(57)【要約】【課題】  本発明の目的は、ＴＮ液晶表示装置の視野角表示特性、特に視角による色味変化を改良するための、新たな構成の光学補償シートを提供し、このような光学補償シートを偏光膜の片側に配置することにより、表示品位の高いＴＮ液晶表示装置を提供すること。【解決手段】ＴＮ（ツイストネマチック）配向モードの液晶セル、及び液晶セルの両側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置であって、  少なくとも一方の偏光板が、保護フィルム、偏光膜、及び該偏光膜より液晶セル側に配置された光学補償シートからなり、  該光学補償シートが偏光膜側から透明フィルム１、少なくとも１層の光学異方性層並びに、特定範囲の正面及び膜厚方向のレターデーション値を満たす透明フィルム２の、少なくとも３層を有することを特徴とする液晶表示装置。  【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＮ（ツイストネマチック）配向モードの液晶セル、及び液晶セルの両側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置であって、
少なくとも一方の偏光板が、保護フィルム、偏光膜、及び該偏光膜より液晶セル側に配置された光学補償シートからなり、
該光学補償シートが偏光膜側から透明フィルム１、少なくとも１層の光学異方性層並びに、下記数式（１）及び（２）を満たす透明フィルム２の、少なくとも３層を有することを特徴とする液晶表示装置。
数式（１）：０≦Ｒｅ630≦１０で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５
［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
【請求項２】
透明フィルム２が、下記数式（２−２）を満たす請求項１に記載の液晶表示装置。
数式（２−２）：０≦Ｒｔｈ700−Ｒｔｈ400≦３５
【請求項３】
透明フィルム２の膜厚が１０〜１２０μｍである請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
透明フィルム２がセルロースアシレートフィルムである請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
セルロースアシレートフィルムが、フィルム膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈλ）を低下させる化合物を少なくとも１種、下記数式（３）及び（４）を満たす範囲で含有する請求項４に記載の液晶表示装置。
数式（３）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
ここで、
ＲｔｈλA：Ｒｔｈλを低下させる化合物をＡ質量％含有したフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、
Ｒｔｈλ0：Ｒｔｈλを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、
Ａ：フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈλを低下させる化合物の質量（％）、
である。
【請求項６】
セルロースアシレートフィルムが、アシル置換度２.８５〜３．００のセルロースアシレートを含有してなるフィルムであり、且つ該セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅλ及びＲｔｈλを低下させる化合物を少なくとも１種、該セルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０質量％含む請求項４又は５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅλ及びＲｔｈλを低下させる、オクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含む請求項４〜６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
セルロースアシレートフィルムが、｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物少なくとも１種を、セルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０質量％含む請求項４〜７のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
光学異方性層がディスコティック液晶性化合物を含有する請求項１〜８のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
透明フィルム１、少なくとも１層の光学異方性層並びに、下記数式（１）及び（２）を満たす透明フィルム２の、少なくとも３層を有することを特徴とする光学補償シート。
数式（１）：０≦Ｒｅ630≦１０で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５
［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
【請求項１１】
請求項１０記載の光学補償シート、偏光膜及び保護フィルムからなることを特徴とする偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置、さらにそれに用いる光学補償シート、及び偏光板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから構成されている。現在主流であるＴＮモードＴＦＴ液晶表示装置においては、光学補償フィルムを偏光板と液晶セルの間に挿入し、表示品位の高い液晶表示装置が実現されている。しかし、大型パネル、特にテレビに使用した際に、視角による色味変化が大きく、複数の人間が同時に同じ画像を見ることができない問題があった。
【０００３】
透明支持体として用いられるセルローストリアセテートフィルムは、特許文献１に記載されているように測定波長が長くなるほど、複屈折が大きくなる特徴を有している。
【０００４】
これに対して、市販の液晶セルに用いられている液晶化合物は、測定波長が大きくなるほど、複屈折は小さくなる。視感度の高い５５０ｎｍの光で見た場合、視角によるコントラスト変化は非常に高度に補償されるが、短波長、及び長波長での光学補償に微妙にズレが生じるため、色味の変化となる。特にセルローストリアセテートフィルム上に、液晶化合物からなる光学異方性層を設けた光学補償シートの場合、この光学異方性層の短波長レターデーション／長波長レターデーションの比が液晶セルにおける比よりも大きい場合に、この色味変化が大きい。
【０００５】
最近の液晶表示装置においては、色味変化の改善がより強く要求されるようになっており、光学補償フィルムの支持体などの光学透明フィルムは、波長４００〜８００ｎｍの可視領域でＲｅ値やＲｔｈ値を制御して、波長によるＲｅ値やＲｔｈ値の変化、すなわち波長分散を制御するよう求められる。
【０００６】
これまでに、波長によるＲｅ値を制御したセルロースアセテートフィルム上に、液晶性化合物が塗設されてなる光学補償シートを用いた液晶表示装置は開示されてはいたが、効果は十分ではなかった。（特許文献２）
【特許文献１】特開平７−２１８７２４号公報
【特許文献２】特開２００３−１１４３３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、ＴＮ液晶表示装置の視野角表示特性、特に視角による色味変化を改良するための、新たな構成の光学補償シートを提供し、このような光学補償シートを偏光膜の片側に配置することにより、表示品位の高いＴＮ液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
液晶セルの視角による色味変化を改善することが可能な、セルロースアセテートフィルム上に形成される光学異方性層と、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）の波長分散が小さいセルロースアシレートフィルムとを含む光学補償シートを、偏光膜の片側に配置することにより、本発明の目的を達成することができた。
【０００９】
（１）ＴＮ（ツイストネマチック）配向モードの液晶セル、及び液晶セルの両側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも一方の偏光板が、保護フィ
ルム、偏光膜、及び該偏光膜より液晶セル側に配置された光学補償シートからなり、該光学補償シートが透明フィルム１、少なくとも一層の光学異方性層並びに、下記数式（１）及び（２）を満たす透明フィルム２の少なくとも３層を有することを特徴とする液晶表示装置。
数式（１）：０≦Ｒｅ630≦１０で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５
［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
【００１０】
（２）透明フィルム２が、下記数式（２−２）を満たす上記（１）に記載の液晶表示装置。
数式（２−２）：０≦Ｒｔｈ700−Ｒｔｈ400≦３５
（３）透明フィルム２の膜厚が１０〜１２０μｍである上記（１）又（２）に記載の液晶表示装置。
（４）透明フィルム２がセルロースアシレートフィルムである上記（１）〜（３）のいずれかに記載の液晶表示装置。
【００１１】
（５）セルロースアシレートフィルムが、フィルム膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈλ）を低下させる化合物を少なくとも１種、下記数式（３）及び（４）を満たす範囲で含有する上記（４）に記載の液晶表示装置。
数式（３）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
ここで、
ＲｔｈλA：Ｒｔｈλを低下させる化合物をＡ質量％含有したフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、
Ｒｔｈλ0：Ｒｔｈλを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、
Ａ：フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈλを低下させる化合物の質量（％）、
である。
【００１２】
（６）セルロースアシレートフィルムが、アシル置換度２.８５〜３．００のセルロースアシレートにを含有してなるフィルムであり、且つ該セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅλ及びＲｔｈλを低下させる化合物を少なくとも１種、該セルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０質量％含む上記（４）又は（５）に記載の液晶表示装置。
【００１３】
（７）セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅλ及びＲｔｈλを低下させる、オクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含む上記（４）〜（６）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（８）セルロースアシレートフィルムが、｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物少なくとも１種を、セルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０質量％含む上記（４）〜（７）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（９）光学異方性層がディスコティック液晶化合物を含有する上記（１）〜（８）のいずれかに記載の液晶表示装置。
【００１４】
（１０）
透明フィルム１、少なくとも一層の光学異方性層並びに、下記数式（１）及び（２）を満たす透明フィルム２の少なくとも３層を有することを特徴とする光学補償シート。
数式（１）：０≦Ｒｅ630≦１０で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５
［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
（１１）上記（１０）記載の光学補償シート、偏光膜及び保護フィルムからなることを特徴とする偏光板。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の光学補償シートおよび／またはそれを用いた偏光板を用いることにより、液晶セルの視角による色味変化を改善することができ、これらの光学補償シートおよび／または偏光板を用いて、ＴＮ液晶表示装置の表示品位を高いものとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の内容について詳細に説明する。
なお、本願明細書において「〜」とは、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。また、本発明でいう「重合」には、共重合も含む趣旨である。さらに、本発明でいう「支持体上」又は「配向膜上」には、該支持体等の直接の表面をいう場合と、該支持体等の上に何らかの層（膜）を設けた表面をいう場合の両方を含む趣旨である。
【００１７】
＜光学補償シート＞
〔透明フィルム１〕
まず、透明フィルム１について説明する。
本発明において用いられる透明フィルム１は、透明なポリマーフィルムであることが好ましく、その光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフィルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート）、ノルボルネン系ポリマー及びポリメチルメタクリレートが含まれる。市販のポリマー｛ノルボルネン系ポリマーでは、「アートン」及び「ゼオネックス」（いずれも商品名）｝を用いてもよい。
【００１８】
中でもセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。特に炭素原子数が２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）又は４（セルロースブチレート）のものが好ましい。セルロースアセテートが特に好ましい。また、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることもできる。
【００１９】
なお、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような、複屈折の発現しやすいポリマーであっても、国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明の光学補償シートに用いることもできる。
【００２０】
透明フィルム１の厚さは、１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。
【００２１】
本発明において透明フィルム１としては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度は、５７．０〜６２．０％であることがさらに好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ
Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算によって求められる。
【００２２】
セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．０〜１６５であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【００２３】
セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるポリマーフィルムでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度又は多い方が好ましい。２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがさらに好ましく、３２〜４０％であることが最も好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。
各位置の置換度は、ＮＭＲによって測定することできる。
【００２４】
６位置換度が高いセルロースアセテートは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号［００４３］〜［００４４］に記載の合成例１、段落番号［００４８］〜［００４９］に記載の合成例２、そして段落番号［００５１］〜［００５２］に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【００２５】
セルロースアセテートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗層を設けることも好ましく利用される。
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【００２６】
セルロースアセテートフィルムの表面処理は、偏光膜との接着性の観点から、酸処理又はアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対する鹸化処理を実施することが特に好ましい。以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
【００２７】
［アルカリ鹸化処理］
アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【００２８】
セルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。
ポリマーフィルムなど固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社１９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。本発明に用いられるセルロースアセテートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
【００２９】
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアセテートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギ
ーを算出できる。
【００３０】
〔光学異方性層〕
［液晶性化合物を含有する光学異方性層］
本発明における光学異方性層は、液晶性化合物から形成されることが好ましい。光学異方性層は、透明フィルム１上に設けられた配向膜の上に形成することが好ましい。
【００３１】
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。ポリビニルアルコールが、好ましいポリマーであり、疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向膜については国際公開第０１／８８５７４Ａ１号パンフレットの４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。本発明における実施の形態では、上記光学異方性層と透明フィルム１との間に、配向膜を設けることが好ましい。
【００３２】
光学異方性層に用いる液晶性化合物には、棒状液晶性化合物及びディスコティック（円盤状）液晶性化合物が含まれる。棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
【００３３】
このような光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
【００３４】
［光学異方性層形成用塗布液］
光学異方性層は、液晶性化合物及び、必要に応じて、重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
【００３５】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００３６】
塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スロットダイコーティング法）により実施できる。
【００３７】
次ぎに、本発明で光学異方性層を形成する際に好ましく用いられるダイコーティング法塗布について説明する。
