(57)【要約】      （修正有）【課題】基板の特定領域の露光中の振動増大の有害な効果を減少させる制御システムを備えるリシグラフィ投影装置を提供する。【解決手段】制御装置２１は振動予測ユニット２３を含み、振動予測ユニットは計算された軌跡を解析して、軌跡を辿ったときに各目標部分で生じる基板ステージの振動の振幅を決定する。補償器２４は重畳される追加の振動を計算し、制御器は基板の複数の領域の露光中に生じる振動が実質的に一様になるように、基板の露光中に追加の振動が加えられる。【選択図】図７
2006100830.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンをパターン形成デバイスから基板に投影するように配列されたリソグラフィ投影装置であって、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板テーブルを位置決めするように構成された位置決めシステムと、
前記位置決めシステムを制御して、前記基板の複数の領域の露光がある方向の実質的に一様な振動条件の下で行われるように、その方向に前記基板テーブルに追加の振動を引き起こすよう構成された制御システムと、を備えるリソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記制御システムが、前記位置決めシステムを制御して、前記基板の公称上面に対して実質的に垂直な方向に追加の振動を引き起こすように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記制御システムが、前記位置決めシステムを制御して、前記基板の公称上面に対して実質的に平行な方向に追加の振動を引き起こすように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記制御システムが、前記位置決めシステムを制御して、前記基板の縁に近接しない目標部分の露光中に追加の振動を引き起こすように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記制御システムが、計画された一連の露光の間に生じる振動を予測するように構成された振動予測ユニットと、前記予測された振動に基づいて前記追加の振動を計算するように構成された補償計算器とを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記振動予測ユニットが、前記基板の表面の高低図に基づいて前記振動を予測するように構成されている、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
さらに、前記パターンを前記基板に投影するように構成された投影システムと、前記投影システムと前記基板の間のスペースに液体を供給するように構成された液体供給システムとを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
パターン形成された放射ビームを基板に投影するステップと、
前記パターン形成されたビームを投影している間に、ある方向に基板に追加の振動を引き起こし、それによって、前記基板の複数の領域の露光がその方向の実質的に一様な振動条件の下で行われるようにするステップと、を備えるデバイス製造方法。
【請求項９】
前記基板の公称上面に対して実質的に垂直な方向に前記追加の振動を引き起こすステップを備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記基板の公称上面に対して実質的に平行な方向に前記追加の振動を引き起こすステップを備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記基板の縁に近接しない目標部分の露光中に前記追加の振動を引き起こすステップを備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
計画された一連の露光の間に生じる振動を予測し、前記予測された振動に基づいて前記追加の振動を計算するステップをさらに備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記基板の表面の高低図に基づいて前記振動を予測するステップを備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記パターン形成された放射ビームを投影するために使用される投影システムと前記基板の間のスペースに液体を供給するステップをさらに備え、前記パターン形成されたビームを投影するステップが、前記液体を通して前記基板に、前記パターン形成されたビームを投影することを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
リソグラフィ装置の一部を形成するコンピュータ・システムによって実行されたとき、前記コンピュータ・システムにデバイス製造方法を実施する前記装置を制御するよう命令するプログラム・コードを含むコンピュータ・プログラム製品であって、前記方法が、
