(57)【要約】【課題】角形の基板上に薄膜を形成した後に、基板周辺部に付着した不要な薄膜を除去する工程において、基板上で薄膜が残された部分と剥離された部分の境界に生じる盛り上がりの高さ、幅およびうねりを低減する薄膜除去装置を提供する。【解決手段】角形の基板上に薄膜を形成した後に、基板周辺部の不要な薄膜を除去する装置であって、少なくとも、前記角形基板の１つの主面と１つの側面が交わる直線部を覆うように配置される直線部用ノズルヘッドと、該直線部用ノズルヘッドを前記角形基板の側面に沿って相対的に平行移動する機構とを有し、前記直線部用ノズルヘッドが剥離液供給口と廃液吸引口と排気口とを具備し、前記直線部用ノズルヘッドの内面に沿って剥離液供給口から廃液吸引口に至る剥離液主流路と、それに並走する乾燥用排気流路と排気遮蔽壁とを具備するものであることを特徴とする薄膜除去装置。【選択図】図１
2006005174.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
角形の基板上に薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する装置であって、少なくとも、前記角形基板の１つの主面と１つの側面が交わる直線部を覆うように配置される直線部用ノズルヘッドと、該直線部用ノズルヘッドを前記角形基板の側面に沿って相対的に平行移動する機構とを有し、前記直線部用ノズルヘッドが、薄膜を剥離するための剥離液を主面側から供給する剥離液供給口と、前記剥離液が薄膜を溶解した後の廃液を側面側から吸引して排出する廃液吸引口と、前記角形基板と前記直線部用ノズルヘッドとに挟まれた空間に存在する気体を吸引して排気する排気口とを具備し、前記直線部用ノズルヘッドの内面に沿って前記剥離液供給口から前記廃液吸引口に至る剥離液主流路を具備し、該剥離液主流路に平行して設けられるとともに前記排気口に至る乾燥用排気流路を具備し、更に前記直線部用ノズルヘッドの内面側の外縁に、前記直線部用ノズルヘッドの外部からの気体の吸引を制限する排気遮蔽壁を具備するものであることを特徴とする薄膜除去装置。
【請求項２】
前記剥離液主流路と前記乾燥用排気流路との間に、更に剥離液副流路を有することを特徴とする請求項１に記載の薄膜除去装置。
【請求項３】
前記直線部用ノズルヘッドが、基板表面側から剥離液を供給し、基板側面から廃液吸引を行う基板表面用ノズルヘッドと、基板裏面側から剥離液を供給し、基板側面から廃液吸引を行う基板裏面用ノズルヘッドとを、少なくとも一対有するものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の薄膜除去装置。
【請求項４】
前記直線部用ノズルヘッドが、基板の表面側および裏面側からそれぞれ剥離液を供給し、基板側面から廃液吸引を行う、基板両面の薄膜を同時に剥離して除去する一体型のノズルヘッドであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の薄膜除去装置。
【請求項５】
さらに、少なくとも、前記基板の１つの主面と２つの側面が交わるコーナー部を覆うように配置されるコーナー部用ノズルヘッドを有し、該コーナー部用ノズルヘッドに、前記基板のコーナー部の主面側から薄膜を剥離する剥離液を供給する剥離液供給口と、前記基板のコーナー部の側面側から薄膜を溶解した後の剥離液を吸引して排出する廃液吸引口とを具備するものであることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の薄膜除去装置。
【請求項６】
前記コーナー部用ノズルヘッドが、該ノズルヘッドと基板の距離を一定に保つスペーサーを具備するものであることを特徴とする請求項５に記載の薄膜除去装置。
【請求項７】
前記薄膜が、レジストであることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の薄膜除去装置。
【請求項８】
角形の基板上に薄膜を形成した後に、請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の薄膜除去装置を用いて、前記形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去することを特徴とする薄膜除去方法。
【請求項９】
前記廃液吸引口からの廃液吸引量と、前記排気口からの排気流量との総和を１０ｌ/min以上とすることを特徴とする請求項８に記載の薄膜除去方法。
【請求項１０】
前記直線部用ノズルヘッドで、基板の直線部の不要な薄膜を剥離して除去し、前記コーナー部用ノズルヘッドで、基板のコーナー部の不要な薄膜を剥離して除去することを特徴とする請求項８または請求項９に記載の薄膜除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、角形の基板に、レジスト材料等を塗布して薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち基板周辺部の不要な薄膜を除去するのに用いる薄膜除去装置及び薄膜除去方法に関する。特に、本発明は、角形の基板上の薄膜を剥離せずに残す部分と剥離した部分の境界に生じる盛り上がりの高さを低く、幅を狭く、うねりを小さくすることによって、位置合わせ用のマーキングやナンバリング、バーコードなどの露光の妨げとならない半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスを提供するのに用いる薄膜除去装置及び薄膜除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造用マスク用フォトマスクブランクス、液晶パネル基板などは、角形で厚みがあるという特徴がある。現在広く使用されている半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスは、主材１５２ｍｍ×１５２ｍｍ×６．３５ｍｍｔの石英ガラス体に、Ｃｒ、ＭｏＳｉ等の遮光膜、位相シフト膜をスパッタリングなどの方法により成膜した基板に、スピン塗布法などによりレジスト材料等を塗布して薄膜を形成したものである。そして、この半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスに、パターン露光、現像などの手段を経てマスクパターン形成したものを半導体製造用マスクと称する。
【０００３】
基板にスピン塗布法などによりレジスト材料等を塗布すると、基板の表面だけでなく、側面部や裏面部などの基板周辺部にも薄膜が付着する。この基板の側面などの基板周辺部に付着した薄膜は、マスクパターンの形成の際には不要なものであるばかりか、半導体製造用マスクの製造工程やその間のフォトマスクブランクスの搬送・輸送の際や、搬送ロボットとの接触或いは搬送ケースとの接触などにより剥がれ等を起こし、それがフォトマスクブランクスの主面に付着する場合がある。この付着物は、マスクパターン形成の際、パターン欠陥を引き起こす原因となる可能性が大きく、半導体製造用マスクの品質を著しく低下させてしまう原因になるという問題があった。
