(57)【要約】【課題】  大きいサイズの１枚の基板に小さいサイズの配線パターンを多数描画するような場合において、基板の変形に影響されることなく個々の配線パターンについて高精度な位置合わせを行う。【解決手段】  予め設定された複数の基準マーク位置情報が示す基板１２上の位置に予め設けられた複数の基準マーク１２ａを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、基板１２の所定位置に配置された２つの配線パターンＰ１、Ｐ２のそれぞれの位置を示す描画位置情報１２ｃを、共通の基準マーク１２ａの検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに応じて個別に補正し、その補正された描画位置情報１２ｃに基づいて配線パターンＰ１、Ｐ２を配置して基板１２に描画する。【選択図】          図８
2006285186.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画方法において、
予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す前記描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、
前記描画対象上における前記少なくとも２つの画像のそれぞれの配置位置を示す、前記基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する前記各画像毎の描画位置情報を、共通の前記基準マークの前記検出位置情報に基づいて個別に補正し、
該補正された各描画位置情報に基づいて前記少なくとも２つの画像を配置して前記描画対象に描画することを特徴とする描画方法。
【請求項２】
前記各画像毎の描画位置情報を、前記共通の基準マークの検出位置情報と前記基準マーク位置情報とのずれに基づいて個別に補正することを特徴とする請求項１記載の描画方法。
【請求項３】
前記各画像毎の描画位置情報を、前記共通の基準マークの検出位置情報と前記相対的な位置関係とに基づいて個別に補正することを特徴とする請求項１記載の描画方法。
【請求項４】
少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画方法において、
予め設定された複数の基準マーク位置情報が示す前記描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、
前記複数の基準マーク位置情報によって決定される領域の範囲内に、少なくとも２つの前記画像が配置されるように前記各画像毎に決定された描画位置情報を、前記検出位置情報に基づいて個別に補正し、
該補正された各描画位置情報に基づいて前記少なくとも２つの画像を配置して前記描画対象に描画することを特徴とする描画方法。
【請求項５】
前記各画像毎の描画位置情報を、前記検出位置情報と前記基準マーク位置情報とのずれに基づいて個別に補正することを特徴とする請求項４記載の描画方法。
【請求項６】
前記各画像毎の描画位置情報を、前記検出位置情報と前記相対的な位置関係とに基づいて個別に補正することを特徴とする請求項４記載の描画方法。
【請求項７】
少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画方法において、
予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す前記描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、
前記描画対象上における前記少なくとも２つの画像のそれぞれの配置位置を示す、前記基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する前記各画像毎の描画位置情報を、前記検出位置情報と前記画像毎にそれぞれ個別に設定された前記相対的な位置関係とに基づいて個別に補正し、
該補正された各描画位置情報に基づいて前記少なくとも２つの画像を配置して前記描画対象に描画することを特徴とする描画方法。
【請求項８】
少なくとも１つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画方法において、
予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す前記描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、
前記描画対象上における前記画像の配置位置を示す、前記基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する少なくとも２つの描画位置情報を、前記検出位置情報に基づいて補正し、
該補正された少なくとも２つの描画位置情報に基づいて、傾きおよび伸縮の少なくとも一方を含む配置位置が補正された前記画像を前記描画対象に描画することを特徴とする描画方法。
【請求項９】
前記各画像毎の少なくとも２つの描画位置情報を、前記検出位置情報と前記基準マーク位置情報とのずれに基づいて補正することを特徴とする請求項８記載の描画方法。
【請求項１０】
前記各画像毎の少なくとも２つの描画位置情報を、前記検出位置情報と前記相対的な位置関係とに基づいて補正することを特徴とする請求項８記載の描画方法。
【請求項１１】
前記相対的な位置関係が、前記画像毎にそれぞれ個別に設定されていることを特徴とする請求項８から１０いずれか１項記載の描画方法。
【請求項１２】
前記基準マーク位置情報と前記各描画位置情報との相対的な位置関係を示す関数を前記各描画位置情報毎に設定し、
前記各関数と前記検出位置情報とに基づいて前記補正を行うことを特徴とする請求項１から１１いずれか１項記載の描画方法。
【請求項１３】
前記画像を含む所定領域を表す画像データを前記補正された各描画位置情報に基づいて補正して補正済画像データを生成し、
該補正済画像データに基づいて前記描画を行うことを特徴とする請求項１から１２いずれか１項記載の描画方法。
【請求項１４】
少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画装置において、
予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す前記描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段と、
前記描画対象上における前記少なくとも２つの画像のそれぞれの配置位置を示す、前記基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する前記各画像毎の描画位置情報を、共通の前記基準マークの前記検出位置情報に基づいて個別に補正する描画位置補正手段と、
該描画位置補正手段により補正された各描画位置情報に基づいて配置された前記少なくとも２つの画像を前記描画対象に描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項１５】
前記描画位置補正手段が、前記各画像毎の描画位置情報を、前記共通の基準マークの検出位置情報と前記基準マーク位置情報とのずれに基づいて個別に補正するものであることを特徴とする請求項１４記載の描画装置。
【請求項１６】
前記描画位置補正手段が、前記各画像毎の描画位置情報を、前記共通の基準マークの検出位置情報と前記相対的な位置関係とに基づいて個別に補正するものであることを特徴とする請求項１４記載の描画装置。
【請求項１７】
