(57)【要約】【課題】  配向膜と光学異方性層の間の密着性を確保することで、他の光学補償フィルムとの貼り合せ工程、偏光膜との貼り合せ工程、液晶セルとの貼り合せ工程などを従来よりも容易にし、歩留まりを向上させること。【解決手段】  液晶化合物を含有する光学異方性層を含む光学補償フィルムにおいて、該光学異方性層が一般式（１）〜（４）で表される化合物または一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有し、該液晶化合物は配向した状態で固定化されていることを特徴とする光学補償フィルム。    【化１】2006285187.tif 000066
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶化合物を含有する光学異方性層を含む光学補償フィルムにおいて、該光学異方性層が下記一般式（１）〜（４）で表される化合物の少なくとも一種を含有し、該液晶化合物は配向した状態で固定化されていることを特徴とする光学補償フィルム。
【化１】
2006285187.tif 000052
〔式（１）において、Ｒ1はフェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数１〜２０のアルキル基（但し、アルキル基の炭素数が２〜２０の場合、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ8もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯＮ(Ｒ10)(Ｒ11)、炭素数１〜４のハロアルキル基、−Ｓ(Ｏ)m−Ｒ12（但し、Ｒ12は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｍは１または２である。）、−Ｓ(Ｏ)m−Ｒ13（但し、Ｒ13は炭素数６〜１２のアリール基を示し、炭素数１〜１２のアルキル基で置換されてもよく、ｍは１または２である。）、炭素数１〜６のアルコキシスルホニル基、炭素数６〜１０のアリーロキシスルホニル基、またはジフェニルホスフィノイル基を示し；Ｒ2は炭素数２〜１２のアルカノイル基（但し、ハロゲン原子もしくはシアノ基の１個以上で置換されてもよい。）、その二重結合がカルボニル基と共役していない炭素数４〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、またはフェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基もしくはハロゲン原子の１個以上で置換されてもよい。）を示し；Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、またはフェニル基（但し、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ8（但し、Ｒ8はフェニル環中もしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−Ｓ(Ｏ)Ｒ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＯ2Ｒ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換���中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)（但し、Ｒ10および／またはＲ11はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7の少なくとも一つは−ＯＲ8、−ＳＲ9または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)であり；Ｒ8は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有する炭素数２〜６のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、−(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＨ（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、−Ｓｉ(Ｒ14)r(Ｒ15)3-r（但し、Ｒ14は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ15はフェニル基を示し、ｒは１〜３の整数である。）、下記式で表される基
【化２】
2006285187.tif 000053
、または下記式で表される基
【化３】
2006285187.tif 000054
を示し；Ｒ9は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは硫黄原子を有する炭素数２〜１２のアルキル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、下記式で表される基
【化４】
2006285187.tif 000055
、または下記式で表される基
【化５】
2006285187.tif 000056
を示し；Ｒ10およびＲ11は相互に独立に水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、フェニル基（但し、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数２〜３のアルカノイル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基を示すか、あるいはＲ10とＲ11が一緒になって炭素数２〜６のアルキレン基（但し、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは−ＮＲ8−を有するか、および／または水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ基もしくはベンゾイルオキシ基の１個以上で置換されてもよい。）を示すか、あるいはＲ10が水素原子のとき、Ｒ11は下記式で表される基
【化６】
2006285187.tif 000057
、または下記式で表される基
【化７】
2006285187.tif 000058
を示し；Ｒ16は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−ＯＲ8もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、−ＣＯＮ(Ｒ10)(Ｒ11)、シアノ基、置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）、または炭素数１〜１２のアルキル基（但し、ハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基もしくは−ＳＲ9の１個以上で置換されるか、および／または主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ(ＣＯ)−の１個以上を有してもよい。）を示し；Ｍ1は直接結合または−Ｒ17−Ｏ−を示し；Ｍ2は直接結合または−Ｒ17−Ｓ−を示し；Ｍ3は直接結合、ピペラジノ基または−Ｒ17−ＮＨ−を示し；Ｒ17は炭素数１〜１２のアルキレン基（但し、その炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子、硫黄原子もしくは−ＮＲ10−の１〜５個を有してもよい。）を示す。〕
【化８】
2006285187.tif 000059
〔式（２）において、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は式（１）のそれぞれＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7と同義であり；Ｍは炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、−ＣＯＯ−Ｒ18−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n−ＣＯ−（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、または−ＣＯ−Ｒ18−ＣＯ−を示し；Ｒ18は炭素数２〜１２のアルキレン基を示す。〕
【化９】
2006285187.tif 000060
〔式（３）において、Ｒ2は式（１）のＲ2と同義であり；Ｒ19は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−ＯＲ8もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、−ＣＯＮ(Ｒ10)(Ｒ11)、シアノ基、または置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）を示すか、あるいはＲ20、Ｒ21およびＲ22を有するフェニル環中の炭素原子と結合して、基Ｒ9を介し５−員環もしくは６−員環を形成してもよく、あるいはＲ20、Ｒ21およびＲ22の少なくとも１個が−ＳＲ9のとき、炭素数１〜１２のアルキル基｛但し、炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ(ＣＯ)−の１個以上を有するか、および／またはハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基もしくは置換フェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）の１個以上で置換されてもよい。｝を示し；Ｒ20、Ｒ21およびＲ22は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または水酸基の１個以上で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ8（但し、Ｒ8はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−Ｓ(Ｏ)Ｒ9、−ＳＯ2Ｒ9、または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)（但し、Ｒ10および／またはＲ11はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ20、Ｒ21およびＲ22の少なくとも一つは−ＯＲ8、−ＳＲ9または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)であり、；Ｒ8，Ｒ9、Ｒ10およびＲ11は式（１）のそれぞれＲ8，Ｒ9、Ｒ10およびＲ11と同義である。〕
【化１０】
2006285187.tif 000061
〔式（４）において、Ｒ2およびＭはそれぞれ式（１）のＲ2および式（２）のＭと同義であり；Ｒ20、Ｒ21およびＲ22は式（３）のそれぞれＲ20、Ｒ21およびＲ22と同義である。〕
【請求項２】
液晶化合物を含有する光学異方性層を含む光学補償フィルムにおいて、該光学異方性層が下記一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有し、該液晶化合物は配向した状態で固定化されていることを特徴とする光学補償フィルム。
【化１１】
2006285187.tif 000062
〔一般式(５)において、Ｘはハロゲン原子を表す。Ｙは−ＣＸ３、−ＮＨ２、−ＮＨＲ′、−ＮＲ′2、−ＯＲ′を表す。ここにＲ′はアルキル基、アリール基を表す。またＲは、−ＣＸ３、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を表す。〕
【化１２】
2006285187.tif 000063
〔一般式(６)において、Ａはフェニル基、ナフチル基、置換フェニル基または置換ナフチル基を表す。ここで置換基とはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基もしくはメチレンジオキシ基である。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
【化１３】
2006285187.tif 000064
〔一般式（７）において、Ｗは無置換もしくは置換されたフェニル基又は無置換のナフチル基を表し、フェニル基の置換基はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基の数はハロゲン原子のときは１つ又は２つであり、その他の場合は１つである。Ｘは水素原子、フェニル基又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
【化１４】
2006285187.tif 000065
〔一般式(８)において、Ａは無置換もしくは置換されたフェニル基又は無置換のナフチル基を表し、フェニル基の置換基はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基の数はハロゲン原子のときは１つ又は２つであり、その他の場合は１つである。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基を表す。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
【請求項３】
前記液晶化合物が重合性基を有し、該液晶化合物が重合により配向状態が固定化されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学補償フィルム。
【請求項４】
前記液晶化合物がディスコティック液晶化合物または棒状液晶化合物である請求項１〜３のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項５】
前記光学異方性層がディスコティック液晶化合物および棒状液晶化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項６】
前記液晶化合物が水平配向、垂直配向、傾斜配向、ハイブリッド配向、ねじれ配向、螺旋配向のいずれかに配向状態が固定化されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項７】
前記光学異方性層が配向膜の上に形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項８】
前記配向膜が重合性基を有す有機化合物であることを特徴とする請求項７に記載の光学補償フィルム。
【請求項９】
前記光学異方性層が支持体の上に形成されており、該支持体の面内のレタデーションが０〜２００ｎｍであり、厚さ方向のレタデーションが−１００〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項１０】
偏光膜と請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償フィルムとが積層されてなる偏光板。
【請求項１１】
液晶セルと、請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償フィルム、または、請求項１０に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
【請求項１２】
液晶セル、前記光学補償フィルム、偏光膜がこの順で配置されたことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
