(57)【要約】【課題】原料ガスと水を反応させて生成したガスハイドレートを脱水しながら生成容器外に円滑に払い出す。【解決手段】耐圧容器２内で原料ガスｇと水ｗとを反応させてガスハイドレートｎを生成するガスハイドレート生成装置である。前記耐圧容器２内に当該耐圧容器２の内壁面に沿うようにリボン状の掻上げ羽根４をらせん状に設けたガスハイドレート掻上げ手段３を回転自在に設ける。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
耐圧容器内で原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器内に当該耐圧容器の内壁面に沿うようにリボン状の掻上げ羽根をらせん状に設けたガスハイドレート掻上げ手段を回転自在に設けることを特徴とするガスハイドレート生成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のガスハイドレート生成装置において、前記掻上げ羽根上に可撓性のへら状体を装着したことを特徴とするガスハイドレート生成装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のガスハイドレート生成装置において、耐圧容器の内側に、前記掻上げ羽根の上端部に対向するガスハイドレート返し部を設けることを特徴とするガスハイドレート生成装置。
【請求項４】
請求項３に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器の側面に、ガスハイドレート返し部に対応するガスハイドレート払出し口を設けることを特徴とするガスハイドレート生成装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器内にガス抜き管を設け、該ガス抜き管を通してガスハイドレートの隙間に介在している原料ガスを前記耐圧容器の外に排出することを特徴とするガスハイドレート生成装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器の側面に水切り部を設けたことを特徴とするガスハイドレート生成装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか１項に前記耐圧容器の内壁面に縦方向の微細溝を設けたことを特徴とするガスハイドレート製造装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器及びガスハイドレートかき揚げ手段にテーパーを付与し、両者の直径が上方に向かうにしたがって次第に小さくなるようにすることを特徴とするガスハイドレート製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐圧容器内で原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガスハイドレートは、水分子と原料ガス分子からなる氷状の固体物質であり、水分子が形成する立体的なカゴ状構造体の内部に原料ガス分子を包接した包接化合物の一種である。
【０００３】
このガスハイドレートは、ガス包蔵量が比較的大きく、大きな生成エネルギーや分解エネルギーおよびハイドレート化ガスなどの特徴ある性質を有しているため、例えば、天然ガスなどの輸送や貯蔵手段、蓄熱システム、特定成分ガスの分離回収などの多様な用途が可能である。
【０００４】
ガスハイドレートは、通常、高圧および低温条件の下で生成される。そして、大気圧より高い圧力下で生成したガスハイドレートを大気圧下で輸送や貯蔵をするためには、高圧下のガスを大気圧下に取り出す必要がある。
【０００５】
ガスハイドレートは、通常、高圧および低温条件の下で水とガスを接触させて水和物として固体化させたものであるが、通常、未反応の水が生じるため、多量の水を含んだスラリー状となる。
【０００６】
従って、このスラリー状のガスハイドレートを貯蔵・輸送すれば、その貯蔵および輸送にかかるコストが膨大になってしまう。そこで、含水率の低いハイドレートを生成し、その貯蔵や輸送にかかるコストを低減するため、脱水して付着水分を下げる必要がある。
【０００７】
しかし、スラリー濃度が低く、なおかつ、微細粒径のガスハイドレートの脱水には、遠心分離機、スクリュープレス型やフィルタープレス型の機械式脱水機などを使用することになるが、スラリー状のガスハイドレートは、極めて微粒であるため、脱水率を上げようとすると、水と共に網目を通過するハイドレート粒子が増加してガスハイドレートの回収率が低下してしまう。
【０００８】
ガスハイドレートの回収率を高くしようとして網目を小さくすると、目詰まりを起こし、十分な脱水ができない場合があった。さらに、ガスハイドレートが生成する条件下（高圧下）での脱水手段としての高速回転の遠心分離や高圧縮荷重となるスクリュープレスおよびフィルタープレスなどの運転は、困難である。
【０００９】
