(57)【要約】【課題】製造コストを低減できると共に、ゲル状組成物の体積変化があっても検出精度を維持できる加速度センサを提供する。【解決手段】基板１５の載置面１５ａに接合される台座１２と、台座１２に接合され撓み可能なセンサ部材１３と、センサ部材１３の撓み量を検出する歪みゲージ１７とを備えた加速度センサ１１において、センサ部材１３は、センサ部材１３の外枠を形成すると共に台座１２に接合された枠部１３ａと、重りとして機能するマス部１３ｂと、センサ部材１３に貫通孔１６が形成されていることにより相対的に形成されると共に枠部１３ａとマス部１３ｂとを連結する梁部１３ｃとを備え、歪みゲージ１７は、梁部１３ｃの撓み量を検出し、センサ部材１３と台座１２とがなす空間Ｓ１に充填されたシリコーンゲル１４を備えた。【選択図】      図１
2006071419.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の載置面に接合される台座と、
前記台座に接合され撓み可能なセンサ部材と、
前記センサ部材の撓み量を検出する撓み検出手段とを備えた加速度センサにおいて、
前記センサ部材は、前記センサ部材の外枠を形成すると共に前記台座に接合された枠部と、重りとして機能するマス部と、該センサ部材に貫通孔が形成されていることにより相対的に形成されると共に前記枠部と前記マス部とを連結する梁部とを備え、
前記撓み検出手段は、前記梁部の撓み量を検出し、
前記センサ部材と前記台座とがなす空間に、又は前記センサ部材と前記基板とがなす空間に充填されたゲル状組成物を備えたことを特徴とする加速度センサ。
【請求項２】
前記台座の前記センサ部材側には、前記梁部が撓んだ際に該台座と前記マス部との当接を防ぐための凹部を備え、
前記台座には、前記凹部が形成されていることにより相対的に形成された側壁部を備え、
前記側壁部には、前記凹部から前記台座の外部へ連通すると共に前記凹部と同じ深さの溝部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の加速度センサ。
【請求項３】
前記台座は、前記梁部が撓んだ際に前記基板と前記マス部との当接を防ぐために前記基板と前記センサ部材との間に空間を形成する複数の柱であることを特徴とする請求項１に記載の加速度センサ。
【請求項４】
台座と、
前記台座に接合され、撓み可能なダイヤフラム部及び該ダイヤフラム部の前記台座側に設けられ重りとして機能するマス部を有するセンサ部材と、
前記ダイヤフラム部の撓み量を検出する撓み検出手段と、
前記台座の前記センサ部材側に設けられ前記ダイヤフラム部が撓んだ際に前記台座と前記マス部との当接を防ぐための凹部と、
前記台座と前記センサ部材とがなす空間に充填されたゲル状組成物と、
前記台座に前記凹部が形成されていることにより相対的に形成された側壁部と、
前記側壁部に設けられ前記凹部から前記台座の外部へ連通すると共に前記凹部と同じ深さの溝部と
を備えたことを特徴とする加速度センサ。
【請求項５】
基板の載置面に接合される複数の柱と、
前記各柱における前記基板とは反対側に接合され、撓み可能なダイヤフラム部及び該ダイヤフラム部の前記基板側に設けられ重りとして機能するマス部を有するセンサ部材と、
前記ダイヤフラム部の撓み量を検出する撓み検出手段と、
前記基板と前記センサ部材とがなす空間に充填されたゲル状組成物と