少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画装置において、
予め設定された複数の基準マーク位置情報が示す前記描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段と、
前記複数の基準マーク位置情報によって決定される領域の範囲内に、少なくとも２つの前記画像が配置されるように前記各画像毎に決定された描画位置情報を、前記検出位置情報に基づいて個別に補正する描画位置補正手段と、
該描画位置補正手段により補正された各描画位置情報に基づいて配置された前記少なくとも２つの画像を前記描画対象に描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項１８】
前記描画位置補正手段が、前記各画像毎の描画位置情報を、前記検出位置情報と前記基準マーク位置情報とのずれに基づいて個別に補正するものであることを特徴とする請求項１７記載の描画装置。
【請求項１９】
前記描画位置補正手段が、前記各画像毎の描画位置情報を、前記検出位置情報と前記相対的な位置関係とに基づいて個別に補正するものであることを特徴とする請求項１７記載の描画装置。
【請求項２０】
少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画装置において、
予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す前記描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段と、
前記描画対象上における前記少なくとも２つの画像のそれぞれの配置位置を示す、前記基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する前記各画像毎の描画位置情報を、前記検出位置情報と前記画像毎にそれぞれ個別に設定された前記相対的な位置関係とに応じて個別に補正する描画位置補正手段と、
該描画位置補正手段により補正された各描画位置情報に基づいて配置された前記少なくとも２つの画像を前記描画対象に描画する描画手段を備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項２１】
少なくとも１つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画装置において、
予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す前記描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段と、
前記描画対象上における前記画像の配置位置を示す、前記基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する少なくとも２つの描画位置情報を、前記検出位置情報に基づいて補正する描画位置補正手段と、
該描画位置補正手段により補正された少なくとも２つの描画位置情報に基づいて、傾きおよび伸縮の少なくとも一方を含む配置位置が補正された前記画像を前記描画対象に描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項２２】
前記描画位置補正手段が、前記各画像毎の少なくとも２つの描画位置情報を、前記検出位置情報と前記基準マーク位置情報とのずれに基づいて補正するものであることを特徴とする請求項２１記載の描画装置。
【請求項２３】
前記描画位置補正手段が、前記各画像毎の少なくとも２つの描画位置情報を、前記検出位置情報と前記相対的な位置関係とに基づいて補正するものであることを特徴とする請求項２１記載の描画装置。
【請求項２４】
前記相対的な位置関係が、前記画像毎にそれぞれ個別に設定されていることを特徴とする請求項２１から２３いずれか１項記載の描画装置。
【請求項２５】
前記描画位置補正手段が、前記基準マーク位置情報と前記各描画位置情報との相対的な位置関係を示す関数が前記各描画位置情報毎に設定されるものであるとともに、前記各関数と前記検出位置情報とに基づいて前記補正を行うものであることを特徴とする請求項１４から２４いずれか１項記載の描画装置。
【請求項２６】
前記画像を含む所定領域を表す画像データを前記補正された各描画位置情報に基づいて補正して補正済画像データを生成する画像データ補正手段を有し、
前記描画手段が、前記補正済画像データを用いて前記描画を行うものであることを特徴とする請求項１４から２５いずれか１項記載の描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像を描画対象の所定位置に配置して描画する描画方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板の基板に所定の配線パターンを描画する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。
【０００３】
上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、配線パターンを表す画像データに基づいて変調することにより配線パターンを形成する露光装置が提案されている。
【０００４】
ここで、上記のような露光装置により形成されるプリント配線板の配線パターンは、益々高精細化が進む傾向にあり、たとえば、多層プリント配線板を形成するような場合には、各層の配線パターンの位置合わせを高精度に行う必要がある。
【０００５】
上記のような位置合わせを行うため、各層の配線パターンは基板に対して予め設定された位置に露光されるが、多層プリント配線板を形成する際には、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えられ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、上記のように予め設定された位置に各層の配線パターンを露光したのでは各層の配線パターンの描画位置ずれが生じ、各層の配線パターンの高精度な位置合わせが困難となるおそれがある。
【０００６】
そこで、たとえば、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて、各層の基板の四隅に孔を設け、露光の際、この孔の位置を検出し、その検出された孔の検出位置情報と上記基準マーク位置情報とに基づいて基板の変形量を求め、その変形量に応じて配線パターンの配置を補正することによって、上記のような基板の変形に影響されることなく、高精度な位置合わせを行うことができる露光装置が提案されている。
【０００７】
一方、近年の携帯電話などの小型電子機器の普及にともない、比較的小さいサイズのプリント配線板の需要が高まってきている。上記のような露光装置を用いて、上記のような小さいサイズのプリント配線板を製造する場合には、大きいサイズの１枚の基板内に小さいサイズの配線パターンが多数配置されるように露光される。
【０００８】
しかしながら、上記のように１枚の基板上に多数の配線パターンを露光する場合、上記と同様に、基板の４隅に設けられた孔に基づいて、多数の配線パターンを含む画像全体を補正して露光するようにしたのでは、上記のような基板の変形は基板全体にわたって均一に生じるのではなく、部分的にそれぞれ異なる場合があるため、個々の配線パターンについてそれぞれ高精度な位置合わせをすることができないおそれがある。
【０００９】
