(57)【要約】      （修正有）【課題】高速且つ高分解能な光周波数測定を行う。【解決手段】光周波数可変レーザ光源１２が出射する周波数ｆ２を掃引し、光周波数コムＬｃｏｍのＮ次のサイドバンドと被測定レーザ光Ｌｘとを第１の光合成器１６により合成した干渉光ＬＡの干渉周波数ｆＡと、レーザ光源１１から出射される基準光と上記光周波数可変レーザ光源１２からの光とを第２の光合成器１７により合成した干渉光ＬＢの干渉周波数ｆＢの変化する方向を特定した状態で、上記光周波数コム発生器１４の変調周波数ｆｍを微少周波数Δｆだけ変更させ、第１及び第２の周波数カウンタ２０，２１により各干渉周波数ｆＡ，ｆＢを測定し、上記微少周波数Δｆに対する各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの変化分から、上記被測定レーザ光Ｌｘが干渉している上記光周波数コムの次数Ｎを求め、決定した次数Ｎを用いて、  ｆｘ＝ｆ１±ｆＢ＋ Ｎｆｍ±ｆＡにて上記被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘを決定する。【選択図】        図１
2006029821.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準となる周波数ｆ１の第１のレーザ光Ｌ１を出射するレーザ光源と、
高出力の第２のレーザＬ２を出射する光周波数可変レーザ光源と、
上記光周波数可変レーザ光源から出射された第２のレーザＬ２が入射される光周波数コム発生器と、
上記光周波数コム発生器に与える変調信号ＳＭＯＤを発生する変調信号発生器と、
上記光周波数コム発生器により生成された光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘとを合成する第１の光合成器と、
上記光周波数可変レーザ光源から出射された第２のレーザＬ２が光分離器を介して入射され、上記レーザ光源から出射された第１のレーザ光Ｌ１と上記第２のレーザ光Ｌ２とを合成する第２の光合成器と、
上記第１の光合成器により合成された光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘの干渉光ＬＡの光強度の変化を検出する第１の光検出器と、
上記第２の光合成器により合成された上記第１のレーザ光Ｌ１と第２のレーザ光Ｌ２との干渉光ＬＢの光強度の変化を検出する第２の光検出器と、
上記第１の光検出器により得られる検出信号ＤＡに基づいて上記第１のレーザ光Ｌ１と第２のレーザ光Ｌ２との干渉周波数ｆＡを測定する第１の周波数カウンタと、
上記第２の光検出器により得られる検出信号ＤＢに基づいて上記光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘとの干渉周波数ｆＢを測定する第２の周波数カウンタと、
上記光周波数可変レーザ光源及び変調信号発生器の動作を制御して、上記第１及び第２の周波数カウンタにより測定される各干渉周波数ｆＡ，ｆＢに基づいて、上記被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘを決定する測定制御部とを備え、
上記測定制御部は、上記光周波数可変レーザ光源が出射する第２のレーザの周波数を掃引し、各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの変化する方向を特定した状態で、上記光周波数コム発生手段の変調周波数ｆｍを微少周波数Δｆだけ変更させて、上記第１及び第２の周波数カウンタにより各干渉周波数ｆＡ，ｆＢを測定し、上記微少周波数Δｆに対する各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの変化分から、上記被測定レーザ光が干渉している上記光周波数コムの次数Ｎを求める処理を複数回行って、その平均値により上記光周波数コムの次数Ｎを決定し、決定した次数Ｎを用いて、
ｆｘ＝ｆ１±ｆＢ＋ Ｎｆｍ±ｆＡ
