(57)【要約】      （修正有）【課題】    高性能な導波路を低廉なコストで提供できる技術を提供することである。更に詳しく言うならば、光信号が伝搬するコア層となるフォトブリーチングポリマ層を、高精度で、かつ、低廉なコストで構成できる技術を提供することである。【解決手段】    光伝搬部（屈折率ｎｐ）が構成された導波路の製造方法であって、  ノズルから屈折率がｎｐとなる材の溶液を屈折率ｎｃ１（ｎｐ＞ｎｃ１）の材上に吹き付けることによって、前記光伝搬部のパターンの塗膜を形成する塗膜形成工程と、  前記塗膜形成工程の後、前記光伝搬部のパターンの塗膜の上に屈折率がｎｃ２（ｎｐ＞ｎｃ２）の材を設ける被覆工程とを具備する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光伝搬部（屈折率ｎｐ）が構成されてなる導波路の製造方法であって、
ノズルから屈折率がｎｐとなる材の溶液を屈折率ｎｃ１（ｎｐ＞ｎｃ１）の材上に吹き付けることによって、前記光伝搬部のパターンの塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜形成工程の後、前記光伝搬部のパターンの塗膜の上に屈折率がｎｃ２（ｎｐ＞ｎｃ２）の材を設ける被覆工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法。
【請求項２】
光伝搬部（屈折率ｎｐ）が構成されてなる導波路の製造方法であって、
ノズルから屈折率がｎｐとなるフォトブリーチングポリマ溶液を屈折率ｎｃ１（ｎｐ＞ｎｃ１）の材上に吹き付けることによって、前記光伝搬部のパターンの塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜形成工程の後、前記光伝搬部のパターンの塗膜の上に屈折率がｎｃ２（ｎｐ＞ｎｃ２）の材を設ける被覆工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法。
【請求項３】
塗膜形成工程の後、形成された光伝搬部のパターンの塗膜を硬化させる塗膜硬化工程を有することを特徴とする請求項１又は請求項２の導波路の製造方法。
【請求項４】
塗膜形成工程の後、形成された光伝搬部のパターンのフォトブリーチングポリマ塗膜に対して特定パターンのフォトマスクを介して光を照射し、該塗膜における屈折率ｎｐ部のパターン幅を補正するパターン幅補正工程を有することを特徴とする請求項２又は請求項３の導波路の製造方法。
【請求項５】
塗膜形成工程においては、光伝搬部の幅よりも幅広な幅となるようフォトブリーチングポリマ溶液が吹付けられて光伝搬部のパターンの塗膜が形成されるものであり、
該塗膜形成工程の後、形成された光伝搬部のパターンのフォトブリーチングポリマ塗膜に対して特定パターンのフォトマスクを介して光を照射し、該塗膜における屈折率ｎｐ部のパターン幅を補正するパターン幅補正工程を有することを特徴とする請求項２又は請求項３の導波路の製造方法。
【請求項６】
塗膜形成工程におけるノズルからの吹付量を制御することによって塗膜の厚さを制御する制御工程を有することを特徴とする請求項１〜請求項５いずれかの導波路の製造方法。
【請求項７】
塗膜形成工程におけるノズルからの吹付量を制御することによって塗膜の厚さを位置によって異なるように制御する制御工程を有することを特徴とする請求項１〜請求項６いずれかの導波路の製造方法。
【請求項８】
塗膜形成工程は、光伝搬部のパターンに従ってノズルを移動させるノズル移動工程を有することを特徴とする請求項１〜請求項７いずれかの導波路の製造方法。
【請求項９】
塗膜形成工程は、光伝搬部のパターンに従って吹付けられる屈折率ｎｃ１の材側を移動させるベース側移動工程を有することを特徴とする請求項１〜請求項８いずれかの導波路の製造方法。
【請求項１０】
