(57)【要約】【課題】  表面が平坦化された塗布膜を得るための電気光学装置用基板製造方法、電気光学装置用基板製造装置、及び電気光学装置製造方法を提供すること。【解決手段】  電気光学装置用基板の製造方法であって、前記電気光学装置用基板上に粘度が２ｍPa・s以上３０ｍPa・s以下の塗布材料を塗布して塗布膜を成膜する工程（Ｓ２）と、前記塗布工程後、前記塗布膜に対し振動波長が０．１μｍ以上０．５μｍ以下となる振動を与える工程（Ｓ３）と、前記振動工程後、又は前記振動工程と同時に前記塗布膜を乾燥する工程（Ｓ４）とを具備する。【選択図】  図４
2006071860.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記電気光学装置用基板上に粘度が２ｍPa・s以上３０ｍPa・s以下の塗布材料を塗布して塗布膜を成膜する工程と、
前記塗布工程後、前記塗布膜に対し振動波長が０．１μｍ以上０．５μｍ以下となる振動を与える工程と、
前記振動工程後、又は前記振動工程と同時に前記塗布膜を乾燥する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置用基板製造方法。
【請求項２】
前記振動を与える工程は、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下の周波数の光を前記塗布膜に照射するものであることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置用基板製造方法。
【請求項３】
前記振動を与える工程は、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下の周波数の音波による振動を与えるものであることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置用基板製造方法。
【請求項４】
前記振動を与える工程は、前記振動を与えながら、又は前記振動を与える前後に、前記電気光学装置用基板に対して水平方向に、該電気光学装置用基板を振動させる工程を含むものであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板製造方法。
【請求項５】
前記水平方向の振動は、該水平方向の面上で複数の方向に振動するものであることを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置用基板製造方法。
【請求項６】
前記乾燥する工程は、前記電気光学装置用基板を収容し、該電気光学装置用基板を収容した収容器内を減圧する工程を含むものであり、
前記振動を与える工程は、前記減圧する工程と同時に該減圧する際の気流の流れにより前記収容器内に設けられた弁を振動させ、前記収容器内の気体を介して前記塗布膜を振動させるものであることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板製造方法。
【請求項７】
電気光学装置用基板を製造する為の装置であって、
塗布膜が成膜された前記電気光学装置用基板を収容する収容器と、
前記塗布膜に対し振動を与える第１振動機構と
前記塗布膜が成膜された前記電気光学装置用基板を水平方向に振動させる第２振動機構とを具備することを特徴とする電気光学装置用基板製造装置。
【請求項８】
前記第２振動機構は、前記水平方向で複数の方向に振動可能であることを特徴とする請求項７記載の電気光学装置用基板製造装置。
【請求項９】
前記収容器内を減圧する減圧機構を更に具備し、
前記収容器は、前記減圧機構により前記収容器内を排気する際に生じる気流により、前記収容器内の気体を介して前記塗布膜を振動させる弁を有することを特徴とする請求項７または請求項８記載の電気光学装置用基板製造装置。
【請求項１０】
基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記基板上に粘度が２ｍPa・s以上３０ｍPa・s以下の塗布材料を塗布して塗布膜を成膜する工程と、
前記塗布工程後、前記塗布膜に対し振動波長が０．１μｍ以上０．５μｍ以下となる振動を与える工程と、
前記振動工程後、又は前記振動工程と同時に前記塗布膜を乾燥する工程とを具備することを特徴とする電気光学装置製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
塗布膜を有する電気光学装置用基板製造方法、その電気光学装置用基板製造方法を用いた電気光学装置用基板製造装置及び電気光学装置製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気光学装置、例えばカラー液晶装置は、カラーフィルタ基板と対向基板との間に液晶が挟持されてなる。カラーフィルタ基板は、基板と、該基板上に設けられたＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の着色層と、これら着色層の表面の凹凸を覆って平坦化するオーバーコート層と、オーバーコート層上に設けられた電極とを有する。オーバーコート層は、基板上にオーバーコート材料を塗布し、乾燥して形成する。オーバーコート材料を塗布して成膜されたオーバーコート塗布膜の表面は、下層にある着色層表面の凹凸の影響で凹凸が生じている。そのため、この凹凸が生じた状態でオーバーコート塗布膜を乾燥してオーバーコート層を形成すると、表面が平坦化されていない凹凸のあるオーバーコート層が形成される。このようなオーバーコート層を有する液晶装置では、基板面内において液晶層厚みが不均一となり、表示むらが生じて表示特性の悪化を招いていた。このような問題を解決するために、例えば塗布膜を加熱することにより平坦化する技術が知られている（例えば、特許文献１参照。）  。
【特許文献１】特開平２００３−２１８２７号公報（段落[０００７]）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、加熱処理による塗布膜の平坦化は、塗布膜の下層の材料によっては熱耐性が低く、その特性が変化するなどして好ましくない場合がある。
【０００４】
また、平坦化の手段として塗布膜に振動を加えることも考えられるが、その平坦度は塗布膜の粘度、塗布膜に対して与える振動の振動波長によって異なるため、振動波長が粘度に対して低すぎると平坦化を十分に図ることができず、また、振動波長が粘度に対して高すぎると表面が波打ってしまうため却って平坦化を阻害してしまうという問題があった。
