(57)【要約】【課題】  膜厚が薄く、遮光性能が高く、製造時に高温に晒されても色味変化が少ない表示装置用遮光膜、及び黒色材料用微粒子含有組成物を提供する。【解決手段】  少なくとも粒子のアスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、硫黄原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有することを特徴とする、表示装置用遮光膜及び黒色材料用微粒子含有組成物。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも粒子のアスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、硫黄原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有することを特徴とする表示装置用遮光膜。
【請求項２】
請求項１に記載の表示装置用遮光膜が１８０℃〜３００℃での熱処理が施されていることを特徴とする表示装置用遮光膜。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の遮光膜を作製するための黒色材料用微粒子含有組成物であって、少なくとも粒子のアスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、硫黄原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有することを特徴とする黒色材料用微粒子含有組成物。
【請求項４】
前記黒色材料用微粒子含有組成物が多官能モノマーを含有することを特徴とする請求項３に記載の黒色材料用微粒子含有組成物。
【請求項５】
前記黒色材料用微粒子含有組成物が光重合開始剤を含有することを特徴とする請求項４に記載の黒色材料用微粒子含有組成物。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の遮光膜を作製するための材料であって、支持体上に少なくとも粒子のアスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、硫黄原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有する層を少なくとも１層形成したことを特徴とする材料。
【請求項７】
請求項６に記載の材料が多官能モノマーを含有することを特徴とする材料。
【請求項８】
請求項７に記載の材料が光重合開始剤を含有することを特徴とする材料。
【請求項９】
前記支持体上に形成された少なくとも１層が転写可能な層であることを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の材料。
【請求項１０】
請求項３〜５のいずれか１項に記載の組成物、又は請求項６〜９のいずれか１項に記載の材料を用いて作製することを特徴とする遮光膜付き基板。
【請求項１１】
光透過性の基板上に、着色層であって、互いに異なる色を呈する２つ以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに遮光画像により離画されているカラーフィルタにおいて、前記遮光画像が請求項１又は２に記載の遮光膜を用いて作製することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項１２】
請求項１又は２に記載の遮光膜を有することを特徴とする液晶表示素子。
【請求項１３】
請求項１２に記載の液晶表示素子を用いて作製したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１４】
請求項１１に記載のカラーフィルタを用いて作製されたことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置など表示装置の内部に設けられた遮光用途の膜（これを以下、「遮光膜」という）、該遮光膜を作成するための黒色材料用微粒子含有組成物、材料、遮光膜を用いたカラーフィルタ及び液晶表示素子、並びに該液晶表示素子を用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用遮光膜は、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置内部に設けられた黒色の縁や画素周囲の格子状やストライプ状の黒色の縁部（いわゆるブラックマトリックス）、さらにＴＦＴ遮光のためのドット状や線状の黒色パターンのことである。
表示装置用遮光膜の例は、光漏れによるコントラスト低下を防止するためにカラーフィルターの赤、青、緑の画素の周囲に形成されるブラックマトリックスである。
他の例は薄膜トランジスター（ＴＦＴ）用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示素子において、ＴＦＴの光による電流リークに伴う画質の低下を防ぐためにＴＦＴ上に設ける遮光膜である。これらの遮光膜には通常光学濃度２以上の遮光性が要求される。遮光膜の色調は表示装置の表示品位の点から黒色が好ましい。
【０００３】
従来、金属微粒子の分散物を利用して遮光膜を作製する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００４−３３４１８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前記方法は一般的な分散剤が用いられているため、表示装置用の遮光膜としては、金属微粒子の分散が不十分となり、遮光性能は満足できるものではなかった。
さらに、金属微粒子を含有する表示装置用遮光膜は、製造時、高温に晒すこと（例えば、現像後のポストベーク）により、膜の色味が変化することがあり、この問題の解決が望まれる。
【０００５】
本発明は前記のごとき問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、膜厚が薄く、遮光性能が高く、製造時に高温に晒されても色味変化が少ない表示装置用遮光膜を提供することにある。
また、本発明は、膜厚が薄く、遮光性能が高く、製造時に高温に晒されても色味変化が少ない遮光膜を作成するための黒色材料用微粒子含有組成物を提供することにある。
さらに、本発明は、膜厚が薄く、遮光性能が高く、製造時に高温に晒されても色味変化が少ない遮光膜を作成するための材料を提供することにある。
さらに、また本発明は、前記遮光膜を用いたカラーフィルタ及び液晶表示素子、並びに該液晶表示素子を用いた液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記実情に鑑み本発明者らは、鋭意研究を行ったところ、上記課題を解決しうることを見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は下記の手段により達成されるものである。
【０００７】
＜１＞  少なくとも粒子のアスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、硫黄原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有することを特徴とする表示装置用遮光膜。
【０００８】
＜２＞  上記＜１＞に記載の表示装置用遮光膜が１８０℃〜３００℃での熱処理が施されていることを特徴とする表示装置用遮光膜。
【０００９】
＜３＞  上記＜１＞又は＜２＞に記載の遮光膜を作製するための黒色材料用微粒子含有組成物であって、少なくとも粒子のアスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、硫黄原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有することを特徴とする黒色材料用微粒子含有組成物。
【００１０】
＜４＞  前記黒色材料用微粒子含有組成物が多官能モノマーを含有することを特徴とする上記＜３＞に記載の黒色材料用微粒子含有組成物。
【００１１】
＜５＞  前記黒色材料用微粒子含有組成物が光重合開始剤を含有することを特徴とする上記＜４＞に記載の黒色材料用微粒子含有組成物。
【００１２】
＜６＞  上記＜１＞又は＜２＞に記載の遮光膜を作製するための材料であって、支持体上に少なくとも粒子のアスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、硫黄原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有する層を少なくとも１層形成したことを特徴とする材料。
【００１３】
＜７＞  上記＜６＞に記載の材料が多官能モノマーを含有することを特徴とする材料。
＜８＞  上記＜７＞に記載の材料が光重合開始剤を含有することを特徴とする材料。
【００１４】
＜９＞  前記支持体上に形成された少なくとも１層が転写可能な層であることを特徴とする上記＜６＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の材料。
【００１５】
＜１０＞  上記＜３＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の組成物、又は上記＜６＞〜＜９＞のいずれか１項に記載の材料を用いて作製することを特徴とする遮光膜付き基板
＜１１＞  光透過性の基板上に着色層であって、互いに異なる色を呈する２つ以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに遮光画像により離画されているカラーフィルタにおいて、前記遮光画像が上記＜１＞又は＜２＞に記載の遮光膜を用いて作製することを特徴とするカラーフィルタ。
