(57)【要約】【課題】フォトリソグラフィ工程に比べてより低価で簡単な方法を通じてカラムスペーサーのパターンを形成できる液晶表示素子の基板形成方法を提供すること。【解決手段】印刷ロール１００にカラムスペーサー３００のパターンを形成する工程と、カラムスペーサー３００のパターンが形成された印刷ロール１００にオーバーコート層３５０のパターンを形成する工程と、基板２００上で印刷ロール１００を回転させ、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００のパターンを同時に転写する工程とを含んでなることを特徴とする。【選択図】図３Ｄ
2006178427.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷ロールにカラムスペーサーのパターンを形成する工程と、
前記カラムスペーサーのパターンが形成された印刷ロールにオーバーコート層のパターンを形成する工程と、
基板上で前記印刷ロールを回転させ、該基板上にオーバーコート層およびカラムスペーサーのパターンを同時に転写する工程とを含んでなる液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項２】
前記印刷ロールにカラムスペーサーのパターンを形成する工程は、
印刷ノズルを用いてカラムスペーサー用の物質を印刷ロールに塗布し、
所定の形状の突出部が形成された印刷板上で前記印刷ロールを回転させ、前記印刷板の突出部に前記印刷ロールに塗布したカラムスペーサー用の物質の一部を転写させ、転写後に前記印刷ロールに残存したカラムスペーサー用の物質によって、前記印刷ロールにカラムスペーサーのパターンを形成することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項３】
前記印刷ロールにカラムスペーサーのパターンを形成する工程は、
カラムスペーサー用の物質を印刷板の所定の形状の凹部に塗布し、
前記印刷板上で印刷ロールを回転させ、前記印刷板の凹部に形成されたカラムスペーサー用の物質を前記印刷ロールに転写することによって、前記印刷ロールに前記カラムスペーサーのパターンを形成することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項４】
前記印刷ロールにカラムスペーサーのパターンを形成する工程は、
カラムスペーサー用の物質を印刷板に塗布し、
前記カラムスペーサー用の物質が塗布された印刷板上で所定の形状の凸部が形成された印刷ロールを回転させ、前記凸部に前記印刷版に塗布したカラムスペーサー用の物質を転写することによって、前記印刷ロールに前記カラムスペーサーのパターンを形成することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項５】
前記カラムスペーサーのパターンが形成された印刷ロールにオーバーコート層のパターンを形成する工程の後に、
所定の形状の凸部が形成された第２印刷板上で前記カラムスペーサーおよびオーバーコート層のパターンが形成された印刷ロールを回転させ、前記カラムスペーサーが形成されていない領域のオーバーコート層のパターンを前記第２印刷板の凸部に転写させ除去する工程を更に含むことを特徴とする請求項１〜４のうち何れか一項に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項６】
前記基板上にオーバーコート層およびカラムスペーサーのパターンを同時に転写する工程の後に、
前記基板上の領域のうち、前記オーバーコート層が前記第２印刷板の凸部に転写され除去された領域に、シール材を形成する工程を更に含むことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項７】
前記基板上には遮光層およびカラーフィルター層が形成されることを特徴とする請求項１〜４のうち何れか一項に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項８】
前記カラムスペーサーは前記遮光層の上部に形成されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項９】
前記カラムスペーサーはアクリル系の物質からなることを特徴とする請求項１〜４のうち何れか一項に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項１０】
前記カラムスペーサーは、アクリル系の物質にボール型または固着型のスペーサーが分散されていることを特徴とする請求項１〜４のうち何れか一項に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項１１】
前記オーバーコート層は、アクリル系の物質に接着力増進材が追加されてなることを特徴とする請求項１〜４のうち何れか一項に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【請求項１２】
前記印刷ロールにカラムスペーサーのパターンを形成する工程、及び該カラムスペーサーのパターンが形成された印刷ロールにオーバーコート層のパターンを形成する工程のうち少なくとも何れか１つの工程は、
胴体部と、前記胴体部の下部に形成された複数のノズル部とを含んで構成され、前記胴体部の内部にはパターン物質を収容する複数の収容溝が形成されており、前記複数のノズル部のそれぞれには前記複数の収容溝と連結され、前記収容溝に収容したパターン物質を流出させるためのスリットが形成された印刷ノズルを用いて行うことを特徴とする請求項１〜４のうち何れか一項に記載の液晶表示素子の基板形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子に係り、より具体的には、液晶表示素子のオーバーコート層およびカラムスペーサーの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示画面の厚さが数ｃｍに過ぎない超薄型の平板表示素子、その中でも液晶表示素子は、動作電圧が低くて消費電力が少なく、携帯用に用いられるなどの長所のため、ノートパソコン、モニタ、宇宙船、航空機などに至るまでその応用分野が広く多様である。
