(57)【要約】【課題】  反射表示で明るく透過表示でコントラストに優れた液晶装置、液晶装置用基板及び該液晶装置を備えた電子機器を提供する。【解決手段】  隣り合うサブ画素１１の透過領域１２同士の間に設けられた第１の遮光膜１４ａの幅ａが、隣り合うサブ画素１１の反射領域１３同士の間に設けられた第２の遮光膜１４ｂの幅ｂより大きいので、隣り合うサブ画素１１の透過領域１２同士を幅の大きい第１の遮光膜１４ａにより確実に隔てることで、混色を防止し、コントラストを向上させることができると共に、反射領域１３において幅の狭い第２の遮光膜１４ｂにより反射光の減少を抑制して反射表示を明るくすることができる。【選択図】  図２
2006220711.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶を保持する一対の基板と、
光を透過する透過領域と光を反射する反射領域とを有する複数のサブ画素を有し、隣り合う前記サブ画素の前記透過領域同士が遮光膜を介して並設されると共に隣り合う該サブ画素の前記反射領域同士が前記遮光膜を介して並設されて構成される画素とを備え、
前記遮光膜は、隣り合う前記サブ画素の透過領域同士の間に設けられた第１の遮光膜と、該隣り合うサブ画素の反射領域同士の間に設けられた第２の遮光膜とを有し、前記第１の遮光膜の幅が、前記第２の遮光膜の幅より大きいことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記サブ画素は、前記反射領域に設けられた反射膜と、
前記第１の遮光膜に重なるように前記反射膜から延設された延設部とを有することを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記第１の遮光膜の幅は、前記延設部の幅より狭いことを特徴とする請求項２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記第１の遮光膜によって前記透過領域での前記第１の遮光膜間の幅が決定されていることを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記第１の遮光膜は、前記隣り合うサブ画素の反射領域同士の間の一部にも設けられていることを特徴とする請求項１から請求項４のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記液晶は、前記透過領域で第１の厚さに設定され、前記反射領域で前記第１の厚さより薄い第２の厚さに設定されており、
前記第１の遮光膜は、前記隣り合うサブ画素同士の間において前記第１の厚さの前記液晶と前記第２の厚さの前記液晶との境まで設けられていることを特徴とする請求項１から請求項４のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項７】
少なくとも前記第１及び第２の遮光膜のいずれか一方は、隣り合う前記サブ画素に設けられた隣り合う着色層同士が積層されて形成されていることを特徴とする請求項１から請求項６のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項８】
前記遮光膜は、金属で形成されていることを特徴とする請求項１から請求項６のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項９】
前記遮光膜は、黒色樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１から請求項６のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１０】
光を透過する透過領域と光を反射する反射領域とを有する複数のサブ画素を有し、隣り合う前記サブ画素の前記透過領域同士が遮光膜を介して並設されると共に隣り合う該サブ画素の前記反射領域同士が前記遮光膜を介して並設されて構成される画素を備え、
前記遮光膜は、隣り合う前記サブ画素の透過領域同士の間に設けられた第１の遮光膜と、該隣り合う前記サブ画素の反射領域同士の間に設けられた第２の遮光膜とを有し、前記第１の遮光膜の幅が、前記第２の遮光膜の幅より大きいことを特徴とする液晶装置用基板。
【請求項１１】
請求項１から請求項９のうちのいずれか一項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パーソナルコンピュータや携帯電話機等の電子機器並びにこれらの電子機器に用いられる液晶装置、液晶装置用基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、パーソナルコンピュータや携帯電話機等といった電子機器の表示装置として液晶装置等が用いられている。この液晶装置には、例えば光を透過する透過領域と光を反射する反射領域とを備えた半透過反射型のものが知られている。半透過反射型の液晶装置は、例えば複数の画素を備えており、各画素は透過領域と反射領域とを有する３個のサブ画素を備えている。これらのサブ画素は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）のカラーフィルター等により形成されており、各サブ画素間にはコントラスト比の向上や混色防止の観点から遮光膜（ブラックマトリックス）が形成されているが、遮光膜形成時や対向する基板の貼り合わせ時の位置ずれ等を防止するために遮光膜の幅を広くすると遮光膜によって例えば透過領域が狭くなり明るい表示とすることができない、という問題があった。
【０００３】
この問題を解決するために、一方の基板上のデータ線の両縁でデータ線に沿うように、一対の基板の位置合わせのずれの影響のない遮光パターンを設け、対向基板にデータ線に沿うように遮光膜を設ける技術が開示されている。（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
