(57)【要約】【課題】  発光素子形状の均一性を向上した電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。【解決手段】  正孔層形成液からなる微小液滴を吐出面２０ａに吐出する前に、吐出面２０ａ上を水蒸気Ｈの雰囲気下にして、同吐出面２０ａ以外の領域をマスクＭｋ２によって覆い、その吐出面２０ａにのみ紫外光Ｌｕｖを照射して、微小液滴に対する光触媒の親液性を誘起するようにした。そして、光触媒の親液性を誘起する分だけ、吐出面２０ａ全面に濡れ広がる正孔層液滴を形成するようにした。【選択図】      図９
2006172761.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光触媒を含有する電極上に発光素子形成材料を含有する液滴を吐出して発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
前記液滴を吐出する前に、前記電極上に紫外光を照射して前記光触媒の前記液滴に対する親液性を誘起するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記紫外光を照射するときに、前記電極上を、少なくとも水蒸気と酸素のいずれか１つの雰囲気にするようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記電極上であって前記液滴を吐出する領域のみに前記紫外光を照射するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載する電気光学装置の製造方法において、
前記電極は、錫を添加した酸化インジウムからなる透明電極であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記発光素子は、前記透明電極と背面電極との間に、前記液滴からなる正孔輸送層を形成するようにしたエレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記発光素子は、有機材料からなる前記正孔輸送層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記発光素子は、前記透明電極と背面電極との間に、前記液滴からなる発光層を形成するようにしたエレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記発光素子は、有機材料からなる前記発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１つに記載する電気光学装置の製造方法において、
前記液滴は、液滴吐出装置から吐出するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９の電気光学装置の製造方法によって形成した発光素子を備えた電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、発光素子を備えるディスプレイには、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を備える電気光学装置としての有機エレクロトルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）が知られている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、一般的に、その有機ＥＬ層の構成材料によって製造方法が大別される。すなわち、低分子有機材料を有機ＥＬ層の構成材料とする場合には、同低分子有機材料を蒸着して有機ＥＬ層を形成する、いわゆる気相プロセスが利用されている。一方、高分子有機材料を有機ＥＬ層の構成材料とする場合には、同高分子有機材料を有機溶媒等に溶解した溶液を塗布して乾燥する、いわゆる液相プロセスが利用されている。
【０００４】
なかでも、その液相プロセスにおけるインクジェット法は、前記溶液を微小な液滴（微小液滴）として吐出するため、他の液相プロセス（例えば、スピンコート等）に比べて、有機ＥＬ層の形成位置や膜厚等をより高い精度で制御することができる。しかも、インクジェット法は、有機ＥＬ層を形成する領域（素子形成領域）にのみ前記液滴を吐出するため、原材料である高分子有機材料の使用量を低減することができる。
【０００５】
しかし、こうしたインクジェット法では、前記素子形成領域に着弾した微小液滴の形状が有機ＥＬ層の形状に反映するため、着弾した微小液滴が平坦な形状でない（例えば、半球面の凸形状である）場合には、有機ＥＬ層の形状を不均一にする問題を招く。
【０００６】
そこで、従来より、インクジェット法では、こうした形状の均一性を向上する提案がされている（例えば、特許文献１）。特許文献１では、素子形成領域内に複数の微小液滴を吐出し、吐出する各液滴内の構成材料の濃度を制御することによって有機ＥＬ層の形状を均一化させている。
【特許文献１】特開２００１−２９１５８３  号広報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１では、素子成領域に対する液滴の接触角が大きくなると（液滴の濡れ性が低くなると）、吐出した液滴が、素子形成領域内に濡れ広がることなく偏倚するようになる。その結果、有機ＥＬ層には、各液滴の形状に起因する凹凸形状が形成され、その形状の均一性（例えば、素子形成領域内における膜厚均一性や素子領域間における膜厚均一性等）を損なう問題となる。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、発光素子形状の均一性を向上して生産性を向上した電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、光触媒を含有する電極上に発光素子形成材料を含有する液滴を吐出して発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記液滴を吐出する前に、前記電極に紫外光を照射して前記光触媒の前記液滴に対する親液性を誘起するようにした。
