(57)【要約】      （修正有）【課題】画像表示装置、特に液晶表示装置に適用した場合に、正面コントラストを低下させずに、表示コントラスト及び表示色の視野角特性を改善する光学補償偏光板を提供すること。【解決手段】光学補償偏光板は、偏光子の両面に透明保護フィルムを積層してなる偏光板の片面に光学補償層を積層し、少なくとも一方の透明保護フィルムが、正面レターデーション値Ｒｅおよび膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈが式（III）、（IV）をみたすセルロースアシレートフィルムであり、かつ光学補償層のＮｚファクターおよび正面レターデーション値Ｒｅ1が、式（VII）、（VIII）をみたす。（III）｜Ｒｅ｜≦１０（IV）｜Ｒｔｈ｜≦２５（VII）０．４≦Ｎｚ≦０．６（VIII）１００≦Ｒｅ1≦３５０【選択図】図１
2006285169.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子の両面に透明保護フィルムを積層してなる偏光板の片面に光学補償層を積層した光学補償偏光板において、少なくとも一方の透明保護フィルムが、正面レターデーション値Ｒｅ（単位：ｎｍ）および膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈ（単位：ｎｍ）が下記式（I）、（II）をみたすセルロースアシレートフィルムであり、かつ光学補償層の下記式（III）、（IV）で定義されるＮｚおよびＲｅ1が、下記式（V）、（VI）をみたすことを特徴とする光学補償偏光板。
（I）｜Ｒｅ｜≦１０
（II）｜Ｒｔｈ｜≦２５
（III）Ｎｚ＝（ｎｘ1−ｎｚ1）／（ｎｘ1−ｎｙ1）
（IV）Ｒｅ1＝（ｎｘ1−ｎｙ1）×ｄ1
（V）０．４≦Ｎｚ≦０．６
（VI）１００≦Ｒｅ1≦３５０
［式中、Ｒｅ1は波長590ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）であり、Ｎｚは波長590ｎｍにおけるＮｚファクターあり、またｎｘ1はフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙ1はフィルム面内の遅相軸と垂直な方向の屈折率、ｎｚ1はフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄ1はフィルムの厚さ（単位：ｎｍ）である。］
【請求項２】
前記偏光子が長手方向に平行な吸収軸を有する長尺状の偏光子であり、前記光学補償層が長手方向に直交する遅相軸を有する長尺状の光学補償層であることを特徴とする請求項１に記載の光学補償偏光板。
【請求項３】
前記透明保護フィルムが、下記式（VII）を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の光学補償偏光板。
（VII）｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５
［式中、Ｒｅ(λ)は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
【請求項４】
前記透明保護フィルムの膜厚が１０〜１２０μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項５】
前記透明保護フィルムが、下記式（VIII）をみたすことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（VIII）｜Ｒｅ(MAX)−Ｒｅ(MIN)｜≦6かつ｜Ｒｔｈ(MAX)−Ｒｔｈ(MIN)｜≦10
［式中、Ｒｅ(MAX)、Ｒｔｈ(MAX)は任意に切り出した1ｍ四方のフィルムの最大レターデ
ーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｅ(MIN)、Ｒｔｈ(MIN)は最小レターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
【請求項６】
前記透明保護フィルムが、膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物を、下記式（IX）、（X）をみたす範囲で少なくとも一種含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（IX）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦１．０
（X）０．１≦Ａ≦３０
［式中、Ｒｔｈ（Ａ）はＲｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ（０）はＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ａ：フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。］
【請求項７】
前記Ｒｔｈを低下させる化合物が、オクタノール・水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である化合物であることを特徴とする請求項６に記載の光学補償偏光板。
【請求項８】
前記Ｒｔｈを低下させる化合物として、一般式（１３）、（１８）、（１９）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする請求項６または７に記載の光学補償偏光板。
【化１】
2006285169.tif 000080
[式中、Ｒ1はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素原子数の総和
は１０以上である。]
【化２】
2006285169.tif 000081
[式中、Ｒ1はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。]
【化３】
2006285169.tif 000082
上記一般式（１９）において、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。
【請求項９】
前記透明保護フィルムが、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜および｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項１０】
前記透明保護フィルムが、フィルムの機械搬送方向（ＭＤ方向）に対して垂直方向（ＴＤ方向）に遅相軸を有する長尺状のフィルムであることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項１１】
前記透明保護フィルムが、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面の接触角が５５°以下であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項１２】
前記透明保護フィルムを６０℃９０％ＲＨで２４０時間処理した場合のＲｅおよびＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項１３】
前記透明保護フィルムを８０℃で２４０時間処理した場合のＲｅおよびＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項１４】
前記透明保護フィルムが延伸処理されたフィルムであって、かつ延伸後に光学補償層が積層されたことを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の光学補償偏光版。
【請求項１５】
前記透明保護フィルムが延伸処理されたフィルムであって、かつ光学補償層を積層した後に延伸されたことを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の光学補償偏光版。
【請求項１６】
前記透明保護フィルムが、延伸処理の前後において、フィルム面内の正面レターデーションが下記式（XI）を満たすことを特徴とする請求項１４または１５に記載の光学補償偏光板。
（XI）｜Ｒｅ(ｎ)-Ｒｅ(０)｜／ｎ≦１．０
[式中、Ｒｅ(ｎ)はｎ(％)延伸したフィルムの面内正面レターデーション(単位：ｎｍ)
、Ｒｅ(０)は延伸していないフィルムの面内正面レターデーション(単位：ｎｍ)]
【請求項１７】
前記透明保護フィルムが、アシル置換度２.７０〜３．００であるセルロースアセテー
トからなることを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項１８】
前記透明保護フィルムが、下記式（XII）〜（XIV）をすべて満たすセルロースアシレートからなることを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（XII）  ２．５０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．００
（XIII）  ０≦ＳＡ≦２．５
（XIV）  ０．５≦ＳＢ≦３．００
[式中、ＳＡはアセチル基の置換度を、ＳＢは炭素数３〜２２の置換アシル基の置換度を
表す。]
【請求項１９】
前記光学補償層が、棒状又は円盤状化合物を透明保護フィルム面に対して垂直配向させてなる光学補償層であることを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項２０】
前記光学補償層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドから選択される固有複屈折値が正のポリマーを含有することを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項２１】
前記光学補償層が、固有複屈折値が負のポリマーを含有することを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項２２】
前記透明保護フィルムと光学補償層とが接着剤層または粘着剤層で貼合されたことを特徴とする請求項１〜２１のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項２３】
ハードコート層、防眩層、反射防止層のいずれか少なくとも一層を有することを特徴とする請求項１〜２２のいずれかに記載の光学補償偏光板。
【請求項２４】
片面または両面に熱収縮フイルムが接着された長尺状のポリマーフイルムを加熱処理して、該ポリマーフイルムを収縮させ長尺状の光学補償層を作製する工程と、作製した長尺状の光学補償層を、長尺状の透明保護フィルムを介して長尺状の偏光子と貼り合わせる工程とを含む請求項２０〜２３のいずれかに記載の光学補償偏光板の製造方法。
【請求項２５】
前記光学補償層を作製する工程において、熱収縮フィルムとしてMD方向に優先的に収縮する熱収縮フィルムを用いることを特徴とする請求項２４に記載の光学補償偏光板の製造方法。
【請求項２６】
前記光学補償層を作製する工程において、密ロールを使用することを特徴とする請求項２４に記載の光学補償偏光板の製造方法。
【請求項２７】
前記光学補償層を作製する工程において、テンタークリップの長手方向の間隔が把持、搬送している間に狭くなる構造のテンターを用いて幅方向に延伸する工程を含むことを特徴とする請求項２４に記載の光学補償偏光板の製造方法。
【請求項２８】
請求項１〜２３のいずれかに記載の光学補償偏光板を用いたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項２９】
画像表示装置がＩＰＳモードの液晶表示装置であり、視認側のセル基板には請求項１〜２３のいずれかに記載の光学補償偏光板が配置され、視認側と反対側のセル基板には、偏光子の少なくとも片面に請求項１〜１８のいずれかに記載の透明保護フィルムが積層された偏光板が配置されており、かつ、電圧無印加状態において液晶セル内の液晶分子の長軸方向と偏光板の吸収軸が平行状態にあることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３０】
画像表示装置がＩＰＳモードの液晶表示装置であり、視認側のセル基板には偏光子の少なくとも片面に請求項１〜１８のいずれかに記載の透明保護フィルムが積層された偏光板が配置され、視認側と反対側のセル基板には、請求項１〜２３のいずれかに記載の光学補償偏光板が配置されており、かつ、電圧無印加状態において液晶セル内の液晶分子の長軸方向と光学補償偏光板の吸収軸が直交状態にあることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光子に透明保護フィルムと光学補償層とを積層した光学補償偏光板に関する。また本発明は、前記光学補償偏光板を用いた画像表示装置に関する。特に本発明の光学補償偏光板は、いわゆるＩＰＳモードで動作する液晶表示装置に適している。
【背景技術】
【０００２】
現在主流の液晶表示装置には、誘電率異方性が正のネマティック液晶分子の配列状態が９０°ねじれた、いわゆるＴＮモードが用いられている。ＴＮモード液晶表示装置は、一対の透明電極を有する基板と、その基板間に封入されたネマティック液晶からなる液晶セルとその両側に配置された偏光板から構成され、他の方式のＬＣＤと比較して応答速度が数十ミリ秒程度と比較的早く、高い表示コントラストを示すことから有力な方式であるが、表示方式の原理上、見る方向によって表示色や表示コントラストが変化するといった視野角特性上の問題があり、ＣＲＴの表示性能を越えるまでにはいたらない。
【０００３】
ＴＮモード液晶表示装置は、基板に垂直に電界を印加することにより表示が行なわれる。電界の無印加、印加により、液晶の分子長軸が基板に略平行、そして略垂直と変化することにより、即ち基板に垂直な面での液晶分子長軸の方向の変化により表示が行なわれる。このため、表示画面を見る方向により、液晶の層のレターデーションが大きく変化することになり、表示色や表示コントラストが大きく変化する。上記視野角特性を改善するため、光学補償層を偏光子とＴＮモード液晶セルとの間に設置することが提案され、これまで種々の光学補償シートが提案されている。光学補償シートの設置は、ある程度視野角の拡大をもたらしたが、これまでのところＣＲＴの代替となるほどの広い視野角は実現困難である。
【０００４】
電界の印加方向が、上記のように基板に垂直ではなく、基板にほぼ平行に行う表示方式が提案されている（特許文献１、非特許文献１）。このような基板にほぼ平行に電界を印加することによる表示方式は、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードと呼ばれる。ＩＰＳモードの液晶表示装置は、非駆動状態において液晶分子が基板面に対して略平行なホモジニアス配向を有するため、光は液晶層を、その偏光面をほとんど変化させること無く通過し、その結果基板の上下に偏光板を配置することにより非駆動状態でほぼ完全な黒色表示が可能である。
【０００５】
しかしながら、ＩＰＳモードではパネル法線方向においてはほぼ完全な黒色表示ができるものの、法線方向からずれた方向からパネルを観察する場合、液晶セルの上下に配置する偏光板の光軸方向からズレた方向では偏光板の特性上避けられない光漏れや、ホモジニアス配向した液晶や透明保護フィルムにより発現する無視できない位相差値によって、視野角が狭くなるという問題があった。
【０００６】
この問題を解決するために、斜め方向から観察した場合に生じる偏光板の幾何学的な軸ズレを、光学補償シートにより補償した偏光板が用いられている。このような効果を得られる偏光板は、たとえば、特許文献２や特許文献３に開示されている。しかし、従来知られている光学補償シートでは充分な広視野角を実現し難い。
【０００７】
前記特許文献２に記載の偏光板では、偏光子の保護フィルムとして光学補償シートが使用されている。しかしながら、当該偏光板は、通常の使用環境では良好な視野角特性が得られるものの、高温度下や高湿度下では偏光子の寸法変化により直接積層されている保護フィルムも変形する。そのため、保護フィルムに用いている光学補償シートの位相差値が所望の値からずれてしまい、その効果を安定に保つことができないという問題点があった。
【０００８】
特許文献３では、保護フィルムとして一般的に用いられているトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）を適用した偏光板に光学補償シートが積層されている。この場合には、光学補償シートに直接応力が加わらないことから、光学補償シートの位相差値は安定である。しかし、ＴＡＣフィルムには無視できない位相差値が存在するため補償する光学補償層の設計が困難である。また上記と同様、高温度下や高湿度下での偏光子の寸法変化によりＴＡＣフィルムが延伸されることにより位相差値の変化が発生し、所望の目的を達成することができない。
【０００９】
特許文献４や特許文献５では、保護フィルムとしてノルボルネン系樹脂を含有するフィルムやイミド基を有する樹脂とフェニル基、ニトリル基を有する樹脂を含有するフィルムが積層されている。この場合には、保護フィルムの位相差値は小さくできるため光学補償層の設計はやりやすい。しかし、これら合成樹脂は一般に疎水的であり、偏光子との接着に問題があり剥離しやすい。また、偏光子の両側に保護フィルムを積層する工程において偏光子からの水分の透過が期待できないため内部に水分が残存し、偏光板性能の劣化をもたらす問題点があった。また上記と同様、高温度下や高湿度下での偏光子の寸法変化により合成樹脂フィルムの位相差値の変化がTACフィルム以上に発生し、所望の目的を達成することができない。
【特許文献１】特開平７−２６１１５２号公報
【特許文献２】特開平４−３０５６０２号公報
【特許文献３】特開平４−３７１９０３号公報
【特許文献４】特開２００４−４６４１号公報
【特許文献５】特開２００４−４６４２号公報
【非特許文献１】ＡＳＩＡ ＤＩＳＰＬＡＹ'９５（The Institute of Television Engineers of Japan & The Society for Information Display 発行、５７７〜５８０頁、７０７〜７１０頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、偏光板と光学補償層を積層した光学補償偏光板に関し、画像表示装置、特に液晶表示装置に適用した場合に、正面コントラストを低下させずに、表示コントラスト及び表示色の視野角特性を改善する光学補償偏光板を高い生産性で提供することを目的とする。
更には、上記特性に加えて、高温・高湿度によって光学性能の劣化が少ない光学補償偏光板を提供することである。
また、本発明の別の目的は、上記光学補償偏光板を具備した画像表示装置、特にＣＲＴと代替えが可能な視野角特性に優れた液晶表示装置を提供することにある。
更に本発明は、前記光学補償偏光板を具備し、広範囲にわたり高いコントラスト比を有し、見やすい表示を実現可能なＩＰＳモードで動作する液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す光学補償偏光板、画像表示装置、および液晶表示装置を見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち本発明は、
（１）偏光子の両面に透明保護フィルムを積層してなる偏光板の片面に光学補償層を積層した光学補償偏光板において、少なくとも一方の透明保護フィルムが、正面レターデーション値Ｒｅ（単位：ｎｍ）および膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈ（単位：ｎｍ）が下記式（I）、（II）をみたすセルロースアシレートフィルムであり、かつ光学補償層の下記式（III）、（IV）で定義されるＮｚおよびＲｅ1が、下記式（V）、（VI）をみたすことを特徴とする光学補償偏光板。
（I）｜Ｒｅ｜≦１０
（II）｜Ｒｔｈ｜≦２５
（III）Ｎｚ＝（ｎｘ1−ｎｚ1）／（ｎｘ1−ｎｙ1）
（IV）Ｒｅ1＝（ｎｘ1−ｎｙ1）×ｄ1
（V）０．４≦Ｎｚ≦０．６
（VI）１００≦Ｒｅ1≦３５０
［式中、Ｒｅ1は波長590ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）であり、Ｎｚは波長590ｎｍにおけるＮｚファクターあり、またｎｘ1はフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙ1はフィルム面内の遅相軸と垂直な方向の屈折率、ｎｚ1はフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄ1はフィルムの厚さ（単位：ｎｍ）である。］
（２）前記偏光子が長手方向に平行な吸収軸を有する長尺状の偏光子であり、前記光学補償層が長手方向に直交する遅相軸を有する長尺状の光学補償層であることを特徴とする（１）に記載の光学補償偏光板。
（３）前記透明保護フィルムが、下記式（VII）を満たすことを特徴とする（１）または（２）に記載の光学補償偏光板。
（VII）｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５
［式中、Ｒｅ(λ)は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
（４）前記透明保護フィルムの膜厚が１０〜１２０μｍであることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（５）前記透明保護フィルムが、下記式（VIII）をみたすことを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（VIII）｜Ｒｅ(MAX)−Ｒｅ(MIN)｜≦6かつ｜Ｒｔｈ(MAX)−Ｒｔｈ(MIN)｜≦10
［式中、Ｒｅ(MAX)、Ｒｔｈ(MAX)は任意に切り出した1ｍ四方のフィルムの最大レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｅ(MIN)、Ｒｔｈ(MIN)は最小レターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
（６）前記透明保護フィルムが、膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物を、下記式（IX）、（X）をみたす範囲で少なくとも一種含有することを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（IX）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦１．０
（X）０．１≦Ａ≦３０
［式中、Ｒｔｈ（Ａ）はＲｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ（０）はＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ａ：フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。］
（７）前記Ｒｔｈを低下させる化合物が、オクタノール・水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である化合物であることを特徴とする（６）に記載の光学補償偏光板。
（８）前記Ｒｔｈを低下させる化合物として、一般式（１３）、（１８）、（１９）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする（６）または（７）に記載の光学補償偏光板。
【化４】
2006285169.tif 000003
[式中、Ｒ1はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素原子数の総和
は１０以上である。]
【化５】
2006285169.tif 000004
[式中、Ｒ1はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。]
【化６】
2006285169.tif 000005
上記一般式（１９）において、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。