を備えたことを特徴とする加速度センサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加速度を検出する加速度センサに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、地震の震度の測定、車両が衝突した際の衝撃力の大きさの測定、ビデオカメラなどにおいて手ぶれの大きさの測定などを行う加速度センサが製品化されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような加速度センサは、台座と、台座上に接合されたセンサ部材と、センサ部材の撓み量を検出する歪み抵抗とを備えている。台座の上面には、凹部と、その凹部から台座の外側面へ向かって延びるように形成された溝部とが形成されている。センサ部材は、ダイヤフラムと、ダイヤフラムの中央下面に設けられたマス部とを備えている。マス部は、台座の凹部と対向する位置に形成されている。この凹部と溝部とには、シリコーンゲルが充填されている。このシリコーンゲルは、衝撃が加えられた際に、その形状がほとんど変化しない特性を備え、かつ急激でない加速度が加えられた際に、その形状が好適に変化する特性を備えている。
【０００４】
加速度センサに加速度が加わると、マス部の慣性力によりダイヤフラムが撓み、その撓み量を歪み抵抗にて検出するようになっている。加速度センサは、それに強い加速度が加わった場合に、ゲルの形状がほとんど変形しないことによりダイヤフラムがほとんど撓まず、ダイヤフラムが割れてしまうことがない。
【０００５】
また、加速度センサは、温度変化に伴ってシリコーンゲルが体積変化しても、その体積変化した分だけシリコーンゲルは溝部から出入りする。従って、常に歪み抵抗の平衡が維持されることから、加速度の検出精度が低下することが抑制される。
【特許文献１】特開平６−１６０４１７号公報（図１、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、加速度センサにおいては、台座には、凹部を形成し、さらには、ダイシングソーを用いて溝部を形成しなければならず、この結果、加速度センサの製造工程が煩雑で、製造コストが増加してしまうという問題があった。
【０００７】
特許文献１には、センサ部材の下面において、加速度センサ内の空間から加速度センサ外にかけて溝部を形成した加速度センサも示されている。しかしながら、この加速度センサにおいては、溝部のみを形成するためのエッチング加工を必要とするため、加速度センサの製造工程が煩雑で、製造コストが増加してしまうという問題があった。
【０００８】
本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、その目的は製造コストを低減できると共に、ゲル状組成物の体積変化があっても検出精度を維持できる加速度センサを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、基板の載置面に接合される台座と、前記台座に接合され撓み可能なセンサ部材と、前記センサ部材の撓み量を検出する撓み検出手段とを備えた加速度センサにおいて、前記センサ部材は、前記センサ部材の外枠を形成すると共に前記台座に接合された枠部と、重りとして機能するマス部と、該センサ部材に貫通孔が形成されていることにより相対的に形成されると共に前記枠部と前記マス部とを連結する梁部とを備え、前記撓み検出手段は、前記梁部の撓み量を検出し、前記センサ部材と前記台座とがなす空間に、又は前記センサ部材と前記基板とがなす空間に充填されたゲル状組成物を備えた。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記台座の前記センサ部材側には、前記梁部が撓んだ際に該台座と前記マス部との当接を防ぐための凹部を備え、前記台座には、前記凹部が形成されていることにより相対的に形成された側壁部を備え、前記側壁部には、前記凹部から前記台座の外部へ連通すると共に前記凹部と同じ深さの溝部が形成されている。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記台座は、前記梁部が撓んだ際に前記基板と前記マス部との当接を防ぐために前記基板と前記センサ部材との間に空間を形成する複数の柱である。
【００１２】
