(57)【要約】【課題】  簡易な構成で、表示品位のみならず、視野角特性が著しく改善されたＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型液晶表示装置を提供する。【解決手段】  少なくとも、第１偏光膜と、第１位相領域と、第２位相領域と、液晶層を一対の基板で挟んだ液晶セルと、第２偏光膜とを含み、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、第１位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈが−１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、第１位相差領域のレターデーションＲｅが５０ｎｍ以下であり、第２位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、第２位相差領域のレターデーションＲｅが５０ｎｍ〜３３０ｎｍであり、前記第２位相差領域がセルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムであり、且つ第１偏光膜の透過軸が黒表示時の液晶分子の遅相軸方向と平行である液晶表示装置である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向に平行な吸収軸を有する長尺状の偏光膜、
セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムからなり、長手方向に実質的に直交する遅相軸を有し、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ及び厚さｄを用いて、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義されるＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、且つＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義されるＲｅが５０〜３３０ｎｍである長尺状の第２位相差膜、及び
前記偏光膜と前記第２位相差膜との間に、長尺状の第１位相差膜を配置した長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム。
【請求項２】
長手方向に平行な吸収軸を有する長尺状の偏光膜、
セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムからなり、長手方向に実質的に平行な遅相軸を有し、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ及び厚さｄを用いて、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義されるＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、且つＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義されるＲｅが５０〜３３０ｎｍである、長尺状の第２位相差膜、及び
長尺状の第１位相差膜を、前記偏光膜、前記第２位相差膜及び前記第１位相差膜の順で配置した長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム。
【請求項３】
第１位相差膜のＲｔｈが、−１０ｎｍ〜１５０ｎｍである請求項１又は２に記載の偏光板一体型光学補償フイルム。
【請求項４】
少なくとも、第１偏光膜と、第１位相領域と、第２位相領域と、液晶層を一対の基板で挟んだ液晶セルと、第２偏光膜とを含み、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、
面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ、及び厚さｄを用いてＲｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義される第１位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈが−１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義される第１位相差領域のレターデーションＲｅが５０ｎｍ以下であり、第２位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、第２位相差領域のレターデーションＲｅが５０ｎｍ〜３３０ｎｍであり、
前記第２位相差領域がセルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムであり、且つ
第１偏光膜の透過軸が黒表示時の液晶分子の遅相軸方向と平行である液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１偏光膜、前記第１位相差領域、前記第２位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第２位相差領域の遅相軸が、前記偏光膜の透過軸に実質的に平行である請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１偏光膜、前記第２位相差領域、前記第１位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第２位相差領域の遅相軸が前記第１偏光膜の透過軸に実質的に直交である請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが４０ｎｍ〜−４０ｎｍである請求項４〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが２０ｎｍ〜−２０ｎｍである請求項４〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚みが６０μｍ以下である請求項４〜８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第１偏光膜及び／又は第２偏光膜を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち液晶層に近い側の保護膜がセルロースアシレートフイルム又はノルボルネン系フイルムである請求項４〜９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１位相差領域及び／又は前記第２位相差領域が前記第１偏光膜に隣接してなる請求項４〜１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
液晶セルの一対の基板のうち視認側と反対側の基板により近い位置に、前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域が配置されている請求項４〜１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するセルロースアシレートフイルムである請求項１〜３のいずれか１項に記載の長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム。
（Ｉ）  ２．８２≦ＳＡ＋ＳＰ≦３
（ＩＩ）  ０≦ＳＡ≦１．７
（ＩＩＩ）  １．３≦ＳＰ≦２．９
（式中、ＳＡおよびＳＰはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、ＳＰはプロピオニル基の置換度である。）
【請求項１４】
前記セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するセルロースアシレートフイルムである請求項４〜１２のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（Ｉ）  ２．８２≦ＳＡ＋ＳＰ≦３
（ＩＩ）  ０≦ＳＡ≦１．７
（ＩＩＩ）  １．３≦ＳＰ≦２．９
（式中、ＳＡおよびＳＰはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、ＳＰはプロピオニル基の置換度である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に水平方向に配向した液晶分子に横方向の電界を印加することにより表示を行う、インプレーンスイッチングモードの液晶表示装置に関する。また、本発明は、液晶表示装置、特にインプレーンスイッチングモードの液晶表示装置の光学補償に寄与する偏光板一体型光学補償フイルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置としては、二枚の直交した偏光板の間に、ネマチック液晶をツイスト配列させた液晶層を挟み、電界を基板に対して垂直な方向にかける方式、いわゆるＴＮモードが広く用いられている。この方式では、黒表示時に液晶が基板に対して立ち上がるために、斜めから見ると液晶分子による複屈折が発生し、光漏れが起こる。この問題に対して、液晶性分子がハイブリッド配向したフイルムを用いることで、液晶セルを光学的に補償し、この光漏れを防止する方式が実用化されている。しかし、液晶性分子を用いても液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しく、画面下方向での諧調反転が抑えきれないという問題を生じていた。
