(57)【要約】【課題】  光学特性及び表面平滑性が良好で、製造時における作業性が良好な光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクを提供する。【解決手段】  鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層、光透過層、粘着層、保護層がこの順に設けられた４層積層フィルムであって、保護層を除く３層積層フィルムが、膜厚５０〜４５０μｍ、膜厚精度±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上である光学部品用積層フィルム。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層、光透過層、粘着層、保護層がこの順に設けられた４層積層フィルムであって、保護層を除く３層積層フィルムが、膜厚５０〜４５０μｍ、膜厚精度±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上である光学部品用積層フィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層の膜厚が０.５〜８μｍであり、膜厚精度が±１．０μｍ以内である請求項１記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層は、主としてシリコン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体である請求項１又は２記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層が、シリコーン系熱可塑性樹脂を０.２〜１０重量％含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項５】
前記光透過層は、主としてアクリル系重合体である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項６】
前記光透過層の膜厚が３０〜２５０μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が９０％以上である請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項７】
前記光透過層は、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種の受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとを含み、前記ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを混合することにより前記プロトン供与性原子団と前記プロトン受容性原子団との間に分子間水素結合による擬似的な架橋が形成された熱可塑性樹脂から主としてなる請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項８】
前記粘着層の膜厚が５〜４０μｍであり、膜厚精度が±１．０μｍ以内である請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項９】
前記光透過層と前記粘着層との屈折率差が、０．１以下である請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項１０】
前記保護層の厚さが５〜２００μｍであり、かつ、粘着層の接する面が離型処理されており、表面平滑性が２０ｎｍ以下である請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルムをロール形状に巻き取り形成されたフィルム巻層体。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルムを用いてなる光学部品。
【請求項１３】
光ディスクである請求項１２記載の光学部品。
【請求項１４】
支持基盤上に記録層、粘着層、光透過層及びハードコート層が順次形成された光ディスクであって、前記粘着層、光透過層及びハードコート層が請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルムを用いて形成されたものである光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大容量化した高密度ＤＶＤ、有機ＥＬ、フレキシブルディスプレイ又は電子ペーパー等の光学用部品の部材として適用可能な光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクは、透明なプラスチック基盤よりなる支持基盤上に、微細な凹凸からなるビット列や溝からなる信号情報を記録した記録層を形成しており、記録層が形成された面と対向する面側からレーザー光等を照射し、支持基盤上の信号情報に応じて反射光量が変化することにより、情報を読み出すシステムである。
このような光ディスクの種類として、コンパクトディスク（ＣＤ：Compact Disk）、ＤＶＤ(Digital Versatile Disk)または光磁気記録ディスク等が挙げられる。代表的な光ディスクであるＣＤにおいては、厚さが０．６ｍｍである支持基盤上に情報を読み出す透明な光透過層が形成されており、光透過層は記録層を有する支持基盤を兼ねた構造である。ＣＤでは、記録再生用として波長７８０ｎｍのレーザー光を使用しており、光透過層側から記録再生用のレーザー光を照射し、支持基盤上の記録層に刻印されたビット列や溝からなる信号情報に応じて変化する反射光量に基づき記録層に記録された情報を再生する。
ＣＤよりも記録容量の高いＤＶＤに代表される光ディスクにおいては、記録再生用のレーザー波長は６３５ｎｍであり、基本的には、前述したＣＤと同様に、記録層にレーザー光を照射して信号情報の記録及び再生を行う。
【０００３】
図３は、ＤＶＤの構造を概略的に説明するためにＤＶＤの一部を拡大した斜視図であり、図４はその断面図である。図３及び図４に示すように、ＤＶＤ１０は、支持基盤１１と、支持基盤１１上に形成された記録層１２と、記録層１２上に形成された光透過層１３と、を備える。さらに、具体的に説明すると、単層板においては情報を読み出す透明な支持基盤１１の厚さは０．６ｍｍであり、この支持基盤１１上にビット１４列や記録用溝等の情報が記録された記録層１２が形成され、記録層１２上に支持基盤１１と同厚さ（０．６ｍｍ）の透明支持基盤を張り合わせて光透過層１３が形成される。なお、記録層１２上に張り合わせて形成された光透過層１３は、通常「ダミー」と呼ばれ、光ディスク自体の強度を向上させる役割を果たしている。上記図３及び図４に示すように、光透過層１３側からレーザー光１５を照射して、記録層の情報を記録及び再生する。
さらに、ここ数年、映像情報や動画情報等の発展に伴い、記録容量を大容量化したＤＶＤが求められ、次世代ディスクと呼ばれる記録容量が２０ＧＢを超える大容量の高密度ＤＶＤの開発が進められている。高密度ＤＶＤは、直径１２センチのサイズであり従来と同様のサイズであるため、記録層におけるトラックピッチを狭小化しあるいはビット長を縮小化する等により微細化し、高密度化を図ることが要求されている。
具体的には、厚さが１．１ｍｍ程度の支持基盤上にビット列や溝等により信号情報が記録された記録層が形成され、記録層の表面には透明な厚さ０．１ｍｍ程度のフィルムを接着して光透過層が形成される。そして、光透過層の面側から４００ｎｍ程度の短波長の青色レーザーを照射して、信号情報の記録及び再生を行う。