そこで、たとえば、特許文献１には、基板の４隅だけでなく、個々の小さいサイズ配線パターンに応じた孔をそれぞれ設け、その個々の配線パターン毎に設けられた孔の変形による移動量に応じて個々の配線パターンの描画位置を補正する方法が提案されている。
【００１０】
【特許文献１】特開２０００−１２２３０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１に記載のように、個々の配線パターン毎に孔を設けるようにしたのでは大変手間であり、コストアップにもなる。また、個々の配線パターンの大きさや、形や、配置などに応じてそれぞれ異なる位置に孔が設けられた基板を準備する必要があり、生産効率が悪い。
【００１２】
本発明は、上記事情に鑑み、基板の変形に影響されることなく個々の配線パターンについて高精度な位置合わせを行うことができるとともに、生産効率を向上させることができる描画方法および装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の第１の描画方法は、少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画方法において、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、描画対象上における少なくとも２つの画像のそれぞれの配置位置を示す、基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する各画像毎の描画位置情報を、共通の基準マークの検出位置情報に基づいて個別に補正し、その補正された各描画位置情報に基づいて少なくとも２つの画像を配置して描画対象に描画することを特徴とする。
【００１４】
ここで、上記「描画位置情報を、共通の基準マークの検出位置情報に基づいて個別に補正する」とは、上記検出位置情報と上記基準マーク位置情報との位置関係を考慮して補正後の各描画位置情報を取得する方法であれば如何なる方法を採用してもよい。
【００１５】
また、上記本発明の第１の描画方法においては、各画像毎の描画位置情報を、共通の基準マークの検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに基づいて個別に補正するようにすることができる。
【００１６】
また、各画像毎の描画位置情報を、共通の基準マークの検出位置情報と上記相対的な位置関係とに基づいて個別に補正するようにすることができる。
【００１７】
本発明の第２の描画方法は、少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画方法において、予め設定された複数の基準マーク位置情報が示す描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、複数の基準マーク位置情報によって決定される領域の範囲内に、少なくとも２つの画像が配置されるように各画像毎に決定された描画位置情報を、検出位置情報に基づいて個別に補正し、その補正された各描画位置情報に基づいて少なくとも２つの画像を配置して描画対象に描画することを特徴とする。
【００１８】
ここで、上記「複数の基準マーク位置情報によって決定される領域」とは、複数の基準マーク位置情報により定められた領域である。
【００１９】
そして、上記「複数の基準マーク位置情報によって決定される領域の範囲内に、少なくとも２つの画像が配置されるように」とは、上記領域の範囲内に、個々の画像の全体が配置されるようにする場合だけでなく、上記領域の範囲内に、個々の画像の一部が配置されるようにする場合や、個々の画像の一部と個々の画像の全体とが配置されるようにする場合も含むものとする。
【００２０】
また、上記本発明の第２の描画方法においては、各画像毎の描画位置情報を、検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに基づいて個別に補正するようにすることができる。
【００２１】
また、各画像毎の描画位置情報を、検出位置情報と上記相対的な位置関係とに基づいて個別に補正するようにすることができる。
【００２２】
本発明の第３の描画方法は、少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画方法において、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、描画対象上における少なくとも２つの画像のそれぞれの配置位置を示す、基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する各画像毎の描画位置情報を、検出位置情報と画像毎にそれぞれ個別に設定された上記相対的な位置関係とに基づいて個別に補正し、その補正された各描画位置情報に基づいて少なくとも２つの画像を配置して描画対象に描画することを特徴とする。
【００２３】
本発明の第４の描画方法は、少なくとも１つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画方法において、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、描画対象上における画像の配置位置を示す、基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する少なくとも２つの描画位置情報を、検出位置情報に基づいて補正し、その補正された少なくとも２つの描画位置情報に基づいて、傾きおよび伸縮の少なくとも一方を含む配置位置が補正された画像を描画対象に描画することを特徴とする。
【００２４】
また、上記第４の描画方法においては、各画像毎の少なくとも２つの描画位置情報を、検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに基づいて補正するようにすることができる。
【００２５】
また、各画像毎の少なくとも２つの描画位置情報を、検出位置情報と上記相対的な位置関係とに基づいて補正するようにすることができる。
【００２６】
また、上記相対的な位置関係を、画像毎にそれぞれ個別に設定するようにすることができる。
【００２７】
また、上記本発明の第１から第４の描画方法においては、基準マーク位置情報と各描画位置情報との相対的な位置関係を示す関数を各描画位置情報毎に設定し、各関数と検出位置情報とに基づいて補正を行うようにすることができる。
【００２８】
ここで、上記「各関数と検出位置情報とに基づいて補正を行う」方法としては、たとえば、上記関数において上記基準マーク位置情報を上記検出位置情報に置き換えることにより補正後の各描画位置情報を取得するようにしてもよいし、上記関数自体を上記基準マーク位置情報と上記検出位置情報とのずれに基づいて補正し、この補正された関数と上記基準マーク位置情報に基づいて補正後の各描画位置情報を取得するようにしてもよい。
【００２９】
また、画像を含む所定領域を表す画像データを補正された各描画位置情報に基づいて補正して補正済画像データを生成し、その補正済画像データに基づいて描画を行うようにすることができる。
【００３０】
本発明の第１の描画装置は、少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画装置において、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段と、描画対象上における少なくとも２つの画像のそれぞれの配置位置を示す、基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する各画像毎の描画位置情報を、共通の基準マークの検出位置情報に基づいて個別に補正する描画位置補正手段と、描画位置補正手段により補正された各描画位置情報に基づいて配置された少なくとも２つの画像を描画対象に描画する描画手段とを備えたことを特徴とする。
