(57)【要約】【課題】  エアブロー時にペリクル膜が基板に接触しないような変形範囲を持つ大型ペリクルを提供すること。【解決手段】  内径の対角寸法が１０００mm以上である大型ペリクル枠体23と、大型ペリクル枠体23の一方の縁面に接着剤26を介して展張された大型ペリクル膜22と、該大型ペリクル膜22を展張した縁面と対向する縁面にマスクに貼り付けるために設けられた粘着材24と、それを保護するためのライナーとが順に積層された大型ペリクル21において、大型ペリクル枠体23の変形しやすさを示す変位度が４．２mm／Ｎ以下であることを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
内径の対角寸法が１０００mm以上である大型ペリクル枠体と、該大型ペリクル枠体の一方の縁面に接着剤を介して展張された大型ペリクル膜と、該大型ペリクル膜を展張した縁面と対向する縁面にマスクに貼り付けるために設けられた粘着材と、それを保護するためのライナーとが順に積層された大型ペリクルにおいて、
前記大型ペリクル枠体の変形しやすさを示す変位度が４．２mm／Ｎ以下であることを特徴とする大型ペリクル。
【請求項２】
前記ペリクル膜に予め初期歪みを付与し、前記ペリクル枠体に接着剤を介して接着した時に張力を有する事を特徴とする請求項１に記載の大型ペリクル。
【請求項３】
前記初期歪みの大きさを表す歪み度が０．７×１０−３〜３．３×１０−３ Ｎ／mmであることを特徴とする請求項１又は２に記載の大型ペリクル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は大型ペリクルに係り、詳しくは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を構成する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）やカラーフィルター（ＣＦ）を製造する際に、リソグラフ工程で使用されるフォトマスクに異物が付着することを防止するための大型ペリクルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＬＣＤを構成するＴＦＴを製造する際のリソグラフ工程において、フォトマスクにペリクルと称する防塵手段を載置して、該フォトマスクへの異物の付着を防止することが行われている。近年、ＬＣＤの大型化に伴い、ＬＣＤを製造するためのマスク、およびこれを保護するためのペリクルも大型化が進んでいる。
【０００３】
このような大型ペリクルでは、使用中あるいは保管中にペリクル膜に付着した異物をエアブローで除去しようとすると、膜がフォトマスク上に形成されているマスクパターンに接触してしまう問題が明らかになった。石英などのガラス基板上にクロムや酸化クロムで形成された数μmのマスクパターンは、静電気で破壊することがある。このため、静電気を発するおそれのある樹脂製のペリクル膜がマスクパターンに接触することは好ましくない。
【０００４】
ペリクル膜の張力によるペリクル枠の変形量が大きいと、結果として張力が緩んでしまう。大型ペリクル枠体の変形に関しての対策として、次のような技術がある。まず、有効露光領域を確保するために大型ペリクル膜の張力を考慮に入れて、大型ペリクル膜を展張して支持する大型ペリクル用枠体の長辺の幅を短辺の幅よりも大きくし、ペリクル膜展張による枠体長辺が内側に向かう撓みを抑制する方法である（例えば特許文献１）。また、一対の辺を枠体の外側に向かって突出するように形成し、これによってペリクル膜展張による枠体長辺の内側に向かう撓みを抑制する方法である（例えば特許文献２）。
【０００５】
ペリクル膜に初期歪み即ち張力を与える方法としては、ペリクル膜を基板表面から剥離するための支持枠を用いてペリクル膜を均等に伸延させる方法がある（例えば特許文献３）。
【０００６】
