(57)【要約】【課題】  保持部材と転写用原盤を複数組用いる転写体の製造方法において、転写用原盤と被転写体の位置合わせを精度よく、しかも簡易に実施する。【解決手段】  保持部材３０により保持された転写用原盤１０の表面に被転写体２０を密着配置し、転写用原盤１０の表面上の情報を被転写体２０に転写する転写体の製造方法において、保持部材３０と転写用原盤１０の組合わせを複数用意し、組合わせごとに、転写用原盤１０の被転写体２０に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、被転写体２０の転写用原盤１０に対する対向位置を決定すると共に、該対向位置を固定し、固定された該対向位置に被転写体２０を配置する。【選択図】  図１
2006114178.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
保持部材により保持された転写用原盤の表面に被転写体を密着配置し、該転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の片面に転写する転写体の製造方法において、
前記保持部材と前記転写用原盤の組合わせを複数用意し、
前記組合わせごとに、前記転写用原盤の前記被転写体に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、前記被転写体の前記転写用原盤に対する対向位置を決定すると共に、該対向位置を固定し、固定された該対向位置に前記被転写体を配置することを特徴とする転写体の製造方法。
【請求項２】
一対の保持部材により各々保持された一対の転写用原盤の間に被転写体を密着配置し、該一対の転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の両面に転写する転写体の製造方法において、
前記一対の保持部材と前記一対の転写用原盤の組合わせを複数用意し、
前記組合わせごとに、前記一対の転写用原盤のうち少なくとも一方の前記被転写体に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、前記被転写体の前記一対の転写用原盤に対する対向位置を決定すると共に、該対向位置を固定し、固定された該対向位置に前記被転写体を配置することを特徴とする転写体の製造方法。
【請求項３】
保持部材により保持された転写用原盤の表面に被転写体を密着配置し、該転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の片面に転写する転写体の製造方法において、
前記保持部材と前記転写用原盤の組合わせを複数用意し、
前記組合わせごとに、前記被転写体の前記転写用原盤に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、前記転写用原盤の前記被転写体に対する対向位置を決定することを特徴とする転写体の製造方法。
【請求項４】
一対の保持部材により各々保持された一対の転写用原盤の間に被転写体を密着配置し、該一対の転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の両面に転写する転写体の製造方法において、
前記一対の保持部材と前記一対の転写用原盤の組合わせを複数用意し、
前記組合わせごとに、前記被転写体の前記一対の転写用原盤に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、前記一対の転写用原盤の前記被転写体に対する対向位置を決定することを特徴とする転写体の製造方法。
【請求項５】
保持部材により保持された転写用原盤の表面に被転写体を密着配置し、該転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の片面に転写する転写装置において、
前記保持部材と前記転写用原盤の組合わせを複数備えると共に、
前記組合わせごとに、前記転写用原盤の前記被転写体に対する絶対対向位置に基づいて決定された、前記被転写体の前記転写用原盤に対する対向位置を記憶する記憶手段と、
前記組合わせごとに、前記記憶手段に記憶された前記対向位置に前記被転写体を配置するよう制御する制御手段とを備えたことを特徴とする転写装置。
【請求項６】
一対の保持部材により各々保持された一対の転写用原盤の間に被転写体を密着配置し、該一対の転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の両面に転写する転写装置において、
前記一対の保持部材と前記一対の転写用原盤の組合わせを複数備えると共に、
前記組合わせごとに、前記一対の転写用原盤のうち少なくとも一方の前記被転写体に対する絶対対向位置に基づいて決定された、前記被転写体の前記転写用原盤に対する対向位置を記憶する記憶手段と、
前記組合わせごとに、前記記憶手段に記憶された前記対向位置に前記被転写体を配置するよう制御する制御手段とを備えたことを特徴とする転写装置。