【００１０】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、電極に含有した光触媒の親液性を誘起する分だけ、同電極に対して、発光素子を形成する液滴の濡れ性を向上することができる。従って、発光素子形状の均一性を向上することができ、ひいては電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００１１】
この電気光学装置の製造方法において、前記紫外光を照射するときに、前記電極上を、少なくとも水蒸気と酸素のいずれか１つの雰囲気にするようにした。
この電気光学装置の製造方法によれば、電極上を、少なくとも水蒸気と酸素のいずれか１つの雰囲気にする分だけ、化学吸着水や物理吸着水等を電極に付与することができ、同電極の親液性を、さらに高めることができる。その結果、少なくとも水蒸気と酸素のいずれか１つの雰囲気にする分だけ、発光素子形状の均一性を向上することができる。
【００１２】
この電気光学装置の製造方法において、前記電極上であって前記液滴を吐出する領域のみに前記紫外光を照射するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
この電気光学装置の製造方法によれば、液滴を吐出する領域のみに紫外光を照射するため、液滴を吐出しない領域の表面状態を保持することができる。従って、例えば液滴を吐出しない領域を撥液性にすることによって、親液性を向上した領域のみに液滴を収容することができ、発光素子形状の均一性をさらに向上することができる。
【００１３】
この電気光学装置の製造方法において、前記電極は、錫を添加した酸化インジウムからなる透明電極である。
この電気光学装置の製造方法によれば、透明電極の親液性を向上することができ、同透明電極上に吐出する液滴の濡れ性を向上することができる。その結果、透明電極を有する発光素子形状の均一性を向上することができ、同発光素子を備える電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００１４】
この電気光学装置の製造方法において、前記発光素子は、前記透明電極と背面電極との間に、前記液滴からなる正孔輸送層を形成するようにしたエレクトロルミネッセンス素子である。
【００１５】
この電気光学装置の製造方法によれば、正孔輸送層の形状の均一性を向上することができ、エレクロトルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができる。ひいては、同エレクトルミネッセンス素子を備えた電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００１６】
この電気光学装置の製造方法において、前記発光素子は、有機材料からなる前記正孔輸送層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子である。
この電気光学装置の製造方法によれば、有機材料からなる正孔輸送層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができ、同有機エレクトルミネッセンス素子を備えた電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００１７】
この電気光学装置の製造方法において、前記発光素子は、前記透明電極と背面電極との間に、前記液滴からなる発光層を形成するようにしたエレクトロルミネッセンス素子である。
【００１８】
この電気光学装置の製造方法によれば、発光層の形状の均一性を向上することができ、エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができる。ひいては、同エレクトルミネッセンス素子を備えた電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００１９】
この電気光学装置の製造方法において、前記発光素子は、有機材料からなる前記発光層
を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子である。
この電気光学装置の製造方法によれば、有機材料からなる発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができ、同有機エレクトルミネッセンス素子を備えた電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００２０】
この電気光学装置の製造方法において、前記液滴は、液滴吐出装置から吐出するようにした。
この電気光学装置の製造方法によれば、液滴吐出装置によって微細な液滴を形成する分だけ、発光素子の均一性を向上することができる。
【００２１】
本発明の電気光学装置は、上記する電気光学装置の製造方法によって形成した発光素子を備えた。
