(57)【要約】【課題】  電子ビームの入射角が大きくなった場合であっても、スロットの貫通孔を通過した電子ビームが表側孔部で遮断されることを極力抑制できるスロット構造を有するシャドウマスクを提供する。【解決手段】  略矩形状の裏側孔部３３と略矩形状の表側孔部３２とで連通された貫通孔３１がマスク本体２２の水平方向Ｘ及び垂直方向Ｙに多数配列してなるシャドウマスク２１において、少なくともマスク本体２２の中心２８を通る水平軸２４と２つの対角軸２６，２７との間の領域に形成された表側孔部は、その表側孔部の輪郭をなす上下一対の辺３２ｃ，３２ｄを、マスク本体２２の中心２８を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されているように構成する。【選択図】    図１
2006114381.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビームが入射する側の略矩形状の裏側孔部と、電子ビームが出射する側の略矩形状の表側孔部とで連通された貫通孔がマスク本体の水平方向及び垂直方向に多数配列してなり、ブラウン管の蛍光面上に略矩形状のビームスポットを形成するシャドウマスクにおいて、
少なくとも前記マスク本体の中心を通る水平軸と２つの対角軸との間の領域に形成された表側孔部は、当該表側孔部の輪郭をなす上下一対の辺が当該マスク本体の中心を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されていることを特徴とするシャドウマスク。
【請求項２】
電子ビームが入射する側の略矩形状の裏側孔部と、電子ビームが出射する側の略矩形状の表側孔部とで連通された貫通孔がマスク本体の水平方向及び垂直方向に多数配列してなり、ブラウン管の蛍光面上に略矩形状のビームスポットを形成するシャドウマスクにおいて、
少なくとも前記マスク本体の中心を通る水平軸と２つの対角軸との間の領域に形成された表側孔部は、当該表側孔部の輪郭をなす上下一対の辺のうちの前記水平軸側でない側の辺が当該マスク本体の中心を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されていることを特徴とするシャドウマスク。
【請求項３】
前記放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されている辺のうち、前記対角軸上に設けられた表側孔部が有する辺と、前記水平軸に平行な仮想線との間の角度が最も大きく、当該対角軸から離れるにしたがって該角度が連続的又は段階的に小さくなることを特徴とする請求項１又は２に記載のシャドウマスク。
【請求項４】
前記放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されている辺を有する表側孔部が、前記マスク本体の中心を通る垂直軸と平行な方向に隣接する表側孔部との間にエッチングされていないブリッジ部を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のシャドウマスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーブラウン管の蛍光面に略矩形状のビームスポットを成形するためのシャドウマスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
シャドウマスク１は、図８に示すように、カラーブラウン管１０１の蛍光面１０２に対向するように配置され、電子銃１０３から放出されて偏向ヨーク１０４の磁界により偏向された電子ビーム１０５をカラーブラウン管１０１の蛍光面１０２の所定位置に正しくランディングさせるために使用されるものである。
【０００３】
図４は、シャドウマスクの各部に形成されているスロットの位置関係を説明する模式的な平面図である。シャドウマスク１は、略矩形状のマスク本体１ａを有しており、そのマスク本体１ａには、厚さ方向に貫通する略矩形状の貫通孔を有するスロット２（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄを含む）が平面視での水平方向Ｘ及び垂直方向Ｙに多数配列されている。なお、本願では、貫通孔とその貫通孔を形成する表側孔部及び裏側孔部とで構成される単位構造を「スロット」と呼び、また、図４において、符号６はマスク本体１ａの対向する隅部を連結する２つの対角軸５，５の交点で表される中心（中心点ともいう。）であり、符号３はその中心６を通る水平軸であり、符号４はその中心６を通る垂直軸である。スロット２ａはマスク本体１ａの中心６でのスロットであり、スロット２ｂは垂直軸４上の外周部のスロットであり、スロット２ｃは水平軸３上の外周部のスロットであり、スロット２ｄは対角軸５上の外周部のスロットである。また、図４は模式図であり、スロットを大きく誇張して表している。
