(57)【要約】【課題】クリーニングによる汚染物の除去効率が高く、磁気ディスクへの磁気転写の歩留まりを向上させることが可能なマスター情報担体を提供する。【解決手段】マスター基板１０の表面に形成された強磁性薄膜の磁化パターン１４によって構成される情報信号を磁気ディスクに磁気転写するものであって、強磁性薄膜の磁化パターン１４がその表面に形成され、マスター基板１０の中心に対して放射形状に設けられたランド部１２と、隣接するランド部１２の間にグルーブ１６が設けられ、このグルーブ１６はランド部１２の表面に対して段差を有し、かつこの段差は磁気ディスクの開口部またはクリーニング用のダミーディスクの開口部に対向する領域において最も深く形成された構成からなる。【選択図】図１
2006172668.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスター基板の表面に形成された強磁性薄膜の配列パターンによって構成される情報信号を磁気ディスクに磁気転写するマスター情報担体であって、
前記強磁性薄膜の配列パターンがその表面に形成され、前記マスター基板の中心に対して放射形状に設けられたランド部と、
隣接するランド部の間にグルーブが設けられ、前記グルーブは前記ランド部の表面に対して段差を有し、かつ前記段差は前記磁気ディスクの開口部またはクリーニング用のダミーディスクの開口部に対向する領域において最も深く形成されていることを特徴とするマスター情報担体。
【請求項２】
前記グルーブの前記段差は、前記マスター基板の中心部に対して外周側が浅くなるような連続した傾斜面あるいはステップ状の形状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のマスター情報担体。
【請求項３】
前記ランド部の外径寸法は前記マスター基板の外径寸法より小さく形成されており、前記ランド部の外径から前記マスター基板の外径までの円周領域は前記グルーブの外周側の段差と同じ段差が設けられていることを特徴とする請求項２に記載のマスター情報担体。
【請求項４】
前記ランド部の外径寸法は前記マスター基板の外径寸法より小さく形成されており、前記ランド部の外径から予め設定された幅で設けられた第１の円周領域と、前記第１の円周領域の外周部に設けられた第２の円周領域とを有し、前記第１の円周領域は前記グルーブの外周側の段差と同じ段差が設けられ、前記第２の円周領域は前記ランド部の表面と同じ高さを有する表面としたことを特徴とする請求項１に記載のマスター情報担体。
【請求項５】
前記グルーブは、磁気ディスクまたはクリーニング用のダミーディスクを密接させるときの真空排気の排気経路および離間させるときの気体の流入経路を構成することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載のマスター情報担体。
【請求項６】
強磁性薄膜の配列パターンがその表面に形成され、マスター基板の中心に対して放射形状に設けられ、その外径寸法が前記マスター基板の外径寸法より小さく形成されたランド部と、隣接する前記ランド部の間に前記ランド部の表面に対して段差を有するグルーブと、前記ランド部の外径から予め設定された幅で設けられ、かつ前記グルーブの外周側の段差と同じ段差を有する第１の円周領域と、前記第１の円周領域の外周部に設けられ、前記ランド部の表面と同じ高さを有する表面を有する第２の円周領域とを含み構成されるマスター情報担体を、中央部に開口部を有するクリーニング用のダミーディスクの前記開口部と前記第１の円周領域の一部とが重なるように前記マスター情報担体を前記ダミーディスクに対して偏芯した位置に配置し、前記開口部と前記第１の円周領域の重なり領域を介して前記グルーブを含む空間の空気を排気し、前記マスター情報担体を前記ダミーディスクに密接する工程と、
前記開口部と前記第１の円周領域の重なり領域を介して気体を圧送し前記マスター情報担体を前記ダミーディスクから離間させる工程とを含むことを特徴とする
マスター情報担体のクリーニング方法。
【請求項７】
強磁性薄膜の配列パターンがその表面に形成され、マスター基板の中心に対して放射形状に設けられたランド部と、隣接するランド部の間に前記ランド部の表面に対して段差を有し、かつ前記段差が磁気ディスクの開口部またはクリーニング用のダミーディスクの開口部に対向する領域において最も深く形成されたグルーブとを含み構成されるマスター情報担体を、中央部に開口部を有する磁気ディスクと前記マスター情報担体とをそれぞれの中心を一致させて正対するように配置し、前記開口部を介して前記マスター情報担体と前記磁気ディスクとで形成される空間の空気を排気し、前記マスター情報担体を前記ダミーディスクに密接する工程と、