パターン形成された放射ビームを基板に投影するステップと、
前記パターン形成されたビームを投影している間に、ある方向に基板に追加の振動を引き起こし、それによって、前記基板の複数の領域の露光がその方向の実質的に一様な振動条件の下で行われるようにするステップと、を備えるコンピュータ・プログラム製品。
【請求項１６】
前記方法が、前記基板の公称上面に対して実質的に垂直な方向に追加の振動を引き起こすステップを備える、請求項１５に記載のコンピュータ・プログラム製品。
【請求項１７】
前記方法が、前記基板の公称上面に対して実質的に平行な方向に追加の振動を引き起こすステップを備える、請求項１５に記載のコンピュータ・プログラム製品。
【請求項１８】
前記方法が、前記基板の縁に近接しない目標部分の露光中に追加の振動を引き起こすステップを備える、請求項１５に記載のコンピュータ・プログラム製品。
【請求項１９】
前記方法が、計画された一連の露光の間に生じる振動を予測しかつ前記予測された振動に基づいて前記追加の振動を計算するステップをさらに備える、請求項１５に記載のコンピュータ・プログラム製品。
【請求項２０】
前記方法が、前記基板の表面の高低図に基づいて前記振動を予測するステップを備える、請求項１９に記載のコンピュータ・プログラム製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板に、通常基板の目標部分に、所望のパターンを付ける機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造で使用することができる。その例では、代わりにマスク又はレチクルと呼ばれるパターン形成デバイスを使用して、ＩＣの個々の層に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンは、基板（例えば、シリコン・ウェーハ）の目標部分（例えば、１つ又は複数のチップの部分を含む）に転写することができる。パターンの転写は、一般に、基板上に設けられた放射敏感材料（レジスト）の層に像を形成することによっている。一般に、単一基板は、連続してパターン形成された網の目のような一面の隣り合う目標部分を含む。知られているリソグラフィ装置には、いわゆるステッパといわゆるスキャナがあり、ステッパでは、目標部分に全パターンを一度に露光して各目標部分に光が当てられ、スキャナでは、放射ビームによってパターンを所定の方向（「走査」方向）に走査し、同時に同期してこの方向に対して平行又は反平行に基板を走査して各目標部分に光が当てられる。パターンを基板に刻み込むことによって、パターン形成デバイスから基板にパターンを転写することもできる。
【０００３】
リソグラフィ投影装置の基板を比較的高屈折率を有する液体、例えば水に浸漬して、投影システムの最終要素と基板の間のスペースを満たすことが提案されている。このことの目的は、露光放射は液体中でより短い波長を有するので、より小さな特徴の像形成を可能にすることである。（液体の効果は、システムの実効ＮＡを大きくし、また焦点深度を深くすることと見做すことができる。）固体粒子（例えば、石英）が浮遊する水を含んだ他の浸漬液が提案されている。
【０００４】
しかし、基板又は基板及び基板テーブルを液体の槽中に沈めることは（例えば、米国特許第４，５０９，８５２号を参照されたい。これによって、この特許の全体を参照して組み込む）、走査露光中に加速しなければならない大きな液体の本体があることを意味する。このことで、追加のモータ又はより強力なモータが必要になり、さらに液体の乱れは、望ましくない予測不可能な効果をもたらすことがある。
【０００５】
提案された解決策の１つは、液体供給システムが、投影システムの最終要素と基板（基板は一般に投影システムの最終要素よりも大きな表面積を有する）の間の基板のほんの局所だけに液体を供給することである。これの準備をするために提案された１つの方法は、ＰＣＴ特許出願ＷＯ９９／４９５０４に開示されている。これによって、この出願全体を参照して組み込む。図２及び３に示されているように、液体は、好ましくは最終要素に対する基板の移動方向に沿って、少なくとも１つの入口ＩＮで基板に供給され、そして、投影システムの下を通過した後で少なくとも１つの出口ＯＵＴで取り除かれる。すなわち、基板が要素の下で−Ｘ方向に走査されるときに、液体は要素の＋Ｘ側から供給され、そして−Ｘ側から吸収される。図２は、液体が入口ＩＮを介して供給され、そして低圧力源に接続されている出口ＯＵＴによって要素の他方の側で吸収される配列を模式的に示す。図２の実例において、液体は、最終要素に対する基板の移動方向に沿って供給される。ただし、そうである必要はない。最終要素のまわりに位置付けされた入口及び出口の様々な向き及び数が可能であり、１つの例を図３に示す。図３では、両側に出口の付いた入口の４つの組が、規則正しいパターンで最終要素のまわりに設けられている。
【０００６】