面積が１４４cm２以上のペリクル膜に対して、ペリクル枠に変形がなく、かつペリクル膜にしわやたるみの無いペリクルを提供する方法がある（例えば特許文献４）。具体的には、ペリクル枠の変形を抑える方法として、ペリクル膜を加熱してペリクル膜の張力を緩和する方法が記載されている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−１０９１３５
【特許文献２】特開２００２−２９６７６３
【特許文献３】特開平１０−３３９９４４
【特許文献４】特開平１１−６５０９２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１及び特許文献２の技術は、枠体の変形を制御するものであって、ペリクル膜のエアブローによる変形防止には不十分である。
【０００９】
また、特許文献３の技術の目的はしわや緩みの無いペリクル膜の製造を目標とするため、その張力はエアブローによる変形防止、特に大型ペリクルには必ずしも十分ではない。
【００１０】
また、特許文献４の実施例は、高々ペリクル枠の外寸１２０mm角、幅２mm（内径対角寸法が１６４mm）のものが挙げられているだけであり、かつ、ペリクル枠の剛性とペリクル膜の初期歪の関係に関しての記載は無い。具体的には、ペリクル膜を加熱してペリクル膜の張力を緩和することは、しわやたるみの無いペリクル膜を製造できたとしても、エアブローによる変形防止の効果は得られない。
【００１１】
このように、前記従来技術では、大型ペリクルの寸法が大きくなるにつれて、エアブローによるペリクル膜の変形を十分に抑える事は難しい。これはエアブローでペリクル膜が基板に接触しない程度に十分な張力をペリクル膜に与え、それをペリクル枠体に貼り付けた際に枠体自身がその張力によって撓み、その事が逆に実質的な張力を小さくしエアブローによるペリクル膜の変位を十分に抑える事が出来ない事も大きな要因と思われる。
【００１２】
本発明の目的は、ペリクル枠体の変位度と、膜の初期歪みとを適切に制御する事によって、エアブロー時にペリクル膜が基板に接触しないような変形範囲を持つ大型ペリクルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
十分な張力を与えるに必要な初期歪み量と張力に応じて枠体が変形しづらい枠体の条件を鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本願発明は以下の構成を有する。
【００１４】
（１）内径の対角寸法が１０００mm以上である大型ペリクル枠体と、該大型ペリクル枠体の一方の縁面に接着剤を介して展張された大型ペリクル膜と、該大型ペリクル膜を展張した縁面と対向する縁面にマスクに貼り付けるために設けられた粘着材と、それを保護するためのライナーとが順に積層された大型ペリクルにおいて、前記大型ペリクル枠体の変形しやすさを示す変位度が４．２mm／Ｎ以下であることを特徴とする大型ペリクル。
【００１５】
（２）前記ペリクル膜に予め初期歪みを付与し、前記ペリクル枠体に接着剤を介して接着した時、張力を有することを特徴とする上記（１）記載の大型ペリクル。
【００１６】
（３）前記初期歪みの大きさを表す歪み度が０．７×１０−３〜３．３×１０−３Ｎ／mmであることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の大型ペリクル。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、上記のような構成を有する。すると、ペリクル膜の初期歪みによって枠体が容易に撓むことを抑制し、ペリクル膜張力が緩むことを抑制する。このため、エアブローによる膜の変形を受けやすくなることを抑えることができる。こうして、ペリクル膜にエアブローをする際に、ペリクル膜下方の基板に接触しないようにすることができる。具体的には、ペリクル膜にエアブローをした際のペリクル膜のマスク方向への変形量を７mm以下にする事が可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図を用いて本発明による大型ペリクル枠体を説明する。尚、本発明はこれらに限定されるものではない。図１は大型ペリクルの斜視図であり、図２は大型ペリクルの断面図である。