液晶セル、偏光膜、前記光学補償フィルムがこの順で配置されたことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルム、特に、支持体上に液晶化合物を配向固定化した光学異方性層を有する光学補償フィルム、および、それを用いた偏光板および液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を有する。偏光板は、一般的に保護フィルム及び偏光膜を有し、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償フィルムを配置することもある。反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償フィルム、偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板及び液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過及び反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードが提案されている。
【０００３】
光学補償フィルムは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学補償フィルムとしては、延伸ポリマーフィルムが従来から使用されていた。延伸ポリマーフィルムからなる光学補償フィルムに代えて、透明支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布して形成した光学異方性層を有する光学補償フィルムを使用することが提案されている。液晶性化合物には、多様な配向形態がある。液晶性化合物を用いることで、従来の延伸ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。液晶性化合物を用いた光学補償フィルムでは、液晶セルの様々な表示モードに対応するものが既に提案されている。例えば、ＴＮモードの液晶セル用光学補償フィルムは、特許文献１〜４に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用光学補償フィルムは、特許文献５に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用光学補償フィルムは、特許文献６，７に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用光学補償フィルムは、特許文献８に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用光学補償フィルムは、特許文献９に記載がある。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２１４１１６号公報
【特許文献２】米国特許第５５８３６７９号明細書
【特許文献３】米国特許第５６４６７０３号明細書
【特許文献４】独国特許出願公開第３９１１６２０号明細書
【特許文献５】特開平１０−５４９８２号公報
【特許文献６】米国特許第５８０５２５３号明細書
【特許文献７】国際公開第９６／３７８０４号パンフレット
【特許文献８】特開平９−２６５７２号公報
【特許文献９】特許第２８６６３７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
光学補償フィルムは、支持体上に配向膜や液晶化合物を含む光学異方性層を形成して作製することができるが、配向膜と支持体、あるいは、配向膜と光学異方性層の間の密着力が十分でないと、他の光学補償フィルムとの貼り合せ工程、偏光膜との貼り合せ工程、液晶セルとの貼り合せ工程などで、層間剥離が発生してしまう問題がある。
本発明は、配向膜と光学異方性層の間の密着性を確保することで、他の光学補償フィルムとの貼り合せ工程、偏光膜との貼り合せ工程、液晶セルとの貼り合せ工程などを従来よりも容易にし、歩留まりを向上させることを目的としたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の目的は、下記［１］〜［１１］により達成された。
［１］  液晶化合物を含有する光学異方性層を含む光学補償フィルムにおいて、該光学異方性層が下記一般式（１）〜（４）で表される化合物の少なくとも一種を含有し、該液晶化合物は配向した状態で固定化されていることを特徴とする光学補償フィルム。
【０００７】
【化１】
2006285187.tif 000002
【０００８】
〔式（１）において、Ｒ1はフェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数１〜２０のアルキル基（但し、アルキル基の炭素数が２〜２０の場合、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ8もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯＮ（Ｒ10)（Ｒ11)、炭素数１〜４のハロアルキル基、−Ｓ（Ｏ)m−Ｒ12（但し、Ｒ12は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｍは１または２である。）、−Ｓ（Ｏ)m−Ｒ13（但し、Ｒ13は炭素数６〜１２のアリール基を示し、炭素数１〜１２のアルキル基で置換されてもよく、ｍは１または２である。）、炭素数１〜６のアルコキシスルホニル基、炭素数６〜１０のアリーロキシスルホニル基、またはジフェニルホスフィノイル基を示し；Ｒ2は炭素数２〜１２のアルカノイル基（但し、ハロゲン原子もしくはシアノ基の１個以上で置換されてもよい。）、その二重結合がカルボニル基と共役していない炭素数４〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、またはフェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基もしくはハロゲン原子の１個以上で置換されてもよい。）を示し；Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、またはフェニル基（但し、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ8（但し、Ｒ8はフェニル環中もしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−Ｓ（Ｏ)Ｒ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＯ2Ｒ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしく���フェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、または−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)（但し、Ｒ10および／またはＲ11はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7の少なくとも一つは−ＯＲ8、−ＳＲ9または−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)であり；Ｒ8は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有する炭素数２〜６のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＨ（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、−Ｓｉ（Ｒ14)r（Ｒ15)3-r（但し、Ｒ14は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ15はフェニル基を示し、ｒは１〜３の整数である。）、下記式で表される基
【０００９】
【化２】
2006285187.tif 000003
、または下記式で表される基
【化３】
2006285187.tif 000004
【００１０】
を示し；Ｒ9は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは硫黄原子を有する炭素数２〜１２のアルキル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、下記式で表される基
【００１１】
【化４】
2006285187.tif 000005
、または下記式で表される基
【化５】
2006285187.tif 000006
【００１２】
を示し；Ｒ10およびＲ11は相互に独立に水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、フェニル基（但し、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数２〜３のアルカノイル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基を示すか、あるいはＲ10とＲ11が一緒になって炭素数２〜６のアルキレン基（但し、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは−ＮＲ8−を有するか、および／または水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ基もしくはベンゾイルオキシ基の１個以上で置換されてもよい。）を示すか、あるいはＲ10が水素原子のとき、Ｒ11は下記式で表される基
【００１３】
【化６】
2006285187.tif 000007
、または下記式で表される基
【化７】
2006285187.tif 000008
【００１４】
を示し；Ｒ16は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−ＯＲ8もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、−ＣＯＮ（Ｒ10)（Ｒ11)、シアノ基、置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）、または炭素数１〜１２のアルキル基（但し、ハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基もしくは−ＳＲ9の１個以上で置換されるか、および／または主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ（ＣＯ)−の１個以上を有してもよい。）を示し；Ｍ1は直接結合または−Ｒ17−Ｏ−を示し；Ｍ2は直接結合または−Ｒ17−Ｓ−を示し；Ｍ3は直接結合、ピペラジノ基または−Ｒ17−ＮＨ−を示し；Ｒ17は炭素数１〜１２のアルキレン基（但し、その炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子、硫黄原子もしくは−ＮＲ10−の１〜５個を有してもよい。）を示す。〕
【００１５】
【化８】
2006285187.tif 000009
【００１６】
〔式（２）において、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は式（１）のそれぞれＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7と同義であり；Ｍは炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、−ＣＯＯ−Ｒ18−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n−ＣＯ−（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、または−ＣＯ−Ｒ18−ＣＯ−を示し；Ｒ18は炭素数２〜１２のアルキレン基を示す。〕
【００１７】
【化９】
2006285187.tif 000010
【００１８】
〔式（３）において、Ｒ2は式（１）のＲ2と同義であり；Ｒ19は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−ＯＲ8もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、−ＣＯＮ（Ｒ10)（Ｒ11)、シアノ基、または置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）を示すか、あるいはＲ20、Ｒ21およびＲ22を有するフェニル環中の炭素原子と結合して、基Ｒ9を介し５−員環もしくは６−員環を形成してもよく、あるいはＲ20、Ｒ21およびＲ22の少なくとも１個が−ＳＲ9のとき、炭素数１〜１２のアルキル基｛但し、炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ（ＣＯ）−の１個以上を有するか、および／またはハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基もしくは置換フェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）の１個以上で置換されてもよい。｝を示し；Ｒ20、Ｒ21およびＲ22は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または水酸基の１個以上で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ8（但し、Ｒ8はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−Ｓ（Ｏ)Ｒ9、−ＳＯ2Ｒ9、または−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)（但し、Ｒ10および／またはＲ11はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ20、Ｒ21およびＲ22の少なくとも一つは−ＯＲ8、−ＳＲ9または−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)であり、；Ｒ8，Ｒ9、Ｒ10およびＲ11は式（１）のそれぞれＲ8，Ｒ9、Ｒ10およびＲ11と同義である。〕
【００１９】
【化１０】
2006285187.tif 000011
【００２０】
〔式（４）において、Ｒ2およびＭはそれぞれ式（１）のＲ2および式（２）のＭと同義であり；Ｒ20、Ｒ21およびＲ22は式（３）のそれぞれＲ20、Ｒ21およびＲ22と同義である。〕
［２］  液晶化合物を含有する光学異方性層を含む光学補償フィルムにおいて、該光学異方性層が下記一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有し、該液晶化合物は配向した状態で固定化されていることを特徴とする光学補償フィルム。
【００２１】
【化１１】
2006285187.tif 000012
【００２２】
〔一般式(５)において、Ｘはハロゲン原子を表す。Ｙは−ＣＸ３、−ＮＨ２、−ＮＨＲ′、−ＮＲ′2、−ＯＲ′を表す。ここにＲ′はアルキル基、アリール基を表す。またＲは、−ＣＸ３、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を表す。〕
