(57)【要約】【課題】  高分子固体電解質層と光増感色素との接触面積を増加させるとともに、当該固体電解質層を簡便に形成できる色素増感型太陽電池の製造方法を提供する。また、高分子固体電解質と光増感色素との接触面積を増加させた色素増感型太陽電池を提供する。【解決手段】  増感色素がその表面に吸着した多孔質の酸化物半導体膜を、還元脱ドープ状態のポリアニリンが溶解した溶液に、１２時間以上の範囲で浸漬する浸漬工程と、この浸漬工程後に、酸化物半導体膜上のポリアニリンを乾燥させ、増感色素に接して高分子固体電解質層を形成する工程とを含む製造方法とする。また、高分子固体電解質層を含み、この高分子固体電解質が還元脱ドープ状態のポリアニリンであり、開放電圧が０．３５Ｖ以上である色素増感型太陽電池とする。【選択図】  図１
2006172743.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に増感色素を担持させた酸化物半導体多孔膜を、還元脱ドープ状態のポリアニリン
が溶解した溶液に、１２時間以上の範囲で浸漬する浸漬工程と、
前記浸漬工程後に、前記酸化物半導体多孔膜上の前記ポリアニリンを乾燥させ、前記増
感色素に接して高分子固体電解質層を形成する工程と
を含むことを特徴とする色素増感型太陽電池の製造方法。
【請求項２】
前記溶液の電子スペクトルのうち、６４０ｎｍ付近の吸収極大の吸光度をＡ640とし、
３４０ｎｍ付近の吸収極大の吸光度をＡ340とした場合に、Ａ640／Ａ340で表される値が
０．２以下である請求項１に記載の色素増感型太陽電池の製造方法。
【請求項３】
前記浸漬する時間が、２０時間以上の範囲にある請求項１に記載の色素増感型太陽電池
の製造方法。
【請求項４】
前記浸漬する時間が、６５時間以上の範囲にある請求項１に記載の色素増感型太陽電池
の製造方法。
【請求項５】
前記ポリアニリンを溶解させる溶媒がＮ−メチル−２−ピロリドンである請求項１に記
載の色素増感型太陽電池の製造方法。
【請求項６】
高分子固体電解質層を含む色素増感型太陽電池において、
前記高分子固体電解質が還元脱ドープ状態のポリアニリンであり、
開放電圧が０．３５Ｖ以上であることを特徴とする色素増感型太陽電池。
【請求項７】
前記開放電圧が０．６Ｖ以上である請求項６に記載の色素増感型太陽電池。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、色素増感型太陽電池の製造方法および色素増感型太陽電池に関する。
【背景技術】
【０００２】
電荷輸送層として液状電解質を用いた色素増感型太陽電池では、電解液の漏洩や枯渇に
よって電池性能が低下してしまうことがある。このため、これに代えて高分子固体電解質
を用いる技術が注目されている。
【０００３】
ところが、高分子固体電解質を用いた場合には、液状電解質を用いた場合に比べて、得
られる光電変換効率が１桁低いのが現状である。それゆえ、高分子固体電解質を用いた色
素増感型太陽電池におけるエネルギー変換効率を向上させる目的で、光増感色素と高分子
固体電解質層との接触面積を増加させるための研究が盛んに行われている。例えば、その
表面に光増感色素を担持させた二酸化チタンからなる多孔膜の内部に、導電性高分子モノ
マーを充填した後、多孔膜内部で当該モノマーを化学酸化重合させる技術がある（特許文
献１または２参照）。また、有機ポリシランを多孔膜の表面に蒸着させて高分子固体電解
質層を形成する技術がある（特許文献３参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−６３７５８号公報
【特許文献２】特開２００３−１４２１６８号公報
【特許文献３】特開２００４−６３２３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、これら特許文献１〜３の色素増感型太陽電池の製造方法では、多孔膜の
表面に高分子固体電解質層を形成するための工程が複雑である。また、多孔膜の内部に担
持されている光増感色素に十分に接するほどには固体電解質層を形成できなかったり、固
体電解質層の形成時に光増感色素が劣化してしまったりするという問題がある。
