(57)【要約】【課題】液晶注入口における液晶の流れを阻害することなく基板間隔を維持することにより、表示品質を向上させた液晶表示装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】液晶表示装置は、対向配置された２つの基板１，２と、液晶注入口４を除いて、２つの基板の表示領域３を囲って形成され、２つの基板を接着するシール剤と、シール剤により囲まれた基板１，２間に注入された液晶９と、表示領域３および液晶注入口４における基板１，２間に介在する柱状スペーサ６と、液晶注入口４における柱状スペーサ６の配置領域において、柱状スペーサ６と基板１との間に形成された台座膜８とを有する。【選択図】図３
2006220924.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された２つの基板と、
液晶注入口を除いて、２つの前記基板の表示領域を囲って形成され、２つの前記基板を接着するシール剤と、
前記シール剤により囲まれた前記基板間に注入された液晶と、
前記表示領域および前記液晶注入口における前記基板間に介在する柱状スペーサと、
前記液晶注入口における前記柱状スペーサの配置領域において、前記柱状スペーサといずれかの前記基板との間に形成された台座膜と
を有する液晶表示装置。
【請求項２】
各柱状スペーサに対応する個別の前記台座膜を複数有する
請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記台座膜が形成された基板側の表示領域には、複数の層が形成されており、当該台座膜は、いずれかの前記層と同一の材料により形成されている
請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項４】
柱状スペーサを介在させた状態で対向配置された２つの基板間に液晶を注入する液晶表示装置の製造方法であって、
一方の基板の液晶注入口となる領域に台座膜を形成する工程と、
前記表示領域および前記台座膜が形成された領域に複数の柱状スペーサを介在させた状態で、かつ、前記液晶注入口を除いて２つの前記基板の表示領域を囲うシール剤を介して前記第１の基板と第２の基板とを接着させる工程と、
前記液晶注入口を介して液晶を２つの前記基板の間隙に注入する工程と、
前記液晶注入口を封止剤により塞ぐ工程と
を有する液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記台座膜を形成する工程において、各柱状スペーサに対応する個別の前記台座膜を複数形成する
請求項４記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記一方の基板の表示領域に複数の層を形成する工程を有し、いずれかの層の形成時に同時に前記台座膜を形成する
請求項４記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記液晶注入口を封止剤により塞ぐ工程において、２つの前記基板に圧力をかけて、２つの基板間の余分な液晶を前記液晶注入口より押し出した後に、前記液晶注入口を封止剤で塞ぐ
請求項４記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置およびその製造方法に関し、特に、液晶が充填される２つの基板間に柱状スペーサが形成された液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の製造では、２つの基板間を液晶注入口を除いてシール剤で接着し、液晶注入口から液晶を２つの基板間に注入して、最後に、液晶注入口を封止剤で塞いでいる。加圧封止を行う場合には、液晶注入後に外部より２つの基板を加圧して、基板の間隙に充填された液晶を押し出してから、液晶注入口を封止剤で塞いでいる。
【０００３】
近年の液晶表示装置では、有効表示領域における基板間隔を制御するため、球状のシリカ等からなる球状スペーサに代わって、リソグラフィ技術により形成された柱状スペーサを２つの基板間に介在させている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
図９は、従来の液晶表示装置の液晶注入口付近の概略断面図である。
【０００５】
第１の基板１０１と第２の基板１０２は対向配置されている。第１の基板１０１には、有効表示領域での形成工程で堆積した層１０３が存在する。また、第２の基板１０２上にも、有効表示領域での形成工程で堆積した層１０４が形成されている。第１の基板１０１と第２の基板１０２の間隙には、液晶１０９が充填されており、液晶注入口は封止剤１０７で塞がれている。