（９）前記透明保護フィルムが、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜および｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする（１）〜（８）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（１０）前記透明保護フィルムが、フィルムの機械搬送方向（ＭＤ方向）に対して垂直方向（ＴＤ方向）に遅相軸を有する長尺状のフィルムであることを特徴とする（１）〜（９）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（１１）前記透明保護フィルムが、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面の接触角が５５°以下であることを特徴とする（１）〜（１０）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（１２）前記透明保護フィルムを６０℃９０％ＲＨで２４０時間処理した場合のＲｅおよびＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることを特徴とする（１）〜（１１）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（１３）前記透明保護フィルムを８０℃で２４０時間処理した場合のＲｅおよびＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることを特徴とする（１）〜（１２）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（１４）前記透明保護フィルムが延伸処理されたフィルムであって、かつ延伸後に光学補償層が積層されたことを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の光学補償偏光版。
（１５）前記透明保護フィルムが延伸処理されたフィルムであって、かつ光学補償層を積層した後に延伸されたことを特徴とする（１）〜（１３）のいずれかに記載の光学補償偏光版。
（１６）前記透明保護フィルムが、延伸処理の前後において、フィルム面内の正面レターデーションが下記式（XI）を満たすことを特徴とする（１４）または（１５）に記載の光学補償偏光板。
（XI）｜Ｒｅ(ｎ)-Ｒｅ(０)｜／ｎ≦１．０
[式中、Ｒｅ(ｎ)はｎ(％)延伸したフィルムの面内正面レターデーション(単位：ｎｍ)、Ｒｅ(０)は延伸していないフィルムの面内正面レターデーション(単位：ｎｍ)]
（１７）前記透明保護フィルムが、アシル置換度２.７０〜３．００であるセルロースアセテートからなることを特徴とする（１）〜（１６）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（１８）前記透明保護フィルムが、下記式（XII）〜（XIV）をすべて満たすセルロースアシレートからなることを特徴とする（１）〜（１６）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（XII）  ２．５０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．００
（XIII）  ０≦ＳＡ≦２．５
（XIV）  ０．５≦ＳＢ≦３．００
[式中、ＳＡはアセチル基の置換度を、ＳＢは炭素数３〜２２の置換アシル基の置換度を表す。]
（１９）前記光学補償層が、棒状又は円盤状化合物を透明保護フィルム面に対して垂直配向させてなる光学補償層であることを特徴とする（１）〜（１８）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（２０）前記光学補償層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドから選択される固有複屈折値が正のポリマーを含有することを特徴とする（１）〜（１８）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（２１）前記光学補償層が、固有複屈折値が負のポリマーを含有することを特徴とする（１）〜（１８）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（２２）前記透明保護フィルムと光学補償層とが接着剤層または粘着剤層で貼合されたことを特徴とする（１）〜（２１）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（２３）ハードコート層、防眩層、反射防止層のいずれか少なくとも一層を有することを特徴とする（１）〜（２２）のいずれかに記載の光学補償偏光板。
（２４）片面または両面に熱収縮フイルムが接着された長尺状のポリマーフイルムを加熱処理して、該ポリマーフイルムを収縮させ長尺状の光学補償層を作製する工程と、作製した長尺状の光学補償層を、長尺状の透明保護フィルムを介して長尺状の偏光子と貼り合わせる工程とを含む（２０）〜（２３）のいずれかに記載の光学補償偏光板の製造方法。
（２５）前記光学補償層を作製する工程において、熱収縮フイルムとしてMD方向に優先的に収縮する熱収縮フイルムを用いることを特徴とする（２４）に記載の光学補償偏光板の製造方法。
（２６）前記光学補償層を作製する工程において、密ロールを使用することを特徴とする（２４）に記載の光学補償偏光板の製造方法。
（２７）前記光学補償層を作製する工程において、テンタークリップの長手方向の間隔が把持、搬送している間に狭くなる構造のテンターを用いて幅方向に延伸する工程を含むことを特徴とする（２４）に記載の光学補償偏光板の製造方法。
（２８）（１）〜（２３）のいずれかに記載の光学補償偏光板を用いたことを特徴とする画像表示装置。
（２９）画像表示装置がＩＰＳモードの液晶表示装置であり、視認側のセル基板には（１）〜（２３）のいずれかに記載の光学補償偏光板が配置され、視認側と反対側のセル基板には、偏光子の少なくとも片面に（１）〜（１８）のいずれかに記載の透明保護フィルムが積層された偏光板が配置されており、かつ、電圧無印加状態において液晶セル内の液晶分子の長軸方向と偏光板の吸収軸が平行状態にあることを特徴とする液晶表示装置。
（３０）画像表示装置がＩＰＳモードの液晶表示装置であり、視認側のセル基板には偏光子の少なくとも片面に（１）〜（１８）のいずれかに記載の透明保護フィルムが積層された偏光板が配置され、視認側と反対側のセル基板には、（１）〜（２３）のいずれかに記載の光学補償偏光板が配置されており、かつ、電圧無印加状態において液晶セル内の液晶分子の長軸方向と光学補償偏光板の吸収軸が直交状態にあることを特徴とする液晶表示装置によって達成することができた。
【００１３】
上記本発明の光学補償偏光板は、液晶セルに偏光板をクロスニコル状態で配置した場合に、法線方向からズレた方向での光漏れを、上記特定の光学補償層により解消することができる。特にＩＰＳモードの液晶表示装置において、液晶層の斜め方向におけるコントラストの低下を補償する機能を有する。光学補償層は前記Ｎｚ値が０．４〜０．６であり、かつ面内位相差（Ｒｅ1）が１００〜３５０ｎｍである。Ｎｚ値は補償機能の点から０．４５以上、さらには０．４８以上であるのが好ましい。一方、Ｎｚ値は０．５５以下、さらには０．５２以下であるのが好ましい。面内のレターデーションＲｅ1は補償機能の点から２３０ｎｍ以上、さらには２５０ｎｍ以上である。
【００１４】
一方、本発明の光学補償偏光板の偏光子両面に積層される透明保護フィルムのうち、少なくとも一方の透明保護フィルムが、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さいセルロースアシレートフィルムであり、｜Ｒｅ｜≦１０かつＲｔｈ｜≦２５であることを特徴とする。好ましくは、｜Ｒｅ｜≦５かつ｜Ｒｔｈ｜≦１０であり、より好ましくは、｜Ｒｅ｜≦２かつ｜Ｒｔｈ｜≦５である。光学異方性の小さいセルロースアシレートフィルムと、特定の複屈折率を有する光学補償層とを積層することにより、光学補償層の光学補償性能を有効に発現させることができる。
【００１５】
また本発明における透明保護フィルムは面内の光学異方性のばらつきが小さいことがのぞましく、特に｜Ｒｅ(MAX)−Ｒｅ(MIN)｜≦6かつ｜Ｒｔｈ(MAX)−Ｒｔｈ(MIN)｜≦10で
あることがのぞましい。より好ましくは｜Ｒｅ(MAX)−Ｒｅ(MIN)｜≦3かつ｜Ｒｔｈ(MAX)−Ｒｔｈ(MIN)｜≦5である。
［式中、Ｒｅ(MAX)、Ｒｔｈ(MAX)−は任意に切り出した1ｍ四方のフィルムの最大レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｅ(MIN)、Ｒｔｈ(MIN)は最小レターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
透明保護フィルム面内の光学異方性のばらつきを抑えることによって、これを用いて作製した光学補償偏光板の光学異方性のばらつきも小さくすることができ、これを用いた液晶パネルの表示ムラを小さくできるという効果を奏する。
本発明におけるＲｅ、Ｒｔｈの小さい、すなわち光学的に等方性のフィルムは、延伸によってもＲｅの発生が小さく、製造中に種種の搬送テンションが発生しても面内ばらつきを小さく保てるため、フィルム面内の光学異方性のばらつきが小さい。
【００１６】
また本発明において、波長分散が小さいセルロースアシレートフィルムがのぞましく、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５であることがのぞましい。さらにのぞましくは、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦５かつ｜Ｒｔｈ(400)−
Ｒｔｈ(700)｜≦２５であり、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦３かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦１５であることが特にのぞましい。
【００１７】
前記透明保護フィルムは延伸処理されたフィルムであることが好ましい。延伸処理は一軸延伸、二軸延伸のいずれでもよい。特に二軸延伸処理されたフィルムが好ましい。
【００１８】
一般的に、フィルム材料は延伸することにより強度を向上させることができ、より強靭な機械特性を得ることができる。しかし、多くの材料では延伸処理により位相差が発生するため、偏光子の保護フィルムとしては使用できない。
【００１９】
一方、本発明における透明保護フィルムは、延伸されたり、貼合後の応力によって寸法変化したりする際に光学特性変化が小さいセルロースアシレートフィルムであり、偏光子の保護フィルムとして好適に用いることができる。｜Ｒｅ(ｎ)-Ｒｅ(０)｜／ｎ≦１．０であることがのぞましく、｜Ｒｅ(ｎ)−Ｒｅ(０)｜／ｎ≦０．５であることがさらにのぞましい。
[式中、Ｒｅ(ｎ)はｎ(％)延伸したフィルムの面内正面レターデーション(単位:ｎｍ)、Ｒｅ(０)は延伸していないフィルムの面内正面レターデーション(単位：ｎｍ)]
【００２０】
また、本発明における透明保護フィルムは膜厚が１０〜１２０μｍであることがのぞま
しく、さらに４０〜１００μｍであることがのぞましく、特に６０〜８０μｍであることがのぞましい。
さらに、本発明における透明保護フィルムの環境変化による光学性能の変化については、６０℃９０％ＲＨで２４０時間処理した場合のＲｅおよびＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以下、更に好ましくは５ｎｍ以下である。また前記透明保護フィルムは、８０℃で２４０時間処理した場合のＲｅおよびＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５ｎｍ以下である。
【００２１】
このように、偏光子の透明保護フィルムの光学異方性を小さく、且つばらつきを小さくすることにより、積層する光学補償層の設計が容易になるとともに、補償効果の高い光学補償偏光板を得ることができる。
本発明において、光学補償層の厚さは特に制限されないが、通常２〜２００μｍ程度、好ましくは１０〜１００μｍである。
【００２２】
さらに本発明は、前記光学補償偏光板を用いたことを特徴とする画像表示装置に関する。
本発明の画像表示装置としては、ＩＰＳモードの液晶表示装置が好適である。前記本発明に係る光学補償偏光板をＩＰＳモードの液晶セルのいずれか一方の表面に配置することにより、ＩＰＳモードの液晶表示装置おいて従来生じていた黒表示時の光漏れを低減することができる。かかるＩＰＳモードの液晶表示装置は、全方位にわたり高いコントラスト比を有し、広視野角で見やすい表示を実現可能である。
【００２３】
以下に、本発明に係る光学補償偏光板を用いたＩＰＳモードの液晶表示装置の好適態様を挙げる。
（１）視認側のセル基板には前記本発明に係る光学補償偏光板が配置され、視認側と反対側のセル基板には、偏光子の少なくとも一方の面に前記｜Ｒｅ｜≦１０且つ｜Ｒｔｈ｜≦２５である透明保護フィルムを積層してなる偏光板が配置されており、かつ、電圧無印加状態において液晶セル内の液晶物質の異常光屈折率方向と当該偏光板の吸収軸が平行状態にあることを特徴とする液晶表示装置。
【００２４】
（２）視認側のセル基板には偏光子の少なくとも一方の面に前記｜Ｒｅ｜≦１０且つ｜Ｒｔｈ｜≦２５である透明保護フィルムを積層してなる偏光板が配置され、視認側と反対側のセル基板には、前記本発明に係る光学補償偏光板が配置されており、かつ、電圧無印加状態において液晶セル内の液晶物質の異常光屈折率方向と当該光学補償偏光板の吸収軸が直交状態にあることを特徴とする液晶表示装置。
液晶セルの本発明に係る光学補償偏光板とは反対面に配置される偏光板の2枚の透明保護フィルムのうち、少なくとも一方を本発明の光学補償偏光板で用いられる透明保護フィルムとすることで、より全方位にわたり高いコントラスト比を有し、広視野角で見やすい表示が得られる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の光学補償偏光板によれば、画像表示装置、特に液晶表示装置に適用した場合に、正面コントラストを低下させずに、表示コントラスト及び表示色の視野角特性を改善し、広い視野角で高コントラストの画像特性を提供することができる。また本発明の光学補償偏光板は、ＩＰＳモードで動作する液晶表示装置に好適である。更には、本発明の光学補償偏光板は、高温・高湿度下における光学性能の劣化が少なく、ロールtoロールで積層することにより高い生産性を可能とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下本発明の光学補償偏光板および画像表示装置について説明する。本発明の光学補償偏光板は、偏光子の両面に透明保護フィルムを積層した偏光板の片面に光学補償層を積層した光学補償偏光板であって、少なくとも一方の透明保護フィルムが、正面レターデーション値Ｒｅ（単位：ｎｍ）および膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈ（単位：ｎｍ）が下記式(I)および（II）を満たすセルロースアシレートフィルム（以下、「本発明のセルロースアシレートフィルム」と称する）であり、かつ光学補償層の下記式（III）、（IV）で定義されるＮｚおよびＲｅ1が、下記式（V）、（VI）を満たすことを特徴とする。
（I）｜Ｒｅ｜≦１０
（II）｜Ｒｔｈ｜≦２５
（III）Ｎｚ＝（ｎｘ1−ｎｚ1）／（ｎｘ1−ｎｙ1）
（IV）Ｒｅ1＝（ｎｘ1−ｎｙ1）×ｄ1
（V）０．４≦Ｎｚ≦０．６
（VI）１００≦Ｒｅ1≦３５０
［式中、Ｒｅ1は波長590ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）であり、Ｎｚは波長590ｎｍにおけるＮｚファクターであり、またｎｘ1はフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙ1はフィルム面内の遅相軸と垂直な方向の屈折率、ｎｚ1はフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄ1はフィルムの厚さ（単位：ｎｍ）である。］
【００２７】
さらに、偏光子の吸収軸、光学補償層の遅相軸、透明保護フィルムの遅相軸はそれぞれが互いに直交または平行となるように積層されている。偏光子の吸収軸と光学補償層の遅相軸は、積層時におけるロールでの連続貼り合わせ工程の観点から平行に積層するのが好ましい。
【００２８】
以下、本発明のセルロースアシレートフィルムについて詳細に説明する。
［セルロースアシレート原料綿］
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。
【００２９】
［セルロースアシレート置換度］
次に上述のセルロースを原料に製造される本発明のセルロースアシレートについて記載する。本発明のセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸または及び炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。
【００３０】
上述のように本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．７０〜３．００であることがのぞましい。さらには置換度が２．８５〜３．００であることがのぞましく、２．９０〜３．００であることがよりのぞましい。
【００３１】
セルロースの水酸基に置換するアシル基は、炭素数２〜２２の脂肪族基でもアリル基でもよく、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、iso−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
又、混合セルロースアシレートも好ましく用いられ、下記式（XII）〜（XIV）で規定された要件をすべて満たす混合セルロースアシレートが特に好ましい。
式（XII）  ２．５０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．００
式（XIII）  ０≦ＳＡ≦２．５
式（XIV）  ０．５≦ＳＢ≦３．００
（式中、ＳＡはアセチル基の置換度を、ＳＢは炭素数３〜２２の置換アシル基の置換度を表す。）
【００３２】
ここで、アシル基の置換度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースがアシル化している割合（１００％のアシル化は置換度１）の合計を意味する。本発明では、好ましくは２．６０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．００であり、より好ましくは２．６７≦ＳＡ＋ＳＢ≦２．９７である。また、ＳＡは、好ましくは、０≦ＳＡ≦２．２０であり、より好ましくは０≦ＳＡ≦２．０であり、ＳＢは、好ましくは、０．８０≦ＳＢ≦２．９７であり、より好ましくは１．２５≦ＳＢ≦２．９７である。本発明においては、セルロースの２位、３位および６位のそれぞれの水酸基の置換度は特に限定されないが、セルロースアシレートの６位の置換度は好ましくは０．７以上であり、より好ましくは０．８以上であり、さらに好ましくは０．８５以上である。これらによりセルロースアシレートの電子線照射による劣化だけでなく、溶解性および耐湿熱性を向上させることができる。
【００３３】
次に本発明のセルロースアシレートの置換基ＳＢで表される炭素数３〜２２のアシル基は、脂肪族アシル基でも芳香族アシル基のいずれであってもよい。本発明のセルロースアシレートのアシル基が脂肪族アシル基である場合、炭素数３〜１８であることが好ましく、炭素数３〜１２であることがより好ましく、炭素数３〜８であることがさらに好ましい。これらの脂肪族アシル基の例としては、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、またはアルキニルカルボニル基などを挙げることができる。本発明のセルロースエステルのアシル基が芳香族アシル基である場合、炭素数６〜２２であることが好ましく、炭素数６〜１８であることがより好ましく、炭素数６〜１２であることがさらに好ましい。
【００３４】
本発明のセルロースアシレートの好ましい例として、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロパノエートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート、セルロースアセテートヘキサノエート、セルロースアセテートオクタノエート、セルロースアセテートシクロヘキサノエート、セルロースアセテートデカノエート、セルロースアセテートアダマンタンカルボキシレート、セルロースアセテートサルフェート、セルロースアセテートカルバメート、セルロースプロピオネートサルフェート、セルロースアセテートプロピオネートサルフェート、セルロースアセテートフタレートなどを挙げることができる。より好ましくは、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロパノエートブチレート、セルロースアセテートヘキサノエート、セルロースアセテートオクタノエートなどを挙げることができる。さらに好ましくは、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートを挙げることができる。この場合、アセチル基と炭素数３以上のアシル基の置換度は、前述した範囲で作成されたものであり、その置換度によって所望の特性を得ることができる。
【００３５】
［セルロースアシレートの重合度］
本発明のセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であることが好ましく、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８に詳細に記載されている。
また、本発明のセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【００３６】
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。本発明のセルロースアシレートの製造時に使用される際には、セルロースアシレートの含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下であることが好ましい。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
【００３７】
本発明のセルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
【００３８】
［セルロースアシレートへの添加剤］
本発明のセルロースアシレート溶液（ドープ）には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
本発明のセルロースアシレートフィルムの光学的異方性、とくにフィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物を、下記式（IX）、（X）をみたす範囲で少なくとも一種含有することがのぞましい。
式（IX）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦１．０
式（X）０．１≦Ａ≦３０
上記式（IX）、（X）は
式（XV）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−２．０
式（XVI）０．０５≦Ａ≦２５
であることがよりのぞましく、
式（XVII）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−３．０
式（XVIII）０．１≦Ａ≦２０
であることがさらにのぞましい。
［式中、Ｒｔｈ（Ａ）はＲｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ（０）はＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ａ：フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。］
【００３９】
［セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物の構造的特徴］
セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物について説明する。本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、フィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いて光学的異方性を十分に低下させ、ＲｅがゼロかつＲｔｈがゼロに近くなるようにした。このためには光学的異方性を低下させる化合物はセルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物には次の一般式（１）〜（１９）で表される化合物が挙げられる。
【００４０】
【化７】
2006285169.tif 000006
【００４１】
式中、Ｒ１１−１３はそれぞれ独立に、炭素数が１ないし２０の脂肪族基を表す。Ｒ１１−１３は互いに連結して環を形成してもよい。
【００４２】
【化８】
2006285169.tif 000007
【００４３】
一般式（２）および（３）において、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子または−ＮＲ２５−を表し、Ｒ２５は水素原子またはアルキル基を表す。Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していても良い。Ｙ２１−２２はそれぞれ独立に、炭素数が１ないし２０の、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表し、Ｙ２１−２２は互いに連結して環を形成してもよい。ｍは１〜５の整数を表し、ｎは１〜６の整数を表す。
【００４４】
【化９】
2006285169.tif 000008
【００４５】
一般式（４）〜（１２）において、Ｙ３１−７０はそれぞれ独立に、炭素数が１ないし２０のエステル基、炭素数が１ないし２０のアルコキシカルボニル基、炭素数が１ないし２０のアミド基、炭素数が１ないし２０のカルバモイル基またはヒドロキシ基を表し、Ｖ３１−４３はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１ないし２０の脂肪族基を表す。Ｌ３１−８０はそれぞれ独立に、原子数０ないし４０かつ、炭素数０ないし２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ３１−８０の原子数が０であるということは、連結基の両端にある基が直接に単結合を形成していることを意味する。Ｖ３１−４３およびＬ３１−８０は、さらに置換基を有していてもよい。
【００４６】
【化１０】
2006285169.tif 000009
【００４７】
［式中、Ｒ１はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。］
【００４８】
【化１１】
2006285169.tif 000010
【００４９】
［式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ４およびＲ５の炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。］
【００５０】
【化１２】
2006285169.tif 000011
【００５１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。Ｘは下記の連結基群１から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｙは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。
（連結基群１）単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ４−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｒ４は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。］
【００５２】
【化１３】
2006285169.tif 000012
【００５３】
（式中、Ｑ１、Ｑ２およびＱ３はそれぞれ独立に５ないし６員環を表す。ＸはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表す。）
【００５４】
【化１４】
2006285169.tif 000013
【００５５】
（式中、Ｘ２はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎを表す。Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４ないしＲ３５は水素原子または置換基を表す。）
【００５６】
【化１５】
2006285169.tif 000014
【００５７】
［式中、Ｒ１はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。］
【００５８】
一般式（１８）として好ましくは下記一般式（１９）で表される化合物である。
【００５９】
【化１６】
2006285169.tif 000015
【００６０】
上記一般式（１９）において、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１乃至２０のものが好ましく、１乃至１５のものがさらに好ましく、１乃至１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６乃至３６のものが好ましく、６乃至２４のものがより好ましい。
【００６１】
上記のアルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素およびヨウ素）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基およびアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基である。
上記の中でも、特に一般式（１３）、（１８）、（１９）で表わされる化合物が好ましく、これらの中から少なくとも一種用いることが好ましい。
【００６２】
（ｌｏｇＰ値）
本発明のセルロースアシレートフィルムを作製するにあたっては、上述のようにフィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制して光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０ないし７である化合物を用いることが好ましい。ｌｏｇＰ値が７を超える化合物は、セルロースアシレートとの相溶性に乏しく、フィルムの白濁や粉吹きを生じやすい。また、ｌｏｇＰ値が０よりも小さな化合物は親水性が高いために、セルロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させる場合がある。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１ないし６であり、特に好ましい範囲は１．５ないし５である。
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Crippen's fragmentation法（ J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）、Viswanadhan's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,29,163(1989).）、Broto's fragmentation法（Eur.J.Med.Chem.-Chim.Theor.,19,71(1984).）などが好ましく用いられるが、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が所望の範囲内であるかどうかは、Crippen's fragmentation法により判断することが好ましい。
【００６３】
［光学的異方性を低下する化合物の物性］
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有しても良いし、含有しなくても良い。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレート固形分に対して０．０１ないし３０質量％であることが好ましく、１ないし２５質量％であることがより好ましく、５ないし２０質量％であることが特に好ましい。
光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００６４】
光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０−９９％である。該化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面および中心部の化合物量を測定して求めることができる。
【００６５】
以下に本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。
一般式（１）の化合物について説明する。
一般式（１）において、Ｒ１１−１３はそれぞれ独立に、炭素数が１ないし２０の脂肪族基を表す。Ｒ１１−１３は互いに連結して環を形成してもよい。
Ｒ１１−１３について詳しく説明する。Ｒ１１−１３は炭素数が１ないし２０、好ましくは炭素数が１ないし１６、より好ましくは炭素数が１ないし１２である脂肪族基である。ここで、脂肪族基とは、好ましくは脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましくは、アルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）、アルケニル基またはアルキニル基である。例として、アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６−ジメチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ビシクロ［２.２.２］オクタン−３−イルなどが挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルなどが挙げられ、アルキニル基としては、例えば、エチニル、プロパルギルなどが挙げられる。
【００６６】
Ｒ１１−１３で表される脂肪族基は置換されていてもよく、置換基の例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子）、アルキル基（直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基、活性メチン基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アシルカルバモイル基、Ｎ−スルホニルカルバモイル基、Ｎ−カルバモイルカルバモイル基、Ｎ−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基またはその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基（Carbonimidoyl基）、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル、アリールまたはヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、Ｎ−（アルキルもしくはアリール）スルホニルウレイド基、Ｎ−アシルウレイド基、Ｎ−アシルスルファモイルアミノ基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、イソシアノ基、イミノ基、（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基、Ｎ−スルホニルスルファモイル基またはその塩、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が挙げられる。
これらの基はさらに組み合わされて複合置換基を形成してもよく、このような置換基の例としては、エトキシエトキシエチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、エトキシカルボニルエチル基などを挙げることができる。また、Ｒ１１−１３は置換基としてリン酸エステル基を含有することもでき、一般式（１）の化合物は同一分子中に複数のリン酸エステル基を有することも可能である。
【００６７】
一般式（２）および（３）の化合物について説明する。
一般式（２）および（３）において、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子、−ＮＲ２５−を表し、Ｒ２５は水素原子またはアルキル基を表す。Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していても良く、複数の置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚを含んで構成される５または６員環の例としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオフェン、チアン、ピロリジン、ピペリジン、インドリン、イソインドリン、クロマン、イソクロマン、テトラヒドロ−２−フラノン、テトラヒドロ−２−ピロン、４−ブタンラクタム、６−ヘキサノラクタムなどを挙げることができる。
また、Ｚを含んで構成される５または６員環は、ラクトン構造またはラクタム構造、すなわち、Ｚの隣接炭素にオキソ基を有する環状エステルまたは環状アミド構造を含む。このような環状エステルまたは環状アミド構造の例としては、２−ピロリドン、２−ピペリドン、５−ペンタノリド、６−ヘキサノリドを挙げることができる。
【００６８】
Ｒ２５は水素原子または、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であるアルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）を表す。Ｒ２５で表されるアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６−ジメチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イルなどを挙げることができる。Ｒ２５で表されるアルキル基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例としては前記のＲ１１−１３に置換していても良い基を挙げることができる。
【００６９】
Ｙ２１−２２はそれぞれ独立に、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表す。エステル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ｎ−ブチルカルボニルオキシ、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ、ｔ−ブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ、ｔ−アミルカルボニルオキシ、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、１−エチルペンチルカルボニルオキシ、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ、ｎ−ノニルカルボニルオキシ、ｎ−ウンデシルカルボニルオキシ、ベンジルカルボニルオキシ、１−ナフタレンカルボニルオキシ、２−ナフタレンカルボニルオキシ、１−アダマンタンカルボニルオキシなどが例示できる。アルコキシカルボニル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ｎ−ペンチルオキシカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル、１−エチルプロピルオキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル、３，７−ジメチル−３−オクチルオキシカルボニル、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシカルボニル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル、２，４−ジメチルペンチル−３−オキシカルボニル、１−アダマンタンオキシカルボニル、２−アダマンタンオキシカルボニル、ジシクロペンタジエニルオキシカルボニル、ｎ−デシルオキシカルボニル、ｎ−ドデシルオキシカルボニル、ｎ−テトラデシルオキシカルボニル、ｎ−ヘキサデシルオキシカルボニルなどが例示できる。アミド基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、アセタミド、エチルカルボキサミド、ｎ−プロピルカルボキサミド、イソプロピルカルボキサミド、ｎ−ブチルカルボキサミド、ｔ−ブチルカルボキサミド、ｉｓｏ−ブチルカルボキサミド、ｓｅｃ−ブチルカルボキサミド、ｎ−ペンチルカルボキサミド、ｔ−アミルカルボキサミド、ｎ−ヘキシルカルボキサミド、シクロヘキシルカルボキサミド、１−エチルペンチルカルボキサミド、１−エチルプロピルカルボキサミド、ｎ−ヘプチルカルボキサミド、ｎ−オクチルカルボキサミド、１−アダマンタンカルボキサミド、２−アダマンタンカルボキサミド、ｎ−ノニルカルボキサミド、ｎ−ドデシルカルボキサミド、ｎ−ペンタカルボキサミド、ｎ−ヘキサデシルカルボキサミドなどが例示できる。カルバモイル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ｎ−プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ｉｓｏ−ブチルカルバモイル、ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、ｎ−ペンチルカルバモイル、ｔ−アミルカルバモイル、ｎ−ヘキシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、２−エチルヘキシルカルバモイル、２−エチルブチルカルバモイル、ｔ−オクチルカルバモイル、ｎ−ヘプチルカルバモイル、ｎ−オクチルカルバモイル、１−アダマンタンカルバモイル、２−アダマンタンカルバモイル、ｎ−デシルカルバモイル、ｎ−ドデシルカルバモイル、ｎ−テトラデシルカルバモイル、ｎ−ヘキサデシルカルバモイルなどが例示できる。Ｙ２１−２２は互いに連結して環を形成してもよい。Ｙ２１−２２はさらに置換基を有していてもよく、例としては前記のＲ１１−１３に置換していても良い基を挙げることができる。ｍは１〜５であり、好ましくは1〜3である。また、ｎは１〜６であり、好ましくは1〜3である。
【００７０】
一般式（４）〜（１２）の化合物について説明する。
一般式（４）〜（１２）において、Ｙ３１−７０はそれぞれ独立に、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、カルバモイル基またはヒドロキシ基を表す。エステル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ｎ−ブチルカルボニルオキシ、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ、ｔ−ブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ、ｔ−アミルカルボニルオキシ、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、１−エチルペンチルカルボニルオキシ、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ、ｎ−ノニルカルボニルオキシ、ｎ−ウンデシルカルボニルオキシ、ベンジルカルボニルオキシ、１−ナフタレンカルボニルオキシ、２−ナフタレンカルボニ
ルオキシ、１−アダマンタンカルボニルオキシなどが挙げられる。アルコキシカルボニル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ｎ−ペンチルオキシカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニルなど、１−エチルプロピルオキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル、３，７−ジメチル−３−オクチルオキシカルボニル、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシカルボニル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル、２，４−ジメチルペンチル−３−オキシカルボニル、１−アダマンタンオキシカルボニル、２−アダマンタンオキシカルボニル、ジシクロペンタジエニルオキシカルボニル、ｎ−デシルオキシカルボニル、ｎ−ドデシルオキシカルボニル、ｎ−テトラデシルオキシカルボニル、ｎ−ヘキサデシルオキシカルボニルなどが挙げられる。アミド基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、アセタミド、エチルカルボキサミド、ｎ−プロピルカルボキサミド、イソプロピルカルボキサミド、ｎ−ブチルカルボキサミド、ｔ−ブチルカルボキサミド、ｉｓｏ−ブチルカルボキサミド、ｓｅｃ−ブチルカルボキサミド、ｎ−ペンチルカルボキサミド、ｔ−アミルカルボキサミド、ｎ−ヘキシルカルボキサミド、シクロヘキシルカルボキサミド、１−エチルペンチルカルボキサミド、１−エチルプロピルカルボキサミド、ｎ−ヘプチルカルボキサミド、ｎ−オクチルカルボキサミド、１−アダマンタンカルボキサミド、２−アダマンタンカルボキサミド、ｎ−ノニルカルボキサミド、ｎ−ドデシルカルボキサミド、ｎ−ペンタカルボキサミド、ｎ−ヘキサデシルカルボキサミドなどが挙げられる。カルバモイル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ｎ−プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ｉｓｏ−ブチルカルバモイル、ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、ｎ−ペンチルカルバモイル、ｔ−アミルカルバモイル、ｎ−ヘキシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、２−エチルヘキシルカルバモイル、２−エチルブチルカルバモイル、ｔ−オクチルカルバモイル、ｎ−ヘプチルカルバモイル、ｎ−オクチルカルバモイル、１−アダマンタンカルバモイル、２−アダマンタンカルバモイル、ｎ−デシルカルバモイル、ｎ−ドデシルカルバモイル、ｎ−テトラデシルカルバモイル、ｎ−ヘキサデシルカルバモイルなどが挙げられる。Ｙ３１−７０はさらに置換基を有していてもよく、例としては前記のＲ１１−１３に置換していても良い基を挙げることができる。
【００７１】
Ｖ３１−４３はそれぞれ独立に水素原子または、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２である脂肪族基を表す。ここで、脂肪族基とは、好ましくは脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましくは、アルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）、アルケニル基またはアルキニル基である。アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６−ジメチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イルなどが挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルなどが挙げられ、アルキニル基としては、例えば、エチニル、プロパルギルなどを挙げることができる。Ｖ３１−４３はさらに置換基を有していてもよく、例としては前記のＲ１１−１３に置換していても良い基を挙げることが
できる。
【００７２】