【００２３】
【化１２】
2006285187.tif 000013
【００２４】
〔一般式(６)において、Ａはフェニル基、ナフチル基、置換フェニル基または置換ナフチル基を表す。ここで置換基とはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基もしくはメチレンジオキシ基である。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
【００２５】
【化１３】
2006285187.tif 000014
【００２６】
〔一般式（７）において、Ｗは無置換もしくは置換されたフェニル基又は無置換のナフチル基を表し、フェニル基の置換基はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基の数はハロゲン原子のときは１つ又は２つであり、その他の場合は１つである。Ｘは水素原子、フェニル基又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
【００２７】
【化１４】
2006285187.tif 000015
【００２８】
〔一般式(８)において、Ａは無置換もしくは置換されたフェニル基又は無置換のナフチル基を表し、フェニル基の置換基はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基の数はハロゲン原子のときは１つ又は２つであり、その他の場合は１つである。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基を表す。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
［３］  前記液晶化合物が重合性基を有し、該液晶化合物が重合により配向状態が固定化されていることを特徴とする［１］または［２］の光学補償フィルム。
［４］  前記液晶化合物がディスコティック液晶化合物または棒状液晶化合物である［１］〜［３］のいずれかの光学補償フィルム。
［５］  前記光学異方性層がディスコティック液晶化合物および棒状液晶化合物を含有することを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの光学補償フィルム。
［６］  前記液晶化合物が水平配向、垂直配向、傾斜配向、ハイブリッド配向、ねじれ配向、螺旋配向のいずれかに配向状態が固定化されていることを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの光学補償フィルム。
［７］  前記光学異方性層が配向膜の上に形成されていることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかの光学補償フィルム。
［８］  前記配向膜が重合性基を有す有機化合物であることを特徴とする［７］の光学補償フィルム。
［９］  前記光学異方性層が支持体の上に形成されており、該支持体の面内のレタデーションが０〜２００ｎｍであり、厚さ方向のレタデーションが−１００〜３００ｎｍであることを特徴とする［１］〜［８］のいずれかの光学補償フィルム。
［１０］  偏光膜と［１］〜［９］のいずれかの光学補償フィルムとが積層されてなる偏光板。
［１１］  液晶セルと、［１］〜［９］のいずれかの光学補償フィルム、または、［１０］の偏光板を含む液晶表示装置。
［１２］  液晶セル、前記光学補償フィルム、偏光膜がこの順で配置されたことを特徴とする［１１］の液晶表示装置。
［１３］  液晶セル、偏光膜、前記光学補償フィルムがこの順で配置されたことを特徴とする［１１］の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、配向膜と光学異方性層の層間の密着性が著しく向上した光学補償フィルムを提供することができる。さらに、この光学補償フィルムを用いることで、他の光学補償フィルムとの貼り合せ工程、偏光膜との貼り合せ工程、液晶セルとの貼り合せ工程などでの歩留まりが向上した液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明について、詳しく説明する。
【００３１】
なお、本明細書において、「４５゜」、「平行」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味するものとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００３２】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。
【００３３】
また、本明細書において「分子対称軸」とは、分子が回転対称軸を有する場合は該対称軸をいうが、厳密な意味で分子が回転対称性であることを要求するものではない。一般的には、分子対称軸は、ディスコティック液晶性化合物では、円盤面の中心を貫く円盤面に対して垂直な軸と一致し、また棒状液晶性化合物では分子の長軸と一致する。また、本明細書において、Ｒｅλ(０)、Ｒｔｈλは各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚さ方向のレタデーションを表す。本発明では、Ｒｅλ(０)は、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）またはエリプソメーターＭ−１５０（日本分光（株）製）などを用いて測定される値とする。また、Ｒｔｈλは、前記Ｒｅλ(０)、測定装置によって判断される遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレタデーション値、および遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレタデーション値の計３つの方向で測定したレタデーション値を基に算出された値とする。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
【００３４】
［光学補償フィルム］
本発明の光学補償フィルムは、少なくとも一種の液晶化合物を含有し、さらに上記一般式（１）〜（８）で表される化合物を少なくとも一種を含有する光学異方性層を含む。
本発明の光学補償フィルムに含まれる光学異方性層は一層のみからなっていてもよいし、二層以上の光学異方性層の積層体であってもよい。複数の光学異方性層の積層体において、そのうちの少なくとも一層が上記要件を満たせばよい。その他の光学異方性層は液晶化合物から形成された層でもよいし、延伸したポリマーフィルムから形成された層でもよい。
【００３５】
［液晶化合物を含む光学異方性層］
本発明の光学補償フィルムに含まれる光学異方性層は液晶化合物を含有する。液晶化合物の種類については特に制限されない。例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることができる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。重合性液晶化合物は、多官能性重合性液晶でもよいし、単官能性重合性液晶でもよい。
【００３６】
光学異方性層に用いられる液晶化合物は、ディスコティック液晶でもよいし、棒状液晶化合物でもよい。液晶化合物の配向状態は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、傾斜配向、ねじれ配向、螺旋配向いずれでもよい。液晶分子の形状や配向状態は、光学補償フィルムが用いられる位置や液晶表示モードによって選ばれる。
【００３７】
前記光学異方性層は、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物等の液晶性化合物と下記の重合開始剤、所望により、空気界面配向剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体上に塗布することで形成することができる。支持体上に配向膜を形成し、該配向膜表面に前記塗布液を塗布して形成するのが好ましい。
【００３８】
［ディスコティック液晶性化合物］
本発明では、ディスコティック液晶性化合物を用いて光学異方性層を形成するのが好ましい。ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ１１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ１７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００３９】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式で表わされる化合物であることが好ましい。
Ｄ(−Ｌ−Ｐ)n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。なお、液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【００４０】
［棒状液晶化合物］
本発明では、棒状液晶化合物を用いて光学異方性層を形成するのが好ましい。棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶分子には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は１〜６個、好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号パンフレット、同９５／２４４５５号パンフレット、同９７／００６００号パンフレット、同９８／２３５８０号パンフレット、同９８／５２９０５号パンフレット、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【００４１】
［光学異方性層の他の添加剤］
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー、含フッ素ポリマー、有機化合物塩等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
【００４２】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【００４３】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号公報明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。
【００４４】
液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
【００４５】
光学異方性層の厚さは、０．５〜１００μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることがさらに好ましく、０．３〜１０μｍであることが最も好ましい。
【００４６】
液晶組成物の塗布は、公知の方法（例、バーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００４７】
配向させた液晶化合物の配向状態を維持して固定化する。固定化は重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
【００４８】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００４９】
［光重合開始剤］
本発明では、光重合開始剤として、一般式（１）〜（４）で表される化合物の少なくとも一種または一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有する。
【００５０】
【化１５】
2006285187.tif 000016
【００５１】
〔式（１）において、Ｒ1はフェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数１〜２０のアルキル基（但し、アルキル基の炭素数が２〜２０の場合、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ8もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯＮ（Ｒ10)（Ｒ11)、炭素数１〜４のハロアルキル基、−Ｓ（Ｏ)m−Ｒ12（但し、Ｒ12は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｍは１または２である。）、−Ｓ（Ｏ)m−Ｒ13（但し、Ｒ13は炭素数６〜１２のアリール基を示し、炭素数１〜１２のアルキル基で置換されてもよく、ｍは１または２である。）、炭素数１〜６のアルコキシスルホニル基、炭素数６〜１０のアリーロキシスルホニル基、またはジフェニルホスフィノイル基を示し；
【００５２】
Ｒ2は炭素数２〜１２のアルカノイル基（但し、ハロゲン原子もしくはシアノ基の１個以上で置換されてもよい。）、その二重結合がカルボニル基と共役していない炭素数４〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、またはフェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基もしくはハロゲン原子の１個以上で置換されてもよい。）を示し；
【００５３】
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、またはフェニル基（但し、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ8（但し、Ｒ8はフェニル環中もしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−Ｓ（Ｏ)Ｒ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＯ2Ｒ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、または−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)（但し、Ｒ10および／またはＲ11はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7の少なくとも一つは−ＯＲ8、−ＳＲ9または−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)であり；
【００５４】
Ｒ8は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有する炭素数２〜６のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＨ（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、−Ｓｉ（Ｒ14)r（Ｒ15)3-r（但し、Ｒ14は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ15はフェニル基を示し、ｒは１〜３の整数である。）、
【００５５】
下記式で表される基
【化１６】
2006285187.tif 000017
【００５６】
、または下記式で表される基
【化１７】
2006285187.tif 000018
を示し；
【００５７】
Ｒ9は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは硫黄原子を有する炭素数２〜１２のアルキル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、