【０００５】
本発明は、上述の課題に鑑みてなされたもので、加熱処理することなく、表面が平坦化された塗布膜を得るための最適な条件の電気光学装置用基板製造方法、電気光学装置用基板製造装置、及び電気光学装置製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の基板製造方法は、電気光学装置用基板の製造方法であって、前記電気光学装置用基板上に粘度が２ｍPa・s以上３０ｍPa・s以下の塗布材料を塗布して塗布膜を成膜する工程と、前記塗布工程後、前記塗布膜に対し振動波長が０．１μｍ以上０．５μｍ以下となる振動を与える工程と、前記振動工程後、又は前記振動工程と同時に前記塗布膜を乾燥する工程とを具備することを特徴とする。
【０００７】
本発明のこのような構成によれば、塗布膜の粘度、塗布膜に対して与える振動の振動波長を規定することにより、振動を与えられた塗布膜はその運動エネルギーが増大し、粘性が低くなって、塗布膜は効率良く平坦化される。そして、例えば、電気光学装置としての液晶装置は、基板面内における液晶厚みの均一性が表示特性に大きく影響するので、本発明の電気光学装置用基板製造方法により製造された基板を用いることにより、表示特性の良い液晶装置を得ることができる。
【０００８】
また、前記振動を与える工程は、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下の周波数の光を前記塗布膜に照射するものであることを特徴とする。
【０００９】
このように、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下以下の周波数の光、例えば赤外線などを塗布膜に照射することにより塗布膜に対して振動を与えることができる。
【００１０】
また、前記振動を与える工程は、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下の周波数の音波による振動を与えるものであることを特徴とする。
【００１１】
このように、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下の周波数の音波により、塗布膜に対して振動を与えることができる。
【００１２】
また、前記振動を与える工程は、前記振動を与えながら、又は前記振動を与える前後に、前記電気光学装置用基板に対して水平方向に、該電気光学装置用基板を振動させる工程を含むものであることを特徴とする。
【００１３】
このような構成によれば、塗布膜に対して水平方向に振動を与えることにより、凹凸を有する塗布膜の平坦化を促進することができる。振動工程前の塗布膜の凹凸は水平方向とほぼ直交する方向に生じるので、振動方向が水平方向となるように塗布膜に振動を与えることにより、振動工程前の塗布膜の凸部に位置する塗布材料は凹部に流れ込み、効率よく、塗布膜表面を平坦化することができる。また、水平振動を行うタイミングは、塗布膜に対し振動を与える時と同じタイミングであっても、塗布膜に対し振動を与えるタイミングの前後でも良い。
【００１４】
また、前記水平方向の振動は、該水平方向の面上で複数の方向に振動するものであることを特徴とする。
【００１５】
このような構成によれば、塗布膜に対して水平面内で複数の異なる方向に振動を与えることにより、平坦化前の塗布膜の凹凸の配置状態に影響することなく、基板面内でむらなく、かつ効率よく塗布膜表面の凹凸を平坦化することができる。
【００１６】
また、前記乾燥する工程は、前記電気光学装置用基板を収容し、該電気光学装置用基板を収容した収容器内を減圧する工程を含むものであり、前記振動を与える工程は、前記減圧する工程と同時に、該減圧する際の気流の流れにより前記収容器内に設けられた弁を振動させ、前記収容器内の気体を介して前記塗布膜を振動させるものであることを特徴とする。
【００１７】
このような構成によれば、収容器内を減圧するため排気すると、収容器内の気体は排気口に設けられている弁に衝突し、一旦、気流が弱まる。その後、弁は気流により動き、収容器の排気口を通る気体の量が増大し、気流が強まる。その後、弁が元の位置に戻り、その弁に気体が衝突することによって、再度、気流が弱まる。このように気流が弁によって繰り返し弱まったり強まったりすることにより、収容器内を排気する際に生じる気流は振動し、塗布膜に対して振動を与えることができる。そして、塗布膜に対して振動を与えることにより、塗布膜を平坦化することができる。ここで、減圧する工程時の収容器内の気体とは、減圧時に収容器内に存在する気体であり、例えば、大気や不活性ガス等が挙げられる。
【００１８】
本発明の電気光学装置用基板製造装置は、電気光学装置用基板を製造する為の装置であって、塗布膜が成膜された前記電気光学装置用基板を収容する収容器と、前記塗布膜に対し振動を与える第１振動機構と前記塗布膜が成膜された前記電気光学装置用基板を水平方向に振動させる第２振動機構とを具備することを特徴とする。
【００１９】
本発明のこのような構成によれば、塗布膜に対して振動を与える第１振動機構に加え、電気光学装置用基板を水平方向に振動させる第２振動機構を設けることにより、塗布膜の平坦化を促進することができる。振動工程前の塗布膜の凹凸は水平方向とほぼ直交する方向に生じるので、振動方向が水平方向となるように塗布膜に振動を与えることにより、振動工程前の塗布膜の凸部に位置する塗布材料は凹部に流れ込み、効率よく、塗布膜表面を平坦化することができる。
【００２０】
また、前記第２振動機構は、前記水平方向で複数の方向に振動可能であることを特徴とする。
【００２１】
このような構成によれば、塗布膜に対して水平面内で複数の異なる方向に振動を与えることができるので、平坦化前の塗布膜の凹凸の配置状態に影響することなく、基板面内でむらなく、かつ効率よく塗布膜表面の凹凸を平坦化することができる。
【００２２】
また、前記収容器内を減圧する減圧機構を更に具備し、前記収容器は、前記減圧機構により前記収容器内を排気する際に生じる気流により、前記収容器内の気体を介して前記塗布膜を振動させる弁を有することを特徴とする。
【００２３】
