(57)【要約】      （修正有）【課題】  潜像担持体表面への放電生成物の付着による画像欠陥や弾性ブレードのダメージを回避し、より長期に渡って安定して画像を形成することができる画像形成装置を提供することである。【解決手段】  少なくとも帯電手段と、露光手段と、現像手段と、転写手段と、クリーニング手段６と、を有する画像形成装置であって、前記クリーニング手段が、少なくとも前記潜像担持体１に当接される弾性ブレード６４と、該弾性ブレードの潜像担持体移動方向の上流側に配置され、磁界発生手段及び非磁性導電性スリーブが一体化して回転する磁性粒子搬送部材６２ｂ上に前記潜像担持体表面を摺擦する磁性粒子６２ｃからなる磁気ブラシが形成された磁気ブラシクリーニング手段とを有し、前記非磁性導電性スリーブ表面の磁束密度が極大となる領域に、該極大となる領域以外の領域より容量の大きい溝が設けられている画像形成装置である。【選択図】図２
2006243642.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、潜像担持体と、該潜像担持体表面を帯電させる帯電手段と、帯電された前記潜像担持体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段と、該静電潜像を現像剤によってトナー像として現像する現像手段と、該トナー像を被転写体に転写する転写手段と、前記トナー像を転写した後の潜像担持体表面に残留した転写残トナーをクリーニングするクリーニング手段と、を有する画像形成装置であって、
前記クリーニング手段が、少なくとも前記潜像担持体に当接される弾性ブレードと、該弾性ブレードの潜像担持体移動方向の上流側に配置され、磁界発生手段及び非磁性導電性スリーブが一体化して回転する磁性粒子搬送部材上に前記潜像担持体表面を摺擦する磁性粒子からなる磁気ブラシが形成された磁気ブラシクリーニング手段と、を有し、前記非磁性導電性スリーブ表面の磁束密度が極大となる領域に、該極大となる領域以外の領域より容量の大きい溝が設けられていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
さらに、前記転写手段の潜像担時体移動方向下流側に、転写後の潜像担時体表面を除電する除電手段を有することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記非磁性導電性スリーブに、前記現像剤中の主極性に帯電したトナーを前記潜像担持体に移動させる向きのバイアス電圧が印加されることを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記磁性粒子搬送部材が、前記潜像担持体の移動方向と同方向に該潜像担持体の移動速度の２．５〜４．５倍の周速で回転し、前記磁気ブラシが潜像担持体表面を摺擦することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記磁気ブラシを構成する磁性粒子の体積平均粒径が、３〜３５μｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記潜像担持体の最表層が、架橋構造を有する樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記架橋構造を有する樹脂が、電荷輸送能を有する構造単位を含むことを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記潜像担持体の最表層が、さらに電荷輸送性物質を含むことを特徴とする請求項６または７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記架橋構造を有する樹脂が、架橋構造を有するシロキサン系樹脂であることを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記架橋構造を有する樹脂の電荷輸送能を有する構造単位が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物若しくはその誘導体を含むことを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載の画像形成装置。
・一般式（Ｉ）  Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑa］b
（一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｄは可とう性サブユニット、Ｒ2は水素、アルキル基、置換若しくは未置換のアリール基のいずれか、Ｑは加水分解性基を各々表し、ａは１〜３の整数、ｂは１〜４の整数を表す。）
【請求項１１】
前記架橋構造を有する樹脂の電荷輸送能を有する構造単位が、下記一般式（II）で示される化合物から誘導されることを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載の画像形成装置。
・一般式（II）  Ｆ−（（Ｘ）nＲ1−ＺＨ）m
（一般式（II）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ1はアルキレン基、Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＨのいずれか、Ｘは酸素原子または硫黄原子を各々表し、ｍは１〜４の整数、ｎは０または１を表す。）
【請求項１２】
前記正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基Ｆが、下記一般式（III）で表されることを特徴とする請求項１０または１１に記載の画像形成装置。
【化１】
2006243642.tif 000031
（一般式（III）中、Ａｒ1〜Ａｒ4はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を表し、Ａｒ5は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を表し、ｋは０または１である。但し、ｋが１の場合は、Ａｒ1〜Ａｒ5のうち１〜４個は、前記一般式（Ｉ）中の−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑaで表される結合基または前記一般式（II）中の−（Ｘ）nＲ1−ＺＨで表される結合基と結合可能な結合手を有し、ｋが０の場合は、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ5のうち１〜２個は、前記一般式（Ｉ）中の−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑaで表される結合基または前記一般式（II）中の−（Ｘ）nＲ1−ＺＨで表される結合基と結合可能な結合手を有する。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真法を利用した画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真法による画像の形成は、潜像担持体の表面を帯電、露光して作製した静電潜像を着色トナーにより現像してトナー像を作製し、トナー像を転写紙等に転写し、これを熱ロール等で定着して画像を形成することにより行われている。転写工程を終えた後の潜像担持体（以下、「感光体」と称す場合がある）表面には未転写のトナーや、帯電プロセスによって生成した放電生成物などが残留する。
【０００３】
前記放電生成物を十分除去できない場合、放電生成物が空気中の水分を吸収し、画像流れなどの欠陥となる。また、潜像担持体表面の摩擦係数が高くなり、弾性ブレードの当接・摺擦状態が変化してブレードエッジの欠けやめくれなどの原因となる。このため、残留トナーだけでなく、放電生成物を次の画像形成プロセスに先立って除去するクリーニングプロセスが必要になる。
【０００４】
一方、表面層に電荷輸送能を有する構造単位を有し、従来のものに対し熱的、機械的強度に圧倒的に優れ、表面層の摩耗等による劣化を著しく減少させることができる長寿命感光体や（例えば、特許文献１参照）、架橋型表面層を使用した電子写真感光体が提案されている（例えば、特許文献２、３参照）。このような感光体を使用すると、強度が高い故にクリーニングにおける表面摩耗が小さくなり、上述のような課題が顕著に発生してしまうこととなる。
【０００５】
このような課題に対して、弾性ブレードの潜像担持体移動方向の上流側に感光体に近接して磁気ブラシを形成し、これを感光体に接触させて表面を摺擦することで、表面に付着した放電生成物を除去するクリーニング補助部材を設けたクリーニング装置が提案されている（例えば、特許文献４参照）。この方法によれば、放電生成物の付着による画像欠陥や潜像担持体表面の摩擦係数上昇によるクリーニングブレードの劣化をある程度回避することができる。
【０００６】
しかし、この方式においては、潜像担持体と前記磁気ブラシを担持する磁性粒子搬送部材との間に進入する磁性粒子の量が変動することがあり、磁性粒子が高密度となった場合には潜像担持体表面を著しく損傷させてしまう課題を有する。これを回避するためには、潜像担持体−磁性粒子搬送部材間のギャップ変動や磁性粒子中のトナー量の変動によるかさ密度変化などを考慮し、部材の精度を高くする必要があり、コストアップにつながってしまうという問題がある。
【特許文献１】特許第３２６４２１８号明細書
【特許文献２】特開２００３−１８６２１４号公報
【特許文献３】特開２００３−４３８１５号公報
【特許文献４】特開平１０−１４３０３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記問題点を解決することを課題とする。
すなわち、本発明は、潜像担持体表面への放電生成物の付着による画像欠陥や弾性ブレードのダメージを回避し、より長期に渡って安定して画像を形成することができる画像形成装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は以下の本発明により達成される。すなわち、本発明は、
＜１＞  少なくとも、潜像担持体と、該潜像担持体表面を帯電させる帯電手段と、帯電された前記潜像担持体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段と、該静電潜像を現像剤によってトナー像として現像する現像手段と、該トナー像を被転写体に転写する転写手段と、前記トナー像を転写した後の潜像担持体表面に残留した転写残トナーをクリーニングするクリーニング手段と、を有する画像形成装置であって、
前記クリーニング手段が、少なくとも前記潜像担持体に当接される弾性ブレードと、該弾性ブレードの潜像担持体移動方向の上流側に配置され、磁界発生手段及び非磁性導電性スリーブが一体化して回転する磁性粒子搬送部材上に前記潜像担持体表面を摺擦する磁性粒子からなる磁気ブラシが形成された磁気ブラシクリーニング手段と、を有し、前記非磁性導電性スリーブ表面の磁束密度が極大となる領域に、該極大となる領域以外の領域より容量の大きい溝が設けられていることを特徴とする画像形成装置である。
【０００９】
＜２＞  さらに、前記転写手段の潜像担時体移動方向下流側に、転写後の潜像担時体表面を除電する除電手段を有することを特徴とする＜１＞に記載の画像形成装置である。
【００１０】
＜３＞  前記非磁性導電性スリーブに、前記現像剤中の主極性に帯電したトナーを前記潜像担持体に移動させる向きのバイアス電圧が印加されることを特徴とする＜１＞または＜２＞に記載の画像形成装置である。
【００１１】
＜４＞  前記磁性粒子搬送部材が、前記潜像担持体の移動方向と同方向に該潜像担持体の移動速度の２．５〜４．５倍の周速で回転し、前記磁気ブラシが潜像担持体表面を摺擦することを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の画像形成装置である。
【００１２】
＜５＞  前記磁気ブラシを構成する磁性粒子の体積平均粒径が、３〜３５μｍの範囲であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の画像形成装置である。
【００１３】
＜６＞  前記潜像担持体の最表層が、架橋構造を有する樹脂を含むことを特徴とする＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の画像形成装置である。
【００１４】
＜７＞  前記架橋構造を有する樹脂が、電荷輸送能を有する構造単位を含むことを特徴とする＜６＞に記載の画像形成装置である。
【００１５】
＜８＞  前記潜像担持体の最表層が、さらに電荷輸送性物質を含むことを特徴とする＜６＞または＜７＞に記載の画像形成装置である。
【００１６】
＜９＞  前記架橋構造を有する樹脂が、架橋構造を有するシロキサン系樹脂であることを特徴とする＜６＞〜ら＜８＞のいずれかに記載の画像形成装置。
【００１７】
＜１０＞  前記架橋構造を有する樹脂の電荷輸送能を有する構造単位が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物若しくはその誘導体を含むことを特徴とする＜７＞〜＜９＞のいずれかに記載の画像形成装置である
・一般式（Ｉ）  Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑa］b
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｄは可とう性サブユニット、Ｒ2は水素、アルキル基、置換若しくは未置換のアリール基のいずれか、Ｑは加水分解性基を各々表し、ａは１〜３の整数、ｂは１〜４の整数を表す。
【００１８】
＜１１＞  前記架橋構造を有する樹脂の電荷輸送能を有する構造単位が、下記一般式（II）で示される化合物から誘導体されることを特徴とする＜７＞〜＜９＞のいずれかに記載の画像形成装置である。
・一般式（II）  Ｆ−（（Ｘ）nＲ1−ＺＨ）m
一般式（II）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ1はアルキレン基、Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＨのいずれか、Ｘは酸素原子または硫黄原子を各々表し、ｍは１〜４の整数、ｎは０または１を表す。
【００１９】
＜１２＞  前記正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基Ｆが、下記一般式（III）で表されることを特徴とする＜１０＞または＜１１＞に記載の画像形成装置。
【化１】
2006243642.tif 000003
一般式（III）中、Ａｒ1〜Ａｒ4はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を表し、Ａｒ5は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を表し、ｋは０または１である。但し、ｋが１の場合は、Ａｒ1〜Ａｒ5のうち１〜４個は、前記一般式（Ｉ）中の−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑaで表される結合基または前記一般式（II）中の−（Ｘ）nＲ1−ＺＨで表される結合基と結合可能な結合手を有し、ｋが０の場合は、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ5のうち１〜２個は、前記一般式（Ｉ）中の−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑaで表される結合基または前記一般式（II）中の−（Ｘ）nＲ1−ＺＨで表される結合基と結合可能な結合手を有する。
【００２０】