浸漬リソグラフィ装置では、浸漬液の存在及びそれを閉じ込めるための配列は、基板テーブルの振動及び基板テーブル中の振動を減衰させる傾向があり、このことは一般に有利である。しかし、基板のある特定の部分が露光されているとき大きな振動が依然として残っていることがある。例えば、縁部の目標部分（チップ）が露光されているとき、基板のこの部分での高さ変化がより大きく基板テーブルのより大きな数の垂直移動を必要とするために、しばしばより大きな振動があることがある。縁部のチップによく見られる６０ｎｍＭＳＤの垂直方向の機械的な振動は、ほんの２０ｎｍＭＳＤの振動が存在するかもしれない中心部チップに比較して、７０ｎｍの孤立線のＣＤに１．２ｎｍの劣化をもたらすことがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、例えば、基板の特定領域の露光中の振動増大の有害な効果を減少させる、又は最小限にすることが有利であろう。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の態様に従って、パターンをパターン形成デバイスから基板に投影するように配列されたリソグラフィ投影装置が提供され、この装置は、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
基板テーブルを位置決めするように構成された位置決めシステムと、
位置決めシステムを制御して、基板の複数の領域の露光がある方向の実質的に一様な振動条件の下で行われるように、その方向に基板テーブルに追加の振動を引き起こすように構成された制御システムと、を備える。
【０００９】
本発明の態様に従ってデバイス製造方法が提供され、この方法は、
パターン形成された放射ビームを基板に投影するステップと、
パターン形成されたビームを投影している間に、ある方向に基板に追加の振動を引き起こし、それによって、基板の複数の領域の露光がその方向の実質的に一様な振動条件の下で行われるようになるステップと、を備える。
【００１０】
本発明の態様に従って、リソグラフィ装置の一部を形成するコンピュータ・システムによって実行されたとき、コンピュータ・システムにデバイス製造方法を実施する装置を制御するように命令するプログラム・コードを含むコンピュータ・プログラム製品が提供され、前記の方法は、
パターン形成された放射ビームを基板に投影するステップと、
パターン形成されたビームを投影している間に、ある方向に基板に追加の振動を引き起こし、それによって、基板の複数の領域の露光がその方向の実質的に一様な振動条件の下で行われるようになるステップと、を備える。
【００１１】
ここで、添付の模式的な図面を参照して、本発明の実施例をただ例として説明する。図面では、対応する参照符号は対応する部分を示す。
【実施例】
【００１２】
図１は、本発明の一実施例に従ったリソグラフィ装置を模式的に示す。本装置は、
・  放射ビームＰＢ（例えば、ＵＶ放射又はＤＵＶ放射）を条件付けするように構成された照射システム（照明装置）ＩＬと、
・  パターン形成デバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するように組み立てられ、かつ特定のパラメータに従ってパターン形成デバイスを正確に位置決めするように構成された第１の位置決め装置ＰＭに接続された支持構造（例えば、マスク・テーブル）ＭＴと、
・  基板（例えば、レジスト被覆ウェーハ）Ｗを保持するように組み立てられ、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２の位置決め装置ＰＷに接続された基板テーブル（例えば、ウェーハ・テーブル）ＷＴと、
・  放射ビームＰＢに与えられたパターンを投影して基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、１つ又は複数のチップを備える）にデバイスＭＡのパターンを形成するように構成された投影システム（例えば、屈折投影レンズ・システム）ＰＬと、を備える。
【００１３】
照明システムは、放射の方向付け、整形、又は制御を行うために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型又は他の型の光学部品、又はそれらの任意の組合せのような様々な型の光学部品を含むことができる。
【００１４】
支持構造は、パターン形成デバイスを支持する、すなわち、パターン形成デバイスの重さを支える。支持構造は、パターン形成デバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、及び、例えばパターン形成デバイスが真空環境中に保持されるか否かのような他の条件に依存して、パターン形成デバイスを保持する。支持構造は、機械技術、真空技術、静電技術又は他の締付け技術を使用して、パターン形成デバイスを保持することができる。支持構造は、例えばフレーム又はテーブルであってもよく、これは、必要に応じて固定してもよく、又は可動であってもよい。支持構造は、パターン形成デバイスが、例えば投影システムに対して、所望の位置にあることを保証することができる。本明細書での「レチクル」又は「マスク」という用語の使用はどれも、より一般的な用語「パターン形成デバイス」と同義であると考えることができる。
