(57)【要約】【課題】  ユニット間を接着する接着層に関して、気泡の混入及び厚みむらを低減させることを可能とした光メモリの製造方法を提供する。【解決手段】  光導波路９は、樹脂製のコア層３と、コア層３の上下に積層された樹脂製のクラッド層４とからなり、コア層３とクラッド層４との一方の界面には、情報再生用の情報用凹凸部８が形成されている。光導波路９を１個又は複数個積層し、最外層の両面を樹脂基体５ａ，５ｂで挟んでなるユニット６ａ，６ｂにおいて、樹脂基体５ａ，５ｂの表面に硬化された接着層２１，２５を設ける。この接着層２１，２５が互いに対向するようにユニット６ａ，６ｂを上下に積み重ね、ユニット６ａ，６ｂを平圧板３１によって加圧するとともに、加熱を行う。これにより、ユニット間において対向する接着層２１，２５を互いに圧着し、ユニット６ａ，６ｂが一体化することで光メモリが形成される。【選択図】        図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製のコア層と、このコア層の上下に積層された樹脂製のクラッド層とからなり、前記コア層と前記クラッド層との一方の界面に情報再生用の凹凸部が形成されてなる光導波路を１個又は複数個積層し、最外層の両面を樹脂基体で挟んで形成したユニットを、複数個積重して構成される光メモリの製造方法において、
前記各ユニットの各樹脂基体の表面に硬化された硬化樹脂層を設け、この硬化樹脂層が互いに対向するように前記各ユニットを前記光導波路の積層方向に積み重ね、積み重ねた前記複数のユニットを前記積層方向に加圧するとともに、加熱を行うことで、ユニット間において対向する前記硬化樹脂層を互いに圧着し、前記複数のユニットを一体とすることを特徴とする光メモリの製造方法。
【請求項２】
前記硬化樹脂層として、紫外線によって硬化される紫外線硬化樹脂材を用いることを特徴とする請求項１記載の光メモリの製造方法。
【請求項３】
前記コア層及び前記クラッド層として、紫外線によって硬化される紫外線硬化樹脂材を用いることを特徴とする請求項１又は２記載の光メモリの製造方法。
【請求項４】
前記硬化樹脂層の屈折率を、前記樹脂基体の屈折率と同一にすることを特徴とする請求項１ないし３いずれか記載の光メモリの製造方法。
【請求項５】
前記加熱時の温度を、前記硬化樹脂層のガラス転移温度より低い温度に設定することを特徴とする請求項１ないし４いずれか記載の光メモリの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層導波路型の光メモリの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、樹脂製のコア層と樹脂製のクラッド層とからなり、コア層とクラッド層との界面に再生像を得るための情報を含む情報用凹凸パターンを形成した平面型の光導波路を、１個又は複数個積層させてなる光メモリ（情報記録媒体）が提案されている（例えば、特許文献１，２参照）。
【０００３】
例えば、図１３に示すように、コア層１０１とクラッド層１０２とが積層されてなる光メモリ１００に記録された情報を読み出す際には、光メモリ１００の側部に形成された光導入面１０３にレンズ１０４を介して光（例えばレーザ光）を照射し、所望のコア層１０１に光を導入する。コア層１０１に導入された光は、界面に形成された凹凸パターンで散乱しながら伝播する。このとき凹凸パターンで散乱された散乱光（再生光）は導入光に対して交差する方向（上下方向）に光メモリ１００内を透過し、最終的に光メモリ１００の上面及び下面から外部へ放出される。
【０００４】
この例では、光メモリ１００の上面から放出された散乱光が結像された画像（再生像）をイメージセンサ１０５で受光するようにしている。そして、この再生像をデジタル信号化し画像処理を行うことで、凹凸パターンによって光メモリ１００に記録された元の情報が復元される。