＜１３＞  前記潜像担持体の最表層が、少なくとも一種以上の酸化防止剤を含有することを特徴とする＜６＞〜＜１２＞のいずれかに記載の画像形成装置である。
【００２１】
＜１４＞  前記潜像担持体の最表層が、少なくとも一種以上のアルコール系又はケトン系溶剤に可溶な樹脂を含有することを特徴とする＜６＞〜＜１３＞のいずれかに記載の画像形成装置である。
【００２２】
＜１５＞  前記潜像担持体の最表層が、フッ素原子を有する化合物を含有することを特徴とする＜６＞〜＜１４＞のいずれかに記載の画像形成装置である。
【００２３】
＜１６＞  前記トナーの体積平均粒径が、３〜７μｍの範囲であることを特徴とする＜１＞〜＜１５＞のいずれかに記載の画像形成装置である。
【００２４】
＜１７＞  下記式（１）で規定される前記トナーの形状係数ＳＦ１が１００〜１４０の範囲内であることを特徴とする＜１＞〜＜１６＞のいずれかに記載の画像形成装置である。
・式（１）    ＳＦ１＝（ＭＬ2／Ａ）×（π／４）×１００
上記式（１）中、ＭＬはトナー粒子の絶対最大長、Ａはトナー粒子の投影面積を各々示す。
【発明の効果】
【００２５】
以上に説明したように、本発明によれば、より長期に渡って安定して画像を形成することができる画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の画像形成装置は、少なくとも、潜像担持体と、該潜像担持体表面を帯電させる帯電手段と、帯電された前記潜像担持体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段と、該静電潜像を現像剤によってトナー像として現像する現像手段と、該トナー像を被転写体に転写する転写手段と、前記トナー像を転写した後の潜像担持体表面に残留した転写残トナーをクリーニングするクリーニング手段と、を有する画像形成装置であって、前記クリーニング手段が、少なくとも前記潜像担持体に当接される弾性ブレードと、該弾性ブレードの潜像担持体移動方向の上流側に配置され、磁界発生手段及び導電性の非磁性スリーブが一体化して回転する磁性粒子搬送部材上に前記潜像担持体表面を摺擦する磁性粒子からなる磁気ブラシが形成された磁気ブラシクリーニング手段と、を有し、前記非磁性スリーブ表面の磁束密度が極大となる領域に、該極大となる領域以外の領域より容量の大きい溝が設けられていることを特徴とする。
【００２７】
前述のように、感光体表面に付着した放電生成物を除去するために、磁気ブラシにより感光体表面を摺擦することが有効であるが、磁気ブラシを構成する磁性粒子が感光体とのギャップに進入する量は、感光体及び磁気ブラシの周速、移動方向等の条件により変動する。このため、磁気ブラシを担持する非磁性スリーブ上で一時的に磁性粒子が感光体とのギャップへの進入直前部に滞留したり、滞留した磁性粒子が一度に前記ギャップに進入したりすることがある。
このような磁気ブラシにおける磁性粒子量の変動があった場合、特に高密度の磁性粒子が感光体とのギャップに進入した場合に、感光体表面を傷つけてしまう。
【００２８】
本発明においては、上記のような磁性粒子の滞留部が発生した場合であっても、滞留部における磁性粒子を効率的に逃がすことにより、感光体とのギャップにおける磁気ブラシが高密度とならず、磁気ブラシが高圧力で感光体を摺擦することがないため、感光体表面を傷つけることなく長期に渡って安定的に放電生成物等を除去することができることが見出された。なお、詳細な機構については後述する。
【００２９】
図１は、本発明の画像形成装置の概略構成図である。
図１中、１は感光体ドラム（潜像担持体）であり、矢印ａ方向への回転に伴いその表面には周知の電子写真プロセスによって画像情報に応じた静電潜像が形成される。すなわち、プリント開始となると、感光体ドラム１は帯電手段２によって所定の暗電位まで帯電された後、図示しないレーザビームスキャナから発せられたレーザービーム（露光手段）３によって画像信号に応じた露光がなされる。次に、この感光体ドラム１に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤を担持した現像器（現像手段）４で現像してトナー像を形成するようになっている。
【００３０】
本実施形態では、プロセススピードを２６０ｍｍ／ｓｅｃとし、帯電手段２としてバイアス電圧が印加された帯電ロール２を使用して、感光体ドラム１の表面電位（帯電電位）を−７００Ｖとした。このとき、帯電ロール２に印加されるバイアス電圧として、−７１０Ｖの直流電圧に周波数２．１ｋＨｚ、ピーク トゥ ピーク電圧１．８ｋＶの交流電圧（正弦波）を重畳した。
【００３１】
さらに、レーザービーム３の光量は、露光部の表面電位が−３００Ｖとなるようにした。現像器４の現像ロールは、トナーとキャリアとからなる二成分現像剤を担持・搬送しており、感光体ドラム１の速度の１．７５倍、すなわち４５５ｍｍ／ｓｅｃで回転している。現像器４では、現像ロールに直流電圧に交流電圧を重畳した現像バイアスを印加することで露光部を現像している。現像バイアスは、直流成分を−５８０Ｖ、交流成分を ピーク トゥ ピーク電圧が１．０ｋＶ、周波数４．０ｋＨｚ、デューティー（Ｄｕｔｙ）０．６の矩形波とした。
【００３２】
現像器４によって感光体ドラム１の表面に形成されたトナー像は、転写ロール（転写手段）５によって記録紙（被転写体）７に転写される。そして、トナー像を保持した記録紙７は定着器（図示せず）に送り込まれてトナー像の定着処理がなされる。ここでは、記録紙７にトナー像を転写する例を示したが、被転写体として中間転写体を用い、該中間転写体に転写したトナー像を記録紙に転写する画像形成装置であってもよい。
【００３３】
記録紙７にトナー像を転写する領域を通過した感光体ドラム１の表面には、記録紙７に転写できなかったいわゆる残留トナーが存在している。この残留トナーは、感光体ドラム１の回転に伴い、クリーニング手段６に達し、クリーニングされる。ここで、転写ロール５の下流側のクリーニング手段６付近で、感光体ドラム１の表面はクリーニング前露光装置（除電手段）８によって露光・除電されて、０〜−５０Ｖの範囲となっている。
【００３４】
次に、図１に示す画像形成装置におけるクリーニング装置（クリーニング手段）６について説明する。
クリーニング装置６の構成概略図を図２に示す。クリーニング装置６におけるクリーニング補助部材６２は、搬送量規制部材６２ａと磁性粒子搬送部材６２ｂと磁性粒子６２ｃとより構成されている。磁性粒子搬送部材６２ｂに吸着されている磁性粒子６２ｃは、搬送量規制部材６２ａによって搬送量が規制され、磁気ブラシを形成して感光体ドラム１表面に接触し、摺擦する。また、クリーニング装置６内の下部にはトナー搬送手段であるオーガ６３が配設され、このオーガ６３により廃トナーをクリーニング装置６の外に排出する。
【００３５】
本発明においては、磁性粒子搬送部材６２ｂを、図３に示すように内部にマグネットロール（磁界発生部材）６２ｂ２と、これと一体となって回動する非磁性導電性スリーブ６２ｂ１とにより構成した。この磁性粒子搬送部材６２ｂは、感光体ドラム１表面に所望の間隙をもって配置され、感光体ドラム１表面との最近接位置で感光体ドラム１と同方向に移動（回転）し、磁性粒子６２ｃよりなる磁気ブラシを回転搬送するものである。これにより、主として感光体ドラム１表面に付着した放電生成物を除去する。
【００３６】
前記磁性粒子搬送部材６２ｂを、感光体ドラム１の移動方向（矢印ａ方向）と同方向（矢印ｂ方向）に回転させることにより、磁気ブラシから感光体ドラム１と弾性ブレード６１との当接部に残留トナーや微粒子を供給でき、弾性ブレード６１がダメージを受けることを防止する効果がある。ただし、このような回転方向で使用する場合には、逆方向に回転する場合に比べて、感光体ドラム１と磁気ブラシとのニップ部に磁性粒子６２ｃが進入しやすくなるため、磁性粒子６２ｃが高密度となり、感光体ドラム１の表面を傷つけたり、磨耗量を増加させたりしやすくなる。
【００３７】
本発明者等は、上記問題に対しどのような形で磁性粒子の高密度化が起こるのかについて検討を行った。
具体的には、磁極位置によらず、表面の長手方向（図２における手前から奥にかけての方向）に、直線状で同一深さの三角溝を７．２°ピッチで形成した磁性粒子搬送部材６２ｂを使用し、感光体ドラム１を回転させずに磁性粒子搬送部材６２ｂを非常に低速で回転させて、感光体ドラム１とのニップ部（ギャップ）上流側を観察したところ、わずかながら磁性粒子６２ｃが滞留することがあることがわかった。
【００３８】
上記滞留する部分（滞留部）の位置を、図３に示すマグネットロール６２ｂ２の磁極（Ｎ極、Ｓ極）と対応付けて調べたところ、前記磁極付近の位置に対応する磁気ブラシがニップ部に進入する時には滞留部がやや減少し、磁極間に位置に対応する磁気ブラシでは滞留部が増加していることがわかった。
【００３９】
この現象から、前記磁性粒子の高密度化は以下のようなメカニズムによって起こると考えられた。
すなわち、磁極間の位置では磁性粒子搬送部材６２ｂ上の磁性粒子の密度が高くなっているが、磁性粒子搬送部材６２ｂの回転中心方向に磁性粒子６２ｃをひきつける力が弱いため、感光体ドラム１との摺擦によってニップ部中に進入できない磁性粒子６２ｃが滞留する。逆に、磁極付近の位置では磁気的な拘束力が強いため、前記滞留した磁性粒子６２ｃをニップ部に進入させてしまい、ニップ部中の磁性粒子６２ｃの密度が高くなって、感光体ドラム１の表面を損傷させてしまう。また、このような状態は、磁性粒子６２ｃ中にトナーが混入して磁気ブラシのかさ密度が変動する場合や磁性粒子搬送部材６２ｂと感光体ドラム１のギャップの変動が大きい場合、より顕著な課題となる。
【００４０】
本発明においては、磁気的な拘束力は大きいものの磁性粒子６２ｃの密度が低い磁極付近の磁束密度が極大となる領域に、該極大となる領域よりも容量の大きい溝を形成することにより、前記磁性粒子の滞留部が形成されにくくなることを見出した。具体的には、例えば図５の磁極付近の非磁性導電性スリーブの断面図に示すように、非磁性導電性スリーブ６２ｂ１の磁束密度が極大となる領域Ａに、それ以外の領域に設けられた三角溝８０ａ、８０ｂ、８０ｃ、８０ｄより容量の大きい角溝７０ａ、７０ｂ、７０ｃを設ける。
【００４１】
図６に、表面に上記溝を設けた非磁性導電性スリーブが磁性粒子を担持して感光体ドラムに近接している状態を示すが、非磁性導電性スリーブ６２ｂ１の表面を前記のようにすることで、図６（ａ）に示すように、三角溝８０ａ、８０ｂ付近の磁束密度が低い領域に基づく磁性粒子６２ｃの滞留部Ｃが、感光体ドラム１とのニップ部Ｂに進入させられても、図６（ｂ）に示すように、滞留分の磁性粒子６２ｃが、滞留部Ｃの下流側に位置する三角溝８０ａ、８０ｂより容量の大きい角溝７０ａ、７０ｂ、７０ｃの内部（回転中心方向）へと入り込むことができるようになると考えられる。そして、上記滞留分の磁性粒子６２ｃの逃げにより、感光体ドラム１表面を必要以上に高密度・高圧力で摺擦することが回避でき、感光体ドラム１を損傷させずに表面を摺擦することができる。
【００４２】
以上のように、本発明においては非磁性導電性スリーブ表面の磁束密度が極大となる領域に、該極大となる領域以外の領域より容量の大きい溝が設けることで、前述のような効果が得られ感光体ドラムの損傷を回避することができる。
ここで、前記磁束密度が極大となる領域について、より具体的に説明する。
【００４３】
図４に、本実施形態における磁性粒子搬送部材表面の磁束密度分布を、磁性粒子搬送部材の端部側から見た図を示す。図における実線は法線方向（半径方向）磁束密度を、点線は円周方向磁束密度を示す。
図に示すように、本実施形態で用いた磁性粒子搬送部材の表面の磁極付近の磁束密度の極大値は、約１００ｍＴである。本発明においては、磁束密度の極大値は８０〜１２０ｍＴの範囲とすることが好ましい。
【００４４】
本発明における前記磁束密度が極大となる領域とは、図における磁束密度の法線方向成分のピーク部分のうち、円周方向成分と交差する点Ｐ、Ｑ挟まれた領域に相当する非磁性導電性スリーブ表面の領域をいい、具体的には、非磁性導電性スリーブ表面の磁束密度が、極大値に対して８０〜１００％の範囲の領域をいう。
【００４５】
前記磁束密度が極大となる領域に設けられる溝の容量は、それ以外の溝の容量の４〜３０倍の範囲であることが好ましく、８〜２０倍の範囲であることがより好ましい。容量が４倍未満では、滞留した磁性粒子を感光体表面を傷つけない程度まで十分に溝に逃げさせることができない場合がある。容量が３０倍を超えると、極大領域の溝が大きくなりすぎ磁性粒子の搬送量が不均一になってしまう場合がある。
【００４６】
また、磁束密度が極大となる領域に設けられる溝の形状や数等は特に制限されるものではないが、滞留した磁性粒子が感光体ドラムとのニップ部に進入する前に均一に溝に入り込ませるため、図５に示したように、磁性粒子搬送部材の長手方向と平行に直線状に設けることが好ましい。
【００４７】
例えば図５に示す溝７０ａ、７０ｂ、７０ｃのように、複数の溝を設ける場合には、各溝の容量は同一であっても異なっていてもよい。また、各溝の間隔（ピッチ）も等間隔であってもよいし、異なる間隔であってもよい。
本発明においては、特に搬送の均一性と十分な搬送容量の点から、矩形形状の溝を、複数等間隔に設けることが好ましい。
【００４８】
一方、磁束密度が極大となる領域以外の領域に設ける溝としても、その形状や数等は特に制限されず、前述のように、磁性粒子搬送部材の長手方向と平行に直線状の三角溝を設けてもよいし、前記磁束密度が極大となる領域に設けられる溝より容量が小さいという条件を満たす限り、例えばサンドブラスト処理を施したようなランダムな細かい溝であってもよい。なお、この場合の前記「容量が小さい」とは、前記ランダムな溝が設けられた領域の一定面積における全体の溝の容量が、前記磁束密度が極大となる領域の溝を含む同一の面積における全体の溝の容量より小さいことをいう。
【００４９】
なお、前記サンドブラスト処理のみでは耐久性に問題がある場合には、さらにダイアモンド・ライク・カーボン（ＤＬＣ）などの表面処理を行ってもよい。
【００５０】
上記のような磁性粒子搬送部材６２ｂを用いることにより、本発明では感光体ドラム表面を傷つけることなく、効率的に放電生成物を除去することができる。
本発明の画像形成装置では、前記のような表面に溝を形成した磁性粒子搬送部材６２ｂを用いた場合、感光体ドラム１との最近接距離を０．３５〜０．５ｍｍの範囲、搬送量規制部材６２ａと磁性粒子６２ｃと間のギャップを０．４〜０．４５ｍｍの範囲、磁性粒子６２ｃの搬送量を８５０〜１０００ｇ／ｍ2の範囲（体積平均粒径が３５μmの磁性粒子６２ｃ使用時）とすることが好ましい。
【００５１】
本実施形態では、図５に示すように、直径１８ｍｍの磁性粒子搬送部材６２ｂの表面における磁束密度が極大となる領域（非磁性導電性スリーブ表面の磁束密度の極大点を含む円周上の約    ｍｍの領域、円周上６箇所）に、軸方向に周方向の幅０．５ｍｍ、深さ０．３ｍｍの３本の角型溝７０ａ、７０ｂ、７０ｃを７．２°のピッチで形成し、極大領域以外の領域には、先端角度９０°、深さ０．１ｍｍの三角型溝を同様に７．２°のピッチで形成した。
【００５２】
また、直径８４ｍｍの感光体ドラム１を使用し、感光体ドラム１と磁性粒子搬送部材６２ｂとの最近接距離を０．４５ｍｍ、搬送量規制部材６２ａと磁性粒子６２ｃと間のギャップを０．４ｍｍ、体積平均粒径３５μｍの磁性粒子を使用した場合の磁性粒子６２ｃ使用時の搬送量を９００ｇ／ｍ2とした。
【００５３】
さらに、非磁性導電性スリーブ６２ｂ１には、図２に示すようにバイアス印加手段１１より直流バイアス電圧が印加されており、感光体ドラム１上の残留トナーが磁気ブラシに吸着しにくくなるようにしている。本発明において、非磁性導電性スリーブ６２ｂ１には、現像剤中の主極性に帯電したトナーを前記潜像担持体に移動させるよう作用するバイアス電圧が印加されることが好ましい。
ここで、前記現像剤中のトナーの主極性とは、より具体的には現像時に現像器から感光体ドラム１に供給されるトナーの極性をいい、正極性あるいは負極性のいずれであってもよいが、現在主流である負極性であることが好ましい。
