(57)【要約】【課題】本発明は、特に高い帯電防止性と反射防止性を示し、且つ高透明性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性に優れた反射防止積層フィルムを低コストで提供することを課題とする。【解決手段】透明支持体上に、ハードコート層、帯電防止性低屈折率層がこの順に積層されてなる反射防止積層フィルムにおいて、前記帯電防止性低屈折率層の屈折率ｎが１．４２以下、もしくは、一般式（Ａ）ＲxＳｉ（ＯＲ）4-x（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦４を満たす整数である）で示される珪素アルコキシド、および、その加水分解物と、粒径１００ｎｍ以下で屈折率ｎが１．４０以下の多孔質導電性微粒子からなることを特徴とする反射防止積層フィルムである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、ハードコート層、帯電防止性低屈折率層がこの順に積層されてなる反射防止積層フィルムにおいて、
前記帯電防止性低屈折率層の屈折率ｎが１．４２以下であることを特徴とする反射防止積層フィルム。
【請求項２】
前記帯電防止性低屈折率層が、一般式（Ａ）ＲxＳｉ（ＯＲ）4-x（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦４を満たす整数である）で示される珪素アルコキシド、および、その加水分解物と、粒径１００ｎｍ以下で屈折率ｎが１．４０以下の多孔質導電性微粒子からなることを特徴とする反射防止積層フィルム。
【請求項３】
請求項２記載の帯電防止性低屈折率層に、さらに、一般式（Ｂ）Ｒ’yＳｉ（ＯＲ）4-y（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、Ｒ’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、アミノ基、エポキシ基、アリール基、（メタ）アクリロイル基などの反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である）で示される有機珪素アルコキシド、およびその加水分解物が含まれることを特徴とする反射防止積層フィルム。
【請求項４】
前記帯電防止性低屈折率層が、一般式（Ｃ）ｎｄ＝λ／４（但し、ｎは層の屈折率、ｄは層厚を示し、λは光の波長を示し、４５０≦λ≦６５０を満たす整数である）を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止積層フィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層が、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止積層フィルム。
【請求項６】
請求項５記載のハードコート層に、さらに、一般式（Ｂ）Ｒ’yＳｉ（ＯＲ）4-y（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、Ｒ’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、アミノ基、エポキシ基、アリール基、（メタ）アクリロイル基などの反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である）で示される有機珪素アルコキシド、および、その加水分解物が含まれることを特徴とする反射防止積層フィルム。
【請求項７】
請求項５記載のハードコート層に、さらに、平均粒子径０．５μｍ以上１０μｍ以下のフィラーが含まれることを特徴とする反射防止積層フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、生産性、光学特性、帯電防止性および表面硬度や耐擦傷性に優れ、透明基材上に設けたディスプレイ（液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等）の表示画面表面に適用される反射防止積層フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
多くのディスプレイは、室内外を問わず外光などが入射するような環境下で使用される。この外光などの入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、反射像が表示光と混合し表示品質を低下させ、表示画像を見にくくしている。このため、反射防止機能を付与するために金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から用いられている。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法により形成され、特に物理蒸着法である真空蒸着法により形成されている。このように形成された反射防止膜は優れた光学特性を示すが、蒸着による形成方法は生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えていた。
【０００３】
さらには、プラスティックやフィルムなどの高分子材料の表面は比較的柔軟であることから、表面硬度を得る為に、物品表面にアクリル多官能化合物を重合させ、ハードコート層を設けるという手法がなされる。このようにして得られたハードコート層は、アクリル樹脂特有の性質である高い表面硬度、光沢性、透明性、擦傷性を有する。その一方で、絶縁特性に優れる為に帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、精密機械に使用された場合に、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題を抱えていた。