本発明の電気光学装置によれば、均一な形状を有する発光素子を有するため、その生産性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図１１に従って説明する。図１は、電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）を示す概略平面図である。
【００２３】
図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１０には透明基板１１が備えられている。透明基板１１は、四角形状に形成される無アルカリガラス基板であって、その表面（素子形成面１１ａ）には、四角形状の素子形成領域１２が形成されている。その素子形成領域１２には、上下方向（列方向）に延びる複数のデータ線Ｌｙが所定の間隔をおいて形成されている。各データ線Ｌｙは、それぞれ透明基板１１の下側に配設されるデータ線駆動回路Ｄｒ１に電気的に接続されている。データ線駆動回路Ｄｒ１は、図示しない外部装置から供給される表示データに基づいてデータ信号を生成し、そのデータ信号を対応するデータ線Ｌｙに所定のタイミングで出力するようになっている。
【００２４】
また、素子形成領域１２には、列方向に延びる複数の電源線Ｌｖが所定の間隔をおいて各データ線Ｌｙに併設されている。各電源線Ｌｖは、それぞれ素子形成領域１２の下側に形成される共通電源線Ｌｖｃに電気的に接続され、図示しない電源電圧生成回路の生成する駆動電源を各電源線Ｌｖに供給するようになっている。
【００２５】
さらにまた、素子形成領域１２には、データ線Ｌｙ及び電源線Ｌｖと直交する方向（行方向）に延びる複数の走査線Ｌｘが所定の間隔をおいて形成されている。各走査線Ｌｘは、それぞれ透明基板１１の左側に形成される走査線駆動回路Ｄｒ２に電気的に接続されている。走査線駆動回路Ｄｒ２は、図示しない制御回路から供給される走査制御信号に基づいて、複数の走査線Ｌｘの中から所定の走査線Ｌｘを所定のタイミングで選択駆動し、その走査線Ｌｘに走査信号を出力するようになっている。
【００２６】
これらデータ線Ｌｙと走査線Ｌｘの交差する位置には、対応するデータ線Ｌｙ、電源線Ｌｖ及び走査線Ｌｘに接続されることによってマトリックス状に配列される複数の画素１３が形成されている。その画素１３内には、それぞれ制御素子形成領域１４と発光素子形成領域１５が区画形成されている。そして、素子形成領域１２の上側を四角形状の封止基板１６（図１における２点鎖線）で覆うことによって、画素１３が保護されるようになっている。
【００２７】
尚、本実施形態における各画素１３は、それぞれ対応する色の光を発光する画素であって、赤色の光を発光する赤色画素又は緑色の光を発光する緑色画素又は青色を発光する青
色画素である。そして、これら各画素１３によって、透明基板１１の裏面（表示面１１ｂ）側にフルカラーの画像を表示するようになっている。
【００２８】
次に、上記する画素１３について以下に説明する。図２は、制御素子形成領域１４及び発光素子形成領域１５のレイアウトを示す概略平面図である。図３及び図４は、それぞれ図２の一点鎖線Ａ−Ａ及びＢ−Ｂに沿った制御素子形成領域１４を示す概略断面図であって、図５は、図２の一点鎖線Ｃ−Ｃに沿った発光素子形成領域１５を示す概略断面図である。
【００２９】
まず、制御素子形成領域１４の構成について以下に説明する。図２に示すように、各画素１３の下側には、それぞれ制御素子形成領域１４が形成され、その制御素子形成領域１４には、それぞれ第１トランジスタ（スイッチング用トランジスタ）Ｔ１、第２トランジスタ（駆動用トランジスタ）Ｔ２及び保持キャパシタＣｓが形成されている。
【００３０】
図３に示すように、スイッチング用トランジスタＴ１は、その最下層に第１チャンネル膜Ｂ１を備えている。第１チャンネル膜Ｂ１は、素子形成面１１ａ上に形成される島状のｐ型ポリシリコン膜であって、その中央位置には第１チャンネル領域Ｃ１が形成されている。その第１チャンネル領域Ｃ１を挟む左右両側には、活性化したｎ型領域（第１ソース領域Ｓ１及び第１ドレイン領域Ｄ１）が形成されている。つまり、スイッチング用トランジスタＴ１は、いわゆるポリシリコン型ＴＦＴである。
【００３１】
第１チャンネル領域Ｃ１の上側には、素子形成面１１ａ側から順に、ゲート絶縁膜Ｇｏｘ及び第１ゲート電極Ｇ１が形成されている。ゲート絶縁膜Ｇｏｘは、シリコン酸化膜等の光透過性を有する絶縁膜であって、第１チャンネル領域Ｃ１の上側及び素子形成面１１ａの略全面に堆積されている。第１ゲート電極Ｇ１は、タンタルやアルミニウム等の低抵抗金属膜であって、第１チャンネル領域Ｃ１と相対向する位置に形成され、図２に示すように、走査線Ｌｘと電気的に接続されている。その第１ゲート電極Ｇ１は、図３に示すように、ゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側に堆積される第１層間絶縁膜ＩＬ１によって電気的に絶縁されている。
【００３２】
そして、走査線駆動回路Ｄｒ２が走査線Ｌｘを介して第１ゲート電極Ｇ１に走査信号を入力すると、スイッチング用トランジスタＴ１は、その走査信号に基づいたオン状態となる。
【００３３】
第１ソース領域Ｓ１には、前記第１層間絶縁膜ＩＬ１及びゲート絶縁膜Ｇｏｘを貫通するデータ線Ｌｙが電気的に接続されている。また、第１ドレイン領域Ｄ１には、第１層間絶縁膜ＩＬ１及びゲート絶縁膜Ｇｏｘを貫通する第１ドレイン電極Ｄｐ１が電気的に接続されている。これらデータ線Ｌｙ及び第１ドレイン電極Ｄｐ１は、図３に示すように、第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側に堆積される第２層間絶縁膜ＩＬ２によって電気的に絶縁されている。
【００３４】