【００１６】
＜１２＞  上記＜１＞又は＜２＞に記載の遮光膜を有することを特徴とする液晶表示素子。
【００１７】
＜１３＞  上記＜１２＞に記載の液晶表示素子を用いて作製したことを特徴とする液晶表示装置。
＜１４＞  上記＜１１＞に記載のカラーフィルタを用いて作製されたことを特徴とする表示装置。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、膜厚が薄く、遮光性能が高く、製造時に高温に晒されても色味変化が少ない表示装置用遮光膜を提供することができる。
本発明によれば、膜厚が薄く、遮光性能が高く、製造時に高温に晒されても色味変化が少ない遮光膜を作成するための黒色材料用微粒子含有組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、膜厚が薄く、遮光性能が高く、製造時に高温に晒されても色味変化が少ない遮光膜を作成するための材料を提供することができる。
さらに、また本発明は、前記遮光膜を用いたカラーフィルタ及び液晶表示素子、並びに該液晶表示素子を用いた液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
［遮光膜］
本発明でいう表示装置用遮光膜とは、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置の内部に設けられた遮光用途の膜をいい、例えば、表示装置の周辺部に設けられる黒色の縁や、画素の周囲に設ける格子状、ストライプ状などの黒色の縁部（いわゆるブラックマトリックス）、ＴＦＴ遮光のためのドット状、線状の黒色パターン等が挙げられる。
本発明の表示装置用遮光膜は、パターン化したもの（以下、「遮光画像」ともいう。）及びパターン化しないもののいずれも含む。
前記遮光膜は、粒子の平均アスペクト比が２〜１００金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有する。
【００２０】
（金属微粒子）
本発明における金属微粒子の「金属」とは、「岩波理化学辞典（第５版）」（１９９８年岩波書店発行）に記載の「金属」（４４４頁）による。
本発明で用いられる金属微粒子は、アスペクト比が２〜１００の金属微粒子であれば特に限定されず、いかなるものを用いてもよい。
【００２１】
＜アスペクト比＞
本発明において、金属微粒子の「アスペクト比」とは、金属微粒子の後述のごとく定義した長軸長を短軸長で割った値を意味し、１００個の金属微粒子について測定した値の平均値と定義する。
尚、粒子の投影面積は電子顕微鏡写真上での面積を測定し、撮影倍率を補正することにより得られる。
【００２２】
前記金属微粒子における径（長軸長、短軸長）について説明する。
本発明における金属微粒子を三軸径として、１個の金属微粒子がちょうど（きっちりと）収まるような箱（直方体）を考え、この箱の長さＬ、幅ｂ、高さ又は厚みｔをもってこの金属微粒子の寸法と定義する仕方である。
金属微粒子を箱に収める場合いくつかの仕方があるが、本発明では以下の方法を採用する。
まず、平面上に、金属微粒子を、最も重心が低くて安定に静止するように置く。次に、平面に対し直角に立てた２枚の平行な平板により金属微粒子を挟み、その平板間隔が最も短くなる位置の平板間隔を「幅ｂ」とする。次に、前記幅ｂを決する２枚の平板に対し直角で前記平面に対しても直角の２枚の平行な平板により金属微粒子を挟み、この２枚の平板間隔を「長さＬ」とする。最後に金属微粒子の最も高い位置に接触するように天板を前記平面に平行に載せ、天板と平面との間隔を高さ又は厚みｔとする。（この方法により平面、各２枚の平板及び天板によって画される直方体が形成される。）
また、金属微粒子の三軸径ｂ、Ｌ及びｔの最も長いものに該当する軸を「長軸」と定義し、長軸方向における長さを「長軸長」と、また、長軸に平行な光を金属微粒子に照射して得られる投影面積を真円換算した場合の直径を「短軸長」と定義する。
【００２３】
前記金属微粒子のアスペクト比（粒子の長軸長／粒子の短軸長の比）は、２〜１００とする必要がある。中でも、吸収スペクトルの制御ができ、色相をより黒色に近づけることできるとの観点から、４〜８０が好ましく、１０〜６０がさらに好ましく、１５〜５０が特に好ましい。
アスペクト比が２未満であると黒色粒子が得ずらいといった支障が生じ、また、アスペクト比が１００を超えても同様に可視光域の吸収が小さくなり、画質の低下（解像力）といった問題が生じる。
【００２４】
金属微粒子の短軸長は、４〜５０ｎｍであることが好ましく、１５〜５０ｎｍであることがより好ましく、１５〜３０ｎｍであることが最も好ましい。
また、金属微粒子の長軸長（最大長）は、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１００〜１０００ｎｍであることがより好ましく、４００〜８００ｎｍであることがさらに好ましい。
【００２５】
本発明における金属微粒子は、アスペクト比を調整（異なるアスペクト比の粒子を混合する）することによって、即ち、同一金属で異なるアスペクト比を有する微粒子を用いることによって、吸収スペクトル制御でき、色相を黒色に近づけることもできる。黒色に近づけるためには、その他の金属或いは後述の金属化合物の微粒子等色々な種類のアスペクト比をもつ粒子を組み合わせることにより得ることも出来る。
【００２６】
金属微粒子を、球形から、例えば、ロッド状へ変化させることにより、可視光線の吸収量も約２倍となり、球状粒子よりもトータルの吸収係数が大きくなり、透過濃度を稼ぐことが可能なことを見い出し、これにより遮光層の薄膜化を可能とした。
【００２７】
本発明で用いられる金属微粒子としては、特に限定されないが、中でも、例えば、長周期型周期表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、及び第６周期からなる群から選ばれる金属を主成分として含むことが好ましく、また、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、及び第１４族からなる群から選ばれる金属を主成分として含むことが好ましい。これらの金属のうち、本発明における金属微粒子としては第４周期、第５周期、又は第６周期の金属であって、第２族、第１０族、第１１族、第１２族、又は第１４族の金属がさらに好ましい。
【００２８】
本発明における金属微粒子の形状は、特に制限無く、アンパン状、ジャガイモ状、棒状（針状、円柱状、直方体等の角柱形、ラグビーボール形等）、平板状（鱗片状、楕円板状、板状）、繊維状、金平糖状、コイル状等であってもよいが、好ましくは、板状粒子、棒状（ロッド）である。
【００２９】
前記金属粒子として分散金属粒子の好ましい例は、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンタル、カルシウム、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金、から選ばれる少なくとも一種を挙げることができる。さらに好ましい金属は、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム又はこれらの合金、より好ましい金属は、銅、銀、金、白金、錫又はこれらの合金から選ばれる少なくとも一種である。
その中でも容易に微粒子を得られやすいという点から金、銀、銅、スズが好ましく、とりわけ銀が好ましい。本発明の金属は前記金属の合金であってもよく、好ましい合金としては銀とスズの合金が挙げられる。
【００３０】
本発明における金属微粒子の数平均粒径は、膜厚を超えない限り特に制限はないが、該金属微粒子の数平均粒径は、１０〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、１０〜５００ｎｍの範囲がより好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲が更に好ましい。
数平均粒径が、１０ｎｍ未満の粒子は、生成が難しく、該数平均粒径の金属微粒子を用いて作製されたカラーフィルターは、その特性上、目視で茶褐色（黒色にはならない）に見える点で、好ましくない場合がある。また、１０００ｎｍを超えると粒子を分散した分散物の安定性が低下して、遮光性が悪化する場合がある。
尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値を言う。
粒径分布についても特に制約はない。
【００３１】
さらに、本発明で用いる金属微粒子は、均一な組成でも、不均一な組成でもよい。不均一な組成の例としては、表面に内部と異なる組成のコーティング層を設けたものを挙げることができる。
【００３２】
（金属化合物微粒子）
本発明で言う「金属化合物」とは、金属と金属以外の元素との化合物である。
該金属は、前記金属微粒子における金属と同義であり、好ましい元素も同様である。
【００３３】
本発明の金属化合物微粒子は、少なくとも粒子のアスペクト比が２〜１００の金属化合物の微粒子であれば特に限定されず、いかなるものを用いても良い。該アスペクト比は前記定義と同様である。
本発明の金属化合物微粒子のアスペクト比は、前記金属微粒子の同様の観点から、好適な範囲も同様である。
【００３４】
また、本発明の金属化合物微粒子の径（長軸長、短軸長）、形状、平均粒径、粒径分布等についても、前記金属微粒子と同様であり、好適なものも同様である。
【００３５】
前記金属と他の元素の化合物としては金属の酸化物、硫化物、硫酸塩、炭酸塩などがある。このうち硫化物が色調や微粒子形成のしやすさから特に好ましい。これら金属化合物の例としては酸化銅（ＩＩ）、硫化鉄、硫化銀、硫化銅（ＩＩ）、チタンブラックなどがあるが、硫化銀は色調、微粒子形成のしやすさや安定性の観点から特に好ましい。