【０００４】
これらの問題を解消するためにハードコート層に導電剤を練り混むか、基材とハードコート層の間やハードコート層と低屈折率層の間に表面硬度を落とさない程度に極めて薄く導電層を設ける手法がなされている。また、その形成方法としては塗工法が用いられ、生産性の向上がはかられている。
【０００５】
用いられる導電剤としては、金属酸化物微粒子や、導電性ポリマー、各種活性剤、親水性化合物、イオン導電性化合物があげられる。この中で各種活性剤、親水性化合物、イオン導電性化合物をもちいる方式（例えば、特許文献１参照）は外気中の水分を媒体としてイオン伝導を行うために湿度依存性が大きく、さらには上層に反射防止層などの新たな層を形成する場合には、性能が安定しないという問題がある。一方、湿度環境による影響のない電子伝導性の微粒子を使用する技術では、ハードコート練り混み方式と層間に導電層を設ける手法がなされている。練り混み方式（例えば、特許文献２参照）では、微粒子の屈折率が通常高いことや、電子伝導性であるために微粒子の配合量が決まってしまうことにより、基材との光干渉の低減と導電性を両立することが困難となる。配合量が少なすぎると導電性が発現せず、逆に多い場合には光線透過率が低下してしまう問題が発生し、透過率を上げるために膜厚を薄くすると基材保護の機能が低下してしまう問題がある。また、ハードコート層の上層に反射防止層を形成するために帯電防止性能が低下するなどの問題がある。導電性ポリマーも同様の問題を抱えている。基材とハードコート層間に導電層を設ける方式（例えば、特許文献３参照）では、導電層の上層に積層することにより、導電性を考慮して上層に特別な処理を行わなければ行けないことや、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちることなどが問題となる。ハードコート層と反射防止層間に導電層を設ける方式（例えば、特許文献４参照）でも同様に、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちることなどが問題となる。
【０００６】
以下に特許文献を記す。
【特許文献１】特開２００２−４０２０９号公報
【特許文献２】特開平１１−９２７５０号公報
【特許文献３】特開平１１−３２６６０２号公報
【特許文献４】特開２００１−３３０７０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、特に高い帯電防止性と反射防止性を示し、且つ高透明性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性に優れた反射防止積層フィルムを低コストで提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、下記の手段によって解決できる。すなわち、
請求項１に係る発明は、透明支持体上に、ハードコート層、帯電防止性低屈折率層がこの順に積層されてなる反射防止積層フィルムにおいて、
前記帯電防止性低屈折率層の屈折率ｎが１．４２以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。
【０００９】
請求項２に係る発明は、前記帯電防止性低屈折率層が、一般式（Ａ）ＲxＳｉ（ＯＲ）4-x（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦４を満たす整数である）で示される珪素アルコキシド、およびその加水分解物と、粒径１００ｎｍ以下で屈折率ｎが１．４５以下の多孔質導電性微粒子からなることを特徴とする反射防止積層フィルムである。
【００１０】
請求項３に係る発明は、請求項２記載の帯電防止性低屈折率層に、さらに、一般式（Ｂ）Ｒ’yＳｉ（ＯＲ）4-y（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、Ｒ’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、エポキシ基、アリール基、（メタ）アクリロイル基などの反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である）で示される有機珪素アルコキシド、および、その加水分解物が含まれることを特徴とする反射防止積層フィルムである。
【００１１】
請求項４に係る発明は、前記帯電防止性低屈折率層が、一般式（Ｃ）ｎｄ＝λ／４（但し、ｎは層の屈折率、ｄは層厚を示し、λは光の波長を示し、４５０≦λ≦６５０を満たす整数である）を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止積層フィルムである。
【００１２】
請求項５に係る発明は、前記ハードコート層が、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止積層フィルムである。
【００１３】
請求項６に係る発明は、請求項５記載のハードコート層に、さらに、一般式（Ｂ）  Ｒ’yＳｉ（ＯＲ）4-y（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、Ｒ’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、エポキシ基、アリール基、（メタ）アクリロイル基などの反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である）で示される有機珪素アルコキシド、および、その加水分解物が含まれることを特徴とする反射防止積
層フィルムである。
【００１４】
