(57)【要約】【課題】  ワイピング処理に要する時間を短縮でき、ワークに対する描画効率を損なうことのない液滴吐出装置等を提供する。【解決手段】  セットテーブル３１にセットしたワークＷに対し、機能液滴吐出ヘッド５３を主走査方向に相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッド５３を吐出駆動させて、機能液による描画を行う液滴吐出装置１において、機能液滴吐出ヘッド５３に下側から臨み、機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７をワイピングシート１４１で払拭するワイピングユニット９１を備え、ワイピングユニット９１は、主走査方向において、セットテーブル３１が配設された液滴吐出領域２０１に隣接する描画ワイピング領域２１１に配設されていることを特徴とする。【選択図】  図６
2006192412.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セットテーブルにセットしたワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを主走査方向に相対的に移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動させて、機能液による描画を行う液滴吐出装置において、
前記機能液滴吐出ヘッドに臨み、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングシートで払拭するワイピングユニットを備え、
前記ワイピングユニットは、前記主走査方向において、前記セットテーブルが配設された液滴吐出領域に隣接する描画ワイピング領域に配設されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記描画ワイピング領域は、前記液滴吐出領域を挟むように一対設定されており、
前記ワイピングユニットは、前記セットテーブルを前記主走査方向に挟むように一対設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記セットテーブルにセットしたワークに対し、前記機能液滴吐出ヘッドを主走査方向に相対的に移動させる主走査移動テーブルと、
前記機能液滴吐出ヘッド、前記ワイピングユニットおよび前記主走査移動テーブルを制御する制御手段と、をさらに備えると共に、
前記ワイピングユニットは、前記ノズル面に対して、前記ワイピングシートを用いて払拭動作させるための拭取り機構を有しており、
前記制御手段は、前記主走査移動テーブルを駆動制御して前記機能液滴吐出ヘッドに前記描画ワイピング領域を相対的に移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドの前記ノズル面に対する払拭動作と前記ワークへの描画動作とを連続して行わせることを特徴とする請求項１または２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記セットテーブルと前記ワイピングユニットとの間に位置して前記液滴吐出領域に配設され、前記機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングボックスをさらに備え、
前記制御手段は、前記払拭動作、前記描画動作、および前記捨て吐出を連続して行わせることを特徴とする請求項３に記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記セットテーブルと共に前記ワイピングユニットを前記主走査方向に挟むように配設され、前記機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングボックスをさらに備え、
前記制御手段は、前記払拭動作、前記描画動作、および前記捨て吐出を連続して行わせることを特徴とする請求項３に記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
前記機能液滴吐出ヘッドに対して前記払拭動作を行うか否かを設定するワイピング設定手段をさらに備えると共に、
前記ワイピングユニットは、前記ノズル面に前記ワイピングシートを当接させる拭取り位置と前記ノズル面から前記ワイピングシートを離間させる待機位置との間で前記拭取り機構を昇降自在に支持する昇降機構をさらに有しており、
前記制御手段は、前記昇降機構の駆動制御を行い、前記ワイピング設定手段で前記払拭動作を行うことが設定された場合に、前記拭取り機構を前記拭取り位置に上昇させることを特徴とする請求項３ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
前記主走査移動テーブルは、前記機能液滴吐出ヘッドに対し、前記セットテーブルおよび前記ワイピングユニットを前記主走査方向に移動させることを特徴とする請求項３ないし６のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項９に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セットテーブルにセットしたワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ワーク（基板）をセットしたセットテーブル（基板搬送テーブル）を主走査方向に移動させる主走査移動テーブルと、機能液を吐出する機能液滴吐出ヘッドを搭載したヘッドユニットを副走査方向に移動させる副走査移動テーブルと、を備え、セットテーブルを介してワークをヘッドユニットに対して主走査方向に移動させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動する主走査と、ワークに対してヘッドユニットを副走査方向に移動させる副走査と、を行うことにより、ワークに所定のパターンを機能液で描画させる液滴吐出装置（成膜装置）が知られている。
【０００３】
液滴吐出装置には、描画精度を維持するために、機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングシートでワイピングする（拭き取る）ことにより、機能液の吐出に起因してノズル面に付着したインクを除去するワイピングユニット（クリーニングユニット）が備えられている。そして、液滴吐出装置では、副走査移動軸上（副走査移動テーブルによるヘッドユニットの移動軌跡上）であって、主走査移動テーブルから外れた所定の位置がワイピンユニットのワイピング位置となっており、機能液滴吐出ヘッドに対してワイピング処理を行う場合には、副走査移動テーブルを駆動して、描画処理のために主走査移動軸上（Ｘ軸テーブルによるヘッドユニットの移動軌跡上）に臨むヘッドユニットをワイピング位置まで移動させるようになっている。
【特許文献１】特開２００４−２０２３２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このように、従来の液滴吐出装置でワイピング処理を行うためには、その都度、副走査移動テーブルを駆動して、ヘッドユニットをワイピング位置に移動させなければならない。この場合、ワークに対する描画に悪影響を及ぼさないよう、機能液の吐出を伴う主走査移動テーブルの駆動と整合をとりつつ、副走査移動テーブルの駆動を行う必要があるため、ヘッドユニットの移動時間が長引くといった問題が生じていた。特に、描画に用いる機能液の種類等に起因して、ワイピングを頻繁に行う必要がある場合には、ワークの描画効率を悪化させるため問題となる。
【０００５】
また、近年は、ワークが大型化してきており、１枚のワークに要する描画処理時間が増大している。これに伴い、ワークに対する描画処理中に機能液滴吐出ヘッドのノズル面に付着する機能液量が増加するため、描画処理の途中でワイピング処理を行うことが考えられるが、従来の液滴吐出装置は、ワイピング処理に要する時間が長く、ワイピング処理のために描画処理が大きく中断されることになる。この結果、ワイピング処理直前にワークに描画した機能液と、ワイピング処理直後にワークに描画した機能液との乾燥条件等が大きく異なり、その境目に筋むらが生じる惧れがある。
【０００６】