【０００６】
柱状スペーサを有する液晶表示装置では、有効表示領域での柱状スペーサの形成と同時に、液晶注入口における基板間隙を維持するための柱状スペーサ１０６を配置している。
【０００７】
しかしながら、有効表示領域外の液晶注入口における第１の基板１０１上の層１０３と、第２の基板１０２上の層１０４の厚さは、有効表示領域における層よりも薄い。これは、液晶注入口では、有効表示領域における配線やカラーフィルタなどが形成されないからである。
【０００８】
この結果、有効表示領域では、第１の基板１０１と第２の基板１０２の間隔が柱状スペーサ１０６で支持されていても、有効表示領域外の液晶注入口では、柱状スペーサ１０６により基板間隙が保持できず、すなわち柱状スペーサ１０６と基板（本例では、第１の基板１０１）との間に、隙間が生じてしまう（図９（ａ）参照）。この隙間の高さｄは、例えば０．５μｍ〜１μｍ程度である。
【０００９】
柱状スペーサ１０６と第１の基板１０１との間に隙間が生じていると、液晶１０９を基板間に注入した後に、２つの基板１０１，１０２を外部から加圧した際に、基板が応力によって変形し、液晶注入口における基板間隔が狭まる（図９（ｂ）参照）。この結果、有効表示領域のうち、液晶注入口付近の基板間隔が変わってしまい、表示不良を招くという問題があった。また、外部からいくら加圧しても、基板間隙に充填された余分な液晶が外に押し出されにくくなり、加圧封止のタクト延長にも繋がってしまう。
【００１０】
液晶注入口付近に、基板固定柱を配置した技術が特許文献２に記載されている。しかしながら、特許文献２に記載の技術では、液晶注入方向と直交する方向に基板固定柱が延在しているため、液晶の注入あるいは加圧封止による余分な液晶の押し出しにおいて、液晶の流れを阻害してしまうという問題がある。
【特許文献１】特開２００３−２１５６０２号公報
【特許文献２】特開平８−１４６４４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、液晶注入口における液晶の流れを阻害することなく基板間隔を維持することにより、表示品質を向上させた液晶表示装置を提供することにある。
【００１２】
本発明の他の目的は、液晶注入時および封止時に液晶注入口における液晶の流れを阻害することなく、液晶注入口における基板間隔を維持することができる液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の目的を達成するため、本発明の液晶表示装置は、対向配置された２つの基板と、液晶注入口を除いて、２つの前記基板の表示領域を囲って形成され、２つの前記基板を接着するシール剤と、前記シール剤により囲まれた前記基板間に注入された液晶と、前記表示領域および前記液晶注入口における前記基板間に介在する柱状スペーサと、前記液晶注入口における前記柱状スペーサの配置領域において、前記柱状スペーサといずれかの前記基板との間に形成された台座膜とを有する。
【００１４】
上記の本発明の液晶表示装置では、表示領域および液晶注入口における基板間には、柱状スペーサを介在させている。表示領域における膜構成は、液晶注入口における膜構成よりも厚い。この結果、液晶注入口における基板間隔は、表示領域における基板間隔よりも大きくなる。本発明では、液晶注入口のうち、特に柱状スペーサの配置領域に台座膜を配置していることから、この台座膜により表示領域と液晶注入口における基板間隔の差を補填することができ、液晶注入口において柱状スペーサと基板との間に隙間が発生することが防止される。
【００１５】
上記の目的を達成するため、本発明は、柱状スペーサを介在させた状態で対向配置された２つの基板間に液晶を注入する液晶表示装置の製造方法であって、一方の基板の液晶注入口となる領域に台座膜を形成する工程と、前記表示領域および前記台座膜が形成された領域に複数の柱状スペーサを介在させた状態で、かつ、前記液晶注入口を除いて２つの前記基板の表示領域を囲うシール剤を介して前記第１の基板と第２の基板とを接着させる工程と、前記液晶注入口を介して液晶を前記基板の間隙に注入する工程と、前記液晶注入口を封止剤により塞ぐ工程とを有する。
【００１６】
上記の本発明の液晶表示装置の製造方法では、一方の基板の液晶注入口となる領域に台座膜を形成する。そして、表示領域および台座膜が形成された領域に複数の柱状スペーサを介在させた状態で、かつ、液晶注入口を除いて２つの基板の表示領域を囲うシール剤を介して第１の基板と第２の基板とを接着させる。柱状スペーサおよびシール剤は、どちらの基板に形成してもよい。