請求項７に係る発明は、請求項５記載のハードコート層に、さらに、平均粒子径０．５μｍ以上１０μｍ以下のフィラーが含まれることを特徴とする反射防止積層フィルムである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、優れたハードコート性、防汚性、反射防止性、透明性、および帯電防止性を有し、かつ低コストな反射防止積層フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に、本発明の実施形態について詳細に説明する。透明支持体となるプラスチックフィルムとしては、種々の有機高分子からなるフィルムもしくはシートを用いることができる。通常ディスプレイ等の光学部材に使用される基材は、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリオレフィン系（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル系（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナルタレート等）、セルロース系（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等）、ポルアミド系（ナイロン−６、ナイロン−６６等）、アクリル系（ポリメチルメタクリレート等）、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子が用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらにはこれらの有機高分子に公知の添加剤、たとえば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加し、機能を付加させたものも使用できる。また、この基材は上記物質単体、もしくは複数の物質を積層もしくは混合させたものでもよい。また、基材の厚みは表面保護フィルムを用いる用途によって適宜選択することができ、２５〜３００μｍが好ましい。しかしこれに限定するものではない。また、基材上にもうけられる表面保護層との密着性を向上させる目的で、表面処理を施すことができる。この表面処理方法としては、例えばサンドブラスト法や溶剤処理法などによる表面の凹凸化処理、あるいはコロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などの表面の酸化処理などが挙げられる。
【００１７】
本発明のハードコート層は、前記プラスチックフィルムの上に積層するものであって、このハードコート層は紫外線および電子線硬化型樹脂単体、またはこの硬化物中に有機珪素アルコキシドおよびその加水分解物、フィラーが含まれたものである。
【００１８】
ハードコート層に用いる紫外線および電子線硬化型樹脂化合物としては基材の表面改質を目的として、スチールウールラビング試験による耐擦傷性、鉛筆ひっかき試験による表面硬度、セロテープ（登録商標）剥離試験による密着性、最小曲げ試験によるクラック性等の諸特性を要求されるスペックを満足させるように樹脂を選択して使用することが出来る。この化合物は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤等を含有するものである。
【００１９】
前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
【００２０】
また、光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、これらの屈折率は１．５前後であるが、屈折率が高いモノマーとしては、環状基を有するものさらに／またはフッ素原子以外のハロゲン原子やＳ、Ｎ、Ｐ等の原子を含むものが挙げられる。環状基には芳香族基、複素環基および脂肪族環基が含まれる。例えば、ビス（４−メタクリロイルチオフェノキシ）スルフィド、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジエポキシアクリレートなどが挙げられる。特に本発明では、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート等を用いることが好ましい。
【００２１】
さらに光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。
【００２２】
また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。
【００２３】
本発明のハードコート層においては、さらに有機珪素アルコキシドおよびその加水分解物を添加することができる。有機珪素アルコキシドは、一般式（Ｂ）Ｒ’yＳｉ（ＯＲ）4-yを満たすものである。式中Ｒはアルキル基を示し、Ｒ’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、アミノ基、エポキシ基、アリール基、（メタ）アクリロイル基などの反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である。例えば、オクチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、３、３、３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パープルオロヘキシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パープルオロデシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロビルトリメトキシシラン、３−アミノプロビルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシランがあげられる。
【００２４】