【００３１】
また、上記本発明の第１の描画装置においては、描画位置補正手段を、各画像毎の描画位置情報を、共通の基準マークの検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに基づいて個別に補正するものとすることができる。
【００３２】
また、描画位置補正手段を、各画像毎の描画位置情報を、共通の基準マークの検出位置情報と上記相対的な位置関係とに基づいて個別に補正するものとすることができる。
【００３３】
本発明の第２の描画装置は、少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画装置において、予め設定された複数の基準マーク位置情報が示す描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段と、複数の基準マーク位置情報によって決定される領域の範囲内に、少なくとも２つの画像が配置されるように各画像毎に決定された描画位置情報を、検出位置情報に基づいて個別に補正する描画位置補正手段と、描画位置補正手段により補正された各描画位置情報に基づいて配置された少なくとも２つの画像を描画対象に描画する描画手段とを備えたことを特徴とする。
【００３４】
また、上記本発明の第２の描画装置においては、描画位置補正手段を、各画像毎の描画位置情報を、検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに基づいて個別に補正するものとすることができる。
【００３５】
また、描画位置補正手段を、各画像毎の描画位置情報を、検出位置情報と上記相対的な位置関係とに基づいて個別に補正するものとすることができる。
【００３６】
本発明の第３の描画装置は、少なくとも２つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画装置において、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段と、描画対象上における少なくとも２つの画像のそれぞれの配置位置を示す、基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する各画像毎の描画位置情報を、基準マークの検出位置情報と画像毎にそれぞれ個別に設定された前記相対的な位置関係とに応じて個別に補正する描画位置補正手段と、
該描画位置補正手段により補正された各描画位置情報に基づいて配置された少なくとも２つの画像を描画対象に描画する描画手段を備えたことを特徴とする描画装置。
【００３７】
本発明の第４の描画装置は、少なくとも１つの画像をそれぞれ描画対象の所定位置に配置して描画する描画装置において、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段と、描画対象上における画像の配置位置を示す、基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する少なくとも２つの描画位置情報を、検出位置情報に基づいて補正する描画位置補正手段と、描画位置補正手段により補正された少なくとも２つの描画位置情報に基づいて、傾きおよび伸縮の少なくとも一方を含む配置位置が補正された画像を描画対象に描画する描画手段とを備えたことを特徴とする。
【００３８】
また、上記本発明の第４の描画装置は、描画位置補正手段を、各画像毎の少なくとも２つの描画位置情報を、検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに基づいて補正するものとすることができる。
【００３９】
また、描画位置補正手段を、各画像毎の少なくとも２つの描画位置情報を、検出位置情報と相対的な位置関係とに基づいて補正するものとすることができる。
【００４０】
また、相対的な位置関係を、画像毎にそれぞれ個別に設定するようにすることができる。
【００４１】
また、上記本発明の第１から第４の描画装置においては、描画位置補正手段を、基準マーク位置情報と各描画位置情報との相対的な位置関係を示す関数が各描画位置情報毎に設定されるものとするとともに、各関数と検出位置情報とに基づいて補正を行うものとすることができる。
【００４２】
また、画像を含む所定領域を表す画像データを補正された各描画位置情報に基づいて補正して補正済画像データを生成する画像データ補正手段を有するものとし、描画手段を、補正済画像データを用いて描画を行うものとすることができる。
【発明の効果】
【００４３】
本発明の第１の描画方法および装置によれば、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、描画対象上における少なくとも２つの画像のそれぞれの配置位置を示す、基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する各画像毎の描画位置情報を、共通の基準マークの上記検出位置情報に基づいて個別に補正し、その補正された各描画位置情報に基づいて少なくとも２つの画像を配置して描画対象に描画するようにしたので、高精度な描画を行うことができるとともに、生産効率を向上することができる。
【００４４】
本発明の第２から第３の描画方法および装置についても、上記本発明の第１の描画方法および装置と同様に、高精度描画および生産効率向上を実現することができる。
【００４５】
本発明の第４の描画方法および装置によれば、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画対象上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、描画対象上における画像の配置位置を示す、基準マーク位置情報と相対的な位置関係を有する少なくとも２つの描画位置情報を、上記検出位置情報に基づいて補正し、その補正された少なくとも２つの描画位置情報に基づいて、傾きおよび伸縮の少なくとも一方を含む配置位置が補正された画像を描画対象に描画するようにしたので、描画対象の変形に影響されることなく、画像の傾きや伸縮を考慮した位置合わせを高精度に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
以下、図面を参照して本発明の描画方法および装置の一実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図１は、本露光装置の概略構成を示す斜視図である。本露光装置は、複数の配線パターン等の画像を１枚の基板上に露光する装置であって、多層プリント配線板等の多層基板の各層の配線パターンを露光する装置である。なお、本実施形態では、単層の基板を対象とすることもできる。また、基板は、表示装置用のフィルタや半導体等の各種構造体であってもよい。まず、本露光装置の概略構成を説明する。
【００４７】
本露光装置１０は、図１に示すように、基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。
【００４８】
設置台１８の中央部には、ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端および後端と、基板１２に予め設けられている円形状の複数（本実施形態では６個）の基準マーク１２ａの位置とを検知するための複数（本実施形態では３台）のカメラ２６が設けられている。