表示領域における膜構成は、液晶注入口における膜構成よりも厚い。この結果、柱状スペーサを介在させた状態で２つの基板を接着させると、表示領域における基板間隔よりも液晶注入口における基板間隔の方が大きくなる。本発明では、液晶注入口のうち、特に柱状スペーサの配置領域に台座膜を配置していることから、この台座膜により表示領域と液晶注入口における基板間隔の差を補填することができ、液晶注入口において柱状スペーサと基板との間に隙間が発生することが防止される。
その後、液晶注入口を介して液晶を２つの基板の間隙に注入し、液晶注入口を封止剤により塞ぐことにより、液晶表示装置が製造される。このとき、液晶注入口において、柱状スペーサの配置領域以外には台座膜が存在しないことから、液晶の流れを阻害することもない。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の液晶表示装置によれば、液晶注入口における液晶の流れを阻害することなく基板間隔を維持することができ、表示品質を向上させた液晶表示装置を実現することができる。
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、液晶注入時および封止時に液晶注入口における液晶の流れを阻害することなく、液晶注入口における基板間隔を維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００１９】
図１は、本実施形態に係る液晶表示装置の平面図である。
【００２０】
対向する一対の基板１，２は、画素電極およびカラーフィルタなどが形成された有効表示領域３を備える。一対の基板１，２は、液晶注入口４を除いて有効表示領域３を囲むシール剤５により接着されている。
【００２１】
液晶注入口４には、柱状スペーサ６が配置されている。後述するように、本実施形態に係る液晶表示装置では、有効表示領域３にも柱状スペーサが配置されており、この柱状スペーサにより基板間隔を制御している。また、液晶注入口４は封止剤７により塞がれている。封止剤７は、例えば、熱硬化性樹脂あるいは紫外線硬化性樹脂からなる。
【００２２】
図２は、液晶注入口における拡大平面図である。
【００２３】
本実施形態では、各柱状スペーサ６に対応して、個別の台座膜８が配置されている。この台座膜８は、有効表示領域３における層を利用して作製されたものである。なお、台座膜８は、例えば全ての柱状スペーサ６に対応する１つの台座膜が形成されていてもよい。
【００２４】
柱状スペーサ６の直径Ｗ１は、例えば、１０μｍ前後である。各柱状スペーサ６に各台座膜８が重なるように、基板の重ね合わせ精度（現在では５μｍ程度）を考慮して、例えば、台座膜８の直径は、２０μｍ前後に設定する。
【００２５】
図３は、有効表示領域３と、有効表示領域３外の周辺部である液晶注入口４の領域における断面図である。
【００２６】
まず、有効表示領域３の構成について説明する。なお、本実施形態では、反射型表示と透過型表示の双方を可能な半透過型（併用型）の液晶表示装置について説明するが、透過型表示あるいは反射型表示のみを行う液晶表示装置でもよい。
【００２７】
石英基板あるいはガラス基板などからなる第１の基板１上には、ゲート電極１０および補助容量電極１１が形成されている。ゲート電極１０および補助容量電極１１は、例えばモリブデン、クロム、モリブデン合金、クロム合金からなる。ゲート電極１０および補助容量電極１１を被覆するように、第１の基板１上には、ゲート絶縁膜１２が形成されている。
【００２８】
ゲート電極１０上には、ゲート絶縁膜１２を介して例えばポリシリコンからなる半導体層１３が形成されている。ゲート絶縁膜１２上には、半導体層１３を被覆する例えば酸化シリコンからなる保護絶縁膜１４が形成されている。保護絶縁膜１４上には、ドレイン電極１５およびソース電極１６が形成されており、ドレイン電極１５およびソース電極１６は、半導体層１３に電気的に接続されている。ドレイン電極１５およびソース電極１６は、例えばアルミニウム、チタン、アルミニウム合金、チタン合金、銀、銀合金からなる。
【００２９】
ドレイン電極１５およびソース電極１６上には、感光性樹脂からなる層間絶縁膜１７が形成されている。層間絶縁膜１７には、ソース電極１６に達するコンタクトホール１７ａが形成されている。
【００３０】
層間絶縁膜１７上には反射電極１８および透明電極１９が形成されている。反射電極１８および透明電極１９は、コンタクトホール１７ａを介してソース電極１６に接続されている。反射電極１８および透明電極１９は、対向電極２３との間で液晶９に電圧を印加する画素電極として機能する。反射電極１８が形成された領域が反射型表示を行う反射領域となり、透明電極１９が形成された領域が透過型表示を行う透過領域となる。
【００３１】