本発明のハードコート層においては、さらに平均粒子径０．５μｍ以上１０μｍ以下のフィラーを添加し、反射防止フィルムに新たに防眩性を付与することができる。０．５μｍ以下では防眩性が発現しにくく、１０μｍ以上ではハードコート層の厚さより粒子径が大きすぎることから、上層の帯電防止性低屈折率層が積層しにくくなる。フィラーは、シリカ、アルミナ、ジルコニア等の無機フィラーおよびこれら２種類以上の複合酸化物フィラー、アクリル、スチレン、ウレタン、メラミン、ベンゾアナミン等の有機フィラーおよびこれら２種類以上の共重合フィラーを用いることができる。フィラーは単体で用いても２種類以上を混合して用いても良い。また、ハードコート層の強度を向上させるために、平均粒子径０．５μｍ以下のコロイド粒子を加えることができる。コロイド粒子径は透明性の観点から、０．１μｍ以下が好ましい。コロイド粒子は、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニアがあげられる。これらは単体で用いても、２種類以上の複合酸化物でも、２種類以上の混合物でもよい。
【００２５】
ハードコート層の硬度は、鉛筆硬度でＨ以上であるのが好ましく、反射防止積層フィルムに必要な耐擦傷性を備えることができる。
【００２６】
ハードコート層形成用のハードコート剤の調整において、各成分の配合順序については特に制限はなく、各種溶媒中に紫外線および電子線硬化型樹脂化合物等を加えて混合する。
【００２７】
溶媒としては、特に限定することはないが、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソプチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができる。また、このハードコート剤には、所望により消泡剤やレベリング剤等の公知の添加剤を配合することができる。ハードコート剤の固形分濃度については特に制限はなく、塗工性、乾燥性、経済性等の面から１０〜７０重量％の範囲が好ましく、特に３０〜５０重量％の範囲が好適である。
【００２８】
ハードコート剤の基材への塗工方法については特に制限はなく、バーコート法、マイクログラビア法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法等を用いることができる。
【００２９】
ハードコート層の厚さは、ハードコート剤の固形分濃度および硬化後におけるハードコート層の密度から必要なハードコート剤の塗工量を算出することにより、制御する事ができる。２μｍ〜８μｍの厚さが好ましく、特に３μｍ〜６μｍの厚さが好ましい。
【００３０】
また、乾燥後の塗工層に窒素パージした雰囲気下で紫外線および電子線を照射して硬化させ、酸素障害が少なく、表面硬度の高いハードコート層を形成しても良い。
【００３１】
硬化に用いる紫外線照射装置については、特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ等を用いた公知の紫外線照射装置を使用することができる。
【００３２】
紫外線照射量は、通常１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2程度である。電子線照射装置については特に制限はなく、加速電圧は通常５０〜３００ｋＶである。
【００３３】
このようにして得られたハードコートフィルムは、物品の表面に基材との密着性、表面硬度、屈曲性、耐擦傷性、透明性または防眩性に優れたハードコート層及びハードコート層成形物品を提供することができる。
【００３４】
ハードコート層の上に設ける帯電防止性低屈折率層には、多孔質導電性微粒子、珪素アルコキシド、有機珪素アルコキシド、それらの加水分解物を用いることにより、帯電防止性を発現しながら、帯電防止性低屈折率層の屈折率ｎを１．４２以下とすることができる。バインダー成分であるアルコキシド、およびその加水分解物が硬化したものは屈折率ｎが１．４６以下とすることが可能である。また、多孔質導電性微粒子を用いることにより、微粒子細孔の空気（ｎ＝１．０）が層の屈折率をさらに低下させることができる。
【００３５】
多孔質導電性微粒子は屈折率ｎが１．４０以下であり、五酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）、ＡＴＯ（アンチモン錫酸化物）等の無機微粒子、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリフルオレン等の有機微粒子を使用することができる。これらの微粒子は、単体での使用、２種類以上の混合微粒子での使用、またはこれら２種類以上の複合微粒子を使用することができる。また、シリカ、フッ化マグネシウムなど他の金属化合物との混合微粒子での使用、または複合微粒子を使用することができる。
【００３６】
複合微粒子としては、コア−シェル構造を有する微粒子でも良い。具体的には、多孔質な屈折率の低い金属化合物微粒子をコア部に持ち。導電性を有する結晶性被膜をシェル部とすることにより、屈折率の低い多孔質導電性微粒子となる。屈折率の低い金属化合物微粒子としては、例えば、シリカ、フッ化マグネシウムなどの金属化合物があげられ、導電性を有する結晶性被膜の材料としては、五酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）、ＡＴＯ（アンチモン錫酸化物）などをあげることができる。
【００３７】
また、コア−シェルが逆の物質、即ち、コア部に導電性材料を用い、シェル部に屈折率の低い金属化合物を用いた構成でも良いが、シェル部の金属化合物被膜により導電性を示しにくくなってしまうことがある。
【００３８】
多孔質導電性微粒子の添加量は特に制限はないが、帯電防止性と屈折率調整の面から２０〜８０重量％の範囲が好ましく、特に３０〜７０重量％の範囲が好適である。また、多孔質導電性微粒子のマトリックス中における分散性を向上するために、マトリックス中に分散剤を用いることができる。分散剤としては、特に制限はなく、シリコーン系の分散剤を用いることが好ましい。