【００３６】
さらに、本発明で用いる金属化合物微粒子は、均一な組成でも、不均一な組成でもよい。不均一な組成の例としては、表面に内部と異なる組成のコーティング層を設けたものを挙げることができる。
【００３７】
本発明で用いる前記アスペクト比２〜１００の金属微粒子及び金属化合物微粒子は、特に制限はなく、気相法、液相法などの公知の方法で作製することができる。金属化合物微粒子の作製方法については、例えば「超微粒子の技術と応用における最新動向ＩＩ（住ベテクノリサーチ（株）２００２年発行）」に記載されている。
金属微粒子は市販のものを用いることができる他、金属イオンの化学的還元法、無電解メッキ法、金属の蒸発法等により調製することが可能である。
特にロッド状の銀微粒子は球形銀微粒子を種粒子としてその後、銀塩をさらに添加し、CTAB（セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）等の界面活性剤の存在下でアスコルビン酸など比較的還元力の弱い還元剤を用いることにより銀ロッドやワイヤーが得られることがＡｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００２，１４，８０−８２に記載されている。また、同様の記載がＭａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．２００４，８４，１９７−２０４、Ａｄｖ．Ｆｕｎｃｔ．Ｍａｔｅｒ．２００４，１４，１８３−１８９になされている。
電気分解を用いた方法として、Ｍａｔｅｒ．Ｌｅｔｔ．２００１，４９，９１−９５やマイクロ波を照射することにより銀ロッドを生成する方法がＪ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．２００４，１９，４６９−４７３に記載されている。逆ミセルと超音波の併用した例として、Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｂ，２００３，１０７，３６７９−３６８３があげられる。
金に関しても、同様にＪ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｂ  １９９９，１０３、３０７３−３０７７及びＬａｎｇｍｕｉｒ１９９９，１５，７０１−７０９、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００２，１２４，１４３１６−１４３１７に記載されている。
ロッド状の粒子の形成方法は、界面活性剤の存在下での還元法により作製した。基本的に、界面活性剤の種類や還元剤の種類、添加量調整、ＰＨ制御により種々のロッド状粒子が調製できる。より、具体的には、金属との相互作用の少ない界面活性剤をはじめに用い、還元して粒子成長させた段階で、相互作用の大きな界面活性剤を添加しそれ以上の粒子の成長を抑える。基本的に還元剤の種類と時間で形状制御できる。
後述の金属化合物微粒子については、上記で得られたロッド状の粒子を、酸化や硫化することにより調製できる。
【００３８】
＜複合微粒子＞
本発明で言う金属微粒子とは、金属と金属の複合微粒子であってもかまわない。また、金属化合物微粒子とは金属と金属化合物、金属化合物と金属化合物の複合微粒子であってもかまわない。この形状には特に制限はない。例えば、粒子の内部と表面で組成の異なるもの、２種類の粒子が合一したもの等を挙げることができる。また、金属化合物と金属は、それぞれ１種でも２種以上であってもよい。金属化合物と金属との複合微粒子の具体例としては銀と硫化銀の複合微粒子、銀と酸化銅（ＩＩ）の複合微粒子などがある。
【００３９】
＜コアシエル＞
さらに、本発明における金属粒子（金属微粒子及び金属化合物微粒子を含む）は、コア・シェル型の複合粒子であることもできる。コア・シェル型の複合粒子とは、コア材料の表面をシェル材料でコートしたものである。コア・シェル型の複合粒子を用いるときのシェル材料としては、例えば、Si、Ge、AlSb、InP 、Ga、As、GaP 、ZnS 、ZnSe、ZnTe、CdS 、CdSe、CdTe、PbS 、PbSe、PbTe、Se、Te、CuCl、CuBr、CuI 、TlCl、TlBr、TlI、これらの固溶体又はこれらを９０mol%以上含む固溶体から選ばれる少なくとも一種の半導体、もしくは、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンタル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金、から選ばれる少なくとも一種の金属を挙げることができ、シェル材料として用いることができる。これらの材料は、利用される波長域である３００〜８００nmにおいて、量子閉じ込め効果により離散化した量子レベル間に共鳴する光吸収ピークを有するという観点から好ましい。
好ましいコア材料としては、銅、銀、金、パラジウム、ニッケル、錫、ビスマス、アンモチン、鉛、又はこれらの合金から選ばれる少なくとも一種を挙げることができる。
前記シェル材料は、反射率を低下させる目的で屈折率の調整剤としても好適に用いられる。
【００４０】
また、コアシェル複合粒子のコア材料としては、例えば、銅、銀、金、パラジウム又はこれらの合金、から選ばれる少なくとも一種の金属を用いることができる。
コアシェル構造を有する複合微粒子の作製方法に特に制限はなく、代表的な方法は以下のものが挙げられる。
（１）公知の方法で作製した金属微粒子の表面に、酸化、硫化などにより、金属化合物のシェルを形成する方法であり、例えば、金属微粒子を水などの分散媒に分散させて、硫化ナトリウムや硫化アンモニウムなどの硫化物を添加する方法がある。この方法により粒子の表面が硫化されてコアシェル複合粒子が形成される。
この場合、用いる金属微粒子は、気相法、液相法などの公知の方法で作製することができる。金属微粒子の作製方法については、例えば「超微粒子の技術と応用における最新動向ＩＩ（住ベテクノリサーチ（株）２００２年発行）」に記載されている。
（２）金属微粒子を作製する過程で連続的に表面に金属化合物のシェルを形成する方法であり、例えば、金属塩溶液に還元剤を添加して、金属イオンの一部を還元して金属微粒子を作製し、次いで硫化物を添加して、作製した金属微粒子の周囲に金属硫化物を形成する方法がある。
【００４１】
（イオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物）
前記イオウ原子及び／又はチッ素原子を１個以上有する高分子化合物（以下、単に「高分子化合物」ともいう。）を添加することにより、金属微粒子の分散安定性を改良できる。
前記高分子化合物中に、イオウ原子、チッ素原子の両方含まれていても、また、イオウ原子又は窒素原子のいずれか一方を有する化合物でも本発明の効果が得られる。
前記イオウ原子をもつ化合物としては、メルカプト基、スルフィド基、チオキソ基を有するものが好ましく、また、窒素原子をもつ化合物としては、アミノ基、イミノ基を有するもの、含窒素複素環化合物が好ましい。
該含窒素複素環としては、２−メルカプトベンズイミダゾール、ピロール、ピロリジン、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピペリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、インドール、キノリン、ベンズイミダゾールが挙げられ、これらの基は未置換でも良いし、置換された形でもよい。
前記イオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物とは、前記基を下記重合体（共重合体を含む。）又は重合性化合物の側鎖末端基として有するものでも、また、その側鎖末端以外に有していても良いが、側鎖末端基として有するものが好ましい。以下、重合体（共重合体を含む。）又は重合性化合物を単に重合体ともいう。
【００４２】
本発明における前記高分子化合物は、例えば、アルカリ性液に対して膨潤性であることが好ましく、アルカリ性液に対して可溶性であることがより好ましい。
アルカリ性液に対して膨潤性又は可溶性を示す高分子化合物としては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられる。
前記酸性基としては、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられ、これらの中でもカルボキシル基が好ましい。
【００４３】
カルボキシル基を有する前記重合体としては、例えば、カルボキシル基を有するビニル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド酸樹脂、変性エポキシ樹脂などが挙げられ、これらの中でも、塗布溶媒への溶解性、アルカリ現像液への溶解性、合成適性、膜物性の調整の容易さ等の観点からカルボキシル基を有するビニル共重合体が好ましい。また、現像性の観点から、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかの共重合体も好ましい。
【００４４】
前記カルボキシル基を有するビニル共重合体は、少なくとも（１）カルボキシル基を有するビニルモノマー、及び（２）これらと共重合可能なモノマーとの共重合により得ることができる。
前記カルボキシル基を有するビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等）と環状無水物（例えば、無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物）との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、共重合性、コスト及び溶解性などの観点から（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等の無水物を有するモノマーを用いても良い。