図１は、本発明において特に好ましいスロットダイを用いたコーターの概略図である。また図２は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明において特に好ましいスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。図１において、コーター１０は、バックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブ１２に対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブ１２に塗布膜１４ｂを形成する。
【００３８】
スロットダイ１３は、その内部にポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その形状の断面が曲線及び直線で構成される。例えば図１に示すような略円形でもよいし、半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、又はスロットとは反対側の面中央から行い、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ないようにするための栓を設けている。
【００３９】
スロット１６は、ポケット１５からウェブ１２への塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様に、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａ｛図２（Ａ）に示す｝は、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６の、スロット先端におけるバックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、一般に３０°以上９０°以下であり、さらに、本発明の効果は上記形状のスロットダイに限定されるものではない。
【００４０】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は、先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１７ａとされている。この平坦部１７ａであって、スロット１６に対してウェブ１２の進行方向の上流側を以下、上流側リップランド１８と称し、下流側を下流側リップランド１９と称する。
【００４１】
図２（Ａ）において、下流側リップランド１９のウェブ走行方向における長さＩLOは３０μｍ〜５００μｍが好ましく、より好ましくは３０μｍ〜１００μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜６０μｍである。また、上流側リップランド１８のウェブ走行方向における長さＩUPは特に限定されないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。
【００４２】
図２（Ｂ）に示される従来のスロットダイ３０では、下流側リップランド３１のランド長さＩLOについて考慮されておらず、ほぼ上流側リップランドの長さＩUPと同様の長さとされている。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明において好ましく用いられるスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩLOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度良くおこなうことができる。しかも、この下流側リップランド１９のランド長さＩLOを３０〜１００μｍの範囲にすることで、寸法精度のよいリップランドを形成することができる。
【００４３】
また、塗膜の膜厚を高精度で均一化するためには、下流側リップランド１９のランド長さＩLOのスロットダイ１３の幅方向における変動幅を２０μｍ以内にすることが好ましい。これは下流側リップランド１９のランド長さＩLOが大きくなりすぎなければ、ビードの形成が不安定になるなどの不具合が生じないからである。また、かすかな外乱でビードが不安定となって、製造適性が低下するなどの問題も起こらない。このため、スロットダイ１３の幅方向での変動幅が２０μｍ以内におさまるようにスロットダイ１３を制作することが好ましい。
【００４４】
スロット１６の開口部１６ａを含む先端リップ１７の強度や、表面状態の向上対策としては、少なくともこの箇所を含むスロットダイの材質を、ＷＣを主成分とする超硬材質にすることが好ましい。超硬材質を用いることにより、表面形状の均質性と併せ、常に吐出される塗布液による先端リップの摩耗への対策にもなる。塗布液として研磨材を含む磁性液等を塗布する場合は特に有効である。超硬材質としては、平均粒径５μｍのＷＣ炭化物結晶を、Ｃｏをはじめとする結合金属で結合してなる材質を使用することが好ましいが、結合金属はこれに限定されず、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂをはじめとする各種金属を使用することもできる。なお、ＷＣ結晶の平均粒径は５μｍ以内であれば、任意の平均粒径のものを用いてよい。
【００４５】
さらに、薄層の塗布膜厚を高精度に均一に維持するためには、下流側リップランド１９
のランド長さＩLOの塗布幅方向における寸法精度を維持するほかに、スロットダイ１３の先端リップ１７とバックアップロール１１の両方の真直度も重要である。これはスロットダイ１３の先端部とバックアップロール１１の真直度の２つの組み合わせにより達成されるので、どちらかのみを精度良くするのではなく、両方の精度を良くすることが好ましい。必要真直度は下記の数式（５）を利用して、概算ではあるが、実用的に十分な精度で求めることができるが、これに限定されない。
数式（５）：Ｐ0−Ｐp＝１．３４σ／ｈ・（μＵ／σ）2/3＋１２μＵＩLO（ｄ／２−ｈ）／ｄ3−１２μｈＵＬ／Ｄ3
【００４６】
ここで、Ｐ0はウェブ１２の走行方向側におけるビードメニスカス外の圧力、Ｐpはポケット１５の内圧であり、以下図示しないが、σは塗布液１４の表面張力、μは塗布液１４の粘度、Ｕは塗布速度、ｈは膜厚、ｄは下流側リップランド１９とウェブ１２との隙間の長さ、Ｌはスロットダイ１３のスロット１６の長さ、Ｄはスロットダイ１３のスロット間隙である。
【００４７】
そしてスロットダイ１３のポケット１５の内圧Ｐpとウェブ進行方向側のビードメニスカス外の圧力Ｐ0の差圧Ｐ0−Ｐpを、スロットダイ１３の幅方向に一定として、上記数式（５）を用いて、必要真直度を求める。これは、スロットダイ１３の先端部とバックアップロール１１との隙間の長さｄが変化しても、スロットダイ１３のポケット１５の中と前記ビードメニスカス外の差圧が一定となるように、スロットダイ１３の幅方向の流れがポケット１５の中で発生して、流量分布となることによる。
【００４８】
上記数式（５）を用いることにより、条件により厳密には異なるが、一般の工業的生産に用いられる塗布系においては、５μｍ程度のダイブロック幅方向の真直度で、塗布膜厚分布が２％程度発生することになる。従って、高精度の薄膜塗布を実施する際の限界はこの数字であるとみなすことができる。これにより、前記スロットダイ１３を塗布位置にセットしたときに，前記先端リップとウェブとの隙間の前記スロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以内となるように、先端リップと前記バックアップロールの真直度を出す。
【００４９】
［液晶性化合物］
以下に本発明に用いる液晶性化合物について記載するが、液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物を用いることが好ましい。
【００５０】
（棒状液晶性化合物）
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
【００５１】
なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
【００５２】
棒状液晶性化合物については、「季刊化学総説」第２２巻「液晶の化学」（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章及び第１１章、及び「液晶デバイスハンドブック」日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
【００５３】
棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
【００５４】
棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基（Ｑ）の例を、以下に示す。
【００５５】
【化１】
2006195365.tif 000002
【００５６】
重合性基（Ｑ）は、不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ７）、エポキシ基（Ｑ８）又はアジリジニル基（Ｑ９）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ６）であることが最も好ましい。
【００５７】
棒状液晶性化合物は、短軸方向に対してほぼ対称となる分子構造を有することが好ましい。そのためには、棒状分子構造の両端に重合性基を有することが好ましい。
以下に、棒状液晶性化合物の例を示す。
【００５８】
【化２】
2006195365.tif 000003
【００５９】
【化３】
2006195365.tif 000004
【００６０】
【化４】
2006195365.tif 000005
【００６１】
【化５】
2006195365.tif 000006
【００６２】
【化６】
2006195365.tif 000007
【００６３】
【化７】
2006195365.tif 000008
【００６４】
光学異方性層は、棒状液晶性化合物又は後述の重合性開始剤や任意の添加剤（例えば、可塑剤、モノマー、界面活性剤、セルロースエステル、１，３，５−トリアジン化合物、カイラル剤など）を含む液晶組成物（塗布液）を、配向膜の上に塗布することで形成される。
【００６５】
（ディスコティック液晶性化合物）
ディスコティック（円盤状）液液晶性化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告“Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．”，７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告“Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．”，１２２巻、１４１頁（１９８５年）及び“Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ”，７８巻、８２頁（１９９０年）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告“Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．”，９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体、並びにＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．”，１７９４頁（１９８５年）及びＪ．Ｚｈａｎｇらの研究報告“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルを挙げることができる。
【００６６】
さらに、ディスコティック液晶性化合物としては、一般的に、これらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等が母核の側鎖として放射線状に置換された構造のものも含まれ、液晶性を示す。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであればこれらに限定されるものではない。また、本発明において、ディスコティック液晶性化合物から形成される光学異方性層は、最終的にできた物がディスコティック液晶性化合物である必要はなく、例えば、低分子のディスコティック液晶性化合物が熱、光等で反応する基を有しており、熱、光等で反応により重合又は架橋し、結果的として高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
【００６７】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記一般式（１）で表わされる化合物であることが好ましい。
一般式（１）：Ｄ（−Ｌ−Ｘ）n1
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは２価の連結基であり、Ｘは重合性基であり、そして、ｎ１は４〜１２の整数である。
【００６８】
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＸ（又はＸＬ）は、２価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｘ）との組み合わせを意味する。
【００６９】
【化８】
2006195365.tif 000009
【００７０】
【化９】
2006195365.tif 000010
【００７１】
前記一般式（１）において、２価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群、さらにはアルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群、特にはアルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。連結基（Ｌ）は、これらの基を少なくとも２つ組み合わせた２価の連結基であることがさらに好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
【００７２】
２価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｘ）に結合する。Ａｌはアルキレン基又はアルケニレン基、Ａｒはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、置換基（例えば、アルキル基）を有していてもよい。
【００７３】
Ｌ１：−Ａｌ−ＣＯ−Ｏ−Ａｌ−
Ｌ２：−Ａｌ−ＣＯ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−
Ｌ３：−Ａｌ−ＣＯ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−Ａｌ−
Ｌ４：−Ａｌ−ＣＯ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−Ａｒ−Ｏ−Ａｌ−
Ｌ６：−ＣＯ−Ａｒ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−Ａｒ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−Ａｌ−
Ｌ９：−ＮＨ−Ａｌ−Ｏ−
Ｌ１０：−ＮＨ−Ａｌ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１１：−Ｏ−Ａｌ−
Ｌ１２：−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−
Ｌ１３：−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１４：−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−Ａｌ−
Ｌ１５：−Ｏ−Ａｌ−Ｓ−Ａｌ−
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−Ａｒ−Ｏ−Ａｌ−ＣＯ−
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−Ａｒ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−Ａｒ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−Ａｒ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−Ａｌ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２０：−Ｓ−Ａｌ−
Ｌ２１：−Ｓ−Ａｌ−Ｏ−
Ｌ２２：−Ｓ−Ａｌ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２３：−Ｓ−Ａｌ−Ｓ−Ａｌ−
Ｌ２４：−Ｓ−Ａｒ−Ａｌ−
【００７４】
前記一般式（１）の重合性基（Ｘ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｘ）の例を以下に示す。
【００７５】
【化１０】
2006195365.tif 000011
【００７６】
重合性基（Ｘ）は、不飽和重合性基（Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ７、Ｘ８、Ｘ１５、Ｘ１６、Ｘ１７）又はエポキシ基（Ｘ６、Ｘ１８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｘ１、Ｘ７、Ｘ８、Ｘ１５、Ｘ１６、Ｘ１７）であることが最も好ましい。
【００７７】
一般式（１）において、ｎ１は４〜１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＸの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【００７８】
円盤状液晶性化合物を用いる場合、光学異方性層は円盤状コア（Ｄ）の面が、セルロースアシレートフィルム表面に対して傾き、且つ円盤状コア（Ｄ）の面とセルロースアシレートフィルム表面とのなす角度は、異方性層の各深さにおいては、揺らぎをもちつつ、光学異方性層の深さ方向においては、変化していることが好ましい。
【００７９】
ある位置での円盤状コア（Ｄ）の面の角度（平均傾斜角）は、一般に、各深さでは揺らぎをもちつつ、光学異方性層全体としては、深さ方向で且つ光学異方性層の底面からの距離の増加と共に増加又は減少している。平均傾斜角は、距離の増加と共に層全体としては増加することが好ましい。さらに、平均傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化などを挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で平均傾斜角が変化しない領域を含んでいる。平均傾斜角は、平均傾斜角が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していることが好ましい。さらに、平均傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
【００８０】
透明フィルム１側の円盤状コア（Ｄ）の平均傾斜角は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状コア（Ｄ）の平均傾斜角は、一般にディスコティック液晶性化合物又は、ディスコティック液晶性化合物とともに使用する他の化合物を選択することにより調整することができる。ディスコティック液晶性化合物とともに使用する化合物の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーなどを挙げることができる。更に、平均傾斜角の変化の程度も、上記と同様の選択により調整できる。
【００８１】
ディスコティック液晶性化合物とともに使用する可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーとしては、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物の平均傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物など）が好ましい。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【００８２】
ディスコティック液晶性化合物とともに使用するポリマーとしては、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物に平均傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマーでも使用することができる。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアシレート、セルロースアシレートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアシレートブチレートを挙げることができる。ディスコティック液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００８３】