【０００３】
液晶表示素子は、下部基板、上部基板、および上下両基板の間に形成された液晶層を含んで構成され、電界印加の有無によって液晶層の配列が調節され、それによって光の透過が調節されて画像が表示される。
【０００４】
かかる液晶表示素子は、視野角が狭いという問題点があり、これに対する解決方案として、ドメインを分割するマルチドメイン方式の液晶表示素子、ＶＡ(垂直配向)モードの液晶表示素子、ＩＰＳ(In-Plane Switcing)モードの液晶表示素子などが台頭している。
【０００５】
その中のＩＰＳモードの液晶表示素子は、互いに水平に形成された二つの電極の間で発生する横電界を通じて液晶を駆動する方式であり、以下、図面を参照して従来のＩＰＳモードの液晶表示素子について説明する。
【０００６】
図１は従来のＩＰＳモードの液晶表示素子の概略的な断面図であり、図２Ａ〜図２Ｄは従来のＩＰＳモードの液晶表示素子の上部基板の製造工程のうち、カラムスペーサーの製造工程を示す断面図である。
【０００７】
図１に示したように、下部基板１０上には絶縁膜１４を挟んで共通電極１２と画素電極１６とが互いに平行に形成されている。
上部基板２０上には遮光層２２とカラーフィルター層２４が形成されており、その上に基板の平坦化のためのオーバーコート層２６が形成されている。
【０００８】
そして、上下両基板１０、２０の間にはセルギャップを維持するためにカラムスペーサー３０が形成されており、上下両基板１０、２０の接着のために基板の外郭領域にシール材４０が形成されている。また、図示してはいないが、上下両基板１０、２０の間に液晶層が形成される。
【０００９】
この際、カラムスペーサー３０は、上部基板２０のオーバーコート層２６上に形成された後、上部基板２０と下部基板１０との貼り合わせ工程によって下部基板１０とも接触するようになるもので、その形成方法について以下に説明する。
【００１０】
まず、図２Ａに示したように、遮光層２２およびカラーフィルター層２４が形成された上部基板２０上にオーバーコート層２６を形成し、図２Ｂに示したように、オーバーコート層２６上にカラムスペーサー用の物質３０ａを形成する。次いで、図２Ｃに示したように、カラムスペーサー用の物質３０ａ上に所定のパターンのマスク３８を配置し、光照射装置を使用して光を照射した後、図２Ｄに示したように、現像工程によってカラムスペーサー３０のパターンを完成させる。
【００１１】
このように、従来は光照射および現像工程を含む、所謂フォトリソグラフィ工程によってカラムスペーサー３０のパターンを形成した。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、上記フォトリソグラフィ工程は、比較的高価なものであるマスク３８および光照射装置(図示せず)を使用するため、その分製造費用が上昇するという短所があり、また、露光工程および現像工程などを経なければならず、工程が複雑でかつ工程時間が長いという問題があった。
【００１３】
本発明は上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、フォトリソグラフィ工程に比べてより低価で簡単な方法を通じてカラムスペーサーのパターンを形成できる方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明に係る液晶表示素子の基板形成方法は、印刷ロールにカラムスペーサーのパターンを形成する工程と、カラムスペーサーのパターンが形成された印刷ロールにオーバーコート層のパターンを形成する工程と、基板上で印刷ロールを回転させ、基板上にオーバーコート層およびカラムスペーサーのパターンを同時に転写する工程とを含んでなることを特徴とする。
【００１５】
ここで、上記印刷ロールにカラムスペーサーのパターンを形成する工程は、印刷ノズルを用いてカラムスペーサー用の物質を印刷ロールに塗布し、所定の形状の突出部が形成された印刷板上で印刷ロールを回転させ、印刷板の突出部にカラムスペーサー用の物質の一部を転写させ、残存するカラムスペーサー用の物質によって行うことができる。
【００１６】
また、上記印刷ロールにカラムスペーサーのパターンを形成する工程は、カラムスペーサー用の物質を印刷板の所定の形状の凹部に塗布し、印刷板上で印刷ロールを回転させ、印刷板の凹部に形成されたカラムスペーサー用の物質を印刷ロールに転写することで行うことができる。
【００１７】
また、上記印刷ロールにカラムスペーサーのパターンを形成する工程は、カラムスペーサー用の物質を印刷板に塗布し、カラムスペーサー用の物質が形成された印刷板上で所定の形状の凸部が形成された印刷ロールを回転させ、凸部にカラムスペーサー用の物質を転写することで行うことができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の構成によれば、第一に、印刷ロールを用いてカラムスペーサーのパターンを形成することで、従来のフォトリソグラフィ工程と異なり高価な装備が必要なく、露光および現像工程も不要のため、工程が短縮される。特に、本発明は、カラムスペーサーのパターンと共にオーバーコート層のパターンも一つの印刷ロールに形成させることで、一回の転写工程を通じて基板上にカラムスペーサーとオーバーコート層とを同時に形成することができ、工程時間が非常に短縮されるため、大量生産に非常に適合している。
