(57)【要約】      （修正有）【課題】透過光や反射光のムラがなく光学特性にすぐれたハードコートフィルム及び該フィルムを用いた光学的手段や磁気的手段により記録・再生が可能な情報記録担体を提供すること。また、光入射表面の傷発生が効果的に防止され、保存安定性にも優れたハードコートフィルムおよび情報記録担体を提供すること。【解決手段】    アスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を含有する樹脂材料上に少なくとも一層のハードコート層を塗布して成るハードコートフィルム。さらに、支持体と、情報信号を記録可能な記録層と、光を透過する透光層とを少なくとも有し、透光層がアスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を含有する樹脂材料からなることを特徴とする光学的手段によって情報信号を再生可能な情報記録担体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を含有する樹脂材料上に少なくとも一層のハードコート層を塗布して成ることを特徴とするハードコートフィルム。
【請求項２】
前記樹脂材料に含有される炭酸塩結晶の断面円相当径が１〜５０ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載のハードコートフィルム。
【請求項３】
前記樹脂材料がポリエステルあるいはポリカーボネートであることを特徴とする請求項１又は２に記載のハードコートフィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層が少なくとも多官能性アクリル酸モノマーと粉末状無機充填剤とからなり、無機充填剤が５〜６０重量％含まれることを特徴とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のハードコートフィルム。
【請求項５】
少なくとも一方の表面に粘着剤を塗設して粘着剤付きフィルムとしたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のハードコートフィルム。
【請求項６】
光学的手段によって情報信号の記録及び／又は再生が可能な情報記録担体であって、支持体と、該支持体上に形成された情報信号を記録可能な記録層と、該記録層上に形成された光を透過する透光層とを少なくとも有しており、該透光層がアスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を含有する樹脂材料からなることを特徴とする情報記録担体。
【請求項７】
前記炭酸塩結晶を含有する樹脂材料がポリエステルあるいはポリカーボネートであることを特徴とする請求項６に記載の情報記録担体。
【請求項８】
前記透光層がアスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を含有する樹脂材料表面に少なくとも一層のハードコート層が塗布されていることを特徴とする請求項６又は７に記載の情報記録担体。
【請求項９】
前記ハードコート層が少なくとも多官能性アクリル酸モノマーと粉末状無機充填剤とからなり、無機充填剤が５〜６０重量％含まれることを特徴とする請求項７又は８に記載の情報記録担体。
【請求項１０】
前記ハードコートフィルムに粘着剤を塗設して得られる粘着剤付きフィルムを、支持体上に情報信号を記録可能な記録層を設けてなる基板に貼り合わせて得られることを特徴とする請求項７〜９のいずれかに記載の情報記録担体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学特性にすぐれたハードコートフィルムおよび、光学的手段や磁気的手段などにより記録・再生が可能な情報記録担体に関し、特に光学的手段によって再生を行うことのできる情報記録担体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザ光により１回限りの情報の記録が可能な追記型光情報記録担体として、ＣＤ−Ｒと称される記録担体が広く知られている。ＣＤ−Ｒは、市販のＣＤプレーヤを用いて再生できる利点を有しており、また最近ではパーソナルコンピュータの普及に伴ってその需要も増大している。また、ＣＤ−Ｒより大容量の記録が可能な情報記録担体として、デジタル・ハイビジョンの録画などに対応するための追記型デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（ＤＶＤ−Ｒ）も実用化されている。
【０００３】
これら追記型光情報記録担体としては、例えば、円盤状支持体上に、Ａｕなどからなる光反射層と、有機化合物からなる記録層と、更に、該記録層を保護する透光層（記録層と接着させるための接着層を含む。カバー層ともいう。）とが順次積層された構造のものが知られており、レーザ光が透光層側から照射されることで、記録及び再生を行うことができる。追記型光情報記録担体への情報の記録は、記録層のレーザ光照射部分がその光を吸収して局所的に発熱変形（例えば、ピットなどの生成）することにより行われる。一方、情報の再生は、通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を追記型光情報記録担体に照射して、記録層が発熱変形した部位（記録部分）と変形していない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより行われている。
【０００４】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（High Definition Television）の放映も開始された。このような状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することができる大容量の光情報記録担体が必要とされている。上記のＤＶＤ−Ｒは現状では大容量の記録担体としての役割を十分に果たしているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であり、これらの要求に対応できる記録担体の開発も必要である。このため、光情報記録担体としては、更に、短波長の光で高密度の記録を行うことができる、より大容量の記録担体の開発が進められている。特に、１回限りの情報の記録が可能な追記型光情報記録担体は、大容量の情報の長期保存又はバックアップ用としての使用頻度が高まりつつあるため、その開発に対する要求は強い。
【０００５】
通常、光情報記録担体の高密度化は、記録及び再生用レーザの短波長化、ピックアップに使用する対物レンズの高ＮＡ（開口数（Numerical Aperture））化によりビームスポットを小さくすることによって達成することができる。最近では、波長６８０ｎｍ、６５０ｎｍ及び６３５ｎｍの赤色半導体レーザから、更に超高密度の記録が可能となる波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの青紫色半導体レーザ（以下、青紫色レーザと称する。）まで開発が急速に進んでおり、それに対応した光情報記録担体の開発も行われている。特に、青紫色レーザの発売以来、該青紫色レーザと高ＮＡピックアップを利用した光記録システムの開発が検討されており、相変化する記録層を有する書換型光情報記録担体及び光記録システムは、既にＤＶＲシステムとして発表されている（例えば、非特許文献１参照）。これにより、書換型光情報記録担体における高密度化の課題に対しては、一定の成果が得られた。
【０００６】
上述のような青紫色レーザと高ＮＡピックアップを利用した光記録システムに用いる光情報記録担体は、青紫色レーザ光を記録層に照射させる際、高ＮＡの対物レンズの焦点を合わせるために、レーザ光が入射する情報記録担体表面から記録層まで（すなわち透光層）を薄化することが好ましい。このため規格上、透光層の厚みは１００μｍに設定されている。このような光情報記録担体は、上述のように高ＮＡピックアップを利用しているため、ピックアップと透光層との間隔が小さく、光情報記録担体の面ブレによってピックアップと透光層とが接触してしまい、透光層に傷が発生しやすいという問題を有していた。
この問題に対して、透光層上にスピンコート法や真空堆積法を用いて傷つき防止層やハードコート層を設け、透光層の傷つきを防止する方法が既に提案されている（例えば、特許文献１および２参照）。しかしながら、これらの傷つき防止層やハードコート層は、透光層上に枚葉式で設けられるため、生産性が低いという課題を有していた。また、スピンコート法でこれらの傷つき防止層やハードコート層を設ける場合、遠心力によりより外周部の層厚が厚くなりやすく、厚みの精度が十分ではないという課題を有していた。
【０００７】
一方、ポリカーボネートやセルロースアシレートフィルムのような透明で薄いフィルムを用い、接着剤又は粘着剤を用いて記録層に接着することにより透光層を構成する方法がある（例えば、特許文献３および４参照）。透光層の厚さは、通常、接着剤又は粘着剤が硬化し形成された接着層又は粘着剤層を含め約１００μｍであるが、照射されるレーザの波長やＮＡにより最適化される。このような方法で構成された情報記録担体は生産性は優れているものの、光学異方性のないポリカーボネートは高価であり、大量に使用する光記録材料としては不適切である。また市販されているセルロースアシレートフィルムを用いると、長期保存後の読みとり特性が不十分であることがわかった。
【０００８】
一方、特許文献５および６にはポリメチルメタクリレートフィルムや、環状オレフィンフィルムにシリカ微粒子や針状の炭酸カルシウムを添加することで、延伸しても光学異方性が生じないフィルムが示されている。これらのフィルムは主に液晶表示装置への応用を意図しており、光ディスクへの応用の可能性が示されている。しかしながら、明細書に記載されているフィルムを光ディスクに用い、４０５ｎｍのレーザーによって信号を読み書きしようとすると、粒子自体や粒子の前後に発生する空隙によって信号が乱れ、高密度の光記録媒体への適用は出来ないことが判った。
【０００９】
【特許文献１】特許第３１１２４６７号明細書
【特許文献２】特開２０００−６７４６８号公報
【特許文献３】特開２００２−１７０２８０号公報
【特許文献４】特開２００２−１９７７２３号公報
【特許文献５】国際特許公開０１−２５３６４号公報
【特許文献６】特開２００１−２０８９１号公報
【非特許文献１】光メモリー国際シンポジウム（ＩＳＯＭ２０００）予稿集，p.210-211
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、透過光や反射光のムラがなく等方性（低複屈折性）などの光学特性にすぐれたハードコートフィルムおよび光学的手段や磁気的手段などにより記録・再生が可能な情報記録担体において記録読みとり特性に優れた情報記録担体を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、光入射表面の傷発生が効果的に防止され、保存安定性にも優れたハードコートフィルムおよび情報記録担体を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らが鋭意検討を行った結果、以下の構成により上記課題を解決できることが判った。
（１）アスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を含有する樹脂材料上に少なくとも一層のハードコート層を塗布して成るハードコートフィルム。
（２）前記樹脂材料に含有される炭酸塩結晶の断面円相当径が１〜５０ｎｍであることを特徴とする上記（１）に記載のハードコートフィルム。
（３）前記樹脂材料がポリエステルあるいはポリカーボネートであることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載のハードコートフィルム。
（４）前記ハードコート層が少なくとも多官能性アクリル酸モノマーと粉末状無機充填剤とからなり、無機充填剤が５〜６０重量％含まれることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載のハードコートフィルム。
【００１２】
（５）少なくとも一方の表面に粘着剤を塗設して粘着剤付きフィルムとしたことを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載のハードコートフィルム。
【００１３】
（６）  光学的手段によって情報信号の記録及び／又は再生が可能な情報記録担体であって、支持体と、該支持体上に形成された情報信号を記録可能な記録層と、該記録層上に形成された光を透過する透光層とを少なくとも有しており、該透光層がアスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を含有する樹脂材料からなることを特徴とする情報記録担体。
（７）前記炭酸塩結晶を含有する樹脂材料がポリエステルあるいはポリカーボネートであることを特徴とする上記（６）に記載の情報記録担体。
（８）前記透光層がアスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を含有する樹脂材料表面に少なくとも一層のハードコート層が塗布されていることを特徴とする上記（６）又は（７）に記載の情報記録担体。
（９）前記ハードコート層が少なくとも多官能性アクリル酸モノマーと粉末状無機充填剤とからなり、無機充填剤が５〜６０重量％含まれることを特徴とする上記（７）又は（８）に記載の情報記録担体。
（１０）前記ハードコートフィルムに粘着剤を塗設して得られる粘着剤付きフィルムを、支持体上に情報信号を記録可能な記録層を設けてなる基盤に貼り合わせて得られることを特徴とする上記（７）〜（９）のいずれかに記載の情報記録担体。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、透過光及び反射光のむらが少なく、光入射表面の傷発生が効果的に防止され、光学異方性が小さく保存安定性にも優れたハードコートフィルムを提供することができる。これにより光学的手段により記録・再生が可能な情報記録担体において記録読みとり特性に優れた情報記録担体を提供することができる。本発明の情報記録担体は、特に、青紫色レーザと高ＮＡピックアップを利用した光情報記録システムに有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の情報記録担体について更に詳述する。なお、本明細書において、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。
はじめに、本発明のハードコートフィルム及びこれを構成層に組み入れた本発明の情報記録担体の説明を容易にするために、本発明になる情報記録担体の典型的構成例を図１に示す。以下に説明するハードコート層をはじめとする各構成層及び基板は、図１中に部材番号の変わりに直接部材名で示した。
ここで、粘着剤層やバリア層がない場合は、透過層はハードコートフィルムと同意である。また、バリア層がない場合は、透過層は粘着剤付きフィルムと同意である。さらに、ハードコートフィルム、粘着剤付きフィルムを情報記録担体の透光層として用いる場合、これらを透光性フィルムと呼ぶこともある。
【００１６】
＜１．樹脂材料＞
まず本発明で用いる樹脂材料に関して述べる。本発明で用いる樹脂材料は低複屈折性光学樹脂材料であり、詳しくは複屈折性が低減化されて実質的に複屈折性を示さず、あるいは複屈折性を示してもその程度が低い光学樹脂材料である。本発明に用いるこのような光学樹脂材料の詳細を以下に具体的に説明する。
【００１７】
＜１―１．樹脂材料の光学異方性制御法＞
一般に光学樹脂材料においては、その原因を含めて広く知られているように、その実際の加工方法に従って複屈折性を生じる。すなわち、光学樹脂材料として通常使用される高分子樹脂の殆どすべての場合に、そのポリマーを形成するモノマーが屈折率の波面依存性などに起因する光学的異方性を有している。そのためにこのモノマーから構成され一定方向に配列あるいは配向されたポリマーよりなる光学樹脂材料においても光学的異方性が発現され、その結果として複屈折性が生じる。
【００１８】
通常、重合反応により生成した状態のままの高分子樹脂は複屈折性を示さないが、それは、そのポリマー鎖がランダムに絡み合った状態であってポリマー鎖に上記の配向が生じていないからである。すなわち、この状態では、各モノマーの光学的異方性が相互に打ち消されるので、高分子樹脂としては複屈折性が発現されない。然るに、そのような高分子樹脂が射出成形や押出し成形のような成形工程を経ると、その際に加えられる外力などにより、ランダムであったポリマー鎖が配向される結果、得られる高分子樹脂は複屈折性を示すものとなる。
【００１９】
光学樹脂材料として使用される高分子樹脂の殆どすべてにおいて、各結合単位は屈折率に関して光学的異方性を有している。すなわち、配向方向に平行な方向の偏波成分に関する屈折率ｎprと、配向方向に垂直な方向の偏波成分に関する屈折率ｎvtとが異なった状態となっている。
【００２０】
このような光学的異方性は、よく知られているように屈折率楕円体で表現することができる。例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）の場合には、メチルメタクリレートの分子による結合単位〔−ＣＨ2−Ｃ（ＣＨ3 ）（ＣＯＯＣＨ3 ）−〕の屈折率は、配向方向について相対的に小さく、配向方向と垂直な方向について相対的に大きくてｎpr＜ｎvtであり、従って、マクロスケールで見た時の屈折率楕円体は縦長のものとなる。このように、配向方向に平行な方向の偏波成分に関する屈折率ｎprと、配向方向に垂直な方向の偏波成分に関する屈折率ｎvtとが異なる場合における両者の差Δｎ（＝ｎpr−ｎvt）は複屈折値と呼ばれている。
【００２１】
光学樹脂材料として用いられる代表的な高分子樹脂における複屈折値Δｎは、ポリスチレンでは−０．１００、ポリメチルメタクリレートでは−０．００４３、ポリフェニレンオキサイドでは＋０．２１０、ポリカーボネートでは＋０．１０６、ポリビニルクロライドでは０．０２７、ポリエチレンテレフタタレートでは＋０．１０５、ポリエチレンでは＋０．０４４である。本明細書において、このポリマー鎖の配向に起因した複屈折を配向複屈折といい、複屈折値Δｎの符号が正（Δｎ＞０）であることを「複屈折性の符号が正」、複屈折値Δｎの符号が負（Δｎ＜０）であることを「複屈折性の符号が負」などのように表現することとする。
【００２２】
このような配向複屈折は、光学樹脂材料の応用あるいは適用において、偏光特性が関与する場合には大きな問題となる。その典型的な例として光ディスクがあり、この書込／消去を行う光レーザーの光路中に配置されている光学要素、例えばデイスク自体やレンズなどが複屈折性を示すものであると、読取りあるいは書込みの精度に悪影響を及ぼすことになる。
【００２３】