光学異方性層は、一般にディスコティック液晶性化合物及び他の化合物を溶媒に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコティックネマチック相）を維持して冷却することにより得られる。あるいは、上記光学異方性層は、円盤状液晶性化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤）を溶媒に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等により）、さらに冷却することにより得られる。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマチック液晶相−固相転移温度としては、７０〜３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好ましい。
【００８４】
［液晶性化合物の配向状態の固定］
配向させた液晶性化合物を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同第２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同第２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【００８５】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００８６】
液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよく、保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
【００８７】
［ポリマーフィルムからなる光学異方性層］
本発明において、光学異方性層は、ポリマーフィルムから形成されてもよい。ポリマー
フィルムは、光学異方性を発現し得るポリマーから形成する。そのようなポリマーの例には、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなど）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル及びセルロースエステル（例えば、セルローストリアセーテート、セルロースジアセテートなど）が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体又はポリマー混合物を用いてもよい。
【００８８】
ポリマーフィルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸又は二軸延伸であることが好ましい。具体的には、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、又はポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸、これらを組み合わせての二軸延伸が好ましい。なお、２枚以上のポリマーフィルムを用いて、２枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。
このようなポリマーフィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜１００μｍであることが最も好ましい。
【００８９】
また、光学異方性層を形成するポリマーフィルムとして、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトン、からなる群から選ばれる少なくとも１種のポリマー材料を用い、これを溶媒に溶解した溶液を基材に塗布し、溶媒を乾燥させてフィルム化する方法も好ましく用いることができる。この際、これらのポリマーフィルムと基材とを延伸して光学異方性を発現させ、光学異方性層として用いる手法も好ましく用いることができ、本発明におけるセルロースアシレートフィルムは、この場合の基材として好ましく用いることができる。また、これらポリマーフィルムを別の基材の上で作製しておき、ポリマーフィルムを基材から剥離させたのちに本発明におけるセルロースアシレートフィルムと貼合して、あわせて光学異方性層として用いることも好ましい。この手法ではポリマーフィルムの厚さを薄くすることができ、５０μｍ以下であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。
【００９０】
〔透明フィルム２〕
次に、透明フィルム２について説明する。
本発明において、透明フィルム２のレターデーションは小さいことが望ましく、具体的には、波長６３０ｎｍにおける正面レターデーションＲｅ630及び膜厚方向のレターデーションＲｔｈ630の絶対値が、下記数式（１）を満たすことが必要である。
数式（１）：０≦Ｒｅ630≦１０で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２５
好ましくは下記数式（１−２）、さらに好ましくは下記数式（１−３）を満たすことである。
数式（１−２）：０≦Ｒｅ630≦５で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２０
数式（１−３）：０≦Ｒｅ630≦２で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦１５
ここで、Ｒｅ630は波長６３０ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ630は波長６３０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。
【００９１】
また波長分散としては、下記数式（２）を満たすことが必要である。
数式（２）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５
好ましくは下記数式（２−２）、さらに好ましくは下記数式（２−３）、特に好ましくは下記数式（２−４）を満たすことである。
数式（２−２）：０≦Ｒｔｈ700−Ｒｔｈ400≦３５
数式（２−３）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦５で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦２５
数式（２−４）：０≦Ｒｔｈ700−Ｒｔｈ400≦２５
ここでＲｅ400及びＲｅ700は、それぞれ波長４００ｎｍ及び７００ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ400及びＲｔｈ700は、それぞれ波長４００ｎｍ及び７００ｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。
【００９２】
本発明に用いられる透明フィルム２としては、上記の光学特性を満足する透明フィルムであれば、特に制限を受けることはない。市販のセルロースアシレートフィルム、ノルボルネン系フィルム、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリエチレン、ポリプロピレン等が使用出来る。特に、セルロースアシレートフィルムがより好ましい。
以下、透明フィルム２としてセルロースアシレートフィルムを用いる場合を例として本発明を説明する。
【００９３】
［セルロースアシレート］
（セルロースアシレート原料綿）
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、特に限定されるものではない。
【００９４】
（セルロースアシレート置換度）
次に上述のセルロースを原料に製造されるセルロースアシレートについて記載する。本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明において、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭ  Ｄ−８１７−９１に準じて実施することができる。
【００９５】
上記のように本発明において、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることが望ましい。さらには置換度が２．６０〜３．００であることが望ましく、２．６５〜３．００であることがより望ましい。
【００９６】
セルロースの水酸基を置換する、酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、また単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル又は芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
【００９７】
上記のセルロースの水酸基を置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の中から選ばれる少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性をより低下でき、好ましい。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらに望ましくは２．６５〜３．００である。
【００９８】
（セルロースアシレートの重合度）
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が該上限値以下であれば、セルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなって、流延によりフィルム作製が困難になるなどの不具合が生じないので好ましい。重合度が該下限値以上であれば、作製したフィルムの強度が低下するなどの不都合が生じないので好ましい。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。また特開平９−９５５３８号公報にも詳細に記載されている。
【００９９】
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【０１００】
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。
【０１０１】
なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を該範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。本発明に用いられるセルロースアシレートの製造時において、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は、目的とする含水率になるものであれば特に限定されない。これらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
【０１０２】
本発明に用いられるセルロースアシレートは、置換基、置換度、重合度、分子量分布など前記した範囲であれば、単一又は異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
【０１０３】
（セルロースアシレートへの添加剤）
以下に本発明に使用するのに好ましい添加剤について説明する。
セルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例え
ば、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
【０１０４】
本発明においてはセルロースアシレートフィルムの光学異方性、特にフィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物を、下記数式（３）及び（４）をみたす範囲で少なくとも一種含有することが望ましい。
数式（３）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
上記数式（３）及び（４）において、より望ましくは、
数式（３−２）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−２．０
数式（４−２）：０．０５≦Ａ≦２５
であり、さらに望ましくは、
数式（３−３）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−３．０
数式（４−３）：０．１≦Ａ≦２０
である。
ここで、ＲｔｈλAはＲｔｈλを低下させる化合物をＡ質量％含有したフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、Ｒｔｈλ0はＲｔｈλを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈλを低下させる化合物の質量（％）である。
【０１０５】
（セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物の構造的特徴）
セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物について説明する。
光学異方性を十分に低下させ、Ｒｅ、Ｒｔｈがともにゼロに近くなるようにするためには、フィルム中のセルロースアシレートが、正面方向及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いることが好ましい。また、光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【０１０６】
（ＬｏｇＰ値）
本発明で用いられるセルロースアシレートフィルムを作製するに当たっては、上記のように、フィルム中のセルロースアシレートが正面方向及び膜厚方向に配向するのを抑制して光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物を選択することが好ましい。ｌｏｇＰ値が７以下の化合物であれば、セルロースアシレートとの相溶性に優れ、フィルムの白濁や粉吹きなどの不都合を生じない。またｌｏｇＰ値が０以上の化合物は、親水性が高くなりすぎることがなく、セルロースアセテートフィルムの耐水性を悪化させるなどの問題が生じないので好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
【０１０７】
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ  Ｚ−７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ震盪法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ．２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ．１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，１９巻、ｐ．７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が上記の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断するものとする。
【０１０８】
（光学的異方性を低下させる化合物の物性）
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有してもよいし、また含有しなくてもよい。さらに光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【０１０９】
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【０１１０】
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートに対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
【０１１１】
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【０１１２】
光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％であることが好ましい。該化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより、表面及び中心部の化合物量を測定して求めることができる。
【０１１３】
以下に本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。光学異方性を低下させる化合物としては、下記一般式（２）で表される化合物が好ましい。
一般式（２）：
【０１１４】
【化１１】
2006195365.tif 000012
【０１１５】
一般式（２）の化合物について説明する。
上記一般式（２）において、Ｒ21はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ22及びＲ23は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。
【０１１６】
置換基としては、フッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル）が特に好ましい。一般式（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１１７】
【化１２】
2006195365.tif 000013
【０１１８】
【化１３】
2006195365.tif 000014
【０１１９】
【化１４】
2006195365.tif 000015
【０１２０】
また、光学異方性を低下させる化合物としては、下記一般式（３）で表される化合物もまた好適に使用することができる。
一般式（３）：
【０１２１】
【化１５】
2006195365.tif 000016
【０１２２】
式中、Ｒ31はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ32及びＲ33はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
【０１２３】
以下に、上記一般式（３）で表される化合物の、好ましい具体例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１２４】
【化１６】
2006195365.tif 000017
【化１７】
2006195365.tif 000018
【０１２５】
【化１８】
2006195365.tif 000019
【０１２６】
【化１９】
2006195365.tif 000020
【０１２７】
【化２０】
2006195365.tif 000021
【０１２８】
【化２１】
2006195365.tif 000022
【０１２９】
【化２２】
2006195365.tif 000023
【０１３０】
（波長分散調整剤）
次ぎに、セルロースアシレートフィルムの波長分散を低下させる化合物（以下、波長分散調整剤ともいう）について説明する。
【０１３１】
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの、Ｒｔｈの波長分散を良化させるためには、下記数式（６）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈを低下させる化合物（波長分散調整剤）を、下記数式（７）及び（８）をみたす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。
数式（６）：ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜
数式（７）：（ΔＲｔｈB−ΔＲｔｈ0）／Ｂ≦−２．０
数式（８）：０．０１≦Ｂ≦３０
上記数式（７）及び（８）において、より望ましくは、
数式（７−２）：（ΔＲｔｈB−ΔＲｔｈ0）／Ｂ≦−３．０
数式（８−２）：０．０５≦Ｂ≦２５
であり、さらに望ましくは、
数式（７−３）：（ΔＲｔｈB−ΔＲｔｈ0）／Ｂ≦−４．０
数式（８−３）：０．１≦Ｂ≦２０
である。
ここでΔＲｔｈBは、波長分散調整剤をＢ質量％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ0は波長分散調整剤を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｂはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの波長分散調整剤の質量（％）である。
【０１３２】
