(57)【要約】【課題】本発明の目的は画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、及びその製造方法を提供し、更にそれを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置を提供することにある。【解決手段】５０〜１０００ｍｍ径でかつゴム硬度が３０〜８０度の範囲であるシームレス樹脂版を用いフレキソ印刷により基材フィルムの表面にインキ付着部とインキ未付着部による凹凸構造を形成する工程を有することを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
５０〜１０００ｍｍ径でかつゴム硬度が３０〜８０度の範囲であるシームレス樹脂版を用いフレキソ印刷により基材フィルムの表面にインキ付着部とインキ未付着部による凹凸構造を形成する工程を有することを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記凹凸構造のインキ付着部が、前記インキ未付着部を基準とした高さが０．１〜１．５μｍであり、長辺が３〜５０μｍ、かつ隣り合う凸部間の平均距離が１０〜１５０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記基材フィルムがセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びポリカーボネート系フィルムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記基材フィルムには、前記凹凸構造が形成される側に、厚みが２〜２０μｍのハードコート層が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記凹凸構造の形成工程を複数回有することを特徴とする請求項１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記複数回の凹凸構造の形成工程において、少なくとも１回の凹凸構造の形成工程において、異なる形状のインキ付着部が形成されることを特徴とする請求項５に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記複数回の凹凸構造の形成工程において、少なくとも１回以上異なる径のシームレス樹脂版が用いられることを特徴とする請求項５に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記フレキソ印刷に用いられるインキの粘度が０．１〜１０Ｐａ・ｓであることを特徴とする請求項１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記フレキソ印刷に用いられるインキが活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂を含有し、前記凹凸構造の形成工程後に、活性光線を照射するか、または加熱して前記凹凸構造を硬化・固定する工程を有することを特徴とする請求項１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の防眩性フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項１１】
請求項１０に記載の防眩性フィルムの表面上に低屈折率層が積層されたことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
【請求項１２】
請求項１０に記載の防眩性フィルムまたは請求項１１に記載の防眩性反射防止フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項１３】
請求項１２に記載の偏光板を用いたことを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１０に記載の防眩性フィルムの表面に形成されたインキ付着部の形状が楕円形状であり、該楕円形状の長辺方向がディスプレイの縦方向もしくは横方向に平行に並ぶように配置されたことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置に関し、より詳しくは表示装置において外光の写り込みが少なく、コントラストの低下を抑えた防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム、それらを用いた偏光板及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄型軽量ノートパソコンの開発が進んでいる。それに伴って、液晶表示装置等の表示装置で用いられる偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、高性能化への要求が強くなってきている。また、視認性向上のために反射防止層を設けたり、また、写り込みを防いだり、ぎらつきの少ない表示性能を得るために表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した、コンピュータやワープロ等の液晶画像表示装置（液晶ディスプレイともいう）が多く使用されるようになってきた。
【０００３】
反射防止層や防眩層は用途に応じてさまざまな種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々の前面板を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わせることで、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能または防眩機能等を付与する方法が用いられている。
【０００４】
防眩層は、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置などの使用時に反射像の写り込みが気にならないようにするものである。
【０００５】
画像表示装置の前面板最表面に適切な微細凹凸構造を設けることによって、上記のような性質を持たせることが出来る。例えば、微粒子を用いる方法（例えば、特許文献１参照。）、表面にエンボス加工を施す方法（例えば、特許文献２参照。）等種々の方法がある。更に、特許文献３においては、微粒子を均一に分散した塗膜により防眩層を形成することについて記載しており、塗膜を形成する為の塗布方法として、多数の塗布方法や印刷方法を挙げているが、そのひとつとして、フレキソ印刷を挙げている。しかし、この文献では微細凹凸構造は、微粒子により形成されており、バインダー（インク）自体は一様に塗布されており、インク自体の塗布の有無により微細凹凸構造を設けることについては記載していない。
【０００６】
しかしながら、微粒子を用いる方法では、バインダー層中に微粒子を含有させることのみによって微細凹凸構造を形成する為、微粒子を適切に分散することが必要とされるため、所望の微細凹凸構造を効果的に安定に形成することがむずかしく、防眩フィルムとしての十分なぎらつき防止効果を得ることに大きな障害を有していた。微粒子により微細構造を形成する方法においては、塗布方法に係らず、上記の障害を克服することは困難であった。またエンボス加工等の方法により微細凹凸構造を形成する方法は、生産性に劣り、特に微細凹凸構造を安定に形成することは極めて困難であり、ぎらつきの低減や防眩効果が十分ではなかった。
【０００７】
また、近年、画像表示装置のカラー化、高精細化に伴って、より視認性の優れた表示装置が求められている。例えば液晶表示装置の最表面は、これらの従来の防眩性フィルムでは不充分であり、またクリアハードコート反射防止フィルムでは蛍光灯の写り込みが問題となり、防眩性フィルム上に光干渉による反射防止層（低屈折率層）をコーティングした防眩性反射防止フィルムに関する技術が多数提案されている（例えば、特許文献４〜９参照。）。しかしながら、これらによってもより視認性の優れた表示装置を得る上で、充分な防眩性や反射防止性を得るまでに至っていない。
【特許文献１】特開昭５９−５８０３６号公報
【特許文献２】特開平６−２３４１７５号公報
【特許文献３】特開２００４−４７７７号公報
【特許文献４】特開２００１−２８１４１０号公報
【特許文献５】特開２００４−４４０４号公報
【特許文献６】特開２００４−１２５９８５号公報
【特許文献７】特開２００４−２４９６７号公報
【特許文献８】特開２００４−４７７７号公報
【特許文献９】特開２００３−１２１６２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、及びその製造方法を提供し、更にそれを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【００１０】
１．５０〜１０００ｍｍ径でかつゴム硬度が３０〜８０度の範囲であるシームレス樹脂版を用いフレキソ印刷により基材フィルムの表面にインキ付着部とインキ未付着部による凹凸構造を形成する工程を有することを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。
【００１１】
２．前記凹凸構造のインキ付着部が、前記インキ未付着部を基準とした高さが０．１〜１．５μｍであり、長辺が３〜５０μｍ、かつ隣り合う凸部間の平均距離が１０〜１５０μｍであることを特徴とする前記１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【００１２】
３．前記基材フィルムがセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びポリカーボネート系フィルムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする前記１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【００１３】
４．前記基材フィルムには、前記凹凸構造が形成される側に、厚みが２〜２０μｍのハードコート層が設けられていることを特徴とする前記１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【００１４】
５．前記凹凸構造の形成工程を複数回有することを特徴とする前記１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【００１５】
６．前記複数回の凹凸構造の形成工程において、少なくとも１回の凹凸構造の形成工程において、異なる形状のインキ付着部が形成されることを特徴とする前記５に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【００１６】
７．前記複数回の凹凸構造の形成工程において、少なくとも１回以上異なる径のシームレス樹脂版が用いられることを特徴とする前記５に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【００１７】
８．前記フレキソ印刷に用いられるインキの粘度が０．１〜１０Ｐａ・ｓであることを特徴とする前記１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【００１８】
９．前記フレキソ印刷に用いられるインキが活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂を含有し、前記凹凸構造の形成工程後に、活性光線を照射するか、または加熱して前記凹凸構造を硬化・固定する工程を有することを特徴とする前記１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【００１９】
１０．前記１〜９のいずれか１項に記載の防眩性フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする防眩性フィルム。
【００２０】
１１．前記１０に記載の防眩性フィルムの表面上に低屈折率層が積層されたことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
【００２１】
１２．前記１０に記載の防眩性フィルムまたは前記１１に記載の防眩性反射防止フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。
【００２２】
１３．前記１２に記載の偏光板を用いたことを特徴とする表示装置。
【００２３】
１４．前記１０に記載の防眩性フィルムの表面に形成されたインキ付着部の形状が楕円形状であり、該楕円形状の長辺方向がディスプレイの縦方向もしくは横方向に平行に並ぶように配置されたことを特徴とする表示装置。
【発明の効果】
【００２４】
本発明により、画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、及びその製造方法を提供出来、更にそれを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置を提供することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２６】
本発明の防眩性フィルムの製造方法は、５０〜１０００ｍｍ径でかつゴム硬度が３０〜８０度の範囲であるシームレス樹脂版を用いフレキソ印刷により基材フィルムの表面にインキ付着部とインキ未付着部による凹凸構造を形成する工程を有することを特徴とする。更に好ましい構成として、活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂を含有する透明樹脂インキを用い、フレキソ印刷により基材フィルムの表面に凹凸構造を転移印刷し、次いで該凹凸構造に活性光線を照射するかまたは加熱して硬化・固定することにより基材フィルムに防眩性を付与することを特徴とする。
【００２７】
フレキソ印刷によって形成される凹凸構造は、インキ付着部の高さがインキ未付着部を基準にして０．１〜１．５μｍ、インキ付着部の大きさが長辺において３〜５０μｍ、隣り合う凸部間の平均距離が１０〜１５０μｍとなるように少なくとも一回以上のフレキソ印刷することで形成されるものであることが好ましい。この方法によれば、印刷速度を１０ｍ／毎分以上、高速であれば５００ｍ／毎分という速度でも防眩性フィルムを作製することが出来、高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、それを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置が得られる。
【００２８】
以下、本発明を要素毎に詳細に説明する。
【００２９】
《フレキソ印刷》
最初に、本発明に係る基材フィルム表面への凹凸構造形成を行うフレキソ印刷について説明する。
【００３０】
一般にフレキソ印刷とは、フレキシブルなゴム又は樹脂からなる凸版と、水又はアルコールを主とする溶剤系の蒸発乾燥型のインキを用いた印刷方法である。被印刷体は、紙の他にポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリスチレンなどの延伸、又は未延伸樹脂フィルムなど吸収性、非吸収性のフィルムの印刷に多用されていた。一方、ドラム型の印刷機（単胴型、共通圧胴型）は、中央の大きい単一の圧胴の周囲に４〜６個の印刷ユニットを設けたもので、長尺帯状の被印刷体は圧胴に巻かれた状態で走行・印刷される特徴がある。従って、薄くて伸縮しやすい、プラスチックフィルムやアルミニウム箔などの印刷にも適するものである。
【００３１】
本発明者らは防眩性フィルムに関する上記課題について鋭意検討した結果、基材フィルム表面へフレキソ印刷を用いて凹凸構造を形成することにより、高度な生産性を維持したまま上記課題を改善出来ることを見出したものである。
【００３２】
まず本発明に係るフレキソ印刷について図をもって説明する。
【００３３】
図１、図２は本発明に係るフレキソ印刷の一例を示す模式図である。
【００３４】
連続走行する基材フィルム１０は圧胴５と樹脂版ロール２と転移印刷後に基材フィルム上に凹凸構造を形成するシームレス樹脂版１によって構成される版胴３に挟まれ、ドクターブレード６によって転移インキ量が調整されたアニロックスロール４によってインキ８を版胴３に供給し基材フィルム上に転移印刷される。
【００３５】
フレキソ印刷における、版胴３に対するインキ供給は、アニロックスロール４により行われ、アニロックスロール面のインキ量の制御は、図１に示すドクターブレード方式、又は図２に示すツーロール方式によるものなどが一般的に知られている。図２に示すツーロール方式は、インキパンからインキ８をファウンテンロール７でアニロックスロール４に、更に版胴３にインキを供給し、基材フィルム１０にインキを転移印刷するものである。図２の方式によればインキ８は、アニロックスロール４の彫刻線数、セルの深さ及び形状で調整する他に、ファウンテンロール７とアニロックスロール４間の（変動し易い）ニップ圧の強弱でインキ供給量を制御するものでありインキの転移量が安定しないという問題がある為、本発明では図１の方法が好ましい。
【００３６】
また別の方式として、図３にインキの供給を押出しコーターにより行うフレキソ印刷の模式図を示す。
【００３７】
インキ８は押出しコーター９により樹脂版ロール２に装着されたシームレス樹脂版１上に直接押し出され、版胴３と圧胴５に挟まれ連続走行している基材フィルム１０に転移印刷される。この装置の場合はアニロックスロールが無いため、インキの供給量は押出しコーターの精度に左右される。
【００３８】
図１に示すドクターブレード方式における、版胴３へのインキ転移量は、アニロックスロール４の彫刻線数とセルの形状で決まりインキ転移量としては安定出来るものである。そして、アニロックスロールのセルに充填するインキは、アニロックスロール表面の過剰インキをドクターブレードで掻きとるため、転移するインキは彫刻線数とセルの形状、容積で決められるものである。そして、アニロックスロールのセルは、例えば鉄シリンダー表面に必要に応じて銅メッキを施して、その面に彫刻でセルを形成し、ニッケル或いはクロムメッキで硬度のある表面加工を行う。アニロックスロールの材質は、鉄シリンダー表面に銅メッキ等を行ったタイプ、またはセラミックコーテイングしたタイプがあるが、本発明では耐摩耗性及び、彫刻線数の細線化が容易な点からセラミックコーテイングしたタイプが好ましい。
【００３９】
図４はアニロックスロールの斜視図である。
【００４０】
図５はアニロックスのセルを説明するための斜視図である。
【００４１】
アニロックスロール４は、図４に示すようにセラミックス面を、銅面に設けるグラビア版と同様に化学腐食によっても形成出来るが、腐食液の処理や深さのばらつきを生じ易い点から、機械もしくはレーザー彫刻によりセルｂを設けることが望ましい。そして、アニロックスロールの表面は、通常ミルによる押圧加工の後クロムメッキ加工して作られるが耐摩耗性、耐食性及びインキ転移性の点から酸化クローム、タングステンカ−バイドなどの無機酸化物を熔射形成したものが好ましい。
【００４２】
アニロックスロール４の彫刻形状は、格子型のセルの他に、図示はしないが、ヘリカル型、ピラミッド型、斜線型、六角形状のハニカムパターンなどの形状があり、特に限定されるものではないが、高速印刷時におけるインキ転移の再現性の点からハニカムパターンであることが好ましい。そして、図４及び図５に示す彫刻線数やセルｂの深さｄは、インキの転移量に大きな影響を与えるもので、本発明に係る防眩性フィルム表面上の凹凸構造を形成するには、６００線／２．５４ｃｍ以上、セルの深さｄが５〜３０μｍであることが好ましい。彫刻形状と線数の選択は被印刷体の種類や印刷スクリーン線数に合せて考慮されるが、被吸収性が少ないプラスチックフィルムには線数の細かいものが好ましく使用される。そして、セルの土手ａ（非凹部）は、耐摩耗性に支障がない程度に小さく設けた方がインキチャージ量を多く出来る点から好ましく、具体的には土手幅ｗをセル幅の０．１〜０．５倍に設けることが好ましい。アニロックスロールは、フレキソ印刷において版面にインキ量の供給量をドクタリングで制御するものである。そして、ドクタリングの過程で摩耗・損傷が起こり、セルが浅くなりインキ転移量が減少する原因となる。従って、従来の金属（鉄、又は銅に彫刻、クロームメッキ仕上げ）と比較して、セラミックスのアニロックスロールは、ドクタリングによる摩耗量が少なく凹凸パターンの繰り返し安定性に大きく貢献出来るものである。
【００４３】
本発明は、好ましくは図１に示すようなフレキソ印刷装置により、５０〜１０００ｍｍ径のシームレス樹脂版１を樹脂版ロール２に装着した版胴３と、好ましくはセラミックスコーティングしたアニロックスロール４とを用いて、基材フィルム１０にインキを転移印刷することにより凹凸構造を形成し、防眩性フィルムを作製するものである。
【００４４】
上記樹脂版ロール２の材質は特に限定されるものではなく、強度を維持出来るものであればよく、鉄、ステンレス、アルミ等の金属、または合成または天然ゴムであることが好ましく、金属とゴムの複合部材でもよい。本発明では樹脂版ロール２の径はシームレス樹脂版１が樹脂版ロール２に装着された時の径（ロールの直径）が５０〜１０００ｍｍの範囲になるように選択されればよい。シームレス樹脂版１の径が５０ｍｍ未満では回転速度が速過ぎて強度を維持出来ないこと、また凹凸パターンの繰り返しの周期が短くて防眩効果が低下することがあり好ましくない。径が１０００ｍｍを超えると、装置が大きくなり過ぎて運転費用がかかりコスト的に不利であり、また回転むらが生じやすく防眩効果が低下する。
【００４５】
本発明のシームレス樹脂版１に用いる樹脂版は、光反応物質であるポリマーとモノマーとの光重合を応用した感光性樹脂版を用いることが好ましい。この感光性樹脂版は、フォトポリマー、紫外線の露光により光重合するモノマー、ポリマーとモノマー間とで光重合を開始する増感剤、及び版材の物理的性状を調整する可塑剤等の組成物から構成され、感光性樹脂版上に従来のマスク製版により凹凸パターンを刻印するか、または、シリンダー（軸芯）の全面に塗布等により設けた感光性樹脂層にレーザー光を照射することにより直接凹凸パターンを彫刻することも出来る。
【００４６】
本発明において用いる感光性樹脂組成物は、フレキソ印刷版用として公知のものが使用出来る。一般的にはバインダーポリマーと少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマーと光開始剤を主成分とする組成物が用いられる。さらに、この感光性樹脂層に要求される特性に応じて増感剤、熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤などの添加剤を含むことが出来る。
【００４７】
バインダーポリマーとしては、例えばモノビニル置換芳香族炭化水素モノマーと共役ジエンモノマーを重合して得られる熱可塑性エラストマーが用いられる。モノビニル置換芳香族炭化水素モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等が、また共役ジエンモノマーとしてはブタジエン、イソプレン等が挙げられる。具体例としてはスチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体や、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体などを挙げることが出来る。
【００４８】