【請求項７】
前記保持部材は、異なる保持部材同士を識別する識別情報を有することを特徴とする請求項５又は６に記載の転写装置。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれかに記載の転写体の製造方法により製造されるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写体の製造方法、転写装置、及び磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体の製造技術として、保持部材（ホルダ）により、表面に所定の凹凸パターンを有し、少なくとも表面が磁性化された転写用原盤（マスタ担体）を保持し、該転写用原盤の表面に、被転写体（スレーブ媒体）を供給し、被転写体に転写用原盤の表面凹凸パターンに応じた情報を磁気転写する技術がある。この技術には、被転写体の片面に一枚の転写用原盤を密着させて転写を行う「片面転写」と、被転写体の両面に一対の転写用原盤を密着させて転写を行う「両面転写」とがある。いずれの転写においても、転写用原盤と被転写体との位置合わせは重要である。
【０００３】
位置合わせ方法としては、従来、
（１）被転写体を供給する度に、ＣＣＤ等の位置検知センサにて転写用原盤の絶対位置を検知し、これに基づいて、被転写体の供給位置を調整する方法（特許文献１）、
（２）転写用原盤と被転写体に各々互いに嵌合するマーカを設ける方法（特許文献２）等が提案されている。
【特許文献１】特開２００１−２０９９７８号公報
【特許文献２】特開平１１−１７５９７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記先行技術（１）では、被転写体を供給する度に、転写用原盤の位置検知と、これに基づいた被転写体の供給位置の調整を行う必要がある。そのため、特に転写用原盤と保持部材を複数組備えた転写装置では、装置構成や位置調整が煩雑である。
【０００５】
先行技術（２）では、特別仕様の被転写体を調製する必要があり、製造される磁気記録媒体のコスト増に繋がってしまう。
【０００６】
その他、位置合わせ方法としては、（３）転写用原盤を保持する保持部材の絶対位置を厳密に調整し、これに転写用原盤を位置調整して保持させる方法が想到される。しかしながら、転写装置において、転写用原盤を保持する保持部材と、これが装着される保持部材ベースには、それぞれ固有の癖があり、保持部材の絶対位置を厳密に調整することは難しい。特に、転写用原盤と保持部材を複数組備えた転写装置では、各保持部材の絶対位置を厳密に調整することは極めて困難である。
【０００７】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、保持部材と転写用原盤を複数組用いる場合に、転写用原盤と被転写体の位置合わせを精度よく、しかも簡易に実施することが可能な転写体の製造技術、及びこれを適用した磁気記録媒体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は上記課題を解決するべく鋭意検討し、以下の転写体の製造方法、転写装置、及び磁気記録媒体を発明した。なお、本発明の技術は磁気転写技術に限らず、任意の転写技術に適用可能である。本明細書では、「被転写体」を転写前のもの、「転写体」を転写された後のものとして、区別してある。
【０００９】
本発明の第１の転写体の製造方法は、保持部材により保持された転写用原盤の表面に被転写体を密着配置し、該転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の片面に転写する転写体の製造方法において、前記保持部材と前記転写用原盤の組合わせを複数用意し、前記組合わせごとに、前記転写用原盤の前記被転写体に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、前記被転写体の前記転写用原盤に対する対向位置を決定すると共に、該対向位置を固定し、固定された該対向位置に前記被転写体を配置することを特徴とする。
【００１０】
本明細書において、「絶対位置」とは、位置が変動しない基準からの相対位置に相当する。また、本発明で言う「絶対対向位置の検知」には、センサ等の位置検知手段による直接的な検知の他、実際に製造された転写体の偏芯のレベルに基づく間接的な検知も含まれる。また、「転写用原盤と被転写体の密着」には、良好に転写を実施できる範囲内で微小間隙をあけて対向させる場合も含まれるものとする。
【００１１】