上記ＣＤ、ＤＶＤ及び次世代ディスク等の支持基盤及びダミー層である光透過層として、通常、ポリカーボネートが使用されており、次世代ディスクの光透過層としてもポリカーボネートが使用されているが、ポリカーボネートに替わる新たな高分子材料の開発が進められている。
【０００４】
開発が進められている代表的な高分子材料として、例えば、アクリル系樹脂が挙げられるが、アクリル系樹脂は、比較的安価であり、透明性が高く、ゴム状物やガラス状ポリマ等の多様な特徴を有するポリマを比較的容易に製造でき、さらには、変性が容易である等の優れた特性を有している。しかし、優れた特性を備えている反面、アクリル系樹脂をフィルム形状とするためには、強度、耐熱性と靱性の相反する特性を両立させる必要があり、従来のアクリル樹脂では、上記特性を両立させることが困難であるため、大きな課題となっていた。アクリル樹脂全般に共通して靱性が低いことが課題であるが、例えば、樹脂中にゴム粒子を添加して、アクリル樹脂から形成されるフィルムの靭性を高める方法が幾つか報告されている（特許文献１、特許文献２参照）。しかし、樹脂中にゴム粒子を添加する等してフィルムの靭性を改善することが可能であるが、フィルムを折り曲げた際に白化現象が生じてしまい、フィルムの折り曲げ加工性が低下していた。このため、室温（２５℃）以上のガラス転移点と靱性の必要な薄膜フィルムの形成能(折り曲げ加工性)を両立するアクリル樹脂は見出されていなかった。
そこで、例えば、１種又は２種以上の合成高分子を混合して分子間に水素結合を形成して擬似的な架橋構造を持たせ、従来の材料では実現できなかった新たな特性を導入した樹脂組成物が開発されている（特許文献３参照）。その一例として、ガラス転移温度が低い重合体としてプロトン供与性原子団である水酸基を含んだアクリル重合体と、ガラス転移温度が高い重合体としてプロトン受容性原子団であるアミン基を含んだアクリル重合体をブレンドし、分子間に水素結合を形成し擬似的な架橋構造として耐熱性と靱性との各特性を両立した光透過層用のフィルムが得られることが報告されている（特許文献４参照）。
【０００５】
【特許文献１】特公昭５８−１６７６０５号公報
【特許文献２】特開平３−５２９１０号公報
【特許文献３】特開２０００−２７３３１９号公報
【特許文献４】特開２００２−３８０３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記方法により作製された光透過層用のフィルムは、耐熱性と靭性との両特性を得られるため、光ディスク等の光学部品に使用されている。本フィルムを用いて光ディスクを製造する方法としては、例えば、支持基盤用のフィルム上に粘着層を貼り合わせる工程の後、粘着層上にアクリル樹脂からなる光透過層用のフィルムをさらに、シリコン系架橋構造体または、アクリル系架橋構造体からなるハードコート層を貼り合わせてフィルムを積層して光ディスクを構成している。この時、フィルム表面に用いるレーザー光線の波長に比較して大きな欠点や異物が存在するという問題を有していた。特に、大容量化した高密度ＤＶＤ等の光ディスクでは、前述したようにフィルム表面に用いるレーザー光線の波長に比較して大きな欠点や異物が存在すると、読みとりエラーが発生する等の不具合が生じ、その結果、光学特性が低下してしまうという問題を有していた。このため、光学部品を構成するフィルムには、その表面が平滑であることが要求されている。
また、上述したように、支持基盤上に粘着層を形成した上で、粘着層上に光透過層を、さらに、ハードコート層を貼り合わせて形成すると、光学特性が低下するだけでなく、各層を順次貼り合わせる必要があるため作業工程数が多くなり、作業性の観点からも問題を有していた。
さらに、上述した光透過層は、４００ｎｍ程度の短波長であるレーザー光を透過させて記録層に刻印された信号情報の記録及び再生をするため、光透過層の光透過率が低いと記録層からの反射光が光透過層を通過する際に吸収されてしまい、信号強度が低下するという問題を有していた。このため、高い信号精度を得るために、４００ｎｍ程度の短波長レーザーによる光透過率の高い光透過層が要求されており、光透過性の良好な材料が望まれていた。
本発明は、上述した問題を解決するためのものであり、光学特性及び表面平滑性が良好であり、かつ、製造時における作業性が良好な光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクを得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成すべく本発明者らは種々研究した結果、光透過層の片面にハードコート層を、またハードコート層を設けた反対側の面に粘着層を形成した３層積層構造のフィルムを規定の特性を満たすように形成し、この３層積層フィルムの粘着層上に保護層を設けた４層積層フィルムとすることにより、良好な特性を維持したまま、フィルム表面上に欠点や異物をなくすことを見出し、本発明を完成させたものである。
また本発明は、予め光透過層、ハードコート層及び、粘着層を積層した３層積層フィルムを含む形態としたため、各層のフィルムを貼り付ける工程数を減らすことができ、その結果、光学特性及び表面平滑性が良好であるだけでなく、製造時の作業性をも改善できるものである。
すなわち、本発明は次の各項に関する。
［１］  鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層、光透過層、粘着層、保護層がこの順に設けられた４層積層フィルムであって、保護層を除く３層積層フィルムが、膜厚５０〜４５０μｍ、膜厚精度±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上である光学部品用積層フィルム。
［２］  前記ハードコート層の膜厚が０.５〜８μｍであり、膜厚精度が±１．０μｍ以内である［１］記載の光学部品用積層フィルム。
［３］  前記ハードコート層は、主としてシリコン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体である［１］又は［２］記載の光学部品用積層フィルム。
［４］  前記ハードコート層が、シリコーン系熱可塑性樹脂を０.２〜１０重量％含む［１］〜［３］のいずれかに記載の光学部品用積層フィルム。
［５］  前記光透過層は、主としてアクリル系重合体である［１］〜［４］のいずれかに記載の光学部品用積層フィルム。
［６］  前記光透過層の膜厚が３０〜２５０μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が９０％以上である［１］〜［５］のいずれかに記載の光学部品用積層フィルム。
［７］  前記光透過層は、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種の受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとを含み、前記ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを混合することにより前記プロトン供与性原子団と前記プロトン受容性原子団との間に分子間水素結合による擬似的な架橋が形成された熱可塑性樹脂から主としてなる［１］〜［６］のいずれかに記載の光学部品用積層フィルム。
［８］  前記粘着層の膜厚が５〜４０μｍであり、膜厚精度が±１．０μｍ以内である［１］〜［７］のいずれかに記載の光学部品用積層フィルム。
［９］  前記光透過層と前記粘着層との屈折率差が、０．１以下である［１］〜［８］のいずれかに記載の光学部品用積層フィルム。
［１０］  前記保護層の厚さが５〜２００μｍであり、かつ、粘着層の接する面が離型処理されており、表面平滑性が２０ｎｍ以下である［１］〜［９］のいずれかに記載の光学部品用積層フィルム。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学部品用積層フィルムをロール形状に巻き取り形成されたフィルム巻層体。