【０００４】
この問題を解決するために、予め基板周辺部の薄膜を剥離して除去する薄膜除去装置が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照。）。これらの薄膜除去装置は、薄膜を剥離する剥離液を吐出・排液するノズルヘッドを、基板の側面に沿って相対的に平行移動させながら、基板周辺部の不要な薄膜を除去するものである。これらの薄膜除去装置は、装置構造を比較的単純に構築できるメリットがあり、基板の直線部分の主面や側面およびこれらの間の面取り部分（Ｃ面部）などに付着した不要な薄膜を除去するのに有効であった。
【０００５】
図１３は、従来の不要な薄膜を除去した後のフォトマスクブランクス周辺部の状態を示す概略図である。そして図１３（ａ）は、フォトマスクブランクスの周辺部を側面から見た断面図であり、図１３（ｂ）は、フォトマスクブランクスの周辺部を上から見た平面図である。
上記のような薄膜除去装置を用いて、図１３に示すようにフォトマスクブランクス２の主面の薄膜剥離部１４―４やＣ面部２０などに付着している不要な薄膜を所定の幅１４−６で除去すると、薄膜剥離部１４−４と薄膜の境界付近に、うねり１４−５のある盛り上がり１４が形成される。この盛り上がり１４は、ある高さ１４−２と幅１４−１を有するものである。そして、これよりも内側の領域が、露光可能領域１４−３となる。
【０００６】
ところで、フォトマスクを製造する際には、該フォトマスクの外周部分に、履歴等の基板情報を把握できるようにナンバリングおよびバーコード、もしくは位置合わせ用のマーキングパターンを形成する場合があり、フォトマスクブランクスの中心部から外周より２ｍｍ内側の範囲までは露光可能領域を確保しておく必要がある。前記ナンバリング等の形成工程において必要な薄膜の膜厚精度は、フォトマスクブランクス上における薄膜の目標膜厚の±１０％である。しかしながら、従来の薄膜除去装置を用いて得られるフォトマスクブランクスでは、上記盛り上がりが、外周より２ｍｍ内側のラインのきわめて近傍に位置して、前記ナンバリング等の形成工程の妨げとなる恐れがあり、前記盛り上がりの幅およびうねりを極力小さくすることが求められていた。
また、前記盛り上がりの高さが高いと、半導体製造用マスクの製造工程やその間のフォトマスクブランクスの搬送・輸送の際に、前記盛り上がりの山が崩れて発塵源となり歩留まりの低下を招くことが知られている。そのため、前記盛り上がりの高さを極力低くすることもまた求められていた。
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−２１７１８５号公報
【特許文献２】特開２００３−１０９８９６号公報
【特許文献３】特許第３０１１８０６号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたもので、角形の基板上に薄膜を形成した後に、基板の周辺部、特に、基板の直線部に付着した不要な薄膜を剥離して除去する工程において、基板上で薄膜が残された部分と剥離された部分の境界に生じる盛り上がりの高さ、幅およびうねりを低減する薄膜除去装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、角形の基板上に薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する装置であって、少なくとも、前記角形基板の１つの主面と１つの側面が交わる直線部を覆うように配置される直線部用ノズルヘッドと、該直線部用ノズルヘッドを前記角形基板の側面に沿って相対的に平行移動する機構とを有し、前記直線部用ノズルヘッドが、薄膜を剥離するための剥離液を主面側から供給する剥離液供給口と、前記剥離液が薄膜を溶解した後の廃液を側面側から吸引して排出する廃液吸引口と、前記角形基板と前記直線部用ノズルヘッドとに挟まれた空間に存在する気体を吸引して排気する排気口とを具備し、前記直線部用ノズルヘッドの内面に沿って前記剥離液供給口から前記廃液吸引口に至る剥離液主流路を具備し、該剥離液主流路に平行して設けられるとともに前記排気口に至る乾燥用排気流路を具備し、更に前記直線部用ノズルヘッドの内面側の外縁に、前記直線部用ノズルヘッドの外部からの気体の吸引を制限する排気遮蔽壁を具備するものであることを特徴とする薄膜除去装置を提供する（請求項１）。
【００１０】
このような本発明の薄膜除去装置は、基板表面の剥離状態を改善するのに特に適したものである。すなわち、本発明の薄膜除去装置は、基板の主面側から剥離液を供給し、基板の側面側から剥離液を吸引するように設計されている。そのため、剥離液供給口から供給された剥離液は、剥離液主流路に沿って基板の主面から、Ｃ面部を経て、側面へと向かって移動して不要な薄膜を剥離した後、吸引されて廃液吸引口から排出される。さらに、本発明の直線部用ノズルヘッドは乾燥用排気流路と排気遮蔽壁とを具備し、基板と直線部用ノズルヘッドとに挟まれた空間に存在する気体を、排気口から効率良く吸引して排気するように設計されている。そのため、直線部用ノズルヘッドに覆われた基板の周辺部において、一方向に安定して流れる気流が形成される。該気流の効果により、前記盛り上がりのうねりが抑制され、また、薄膜を溶解した剥離液が薄膜が残された部分と剥離された部分の境界に滞留しにくくなり、基板の乾燥が早められ、結果として前記盛り上がりの高さや幅が抑制される。
したがって、本発明の薄膜除去装置を用いれば、基板の直線部の不要な薄膜を除去する
と同時に、短時間で基板を乾燥することができる。更に、このようにして得られた基板では、薄膜を剥離せずに残す部分と剥離した部分の境界に生じる盛り上がりの高さが低く、幅が狭く、うねりが小さくなり、結果として位置合わせ用のマーキングやナンバリング、バーコードなどの基板情報等の形成を妨げない半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスを得ることができる。
【００１１】
また、本発明の薄膜除去装置は、前記剥離液主流路と前記乾燥用排気流路との間に、更に剥離液副流路を具備するものであるのが好ましい（請求項２）。
【００１２】
このように、例えば剥離液主流路に比べて基板との距離が近い剥離液副流路を、剥離液主流路に並行するように設けることにより、剥離液は表面張力によって剥離液副流路と基板側面との間で保持されて、剥離液主流路と剥離液副流路とを通過することになり、乾燥用排気流路へ進入しにくくなる。これにより、乾燥用排気流路がより効率的に機能して、基板乾燥工程の効率を上げることができる。
【００１３】
また、本発明の薄膜除去装置では、前記直線部用ノズルヘッドが、基板表面側から剥離液を供給し、基板側面から廃液吸引を行う基板表面用ノズルヘッドと、基板裏面側から剥離液を供給し、基板側面から廃液吸引を行う基板裏面用ノズルヘッドとを、少なくとも一対有するものとすることができる（請求項３）。
【００１４】
このように、基板表面用ノズルヘッドと基板裏面用ノズルヘッドとを一対有する直線部用ノズルヘッドを用いることで、基板両面の薄膜を剥離して除去することができる。これにより、基板を裏返すなどの手段を用いて基板表面と裏面とを順次処理する場合と比較して、薄膜除去処理工程に要する時間を短縮することができる。