【０００３】
かかる問題を解決するため、横電界を液晶に対して印加する、いわゆるインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードによる液晶表示装置や、誘電率異方性が負の液晶を垂直配向してパネル内に形成した突起やスリット電極によって配向分割した垂直配向（ＶＡ）モードが提案され、実用化されている。近年、これらのパネルはモニター用途に留まらず、ＴＶ用途として開発が進められており、それに伴って画面の輝度が大きく向上してきている。このため、これらの動作モードで従来問題とされていなっかった、黒表示時の対角位斜め入射方向での僅かな光漏れが表示品質の低下の原因として顕在化してきた。
【０００４】
この色調や黒表示の視野角を改善する手段の一つとして、液晶層と偏光板の間に複屈折特性を有する光学補償材料を配置することがＩＰＳモードにおいても検討されている。例えば、傾斜時の液晶層のレターデーションの増減を補償する作用を有する光軸を互いに直交した複屈折媒体を基板と偏光板との間に配置することで、白表示又は中間調表示を斜め方向から直視した場合の色付きが改善できることが開示されている（特許文献１参照）。また、負の固有複屈折を有するスチレン系ポリマーやディスコチック液晶性化合物からなる光学補償フイルムを使用した方法（特許文献２、３、４参照）や、光学補償フイルムとして複屈折が正で光学軸がフイルムの面内にある膜と複屈折が正で光学軸がフイルムの法線方向にある膜とを組み合わせる方法（特許文献５参照）、レターデーションが二分の一波長の二軸性の光学補償シートを使用する方法（特許文献６参照）、偏光板の保護膜として負のレターデーションを有する膜を使い、この表面に正のレターデーションを有する光学補償層を設ける方式（特許文献７参照）が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−８０４２４号公報
【特許文献２】特開平１０−５４９８２号公報
【特許文献３】特開平１１−２０２３２３号公報
【特許文献４】特開平９−２９２５２２号公報
【特許文献５】特開平１１−１３３４０８号公報
【特許文献６】特開平１１−３０５２１７号公報
【特許文献７】特開平１０−３０７２９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、提案された方式の多くは、液晶セル中の液晶の複屈折の異方性を打ち消して視野角を改善する方式であるために、直交偏光板を斜めから見た場合の偏光軸交差角度の直交からのズレに基づく光漏れを十分に解決できないという問題がある。また、この光漏れを補償できるとされる方式でも、液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しい。さらに、延伸複屈折ポリマーフイルムで光学補償を行うＩＰＳモード液晶セル用光学補償シートでは、複数のフイルムを用いる必要があり、その結果、光学補償シートの厚さが増し、表示装置の薄形化に不利である。また、延伸フイルムの積層には粘着層を用いるため、温湿度変化により粘着層が収縮してフイルム間の剥離や反りといった不良が発生することがあった。
【０００７】
本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、簡易な構成で、表示品位のみならず、視野角特性が著しく改善されたＩＰＳ型液晶表示装置を提供することを課題とする。また、本発明は、液晶表示装置、特にＩＰＳ型液晶表示装置の視野角特性の改善に寄与する偏光板一体型光学補償フイルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］  長手方向に平行な吸収軸を有する長尺状の偏光膜、セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムからなり、長手方向に実質的に直交する遅相軸を有し、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ及び厚さｄを用いて、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義されるＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、且つＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義されるＲｅが５０〜３３０ｎｍである長尺状の第２位相差膜、及び前記偏光膜と前記第２位相差膜との間に、長尺状の第１位相差膜を配置した長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム。
［２］  長手方向に平行な吸収軸を有する長尺状の偏光膜、セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムからなり、長手方向に実質的に平行な遅相軸を有し、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ及び厚さｄを用いて、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義されるＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、且つＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義されるＲｅが５０〜３３０ｎｍである、長尺状の第２位相差膜、及び長尺状の第１位相差膜を、前記偏光膜、前記第２位相差膜及び前記第１位相差膜の順で配置した長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム。
［３］  第１位相差膜のＲｔｈが、−１０ｎｍ〜１５０ｎｍである［１］又は［２］の偏光板一体型光学補償フイルム。
【０００９】
［４］  少なくとも、第１偏光膜と、第１位相領域と、第２位相領域と、液晶層を一対の基板で挟んだ液晶セルと、第２偏光膜とを含み、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ、及び厚さｄを用いてＲｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義される第１位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈが−１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義される第１位相差領域のレターデーションＲｅが５０ｎｍ以下であり、第２位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、第２位相差領域のレターデーションＲｅが５０ｎｍ〜３３０ｎｍであり、前記第２位相差領域がセルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムであり、且つ第１偏光膜の透過軸が黒表示時の液晶分子の遅相軸方向と平行である液晶表示装置。
［５］  前記第１偏光膜、前記第１位相差領域、前記第２位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第２位相差領域の遅相軸が、前記偏光膜の透過軸に実質的に平行である［４］の液晶表示装置。
［６］  前記第１偏光膜、前記第２位相差領域、前記第１位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第２位相差領域の遅相軸が前記第１偏光膜の透過軸に実質的に直交である［４］の液晶表示装置。
［７］  第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが４０ｎｍ〜−４０ｎｍである［４］〜［６］のいずれかの液晶表示装置。
［８］  第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが２０ｎｍ〜−２０ｎｍである［４］〜［６］のいずれかの液晶表示装置。
［９］  第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚みが６０μｍ以下である［４］〜［８］のいずれかの液晶表示装置。
［１０］  前記第１偏光膜及び／又は第２偏光膜を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち液晶層に近い側の保護膜がセルロースアシレートフイルム又はノルボルネン系フイルムである［４］〜［９］のいずれかの液晶表示装置。
［１１］  前記第１位相差領域及び／又は前記第２位相差領域が前記第１偏光膜に隣接してなる［４］〜［１０］のいずれかの液晶表示装置。