［１２］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学部品用積層フィルムを用いてなる光学部品。
［１３］  光ディスクである［１２］記載の光学部品。
［１４］  支持基盤上に記録層、粘着層、光透過層及びハードコート層が順次形成された光ディスクであって、前記粘着層、光透過層及びハードコート層が［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学部品用積層フィルムを用いて形成されたものである光ディスク。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光学特性及び表面平滑性が良好な光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクが得られる。また、良好な特性を維持したまま、フィルム表面上に欠点や異物をなくすことが可能である。さらに、予め光透過層、ハードコート層及び粘着層を積層した３層積層フィルムを含む形態としたため、各層のフィルムを貼り付ける工程数を減らすことができ、製造時の作業性をも改善できるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は、鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層、光透過層、粘着層、保護層がこの順に設けられた４層積層フィルムであって、保護層を除く３層積層フィルムが、膜厚５０〜４５０μｍ、膜厚精度±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上である光学部品用積層フィルムである。
本発明においては、保護層を除く３層積層フィルムの膜厚を５０μｍ〜４５０μｍと規定したが、膜厚が５０μｍ未満になると作業性が悪くなり、膜厚が４５０μｍを超えると表面平滑性や４０５ｎｍの光透過率が悪くなるからである。３層積層フィルムの膜厚は５０〜４００μｍであることが好ましく、より好ましくは５０〜３５０μｍの範囲である。また、３層の膜厚精度は±２μｍ以内であり、光透過率は８７％以上とする。なお、膜厚、膜厚精度及び光透過率の測定は、後述する実施例において説明する。
【００１０】
また、上記光学部品用積層フィルムにおいて、ハードコート層の膜厚が０．５〜８μｍであることが好ましい。ハードコート層の膜厚が０．５μｍ未満であると表面平滑性や強靭性が悪くなる傾向があり、膜厚が８μｍを超えると表面平滑性や４０５ｎｍの光透過率が悪くなる傾向があるからである。ハードコート層の膜厚は１〜５μｍであることがより好ましい。
ハードコート層の膜厚精度は±１μｍ以内であることが好ましい。
なお、本発明において膜厚の測定は、レーザーフォーカス変位計（キーエンス製、ＬＴ−８０１０）を用いて、任意の大きさ（例えば１ｃｍ２〜１００００ｃｍ２の面内）について、全体から適切に測定点（例えば２５〜１０００点）を選択して測定し、その平均値を膜厚とすることができる。
【００１１】
また、上記光学部品用積層フィルムにおいて、ハードコート層は、主としてシリコン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることが好ましい。
また、上記光学部品用積層フィルムにおいて、ハードコート層が、シリコーン系熱可塑性樹脂を０．２〜１０重量％含むことが好ましい。シリコーン系熱可塑性樹脂量が０．２重量％未満であると表面平滑性や作業性が悪くなる傾向があり、１０重量％を超えると表面平滑性や強靭性が悪くなる傾向がある。
また、上記光学部品用積層フィルムにおいて、光透過層は、主としてアクリル系重合体であるものも好ましい。
また、上記光学部品用積層フィルムにおいて、光透過層の膜厚が３０〜２５０μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が９０％以上であることが好ましい。光透過層の膜厚が３０μｍ未満であると表面平滑性や作業性が悪くなる傾向があり、膜厚が２５０μｍを超えると表面平滑性や４０５ｎｍの光透過率が悪くなる傾向があるからである。また、光透過層の膜厚は４０〜２００μｍであることがより好ましく、５０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【００１２】
光透過層は、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種の受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとを含み、前記ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを混合することにより前記プロトン供与性原子団と前記プロトン受容性原子団との間に分子間水素結合による擬似的な架橋が形成された熱可塑性樹脂から主としてなることが良好な光透過性、耐熱性、柔軟性等を示すので好ましい。
この光透過層は、特性の異なる２種以上のビニル系重合体を混合し、分子内の相互間に擬似的な架橋を形成したビニル系重合体から形成したものであり、擬似的な架橋という表現を使用したが、これは、本発明のビニル系重合体の架橋が、熱分解温度以下の熱や溶剤等により切断され、温度を下げるか、或いは溶剤を除去すると架橋構造が再形成されるためである。上記ビニル系重合体を使用してフィルムを形成することにより、１種のビニル系重合体からフィルムとした場合には得ることができない複数の特性を待たせることが可能となる。例えば、２種のビニル系重合体を混合する場合に、耐熱性が良好であり正複屈折である一方のビニル系重合体と、柔軟性を有し負複屈折である他方のビニル系重合体とを使用して、両者のビニル系重合体を混合して擬似架橋を形成する。擬似架橋を形成することにより、耐熱性及び柔軟性の特性を両立すると共に、正負複屈折を相殺しゼロ複屈折化して低複屈折とし、フィルムに相反する特性を持たせることが可能となる。また、２種以上のビニル系重合体を混合することにより相反する特性を導入することができる。
【００１３】
また、上記発明においてプロトン供与性原子団は、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、フェノール性水酸基、メルカプト基、チオフェノール性メルカプト基、１級アミノ基、２級アミノ基などの官能基を含む群から選ばれた物とすることが好ましく、プロトン受容性原子団は、カルボニル基、スルホニル基、ホスホリル基、シアノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、含窒素複素環基などの官能基を含む群から選ばれた物とすることが好ましい。
さらに、上記発明において、プロトン供与性原子団は、カルボキシル基、水酸基、フェノール性水酸基などの官能基を含む群から選ばれた物とすることが好ましく、プロトン受容性原子団は、２級アミノ基、３級アミノ基、含窒素複素環基などの官能基を含む群から選ばれた物とすることが好ましい。
【００１４】
また、本発明において、粘着層の膜厚は５〜４０μｍ、膜厚精度が±１．０μｍ以内であることが好ましい。粘着層の膜厚が５μｍ未満であると表面平滑性や作業性が悪くなる傾向があり、膜厚が４０μｍを超えると表面平滑性や４０５ｎｍの光透過率が悪くなる傾向があるからである。粘着層の膜厚は１０〜２５μｍであることがより好ましい。
【００１５】