【００１９】
第二に、本発明は、フォトリソグラフィ工程を用いないため、カラムスペーサーおよびオーバーコート層の材料として光開始材を添加する必要がない。
【００２０】
第三に、本発明は、複数のノズル部を含んで構成された印刷ロールを用いることで、カラムスペーサーおよびオーバーコート層の高さを容易に調節することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の好適な実施例を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００２２】
＜第１実施例＞
図３Ａ〜図３Ｅは、本発明の第１実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示した断面図である。
まず、図３Ａに示したように、印刷ノズル１３０を用いて印刷ロール１００にカラムスペーサー用の物質３００ａを塗布する。
【００２３】
次いで、図３Ｂに示したように、所定の形状の突出部が形成された印刷板１６０上で印刷ロール１００を回転させ、印刷板１６０の突出部の一部にカラムスペーサー用の物質３００ｂを転写し、残存するカラムスペーサー用の物質によって印刷ロール１００に所定の形状のカラムスペーサー３００を形成する。
【００２４】
次いで、図３Ｃに示したように、印刷ノズル１３０を用いてカラムスペーサー３００が形成された印刷ロール１００にオーバーコート層３５０を塗布する。
【００２５】
次いで、図３Ｄおよび図３Ｅに示したように、基板２００上で印刷ロール１００を回転させ、基板２００上にカラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０を同時に転写することで、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００を完成させる。
【００２６】
一方、ＩＰＳモードの液晶表示素子の場合には、図示したように、基板２００上に遮光層２２０およびカラーフィルター層２４０が形成されており、その上にオーバーコート層３５０とカラムスペーサー３００が順次形成される。この際、カラムスペーサー３００は、図３Ｅのように、遮光層２２０の上部に形成されることが光透過率の減少を最小化できるため好ましい。
【００２７】
上記のカラムスペーサー３００は、アクリル系の物質からなることが好ましい。従来はフォトリソグラフィ工程を用いたため、カラムスペーサー３００は、アクリル系の物質に光開始材が添加されたものでなければならなかった。しかし、本発明においてはフォトリソグラフィ工程を用いず、光開始材を添加する必要がない。
【００２８】
また、カラムスペーサー３００は、アクリル系の物質にボール型または固着型のスペーサーを分散させ用いることもできる。
【００２９】
上記のオーバーコート層３５０もアクリル系の物質を用いて形成できる。但し、オーバーコート層３５０としてアクリル系の物質に接着力増進材を追加することが、カラムスペーサー３００が塗布された印刷ロール１００への付着力を増進することができるため好ましい。
【００３０】
＜第２実施例＞
図４Ａ〜図４Ｆは、本発明の第２実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示した断面図である。
本発明の第２実施例は、印刷ロール１００にオーバーコート層３５０を塗布した後、所定の領域のオーバーコート層を除去する工程をさらに含む点が、上述した第１実施例とは異なる。但し、印刷ロール１００にオーバーコート層３５０を塗布する工程までは、第１実施例の図３Ａ〜図３Ｃと同様であるため、同一の部分については図面中に同じ符合を付し、その説明は省略する。即ち、図４Ａ〜図４Ｃは図３Ａ〜図３Ｃと同一であるため、その説明は省略し、図４Ｄから説明する。
【００３１】
図４Ｄに示したように、所定の形状の凸部が形成された第２印刷板１８０上で、カラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０が形成された印刷ロール１００を回転させ、カラムスペーサー３００が形成されていない領域のオーバーコート層３５０のうち一部３５０ａを第２印刷板１８０の凸部に転写させ除去する。
【００３２】
次いで、図４Ｅおよび図４Ｆに示したように、遮光層２２０およびカラーフィルター２４０が形成された基板２００上で印刷ロール１００を回転させ、基板２００上にカラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０を同時に転写することで、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００を完成させる。
この際、図４Ｄを参照して上述したようにオーバーコート層３５０のうち一部３５０ａが除去されたため、図３Ｅに示した第１実施例の場合と異なり、図４Ｆに示したように、基板２００の両側面部にはオーバーコート層３５０が形成されない。
【００３３】
このように、基板２００の両側面部にオーバーコート層３５０が形成されないようにした理由は、後に形成されるシール材の接着力を向上させるためである。即ち、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００を形成した後に、オーバーコート層３５０が形成されていない基板２００の両側面部にシール材を形成することが好ましい。その理由は、シール材がオーバーコート層３５０上に形成されずに、基板２００上に直接形成されるため、後の液晶表示素子の貼り合わせ工程時に二つの基板の接着力がより優れたものになるからである。
【００３４】
＜第３実施例＞
図５Ａ〜図５Ｅは、本発明の第３実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示した断面図である。