［１２］  液晶セルの一対の基板のうち視認側と反対側の基板により近い位置に、前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域が配置されている［４］〜［１１］のいずれかの液晶表示装置。
［１３］  前記セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するセルロースアシレートフイルムである［１］〜［３］のいずれかの長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム又は［４］〜［１２］のいずれかの液晶表示装置。
（Ｉ）  ２．８２≦ＳＡ＋ＳＰ≦３
（ＩＩ）  ０≦ＳＡ≦１．７
（ＩＩＩ）  １．３≦ＳＰ≦２．９
（式中、ＳＡおよびＳＰはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、ＳＰはプロピオニル基の置換度である。）
【発明の効果】
【００１０】
本発明では、少なくとも、第１偏光膜と、第１位相領域と、第２位相領域と、液晶層を一対の基板で挟んだ液晶セルと、第２偏光膜とを含み、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置において、レターデーションＲｔｈが−１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、レターデーションＲｅが５０ｎｍ以下である第1位相差領域と、厚み方向のレターデーションＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、レターデーションＲｅが５０ｎｍ〜３３０ｎｍであり、セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムからなる第２位相差領域を用い、且つ第１偏光膜の透過軸が黒表示時の液晶分子の遅相軸方向と平行にすることによって、正面方向の特性を何ら変更させることなく、斜めの方位角方向から見た場合に２枚の偏光板の吸収軸が９０度からずれることから生ずるコントラストの低下、特に４５度の斜め方向からのコントラストの低下を改善させている。さらに偏光膜の保護膜のＲｔｈを４０ｎｍ以下とすることによって更なるコントラスト向上を実現することができる。本発明では、セルロースアセテートプロピオネート又はセルロースプロピオネートを含むフイルムを第２位相差領域に用いる。当該フイルムは、セルロースアセテートプロピオネート又はセルロースプロピオネートの水酸基へのアシル置換度の調整や、作製条件の調整により、第２位相差領域に要求される光学特性を一層のみで満たすことができる。従って、当該フイルムを用いることにより、簡易な構成で視野角特性の改善された液晶表示装置を作製することができる。また、当該フイルムは、偏光膜の保護膜として要求される性能を有するので、偏光膜の表面に形成することで、保護膜として機能させることができ、より簡易な構成で、視野角特性の改善された液晶表示装置を作製することができる。
【発明の実施の形態】
【００１１】
以下において、本発明の液晶表示装置の一実施形態及びその構成部材について順次説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００１２】
本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。また、「実質的に垂直」とは、厳密な垂直の角度よりも±２０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±１５゜未満であることが好ましく、±１０゜未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００１３】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。
【００１４】
以下、図面を用いて本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は、本発明の液晶表示装置の画素領域例を示す模式図である。図２及び図３は、本発明の液晶表示装置の一実施形態の模式図である。
［液晶表示装置］
図２に示す液晶表示装置は、第１偏光膜８と、第１位相差領域１０と、第２位相差領域１２と、第１基板１４と、液晶層１６と、第２基板１８と、第２偏光膜２１とを有する。第１偏光膜８及び第２偏光膜２１は、それぞれ保護膜７ａと７ｂ及び２０ａと２０ｂによって挟持されている。
【００１５】
図２の液晶表示装置では、液晶セルは、第１基板１４及び第２基板１８と、これらに挟持される液晶層１６からなる。液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは透過モードにおいて、ねじれ構造を持たないＩＰＳ型では０．２〜０．４μｍの範囲が最適値となる。この範囲では白表示輝度が高く、黒表示輝度が小さいことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。基板１４及び１８の液晶層１６に接触する表面には、配向膜（不図示）が形成されていて、液晶分子を基板の表面に対して略平行に配向させるとともに配向膜上に施されたラビング処理方向１５及び１９等により、電圧無印加状態もしくは低印加状態における液晶分子配向方向が制御されている。また、基板１４又は１８の内面には、液晶分子に電圧印加可能な電極（図２中不図示）が形成されている。
【００１６】
図１に、液晶層１６の１画素領域中の液晶分子の配向を模式的に示す。図１は、液晶層１６の１画素に相当する程度の極めて小さい面積の領域中の液晶分子の配向を、基板１４及び１８の内面に形成された配向膜のラビング方向４、及び基板１４及び１８の内面に形成された液晶分子に電圧印加可能な電極２及び３とともに示した模式図である。電界効果型液晶として正の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いてアクティブ駆動を行った場合の、電圧無印加状態若しくは低印加状態での液晶分子配向方向は５ａ及び５ｂであり、この時に黒表示が得られる。電極２及び３間に印加されると、電圧に応じて液晶分子は６ａ及び６ｂ方向へとその配向方向を変える。通常、この状態で明表示を行なう。
【００１７】
再び図２において、第１偏光膜８の透過軸９と、第２偏光膜２１の透過軸２２は直交して配置されている。第２位相差領域１２の遅相軸１３が、第１偏光膜８の透過軸９に平行（即ち第１偏光膜８の吸収軸（不図示）に直交）であり、且つ黒表示時の液晶層１６中の液晶分子の遅相軸方向１７に平行である。
図２に示す液晶表示装置では、偏光膜８が二枚の保護膜７ａ及び７ｂに挟持された構成を示しているが、保護膜７ｂはなくてもよい。また、偏光膜２１も二枚の保護膜２０ａ及び２０ｂに挟持されているが、液晶層１６に近い側の保護膜２０ａはなくてもよい。なお、図２の態様では、第１位相差領域１０及び第２位相差領域１２は、液晶セルの位置を基準にして、液晶セルと視認側の偏光膜との間に配置されていてもよいし、液晶セルと背面側の偏光膜との間に配置されていてもよい。本実施形態では、いずれの構成においても、第２位相差領域１２が液晶セルにより近くなるように配置する。
【００１８】
本発明の他の実施形態を図３に示す。図３の液晶表示装置は、第２位相差領域１２が偏光膜８及び第１位相差領域１０の間に配置されている。図３の液晶表示装置において、保護膜７ｂ又は保護膜２０ａはなくてもよい。図３に示す態様では、第２位相差領域１２は、その遅相軸１３が、第１偏光膜８の透過軸９に直交（即ち第１偏光膜８の吸収軸（不図示）に平行）であり、且つ黒表示時の液晶層１６中の液晶分子の遅相軸方向１７に直交である。なお、図３の態様では、第１位相差領域１０及び第２位相差領域１２は、液晶セルの位置を基準にして、液晶セルと視認側の偏光膜との間に配置されていてもよいし、液晶セルと背面側の偏光膜との間に配置されていてもよい。本実施形態では、いずれの構成においても、第１位相差領域１０が液晶セルにより近くなるように配置する。
【００１９】
図２及び図３の態様において、第１位相差領域１０は、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義される厚み方向のレターデーションＲｔｈが−１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義されるレターデーションＲｅが５０ｎｍ以下である。一方、第２位相差領域１２は、厚み方向のレターデーションＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、レターデーションＲｅが５０ｎｍ〜３３０ｎｍであり、且つセルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムからなる。セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムは、セルロースの水酸基へのアシル置換度を調整することにより、又は作製条件を調整することにより、第２位相差領域として要求される前記光学特性を一層のみで示すことができる。また、かかるフイルムは、偏光膜の保護膜として要求される性能を満足し得るので、図２の態様では、保護膜７ｂがなくても、偏光膜８と、第１位相差領域１０と、第２位相差領域１２とを一体的に作製することで、高温湿度下等、過酷な環境下に置かれた場合にも、偏光膜８が劣化して、表示特性が低下するのを軽減することができる。また、図３の態様では、偏光膜８と第２位相差領域１２とを一体的に作製することで、保護膜７ｂがなくても、高温湿度下等、過酷な環境下に置かれた場合にも、偏光膜８が劣化して、表示特性が低下するのを軽減することができる。
