(57)【要約】【課題】  センタードームを弾性的に支持するサブドームに対して、制振用の周辺処理剤を決まった位置に所定量ずつ確実に塗布できるようにする。【解決手段】  ボイスコイル１３を有するセンタードーム１１およびその外周に一体的に連設されたサブドーム１２を備える振動板１０と、永久磁石２２１の一方の極に接続されたポールピース２２２と他方の極に接続されたリングヨーク２２４との間に所定幅の磁気ギャップＧを有する磁気回路２２を備えるユニットケース２０とを含み、ボイスコイル１３が磁気ギャップＧ内に振動可能に位置するようにサブドーム１２の外周辺部１２１をユニットケース２０に支持してなるダイナミックマイクロホンユニットにおいて、ユニットケース２０に支持されているサブドーム１２の外周辺部１２１の全周にわたって所定高さの堰４１を環状に形成したのち、サブドーム１２の頂部１２２と堰４１との間に制振用の周辺処理剤４２を塗布する。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボイスコイルを有するセンタードームおよび上記センタードームの外周に一体的に連設されたサブドームを備える振動板と、永久磁石の一方の極に接続されたポールピースと他方の極に接続されたリングヨークとの間に所定幅の磁気ギャップを有する磁気回路を備えるユニットケースとを含み、上記ボイスコイルが上記磁気ギャップ内に振動可能に位置するように上記サブドームの外周辺部を上記ユニットケースに支持してなるダイナミックマイクロホンユニットにおいて、
上記サブドームの外周辺部にその全周にわたって環状に形成された所定高さの堰と、上記サブドームの頂部と上記堰との間に塗布された制振用の周辺処理剤とを備えていることを特徴とするダイナミックマイクロホンユニット。
【請求項２】
ボイスコイルを有するセンタードームおよび上記センタードームの外周に一体的に連設されたサブドームを備える振動板と、永久磁石の一方の極に接続されたポールピースと他方の極に接続されたリングヨークとの間に所定幅の磁気ギャップを有する磁気回路を備えるユニットケースとを含み、上記ボイスコイルが上記磁気ギャップ内に振動可能に位置するように上記サブドームの外周辺部を上記ユニットケースに支持してなるダイナミックマイクロホンユニットの製造方法において、
上記ユニットケースに支持されている上記サブドームの外周辺部の全周にわたって所定高さの堰を環状に形成したのち、上記サブドームの頂部と上記堰との間に制振用の周辺処理剤を塗布することを特徴とするダイナミックマイクロホンユニットの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ダイナミックマイクロホンユニットおよびその製造方法に関し、さらに詳しく言えば、振動板に制振用の周辺処理剤を塗布して周波数応答を改善する技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ダイナミックマイクロホンユニットは、ボイスコイルが一体的に取り付けられた振動板と、永久磁石の一方の極に接続されたポールピースと他方の極に接続されたリングヨークとの間に磁気ギャップを有する磁気回路とを含み、上記磁気ギャップ内でボイスコイルを振動板とともに振動させることにより音波を電気信号に変換する電気音響変換器で、動電型とも呼ばれている。
【０００３】
ダイナミックマイクロホンユニットに用いられる振動板は、センタードームと、センタードームを支持するためその外周に一体的に連設されたサブドームとを備え、通常、その全体がポリエチレンフィルムなどの合成樹脂薄膜よりなり、センタードームとサブドームの境界部分にボイスコイルが接着材により一体的に取り付けられる。
【０００４】
ところで、振動板の低域の共振周波数を低くすることにより、低い周波数での収音が可能となるが、単一指向性ダイナミックマイクロホンの制御方式は主として質量制御であるため、振動板の共振周波数を低くするには、ボイスコイルを重くする方法と、サブドームのスチフネスを小さくする（バネ性を弱くする）方法とがある。
【０００５】
しかしながら、ボイスコイルを重くする方法では、主としてマイクグリップを手で擦ることにより生ずるバンドリングノイズが増加するため、手持ちのマイクロホンにとって好ましくない。
【０００６】
また、サブドームのスチフネスを小さくするには、例えばサブドームのフィルム厚を薄くする方法と、曲率半径を大きくする方法とがあるが、いずれにしてもサブドームの機械的強度が弱められることになるため、これによって周波数応答の２〜８ｋＨｚの帯域で異常共振が発生し易くなる。
【０００７】
この異常共振を防止するため、特許文献１に記載の発明では、センタードームを弾性的に支持するサブドームの頂点部分に、一例として合成ゴムやアクリルゴムにトリクロルエタンなどの有機溶剤を含む溶液で構成された制振用の周辺処理剤を半径方向に適当な幅を有し、円周方向に適当な長さを持つパターンで複数個所に塗布するようにしている。