さらに、上記発明において前記光透過層と前記粘着層との屈折率差が、０．１以下であることが好ましく、０．０７以下であることがより好ましい。光透過層と粘着層との屈折率差が０．１を超えると光透過層と粘着層の界面で光散乱がおき、４０５ｎｍの光透過率が悪くなる傾向があるからである。なお、屈折率差は、アッベ屈折計を用い光透過層、粘着層それぞれの屈折率を測定し、その差から求めることができる。
【００１６】
本発明においては、保護層をさらに形成して４層とする。この保護層の膜厚は５μｍ〜２００μｍとすることが好ましい。保護層の膜厚が５μｍ未満であると強靭性や作業性が悪くなる傾向があり、膜厚が２００μｍを超えると表面平滑性が悪くなる傾向があるからである。また、保護層の膜厚は５〜１５０μｍの範囲であることがより好ましい。膜厚精度は±２．０μｍ以内、かつ、粘着層が接する面が離型処理されており、表面平滑性が２０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００１７】
また、光学部品用積層フィルムは、ロール形状に巻き取り形成することで、光学部品用積層フィルム巻層体とすることができる。
【００１８】
本発明の光学部品用積層フィルムは、光ディスクの光透過層用として特に有用である。
また、本発明の光学部品は、上記光学部品用積層フィルムを用いて、保護層をはがして貼り付けることにより行うことができる。光学部品としては、光ディスクが好適なもの、特にブルーレーザー対応の大容量高密度光ディスク用に好適なものとして挙げられる。
本発明の光ディスクは、支持基盤上に記録層、粘着層、光透過層及びハードコート層が順次形成された光ディスクであって、粘着層、光透過層及びハードコート層として、前記光学部品用積層フィルムを用いることを特徴とする光ディスクである。
【００１９】
以下、本発明の光学部品用積層フィルムを使用して光ディスクを構成し、２０ＧＢを超える大容量の高密度ＤＶＤとした例を挙げて説明する。
図１は、高密度ＤＶＤの一部の構造を示す斜視図であり、図２はその断面図である。図１及び図２に示すように、高密度ＤＶＤ１は、支持基盤２上に記録層３を備え、記録層３上に粘着層４を介して光透過層５、ハードコート層６が順次形成される。
ＤＶＤは、４０５nmの短波長レーザー光７をハードコート層６側から照射し、光透過層５を介して記録層３の信号情報を再生または記録するものであり、高密度ＤＶＤ１は、光透過層５を薄肉化している。
【００２０】
本発明の光学部品用積層フィルムは、基本的に、ハードコート層と光透過層と粘着層と保護層との少なくとも４層が積層されたフィルムであり、このフィルムは上記構成の高密度ＤＶＤのハードコート層、光透過層及び粘着層として使用される。
上記高密度ＤＶＤを構成する各層は、例えば、支持基盤２の膜厚を０．９０mm〜１．１５mm、記録層３の膜厚を１０μｍ〜６０μｍ、より好ましくは支持基盤２の膜厚を１．００mm〜１．１０mm、記録層３の膜厚を１５μｍ〜５０μｍとすることが好ましい。なお、粘着層４、光透過層５及びハードコート層は、前述したように、粘着層４の膜厚を５μｍ〜４０μｍとすることが好ましく、光透過層５の膜厚を３０μｍ〜２５０μｍとすることが好ましく、ハードコート層６の膜厚を０．５μｍ〜８μｍとすることが好ましい。
【００２１】
上記高密度ＤＶＤを構成する各層の構成材料について説明する。なお、ハードコート層６、光透過層５及び粘着層４は、本発明の光学部品用積層フィルムを使用したものであり、また、支持基盤２及び記録層３は、従来と同様の材料から形成されるものを適用することができ、例えば、支持基盤２は、ポリカーボネート等のプラスチック基板から構成される。
【００２２】
ハードコート層６は、架橋構造体を使用してフィルムを作製して形成することができる。このような、ハードコート層を形成する方法としては、特に制限はないが、例えば、予め作製した熱可塑性樹脂から主としてなる光透過層５上に硬化触媒を添加したハードコート層６を均一な厚みに塗布し、その後、これを加熱もしくは赤外線照射して硬化させることで積層フィルムを作製し、この積層フィルムを粘着層３を介し、ハードコート層６を外側にして記録層に貼付することで形成できる。
また、ハードコート層を形成する架橋構造体として、例えば、シリコン系架橋構造体、アクリル系架橋構造体等を選択することができる。但し、ここに示した架橋構造体は一例を示したものであり、これらに制限されるものではない。また、上記シリコン系架橋構造体として、具体的には、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、Ｃ１〜Ｃ１２のアルキルトリメトキシシラン、Ｃ１〜Ｃ１２のアルキルトリエトキシシラン、ジ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）トリメトキシシラン、ジ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）トリエトキシシラン、トリ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）トリメトキシシラン、トリ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）トリエトキシシラン、等の加水分解縮合物を用いることができる。尚、これらのシラン化合物は単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。但し、ここに示したシリコン系架橋構造体は一例を示したものであり、これらに制限されるものではない。
【００２３】
また、上記アクリル系架橋構造体として、具体的には、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、オリゴエステル（メタ）アクリレートなどの２以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマー；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１,４-ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１,６-ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡにアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド）が付加した付加体のジ（メタ）アクリレート〔例えば、２,２-ビス〔４-（２-（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル〕プロパン、２,２-ビス〔４‐（２-（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル〕プロパンなど〕などの２官能性（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ホスファゾ基−Ｐ＝Ｎ−と（メタ）アクリロイル基とを有する（メタ）アクリレートなどの多官能性（メタ）アクリレートが含まれる。但し、ここに示したアクリル系架橋構造体は一例であり、これらに制限されるものではない。
【００２４】
また、硬化塗膜の特性を調整するため、単官能性（メタ）アクリレート、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、などのＣ１〜２０アルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、Ｎ,Ｎ―ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの塩基性窒素原子含有(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレートなどのハロゲン含有（メタ）アクリレートなどを併用してもよい。但し、ここに示した単官能性（メタ）アクリレートは一例であり、これらに制限されるものではない。