【００４５】
前記（１）と共重合可能なモノマーとしては、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類（例えば、スチレン、スチレン誘導体等）、（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（例えば、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール等）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、リン酸モノ（２−アクリロイルオキシエチルエステル）、リン酸モノ（１−メチル−アクリロイルオキシエチルエステル）、官能基（例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基）を有するビニルモノマーなどが挙げられ、これらの中でもスチレン類が好ましい。
【００４６】
前記（メタ）アクリル酸エステル類としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−オクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、アセトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、β−フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレート、パーフロロクチルエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００４７】
前記クロトン酸エステル類としては、例えば、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。
前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、安息香酸ビニルなどが挙げられる。
前記マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
前記フマル酸ジエステル類としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジブチルなどが挙げられる。
前記イタコン酸ジエステル類としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００４８】
前記（メタ）アクリルアミド類としては、例えば、（メタ）アクリリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
【００４９】
前記スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えば、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基等）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレンなどが挙げられる。
前記ビニルエーテル類としては、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
前記ビニルアルコールのエステル類としては、ベルサト酸ビニル、酢酸ビニル、ギ酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニルなどが挙げられる。
本発明における高分子化合物の具体例としては、下記化合物が好適に挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５０】
【化１】
2006243409.tif 000002
【００５１】
（その他の添加剤）
本発明の遮光膜には、必要に応じて前記金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、前記高分子化合物以外に下記の公知の顔料、界面活性剤、併用できるポリマー、分散剤、分散安定剤、等を使用してもよい。以下、金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子を単に微粒子ともいう。
【００５２】
（１）顔料
顔料としてはカーボンブラックなどの黒色顔料を用いることができる。顔料の添加量は本発明の微粒子の５０質量％以下が好ましく、特に３０質量％以下が好ましい。顔料の添加量が５０質量％を越えると必要な光学濃度を得るために必要な遮光膜の厚みが増大し、この上に形成する赤、青、緑の画素品位が低下する。
本発明の遮光膜にはさらに色味調整のため、黒色以外に青色その他の顔料を含んでもよい。これらの非黒色顔料の添加量は本発明の微粒子の４０質量％以下、好ましくは２０質量％以下が好ましい。非黒色顔料の添加量が４０質量％を越えると、遮光膜の色味が悪化することがある。
【００５３】
（２）界面活性剤
本発明の遮光膜には、塗布性の改良、微粒子の分散安定性改良などの目的で界面活性剤を添加することができる。界面活性剤としては、ノニオン、アニオン、カチオン界面活性剤を特に制限なく、使用できる。この中では液の安定性の観点からアニオン界面活性剤が特に好ましい。またフッ素系界面活性剤は好ましい界面活性剤である。
界面活性剤の好ましい例としてＣ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）（Ｃ2Ｈ4Ｏ）14Ｈ、Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｌｉ、Ｃ7Ｆ15ＣＯＯＮＨ4、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）Ｃ2Ｈ4ＯＰＯ（ＯＨ）2、などがある。更にＦ１１０、Ｆ１１３、Ｆ１２０、Ｆ１５０、Ｆ１７６ＰＦ、Ｆ１７７、Ｆ７８０（いずれも大日本インキ化学工業（株）製、オリゴマータイプフッ素系界面活性剤）などを挙げることができる。
【００５４】
（３）併用できるポリマー
本発明の遮光膜には、アルカリ現像性を有したバインダーとして、或いは前記微粒子の分散安定性を改良するため、前述の高分子化合物以外のポリマーを併用することができる。
該ポリマーの種類としては特に制限は無く、求められる性質の共重合する成分、酸価、分子量としては、前記高分子化合物の記述と同じである。
（４）分散安定剤
分散安定剤については、例えば「顔料分散技術（技術情報協会（株）１９９９年発行）」に記載されているものを用いることができる。
【００５５】
（基板）
本発明に用いられる基板としては表示装置に通常用いられるガラス基板が好ましい。ガラス基板としてはソーダガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラス等の公知のガラスを用いたガラス基板を用いることができる。ガラス基板については、例えば「液晶ディスプレイ工学入門（鈴木ハナエ著、日刊工業新聞社発行（１９９８年））」に記載されているものが挙げられる。その他の基板として、シリコンウエハやポリオレフィン系などの透明プラスチックも用いることができる。さらにＴＦＴ基板を用いることもできる。
基板の厚みは０．５〜３ｍｍが好ましく、０．６〜２ｍｍの範囲がより好ましい。
【００５６】
本発明の遮光膜は、前述の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子が前記イオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物中に分散していることが好ましい。
遮光膜の厚みは、０．０５〜２．０μｍ、より好ましくは０．１〜１．５μｍが望ましい。厚みが１．５μｍを越えると遮光膜を設けた基板の凹凸（遮光膜の設けられた部分と設けられていない部分の格差）が大きくなりすぎ、後工程でＢＲＧの画素をこの上に形成する際不都合が生じる。逆に０．１μｍ未満である必要な光学濃度が得られず表示装置のコントラスト低下などの問題が生じる。
【００５７】
本発明の遮光膜における金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子の総含有量は、１０〜９０質量％が好ましく、１０〜８５質量％が更に好ましく、１０〜８０質量％が特に好ましい。
前記遮光膜中における金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子の総含有量が
１０質量％未満では、必要なＯＤを得るために膜厚が上がってしまう場合があり、また、該総含有量が９０質量％を越えると現像性に問題を生じる場合がある。
【００５８】
本発明の遮光膜における前記高分子化合物の含有量は、１〜４０質量％であることが好ましく、３〜３０質量％がより好ましく、５〜２０質量％が特に好ましい。
前記遮光膜中における前記高分子化合物の含有量が１質量％未満では、微粒子への吸着が不足となり熱による色相の変化が起き易くなる。また４０質量％を越えると現像性が悪化する懸念がある。
【００５９】
前記高分子化合物の分子量としては、特に制限は無く目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、質量平均分子量として、２，０００〜３００，０００が好ましく、４，０００〜１５０，０００がより好ましく、６０００〜１００，０００が特に好ましい。
前記質量平均分子量が、２０００未満であると、膜の強度が不足しやすく、また安定な製造が困難になることがあり、３００，０００を超えると現像性が低下することがある。
【００６０】
