(57)【要約】【課題】  Ｔ−ＴＩＬＴ規格が±０．３、Ｒ−ＴＩＬＴが０．２を超えない良質の光ディスクをアニールできるアニール方法を提供する。【解決手段】中央に開口孔を有する複数の光ディスクのその開口孔にスペーサを介してそれぞれ交互に光ディスク保持器の支柱に挿通し、このように挿通した光ディスク保持器を複数台、内部空間が直方体に形成されたアニール炉内に前記支柱を垂直又は水平状態でそれぞれ収納し、前記アニール炉内に熱風を一方向に通過させることで前記複数の光ディスクをアニールする光ディスクのアニール方法であって、前記熱風の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、前記熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速を０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）以上にし、熱風の温度を５０°Ｃ以上とした。【選択図】  図１
2006277801.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中央に開口孔を有する複数の光ディスクのその開口孔にスペーサを介してそれぞれ交互に光ディスク保持器の支柱に挿通し、このように挿通した光ディスク保持器を複数台、内部空間が直方体に形成されたアニール炉内に前記支柱を垂直又は水平状態でそれぞれ収納し、前記アニール炉内に熱風を一方向に通過させることで前記複数の光ディスクをアニールする光ディスクのアニール方法であって、前記熱風の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、前記熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速を０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）以上にすることを特徴とする光ディスクのアニール方法。
【請求項２】
前記熱風の温度を５０°Ｃ以上とすることを特徴とする請求項１記載の光ディスクのアニール方法。
【請求項３】
前記熱風の通過方向に対して前記光ディスク保持器を垂直又は水平状態で３列以上配置することを特徴とする請求項１又は２記載の光ディスクのアニール方法。
【請求項４】
前記光ディスク保持器の１列横隊が前記熱風の通過方向に３列以上配置される場合において、前記熱風の流入側と流出側にそれぞれ１列ずつ配置し、この両側列の間の複数中間列のうち１列を間引いたことを特徴とする請求項１又は２記載の光ディスクのアニール方法。
【請求項５】
光ディスクを立設保持するための複数本のスクリューシャフトをアニール炉内を貫通させて回転可能に配設し、前記スクリューシャフトの溝に光ディスク立設保持させ、前記スクリューシャフトの回転により、前記光ディスクを立設状態で前記アニール炉内を通過させ、この光ディスクの通過中に前記熱風を一方向に通過させることで前記複数の光ディスクをアニールする光ディスクのアニール方法であって、前記熱風の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、前記熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速を０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）以上にすることを特徴とする光ディスクのアニール方法。
【請求項６】
中央に開口孔を有する複数の光ディスクをアニール炉の内部空間の天井と床の間に全てほぼ垂直に立てた状態で固定又は移動させ、前記天井と前記床との方向に熱風を通過させることで前記複数の光ディスクをアニールする光ディスクのアニール方法であって、前記熱風の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、前記熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速を０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）以上にすることを特徴とする光ディスクのアニール方法。
【請求項７】
内部空間が直方体に形成された前記アニール炉内に一方向に通過させる熱風を発生する熱風発生装置を炉外に備え、かつ、前記熱風の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、前記熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速を０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）以上にすることを特徴とするアニール炉。