このような構成によれば、収容器内を減圧するため排気すると、収容器内の気体は排気口に設けられている弁に衝突し、一旦、気流が弱まる。その後、弁は気流により動き、収容器の排気口を通る気体の量が増大し、気流が強まる。その後、弁が元の位置に戻り、その弁に気体が衝突することによって、再度、気流が弱まる。このように気流が弁によって繰り返し弱ったり強まったりすることにより、収容器内を排気する際に生じる気流は振動し、塗布膜に対して振動を与えることができる。そして、塗布膜に対して振動を与えることにより、塗布膜を平坦化することができる。
【００２４】
本発明の電気光学装置製造方法は、基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、前記基板上に粘度が２ｍPa・s以上３０ｍPa・s以下の塗布材料を塗布して塗布膜を成膜する工程と、前記塗布工程後、前記塗布膜に対し振動波長が０．１μｍ以上０．５μｍ以下となる振動を与える工程と、前記振動工程後、又は前記振動工程と同時に前記塗布膜を乾燥する工程とを具備することを特徴とする。
【００２５】
本発明のこのような構成によれば、塗布膜の粘度、塗布膜に対して与える振動の振動波長を規定することにより、振動を与えられた塗布膜はその運動エネルギーが増大し、粘性が低くなって、塗布膜は効率良く平坦化される。そして、例えば、電気光学装置としての液晶装置は、基板面内における液晶厚みの均一性が表示特性に大きく影響するので、本発明の電気光学装置製造方法により製造された電気光学装置を用いることにより、表示特性の良い液晶装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。なお、以下実施形態を説明するにあたっては、電気光学装置として単純マトリクス型の半透過反射型の液晶装置を例にあげるが、これに限られるものではない。また、以下の図面においては各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００２７】
（電気光学装置用基板及び電気光学装置）
【００２８】
図１は本発明の実施形態に係わる液晶装置の概略部分断面図である。
【００２９】
図１に示すように、液晶装置１は、電気光学パネルとしての液晶パネル２と、液晶パネル２を挟み込むように設けられた一対の偏光板４０と、液晶パネル２の一方の面側に液晶パネル２と隣り合って配置されたバックライト３０とを具備する。
【００３０】
液晶パネル２は、電気光学装置用基板としてのカラーフィルタ基板４と、該カラーフィルタ基板４と所定の間隙をおいて配置された電気光学装置用基板としての対向基板３を有する。カラーフィルタ基板４と対向基板３とはシール材５０により接着され、カラーフィルタ基板４と対向基板３とシール材５０とにより囲まれた領域には電気光学物質としてのＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶５１が挟持されている。
【００３１】
カラーフィルタ基板４は、基板２０と、該基板２０上に設けられた表面に凹凸を有する樹脂層２１と、樹脂層２１の表面の凹凸に沿って成膜された反射層２２と、これら樹脂層２１及び反射層２２上に設けられたストライプ状の３色の着色層２４Ｂ（青）、２４Ｇ（緑）、２４Ｒ（赤）と、着色層２４上に設けられたオーバーコート層２５と、オーバーコート層２５上に設けられたストライプ状のセグメント電極２６、セグメント電極２６を含むオーバーコート層２５上に設けられた配向膜２７とを有する。樹脂層２１及び反射層２２は開口部２８を有しており、反射型表示を行う場合、液晶装置１に入射された外光が表面に凹凸を有する反射層２２で散乱反射してなる光を用いて表示が行われる。一方、透過型表示を行う場合では、バックライト３０から液晶パネル２に対して照射される光が表示に用いられ、バックライト３０からの光は開口部２８を通って液晶装置１から出射される。
【００３２】
対向基板３は、基板１０と、該基板１０上にセグメント電極２６と交差してストライプ状に設けられたコモン電極１１と、コモン電極１１を覆う配向膜１２とを有する。
【００３３】
バックライト３０は、光源３１と導光板３２とを有する。
【００３４】
液晶装置１においては、コモン電極１１とセグメント電極２６とが平面的に交差する部分が画素となり、画素毎に樹脂層２１及び反射層２２に設けられた開口部２８が配置されている。
【００３５】
<第１実施形態>
【００３６】
（基板製造装置）
【００３７】
次に、図２及び図３を用いて、上述の液晶装置１の構成の１つであるオーバーコート層を製造する基板製造装置としてのオーバーコート層製造装置６０、このオーバーコート層製造装置６０の一部を構成する振動、減圧乾燥ユニット６３について説明する。
【００３８】
図２はオーバーコート層製造装置６０の概略構成図、図３は振動、減圧乾燥ユニット６３の概略断面図である。
【００３９】
図２に示すように、オーバーコート層製造装置６０は、塗布ユニット６２と、振動、減圧乾燥ユニット６３を有する。塗布ユニット６２と振動、減圧乾燥ユニット６３との間には、塗布ユニット６２に収容されている被処理基板を取り出し、振動、減圧乾燥ユニット６３内へ被処理基板を搬入する搬送装置７０ａが設けられている。
【００４０】
塗布ユニット６２では、被処理基板上に塗布材料としてのオーバーコート材料が塗布され、オーバーコート塗布膜が成膜される。なお、本実施形態において、被処理基板２０ａは、基板２０上に樹脂層２１、反射層２２、着色層２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂが形成された状態である。塗布方法としては、回転している被処理基板上に塗布材料を供給して塗布膜を形成するスピンコート法、被処理基板を回転させずにノズルから塗布材料を被処理基板上に供給しながらノズルを移動させて塗布膜を形成する方法、被処理基板を回転させずにノズルから塗布材料を被処理基板上に供給しながらノズルを移動させて塗布膜を形成した後、被処理基板を回転させる方法など、既知の成膜方法を用いることができる。
【００４１】
振動、減圧乾燥ユニット６３では、被処理基板に設けられたオーバーコート塗布膜に対して光を照射することによりオーバーコート塗布膜を振動させてオーバーコート塗布膜表面を平坦化し、減圧乾燥によってオーバーコート塗布膜を乾燥しオーバーコート層を形成する。
【００４２】