【００５８】
下記式で表される基
【化１８】
2006285187.tif 000019
【００５９】
、または下記式で表される基
【化１９】
2006285187.tif 000020
を示し；
【００６０】
Ｒ10およびＲ11は相互に独立に水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、フェニル基（但し、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数２〜３のアルカノイル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基を示すか、あるいはＲ10とＲ11が一緒になって炭素数２〜６のアルキレン基（但し、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは−ＮＲ8−を有するか、および／または水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ基もしくはベンゾイルオキシ基の１個以上で置換されてもよい。）を示すか、あるいはＲ10が水素原子のとき、Ｒ11は
【００６１】
下記式で表される基
【化２０】
2006285187.tif 000021
【００６２】
、または下記式で表される基
【化２１】
2006285187.tif 000022
を示し；
【００６３】
Ｒ16は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−ＯＲ8もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、−ＣＯＮ（Ｒ10)（Ｒ11)、シアノ基、置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）、または炭素数１〜１２のアルキル基（但し、ハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基もしくは−ＳＲ9の１個以上で置換されるか、および／または主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ（ＣＯ)−の１個以上を有してもよい。）を示し；
【００６４】
Ｍ1は直接結合または−Ｒ17−Ｏ−を示し；Ｍ2は直接結合または−Ｒ17−Ｓ−を示し；Ｍ3は直接結合、ピペラジノ基または−Ｒ17−ＮＨ−を示し；Ｒ17は炭素数１〜１２のアルキレン基（但し、その炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子、硫黄原子もしくは−ＮＲ10−の１〜５個を有してもよい。）を示す。〕
【００６５】
【化２２】
2006285187.tif 000023
【００６６】
〔式（２）において、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は式（１）のそれぞれＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7と同義であり；Ｍは炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、−ＣＯＯ−Ｒ18−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n−ＣＯ−（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、または−ＣＯ−Ｒ18−ＣＯ−を示し；Ｒ18は炭素数２〜１２のアルキレン基を示す。〕
【００６７】
【化２３】
2006285187.tif 000024
【００６８】
〔式（３）において、Ｒ2は式（１）のＲ2と同義であり；Ｒ19は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−ＯＲ8もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、−ＣＯＮ（Ｒ10)（Ｒ11)、シアノ基、または置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）を示すか、あるいはＲ20、Ｒ21およびＲ22を有するフェニル環中の炭素原子と結合して、基Ｒ9を介し５−員環もしくは６−員環を形成してもよく、あるいはＲ20、Ｒ21およびＲ22の少なくとも１個が−ＳＲ9のとき、炭素数１〜１２のアルキル基｛但し、炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ（ＣＯ)−の１個以上を有するか、および／またはハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基もしくは置換フェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）の１個以上で置換されてもよい。｝を示し；
【００６９】
Ｒ20、Ｒ21およびＲ22は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または水酸基の１個以上で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ8（但し、Ｒ8はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−Ｓ（Ｏ)Ｒ9、−ＳＯ2Ｒ9、または−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)（但し、Ｒ10および／またはＲ11はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ20、Ｒ21およびＲ22の少なくとも一つは−ＯＲ8、−ＳＲ9または−Ｎ（Ｒ10)（Ｒ11)であり、；Ｒ8，Ｒ9、Ｒ10およびＲ11は式（１）のそれぞれＲ8，Ｒ9、Ｒ10およびＲ11と同義である。〕
【００７０】
【化２４】
2006285187.tif 000025
【００７１】
〔式（４）において、Ｒ2およびＭはそれぞれ式（１）のＲ2および式（２）のＭと同義であり；Ｒ20、Ｒ21およびＲ22は式（３）のそれぞれＲ20、Ｒ21およびＲ22と同義である。〕
【００７２】
開始剤の使用量に特に制限はないが、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部である。また（１）〜（８）の開始剤は複数種を使用しても良いし、他のラジカル重合開始剤や光増感剤などと併用して使用しても良い。
（１）〜（４）の開始剤として、具体的な化合物としては、特開２０００−８００６８号公報あるいは特開２００１−２６４５３０号公報記載の化合物などを使用できるが、特にこれに限定されるものではない。
以下に、特開２０００−８００６８号公報に記載の化合物を例示する。（例示化合物１〜２１）
【００７３】
【化２５】
2006285187.tif 000026
【００７４】
【化２６】
2006285187.tif 000027
【００７５】
【化２７】
2006285187.tif 000028
〔一般式（５）において、Ｘはハロゲン原子を表す。Ｙは−ＣＸ3、−ＮＨ2、−ＮＨＲ′、−ＮＲ′2、−ＯＲ′を表す。ここにＲ′はアルキル基、アリール基を表す。またＲは、−ＣＸ3、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を表す。〕
一般式（５）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
【００７６】
【化２８】
2006285187.tif 000029
【００７７】
【化２９】
2006285187.tif 000030
【００７８】
【化３０】
2006285187.tif 000031
【００７９】
【化３１】
2006285187.tif 000032
【００８０】
〔一般式（６）において、Ａはフェニル基、ナフチル基、置換フェニル基または置換ナフチル基を表す。ここで置換基とはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基もしくはメチレンジオキシ基である。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
一般式（６）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
【００８１】
【化３２】
2006285187.tif 000033
【００８２】
【化３３】
2006285187.tif 000034
【００８３】
〔一般式（７）において、Ｗは無置換もしくは置換されたフェニル基又は無置換のナフチル基を表し、フェニル基の置換基はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基の数はハロゲン原子のときは１つ又は２つであり、その他の場合は１つである。Ｘは水素原子、フェニル基又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
一般式（７）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
【００８４】
【化３４】
2006285187.tif 000035
【００８５】
【化３５】
2006285187.tif 000036
【００８６】
〔一般式（８）において、Ａは無置換もしくは置換されたフェニル基又は無置換のナフチル基を表し、フェニル基の置換基はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基の数はハロゲン原子のときは１つ又は２つであり、その他の場合は１つである。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリル基を表す。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
一般式（８）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
【００８７】
【化３６】
2006285187.tif 000037
【００８８】
［配向膜］
本発明では、配向膜の表面に前記組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させるのが好ましい。配向膜は、液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有するため、本発明の好ましい態様を実現する上で利用するのが好ましい。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
【００８９】
ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【００９０】
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は１００〜５０００であることが好ましい。
【００９１】
本発明の配向膜では、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【００９２】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【００９３】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【００９４】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤および添加剤を含む溶液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【００９５】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１乃至１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【００９６】
配向膜は、透明支持体上に設けられることが好ましい。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
【００９７】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行なうことにより実施される。
【００９８】
配向膜のラビング処理面に前記組成物を塗布して、ディスコティック液晶性化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させることで、前記光学異方性層を形成することができる。
配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
【００９９】
［支持体］
【０１００】
本発明の光学補償フィルムは支持体を含んでもよい。液晶化合物を含む組成物を支持体上に塗布して光学異方性層を形成することにより、自己支持性のある光学補償フィルムを作製できる。該支持体に光学異方性層を一層のみ形成してもよいし、支持体の一方の面に二層以上の光学異方性層を順次積層してもよいし、支持体の両方の面に光学異方性層を形成してもよい。
【０１０１】
支持体としては、波長分散が小さいポリマーフィルムを用いることが好ましい。支持体は、光学異方性が小さいことも好ましい。支持体は光透過率が８０％以上であることが好ましい。波長分散が小さいとは、具体的には、Ｒｅ４００／Ｒｅ７００の比が１．２未満であることが好ましい。
【０１０２】
ポリマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレートおよび環状ポリオレフィンが含まれる。セルロースエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。環状ポリオレフィンとしては、特公平２−９６１９号公報記載のテトラシクロドデセン類の開環重合体またはテトラシクロドデセン類とノルボルネン類の開環共重合体を水素添加反応させて得られた重合体を構成成分とするポリマー、商品名としてはアートン（ＪＳＲ製）や、ゼオネックス、ゼオノア（日本ゼオン製）のシリーズから使用することができる。ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。
【０１０３】
ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、垂直配向膜あるいは位相差層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、透明支持体や長尺の透明支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒径が１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分質量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。
【０１０４】