少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマーとしては、バインダーポリマーと相溶性のあるもので、例えばｔ−ブチルアルコールやラウリルアルコールなどのアルコールとアクリル酸、メタクリル酸とのエステル、或いはラウリルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミドなどのマレイミド誘導体、又はジオクチルフマレートなどのアルコールとフマール酸のエステル、さらにはヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどの多価アルコールとアクリル酸、メタクリル酸とのエステルなどを挙げることが出来る。
【００４９】
光開始剤としては、ベンゾフェノンのような芳香族ケトン類やベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチロールベンゾインメチルエーテル、α−メトキシベンゾインメチルエーテル、２，２−ジエトキシフェニルアセトフェノン等のベンゾインエーテル類などの公知の光重合開始剤の中から選択し、また組み合わせて使用される。
【００５０】
感光性樹脂層は種々の方法で調製することが出来る。例えば配合される原料を適当な溶媒、例えばクロロホルム、テトラクロルエチレン、メチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に溶解させて混合し、コーターにより適当な支持体上に塗布して設けることも出来るし、型枠の中に流延して溶剤を蒸発させ、そのまま板とすることが出来る。また溶剤を用いず、ニーダー或いはロールミルで混練し、押し出し機、射出成形機、プレスなどにより所望の厚さの板に成形することが出来る。
【００５１】
感光性樹脂シートを樹脂版ロールに巻き付けるにあたっては、シームレス樹脂版を形成する為に感光性樹脂の端部同士に隙間が出来ないよう、正確にシートを切断して用いることが必要である。通常感光性樹脂版を樹脂版ロールに巻き付けた後、感光性樹脂の軟化点以上に加温して感光性樹脂の端部同士を溶融接着させる。加温時間は通常２０分から１時間で、温度と樹脂の軟化点に応じて端部同士が融着することを目安に決められる。次いでグラインダーで感光性樹脂表面を研磨してつなぎ目を完全に無くすと同時に精度を出した後、感光性樹脂の軟化点以上に再度加温処理を行うことがシームレス化において好ましい。その時間は温度によるが１０から４０分程度で、感光性樹脂表面全体に光沢が見られるようになるまで行う。長時間加温し続けると印刷版としての精度が損なわれるので一時間以内で処理することが望ましい。またベース材であるゴム、ポリエステルフィルム、アルミニウム板、スチール板或いは、シリンダーに装着出来るアルミニウム製樹脂版ロールに直接継ぎ目がないように感光性樹脂層を塗設しシームレス化することも出来る。
【００５２】
本発明ではシームレス樹脂版のゴム硬度は３０〜８０度の範囲であることが本発明の特徴であり、精度よく安定した微細凹凸構造の転移印刷を行う上で樹脂版のゴム硬度がこの範囲にあることが必要である。ロール状シームレス樹脂版１のゴム硬度は、樹脂版の厚みによっても影響される為、厚みが０．５〜１０ｍｍの範囲の樹脂版において３０〜８０度の範囲であることが必要である。より好ましくは４０〜８０度の範囲である。
【００５３】
樹脂版のゴム硬度が３０度未満であると、版が柔らか過ぎて所望の凹凸構造を形成するのに難があり、また版自体も摩耗し易くなる為好ましくない。樹脂版のゴム硬度が８０度を超えると、版胴が高速回転して印刷する際の柔軟性に欠けインキ転移量の再現性に乏しくなる。ゴム硬度はＪＩＳ  Ｋ  ６２５３に記載の方法に準じてデュロメータ等で測定した値で示される。
【００５４】
シームレス樹脂版上に凹凸構造を刻印する方法としてマスク製版が利用される。マスク製版では、感光性樹脂材料の層を設けた樹脂版に原版マスクであるネガフィルムでカバーして露光する。感光性樹脂層は光、特に波長３５０〜４５０ｎｍの紫外線エネルギーで硬化、或いは不溶化するものである。未露光部の未硬化樹脂は水、アルカリ水溶液、或いはアルコールなどの有機溶剤に可溶性の状態で維持される。従って、未露光部をそれに応じた溶剤で洗い出す（現像工程）ことにより、露光された部分のみが残って凸版（フレキソ版）を形成するものである。
【００５５】
また、最近の刷版方法としては、修正画像信号に基づいて硬化済の樹脂版に直接レーザー光或いは彫刻機で彫刻することにより完全なエンドレス版を作製することが出来る。或いは、未露光の感光性樹脂版に円筒状のまま修正済画像信号で変調されたレーザー光で走査しパターニングした後通常の方法で現像する方法がエンドレスの版を形成する上からも好ましい。
【００５６】
本発明では、基材フィルム、または厚みが２μｍ〜２０μｍの範囲であるハードコート層を有する基材フィルム上に、インキ未付着部を基準として高さが０．１〜１．５μｍで、大きさが長辺において３〜５０μｍ、かつ隣り合うインキ付着部（凸部）間の平均距離が１０〜１５０μｍである凸部を有する凹凸構造を印刷作製出来るように、上記感光性樹脂版上に版を作製することが好ましい。
【００５７】
本発明におけるインキ付着部は、フレキソ印刷によりインキが付着される部分であり防眩性フィルムにおいては、凸部となる。インキ未付着部は、フレキソ印刷によりインキが付着されない部分であり防眩性フィルムにおいては、凹部となる。本発明においては、インキ未付着部には、インキが全く付着していないことが好ましいが、インキ付着部に対して、５％より少量の微量のインキが付着している場合もインキ未付着部とみなすものとする。
【００５８】
図６は、基材フィルム上に形成される本発明に好ましい凹凸構造の模式図である。（ａ）は凹凸構造の斜視図であり、（ｂ）は断面図である。凹凸構造の高さは図中ｅで示されるものでありインキ付着部（凸部）頂点と隣接するインキ未付着部（凹部）底との高低差をいい、その高さは０．１〜１．５μｍであり、好ましくは０．２〜１．２μｍである。０．１μｍ未満では防眩性の効果が得られず、１．５μｍを超えると視認性においてざらつき感が増すため好ましくない。凹凸構造の凸部の高さは市販の触針式表面粗さ測定機或いは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することが出来る。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、一定の範囲内について凹凸を２次元的に測定し、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けして表示する。ここで各凹凸構造の隣接する凹部底を基準としたその高さを求め平均値とする。
【００５９】
凸部の大きさとは図中ｆで示されるものであり、上記市販の光学干渉式表面粗さ測定機等を用いて、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けした時に凹部底を基準として凸部の高さが５％高くなった時の凸部長辺を凸部の大きさと定義しその平均値で示す。この時に、本発明の微細凹凸構造の凸部の大きさは３〜５０μｍであることが好ましく、３μｍ未満では防眩性の効果が得られず、５０μｍを超えると視認性においてざらつき感が増すため好ましくない。
【００６０】
凸部間の平均距離ｇは１０〜１５０μｍであることが好ましく、より好ましくは３０〜１２０μｍである。１０μｍ未満でも、１５０μｍを超えても防眩性の効果が小さくなり好ましくない。凸部間の平均距離は触針式表面粗さ測定機により測定出来る。具体的にはダイヤモンドからなる先端部を頂角５５度の円錐形とした直径１ｍｍの測定針を介して微細凹凸構造面上を一定方向に３ｍｍの長さで走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線を得ることが出来、その結果より凸部間の距離を測定し平均値を求めることが出来る。或いは前述の触針式表面粗さ測定器による測定結果と異なる結果とならない条件であれば、光学干渉式表面粗さ測定機によっても測定することが出来る。
【００６１】
上記、凹凸構造の凸部の高さ、大きさ、平均距離はいずれも凹凸構造１００個を測定したものの平均を求めればよい。
【００６２】
本発明に係る凹凸構造を有する防眩性フィルム表面は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定される中心線平均粗さＲａが０．０１〜５μｍであることが好ましく、好ましくはＲａが０．０７〜１μｍ、最も好ましくはＲａが０．１〜０．５μｍである。例えば、防眩性を強くする部分はＲａを大きくし、逆は小さくする。例えばＲａで０．０５μｍ以上異ならせることも出来る。
【００６３】
本発明で規定する中心線平均粗さ（算術平均粗さ）Ｒａは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１により定義され、下式によって求められる値をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。
【００６４】
【数１】
2006285217.tif 000002
【００６５】
中心線平均粗さ（Ｒａ）の測定方法としては、２５℃、６５％ＲＨ環境下で測定試料同士が重なり合わない条件で２４時間調湿したのち、上記環境下で測定して求めることが出来る。ここでいう重なり合わない条件とは、例えば、試料のエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法や試料と試料の間に紙を挟んで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることの出来る測定装置としては、例えば、ＷＹＫＯ社製  ＲＳＴＰＬＵＳ非接触三次元微小表面形状測定システム等を挙げることが出来る。
【００６６】
本発明に係る微細凹凸構造を形成するインキは、フレキソ印刷により微細凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有するものであり、該防眩性付与組成物としては活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００６７】
防眩性付与組成物であるインキの屈折率は、１．４５〜１．６５の範囲であることが好ましく、インキの透過率は、８０％以上、好ましくは９０％以上であることが好ましい。
【００６８】
インキの粘度は測定温度４０℃において、０．１〜１０Ｐａ・ｓであることが好ましく、０．５〜８Ｐａ・ｓの範囲が更に好ましい。粘度が０．１Ｐａ・ｓ未満の場合は粘度が低過ぎて所望の形状の微細凹凸構造が得られなくなり、１０Ｐａ・ｓを超えるとインキの流動性が悪くインキの転移性も低下する為好ましくない。インキの粘度の測定は、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０９：２０００に規定されている粘度計校正用標準液で検定されたものであれば特に制限はなく、回転式、振動式や細管式の粘度計を用いることが出来る。粘度計としては、Ｓａｙｂｏｌｔ粘度計、Ｒｅｄｗｏｏｄ粘度計等で測定出来、例えば、トキメック社製、円錐平板型Ｅ型粘度計、東機産業社製のＥ  Ｔｙｐｅ  Ｖｉｓｃｏｍｅｔｅｒ（回転粘度計）、東京計器社製のＢ型粘度計ＢＬ、山一電機社製のＦＶＭ−８０Ａ、Ｎａｍｅｔｏｒｅ工業社製のＶｉｓｃｏｌｉｎｅｒ、山一電気社製のＶＩＳＣＯ  ＭＡＴＥ  ＭＯＤＥＬ  ＶＭ−１Ａ等を挙げることが出来る。
【００６９】
いずれも、下記の防眩性付与組成物の構成を調整することにより、上記範囲内の組成物を得ることが出来る。
【００７０】
始めに、本発明に好ましく用いられる活性光線硬化型樹脂について説明する。
【００７１】
活性光線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性光線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性光線硬化型樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性光線照射によって硬化する樹脂でもよい。
【００７２】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。
【００７３】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【００７４】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。
【００７５】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【００７６】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。
【００７７】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、好ましく用いられるエポキシ系活性光線反応性化合物を示す。
【００７８】
（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる）
（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び／またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
（ｄ）ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることが出来る。
【００７９】
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０００以下である。
【００８０】
上記のエポキシ化合物を活性光線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、（ｈ）または（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。
【００８１】
エポキシ系活性光線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、活性光線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。
【００８２】
活性光線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性光線反応性樹脂である。
【００８３】
本発明に有用な活性光線反応性エポキシ樹脂は、活性光線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。
【００８４】
かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で表される化合物である。
【００８５】
一般式（ａ）
〔（Ｒ1）a（Ｒ2）b（Ｒ3）c（Ｒ4）dＺ〕w+〔ＭｅＸv〕w-
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えば、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
【００８６】
上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸv〕w-の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ4-）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ4-）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ4-）、テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ4-）、テトラクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ4-）等を挙げることが出来る。
【００８７】
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ4-）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ3ＳＯ3-）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ3-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることが出来る。
【００８８】
この様なオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載のＶＩＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることが出来る。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することが出来る。
【００８９】
また、エポキシアクリレート基を有する活性光線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることが出来る。この活性光線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは１質量部〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。
【００９０】
本発明に有用な活性光線硬化型樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性光線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、１質量部〜１０質量部の範囲の添加が好ましい。
【００９１】
また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することも出来、この場合、活性光線ラジカル重合開始剤と活性光線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。
【００９２】
また、本発明では、オキセタン化合物を用いることも出来る。用いられるオキセタン化合物は、酸素または硫黄を含む３員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。尚、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。
【００９３】
本発明で用いることの出来る紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、旭電化工業（株）製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド  Ｈ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（以上、三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することが出来る。
【００９４】
本発明に係るインキには、公知の熱可塑性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを上記記載の活性光線硬化型樹脂に混合して使用することが出来る。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ2、−ＮＲ3Ｘ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＰＯ3Ｍ2、−ＯＰＯ3Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す）等を挙げることが出来る。
【００９５】
本発明に使用する上記活性光線反応性化合物を光重合または光架橋反応を開始させるには、上記活性光線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を速めることが出来る。
【００９６】
本発明に係るインキが、活性光線硬化型樹脂を含有する場合、活性光線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることが好ましい。
【００９７】
具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。
【００９８】
また、活性光線硬化型樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。
【００９９】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１００】
また、フレキソ印刷により形成した微細凹凸構造の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることが出来る。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることが出来る。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることが出来る。
【０１０１】
本発明に係るインキには、ＳｎＯ2、ＩＴＯ、ＺｎＯ等の導電性微粒子や架橋カチオンポリマー粒子等の帯電防止剤を含有させることも好ましい。
【０１０２】
本発明において、屈折率を調整するのにインキ中に微粒子を含有させることも好ましく、例えば、無機微粒子または有機微粒子を添加することが出来る。
【０１０３】
無機微粒子としては、例えば、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。これらは球状、平板状、無定形状等の形状の粒子が挙げられる。
【０１０４】
二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用出来る。
【０１０５】
酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用出来る。
【０１０６】
また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコーン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることが出来る。
【０１０７】
本発明で用いることの出来る微粒子の平均粒径は、０．００１〜１．５μｍが好ましく、更に好ましくは０．００５〜１．２μｍであり、特に好ましくは０．０１〜１μｍである。粒径や屈折率の異なる２種以上の微粒子を含有させてもよい。
【０１０８】
この他に、インキにはフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、或いはノニオン系界面活性剤等の界面活性剤を、０．０１〜５．０質量％程度添加することが好ましい。特にシリコーン系界面活性剤の添加はインキの粘度を調整し転移印刷を精度良く行う上で好ましい。
【０１０９】
本発明において、フレキソ印刷により形成した微細凹凸構造が活性光線硬化型樹脂を含む場合、活性光線の照射方法としては、インキを透明基体上に転移印刷させた後、活性光線を照射することが好ましい。照射のタイミングは形成する凹凸形状を考慮して決定することが出来、凹凸形状が明確であり高い凸部を形成する場合は、転移印刷後速やかに照射することが好ましく、また比較的凹凸形状がゆるやかで低い凸部を形成する場合は、転移印刷後時間をおいて照射することが出来る。例えば、転移印刷後２ｓｅｃ〜２ｍｉｎ後に照射することが出来る。
【０１１０】