そこで、本発明は、ワイピング処理に要する時間を短縮でき、ワークに対する描画効率を損なうことのない液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、セットテーブルにセットしたワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを主走査方向に相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動させて、機能液による描画を行う液滴吐出装置において、機能液滴吐出ヘッドに臨み、機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングシートで払拭するワイピングユニットを備え、ワイピングユニットは、主走査方向において、セットテーブルが配設された液滴吐出領域に隣接する描画ワイピング領域に配設されていることを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、セットテーブルが配設された液滴吐出領域と、ワイピングユニットが配設された描画ワイピング領域と、は主走査方向に隣接しているため、ワークに対する機能液滴吐出ヘッドの主走査方向への相対的な移動を利用して、機能液滴吐出ヘッドをワイピングユニットに臨ませることができる。したがって、機能液滴吐出ヘッドをワイピングユニットに臨ませるために必要な時間を削減して、ワークに対する描画処理からワイピングユニットを用いたワイピング処理に短時間で移行させることができる。すなわち、ワイピング処理のために要する時間を短縮して、ワークに対する描画効率を高めることができる。
【０００９】
また、ワイピング処理のために要する時間が短いため、ワイピング処理の前後に行った描画の境目に筋むらが生じることが無い。したがって、１枚のワークに対する描画処理中であっても、機能液滴吐出ヘッドに適宜ワイピング処理を行うことができ、機能液滴吐出ヘッドを適切な状態に維持することができる。このため、描画精度を安定させることができ、歩留まりを向上させることができる。
【００１０】
この場合、描画ワイピング領域は、液滴吐出領域を挟むように一対設定されており、ワイピングユニットは、セットテーブルを主走査方向に挟むように一対設けられていることが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの（一回の）主走査方向への相対移動により、機能液滴吐出ヘッドに対してワイピングユニットを２回臨ませることができる。すなわち、ワークに描画する前と後の両方でワイピング処理を行うことが可能である。また、ワークに対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に主走査方向に往復移動させる構成であるときには、その往動時および復動時のいずれの場合においてもワイピングユニットを機能液滴吐出ヘッドに臨ませることができ、主走査の往動時・復動時の両方の場合において、機能液滴吐出ヘッドの機能維持・回復を図ることができる。
【００１２】
この場合、セットテーブルにセットしたワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを主走査方向に相対的に移動させる主走査移動テーブルと、機能液滴吐出ヘッド、ワイピングユニットおよび主走査移動テーブルを制御する制御手段と、をさらに備えると共に、ワイピングユニットは、ノズル面に対して、ワイピングシートを用いて払拭動作させるための拭取り機構を有しており、制御手段は、主走査移動テーブルを駆動制御して機能液滴吐出ヘッドに描画ワイピング領域を相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対する払拭動作とワークへの描画動作とを連続して行わせることが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、拭取り機構に対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させることにより、ノズル面にワイピングシートが摺接してゆき、払拭動作が為される。そして、払拭動作と描画動作が連続して行われるため、描画動作のために行う機能液滴吐出ヘッドの相対移動を中断する必要がなく、機能液滴吐出ヘッドを移動させるという一連の中で、効率的に払拭動作（ワイピング）を行うことができる。
【００１４】
この場合、セットテーブルとワイピングユニットとの間に位置して液滴吐出領域に配設され、機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングボックスをさらに備え、制御手段は、払拭動作、描画動作、および捨て吐出を連続して行わせることが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、フラッシングボックスがセットテーブルとワイピングユニットとの間に介設されているため、払拭動作から描画動作への移行途中、および描画動作から払拭動作への移行途中に捨て吐出（フラッシング）を行うことができる。これにより、払拭動作と合わせて効率的に捨て吐出を行うことが可能となり、効果的に機能液滴吐出ヘッドの機能維持・回復を図ることができる。
【００１６】
この場合、セットテーブルと共にワイピングユニットを主走査方向に挟むように配設され、機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングボックスをさらに備え、制御手段は、払拭動作、描画動作、および捨て吐出を連続して行わせることが好ましい。
【００１７】
この構成によれば、フラッシングボックスとセットテーブルとの間にワイピングユニットが介設されているため、捨て吐出から描画動作への移行途中、および描画動作から捨て吐出への移行途中にノズル面への払拭動作を行うことができる。これにより、払拭動作および捨て吐出を効率的に行うことが可能となり、これらを合わせて効果的に機能液滴吐出ヘッドの機能維持・回復を図ることができる。
【００１８】
この場合、機能液滴吐出ヘッドに対して払拭動作を行うか否かを設定するワイピング設定手段をさらに備えると共に、ワイピングユニットは、ノズル面にワイピングシートを当接させる拭取り位置とノズル面からワイピングシートを離間させる待機位置との間で拭取り機構を昇降自在に支持する昇降機構をさらに有しており、制御手段は、昇降機構の駆動制御を行い、ワイピング設定手段で払拭動作を行うことが設定された場合に、拭取り機構を拭取り位置に上昇させることが好ましい。
【００１９】
この構成によれば、払拭動作を行うか否かを設定し、これに基づいて拭取り機構を拭取り位置と待機位置のいずれかに臨ませることができるので、任意のタイミングで拭取り機構に払拭動作（ワイピング）を行わせることができ、機能液滴吐出ヘッドに導入する機能液の種類等に合わせ、実情に応じて払拭動作を行わせることができる。
【００２０】
この場合、主走査移動テーブルは、セットテーブルおよびワイピングユニットを主走査方向に移動させることが好ましい。
【００２１】
この構成によれば、主走査移動テーブルを駆動することにより、機能液滴吐出ヘッドに対して、セットテーブルおよびワイピングユニットを主走査方向に移動させることができ、これらを順次機能液滴吐出ヘッドに臨ませて、ワークに対する描画および機能液滴吐出ヘッドに対するワイピング処理を効率的に行うことができる。
【００２２】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。また、本発明の電気光学装置は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２３】
これらの構成によれば、上記の液滴吐出装置を用いているため、描画処理中に効率よく機能液滴吐出ヘッドのノズル面に払拭動作を行って、メンテナンスすることができるため、高精度に成膜部を形成すると共に歩留まりを向上させることができ、電気光学装置を効率よく製造することができる。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置またはＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２４】
本発明の電子機器は、上記に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置、または上記に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２５】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、いわゆるフラットディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法（インクジェット法を応用した）により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。
【００２７】
図１および図２に示すように、液滴吐出装置１は、複数の機能液滴吐出ヘッド５３（図示省略）を搭載したヘッドユニット１６を有し、ワークＷに機能液滴による描画を行う描画装置２と、機能液滴吐出ヘッド５３の機能維持・保守に供するメンテナンス装置３と、描画装置２（機能液滴吐出ヘッド５３）に機能液を供給する図外の機能液供給装置４と、各装置を統括制御する図外の制御装置５と、を備えている。そして、液滴吐出装置１では、制御装置５による制御に基づいて、描画装置２に描画処理を行わせ、ワークＷ上に所定の描画パターンを描画させると共に、メンテナンス装置３により適宜メンテナンス処理を行って、機能液滴吐出ヘッド５３の機能維持・保守を図るようになっている。
