(57)【要約】【課題】  外部からの水分や酸素等の侵入を防止してＤＳ発生等の素子特性低下を抑制することにより素子寿命を向上するとともに、狭額縁化を実現することができるエレクトロルミネッセンス素子を提供する。【解決手段】  基板と封止板との間に発光表示領域及びその周辺領域が構成され、封止部により封止された構造を有するエレクトロルミネッセンス素子であって、上記エレクトロルミネッセンス素子は、乾燥剤が発光表示領域の周辺領域の一部に設置されたものであるエレクトロルミネッセンス素子である。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と封止板との間に発光表示領域及びその周辺領域が構成され、封止部により封止された構造を有するエレクトロルミネッセンス素子であって、
該エレクトロルミネッセンス素子は、乾燥剤が発光表示領域の周辺領域の一部に設置されたものであることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
前記エレクトロルミネッセンス素子は、発光表示領域の周辺領域に、発光表示領域に接して位置する第一領域と乾燥剤に接して位置する第二領域とを有し、
該第二領域は、第一領域より透湿性が高い物質で構成されたものであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記エレクトロルミネッセンス素子は、第二領域により第一領域と封止部とが分離されたものであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記エレクトロルミネッセンス素子は、乾燥剤が発光表示領域の周辺領域における四辺のうちの一辺に設置されたものであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記エレクトロルミネッセンス素子は、第一領域が固体により構成され、第二領域が気体により構成されたものであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
前記第一領域は、封止板と発光表示領域との間隙の全部に、固体により構成されたものであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項７】
前記エレクトロルミネッセンス素子は、第一領域における封止板と基板との間が、第二領域における封止板と基板との間より狭いことを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項８】
前記エレクトロルミネッセンス素子は、トップエミッション型であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とするエレクトロルミネッセンス照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置に関する。より詳しくは、電界発光素子により構成され、トップエミッション型（Ｔｏｐ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｔｙｐｅ）等のＥＬ表示装置や照明装置等に好適なＥＬ素子を備えた表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電界発光素子（以下、「ＥＬ素子」、「ＥＬデバイス」ともいう。）は、自発光性の全固体素子であり、高い視認性や衝撃に強い等の特徴により、例えば、陽極から注入された正孔と陰極から注入された電子とが発光層内で再結合する際に発光する有機ＥＬ素子や、熱電子が発光中心を励起することにより発光する無機ＥＬ素子が各種の情報端末等のディスプレイ素子や照明装置として広く応用が期待されている。一方、このようなＥＬ素子は、大気中の水分や酸素によって影響を受けやすいという技術課題を有し、水分や酸素を遮断して素子寿命や特性を向上させる技術が種々検討されている。水分の影響としては、例えば、発光層等により構成される発光表示領域に水分が到達すると、電圧を印加しても発光しないダークスポット（ＤＳ、発光欠陥点）と呼ばれる黒点が発生すること等が挙げられる。
【０００３】