図３に示すように、振動、減圧乾燥ユニット６３は、被処理基板２０ａを収容し、開閉可能な扉８１を有する収容器８０と、被処理基板２０ａを静電チャック機構により水平に保持する載置台８２と、収容器８０内を減圧し、塗布膜を乾燥する乾燥機構としての減圧機構９５と、収容器８０を常圧よりも低い圧力雰囲気から常圧雰囲気となるように加圧する加圧機構９６と、被処理基板２０ａに設けられたオーバーコート塗布膜に対して光を照射する第１振動機構としての光照射機１０７とを有する。
【００４３】
扉８１は図面上、上下に移動可能に設計されており、扉８１を上下に移動することにより扉８１の開閉が行われ、扉８１を閉めることにより収容器８０内を密閉状態とすることができる。そして、扉８１を開けて、収容器８０内外への被処理基板２０ａの搬入出を行う。
【００４４】
振動、減圧乾燥ユニット６３は、収容器８０内と通じる管９０を有している。
【００４５】
減圧機構９５は、管９０に接続されたポンプ９１を有し、このポンプ９１の稼動によって収容器８０内の雰囲気を排気する。
【００４６】
加圧機構９６は、管９０に調整弁９４を介して設けられた不活性ガス供給部９３を有する。調整弁９４の開閉により収容器８０内への不活性ガスの供給の有無を調整している。そして、調整弁９４を開け収容器８０内へ不活性ガスを供給することにより、収容器８０内を、減圧雰囲気から常圧雰囲気に変化させることができるようになっている。不活性ガスとしては例えば窒素ガスやアルゴンガスなどを用いることができ、本実施形態においては窒素ガスが用いられる。
【００４７】
ポンプ９１の稼動及び調整弁９４の開閉のタイミングは制御部９２によって制御されている。
【００４８】
光照射機１０７は、被処理基板２０ａ上に粘度が２ｍＰａ・ｓ以上３０ｍＰａ・ｓ以下の塗布材料が塗布されてなる塗布膜に対して、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下の周波数の光を照射するものである。この光照射により塗布膜に対して振動波長が０．１μｍ以上０．５μｍ以下となる振動を与えることができる。このように、塗布膜の粘度を限定し、塗布膜に対して所定の振動を与えることにより、塗布膜の運動エネルギーが増大し、塗布膜の粘性が低くなって、塗布膜を効率良く平坦化することができる。
【００４９】
（基板製造方法及び電気光学装置製造方法）
【００５０】
次に、上述の振動、減圧乾燥ユニット６３を具備するオーバーコート層製造装置６０を用いた上述の液晶装置１の製造方法について、図１から図５を用いて説明する。本実施形態においては、オーバーコート層形成時に上述のオーバーコート層製造装置６０を用いている。
【００５１】
図４はオーバーコート層製造工程を説明するフローチャート図である。図５はオーバーコート層製造工程断面図である。
【００５２】
まず、基板２０上に、表面に凹凸を有する樹脂膜を形成した後、該樹脂膜の表面上に反射膜を形成する。その後、樹脂膜及び反射膜をパターニングすることによって、開口部２８を有する樹脂層２１及び反射層２２を形成する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてストライプ状に顔料を含有する樹脂からなる着色層２４Ｂ、２４Ｇ、２４Ｒを形成し、被処理基板２０ａを得る。着色層２４は、隣り合う色が異なる着色層の境界付近で互いに重なり合っている。そのため、着色層２４の表面は凹凸を有している。
【００５３】
次に、基板２０ａを洗浄する（Ｓ１）。
【００５４】
洗浄後、基板２０ａをオーバーコート層製造装置６０の塗布ユニット６２内に搬入する。そして、図５（ａ）に示すように、基板２０ａ上に粘度が２ｍＰａ・ｓ以上３０ｍＰａ・ｓ以下の塗布材料としてのオーバーコート材料を塗布し、オーバーコート塗布膜２５´´を形成する（Ｓ２）。オーバーコート塗布膜２５´´は、その下層に位置する着色層２４の表面の凹凸に影響されて、表面が凹凸を有している。
【００５５】
その後、搬送装置７０ａを用いて、塗布ユニット６２内に収容されているオーバーコート塗布膜２５´´が成膜されている被処理基板２０ａを取り出し、扉８１を開けた振動、減圧乾燥ユニット６３内へ被処理基板２０ａを搬入する。
【００５６】
振動、減圧乾燥ユニット６３内で、被処理基板２０ａは、載置台８２上に水平に配置され、静電チャック機構により固定される。そして、扉８１が閉じ、振動、減圧乾燥ユニット６３の収容器８０内は密閉状態となる。この際、調整弁９４は閉じており、ポンプ９１は非稼動状態となっている。その後、光照射機１０７を稼動し、被処理基板２０ａ上に設けられているオーバーコート塗布膜２５´´に対して、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下の周波数の光を照射する（Ｓ３）。この光照射によりオーバーコート塗布膜２５´´は振動し、図５（ｂ）に示すように、被処理基板２０ａ上に成膜されているオーバーコート塗布膜２５´の表面は平坦化される。光照射による振動処理後、光照射機１０７の稼動を停止する。
【００５７】
振動工程後、制御部９２によって吸引圧力が制御されたポンプ９１が稼動し、収容器８０内の雰囲気を吸引して収容器８０内を減圧し、所定の減圧雰囲気となった時点で、制御部９２によってポンプ９１の稼動が停止される。このように、収容器８０内を常圧よりも低い減圧雰囲気とすることにより、被処理基板２０ａ上に成膜されたオーバーコート塗布膜の溶剤が蒸発し、オーバーコート塗布膜が乾燥して（Ｓ４）、オーバーコート層２５を得ることができる。
【００５８】
減圧乾燥工程後、制御部９２によって調整弁９４があけられ、不活性ガス供給部９３から窒素ガスが管９０を介して収容器８０内に供給される。これにより、収容器８０内の減圧状態が解放され、常圧状態に戻すことができる。その後、扉８１が開き、静電チャックが開放されて、被処理基板２０ａは載置台８２から離間可能となる。そして、振動、減圧乾燥ユニット６３から被処理基板２０ａは搬出される。
【００５９】
次に、オーバーコート層２５上にセグメント電極２６をパターニング形成し、更に、配向膜２７を形成して、カラーフィルタ基板４を製造する。
【００６０】
一方、対向基板３は、既知の製法にて製造する。その後、カラーフィルタ基板４と対向基板３とを所定の間隙をおいてシール材５０を介して貼り合わせ、カラーフィルタ基板４、対向基板３及びシール材５０により囲まれた空間内に液晶５１を注入して、液晶パネル２を製造する。次に、液晶パネル２を挟み込むように一対の偏光板４０を設け、バックライト３０を配置して液晶装置１が製造される。