にて上記被測定レーザ光の周波数ｆｘを決定することを特徴とする光周波数測定システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、任意の波長における広いスペクトル幅を必要とする光周波数測定システムに関し、特に高速且つ高分解能な光周波数測定を実現するための光周波数測定システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光周波数を高精度に測定する場合に光周波数コム発生器（Optical Frequency Comb Generator）が使用されている。すなわち、２つのレーザ光をヘテロダイン検波してその差周波数を測定する場合、その帯域は受光素子の帯域で制限され、おおむね数十ＧＨｚ程度であるので、光周波数コム発生器を用いて広帯域なヘテロダイン検波系を構築するようにしている。光周波数コム発生器は、入射したレーザ光の側帯波を等周波数間隔毎に数百本発生させるもので、発生される側帯波の周波数安定度はもとのレーザ光のそれとほぼ同等である。そこで、この側帯波と被測定レーザ光をヘテロダイン検波することにより、数ＴＨｚに亘る広帯域なヘテロダイン検波系を構築することができる。
【０００３】
例えば、図８に示す従来の光周波数測定システム１００は、レーザ光Ｌ０を出射するレーザ光源１１１と、このレーザ光源１１１からレーザ光Ｌ０が入射される光周波数コム発生器１１２と、この光周波数コム発生器１１２に与える変調信号ＳＭＯＤを発生する変調信号発生器１１３と、上記光周波数コム発生器１１２により発生された光周波数コムを参照光ＬＲＥＦとして被測定レーザ光ＬＯＢと参照光ＬＲＥＦとの合成を行う光合成器１１４と、上記光合成器１１４により合成された参照光ＬＲＥＦと被測定レーザ光ＬＯＢとの干渉による光強度の変化すなわち周波数信号ＳＤＥＴを検出する光検出器１１５と、この光検出器１１５による検出出力信号の周波数を測定する周波数カウンタ１１６からなる。
【０００４】
このような構成の従来の光周波数測定システム１００において、光周波数コム発生器１１２により発生された光周波数コムのｍ次のサイトバンドと被測定レーザ光ＬＯＢとのビート周波数を周波数カウンタ１１６で測定し、その測定結果をΔｆｂとするとき、被測定レーザ光ＬＯＢの周波数ν２は
ν２＝ν１＋ｍｆｍ±Δｆｂ
である。ここで、ν１は、レーザ光源１１１から出射されるレーザ光Ｌ０周波数、ｆｍは、変調信号発生器１１３により光周波数コム発生器１１２に与えられる変調信号ＳＭＯＤの周波数すなわち変調周波数である。これらの値は、既知であるので±Δｆｂの符号の決定及び整数である光周波数コムのサイドバンド次数ｍを知ることで、上記被測定レーザ光ＬＯＢの周波数ν２を決定することができる（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１７４５５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上述の如き構成の従来の光周波数測定システム１００では、±Δｆｂの符号の決定及び整数である光周波数コムのサイドバンド次数ｍを知るために、例えば分解能がｆｍ以下の波長計を用いてν２の測定を行うなど、他の光周波数の測定装置を組み合わせて使用する必要があった。従来の光周波数測定システムでは、このように付加的な光周波数測定装置の使用によるコストの上昇を避けることができないという問題点があった。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、上述の如き従来の光周波数測定システムにおける問題点に鑑み、付加的な光周波数測定装置の使用を必要とすることなく、しかも、被測定レーザの周波数揺らぎに影響されることなく、高速且つ高分解能な光周波数測定を行うことができるようにすることにある。
【０００８】
本発明の更に他の目的、本発明によって得られる具体的な利点は、以下に説明される実施の形態の説明から一層明らかにされる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る光周波数測定システムは、  基準となる周波数ｆ１の第１のレーザ光Ｌ１を出射するレーザ光源と、高出力の第２のレーザＬ２を出射する光周波数可変レーザ光源と、上記光周波数可変レーザ光源から出射された第２のレーザＬ２が入射される光周波数コム発生器と、上記光周波数コム発生器に与える変調信号ＳＭＯＤを発生する変調信号発生器と、上記光周波数コム発生器により生成された光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘとを合成する第１の光合成器と、上記光周波数可変レーザ光源から出射された第２のレーザＬ２が光分離器を介して入射され、上記レーザ光源から出射された第１のレーザ光Ｌ１と上記第２のレーザ光Ｌ２とを合成する第２の光合成器と、上記第１の光合成器により合成された光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘの干渉光ＬＡの光強度の変化を検出する第１の光検出器と、上記第２の光合成器により合成された上記第１のレーザ光Ｌ１と第２のレーザ光Ｌ２との干渉光ＬＢの光強度の変化を検出