上記の波長分散調整剤は、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物であり、該波長分散調整剤を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％、好ましくは０．１〜３０質量％含有させることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整することもまた本発明の好ましい態様である。
【０１３３】
セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は、一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。従って、相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって、波長分散を平滑にすることが要求される。一方２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は、短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。
【０１３４】
従って、上記のような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が、短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。このためには波長分散を調整する化合物はセルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。
【０１３５】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物を、セルロースアシレートフィルムに添加する場合、得られるフィルムの分光透過率が優れていることが要求される。本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、且つ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが望ましい。
【０１３６】
上記のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は、揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【０１３７】
波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【０１３８】
（波長分散調整剤の添加量）
上記した、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートに対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。
【０１３９】
（波長分散調整剤添加の方法）
これら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【０１４０】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。
【０１４１】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記一般式（４）で示されるものが本発明において波長分散調整剤として好ましく用いられる。
一般式（４）：Ｑ41−Ｑ42−ＯＨ
（式中、Ｑ41は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ42は芳香族環を表す。）
【０１４２】
Ｑ41は含窒素方向芳香族へテロ環をあらわし、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。
【０１４３】
Ｑ41で表される含窒素芳香族ヘテロ環は、更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
【０１４４】
Ｑ42で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。最も好ましくはベンゼン環である。
【０１４５】
芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として、好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１４６】
Ｑ42で表される芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ42は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。
【０１４７】
置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１４８】
一般式（４）として、好ましくは下記一般式（４−１）で表される化合物である。
一般式（４−１）：
【０１４９】
【化２３】
2006195365.tif 000024
【０１５０】
一般式（４−１）において、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47及びＲ48は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては上記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１５１】
Ｒ41及びＲ43として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【０１５２】
Ｒ42、及びＲ44として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１５３】
Ｒ45及びＲ48として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１５４】
Ｒ46及びＲ47として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【０１５５】
一般式（４）として、より好ましくは下記一般式（４−２）で表される化合物である。
一般式（４−２）：
【０１５６】
【化２４】
2006195365.tif 000025
【０１５７】
式中、Ｒ41、Ｒ43、Ｒ46及びＲ47は、上記一般式（４−１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【０１５８】
以下に一般式（４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１５９】
【化２５】
2006195365.tif 000026
【０１６０】
【化２６】
2006195365.tif 000027
【０１６１】
以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以上のものが、本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムを作製した場合に、保留性の点で有利であることが確認された。
【０１６２】
また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（５）で示されるものが好ましく用いられる。
一般式（５）：
【０１６３】
【化２７】
2006195365.tif 000028
【０１６４】
式中、Ｑ51及びＱ52は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ51はＮＲ51（Ｒ51は水素原子又は置換基を表す）、酸素原子又は硫黄原子を表す。
【０１６５】
Ｑ51及びＱ52で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【０１６６】
Ｑ51及びＱ52で表される芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
【０１６７】
Ｑ51及びＱ52で表される芳香族ヘテロ環として、好ましくは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のどれか１つを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１６８】
Ｑ51及びＱ52であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換又は無置換のベンゼン環である。
【０１６９】
Ｑ51及びＱ52は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸、スルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【０１７０】
Ｘ51は、ＮＲ52（Ｒ52は水素原子又は置換基を表す。置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる）、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘ51として好ましくは、ＮＲ52（Ｒ52として好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい）、又は酸素であり、特に好ましくは酸素である。
【０１７１】
一般式（５）として、好ましくは下記一般式（５−１）で表される化合物である。
一般式（５−１）：
【０１７２】
【化２８】
2006195365.tif 000029
【０１７３】
式中、Ｒ511、Ｒ512、Ｒ513、Ｒ514、Ｒ515、Ｒ516、Ｒ517、Ｒ518及びＲ519は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１７４】
Ｒ511、Ｒ513、Ｒ514、Ｒ515、Ｒ516、Ｒ518及びＲ519として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１７５】
Ｒ512として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。
【０１７６】
Ｒ517として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。
【０１７７】
一般式（５）として、より好ましくは下記一般式（５−２）で表される化合物である。
一般式（５−２）：
【０１７８】
【化２９】
2006195365.tif 000030
【０１７９】
式中、Ｒ520は水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアルキニル基、置換又は無置換のアリール基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。Ｒ520として、好ましくは置換又は無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換又は無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換又は無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ-ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換又は無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。
【０１８０】
一般式（５）であらわされる化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
【０１８１】
以下に一般式（５）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１８２】
【化３０】
2006195365.tif 000031
【０１８３】
【化３１】
2006195365.tif 000032
【０１８４】
また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるシアノ基を含む化合物としては一般式（６）で示されるものが好ましく用いられる。
一般式（６）：
【０１８５】
【化３２】
2006195365.tif 000033
【０１８６】
式中、Ｑ61及びＱ62は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ61及びＸ62は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｑ61及びＱ62で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【０１８７】
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
【０１８８】
芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１８９】
Ｑ61及びＱ62であらわされる芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。Ｑ61及びＱ62は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましい。
【０１９０】
Ｘ61及びＸ62は、水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ61及びＸ62で表される置換基は、前記の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ61及びＸ62はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ61及びＸ62は、それぞれが縮環して環構造を形成してもよい。
【０１９１】
Ｘ61及びＸ62として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ61（Ｒ61は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。
【０１９２】
一般式（６）として、好ましくは下記一般式（６−１）で表される化合物である。
一般式（６−１）：
【０１９３】
【化３３】
2006195365.tif 000034
【０１９４】
式中、Ｒ611、Ｒ612、Ｒ613、Ｒ614、Ｒ615、Ｒ616、Ｒ617、Ｒ618、Ｒ619及びＲ620は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１９５】
Ｒ611、Ｒ612、Ｒ614、Ｒ615、Ｒ616、Ｒ617、Ｒ619及びＲ620として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１９６】
Ｒ613及びＲ618として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。
【０１９７】
Ｘ611及びＸ612は、それぞれ前記一般式（６）におけるＸ61及びＸ62と同義である。
【０１９８】
一般式（６）として、より好ましくは下記一般式（６−２）で表される化合物である。
一般式（６−２）：
【０１９９】
【化３４】
2006195365.tif 000035
【０２００】
式中、Ｒ613及びＲ618は一般式（６−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。
【０２０１】
Ｘ613は水素原子又は置換基を表し、置換基としては、前記の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ613として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ62（Ｒ62は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。
【０２０２】
一般式（６）として、更に好ましくは一般式（６−３）で表される化合物である。
一般式（６−３）：
【０２０３】
【化３５】
2006195365.tif 000036
【０２０４】
式中、Ｒ613及びＲ618は、一般式（６−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ62は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｒ62として、好ましくは、Ｒ613及びＲ618が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。
【０２０５】
Ｒ62として、好ましくはＲ613及びＲ618が水素以外の場合には、一般式（６−３）で表される化合物の分子量が３００以上になり、且つ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。
【０２０６】
本発明において、一般式（６）で表される化合物は、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，６３巻、３４５２頁（１９４１年）記載の方法によって合成できる。
【０２０７】
以下に一般式（６）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０２０８】
【化３６】
2006195365.tif 000037
【０２０９】
【化３７】
2006195365.tif 000038
【０２１０】
【化３８】
2006195365.tif 000039
【０２１１】
（マット剤微粒子）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、且つ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／Ｌ以上が好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌ以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０２１２】
これらの微粒子は、通常、平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成しており、フィルム中では１次粒子の凝集体として存在して、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。
【０２１３】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、「アエロジルＲ９７２」、「アエロジルＲ９７２Ｖ」、「アエロジルＲ９７４」、「アエロジルＲ８１２」、「アエロジル２００」、「アエロジル２００Ｖ」、「アエロジル３００」、「アエロジルＲ２０２」、「アエロジルＯＸ５０」、「アエロジルＴＴ６００」｛以上、日本アエロジル（株）製｝などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、「アエロジルＲ９７６」及び「アエロジルＲ８１１」｛以上、日本アエロジル（株）製｝の商品名で市販されており、使用することができる。
【０２１４】
これらの中では「アエロジル２００Ｖ」及び「アエロジルＲ９７２Ｖ」が、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、且つ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０２１５】
本発明において、２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るため、微粒子の分散液を調製する際に、いくつかの手法が考えられる。例えば、溶媒と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。他にも、溶媒に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶媒などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は、５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。
【０２１６】
使用される溶媒は、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等の低級アルコール類が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては、特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶媒を用いることが好ましい。
【０２１７】
（可塑剤、劣化防止剤、剥離剤）