従来から光学樹脂材料における配向複屈折性を低減化すための種々の工夫がなされており、その代表的な一つが国際公開番号ＷＯ９６／０６３７０号公報に開示されている。この技術は、透明な高分子樹脂からなるマトリックスに、このマトリックスにおける高分子樹脂のポリマー鎖が外力により配向する場合に、この結合鎖の配向方向と同じ方向に配向可能な低分子物質を添加し、当該低分子物質が有する複屈折性により、高分子樹脂における配向複屈折性を相殺的に低減化させるものである。
【００２４】
この技術では、マトリックスを形成する高分子樹脂は、符号が正または負である配向複屈折性を有するものであるが、これに添加される低分子物質は、高分子樹脂における配向複屈折性とは逆の符号の複屈折性を示すものとされており、両者の複屈折性が相殺されることを利用して、低複屈折性光学樹脂材料を得ている。すなわち、この光学樹脂材料では、成形加工などの工程において応力などの作用を外部から受けたときにそのポリマー鎖が配向を起こすが、その際に、添加されている低分子物質もポリマー鎖の配向に伴って配向を起こし、このポリマー鎖の配向に対応して配向する低分子物質における屈折率楕円体の長軸方向が、高分子樹脂における屈折率楕円体の長軸方向と直交する方向となることを利用して、高分子樹脂の複屈折性を相殺的に低減化させ、全体として低複屈折性を実現しているものである。
【００２５】
このような技術には以下のようなメリットがある。
１）組み合わされる高分子樹脂と低分子物質の種類に応じて全体の複屈折性が零に近いものが得られる。
２）理的に、どのような高分子樹脂に対しても適用可能。
３）低分子物質はマトリックス用の高分子樹脂の重合反応には実質的に関与せず、高分子樹脂を与えるモノマーに対して反応性を有しないため、高分子樹脂と低分子物質の組み合わせについて制約が比較的少ない。
４）低分子物質は、高分子樹脂を形成する各単位分子に比べ、屈折率に関して、より大きな光学的異方性を有するのが一般的であり、比較的少ない添加量で所望の効果を得ることができるので、マトリックス用の高分子樹脂の有する特性を有効に光学樹脂材料に活かすことができる。
【００２６】
しかしながら、低分子物質の添加による光学樹脂材料の複屈折性を低減化する上記技術においては、例えば、マトリックス用の高分子樹脂との関係で、添加する低分子物質の選択範囲に自ずから制限がある。そして、負の配向複屈折性を示す低分子物質を得ることも実際には困難なことである。すなわち、光学樹脂材料として広く用いられる高分子樹脂のうち、複屈折性が負であるポリメチルメタクリレートやポリスチレンの場合はともかく、複屈折性が正である高分子樹脂の場合には、これに適用されるべき複屈折性が負である低分子物質の範囲が狭く、実際にはこの方法を適用することができない場合もある。複屈折性が正であるがために適用可能の負の複屈折性の低分子物質の選択範囲が制約される高分子樹脂の具体例としては、例えばポリエチレン（Δｎ：＋０．０４４）、ノルボルネン系樹脂（Δｎ：例えば＋０．０１９２）を挙げることができる。
【００２７】
本発明で用いる光学樹脂材料は以上のような事情を背景になされたものであり、高分子樹脂よりなる光学樹脂材料であって、当該高分子樹脂の特性が犠牲にされることなしに、当該高分子樹脂の複屈折性が、その符号の如何によらずに確実に低減化された、低複屈折性光学樹脂材料およびその製造方法を提供することができ、光情報記録担体に好ましく用いることが出来る。
【００２８】
本発明で用いる低複屈折性光学樹脂材料は、光の波長より小さいサイズの分子配向抑制粒体が混入された透明性を有する高分子樹脂材料が配向処理されてなり、分子配向抑制粒体は、分極に関して等方性を有する物質よりなる粒体または形状に関して等方性を有する粒体よりなることを特徴とする。ここに、分子配向抑制粒体は、配向処理における高分子樹脂材料よりも高い硬度を有するものが用いられる。
【００２９】
上記の構成によれば、マトリックスを構成する高分子樹脂材料が、それ単独では複屈折性を示すものであっても、特定の条件を具えた分子配向抑制粒体が混入された状態で配向処理されることにより、当該高分子樹脂材料におけるポリマー鎖の配向の程度が抑制され、その結果、発現される複屈折性の程度が抑制されるので、光記録材料に用いるのに好ましい光学樹脂材料が得られる。そして特定のハードコート層を形成させることにより、良好な性能が得られる。
【００３０】
以上のような態様の光学樹脂材料においては、ポリマー鎖が配向されるときに分子配向抑制粒体が存在することにより、当該ポリマー鎖の配向の一部が阻害されて配向の程度が抑制され、その結果、そのような分子配向抑制粒体が存在しない状態で配向処理した場合に比して、発現される複屈折性が低減化されたものとなる。
【００３１】
本発明は、高分子樹脂材料の配向複屈折性を低減化するためのメカニズムが前出のものとは全く異なっている。すなわち、従来技術にあっては、添加される低分子物質が高分子樹脂材料における配向複屈折性とは逆の符号の複屈折性を示すことを利用して、両者の相殺関係により全体として低複屈折性あるいは低異方性を達成するものであるが、本発明では、高分子樹脂材料の配向処理において、その配向の程度を抑制するものである。
【００３２】
＜１−２．高分子樹脂材料＞
本発明において、光学樹脂材料のマトリックスを構成する高分子樹脂材料は、目的とする光学樹脂材料としての用途に必要な透明性を有し、また他の必要な特性を有するものであれば、いずれの高分子樹脂材料であってもよい。基本的に、これに混入される分子配向抑制粒体との関係によって特に制約を受けることがなく、従って当該高分子樹脂材料の選択の自由度がきわめて大きい。ただし光学樹脂材料としての用途から、或る程度以上の透明性を有することが必要である。この高分子樹脂材料は、実際には、光学樹脂材料としての一般的な適性を有している高分子樹脂材料を用いることが好ましく、特に具体的な用途に応じて好適な特性、例えば優れた耐熱性や機械強度などを有するものを用いることが好ましい。
【００３３】
本発明において用いられる高分子樹脂材料の具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、ポリスチレンなどの芳香族ビニルポリマー類、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリフェニレンオキサイド、ポリカーボネート類、ポリビニルクロライド、ポリエチレンテレフタタレート、ポリアリレート、ポリエーテルスルフオン、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルペンテン−１、脂環式ポリオレフィン類（例えばジシクロペンタジエン系ポリオレフィンやノルボルネン系ポリオレフィンなどの環状オレフィンの開環（共）重合体、その水素添加（共）重合体、環状オレフィンと不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体など）、例えばトリシクロデカニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレートとメチルメタクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、非晶性ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、並びに環状オレフィン、シクロペンタジエン、芳香族ビニル化合物のカチオン（共）重合体の水素添加重合体、その他を挙げることができる。以上のうち、好ましい光学特性、物理特性を有するものとしては、例えばポリメチルメタクリレート、或る種のポリカーボネート、並びに脂環式ポリオレフィン系重合体を挙げることができ、最も好ましくはポリカーボネートである。
【００３４】
＜１−３．分子配向粒子＞
次に高分子樹脂材料中に含ませて延伸することにより高分子樹脂材料の光学異方性を打消し、延伸フィルムの光学異方性を低減する分子配向抑制粒体について説明する。本発明の分子配向抑制粒子は、分子配向抑制粒体のサイズが光の波長よりも小さいことが必要である。
【００３５】
分子配向抑制粒体のサイズに関係する光の波長は、得られる光学樹脂材料が用いられる光学機器に適用される光の波長を基準として考慮されればよく、可視光またはその近辺の光が用いられる場合には、分子配向抑制粒体のサイズは、数百ナノメータ以下であることが必要である。例えば当該光が可視光である場合には数百ナノメータ以下のサイズ、例えば５０〜３００ｎｍ程度であればよい。また、適用される光がレーザ光である場合には、その波長に応じたサイズの分子配向抑制粒体を用いればよい。分子配向抑制粒体のサイズが過大である場合には、得られる光学樹脂材料は、分子配向抑制粒体の存在によって透明性が低下したものとなる。実際上、上記好ましい範囲のサイズレベルの粒体は、その入手が比較的容易である。また、分極に関して等方性を有する粒体も、また形状に関しても等方性を有する粒体も容易に得ることができる。しかも、このような等方性粒体は、実質的にあらゆる高分子樹脂に分子配向抑制粒体として適用することが可能であり、従って、本発明の光学樹脂材料に用いられる高分子樹脂についての選択の自由度はきわめて大きいものでもある。その上、このような特性を有する粒体は、高分子樹脂の有する複屈折性以外の光学的特性にも実質的な影響を与えることがなく、また機械的特性などに与える影響も小さい。
【００３６】
高分子樹脂材料に混入される粉体が、分極に関して異方性を有する物質よりなる粒体、あるいは形状に関して異方性を有する粒体である場合には、高分子樹脂材料を配向処理することにより発現される複屈折性を有効に低減させることができないことがある。形状的等方性は、もし粒体が分極に関して異方性を有する場合には、当該分極異方性を全体として発現させるような規則性のある配向を生じることのない程度に形状に等方性があるということを意味する。そのような等方性の形状の典型的な例は、球形および正多角形である。形状に関して等方性を有する粒体とは、典型的には、例えば球状や正多角形のような等方性の形状を有するものであるが、実質的に等方性の形状を有するものであればよく、その程度は、その長径に対する短径の比が例えば１／１０以上であればよい。
【００３７】
本発明においては、分子配向抑制粒体として用いられる粉体は、配向処理における高分子樹脂材料よりも高い硬度を有するものであることが必要であり、これにより、当該高分子樹脂材料のポリマー鎖の配向が、混在する分子配向抑制粒体によって阻害される結果、配向処理によるポリマー鎖の配向の程度が全体として抑制される。
【００３８】
本発明において用いられる好ましい分子配向抑制粒体は、アスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶である。本発明のアルカリ土類金属の炭酸塩結晶は、断面円相当径が１〜５０ｎｍであり、かつアスペクト比が１．５以上である結晶である。従来のアルカリ土類金属の炭酸塩結晶は、断面円相当径２０ｎｍ程度の細さを有する結晶としては、結晶成長方向の長さは２００ｎｍ程度（アスペクト比１０）が限界であった。これに対し、本発明のアルカリ土類金属の炭酸塩結晶の断面円相当径は、５０ｎｍ以下であり、かつアスペクト比が１．５以上（結晶成長方向の長さ７５０ｎｍ以上）である。
【００３９】
本発明に用いられるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶の断面円相当径は、５０ｎｍ以下であれば制限なく、好ましくは、２〜２０ｎｍであり、さら好ましくは５〜２０ｎｍである。また、本発明のアルカリ土類金属の炭酸塩結晶のアスペクト比は１．５以上であれば特に制限はなく、好ましくは２０以上であり、より好ましくは５０以上である。本発明では５０以上の高アスペクト比であっても光学樹脂と混練する際にサブミクロン以下の長さに裁断されるので特に問題がない。
【００４０】
高分子樹脂材料に対する分子配向抑制粒体の混入割合は、当該高分子樹脂材料の配向複屈折性の低減化に有効な割合であればよく、特に限定されるものではないが、通常、高分子樹脂材料に対して０．００１〜２０質量％であり、好ましくは０．０１〜１０質量％の範囲である。この分子配向抑制粒体の混入割合は、目的とする効果が得られるのであれば少ないことが望ましく、分子配向抑制粒体の混入割合が高くなると、得られる光学樹脂材料の透明性、機械的強度、耐熱性などの当該高分子樹脂材料の有する固有の特性が低下するおそれがある。
【００４１】
本発明に用いらる分子配向抑制粒子は、好ましくは以下のような製造方法により製造することができるが、これらに限定するものではない。
（１）イオン濃度  ０．５  ｍｏｌ／Ｌ  以下で存在するアルカリ土類金属イオンと、炭酸イオンとをアルカリ条件下で反応させることによりアスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を生成する工程を有することを特徴とするアルカリ土類金属の炭酸塩結晶の製造方法。
（２） 前記アルカリ土類金属イオンを供給する原料としてアルカリ土類金属の水酸化物 又は酢酸塩を用い、かつ前記炭酸イオンを供給する原料として炭酸アンモニウム、 炭酸水素アンモニウムおよび炭酸ガスから選ばれる少なくとも一種を用いることを特徴とする上記（１）に記載の製造方法。
（３）前記反応をアミノアルコール類の存在下で行うことを特徴とする上記（１）または（２）に記載の製造方法。
（４）生成したアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を乾燥する工程をさらに有することを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の製造方法。
（５）生成したアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を焼成する工程をさらに有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の製造方法。
（６）前記アルカリ土類金属と前記炭酸イオンとの反応をゼラチン存在下で行うことを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の製造方法。
（７）前記ゼラチンを分解する工程をさらに有することを特徴とする上記（６）に記載の製造方法。
（８）生成したアルカリ土類金属の炭酸塩結晶の乾燥を凍結乾燥法またはスプレードライ法により行うことを特徴とする上記（４）に記載の製造方法。
（９）生成したアルカリ土類金属の炭酸塩結晶表面を水に難溶性の化合物で被覆する工程をさらに有する ことを特徴とする上記（１）〜 （８）のいずれかに記載の製造方法。
（１０）前記水に難溶性の化合物としてシランカップリング剤またはチタンカップリング剤を用いる 上記（９） に記載の製造方法。
（１１）断面円相当径が１〜５０ｎｍであり、かつアスペクト比が１．５以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶。
（１２）断面円相当径が２〜２０ｎｍであり、かつアスペクト比が２０以上であるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶。
（１３）上記（１）〜（１０） のいずれか一項に記載の製造方法により製造されるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶。
【００４２】
本発明に係るアルカリ土類金属の炭酸塩結晶の製造方法は、アルカリ土類金属イオンと炭酸イオンとをアルカリ条件下で反応させてアスペクト比 １．５以上のアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を生成する工程を有する。本発明で用いられるアルカリ土類金属イオンは特に制限はなく、周期表第１１族に属するいずれかの金属イオンであればよい。より具体的に例示すれば、Ｂｅ2+、Ｍｇ2+、Ｃａ2+、Ｓｒ2+、Ｂａ2+およびＲａ2+からなる群から選ばれる少なくとも一種であることができ、好ましくはＣａ2+、Ｓｒ2+、Ｂａ2+である。
【００４３】
上記アルカリ土類金属イオンは、通常、アニオンを含むアルカリ土類金属化合物として供給することができる。アルカリ土類金属化合物の例としては、アルカリ土類金属イオンと水酸化物イオン、ハロゲン化物イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、酢酸イオンなどからなる化合物が挙げられる。特に、反応に適した溶解速度が得られ、かつ発生する副生成物の精製が容易であるアルカリ土類金属の水酸化物又は酢酸塩をアルカリ土類金属イオンの供給源として用いることが好ましい。
【００４４】
上記アルカリ土類金属イオンのイオン濃度は、０．５ｍｏｌ ／Ｌ 以下の濃度で存在すれば特に制限はない。好ましくは、２×１０-1〜５×１０-5ｍｏｌ／Ｌ  であり、さらに好ましくは1×１０-1〜１×１０-4ｍｏｌ／Ｌである。アルカリ土類金属のイオン濃度が０．５ｍｏｌ／Ｌ  以下であれば、針状または棒状にアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を成長させることができる。
【００４５】
アルカリ土類金属化合物を供給する場合、得られる炭酸塩結晶を針状または棒状に成長させるために、溶媒に対するアルカリ土類金属化合物の溶解度を考慮して供給することが望ましい。例えば、溶媒に対する溶解度が低いアルカリ土類金属化合物（例えばＳｒ（ＯＨ）2）を用いる場合には、あらかじめ仕様量の全量のアルカリ土類金属化合物を溶媒中に混合させた状態で供給することができる。一方、溶解度が比較的高いアルカリ土類金属化合物（例えばＳｒ（ＣＨ3ＯＯ）2）を用いる場合には、塊状結晶となることを防ぐために、反応溶媒中に徐々にアルカリ土類金属化合物を添加、もしくは予め濃厚溶液を調液して反応液中に滴下することが望ましい。
【００４６】
本発明に係るアルカリ土類金属の炭酸塩結晶の製造方法で用いられる炭酸イオンの供給原料は特に制限はなく、例えば、炭酸アンモニウム（（ＮＨ4）2ＣＯ3）、炭酸水素案アンモニウム（ＮＨ4ＨＣＯ3）、炭酸ナトリウム（Ｎａ2ＣＯ3）、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ3）、炭酸カリウム（Ｋ2ＣＯ3）、炭酸水素カリウム（ＫＨＣＯ3）などの各種炭酸塩や、炭酸ガス（ＣＯ2）を用いることができる。炭酸ガスは反応液中に直接導入してもアミノアルコール等の塩基性溶体に予め吸収させて使用してもよい。中でも発生する副生成物が揮発可能であり、精製が容易な炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウムまたは炭酸ガスから選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましい。
【００４７】
上記炭酸イオンの反応系におけるイオン濃度は特に限定されず、使用されるアルカリ土類金属イオンのイオン濃度と同等以上の濃度（例えば、溶媒中に過剰に炭酸イオンを存在させる場合など）でも以下の濃度でもよい。
【００４８】