そこで、本発明者らは、生成容器の上部に逆漏斗状の絞り部を設けるとともに、この絞り部にガスハイドレートを上方に移送する垂直スクリューコンベアを設け、この垂直スクリューコンベアによって移送されてきたガスハイドレートを略水平方向に移送する水平スクリューコンベアによって回収するように構成したガスハイドレートの生成装置を提案した（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００４−１０６８６号公報（第８頁、図５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、このガスハイドレート生成装置は、液面から鉛直方向に浮き上がってきたクラスター状のガスハイドレートが生成容器の上部に設けた逆漏斗状の絞り部に沿って移動する際に次第に圧縮されることになるため、絞り部の入り口を閉塞する恐れがあった。
【００１１】
また、このガスハイドレート生成装置は、絞り部によって垂直スクリューコンベアの下部に集められたガスハイドレートを垂直スクリューコンベアによって単に上方に移送する構造であり、脱水手段が設けられていないことから、ガスハイドレートの脱水が不十分であった。
【００１２】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであって、その目的の一つは、原料ガスと水を反応させて生成したガスハイドレートを脱水しながら生成容器外に円滑に払い出すことができるガスハイドレート生成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するため、本発明は、次のように構成される。
【００１４】
請求項１に記載の発明は、耐圧容器内で原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器内に当該耐圧容器の内壁面に沿うようにリボン状の掻上げ羽根をらせん状に設けたガスハイドレート掻上げ手段を回転自在に設けることを特徴とするガスハイドレート生成装置である。
【００１５】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のガスハイドレート生成装置において、前記掻上げ羽根上に可撓性のへら状体を装着したことを特徴とするガスハイドレート生成装置である。
【００１６】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載のガスハイドレート生成装置において、耐圧容器の内側に、前記掻上げ羽根の上端部に対向するガスハイドレート返し部を設けることを特徴とするガスハイドレート生成装置である。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器の側面に、ガスハイドレート返し部に対応するガスハイドレート払出し口を設けることを特徴とするガスハイドレート生成装置である。
【００１８】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器内にガス抜き管を設け、該ガス抜き管を通してガスハイドレートの隙間に介在している原料ガスを前記耐圧容器の外に排出することを特徴とするガスハイドレート生成装置である。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器の側面に水切り部を設けたことを特徴とするガスハイドレート生成装置である。
【００２０】
請求項７に記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれか１項に前記耐圧容器の内壁面に縦方向の微細溝を設けたことを特徴とするガスハイドレート製造装置である。
【００２１】
請求項８に記載の発明は、請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器及びガスハイドレートかき揚げ手段にテーパーを付与し、両者の直径が上方に向かうにしたがって次第に小さくなるようにすることを特徴とするガスハイドレート製造装置である。
【発明の効果】
【００２２】
上記したように、請求項１に記載の発明は、耐圧容器内で原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器内に当該耐圧容器の内壁面に沿うようにリボン状の掻上げ羽根をらせん状に設けたガスハイドレート掻上げ手段を回転自在に設けたので、ガスハイドレートをリボン状の掻上げ羽根上に乗せたまま耐圧容器の上方に円滑に移行することができる。また、この発明によれば、ガスハイドレートをリボン状の掻上げ羽根によってすくい上げる際に、ガスハイドレートの粒子間に介在している水がリボン状の掻上げ羽根を伝って流下するので、含水率の低いガスハイドレートを得ることができる。
【００２３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のガスハイドレート生成装置において、前記掻上げ羽根上に可撓性のへら状体を装着したので、ガスハイドレートをリボン状の掻上げ羽根上にすくい上げ易くなる。ガスハイドレートは、容器内壁面に付着する性質があるので、これを羽根上にかき取り易くなる。
【００２４】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載のガスハイドレート生成装置において、耐圧容器の内側に、前記掻上げ羽根の上端部に対向するガスハイドレート返し部を設けるので、ガスハイドレート返し部によって掻上げ羽根上のガスハイドレートを確実に払いだすことができる。