【００１９】
図１及び図２に示すように、本実施形態に係るペリクル21は、内径の対角寸法が１０００mm以上である大型ペリクル枠体23と、大型ペリクル枠体23の一方の縁面に接着剤26を介して展張された大型ペリクル膜22と、大型ペリクル膜22を展張した縁面と対向する縁面にマスクに貼り付けるために設けられた粘着材24と、それを保護するための保護ライナー25から成る。
【００２０】
また、図１に示すように、大型ペリクル枠体23には、枠体23を構成する長辺23ａと枠体23を構成する短辺23ｂとを有する。
【００２１】
（ペリクル膜の詳細構成、及びペリクル膜の製造方法）
ペリクル膜22を構成するポリマーとしては、ニトロセルロース、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、エチルセルロース、シアノエチルセルロース、セルロースカーボネートなどのセルロース誘導体ポリマー；アセチル化プルラン、シアノエチルプルランなどのプルラン誘導体ポリマー；ポリ乳酸ポリマー；ポリフツ化ビニリデン、テトラフロロエチレン−弗化ビニリデン共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体、クロロトリフルオロエチレン−フツ化ビニリデン共重合体又はポリフツ化ビニル、主鎖に環構造を有する含弗素ポリマー（CYTOP（旭硝子（株）製、商品名）、TEFLON AF（DuPont社製、商品名）など）などのフッ素ポリマー；ポリビニルブチラール、ポリビニルプロピオナールなどのポリビニルアセタールポリマー；４−メチル−１−ペンテン系共重合ポリマーなどが使用できる。ポリマーの分子量は、ペリクル膜22の強度、弾性率や露光光線に対する耐久性、溶媒への溶解性などを考慮し選択する。
【００２２】
これらを溶解する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなどのエステル系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート；パーフルオロアルキルアミン（FLUORINERTシリーズ（３Ｍ社製、商品名）、CT-Solvシリーズ（旭硝子（株）製、商品名）など）、パーフルオロアルキルフラン（FLUORINERTシリーズ（３Ｍ社製、商品名）など）、ハイドロフルオロエーテル（Novecシリーズ（３Ｍ社製、商品名））、パーフルオロエーテル（GALDEN（SOLVAY SOLEXIS社製、商品名））、ハイドロフルオロエーテル（H-GALDEN（SOLVAY SOLEXIS社製、商品名））などのフッ素系溶媒などが使用できる。これらの溶媒は単独で使用してもよいし、混合して使用してもよい。
【００２３】
ポリマーと溶媒の組合せは、異物やゲルを除去するための所望の口径によるろ過ができるように溶解性を考慮したり、所望のペリクル膜厚が得られるよう、成膜に最適な濃度−粘度特性や蒸発速度を考慮して選択する。
【００２４】
ペリクル膜22は単層でもよいし、光線透過率を高めるため、屈折率の異なるポリマーを積層し多層膜としても良い。
【００２５】
加熱、加圧、攪拌などの手段によりポリマーを溶媒に溶解しポリマー溶液とする。
【００２６】
ポリマー溶液は、乾燥空気、窒素などの不活性ガス、あるいはポンプなどで加圧ろ過し、溶液中の異物やゲルを取り除く。ろ過に使用するフィルターは、四フッ化エチレン、超高分子量ポリエチレン、ナイロン、ポリプロピレン製のメンブレンフィルターやデプスフィルターが挙げられる。
【００２７】
ポリマー溶液を成膜用基板に滴下し、ペリクルの膜厚が所望の膜厚になるように成膜する。成膜方法としては、回転成膜法（スピンコート法）、スリットコート法、スリットアンドスピン法などがある。
【００２８】
成膜用基板としては、石英ガラス、低膨張ガラス、ソーダガラス、セラミックスなどの表面を研磨、洗浄したものを用いることができる。研磨方法としては、物理研磨、化学研磨等の方法がある。ガラスの表面は、ポリマー溶液の濡れ性や乾燥後の膜の剥離性を制御するために、表面処理を施しても良い。表面処理剤としては、パーフルオロアルキル基を有するシリコーン化合物やシラザンなどが挙げられる。