【００２５】
このようなハードコート層６の材料は、熱重合開始剤（ベンゾイルパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなどの有機化合物など）を含む熱硬化性のものでもよいが、生産性を向上させるため、光重合開始剤を含む光硬化型のものが好ましく、特に紫外線硬化型のものが好ましい。
光重合を開始するために使用する化合物としては、例えば、ベンゾインまたは、その誘導体（ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなど）、ケトン類（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノンやその誘導体（アルコキシアセトフェノンなど）、プロピオフェノンまたは、その誘導体（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノンなど）、ベンゾフェノンまたは、その誘導体（４,４'―ジメトキシベンゾフェノン、４,４'―ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ケトンなど）、ベンジルまたは、その誘導体（ベンジル及びベンジルメチルケタールなど）、チオキサントンまたは、その誘導体（２,４−ジエチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントンなど）などの慣用の光重合開始剤や増感剤を使用することができる。尚、これらの光重合開始剤は単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。熱重合開始剤や光重合開始剤の量は、前記重合性化合物に対して、０．１〜１０重量％程度用いることが好ましい。
【００２６】
また、ハードコート層に添加される硬化触媒としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属水酸化物、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、メチルアミン、エチルアミン、（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、シクロヘキシアミン、モルホリン、トリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、トリエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルジメチルハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルジエチルハイドロオキサイドなどのアミン化合物を用いることができる。特に、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイドなどが好ましい。但し、ここに示した硬化触媒は一例を示したものであり、これらに制限されるものではない。尚、これらの硬化触媒は単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。添加する硬化触媒量は、特に制限されないが、ハードコート層の固形分に対して０．０５重量％〜１０重量％の範囲で適宣選択することができる。
【００２７】
また、加熱による硬化温度は、ハードコート層が硬化できる温度であれば特に制限はないが、一般に６０℃〜１８０℃程度が好ましく、より好ましくは、１２０℃〜１６０℃程度である。
また、上記ハードコート層６を製造する際には触媒を用いるが、その触媒としては、例えば、上記の硬化触媒と同様のアルカリ水酸化物、アミノ化合物、さらには、塩酸、硫酸、硝酸、パラトルエンスルフォン酸、燐酸、フェノールスルフォン酸、ポリリン酸などの酸を用いることができる。但し、ここに示した触媒は一例を示したものであり、これらに制限されるものではない。尚、これらの触媒は単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。
また、本発明におけるハードコート層を製造する際の反応温度には特に制限はないが、２０℃〜１００℃程度が好ましく、２０℃を下回ると、反応速度や生産性が低下する。また、１００℃を超えると、加水分解または縮合により生成するアルコールまたは水が沸騰し気泡を生じるおそれがある。また、反応は、溶液中で行うことが好ましい。用いることのできる溶媒は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノールなどのアルコールを挙げることができる。但し、ここに示した溶媒は一例を示したものであり、これらに制限されるものではない。
また、ハードコート材料は、必要に応じて、炭化水素類、アルコール類、エステル類、ケトン類、エーテル類などの有機溶剤を含む有機溶剤含有塗布剤であっても良い。
また、本発明におけるハードコート層にシリコーン系熱可塑性樹脂を含ませる量として０.２〜１０重量％含ませるのが好ましい。シリコーン系熱可塑性樹脂を含有することにより、ハードコート層表面の滑り性が向上し、耐擦傷性をより向上させることができる。但し、ここに示した架橋構造体は一例を示したものであり、これらに制限されるものではない。
【００２８】
粘着層４は、粘着剤を使用してフィルムを作製して形成することができ、粘着層４を形成する粘着剤として、例えば、アクリル系粘着剤、天然ゴム系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体系粘着剤、シリコーン系粘着剤、エステル系粘着剤等を選択することができる。特に、粘着剤としてアクリル系粘着剤を使用することが好ましい。但し、ここに示した粘着剤は一例を示したものであり、これらに制限されるものではない。
上記粘着層としてフィルムを作製する際、粘着剤を基材に予め塗布したフィルムを使用することができる。粘着剤を塗布するための基材として、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレン系エラストマーフィルム、ポリオレフィン系エラストマーフィルム、ポリエステルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリカーボネートセロハンフィルム、アセテートフィルム、各種フッ素フィルム、ポリイミドフィルム等を選択することができる。但し、ここに示した粘着剤を塗布するための基材は一例であり、これらに制限されるものではない。
また、フィルムに粘着層をラミネート処理する時期は、フィルムを塗工、乾燥した後とすることが特に好ましい。但し、ここに示したフィルムに粘着層をラミネート処理する時期は、一例であり、これらに制限されるものではない。
【００２９】
上記保護層として光透過層の片面に粘着層を、また粘着層を設けた反対側の面にハードコート層を予め形成した３層積層構造のフィルムの粘着層上に保護層を設けることができる。３層積層構造のフィルムの保護層として、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、ステンレス、テフロン（登録商標）フィルム、ポリエステルフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリル樹脂フィルム、エポキシ樹脂フィルム、ノルボルネン系高分子およびこれをブレンドした樹脂等が選択できる。なお、ここに示した保護層は、一例を示したものであり、上述したフィルムに限定されるものではない。
【００３０】