本発明でいうインキを透明基体上に転移印刷させた直後とは、具体的にはインキが転移印刷後０．００１〜２．０秒までの間に照射を始めることが好ましく、より好ましくは０．００１〜１．０秒の間である。
【０１１１】
また、インキが転移印刷した直後の活性光線の照射は、転移印刷したインキの流動性を低下させ、所望の凹凸構造が形成出来る程度に照射すればよく、ハーフキュア状態でもよい。この場合には、別途下流側に設置した活性光源を照射して、完全に硬化させることが出来る。本発明では微細凹凸構造の形成が複数回のフレキソ印刷によって行われることも好ましく、この場合は最初のフレキソ印刷によりインキを転移印刷した後に上記活性光線によりハーフキュア状態までインキを硬化させ、次のフレキソ印刷、活性光線によるインキ硬化を順次繰り返し、最下流側に設置した活性光源を照射して、完全に硬化させることが好ましい。
【０１１２】
本発明に使用することが出来る活性光線としては、紫外線、電子線、γ線等で、防眩性付与組成物である活性光線硬化型樹脂を活性化させる光源であれば制限なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましく、更に好ましくは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１００００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【０１１３】
また、電子線も同様に使用出来る。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることが出来る。
【０１１４】
本発明においては、活性線照射の時の雰囲気中の酸素濃度が１０％以下、特に１％以下であることが好ましい。
【０１１５】
また、本発明においては、活性光線の硬化反応を効率的に進めるため、基材フィルム等を加熱することも出来る。加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、或いは転移印刷したインキ表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、フレキソ印刷部の基材フィルムを挟んで反対側に用いられるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。
【０１１６】
加熱温度としては、使用する活性光線硬化型樹脂の種類により一概には規定出来ないが、基材フィルムへの熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、３０〜２００℃が好ましく、更に５０〜１２０℃が好ましく、特に好ましくは７０〜１００℃である。
【０１１７】
次いで、本発明のインキに用いることが出来る熱硬化性樹脂について説明する。
【０１１８】
本発明で用いることの出来る熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることが出来る。
【０１１９】
不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば、オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは被膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂（ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど）を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Ｂｒ2でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはＩＰＮ化した強靭性（高強度、高弾性率、高伸び率）の強靭性樹脂等がある。
【０１２０】
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールＦ型、臭素化ビスフェノールＡ型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。
【０１２１】
ビニルエステル樹脂としては、例えば、普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーをスチレン等のモノマーに溶解した物である。また、分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としてはビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。
【０１２２】
フェノール樹脂は、フェノール類とフォルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。
【０１２３】
熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えば、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・Ｏ，Ｏ′−ジアリルビスフェノール−Ａ樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。
【０１２４】
また、上述した活性光線硬化型樹脂の一部も、熱硬化性樹脂として用いることが出来る。
【０１２５】
尚、本発明に用いられる熱硬化性樹脂からなるインキには、活性光線硬化型樹脂を含むインキに記載した酸化防止剤や紫外線吸収剤を適宜用いてもよい。
【０１２６】
本発明において、フレキソ印刷により形成した微細凹凸構造が熱硬化性樹脂を含む場合、加熱方法としては、インキを基材フィルム上に転移印刷させた直後に、加熱処理を行うことが好ましい。
【０１２７】
本発明でいうインキを基材フィルム上に転移印刷させた直後とは、具体的にはインキが転移印刷と同時または５秒以内に加熱が開始されることが好ましく、予め基材フィルムの温度を上げておくことが出来る。例えば、基材フィルムをヒートロール上に巻き付けて、これにインキを転移印刷させることが出来、より好ましくは転移印刷と同時または２．０秒の間である。また、ノズル部と加熱部の距離が接近し過ぎて、熱がヘッド部に伝達すると、ノズル部での硬化によりノズル詰まりを起こすため注意が必要である。また、必要に応じて加熱間隔が５．０秒を超えることによって、転移印刷したインキの流動、変形させなだらかな微細凹凸構造を得ることも出来る。
【０１２８】
加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、或いは転移印刷したインキ表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、フレキソ印刷部の基材フィルムを挟んで反対側に設けるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。加熱温度としては、使用する熱硬化性樹脂の種類により一概には規定出来ないが、透明基材への熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、３０〜２００℃が好ましく、更に５０〜１２０℃が好ましく、特に好ましくは７０〜１００℃である。
【０１２９】
本発明に係るインキにおいては、防眩性付与組成物として、上述した活性光線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂のいずれも用いることが出来るが、好ましくは活性光線硬化型樹脂を用いることである。
【０１３０】
本発明に係る上記インキには、必要に応じて０〜９９．９質量％の溶媒を含有させることが出来る。例えば、水系溶媒に前記活性光線硬化型樹脂モノマー成分、或いは熱硬化性樹脂モノマー成分を溶解もしくは分散させてもよく、或いは有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒は低沸点のものでも高沸点のものでも適宜選択して用いることが出来、これらの溶媒の添加量や種類、組成はインキの粘度を調整するため適宜調整することが好ましい。
【０１３１】
本発明に係るインキで用いることが出来る溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ジアセトンアルコール等のケトンアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられ、それらを単独または２種以上混合して使用することが出来る。また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ましく、グリコールエーテル類も好ましく用いられる。
【０１３２】
グリコールエーテル類としては、具体的には下記の溶媒が挙げられるが、特にこれらに限定されない。プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルＡｃ、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルＡｃ、エチレングリコールジエチルエーテル等を挙げることが出来る、尚Ａｃはアセテートを表す。本発明に係るインキにおいては、上記溶媒の中でも、沸点が１００℃未満の溶媒が好ましく用いられる。これらの溶媒は、転移印刷後に所望の凸部形状が維持される程度に速やかに揮発、乾燥されることが望ましい。或いは揮発性の異なる溶媒を混合してその比率を変更することで凸部形状を制御することも出来る。
【０１３３】
次いで、本発明に係るフレキソ印刷による微細凹凸構造を形成する好ましい態様について説明する。
【０１３４】
本発明における微細凹凸構造を有する防眩層の好ましい形成方法は、前記微細凹凸構造の形成が複数回のフレキソ印刷によって行われるか、前記複数回のフレキソ印刷の中で少なくとも１回以上凸部の形状が異なるよう樹脂版を変更して行うか、前記複数回のフレキソ印刷の中で少なくとも１回以上樹脂版ロール径が異なる樹脂版に変更して行うことである。
【０１３５】
図７は、複数回のフレキソ印刷により形成される微細凹凸構造の一例を示す模式図である。
【０１３６】
複数回のフレキソ印刷で微細凹凸構造形成を行うと、一回の印刷では微細凹凸構造パターンの高さが十分に得られないことがあり、この場合には複数回の印刷により所望の微細凹凸構造の高低差を得ることが出来るメリットがある。（図７ａ）
また、凹凸パターンを変えて凸部の形状が異なるよう樹脂版を変更して複数回印刷することは、目視でパターンが判別出来てしまうことを防止し、ディスプレイの視認性を向上することが出来るメリットがある。（図７ｂ）
更に、樹脂版ロール径が異なる樹脂版に変更して複数回印刷することで、一定の繰り返しパターンが同一画面の中に繰り返し発生することを防ぎ、視認性を向上することが出来るメリットがある。（図７ｃ）
また、２種以上のインキを用いる場合、固形分濃度が異なる各インキを用いることも出来る。例えば、最初のインキ液の固形分濃度を低く設定し、インキがレベリングしている間に、固形分濃度の高いインキを転移印刷することにより、比較的大きな裾野を有し且つ所望の高さの微細な凸部を形成することも出来る。この様な各インキの固形分濃度を適宜調整することにより、微細凹凸構造の形成や形状を容易に制御することが出来る。
【０１３７】
次いで、本発明の防眩性フィルムの製造方法について説明する。
【０１３８】
図８は基材フィルム上にフレキソ印刷により（ａ）一回、及び（ｂ）複数回のフレキソ印刷で微細凹凸構造の形成を行う製造方法の一例である。詳しくは、基材フィルム上にハードコート層を塗布方式で塗設した後、フレキソ印刷で微細凹凸構造を有する防眩層を形成する製造工程の一例を示してある。
【０１３９】
図８（ａ）において、ロール５０１より繰り出された基材フィルム５０２は、搬送されて、第１コータステーションＡで、押出し方式の第１コータ５０３によりハードコート層を塗設する。このとき、ハードコート層は単層構成でも、複数から構成されている層でもよい。また、幅手方向で膜厚を変更して塗設してもよい。ハードコート層を塗設した基材フィルム５０２は、次いで乾燥ゾーン５０５Ａで乾燥が行われる。乾燥は、基材フィルム５０２の両面より、温湿度が制御された温風により乾燥が施される。ハードコート層にバインダーとして活性光線硬化型樹脂を用いた場合には、乾燥後、活性光線照射部５０６Ａで、活性光線、例えば紫外線等を照射して硬化させたり、或いは照射量や照射条件を制御してハーフキュア状態とすることも出来る。活性光線照射部５０６Ａで基材フィルム５０２は、２０〜１２０℃に温度制御されたバックロールに巻いた状態で照射することも出来る。
【０１４０】
次いで、フレキソ印刷を用いた防眩層を設けるフレキソ印刷部Ｂに搬送されるが、ハードコート層は、ハーフキュア状態であることが好ましい。インキ供給タンク５０８からインキ液がアニロックスロール５１０へ供給され、フレキソ印刷部である微細凹凸構造を有する樹脂版５０９にインキが転移される。
【０１４１】
また、転移印刷による衝撃によって凸部の形状が大きく変形したり、つぶれないようにゆるやかに転移印刷させることも好ましく、例えばインキ粘度、樹脂版のゴム硬度、印刷速度等を調整することも好ましい。
【０１４２】
転移印刷したインキは、活性光線硬化型樹脂を用いている場合には、フレキソ印刷部である樹脂版５０９の後に配置されている活性光線照射部５０６Ｂで、活性光線、例えば紫外線等を照射して硬化させる。また、インキが熱硬化性樹脂を用いている場合には、乾燥ゾーン５０５Ｂ、例えば、ヒートプレートにより加熱、硬化される。また、バックロール５０４Ｂをヒートロールとして加熱する方法も好ましい。
【０１４３】
フレキソ印刷部Ｂにおいて、活性光線照射部５０６Ｂの照射光が、樹脂版５０９のインキに直接影響を与えないように、活性光線照射部５０６Ｂと樹脂版５０９とを適度な間隔で配置する、或いは活性光線照射部５０６Ｂと樹脂版５０９との間に、遮光壁等を設置することが好ましい。また、乾燥ゾーン５０５Ｂの熱が、樹脂版５０９のインキに直接影響を与えないように、樹脂版５０９を断熱カバーで被覆する、或いは図で示すように、乾燥ゾーン５０５Ｂの乾燥風が遮断されるような仕切りを設置することが好ましい。
【０１４４】
転移印刷したインキにより形成された微細凹凸構造が維持出来る程度に硬化処理を行った基材フィルム５０２は、乾燥ゾーン５０５Ｂで不要な有機溶媒等を蒸発させた後、更に活性光線照射部５０６Ｃで、活性光線を照射して、硬化を完了させる。
【０１４５】
活性光線照射部５０６Ｃの部分では、２０〜１２０℃に温度制御されたバックロール５０４Ｃ上の基材フィルム５０２に活性光線を照射することが好ましい。
【０１４６】
図８（ｂ）は、複数回のフレキソ印刷で微細凹凸構造形成を行う方法の一例であり、図８（ａ）のフレキソ印刷部Ｂの後に樹脂版の径を変えたフレキソ印刷部Ｃを設置し、２回の印刷を行う製造フローを示している。
【０１４７】
本発明のフレキソ印刷による微細凹凸構造を形成する方法は、基材フィルムを１〜５００ｍ／ｍｉｎ、好ましくは１０〜３００ｍ／ｍｉｎで移送しながら形成することが好ましい。
【０１４８】
インキを転移印刷させる際の基材フィルムは帯電に斑がないことが好ましく、直前で徐電することが好ましく、或いは均一に帯電させてもよい。
【０１４９】
また、インキを転移印刷させて形成した微細凹凸構造をヘイズ、透過鮮明度などの防眩性を測定し、所定の値であることを確認し、ずれや変動が確認された場合、その結果をフィードバックしてインキの調整や樹脂版の交換を行うことが好ましい。測定は、全ての凹凸を形成し樹脂を硬化させた後に行うことが好ましく、凹凸形成の途中で行ってもよい。例えば、比較的大きな凹凸を形成した後とその後のより微細な凹凸を形成した後の測定を行うことで、さらに適切なフィードバック制御を行うことが出来る。
【０１５０】
《基材フィルム》
本発明に用いられる基材フィルムとしては、製造が容易であること、活性線硬化型樹脂層との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。
【０１５１】
本発明でいう透明とは、可視光の透過率６０％以上であることをさし、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
【０１５２】
上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることが出来る。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
【０１５３】
本発明で好ましく用いられるポリカーボネート系樹脂フィルムを構成するポリカーボネートは、種々のものを用いることが出来るが、化学的性質及び物性の点から芳香族ポリカーボネートが好ましく、特にビスフェノールＡ系が好ましい。更に好ましくはビスフェノールＡにベンゼン環、シクロヘキサン環、脂肪族炭化水素基などを導入したビスフェノールＡ誘導体中でも中央炭素に対して非対称に導入された誘導体を用いて得られた単位分子内の異方性を減少させた構造のポリカーボネートが好ましい。例えば、ビスフェノールＡの中央炭素の２個のメチル基をベンゼン環に置換したもの、ビスフェノールＡのそれぞれのベンゼン環の一つの水素をメチル基、フェニル基などで中央炭素に対し非対称に置換したものを用いて得られるポリカーボネートが挙げられる。
【０１５４】
具体的には４，４′−ジヒドロキシジフェニルアルカン又はこれらのハロゲン置換体からホスゲン法又はエステル交換法によって得られるものであり、例えば４，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルエタン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルブタン等を挙げることが出来る。
【０１５５】
本発明において使用するポリカーボネート系樹脂フィルムの作製方法は特に限定されるものではない。即ち押出し法、溶媒キャスト法及びカレンダー法等いずれによってもよい。本発明においては１軸延伸フィルム或いは２軸延伸フィルムを使用してもよいが、表面精度が優れるという点では溶媒キャスト法で作製したフィルムが、光学的等方性、異方性が小さいという点では押出し法で作製したフィルムが更に好ましい。
【０１５６】
本発明において使用されるポリカーボネート系樹脂はガラス転移点（Ｔｇ）が１１０℃以上であって、吸水率（２３℃水中、２４時間の条件で測定した値）が０．３％以下のものを使用するのが良い。より好ましくはＴｇが１２０℃以上であって、吸水率が０．２％以下のものが良い。
【０１５７】
本発明に好ましく用いることの出来るポリエステル系樹脂を構成するポリエステルとしては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルである。
【０１５８】
主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることが出来る。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることが出来る。
【０１５９】
これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸及び／または２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコール及び／または１，４−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、及びこれらのポリエステルの二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。
【０１６０】
本発明に用いられるポリエステル系フィルムを構成するポリエステルは、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、さらに他の共重合成分が共重合されていても良いし、他のポリエステルが混合されていても良い。これらの例としては、先に挙げたジカルボン酸成分やジオール成分、またはそれらから成るポリエステルを挙げることが出来る。
【０１６１】
またフィルムの耐熱性を向上する目的では、ビスフェノール系化合物、ナフタレン環またはシクロヘキサン環を有する化合物を共重合することが出来る。これらの共重合割合としては、ポリエステルを構成する二官能性ジカルボン酸を基準として、１〜２０モル％が好ましい。
【０１６２】
また本発明で好ましく用いられるノルボルネン系樹脂フィルムとは、ノルボルネン構造を有する非晶性ポリオレフィンフィルムで、例えば三井石油化学（株）製のＡＰＯや日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮ等がある。
【０１６３】
本発明においては、中でも特にセルロースエステル系フィルムを用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。市販のセルロースエステルフィルムとしては、例えば、コニカミノルタタック、製品名ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ５ＵＮ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５（コニカミノルタオプト（株）製）が、製造上、コスト面、透明性、接着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１６４】
以下、本発明に特に好ましく用いられるセルロースエステルフィルムについて更に詳細に説明する。
【０１６５】
（セルロースエステルフィルム）
本発明に用いられるセルロースエステルは、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平１０−４５８０４号、同０８−２３１７６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることが出来る。
【０１６６】
セルロースエステルの分子量が小さ過ぎると引裂強度が低下するが、分子量を上過ぎるとセルロースエステルの溶解液の粘度が高くなり過ぎるため生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で７００００〜２０００００のものが好ましく、１０００００〜２０００００のものが更に好ましい。
【０１６７】
セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートである。平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。
【０１６８】
セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。
【０１６９】
式（Ｉ）  ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）  ０≦Ｘ≦２．５
この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することが出来る。
【０１７０】
セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロ−スエステルを単独或いは混合して用いることが出来る。特に綿花リンター（以下、単にリンターとすることがある）から合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。
【０１７１】