【００２９】
ペリクルの膜厚が所望の値になるよう、ポリマー溶液の濃度、粘度、溶媒の沸点を適宜選択する。さらに、回転成膜法、スリットアンドスピン法では、回転数、回転時間、回転加速時間、スリットコート法、スリットアンドスピン法では、溶液吐出量、スリットの間隔、スリットの移動速度、スリットと成膜用基板との間の距離を調節する。
【００３０】
成膜を終了した基板は、乾燥により溶媒を蒸発させる。乾燥方法としては、ホットプレート、赤外線ランプ、クリーンオーヴンなどが挙げられる。
【００３１】
乾燥を終了した基板から、膜を剥離する。外形が基板とほぼ同形状で幅が１０〜５０mm程度、厚さが３〜２０mm程度の金属製仮枠、あるいは樹脂製仮枠に、両面テープ、エポキシ等の接着剤を貼付または塗布し、基板上の膜に押圧・固定する。この枠を静かに起こし、基板から膜を仮枠に剥がし取る。
【００３２】
ペリクル枠体23の材質は、アルミニウム合金、工具鋼、ステンレススチール、セラミックス、ガラス等が使用できる。ペリクル枠体23表面でのマスク上異物検査光が反射しないよう、ペリクル枠体23の表面は、ステンレススチールビーズやガラスビーズなどでショットブラスト処理してもよい。また、ペリクル枠体23の表面の異物検査がしやすいよう、それぞれの材質に適切な方法で黒色化処理（たとえば、染料や２次電解着色による黒色アルマイト処理、黒クロム処理など）を行っても良い。
【００３３】
ペリクルをマスクに貼り付けた後の膜の膨らみや凹みを防ぐため、ペリクル枠体23には１つあるいは複数の通気口を設けても良い。通気口には異物の混入を防ぐため、四フッ化エチレン製などのフィルターを取り付ける。
【００３４】
ペリクル枠体23の内壁面には、アクリル系やシリコーン系の粘着剤を塗布しても良い。
【００３５】
ペリクル枠体23の一方の縁面には、マスクに貼着するための粘着材を設置する。粘着材は、基材の両側に粘着剤を有する両面テープをペリクル枠体23とほぼ同形状に打ち抜いたものを貼り付けたり、ホットメルト系の粘着材をペリクル枠体23上に塗布する。両面テープの基材側面からの発塵を防ぐため、基材側面に粘着剤を塗布してもよい。
【００３６】
粘着材には、マスクに貼り付けるまで粘着面を保護するために、粘着材から離型しやすいよう表面処理を施したポリエステルフィルムを貼り付けておく。
【００３７】
次に、ペリクル枠体23のもう一方の縁面に接着剤を塗布し、仮枠に張設した膜を貼り合わせる。接着剤としては、ウレタンアクリレート系などのＵＶ（紫外線）硬化型樹脂、エポキシ樹脂、ふっ素系ポリマーを溶媒に溶解したものなどが挙げられる。貼り合わせたのち、ＵＶ照射、赤外線やレーザー照射による加熱など、それぞれの接着剤に適した方法で接着する。
【００３８】
膜を接着後、ペリクル枠体23の外周に沿って膜を切断、除去する。切断の方法としては、刃物などによる切断やペリクル膜22を溶解する溶媒滴下などの方法が挙げられる。
【００３９】
このようにして、大型ペリクルが完成する。
【００４０】
（ペリクル膜の枠体の変位度）
エアブローによる変位を抑えるのに必要なペリクル膜22の張力は、ペリクル膜22をペリクル枠体23に展張する前にペリクル膜22を伸張する事で発生する歪み、即ち初期歪みにより与えることが出来る。一方、この初期歪みに対して枠体23を変形しづらくするには枠体23の剛性を上げる事が必要となる。枠体23の剛性は次のような変数である変位度δで表すことができる。
【００４１】
変位度δとは、ペリクル膜22を展張していない枠体23のみの状態で、長辺23ａ又は短辺23ｂの中央に荷重をかけた時の長辺23ａの変形量から、長辺23ａ及び短辺23ｂに同時に荷重をかけた時の長辺中央に於ける単位荷重当りの変位量を定義した値を言う。
【００４２】
これまでの対角寸法が１０００mm未満の中小型ペリクルのデータ及び安全率を考慮して、変位度δ＝４．２mm／Ｎ以下が必要な条件と導いた。これ以上の変位度をもつ枠体は、膜を展張したときの枠体の撓みが大きくなり過ぎ、ペリクル膜22の初期歪みが減少する。