そして、走査線駆動回路Ｄｒ２が、走査線Ｌｘを線順次走査に基づき１本ずつ順次選択すると、画素１３のスイッチング用トランジスタＴ１が順次、選択期間中だけオン状態になる。スイッチング用トランジスタＴ１がオン状態となると、データ線駆動回路Ｄｒ１から出力されるデータ信号が、データ線Ｌｙ及びスイッチング用トランジスタＴ１（チャンネル膜Ｂ１）を介して第１ドレイン電極Ｄｐ１に出力される。
【００３５】
図４に示すように、駆動用トランジスタＴ２は、第２チャンネル領域Ｃ２、第２ソース領域Ｓ２及び第２ドレイン領域Ｄ２を有したチャンネル膜Ｂ２を備えるポリシリコン型ＴＦＴである。その第２チャンネル膜Ｂ２の上側には、ゲート絶縁膜Ｇｏｘを介して第２ゲ
ート電極Ｇ２が形成されている。第２ゲート電極Ｇ２は、タンタルやアルミニウム等の低抵抗金属膜であって、図２に示すように、スイッチング用トランジスタＴ１の第１ドレイン電極Ｄｐ１及び保持キャパシタＣｓの下部電極Ｃｐ１と電気的に接続されている。これら第２ゲート電極Ｇ２及び下部電極Ｃｐ１は、図４に示すように、ゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側に堆積される前記第１層間絶縁膜ＩＬ１によって電気的に絶縁されている。
【００３６】
第２ソース領域Ｓ２は、この第１層間絶縁膜ＩＬ１を貫通する保持キャパシタＣｓの上部電極Ｃｐ２に電気的に接続されている。その上部電極Ｃｐ２は、図２に示すように、対応する電源線Ｌｖに電気的に接続されている。つまり、駆動用トランジスタＴ２の第２ゲート電極Ｇ２と第２ソース領域Ｓ２間との間には、図２及び図４に示すように、第１層間絶縁膜ＩＬ１を容量膜とする保持キャパシタＣｓが接続されている。第２ドレイン領域Ｄ２は、第１層間絶縁膜ＩＬ１を貫通する第２ドレイン電極Ｄｐ２に電気的に接続されている。これら第２ドレイン電極Ｄｐ２及び上部電極Ｃｐ２は、第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側に堆積される第２層間絶縁膜ＩＬ２によって電気的に絶縁されている。
【００３７】
そして、データ線駆動回路Ｄｒ１から出力されるデータ信号がスイッチング用トランジスタＴ１を介して第１ドレイン領域Ｄ１に出力されると、保持キャパシタＣｓが、出力されたデータ信号に相対する電荷を蓄積する。続いて、スイッチング用トランジスタＴ１がオフ状態になると、保持キャパシタＣｓに蓄積される電荷に相対した駆動電流が、駆動用トランジスタＴ２（チャンネル膜Ｂ２）を介して第２ドレイン領域Ｄ２に出力される。
【００３８】
次に、発光素子形成領域１５の構成について以下に説明する。
図２に示すように、各画素１３の上側には、それぞれ四角形状の発光素子形成領域１５が形成されている。図５に示すように、その発光素子形成領域１５であって第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側には、透明電極としての陽極２０が形成されている。
【００３９】
陽極２０は、光触媒としての酸化インジウムに錫を添加した薄膜（ＩＴＯ薄膜）からなる電極であって、光透過性を有する透明導電膜である。その陽極２０の一端は、図４に示すように、第２層間絶縁膜ＩＬ２を貫通して第２ドレイン領域Ｄ２に電気的に接続されている。
【００４０】
その陽極２０の上側には、各陽極２０を互いに絶縁するシリコン酸化膜等の第３層間絶縁膜ＩＬ３が堆積されている。この第３層間絶縁膜ＩＬ３には、陽極２０の略中央位置を上側に開口する四角形状の貫通孔２１が形成され、その貫通孔２１が形成されることによって、陽極２０の上面であって貫通孔２１と相対向する位置に、後述する微小液滴２５ｂを吐出する吐出面２０ａが形成されている。尚、吐出面２０ａは、後述する親液化工程（図６におけるステップ１３）によって正孔層液滴２５Ｄ（図１０参照）及び発光層液滴２７Ｄ（図１１参照）を親液するようになっている。
【００４１】
その第３層間絶縁膜ＩＬ３の上側には、隔壁層２２が形成されている。隔壁層２２は、所定の波長からなる露光光Ｌｐｒ（図７参照）を露光すると、露光された部分のみがアルカリ性溶液等の現像液に可溶となる、いわゆるポジ型の感光性材料で形成されている。その隔壁層２２には、貫通孔２１と相対向する位置を上側に向かってテーパ状に開口する収容孔２３が形成されている。収容孔２３は、後述する正孔層液滴２５Ｄ（図１０参照）及び発光層液滴２７Ｄ（図１１参照）を対応する発光素子形成領域１５内に収容可能な大きさで形成されている。
【００４２】
そして、この収容孔２３の内周面によって、発光素子形成領域１５（陽極２０及び貫通孔２１）を囲う隔壁２４が形成されている。尚、この隔壁２４及び隔壁層２２の上面は、後述する撥液化工程（図６におけるステップ１２）によって正孔層液滴２５Ｄ（図１０参
照）及び発光層液滴２７Ｄ（図１１参照）を撥液するようになっている。
【００４３】
収容孔２３内であって吐出面２０ａの上側には、発光素子形成材料としての正孔層形成材料２５ｓ（図１０参照）からなる正孔輸送層（正孔層）２５が形成されている。
尚、本実施形態における正孔層形成材料２５ｓは、例えばベンジジン誘導体、スチリルアミン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、及びヒドラゾン誘導体等の低分子化合物、又はこれらの構造を一部に含む高分子化合物や、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、α−ナフチルフェニルジアミン、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）（Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ、バイエル社商標）等の高分子化合物である。