前記磁気ディスクおよび前記マスター情報担体に対して外部磁界を印加して前記強磁性薄膜の配列パターンに対応した磁化パターンを前記磁気ディスクに記録する工程とを含むことを特徴とする磁気転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録再生装置に用いる磁気ディスクに対して所定のトラッキングサーボ情報を磁気転写するためのマスター情報担体およびそれを用いた磁気転写方法並びにマスター情報担体のクリーニング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録再生装置においては、情報量の増大とともに高記録密度化への要求が急速に高まり、かつ小型化が進展している。代表的な磁気記録再生装置であるハードディスクドライブ（以下、ＨＤＤと記す）の分野においては、１００Ｇｂｉｔ／ｉｎ2の装置が予測されるほど、急激に技術革新が進んでいる。
【０００３】
このような高記録密度を可能とした技術的背景としては、線記録密度の向上と同時に、数μｍ程度のトラック幅に記録された信号をＳＮ比（信号対雑音比）よく再生できる新規方式の磁気抵抗効果型ヘッドの採用による高出力化、また磁気記録媒体に対する１０ｎｍ程度の浮上量を実現する浮上スライダの実用化等がある。さらに、ヘッドが狭トラック上を正確に走査するためのトラッキングサーボ技術も重要な役割を果たしてきた。
【０００４】
また、浮上スライダにおいては更なる浮上量の低減化が望まれている。このため、動作中に外的要因を受けて磁気ディスクと浮上スライダとが接触し、データが破壊される可能性も増加している。
【０００５】
トラッキングサーボ技術を用いた現在のＨＤＤでは、ディスクの１周中（すなわち、角度にして３６０°）、一定の角度と間隔とを有してトラッキング用のサーボ信号やアドレス情報信号および再生クロック信号等が記録されている。ＨＤＤは、ヘッドから一定時間と間隔で再生されるこれらの信号によりヘッドの位置を検出し、さらにその位置を修正することで、ヘッドが正確にトラック上を走査することを可能にしている。
【０００６】
上述のサーボ信号、アドレス情報信号および再生クロック信号等はヘッドが正確にトラック上を走査するための基準信号となるものであるから、その書き込み（以下、フォーマティングと記す）には高い位置決め精度が要求される。
【０００７】
現状のＨＤＤでは、光干渉を利用した高精度位置検出装置を組み込んだ専用のサーボ装置（以下、サーボライタと記す）を用いて記録ヘッドを位置決めしながらフォーマティングが行われている。しかしながら、このようなサーボライタによるフォーマティングには以下の課題がある。すなわち、ヘッドを高精度に位置決めしながら多数のトラックにわたって信号を書き込むためには多くの時間を要する。このため、フォーマティングの生産性を向上させるためには数多くのサーボライタを同時に稼動させることが必要となる。しかしながら、このような方法では、サーボライタの維持管理に必要なコストが増大するため、フォーマティングする磁気ディスクのコストアップを招く。さらにトラック密度が大きくなりトラック数が多くなるほど、これらはより大きな課題となる。
【０００８】
そこで、フォーマティングをサーボライタではなく、予め全てのサーボ情報が書き込まれたディスクであるマスター情報担体とフォーマティングすべき磁気ディスクとを重ね合わせ、外部から転写するためのエネルギーを付与して、マスター情報担体の情報を磁気ディスクに一括転写する磁気転写方式が提案されている。
【０００９】
このような磁気転写方式の場合、マスター情報担体と磁気ディスクとを隙間なく均一に密着させる必要がある。例えば、マスター情報担体の転写面にサーボ情報に影響を及ぼす程度の異物等の汚染物が存在する場合、これらの汚染物によってマスター情報担体と磁気ディスクとの間に生じる隙間の影響を受けて磁気ディスクに転写すべきサーボ情報の一部が欠落する不良が発生する。このため、磁気転写においては、異物等を含む微小な汚染物も存在しないクリーンなマスター情報担体表面を維持することが重要である。
【００１０】