【０００５】
光メモリ１００では、コア層１０１とクラッド層１０２とからなる３層の光導波路のみを備えるものとして示しているが、これは図示を簡略化するためである。光メモリへの記録容量を上げるためには、できるだけ光導波路の積層数を増やすことが望まれており、実際には、光導波路を１００層程度の積層した光メモリが望まれている。このように多数の光導波路を積層すると、各層に生じる反りが積算され、積層数の増加に応じて全体として生じる反りが大きくなっていく。この反りが大きくなると、コア層に導入された光が拡散し易く、伝播特性が低下し、凹凸パターンに記録されている情報を同時に再生することが難しくなる。
【０００６】
この反りを防止するために、次のような光メモリの製造方法が開示されている（特許文献１参照）。まず、光導波路を所定数（例えば２５層）積層し、この最外面（上面及び下面）を剛性の高いアートン（商標登録）などで形成された樹脂基体で挟み、積層体を形成する。次に、この積層体を所望の大きさに切り出して直方形状のユニットとする。このとき光導入面が形成される。そして、切り出されたユニットを所定数（例えば４個）用意し、これらを上下に重ねて貼り合わせることにより（例えば１００層の光導波路を有する）光メモリが形成される。このようにして形成された光メモリには樹脂基体が介装されるので、反りの発生が抑えられる。
【０００７】
このユニット同士の貼り合わせには、次の２つの接着方法が知られている（特許文献１参照）。第１の接着方法は、ユニットの最上層に形成された樹脂基体の表面上にエポキシ樹脂などの流動性を有する接着剤を均一に塗布し、この上に他のユニットを積み重ね、この後、接着剤を硬化させることによりユニット同士を接着する方法である。第２の接着方法は、ユニットの最上層に形成された樹脂基体の光出射領域（凹凸部パターンからの再生光が通過する領域）を除く表面部分（例えば四隅）にエポキシ樹脂などの接着剤を点着し、この上に他のユニットを積み重ね、この後、接着剤を硬化させることによりユニット同士を接着する方法である。
【特許文献１】特開２００３−２３３９９１号公報
【特許文献２】特開２００３−２２７９５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記第１の接着方法を使用した場合には、接着剤が流動性を有するために、ユニットの貼り合せ面に気泡が混入し易いといった問題がある。また、接着層に厚みむらが発生し易く、各ユニットが傾いた状態（１つのユニットの表面と対向する他のユニットの表面とが平行でない状態）で積層されてしまうといった問題がある。
【０００９】
貼り合せ面に気泡が混入すると、凹凸部パターンからの再生光が接着層を通過する際に気泡によって散乱されてしまい、再生光の光量やＳ／Ｎ比が低下する。各ユニットが傾いた状態にあると、前述の反りが発生する場合と同様に、コア層に導入された光が拡散し易く、伝播特性が低下し、凹凸パターンに記録されている情報を同時に再生することが難しくなる（特許文献２参照）。また、この場合、再生光の結像（再生像）を乱すといった問題も生じる。
【００１０】
上記第２の接着方法を使用した場合には、ユニット間に空気層が存在することになり、凹凸パターンからの再生光の光量は、この空気層を通過する際に低下する恐れがある。貼着するユニット数が増加するとこの影響が大きくなり問題となる（特許文献１参照）。