【００４３】
具体的な変位度δの測定法を説明する。まず、図３のように、ペリクル枠体23の長辺23ａ側を床面に平行に配置し、床面側の下部の長辺23ａの中央を下から支持部材32が接触するように支え、同時に枠体23がずれないように上部の長辺23ａの両端を接触するように支える。
【００４４】
次に上部の長辺23ａ中央に錘31を垂らしかけ、この時の長辺中央の移動量をｄll［mm］とする。尚、ここで、ｄllはペリクル枠体23単体での長辺中央の移動量を示す。約１００ｇ単位を目途に錘31の重量ｗ［ｇ］を１００ｇ、２００ｇ、３００ｇ、４００ｇと負荷をかけ、各負荷に対するｄllを測定する。以上の測定結果より以下の数１式で示す原点を通るｄllとｗの一次式の比例定数llを決定する。
【００４５】
[数１]
ｄll＝ll×ｗ×９．８／１０００
【００４６】
次に、図４のようにペリクル枠体23の短辺23ｂ側を床面に平行に配置し、床面側の下部短辺23ｂの中央を下から支持部材32が接触するように支え、同時に枠体23がずれないように上部の短辺23ｂの両端を接触するように支える。次に上部の短辺23ｂ中央に錘31を垂らしかけ、この時の長辺23ａの中央の移動量をｄls[mm]とする。約１００ｇ単位を目途に、錘31の重量ｗ［ｇ］を１００ｇ、２００ｇ、３００ｇ、４００ｇと負荷をかけ、各負荷に対するｄlsを測定する。以上の測定結果より以下の数２式で示す原点を通るｄlsとｗの一次式の比例定数lsを決定する。
【００４７】
[数２]
ｄls＝ls×ｗ×９．８／１０００
【００４８】
錘31を垂らしかけた辺中央の移動量ｄll、ｄlsは、長辺23ａの変形が凹の時は正、凸の時は負とする。上記関係式より比例定数ll、ls ［mm／Ｎ］を求め、以下の数３式により長辺23ａと短辺23ｂに同時に荷重がかかった時の単位荷重当りの変位量を示す変位度δを得る事が出来る。尚、以下の数３式のａi，ｂiはそれぞれ図１に示す大型ペリクル枠体23の長辺23ａ、短辺23ｂの各枠内側の長さである。
【００４９】
[数３]
δ＝ll＋ls×ｂi／ａi
【００５０】
（ひずみ度）
ひずみ度ε［Ｎ／mm］は次のように定義する。ペリクル膜22を展張する前の枠体長辺23ａ中央間の外寸距離を測定し、次に、ペリクル膜22を展張した後の枠体長辺23ａ中央間の外寸距離を測定し、その差を２で割った値を長辺中央の移動量ｄl[mm]とする（図５参照）。ここで、ペリクル膜22が展張された枠体長辺中央間の外寸距離を先に測定し、次に、ペリクル膜22の展張を解除したのち枠体長辺中央間の外寸距離を測定し、同様にｄl[mm]を求めてもよい。
【００５１】
ひずみ度εは、ｄlを短辺23ｂ中央内寸で正規化した変位ｄl／ａiと変位度δの比とする。これは初期歪みを有する展張されたペリクル膜22と枠体23の剛性との関係を示す。
【００５２】
この値の範囲はこれまでの対角寸法が１０００mm未満の中小型ペリクルのデータより考慮して、０．７×１０−３〜３．３×１０−３Ｎ／mmが必要な条件と導いた。ひずみ度εは、以下の数４式で表す。
【００５３】
[数４]
ε＝（ｄl／ａi）×（１／δ）
【００５４】
ペリクル膜22の初期歪みは、ペリクル膜22の成膜にスピンコート法を用いる事で好適に得る事が出来る。また、必要に応じてスピンコート用の基板から剥離した後、伸張して更に初期歪みを与えた後ペリクル枠に展張する事でも得ることが出来る。具体的には、剥離後の仮枠を加熱、膨張させたり、仮枠を機械的に均等に半径方向に展張する。または、剥がし取ったペリクル膜22にペリクル枠体23を接着する際、ペリクル枠体23をペリクル膜22に押付けて展張した状態で接着剤を硬化することによって初期歪を与えても良い。
【実施例１】
【００５５】
以下、本発明を実施例および比較例を挙げて具体的に説明する。
【００５６】
ぺリクル膜を構成するポリマーとして、セルロースアセテートプロピオネート（CAP  480-20、Eastman Chemical Company製）、溶媒として乳酸エチルを選択し、固形分濃度８重量％の溶液を作成した。この溶液を窒素で０．０１ＭＰａに加圧し、口径０．１μｍのメンブレンフィルターを通してろ過を行った。