このような汚染物に対する対策として、例えば、強磁性薄膜の配列が形成され磁気ディスク表面に密着するランド部と、磁気ディスク表面に密着しない凹部とを有し、磁気ディスクの外周端部から所定の距離内側の領域に対向するランド部のみを有する構成のマスター情報担体が提案されている。このような構成とすることにより、磁気ディスクの外周端部の異物によって、マスター情報担体と磁気ディスクとの密着が妨げられて転写不良が発生することを防止できるとしている（例えば、特許文献１参照）。
【００１１】
また、強磁性薄膜の配列が形成され磁気ディスク表面に密着するランド部に対し、磁気ディスク表面に密着しない凹部を設け、磁気ディスクに密接させたときに形成される磁気ディスクと凹部とに囲まれた空間が磁気ディスクの外周端部で大気に開放されるような凹部を有した構成のマスター情報担体も示されている。このような構成とすることにより、磁気ディスクの最外周まで負圧力が充分に発生して、マスター情報担体と磁気ディスクとの密着をより確実にすることができ、転写不良の発生を抑制できるとしている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００２−８２３０号公報
【特許文献２】特開２００１−２８３４３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、従来のマスター情報担体では、磁気ディスクやダミーディスク等高平坦面を有する基体と密接させる場合において、基体の全面に均一に密接させるための負圧力に充分な配慮がなされていなかった。マスター情報担体は、磁気ディスクに対して情報信号に対応した磁化パターンを磁気転写するためのマスターディスクである。このため、マスター情報担体に形成した微細な磁化パターンを磁気ディスクに磁気転写する場合、マスター情報担体と磁気ディスクとの間には隙間のない均一な密接状態としなければならない。すなわち、一部にでも隙間が発生すると、その領域ではサーボ信号の欠陥を招き磁気ディスクとして不良となる。
【００１３】
このためにマスター情報担体とダミーディスクとを密接させることで、マスター情報担体の表面に付着している異物等の汚染物をクリーニング除去する方法が提案されている。このクリーニング方法においても、微小な汚染物を効率よく除去するためには、磁気転写する場合と同様に隙間がないように均一に密接できることが要求される。
【００１４】
上記従来の第１の例においては、磁気ディスク製造過程で回避できない内周端部や外周端部に残留する異物等の汚染物により磁気転写できなくなることを防止できるが、ランド部と磁気ディスクやダミーディスクとの均一な密接を生じさせる構造については考慮されていない。
【００１５】
さらに、第２の例では、磁気ディスクにマスター情報担体を密接させるときに、マスター情報担体に設けられた凹部が大気に開放されている構成としている。これにより、真空ポンプにより吸引するときに大気側からの空気の流入による空気流が生じ、大気に比べて負圧になるので全面を密接できる。しかし、このような空気流による負圧力は小さいため充分な密接力を得ることが困難である。
【００１６】
さらに、異物を含む汚染物は、マスター情報担体の製造工程や磁気転写する環境等、種々の工程で発生する。磁気転写前にマスター情報担体のクリーニングを行うことは必須であるが、このクリーニング工程においても上記従来のマスター情報担体では充分に汚染物を除去しきれない場合があった。
【００１７】
上記従来の課題を解決するために本発明のマスター情報担体は、強磁性薄膜の配列パターンを形成するランド部と所定深さのグルーブを備え、このグルーブの深さをマスター情報担体の中心を基準に異なった複数の寸法で形成することで、クリーニングによる汚染物の除去効率が高く、磁気ディスクへの磁気転写の歩留まりを向上させることが可能なマスター情報担体およびそれを用いた磁気転写方法並びにマスター情報担体のクリーニング方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明のマスター情報担体は、マスター基板の表面に形成された強磁性薄膜の配列パターンによって構成される情報信号を磁気ディスクに磁気転写するものであって、強磁性薄膜の配列パターンがその表面に形成され、マスター基板の中心に対して放射形状に設けられたランド部と、隣接するランド部の間にグルーブが設けられ、このグルーブはランド部の表面に対して段差を有し、かつこの段差は磁気ディスクの開口部またはクリーニング用のダミーディスクの開口部に対向する領域において最も深く形成された構成からなる。
【００１９】