本発明においてセルロースアシレートフィルムには、以上述べた光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤の他に、各調製工程において、用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限
定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収剤の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。また赤外吸収剤としては、例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されたものが使用できる。さらにその添加する時期は、ドープ作製工程において何れで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に、添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は、機能が発現する限りにおいて特に限定されない。またさらに、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよく、例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【０２１８】
（各化合物添加の比率）
本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレート質量に対して５〜４５質量％であることが望ましい。より好ましくは１０〜４０質量％であり、さらに望ましくは１５〜３０質量％である。これらの化合物としては、前述したように、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が望ましく、２０００以下がより望ましく、１０００以下がさらに望ましい。これら化合物の総量が該下限値以上であれば、セルロースアシレート単体の性質が出すぎることがないので、例えば温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題が生じない。またこれら化合物の総量が該上限値以下であれば、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超えて、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する（フィルムからの泣き出し)などの問題が生じないので、これら化合物は総量として該範囲内で用いることが好ましい。
【０２１９】
（セルロースアシレート溶液の有機溶媒）
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、この方法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明において主溶媒として、好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル及び、炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【０２２０】
以上、本発明におけるセルロースアシレートフィルムに対しては、塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としてもよいし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としてもよく、特に限定されるものではない。
【０２２１】
その他、本発明におけるセルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含めて以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６号公報、特開平１２−９５８７７号公報、特開平１０−３２４７７４号公報、特開平８−１５２５１４号公報、特開平１０−３３０５３８号公報、特開平９−９５５３８号公報、特開平９−９５５５７号公報、特開平１０−２３５６６４号公報、特開平１２−６３５３４号公報、特開平１１−２１３７９号公報、特開平１０−１８２８５３号公報、特開平１０−２７８０５６号公報、特開平１０−２７９７０２号公報、特開平１０−３２３８５３号公報、特開平１０−２３７１８６号公報、特開平１１−６０８０７号公報、特開平１１−１５２３４２号公報、特開平１１−２９２９８８号公報、特開平１１−６０７５２号公報、特開平１１−６０７５２号公報などに記載されている。これらの特許によると、本発明におけるセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。
【０２２２】
〔セルロースアシレートフィルムの製造工程〕
［溶解工程］
本発明においてセルロースアシレート溶液（ドープ溶液）の調製に際して、その溶解方法は特に限定されず、室温溶解でもよく、また冷却溶解法又は高温溶解方法でもよく、さらにはこれらの組み合わせで実施されてもよい。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、濾過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【０２２３】
（ドープ溶液の透明度）
本発明におけるセルロースアシレート溶液である、ドープ溶液（以下、単にドープということがある）の透明度としては、８５％以上であることが望ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であることが望ましい。本発明においては、セルロースアシレートドープ溶液に、各種の添加剤が十分に溶解していることを確認する。具体的なドープの透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計“ＵＶ−３１５０”｛（株）島津製作所製｝を用いて５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみを予めブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度とドープの吸光度との比から、ドープの透明度を算出した。
【０２２４】
［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、本発明におけるセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明においてセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供される溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）で調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調整をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、次いでドープを加圧型ダイの口金（スリット）から、エンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを、乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して、巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせは、その目的により変わる。本発明におけるセルロースアシレートフィルムの主な用途としての、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護フィルムや、ハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
【０２２５】
得られるセルロースアシレートフィルムの厚さは、１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。
【０２２６】
〔セルロースアシレートフィルム物性評価〕
［光学性能］
（高湿度処理後のフィルムの光学性能変化）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの、環境変化による光学性能の変化については、６０℃、９０％ＲＨに２４０時間処理したフィルムのＲｅ及びＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることが望ましい。より望ましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらに望ましい。
【０２２７】
（高温度処理後のフィルムの光学性能変化）
また、８０℃、２４０時間処理したフィルムのＲｅ及びＲｔｈの変化量は１５ｎｍ以下であることが望ましい。より望ましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらに望ましい。
【０２２８】
（フィルム加熱処理後の化合物揮散量）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムに望ましく用いることができる、Ｒｔｈを低下させる化合物及びΔＲｔｈを低下させる化合物は、８０℃、２４０時間処理したフィルムからのそれら化合物の揮散量が、いずれも３０％以下であることが望ましい。より望ましくは２５％以下であり、２０％以下であることがさらに望ましい。
【０２２９】
なお、フィルムからのそれら化合物の揮散量は、８０℃、２４０時間処理したフィルム及び未処理のフィルムをそれぞれ溶媒に溶かし出し、液体高速クロマトグラフィーにて化合物を検出し、化合物のピーク面積をフィルム中に残存した化合物量として、下記数式（９）により算出した。
数式（９）：揮散量（質量％）＝｛（未処理品中の残存化合物量）−（処理品中の残存化合物量）｝／（未処理品中の残存化合物量）×１００
【０２３０】
（フィルムのヘイズ）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムのヘイズは、０．０１〜２．０％であることが望ましい。より望ましくは０．０５〜１．５％であり、０．１〜１．０％であることがさらに望ましい。光学フィルムとしてフィルムの透明性は重要である。
ヘイズの測定は、セルロースアシレートフィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨでヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”｛スガ試験機（株）製｝でＪＩＳ  Ｋ−６７１４に従って測定した。
【０２３１】
（フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの、正面方向のレターデーションＲｅ及び膜厚方向のレターデーションＲｔｈは、共に湿度による変化が小さいことが好ましい。具体的には、下記数式（１０）に示されるΔＲｔｈhumの範囲が、０〜５０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜４０ｎｍであり、さらに好ましくは０〜３５ｎｍである。
数式（１０）：ΔＲｔｈhum＝Ｒｔｈ10%RH−Ｒｔｈ80%RH
式中、Ｒｔｈ10%RHは２５℃、１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値、Ｒｔｈ80%RHは２５℃、８０％ＲＨにおけるＲｔｈ値を表す。
【０２３２】
（フィルムの光弾性係数）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの光弾性係数は、５０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎｅ以下であることが好ましい。３０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎｅ以下であることがより好ましく、２０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎｅ以下であることがさらに好ましい。具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料１２ｍｍ×１２０ｍｍの長軸方向
に対して引張応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメーター“Ｍ１５０”｛日本分光（株）製｝で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出した。
【０２３３】
（延伸前後におけるフィルムのＲｅの変化及び遅相軸の検出）
試料のセルロースアシレートフィルム１００×１００ｍｍを用意し、固定一軸延伸機を用いて、温度１４０℃の条件下で機械搬送方向（ＭＤ方向）又は幅方向（ＴＤ方向）に延伸を行った。延伸前後における各試料の正面レターデーションＲｅは自動複屈折計“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”を用いて測定した。遅相軸の検出は、このレターデーション測定の際に得られる配向角から決定した。延伸によってＲｅの変化が小さいことが好ましく、具体的にはＲｅ(n)をｎ(％)延伸したフィルムの正面レターデーション(ｎｍ)、Ｒｅ(0)を延伸していないフィルムの正面レターデーション(ｎｍ)としたときに、下記数式（１１）を満足することが好ましく、数式（１１−２）を満足することがさらに好ましい。
数式（１１）：｜Ｒｅ(n)−Ｒｅ(0)｜／ｎ≦１．０
数式（１１−２）：｜Ｒｅ(n)−Ｒｅ(0)｜／ｎ≦０．３
【０２３４】
（遅相軸を有する方向）
本発明の光学補償シートを偏光膜の保護フィルムに用いる場合、偏光膜が機械搬送方向（ＭＤ方向）に吸収軸を持つため、透明フィルム２として用いられるセルロースアシレートフィルムは、遅相軸がＭＤ方向近傍又はＴＤ近傍にあることが望ましい。遅相軸を偏光膜と平行又は直交させることにより、色味変化を低減できる。ここでいう近傍とは、遅相軸とＭＤ又はＴＤ方向が０〜１０°、好ましくは０〜５°の範囲にあることを表す。
【０２３５】
（固有複屈折が正であるセルロースアシレートフィルム）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムは、フィルム正面方向において、遅相軸を有する方向に延伸すると、正面レターデーションＲｅが大きくなり、遅相軸を有する方向と垂直な方向に延伸すると、正面レターデーションＲｅが小さくなる。このことは、固有複屈折が正であることを示しており、フィルム中で発現したＲｅを打ち消すには、遅相軸と垂直方向に延伸することが有効である。この方法としては、例えば、フィルムが機械搬送方向（ＭＤ方向）に遅相軸を有している場合に、ＭＤとは垂直な方向（ＴＤ方向）にテンター延伸を行って、正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。逆の例として、ＴＤ方向に遅相軸を有している場合には、ＭＤ方向の機械搬送ロールの張力を強めて延伸することによって正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。
【０２３６】
（固有複屈折が負であるセルロースアシレートフィルム）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムは、遅相軸を有する方向に延伸すると、正面レターデーションＲｅが小さくなり、遅相軸を有する方向と垂直な方向に延伸すると、正面レターデーションＲｅが大きくなる場合もある。このことは、固有複屈折が負であることを示しており、フィルム中で発現したＲｅを打ち消すには、遅相軸と同一の方向に延伸することが有効である。この方法としては、例えば、フィルムが機械搬送方向（ＭＤ方向）に遅相軸を有している場合に、ＭＤ方向の機械搬送ロールの張力を強めて延伸することによって、正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。逆の例として、ＴＤ方向に遅相軸を有している場合には、ＭＤとは垂直な方向（ＴＤ方向）にテンター延伸を行って、正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。
【０２３７】
［その他のフィルム物性］
（フィルムのガラス転移温度Ｔｇ）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムのガラス転移温度Ｔｇは、通常８０〜１６５℃である。耐熱性の観点から、Ｔｇが１００〜１６０℃であることがより好ましく、１１０〜１５０℃であることが特に好ましい。
ガラス転移温度Ｔｇの測定は、セルロースアシレートフィルム試料１０ｍｇを、常温から２００℃まで昇降温速度５℃／分で示差走査熱量計“ＤＳＣ２９１０”（Ｔ．Ａ．インスツルメント社製）で熱量測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出した。
【０２３８】
（フィルムの平衡含水率）
偏光板の保護フィルムとして、透明フィルム２のセルロースアシレートフィルムを用いる場合には、該セルロースアシレートフィルムの平衡含水率は、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃、８０％ＲＨにおける平衡含水率が、０〜４％であることが好ましい。０.１〜３．５％であることがより好ましく、１〜３％であることが特に好ましい。平衡含水率が該上限値以下であれば、光学補償シートのレターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎることがなく好ましい。
含水率の測定法は、セルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを、水分測定器、試料乾燥装置“ＣＡ−０３”、“ＶＡ−０５”｛共に三菱化学（株）製｝を用いてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。
【０２３９】
（フィルムの透湿度）
本発明の光学補償シートに用いられるセルロースアシレートフィルムの透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８を基に、温度６０℃、９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して求める。フィルムの透湿度としては、４００〜２０００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが望ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ2・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが特に好ましい。セルロースアシレートフィルムの透湿度が該上限値以下であれば、セルロースアシレートフィルム自体のＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなることがなく、また、光学補償シートとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなることがないので好ましい。このような光学補償シートや、該光学補償シートを組み合わせた偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合には、色味の変化や視野角の低下などの不具合が生じないので好ましい。また、セルロースアシレートフィルムの透湿度が該下限値以上であれば、光学補償シートを偏光膜などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられることがなく、接着不良などの不具合を生じることがないので好ましい。
【０２４０】
セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこで、どのような膜厚のサンプルでも、基準を８０μｍに設けて換算する必要がある。膜厚の換算は、下記数式（１２）に従って行った。
数式（１２）：８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚（μｍ）／８０μｍ
【０２４１】
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：「蒸気透過量の測定」（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができる。測定は、セルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍφを、２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置“ＫＫ−７０９００７”｛東洋精機（株）製｝にて、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ2）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求めた。