また、反射領域に例えばアルミニウム製の反射膜が設けられ、透過領域でサブ画素間にアルミニウム膜が設けられ、この透過領域に設けられたアルミニウム膜上に異なる色のカラーフィルターを重ねて遮光膜を形成する技術も知られている。
【特許文献１】特開２００４−７７５４４号公報（段落［００８２］、図７）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述した特許文献１の技術では、例えば透過領域と反射領域とで遮光膜の幅が同じであるので、遮光膜の幅を小さくすることで反射領域で光量を確保しようとする透過領域でコントラスト比が低下し、遮光膜の幅を大きくすることで透過領域でコントラスト比を向上させようとすると反射領域で光量が減少してしまうという問題が残ったままである。
【０００６】
本発明は、上述の課題に鑑みてなされるもので、反射表示で明るく透過表示でコントラストに優れた液晶装置、液晶装置用基板及び該液晶装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の主たる観点に係る液晶装置は、液晶を保持する一対の基板と、光を透過する透過領域と光を反射する反射領域とを有する複数のサブ画素を有し、隣り合う前記サブ画素の前記透過領域同士が遮光膜を介して並設されると共に隣り合う該サブ画素の前記反射領域同士が前記遮光膜を介して並設されて構成される画素とを備え、前記遮光膜は、隣り合う前記サブ画素の透過領域同士の間に設けられた第１の遮光膜と、該隣り合うサブ画素の反射領域同士の間に設けられた第２の遮光膜とを有し、前記第１の遮光膜の幅が、前記第２の遮光膜の幅より大きいことを特徴とする。
【０００８】
本発明では、遮光膜は、隣り合うサブ画素の透過領域同士の間に設けられた第１の遮光膜と、該隣り合うサブ画素の反射領域同士の間に設けられた第２の遮光膜とを有し、第１の遮光膜の幅が、第２の遮光膜の幅より大きいので、幅の広い第１の遮光膜で隣り合うサブ画素の透過領域同士を確実に隔てることで、コントラストを向上させることができると共に、反射領域において幅の狭い第２の遮光膜により反射光の減少を抑制して反射表示を明るくすることができる。
【０００９】
本発明の一の形態によれば、前記サブ画素は、前記反射領域に設けられた反射膜と、前記第１の遮光膜に重なるように前記反射膜から延設された延設部とを有することを特徴とする。これにより、サブ画素は、反射領域に設けられた反射膜と、第１の遮光膜に重なるように反射膜から延設された延設部とを有するので、例えば反射領域の反射膜と、延設部とを一体的に形成することで、容易に製造することができると共に、製造コストを低下させることができる。
【００１０】
本発明の一の形態によれば、前記第１の遮光膜の幅は、前記延設部の幅より狭いことを特徴とする。これにより、第１の遮光膜の幅は、延設部の幅より狭いので、例えば延設部の幅より第１の遮光膜の幅が広い場合に異なる色の隣接したサブ画素の透過領域に第１の遮光膜が重なってしまうことにより色が変わってしまうことを防止することができる。
【００１１】
本発明の一の形態によれば、前記第１の遮光膜によって前記透過領域での前記第１の遮光膜間の幅が決定されていることを特徴とする。これにより、第１の遮光膜によって透過領域での第１の遮光膜間の幅が決定されているので、例えば透過領域を第１の遮光膜の幅を調整するだけで、容易に調整することができる。
【００１２】
本発明の一の形態によれば、前記第１の遮光膜は、前記隣り合うサブ画素の反射領域同士の間の一部にも設けられていることを特徴とする。これにより、従来では例えば隣り合うサブ画素の透過領域同士の間に設けられた遮光膜が、隣り合うサブ画素の反射領域同士の間に渡って設けられていない場合に、製造誤差により延設部が第１の遮光膜に覆われずに露出し、露出した延設部に光が反射しコントラストが低下していたが、隣り合うサブ画素の透過領域同士の間に設けられた第１の遮光膜は、隣り合うサブ画素の反射領域同士の間の一部にも設けられているので、確実に延設部を第１の遮光膜により覆うことでコントラストの低下を防止することができる。
【００１３】
ここで、一部に渡って設けられているとは、例えば液晶装置の製造時に製造誤差による位置ずれが生じても延設部が混色を防ぐ必要以上に露出しないように設けられていることをいう。
【００１４】
本発明の一の形態によれば、前記液晶は、前記透過領域で第１の厚さに設定され、前記反射領域で前記第１の厚さより薄い第２の厚さに設定されており、前記第１の遮光膜は、前記隣り合うサブ画素同士の間において前記第１の厚さの前記液晶と前記第２の厚さの前記液晶との境まで設けられていることを特徴とする。これにより、液晶は、透過領域で第１の厚さに設定され、反射領域で第１の厚さより薄い第２の厚さに設定されており、第１の遮光膜は、隣り合うサブ画素同士の間において第１の厚さの液晶と第２の厚さの液晶との境まで設けられているので、確実に延設部を第１の遮光膜により覆うことでコントラストの低下を防止することができると共に、透過領域と反射領域とで反射された光の光路長が異なってしまいコントラストが低下することを防止することができる。
【００１５】
本発明の一の形態によれば、少なくとも前記第１及び第２の遮光膜のいずれか一方は、隣り合う前記サブ画素に設けられた隣り合う着色層同士が積層されて形成されていることを特徴とする。これにより、少なくとも第１及び第２の遮光膜のいずれか一方は、隣り合う前記サブ画素に設けられた隣り合う着色層同士が積層されて形成されているので、着色するための着色層の材料をそのまま用いて遮光膜を製造することで製造工程を減少させて低コスト化を図ることができる。
【００１６】
本発明の一の形態によれば、前記遮光膜は、金属で形成されていることを特徴とする。これにより、遮光膜は、金属で形成されているので、例えば着色層の材料をそのまま用いる場合等に比べて、確実に遮光することができる。
【００１７】
本発明の一の形態によれば、前記遮光膜は、黒色樹脂で形成されていることを特徴とする。これにより、遮光膜は、黒色樹脂で形成されているので、例えば着色層同士を重ねて遮光膜を形成する場合等に比べて、確実に光を遮光でき、コントラストを向上させることができる。