【００２０】
なお、図２及び図３には、上側偏光板及び下側偏光板を備えた透過モードの表示装置の態様を示したが、本発明は一の偏光板のみを備える反射モードの態様であってもよく、かかる場合は、液晶セル内の光路が２倍になることから、最適Δｎ・ｄの値は上記の１／２程度の値になる。また、本発明に用いられる液晶セルはＩＰＳモードに限定されることなく、黒表示時に液晶分子が前記一対の基板の表面に対して実質的に平行に配向する液晶表示装置であれば、いずれも好適に用いることができる。この例としては強誘電性液晶表示装置、反強誘電性液晶表示装置、ＥＣＢ型液晶表示装置がある。
【００２１】
本発明の液晶表示装置は、図１〜図３に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶層と偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、偏光膜の保護膜の表面に反射防止処理やハードコートを施しても良い。また、構成部材に導電性を付与したものを使用してもよい。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。この場合、バックライトの配置は図２及び図３の上側であっても下側であっても良い。また、液晶層とバックライトとの間に、反射型偏光板や拡散板、プリズムシートや導光板を配置することもできる。また、上記した様に、本発明の液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を配置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。
【００２２】
本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、時分割駆動と呼ばれるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。
【００２３】
以下、本発明の液晶表示装置に使用可能な種々の部材の好ましい光学特性や部材に用いられる材料、その製造方法等について、詳細に説明する。
【００２４】
［第１位相差領域］
本発明において、第１位相差領域は、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ、及び厚さｄを用いてＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義される面内のレターデーションＲｅが５０ｎｍ以下であり、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。またＲｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義される厚み方向のレターデーションＲｔｈが−１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、３０ｎｍ〜１１０ｎｍであるのがより好ましく、４５〜９０ｎｍであるのがさらに好ましい。なお、液晶表示装置が有する偏光膜（２つの偏光膜を有する場合はより近い位置に配置される偏光膜）を保護する保護膜に光学的な異方性がある場合、保護膜と第１位相差領域との合計が、前記範囲の光学特性を示すのも好ましい。
【００２５】
上記光学特性を満足する位相差膜としては、複屈折ポリマーフイルムからなる位相差膜、及び透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物を塗布もしくは転写することによって形成された光学異方性層を有する位相差膜などがあるが、本発明ではいずれも使用することができる。
【００２６】
上記光学特性を有する複屈折ポリマーフイルムからなる位相差膜は、高分子フイルムを二軸延伸することでも容易に形成できる。また、延伸することなしに流延するだけでこの光学特性を発現するセルロースアシレート類を好適に用いることができる。かかるセルロースアシレートとして、特開２００２−９０５４１号公報に記載されているものを用いることができる。高分子フイルムの材料は、一般に合成ポリマー（例、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂、セルロースアセテート）が用いられる。
【００２７】
塗布若しくは転写で透明支持体上に形成した位相差膜として、キラル構造単位を含んだ棒状コレステリック液晶性組成物を、その螺旋軸を基板に略垂直に配向させたのち、固定化したものや、固有複屈折が負のディスコチック液晶性化合物を水平配向（ダイレクターは基板に垂直）させたもの、ポリイミド高分子を基板上に流延固定したものなどを例示することができる。
【００２８】
［第２位相差領域］
本発明において、第２位相差領域は、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ及び厚さｄを用いて、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義されるＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、０〜−９０ｎｍであるのが好ましく、０〜−８０ｎｍであるのがより好ましい。また、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義されるＲｅが５０〜３３０ｎｍであり、９０〜３００ｎｍであるのが好ましく、１３０〜２８０ｎｍであるのがより好ましい。
【００２９】
本発明において、第２位相差領域は、セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムからなる。セルロースアセテートプロピオネートは、セルロースの水酸基の一部がアセチル基及びプロピオニオル基によって置換されたセルロースアシレートであり、セルロースプロピオネートは、セルロースの水酸基の一部がプロピオニル基によって置換されたセルロースアシレートである。アシル基置換度が異なるセルロースアセテートプロピオネート又はセルロースプロピオネートをそれぞれ用いることにより、所望の光学特性のフイルムを作製することができる。第２位相差領域に要求される光学特性を満たすためには、アシル置換度が、下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するセルロースアセテートプロピオネート又はセルロースプロピオネートを用いるのが好ましく、
（Ｉ）  ２．８２≦ＳＡ＋ＳＰ≦３
（ＩＩ）  ０≦ＳＡ≦１．７
（ＩＩＩ）  １．３≦ＳＰ≦２．９
（式中、ＳＡ及びＳＰはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、ＳＰはプロピオニル基の置換度である。）
より好ましくは、
（Ｉ）  ２．８３≦ＳＡ＋ＳＰ≦２．９９
（ＩＩ）  ０≦ＳＡ≦１．５９
（ＩＩＩ）  １．４≦ＳＰ≦２．８５
であり、さらに好ましくは、
（Ｉ）  ２．８５≦ＳＡ＋ＳＰ≦２．９８
（ＩＩ）  ０≦ＳＡ≦１．４８
（ＩＩＩ）  １．５≦ＳＰ≦２．８
である。
これらのうち、ＳＡ＋ＳＰを大きくするとＲｔｈの値を低下させることができ、かつ、ＳＰを大きくすると、レターデーションの湿度依存性を小さくすることができる。
【００３０】
本発明に利用可能なセルロースアセテートプロピオネート又はセルロースプロピオネートといったセルロースアシレートは、セルロースエステル化合物、およびセルロースを原料として生物的あるいは化学的に官能基を導入して得ることができ、合成方法についての基本的な原理は、右田伸彦他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。セルロースアシレートの代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−カルボン酸−硫酸触媒による液相アシル化法である。具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸などのカルボン酸で前処理した後、予め冷却したアシル化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位および６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記アシル化混液は、一般に溶媒としてのカルボン酸、エステル化剤としてのカルボン酸無水物および触媒としての硫酸を含む。カルボン酸無水物は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用するのが一般的である。
【００３１】