【００４４】
その正孔層２５の上側には、発光層形成材料２７ｓ（図１１参照）からなる発光層２７が積層されている。尚、本実施形態における発光層２７は、それぞれ対応する色の発光層形成材料２７ｓ（赤色の光を発光する赤色発光層形成材料、緑色の光を発光する緑色発光層形成材料及び青色を発光する青色発光層形成材料）で形成されている。
【００４５】
そして、これら正孔層２５と発光層２７によって有機エレクトロルミネッセンス層（有機ＥＬ層）３０が形成されている。
有機ＥＬ層３０上側であって隔壁層２２（隔壁２４）の上側には、アルミニウム等の光反射性を有する金属膜からなる背面電極としての陰極３１が形成されている。陰極３１は、素子形成面１１ａ側全面を覆うように形成され、各画素１３が共有することによって各発光素子形成領域１５に共通する電位を供給するようになっている。
【００４６】
すなわち、これら陽極２０、有機ＥＬ層３０及び陰極３１によって、発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）が構成される。
そして、データ信号に応じた駆動電流が第２ドレイン領域Ｄ２を介して陽極２０に供給されると、有機ＥＬ層３０は、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層３０から陰極３１側（図４における上側）に向かって発光された光は、同陰極３１によって反射される。そのため、有機ＥＬ層３０から発光された光は、その殆どが、陽極２０、第２層間絶縁膜ＩＬ２、第１層間絶縁膜ＩＬ１、ゲート絶縁膜Ｇｏｘ、素子形成面１１ａ及び透明基板１１を透過して透明基板１１の裏面（表示面１１ｂ）側から外方に向かって出射する。すなわち、データ信号に基づく画像が有機ＥＬディスプレイ１０の表示面１１ｂに表示される。
【００４７】
陰極３１の上側には、エポキシ樹脂等からなる接着層３２が形成され、その接着層３２を介して素子形成領域１２を覆う封止基板１６が貼着されている。封止基板１６は、無アルカリガラス基板であって、画素１３及び各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖの酸化等を防止するようになっている。
【００４８】
次に、上記する有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法について以下に説明する。図６は、有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法を説明するフローチャートであって、図７〜図１１は、同有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法を説明する説明図である。
【００４９】
図６に示すように、はじめに透明基板１１の素子形成面１１ａに各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖ，Ｌｖｃ及び各トランジスタＴ１，Ｔ２を形成し、隔壁層２２をパターニングする有機ＥＬ層前工程を行う（ステップＳ１１）。図７は、有機ＥＬ層前工程を説明する説明図である。
【００５０】
すなわち、有機ＥＬ層前工程では、まず素子形成面１１ａの全面にエキシマレーザ等によって結晶化したポリシリコン膜を形成し、そのポリシリコン膜をパターニングして各チ
ャンネル膜Ｂ１，Ｂ２を形成する。次に、各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２及び素子形成面１１ａの上側全面に、シリコン酸化膜等からなるゲート絶縁膜Ｇｏｘを形成し、そのゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側全面にタンタル等の低抵抗金属膜を堆積する。そして、その低抵抗金属膜をパターニングして、各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２、保持キャパシタＣｓの下部電極Ｃｐ１及び走査線Ｌｘを形成する。
【００５１】
各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２を形成すると、同ゲート電極Ｇ１，Ｇ２をマスクにしたイオンドーピング法によって、それぞれ各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２にｎ型不純物領域を形成する。これによって、各チャンネル領域Ｃ１，Ｃ２、各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２を形成する。各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２にそれぞれ各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２を形成すると、各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２、下部電極Ｃｐ１、走査線Ｌｘ及びゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側全面にシリコン酸化膜等からなる第１層間絶縁膜ＩＬ１を堆積する。
【００５２】