Ｌ３１−８０はそれぞれ独立に、原子数０ないし４０かつ、炭素数０ないし２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ３１−８０の原子数が０であるということは、連結基の両端にある基が直接に単結合を形成していることを意味する。Ｌ３１−８０の好ましい例としては、アルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルエチレン、エチルエチレンなど）、環式の２価の基（例えば、ｃｉｓ−１，４−シクロヘキシレン、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキシレン、１，３−シクロペンチリデンなど）、エーテル、チオエーテル、エステル、アミド、スルホン、スルホキシド、スルフィド、スルホンアミド、ウレイレン、チオウレイレンなどを挙げることができる。これらの２価の基は互いに結合して二価の複合基を形成してもよく、複合置換基の例としては、−（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）−、−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2Ｏ2Ｃ（ＣＨ2）2−などを挙げることができる。Ｌ３１−８０は、さらに置換基を有していてもよく、置換基の例としては、前記のＲ１１−１３に置換していても良い基を挙げることができる。
【００７３】
一般式（４）〜（１２）においてＹ３１−７０、Ｖ３１−４３およびＬ３１−８０の組み合わせにより形成される化合物の好ましい例としては、クエン酸エステル（例えば、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリ（エチルオキシカルボニルメチレン）エステルなど）、オレイン酸エステル（例えば、オレイン酸エチル、オレイン酸ブチル、オレイン酸２−エチルヘキシル、オレイン酸フェニル、オレイン酸シクロヘキシル、オレイン酸オクチルなど）、リシノール酸エステル（例えばリシノール酸メチルアセチルなど）、セバシン酸エステル（例えばセバシン酸ジブチルなど）、グリセリンのカルボン酸エステル（例えば、トリアセチン、トリブチリンなど）、グリコール酸エステル（例えば、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートなど）、ペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ペンタエリスリトールテトラブチレートなど）、ジペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアセテート、ジペンタエリスリトールヘキサブチレート、ジペンタエリスリトールテトラアセテートなど）、トリメチロールプロパンのカルボン酸エステル類（トリメチロールプロパントリアセテート、トリメチロールプロパンジアセテートモノプロピオネート、トリメチロールプロパントリプロピオネート、トリメチロールプロパントリブチレート、トリメチロールプロパントリピバロエート、トリメチロールプロパントリ（ｔ−ブチルアセテート）、トリメチロールプロパンジ２−エチルヘキサネート、トリメチロールプロパンテトラ２−エチルヘキサネート、トリメチロールプロパンジアセテートモノオクタネート、トリメチロールプロパントリオクタネート、トリメチロールプロパントリ（シクロヘキサンカルボキシレート）など）、特開平１１−２４６７０４公報に記載のグリセロールエステル類、特開２０００−６３５６０号公報に記載のジグリセロールエステル類、特開平１１−９２５７４号公報に記載のクエン酸エステル類、ピロリドンカルボン酸エステル類（２−ピロリドン−５−カルボン酸メチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸エチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸ブチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸２−エチルヘキシル）、シクロヘキサンジカルボン酸エステル（ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｃｉｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチルなど）、キシリトールカルボン酸エステル（キシリトールペンタアセテート、キシリトールテトラアセテート、キシリトールペンタプロピオネートなど）などが挙げられる。
【００７４】
以下に本発明で用いることができる一般式（１）ないし（１２）で表される化合物の例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（１）については化合物（C-1〜C-76）を例示し、一般式（２）〜（１２）については化合物（C-201〜C-231、C-401〜C-448）を例示した。表記載あるいは括弧内に記載のｌｏｇＰの値は、Crippen'sfragmentation法（ J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）により求めたものである。
【００７５】
【化１７】
2006285169.tif 000016
【００７６】
（式中、Ｒ１−３は前記一般式（１）のＲ１１−１３と同義であり、下記のC-1〜C-76で具体例を例示する。）
【００７７】
【化１８】
2006285169.tif 000017
【００７８】
【化１９】
2006285169.tif 000018
【００７９】
【化２０】
2006285169.tif 000019
【００８０】
【化２１】
2006285169.tif 000020
【００８１】
【化２２】
2006285169.tif 000021
【００８２】
【化２３】
2006285169.tif 000022
【００８３】
【化２４】
2006285169.tif 000023
【００８４】
【化２５】
2006285169.tif 000024
【００８５】
【化２６】
2006285169.tif 000025
【００８６】
一般式（１３）および（１４）の化合物について説明する。
上記一般式（１３）において、Ｒ１はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。また、一般式（１４）中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ４およびＲ５の炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１乃至２５のものが好ましく、６乃至２５のものがより好ましく、６乃至２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、アミル、イソアミル、t-アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、t-オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６乃至３０のものが好ましく、６乃至２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル）が特に好ましい。一般式（１３）または一般式（１４）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００８７】
【化２７】
2006285169.tif 000026
【００８８】
【化２８】
2006285169.tif 000027
【００８９】
【化２９】
2006285169.tif 000028
【００９０】
【化３０】
2006285169.tif 000029
【００９１】
【化３１】
2006285169.tif 000030
【００９２】
一般式（１５）の化合物について説明する。
上記一般式（１５）において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表わす。アルキル基としては、炭素原子数が１乃至５のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、アミル、イソアミル）であることが好ましく、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の少なくとも１つ以上が炭素原子数１乃至３のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル）であることが特に好ましい。Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ４−（Ｒ４は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表わす。）、アルキレン基（好ましくは炭素原子数１〜６、より好ましくは１〜３のもの、例えばメチレン、エチレン、プロピレン）またはアリーレン基（好ましくは炭素原子数６〜２４、より好ましくは６〜１２のもの。例えば、フ
ェニレン、ビフェニレン、ナフチレン）から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、アルキレン基またはアリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基であることが特に好ましい。Ｙは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素原子数２〜２５、より好ましくは２〜２０のもの。例えば、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、ドデシル、シクロヘキシル、ジシクロヘキシル、アダマンチル）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜２４、より好ましくは６〜１８のもの。例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル）またはアラルキル基（好ましくは炭素原子数７〜３０、より好ましくは７〜２０のもの。例えば、ベンジル、クレジル、t-ブチルフェニル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル）であることが好ましく、アルキル基、アリール基またはアラルキル基であることが特に好ましい。−Ｘ−Ｙの組み合わせとしては、−Ｘ−Ｙの総炭素数が０乃至４０であることが好ましく、１乃至３０であることがさらに好ましく、１乃至２５であることが最も好ましい。これら一般式（１４）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００９３】
【化３２】
2006285169.tif 000031
【００９４】
【化３３】
2006285169.tif 000032
【００９５】
一般式（１６）の化合物について説明する。
【００９６】
【化３４】
2006285169.tif 000033
【００９７】
Ｑ１、Ｑ２およびＱ３はそれぞれ独立に5ないし6員環を表し、炭化水素環でもへテロ環でもよく、また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。炭化水素環として好ましくは、置換または無置換のシクロヘキサン環、置換または無置換のシクロペンタン環、芳香族炭化水素環であり、より好ましくは芳香族炭化水素環である。へテロ環として好ましくは5ないし6員環の酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む環である。へテロ環としてより好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。
Ｑ１、Ｑ２およびＱ３として好ましくは芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環である。芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。
【００９８】
芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。Ｑ１、Ｑ２およびＱ３としてより好ましくは好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。またＱ１、Ｑ２およびＱ３は置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。
XはB、C-R（Rは水素原子または置換基を表す。）、N、P、P=Oを表し、Xとして好ましくはB、C-R（Rとして好ましくはアリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、カルボキシル基であり、より好ましくはアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくはアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。）、Nであり、Xとしてより好ましくはC-R、Nであり、特に好ましくはC-Rである。
一般式（１６）として好ましくは下記一般式（１７）で表される化合物である。
【００９９】
【化３５】
2006285169.tif 000034
【０１００】
（式中、Ｘ２はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表す。Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４ないしＲ３５は水素原子または置換基を表す。）
【０１０１】
Ｘ２はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表し、Ｘ２として好ましくはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒとして好ましくはアリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、カルボキシル基であり、より好ましくはアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくはアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。）、Ｎ、Ｐ＝Ｏであり、更に好ましくはＣ−Ｒ、Ｎであり、特に好ましくはＣ−Ｒである。
【０１０２】
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４ないしＲ３５は水素原子または置換基を表し、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４ないしＲ３５として好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基である。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１０３】
以下に前述の置換基Ｔについて説明する。置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１０４】
以下に一般式（１６）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【０１０５】
【化３６】
2006285169.tif 000035
【０１０６】
【化３７】
2006285169.tif 000036
【０１０７】
【化３８】
2006285169.tif 000037
【０１０８】
【化３９】
2006285169.tif 000038
【０１０９】
【化４０】
2006285169.tif 000039
【０１１０】
【化４１】
2006285169.tif 000040
【０１１１】
以下に、一般式（１８）または一般式（１９）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１１２】
【化４２】
2006285169.tif 000041
【０１１３】
【化４３】
2006285169.tif 000042
【０１１４】
【化４４】
2006285169.tif 000043
【０１１５】
【化４５】
2006285169.tif 000044
【０１１６】
【化４６】
2006285169.tif 000045
【０１１７】
【化４７】
2006285169.tif 000046
【０１１８】
【化４８】
2006285169.tif 000047
【０１１９】
【化４９】
2006285169.tif 000048
【０１２０】
以下オクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である、Ｒｔｈ低減剤の例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１２１】
(多価アルコールエステル化合物)
多価アルコールエステルは、２価以上の多価アルコールと１種以上のモノカルボン酸とのエステルである。多価アルコールエステル化合物としては以下のものが例としてあげられるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１２２】
（多価アルコール）
好ましい多価アルコールの例としては、例えばアドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１２３】
（モノカルボン酸）
多価アルコールエステルにおけるモノカルボン酸としては、特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いるとセルロースアシレートフィルムの透湿度、含水率、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１２４】
好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１２５】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有するとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１２６】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。これらは更に置換基を有しても良い。
【０１２７】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１２８】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
【０１２９】
多価アルコールエステルにおけるカルボン酸は一種類でも、二種以上の混合でもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。好ましくは、分子内に芳香環もしくはシクロアルキル環を３つ以上有することが好ましい。
【０１３０】
多価アルコールエステル化合物としては、以下の化合物を例としてあげることができるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１３１】
【化５０】
2006285169.tif 000049
【０１３２】
【化５１】
2006285169.tif 000050
【０１３３】
（カルボン酸エステル化合物）
カルボン酸エステル化合物としては、以下の化合物を例としてあげることができるが、本発明はこれらに限定されない。具体的には、フタル酸エステル及びクエン酸エステル等、フタル酸エステルとしては、例えばジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等、またクエン酸エステルとしてはクエン酸アセチルトリエチル及びクエン酸アセチルトリブチルを挙げることが出来る。またその他、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル、トリアセチン、トリメチロールプロパントリベンゾエート等も挙げられる。アルキルフタリルアルキルグリコレートもこの目的で好ましく用いられる。アルキルフタリルアルキルグリコレートのアルキルは炭素原子数１〜８のアルキル基である。アルキルフタリルアルキルグリコレートとしてはメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることが出来、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートが好ましく、特にエチルフタリルエチルグリコレートが好ましく用いられる。またこれらアルキルフタリルアルキルグリコレート等を２種以上混合して使用してもよい。
【０１３４】
カルボン酸エステル化合物としては、以下の化合物を例としてあげることができるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１３５】
【化５２】
2006285169.tif 000051
【０１３６】
【化５３】
2006285169.tif 000052
【０１３７】
（多環カルボン酸化合物）
本発明において用いる多環カルボン酸化合物は分子量が３０００以下の化合物であることが好ましく、特に２５０〜２０００以下の化合物であることが好ましい。環状構造に関して、環の大きさについて特に制限はないが、３〜８個の原子から構成されていることが好ましく、特に６員環及び／又は５員環であることが好ましい。これらが炭素、酸素、窒素、珪素あるいは他の原子を含んでいてもよく、環の結合の一部が不飽和結合であってもよく、例えば６員環がベンゼン環、シクロヘキサン環でもよい。本発明で使用する化合物は、このような環状構造が複数含まれているものであり、例えば、ベンゼン環とシクロヘキサン環をどちらも分子内に有していたり、２個のシクロヘキサン環を有していたり、ナフタレンの誘導体あるいはアントラセン等の誘導体であってもよい。より好ましくはこのような環状構造を分子内に３個以上含んでいる化合物であることが好ましい。また、少なくとも環状構造の１つの結合が不飽和結合を含まないものであることが好ましい。具体的には、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸、パラストリン酸などのアビエチン酸誘導体が代表的であり、以下にこれら化合物の化学式を示すが、特にこれらに限定されるものではない。
【０１３８】
【化５４】
2006285169.tif 000053
【０１３９】
（ビスフェノール誘導体）
本発明において用いるビスフェノール誘導体は分子量が１００００以下であることが好ましく、この範囲であれば単量体でも良いし、オリゴマー、ポリマーでも良い。また他のポリマーとの共重合体でも良いし、末端に反応性置換基が修飾されていても良い。以下にこれら化合物の化学式を示すが、特にこれらに限定されるものではない。
【０１４０】
【化５５】
2006285169.tif 000054
【０１４１】
なお、ビスフェノール誘導体の上記具体例中で、Ｒ１〜Ｒ４は水素原子、または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。ｌ、ｍ、ｎは繰り返し単位を表し、特に限定はしないが、１〜１００の整数が好ましく、１〜２０の整数がさらに好ましい。
【０１４２】
［波長分散調整剤］
本発明のセルロースアシレートフィルムの波長分散を低下させる化合物（以下波長分散調整剤ともいう）について説明する。セルロースアシレートフィルムのＲｔｈの波長分散を良化させるためには、下記式（XXI）で表されるＲｔｈの波長分散（ΔＲｔｈ）を低下させる化合物を、下記式（XIX）、（XX）をみたす範囲で少なくとも一種含有することが好ましい。
（XIX）  （ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−２．０
（XX）  ０．０１≦Ｂ≦３０
（XXI）  ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜
［式中、ΔＲｔｈ（Ｂ）は、ΔＲｔｈを低下させる化合物をＢ％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）であり、ΔＲｔｈ（０）は、ΔＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）である。Ｂは、フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。］
【０１４３】
上記式（XIX）、（XX）は