反射領域における層間絶縁膜１７には、表面凹凸が形成されている。反射電極１８は、下地の層間絶縁膜１７の表面凹凸を反映させた表面凹凸をもつ。これにより、入射光を拡散反射させて、反射率を高める構成となっている。
【００３２】
透過領域における層間絶縁膜１７は、薄膜化されており、反射領域における基板間隔に対して透過領域における基板間隔が略２倍となるように調整されている。透明電極１９は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明電極材料からなる。
【００３３】
図示はしないが、反射電極１８および透明電極１９上には、液晶９の配向を制御する配向膜が形成されている。
【００３４】
第２の基板２は、第１の基板１に対して対向配置されており、ガラス基板あるいは石英基板からなる。第２の基板２上には、カラーフィルタ２１が形成されており、カラーフィルタ２１上に対向電極（共通電極）２３が形成されている。対向電極２３は、ＩＴＯなどの透明電極からなる。
【００３５】
第２の基板２と第１の基板１の間には、柱状スペーサ６が介在している。柱状スペーサ６は、例えば予め第２の基板２側に形成される。ただし、第１の基板１側に形成してもよい。柱状スペーサ６は、例えば感光性樹脂（レジスト）からなり、フォトリソグラフィ技術により感光性樹脂が柱状にパターン加工されて形成されたものである。柱状スペーサ６の高さは、２μｍ前後であり、柱状スペーサ６の径（幅）は１０μｍ前後である。
【００３６】
図示はしないが、対向電極２３および柱状スペーサ６を被覆して、液晶９の配向を制御する配向膜が形成されている。
【００３７】
第１の基板１と第２の基板２の間には、液晶９が充填されている。液晶９は、反射電極１８および透明電極１９と、対向電極２３との間にかかる電圧により配向が変化して、屈折率が変化する。なお、液晶の配向には特に制限はない。
【００３８】
次に、液晶注入口４における構成について説明する。
【００３９】
液晶注入口４においても、第１の基板１と第２の基板２の間には、柱状スペーサ６が形成されており、第１の基板１と第２の基板２の間隙に液晶９が充填されている。
【００４０】
第１の基板１上には、ゲート絶縁膜１２および保護絶縁膜１４が形成されている。保護絶縁膜１４上には、柱状スペーサ６に対応する位置に台座膜８が形成されている。本実施形態では、台座膜８は、ドレイン電極１５およびソース電極１６と同一の材料からなり、ドレイン電極１５およびソース電極１６と同時に形成されたものである。台座膜８の膜厚は、例えば０．５μｍ〜１μｍ程度である。
【００４１】
保護絶縁膜１４および台座膜８上には、層間絶縁膜１７が形成されており、層間絶縁膜１７上には、透明電極１９が形成されている。なお、図示はしないが、透明電極１９上には配向膜が形成されている。
【００４２】
第２の基板２上には、光を遮光するブラックレジスト２２が形成されており、ブラックレジスト２２上には、対向電極２３が形成されている。対向電極２３上には、柱状スペーサ６が形成されている。なお、図示はしないが、対向電極２３および柱状スペーサ６を被覆して、配向膜が形成されている。
【００４３】
上記の液晶表示装置では、有効表示領域３には、ドレイン電極１５、ソース電極１６などの配線が形成される一方で、液晶注入口４には、これらの配線は形成されない。
【００４４】
このため、有効表示領域３における柱状スペーサ６の配置領域（基本的には、反射領域に配置される）と、液晶注入口４との間では、第１の基板１側には高低差が存在する。しかしながら、本実施形態では、液晶注入口４の領域のうち、特に柱状スペーサ６の配置領域には、台座膜８を配置していることから、柱状スペーサ６が配置される部分については、有効表示領域３と液晶注入口４とで高低差を略一致させることができる。
【００４５】
従って、液晶注入口４における第１の基板１と第２の基板２との間に柱状スペーサ６を介在させた場合に、柱状スペーサ６とこれらの基板との間に隙間が発生することを防止でき、柱状スペーサ６により双方の基板を支持することができる。これにより、基板が撓むことを防止することができる。液晶注入口４において基板が撓むことを防止できることから、液晶注入口４付近の有効表示領域の基板間隔の変動を防止でき、表示性能を向上させることができる。
【００４６】
また、各柱状スペーサ６に対応する個別の台座膜８を配置させることにより、柱状スペーサ６の配置領域以外の領域では、第１の基板１と第２の基板２の間隔が広くなる。このため、液晶の注入等を阻害することがない。
【００４７】
以上のように、第１の基板１と第２の基板２との間への液晶９の注入が良好となり、かつ、液晶注入口４においても第１の基板１と第２の基板２とを柱状スペーサ６により支持できることから、表示性能が良好な表示装置を実現することができる。