【００１５】
本明細書で使用される「パターン形成デバイス」という用語は、基板の目標部分にパターンをつくるようなパターンを放射ビームの断面に与えるために使用することができる任意のデバイスを意味するものとして、広く解釈すべきである。留意すべきことであるが、放射ビームに与えられたパターンは、基板の目標部分の所望のパターンに正確に対応していないことがある。例えばパターンが位相シフト用特徴又はいわゆる補助用特徴を含む場合である。一般に、放射ビームに与えられたパターンは、集積回路のような目標部分に作られているデバイスの特定の機能層に対応する。
【００１６】
パターン形成デバイスは透過型又は反射型であることができる。パターン形成デバイスの例には、マスク、プログラム可能ミラー・アレイ、及びプログラム可能ＬＣＤパネルがある。マスクは、リソグラフィではよく知られており、２値、交番位相シフト、及び減衰位相シフトのようなマスクの型、並びに様々なハイブリッド・マスクの型を含む。プログラム可能ミラー・アレイの例は、小さなミラーのマトリックス配列を使用し、この小さなミラーの各々は、入射放射ビームを様々な方向に反射するように個々に傾けることができる。傾いたミラーが、ミラー・マトリックスで反射された放射ビームでパターンを与える。
【００１７】
本明細書で使用される「投影システム」という用語は、使用される露光放射に、又は浸漬液の使用又は真空の使用のような他の要素に適切なような、屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁型及び静電型の光学システム、又はそれらの任意の組合せを含んだ投影システムのうちの任意の型を含むものとして広く解釈すべきである。本明細書での「投影レンズ」という用語の使用はどれも、より一般的な用語「投影システム」と同義であると考えることができる。
【００１８】
ここで示すように、本装置は透過型である（例えば、透過マスクを使用する）。代わりに、本装置は反射型であることがある（例えば、先に言及したような型のプログラム可能ミラー・アレイを使用するか、又は反射マスクを使用する）。
【００１９】
リソグラフィ装置は、２個（デュアル・ステージ）又はより多くの基板テーブル（及び／又は２個又はより多くのマスク・テーブル）を有する型であることがある。そのような「多ステージ」機械では、追加のテーブルは並列に使用することができ、又は、１つ又は複数のテーブルが露光に使用されている間に、準備ステップを１つまた複数の他のテーブルで行うことができる。
【００２０】
図１を参照して、照明装置ＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受け取る。放射源及びリソグラフィ装置は別個の実体であることができる。例えば、放射源がエキシマ・レーザであるとき、そうである。そのような場合、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成していると考えられず、放射ビームは、例えば適切な方向付けミラー及び／又はビーム拡大器を備えたビーム送出しステムＢＤを使用して、放射源ＳＯから照明装置ＩＬに送られる。他の場合には、放射源は、リソグラフィ装置の一体化部分であることがある。例えば、放射源が水銀ランプであるとき、そうである。放射源ＳＯ及び照明装置ＩＬは、必要な場合にはビーム送出システムＢＤと一緒にして、放射システムと呼ばれる。
【００２１】
照明装置ＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整する調整装置ＡＤを備えることができる。一般に、照明装置のひとみ面内の強度分布の少なくとも外側半径範囲及び／又は内側半径範囲（通常、それぞれ、σ−ｏｕｔｅｒ、σ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を調整することができる。さらに、照明装置ＩＬは、積分器ＩＮ及び集光器ＣＯのような様々な他の部品を備えることができる。照明装置は、断面内に所望の一様性及び強度分布を持つように放射ビームを条件付けするために使用することができる。
【００２２】
放射ビームＰＢは、支持構造（例えば、マスク・テーブルＭＴ）に保持されているパターン形成デバイス（例えば、マスクＭＡ）に入射し、そしてパターン形成デバイスによってパターン形成される。マスクＭＡを通り抜けた放射ビームＰＢは、投影システムＰＬを通過する。この投影システムＰＬは、ビームを基板Ｗの目標部分Ｃに集束させる。第２の位置決め装置ＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉デバイス、直線エンコーダ、又は容量センサ）を使って、例えば放射ビームＰＢの経路内に異なった目標部分Ｃを位置決めするように、基板テーブルＷＴを正確に移動させることができる。