(57)【要約】【課題】  再帰反射率の高い再帰性反射板を提供する。【解決手段】  凹三角アレイでは、非再帰領域の単位構造（非再帰ユニット）は、平面的には、再帰領域の単位構造（再帰ユニットＳ）と合同の正六角形である。ここで、凹三角アレイから非再帰ユニットを除去すると、再帰ユニットＳおよび空隙部分からなるアレイを形成できる。この空隙部分に、再帰ユニットＳを配置すると、本表示装置の再帰性反射板８を得られる。このように、再帰性反射板８は、凹三角アレイの再帰ユニットＳを最密に配置した表面を有している。すなわち、再帰性反射板８では、全ての表面領域を再帰ユニットＳによって構成しているため、その全面が再帰領域となっている。従って、再帰性反射板８は、再帰性反射率の非常に高い反射板となっている。【選択図】  図１
2006195226.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自身に入射した光を、その入射経路を辿るように反射する再帰性反射板において、
光反射面が、凹三角アレイの再帰ユニットを最密に配置した形状から構成されていることを特徴とする、再帰性反射板。
【請求項２】
上記再帰ユニットが、光反射面上で均一な高さに配置されていることを特徴とする請求項１に記載の再帰性反射板。
【請求項３】
請求項１に記載の再帰性反射板を備えた表示装置。
【請求項４】
自身に入射した光を、その入射経路を辿るように反射する再帰性反射板の製造方法において、
凸三角を最密に配置した凸三角アレイに対し、その非再帰領域だけにレジストを形成する第４−１工程と、
上記の凸三角アレイにおける上記のレジスト間に転写材を充填し、再帰ユニットと同形状の端面を有する複数の再帰ユニット柱を転写形成する第４−２工程と、
複数の再帰ユニット柱を、上記の端面を揃えた状態で最密に組み合わせる第４−３工程と、を含むことを特徴とする再帰性反射板の製造方法。
【請求項５】
自身に入射した光を、その入射経路を辿るように反射する再帰性反射板の製造方法において、
再帰ユニットと同様の端面を有する再帰ユニット柱が、凹三角アレイの再帰ユニットと同様の状態で配置されているとともに、再帰ユニット柱間が空隙となっている第１再帰ユニットアレイを形成する第５−１工程と、
凸三角アレイの再帰領域と同様の端面を有する凸六角柱が、凹三角アレイの非再帰ユニットと同様の状態で配置されている転写用アレイを形成する第５−２工程と、
第１再帰ユニットアレイの空隙に配した転写材の端面を、転写用アレイの凸六角柱の端面形状を転写することで再帰ユニットとする第５−３工程と、
を含んでいることを特徴とする、再帰性反射板の製造方法。
【請求項６】
上記の第５−１工程は、
凸三角アレイの非再帰領域だけにレジストを形成し、このレジスト間に転写材を充填することで、第１再帰ユニットアレイを転写形成する工程であることを特徴とする、請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
上記の第５−２工程は、
凹三角アレイに対し、非再帰ユニットの配置状態に応じた再帰ユニット以外の領域にレジストを形成し、このレジスト間に転写材を充填することで、転写用アレイを転写形成する工程であることを特徴とする、請求項５に記載の製造方法。
【請求項８】
上記の第５−３工程は、
第１再帰ユニットアレイの空隙と転写用アレイの凸六角柱とを対向させた状態で、両アレイを貼り合わせた後、第１再帰ユニットアレイの空隙に転写材を充填する工程であることを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
【請求項９】
上記の第５−３工程は、
第１再帰ユニットアレイの空隙に転写材を充填した後、転写材と転写用アレイの凸六角柱とを対向させた状態で、両アレイを貼り合わせる工程であることを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
【請求項１０】
上記の第５−３工程では、
転写用ユニットの凸六角柱間にも転写材を充填し、この転写材に、第１再帰ユニットアレイの再帰ユニット柱の端面を転写するように設定されていることを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
両アレイを張り合わせる際、
再帰ユニットの深さをｄとすると、
転写用アレイの凸六角柱の頂点を、再帰ユニット柱の再帰ユニットの底点よりも、ｄ／２以上深く挿入するように設定されていることを特徴とする、請求項８〜１０のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１２】
自身に入射した光を、その入射経路を辿るように反射する再帰性反射板の製造方法において、
再帰ユニットと同様の端面を有する再帰ユニット柱が、凹三角アレイの再帰ユニットと同様の状態で配置されているとともに、再帰ユニット柱間が空隙となっている第１再帰ユニットアレイを形成する第１２−１工程と、
再帰ユニットと同形状の端面を有する複数の再帰ユニット柱を形成する第１２−２工程と、
第１再帰ユニットアレイの空隙に、第１２−２工程で形成した再帰ユニット柱を挿入する１２−３工程と、
を含むことを特徴とする再帰性反射板の製造方法。
【請求項１３】
上記の第１２−２工程は、凹三角アレイの非再帰ユニットと同様の状態で再帰ユニット柱を配置した第２再帰ユニットアレイを形成する工程であり、
上記の第１２−３工程は、第１再帰ユニットアレイと第２再帰ユニットアレイとを組み合わせる工程であることを特徴とする、請求項１２に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型の表示素子などに使用される再帰性反射板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、周囲光（外光）を光源として利用することによって表示を行う反射型液晶表示装置（反射型ＬＣＤ）が知られている。
反射型ＬＣＤは、透過型液晶表示装置（透過型ＬＣＤ）とは異なり、バックライト（内蔵光源）を必要としない。このため、バックライトのための電力が不要となるので、バッテリーを小型化できる。また、バックライトを備えないことによる省スペース化・軽量化も図れる。
【０００３】
このようなことから、反射型ＬＣＤは、軽量薄型化したい機器に適しているといえる。
また、このような機器では、不要となったバックライト用のスペースを、バッテリーのために使用できる。従って、大型のバッテリーを使用できるので、動作時間を飛躍的に延ばすことも期待できる。
【０００４】
さらに、反射型ＬＣＤを明るい場所（日中の屋外など）で使用すると、表示画像のコントラスト特性を、他のタイプの表示装置に比べて良好とできる。
例えば、発光型表示装置であるＣＲＴでは、日中の屋外では、コントラスト比が大幅に低下する。
また、低反射処理の施された透過型ＬＣＤにおいても、周囲光が表示光（バックライト光）に比べて非常に強い環境下（直射日光下など）では、コントラスト比の大幅な低下を避けられない。
【０００５】
これに対し、反射型ＬＣＤでは、周囲光量に比例した表示光を得られるため、周囲光が非常に強くてもコントラスト比の低下を回避できる。
従って、反射型ＬＣＤは、携帯情報端末機器（携帯電話など），デジタルカメラ，携帯ビデオカメラといった、屋外での使用機会の多い機器に対し、好適に使用できる。
【０００６】
しかし、このように非常に有望な応用分野を有しているものの、カラー表示用の反射型ＬＣＤについては、現在まで、十分な実用性を有するものを得られていない。
これは、反射型ＬＣＤでは、暗所において十分な表示輝度を得られないからである。
【０００７】
カラー表示用の反射型ＬＣＤ（反射型カラーＬＣＤ）の表示性能を向上させるために、特許文献１には、散乱型液晶表示モードと再帰性反射板とを組み合わせる手法が開示されている。
【０００８】
図２６（ａ）（ｂ）は、この手法を用いた表示装置の動作原理を示す説明図である。ここで、図２６（ａ）および（ｂ）には、それぞれ、表示装置の黒表示状態および白表示状態を示している。
【０００９】
図２６（ａ）に示す表示装置の黒表示状態では、表示装置の液晶層１０１は、透過状態に制御されている。この場合、表示装置に入射した光は、液晶層１０１を通過した後、再帰性反射板１０２により、入射方向に引き返すように反射される（再帰光となる）。従って、外部光源１０３から表示装置に向かって斜めに入射した光は光源１０３に戻るように反射されるため、装置の正面にいる観察者Ｐには届かない。
なお、この場合、表示装置から観察者に届く像は、観察者自身の目（角膜）であるので、「黒」表示状態を得られる。
【００１０】
一方、図２６（ｂ）に示す白表示状態では、液晶層１０１は散乱状態に制御されている。この場合、光源からの入射光は液晶層１０１において散乱される。液晶層１０１が前方散乱型である場合、散乱光は再帰性反射板１０２で反射され、さらに散乱状態の液晶層１０１を経て外部に出射される。
このように、液晶層が散乱状態にあると、入射光が多様な方向に散乱されるため、再帰性反射板の再帰性が崩される。従って、入射光は光源に戻らず、観察者のいる方向に出射されるため、「白」表示状態を得られる。
【００１１】