本発明の第２の転写体の製造方法は、一対の保持部材により各々保持された一対の転写用原盤の間に被転写体を密着配置し、該一対の転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の両面に転写する転写体の製造方法において、前記一対の保持部材と前記一対の転写用原盤の組合わせを複数用意し、前記組合わせごとに、前記一対の転写用原盤のうち少なくとも一方の前記被転写体に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、前記被転写体の前記一対の転写用原盤に対する対向位置を決定すると共に、該対向位置を固定し、固定された該対向位置に前記被転写体を配置することを特徴とする。
【００１２】
本発明の第３の転写体の製造方法は、保持部材により保持された転写用原盤の表面に被転写体を密着配置し、該転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の片面に転写する転写体の製造方法において、前記保持部材と前記転写用原盤の組合わせを複数用意し、前記組合わせごとに、前記被転写体の前記転写用原盤に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、前記転写用原盤の前記被転写体に対する対向位置を決定することを特徴とする。
【００１３】
本発明の第４の転写体の製造方法は、一対の保持部材により各々保持された一対の転写用原盤の間に被転写体を密着配置し、該一対の転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の両面に転写する転写体の製造方法において、前記一対の保持部材と前記一対の転写用原盤の組合わせを複数用意し、前記組合わせごとに、前記被転写体の前記一対の転写用原盤に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、前記一対の転写用原盤の前記被転写体に対する対向位置を決定することを特徴とする。
【００１４】
本発明の第１の転写装置は、保持部材により保持された転写用原盤の表面に被転写体を密着配置し、該転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の片面に転写する転写装置において、前記保持部材と前記転写用原盤の組合わせを複数備えると共に、前記組合わせごとに、前記転写用原盤の前記被転写体に対する絶対対向位置に基づいて決定された、前記被転写体の前記転写用原盤に対する対向位置を記憶する記憶手段と、前記組合わせごとに、前記記憶手段に記憶された前記対向位置に前記被転写体を配置するよう制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００１５】
本発明の第２の転写装置は、一対の保持部材により各々保持された一対の転写用原盤の間に被転写体を密着配置し、該一対の転写用原盤の表面上の情報を該被転写体の両面に転写する転写装置において、前記一対の保持部材と前記一対の転写用原盤の組合わせを複数備えると共に、前記組合わせごとに、前記一対の転写用原盤のうち少なくとも一方の前記被転写体に対する絶対対向位置に基づいて決定された、前記被転写体の前記転写用原盤に対する対向位置を記憶する記憶手段と、前記組合わせごとに、前記記憶手段に記憶された前記対向位置に前記被転写体を配置するよう制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００１６】
本発明の磁気記録媒体は、上記の本発明の転写体の製造方法のいずれかにより製造されるものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明では、（Ａ）保持部材と転写用原盤の組合わせごとに、転写用原盤の被転写体に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、被転写体の転写用原盤に対する対向位置を決定すると共に、該対向位置を固定し、固定された該対向位置に被転写体を配置する構成、又は、（Ｂ）保持部材と転写用原盤の組合わせごとに、被転写体の転写用原盤に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、転写用原盤の被転写体に対する対向位置を決定する構成を採用している。したがって、本発明によれば、保持部材と転写用原盤を複数組用いる場合に、転写用原盤と被転写体の位置合わせを精度よく、しかも簡易に実施することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
「転写装置、転写体の製造方法」
次に、図面を参照し、片面磁気転写を例とし、本発明に係る一実施形態の転写装置、及びこれを用いた磁気記録媒体（転写体）の製造方法について説明する。
【００１９】
図１は転写装置全体を上から見た平面図、図２は転写装置の部分側面図である。図２は、転写用原盤が後記ポジションＰ３にある際の処理途中の転写用原盤／被転写体等の部分側面図である。図３（ａ）、（ｂ）は磁気転写の原理を示す図で、転写用原盤と被転写体の拡大厚み方向断面図である。
【００２０】
本実施形態では主に位置合わせ方法が特徴的であるが、はじめに、装置全体の概略と、本実施形態の転写装置を用いた磁気記録媒体（転写体）の製造方法の概略を説明する。