【００６１】
以上のように、オーバーコート塗布膜に光照射による振動を与えることにより平坦化されたオーバーコート層を得ることができる。このような平坦化されたオーバーコート層を有する液晶装置は、液晶装置としたときに画素に対応する液晶層の厚みが基板面内均一となるので、表示むらのない表示特性の良い液晶装置を得ることができる。
【００６２】
なお、本実施形態においては、粘度が２ｍＰａ・ｓ以上３０ｍＰａ・ｓ以下の塗布膜に対して振動波長が０．１μｍ以上０．５μｍ以下となる振動を与える第１振動機構として、光照射機を例にあげたが、これに限定されるものではない。例えば、第１振動機構として音波発生機を用い、音波を塗布膜に与えても良く、この場合、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下の周波数の音波を塗布膜に与えれば良い。
【００６３】
<第２実施形態>
【００６４】
（基板製造装置）
【００６５】
本実施形態においては、第１実施形態の構成に加え、第２振動機構として、載置台を水平に振動させる水平振動機構を設けている。以下、図２及び図６を用いて説明するが、第１実施形態と同様の構成については説明を省略し、異なる構成について主に説明する。
【００６６】
図２は基板製造装置としてのオーバーコート層製造装置１６０の概略構成図、図６は振動、減圧乾燥ユニット１６３の概略断面図である。
【００６７】
図２に示すように、オーバーコート層製造装置１６０は、塗布ユニット６２と、振動、減圧乾燥ユニット１６３を有する。塗布ユニット６２と振動、減圧乾燥ユニット１６３との間には、塗布ユニット６２に収容されている被処理基板を取り出し、振動、減圧乾燥ユニット１６３内へ被処理基板を搬入する搬送装置７０ａが設けられている。
【００６８】
振動、減圧乾燥ユニット１６３では、オーバーコート塗布膜を有する被処理基板を振動させることによりオーバーコート塗布膜表面を平坦化し、減圧乾燥によってオーバーコート塗布膜を乾燥しオーバーコート層を形成する。
【００６９】
図６に示すように、振動、減圧乾燥ユニット１６３は、被処理基板２０ａを収容し、開閉可能な扉８１を有する収容器８０と、被処理基板２０ａを静電チャック機構により水平に保持する載置台８２と、収容器８０内を減圧して塗布膜を乾燥する乾燥機構としての減圧機構９５と、収容器８０を常圧よりも低い圧力雰囲気から常圧雰囲気となるように加圧する加圧機構９６と、被処理基板２０ａに設けられたオーバーコート塗布膜に対して光を照射する第１振動機構としての光照射機１０７と、載置台８２を水平方向に振動させる水平振動機構１００とを有する。
【００７０】
水平振動機構１００は、載置台８２を水平方向に振動させるものであり、載置台８２を振動させることにより間接的に被処理基板２０ａの塗布膜に振動を与え、塗布膜を平坦化するものである。水平振動機構１００により、被処理基板２０ａに対して、水平方向、言い換えると、図面上ｘｚ平面方向に振動が与えられる。振動機構１００は、被処理基板２０ａに対して、ｘｚ平面内において、複数の方向に振動を与えることが可能である。例えば、図面、ｘ軸方向に振動を加えた後、ｚ軸方向に振動を加えるなど、基板の水平面内にて異なる方向に振動を与えることができる。
【００７１】
このように、第１振動機構としての光照射機１０７に加え、第２振動機構として水平振動機構１００を設けることにより、より塗布膜の平坦化を促進することができ、平坦化処理時間を短縮することができる。すなわち、平坦化処理前の塗布膜の凹凸は水平方向とほぼ直交する方向（図３上、ｙ軸方向）に生じるので、照射機１０７による光照射によって塗布膜の運動エネルギーを増大させその粘性を低下させるのに加え、水平振動機構１００により塗布膜を水平方向に振動させることにより、平坦化前の塗布膜の凸部分の塗布材料が凹部分にスムーズに流れることとなり、効率良く塗布膜表面の凹凸を平坦化することができる。更に、水平面内で複数の異なる方向に振動が与えられるように水平振動機構１００を設けることにより、平坦化前の塗布膜の凹凸の配置状態に影響することなく、基板面内でむらなく、かつ効率よく塗布膜表面の凹凸を平坦化することができる。
【００７２】
（基板製造方法及び電気光学装置製造方法）
【００７３】
次に、上述の振動、減圧乾燥ユニット１６３を具備するオーバーコート層製造装置１６０を用いた上述の液晶装置１の製造方法について、図１、図２、図５、図６、図７（ａ）を用いて説明する。本実施形態においては、オーバーコート層形成時に上述のオーバーコート層製造装置１６０を用いている。
【００７４】
図７（ａ）はオーバーコート層製造工程を説明するフローチャート図である。
【００７５】
まず、基板２０上に、表面に凹凸を有する樹脂膜を形成した後、該樹脂膜の表面上に反射膜を形成する。その後、樹脂膜及び反射膜をパターニングすることによって、開口部２８を有する樹脂層２１及び反射層２２を形成する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてストライプ状に顔料を含有する樹脂からなる着色層２４Ｂ、２４Ｇ、２４Ｒを形成し、被処理基板２０ａを得る。着色層２４は、隣り合う色が異なる着色層の境界付近で互いに重なり合っている。そのため、着色層２４の表面は凹凸を有している。
【００７６】
次に、基板２０ａを洗浄する（Ｓ１）。
【００７７】
洗浄後、基板２０ａをオーバーコート層製造装置１６０の塗布ユニット６２内に搬入する。そして、図５（ａ）に示すように、基板２０ａ上に塗布材料としてのオーバーコート材料を塗布し、オーバーコート塗布膜２５´´を形成する（Ｓ２）。オーバーコート塗布膜２５´´は、その下層に位置する着色層２４の表面の凹凸に影響されて、表面が凹凸を有している。
【００７８】
その後、搬送装置７０ａを用いて、塗布ユニット６２内に収容されているオーバーコート塗布膜２５´´が成膜されている被処理基板２０ａを取り出し、扉８１を開けた振動、減圧乾燥ユニット１６３内へ被処理基板２０ａを搬入する。
【００７９】