上記方法により得られたフィルムは、強靱かつ柔軟性を有しており、機械特性に優れ、形状を維持することが容易である。
光透過層５は、主として熱可塑性樹脂から形成されたフィルムであり、この熱可塑性樹脂は、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと分子内に少なくとも１種の受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂと、を含むビニル系重合体であると好ましい。このビニル系重合体は、ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂの両者を混合することにより、プロトン供与性原子団とプロトン受容性原子団との間に分子間水素結合による擬似的な架橋が形成されている。
【００３１】
分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａを作製するためのビニル系単量体としては、例えば、アクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルアクリレート、メタクリル酸、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸、２−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイロキシプロピルアクリレート、ビニル安息香酸、安息香酸ビニル及びその誘導体等が挙げられる。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。
【００３２】
また、分子内に少なくとも１種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂを作製するためのビニル系単量体としては、例えば、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−ジエチルメタクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、ビニルピリジン及びその誘導体等が挙げられる。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。
【００３３】
さらに、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとのそれぞれに対して、後述する他のビニル系重合体とを共重合することができる。使用できる単量体としては、得られる共重合体の透明性を損なわない物であれば特に限定されず、具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクタデシル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ナフチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、アクリル酸ノルボルニル、アクリル酸ノルボルニルメチル、アクリル酸シアノノルボルニル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸メンチル、アクリル酸フェンチル、アクリル酸アダマンチル、アクリル酸ジメチルアダマンチル、アクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−８−イル、アクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−４−メチル、アクリル酸シクロデシル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸オクタデシル、メタクリル酸ブトキシエチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ナフチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリメチルシクロヘキシル、メタクリル酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸シアノノルボルニル、メタクリル酸フェニルノルボルニル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸メンチル、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸アダマンチル、メタクリル酸ジメチルアダマンチル、メタクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−８−イル、メタクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−４−メチル、メタクリル酸シクロデシル等のメタクリル酸エステル類、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン、α−クロルスチレン、α−ブロモスチレン、フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メチルスチレン、メトキシスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリル酸カルシウム、アクリル酸バリウム、アクリル酸鉛、アクリル酸すず、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸カルシウム、メタクリル酸バリウム、メタクリル酸鉛、メタクリル酸すず、メタクリル酸亜鉛等の（メタ）アクリル酸金属塩、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和脂肪酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピル��レイミド、Ｎ−ｉ−プロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｉ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（２−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ブロモフェニル）フェニルマレイミド、Ｎ−（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−エチルフェニルマレイミド、Ｎ−（２−メトキシフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ベンジルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，４，６−トリブロモフェニル）マレイミド等が挙げられる。また、これらは１種又は２種以上で使用してもよい。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。
【００３４】
また、本発明において、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種以上のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとを混合する方法は、溶融混練法、ワニスブレンド法等を適用することができ、特に方法は問わない。
また、光透過層用のフィルムを形成する樹脂組成物を製造するための重合方法としては、塊状重合、懸濁重合、乳化重合、溶液重合等の既存の方法を使用することができる。
【００３５】