同様に、第１の位置決め装置ＰＭ及び他の位置センサ（図１にはっきり示されていない）を使用して、例えばマスク・ライブラリから機械的に取り出した後で、又は走査中に、放射ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、マスク・テーブルＭＴの移動は、第１の位置決め装置ＰＭの部分を形成する長行程モジュール（粗い位置決め）及び短行程モジュール（精密位置決め）を使って実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２の位置決め装置ＰＷの部分を形成する長行程モジュール及び短行程モジュールを使用して実現することができる。ステッパ（スキャナに対して）の場合は、マスク・テーブルＭＴは、短行程用アクチュエータだけに接続することができ、又は、固定することができる。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスク位置合わせマークＭ１、Ｍ２及び基板位置合わせマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板位置合わせマークは専用の目標部分を占めるが、この専用目標部分は、目標部分の間のスペースに位置付けすることができる（専用目標部分はスクライブ・ライン位置合わせマークとして知られている）。同様に、２以上のチップがマスクＭＡに設けられた状況では、マスク位置合わせマークはチップ間に位置付けすることができる。
【００２３】
図示の装置は、下記のモードのうちの少なくとも１つで使用されるだろう。
１．ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴは基本的に静止状態に保たれるが、一方で、放射ビームに与えられた全パターンは一度に目標部分Ｃに投影される（すなわち、単一静的露光）。次に、異なる目標部分Ｃが露光されるように、基板テーブルＷＴがＸ方向及び／又はＹ方向にシフトされる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成される目標部分Ｃのサイズが制限される。
２．走査モードでは、放射ビームに与えられたパターンが目標部分Ｃに投影される間に、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期して走査される（すなわち、単一動的露光）。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＬの拡大（縮小）及び像反転特性によって決定することができる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光での目標部分の（非走査方向の）幅が制限されるが、走査移動の長さによって目標部分の（走査方向の）高さが決定される。
３．他のモードでは、マスク・テーブルＭＴは、プログラム可能パターン形成デバイスを保持して基本的に静止状態に保たれ、そして基板テーブルＷＴは、放射ビームに与えられたパターンが目標部分Ｃに投影されている間に、動かされる、すなわち走査される。このモードでは、一般に、パルス放射源が使用され、そしてプログラム可能パターン形成デバイスは、基板テーブルＷＴの各移動の後で、又は走査中に連続した放射パルスの間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及したような型のプログラム可能ミラー・アレイのようなプログラム可能パターン形成デバイスを使用するマスクレス・リソグラフィに容易に応用することができる。
【００２４】
上述の使用モード又は全く異なる使用モードの組合せ及び／又は変形を使用することもできる。
【００２５】
局所液供給システムを有する他の浸漬リソグラフィ解決策を図４に示す。液体は、投影システムＰＬの両側の２個の溝型入口ＩＮによって供給され、そして入口ＩＮから外側に放射状に配列された複数の個別の出口ＯＵＴによって取り除かれる。入口ＩＮ及び出口ＯＵＴは、投影ビームが投影される孔が中心にある板に配列することができる。液体は、投影システムＰＬの一方の側の１つの溝形入口ＩＮによって供され、そして投影システムＰＬの他方の側の複数の個別の出口ＯＵＴによって取り除かれて、投影システムＰＬと基板Ｗの間に薄い膜の液体の流れが生じる。入口ＩＮと出口ＯＵＴのどの組合せを使用するように選ぶかは、基板Ｗの移動方向に依存することができる（入口ＩＮと出口ＯＵＴの他の組合せは非活動状態である）。
【００２６】
提案された局所液供給システムを有する他の浸漬リソグラフィ解決策は、投影システムの最終要素と基板テーブルの間のスペースの境界の少なくとも一部に沿って延びる封止部材を液体供給システムに設けることである。封止部材は、ＸＹ面内で投影システムに対して実質的に静止している。ただし、Ｚ方向（光軸の方向）にいくらかの相対的な動きがあることがある。封止は、封止部材と基板の表面の間に形成される。ある実施例では、封止は、ガス封止のような無接触封止である。ガス封止を有するそのようなシステムは、米国特許出願第ＵＳ１０／７０５，７８３号に開示され、図５に示されている。これによって、この出願全体を参照して組み込む。
【００２７】
