(57)【要約】【課題】  従来技術のフォトリソグラフィ処理を行うラインにおいて、複数の露光装置間に温度差等の環境の変動や露光装置自体の経時的な変動が発生することより、１つのカセット内の複数基板を前記複数の露光装置で露光処理した結果、露光装置によって基板上に露光された複数の液晶パネル等の配列位置関係に差が生じることがある。【解決手段】  本発明は、複数の露光装置が接続されたフォトリソグラフィ・ラインにおいて、１つのカセット内に存在する基板を全て同一の露光装置で露光を行うことを特徴とする。また、複数のカセットがフォトリソグラフィ・ラインに投入された場合には、それら複数のカセット内の基板を同時にラインに流品するが、１つのカセット内の基板を全て同一の露光装置で露光を行うように制御することを特徴とする。【選択図】  図１
2006005284.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数台の露光装置と、フォトリソグラフィ処理を行う基板を保持するカセットを複数搭載可能な基板搬送ロボットとをインライン接続して、前記カセット内の基板を前記任意の露光装置に搬送して露光処理を行うフォトリソグラフィ・ラインにおいて、一つのカセット内の基板を全て同一の露光装置で露光処理することを特徴とするフォトリソグラフィ・ライン。
【請求項２】
前記複数のカセット内の基板を交互にカセット内から搬送し、カセット毎に決められた露光装置で並列して露光処理することを特徴とする請求項１記載のフォトリソグラフィ・ライン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は複数の露光装置を用いてフォトリソグラフィ処理を行うシステムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
塗布現像装置と露光装置が複数接続されている液晶パネル等のフォトリソグラフィ・ラインにおいては、１つの基板カセット内に保持した基板を、連続して同時に複数の露光装置で露光処理を行っていた。また、そのカセットのフォトリソ処理が終了すると次のカセットのフォトリソ処理が開始するシーケンスになっていた。
【特許文献１】特開平９−５８８４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来技術のフォトリソグラフィ処理を行うラインにおいて、複数の露光装置間に温度差等の環境の変動や露光装置自体の経時的な変動が発生することより、１つのカセット内の複数基板を前記複数の露光装置で露光処理した結果、露光装置によって基板上に露光された複数の液晶パネル等の配列位置関係に差が生じることがある（図３）。その結果、それ以降の露光工程で、カセット内最初の数枚の基板で配列位置測定を行い、それらの測定結果から統計計算し配列位置のバラツキがプリセットされた許容値以内の場合は、それ以降の基板の配列測定処理をバイパスすることにより露光処理時間を短縮する機能において、統計的に配列位置関係が基板によって差が大きいと判断され、以降の基板も全て配列位置測定が必要となり、露光処理時間の短縮が出来なくなりフォトリソ工程の生産性を落としていた。また、最初の数枚の統計処理が安定していたような場合でも、以降の基板で配列に差があるような場合には、統計処理の結果からはずれるために、重ね合わせに問題が発生して不良パネルを生産してしまう結果となっていた。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は上記のような複数の露光装置を有するフォトリソグラフィ・ラインにおいて、１つのカセット内に存在する基板を全て同一の露光装置で露光を行うことを特徴とする。また、複数のカセットがフォトリソグラフィ・ラインに投入された場合には、それら複数のカセット内の基板を同時にラインに流品するが、１つのカセット内の基板を全て同一の露光装置で露光を行うように制御することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００５】
以上説明したように、本発明によれば、複数の露光装置を接続して液晶パネル等の生産を行うフォトリソグラフィ・ラインにおいて、カセット内全基板のパネルの配列精度が安定することによりパネルの生産性が向上するとともに、スループットを落とさずにラインが稼動することが出来るようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
（第１の実施例）
図１及び図２は本発明を最も良く表す図である。
【０００７】
図１においては、それぞれ１台の塗布装置４および現像装置５が基板搬送ロボット３を介して２台の露光装置１，２に接続されるフォトリソグラフィ・ラインの例を示している。
【０００８】
ＩＮ側カセット・ステーション６にはカセット＃１Ａ８あるいはカセット＃１Ｂ９が載置され、その中にはフォトリソグラフィ処理を行う複数の基板が入っており、それらの基板は塗布装置にてレジスト等の塗布関連処理が行われ、基板搬送ロボットを介して露光装置に搬入され露光処理が行われ、露光処理終了基板は再び基板搬送ロボットを介して現像装置に搬送され現像関連処理が行われた後に、ＯＵＴ側カセット・ステーション上に載置されたカセット＃２Ａ１０あるいはカセット＃２Ｂ１１に収納される。
【０００９】
図２のタイミング・チャートに示すようにカセット＃１Ａ内の１枚目の基板がカセットから取り出され塗布関連処理が行われ、基板搬送ロボットを介して露光装置＃１に搬入され露光処理が行われ、露光処理の終了した基板は基板搬送ロボットを介して現像装置に搬入され現像関連処理が行われ、カセット＃２Ａに収納される。前記カセット＃１Ａの基板がカセットから取り出され塗布関連処理が終了して塗布装置が次の基板の処理が可能な状態になった時点で、カセット＃１Ｂ内の１枚目の基板が取り出され塗布関連処理が行われ、基板搬入ロボットを介して露光装置＃２に搬入され露光処理が行われる。以降も同様に、カセット＃１Ａ内の２枚目基板の処理が開始され一連のフォトリソ処理である塗布・露光（露光装置＃１）・現像処理が行われ、前記カセット＃１Ａの２枚目基板の塗布処理が終了して次の基板の塗布処理が可能になった時点で、カセット＃１Ｂ内の２枚目基板の一連のフォトリソ処理（露光装置＃２）が開始される。
【００１０】
このように、同一カセット内の基板は同一露光装置で露光処理されることにより、カセット内全ての基板での液晶パネルの配列安定性が維持される。このことにより、以降の工程においても安定して配列測定機能が働き、最初の数枚以降の配列測定が省略される。また、複数カセットの基板を交互かつ同時にフォトリソグラフィ・ラインに投入されることにより、ラインのスループットは１つのカセットを連続して処理する従来技術と同等となる。
【００１１】
（他の実施例）
本発明の例は露光装置間の固体差によって発生する基板上の液晶パネル等のバラツキに関して述べたが、複数の塗布あるいは現像装置がフォトリソグラフィ・ラインに設置されたような場合にも、同一カセットの処理は同一の塗布あるいは現像装置でプロセス処理するようにすると、塗布によるレジスト膜厚ムラや現像条件の差によるＩＣチップや液晶パネルの不良が少なくなり、生産性の向上に有効である。
【００１２】
本発明の例は露光装置が２台接続される場合のものであるが、もちろん３台以上でも同様である。
【００１３】
本発明は塗布・現像装置と接続する場合を示したが、塗布装置や現像装置が接続されてなくとも同様の処理をすることにより、生産性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】基本的な構成を示す図。
【図２】動作タイミング・チャートを示す図。
【図３】従来技術を示す図。
【符号の説明】
【００１５】
１  露光装置＃１
２  露光装置＃２
３  基板搬送ロボット
４  塗布装置
５  現像装置
６  ＩＮ側カセット・ステーション
７  ＯＵＴ側カセット・ステーション
８  カセット＃１Ａ
９  カセット＃１Ｂ
１０  カセット＃２Ａ
１１  カセット＃２Ｂ
【図１】
2006005284.tif 000003
【図２】
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【図３】
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