（XXII）  （ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−３．０
（XXIII）  ０．０５≦Ｂ≦２５
であることがより好ましく、
（XXIV）  （ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−４．０
（XXV）  ０．１≦Ｂ≦２０
であることがさらに好ましい。
上記の波長分散調整剤は、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％添加することによってセルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整することができる。
【０１４４】
セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。したがって相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって波長分散を平滑にすることが要求される。一方２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。
【０１４５】
したがって上述したような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。このためには波長分散を調整する化合物はセルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。
【０１４６】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるために、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜および｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜を低下させる化合物をセルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れていることが要求される。本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることがのぞましい。
【０１４７】
上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
【０１４８】
波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【０１４９】
（化合物添加量）
上述した本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートの固形分に対して０．０１ないし３０質量％であることが好ましく、０．１ないし２０質量％であることがより好ましく、０．２ないし１０質量％であることが特に好ましい。
【０１５０】
（化合物添加の方法）
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【０１５１】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。
【０１５２】
ベンゾトリアゾール系化合物としては一般式（１０１）で示されるものが本発明における波長分散調整剤として好ましく用いられる。
【０１５３】
一般式（１０１）  Ｑ１−Ｑ２−ＯＨ
【０１５４】
（式中、Ｑ１は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ２は芳香族環を表す。）
【０１５５】
Ｑ１は含窒素方向芳香族へテロ環をあらわし、好ましくは5乃至7員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５ないし６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等があげられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。
Ｑ１で表される含窒素芳香族ヘテロ環は更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
【０１５６】
Ｑ２で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、ベンゼン環が最も好ましい。
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジ
ン、トリアジン、キノリンである。
Ｑ２であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ２は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０
、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１５７】
一般式（１０１）として好ましくは下記一般式（１０１−Ａ）で表される化合物である。
一般式（１０１−Ａ）
【０１５８】
【化５６】
2006285169.tif 000055
【０１５９】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、およびＲ８はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）
【０１６０】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、およびＲ８はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基ととしては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
Ｒ１およびＲ３として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【０１６１】
Ｒ２およびＲ４として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭
１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１６２】
Ｒ５およびＲ８として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１６３】
Ｒ６およびＲ７として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【０１６４】
一般式（１０１）としてより好ましくは下記一般式（１０１−Ｂ）で表される化合物である。
一般式（１０１−Ｂ）
【０１６５】
【化５７】
2006285169.tif 000056
【０１６６】
（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ６およびＲ７は一般式（１０１−Ａ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【０１６７】
以下に一般式（１０１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１６８】
【化５８】
2006285169.tif 000057
【０１６９】
【化５９】
2006285169.tif 000058
【０１７０】
以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以下のものを含まずに本発明のセルロースアシレートフィルムを作製した場合、保留性の点で有利であることが確認された。
【０１７１】
また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（１０２）で示されるものが好ましく用いられる。
一般式（１０２）
【０１７２】
【化６０】
2006285169.tif 000059
【０１７３】
（式中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子または硫黄原子を表す。）
【０１７４】
Ｑ１およびＱ２で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
Ｑ１およびＱ２で表される芳香族炭化水素環として好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくはベンゼン環である。
Ｑ１およびＱ２で表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかひとつを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
Ｑ１およびＱ２であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換または無置換のベンゼン環である。
Ｑ１およびＱ２は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、4級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【０１７５】
ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘとして好ましくは、ＮＲ（Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい。）、または酸素原子であり、特に好ましくは酸素原子である。
【０１７６】
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１７７】
一般式（１０２）として好ましくは下記一般式（１０２−Ａ）で表される化合物である。
一般式（１０２−Ａ）
【０１７８】
【化６１】
2006285169.tif 000060
【０１７９】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）
【０１８０】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基ととしては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１８１】
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８およびＲ９として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１８２】
Ｒ２として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。
【０１８３】
Ｒ７として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。
【０１８４】
一般式（１０２）としてより好ましくは下記一般式（１０２−Ｂ）で表される化合物である。
一般式（１０２−Ｂ）
【０１８５】
【化６２】
2006285169.tif 000061
【０１８６】
（式中、Ｒ１０は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
【０１８７】
Ｒ１０は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。
Ｒ１０として好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換または無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n-ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換または無置換のアルキル基（2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、ベンジル基）である。
【０１８８】
一般式（１０２）であらわされる化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
以下に一般式（１０２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１８９】
【化６３】
2006285169.tif 000062
【０１９０】
【化６４】
2006285169.tif 000063
【０１９１】
【化６５】
2006285169.tif 000064
【０１９２】
また本発明では、波長分散調整剤としてシアノ基を含む化合物を用いことができる。シアノ基を含む化合物としては一般式（１０３）で示されるものが好ましい。
一般式（１０３）
【０１９３】
【化６６】
2006285169.tif 000065
【０１９４】
（式中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ１およびＸ２は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。）Ｑ１およびＱ２であらわされる芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【０１９５】
芳香族炭化水素環として好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくはベンゼン環である。
【０１９６】
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１９７】
Ｑ１およびＱ２であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。
Ｑ１およびＱ２は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１９８】
Ｘ１およびＸ２は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ１およびＸ２で表される置換基は前述の置換基Tを適用することができる。また、Ｘ１およびＸ２はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ１およびＸ２はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。
【０１９９】
Ｘ１およびＸ２として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（-C(＝O)OR（Rは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。
【０２００】
一般式（１０３）として好ましくは下記一般式（１０３-Ａ）で表される化合物である。
一般式（１０３-Ａ）
【０２０１】
【化６７】
2006285169.tif 000066
【０２０２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、およびＲ１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ１およびＸ２は一般式（２０）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【０２０３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、およびＲ１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基ととしては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０２０４】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９、およびＲ１０として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０２０５】
Ｒ３およびＲ８として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。
【０２０６】
一般式（１０３）としてより好ましくは下記一般式（１０３-Ｂ）で表される化合物である。
一般式（１０３-Ｂ）
【０２０７】
【化６８】
2006285169.tif 000067
【０２０８】
（式中、Ｒ３およびＲ８は一般式（１０３-Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ３は水素原子または置換基を表す。）
【０２０９】
Ｘ３は水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Tが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ３として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（-C(＝O)OR（Rは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。
【０２１０】
一般式（１０３）として更に好ましくは一般式（１０３-Ｃ）で表される化合物である
。
一般式（１０３-Ｃ）
【０２１１】
【化６９】
2006285169.tif 000068
【０２１２】
（式中、Ｒ３およびＲ８は一般式（１０３-Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ２１は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）
【０２１３】
Ｒ２１として好ましくはＲ３およびＲ８が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、tert-オクチル基、２−エチルへキシル基、n-デシル基、n-ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。
【０２１４】
Ｒ２１として好ましくはＲ３およびＲ８が水素以外の場合には、一般式（１０３-Ｃ）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。
【０２１５】
一般式（１０３）で表される化合物はJounal  of  American Chemical Society ６３巻  ３４５２頁（１９４１）記載の方法によって合成できる。
【０２１６】
以下に一般式（１０３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０２１７】
【化７０】
2006285169.tif 000069
【０２１８】
【化７１】
2006285169.tif 000070
【０２１９】
【化７２】
2006285169.tif 000071
【０２２０】
［マット剤微粒子］
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０２２１】
これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。
【０２２２】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０２２３】
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０２２４】
本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。
【０２２５】
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０２２６】
[可塑剤、劣化防止剤、剥離剤]
上記の光学的に異方性を低下する化合物、波長分散調整剤の他に、本発明のセルロースアシレートフィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば融点が２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【０２２７】
［化合物添加の比率］
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレート質量に対して５〜４５％であることがのぞましい。より好ましくは１０〜４０％であり、さらにのぞましくは１５〜３０％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、これら化合物の分子量としては３０００以下がのぞましく、２０００以下がよりのぞましく、１０００以下がさらにのぞましい。これら化合物の総量が５％未満であると、セルロースアシレート単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５％を超えると、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面にこれらの化合物が析出してフィルムが白濁する(フィルムからの泣き出し)などの問題が生じやすくなる。
【０２２８】
［セルロースアシレート溶液の有機溶媒］
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明において主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【０２２９】
以上本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としても良いし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としても良く、特に限定されるものではない。
【０２３０】
その他、本発明のセルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６、特開平１２−９５８７７、特開平１０−３２４７７４、特開平８−１５２５１４、特開平１０−３３０５３８、特開平９−９５５３８、特開平９−９５５５７、特開平１０−２３５６６４、特開平１２−６３５３４、特開平１１−２１３７９、特開平１０−１８２８５３、特開平１０−２７８０５６、特開平１０−２７９７０２、特開平１０−３２３８５３、特開平１０−２３７１８６、特開平１１−６０８０７、特開平１１−１５２３４２、特開平１１−２９２９８８、特開平１１−６０７５２などに記載されている。これらの特許によると本発明のセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。
【０２３１】
[セルロースアシレートフィルムの製造工程]
［溶解工程］
本発明のセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【０２３２】
（ドープ溶液の透明度）
本発明のセルロースアシレート溶液のドープ透明度としては８５％以上であることがのぞましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であることがのぞましい。本発明においてはセルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出した。
【０２３３】
［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、本発明のセルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明のセルロースアシレートフィルムは、フィルムの機械搬送方向（ＭＤ方向）に対して垂直方向（ＴＤ方向）に遅相軸を有していることが好ましい。本発明のセルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
また、セルロースアシレートフィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、４０〜１００μｍがより好ましく、６０〜８０μｍがさらに好ましい。
【０２３４】
［光学補償層］
光学補償層としては、前記Ｎｚ値および面内位相差Ｒｅ1値を満足するものを特に制限なく使用することができる。たとえば、高分子ポリマーフィルムの複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、低分子液晶の配向フィルムなどがあげられる。
【０２３５】