請求項４の発明は、台座と、前記台座に接合され、撓み可能なダイヤフラム部及び該ダイヤフラム部の前記台座側に設けられ重りとして機能するマス部を有するセンサ部材と、前記ダイヤフラム部の撓み量を検出する撓み検出手段と、前記台座の前記センサ部材側に設けられ前記ダイヤフラム部が撓んだ際に前記台座と前記マス部との当接を防ぐための凹部と、前記台座と前記センサ部材とがなす空間に充填されたゲル状組成物と、前記台座に前記凹部が形成されていることにより相対的に形成された側壁部と、前記側壁部に設けられ前記凹部から前記台座の外部へ連通すると共に前記凹部と同じ深さの溝部とを備えた。
【００１３】
請求項５の発明は、基板の載置面に接合される複数の柱と、前記各柱における前記基板とは反対側に接合され、撓み可能なダイヤフラム部及び該ダイヤフラム部の前記基板側に設けられ重りとして機能するマス部を有するセンサ部材と、前記ダイヤフラム部の撓み量を検出する撓み検出手段と、前記基板と前記センサ部材とがなす空間に充填されたゲル状組成物とを備えた。
【００１４】
（作用）
請求項１に記載の発明によれば以下に示す作用を得る。加速度センサに加速度が加えられると、マス部の慣性力により梁部が撓む。撓み検出手段は、その梁部の撓み量を検出することに基づいて、加速度センサに加わっている加速度を検出する。ゲル状組成物は、梁部が急激に撓もうとした場合に、梁部の撓み変化を緩衝し、この結果、梁部に割れが発生してしまうことを抑制する。ゲル状組成物は、温度変化に伴って体積変化を起こすことがある。ゲル状組成物の体積変化が原因となって梁部が撓んでしまい、撓み検出手段による加速度の検出精度が低下してしまうことが考えられる。そのため、この加速度センサでは、センサ部材に形成されている貫通孔を介してゲル状組成物が出入りすることにより、ゲル状組成物の体積変化による梁部の撓み変化を抑制している。加速度センサは、梁部を形成するための貫通孔を利用して、ゲル状組成物の体積変化による該ゲル状組成物の加速度センサ内外への移動を許容している。そのため、ゲル状組成物の体積変化による該ゲル状組成物の加速度センサ内外への移動を許容する専用の貫通孔を形成する必要がなく、その分、加速度センサの製造コストを低減することが可能となる。
【００１５】
請求項２に記載の発明によれば、請求項１に記載の発明の作用に加えて以下に示す作用を得る。台座に溝部を形成することにより、ゲル状組成物の体積変化による該ゲル状組成物の加速度センサ内外への移動をよりいっそう許容している。このため、ゲル状組成物の体積変化による梁部の撓み変化がよりいっそう抑制される。また例えば、台座をエッチング加工により形成する場合に、凹部と溝部との深さが同じため凹部と溝部とを同時に、即ち、１工程で形成することができ、エッチング加工によりそれらを個別に形成するよりも工数を少なくすることが可能となり、その分、製造コストを低減することが可能となる。
【００１６】
請求項３に記載の発明によれば、請求項１に記載の発明の作用に加えて以下に示す作用を得る。台座が複数の柱から成り立っていることにより、加速度センサ内外を繋ぐ貫通孔を形成する場合に比して、基板とセンサ部材とがなす空間と、加速度センサ外部とを繋ぐ連通路を大きく取ることが可能となる。連通路を大きく取れるほど、ゲル状組成物の体積変化による該ゲル状組成物の加速度センサ内外への移動を許容しやすく、ゲル状組成物の体積変化による梁部の撓み変化がよりいっそう抑制される。
【００１７】
請求項４及び請求項５によれば、加速度センサに加速度が加えられると、マス部の慣性力によりダイヤフラム部が撓む。撓み検出手段は、そのダイヤフラム部の撓み量を検出することに基づいて、加速度センサに加わっている加速度を検出する。ゲル状組成物は、ダイヤフラム部が急激に撓もうとした場合に、ダイヤフラム部の撓み変化を緩衝し、この結果、ダイヤフラム部に割れが発生してしまうことを抑制する。ゲル状組成物は、温度変化に伴って体積変化を起こすことがある。ゲル状組成物の体積変化が原因となってダイヤフラム部が撓んでしまい、撓み検出手段による加速度の検出精度が低下してしまうことが考えられる。
【００１８】