【０００４】
こうしたシャドウマスク１が図８に示すカラーブラウン管１０１の蛍光面１０２に対向するように配置された場合、電子銃１０３から放出された電子ビーム１０５は、シャドウマスク１の中央部のスロット２ａに対しては真っ直ぐに入射するが、その中央部から遠ざかる各軸（水平軸３、垂直軸４及び対角軸５）の外側領域である外周部のスロット２ｂ，２ｃ，２ｄに対しては斜めに入射する。このため、シャドウマスク１では、スロットの位置に応じて、スロットを構成する表側孔部の形成位置と裏側孔部の形成位置とが調整されている。
【０００５】
図５は、マスク本体１ａの各部に形成されるスロットの形状を示す模式的な平面図である。符号１１はスロットが有する貫通孔であり、この貫通孔１１は、エッチングにより形成される表側孔部１２と裏側孔部１３とが連通することにより形成される。裏側孔部１３は電子ビーム７が入射する側に形成され、表側孔部１２は電子ビーム７が出射する側に形成されている。これらの裏側孔部１３と表側孔部１２は略矩形状になるように形成されており、表側孔部１２は電子ビーム７が通過する際に邪魔とならないように大きな面積で形成されている。
【０００６】
マスク本体１ａの中央部のスロット２ａは、図５（ａ）に示すように、電子ビームが正面から入射するので、貫通孔１１が表側孔部１２の略中央に位置するように形成されている。図５（ｂ）は垂直軸４の外周部に位置するスロット２ｂを示し、同図（ｃ）は水平軸３の外周部に位置するスロット２ｃを示し、同図（ｄ）は対角軸５の外周部に位置するスロット２ｄを示している。マスク本体１ａの外周部に位置する各スロット２ｂ，２ｃ，２ｄには電子ビーム７が斜めに入射するので、貫通孔１１を抜けて通過する電子ビーム７の邪魔にならないように、表側孔部１２が貫通孔１１に対してマスク本体１ａの外周側にシフトするように形成される。
【０００７】
しかしながら、図５に示す態様のシフト配置を行っても、マスク本体１ａの外周部に形成されるスロット２ｂ，２ｃ，２ｄのうち、特に対角軸外周部に形成されるスロット２ｄにおいては、スロット２ｄに対して斜めに入射する電子ビーム７の一部が表側孔部１２や裏側孔部１３で遮断され、電子ビーム７をブラウン管の蛍光面上に所望の形状でランディングさせることができないという問題があった。
【０００８】
こうした問題に対し、特許文献１及び２には、略矩形状の貫通孔を形成する２つの長辺のうちマスク本体１ａの中央から遠い側の長辺について、その長辺の上下両端の少なくとも一端（特許文献１）又は両端（特許文献２）を垂直軸４から遠ざかる方向に膨出させた構造のシャドウマスクが提案されている。
【０００９】
図６は、特許文献２に記載された従来のスロット形状を示す正面図である。図６に示すスロットは、マスク本体１ａを平面視した場合において、右上がりの対角軸５の右上方向外周部に位置するスロットの形態であり、図４のスロット２ｄに対応する。このスロットは、貫通孔１１に対して表側孔部１２が右上方向である外周側にシフトしていると共に、貫通孔１１を形成する２つの長辺のうち外周側である右側の長辺の下部が外周方向に膨出した膨出部１１ａを有している。また、スロットを構成する表側孔部１２は、その表側孔部１２の輪郭をなす左右一対の辺１２ａ，１２ｂと上下一対の辺１２ｃ，１２ｄとで略四角形状に形成されている。
【特許文献１】特開平１−３２０７３８号公報
【特許文献２】特開平５−６７４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、図８に示すような近年の薄型ブラウン管では、シャドウマスクに形成されたスロットへの入射角θが特に外周部において顕著に大きくなってきており、スロットの貫通孔１１を通過した電子ビーム７の一部が、表側孔部１２の側壁１５で遮断される現象が生じる。すなわち、図６に示すように、例えば対角軸５の外周部に位置するスロット２ｄにおいては、貫通孔１１の長尺方向下側を通過した電子ビーム７ａは表側孔部１２に当たることなく出射するが、貫通孔１１の長尺方向上側を通過した電子ビーム７ｂの一部は破線部分８で示した部位の表側孔部１２に蹴られて遮断される現象が生じる。