液溜め１０は投影システムの像フィールドのまわりに無接触封止を形成し、その結果、基板表面と投影システムの最終要素とのスペースを満たすように液体が閉じ込められるようになる。液溜めは、投影システムＰＬの最終要素の下に、この最終要素を囲んで位置付けされた封止部材１２によって形成されている。液体は、投影システムの下でかつ封止部材１２の内側のスペースに入れられる。封止部材１２は、投影システムの最終要素より僅かに上に延び、液体のレベルは、液体緩衝装置が実現されるように最終要素より高くなっている。封止部材１２は、好ましくはその上端が投影システム又はそれの最終要素の形にぴったり一致する内縁部、例えば円形の内縁部を有する。底部では、内縁部は像フィールドの形に、例えばそうである必要はないが長方形に、ぴったり一致している。
【００２８】
液体は、封止部材１２の底と基板Ｗの表面の間の液溜めの中にガス封止１６によって閉じ込められる。ガス封止は、入口１５を介して封止部材１２と基板の間のギャップに圧力のかかった状態で供給され第１の出口１４を介して抽出されるガス、例えば空気又は合成空気又はＮ２又は不活性ガスによって形成される。ガス入口１５の過大圧力、第１の出口１４の真空レベル、及びギャップの形状寸法は、液体を閉じ込める内向きに高速ガス流が存在するように配列される。
【００２９】
図６に示すように、複数の目標部分１０の露光を行うことで、基板Ｗは、完全な又は部分的なデバイスで覆われる。（留意すべきことであるが、目標部分は必ずしもデバイスに対応しない。いくつかの場合、例えばマイクロプロセッサの場合には、１つのデバイスがいくつかの目標部分で形成されることがあり、一方で、他の場合、例えばメモリ・デバイスの場合には、いくつかのデバイスが各目標部分に含まれることがある。目標部分は、１回の走査露光又は静的露光で露光される領域に過ぎない。）これらの目標部分１０のいくつかは、基板の縁に近接し、それで縁部目標部分１１と呼ばれる。一般に、基板の上面の垂直位置（高さ）の変化は、より中心の部分１２よりも縁部で大きい。露光中に、特に走査露光中に、基板テーブルは、基板の上面を空中像の公称最適焦点面にできるだけ近く維持するように動かされる。縁部１１での基板高さの変化がより大きいことで、より多くの基板テーブル移動が必要となり、これによって、必然的により多くの振動が生じる。余分な振動は、印刷された像をぼかし、限界寸法（ＣＤ）に悪影響を及ぼすことがある。例えば、縁部を露光するとき６０ｎｍＭＳＤの垂直（Ｚ）方向の変化があるが、中心部を露光するときほんの２０ｎｍＭＳＤである場合、７０ｎｍの孤立線の縁部と中心部のＣＤにほぼ１．２ｎｍの差があることがある。
【００３０】
本発明の実施例に従った制御システム２０を図７に示す。制御器２１は、記憶デバイス２２から、基板上の複数の点の垂直位置を示す高低図と、基板Ｗ上の様々な目標部分１０の露光順序を示す計画とを受け取る。次に、制御器２１は、基板の上面を空中像の最適焦点面にできるだけ近く維持しながら露光を行うための基板テーブルの軌跡を計算する。高低図は、知られている軸外し平準化手順で生成することができ、また軌跡は、知られているアルゴリズムによって高低図から計算することができる。
【００３１】
本発明のこの実施例に従って、制御器２１は振動予測ユニット２３を含み、この振動予測ユニット２３は、計算された軌跡を解析して、軌跡を辿ったとき各目標部分で生じる基板ステージの振動の振幅を決定する。この決定は、例えば所定の間隔での基板の垂直移動の数及び／又は大きさを考慮に入れた例えばシミュレーション又は実験経験的に得られた規則に基づいている。この情報に基づいて、補償計算器２４は、そうでなければ複数の（例えば、多くの、殆どの、又は全ての）目標領域の露光中に実質的に同じ振動振幅が経験されるほどに低い振動レベルである目標部分の計算された軌跡に、重畳される筈である追加の振動を計算する。制御器２１は、次に、計算された軌跡に追加の振動を課すように位置決め装置ＰＷを制御して、例えば基板全体にわたってＣＤに一様な影響をもたらし、したがってＣＤ一様性を改善する。
【００３２】
本発明の実施例では、追加の振動は、一方向にだけに、例えばＺ方向（すなわち、基板の上面に対して垂直な方向）又は基板の上面に対して実質的に平行な方向に加えることができる。他の実施例では、実質的に直交する２又は３方向に振動を加えることができる。予め測定された高低図に基づいて追加の振動を計算するのではなく、目標部分の位置に関係する簡単な規則に基づいて、又は同じ基板の前の目標部分の露光で生じた振動の測定に基づいて、振動を加えることができる。理解されることであろうが、中心目標部分の露光中に振動をただ加えるだけでなく、縁部目標部分に振動を加えることが、追加として又は代わりに、可能である。
【００３３】
ヨーロッパ特許出願第０３２５７０７２．３号には、ツイン又はデュアル・ステージ浸漬リソグラフィ装置の概念が開示されている。そのような装置は、基板を支持する２個のテーブルを備える。平準化測定は、浸漬液なしで第１の位置のテーブルで行われ、そして、露光は、浸漬液が存在する第２の位置のテーブルで行われる。代わりに、装置はただ１つのテーブルだけを有する。
【００３４】