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、溶液流延法で製造されたものでも、溶融流延法で製造されたものでもよいが、少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残溶量が３〜４０質量％である時に幅手方向に１．０１〜１．５倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に２軸延伸することであり、剥離残溶量が３〜４０質量％である時に幅手方向及び長手方向に、各々１．０１〜１．５倍に延伸されることが望ましい。こうすることによって、視認性に優れた防眩性フィルムを得ることが出来る。更に、２軸延伸し、ナーリング加工をすることによって、長尺状低反射フィルムのロール状での保管中の巻き形状の劣化を著しく改善することが出来る。このときの延伸倍率としては特に好ましくは、１．０３〜１．４５倍である。
【０１７２】
本発明においては、長尺フィルムを用いることが好ましく、具体的には、１００ｍ〜５０００ｍ程度のものを用いる。また、基材フィルムの幅は１．４ｍ以上が好ましく、１．４〜４ｍであることがより好ましい。
【０１７３】
本発明に係るセルロースエステルフィルムは、光透過率が９０％以上、より好ましくは９３％以上の透明フィルムであることが好ましい。
【０１７４】
本発明に係るセルロースエステルフィルムは、その厚さが１０〜１００μｍのものが好ましく、透湿性は、２５℃、９０±２％ＲＨにおいて、２００ｇ／ｍ2・２４時間以下であることが好ましく、更に好ましくは、１０〜１８０ｇ／ｍ2・２４時間以下であり、特に好ましくは、１６０ｇ／ｍ2・２４時間以下である。
【０１７５】
特には、膜厚１０〜６０μｍで透湿性が上記範囲内であることが好ましい。
【０１７６】
ここで、基材フィルムの透湿性は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８：１９７６に記載の方法に従い、各試料の透湿性を測定した。
【０１７７】
（可塑剤）
本発明に用いられる基材フィルムにセルロースエステルフィルムを用いる場合、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることが出来る。
【０１７８】
リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることが出来る。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
【０１７９】
ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることが出来る。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることが出来る。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。
【０１８０】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトール、であることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることが出来る。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１８１】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でも良いし、二種以上の混合であっても良い。また、多価アルコール中のＯＨ基はカルボン酸で全てエステル化しても良いし、一部をＯＨ基のままで残しても良い。
【０１８２】
これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。
【０１８３】
これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３〜１３質量％である。
【０１８４】
（紫外線吸収剤）
本発明に用いる基材フィルムには、紫外線吸収剤を添加することが好ましい。
【０１８５】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。
【０１８６】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１８７】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式（１）で示される化合物が好ましく用いられる。
【０１８８】
【化１】
2006285217.tif 000003
【０１８９】
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ4とＲ5は閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。
【０１９０】
また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。
【０１９１】
以下に本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１９２】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール  ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、チバスペシャルティケミカルズ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、チバスペシャルティケミカルズ製）
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式（２）で表される化合物が好ましく用いられる。
【０１９３】
【化２】
2006285217.tif 000004
【０１９４】
式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−ＣＯ（ＮＨ）n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。
【０１９５】
上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基でアリル基、２−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）等が挙げられる。
【０１９６】
以下に一般式（Ｂ）で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１９７】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる上記の紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【０１９８】
また、特願平１１−２９５２０９号に記載されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤は、基材フィルムに用いた時、フィルムの面品質に優れ、塗布性にも優れ好ましい。特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
【０１９９】
また、特開平６−１４８４３０号の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５６０３９の一般式（３）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。
【０２００】
（微粒子）
本発明において、セルロースエステルフィルム中に微粒子を含有しているのが好ましく、微粒子としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さく出来るので好ましい。微粒子の２次粒子の平均粒径は０．０１〜１．０μｍの範囲で、その含有量はセルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子には有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下出来るため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類（特にメチル基を有するアルコキシシラン類）、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方がマット効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍで、より好ましくは７〜１６ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、通常、凝集体として存在しセルロースエステルフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としてはアエロジル社製のＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることが出来、好ましくはＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することが出来る。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えばＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９〜０．１の範囲で使用出来る。本発明において、微粒子はドープ調製時、セルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散してもよいが、セルロースエステル溶液とは、別に微粒子分散液のような十分に分散させた状態でドープを調製するのが好ましい。微粒子を分散させるために、前もって有機溶媒にひたしてから高剪断力を有する分散機（高圧分散装置）で細分散させておくのが好ましい。その後により多量の有機溶媒に分散して、セルロースエステル溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープとすることが好ましい。この場合、微粒子分散液に紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。
【０２０１】
上記の劣化防止剤、紫外線吸収剤及び／または微粒子は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
【０２０２】
（有機溶媒）
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムのドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることが出来る。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。特に酢酸メチルが好ましい。
【０２０３】
本発明に係わるドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることが出来る。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。
【０２０４】
ドープ中のセルロースエステルの濃度は１５〜４０質量％、ドープ粘度は１００〜５００ポアズ（Ｐ）の範囲に調整されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。
【０２０５】
《ハードコート層》
本発明に係るハードコート層について説明する。
【０２０６】
本発明に係るハードコート層は、活性光線硬化型樹脂及び微粒子を含有するハードコート層であることが好ましい。これにより十分な強度を発揮し、かつ優れた透過鮮明度を示す防眩性反射防止フィルムを作製することが出来る。
【０２０７】
ハードコート層の厚みは２〜２０μｍの範囲であることが好ましく、更に該ハードコート層が平均粒径１〜１００ｎｍの無機微粒子または有機微粒子である微粒子を含有することが好ましい。
【０２０８】
（ハードコート層に含有される微粒子）
本発明において、微粒子の平均粒径とは、まず当該粒子試料の光学顕微鏡写真または、走査型電子顕微鏡写真を撮影し、この写真に写った粒子の直径を画像処理装置ＬＵＺＥＸ−III（ニレコ社製）で１００個測定し、その平均値を算出して平均粒径とした。
【０２０９】
本発明に係るハードコート層中に含有される微粒子としては、無機または有機の微粒子が用いられる。
【０２１０】
無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることが出来る。
【０２１１】
また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコーン系樹脂微粒子、フェノール系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることが出来る。
【０２１２】
本発明では特に、酸化ケイ素微粒子、酸化ジルコニウム微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、及びフェノール系樹脂微粒子が好ましい。
【０２１３】
上記記載の無機または有機の微粒子は、ハードコート層の作製に用いられる樹脂等を含む塗布組成物に加えて用いることが好ましい。また、これらの微粒子の平均粒径としては、１〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは、５〜５０ｎｍである。
【０２１４】
無機または有機微粒子の含有量は、ハードコート層に含まれる活性光線硬化型樹脂１００質量部に対して、１０質量部〜７０質量部が好ましく、更に好ましくは、２０質量部〜６０質量部となるように配合することである。又、異なる平均粒径の微粒子を２種以上用いることも好ましい。
【０２１５】
また、本発明に係るハードコート層には帯電防止剤を含有させることも出来、帯電防止剤としては、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ及びＶからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が１０7Ω・ｃｍ以下であるような導電性材料が好ましい。
【０２１６】
前記帯電防止剤としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。
【０２１７】
金属酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ2、Ｖ2Ｏ5、ＡＴＯ、ＩＴＯ、Ｓｂ2Ｏ5等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ、Ｉｎ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＡＴＯ、ＩＴＯ及びＳｎＯ2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ2に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、またＳｎＯ2に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好ましい。
【０２１８】
また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は１０7Ω・ｃｍ以下、特に１０5Ω・ｃｍ以下である。
【０２１９】
（ハードコート層の屈折率）
本発明に係るハードコート層の屈折率は、上層に低屈折率層を設ける場合には、低反射性フィルムを得るための光学設計上から屈折率が１．５〜２．０、特に１．５〜１．７であることが好ましい。ハードコート層の屈折率は添加する微粒子または無機マトリックスの屈折率や含有量によって調製することが出来る。
【０２２０】
（ハードコート層の膜厚）
十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の膜厚は２μｍ〜２０μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、３μｍ〜１６μｍである。
【０２２１】
（ハードコート層のヘイズ）
本発明に記載の効果（視認性向上）を得る為に、ハードコート層のヘイズは、５％〜４０％であることが好ましく、更に好ましくは、６％〜３０％である。
【０２２２】
ここで、ヘイズの測定は、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に準じて測定出来る。
【０２２３】
本発明に係るハードコート層のヘイズ値を好ましい範囲に調整する為の手段としては、上記記載の有機微粒子及び／または、無機微粒子をハードコート層中に含有させることが好ましいが、中でも、二酸化ケイ素が均一に分散しやすい為好ましく用いられる。また、二酸化ケイ素のような微粒子を有機物により表面処理したものも好ましく用いられる。
【０２２４】
（活性光線硬化型樹脂及びその他添加剤）
ハードコート層に用いられる活性光線硬化樹脂とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。例えば、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させてハードコート層が形成される。活性光線硬化型樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。
【０２２５】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。
【０２２６】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載のものを用いることが出来る。
【０２２７】
例えば、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【０２２８】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭５９−１５１１１２号に記載のものを用いることが出来る。
【０２２９】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることが出来、特開平１−１０５７３８号に記載のものを用いることが出来る。
【０２３０】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。
【０２３１】
これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。例えば、イルガキュア１８４、イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製）などの市販品が好ましく用いられる。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部である。
【０２３２】
樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。
【０２３３】
本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（旭電化（株）製）；コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（広栄化学（株）製）；セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣ  Ｘ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（大日精化工業（株）製）；ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（ダイセル・ユーシービー（株）製）；ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（大日本インキ化学工業（株）製）；オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）；サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（三洋化成工業（株）製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子（株）製）；ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（東亞合成（株）製）、ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）等を適宜選択して利用出来る。
【０２３４】
また、ハードコート層の塗布液には、特にシリコーン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、１０００〜１０００００、好ましくは、２０００〜５００００が適当であり、数平均分子量が１０００未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が１０００００を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。
【０２３５】
この他に、ハードコート層にはフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、或いはノニオン系界面活性剤等の界面活性剤を、０．０１〜５．０質量％程度添加することが出来るが、界面活性剤等を添加すると本発明に係るフレキソ印刷に用いるインキのくっつきが劣化する場合がある為、量的な制限を受けることもある。この場合は、ハードコート層に後述するアルカリ処理やコロナ処理等の表面処理を行ってからフレキソ印刷することも好ましい。
【０２３６】
（ハードコート層の作製方法）
本発明に係るハードコート層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用出来る。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルまたはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、更に好ましくは５質量％〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。
【０２３７】
ハードコート層組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることが出来る。塗布速度は１０ｍ／分〜６０ｍ／分が好ましい。
【０２３８】
（活性光線の種類、照射方法について）
ハードコート層組成物は塗布乾燥された後、紫外線や電子線等の活性光線を照射され硬化処理されることが好ましいが、活性光線の照射時間は０．５秒〜５分が好ましく、活性光線硬化型樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、１秒〜１分である。
【０２３９】
本発明に係るハードコート層が活性光線硬化型樹脂を含む場合、活性光線の照射方法としては、基材フィルム上に、ハードコート層、反射防止層（低屈折率層または高屈折率層）等の塗設後に活性光線を照射してもよいが、ハードコート層塗設時に活性光線を照射することが好ましい。
【０２４０】
本発明に使用する活性光線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜１００００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【０２４１】