アシル化反応終了後に、系内に残存している過剰カルボン酸無水物の加水分解を行うために、水または含水酢酸を添加する。エステル化触媒を一部中和するために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩、水酸化物または酸化物）の水溶液を添加してもよい。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量のアシル化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、２０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希酢酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希酢酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理によりセルロースアシレートを得る。
【００３２】
セルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１５０〜５００が好ましく、２００〜４００がより好ましく、２２０〜３５０がさらに好ましい。粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）に従い測定できる。粘度平均重合度の測定方法については、特開平９−９５５３８号公報にも記載がある。
【００３３】
セルロースアセテートプロピオネート又はセルロースプロピオネートを含むフイルムは、押出し法、溶液流延法等の種々の方法を利用して作製することができる。フイルム状に成形した後、所定の光学特性を得るために、さらに延伸処理を実施することもできる。溶液流延法を利用して前記フイルムを作製する場合は、ドープ中に、可塑剤（好ましい添加量はセルロースエステルに対して０．１〜２０質量％、以下同様）、改質剤（０．１〜２０質量％）、紫外線吸収剤（０．００１〜５質量％）、平均粒径が５〜３０００ｎｍである微粒子粉体（０．００１〜５質量％）、フッ素系界面活性剤（０．００１〜２質量％）、剥離剤（０．０００１〜２質量％）、劣化防止剤（０．０００１〜２質量％）、光学異方性制御剤（０．１〜１５質量％）、赤外線吸収剤（０．１〜５質量％）等の添加剤を含有させてもよい。その他、フイルムの作製方法については、公開技法２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）等に詳細が記載されていて、本発明に適用することができる。
得られた未延伸および延伸後のセルロースアシレートフイルムには、適宜、表面処理を行うことにより、セルロースアシレート層と他の層との接着を改善することが可能となる。表面処理には、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、ケン化処理（酸ケン化処理、アルカリケン化処理）が含まれ、特にグロー放電処理およびアルカリケン化処理が好ましい。
なお、前述した様、セルロースアセテートプロピオネート又はセルロースプロピオネートを含むフイルムのみで前記第２位相差領域に要求される光学特性を満たすこともできるが、本発明には、前記第２位相差領域が、セルロースアセテートプロピオネートフイルム又はセルロースプロピオネートフイルムとともに、他の複屈折性フイルムや位相差膜を含む態様も含まれる。
【００３４】
［偏光膜用保護膜］
偏光膜用保護膜としては、可視光領域に吸収が無く、光透過率が８０％以上であり、複屈折性に基づくレターデーションが小さいものが好ましい。具体的には、面内のＲｅが０〜３０ｎｍが好ましく、０〜１５ｎｍがより好ましく、０〜５ｎｍが最も好ましい。さらに、厚み方向のレターデーションＲｔｈは０〜４０ｎｍであることが好ましく、０〜２０ｎｍがより好ましく、０〜１０ｎｍであることが最も好ましい。この特性を有するフイルムであれば好適に用いることができるが、偏光膜の耐久性の観点からはセルロースアシレートやノルボルネン系のフイルムがより好ましい。セルロースアシレートフイルムのＲｔｈを小さくする方法として、特開平１１−２４６７０４号公報、特開２００１−２４７７１７号公報、特願２００３−３７９９７５号明細書に記載の方法などが挙げられる。また、セルロースアシレートフイルムの厚みを小さくすることによっても、Ｒｔｈを小さくすることができる。第１及び第２偏光膜用保護膜としてのセルロースシレートフイルムの厚みは１０〜１００μｍであることが好ましく、１０〜６０μｍであるのがより好ましく、２０〜４５μｍであることがさらに好ましい。
【００３５】
［偏光板一体型光学補償フイルム］
本発明は、偏光膜と光学補償機能を有する第１及び第２位相差領域が一体化されて作製された、偏光板一体型補償フイルムに関する。本発明の偏光板一体型光学補償フイルムを用いることで、より簡易な構成で、液晶表示装置の視野角特性を改善できる。また、本発明の偏光板一体型光学補償フイルムは、ロールツーロールで長尺状に作製し、その後所望の大きさに裁断して、液晶表示装置に組み込むことができるので、簡易な工程で作製可能であり、液晶表示装置の生産性の改善にも寄与する。
【００３６】
本発明の偏光板一体型光学補償フイルムの一実施形態は、長手方向に平行な吸収軸を有する長尺状の偏光膜と、セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムからなり、長手方向に実質的に直交する遅相軸を有し、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ及び厚さｄを用いて、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義されるＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、且つＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義されるＲｅが５０〜３３０ｎｍである長尺状の第２位相差膜と、前記偏光膜と前記第２位相差膜との間に、長尺状の第１位相差膜とを有する。本実施形態の偏光板一体型光学補償フイルムは、偏光膜としての機能のみならず、前記第１位相差領域及び第２位相差領域としての光学特性を満足する位相差層をそれぞれ有する。本実施形態の偏光板一体型光学補償フイルムは、偏光膜と第２位相差領域との光学的軸合わせが容易であり、例えば、ロールツーロールで長尺状に作製され、所定の大きさに裁断された後、液晶表示装置（例えば図２の構成の液晶表示装置）に用いられる。
【００３７】
本発明の偏光板一体型光学補償フイルムの他の実施形態は、長手方向に平行な吸収軸を有する長尺状の偏光膜と、セルロースアセテートプロピオネートもしくはセルロースプロピオネートを含むフイルムからなり、長手方向に実質的に平行な遅相軸を有し、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ及び厚さｄを用いて、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで定義されるＲｔｈが０ｎｍ〜−１００ｎｍであり、且つＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで定義されるＲｅが５０〜３３０ｎｍである、長尺状の第２位相差膜と、長尺状の第１位相差膜とを、この順序で有する。本実施形態の偏光板一体型光学補償フイルムは、偏光膜としての機能のみならず、前記第１位相差領域及び第２位相差領域としての光学特性を満足する位相差層をそれぞれ有する。本実施形態の偏光板一体型光学補償フイルムは、偏光膜と第２位相差領域との光学的軸合わせが容易であり、例えば、ロールツーロールで長尺状に作製され、所定の大きさに裁断された後、液晶表示装置（例えば図３の構成の液晶表示装置）に用いられる。
【００３８】
なお、本発明の偏光板一体型光学補償フイルムは、偏光膜の上記位相差膜が形成されている側と反対の表面に、偏光膜用保護膜を有していてもよい。また、偏光膜と上記位相差膜との間にも、偏光膜偏光膜用の保護膜を有していてもよいが、かかる場合は、該保護膜の複屈折性に基づくレターデーションは小さいのが好ましく、面内のレターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈは、いずれも０ｎｍに近い程好ましい。
【実施例】
【００３９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
＜ＩＰＳモード液晶セルの作製＞
一枚のガラス基板上に、図１に示す様に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極（図１中２及び３）を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。図１中に示す方向４に、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。
【００４０】
＜強誘電性液晶セルの作製＞