【００４９】
ここで、基板１２における基準マーク１２ａは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板１２上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドやヴィアやエッチングマークを用いてもよい。また、基準マーク１２ａとして、基板１２上に露光される、回路パターンの一部などの所定のパターンを利用するようにしてもよい。基準マーク位置情報については後で詳述する。
【００５０】
スキャナ２４およびカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびカメラ２６は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。
【００５１】
スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。
【００５２】
各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられており、ＤＭＤ３６はその画素列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０ごとに帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、ＤＭＤ以外のＳＬＭを採用することも可能である。
【００５３】
露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー単位でオン/オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラーに対応したドットパターン（黒/白）が露光される。図４に示すように、前述した帯状の露光済み領域３４は、２次元配列されたドットによって形成される。
【００５４】
二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。
【００５５】
なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラーは常にオフ状態となる。
【００５６】
また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔(露光エリアの長辺の自然数倍、本実施形態では１倍)ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。
【００５７】
次に、本露光装置１０における電気的構成について説明する。本露光装置１０は、図５に示すように、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置４０から出力された、露光対象の配線パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータをラスターデータ(ビットマップデータ)に変換するラスター変換処理部５０と、基準マーク位置情報と複数の配線パターンの描画位置情報とが設定される基準位置設定部５２と、カメラ２６により検出された基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報と上記基準マーク位置情報とに基づいて上記描画位置情報を補正する描画位置補正手段５４と、描画位置補正手段５４により補正された描画位置情報に基づいて配線パターンのラスターデータを補正して補正済画像データを生成する画像データ補正手段５６と、画像データ補正手段５６により変換された補正済画像データに基づいて露光ヘッド３０により露光されるよう露光ヘッド３０を制御する描画制御部５８と、ステージ１４のステージ移動方向への移動を制御するステージ制御部６０と、本露光装置全体を制御するコントローラ７０とを備えている。なお、上記基準マーク位置情報、上記描画位置情報、および描画位置情報の補正方法については後で詳述する。
【００５８】
次に、本露光装置１０の作用について図５を参照しながら説明する。
【００５９】
まず、データ作成装置４０において、基板１２に露光すべき複数の配線パターンを含む画像パターン全体を表すベクトルデータが作成される。そして、そのベクトルデータはラスター変換処理部５０に入力され、ラスター変換処理部５０において、そのベクトルデータがラスターデータに変換されて画像データ補正手段５６に入力され、画像データ補正手段５６は入力されたラスターデータを一時記憶する。
【００６０】
また、上記のようにしてベクトルデータがラスター変換処理部５２に入力されると、露光装置１０全体の動作を制御するコントローラ７０がステージ制御部６０に指示信号を出力し、その指示信号に応じてステージ制御部６０が図示しないステージ駆動装置に制御信号を出力し、ステージ駆動装置はその制御信号に応じて移動ステージ１４を図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、ステージ移動方向へ所望の速度で移動させる。
【００６１】
そして、上記のようにして移動するステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す画像データが描画位置補正手段５４に入力される。描画位置補正手段５４は、その画像データに基づきステージ１４上に載置された基板１２の基準マーク１２ａの位置を検出して検出位置情報を取得する。基準マーク１２ａの位置の検出方法については、たとえば、円形状の画像を抽出することにより検出するようにすればよいが、他の如何なる既知の検出方法を採用してもよい。また、上記基準マーク１２ａの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標値の原点は、たとえば、基板１２の撮影画像の４つの角のうちの１つの角のとしてもよいし、撮影画像における予め設定された所定の位置でもよいし、複数の基準マーク１２ａのうちの１つの基準マーク１２ａの位置としてもよい。ただし、上記のようにして設定した原点と、後述する基準マーク位置情報の座標値の原点とは一致させておく必要がある。
【００６２】
一方、基準位置設定部５２には、上記プレスエ程を経ていない標準的な基板１２における基準マーク１２ａの基準マーク位置情報が予め設定されている。この基準マーク位置情報は設計値であり、基板１２に基準マーク１２ａを設ける際に予め定められた値である。また、この基準マーク位置情報は、ユーザーにより設定されるようにしてもよいし、たとえば、上記のような標準的な基板１２を、上記と同様にしてカメラ２６により撮影することによって取得して設定するようにしてもよい。上記基準マーク位置情報も座標値として設定されるものである。
【００６３】
さらに、基準位置設定部５２には、複数の配線パターンの位置を示す描画位置情報が予め設定されている。図６に、基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃと複数の配線パターンＰ１，Ｐ２，Ｐ３との位置関係の一例を示す。図６における斜線黒丸が基準マーク位置情報１２ｂの位置を示し、白丸が描画位置情報１２ｃを示しており、四角が実際に基板上に露光される配線パターンを示している。なお、上記描画位置情報１２ｃも座標値として設定されるものであり、その座標値の原点は、上記検出位置情報および上記基準マーク位置情報と同じである。描画位置情報１２ｃは、基板１２上における複数の配線パターンの配置の仕方によって任意に設定されるものであり、ユーザーにより設定されるものである。また、本実施形態においては、配線パターンが形成される長方形の矩形領域Ｐ１、Ｐ２およびＰ３の長辺方向の中心軸上にある、矩形領域の短辺に外接する点を描画位置情報１２ｃとして設定するようにしている。なお、本実施形態においては、上記のようにして描画位置情報１２ｃを設定するようにしたが、その他の方法により設定するようにしてもよい。また、本実施形態においては、配線パターンＰ１と配線パターンＰ２とを同じ大きさおよび形としたが、これらを異なるものとしてもよい。