【０００８】
【特許文献１】実開平５−４３６９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記特許文献１に記載の発明によれば、サブドームに適当な間隔をもって周辺処理剤を塗布することにより、振動板のスチフネスの変化がきわめて小さくなり、特定周波数での異常共振が防止され、低域限界の急激な減衰を防止して低い音も確実に収音することができる。
【００１０】
しかしながら、周辺処理剤をサブドームの頂点部分に塗布するようにしているため、周辺処理剤がサブドームの頂点部分を分水嶺としてその外側もしくは内側に流動し易く、しかもそのいずれかに流動するかはその時々によって異なるため、周波数応答にバラツキが出るという問題がある。
【００１１】
したがって、本発明の課題は、センタードームを弾性的に支持するサブドームに対して制振用の周辺処理剤を決まった位置に所定量ずつ確実に塗布できるようにして、品質の揃ったダイナミックマイクロホンユニットを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、ボイスコイルを有するセンタードームおよび上記センタードームの外周に一体的に連設されたサブドームを備える振動板と、永久磁石の一方の極に接続されたポールピースと他方の極に接続されたリングヨークとの間に所定幅の磁気ギャップを有する磁気回路を備えるユニットケースとを含み、上記ボイスコイルが上記磁気ギャップ内に振動可能に位置するように上記サブドームの外周辺部を上記ユニットケースに支持してなるダイナミックマイクロホンユニットにおいて、上記サブドームの外周辺部にその全周にわたって環状に形成された所定高さの堰と、上記サブドームの頂部と上記堰との間に塗布された制振用の周辺処理剤とを備えていることを特徴としている。
【００１３】
また、請求項２に記載の発明は、ボイスコイルを有するセンタードームおよび上記センタードームの外周に一体的に連設されたサブドームを備える振動板と、永久磁石の一方の極に接続されたポールピースと他方の極に接続されたリングヨークとの間に所定幅の磁気ギャップを有する磁気回路を備えるユニットケースとを含み、上記ボイスコイルが上記磁気ギャップ内に振動可能に位置するように上記サブドームの外周辺部を上記ユニットケースに支持してなるダイナミックマイクロホンユニットの製造方法において、上記ユニットケースに支持されている上記サブドームの外周辺部の全周にわたって所定高さの堰を環状に形成したのち、上記サブドームの頂部と上記堰との間に制振用の周辺処理剤を塗布することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、サブドームの外周辺部にその全周にわたって所定高さの堰を環状に形成し、その堰とサブドームの頂部との間に制振用の周辺処理剤を塗布するようにしたことにより、周辺処理剤が堰を越えて流失することがなく、したがってサブドームに対して制振用の周辺処理剤を決まった位置に所定量ずつ確実に塗布することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
次に、図１ないし図３により、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。図１はダイナミックマイクロホンユニットが備える基本的な構成を示す分解断面図、図２および図３は制振用の周辺処理剤を塗布する工程を説明するための断面図である。
【００１６】
図１に示すように、ダイナミックマイクロホンユニット１は、基本的な構成として、振動板１０，ユニットケース２０およびレゾネータ３０を備えている。振動板１０には、センタードーム１１と、センタードーム１１を支持するためその周りに一体的に連設されたサブドーム１２とが含まれている。
【００１７】
センタードーム１１とサブドーム１２は、例えばポリエチレンフィルムなどの合成樹脂薄膜を図示しない金型上に配置し、加熱プレスすることにより一体に形成することができる。センタードーム１１とサブドーム１２の境界部分に、ボイスコイル１３が接着材を介して一体的に固定される。センタードーム１１とサブドーム１２の各ドーム曲率は任意に選択されてよい。
【００１８】
ユニットケース２０は、非磁性体からなるほぼ円筒状に形成されたハウジング２１を備え、このハウジング２１内に磁気回路２２が支持されている。このダイナミックマイクロホンユニット１は単一指向性であるため、ハウジング２１にはサイドダンパー２１２および音響抵抗材２１５を有する後方音響端子２１１が設けられている。また、ハウジング２１の外側には上記ボイスコイルの引き出し線が接続される端子板２１３が取り付けられているとともに、ハウジング２１内には所定容積の後部空気室２１４が設けられている。
【００１９】