【００１８】
本発明の他の観点にかかる液晶装置用基板は、光を透過する透過領域と光を反射する反射領域とを有する複数のサブ画素を有し、隣り合う前記サブ画素の前記透過領域同士が遮光膜を介して並設されると共に隣り合う該サブ画素の前記反射領域同士が前記遮光膜を介して並設されて構成される画素を備え、前記遮光膜は、隣り合う前記サブ画素の透過領域同士の間に設けられた第１の遮光膜と、該隣り合う前記サブ画素の反射領域同士の間に設けられた第２の遮光膜とを有し、前記第１の遮光膜の幅が、前記第２の遮光膜の幅より大きいことを特徴とする。
【００１９】
本発明では、遮光膜は、隣り合うサブ画素の透過領域同士の間に設けられた第１の遮光膜と、該隣り合うサブ画素の反射領域同士の間に設けられた第２の遮光膜とを有し、第１の遮光膜の幅が、第２の遮光膜の幅より大きいので、幅の広い第１の遮光膜で隣り合うサブ画素の透過領域同士を確実に隔てることで、コントラストを向上させることができると共に、反射領域において幅の狭い第２の遮光膜により反射光の減少を抑制して反射表示を明るくすることができる。
【００２０】
本発明の他の観点にかかる電子機器は、上述した液晶装置を備えたことを特徴とする。
【００２１】
本発明では、反射表示で明るく透過表示でコントラストに優れた液晶装置を備えているので、表示性能に優れた電子機器を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明に実施形態を図面に基づき説明する。なお、以下実施形態を説明するにあたっては、液晶装置、具体的には反射半透過型のニ端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ  薄膜ダイオード）を用いたアクティブマトリックス方式の液晶装置及びその液晶装置を用いた電子機器について説明するが、これに限られるものではない。また、以下の図面においては各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００２３】
（第１の実施形態）
【００２４】
図１は本発明に係る第１の実施形態の液晶装置の概略斜視図、図２は図１の液晶装置の液晶パネルの概略平面図、図３は図２の液晶パネルのＡ−Ａ断面図、図４は図２の液晶パネルのＢ−Ｂ断面図、図５は図２の液晶パネルのＣ−Ｃ断面図である。なお、図２においては、後述する着色層が設けられる側の基板と反対側の基板、着色層が設けられる側の基板の平坦化膜、セル厚調整層、配向膜、走査電極及び配向膜の図示を省略した。
【００２５】
（液晶装置の構成）
【００２６】
液晶装置１は、例えば図１に示すように液晶パネル２と、液晶パネル２に接続された回路基板３とを備えている。ここで、液晶装置１には、回路基板３の他にも、図示しないバックライト等の照明装置やその他の付帯機構が必要に応じ付設されている。
【００２７】
液晶パネル２は、図１に示すようにシール材４を介して貼り合わされた一対の基板５及び基板６と、両基板５、６の隙間に封入された例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型の液晶７とを備えている。
【００２８】
基板５には、例えば図１に示すように、文字等を表示する最小単位となる画素１０がＸ方向及びＹ方向に複数配列して設けられている。画素１０は、図２に示すように例えば略矩形状のサブ画素１１が後述する第１の遮光膜１４ａ及び第２の遮光膜１４ｂを介してＸ方向に３個並設して形成されている。
【００２９】
サブ画素１１は、図２に示すように基板５の液晶７側と反対側に設けられた図示を省略したバックライトからの光が透過する略矩形状の透過領域１２と、基板６側から基板５側に向けて入射する光を反射する略矩形状の反射領域１３とを備えている。透過領域１２は、Ｙ方向で反射領域１３の隣に設けられている。すなわち、反射領域１３は、図２のＹ方向で略上半分に設けられており、透過領域１２は図２のＹ方向で略下半分に設けられている。複数のサブ画素１１は、隣り合うサブ画素１１の透過領域１２（反射領域１３）同士が後述する第１の遮光膜１４ａ、第２の遮光膜１４ｂを介してＸ方向に隣り合うように設けられている。なお、透過領域１２の位置や形状はこれに限定されず例えば透過領域を複数箇所に設けるようにしてもよい。
【００３０】
基板５の液晶７側の表面には、図３に示すように、樹脂製の下地層１５が設けられている。下地層１５には複数の凹凸状部が形成されており、下地層１５の液晶７側の表面のうち反射領域１３となる領域には、反射膜１６が形成されている。反射膜１６は、図５に示すように後述する第１の遮光膜１４ａに重なるようにＹ方向に延設された延設部１６ａと一体的に形成されている。反射膜１６の構成材料には例えばアルミニウムやアルミニウム合金が用いられている。反射膜１６は下地層１５の凹凸形状に沿った凹凸形状を有している。
【００３１】
延設部１６ａは、図２に示すようにＸ方向に隣り合う反射領域１３の間付近の反射膜１６からＹ方向に透過領域１２側に延設されている。延設部１６ａは、反射膜１６と一体的に形成されており、延設部１６ａの構成材料には例えばアルミニウムやアルミニウム合金が用いられている。
【００３２】
下地層１５及び反射膜１６等の液晶７側には、図３、図４及び図５に示すようにサブ画素１１毎に、赤色、緑色、青色の着色層１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂが形成されている。着色層材料には、例えば顔料により着色された感光性樹脂を用いることができる。隣り合う着色層１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂの間には、光を遮蔽する第１の遮光膜１４ａ、第２の遮光膜１４ｂが形成されている。
【００３３】