【００１５】
また、本発明の薄膜除去装置では、前記直線部用ノズルヘッドが、基板の表面側および裏面側からそれぞれ剥離液を供給し、基板側面から廃液吸引を行う、基板両面の薄膜を同時に剥離して除去する一体型のノズルヘッドとすることもできる（請求項４）。
【００１６】
このように、基板両面の薄膜を同時に剥離して除去する一体型のノズルヘッドを用いることで、基板を裏返すなどの手段を用いて基板表面と裏面とを順次処理する場合と比較して、１回で表裏面を処理することができ、薄膜除去処理工程に要する時間を短縮することができる。
【００１７】
さらに、本発明の薄膜除去装置では、少なくとも、前記基板の１つの主面と２つの側面が交わるコーナー部を覆うように配置されるコーナー部用ノズルヘッドを有し、該コーナー部用ノズルヘッドに、前記基板のコーナー部の主面側から薄膜を剥離する剥離液を供給する剥離液供給口と、前記基板のコーナー部の側面側から薄膜を溶解した後の剥離液を吸引して排出する廃液吸引口とを具備するものであるのが好ましい（請求項５）。
【００１８】
薄膜除去装置のコーナー部用ノズルヘッドは、基板のコーナー部を覆い、基板のコーナー部の主面側から薄膜を剥離する剥離液を供給し、基板のコーナー部の側面側から剥離液を排出するように設計されている。そのため、剥離液供給口から供給された剥離液は、基板のコーナー部の主面から、コーナー部のＣ面部を経て、コーナー部の側面へと向かって移動することになり、コーナー部全体に簡単にムラなく剥離液を行き渡らせることができる。これにより、基板の直線部に加えてコーナー部、特に側面部の平面部から曲面部にかけて付着した不要な薄膜を簡単かつきれいに剥離除去することができる。
【００１９】
また、本発明は、前記コーナー部用ノズルヘッドが、該ノズルヘッドと基板の距離を一定に保つスペーサーを具備するものであるのが好ましい（請求項６）。
【００２０】
このように、コーナー部用ノズルヘッドに、該ノズルヘッドと基板の距離を一定に保つスペーサーがあれば、簡単かつ確実に基板のコーナー部とコーナー部用ノズルヘッドとの距離を一定に保つことができる。これにより、廃液吸引口からの排気は安定し、剥離液は、基板のコーナー部の主面から側面へと向って一定方向に流れることができるようになる。したがって、このようなコーナー部用ノズルヘッドを有する薄膜除去装置を用いることで、コーナー部全体にムラなく剥離液を行き渡らせることができ、コーナー部の不要な薄膜を、より確実に短時間できれいに剥離除去することができる。
【００２１】
そして、この場合、前記薄膜が、レジストとすることができる（請求項７）。
【００２２】
例えば、フォトマスクブランクスの周辺部の不要なフォトレジストが剥れてフォトマスクブランクスの主面に付着すると、マスクパターン形成の際に、パターン欠陥を引き起こし、半導体製造用マスクの品質を著しく低下させることになる。しかし、本発明の薄膜除去装置を用いれば、フォトマスクブランクスの周辺部に付着した不要なレジストをきれいに除去できるため、そのような問題も起こらず、特に、薄膜と薄膜を剥離した部分との境界に生じる盛り上がりの大きさが低減され、高品質な半導体製造用マスクを製造することができる。
【００２３】
また、本発明は、角形の基板上に薄膜を形成した後に、前記本発明の薄膜除去装置を用いて、前記形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去することを特徴とする薄膜除去方法を提供する（請求項８）。
【００２４】
このような本発明の薄膜除去方法を用いれば、基板の周辺部、特に基板の直線部に付着した不要な薄膜を、きれいに剥離して除去すると同時に、基板を短時間で乾燥することができるとともに、薄膜と薄膜を剥離した部分の境界に生じる盛り上がりを小さくすることができる。
【００２５】
また、本発明は、角形の基板上に薄膜を形成した後に、前記本発明の薄膜除去装置を用いて、前記形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する薄膜除去方法であって、前記廃液吸引口からの廃液吸引量と、前記排気口からの排気流量との総和を１０ｌ/min以上とすることを特徴とする薄膜除去方法を提供する（請求項９）。
【００２６】
このような本発明の薄膜除去方法は、特に基板を乾燥するのに適している。廃液吸引量および排気量を上げることで、廃液が迅速に吸引排出され、基板と直線部用ノズルヘッドとに挟まれた空間を通過する気体量が増えるため、基板の乾燥工程に要する時間をよりいっそう短縮することができるとともに、薄膜と薄膜を剥離した部分の境界に生じる盛り上がりを一層小さくすることができる。
【００２７】
さらに、本発明は、角形の基板上に薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する方法であって、前記直線部用ノズルヘッドで、基板の直線部の不要な薄膜を剥離して除去し、前記コーナー部用ノズルヘッドで、基板のコーナー部の不要な薄膜を剥離して除去することを特徴とする薄膜除去方法を提供する（請求項１０）。
【００２８】
このような本発明の薄膜除去方法は、コーナー部用ノズルヘッドと直線部用ノズルヘッドを組み合わせて用いることで、コーナー部を含む基板周辺部全体の不要な薄膜を、きれいに剥離除去し、短時間で基板を乾燥することを可能にする。
【発明の効果】
【００２９】
以上説明したように、本発明によれば、乾燥用排気流路と排気遮蔽壁を設けた直線部用ノズルヘッドを具備した薄膜除去装置を用いることにより、基板周辺部に付着した不要な薄膜を剥離して除去すると同時に、基板を短時間で乾燥することが可能となる。また、上記の薄膜除去装置を用いることにより、薄膜を剥離せずに残す部分と剥離された部分の境界に生じる盛り上がりの高さを低く、幅を狭く、うねりを小さくすることができ、結果として位置合わせ用のマーキングやナンバリング、バーコードなどの形成を妨げない半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
フォトマスクブランクスの周辺部に付着したレジストは、マスクパターン形成工程などの次工程以降で不要なものであるばかりか、検査器を通す際などのロボット等のハンドリングの際やケースに納めて出荷する際に、ハンドリングアームとの接触やケースとの擦れなどが原因で剥がれてフォトマスクブランクスの表面に付着し、半導体製造用マスクの製造歩留まりの低下を招く原因の一つとなっていた。また、半導体製造用マスクのメーカーが、納品されたフォトマスクブランクスを用いて半導体製造用マスクを製造する際には、各種装置でのロボットでのハンドリング時にハンドリングアームと不要なレジストの接触から発塵が生じるケースもあり、不要なレジストの除去は、半導体製造用マスクの品質の維持、歩留まり向上の意味からも重要な工程となっている。
【００３１】