【００１１】
図７は、上記現象を説明する図６のＡ−Ａ線断面図を示している。表側孔部１２は側壁１４，１５で形成され、裏側孔部１３は側壁１６，１７で形成されており、表側孔部１２と裏側孔部１３とで貫通孔１１が形成されている。図６の破線部分８では、貫通孔１１の長尺方向上側を通過した電子ビーム７ｂが表側孔部１２を抜ける際に、その電子ビーム７ｂの一部が表側孔部１２の外周方向の側壁１５に当たって遮断される。こうした現象は、スロットを通過する電子ビームに部分的な欠けを発生させ、輝度が低下すると共に、ブラウン管の蛍光面上に所望の大きさと形状からなるスポットをランディングさせることができないという問題を生じさせる。
【００１２】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、電子ビームの入射角が大きくなった場合であっても、スロットの貫通孔を通過した電子ビームが表側孔部で遮断されることを極力抑制できるスロット構造を有するシャドウマスクを提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するための第１形態に係る本発明のシャドウマスクは、電子ビームが入射する側の略矩形状の裏側孔部と、電子ビームが出射する側の略矩形状の表側孔部とで連通された貫通孔がマスク本体の水平方向及び垂直方向に多数配列してなり、ブラウン管の蛍光面上に略矩形状のビームスポットを形成するシャドウマスクにおいて、少なくとも前記マスク本体の中心を通る水平軸と２つの対角軸との間の領域に形成された表側孔部は、当該表側孔部の輪郭をなす上下一対の辺が当該マスク本体の中心を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されていることを特徴とする。
【００１４】
また、上記目的を達成するための第２形態に係る本発明のシャドウマスクは、電子ビームが入射する側の略矩形状の裏側孔部と、電子ビームが出射する側の略矩形状の表側孔部とで連通された貫通孔がマスク本体の水平方向及び垂直方向に多数配列してなり、ブラウン管の蛍光面上に略矩形状のビームスポットを形成するシャドウマスクにおいて、少なくとも前記マスク本体の中心を通る水平軸と２つの対角軸との間の領域に形成された表側孔部は、当該表側孔部の輪郭をなす上下一対の辺のうちの前記水平軸側でない側の辺が当該マスク本体の中心を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されていることを特徴とする。
【００１５】
本発明のシャドウマスクは、上記第１及び第２形態に係る本発明のシャドウマスクにおいて、前記放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されている辺のうち、前記対角軸上に設けられた表側孔部が有する辺と、前記水平軸に平行な仮想線との間の角度が最も大きく、当該対角軸から離れるにしたがって該角度が連続的又は段階的に小さくなることが好ましい。
【００１６】
また、本発明のシャドウマスクは、上記第１及び第２形態に係る本発明のシャドウマスクにおいて、前記放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されている辺を有する表側孔部が、前記マスク本体の中心を通る垂直軸と平行な方向に隣接する表側孔部との間にエッチングされていないブリッジ部を有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の第１形態に係るシャドウマスクによれば、少なくともマスク本体の中心を通る水平軸と２つの対角軸との間の領域に形成された表側孔部は、その表側孔部の輪郭をなす上下一対の辺がマスク本体の中心を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されているので、少なくとも２つの対角軸と水平軸との間のスロットの表側孔部の上下一対の辺の傾きが電子ビームの傾きとほぼ同じになり、例えば図６の破線部分８のように、電子ビームの一部が表側孔部の外周方向の側壁に当たって遮断されるのを極力防ぐことができる。その結果、こうしたスロット構造を有するシャドウマスクは、電子ビームの入射角θが大きくなった場合であっても、スロットの貫通孔を通過した電子ビームが表側孔部で遮断されることを極力抑制することができ、良好な輝度を有した状態で、所望の大きさと形状からなるスポットをブラウン管の蛍光面上にランディングさせることができる。