【００６４】
そして、上記のようにして設定された基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃの座標値が基準位置設定部５２から描画位置補正手段５４に出力される。
【００６５】
描画位置補正手段５４は、上記のようにして実際にカメラ２６により撮影した基板１２の基準マーク１２ａの検出位置情報と基準位置設定部５２から出力された基準マーク位置情報１２ｂとのずれに基づいて描画位置情報１２ｃを補正する。図６に示す複数の描画位置情報のうち、たとえば、一番上の右側にある１つの描画位置情報１２ｃを補正する方法を、図７を参照して具体的に説明する。
【００６６】
描画位置補正手段５４は、上記描画位置情報Ｔの座標値とその描画位置情報Ｔの周囲の４つの基準マーク位置情報Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの座標値とに基づいて、図７に示すような４つの分割領域の面積Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄを求める。そして、下式に上記４つの基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄのそれぞれに対応する検出位置情報Ｇ,Ｈ,Ｉ,Ｊの座標値を代入することにより、補正された描画位置情報の座標値Ｓ（ｘ，ｙ）を算出する。
【００６７】
Ｓ（ｘ，ｙ）＝（Ｓａ×Ｇ（ｘ，ｙ）＋Ｓｂ×Ｈ（ｘ，ｙ）＋Ｓｃ×Ｉ（ｘ，ｙ）
＋Ｓｄ×Ｊ（ｘ，ｙ））/（Ｓａ＋Ｓｂ＋Ｓｃ＋Ｓｄ）
ただし、Ｓａ＝ｘ２×ｙ２，Ｓｂ＝ｘ１×ｙ２，Ｓｃ＝ｘ２×ｙ１，Ｓｄ＝ｘ１×ｙ１
そして、上記と同様の演算を各描画位置情報１２ｃについて行い、各描画位置情報１２ｃについて、補正後の描画位置情報１２ｃの座標値を取得する。なお、このとき、配線パターンＰ１と配線パターンＰ２の各描画位置情報１２ｃについては、配線パターンＰ１と配線パターンＰ２とを囲む４つの共通の基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄとその検出位置情報とを用いて補正し、配線パターンＰ３の各描画位置情報１２ｃについては、配線パターンＰ３を囲む４つの基準マークの基準マーク位置情報Ｃ,Ｄ,Ｅ,Ｆ,Ｇとその検出位置情報とを用いて補正することが望ましい。
【００６８】
また、上記のように補正前の描画位置情報と基準マーク位置情報との相対的な位置関係を示す関数Ｓ（ｘ，ｙ）を予め設定しておき、この関数を用いて補正後の描画位置情報を求めるようにするのではなく、検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれ量を取得し、そのずれ量を用いて補正前の描画位置情報を補正するようにしてもよい。この場合、たとえば、各基準マーク位置情報について取得された各ずれ量に対し、適当に重み付けをして補正前の描画位置情報に加算するようにすればよい。
【００６９】
図８に、補正前の描画位置情報１２ｃ、補正後の描画位置情報１２ｃ、標準的な基板１２の基準マーク１２ａ、および変形後の基準マーク１２ａの位置関係の一例の模式図を示す。なお、図８においては、図８における点線の白丸が補正前の描画位置情報１２ｃ、実線の白丸が補正後の描画位置情報１２ｃ、点線の斜線丸が標準的な基板１２の基準マーク１２ａ、実線の斜線丸が変形後の基準マーク１２ａである。また、説明の都合上、基準マーク１２ａと描画位置情報１２ｃを同一平面上に示しているが、描画位置情報１２ｃは基板１２上に設けられるものではない。図８に示すように、基準マーク１２ａのずれに応じて各描画位置情報１２ｃが個別に補正され、これに応じて各配線パターンの位置が個別に補正される。具体的には、上記のようにして個別に補正された描画位置情報１２ｃが画像データ補正手段５６に出力され、画像データ補正手段５６は、入力された描画位置情報１２ｃに基づいて、予め一時記憶されたラスターデータに回転、シフト、変倍などの処理を施して各配線パターンのラスターデータを補正する。なお、図８においては、各配線パターンがシフトおよび回転のみしているように見えるが、各配線パターンの伸縮についても、上記のように補正された描画位置情報１２ｃに基づいて変倍処理を施すことによって補正することができる。配線パターンの伸縮には、変形が含まれていてもよい。
【００７０】
そして、上記のようにして補正済ラスターデータが算出されるとともに、移動ステージ１４が、図１に示す下流側の位置から上流側へ所望の速度で移動させられる。
【００７１】
そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、上記のようにして算出された補正済ラスターデータが描画制御部５８に出力され、描画制御部５８は入力された補正済ラスターデータに基づいてスキャナ２４の各露光ヘッド３０に制御信号を出力し、露光ヘッド３０はその制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて補正済ラスターデータに応じた配線パターンを基板１２上に露光する。
【００７２】
そして、移動ステージ１４の移動にともなって順次各露光ヘッド３０に制御信号が出力されて露光が行われ、基板１２の後端がカメラ１２により検出されると露光が終了する。
【００７３】
なお、本実施形態においては、各描画位置情報１２ｃを予め設定するようにしたが、必ずしも各描画位置情報１２ｃを装置に設定するようにする必要はなく、たとえば、上記のように基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃとの関係（上式の場合、Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの面積比）を示す関数だけを予め装置に設定しておき、その関数に検出位置情報を代入することによって補正された描画位置情報を算出するようにしてもよい。
【００７４】
つまり、基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃとの相対的位置関係に基づいて、実質的に補正された描画位置情報１２ｃを直接的に取得するようにしてもよい。この場合の補正としては、たとえば、多層基板の製造過程において下層のパターンの配置に応じて上層の描画位置情報１２ｃを決めるようにしてもよいし、基板の配置位置のずれに応じて描画位置情報１２ｃを決めるようにしてもよい。
【００７５】
基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃとの関係を示す関数としては、上記のようなＳａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの面積比に基づくものだけでなく、たとえば、基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃと距離に基づくものでもよい。また、基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃとの関係を示す関数を設定しておき、検出位置情報に基づいて上記関数自体を補正し、その補正された関数に基準マーク位置情報１２ｂを代入することにより補正された描画位置情報１２ｃを算出するようにしてもよい。