そこで、請求項４の加速度センサでは、台座に形成されている溝部を介してゲル状組成物が出入りすることにより、ゲル状組成物の体積変化によるダイヤフラム部の撓み変化を抑制している。この台座を例えばエッチング加工により形成する場合に、凹部と溝部との深さが同じため凹部と溝部とを同時に形成することができ、エッチング加工によりそれらを個別に形成するよりも工数を少なくすることが可能となり、その分、製造コストを低減することが可能となる。
【００１９】
一方、請求項５の加速度センサでは、柱と柱との隙間を介してゲル状組成物が出入りすることにより、ゲル状組成物の体積変化によるダイヤフラム部の撓み変化を抑制している。柱は、同形状及び同サイズのものを多数形成しておけばよく、その多数の柱の幾つかを用いて加速度センサを構成することにより、加速度センサの製造コストを低減することが可能となる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、製造コストを低減できると共に、ゲル状組成物の体積変化があっても検出精度を維持できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した第１実施形態を図１及び図４に従って説明する。
図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、加速度センサ１１は、シリコン製の台座１２、シリコン製のセンサ部材１３、及びゲル状組成物としてのシリコーンゲル１４を備えている。
【００２２】
図１（ｂ）〜（ｄ）に示すように、台座１２は、四角板状に形成され、基板１５の載置面１５ａに接合される下面１２ａと、その下面１２ａとは反対側の面である上面１２ｂとを備えている。上面１２ｂには、凹部１２ｃが形成されている。凹部１２ｃの内側面は、上方に向かうほど開口部が直線的に広くなるようにテーパ状に形成されている。即ち、凹部１２ｃは、四角錐台形状となるように形成されている。
【００２３】
センサ部材１３は、図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、四角板状に形成され、四辺に沿って所定幅の枠部１３ａを備えている。枠部１３ａは、台座１２の上面１２ｂに固定されている。センサ部材１３の中央付近には、凹部１２ｃと対向する位置に配置された四角錐台形状のマス部１３ｂが形成されている。枠部１３ａとマス部１３ｂとは、撓み可能な４つの梁部１３ｃにより一体に連結されている。詳述すると、マス部１３ｂの各四辺中央と、そのマス部１３ｂの各辺にそれぞれ対向する枠部１３ａの各四辺の中央とが梁部１３ｃにより一体に連結されている。即ち、４つの梁部１３ｃによって、マス部１３ｂは変位可能となるように四方から支持されている。図１（ｂ）に示すように、枠部１３ａ及びマス部１３ｂは同じ厚さに形成されており、梁部１３ｃは枠部１３ａよりも肉薄に形成されている。
【００２４】
センサ部材１３は、枠部１３ａ、マス部１３ｂ、及び梁部１３ｃを形成する際のエッチングにより、枠部１３ａ、マス部１３ｂ、及び梁部１３ｃ以外の箇所が貫通孔１６となるように形成されている。即ち、梁部１３ｃは、センサ部材１３に貫通孔１６が形成されていることにより相対的に形成されている。貫通孔１６は、図１（ａ）に示すように平面視Ｌ字形状をなすように形成されている。
【００２５】
図１（ｂ）に示すように、マス部１３ｂの側面及びマス部１３ｂの側面と対向する枠部１３ａの側面は、下方に向かうほど開口部が直線的に広くなるようにテーパ状に形成されている。即ち、マス部１３ｂは、四角錐台形状となるように形成されている。
【００２６】