この明細書では、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用を特に参照することができるが、本明細書で説明したリソグラフィ装置には、集積光システム、磁気ドメイン・メモリの誘導及び検出パターン、フラットパネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド、その他の製造のような他の用途があることは理解すべきである。当業者は理解するであろうが、そのような他の用途の背景では、本明細書での用語「ウェーハ」又は「チップ」の使用はどれも、より一般的な用語「基板」又は「目標部分」とそれぞれ同義であると考えることができる。本明細書で参照する基板は、例えばトラック（一般にレジスト層を基板に塗布し、さらに露光されたレジストを現像するツール）、計測ツール、及び／又は検査ツールで、露光前又は後に処理することができる。応用可能な場合、本明細書の開示は、そのような及び他の基板処理ツールに応用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣをつくるために一度より多く処理することができるので、本明細書で使用される基板という用語は、複数の処理された層をすでに含む基板も意味することができる。
【００３５】
光リソグラフィの背景での本発明の実施例の使用を上で特に参照したが、理解されることであろうが、本発明は他の用途で、例えばインプリント・リソグラフィで使用することができ、背景が許す場合には、光リソグラフィに限定されない。インプリント・リソグラフィでは、パターン形成デバイスのトポグラフィが基板につくられるパターンを確定する。パターン形成デバイスのトポグラフィを基板に供給されたレジスト層に押し込むことができ、それから、電磁放射、熱、圧力又はこれらの組合せを加えてレジストを硬化させる。パターン形成デバイスをレジストから出して、レジストが硬化された後でレジストにパターンを残す。
【００３６】
本明細書で使用した用語「放射」及び「ビーム」は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、約３６５、２４８、１９３、１５７又は１２６ｎｍの波長を有する）及び極端紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、並びにイオン・ビーム又は電子ビームのような粒子ビームを含んだ、全ての種類の電磁放射を包含する。
【００３７】
用語「レンズ」は、背景が許す場合、屈折光学部品、反射光学部品、磁気光学部品、電磁光学部品及び静電光学部品を含んだ様々な型の光学部品のどれか１つ又は組合せを意味することができる。
【００３８】
本発明の特定の実施例を上で説明したが、理解されるであろうが、本発明は説明されたのと違ったやり方で実施することができる。例えば、本発明は、先に開示されたような方法を記述する機械可読命令の１つ又は複数のシーケンスを含んだコンピュータ・プログラム、又は格納されたそのようなコンピュータ・プログラムを有するデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気ディスク又は光ディスク）の形を取ることができる。
【００３９】
本発明は、どんな浸漬リソグラフィ装置にも、特に限定ではないが上で述べたそれらの型に応用することができる。
【００４０】
上述の説明は、例示であり制限しない意図である。したがって、当業者には明らかなことであるが、以下に述べる特許請求の範囲の範囲から逸脱することなしに、説明したような本発明に対して修正物を作ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の実施例に従ったリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】リソグラフィ投影装置用の液体供給システムを示す図である。
【図３】リソグラフィ投影装置用の液体供給システムを示す図である。
【図４】リソグラフィ投影装置用の他の液体供給システムを示す図である。
【図５】リソグラフィ投影装置用のさらに他の液体供給システムを示す図である。
【図６】複数の目標部分を有する基板を示す図である。
【図７】本発明の実施例に従った制御システムを示す図である。
【符号の説明】
【００４２】
ＬＡ  放射源
ＩＬ  放射システム
ＩＬ  照明装置
ＰＬ  投影システム
ＭＡ  パターン形成デバイス（マスク、レチクル）
ＭＴ  第１の物体テーブル（マスク・テーブル）
Ｃ  目標部分
ＰＢ  投影ビーム
Ｗ  基板（ウェーハ）
ＷＴ  第２の物体テーブル（基板テーブル）
ＰＭ  第１の位置決め装置
ＰＷ  第２の位置決め装置
１０  液溜め
２１  制御器
２２  記憶デバイス
２３  振動予測ユニット
２４  補償計算器
【図１】
2006100830.tif 000003
【図２】
2006100830.tif 000004
【図３】
2006100830.tif 000005
【図４】
2006100830.tif 000006
【図５】
2006100830.tif 000007
【図６】
2006100830.tif 000008
【図７】
2006100830.tif 000009