノニルナフタレンスルホン酸マグネシウムを接触させた。
【００９７】
その他の条件は実施例１と同様とし、ボンド磁石１０の防錆効果、柔軟性及び表面状態を確認した。
【００９８】
高温高湿環境下に保存した後、目視によりボンド磁石１０の表面を観察したところ、１ｃｍ２あたりに換算して０．２個以上、３個未満の錆の発生が確認された。
【００９９】
又、高温高湿環境下の保存前後で柔軟性に差は認められなかったが表面に粘性物質が確認された。
【０１００】
以上実施例１〜３及び比較例１〜７の結果を表１に対比して示す。尚、表１において○、△、×はそれぞれ
○：錆の発生が１ｃｍ２あたりに換算して０．０５個以上、０．２個未満
△：錆の発生が１ｃｍ２あたりに換算して０．２個以上、３個未満
×：錆の発生が１ｃｍ２あたりに換算して３個以上、１０個未満
であることを示す。
【０１０１】
【表１】
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【０１０２】
表１に示されるように、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジトリデシルナフタレンスルホン酸、ジペンタデシルナフタレンスルホン酸（アルキルナフタレンスルホン酸）を用いてボンド磁石１０に表面処理を施した実施例１〜３では、これ以外を用いて表面処理を施した比較例１〜７に対し、顕著な防錆効果が確認された。
【０１０３】
これは、赤外分光分析法により確認された、化学的に安定なジノニルナフタレンスルホン酸、ジトリデシルナフタレンスルホン酸、ジペンタデシルナフタレンスルホン酸の金属塩により、ボンド磁石１０の表面が被覆されているためと推測される。
【０１０４】
尚、比較例５、７は、アルキルナフタレンスルホン酸の金属塩でボンド磁石の表面処理を行っているが、充分な防錆効果は得られていない。これより、仮にボンド磁石の表面がアルキルナフタレンスルホン酸の金属塩で被覆されることで良好な防錆効果が得られているとしても、このような金属塩に直接ボンド磁石の表面を接触させることでは良好な防錆効果は得られず、ボンド磁石の表面を、アルキルナフタレンスルホン酸に接触させて表面処理を施すことが重要であることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１０５】
本発明は、例えば、ＩＴ関連機器、コンピュータ周辺機器、ＯＡ機器等の分野で用いられるボンド磁石に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】本発明の実施形態に係るボンド磁石の外観形状を模式的に示す斜視図
【図２】同ボンド磁石の構造を模式的に示す断面図
【図３】同ボンド磁石の表面付近の構造の推測例を模式的に示す断面図
【図４】同ボンド磁石の表面付近の構造の他の推測例を模式的に示す断面図
【図５】同ボンド磁石の製造工程の概要を示すフローチャート
【符号の説明】
【０１０７】
１０…ボンド磁石
１０Ａ…表面
１２…磁性粉
１４…結合材料
１６…金属塩
１８…アルキルナフタレンスルホン酸
１８Ａ…官能基
１８Ｂ…アルキル基
Ｓ１０２…ラッカー調整工程
Ｓ１０４…磁性粉表面処理工程
Ｓ１０６…磁性塗料調整工程
Ｓ１０８…磁性シート作製工程
Ｓ１１０…成形工程
Ｓ１１２…ボンド磁石表面処理工程
Ｓ１１４…着磁工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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