第１層間絶縁膜ＩＬ１を堆積すると、その第１層間絶縁膜ＩＬ１であって各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２と相対する位置に一対のコンタクトホールをパターニングする。次に、同コンタクトホール内及び第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側全面にアルミニウム等の金属膜を堆積し、その金属膜をパターニングすることによって各ソース領域Ｓ１，Ｓ２に対応するデータ線Ｌｙと保持キャパシタＣｓの上部電極Ｃｐ２をそれぞれ形成する。同時に、各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２に対応する各ドレイン電極Ｄｐ１，Ｄｐ２を形成する。そして、データ線Ｌｙ、上部電極Ｃｐ２、各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２及び第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側全面にシリコン酸化膜等からなる第２層間絶縁膜ＩＬ２を堆積する。これによって、スイッチング用トランジスタＴ１及び駆動用トランジスタＴ２を形成する。
【００５３】
第２層間絶縁膜ＩＬ２を堆積すると、その第２層間絶縁膜ＩＬ２であって第２ドレイン領域Ｄ２と相対向する位置にビアホールを形成する。次に、そのビアホール内及び第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側全面に、スパッタ法等によって、ＩＴＯからなる透明導電膜を堆積し、その透明導電膜をパターニングすることによって第２ドレイン領域Ｄ２と接続する陽極２０を形成する。陽極２０を形成すると、その陽極２０及び第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側全面にシリコン酸化膜等からなる第３層間絶縁膜ＩＬ３を堆積する。
【００５４】
第３層間絶縁膜ＩＬ３を堆積すると、図７に示すように、第３層間絶縁膜ＩＬ３の上側全面に、感光性ポリイミド樹脂等を塗布して隔壁層２２を形成する。そして、マスクＭｋを介して、陽極２０と相対向する位置の隔壁層２２に所定の波長からなる露光光Ｌｐｒを露光して現像すると、同隔壁層２２に隔壁２４を内周面にする収容孔２３がパターニングされる。
【００５５】
収容孔２３をパターニングすると、隔壁層２２をマスクにして第３層間絶縁膜ＩＬ３をパターニングし、陽極２０の上側に、収容孔２３と連通する貫通孔２１を形成する。
これによって、素子形成面１１ａに各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖ，Ｌｖｃ及び各トランジスタＴ１，Ｔ２を形成し、収容孔２３をパターニングする有機ＥＬ層前工程を終了する。
【００５６】
図６に示すように、有機ＥＬ層前工程を終了すると（ステップＳ１１）、隔壁２４及び隔壁層２２の表面を撥液化する撥液化工程を行う（ステップＳ１２）。図８は、撥液処理工程を説明する説明図である。
【００５７】
すなわち、撥液処理工程では、図８に示すよう、透明基板１１の素子形成面１１ａ全面をフッ素系のプラズマＰｓ（例えば、ＣＦ４を原料ガスとするプラズマ）に晒す。これによって、隔壁層２２上面及び隔壁２４表面に、フッ素を含有する有機基等を形成して撥液
性を付与する。
【００５８】
図６に示すように、撥液処理工程を終了すると（ステップＳ１２）、吐出面２０ａを親液化する親液化工程を行う（ステップＳ１３）。図９は、親液化工程を説明する説明図である。
【００５９】
すなわち、親液化工程では、図９に示すように、まず、透明基板１１を紫外線処理装置内に配置して、その素子形成面１１ａを紫外線ランプ３３と相対向させる。次に、紫外線処理装置内に水蒸気Ｈを供給し、素子形成面１１ａ（吐出面２０ａ）上を水蒸気雰囲気する。続いて、吐出面２０ａと相対向する位置に貫通孔を有するマスクＭｋ２を素子形成面１１ａ上に配設する。そして、紫外線ランプ３３から波長が２１５ｎｍ（ｙ線）の紫外光Ｌｕｖを出射し、マスクＭｋ２を介して、吐出面２０ａに同紫外光Ｌｕｖを照射する。すると、陽極２０に添加されている光触媒が活性化し、その活性化した光触媒によって、吐出面２０ａ上に化学吸着水（例えば、水酸基等）が形成され、同化学吸着水に物理吸着水が吸着させるようになる、つまり吐出面２０ａ（陽極２０）が親液性を誘起する。
【００６０】
この際、吐出面２０ａ以外の領域は、マスクＭｋ２によって保護される。そのため、撥液処理の施された隔壁層２２及び隔壁２４の撥液性や、吐出面２０ａ以外の陽極２０の表面特性は、上記する親液化処理工程において保持される。
【００６１】
図６に示すように、吐出面２０ａを親液化すると（ステップ１３）、収容孔２３内に正孔層形成材料２５ｓからなる正孔層液滴２５Ｄを形成して正孔層２５を形成する正孔層形成工程を行う（ステップＳ１４）。図１０は、その正孔層形成工程を説明する説明図である。
【００６２】
まず、正孔層液滴２５Ｄを形成するための液滴吐出装置の構成について以下に説明する。
図１０に示すように、本実施形成における液滴吐出装置を構成する液体吐出ヘッド３５には、ノズルプレート３６が備えられている。そのノズルプレート３６の下面（ノズル形成面３６ａ）には、液体を吐出する多数のノズル３６ｎが上方に向かって形成されている。各ノズル３６ｎの上側には、図示しない液体収容タンクに連通して液体をノズル３６ｎ内に供給可能にする液体供給室３７が形成されている。各液体供給室３７の上側には、上下方向に往復振動して液体供給室３７内の容積を拡大縮小する振動板３８が配設されている。その振動板３８の上側であって各液体供給室３７と相対向する位置には、それぞれ上下方向に伸縮して振動板３８を振動させる圧電素子３９が配設されている。