振動、減圧乾燥ユニット１６３内で、被処理基板２０ａは、載置台８２上に水平に配置され、静電チャック機構により固定される。そして、扉８１が閉じ、振動、減圧乾燥ユニット１６３の収容器８０内は密閉状態となる。この際、調整弁９４は閉じており、ポンプ９１、水平振動機構１００は非稼動状態となっている。その後、光照射機１０７を稼動し、被処理基板２０ａ上に設けられているオーバーコート塗布膜２５´´に対して、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下の周波数の光を照射しつつ、水平振動機構１００を稼動して載置台８２を水平に振動させる（Ｓ３）。更に、水平振動機構１００により、水平面内で複数の異なる振動方向に、オーバーコート塗布膜２５´´に対して振動を与えている。例えば、本実施形態においては、図３において、オーバーコート塗布膜２５´´に対してｘ軸方向に振動を与えた後、ｚ軸方向に振動を与えた。振動処理後、光照射機１０７及び水平振動機構１００の稼動を停止する。
【００８０】
このように、光照射によりオーバーコート塗布膜２５´´は振動し、その運動エネルギーが増大して粘性が低下し、オーバーコート塗布膜２５´´が平坦化される。これに加え、水平振動機構１００によるオーバーコート塗布膜２５´´の水平振動により、更に平坦化が促進され、平坦化処理を短縮することができる。すなわち、平坦化処理前のオーバーコート塗布膜の凹凸は水平方向とほぼ直交する方向（図３上、ｙ軸方向）に生じるので、オーバーコート塗布膜に対して水平振動を与えることにより、平坦化前のオーバーコート塗布膜の凸部分の塗布材料が凹部分にスムーズに流れることとなり、効率良くオーバーコート塗布膜表面の凹凸を平坦化することができる。更に、水平面内で複数の異なる方向に振動が与えられるように水平振動機構１００を設けることにより、基板面内でむらなく、かつ効率よく塗布膜表面の凹凸を平坦化することができる。
【００８１】
振動工程後、制御部９２によって吸引圧力が制御されたポンプ９１が稼動し、収容器８０内の雰囲気を吸引して収容器８０内を減圧し、所定の減圧雰囲気となった時点で、制御部９２によってポンプ９１の稼動が停止される。このように、収容器８０内を常圧よりも低い減圧雰囲気とすることにより、被処理基板２０ａ上に成膜されたオーバーコート塗布膜の溶剤が蒸発し、オーバーコート塗布膜が乾燥して（Ｓ４）、オーバーコート層２５を得ることができる。
【００８２】
減圧乾燥工程後、制御部９２によって調整弁９４があけられ、不活性ガス供給部９３から窒素ガスが管９０を介して収容器８０内に供給される。これにより、収容器８０内の減圧状態が解放され、常圧状態に戻すことができる。その後、扉８１が開き、静電チャックが開放されて、被処理基板２０ａは載置台８２から離間可能となる。そして、振動、減圧乾燥ユニット６３から被処理基板２０ａは搬出される。
【００８３】
次に、オーバーコート層２５上にセグメント電極２６をパターニング形成し、更に、配向膜２７を形成して、カラーフィルタ基板４を製造する。
【００８４】
一方、対向基板３は、既知の製法にて製造する。その後、カラーフィルタ基板４と対向基板３とを所定の間隙をおいてシール材５０を介して貼り合わせ、カラーフィルタ基板４、対向基板３及びシール材５０により囲まれた空間内に液晶５１を注入して、液晶パネル２を製造する。次に、液晶パネル２を挟み込むように一対の偏光板４０を設け、バックライト３０を配置して液晶装置１が製造される。
【００８５】
以上のように、オーバーコート塗布膜に振動を与えることにより塗布膜を平坦化することができ、このような平坦化処理が施されたオーバーコート層を有する液晶装置は、液晶装置としたときに画素に対応する液晶層の厚みが基板面内均一となるので、表示むらのない表示特性の良い液晶装置を得ることができる。
【００８６】
本実施形態においては、光照射による振動と、水平振動機構による振動のタイミングを同じタイミングで行っているが、図７（ｂ）、図７（ｃ）に示す様に、光照射による振動の前後に水平振動機構による振動を塗布膜に対して与えても良い。
【００８７】
図７（ｂ）、（ｃ）は振動のタイミングの変形例を説明するための製造フローチャート図である。以下、これらの図を用いて説明するが、上述の実施形態と同様の構成については説明を省略し、異なる構成についてのみ説明する。
【００８８】
図７（ｂ）に示す様に、オーバーコート材料塗布（Ｓ２）後、光照射機により塗布膜に対して光を照射する（Ｓ３）。その後、水平振動機構により塗布膜に対して水平振動を与える（Ｓ４）。その後、減圧乾燥を行う（Ｓ５）。
【００８９】
図７（ｃ）に示す様に、オーバーコート材料塗布（Ｓ２）後、水平振動機構により塗布膜に対して水平振動を与える（Ｓ３）。その後、光照射機により塗布膜に対して光を照射する（Ｓ４）。その後、減圧乾燥を行う（Ｓ５）。
【００９０】
なお、本実施形態においても、第１実施形態と同様に、第１振動機構として音波発生機を用い、音波による振動を塗布膜に与えても良い。また、本実施形態においては、光照射手段と水平振動機構の２つの振動機構を用いた場合について説明したが、水平振動機構のみでも塗布膜の平坦化が可能である。
【００９１】
<第３実施形態>
【００９２】
（基板製造装置）
【００９３】
本実施形態においては、第１実施形態の構成に加え、収容器内を排気する際の排気口付近に弁を設けている。以下、図２及び図８を用いて説明するが、第１実施形態と同様の構成については説明を省略し、異なる構成について主に説明する。
【００９４】
図２はオーバーコート層製造装置２６０の概略構成図である。図８（ａ）は振動、減圧乾燥ユニット２６３の概略断面図であり、図８（ｂ）は振動、減圧乾燥ユニット２６３の部分図であり、図８（ａ）の円Ａで囲まれた領域の拡大図である。
【００９５】
図２に示すように、オーバーコート層製造装置２６０は、塗布ユニット６２と、振動、減圧乾燥ユニット２６３を有する。塗布ユニット６２と振動、減圧乾燥ユニット２６３との間には、塗布ユニット６２に収容されている被処理基板を取り出し、振動、減圧乾燥ユニット２６３内へ被処理基板を搬入する搬送装置７０ａが設けられている。
【００９６】
振動、減圧乾燥ユニット２６３では、オーバーコート塗布膜を有する被処理基板を振動させることによりオーバーコート塗布膜表面を平坦化し、減圧乾燥によってオーバーコート塗布膜を乾燥しオーバーコート層を形成する。
【００９７】