【００２８】
図１に示すように、描画装置２は、石定盤等で構成されたＸ軸支持ベース１１と、Ｘ軸支持ベース１１上に配設され、ワークＷをセットしてこれを主走査方向となるＸ軸方向に移動させるためのＸ軸テーブル１２と、複数本の支柱１３を介してＸ軸テーブル１２を跨ぐように架け渡された１対（２つ）のＹ軸支持ベース１４と、Ｙ軸支持ベース１４上に配設されたＹ軸テーブル１５と、複数の機能液滴吐出ヘッド５３（図示省略）が搭載された７つのキャリッジユニット５１から成り、副走査方向となるＹ軸方向に対して、Ｙ軸テーブル１５に移動自在に支持されたヘッドユニット１６と、を備えている。
【００２９】
なお、図１における図示手前の位置が未処理のワークＷを導入すると共に、処理済みのワークＷを回収するためのワーク載せ換え位置となっていると共に、Ｘ軸テーブル１２とＹ軸テーブル１５とが交わる場所が、ワークＷに対して描画を行うためのヘッドユニット１６の描画位置となっている。
【００３０】
また、描画装置２には、駆動・制御用の圧縮エアーを供給するエアー供給装置（図示省略）や、ワークＷをセットするためにエアー吸引を行うエアー吸引装置（図示省略）の他、ワークＷをセット（位置補正）する際に用いられる一対のワーク認識カメラ２１、ヘッドユニット１６の位置補正を行うためのヘッド認識カメラ（図示省略）等の各種付帯装置が備えられている。
【００３１】
図１および図２に示すように、Ｘ軸テーブル１２は、ワークＷをセットするセットテーブル３１と、セットテーブル３１をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ３２と、Ｘ軸方向に延在し、セットテーブル３１を介してワークＷをＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｘ軸リニアモータに並設され、Ｘ軸エアースライダ３２の移動を案内する一対（２本）のＸ軸ガイドレール３３と、Ｘ軸ガイドレール３３に並設され、セットテーブル３１を介してワークＷの位置を把握するためのＸ軸リニアスケール（図示省略）と、を備えている。
【００３２】
セットテーブル３１は、エアー吸引装置からのエアー吸引によりワークＷを吸着セットする吸着テーブル３４と、吸着テーブル３４を回動自在に支持し、吸着テーブル３４に吸着セットしたワークＷをθ補正するためのθテーブル３５等を有している（図７参照）。そして、吸着テーブル３４に吸着セットされたワークＷは、一対のワーク認識カメラ２１により画像認識され、θテーブル３５を介してθ補正される。
【００３３】
一対のＸ軸リニアモータを（同期させて）駆動すると、一対のＸ軸ガイドレール３３にガイドされた状態で、Ｘ軸エアースライダ３２がＸ軸方向に移動し、セットテーブル３１にセットされたワークＷがＸ軸方向に移動する。
【００３４】
なお、詳細は後述するが、セットテーブル３１には、メンテナンス装置３の描画フラッシングユニット９１（描画フラッシングボックス１０１）が支持されていると共に、Ｘ軸エアースライダ３２には、メンテナンス装置３の描画ワイピングユニット１３１、および非描画フラッシングユニット９２が搭載されている。
【００３５】
Ｙ軸テーブル１５は、ヘッドユニット１６を構成する７つの各キャリッジユニット５１をそれぞれ挿通して固定した７つのブリッジプレート４１と、７つのブリッジプレート４１の両端を支持する７組１４個のＹ軸スライダ（図示省略）と、上記した一対のＹ軸支持ベース１４上に設置され、７組１４個のＹ軸スライダを介してブリッジプレート４１をＹ軸方向に移動させる一対のＹ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｙ軸リニアモータと並んでＹ軸支持ベース１４上に設置され、７組１４個のＹ軸スライダを支持して、各Ｙ軸スライダの移動を案内する一対のＹ軸ガイドレール（図示省略）と、Ｙ軸ガイドレールに並設され、各キャリッジユニット５１の位置をそれぞれ把握するためのＹ軸リニアスケール（図示省略）と、を備えている。
【００３６】
一対のＹ軸リニアモータを（同期させて）駆動すると、各Ｙ軸スライダが一対のＹ軸ガイドレールを案内にして同時にＹ軸方向を平行移動する。これにより、ブリッジプレート４１が両端を支持された状態でＹ軸方向を移動し、これと共にキャリッジユニット５１がＹ軸方向に移動する。なお、この場合、Ｙ軸リニアモータの駆動を制御することにより、各ブリッジプレート４１（各キャリッジユニット５１）を独立させて個別に移動させることも可能であるし、７つの全ブリッジプレート４１をヘッドユニット１６として一体に移動させることも可能である。
【００３７】
図１および図２に示すように、ヘッドユニット１６は、同様に構成された７つのキャリッジユニット５１をＹ軸方向に整列させて構成されている。各キャリッジユニット５１は、ヘッドプレート５２にヘッド保持プレート（図示省略）を介して１２個の機能液滴吐出ヘッド５３を搭載し、これをキャリッジ５４に支持させて構成されている。
【００３８】
図３に示すように、ヘッドプレート５２は、ステンレス等の厚板で平面視略平行四辺形に形成されている。ヘッドプレート５２には、ヘッド保持プレートを介して機能液滴吐出ヘッド５３を位置決め・装着するための開口（図示省略）が設けられており、各ヘッドプレート５２に１２個の機能液滴吐出ヘッド５３を搭載すると、１２個の機能液滴吐出ヘッド５３のノズル列（後述する）がＹ軸方向において連続（一部重複）して、１本の分割描画ラインが形成されるようになっている。なお、本実施形態では、１２個の機能液滴吐出ヘッド５３をＸ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ位置ずれさせた階段状の配置パターンを採用しているが、各機能液滴吐出ヘッド５３のノズル列がＹ軸方向に連続してさえいれば、機能液滴吐出ヘッド５３の配置パターンを任意に設定可能である。
【００３９】
図４に示すように、機能液滴吐出ヘッド５３（インクジェットヘッド）は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針６２を有する機能液導入部６１と、機能液導入部６１に連なる２連のヘッド基板６３と、機能液導入部６１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体６４と、を備えている。接続針６２は、図外の機能液供給装置４（機能液タンク）に接続され、機能液導入部６１に機能液を供給する。ヘッド本体６４は、キャビティ６５（ピエゾ圧電素子）と、多数の吐出ノズル６８が開口したノズル面６７を有するノズルプレート６６と、で構成されている。機能液滴吐出ヘッド５３を吐出駆動すると、（ピエゾ圧電素子に電圧が印加され）キャビティ６５のポンプ作用により、吐出ノズル６８から機能液滴が吐出される。
【００４０】
なお、多数の吐出ノズル６８は、二分され、等ピッチ（約１４０μｍ間隔）に整列して、２列の分割ノズル列を形成していると共に、２列の分割ノズル列同士は、相互に半ピッチ（約７０μｍ）分位置ずれしている。すなわち、機能液滴吐出ヘッド５３には、２列の分割ノズル列により半ピッチ間隔のノズル列が形成され、高解像度の描画が可能となっている。
【００４１】
キャリッジ５４は、（機能液滴吐出ヘッド５３を搭載した）ヘッドプレート５２を支持するキャリッジ本体７１と、キャリッジ本体７１を介してヘッドプレート５２（機能液滴吐出ヘッド５３）をθ補正（θ回転）可能に支持するθ回転機構７２と、θ回転機構７２を介して、ヘッドプレート５２をＹ軸テーブル１５（各ブリッジプレート４１）に支持させる吊設部材７３と、を備えている。また、図示省略したが、吊設部材７３には、θ回転機構７２を介してヘッドプレート５２を昇降させるヘッド昇降機構（図示省略）が組み込まれており、ヘッドプレート５２（機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７）の高さ位置を調整可能に構成されている。
【００４２】
そして、７つの各キャリッジ５４を７つの各ブリッジプレート４１にそれぞれ支持させ、７つのキャリッジユニット５１をＹ軸方向に整列させることにより、ヘッドユニット１６が構成される。この場合、各キャリッジユニット５１は、上記のヘッド認識カメラにより撮像され、その画像認識に基づいて各キャリッジユニット５１のθ回転機構７２が駆動される。これにより、各キャリッジユニット５１（ヘッドプレート５２）の水平面内における位置が補正され、ヘッドユニット１６においては、各キャリッジユニット５１の７本の分割描画ラインがＹ軸方向に連続する１描画ラインが形成される。
【００４３】
ここで、ワークＷに描画処理を行うときの描画装置２の一連の動作について説明する。先ず、Ｘ軸テーブル１２が駆動され、セットテーブル３１を介してワークＷをＸ軸方向に往動する。このワークＷの往動と同期して、描画位置に臨むヘッドユニット１６の（複数の）機能液滴吐出ヘッド５３が駆動され、ワークＷに対する機能液滴の選択的な吐出（描画）が行われる。このとき、セットテーブル３１は、所定の速度に達するまで加速移動した後、等速移動してから減速してワークＷの往動が終了するが、本実施形態では、描画精度も安定させるためにワークＷに対する描画を等速移動中に行うように構成されている。