【００１１】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、ユニット間を接着する接着層に関して、気泡の混入及び厚みむらを低減させることを可能とした光メモリの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の光メモリの製造方法は、樹脂製のコア層と、このコア層の上下に積層された樹脂製のクラッド層とからなり、前記コア層と前記クラッド層との一方の界面に情報再生用の凹凸部が形成されてなる光導波路を１個又は複数個積層し、最外層の両面を樹脂基体で挟んで形成したユニットを、複数個積重して構成される光メモリの製造方法において、前記各ユニットの各樹脂基体の表面に硬化された硬化樹脂層を設け、この硬化樹脂層が互いに対向するように前記各ユニットを前記光導波路の積層方向に積み重ね、積み重ねた前記複数のユニットを前記積層方向に加圧するとともに、加熱を行うことで、ユニット間において対向する前記硬化樹脂層を互いに圧着し、前記複数のユニットを一体とすることを特徴とする。
【００１３】
なお、前記硬化樹脂層として、紫外線によって硬化される紫外線硬化樹脂材を用いることが好ましい。
【００１４】
また、前記コア層及び前記クラッド層として、紫外線によって硬化される紫外線硬化樹脂材を用いることが好ましい。
【００１５】
また、前記硬化樹脂層の屈折率を、前記樹脂基体の屈折率と同一にすることが好ましい。
【００１６】
さらに、前記加熱時の温度を、前記硬化樹脂層のガラス転移温度より低い温度に設定することが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の光メモリの製造方法によれば、樹脂製のコア層と、このコア層の上下に積層された樹脂製のクラッド層とからなり、コア層とクラッド層との一方の界面に情報再生用の凹凸部が形成されてなる光導波路を１個又は複数個積層し、最外層の両面を樹脂基体で挟んで形成したユニットを、複数個積重して構成される光メモリの製造方法において、各ユニットの各樹脂基体の表面に硬化された硬化樹脂層を設け、この硬化樹脂層が互いに対向するように各ユニットを光導波路の積層方向に積み重ね、積み重ねた複数のユニットを積層方向に加圧するとともに、加熱を行うことで、ユニット間において対向する硬化樹脂層を互いに圧着し、複数のユニットを一体とするので、圧着された硬化樹脂層の間に混入する気泡は低減され、また、圧着された硬化樹脂層の厚みむらは低減される。これにより、ユニット間を通過する再生光の特性低下が抑えられ、また、ユニット間の傾きが抑えられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図１において、光メモリ２は、屈折率の異なるコア層３とクラッド層４とを交互に積層し、その上下を樹脂基体（樹脂フイルム）５ａ，５ｂで挟み込んでなるユニット６を接着層７を介して上下に貼り合わせて一体化した構成となっている。
【００１９】
コア層３及びクラッド層４は、紫外線（ＵＶ光）を照射することにより硬化された紫外線硬化樹脂材によって形成されており、コア層３の屈折率（硬化後の屈折率）は、クラッド層４より屈折率（硬化後の屈折率）が僅かに高く設定されている。この紫外線硬化樹脂材としては、アクリル系、エポキシ系、チオール系などの樹脂材が適切である。コア層３の厚さは、１．０〜１．５μｍ程度が適切であり、例えば１．４μｍと設定される。クラッド層４の厚さは、８〜９μｍ程度が適切であり、例えば８μｍと設定される。
【００２０】
クラッド層４の上面でかつコア層３の下面となる界面には、再生像を得るための情報を含む情報用凹凸部８が形成されている。すなわち、この例では、後述するスタンパ２３によって、クラッド層４を形成する紫外線硬化樹脂材の上面に凹部を形成することで、情報用凹凸部８が形成されている。情報用凹凸部８は、光メモリ２に記録すべき情報（デジタル情報）を２次元符号化し、その符号化された情報を元に計算機によって合成されたパターン（計算機ホログラムと称される）が転写されたものである。
【００２１】
このように、コア層３の上下には、相対的に屈折率の低いクラッド層４が積層されている。１つのコア層３と、この上下の２つのクラッド層４とにより、１つの情報再生用の光導波路９が構成される。ただし、各ユニット６の最下層のコア層３ａは、その下にクラッド層４が形成されていないため、最下層のコア層３ａに関しては情報再生用の光導波路９が構成されない（情報再生用の光導波路としては機能しない）。