このような動作原理を用いて表示を行うことにより、偏光素子を使用せずに白黒表示が可能となる。従って、偏光素子による光利用効率の低下を回避できるので、高明度の反射型ＬＣＤを実現できる。
【００１２】
なお、前述の再帰性反射板は、表示装置（ディスプレイ用途）の他に、道路標識などにも利用されている。この再帰性反射板の製造方法については、特許文献２・３に記載されている。
【００１３】
これらの文献に示されている再帰性反射板は、図２７に示すような、凹型の三角錐プリズムアレイから構成されている。
この三角錐プリズムアレイは、同サイズの三角錐プリズム（凹）を最密に並べた（平面上に、頂点を下に向けた三角錐形状の窪み（三角錐プリズム（凹））を最密に形成した）形状を有するものである。
【００１４】
また、このような三角錐プリズムアレイは、以下のように製造される。
まず、図２８（ａ）に示すように、平板に対して、互いに１２０°づつ異なる三方向から機械（切削）加工を施し、「Ｖ字型の溝」を有する板（原盤）を形成する。これにより、図２８（ｂ）に示すように、凸型の三角錐を最密に配列した形状（凸型の三角錐プリズムアレイ；平面上に、三角錐形状の突起を最密に並べた形状）の原盤を形成できる。
【００１５】
次に、図２８（ｃ）に示すように、このような原盤の溝を、再帰性反射板の材料に転写する。これにより、材料には、原盤の反転像が形成される。そして、三角錐の形成面（表面）に高反射金属膜（例えばＡｇ（銀）など）を成膜する。これにより、凹型の三角錐プリズムアレイが完成する。
なお、図２８（ｂ）〜（ｄ）では、三角錐の頂点を○，底点を●で示している。
【００１６】
この凹型の三角錐プリズムアレイは、三角錐の形成面（高反射金属膜）によって光を反射するように配置することで、再帰性反射板として機能する。
すなわち、底点を中心とする３面のいずれかに入射した光は、これらの３面で１回づつ反射され、入射方向と同じ方向に反射（再帰）される。
【００１７】
なお、原盤（凸型の三角錐プリズムアレイ）を透明な樹脂材料などで形成すれば、原盤そのものを再帰性反射板とすることが可能である（図２８（ｄ））。この場合、入射光は、樹脂材料と空気との界面で反射されることとなり、また、観察者は裏面（平らな面）を望むこととなる。すなわち、この構成では、樹脂材料の頂点を中心とする３面のいずれかに入射した光は、これらの３面で１回づつ反射し、入射方向と同じ方向へと反射される。
【特許文献１】特開２００２−１０７５１９号公報（公開日；２００２年４月１０日）
【特許文献２】米国特許公報４５７６８５０（発行日；１９８６年３月１８日）
【特許文献３】特表２０００−５９１６６号公報（公表日；２０００年７月１８日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
ところで、特許文献１記載のように反射型ＬＣＤの反射板用途として使用される再帰性反射板については、再帰反射率（再帰性反射板に入射した光のうち、再帰光となるものの比率）をなるべく高めることが好ましい。これにより、表示のコントラスト比をより高められるため、黒表示時に観察者に届く不要な光の量を低減できる。
しかしながら、三角錐プリズムアレイでは、その構造上、再帰反射板として機能する領域が、図２９に示すような、１つの三角錐の中心（図２８（ｃ）（ｄ）において○，●で示した点）を中心とする正六角形の領域だけである。
そして、それ以外の領域（非再帰領域）は、図３０に示すように、３回目に反射する面が存在しないため再帰領域（再帰反射領域）とならない。
【００１９】
なお、非再帰領域は、各三角錐の底面の３つの角に形成される正三角形である。そして、１つの角には、互いに隣接する６つの三角錐の非再帰領域が集まるため、図２９に示すように、平面的には、再帰領域と同じ形状の正六角形となる。
【００２０】
従って、その結果、三角錐プリズムアレイでは、有効面積（再帰反射する領域の面積）は全体の２／３となる。そして、残りの１／３である非再帰領域に入射した光は再帰せずに拡散光となる。このため、このような三角錐プリズムアレイでは、再帰反射率は２／３（６６．７％）より大きくならない。
【００２１】
従って、このような三角錐プリズムアレイを図２６（ａ）（ｂ）に示したような表示装置の反射板として用いると、全面積の１／３が非再帰領域（拡散光領域）であることから、黒表示レベルの低下（黒浮き）を避けられない。また、白表示の明るさも低下するため、高コントラストでの表示を実現できず、表示品位を低下させてしまう。
【００２２】
本発明は、上記のような従来の問題点に鑑みてなされたものである。そして、その目的は、再帰反射率の高い再帰性反射板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上記の目的を達成するために、本発明の再帰性反射板（本反射板）は、
自身に入射した光を、その入射経路を辿るように反射する再帰性反射板において、
光反射面が、凹三角アレイの再帰ユニットを最密に配置した形状から構成されていることを特徴とするものである。
【００２４】
本反射板は、反射型の表示装置（例えば液晶表示装置）などに使用されるものであり、自身に入射した光を、その入射経路を辿るように（光が入射方向に引き返すように）反射するものである。
そして、特に、本反射板は、その光反射面が、凹型の三角錐プリズムアレイ（凹三角アレイ）の再帰ユニットを最密に配置した形状から構成されている。
【００２５】
すなわち、凹三角アレイは、凹型の三角錐プリズム（凹三角）を最密に並べたもの（平面上に、頂点を下に向けた三角錐形状の窪みを最密に形成したもの）である。
【００２６】
また、上記したように、凹三角アレイの光反射面における３分の１の領域は非再帰領域となり、３分の２の領域は再帰領域となる。
すなわち、凹三角アレイでは、１つの三角錐の底点を中心とする正六角形の領域が再帰領域の単位構造（再帰ユニット）となる。
また、再帰ユニットは、頂角（底点を構成する角）が９０°の五角形を、３つ組み合わせた形状を有している。
【００２７】
一方、凹三角アレイの非再帰領域は、互いに隣接する（角を接する）６つの凹三角の接点を中心とした単位構造（非再帰ユニット）から構成されている。この非再帰ユニットは、平面的には（凹三角アレイを法線方向からみた場合には）、再帰ユニットと合同の正六角形である。
従って、凹三角アレイは、正六角形の非再帰ユニットおよび再帰ユニットを、最密に配置したものであるといえる。
【００２８】
ここで、凹三角アレイから非再帰ユニットを除去すると、再帰ユニットおよび空隙部分からなるアレイを形成できる。
そして、このアレイの空隙部分（非再帰ユニットのあった部分）に、再帰ユニットを配置すると、全面が再帰ユニットから構成された、本反射板を得ることが可能となる。
【００２９】
このように、本反射板は、凹三角アレイの再帰ユニットを最密に配置した表面を有している。すなわち、本反射板では、全ての表面領域を再帰ユニットによって構成しているため、その全面が再帰領域となっている。
従って、本反射板は、再帰性反射率の非常に高い反射板となっている。
【００３０】
また、本反射板では、光反射面をなす複数の再帰ユニットの高さが、互いに揃っている（均一な高さとなっている）ことが好ましい。
これにより、再帰性反射率をさらに向上できるとともに、本反射板を表示装置に組み込む場合、表示装置の生産性を上げられる。
【００３１】
また、このような本反射板については、例えば、以下の第４−１工程〜４−３工程によって製造できる。
第４−１工程；凸三角を最密に配置した凸三角アレイに対し、その非再帰領域だけにレジストを形成する。
第４−２工程；凸三角アレイにおける上記のレジスト間に転写材を充填し、再帰ユニットと同形状の端面を有する複数の再帰ユニット柱を転写形成する。
第４−３工程；複数の再帰ユニット柱を、上記の端面を揃えた状態で最密に組み合わせる。
【００３２】
ここで、凸三角アレイとは、凹三角アレイを転写して得られるものである。また、凸三角アレイの再帰領域とは、この領域を転写すると凹三角アレイの再帰ユニットとなる部分のことである。同様に、凸三角アレイの非再帰領域は、この領域を転写すると凹三角アレイの非再帰ユニットとなる部分のことである。
【００３３】
そして、第４−１工程では、このような凸三角アレイの非再帰領域を、レジストによってカバーする。その後、第４−２工程で、凸三角アレイにおけるレジストのない再帰領域に、転写材を充填する。そして、転写材を固化することで、凸三角アレイの再帰領域を転写した形状（すなわち再帰ユニット）の端面を有する六角柱（再帰ユニット柱）を得られる。
【００３４】
従って、第４−３工程に示したように、このような再帰ユニット柱を複数形成し、端面を揃えた状態で最密に組み合わせることで、本反射板のような、全反射面を再帰ユニットとする再帰性反射板を形成できる。
【００３５】
また、本反射板については、以下の第４−１工程〜４−３工程によっても製造できる。
第５−１工程；再帰ユニットと同様の端面を有する再帰ユニット柱が、凹三角アレイの再帰ユニットと同様の状態で配置されているとともに、再帰ユニット柱間が空隙となっている、第１再帰ユニットアレイを形成する。