【００４４】
ワークＷの往動が終了すると、Ｙ軸テーブル１５が駆動され、ヘッドユニット１６が所定距離だけＹ軸方向に移動する。そして、再度、Ｘ軸テーブル１２が駆動されると共に、これと同期して機能液滴吐出ヘッド５３の吐出駆動が為され、ワークＷの復動とワークＷに対する機能液滴の選択的な吐出が行われる。このように、描画装置２では、ワークＷの主走査方向への移動とこれに同期した機能液滴吐出ヘッド５３の吐出駆動（主走査）と、ヘッドユニット１６の副走査方向への移動（副走査）と、を交互に繰り返すことにより、ワークＷに対する描画処理を行ってゆく。
【００４５】
なお、本実施形態では、主走査および副走査を繰り返しながら描画処理を行う構成としたが、ヘッドユニット１６の１描画ラインは、セットテーブル３１にセット可能な最大規格のワークＷのＹ軸方向の幅に対応しているため、１回の主走査で描画処理を行うことも可能である。また、本実施形態では、ワークＷの往動時および復動時において機能液滴吐出ヘッド５３を吐出駆動するようになっているが、往動時（または復動時）のみに吐出駆動させるようにしてもよい。また、本実施形態の主走査では、ヘッドユニット１６に対してワークＷをＸ軸方向に移動させているが、ワークＷに対してヘッドユニット１６をＸ軸方向に移動させる構成とすることも可能である。同様に、副走査でも、ヘッドユニット１６のＹ軸方向への移動に代えて、ワークＷをＹ軸方向に移動させる構成とすることも可能である。
【００４６】
次に、メンテナンス装置３について説明する。メンテナンス装置３は、機能液滴吐出ヘッド５３からの捨て吐出を受けるフラッシングユニット８１と、機能液滴吐出ヘッド５３から機能液を強制的に排出させるための吸引ユニット８２と、機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７を払拭するワイピングユニット８３と、を備えている。そして、図１および図２に示すように、フラッシングユニット８１およびワイピングユニット８３の描画ワイピングユニット１３１（後述する）は、上記したＸ軸テーブル１２に搭載され、吸引ユニット８２およびワイピングユニット８３の非描画ワイピングユニット１３２（後述する）は、Ｘ軸テーブル１２から外れ、かつＹ軸テーブル１５によるヘッドユニット１６の移動軌跡上に設置されたメンテナンス架台８４上に配設されている。
【００４７】
フラッシングユニット８１は、（１枚の）ワークＷに対する一連の描画処理中において、ヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３から捨て吐出される機能液、すなわち描画フラッシングの機能液を受ける描画フラッシングユニット９１と、ワークＷの載せ換え時等にように描画動作が一時的に休止される時（描画待機中）のヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３から捨て吐出される機能液、すなわち非描画フラッシングの機能液を受ける非描画フラッシングユニット９２と、を備えている。
【００４８】
なお、「捨て吐出」は、機能液滴吐出ヘッド５３の吐出ノズル６８内で（気化等により）粘度が増した機能液を排出すると共に、吐出ノズル６８に状態の良い新たな機能液を供給するために行われるものであり、機能液滴吐出ヘッド５３の（全）吐出ノズル６８から捨て吐出を行わせることにより、機能液滴吐出ヘッド５３を適切な状態に維持することが可能となる。
【００４９】
描画フラッシングユニット９１は、セットテーブル３１に支持され、機能液を受ける一対の描画フラッシングボックス１０１を有している。各描画フラッシングボックス１０１は、底部に吸収材（図示省略）が敷設された平面視長方形の細長い箱状に形成されている。そして、各描画フラッシングボックス１０１は、図外のボックス支持部材を介して、その長辺部分が吸着テーブル３４のＹ軸方向に平行な一対の辺（周縁）に沿うようにそれぞれセットテーブル３１（θテーブル３５）に支持されている。この場合、描画フラッシングボックス１０１の上面は、吸着テーブル３４の上面と略面一となっている。したがって、吸着テーブル３４を介してワークＷをＸ軸方向に往復動させると、（１回の主走査により、ヘッドユニット１６がワークＷに臨む直前およびヘッドユニット１６がワークＷから離間した直後のいずれの場合においても）ヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３を順次描画フラッシングボックス１０１に臨ませることができ、描画フラッシングの機能液を適切に受けることができるようになっている。
【００５０】
非描画フラッシングユニット９２は、上面が開放され、機能液を受ける非描画フラッシングボックス１１１と、上記のＸ軸エアースライダ３２に搭載されており、Ｘ軸エアースライダ３２に支持され、非描画フラッシングボックス１１１を支持する一対のボックス支柱部材（図示省略）と、を有している。非描画フラッシングボックス１１１は、上面が開放された平面視長方形状に形成されていると共に、ヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３からの非描画フラッシングを同時に受けられるように、ヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３を包含し得る十分な大きさのボックス状に構成されている。
【００５１】
なお、一対のボックス支柱部材は、セットテーブル３１をワーク載せ換え位置に臨ませたときに、描画位置に位置するヘッドユニット１６に非描画フラッシングボックス１１１が臨むようにこれを支持しており、ワークＷの載せ換え中等において、ヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３を吐出駆動して非描画フラッシングを行わせることができるようになっている。
【００５２】
図１等に示すように、吸引ユニット８２は、ヘッドユニット１６の７個の各キャリッジユニット５１に対応して７個設けられており、これらは上記メンテナンス架台８４上に整列配置されている。各吸引ユニット８２は、キャリッジユニット５１に搭載されている１２個の機能液滴吐出ヘッド５３（ノズル面６７）に下側から密着してこれを封止するための１２個のキャップ１２１と、１２個のキャップ１２１を昇降自在に支持し、機能液滴吐出ヘッド５３に対してキャップ１２１を離接させるキャップ昇降機構（図示省略）と、密着させたキャップ１２１を介して各機能液滴吐出ヘッド５３に吸引力を作用させる吸引手段（エゼクタ：図示省略）と、を備えている。
【００５３】
機能液の吸引（機能液の強制排出）は、機能液滴吐出ヘッド５３（吐出ノズル６８）の目詰まりを解消／防止するために行われる他、液滴吐出装置１を新設した場合や、機能液滴吐出ヘッド５３のヘッド交換を行った場合などに、機能液滴吐出ヘッド５３に機能液を充填するために行われる。また、吸引ユニット８２のキャップ１２１は、液滴吐出装置１の非稼動時に、機能液滴吐出ヘッド５３を保管するためにも用いられる。この場合、吸引ユニット８２にヘッドユニット１６を臨ませ、機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７にキャップ１２１を密着させることにより、ノズル面６７を封止して、機能液滴吐出ヘッド５３（吐出ノズル６８）の乾燥を防止する。
【００５４】
ワイピングユニット８３は、機能液滴吐出ヘッド５３に下側から臨み、ワイピングシート１４１で機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７を拭き取る（ワイピング）ものであり、（１枚の）ワークＷに対する一連の描画処理中において、ワイピング可能に構成された一対の描画ワイピングユニット１３１と、吸引ユニット８２による機能液滴吐出ヘッド５３の吸引後に行う場合のように、非描画処理時にワイピングを行う非描画ワイピングユニット１３２と、を備えている。
【００５５】
図１および図２に示すように、一対の描画ワイピングユニット１３１は、上記した一対の描画フラッシングボックス１０１の長辺に沿って隣接するように、上記のＸ軸エアースライダ３２に搭載されている。各描画ワイピングユニット１３１は、ロール状に巻回したワイピングシート１４１を繰出す繰出しリール１４３および繰出されたワイピングシート１４１を巻き取る巻取りリール１４４を有し、ワイピングシート１４１を繰り出し送りしながら巻き取ってゆく巻取りユニット１４２と、描画フラッシングボックス１０１の長辺と平行になるように回転自在に軸支され、繰り出したワイピングシート１４１を周回させた拭取りローラ１４６を有する拭取りユニット１４５と、ワイピングシート１４１を介して拭取りローラ１４６がノズル面６７に当接可能な拭取り位置とノズル面６７から拭取りローラ１４６が離間する拭取り待機位置との間で、これら両ユニット１４２、１４５を昇降自在に支持するユニット昇降機構１４７と、を備えている（図７参照）。