各梁部１３ｃの台座１２とは反対側の面には、撓み検出手段としての歪みゲージ１７がそれぞれ形成されている。この歪みゲージ１７は、梁部１３ｃの上面に対してデポジション（堆積方法）と熱拡散法とにより形成されている。具体的には、貫通孔１６が形成されていないシリコン基板における梁部１３ｃに対応する上面に歪みゲージ１７を形成し、その後、そのシリコン基板に貫通孔１６を形成する。この各歪みゲージ１７は、対応する梁部１３ｃの撓み量に応じて応力（引張り、圧縮）が加わり抵抗値の大きさが変化する。この抵抗値の大きさに基づいて梁部１３ｃの撓み変化量を検出することができる。図示はしないが、これらの歪みゲージ１７は１つのブリッジ回路を構成している。ブリッジ回路からの出力信号に基づいて、加速度センサ１１に加わる３次元の加速度を検出することが可能となっている。
【００２７】
台座１２とセンサ部材１３とがなす空間Ｓ１には、前記シリコーンゲル１４が充填されている。このシリコーンゲル１４は、衝撃が加えられた際に、その形状がほとんど変化しない特性を備え、かつ急激でない加速度が加えられた際に、その形状が好適に変化し、梁部１３ｃを好適に撓ますことができる特性を備えている。空間Ｓ１は、台座１２の凹部１２ｃ内の空間、梁部１３ｃの下側の空間、貫通孔１６内の空間を含んでいる。
【００２８】
従って、第１実施形態の加速度センサ１１によれば、以下のような作用・効果を得ることができる。
（１）加速度センサ１１に加速度が加えられると、図４（ａ）に示すように、マス部１３ｂの慣性力により梁部１３ｃが撓む。歪みゲージ１７は、その梁部１３ｃの撓み量を検出することに基づいて、加速度センサ１１に加わっている加速度を検出する。シリコーンゲル１４は、梁部１３ｃが急激に撓もうとした場合に、梁部１３ｃの撓み変化を緩衝する。詳述すると、図１（ｂ）に示すように、シリコーンゲル１４は、衝撃が加えられた際に、その形状がほとんど変形しない。そのため、衝撃により梁部１３ｃが急激に撓もうとした場合、シリコーンゲル１４は梁部１３ｃの撓み変化をほとんど起こさせず、この結果、梁部１３ｃに割れが発生することを抑制することができる。
【００２９】
（２）また、シリコーンゲル１４は、温度変化に伴って体積変化を起こすことがある。シリコーンゲル１４の体積変化が原因となって梁部１３ｃが撓んでしまい、歪みゲージ１７による加速度の検出精度が低下してしまうことが考えられる。そのため、この加速度センサ１１では、センサ部材１３に形成されている貫通孔１６を介してシリコーンゲル１４が出入りすることにより、シリコーンゲル１４の体積変化による梁部１３ｃの撓み変化を抑制している。加速度センサ１１は、梁部１３ｃを形成するための貫通孔１６を利用して、シリコーンゲル１４の体積変化による該シリコーンゲル１４の加速度センサ１１内外への移動を許容している。ちなみに、図４（ｂ）では、膨張した分のシリコーンゲル１４が貫通孔１６から突出した状態を示している。そのため、シリコーンゲル１４の体積変化による該シリコーンゲル１４の加速度センサ１１内外への移動を許容する専用の貫通孔を形成する必要がなく、その分、加速度センサ１１の製造コストを低減することができる。よって、加速度センサ１１は、製造コストを低減できると共に、シリコーンゲル１４の体積変化があっても検出精度を維持できる。
【００３０】
（３）加速度センサ１１は、シリコーンゲル１４を出入りさせるための貫通孔１６をセンサ部材１３の上面から加速度センサ１１内部へ向けて形成した。加速度センサ１１は、その上面の面積が、その側面の面積よりも大きく形成されている。そのため、加速度センサ１１（センサ部材１３）の上面に形成した貫通孔１６は、加速度センサ１１の側面に貫通孔を形成した場合に比して、孔の断面積を大きく形成することが可能となる。このため、シリコーンゲルの出入りを円滑に行うことができ、シリコーンゲルの体積変化があっても検出精度を向上させることができる。
【００３１】
（４）ところで図７は、特許文献１の加速度センサを示したものである。この加速度センサ１０１は、台座１０２、センサ部材１０３、歪み抵抗１０４、凹部１０５、溝部１０６を備えている。センサ部材１０３は、ダイヤフラム１０３ａ及びマス部１０３ｂを備えている。加速度センサ１０１は、適宜のパッケージ１０７に内包されている。このパッケージ１０７内には、流動性のあるシリコーンゲル１０８が満たされており、このシリコーンゲル１０８は台座１０２とセンサ部材１０３とがなす空間１０９にも充填されている。