第５−２工程；凸三角アレイ（第５−１に示した凹三角アレイを転写して得られるもの）の再帰領域と同様の端面を有する凸六角柱が、凹三角アレイの非再帰ユニットと同様の状態で配置されている転写用アレイを形成する。
第５−３工程；第１再帰ユニットアレイの空隙に配した転写材の端面を、転写用アレイの凸六角柱の端面形状を転写することで再帰ユニットとする。
【００３６】
この方法では、まず、第５−１工程によって、凹三角アレイから非再帰ユニットを除去したようなアレイ（第１再帰ユニットアレイ）を形成する。
このような第１再帰ユニットアレイは、例えば、凸三角アレイの非再帰領域だけにレジストを形成し、このレジスト間に転写材を充填して固化することで形成（転写形成）できる。
【００３７】
次に、第５−２工程によって、凸三角アレイの再帰領域と同様の端面を有する凸六角柱を備えた、転写用アレイを形成する。この転写用アレイでは、凸六角柱が、凹三角アレイの非再帰ユニットと同様の状態で配置されている（凸六角柱間は空隙であることが好ましい）。
【００３８】
なお、このような転写用アレイは、凹三角アレイに対し、非再帰ユニットの配置状態に応じた再帰ユニット以外の領域にレジストを形成し、このレジスト間に転写材を充填して固化することで形成（転写形成）できる。
【００３９】
次に、第５−３工程において、第１再帰ユニットアレイの空隙に配した転写材の端面を、転写用アレイの凸六角柱の端面形状を転写する。これにより、再帰ユニット柱間の転写材の端面も再帰ユニットとなり、第１再帰ユニットアレイの全面を再帰ユニットとすることが可能となる。
【００４０】
この製造方法では、アレイ状（組み合わされた形状）に形成された再帰ユニット柱および転写用アレイを組み合わせることで、本反射板を製造できる。従って、個別の再帰ユニット柱を寄せ集めて本反射板を製造する場合に比して、製造工程を簡略化でき、さらに、製造速度を高められる。
【００４１】
なお、第１再帰ユニットアレイの空隙と転写用アレイの凸六角柱とを対向させた状態で、両アレイを貼り合わせた後、第１再帰ユニットアレイの空隙に転写材を充填するようにしてもよい。これにより、転写用アレイを除去すれば、第１再帰ユニットアレイの全面を再帰ユニットとすることが可能となる。
なお、この場合には、第１再帰ユニットアレイの空隙を貫通孔（両端を塞がれていない孔状）にしておくことが好ましい。これにより、アレイの裏側（転写用アレイと対向しない側）から転写材を充填できる。
【００４２】
また、これに限らず、上記の第５−３工程については、第１再帰ユニットアレイの空隙に転写材を充填した後、転写材と転写用アレイの凸六角柱とを対向させた状態で、両アレイを貼り合わせるようにしてもよい。
【００４３】
また、この場合、転写用ユニットの凸六角柱間にも転写材を充填し、この転写材にも、第１再帰ユニットアレイの再帰ユニット柱の端面を転写してもよい。
この場合、転写用ユニットを、本反射板の転写型とすることが可能となる。
従って、このユニットを、本反射板の原盤として用いることが可能となる。
【００４４】
ところで、第１再帰ユニットアレイと転写用アレイとを張り合わせる際、転写材にできる再帰ユニットの位置（高さ）を、再帰ユニット柱の再帰ユニットと揃えようとすると、再帰ユニット柱間に凸六角柱を挿入するとき、凸六角柱の端面と再帰ユニット柱の再帰ユニットとの間に隙間が生じる（詳しくは、後述する実施形態を参照されたい）。
このため、この隙間から転写材がはみ出て、再帰ユニット柱の再帰ユニット上に漏れ出してしまうおそれがある。
【００４５】
そこで、このような転写材の漏れを防ぐために、第１再帰ユニットアレイと転写用アレイとを張り合わせるときに、転写用アレイの凸六角柱の頂点を、再帰ユニット柱の再帰ユニットの底点よりも、ｄ／２以上深く挿入することが好ましい（ｄは再帰ユニットの深さ）。
これにより、上記のような隙間の形成を回避できる。
【００４６】
なお、上記のように凸六角柱を深く挿入する場合には、転写材の漏れについては防止できるものの、転写材に形成される再帰ユニットと、再帰ユニット柱の再帰ユニットとの高さ（底点どうしの高さ）が異なる。
従って、本反射板の光反射面の再帰ユニットを均一な高さにできなくなる。
【００４７】
そこで、本反射板を、以下のような第１２−１工程〜第１２−３工程によって製造してもよい。
第１２−１工程；上記した第１再帰ユニットアレイを形成する。
第１２−２工程；再帰ユニットと同形状の端面を有する、複数の再帰ユニット柱を形成する。この再帰ユニット柱は、第１再帰ユニットアレイを構成する再帰ユニット柱と同サイズのものである。
第１２−３工程；第１再帰ユニットアレイの空隙に、第１２−２工程で形成した再帰ユニット柱を挿入する。
【００４８】
すなわち、この方法では、第１再帰ユニットアレイの空隙部分に、再帰ユニット柱を挿入することで、本反射板を得るようになっている。従って、転写用アレイを用いないため、上記のような転写材の漏れを防止できるとともに、再帰ユニットの高さをずらす必要もなくなる。
【００４９】
なお、上記の第１２−２工程では、凹三角アレイの非再帰ユニットと同様の状態で再帰ユニット柱を配置した、第２再帰ユニットアレイを形成する工程であってもよい。
このよう第２再帰ユニットアレイは、凸三角アレイに対し、非再帰領域の配置状態に応じた再帰領域以外の領域にレジストを形成し、このレジスト間に転写材を充填して固化することで形成（転写形成）できる。
【００５０】
この場合、上記の第１２−３工程は、第１再帰ユニットアレイと第２再帰ユニットアレイとを組み合わせる工程となる。
これにより、第１再帰ユニットアレイの空隙部分に、個別に再帰ユニット柱を挿入する必要がない。従って、製造工程を簡略化でき、さらに、製造速度を高められる。
【発明の効果】
【００５１】
以上のように、本発明の再帰性反射板（本反射板）は、
自身に入射した光を、その入射経路を辿るように反射する再帰性反射板において、
光反射面が、凹三角アレイの再帰ユニットを最密に配置した形状から構成されていることを特徴とするものである。
【００５２】
本反射板は、その光反射面が、凹型の三角錐プリズムアレイ（凹三角アレイ）の再帰ユニットを最密に配置した形状から構成されている。
すなわち、本反射板では、全ての表面領域を再帰ユニットによって構成しているため、その全面が再帰領域となっている。
従って、本反射板は、再帰性反射率の非常に高い反射板となっている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５３】
本発明の一実施形態について説明する。
本実施の形態にかかる液晶表示装置（本表示装置）は、外光を利用して表示を行う、反射型の液晶表示装置である。
図２は、本表示装置の構成を示す断面図である。
この図に示すように、本表示装置は、入射側基板６と反射側基板７との間に、液晶層（スイッチング層）１を設けた構成である。
【００５４】
入射側基板６は、透明なガラス板や高分子フィルムなどの材料からなる。反射側基板７は、ガラス板や高分子フィルムなどの材料からなっているが、透明である必要はない。
【００５５】
反射側基板７上には、再帰性反射板８が、その反射光を入射側基板６に向けて出射するように形成されている。再帰性反射板８は、入射側基板６の側から光を入射し、その反射光を、入射光と平行に出射するものである。
【００５６】
入射側基板６および反射側基板７は、それぞれ、液晶層１に電圧を印加するための各電極４・５を備えている。
これらの電極４・５は、液晶層１の各画素に電圧を印加するためのものである。電極４・５における液晶層１側の面には、水平配向膜２・３が、液晶層１と当接するように塗布されている。これらの水平配向膜２、３は、電圧を印加されていない状態の液晶層１を、水平配向状態とするように設定されている。
【００５７】
液晶層１は、光散乱型液晶から構成されていおり、透過状態と散乱状態とのいずれかの状態となるものである。
ここで、透過状態とは、入射された光の進行方向を維持する（入射光が屈折して通過する場合も含む）状態である。また、散乱状態とは、入射光の進行方向を変える（散乱作用を有する）状態である。
【００５８】
このような液晶層１の液晶材料としては、高分子分散型液晶を用いることが可能である。この場合、液晶層１は、例えば、低分子液晶組成物と、重合していないプレポリマーとを均一に溶解させた混合物（プレポリマー液晶混合物）を基板間に配置し、プレポリマーを重合することで得られる。
【００５９】
ここで、本表示装置の表示の原理を説明する。
まず、白表示の動作について説明する。液晶層１に電圧を印加すると、液晶層１の各液晶分子１ａが電場の方向に向く一方、高分子の液晶基１ｂは向きを変えない。このため、両者の間で屈折率が非整合をおこし、液晶層１は散乱状態になる。
そして、散乱状態の液晶層１に入射光が入射すると、液晶層１を透過する直進光および前方散乱された光は、再帰性反射板８で反射された後、再び散乱状態の液晶層１を通ることにより散乱作用を受ける。従って、後方散乱された光だけでなく、多くの光が観察方向に戻ることになる。
【００６０】
このように、効率の悪い後方散乱だけでなく、液晶層１を透過する直進光および前方散乱された光を利用することにより、非常に明度の高い表示を得られる。なお、各液晶分子１ａは、高分子の液晶基１ｂにより所定の間隔だけ離れている。