被覆工程は、屈折率がｎｃ２となるポリマの溶液がノズルから吹付けられることにより行なわれることを特徴とする請求項１〜請求項９いずれかの導波路の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜請求項１０いずれかの導波路の製造方法によって得られてなる導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、極めて簡単、かつ、低廉なコストで導波路を製造できる技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトブリーチングポリマを用いた導波路は、例えば図３に示される方法により製造される。
【０００３】
すなわち、図３（ａ）に示される通り、基板１０上に低屈折率ｎｂの下部クラッド層１１を設ける。この下部クラッド層１１の上に、フォトブリーチングポリマ層１２を設ける。尚、フォトブリーチングポリマ層１２は、スピンコーテイング手段によりフォトブリーチングポリマ溶液が塗布されることで得られている。この後、フォトブリーチングポリマの塗膜１２を加熱することにより硬化させ、フォトブリーチングポリマ層１２を構成している。
【０００４】
次に、図３（ｂ）に示される如く、フォトブリーチングポリマ層１２の上にフォトマスク１４を配置する。そして、フォトマスク１４の上から紫外線を照射する。ここで、フォトマスク１４は、紫外線を透過させない領域１４ａと、紫外線を透過させる領域１４ｂとを有する。そして、フォトブリーチングポリマ層１２における紫外線が照射されなかった領域（領域１４ａに対応する領域）は、屈折率に変化が無いものの、フォトブリーチングポリマ層１２における紫外線が照射された領域（領域１４ｂに対応する領域）は、屈折率がｎｐからｎｓに低下したものとなる。すなわち、図３（ｃ）に示される如く、領域１４ａに対応したフォトブリーチングポリマ層は、光信号が伝搬するコア層（屈折率ｎｐ）１２ａとなり、領域１４ｂに対応したフォトブリーチングポリマ層は、側面クラッド層（屈折率ｎｓ）１２ｂとなる。
【０００５】
この後、図３（ｄ）に示される如く、コア層１２ａ及び側面クラッド層１２ｂの上に、低屈折率ｎｂの上部クラッド層１３を設ける。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記のような製造方法には次のような問題点の有ることが判って来た。
【０００７】
（１）  フォトブリーチングポリマ層１２は、スピンコーテイング手段によって設けられている。すなわち、高速回転している基板の上からフォトブリーチングポリマ溶液を滴下することによって、フォトブリーチングポリマ層１２が設けられている。
しかしながら、この手法では、滴下されたポリマ溶液の８０％以上が弾き飛ばされてしまう。すなわち、大量のフォトブリーチングポリマ溶液が捨てられることになる。つまり、高価なフォトブリーチングポリマを無駄にすることになる。
従って、コストが高く付いている。
【０００８】
（２）  高性能な導波路を得る為には、フォトブリーチングポリマ溶液を基板表面に均一に塗布しなければならない。その為には、基板を高速で、かつ、均一に回転させなければならない。
しかしながら、高速で回転させればさせる程、フォトブリーチングポリマ溶液を無駄にする量が増す。
従って、コストが益々高く付く。
【０００９】
（３）  膜厚が数十μｍのマルチモード導波路を実現しようとすると、フォトブリーチングポリマ溶液の粘性を高くしなければならない。
しかしながら、このことは、逆に、形成されたフォトブリーチングポリマ層１２の膜厚の均一性を悪くする。
又、粘性を高くすると、フォトブリーチングポリマ溶液の濾過が大変である。かつ、フォトブリーチングポリマを均一に溶解させることも難しい。更には、不純物の少ないフォトブリーチングポリマ溶液を大量生産することも難しい。
【００１０】
又、上記のような問題を避ける為に、塗布を繰り返して行うことが考えられる。しかしながら、繰り返して塗布を行うと、その分だけフォトブリーチングポリマ溶液が大量に必要になる。この為、無駄にするフォトブリーチングポリマ溶液が多く要り、コストが高く付く。更には、フォトブリーチングポリマ層の膜厚を精度良く構成することが難しい。
【００１１】