【００５６】
そして、ユニット昇降機構１４７により（拭取り待機位置にある）拭取りローラ１４６を拭取り位置まで上昇させた状態で、描画処理の主走査を行う（Ｘ軸テーブル１２を駆動する）と、ヘッドユニット１６に搭載された機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７に対してワイピングシート１４１が（下側から）摺接してゆき、（機能液滴吐出ヘッド５３のノズル列方向と直交する方向：横拭き方向に）ノズル面６７が順次ワイピング（横拭き）されていく。この場合、一対の描画ワイピングユニット１３１は、一対の描画フラッシングボックス１０１を挟むように配設されているため、１回の主走査に付きヘッドユニット１６が描画フラッシングボックス１０１に到達する直前および離間した直後に、ワイピングを行うことが可能である。なお、ワイピングシート１４１の幅および拭取りローラ１４６の長さは、ヘッドユニット１６の１描画ラインの長さに対応しており、１回の主走査でヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３をワイピングできるようになっている。
【００５７】
また、ノズル面６７に対するワイピング時には、巻取りユニット１４２により、ワイピングシート１４１を繰出し送りしながらノズル面６７の拭取りを行うようにしても良いし、ワイピングシート１４１の繰出し送りを停止させた状態でノズル面６７を拭取るようにしても良い。後者の場合、ワイピング開始直前またはワイピング終了直後に、ワイピングシート１４１の繰出し送りを適宜行うようにし、拭取り済みのワイピングシート１４１を適宜繰出し送りしておくことが好ましい。
【００５８】
非描画ワイピングユニット１３２は、７個の吸引ユニット８２と並んでメンテナンス架台８４に配設されている。非描画ワイピングユニット１３２は、描画ワイピングユニット１３１と略同様に構成されているが、繰出しリール１４３から拭取りローラ１４６に至るワイピングシート１４１のシート送り経路上には、繰出したワイピングシート１４１に洗浄液を噴霧する洗浄液供給ユニット１５１が設けられている。洗浄液供給ユニット１５１は、ワイピングシート１４１の幅方向に亘って洗浄液を噴霧させる噴霧ヘッド（図示省略）を有しており、どのノズル面６７も洗浄液を噴霧させたワイピングシート１４１でワイピング可能に構成されている。（なお、ここでは、非描画ワイピングユニット１３２の描画ワイピングユニット１３１の各部材に相当する部材については、描画ワイピングユニット１３１で付した符号と同一の符号を付している）
【００５９】
また、非描画ワイピングユニット１３２に適用されるワイピングシート１４１および拭取りローラ１４６は、各キャリッジユニット５１（ヘッドプレート５２）のＸ軸方向における長さに対応して構成されていると共に、非描画ワイピングユニット１３２は、拭取りローラ１４６がＸ軸方向と並行になるように設置されている。したがって、拭取りローラ１４６を拭取り位置に臨ませた状態で、Ｙ軸テーブル１５を駆動させると、機能液滴吐出ヘッド５３は、ノズル列方向にワイピング（縦拭き）される。なお、非描画ワイピングユニット１３２は、吸引ユニット８２よりも描画装置２側に配設されており、吸引ユニット８２による吸引後に描画位置に戻るヘッドユニット１６（各キャリッジユニット５１）に臨んで、効率よくワイピングを行えるようになっている（図７参照）。
【００６０】
機能液供給装置４は、ヘッドユニット１６の各キャリッジユニット５１にそれぞれ対応して構成されており、機能液滴吐出ヘッド５３に供給する機能液を貯留する機能液タンク（図示省略）を有した７つのタンクユニット（図示省略）と、各タンクユニット（機能液タンク）から機能液滴吐出ヘッド５３に供給する機能液の圧力を調整する圧力調整弁１６２を有した７つのバルブユニット１６１と、を備えている。
【００６１】
制御装置５は、パソコン等で構成され、データ入力、各種設定を行うための入力手段（キーボード等）や、入力データ・各種設定状態等を視認するためのディスプレイ等を備えている（いずれも図示省略）。
【００６２】
次に、図５を参照しながら液滴吐出装置１の主制御系について説明する。液滴吐出装置１は、描画装置２を有する描画部１７１と、メンテナンス装置３を有するメンテナンス部１７２と、描画装置２やメンテナンス装置３の各種センサを有し、各種検出を行う検出部１７３と、各部を駆動する各種ドライバ（描画装置２を駆動するための描画ドライバやメンテナンス装置３を駆動するためのメンテナンスドライバ等）を有する駆動部１７４と、各部に接続され、液滴吐出装置１全体の制御を行う制御部１７５（制御装置５）と、を備えている。
【００６３】
制御部１７５には、描画装置２およびメンテナンス装置３を接続するためのインタフェース１８１、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ１８２、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ１８３、ワークＷに描画処理を行うための描画データや、描画装置２およびメンテナンス装置３からの各種データ等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク１８４、ＲＯＭ１８３、およびハードディスク１８４に記憶されたプログラム等に従い、各種データを演算処理するＣＰＵ１８５、これらを互いに接続するバス１８６、が備えられている。
【００６４】
そして、制御部１７５は、描画装置２、メンテナンス装置３等からの各種データを、インタフェース１８１を介して入力すると共に、ハードディスク１８４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等により順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ１８５に演算処理させ、その処理結果を、インタフェース１８１を介して描画装置２やメンテナンス装置３等に出力することにより、各手段を制御している。
【００６５】
ところで、図６に示すように、本実施形態の液滴吐出装置１では、セットテーブル３１上の領域が実描画領域２０２、一対の描画フラッシングボックス１０１上の領域が描画フラッシング領域２０３として設定されており、これらの領域２０２、２０３を併せて機能液を受けるための液滴吐出領域２０１が構成されている。また、各描画フラッシング領域に隣接し、一対の描画ワイピングユニット１３１の拭取りローラ１４６に臨む領域は、描画ワイピング領域２１１として設定されており、機能液滴吐出ヘッド５３に対する描画ワイピングはこの領域で行われるようになっている。
【００６６】
このように、本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出領域２０１に隣接して描画ワイピング領域２１１が設定されており、主走査に伴うＸ軸エアースライダ３２の移動を利用して、描画ワイピング、描画フラッシング、およびワークＷへの描画を効率的に行い得るように構成されている。
【００６７】
図６および図７を参照して、本実施形態における主走査時の描画ワイピング、描画フラッシング、およびワークＷに対する描画に関連した一連のフローについて説明する。なお、ここでは、説明の便宜を図るため、一対の描画ワイピングユニット１３１（描画ワイピング領域２１１）のうち、ヘッドユニット側（図１の図示奥側）を１３１ａ（２１１ａ）とし、ワーク載せ換え位置側（図１の図示手前側）を１３１ｂ（２１１ｂ）として説明する。同様用に、一対の描画フラッシングユニット９１（描画フラッシング領域２０３）のうち、ヘッドユニット側を９１ａ（２０３ａ）とし、ワーク載せ換え位置側を９１ｂ（２０３ｂ）とする。
【００６８】
描画処理が開始され、図７（ａ）の状態から、主走査のためにＸ軸テーブル１２が駆動されると、Ｘ軸エアースライダ３２の往動に伴い、描画ワイピングユニット１３１、描画フラッシングユニット９１、およびセットテーブル３１がＸ軸方向へ移動する。これにより、描画位置で非描画フラッシングユニット９２に臨んでいたヘッドユニット１６が、描画ワイピング領域２１１ａ、描画フラッシング領域２０３ａ、実描画領域２０２が順に臨んでゆき、描画ワイピング、描画フラッシング、ワークＷへの描画が連続して行われてゆく（図７（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）参照）。
【００６９】
このとき、制御装置５は、Ｘ軸テーブル１２の駆動開始と同期してユニット昇降機構１４７を駆動し、描画ワイピング領域２１１ａが描画位置に到達するまでに、描画ワイピングユニット１３１ａの拭取りローラ１４６を拭取り位置に臨ませておく。また、制御装置５は、Ｘ軸テーブル１２の駆動と同期して機能液滴吐出ヘッド５３の駆動制御を行い、描画ワイピングを終えて描画フラッシング領域２０３ａに臨む機能液滴吐出ヘッド５３から描画フラッシング（捨て吐出）を行わせると共に、描画フラッシングを終えて実描画領域２０２に臨む機能液滴吐出ヘッド５３に、所定の描画パターンを描画させる。