【００５４】
本実施形態では、前記直流バイアス電圧を−１００Ｖとした。このようにすることで、残留トナーが磁気ブラシに吸着して磁気ブラシの密度が変化したり、磁性粒子搬送部材６２ｂの下流に配置された弾性ブレード６１に残留トナーやそれに付着した微粒子が供給されたりすることがなく、著しいダメージを受けることを防止することができる。
【００５５】
磁気ブラシは、トナーの回収性および放電生成物やトナー成分の掻き取り性を向上させるために、感光体ドラム１に面するブラシ密度が常に一定になるように搬送量規制部材６２ａにより搬送量規制され、磁気ブラシ密度を適正な範囲に調整することが好ましい。
このような観点からは、ブラシ密度ρ（ｇ／ｍ2）、および、磁性粒子搬送部材６２ｂと感光体ドラム１との距離ｄ（μｍ）が、下式（２）に示される関係を満たすことが特に好ましい。
・式（２）    １．７≦ρ／ｄ≦２．８５
ρ／ｄが１．７より小さいと掻き取り性が不足する場合があり、ρ／ｄが２．８５より大きいと、特に磁気ブラシの回転方向が感光体ドラム１と逆の場合、トナー詰まりが発生してキャリアが下方に落下するといった不具合が生じる場合がある。
【００５６】
本発明における磁性粒子６２ｃの体積平均粒径は３〜３５μｍの範囲であることが好ましく、４〜１０μｍの範囲であることがより好ましい。体積平均粒径が３μｍに満たないと、磁性粒子搬送部材６２ｂ上に保持しにくくなる場合がある。また３５μｍを超えると、磁気ブラシの摺擦で感光体ドラム１を傷つけてしまう場合がある。
【００５７】
本発明では、前記のように、磁気ブラシの回転方向は感光体ドラム１の回転方向に対して同方向でも逆方向でも良いが、掻き取り性能をより向上できる点で、磁性粒子搬送部材が、前記感光体ドラム１の移動方向と同方向に、該感光体ドラム１の移動速度の２．５〜４．５倍の周速で回転し、前記磁気ブラシが感光体ドラム表面を摺擦することが好ましい。また、前記移動速度は３〜４倍の周速であることがより好ましい。
【００５８】
移動速度が２．５倍に満たないと、磁気ブラシが感光体ドラム表面を習擦する能力が低下し放電生成物を効率よく除去することができない場合がある。また、４．５倍を超えると、前述の磁性粒子の滞留が起こりやすくなるだけでなく、磁性粒子が回転により飛散してしまう場合がある。
なお、本発明において感光体ドラム１の周速（プロセススピード）は５０〜３００ｍｍ／ｓｅｃの範囲とすることが好ましい。
【００５９】
感光体ドラム１と磁気ブラシの接触領域を通過した残留トナーは、感光体ドラム１に当接する弾性ブレード６１によって掻き落とされる。弾性ブレード６１は、ヤング率が７．９４Ｎ／ｍｍ2、硬度が７５度（ＩＲＨＤ：国際ゴム硬さ）、永久伸びが１．５％のウレタンゴム製で、厚さを２ｍｍ、固定端からの自由長を８ｍｍとした。さらに、感光体ドラム１表面を押圧した時、エッジ部の変位量が０．９ｍｍ、感光体ドラム１表面の接線と弾性ブレード６１の固定端と接触点を結ぶ直線のなす角（ブレード・セット・アングル）が２２度となるよう弾性ブレード６１を固定した。
【００６０】
本発明に用いられる前記現像剤中のトナーは、体積平均粒子径Ｄ50v が３〜７μｍの範囲であることが好ましい。また、体積平均粒径は５．０〜６．５μｍの範囲がより好ましい。トナーの体積平均粒径が７μｍを超えると、粗大粒子の比率が高くなり、定着工程を経て得られる画像の細線や微小ドットの再現性、および階調性が低下する。一方、トナーの体積平均粒径が、３μｍ未満となると、トナーの粉体流動性、現像性、あるいは転写性が悪化し、像担持体表面に残留するトナーのクリーニング性が低下する等、粉体特性低下に伴う他の工程における種々の不具合が生じる。
上記トナーの粒度分布の測定には、測定装置としてはコールターカウンターＴＡ−ＩＩ型（ベックマンーコールター社製）を用い、電解液はＩＳＯＴＯＮ−ＩＩ（ベックマンーコールター社製）を使用した。
【００６１】
また、トナーの形状係数ＳＦ１は１００〜１４０の範囲内であることが好ましい（なお、形状係数ＳＦ１が１００の場合は真球である）。形状係数ＳＦが１４０を超える場合には転写効率が低下する場合がある。なお、形状係数ＳＦ１とは下式（１）で示される値を意味する。
・式（１）    ＳＦ１＝（ＭＬ2／Ａ）×（π／４）×１００
上記式（１）中、ＭＬはトナー粒子の絶対最大長、Ａはトナー粒子の投影面積を各々示す。
【００６２】
前記ＳＦ１は、主に顕微鏡画像または走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）画像を画像解析装置を用いて解析することによって数値化され、例えば、以下のようにして算出することができる。すなわち、スライドガラス表面に散布したトナーの光学顕微鏡像をビデオカメラを通じてルーゼックス画像解析装置に取り込み、１００個以上のトナー粒子の最大長と投影面積を求め、上記式（１）によって計算し、その平均値を求めることにより得られる。
本実施形態では、トナーとして体積平均粒径が５．８μｍ、形状係数ＳＦ１が１３０の乳化重合法により作製したものを用いた。
【００６３】
さらにトナーには、平均粒径１０〜１５０ｎｍのシリカおよびチタニア等の無機微粒子（外添剤）を適宜量外添した。また、１００ｎｍ〜１μｍの研磨剤、たとえば酸化セリウム、アルミナ、チタン酸ストロンチウムなどを外添してもよく、ここでは、酸化セリウムを外添した。
また、本実施例では、キャリアとして平均粒径３５μｍのフェライトビーズを使用した。
【００６４】
本実施形態おいては上述の現像剤を使用したが、必ずしもこの限りでなく従来使用されている粉砕トナーを使用してもよい。ただし、弾性ブレードによるクリーニングが困難で、弾性ブレードにかかる負荷の大きい小粒径のトナーや球状トナーに本発明を適用するとより効果的である。
【００６５】
本発明に使用する感光体ドラム（潜像担持体）１の感光層としては、公知の様々なものを使用可能であるが、機械的な強度が高く弾性ブレードの摺擦による放電生成物の除去がより困難なオーバーコート感光体やアモルファスシリコン感光体などに本発明を適用するとより有効である。本実施形態では、感光体ドラム１として前記オーバーコート感光体を用いたが、その詳細については後述する。
【００６６】
以下に、本発明の画像形成装置を構成する主な各部についてより詳細に説明する。
−帯電手段−
本発明の画像形成装置に用いられる帯電手段としては公知の帯電方式を利用した帯電器が適応可能である。例えばコロトロン帯電方式や接触帯電方式などを利用した帯電器が挙げられる。また接触帯電方式ではローラー状の帯電部材、ブレード状の帯電部材、ベルト状の帯電部材、ブラシ状の帯電部材、磁気ブラシ状の帯電部材などが適応可能である。特にローラー状の帯電部材、ブレード状の帯電部材については潜像担持体に対し、接触状態またはある程度の空隙（１００μｍ以下）を有した非接触状態として配置しても構わない。
【００６７】
ローラー状の帯電部材、ブレード状の帯電部材、ベルト状の帯電部材は帯電部材として有効な電気抵抗（１０3Ω〜１０8Ω）に調整された材料から構成される物であり、単層又は複数の層から構成されていても構わない。
【００６８】
帯電部材を構成する材質としてはウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、クロロプレンゴム、ブタジエンゴム、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム）、エピクロルヒドリンゴム等の合成ゴムや、ポリオレフィン、ポリスチレン、塩化ビニル等からなるエラストマーを主材料とし、導電性カーボン、金属酸化物、イオン導電剤等の任意の導電性付与剤を適量配合したものを用いることができる。これらの材料は、帯電部材として有効な電気抵抗を発現させることが容易である。
さらにナイロン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリウレタン、シリコーン等の樹脂を塗料化し、そこに導電性カーボン、金属酸化物、イオン導電剤等の任意の導電性付与剤を適量配合し、得られた塗料をデイッピング、スプレー、ロールコート等の任意の手法により、積層して用いることができる。
【００６９】
−現像手段−
本発明の画像形成装置に用いられる現像手段としては、トナー回収するために接触現像方式を利用したものであることが好ましい。キャリアとトナーとからなる現像ブラシを潜像担持体に接触させて現像させる二成分現像方式、あるいは、導電ゴム弾性体搬送ロール上にトナーを付着させ潜像担持体にトナーを現像する接触式一成分現像方式が適している。二成分現像方式の場合、現像ロールの回転方向は潜像担持体の回転方向と同方向でも逆方向でも良く、潜像担持体と逆方向に周速差をつけると、潜像担持体上の残留トナーの回収性を上げることができる。なお、現像ロールに印加する電界は直流でも直流に交流を重畳させても良い。
【００７０】
−転写手段−
また、本発明の画像形成装置に用いられる転写手段としては公知の転写方式を利用したものが利用可能である。例えば、転写コロトロンや転写ロール等を用いた直接転写方式、中間転写ベルトや中間転写ドラム等の中間転写体を用いた中間転写方式、記録材を静電的に吸着して搬送し潜像担持体上の画像を転写する転写ベルト方式を利用した転写手段などが挙げられる。
また転写効率を向上させるために、潜像担持体と転写部材と間に周速差をつけてもよい。潜像担持体と転写部材と間の周速比は０．１％〜５％が良く、さらに好ましくは１％〜３％が良い。
【００７１】
−磁気ブラシ−
次に、本発明で用いる磁気ブラシについて、上述した以外のその他の構成についてより詳細に説明する。
磁気ブラシに用いる磁性粒子としては、現像剤に使用されるキャリアのように樹脂被覆を行っても行わなくてもよい。また、樹脂被覆を行う場合、現像剤中のキャリアと同じものを用いても、違うものを用いても良い。キャリアに用いられる芯材（キャリア芯材）と同様なものを使用する場合、鉄、鋼、ニッケル、コバルト等の磁性金属、またはフェライト、マグネタイト等の磁性酸化物、ガラスビーズなどが挙げられるが、これらの芯材の中でも磁性材料からなる材料を用いることが好ましい。
【００７２】
キャリア芯材の体積平均粒径としては、３μｍ〜１０μｍの範囲ものが用いられ、好ましくは４μｍ〜７μｍの範囲ものが用いられる。さらに、低ストレス性を目的として、重合製法による球形のコアを用いる事ができる。重合コアの真比重は３．０〜５．０ｇ／ｃｍ3のものが好ましく、飽和磁化は４０ｅｍｕ／ｇ以上が好ましい。
【００７３】
キャリア被覆樹脂として用いる（メタ）アクリル酸アルキルエステルの重合体は、アルキル基が異なる２種類以上の単量体を用いることで効果が得られる。
これら単量体の一例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ターシャルブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ターシャルペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、イソヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７４】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合させるカルボン酸基を有する単量体の一例としては、（メタ）アクリル酸、カルボキシルスチレンの様なスチレンにカルボキシル基を持つもの、ｐ−カルボキシルスチレンの様なカルボキシル基を２つ以上含むもの等が挙げられる。アイオノマー樹脂の様な、アクリル共重合体に金属カチオンを作用させてカルボキシル基を有した重合体でも同様の効果が見られる。
【００７５】
カルボン酸量は、そのカルボン酸単量体の種類、カルボン酸基の量、単量体の分子量によっても変わるが、全樹脂単量体に対し０．１〜１５．０質量％の範囲が適当であり、より好ましくは０．５〜１０．０質量％の範囲が密着性、環境安定性に対して機能を発現できる。導入量が少ないと、耐久性の効果が小さく、多すぎると粘度が高く、均一な被覆樹脂を得る事が難しく、又環境差が悪化してしまう場合がある。
【００７６】
キャリア被覆樹脂にはフッ素系の樹脂も利用できる。このようなフッ素系樹脂を構成する単量体の例としては、パーフルオロアクリル系の単量体が好ましい。一例としてはテトラフルオロプロピルメタクリレート、ペンタフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、等フッ素含有アクリル酸系の単量体、その他にトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロペン、パーフルオロアルキルビニルエーテル等のフッ素含有単量体を用いることもできる。
【００７７】
キャリア被覆樹脂に含まれるフッ素樹脂量は目的に応じて選択できる。フッ素樹脂量が多いと耐汚染性が向上するが、帯電が下がるあるいは、芯材との密着性が悪くなる場合がある。フッ素樹脂の種類にもよるがキャリア被覆樹脂に含まれるフッ素樹脂量は、密着性、帯電レベルの点で、０．１〜６０．０質量部の範囲が好ましく０．５〜５０．０質量部の範囲がより好ましい。
【００７８】
キャリア被覆樹脂の共重合比率は、画像の形成に使用するトナーの種類、画像形成装置の構成に応じて、適宜選択可能である。特に、２種以上の（メタ）アクリル酸アルキルエステルは重合比を変える事により、所望の特性が得られる事が容易である。これらキャリア被覆樹脂の原料である単量体の共重合方法としては、ランダム共重合、グラフト共重合等の重合方法を用いることができる。グラフト共重合は、機能を発現させ易い点や、キャリア芯材との密着性を上げる事が可能な点、樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）を上げることができる点等で優れた重合方法である。
【００７９】
上記樹脂被覆層をキャリア芯材の表面に形成する代表的な方法としては、樹脂被覆層形成用原料溶液（溶剤中にマトリックス樹脂、樹脂微粒子、導電性微粉末等を適宜含む）を利用することができる。
具体的には、例えばキャリア芯材の粉末を樹脂被覆層形成用溶液中に浸漬する浸漬法、樹脂被覆層形成用溶液をキャリア芯材の表面に噴霧するスプレー法、キャリア芯材を流動エアーにより浮遊させた状態で樹脂被覆層形成用溶液を噴霧する流動床法、ニーダーコーター中でキャリア芯材と樹脂被覆層形成用溶液を混合し、続いて溶剤を除去するニーダーコーター法等が挙げられるが、特に溶液を用いたものに限定されるものではなく、塗布するキャリア芯材によっては、樹脂粉末と共に加熱混合するパウダーコート法等適当な方法を用いることが出来る。
【００８０】
被覆用樹脂の塗布量は、キャリア質量に対して総量で０．０５〜５．０質量％の範囲が、画質、二次障害、帯電性を両立させるのに適当である。また、帯電付与部材に塗布する場合には、帯電量、維持性等対して適当な膜厚が得られるよう適宜塗布量及び塗布方法の調節を行なうことが好ましい。
樹脂被覆層形成用原料溶液に使用される溶剤としては、このマトリックス樹脂を溶解するものであれば特に限定されるものではなく、例えばキシレン、トルエン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化合物、などが使用できる。
【００８１】
−潜像担持体−
本発明の画像形成装置に用いられる潜像担持体の構成は、特に制限されるものではなく、一般的には導電性基体上に感光層を有する構造からなる。該感光層の層構成も特に限定されるものではないが、少なくとも電荷発生層と、電荷発生層上に組成の異なる複数の層とを含有する層構成が好ましい。例えば、電荷発生層、電荷輸送層、表面層（保護層）といった積層構造にすると、それぞれの層がそれぞれの機能を満たせば良いという機能分離ができるため、より高い機能を実現できる。
【００８２】