【００６１】
次に、黒表示の動作について説明する。
電圧を印加しない場合、液晶層１の各液晶分子１ａは、高分子の液晶基１ｂと同じ方向に向く。このため、両者の間で屈折率が整合し、液晶層１は透過状態となる。
このとき、観察者の眼に入射する光のもとをたどっていくと、基板６や液晶層１などにより屈折作用を受け、再帰性反射板８により再帰され、同様に液晶層１や基板６などにより屈折作用を受け、最終的に観察者の眼のごく近傍に達する。
【００６２】
すなわち、観察者の眼の近傍からの入射光１０のみが観察者にむかう出射光１１となる。ここで、観察者の眼の近傍には、光源は存在しないと考えられる。従って、この場合には、出射光１１は存在せず、観察画像は黒画像となる。
【００６３】
次に、本表示装置における再帰性反射板８について説明する。
図１は、再帰性反射板８の構成を示す説明図であり、図７は同じく斜視図である。
これらの図に示すように、再帰性反射板８は、凹型の三角錐プリズムアレイ（凹三角アレイ）の再帰領域を最密に並べた形状（凹三角アレイの非再帰領域を除去し、再帰領域を埋め込んだ形状）を有している。
【００６４】
以下に、再帰性反射板８の構造について詳細に説明する。
図３は、凹三角アレイを示す説明図である。また、図４，図５（ａ）は、図３に示した凹三角アレイの斜視図である。
【００６５】
このアレイは、凹型の三角錐プリズム（凹三角）を最密に並べたもの（平面上に、頂点を下に向けた三角錐形状の窪みを最密に形成したもの）である。このアレイを再帰性反射板として使用する場合には、金属から構成するか、あるいは、凹三角内（窪み内）に高反射金属膜を形成することになる。
【００６６】
また、上記したように、凹三角アレイの光反射面における３分の１の領域は非再帰領域となり、３分の２の領域は再帰領域となる。
すなわち、図３に示すように、凹三角アレイでは、１つの三角錐の底点（●）を中心とする正六角形の領域が再帰領域の単位構造（再帰ユニットＳ）となる。
また、再帰ユニットＳは、図５（ｂ）に示すような、頂角（底点を構成する角）が９０°の五角形Ｇを、３つ組み合わせた形状を有している。
【００６７】
一方、非再帰領域は、互いに隣接する（角を接する）６つの凹三角の接点を中心とした単位構造（非再帰ユニットＮ）から構成されている。この非再帰ユニットＮは、平面的には（凹三角アレイを法線方向からみた場合には）、再帰ユニットＳと合同の正六角形である。
従って、凹三角アレイは、正六角形の非再帰ユニットＮおよび再帰ユニットＳを、最密に配置したものであるといえる。
【００６８】
ここで、凹三角アレイから非再帰ユニットＮを除去すると、図６に示すように、再帰ユニットＳおよび空隙部分からなるアレイを形成できる。
そして、図６に示したアレイの空隙部分（非再帰ユニットＮのあった部分）に、再帰ユニットＳを配置すると、図７の斜視図および図１の上面図に示すような、本表示装置の再帰性反射板８を得られる。
【００６９】
このように、再帰性反射板８は、凹三角アレイの再帰ユニットＳを最密に配置した表面を有している。すなわち、再帰性反射板８では、全ての表面領域を再帰ユニットＳによって構成しているため、その全面が再帰領域となっている。
従って、再帰性反射板８は、再帰性反射率の非常に高い反射板となっている。
【００７０】
以下に、上記のような再帰性反射板８の製造方法について説明する。
ここで、上記の再帰ユニットＳは、図２８（ａ）に示した切削加工から得られる、凸型の三角錐プリズムアレイ（凸三角アレイ）の１つの再帰領域（１つの凸型の三角錘プリズム（凸三角）の頂点を中心とする正六角形の領域）を転写した形状である。
従って、凸三角アレイの非再帰領域をマスキングし、その１つの再帰領域だけを転写材（樹脂，メッキ材など）に転写することにより、再帰ユニットＳを得られる。
【００７１】
なお、上記した凸三角アレイの１つの再帰領域とは、この領域を転写すると凹三角アレイの再帰ユニットＳとなる部分のことである。同様に、凸三角アレイの非再帰領域は、この領域を転写すると凹三角アレイの非再帰ユニットＮとなる部分のことである。
以下では、凸三角アレイの１つの再帰領域（非再帰領域）を凸再帰ユニット（凸非再帰ユニット）と称する。
【００７２】
図８（ａ）〜（ｆ）は、再帰性反射板８の製造工程を示す上面図である。また、図８（ｇ）〜（ｌ）は、図８（ａ）〜（ｆ）に対応する断面図である。
再帰性反射板８の製造では、まず、凸三角アレイを、図２８（ａ）に示したような、平板に対して互いに１２０°づつ異なる三方向から機械（切削）加工により形成する（工程１）。
これにより、図８（ａ）（ｇ）に示すような、凸三角２１を最密に並べた、凸三角アレイ３１を形成できる。
【００７３】
ここで、加工する基材（平板）としては、層厚１５ｍｍのＳＵＳ上にＣｕメッキを１００μｍ形成したものを使用できる。
また、切削加工機として、ＮＡＮＯ−１００（ソディック社製）にダイヤモンドバイト（頂角：７０.５°、Ｒ：０．１μｍ）を取り付けたものを使用できる。
この場合、バイト送りピッチを２０μｍとし、三方向から基材のＣｕ層を切削することとなる。
【００７４】
次に、図８（ｂ）（ｈ）に示すように、このように形成された凸三角アレイ３１上に、フォトレジスト２２を塗布する（工程２）。
このフォトレジスト２２としては、例えば、ＰＭＥＲ  Ｐ−ＬＡ９００ＰＭ（ポジ型；東京応化社製）利用できる。
【００７５】
次に、図８（ｃ）（ｉ）に示すように、フォトレジスト２２を、フォトマスク２３を介して露光した後、現像する（工程３）。
このフォトマスク２３は、凸再帰ユニットの平面形状（正六角形）と合同の形状を有する、ホール２４を有している。そして、このホール２４を、凸再帰ユニットに整合させる。
これにより、図８（ｄ）（ｊ）に示すように、凸再帰ユニット上に開口部２５が形成される一方、他の領域にフォトレジスト２２が残る。
【００７６】
次に、図８（ｅ）（ｋ）に示すように、開口部２５およびフォトレジスト２２の形成された凸三角アレイ３１をマスターとし、電鋳（埋め込みメッキ）により反転像を形成する（工程４；メッキ材２６を開口部２５に埋め込む）。
このメッキ処理については、マスター上にＮｉ−Ｐの無電解メッキ法を用いることが可能である。
【００７７】
その後、フォトレジスト２２を凸三角アレイ３１から離型（レジスト剥離）する。そして、開口部２５に埋め込まれたメッキ材２６を凸三角アレイ３１から取り外す（工程５）。
これにより、図８（ｆ）（ｌ）に示すように、再帰ユニットＳと同形状の端面を有する、メッキ材２６からなる再帰ユニット柱２７を得られる。
【００７８】
次に、このような再帰ユニット柱２７を複数製造し、図９に示すように、再帰ユニットＳと同形状の端面を揃えた状態で、最密に組み合わせる（工程６）。
これにより、図１，図７に示したような再帰性反射板８を得られる。
【００７９】
次に、上記の再帰性反射板８の再帰反射率を測定した結果について説明する。
この測定は、図１０に示すような、落射型の顕微鏡と同様の評価装置を用いた。
【００８０】
この評価装置は、測定試料を固定するサンプルステージ４１、対物レンズ４２，ハーフミラー４３と、図示しない受光部および光源（白色光を出射する光源）とを有している。
【００８１】
ハーフミラー４３は、光源からの出射光を反射して、サンプルステージ４１に固定されたサンプル（測定試料）に垂直に入射させるように設置されている。
従って、光源からの出射光は、ハーフミラー４３によって反射され、サンプルステージ４１と垂直な方向に沿って配された対物レンズ４２（集光角：例えば７．５度）を介して、サンプル（測定試料）上に測定スポットを形成する。
そして、サンプルからの反射光は、対物レンズ４２およびハーフミラー４３を通過して、対物レンズの真上に設けられた受光部に到達する。
【００８２】
このような評価装置を用いて、上記の再帰性反射板８と、凹三角アレイ（比較例）との再帰性反射率を測定した。
なお、この測定に用いられた凹三角アレイは、工程１で得られた凸三角アレイをマスターとして、メッキ材に転写して得られるものである。
【００８３】
また、測定にかかる再帰性反射板８，凹三角アレイの加工精度は、『入射光が再帰反射する領域（再帰反射領域）』のみを抽出したならば、ディスプレイ用途として十分に使用可能な再帰性反射板であることを、事前に表示試験により確認したものである。
従って、測定にかかる比較例の凹三角アレイでは、その全面積が再帰性反射領域であれば、本表示装置の再帰性反射板８として十分に使用可能なものである。
【００８４】
測定の結果、再帰性反射板８の再帰性反射率は、通常の凹三角アレイの再帰性反射率の１．５倍となった。
ここで、実際には、凹三角アレイでは、再帰反射領域が全面積の２／３（再帰反射領域が６６．７％）であり、残り１／３は光を散乱させる部分となる（この部分からの散乱光は、評価装置の対物レンズ４２には入射しない）。
従って、再帰性反射板８では、ほぼ全面が再帰性反射領域となっている（再帰性反射板８の再帰反射領域が１００％である）ことがわかった。
【００８５】
なお、上記では、再帰ユニット柱２７を複数製造し、これらを最密に組み合わせることで、再帰性反射板８を得るとしている。
しかしながら、これに限らず、再帰性反射板８を、アレイ状の材料から製造することも可能である。