【００１８】
また、本発明の第２形態に係るシャドウマスクによれば、少なくともマスク本体の中心を通る水平軸と２つの対角軸との間の領域に形成された表側孔部は、その表側孔部の輪郭をなす上下一対の辺のうちの水平軸側でない側の辺がマスク本体の中心を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されているので、上記の第１形態に係るシャドウマスクと同様の作用効果を奏することができる。その結果、こうしたスロット構造を有するシャドウマスクは、電子ビームの入射角θが大きくなった場合であっても、スロットの貫通孔を通過した電子ビームが表側孔部で遮断されることを極力抑制することができ、良好な輝度を有した状態で、所望の大きさと形状からなるスポットをブラウン管の蛍光面上にランディングさせることができる。
【００１９】
また、本発明のシャドウマスクにおいては、放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されている辺のうち、マスク本体の中心を通る対角軸上に設けられた表側孔部が有する辺と、マスク本体の中心を通る水平軸に平行な仮想線との間の角度が最も大きく、対角軸から離れるにしたがってその角度が連続的又は段階的に小さくなるように構成するので、電子ビームの角度と同程度の角度に設定でき、その結果、スロットの貫通孔を通過した電子ビームが表側孔部で遮断されることを極力抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明のシャドウマスクについて図面を参照しつつ説明する。なお、本発明は以下で説明する実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を含む各種の形態を包含する。
【００２１】
図１は、本発明の第１形態に係るシャドウマスクの一例を示す平面図（Ａ）、及び、対角軸外周部に形成されたスロット形状の一例を示す拡大平面図（Ｂ）である。図２は、本発明の第１形態に係るシャドウマスクの他の一例を示す平面図である。また、図３は、本発明の第２形態に係るシャドウマスクの一例を示す平面図（Ａ）、及び、対角軸外周部に形成されたスロット形状の一例を示す拡大平面図（Ｂ）である。
【００２２】
（第１形態に係るシャドウマスク）
本発明の第１形態に係るシャドウマスク２１、４１は、図１及び図２に示すように、電子ビーム７が入射する側の略矩形状の裏側孔部３３と、電子ビーム７が出射する側の略矩形状の表側孔部３２とで連通された貫通孔３１がマスク本体２２の水平方向Ｘ及び垂直方向Ｙに多数配列してなるものである。そして、この第１形態に係るシャドウマスクの特徴として、少なくともマスク本体２２の中心２８を通る水平軸２４と２つの対角軸２６，２７との間の領域に形成された表側孔部３２は、その表側孔部３２の輪郭をなす上下一対の辺３２ｃ，３２ｄがそのマスク本体２２の中心を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されていることにある。
【００２３】
本発明のシャドウマスクは、略矩形状のマスク本体２２に、貫通孔３１を有する多数のスロット２３を備えた構成であり、その貫通孔３１は、金属薄板をエッチングして形成された表側孔部３２と裏側孔部３３とが連通することにより形成される。スロット２３は、図４に示すように、マスク本体２２の水平方向Ｘ及び垂直方向Ｙに多数配列している。このようなシャドウマスク２１は、ブラウン管に装着されることにより磁気シールを行うと共に、ブラウン管の蛍光面に略矩形状のビームスポットを形成するために使用される。
【００２４】
スロット２３は、電子ビーム７が入射する側の略矩形状の裏側孔部３３と、電子ビーム７が出射する側の略矩形状の表側孔部３２とを備えている。表側孔部３２は、側壁１４，１５で構成され、出射する電子ビーム７の邪魔にならないように大きな面積の略矩形状となっている。また、図１（Ｂ）に示すように、垂直軸２５の方向である垂直方向Ｙにおいては、スロット２３は狭幅のブリッジ部２９を介して配列されている。