第１の遮光膜１４ａは、図２に示すように隣り合うサブ画素１１の透過領域１２同士の間に設けられており、第２の遮光膜１４ｂは、隣り合うサブ画素１１の反射領域１３同士の間に設けられている。第１の遮光膜１４ａのＸ方向の幅ａが、第２の遮光膜１４ｂのＸ方向の幅ｂより大きくなるように設けられている。例えば図４に示すように青色の着色層１７Ｂ上に緑色の着色層１７Ｇが重ねられて第２の遮光膜１４ｂが形成されており、図５に示すように青色の着色層１７Ｂ上に緑色の着色層１７Ｇが重ねられて第１の遮光膜１４ａが形成されている。他の第１の遮光膜１４ａ、第２の遮光膜１４ｂも同様に隣り合う着色層１７Ｒ、１７Ｇ等が重ねられて形成されている。第１の遮光膜１４ａの幅ａは例えば８μｍ〜１０μｍに設定されており、第２の遮光膜１４ｂの幅ｂは例えば２μｍ〜３μｍに設定されている。ここで、第１の遮光膜１４ａの幅ａは延在部１６ａの幅よりも小さく設定される必要があり、延在部１６ａの幅は位置ずれを考慮して１３．５μｍに設定されているので、第１の遮光膜１４ａの幅ａは１３．５μｍ以下であることが好ましい。また、第１の遮光膜１４ａを着色層の積層以外の方法で形成する場合、第１の遮光膜１４ａの幅ａを延在部１６ａの幅よりも広くすることもできるが、輝度が下がってしまうのでその点からは幅を広くすることは好ましくない。
【００３４】
第１の遮光膜１４ａの幅ａは、延設部１６ａの幅ｄより狭くなっている。延設部１６ａによって、図２に示すようにサブ画素１１が隣り合うＸ方向での透過領域１２の幅が決定されている。第１の遮光膜１４ａによって、図２に示すようにサブ画素１１が隣り合うＸ方向での第１の遮光膜１４ａ間の幅ｃが決定されている。第１の遮光膜１４ａは、図２に示すように隣り合うサブ画素１１の透過領域１２同士の間から隣り合うサブ画素１１の反射領域１３同士の間の一部に渡って設けられている。一部に渡って設けられているとは、例えば液晶装置１の製造時に製造誤差による位置ずれが生じても延設部１６ａが混色を防ぐ必要以上に露出しないように設けられていることをいう。これにより、透過領域１２と反射領域１３との境界領域で、反射膜１６から延在された延設部１６ａが確実に第１の遮光膜１４ａにより覆われている。なお、コントラストを重視する場合は第１の遮光膜１４ａを反射領域１３同士の間の一部にも設けてもよいし、輝度を重視する場合には第２の遮光膜１４ｂを透過領域１２同士の間の一部にも設けてもよい。各着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂにより異なる光の吸収率が異なるため、着色層１７Ｒ、１７Ｇには、図２、図３及び図４に示すように例えば略円形状の孔部１７ｒと、略楕円形状の孔部１７ｇが形成されている。これにより、例えば反射表示の明るさを向上させている。
【００３５】
Ｙ方向に隣り合う画素１０の境界には、図２に示すように第３の遮光膜１４ｃがＸ方向に設けられている。第３の遮光膜１４ｃは、例えば着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂが３層積層して形成されている。
【００３６】
更に着色層１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂ及び反射膜１６等の液晶７側には、図３に示すように平坦化膜１８が設けられており、反射領域１３における平坦化膜１８の液晶７側には、液晶７のＺ方向の厚さを調整するためのセル厚調整層１９が設けられている。これにより、図３に示すように透過領域１２における液晶７のＺ方向の厚さｈ１は、反射領域１３における液晶７のＺ方向の厚さｈ２より大きくなっている。第１の遮光膜１４ａは、少なくとも厚さｈ１の液晶７と厚さｈ２の液晶７との境まで設けられている。平坦化膜１８及びセル厚調整層１９の液晶７側にはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電体からなる走査電極２０がＸ方向に形成されている。
【００３７】
また、その走査電極２０の上に、例えばポリイミド樹脂等からなる配向膜２１が形成されており、更に基板５の液晶７側と反対側には図示を省略した偏光板等が設けられている。
【００３８】
一方、基板６には、例えば図３に示すように液晶７側の表面に、マトリックス状に配列する複数の画素電極２２と、各画素電極２２の境界領域において走査電極２０と交差する方向に帯状に延びる図１に示す複数の信号電極２３と、画素電極２２及び信号電極２３に接続されたＴＦＤ２４とが配置され、画素電極２２等の液晶７側には配向膜２５が形成されている。画素電極２２は、例えばＩＴＯ等の透明導電体により形成されている。また、基板５と同様、基板６の液晶側と反対側には図示を省略した偏光板等が設けられている。
【００３９】
ここで、基板５及び基板６は、例えば図１に示すようにガラスや合成樹脂といった光透過性材料から形成された板状部材であり、基板５は基板６に対し外側へ突出した張出し領域（以下「張出し部」という。）２６を備えている。
【００４０】
次に、張出し部２６は図１に示すように走査電極２０及び信号電極２３がシール材４で囲まれる領域から張出し部２６に延びている走査電極用配線２７及び信号電極用配線２８、その各電極用配線２７、２８に例えば液晶駆動用電流を供給する液晶駆動用ＩＣ２９等を備えている。
【００４１】
また、張出し部２６には、液晶駆動用ＩＣ２９の実装面に対応する基板５上の実装領域内に設けられた複数の図示を省略した電極用端子、更に回路基板３からの電流を液晶駆動用ＩＣ２９に入力する複数の図示を省略した入力用端子が設けられている。電極用端子は走査電極用配線２７及び信号電極用配線２８にそれぞれ接続されている。
【００４２】
更に張出し部２６は、回路基板３からの電流を受取る図示を省略した外部用端子、その外部からの電流を入力用端子に供給する入力用配線３０等を備えている。なお、信号電極２３は例えばＴａやＣｒ，ＴａＷ等の金属材料により形成されている。
【００４３】
次に、回路基板３は例えば図１に示すようにベース基材３１の上に配線パターン３２等が形成、実装されて構成されている。