【００８６】
この場合、まず、上記した工程１と同様に、図１１（ａ）に示すような、凸三角２１を最密に並べた、凸三角アレイ３１を形成する（工程１１）。
【００８７】
次に、この凸三角アレイ３１上に、フォトレジスト（例えば、ＰＭＥＲ  Ｐ−ＬＡ９００ＰＭ（ポジ型；東京応化社製））を塗布する。そして、フォトレジスト２２を、フォトマスク３２を介して露光した後、現像する（工程１２）。
図１１（ｄ）は、フォトマスク３２の構成を示す上面図である。
このフォトマスク３２は、凸三角アレイ３１における複数の凸再帰ユニットの平面形状（正六角形）に対応した、光透過部３３（上記したホール２４をつなげたもの）を有している（その他の部分が遮光部３４となる）。
そして、この光透過部３３を、凸三角アレイ３１における凸再帰ユニットに整合させる。
これにより、図１１（ｂ）に示すように、凸非再帰ユニットのみにフォトレジスト２２を残すことが可能となる。
【００８８】
次に、このようにフォトレジスト２２の形成された凸三角アレイ３１をマスターとし、工程４と同様に、電鋳（埋め込みメッキ）により反転像を形成する（工程１３）。
これにより、図１１（ｃ）に示すように、凹三角アレイから非再帰ユニットＮを除去した形状の、第１反転像（再帰ユニットアレイ）３５を得られる。
【００８９】
この第１反転像３５では、凹三角アレイの再帰ユニットＳに応じた部分に、再帰ユニットＳの端面を有する、メッキ材からなる再帰ユニット柱３７が設けられている。
また、凹三角アレイの非再帰ユニットＮに応じた部分は、空隙３６となる。
【００９０】
なお、この第１反転像３５の再帰反射率を、上記した評価装置（図１０参照）によって測定した場合、通常の凹三角アレイ（図３参照）の再帰反射率と一致する。
【００９１】
次に、上記の工程１１において作成された凸三角アレイ３１を用いた樹脂転写により、図１２（ａ）に示すような、凹三角アレイ５１を形成する（工程１４）。
樹脂材料としては、紫外線硬化型のアクリル樹脂（ＭＰ−１０７：三菱レイヨン社製）を使用する。また、樹脂転写時のベースプレートとしては、ガラス基板（１７３７ガラス：コーニング社製）を用いる。
【００９２】
次に、凹三角アレイ５１にフォトレジストを塗布し、これを、図１２（ｄ）に示すフォトマスク５２を介して露光した後、現像する（工程１５）。
このフォトマスク５２は、凹三角アレイ５１の非再帰ユニットの配列状態（配列位置）に応じた光透過領域５３を有するものである（その他の部分は遮光領域５４となる）。
そして、上記の露光では、このフォトマスク５２を、凹三角アレイ５１の再帰ユニットＳに合わせて配置する。
【００９３】
ここで、凹三角アレイでは、図３に示したように、非再帰ユニットＮと再帰ユニットＳとの平面形状は、同一の正六角形である。
また、再帰ユニットＳは、非再帰ユニットＮの２倍の数（配列密度）であるが、その配列状態は、非再帰ユニットＮの配列状態を含んだものである。
【００９４】
すなわち、凹三角アレイでは、再帰ユニットＳと非再帰ユニットＮとは、図１３（ａ）のように配列している。ここで、非再帰ユニットＮを、図中矢印の方向に１ピッチ分（（正六角形）の１ピッチ分）だけ平行に移動すると、図１３（ｂ）に示すように、非再帰ユニットＮは再帰ユニットＳに重なる。
【００９５】
このように、再帰ユニットＳの配置状態は、非再帰ユニットＮの配置状態を含んでいる。従って、非再帰ユニットＮの配置状態に応じた光透過領域５３を有するフォトマスク５２を、凹三角アレイ５１の再帰ユニットＳに合わせて配置することが可能となる。
そして、このようなフォトマスク５２を介した露光・現像により、図１２（ｂ）に示すように、凹三角アレイ５１における非再帰ユニットＮの配置状態に応じた再帰ユニットＳ以外の領域に、レジスト２２を形成できる。
【００９６】
次に、この凹三角アレイ５１を用いた樹脂転写により、図１２（ｃ）に示すような、第２反転像（転写用アレイ）５５を形成する（工程１６）。
なお、この樹脂材料としては、紫外線硬化型のアクリル樹脂（ＭＰ−１０７：三菱レイヨン社製）を使用する。また、樹脂転写時のベースプレートとしては、ガラス基板（１７３７ガラス：コーニング社製）を用いる。
【００９７】
図１２（ｃ）に示すように、この第２反転像５５は、凸再帰ユニットと同様の表面を有する六角柱（凸六角柱）５６が、凹三角アレイの非再帰ユニットＮと同様に配列されたものである。また、凸六角柱５６間は、空隙５７となっている。
【００９８】
なお、この第２反転像５５の凸六角柱５６は、上記した第１反転像３５の空隙部分３６と、同じピッチおよびサイズを有するものである。
また、第２反転像５５の再帰反射率（実際には第２反転像５５の反転像の再帰反射率）を、図１０に示した評価装置にて測定すると、通常の凹三角アレイ（図３参照）の１／２となる。
【００９９】
上記までの工程１１〜１６によって、図１４（ａ）に示すような、第１反転像（金型）３５と第２反転像（樹脂＋ガラス型）５５とを形成できる。なお、図１４（ａ）〜（ｄ）に示した反転像３５・５５の断面図は、図１４（ｅ）に示した再帰性反射板８の、Ａ−Ａ線矢視断面図である。
【０１００】
次に、図１４（ｂ）に示すように、第１反転像（金型）３５上に、その空隙３６（図１１（ｃ））を埋めるとともに、第１反転像（金型）３５の全体を覆うように、第２反転像５５に使用されているものと同様の樹脂（紫外線硬化型樹脂）を塗布する。
そして、第２反転像５５の凸六角柱５６と、第１反転像３５の空隙３６とを対向・整合させた状態で、第１反転像３５と第２反転像５５とを貼り合わせる（工程１７）。
【０１０１】
その後、図１４（ｃ）に示すように、この状態でプレスし、反転像３５・５５間に介在する紫外線硬化型樹脂を、第２反転像５５を介した紫外線照射により硬化する（工程１８）。
そして、反転像３５・５５を離型すると、図１４（ｄ）に示すように、第１反転像３５の空隙３６に埋め込まれた樹脂の表面が、第２反転像５５の凸六角柱５６の表面（凸再帰ユニット）の転写（反転）された形状、すなわち、凹三角アレイにおける再帰ユニットＳの形状となる。
これにより、この第１反転像３５の表面を、図１に示した再帰性反射板８の形状とできる。
【０１０２】
また、第２反転像５５の空隙部に埋め込まれた樹脂の表面は、第１反転像３５の再帰ユニットＳの形状が転写された形状（すなわち、凸三角アレイにおける凸再帰ユニットの形状）となる。
従って、第２反転像５５は、再帰性反射板８の転写像となる。
【０１０３】
従って、この第２反転像５５をマスターとし、工程４と同様に、電鋳（埋め込みメッキ）により反転像を形成することで、再帰性反射板８を得ることが可能となる。
【０１０４】
なお、このようにして得られた再帰性反射板８の再帰性反射率を、上記した図１０に示した評価装置を用いて測定した。その結果、図１１（ａ）〜（ｌ）に示した製造方法によって作成した再帰性反射板８と同様の測定結果（凹三角アレイにおける再帰性反射率の１．５倍）を得られた。
【０１０５】
この製造方法では、再帰ユニット柱３７をアレイ状（組み合わされた形状）に形成した第１反転像３５と、凸六角柱５６を有する第２反転像５５とを組み合わせることで、再帰性反射板８を製造できる。
従って、個別の再帰ユニット柱２７を寄せ集めて再帰性反射板８を製造する場合に比して、製造工程を簡略化でき、さらに、製造速度を高められる。
【０１０６】
また、第２反転像５５の凸六角柱５６は、空隙に埋め込まれる樹脂と同じ材料から構成されている。従って、反転像３５・５５を張り合わせる前に、凸六角柱５６の端面に離型層を形成しておくことが好ましい。
これにより、空隙に埋め込まれる紫外線硬化樹脂との離型性を確保できる。このような離型層としては、例えば、Ａｌ薄膜（２００Å）を用いることが可能である。
【０１０７】
また、上記では、第２反転像５５の反転像を、再帰性反射板８とするとしている。しかしながら、これに限らず、再帰性反射板８と同じ表面形状を有する第１反転像３５の反転像を形成し、さらにその反転像を金属材料を用いて形成することで、再帰性反射板８を得ることも可能である。
【０１０８】
さらに、第１反転像３５をマスターとし、透明材料を用いて反転像を形成すると、第２反転像５５と同形状の透明基板を形成できる。従って、この透明基板の裏面を観察者側に向けるように配置することで、この透明基板を再帰性反射板８として利用できる。
【０１０９】
また、上記の製造方法では、第１反転像３５の表面を、図１に示した再帰性反射板８の形状とするとともに、第２反転像５５の表面を、再帰性反射板８の転写形状とするとしている。
従って、図１４（ｂ）に示した工程１７において第１反転像３５に塗布する紫外線硬化樹脂については、第１反転像３５の再帰ユニット柱３７間、および、第２反転像５５の凸六角柱３６間を埋められるだけの量とすることが好ましいといえる。
【０１１０】
また、これに限らず、レジストを、第２反転像５５の凸六角柱３６間だけに埋め込んでもよい。この場合でも、再帰性反射板８を転写した表面形状を有する第２反転像５５を得られる。
【０１１１】
また、図１５（ａ）（ｂ）は、図４に示した、凹三角アレイの非再帰ユニットＮの斜視図および上面図である。また、図１５（ｃ）（ｄ）は、同じく再帰ユニットＳの斜視図および上面図である。