【００７０】
描画終了後もＸ軸テーブル１２の駆動は続けられ、実描画領域２０２が通過した後のヘッドユニット１６（機能液滴吐出ヘッド５３）に描画フラッシング領域２０３ｂ、描画ワイピング領域２１１ｂが順に臨む（図７（ｅ）、（ｆ）参照）。この場合、再度描画フラッシングおよび描画ワイピングを行うように、機能液滴吐出ヘッド５３の駆動制御が為されると共に、描画ワイピングユニット１３１ｂの拭取りローラ１４６が拭取り位置に待機している。そして、描画ワイピング領域２１１ｂが描画位置を通過した後、Ｘ軸テーブル１２の駆動が停止され、Ｘ軸エアースライダ３２の往動が終了する。
【００７１】
Ｘ軸エアースライダ３２の復動時では、Ｘ軸スライダの往動時と逆の動作フローが為され、Ｘ軸エアースライダ３２の復動を利用して、描画ワイピングユニット１３１ｂによる描画ワイピング、描画フラッシングユニット９１ｂへの描画フラッシング、ワークＷへの描画、描画フラッシングユニット９１ａへの描画フラッシング、および描画ワイピングユニット１３１ａによる描画ワイピングが連続して行われる。
【００７２】
このように、本実施形態の液滴吐出装置１では、主走査によるヘッドユニット１６の相対移動範囲内に、一対の描画ワイピングユニット１３１、一対の描画フラッシングユニット９１、およびセットテーブル３１が配設されているため、主走査におけるセットテーブル３１（ヘッドユニット１６）の一連の移動により、描画ワイピング、描画フラッシング、およびワークＷへの描画が円滑に連続して行われるようになっている。
【００７３】
また、描画ワイピングユニット１３１（１３１ａ）は、Ｘ軸方向（主走査方向）において、非描画フラッシングユニット９２とセットテーブル３１との間に介設されている。このため、描画処理開始前に非描画フラッシングユニット９２に対して行った非描画フラッシングの機能液（サテライト）により、機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７が汚れていたとしても、ワークＷへの描画直前に行う描画ワイピングでこれを払拭することができる。したがって、ノズル面６７の汚れに起因して生じうる機能液滴の飛行曲がりを有効に防止でき、描画精度を維持して、歩留まりを高めることができる。
【００７４】
なお、本実施形態では、描画フラッシングユニット９１およびセットテーブル３１に対して、描画ワイピングユニット１３１（拭取りローラ１４６）が極めて近接した状態で配置されており、描画ワイピングしながら描画フラッシング・描画を行ったり、描画しながら描画フラッシング、描画ワイピングを行ったりすることが可能である（図７（ｃ）、（ｅ）参照）。このように、描画ワイピングと描画フラッシング／描画の一部とを重複させることにより、これら一連の動作を短時間で効率的に行うことができる。もっとも、描画ワイピングがワークＷに対する描画に悪影響を及ぼすような場合には、描画ワイピングユニット１３１と描画フラッシングユニット９１との離間距離を調整するなどして、描画ワイピング中のヘッドユニット１６が実描画領域２０２にかからないようにし、描画ワイピングには描画フラッシングのみが重複する構成とすることも可能である。
【００７５】
また、上述したように、ワークＷに対する描画は、セットテーブル３１の等速移動中に行われるようになっている。そこで、セットテーブル３１が等速移動に達するまでの加速領域、およびセットテーブル３１が等速移動から停止するまでの減速領域に対応させて一対の描画ワイピングユニット１３１をそれぞれ配置すれば、セットテーブル３１の加減速に要する時間も描画ワイピングの時間として効率的に利用することができ、描画ワイピングのためだけにかかる時間を短縮することが可能である。
【００７６】
また、本実施形態では、ヘッドユニット１６が描画ワイピング領域２１１、描画フラッシング領域２０３に臨むたび毎に描画ワイピングを行う構成であったが、描画ワイピングおよび描画フラッシングの実行タイミングはこれに限られるものではなく、機能液滴吐出ヘッド５３に導入する機能液の種類等に応じて任意に（主走査におけるどの段階で、どのくらいの頻度で描画ワイピングおよび描画フラッシングを行うかを、描画ワイピングおよび描画フラッシングのいずれか一方しかを行わないといった設定も含め）設定可能である。（請求項にいうワイピング設定手段は、制御装置５により構成されている。）そして、この設定に応じて、制御装置５が、一対の描画ワイピングユニット１３１のユニット昇降機構１４７の駆動および機能液滴吐出ヘッド５３の吐出駆動を制御することにより、設定した実行タイミングで描画ワイピングおよび描画フラッシングを実行させることが可能となる。
【００７７】
例えば、描画開始前にのみ描画ワイピングを行うように設定し、主走査の往動時にヘッドユニット１６が、描画フラッシング領域２０３ａに臨む前に描画ワイピングユニット１３１ａで１回、主走査の復動時に描画フラッシング領域２０３ｂに臨む前に描画ワイピングユニット１３１ｂで１回、描画ワイピングを行うようにしてもよい。
【００７８】
この場合、制御装置５は、主走査の往動時には、描画ワイピングユニット１３１ａの拭取りローラ１４６を拭取り位置に上昇させ、描画フラッシング領域ａに臨んだヘッドユニット１６の機能液滴吐出ヘッド５３に描画ワイピングを行わせると共に、描画ワイピングが終了すると、描画ワイピングユニット１３１ａの拭取りローラ１４６を下降させる。一方、描画ワイピングユニット１３１ｂの拭取りローラ１４６は待機位置に待機させておく。同様に、復動時において、制御装置５は、描画ワイピングユニット１３１ａの拭取りローラ１４６を待機位置に待機させると共に、描画ワイピングユニット１３１ｂの拭取りローラ１４６が拭取り位置まで上昇させておき、描画ワイピングユニット１３１ｂによる描画ワイピング終了後には、その拭取りローラ１４６を待機位置まで下降させる。
【００７９】
また、本実施形態では、一対（２個）の描画ワイピングユニット１３１を備える構成としたが、描画ワイピングの実行頻度が低いような場合等には、いずれか一方（１個）の描画ワイピングユニット１３１のみを備える構成としても良い。
【００８０】
次に、第２実施形態の液滴吐出装置について説明する。第２実施形態の液滴吐出装置は、第１実施形態のものと略同様に構成されているが、一対の描画ワイピングユニット１３１、および一対の描画フラッシングユニット９１の配置が異なっている。
【００８１】
具体的には、図８（ａ）に示すように、セットテーブル３１（吸着テーブル３４）に隣接して、一対の描画ワイピングユニット１３１が配設されていると共に、一対の描画ワイピングユニット１３１の外側に隣接して、一対の描画フラッシングユニット９１が配設されている。すなわち、第１実施形態の液滴吐出装置において、描画ワイピングユニット１３１と描画フラッシングユニット９１とを入れ替えた構成となっている。
【００８２】
これにより、実描画領域２０２への描画に先立ち、描画フラッシング、描画ワイピングの順で効率的に機能液滴吐出ヘッド５３のメンテナンスを行うことが可能である。すなわち、描画フラッシングによって、機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７に付着した機能液汚れが描画ワイピングにより直ぐに払拭されるため、ワークＷへの描画に悪影響を及ぼすことを有効に防止できる。もっとも、この場合も第１実施形態と同様、描画フラッシングおよび描画ワイピングの実行タイミング（実行頻度）および実行順序は任意に設定可能であり、描画フラッシング、描画ワイピングの順で機能液滴吐出ヘッド５３のメンテナンスを行う以外のメンテナンスが可能であることは言うまでも無い。
【００８３】
描画フラッシングおよび描画ワイピングをどのような実行順序（実行タイミング）で行う方が良いかについては、機能液の種類等によって異なっており、描画フラッシングの直前に描画ワイピングを行うことが好ましい場合には、第１実施形態の液滴吐出装置を用い、描画フラッシングの直後に描画ワイピングを行うことが好ましい場合には、第２実施形態の液滴吐出装置を用いるといったように、実情に合わせて使い分ければよい。
【００８４】
また、どのような実行順序で描画フラッシングおよび描画ワイピングを行っても効率的に対応させるために、第１実施形態の描画ワイピングユニット１３１の拭取りローラ１４６に沿って、さらに一対の描画フラッシングユニット９１（描画フラッシングボックス１０１）を設けたり、第２実施形態の描画フラッシングボックス１０１に沿って、さらに一対の描画ワイピングユニット１３１を設けたりすることも考えられる（図８（ｂ）、（ｃ）参照）。
【００８５】
このように、描画フラッシングおよび描画ワイピングの実行順序（実行タイミング）に合わせて描画フラッシングユニット９１および描画ワイピングユニット１３１の配置を変えることにより、適切なメンテナンスを効率良く行うことができ、その結果、描画効率を向上させることができる。