【００５７】
成膜用基板として、一辺が１４００mmのソーダガラス表面を物理研磨後さらに化学研磨し、純水で洗浄したものを用意した。この基板をクリーンオーヴンで１００℃、２時間加熱乾燥後、室温まで冷却した。次に、この基板とヘキサメチルジシラザン２０ccを導入した直径５cmの上部が開放されたポリエチレンの容器を、清浄な金属製の箱に室温で３０分間封入した。ガラス基板を取り出した後、クリーンオーヴンで１００℃、２時間加熱した。
【００５８】
このようにして準備したガラス基板をクローズドカップ式のスピンコーターにセットし、先に準備したポリマー溶液をガラス基板上に約３００ｇ供給し、ガラス基板を３５０rpmで６０sec間回転せしめた。
【００５９】
このガラス基板を６０℃のホットプレート上に３０分間載せて、溶媒を蒸発せしめた。
【００６０】
外形の一辺が１３９６mm、幅が２０mm、厚さが６mmのアルミニウム合金（6061）を黒色アルマイトおよび封孔処理した仮枠を用意し、エポキシ接着剤を塗布し、基板上の膜に押圧・固定する。該エポキシ接着剤が硬化した後、この枠を静かに起こし、基板から膜を仮枠に剥がし取る。
【００６１】
ペリクル枠体23として、ヤング率７０［ＧＰａ］のアルミニウム合金（5052）を、図１に示す内寸(ａi×ｂi) ８９０．５mm×７３４mm、外側コーナーＲo＝１０、内側コーナーＲi＝２、内径の対角寸法ｃi＝１１５２．４mm、長辺枠幅ａw＝８mm、短辺枠幅ｂw＝７mm、高さｈ＝５．２mmで、各長辺中央部に口径１．５mmの貫通穴を１つずつ計２個開け、各長辺端部にアルマイト処理時の把持および電極用として口径２mm、深さ２mmの穴を２箇所ずつ計４箇所開け、さらに、両短辺の高さ方向の中央部に幅１．５mm、深さ２．３mmのハンドリング用溝を切る加工を、短辺の全長に渡り施した。この枠体表面をステンレススチールビーズでショットブラスト処理したのち、黒色アルマイトおよび封孔処理したものを用意した。
【００６２】
この枠体を用い、前記のように各辺の荷重と変位の関係式（数１式）、（数２式）を求め、その比例定数ll＝１．４７mm／Ｎ、ls＝−０．４４mm／Ｎを得た。これら比例定数と前記内寸を式（数３式）に代入して、変位度δ＝１．１mm／Ｎを得た。
【００６３】
またペリクル枠体23の内壁面に、アクリル製の粘着剤を、厚さ約１０μmに塗布した。通気口部には四フッ化エチレン製のメンブレンフィルターをアクリル系粘着剤で取り付けた。ペリクル枠体23の一方の縁面には、マスク粘着材として、SEBS（スチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロック共連合体）製のホットメルト樹脂を、幅６mm、高さ１．６mmになるよう、塗布、成型した。ホットメルト樹脂の表面を保護するための保護ライナーとして、シリコーン離型処理を施した、厚さ０．１mmのポリエステル製フィルムを貼り付けた。
【００６４】
ペリクル枠体23の先に粘着材を塗布した反対の縁面に、ウレタンアクリレート系の紫外線硬化型接着剤を塗布した。その後、先の仮枠に張設したペリクル膜22を載置し、紫外線を照射し該紫外線硬化型接着剤を硬化せしめ、膜を接着した。フレームの外周エッジ部に刃を沿わせて、余分な膜を切断、除去し、大型ペリクルを作成した。
【００６５】
ペリクル膜22展張前のペリクル枠体23長辺中央間の外寸は７５０mmであり、ペリクル膜22展張後のペリクル枠体23長辺中央間の外寸は７４７．７mmであった。これより、ペリクル枠体23長辺中央間の移動量ｄl＝（７５０−７４７．７）／２＝１．１５mmとなった。ｄl＝１．１５mm、δ＝１．１mm／Ｎ、ａi＝８９０．５mmを式（数４式）に代入し、歪み度ε＝１．１×１０−３Ｎ／mmを得た。
【００６６】
この膜の中央付近を上方から、口径１mmのエアガンで、圧力０．１５ＭＰａ、距離５cm、時間１０secの条件でエアブローを行い、暗室内で膜の表面を高輝度ハロゲンランプで照らし、目視で膜表面にガラス表面のマスクパターンが接触した痕跡の無い事が確認できた。