また、フォトマスクを製造する際には、該フォトマスクの外周部分に、履歴等の基板情報を把握できるようにナンバリングおよびバーコード、もしくは位置合わせ用のマーキングパターンを形成する場合があり、フォトマスクブランクスの中心部から外周より２ｍｍ内側の範囲までの露光領域を確保しつつ、フォトマスクブランクス外周の薄膜を清浄に剥離して除去する必要がある。前記ナンバリング等の形成工程において必要な薄膜の膜厚精度は、フォトマスクブランクス上の薄膜の目標膜厚の±１０％である。しかしながら、従来の薄膜除去装置を用いて得られる基板では、薄膜を剥離せずに残す部分と剥離された部分の境界に生じる盛り上がりが外周より２ｍｍ内側のラインのきわめて近傍に位置することがあり、前記ナンバリング等の形成工程の妨げとなる恐れがあった。それゆえ、前記盛り上がりの幅およびうねりを極力小さくすることが求められていた。
また、前記盛り上がりの高さが高いと、半導体製造用マスクの製造工程やその間のフォトマスクブランクスの搬送・輸送の際に、前記盛り上がりの山が崩れて発塵源となり歩留まりの低下を招くことが知られている。そのため、前記盛り上がりの高さを極力低くすることもまた求められていた。
【００３２】
そこで、本発明者らは、基板表面の剥離状態の改善を図るべく鋭意検討を重ねた。その結果、前記盛り上がりの高さを低く、幅を狭く、うねりを小さくするためには、乾燥用排気流路と排気遮蔽壁を設けた直線部用ノズルヘッドを具備する薄膜除去装置を用い、好ましくは廃液吸引量および排気量を増大することにより、基板に付着した不要な薄膜を剥離して除去すると同時に、基板を迅速に乾燥すれば良いことに想到し、本発明を完成させた。
【００３３】
すなわち、本発明の薄膜除去装置は、角形の基板上に薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する装置であって、少なくとも、前記角形基板の１つの主面と１つの側面が交わる直線部を覆うように配置される直線部用ノズルヘッドと、該直線部用ノズルヘッドを前記角形基板の側面に沿って相対的に平行移動する機構とを有し、前記直線部用ノズルヘッドが、薄膜を剥離するための剥離液を主面側から供給する剥離液供給口と、前記剥離液が薄膜を溶解した後の廃液を側面側から吸引して排出する廃液吸引口と、前記角形基板と前記直線部用ノズルヘッドとに挟まれた空間に存在する気体を吸引して排気する排気口とを具備し、前記直線部用ノズルヘッドの内面に沿って前記剥離液供給口から前記廃液吸引口に至る剥離液主流路を具備し、該剥離液主流路に平行して設けられるとともに前記排気口に至る乾燥用排気流路を具備し、更に前記直線部用ノズルヘッドの内面側の外縁に、前記直線部用ノズルヘッドの外部からの気体の吸引を制限する排気遮蔽壁を具備するものである。
【００３４】
このような薄膜除去装置を用いて薄膜除去処理を行えば、基板の周辺部の不要な薄膜をきれいに除去すると同時に、基板の乾燥を効率良く行うことができる。そして、これにより、基板上で薄膜を剥離せずに残す部分と剥離された部分の境界に生じる盛り上がりの高さを低く、幅を狭く、うねりを小さくすることができ、結果として位置合わせ用のマーキングやナンバリング、バーコードなどの形成を妨げない半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスを得ることができる。
【００３５】
以下、本発明について、半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスの周辺部の不要な薄膜を除去することを例にとり説明する。尚、半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスは、石英ガラス体に、ＣｒやＭｏＳｉ等、及びその酸化膜、窒化膜、炭化膜或いは酸化窒化膜等で遮光膜や位相シフト膜を成膜した基板であり、これにレジストを塗布する。
【００３６】
前記フォトマスクブランクスにスピン塗布法などによりレジスト材料等を塗布すると、フォトマスクブランクスの表面だけでなく、次工程以降でレジストが不要な部分である側面部や裏面部などのフォトマスクブランクス周辺部にも薄膜が付着する。この不要な部分のレジストを除去するために、図２乃至図４に示すように直線部用ノズルヘッドをフォトマスクブランクスの側面に近接させ、フォトマスクブランクスの側面に対して相対的に平行移動する機構により、フォトマスクブランクスの直線部の不要なレジストを除去する工程と、図９および図１０に示すようにスペーサーでコーナー部用ノズルヘッドと基板コーナー部との距離を一定に保ちながら、フォトマスクブランクスのコーナー部の不要なレジストを除去する工程とを組み合わせて行うのが好ましい。
【００３７】
本発明の薄膜除去装置で用いる剥離液供給・排気システムについて説明する。図２は、薄膜除去装置全体を示す概略図である。この薄膜除去装置において、剥離液供給装置９は、定量ポンプ及びマスフローコントローラで構成される。剥離液供給装置９により供給された剥離液は、剥離液供給側コントロール弁７にて流量を所望の流量にコントロールされ、ノズルヘッド１の剥離液供給口に送られる。そして、ノズルヘッド１の剥離液供給口からフォトマスクブランクス２に供給された剥離液は、不要なレジストを除去した後、ノズルヘッド１の廃液吸引口から吸引して排出される。この剥離液の排出は、エジェクタ排気や真空ポンプなどを利用し、廃液を吸引する廃液吸引装置１０によって行われる。また、廃液吸引装置１０による排気は、排気量を一定に保つ廃液吸引側コントロール弁８によって調整される。この剥離液供給・廃液システムは、本発明の直線部用ノズルヘッド及び後述のコーナー部用ノズルヘッドともに共通する構成である。
【００３８】
本発明の薄膜除去装置で用いるのが好ましい直線部用ノズルヘッドの一例について説明する。
本発明の薄膜除去装置は、図２乃至図４または図６および図８に示すように、フォトマスクブランクスの１つの主面と１つの側面が交わる直線部を覆うように配置される直線部用ノズルヘッドと、該直線部用ノズルヘッドを角形のフォトマスクブランクスの側面に沿って相対的に平行移動する機構とを有し、前記直線部用ノズルヘッドに、剥離液供給口と廃液吸引口とを具備する。
【００３９】
図１乃至図４では、フォトマスクブランクス表面側を剥離する表面用ノズルヘッドと、フォトマスクブランクス裏面側を剥離する裏面用ノズルヘッドを具備して、フォトマスクブランクスの表面および裏面の不要レジストをそれぞれ除去し、フォトマスクブランクスを乾燥する薄膜除去装置を図示する。
【００４０】
図３に示すように、表面用ノズルヘッド１−１および裏面用ノズルヘッド１−２には、剥離液供給口３がフォトマスクブランクス２の主面側に設けられ、廃液吸引口４ａがフォトマスクブランクス２の側面側に設けられ、該廃液吸引口４ａからレジストを剥離した後の廃液を吸引する構造となっている。そのため、剥離液供給口３から供給された剥離液は、フォトマスクブランクス２の直線部の主面から、直線部のＣ面部を経て、直線部の側面へと向かって移動し、不要なレジストを剥離して除去した後、廃液吸引口４ａより吸引排出される。
【００４１】