従って、本発明が解決しようとする課題は、高性能な導波路を低廉なコストで提供できる技術を提供することである。更に詳しく言うならば、光が伝搬するコア層となるフォトブリーチングポリマ層を、高精度で、かつ、低廉なコストで構成できる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記の課題は、光伝搬部（屈折率ｎｐ）が構成されてなる導波路の製造方法であって、
ノズルから屈折率がｎｐとなる材の溶液を屈折率ｎｃ１（ｎｐ＞ｎｃ１）の材上に吹き付けることによって、前記光伝搬部のパターンの塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜形成工程の後、前記光伝搬部のパターンの塗膜の上に屈折率がｎｃ２（ｎｐ＞ｎｃ２）の材を設ける被覆工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法によって解決される。
【００１３】
特に、光伝搬部（屈折率ｎｐ）が構成されてなる導波路の製造方法であって、
ノズルから屈折率がｎｐとなるフォトブリーチングポリマ溶液を屈折率ｎｃ１（ｎｐ＞ｎｃ１）の材上に吹き付けることによって、前記光伝搬部のパターンの塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜形成工程の後、前記光伝搬部のパターンの塗膜の上に屈折率がｎｃ２（ｎｐ＞ｎｃ２）の材を設ける被覆工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法によって解決される。
【００１４】
本発明は、好ましくは、次の工程を有する。
（Ａ）  塗膜形成工程の後、形成された光伝搬部のパターンの塗膜を硬化させる塗膜硬化工程を有する。
【００１５】
（Ｂ）  塗膜形成工程の後、形成された光伝搬部のパターンのフォトブリーチングポリマ塗膜に対して特定パターンのフォトマスクを介して光を照射し、該塗膜における屈折率ｎｐ部のパターン幅を補正するパターン幅補正工程を有する。
特に、塗膜形成工程においては、光伝搬部の幅よりも幅広な幅となるようフォトブリーチングポリマ溶液が吹付けられて光伝搬部のパターンの塗膜が形成されるものであり、
該塗膜形成工程の後、形成された光伝搬部のパターンのフォトブリーチングポリマ塗膜に対して特定パターンのフォトマスクを介して光を照射し、該塗膜における屈折率ｎｐ部のパターン幅を補正するパターン幅補正工程を有する。
【００１６】
（Ｃ）  ノズルからの吹付量を制御することによって塗膜の厚さを制御する制御工程を有する。
【００１７】
（Ｄ）  ノズルからの吹付量を制御することによって塗膜の厚さを位置によって異なるように制御する制御工程を有する。
【００１８】
（Ｅ）  光伝搬部のパターンに従ってノズルを移動させるノズル移動工程を有する。
【００１９】
（Ｆ）  光伝搬部のパターンに従って吹付けられる屈折率ｎｃ１の材側を移動させるベース側移動工程を有する。
【００２０】
そして、本発明にあっては、被覆工程は、特に、屈折率がｎｃ２となるポリマの溶液がノズルから吹付けられることにより行なわれる。
【００２１】
又、前記の課題は、上記の導波路の製造方法によって得られてなる導波路によって解決される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明にあっては、光が伝搬するコア部を、例えばインクジェットプリンタに用いられているようなノズルを用いて構成するようにした。
従って、スピンコート法を用いてコア部を形成する場合に比べて、高価なコア材料の無駄が大幅に少なくなる。すなわち、導波路が極めて低廉なコストで得られるようになる。
【００２３】
更に、コア部が高精度で構成できる。すなわち、ノズルから吹付ける溶液の粘度や吹付量を規定値のものに設定することによって、コア部の厚みを所定のものに出来る。すなわち、コア部の寸法を高精度で構成できる。このことは、高品質な導波路が極めて低廉なコストで得られることを意味する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明になる導波路の製造方法は、光伝搬部（コア部：屈折率ｎｐ）が構成された導波路の製造方法である。
本発明は（１），（２）の工程を有する。