高分子ポリマーとしては、たとえばポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリノルボルネン等の脂環式ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、セルロース系重合体、またはこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物などがあげられる。なかでもポリスチレン、ポリメチルメタクリレートのように固有複屈折値が負のポリマーが特に好ましい。なかでも不飽和二重結合を有するポリマー（（Ａ）と称する）に対して、少なくともスチレン系モノマーを１種以上のモノマー（（Ｂ）と称する）を付加重合したグラフト共重合体（（Ｃ）と称する）が特にのぞましい。ポリマー（Ａ）は、不飽和二重結合を主鎖及び側鎖のいずれに有していても良い。
また、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミド等の固有複屈折値が正のポリマーを用いることも好ましい。
【０２３６】
グラフト共重合体（Ｃ）のいわゆる幹を構成するポリマー（Ａ）について説明する。
ポリマー（Ａ）は具体的には、主鎖または側鎖に不飽和二重結合の繰返し単位を有するポリマーである。この繰返し単位は、好ましくは共役ジエン構造を有する単量体の重合によって誘導されるものである。
【０２３７】
上記共役ジエン構造を有する単量体の好ましい例としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロル−１，３−ブタジエン、１−ブロム−１，３−ブタジエン、１−クロルブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロル−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロル−１，３−ブタジエン及び２−シアノ−１，３−ブタジエンを挙げることができる。これらの中で、１，３−ブタジエン、イソプレン、２−クロル−１，３−ブタジエンが特に好ましい。
【０２３８】
また、グラフト共重合体（Ｃ）の幹を構成するポリマー（Ａ）は、上記のジエン構造を有する単量体とこの単量体以外の疎水性単量体と共重合したものであってもよい。
このような疎水性単量体の例としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルケトン、脂肪族酸のモノエチレン性不飽和炭化水素（アルケン）エステル（例えば酢酸ビニル、酢酸アリル）、エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジカルボン酸のエステル（例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート）、エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジカルボン酸のアミド（例えばｔ−ブチルアクリルアミド、ｔ−ブチルメタクリルアミド）及びモノエチレン性不飽和化合物（例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル）等を挙げることができる。これらの中で、エチレン、プロピレン、スチレン、α−メチルスチレン、アクリル酸もしくはメタクリル酸のエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリルが特に好ましい。
【０２３９】
上記の共役ジエン構造を有する単量体、その他の疎水性単量体はそれぞれ二種以上用いてもよい。共役ジエン構造を有する単量体の重合により、ポリマー（Ａ）中に導入される不飽和構造は、当該分野でよく知られているようにシス−１，４結合であってもよいし、トランス１，４−結合、あるいはトランス１，２−結合であってもよい。
【０２４０】
光学補償層は、高分子ポリマーフィルムを面方向に二軸に延伸する方法、面方向に一軸または二軸に延伸し、厚さ方向にも延伸する方法等により厚さ方向の屈折率を制御することにより得られる。また高分子ポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理して傾斜配向させる方法等により得られる。
【０２４１】
前記熱収縮性フイルムを用いた光学補償層の作製方法を詳しく説明する。熱収縮性フイルムを利用すると、連続的に長尺状に製造できるので好ましい。具体的には、片面又は両面に熱収縮性フイルムを接着した長尺のポリマーフイルムを、加熱処理して、熱収縮性フイルムの収縮力の作用により、所望の光学特性を満たす光学補償層を作製することができる。加熱処理時に、延伸処理を行ってもよい。例えば、片面又は両面に熱収縮性フイルムを接着した長尺のポリマーフイルムを加熱処理する際に、前記熱収縮性フイルムの収縮力の作用下に、ロール速比が１以下のロール延伸機にて処理し、該フイルムを収縮させるとともに、さらに幅方向に延伸することによって、前記光学補償層を連続的に長尺状に作製することができる。
ここで、熱収縮フイルムとしてはＭＤに優先的に収縮する一軸性の熱収縮フイルムも好ましく用いることが出来る。一軸性の熱収縮フイルムとは一方の側の収縮度が他方より大きい収縮フイルムである。一軸性の熱収縮フイルムの収縮軸を位相差膜の長手方向と合わせることにで、長手方向を幅方向に対してより収縮させる事が出来る。
さらに、熱圧縮フィルムの収縮に際しては、図１に示したような多数のロールを用いた熱密ロールも好ましく用いることが出来る。図１において５１は熱密ロールを示し、５２は熱圧縮フィルムを示している。熱密ロールは例えば直径10cmのロールを5cm間隔で１０〜１００本程度配置することにより、幅方向への収縮を抑える事で長手方向の収縮を幅方向に対してより強く出来る。また、熱密ロールの摩擦係数を上げることも有効である。
さらに、長尺状の光学補償層をテンタークリップの長手方向の間隔が把持、搬送している間に狭くなる構造のテンターを用いて幅方向に延伸する工程を含むこともできる。幅方向に延伸すると同時に長手方向に収縮させることができるため、特に好ましい。
【０２４２】
フイルムの片面又は両面に接着する熱収縮性フイルムは、その加熱による収縮力の伝達で対象のフイルムを収縮させて、その位相差特性、特に厚さ方向の屈折率を制御することなどを目的として使用される。熱収縮性フイルムとしては、例えばポリマーフイルムの延伸処理物などからなる加熱処理にて収縮性を示す適宜なものを用いることができ、特に限定はない。透光性フイルムにおける位相差の制御性などの点よりは、上記に例示した正の複屈折特性を示すポリマーからなる熱収縮性フイルムを好ましく用いうる。
【０２４３】
また収縮力の付与性などの点よりは、フイルムのガラス転移温度付近にて熱収縮性を示す熱収縮性フイルムを用いるのが好ましい。熱収縮性フイルムの収縮力は、例えばポリマーの種類や延伸倍率等の延伸条件、フイルム厚などにより制御することができる。加熱による収縮力がフイルム全面で可及的に均一である熱収縮性フイルムを用いると、対象のフイルムに均一な配向を付与できるので好ましい。
【０２４４】
熱収縮性フイルムと対象のフイルムとの接着には、良密着による収縮力の伝播性などの点より接着剤を用いることが好ましい。その接着剤としては、熱収縮性フイルムの収縮処理時にはその収縮力をフイルムに良好に伝達し、その処理後にはフイルムの処理物よりその光学特性を可及的に変質させないで処理後の熱収縮性フイルムを分離できるものが好ましく用いられる。
【０２４５】
前記の点よりは、粘着層などが好ましく用いられる。その粘着層としては、例えばアクリル系やシリコーン系、ポリエステル系やポリウレタン系、ポリエーテル系やゴム系等の適宜なものを用いることができ、その種類について特に限定はない。なお熱収縮性フイルムは、フイルムの片面又は両面に同種又は異種のものをそれぞれ１層又は２層以上接着することができる。
【０２４６】
フイルムに接着した熱収縮性フイルムに対しては、加熱処理によりその収縮力を発現させるが、その加熱処理は適宜な方式で行うことができ、特に限定はない。一般には、ロール延伸機におけるロールを介した加熱方式や雰囲気加熱方式、あるいはそれらを併用した方式などが採られる。
【０２４７】
熱収縮性フイルムの収縮力の作用下で、ロール延伸機による処理を安定に行うという観点などから、熱収縮性フイルムの長さ方向（ＭＤ）／幅方向（ＴＤ）に基づく寸法変化率比が１．５以下となる温度条件にて加熱処理を行うことが好ましい。その寸法変化率比が１．５を超える加熱処理では、ロール間を走行する透光性フイルムに張力不足による蛇行が生じやすく、またロールの速比に則した透光性フイルムの変形が生じずにｎｘ＜ｎｚの条件を満足させにくくなる。
【０２４８】
前記の寸法変化率比を達成する点よりは、熱収縮性フイルムを形成するポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）に基づきＴｇ±２０℃の温度範囲で加熱処理することが好ましい。なお前記の寸法変化率比は、ＭＤ及びＴＤの収縮前の初期寸法を１として、加熱収縮後のＭＤ寸法／ＴＤ寸法で定義される。
【０２４９】
前記においてフイルムの収縮処理に用いるロール延伸機については特に限定はなく、適宜な方式のものを用いうる。処理条件は、フイルムの収縮を達成する点より１以下のロール速比とするのが好ましい。得られる位相差膜の屈折率等の位相差特性は、フイルムの種類や厚さや厚さ変化率、収縮率や処理温度などにより制御することができる。
【０２５０】
この様にして作製された長尺状の光学補償層は、透明保護フィルムを介して長尺状の偏光膜と貼り合わせられる。即ち、長尺状の光学補償層と長尺状の透明保護フィルムを貼り合わせた後に、長尺状の偏光子に貼り合わせられるか、又は透明保護フィルムが貼り合わされた長尺状偏光板の、透明保護膜表面に貼り合わせられる。前記熱収縮フイルムを用いる方法によれば、その遅相軸が、長手方向に直交な方向の長尺状の光学補償層を容易に作製することができ、ロールツウロールで長尺状の偏光子と貼り合せることができる。
なお、光学補償層は、液晶表示装置中に用いられる際は、光学補償偏光板として、適当な大きさに裁断された後、組み込まれる。液晶表示装置中においては、光学補償層を液晶セル側にして、且つ光学補償層の遅相軸を、黒表示時の液晶セルの遅相軸と平行にして配置される。
【０２５１】
液晶性ポリマーとしては、たとえば、液晶配向性を付与する共役性の直線状原子団（メソゲン）がポリマーの主鎖や側鎖に導入された主鎖型や側鎖型の各種のものなどがあげられる。主鎖型の液晶性ポリマーの具体例としては、屈曲性を付与するスペーサ部でメソゲン基を結合した構造の、例えばネマチック配向性のポリエステル系液晶性ポリマー、ディスコティックポリマーやコレステリックポリマーなどがあげられる。側鎖型の液晶性ポリマーの具体例としては、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート又はポリマロネートを主鎖骨格とし、側鎖として共役性の原子団からなるスペーサ部を介してネマチック配向付与性のパラ置換環状化合物単位からなるメソゲン部を有するものなどがあげられる。これら液晶性ポリマーの配向フィルムは、たとえば、ガラス板上に形成したポリイミドやポリビニルアルコール等の薄膜の表面をラビング処理したもの、酸化珪素を斜方蒸着したものなどの配向処理面上に液晶性ポリマーの溶液を展開して熱処理することにより、液晶ポリマーを配向させたもの、特に傾斜配向させたものが好ましい。
【０２５２】
低分子液晶としては、棒状又は円盤状（ディスコティック）液晶性化合物があげられる。棒状又は円盤状液晶性化合物は透明保護フィルム面に対して垂直配向されていることが好ましい。
（ディスコティック液晶性化合物）
本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載の化合物が含まれる。
【０２５３】
光学補償層において、ディスコティック液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。また、本発明においては、ディスコティック液晶性分子が透明保護フィルム面に対して垂直に配向固定されていることが好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性分子について、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。
【０２５４】
（棒状液晶性化合物）
本発明において、使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。
【０２５５】
光学補償層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。また、本発明においては、棒状液晶性分子が透明保護フィルム面に対して垂直に配向固定されていることが好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例には、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、および特開２００１−３２８９７３号などに記載の化合物が含まれる。
【０２５６】
（偏光子）
偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用できる。偏光子としては、たとえば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等があげられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適である。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、５〜８０μｍ程度である。
【０２５７】
ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、たとえば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいてもよいヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよいし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【０２５８】
前記透明保護フィルムの偏光子を接着させない面（前記塗布層を設けない面）には、ハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないし防眩（アンチグレア）を目的とした処理を施したものであってもよい。本発明では、ハードコート層、防眩層、反射防止層のいずれか一層を有していることが好ましい。
【０２５９】
ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を透明保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた
反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。
【０２６０】
またアンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えばサンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて透明保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。
前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜５０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂１００質量部に対して一般的に２〜５０質量部程度であり、５〜２５質量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための拡散層（視角拡大機能など）を兼ねるものであってもよい。
【０２６１】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等は、透明保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透明保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。
【０２６２】
［表面処理］
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０２６３】
［アルカリ鹸化処理によるフィルム表面の接触角］
本発明において、透明保護フィルムの表面処理の有効な手段の１つとしてアルカリ鹸化処理が上げられる。この場合、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面の接触角が５５°以下であることがのぞましい。よりのぞましくは５０°以下であり、４５°以下であることがさらにのぞましい。接触角の評価法はアルカリ鹸化処理後のフィルム表面に直径３ｍｍの水滴を落とし、フィルム表面と水滴のなす角をもとめる通常の手法によって親疎水性の評価として用いることができる。
【０２６４】
前記偏光子と透明保護フィルムとの接着処理には、上記表面処理の後でイソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリエステル等が用いられる。
【０２６５】
前記光学補償層と偏光板の積層法は特に制限されず、接着剤層または粘着剤層等により透明保護フィルムと貼り合わせることにより行うことができる。粘着剤層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。
【０２６６】
［偏光板の作製］
偏光板は、偏光子の両面に透明保護フィルムを積層することにより得られる。透明保護フィルムの積層法は特に制限されないが、前記透明保護フィルムと偏光子とを貼り合わせる場合には、接着剤ないし粘着剤が用いられる。接着剤ないし粘着剤の種類は、偏光板の水分率や特性変化の点より、揮発分の少ない組成で硬化時ないし乾燥時に高温を要せず、短時間での処理が可能なものが好ましい。
【０２６７】
接着剤ないし粘着剤の具体例としては、水系接着剤が好ましい。たとえば、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリエステル等が用いられる。前記水系接着剤は、通常、水溶液からなる接着剤として用いられ、通常、０．５〜６０重量％の固形分を含有してなる。
【０２６８】
透明保護フィルムの偏光子と接着する面には、易接着処理を施すことができる。これにより接着力を向上することができる。易接着処理後としては、ドライ処理または易接着処理材料を塗工することができる。ドライ処理としては、コロナ処理、ガスコロナ処理、プラズマ処理、低圧ＵＶ処理等があげられる。易接着処理材料としては、セルロースエステル系樹脂、ウレタン変成共重合ポリエステル樹脂、シランカップリング剤等があげられる。ドライ処理と易接着塗工を併用してもよい。また透明保護フィルムは水酸化ナトリウム水溶液等でケン化処理を行ない接着力を向上することができる。さらには、易接着処理後にケン化処理を行ってもよい。
【０２６９】
偏光子と透明保護フィルムの貼り合わせは、ロールラミネーター等により行うことができる。接着剤等の塗布は、透明保護フィルム、偏光子のいずれの側に行ってもよく、両者に行ってもよい。貼り合わせ後には、乾燥工程を施し、塗布乾燥層からなる接着層を形成する。接着層の厚さは、特に制限されないが、通常０．１〜５μｍ程度である。
【０２７０】
上記本発明の偏光板は、偏光子の両面に透明保護フィルムや光学補償層をそれぞれ貼り合せた後に乾燥する。接着剤等の種類にもよるが、乾燥温度は、通常、２０〜１００℃、好ましくは３０〜８０℃である。また乾燥時間は、１〜３０分間、好ましくは１〜１５分間である。かかる乾燥条件により、接着剤を硬化させるとともに、水分を除去することができる。
【０２７１】
光学補償偏光板や粘着剤層などの各層には、例えばサリチル酸エステル系化合物やべンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの方式により紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。
【０２７２】
本発明の光学補償偏光板はＩＰＳモードの液晶表示装置に好適に用いられる。ＩＰＳモードの液晶表示装置は、液晶層を狭持する一対の基板と、前記一対の基板の一方に形成された電極群と、前記基板間に挟持された誘電異方性を有する液晶組成物質層と、前記一対の基板の対向に形成されて前記液晶組成物質の分子配列を所定の方向に配列させるための配向制御層および前記電極群に駆動電圧を印加するための駆動手段とを具備した液晶セルを有する。前記電極群は前記配向制御層および前記液晶組成物質層の界面に対して、主として平行な電界を印加するごとく配置された配列構造を有している。
【０２７３】
本発明の光学補償偏光板は液晶セルの視認側または光入射側に配置される。光学補償偏光板は、光学補償層側を液晶セル側とするのが好ましい。光学補償偏光板の配置された液晶セルの反対側には偏光板が配置される。セル基板の両側に配置した偏光板の吸収軸と光学補償偏光板の吸収軸は直交状態に配置される。偏光板は光学補償偏光板に用いたものと同様の偏光子の両面に、透明保護フィルムを積層したものが用いられる。透明保護フィルムとしては、セルロースアシレートフィルムが好ましく用いられ、セルロ−ストリアセテートフィルムが特に好ましく用いられるが、偏光子の少なくとも一方には本発明の光学補償偏光板に用いられる｜Ｒｅ｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ｜≦２５のセルロースアシレートフィルムを用いることが好ましい。
【０２７４】
光学補償偏光板をＩＰＳモードの液晶セルの視認側に配置する場合には、視認側と反対側（光入射側）のセル基板には、偏光板を電圧無印加状態において液晶セル内の液晶分子の長軸方向と偏光板の吸収軸が平行状態になるように配置するのが好ましい。
【０２７５】
光学補償偏光板をＩＰＳモードの液晶セルの光入射側に配置する場合には、視認側のセル基板には偏光板を配置し、電圧無印加状態において液晶セル内の液晶分子の長軸方向と光学補償偏光板の吸収軸が直交状態になるように配置するのが好ましい。
【０２７６】
前記光学補償偏光板、偏光板は、実用に際して他の光学層を積層して用いることができる。その光学層については特に限定はないが、例えば反射板や半透過板、位相差板（１／２や１／４等の波長板を含む）などの液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層を１層または２層以上用いることができる。特に、偏光板に更に反射板または半透過反射板が積層されてなる反射型偏光板または半透過型偏光板、偏光板に更に輝度向上フィルムが積層されてなる偏光板が好ましい。
【０２７７】
反射型偏光板は、偏光板に反射層を設けたもので、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。反射型偏光板の形成は、必要に応じ透明保護層等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式にて行うことができる。
【０２７８】
反射型偏光板の具体例としては、必要に応じマット処理した透明保護フィルムの片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射層を形成したものなどがあげられる。また前記透明保護フィルムに微粒子を含有させて表面微細凹凸構造とし、その上に微細凹凸構造の反射層を有するものなどもあげられる。前記した微細凹凸構造の反射層は、入射光を乱反射により拡散させて指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制しうる利点などを有する。また微粒子含有の透明保護フィルムは、入射光及びその反射光がそれを透過する際に拡散されて明暗ムラをより抑制しうる利点なども有している。透明保護フィルムの表面微細凹凸構造を反映させた微細凹凸構造の反射層の形成は、例えば真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式などの適宜な方式で金属を透明保護層の表面に直接付設する方法などにより行うことができる。
【０２７９】
反射板は前記の偏光板の透明保護フィルムに直接付与する方式に代えて、その透明フィルムに準じた適宜なフィルムに反射層を設けてなる反射シートなどとして用いることもできる。なお反射層は、通常、金属からなるので、その反射面が透明保護フィルムや偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設の回避の点などより好ましい。
【０２８０】