従来の封止技術としては、基板の周辺部に、電極、絶縁層、発光層を覆うシール板を設置し、シール板の接着箇所の内側の周辺部に基板側に開口した溝を設けた薄膜ＥＬパネルが開示され（例えば、特許文献１参照。）、シール板の周辺部の溝に吸湿剤を埋め込む形態が記載されている。また、有機ＥＬ発光素子部を備える第１の基体と、有機ＥＬ発光素子部と対向する色変換フィルタを備える第２の基体とを備え、第１又は第２の基体の表示エリアを除く領域内に無機系乾燥剤を備えている有機ＥＬ表示装置が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。更に、基板上に形成された有機ＥＬ素子を内包するように封止部材を基板に対して取着し、封止部材に、防湿コーティング材によって形成される防湿性の被膜を設けた有機ＥＬディスプレイの防湿構造が開示され（例えば、特許文献３参照。）、封止部材としての封止基板と環状側壁とで有機ＥＬ素子を内包する空間を形成したうえで、防湿性の被膜を封止部材の内側に形成し、該被膜を合成樹脂に乾燥剤を分散固定することにより形成した形態が記載されている。
【０００４】
しかしながら、これらの構成においては、水分等の侵入を効率よく遮断して発光表示領域に到達する水分量等を充分に減少させることにより、ＤＳ発生等の素子特性低下を抑制するための工夫の余地があった。また、近年の表示装置においては、表示パネルにおける表示領域以外の周辺領域を狭くして狭額縁化することが要望されていることから、ＥＬ層への水分等の侵入を遮断するとともに狭額縁化することを両立することが求められている。
【０００５】
更に、画素回路上に発光層等を備え、画素回路が設置された側とは反対側の表面側へ発光させる構造を有するトップエミッション型のＥＬ表示装置が充分な発光面積を確保できるという利点から注目されているが、このような構造では、表示側に封止基板や乾燥剤等を設けることとなるため、乾燥剤等による表示への影響を防止することも重要な技術課題の一つであり、水分等の侵入遮断と狭額縁化を両立するとともに、表示品位の低下を防ぎ、トップエミッション型ＥＬ表示装置にも好適に適用できるようにするための工夫の余地があった。
【特許文献１】特開平４−７１１９０号公報（第１〜３頁）
【特許文献２】特開２００４−２２５１７号公報（第２頁、図３）
【特許文献３】特開２００３−２２３９８６号公報（第２〜４頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、外部からの水分や酸素等の侵入を防止してＤＳ発生等の素子特性低下を抑制することにより素子寿命を向上するとともに、狭額縁化を実現することができるエレクトロルミネッセンス素子を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、ＥＬ素子の封止技術について種々検討したところ、基板と封止板との間に発光表示領域を設ける封止構造において、乾燥剤を表示領域外の周辺部すべてに設置するのではなく、一部に設置するという構成を採用すると、外部から侵入した水分等に起因する素子の性能低下を充分に抑制できるのみならず、狭額縁化を実現できることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到した。具体的には、例えば、乾燥剤を表示領域外の四辺のうちの一辺のみに設置して残りの三辺を狭額縁化することが有効である。そして、このようなＥＬ素子において、基板と封止板との間に発光表示領域に接して位置する領域と乾燥剤に接して位置する領域とを設け、これらの領域を構成する物質を透湿性の異なるものとすると、浸入した水分が発光領域に到達するよりも乾燥剤に達することが容易となることを見いだした。このような構成では、浸入した水分の拡散を制御することができるため、乾燥剤を表示領域外の一部に設置したとしても、水分が乾燥剤に吸収される前に発光領域に到達することを充分に防止することができ、ＤＳ発生等の特性低下を抑制することが可能となる。また、乾燥剤に接して位置する領域により発光表示領域に接して位置する領域と封止部とを分離する構造とすると、発光領域（発光表示領域）に達する水分量を更に低減できること等を見いだした。そして、トップエミッション型ＥＬ表示装置においては、表示領域の周りに乾燥剤を設置することになることから、乾燥剤を表示領域外の一部に設置して狭額縁化した構成と、乾燥剤に吸収される前に発光領域に達する水分量を減少するようにした構成とを組み合わせることによって、水分等の侵入に起因する表示品位の低下を防止するとともに狭額縁化することを両立するという本発明の作用をより効果的に発揮することができることを見いだし、本発明に到達したものである。