【請求項８】
前記熱風発生装置が温度が５０°Ｃ以上の熱風を発生させることを特徴とする請求項７記載のアニール炉。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスクにアニール処理を施す光ディスクのアニール方法及びそのアニール炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
記録層を形成するための色素は塗布するために有機溶剤に溶解して、光ディスクの情報基板へ塗布することで色素を塗布した後、色素液に含まれる有機溶剤を蒸発させるため、さらに、情報基板とダミー基板を成形後に各基板に残る残留応力を除去するため、アニール（焼き鈍し）を行っている。
【０００３】
大量の基板をアニールする場合、多数の基板をその各中心孔にそれぞれスペーサを介して１本の支持体に貫通させ、その支持体をアニール炉内にて垂直状態に保持させ、この支持体を多数本アニール炉に収容するようにして成る発明は知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−１４１７８０号
【０００４】
図８は従来の光ディスクアニール炉の１例で、本発明でも原則採用できるものである。
図において、８０は例えば縦１．１ｍ、横１．１ｍ、高さ１ｍの箱状のアニール炉であり、アニール炉８０の互いに対向する両側面８０ａ、８０ｂの全面に多数の風孔ｈ１が開けられており、熱風Ｗ１がその一側面８０ａから他の側面８０ｂに向けて流入し、炉中に収納されている加熱対象物を加熱した後、冷えた熱風Ｗ２は他の側面８０ｂの風孔ｈ２から炉外に流出し、炉外に設けられている循環ファン８１で加熱器８２まで運ばれて加熱器８２によって所定の温度（例えば、８０℃）にまで再び加熱されたあと、再びアニール炉８０の側面８０ａに運ばれ、そこから炉内に流入するようになっている。
８３は扉で、光ディスクの出し入れ時に開閉され、使用時に閉じられて、両側面の全面の風孔ｈ１、ｈ２以外、アニール炉８０を密閉している。
なお、従来のアニール炉では熱風Ｗ１の風速と炉長Ｌとの関係は全く考慮していない（この点の効果が大きいことに注目して本発明はなされている。）。
【０００５】
図９は本発明でも使用する光ディスク収納台車の説明図で、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図で、（１）は図（ａ）のＡ−Ａ矢視図、（２）は図（ａ）のＢ−Ｂ矢視図である。
図において、９０は台車で、台車９０は例えば２階建て構成となっており、１階（下段）９０ａと２階（上段）９０ｂのそれぞれに収納スペースを備えている。各収納スペースには、それぞれ多数の光ディスクＤを串刺しした光ディスク保持器５０を垂直に立てる垂直支持機構９１を多数個（図では、縦（風の進行方向）に５列、横（前記進行方向と直角な方向）に５列の合計２５個）備えている。下部には移動用のキャスター９２が設けられ、台車９０の上下２段にそれぞれ多数の光ディスクＤを串刺しした光ディスク保持器５０を垂直支持機構９１に立てた状態で、炉の扉８３（図８）を開けて台車９０毎、炉内に収納される。
【０００６】
図１０は本発明でも使用する光ディスク保持器５０の説明図で、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。図において、５０は光ディスク保持器で、光ディスク保持器５０は垂直支持機構９１（図９（ａ））に挿入される挿入固定部５１と、その上の鍔部５２と、鍔部５２の中心を貫通して多数の光ディスクＤおよびスペーサＳを交互にその中心開口を串刺しする支柱５３とで構成される。
図１０の（ａ）および（ｂ）は、このようにして串刺しされた多数の光ディスクＤを示している。１本の光ディスク保持器５０に例えば７０枚の光ディスクＤが、光ディスクＤ間を熱風が通過できるように互いにスペーサＳを介して串刺しされている。
【０００７】
図９（ｂ）に戻って、このように７０枚の光ディスクＤが介しされた光ディスク保持器５０が、台車９０の垂直支持機構９１（図９ａ）に差し込まれて立設される。この光ディスク保持器５０が１列の横隊で５本立設されるから１列横隊では７０枚／本×５本で、合計３５０枚となり、それが縦方向に５列あるから、台車の１階（下段）では３５０枚／列×５列で、合計３５０×５＝１７５０枚の光ディスクＤが収納され、これが上下段にあるから２倍となり、１台の台車９０全体では３５００枚の光ディスクＤが収納されることとなる。
【０００８】
この３５００枚の光ディスクＤが収納された台車９０がキャスター９２で軽く搬送されて図８のアニール炉８０の内部にそのまま収納され、扉８３を閉じて、熱風Ｗ１を送り込み、アニール処理がなされる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図１１は１串７０枚の光ディスクＤを１列横隊で５串（３５０枚／列）、４列で、合計１４００枚の光ディスクＤを図８のアニール炉８０に図１２（ｂ）に示すように「４列等間隔で」配設して、熱風Ｗ１を送り込み、アニール処理した結果の各光ディスクＤの（ａ）タンジェンシャル・チルト（Ｔ−ＴＩＬＴ：円周方向チルト）とラディアル・チルト（Ｒ−ＴＩＬＴ：半径方向チルト）を示すグラフである。