【０２４２】
（フィルムの寸度変化）
本発明で用いられるセルロースアシレートフィルムの寸度安定性は、６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率、及び９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率がいずれも０.５％以下であることが望
ましい。より望ましくは０.３％以下であり、さらに望ましくは０.１５％以下である。
【０２４３】
具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ｛新東科学（株）製｝にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、この穴の間隔の原寸（Ｌ0）とした。１枚の試料を６０℃、９０％ＲＨにて２４時間処理した後の穴の間隔の寸法（Ｌ1）を測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後の穴の間隔の寸法（Ｌ2）を測定した。すべての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した。得られた結果に基づき、下記数式（１３）及び（１４）により量寸法変化率を求めた。
数式（１３）：６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率（％）＝｛｜Ｌ0−Ｌ1｜／Ｌ0｝×１００
数式（１４）：９０℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率（％）＝｛｜Ｌ0−Ｌ2｜／Ｌ0｝×１００
【０２４４】
（フィルムの機械的弾性率）
本発明で用いられるセルロースアシレートフィルムの弾性率は、２００〜５００ｋｇｆ／ｍｍ2であることが好ましい、より好ましくは２４０〜４７０ｋｇｆ／ｍｍ2であり、さらに好ましくは２７０〜４４０ｋｇｆ／ｍｍ2である。具体的な測定方法としては、東洋ボールドウィン（株）製万能引張試験機“ＳＴＭ  Ｔ５０ＢＰ”を用い、２３℃、７０％ＲＨ雰囲気中、引張速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、機械的弾性率を求めた。
【０２４５】
〔セルロースアシレートフィルムの評価方法〕
本発明に用いるセルロースアシレートフィルムの評価に当たって、以下の方法で測定して実施した。
【０２４６】
［光学性能］
（正面レターデーションＲｅ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ）
セルロースアシレートフィルム試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、Ｒｅλの測定は、自動複屈折計“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測機器（株）製｝を用いて、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させることにより行った。またＲｔｈλは、このＲｅλと、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向を０°とし、フィルム試料を１０°毎に５０°まで傾斜させ、波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値とを基に、平均屈折率の仮定値１．４８及び膜厚を入力し算出した。
【０２４７】
（Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散測定）
セルロースアシレートフィルム試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、エリプソメーター“Ｍ−１５０”｛日本分光（株）製｝において、波長７８０ｎｍから３８０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させることにより、各波長でのＲｅを求め、Ｒｅの波長分散を測定した。またＲｔｈの波長分散については、このＲｅ並びに、面内の遅相軸を傾斜軸として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から７８０〜３８０ｎｍの波長の光を入射させて測定したレターデーション値、及び該フィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長７８０〜３８０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８及び膜厚を入力して算出した。
【０２４８】
（分子配向軸）
セルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍ×１００ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨで２
時間調湿し、自動複屈折計“ＫＯＢＲＡ  ２１ＤＨ”｛王子計測（株）製｝にて、垂直入射における入射角を変化させた時の位相差より分子配向軸を算出した。
【０２４９】
（軸ズレ）
また、自動複屈折計“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測機器（株）製｝を用いて、セルロースアシレートフィルムの軸ズレ角度を測定した。幅方向に全幅にわたって等間隔で２０点測定し、絶対値の平均値を求めた。また遅相軸角度（軸ズレ）のレンジとは、幅方向全域にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値の大きい方から４点の平均と小さい方から４点の平均の差をとったものである。
【０２５０】
（透過率）
セルロースアシレートフィルム試料２０ｍｍ×７０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで、透明度測定器「ＡＫＡ光電管比色計」｛ＫＯＴＡＫＩ製作所（株）製｝を用いて可視光（６１５ｎｍ）の透過率を測定した。
【０２５１】
（分光特性）
セルロースアシレートフィルム試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで、分光光度計“Ｕ−３２１０”｛（株）日立製作所製｝を用いて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定した。傾斜幅は（７２％の波長−５％の波長）で求めた。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表した。吸収端は、透過率０．４％の波長で表す。これより３８０ｎｍ及び３５０ｎｍの透過率を評価した。
【０２５２】
（セルロースアシレートフィルムのレターデーションの面内ばらつき）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの、レターデーションの面内ばらつきは、次の数式（１５）を満たすことが望ましい。
数式（１５）：｜Ｒｅmax−Ｒｅmin｜≦３で且つ｜Ｒｔｈmax−Ｒｔｈmin｜≦５
式中、Ｒｅmax及びＲｔｈmaxは、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムのレターデーション値の最大値、Ｒｅmin及びＲｔｈminはその最小値である。
【０２５３】
（フィルムの保留性）
本発明用いられるセルロースアシレートフィルムにおいては、光学性能などの改善のためフィルムに添加された各種化合物の保留性が要求される。具体的には、セルロースアシレートフィルムを８０℃、９０％ＲＨの条件下に４８時間静置した場合の、フィルムの質量変化が０〜５％であることが好ましい。より好ましくは０〜３％であり、さらに好ましくは０〜２％である。
【０２５４】
（保留性の評価方法）
セルロースアシレートフィルム試料を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに断裁し、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気下で２４時間放置後の質量を測定して、８０±５℃、９０±１０％ＲＨの条件下で４８時間放置した。処理後の試料の表面を軽く拭き、２３℃、５５％ＲＨで１日放置後の質量を測定して、以下の数式（１６）に従って保留性を計算した。
数式（１６）：保留性（質量％）＝｛（放置前の質量−放置後の質量）／放置前の質量｝×１００
【０２５５】
［フィルムの物理的特性］
（フィルム表面の性状）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの表面は、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１−１９９４に基づく、該フィルムの表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であることが好ましい。好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下である。膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。
【０２５６】
（カール）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの幅方向のカール値は、−１０／ｍ〜＋１０／ｍであることが好ましい。本発明におけるセルロースアシレートフィルムには、後述する表面処理、光学異方性層を塗設する際のラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の塗設や貼合などを長尺で行う際に、該セルロースアシレートフィルムの幅方向のカール値が、該範囲内であれば、フィルムのハンドリングに支障をきたしてフィルムの切断が起きるなどの不都合が生じにくい。またフィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触して発塵しやすくなったり、フィルム上への異物付着が多くなったりして、光学補償シートの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えるなどの不具合が生じないので好ましい。また、カールを該範囲内とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減できるほか、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、好ましい。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。
【０２５７】
（引裂き強度）
ＪＩＳ  Ｋ７１２８−２−１９９８の引裂き試験方法に基づく引裂き強度（エルメンドルフ引裂き法）は、本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムの膜厚が２０〜８０μｍの範囲においては、２ｇ以上であることが好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、更には６〜２５ｇである。またフィルムの膜厚の６０μｍ換算では８ｇ以上が好ましく、より好ましくは８〜１５ｇである。具体的には、セルロースアシレートフィルム試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に、軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。
【０２５８】
（フィルムの残留溶媒量）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムは、その残留溶媒量が０．０１〜１．５質量％の範囲となるような条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発明に用いるセルロースアシレートフィルムの残留溶媒量は１．５％以下とすることでカールを抑制できる。１．０％以下であることがより好ましい。これは、前記のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶媒量を少なくすることで、自由体積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。
【０２５９】
（フィルムの吸湿膨張係数）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数は、３０×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、光学補償シートにおいて該セルロースアシレートフィルムを用いた際、光学補償シートの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
【０２６０】
（フィルムの表面処理）
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。
ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラ
ズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。このような条件においてプラズマ励起される気体をプラズマ励起性気体といい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などが挙げられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０２６１】
（アルカリ鹸化処理によるフィルム表面の接触角）
本発明において、光学補償シートを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、セルロースアシレートフィルムを用いる際の表面処理の有効な手段の１つとしてアルカリ鹸化処理が上げられる。この場合、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面の接触角が５５°以下であることが望ましい。より望ましくは５０°以下であり、４５°以下であることがさらに望ましい。接触角の評価法は、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面に直径３ｍｍの水滴を落とし、フィルム表面と水滴のなす角を求める通常の手法によって親疎水性の評価として用いることができる。
【０２６２】
（耐光性）
本発明おけるセルロースアシレートの光耐久性の指標として、スーパーキセノン光を２４０時間照射したときの、フィルムの色差ΔＥ*abが２０以下であることが望ましい。より望ましくは１８以下であり、１５以下であることがさらに望ましい。色差の測定は、“ＵＶ３１００”｛（株）島津製作所製｝を用いた。測定の仕方は、フィルムを２５℃、６０％ＲＨに２時間以上調湿した後に、キセノン光照射前のフィルムのカラー測定を行い、初期値（Ｌ0*、ａ0*、ｂ0*）を求めた。その後、フィルム単体で、スーパーキセノンウェザーメーター“ＳＸ−７５”｛スガ試験機（株）製｝にて、１５０Ｗ／ｍ2、６０℃、５０％ＲＨ条件にてキセノン光を２４０時間照射した。所定時間の経過後、フィルムを恒温槽から取り出し、２５℃、６０％ＲＨに２時間調湿した後に、再びカラー測定を行い、照射経時後の値（Ｌ1*、ａ1*、ｂ1*）を求めた。これらから、下記数式（１７）に従って色差ΔＥ*abを求めた。
数式（１７）：ΔＥ*ab＝［（Ｌ0*−Ｌ1*）2＋（ａ0*−ａ1*）2＋（ｂ0*−ｂ1*）2］0.5。
【０２６３】
［配向膜］
配向膜は、液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有する。従って、配向膜は本発明の好ましい態様を実現する上では必須である。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。すなわち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを透明フィルム１上に転写して、本発明の偏光板を作製することも可能である。
【０２６４】
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、又はラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与又は光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
【０２６５】
配向機能を生じさせる手段は特に限定されないが、ポリマーのラビング処理によることが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
【０２６６】
本発明では、液晶分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）
を有する側鎖を主鎖に結合させるか、又は、液晶分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
【０２６７】
本発明の構成では、光学異方性層を構成するポリマー層自体を配向膜として機能させることも可能である。その場合、前記ポリマー層にラビング処理を施すことができる。また、ポリマー層を必要に応じて表面処理した上に、配向膜層を塗布により形成しラビング処理を施すこともできる。
【０２６８】
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマー又は架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。
【０２６９】
ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。
【０２７０】
配向膜に使用されるポリマーとしては、水溶性ポリマー｛例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール｝が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【０２７１】
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。
【０２７２】
液晶分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶分子の種類及び必要とする配向状態に応じて決定する。例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
【０２７３】
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、又は、液晶分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入することにより、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
【０２７４】
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［００８０］〜
［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【０２７５】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【０２７６】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、又は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【０２７７】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む塗布液を透明フィルム１上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明フィルム上に塗布した後、任意の時期に行ってよい。
【０２７８】
ポリビニルアルコールのような、水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は、質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方性層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０２７９】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の配向膜の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０〜１１０℃で行うことができる。充分な架橋を形成するためには６０〜１００℃が好ましく、特に８０〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行うことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【０２８０】