まず、図５Ａに示したように、所定の形状の凹部を備えた印刷板１６０にカラムスペーサー３００を塗布する。
【００３５】
次いで、図５Ｂに示したように、印刷板１６０上で印刷ロール１００を回転させ、印刷板１６０の凹部に形成されたカラムスペーサー３００を印刷ロール１００に転写する。
【００３６】
次いで、図５Ｃに示したように、印刷ノズル１３０を用いてカラムスペーサー３００が形成された印刷ロール１００にオーバーコート層３５０を塗布する。
【００３７】
次いで、図５Ｄおよび図５Ｅに示したように、遮光層２２０およびカラーフィルター２４０が形成された基板２００上で印刷ロール１００を回転させ、基板２００上にカラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０を同時に転写することで、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００を完成させる。なお、カラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０の材料は上述した第１実施例と同一である。
【００３８】
＜第４実施例＞
図６Ａ〜図６Ｆは、本発明の第４実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示した断面図である。
本発明の第４実施例は、印刷ロール１００にオーバーコート層３５０を塗布した後、所定の領域のオーバーコート層３５０を除去する工程をさらに含む点が、上述した第４実施例とは異なる。但し、印刷ロール１００にオーバーコート層３５０を塗布する工程までは、第４実施例の図５Ａ〜図５Ｃと同様であるため、同一の部分については図面中に同じ符合を付し、その説明は省略する。即ち、図６Ａ〜図６Ｃは図５Ａ〜図５Ｃと同一であるため、その説明は省略し、図６Ｄから説明する。
【００３９】
図６Ｄに示したように、所定の形状の凸部が形成された第２印刷板１８０上で、カラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０が形成された印刷ロール１００を回転させ、カラースペーサー３００が形成されていない領域のオーバーコート層３５０のうち一部３５０ａを第２印刷板１８０の凸部に転写させ除去する。
【００４０】
次いで、図６Ｅおよび図６Ｆに示したように、遮光層２２０およびカラーフィルター２４０が形成された基板２００上で印刷ロール１００を回転させ、基板２００上にカラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０を同時に転写することで、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００を完成させる。
この際、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００を形成した後、オーバーコート層３５０が形成されていない基板２００の両側面部にシール材を形成することが好ましいことは上述した第３実施例と同一である。
【００４１】
＜第５実施例＞
図７Ａ〜図７Ｅは、本発明の第５実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示した断面図である。
まず、図７Ａに示したように、印刷板１６０にカラムスペーサー用の物質３００ａを塗布する。
【００４２】
次いで、図７Ｂに示したように、カラムスペーサー用の物質３００ａが形成された印刷板１６０上で、所定の形状の凸部１５０が形成された印刷ロール１００を回転させ、凸部１５０にカラムスペーサー３００を転写して形成する
【００４３】
次いで、図７Ｃに示したように、印刷ノズル１３０を用いてカラムスペーサー３００が形成された印刷ロール１００にオーバーコート層３５０を塗布する。
【００４４】
次いで、図７Ｄおよび図７Ｅに示したように、遮光層２２０およびカラーフィルター層２４０が形成された基板２００上で印刷ロール１００を回転させ、基板２００上にカラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０を同時に転写することで、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００を完成させる。
カラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０の材料は上述した第１実施例と同一である。
【００４５】
＜第６実施例＞
図８Ａ〜図８Ｆは、本発明の第６実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示した断面図である。
本発明の第６実施例は、印刷ロール１００にオーバーコート層３５０を塗布した後、所定の領域のオーバーコート層３５０を除去する工程をさらに含むこと点が、上述した第５実施例とは異なる。但し、印刷ロール１００にオーバーコート層３５０を塗布する工程までは、第５実施例の図７Ａ〜図７Ｃと同様であるため、同一の分部については図面中に同じ符合を付し、その説明は省略する。即ち、図８Ａ〜図８Ｃは図７Ａ〜図７Ｃと同一であるため、その説明は省略し、図８Ｄから説明する。
【００４６】
図８Ｄに示したように、所定の形状の凸部が形成された第２印刷板１８０上で、カラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０が形成された印刷ロール１００を回転させ、カラースペーサー３００が形成されていない領域のオーバーコート層３５０のうち一部３５０ａを第２印刷板１８０の凸部に転写させ除去する。
【００４７】