【００４４】
ここで、ベース基材３１は可撓性を有するフィルム状の部材であり、配線パターン３２は例えば銅等により形成されており、張出し部２６側の端に図示しない端子が形成されている。この端子は外部用端子に例えばＡＣＦを介して接続されている。
【００４５】
（液晶装置の製造方法）
【００４６】
次に液晶装置１の製造方法について図面を参照しながら説明する。
【００４７】
図６は第１の実施形態の液晶装置１の製造工程を示すフローチャートである。
【００４８】
まず、基板５を洗浄し、乾燥し、例えばポジ型の感光性樹脂を基板５に塗布し凹凸を有する下地層１５を形成する（Ｓ１）。
【００４９】
次いで、スパッタリング等により下地層１５を覆うようにアルミニウムを略一定の厚さで形成し、例えばエッチングにより延設部１６ａが残るように一部反射膜を除去し、光を透過可能な開口を複数備えた反射膜１６を形成する（Ｓ２）。
【００５０】
次に、反射膜１６及び下地層１５を覆うように着色層材料を塗布し、プリベークし、図示を省略した露光装置等により露光、現像の各処理を施すことで、着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂを形成すると共に第１の遮光膜１４ａ及び第２の遮光膜１４ｂを形成する（Ｓ３）。このとき、第１の遮光膜１４ａのＸ方向の幅ａが、図２に示すように第２の遮光膜１４ｂのＸ方向の幅ｂより大きくなるようにすると共に、隣り合うサブ画素１１の透過領域１２同士の間から隣り合うサブ画素１１の反射領域１３同士の間の一部に渡って第１の遮光膜１４ａを設ける。ここで、一部に渡って設けられているとは、例えば第１の遮光膜１４ａの形成時の位置合わせの誤差がある場合でも、延設部１６ａが混色を防ぐ必要以上に露出しないように、第１の遮光膜１４ａが設けられていることをいう。なお、第１の遮光膜１４ａと第２の遮光膜１４ｂとを同時形成せずに、別々に形成してもよい。
【００５１】
次に、着色層１７及び反射膜１６等を覆うように透明感光性樹脂を用いて平坦化膜１８を形成し、反射領域１３となる平坦化膜１８上にセル厚調整用の透明感光性樹脂を塗布しセル厚調整層１９を形成する（Ｓ４）。このとき、図３に示すように透過領域１２における液晶７のＺ方向の厚さｈ１が、反射領域１３における液晶７のＺ方向の厚さｈ２より大きくなるようにする。例えば透過領域１２と反射領域１３とにおいて、透過表示時と反射表示時とにおける液晶７中を透過する光の光路差を是正するように、厚さｈ１、ｈ２が設定されている。
【００５２】
続いて、平坦化膜１８及びセル厚調整層１９上に着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂに対応するようにＩＴＯからなる薄膜を同様に形成しパターニングして走査電極２０を形成する（Ｓ５）。更に、走査電極２０を覆うように配向膜２１を形成しラビング処理を施す。
【００５３】
一方、基板５に対向する基板６に画素電極２２、信号電極２３及びＴＦＤ２４を形成し、画素電極２２等を覆うように配向膜２５を形成しラビング処理を施す（Ｓ６）。
【００５４】
続いて、基板５上にシール材４を設け、両基板５、６を貼り合わせる（Ｓ７）。このとき、基板５側の第１の遮光膜１４ａ、第２の遮光膜１４ｂと、基板６側の各画素電極２２の境界領域とが対向するようにする。
【００５５】
そして、例えばシール材４に形成された注液口から液晶７を注液し注液口を封止し、基板５、６の外側に偏光板を設け、回路基板３を液晶パネル２に接続する等して液晶装置１を製造する（Ｓ８）。
【００５６】
以上で液晶装置１の製造方法についての説明を終了する。
【００５７】
このように本実施形態によれば、隣り合うサブ画素１１の透過領域１２同士の間に設けられた第１の遮光膜１４ａの幅ａが、隣り合うサブ画素１１の反射領域１３同士の間に設けられた第２の遮光膜１４ｂの幅ｂより大きいので、隣り合うサブ画素１１の透過領域１２同士を幅の大きい第１の遮光膜１４ａにより確実に隔てることで、混色を防止し、コントラストを向上させることができると共に、反射領域１３において幅の狭い第２の遮光膜１４ｂにより反射光の減少を抑制して反射表示を明るくすることができる。
【００５８】
また、サブ画素１１は図４、図５に示すように反射領域１３に反射膜１６を有しており、第１の遮光膜１４ａに重なるように反射膜１６から延設部１６ａが一体的に延設されているので、例えば反射膜１６と延設部１６ａとを別々に製造する場合に比べて容易に液晶装置１を製造することができると共に、製造コストを低下させることができる。
【００５９】
更に、第１の遮光膜１４ａの幅ａは、延設部１６ａの幅ｄより狭いので、例えば第１の遮光膜１４ａの製造時の誤差により第１の遮光膜１４ａの位置がずれても、着色層１７Ｒ等が異なる色の隣接したサブ画素の透過領域１２にはみ出さず、この結果、透過表示の色が変わることを防止することができる。また、例えば延設部１６ａの幅ｄより第１の遮光膜１４ａの幅ａが広い場合に第１の遮光膜１４ａを形成する着色層１７Ｒ等が異なる色の隣接したサブ画素の透過領域１２にはみ出して色が変わってしまうことを防止することができる。
【００６０】
更にまた、第１の遮光膜１４ａによってサブ画素１１が隣り合うＸ方向での第１の遮光膜１４ａ間の幅ｃが決定されているので、例えばサブ画素１１が隣り合うＸ方向での幅ｃを第１の遮光膜１４ａの幅ａを調整するだけで、容易に調整することができる。
【００６１】
また、従来では例えば隣り合うサブ画素１１の透過領域１２同士の間に設けられた遮光膜が、隣り合うサブ画素の反射領域同士の間に渡って設けられていない場合に、製造時の誤差により延設部１６ａが第１の遮光膜１４ａに覆われずに露出し、露出した延設部１６ａに外光が反射しコントラストが低下していたが、第１の遮光膜１４ａは、隣り合うサブ画素１１の透過領域１２同士の間から隣り合うサブ画素１１の反射領域１３同士の間の一部に渡って設けられているので、確実に延設部１６ａを第１の遮光膜１４ａにより覆うことで、透過領域１２で露出した延設部１６ａと、反射領域１３で反射膜１６とで反射された光の光路長が異なってしまうことを防止しコントラストの低下を防止することができる。