図４は、直線部用ノズルヘッドとその平行移動機構を示す概略図である。ノズルヘッド保持アーム６で支持されるノズルヘッド１を、平行移動機構５により、角形のフォトマスクブランクス２の側面に沿って相対的に平行移動させる。このとき、ノズルヘッド１を平行移動させる機構は特に限定されるものではなく、ノズル又はブランクスがスライドできるようにすればよく、駆動源としては例えば、タイミングベルト及びプーリー、またはボールねじなどが考えられる。これにより、基板の直線部全体の不要な薄膜をきれいに除去することができる。ここでは、ノズルヘッドを平行移動させているが、フォトマスクブランクスを平行移動させるようにしても良い。
【００４２】
図１に直線部用ノズルヘッドのうちの表面用ノズルヘッドの正面図、側面図および断面図を示す。表面用ノズルヘッドは、フォトマスクブランクスの主面側に剥離液を供給する剥離液供給口３を備え、フォトマスクブランクスの側面側に廃液を吸引して排出する廃液吸引口４ａと、フォトマスクブランクスと表面用ノズルヘッドとに挟まれた空間の気体を吸引して排気する排気口４ｂを備える。更に、表面用ノズルヘッドの内面に沿って剥離液供給口３から廃液吸引口４ａに至る剥離液主流路１６を備え、該剥離液主流路の外側に並行して走る剥離液副流路１７を備え、さらに該剥離液副流路の外側に並行して排気口４ｂに至る乾燥用排気流路１８を備える。また、表面用ノズルヘッドの内面側の外縁に、表面用ノズルヘッド外部からの気体の吸引を制限する排気遮蔽壁１９を備える。
尚、裏面用ノズルヘッドは、表面用ノズルヘッドの上下を逆転して配置するもので、その他は表面用ノズルヘッドと同一の構造を備える。
【００４３】
乾燥用排気流路１８は、剥離液で濡れたフォトマスクブランクスを迅速に乾燥させることを目的として設けられており、排気口４ｂからの吸引によって一定方向に流れる気体がフォトマスクブランクスと表面用ノズルヘッドに挟まれた空間を通過して、フォトマスクブランクスの乾燥に寄与する。また、剥離液が一定量を超えて剥離液主流路１６および剥離液副流路１７に収容しきれない場合や、ミストが発生した場合には、乾燥用排気流路１８がそれら剥離液やミストの吸引を担当する。
【００４４】
排気遮蔽壁１９は、表面用ノズルヘッド外部からの気体の流入を制限して、表面用ノズルヘッド内部における気体の吸引を効率化する目的で設けられている。排気遮蔽壁１９が存在することにより、ミストの飛散を防止できるとともに、乾燥用排気流路１８を通過する気体の流速を速めることができ、乾燥工程をより効率的に行うことができる。仮に排気遮蔽壁１９が存在しなければ、排気口４ｂからの吸引によって表面用ノズル外部の諸方向から気体が流入して、気流の方向が一定せず、風速が低下して乾燥工程の効率が落ちることになる。
【００４５】
剥離液供給口３より供給された剥離液は、廃液吸引口４ａからの吸引によって剥離液主流路１６および剥離液副流路１７を通過しつつ、フォトマスクブランクスの周辺部の不要なレジストを剥離した後、廃液吸引口４ａから排出される。この場合、図５に示すように、剥離液副流路１７は剥離液主流路１６よりもフォトマスクブランクスに接近して設けられており、剥離液１５が一定量を超えない限りは、剥離液１５は表面張力により剥離液副流路１７とフォトマスクブランクスとの間で保持されて、乾燥用排気流路１８へ流入しない。このように剥離液の流路を剥離液主流路１６および剥離液副流路１７に制限する剥離液副流路の機能により、乾燥用排気流路１８による乾燥の効率が上がる。
【００４６】
一方、図６乃至図８では、同時に基板の表裏面の不要薄膜を除去し、基板を乾燥することが可能な表裏面一体型ノズルを具備する薄膜除去装置を図示する。
図６および図７に示すように、ノズルヘッド１には、剥離液供給口３がフォトマスクブランクス２の表面および裏面の直線部の主面側に設けられ、廃液吸引口４ａがフォトマスクブランクス２の直線部の側面側に設けられ、該廃液吸引口４ａからレジストを剥離した後の廃液を吸引する構造となっている。そのため、フォトマスクブランクス２の表面および裏面の剥離液供給口３から供給された剥離液は、フォトマスクブランクス２の主面から、Ｃ面部を経て、側面へと向かって移動し、不要なレジストを剥離して除去した後、廃液吸引口４ａより排出される。
図８は、直線部用の表裏面一体型ノズルヘッドとその平行移動機構を示す概略図である。この場合、用いるノズルヘッドを表裏面一体型のものとする他は図４と同様に構成することができる。
【００４７】
以上のような直線部用ノズルヘッドを具備する薄膜除去装置を使用する際において、該直線部用ノズルヘッド―フォトマスクブランクス側面間の好ましい距離について説明する。
フォトマスクブランクスの直線部では、図２に示すように、ノズルヘッド１の剥離液供給口と廃液吸引口が塞がらない程度の、ノズルヘッド−フォトマスクブランクス主面間距離１１及びノズルヘッド−フォトマスクブランクス側面間距離１２を保持しつつ、不要なレジストの剥離動作を行う。
【００４８】
このとき図５に示すように、ノズルヘッドの内面側の外縁は排気遮蔽壁１９を具備しており、排気遮蔽壁―基板側面間距離（ノズルヘッド―基板側面間距離１２）は、０．１−１．０ｍｍの範囲であるのが望ましく、０．１−０．５ｍｍの範囲であるのがより望ましい。この距離１２を０．１ｍｍ以上にすれば、ノズルヘッドが基板側面と接触して発塵するような事態は生じない。また、この距離１２を１．０ｍｍ以下にすれば、排気遮蔽壁１９によってノズルヘッド外部からの気体の流入を効果的に防ぐことができ、ノズルヘッド内部の気体は一方向に流れることになる。結果として、角形の基板上の薄膜を剥離せずに残す部分と剥離した部分の境界に生じる盛り上がりの高さを低く、幅を狭く、うねりを小さく維持することができる。
【００４９】
そして、以上のような直線部ノズルヘッドを具備する薄膜除去装置を用いて、フォトマスクブランクスの１つのコーナーから別のコーナーまでの直線部の薄膜除去処理を１単位とし、この処理を各直線部に対し１回又は複数回行うことにより、基板全体の直線部のレジストを剥離することができる。このとき、１つの直線部の薄膜除去処理が終わるごとに基板を９０度回転させて、次の直線部の薄膜除去処理を行うと良い。
【００５０】
次に、本発明の薄膜除去装置で用いるのが好ましいコーナー用ノズルヘッドについて説明する。
図９（ａ）は、コーナー部用ノズルヘッドを横から見た側面図であり、図９（ｂ）は、コーナー部用ノズルヘッドを下から見た背面図である。また、図１０は、フォトマスクブランクスのコーナー部を覆うように配置したコーナー部用ノズルヘッドの使用態様を示す斜視図である。
【００５１】
図９、１０に示すように、コーナー部用ノズルヘッド１ａは、角形のフォトマスクブランクス２のコーナー部の形状にフィットした形状である。そのため、このコーナー部用ノズルヘッド１ａは、フォトマスクブランクス２のコーナー部の不要なレジストを除去する際には、図１０に示すようにコーナー部全体を覆うように配置することができる。本発明では、コーナー部用ノズルヘッド１ａを用い、フォトマスクブランクス２のコーナー部全体を覆うことで、基板の側面に沿って相対的に平行移動する直線部用ノズルヘッドでは除去しきれないコーナー部全体の不要なレジストを除去する。
【００５２】