前記高分子化合物の酸価としては、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、７０〜２５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が好ましく、９０〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）がより好ましく、１００〜１８０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が特に好ましい。
前記酸価が７０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）未満であると、現像性が不足したり、解像性が劣り、良好なブラックマトリックスを得ることができないことがあり、２５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を超えると、パターンの耐現像液性及び密着性の少なくともいずれかが悪化し、良好なブラックマトリックスを得ることが出来ないことがある。
【００６１】
本発明の遮光膜は、コントラスト、視認性の観点から、より黒色であることが好ましい。より黒色であることは、該遮光膜の色度をｘｙｚ表色系の（ｘ，ｙ）値で表すとき、理想的な黒色の目標色度からの色差として評価することができる。即ち、該色差の値が小さいほど理想的な黒色に近づき、遠いほど黒色からはずれてしまうこととなる。具体的には、理想的な黒色の目標色度（ｘ，ｙ）値を（０．３３，０．３３）としたとき、該目標色度との差を、ＸＹ表色系のΔＥ値で表すことにより評価することができる。本発明においては、これを採用する。
【００６２】
本発明の遮光膜の透過濃度（光学濃度）は、３．５以上、より好ましくは４．０以上、特に好ましくは４．５以上が望ましい。光学濃度が３．５未満であるとコントラスト低下など表示装置の表示品質が低下する場合がある。
【００６３】
［黒色材料用微粒子含有組成物］
本発明の黒色材料用微粒子含有組成物（以下、「組成物」、「黒色材料用微粒子含有塗布液」ともいう。）は、前記表示装置用遮光膜を作成するための組成物である。
前記黒色材料用微粒子含有組成物（黒色材料用微粒子含有塗布液）は、前述の少なくとも粒子の平均アスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、及び前記イオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有するものである。
【００６４】
前記黒色材料用微粒子含有組成物は、重合後にバインダーとして機能する多官能モノマーを含有することが好ましい。該組成物に該多官能モノマーを含有させることにより、該組成物を用いて形成された膜の強度を高めることができる。
該光重合可能な多官能モノマーは熱重合性を有することが好ましく、光重合後更に熱処理を行うことにより硬化を一層進めることができる。
【００６５】
上記多官能モノマーとしては、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、１，４−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンもしくはグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドやプロピレンオキシドを付加反応させた後で（メタ）アクリレート化したもの等の多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。
【００６６】
さらに、特公昭４８−４１７０８号、同５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号の各公報に開示されているウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、同５２−３０４９０号の各公報に開示されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートを挙げることができる。これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどの多官能アクリルモノマーを用いることが好ましい。上記多官能モノマーは、単独でも２種類以上を混合して用いてもよい。。
【００６７】
前記組成物中の該多官能モノマーの添加量としては、特に限定されるものではないが、該組成物の全固形分に対する含有量は、５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。上記含有量が上記範囲内にあると光感度や画像の強度も低下せず、感光性遮光層の粘着性が過剰になることもない。
【００６８】
前記多官能モノマーは、光や熱を用いて重合できるが、前記組成物中には重合開始剤を添加することが好ましく、中でも光重合開始剤を添加することがより好ましい
【００６９】
該光重合開始剤としては、該光重合開始剤としては、特開２００４−３４７８３１号公報段落番号[００２４]に記載のものが挙げられる。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとして挙げることができる。
これらの光重合開始剤又は光重合開始剤系は、単独でも、二種類以上を混合して用いてもよく、特に二種類以上を用いることが好ましい。また、黒色材料用微粒子含有組成物の全固形分に対する光重合開始剤の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【００７０】
露光感度が高く、黄ばみなどの着色が少なく、表示特性の良い例としては、トリハロメチルオキサジアゾール系光重合開始剤と、トリハロメチル−ｓ−トリアジン系光重合開始剤の組み合わせが挙げられ、中でも、２−トリクロロメチル５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾールと、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキンカルボニルメチル）−３−プロモフェニル］−ｓ−トリアジンの組み合わせが最も良い。
これらの光重合開始剤の比率は、前記ジアゾール系／トリアジン系の質量比率で、好ましくは９５／５から２０／８０、より好ましくは９０／１０から３０／７０、最も好ましくは８０／２０から６０／４０である。
これらの光重合開始剤は、特開平１−１５２４４９号公報、特開平１−２５４９１８号公報、特開平２−１５３３５３号公報に記載されている。
さらに、好適な例としてはベンゾフェノン系も挙げられる。
【００７１】
黒色材料用微粒子含有組成物の固形分全体に占める顔料の割合が１５から２５質量％付近の場合、上記光重合開始剤に、クマリン系化合物を混合することによっても、同様の効果が得られる。クマリン系化合物としては、７−［２−［４−（３−ヒドロキシメチルビペリジノ）−６−ジエチルアミノ］トリアジニルアミノ］−３−フェニルクマリンが最も良い。
これらの光重合開始剤とクマリン系化合物の比率は、光重合開始剤／クマリン系化合物の質量比率で、好ましくは２０／８０から８０／２０、より好ましくは３０／７０から７０／３０、最も好ましくは４０／６０から６０／４０である。
ただし、本発明に使用できる上記光重合開始剤はこれらに限定されるものではなく、公知のものの中から適宜選択することできる。
【００７２】
上記光重合開始剤は、前記黒色材料用微粒子含有組成物の全固形分に対して、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。上記含有量が上記範囲内であると、光感度や画像の強度が低下を防止でき、十分に性能を向上させることができる。
【００７３】
前記多官能モノマー及び光重合開始剤を含有して感光性を有する組成物を「感光性を有する黒色材料用微粒子含有組成物」、それ以外を「非感光性の黒色材料用微粒子含有組成物」として以下説明する。
前記黒色材料用微粒子含有組成物は前記遮光膜に含有されるその他の添加物等を含有することができる。また、該組成物には適宜溶媒等が添加される。
【００７４】
＜非感光性の黒色材料用微粒子含有組成物＞
本発明において用いる非感光性の黒色材料用微粒子含有組成物は、前記のごとき少なくとも粒子の平均アスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有し、必要に応じ更に溶媒等を含有する。
溶媒としては、公知の有機溶媒を用いることができる。特に好ましい有機溶媒としては、メチルアルコール、イソプロピルアルコール、ＭＥＫ、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。また、水も溶媒として好ましい。これらの溶媒は必要に応じて混合して用いてもよい。
【００７５】
＜感光性を有する黒色材料用微粒子含有組成物＞
本発明において用いられる感光性の黒色材料用微粒子含有組成物には、少なくとも粒子の平均アスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、イオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物の他、光重合後バインダーを構成する感光性樹脂組成物が含まれることが好ましい。該感光性樹脂組成物は、前記の多官能モノマー、前記光重合開始剤等を含み、更にオリゴマーを含んでも良い。
感光性樹脂組成物としては、前記のごとき多官能モノマー及び／又はオリゴマーを含む感光性樹脂組成物の他、特開平１０−１６０９２６号公報の段落００１６ないし段落００２２及び００２９に記載のものを用いうる。更に他の光重合性のモノマーを併用してもよい。