【００６２】
更に、透過領域１２における液晶７のＺ方向の厚さｈ１は反射領域１３における液晶７の厚さｈ２より厚くなっており、少なくとも第１の遮光膜１４ａは、厚さｈ１の液晶７と厚さｈ２の液晶７との境まで設けられているので、確実に延設部１６ａを第１の遮光膜１４ａにより覆うことでコントラストの低下を防止することができる。
【００６３】
また、第１の遮光膜１４ａ及び第２の遮光膜１４ｂは、例えば隣り合うサブ画素１１を形成する着色層１７Ｒ、１７Ｇが積層されて形成されているので、着色するための着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂの材料をそのまま用いて第１の遮光膜１４ａ及び第２の遮光膜１４ｂを製造することができ、製造工程を減少させて低コスト化を図ることができる。
【００６４】
（第２の実施の形態）
【００６５】
次に、本発明に係る第２の実施の形態の液晶装置について説明する。なお、本実施形態以降の実施形態においては、上記実施形態と同一の構成部材等には同一の符号を付しその説明を省略し、異なる箇所を中心に説明する。
【００６６】
図７は第２の実施の形態の液晶装置の液晶パネルの反射領域における断面図、図８は第２の実施の形態の液晶装置の液晶パネルの透過領域における断面図である。
【００６７】
上記実施形態では、着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂと、反射膜１６とが同じ基板５に設けられている例を示したが、本実施形態では、着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂが基板６側に設けられている。すなわち、平坦化膜１８の液晶７側には、例えば図７、図８に示すように、マトリックス状に配列する複数の画素電極２２と、各画素電極２２の境界領域においてＹ方向に帯状に延びる複数の図示しない信号電極と、画素電極２２及び信号電極に接続された図示しないＴＦＤとが配置され、画素電極２２等の液晶７側には配向膜２１が形成されている。画素電極２２は、例えばＩＴＯ等の透明導電体により形成されている。
【００６８】
一方、基板６の液晶７側には、図７、図８に示すようにサブ画素４２毎に、着色層１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂが形成されている。隣り合う着色層１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂの間には、光を遮蔽する第１の遮光膜１４ａ、第２の遮光膜１４ｂが形成されている。
【００６９】
第１の遮光膜１４ａは、図８に示すように隣り合うサブ画素４２の透過領域４４同士の間で延設部１６ａに対向して設けられており、第２の遮光膜１４ｂは、図７に示すように隣り合うサブ画素４２の反射領域４３同士の間で隣り合う画素電極２２の境界領域に対向して設けられている。図７、図８に示すように、第１の遮光膜１４ａのＸ方向の幅ａが、第２の遮光膜１４ｂのＸ方向の幅ｂより大きくなっている。例えば図７に示すように青色の着色層１７Ｂ上に緑色の着色層１７Ｇが重ねられて第２の遮光膜１４ｂが形成されており、図８に示すように青色の着色層１７Ｂ上に緑色の着色層１７Ｇが重ねられて第１の遮光膜１４ａが形成されている。他の第１の遮光膜１４ａ、第２の遮光膜１４ｂも同様に隣り合う着色層１７Ｒ、１７Ｇ等が重ねられて形成されている。本実施形態でも、第１の遮光膜１４ａの幅ａは例えば８μｍ〜１０μｍに設定されており、第２の遮光膜１４ｂの幅ｂは例えば２μｍ〜３μｍに設定されている。
【００７０】
第１の遮光膜１４ａの幅ａは、図８に示すように延設部１６ａの幅ｄより狭くなっている。延設部１６ａによって、図８に示すようにサブ画素４２が隣り合うＸ方向での透過領域４４の幅が決定されている。第１の遮光膜１４ａによって、図８に示すようにサブ画素４２が隣り合うＸ方向での第１の遮光膜１４ａ間の幅ｃが決定されている。第１の遮光膜１４ａは、上記第１の実施形態と同様に、隣り合うサブ画素４２の透過領域４４同士の間から隣り合うサブ画素４２の反射領域４３同士の間の一部に渡って設けられている。これにより、透過領域４４と反射領域４３との境界領域で、反射膜１６から延在された延設部１６ａが確実に第１の遮光膜１４ａに対向している。
【００７１】
更に着色層１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂの液晶７側には、図７、図８に示すように平坦化膜４８が設けられており、反射領域４３における平坦化膜４８の液晶７側には、液晶７のＺ方向の厚さを調整するためのセル厚調整層４９が設けられている。これにより、図７に示すように透過領域４４における液晶７のＺ方向の厚さｈ１は、反射領域４３における液晶７のＺ方向の厚さｈ２より大きくなっている。第１の遮光膜１４ａは、上記実施形態と同様に少なくとも厚さｈ１の液晶７と厚さｈ２の液晶７との境まで設けられている。平坦化膜４８及びセル厚調整層４９の液晶７側にはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電体からなる走査電極２０がＸ方向に形成されている。
【００７２】
また、その走査電極２０の上に、例えばポリイミド樹脂等からなる配向膜２５が形成されており、更に基板６の液晶７側と反対側には図示を省略した偏光板等が設けられている。
【００７３】
また、上記実施形態と同様に、透過領域４４は、Ｙ方向で反射領域４３の隣に設けられている。複数のサブ画素４２は、隣り合うサブ画素４２の透過領域４４（反射領域４３）同士が、第１の遮光膜１４ａ、第２の遮光膜１４ｂを介してＸ方向に隣り合うように設けられている。
【００７４】