【００３２】
一方、加速度センサ１１は、その空間Ｓ１のみにシリコーンゲル１４を充填するように構成した。よって、本実施形態の加速度センサ１１は、従来の加速度センサ１０１に比してシリコーンゲルの使用量を減らすことができ、その分、材料費を抑えることができる。また、本実施形態の加速度センサ１１は、従来の加速度センサ１０１とは異なりパッケージ１０７を必要としないため、その加速度センサ１０１に比して、加速度センサを配設するためのスペースが狭くて済む。さらには、加速度センサ１１は、従来の加速度センサ１０１とは異なりパッケージ１０７を必要としないため、その加速度センサ１０１に比して、加速度センサへの配線作業を容易に行うことができる。
【００３３】
（第２実施形態）
以下、本発明を具体化した第２実施形態を図２に従って説明する。なお、説明の便宜上、第１実施形態と同様の構成については同一の符号を付してその説明を一部省略する。
【００３４】
図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、本実施形態の加速度センサ２１は、第１実施形態の加速度センサ１１に溝部２２を加えたものである。
詳述すると、図２（ｄ）に示すように、溝部２２は、台座１２の凹部１２ｃの各四辺中央からそれぞれ対応する台座１２の外側面１２ｅにかけて形成されている。即ち、台座１２には、凹部１２ｃが形成されていることにより相対的に形成された側壁部１２ｆを備えており、その側壁部１２ｆの上面１２ｂには、凹部１２ｃから台座１２の外部へ連通する溝部２２が形成されている。溝部２２の底面２２ａは、凹部１２ｃの底面１２ｄと面一となるように形成されている。溝部２２の内側面は、上方に向かうほど開口部が直線的に広くなるようにテーパ状に形成されている。加速度センサ２１は、台座１２とセンサ部材１３とがなす空間Ｓ２に、シリコーンゲル１４が充填されている。空間Ｓ２は、台座１２の凹部１２ｃ内の空間、台座１２の溝部２２内の空間、梁部１３ｃの下側の空間、貫通孔１６内の空間を含んでいる。
【００３５】
従って、第２実施形態によれば、第１実施形態における（１）〜（４）の作用・効果と同様の作用・効果を得ると共に、以下の作用・効果を得ることができる。
（５）前記第１実施形態の加速度センサ１１では、マス部１３ｂの変位によって、貫通孔１６のみを介してシリコーンゲル１４が出入りしていたが、本実施形態の加速度センサ２１では、マス部１３ｂの変位によって、貫通孔１６及び溝部２２を介してシリコーンゲル１４が出入りする。そのため、シリコーンゲル１４の体積変化によるシリコーンゲル１４の加速度センサ２１内外への移動をよりいっそう許容している。このため、シリコーンゲル１４の体積変化による梁部１３ｃの撓み変化がよりいっそう抑制される。よって、加速度センサ２１は、加速度センサ１１に比して、シリコーンゲル１４の体積変化があっても検出精度をよりいっそう向上させることができる。
【００３６】
（６）台座１２に対して凹部１２ｃ及び溝部２２をエッチング加工により形成する場合に、凹部１２ｃと溝部２２との深さが同じため凹部１２ｃと溝部２２とを同時に、即ち、１工程で形成することができる。そのため、エッチング加工によりそれらを個別に形成するよりも工数を少なくすることが可能となり、その分、台座１２の製造コストを低減することができる。
【００３７】
（第３実施形態）
以下、本発明を具体化した第３実施形態を図３に従って説明する。なお、説明の便宜上、第１実施形態と同様の構成については同一の符号を付してその説明を一部省略する。
【００３８】
図３（ａ）〜（ｃ）に示すように、本実施形態の加速度センサ３１は、第１実施形態の加速度センサ１１の台座を変更したものに相当する。即ち、加速度センサ３１は、シリコン製の台座３２、前記センサ部材１３、前記シリコーンゲル１４を備えている。図３（ｄ）に示すように、台座３２は、４つの四角柱状をなす柱３２ａにより構成されている。各柱３２ａは、それぞれ同じ寸法で形成されている。