【００８６】
なお、これらの場合、描画フラッシングユニット９１および描画ワイピングユニット１３１をセットテーブル３１（吸着テーブル３４）およびＸ軸エアースライダ３２のいずれに支持させかについては任意である。
【００８７】
次に、本発明の第３実施形態について説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、第１実施形態（または第２実施形態）の液滴吐出装置と略同様に構成されているが、描画ワイピングユニット１３１の構成において異なっている。
【００８８】
具体的には、本実施形態の描画ワイピングユニットは、非描画ワイピングユニット１３２と同様（大きさは異なるものの）に構成されており、ワイピングシート１４１に洗浄液を供給する洗浄液供給ユニット１５１を備えている。したがって、洗浄液が噴霧されたワイピングシート１４１で描画ワイピングを行うことが可能となり、描画ワイピング時の拭き残しを低減させることが可能である。
【００８９】
もっとも、洗浄液を供給したワイピングシート１４１で描画ワイピングを行った方が良いかについては機能液毎に異なるため、描画ワイピングおよび描画フラッシングの実行タイミングと併せて、洗浄液の供給タイミングも設定可能とすることが好ましい。これにより、単に描画ワイピング時に洗浄液を供給するか否かだけではなく、ワークＷへの描画前に行う描画ワイピングは、洗浄液を噴霧したワイピングシートで、描画直後に行う描画ワイピングは、（洗浄液なしの）乾拭きでといったように、きめ細かいメンテナンスが可能となる。
【００９０】
また、本実施形態では、一対の描画ワイピングユニット１３１の両方に、洗浄液供給ユニットを設ける構成としたが、いずれか一方にのみ設ける構成とすることも当然に可能である。
【００９１】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【００９２】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図９は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１０は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１０（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００９３】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図１０（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１０（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド５３により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００９４】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【００９５】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１０（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド５３によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド５３を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００９６】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１０（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００９７】
図１１は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図１０に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００９８】
この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００９９】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図１１において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１００】
液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。
そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１０１】
通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１０２】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド５３で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド５３で行うことも可能である。
【０１０３】
図１２は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１０４】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。
【０１０５】
液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１０６】
図１３は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１０７】
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。
【０１０８】
対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１０９】
また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１１０】
なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１１１】
次に、図１４は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。
【０１１２】
この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１１３】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【０１１４】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【０１１５】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第1層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。
【０１１６】
このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【０１１７】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【０１１８】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【０１１９】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１２０】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。
【０１２１】
そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１２２】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１２３】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図１５〜図２３を参照して説明する。