【００７６】
また、基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃの設定の方法は、図６に示した態様に限らず、たとえば、図９または図１０に示すような位置関係で設定するようにしてもよい。なお、各配線パターンの配置については、基準マーク位置情報１２ｂにより決定される領域のうち、少なくとも一番広い領域（一番外側に配置された基準マーク位置情報１２ｂにより決定される領域）に少なくとも２つの配線パターンが配置されるようにすることが望ましい。
【００７７】
また、図９に示すように基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃを設定した場合には、配線パターンＱ１〜Ｑ４の描画位置情報１２ｃについては、配線パターンＱ１〜Ｑ４を囲む４つの共通の基準マーク位置情報ａ,ｂ,ｄ,ｅとその検出位置情報とを用いて補正し、配線パターンＱ５〜Ｑ８の描画位置情報１２ｃについては、配線パターンＱ５〜Ｑ８を囲む４つの共通の基準マーク位置情報ｂ,ｃ,ｅ,ｆとその検出位置情報とを用いて補正し、配線パターンＱ９〜Ｑ１２の描画位置情報１２ｃについては、配線パターンＱ９〜Ｑ１２を囲む４つの共通の基準マーク位置情報ｄ,ｅ,ｇ,ｈとその検出位置情報とを用いて補正し、配線パターンＱ１３〜Ｑ１６の描画位置情報１２ｃについては、配線パターンＱ１３〜Ｑ１６を囲む４つの共通の基準マーク位置情報ｅ,ｆ,ｈ,ｉとその検出位置情報とを用いて補正することが望ましい。
【００７８】
また、図１０に示すように基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃを設定した場合には、配線パターンＲ１の描画位置情報１２ｃについては、基準マーク位置情報ａ,ｂ,ｄ,ｅとその検出位置情報とを用いて補正し、配線パターンＲ２の描画位置情報１２ｃについては、基準マーク位置情報ｂ,ｃ,ｅ,ｆとその検出位置情報とを用いて補正し、配線パターンＲ３の描画位置情報１２ｃについては、基準マーク位置情報ｄ,ｅ,ｇ,ｆとその検出位置情報とを用いて補正し、配線パターンＲの描画位置情報１２ｃについては、配基準マーク位置情報ｅ,ｆ,ｈ,ｉとその検出位置情報とを用いて補正することが望ましい。
【００７９】
そして、図９または図１０に示すように基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃを設定した場合においても、描画位置情報１２ｃの補正の方法としては、上記に説明した方法を採用することができる。また、２つの基準マーク位置情報１２ｂを結ぶ点線上にある描画位置情報の補正の方法については、たとえば、図１１に示すような描画位置情報Ｕの補正を行う場合には、描画位置情報Ｕの座標値とその描画位置情報Ｕの周囲の４つの基準マーク位置情報ａ,ｂ,ｄ,ｅの座標値とに基づいて、２つの分割領域の面積Ｓａ、Ｓｂを求め、以下の（１）式に上記２つの基準マーク位置情報ａ,ｂのそれぞれに対応する検出位置情報の座標値Ｌ、Ｍを代入することにより、補正された描画位置情報の座標値Ｖ（ｘ，ｙ）を算出することができるが、この式は、結局は（２）式の計算をしているのと同様であるので、面積Ｓａ、Ｓｂを求めることなく、（２）式に基づいて補正された描画位置情報の座標値Ｖ（ｘ，ｙ）を算出するようにしてもよい。
【００８０】
Ｖ（ｘ，ｙ）＝（Ｓａ×Ｌ（ｘ，ｙ）＋Ｓｂ×Ｍ（ｘ，ｙ））/（Ｓａ＋Ｓｂ）…（１）
ただし、Ｓａ＝ｘ２×ｙ，Ｓｂ＝ｘ１×ｙ
Ｖ（ｘ，ｙ）＝（ｘ２×Ｌ（ｘ，ｙ）＋ｘ１×Ｍ（ｘ，ｙ））/（ｘ２＋ｘ１）…（２）
また、上記説明においては、所定の複数の基準マーク位置情報１２ｂで囲まれる範囲内にある配線パターンの描画位置情報１２ｃの補正方法について説明したが、これに限らず、たとえば、図１２に示すように、基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄで囲まれる範囲（図１２の点線で囲まれる範囲）内にある配線パターンＰ１と、基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄで囲まれる範囲（図１２の点線で囲まれる範囲）外にある配線パターンＰ２の描画位置情報１２ｃを基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄとその検出位置情報に基づいて補正するようにしてもよい。また、図１３に示すように、基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄで囲まれる範囲内にある配線パターンＰ１と、基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄで囲まれる範囲内にその一部のみが配置される配線パターンＰ２の描画位置情報１２ｃを基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄとその検出位置情報に基づいて補正するようにしてもよい。また、基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄで囲まれる範囲外にある少なくとも２つの配線パターンの描画位置情報１２ｃを基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄとその検出位置情報に基づいて補正するようにしてもよい。
【００８１】
なお、上記のように基準マーク位置情報で囲まれる範囲外の描画位置情報を上記基準マーク位置情報およびその検出位置情報とで補正する方法としては、たとえば、基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄと描画位置情報Ｗとが図１４に示すような位置関係である場合には、上記４つの基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄのそれぞれに対応する検出位置情報の座標値Ｇ（Ｘ０,Ｙ０）,Ｈ（Ｘ１,Ｙ０）,Ｉ（Ｘ０,Ｙ１）,Ｊ（Ｘ１,Ｙ１）を下式に代入することにより、補正された描画位置情報の座標値Ｗ’（ｘ’，ｙ’）を算出することができる。
【００８２】
ｘ’＝（Ｘ０×Ｑ−Ｐ×Ｘ１）/（Ｑ−Ｐ）
ｙ’＝（Ｙ０×Ｌ−Ｋ×Ｙ１）/（Ｌ−Ｋ）
ただし、Ｐ＝ｘ０−ｘ、Ｑ＝ｘ１−ｘ、Ｋ＝ｙ−ｙ０、Ｌ＝ｙ−ｙ１
また、描画位置情報１２ｃの補正方法については、上記のような補正方法に限らず、基準マーク位置情報１２ｂと補正前の各描画位置情報１２ｃとの位置関係と、検出位置情報と補正後の各描画位置情報１２ｃとの位置関係とのずれが、各描画位置情報１２ｃについて小さくなるようにする補正方法であれば、如何なる既知の演算方法を用いて補正するようにしてもよい。
【００８３】
また、各描画位置情報１２ｃを補正する際に、どの基準マーク位置情報１２ｂを用いるかについては、たとえば、予め設定しておいてもよいし、描画位置情報１２ｃが配置された時点で、予め定められた条件にしたがって自動的に選択して設定するようにしてもよい。
【００８４】
具体的には、たとえば、描画位置情報１２ｃが配置された時点で、その描画位置情報１２ｃを囲む基準マーク位置情報１２ｂのうち最も狭い領域を形成する基準マーク位置情報１２ｂを用いるようにしてもよいし、描画位置情報１２ｃから基準マーク位置情報１２ｂまでの距離を計算し、その距離の短い順に所定の数だけ基準マーク位置情報１２ｂを選択するようにしてもよい。または、予め基準マーク位置情報１２ｂ同士を結ぶ線によって複数の領域に区切っておき、その領域内に配置された描画位置情報１２ｃを、その領域に属する基準マーク位置情報１２ｂを用いて補正するようにしてもよい。