【０００６】
そこで、本発明は、簡便な方法により、多孔膜内部の光増感色素にまで接して高分子固
体電解質層を形成し、固体電解質と光増感色素との接触面積を増加させた色素増感型太陽
電池を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の色素増感型太陽電池の製造方法は、表面に増感色素を担持させた酸化物半導体
多孔膜を、還元脱ドープ状態のポリアニリンが溶解した溶液に、１２時間以上の範囲で浸
漬する浸漬工程と、前記浸漬工程後に、前記酸化物半導体多孔膜上の前記ポリアニリンを
乾燥させ、前記増感色素に接して高分子固体電解質層を形成する工程とを含むことを特徴
とする。
【０００８】
上記『還元脱ドープ状態』とは、ポリアニリンを有機溶剤に溶解させた溶液から得られ
る電子スペクトルのうち、図２で示すように、６４０ｎｍ付近の吸収極大の吸光度をＡ64
0とし、３４０ｎｍ付近の吸収極大の吸光度をＡ340とした場合に、Ａ640／Ａ340で表され
る値（酸化度指数：ＯＤＩ（Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ  Ｄｅｇｒｅｅ  Ｉｎｄｅｘ））が、０
以上０．２以下の範囲内にあるものをいう。
【０００９】
また、本発明の色素増感型太陽電池は、高分子固体電解質層を含み、前記高分子固体電
解質が還元脱ドープ状態のポリアニリンであり、開放電圧が０．３５Ｖ以上であることを
特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、高分子固体電解質層を備えた色素増感型太陽電池における、固体電解
質と光増感色素との接触面積を増加させることができる。また、当該固体電解質層を簡便
な方法で形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照しながら、本発明の好ましい実施形態について説明する。
【００１２】
図１の断面図で示すように、本発明の色素増感型太陽電池は光透過性基板１を有してお
り、その一方主面に接して導電膜２が設けられている。また、この導電膜２に接して酸化
物半導体多孔膜３が設けられている。さらに、この多孔膜３の上に高分子固体電解質層５
が設けられており、この高分子固体電解質層５に接して対向基板６が設けられている。な
お、以下では、基板１から酸化物半導体多孔膜３までの多層構造体を光電極４と呼ぶ。
【００１３】
上記光透過性基板１の材料は、当該基板の光透過性を高くできるものほど好ましい。例
えば、ガラス板や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカー
ボネート、ポリエチレンスルフィド、ポリイミドなどの樹脂シートを用いることができる
。
【００１４】
上記導電膜２の材料としては、光透過性が高く、電気抵抗率が低いものが好ましい。例
えば、酸化スズ、酸化亜鉛、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）、ＦＴＯ（フッ素ドー
プ酸化スズ）などを用いることができる。
【００１５】
なお、この導電膜２は、蒸着法、スパッタリング法、化学気相成長法（ＣＶＤ法）、塗
布法、ゾルゲル法などの公知の方法によって形成できる。また、光透過性基板１と導電膜
２との間には、透明性を損なわない程度で、例えば、銅、ニッケル、銀、金、白金、タン
タル、チタン、ルテニウム、カーボンなどの導電材料からなる導電性薄膜を配してもよい
。
【００１６】
上記酸化物半導体多孔膜３は、内部に無数の微細な空孔を有し、表面に微細な凹凸構造
を有した多孔質構造体（厚さ：約０．１〜１００μｍ）である。この多孔膜３の材料とし
ては、例えば、酸化チタン、酸化スズ、酸化タングステン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム
、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化タンタルなどの
金属酸化物微粒子（体積平均粒径：約１〜５００ｎｍ）を用いることができる。
【００１７】
この酸化物半導体多孔膜３は、上記金属酸化物微粒子を分散させたコロイド液や分散液