【００６３】
そして、液滴吐出装置に搬送される透明基板１１は、図１０に示すように、素子形成面１１ａをノズル形成面３６ａと平行にして、かつ各収容孔２３の中心位置をそれぞれノズル３６ｎの直下に配置して位置決めされる。
【００６４】
ここで、液体供給室３７内に、正孔層形成材料２５ｓを下層溶媒に溶解して生成した正孔層形成液２５Ｌを供給する。
尚、本実施形態における下層溶媒は、親水性の液体であって、例えば、Ｎ−メチルピロリドンや１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等である。
【００６５】
そして、液体吐出ヘッド３５に正孔層液滴２５Ｄを形成するための駆動信号を入力すると、同駆動信号に基づいて圧電素子３９が伸縮して液体供給室３７の容積が拡大縮小する。このとき、液体供給室３７の容積が縮小すると、縮小した容積に相対する量の正孔層形成液２５Ｌが、各ノズル３６ｎから微小液滴２５ｂとして吐出される。吐出された微小液滴２５ｂは、それぞれ収容孔２３内の陽極２０上面に着弾する。続いて、液体供給室３７
の容積が拡大すると、拡大した容積分の正孔層形成液２５Ｌが、図示しない液体収容タンクから液体供給室３７内に供給される。つまり、液体吐出ヘッド３５は、こうした液体供給室３７の拡大縮小によって、所定の容量の正孔層形成液２５Ｌを収容孔２３に向かって吐出する。尚、この際、液体吐出ヘッド３５は、正孔層液滴２５Ｄに含まれる正孔層形成材料２５ｓが所望する膜厚を形成する分だけ微小液滴２５ｂを吐出する。
【００６６】
そして、収容孔２３内に吐出された微小液滴２５ｂは、上記する親液化処理を行う分だけ、陽極２０上面全体に均一に濡れ広がる。均一に濡れ広がる微小液滴２５ｂは、やがて、図１０の２点鎖線に示すように、その表面張力と隔壁２４の撥液性によって、半球面状の表面を呈する正孔層液滴２５Ｄを形成する。
【００６７】
正孔層液滴２５Ｄを形成すると、続いて、透明基板１１（正孔層液滴２５）を所定の減圧下に配置して同正孔層液滴２５Ｄの下層溶媒を蒸発させ、正孔層形成材料２５ｓを硬化する。硬化する正孔層形成材料２５ｓは、陽極２０上面全体に均一に濡れ広がる分だけ、その形状（例えば、発光素子形成領域１５内の膜厚分布や発光素子形成領域１５間の膜厚分布等）を均一にした正孔層２５を形成する。
【００６８】
図６に示すように、正孔層２５を形成すると（ステップＳ１４）、各収容孔２３内に、発光層２７を形成する発光層形成工程を行う（ステップＳ１５）。図１１は、発光層形成工程を説明する説明図である。
【００６９】
すなわち、発光層形成工程では、図１１に示すように、正孔層形成工程と同じく、各色の発光層形成材料２７ｓを含有する発光層形成液２７Ｌの微小液滴２７ｂを、各ノズル３６ｎから対応する正孔層２５上に吐出し、吐出した微小液滴２７ｂによって形成する発光層液滴２７Ｄを乾燥することによって発光層２７を形成する。
【００７０】
この際、正孔層２５上に吐出される微小液滴２７ｂは、上記する親液化処理によって正孔層２５の形状が均一に形成される分だけ均一に濡れ広がり、発光層２７の形状を均一にする、すなわち有機ＥＬ層３０の形状を均一にする。
【００７１】
図６に示すように、発光層２７（有機ＥＬ層３０）を形成すると（ステップＳ１５）、発光層２７（有機ＥＬ層３０）及び隔壁層２２上に陰極３１を形成し、画素１３を封止する有機ＥＬ層後工程を行う（ステップ１６）。すなわち、有機ＥＬ層３０及び隔壁層２２の上側全面にアルミニウム等の金属膜からなる陰極３１を堆積し、陽極２０、有機ＥＬ層３０及び陰極３１からなる有機ＥＬ素子を形成する。有機ＥＬ素子を形成すると、陰極３１（画素１３）の上側全面にエポキシ樹脂等を塗布して接着層３２を形成し、その接着層３２を介して封止基板１６を透明基板１１に貼着する。
【００７２】
これによって、有機ＥＬ層３０の膜厚分布を素子形成面１１ａ内で均一にした有機ＥＬディスプレイ１０を製造することができる。
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
【００７３】
（１）上記実施形態によれば、正孔層形成液２５Ｌからなる微小液滴２５ｂを吐出面２０ａに吐出する前に、同吐出面２０ａに紫外光Ｌｕｖを照射して光触媒の親液性を誘起するようにした（ステップＳ１３）。従って、光触媒の親液性を誘起する分だけ、吐出面２０ａ全面に濡れ広がる正孔層液滴２５Ｄを形成することができる。その結果、正孔層２５の形状を均一にすることができ、有機ＥＬ層３０（有機ＥＬ素子）の形状の均一性を向上することができる。ひいては、有機ＥＬ層３０を備える有機ＥＬディスプレイ１０の生産性を向上することができる。
【００７４】
（２）上記実施形態によれば、紫外光Ｌｕｖを吐出面２０ａに照射するときに、素子形成面１１ａ上を水蒸気Ｈ雰囲気にした。従って、水蒸気Ｈを介在させる分だけ、活性化した光触媒による親液性を向上することができる。その結果、正孔層２５の形状をさらに均一にすることができる。
【００７５】
（３）上記実施形態によれば、紫外光Ｌｕｖを吐出面２０ａに照射するときに、マスクＭｋ２によって、同吐出面２０ａ以外の領域を覆うようにした。従って、撥液処理の施された隔壁層２２及び隔壁２４の撥液性や、吐出面２０ａ以外の陽極２０の表面特性を保持することができ、吐出面２０ａのみを親液化することができる。その結果、隔壁２４の表面及び隔壁層２２の上面によって正孔層液滴２５Ｄを撥液させることができ、同正孔層液滴２５Ｄの漏れ等を回避することができる。そのため、吐出した微小液滴２５ｂの量に相対する正孔層２５を吐出面２０ａ上に確実に形成することができ、有機ＥＬ層３０（有機ＥＬ素子）間の形状の均一性を向上することができる。