このような構成とすることにより、マスター情報担体を磁気ディスクと密接させる場合、あるいはマスター情報担体をクリーニング用のダミーディスクと密接させる場合に、真空排気が容易となり、かつ全面で均一な密接が可能となる。この結果、転写不良等を防止でき、歩留まりのよい磁気転写を行うことができる。
【００２０】
また、上記構成において、グルーブの段差はマスター基板の中心部に対して外周側が浅くなるような連続した傾斜面あるいはステップ状の形状に形成してもよい。この構成により、真空排気するときの排気効率を改善でき、全面で均一な密接が可能となる。
【００２１】
また、上記構成において、ランド部の外径寸法はマスター基板の外径寸法より小さく形成されており、ランド部の外径からマスター基板の外径までの円周領域はグルーブの外周側の段差と同じ段差が設けられている構成としてもよい。このような構成とすることにより、磁気ディスクまたはクリーニング用のダミーディスクとマスター情報担体のマスター基板の外周部で微小な隙間ができ、この隙間部分では真空排気に伴う空気流による負圧力が生じるので、さらに全面で均一な密接が可能となる。
【００２２】
また、上記構成において、ランド部の外径寸法はマスター基板の外径寸法より小さく形成されており、ランド部の外径から予め設定された幅で設けられた第１の円周領域と、第１の円周領域の外周部に設けられた第２の円周領域とを有し、第１の円周領域はグルーブの外周側の段差と同じ段差が設けられ、第２の円周領域はランド部の表面と同じ高さを有する表面とした構成としてもよい。
【００２３】
また、上記構成において、グルーブは磁気ディスクまたはクリーニング用のダミーディスクを密接させるときの真空排気の排気経路および離間させるときの気体の流入経路を構成するようにしてもよい。
【００２４】
このような構成とすることにより、マスター基板の形状に比べて小径の磁気ディスクへの磁気転写を行う場合に全面で均一に密接しやすくなり、転写不良を大幅に抑制できる。また、大径のクリーニング用のダミーディスクを用いてクリーニングを行う場合に、ダミーディスクの開口部と第１の円周領域の一部とを重なるように配置すれば、真空排気を容易にでき、かつランド部を確実にダミーディスクと接触させることができる。この結果、マスター情報担体のクリーニングを確実にできる。
【００２５】
さらに、本発明のマスター情報担体のクリーニング方法は、強磁性薄膜の配列パターンがその表面に形成され、マスター基板の中心に対して放射形状に設けられ、その外径寸法がマスター基板の外径寸法より小さく形成されたランド部と、隣接するランド部の間にランド部の表面に対して段差を有するグルーブと、ランド部の外径から予め設定された幅で設けられ、かつグルーブの外周側の段差と同じ段差を有する第１の円周領域と、第１の円周領域の外周部に設けられ、ランド部の表面と同じ高さを有する表面を有する第２の円周領域とを含み構成されるマスター情報担体を、中央部に開口部を有するクリーニング用のダミーディスクの開口部と第１の円周領域の一部とが重なるようにマスター情報担体をダミーディスクに対して偏芯した位置に配置し、開口部と第１の円周領域の重なり領域を介してグルーブを含む空間の空気を排気し、マスター情報担体をダミーディスクに密接する工程と、開口部と第１の円周領域の重なり領域を介して気体を圧送しマスター情報担体をダミーディスクから離間させる工程とを含む方法からなる。
【００２６】
この方法により、大径のマスター基板の中央部領域のみに形成された小径のランド部からなる磁気転写領域をダミーディスクに密接させることで確実にクリーニングすることができる。
【００２７】
また、本発明の磁気転写方法は、強磁性薄膜の配列パターンがその表面に形成され、マスター基板の中心に対して放射形状に設けられたランド部と、隣接するランド部の間にランド部の表面に対して段差を有し、かつその段差が磁気ディスクの開口部またはクリーニング用のダミーディスクの開口部に対向する領域において最も深く形成されたグルーブとを含み構成されるマスター情報担体を、中央部に開口部を有する磁気ディスクと上記マスター情報担体とをそれぞれの中心を一致させて正対するように配置し、開口部を介してマスター情報担体と磁気ディスクとで形成される空間の空気を排気し、マスター情報担体をダミーディスクに密接する工程と、磁気ディスクおよびマスター情報担体に対して外部磁界を印加して強磁性薄膜の配列パターンに対応した磁化パターンを磁気ディスクに記録する工程とを含む方法からなる。
【００２８】