等を、スクリーンプリント、インクジェットプリント、ロールコート、ドクターコート、
スピンコート、スプレーコートなどの塗布手段により、例えば導電膜２の表面に塗布した
後、焼成して得ることができる。ただし、ここにおける焼成温度は６００℃以下、好まし
くは３５０℃から５００℃の範囲にあるため、基板を樹脂フィルムとする場合には、これ
に代えて、１００〜１５０℃の低温度帯で焼成できる金属酸化物ペーストを用いたり、マ
イクロ波による焼成方法を用いたりして、基板の熱変形を防止することが好ましい。
【００１８】
また、この酸化物半導体多孔膜３の表面には、可視光領域や赤外領域の吸収波長を有す
る顔料や染料等の公知の光増感色素が担持されている。光増感色素の担持には、化学吸着
、物理吸着または堆積などの公知の方法を用いることができる。
【００１９】
上記高分子固体電解質層５は、酸化物半導体多孔膜３の表面に担持された光増感色素に
接して設けられている。なお、多孔膜３の表面に光増感色素が担持されていない箇所があ
る場合には、当該箇所にも接して高分子固体電解質層５が設けられていることが好ましい
。
【００２０】
この高分子固体電解質層５の材料は、還元脱ドープ状態のポリアニリンである。この還
元脱ドープ状態のポリアニリンは、例えば特許２７３９１４８号等に示される公知の方法
で合成してもよいし、市販のものを用いてもよい。還元脱ドープ状態のポリアニリンは、
例えば日東電工株式会社から入手できる。
【００２１】
ポリアニリンは、例えばフェニルヒドラジン等の還元剤の添加量を調整することにより
、フェニレンジアミン構造の含有率を増加させて還元脱ドープ状態にシフトさせることや
、キノンジイミン構造の含有率を増加させて酸化脱ドープ状態にシフトさせることができ
る（例えば、日東技法Ｖｏｌ．３２、Ｎｏ．１、ｐ７５−ｐ８５、１９９４  参照）。
【００２２】
なお、上記酸化度指数（ＯＤＩ）が０に近いほど、溶解しているポリアニリンが完全な
還元脱ドープ状態（フェニレンジアミン構造のみからなる状態）に近いことを意味し、０
．８に近いほど、溶解しているポリアニリンが酸化脱ドープ状態（フェニレンジアミン構
造とキノンジイミン構造とが１：１の比率にある状態）に近いことを意味する。そして、
上述したように、ポリアニリンが還元脱ドープ状態にあるとは、このＯＤＩ値が０以上０
．２以下の範囲内にあるものをいう。本発明の効果を強く得るには、０に近いＯＤＩ値を
示すものを用いるほど好ましい。
【化１】
2006172743.tif 000003
還元状態：ｍ＝０、ｎ＝１
酸化状態：ｍ＝０．５、ｎ＝０．５
【００２３】
上記高分子固体電解質層５は、次のようにして形成することができる。まず、還元脱ド
ープ状態のポリアニリンを有機溶剤に溶解させた浸漬用の溶液（その詳細は後述する）を
調製する。この浸漬用の溶液中に、上記酸化物半導体多孔膜３を１２時間以上１００時間
以下の範囲で、好ましくは２０時間以上８０時間以下の範囲で、さらに好ましくは６５時
間以上８０時間以下の範囲で浸漬する。これを引き上げた後、有機溶剤を用いて余剰のポ
リアニリンを洗い流す。最後に、多孔膜上のポリアニリンを、乾燥機を用いて乾燥させ、
高分子固体電解質層を形成する。なお、浸漬中の溶液の温度は３０℃以下、好ましくは２
０〜２５℃の範囲とする。温度が２０℃よりも低いとポリアニリン溶液の粘度が上昇して
、浸漬に要する時間が無用に増加することがあり、また、温度が３０℃を超えると、ポリ
アニリンの酸化が進みやすく、浸漬中にＯＤＩ値がシフトして酸化脱ドープ状態へと変化
してしまう場合があるためである。
【００２４】
浸漬時間を１２時間以上とすると、完成後の色素増感型太陽電池に０．３５Ｖ以上の開
放電圧を得ることができ、２０時間以上とするとその開放電圧をさらに増加でき、６５時
間以上とするとより一層増加させて０．６Ｖ以上もの開放電圧を得ることができる。なお
、開放電圧の増加作用を得る浸漬時間についてはその上限を特に定めるものではないが、
開放電圧を増加させるとともに電池製造にかかる時間を短縮する側面からは、この浸漬時
間を１００時間以下とすることが好ましく、８０時間以下とすることがより好ましい。