【００２５】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器の側面に、ガスハイドレート返し部に対応するガスハイドレート払出し口を設けたので、ガスハイドレート返し部によって払いだされたガスハイドレートをガスハイドレート払出し口から確実に排出することができる。
【００２６】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器内にガス抜き管を設け、該ガス抜き管を通してガスハイドレートの隙間に介在している原料ガスを前記耐圧容器の外に排出するので、ガスハイドレートの隙間に介在している原料ガスが少なくなり、密度の高くなったガスハイドレートを移送することができる。
【００２７】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器の側面に水切り部を設けたので、水切り部からもガスハイドレートの脱水を行うことができ、ガスハイドレートの含水率をより低減することができる。
【００２８】
請求項７に記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれか１項に前記耐圧容器の内壁面に縦方向の微細溝を設けたので、微細溝に沿って原料ガスが流れることから、ガスハイドレートの付着を防止することができる。
【００２９】
請求項８に記載の発明は、請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載のガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器及びガスハイドレートかき揚げ手段にテーパーを付与し、両者の直径が上方に向かうにしたがって次第に小さくなるようにしたため、リボン状の掻上げ羽根上に乗ったガスハイドレートが耐圧容器に押し付けられ、より高密度とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。
（１）第１の実施形態
先ず、第１の実施形態について説明する。
【００３１】
図１及び図２において、１は、ガスハイドレート生成装置であり、縦長の内外の二つの容器２ａ及び２ｂを有すると共に、内側の容器２ｂの中にガスハイドレート掻上げ手段３を回転自在に設けている。外側の容器２ａは、耐圧容器になっている。
【００３２】
ガスハイドレート掻上げ手段３は、リボン状の掻上げ羽根４を、内側の容器２ｂの内壁面に沿うようにらせん状に設けた構造になっている。更に詳しく説明すると、ガスハイドレート掻上げ手段３は、回転軸５と、回転軸５に固定した天板６と、回転軸５を軸芯とする同一円（図示せず）上に位置するように、天板６の下側に設けた複数本の支柱７と、これらの支柱７の外側にらせん状に取り付けたリボン状の掻上げ羽根４によって構成されている。回転軸５の回転は、電動モーター２２によって行うようにしている。
【００３３】
リボン状の掻上げ羽根４は、その先端部（下端部）４ｂがガスハイドレート生成水の液面Ｒの近傍に位置し、その後端部（上端部）４ａが内側の容器２ｂの上端面と略同一水平面内に位置するようになっている。
【００３４】
上記の内側の容器２ｂは、その上端に、容器内に突出するように、半径方向に向けた平板状のガスハイドレート返し部１１を設けている。更に、内側の容器２ｂは、その中にスパージャ２５を有している。そして、内側の容器２ｂ内の水ｗを、循環路２６に設けたポンプ２７によって循環すると共に、冷却器２８によって所定の温度に冷却するようにしている。不足分は、補給管２９から給水するようになっている。
【００３５】
他方、耐圧容器２ａ内の原料ガスｇは、循環路３０に設けたブロア３１によって循環されるが、スパージャ２５から水ｗの中に気泡状に放出される。そして、不足分の原料ガスｇは、補給管３２から補給するようになっている。
【００３６】
尚、ガスハイドレートの付着を防止するために、図３に示すように、内側の容器２ｂの内壁面の全周にわたって縦方向の微細溝１８を設けると良い。このＶ字型の微細溝１８の溝幅ｔは（図４参照）、例えば、０．５〜５ｍｍの範囲が望ましい。また、その溝深さｄは、例えば、０．２〜５ｍｍの範囲が望ましい。なお、Ｖ字型の微細溝１８は、所定の間隔を保って飛び飛びに設けても良い。
【００３７】
更に、ガスハイドレートを掻き上げ易くするために、図５に示すように、リボン状の掻上げ羽根４の上にリボン状の可撓性のへら状体８、例えば、ゴムや軟質合成樹脂などの可撓性のリボン状のへら状体８を装着すると良い。また、へら状体８の上面に粗面加工を施してガスハイドレートの滑落を防止するようにしても良い。
【００３８】
次に、上記のガスハイドレート生成装置の作用について説明する。
【００３９】
内側の容器２ｂ内に注入した低温の水ｗの中にスパージャ２５から所定圧力の原料ガスｇを気泡状に放出すると、原料ガスｇと水ｗとが反応して氷状の固体物質であるガスハイドレートｎが生成される。
【００４０】