【００８５】
本露光装置１０によれば、予め設定された複数の基準マーク位置情報１２ｂが示す基板１２上の位置に予め設けられた複数の基準マーク１２ａを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、基板１２の所定位置に配置された少なくとも２つの配線パターンのそれぞれの位置を示す各配線パターン毎の描画位置情報１２ｃを、共通の基準マークの検出位置情報と基準マーク位置情報１２ｂとのずれに応じて個別に補正し、その補正された描画位置情報１２ｃに基づいて複数の配線パターンを配置して基板１２に描画するようにしたので、大きいサイズの１枚の基板に小さいサイズの配線パターンを多数露光するような場合において、基板１２の変形に影響されることなく個々の配線パターンについて高精度な位置合わせを行うことができる。また、複数の配線パターン毎に基準マーク１２ａを基板１２に設けるのではなく、複数の配線パターン毎に決定された描画位置情報１２ｃにより配線パターンの描画位置を示すようにしたので、配線パターンの大きさや、形や、配置などに応じてそれぞれ異なる基準マーク１２ａを設けた基板１２を準備する必要がなく、生産効率を向上することができる。
【００８６】
また、本露光装置１０を用いて、複数の配線パターンからなる画像パターンを多数の基板１２に露光することもできるが、そのような場合、上記補正は基板１２毎に必要がある。その際、たとえば、ラスターデータに変換される前のベクトルデータを補正後の描画位置情報１２ｃを用いて補正して補正済画像データを得るようにしたのでは、基板１２毎の補正を行う度にその補正されたベクトルデータをラスターデータに変換する必要があるが、本露光装置１０のように、ラスターデータを補正後の描画位置情報１２ｃを用いて補正し、補正済画像データを得るようにすれば、ベクトルデータからラスターデータへの変換は最初の一度だけでよく、ラスターデータへの変換処理の回数を減らすことができるので、その分処理速度を速くすることができる。なお、ベクトルデータを描画位置情報１２ｃを用いて補正した後にその補正されたベクトルデータをラスターデータに変換する方式でも、基準マーク１２ａの数や位置的制約の緩和による生産効率の向上は実現されるため、本発明でこの方式を採用することも可能である。
【００８７】
また、本発明の描画方法および装置は、上記のような露光装置だけでなく、たとえばインクジェットプリンタやインクジェット方式のプリント方法に用いることができる。すなわち、吐出される液滴の打点によって描画を行う装置にも、本実施形態のアライメント手法を適用することができる。
【００８８】
また、本実施形態では、１つの基板上に異なる種類の画像を割り付けて描画を行ってもよい。本実施形態では、描画位置情報１２ｃを用いて画像の割付けを行っており、基準マーク１２ａの位置に対する画像割付位置の設定の自由度が高いため、このような異種画像の割付けを容易に行うことができる。また、画像割付けの自由度が高いため、基板面を有効に利用した画像の割り付け方を採用することができる。すなわち、基準マーク１２ａ位置に基づいて領域分けをした場合には利用されない領域（たとえば、基板の端の領域）にも、画像を割り付けて描画することができる。また、基準マーク１２ａ位置に基づいて区切られた領域に、これより小さい、描画位置情報１２ｃで示される領域を１つだけ設けるような形態も採用できる。この場合も、画像割付位置の調整が可能なため、所望のパターン配置を実現することができる。また、本実施形態では、基板を一方向に搬送しながらアライメント計測を行う場合、基板マーク１２ａを設ける位置に制約が生じることもあるが、このような場合でも、描画位置情報１２ｃに基づいて画像の割り付けを行うことができるため、所望のパターン配置を実現することができる。見方を変えれば、基準マーク１２ａの位置を決める際に、所望のパターン配置からの制約を少なくすることもできる。
【００８９】
また、本実施形態では、基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃとの相対的位置関係を画像毎に個別に設定することができるため、つまり、所定の画像とその所定の画像以外の画像とで異なる相対的位置関係を設定することができるため、基準マーク１２ａの配置位置の制約をさらに少なくすることができる。なお、一部の画像に対して、共通または類似の相対的位置関係が設定されていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の描画方法および装置の一実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図
【図２】図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図
【図３】（Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図
【図４】図１の露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図
【図５】図１の露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図
【図６】基準マーク位置情報と描画位置情報と複数の配線パターンの位置関係の一例を示す図
【図７】描画位置情報の補正方法を説明するための図
【図８】補正前の描画位置情報、補正後の描画位置情報、標準的な基板の基準マーク、および基板変形後の基準マークの位置関係を模式的に示す図
【図９】予め設定される基準マーク位置情報と描画位置情報と複数の配線パターンの位置関係のその他の例を示す図
【図１０】予め設定される基準マーク位置情報と描画位置情報と複数の配線パターンの位置関係のその他の例を示す図
【図１１】描画位置情報の補正方法を説明するための図
【図１２】予め設定される基準マーク位置情報と描画位置情報と複数の配線パターンの位置関係のその他の例を示す図
【図１３】予め設定される基準マーク位置情報と描画位置情報と複数の配線パターンの位置関係のその他の例を示す図
【図１４】描画位置情報の補正方法を説明するための図
【符号の説明】
【００９１】
１０    露光装置
１２    基板
１２ａ    基準マーク
１２ｂ    基準マーク位置情報
１２ｃ    描画位置情報
１４    移動ステージ
１８    設置台
２０    ガイド
２２    ゲート
２４    スキャナ
２６    カメラ
３０    露光ヘッド
３２    露光エリア
３６    ＤＭＤ
【図１】
2006285186.tif 000003
【図２】
2006285186.tif 000004
【図３】
2006285186.tif 000005
【図４】
2006285186.tif 000006
【図５】
2006285186.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
2006285186.tif 000010
【図９】
2006285186.tif 000011
【図１０】
2006285186.tif 000012
【図１１】
2006285186.tif 000013
【図１２】
2006285186.tif 000014
【図１３】
2006285186.tif 000015
【図１４】
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