図１５（ａ）（ｂ）に示すように、非再帰ユニットＮの平面形状をなす正六角形の各辺は、２つの異なる「２つの異なる傾斜面上に形成された断面（折れ線Ｋ）」により形成される。
【０１１２】
これに対し、図１５（ｃ）（ｄ）に示すように、再帰ユニットＳの平面形状をなす正六角形の辺は、非再帰ユニットＮと同様の折れ線Ｋと、単一面上の断面である「直線Ｔ」とから構成されている（折れ線Ｋと直線Ｔとは、交互に繰り返し配置されている）。
また、凹三角アレイ上では、再帰ユニットＳの折れ線Ｋは、非再帰ユニットＮの折れ線Ｋと、隙間なく整合した状態となっている。
【０１１３】
ここで、再帰性反射板８は、図６・７に示すように、凹三角アレイから非再帰ユニットＮを除去して得られる空隙に、再帰ユニットＳを配置した構成である。従って、再帰性反射板８では、凹三角アレイにおける非再帰ユニットＮの６つの折れ線Ｋのうち、３つが直線Ｔに代わることとなる。
【０１１４】
このため、再帰性反射板８では、「再帰ユニットＳの折れ線Ｋに、直線Ｔが対向する箇所」が発生する。そして、このような箇所では、図１６に示すように、折れ線Ｋと直線Ｔとの間に隙間（空隙）Ｖが生じる。
【０１１５】
ここで、図１７（ａ）（ｂ）は、図１２（ｃ）に示した凸六角柱５６の表面（凸再帰ユニット）の形状を示す上面図および断面図である。
これらの図に示すように、凸六角柱５６の表面（凸三角）にも、折れ線Ｋと直線Ｔとがある。また、凸六角柱５６の延びる方向（第２反転像５５のベースプレートの法線方向）では、凸三角の高さ（直線Ｔから頂点までの長さ）をｄとすると、折れ線Ｋから頂点までの長さはｄ／２である（なお、このｄは、再帰ユニットＳの深さ（凹凸高さ）に相当する）。
【０１１６】
従って、図１４（ｃ）に示した工程１８では、図１８に示すように、第２反転像５５の凸六角柱５６と第１反転像３５の再帰ユニット柱３７との間（折れ線Ｋと直線Ｔとの間）に、幅ｄ／２の隙間Ｖが生じる。
【０１１７】
従って、この工程では、第２反転像５５の凸六角柱５６間にある紫外線効果樹脂と、第１反転像３５の再帰ユニット柱３７間にある紫外線効果樹脂とが、図１８（ｃ）に示した隙間Ｖを介して一体化する可能性がある。
そして、この場合、反転像３５・５５を離型するとき、これらに形成された樹脂層が引き剥がされて、転写形状を崩してしまう、という問題が発生する。
【０１１８】
また、図１９に示すように、第２反転像３５の再帰ユニット柱３７間だけに紫外線効果樹脂を埋め込んだ場合でも、図２０に示すように、上記の隙間Ｖから紫外線効果樹脂が漏れて、再帰ユニット柱３７の表面にあふれだす可能性がある。
【０１１９】
また、図２１に示すように、「第２反転像３５の再帰ユニット柱３７間を、背面まで貫通したホール状にし、反転像３５・５５を重ね合わせた後、第２反転像３５の背面からホールに樹脂（形状転写材料；紫外線効果樹脂）を注入する」ことでも、第２反転像５５の表面を、再帰性反射板８の転写形状とできる。
しかしながら、この場合でも、図２０に示した樹脂の漏れが懸念される。
【０１２０】
そこで、図１４（ｃ）に示した工程１８では、図２２（ｂ）（ｃ）に示すように、第２反転像５５の凸六角柱５６を、より深く挿入することが好ましい。
すなわち、図２２（ａ）に示すように、第２反転像５５の凸六角柱５６の表面形状（凸三角）をなす直線Ｔが、第１反転像３５の再帰ユニット柱３７における折れ線Ｋに接するまで（隙間Ｖがなくなるまで）、凸六角柱５６を挿入することが好ましい。
これは、反転像３５・５５を重ね合わせるときに、第２反転像５５の凸六角柱５６の頂点を、再帰ユニットＳの底点よりも、ｄ／２だけ（あるいはｄ／２以上）深く挿入することで実現できる。
【０１２１】
この場合、第２反転像５５における凸六角柱５６の高さと、凸六角柱５６間にある紫外線硬化樹脂からなる凸三角の高さとに、ｄ／２の差（頂点どうしの差）ができる。
同様に、第１反転像３５の再帰ユニット柱３７と、再帰ユニット柱３７間の紫外線硬化樹脂からなる凹三角の高さとにも、ｄ／２の差（底点どうしの差）ができる。
【０１２２】
従って、このような段差によって、再帰反射率が若干低下する可能性がある。しかし、第２反転像５５の凸六角柱５６間にある紫外線効果樹脂と、第１反転像３５の再帰ユニット柱３７間にある紫外線効果樹脂とを、隙間Ｖを介して一体化させてしまうことを防止できる。
従って、反転像３５・５５を離型する際、これらに形成された樹脂層を引き剥がして転写形状を崩すことを回避できる。
【０１２３】
なお、上記のように、第２反転像５５の凸六角柱５６の頂点を、再帰ユニットＳの底点よりもｄ／２だけ深く挿入すると、反転像３５・５５の表面に、ｄ／２の段差（（底点）どうしの高低差）ができる。
【０１２４】
ここで、図２３（ａ）に示すような、凸三角２１を最密に並べた、凸三角アレイ３１を切削加工で形成するとき、バイト送りピッチＰを１５μｍとすると、図２３（ｂ）に示すように、ｄは約７μｍとなり、ｄ／２は約３．５μｍとなる。
すなわち、図２３（ｂ）に示した凸三角の高さｄは、
ｄ＝（Ｐ×１／３）／ｔａｎ（θ／２）
となる（θはバイトの頂角）。
ここで、バイト頂角θが７０．５°であるから、
ｄ＝７．０７…≒７（μｍ）
となる。
【０１２５】
ここで、本表示装置では、通常、入射側基板６と反射側基板７と（図２参照）の間隙が数μｍ〜１０μｍ程度であり、間隙の制御は０．５μｍ以下で行われる。従って、上記のような約３．５μｍの段差を無視できない場合もある。
【０１２６】
また、再帰性反射板８の高低差が１．５倍（ｄ＋ｄ／２）となるため、生産上好ましくない（この高低差は小さいほど好ましい）。
【０１２７】
そこで、このような段差を生じさせないとともに、上記のような空隙からの樹脂の漏れについても回避できるような、再帰性反射板８の製造方法について以下に説明する。
【０１２８】
この場合、まず、図１１（ａ）（ｂ）を用いて示した工程１１・１２により、凸非再帰ユニットのみにフォトレジスト２２を残した凸三角アレイ３１を形成する。
【０１２９】
次に、フォトレジスト２２間に、メッキを埋め込む（工程２１）。ここで、図２４（ａ）に示すように、このメッキ材６１の厚さ（Ｈ）を、フォトレジスト２２と同様とする。
ここで、メッキ・レジストの厚さ（膜厚）は、凸三角２１の頂点からの厚さである。
これは、レジスト２２の膜厚と等しくなるようにメッキ材６１の量を制御することで実現できる。また、メッキ材６１をレジスト２２より厚く形成した後、メッキ材６１を研磨（背面研磨）することで、その厚さをレジスト２２と揃えるようにしてもよい。
【０１３０】
次に、このメッキ材６１を凸三角アレイ３１から剥離する（工程２２）。
これにより、図２４（ｂ）に示すように、再帰ユニットＳの端面を有する再帰ユニット柱６２と、貫通孔６３とを組み合わせた、ベースプレートのない第１反転像６４を得られる。
この第１反転像６４では、この再帰ユニット柱６２は、凹三角アレイの再帰ユニットＳに応じた部分に配されている。一方、貫通孔６３は同じく非再帰ユニットＮに応じた部分に設けられている。
【０１３１】
次に、凸三角アレイ３１と同形状の凸三角アレイ７１に、レジスト２２を塗布し、図１２（ｄ）に示したフォトマスク５２を介して露光した後、現像する。これにより、凸三角アレイ７１に対し、凸非再帰ユニットの配置状態に応じた凸再帰ユニット以外の領域に、レジスト２２を形成できる（工程２３）。
このとき、図２４（ｃ）に示すように、レジスト２２の膜厚を、図２４（ａ）に示したメッキ材６１（レジスト２２）の厚さＨと等しくする。
【０１３２】
次に、図２４（ｄ）に示すように、この凸三角アレイ７１をベースとして、電鋳（埋め込みメッキ）により反転像を形成する（工程２４）。なお、この反転像には、メッキによるベースプレートを設ける。
これにより、図２４（ｅ）に示すように、メッキ材からなる第２反転像７３を得られる。この第２反転像７３では、再帰ユニットＳと同様の表面（端面）を有する再帰ユニット柱７２が、凹三角アレイにおける非再帰ユニットＮと同様に配列されている。
また、この再帰ユニット柱７２の高さは、第１反転像６４の再帰ユニット柱６２の高さと等しくなっている。
【０１３３】
次に、第１反転像６４を、第２反転像７３に重ね合わせる。この重ね合わせについては、第１反転像６４の貫通孔６３に、第２反転像７３の再帰ユニット柱７２を挿入するように行う。
図２５（ａ）は、反転像６４・７３を重ね合わせた状態を示す断面図であり、図２５（ｂ）は同じく上面図である。
【０１３４】
上記したように、第２反転像７３の再帰ユニット柱７２と第１反転像６４の再帰ユニット柱６２とは、互いに等しい高さとなっている。このため、これらの図に示すように、反転像６４・７３を重ね合わせることで、段差のない再帰ユニットＳ（再帰ユニット柱６２・７２）のみから構成された表面を有する、再帰性反射板８を形成できる。
【０１３５】
ここで、図２４・２５を用いて示した製造方法では、第１反転像６４と第２反転像７３とを組み合わせるとしている。しかしながら、これに限らず、再帰ユニット柱６２に、図８（ｉ）に示した再帰ユニット柱２７を挿入することで、再帰性反射板８を形成してもよい。
【０１３６】