【００２２】
各ユニット６の端部に形成された光導入面からコア層３（コア層３ｂも含む）に導入された光は、クラッド層４との界面で反射されながらコア層３を伝播するとともに、一部が情報用凹凸部８によって散乱される。同図において、各ユニット６には、３層の光導波路９が構成されているが、これは図示の簡単化のためであって、光導波路９の積層数は適宜の数でよい。実際には、２０層程度の光導波路９を各ユニット６内に積層するのが好適である。２０層の光導波路９を積層してなるユニット６の厚さは、０．４ｍｍ程度である。
【００２３】
樹脂基体５ａ，５ｂは、アートン（登録商標）等の非晶質ポリオレフィン、ポリカーボネート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）などによって形成されており、屈折率はクラッド層４と同一である。例えば、コア層３の屈折率は“１．５２”、クラッド層４及び樹脂基体５ａ，５ｂの屈折率は“１．５１”に設定される。樹脂基体５ａ，５ｂの厚さはそれぞれ１５０μｍ程度である。
【００２４】
各ユニット６を接着する接着層７としては、コア層３やクラッド層４に用いられている紫外線硬化樹脂材が用いられる。接着層７の屈折率が、樹脂基体５ａ，５ｂの屈折率と大きく異なると、接着層７と樹脂基体５ａ，５ｂとの界面で再生光が反射して、光量やＳ／Ｎ比が低下してしまうことがあるため、接着層７と樹脂基体５ａ，５ｂとの屈折率は等しく設定される（例えば“１．５１”に設定）。
【００２５】
また、光メモリ２を構成するコア層３（コア層３ａ，３ｂを含む）、クラッド層４、樹脂基体５ａ，５ｂ、及び接着層７は、１つの端面（光導入面）１０からコア層３に入射され、情報用凹凸部８で散乱された散乱光（再生光）の波長に対して透明である。これにより、各光導波路９から上下に放出された再生光は、光メモリ２内の各層を透過し、光メモリ２の上面及び下面から外部へ放出される。なお、光導波路９から上下に放出された再生光は、別の光導波路９を横切ることになるが、コア層３とクラッド層４との屈折率の差が極めて小さいので、この再生光が別の光導波路９に形成された情報用凹凸部８で再度散乱されることは殆どなく、外部に結像される再生像に乱れは殆ど発生しない。
【００２６】
同図では２つのユニット６が上下に積重され貼り合わされているが、これは図示の簡単化のためであって、ユニット６の積層数は適宜の数でよい。実際には、４個程度のユニット６を積層するのが好適である。複数のユニット６を積重して光メモリ２を構成することの目的は、光導波路９が一定数積層されてなる積層体の上下を厚みがあり高剛性の樹脂基体５ａ，５ｂで支持することによって、光が導入されるコア層３の反りや撓みを抑えるためである。
【００２７】
上下に積重された各ユニット６において、各光導入面１０が１つの面をなすように位置合わせされている。光導入面１０は、その面精度を示す中心線平均粗さＲａが２μｍ以下（望ましくは１μｍ以下）となるように形成されている。光導入面１０の中心線平均粗さＲａをこのように低い値とすることで、コア層３に導入されるべき光の散乱損失が極力抑えられ、結合効率や反射率が低下するといった問題は発生しにくくなる。また同時に、光導入面１０での散乱による迷光の発生や、コア層３を伝播する光の波面の乱れによって、再生像の品質が劣化するという問題も発生しにくくなる。
【００２８】