また、このコーナー部用ノズルヘッド１ａでは、剥離液供給口３がフォトマスクブランクス２のコーナー部の主面側に設けられ、廃液吸引口４ａがフォトマスクブランクス２のコーナー部の側面側に設けられている。そのため、剥離液供給口３から供給された剥離液は、フォトマスクブランクス２のコーナー部の主面から、コーナー部の面取り部を経て、コーナー部の側面へと向かって移動することができ、コーナー部全体に簡単にムラなく剥離液を行き渡らせることができる。これにより、フォトマスクブランクス２のコーナー部に付着した不要なレジストを簡単かつきれいに剥離除去することができる。
【００５３】
ここで、フォトマスクブランクスのコーナー部でも、ノズルヘッド１ａの剥離液供給口と廃液吸引口が塞がらない程度の、図２に示したようなノズルヘッド−フォトマスクブランクス主面間距離１１及びノズルヘッド−フォトマスクブランクス側面間距離１２を保持しつつ、不要なレジストの剥離動作を行う。
【００５４】
このときのノズルヘッド−フォトマスクブランクス主面間距離１１及びノズルヘッド−フォトマスクブランクス側面間距離１２は、いずれも０．１−２．０ｍｍの範囲であるのが望ましく、０．３−１．５ｍｍの範囲であるのがより望ましい。これらの距離１１，１２が、０．１ｍｍ以上あれば、廃液吸引口からの廃液の排出が充分になされ、基板表面側に剥離液がしみ出す恐れも少ない。剥離液が染み出した場合には、露光に必要とされる領域を侵す確率が若干高くなったり、露光されるエリアに影響が無くとも、フォトマスクブランクスの品質(客観的な美観も含む)の若干の低下を招くことになるが、前記距離１１，１２が、０．１ｍｍ以上あればそのような問題が生じる恐れも少ない。また、前記距離１１，１２が、２．０ｍｍ以下であれば、廃液吸引口から空気などの気体を多量に吸引してしまうといった問題が生じる恐れも少なく、剥離性能が十分に保たれる。また、廃液吸引口から空気などの気体を多量に吸引してしまうと、稀にミストが発生し、基板表面を汚してしまい、フォトマスクブランクスの品質を低下させてしまう可能性があるが、前記距離１１，１２が、２．０ｍｍ以下であれば、そのような問題が生じる恐れも少ない。また、ノズルヘッド−フォトマスクブランクス主面間距離１１及びノズルヘッド−フォトマスクブランクス側面間距離１２が、いずれも０．３−１．５ｍｍの範囲であれば、剥離液供給口からの剥離液の供給及び廃液吸引口からの廃液の排出がより安定する。
【００５５】
また、ノズルヘッドとフォトマスクブランクスの間を所定距離に保つために、コーナー部用ノズルヘッドにスペーサ１３を設けて、機械的にノズルヘッド−フォトマスクブランクス間距離が一定になるような構造体にしたり、或いは、フォトマスクブランクスのエッジ位置を検出して、ノズルヘッド−フォトマスクブランクス間距離を一定に保つようにしても良い。また、コーナー部用ノズルヘッドにスペーサーを設けた上で、フォトマスクブランクスをノズルヘッドに接地させないように端面検知センサを設けても良い。
【００５６】
図９に示したコーナー部用ノズルヘッドは、スペーサー１３を設けることで、ノズルヘッドーフォトマスクブランクス間距離を一定に保つ構造である。そして、このスペーサー１３があれば、簡単かつ確実にコーナー部とコーナー部用ノズルヘッドの距離を一定に保つことができる。これにより、廃液吸引口からの排気は安定し、剥離液は、基板のコーナー部の主面から側面へと向って一定方向に流れることができるようになる。したがって、このようなコーナー部用ノズルヘッドを有する薄膜除去装置を用いることで、コーナー部全体にムラなく剥離液を行き渡らせることができ、コーナー部の不要な薄膜を、より容易且つきれいに剥離除去することができる。
【００５７】
尚、図９に示されるコーナー部用ノズルヘッドは、フォトマスクブランクスの側面に対向する部分には、スペーサー１３を設けているものの、フォトマスクブランクスの主面に対向する部分には、スペーサー１３を設けていない。これは、石英ガラス自体の厚さは、フォトマスクブランクスごとに殆ど差が無いので、特別な調整機構を持たない装置構成としても、ノズルヘッド−フォトマスクブランクス間距離を一定に保つことができるからである。すなわち、一般的に、製品であるフォトマスクブランクスの厚さは、規格公差±１００μｍで、実質的には３０μｍ程度のバラツキしか存在していないため、特別な調整機構を持たない装置構成も可能である。もちろん、フォトマスクブランクスの主面に対向する部分にも、スペーサーを設けても良いし、特に、基板の厚さのバラツキが大きい場合などは、基板の厚さを検知し、ノズルヘッド−フォトマスクブランクス間の距離を一定に保つような機構を設けることもできる。
【００５８】
そして、以上のようなコーナー部用ノズルヘッドを備える剥離膜除去装置で、１コーナーずつ不要なレジストを剥離して除去する。すなわち、ある１つのコーナーで薄膜除去処理が終了したら、フォトマスクブランクスを９０度回転させて、その次のコーナーで薄膜除去処理を施し、４コーナー全てについて薄膜除去処理を行う。このとき、不要なレジストの除去処理は、１コーナーにつき１回行うだけでなく、複数回に分けて行っても良い。
【００５９】
尚、図１０では、一方の主面用のコーナー部用ノズルヘッドのみが示されているが、通常は、これとは反対側の主面用のコーナー部用ノズルヘッドも組み合わせて用いられる。また、両方の主面について同時に処理できるように、コの字形としたコーナー部用ノズルヘッドを用いても良い。さらに、フォトマスクブランクスを裏返す機構を用いれば、上方のみのノズルヘッドでフォトマスクブランクスの両面の薄膜除去をすることができる。
【００６０】
以上のような、直線部用ノズルヘッドとコーナー部用のノズルヘッドとを組み合わせた薄膜除去装置を用いることで、基板の直線部、コーナー部を含めた基板全体の不要な薄膜を剥離除去し、基板を乾燥することができる。
【００６１】
尚、フォトマスクブランクスの不要なレジストの除去処理は、コーナー部を先に処理し、直線部を後で処理するようにしても良いし、或いは直線部を先に処理し、コーナー部を後で処理するようにしても良い。また、コーナー部の薄膜除去処理と直線部の薄膜除去処理を複数回行うようにし、これらの処理を交互に行うようにしても良い。ただし、コーナー部の処理工程により、薄膜が残された部分と剥離された部分の境界に生じる盛り上がりの幅が２００〜４００μｍになるので、コーナー部の薄膜除去を清浄に行うためには、コーナー部の処理工程における剥離幅より、直線部の処理工程における剥離幅を若干広くして、コーナー部の処理工程によって生じた盛り上がりを直線部の処理工程によって除去するのが望ましい。なお、この方法を用いるならば、コーナー部の処理を最初に行っても、直線部の処理を最初に行っても、同様の効果を得られる。
【００６２】
また、薄膜除去処理および乾燥処理を行う際に、廃液吸引量および排気量を増加すれば、乾燥処理の効率を上げることができると共に、フォトマスクブランクス上でレジストが残された部分と剥離された部分の境界に生じる盛り上がりの高さ、幅およびうねりをよりいっそう低減することが可能となる。廃液吸引量および排気量の総和が１０ｌ/ｍｉｎになるような条件で処理を行ったところ、盛り上がりの幅１４−１について、従来の処理方法では２００−４００μｍであったものを、本発明の処理方法により７０μｍ以下に低減することができた。盛り上がりの高さについては、従来の処理方法で２−３．５μｍであったものを、本発明の処理方法により１．５μｍ以下に低減することができた。盛り上がりのうねりについては、従来の処理方法では±０．２−０．３ｍｍであったものを、±０．１ｍｍ未満に低減することができた。結果として、フォトマスクブランクスの中心部から外周より２ｍｍ内側の範囲までの露光可能領域を確保しつつ、フォトマスクブランクスの周辺部の不要な薄膜を除去することに成功し、薄膜除去工程において従来は９０％であった製品歩留まりを１００％に改善するに至った。