このように本実施形態によれば、第１の遮光膜１４ａの幅ａが、図７、図８に示すように第２の遮光膜１４ｂの幅ｂより大きいので、隣り合うサブ画素１１の透過領域１２同士を幅の広い第１の遮光膜１４ａにより確実に隔てることで、混色を防止し、コントラストを向上させることができると共に、反射領域１３において幅の狭い第２の遮光膜１４ｂにより反射光の減少を抑制して反射表示を明るくすることができる。本実施形態のように、カラーフィルターとなる着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂが基板６側に設けられた場合のように多種多様な構成の液晶装置に本発明を適用することができる。
【００７５】
（第３の実施形態）
【００７６】
図９は第３の実施の形態の液晶装置の液晶パネルの反射領域における断面図、図１０は第３の実施の形態の液晶装置の液晶パネルの透過領域における断面図である。
【００７７】
上記実施形態では、隣り合う着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂを重ねて第１の遮光膜１４ａ、第２の遮光膜１４ｂを形成する例を示したが、本実施形態では、着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂが設けられた基板５側ではなく基板６に図９、図１０に示す第１の遮光膜５５ａ、第２の遮光膜５５ｂが設けられている。第１の遮光膜５５ａ、第２の遮光膜５５ｂは基板６に複数設けられた画素電極２２の間で、隣り合う着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂにより形成される境界、例えば着色層１７Ｒと着色層１７Ｇとの境界に対向して沿うように設けられている。第１の遮光膜５５ａ、第２の遮光膜５５ｂは、例えば、金属製の膜又は第１の実施形態で用いた赤、緑及び青の着色材料を３層重ねて形成されている。
【００７８】
本実施形態の液晶装置５０は、Ｘ方向及びＹ方向に複数設けられた最小単位となる画素５１を備えており、画素５１は、例えばサブ画素５２が第１の遮光膜５５ａ、第２の遮光膜５５ｂを介してＸ方向に３個並設して形成されている。
【００７９】
サブ画素５２は、基板６側から基板５側に向けて入射する光を反射する反射領域５３と図示しないバックライトからの光を透過する透過領域５４とを備えている。透過領域５４は、上記実施形態と同様に、Ｙ方向で反射領域５３の隣に設けられている。複数のサブ画素５２は、隣り合うサブ画素５２の透過領域５４（反射領域５３）同士が、第１の遮光膜１４ａ（第２の遮光膜１４ｂ）を介してＸ方向に隣り合うように設けられている。
【００８０】
基板５の液晶７側の表面には、図９に示すように、下地層１５が設けられており、下地層１５には複数の凹凸状部が形成されている。下地層１５の液晶７側の表面の反射領域５３となる領域には、図９に示すように反射膜１６が形成されている。反射膜１６は、図１０に示すように第１の遮光膜５５ａ及び第２の遮光膜５５ｂに対向するようにＹ方向に延設された延設部１６ａと一体的に形成されている。
【００８１】
下地層１５及び反射膜１６等の液晶７側には、着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂが隣り合うように形成されている。
【００８２】
更に着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂの液晶７側には、平坦化膜１８が設けられており、反射領域５３における平坦化膜１８の液晶７側には、セル厚調整層１９が設けられている。これにより、図１０に示すように透過領域５４における液晶７のＺ方向の厚さｈ１は、反射領域１３における液晶７のＺ方向の厚さｈ２より厚くなっている。平坦化膜１８及びセル厚調整層１９の液晶７側にはＩＴＯ等の透明導電体からなる走査電極２０がＸ方向に形成されている。
【００８３】
また、その走査電極２０の上に、例えばポリイミド樹脂等からなる配向膜２１が形成されており、更に基板５の液晶７側と反対側には図示を省略した偏光板等が設けられている。
【００８４】
一方、基板６には、例えば図９に示すように液晶７側の表面に、マトリックス状に配列する複数の画素電極２２と、各画素電極２２の境界領域において走査電極２０と交差する方向に帯状に延びる複数の図示しない信号電極と、画素電極２２及びこの信号電極に接続された図示しないＴＦＤとが配置されている。また、画素電極２２の間で、例えば着色層１７Ｒと着色層１７Ｇとの境界に対向してＹ方向に沿うように、基板６の液晶７側の面に第１の遮光膜５５ａ、第２の遮光膜５５ｂが設けられている。
【００８５】
第１の遮光膜５５ａのＸ方向の幅ａが、図９、図１０に示すように第２の遮光膜５５ｂのＸ方向の幅ｂより大きくなるように設けられている。図１０に示すように第１の遮光膜５５ａの幅ａは、図９に示すように第２の遮光膜５５ｂの幅ｂより大きくなっている。第１の遮光膜５５ａの幅ａは、図１０に示すように延設部１６ａの幅ｄより狭くなっている。延設部１６ａによって、図１０に示すようにサブ画素５２が隣り合うＸ方向での透過領域５４の幅ｃが決定されている。第１の遮光膜５５ａは、隣り合うサブ画素５２の透過領域５４同士の間から隣り合うサブ画素５２の反射領域５３同士の間の一部に渡って設けられている。これにより、反射領域５３と透過領域５４との境界領域で、反射膜１６から延設された延設部１６ａが確実に第１の遮光膜５５ａと対向している。
【００８６】
画素電極２２、第１の遮光膜５５ａ、第２の遮光膜５５ｂ等の液晶７側には配向膜２５が形成されている。
【００８７】
このように本実施形態によれば、第１の遮光膜５５ａ、第２の遮光膜５５ｂは隣り合う着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂにより形成される境界に対向して沿うように基板６に設けられていると共に、第１の遮光膜５５ａの幅ａが、第２の遮光膜５５ｂの幅ｂより大きいので、隣り合うサブ画素５２の透過領域５４同士を確実に隔てることで、コントラストを向上させることができると共に、反射領域５３において第１の遮光膜５５ａによる反射光の減少を抑制して反射表示を明るくすることができる。本実施形態のように多種多様な構成の液晶装置に本発明を適用することができる。また、例えば基板５側に着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂを形成しつつ基板６に第１の遮光膜５５ａを形成することで、液晶装置の製造ステップを減少させて製造時間を短縮することができる。