この方法により、マスター情報担体と磁気ディスクとの密接が確実となることから転写不良を大幅に抑制でき、転写歩留まりを改善できる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明のマスター情報担体は、マスター基板の中心に対して放射形状に設けられたランド部と、隣接するランド部の間にグルーブが設けられ、このグルーブはランド部の表面に対して段差を有し、かつこの段差は磁気ディスクの開口部またはクリーニング用のダミーディスクの開口部に対向する領域において最も深く形成された構成からなり、マスター情報担体を磁気ディスクと密接させる場合、あるいはマスター情報担体をクリーニング用のダミーディスクと密接させる場合に、真空排気が容易となり、かつ全面で均一な密接が可能となる。この結果、転写不良等を防止でき、歩留まりのよい磁気転写を行うことができるという大きな効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００３１】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態にかかるマスター情報担体１００の構成を示す図であり、（ａ）上面側から見た平面図で、（ｂ）はＡ−Ａ線に沿った断面図である。マスター情報担体１００は、マスター基板１０の表面に複数のランド部１２が、このマスター基板１０の中心から外周方向に放射状に形成されている。さらに、ランド部１２には、表面に強磁性薄膜からなる微細な磁化パターン１４が形成されている。また、隣接するランド部１２の間がグルーブ１６である。
【００３２】
図１（ｂ）に示すように、グルーブ１６はランド部１２の表面１２１に対して深さが半径方向で異なる段差が形成されている。すなわち、マスター基板１０の中央領域１８では深く、外周側では浅い段差が形成されており、その中間領域は外周側の段差と中央領域１８の段差とを結ぶような傾斜面１０１とされている。また、マスター基板１０の最外周部にはランド部１２がなく、ランド部１２より低い外周段差１０２が設けられている。このような形状は、マスター基板１０上のランド部１２となるべき表面にフォトレジストパターンを形成した後、マスター基板１０に対してノズルから放出するエッチング液を中心部では長く、外周領域にかけて短い時間としてエッチングを行うことで実現することができる。
【００３３】
図２は、このマスター情報担体１００を用いて磁気ディスクあるいはクリーニング用のダミーディスクに密接させた状態を示す断面図である。なお、本実施の形態の密接構造は中心軸を基準として対称形状であるので、中心軸を中心として片側のみを示している。また、以下では、磁気ディスクを例として説明する。
【００３４】
冶具２４上に磁気ディスク２０を配置した後、マスター情報担体１００を磁気ディスク２０の中心と一致させて正対させ配置する。このように配置することにより、マスター情報担体１００のランド部１２の表面１２１と磁気ディスク２０とが接触する。なお、中心軸を一致させることは必ずしも必須ではなく、必要に応じて偏芯した状態で正対させてもよい。
【００３５】
このように配置した後、冶具２４に取り付けられている排気管２６を介して真空ポンプ２８により磁気ディスク２０の中央部の開口部２２から磁気ディスク２０とマスター情報担体１００との間の空気を排気する。このとき、マスター基板１０のグルーブ１６には、中心部が深くなるような傾斜面１０１が設けられており、かつ外周領域には外周段差１０２が設けられているので、外周領域は空気流による負圧力が作用し、中央領域１８とその近傍のグルーブ１６では大気圧に比べて圧力が低くなり、マスター情報担体１００を大気圧で押圧する力が有効に作用する。この結果、マスター情報担体１００と磁気ディスク２０とは、全面で均一に密接することができ、磁気転写工程での転写不良の発生を大幅に低減できる。
【００３６】
図３は、本実施の形態の変形例のマスター情報担体１１０、１２０を用いて磁気ディスク２０に密接させた構成の断面図である。なお、図２と同じ要素については同じ符号を付しており説明を省略する。
【００３７】
図３（ａ）は、マスター情報担体１１０のグルーブの半径方向の段差をステップ状に形成したことが特徴である。すなわち、マスター基板３０には図１に示すマスター基板１０と同様な形状のランド部３２が設けられており、隣接するランド部３２の間がグルーブであり、このグルーブの段差が半径方向にステップ状に形成されている。より具体的には、外周領域の外周段差１０２がランド部３２の一部まで延長された後、さらに深いグルーブ段差３０１につながった構成からなる。