【００２５】
ポリアニリンを乾燥させる際は、その乾燥温度を低温から徐々に高温に上げて行くこと
が好ましい。具体的には、乾燥初期の温度を８０℃以下、時間を４時間、好ましくは６０
℃以下、２時間とし、乾燥後期の温度を１５０℃以下、時間を１時間、好ましくは１２０
℃以下、２時間とする。なお、乾燥初期から高い乾燥温度で急激に乾燥させると、多孔膜
の内部に溶剤を残したまま、高分子固体電解質層が形成されることがあり、また、乾燥温
度１５０℃での乾燥時間が６時間を超えると、ポリアニリン膜が劣化してしまう場合があ
るが、上記した乾燥条件であればこのような不具合は起こり難い。
【００２６】
上記浸漬用の溶液は、上記還元脱ドープ状態のポリアニリンを、その濃度が０．０５〜
４質量％、好ましくは０．１〜３質量％となるように有機溶剤に溶解させることにより調
製できる。有機溶剤としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチ
ル−２−イミダゾリジノン、スルホラン等を用いることができる。なかでも、Ｎ−メチル
−２−ピロリドンは、上記ポリアニリンの溶解性が特に高いため好ましい。
【００２７】
上記対向電極６は、例えば、銅、ニッケル、銀、金、白金、タンタル、チタン、ルテニ
ウム、カーボンなどの導電基板としてもよいし、樹脂シートなどの光透過性の高い基材に
、例えば、酸化スズ、酸化亜鉛、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）、ＦＴＯ（フッ素
ドープ酸化スズ）などの導電膜を設けた基板としてもよい。
【００２８】
本実施形態にかかる色素増感型太陽電池では、還元脱ドープ状態のポリアニリン溶液に
多孔膜を所定の時間浸漬することにより、その多孔構造内部の光増感色素にまで接して高
分子固体電解質が形成されるため、従来の方法のように複雑な工程を必要とせず、また固
体電解質層の形成に伴って光増感色素が劣化されてしまうこともない。また、これにより
光増感色素と固体電解質との接触面積を大幅に増加させることができるため、ポリアニリ
ンを固体電解質層の材料として有害物質の原因元素（硫黄等）の含有量を削減しつつ、０
．３５Ｖ以上の開放電圧や、さらには０．６Ｖ以上もの高い開放電圧を得ることができる
。
【実施例】
【００２９】
以下、実施例を用いて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれによって限定
されるものではない。
【００３０】
＜実施例１＞
まず、フッ素がドープされたＳｎＯ導電性ガラス（日本板硝子社製ＯＴＥ（商標））の
表面に、ゾルゲル法を用いてバリアー層としての酸化チタン薄膜（膜厚：２０ｎｍ）を形
成した。次に、市販の二酸化チタン粉末（日本エアロジル社製Ｐ２５（商標）、体積平均
一次粒径２１ｎｍ）に、アセチルアセトン、純水、および界面活性剤（和光純薬製Ｔｒｉ
ｔｏｎＸ１００（商標））を加えて混練して作製したペーストを、この酸化チタン薄膜上
に塗布し、これを乾燥させた後、４５０℃で３０分間焼成して、膜厚１１〜１３μｍのメ
ソポーラス二酸化チタン多孔質膜を形成した。続いて、このメソポーラス二酸化チタン多
孔質膜を０．３ｍモル／Ｌのルテニウム色素のエタノール溶液に浸漬して、多孔質膜の表
面に光増感色素を吸着させ、光電極を作製した。
【００３１】
〔還元脱ドープ状態のポリアニリンの作製〕
還元脱ドープ状態のポリアニリンを以下のようにして作製した。まず、攪拌装置、温度
計および直管アダプターを備えたセパラブル・フラスコ（容量：１０リットル）に、蒸留
水６０００ｇ、３６％塩酸３６０ｍＬおよびアニリン４００ｇ（４．２９５モル）をこの
順序にて投入して、アニリンを溶解させた。
【００３２】
これと並行して、氷水にて冷却しながら、ビーカー中の蒸留水１４９３ｇに９７％濃硫
酸４３４ｇ（４．２９５モル）を加えて、硫酸水溶液を調製した。この硫酸水溶液を上記
セパラブル・フラスコ内に加えてアニリン塩の酸性水溶液とするとともに、低温恒温槽を
用いてフラスコ全体を−４℃まで冷却した。
【００３３】
また、ペルオキソ二硫酸アンモニウム９８０ｇ（４．２９５モル）を蒸留水２２９３ｇ