次いで、図８Ｅおよび図８Ｆに示したように、遮光層２２０およびカラーフィルター２４０が形成された基板２００上で印刷ロール１００を回転させ、基板２００上にカラムスペーサー３００およびオーバーコート層３５０を同時に転写することで、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００を完成させる。
この際、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００を形成した後、オーバーコート層３５０が形成されていない基板２００の両側面部にシール材を形成することが好ましいことは上述した通りである。
【００４８】
一方、上述した第１実施例〜第３実施例において、オーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００の高さは適切に変更可能である。この際、オーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００の高さは、印刷ノズル１３０から放出されるパターン物質の量を調節して変更することができ、このような場合、図９Ａ〜図９Ｃに示したような印刷ノズルを用いることが好ましい。
【００４９】
図９Ａは本発明による印刷ノズルの概略的な斜視図で、図９Ｂは図９Ａの線Ａ−Ａに沿って切断した断面図で、図９Ｃは図９Ａの線Ｂ−Ｂに沿って切断した断面図である。放出されるパターン物質の量を個別に調節することが可能な複数のノズル部を含んでいるため、印刷ロールにコーティングされるパターン物質の量を容易に調節することができ、パターンの厚さを容易に調節できる。以下、図面を参照してより詳細に説明する。
【００５０】
図９Ａに示したように、本発明に係る印刷ノズルは、胴体部４００、この胴体部４００の下部に形成された複数のノズル部５００、胴体部４００にパターン物質を供給するための供給管６００、および胴体部４００からパターン物質を排出するための排出管７００を含んで構成されている。図面にはノズル部５００が二つ形成された場合を示したが、これに限定されるものではない。
【００５１】
図９Ｂおよび図９Ｃを参照すると、胴体部４００の内部にはパターン物質を収容するための複数の収容溝４５０が形成されている。そして、複数のノズル部５００には複数の収容溝４５０と連結されるスリット５５０がそれぞれ形成され、パターン物質を放出させ、印刷ロールに塗布するようになっている。
【００５２】
また、胴体部４００の内部にはスペーサー４７０が形成されており、スペーサー４７０の幅の大きさを調節することで、スリット５５０の大きさが調節される。
【００５３】
再び図９Ａを参照すると、胴体部４００に連結された供給管６００は、複数の収容溝４５０とそれぞれ連結され、複数の収容溝４５０にパターン物質を供給する複数のサブ供給管６２０、および複数のサブ供給管６２０を連結する一つのメイン供給管６４０を備えた構造であることが分かる。
【００５４】
また、メイン供給管６４０にはメインバルブ６４５が形成され、サブ供給管６２０に供給されるパターン物質の流量を調節する。また、サブ供給管６２０にもサブバルブ６２５が形成され、収容溝４５０に供給されるパターン物質の流量を調節する。
【００５５】
このように、パターン物質は、複数のサブ供給管６２０を介して複数の収容溝４５０に収容された後、複数のスリット５５０を介して印刷ロールに塗布される。この際、複数のスリット５５０に放出されるパターン物質の放出量は、メインバルブ６４５の操作により全体的に調節されると共に、サブバルブ６２５の操作により各ノズル部５００に対して個別に調節される。このように、パターン物質の放出量を自由に調節することが可能であるため、印刷ロールに塗布されるパターン物質の量を容易に調節することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】従来のＩＰＳモードの液晶表示素子の概略的な断面図である。
【図２Ａ】従来のＩＰＳモードの液晶表示素子の上部基板の製造工程のうち、カラムスペーサーの製造工程を示す断面図である。
【図２Ｂ】従来のＩＰＳモードの液晶表示素子の上部基板の製造工程のうち、カラムスペーサーの製造工程を示す断面図である。
【図２Ｃ】従来のＩＰＳモードの液晶表示素子の上部基板の製造工程のうち、カラムスペーサーの製造工程を示す断面図である。
【図２Ｄ】従来のＩＰＳモードの液晶表示素子の上部基板の製造工程のうち、カラムスペーサーの製造工程を示す断面図である。
【図３Ａ】本発明の第１実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図３Ｂ】本発明の第１実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図３Ｃ】本発明の第１実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図３Ｄ】本発明の第１実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図３Ｅ】本発明の第１実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図４Ａ】本発明の第２実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図４Ｂ】本発明の第２実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図４Ｃ】本発明の第２実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図４Ｄ】本発明の第２実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図４Ｅ】本発明の第２実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