【００３８】
このような形状としたマスター情報担体１１０を冶具２４上に予め配置してある磁気ディスク２０に正対させて配置し、真空ポンプ２８を作動させて排気管２６と磁気ディスク２０の開口部２２とを介して磁気ディスク２０とマスター情報担体１１０との間の空気を排気する。このとき、マスター基板３０のグルーブには、中心部に深いグルーブ段差３０１が設けられており、かつランド部３２を一部含み外周領域には外周段差１０２が設けられているので、外周段差１０２が設けられている領域は主として空気流による負圧力が作用し、グルーブ段差３０１の領域では大気圧に比べて圧力が低くなりマスター情報担体１１０を大気圧で押圧する力が有効に作用する。この結果、マスター情報担体１１０のランド部３２の表面３２１と磁気ディスク２０とは、全面で均一に密接することができ、磁気転写工程での転写不良の発生を大幅に低減できる。
【００３９】
また、図３（ｂ）は、ランド部４２の外径から予め設定された幅で設けられた第１の円周領域４０１と、第１の円周領域４０１の外周部に設けられた第２の円周領域４０３とを有し、第１の円周領域４０１はグルーブの外周側の段差と同じ段差が設けられ、第２の円周領域４０３はランド部４２の表面と同じ高さを有する表面とした構成としたことが特徴である。
【００４０】
このような形状としたマスター情報担体１２０を予め冶具２４上に配置されている磁気ディスク２０に正対させて配置し、真空ポンプ２８を作動させて排気管２６と磁気ディスク２０の開口部２２とを介して磁気ディスク２０とマスター情報担体１２０との間の空気を排気する。このとき、マスター基板４０のグルーブには、中央領域１８に向かうほど深くなるような傾斜面１０１が設けられており、かつ外周領域にはランド部４２と同じ高さの第２の円周領域４０３が設けられているので、この第２の円周領域４０３により大気が流入しなくなりグルーブ内の圧力をより低くできる。この結果、マスター情報担体１２０と磁気ディスク２０との間の吸引力が大きくなり、マスター情報担体１２０のランド部４２の表面４２１と磁気ディスク２０との密接状態をさらに向上できる。
【００４１】
なお、第２の円周領域４０３には負圧力は作用しないが、この第２の円周領域４０３の幅を小さくし、かつマスター基板４０として剛性の大きな基板を用いれば、磁気転写領域については充分な密接状態を得ることができる。
【００４２】
なお、本実施の形態では、磁気ディスクに磁気転写するときの密接状態について説明したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、クリーニング用のダミーディスクに密接させる場合でも同じ効果を得ることができる。
【００４３】
（第２の実施の形態）
図４は、本発明の第２の実施の形態にかかるマスター情報担体１３０の構成を説明する図であり、（ａ）は上側から見た平面図で、（ｂ）はＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【００４４】
一定の形状のマスター基板５０を用いる場合、マスター基板５０の表面に強磁性薄膜で形成する磁化パターンは、磁気転写すべき磁気ディスクの径に依存してその形状が決まる。すなわち、大径の磁気ディスクの場合には、マスター基板５０のほぼ全面に磁化パターンが形成される。一方、小径の磁気ディスクの場合には、マスター基板５０の中央部のみに形成される。図４に示すマスター情報担体１３０の場合には、小径の磁気ディスクに対応した例である。
【００４５】
マスター情報担体１３０のパターン形状自体は、第１の実施の形態のマスター情報担体１００と同様の構成である。すなわち、マスター基板５０には、ランド部５２が設けられており、ランド部５２上には強磁性体薄膜からなる磁化パターン５４が形成されている。隣接するランド部５２の間にはグルーブ５６がある。さらに、ランド部５２の外周部から小径の磁気ディスクの直径とほぼ対応する直径の円周部までの間、すなわち第１の円周領域５８はランド部５２に対して段差が形成された凹部である。この第１の円周領域５８の外周部からマスター基板５０の外周部まではランド部５２と同じ高さであり、この領域が第２の円周領域６０である。また、グルーブは、図４（ｂ）に示すようにＢ−Ｂ線に沿って図面の右側に向けて深くなる段差が設けられている。
【００４６】