（１）  ノズルから屈折率がｎｐとなる材の溶液を屈折率ｎｃ１（ｎｐ＞ｎｃ１）の材上に吹き付けることによって、前記光伝搬部（コア部）のパターンの塗膜を形成する塗膜形成工程。
特に、ノズルから屈折率がｎｐとなるフォトブリーチングポリマ溶液を屈折率ｎｃ１（ｎｐ＞ｎｃ１）の材上に吹き付けることによって、前記光伝搬部（コア部）のパターンの塗膜を形成する塗膜形成工程。
（２）  前記塗膜形成工程の後、前記光伝搬部のパターンの塗膜の上に屈折率がｎｃ２（ｎｐ＞ｎｃ２。ｎｃ２とｎｃ１とは同一でも異なっていても良い。）の材を設ける被覆工程。
【００２５】
これによって、次の効果が期待できる。すなわち、寸法精度が高いマルチモード及びシングルモード用ポリマ導波路が得られる。この際、ポリマ溶液は、ノズルから、光伝搬層をカバーする狭い範囲にのみ吐出されるから、無駄にするポリマ溶液は極めて少ないものとなる。
【００２６】
そして、高屈折率部や低屈折率部がポリマによって構成された場合、ポリマが一般的にはフレキシブルであることから、導波路に対する制約が少なくなる。
【００２７】
上記被覆工程は、例えばポリマ（屈折率ｎｃ２）溶液をノズルから吹付ける工程でも良い。
又、ポリマ溶液としては、予め、紫外線を照射することにより、屈折率が低下したフォトブリーチングポリマ溶液を用いることも出来る。
【００２８】
本発明は、好ましくは、更に、次の工程を有する。
（Ａ）  塗膜形成工程の後、形成された光伝搬部のパターンの塗膜を硬化させる塗膜硬化工程。
この硬化は、例えば加熱によって行なわれる。
【００２９】
（Ｂ）  塗膜形成工程の後、形成された光伝搬部（コア部）のパターンのフォトブリーチングポリマ塗膜に対して特定パターンのフォトマスクを介して光（例えば、紫外線）を照射し、該塗膜における屈折率ｎｐ部のパターン幅を補正するパターン幅補正工程。
特に、塗膜形成工程においては、光伝搬部の幅よりも幅広な幅となるようフォトブリーチングポリマ溶液が吹付けられて光伝搬部のパターンの塗膜が形成されるものであり、
該塗膜形成工程の後、形成された光伝搬部（コア部）のパターンのフォトブリーチングポリマ塗膜に対して特定パターンのフォトマスクを介して光（例えば、紫外線）を照射し、該塗膜における屈折率ｎｐ部のパターン幅を補正するパターン幅補正工程。
【００３０】
フォトマスクは、例えばインクジェットプリンタを用いて簡単に作製できる。尚、フォトマスク作製に用いたパターン情報を、後述のノズルの移動制御に利用できる。従って、極めて好都合である。
【００３１】
そして、上記のような屈折率がｎｐの塗膜の幅寸法を補正することによって、コア部の寸法精度を極めて高いものと出来る。かつ、その手段も極めて簡単である。
すなわち、ポリマ溶液を規定値よりも多少幅広く塗布しておくことにより、コア部が間違いなく構成される。しかしながら、多少幅広く塗布することによって形成された塗膜そのものをコア部としたならば、コア部には寸法精度に多少の狂いが起きる。そこで、塗膜に紫外線を照射し、余計な部分の屈折率を低下させることにより、高精度なコア部が構成される。かつ、無駄になるポリマ溶液も少ないものとなる。
【００３２】
光照射と言うパターン幅補正工程は、コア部となる塗膜が設けられ、この塗膜の上に低屈折率の塗膜が設けられた後に行うことも出来る。勿論、コア部となる塗膜が設けられた直後であっても良い。
【００３３】
（Ｃ）  塗膜形成工程におけるノズルからの吹付量を制御することによって塗膜の厚さを制御する制御工程。
これによって、シングルモードやマルチモードの導波路が簡単に得られる。特に、従来の手法では難しかったマルチモードの導波路も簡単に得られる。
【００３４】
（Ｄ）  塗膜形成工程におけるノズルからの吹付量を制御することによって塗膜の厚さを位置によって異なるように制御する制御工程。
これによって、導波路（光回路）の中にレンズ部が簡単に構成できる。すなわち、光の集光、拡大、スポットサイズ変換機能などを簡単に持たせることが出来る。
これに対して、スピンコーテイング法を用いた手法では、レンズ部の構成は非常に大変である。
【００３５】
（Ｅ）  塗膜形成工程にあっては、光伝搬部のパターンに従ってノズルを移動させるノズル移動工程。