上記炭酸塩結晶の製造方法における前記アルカリ土類金属と前記炭酸イオンとの反応は、アルカリ条件下で行う。本明細書において、「アルカリ条件」とは、アルカリ土類金属と炭酸イオンとを含む溶液のｐH値が１０以上であることをいい、ｐH値が１０〜１３．８であることが好ましく１１〜１３．８であることがより好ましく、１２〜１３．８であることがもっとも好ましい。
【００４９】
本発明では、上記アルカリ土類金属イオンと炭酸イオンとの反応は、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩基の他に、アミノアルコール類、グアニジン類、アミジン類などの有機塩基の存在下で行うことができる。そのような塩基を用いることにより針状又は棒状の結晶が得られる。特に揮発しやすく、アルカリ土類金属の炭酸塩結晶の精製が容易なアミノアルコール類（例えば、２−アミノエタノール、ジメチルアミノエタノール、ジエチルアミノエタノール、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなど）を用いることが好ましい。
【００５０】
上記炭酸塩結晶の製造方法における前記アルカリ土類金属と炭酸イオンとの反応は、適当な溶媒中で行われる。本発明の製造方法で用いられる溶媒は、アルカリ土類金属化合物と炭酸化合物とを溶解でき、かつ反応においてアルカリ土類金属イオンと炭酸イオンとの反応が行えるものであれば特に制限はない。例えば、水、アルコール類、上記アミノアルコール類、または水とこれらの有機溶媒との混合溶媒などを本発明の溶媒として用いることができる。特に水または水とアミノアルコールとの混合溶媒が好ましい。
【００５１】
上記炭酸塩結晶の製造方法における前記アルカリ土類金属と炭酸イオンとの反応は、上記溶媒中で行われるが、生成されるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶の分散性を向上させる観点からは分散剤を使用することが好ましい。そのような目的で使用可能な分散剤としては、例えば、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、カラギナン、ゼラチンなどが挙げられ、中でもゼラチンを用いることが好ましい。
【００５２】
上記アルカリ土類金属イオンと炭酸イオンを反応させる場合、アルカリ土類金属イオンと炭酸イオンの混合順序は特に制限はない。例えば、アルカリ土類金属を含有する溶液中に炭酸イオンを含有する溶液を混合して反応させ、あるいは炭酸イオンを含有する溶液中にアルカリ土類金属イオンを含有する溶液を添加してもよい。さらに、両方の溶液を同時に混合してもかまわない。また、両イオンを混合する場合における混合速度は、アスペクト比が１．５以上の針状または棒状のアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を得るために、イオン濃度０．５ｍｏｌ／Ｌ以下に調整できるように適宜決定することができる。但し、添加速度があまり遅いと反応に時間を要するため、１０-2〜１０3ｍＬ／分程度、好ましくは１０-1〜１０2ｍＬ／分になるように各溶液中のイオン濃度および混合速度を調節することが望ましい。
【００５３】
上記炭酸塩結晶の製造方法では、前記アルカリ土類金属と炭酸イオンとの反応によりアスペクト比が１．５以上のアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を生成することができる。本明細書において「アスペクト比」とは、アルカリ土類金属の炭酸塩結晶の平均断面円相当径に対する結晶の成長方向の平均長さの比をいう。また、ここにいう「断面円相当径」とは、アルカリ土類金属の炭酸塩結晶の断面を円形と想定した場合における円の直径をいう。アスペクトが小さくなると、延伸した場合に粒子の周囲に微少な空隙が形成されやすく、これがヘイズとなり光学性能上、好ましくない結果となる。本発明の製造方法で生成されるアルカリ土類金属の炭酸塩結晶のアスペクト比は、１５以上であり、好ましくは２０以上であり、さらに好ましくは５０以上である。
【００５４】
上記炭酸塩結晶の製造方法は、生成されたアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を分離し、精製、乾燥することにより目的とするアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を得ることができるが、アルカリ土類金属イオンと炭酸イオンとの反応においてゼラチンを用いた場合には、ゼラチン水溶液中のゼラチンを分解して、生成したアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を乾燥することが好ましい。ゼラチン分解の前後で遠心分離やデカンテーションなどによる精製をおこってもよい。ゼラチンを分解することにより、乾燥工程においてゼラチンが存在するとゼラチンがアルカリ土類金属の炭酸塩結晶どうしの結合剤として作用し、塊状結晶となることを防ぐことができる。ゼラチンを分解するために、本発明の製造方法では、例えば、ゼラチン分解酵素（アクチアーゼ）などを用いることができる。
【００５５】
生成されたアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を乾燥する工程では各種の乾燥法を用いることができる。中でも塊状結晶となるのを防止する観点から凍結乾燥法やスプレードライ法を用いてアルカリ土類金属の炭酸塩結晶を乾燥することが好ましい。また、乾燥後、焼成することもできる。焼成温度は100℃以上結晶の分解温度以下で任意に設定できる。
【００５６】
アルカリ土類金属の炭酸塩結晶は、精製時や光学樹脂中での結晶成長抑制の観点から、事前に結晶表面を水に難溶性の化合物で被覆しておくことが好ましい。結晶表面の被覆のために用いられる水に難溶性の化合物は特に制限はなく、例えば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、光学樹脂に相溶するポリマーなどが挙げられ、中でもシランカップリング剤またはチタンカップリング剤が好ましい。
【００５７】
本発明の製造方法で可能なシランカップリング剤を例示すれば、テトラエトキシシラン、ビニルエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられ、また、チタンカップリング剤を例示すれば、チタニウムイソプロポキシドやプレンアクトの商品名（味の素ファインテクノ（株）製）で上市されている化合物（例えば、ＫＲ１３８Ｓ、ＫＲ４４、ＫＲＥＴ等）などが挙げられる。
【００５８】
本発明の製造方法は、上記各工程のほか、さらに必要に応じて一般の炭酸塩結晶の製造方法で用いられる工程（例えば、攪拌工程、分離工程、精製工程など）を有することもできる。その他の工程における条件は、一般の製造工程における条件を用いることができる。
【００５９】
＜１−４．低複屈折性光学樹脂材料の製造法＞
本発明で用いる低複屈折性光学樹脂材料の製造方法は、以下の工程１）、１ａ），２）のいずれかを経たのち工程３）を行うことによって製造することができる。
１）重合反応により透明性を有する高分子樹脂材料を生成する重合性材料に分子  配向抑制粒体を混合する工程。次いで重合工程に入る。
１ａ）上記工程おいて、分子配向抑制粒体を混合する工程を重合工程を開始させてから行う。
２）透明性を有する高分子樹脂材料の溶液中に分子配向抑制粒体を混合する工程。
３）分子配向抑制粒体が混入された透明性を有する高分子樹脂材料を延伸処理する工程。
【００６０】
本発明で用いる低複屈折性光学樹脂材料を製造するためには、重合反応によって透明性を有する高分子樹脂を生成するモノマーまたはその組成物を用意し、この重合性材料の重合反応を開始する前の段階で分子配向抑制粒体を混入し、十分に分散させ、適宜の重合開始剤、連鎖移動剤などを添加した後、加熱あるいは紫外線照射などのエネルギーの供給を行なうことによって重合反応を開始させて進行させる方法を採用することができる。
【００６１】
ここに、重合開始剤や連鎖移動剤の種類および量は、通常の重合反応の場合と同様の基準に従って選択すればよい。例えば、熱重合による場合においては、熱重合開始剤としてべンゾイルパーオキサイドなどの過酸化物を使用することができる。また、紫外線照射による場合には、紫外線ラジカル重合開始剤であるべンゾインメチルエーテルなどを使用することができる。連鎖移動剤としては、いずれの場合にも、ｎ−ブチルメルカプタンなどを使用することができる。この製造方法によれば、重合反応の完了によって、分子配向抑制粒体が混入された高分子樹脂を直接的に製造することができる点で有利である。
【００６２】
また、高分子樹脂を生成するモノマーまたはその組成物の重合反応の開始後でかつ完了前の段階において、すなわち重合反応が或る程度遂行されて重合性のオリゴマーが存在する状態の重合反応系に分子配向抑制粒体を混入して十分に分散させ、その後、重合反応を完結する方法であってもよい。この製造方法においても、重合反応の完了によって、分子配向抑制粒体が混入された高分子樹脂材料を直接的に製造することができる。
【００６３】
以上の方法においては、分子配向抑制粒体は、当該モノマーまたはその組成物あるいは生成される高分子樹脂に対して親和性の高い表面処理剤（バインダー）によって予め表面処理が施されていることが好ましく、これにより、当該分子配向抑制粒体の、マトリックスを構成する高分子樹脂における分散性を高いものとすることができる。この表面処理剤による処理は、重合反応と一連の工程として行うことも可能である。
【００６４】
また本発明において、重合反応によって透明性を有する高分子樹脂材料を製造し、これを加熱溶融させてこれに分子配向抑制粒体を添加して混練する方法により、高分子樹脂材料中に分子配向抑制粒体が均一に分散されてなる低複屈折性光学樹脂材料を製造することができる。
【００６５】
あるいは、高分子樹脂材料を適当な溶媒中に溶解させて得られる溶液中に分子配向抑制粒体を添加して均一に分散させ、その後溶媒を蒸発処理などによって除去する方法によっても、目的とする光学樹脂材料を製造することができる。
【００６６】
このような高分子樹脂材料の溶液に分子配向抑制粒体を混入する方法によれば、微粉末状の分子配向抑制粒体を十分に均一に分散させることが容易であり、しかも、高分子樹脂材料を加熱する必要がないためにその熱劣化が生ずることがなく、また、当該高分子樹脂材料の有する光学特性および機械的特性が損なわれないために、結果として良好な特性の光学樹脂材料が得られる。また、分子配向抑制粒体が分散された溶液を、そのままの状態でフィルムなどの製品の製造に供することも可能である。また、これらの方法においても、分子配向抑制粒体は、適宜の表面処理剤によって予め表面処理が施されているものを用いることが好ましい。
【００６７】
以上のような方法によって得られる分子配向抑制粒体が混入された光学樹脂材料は、そのままの状態では、通常、高分子樹脂のポリマー鎖が配向されていないために複屈折性を示さないものである。そして、この分子配向抑制粒体が混入された光学樹脂材料は、各種の光学部品や光学材料のための原料として用いられるが、通常の光学樹脂材料の場合と同様に、実用性のある製品の製造に供するために、適当な手段によってぺレット化されることが好ましい。このペレット化された光学樹脂材料は、射出成形あるいは押し出し成形などの、量産性に優れた通常の成形技術によって所望の形状に成形加工されて製品とされる。
【００６８】
成形製品を形成する高分子樹脂のマトリックスにおいては、成形工程における外力の作用などによって一般的にはポリマー鎖が特定の方向に配向し、従って配向複屈折性が生じる。配向は、例えば、適宜の成形処理、延伸処理など加工処理によって特定の方向に外力を作用させることによって行うことができるが、本発明における配向処理は高分子樹脂材料のポリマー鎖が特定の方向に配向される方法であればよく、その具体的な手段が限定されるものではない。この配向の過程において、当該高分子樹脂材料に混入されている分子配向抑制粒体が、当該高分子樹脂のポリマー鎖の配向を阻害する作用を発揮する結果、配向処理によって発現されるべき高分子樹脂材料の複屈折性が低減され、分子配向抑制粒体が含有されない場合に比して、当該光学樹脂材料全体としての複屈折性は相当に小さいものとなる。
【００６９】
例えば、射出成形工程においては、金型の壁面付近や金型のゲート付近で高分子樹脂に高剪断応力が発生するためにポリマー鎖の配向が生じ、また、押出し成形工程においては、押出し時や引き取り時などに高分子樹脂のポリマー鎖に配向が生じるが、これらのポリマー鎖の配向の程度が抑制されるので、その結果として発現される複屈折性が小さいものとなる。また、分子配向抑制粒体が混入された高分子樹脂材料よりなるフィルムを延伸処理する場合にも、当該高分子樹脂のポリマー鎖の配向が生ずるため、分子配向抑制粒体が含有されないときは大きな複屈折性が発現されるようになるが、分子配向抑制粒体が混入されていることにより、得られる延伸フィルムは低複屈折性のものとなる。
【００７０】
以上のようにして得られる成形された光学樹脂材料や延伸処理された光学樹脂材料は、複屈折性がきわめて低いものであり、その程度は、分子配向抑制粒体の含有割合やポリマー鎖の配向の程度、その他の条件によっても異なるが、事実上複屈折性を示さない非複屈折性の場合もある。なお、この明細書において、単に「低複屈折性」というときは、非複屈折性である場合が包含されるものとする。
【００７１】
＜２．ハードコート層＞
本発明で用いる樹脂材料には、種々の外的な圧力から情報記録層や透光層の光透過性の変化を生じないようにすることが重要であり、このため表面の鉛筆硬度を２Ｈ以上にすることが好ましい。
表面の耐擦傷性を向上させるために、例えば特開２００３−９９９８２号には、最表面にシリコーン系潤滑剤やフッ素系潤滑剤または脂肪酸エステル系潤滑剤を用いることが記載されている。しかしながら、この方法では表面に対して水平に近い方向で加わる力に対しては強いものの、表面に対して垂直に加わる力に対しては弱いという欠陥があった。    従って、情報記録担体の保存性を向上させるためには、鉛筆硬度を高めることが必要である。
【００７２】
鉛筆硬度に関しては、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、９．８Ｎの荷重にて傷が認められない鉛筆の硬度として求めることができる。
要求される鉛筆硬度としては前記したように２Ｈ以上であることが好ましく、より好ましくは３Ｈ以上であり、４Ｈ以上であることがさらに好ましい。
【００７３】
このような鉛筆硬度を達成するためには、上記透光性の低複屈折性層の上に、放射線硬化樹脂を含む硬化性組成物から形成される硬化皮膜からなるハードコート層を有することが好ましい。以下、本発明に係る透光性低複屈折性層を支持体として、該支持体上にハードコート層を塗布したものをハードコートフィルムと称するが、本発明で用いられるハードコートフィルムとしては以下のようなものが挙げられる。
（１）特許第１８１５１１６号記載のように層の硬度を上げるために、該層の樹脂形成成分を多官能性アクリル酸エステル系モノマーとし、これにアルミナ、シリカ、酸化チタン等の粉末状無機充填剤および重合開始剤を含有する被覆用組成物を支持体上に塗布したハードコートフィルム。
（２）特許１４１６２４０号記載のアルコキシシラン等で表面処理したシリカもしくはアルミナからなる無機質の装填材料を含む光重合性組成物がさらに架橋有機微粒子を充填したハードコートフィルム。
（３）特開２０００−５２４７２号記載のハードコート層を２層構成とし、第一層に微粒子のシリカを添加するハードコートフィルム。
（４）特開２０００−７１３９２号記載のハードコート層を２層構成とし、下層をラジカル硬化性樹脂とカチオン硬化性樹脂のブレンドからなる硬化樹脂層を使用し、上層にラジカル硬化性樹脂のみからなる硬化樹脂層を使用したハードコートフィルム。
（５）特開２００２−２４８６１９号記載の充填剤と樹脂を熔融混練、押出し成型で作製されるハードコートフィルム。
【００７４】
これらのハードコートフィルムは上記明細書記載のままでは充分な硬度が得られない場合が含まれるが、その場合、各々、以下のような調製方法の改善によって所望の硬度を得ることができる。
（１）多官能性アルキルエステルモノマーの官能基数増加、無機充填剤や開始剤量の増量（２）無機質充填剤の増量
（３）１層目のシリカ量の増量
（４）ラジカル硬化樹脂の比率増加
（５）充填剤の増量
【００７５】
このなかで、ハードコート層が少なくとも多官能性アクリル酸モノマーと粉末状充填剤とからなり、充填剤が５〜６０重量％含まれることが好ましい。微粒子を添加することでハードコート層の硬化収縮量を低減できるため、支持体との密着性が向上したり、カールを低減できて好ましい。微粒子としては、無機微粒子、有機微粒子、有機-無機複合微粒子のいずれも使用できる。無機微粒子としては例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。このような無機微粒子は一般に硬質であり、ハードコート層に充填させることによって硬化時の収縮を改良できるだけではなく、表面の硬度も高めることができる。
ただし、微粒子は一般にヘイズを増加させる傾向があるために、各必要特性のバランスの上で充填方法が調整される。
【００７６】
一般に、無機微粒子は本発明のポリマーや多官能ビニルモノマーなどの有機成分との親和性が低いため単に混合するだけでは凝集体を形成したり、硬化後のハードコート層がひび割れやすくなる場合がある。本発明では無機微粒子と有機成分との親和性を増すため、無機微粒子表面を有機セグメントを含む表面修飾剤で処理することができる。表面修飾剤は、無機微粒子と結合を形成するか無機微粒子に吸着しうる官能基と、有機成分と高い親和性を有する官能基を同一分子内に有するものが好ましい。
無機微粒子に結合もしくは吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド表面修飾剤や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。
さらに有機成分との親和性の高い官能基としては単に有機成分と親疎水性を合わせただけのものでもよいが、有機成分と化学的に結合しうる官能基が好ましく、特にエチレン性不飽和基、もしくは開環重合性基が好ましい。
本発明において好ましい無機微粒子表面修飾剤は、金属アルコキシドもしくはアニオン性基とエチレン性不飽和基もしくは開環重合性基とを同一分子内に有する硬化性樹脂である。
【００７７】
これら表面修飾剤の代表例として以下の不飽和二重結合含有のカップリング剤や、リン酸基含有有機硬化性樹脂、硫酸基含有有機硬化性樹脂、カルボン酸基含有有機硬化性樹脂等が挙げられる。
【００７８】
Ｓ−１    Ｈ2Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ3Ｈ6Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
Ｓ−２    Ｈ2Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ2Ｈ4ＯＴｉ（ＯＣ2Ｈ5）3