このようなマスター情報担体１３０を用いて小径の磁気ディスクに磁気転写する場合には、第１の実施の形態と同様に冶具上に小径の磁気ディスクを配置した後、磁気ディスクとマスター情報担体１３０の磁化パターンが形成されている領域とを位置合せして重ねてから、真空ポンプにより排気すれば全面にわたって均一な密接状態が得られる。このような密接状態で磁気転写を行えば、転写不良等の発生がなく歩留まりを改善することができる。
【００４７】
つぎに、このマスター情報担体１３０に対して、クリーニングを行う方法について説明する。大径に対応したクリーニング用のダミーディスクを用いて、このような形状のマスター情報担体１３０のクリーニングを行う場合には、ダミーディスクとマスター情報担体１３０との配置構成に工夫が必要である。すなわち、小径の磁気ディスクに対応したマスター情報担体１３０では、中央部のランド部５２が設けられていない中央領域５９の直径は、大径のダミーディスクの中央部に設けられている開口部より小さい。このため、このようなダミーディスクを用いる場合、従来と同様にダミーディスクの中心とマスター情報担体１３０の中心とを位置合せして配置しても、中心近傍のランド部５２上の磁化パターン５４はダミーディスクに接触しないためにクリーニングができない。
【００４８】
このために、図５に示すようにマスター情報担体１３０とダミーディスク７０とを配置する。図５は、小径の磁気ディスクに対応するマスター情報担体１３０を大径のダミーディスク７０を用いてクリーニングするための位置合せ構成を説明するための図で、（ａ）はダミーディスク７０側から見た平面図で、（ｂ）はＣ−Ｃ線に沿った断面図である。なお、マスター情報担体１３０のランド部５２やグルーブ５６等はダミーディスク７０の下面に位置し、かつダミーディスク７０が不透明であるため本来は見えないが、説明をしやすくするために図示している。
【００４９】
図示するように、大径のダミーディスク７０に対して、マスター情報担体１３０を偏芯させて配置する。この偏芯距離９５は、ダミーディスク７０の開口部７２と第１の円周領域５８とが一部で重なるように設定する。この重なりを作ることにより真空排気を容易にすることができる。なお、ランド部５２がダミーディスク７０より外側にならない距離とすることも当然である。
【００５０】
図６は、図５に示すようなダミーディスク７０とマスター情報担体１３０との配置構成により、マスター情報担体１３０をクリーニングする方法を説明するための断面図であり、（ａ）はダミーディスク７０に密接させて異物を含む汚染物をダミーディスク７０に移行させる場合で、（ｂ）はダミーディスク７０から離間させる場合の状態をそれぞれ示す。
【００５１】
図６（ａ）において、ダミーディスク７０を冶具６２に配置する。このとき、冶具６２の中央部に設けてある排気管６４の吸込み部上にダミーディスク７０の開口部７２が位置するように配置する。なお、ダミーディスク７０は、冶具６２の中央部の吸込み部以外の領域に設けてある別の吸込み部（図示せず）により冶具６２に吸着されている。
【００５２】
このように吸着されたダミーディスク７０に対して、マスター情報担体１３０のランド部５２の表面とダミーディスク７０とを偏芯させた位置で正対させ接触させる。このとき、図５で説明したように、ダミーディスク７０の開口部７２と第１の円周領域５８の一部分が重なるようにする。このように重なるようにすることで、図示するように真空ポンプ６８で排気するときの排気経路が得られる。また、第２の円周領域６０はダミーディスク７０に接触する領域と接触しない領域がある。
【００５３】
マスター情報担体１３０をこのような状態に配置した後、真空ポンプ６８を作動させ、バルブ６６を開にすると、排気管６４と開口部７２とを介して、ダミーディスク７０とマスター情報担体１３０とで形成される空間に存在する空気を排気して、この空間の圧力を大気圧より低くする。この結果、マスター情報担体１３０はダミーディスク７０に押圧され密接される。このように密接すると、ランド部５２の表面に存在していた異物等の汚染物がダミーディスク７０の表面に形成されている磁性薄膜等に埋め込まれ、あるいは磁気的に吸引されてダミーディスク７０に移行する。この結果、マスター情報担体１３０のクリーニングが行われる。なお、ダミーディスク７０の表面に形成する薄膜は磁性薄膜に限定されることはないが、マスター情報担体１３０に形成される強磁性薄膜やマスター基板５０の材料よりもやわらかい材料を用いることが望ましい。
【００５４】