このガスハイドレートｎは、比重が水ｗよりも軽いため、浮上して液面Ｒにガスハイドレート層を形成するので、ガスハイドレート掻上げ手段３を回転させると、リボン状の掻上げ羽根４の先端部４ｂによって層状のガスハイドレートｎが連続的にすくい上げられる。その際、ガスハイドレートｎに含まれている水ｗがリボン状の掻上げ羽根４を伝って流下するので、含水率の低いガスハイドレートが得られる。
【００４１】
リボン状の掻上げ羽根４の上に乗ったガスハイドレートｎは、所謂かまぼこ状を呈し、後続のガスハイドレートｎによってリボン状の掻上げ羽根４に沿って連続的に押し上げられる。
【００４２】
そして、ガスハイドレートｎがリボン状の掻上げ羽根４の上端部４ａに到達すると、内側の容器２ｂ内に突出させたガスハイドレート返し部１１に誘導され、内側の容器２ｂの外に払い出される。内側の容器２ｂから払いだされたガスハイドレートｎは、内外の容器２ａ及び２ｂの間を通って外側の容器２ａの下部から次工程に排出される。返し部１１は、複数個設置しても良い。
（２）第２の実施形態
次に、第２の実施形態について説明する。
【００４３】
すなわち、容器が単層構造のガスハイドレート生成装置について説明するが、第１の実施形態の機器と同じ機器には、同じ符号を付け、詳細な説明については省略する。
【００４４】
図６において、１は、ガスハイドレート生成装置であり、縦長の耐圧容器２内にガスハイドレート掻上げ手段３を回転自在に設けている。尚、ガスハイドレートの付着を防止するために、耐圧容器２の内壁面の全周にわたって縦方向の微細溝を設けると良い。
【００４５】
ガスハイドレート掻上げ手段３は、回転軸を兼ねるガス抜き管５’と、ガス抜き管５’に固定した天板６と、ガス抜き管５’を軸芯とする同一円（図示せず）上に位置するように、天板６の下側に設けた複数本の支柱７と、これらの支柱７の外側にらせん状に取り付けたリボン状の掻上げ羽根４によって構成されている。
【００４６】
リボン状の掻上げ羽根４は、その上にリボン状の可撓性のへら状体８、例えば、ゴムや軟質合成樹脂などの可撓性のリボン状のへら状体８を装着し、掻上げ羽根４と耐圧容器２の間の隙間を塞ぐようにしている（図８参照。）。へら状体８は、その上面に粗面加工を施すことにより、ガスハイドレートの滑落をさらに防止することができる。
【００４７】
リボン状の掻上げ羽根４は、その先端部（下端部）４ｂがガスハイドレート生成水の液面Ｒの近傍に位置し、その後端部（上端部）４ａが耐圧容器２の上端近傍に位置するようになっている。
【００４８】
更に、耐圧容器２は、その内側にリボン状の掻上げ羽根４の上端部４ａに対向する平板状のガスハイドレート返し部１１を設けている（図７参照。）。このガスハイドレート返し部１１は、耐圧容器２の中心に向けて耐圧容器２内に突出している。そして、耐圧容器２の側面に、ガスハイドレート返し部１１に対応するガスハイドレート払出し口１０を設けている。
【００４９】
すなわち、ガスハイドレート返し部１１は、掻上げ羽根４の回転方向に対してガスハイドレート払出し口１０の後端部に位置し、掻上げ羽根４上のガスハイドレートを円滑に払い出せるようになっている。このガスハイドレート払出し口１０の外側には、傾斜したダクト１２を介して略水平にスクリューコンベア１３を設けている。
【００５０】
回転軸を兼ねるガス抜き管５’は、その下端部５ａが液面すれすれに位置するように設けられ、液面Ｒ上に浮かんでいるガスハイドレートの粒子間に介在している原料ガスを耐圧容器２の外に排出するようになっている。
【００５１】
また、回転軸を兼ねるガス抜き管５’は、電動モーター２２によって駆動するようにしている。更に、このガス抜き管５’には、原料ガスを抜くための孔９が設けられ、その外側には、ガス漏れを防ぐ中空状の容器１４が設けられている。
【００５２】
耐圧容器２は、その中にスパージャ２５を有している。そして、耐圧容器２内の水ｗは、循環路２６に設けたポンプ２７によって循環されると共に、冷却器２８によって所定の温度に冷却され、不足分は、補給管２９から賄われるようになっている。
【００５３】
他方、耐圧容器２内の原料ガスｇは、循環路３０に設けたブロア３１によって循環されるが、スパージャ２５から水ｗの中に気泡状に放出される。そして、不足分は、補給管３２から賄われるようになっている。
【００５４】
次に、上記のガスハイドレート生成装置の作用について説明する。
【００５５】
耐圧容器２内に注入した低温の水ｗの中にスパージャ２５から所定圧力の原料ガスｇを気泡状に放出すると、原料ガスｇと水ｗとが反応して氷状の固体物質であるガスハイドレートｎが生成される。
【００５６】
このガスハイドレートｎは、比重が水ｗよりも軽いため、浮上して液面Ｒにガスハイドレート層を形成するので、らせん状に設けた掻上げ手段３を回転させると、リボン状の掻上げ羽根４の先端部４ｂによって層状のガスハイドレートｎが連続的にすくい上げられる。その際、ガスハイドレートｎに含まれている水ｗがリボン状の掻上げ羽根４を伝って流下するので、含水率の低いガスハイドレートが得られる。
【００５７】
リボン状の掻上げ羽根４の上に乗ったガスハイドレートｎは、所謂かまぼこ状を呈し、後続のガスハイドレートｎによってリボン状の掻上げ羽根４に沿って連続的に押し上げられる。
【００５８】