Ｓ−３    Ｈ2Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ2Ｈ4ＯＣＯＣ5Ｈ10ＯＰＯ（ＯＨ）2
Ｓ−４    （Ｈ2Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ2Ｈ4ＯＣＯＣ5Ｈ10Ｏ）2ＰＯＯＨ
Ｓ−５    Ｈ2Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ2Ｈ4ＯＳＯ3Ｈ
Ｓ−６    Ｈ2Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯ（Ｃ5Ｈ10ＣＯＯ）2Ｈ
Ｓ−７    Ｈ2Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ5Ｈ10ＣＯＯＨ
Ｓ−８    ３−（グリシジルオキシ）プロピルトリメトキシシラン
【００７９】
上記Ｓ−１〜Ｓ−７において、Ｘは、水素原子あるいはＣＨ3を表す。
【００８０】
これらの無機微粒子の表面修飾は、溶液中でなされることが好ましい。無機微粒子を機械的に微細分散する時に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、または無機微粒子を微細分散したあとに表面修飾剤を添加して攪拌するか、さらには無機微粒子を微細分散する前に表面修飾を行って（必要により、加温、乾燥した後に加熱、またはｐＨ変更を行う）、そのあとで微細分散を行う方法でもよい。
表面修飾剤を溶解する溶液としては、極性の大きな有機溶剤が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶剤が挙げられる。
【００８１】
有機微粒子としては特に制限がないが、エチレン性不飽和基を有するモノマーからなるポリマー粒子、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等、および本明細書中に後記する一般式（１）および（３）からなるポリマー粒子が好ましく用いられ、その他に、ポリシロキサン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、ポリカーボネート、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、アセチルセルロース、ニトロセルロース、ゼラチン等の樹脂粒子が挙げられる。これらの粒子は架橋されていることが好ましい。
微粒子の微細化のための分散機としては、超音波、ディスパー、ホモジナイザー、ディゾルバー、ポリトロン、ペイントシェーカー、サンドグラインダー、ニーダー、アイガーミル、ダイノミル、コボールミル等を用いることが好ましい。また、分散媒としては前述の表面修飾用の溶媒が好ましく用いられる。
【００８２】
これらの充填剤としては、無機微粒子であることが好ましく、無機粒子がシリカであることが生産性、表面硬度の点から最も好ましい。
微粒子の充填量は、充填後のハードコート層の重量に対して、５〜６０重量％が好ましく、１５〜５５重量％がより好ましく、２５〜５０重量％であることが最も好ましい。
【００８３】
本発明では以下のようなハードコート層も好ましく用いることが出来る。
１．フッ素原子およびケイ素原子の少なくともいずれかの原子と重合性基を有する防汚性を付与するための硬化性樹脂を含有する硬化性組成物であり、該硬化組成物を硬化して得られるハードコート層表面の水の接触角が９０度以上であることを特徴とする硬化性組成物より硬化形成されるハードコート層。
２．ハードコート層の表面弾性率が４．０ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下であることを特徴とする上記１または２に記載のハードコート層。
３．ハードコート層の厚みが１０μｍ以上６０μｍ以下であることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載のハードコート層。
４．硬化性組成物が、活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性組成物であり、開環重合性基を含有する硬化性樹脂および／または同一分子内にエチレン性不飽和基を２個以上含む硬化性樹脂を含有することを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載のハードコート層。
５．開環重合性基を含有する硬化性樹脂が、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含有する架橋性ポリマーであることを特徴とする上記５に記載のハードコート層。
一般式（１）
【００８４】
【化１】
2006096811.tif 000002
【００８５】
一般式（１）中：
Ｒ1は、水素原子または炭素原子数１から４のアルキル基を表す。
Ｐ1は、一価の開環重合性基または開環重合性基を有する一価の基を表す。
Ｌ1は、単結合または二価以上の連結基を表す。
一般式（１）で表される繰り返し単位及びそれを含有する架橋性ポリマーの詳細は後記する。
【００８６】
６．開環重合性基が、カチオン重合性基であることを特徴とする上記５に記載のハードコート層。
【００８７】
以下、上記１〜６で述べたハードコート層、防汚性ハードコート層について詳細に説明する。
本発明のハードコートフィルムに塗布する層（以下、単に「ハードコート層」と称する）は、硬化性組成物が硬化して形成されたハードコート層である。硬化は活性エネルギー線重合であっても熱重合であってもかまわないが、生産性の観点から活性エネルギー線硬化が好ましい。そして、前記したように本発明のハードコート層の表面の鉛筆硬度は好ましくは２Ｈ以上であり、より好ましくは３Ｈ以上であり、４Ｈ以上であることがさらに好ましい。さらに表面の水に対する接触角は、防汚性の観点から好ましくは９０度以上であり、より好ましくは９７度以上である。また上限としては１５０度以下が好ましく、１３０度以下がより好ましい。
ハードコート層表面の水に対する接触角を上記範囲とするには、ハードコート層を形成するための硬化性組成物にフッ素原子および／またはケイ素原子を含有し、かつ重合性基を有する硬化性樹脂あるいは化合物を防汚剤として含有させる方法により行うことができる。重合性基は活性エネルギー線の照射により重合する基であることが好ましい。
【００８８】
ハードコート層に含有されるフッ素原子および／またはケイ素原子を含有し、活性エネルギー線により重合する基を有する防汚剤としての硬化性樹脂は、活性エネルギー線で重合する公知の含フッ素硬化性樹脂や含ケイ素硬化性樹脂、あるいはフッ素原子を含有する骨格とケイ素原子を含有する骨格とを有する硬化性樹脂が用いられる。
さらにハードコート層を主として構成する硬化した樹脂あるいは該樹脂に分散した金属酸化物等と相溶性の良い骨格と、フッ素原子および／またはケイ素原子を含有する骨格とを有する活性エネルギー線重合性樹脂が好ましく挙げられる。
このような硬化性樹脂をハードコート層または防汚性層を形成するために硬化することで、ハードコート層表面にフッ素あるいはケイ素を存在させることができる。
なお、本明細書においては、防汚性層は、防汚性ハードコート層の一部を構成する。但し、説明の便宜上、防汚性層は、ハードコート層と区別して記載することもあるが、その場合でも、防汚層は防汚性ハードコート層に包含される層である。
【００８９】
ハードコート層に用いられる、防汚剤としての上記硬化性樹脂の具体的な例としては、フッ素原子またはケイ素原子を含有するモノマー、あるいはフッ素原子またはケイ素原子を含むモノマーの共重合体、ブロック共重合体、あるいはグラフト共重合体にアクリル基を含有させたポリマーが挙げられる。
フッ素含有モノマーとしては、ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、パーフルオロアルキルスルホンアミドエチルアクリレート、パーフルオロアルキルアミドエチルアクリレート等に代表されるパーフルオロアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。
具体的には、２−パーフルオロオクチルエチルメタアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート（日本メクトロン（株）製）、Ｍ−３６３３、Ｍ−３８３３、Ｒ−３６３３、Ｒ−３８３３等のアクリレート化合物（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＡＦＣ−１０００，ＡＦＣ−２０００、ＦＡ−１６等（共栄社化学（株）製）、メガファック５３１Ａ（大日本インキ（株）製）などの重合性基を含有する化合物が挙げられる。
フッ素を含有する共重合体としては、主鎖が炭素原子のみからなり、かつ、含フッ素ビニルモノマー重合単位と側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する重合単位とを含んでなる共重合体があり、具体的には下記一般式（２）で表される共重合体が挙げられる。
【００９０】
【化２】
2006096811.tif 000003
【００９１】
（一般式（２）中、Ｍｆは含フッ素ビニルモノマー、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０または１を表す。Ｘは水素原子またはメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し３０≦ｘ≦６０、４０≦ｙ≦８０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。）
【００９２】
一般式（２）におけるＭｆで表される含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＭ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、パーフルオロアルキルスルホン酸メタアクリルアミド、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、パーフルオロオレフィン類が好ましく、溶解性、透明性、入手性等の観点からはヘキサフルオロプロピレンが特に好ましい。
【００９３】
本発明に用いる共重合体は側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する重合単位を必須の構成成分として有する。共重合体への（メタ）アクリロイル基の導入法は特に限定されるものではないが、例えば、（１）水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、（メタ）アクリル酸クロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法、（２）上記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、（メタ）アクリル酸を作用させる方法、（３）上記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、（４）エポキシ基を有するポリマーを合成した後に（メタ）アクリル酸を作用させる方法、（５）カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、（６）３―クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法などが挙げられる。これらの中で本発明では特に水酸基を含有するポリマーに対して（１）または（２）の手法によって（メタ）アクリロイル基を導入することが好ましい。
【００９４】
これらの（メタ）アクリロイル基含有重合単位の組成比を高めれば皮膜強度は向上する。含フッ素ビニルモノマー重合単位の種類によっても異なるが、一般式（２）で表される共重合体中の（メタ）アクリロイル基含有重合単位は４０〜８０モル％を占めることが好ましく、４５〜７５モル％を占めることがより好ましく、５０〜７０モル％を占めることが特に好ましい。
【００９５】
本発明に有用な共重合体では上記含フッ素ビニルモノマー重合単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する重合単位以外に、一般式（２）におけるＡで表される、支持体への密着性、ポリマーのＴｇの調整（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。
【００９６】
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸アリル、アクリル酸トリメトキシシリルプロピル等）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸トリメトキシシリルプロピル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ,Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ,Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。
好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【００９７】
一般式（２）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
好ましいＬの例としては、*-(CH2)2-O-**, *-(CH2)2-NH-**, *-(CH2)4-O-**, *-(CH2)6-O-**, *-(CH2)2-O-(CH2 )2-O-**, *-CONH-(CH2)3-O-**, *-CH2CH(OH)CH2-O-**, *-CH2CH2OCONH(CH2)3-O-**（*はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表す。
【００９８】
一般式（２）中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【００９９】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、４０≦ｙ≦８０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、４５≦ｙ≦７５、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、５０≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦１０の場合である。
【０１００】
ケイ素含有モノマーとしてはポリジメチルシロキサンと（メタ）アクリル酸等の反応によるシロキサン基を有するモノマーが挙げられる。末端（メタ）アクリレートのシロキサン化合物の具体例としては、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−１７４Ｄ、Ｘ−２２−８２０１、Ｘ−２２−２４２６（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。
【０１０１】
フッ素原子およびケイ素原子の少なくともいずれかの原子と活性エネルギー線重合性基を有する化合物を含まない硬化性組成物層に対し、フッ素原子およびケイ素原子の少なくともいずれかの原子と活性エネルギー線重合性基を有する化合物を含有する硬化性組成物層を設けたハードコートフィルムの場合、フッ素原子およびケイ素原子の少なくともいずれかの原子と活性エネルギー線重合性基を有する化合物を含有する硬化性組成物層の厚みは、０．０５μｍ以上２μｍ以下が好ましい。薄すぎると塗膜の強度、防汚性の効果が得られ難いこと、１μｍ以上では多層構成にする意義が少なくなり、０．１μｍから１μｍの範囲がより好ましい。
【０１０２】
活性エネルギー線の照射により重合する基は、例えばアクリル基等のラジカル重合性の二重結合やエポキシ基等のカチオン重合性基を導入することによって付与される。これら硬化性組成物に含まれるフッ素、ケイ素と活性エネルギー線重合性基を有する化合物の含有量は硬化性樹脂の０．０１〜２０質量％が好ましく、１〜１５質量％がより好ましい。
【０１０３】
ハードコート層が耐擦傷性に優れるためには、ハードコート層の硬度がある程度大きいことが好ましい。硬度の観点から、ハードコート層の表面弾性率は４．０ＧＰａ程度以上が好ましく、より好ましくは４．５ＧＰａ以上である。表面弾性率が４．０ＧＰａ未満のハードコート層では、十分な鉛筆硬度及び耐擦傷性が得られない。なお、上記の表面弾性率をユニバーサル硬度で表すと、その値は２５０Ｎ／ｍｍ2程度以上が好ましく、より好ましくは３００Ｎ／ｍｍ2以上である。
ハードコート層に無機微粒子を添加することにより、表面弾性率を上げることができる。しかしながら、無機微粒子の添加量を増やすと脆性が悪くなるので、表面弾性率の上限は、１０ＧＰａ、好ましくは９．０ＧＰａである。従って、好ましい表面弾性率の範囲は、４．０〜１０ＧＰａであり、特に好ましくは４．５〜９．０ＧＰａである。
【０１０４】
ハードコート層の鉛筆硬度と脆性の両立化を図ることを検討した結果、硬度は若干小さいが脆性が改善されているハードコート剤を厚く塗布することが有効である。
【０１０５】
上記表面弾性率は、微小表面硬度計（（株）フィッシャー・インスツルメンツ製：フィッシャースコープＨ１００ＶＰ−ＨＣＵ）を用いて求めた値である。具体的には、ダイヤモンド製の四角錐圧子（先端対面角度；１３６°）を使用し、押し込み深さが１μｍを超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを測定し、除荷重時の荷重と変位の変化から求められる弾性率である。
また、前述の微小表面硬度計を用いて表面硬度をユニバーサル硬度として求めることもできる。ユニバーサル硬度は四角錐圧子の試験荷重下での押し込み深さを測定し、試験荷重をその試験荷重で生じた圧痕の幾何学的形状から計算される圧痕の表面積で割った値である。
上記の表面弾性率とユニバーサル硬度の間には、正の相関を有することが知られている。
【０１０６】
ハードコート層の厚みを厚くすると鉛筆硬度は向上するが、フィルムを曲げることが難しくなり、さらに曲げによる割れが発生しやすくなる。本発明のハードコート層の厚みは１〜２０μｍが好ましく、２〜１５μｍがさらに好ましい。より好ましくは２．５〜１０μｍであり、３〜７μｍが最も好ましい。
【０１０７】
ハードコート層は、単層でも複数層から構成されていてもよいが、製造工程上簡便な単層であることが好ましい。この場合の単層とは、同一の硬化性組成物から硬化形成されたハードコート層を指し、塗布、乾燥後の組成が、同一組成のものであれば、複数回の塗布後、硬化して形成されていてもよい。一方、複数層とは組成の異なる複数の硬化性組成物から硬化、形成された層を指す。
【０１０８】