【０００８】
すなわち、本発明は、基板と封止板との間に発光表示領域及びその周辺領域が構成され、封止部により封止された構造を有するエレクトロルミネッセンス素子であって、上記エレクトロルミネッセンス素子は、乾燥剤が発光表示領域の周辺領域の一部に設置されたものであるエレクトロルミネッセンス素子である。
このような構成では、乾燥剤を設置することにより、外部から侵入した水分等による発光表示領域の劣化を充分に抑制するとともに、周辺領域の一部に設置することによって、乾燥剤が表示に影響を及ぼすことを充分に防止でき、狭額縁化を実現することが可能となる。そのため、例えば、トップエミッション型構造にも好適に適用されることとなる。
上記発光表示領域の周辺領域の一部とは、例えば、四角形等の四辺からなる発光表示領域の場合には、その四辺のうちの一辺であることが好ましく、上記ＥＬ素子が、乾燥剤が発光表示領域の周辺領域における四辺のうちの一辺に設置されたものである形態は、本発明の好適な形態の一つである。
【０００９】
上記エレクトロルミネッセンス素子としては、発光表示領域の周辺領域に、発光表示領域に接して位置する第一領域と乾燥剤に接して位置する第二領域とを有し、該第二領域は、第一領域より透湿性が高い物質で構成されたものであることが好適である。
このような封止構造とすることにより、外気から封止樹脂等の封止部を拡散し内部に侵入する水分は、第二領域を構成する材料が、第一領域を構成する材料より透湿性が高い（水分の拡散係数が大きい）ため、第一領域を拡散し発光領域に達するより、第二領域を拡散し乾燥剤に達することが容易となる。結果として、乾燥剤に吸収される前に発光素子に達する水分量が減少しＤＳ発生等を防ぐことができ、良好な発光特性を維持することが可能となる。
【００１０】
上記ＥＬ素子としては、第二領域により第一領域と封止部とが分離されたものであることが好ましい。この場合、第二領域が第一領域と封止部とを分離しているため、外気から封止樹脂等の封止部を拡散し内部に浸入した水分が連続的に第一領域を拡散し発光素子に達することが防がれ、結果として、乾燥剤に吸収される前に発光素子に達する水分量が更に減少し、ＤＳ発生等をより充分に防ぐことができる。
【００１１】
上記ＥＬ素子において、第一領域としては、固体により構成されるものであることが好ましく、中でも、封止板と発光表示領域との間隙の全部に、固体により構成されたものであることが好適である。すなわち、封止板と発光表示領域との間隙が固体で充填された形態とすることが好適である。これにより、第一領域と第二領域とが接する面積が小さくなり、第二領域から第一領域への水分の拡散が小さくなることで、ＤＳ発生をより充分に防止することが可能となる。また、第二領域としては、気体により構成されたものであることが好ましく、上記ＥＬ素子が、第一領域が固体により構成され、第二領域が気体により構成されたものである形態もまた、本発明の好適な形態の一つである。このような形態とすることにより、第一領域と第二領域との相互拡散が小さくなり、第二領域から第一領域への水分の拡散が小さくなることで、ＤＳ発生を更に防止することができる。
【００１２】
上記ＥＬ素子としてはまた、第一領域における封止板と基板との間が、第二領域における封止板と基板との間より狭いことが好ましい。この場合には、第一領域と第二領域とが接する面積を更に小さくすることができるため、ＤＳ発生を更に防止して劣化を防ぎ、素子寿命をより向上させることができる。
【００１３】
本発明のＥＬ素子は、上述したような構成とすることにより、表示性能を低下することなく、水分等の侵入遮断と狭額縁化を両立することができるため、発光を封止板側より取り出すトップエミッション型構造に好適に適用することができる。すなわち、上記ＥＬ素子がトップエミッション型である形態は、本発明の好適な形態の一つである。
【００１４】
本発明のＥＬ素子は、狭額縁化を実現できるとともに、ＤＳ発生等の特性の劣化を防止して優れた基本性能を発揮できるものであり、例えば、有機ＥＬ表示装置や無機ＥＬ表示装置等、外気の水分の影響を防ぐための封止構造を有する表示装置や、照明装置等に好適に適用されるものである。すなわち、本発明のエレクトロルミネッセンス素子を備えるエレクトロルミネッセンス表示装置や、本発明のエレクトロルミネッセンス素子を備えるエレクトロルミネッセンス照明装置もまた、本発明の一つである。