図４Ｆ】本発明の第２実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図５Ａ】本発明の第３実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図５Ｂ】本発明の第３実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図５Ｃ】本発明の第３実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図５Ｄ】本発明の第３実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図５Ｅ】本発明の第３実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図６Ａ】本発明の第４実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図６Ｂ】本発明の第４実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図６Ｃ】本発明の第４実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図６Ｄ】本発明の第４実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図６Ｅ】本発明の第４実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図６Ｆ】本発明の第４実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図７Ａ】本発明の第５実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図７Ｂ】本発明の第５実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図７Ｃ】本発明の第５実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図７Ｄ】本発明の第５実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図７Ｅ】本発明の第５実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図８Ａ】本発明の第６実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図８Ｂ】本発明の第６実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図８Ｃ】本発明の第６実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図８Ｄ】本発明の第６実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図８Ｅ】本発明の第６実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図８Ｆ】本発明の第６実施例による液晶表示素子の基板形成方法の工程を示す断面図である。
【図９Ａ】本発明による印刷ノズルの概略的な斜視図である。
【図９Ｂ】図９Ａの線Ａ−Ａに沿って切断した断面図である。
【図９Ｃ】図９Ａの線Ｂ−Ｂに沿って切断した断面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１００  印刷ロール
１３０  印刷ノズル
１６０、１８０  印刷板
２００  基板
２２０  遮光層
２４０  カラーフィルター層
３００  カラムスペーサー
３５０  オーバーコート層
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
2006178427.tif 000009
【図３Ｃ】
2006178427.tif 000010
【図３Ｄ】
2006178427.tif 000011
【図３Ｅ】
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【図４Ａ】
2006178427.tif 000013
【図４Ｂ】
2006178427.tif 000014
【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図４Ｅ】
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【図４Ｆ】
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【図５Ａ】
2006178427.tif 000019
【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図６Ｅ】
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【図６Ｆ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図７Ｅ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図８Ｅ】
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【図８Ｆ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図９Ｃ】
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