重合を行う際には、重合開始剤を用いることができる。具体的には、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、１，１−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン−１−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性触媒及び過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組み合わせによるレドックス触媒等、通常のラジカル重合に使用できるものはいずれも使用可能である。
【００３６】
分子量調整剤として、メルカプタン系化合物、チオグリコール、四塩化炭素、α−メチルスチレンダイマー等を必要に応じて添加することもできる。なお、ここに示した分子量調整剤は、一種または二種以上により使用しても良いものであるが、ここに示した分子量調整剤は一例を示したにすぎず、例示した分子量調整剤に制限されるものではない。
【００３７】
重合方法として熱重合を使用する場合には、重合温度は、０〜２００℃の間で適宜選択することができ、より好ましい重合温度は５０〜１２０℃の範囲である。
重合体（光透過層）には、その使用にあたって、劣化防止、熱的安定性、成形性及び加工性などの観点から、フェノール系、ホスファイト系、チオエーテル系などの抗酸化剤、脂肪族アルコール、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、重金属不活性化剤などを添加して使用しても良い。
【００３８】
本発明では、得られた重合体から、溶融混練法や溶媒キャスト法により有機溶媒を揮発させてフィルムを得ることができる。係るキャストの条件は特に限定されるものではないが、例えば、空気中や不活性ガス中において５０℃〜１６０℃の温度条件下で行うことが可能である。また、これら条件を用いて予備乾燥した後、フィルムを剥がし、さらに、これを１６０〜３５０℃の高温で乾燥して乾燥時間を短縮することが可能である。
上記材料を使用して光透過層としてのフィルムを作製する場合には、基材層を選択すると良い。基材層としては、具体的に、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、ステンレス、テフロン（登録商標）フィルム、ポリエステルフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリル樹脂フィルム、エポキシ樹脂フィルム、ノルボルネン系高分子およびこれをブレンドした樹脂等が選択でき、特に、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルムを使用するのが好ましく、より好ましくはＰＥＴフィルムを使用すると良い。なお、ここに示した基材層は、一例を示したものであり、基材層は表面平滑性が良好であれば良く、上述したフィルムに限定されるものではない。
【実施例】
【００３９】
以下に示す実施例１及び比較例１及び比較例２により、光学部品用積層フィルムを作製し、その特性評価を行った。
実施例は、光透過層の片面にハードコート層を、またハードコート層を設けた反対側の面に粘着層を予め形成した３層積層構造のフィルムの粘着層上に保護層を設け４層積層構造を製造した例である。
【００４０】
（実施例１）
本実施例では、光透過層として、ポリマＡとポリマＢとを混合した溶液を使用して混合溶液を使用して基材層のフィルム上に光透過層用のフィルムを作製し、粘着層上に保護層を設け、保護層を剥がした、基材層用フィルムと光透過層用のフィルムと粘着層用のフィルムから３層積層フィルムに形成した。
【００４１】
（ポリマＡ）  耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、アクリル酸ブチル（ＢＡ、和光純薬（株）製）９９４ｇ、アクリル酸（ＡＡ、和光純薬（株）製）８６ｇ、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ、トクヤマ（株）製）１６０ｇを秤取した。その後、室温（２５℃）にて窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド（ＬＰＯ、日本油脂（株）製）０．７２ｇ、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサネート（ＰＢＯ、日本油脂（株）製）０．２４ｇ、分子量調整剤としてα−メチルスチレンダイマー０．０５４ｇをアセトン４０ｇに溶解して、室温にて窒素ガスを約１０分間通し、溶存酸素を置換した混合溶液を添加した。その後、オートクレーブ内を加圧・密閉にして、６０℃まで昇温し、同温度で約２０時間保持した後、９０℃まで昇温した。その後同温度で約１０時間保持して高分子溶液を得た。得られた高分子溶液の重合率は９７％以上であった。
【００４２】
（ポリマＢ）  耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ、旭化成（株）製）８１０ｇ、メタクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ、日立化成（株）製）２０５ｇ、アクリル酸ブチル（ＢＡ）３２ｇ、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート（ＦＡ７１２ＨＭ、日立化成（株）製）３２ｇを秤取した。その後、室温にて窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ、和光純薬（株）製）２．８８ｇ、アゾビスシクロヘキサノン−１−カルボニトリル（ＡＣＨＮ、和光純薬（株）製）０．９６ｇをアセトン４０ｇに溶解して、室温にて窒素ガスを約１０分間通し、溶存酸素を置換した混合溶液を添加した。その後、オートクレーブ内を加圧・密閉にして６０℃まで昇温し、同温度を約２０時間保持した。さらに、９０℃まで昇温した後、同温度で約１０時間保持し、高分子溶液を得た。得られた高分子溶液の重合率は９７％以上であった。
得られたポリマＡワニスとポリマＢワニスを１：９の固形分の重量比率で混合して混合溶液を得た。
【００４３】
＜３層積層フィルム及び、４層積層フィルムの作製＞
上記ポリマＡ及びポリマＢの混合溶液を使用し、ヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、コスモシャインＡ−４１００（東洋紡（株））の基材層上に塗工し、乾燥した後、再度、ヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、光透過層上に塗工し、乾燥した。その後、基材層を剥がし、ハードコート層を設けた反対側の面にダブルタックテープ＃５５１１（積水化学工業（株））の粘着層を用いてラミネートした後、ヒタレックスＬ−８１１０（日立化成（株））の保護層をラミネートし４層積層フィルムとした。また、保護層を剥がし、これを３層積層状態の特性評価の試料とした。この時の４層積層フィルムの厚さは１５０μｍであり、３層積層フィルムの４０５ｎｍの光透過率は、８８．５％であった。また、光透過層の単独のフィルムにおける波長４０５ｎｍの光透過率は９１．８％であった。ハードコート層の膜厚精度は±１．０μｍ以下、保護層の膜厚精度は±２．０μｍ以下であった。その他の表１に各特性を纏めて示した。なお、保護層の表面平滑性は３層積層フィルムの形状欄に記載されるものと同値である（以下同様）。
【００４４】
（実施例２）
本実施例では、４層積層フィルムの膜厚を変えたものであり、基本的には実施例１と同様の手順を用いてサンプルを作製した。
＜３層積層フィルム及び、４層積層フィルムの作製＞