また、電子線も同様に使用出来る。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることが出来る。
【０２４２】
本発明に使用する上記活性光線硬化樹脂を光重合または光架橋反応を開始させるには、上記活性光線硬化型樹脂のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、前記光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることが出来る。
【０２４３】
《防眩性反射防止フィルム》
本発明に係る防眩性反射防止フィルムは、前記のフレキソ印刷により形成された微細凹凸構造を有するハードコート層上に、低屈折率層を設けて防眩性反射防止フィルムとすることが好ましく、更に低屈折率層の下層として高屈折率層を設けることも好ましい。
【０２４４】
特に、本発明においては、低屈折率層は、外殻層を有し内部が多孔質または空洞となっている中空シリカ系微粒子を含有する低屈折率層塗布液をコーティングすることが好ましい。
【０２４５】
〈低屈折率層〉
本発明に係る低屈折率層の屈折率は、支持体である基材フィルムの屈折率より低く、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。
【０２４６】
低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。
【０２４７】
本発明に用いられる低屈折率層形成用組成物は、（ａ）下記一般式（３）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物及び、（ｂ）外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子が組成物を構成することが好ましい。
【０２４８】
一般式（３）  Ｓｉ（ＯＲ）4
（式中、Ｒはアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。）
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤等を添加してもよい。
【０２４９】
〔中空シリカ系微粒子〕
まず、前記（ｂ）で表される外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子について説明する。
【０２５０】
中空シリカ系微粒子は、（Ｉ）多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または（II）内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層には（Ｉ）複合粒子または（II）空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。
【０２５１】
尚、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空微粒子の平均粒子径が５〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲にあることが望ましい。使用される中空微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層等の透明被膜の膜厚の２／３〜１／１０の範囲にあることが望ましい。これらの中空微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）及びケトン（例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、ケトンアルコール（例えばジアセトンアルコール）が好ましい。
【０２５２】
複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、１〜２０ｎｍ、好ましくは２〜１５ｎｍの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが１ｎｍ未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが２０ｎｍを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性（細孔容積）が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが１ｎｍ未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、また厚さが２０ｎｍを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。
【０２５３】
複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｐ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＭｏＯ3、ＺｎＯ2、ＷＯ3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、ＣａＦ2、ＮａＦ、ＮａＡｌＦ6、ＭｇＦ等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｐ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＭｏＯ3、ＺｎＯ2、ＷＯ3等との１種または２種以上を挙げることが出来る。このような多孔質粒子では、シリカをＳｉＯ2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算（ＭＯX）で表したときのモル比ＭＯX／ＳｉＯ2が、０．０００１〜１．０、好ましくは０．００１〜０．３の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比ＭＯX／ＳｉＯ2が０．０００１未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比ＭＯX／ＳｉＯ2が、１．０を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、さらに屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。
【０２５４】
このような多孔質粒子の細孔容積は、０．１〜１．５ｍｌ／ｇ、好ましくは０．２〜１．５ｍｌ／ｇの範囲であることが望ましい。細孔容積が０．１ｍｌ／ｇ未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、１．５ｍｌ／ｇを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。
【０２５５】
尚、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることが出来る。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例表した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。
【０２５６】
このような中空微粒子の製造方法としては、例えば特開平７−１３３１０５号公報の段落番号［００１０］〜［００３３］に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第１〜第３工程から中空微粒子は製造される。
【０２５７】
第１工程：多孔質粒子前駆体の調製
第１工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、ｐＨ１０以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
【０２５８】
シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム（水ガラス）やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることが出来る。尚、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第４級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。
【０２５９】
また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Ａｌ、Ｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｐ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｚｎ、Ｗ等から選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第４級アンモニウム塩を挙げることが出来る。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。
【０２６０】
これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のｐＨ値は変化するが、このｐＨ値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるｐＨ値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2またはＺｒＯ2等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることが出来る。さらに前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のｐＨを１０以上に調整した後、該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のｐＨ制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることが出来る。
【０２６１】
上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいｐＨ領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、または、シード粒子上に析出して粒子成長が起こる。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなｐＨ制御は必ずしも行う必要がない。
【０２６２】
第１工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物（ＭＯX）に換算し、ＭＯX／ＳｉＯ2のモル比が、０．０５〜２．０、好ましくは０．２〜２．０の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が２．０を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が０．０５未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、ＭＯX／ＳｉＯ2のモル比は、０．２５〜２．０の範囲内にあることが望ましい。
【０２６３】
第２工程：多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第２工程では、前記第１工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物（珪素と酸素以外の元素）の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、または、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
【０２６４】
尚、第１工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物（珪素と酸素以外の元素）を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物（珪素と酸素以外の元素）を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することが出来る。
【０２６５】
また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第１工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液または加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは０．５〜１５ｎｍの厚さであればよい。尚シリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。
【０２６６】
このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することが出来る。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することが出来る。尚、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。
【０２６７】
また空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。
【０２６８】
上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持出来る範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式ＲnＳｉ（ＯＲ′）4-n〔Ｒ、Ｒ′：アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、ｎ＝０、１、２または３〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。
【０２６９】
添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。
【０２７０】
多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。尚、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。
【０２７１】
第３工程：シリカ被覆層の形成
第３工程では、第２工程で調製した多孔質粒子分散液（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液）に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
【０２７２】
シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式ＲnＳｉ（ＯＲ′）4-n〔Ｒ、Ｒ′：アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、ｎ＝０、１、２または３〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。
【０２７３】
添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体）分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体）の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。
【０２７４】
多孔質粒子（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体）の分散媒が水単独、または有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。
【０２７５】
ケイ酸液は、多孔質粒子（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体）分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体）表面に沈着させる。尚、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆出来る程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが１〜２０ｎｍとなるように量で、多孔質粒子（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体）分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが１〜２０ｎｍの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。
【０２７６】
次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。
【０２７７】
このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞出来る程度であれば特に制限はなく、８０〜３００℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が８０℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化出来ないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が３００℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。
【０２７８】
このようにして得られた無機微粒子の屈折率は、１．４２未満と低い。このような無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。
【０２７９】
外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子の低屈折率層中の含有量は、１０〜５０質量％であることが好ましい。低屈折率の効果を得る上で、１５質量％以上が好ましく、５０質量％を超えるとバインダー成分が少なくなり膜強度が不十分となる。
【０２８０】
（有珪素化合物）
前記一般式（３）で表される有機珪素化合物は、式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。
【０２８１】
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
【０２８２】
低屈折率層への添加方法としては、これらのテトラアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記中空シリカ系微粒子の分散液に加え、テトラアルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を中空シリカ系微粒子の表面に沈着させる。このとき、テトラアルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。
【０２８３】
また、本発明では低屈折率層に、下記一般式（４）で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有させることも出来る。
【０２８４】
【化３】
2006285217.tif 000005
【０２８５】
前記一般式（４）で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物について説明する。
【０２８６】
式中、Ｒ1〜Ｒ6は炭素数１〜１６、好ましくは１〜４のアルキル基、炭素数１〜６、好ましくは１〜４のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２、好ましくは６〜１０のアリール基、炭素数７〜１４、好ましくは７〜１２のアルキルアリール基、アリールアルキル基、炭素数２〜８、好ましくは２〜６のアルケニル基、または炭素数１〜６、好ましくは１〜３のアルコキシ基、水素原子またはハロゲン原子を示す。
【０２８７】
Ｒｆは−（ＣaＨbＦc）−を表し、ａは１〜１２の整数、ｂ＋ｃは２ａであり、ｂは０〜２４の整数、ｃは０〜２４の整数を示す。このようなＲｆとしては、フルオロアルキレン基とアルキレン基とを有する基が好ましい。具体的に、このような含フッ素シリコーン系化合物としては、（ＭｅＯ）3ＳｉＣ2Ｈ4Ｃ2Ｆ4Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＭｅＯ）3、（ＭｅＯ）3ＳｉＣ2Ｈ4Ｃ4Ｆ8Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＭｅＯ）3、（ＭｅＯ）3ＳｉＣ2Ｈ4Ｃ6Ｆ12Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＭｅＯ）3、（Ｈ5Ｃ2Ｏ）3ＳｉＣ2Ｈ4Ｃ4Ｆ8Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、（Ｈ5Ｃ2Ｏ）3ＳｉＣ2Ｈ4Ｃ6Ｆ12Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3で表されるメトキシジシラン化合物等が挙げられる。
【０２８８】
バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、形成される透明被膜自体が疎水性を有しているので、透明被膜が充分緻密化しておらず、多孔質であったり、またクラックやボイドを有している場合であっても、水分や酸・アルカリ等の薬品による透明被膜への進入が抑制される。さらには、基板表面や下層である導電層中に含まれる金属等の微粒子と水分や酸・アルカリ等の薬品とが反応することもない。このため、このような透明被膜は、優れた耐薬品性を有している。
【０２８９】
また、バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、このような疎水性のみならず、滑り性がよく（接触抵抗が低く）、このためスクラッチ強度に優れた透明被膜を得ることが出来る。さらに、バインダーが、このような構成単位を有するフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、下層に導電層が形成されている場合には、バインダーの収縮率が、導電層と同等か近いものであるため導電層と密着性に優れた透明被膜を形成することが出来る。さらに、透明被膜を加熱処理する際に、収縮率の違いから、導電層が剥離して、透明導電性層に電気的接触のない部分が生じることもない。このため、膜全体として充分な導電性を維持出来る。
【０２９０】
フッ素置換アルキル基含有シラン化合物と、前記外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子とを含む透明被膜は、スクラッチ強度が高い上に、消しゴム強度または爪強度で評価される膜強度が高く、鉛筆硬度も高く、強度の上で優れた透明被膜を形成することが出来る。
【０２９１】
本発明に係る低屈折率層にはシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。
【０２９２】