支持体となるポリマーフィルムを光学異方性層として機能させてもよい。ポリマーフィルムは、複屈折性を発現し得るポリマーから形成する。複屈折ポリマーフィルムとしては、複屈折特性の制御性、透明性、耐熱性に優れるものや、光弾性が小さいものが好ましい。この場合、用いる高分子材料としては均一な一軸配向もしくは二軸配向が達成できる高分子であれば特に制限はないが、従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるもの好ましく、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、ポリプロピレン等のポリオレフィン、セルロースアシレート、または、それらポリマーの２種又は３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。
【０１０５】
ポリマーフィルムの光学異方性は、一軸または二軸延伸により得ることが好ましい。一軸延伸は、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、またはポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸が好ましい。また、ポリマーフィルムを縦方向および横方向に延伸することにより、二軸性の光学異方性を発現させてもよい。なお、二枚以上のポリマーフィルムを用いて、二枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、２０〜４００ｎｍであることが好ましく、３０〜１００ｎｍであることが最も好ましい。
【０１０６】
Ｒｔｈが負の値となる光学特性を有するポリマーフィルムは、熱収縮性のフィルムを貼り合わせて加熱しながら所定の張力を加え高分子フィルムを膜の厚さ方向に延伸する方法（特開２０００−２０６３２８号公報、特開２０００−３０４９２５号公報）や、ビニルカルバゾール系高分子を塗布して乾燥させる方法（特開２００１−０９１７４６号公報）で容易に形成できる。
【０１０７】
［光学特性］
本発明の光学補償フィルムは、使用される液晶表示装置のモードや配置される位置に応じて三次元方向の屈折率異方性を制御するのが好ましい。三次元方向の屈折率異方性は、光学異方性層に含まれる液晶化合物の分子形状や配向状態で制御してもよいし、支持体として用いる光学異方性を有すポリマーフィルムで制御してもよいし、それらを組み合わせて制御してもよい。
【０１０８】
本発明の光学補償フィルムの好ましい態様の一つは、光学異方性層にディスコティック液晶化合物が含まれる。ディスコティック液晶化合物の配向状態は垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、傾斜配向、ねじれ配向、螺旋配向のいずれかであることが好ましい。
ディスコティック液晶化合物の垂直配向とは、ディスコティック液晶化合物の円盤面がフィルム平面に対して実質的に垂直である（分子対称軸がフィルム平面と実質的に平行である）ことを意味する。フィルム平面に対する該円盤面の平均傾斜角は７０〜９０°であることが好ましく、７５〜９０°であることがさらに好ましく、８０〜９０°であることが最も好ましい。
ディスコティック液晶化合物の水平配向とは、ディスコティック液晶化合物の円盤面がフィルム平面に対して実質的に平行である（分子対称軸がフィルム平面と実質的に垂直である）ことを意味する。フィルム平面に対する該円盤面の平均傾斜角は０〜２０°であることが好ましく、０〜１５°であることがさらに好ましく、０〜１０°であることが最も好ましい。
棒状液晶化合物の垂直配向とは、棒状液晶化合物の長軸（分子対称軸）がフィルム平面に対して実質的に垂直であることを意味する。フィルム平面に対する該長軸の平均傾斜角は７０〜９０°であることが好ましく、７５〜９０°であることがさらに好ましく、８０〜９０°であることが最も好ましい。
棒状液晶化合物の水平配向とは、棒状液晶化合物の長軸（分子対称軸）がフィルム平面に対して実質的に水平であることを意味する。フィルム平面に対する該長軸の平均傾斜角は０〜２０°であることが好ましく、０〜１５°であることがさらに好ましく、０〜１０°であることが最も好ましい。
【０１０９】
本発明の光学補償フィルムにおいて、ディスコティック液晶化合物が垂直配向した光学異方性層、あるいは、棒状液晶化合物が水平配向した光学異方性層を含むときは、該光学補償フィルムは１／２波長板や１／４波長板などの位相差板として好適に用いることができる。１／２波長板として用いる場合には、該光学異方性層の面内のレタデーションは、２００〜３５０ｎｍであることが好ましく、２２０ｎｍ〜３３０ｎｍであることがさらに好ましい。１／４波長板として用いる場合には、該光学異方性層の面内のレタデーションは、９０〜１９０ｎｍであることが好ましく、１００ｎｍ〜１８０ｎｍであることがさらに好ましい。また、これら１／２波長板と１／４波長板をそれぞれの遅相軸が直交でも平行でもない角度になるように交差させて積層して、広帯域１／４波長板としてもよい。
光学補償フィルムの厚さ方向の屈折率を制御するために、前記光学異方性層に加えて、棒状液晶化合物を垂直配向させた光学異方性層やディスコティック液晶化合物を水平配向させた光学異方性層を積層してもよいし、ディスコティック液晶化合物と棒状液晶化合物を混合して形成した光学異方性層を含んでもよい。さらに、光学異方性を有す支持体を用いて制御してもよい。
１／２波長板や１／４波長板などの位相差板として用いる場合、Ｎｚを下記式のように定義したときに、Ｎｚは−５〜２であることが好ましく、−４．５〜１．５であることがさらに好ましく、−４〜１．２であることが最も好ましい。
Ｎｚ＝０．５＋Ｒｔｈ／Ｒｅ
（ここで、Ｒｅは面内のレタデーション値、Ｒｔｈは厚み方向のレタデーション値）
【０１１０】
本発明の光学補償フィルムにおいて、ディスコティック液晶化合物が垂直配向した光学異方性層、あるいは、棒状液晶化合物が垂直配向した光学異方性層を含むとき、該光学補償フィルムはＩＰＳモードなどの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いることができる。
ＩＰＳモード液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、ディスコティック液晶化合物が垂直配向した光学異方性層の面内のレタデーションは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、６０〜１８０ｎｍであることがさらに好ましく、７０〜１６０ｎｍであることが最も好ましい。さらに、該光学異方性層の厚さ方向のレタデーションは、−１００〜−２５ｎｍであることが好ましく、−９０〜−３０ｎｍであることがさらに好ましく、−８０〜−３５ｎｍであることが最も好ましい。また、透明支持体を含んでもよい。該支持体の面内のレタデーションは、０〜２０ｎｍであることが好ましく、０〜１０ｎｍであることがさらに好ましく、０〜５ｎｍであることが最も好ましい。さらに、該支持体の厚さ方向のレタデーションは２０〜１２０ｎｍであることが好ましく、４０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。
ＩＰＳモード液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、棒状液晶化合物が垂直配向した光学異方性層の面内のレタデーションは、０〜１０ｎｍであることが好ましく、０〜５ｎｍであることがさらに好ましく、０〜３ｎｍであることが最も好ましい。さらに、該光学異方性層の厚さ方向のレタデーションは、−４００〜−８０ｎｍであることが好ましく、−３６０〜−１００ｎｍであることがさらに好ましく、−３２０〜−１２０ｎｍであることが最も好ましい。また、透明支持体を含んでもよい。該支持体の面内のレタデーションは、２０〜１５０ｎｍであることが好ましく、３０〜１３０ｎｍであることがさらに好ましく、４０〜１１０ｎｍであることが最も好ましい。さらに、該支持体の厚さ方向のレタデーションは、１００〜３００ｎｍであることが好ましく、１２０〜２８０ｎｍであることがさらに好ましく、１４０ｎｍ〜２６０ｎｍであることが最も好ましい。
【０１１１】
本発明の光学補償フィルムにおいて、ディスコティック液晶化合物が水平配向した光学異方性層、あるいは、棒状液晶化合物が水平配向した光学異方性層を含むときは、該光学補償フィルムはＶＡモードなどの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いることができる。
ＶＡモード液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、ディスコティック液晶化合物が水平配向した光学異方性層の面内のレタデーションは、０〜１０ｎｍであることが好ましく、０〜５ｎｍであることがより好ましい。さらに、該光学異方性層の厚さ方向のレタデーションは、３０〜３００ｎｍであることが好ましく、４０〜２００ｎｍであることがより好ましい。また、透明支持体を含んでもよい。該支持体の面内のレタデーションは、０〜４０ｎｍであることが好ましく、０〜２０ｎｍであることがより好ましい。さらに、該支持体の厚さ方向のレタデーションは０〜２００ｎｍであることが好ましく、２０〜１５０ｎｍであることがより好ましい。
ＶＡモード液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、棒状液晶化合物が水平配向した光学異方性層の面内のレタデーションは、６０〜１４０ｎｍであることが好ましく、８０〜１２０ｎｍであることがより好ましい。さらに、該光学異方性層の厚さ方向のレタデーションは、３０〜７０ｎｍであることが好ましく、４０〜６０ｎｍであることがより好ましい。また、透明支持体を含んでもよい。該支持体の面内のレタデーションは、０〜２０ｎｍであることが好ましく、０〜１０ｎｍであることがより好ましい。さらに、該支持体の厚さ方向のレタデーションは、−３０〜３０ｎｍであることが好ましく、−２０ｎｍ〜２０ｎｍであることがより好ましい。
【０１１２】
本発明の光学補償フィルムにおいて、ディスコティック液晶化合物の円盤面がフィルム平面に対して傾いて配向した光学異方性層を含むときは、該光学補償フィルムはＴＮモード、ＯＣＢモード、ＥＣＢモード、ＨＡＮモードなどの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いることができる。光学異方性層の厚さ方向において、ディスコティック液晶化合物が実質的に一様の角度で傾斜配向していてもよいし、傾斜角度が異なるハイブリッド配向をしていてもよいが、ハイブリッド配向がより好ましい。
ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＥＣＢモード、ＨＡＮモードなどの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、ディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層の面内のレタデーションは、０〜５０ｎｍであることが好ましく、１５〜４５ｎｍであることがさらに好ましく、２０〜４０ｎｍであることが最も好ましい。また、透明支持体を含んでもよい。該支持体の面内のレタデーションは、０〜６０ｎｍであることが好ましく、０〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。さらに、該支持体の厚さ方向のレタデーションは、４０〜３００ｎｍであることが好ましく、６０ｎｍ〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。
【０１１３】
［偏光板］
本発明の偏光板は、本発明の光学補償フィルムと偏光膜とが貼り合わされてなる。本発明の光学補償フィルムは偏光膜の保護膜としても機能できる。前記支持体が偏光膜の保護膜として機能して、光学補償フィルム一体型偏光板として提供されるのが好ましい。また、本発明の光学補償フィルムと保護膜を有す偏光板とを貼り合わされてもよい。
【０１１４】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の吸収軸は、フィルムの延伸方向に相当する。従って、縦方向（搬送方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して平行に吸収軸を有し、横方向（搬送方向と垂直方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して垂直に吸収軸を有す。
【０１１５】
偏光膜は一般に保護膜を有する。本発明において、液晶化合物からなる光学異方性層を透明支持体上に形成した場合、該透明支持体を保護膜として機能させることができる。その支持体とは別に偏光膜の保護膜を用いる場合は、保護膜として光学的等方性が高いセルロースエステルフィルムやノルボルネン系ポリマーフィルムを用いることが好ましい。
【０１１６】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、前記光学補償フィルムを少なくとも有し、反射型、半透過型、透過型液晶表示装置等が含まれる。液晶表示装置は一般的に、偏光板、液晶セル、および必要に応じて位相差板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート、カラーフィルター等の部材から構成されるが、本発明においては前記光学補償フィルムを使用することを必須とする点を除いて特に制限は無い。また前記光学補償フィルムの使用位置は特に制限はなく、また、１カ所でも複数カ所でも良い。液晶セルとしては特に制限されず、電極を備える一対の透明基板で液晶層を狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。液晶セルを構成する前記透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。前記液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶性化合物、高分子液晶性化合物およびこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性化合物等を添加することもできる。
【０１１７】
前記液晶セルは、前記電極基板および液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていても良い。前記液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であっても良い。カラーフィルターを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。
【実施例】
【０１１８】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１１９】
［実施例１］
＜セルロースアセテートフィルムＡの作製＞
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
【０１２０】
セルロースアセテート溶液Ａの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．９４のセルロースアセテート      １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１２１】
（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
【０１２２】
マット剤溶液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液            １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                          ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                    １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１２３】