なお、本発明のＥＬ素子の構成としては、上述した特徴を必須としてＥＬ素子が通常有する構成要素を備えたものであればよく、その他の構成において特に限定されるものではない。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のＥＬ素子によれば、外部からの水分や酸素等の侵入を防止してＤＳ発生等の素子特性低下を抑制することにより素子寿命を向上するとともに、狭額縁化を実現することができるため、各種の情報端末等の表示装置や照明装置として好適に適用することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に本発明を実施するための最良の形態として、有機ＥＬ素子を用いた封止構造について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施の形態のみに限定されるものではない。
【００１７】
本実施形態の有機ＥＬ素子は、基板と封止板との間に発光表示領域及びその周辺領域が構成され、封止部により封止された構造を有する装置であるが、発光表示領域としては発光層を有する領域であれば特に限定されず、その基板構成としては、例えば、陽極、発光層及び陰極をこの順に積層してなる構成が挙げられる。また、発光層と陽極及び／又は陰極との間に電荷輸送層や電荷注入層等を有する素子構成としてもよい。特に好適な形態としては、ガラス基板上に、反射電極／ＩＴＯ電極／正孔輸送層／発光層／陰極／上部透明電極（ＩＴＯ）を順次積層して形成されるＴｏｐ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ型有機ＥＬ素子である。
なお、上記周辺領域とは、基板と封止板との間であって、発光表示領域の周辺部に位置する領域を意味し、具体的には、第一領域や第二領域を含む領域である。また、封止部とは、基板と封止板との間であって第二領域の外側に、封止樹脂や接着剤等を塗布等して形成した部分である。
また更に、封止した後に、少なくとも発光領域を覆うように偏光板を備える構成としてもよい。
以下に、本実施形態に適用可能である(1)基板、(2)発光表示領域；(2-1)電極、(2-2)発光層、(2-3)電荷注入層、(2-4)電荷輸送層、(2-5)偏光板、(3)周辺領域；(3-1)第一領域、(3-2)第二領域、(4)封止板及び封止部の構成について説明した後、本発明により実現された有機ＥＬ表示装置について説明する。
【００１８】
(1)基板（発光表示基板）
本実施形態に用いることができる基板としては、通常では絶縁性基板が用いられ、例えば、ガラス、石英等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート等のプラスティック材料、アルミナ等のセラミックス等の材料からなる基板；アルミニウム、鉄等の金属基板にＳｉＯ２、有機絶縁材料等の絶縁物をコートした基板；アルミニウム等の金属基板の表面を陽極酸化等の方法で絶縁化処理を施した基板等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
基板構成としては、基板上には、薄膜トランジスタ等のスイッチング素子が形成されていてもよい。なお、低温プロセスで形成したポリシリコンＴＦＴを用いた薄膜トランジスタを形成するためには、５００℃以下の温度で融解せず、かつ、歪みが生じない基板を用いることが好適である。また、高温プロセスで形成したポリシリコンＴＦＴを用いた薄膜トランジスタを形成するためには、１０００℃以下の温度で融解せず、かつ、歪みが生じない基板を用いることが好ましい。
【００１９】
(2)発光表示領域
(2-1)電極
本実施形態の電極としては、通常有機ＥＬ素子に使用できる電極材料を用いればよいが、特に限定されるものではない。陽極としては、効率よく正孔（ホール）を有機層に注入する目的で、仕事関数が高い金属（Ａｕ、Ｐｔ、Ｎｉ等）、又は、発光を外部に取り出す目的では、透明電極（ＩＴＯ、ＩＤＩＸＯ、ＳｎＯ２等）を用いることが好ましい。陰極としては、効率よく電子を有機層に注入する目的で、仕事関数の低い金属と安定な金属とを積層した電極（Ｃａ／Ａｌ、Ｃｅ／Ａｌ、Ｃｓ／Ａｌ、Ｂａ／Ａｌ等）、仕事関数の低い金属を少なくとも含有するもの（Ｃａ：Ａｌ合金、Ｍｇ：Ａｇ合金、Ｌｉ：Ａｌ合金等）、薄膜の絶縁層と金属電極を組み合わせたもの（ＬｉＦ／Ａｌ、ＬｉＦ／Ｃａ／Ａｌ、ＢａＦ２／Ｂａ／Ａｌ等）、又は、発光を外部に取り出す目的では、透明電極中に仕事関数の低い金属を含有したもの（ＩＴＯ：Ｃｓ、ＩＤＩＸＯ：Ｃｓ、ＳｎＯ２：Ｃｓ等）、透明電極と仕事関数の低い金属を積層したもの（Ｂａ／ＩＴＯ、Ｃａ／ＩＤＩＸＯ、Ｂａ／ＳｎＯ２等）が好ましい。これらの材料は、蒸着法、ＥＢ法、ＭＢＥ法、スパッタ法等のドライプロセス、又は、スピンコート法、印刷法、インクジェット法等のウエットプロセスを用いることが可能であるが、これも特に限定されるものではない。