導電性支持体としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いた金属板、金属ドラム、金属ベルト、あるいは導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着、あるいはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。感光ドラムがレーザープリンターに使用される場合には、レーザーの発振波長としては３５０ｎｍから８５０ｎｍの範囲のものが好ましく、短波長のものほど解像度に優れるため好ましい。
【００８３】
また、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、支持体表面は、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ〜０．５μｍの範囲に粗面化することが好ましい。粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、あるいは、回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化などが好ましい。Ｒａが０．０４μｍより小さいと、鏡面に近くなるので干渉防止効果が得られなくなり、Ｒａが０．５μｍより大きいと、本発明による被膜を形成しても画質が粗くなって不適である。非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、基材の表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
【００８４】
陽極酸化処理はアルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、そのままの多孔質陽極酸化膜は化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行う。
【００８５】
陽極酸化膜の膜厚については０．３〜１５μｍの範囲が好ましい。０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分でない。また、１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招く。
リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下の様に実施される。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が、１０〜１１質量％の範囲、クロム酸が３〜５質量％の範囲、フッ酸が０．５〜２質量％の範囲であって、これらの酸全体の濃度は、１３．５〜１８質量％の範囲が好ましい。処理温度は、４２〜４８℃であるが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜を形成することができる。被膜の膜厚については０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分でない。また、１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招く。
【００８６】
ベーマイト処理は、９０〜１００℃の純水中に５〜６０分間浸漬するか、９０〜１２０℃の加熱水蒸気に５〜６０分間接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚については０．１〜５μｍの範囲が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩などの皮膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００８７】
また、所望により基材と感光層の間に下引層を形成することもできる。用いられる材料としてはジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤などの有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤などの有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤などの有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物、などの有機金属化合物、とくに有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物は残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、好ましく使用される。また、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス−２−メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させて使用することができる。さらに、従来より下引き層に用いられるポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知の結着樹脂を用いることもできる。
【００８８】
これらの混合割合は、必要に応じて適宜設定することができる。また、下引き層中には電子輸送性顔料を混合／分散して使用することもできる。電子輸送性顔料としては、特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が上げられる。これらの顔料の中ではペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料と多環キノン顔料、酸化亜鉛、酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、バインダーなどで表面処理しても良い。電子輸送性顔料は多すぎると下引き層の強度が低下し、塗膜欠陥を生じるため９５質量％以下、好ましくは９０質量％以下で使用される。混合／分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等をもちいる常法が適用される。混合／分散は有機溶剤中で行われるが、有機溶剤としては、有期金属化合物や樹脂を溶解し、
【００８９】
また、電子輸送性顔料を混合／分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであれば如何なるものでも使用できる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。下引き層の厚みは一般的には、０．１〜３０μｍの範囲、好ましくは０．２〜２５μｍの範囲が適当である。また、下引き層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。塗布したものを乾燥させて下引き層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜可能な温度で行われる。特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った基材は、基材の欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、中間層を形成することが好ましい。
【００９０】
次に電荷発生層について説明する。
電荷発生材料は、ビスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料、ジブロモアントアントロンなどの縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料などの有機顔料や、三方晶セレン、酸化亜鉛などの無機顔料など公知のものを使用することができるが、特に３８０〜５００ｎｍの露光波長を用いる場合には無機顔料が好ましく、７００〜８００ｎｍの露光波長を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましい。その中でも、特開平５−２６３００７号公報広報及び特開平５−２７９５９１号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報及び特開平５−１４０４７３号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報及び特開平５−４３８１３号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
【００９１】
結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができ、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂をあげることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００９２】
電荷発生材料と結着樹脂の配合比は（質量比）は１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。またこれらを分散させる方法としてはボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができるが、この際、分散によって該の結晶型が変化しない条件が必要とされる。ちなみに本発明で実施した前記の分散法のいずれについても分散前と結晶型が変化していないことが確認されている。さらにこの分散の際、粒子を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。またこれらの分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００９３】
本発明で用いる電荷発生層の厚みは一般的には、０．１〜５μｍの範囲、好ましくは０．２〜２．０μｍの範囲が適当である。また、電荷発生層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００９４】
次いで、電荷輸送層について説明する。
電荷輸送層としては、公知の技術によって形成されたものを使用できる。それらの電荷輸送層は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して形成されるか、あるいは高分子電荷輸送材を含有して形成される。
【００９５】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物があげられる。これらの電荷輸送材料は単独又は２種以上混合して用いることができるが、これらに限定されるものではない。また、これらの電荷輸送材料は単独あるいは２種以上混合して用いることができるが、モビリティーの観点から、以下の構造のものが好ましい。
【００９６】
【化２】
2006243642.tif 000004
【００９７】
上記式中、Ｒ14は、水素原子又はメチル基を示す。また、ｎは１又は２を意味する。Ａｒ6及びＡｒ7は置換又は未置換のアリール基、あるいは、−Ｃ（Ｒ18）＝Ｃ（Ｒ19）（Ｒ20）、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）2を表し、置換基としてはロゲン原子、炭素数が１〜５の範囲のアルキル基、炭素数が１〜５の範囲のアルコキシ基、又は炭素数が１〜３の範囲のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。なお、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20は水素原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を、Ａｒは置換または未置換のアリール基を表す。
【００９８】
【化３】
2006243642.tif 000005
【００９９】
上記式中Ｒ15、Ｒ15'は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を表わす。Ｒ16、Ｒ16'、Ｒ17、Ｒ17'は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基、あるいは、−Ｃ（Ｒ18）＝Ｃ（Ｒ19）（Ｒ20）、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）2を表わす。なお、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20は水素原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を、Ａｒは置換または未置換のアリール基を表す。ｍ及びｎは０〜２の整数である。
【０１００】
【化４】
2006243642.tif 000006
【０１０１】
上記式中Ｒ21は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、又は、―ＣＨ＝ＣＨ―ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）2を表す。Ａｒは置換又は未置換のアリール基を表す。Ｒ22、Ｒ23は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基を表す。
【０１０２】
さらに電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材など高分子電荷輸送材を用いることもできる。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（重量比）は１０：１〜１：５が好ましい。
【０１０３】
また、高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、とくに好ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【０１０４】
電荷輸送層の厚みは、好ましくは５〜５０μｍの範囲、より好ましくは１０〜３０μｍの範囲が適当である。塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。さらに電荷輸送層を設けるときに用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【０１０５】
また、複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体があげられる。また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させることができる。本発明における感光体に使用可能な電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等や、後述する一般式（Ｉ）で示される化合物をあげることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やＣｌ，ＣＮ，ＮＯ2等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【０１０６】
次いで、最表層について説明する。
最表層は、表面の磨耗、傷などに対する耐性を持たせ、かつ、画像維持性を高めるため、架橋構造を有する樹脂を含むことが好ましく、さらに電荷輸送性物質を含むことがより好ましい。
【０１０７】
前記架橋構造を有する樹脂形成するものとしては種々の材料を用いることができるが、特性上フェノール樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シロキサン系樹脂などが好ましく、フェノール樹脂としては、例えばレジトップＰＬ−２２１１、ＰＬ−４８５２（群栄化学社製）、メラミン樹脂としては、例えばニカラック（三和ケミカル社製）、エポキシ樹脂としては、例えばＨＶ５１２（日本ベルノックス社製）等が挙げられる。