【００２１】
本実施形態の転写装置１は、保持部材３０により保持された転写用原盤１０の表面に被転写体２０を密着配置し、転写用原盤１０の表面形状に応じた情報を、被転写体２０の片面に磁気転写し、磁気記録媒体（転写体）を製造するものである。
【００２２】
転写用原盤１０及び被転写体２０としてはいずれも、平面視、中心部に開口部を有するディスク状物が使用され、これらの表面及び断面の構造は、製造される磁気記録媒体に応じて適宜選定設計される。
【００２３】
図３（ｂ）に示す如く、転写用原盤１０としては、例えば、表面に転写情報に応じた微細な凹凸パターン（転写パターン）Ｐを有する金属製等のマスタ基板１１と、その表面形状に沿って積層された磁性層１２とを備えたマスタ担体等が使用される。被転写体２０としては、少なくとも片面に磁気記録層（図示略）を有するスレーブ媒体が使用される。
【００２４】
ここで、磁気転写の原理について簡単に説明しておく。
【００２５】
磁気記録媒体の製造では、図３（ａ）に示すように、あらかじめ、被転写体２０に対して、トラック方向又は厚み方向に磁界Ｈｉｎを印加し、磁気記録層（図示略）を初期磁化させる（トラック方向に磁界Ｈｉｎを印加した場合について図示してある）。この状態で、被転写体２０を転写用原盤１０の表面に供給する。
【００２６】
次に、図３（ｂ）に示すように、転写用原盤１０及び被転写体２０に対して、初期磁化の方向と略反対方向に転写用磁界Ｈｄｕを印加する。この際、転写用磁界Ｈｄｕは、転写用原盤１０において、被転写体２０と密着した磁性層１２の凸部１２ａにのみ略選択的に吸い込まれる。その結果、面内記録の場合、被転写体２０の磁気記録層では、凸部１２ａに密着した部分の初期磁化は反転せず、その他の部分の初期磁化が反転する。垂直記録の場合には逆に、被転写体２０の磁気記録層では、凸部１２ａに密着した部分の初期磁化が反転し、その他の部分の初期磁化は反転しない。このようにして、転写用原盤１０の凹凸パターンＰに応じた磁化パターンが被転写体２０に磁気転写され、磁気記録媒体が製造される。
【００２７】
図１に示す如く、転写装置１では、転写用原盤１０として、計４個の転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄが用いられ、転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄは各々、保持部材３０Ａ〜３０Ｄにより保持されている。保持部材３０（３０Ａ〜３０Ｄ）は各々、柱状の保持部材ベース４０（４０Ａ〜４０Ｄ）に装着され、すべての保持部材ベース４０（４０Ａ〜４０Ｄ）が、図示時計回り方向に回動する１個のターンテーブル７０上に周方向に離間配置されている。
【００２８】
図２に示す如く、保持部材３０は、ディスク状部３１と、該ディスク状部３１の裏面に突設され、一部が保持部材ベース４０内に挿入されるベース挿入部３２とから概略構成され、ディスク状部３１の表面が、転写用原盤１０を保持する保持面３１ｓとなっている。保持部材３０は、保持面３１ｓが外側を向くよう、保持部材ベース４０に固定されている。また、保持部材３０には、転写用原盤１０をエア吸引により保持し、エア押圧により保持を解除する吸引押圧機構（図示略）が備えられている。
【００２９】
保持部材３０Ａ〜３０Ｄは、ターンテーブル７０の回動に伴って回動し、図１に示すポジションＰ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４（これらの符号は便宜上付したものである。）を順次繰り返し通過する。
【００３０】
ポジションＰ１では、転写用原盤１０には被転写体２０が供給されておらず、転写用原盤１０はフリーの状態にあり、ポジションＰ２で転写用原盤１０の表面に被転写体２０が供給される。この際、被転写体２０は、これをエア吸引により保持しかつ移送する被転写体移送部材（被転写体供給手段）５０により、所定位置に供給される。
【００３１】
ポジションＰ３には、保持部材３０に対向する位置に、ベース６１に固定された押圧部材６０が設けられている。保持部材３０と押圧部材６０により、転写用原盤１０及び被転写体２０は挟持押圧される。さらに、このポジションでは、電磁コイルや永久磁石等の磁界印加手段（図示略）により、保持部材３０と押圧部材６０により挟持された転写用原盤１０及び被転写体２０に対して磁界が印加され、磁気転写が行われる。磁界印加に際しては、保持部材３０／転写用原盤１０／被転写体２０／押圧部材６０からなるユニットと磁界印加手段のうち、いずれかが回動され、これによって、転写用原盤１０及び被転写体２０に対して所定方向の磁界が印加される。磁気転写終了後、押圧部材６０は被転写体２０等から離間される。
【００３２】
ポジションＰ４では、製造された磁気記録媒体２１が、被転写体移送部材５０と同様の転写体移送部材８０により転写用原盤１０から離脱され、装置外に移送される。磁気記録媒体２１が離脱したフリーの転写用原盤１０は再びポジションＰ１に戻り、上記と同様の工程が繰り返し実施される。