【００２０】
(2-2)発光層
本実施形態の発光層（有機発光層）は、発光材料を用いて成膜することにより形成することが可能であり、１層であってもよいし、多層構造であってもよく、特に限定されるものではない。
上記有機発光層は、１種類の発光材料をドライプロセスにより成膜しても、複数の発光材料をドライプロセスにより成膜してもよい。また、発光アシスト剤、正孔輸送材料、添加剤（ドナー、アクセプター等）、発光性のドーパント等が含有されていてもよい。
また上記有機発光層は、発光層形成用塗液からウエットプロセスにより成膜してもよい。発光層形成用塗液は、少なくとも発光材料を含有した溶液であり、１種類又は多種類の発光材料を含有していてもよく、結着用の樹脂や、その他に、レベリング剤、発光アシスト剤、正孔注入輸送材料、添加剤（ドナー、アクセプター等）、発光性のドーパント等が含有されていてもよい。
なお、上記発光材料や結着用樹脂、溶剤等としては、通常使用できるものを用いればよく、特に限定されるものではない。
上記有機発光層の膜厚としては、特に限定されないが、通常では５Å〜１μｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍである。有機発光層の膜厚が１０ｎｍ未満であると、ピンホールが発生するおそれがあり、２００ｎｍを超えると、素子の抵抗が増加し、高い駆動電圧が必要となるおそれがある。
【００２１】
(2-3)電荷注入層
本実施形態で用いることができる電荷注入層は、通常有機ＥＬ素子に使用できる電荷注入材料を用いて成膜することにより形成することが可能であり、１層であってもよいし、多層構造であってもよく、特に限定されるものではない。電荷注入層としては、正孔（ホール）注入層、電子注入層等が挙げられる。このような電荷注入層は、少なくも電荷注入材料をドライプロセスにより成膜することができる。
また電荷注入層形成用塗液からウエットプロセスにより成膜してもよい。電荷注入層形成用塗液は、少なくとも電荷注入材料を含有した溶液であり、１種類又は多種類の注入材料を含有していてもよく、結着用の樹脂や、その他にレベリング剤、添加剤（ドナー、アクセプター等）等が含有されていてもよい。
なお、上記電荷注入層を形成する材料や結着用樹脂、溶剤等としては、通常使用されるものを用いればよく、特に限定されるものではない。
上記電荷注入層の膜厚としては、特に限定されないが、通常では５Å〜１μｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍである。電荷注入層の膜厚が１０ｎｍ未満であると、ピンホールが発生するおそれがあり、２００ｎｍを超えると、素子の抵抗が増加し、高い駆動電圧が必要となるおそれがある。
【００２２】
(2-4)電荷輸送層
本実施形態で用いることができる電荷輸送層は、通常有機ＥＬ素子に使用できる電荷輸送材料を用いて成膜することにより形成することが可能であり、１層であってもよいし、多層構造であってもよく、特に限定されるものではない。電荷輸送層としては、正孔（ホール）輸送層、電子輸送層等が挙げられる。このような電荷輸送層は、少なくも電荷輸送材料をドライプロセスにより成膜することができる。
また電荷輸送層形成用塗液からウエットプロセスにより成膜してもよい。電荷輸送層形成用塗液は、少なくとも電荷輸送材料を含有した溶液であり、１種類又は多種類の輸送材料を含有していてもよく、他の高分子材料や結着用の樹脂、その他に、レベリング剤、添加剤（ドナー、アクセプター等）等が含有されていてもよい。
なお、上記電荷輸送層を形成する材料や結着用樹脂、溶剤等としては、通常使用されるものを用いればよく、特に限定されるものではない。
【００２３】
(2-5)偏光板
本実施形態で用いることができる偏光板としては、通常用いられる直線偏向板と１／４λ板を組み合わせたものが好適である。これにより、コントラストを向上させることが可能である。
【００２４】
(3)周辺領域
(3-1)第一領域