【００３９】
また、粒径１００ｎｍ以下の多孔質導電性微粒子を用いることにより、、高い導電性を示すと共に透過率の低下や、層の着色の無い導電層の形成が可能となる。粒径が１００ｎｍを越えるとレイリー散乱によって光が著しく反射され、膜が白くなって透明性の低下がみられ、また２ｎｍ未満では微粒子の形成が困難であることや、導電性が悪くなること、および粒子間の凝集による膜の不均一性等の問題が生じる。
【００４０】
帯電防止性低屈折率層に含まれる珪素アルコキシドは、一般式（Ａ）ＲxＳｉ（ＯＲ）4-xを満たすものである。式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦４を満たす整数である。例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランがあげられる。
【００４１】
帯電防止性低屈折率層に含まれる有機珪素アルコキシドは、一般式（Ｂ）Ｒ’yＳｉ（ＯＲ）4-yを満たすものである。式中Ｒはアルキル基を示し、Ｒ’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、アミノ基、エポキシ基、アリール基、（メタ）アクリロイル基などの反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である。例えば、前記有機珪素アルコキシドがあげられる。
【００４２】
帯電防止性低屈折率層形成用の塗工液の調整において、各成分の配合順序については特に制限はなく、各種前述の溶媒中に珪素アルコキシド、およびその加水分解物と多孔質導電微粒子と有機珪素アルコキシド、およびその加水分解物を加えて混合する。
【００４３】
帯電防止性低屈折率層の形成方法としては、前述の各種塗工方法により、一般式（Ｃ）ｎｄ＝λ／４（４５０≦λ≦６５０の範囲）を満たすように塗工し、乾燥処理を行った後、必要に応じて紫外線および電子線照射を行う。４５０≦λ≦６５０の範囲、より好ましくは、５００≦λ≦６００の範囲で層厚ｄを制御することにより、視感反射率の低い反射防止積層フィルムを得ることができる。
【００４４】
透明支持体およびハードコート層に表面処理を行うことにより、各表面の表面張力を変化させることができるため、ハードコート層と帯電防止性低屈折率層との密着力を向上させることができる。表面処理法としては、アルカリ処理、プラズマ処理、レーザー処理、
またはコロナ処理を行うことができる。各層間の密着力を向上させると共に各種表面処理を行うことにより、表面上の異物を低減させることができる。これにより、外観上において欠陥の無い反射防止積層フィルムを提供することができる。
【００４５】
このように、透明支持体上にハードコート層、帯電防止性低屈折率層の２層構成にすることにより、多機能を少ない層数にて実現することができ、工程を少なくしてコストダウンすることができる。帯電防止性低屈折率層が反射防止積層フィルムの表面にあることから、帯電防止の性能が安定しやすい。ハードコート層による表面硬度、屈曲性、耐擦傷性、透明性または防眩性を備え、かつ帯電防止性低屈折率層による帯電防止性、反射防止性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性の多機能を付与することができ、さらに層間の密着性を兼ね備えた低コストな反射防止フィルムを提供することができる。
【実施例】
【００４６】
以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。反射防止積層フィルムの性能は、下記の方法に従って評価した。
【００４７】
視感反射率…自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、分光反射率から視感反射率を測定した。なお、測定の際には塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、裏面側からの反射防止処置を行った。
【００４８】
耐擦傷性…＃００００のスチールウールを用い、２５０ｇ荷重で１０往復表面を擦り、傷の有無を目視評価した。
【００４９】
全光線透過率およびヘイズ値…写像性測定器［日本電色工業（株）製、ＮＤＨ−２０００］を使用して測定した。
【００５０】
鉛筆硬度…ＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠し、試験機法により５００ｇ加重で評価した。
【００５１】
表面抵抗値…ＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠して測定した。
防汚性…指紋、マジック、ティッシュくずを表面に付着させ、拭き取りの可否を判断した。（○：全て拭き取れる、△：拭き取りにくいものがある、×：拭き取れないものがある）
密着性…フィルム表面を１ｍｍ角１００点カット後、粘着セロハンテープ［ニチバン株式会社製工業用２４ｍｍ巾セロテープ（登録商標）］による剥離試験を行い、１００点カット部の残存率で評価した。
【００５２】
目視評価…２０Ｗ蛍光灯から２０ｃｍの距離で反射防止積層フィルムの帯電防止性低屈折率層側に蛍光灯の光を入射し、色ムラの目視評価を行った。なお、評価の際には、支持体のうち塗工の施されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、裏面側からの反射防止処理を行った。（○：色ムラなし、△：色ムラが僅かに認められる、×：色ムラが顕著に認められる）
＜実施例１＞
（ハードコート層の形成）