【００３９】
図３（ｂ）〜（ｄ）に示すように、各柱３２ａは、その一端面（下端面）が基板１５の載置面１５ａに接合され、その他端面（上端面）が枠部１３ａの四隅部のうち対応する隅部にそれぞれ接合されている。各柱３２ａの高さは、梁部１３ｃが撓んでマス部１３ｂが基板１５の載置面１５ａに近づくように移動した場合に、該マス部１３ｂが載置面１５ａに当接しないように設定されている。
【００４０】
以下、互いに隣り合う両柱３２ａと、センサ部材１３と、基板１５とがなす加速度センサ３１内外を連通する矩形の連通路を連通路３３という。図３（ｄ）に示すように、この加速度センサ３１では、連通路３３は４つ形成されている。
【００４１】
加速度センサ３１は、センサ部材１３と基板１５とがなす空間Ｓ３に、シリコーンゲル１４が充填されている。空間Ｓ３は、４つの柱３２ａにて囲まれた空間、互いに隣り合う柱３２ａ同士がなす空間、梁部１３ｃの下側の空間、貫通孔１６内の空間を含んでいる。
【００４２】
従って、第３実施形態によれば、第１実施形態における（１）〜（４）の作用・効果と同様の作用・効果を得ると共に、以下の作用・効果を得ることができる。
（７）前記第１実施形態の加速度センサ１１では、マス部１３ｂの変位によって、貫通孔１６のみを介してシリコーンゲル１４が出入りしていたが、本実施形態の加速度センサ３１では、マス部１３ｂの変位によって、貫通孔１６及び連通路３３を介してシリコーンゲル１４が出入りする。そのため、シリコーンゲル１４の体積変化によるシリコーンゲル１４の加速度センサ３１内外への移動をよりいっそう許容している。このため、シリコーンゲル１４の体積変化による梁部１３ｃの撓み変化がよりいっそう抑制される。よって、加速度センサ３１は、加速度センサ１１に比して、シリコーンゲル１４の体積変化があっても検出精度をよりいっそう向上させることができる。
【００４３】
（８）加速度センサ３１は、台座３２が４つの柱３２ａから成り立っていることにより、加速度センサ３１内外を繋ぐ貫通孔を形成する場合に比して、基板１５とセンサ部材１３とがなす空間Ｓ３と、加速度センサ３１外部とを繋ぐ連通路３３を大きく取ることが可能となる。連通路３３を大きく取れるほど、シリコーンゲル１４の体積変化によるシリコーンゲル１４の加速度センサ３１内外への移動を許容しやすく、シリコーンゲル１４の体積変化による梁部１３ｃの撓み変化がよりいっそう抑制される。よって、加速度センサ３１は、加速度センサ１１に比して、シリコーンゲル１４の体積変化があっても検出精度をよりいっそう向上させることができる。
【００４４】
（９）柱３２ａは、同形状及び同サイズのものを多数形成しておけばよく、その多数の柱３２ａの４つを用いて加速度センサ３１を構成することにより、加速度センサ３１の製造コストを低減することができる。
【００４５】
（１０）台座３２は、４つの柱３２ａがそれぞれ独立して構成されているため、互いに熱が伝わらず熱応力による変形が起こりにくい。この結果、柱３２ａの熱変形による梁部１３ｃの歪みが発生しにくく、加速度センサ３１の検出精度をよりいっそう高めることができる。
【００４６】
なお、前記各実施形態は、以下の態様に変更してもよい。
・前記第２実施形態の加速度センサ２１のセンサ部材１３は、枠部１３ａ、マス部１３ｂ、梁部１３ｃを備えていた。これに限らず、加速度センサ２１のセンサ部材１３を以下に示すセンサ部材４３に変更した加速度センサである加速度センサ４１を構成してもよい。図５（ａ），（ｂ）に示すように、この加速度センサ４１のセンサ部材４３は、台座１２の上面１２ｂに固定される枠部４３ａと、前記マス部１３ｂと同様の形状及び同様の機能のマス部４３ｂと、枠部４３ａとマス部４３ｂとを連結すると共に撓み可能なダイヤフラム部４３ｃとを備えている。歪みゲージ１７は、ダイヤフラム部４３ｃの撓み量に応じて抵抗値の大きさが変化する。このセンサ部材４３は、センサ部材１３と異なり貫通孔１６が形成されていない。