また、本実施の形態では、図１４（ｂ）〜（ｄ）や図１９，図２１，図２２（ｂ）（ｃ）に示したように、第１反転像３５の再帰ユニット柱３７間、および、第２反転像５５の凸六角柱５６間に、転写材として紫外線硬化樹脂を配し、これによって、凸六角柱５６および再帰ユニット柱３７の端面の形状を転写するとしている。
【０１３７】
ここで、このような転写材としては、形状の良好な転写性を得られものであれば、紫外線硬化性の樹脂の他に、熱可塑性の樹脂や熱可塑性樹脂などを使用可能である。
また、転写材として、例えば低融点金属等を用いてもよい。特に、図２１を用いて示した製造方法では、転写材としてメッキを用いることもできる。
【０１３８】
また、再帰性反射板８の形成工程に関し、以下のように述べることもできる。
すなわち、工程２，工程１２，工程１５，工程２３で使用するフォトレジストの材料や、工程４，工程１３，工程２１，工程２４で使用するメッキ材料については、既に記載した材料に限らず、良好な形状転写性を有した材料（ＮｉやＣｕなど）であれば、どのようなものでも利用できる。
【０１３９】
例えば、フォトレジストとして、ＳＵ−８（化薬マイクロケム社製）などを用いてもよい。また、選択的に所望の部分にメッキを形成できる場合には、フォトレジストを使用する必要もない。
【０１４０】
また、工程４，工程１３，工程２１，工程２４を、メッキ（電鋳）に限らず、紫外線硬化型樹脂を用いた２Ｐ法（Photo Polymer法）によって行ってもよい。この場合、紫外線硬化型樹脂材料の一例として、ＭＰ−１０７（三菱レイヨン社製）を挙げられる。
【０１４１】
また、切削加工に用いた装置についても、必要な加工精度を得られる場合には、上記した装置に限らず、他のどのような装置を用いてもよい。
【０１４２】
また、本実施形態では、再帰性反射板８を、反射型の液晶表示装置に備えるとしている。しかしながら、これに限らず、再帰性反射板８を、有機ＥＬ（有機エレクトロルミネッセンス）などを用いた発光型表示素子に備えるようにしてもよい。この場合、再帰性反射板８については、表示素子における発光層の背面側に配される。
【０１４３】
この構成では、発光層から発せられた光を発光型表示素子の前面側に出射できる。従って、明度が高く、良好な白表示が可能となる。さらに、発光層において前面側に向けて発せられた光だけでなく、背面側に向けて発せられた光も取り出せるので、発光の利用効率を上げられる。
【０１４４】
また、再帰性反射板８を備えることにより、外部から入射した光を、入射方向と同じ方向に反射させられる。従って、発光素子が発光状態にある場合には、表示コントラストを高められる。また、非発光状態にある場合でも、観察者方向に外部光を反射することがないので、像の写り込みを防止できる。従って、良好な黒表示を実現できる。
【０１４５】
また、以下に、図５に示した評価装置を用いた、再帰性反射率の測定方法について詳細に説明する。
サンプル（測定試料）は、複数の単位構造（例えば三角錐プリズムなど）が２次元的に配列された構成を有する。このサンプルをサンプルステージ４１に固定する。続いて、光源から出射された光をハーフミラー４３で反射させた後、集光角７．５°の対物レンズ４２を通してサンプルに垂直方向に入射させる。このとき、サンプルには、入射光によるビームスポット（測定スポット；直径Ｄ（例えば１ｍｍ））が形成される。
【０１４６】
入射光はサンプルによって反射される。この反射光のうち、略垂直方向に反射した光は、対物レンズ４２を通して受光部によって受光される。これにより、略垂直方向に反射した光の強度Ｉ１が測定される。なお、サンプルによる反射光には、再帰反射光が含まれている必要がある。再帰反射光とは、サンプルに入射する光がサンプル単位構造を構成する複数の面のうち、少なくとも２面で反射されて生じた、入射光ベクトルに対し負のベクトルを持った反射光である。
【０１４７】
次に、リファレンスとして誘電体ミラーを用意し、サンプルの代わりに評価装置のサンプルステージ４１に設置する。上記と同様に光源から出射された光をハーフミラー４３で反射させた後、対物レンズ４２を通して誘電体ミラーに垂直方向に入射させる。このとき、誘電体ミラーによって略垂直方向に反射された光は、対物レンズ４２を通して受光部によって受光される。これにより、略垂直方向に反射された光の強度Ｉｒが測定される。
【０１４８】
この後、サンプルによる反射光の強度Ｉ１の誘電体ミラーによる反射光の強度Ｉｒに対する比（Ｉ１／Ｉｒ）を求める。この比（Ｉ１／Ｉｒ）（％）が、サンプルの再帰反射率Ｒｒである。
【０１４９】
上記の評価方法では、サンプルによる反射光の強度Ｉ１を測定した後に、誘電体ミラーによる反射光の強度Ｉｒを測定するが、強度Ｉｒを先に測定してもよい。
【０１５０】
また、上記の評価方法では、特にパーソナルユースで使用され得るディスプレイパネルに用いられる再帰性反射板を評価することを想定している。そのような再帰性反射板の配列ピッチは、例えばディスプレイパネルの画素ピッチと略同じ、またはそれ以下である。従って、具体的には、このような評価方法で評価されるサンプルの配列ピッチは、２５０μｍ以下、望ましくは２０μｍ以下である。
【０１５１】
上記の評価装置で、より信頼性の高い評価を行うためには、光源から出射された光でサンプルに形成されるビームスポットの直径Ｄを、サンプルの単位構造の配列ピッチ以上とするように調整することが好ましい。ビームスポットの直径Ｄが単位構造の配列ピッチよりも小さいと、サンプル上でのビームスポットの形成位置によって、再帰反射率Ｒｒの測定値が大きくばらつく。例えば、単位構造の中心にビームスポットが形成されると、再帰反射率Ｒｒの測定値は大きくなり、逆に単位構造の外周（単位構造と単位構造の接続部）近傍にビームスポットが形成されると、再帰した光は受光部に入りにくくなるので、再帰反射率Ｒｒの測定値は小さくなる。このため、サンプルの再帰反射特性を高精度で評価することは困難となる。
【０１５２】
従って、ビームスポットの直径Ｄを、配列ピッチの３倍以上とすることがより好ましいといえる。ビームスポットの直径Ｄが単位構造の配列ピッチの３倍以上であれば、ビームスポットの形成される位置や、単位構造ごとの再帰反射特性のばらつきなどが再帰反射率Ｒの測定値に与える影響をより小さくできる。従って、より信頼性の高い評価が可能となる。
【０１５３】
また、対物レンズの集光角については、上記の値に限らず、上述した好ましい大きさのビームスポットを形成できるように、適宜設定することが好ましい。
集光角を２０°よりも大きくすると、測定試料におけるビームスポットが小さくなる。このため、上記したように、ビームスポットの形成位置によって、再帰反射率の測定値にばらつきが生じる。また、また再帰反射されずに戻ってきた光（散乱成分等）まで集光してしまう確率が高くなる。
【０１５４】
上記の評価方法は、例えば道路標識等に使用されるような、巨大なサイズの単位構造からなる再帰性反射板の評価には向いていない。これは、上述したような適切なサイズのビームスポットを形成することは困難であるからである。なお、ビームスポットの直径Ｄを十分に大きくできるように、特別に大きなサイズの対物レンズ４２を作製する場合にはこの限りではない。
【０１５５】
また、本発明について、以下のように述べることもできる。すなわち、凹三角アレイでは、再帰反射領域は凹三角の上面である正三角形と３辺を共有する正六角形であり、前記正三角形の頂点を含む残りの領域（正三角形）は非再帰領域となるが、凹三角がアレイ状に配置される場合、隣接する三角錐プリズム同士の非再帰領域が接し、正六角形を形成するといえる。このとき、非再帰領域の正六角形と再帰領域の正六角形は、図３の様に真上から観察する限り合同である（実形状は図４〜記載のように頂角（底点に相当）が９０°の五角形の３面からなる）。このことから、非再帰領域部分を除去（図６）することで、再帰反射領域を充填する空隙部分ができあがる（図７）。
【０１５６】
この空隙部分に再帰反射領域のパターンを埋め込むと、図７および図８に示すように全面が再帰反射領域となる再帰性反射板が得られる。即ち、頂角（ここで頂角とは再帰反射板単位構成を構成する１面の中で、底点（頂点）を形成する頂点のことを示す）が９０°である五角形により形成した単位を最密に充填することで、全面積が再帰性反射板として機能する再帰性反射板が得られる（また、この再帰性反射板の１構成単位は図２８（ａ）において示した切削加工から形成される）。
【０１５７】
また、図１０に示す評価装置（測定装置）で、リファレンスを凹三角アレイとし、再帰性反射板８を測定すると約１５０％という結果が得られた。この数値は凹三角アレイと再帰性反射板８の、再帰反射領域の面積比と一致する。以上の結果から、再帰性反射板８は、ディスプレイ用途として使用可能な再帰反射率を有した再帰反射領域が１００％であることがわかる。
【０１５８】
また、本発明の再帰性反射板は頂角が９０°の五角形の３面からなる構成単位を最密充填することで形成される。この構成単位は図２８（ａ）に示す切削加工から得られた凸三角アレイの一部分である。即ち、凸三角の不要部分をマスキングし、必要部分のみ転写することによりこの五角形からなる再帰性反射板の構成単位が得られる。
【０１５９】