また、銀コロイドのように金属微粒子を水分散物として用いる場合には、前記感光性樹脂組成物としては水系のものが必要である。このような感光性樹脂組成物としては特開平８−２７１７２７号公報の段落００１５ないし００２３に記載のものの他、市販のものとしては例えば、東洋合成工業（株）製の「ＳＰＰ−Ｍ２０」、「ＳＰＰ−Ｈ−１３」等が挙げられる。
【００７６】
＜黒色材料用微粒子含有組成物の調製＞
前記黒色材料用微粒子含有組成物（感光性、非感光性）を調製するには、金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子（微粒子）、硫黄原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物（高分子化合物）、及び必要に応じて添加可能な前記その他の添加物（感光性樹脂組成物も含む）等の成分を一緒に溶媒中で混合分散して調製してもよいが、あらかじめ、前記高分子化合物を用いて前記微粒子を溶媒に分散した微粒子分散液（金属微粒子組成物）を調製後、これに、前記その他の添加物等を添加混合する方法が好ましい。
前記微粒子分散液調製の際に用いる溶媒は特に制限なく用いられるが、中でもＳＰ値が９．０以上のものが好ましい。「ＳＰ値」は溶解性パラメーターともいわれるもので、凝集エネルギー密度の平方根で表される。本発明においては、ＳＰ値とは、「接着ハンドブック」（日本接着学会編、日刊工業新聞社発行、１９７１年初版発行）の８３８頁記載のものを意味する。
例えば、ｎ−ヘキサン／７．３、トルエン／８．９、酢酸エチル／９．１、メチルエチルケトン／９．３、アセトン／１０．０、エチルアルコール／１２．７、メチルアルコール／１４．５、水／２３．４等である。ここで前記ＳＰ値の単位は「（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2」である。
微粒子分散液調製の際にＳＰ値が９．０以上のものを用いると、分散性が特に良好となり、また、薄膜でも充分な光学濃度を達成することができる。
【００７７】
微粒子分散液は、前記微粒子、前記高分子化合物及び溶媒を含む混合液を、超音波分散機、ペイントシェーカー、ボールミル、アイガーミルなどの公知の分散機を用いることにより分散処理することにより調製できるが、中でも超音波分散機が好ましい。
黒色材料用微粒子含有組成物は、前記のようにして調製した微粒子分散液に、前記その他の添加物の併用できるポリマー又は感光性組成物等を添加混合することにより調製することができる。
【００７８】
［遮光膜の作製］
本発明の表示装置用遮光膜は、前記の感光性をもたないあるいは感光性を有する黒色材料用微粒子含有組成物を基板に塗布・乾燥して遮光膜を作製する方法、又は、支持体上に前記の感光性をもたないあるいは感光性を有する黒色材料用微粒子含有組成物を塗布・乾燥して形成する遮光性層を有する転写材料を用い、該遮光性層を基板に転写する方法等により作製することができる。
本発明の遮光膜がパターン化されたものである場合には、前記のごとき方法で作製した遮光膜又は感光性遮光性膜を更にパターニングする。パターニング方法としては露光現像による方法、レーザーの熱により不要部分を除去する方法（アブレーション法）、基板上に設けられた本発明の遮光膜上に感光性レジスト膜を塗布し、これを露光現像でパターニングした後、感光性レジスト膜を除去する方法などがある。本発明ではこれらの方法のいずれも使用できるが次のような方法は工程の簡便さやパターニングの解像度などから好ましい。
【００７９】
（１）基板上に非感光性の黒色材料用微粒子含有組成物を塗布乾燥して形成する層（以下、遮光性層ということがある）を形成し、この上にフォトレジストを塗布し、次いで、露光現像によりフォトレジスト層をパターニングした後、フォトレジスト層とともにその下にある遮光性層を溶解除去する方法
（２）基板上に感光性の黒色材料用微粒子含有組成物を塗布乾燥して形成する層（以下、感光性遮光性層ということがある）を形成し、感光性遮光性層を露光・現像（非露光部分を除去）してパターニングする方法
（３）支持体の上に感光性の黒色材料用微粒子含有組成物を塗布乾燥して感光性遮光性層を形成し、次いで感光性遮光性層を基板に転写し、基板上の感光性遮光性層を露光・現像（非露光部分を除去）してパターニングする方法（感光性転写材料を用いる方法）
これらの方法はいずれも蒸着法やスパッタリング法を用いた従来の方法に比べ簡単な工程で遮光膜を形成することができる。特に感光性転写材料を用いる方法は黒色材料用微粒子含有組成物を長期間保存する場合に発生する微粒子の凝集が無く、きわめて好ましい方法である。
【００８０】
（基板への塗布方法）
前記の黒色材料用微粒子含有組成物の基板又は支持体への塗布方法としては特に制限はない。例えば特開平５−２２４０１１記載のスピンコート法、特開平９−３２３４７２記載のダイコート法などを用いることができる。
【００８１】
（露光と現像）
前記の露光と現像は次のように行うことが好ましい。
露光に使用される光源は、前記フォトレジスト層又は感光性遮光性層の感光性に応じて選択される。例えば、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、アルゴンレーザー等の公知の光源を使用することができる。特開平６−５９１１９号公報に記載のように、４００ｎｍ以上の波長の光透過率が２％以下である光学フィルター等を併用しても良い。
露光方法は基板全面を１回で露光する一括露光でもよいし、基板を分割して何回かに分けて露光する分割露光でもよい。さらにレーザーを用いて基板表面をスキャンしながら行う露光方法でもよい。
【００８２】
現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液を使用するが、さらに、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものを用いても良い。適当なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド）または燐酸三ナトリウムを挙げることができる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１質量％〜３０質量％であり、ｐＨは８〜１４が好ましい。本発明の感光性遮光性層の酸化等の性質に応じて例えば、現像液のｐＨ等を変化させて、本発明の膜状脱離による現像を行えるように調整することができる。
【００８３】
前記の水と混和性のある適当な有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンを挙げることができる。水と混和性の有機溶剤の濃度は、０．１〜３０質量％が一般的である。
【００８４】
現像液には、さらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００８５】
現像液は浴液としても、あるいは噴射液としても用いることができる。感光性遮光性層等の未硬化部分を固形状（好ましくは膜状）で除去するには、現像液中で回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法、あるいは現像液を噴射した際の噴射圧を利用する方法が好ましい。現像液の温度は、通常室温付近から４０℃の範囲が好ましい。
現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
【００８６】
現像工程の後、加熱処理を行うことが好ましい。この処理により露光により硬化した感光性遮光性層を加熱して硬化を進め耐溶剤性や耐アルカリ性を高めることができる。加熱方法は現像済みの基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する方法、赤外線ランプで加熱する方法などを用いることができる。
本発明の遮光膜は、膜強度を高める観点から現像工程後に加熱処理を行って得られた膜であることが好ましい。該加熱処理は、遮光膜の組成、厚みにもよるが、１８０〜３００℃で５〜６０分間の熱処理が好ましく、２００〜２７０℃で１０〜５０分間がより好ましく、２００〜２５０℃で１０〜５０分間が特に好ましい。
又、現像工程の後、加熱処理をする前に硬化促進のため露光を行ってもよい。この露光も前述の１回目の露光と同様の方法で行うことができる。
【００８７】
（保護層）
本発明においては、感光性遮光性層の形成後、露光前に感光性遮光性層の上に保護層を設ける工程を入れてもよい。保護層は、露光時に酸素を遮断して、感光性遮光性層の感度を高めるために設ける。このため、酸素遮断性の樹脂、例えばポリビニルアルコールを主体とした層であることが好ましい。なお、この層は、遮光膜（遮光画像）形成後は不要であるので、現像により除去する。
【００８８】
［材料］
本発明の材料は、前記遮光膜を作成するための材料であり、支持体上に、少なくとも粒子のアスペクト比が２〜１００の金属微粒子及び／又は金属化合物微粒子、硫黄原子及び／又は窒素原子を１個以上有する高分子化合物を含有する層を少なくとも１層形成した材料である。該材料は、支持体上に形成された前記少なくとも１層が転写可能な転写材料であることが好ましい。
以下、感光性を有する転写材料を例に説明するが、該材料はこれに限定されるものではない。
該材料は前記（３）の方法で用いる感光性転写材料であることが好ましい。前記（３）の方法で用いる感光性転写材料は、支持体に前記の感光性を有する黒色材料用微粒子含有組成物を塗布乾燥して得られる感光性遮光性層を設けたものである。また、前記感光性転写材料は、支持体と感光性遮光性層との間に熱可塑性樹脂層を設けることが好ましく、更に熱可塑性樹脂層と感光性遮光性層の間にアルカリ可溶性の中間層を設けることが好ましい。また、前記感光性転写材料の感光性遮光性層上には保護フィルムを設けてもよい。