【００３３】
上記の如く、転写装置１では、計４個の転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄが順次ポジションをずらしながら回動し、同時に４個の磁気記録媒体の製造が進行する。
【００３４】
（位置合わせ方法）
ここで、転写装置１における位置合わせ方法について説明する。
【００３５】
上記した如く、転写装置１では、複数組（計４組）の保持部材３０と転写用原盤１０（３０Ａ／１０Ａ〜３０Ｄ／１０Ｄ）を用いて、磁気記録媒体の製造が行われる。かかる場合、保持部材３０、これを保持する保持部材ベース４０、及び転写用原盤１０は、寸法にそれぞれ固有の癖があり、同様に保持部材３０により転写用原盤１０を保持しても、保持部材３０と転写用原盤１０の組合わせごとに、転写用原盤１０の被転写体２０に対する絶対対向位置が微妙にずれてしまう。
【００３６】
そこで、本実施形態では、転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄの各々の位置ずれはそのままとし、保持部材３０と転写用原盤１０の組合わせごとに、転写用原盤１０の被転写体２０に対する絶対対向位置（被転写体２０が供給される時点（ポジションＰ２）の絶対位置に相当）を検知し、該検知結果に基づいて、被転写体２０の転写用原盤１０に対する対向位置を決定すると共に、該対向位置を固定し、固定された該対向位置に被転写体２０を供給配置する。被転写体２０の各転写用原盤１０に対する対向位置の決定は一度のみ実施すれば足る。
【００３７】
すなわち、転写装置１では、転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄが回動し、被転写体２０が供給される対象の転写用原盤１０は逐次変わるが、同じ転写用原盤１０に対する被転写体２０の対向位置を固定する。
【００３８】
転写装置１をいったん作動させた後は、組をなす保持部材３０と転写用原盤１０の位置関係は維持されるので、転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄの各々の被転写体２０に対する絶対対向位置は変わらない。したがって、転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄの各々の被転写体２０に対する絶対対向位置をあらかじめ検知し、これに合わせて、同じ転写用原盤１０に対する被転写体２０の対向位置を固定すれば、同条件で製造を続ける限り、転写用原盤１０と被転写体２０の位置関係は良好に維持されることになる。
【００３９】
本実施形態では、保持部材３０と転写用原盤１０との厳密な位置合わせは不要であるが、保持部材３０と転写用原盤１０とが極端にずれないよう、保持部材３０と転写用原盤１０との位置関係をあらかじめ調整し、この転写用原盤１０の被転写体２０に対する絶対対向位置に基づいて、被転写体２０の対向位置を決定することが好ましい。
【００４０】
保持部材３０と転写用原盤１０との位置調整は、例えば、保持部材３０の中心軸と転写用原盤１０の中心軸とのずれや、保持部材３０に設けられた基準マークと転写用原盤１０の中心軸とのずれ等を検知し、これに基づいて、保持部材３０による転写用原盤１０の吸引保持位置を調整することで実施できる。
【００４１】
保持部材３０Ａ〜３０Ｄのうち少なくとも１つ、及び／又は転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄのうち少なくとも１つを交換する場合、交換ごとに、新たに転写用原盤１０の絶対対向位置の検知、及びこれに対する被転写体２０の対向位置の決定を実施してもよいが、交換用についても、保持部材３０と転写用原盤１０との組合わせごとに、あらかじめ転写用原盤１０の絶対対向位置の検知及び被転写体２０の対向位置の決定を実施しておくことが好ましい。これによって、交換時の位置合わせがより簡易に効率よく実施できる。
【００４２】
（位置合わせに関する装置構成）
次に、上記位置合わせ方法を実施するに好適な転写装置１の装置構成について説明する。
【００４３】
転写装置１には、各転写用原盤１０の被転写体２０に対する絶対対向位置（基準からの相対位置）を検知する位置検知手段（図示略）が備えられていることが好ましい。位置検知手段としては、コンパレータ、顕微鏡、レーザ変位計、ダイアルメータ、画像処理センサ等が挙げられる。
【００４４】
絶対対向位置の基準は特に制限されず、保持部材３０のベース挿入部３２が挿入される、保持部材ベース４０の保持部材受け部４１の軸中心等が挙げられる。また、保持部材ベース４０と保持部材３０の組合わせによって、保持部材３０の位置が変わらない場合には、保持部材３０に基準マークを設け、これを基準とすることもできる。
【００４５】