また、珪素に対して２置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。
【０２９３】
これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して２置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。
【０２９４】
２種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル（例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケイ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケイ酸ｓｅｃ−ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）及びその加水分解物が挙げられる。
【０２９５】
低屈折率層のその他のバインダーとして用いられるポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂が挙げられる。
【０２９６】
低屈折率層は、全体で５〜８０質量％のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、中空シリカ微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持出来るように調整する。
【０２９７】
（溶媒）
本発明に係る低屈折率層は有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
【０２９８】
有機溶媒の含有量は、低屈折率層塗布組成物中の固形分濃度の１〜４質量％であることが好ましい。有機溶媒は塗布ムラを防止して均一膜厚とするために１質量％以上が好ましく、４質量％を超えると乾燥負荷が大きくなり、乾燥装置の大型化、長時間化となり好ましくない。
【０２９９】
〈高屈折率層〉
本発明では、反射防止性を高める為に、前記低屈折率層の下層に下記高屈折率層を設けることが好ましい。
【０３００】
本発明に好ましい高屈折率層は、（ｃ）平均粒子径が１０〜２００ｎｍである金属酸化物微粒子、（ｄ）金属化合物、（ｅ）電離放射線硬化型樹脂を含有することが好ましい。
【０３０１】
（金属酸化物微粒子）
本発明の高屈折率層には金属酸化物微粒子が含有されることが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも１種の元素を有する金属酸化物を用いることが出来、これらの金属酸化物微粒子はＡｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが好ましく、特に好ましくは酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）である。
【０３０２】
これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であり、１０〜１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。
【０３０３】
高屈折率層の屈折率は、具体的には、支持体である基材フィルムの屈折率より高く、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．５０〜１．７０の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０〜２．６０であることが好ましく、１．８５〜２．５０であることが更に好ましい。
【０３０４】
金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑える事も出来る。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して０．１質量％〜５質量％、より好ましくは０．５質量％〜３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でも後述するシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。
【０３０５】
前記金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層の厚さは５ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．１μｍであることが最も好ましい。
【０３０６】
使用する金属酸化物微粒子と後述する電離放射線硬化型樹脂等のバインダーとの比は、金属酸化物微粒子の種類、粒子サイズなどにより異なるが体積比で前者１に対して後者２から前者２に対して後者１程度が好ましい。
【０３０７】
本発明において用いられる金属酸化物微粒子の使用量は高屈折率層中に５質量％〜８５質量％が好ましく、１０質量％〜８０質量％であることがより好ましく、２０〜７５質量％が最も好ましい。使用量が少ないと所望の屈折率や本発明の効果が得られず、多過ぎると膜強度の劣化などが発生する。
【０３０８】
上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、ケトンアルコール（例、ジアセトンアルコール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
【０３０９】
また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。
【０３１０】
本発明では、更にコア／シェル構造を有する金属酸化物微粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに１層形成させてもよいし、耐光性を更に向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。
【０３１１】
コアは酸化チタン（ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等）、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることが出来るが、ルチル型の酸化チタンを主成分としてもよい。
【０３１２】
シェルは酸化チタン以外の無機化合物を主成分とし、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。例えば、二酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化鉄、硫化亜鉛等を主成分とした無機化合物が用いられる。この内アルミナ、シリカ、ジルコニア（酸化ジルコニウム）であることが好ましい。また、これらの混合物でもよい。
【０３１３】
コアに対するシェルの被覆量は、平均の被覆量で２〜５０質量％である。好ましくは３〜４０質量％、更に好ましくは４〜２５質量％である。シェルの被覆量が多いと微粒子の屈折率が低下し、被覆量が少な過ぎると耐光性が劣化する。二種以上の金属酸化物微粒子を併用してもよい。
【０３１４】
コアとなる酸化チタンは、液相法または気相法で作製されたものを使用出来る。また、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第３，４１０，７０８号、特公昭５８−４７０６１号、米国特許第２，８８５，３６６号、同第３，４３７，５０２号、英国特許第１，１３４，２４９号、米国特許第３，３８３，２３１号、英国特許第２，６２９，９５３号、同第１，３６５，９９９号に記載されている方法等を用いることが出来る。
【０３１５】
（金属化合物）
本発明に用いられる金属化合物は下記一般式（５）で表される化合物またはそのキレート化合物を用いることが出来る。
【０３１６】
一般式（５）  ＡnＭＢx-n
式中、Ｍは金属原子、Ａは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Ｂは金属原子Ｍに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。ｘは金属原子Ｍの原子価、ｎは２以上でｘ以下の整数を表す。
【０３１７】
加水分解可能な官能基Ａとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記式（５）に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を２個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることが出来る。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることが出来る。
【０３１８】
チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン等が挙げられる。
【０３１９】
ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。
【０３２０】
遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量１万以下のものを挙げることが出来る。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成出来る。
【０３２１】
金属化合物の添加量は、高屈折率層に含まれる該金属化合物由来の金属酸化物の含有量が０．３〜５質量％であるように調整することが好ましい。０．３質量％未満では耐擦傷性が不足し、５質量％を超えると耐光性が劣化する傾向がある。
【０３２２】
（電離放射線硬化型樹脂）
電離放射線硬化型樹脂は金属酸化物微粒子のバインダーとして塗膜の成膜性や物理的特性の向上のために添加される。電離放射線硬化型樹脂としては、紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を２個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることが出来る。官能基としては（メタ）アクリロイルオキシ基等のような不飽和二重結合を有する基、エポキシ基、シラノール基等が挙げられる。中でも不飽和二重結合を２個以上有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを好ましく用いることが出来る。必要に応じて光重合開始剤を組み合わせてもよい。このような電離放射線硬化型樹脂としては、例えば多官能アクリレート化合物等が挙げられ、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれる化合物であることが好ましい。ここで、多官能アクリレート化合物とは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基及び／またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
【０３２３】
多官能アクリレート化合物のモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートが好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。
【０３２４】
電離放射線硬化型樹脂の添加量は、高屈折率組成物では固形分中の５０質量％未満であることが好ましい。
【０３２５】
本発明に係る電離放射線硬化型樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤と分子中に重合可能な不飽和結合を２個以上有するアクリル系化合物とを質量比で３：７〜１：９含有することが好ましい。
【０３２６】
光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。
【０３２７】
（溶媒）
本発明の高屈折率層をコーティングする際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等）、多価アルコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等）、アミン類（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等）、アミド類（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、複素環類（例えば、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。
【０３２８】
（防汚層）
本発明の防眩性フィルムもしくは防眩性反射防止フィルムは、最表層に防汚層が設けられていることが好ましい。
【０３２９】
本発明に好ましい防汚層は、フッ素含有シラン化合物を防汚層形成用組成物に含有することが好ましく、フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物溶液をコーティングして作製する。特に、フッ素含有シラン化合物がシラザンもしくはアルコキシシランであることが好ましい。
【０３３０】
また、前記フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物のなかでも、シラン化合物中のフルオロアルキル基が、Ｓｉ原子１つに対し、１つ以下の割合でＳｉ原子と結合されており、残りは加水分解性基もしくはシロキサン結合基であるシラン化合物が好ましい。
【０３３１】
ここでいう加水分解性の基としては、例えばアルコキシ基等の基であり、加水分解によりヒドロキシル基となり、それにより前記シラン化合物は重縮合物を形成する。
【０３３２】
例えば、上記シラン化合物は水と（必要なら酸触媒の存在下）、副生するアルコールを留去しながら、通常、室温〜１００℃の範囲で反応させる。これによりアルコキシシランは（部分的に）加水分解し、一部縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を有する加水分解物として得ることが出来る。加水分解、縮合の程度は、反応させる水の量により適宜調節することが出来るが、本発明においては、防汚処理に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせるため溶液の固形分濃度を薄く希釈して用いることが好ましい。
【０３３３】
好ましくは、防汚層形成用組成物において、前記フルオロアルキル基を有するシラン化合物は下記一般式（６）で表され、かつ該シラン化合物の濃度を０．０１〜５質量％に希釈した溶液として用いて、防汚処理することである。
【０３３４】
一般式（６）  ＣＦ3（ＣＦ2）m（ＣＨ2）n−Ｓｉ−（ＯＲａ）3
ここにおいて、ｍは１〜１０の整数。ｎは０〜１０の整数。Ｒａは同一もしくは異なるアルキル基を表す。
【０３３５】
前記一般式（６）で表される化合物中、Ｒａは炭素原子数３つ以下であり炭素と水素のみからなるアルキル基、例えば、メチル、エチル、イソプロピル等の基が好ましい。
【０３３６】
これら本発明において好ましく用いられるフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物としては、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）2ＯＣ3Ｈ7、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣ3Ｈ7）2、（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、Ｃ7Ｆ15ＣＯＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＯＣＯＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｃ2Ｈ5）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｃ2Ｈ5）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）2Ｏ（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）、Ｃ7Ｆ15ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｏ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＯＣＨＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3などが挙げられるが、この限りでない。
【０３３７】
上記フッ素系シラン化合物としては、例えば信越化学工業株式会社製ＫＰ８０１Ｍ、Ｘ−２４−９１４６、ジーイー東芝シリコーン株式会社ＸＣ９８−Ａ５３８２、ＸＣ９８−Ｂ２４７２、ダイキン工業（株）オプツールＤＳＸ、株式会社フロロテクノロジー製ＦＧ５０１０などが挙げられ、表面処理のための化合物としては、パーフルオロアルキルシラザン、パーフルオロアルキルシラン、もしくはパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、特にパーフルオロアルキルトリアルコキシシラン、パーフルオロポリエーテルトリアルコキシシラン、パーフルオロポリエーテルジトリアルコキシシランが挙げられる。
【０３３８】
これらのシラン化合物を用いる際には、フッ素を含まない有機溶媒で０．０１〜１０質量％、好ましくは０．０３〜５質量％、更に好ましくは０．０５〜２質量％に希釈された状態で用いることが好ましい。
【０３３９】
本発明において、前記シラン化合物溶液を調製するためにフッ素を含まない有機溶媒が好ましく用いられるが、以下のものが挙げられる。
【０３４０】
本発明に用いられる防汚層用の塗布組成物の溶媒としては、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル及び／またはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステル、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルとしては具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなど。又、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルとしては特にプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどが挙げられる。プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル及び／またはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルなど、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酪酸エチルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドその他の溶媒などが挙げられる。或いは、これらの溶媒が、適宜混合されて用いられる。混合される溶媒としては、特にこれらに限定されるものではない。
【０３４１】
特に好ましい溶媒としては、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選ばれる１種類以上の有機溶媒である。
【０３４２】
これらの溶媒中には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールのような常圧における沸点が１００℃未満のもの（低沸点溶媒）と、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ｎ−ブチルアルコールのような沸点が１００℃以上のもの（高沸点溶媒）を併用することが好ましく、特に沸点が６０〜９８℃のものと、１００〜１６０℃のものを併用することが好ましい。併用する場合の低沸点溶媒と高沸点溶媒の比率は、低沸点溶媒は組成物中、９８．０質量％以上であり、高沸点溶媒が０．５〜２質量％であることが好ましい。
【０３４３】
本発明に用いられる防汚層形成用組成物においては、酸を添加してｐＨを５．０以下に調整し用いることが好ましい。酸は前記シラン化合物の加水分解を促し、重縮合反応の触媒として作用するので、基材表面にシラン化合物の重縮合膜の形成を容易にし、防汚性を高めることが出来る。ｐＨは１．５〜５．０の範囲が良く、１．５以下では溶液の酸性が強過ぎて、容器や配管をいためる恐れがあり、５以上では反応が進行しにくい。好ましくはｐＨ２．０〜４．０の範囲である。
【０３４４】
本発明においては、防汚処理に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせることが好ましい。その為に溶液の固形分濃度を希釈したところで用いる。処理液に水を添加し過ぎると、その分ポットライフが短くなる。
【０３４５】
本発明においては硫酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸、フッ酸、好ましくは塩酸、硝酸等の無機酸のほか、スルホ基（スルホン酸基ともいう）またはカルボキシル基を有する有機酸、例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が用いられる。有機酸は１分子内に水酸基とカルボキシル基を有する化合物であればいっそう好ましく、例えば、クエン酸または酒石酸等のヒドロキシジカルボン酸が用いられる。また、有機酸は水溶性の酸であることが更に好ましく、例えば上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、２−オキソグルタル酸、グリコール酸、Ｄ−グリセリン酸、Ｄ−グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソクエン酸、乳酸等が好ましく用いられる。また、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、アトロバ酸等も適宜用いることが出来る。
【０３４６】
添加量は、前記シラン化合物の部分加水分解物１００質量部に対して０．１質量部〜１０質量部、好ましくは０．２質量部〜５質量部がよい。また、水の添加量については部分加水分解物が理論上１００％加水分解し得る量以上であればよく、１００％〜３００％相当量、好ましくは１００％〜２００％相当量を添加するのがよい。
【０３４７】
フッ素含有のシラン化合物を用いることによって、防汚層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましいのみでなく、耐傷性が高く、またフィルム同士のブロッキングに特に優れるという効果がある。
【０３４８】
本発明においては、前記フルオロアルキル基を有するシラン化合物を含有するフッ素を含まない有機溶媒溶液に、更に、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシランを添加して成した組成物を用いることも好ましい。
【０３４９】
これらのアルコキシシラン、アルキルアルコキシシランの例としては、公知のいずれのシラン化合物でもよい。
【０３５０】