（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液を調製した。
【０１２４】
添加剤溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――
下記の光学的異方性低下剤                ４９．３質量部
下記の波長分散調整剤                      ４．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                    ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ              １２．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――
【０１２５】
【化３７】
2006285187.tif 000038
【０１２６】
【化３８】
2006285187.tif 000039
【０１２７】
（セルロースアセテートフィルムＡの作製）
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学的異方性を低下する化合物および波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．２％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させ、厚さ８０μｍの長尺状のセルロースアセテートフィルムＡを製造した。得られたフィルムの面内レタデーション（Ｒｅ）は１ｎｍ（遅相軸はフィルム長手方向と垂直な方向）、厚み方向のレタデーション（Ｒｔｈ）は−１ｎｍであった。
【０１２８】
＜光学補償フィルムＡ−１の作製＞
（フィルム表面の鹸化処理）
セルロースアセテートフィルムＡの上に、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液をロッドコーターを用いて塗布量１５ｃｃ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に１５秒滞留させた後に、同じくロッドコーターを用いて純水を３ｃｃ／ｍ2塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥した。
【０１２９】
アルカリ溶液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム                                    ８．５５質量％
水                                            ２３．２３５質量％
イソプロパノール                                ５４．２０質量％
界面活性剤（Ｃ14Ｈ29Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)2ＯＨ）           １．０質量％
プロピレングリコール                              １３．０質量％
消泡剤サーフィノールＤＦ１１０Ｄ（日信化学工業（株）製）
０．０１５質量％
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３０】
（配向膜の形成）
セルロースアセテートフィルムＡの鹸化処理した表面に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。次に、形成した膜にフィルムの長手方向に対して４５°の方向に連続的にラビング処理を施した。
【０１３１】
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール      １０質量部
水                                ３７１質量部
メタノール                        １１９質量部
グルタルアルデヒド                ０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――
【０１３２】
【化３９】
2006285187.tif 000040
【０１３３】
（光学異方性層の形成）
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液を上記作製した配向膜上に＃３．６のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、さらに１３０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成し、光学補償フィルムＡ−１を作製した。
【０１３４】
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶性化合物                    ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ９質量部
光重合開始剤（例示化合物１）                            ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
下記のフッ素系ポリマー（Ａ）                        ０．４質量部
下記のピリジニム塩（Ｂ）                            ０．５質量部
メタノール                                            ３０質量部
メチルエチルケトン                                  １６５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３５】
【化４０】
2006285187.tif 000041
【０１３６】
【化４１】
2006285187.tif 000042
【０１３７】
【化４２】
2006285187.tif 000043
【０１３８】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、上記作製した光学補償フィルムＡ−１の５８９ｎｍにおけるＲｅの光入射角度依存性を測定した。光学異方性層の有するＲｅは１２２ｎｍ、Ｒｔｈは−６１ｎｍであることがわかった。これらの結果からディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。また、遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であり、支持体の長手方向となす角は４５°であった。
【０１３９】
［実施例２］
＜光学補償フィルムＡ−２〜７の作製＞
上記実施例１において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）を例示化合物８、例示化合物１９、例示化合物２８、例示化合物３０、例示化合物４１、または、例示化合物４２に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＡ−１の作製と同様にして、それぞれ、光学補償フィルムＡ−２、Ａ−３、Ａ−４、Ａ−５、Ａ−６、Ａ−７を作製した。
【０１４０】
［比較例１］
＜光学補償フィルムＡ−８の作製＞
上記実施例１において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）をイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＡ−１の作製と同様にして、光学補償フィルムＡ−８を作製した。
【０１４１】
上記実施例１と同様にして、作製した光学補償フィルムＡ−２〜８の光学特性を測定したところ、いずれも光学補償フィルムＡ−１と実質的に等しい光学特性を有しており、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。また、遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であり、支持体の長手方向となす角は４５°であった。
【０１４２】
［実施例３］
＜セルロースアセテートフィルムＢの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ｂを調製した。該溶液を保留粒子径４μｍ、濾水時間３５秒の濾紙（Ｎｏ．６３、アドバンテック製）を０．５ＭＰａ（５ｋｇ／ｃｍ2）以下で用いて濾過した。
【０１４３】
セルロースアセテート溶液Ｂの組成
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート
（重合度３００、Ｍｎ／Ｍｗ＝１．５）                    １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                            １１質量部
────────────────────────────────────
【０１４４】
別のミキシングタンクに、下記のレタデーション上昇剤Ａを１６質量部、レタデーション上昇剤Ｂを８質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒径：０．１μｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レタデーション上昇剤溶液（かつ微粒子分散液）を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該レタデーション上昇剤溶液４５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
【０１４５】
【化４３】
2006285187.tif 000044
【０１４６】
【化４４】
2006285187.tif 000045
【０１４７】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後クリップを外してセルロースアセテートフィルムＢを作製した。延伸終了時の残留溶媒量は５質量％であり、さらに乾燥して残留溶媒量を０．１質量％未満としてフィルムを作製した。
【０１４８】
作製したセルロースアセテートフィルムＢの厚さは８０μｍであった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定した。Ｒｅは６０ｎｍ、Ｒｔｈは２１０ｎｍであった。
【０１４９】
＜光学補償フィルムＢ−１の作製＞
（光学異方性層の形成）
上記作製したセルロースアセテートフィルムＢの表面をケン化後、実施例１と同様にして配向膜を形成した。下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液を配向膜上に＃４．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及び棒状液晶化合物の配向熟成のために、９０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し、光学補償フィルムＢ−１を作製した。
【０１５０】
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物                              １００質量部
光重合開始剤（例示化合物１）                            ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
下記のフッ素系ポリマー（Ｃ）                        ０．２質量部
下記のフッ素系ポリマー（Ｄ）                        ０．２質量部
下記のピリジニム塩（Ｅ）                                ２質量部
メタノール                                            ３０質量部
メチルエチルケトン                                  １６８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１５１】
【化４５】
2006285187.tif 000046
【０１５２】
【化４６】
2006285187.tif 000047
【０１５３】
【化４７】
2006285187.tif 000048
【０１５４】
【化４８】
2006285187.tif 000049
【０１５５】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、光学補償フィルムＢ−１のＲｅの光入射角度依存性を測定した。光学異方性層の有するＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは−２２０ｎｍであることがわかった。また、棒状液晶分子の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、棒状液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。
【０１５６】
［実施例４］
＜光学補償フィルムＢ−２〜７の作製＞
上記実施例３において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）を例示化合物８、例示化合物１９、例示化合物２８、例示化合物３０、例示化合物４１、または、例示化合物４２に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＢ−１の作製と同様にして、それぞれ、光学補償フィルムＢ−２、Ｂ−３、Ｂ−４、Ｂ−５、Ｂ−６、Ｂ−７を作製した。
【０１５７】
［比較例２］
＜光学補償フィルムＢ−８の作製＞
上記実施例３において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）をイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＢ−１の作製と同様にして、光学補償フィルムＢ−８を作製した。
【０１５８】
上記実施例３と同様にして、作製した光学補償フィルムＢ−２〜８の光学特性を測定したところ、いずれも光学補償フィルムＢ−１と実質的に等しい光学特性を有しており、棒状液晶性分子の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、棒状液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。
【０１５９】
［実施例５］
＜セルロースアセテートフィルムＣの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ｃを調製した。
【０１６０】