すなわち、光伝搬部（コア部）のパターンをコンピュータに記憶させておき、この情報に基づいてノズルの移動を制御することによって、前記パターンの塗膜を簡単に構成できる。
この時、予め、ベース（基板）側に少なくとも二つの基準となる目印を設けておき、この目印を基にしてノズルの移動を制御し、所定パターンの塗膜を設けるようにしておくと好都合である。例えば、複数の導波路（光回路）を形成し、それらの光回路を接続してモノリシック集積型光回路を形成する場合、或いは導波路化した個々の導波路チップを切断して研磨する際などの基準位置情報として利用できる。
【００３６】
（Ｆ）  塗膜形成工程にあっては、光伝搬部のパターンに従って吹付けられる屈折率ｎｃ１の材（基板）側を移動させるベース側移動工程。
上記（Ｅ）では、ノズル側の移動を制御するものであるが、逆に、ベース（基板）側を移動させるようにしても良い。この場合には、通常、ノズルは固定されることになる。勿論、（Ｅ）と（Ｆ）とが併用されても良い。例えば、パターンにおける変動が少ない箇所（例えば、パターンの直線状部分）では（Ｆ）の技術により、そして変動が急激な箇所（例えば、パターンの曲線状部分）では（Ｅ）の技術により行なわれるようにしても良い。但し、ベース側の移動を制御するよりも、ノズルの移動を制御する方が容易である。
【００３７】
又、前記の課題は、上記の導波路の製造方法によって得られてなる導波路によって解決される。
【００３８】
以下、更に具体的な実施例を挙げて説明する。
【００３９】
図１は本発明の実施により得られた導波路の平面図、図２は図１のＡ−Ａ線断面図である。尚、この導波路はＹ型分岐導波路である。そして、矢印６−１側から入射した光は、矢印６−２及び６−３の側に等しく分配される。
【００４０】
各図中、１は基板である。基板１の材質は、例えば石英系ガラス、多成分系ガラス、ＳｉやＧａＡｓ等の半導体、セラミックスのような磁性体、ＬｉＮｂＯ３やＬｉＴａＯ５のような強誘電体である。又、ポリカーボネートやエポキシなどの樹脂を用いることも出来る。尚、基板１として樹脂材が用いられた場合には、導波路がフレキシブルなものとなる。
【００４１】
基板１の上に、全面的に、屈折率ｎｃ１の低屈折率層２が設けられる。尚、低屈折率層２は、全面的に設けられることから、従来からの手法を用いても良い。勿論、全面的に設けなくとも良いから、後述する本発明の手法を用いても良い。
【００４２】
低屈折率層２の上に、所定のパターン（目的とする導波路のパターンと略同じパターン）で、パターン幅が多少広めの高屈折率ｎｐ（ｎｐ＞ｎｃ１）のフォトブリーチングポリマ層３が設けられる。尚、このフォトブリーチングポリマ層３は、ノズルからの吹付けによって構成されるから、一般的には、その断面が略円弧形状である。フォトブリーチングポリマとしては、例えばポリシラン、ポリシランにシリコーンを添加した材料などが用いられる。
【００４３】
すなわち、フォトブリーチングポリマ溶液を吐出するノズルを、コンピュータに記憶させている所定のパターン形状の導波路（光回路）ソフトで制御して移動させる。これに伴って、基板1上の低屈折率ｎｃ１の層２上に、所定量のフォトブリーチングポリマ溶液を吐出させる。これによって、図１，２に示される如きの所定パターンのフォトブリーチングポリマの塗膜３が構成される。
【００４４】
尚、フォトブリーチングポリマ溶液の粘度とノズルから吐出させるポリマ溶液の量が決められると、塗膜３の厚みや幅が決まる。
【００４５】
ここで、ノズルとしては、例えばインクジェットプリンタに採用されている細径ノズルを用いることが出来る。このようなノズルを用いると、１０ピコリットル程度のポリマ溶液を吐出することが可能である。従って、幅が１０μｍ以下の導波路を作製できる。すなわち、シングルモード導波路を実現できる。又、当然のことながら、パターン幅が数１０μｍのマルチモード導波路も実現できる。
そして、この時、ポリマ溶液を殆ど無駄にしない。
又、ノズルを１００〜１０００ｍｍ／ｓの高速で移動させることが出来、塗膜３の成膜が短時間で出来る。
【００４６】
尚、図１中、５−１，５−２，５−３，５−４で示される＋マークは、基板１に刻印された位置情報を示すマーカーである。そして、これらのマーカーを基準位置にして、コンピュータに記憶されている所望パターンの導波路（光回路）ソフトでノズルの移動を制御する。