【００８８】
更に、第１の遮光膜５５ａ及び第２の遮光膜５５ｂが金属製の膜である場合には、例えば第１の実施形態のように着色層の材料を積層して第１の遮光膜１４ａ及び第２の遮光膜１４ｂを形成する場合等に比べて、確実に遮光することができ、高コントラストの表示を得ることができる。
【００８９】
（第４の実施形態・電子機器）
【００９０】
次に、上述した液晶装置１を備えた本発明の第４の実施形態に係る電子機器について説明する。
【００９１】
図１１は本発明の第４の実施形態にかかる電子機器の表示制御系の全体構成の概略構成図である。
【００９２】
電子機器３００は、表示制御系として例えば図１１に示すように液晶パネル２及び表示制御回路３９０などを備え、その表示制御回路３９０は表示情報出力源３９１、表示情報処理回路３９２、電源回路３９３及びタイミングジェネレータ３９４などを有する。
【００９３】
また、液晶パネル２には表示領域Ｉを駆動する液晶駆動用ＩＣ２９を含む駆動回路３６１を有する。
【００９４】
表示情報出力源３９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備えている。更に表示情報出力源３９１は、タイミングジェネレータ３９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路３９２に供給するように構成されている。
【００９５】
また、表示情報処理回路３９２はシリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３６１へ供給する。また、電源回路３９３は、上述した各構成要素に夫々所定の電圧を供給する。
【００９６】
このように本実施形態によれば、反射表示で明るく透過表示でコントラストに優れた液晶装置１を備えているので、表示性能に優れた電子機器を得ることができる。
【００９７】
具体的な電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピュータ、デジタルカメラ等の他に液晶装置が搭載されたタッチパネル、プロジェクタ、液晶テレビやビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上述した例えば液晶装置１等が適用可能なのは言うまでもない。
【００９８】
なお、本発明の電子機器は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。また、本発明の要旨を変更しない範囲で、上記各実施形態を組み合わせてもよい。
【００９９】
例えば、上述の実施形態ではＴＦＤ型の液晶装置１等について説明したがこれに限られるものではなく、例えばＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）アクティブマトリクス型、パッシブマトリクス型の液晶装置であってもよい。また、タッチパネルを備えた電子機器などの各種液晶装置に本発明を適用してもよい。
【０１００】
また、上記第１の実施形態等では、第１の遮光膜１４ａ及び第２の遮光膜１４ｂは着色材料を積層して形成する例を示したが、遮光膜を、炭素等を含んだ黒色樹脂製とするようにしてもよい。これにより、例えば着色層同士を重ねて第１の遮光膜１４ａ及び第２の遮光膜１４ｂを形成する場合等に比べて、より確実に光を遮光でき、コントラストを向上させることができる。
【０１０１】
更に、上記第１の実施形態では、着色層１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂが３層積層して形成された第３の遮光膜１４ｃが各画素１０のＹ方向の境界となる位置に設けられた例を示したが、第３の遮光膜１４ｃの代りに例えば金属製の遮光膜を基板６の液晶７側の面に設けるようにしてもよい。このようにしても、Ｙ方向に隣り合う画素１０を確実に隔てることができ、高コントラストの表示を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本発明に係る第１の実施形態の液晶装置の概略斜視図である。
【図２】図１の液晶装置の液晶パネルの概略平面図である。
【図３】図２の液晶パネルのＡ−Ａ断面図である。
【図４】図２の液晶パネルのＢ−Ｂ断面図である。
【図５】図２の液晶パネルのＣ−Ｃ断面図である。
【図６】第１の実施形態の液晶装置の製造工程を示すフローチャートである。
【図７】第２の実施の形態の液晶装置の液晶パネルの反射領域における断面図である。
【図８】第２の実施の形態の液晶装置の液晶パネルの透過領域における断面図である。
【図９】第３の実施の形態の液晶装置の液晶パネルの反射領域における断面図である。
【図１０】第３の実施の形態の液晶装置の液晶パネルの透過領域における断面図である。
【図１１】本発明に係る第４の実施形態の電子機器の表示制御系の概略構成図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１、４０、５０…液晶装置、  ２…液晶パネル、  １０、４１…画素、  １１、４２…サブ画素、  １２、４４…透過領域、  １３、４３…反射領域、  １４ａ、５５ａ…第１の遮光膜、  １４ｂ、５５ｂ…第２の遮光膜、１６ａ…延設部、  ３００  電子機器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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