これらの中では、特にシロキサン系樹脂からなるものが最も好ましい。
【０１０８】
さらに電気特性や画質維持性などの観点からは、架橋構造を有する樹脂は、電荷輸送性を有している（電荷輸送能を有する構造単位を含む）ことが好ましい。この場合、前記積層構成型の潜像担持体では、保護層が、電荷輸送層の一部として機能することもできる。
このような電荷輸送能を有する構造単位を含み、且つ、架橋構造を有する樹脂は、下記一般式（Ｉ）や（II）で示される化合物の硬化物であることが強度や安定性に優れ特に好ましい。また、同様の観点から、架橋構造を有する樹脂が、下記一般式（Ｉ）や（II）で示される化合物から誘導される誘導体の硬化物であってもよい。
【０１０９】
・一般式（Ｉ）  Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑa］b
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｄは可とう性サブユニット、Ｒ2は水素、アルキル基、置換若しくは未置換のアリール基のいずれか、Ｑは加水分解性基を各々表し、ａは１〜３の整数、ｂは１〜４の整数を表す。
【０１１０】
・一般式（II）  Ｆ−（（Ｘ）nＲ1−ＺＨ）m
一般式（II）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ1はアルキレン基、Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＨのいずれか、Ｘは酸素原子または硫黄原子を各々表し、ｍは１〜４の整数、ｎは０または１を表す。
【０１１１】
なお、一般式（Ｉ）中のＤで示される可とう性サブユニットとしては、−（ＣＨ2）ｎ−基を必ず含み、これに−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−基を組み合わせた２価の直鎖基であってもよい。なお、−（ＣＨ2）ｎ−基のｎは１〜５の整数を表す。また、Ｑで表される加水分解性基としては、−ＯＲ基（但し、Ｒはアルキル基を表す）を表す。
【０１１２】
また、一般式（Ｉ）や（II）で示される化合物における有機基Ｆは、特に下記一般式（III）で示される有機基であることが特に好ましい。
【０１１３】
【化５】
2006243642.tif 000007
【０１１４】
但し、一般式（III）中、Ａｒ1〜Ａｒ4はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を表し、Ａｒ5は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を表し、ｋは０または１である。
ここで、ｋが１の場合は、Ａｒ1〜Ａｒ5のうち１〜４個は、一般式（Ｉ）中の−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑaで表される結合基または前記一般式（II）中の−（Ｘ）nＲ1−ＺＨで表される結合基と結合可能な結合手を有し、ｋが０の場合は、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ5のうち１〜２個は、一般式（Ｉ）中の−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑaで表される結合基または前記一般式（II）中の−（Ｘ）nＲ1−ＺＨで表される結合基と結合可能な結合手を有する。
【０１１５】
Ａｒ1〜Ａｒ4はそれぞれ独立に置換または未置換のアリール基を示すが、具体的には、下記構造群１に示されるものが好ましい。
【０１１６】
【化６】
2006243642.tif 000008
【０１１７】
なお、構造群１中に示されるＡｒは、下記構造群２から選択されるものが好ましく、Ｚ’は下記構造群３から選択されるものが好ましい
【０１１８】
【化７】
2006243642.tif 000009
【０１１９】
【化８】
2006243642.tif 000010
【０１２０】
また、構造群１中に示されるＲ6は、水素、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、または、炭素数７〜１０のアラルキル基から選択され、Ｒ7〜Ｒ13は、水素、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、または、ハロゲンから選択される。
また、ｍ及びｓは０または１を表し、ｑ及びｒは１から１０の整数、ｔは１から３の整数を示す。ここで、Ｘは一般式（Ｉ）中に示した−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑaで表される基を示す。
【０１２１】
また構造群３中に示されるＷは下記構造群４で示されるものが好ましい。なお、構造群４中、ｓ’は０〜３の整数を示す。
【０１２２】
【化９】
2006243642.tif 000011
【０１２３】
また、一般式（III）におけるＡｒ5の具体的構造としては、ｋ＝０の時は、上記構造群１に示したＡｒ1〜Ａｒ4のｍ＝１の構造が、ｋ＝１の時は、上記構造群１に示したＡｒ1〜Ａｒ4のｍ＝０の構造が挙げられる。
【０１２４】
一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、以下の表１〜７に示す化合物（III−１）〜（III−６１）を挙げることができるが、本発明に用いられる一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらのみに限定されるものではない。
また、表１〜７中の「Ａｒ1」〜「Ａｒ5」の欄に示される構造式中、ベンゼン環に結合する“−Ｓ”基は、表１〜７中の「Ｓ」の欄に示される一価の基（一般式（Ｉ）中の−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑaで表される構造に相当する基）を意味する。
【０１２５】
【表１】
2006243642.tif 000012
【０１２６】
【表２】
2006243642.tif 000013
【０１２７】
【表３】
2006243642.tif 000014
【０１２８】
【表４】
2006243642.tif 000015
【０１２９】
【表５】
2006243642.tif 000016
【０１３０】
【表６】
2006243642.tif 000017
【０１３１】
【表７】
2006243642.tif 000018
【０１３２】
一般式（II）に示す化合物の具体例としては、下記構造式（II）−１〜（II−２６（但し、構造式（II）−２、構造式（II）−７及び構造式（II−１１）を除く）に示す化合物を例示することができるが、一般式（II）に示す化合物としてはこれらのみに限定されるものではない。
なお本発明においては、−ＯＨ基が直接ベンゼン環と結合する構造式（ＩＩ）−２、構造式（ＩＩ）−７及び構造式（II−１１）（一般式（II）中のＲ1に相当するアルキレン基を有さない化合物）も、一般式（II）に示す化合物の代わりに用いることができる。
【０１３３】
【化１０】
2006243642.tif 000019
【０１３４】
【化１１】
2006243642.tif 000020
【０１３５】
【化１２】
2006243642.tif 000021
【０１３６】
また、最表面層の強度を高めるために、架橋構造を有する樹脂を含む最表面層の形成に際し、一般式（IV）に示すような２つのケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
・一般式（IV）  Ｂ−（Ｓｉ（Ｒ2）(3-a)Ｑa）2
但し、一般式（IV）中、Ｂは２価の有機基、Ｒ2は水素、アルキル基、置換若しくは未置換のアリール基、Ｑは加水分解性基を表わし、ａは１〜３の整数を表わす。具体的には、以下の表８に示す化合物が好適な例として挙げられるが、一般式（IV）に示される化合物はこれらのみに限定されるものではない。
【０１３７】
【表８】
2006243642.tif 000022
【０１３８】
また、最表層の強度や電気抵抗などの種々の物性をコントロールするために、架橋構造を有する樹脂を含む最表層の形成に際し、下記一般式（Ｖ）で示される化合物を利用することもできる。
・一般式（Ｖ）    Ｓｉ（Ｒ2）(4-c)Ｑc
但し、一般式（Ｖ）中、Ｒ2は水素、アルキル基、置換若しくは未置換のアリール基、Ｑは加水分解性基を表わし、ｃは１〜４の整数を表す。
【０１３９】
一般式（Ｖ）で示される化合物の具体例としては、以下のようなシランカップリング剤があげられる。
まず、一般式（Ｖ）において、ｃ＝４である化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシランを挙げることができる。
【０１４０】
また、一般式（Ｖ）において、ｃ＝３である化合物の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の三官能性アルコキシシランを挙げることができる。
【０１４１】
一般式（Ｖ）において、ｃ＝２である化合物の具体例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシランを挙げることができる。
さらに一般式（Ｖ）において、ｃ＝１である化合物の具体例としては、トリメチルメトキシシラン等の１官能アルコキシシラン（ｃ＝１）等を挙げることができる。
これらのシランカップリング剤の中でも、最表面層の強度を向上させるためには３または４官能性のアルコキシシランが好ましく、可とう性、成膜性を向上させるためには２または１官能のアルコキシシランが好ましい。
【０１４２】
また、主にこれらのカップリング剤より作製されるシリコーン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、およびＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）などを用いることができる。
【０１４３】
また、最表層形成用溶液のポットライフの長寿命化や、最表層の硬度等の膜特性のコントロールのため、下記一般式（VI）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物、もしくはその化合物の誘導体を利用することもできる。
【０１４４】
【化１３】
2006243642.tif 000023
【０１４５】
但し、一般式（VI）中、Ａ1、Ａ2はそれぞれ独立に一価の有機基を示す。このような一般式（VI）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンをあげることができる。
具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサンなどのヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサンなどのビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等をあげることができる。
これらの環状シロキサン化合物は単独で用いても良いが、それらを混合して用いても良い。
【０１４６】
また、最表層の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、トルク低減、磨耗量コントロールや、最表層形成用溶液の粘度のコントロール、ポットライフの長寿命化などの目的で、熱可塑性樹脂を添加してもよい。該熱可塑性樹脂としては、アルコール系やケトン系の溶剤、あるいはこれら以外の溶剤に溶解する種々の樹脂を利用するができる。
【０１４７】
アルコール系、ケトン系の溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋなど）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、フェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性上ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。
【０１４８】
上記樹脂の重量平均分子量は２０００〜１０００００の範囲内が好ましく、５０００〜５００００の範囲内がさらに好ましい。重量平均分子量が２０００より小さいと所望の効果が得られなくなる場合がある。また、重量平均分子量が１０００００より大きいと溶解度が低くなるため、最表層形成用溶液中の樹脂の添加量が限られてしまったり、最表層形成用溶液を塗布して塗膜を形成する場合に成膜不良を引き起こしたりする場合がある。
【０１４９】
最表層形成用溶液中の樹脂の添加量は１〜４０質量％の範囲が好ましく、さらに好ましくは１〜３０質量％の範囲であり、５〜２０質量％の範囲が最も好ましい。１質量％よりも少ない場合は所望の効果が得られにくくなる場合があり、４０質量％よりも多くなると高温高湿下での画像ボケが発生しやすくなる場合がある。
【０１５０】
更に、潜像担持体表面の耐汚染物付着性や、潤滑性を改善するために、最表面層形成用溶液中には各種の微粒子を添加することもできる。これら微粒子は、単独で用いることもできるが、併用してもよい。
このような微粒子の一例としては、ケイ素含有微粒子を挙げることができる。ケイ素含有微粒子とは、構成元素にケイ素を含む微粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン微粒子等が挙げられる。ケイ素含有微粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒子径が１〜１００ｎｍであることが好ましく、１０〜３０ｎｍであることがより好ましい。このコロイダルシリカは、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものが利用でき、一般に市販されているものを使用することができる。
【０１５１】
最表層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、成膜性、電気特性、強度の面から最表面層の全固形分中の０．１〜５０質量％の範囲内が好ましく、０．１〜３０質量％の範囲内がより好ましい。
【０１５２】
また、ケイ素含有微粒子として用いられるシリコーン微粒子は、球状で、平均粒子径が１〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましく、１０〜１００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。このようなシリコーン微粒子としては、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選択でき、一般に市販されているものを使用することができる。
【０１５３】
シリコーン微粒子は、化学的に不活性で、樹脂マトリックスへの分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、最表面層の形成に際して架橋反応により架橋構造を有する樹脂の生成を阻害することなく、潜像担持体の表面性状を改善することができる。即ち、シリコーン微粒子は、架橋構造を有する樹脂の強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、潜像担持体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐摩耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。
潜像担持体の最表層中のシリコーン微粒子の含有量は、最表面層の全固形分中の０．１〜３０質量％の範囲内であることが好ましく０．５〜１０質量％の範囲内がより好ましい。