本発明のハードコート層は、活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性組成物を塗布後、活性エネルギー線の照射により硬化して形成される。該硬化性組成物の活性エネルギー線照射による硬化収縮率は、０〜１５％、好ましくは０〜１３％、より好ましくは０〜１１％である。
上記硬化収縮率は、用いた活性エネルギー線、例えばＵＶ光の照射前の硬化性組成物の密度と照射硬化後の硬化性組成物の密度を求め、その値から下記数式Ａで計算して求めた値である。なお、密度はマイクロメトリック社製ＭＵＬＴＩＶＯＬＵＭＥ  ＰＹＣＮＯＭＥＴＥＲで測定（２５℃）した値である。
【０１０９】
数式Ａ：体積収縮率＝｛１−（硬化前密度／硬化後密度）｝×１００（％）
【０１１０】
ハードコート層を形成するための硬化性組成物は、前記した防汚剤としての硬化性樹脂とは異なる、活性エネルギー線や熱によって硬化する硬化性樹脂を主成分として含有する。ハードコート層を形成するための硬化性組成物（以下、単に「硬化性組成物」とも称する。）は、該硬化性樹脂として、開環重合性基を有する硬化性樹脂および／またはエチレン性不飽和基を同一分子内に２個以上（より好ましくは３個以上）有する硬化性樹脂を含有することが好ましく、これら二種の硬化性樹脂のいずれをも含有することがより好ましい。このことによって、ハードコート層の表面硬度が高くなり、耐擦傷性に優れたハードコートフィルムが得られる。同時に、体積収縮率が上記した範囲を満たし、硬化後のカールが小さくなり、諸取り扱い時のひび割れが発生しにくくなる。さらに、ハードコート層の膜厚を一定の膜厚にすることによって、上記の効果がさらに顕著となる。
【０１１１】
以下、本発明に好ましく用いられる開環重合性基を含む硬化性樹脂について説明する。
開環重合性基を含む硬化性樹脂とは、カチオン、アニオン、ラジカルなどの作用により開環重合が進行する環構造を有する硬化性樹脂であり、この中でもヘテロ環状基含有硬化性樹脂が好ましい。このような硬化性樹脂としてエポキシ誘導体、オキセタン誘導体、テトラヒドロフラン誘導体、環状ラクトン誘導体、環状カーボネート誘導体、オキサゾリン誘導体などの環状イミノエーテル類などが挙げられ、特にエポキシ誘導体、オキセタン誘導体、オキサゾリン誘導体が好ましい。
本発明において開環重合性基を有する硬化性樹脂は、同一分子内に２個以上の開環重合性基を有することが好ましいが、より好ましくは３個以上有することが好ましい。また、本発明において、開環重合性基を有する硬化性樹脂を２種以上を組み合わせて併用してもよい。この場合、同一分子内に開環重合性基を１個有する硬化性樹脂と同一分子内に開環重合性基を２個以上有する硬化性樹脂とを組み合わせてもよく、また同一分子内に開環重合性基を２個以上有する硬化性樹脂のみを２種以上組み合わせてもよい。
【０１１２】
本発明において、開環重合性基を有する硬化性樹脂とは、上記のような環状構造を有する硬化性樹脂であれば特に制限がない。このような硬化性樹脂の好ましい例としては、例えば単官能グリシジルエーテル類、単官能脂環式エポキシ類、２官能脂環式エポキシ類、ジグリシジルエーテル類（例えばグリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル）、３官能以上のグリシジルエーテル類（トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリス（グリシジルオキシエチル）イソシアヌレートなど）、４官能以上のグリシジルエーテル類（ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど）、脂環式エポキシ類（セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１（以上、ダイセル化学工業（株）製））、ＥＨＰＥ（ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど）、オキセタン類（ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）など）などが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１１３】
本発明では開環重合性基を有する硬化性樹脂として、上記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーを含有していることが特に好ましい。以下にこれら架橋性ポリマーについて詳細に説明する。
一般式（１）中、Ｒ1は水素原子または炭素原子数１以上４以下のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。
Ｌ1は、単結合または二価以上の連結基であり、好ましくは単結合、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基および＊側で主鎖に連結する＊−ＣＯＯ−、＊−ＣＯＮＨ−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＮＨＣＯ−である。
Ｐ1は、一価の開環重合性基または開環重合性基を有する一価の基であり、好ましいＰ1としては、エポキシ環、オキセタン環、テトラヒドロフラン環、ラクトン環、カーボネート環、オキサゾリン環などのイミノエーテル環などを有する一価の基が挙げられ、この中でも特に好ましくはエポキシ環、オキセタン環、オキサゾリン環を有する一価の基である。
【０１１４】
本発明において一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、対応するモノマーを重合させて合成することが簡便で好ましい。この場合の重合反応としてはラジカル重合が最も簡便で好ましい。
以下に一般式（１）で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１１５】
【化３】
2006096811.tif 000004
【０１１６】
【化４】
2006096811.tif 000005
【０１１７】
【化５】
2006096811.tif 000006
【０１１８】
本発明において、一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは複数種の一般式（１）で表される繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、また、一般式（１）以外の繰り返し単位（例えば開環重合性基を含まない繰り返し単位）を含んだコポリマーでもよい。特に架橋性ポリマーのＴｇや親疎水性をコントロールしたい場合や、架橋性ポリマーの開環重合性基の含有量をコントロールする目的で一般式（１）以外の繰り返し単位を含有するコポリマーとする手法は好適である。一般式（１）以外の繰り返し単位の導入方法は、対応するモノマーを共重合させて導入する手法が好ましい。
【０１１９】
一般式（１）以外の繰り返し単位を、対応するビニルモノマーを重合することによって導入する場合、好ましく用いられるモノマーとしては、アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸（例えばメタクリル酸など）類から誘導されるエステル類（例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｉ−プロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−メチル−２−ニトロプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｉ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ペンチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−メトキシメトキシエチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２−ジメチルブチルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、３−ペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロペンチルアクリレート、セチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、４−メチル−２−プロピルペンチルアクリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、ｎ−オクタデシルアクリレート、メチルメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｉ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、ｎ−オクタデシルメタクリレート、２−イソボルニルメタクリレート、２−ノルボルニルメチルメタクリレート、５−ノルボルネン−２−イルメチルメタクリレート、３−メチル−２−ノルボルニルメチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレートなど）、
【０１２０】
アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸（例えばメタクリル酸など）類から誘導されるアミド類（例えば、Ｎ−ｉ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド）、アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸（アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸など）、ビニルエステル類（例えば酢酸ビニル）、マレイン酸またはフマル酸から誘導されるエステル類（マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチルなど）、マレイミド類（Ｎ−フェニルマレイミドなど）、マレイン酸、フマル酸、ｐ−スチレンスルホン酸のナトリウム塩、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジエン類（例えばブタジエン、シクロペンタジエン、イソプレン）、芳香族ビニル化合物（例えばスチレン、ｐ−クロルスチレン、ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、スチレンスルホン酸ナトリウム）、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビニルサクシンイミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルアセトアミド、１−ビニルイミダゾール、４−ビニルピリジン、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル類（例えばメチルビニルエーテル）、エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン等が挙げられる。
【０１２１】
これらのビニルモノマーは２種類以上組み合わせて使用してもよい。これら以外のビニルモノマーはリサーチディスクロージャーＮｏ．１９５５１（１９８０年、７月）に記載されているものを使用することができる。
なかでも、アクリル酸またはメタクリル酸から誘導されるエステル類およびアミド類、ならびに芳香族ビニル化合物が特に好ましく用いられる。
【０１２２】
一般式（１）以外の繰り返し単位として、開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位も導入することができる。特に、ハードコート層の硬度を高めたい場合や、支持体もしくはハードコート層上に別の機能層を用いる場合の層間の接着性を改良したい場合、開環重合性基以外の反応性基を含むコポリマーとする手法が好適である。開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位の導入方法は対応するビニルモノマー（以下、反応性モノマーと称する）を共重合する手法が簡便で好ましい。
【０１２３】
以下に反応性モノマーの好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２４】
ヒドロキシル基含有ビニルモノマー（例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなど）、イソシアネート基含有ビニルモノマー（例えば、イソシアナトエチルアクリレート、イソシアナトエチルメタクリレートなど）、Ｎ−メチロール基含有ビニルモノマー（例えば、Ｎ-メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミドなど）、カルボキシル基含有ビニルモノマー（例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、カルボキシエチルアクリレート、安息香酸ビニル）、アルキルハライド含有ビニルモノマー（例えばクロロメチルスチレン、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルメタクリレート）、酸無水物含有ビニルモノマー（例えばマレイン酸無水物）、ホルミル基含有ビニルモノマー（例えばアクロレイン、メタクロレイン）、スルフィン酸基含有ビニルモノマー（例えばスチレンスルフィン酸カリウム）、活性メチレン含有ビニルモノマー（例えばアセトアセトキシエチルメタクリレート）、酸クロライド含有モノマー（例えばアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド）、アミノ基含有モノマー（例えばアリルアミン）、アルコキシシリル基含有モノマー（例えばメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン）などが挙げられる。
【０１２５】
本発明において、一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマー中、一般式（１）で表される繰り返し単位が含まれる割合は、１質量％以上１００質量％以下、好ましくは３０質量％以上１００質量％以下、特に好ましくは５０質量％以上１００質量％以下である。
【０１２６】
一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい質量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる測定、ポリエチレングリコール換算値）の範囲は、１０００以上１００万以下、さらに好ましくは３０００以上２０万以下である。最も好ましくは５０００以上１０万以下である。
【０１２７】
以下に一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい例を表１に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、前記で具体例を挙げた一般式（１）で表される繰り返し単位は前記で挙げた具体例の番号で表し、共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し単位は、モノマー名を記載し、共重合組成比を質量％で付記した。
【０１２８】
【表１】
2006096811.tif 000007
【０１２９】
既に述べたように、ハードコート層を形成するための活性エネルギー線によって硬化する硬化性組成物には、開環重合性基を含む硬化性樹脂とエチレン性不飽和基を同一分子内に２個以上含む硬化性樹脂との両方を含有することが好ましい。
以下に、上記エチレン性不飽和基を同一分子内に２個以上含む硬化性樹脂について詳しく説明する。
【０１３０】
好ましいエチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。
なお、同一分子内にエチレン性不飽和基を２個以上含む硬化性樹脂と共に、エチレン性不飽和基を１個もしくは２個含む硬化性樹脂（モノマーあるいはオリゴマー）を併用してもよい。
さらに、分子内に２〜６個のアクリル酸エステル基を有する多官能アクリレートモノマーや、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートと称される分子内に数個のアクリル酸エステル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーなどを本発明の硬化性樹脂として好ましく使用することができる。
【０１３１】
これら同一分子内に２個以上のアクリル基を有する硬化性樹脂の具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、１，６−へキサンジオールジアクリレート、ビスフェノール−Ａジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート類、ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を挙げることができる。同一分子内に２個以上のアクリル基を有する硬化性樹脂がさらに好ましい。
【０１３２】
また、本発明では同一分子内に２個以上のエチレン性不飽和基を有する硬化性樹脂として、下記一般式（３）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーも好ましく使用できる。以下、一般式（３）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーについて詳細に説明する。
一般式（３）
【０１３３】
【化６】
2006096811.tif 000008
【０１３４】
上記一般式（３）中、Ｒ2は、水素原子または炭素原子数１以上４以下のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。
Ｐ2は、一価のエチレン性不飽和基またはエチレン性不飽和基を有する一価の基を表す。
Ｌ2は、単結合もしくは二価以上の連結基を表し、好ましくは単結合、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基および＊側で主鎖に連結する＊−ＣＯＯ−、＊−ＣＯＮＨ−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＮＨＣＯ−である。
好ましいＰ2としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基またはこれらの基のいずれかを含有する一価の基であり、最も好ましくはアクリロイル基またはこれを含有する一価の基である。
【０１３５】