磁気回路２２は、円盤状に形成された永久磁石２２１と、永久磁石２２１の一方の極に接続されるセンターポールピース２２２と、永久磁石２２１の他方の極に接続される皿状に形成されたヨークメンバー２２３とを有し、この例では、ヨークメンバー２２３の開口端にセンターポールピース２２２との間で所定幅の磁気ギャップＧを形成するリングヨーク２２４が設けられている。
【００２０】
振動板１０は、ボイスコイル１３が磁気ギャップＧ内に入るようにしてユニットケース２０に被せられ、その後に振動板１０上にレゾネータ３０がさらに被せられる。レゾネータ３０は、金網などのメッシュ部材３１１にて覆われた前方音響端子３１を備えており、ハウジング２１との間でサブドーム１２の外周辺部１２１を挟持する。なお、サブドーム１２の外周辺部１２１を接着材にてユニットケース２０に固定してもよい。この固定は仮固定，本固定のいずれであってもよい。
【００２１】
これにより、ダイナミックマイクロホンユニット１内において、振動板１０のセンタードーム１１はサブドーム１１を介して弾性的に支持され、前方音響端子３１から到来する音波と、後方音響端子２１１から音響抵抗材２１５を介して到来する音波の圧力差によって振動し、これに伴ってボイスコイル１３に電磁誘導による電流が発生する。
【００２２】
このようにして、音波が電気信号に変換されるが、低域の共振周波数を低くするためサブドーム１２のスチフネスを小さくすると、上記したように周波数応答の２〜８ｋＨｚの部分で異常共振が発生することがある。これを防止するため、サブドーム１２に制振用の周辺処理剤を塗布するが、周辺処理剤を決まった位置に所定量ずつ確実に塗布するため、本発明では次の方法を採用している。これについて、図２と図３により説明する。
【００２３】
周辺処理剤の塗布は、振動板１０をユニットケース２０に被せる前の状態で行ってもよいが、そうするとユニットケース２０の磁気回路２２が外部に剥き出しになり、その磁気ギャップＧ内にゴミなどの異物が入り込み不良の原因となるおそれがあるため、図２に示すように、ユニットケース２０に振動板１０を被せた状態で周辺処理剤を塗布することが好ましい。
【００２４】
本発明においては、周辺処理剤の塗布を２工程に分けて行う。まず、第１工程として図２に示すように、サブトーム１２の外周辺部１２１の全周にわたって所定の高さを有する環状の堰４１を作る。堰４１を環状に形成するにはディスペンサを有する回転塗布機を用いるとよい。その場合、ユニットケース２０に対してディスペンサ側を公転させてもよいし、ディスペンサの位置は固定として、ユニットケース２０側を自転させてもよい。
【００２５】
この堰４１は周辺処理剤にて形成することが好ましいが、周辺処理剤以外の樹脂を用いてもよい。なお、適用される制振用の周辺処理剤としては、例えばケミテック社製の製品名５Ｘ６３４Ａ（紫外線硬化型樹脂）やセメダイン社製の製品名２２３Ｂ（ゴム系接着剤）などを例示することができる。
【００２６】
次に、堰４１を硬化させたのち、第２工程として図３に示すように、サブトーム１２の頂部１２２と堰４１との間に制振用の周辺処理剤４２を塗布する。この周辺処理剤４２の塗布も上記回転塗布機によることが好ましいが、サブトーム１２の全周にわたって連続的に塗布するか、部分的に不連続に塗布するかは任意に決められてよい。
【００２７】
いずれにしても、本発明によれば、先に堰４１が形成されているため、周辺処理剤４２がサブドーム１２の外部に流出することはない。また、周辺処理剤４２はサブドーム１２の頂部１２２と堰４１との間に塗布され、その塗布量も定量化することができるため、周波数応答にばらつきのない品質の揃ったダイナミックマイクロホンユニットを量産することができる。
【００２８】
なお、堰４１の高さは周辺処理剤４２の塗布量との関係で決められてよい。また、周辺処理剤４２の塗布後にレゾネータ３０が被せられるが、堰４１の位置はレゾネータ３０によって挟まれる位置を避け、その内側とすることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】ダイナミックマイクロホンユニットの基本的な構成を示す分解断面図。
【図２】本発明による製造方法の第１工程を示す断面図。
【図３】本発明による製造方法の第２工程を示す断面図。
【符号の説明】
【００３０】
１  ダイナミックマイクロホンユニット
１０  振動板
１１  センタードーム
１２  サブドーム
１２１  外周辺部
１２２  頂部
１３  ボイスコイル
２０  ユニットケース
２１  ハウジング
２１１  後方音響端子
２２  磁気回路
２２１  永久磁石
２２２  センターポールピース
２２３  ヨークメンバー
２２４  リングヨーク
３０  レゾネータ
３１  前方音響端子
４１  堰
４２  制振用の周辺処理剤
Ｇ  磁気ギャップ
【図１】
2006197283.tif 000003
【図２】
2006197283.tif 000004
【図３】
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