この表示装置７００は、図１５に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、及び対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１２４】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１６に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図１７に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【０１２５】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド５３を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１２６】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル３１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）及び発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１２７】
図１８に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド５３から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図１９に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入/輸送層７１７ａを形成する。
【０１２８】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【０１２９】
そして次に、図２０に示すように、各色のうちの何れか（図２０の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【０１３０】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２１に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【０１３１】
同様に、機能液滴吐出ヘッド５３を用い、図２２に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１３２】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１３３】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２３に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１３４】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【０１３５】
次に、図２４は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１３６】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【０１３７】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【０１３８】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１３９】
本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置１のセットテーブル３１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド５３により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１４０】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【０１４１】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド５３から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【０１４２】
次に、図２５は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【０１４３】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１４４】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１４５】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１４６】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１４７】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図２６（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２６（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１４８】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１４９】
【図１】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の外観斜視図である。
【図２】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の正面図である。
【図３】ヘッドプレート廻りの平面図である。
【図４】機能液滴吐出ヘッドの説明図であり、（ａ）は、その外観斜視図、（ｂ）はヘッドプレートに機能液滴吐出ヘッドを装着したときの断面図である。
【図５】液滴吐出装置の主制御系について説明したブロック図である。
【図６】Ｘ軸テーブル廻りの説明図である。
【図７】描画処理において変化する機能液滴吐出ヘッドと、セットテーブル、描画ワイピングユニット、および描画フラッシングユニットとの位置関係を示した図である。
【図８】本発明の第２実施形態の説明図であり、Ｘ軸テーブル廻りを示した平面図である。
【図９】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１０】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１２】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１３】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１４】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１５】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１６】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１７】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１８】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１９】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２０】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２１】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２２】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２３】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２４】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２５】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２６】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１５０】
１  液滴吐出装置                    ５  制御装置
１２  Ｘ軸テーブル                  ３１  セットテーブル
５３  機能液滴吐出ヘッド            ６７  ノズル面
８３  ワイピングユニット          １０１  描画フラッシングボックス
１４１  ワイピングシート            １４５  拭取りユニット
１４６  拭取りローラ                １４７  ユニット昇降機構
２０１  液滴吐出領域                ２１１  描画ワイピング領域
Ｗ  ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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