支持体は、化学的および熱的に安定であって、また可撓性の物質で構成されることが好ましい。具体的にはテフロン（登録商標）（Ｒ）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の薄いシートもしくはこれらの積層物が好ましい。また、熱可塑性樹脂層を設ける場合には、これとの剥離性が良好なことが好ましい。支持体の厚さは５〜３００μｍが適当であり、特に２０〜５００μｍが好ましい。
前記材料が転写材料でない場合は、該支持体としては、前記基板のものを用いることも好ましい態様である。
【００８９】
＜熱可塑性樹脂層＞
本発明の熱可塑性樹脂層を構成する樹脂としてはアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ゴム系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂およびこれらの共重合体等をあげる事ができる。本発明の熱可塑性樹脂層を構成する樹脂は、アルカリ可溶である事が必須ではないが、アルカリ可溶である事が望ましい。
【００９０】
熱可塑性樹脂層を構成する樹脂としては、特開２００４−３１７８９７号公報段落番号[００４６]〜[００４８]の記載のものを挙げられる。
【００９１】
熱可塑性樹脂の厚みは６μｍ以上が好ましい。この理由としては熱可塑性樹脂の厚みが５μｍ以下であると１μｍ以上の下地の凹凸を完全に吸収することが不可能であるためである。また、上限については、アルカリ水溶液除去性、製造適性から約１００μｍ以下、好ましくは約５０μｍ以下である。
【００９２】
本発明の熱可塑性樹脂層の塗布液としてはこの層を構成する樹脂を溶解する限り特に制限なく使用でき、例えばメチルエチルケトン、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等を使用できる。
【００９３】
また、熱可塑性樹脂と感光性遮光性層の間に、塗布時の両層の層混合を防止するため、或いは酸素遮断のための中間層を設けることが好ましい。
【００９４】
（中間層）
中間層を構成する樹脂としてはアルカリ可溶のものが好ましい。このような樹脂の例としては、特開２００４−３１７８９７号公報、段落番号[００５０]に記載のものが挙げられる。
【００９５】
中間層の厚みは０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜３μｍの範囲内がさらに好ましい。上記厚みが０．１μｍ未満であると酸素遮断性が低下する場合があり、上記厚みが５μｍを超えると現像時の中間層除去時間が増大してしまう。
【００９６】
感光性転写材料は、前記のように本発明における微粒子を含有する塗布液（黒色材料用微粒子含有組成物）から感光性遮光性層を作製しているため、これからは、薄膜でかつ透過濃度（光学濃度）が高い遮光膜を作製することができる。
【００９７】
本発明の感光性転写材料を基板に転写する方法について述べる。転写は感光性遮光性層と基板を密着させてラミネートする方法が好ましい。ラミネートの方法としては従来公知のラミネーター、真空ラミネーターなどを用いることができる。又摩擦性を高めるためオートカットラミネーターを使用することもできる。ラミネートの際の加熱温度は６０〜１５０℃程度、加圧圧力は０．２〜２０ｋｇ／ｃｍ2程度が好ましい。本発明ではラミネートは基板のライン速度、０．０５〜１０ｍ／分程度の範囲で行なうことが好ましい。
ラミネート後、支持体を剥離する。
【００９８】
本発明の感光性転写材料は基板へのラミネーションの後、露光と現像を行う。露光現像後、前記加熱処理を行うことが好ましい。露光と現像、及び加熱処理条件については前述の方法を用いることができる。
【００９９】
［カラーフィルタ］
本発明のカラーフィルタは、光透過性の基板上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する２つ以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに遮光画像により離画されているカラーフィルタであり、前記遮光画像が前記遮光膜を用いて作製されたことを特徴とする。
本発明のカラーフィルタの１つの態様は、光透過性の基板上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する２以上の画素群（以下、単に「画素群」を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに前記遮光膜を用いて作成された遮光画像（ブラックマトリックス）により離画されているカラーフィルタである。カラーフィルタの光透過性の基板としては、前記の基板が用いられる。前記遮光膜を用いたカラーフィルタは、光の利用効率、コントラスト、及び配線の遮蔽性に優れている。
また、本発明の表示装置用カラーフィルタの他の態様は、ＴＦＴ素子基板を光透過性の基板として用い、この上に遮光膜と複数の画素群を設けるものである。更に、光透過性の基板としてＴＦＴ素子基板を用いる場合の別の態様は、ＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスのみを形成し、別の光透過性基板の上に画素群を設けるもので、ＴＦＴアレイの開口率が良好である。
前記の画素群は、画素形成用着色感光性樹脂組成物又は画素形成用感光性転写材料の複数種を用い、常法により作製することができる。画素群を形成した後、熱処理を行なうことが好ましい。
【０１００】
［液晶表示素子］
本発明の液晶表示素子は、前記遮光膜を有する表示素子であることを特徴とする。
前記液晶表示素子は、前記遮光膜を有する表示素子であれば、特に限定されるものではなく、公知の液晶表示素子の構成要素を用いることができる。
例えば、光透過性の一対の基板間にカラーフィルタ、液晶層および液晶駆動手段（単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む）等を備えたもので、該カラーフィルタとしては、前記遮光膜（遮光画像）有するカラーフィルタを用いることができる。
前記遮光膜を有する液晶表示素子は、光の利用効率、コントラスト及び配線の遮光性に優れている。
【０１０１】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は前記液晶表示素子を用いて作製したことを特徴とするものである。
本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示素子を用いて作製した表示装置であれは、特に限定されるものではなく、公知の液晶表示装置の構成要素を用いることができる。
【実施例】
【０１０２】
［実施例１］
＜銀微粒子組成物の調製＞
平均アスペクト比５４．７のロッド状銀微粒子２０．０ｇ、高分子化合物１の２．０ｇ、ノルマルプロパノール８８．０ｇを混合し、超音波分散機（商品名：Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  ｇｅｎｅｒａｔｏｒ  ｍｏｄｅｌ  ＵＳ−６０００  ｃｃｖｐ、ｎｉｓｓｅｉ社製）を用いて分散し、銀微粒子組成物を得た。
前記ロッド状銀微粒子は、Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．２００４，８４，１９７−２０４に記載されている微粒子の調製方法を基本として、銀塩還元時のｐＨ、反応温度を変化させることにより、各種アスペクト比をもつロッド状銀微粒子の分散液として調製し、得られた分散液に遠心分離処理（１００００ｒｐｍ、２０分）を行い、上澄み液を捨て、適宜、濃縮を行ってロッド状銀微粒子を得た。
【０１０３】
＜黒色材料用微粒子含有組成物（遮光画像形成用塗布液）の作成＞
下記処方の成分を混合して黒色材料用微粒子含有組成物を作成した。
【０１０４】
（黒色材料用微粒子含有組成物の組成）
・銀微粒子組成物（アスペクト比５４．７）                        １８０部
・フッ素系界面活性剤                                          １．６８部
（商品名：Ｆ７８０Ｆ、大日本インキ化学工業（株）製）
・高分子化合物１                                              ３．３５部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                    ６．２７部
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬社製））
・ビス［４−［Ｎ−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル］カルバモイル］フェニル］セバケート                        ０．６部
・アセトン                                                    １５００部
【０１０５】
＜遮光膜（遮光画像）の形成＞
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。該基板を１２０℃３分間熱処理して表面状態を安定化させた。
該基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（エフ・エ・エス・ジャパン社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上記記載の組成よりなる黒色材料用微粒子含有組成物を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、ＥＢＲ（エッジ・ビード・リムーバー）にて基板周囲の不要な塗布液を除去し、１２０℃３分間プリベークして膜厚０．５μｍの遮光層を得た。