次に、光メモリ２の製造方法について説明する。図２（Ａ）において、まずベース基体として、厚さ数ｍｍの硬質のガラス基板２０を用意する。ガラス基板２０の表面上にスピンコート法によって液状の紫外線硬化樹脂材を塗布して接着層２１を形成し、接着層２１の表面上にフイルム状の樹脂基体５ａを、間に気泡が入らないようにローラ２２で加圧しながら貼着（ラミネート）する。樹脂基体５ａを接着層２１に貼着した後、図２（Ｂ）に示すように、樹脂基体５ａの上から紫外線を照射して接着層２１を完全に硬化させる。これにより、接着層２１を介して樹脂基体５ａがガラス基板２０に接着される。なお、接着層２１は、厚さを３μｍ程度とし、屈折率を樹脂基体５ａの屈折率と同一にする。また、図９（Ａ）に示すように、樹脂基体５ａには、情報再生用領域（情報用凹凸部８からの再生光を透過させる領域）の外に２つの十字マーク１１が印されている。
【００２９】
図２（Ｃ）において、樹脂基体５ａの表面上に、スピンコート法によって液状の紫外線硬化樹脂材を塗布し、紫外線を照射して完全に硬化させることで、最下層のコア層３ａを形成する。このコア層３ａは、前述のように情報再生用の光導波路９を構成するものではない。続いて、図３（Ａ）に示すように、最下層のコア層３ａの表面上に、スピンコート法によって液状の紫外線硬化樹脂材を所定の膜厚で塗布し、塗布された紫外線硬化樹脂材の表面上に、記録すべき情報に応じた凹凸パターンが表面に刻まれた光透過性スタンパ２３をローラ２２で加圧しながら貼着（ラミネート）する。なお、この光透過性スタンパ２３の貼着に際して、樹脂基体５ａに施された十字マーク１１に基づいて位置合わせ（アライメント）を行う。
【００３０】
光透過性スタンパ２３は、紫外線に対する透過性を有し、かつ可撓性のあるフイルム状の樹脂材で形成されている。光透過性スタンパ２３の貼着にはローラを用いる。なお、光透過性スタンパ２３は、光メモリ２の製造に用いられるのと同様な樹脂材を用いて形成することができ、材料の共通化を図ることができる。
【００３１】
図３（Ｂ）において、最下層のコア層３ａの表面上に塗布された紫外線硬化樹脂材の表面上に光透過性スタンパ２３を貼着した状態で、光透過性スタンパ２３の上方から紫外線を照射する。光透過性スタンパ２３を透過した紫外線によって液状の紫外線硬化樹脂材が硬化された後、図３（Ｃ）に示すように、光透過性スタンパ２３を剥離することで、表面に上記凹凸パターンが転写され、情報用凹凸部８を有したクラッド層４が形成される。なお、このとき、紫外線硬化樹脂材を完全に硬化させると光透過性スタンパ２３が剥がしにくくなるため、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂材を不完全に硬化させた状態で光透過性スタンパ２３を剥離し、その後再び紫外線を照射して紫外線硬化樹脂材を完全に硬化させるようにしてもよい。
【００３２】
続いて、図４（Ａ）に示すように、クラッド層４の表面上に、クラッド層４よりも屈折率の大きい液状の紫外線硬化樹脂材をスピンコート法によって塗布した後、この上から紫外線を照射して完全に硬化させることでコア層３を形成する。以後、図３（Ａ）〜図４（Ａ）に示した処理を繰り返し実施することで、樹脂基体５ａの上に、コア層３及びクラッド層４を所望の積層数になるまで積層する。
【００３３】
このようにして、図４（Ｂ）に示すように、コア層３及びクラッド層４が所望の積層数だけ積層される。図５（Ａ）に示すように、最上層のクラッド層４の上に、コア層３ｂを形成するための液状の紫外線硬化樹脂材をスピンコート法によって塗布した後、この上に、樹脂基体５ａと同様な樹脂基体５ｂをローラ２２で加圧しながら貼着（ラミネート）する。この状態で紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂材を完全に硬化させると、コア層３ｂが形成されるとともに、コア層３ｂと樹脂基体５ｂとが接着される。なお、図８（Ｂ）に示すように、樹脂基体５ｂには２つの十字マーク１２が印されており、樹脂基体５ｂの貼着時には、樹脂基体５ｂの十字マーク１２が、樹脂基体５ａの十字マーク１１と上下に重なるように位置合わせを行う。
【００３４】