配向膜は、透明フィルム１上又は上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
【０２８１】
前記のラビング処理は、液晶表示装置（ＬＣＤ）の液晶配向処理工程として、広く採用されている処理方法を適用することができる。すなわち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、レーヨン、ゴム又はナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０２８２】
次に、配向膜を機能させて、配向膜の上に設けられる光学異方性層の液晶分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、又は、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。
【０２８３】
＜偏光板＞
偏光板は通常、偏光膜の両側に保護フィルムを有する。偏光板の保護フィルムとしては、公知のいずれの保護フィルムも用いることができるがセルロースアシレートフィルムを用いることが好ましい。該セルロースアシレートフィルムとしては、本発明において透明フィルム２として用いられるセルロースアシレートフィルムも好適に用いることが出来る。
本発明の光学補償シートは、偏光板と貼り合せるか、偏光板の偏光膜を保護する保護フィルムとして使用することで、その機能を著しく発揮することができる。
【０２８４】
＜偏光膜＞
本発明の偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ社製のものに代表される塗布型偏光膜、又は皮膜形成ポリマーと、ヨウ素又は二色性色素からなる偏光膜が好ましい。
【０２８５】
偏光膜におけるヨウ素及び二色性色素は、ポリマー皮膜中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素及び二色性色素は、ポリマー分子に沿って配向するか、又は二色性色素が、液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
【０２８６】
汎用の偏光膜は、例えば、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素又は二色性色素の溶液に浸漬し、ポリマー皮膜中にヨウ素又は二色性色素を浸透させることで作製することができる。
【０２８７】
汎用の偏光膜は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）にヨウ素又は二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みを有することが望ましい。浸透度は、ヨウ素又は二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。
【０２８８】
上記のように、ポリマー皮膜の厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。一方、厚みの上限については、特に限定はしないが、偏光板を液晶表示装置に使用した場合に発生する光漏れ現象の観点からは、薄ければ薄い程よい。現在、汎用の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。２０μｍ以下であると、１７インチの液晶表示装置では、光漏れ現象が観察されなくなり好ましい。
【０２８９】
偏光膜のポリマーは架橋していてもよい。架橋しているポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーを用いることで達成できる。官能基を有するポリマー又はポリマーに官能基を導入して得られる架橋性ポリマーを、光、熱又はｐＨ変化により、ポリマー間で反応させて偏光膜を形成することができる。
【０２９０】
また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。反応活性の高い化合物である架橋剤を用いて、ポリマー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成することができる。
【０２９１】
架橋は、一般に、ポリマー又はポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明フィルム上に塗布したのち、加熱を行うことにより実施される。最終商品の段階で耐久性が確保できればよいため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行なってもよい。
【０２９２】
偏光膜を形成するポリマーは、それ自体架橋可能なポリマー又は架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。ポリマーの例には、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルトルエン、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、塩素化ポリオレフィン（例えば、ポリ塩化ビニル）、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、カルボキシメチルセルロース、ポリプロピレン、ポリカーボネート及びそれらのコポリマー（例えば、アクリル酸／メタクリル酸重合体、スチレン／マレインイミド重合体、スチレン／ビニルトルエン重合体、酢酸ビニル／塩化ビニル重合体、エチレン／酢酸ビニル重合体）が含まれる。水溶性ポリマー｛例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール｝が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【０２９３】
ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールのケン化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましく、９５〜１００％が最も好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００が好ましい。
【０２９４】
変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールに対して、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により変性基を導入して得られる。
【０２９５】
共重合変性では、変性基として、−ＣＯＯＮａ、−Ｓｉ（ＯＨ）3、Ｎ（ＣＨ3）3・Ｃｌ、Ｃ9Ｈ19ＣＯＯ−、−ＳＯ3Ｎａ、−Ｃ12Ｈ25を導入することができる。連鎖移動変性では、変性基として、−ＣＯＯＮａ、−ＳＨ、−ＳＣ12Ｈ25を導入することができる。
【０２９６】
変性ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３０００が好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号及び同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。
【０２９７】
ケン化度が８５〜９５％の未変性ポリビニルアルコール及びアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
【０２９８】
ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールは、２種以上を併用してもよい。
【０２９９】
ポリマーの架橋剤は、多く添加すると、偏光膜の耐湿熱性を向上させることができるが、ヨウ素又は二色性色素の配向性を良好に保つためには、ポリマーに対して架橋剤を５０質量％より少なく添加することが好ましい。架橋剤の添加量は、ポリマーに対して、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。
【０３００】
ポリマー皮膜は、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。ただし、残存する架橋剤の量は、ポリマー中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。バインダー層中の架橋剤の量が該上限値以下であれば、耐久性に問題が生じることがないので好ましい。すなわち、架橋剤の残留量を少なくすることによって、偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、又は高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、偏光度の低下などの不具合を防止することができる。
【０３０１】
架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例えば、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。
【０３０２】
二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素又はアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親
水性置換基（例えば、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。
【０３０３】
二色性色素の例には、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・イエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ７２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド７９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８１、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・バイオレット４８、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー６７、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー９０、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・グリーン５９、Ｃ．Ｉ．アシッド・レッド３７が含まれる。二色性色素については、特開平１−１６１２０２号、同１−１７２９０６号、同１−１７２９０７号、同１−１８３６０２号、同１−２４８１０５号、同１−２６５２０５号、同７−２６１０２４号の各公報に記載がある。
【０３０４】
二色性色素は、遊離酸、又はアルカリ金属塩、アンモニウム塩又はアミン塩として用いられる。２種類以上の二色性色素を配合することにより、各種の色相を有する偏光膜を製造することができる。偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）を用いた偏光膜、又は黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した偏光膜又は偏光板が、単板透過率及び偏光率とも優れており好ましい。
【０３０５】
本発明においては、偏光膜と透明フィルム１を、接着剤を介して配置することも可能性である。接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液を用いることができる。その中でもポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜５μｍの範囲にあることが特に好ましい。
【０３０６】
〔偏光膜の製造〕
偏光膜は、歩留まりの観点から、ポリマーフィルムを偏光膜の長手方向（ＭＤ方向）に対して、１０〜８０゜傾斜して延伸するか（延伸法）、又はラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。傾斜角度は、液晶表示装置（ＬＣＤ）を構成する液晶セルの両側に貼り合わされる、２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦又は横方向のなす角度に合わせるように延伸することが好ましい。
【０３０７】
通常の傾斜角度は４５゜である。しかし、最近は、透過型、反射型及び半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５゜でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
【０３０８】
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。
【０３０９】
延伸工程は、斜め延伸を含め数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め延伸前に、横又は縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。
【０３１０】
延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を、左右異なる工程で行うことによって実施できる。該二軸延伸は、通常のフィルム製膜において行われている延伸方法と同様である。二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のポリマーフィルムの厚みが、左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、ポリマー溶液の流量に左右の差をつけることができる。
以上のように、偏光膜のＭＤ方向に対して１０〜８０゜斜め延伸されたバインダーフィルムが製造される。
【０３１１】
ラビング法では、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を応用することができる。すなわち、膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、レーヨン、ゴム又はナイロン、ポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いて実施することが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０゜が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０゜以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。
【０３１２】
長尺フィルムをラビング処理する場合は、フィルムを搬送装置により一定張力の状態で１〜１００ｍ／分の速度で搬送することが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフィルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。０〜６０゜の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。
【０３１３】
〔偏光板の性能〕
偏光板の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にある（偏光板の単板透過率の最大値は５０％である）ことが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。
【０３１４】
〔光学補償シート、偏光板を構成する各層の積層順、積層角度〕
本発明の偏光板は、保護フィルム、偏光膜、および上記光学補償シートからなり、液晶表示装置に用いる場合には、光学補償シート側が液晶セル側に配置される。本発明の光学補償シートは、偏光膜と液晶セルの間に、偏光膜側から透明フィルム１、光学異方性層、透明フィルム２の順番で積層される。偏光膜と光学異方性層とは、偏光膜の吸収軸と光学異方性層の遅相軸とが、実質的に直交するようにして積層される。また、偏光板にするときは、偏光板の片側の保護フィルムを該光学補償シートが兼ねるようにすることが好ましい。
上記各層の間には、配向膜や粘着層、さらなる光学異方性層等、必要に応じて適宜追加することができる。
【０３１５】
〔ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム〕
本発明の光学補償シート及び偏光板、並びに次ぎに記す液晶表示装置にはハードコート層、防眩層、反射防止層の何れか、又は全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されている。
【０３１６】
＜液晶表示装置＞
〔一般的な液晶表示装置の構成〕
本発明の光学補償シートは、偏光膜の透過軸と、光学補償シートの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、２枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された２枚の偏光板、及び該液晶セルと該偏光板の偏光膜との間に少なくとも１枚の光学補償シートを配置した構成を有している。
【０３１７】
液晶セルの液晶層は、通常は、２枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層又は（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
【０３１８】
［ＴＮ型液晶表示装置］
本発明の光学補償シートは、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置に好適に用いられる。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くからよく知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（“Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．”，３６巻（１９９７年）ｐ．１４３及びｐ．１０６８）に記載がある。
【実施例】
【０３１９】
以下に本発明を、実施例を挙げて一層詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３２０】
実施例１
＜光学補償シートの作製＞
〔透明フィルム１｛セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）｝の作製〕
［内層用ドープ（Ｄ−１）及び外層用ドープ（Ｄ−２）の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液である内層用ドープ（Ｄ−１）及び外層用ドープ（Ｄ−２）を調製した。
【０３２１】
｛内層用ドープ（Ｄ−１）及び外層用ドープ（Ｄ−２）組成（質量部）｝
Ｄ−１          Ｄ−２
セルロースアセテート（酢化度６０．９％）      １００          １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤）            ７．８          ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）    ３．９          ３．９
メチレンクロリド（第１溶媒）                  ２９３          ３１４
メタノール（第２溶媒）                          ７１            ７６
１−ブタノール（第３溶媒）                    １．５          １．６
シリカ微粒子                                      ０          ０．８
“ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２”日本アエロジル（株）製
下記構造のレターデーション上昇剤              １．７              ０
【０３２２】
【化３９】
2006195365.tif 000040
【０３２３】
｛セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）の作製｝
得られた内層用ドープ及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶媒量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定し、搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶媒量が１０質量％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶媒が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を作製した。