【０１５４】
また、その他の微粒子としては、４弗化エチレン、３弗化エチレン、６弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系微粒子を用いることができ、さらにこれらフッ素樹脂と水酸基を有するモノマーとを共重合させた樹脂からなる微粒子（例えば、第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９参照）や、ＺｎＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2−Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2、ＺｎＯ−ＴｉＯ2、ＺｎＯ−ＴｉＯ2、ＭｇＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＦｅＯ−ＴｉＯ2、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物をあげることができる。
【０１５５】
また、最表面層形成用溶液中には同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。
シリコーンオイルとしては、たとえば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等をあげることができる。
【０１５６】
さらに、表面の潤滑性を向上させるため、活性水素を有する基を側鎖に複数有し、かつフッ素原子もしくはシリコーン結合を有する樹脂を添加することもできる。具体的には、ＳＧ２０４（日本触媒社製）、セフラルコートシリーズ（セントラル硝子社製）などが挙げられる。また、目的に応じて適宜合成することもできる。
【０１５７】
また、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を使用することもできる。
可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。本発明中の樹脂層にはヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
【０１５８】
酸化防止剤としては以下のような化合物、例えば、ヒンダードフェノール系として「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＨＴ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＭＤＰ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＢＭ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＷＸ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＮＷ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−７６」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−１０１」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＭ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＳ」以上、住友化学社製；「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」以上、チバスペシャリティーケミカルズ社製；「アデカスタブＡＯ−２０」、「アデカスタブＡＯ−３０」、「アデカスタブＡＯ−４０」、「アデカスタブＡＯ−５０」、「アデカスタブＡＯ−６０」、「アデカスタブＡＯ−７０」、「アデカスタブＡＯ−８０」、「アデカスタブＡＯ−３３０」以上、旭電化製；を挙げることができる。
【０１５９】
また、ヒンダードアミン系として「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」、「スミライザーＴＰＳ」、チオエーテル系として「スミライザーＴＰ−Ｄ」、ホスファイト系として「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ・８」、「マークＰＥＰ・２４Ｇ」、「マークＰＥＰ・３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ・１０」が挙げられる。
これら酸化防止剤の中でも、特にヒンダードフェノール、ヒンダードアミン系酸化防止剤が好ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する架橋反応可能なアルコキシシリル基などの置換基で変性してもよい。
【０１６０】
最表層形成用溶液には、必要に応じて触媒を添加することが好ましい。用いられる触媒としては塩酸、酢酸、リン酸、硫酸などの無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸などの有機酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリエチルアミンなどのアルカリ触媒、さらにいかに示すような系に不溶な固体触媒を用いることもできる。
【０１６１】
例えば、アンバーライト１５、アンバーライト２００Ｃ、アンバーリスト１５Ｅ（以上、ローム・アンド・ハース社製）；ダウエックスＭＷＣ−１−Ｈ、ダウエックス８８、ダウエックスＨＣＲ−Ｗ２（以上、ダウ・ケミカル社製）；レバチットＳＰＣ−１０８、レバチットＳＰＣ−１１８（以上、バイエル社製）；ダイヤイオンＲＣＰ−１５０Ｈ（三菱化成社製）；スミカイオンＫＣ−４７０、デュオライトＣ２６−Ｃ、デュオライトＣ−４３３、デュオライト−４６４（以上、住友化学工業社製）；ナフィオン−Ｈ（デュポン社製）などの陽イオン交換樹脂；アンバーライトＩＲＡ−４００、アンバーライトＩＲＡ−４５（以上、ローム・アンド・ハース社製）などの陰イオン交換樹脂；Ｚｒ（Ｏ3ＰＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｈ）2，Ｔｈ（Ｏ3ＰＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ）2などのプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体；スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサンなどのプロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン；コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸などのヘテロポリ酸；ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸などのイソポリ酸；シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、ＣａＯ、ＭｇＯなどの単元系金属酸化物；シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類など複合系金属酸化物；酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイトなどの粘土鉱物；ＬｉＳＯ4，ＭｇＳＯ4などの金属硫酸塩；リン酸ジルコニア、リン酸ランタンなどの金属リン酸塩；ＬｉＮＯ3，Ｍｎ（ＮＯ3）2などの金属硝酸塩；シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体などのアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体；アミノ変性シリコーン樹脂などのアミノ基を含有するポリオルガノシロキサンなどが挙げられる。
【０１６２】
また、最表層形成用溶液の作製の際に、光機能性化合物、反応生成物、水、溶剤などに不溶な固体触媒を用いると、この溶液の安定性が向上する傾向にあるため好ましい。
なお、当該不溶な固体触媒とは、触媒成分が一般式（Ｉ）で示される化合物や、一般式（II）で示される化合物を形成するための材料、他の添加剤、水、溶剤等に不溶であれば特に限定されない。
【０１６３】
これらの固体触媒の使用量は特に制限されないが、一般式（Ｉ）等に示す加水分解性基を有する化合物の合計１００質量部に対して０．１〜１００質量部の範囲が好ましい。また、これらの固体触媒は、前述の通り、原料化合物、反応生成物、溶剤などに不溶であるため、反応後、常法にしたがって容易に除去することができる。反応温度及び反応時間は原料化合物や固体触媒の種類及び使用量に応じて適宜選択されるものであるが、反応温度は通常０〜１００℃の範囲、好ましくは１０〜７０℃の範囲、より好ましくは１５〜５０℃の範囲であり、反応時間は好ましくは１０分〜１００時間である。反応時間が前記上限値を超えるとゲル化が起こりやすくなる傾向にある
【０１６４】
最表層形成用溶液の作製工程において、この溶液に不溶な触媒を用いた場合は、強度、液保存安定性などを向上させる目的で、さらにこの溶液に溶解する触媒を併用することが好ましい。
そのような触媒としては、前述のものに加え、アルミニウムトリエチレート、アルミニウムトリイソプロピレート、アルミニウムトリ（ｓｅｃ−ブチレート）、モノ（ｓｅｃ−ブトキシ）アルミニウムジイソプロピレート、ジイソプロポキシアルミニウム（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノアセチルアセトネート、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムジイソプロポキシ（アセチルアセトネート）、アルミニウムイソプロポキシ−ビス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（トリフルオロアセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（ヘキサフルオロアセチルアセトネート）等の有機アルミニウム化合物を使用することができる。
【０１６５】
また、有機アルミニウム化合物以外の触媒としては、ジブチルスズジラウリレート、ジブチルスズジオクチエート、ジブチルスズジアセテート等の有機スズ化合物；チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトネート）等の有機チタニウム化合物；ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のジルコニウム化合物；等も使用することができる。
しかし、安全性、低コスト、ポットライフ長さの観点から、有機アルミニウム化合物を使用するのが好ましく、特にアルミニウムキレート化合物がより好ましい。
【０１６６】
これらの触媒の使用量は特に制限されないが、加水分解性基を有する化合物の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部の範囲が好ましく、０．３〜１０質量部の範囲が特に好ましい。
【０１６７】
また、本発明において有機金属化合物を触媒として用いた場合は、ポットライフ、硬化効率の面から、共に多座配位子を添加することが好ましい。このような多座配位子としては、以下に示すような化合物及びこの化合物から誘導される誘導体を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６８】
具体的には、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジピバロイルメチルアセトン等のβ−ジケトン類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル類；ビピリジン及びその誘導体；グリシン及びその誘導体；エチレンジアミン及びその誘導体；８−オキシキノリン及びその誘導体；サリチルアルデヒド及びその誘導体；カテコール及びその誘導体；２−オキシアゾ化合物等の２座配位子；ジエチルトリアミン及びその誘導体；ニトリロトリ酢酸及びその誘導体等の３座配位子；エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及びその誘導体等の６座配位子；等を挙げることができる。
【０１６９】
さらに、上記のような有機系配位子の他、ピロリン酸、トリリン酸等の無機系の配位子を挙げることができる。多座配位子としては、特に２座配位子が好ましく、具体例としては、上記の他、下記一般式（VII）で表される２座配位子が挙げられる。
中でも下記一般式（VII）で表される２座配位子がより好ましく、下記一般式（VII）中のＲ5とＲ6との構造が同一のものが特に好ましい。Ｒ5とＲ6との構造を同一にすることで、室温付近での配位子の配位力が強くなり、最表面層形成用溶液のさらなる安定化を図ることができる。
【０１７０】
【化１４】
2006243642.tif 000024
【０１７１】
なお、一般式（VII）中、Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、もしくはフッ化アルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
多座配位子の配合量は、任意に設定することができるが、用いる有機金属化合物の１モルに対し、０．０１モル以上、好ましくは０．１モル以上、より好ましくは１モル以上とするのが好ましい。
【０１７２】
最表層形成用溶液は、溶媒を用いずに、上述した一般式（Ｉ）等に示すような有機ケイ素化合物等の種々の原料のみを用いて調整することもできるが、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類；等の他、種々の溶媒が使用できる。
【０１７３】
このような溶媒としては、沸点が１００℃以下のものが好ましく、任意に混合して使用することができる。溶媒量は任意に設定できるが、少なすぎると有機ケイ素化合物が析出しやすくなるため、有機ケイ素化合物１質量部に対し０．５〜３０質量部の範囲内で用いることが好ましく、１〜２０質量部の範囲内で用いることがより好ましい。
【０１７４】
最表層形成用溶液を用いて塗膜を形成した後、架橋・硬化させて最表面層を形成する際の反応温度及び反応時間は特に制限されないが、形成される架橋構造を有する樹脂を含む最表面層の機械的強度及び化学的安定性の点から、反応温度は好ましくは６０℃以上であることが好ましく、８０〜２００℃の範囲内であることがより好ましく、反応時間は好ましくは１０分〜５時間である。
【０１７５】
また、塗膜の架橋・硬化により得られる最表面層を高湿度状態に保つことは、最表面層の特性の安定化を図る上で有効である。さらには、用途に応じてヘキサメチルジシラザンやトリメチルクロロシランなどを用いて最表面層に表面処理を施して疎水化することもできる。
【０１７６】
なお、電荷輸送性を有し、架橋構造を有するシロキサン系樹脂は、優れた機械強度を有する上に光電特性も十分であるため、これをそのまま積層型の潜像担持体の電荷輸送層を形成する材料として用いることもできる。
この場合、電荷輸送性を有し、架橋構造を有するシロキサン系樹脂の前駆体材料を含む塗工液を、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の塗布形成方法を用いることにより塗布膜を形成し、乾燥、加熱処理を経て電荷輸送層を形成することができる。但し、１回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なっても良いし、複数回重ね塗布した後でも良い。