図８に示すように、振動、減圧乾燥ユニット２６３は、被処理基板２０ａを収容し、開閉可能な扉８１を有する収容器８０と、被処理基板２０ａを静電チャック機構により水平に保持する載置台８２と、収容器８０内を減圧して塗布膜を乾燥する乾燥機構としての減圧機構９５と、収容器８０を常圧よりも低い圧力雰囲気から常圧雰囲気となるように加圧する加圧機構９６と、被処理基板２０ａに設けられたオーバーコート塗布膜に対して光を照射する第１振動機構としての光照射機１０７と、収容器８０の排気口に設けられた突起としての弁１９９とを有する。
【００９８】
弁１９９は、管９０の排気口に設けられている。弁１９９は、減圧機構９５により収容器８０内を排気する際に生じる気流により、その一端部１９８を軸として移動可能に設計されている。減圧機構９５により収容器８０内の雰囲気が排気されると、収容器８０内の気体は弁１９９に衝突し、一旦、気流が弱まる。その後、弁１９９は気体により開けられるため、気流は強くなる。その後、弁１９９が元の位置に戻ろうとし、その弁１９９に気体が衝突することによって、再度、気流が弱まる。このような繰り返しにより気流に強弱が生じて収容器８０内を排気する際に生じる気流は振動し、オーバーコート塗布膜に対して振動を与えることができる。
【００９９】
このように、第１振動機構としての光照射機１０７に加え、弁１９９を設けることにより、より塗布膜の平坦化を促進することができ、平坦化処理時間を短縮することができる。
【０１００】
（基板製造方法及び電気光学装置製造方法）
【０１０１】
次に、上述の振動、減圧乾燥ユニット２６３を具備するオーバーコート層製造装置２６０を用いた上述の液晶装置１の製造方法について、図１、図２、図５、図８、図９を用いて説明する。本実施形態においては、オーバーコート層形成時に上述のオーバーコート層製造装置２６０を用いている。
【０１０２】
図９はオーバーコート層製造工程を説明するフローチャート図である。
【０１０３】
まず、基板２０上に、表面に凹凸を有する樹脂膜を形成した後、該樹脂膜の表面上に反射膜を形成する。その後、樹脂膜及び反射膜をパターニングすることによって、開口部２８を有する樹脂層２１及び反射層２２を形成する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてストライプ状に顔料を含有する樹脂からなる着色層２４Ｂ、２４Ｇ、２４Ｒを形成し、被処理基板２０ａを得る。着色層２４は、隣り合う色が異なる着色層の境界付近で互いに重なり合っている。そのため、着色層２４の表面は凹凸を有している。
【０１０４】
次に、基板２０ａを洗浄する（Ｓ１）。
【０１０５】
洗浄後、基板２０ａをオーバーコート層製造装置２６０の塗布ユニット６２内に搬入する。そして、図５（ａ）に示すように、基板２０ａ上に塗布材料としてのオーバーコート材料を塗布し、オーバーコート塗布膜２５´´を形成する（Ｓ２）。オーバーコート塗布膜２５´´は、その下層に位置する着色層２４の表面の凹凸に影響されて、表面が凹凸を有している。
【０１０６】
その後、搬送装置７０ａを用いて、塗布ユニット６２内に収容されているオーバーコート塗布膜２５´´が成膜されている被処理基板２０ａを取り出し、扉８１を開けた振動、減圧乾燥ユニット２６３内へ被処理基板２０ａを搬入する。
【０１０７】
振動、減圧乾燥ユニット２６３内で、被処理基板２０ａは、載置台８２上に水平に配置され、静電チャック機構により固定される。そして、扉８１が閉じ、振動、減圧乾燥ユニット２６３の収容器８０内は密閉状態となる。この際、調整弁９４は閉じており、ポンプ９１は非稼動状態となっている。その後、光照射機１０７を稼動し、被処理基板２０ａ上に設けられているオーバーコート塗布膜２５´´に対して、３ＧＨｚ以上６００ＴＨｚ以下の周波数の光を照射する。この光照射と同時に、制御部９２によって吸引圧力が制御されたポンプ９１を稼動し、収容器８０内の雰囲気を吸引して収容器８０内を減圧する（Ｓ３）。この減圧処理により、オーバーコート塗布膜２５´´の乾燥を行いつつ、オーバーコート塗布膜２５´´に対して振動を与えることができる。すなわち、弁１９９は、減圧機構９５により収容器８０内を排気する際に振動し、弁１９９の振動により気流に振動を与え、オーバーコート塗布膜２５´´に対して振動を与えることができる。このように、光照射による振動に加え、弁１９９による振動を塗布膜に対して与えることにより、平坦化がより促進され、平坦化処理時間を短縮することができる。
【０１０８】
その後、オーバーコート塗布膜２５´´が完全に乾燥する前に、光照射機１０７の稼動を停止して光照射による振動処理を終了する。光照射による振動処理終了後も減圧乾燥処理は継続され、所定の減圧雰囲気となった時点で、制御部９２によってポンプ９１の稼動が停止される。このように、収容器８０内を常圧よりも低い減圧雰囲気とすることにより、被処理基板２０ａ上に成膜されたオーバーコート塗布膜の溶剤が蒸発し、オーバーコート塗布膜が乾燥して（Ｓ４）、オーバーコート層２５を得ることができる。
【０１０９】
減圧乾燥工程後、制御部９２によって調整弁９４があけられ、不活性ガス供給部９３から窒素ガスが管９０を介して収容器８０内に供給される。これにより、収容器８０内の減圧状態が解放され、常圧状態に戻すことができる。その後、扉８１が開き、静電チャックが開放されて、被処理基板２０ａは載置台８２から離間可能となる。そして、振動、減圧乾燥ユニット２６３から被処理基板２０ａは搬出される。
【０１１０】
次に、オーバーコート層２５上にセグメント電極２６をパターニング形成し、更に、配向膜２７を形成して、カラーフィルタ基板４を製造する。
【０１１１】
一方、対向基板３は、既知の製法にて製造する。その後、カラーフィルタ基板４と対向基板３とを所定の間隙をおいてシール材５０を介して貼り合わせ、カラーフィルタ基板４、対向基板３及びシール材５０により囲まれた空間内に液晶５１を注入して、液晶パネル２を製造する。次に、液晶パネル２を挟み込むように一対の偏光板４０を設け、バックライト３０を配置して液晶装置１が製造される。
【０１１２】
以上のように、オーバーコート塗布膜に振動を与えることにより塗布膜を平坦化することができ、このような平坦化処理が施されたオーバーコート層を有する液晶装置は、液晶装置としたときに画素に対応する液晶層の厚みが基板面内均一となるので、表示むらのない表示特性の良い液晶装置を得ることができる。
【０１１３】
なお、本実施形態においても、第１実施形態と同様に、第１振動機構として音波発生機を持ち、音波による振動を塗布膜に与えても良い。また、本実施形態においては、光照射手段と弁の２つの振動機構を用いた場合について説明したが、弁のみの構成でも平坦化が可能であり、減圧乾燥と同時に平坦化を行うことができる。