ＩＴＯ電極付ガラス基板上ポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。この基板を２枚製作し、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を１．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．１５及び自発分極（Ｐｓ）が１２ｎＣｃｍ-2である強誘電性液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は２８０ｎｍであった。
【００４１】
《セルロースアシレートフイルムの作製》
下記に従い、保護膜１を作製した。
（セルロースアシレートの調製）
第１表に記載のアシル基の種類、置換度の異なるセルロースアシレートを調製した。すなわち、触媒としての硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）とカルボン酸無水物との混合物を−２０℃に冷却してからパルプ由来のセルロースに添加し、４０℃でアシル化を行った。この時、カルボン酸無水物の種類及びその量を調整することで、アシル基の種類及びその置換比を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行って全置換度を調整した。
【００４２】
（セルロースアシレート溶液の調製）
１）セルロースアシレート
調製したセルロースアシレートを１２０℃に加熱して乾燥し、含水率を０．５質量％以下とした後、３０質量部を溶媒と混合させた。
２）溶媒
ジクロロメタン／メタノール／ブタノール（８１／１５／４質量部）を溶媒として用いた。なお、これらの溶媒の含水率は、いずれも０．２質量％以下であった。
３）添加剤
全ての溶液調製に際し、トリメチロールプロパントリアセテート０．９質量部を添加した。また、全ての溶液調製に際し、二酸化ケイ素微粒子（粒径２０ｎｍ、モース硬度  約７）０．２５質量部を添加した。
４）膨潤、溶解
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する４００リットルのステンレス製溶解タンクに、上記溶媒、添加剤を投入して撹拌、分散させながら、上記セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて２時間撹拌し、３時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、セルロースアシレート溶液を得た。
なお、攪拌には、１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０4ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ2）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸および中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０4ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ2）で攪拌する攪拌軸を用いた。膨潤は、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして実施した。
５）ろ過
上記で得られたセルロースアシレート溶液を、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）で濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ＦＨ０２５、ポール社製）にて濾過してセルロースアシレート溶液を得た。
【００４３】
（セルロースアシレートフイルムの作製）
上記セルロースアシレート溶液を３０℃に加温し、流延ギーサー（特開平１１−３１４２３３号公報に記載）を通して１５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは１５ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフイルムをバンドから剥ぎ取り、４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、さらに１４０℃で１０分乾燥して、セルロースアシレートフイルムを得た。
【００４４】
さらに、下記に従い、表１の第二位相差領域を作製した。
（セルロースアシレートのペレット化）
上記セルロースアシレートを１２０℃で３時間乾燥し、含水率を０．１質量％にしたものに、可塑剤（ジオクチルアジペート）をセルロースアシレートに対し３質量％加え、さらに全水準に二酸化珪素部粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ）０．０５質量％を添加した。これらを混合したものを２軸混練押出し機のホッパーに入れて混練した。なお、この２軸混練押出し機には真空ベントを設け、真空排気（０．３気圧に設定）を実施した。
このようにして融解した後、水浴中に直径３ｍｍのストランド状に押出し１分間浸漬した後（ストランド固化）、１０℃の水中を３０秒通過させ温度を下げた後、長さ５ｍｍに裁断した。このようにして調製したペレットを１００℃で１０分乾燥した後、袋詰した。
このようにして得たペレットのＴｇを以下の方法で測定した。
（Ｔｇ測定）ＤＳＣの測定パンにサンプルを２０ｍｇ入れる。これを窒素気流中で１０℃／分で３０℃〜２３０℃まで昇温した後（１ｓｔ−ｒｕｎ）、３０℃まで−１０℃／分で冷却する。この後、再度３０℃〜２３０℃まで昇温する（２ｎｄ−ｒｕｎ）。２ｎｄ−ｒｕｎで求めたＴｇ（ベースラインが低温側から偏奇し始める温度）をペレットのＴｇとした。
【００４５】
（セルロースアシレートフイルムの作製）
上記方法で調製したセルロースアシレートペレットを、１１０℃の真空乾燥機で３時間乾燥した。これをＴｇ−１０℃になるように調整したホッパーに投入し、２００℃で５分間かけ溶融した後、絶対濾過精度０．０４ｍｍのフィルター（ＦＨ４００、ポール社製）で濾過し、さらに絶対濾過精度０．０１μｍのフィルター（ＦＨ１００、ポール社製）にて濾過してセルロースアシレートメルトを得た。これをＴ／Ｄ比（リップ間隔／製膜フイルムの厚み）を１．０、キャスティングドラム（ＣＤ）とダイの間隔（ＣＤ−ダイ間の間隔を製膜幅で割り百分率でしめしたもの）を１０％として製膜した。このとき、キャスティングドラムの速度を押出し速度のＴ／Ｄ倍にすることで所望の厚み（Ｄ）のフイルムを得た。この時、ダイの両端の温度を中央部より１０℃だけ高くした。
キャスティングドラムはＴｇ−１０℃とし、この上で固化しフイルムとした。固化したメルトを剥ぎ取り、Ｔｇ＋１５℃にて所望の光学特性になるようにＭＤ延伸、ＴＤ延伸してセルロースアシレートフイルムを得た。
【００４６】
【表１】
2006071964.tif 000002
【００４７】
＜第１位相差領域１の作製＞
（第１位相差領域の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、下記の組成を有するセルロースアセテート溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液の組成
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                      ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）              ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                          ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                    ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                                １１質量部
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部及びメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４８７質量部にレターデーション上昇剤溶液７質量部を混合し、十分に攪拌してドープを調製した。
【００４８】
【化１】
2006071964.tif 000003
【００４９】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、６０℃の温風で１分間乾燥し、フイルムをバンドから剥ぎ取った。次にフイルムを１４０℃の乾燥風で１０分間乾燥し、厚さ８０μｍのセルロースアセテートフイルム１を製作した。
【００５０】
このフイルムの光学特性は自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することにより求め、Ｒｅ＝８ｎｍ、Ｒｔｈ＝８２ｎｍであった。
【００５１】
＜偏光板一体型光学補償フイルム１の作製＞