【００４８】
次に、上記の本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について、図４〜図８を参照して説明する。
【００４９】
まず、第１の基板１側の製造プロセスについて説明する。図４（ａ）に示すように、有効表示領域３における第１の基板１上に、ゲート電極１０および補助容量電極１１を形成する。
【００５０】
次に、図４（ｂ）に示すように、有効表示領域３における第１の基板１上に、ゲート電極１０および補助容量電極１１を被覆する例えば酸化シリコンからなるゲート絶縁膜１２を形成する。なお、有効表示領域３の透過領域におけるゲート絶縁膜１２は除去する。このとき、液晶注入口４における第１の基板１上にもゲート絶縁膜１２を形成する。
【００５１】
次に、図４（ｃ）に示すように、ゲート電極１０上に、ゲート絶縁膜１２を介して例えばポリシリコンからなる半導体層１３を形成する。
【００５２】
次に、図５（ａ）に示すように、有効表示領域３において、半導体層１３およびゲート絶縁膜１２上に、例えば酸化シリコンからなる保護絶縁膜１４を形成する。同時に、液晶注入口４においてゲート絶縁膜１２上に保護絶縁膜１４を形成する。さらに、リソグラフィ技術およびエッチング技術により、保護絶縁膜１４に半導体層１３に達するコンタクトホール１４ａを形成する。
【００５３】
次に、図５（ｂ）に示すように、有効表示領域３において、保護絶縁膜１４上にドレイン電極１５およびソース電極１６を形成する。ドレイン電極１５およびソース電極１６は、コンタクトホール１４ａを介して半導体層１３と接続される。このとき、液晶注入口４における保護絶縁膜１４上に、台座膜８を形成する。基板の重ね合わせ精度（現在では５μｍ程度）を考慮して、例えば、台座膜８の直径は、柱状スペーサ６（例えば、直径１０μｍ）よりも片側５μｍずつ大きく設定し、すなわち２０μｍ前後に設定する。
【００５４】
次に、図６（ａ）に示すように、有効表示領域３および液晶注入口４の全面に、感光性樹脂からなる層間絶縁膜１７を形成する。そして、露光および現像により、有効表示領域３のうち反射領域における層間絶縁膜１７にコンタクトホール１７ａを形成し、さらに当該層間絶縁膜１７に表面凹凸を形成する。また、有効表示領域３のうち透過領域における層間絶縁膜１７を薄膜化する。
【００５５】
次に、図６（ｂ）に示すように、有効表示領域３の反射領域における層間絶縁膜１７上に、反射電極１８を形成する。有効表示領域３に形成された反射電極１８には、下地の層間絶縁膜１７の表面凹凸を反映させた表面凹凸が形成される。また、有効表示領域３の透過領域および液晶注入口４における層間絶縁膜１７上に、透明電極１９を形成する。その後、図示はしないが、有効表示領域３および液晶注入口４の全面に配向膜を形成する。
【００５６】
次に、第２の基板２側の製造プロセスについて説明する。図７（ａ）に示すように、第２の基板２の有効表示領域３に、カラーフィルタ２１をする。
【００５７】
次に、図７（ｂ）に示すように、第２の基板２の液晶注入口４に、ブラックレジスト２２を形成する。有効表示領域３と液晶注入口４とで第２の基板２側の表面高さを揃える観点から、ブラックレジスト２２の膜厚は、カラーフィルタ２１と略同じにすることが好ましい。
【００５８】
次に、図８（ａ）に示すように、カラーフィルタ２１およびブラックレジスト２２上に、ＩＴＯなどの透明電極からなる対向電極２３を形成する。
【００５９】
次に、図８（ｂ）に示すように、有効表示領域３および液晶注入口４における対向電極２３上に、複数の柱状スペーサ６をする。柱状スペーサ６の形成では、対向電極２３上に感光性樹脂を塗布し、露光および現像することにより、柱状スペーサ６のパターンを形成する。続いて、図示はしないが、有効表示領域３および液晶注入口４の全面に、配向膜を形成する。
【００６０】
以降の工程については、図１および図３を参照して説明する。
【００６１】
例えば、第１の基板１あるいは第２の基板２上に、液晶注入口４を除いて有効表示領域３を取り囲むシール剤５を形成する。シール剤５のパターンは、スクリーン印刷法あるいはディスペンサーによる描画により形成される。
【００６２】
次に、第１の基板１および第２の基板２を対向配置させる。２つの基板１，２は、シール剤５により接着される。このとき、双方の基板の間に介在する柱状スペーサ６により、有効表示領域３および液晶注入口４において双方の基板が支持される。
【００６３】
そして、液晶注入口４から液晶９を注入して、有効表示領域３および液晶注入口４における基板１，２の間隙に液晶９を充填させる。