なお、半透過型偏光板は、上記において反射層で光を反射し、かつ透過するハーフミラー等の半透過型の反射層とすることにより得ることができる。半透過型偏光板は、通常液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置などを比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射させて画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置などを形成できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置などの形成に有用である。
【０２８１】
偏光板に光学補償層が積層されてなる光学補償偏光板について説明する。直線偏光を楕円偏光または円偏光に変えたり、楕円偏光または円偏光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向を変える場合に、光学補償層が用いられる。特に、直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変えたりする光学補償層としては、いわゆる１／４波長板（λ／４板とも言う）が用いられる。１／２波長板（λ／２板とも言う）は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用いられる。
【０２８２】
光学補償偏光板は液晶表示装置の液晶層の複屈折により生じた着色（青又は黄等）を補償（防止）して、前記着色のない白黒表示する場合などに有効に用いられる。更に、三次元の屈折率を制御したものは、液晶表示装置の画面を斜め方向から見た際に生じる着色も補償（防止）することができて好ましい。光学補償偏光板は、例えば画像がカラー表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有する。
【０２８３】
偏光板と輝度向上フィルムを貼り合わせた偏光板は、通常液晶セルの裏側サイドに設けられて使用される。輝度向上フィルムは、液晶表示装置などのバックライトや裏側からの反射などにより自然光が入射すると所定偏光軸の直線偏光または所定方向の円偏光を反射し、他の光は透過する特性を示すもので、輝度向上フィルムを偏光板と積層した偏光板は、バックライト等の光源からの光を入射させて所定偏光状態の透過光を得ると共に、前記所定偏光状態以外の光は透過せずに反射される。この輝度向上フィルム面で反射した光を更にその後ろ側に設けられた反射層等を介し反転させて輝度向上フィルムに再入射させ、その一部又は全部を所定偏光状態の光として透過させて輝度向上フィルムを透過する光の増量を図ると共に、偏光子に吸収させにくい偏光を供給して液晶表示画像表示等に利用しうる光量の増大を図ることにより輝度を向上させうるものである。すなわち、輝度向上フィルムを使用せずに、バックライトなどで液晶セルの裏側から偏光子を通して光を入射した場合には、偏光子の偏光軸に一致していない偏光方向を有する光は、ほとんど偏光子に吸収されてしまい、偏光子を透過してこない。すなわち、用いた偏光子の特性によっても異なるが、およそ５０％の光が偏光子に吸収されてしまい、その分、液晶画像表示等に利用しうる光量が減少し、画像が暗くなる。輝度向上フィルムは、偏光子に吸収されるような偏光方向を有する光を偏光子に入射させずに輝度向上フィルムで一旦反射させ、更にその後ろ側に設けられた反射層等を介して反転させて輝度向上フィルムに再入射させることを繰り返し、この両者間で反射、反転している光の偏光方向が偏光子を通過し得るような偏光方向になった偏光のみを、輝度向上フィルムは透過させて偏光子に供給するので、バックライトなどの光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる。
【０２８４】
輝度向上フィルムと上記反射層等の間に拡散板を設けることもできる。輝度向上フィルムによって反射した偏光状態の光は上記反射層等に向かうが、設置された拡散板は通過する光を均一に拡散すると同時に偏光状態を解消し、非偏光状態となる。すなわち、拡散板は偏光を元の自然光状態にもどす。この非偏光状態、すなわち自然光状態の光が反射層等に向かい、反射層等を介して反射し、再び拡散板を通過して輝度向上フィルムに再入射することを繰り返す。このように輝度向上フィルムと上記反射層等の間に、偏光を元の自然光状態にもどす拡散板を設けることにより表示画面の明るさを維持しつつ、同時に表示画面の明るさのむらを少なくし、均一で明るい画面を提供することができる。かかる拡散板を設けることにより、初回の入射光は反射の繰り返し回数が程よく増加し、拡散板の拡散機能と相俟って均一の明るい表示画面を提供することができたものと考えられる。
【０２８５】
前記の輝度向上フィルムとしては、例えば誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すもの（３Ｍ社製、Ｄ−ＢＥＦ等）、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したものの（日東電工社製、ＰＣＦ３５０やＭｅｒｃｋ社製、Ｔｒａｎｓｍａｘ等）如き、左回り又は右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどの適宜なものを用いうる。
【０２８６】
従って、前記した所定偏光軸の直線偏光を透過させるタイプの輝度向上フィルムでは、その透過光をそのまま偏光板に偏光軸を揃えて入射させることにより、偏光板による吸収ロスを抑制しつつ効率よく透過させることができる。一方、コレステリック液晶層の如く円偏光を投下するタイプの輝度向上フィルムでは、そのまま偏光子に入射させることもできるが、吸収ロスを抑制する点よりその円偏光を位相差板を介し直線偏光化して偏光板に入射させることが好ましい。なお、その位相差板として１／４波長板を用いることにより、円偏光を直線偏光に変換することができる。
【０２８７】
可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板として機能する位相差板は、例えば波長５５０ｎｍの淡色光に対して１／４波長板として機能する位相差層と他の位相差特性を示す位相差層、例えば１／２波長板として機能する位相差層とを重畳する方式などにより得ることができる。従って、偏光板と輝度向上フィルムの間に配置する位相差板は、１層又は２層以上の位相差層からなるものであってよい。
【０２８８】
なお、コレステリック液晶層についても、反射波長が相違するものの組み合わせにして２層又は３層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域等の広い波長範囲で円偏光を反射するものを得ることができ、それに基づいて広い波長範囲の透過円偏光を得ることができる。
【０２８９】
また、偏光板は、上記の偏光分離型偏光板の如く、偏光板と２層又は３層以上の光学層とを積層したものからなっていてもよい。従って、上記の反射型偏光板や半透過型偏光板と位相差板を組み合わせた反射型楕円偏光板や半透過型楕円偏光板などであってもよい。
【０２９０】
前記光学補償層は、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、予め透明保護フィルムに積層して光学補償偏光板としたのものは、品質の安定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着層等の適宜な接着手段を用いうる。
【０２９１】
液晶表示装置の形成は、従来に準じて行いうる。液晶表示装置は、一般に必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明において前記光学フィルムを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶セルについても、前記例示のＩＰＳモードの他、例えばＶＡ型、π型などの任意なタイプのものを用いうる。
【０２９２】
液晶表示装置は、照明システムあるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置を形成することができる。さらには液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。
【実施例】
【０２９３】
以下に、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【０２９４】
（正面レターデーション Ｒｅ）
試料７０ｍｍ×１００ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））にて５９０ｎｍにおけるＲｅ値を法線方向から測定した。また、波長分散性｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜等の測定の際には、異なる波長で測定する場合もある。
【０２９５】
（膜厚方向レターデーション Ｒｔｈ）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））にて５９０ｎｍにおける法線方向、及び面内の遅相軸（KOBRA 21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して１０°、２０°、３０°、４０°、５０°傾斜した方向から波長５９０nｍの光を入射させて測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
また、波長分散性｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜等の測定の際には、異なる波長で測定する場合もある。
【０２９６】
（Ｎｚの測定）
自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））にて５９０ｎｍにおける法線方向、及び面内の遅相軸（KOBRA 21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して１０°、２０°、３０°、４０°、５０°傾斜した方向から波長５９０nｍの光を入射させて測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、KOBRA 21ADHはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出し、この算出されたnx,ny,nzよりNz=（nx-nz）/(nx-ny)が算出される。
（フィルムのヘイズ）
ヘイズメーター（日本電色（株）製）を用いて測定した。
（フィルムの含水率の測定）
カールフィッシャー法を用いて測定した。
（透湿度測定）
カップ法を用いて測定した。
【０２９７】
［実施例１］
（透明保護フィルムの作製）
攪拌羽根を有する４０００Ｌのステンレス製溶解タンクに、下記の溶媒混合溶液によく攪拌・分散しつつ、セルローストリアセテート粉体（フレーク）を徐々に添加し、全体が２０００ｋｇになるように仕込んだ。シリカ粒子はあらかじめ溶媒に分散した後に投入した。本発明の光学的異方性を低下する化合物および波長分散を制御する化合物（表１記載の通り）を換えることにより、試料１０１〜１０６を作製した。
セルローストリアセテート（表１記載の置換度）        １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ５１７．６質量部
メタノール（第２溶媒）                                ７７．３質量部
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子                          ０．１３質量部
（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
光学的異方性を低下する化合物  （表１記載の通り）      １１．７質量部
波長分散調整剤  （表１記載の通り）                      １．２質量部
クエン酸エステル                                      ０．０１質量部
透明保護フィルムは、面内位相差｜Ｒｅ｜≦１０ｎｍ、厚み方向位相差｜Ｒｔｈ｜≦２５ｎｍであった。
また、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０ｎｍ、｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５ｎｍであった。
【０２９８】
（光学補償層の積層）
上記セルロースアセテートフィルム試料１０１〜１０６のの表面をケン化後、接触角が３８゜であることを確認した。このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥した。次に、形成した膜にフィルムの遅相軸方向と平行の方向にラビング処理を施した。
配向膜塗布液の組成
下記の変性ポリビニルアルコール                        １５質量部
水                                                  ３３４質量部
メタノール                                          １００質量部
グルタルアルデヒド                                      １質量部
パラトルエンスルホン酸                              ０．３質量部
【０２９９】
変成ポリビニルアルコール
【化７３】
2006285169.tif 000072
【０３００】
次に、配向膜上に、下記のディスコティック液晶性化合物１.８ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学(株)製）０．２ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製）０．０２ｇ、下記の空気界面側垂直配向剤０．０１ｇを３．９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を、＃３.４のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ/ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射しディスコティック液晶化合物を架橋した。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学補償層を積層した。
【０３０１】
ディスコティック液晶化合物
【化７４】
2006285169.tif 000073
【０３０２】
空気界面側垂直配向剤
【化７５】
2006285169.tif 000074
【０３０３】
ディスコティック液晶位相差層のみの光学特性を算出したところ、Ｒｅ1が２００ｎｍ、Nz値が０．５４であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。なお遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であった。
【０３０４】
（光学補償偏光板１〜６の作製）
前記光学補償層積層を有する透明保護フィルム（試料１０１〜１０６）の各々と、富士写真フイルム（株）製タックフィルムＴＤ８０ＵＦを、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に接着剤を用いて積層し、光学補償偏光板１〜６をそれぞれ作製した。
【０３０５】
（偏光板１〜６の作製）
前記透明保護フィルム（試料１０１〜１０６）の各々と、富士写真フイルム（株）製タックフィルムＴＤ８０ＵＦを、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に接着剤を用いて積層し、偏光板１〜６をそれぞれ作製した。
【０３０６】
（液晶表示装置１の作製）
光学補償偏光板１の光学補償層側を、ＩＰＳモード液晶セルの視認側の面になるように粘着剤で積層した。一方、液晶セルの反対側の面には上記偏光板１を粘着剤で積層して液晶表示装置を作製した。視認側の光学補償偏光板１は電圧無印加時に液晶セル内の液晶組成物の異常光屈折率方向と該光学補償偏光板１の吸収軸が直交となるように積層した。また偏光板１の吸収軸と光学補償偏光板の吸収軸は直交するように配置した。
【０３０７】
（評価）
この液晶表示装置において、正面及び直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比をＥＺ  Ｃｏｎｔｒａｓｔ（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて測定したところ、コントラスト比は正面が３７０、７０°方向が３５であった。黒表示において正面の着色度と直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の着色度を比較したが、殆ど変化は認められなかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、黒表示の面内ムラを目視に確認したところ、殆どムラが観測されなかった。又、偏光性能の劣化も殆ど観測されなかった。
（液晶表示装置２〜６の作製）
上記液晶表示装置１の作製において、偏光板１の代わりに偏光板２〜６、および光学補償偏光板１の代わりに光学補償偏光板２〜６をそれぞれ用いた以外は同様にして、液晶表示装置２〜６を作製したところ、上記と同様の性能が得られた。
【０３０８】
［実施例２］
（透明保護フィルムの作製）
下記組成に変更した以外は実施例１と同様にしてセルローストリアセテート溶液を作製し、試料１１４を作製した。
【０３０９】
・セルローストリアセテート（置換度２．８６、粘度平均重合度３２０、含水率０．４質量％、メチレンクロライド溶液中６質量％の粘度  ３０５ｍＰａ・ｓ、平均粒子径１．５ｍｍであって標準偏差０．５ｍｍである粉体）
１７．０質量部
・メチレンクロライド                                    ６７．４質量部
・メタノール                                            １２．７質量部
・ブタノール                                              ０．５質量部
・トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）                    １．３質量部
・ビフェニル−ジフェニルフォスフェート（ＢＤＰ）          ０．７質量部
・光学的等方性を付与する化合物（表１記載の通り）          ２．０質量部
・波長分散を制御する化合物（表１記載の通り）              ０．８質量部
【０３１０】
（偏光板７の作製）
上記透明保護フィルムをポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に接着剤を用いて積層して偏光板７を作製した。
【０３１１】
（光学補償層の積層）
ポリスチレンフィルムを延伸することにより、厚さ６０μｍ、面内位相差Ｒｅ1が２６０ｎｍ、Ｎｚ＝０．５０の光学補償層を得た。この光学補償層と前記偏光板７を、光学補償層の遅相軸と偏光板の吸収軸が平行状態となるように粘着剤を用いて積層し、光学補償偏光板７を作製した。
【０３１２】
（液晶表示装置７の作製）
光学補償偏光板７の光学補償層を有する側が、ＩＰＳモードの液晶セルの視認側の面になるように粘着剤で積層した。一方、液晶セルの反対側の面には偏光板７を粘着剤で積層して液晶表示装置７を作製した。視認側の光学補償偏光板７は電圧無印加時に液晶セル内の液晶組成物の異常光屈折率方向と該光学補償偏光板７の吸収軸が直交となるように積層した。また偏光板の吸収軸と光学補償偏光板７の吸収軸は直交するように配置した。
【０３１３】
（評価）
この液晶表示装置において、正面及び直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比を測定したところ、コントラスト比は正面が３６０、７０°方向が３５であった。黒表示において正面の着色度と直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の着色度を比較したが、殆ど変化は認められなかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、黒表示の面内ムラを目視に確認したところ、殆どムラが観測されなかった。又、偏光性能の劣化も殆ど観測されなかった。
また作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。４つの斜め方向（方位角：４５度、１３５度、２２５度、３１５度、極角：６０°）から観察した際の漏れ光の平均値は１３％であった。漏れ光の測定は輝度測定器（ＳＲ−３（トプコン製））を用い、白画像の輝度（Lw）と黒画像の輝度（Ｌｂ）を測定し、Lb/Lwを漏れ光（%）として示した。
【０３１４】
［実施例３］
（透明保護フィルムの作製）
下記組成に変更した以外は実施例２と同様にしてセルローストリアセテート溶液を作製し、試料１１５を作製した。
【０３１５】
・セルローストリアセテート（置換度２．８６、粘度平均重合度３２０、含水率０．４質量％、メチレンクロライド溶液中６質量％の粘度  ３０５ｍＰａ・ｓ、平均粒子径１．５ｍｍであって標準偏差０．５ｍｍである粉体）
１７．０質量部
・酢酸メチル                                            ６２．４質量部
・アセトン                                                ６．５質量部
・エタノール                                              ５．７質量部
・ブタノール                                              ６．５質量部
・トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）                    １．３質量部
・ビフェニル−ジフェニルフォスフェート（ＢＤＰ）          ０．７質量部
・光学的等方性を付与する化合物（表１記載の通り）          ２．０質量部
・波長分散を制御する化合物（表１記載の通り）              ０．８質量部
【０３１６】
（偏光板８の作製）
前記透明保護フィルムをポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に接着剤を用いて積層して偏光板８を作製した。
【０３１７】
（光学補償層の積層）
上記セルロースアセテートフィルム試料１１５の表面をケン化後、接触角が38゜であることを確認した。このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥した。次に、形成した膜にフィルムの遅相軸方向と平行の方向にラビング処理を施した。（配向膜塗布液の組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                        １５質量部
水                                                  ３３４質量部
メタノール                                          １００質量部
グルタルアルデヒド                                      １質量部
パラトルエンスルホン酸                              ０．３質量部
【０３１８】
変成ポリビニルアルコール
【化７６】
2006285169.tif 000075
【０３１９】
次に、配向膜上に、下記のディスコティック液晶性化合物１.８ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学(株)製）０．２ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製）０．０２ｇ、下記の空気界面側垂直配向剤０．０１ｇを３．９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を、＃３．４のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ/ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射しディスコティック液晶化合物を架橋した。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学補償層を積層した。