【００４７】
この後、加熱処理を行い、フォトブリーチングポリマ塗膜３を硬化させる。この段階では、フォトブリーチングポリマ塗膜３の屈折率は高屈折率ｎｐである。
【００４８】
次いで、フォトブリーチングポリマ塗膜３の露出面部を、低屈折率ｎｃ２（ｎｐ＞ｎｃ２）の層４で全面的に被覆する。尚、この被覆工程も、前工程と同様に、ノズルを用いて行なうことが出来る。本実施例にあっては、ノズルを用いて設けられたことから、図１，２に示される如く、塗膜３と低屈折率層４とは同軸的である。低屈折率層４は、フォトブリーチングポリマを用いることが出来る。この場合には、ノズルからの吐出に前もって紫外線を照射しておき、屈折率を小さなものとしておく。勿論、通常のポリマを用いることも出来る。又、ＳｉＯ２やＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３の如きのガラス材料を用いることも出来る。
【００４９】
この後、マーカー５−１，５−２，５−３，５−４を基準にして、低屈折率層４の上に所定パターン（導波路と同じパターン）のマスクを配置する。そして、紫外線照射を行なう。これによって、多少幅広く塗布されていたフォトブリーチングポリマ層３における高屈折率ｎｐの領域が高精度なものになる。すなわち、紫外線が照射されることによって、フォトブリーチングポリマ層３の両側端部（紫外線照射領域部）は低屈折率なものとなる。つまり、ノズルから吐出されて形成されたフォトブリーチングポリマ層３の幅を導波路の幅と同じにしていた場合、多少の狂いが出来た場合に、その製品は不良品になってしまう。又、塗布に際しての位置ズレを考慮する必要もある。更には、塗布した際の溶液のタレも考慮されなければならない。このような観点から、塗布されるべきフォトブリーチングポリマ層３の幅を導波路の幅より多少広めとすることが賢明である。導波路の幅がＸであれば、塗布されるべきフォトブリーチングポリマ層３の幅が、例えば１．１Ｘ以上（好ましくは、２Ｘ以下）程度のものとなるようにノズルから吐出されるポリマ溶液の量を制御することが好ましい。従って、多少幅広に形成された高屈折率ｎｐのフォトブリーチングポリマ層３の幅を紫外線照射して補正することが賢明である。
【００５０】
フォトブリーチングポリマは、紫外線照射により、屈折率が数％程度小さくなる。例えば、２５０℃に加熱されたポリシラン膜は、屈折率が１．６１０（波長６３３ｎｍ）である。３００℃に加熱されたポリシラン膜は、屈折率が１．５８２である。３６０℃に加熱されたポリシラン膜は、屈折率が１．５６７である。これに対して、２５０℃に加熱されたポリシラン膜に対して紫外線照射が行なわれると、このポリシラン膜の屈折率は１．５３７（波長６３３ｎｍ）となる。３００℃に加熱されたポリシラン膜に対して紫外線照射が行なわれると、このポリシラン膜の屈折率は１．５３６となる。３６０℃に加熱されたポリシラン膜に対して紫外線照射が行なわれると、このポリシラン膜の屈折率は１．５５０となる。
【００５１】
尚、上記にあっては、ノズルを移動させるようにした。しかしながら、低屈折率層２が設けられた基板１をＸ−Ｙステージ上にセットし、コンピュータの出力信号に基づいてＸ−Ｙステージを移動制御するようにしても良い。
【００５２】
又、導波路のパターンに応じて、シングルモード用、又はマルチモード用のフォトマスクを適宜用いる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施により得られた導波路の平面図
【図２】本発明の実施により得られた導波路の断面図
【図３】従来の導波路の製造工程図
【符号の説明】
【００５４】
１          基板
２          低屈折率層
３          フォトブリーチングポリマ層（塗膜）
４          低屈折率層
代  理  人  宇      高      克      己
【図１】
2006285030.tif 000002
【図２】
2006285030.tif 000003
【図３】
2006285030.tif 000004