第一領域とは、基板と封止板との間に、発光表示領域に接して位置する領域であり、このような位置にある空間（第一空間）に、固体や液体、気体等の任意の物質を充填することにより第一領域が形成されることとなる。なお、発光表示領域に接して位置するとは、第一領域が、発光表示領域の少なくとも一部に接することを意味し、例えば、ＥＬ素子から構成される発光表示領域を包み込む領域であってもよい。
上記第一領域としては、後述する第二領域より透湿性の低い物質で構成されるものであることが好ましく、構成物質は特に限定されないが、固体により構成されることが好ましく、例えば、二液硬化性樹脂が好適に用いられる。なお、透湿性が高いとは、水分の拡散係数が大きいことを意味する。
【００２５】
(3-2)第二領域
第二領域とは、基板と封止板との間であって、かつ上記第一領域と封止部との間に、乾燥剤に接して位置する領域であり、このような位置にある空間（第二空間）に、固体や液体、気体等の任意の物質を充填することにより第二領域が形成されることとなる。なお、乾燥剤に接して位置するとは、第二領域が、乾燥剤の少なくとも一部に接することを意味し、例えば、乾燥剤を包み込む領域であってもよい。
上記第二領域としては、上記第一領域より透湿性の高い物質で構成されるものであることが好ましく、構成物質は特に限定されないが、気体により構成されることが好ましく、例えば、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガスが好適に用いられる。中でも、乾燥窒素がより好適である。
上記乾燥剤としては、通常用いられるものを使用することができ、特に限定されるものではない。例えば、アルカリ金属酸化物やアルカリ土類金属酸化物、これら酸化物の複合体等を用いることができる。このような乾燥剤は、発光表示領域の周辺領域の一部に設置されることとなるが、その設置方法としては、通常用いられる方法によればよく、特に限定されるものではない。例えば、塗布法、スクリーン印刷法、転写法等を用いることができる。
【００２６】
(4)封止板及び封止部
本実施形態で用いることができる封止板としては、大気中の水分や酸素等を遮断できるものを用いればよく、特に限定されるものではない。例えば、上記(1)基板において上述したもの等を使用することができる。
本実施形態で用いることができる封止部としては、大気中の水分や酸素を遮断できる材料により構成すればよく、特に限定されるものではないが、通常用いられる封止樹脂により構成される形態であることが好ましい。封止樹脂としては特に限定されず、例えば、紫外線硬化性樹脂が好適に用いられる。
なお、基板、封止板及び封止部で挟まれる空間を封止空間（封止領域）ともいう。
【００２７】
本実施形態の有機ＥＬ素子により有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬ表示パネル）を形成することができる。この有機ＥＬ表示パネルの駆動方法としては、通常の有機ＥＬ表示パネルの駆動方法を用いることが可能であるが、特に限定されるものではない。例えば、パッシブマトリックス駆動でもアクティブマトリックス駆動でもよい。
また本実施形態の有機ＥＬ素子から発光光源としての各種照明装置を形成することができる。
発光光源としては、例えば、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられる。
このように、本実施形態の有機ＥＬ素子は、各種情報端末等の表示装置として、また各種照明装置として好適なものである。
【００２８】
実施の形態１
（有機ＥＬ発光素子の作製方法）
本実施の形態１で使用する有機ＥＬ発光素子は、ガラス基板上に反射電極／ＩＴＯ電極／正孔輸送層／発光層／陰極／上部透明電極（ＩＴＯ）を順次積層して形成するＴｏｐ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ型有機ＥＬ素子である。反射電極としては、例えばＣｒ等の金属をスパッタ蒸着法により形成する。ＩＴＯ電極は、例えばスパッタ蒸着法を用いて１５０ｎｍ程度の膜厚で形成する。正孔輸送層としてジアミン誘導体（ＴＰＤ）、発光層としてはトリス（８−キリノール）アルミニウム（Ａｌｑ３）膜を、それぞれマスクキングを用いた真空蒸着法を用いて順次積層形成する。陰極は、例えば真空蒸着法を用いＭｇＡｇ膜を形成する。陰極は透明性を確保するため膜厚１０ｎｍ程度で作製する。上部透明電極は、スパッタ蒸着法を用いて、ＩＴＯ膜を１５０ｎｍ程度の膜厚で形成する。