する第２の光検出器と、上記第１の光検出器により得られる検出信号ＤＡに基づいて上記第１のレーザ光Ｌ１と第２のレーザ光Ｌ２との干渉周波数ｆＡを測定する第１の周波数カウンタと、上記第２の光検出器により得られる検出信号ＤＢに基づいて上記光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘとの干渉周波数ｆＢを測定する第２の周波数カウンタと、上記光周波数可変レーザ光源及び変調信号発生器の動作を制御して、上記第１及び第２の周波数カウンタにより測定される各干渉周波数ｆＡ，ｆＢに基づいて、上記被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘを決定する測定制御部とを備え、上記測定制御部は、上記光周波数可変レーザ光源が出射する第２のレーザの周波数を掃引し、各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの変化する方向を特定した状態で、上記光周波数コム発生手段の変調周波数ｆｍを微少周波数Δｆだけ変更させて、上記第１及び第２の周波数カウンタにより各干渉周波数ｆＡ，ｆＢを測定し、上記微少周波数Δｆに対する各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの変化分から、上記被測定レーザ光が干渉している上記光周波数コムの次数Ｎを求める処理を複数回行って、その平均値により上記光周波数コムの次数Ｎを決定し、決定した次数Ｎを用いて、
ｆｘ＝ｆ１±ｆＢ＋ Ｎｆｍ±ｆＡ
にて上記被測定レーザ光の周波数ｆｘを決定することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明では、付加的な光周波数測定装置の使用を必要とすることなく、しかも、被測定レーザの周波数揺らぎに影響されることなく、高速且つ高分解能な光周波数測定を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、本発明は以下の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、任意に変更可能であることは言うまでもない。
【００１２】
本発明に係る光周波数測定システムは、例えば図１に示すように構成される。
【００１３】
この光周波数測定システム１０は、基準となる周波数ｆ１の第１のレーザ光Ｌ１を出射するレーザ光源１１と、高出力の第２のレーザＬ２を出射する光周波数可変レーザ光源１２と、上記光周波数可変レーザ光源１２から出射された第２のレーザＬ２が光分離器１３を介して入射される光周波数コム発生器１４と、上記光周波数コム発生器１４に与える変調信号ＳＭＯＤを発生する変調信号発生器１５と、上記光周波数コム発生器１４により生成された光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘとを合成する第１の光合成器１６と、上記光周波数可変レーザ光源１２から出射された第２のレーザＬ２が上記光分離器１３を介して入射され、上記レーザ光源１１から出射された第１のレーザ光Ｌ１と上記第２のレーザ光Ｌ２とを合成する第２の光合成器１７と、上記第１の光合成器１６により合成された光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘの干渉光ＬＡの光強度の変化を検出する第１の光検出器１８と、上記第２の光合成器１６により合成された上記第１のレーザ光Ｌ１と第２のレーザ光Ｌ２との干渉光ＬＢの光強度の変化を検出する第２の光検出器１９と、上記第１の光検出器１８により得られる検出信号ＤＡに基づいて上記第１のレーザ光Ｌ１と第２のレーザ光Ｌ２との干渉周波数ｆＡを測定する第１の周波数カウンタ２０と、上記第２の光検出器１９により得られる検出信号ＤＢに基づいて上記光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘとの干渉周波数ｆＢを測定する第２の周波数カウンタ２１と、上記光周波数可変レーザ光源１４及び変調信号発生器１５の動作を制御して、上記第１及び第２の周波数カウンタ２０，２１により測定される各干渉周波数ｆＡ，ｆＢに基づいて、上記被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘを決定する測定制御部２２とからなる。
【００１４】
上記光周波数可変レーザ光源１２は、例えばＰＺＴに与える制御電圧により周波数を可変制御可能なオフセットロックレーザからなり、上記測定制御部２２から上記ＰＺＴに与える制御電圧に応じた周波数の高出力の第２のレーザＬ２を出力する。