図６（ｂ）は、マスター情報担体１３０をダミーディスク７０に密接させて、表面の汚染物をダミーディスク７０の表面に移行させた後、マスター情報担体１３０をダミーディスク７０から離間させる方法を説明する図である。マスター情報担体１３０をダミーディスク７０から離間させる場合には、真空ポンプ６８をオフにし、バルブ６６を閉にしてから、高純度のガス源６７のバルブ６５を開くとガスが排気管６４を通り上記空間に流れて両者を離間させることができる。
【００５５】
本実施の形態では、マスター情報担体１３０のグルーブは図面からわかるように、吸引口となるダミーディスク７０の開口部７２の方向に向けて段差を深くしている。このような傾斜した段差を設けることにより、真空排気時の空気の流れがよくなり、吸引力が均一になりやすくなる。しかし、このような形状に限定されることはなく、全体が同じ深さの段差形状であってもよいし、あるいはステップ状の段差形状であってもよい。
【００５６】
なお、マスター情報担体１３０の汚染状況によっては、上記の吸着と離間工程とを複数回繰り返してもよい。
【００５７】
なお、本発明のマスター情報担体を用いることで磁気ディスクへの磁気転写においても転写不良を大幅に抑制できる。すなわち、強磁性薄膜の配列パターンがその表面に形成され、マスター基板の中心に対して放射形状に設けられたランド部と、隣接するランド部の間にランド部の表面に対して段差を有し、かつその段差が磁気ディスクの開口部またはクリーニング用のダミーディスクの開口部に対向する領域において最も深く形成されたグルーブとを含み構成されるマスター情報担体を、中央部に開口部を有する磁気ディスクと上記マスター情報担体とをそれぞれの中心を一致させて正対するように配置し、開口部を介してマスター情報担体と磁気ディスクとで形成される空間の空気を排気し、マスター情報担体をダミーディスクに密接する工程と、磁気ディスクおよびマスター情報担体に対して外部磁界を印加して強磁性薄膜の配列パターンに対応した磁化パターンを磁気ディスクに記録する工程とを含む方法により磁気転写を行ってもよい。
【００５８】
この方法により、マスター情報担体と磁気ディスクとの密接が確実となることから転写不良を大幅に抑制でき、転写歩留まりを改善できる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明のマスター情報担体は、強磁性薄膜の配列パターンを形成するランド部と所定深さのグルーブを備え、このグルーブの深さをマスター情報担体の中心を基準に異なった複数の寸法で形成することで、クリーニングによる汚染物の除去効率が高く、磁気ディスクへの磁気転写の歩留まりを向上させることが可能なマスター情報担体を得ることができ、ハードディスク分野に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の第１の実施の形態にかかるマスター情報担体の構成を示す図
【図２】同実施の形態において、マスター情報担体を用いて磁気ディスクあるいはクリーニング用のダミーディスクに密接させた状態を示す断面図
【図３】同実施の形態の２つの変形例のマスター情報担体を用いて磁気ディスクに密接させた構成の断面図
【図４】本発明の第２の実施の形態にかかるマスター情報担体の構成を説明する図
【図５】同実施の形態において、小径の磁気ディスクに対応するマスター情報担体を、大径のダミーディスクを用いてクリーニングするための位置合せ構成を説明するための図
【図６】同実施の形態において、図５に示すようなダミーディスクとマスター情報担体との配置構成により、マスター情報担体をクリーニングする方法を説明するための断面図
【符号の説明】
【００６１】
１０，３０，５０    マスター基板
１２，３２，４２，５２    ランド部
１４，５４    磁化パターン
１６，５６    グルーブ
１８，５９    中央領域
２０    磁気ディスク
２２，７２    開口部
２４，６２    冶具
２６，６４    排気管
２８，６８    真空ポンプ
５８，４０１    第１の円周領域
６０，４０３    第２の円周領域
６５，６６    バルブ
６７    ガス源
７０    ダミーディスク
１００，１１０，１２０，１３０    マスター情報担体
１０１    傾斜面
１０２    外周段差
１２１，３２１，４２１    表面
３０１    グルーブ段差
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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