【００６７】
以上より変位度１．１mm／Ｎ、歪み度１．１×１０−３Ｎ／mmで、エアガンで負荷をかけてもペリクル膜22がマスク表面に接触しない大型ペリクルを提供する事が出来る。
【００６８】
尚、変位度は、枠体の断面の幅、高さ、材料のヤング率を適切に大きくする事で達成された。例えばヤング率を大きくするにはステンレスや工具鋼等も使うことが出来た。
【実施例２】
【００６９】
前記実施例１と同様にペリクル膜22を構成する溶液を準備した。
【００７０】
成膜用基板として、一辺が１６００mmのソーダガラス表面を物理研磨後さらに化学研磨し、純水で洗浄したものを用意した。この基板をクリーンオーヴンで１００℃、２時間加熱乾燥後、室温まで冷却した。次に、この基板とヘキサメチルジシラザン２０ccを導入した直径５cmの上部が開放されたポリエチレンの容器を、清浄な金属製の箱に室温で３０分間封入した。ガラス基板を取り出した後、クリーンオーヴンで１００℃、２時間加熱した。
【００７１】
このようにして準備したガラス基板をクローズドカップ式のスピンコーターにセットし、先に準備したポリマー溶液をガラス基板上に約５００ｇ供給し、ガラス基板を３５０rpmで６０sec間回転せしめた。
【００７２】
このガラス基板を６０℃のホットプレート上に３０分間載せて、溶媒を蒸発せしめた。
【００７３】
外形の一辺が１４３８mm、幅が２０mm、厚さが８mmのアルミニウム合金（6061）を黒色アルマイトおよび封孔処理した仮枠を用意し、エポキシ接着剤を塗布し、基板上の膜に押圧・固定する。該エポキシ接着剤が硬化した後、この枠を静かに起こし、基板から膜を仮枠に剥がし取る。
【００７４】
ペリクル枠体23として、ヤング率７０［ＧＰａ］のアルミニウム合金（5052）を、図１に示す内寸(ａi×ｂi) １３１４mm×７６１mm、外側コーナーＲo＝９、内側コーナーＲi＝２、内径の対角寸法ｃi＝１５１６．８mm、長辺枠幅ａw＝１２mm、短辺枠幅ｂw＝１２mm、高さｈ＝５．６mmで、各長辺中央部に口径１．５mmの貫通穴を１つずつ計２個開け、各長辺端部にアルマイト処理時の把持および電極用として口径２mm、深さ２mmの穴を２箇所ずつ計４箇所開け、さらに、両短辺の高さ方向の中央部に幅１．５mm、深さ２．３mmのハンドリング用溝を切る加工を、短辺の全長に渡り施した。この枠体表面をステンレススチールビーズでショットブラスト処理したのち、黒色アルマイトおよび封孔処理したものを用意した。
【００７５】
この枠体を用い、前記のように各辺の荷重と変位の関係式（数１式）、（数２式）を求め、その比例定数ll＝１．０９mm／Ｎ、ls＝−０．２１mm／Ｎを得た。これら比例定数と前記内寸を式（数３式）に代入して、変位度δ＝０．９７mm／Ｎを得た。
【００７６】
またペリクル枠体23の内壁面に、アクリル製の粘着剤を、厚さ約１０μmに塗布した。通気口部には四フッ化エチレン製のメンブレンフィルターをアクリル系粘着剤で取り付けた。ペリクル枠体23の一方の縁面には、マスク粘着材として、SEBS（スチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロック共連合体）製のホットメルト樹脂を、幅３．５mm、高さ１．４mmになるよう、塗布、成型した。ホットメルト樹脂の表面を保護するための保護ライナーとして、シリコーン離型処理を施した、厚さ０．１mmのポリエステル製フィルムを貼り付けた。
【００７７】
ペリクル枠体23の先に粘着材を塗布した反対の縁面に、ウレタンアクリレート系の紫外線硬化型接着剤を塗布した。その後、先の仮枠に張設したペリクル膜22を載置し、紫外線を照射し該紫外線硬化型接着剤を硬化せしめ、膜を接着した。フレームの外周エッジ部に刃を沿わせて、余分な膜を切断、除去し、大型ペリクルを作成した。
【００７８】