【００２５】
表側孔部３２は、マスク本体２２内でのスロット２３の位置に応じて、貫通孔３１に対する位置を変化させている。すなわち、マスク本体２２の中心２８に位置するスロット２３では、表側孔部３２は貫通孔３１を中央に配置するように形成される。この中心２８に位置するスロット２３から水平軸２４の外周方向に向かうスロット２３は、中心２８から離れるにつれて表側孔部３２が外周側に徐々にシフトするように形成される。同様に、中心２８に位置するスロット２３から垂直軸２５の外周方向に向かうスロット２３は、中心２８から離れるにつれて表側孔部３２が外周側に徐々にシフトするように形成される。
【００２６】
対角軸２６，２７上又はその対角軸に沿った位置のスロット２３においても上記同様であり、表側孔部３２は中心２８から離れるにつれて表側孔部３２が外周側に徐々にシフトするように形成される。例えば図１を平面視した場合、対角軸２６では、スロット２３の位置が中心２８から右側上方に向かうにつれて、表側孔部３２の位置は貫通孔３１の位置に対して右方向且つ上方向（すなわち斜め右上方向）に徐々にシフトする。一方、スロット２３の位置が中心２８から左側下方に向かうにつれて、表側孔部３２の位置は貫通孔３１の位置に対して左方向且つ下方向（すなわち斜め左下方向）に徐々にシフトする。このような表側孔部３２のシフトは、もう一つの対角軸２７においても同様である。こうしたシフト量の変化は、スロット２３に斜めに入射する電子ビーム７の入射角θに対応したものであり、貫通孔３１を通過した電子ビーム７の一部が表側孔部３２の側壁１５（図７を参照）によって遮られないようにしたものである。
【００２７】
この第１形態のシャドウマスクのスロットにおいては、図１（Ａ）に示すように、少なくともマスク本体２２の中心２８を通る水平軸２４と２つの対角軸２６，２７との間の領域（図１（Ａ）のハッチング部）に形成された表側孔部３２は、その表側孔部３２の輪郭をなす上下一対の辺３２ｃ，３２ｄがマスク本体２２の中心２８を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されている。すなわち、表側孔部３２は、図１（Ｂ）に示すように、垂直軸２５の方向に沿った垂直方向Ｙの輪郭をなす左右一対の辺３２ａ，３２ｂと、これらの辺３２ａ，３２ｂの上と下をそれぞれ繋ぐ上下一対の辺３２ｃ，３２ｄとで略矩形状に形成されており、その上下一対の辺３２ｃ，３２ｄは、ほぼ横方向（ほぼ水平軸２４に沿った方向）であって、マスク本体２２の中心２８を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で傾斜している。
【００２８】
少なくとも上記領域内で、表側孔部３２の輪郭をなす上下一対の辺３２ｃ，３２ｄは、略平行となるように形成される。また、垂直方向Ｙ（上下方向）に隣接するスロット２３，２３は、図１（Ｂ）に示すように、上側のスロット２３の下辺３２ｃと、下側のスロット２３の上辺３２ｄとが対向するが、これらの辺３２ｃ，３２ｄは相互に略平行となるように形成される。
【００２９】
このように、少なくとも上記領域内で、スロット２３の表側孔部３２の上下一対の辺３２ｃ，３２ｄを、中心２８を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲の形状とすることにより、水平軸２４から上下方向に向かう位置のスロット２３の表側孔部３２は、水平軸２４から上下方向に離れるにしたがって、その表側孔部３２の輪郭をなす上下一対の辺３２ｃ，３２ｄが水平軸２４に対して大きく傾いた状態となる。一方、シャドウマスク２１に入射する電子ビーム７は、水平軸２４から上下方向に離れるにしたがって、水平軸２４に対する角度が大きくなった傾斜角を呈し、この傾斜角を有する状態でスロット２３の裏側孔部３１から入射する。したがって、少なくとも上記領域内で、水平軸２４から上下方向に離れた位置のスロット２３において、表側孔部３２の上下一対の辺３２ｃ，３２ｄは、そのスロット２３に入射する電子ビーム７とほぼ同じ傾斜角となる。これにより、スロット２３に入射した電子ビーム７は、表側孔部３２の側壁に当たることが極力少なくなり、貫通孔３１を通過した電子ビーム７が欠けることなく通過することができる。従って、この第１形態に係るシャドウマスクを適用したブラウン管は、良好な輝度を有し且つ所望の大きさの略矩形状となったビームスポットを蛍光面にランディングさせることができる。