【０１７７】
なお、本発明に用いられる潜像担持体の感光層が単層型である場合は、この感光層は、既述した電荷発生物質と、一般式（Ｉ）等に示したような架橋構造を有する樹脂が形成可能な材料とを少なくとも含む単層型感光層形成用溶液を用いて形成される。但し、形成される単層型感光層の適度な弾性や柔軟性を確保するために、架橋構造を形成しない樹脂（結着樹脂）を併用することが好ましい。
【０１７８】
結着樹脂としては、前記電荷発生層および電荷輸送層に用いられる結着樹脂と同様の材料を用いることができる。単層型感光層中の電荷発生物質の含有量は、１０〜８５質量％の範囲内であることが好ましく２０〜５０質量％の範囲内であることが好ましい。また、単層型感光層には、光電特性を改善する等の目的で電荷輸送物質や高分子電荷輸送物質を添加してもよい。その添加量は５〜５０質量％とすることが好ましい。また、前記一般式（Ｉ）で示される化合物を加えてもよい。
単層型感光層形成用溶液に用いる溶剤や、この溶液の塗布方法は、上記と同様のものを用いることができる。形成される単層型感光層の膜厚は５〜５０μｍの範囲内が好ましく、１０〜４０μｍの範囲内がより好ましい。
【０１７９】
−現像剤−
本発明に用いられる現像剤は、トナーからなる一成分現像剤、あるいは、トナーとキャリアとからなる二成分現像剤のいずれであってもよい。
本発明に用いられるトナーは、特に製造方法により限定されるものではなく、例えば結着樹脂と着色剤と離型剤と、さらに必要に応じて帯電制御剤等とを混練、粉砕、分級する混練粉砕法、混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法、結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させて形成された分散液と、着色剤分散液と、離型剤分散液と、更に必要に応じて帯電制御剤等を含む分散液とを混合した混合液中で、トナー構成成分を凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法、結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤や離型剤、更に必要に応じて帯電制御剤等を含む溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法、結着樹脂と着色剤と離型剤と、更に必要に応じて帯電制御剤等を含む溶液を水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により得られるものが使用できる。
【０１８０】
また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに結着樹脂微粒子を付着させた後、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法など、公知の方法を使用することができる。これらの製造方法の中でも、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が好ましく、乳化重合凝集法が特に好ましい。
【０１８１】
トナーは結着樹脂、着色剤、離型剤等を含み、必要であれば、シリカや帯電制御剤を含んでいてもよい。前述のように、トナーの体積平均粒径は３〜７μｍの範囲が好ましく、５〜６．５μｍの範囲がより好ましい。また、既述したようにトナーの平均形状指数ＳＦ１が１００〜１４０の範囲のものを用いることにより、高い現像、転写性、及び高画質の画像を得ることができる。特にクリーニング手段として磁気ブラシを用いた本発明では、転写性に関し、高転写性を維持するためにはトナーの球形化度が高いことが好ましい。
【０１８２】
トナーの結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類；エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類；ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類；等の単独重合体および共重合体を例示することができる。
【０１８３】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン等を挙げることができる。さらに、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等を挙げることができる。
【０１８４】
また、トナーの着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示することができる。
【０１８５】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロプシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示することができる。
【０１８６】
また、トナーには必要に応じて帯電制御剤が添加されてもよい。帯電制御剤としては、公知のものを使用することができるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤を用いることができる。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減との点で水に溶解しにくい素材を使用するのが好ましい。本発明におけるトナーは、磁性材料を内包する磁性トナー、および磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０１８７】
本発明に用いるトナーには、平均粒径が５０ｎｍ〜１５０ｎｍの球形の無機微粉あるいは有機微粉を外添剤として添加すると、転写性がより向上する。更に磁気ブラシによる逆極化トナーの回収や再帯電性（極性反転）、画像形成時に磁気ブラシを残留トナーを回収する通常の条件で駆動させた状態で、現像器によるトナーの回収性が格段に向上する。
【０１８８】
有機微粒子としては、アクリル樹脂粒子、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等を挙げることができる。無機微粉としてはシリカが好ましい。
これらの粒子径としては、大きすぎたり小さすぎたりした場合には上述した効果を発揮することが困難になる場合がある。このため、これら外添剤の平均粒子径は、５０〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、１００〜１６０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
また、平均粒子径が５０〜２００ｎｍの範囲内の外添剤の適正な添加量は０．１質量％以上であることが好ましい。より好ましい範囲は０．５質量％以上である。
【０１８９】
また、本発明に用いるトナーには、表面に架橋構造を有する樹脂を含む潜像担持体表面上の付着物、劣化物を除去し均一に削り取るために、研磨剤が外添されていると、放電生成物除去をより確実に行うことができる。研磨剤をトナーに外添しない場合には、潜像担持体表面が高硬度であるために、磁気ブラシのみでの研磨をおこなうことになるが、研磨剤を外添することで磁気ブラシの摺擦部や弾性ブレードの摺擦部での研磨が期待できるため、より長期に渡って放電生成物の除去を確実に行い、白抜け等を確実に回避することができる。
【０１９０】
研磨剤としては公知の研磨剤を用いることが可能であるが、特に研磨性に優れる無機微粒子を用いることが好ましい。このような無機微粒子としては、酸化セリウム、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が挙げられる。
【０１９１】
また、上記無機微粒子にテトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネートなどのチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤などで処理を行っても良い。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩による疎水化処理を施した研磨剤を利用することもできる。
【０１９２】
研磨剤の粒径としては、５０ｎｍ〜１０μｍの範囲内が好ましく、さらに好ましくは１００ｎｍ〜１μｍの範囲内である。研磨剤の粒径が５０ｎｍ未満であると研磨効果が不足する場合があり、１μｍを超える場合には、潜像担持体表面の回転方向に傷が発生する場合があるため好ましくない。
また、研磨剤の添加量は、トナーに対して０．１質量％以上添加することが好ましく、０．２質量％以上添加することがより好ましい。研磨剤の添加量が０．１質量％未満の場合には、研磨効果が不足する場合があり、潜像担持体表面の種々の付着物を十分に除去できなくなる場合がある。なお、研磨効果を十分に確保する点からは研磨剤の添加量は多い方が好ましいが、実用上は、１．０質量％以下であることが好ましい。
【０１９３】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等のため、１次粒径が５０ｎｍ以下の小径無機酸化物を、更に付着力低減や帯電制御のため、それより大径の無機酸化物を挙げることができる。これらの無機酸化物微粒子は公知のものを使用することができるが、精密な帯電制御を行うためには、シリカと酸化チタンとを併用することが好ましい。また、小径無機微粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を向上させる効果が大きくなる。
【０１９４】
本発明に用いるトナーに添加される潤滑剤としてはグラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤；ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類；加熱により軟化点を有するシリコーン類；オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等のような脂肪族アミド類；カルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等のような植物系ワックス；ミツロウのような動物系ワックス；モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等のような鉱物、石油系ワックス；及びそれらの変性物が使用でき、これらを単独で使用するか、あるいは併用しても良い。
【０１９５】
また、トナーには上記外添剤をヘンシェルミキサー、あるいはＶブレンダー等で混合することによって外添することができる。また、トナー粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。
【０１９６】
二成分現像剤に使用し得るキャリアとしては、特に制限はなく、公知のキャリアを用いることができる。例えば酸化鉄、ニッケル、コバルト等の磁性金属、フェライト、マグネタイト等の磁性酸化物や、これら芯材表面に樹脂被覆層を有する樹脂コートキャリア、磁性分散型キャリア等を挙げることができる。またマトリックス樹脂に導電材料などが分散された樹脂分散型キャリアであってもよい。
【０１９７】
キャリアに使用される被覆樹脂・マトリックス樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルエーテル、ポリビニルケトン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、オルガノシロキサン結合からなるストレートシリコーン樹脂またはその変性品、フッ素樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等を例示することができるが、これらに限定されるものではない。
【０１９８】
導電材料としては、金、銀、銅といった金属やカーボンブラック、更に酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、チタン酸カリウム、酸化スズ、カーボンブラック等を例示することができるが、これらに限定されるものではない。
【０１９９】
またキャリアの芯材としては、鉄、ニッケル、コバルト等の磁性金属、フェライト、マグネタイト等の磁性酸化物、ガラスビーズ等が挙げられるが、キャリアを磁気ブラシ法に用いるためには、磁性材料であることが好ましい。
キャリアの芯材の体積平均粒径としては、一般的には１０〜５００μｍであり、好ましくは３０〜１００μｍである。
【０２００】
またキャリアの芯材の表面に樹脂被覆するには、前記被覆樹脂、および必要に応じて各種添加剤を適当な溶媒に溶解した被覆層形成用溶液により被覆する方法が挙げられる。溶媒としては、特に限定されるものではなく、使用する被覆樹脂、塗布適性等を勘案して適宜選択すればよい。
【０２０１】
具体的な樹脂被覆方法としては、キャリアの芯材を被覆層形成用溶液中に浸漬する浸漬法、被覆層形成用溶液をキャリアの芯材表面に噴霧するスプレー法、キャリアの芯材を流動エアーにより浮遊させた状態で被覆層形成用溶液を噴霧する流動床法、ニーダーコーター中でキャリアの芯材と被覆層形成溶液とを混合し、溶剤を除去するニーダーコーター法が挙げられる。
【０２０２】
前記二成分現像剤におけるトナーと上記キャリアとの混合比（質量比）としては、トナー：キャリア＝１：１００〜３０：１００程度の範囲であり、３：１００〜２０：１００程度の範囲がより好ましい。
【実施例】
【０２０３】
以下に、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
（感光体ドラムの作製）
−ベース感光体１−
外径８４ｍｍの円筒状のＡｌ基体をセンタレス研磨装置により研磨し、表面粗さがＲｚで０．６μｍとなるように調整した。次にこのＡｌ基体の外周面を有機溶剤で脱脂処理し、続いて２質量％水酸化ナトリウム溶液で１分間エッチング処理した後に、Ａｌ基体表面に残留するアルカリ成分を中和処理し、更に純水洗浄を行った。
【０２０４】
次に、１０質量％硫酸溶液を用いてＡｌ基体の外周面を陽極酸化処理して陽極酸化膜（電流密度１．０Ａ／ｄｍ2）を形成した。続いて、水洗した後、８０℃に保持した１質量％酢酸ニッケル溶液中にＡｌ基体を２０分間浸漬して封孔処理を行い、更に純水洗浄、乾燥処理を行った。このようにして、Ａｌ基体の外周面に膜厚７μｍの陽極酸化膜（下引き層）を形成した。
【０２０５】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンの１質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）１質量部、および、酢酸ｎ−ブチル１００質量部を混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散した後に得られた塗布液を下引き層上に浸漬コートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０２０６】
続いて、下記の左側に示される構造のベンジジン化合物２質量部と、下記の右側に示される高分子化合物（粘度平均分子量：３９，０００）２質量部とをクロロベンゼン２０質量部に溶解させた塗布液を前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布した後、１１０℃、４０分の加熱処理を行なって膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、ベース感光体１を得た。
【０２０７】
【化１５】
2006243642.tif 000025
【０２０８】
−ベース感光体２−