このように構成しても、前記作用・効果（４），（６）と同様の作用・効果を得ることができる。また、ダイヤフラム部４３ｃが衝撃により急激に撓もうとしても、シリコーンゲル１４がほとんど変形しないため、ダイヤフラム部４３ｃがほとんど撓まない。この結果、ダイヤフラム部４３ｃに割れが発生してしまうことを抑制することができる。さらには、この加速度センサ４１では、シリコーンゲル１４の体積変化を起こした場合に、体積変化した分のシリコーンゲル１４が溝部２２から出入りすることにより、シリコーンゲル１４の体積変化によるダイヤフラム部４３ｃの撓み変化を抑制し、検出精度を維持できる。
【００４７】
・同様に、前記第３実施形態の加速度センサ３１のセンサ部材１３を前記センサ部材４３に変更した加速度センサである加速度センサ５１（図６（ａ），（ｂ）参照）を構成してもよい。このように構成しても、前記作用・効果（４），（８）〜（１０）と同様の作用・効果を得ることができる。また、ダイヤフラム部４３ｃが衝撃により急激に撓もうとしても、シリコーンゲル１４がほとんど変形しないため、ダイヤフラム部４３ｃがほとんど撓まない。この結果、ダイヤフラム部４３ｃに割れが発生してしまうことを抑制することができる。さらには、この加速度センサ５１では、シリコーンゲル１４の体積変化を起こした場合に、体積変化した分のシリコーンゲル１４が連通路３３から出入りすることにより、シリコーンゲル１４の体積変化によるダイヤフラム部４３ｃの撓み変化を抑制し、検出精度を維持できる。
【００４８】
・前記各実施形態の加速度センサ１１，２１，３１及び上記加速度センサ４１，５１の歪みゲージ１７を、撓み検出手段としての圧電素子に変更してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】（ａ）は、第１実施形態の加速度センサの平面図。（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ線矢視に対応した正断面図。（ｃ）は、図１（ａ）のＢ−Ｂ線矢視に対応した正断面図。（ｄ）は、図１（ｂ）のＣ−Ｃ線矢視に対応した台座の平面図。
【図２】（ａ）は、第２実施形態の加速度センサの平面図。（ｂ）は、図２（ａ）のＤ−Ｄ線矢視に対応した正断面図。（ｃ）は、図２（ａ）のＥ−Ｅ線矢視に対応した正断面図。（ｄ）は、図２（ｂ）のＦ−Ｆ線矢視に対応した台座の平面図。
【図３】（ａ）は、第３実施形態の加速度センサの平面図。（ｂ）は、図３（ａ）のＧ−Ｇ線矢視に対応した正断面図。（ｃ）は、図３（ａ）のＨ−Ｈ線矢視に対応した正断面図。（ｄ）は、図３（ｂ）のＩ−Ｉ線矢視に対応した台座及び基板の平面図。
【図４】（ａ）は、第１実施形態の加速度センサの梁部１３ｃが撓んだ状態を示す作用図。（ｂ）は、膨張した分のシリコーンゲルが貫通孔から突出した状態を示す作用図。
【図５】（ａ）は、態様の変更における加速度センサの平面図。（ｂ）は、図５（ａ）のＪ−Ｊ線矢視に対応した正断面図。
【図６】（ａ）は、態様の変更における加速度センサの平面図。（ｂ）は、図６（ａ）のＫ−Ｋ線矢視に対応した正断面図。
【図７】従来技術の加速度センサの正断面図。
【符号の説明】
【００５０】
１１，２１，３１，４１，５１…加速度センサ、１２，３２…台座、１２ｃ…凹部、１２ｆ…側壁部、１３，４３…センサ部材、１３ａ，４３ａ…枠部、１３ｂ，４３ｂ…マス部、１３ｃ…梁部、１４…ゲル状組成物としてのシリコーンゲル、１５…基板、１５ａ…載置面、１６…貫通孔、１７…撓み検出手段としての歪みゲージ、２２…溝部、３２ａ…柱、４３ｃ…ダイヤフラム部、Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３…空間。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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