また、図５（Ｂ）において、樹脂基体５ｂの表面上に、スピンコート法によって液状の紫外線硬化樹脂材を塗布し、この上から紫外線を照射して完全に硬化させることで、樹脂基体５ｂと同一の屈折率を有し、厚さが３μｍ程度の接着層２５を形成する。
【００３５】
以上の積層工程によってガラス基板２０上に製造された積層体２４（コア層３及びクラッド層４を積層したものの上下を樹脂基体５ａ，５ｂで挟んだもの）を、図６（Ａ）に示すように、樹脂基体５ａ，５ｂを支持しながらガラス基板２０から剥離（分離）する。このとき、樹脂基体５ａの下に形成された接着層２１は、樹脂基体５ａとともにガラス基板２０から剥離される。
【００３６】
この後、ダイシング装置を用いて積層体２４の外形（４辺）を切断加工して、図６（Ｂ）に示すように、積層体２４からユニット６を切り出す。このダイシング装置には、例えば、１０００番の粒度（砥粒の細かさ）を有するダイヤモンドホイールが用いられ、ユニット６の１つの切断端面には、例えば中心線平均粗さＲａが２μｍ以下の面精度を有する高品質な光導入面１０が形成される。
【００３７】
以上の工程を繰り返し（又は以上の工程を複数並行して行い）、ユニット６を複数個作製する。次に、複数のユニット６を積重して貼着する貼着工程に移行する。
【００３８】
続いて、図７に示すように、複数のユニット６（同図では２つのユニット６を示し、ユニット６ａ，６ｂとしている）を、光導入面１０を同一方向に向け、樹脂基体５ａ，５ｂに印された十字マーク１１，１２を合わせるように位置合わせを行い、上下に積み重ねる。この位置合わせには、カメラや顕微鏡などが用いられ、ユニット６ａ，６ｂの光導入面１０は正確に位置合わせされる。なお、このとき、図１０に示すように、金属などで形成されたＬ字形状の位置合わせ治具３０を用い、ユニット６ａ，６ｂの隣り合う２つの端面を位置合わせ治具３０に押し当てて位置決めすることも可能である。また、このとき、ユニット６ａ，６ｂの間にアルコールなどの揮発性の潤滑液を介在させ、ユニット６ａ，６ｂを互いに滑らせながら上記いずれかの方法で位置決めすることが好適である。
【００３９】
ユニット６ａ，６ｂを積重した後、図８に示すように、ユニット６ａの下面、及びユニット６ｂの上面に平圧板３１を押し当て、ユニット６ａ，６ｂをその積層方向に所定の圧力（例えば０．３〜１．０Ｍｐａ）で加圧する。また、このとき、平圧板３１で加圧されたユニット６ａ，６ｂの全体を高温炉の中に入れ、所定の温度（例えば１２０℃）で加熱する。この加圧及び加熱は、所定時間（例えば３０分〜１時間）継続して行う。なお、この加熱によって接着層２１，２５を溶かさないように、加熱温度Ｔは、接着層２１，２５を形成する樹脂材のガラス転移温度Ｔｇ（約１４０℃）より低い温度、望ましくは、（Ｔｇ−４０℃）＜Ｔ＜Ｔｇを満たす範囲内の温度に設定する。
【００４０】
この加圧及び加熱により、ユニット６ａ，６ｂの間において対向している、ユニット６ａの最上層に形成された接着層（硬化樹脂層）２５と、ユニット６ｂの最下層に形成された接着層（硬化樹脂層）２１とが熱圧着される。ここで圧着される接着層２５及び接着層２１は、流動性を有する接着剤ではなく硬化された樹脂材であるため、圧着時に上記のように大きな圧力を印加することが可能である。この結果、圧着後の接着層２５と接着層２１との界面から気泡が追い出される。また、接着層７（接着層２１，２５）の厚みむらは低減される。
【００４１】
このようにしてユニット６ａ，６ｂが一体化され、図１に示した光メモリ２が形成される。接着層２１は、図２（Ａ）に示した製造工程において、ガラス基板２０と樹脂基体５ａとを接着するために設けられ、図６（Ａ）に示した製造工程において、積層体２４をガラス基板２０から剥離する際に、樹脂基体５ａに付着したままガラス基板２０から剥離されたものである。積層体２４の剥離方法によっては、接着層２１がガラス基板２０から完全に剥離されず、その一部がガラス基板２０に残存してしまう可能性がある。この場合には、接着層２１の表面は平滑でなく、厚みが不均一となってしまう。