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフイルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長さ５００ｍの偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、ケン化処理したセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝２ｎｍ，Ｒｔｈ＝４５ｎｍ，厚さ８０μｍ）を、もう一方の面に、ケン化処理した第１位相差領域１をポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせた。さらに前述の第２位相差領域１を接着剤を用いて、第１位相差領域１の上に連続して貼り合わせて長さ５００ｍの長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム１を作製した。偏光膜の吸収軸はフイルム長手方向に対して平行であり、第２位相差領域１の遅相軸はフイルム長手方向に対して直交していた。
このロール状の偏光板一体型光学補償フイルム１の任意の部分から裁断し、２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさの積層偏光板１を１０枚得た。なお、裁断は一方の辺が偏光膜の吸収軸と平行になるように行った。
【００５２】
＜偏光板一体型光学補償フイルム２の作製＞
上述と同様にして長さ５００ｍの偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、ケン化処理したフジタックＴＤ８０ＵＦを、もう一方の面に、ケン化処理した第１位相差領域１をポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせた。さらに前述の第２位相差領域２を接着剤を用いて、第１位相差領域１の上に連続して貼り合わせて長さ５００ｍの長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム２を作製した。偏光膜の吸収軸はフイルム長手方向に対して平行であり、第２位相差領域２の遅相軸はフイルム長手方向に対して直交していた。
このロール状の偏光板一体型光学補償フイルム２の任意の部分から同様に裁断し、２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさの積層偏光板２を２０枚得た。
【００５３】
＜偏光板一体型光学補償フイルム３の作製＞
上述と同様にして得た長尺状の偏光膜の両面に、ケン化処理したフジタックＴＤ８０ＵＦをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせた。さらに前述の第２位相差領域３を接着剤を用いて、この上に連続して貼り合わせて長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム３を作製した。偏光膜の吸収軸はフイルム長手方向に対して平行であり、第２位相差領域３の遅相軸はフイルム長手方向に対して直交していた。
このロール状の偏光板一体型光学補償フイルム３の任意の部分から同様に裁断し、２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさの積層偏光板３を１０枚得た。
【００５４】
＜偏光板一体型光学補償フイルム４の作製＞
上述と同様にして得た長尺状の偏光膜の一方の面に、ケン化処理したフジタックＴＤ８０ＵＦを、もう一方の面にケン化処理した第２位相差領域４をポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせた。さらに前述の第１位相差領域１を接着剤を用いて、第２位相差領域４の上に連続して貼り合わせて長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム４を作製した。偏光膜の吸収軸はフイルム長手方向に対して平行であり、第２位相差領域４の遅相軸はフイルム長手方向に対して平行になっていた。
このロール状の偏光板一体型光学補償フイルム４の任意の部分から同様に裁断し、２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさの積層偏光板４を１０枚得た。
【００５５】
＜偏光板一体型光学補償フイルム５の作製＞
上述と同様にして得た長尺状の偏光膜の一方の面に、ケン化処理したフジタックＴＤ８０ＵＦを、もう一方の面にケン化処理した第２位相差領域５をポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせた。さらに前述の第１位相差領域１を接着剤を用いて、第２位相差領域５の上に連続して貼り合わせて長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム５を作製した。偏光膜の吸収軸はフイルム長手方向に対して平行であり、第２位相差領域５の遅相軸はフイルム長手方向に対して平行になっていた。
このロール状の偏光板一体型光学補償フイルム５の任意の部分から同様に裁断し、２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさの積層偏光板５を１０枚得た。
【００５６】
＜偏光板一体型光学補償フイルム６の作製＞
上述と同様にして得た長尺状の偏光膜の一方の面に、ケン化処理したフジタックＴＤ８０ＵＦを、もう一方の面にケン化処理した第２位相差領域６をポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせた。さらに前述のフジタックＴＤ８０ＵＦ（第一位相差領域に相当）を接着剤を用いて、第２位相差領域６の上に連続して貼り合わせて長尺状の偏光板一体型光学補償フイルム６を作製した。偏光膜の吸収軸はフイルム長手方向に対して平行であり、第２位相差領域６の遅相軸はフイルム長手方向に対して平行になっていた。
このロール状の偏光板一体型光学補償フイルム６の任意の部分から同様に裁断し、２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさの積層偏光板６を２０枚得た。
【００５７】
＜偏光板Ａの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の厚さ６０μｍの保護膜１を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ａを形成した。
＜偏光板Ｂの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフイルム（フジタックＴ４０ＵＺ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝１ｎｍ、Ｒｔｈ＝３５ｎｍ、厚さ４０μｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の両面に貼り付け偏光板Ｂを形成した。
【００５８】
［実施例１］
＜液晶表示装置１の作製＞
作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、上記作製した積層偏光板１をその吸収軸を液晶セルのラビング方向（黒表示時の液晶分子の遅相軸方向）と直交にして、第２位相差領域が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、液晶セルのもう一方の側に２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさで、一方の辺が偏光膜の吸収軸と平行になるように裁断した市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、（株）サンリッツ製）を積層偏光板１とクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置１を作製した。
【００５９】
上記液晶表示装置１を１０台作製し、白表示と黒表示を行い、その正面方向の輝度の比をコントラスト比として求めた。位相差板を含まず、偏光板のみを貼り合せた液晶表示装置のコントラスト比に対して、９０％以下であるものを不良品とした。１０台の液晶表示装置１のうちの不良品の発生台数は０台であった。さらに、左斜め方向６０°方向での漏れ光を測定したところ、良品１０台の平均値は０．１７％であった。
【００６０】
［実施例２］
＜液晶表示装置２の作製＞
作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、上記作製した積層偏光板２をその吸収軸が液晶セルのラビング方向（黒表示時の液晶分子の遅相軸方向）と直交するように、第２位相差領域が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、製作した偏光板Ｂを積層偏光板２とクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置２を作製した。このように作製した１０台の液晶表示装置２のうちの不良品の発生台数は０台であった。さらに、左斜め方向６０°方向での漏れ光を測定したところ、良品１０台の平均値は０．１２％であった。
【００６１】
［実施例３］
＜液晶表示装置３の作製＞