【０１１４】
上述の各実施形態においては、オーバーコート層の形成工程において、塗布後、塗布膜に振動を与えて塗布膜の表面を平坦化する場合を例にあげて説明しているが、これらに限定されるものではなく、あらゆる塗布膜の平坦化に本発明を適用することができる。
【０１１５】
例えば、金属膜をパターニングするときに用いるレジストマスク製造時にも適用できる。この場合、金属膜上に塗布材料としてのレジスト材料を塗布してレジスト塗布膜を成膜し、上述のようにレジスト塗布膜に振動を与える、又は、光を照射することによって、塗布膜を平坦化した後、減圧乾燥する。その後、プリベーク処理、露光処理、現像処理、ポストベーク処理を施して、レジストマスクを形成する。その後、レジストマスクを介して金属膜をエッチングし、剥離して所定の形状にパターニングされた金属膜を得る。このような場合、レジスト塗布膜が基板面内で平坦化されているので基板面内で塗布むらがないので、所望のパターンのレジストマスクを得ることができ、その結果、所望のパターン形状の金属層が得られる。
【０１１６】
また、他の例として、着色層形成時、配向膜形成時にも本発明を適用することもでき、種々の塗布膜の平坦化に本発明を適用することができる。
【０１１７】
また、上述の実施形態においては、減圧乾燥を行うユニットと、振動処理を行うユニットが同じユニットであるが、別々に設けても良い。
【０１１８】
（電子機器）
【０１１９】
次に、上述した液晶装置１を備えた電子機器について説明する。
【０１２０】
図１０は本実施形態に係る電子機器の表示制御系の全体構成を示す概略構成図である。
【０１２１】
電子機器３００は、表示制御系として例えば図１０に示すように液晶パネル２及び表示制御回路３９０などを備え、その表示制御回路３９０は表示情報出力源３９１、表示情報処理回路３９２、電源回路３９３及びタイミングジェネレータ３９４などを有する。
【０１２２】
また、液晶パネル２上は、その表示領域Ｇを駆動する駆動回路３６１を有する。
【０１２３】
表示情報出力源３９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備えている。更に表示情報出力源３９１は、タイミングジェネレータ３９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路３９２に供給するように構成されている。
【０１２４】
また、表示情報処理回路３９２はシリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３６１へ供給する。駆動回路３６１は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路３９３は、上述した各構成要素に夫々所定の電圧を供給する。
【０１２５】
このような電子機器３００は、表示むらのない良好な表示画面を有する。
【０１２６】
具体的な電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピュータなどの他に液晶装置が搭載されたタッチパネル、プロジェクタ、液晶テレビやビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上述した例えば液晶装置１が適用可能なのは言うまでもない。
【０１２７】
なお、本発明の電気光学装置は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。
【０１２８】
例えば、上述した電気光学装置はいずれも液晶パネルを有する液晶装置であるが、無機或は有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ及びＳｕｒｆａｃｅ‐Ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ‐Ｅｍｉｔｔｅｒ Ｄｉｓｐｌａｙ等）などの各種電気光学装置であってもよい。また、上記各実施形態ではパッシブマトリクス型の液晶装置を例にあげて説明したが、薄膜トランジスタ素子や薄膜ダイオード素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス型液晶装置に適用しても良い。
【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１】液晶装置の部分概略断面図。
【図２】第１、第２及び第３実施形態に係わるオーバーコート層製造装置の概略構成図。
【図３】第１実施形態に係わる振動、減圧乾燥ユニットの概略断面図。
【図４】第１実施形態に係わるオーバーコート層の製造フローチャート図。
【図５】第１実施形態に係わるオーバーコート層の製造工程図。
【図６】第２実施形態に係わる振動、減圧乾燥ユニットの概略断面図。
【図７】第２実施形態に係わるオーバーコート層の製造フローチャート図。
【図８】第３実施形態に係わる振動、減圧乾燥ユニットの概略断面図。
【図９】第３実施形態に係わるオーバーコート層の製造フローチャート図。
【図１０】実施形態に係る電子機器の表示制御系の全体構成を示す概略構成図。
【符号の説明】
【０１３０】
１  液晶装置、  ３  対向基板、  ４  カラーフィルタ基板、  ２０ａ  被処理基板、  ２５  オーバーコート層、  ２５´、２５´´  オーバーコート塗布膜、  ６０、２６０  オーバーコート層製造装置、  ６３、１６３、２６３  振動、減圧乾燥ユニット、  ８０  収容器、  １００  水平振動機構、  １０７  光照射機、  １９９  弁、  ３００  電子機器
【図１】
2006071860.tif 000003
【図２】
2006071860.tif 000004
【図３】
2006071860.tif 000005
【図４】
2006071860.tif 000006
【図５】
2006071860.tif 000007
【図６】
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【図７】
2006071860.tif 000009
【図８】
2006071860.tif 000010
【図９】
2006071860.tif 000011
【図１０】
2006071860.tif 000012