に溶解させた酸化剤水溶液を別に調製した。
【００３４】
低温恒温槽を用いてフラスコ内の反応混合物の温度を−３℃以下に保持しつつ、攪拌下
のアニリン塩の酸性水溶液に、チュービングポンプを用いて、上記ペルオキソ二硫酸アン
モニウム水溶液を１ｍＬ／分以下の割合で滴下した。これにより析出される重合体粉末を
濾別し、水洗、アセトン洗浄し、室温で真空乾燥して、酸化ドーピング状態にあるポリア
ニリン粉末４３０ｇを得た。
【００３５】
上記酸化ドーピング状態のポリアニリン粉末３５０ｇを、２Ｎのアンモニア水４リット
ル中に加え、オートホモミキサーを用い回転数５０００ｒｐｍにて５時間攪拌した。続い
て、ブフナー漏斗を用いて粉末を濾別し、ビーカー中で攪拌しながら、濾液が中性になる
まで蒸留水にて洗浄した後、濾液が無色になるまでアセトンにて洗浄した。次に、粉末を
室温にて１０時間真空乾燥して、酸化脱ドープ状態のポリアニリン粉末２８０ｇを得た。
【００３６】
上記酸化脱ドープ状態のポリアニリン粉末１００ｇを、エチルエーテル１リットル中に
加え、ビーカー中で懸濁させながら、還元剤としてのフェニルヒドラジンを、ポリアニリ
ンの色が酸化状態を反映した青色から還元状態を反映した灰色に変化するまで、徐々に滴
下した。続いて粉末を濾別し、室温（２３℃）にて１０時間真空乾燥して、還元脱ドープ
状態のポリアニリン粉末９０ｇを合成した。
【００３７】
この還元脱ドープ状態のポリアニリン粉末を、２ｗｔ％の濃度となるように、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドンに溶解させて浸漬用の溶液を調製した。なお、この溶液から得られた
ＯＤＩ値は０．１５であった。
【００３８】
続いて、この浸漬用の溶液中に、上記光電極を大気圧（１０１３２５Ｐａ）下の室温（
２３℃）で２０時間浸漬した後、これを引き上げ、N−メチルピロリドンを用いて余剰の
ポリアニリンを洗い流した。その後、乾燥機を用いて乾燥させ、上記増感色素に接して高
分子固体電解質層を形成した。
【００３９】
上記高分子固体電解質層の上に、スパッタリング法を用いて金膜を蒸着し、対向電極を
形成するとともに、実施例１にかかる色素増感型太陽電池を完成させた。
【００４０】
＜実施例２＞
浸漬時間を６８時間としたこと以外は、実施例１と同様にして作製した色素増感型太陽
電池である。
【００４１】
＜比較例１＞
浸漬時間を３０秒（０．００８時間）としたこと以外は、実施例１と同様にして作製し
た色素増感型太陽電池である。
【００４２】
＜比較例２＞
浸漬時間を１時間としたこと以外は、実施例１と同様にして作製した色素増感型太陽電
池である。
【００４３】
＜比較例３＞
還元脱ドープ状態のポリアニリンに代えて上記酸化脱ドープ状態のポリアニリンを用い
たことと、浸漬時間を３０秒（０．００８時間）としたこと以外は、実施例１と同様にし
て作製した色素増感型太陽電池である。なお、この酸化脱ドープ状態のポリアニリンを溶
解させた溶液から得られたＯＤＩ値は０．８であった。
【００４４】
＜比較例４＞
浸漬時間を１時間としたこと以外は、比較例３と同様にして作製した色素増感型太陽電
池である。
【００４５】
＜比較例５＞
浸漬時間を２０時間としたこと以外は、比較例３と同様にして作製した色素増感型太陽
電池である。
【００４６】
＜比較例６＞
浸漬時間を２８時間としたこと以外は、比較例３と同様にして作製した色素増感型太陽
電池である。
【００４７】
＜比較例７＞
浸漬時間を４５時間としたこと以外は、比較例３と同様にして作製した色素増感型太陽
電池である。
【００４８】
＜比較例８＞
光電極を浸漬用の溶液に浸漬させず、浸漬用の溶液をメソポーラス二酸化チタン多孔質
上に滴下し、大気圧（１０１３２５Ｐａ）下の室温（２３℃）で２０時間放置した後、こ
れを乾燥させて高分子固体電解質層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして作製し
た色素増感型太陽電池である。
【００４９】
擬似太陽光（１００ｍＷ／ｃｍ2、ＡＭ１．５）を照射して電流電圧曲線を測定し、こ
れに基づいて開放電圧を算出した。実施例１〜２および比較例１〜８の開放電圧を下記表