セルロースアセテート溶液Ｃの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                      ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）              ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                          ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                    ４５質量部
染料（住化ファインケム（株）製  ３６０ＦＰ）      ０．０００９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６１】
別のミキシングタンクに、上記のレタデーション上昇剤Ａを１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レタデーション上昇剤溶液を調製した。
上記組成のセルロースアセテート溶液４６４質量部にレタデーション上昇剤溶液３６質量部、およびシリカ微粒子（アイロジル製  Ｒ９７２）１．１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レタデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、５．０質量部であった。また、シリカ微粒子の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．１５質量部であった。
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルムＣを作製した。
作製したセルロースアセテートフィルムＣの厚さは１０９μｍであった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定した。Ｒｅは７ｎｍ、Ｒｔｈは８５ｎｍであった。
【０１６２】
＜光学補償フィルムＣ−１の作製＞
（光学異方性層の形成）
上記作製したセルロースアセテートフィルムＣの表面をケン化後、実施例１と同様にして配向膜を形成した。下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液を配向膜上に＃６．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、さらに１３０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成し、光学補償フィルムＣ−１を作製した。
【０１６３】
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記のディスコティック液晶性化合物                    ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ９質量部
光重合開始剤（例示化合物１）                            ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
上記のフッ素系ポリマー（Ｄ）                        ０．４質量部
下記の水平配向剤                                    ０．２質量部
メチルエチルケトン                                  １９５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６４】
【化４９】
2006285187.tif 000050
【０１６５】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、光学補償フィルムＣ−１のＲｅの光入射角度依存性を測定した。光学異方性層の有するＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは１１０ｎｍであることがわかった。また、ディスコティック液晶分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して水平に配向していることが確認できた。
【０１６６】
［実施例６］
＜光学補償フィルムＣ−２〜７の作製＞
上記実施例５において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）を例示化合物８、例示化合物１９、例示化合物２８、例示化合物３０、例示化合物４１、または、例示化合物４２に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＣ−１の作製と同様にして、それぞれ、光学補償フィルムＣ−２、Ｃ−３、Ｃ−４、Ｃ−５、Ｃ−６、Ｃ−７を作製した。
【０１６７】
［比較例３］
＜光学補償フィルムＣ−８の作製＞
上記実施例５において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）をイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＣ−１の作製と同様にして、光学補償フィルムＣ−８を作製した。
【０１６８】
上記実施例５と同様にして、作製した光学補償フィルムＣ−２〜８の光学特性を測定したところ、いずれも光学補償フィルムＣ−１と実質的に等しい光学特性を有しており、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して水平に配向していることが確認できた。
【０１６９】
［実施例７］
＜光学補償フィルムＤ−１の作製＞
（光学異方性層の形成）
上記作製したセルロースアセテートフィルムＡの表面をケン化後、実施例１と同様にして配向膜を形成した。下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液を配向膜上に＃４．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及び棒状液晶化合物の配向熟成のために、９０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し、光学補償フィルムＤ−１を作製した。
【０１７０】
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶性化合物                              １００質量部
光重合開始剤（例示化合物１）                            ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
上記のフッ素系ポリマー（Ｄ）                        ０．４質量部
上記の水平配向剤                                    ０．２質量部
メチルエチルケトン                                  １９５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７１】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、光学補償フィルムＤ−１のＲｅの光入射角度依存性を測定した。光学異方性層の有するＲｅは９４ｎｍ、Ｒｔｈは４７ｎｍであることがわかった。また、棒状液晶分子の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、棒状液晶がフィルム面に対して水平に配向していることが確認できた。
【０１７２】
［実施例８］
＜光学補償フィルムＤ−２〜７の作製＞
上記実施例７において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）を例示化合物８、例示化合物１９、例示化合物２８、例示化合物３０、例示化合物４１、または、例示化合物４２に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＤ−１の作製と同様にして、それぞれ、光学補償フィルムＤ−２、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−５、Ｄ−６、Ｄ−７を作製した。
【０１７３】
［比較例４］
＜光学補償フィルムＤ−８の作製＞
上記実施例７において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）をイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＤ−１の作製と同様にして、光学補償フィルムＤ−８を作製した。
【０１７４】
上記実施例７と同様にして、作製した光学補償フィルムＤ−２〜８の光学特性を測定したところ、いずれも光学補償フィルムＤ−１と実質的に等しい光学特性を有しており、棒状液晶性分子の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、棒状液晶がフィルム面に対して水平に配向していることが確認できた。
【０１７５】
［実施例９］
＜光学補償フィルムＥ−１の作製＞
（光学異方性層の形成）
上記実施例１と同様にして、セルロースアセテートフィルムＡ上にディスコティック液晶化合物が垂直配向した光学異方性層を有する光学補償フィルムＡ−１を作製した。該光学異方性層が形成された面と反対側の表面をケン化後、実施例１と同様にして配向膜を形成した。実施例２の棒状液晶化合物を含む塗布液を配向膜上に＃３．４のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及び棒状液晶化合物の配向熟成のために、９０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し、光学補償フィルムＥ−１を作製した。
【０１７６】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、光学補償フィルムＥ−１のＲｅの光入射角度依存性を測定した。新たに形成した棒状液晶化合物からなる光学異方性層の有するＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは−１８２ｎｍであることがわかった。また、棒状液晶分子の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、棒状液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。また、光学補償フィルムＥ−１全体のＲｅは１２２ｎｍ、Ｒｔｈは−２４３ｎｍであった。
【０１７７】
［実施例１０］
＜光学補償フィルムＥ−２〜７の作製＞
上記実施例９において、棒状液晶化合物を含有する塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）を例示化合物８、例示化合物１９、例示化合物２８、例示化合物３０、例示化合物４１、または、例示化合物４２に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＥ−１の作製と同様にして、それぞれ、光学補償フィルムＥ−２、Ｅ−３、Ｅ−４、Ｅ−５、Ｅ−６、Ｅ−７を作製した。
【０１７８】
［比較例５］
＜光学補償フィルムＥ−８の作製＞
上記実施例９において、ディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層塗布液および棒状液晶性化合物を含む光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）をイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＥ−１の作製と同様にして、光学補償フィルムＥ−８を作製した。
【０１７９】
上記実施例９と同様にして、作製した光学補償フィルムＥ−２〜８の光学特性を測定したところ、いずれも光学補償フィルムＥ−１と実質的に等しい光学特性を有しており、セルロースアセテートフィルムＡの一方の面ではディスコティック液晶がフィルム面に対し垂直に配向しており、もう一方の面では棒状液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。
【０１８０】
［実施例１１］
＜光学補償フィルムＦ−１の作製＞
（光学異方性層の形成）
上記実施例１と同様にして、セルロースアセテートフィルムＡを作製し、表面をケン化後、実施例１と同様にして配向膜を形成した。下記の組成のディスコティック液晶化合物および棒状液晶化合物を含む塗布液を配向膜上に＃４．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及び棒状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で１２０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し、光学補償フィルムＦ−１を作製した。
【０１８１】
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記のディスコティック液晶化合物                      ９０質量部
上記の棒状液晶性化合物                                １０質量部
光重合開始剤（例示化合物１）                            ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
上記のフッ素系ポリマー（Ｃ）                        ０．２質量部
上記のフッ素系ポリマー（Ｄ）                        ０．２質量部
上記のピリジニム塩（Ｅ）                            ０．５質量部
メタノール                                            ３０質量部
メチルエチルケトン                                  １６８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８２】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、光学補償フィルムＦ−１のＲｅの光入射角度依存性を測定した。光学補償フィルムＦ−１のＲｅは１２０ｎｍ、Ｒｔｈは−９６ｎｍであった。
【０１８３】
［実施例１２］
＜光学補償フィルムＦ−２〜７の作製＞
上記実施例９において、ディスコティック液晶化合物および棒状液晶化合物を含有する塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）を例示化合物８、例示化合物１９、例示化合物２８、例示化合物３０、例示化合物４１、または、例示化合物４２に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＦ−１の作製と同様にして、それぞれ、光学補償フィルムＦ−２、Ｆ−３、Ｆ−４、Ｆ−５、Ｆ−６、Ｆ−７を作製した。
【０１８４】
［比較例６］
＜光学補償フィルムＦ−８の作製＞
上記実施例１１において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）をイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＦ−１の作製と同様にして、光学補償フィルムＦ−８を作製した。
【０１８５】