これらの例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等）、アルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等）、ジアルキルジアルコキシシラン等が挙げられる。
【０３５１】
これらのアルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン類は、前記防汚層用の塗布組成物調製の際に、前記フッ素含有のシラン化合物に加えて、０．０１〜１５質量％の範囲で混合して用いればよく、同様に加水分解、縮合することで、前記フッ素含有のシラン化合物と共に重縮合した一体となった膜を形成する。
【０３５２】
これらのアルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン類を前記フッ素含有のシラン化合物と混合して用いることで、膜強度を高め、耐傷性や重ねたときのブロッキング防止に更に効果がある。
【０３５３】
また、更に、フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物溶液に、珪素イソシアネート化合物を０．０１〜５質量％添加して成した組成物を用いることも、形成される防汚層の膜強度を更に改善し、表面の傷付きの防止やまた、フィルム同士を重ねた際の貼り付き（ブロッキング）の抑制により一層の効果を奏する。
【０３５４】
本発明で用いられる珪素イソシアネート化合物としては、Ｓｉ（ＮＣＯ）4、ＣＨ3Ｓｉ（ＮＣＯ）3、（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＮＣＯ）2、（ＣＨ3）3ＳｉＮＣＯ、ＣＨ2＝ＣＨＳｉ（ＮＣＯ）3、Ｃ2Ｈ5Ｓｉ（ＮＣＯ）3、などが挙げられるが、好ましくはＳｉ（ＮＣＯ）4、ＣＨ3Ｓｉ（ＮＣＯ）3であり、本発明の課題である環境安全性の観点からＳｉ（ＮＣＯ）4であることが更に好ましい。
【０３５５】
これらの珪素イソシアネート化合物を前記の量、防汚層形成組成物中に混合させることで、前記シラン化合物による架橋反応をより完全に行うことが出来前記膜物性の改良効果が大きい。これらの化合物は、加水分解には関与しないが、加水分解により形成した水酸基（シラノール基）と反応することで前記シラノール基同士の縮合を補完し膜を強固なものとする。
【０３５６】
これら珪素イソシアネート化合物を用いる際の有機溶媒についても前記フッ素を含有しない有機溶媒をそのまま用いればよいが、前記挙げられた有機溶媒のうち、珪素イソシアネート化合物を混合して用いる際には、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の溶媒が特に好ましい。
【０３５７】
また、珪素イソシアネート化合物を混合して用いる際には、ｐＨが７．０以下であればよく、２．０〜７．０の範囲が良い。ｐＨが７．０以上では前記シラノール基との反応が進行しにくくなる。中でも好ましくはｐＨが３．０〜６．０の範囲である。
【０３５８】
防汚層の屈折率は１．３０〜１．５０であることが好ましく、更に好ましくは、１．３５〜１．４９である。１．３０以下であると、膜硬度がとれず、１．５０以上であると表面反射率が増大してしまう。またフルオロアルキル基を含有するシラン化合物の加水分解重縮合物から形成される樹脂を構成成分とする防汚層は、動摩擦係数が０．０３〜０．２５の範囲が好ましい。
【０３５９】
この様にして得られた前記防汚層用の塗布組成物を前記低屈折率層の上に塗布して、防汚層を形成する。塗布方法としては、いずれの方法でもよく、通常のディップコーター、グラビアコーター、リバースロールコーター、押出しコーター等を用いる方法が挙げられる。
【０３６０】
（反射防止層の形成）
本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されないが、塗布により形成することが好ましい。
【０３６１】
本発明においては、ハードコート層を付与したセルロースエステルフィルムの上にフレキソ印刷により微細凹凸構造を形成し、上記の高屈折率層組成物、低屈折率層組成物を用いて順次コーティングする工程により反射防止層を製造することが好ましい。また、前記防汚層をコーティングすることも好ましい。
【０３６２】
好ましい防眩性反射防止フィルムの構成を下記に示すが、これらに限定されるものではない。
【０３６３】
ここでハードコート層とは、前述の活性光線硬化型樹脂層を意味する。
【０３６４】
基材フィルム／ハードコート層／微細凹凸構造／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／微細凹凸構造／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／帯電防止層／ハードコート層／微細凹凸構造／低屈折率層
基材フィルム／帯電防止層／ハードコート層／微細凹凸構造／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／微細凹凸構造／低屈折率層／防汚層
基材フィルム／ハードコート層／微細凹凸構造／高屈折率層／低屈折率層／防汚層
基材フィルム／帯電防止層／ハードコート層／微細凹凸構造／低屈折率層／防汚層
基材フィルム／帯電防止層／ハードコート層／微細凹凸構造／高屈折率層／低屈折率層／防汚層
本発明は、上記ハードコート層／微細凹凸構造を形成した後ハードコート層の表面に表面処理行い、該表面処理を行ったハードコート層表面に本発明に係る高屈折率層、低屈折率層を形成することが好ましい。また、防汚層を設ける前に該低屈折率層に表面処理を行うことも好ましい。
【０３６５】
表面処理は、洗浄法、アルカリ処理法、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられ、好ましくはアルカリ処理法、コロナ処理法であり、特に好ましくはアルカリ処理法が有効である。
【０３６６】
コロナ処理とは、大気圧下、電極間に１ｋＶ以上の高電圧を印加し、放電することで行う処理のことであり、春日電機（株）や（株）トーヨー電機などで市販されている装置を用いて行うことが出来る。コロナ放電処理の強度は、電極間距離、単位面積当たりの出力、ジェネレーターの周波数に依存する。コロナ処理装置の一方の電極（Ａ電極）は、市販のものを用いることが出来るが、材質はアルミニウム、ステンレスなどから選択が出来る。もう一方はプラスチックフィルムを抱かせるための電極（Ｂ電極）であり、コロナ処理が、安定かつ均一に実施されるように、前記Ａ電極に対して一定の距離に設置されるロール電極である。これも通常市販されているものを用いることが出来、材質は、アルミニウム、ステンレス、及びそれらの金属で出来たロールに、セラミックス、シリコーン、ＥＰＴゴム、ハイパロンゴムなどがライニングされているロールが好ましく用いられる。本発明に用いられるコロナ処理に用いる周波数は、２０ｋＨｚ以上１００ｋＨｚ以下の周波数であり、３０ｋＨｚ〜６０ｋＨｚの周波数が好ましい。周波数が低下するとコロナ処理の均一性が劣化し、コロナ処理のムラが発生する。また、周波数が大きくなると、高出力のコロナ処理を行う場合には、特に問題ないが、低出力のコロナ処理を実施する場合には、安定した処理を行うことが難しくなり、結果として、処理ムラが発生する。コロナ処理の出力は、１〜５ｗ・ｍｉｎ．／ｍ2であるが、２〜４ｗ・ｍｉｎ．／ｍ2の出力が好ましい。電極とフィルムとの距離は、５ｍｍ以上５０ｍｍ以下であるが、好ましくは、１０ｍｍ以上３５ｍｍ以下である。間隙が開いてくると、一定の出力を維持するためにより高電圧が必要になり、ムラが発生し易くなる。また、間隙が狭くなり過ぎると、印加する電圧が低くなり過ぎ、ムラが発生し易くなる。更にまた、フィルムを搬送して連続処理する際に電極にフィルムが接触し傷が発生する。
【０３６７】
アルカリ処理方法としては、ハードコート層を塗設したフィルムをアルカリ水溶液に浸す方法であれば特に限定されない。
【０３６８】
アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、アンモニア水溶液等が使用可能であり、中でも水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。
【０３６９】
アルカリ水溶液のアルカリ濃度、例えば水酸化ナトリウム濃度は０．１〜２５質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。
【０３７０】
アルカリ処理温度は通常１０〜８０℃、好ましく２０〜６０℃である。
【０３７１】
アルカリ処理時間は５秒〜５分、好ましくは３０秒〜３分である。アルカリ処理後のフィルムは酸性水で中和した後、十分に水洗いを行うことが好ましい。
【０３７２】
反射防止層の各層は、基材フィルム上に、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法を用いて、塗布により形成することが出来る。塗布に際しては、基材フィルムが、幅が１．４〜４ｍでロール状に巻き取られた状態から繰り出して、上記塗布を行い、乾燥・硬化処理した後、ロール状に巻き取られることが好ましい。
【０３７３】
更に、本発明の防眩性反射防止フィルムは、基材フィルム上に前記反射防止層を積層した後、ロール状に巻き取った状態で５０〜１５０℃、１〜３０日の範囲で加熱処理を行う製造方法によって製造されることが好ましい。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば、５０℃であれば、好ましくは３日間以上３０日未満の期間、１５０℃であれば１〜３日の範囲が好ましい。通常は、巻外部、巻中央部、巻き芯部の加熱処理効果が偏らないように、比較的低温に設定することが好ましく、５０〜８０℃付近で３〜７日間程度行うことが好ましい。
【０３７４】
加熱処理を安定して行うためには、温湿度が調整可能な場所で行うことが必要であり、塵のないクリーンルーム等の加熱処理室で行うことが好ましい。
【０３７５】
機能性薄膜がコーティングされた光学フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであっても良く、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。またガラス繊維などの充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。
【０３７６】
これらの巻きコアへの巻き数は、１００巻き以上であることが好ましく、５００巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は５ｃｍ以上であることが好ましい。
【０３７７】
このようにして長巻のプラスチックフィルム基材上に機能性薄膜がコーティングされ、プラスチックコアに巻き取られたロールを、巻き取った状態で前記加熱処理を行うとき、該ロールを回転させることが好ましく、回転は、１分間に１回転以下の速度が好まく、連続でも良く断続的な回転であっても良い。又、加熱期間中に該ロールの巻き替えを１回以上行うことが好ましい。
【０３７８】
コアに巻き取られた長巻の光学フィルムロールを加熱処理中に回転させる為加熱処理室に専用の回転台を設けることが好ましい。
【０３７９】
回転は、断続の場合は停止している時間を１０時間以内とすることが好ましく、停止位置は、円周方向に均一となる様にすることが好ましく、停止時間は１０分以内とすることがより好ましい。最も好ましくは、連続回転である。
【０３８０】
連続回転での回転速度は、１回転に要する時間は好ましくは１０時間以下とすることであり、早いと装置的に負担となるため実質的には、１５分から２時間の範囲が好ましい。
【０３８１】
尚、回転機能を有する専用の台車の場合には、移動や保管中にも光学フィルムロールを回転させることが出来て好ましく、この場合、保管期間が長い場合に生じるブラックバンド対策として回転が有効に機能する。
【０３８２】
（偏光板）
偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、以上コニカミノルタオプト（株）製）が好ましく用いられる。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションＲｏが５９０ｎｍで、３０〜３００ｎｍ、Ｒｔが７０〜４００ｎｍの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開２００２−７１９５７、特願２００２−１５５３９５記載の方法で作製することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。
【０３８３】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
【０３８４】
（表示装置）
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。また、本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムは平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が３０型以上、特に３０型〜５４型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなく、その効果が長期間維持され、ＭＶＡ型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。特に、本発明の目的である色むら、ぎらつきや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【０３８５】
本発明に係る表示装置は、前記防眩性フィルムまたは防眩性反射防止フィルム表面に形成された微細凹凸構造が楕円形状の凸部を有し、該楕円形状の凸部の長辺方向がディスプレイの縦方向もしくは横方向に並ぶように配置された表示装置であることが好ましい。
【０３８６】
ここでいう楕円形状とは、下記式で定義される楕円の比率が０．５０〜０．８５の範囲内にあり、かつ０．６０〜０．８０の範囲の形状のものが６０個数％以上含まれることを言う。
【０３８７】
楕円の比率＝（楕円の短軸）／（楕円の長軸）
本発明者の検討によれば、防眩性フィルムまたは防眩性反射防止フィルムを用いた表示装置において、従来の微粒子を用いた真円に近い凸部や不定形の凸部であり、かつその長辺方向がディスプレイ上で一定の向きでない表示装置に対して、フレキソ印刷により形成された微細凹凸構造の凸部の形状が楕円形状であり、該楕円形状の長辺方向がディスプレイの縦方向もしくは横方向に並ぶように配置された表示装置により、防眩性効果に加えて、更に表面のぎらつき感が軽減されることを見出したものである。これは、微細凹凸構造の凸部の長辺がディスプレイの縦方向もしくは横方向に並ぶように配置することで、散乱光が一定の方向になる為ぎらつき感の低下に寄与し、更に該凸部形状が楕円形状を有することで散乱光の方向性を更に強めることが出来る為、ぎらつき感低減の効果が増大したものと推定される。フレキソ印刷は、このような目的に合致する凹凸形状を自由に印刷版として作製出来る為、容易に微細凹凸構造の形成をコントロールすることが出来る。
【実施例】
【０３８８】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３８９】
実施例１
〔セルロースエステルフィルム１の作製〕
以下のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子及び溶媒を用いてセルロースエステル溶液（ドープ）を調製し、溶液流延製膜法にてセルロースエステルフィルム１を作製した。
【０３９０】
セルロースエステル（セルローストリアセテート、アセチル基置換度２．９、Ｍｎ＝１６００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８）                            １００ｋｇ
可塑剤（トリメチロールプロパントリベンゾエート）              ５ｋｇ
可塑剤（エチルフタリルエチルグリコレート）                    ５ｋｇ
紫外線吸収剤（チヌビン１０９、チバスペシャルティーケミカルズ（株）製）
１．０ｋｇ
紫外線吸収剤（チヌビン１７１、チバスペシャルティーケミカルズ（株）製）
１．０ｋｇ
微粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ、日本アエロジル（株）製）    ０．３ｋｇ
溶媒（酢酸メチル）                                        ４４０ｋｇ
溶媒（エタノール）                                        １１０ｋｇ
上記のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子及び溶媒を用いてセルロースエステル溶液（ドープ）を調製した。
【０３９１】
即ち、溶媒を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混合した。微粒子は溶媒の一部で分散して添加した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、セルロースエステル溶液を得た。
【０３９２】
次に、３３℃に温度調整したセルロースエステル溶液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から３７℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜（ステンレスベルトに流延以降はウェブという）に４４℃の温風をあてて乾燥させ、剥離の残留溶媒量が１２０質量％で剥離し、剥離の際の張力をかけて１．１倍の縦延伸倍率となるように延伸し、次いで、残留溶媒量が３５質量％から１０質量％となる間にテンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に１．１倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、更に１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで２０分間搬送させて、乾燥を行い、幅１．５ｍ、膜厚８０μｍ、長さ３０００ｍのセルロースエステルフィルム１を作製した。
【０３９３】
〔微粒子添加による防眩性ハードコートフィルム１の作製〕
上記セルロースエステルフィルム１の表面（Ｂ面側；流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面；支持体側）上に、下記のハードコート層用塗布液１を孔径２０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が０．１Ｗ／ｃｍ2で、照射量を０．１Ｊ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、厚さ５μｍの防眩性ハードコート層を形成し防眩性ハードコートフィルム１を作製した。形成した凹凸について光学干渉式表面粗さ測定機を用いて１００個の凸部の測定を行った結果、凸部の平均の高さは１μｍ、平均の大きさ（長辺）は１０μｍ、凸部間平均距離は５０μｍであり、そのばらつきはいずれも±１３％の範囲であった。
【０３９４】
（ハードコート層塗布液１）
下記材料を攪拌、混合し、ハードコート層塗布液１とした。
【０３９５】
アクリルモノマー；ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製）                                      ２００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４（チバスペシャルティーケミカルズ（株）製））
２５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  １１０質量部
酢酸エチル                                              １１０質量部
合成シリカ微粒子  平均粒子径  １．８μｍ                  ４０質量部
界面活性剤（シリコーン系界面活性剤；ＦＺ２２０７（日本ユニカー製）１０質量％プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液）
固形分で０．６質量部
〔エンボス加工による防眩性ハードコートフィルム２の作製〕
上記セルロースエステルフィルム１の作製において、テンターによる延伸処理後、鋳型を設けたロール（凹凸形成後、凸部高さ１μｍ、凸部大きさ（長辺）１０μｍ、凸部間距離５０μｍになるような微細凹凸構造を刻印したもの）とバックロールから構成される凹凸形成部で溶媒を含むフィルムを挟んでフィルムのＢ面（ステンレスバンド支持体に接していた側をＢ面とし、その反対側をＡ面とする。）側に鋳型を設けた熱ロールを押し当てて、Ａ面側にはバックロールを配置し、両ロール間を通すことによってＢ面側に凹凸を形成した以外は同様にして、エンボス加工したセルロースエステルフィルム２を作製した。尚、凹凸形成部近傍には、除電ワイヤーを設置してフィルムの帯電を抑制した。形成した凹凸について光学干渉式表面粗さ測定機を用いて１００個の凸部の測定を行った結果、凸部の平均の高さは１μｍ、平均の大きさ（長辺）は１０μｍ、凸部間平均距離は５０μｍであり、そのばらつきはいずれも±１５％の範囲であった。
【０３９６】
上記エンボス加工したセルロースエステルフィルム２の表面（Ｂ面側；流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面；支持体側）上に、下記のハードコート層用塗布液２を孔径２０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が０．１Ｗ／ｃｍ2で、照射量を０．１Ｊ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、厚さ５μｍの防眩性ハードコート層を形成し防眩性ハードコートフィルム２を作製した。
【０３９７】
（ハードコート層塗布液２）
アクリルモノマー；ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製）                                        ７０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート                    ３０質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４（チバスペシャルティーケミカルズ（株）製））
４質量部
酢酸エチル                                              １５０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  １５０質量部
シリコーン化合物                                        ０．４質量部
（ＢＹＫ−３０７（ビックケミージャパン社製））
〔フレキソ印刷による防眩性ハードコートフィルム３〜１５の作製〕