１にまとめて示す。
【００５０】
【表１】
2006172743.tif 000004
【００５１】
表１で示すように、比較例１〜８では、０．０６５Ｖ〜０．３０７Ｖの開放電圧であっ
たのに対し、実施例１では０．３８８Ｖ、実施例２では０．６０５Ｖの開放電圧が得られ
た。
【００５２】
ここで、実施例１と比較例５との比較により、同じ浸漬時間（２０時間）であっても、
還元脱ドープ状態のポリアニリンを用いた場合には、酸化脱ドープ状態のポリアニリンを
用いた場合と比べて、開放電圧を２倍以上に増加できることが判った。
【００５３】
また、比較例３〜７において、浸漬時間を１時間とした比較例４の開放電圧が最も高い
ことから、酸化脱ドープ状態のポリアニリンを用いた場合には、浸漬時間を２０時間以上
に長くしても開放電圧が向上しないことが判った。
【００５４】
また、比較例１〜２より、還元脱ドープ状態のポリアニリンを用いた場合であっても、
１時間以下の浸漬時間では０．２４８Ｖ以下の開放電圧しか得られないことが判った。
【００５５】
また、実施例１と比較例８との比較から、多孔膜とポリアニリン溶液との接触時間が等
しく２０時間であり、かつ還元脱ドープ状態のポリアニリンを用いたとしても、当該接触
が多孔膜へのポリアニリン溶液の滴下である場合には、０．３０７Ｖの開放電圧しか得ら
れないことが判った。
【００５６】
以上の結果から、還元脱ドープ状態のポリアニリンを用いつつ、多孔膜をポリアニリン
溶液中に所定時間以上浸漬させることにより、高分子固体電解質層を備えた色素増感型太
陽電池の開放電圧を顕著に向上できることが判った。
【００５７】
比較例１〜２において開放電圧が０．２４８Ｖ以下と低かった理由としては、この程度
の浸漬時間では多孔膜の内部にまでポリアニリン溶液を十分に浸透できず、多孔膜内部の
光増感色素にまで接しては、固体高分子電解質層を形成できなかったためと考えられる。
なお、上記実施例では、還元脱ドープ状態のポリアニリン溶液への浸漬時間を２０時間お
よび６８時間とした場合を示したが、この浸漬時間を１２時間以上の範囲とすると、０．
３５Ｖ以上の優れた開放電圧が得られることを確認している。
【００５８】
比較例３〜７において開放電圧が０．１０５Ｖ〜０．１９９Ｖと低かった理由としては
、酸化脱ドープ状態のポリアニリンは、還元脱ドープ状態のポリアニリンに比して、フェ
ニレンジアミン構造の含有率が低いため、すなわちポリアニリン中のＮＨ基の比率が低い
ため、光増感色素や、光増感色素を担持していない箇所の多孔膜の表面への密着力が低く
、結果的に光増感色素に接して形成される固体電解質層の表面積が少なくなっているもの
と考えられる。なお、上記実施例では、ＯＤＩ値が０．１５を示す還元脱ドープ状態のポ
リアニリン溶液を用いた場合を示したが、ＯＤＩ値が０〜０．２の範囲内にある限り、開
放電圧を顕著に高めることができることを確認している。また、０に近いＯＤＩ値を示す
ものほどより高い開放電圧が得られることを確認している。
【００５９】
比較例８において、その開放電圧が０．３０７Ｖと、比較例２よりも高かったものの、
実施例１と比べて低かった理由としては、多孔膜の内部にまでポリアニリン溶液が十分に
浸透する前に、多孔膜の外表面部分でポリアニリンが乾燥して被膜を形成してしまい、そ
れ以上内部への溶液の浸透が阻害されてしまったのではないかと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明は、高分子固体電解質と光増感色素との接触面積を簡便な方法により増加させた
色素増感型太陽電池を提供することに適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の色素増感型太陽電池の一例を示す断面図である。
【図２】ポリアニリンの電子スペクトルの概念図であり、還元脱ドープ状態を説明するための図である。
【符号の説明】
【００６２】
１    光透過性基板
２    導電膜
３    酸化物半導体多孔膜
４    光電極
５    高分子固体電解質層
６    対向電極
【図１】
2006172743.tif 000005
【図２】
2006172743.tif 000006