「背景技術」の項で挙げた先行技術（１）（特許文献１）では、「被転写体を供給する度に」、すなわち「ポジションＰ２に異なる転写用原盤が来る度に」、ＣＣＤ等の位置検知センサにより転写用原盤の絶対対向位置を検知する。これに対し、本実施形態の転写装置１では、同条件で磁気記録媒体の製造を行う限り、転写用原盤１０の絶対対向位置の検知は一度行えば足るので、上記位置検知手段は、常時、転写装置１に備えられている必要はない。すなわち、転写装置１では、上記位置検知手段は、少なくとも転写用原盤１０の位置検知を行う際に転写装置１に取り付けられる。
【００４６】
また、上記位置検知手段により転写用原盤１０の絶対対向位置を検知する代わりに、実際に製造された磁気記録媒体の偏芯のレベルをフィードバックして、転写用原盤１０の絶対対向位置を間接的に検知することもできる。
【００４７】
転写装置１は、保持部材３０と転写用原盤１０の組合わせごとに、転写用原盤１０の被転写体２０に対する絶対対向位置に基づいて決定された、被転写体２０の転写用原盤１０に対する対向位置を記憶する記憶手段（メモリ、図示略）と、保持部材３０と転写用原盤１０の組合わせごとに、上記記憶手段に記憶された対向位置に被転写体２０を配置するよう、被転写体移送部材５０を制御する制御手段（コンピュータ、図示略）とを備えていることが好ましい。
【００４８】
さらに、各保持部材３０には、異なる保持部材同士を識別する識別情報を持たせることが好ましい。識別情報としては制限されず、光学的に識別可能な色や形状等のマークが好ましく用いられる。
【００４９】
転写装置１では、同じ転写用原盤１０に対する被転写体２０の対向位置は固定するが、転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄが回動し、被転写体２０が供給される対象の転写用原盤１０は逐次変化する。したがって、各保持部材３０の上記識別情報を光学的に読み取ることで、これに保持された転写用原盤１０を識別し、この転写用原盤１０の識別情報と、上記記憶手段に記憶された対向位置の情報とに基づいて、上記制御手段により被転写体移送部材５０を制御し、所定の位置に被転写体２０を自動供給することが好ましい。
【００５０】
上記実施形態の転写装置１及びこれを用いた磁気記録媒体（転写体）の製造方法では、転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄのそれぞれの位置ずれはそのままとし、保持部材３０と転写用原盤１０の組合わせごとに、転写用原盤１０の被転写体２０に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、被転写体２０の転写用原盤１０に対する対向位置を決定すると共に、該対向位置を固定し、固定された該対向位置に被転写体２０を配置する構成を採用している。
【００５１】
同条件で運転する限り、転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄの各々の被転写体２０に対する絶対対向位置は変わらないので、転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄの各々の被転写体２０に対する絶対対向位置をあらかじめ検知し、これに合わせて、同じ転写用原盤１０に対する被転写体２０の対向位置を固定することで、転写用原盤１０と被転写体２０の位置関係は良好に維持される。すなわち、上記実施形態によれば、転写用原盤１０と被転写体２０の位置合わせを精度よく実施できる。
【００５２】
加えて、上記実施形態では、転写用原盤１０の位置検知は一度実施すれば足るので、被転写体２０を供給する度に、位置検知センサにより転写用原盤１０の絶対対向位置を検知する等の必要がない。また、被転写体２０を特別仕様とする必要もない。したがって、上記実施形態によれば、転写用原盤１０と被転写体２０の位置合わせを、簡易な装置構成及び簡易な操作で、低コストに実施することができる。
【００５３】
転写装置が複数組の保持部材と転写用原盤を備える場合には、各部材の癖によるずれが大きく、位置合わせが難しい傾向にあるが、上記実施形態によれば、精度よく、しかも簡易に位置合わせを実施できる。また、上記実施形態によれば、転写用原盤１０と被転写体２０の位置合わせを精度よく実施できるので、転写精度が良好な磁気記録媒体（転写体）を安定的に製造することができる。
【００５４】
（その他の態様）
上記実施形態は一例にすぎず、適宜設計変更可能である。
【００５５】
保持部材３０と転写用原盤１０の組合わせの数は適宜変更できる。また、１個のターンテーブル７０に複数組の保持部材３０と転写用原盤１０を搭載し、ターンテーブル７０を回動させる場合について説明したが、保持部材３０と転写用原盤１０の装置への搭載態様や、これらの移送方法等は、適宜変更できる。
【００５６】
上記実施形態では、ポジションＰ２の転写用原盤１０に対して、被転写体２０を供給する場合について説明したが、本発明は、逆に、被転写体２０に対して転写用原盤１０を供給する場合にも適用できる。