超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング社製）で、遮光層を有する基板とマスク（格子状の画像パターンを有する石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と遮光層を有する基板の塗布面の間の距離を１００μｍに設定し、露光量２００ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、該遮光層表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フィルムアーチ）を純水で１００倍に薄めたものにて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、パターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、その後、２２０℃で４０分間加熱処理を施し、遮光膜（遮光画像）を得た。
【０１０６】
［実施例２］
実施例１において、高分子化合物１を高分子化合物２に変えた以外は、実施例１と同様に行い評価した。
【０１０７】
［実施例３〜８］
実施例１の銀微粒子の平均アスペクト比「５４．７」を、「３．２」、「７．１」、「１２．２」、「５７．８」、「７８．４」、「９７．３」に変えた以外は、実施例１と同様に行い評価した。
【０１０８】
［実施例９］
＜転写材料の作成＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥厚みが５μｍになるように下記の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層塗布液を塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。
次に、下記処方Ｐ１からなる中間層塗布液を上記で作成した熱可塑性樹脂層の上に乾燥厚みが１．５μｍになるようにスリットコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。
更に、実施例１で用いた液（黒色材料用微粒子含有組成物）を乾燥膜厚が０．５μｍとなるようにスリットコーターを用いて塗布を行い、１００℃で３分間乾燥させ、遮光層（金属黒色層）を得た。
こうして支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層（酸素遮断膜）、金属黒色層を有するフィルムを作成し、その上に保護フイルム（厚さ１２μｍのポプロピレンフィルム）を圧着させ、転写材料とした。
【０１０９】
（Ｈ１：熱可塑性樹脂層塗布液処方）
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレ−ト／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（共重合体組成比＜モル比＞５４／１２／５／２９、重量平均分子量８００００）                                                            ５８部
・スチレン／アクリル酸（７０／３０の共重合体、重量平均分子量７０００）
１３６部
・ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製、多官能アクリレート）    ９０部
・Ｆ７８０Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤３０％のＭＥＫ溶液）                                                                  １部
・メチルエチルケトン                                            ５４１部
・１−メトキシ−２−プロパノール                                  ６３部
・メチルアルコール                                              １１１部
【０１１０】
（Ｐ１：中間層塗布液処方）
・ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ１０５）              ３部
・蒸留水                                                      ５０．５部
・メチルアルコール                                                ４５部
【０１１１】
＜転写による遮光画像付き基板の作成（転写法）＞
無アルカリガラス基板に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。その基板を基板予備加熱装置で１００℃２分間加熱した。
上記で得られた転写材料の保護フィルムを剥離後、ラミネーター（（株）日立インダストリイズ社製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ2、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。次いで、ポリエチレンテレフタレート支持体を剥離した。
続いて、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング製）で、マスク（格子状の画像パターンを有する石英露光マスク）と該マクス側が前記熱可塑性樹脂層となるようにガラス基板とを平行に垂直に立てた状態で、該露光マスク面と該樹脂層の間の距離を１００μｍに設定し、塗布面側から露光量７０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム（株）製）にて３０℃５０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、該遮光層表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムアーチ）を純水で１００倍に薄めたものにて２３℃８０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、その後、２２０℃で４０分間加熱処理を施し、遮光画像を得た。
【０１１２】
【化２】
2006243409.tif 000003
【０１１３】
［比較例１］
実施例１において、高分子化合物１の代わりにベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（モル比＝７３／２７、重量平均分子量３００００）を用いた以外は、実施例１と同様に行い評価した。
【０１１４】
［比較例２］
実施例１において、高分子化合物１の代わりにヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート（信越化学（株）製）を用いた以外は、実施例１と同様に行い評価した。
【０１１５】
［比較例３］
実施例１において、平均アスペクト比「５４．７」の銀微粒子の代わりに「１．３」の銀微粒子を用いた以外は、実施例１と同様に行い評価した。
【０１１６】
［比較例４］
実施例１において、平均アスペクト比「５４．７」の銀微粒子の代わりに「１２０」の銀微粒子を用いた以外は、実施例１と同様に行い評価した。
【０１１７】
＜色相の評価＞
上記より得られた遮光膜の色度を、顕微分光光度計（オリンパス光学社製；ＯＳＰ１００）を用い、ピンホール径５μｍにて測定し、Ｆ１０光源視野２度の結果として計算した。その結果（ｘ，ｙ値）を示す。また、理想的な黒色をｘ＝０．３３、ｙ＝０．３３としてそれとの色差ΔＥを算出した。
【０１１８】
＜透過濃度の評価＞
膜の透過濃度は、遮光膜の光学濃度（ＯＤ）をマクベス濃度計（商品名：ＴＤ−９０４、マクベス社製）で測定した。その際、ガラス基板の光学濃度分は補正した。
【０１１９】
【表１】
2006243409.tif 000004
【０１２０】
表１から明らかな通り、本発明における高分子化合物を用い、かつ、アスペトト比が２〜１００の銀微粒子を用いた実施例の全てにおいて、比較例に対して透過濃度が高く、加熱処理が施された後の色差が小さく優れていることが分かる。
【０１２１】
＜カラーフィルタの作成及び評価＞
実施例及び比較例で得られた格子状遮光画像（ブラックマトリクス）に対し、特開２００４−３４７８３１号公報の［００７５］〜［００８６］に記載の転写型の感光性樹脂フィルムを用いて赤色、緑色、青色の所定サイズ、形状の着色パターンを形成しカラーフィルタを作製した。
実施例において、比較例で作製したカラーフィルタと比較して、特に欠陥がないカラーフィルタが作成できた。
【０１２２】
＜液晶表示素子の作成及び評価＞
上記で得られた実施例のカラーフィルタ、及び比較例のカラーフィルタを用いて液晶表示素子を形成した。
比較例のカラーフィルタを用いた液晶表示素子と比較して、実施例のカラーフィルターを用いた液晶表示素子が良好な表示特性を示すことを確認した。
【０１２３】
＜液晶表示装置の作成及び評価＞
上記で得られた実施例のカラーフィルタ、及び比較例のカラーフィルタを用い、ＲＧＢのパターンに対応してガラス基板上に薄膜トランジスタ、画素電極を形成し、配向膜を設けたアクティブマトリックス基板を作成した。次いで、カラーフィルタ上にＩＴＯと配向膜を形成し対向基板を作成した。このアクティブマトリクス基板と対向電極間にＴＮ液晶を封入し、シール剤を介して貼り合わせ、各基板の両側に偏光板をクロスニコルにて配置し、アクティブマトリックス基板側にバックライトを配置して液晶表示装置とした。
比較例のカラーフィルタを用いた液晶表示装置と比較して、実施例のカラーフィルタを用いた液晶表示装置が良好な表示特性を示すことを確認した。