上記実施例１１と同様にして、作製した光学補償フィルムＦ−２〜８の光学特性を測定したところ、いずれも光学補償フィルムＦ−１と実質的に等しい光学特性を有していることが確認できた。
【０１８６】
［実施例１３］
＜光学補償フィルムＧ−１の作製＞
（光学異方性層の形成）
上記作製したセルロースアセテートフィルムＡの表面をケン化後、実施例１と同様にして配向膜を形成した。下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液を配向膜上に＃６．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及び棒状液晶化合物の配向熟成のために、９０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し、光学補償フィルムＧ−１を作製した。
【０１８７】
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶性化合物                                ８８質量部
光重合開始剤（例示化合物１）                            ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
上記のフッ素系ポリマー（Ｄ）                        ０．４質量部
上記の水平配向剤                                    ０．２質量部
下記のカイラル剤                                      １２質量部
メチルエチルケトン                                  １９５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８８】
【化５０】
2006285187.tif 000051
【０１８９】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、光学補償フィルムＧ−１のＲｅの光入射角度依存性を測定した。光学異方性層の有するＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは１８０ｎｍであることがわかった。また、該光学異方性層は螺旋ピッチが１２０ｎｍのコレステリック配向をしていることが確認できた。
【０１９０】
［実施例１４］
＜光学補償フィルムＧ−２〜７の作製＞
上記実施例１３において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）を例示化合物８、例示化合物１９、例示化合物２８、例示化合物３０、例示化合物４１、または、例示化合物４２に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＧ−１の作製と同様にして、それぞれ、光学補償フィルムＧ−２、Ｇ−３、Ｇ−４、Ｇ−５、Ｇ−６、Ｇ−７を作製した。
【０１９１】
［比較例７］
＜光学補償フィルムＧ−８の作製＞
上記実施例１３において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）をイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＧ−１の作製と同様にして、光学補償フィルムＧ−８を作製した。
【０１９２】
上記実施例１３と同様にして、作製した光学補償フィルムＧ−２〜８の光学特性を測定したところ、いずれも光学補償フィルムＧ−１と実質的に等しい光学特性を有しており、螺旋ピッチが１２０ｎｍのコレステリック配向をしていることが確認できた。
【０１９３】
［実施例１５］
＜光学補償フィルムＨ−１の作製＞
（光学異方性層の形成）
上記作製したセルロースアセテートフィルムＡの表面をケン化後、実施例１と同様にして配向膜を形成した。下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液を配向膜上に＃３．４のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及び棒状液晶化合物の配向熟成のために、９０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し、光学補償フィルムＨ−１を作製した。
【０１９４】
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶性化合物                              １００質量部
光重合開始剤（例示化合物１）                            ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
上記のフッ素系ポリマー（Ａ）                        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                  １９５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９５】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、光学補償フィルムＨ−１の法線方向からのＲｅを測定した。光学異方性層の有するＲｅは１３８ｎｍであった。また、クリスタルローテーション法を応用して傾斜角を測定したところ、配向膜界面付近の平均傾斜が１０°で、空気界面付近の平均傾斜が７０°で、かつ光学異方性層全体での平均傾斜角が４０°であるハイブリッド配向をしていることがわかった。
【０１９６】
［実施例１６］
＜光学補償フィルムＨ−２〜７の作製＞
上記実施例１５において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）を例示化合物８、例示化合物１９、例示化合物２８、例示化合物３０、例示化合物４１、または、例示化合物４２に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＨ−１の作製と同様にして、それぞれ、光学補償フィルムＨ−２、Ｈ−３、Ｈ−４、Ｈ−５、Ｈ−６、Ｈ−７を作製した。
【０１９７】
［比較例８］
＜光学補償フィルムＨ−８の作製＞
上記実施例１５において、光学異方性層塗布液に含まれる例示化合物１（光重合開始剤）をイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）に当質量置き換えて光学異方性層を形成する以外は、光学補償フィルムＨ−１の作製と同様にして、光学補償フィルムＨ−８を作製した。
【０１９８】
上記実施例１５と同様にして、作製した光学補償フィルムＨ−２〜８の光学特性を測定したところ、いずれも光学補償フィルムＨ−１と実質的に等しい光学特性を有しており、配向膜界面付近の平均傾斜が１０°で、空気界面付近の平均傾斜が７０°で、かつ光学異方性層全体での平均傾斜角が４０°であるハイブリッド配向をしていることがわかった。
【０１９９】
＜光学異方性層の密着性評価＞
上記作製した光学補償フィルムについて、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準拠してクロスカット法による剥離試験を行った。比較例の光学補償フィルムＡ−８、Ｂ−８、Ｃ−８、Ｄ−８、Ｅ−８、Ｆ−８、Ｇ−８、Ｈ−８では、液晶化合物から形成された光学異方性層の剥がれが観察されたのに対し、本発明の光学補償フィルムＡ−１〜７、Ｂ−１〜７、Ｃ−１〜７、Ｄ−１〜７、Ｅ−１〜７、Ｆ−１〜７、Ｇ−１〜７、Ｈ−１〜７では、光学異方性層の剥がれは観察されなかった。
【０２００】
［実施例１７］
＜偏光板Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｇ、Ｈの作製＞
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。
この偏光膜の両面に、上記作製したセルロースアセテートフィルムＡをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せて、長尺の偏光板Ａを作製した。
また、上記作製した偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＢ−１の光学異方性層が形成されていない面を、もう一方にセルロースアセテートフィルムＡをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せて、長尺の偏光板Ｂを作製した。偏光膜の吸収軸はフィルム長手方向に対して平行であり、光学補償フィルムＢ−１に含まれるセルロースアセテートフィルムＢの遅相軸はフィルム長手方向と直交していた。
同様にして、上記作製した偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＣ−１の光学異方性層が形成されていない面を、もう一方にセルロースアセテートフィルムＡを貼り合せて、長尺の偏光板Ｃを作製した。偏光膜の吸収軸はフィルム長手方向に対して平行であり、光学補償フィルムＣ−１に含まれるセルロースアセテートフィルムＣの遅相軸はフィルム長手方向と平行であった。
同様にして、上記作製した偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＧ−１の光学異方性層が形成されていない面を、もう一方にセルロースアセテートフィルムＡを貼り合せて、長尺の偏光板Ｇを作製した。偏光膜の吸収軸はフィルム長手方向に対して平行であった。
同様にして、上記作製した偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＨ−１の光学異方性層が形成されていない面を、もう一方にセルロースアセテートフィルムＡを貼り合せて、長尺の偏光板Ｈを作製した。偏光膜の吸収軸はフィルム長手方向に対して平行であり、光学補償フィルムＨ−１の棒状液晶を含む光学異方性層の遅相軸はフィルム長手方向に対して４５°であった。
なお、セルロースアセテートフィルムＡ、光学補償フィルムＢ−１、光学補償フィルムＣ−１、光学補償フィルムＧ−１および光学補償フィルムＨ−１の偏光膜と貼り合せる面は、実施例１のようにしてケン化処理を行ってから偏光膜と貼り合せた。
【０２０１】
＜偏光板Ｄの作製＞
上記作製した偏光板Ａと光学補償フィルムＤ−１を裁断し、粘着剤を用いて貼り合せて、偏光板Ｄを作製した。このとき、偏光板Ａに含まれるセルロースアセテートフィルムＡと、光学補償フィルムＤ−１の棒状液晶化合物を含む光学異方性層の反対側の面とが接するようにし、また、偏光板Ａの吸収軸と光学補償フィルムＤ−１の遅相軸が直交するように貼り合せた。
【０２０２】
＜偏光板ＢＥ、ＣＥ、ＧＥの作製＞
上記作製した偏光板Ｂと光学補償フィルムＥ−１を粘着剤を用いて貼り合せて、偏光板ＢＥを作製した。このとき、偏光板Ｂの光学補償フィルムＢ−１の貼られていない面と、光学補償フィルムＥ−１のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層とが接するようにし、また、偏光板Ｂの吸収軸と光学補償フィルムＥ−１の遅相軸は４５°となるように貼り合せた。
同様にして、偏光板Ｃおよび光学補償フィルムＥ−１を貼り合せ、偏光板ＣＥを作製した。同様にして、偏光板Ｇおよび光学補償フィルムＥ−１を貼り合せ、偏光板ＧＥを作製した。
【０２０３】
＜輝度向上膜付き偏光板ＢＥ、ＣＥ、ＧＥの作製＞
特開２００３−３３７２２１号公報の実施例に記載の方法と同様にして、長尺状のコレステリック液晶フィルムを作製した。上記作製した偏光板ＢＥの光学補償フィルムＥ−１側の面にコレステリック液晶性フィルムを連続的に貼り合せ、長尺状の円偏光分離型輝度向上膜付き偏光板ＢＥを作製した。
同様にして、偏光板ＣＥとコレステリック液晶性フィルムを連続的に貼り合せ、長尺状の円偏光分離型輝度向上膜付き偏光板ＣＥを作製した。同様にして、偏光板ＧＥとコレステリック液晶性フィルムを連続的に貼り合せ、長尺状の円偏光分離型輝度向上膜付き偏光板ＧＥを作製した。
【０２０４】
＜ＩＰＳモード液晶表示装置の作製＞
一枚のガラス基板上に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、セルギャップ（ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせた。次いで、屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入し、縦２０ｃｍ、横３０ｃｍである水平配向液晶セルを作製した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。
上記の水平配向セルの上下のガラス基板に、偏光板Ａと輝度向上膜付き偏光板ＢＥを粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、偏光板Ａが視認者側のガラス基板に接するように、また、偏光板ＢＥに含まれる光学補償フィルムＢ−１がバックライト側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、偏光板Ａの吸収軸と液晶セルのラビング方向は平行になるようにし、偏光板Ａと偏光板ＢＥの吸収軸は直交するように配置した。
【０２０５】
＜ＶＡモード液晶表示装置の作製＞
ポリビニルアルコール３質量％水溶液に、オクタデシルジメチルアンモニウムクロライド（カップリング剤）を１質量％添加した。これを、ＩＴＯ電極付きのガラス基板上にスピンコートし、１６０℃で熱処理した後、ラビング処理を施して、垂直配向膜を形成した。ラビング処理は、２枚のガラス基板において反対方向となるように実施した。セルギャップ（ｄ）が約５．０μｍとなるように２枚のガラス基板を向かい合わせた。セルギャップに、エステル系とエタン系を主成分とする液晶性化合物（Δｎ：０．０６）を注入し、縦２０ｃｍ、横３０ｃｍである垂直配向液晶セルを作製した。Δｎとｄとの積は３００ｎｍであった。
上記の垂直配向セルの上下のガラス基板に、偏光板Ｄと輝度向上膜付き偏光板ＣＥを粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、偏光板Ｄに含まれる光学補償フィルムＤ−１が視認者側のガラス基板に接するように、また、偏光板ＣＥに含まれる光学補償フィルムＣ−１がバックライト側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、偏光板Ｄと偏光板ＣＥの吸収軸は直交するように配置した。このようにしてＶＡモード液晶表示装置１を作製した。輝度向上膜付き偏光板ＧＥを用いる以外は上記と同様にして、ＶＡモード液晶表示装置２を作製した。
【０２０６】
［比較例９］
実施例１７の偏光板の作製および液晶表示装置の作製において、光学補償フィルムＢ−１の代わりにＢ−８、光学補償フィルムＣ−１の代わりにＣ−８、光学補償フィルムＤ−１の代わりにＤ−８、光学補償フィルムＥ−１の代わりにＥ−８、光学補償フィルムＧ−１の代わりにＧ−８を用いる以外は、上記と同様にして、ＩＰＳモード液晶表示装置およびＶＡモード液晶表示装置を作製した。
【０２０７】
実施例１７のＩＰＳモード液晶表示装置とＶＡモード液晶表示装置、比較例９のＩＰＳモード液晶表示装置とＶＡモード液晶表示装置を、それぞれ１０台作製した。実施例１７の液晶表示装置３０台のうち、使用されたいずれかの光学補償フィルムで光学異方性層の剥がれが観測されたものは０台だったのに対し、比較例９では、液晶表示装置３０台のうち、光学異方性層の剥がれが６台に観測された。