【００１５】
ここで、光周波数コムＬｃｏｍと生成する光周波数コム発生器１４には、大きなレーザパワーを注入する必要があり、光周波数コム発生器１４に注入するレーザ光を増幅する高出力の光増幅器は極めて高価であるが、オフセットロックレーザは大きなレーザパワーのレーザ光を出射することができるので、この光周波数測定システム１００では、上記光周波数可変レーザ光源１２として高出力のオフセットロックレーザを用いることにより、高価な光増幅器を必要とすることなく、光周波数コム発生器１４を励起して、測定に必要なパワーの光周波数コムを得ることができる。
【００１６】
このような構成の光周波数測定システム１０において、光周波数コム発生器１４により発生された光周波数コムＬｃｏｍのＮ次のサイドバンドと被測定レーザ光Ｌｘとの干渉周波数を第１の周波数周波数カウンタ２０で測定し、その測定結果をｆＡとするとき、図２の（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）に各レーザ光のスペクトラムを示すように、被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘは、
ｆｘ＝ｆ１±ｆＢ＋ Ｎｆｍ±ｆＡ              （１）
である。
【００１７】
ここで、ｆ１は、レーザ光源１１から出射されるレーザ光Ｌ１の周波数であり、ｆｍは、変調信号発生器１５により光周波数コム発生器１４に与えられる変調信号Ｓｍｏｄの周波数すなわち変調周波数である。これらの値は、既知であるので±ｆＡ及び±ｆＢの符号並びに光周波数コムのサイドバンド次数Ｎを知ることで、上記被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘを決定することができる。
【００１８】
この光周波数測定システム１０において、上記測定制御部２２は、次のような手順で測定を行う。
【００１９】
すなわち、測定を開始するに当たり、先ず、上記ＰＺＴに与える制御電圧を可変することによりに、上記光周波数可変レーザ光源１２から出力される第２のレーザＬ２の周波数を掃引する。
【００２０】
上記第１の光合成器１８により合成された光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘとの干渉光ＬＡ、及び、上記第２の光合成器１９により合成された上記第２のレーザ光Ｌ１と第２のレーザ光Ｌ２との干渉光ＬＢは、上記光周波数可変レーザ光源１２から出力される第２のレーザＬ２の周波数を掃引することにより、図３に示すような特性を呈する。
【００２１】
上記第１の周波数カウンタ２０は、第１の光検出器１８による上記干渉光ＬＡの検出出力に基づいて、上記光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘの干渉周波数ｆＡを測定する。また、上記第２の周波数カウンタ１９は、第２の光検出器１９による上記干渉光ＬＢの検出出力に基づいて、上記第１のレーザ光Ｌ１と第２のレーザ光Ｌ２の干渉周波数ｆＢを測定する。
【００２２】
ここで、第１の光検出器１８により検出される光周波数コムＬｃｏｍと被測定レーザ光Ｌｘとの干渉光ＬＡの光強度の変化は微少であるので、第１の光検出器１８にはＳ／Ｎを確保するために狭帯域の光検出器が用いられるのに対し、第２の光検出器１９により検出される上記第２のレーザ光Ｌ１と第２のレーザ光Ｌ２との干渉光ＬＢの光強度の変化は比較的に大きいのでの、第２の光検出器１８には、広帯域の光検出器を用いても、検出出力のＳ／Ｎを確保することができる。そして、第１及び第２の周波数カウンタ２０，２１により測定する各干渉周波数ｆＡ，ｆＢは、必要に応じてプリスケーラにより分周される。例えば、上記第１及び第２の周波数カウンタ２０，２１として１０ＭＨｚの周波数カウンタを使用する場合、干渉周波数ｆＡは基の周波数が１０ＧＨｚに達するので１／１０００以下に分周して１０ＭＨｚにし、また、干渉周波数ｆＢは基の周波数が２００ＭＨｚに達するので１／２０以下に分周して１０ＭＨｚする。
【００２３】
次に、上記測定制御部２２は、上記光周波数可変レーザ光源１２が出射する第２のレーザＬ２の周波数を掃引して、各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの変化する方向を特定の状態に決め、上述の図２の（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）又は（Ｄ）のいずれかの各レーザ光のスペクトラムの関係を決定することにより、各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの符号を決める。