作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、上記作製した積層偏光板２をその吸収軸が液晶セルのラビング方向（黒表示時の液晶分子の遅相軸方向）と直交するように、第２位相差領域が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、製作した偏光板Ａを積層偏光板２とクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置３を作製した。このように作製した１０台の液晶表示装置３のうちの不良品の発生台数は０台であった。さらに、左斜め方向６０°方向での漏れ光を測定したところ、良品１０台の平均値は０．０４％であった。
【００６２】
［実施例４］
＜液晶表示装置４の作製＞
作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、上記作製した積層偏光板３をその吸収軸が液晶セルのラビング方向（黒表示時の液晶分子の遅相軸方向）と直交するように、第２位相差領域が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、製作した偏光板Ａを積層偏光板３とクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置４を作製した。このように作製した１０台の液晶表示装置４のうちの不良品の発生台数は０台であった。さらに、左斜め方向６０°方向での漏れ光を測定したところ、良品１０台の平均値は０．０５％であった。
【００６３】
［実施例５］
＜液晶表示装置５の作製＞
作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、上記作製した積層偏光板４をその吸収軸が液晶セルのラビング方向（黒表示時の液晶分子の遅相軸方向）と直交するように、第１位相差領域が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、（株）サンリッツ製）を積層偏光板４とクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置５を作製した。このように作製した１０台の液晶表示装置５のうちの不良品の発生台数は０台であった。さらに、左斜め方向６０°方向での漏れ光を測定したところ、良品１０台の平均値は０．１０％であった。
【００６４】
［実施例６］
＜液晶表示装置６の作製＞
作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、上記作製した積層偏光板５をその吸収軸が液晶セルのラビング方向（黒表示時の液晶分子の遅相軸方向）と直交するように、第１位相差領域が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、製作した偏光板Ａを積層偏光板５とクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置６を作製した。このように作製した１０台の液晶表示装置６のうちの不良品の発生台数は０台であった。さらに、左斜め方向６０°方向での漏れ光を測定したところ、良品１０台の平均値は０．０５％であった。
【００６５】
［実施例７］
＜液晶表示装置７の作製＞
作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、上記作製した積層偏光板６をその吸収軸が液晶セルのラビング方向（黒表示時の液晶分子の遅相軸方向）と直交するように、第１位相差領域が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、製作した偏光板Ａを積層偏光板６とクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置７を作製した。このように作製した１０台の液晶表示装置７のうちの不良品の発生台数は０台であった。さらに、左斜め方向６０°方向での漏れ光を測定したところ、良品１０台の平均値は０．０５％であった。
【００６６】
［実施例８］
＜液晶表示装置８の作製＞
作製した強誘電性液晶セルの一方に、上記作製した積層偏光板６をその吸収軸が液晶セルに直流電圧を印加した場合の液晶の配向方向（黒表示時の液晶分子の遅相軸方向）と直交するように、第１位相差領域が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、製作した偏光板Ａを積層偏光板６とクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置７を作製した。このように作製した１０台の液晶表示装置７のうちの不良品の発生台数は０台であった。さらに、左斜め方向６０°方向での漏れ光を測定したところ、良品１０台の平均値は０．０５％であった。
【００６７】
［比較例１］
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフイルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長さ５００ｍの偏光膜を得た。この偏光膜の両面に、ケン化処理したセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を貼合して、２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさに１０枚裁断した。なお、裁断は一方の辺が偏光膜の吸収軸と平行になるように行った。さらにロール状の第２位相差領域３の任意の部分から裁断し、２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさの位相差板２３Ａを１０枚得た。なお、裁断は一方の辺が第２位相差領域３の遅相軸と平行になるように行った。位相差板２３Ａの遅相軸と偏光板の吸収軸が直交になるようにして位相差板２３Ａと偏光板を貼り合せ、積層偏光板７とし、これを１０枚作製した。
【００６８】
＜液晶表示装置９の作製＞
作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、上記作製した積層偏光板７をその吸収軸が液晶セルのラビング方向（黒表示時の液晶分子の遅相軸方向）と直交するように、第２位相差領域が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、液晶セルのもう一方の側に上記作製した偏光板Ａをクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置９を作製した。
上記液晶表示装置９を１０台作製し、実施例４と同様にして調べた不良品の発生台数は３台であった。さらに、左斜め方向６０°方向での漏れ光を測定したところ、良品７台の平均値は０．０９％であった。この結果から、一旦長尺状の偏光板一体型光学補償フイルムとし、その後、裁断して作製したほうが、偏光板と位相差版とを各々裁断した後、積層して作製するよりも、不良品の発生が極めて少ないことがわかった。
【００６９】
［比較例２］
＜液晶表示装置１０の作製＞
同様に作製したＩＰＳモード液晶セルの両方に、２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさで、一方の辺が偏光膜の吸収軸と平行になるように裁断した市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、（株）サンリッツ製）をクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置１０を作製した。
上記液晶表示装置１０を１０台作製し、実施例１と同様にして調べた不良品の発生台数は０台であった。さらに、左斜め方向６０°方向での漏れ光を測定したところ、良品１０台の平均値は０．５５％であった。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の液晶表示装置の画素領域例を示す概略図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の他の例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００７１】
１    液晶素子画素領域
２    画素電極
３    表示電極
４    ラビング方向
５ａ、５ｂ  黒表示時の液晶化合物のダイレクター
６ａ、６ｂ  白表示時の液晶化合物のダイレクター
７ａ，７ｂ  第１偏光膜用保護膜
８    第１偏光膜
９    第１偏光膜の偏光透過軸
１０    第１位相差領域
１２    第２位相差領域
１３    第２位相差領域の遅相軸
１４    第１基板
１５    第１基板ラビング方向
１６    液晶層
１７    液晶分子の遅相軸方向
１８    第２基板
１９    第２基板ラビング方向
２０ａ、２０ｂ  第２偏光膜用保護膜
２１    第２偏光膜
２２    第２偏光膜偏光透過軸
【図１】
2006071964.tif 000004
【図２】
2006071964.tif 000005
【図３】
2006071964.tif 000006