透明支持体として厚み８０μｍ、波長５５０ｎｍにおける屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィルム（全光線透過率：９３％、ヘイズ値：０．１％）を用いた。また、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ウレタンアクリレート、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランを用いてハードコート層用の塗布液を調整した。
【００５３】
このハードコート層用塗布液をトリアセチルセルロースフィルム上に乾燥膜厚５μｍになるように塗布し、１２０Ｗのメタルハライドランプを２０ｃｍの距離から１０秒間照射することにより、ハードコート層を形成した。
（表面処理）
上記のハードコート層を形成したトリアセチルセルロースフィルムを、５０℃に加熱した１．５Ｎ−ＮａＯＨ水溶液に２分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、０．５ｗｔ％−Ｈ２ＳＯ４水溶液に室温で３０秒間浸漬し中和させ、水洗、乾燥処理を行った。
（帯電防止性低屈折率層の形成）
テトラエトキシシランと有機官能基としてパーフルオロオクタン基を有するトリメトキシシランを原料とし、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸により加水分解して得られたオリゴマー７重量部と五酸化アンチモン−シリカ複合酸化物多孔質導電性微粒子３重量部を１９０重量部のイソプロパノールで希釈した帯電防止性低屈折率層用のコーティング液を調整した。上記の帯電防止性低屈折率層を積層したフィルムに乾燥膜厚が１００ｎｍになるようにこのコーティング液を塗布し、乾燥させた。帯電防止性低屈折率層の屈折率は波長５５０ｎｍにおいて１．４１であった。用いた微粒子の屈折率は１．４０であった。以上により、反射防止積層フィルムを作成した。
【００５４】
＜実施例２＞
実施例１（帯電防止性低屈折率層の形成）において、加水分解オリゴマーを５重量部、五酸化アンチモン−シリカ複合酸化物多孔質導電性微粒子を５重量部とした以外は実施例１と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。帯電防止性低屈折率層の屈折率は波長５５０ｎｍにおいて１．４０であった。
【００５５】
＜実施例３＞
実施例１（ハードコート層の形成）において、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ウレタンアクリレート、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの混合物９．５重量部に対し、防眩性を付与する目的で平均粒子径４μｍのアクリル粒子０．５重量部を加えてハードコート層用の塗布液を調整した以外は実施例１と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。
【００５６】
＜比較例１＞
実施例１（帯電防止性低屈折率層の形成）において、加水分解オリゴマーを９重量部、五酸化アンチモン−シリカ複合酸化物多孔質導電性微粒子を１重量部とした以外は実施例１と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。帯電防止性低屈折率層の屈折率は波長５５０ｎｍにおいて１．４４であった。
【００５７】
＜比較例２＞
実施例１（帯電防止性低屈折率層の形成）において、帯電防止性低屈折率層の乾燥膜厚が７５ｎｍとした以外は実施例１と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。
【００５８】
＜比較例３＞
実施例１（帯電防止性低屈折率層の形成）において、帯電防止性低屈折率層の乾燥膜厚が１２０ｎｍとした以外は実施例１と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。
【００５９】
実施例１〜３で得られた本発明の反射防止積層フィルムおよび比較例１〜３で得られた反射防止積層フィルムについての評価結果を表１に示す。
【００６０】
【表１】
2006175782.tif 000003
【００６１】
実施例１、２においては、請求項１〜６を満たすことにより、反射防止性、高透明性の光学特性、表面硬度、耐擦傷性のハードコート性、帯電防止性、拭き取り性の防汚性に優れる多機能性反射防止積層フィルムが得られることが分かる。
【００６２】
実施例３においては、請求項７のフィラーにより防眩性をさらに付与した多機能性反射防止積層フィルムが得られることが分かる。
【００６３】
比較例１においては、屈折率が高いために視感反射率が高く、反射防止性が劣っている。
【００６４】
比較例２においては、請求項４一般式（Ｃ）の範囲より薄い膜厚のため、視感反射率が高く、反射防止性が劣り、かつ目視評価において赤い色ムラが認められる。
【００６５】
比較例３においては、請求項４一般式（Ｃ）の範囲より厚い膜厚のため、視感反射率が高く、反射防止性が劣り、かつ目視評価において青い色ムラが認められる。
【００６６】
実施例１〜３で得られた本発明の反射防止積層フィルムは、請求項１〜７を満たすことにより、耐擦傷性、表面硬度などのハードコート性能は十分な性能を保ちつつも、密着性、帯電防止性、防汚性、高透明性または防眩性を同時に発現させることができる。さらに少ない層構成にて多機能性のフィルムが得られるため、塗工方式による低コストな反射防止積層フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の実施の一形態に係わる帯電防止性ハードコートフィルムを示す断面図である。
【符号の説明】
【００６８】
１…透明支持体
２…ハードコート層
３…帯電防止性低屈折率層
４…反射防止積層フィルム
【図１】
2006175782.tif 000004