ペリクル膜22展張前のペリクル枠体23長辺中央間の外寸は７８７．８mmであり、ペリクル膜22展張後のペリクル枠体23長辺中央間の外寸は７８３．７mmであった。これより、ペリクル枠体23長辺中央間の移動量ｄl＝（７８７．８−７８３．７）／２＝２．０５mmとなった。ｄｌ＝２．０５mm、δ＝０．９７mm／Ｎ、ａi＝１３１４mmを式（数４式）に代入し、歪み度ε＝１．６×１０−３Ｎ／mmを得た。
【００７９】
前記実施例１と同様に、このようにして出来上がったペリクルのマスク粘着材を保護している保護ライナーを剥がし、大きさ８５０mm×１４００mm、厚さ１０mmの表面が平滑なガラスマスクに貼り付けた。
【００８０】
この膜の中央付近を上方から、口径１mmのエアガンで、圧力０．１５ＭＰａ、距離５cm、時間１０secの条件でエアブローを行い、暗室内で膜の表面を高輝度ハロゲンランプで照らし、目視で膜表面にガラス表面のマスクパターンが接触した痕跡の無い事が確認できた。
【００８１】
以上より変位度０．９７mm／Ｎ、歪み度１．６×１０−３Ｎ／mmで、エアガンで負荷をかけてもペリクル膜22がマスク表面に接触しない大型ペリクルを提供する事が出来た。
【実施例３】
【００８２】
ペリクル枠体23として、ヤング率７０［ＧＰａ］のアルミニウム合金（5052）を、図１に示す内寸(ａi×ｂi) １３４２mm×１１２２mm、外側コーナーＲo＝９、内側コーナーＲi＝２、内径の対角寸法ｃi＝１７４７．６mm、長辺枠幅ａw＝１２mm、短辺枠幅ｂw＝１２mm、高さｈ＝５．６mmとした以外は、実施例２と同様にして大型ペリクルを得た。
【００８３】
この枠体を用い、前記のように各辺の荷重と変位の関係式（数１式）、（数２式）を求め、その比例定数ll＝１．３５mm／Ｎ、ls＝−０．３５mm／Ｎを得た。これら比例定数と前記内寸を式（数３式）に代入して、変位度δ＝１．０６mm／Ｎを得た。
【００８４】
ペリクル膜22展張前のペリクル枠体23長辺中央間の外寸は１１４９．５mmであり、ペリクル膜22展張後のペリクル枠体23長辺中央間の外寸は１１４６．７mmであった。これより、ペリクル枠体23長辺中央間の移動量ｄl＝（１１４９．５−１１４６．７）／２＝１．４mmとなった。ｄｌ＝１．４mm、δ＝１．０６mm／Ｎ、ａi＝１３４２mmを式（数４式）に代入し、歪み度ε＝１．０×１０−３Ｎ／mmを得た。
【００８５】
前記実施例１と同様に、このようにして出来上がったペリクルのマスク粘着材を保護している保護ライナーを剥がし、大きさ１２２０mm×１４００mm、厚さ１０mmの表面が平滑なガラスマスクに貼り付けた。
【００８６】
この膜の中央付近を上方から、口径１mmのエアガンで、圧力０．１５ＭＰａ、距離５cm、時間１０secの条件でエアブローを行い、暗室内で膜の表面を高輝度ハロゲンランプで照らし、目視で膜表面にガラス表面のマスクパターンが接触した痕跡の無い事が確認できた。
【００８７】
以上より変位度１．０６mm／Ｎ、歪み度１．０×１０−３Ｎ／mmで、エアガンで負荷をかけてもペリクル膜22がマスク表面に接触しない大型ペリクルを提供する事が出来た。
【産業上の利用可能性】
【００８８】
本発明は、リソグラフ工程で使用されるフォトマスクに異物が付着することを防止するための大型ペリクルに利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】大型ペリクルの枠体全体図である。
【図２】大型ペリクルの断面図（図１のＡ−Ａ断面図）である。
【図３】変位度の測定方法を示す図である。
【図４】変位度の測定方法を示す図である。
【図５】ひずみ度の測定方法を示す図である。
【符号の説明】
【００９０】
21…大型ペリクル
22…大型ペリクル膜
23…大型ペリクル枠体
23ａ…長辺
23ｂ…短辺
24…粘着材
25…ライナー
26…接着剤
31…錘
32…支持部材
41・・・ペリクル膜を展張する前の枠体（またはペリクル膜を除去した後の枠体）
42・・・ペリクル膜を展張した後の枠体（またはペリクル膜が展張された状態での枠体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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