【００２４】
上記第１のレーザ光Ｌ１と周波数ｆ１よりも第２のレーザ光Ｌ２の周波数ｆ２を高くして、例えば、図４に示すように、各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの変化する方向が一致するロック点ａ，ｂとなるように、上記光周波数可変レーザ光源１２を制御することによって、各レーザ光のスペクトラムの関係が図２の（Ａ）に示す状態になる。
【００２５】
各レーザ光のスペクトラムの関係が図２の（Ａ）に示す状態にあるときに、被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘは、
ｆｘ＝ｆ１＋ｆＢ＋ Ｎｆｍ−ｆＡ              （２）
にて求めることができる。
【００２６】
この時、干渉周波数ｆＡは所定の周波数例えば１００ＭＨｚになるようにする。プリスケーラによる分周率を例えば１／２０とすると、上記第１の周波数カウンタ２０，２１により測定される干渉周波数ｆＡの周波数が５ＭＨｚになるように上記光周波数可変レーザ光源１２を制御する。なお、５ＭＨｚ±２ＭＨｚ程度の安定度があればよく、１秒で１ＭＨｚ以下の安定度を持つオフセットレーザを使用すれば、分周率を例えば１／２０とすると、５０ｋＨｚ以下の安定度が得られる。
【００２７】
したがって、５ＭＨｚに制御する場合には、上記測定制御部２２は、±１ＭＨｚ離れたら、戻す制御を行えばよい。また、上記測定制御部２２は、上記第２の周波数カウンタ２１により測定される干渉周波数ｆＢも監視し、図５に示すように、範囲外になりそうな場合には６．２５ＧＨｚ／１０００ロック点を変える。
【００２８】
次に、上記測定制御部２２は、上述のように各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの変化する方向を一致させた状態で、上記変調信号発生器１５から光周波数コム発生器１４に与える変調信号Ｓｍｏｄの変調周波数ｆｍを微少周波数Δｆ（１０ｋＨｚ〜５００ｋＨｚ程度）だけ変更させて、上記第１及び第２の周波数カウンタ２０，２１により各干渉周波数ｆＡ’，ｆＢ’を測定し、
Ｎ＝（（ｆＡ−ｆＢ）−（ｆＡ’−ｆＢ’））／Δｆ      （３）
にて上記光周波数コムの次数Ｎを決定する。
【００２９】
この際に、被測定レーザＬｘの周波数ｆｘにはランダムな揺らぎがあり、各干渉周波数ｆＡ，ｆＢを同時に測定したとしても、変調信号Ｓｍｏｄの変調周波数ｆｍを微少周波数Δｆだけ変更して測定される差分周波数（ｆＡ−ｆＢ）と差分周波数（ｆＡ’−ｆＢ’）は同時に測定できないので、上記（３）式にて求められる次数Ｎには上記被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘの揺らぎによる誤差分が含まれてしまう。そこで、上記微少周波数Δｆに対する各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの変化分から、上記被測定レーザ光が干渉している上記光周波数コムの次数Ｎを求める処理を複数回行って、その平均値をとることにより、上記被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘの揺らぎによる誤差分を除去して、上記光周波数コムの次数Ｎを決定する。
【００３０】
例えば、上記変調信号発生器１５から光周波数コム発生器１４に与える変調信号ＳＭＯＤの周波数６．２５ＧＨｚを±σｆＨｚ（すなわちΔｆ＝２σｆＨｚ）程度繰り返し切り替えて、図６に示すように時間経過とともに中心周波数が変動する干渉周波数ｆＡ−干渉周波数ｆＢの偶数次の値と奇数次の値を求め、干渉周波数ｆＡ−干渉周波数ｆＢの偶数次の値と奇数次の値とから上記（３）式により次数Ｎを求める処理を繰り返し行い、図７に示すように、その変動が整数値×２×σｆＨｚに収束することを確認して、Ｎの値を決定する。干渉周波数ｆＡの偶数次、奇数次の合計の１回毎の平均値は、オフセットロックレーザのサーボと周波数測定に用いる。
【００３１】
なお、上記変調信号発生器１５から光周波数コム発生器１４に与える変調信号ＳＭＯＤの周波数６．２５ＧＨｚを±σｆＨｚ程度切り替える毎に、上記（３）式により次数Ｎを求めるのではなく、干渉周波数ｆＡ−干渉周波数ｆＢの偶数次の値の平均値と、奇数次の値の平均値から、上記（３）式により次数Ｎを求めるようにしても同様の結果が得られる。
【００３２】