また、凹三角アレイの非再帰領域と再帰反射領域は、配列の密度は異なるものの、前述したように、非再帰領域と再帰反射領域の形状（上から見た場合）は一致し、かつ再帰反射領域の配列密度は、非再帰領域の配列密度の２倍であり、かつ非再帰領域の配列位置を含む。そのことを、図１３（ａ）（ｂ）を用いて説明すると、再帰反射領域と非再帰領域は図１３（ａ）のように配列する。このとき、非再帰領域を図中矢印の方向に（六角形）１ピッチ分平行移動すると、再帰反射領域と一致する。このことから、非再帰領域の六角形パターンをずらして配置することで、非再帰領域と同じ配列をした再帰反射領域を抽出可能となる。
よってフォトリソ工程で使用するフォトマスクとして図１２（ｄ）のものを使用すれば、非再帰領域の配列密度に合致した再帰反射領域をアレイ状に取り出すことが可能となる。
【０１６０】
また、第２反転像５５のパターンは同じ樹脂材料で形成されるため、第２反転像５５のパターン表面には、（介在させた）紫外線硬化樹脂との離型性を確保するため離型層を形成することが望ましい。離型層としてＡｌ薄膜（２００Å）を形成すれば、第２反転像５５の形状を維持しつつ離型性を確保できる。
【０１６１】
また、図１１〜図１４に示した方法では再帰性反射板８の凹、凸が同時に得られる。再帰性反射板８が、『再帰性反射板』として機能するためには、三角錐プリズム同様、図２８（ｃ）（ｄ）に示したように、五角形の頂点（９０°の部分）が交差する点（これを単位構成要素の『頂点』とする）が、「凹形状＋高反射金属」「凸形状で裏面から観察」の何れかの配置をさせる必要がある。しかし、これら配置についてはその後の工程、例えば図１１〜図１４に示した方法で得られた形状をマスターとし、一旦金型を作成、金型からの転写により製品を作る（偶数回転写品が製品）のであれば、最終製品と同じ形状をマスターとすればよく、更に転写工程が一回含まれる（奇数回転写品が製品）のであれば、最終製品の逆型をマスターとすればよい。
【０１６２】
また、三角錐プリズムアレイでは、図３記載の様に再帰反射領域と非再帰領域とが混在する。この再帰反射領域と非再帰領域の単位構造を取り出して比較したものが、図１５である。図１５において、両者の上面図は同一の正六角形をしているため、パターニングと重ね合わせによる「入れ替え」が、本発明により可能である事を示したが、それぞれの単位構造を「斜め方向」より観察すると、上面図で『非再帰領域』となる六角形の辺は、「２つの異なる傾斜面上に形成された断面（以下、単に折れ線と称する）」により形成される。これに対し、『再帰反射領域』は上記『折れ線』と単一面上の断面である『直線』が交互に繰り返し形成されている。その結果、図１６に示すように、『非再帰領域』を除去した後の形状と、その空隙に再配置する『再帰反射領域』の形状は、上面からみれば確かに正六角形であるが、空隙の六角形は六辺とも『折れ線』であるのに対し、再配置する『再帰反射領域』は『折れ線』と『直線』の繰り返しであり、『折れ線』どうしは一致するものの、『折れ線』−『直線』の接合部では空隙が発生する。この空隙部分の断面を図１７に示す。この図から、図１１〜図１４の手法では空隙が発生し、図１９〜図２１に示す問題などが発生する恐れが生じることがわかる。
【０１６３】
まず、離型後に上下に分割される樹脂どうしが、前記空隙を介し互いに連結するため、「離型不良」や連結した樹脂層を引き剥がす事で転写形状の崩れが発生する。また、図１９のように元々非再帰領域であった部分のみに転写用の樹脂を（必要な体積分のみ）埋めて貼合わせた場合や、非再帰領域の部分を、背面まで貫通した『ホール』状にし、重ね合わせた後、背面の『貫通孔』から形状転写材料を注入する図２１記載の方法でも、図２０記載のように前記『空隙部』から形状転写材料が漏る問題が懸念される。図１７から、三角錐プリズムの高さをｄとすると、前記『折れ線』により生じるもっとも低い点は、ｄ／２に発生することから、上下の型を重ね合わせる再に、ｄ／２だけ押し込んで重ねれば、前述の『空隙』は発生せず。図２０記載の問題も発生しない。
【０１６４】
また、図２２（ａ）〜（ｃ）に示した方法では、『空隙部』の問題は解決できるもののできあがった再帰性反射板面内で、局所的にｄ／２の段差を発生させることとなる。ここで、切削加工時のバイト送りピッチ「１５μｍ」の三角錐プリズムから、再帰性反射板８を液晶ディスプレイの背面基板として使用した場合のことを想定すると、局所的に段差「約３．５μｍ」の段差が発生した基板を使用することとなる。液晶ディスプレイを構成する基板間の間隙が数μｍ〜１０μｍ程度であり、間隙の制御を０．５μｍ以下で行うことを考えると、「約３．５μｍ」の段差ははるかに大きい。また、再帰性反射板の凹凸を平坦化する場合にも、「再帰性反射板の有する段差」の１．５倍の段差が局所的に発生することとなり、生産上好ましくないともいえる。
【産業上の利用可能性】
【０１６５】
本発明は、反射型の表示素子などに使用される再帰性反射板に適用可能なものである。
【図面の簡単な説明】
【０１６６】
【図１】図１は、本発明の一実施形態にかかる再帰性反射板の構成を示す説明図である。
【図２】本発明の一実施形態にかかる液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図３】凹三角アレイを示す説明図である。
【図４】図３に示した凹三角アレイの斜視図である。
【図５】図５（ａ）は、図３に示した凹三角アレイの斜視図である。また、図５（ｂ）は、凹三角アレイの再帰ユニットを構成する五角形を示す説明図である。
【図６】凹三角アレイから非再帰ユニットを除去して形成される、再帰ユニットおよび空隙部分からなるアレイを示す説明図である。
【図７】図１に示した再帰性反射板の斜視図である。
【図８】図８（ａ）〜（ｆ）は、再帰性反射板の製造工程を示す上面図である。また、図８（ｇ）〜（ｌ）は、図８（ａ）〜（ｆ）に対応する断面図である。
【図９】再帰性反射板８の製造工程を示す上面図である。
【図１０】再帰性反射板の再帰反射率を測定するための評価装置を示す説明図である。
【図１１】図１１（ａ）〜（ｃ）は、再帰性反射板の製造工程を示す上面図である。また、図１１（ｄ）は、この製造工程において使用されるフォトマスクの構成を示す説明図である。
【図１２】図１２（ａ）〜（ｃ）は、再帰性反射板の製造工程を示す上面図である。また、図１２（ｄ）は、この製造工程において使用されるフォトマスクの構成を示す説明図である。
【図１３】図１３（ａ）（ｂ）は、凹三角アレイにおける再帰ユニットと非再帰ユニットの配列状態を示す説明図である。
【図１４】図１４（ａ）〜（ｅ）は、再帰性反射板の製造工程を示す説明図である。
【図１５】図１５（ａ）（ｂ）は、図４に示した、凹三角アレイの非再帰ユニットの斜視図および上面図である。また、図１５（ｃ）（ｄ）は、同じく再帰ユニットの斜視図および上面図である。
【図１６】図１に示した再帰性反射板に生じる可能性のある隙間（空隙）を示す説明図である。
【図１７】図１７（ａ）（ｂ）は、図１２（ｃ）に示した凸六角柱の表面（凸三角の再帰領域）の形状を示す上面図および断面図である。
【図１８】図１４（ａ）〜（ｅ）に示した製造方法において生じる隙間を示す説明図である。
【図１９】再帰性反射板の製造工程を示す断面図である。
【図２０】再帰性反射板の製造工程において生じる問題を示す断面図である。
【図２１】再帰性反射板の製造工程を示す断面図である。
【図２２】図２２（ａ）〜（ｃ）は、再帰性反射板の製造工程を示す説明図である。
【図２３】図２３（ａ）（ｂ）は、凹三角アレイを形成する際のバイト送りピッチを示す説明図である。
【図２４】図２４（ａ）〜（ｅ）は、再帰性反射板の製造工程を示す説明図である。
【図２５】図２５（ａ）（ｂ）は、再帰性反射板の製造工程を示す説明図である。
【図２６】図２６（ａ）（ｂ）は、散乱型液晶表示モードと再帰性反射板とを組み合わせる手法を用いた表示装置の動作原理を示す説明図である。
【図２７】三角錐プリズムアレイを示す説明図である。
【図２８】図２８（ａ）〜（ｄ）は、三角錐プリズムアレイの形成工程および形成結果を示す説明図である。
【図２９】三角錐プリズムアレイの再帰領域と非再帰領域とを示す説明図である。
【図３０】三角錐プリズムアレイの再帰領域と非再帰領域とを示す説明図である。
【符号の説明】
【０１６７】
２１  凸三角
２２  フォトレジスト
２３  フォトマスク
２４  ホール
２５  開口部
２６  メッキ材
２７  再帰ユニット柱
３１  凸三角アレイ
３２  フォトマスク
３３  光透過部
３４  遮光部
３５  第１反転像
３５  第２反転像
３６  空隙
３６  凸六角柱
３７  再帰ユニット柱
４１  サンプルステージ
４２  対物レンズ
４３  ハーフミラー
５１  凹三角アレイ
５２  フォトマスク
５３  光透過領域
５４  遮光領域
５５  第２反転像
５６  凸六角柱
６１  メッキ材
６２  再帰ユニット柱
６３  貫通孔
６４  第１反転像
７１  凸三角アレイ
７２  再帰ユニット柱
７３  第２反転像
Ｇ  五角形
Ｎ  非再帰ユニット
Ｐ  バイト送りピッチ
Ｓ  再帰ユニット
Ｔ  直線
Ｖ  隙間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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