【００２９】
（封止）
このようにして得られた有機ＥＬ発光素子（有機ＥＬ素子）を用いて、有機ＥＬディスプレイの封止構造を構成した。
封止ガラスとしては、図１に示すように彫り込み部３を形成したガラス基板１を用いた。掘り込み部３の四辺のうち一辺は他辺より幅を広く形成し、その部分に乾燥剤４を設置する。掘り込み部３の幅は、乾燥剤４設置部を大きく取り、その他を出来る限り小さくすることが望ましい。本実施の形態１では、図１のように、４５×６０ｍｍサイズの封止ガラス１において、乾燥剤４設置部を８ｍｍ、その他を１．５ｍｍとした。また、封止ガラス基板１の厚さは１．１ｍｍで、掘り込み部３の深さは０．６ｍｍとした。
図２（ａ）に示すように、封止ガラス基板１の封止部５に封止樹脂６を、画素領域２に第一空間の充填樹脂７をそれぞれ滴下し、図２（ｂ）に示すように、封止ガラス基板１と発光素子基板８とを樹脂滴下面と発光層形成面とが対抗するように、水分濃度が１ｐｐｍ以下、酸素濃度が１ｐｐｍ以下の窒素雰囲気に管理されたグローブボックス中で貼りあわせる。貼りあわせた後、それぞれの樹脂を毛細管現象により、封止部５及び第一空間領域２を満たすように広げる。
【００３０】
封止樹脂６には、通常の有機ＥＬディスプレイの封止樹脂に用いられる紫外線硬化性エポキシ樹脂を用いた。また、第一空間充填樹脂７には、二液硬化性の樹脂を用いた。これは、この樹脂が発光領域に形成され、紫外線等が発光素子に影響を与える可能性があるためである。貼りあわせ樹脂が、それぞれ封止部５及び第一空間２を充填した後、それぞれの樹脂を硬化させた。なお、第一空間２を充填した二液硬化性樹脂は、時間の経過とともに硬化し、また、封止樹脂６に用いた紫外線硬化性エポキシ樹脂は、所定量の紫外線を照射することにより硬化させた。
【００３１】
なお、本実施形態において、第一空間２とは、図２（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子基板８と封止ガラス基板１との間に位置する空間であり、このような空間２に樹脂７を充填することにより、第一領域が形成されることとなる。また、第二空間とは、掘り込み部３で形成された空間（有機ＥＬ素子基板８と封止ガラス基板１との間であって、第一空間２と封止部５（及び封止樹脂６）との間に位置する空間）であり、このような空間３に、後述するように窒素を充填することにより、第二領域が形成されることとなる。
【００３２】
（作製パネル）
以上のようにして作製したパネルの概略図を図３に示す。
図３においては、第一空間が二液硬化性樹脂により充填されて第一領域２が形成され、掘り込み部３により形成された第二空間がグローブボックス中の窒素雰囲気により満たされることにより、第二領域３が形成されている。第二領域３は気体で充填されているため、固体で充填されている第一領域２に比べ、水分の拡散速度が高くなっている。また、第一領域２は、発光素子基板８と封止基板１との間隙を完全に充填するため、第一領域２と第二領域３との接触する面積が小さくなり、第二領域３から第一領域２への水分の拡散が小さくなることに起因して、ＤＳ発生がより充分に防止されることとなる。
また第二領域３における封止ガラス１と基板ガラス８との間は、封止ガラス基板の掘り込み深さである約０．６ｍｍとなるが、第一領域２における封止ガラス１と基板ガラス８との間が、貼りあわせ樹脂厚と同じ１０μｍ程度であるので、第一領域２と第二領域３との接触する面積が小さくなり、第二領域３から第一領域２への水分の拡散が更に小さくなり、ＤＳ発生を更に防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】実施の形態１の有機ＥＬ表示装置における封止構造を示す概略図である。
【図２】実施の形態１の有機ＥＬ表示装置における、樹脂滴下概略図（図２（ａ））及び基板貼り合わせ概略図（図２（ｂ））である。
【図３】実施の形態１で作製した有機ＥＬ表示装置の概略図である。
【符号の説明】
【００３４】
１：封止ガラス（封止基板）
２：画素領域（第一領域、第一空間）
３：掘り込み部（第二領域、第二空間）
４：乾燥剤
５：封止部
６：封止樹脂
７：第一空間充填樹脂
８：ガラス基板（有機ＥＬ素子基板）
９：ＥＬ発光素子
【図１】
2006114405.tif 000003
【図２】
2006114405.tif 000004
【図３】
2006114405.tif 000005