【００５７】
上記実施形態では、片面転写についてのみ説明したが、本発明は両面転写にも適用可能である。この場合、図４に示すように、押圧部材６０を保持部材３０に変えて、一対の保持部材３０により転写用原盤１０を各々保持し、一対の転写用原盤１０の間に被転写体２０を密着配置し、磁気転写を行う構成とすればよい。図４は上記実施形態の図２に対応する図である。
【００５８】
両面転写では、一対の保持部材３０と一対の転写用原盤１０の組合わせが複数あるので、一対の保持部材３０と一対の転写用原盤１０の組合わせごとに、一対の転写用原盤１０のうち少なくとも一方の被転写体２０に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、被転写体２０の一対の転写用原盤１０に対する対向位置を決定すると共に、該対向位置を固定し、固定された該対向位置に被転写体２０を配置する構成とすればよい。
【００５９】
この場合、記憶手段と制御手段は、上記位置合わせ方法に対応するよう構成すればよい。すなわち、転写装置は、一対の保持部材３０と一対の転写用原盤１０の組合わせごとに、一対の転写用原盤１０のうち少なくとも一方の被転写体２０に対する絶対対向位置に基づいて決定された、被転写体２０の転写用原盤１０に対する対向位置を記憶する記憶手段と、一対の保持部材３０と一対の転写用原盤１０の組合わせごとに、記憶手段に記憶された対向位置に被転写体２０を配置するよう制御する制御手段とを備える構成とすればよい。
【００６０】
なお、両面転写では、被転写体２０を挟持する一対の転写用原盤１０の位置調整を実施する必要がある。対をなす転写用原盤１０の位置調整方法としては、例えば、（１）対をなす転写用原盤１０の双方について基準からの位置を各々調整する方法、（２）対をなす転写用原盤１０の保持部材３０の基準に対する相対的位置は共通とし、少なくとも一方の保持部材３０をシフトさせて調整する方法、（３）対をなす転写用原盤１０のうち一方を他方に合わせてシフトさせる方法等が挙げられる。
【００６１】
また、上記実施形態では、転写用原盤１０Ａ〜１０Ｄの各々の位置ずれは認めた上で、各転写用原盤１０の被転写体２０に対する絶対対向位置に合わせて、被転写体２０の対向位置を決定する構成を採用しているが、逆に、被転写体２０の対向位置は調整せず、被転写体２０の絶対対向位置に合わせて、転写用原盤１０の被転写体２０に対する対向位置を決定する構成とすることもできる。
【００６２】
すなわち、片面転写では、保持部材３０と転写用原盤１０の組合わせごとに、被転写体２０の転写用原盤１０に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、転写用原盤１０の被転写体２０に対する対向位置を決定する構成としてもよい。
【００６３】
両面転写では、一対の保持部材３０と一対の転写用原盤１０の組合わせごとに、被転写体２０の一対の転写用原盤１０に対する絶対対向位置を検知し、該検知結果に基づいて、一対の転写用原盤１０の被転写体２０に対する対向位置を決定する構成としてもよい。
【００６４】
被転写体２０の転写用原盤１０に対する対向位置は調整せず、被転写体２０の転写用原盤１０に対する絶対対向位置に合わせて、転写用原盤１０の対向位置を決定する場合にも、転写用原盤１０と被転写体２０の位置合わせを精度よく、しかも簡易に実施することができる。
【００６５】
本発明は、厳密な位置調整が必要な磁気転写技術に好ましく適用できるが、転写用原盤と被転写体とを密着させて、磁気情報や形状等の情報を転写する任意の転写技術に適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６６】
本発明は、表面に所定の凹凸パターンを有する転写用原盤を被転写体に密着させ、転写用原盤の凹凸パターンに応じた磁気情報や凹凸パターン形状等の情報を転写する、磁気転写、ナノインプリンティング、パターンドメディア等の転写技術に好ましく適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明に係る一実施形態の転写装置の全体図である。
【図２】図１の転写装置の部分側面図である。
【図３】磁気転写の原理を示す図である。
【図４】本発明の転写装置の他の態様を示す図である。
【符号の説明】
【００６８】
１  転写装置
１０、１０Ａ〜１０Ｄ  転写用原盤
２０  被転写体
２１  磁気記録媒体（転写体）
３０、３０Ａ〜３０Ｄ  保持部材
５０  被転写体移送部材（被転写体供給手段）
【図１】
2006114178.tif 000003
【図２】
2006114178.tif 000004
【図３】
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【図４】
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