ここで、（干渉周波数ｆＡ−干渉周波数ｆＢの偶数次、奇数次の平均値）／２σｆは、測定回数を増やしていくと収束する。その際の平均の回数は被測定レーザの安定度によって異なり、数回から１００回程度である。
【００３３】
なお、このようにして実行される次数判定の際に、レーザのモードホップなどの異常が検出された場合には、次数判定を再度行う。
【００３４】
そして、上記測定制御部２２は、このようにして決定した次数Ｎを用いて、
ｆｘ＝ｆ１＋ｆＢ＋ Ｎｆｍ−ｆＡ 
にて上記被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘを決定する。
【００３５】
なお、上記第１のレーザ光Ｌ１と周波数ｆ１よりも第２のレーザ光Ｌ２の周波数ｆ２を高くして、干渉周波数ｆＡの変化に対して干渉周波数ｆＢの変化する方向が逆になるように設定してサーボをロックし、各レーザ光のスペクトラムの関係を図２の（Ｂ）に示す状態にすることによって、
Ｎ＝（（−ｆＡ−ｆＢ）−（−ｆＡ’−ｆＢ’））／Δｆ      （４）
にて次数Ｎを決定し、
ｆｘ＝ｆ１＋ｆＢ＋ Ｎｆｍ＋ｆＡ                         （５）
にて被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘを決定することもできる。
【００３６】
また、上記第１のレーザ光Ｌ１と周波数ｆ１よりも第２のレーザ光Ｌ２の周波数ｆ２を低くして、各干渉周波数ｆＡ，ｆＢの変化する方向が一致するように設定してサーボをロックし、各レーザ光のスペクトラムの関係が図２の（Ｃ）に示す状態にすることによって、
Ｎ＝（（ｆＡ＋ｆＢ）−（ｆＡ’＋ｆＢ’））／Δｆ          （６）
にて次数Ｎを決定し、
ｆｘ＝ｆ１−ｆＢ＋ Ｎｆｍ−ｆＡ                         （７）
にて被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘを決定することもできる。
【００３７】
さらに、上記第１のレーザ光Ｌ１と周波数ｆ１よりも第２のレーザ光Ｌ２の周波数ｆ２を低くし、干渉周波数ｆＡの変化に対して干渉周波数ｆＢの変化する方向が逆になるように設定してサーボをロックし、各レーザ光のスペクトラムの関係を図２の（Ｄ）に示す状態にすることによって、
Ｎ＝（（ｆＢ−ｆＡ）−（ｆＢ’−ｆＡ’））／Δｆ          （６）
にて次数Ｎを決定し、
ｆｘ＝ｆ１−ｆＢ＋ Ｎｆｍ＋ｆＡ                         （７）
にて被測定レーザ光Ｌｘの周波数ｆｘを決定することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明に係る光周波数測定システムの構成を示すブロック図である。
【図２】上記光周波数測定システムにおける各レーザ光のスペクトラムを示す図である。
【図３】光周波数可変レーザ光源から出力される第２のレーザの周波数を掃引することにより、第１の光合成器により合成された第１のレーザ光と第２のレーザ光との干渉光、及び、第２の光合成器により合成された光周波数コムと被測定レーザ光との干渉光が呈する特性を模式的に示す図である。
【図４】測定制御部により上記光周波数可変レーザ光源を制御して、各干渉周波数の変化する方向を一致させたロック点を模式的に示す図である。
【図５】上記測定制御部による上記光周波数コムと被測定レーザ光との干渉周波数の監視状態を模式的に示す図である。
【図６】上記光周波数コムの次数を決定するために、変調周波数を切り替える制御を模式的に示す図である。
【図７】上記光周波数コムの次数の収束状態を模式的に示す図である。
【図８】従来の光周波数測定システムの構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
【００３９】
１０  光周波数測定システム、１１  レーザ光源、１２  光周波数可変レーザ光源、１３  光分離器、１４  光周波数コム発生器、１５  変調信号発生器、１６  第１の光合成器、１７  第２の光合成器、１８  第１の光検出器、１９  第２の光検出器、２０  第１の周波数カウンタ、２１  第２の周波数カウンタ、２２  測定制御部
【図１】
2006029821.tif 000003
【図２】
2006029821.tif 000004
【図３】
2006029821.tif 000005
【図４】
2006029821.tif 000006
【図５】
2006029821.tif 000007
【図６】
2006029821.tif 000008
【図７】
2006029821.tif 000009
【図８】
2006029821.tif 000010