上述した実施例１のポリマＡとポリマＢの混合溶液を使用し、ヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、コスモシャインＡ−４１００（東洋紡（株））の基材層上に塗工し、乾燥した後、再度、ヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、光透過層上に塗工し、乾燥した。その後、基材層を剥がし、ハードコート層を設けた反対側の面にダブルタックテープ＃５５１１（積水化学工業（株））の粘着層を用いてラミネートした後、ヒタレックスＬ−８１１０（日立化成（株））の保護層をラミネートし、４層積層フィルムとした。また、保護層を剥がし、これを３層積層状態の特性評価の試料とした。
作製した４層積層フィルムの膜厚は１０２μｍであり、３層積層フィルムの４０５ｎｍにおける光透過率は８９．２％であった。また、光透過層のフィルム単独の波長４０５ｎｍにおける光透過率は９２．５％であった。ハードコート層の膜厚精度は±１．０μｍ以下、保護層の膜厚精度は±２．０μｍ以下であった。その他の表１に各特性を纏めて示した。
【００４５】
（比較例１）
本比較例では、３層積層状態の膜厚を本発明の範囲よりも厚くしたものであり、基本的には実施例１と同様の手順を用いてサンプルを作製した。
作製した４層積層フィルムの膜厚は５００μｍであり、３層積層フィルムの４０５ｎｍにおける光透過率は８１．５％であった。また、光透過層のフィルム単独の波長４０５ｎｍにおける光透過率は８８．３％であった。
【００４６】
（比較例２）
本比較例では、３層積層状態の膜厚精度を本発明より低下させものであり、基本的には実施例１と同様の手順を用いてサンプルを作製した。
作製した４層積層フィルムの膜厚は１００．３μｍであり、３層積層フィルムの４０５ｎｍにおける光透過率は８９．０％であった。また、光透過層のフィルム単独の波長４０５ｎｍにおける光透過率は９２．２％であった。
【００４７】
（比較例３）
本比較例では、３層積層状態の膜厚精度を本発明より低下し、さらに光透過率も悪いものであり、基本的には実施例１と同様の手順を用いてサンプルを作製した。
作製した４層積層フィルムの膜厚は１１２μｍであり、３層積層フィルムの４０５ｎｍにおける光透過率は８５．７％であった。また、光透過層のフィルム単独の波長４０５ｎｍにおける光透過率は８８．５％であった。
【００４８】
上記実施例１、実施例２および比較例１〜３により作製された試料について、以下に示す測定方法を用いて各種の特性を評価し、評価結果を表１に示した。
［４０５ｎｍの光透過率］
光透過層の光透過率は、ＪＡＳＣＯ社製Ｖ−５７０の分光光度計を用いて測定し、測定条件は、室温（２５℃）で波長４０５ｎｍの領域とした。
【００４９】
［膜厚（μｍ）、膜厚精度（μｍ）］
膜厚は、レーザーフォーカス変位計（キーエンス製、ＬＴ−８１００）を使用し、サイズ１２ｃｍ×１２ｃｍの正方形フィルムについて測定した。
正方形フィルムの４つの辺を、それぞれ直線Ａ、直線Ｂ、直線Ｃ、直線Ｄとし、直線Ａに対向する辺を直線Ｃとし、直線Ｂに対向する辺を直線Ｄとした。直線Ａから直線Ｃに向かって３ｃｍの間隔を空けた３本の平行直線を各々直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３とし、これら３本の平行直線（直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３）と、直線Ａと、直線Ｃとの合計５本について、以下の手順により直線上の各点におけるフィルムの膜厚を測定した。まず、直線Ａの一端部から正方形内側の１ｃｍの点を基準点とし、基準点から直線Ａの他端部に向かい１ｍｍの間隔を空けた各点について、他端部から正方形内側１ｃｍの点までの長さ１０ｃｍに亘る合計１０１個の各点についてフィルムの膜厚を測定した。次に、直線Ａと同様の方法を用いて、直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３及び直線Ｃについての各点の膜厚を測定し、５本の直線について合計５０５個の各点の膜厚を測定した。さらに、前述した直線Ａから直線Ｃまでの各直線と同様に、直線Ｂから直線Ｄに向かう５本の直線（直線Ｂ、直線Ｂ１、直線Ｂ２、直線Ｂ３、直線Ｄ）の合計５０５個の各点について膜厚を測定した。最後に、前述した方法により測定された正方形フィルム内の総計１０１０個についての膜厚の平均値をフィルムの膜厚とした。
また、膜厚の最大値から平均膜厚を差し引いた値、及び平均膜厚から膜厚の最小値を差し引いた値を各々算出し、算出した値のうち大きい値を膜厚精度とした。
【００５０】
[表面平滑性（ｎｍ）]
表面平滑性は、幅１５μｍにおける凹凸を測定した。なお、測定には、ＳＥＩＫＯ  ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴ社製、ＡＦＭを使用した。幅１５μｍにおける凹凸を求めた点は、１２ｃｍ×１２ｃｍの正方形であるフィルムの中央部の点と、四辺の各中央部から１ｃｍ内側の点とについて合計５点を測定し、最も大きい凹凸の大きさを表面平滑性とした。
［ハードコートの鉛筆硬度］
ハードコート層の鉛筆硬度をＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠して測定した。
［ガラス転移温度（Ｔｇ）］
ＤＶＡで測定した。測定装置として、（株）ユービーエム製レオスペクトラーＤＶＥ−Ｖ４を使用した。測定条件は、昇温速度３．０℃／ｍｉｎ、周波数１０．０ｈｚとして引張り弾性率を測定し、得られたデータのうちｔａｎδのピークトップをガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
［光透過層と粘着層との屈折率差］
アッベ屈折計を用いて、光透過層と粘着層それぞれ単独で測定した。測定装置として、アタゴ（株）製アッベ屈折計を使用した。
【００５１】
【表１】
2006192591.tif 000003
【００５２】
本発明の光透過層片面にハードコート層を、またハードコート層を設けた反対側の面に粘着層を形成した３層積層構造のフィルムを規定の特性を満たすように形成し、この３層積層フィルムの粘着層上に保護層を設けた４層積層フィルムとすることにより、良好な特性を維持したまま、フィルム表面上に欠点や異物をなくすことができ、また、予め光透過層、ハードコート層及び、粘着層を積層した３層積層フィルムを含む形態としたため、各層のフィルムを貼り付ける工程数を減らすことができ、その結果、光学特性及び表面平滑性が良好であるだけでなく、製造時の作業性をも改善できる。比較例１〜３の場合、３層積層フィルムの膜厚精度が±２．０μｍ以内になく、また比較例１、３の場合、光透過率が８７％以上になく、さらに比較例３では、鉛筆硬度が３Ｈ以上になく、本願発明の効果の全部を発揮しない。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施形態における、高密度ＤＶＤの一部の構造を示す斜視図。
【図２】図１に示した高密度ＤＶＤの一部の構造を示す断面図。
【図３】従来例における、ＤＶＤの構造を概略的に説明するためにＤＶＤの一部を拡大した斜視図。
【図４】図３に示したＤＶＤの断面図。
【符号の説明】
【００５４】
１  高密度ＤＶＤ
２  支持基盤
３  記録層
４  粘着層
５  光透過層
６  ハードコート層
７  レーザー光
１０  ＤＶＤ
１１  支持基盤
１２  記録層
１３  光透過層
１４  ビット
１５  レーザー光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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