【０３２４】
得られたセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）の幅は１３４０ｍｍであり、厚さ
は８０μｍであった。エリプソメーター“Ｍ−１５０”｛日本分光（株）製｝を用いて、波長５００ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ６ｎｍであった。また、波長５００ｎｍにおける厚さ方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ８３ｎｍであった。
【０３２５】
［セルロースアセテートフィルムの鹸化処理］
作製したセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）を、２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥して、鹸化処理フィルム（ＰＫ−１）を得た。この鹸化処理フィルム（ＰＫ−１）の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
【０３２６】
〔光学異方成層の形成〕
本発明における光学補償シート製造工程では、ウェブは送出機により送られ、ガイドロールによって支持されながらラビング処理ロールを経るが、この後に、本発明の図１に示される塗布工程が組み入れられる。その後、乾燥ゾーン、加熱ゾーン、紫外線ランプを通過し、巻き取り機によって巻き取るのが基本工程である。ウェブ１２の進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバーが設置されている。
【０３２７】
スロットダイ１３の上流側リップランド長ＩUPを１ｍｍ、下流側リップランド長ＩLOを５０μｍとした。このスロットダイ１３を用いて、湿潤膜厚が５μｍとなるように、ウェブ１２上に塗布液１４を５ｍＬ／ｍ2で塗布した。塗布速度は６０ｍ／分とした。ウェブ１２には上記の厚み８０μｍのセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）を用い、下流側リップランド１９とウェブ１２であるセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）との隙間の長さは、４０μｍに設定した。
【０３２８】
［配向膜の形成］
塗布液１４を塗布する前に、ウェブ１２の塗布面に対し、下記の組成の配向膜形成用塗布液を塗布し、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥して配向膜用樹脂層を形成した。次いで配向膜用樹脂層を形成したウェブ１２を送り、配向膜用樹脂層の表面にラビング処理を施して配向膜を形成し、そのまま塗布工程へ搬送して、下記のように塗布液１４の塗布を実施した。なお配向膜のラビング処理は、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と平行な方向に実施した。ラビング処理におけるラビングローラの回転周速を５．０ｍ／秒とし、配向膜用樹脂層に対する押しつけ圧力を９．８×１０-3Ｐａに設定した。
【０３２９】
（配向膜形成用塗布液組成）
下記構造の変性ポリビニルアルコール                    １０質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                        ０．５質量部
【０３３０】
【化４０】
2006195365.tif 000041
【０３３１】
［光学異方性層１の形成］
塗布液１４には、下記に示す光学異方性層形成用塗布液の組成を用いた。塗布速度は６０ｍ／分とした。塗布液１４を塗布したウェブ１２を、１００℃に設定した乾燥ゾーン、及び１３０℃に設定した加熱ゾーンを通過させ、この液晶層表面に６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプにより紫外線を照射し、光学異方性層１を形成した｛以下、便宜上、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）に光学異方性層１を積層したフィルムを光学補償シート１という。｝。塗布可能性については目視によるビード状態の観察により判断し、ビード１４ａが破断した段階で塗布不可能とした。この結果、本実施例１では、塗布は可能であり、このときの減圧度は１０００Ｐａであった。
得られた光学異方性層の、波長５４６ｎｍで測定したＲｅレターデーション値は５０ｎｍであった。
【０３３２】
（光学異方性層形成用塗布液組成）
下記の組成物を、１０２質量部のメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。
下記構造のディスコティック液晶性化合物（１）      ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
“Ｖ＃３６０”大阪有機化学（株）製                ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート                      ０．３４質量部
“ＣＡＢ５５１−０．２”イーストマンケミカル社製
セルロースアセテートブチレート                      ０．１１質量部
“ＣＡＢ５３１−１”イーストマンケミカル社製
フルオロ脂肪族基含有ポリマー１                    ０．０２７質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー２                      ０．２３質量部
光重合開始剤                                        １．３５質量部
「イルガキュア９０７」チバガイギー社製
増感剤                                              ０．４５質量部
「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製
【０３３３】
【化４１】
2006195365.tif 000042
【０３３４】
【化４２】
2006195365.tif 000043
【０３３５】
【化４３】
2006195365.tif 000044
【０３３６】
〔透明フィルム２｛セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）｝の作製〕
［ドープ（Ｄ−３）の調製］
｛セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）の調製｝
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）を調製した。
【０３３７】
（セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）組成）
セルロースアセテート（酢化度２．８６）        １００．０質量部
メチレンクロリド（第１溶媒）                  ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                          ６０．０質量部
【０３３８】
［マット剤溶液の調製］
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子“ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝を２０質量部及びメタノール８０質量部を、３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
【０３３９】
（マット剤溶液組成）
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ）の分散液          １０．０質量部
メチレンクロリド（第１溶媒）                    ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                            ３．４質量部
セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）          １０．３質量部
【０３４０】
［添加剤溶液の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液を調製した。光学的異方性を低下する化合物及び波長分散調整剤については下記表４に示すものを用いた。
【０３４１】
（添加剤溶液組成）
光学的異方性を低下させる化合物（１１９）        ４９．３質量部
波長分散調整剤（ＵＶ−１０２）                    ８．０質量部
メチレンクロリド（第１溶媒）                    ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                            ８．７質量部
セルロースアセテート原液（ＣＡＬ−２）          １２．８質量部
【０３４２】
［セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）の作製］
上記セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）９４．６質量部、マット剤溶液１．３質量部及び添加剤溶液４．１質量部のそれぞれを濾過後に混合して、ドープ（Ｄ−３）を調製した。次いで得られたドープ（Ｄ−３）を、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学異方性を低下させる化合物（１１９）及び波長分散調整剤（ＵＶ−１０２）の、セルロースアセテートに対する質量比は、それぞれ１２質量％、１．９質量％であった。残留溶媒量が３０質量％となった時点でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させ、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）を製造した。出来上がったセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）の残留溶媒量は０．２質量％であり、膜厚は８０μｍであった。また該フィルム（ＣＡ−２）のＲｅ630は０．３ｎｍ（流延方向に遅相軸）、Ｒｔｈ630は２．９ｎｍであり、｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜は１．２ｎｍ、｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜は６．８ｎｍであった。
また、波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈλ0は３４ｎｍであり、数式（３）の値は、−２．５９であった。
【０３４３】
［光学補償シート（ＫＨ−１）の作製］
前記で得られた光学補償シート１と、上記のセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）とを、前記セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）の鹸化処理と同様に処理した後、光学補償シート１の光学異方性層１側の表面に、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）を貼り合わせ、光学補償シート（ＫＨ−１）を得た。
【０３４４】
比較例１−１〜１−２
実施例１において、添加剤溶液中の光学異方性を低下する化合物及び波長分散調整剤の種類及び量を表１の内容に変更した以外は実施例１と同様にして、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−３）及び（ＣＡ−４）を作製し、以下実施例１と同様にして、光学補償シート１の光学異方性層１側の表面に貼り合わせて光学補償シート（ＫＨＲ−１）及び（ＫＨＲ−２）を得た。得られた光学補償シートの構成及び、使用したセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−３）及び（ＣＡ−４）の光学特性を表１に示す。
【０３４５】
【表１】
2006195365.tif 000045
【０３４６】
＜偏光板の作製＞
実施例１１
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜（ＨＦ−１）を作製した。ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光学補償シート（ＫＨ−１）のセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）が偏光膜側となるように偏光膜の片側表面に貼り
付けた。偏光膜（ＨＦ−１）の透過軸と光学補償シート（ＫＨ−１）の遅相軸とは直交するように配置した。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム“ＴＤ−８０Ｕ”｛富士写真フイルム（株）製｝に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜（ＨＦ−１）の反対側表面に貼り付けた。このようにして偏光板（ＨＢ−１）を作製した。
【０３４７】
比較例１１−１及び１１−２
実施例１１において、光学補償シート（ＫＨ−１）を用いる代わりに、光学補償シート（ＫＨＲ−１）又は（ＫＨＲ−２）を用いる以外は実施例１１と同様にして、偏光板（ＨＢＲ−１）及び（ＨＢＲ−２）を作製した。
【０３４８】
比較例１１−３
実施例１１において、光学補償シート（ＫＨ−１）を用いる代わりに、光学補償シート１を用いる以外は実施例１１と同様にして、偏光板（ＨＢＲ−３）を作製した。
【０３４９】
［ＴＮ液晶セルでの評価］
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置“ＡＱＵＯＳ  ＬＣ２０Ｃ１Ｓ”｛シャープ（株）製｝に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記の実施例１１及び比較例１１−１〜１１−３のいずれかで作製した偏光板を、トリアセチルセルロースフィルム“ＴＤ−８０Ｕ”が液晶セルの反対側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に１枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とが直交するように配置した。
【０３５０】
作製した液晶表示装置について、測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示のときの正面方向から見た色味と上６０°方向から見たときの色味の変化を評価した。
本発明である偏光板（ＨＢ−１）を使用した液晶表示装置のみがΔｕ'ｖ'≦０．０４５を達成し、視角を変化させたときの色味の変化が小さかったが、偏光板（ＨＢＲ−１）、（ＨＢＲ−２）及び（ＨＢＲ−３）を使用した液晶表示装置では、いずれもΔｕ'ｖ'＞０．０４５で視角を変化させたときの色味の変化は大きかった。なおΔｕ'ｖ'はＣＩＥ１９７６  ＵＣＳ色度図による色差を指標にした。
【０３５１】
実施例２及び実施例１２
実施例１において、光学異方性層の塗布液組成を下記のように変更して光学異方性層２を形成｛以下、便宜上、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）に光学異方性層２を積層したフィルムを光学補償シート２という。｝した以外は実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−２）を作製した。
【０３５２】
次ぎに、実施例１１において、光学補償シート（ＫＨ−１）を用いる代わりに、この光学補償シート（ＫＨ−２）を用いる以外は実施例１１と同様にして偏光板（ＨＢ−２）を作製し、これを実施例１１と同様に液晶表示装置に貼って性能評価を行ったところ、視角を変化させたときの色味変化は実施例１１と同様に良好であることが確認された。
【０３５３】
（光学異方性層２の塗布液組成）
下記の組成物を、メチルエチルケトン１０７質量部に溶解して塗布液を調製した。
前記構造のディスコティック液晶性化合物（１）        ４１．０１質量部
エチレンオキシド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
“Ｖ＃３６０”大阪有機化学（株）製                  ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート                        ０．９０質量部
“ＣＡＢ５５１−０．２”イーストマンケミカル社製
セルロースアセテートブチレート                        ０．２１質量部
“ＣＡＢ５３１−１”イーストマンケミカル社製
フルオロ脂肪族基含有ポリマー                          ０．１４質量部
「メガファックＦ７８０」大日本インキ（株）製
光重合開始剤                                          １．３５質量部
「イルガキュア９０７」チバガイギー社製
増感剤                                                ０．４５質量部
「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製
【０３５４】
実施例３−１〜３−３
実施例１において、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）の膜厚が５０、６０又は１００μｍになるように調整して、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−５）〜（ＣＡ−７）を作製し、以下実施例１と同様にして光学補償シート（ＫＨ−３）〜（ＫＨ−５）を作製した。
【０３５５】
以下に、実施例１〜３で得られた光学補償シートの構成を表２に示す。
【０３５６】
【表２】
2006195365.tif 000046
【０３５７】
実施例１３−１〜１３−３
実施例１１において、光学補償シート（ＫＨ−１）を用いる代わりに、実施例３で作製した光学補償シート（ＫＨ−３）〜（ＫＨ−５）のいずれかを用いる以外は実施例１１と同様にして、偏光板（ＨＢ−３）〜（ＨＢ−５）を作製し、この偏光板を実施例１１と同様に液晶表示装置に貼って性能評価を行ったところ、その視角を変化させたときの色味変化はいずれも実施例１１と同様に良好であることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０３５８】
透明フィルム１、光学異方性層ならびに特定の波長におけるＲｅおよびＲｔｈが小さくかつ波長分散も小さい透明フィルム２を積層した光学補償シートは、それをＴＮモード液晶表示装置に適用したとき該液晶表示装置の視角による色味変化を改善することができることが確認された。すなわち本発明の光学補償シートは、画像表示装置の分野において表示色味の改善に応用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０３５９】
【図１】図１は、本発明を実施したスロットダイを用いたコーターの概略図である。
【図２】図２は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明のスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。
【符号の説明】
【０３６０】
１０：コーター
１１：バックアップロール１１
１２：ウェブ１２
１３：スロットダイ
１４：塗布液
１４ａ：ビード
１４ｂ：塗布膜１４ｂ
１５：ポケット
１６：スロット１６
１６ａ：開口部１６ａ
１７：先端リップ
１７ａ：ランド（平坦部）
１８：上流側リップランド
１９：下流側リップランド
【０３６１】
ＩLO：下流側リップランドのウェブ走行方向における長さ
ＩUP：上流側リップランドのウェブ走行方向における長さ
３０：従来のスロットダイ
３１：従来のスロットダイの下流側リップランド
３２：従来のスロットダイのポケット
３３：従来のスロットダイのスロット
【図１】
2006195365.tif 000047
【図２】
2006195365.tif 000048