【００４２】
これを解消するために、図１１に示すように、ユニット６ｂを上下逆にし（接着層２１を最上層にし）、接着層２１の表面上に接着層２１と同一の屈折率を有する液状の紫外線硬化樹脂材をスピンコート法によって塗布した後、この上から紫外線を照射して完全に硬化させることで平滑な表面を有する接着層（硬化樹脂層）２６を形成する。次いで、図１２に示すように、ユニット６ｂを再度上下逆にし（接着層２５を最上層にし）、ユニット６ｂをユニット６ａの上に位置決めを行いながら重ね合わせ、この上下から前述と同様な条件で加圧及び加熱を行うことにより、ユニット６ａの最上層に形成された接着層２５と、ユニット６ｂの最下層に形成された接着層２６とが熱圧着される。この場合には、接着層７は、接着層２５、接着層２６、及び接着層２１により構成される。このように、接着層２１の表面に新たに形成された平滑な表面を有する接着層２６を接着層２５に圧着させることで、界面への気泡の混入及び接着層７の厚みむらをより低減させることができる。
【００４３】
上記実施形態では、２つの平圧板３１によってユニット６ａ，６ｂを上下から挟んで加圧するようにしたが、本発明はこれに限られるものではなく、２つの平圧板３１の一方を固定的に設けられたものとし、他方を可動体としてユニット６ａ，６ｂを加圧するようにしてもよい。
【００４４】
また、上記実施形態では、ユニット６ａ，６ｂの間を接着する接着層７（接着層２１，２５，２６）の材料として、紫外線によって硬化される紫外線硬化樹脂材を用いたが、本発明はこれに限られるものではなく、塗布後に所定の方法によって硬化させることのできる樹脂材であればよく、紫外線以外の波長光で硬化する光硬化性樹脂材や、熱によって硬化する熱硬化性樹脂材などであってもよい。
【００４５】
また、上記実施形態では、２つのユニット６が積重された光メモリ２を製造する方法を示したが、本発明はこれに限られるものではなく、３つ以上のユニット６を積重した光メモリを製造する場合も同様であり、各ユニット６の上面に接着層２５を形成し（さらに必要に応じて各ユニット６の下面に接着層２６を形成し）、所望の数のユニット６を位置決めを行いながら重ね合わせ、この上下から前述と同様な条件で加圧及び加熱を行えばよい。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】光メモリの構成を示す断面図である。
【図２】光メモリの製造方法を示す断面図（その１）である。
【図３】光メモリの製造方法を示す断面図（その２）である。
【図４】光メモリの製造方法を示す断面図（その３）である。
【図５】光メモリの製造方法を示す断面図（その４）である。
【図６】光メモリの製造方法を示す断面図（その５）である。
【図７】光メモリの製造方法を示す断面図（その６）である。
【図８】光メモリの製造方法を示す断面図（その７）である。
【図９】樹脂基体を示す斜視図である。
【図１０】位置合わせ治具及びユニットを示す斜視図である。
【図１１】光メモリの製造方法の変形例を示す断面図（その１）である。
【図１２】光メモリの製造方法の変形例を示す断面図（その２）である。
【図１３】従来の光メモリとその動作原理を説明するための斜視図である。
【符号の説明】
【００４７】
２  光メモリ
３  コア層
４  クラッド層
５ａ，５ｂ  樹脂基体
６  ユニット
６ａ，６ｂ  ユニット
７  接着層
８  情報用凹凸部
９  光導波路
１０  光導入面
１１，１２  十字マーク
２０  ガラス基板
２１  接着層
２３  スタンパ
２４  積層体
２５，２６  接着層
３０  位置合わせ治具
３１  平圧板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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