【００３０】
この第１形態に係るシャドウマスクは、少なくとも上記領域内でスロット２３の表側孔部３２の輪郭をなす上下一対の辺３２ｃ，３２ｄがマスク本体２２の中心２８を起点とした放射線に沿って形成されていれば良く、その他の領域、すなわち図１のハッチングされていない部分においては、特に限定しない。
【００３１】
ただし、図１（Ａ）において、例えば、対角軸外周部におけるスロット２３ａと、垂直軸外周部におけるスロット２３ｂとの間に連続して位置する複数のスロットは、スロット２３ａの表側孔部３２の輪郭をなす上下一対の辺の傾斜から、スロット２３ｂの表側孔部３２の輪郭をなす上下一対の辺の傾斜に徐々に変化するように遷移することが望ましい。この関係は、対角軸外周部におけるスロット２３ａと、水平軸外周部におけるスロット２３ｃとの間の関係においても同じである。
【００３２】
なお、実際の傾斜は、放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されている辺のうち、対角軸２６，２７上に設けられた表側孔部３２が有する辺と、水平軸２４に平行な仮想線との間の角度が最も大きく、且つ対角軸２６，２７から離れるにしたがってその角度が連続的又は段階的に小さくなるように変化する。
【００３３】
また、この第１形態のシャドウマスクにおいて、放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されている辺を有する表側孔部が、マスク本体２２の中心２８を通る垂直軸２５と平行な方向（すなわち垂直方向Ｙ）に隣接する表側孔部との間にエッチングされていないブリッジ部２９を有することが望ましい。ブリッジ部２９がエッチングされずにそのまま残るシャドウマスクは、機械的強度に優れているので、プレス成形時の変形不良が少なくなって歩留まりが向上するという利点があると共に、落下時の耐久強度も優れているので、品質の信頼性の点でも有利である。
【００３４】
図２は、本発明の第１形態に係るシャドウマスクの他の一例を示す平面図である。この形態のシャドウマスク４１は、スロット２３が中心２８から水平方向に離れるにしたがって、その貫通孔３１の外周方向の長尺辺の少なくとも一端から弧状に膨出した膨張部４３が形成されているものである。すなわち、この膨張部４３は、対角軸２６、２７に近いスロット２３においては、外周方向の長尺辺のうち、水平軸２４に近い側の端部から膨出するように一つの膨出部４３が形成されており、また、水平軸２４に近いスロット２３においては、外周方向の長尺辺の上下両端から膨出するように２つの膨出部４３が形成されている。このような膨出部４３が貫通孔３１に形成されていることにより、貫通孔３１を通過した電子ビームがブラウン管の蛍光面上にランディングしたときのスポット形状が良好なものとなる。
【００３５】
以上説明した本発明の第１形態に係るシャドウマスクによれば、少なくとも２つの対角軸と水平軸との間のスロットの表側孔部が電子ビームの傾きとほぼ同じ形状となり、例えば図６の破線部分８のように、電子ビームの一部が表側孔部の外周方向の側壁に当たって遮断されるのを極力防ぐことができる。その結果、こうしたスロット構造を有するシャドウマスクは、電子ビームの入射角θが大きくなった場合であっても、スロットの貫通孔を通過した電子ビームが表側孔部で遮断されることを極力抑制することができ、良好な輝度を有した状態で、所望の大きさと形状からなるスポットをブラウン管の蛍光面上にランディングさせることができる。
【００３６】
（第２形態に係るシャドウマスク）
図３は、本発明の第２形態に係るシャドウマスクの一例を示す平面図（Ａ）、及び、対角軸外周部に形成されたスロット形状の一例を示す拡大平面図（Ｂ）である。
【００３７】
本発明の第２形態に係るシャドウマスク５１は、図３に示すように、上記第１形態に係るシャドウマスクと同様のシャドウマスクであり、その特徴は、少なくともマスク本体２２の中心を通る水平軸２４と２つの対角軸２６，２７との間の領域に形成された表側孔部３２は、その表側孔部３２の輪郭をなす上下一対の辺３２ｃ，３２ｄのうちの水平軸側でない側の辺３２ｃがマスク本体２２の中心を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されていることにある。
【００３８】