一般式（３）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、（ｉ）対応するモノマーを重合させて直接エチレン性不飽和基を導入する手法で合成してもよく、（ii）任意の官能基を有するモノマーを重合して得られるポリマーに高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する手法で合成してもよい。また、上記（ｉ）および（ii）の手法を組み合わせて合成することもできる。重合反応としてはラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合などが挙げられる。
上記（ｉ）の方法は、重合反応により消費されるエチレン性不飽和基と架橋性ポリマー中に残されるエチレン性不飽和基の重合性の差を利用することにより不飽和基含有ポリマーの直接生成が可能である。例えば、一般式（３）のＰ2が、アクリロイル基、メタクリロイル基またはこれらのいずれかを含有する一価の基である場合、架橋性ポリマーを生成させる重合反応をカチオン重合とすることによって上記（ｉ）の手法によって一般式（３）の架橋性ポリマーを得ることができる。一方、Ｐ2がスチリル基またはスチリル基を含有する一価の基である場合は、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合のいずれの方法をとってもゲル化が進行しやすいため、通常上記（ii）の手法によって一般式（３）の架橋性ポリマーを合成する。
【０１３６】
このように上記（ii）の高分子反応を利用する手法は、一般式（３）中に導入されるエチレン性不飽和基の種類によらず、架橋性ポリマーを得ることが可能であり、有用である。
高分子反応は、（Ｉ）例えば２−クロロエチル基から塩酸を脱離させるようなエチレン性不飽和基をプレカーサー化した官能基を含むポリマーを生成させたあとに官能基変換（脱離反応、酸化反応、還元反応など）によりエチレン性不飽和基に誘導する方法と、（II）任意の官能基を含むポリマーを生成させたあとに、該ポリマー中の官能基と結合生成反応が進行して共有結合を生成しうる官能基とエチレン性不飽和基の両方を有する反応性モノマーを反応させる方法が挙げられる。これら（Ｉ）、（II）の方法は組み合わせて行ってもよい。
ここで言う結合形成反応とは、一般に有機合成分野で用いられる結合生成反応のなかで共有結合を形成する反応であれば特に制限なく使用できる。一方で、架橋性ポリマーに含まれるエチレン性不飽和基が反応中に熱重合し、ゲル化してしまう場合があるので、できるだけ低温（好ましくは６０℃以下、特に好ましくは室温以下）で反応が進行するものが好ましい。また反応の進行を促進させる目的で触媒を用いても良く、ゲル化を抑制する目的で重合禁止剤を用いてもよい。
【０１３７】
以下に好ましい高分子結合形成反応が進行する官能基の組み合わせの例を挙げるが本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３８】
加熱もしくは室温で反応が進行する官能基の組み合わせとしては、
（イ）ヒドロキシル基に対して、エポキシ基、イソシアネート基、Ｎ-メチロール基、カルボキシル基、アルキルハライド、酸無水物、酸クロライド、活性エステル基（例えば硫酸エステル）、ホルミル基、アセタール基、
（ロ）イソシアネート基に対して、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、Ｎ-メチロール基、
（ハ）カルボキシル基に対して、エポキシ基、イソシアネート基、アミノ基、Ｎ-メチロール基、
（ニ）Ｎ-メチロール基に対して、イソシアネート基、Ｎ-メチロール基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、
（ホ）エポキシ基に対して、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、Ｎ-メチロール基、
（ヘ）ビニルスルホン基に対してスルフィン酸基、アミノ基、
（ト）ホルミル基に対してヒドロキシル基、メルカプト基、活性メチレン基、
（チ）メルカプト基に対して、ホルミル基、ビニル基（アリル基、アクリル基など）、エポキシ基、イソシアネート基、Ｎ-メチロール基、カルボキシル基、アルキルハライド、酸無水物酸クロライド、活性エステル基（例えば硫酸エステル）、
（リ）アミノ基に対して、ホルミル基、ビニル基（アリル基、アクリル基など）、エポキシ基、イソシアネート基、Ｎ-メチロール基、カルボキシル基、アルキルハライド、酸無水物、酸クロライド、活性エステル基（例えば硫酸エステル）、などの組み合わせが挙げられる。
【０１３９】
以下に反応性モノマーの好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４０】
ヒドロキシル基含有ビニルモノマー（例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなど）、イソシアネート基含有ビニルモノマー（例えば、イソシアナトエチルアクリレート、イソシアナトエチルメタクリレートなど）、Ｎ-メチロール基含有ビニルモノマー（例えば、 Ｎ-メチロールアクリルアミド、Ｎ-メチロールメタクリルアミドなど）、エポキシ基含有ビニルモノマー（例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、ＣＹＣＬＯＭＥＲ−Ｍ１００、Ａ２００（ダイセル化学工業（株）製）など）、カルボキシル基含有ビニルモノマー（例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、カルボキシエチルアクリレート、安息香酸ビニル）、アルキルハライド含有ビニルモノマー（例えばクロロメチルスチレン、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルメタクリレート）、酸無水物含有ビニルモノマー（例えばマレイン酸無水物）、ホルミル基含有ビニルモノマー（例えばアクロレイン、メタクロレイン）、スルフィン酸基含有ビニルモノマー（例えばスチレンスルフィン酸カリウム）、活性メチレン含有ビニルモノマー（例えばアセトアセトキシエチルメタクリレート）、ビニル基含有ビニルモノマー（例えばアリルメタクリレート、アリルアクリレート）、酸クロライド含有モノマー（例えばアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド）、アミノ基含有モノマー（例えばアリルアミン）、などが挙げられる。
【０１４１】
上記（II）に記載した任意の官能基を含むポリマーは、反応性官能基とエチレン性不飽和基の両方を有する反応性モノマーの重合を行うことで得ることができる。また、ポリ酢酸ビニルを変性して得られるポリビニルアルコールのように反応性の低い前駆体モノマーの重合後、官能基変換を行うことで得ることもできる。
これらの場合の重合方法としては、ラジカル重合が最も簡便で好ましい。
【０１４２】
以下に一般式（３）で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４３】
【化７】
2006096811.tif 000009
【０１４４】
【化８】
2006096811.tif 000010
【０１４５】
【化９】
2006096811.tif 000011
【０１４６】
【化１０】
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【０１４７】
【化１１】
2006096811.tif 000013
【０１４８】
本発明において一般式（３）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは複数種の一般式（３）で表される繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、また、一般式（３）以外の繰り返し単位（例えばエチレン性不飽和基を含まない繰り返し単位）を含んだコポリマーでもよい。特に架橋性ポリマーのＴｇや親疎水性をコントロールしたい場合や、架橋性ポリマーのエチレン性不飽和基の含有量をコントロールする目的で一般式（３）以外の繰り返し単位を含んだコポリマーとする手法は好適である。一般式（３）以外の繰り返し単位の導入方法は、（ａ）対応するモノマーを共重合させて直接導入する手法を用いてもよく、（ｂ）官能基変換可能な前駆体モノマーを重合させ、高分子反応により導入する手法を用いてもよい。また、（ａ）および（ｂ）の手法を組み合わせて導入することもできる。
【０１４９】
（ａ）の手法によって一般式（３）以外の繰り返し単位を対応するビニルモノマーを重合することによって導入する場合、好ましく用いられるモノマーとしては、前述の一般式（１）の説明において、一般式（１）以外の繰り返し単位を対応するビニルモノマーを重合することによって導入する場合に好ましく用いられるモノマーとして挙げたものと同様なものが挙げられる。それらのビニルモノマーは２種類以上組み合わせて使用してもよい。これら以外のビニルモノマーはリサーチディスクロージャーＮｏ．１９５５１（１９８０年、７月）に記載されているものを使用することができる。なかでも、アクリル酸またはメタクリル酸から誘導されるエステル類およびアミド類ならびに芳香族ビニル化合物が特に好ましく用いられる。
【０１５０】
また、一般式（３）で表される繰り返し単位を前記（ii）のように高分子反応で導入して反応を完結させない場合、エチレン性不飽和基をプレカーサー化した官能基や反応性官能基を含む繰り返し単位を有する共重合体となるが、本発明ではこれを特に制限無く用いることができる。
【０１５１】
上記で挙げたビニルモノマーから誘導されるエチレン性不飽和基を含まない繰り返し単位の大部分は前述した（ｂ）官能基変換可能な前駆体モノマーを重合させ、高分子反応により導入することも可能である。一方で、本発明において一般式（３）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、高分子反応のみによってしか導入できない、一般式（３）以外の繰り返し単位を含んでいてもよい。典型的な例としてポリ酢酸ビニルを変性して得られるポリビニルアルコールやポリビニルアルコールのアセタール化反応によって得られるポリビニルブチラール等を挙げることができる。これらの繰り返し単位の具体的な例を以下に示すが本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５２】
【化１２】
2006096811.tif 000014
【０１５３】
本発明において一般式（３）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマー中、一般式（３）で表される繰り返し単位が含まれる割合は、１質量％以上１００質量％以下、好ましくは３０質量％以上１００質量％以下、特に好ましくは５０質量％以上１００質量％以下である。
【０１５４】
一般式（３）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい数平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる測定、ポリエチレングリコール換算値）の範囲は、１０００以上１００万以下、さらに好ましくは３０００以上２０万以下である。最も好ましくは５０００以上１０万以下である。
【０１５５】
以下に一般式（３）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい例を表２に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、前記で具体例を挙げた一般式（３）で表される繰り返し単位とポリビニルアルコールなどの繰り返し単位は前記で挙げた具体例の番号で表し、共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し単位は、モノマー名を記載し、共重合組成比を質量％で付記した。
【０１５６】
【表２】
2006096811.tif 000015
【０１５７】
本発明に用いることのできる開環重合性基を有する硬化性樹脂として、一般式（１）および（３）で表される両方の繰り返し単位を含むポリマーも挙げることができる。この場合の一般式（１）および（３）の好ましい繰り返し単位としては、前記したものと同じである。また、一般式（１）および（３）以外の繰り返し単位を含んだコポリマーであってもエチレン性不飽和基および開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位を含んだコポリマーであってもよい。
【０１５８】
一般式（１）および（３）で表される両方の繰り返し単位を含む架橋性ポリマー中、一般式（１）で表される繰り返し単位が含まれる割合は、１質量％以上９９質量％以下、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下、特に好ましくは３０質量％以上７０質量％以下であり、一般式（３）で表される繰り返し単位が含まれる割合は、１質量％以上９９質量％以下、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下、特に好ましくは３０質量％以上７０質量％以下である。
【０１５９】
一般式（１）および（３）で表される両方の繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる測定、ポリスチレン換算値）の範囲は、１０００以上１００万以下、さらに好ましくは３０００以上２０万以下である。最も好ましくは５０００以上１０万以下である。
【０１６０】
一般式（１）および（３）で表される両方の繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい例を表３に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、前記で具体例を挙げた一般式（１）および（３）で表される繰り返し単位とポリビニルアルコールなどの繰り返し単位は前記で挙げた具体例の番号で表し、共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し単位は、モノマー名を記載し、共重合組成比を質量％で付記した。
【０１６１】
【表３】
2006096811.tif 000016
【０１６２】
ハードコート層を形成するための硬化性組成物に好ましく含有される、エチレン性不飽和基を同一分子内に２個以上含む硬化性樹脂と開環重合性基を含む硬化性樹脂との好ましい混合比は、用いる硬化性樹脂の種類によっても異なり、特に制限はないが、エチレン性不飽和基を含む硬化性樹脂の割合が硬化性樹脂全体の３０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは５０質量％以上８０質量％以下である。
【０１６３】
エチレン性不飽和基を含む硬化性樹脂と開環重合性基を含む硬化性樹脂を含有する硬化性組成物（以下、特に断りのない限り、「硬化性組成物」は、これら両者の硬化性樹脂を含有する組成物である）を硬化させる場合、両方の硬化性樹脂の架橋反応が進行することが好ましい。エチレン性不飽和基の好ましい架橋反応はラジカル重合反応であり、開環重合性基の好ましい架橋反応はカチオン重合反応である。いずれの場合も活性エネルギー線の作用により、重合反応を進行させることができる。通常、重合開始剤と称される少量のラジカル発生剤およびカチオン発生剤（もしくは酸発生剤）を添加し、活性エネルギー線によりこれらを分解し、ラジカルおよびカチオンを発生させ重合を進行させることができる。ラジカル重合とカチオン重合は別々に行ってもよいが、同時に進行させることが好ましい。
【０１６４】
上記硬化性組成物を活性エネルギー線照射により硬化する場合、低温で架橋反応が進行する場合が多く、好ましい。
本発明では、活性エネルギー線として、放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線などが用いられる。その中でも紫外線を用いて、ラジカルもしくはカチオンを発生させる重合開始剤を添加し、紫外線により硬化させる方法が特に好ましい。また紫外線を照射した後、加熱することにより、さらに硬化を進行させることができる場合があり、この方法を好ましく用いることができる。この場合の好ましい加熱温度は１４０℃以下である。
【０１６５】
紫外線によってカチオンを発生させる光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩やジアリールヨードニウム塩などのイオン性の硬化性樹脂やスルホン酸のニトロベンジルエステルなどの非イオン性の硬化性樹脂が挙げられ、有機エレクトロニクス材料研究会編、"イメージング用有機材料"ぶんしん出版社刊（１９９７）などに記載されている硬化性樹脂等種々の公知の光酸発生剤が使用できる。この中で特に好ましくはスルホニウム塩もしくはヨードニウム塩であり、対イオンとしてはＰＦ6-、ＳｂＦ6-、ＡｓＦ6-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-などが好ましい。
【０１６６】
紫外線によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アシロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン等の公知のラジカル発生剤が使用できる。また上記で挙げたように通常、光酸発生剤として用いられるスルホニウム塩やヨードニウム塩なども紫外線照射によりラジカル発生剤として作用するため、本発明ではこれらを単独で用いてもよい。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、およびチオキサントン誘導体等が含まれる。
【０１６７】
重合開始剤は、それぞれ組み合わせて用いてもよいし、単独でラジカルとカチオンの両方を発生させるような硬化性樹脂の場合などは１種単独で用いることができる。重合開始剤の添加量としては、硬化性組成物中に含まれるエチレン性不飽和基含有硬化性樹脂と開環重合性基含有硬化性樹脂の総質量に対し、０．１〜１５質量％の範囲で使用することが好ましく、１〜１０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。
【０１６８】
本発明において一般式（１）で表される繰り返し単位を有する架橋性ポリマーや、一般式（３）で表される繰り返し単位を有する架橋性ポリマー(以下、これらを合わせて「本発明のポリマー」と称する)を使用する場合は、通常、本発明のポリマーは固体もしくは高粘度液体となり単独での塗布は困難であり、ポリマーが水溶性の場合や水分散物とした場合は水系で塗布することもできるが、通常有機溶媒に溶解して塗布される。有機溶媒としては、本発明のポリマーを溶解し得るものであれば特に制限なく使用できる。