【００６３】
本発明の薄膜除去装置で使用される剥離液としては、除去する薄膜に応じて決定すればよく、特に限定されないが、フォトマスクブランクス上のフォトレジストを除去する場合であれば、テトラメチルスルホン、γ―ブチルラクトン、ジエチルグリコールモノエチルエーテル、ジメチルスルホキシド、酢酸シクロヘキシル、アセト酢酸エチル、ジアセトンアルコール、ジグライム、シクロヘキサノン、乳酸エチル、乳酸メチル、２−ヘプタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ピルビン酸エチル、シクロペンタノン、酢酸ブチル、イソプロパノール（ＩＰＡ）、メチルエチルケトン、エタノール、メタノール、酢酸エチル、アセトン等の有機溶剤を１種又は２種以上組合わせて使用することができる。
また、上記有機溶剤に界面活性剤を加えたものを剥離液として用いたり、乾燥時間の短縮を目的として加温した剥離液を用いてもよい。もしくは、上記いずれかの方法を組み合わせて用いてもよい。
【実施例】
【００６４】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（実施例１）
基板（１５２ｍｍ×１５２ｍｍ×６．３５ｍｍｔ）に、ｉ線用フォトレジスト材料（ＴＨＭＲ−ＩＰ３５００）をスピン塗布法により塗布して、厚さ５０００Åのレジストを有するフォトマスクブランクスを作製した。レジストの剥離に用いる剥離液としては、２−ヘプタノンとアセトンを体積比率で９対１の割合で混合した有機溶剤を用意した。
【００６５】
次に、図９に示すようなコーナー部用ノズルヘッドを用いて、フォトマスクブランクスのコーナー部の薄膜除去処理を行った。このとき目標とする剥離幅は、基板の外周から１．４ｍｍとした。１つのコーナー部についてレジストの除去処理が終了したら、フォトマスクブランクスを９０度回転させて、次のコーナー部のレジストの除去処理を行い、これを繰り返すことで、全てのコーナー部についてレジストの除去処理を行った。このとき、４つのコーナー部の全てを処理するのに要した時間は、５０秒であった。また、剥離液の供給量は、８.５ｍｌ／ｍｉｎで、廃液吸引量は、３.０ｌ／ｍｉｎであった。また、ノズルスペーサ１３は、厚さが０．５ｍｍであった。
【００６６】
更にその後、フォトマスクブランクスの直線部の薄膜除去処理を行った。このとき、表裏２つの主面を同時に処理できるように、図３に示す直線部用ノズルヘッド１−１及び１−２を具備する薄膜除去装置を用いた。そして、図４に示すような平行移動機構５により直線部用ノズルヘッド１−１及び１−２を往復動させながら、フォトマスクブランクスの直線部分の薄膜除去処理を行った。この際、１つの直線部につき２往復ずつノズルヘッドを平行移動させた。そして、これにより、基板全体の直線部の薄膜を除去した。なお、目標とする剥離幅は、基板の外周から１．５ｍｍとした。また、剥離液の供給量は表面側のノズルヘッドについて６．５ｍｌ/ｍｉｎ、裏面側のノズルヘッドについて２．０ｍｌ/ｍｉｎとした。廃液吸引量および排気流量については、表面ノズルヘッドおよび裏面ノズルヘッドともに同じ条件で、廃液吸引口４ａからの廃液吸引量は２．５ｌ/ｍｉｎ、排気口４ｂからの排気流量は、ノズルヘッドの進行方向に対して後ろ側の排気口の排気流量は３．０ｌ/ｍｉｎ、ノズルヘッドの進行方向の側の排気口の排気流量は１．０ｌ/ｍｉｎとした。このように、ノズルヘッドの進行方向側と進行方向に対して後ろ側の排気口とについて排気量に差を設けたのは、進行方向側の排気口は乾燥にはほとんど影響がなく、ミストが発生した際にこれを吸引する目的で使用したためである。したがって、表面側および裏面側のノズルの廃液吸引量と排気量の総和はそれぞれ６．５ｌ/ｍｉｎとなり、総計で１３．０ｌ/ｍｉｎとなった。また、４つの直線部の全てを処理するのに要した時間は、３分４５秒であった。
【００６７】
したがって、薄膜除去処理工程全体で要した時間は、４分３５秒であった。このときに発生した廃液は約３６ｍｌであった。
図１１は、薄膜除去処理後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した写真である。図１１を見て明らかなように、直線部(a)、(b)およびコーナー部(c)において盛り上がりの幅が狭く清浄な剥離状態の基板を得ることが出来た。
接触式の段差測定器α―step（ＫＬＡテンコール社製）を用い、盛り上がりの幅１４−１を測定したところ、各辺５箇所の計２０箇所の平均で６０μｍであった。盛り上がりの高さ１４−２の平均は１．２μｍであった。盛り上がりのうねり１４−５の平均は１．４９±０．０７ｍｍに低減されていた。
【００６８】
（実施例２）
基板（１５２ｍｍ×１５２ｍｍ×６．３５ｍｍｔ）に、ｉ線用フォトレジスト材料（ＴＨＭＲ−ＩＰ３５００）をスピン塗布法により塗布して、厚さ５０００Åのレジストを有するフォトマスクブランクスを作製した。レジストの剥離に用いる剥離液としては、２−ヘプタノンとアセトンを体積比率で９対１の割合で混合した有機溶剤を用意した。
【００６９】
次に、図９に示すようなコーナー部用ノズルヘッドを用いて、フォトマスクブランクスのコーナー部の薄膜除去処理を行った。このとき目標とする剥離幅は、基板の外周から１．４ｍｍとした。１つのコーナー部についてレジストの除去処理が終了したら、フォトマスクブランクスを９０度回転させて、次のコーナー部のレジストの除去処理を行い、これを繰り返すことで、全てのコーナー部についてレジストの除去処理を行った。このとき、４つのコーナー部の全てを処理するのに要した時間は、５０秒であった。また、剥離液の供給量は、８.５ｍｌ／ｍｉｎで、廃液吸引量は、３.０ｌ／ｍｉｎであった。また、ノズルスペーサ１３は、厚さが０．５ｍｍであった。
【００７０】
更にその後、フォトマスクブランクスの直線部の薄膜除去処理を行った。このとき、図６および図７に示すような表裏２つの主面を同時に処理可能な両面一体型ノズルを使用し、図８に示すように往復動をさせながら、フォトマスクブランクスの直線部分の薄膜除去処理を行った。この際、１つの直線部につき２往復ずつノズルヘッドを平行移動させた。そして、これにより、基板全体の直線部の薄膜を除去した。なお、目標とする剥離幅は、基板の外周から１．５ｍｍとした。また、剥離液の供給量は表面側のノズルヘッドについて６．５ｍｌ/ｍｉｎ、裏面側のノズルヘッドについて２．０ｍｌ/ｍｉｎとした。廃液吸引量および排気流量については、廃液吸引口４ａからの廃液吸引量は５．０ｌ/ｍｉｎ、排気口４ｂからの排気流量は、ノズルヘッドの進行方向に対して後ろ側の排気口の排気流量は６．０ｌ/ｍｉｎ、ノズルヘッドの進行方向の側の排気口の排気流量は２．０ｌ/ｍｉｎとした。したがって、廃液吸引量と排気量の総和は、実施例１と同じく総計で１３．０ｌ/ｍｉｎとなった。また、４つの直線部の全てを処理するのに要した時間は、３分４０秒であった。このときに発生した廃液は約３５ｍｌであった。したがって、薄膜除去処理工程全体で要した時間は、４分３０秒であった。