そして、ガスハイドレートｎがリボン状の掻上げ羽根４の上端４ａに到達すると、耐圧容器２内に突出させたガスハイドレート返し部１１に誘導されてガスハイドレート払出し口１０からダクト１２内に払い出される。ダクト１２内に払い出されたガスハイドレートｎは、スクリューコンベア１３によって次工程に搬送される。
【００５９】
他方、ガス抜き管５’は、液面Ｒ上に浮かんでいるガスハイドレートｎの粒子の間に介在している原料ガスを耐圧容器２の外に排出するので、ガスハイドレートｎの粒子の間に介在している原料ガスが少なくなり、ガスハイドレートの密度を高めることができる。
（３）第３の実施形態
次に、第３の実施形態について説明するが、第２の実施形態と同じ機器に同じ符合を付し、詳細な説明については省略する。
【００６０】
第２の実施形態と異なる点は、耐圧容器２の外側に水切り部１５を設けた点と、耐圧容器２内に攪拌機２０を設けた点と、耐圧容器２の内面に微細溝１８を設けた点の３点である（図９及び図１０参照。）。
【００６１】
すなわち、耐圧容器２は、その側面の中間部に水切り部１５を設け、この水切り部１５からもガスハイドレートに随伴する水を脱水を行うようにしている。水切り部１５は、例えば、金網製の筒体や側面に無数の微細孔１６を設けた筒体により形成されている。この水切り部１５の外側には、筒型の脱水集合部１７を設けて原料ガス及び水を集合するようにしている。
【００６２】
更に、耐圧容器２は、図１０に示すように、その内壁面の全周にわたって縦方向の微細溝１８を連続的に設けてガスハイドレートの付着を回避するようにしている。このＶ字型の微細溝１８の溝幅ｔは、例えば、０．５〜５ｍｍの範囲が望ましい。また、その溝深さｗは、例えば、０．２〜５ｍｍの範囲が望ましい。なお、Ｖ字型の微細溝１８は、所定の間隔を保って飛び飛びに設けてもよい。
【００６３】
更に、耐圧容器２は、その中に攪拌機２０を有している。この攪拌機２０の回転軸２１は、中空状のガス抜き管５の中に設けられている。攪拌機２０の回転軸２１及び掻上げ手段３の回転軸を兼ねるガス抜き管５は、電動モーター２２によって駆動するようにしているが、その回転数は、図示しない変速機によって変速される。
【００６４】
このように、耐圧容器２の中に攪拌機２０を設けて耐圧容器２内を攪拌することにより、原料ガスと水との反応を促進させることができる。
【００６５】
既に説明した耐圧容器２、あるいは内側の容器２ｂは、その全長にわたって同じ直径であるが、耐圧容器２、内側の容器２ｂ及びかき揚げ手段３にテーパーを付け、これらの直径が上方に向かうにしたがって次第に細くなるようにすると、耐圧容器２や内側の容器２ｂの内面に対するガスハイドレートｎの押し付け力が増し、脱水され易くなる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明に係る第１のガスハイドレート生成装置の断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】内側容器の第２の例を示す平面図である。
【図４】図３のＢ部の拡大図である。
【図５】掻上げ羽根上にへら状体を設けた場合の断面図である。
【図６】本発明に係る第２のガスハイドレート生成装置の断面図である。
【図７】図６のＣ−Ｃ断面図である。
【図８】図６のＤ部の拡大断面図である。
【図９】本発明に係る第３のガスハイドレート生成装置の断面図である。
【図１０】図９のＥ−Ｅ断面図である。
【図１１】図１０のＦ部の拡大図である。
【符号の説明】
【００６７】
２  耐圧容器
３  ガスハイドレート掻上げ手段
４  リボン状の掻上げ羽根
ｇ  原料ガス
ｎ  ガスハイドレート
ｗ  水
【図１】
2006124431.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2006124431.tif 000007
【図６】
2006124431.tif 000008
【図７】
2006124431.tif 000009
【図８】
2006124431.tif 000010
【図９】
2006124431.tif 000011
【図１０】
2006124431.tif 000012
【図１１】
2006124431.tif 000013
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月17日(2004.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006124431.tif 000014
【図２】
2006124431.tif 000015
【図３】
2006124431.tif 000016
【図４】
2006124431.tif 000017
【図５】
2006124431.tif 000018
【図６】
2006124431.tif 000019
【図７】
2006124431.tif 000020
【図８】
2006124431.tif 000021
【図９】
2006124431.tif 000022
【図１０】
2006124431.tif 000023
【図１１】
2006124431.tif 000024