好ましい有機溶媒としては、メチルエチルケトン等のケトン類、イソプロパノール等のアルコール類、酢酸エチルなどのエステル類などが挙げられる。また、前記した単官能もしくは多官能のビニルモノマーや、単官能、２官能または３官能以上の開環重合性基を有する硬化性樹脂が低分子量硬化性樹脂である場合、これらを併用すると、硬化性組成物の粘度を調節することが可能であり、溶媒を用いなくても塗布可能とすることもできる。
【０１６９】
本発明に用いられるハードコート層のヘイズは７％以下であることが好ましく、５％以下がさらに好ましく、３％以下が最も好ましい。ヘイズの評価法は、日本電色工業（株）製の濁度計「ＮＤＨ−１００１ＤＰ」を用いて測定したヘイズ値すなわち（拡散光／全透過光）×１００（％）として自動計測される値を用いた。
【０１７０】
本発明のハードコートフィルムは、カールを以下の数式Ｂで表したときの値が、マイナス１５〜プラス１５の範囲に入っていることが好ましく、マイナス１２〜プラス１２の範囲がより好ましく、さらに好ましくはマイナス１０〜プラス１０である。このときのカールの試料内測定方向は、ウェッブ形態での塗布の場合、支持体の搬送方向について測ったものである。
【０１７１】
（数式Ｂ）  カール＝１／Ｒ
ここで、Ｒは曲率半径（ｍ）を表す。
【０１７２】
数式Ｂを満たすことは、ハードコートフィルムの製造、加工、市場での取り扱いで、ひび割れ、膜はがれを起こさないための重要な特性である。カール値が前記範囲にあり、カールが小さいことが好ましい。上記範囲にカールを小さくすることと高表面硬度とすることは、ハードコート層形成用の硬化性組成物の硬化前後の体積収縮率を１５％以下とすることによって可能である。
カールの測定は、ＪＩＳＫ７６１９−１９８８の「写真フィルムのカールの測定法」中の方法Ａのカール測定用型板を用いて行われる。測定条件は２５℃、相対湿度６０％、調湿時間１０時間である。
ここで、カールがプラスとはフィルムのハードコート層塗設側が湾曲の内側になるカールを言い、マイナスとは塗設側が湾曲の外側になるカールをいう。
また、本発明におけるハードコートフィルムは、上記したカール測定法に基づいて、相対湿度のみを８０％と１０％に変更したときの各カール値の差の絶対値が、２４〜０が好ましく、１５〜０がさらに好ましく、８〜０が最も好ましい。これはさまざまな湿度下でフィルムを貼り付けたときのハンドリング適性や剥がれ耐性及びひび割れ耐性に関係する特性である。
【０１７３】
本発明におけるハードコートフィルムのひび割れ耐性は、ハードコート層塗設側を外側にして丸めたときに、ひび割れが発生する曲率直径が、５０ｍｍ以下であることが好ましく、４０ｍｍ以下がより好ましく、３０ｍｍ以下が最も好ましい。エッジ部のひび割れについては、ひび割れがないか、ひび割れの長さが平均で１ｍｍ未満であることが好ましい。このひび割れ耐性は、ハードコートフィルムの塗布、加工、裁断、貼りつけ等のハンドリングで割れ欠陥を出さないための重要な特性である。
【０１７４】
活性エネルギー線硬化塗布液（硬化組成物の塗布液）は、ケトン系、アルコール系、エステル系等の有機溶剤に、上記の多官能モノマーと重合開始剤を主体に溶解して調製する。さらに、表面修飾した硬無機微粒子分散液と軟微粒子分散液を添加して調製することができる。
【０１７５】
本発明においてハードコート層の作製は、支持体（すなわち透明樹脂材料層）上に活性エネルギー線硬化塗布液をディッピング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、グラビア法、ワイヤーバー法、スロットエクストルージョンコーター法（単層、重層）、スライドコーター法等の公知の薄膜形成方法で塗布して乾燥した後、活性エネルギー線照射して硬化させることにより作製することができる。
乾燥は、塗布した液膜中の有機溶媒濃度が、乾燥後に５質量％以下になる条件が好ましく、２質量％以下がより好ましく、１質量％以下がさらに好ましい。乾燥条件は、支持体の熱的強度や搬送速度、乾燥工程長さなどの影響を受けるが、できるだけ有機溶媒の含有率の低いほうが重合率を高める点で好ましい。
【０１７６】
さらに、支持体とハードコート層の密着性を向上させる目的で、所望により支持体（すなわち透明樹脂材料層）の片面又は両面に、酸化法や凹凸化法（いわゆるエンボス加工）等により表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、グロー放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等が挙げられる。
更に、一層以上の下塗り層を設けることができる。下塗り層の素材としては塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、（メタ）アクリル酸エステル、ビニルエステル等の共重合体或いはラテックス、低分子量ポリエステル、ゼラチン等の水溶性ポリマー等が挙げられる。さらに下塗り層に酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩等の帯電防止剤を含有させることができる。
【０１７７】
ハードコート層は、複数層構成でも可能であり、硬度の順に適宜積層して作製することもできる。
【０１７８】
＜３．粘着剤付フィルム＞
本発明のハードコートフィルムの一態様は（少なくとも）一方の面に粘着剤を塗設し、粘着剤層を設けた態様で粘着剤付きのフィルムとして好ましく用いられる。
一般には粘着剤層の塗設によりフィルム上部からの圧力により変形しやすくなるが、本発明に係るハードコート層と併用することにより変形しにくい粘着剤付きフィルムを得ることができる。
【０１７９】
さらに、光記録材料の記録層の読みとり用、書込み用の光が透過する面をカバーする透光層（透光性フィルムと呼ぶこともある）として本発明のハードコートフィルムとりわけ粘着剤付きフィルムを用いることことにより、優れた記録特性を有する光記録媒体を提供することができる。
【０１８０】
粘着剤層を設置する工程において、あらかじめ一方の面にハードコート層が形成された透光性フィルムのハードコート層塗設面と異なる面に、粘着剤層を連続的に設けることができる。粘着剤層を設ける方法としては、予め形成された粘着剤層を貼り付ける方法（以下、適宜、間接法と称する）と、透光性フィルムの表面に、直接、粘着剤を塗布し、乾燥させることで粘着剤層を形成する方法（以下、適宜、直接法と称する。）と、の２つに大別することができる。
【０１８１】
間接法の場合における「予め形成された粘着剤層を貼り付ける方法」とは、例えば、透光性フィルムと同じ大きさの離型フィルムの表面に、連続的に粘着剤を塗布し、乾燥させることで、離型フィルムの一方の面全域に粘着剤層を設け、その粘着剤層を透光性フィルムに貼り付ける方法を示す。その結果、透光性フィルムの他方の面全域には、離型フィルム付きの粘着剤層が設けられることになる。
【０１８２】
直接法は、ロール状に巻回された透光性フィルムの先端を、所定の塗布領域まで送り出し、その透光性フィルムの一方の面の先端から末端まで、粘着剤を連続的に塗布し、塗膜を形成した後、順次、その塗膜を乾燥させて、透光性フィルムの他方の面全域に粘着剤層を設ける方法である。
【０１８３】
上記の間接法及び直接法において、粘着剤の塗布手段としては、従来公知の塗布手段を用いることができる。具体的には、スプレー法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などが挙げられる。
また、乾燥手段としては、加熱乾燥、送風乾燥など、従来公知の手段を用いることができる。
【０１８４】
粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。
【０１８５】
上記粘着剤と併用される架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ樹脂系架橋剤、メラミン樹脂系架橋剤、尿素樹脂系架橋剤、キレート系架橋剤が挙げられるが、この中でも、イソシアネート系架橋剤がより好ましい。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４−４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリオールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製、デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。
【０１８６】
透光性フィルムのハードコート層が設置された以外の面に粘着剤層が形成されるが、その後の工程においてロール状に巻き取られ、ハードコート層と粘着剤層とが密着してしまうこと防止するためにも、粘着剤層の表面には、離型フィルムが貼り付けられていることが好ましい。上述のように、間接法においては、予め離型フィルムを貼りつけた状態とすることができる。一方、直接法の場合には、粘着剤層が透光性フィルムの表面に形成された後に、その粘着剤層の表面に離型フィルムを貼り付ける工程を新たに加えることが好ましい。
ここで、粘着剤層の表面に貼り付けられる離型フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、トリアセテートセルロースフィルムなどが挙げられる。
【０１８７】
＜４．情報記録担体＞
本発明の情報記録担体は、光学的手段によって情報信号を再生可能な情報記録担体である。本発明の情報記録担体の基本的な構成は、支持体（基板）と、支持体上に形成され情報信号を記録可能な記録層と、記録層上に形成され光を透過する透光層とからなる。各々の構成要素は発明内容を阻害しない範囲で相互に入れ替えまたは組み合わせてもよい。各々は少なくとも１つずつ存在することが必要であるが、各々は複数層存在しても１つの層が組成や特性の異なる複数の層から構成されていてもよい。具体的には支持体（基板）／記録層／透光層／記録層／透光層のように支持体（基板）の片側に２層ずつの記録層と透光層を設けたり、透光層／記録層／支持体（基板）／記録層／透光層のように支持体の両面に記録層と透光層を配置したりすることもできる。上記構成以外にも、公知の静電気防止層、潤滑層、保護層、反射層などを設けてもよい。また、支持体（基板）の記録層とは反対側にレーベル印刷を施してもよい。
本発明の情報記録担体は、カートリッジ内部に装着されたものであってもよい。また、その大きさに制限はなく、ディスク状情報記録担体の場合には、例えば直径３０〜３００ｍｍの各種サイズを取ることができ、直径３２、５１、６５、８０、８８、１２０、１３０、２００、３００ｍｍなどであってもよい。
【０１８８】
本発明の情報記録担体において、支持体（基板）は、後述する記録層及び透光層などを機械的に保持する機能を持つベース（基板）のことである。
その構成材料は、合成樹脂、セラミック、金属などいずれでもよい。合成樹脂の代表例としては、ポリカーボネートやポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート・ポリスチレン共重合体、ポリビニルクロライド、脂環式ポリオレフィン、ポリメチルペンテンなどの各種熱可塑性樹脂や熱硬化樹脂、各種放射線硬化樹脂（紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂の例を含む）を好適に用いることができる。なお、これらは金属粉またはセラミック粉などを配合した合成樹脂であってもよい。セラミックの代表例としてはソーダライムガラス、ソーダアルミノ珪酸ガラス、ホウ珪酸ガラス、石英ガラスなどを用いることができる。金属としてはアルミ、銅、鉄などを用いることができる。
この中で耐湿性、寸度安定性及び価格などの点からポリカーボネートやアモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが最も好ましい。
支持体の厚みは、他の層を機械的に保持する必要性から０．３〜３ｍｍが好ましく、望ましくは０．６〜２ｍｍであり、１．１ｍｍ±０．３ｍｍの範囲のものが最も好適に用いられる。
【０１８９】
支持体の表面には、通常、トラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が形成される。このプレグルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形又は押出成形する際に、直接支持体上に形成されることが好ましい。
また、プレグルーブの形成を、プレグルーブ層を設けることにより、行ってもよい。プレグルーブ層の材料としては、ポリオールのアクリル酸モノエステル、ジエステル、トリエステル、テトラエステル、ペンタエステルおよびヘキサエステルのうちの少なくとも１種のモノマー（又はオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた母型（スタンパ）上に上記のアクリル酸エステル及び重合開始剤からなる混合液を塗布し、更に、この塗布液層上に支持体を載せたのち、支持体又は母型を介して紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて支持体と塗布層とを固着させる。次いで、支持体を母型から剥離することにより得ることができる。プレグルーブ層の層厚は一般に、０．０１〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．０５〜５０μｍの範囲である。
【０１９０】
本発明において、支持体のプレグルーブのトラックピッチは、ディスクフォーマットに応じて２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２５０〜３５０ｎｍの範囲とすることがより好ましい。
また、プレグルーブの溝深さは１０〜１５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２０〜１００ｎｍの範囲とすることがより好ましく、３０〜８０ｎｍの範囲とすることが更に好ましい。また、その半値幅は、５０〜２５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、１００〜２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【０１９１】
本発明の情報記録担体に後述する光反射層を設ける場合には、光反射層が設けられる側の支持体表面に、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
【０１９２】
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により支持体表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲とすることが好ましく、より好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【０１９３】
光反射層は、情報の再生時における反射率の向上の目的で、任意に、支持体と記録層との間に設けることができる。光反射層は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより支持体上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。なお、光反射性物質の反射率は７０％以上であることが好ましい。
【０１９４】
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属、半金属又はステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、二種以上の組合せで用いてもよいし、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ又はこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇ又はこれらの合金である。
【０１９５】
本発明の情報記録担体において、記録層とは、光学的または磁気的な記録手段により情報信号を該層へ記録することにより情報の記録又は書き換えができる機能を有した層であり、また光学的な再生手段（レーザ光など）により該層から情報信号の再生を行うことができる。記録層は、情報記録担体が再生専用型情報記録担体である場合には高反射率材料を用い、記録・再生型情報記録担体の場合には、記録または再生原理に従って、色素記録用材料、相変化記録用材料、光磁気記録用材料から選択して用いる。記録層の厚みは２〜３００ｎｍが好ましく、特に５〜２００ｎｍが好適に用いられる。
【０１９６】
再生専用定法記録担体の記録層に用いる高光反射率材料としては、金、銀などが用いられる。
色素記録用の記録材料の具体的な例としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、アゾ色素、ナフトキノン色素、フルギド色素、ポリメチン色素、アクリジン色素などを用いることができる。
相変化記録用の記録材料としては、インジウム、アンチモン、テルル、セレン、ゲルマニウム、ビスマス、バナジウム、ガリウム、白金、金、銀、銅、錫、砒素などの合金（合金とは酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、フッ化物などを含む）を用いることができ、特にＧｅＳｂＴｅ、ＡｇＩｎＳｂＴｅ、ＣｕＡｌＴｅＳｂなどを用いるのが好適である。インジウム合金とテルル合金の積層膜を用いて記録層としてもよい。
【０１９７】
光磁気記録用の記録材料としては、テルビウム、コバルト、鉄、ガドリニウム、クロム、ネオジム、ジスプロシウム、ビスマス、パラジウム、サマリウム、ホルミウム、プロセオジム、マンガン、チタン、パラジウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、錫などの合金（合金とは酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、フッ化物の例を含む）を用いることができ、特にＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＦｅＣｏ、ＤｙＦｅＣｏなどに代表されるように遷移金属と希土類の合金で構成するのが好適である。更に、コバルトと白金の交互積層膜を用いて記録層としてもよい。
【０１９８】
なお、これら記録層には、再生出力向上や書き換え回数向上、保存安定性向上等の目的で、補助膜、例えばシリコン、タンタル、亜鉛、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、クロム、ジルコニウムなどの合金（酸化物、窒化物、炭化物を含む）や高反射膜（アルミニウム、金、銀など）を併用して積層してもよい。
【０１９９】