【０３２０】
ディスコティック液晶化合物
【化７７】
2006285169.tif 000076
【０３２１】
空気界面側垂直配向剤
【化７８】
2006285169.tif 000077
【０３２２】
ディスコティック液晶位相差層のみの光学特性を算出したところ、Ｒｅ1が２００ｎｍ、Nz値が０．５４、であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。なお遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であった。
【０３２３】
（液晶表示装置８の作製）
光学補償偏光板８の光学補償層を有する側を、ＩＰＳモードの液晶セルの視認側の面になるように粘着剤で積層した。一方、液晶セルの反対側の面には偏光板８を粘着剤で積層して液晶表示装置を作製した。視認側の光学補償偏光板８は電圧無印加時に液晶セル内の液晶組成物の異常光屈折率方向と該光学補償偏光板８の吸収軸が直交となるように積層した。また偏光板８の吸収軸と光学補償偏光板８の吸収軸は直交するように配置した。
【０３２４】
（評価）
この液晶表示装置において、正面及び直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比を測定したところ、コントラスト比は正面が３７０、７０°方向が３５であった。黒表示において正面の着色度と直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の着色度を比較したが、殆ど変化は認められなかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、黒表示の面内ムラを目視に確認したところ、殆どムラが観測されなかった。又、偏光性能の劣化も殆ど観測されなかった。
【０３２５】
［実施例４］
（透明保護フィルムの作製）
実施例１よりも置換度の大きいセルローストリアセテート（置換度２．９４、粘度平均重合度３２０）を用いた以外は実施例１と同様にしてセルローストリアセテート溶液を作製し、試料１１６を作製した。得られたロール状の透明保護フィルムを、１０ｃｍ×２ｃｍの短冊状に切り出し、テンシロン（オリエンテック（株）製）を用いて１ｃｍ/分の速度で５％延伸した。得られた透明保護フィルムを５％延伸する前後において、フィルム面内の正面レターデーションが｜Ｒｅ(５)-Ｒｅ（０）｜／５＝０．５ｎｍであった。
【０３２６】
（光学補償層の積層）
長さ１００ｍ、幅１８０ｍｍ、厚さ８０μｍでＲｅが０ｎｍであるポリカーボネートの両面に１６５度での寸法変化率（ＭＤ／ＴＤ）が１．１５のポリエステルフイルムをアクリル系粘着層を介し接着し、１６５度雰囲気中で搬送に従いピン間隔が収縮するピンテンターを用いポリカーボネートの幅方向に１．１５倍に延伸しながら搬送方向への収縮を行った後、ポリエステルフイルムを剥離して光学補償層を得た。
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定し、これらの光学特性を算出したところ、Ｒｅが２５０ｎｍ、Ｎｚが０．５であり、遅相軸が長手方向とは直交方向にあることを確認した。
（偏光板９の作製）（液晶表示装置９の作製）
上記の透明保護フィルム、光学補償層をポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に接着剤を用いてロールtoロールで積層し、偏光板９、光学補償偏光板９、ＩＰＳモード液晶表示装置９を作成した。
【０３２７】
（評価）
この液晶表示装置９において、直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比を測定したところ、コントラスト比＝３５であった。黒表示において正面の着色度と直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の着色度を比較したが、殆ど変化は認められなかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、黒表示の面内ムラを目視に確認したところ、殆どムラが観測されなかった。又、偏光性能の劣化も殆ど観測されなかった。
【０３２８】
［実施例５］
（透明保護フィルムの作製）
実施例１において作製した本発明の透明保護フィルム試料において、セルローストリアセテートを下記のセルロースアシレートＳＥＦ−１、ＳＥＦ−２及びＳＦＥ−３に変更する以外は、実施例１と全く同様にして、本発明の試料１１７を作製し、その特性を評価した。
（セルロースアシレートＳＥＦ−１）
綿から採取したセルロースを原料としてセルロースアシレートＳＥＦ−１を合成した。セルロースアシレートＳＥＦ−１は、アセチル置換度が１．２０、ブチリル置換度が１．５０、トータル置換度が２．７０、粘度平均重合度が２８０、含水率が０．２質量％、ジクロロメタン溶液中６質量％の粘度が２３５ｍＰａ・ｓ、平均粒子サイズが１．５ｍｍであって標準偏差０．６ｍｍである粉体であった。また、セルロースアシレート固形分中の残存酢酸量が０．１質量％以下、残留ブタン酸が０．１質量％以下であり、Ｃａ含有量が８５ｐｐｍ、Ｍｇ含有量が３０ｐｐｍ、Ｆｅ含有量が０．３ｐｐｍであり、さらに硫酸基としてのイオウ量を１３０ｐｐｍ含むものであった。また６位アセチル基の置換度は０．４０、６位ブチリル基の置換度は０．４８であった。また、重量平均分子量／数平均分子量比（ＧＰＣにより測定）は２．６である。
【０３２９】
（セルロースアシレートＳＥＦ−２）
セルロースアシレートＳＥＦ−２は、アセチル置換度２．５８、ブチリル置換度１．３０、トータル置換度２．８８、粘度平均重合度３６５、含水率０．２質量％、ジクロロメタン溶液中６質量％の粘度２９０ｍＰａ・ｓ、平均粒子サイズ１．４ｍｍであって標準偏差０．６ｍｍである粉体である。
【０３３０】
（セルロースアシレートＳＥＦ−３）
セルロースアシレートＳＥＦ−３は、アセチル置換度１．００、プロピオニル置換度１．８５、トータル置換度２．８５、粘度平均重合度２８０、含水率０．１９質量％、ジクロロメタン溶液中６質量％の粘度１０５ｍＰａ・ｓ、平均粒子サイズ１．５ｍｍであって標準偏差０．４ｍｍの粉体である。
得られた透明保護フィルム１１７を、１０ｃｍ×２ｃｍの短冊状に切り出し、テンシロン（オリエンテック（株）製）を用いて１ｃｍ/分の速度で５％延伸した。得られた透明
保護フィルムを５％延伸する前後において、フィルム面内の正面レターデーションが｜Ｒｅ(５)-Ｒｅ（０）｜／５＝０．５ｎｍであった。
【０３３１】
（光学補償層の積層）
長さ１００ｍ、幅１８０ｍｍ、厚さ８０μｍでＲｅが０ｎｍであるポリカーボネートの両面に１６５度での寸法変化率（ＭＤ／ＴＤ）が１．１５のポリエステルフイルムをアクリル系粘着層を介し接着し、ロール延伸機にてロール速比０．９６とし、さらに、直径10cmのロールを5cm間隔で５０本配置した密ロールを用い、かつロールの温度を１６５度とした常温雰囲気で処理してポリカーボネートを収縮させた後、ポリエステルフイルムを剥離した。このロール状のポリカーボネートフィルムを１６３度の雰囲気下で幅方向に１．０６倍に延伸し光学補償層を得、前記の透明保護フィルムとロールtoロールで積層した。
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定し、これらの光学特性を算出したところ、Ｒｅが１８０ｎｍ、Ｎｚが０．４であり、遅相軸が長手方向とは直交方向にあることを確認した。
（偏光板１０の作製）（液晶表示装置１０の作製）
上記の透明保護フィルム１１７をポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に接着剤を用いてロールtoロールで積層し、偏光板１０、光学補償偏光板１０、ＩＰＳモード液晶表示装置１０を作成した。
【０３３２】
（評価）
この液晶表示装置１０において、直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比を測定したところ、コントラスト比＝３５であった。黒表示において正面の着色度と直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の着色度を比較したが、殆ど変化は認められなかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、黒表示の面内ムラを目視に確認したところ、殆どムラが観測されなかった。又、偏光性能の劣化も殆ど観測されなかった。本発明において特定のセルロースアシレートを使用することが好ましいことがわかる。
【０３３３】
［実施例６］
（透明保護フィルムの作製）
攪拌羽根を有する４０００Ｌのステンレス製溶解タンクに、下記の溶媒混合溶液によく攪拌・分散しつつ、セルローストリアセテート粉体（フレーク）を徐々に添加し、全体が２０００ｋｇになるように仕込んだ。光学的異方性を低下する化合物および波長分散を制御する化合物（表１記載の通り）を換えることにより、試料１０７〜１１３、試料１１８〜１２１を作製した。
・セルローストリアセテート（置換度２．９４、粘度平均重合度３２０）
１７．０質量部
・メチレンクロライド                                    ７０．５質量部
・メタノール                                            １０．５質量部
・光学的等方性を付与する化合物（表１記載の通り）          ２．０質量部
・波長分散を制御する化合物（表１記載の通り）              ０．２質量部
透明保護フィルムの面内位相差Ｒｅは任意の１ｍ四方を測定した結果1±1ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈは0±3ｎｍであった。又、前記透明保護フィルムを６０℃９０％ＲＨで２４０時間処理した場合のＲｅおよびＲｔｈの変化量はそれぞれ３ｎｍ、５ｎｍであり、８０℃で２４０時間処理した場合のＲｅおよびＲｔｈの変化量はそれぞれ２ｎｍ、５ｎｍであった。
【０３３４】
（偏光板１１〜２１）
前記透明保護フィルム（１０７〜１１３、１１８〜１２１）各々と、富士写真フイルム（株）製反射防止フィルムCV02L80 を鹸化処理した後ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に接着剤を用いて積層して偏光板１１〜２１をそれぞれ作製した。
【０３３５】
（光学補償層の積層）
長さ１００ｍ、幅１８０ｍｍ、厚さ８０μｍでＲｅが０ｎｍであるポリカーボネートの両面に１６５度での寸法変化率（ＭＤ／ＴＤ）が１．１５のポリエステルフイルムをアクリル系粘着層を介し接着し、１６５度雰囲気中で搬送に従いピン間隔が収縮するピンテンターを用いポリカーボネートの幅方向に１．１５倍に延伸しながら搬送方向への収縮を行った後、ポリエステルフイルムを剥離して光学補償層を得た。
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定し、これらの光学特性を算出したところ、Ｒｅが２１０ｎｍ、Ｎｚが０．４８であり、遅相軸が長手方向とは直交方向にあることを確認した。
この光学補償層を前記偏光板１１〜１７の試料１０７〜１１３側に、それぞれ光学補償層の遅相軸と偏光板の吸収軸が平行となるようにして粘着剤を用いてポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に接着剤を用いてロールtoロールで積層し、光学補償偏光板１１〜２１を作製した。
【０３３６】
（液晶表示装置１１の作製）
光学補償偏光板１１の光学補償層側を、ＩＰＳモード液晶セルの視認側の面になるように粘着剤で積層した。一方、液晶セルの反対側の面には上記偏光板１１を粘着剤で積層して液晶表示装置１１を作製した。視認側の光学補償偏光板１１は、電圧無印加時に液晶セル内の液晶組成物の異常光屈折率方向と該光学補償偏光板１１の吸収軸が直交となるように積層した。また偏光板１１の吸収軸と光学補償偏光板の吸収軸は直交するように配置した。
【０３３７】
（評価）
この液晶表示装置において、正面及び直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比をＥＺ  Ｃｏｎｔｒａｓｔ（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて測定したところ、コントラスト比は正面が３７０、７０°方向が３５であった。黒表示において正面の着色度と直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の着色度を比較したが、殆ど変化は認められなかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、黒表示の面内ムラを目視に確認したところ、殆どムラが観測されなかった。又、偏光性能の劣化も殆ど観測されなかった。
（液晶表示装置１２〜２１の作製）
上記液晶表示装置１１の作製において、偏光板１１の代わりに偏光板１２〜２１、および光学補償偏光板１１の代わりに光学補償偏光板１２〜２１をそれぞれ用いた以外は同様にして、液晶表示装置１２〜２１を作製したところ、上記と同様の性能が得られた。
【０３３８】
［実施例７］
（透明保護フィルムの作製）
実施例６で作製した試料１１８〜１２１を固定端横延伸によって１４０℃で１．１倍に延伸した後７５℃の１０％水酸化ナトリウム水溶液中に１分間浸漬して親水化処理を施し、純水で洗浄し、次いで７０℃で３分間乾燥して親水化処理を行い透明保護フィルム１２２〜１２５を得た。
【０３３９】
（偏光板２２〜２５）
前記透明保護フィルム（１２２〜１２５）各々と、富士写真フィルム（株）製反射防止フィルムCV02L80 を鹸化処理した後ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に接着剤を用いて積層して偏光板２２〜２５をそれぞれ作製した。
【０３４０】
（光学補償層の積層）
実施例６と同様にしてポリカーボネートフィルムを延伸した光学補償層を前記偏光板２２〜２５の透明保護フィルム１２２〜１２５側に、それぞれ光学補償層の遅相軸と偏光板の吸収軸が平行となるようにして粘着剤を用いて積層し、光学補償偏光板２２〜２５を作製した。
【０３４１】
（液晶表示装置２２の作製）
光学補償偏光板２２の光学補償層側を、ＩＰＳモード液晶セルの視認側の面になるように粘着剤で積層した。一方、液晶セルの反対側の面には上記偏光板２２を粘着剤で積層して液晶表示装置２２を作製した。視認側の光学補償偏光板２２は、電圧無印加時に液晶セル内の液晶組成物の異常光屈折率方向と該光学補償偏光板２２の吸収軸が直交となるように積層した。また偏光板２２の吸収軸と光学補償偏光板の吸収軸は直交するように配置した。
【０３４２】
（評価）
この液晶表示装置において、正面及び直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比をＥＺ  Ｃｏｎｔｒａｓｔ（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて測定したところ、コントラスト比は正面が３７０、７０°方向が３５であった。黒表示において正面の着色度と直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の着色度を比較したが、殆ど変化は認められなかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、黒表示の面内ムラを目視に確認したところ、殆どムラが観測されなかった。又、偏光性能の劣化も殆ど観測されなかった。
【０３４３】
（液晶表示装置２３〜２５の作製）
上記液晶表示装置２２の作製において、偏光板２２の代わりに偏光板１３〜２５、および光学補償偏光板２２の代わりに光学補償偏光板１３〜２５をそれぞれ用いた以外は同様にして、液晶表示装置２３〜２５を作製したところ、上記と同様の性能が得られた。
【０３４４】
［実施例８］
（光学補償層の積層）
実施例６で作製した試料１１８〜１２１に、実施例１と同様にして配向膜を介して光学補償層を積層したのち、１４０℃で縦一軸延伸で１．０５倍に延伸し、７５℃の１０％水酸化ナトリウム水溶液中に１分間浸漬して親水化処理を施し、純水で洗浄し、次いで７０℃で３分間乾燥して親水化処理を行い、光学補償層の遅相軸と偏光板の吸収軸が平行となるようにして粘着剤を用いて積層し、光学補償層付保護膜２６〜２９を作製した。
【０３４５】
（光学補償偏光板２６〜２９）
前記光学補償層付保護膜２６〜２９各々と、富士写真フィルム（株）製反射防止フィルムCV02L80 を鹸化処理した後ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に接着剤を用いて積層して光学補償偏光板２６〜２９をそれぞれ作製した。
【０３４６】
（液晶表示装置２６の作製）
光学補償偏光板２６の光学補償層側を、ＩＰＳモード液晶セルの視認側の面になるように粘着剤で積層した。一方、液晶セルの反対側の面には上記偏光板２６を粘着剤で積層して液晶表示装置２６を作製した。視認側の光学補償偏光板２６は、電圧無印加時に液晶セル内の液晶組成物の異常光屈折率方向と該光学補償偏光板２６の吸収軸が直交となるように積層した。また偏光板２６の吸収軸と光学補償偏光板の吸収軸は直交するように配置した。
【０３４７】
（評価）
この液晶表示装置において、正面及び直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比をＥＺ  Ｃｏｎｔｒａｓｔ（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて測定したところ、コントラスト比は正面が３７０、７０°方向が３５であった。黒表示において正面の着色度と直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の着色度を比較したが、殆ど変化は認められなかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、黒表示の面内ムラを目視に確認したところ、殆どムラが観測されなかった。又、偏光性能の劣化も殆ど観測されなかった。
【０３４８】
（液晶表示装置２７〜２９の作製）
上記液晶表示装置２６の作製において、偏光板２６の代わりに偏光板２７〜２９、および光学補償偏光板２６の代わりに光学補償偏光板２７〜２９をそれぞれ用いた以外は同様にして、液晶表示装置２７〜２９を作製したところ、上記と同様の性能が得られた。
【０３４９】
［比較例１］
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の両面に、透明保護フィルムとしてセルローストリアセテートフィルム（富士写真フイルム（株）製Ｔ８０ＵＺ）を接着剤を用いて積層して偏光板を作製した。セルローストリアセテートフィルムは厚さ８０μｍ、面内位相差Ｒｅは４ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈは４５ｎｍであった。
【０３５０】
この偏光板を、実施例１と同様のＩＰＳモードの液晶セルの両面に粘着剤で積層して液晶表示装置を作製した。また液晶セルの両面に配置した偏光板は偏光軸が互いに直交するように配置した。
【０３５１】
この液晶表示装置において、正面及び直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比を測定したところ、コントラスト比は正面は３７０であったが、７０°方向が９であった。また、黒表示において正面の着色度と比較して直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の青の着色度が大きかった。
【０３５２】
［比較例２］
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の片面に、透明保護フィルムとして富士写真フィルム（株）製タックＴＤ８０ＵＦを、もう一方の面に日本ゼオン（株）製ゼオノアフィルムを接着剤を用いて積層して偏光板を作製した。ゼオノアフィルムは厚さ８０μｍ、面内位相差Ｒｅは１ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈは４ｎｍであった。
【０３５３】
この偏光板を、実施例１と同様のＩＰＳモードの液晶セルの両面に粘着剤で積層して液晶表示装置を作製した。また液晶セルの両面に配置した偏光板は偏光軸が互いに直交するように配置した。
【０３５４】
この液晶表示装置において、正面及び直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比を測定したところ、コントラスト比は正面が３６０、７０°方向は１０であった。また、黒表示において正面の着色度と比較して直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の青の着色度が大きかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、取り出すと、偏光子とゼオノアの界面で剥離が発生しており、ムラ、コントラスト低下が観測された。
【０３５５】
［比較例３］
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の片面に、透明保護フィルムとして富士写真フイルム（株）製タックTD80UFを、もう一方の面にポリカーボネートフィルムを延伸することにより得られた、面内位相差１００ｎｍ、Ｎｚ＝０．５の位相差フィルムを、位相差フィルムの遅相軸と偏光板の吸収軸が平行状態になるように粘着剤を用いて積層することにより光学補償偏光板１７を作製した。このようにして作製した光学補償偏光板を、実施例１と同様に、位相差フィルム側をＩＰＳモードの液晶セルの視認側の面になるように粘着剤で積層した。一方、反対側の面には実施例１で用いた偏光板１を粘着剤で積層して、液晶表示装置１７を作製した。
【０３５６】
この液晶表示装置において、正面及び直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比を測定したところ、コントラスト比は正面が３６０、７０°方向が１５であった。また、黒表示において正面の着色度と比較して直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の青の着色度が大きかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、取り出すと、偏光子とゼオノアの界面で剥離が発生しており、ムラ、コントラスト低下が観測された。
【０３５７】
［比較例４］
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子：２０μｍ）の片面に、透明保護フィルムとして富士写真フイルム（株）製タックTD80UFを、もう一方の面に、ポリカーボネートフィルムを延伸することにより得られた、面内位相差１２０ｎｍ、Ｎｚ＝１．０の位相差フィルムを、位相差フィルムの遅相軸と偏光板の吸収軸が平行状態になるように粘着剤を用いて積層することにより光学補償偏光板１８を作製した。このようにして作製した光学補償偏光板を、実施例１と同様に、位相差フィルム側をＩＰＳモードの液晶セルの視認側の面になるように粘着剤で積層した。一方、反対側の面には実施例１で用いた偏光板１を粘着剤で積層して、液晶表示装置を作製した。
【０３５８】
この液晶表示装置において、正面及び直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向のコントラスト比を測定したところ、コントラスト比は正面が３７０、７０°方向は８であった。また、黒表示において正面の着色度と比較して直交する偏光板の光軸に対する方位方向４５度において法線方向からの傾き７０度方向の青の着色度が大きかった。また、この液晶表示装置を６０℃、９５％ＲＨの条件下に２００時間投入した後、取り出すと、偏光子とゼオノアの界面で剥離が発生しており、ムラ、コントラスト低下が観測された。
【０３５９】
【表１】
2006285169.tif 000078
【０３６０】
【表２】
2006285169.tif 000079
【図面の簡単な説明】
【０３６１】
【図１】熱圧縮フィルムの収縮に用いる熱密ロールを示す模式図である。
【符号の説明】
【０３６２】
５１    熱密ロール
５２    熱圧縮フィルム
【図１】
2006285169.tif 000083