【００６４】
続いて、例えば２つの基板１，２を外部より加圧して、基板間の余分な液晶９を液晶注入口４から押し出した後、熱硬化性樹脂あるいは紫外線硬化性樹脂からなる封止剤７により液晶注入口４を塞ぐ。このとき、有効表示領域３および液晶注入口４の双方において、２つの基板１，２が柱状スペーサ６により支持されていることから、圧力による基板の撓みの発生が防止される。
【００６５】
以上のようにして、液晶表示装置が完成する。
【００６６】
上記の本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法によれば、液晶注入口４における柱状スペーサ６の配置領域に、台座膜８を形成することにより、液晶注入口４において柱状スペーサ６により両基板を支持することができる。また、台座膜８の径を柱状スペーサ６の径よりも大きく形成しておくことにより、基板１，２の重ね合わせずれが発生しても、柱状スペーサ６と台座膜８とを重ね合わせることができる。
【００６７】
このため、液晶の加圧封止などの工程において、液晶注入口４における基板が撓むことを防止することができ、液晶注入口４の付近における有効表示領域３に表示不良が発生することを防止することができる。
【００６８】
また、例えば、各柱状スペーサ６に対応する個別の台座膜８を形成することにより、柱状スペーサ６の配置領域以外は基板間隔が狭まることはないため、液晶９の注入時および加圧封止時における液晶９の流れを阻害することもなく、タクト短縮に寄与することができる。
【００６９】
さらに、有効表示領域３を形成する際の層（本実施形態では、ドレイン電極１５およびソース電極１６）を利用して、台座膜８を形成することにより、製造工程を増加させることもない。
【００７０】
以上のようにして、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法によれば、液晶注入時および封止時に液晶注入口における液晶の流れを阻害することなく、液晶注入口における基板間隔を維持することができる。
【００７１】
本発明は、上記の実施形態の説明に限定されない。
例えば、本実施形態では、柱状スペーサ６を第２の基板２側に形成したが、第１の基板１側に形成してもよい。また、液晶９の流れを良好にする観点からは、各柱状スペーサ６に対応する個別の台座膜８を形成することが好ましいが、液晶注入口４に配置された複数の柱状スペーサ６に対応する台座膜８を形成してもよい。また、シール剤５は、第１の基板１側および第２の基板２側のどちらに形成してもよい。また、本実施形態では、液晶注入口にブラックレジスト２２を設けた例について説明したが、液晶注入口にブラックレジスト２２を設けなくてもよい。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本実施形態に係る液晶表示装置の平面図である。
【図２】液晶注入口の拡大平面図である。
【図３】本実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。
【図４】本実施形態に係る液晶表示装置における工程断面図である。
【図５】本実施形態に係る液晶表示装置における工程断面図である。
【図６】本実施形態に係る液晶表示装置における工程断面図である。
【図７】本実施形態に係る液晶表示装置における工程断面図である。
【図８】本実施形態に係る液晶表示装置における工程断面図である。
【図９】従来例に係る液晶表示装置の概略断面図である。
【符号の説明】
【００７３】
１…第１の基板、２…第２の基板、３…有効表示領域、４…液晶注入口、５…シール剤、６…柱状スペーサ、７…封止剤、８…台座膜、９…液晶、１０…ゲート電極、１１…補助容量電極、１２…ゲート絶縁膜、１３…半導体層、１４…保護絶縁膜、１４ａ…コンタクトホール、１５…ドレイン電極、１６…ソース電極、１７…層間絶縁膜、１７ａ…コンタクトホール、１８…反射電極、１９…透明電極、２１…カラーフィルタ、２２…ブラックレジスト、２３…対向電極、１０１…第１の基板、１０２…第２の基板、１０３…層、１０４…層、１０６…柱状スペーサ、１０７…封止剤、１０９…液晶
【図１】
2006220924.tif 000003
【図２】
2006220924.tif 000004
【図３】
2006220924.tif 000005
【図４】
2006220924.tif 000006
【図５】
2006220924.tif 000007
【図６】
2006220924.tif 000008
【図７】
2006220924.tif 000009
【図８】
2006220924.tif 000010
【図９】
2006220924.tif 000011