【００７６】
（４）上記実施形態によれば、正孔層液滴２５Ｄを、液滴吐出装置から吐出する微小液滴２５ｂによって形成するようにした。従って、所望する量の正孔層形成材料２５ｓを確実に収容孔２３内に収容させることができる。その結果、他の液相プロセス（例えば、スピンコート法等）に比べ、より均一な形状の有機ＥＬ層３０（有機ＥＬ素子）を形成することができる。
【００７７】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、光触媒を酸化インジウムに具体化したが、これに限らず、二酸化チタン、亜鉛酸化物、錫酸化物、チタン酸ストロンチウム、タングステン酸化物、ビスマス酸化物、鉄酸化物等であってもよい。
・上記実施形態では、有機ＥＬ素子をボトムエミッション型で構成し、光触媒を透明電極に含有させるようにした。これに限らず、有機ＥＬ素子をトップエミッション型で構成し、背面電極に光触媒を含有させるようにしてもよい。
・上記実施形態では、素子形成面１１ａ側を水蒸気Ｈ雰囲気にして紫外光Ｌｕｖを照射するようにしたが、これに限らず、例えば素子形成面１１ａ側を酸素雰囲気にして紫外光Ｌｕｖを照射するようにし、吐出面２０ａ上に形成する化学吸着水（例えば、水酸基等）や、同化学吸着水に吸着する物理吸着水によって親液性を誘起するようにしてもよい。あるいは、素子形成面１１ａ側を大気下において同紫外光Ｌｕｖを照射するようにしてもよい。
・上記実施形態では、マスクＭｋ２を介して紫外光Ｌｕｖを照射するようにしたが、これに限らず、大気雰囲気下においてマスクＭｋ２を配置することなく紫外光Ｌｕｖを照射するようにしてもよい。
・上記実施形態では、正孔層形成材料２５ｓ及び発光層形成材料を有機高分子材料に具体化したが、これに限らず、公知の有機低分子材料あるいは無機材料によって構成してもよい。
・上記実施形態では、有機ＥＬ層３０を正孔輸送層２５及び発光層２７によって構成したが、これに限らず、発光層２７の上層に、フッ化リチウムとカルシウムの積層膜等からなる電子注入層を設ける構成にしてもよい。
・上記実施形態では、制御素子形成領域１４にスイッチング用トランジスタＴ１及び駆動用トランジスタＴ２を備える構成にしたが、これに限定されるものでなく、所望の素子設計によって、例えば１つのトランジスタや多数のトランジスタ、あるいは多数のキャパシタからなる構成にしてもよい。
・上記実施形態では、有機ＥＬ層３０をインクジェット法によって形成する構成にした。これに限らず、有機ＥＬ層３０の形成方法は、例えば、スピンコート法等によって塗布する液体によって正孔層液滴２５Ｄ又は発光層液滴２７Ｄを形成するようにしてもよく、液体を乾燥して硬化させることによって有機ＥＬ層３０を形成する方法であればよい。
・上記実施形態では、圧電素子３９によって微小液滴２５ｂを吐出するようにしたが、これに限らず、例えば液体供給室３７に抵抗加熱素子を設け、その抵抗加熱素子の加熱によって形成される気泡の破裂によって微小液滴２５ｂを吐出するようにしてもよい。
・上記実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１０として具体化したが、これに限らず、例えば液晶パネルに装着されるバックライト等であってもよく、あるいは平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型ディスプレイ（ＦＥＤやＳＥＤ等）であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明を具体化した有機ＥＬディスプレイを示す概略平面図。
【図２】同じく、画素を示す概略平面図。
【図３】同じく、制御素子形成領域を示す概略断面図。
【図４】同じく、制御素子形成領域を示す概略断面図。
【図５】同じく、発光素子形成領域を示す概略断面図。
【図６】同じく、電気光学装置の製造工程を説明するフローチャート。
【図７】同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。
【図８】同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。
【図９】同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。
【図１０】同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。
【図１１】同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。
【符号の説明】
【００７９】
１０…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、１１…透明基板、１５…発光素子形成領域、２０…透明電極としての陽極、２５…正孔輸送層、２７…発光層、３０…有機ＥＬ層、３１…背面電極としての陰極、３５…液滴吐出装置を構成する液体吐出ヘッド、Ｈ…水蒸気、Ｌｕｖ…紫外光。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2006172761.tif 000009
【図８】
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【図９】
2006172761.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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