【００７１】
結果として、実施例１と同様に、盛り上がりの幅が狭く清浄な剥離状態の基板を得ることが出来た。
接触式の段差測定器α―step（ＫＬＡテンコール社製）を用い、盛り上がりの幅１４−１を測定したところ、各辺５箇所の計２０箇所の平均で５５．２μｍであった。盛り上がりの高さ１４−２の平均は１．１５μｍであった。盛り上がりのうねり１４−５の平均は１．５０±０．０６ｍｍに低減されていた。
【００７２】
（比較例１）
基板（１５２ｍｍ×１５２ｍｍ×６．３５ｍｍｔ）に、ｉ線用フォトレジスト材料（ＴＨＭＲ−ＩＰ３５００）をスピン塗布法により塗布して、厚さ５０００Åのレジストを有するフォトマスクブランクスを作製した。レジストの剥離に用いる剥離液としては、２−ヘプタノンとアセトンを体積比で９対１の割合で混合した有機溶剤を用意した。
【００７３】
次に、図９に示すコーナー部用ノズルヘッドと、図３に示す構成（表裏別ノズルヘッド）において図１４に示す乾燥用排気流路および排気遮蔽壁を備えない従来の直線部用ノズルヘッドを用いて、不要部位のレジストの剥離作業を行った。
この工程における所要時間および廃液量、コーナー部の処理における剥離液供給量および廃液吸引量、および直線部の処理における剥離液供給量は実施例１と同じ条件になるように設定して剥離工程を行った。つまり、直線部の処理における排気量以外の条件は、実施例１と同じである。
廃液吸引量は表面側ノズルヘッドおよび裏面側ノズルヘッドともそれぞれ２．０ｌ/ｍｉｎとし、総廃液吸引量は計４．０ｌ/ｍｉｎとした。
【００７４】
その結果、図１２に示すように、表面直線部(a)、(b)およびコーナー部(c)において、剥離部は清浄であるが盛り上がりの幅の広い基板となってしまった。
接触式の段差測定器α―step（ＫＬＡテンコール社製）を用い、盛り上がりの幅１４−１を測定したところ、各辺５箇所の計２０件の平均で３２２μｍであった。盛り上がりの高さ１４−２の平均は２．９μｍであった。盛り上がりのうねり１４−５は最大が１．５２＋０．３４ｍｍ、最小が１．５２−０．０５ｍｍにも及ぶ結果となった。
また、薄膜除去処理後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した結果、定点５箇所以外の場所１箇所ではあるものの、盛り上がりの幅１４−１と薄膜剥離幅１４−６を足した値が２．１ｍｍに至る部分も存在していた。
【００７５】
前述のように、フォトマスクブランクスの表面の剥離状態について、比較例は実施例にくらべ、品質面で大きく劣る結果となった。
【００７６】
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の直線部用ノズルヘッドの形状を示す概略図である（実施例１）。（ａ）正面図、（ｂ）側面図（ｃ）Ａ断面図（ｄ）Ｂ断面図。
【図２】薄膜除去装置全体の構成を示す概略図である。
【図３】本発明の直線部用ノズルヘッドの一態様を示す概略図である。
【図４】直線部用ノズルヘッドとその平行移動機構の一態様を示す概略図である。
【図５】図１および図７のＣ断面において、本発明の直線部用ノズルヘッド内を流れる剥離液の状態を示すモデル図である。
【図６】表裏面一体型ノズルヘッドを具備する薄膜除去装置全体を示す概略図である（実施例２）。
【図７】表裏面一体型ノズルヘッドの形状を示す概略図である（実施例２）。（ａ）正面図、（ｂ）側面図（ｃ）Ａ断面図（ｄ）Ｂ断面図。
【図８】表裏面一体型ノズルヘッドとその平行移動機構の一態様を示す概略図である（実施例２）。
【図９】コーナー部用ノズルヘッドの一態様を示す概略図である。（ａ）側面図、（ｂ）背面図。
【図１０】コーナー部用ノズルヘッドの使用態様を示す斜視図である。
【図１１】薄膜除去処理後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した写真である（実施例１）。（ａ）剥離状態が良好でない直線部、（ｂ）剥離状態が良好な直線部、（ｃ）コーナー部。
【図１２】薄膜除去処理後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した写真である（比較例１）。（ａ）剥離状態が良好でない直線部、（ｂ）剥離状態が良好な直線部、（ｃ）コーナー部。
【図１３】従来の薄膜除去処理後のフォトマスクブランクス周辺部の状態を示す概略図である。（ａ）断面図、（ｂ）平面図
【図１４】従来の直線部用ノズルヘッドの形状を示す概略図である（比較例１）。
【符号の説明】
【００７８】
１…ノズルヘッド、１ａ…コーナー部用ノズルヘッド、
１−１…表面用ノズルヘッド、  １−２…裏面用ノズルヘッド、
２…フォトマスクブランクス、  ３…剥離液供給口、
４ａ…廃液吸引口、  ４ｂ…排気口、  ５…平行移動機構、
６…ノズルヘッド保持アーム、  ７…剥離液供給側コントロール弁、
８…廃液吸引側コントロール弁、  ９…剥離液供給装置、  １０…廃液吸引装置、
１１…ノズルヘッド−フォトマスクブランクス主面間距離、
１２…ノズルヘッド−フォトマスクブランクス側面間距離、
１３…スペーサー、
１４…盛り上がり、  １４−１…盛り上がりの幅、  １４−２…盛り上がりの高さ、
１４−３…露光可能領域、  １４−４…薄膜剥離部、
１４−５…盛り上がりのうねり、  １４−６…薄膜剥離幅
１５…剥離液、  １６…剥離液主流路、  １７…剥離液副流路、
１８…乾燥用排気流路、  １９…排気遮蔽壁、  ２０…Ｃ面部。
【図１】
2006005174.tif 000003
【図２】
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【図３】
2006005174.tif 000005
【図４】
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【図５】
2006005174.tif 000007
【図６】
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【図７】
2006005174.tif 000009
【図８】
2006005174.tif 000010
【図９】
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【図１０】
2006005174.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
2006005174.tif 000014
【図１３】
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【図１４】
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