すなわち、この形態に係るシャドウマスク５１は、表側孔部３２の輪郭をなす上下一対の辺３２ｃ，３２ｄのうちの水平軸側でない側の辺３２ｃのみがマスク本体２２の中心を起点とした放射線と水平軸との角度αに対して±１０°の範囲で形成されており、水平軸側の辺３２ｄは水平軸２４と平行に形成されている。
【００３９】
したがって、本発明の第２形態に係るシャドウマスクは、上記の第１形態に係るシャドウマスクと同様の作用効果を奏することができる。こうしたスロット構造を有するシャドウマスクは、電子ビームの入射角θが大きくなった場合であっても、スロットの貫通孔を通過した電子ビームが表側孔部で遮断されることを極力抑制することができ、良好な輝度を有した状態で、所望の大きさと形状からなるスポットをブラウン管の蛍光面上にランディングさせることができる。
【００４０】
（シャドウマスクの製造方法）
次に、上述したシャドウマスクの製造方法の一例について説明する。なお、言うまでもなく、本発明のシャドウマスクは、下記の製造方法に限定されない。
【００４１】
シャドウマスクは、従来公知の方法で形成することができる。通常、フォトエッチングの各工程で行われ、連続したインライン装置で製造される。例えば、金属薄板の両面に水溶性コロイド系フォトレジスト等を塗布し、乾燥する。その後、その表面には、上述したような表側孔部の形状パターンを形成したフォトマスクを密着させ、裏面には、裏側孔部の形状パターンを形成したフォトマスクを密着させ、高圧水銀等の紫外線によって露光し、水で現像する。なお、表側孔部のパターンを形成したフォトマスクと、裏側孔部のパターンを形成したフォトマスクの位置関係およびその形状は、得られるシャドウマスクに形成された表側孔部と裏側孔部との位置関係およびそれらの大きさに考慮して設計され、配置される。レジスト膜画像で周囲がカバーされた金属の露出部分は、各部のエッチング進行速度の相違に基づいて、上述したような各々の形状で形成される。なお、エッチング加工は、熱処理等された後、両面側から塩化第二鉄溶液をスプレー等して行われる。その後、水洗い、剥離等の後工程を連続的に行うことによってシャドウマスクが製造される。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の第１形態に係るシャドウマスクの一例を示す平面図（Ａ）、及び、対角軸外周部に形成されたスロット形状の一例を示す拡大平面図（Ｂ）である。
【図２】本発明の第１形態に係るシャドウマスクの他の一例を示す平面図である。
【図３】本発明の第２形態に係るシャドウマスクの一例を示す平面図（Ａ）、及び、対角軸外周部に形成されたスロット形状の一例を示す拡大平面図（Ｂ）である。
【図４】シャドウマスクの各部に形成されているスロットの位置関係を説明する模式的な平面図である。
【図５】マスク本体の各部に形成されるスロットの形状を示す模式的な平面図である。
【図６】従来のスロット形状を示す正面図である。
【図７】電子ビームの挙動を示す図６のＡ−Ａ線断面図である。
【図８】薄型カラーブラウン管の概略構造を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４３】
１，２１，４１，５１  シャドウマスク
１ａ，２２  マスク本体
２，２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ  スロット
３，２４  水平軸
４，２５  垂直軸
５，２６，２７  対角軸
６  中心（中心点）
７，７ａ，７ｂ  電子ビーム
８  波線部分
１１  貫通孔
１１ａ，４３  膨出部
１２  表側孔部
１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ  表側孔部の輪郭をなす辺
１３  裏側孔部
１４，１５  表側孔部の側壁
１６，１７  裏側孔部の側壁
２３，２３ａ，２３ｂ，２３ｃ  スロット
２８  中心
２９  ブリッジ部
３１  貫通孔
３２  表側孔部
３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ  表側孔部の輪郭をなす辺
３３  裏側孔部
θ  入射角
Ｘ  水平方向
Ｙ  垂直方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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