色素記録用の記録材料を用いる記録層には、再生に用いるレーザ光の波長領域に極大吸収を有する色素を含有していることが好ましく、特に、５００ｎｍ以下の波長のレーザで記録及び再生が可能なように、その波長領域に極大吸収を有する色素を含有していることがより好ましい。用いられる色素としては、例えば、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。具体的には、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、特開平１１−５３７５８号公報、特開平１１−３３４２０４号公報、特開平１１−３３４２０５号公報、特開平１１−３３４２０６号公報、特開平１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、特開２０００−１０８５１３号公報、特開２０００−１５８８１８号公報の各公報に記載されている色素、又は、トリアゾール、トリアジン、シアニン、メロシアニン、アミノブタジエン、フタロシアニン、桂皮酸、ビオロゲン、アゾ、オキソノールベンゾオキサゾール、ベンゾトリアゾール等の色素が挙げられ、シアニン、アミノブタジエン、ベンゾトリアゾール、フタロシアニン等の色素が好ましい。
【０２００】
記録層は、色素記録用の記録材料を用いる場合、前述した色素と、所望により結合剤とを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を前述の支持体のプレグルーブ表面、又は光反射層表面に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成することができる。更に、塗布液中には、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、及び潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加されてもよい。
また、色素や結合剤を溶解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザー処理、ディスパー処理、サンドミル処理、スターラー攪拌処理等の方法を適用することができる。
【０２０１】
塗布液の溶剤としては、例えば、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素及び結合剤の溶解性を考慮して単独で用いてもよいし、二種以上を適宜併用することもできる。
【０２０２】
結合剤の例としては、例えば、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；及びポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、色素に対して０．０１〜５０倍量（質量比）の範囲であることが好ましく、０．１〜５倍量の範囲であることがより好ましい。結合剤を記録層に含有させることにより記録層の保存安定性を改良することも可能である。
【０２０３】
このようにして調製される塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【０２０４】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。
塗布温度としては、２３〜５０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２４〜４０℃、更に好ましくは２５〜３７℃である。
【０２０５】
記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は、一般に、２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。
【０２０６】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の含有量は、記録層の全固形分中、通常、０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【０２０７】
記録層の表面には、透光層との密着性と色素の保存性を高めるために、中間層（バリア層）が形成されていてもよい。バリア層は、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｍ、Ｍｏ、Ｇｅ等のいずれか１原子以上からなる酸化物、窒化物、炭化物、硫化物等の材料からなる層であり。また、バリア層は、ＺｎＳ−ＳｉＯ2のようにハイブリット化されたものでもよい。バリア層は、スパッタリング、蒸着イオンプレーティング等により形成すること可能で、その厚さは、１〜１００ｎｍとすることが好ましい。
【０２０８】
本発明の情報記録担体において、透光層は、収束した再生光を物理的には記録層に導く機能を持ち、同時に記録層を化学的、機械的に保護する機能を持つ。本発明の透光層は支持体の厚みよりも薄く構成されたフィルムからなることが好ましい。
なお、本発明において「透光」とは、記録再生に用いる光学的手段の光の波長（例えば、６００〜８００ｎｍや３５０〜４５０ｎｍの光）に対して事実上透明（透過率７０％以上、望ましくは８０％以上）であることを意味する。
【０２０９】
本発明に用いられる透光層は支持体や記録層を含む基板と粘着剤層を介して貼り合わせることが好ましい。
【０２１０】
本発明になる情報記録担体の透光層の厚みは、支持体の厚みよりも薄いことが好ましい。情報記録担体が傾いたときに増加する収差を考慮すると、その厚みは５０〜３００μｍが相応しく、望ましくは６０〜２００μｍ、更に望ましくは７０〜１２０μｍである。また厚みの単一層中でのバラツキは最大で±３μｍ、望ましくは±２μｍ以下である。更に望ましくは±１μｍ以下とするのがよい。
【０２１１】
本発明の光情報記録担体は、例えば、次のようにして情報の記録、再生が行われる。まず、光情報記録担体を所定の線速度（０．５〜１０ｍ／秒）、又は、所定の定角速度にて回転させながら、透光層側から対物レンズを介して青紫色レーザ（例えば、波長４０５ｎｍ）などの記録用の光を照射する。この照射光により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、例えば、ピットが生成してその光学特性を変えることにより情報が記録される。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録担体を所定の一定の線速度で回転させながら光学的手段として青紫色レーザを用いて、例えばレーザ光を透光層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【０２１２】
記録・再生用の光学的手段となる５００ｎｍ以下の発振波長を有するレーザ光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズのＮＡは０．７以上が好ましく、０．８５以上がより好ましい。
【実施例１】
【０２１３】
以下に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
１．ハードコートフィルムの作成
ハードコートフィルム（光記録媒体の録層上に透光層とさらにハードコート層を設置したフィルム）は、支持体（基板）側から順に透光層、ハードコート層からなる。ここでは透光層、ハードコート層からなる透光層の作製例を示し、以下に、透光性層の製造法、ハードコート層塗布の順に記載する。
（１）透光性フィルムの作製
高分子樹脂への混練と製膜
Ｈａａｋｅ社製  ＭｉｎｉＬａｂ型混練機を用い、ポリカーボネート（出光MD１５００）７．０ｇを ２５０℃にて溶融した。５分間溶融後、炭酸ストロンチウム微結晶７０ｍｇおよびステアリン酸（和光純薬製特級）７ｍｇを添加して、ニーダー回転数５０ｒｐｍで２５０℃を維持したまま３０分間混練した。混練後の試料をＨａａｋｅ社製射出成型機を用いて、２５０℃にてタブレット状に成形した。タブレット状の試料を東洋精機製ｍｉｎｉ  ＴＥＳＴ  ＰＲＥＳＳ−１０型加熱プレス機にて、２００℃、３０ＭＰａの圧力で３分間プレスして、８０μｍの厚みのフィルム試料を作製した。
また、このフィルムに対し、炭酸ストロンチウムを炭酸カルシウムに、そしてポリカーボネートをポリエチレンテレフタレートにそれぞれ変更したフィルム試料も作製した。
なお、炭酸ストロンチウムは、アスペクト比が４０で断面円相当径が１０ｎｍのものであり、炭酸カルシウムは、アスペクト比が６０で断面円相当径が８ｎｍのものを用いた。
延伸および複屈折の測定
上記方法で作製したフィルム、および比較のためにに炭酸ストロンチウム微結晶を含有しないポリカーボネートフィルムついて、オリエンテック製ＲＴＣ−１２１０Ａ型テンシロンを用いて２００℃にて加熱延伸を行った。延伸後の長さと延伸前の長さの比を延伸倍率と定義したとき、延伸倍率１．０（延伸なし）と１．５の試料を各々作製して、複屈折の測定を行った。複屈折測定にはユニオプト製自動複屈折測定機ＡＢＲ−１０Ａを用い、２５℃６０％ＲＨにて測定した。  得られた複屈折のデータを表４に示す。
【０２１４】
【表４】
2006096811.tif 000017
【０２１５】
アルカリ土類金属の炭酸塩結晶を含有させた本発明の試料（Ｃ、Ｅ，Ｇに対してＤ，Ｆ，Ｈ）では、延伸を行っても複屈折の増大はきわめて微少であって比較例試料（Ａに対しＢ）に対して顕著な複屈折抑止作用が認められた。
【０２１６】
（２）．ハードコート層の形成
（２）−１．ハードコート層塗布液の調製
（２）−１−１．Ｈ１液の調製
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）中にグリシジルメタクリレートを溶解させ、熱重合開始剤（Ｖ−６５(和光純薬工業（株）製)を滴下しながら８０℃で２時間反応させ、得られた反応溶液をヘキサンに滴下し、沈殿物を減圧乾燥して得たポリグリシジルメタクリレート（ポリスチレン換算分子量は１２，０００）をメチルエチルケトンに５０質量％濃度になるように溶解した溶液１００質量部に、トリメチロールプロパントリアクリレート（ビスコート＃２９５；大阪有機化学工業（株）製）１５０質量部と光ラジカル重合開始剤（イルガキュア１８４、チバガイギー社製）６質量部と光カチオン重合開始剤（ロードシル２０７４、ローディア社製）６質量部と防汚剤としてメガファック５３１Ａ（大日本インキ化学工業（株）製）１０質量部を３０質量部のメチルイソブチルケトンに溶解したものを撹拌しながら混合し、ハードコート層塗布液（Ｈ１）を調製した。
【０２１７】
（２）−１−２．Ｈ２液の調製
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、ダイセル・ユーシービー（株）製）９３質量部に、Ｒ−３８３３（ダイキンファインケミカル研究所製）５質量部、防汚剤としてＵＭＳ−１８２（Ｇｅｌｅｓｔ製）２質量部、光ラジカル重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）３質量部をメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（１：１質量比）混合液に溶解混合し、ハードコート層塗布液（Ｈ２）を調整した。
【０２１８】
（２）−１−３．Ｈ３〜Ｈ７液の調製
Ｈ２に対し、日産化学製ＭＥＫ−ＳＴ（シリカ粒子固形分３０重量％含有）の添加量を表４のように変更したハードコート層塗布液Ｈ３〜Ｈ７を調製した。
【０２１９】
（２）−２．ハードコートフィルムの作製（ハードコート層の塗布）
前記フィルムのハードコート層を設置する面に屈折率１．５５、ガラス転移温度３７℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス（ＬＸ４０７Ｃ５、日本ゼオン（株）製）と酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物（ＦＳ−１０Ｄ、石原産業（株）製）を重量で５：５の割合で混合したものを、乾燥後の膜厚が２００ｎｍとなるように塗布して帯電防止層付き下塗り層を形成した後、上記ハードコート層用塗布液を表４に記載の厚みになるようにエクストルージョン方式で塗布、乾燥し、酸素濃度０．０３％の雰囲気化で紫外線を照射（７００ｍＪ／ｃｍ2）し、ハードコートフィルムを作製し、ロール状に巻き取った。
【実施例２】
【０２２０】
２．光情報記録担体の作製及び試験
Ａ．支持体、記録層の作製
スパイラル状のグルーブ（深さ１００ｎｍ、幅１２０ｎｍ、トラックピッチ３２０ｎｍ）を有し、厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍの射出成形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネート、商品名：パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブを有する面上に、Ａｇをスパッタして１００ｎｍの厚さの光反射層を形成した。
【０２２１】
その後、オラゾールブルＧＮ（記録素材１、フタロシアニン系色素、ＣＩＢＡスぺシャリティケミカル社製）２０ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１リットル中に添加し、２時間超音波処理を行って溶解し、記録層形成用の塗布液を調製した。調製された塗布液を、光反射層上に回転数を３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら、２３゜Ｃ、５０％ＲＨの条件でスピンコート法により基板上に塗布した。その後、２３゜Ｃ、５０％ＲＨで１〜４時間保存して形成された記録層の膜厚は１００ｎｍであった。そして、記録層上に、ＺｎＳ−ＳｉＯ2を厚さ５ｎｍ混晶層になるようにスパッタし、中間層（バリア層）を形成した。
また、記録用素材の別の例としてオラゾールブルＧＮの代わりにＤＣ及びＲＦスパッタリング法を用い、相変化記録層としてＡｇ・Ｐｄ・Ｃｕ（９８：１：１）／ＺｎＳ・ＳｉＯ（８０：２０）／Ａｇ・Ｉｎ・Ｓｂ・Ｔｅ（４：５：６１：３０）／ＺｎＳ・ＳｉＯ（８０：２０）（記録素材２）からなる積層膜を以下の条件で成膜形成したものも作製した。
（１）Ａｇ・Ｐｄ・Ｃｕ；  ＤＣ５ｋｗ／Ａｒ圧  ２ｍＴｏｒｒ／膜圧  １００ｎｍ
（２）ＺｎＳ・ＳｉＯ；  ＲＦ４ｋｗ／Ａｒ圧  ２ｍＴｏｒｒ／膜圧  １９０ｎｍ
（３）Ａｇ・Ｉｎ・Ｓｂ・Ｔｅ；  ＤＣ０．４ｋｗ／Ａｒ圧  ２ｍＴｏｒｒ／膜圧  １５ｎｍ
（４）ＺｎＳ・ＳｉＯ；  ＲＦ４ｋｗ／Ａｒ圧  ２ｍＴｏｒｒ／膜圧  １００ｎｍ
【０２２２】
Ｂ．ハードコートフィルムと基板との貼合わせ
次のようにして、上記Ａで基板上に設けた記録層上に、中間層を介して、上記実施例１で作製したハードコートフィルムを貼り合わせることによって光情報記録担体を作製した。
Ｂ−１．粘着剤層の形成
アクリル系共重合体（溶剤：酢酸エチル／トルエン＝１／１）と、イソシアネート系架橋剤（溶剤：酢酸エチル／トルエン＝１／１）と、を１００：１（質量比）で混合し、粘着剤塗布液Ａを調製した。この粘着剤塗布液Ａを用いて、間接法にて、離型フィルムの表面に粘着剤層を設けた。
ロール状に巻回されたポリエチレン製離型フィルムを搬送しながら、その離型フィルムの表面に乾燥後の厚さが２０μｍとなるように粘着剤塗布液Ａを塗布した。その後、乾燥領域において１００℃で乾燥させ、粘着剤層が設けられた離型フィルムを得た。
【０２２３】
Ｂ−２．光情報記録担体用透明シートの製造
ハードコートフィルムのハードコート層が設けられた逆の面に、粘着剤層が設けられた離型フィルムを、粘着剤層が当接するように貼り合せた。その後、このハードコート層及び粘着剤層が設けられたハードコートフィルムを、再びロール状に巻き取り、その状態で、２３゜Ｃ、５０％ＲＨの雰囲気で、７２時間保持した。
そして、ハードコート層及び粘着剤層が設けられたハードコートフィルムを、送り出し、上記基板と同じ形状に打ち抜いた。これにより、透光性フィルムの一方の面に粘着剤層を有し、他方の面にハードコート層を有する光情報記録担体用透明シートを得た。
【０２２４】
Ｂ−３．光情報記録担体の作製（支持体、記録層へのハードコートフィルムの貼合わせ）  ディスク状の光情報記録担体用透明シートから、粘着剤側の離型フィルムを剥がし、中間層と、粘着剤層とをローラによる押し圧手段によって貼り合わせ、光情報記録担体を作製した。
【０２２５】
Ｃ．評価方法
Ｃ−１．鉛筆硬度試験
記録担体の透光層のフィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、９．８Ｎの荷重にて傷が認められない鉛筆の硬度を求めた。
【０２２６】
Ｃ−２．記録特性の測定
これらの情報記録担体をλ＝４０５ｎｍで発光する青紫レーザーと、開口数ＮＡが０．７の対物レンズから構成されるピックアップを有した記録再生装置に装着して、最短ピット長を０．２４μｍに設定したＤ８−１５変調信号の記録と再生を行い、信号再生ジッターを測定した。ジッターは小さいほど好ましく、具体的には５％以下であることが好ましい。
【０２２７】
以上の実施例１で作製したハードコートフィルム、実施例２で作製した光記録媒体、および各種測定結果を表５に示す。ここで擦傷後のジッターは、光記録媒体の表面をスチールウールで１００ｇ／ｃｍ2の圧力を加えて１００回擦すった後でのジッタ−、保存後のジッターは７０℃８０％３日間保存後に測定したジッターを示したものである。
【０２２８】
【表５】
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【０２２９】
【表６】
2006096811.tif 000019
【０２３０】
表５により次のことが判った。
（１）本発明のフィルム試料Ｎｏ．９〜１８、２１〜２７を用いることにより、比較試料Ｎｏ．１〜８に対して鉛筆硬度も高く、ジッター値が低く、かつ擦傷テスト後及び保存テスト後でもジッターは７％以下になるような光記録媒体が作成可能である。
（２）ただし、樹脂材料としてポリエチレンテレフタレートを使用した試験Ｎｏ．２４、２５ではポリカーボネートを使用した試験Ｎｏ．２１、１３に比べて保存後のジッターが悪化が大きく、本発明に適用する樹脂材料の中ではポリカーボネートが好ましいことが判った。
（３）試験Ｎｏ．１〜８（比較例）のようなハードコート層が塗布されていないものでは、たとえ試験Ｎｏ．７、８のようにポリエチレンテレフタレートを使用し鉛筆硬度が２Ｂであっても擦傷後のジッター増加が大きいく、実際の使用に耐えないものであることが判る。
（４）試験Ｎｏ．１９，２０（比較例）のように本発明の炭酸塩が混合されていないフィルムを使用した場合は初期からのジッターが高く、好ましくないことが判る。
（５）試験Ｎｏ．２３のように炭酸カルシウム塩をもちいた場合は、炭酸ストロンチウムを用いた試験Ｎｏ．１３よりも、ややジッターが高く、記録特性が悪いが、それでも発明の効果が現れている。
（６）ハードコート層が付与されていても、試験Ｎｏ．１７，１８ように充填剤量を多くしすぎたり、試験Ｎｏ．１９，２０のように膜厚を厚くしすぎると、保存後の記録特性が悪化する。また試験Ｎｏ．９，１０のように充填剤量が少ないと擦傷後の記録特性が悪化する。
【図面の簡単な説明】
【０２３１】
【図１】本発明のハードコート層を組みこんだ典型的情報記録媒体の構成概略図である。
【図１】
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