図８（ａ）の装置を用いて、上記作製したセルロースエステルフィルム１の表面（Ｂ面側；流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面；支持体側）上に、下記のハードコート層用塗布液３を孔径２０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が０．１Ｗ／ｃｍ2で、照射量を０．１Ｊ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、厚さ５μｍのハードコート層を形成した。
【０３９８】
（ハードコート層塗布液３）
アクリルモノマー；ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製）                                      ２００質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート                    ３０質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４（チバスペシャルティーケミカルズ（株）製））
１０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  １１０質量部
酢酸エチル                                              １１０質量部
界面活性剤（シリコーン系界面活性剤；ＦＺ２２０７（日本ユニカー製）１０質量％プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液）
固形分で０．１質量部
上記組成物に、形成した膜の屈折率が１．５５となるように酸化ジルコニウム微粒子（平均粒径１０ｎｍ）を添加した。酸化ジルコニウムは塗布液に添加する溶媒の一部を用いて予め分散したものを使用した。
【０３９９】
〈フレキソ印刷〉
上記ハードコート層を塗設したセルロースエステルフィルム上に、表１に記載の樹脂版径、ゴム硬度を有する下記仕様のシームレス樹脂版を用い、図８（ａ）の製造装置によりフレキソ印刷で凹凸構造を形成した。印刷後、凹凸構造は乾燥ゾーン５０５Ｂにて９０℃で乾燥の後、紫外線ランプ５０６Ｃを用い、紫外線の照度が０．１Ｗ／ｃｍ2で、照射量が０．１Ｊ／ｃｍ2で硬化させた。光学干渉式表面粗さ測定機を用いて１００個の凸部の測定を行った結果、インキ付着部（凸部）の平均の高さは１μｍ、平均の大きさ（長辺）は１０μｍ、凸部間平均距離は５０μｍであり、そのばらつきはいずれも±３％の範囲に入っていた。
【０４００】
（シームレス樹脂版の仕様）
感光性樹脂版：２−ヒドロキシエチルアクリレート９８部とブタンジオールジアクリレート１部を反応して得られたコアとメタアクリル酸２０部とＮ−ブチルアクリレート８０部を反応させて得られたコアシェル型ミクロゲル（コア／シェル＝２／１）７１ｇ、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート２５ｇ、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン４ｇを混合して得られた感光性樹脂組成物を厚み２ｍｍのポリエステルフィルムの上に塗布したのち、波長３６０ｎｍの紫外線により、１０００ｍＪ／ｃｍの露光を行いレーザー彫刻用印刷原版を得た。次いで下記レーザー彫刻条件で凹凸構造を彫刻し、図１のように樹脂版ロールに真空引きしながら装着し、全体を１２０℃２０分間加熱を行ったところ継ぎ目が見えなくなりシームレス樹脂版になった。
【０４０１】
樹脂版径は図１で示す樹脂版ロール２の径を変えた。
【０４０２】
樹脂版のゴム硬度は、用いる上記ポリエステルフィルムの厚みを０．５ｍｍ〜１０ｍｍの範囲に変化させて変えた。尚、ゴム硬度はＪＩＳ  Ｋ  ６２５３：１９９７に記載の方法に準じてデュロメータで測定した。
【０４０３】
（レーザー彫刻条件）
炭酸ガスレーザー出力：３００Ｗ、５０％出力
彫刻画像：印刷後として、凸部高さ０．５μｍ、凸部大きさ（長辺）３０μｍ、凸部間距離８０μｍになるように、樹脂版上に凹凸構造を彫刻した。
【０４０４】
アニロックスロール：８００線２．５４ｃｍ、セル容積４ｍｌ／ｍ2（ニューロング（株）製、ハニカムパターン）
インキ供給：鋼製ドクターブレード方式（図１参照）
インキ：下記組成インキを使用した。
【０４０５】
（防眩層インキ液１の組成）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  ７０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート                    ３０質量部
光反応開始剤                                                ４質量部
（イルガキュア１８４（チバスペシャルティーケミカルズ（株）製））
界面活性剤（シリコーン系界面活性剤；ＦＺ２２０７（日本ユニカー製）１０質量％プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液）        固形分で０．５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                    ５０質量部
メチルエチルケトン                                      ５００質量部
インキの粘度は４０℃、東京計器社製のＢ型粘度計ＢＬを用い測定した結果、３Ｐａ・ｓであった。
【０４０６】
以上のようにして作製した防眩性ハードコートフィルム１〜１５について以下の評価を行い、結果を表１に示した。
【０４０７】
《評価》
（防眩効果）
照明及び外光のフィルムへの写り込みを下記のように評価した。
【０４０８】
○：蛍光灯の輪郭、及び外光がぼけて写り込みが全く気にならない
△：蛍光灯の輪郭、及び外光の写り込みが僅かに認められる
×：蛍光灯の輪郭、及び外光が分かり写り込みが気になる
（ぎらつき）
作製したフィルムについて、目視にてぎらつきを判定した。
【０４０９】
◎：ぎらつきが全く分からない
○：ぎらつきが極僅かに分かる
△：ややぎらつきが分かる
×：ぎらつきがかなり気になる
【０４１０】
【表１】
2006285217.tif 000006
【０４１１】
表１より、微粒子添加による凹凸構造を付与した防眩性ハードコートフィルム１は、微粒子の分散性のばらつきの為か防眩効果、ぎらつきの改善が中途である。エンボス加工により凹凸構造を付与した防眩性ハードコートフィルム２は均一な凹凸構造の形成に難があり、防眩効果、ぎらつきに劣っていた。また、防眩性ハードコートフィルムの先頭と後尾で凹凸構造の高さ、大きさが異なっており、鋳型を観察すると鋳型の一部に溶けたフィルムによる目詰まりを起こしていた。
【０４１２】
それに対して、樹脂版径と樹脂版のゴム硬度が本発明の範囲内であるフレキソ印刷によってインキ付着部とインキ未付着部による凹凸構造が形成された防眩性ハードコートフィルム４〜８、１１〜１４は、防眩効果、ぎらつきに優れていることが明らかである。また、防眩性ハードコートフィルムの先頭と後尾の凹凸構造の高さ、大きさが揃っており、高い均一性、生産安定性を有していることが分かった。
【０４１３】
次いで、上記作製した防眩性ハードコートフィルム１〜１５のハードコート表面に下記表面処理を行った。
【０４１４】
〈表面処理〉
アルカリ処理：防眩性ハードコートフィルムを、５０℃に加熱した１．５ｍｏｌ／ｌ−ＮａＯＨ水溶液に２分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、０．５質量％−Ｈ2ＳＯ4水溶液に室温で３０秒間浸漬し中和させ、水洗、乾燥を行った。
【０４１５】
〔防眩性反射防止フィルムの作製〕
次いで、表面処理した防眩性ハードコートフィルム１〜１５のハードコート層上に下記高屈折率層及び低屈折率層を塗設した。
【０４１６】
（反射防止層の作製：高屈折率層）
ハードコートフィルム上に、下記高屈折率層塗布組成物１を押出しコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥させ、次いで紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、更に１００℃で１分熱硬化させ、厚さが７８ｎｍとなるように高屈折率層１を設けた。
【０４１７】
この高屈折率層の屈折率は１．６５であった。
【０４１８】
〈高屈折率層塗布組成物１〉
金属酸化物微粒子のイソプロピルアルコール溶液（固形分２０％、ＩＴＯ粒子、粒径５ｎｍ）                                                       ５５質量部
金属化合物：Ｔｉ（ＯＢｕ）4（テトラ−ｎ−ブトキシチタン）１．３質量部
電離放射線硬化型樹脂：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
３．２質量部
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバスペシャルティーケミカルズ（株）製）
０．８質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液   １．５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                   １２０質量部
イソプロピルアルコール                                   ２４０質量部
メチルエチルケトン                                         ４０質量部
（反射防止層の作製：低屈折率層）
次いで、下記の低屈折率層塗布組成物１を押出しコーターで塗布し、１００℃で１分間乾燥させた後、紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、更に１２０℃で５分間熱硬化させ、厚さ９５ｎｍとなるように低屈折率層を設け、防眩性反射防止フィルム１〜１５を作製した。尚、この低屈折率層の屈折率は１．３７であった。
【０４１９】
また作製した防眩性反射防止フィルムについて、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。反射防止性能は広い波長領域において反射率が小さいほど良好であるため、測定結果から４５０〜６５０ｎｍにおける最低反射率を求めた。測定は、観察側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止して、反射率の測定を行った。測定の結果、上記防眩性反射防止フィルムはいずれも反射率で０．５〜１．０の間に反射率を有し良好な結果を示した。
【０４２０】
（低屈折率層塗布組成物１の調製）
〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製〉
テトラエトキシシラン２８９ｇとエタノール５５３ｇを混和し、これに０．１５％酢酸水溶液１５７ｇを添加し、２５℃のウォーターバス中で３０時間攪拌することで加水分解物Ａを調製した。
【０４２１】
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                        １１０質量部
中空シリカ系微粒子（下記Ｐ−２）分散液                    ３０質量部
ＫＢＭ５０３（シランカップリング剤、信越化学（株）製）      ４質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液
３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  ４００質量部
イソプロピルアルコール                                  ４００質量部
〈中空シリカ系微粒子（Ｐ−２）分散液の調製〉
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として０．９８質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として１．０２質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。（工程（ａ））
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５質量％）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。（工程（ｂ））
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3多孔質粒子の分散液を調製した（工程（ｃ））。上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇ及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ2２８質量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ系微粒子（Ｐ−２）の分散液を調製した。
【０４２２】
この中空シリカ系微粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４７ｎｍ、ＭＯｘ／ＳｉＯ2（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。
【０４２３】
〔偏光板の作製〕
次いで、各防眩性反射防止フィルム１〜１５を用いて偏光板を作製した。
【０４２４】
厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
【０４２５】
次いで、下記工程１〜５に従って偏光膜と前記防眩性反射防止フィルム１〜１５、裏面側のセルロースエステルフィルムＫＣ８ＵＣＲ−５（コニカミノルタオプト（株）製）を貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムは位相差を有するセルロースエステルフィルムであり、リターデーション値はＲｏ＝４３ｎｍ、Ｒｔ＝１３２ｎｍであった。
【０４２６】
工程１：５０℃の１モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に６０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。
【０４２７】
工程２：前記偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。
【０４２８】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理したセルロースエステルフィルムの上にのせて、更に反射防止層が外側になるように積層し、配置した。
【０４２９】
工程４：工程３で積層した防眩性反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料を圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ2、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
【０４３０】
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと防眩性反射防止フィルム１〜１５とを貼り合わせた試料を２分間乾燥し、偏光板１〜１５を作製した。
【０４３１】
《液晶表示装置の作製》
液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
【０４３２】
市販の３２型液晶テレビ（ＭＶＡ型セル）の予め貼合されていた表面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板１〜１５をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。
【０４３３】
その際、その偏光板の貼合の向きは、位相差を有するセルロースエステルフィルムの面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置１〜１５を各々作製した。
【０４３４】
《評価》
得られた液晶表示装置１〜１５を用いて、図９で示した様な環境で観察し、前記防眩効果、ぎらつき、及び下記視認性及び動画を表示したときの黒のしまりを各々下記の基準に従い目視にて評価した。尚、照明は４０Ｗ蛍光灯（松下電器製ＦＬＲ４０Ｓ−ＥＸ−Ｄ／Ｍ）１０本を天井に設置した。また窓から外光が差し込む状態で評価した。
【０４３５】
（視認性及び動画を表示したときの黒のしまり）
前述の様に天井からは蛍光灯による人工照明と窓からの外光が差し込んでいる環境下でＴＶ番組の動画像を同ディスプレイに表示し、比較実験を行った。ディスプレイ正面から１ｍ離れた位置で動画像を観察し官能評価を行った。
【０４３６】
○：画面上部の蛍光灯の写り込みが気にならず、画面中央部は外光があっても黒がしまって見え、観察中、観察直後においても疲れず違和感がない
△：画面上部の蛍光灯の写り込みが僅かに認められ、画面中央部は外光があると黒がややしまりに欠け、観察後やや疲れる
×：画面上部の蛍光灯の写り込みが認められ、画面中央部は外光の影響で黒のしまりに欠け、見ていると目が疲れる
防眩性反射防止フィルム／液晶表示装置の構成及び上記評価結果を下記表２に示す。
【０４３７】
【表２】
2006285217.tif 000007
【０４３８】
表２より、微粒子添加による微細凹凸構造を付与した液晶表示装置１は、微粒子の分散性のばらつきの為か防眩効果、ぎらつきの改善が中途であり視認性に劣っていた。エンボス加工により微細凹凸構造を付与した液晶表示装置２は均一な凹凸構造の形成に難があり、ぎらつき、視認性に劣っていた。
【０４３９】
それに対して、樹脂版径と樹脂版のゴム硬度が本発明の範囲内であるフレキソ印刷によってインキ付着部とインキ未付着部による凹凸構造が形成された防眩性反射防止フィルムを用いた液晶表示装置４〜８、１１〜１４は、防眩効果、ぎらつき、視認性及び黒のしまりに優れていることが明らかである。
【０４４０】
実施例２
実施例１で作製したシームレス樹脂版において、レーザー彫刻画像を印刷後として、インキ付着部（凸部）高さ０．３μｍ、凸部大きさ（長辺）１５μｍ、凸部間距離３０μｍになるような凹凸構造に変更した以外は同様にして樹脂版を作製した。
【０４４１】
次いで、図８（ｂ）の製造装置を用いて、フレキソ印刷部Ｂは実施例１で使用した樹脂版（樹脂版径８００ｍｍ、ゴム硬度５０度）、フレキソ印刷部Ｃは上記作製した樹脂版を使用し２回のフレキソ印刷を行う方法に変えた以外は実施例１と同様にして防眩性ハードコートフィルムを作製した。その際、フレキソ印刷部Ｃの樹脂版径は５００ｍｍ、ゴム硬度は６５度に調整した。
【０４４２】
得られた防眩性ハードコートフィルムを用い、実施例１と同様にして防眩性反射防止フィルム、偏光板、液晶表示装置を作製し、実施例１と同様な評価を行った。
【０４４３】
その結果、凸部高さが０．５〜１．５μｍの範囲にあり、かつ図７（ｃ）に近似した二重構造の凹凸構造が付与された防眩性ハードコートフィルムが得られており、実施例１のような単独フレキソ印刷よりも防眩効果、ぎらつき、視認性が更に優れていた。
【０４４４】
実施例３
実施例１において、防眩層インキ液１の組成中、メチルエチルケトンの量を調整してインキ液の粘度を０．０５、０．１、１、５、８、１０、１１Ｐａ・ｓまで変化させ、防眩性反射防止フィルム７の条件でフレキソ印刷により凹凸構造を形成したところ、インキ液粘度が０．１〜１０Ｐａ・ｓの範囲では、所望の凹凸構造が形成されることを確認した。それに対して、０．０５Ｐａ・ｓのインキ液では凸部の高さが３０％低下し、かつ大きさが４０％増加し所望の凹凸構造を得るには難があった。また、１１Ｐａ・ｓのインキ液では凸部の欠けがやや見られインキの転移性に劣ることが分かった。
【０４４５】
実施例４
実施例１で用いたセルロースエステルフィルム１の代わりにノルボルネン系樹脂フィルムであるＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮを用いて実施例１同様に、防眩性ハードコートフィルム、防眩性反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置を作製したところ、実施例１を再現し、フレキソ印刷を用いた本発明の試料は、防眩効果、ぎらつき、視認性及び黒のしまりに優れていることが分かった。
【０４４６】
実施例５
実施例１で作製したシームレス樹脂版において、レーザー彫刻画像を、印刷後として凸部高さ１．２μｍ、凸部大きさが長辺として１５μｍ、凸部間距離６０μｍであり、かつ凸部の大きさが下記楕円の比率で、０．５０のものが７０個数％含まれる樹脂版（ａ）と、楕円の比率０．７０のものが８０個数％含まれ、かつその長辺の向きが印刷方向に一定である樹脂版（ｂ）を用いてフレキソ印刷により実施例１と同様にして防眩性ハードコートフィルム、防眩性反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置を作製した。尚、樹脂版（ｂ）を用いたものは、凸部の長辺方向がディスプレイの縦方向、または横方向に並ぶように２種類の液晶表示装置を作製した。
【０４４７】
作製した表示装置について実施例１の視認性の評価を行ったところ、樹脂版（ｂ）を用いたものは防眩性に優れていると同時にぎらつき感が更に改善され、動画表示での眼の疲れが大幅に低下した。それに対して樹脂版（ａ）を用いたものは防眩性は同程度に観察されたが、ぎらつきがやや残り動画表示でやや眼が疲れやすかった。
【０４４８】
楕円の比率＝（楕円の短軸）／（楕円の長軸）
【図面の簡単な説明】
【０４４９】
【図１】本発明に係るフレキソ印刷の一例を示す模式図である。
【図２】ツーロール方式によるものフレキソ印刷の模式図である。
【図３】インキの供給を押出しコーターにより行うフレキソ印刷の模式図である。
【図４】アニロックスロールの斜視図である。
【図５】アニロックスのセルを説明するための斜視図である。
【図６】本発明に好ましい微細凹凸構造の模式図である。
【図７】複数回のフレキソ印刷により形成される微細凹凸構造の一例を示す模式図である。
【図８】基材フィルム上にフレキソ印刷により（ａ）一回、及び（ｂ）複数回のフレキソ印刷で微細凹凸構造形成を行う方法の一例である。
【図９】防眩性反射防止フィルムを液晶表示装置に適用した時の観察時の環境を模式的に示した図である。
【符号の説明】
【０４５０】
１  シームレス樹脂版
２  樹脂版ロール
３  版胴
４  アニロックスロール
５  圧胴
６  ドクターブレード
７  ファンテンロール
８  インキ
９  押出しコーター
１０、５０２  基材フィルム
ｅ  凸部の高さ
ｆ  凸部の大きさ
ｇ  凸部間の距離
１１  ハードコート層
１２  微細凹凸構造１
１３  微細凹凸構造２
５０１  フィルムロール
５０３  第１コータ
５０４Ａ、Ｂ、Ｃ  バックロール
５０５Ａ、Ｂ、Ｃ  乾燥ゾーン
５０６Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ  ＵＶ照射部
５０８  インキ供給タンク
５０９  フレキソ樹脂版
５１０  アニロックスロール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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