ホーニング処理を施した外径８４ｍｍの円筒状のＡｌ基板上に、ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ５４０、マツモト製薬社製）１００質量部、シラン化合物（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー社製）１０質量部、イソプロパノール４００質量部、及びブタノール２００質量部からなる溶液を浸せき塗布し、１５０℃にて、１０分間加熱乾燥し、０．１μｍの下引き層を形成した。
【０２０９】
このアルミニウム基材上にＸ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニンの１部をポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学）１部、及び酢酸ｎ−ブチル１００質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散した後、得られた塗布液を前記下引き層上に浸漬コートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０２１０】
次いで、下記構造の電荷輸送性化合物２質量部、高分子化合物（粘度平均分子量３９，０００）３質量部をクロロベンゼン２０質量部に溶解させた塗布液を前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１１０℃、４０分の加熱を行なって膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。これをベース感光体２とした。
【０２１１】
【化１６】
2006243642.tif 000026
【０２１２】
−ベース感光体３−
外径８４ｍｍの円筒状上のＡｌ基板に対して、ベース感光体１の作製と同様に陽極酸化膜を形成した。このアルミニウム基材上にＸ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、２７．２°に強い回折ピークを持つチタニルフタロシアニンの１部をポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学）１部、及び酢酸ｎ−ブチル１００部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散した後、得られた塗布液を前記下引き層上に浸漬コートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
さらに、この電荷発生層上にベース感光体１の作製と同様にして電荷輸送層を形成しベース感光体３を得た。
【０２１３】
−ベース感光体４−
酸化亜鉛（ＳＭＺ−０１７Ｎ、テイカ製）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（Ａ１１００、日本ユニカー社製）２質量部を添加し、５時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で２時間焼き付けを行った。得られた表面処理酸化亜鉛を蛍光Ｘ線により分析した結果、Ｓｉ元素強度は亜鉛元素強度の１．８×１０-4であった。
【０２１４】
前記表面処理を施した酸化亜鉛３５質量部と硬化剤ブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１５質量部とブチラール樹脂ＢＭ−１（積水化学社製）６質量部とメチルエチルケトン４４質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、シリコーン樹脂微粒子（トスパール１３０、ＧＥ東芝シリコン社製）１７質量部を添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてＡｌ基材上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引層を得た。表面粗さは、東京精密社製表面粗さ形状測定器サーフコム５７０Ａを使用し、測定距離２．５ｍｍ、走査速度０．３ｍｍ／ｓｅｃで測定したところ、Ｒｚ値は０．２４であった。
【０２１５】
次いで、ベース感光体１の作製と同様に膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成し、次いで同様に膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。これを、ベース感光体４とした。
【０２１６】
−感光体ドラム１−
下記に示す構成材料をイソプロピルアルコール５質量部、テトラヒドロフラン３質量部および蒸留水０．３質量部に溶解させ、さらにイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）０．５質量部を加え、室温で攪拌することにより２４時間加水分解を行った。
・化合物１（下記に示される化合物）：２質量部
・メチルトリメトキシシラン：２質量部
・テトラメトキシシラン：０．５質量部
・コロイダルシリカ：０．１質量部
・フッ素グラフトポリマー（ＺＸ００７Ｃ、富士化成社製）：０．５質量部
【０２１７】
【化１７】
2006243642.tif 000027
【０２１８】
続いて、この加水分解した溶液からイオン交換樹脂を濾過分離した濾過液に対し、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）3）を０．１質量部と、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部とを加えて最表層形成用溶液を調製した。
次に、ベース感光体１の電荷輸送層の上に、最表層形成用溶液を用いてリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１７０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約５μｍの保護層（最表層）を形成し、感光体ドラム１を得た。
【０２１９】
−感光体ドラム２−
感光体ドラム１の作製において、化合物１の代わりに下記化合物２を用いた以外は感光体ドラム１の作製と同様にして、ベース感光体３の表面に膜厚約７μｍの最表層を形成し、感光体ドラム２を得た。
【０２２０】
【化１８】
2006243642.tif 000028
【０２２１】
−感光体ドラム３−
下記に示す構成材料をイソプロピルアルコール５質量部、テトラヒドロフラン３質量部および蒸留水０．３質量部に溶解させ、さらにイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）０．５質量部を加え、室温で攪拌することにより２４時間加水分解を行った。
・化合物１（前記に示される化合物）：２質量部
・メチルトリメトキシシラン：２質量部
・テトラメトキシシラン：０．５質量部
・コロイダルシリカ：０．１質量部
・フッ素グラフトポリマー（ＺＸ００７Ｃ、富士化成社製）：０．５質量部
・フッ素カップリング剤（ＫＢＭ−７８０３、信越化学社製）：０．２質量部
【０２２２】
続いて、この加水分解した溶液からイオン交換樹脂を濾過分離した濾過液に対し、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）3）を０．１質量部と、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部とを加えて最表層形成用溶液を調整した。
次に、ベース感光体２の電荷輸送層の上に、最表層形成用溶液を用いてリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１７０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約５μｍの保護層（最表層）を形成し、感光体ドラム３を得た。
【０２２３】
−感光体ドラム４−
下記に示す構成材料をｎ−ブチルアルコール５質量部、テトラヒドロフラン３質量部および蒸留水０．３質量部に溶解させ、さらにイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）０．５質量部を加え、室温で攪拌することにより０．５時間加水分解を行った。
・化合物１（前記に示される化合物）：２質量部
・メチルトリメトキシシラン：２．１質量部
・Ｍｅ（ＭｅＯ）2−Ｓｉ-（ＣＨ2）４−Ｓｉ−Ｍｅ（ＯＭｅ）2：０．５質量部（Ｍｅはメチル基を表す。）
・フッ素グラフトポリマー（ＺＸ００７Ｃ、富士化成社製）：０．５質量部
・（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）メチルジメトキシシラン：０．１質量部
・ヘキサメチルシクロトリシロキサン：０．３質量部
・ポリビニルブチラール樹脂（ＢＸ−Ｌ、積水化学社製）：０．５質量部
【０２２４】
続いて、この加水分解した溶液からイオン交換樹脂を濾過分離した濾過液に対し、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）3）を０．１質量部と、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部とを加えて最表層形成用溶液を調製した。
次に、ベース感光体４の電荷輸送層の上に、最表層形成用溶液を用いてリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１７０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約５μｍの保護層（最表層）を形成し、感光体ドラム４を得た。
【０２２５】
−感光体ドラム５−
下記式（３）で示されるアクリルモノマー３０質量部に、フッ素グラフトポリマー（ＺＸ０２２：富士化成社製）５質量部と、光重合開始剤として２−メチルチオキサントン５．２質量部とを溶解し、更にヒドロキシアルキル基を有する電荷輸送材料として、前記例示化合物（II）−２５を２１部溶解し、最表層形成用溶液を調製した。
・式（３）    ＨＯＣＨ2−Ｃ（（ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2）3
【０２２６】
次いで、ベース感光体２の電荷輸送層上に最表層形成用溶液を浸漬塗布して膜を形成させ、続いて高圧水銀灯にて８００ｍＷ／ｃｍ2の光強度で６０秒間光硬化を行い、その後１２０℃で２時間熱風乾燥し、膜厚が３μｍ保護層を形成した。これを感光体ドラム５とした。
【０２２７】
−感光体ドラム６−
下記に示す構成材料をイソプロピルアルコール１０質量部に溶解させ、最表層形成用溶液を調製した。
・化合物２（前記に示される化合物）：２質量部
・フェノール樹脂（レジトップＰＬ４８５２、群栄化学社製）：３質量部
・ヒンダードフェノール系酸化防止剤（ＡＯ−８０、旭電化社製）：０．１質量部
・フッ素グラフトポリマー（ＺＸ００７Ｃ：富士化成社製）：０．２質量部
・フッ素カップリング剤（ＫＢＭ−７８０３、信越化学社製）：０．１質量部
【０２２８】
続いて、この最表層形成用溶液を、ベース感光体２の電荷輸送層の上に、最表層形成用溶液を用いてリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３５℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約５μｍの保護層（最表層）を形成し、感光体ドラム６を得た。
【０２２９】
−感光体ドラム７−
感光体ドラム６の作製において、化合物 ２の代わりに前記化合物１を用いた以外は感光体ドラム６と同様にして、感光体ドラム７を作製した。
【０２３０】
＜実施例１＞
前記図１に示した画像形成装置の感光体ドラムとして、感光体ドラム１を装着し、磁性粒子搬送部材として表面に前記のように磁束密度が極大となる領域に３本の角溝、それ以外の領域に三角溝を形成したものを用い、プロセス条件、現像剤等は前記実施形態で説明した条件等として、高温高湿環境（２８℃、８５％ＲＨ）で１０００００枚の画像出力を実施した。その後、以下の項目について評価を行なった。
【０２３１】
−高温高湿度環境での白抜け−
画像形成装置を高温高湿度下に一晩放置し、放置前後の画像密度３０％ハーフトーンの濃度差を、反射型濃度測定装置にて以下の基準により評価した。
○：濃度差が０．１５以下
△：濃度差が０．１５〜０．４の範囲
×：濃度差が０．４以上
【０２３２】
−クリーニング性−
画像形成装置における転写装置を感光体ドラムから離間し、感光体ドラム上に形成した密度１００％、Ａ３サイズ分のトナー画像を、クリーニング装置にそのまま進入させ、トナーのブレード通過の有無を以下の基準で評価した。
○：通過なし
△：わずかな通過はあるがプリント画像に現れない、
×：プリント画像に現れる
【０２３３】
−ブレード部異音−
画像出し中の画像形成装置からの異音発生の有無を以下の基準により評価した。
○：異音なし
×：異音あり
【０２３４】
−感光体ドラム１０００サイクルあたりの磨耗量−
渦電流式膜厚計で耐久テスト前後の感光体ドラム上の感光層の膜厚を計測し、その差分を１０００サイクルあたりの磨耗量に換算して求めた。
【０２３５】
−感光体ドラム表面傷−
耐久テスト後の感光体ドラム表面傷を、目視観察等により以下の基準で官能評価した。
○：感光体表面の粗さが気にならない。
△：プリント画像には影響しない傷が存在する。
×：プリント画像にスジが確認される。
【０２３６】
−感光体表面フィルミング−
耐久テスト後の感光体ドラム表面フィルミングを、目視観察等により以下の基準で官能評価した。
○：表面に固着なし。
△：表面に固着はあるが、プリント画像にあらわれない。
×：プリント画像にあらわれる。
以上の結果をまとめて表１に示す。
【０２３７】
＜実施例２〜１５、比較例１〜３＞
実施例１において、感光体ドラム種、スリーブ上の溝、磁性粒子搬送部材周速・回転方向、磁性粒子平均粒径を、表９に示したように各々変更した以外は同様にして評価を行った。
結果をまとめて表１に示す。
【０２３８】
【表９】
2006243642.tif 000029
【０２３９】
【表１０】
2006243642.tif 000030
【０２４０】
表１０の結果に示すように、実施例の磁束密度の極大領域にそれ以外の領域より大きい溝を設けたスリーブを用いた場合には、クリーニング性等を低下させることなく感光体傷やフィルミングが発生しなかった。一方、比較例のスリーブ表面に一様に三角溝を設けた場合には、クリーニング性等に問題がなかったとしても感光体傷やフィルミングを回避することができなかった。
【図面の簡単な説明】
【０２４１】
【図１】本発明の画像形成装置の構成例を示す模式断面図である。
【図２】本発明の画像形成装置におけるクリーニング装置部分の構成例を示す模式断面図である。
【図３】本発明における磁性粒子搬送部材の構成例を示す模式断面図である。
【図４】本発明おける非磁性導電性スリーブ表面の磁束密度分布を示す図である。
【図５】非磁性導電性スリーブの一部分を拡大して示す模式断面図である。
【図６】磁気ブラシが感光体ドラム表面を摺擦している部分を拡大して示す模式図である。
【符号の説明】
【０２４２】
１  潜像担持体（感光体）
２  帯電ロール（帯電手段）
３  レーザビーム（露光手段）
４  現像器（現像手段）
５  転写ロール（転写手段）
６  クリーニング装置（クリーニング手段）
７  記録紙（被転写体）
８  除電器
１１  バイアス印加手段
６２  クリーニング補助部材
６２ａ  搬送量規制部材
６２ｂ  磁性粒子搬送部材
６２ｃ  磁性粒子
７０ａ〜７０ｃ、８０ａ〜８０ｄ  溝
【図１】
2006243642.tif 000032
【図２】
2006243642.tif 000033
【図３】
2006243642.tif 000034
【図４】
2006243642.tif 000035
【図５】
2006243642.tif 000036
【図６】
2006243642.tif 000037