【００１０】
グラフにおいて、横軸は貼合処理順の光ディスクＤの番号である。すなわち、処理順に図１２（ｂ）で台車９０の左下（熱風Ｗ１の最上流側の上流方向に向かって最左）の光ディスク保持器５０１−１に串刺しされた最下段の光ディスクＤが番号１で、その直近真上の光ディスクＤが番号２、その光ディスク保持器の最上光ディスクＤが番号７０である。図でその横の光ディスク保持器５０１−２の最下段の光ディスクＤが番号７１で、その直近真上の光ディスクＤが番号７２、その光ディスク保持器の最上光ディスクＤが番号１４０である。以上の順序で番号を付し、図で光ディスク保持器５０１−５の最段の光ディスクＤが番号３５０である。次に、第２列目の５０２’に番号が移り、光ディスク保持器５０１−２’に串刺しされた最下段の光ディスクＤが番号３５１で、光ディスク保持器５０２’−５の最上段の光ディスクＤが番号７００である。次に、第３列目の５０３’に番号が移り、光ディスク保持器５０３’−１の最下段の光ディスクＤが番号７０１で、光ディスク保持器５０３’−５の最上段の光ディスクＤが番号１０５０、次に、第４列目の５０４の光ディスク保持器５０４−１の最下段の光ディスクＤが番号１０５１で、光ディスク保持器５０４−５の最上段の光ディスクＤが番号１４００である。
【００１１】
アニール条件は、風速は０．６ｍ／ｓとし、熱風温度は２４°Ｃ→（1時間）→８０°Ｃ（２時間）→８０°Ｃ→（１時間）→２４°Ｃと変えていった。
【００１２】
各番号の光ディスクＤにつきＴ−ＴＩＬＴ（ａ）とＲ−ＴＩＬＴ（ｂ）について調べ、各最大（ｍａｘ）チルトをチルト０の上側に、最小（ｍｉｎ）チルトをチルト０の下側にそれぞれ１つずつプロットしていったグラフである。
【００１３】
ＤＶＤの場合、Ｔ−ＴＩＬＴ規格は±０．３であるが、実験結果、本出願人はグラフ中に楕円Ｄ１で囲った光ディスクＤ番号３５１〜１０５１の範囲でＴ−ＴＩＬＴが０．３を超える規格外の光ディスクが多数存在していることを発見した。
同じく、図６のＲ−ＴＩＬＴについても、±０．２を超える光ディスクＤが散在していることが判る。
【００１４】
そこで本出願人はその原因を追及したところ、（１）熱風の風速、（２）熱風の温度、そして（３）光ディスクＤの配置に起因していることを突き止めた。
【００１５】
したがって、本発明は、これらの問題を解決するためになされたもので、Ｔ−ＴＩＬＴ規格が±０．３、Ｒ−ＴＩＬＴが０．２を超えない良質の光ディスクをアニールできるアニール方法およびその装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するため、請求項１記載の発明は光ディスクのアニール方法に係り、中央に開口孔を有する複数の光ディスクのその開口孔にスペーサを介してそれぞれ交互に光ディスク保持器の支柱に挿通し、このように挿通した光ディスク保持器を複数台、内部空間が直方体に形成されたアニール炉内に前記支柱を垂直又は水平状態でそれぞれ収納し、前記アニール炉内に熱風を一方向に通過させることで前記複数の光ディスクをアニールする光ディスクのアニール方法であって、前記熱風の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、前記熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速を０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）以上にすることを特徴としている。
請求項２記載の発明は、請求項１記載の光ディスクのアニール方法において、前記熱風の温度を５０°Ｃ以上とすることを特徴としている。
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の光ディスクのアニール方法において、前記熱風の通過方向に対して前記光ディスク保持器を垂直又は水平状態で３列以上配置することを特徴としている。
請求項４記載の発明は、請求項１又は２記載の光ディスクのアニール方法において、前記光ディスク保持器の１列横隊が前記熱風の通過方向に３列以上配置される場合において、前記熱風の流入側と流出側にそれぞれ１列ずつ配置し、この両側列の間の複数中間列のうち１列を間引いたことを特徴としている。
請求項５記載の発明は、光ディスクのアニール方法に係り、光ディスクを立設保持するための複数本のスクリューシャフトをアニール炉内を貫通させて回転可能に配設し、前記スクリューシャフトの溝に光ディスク立設保持させ、前記スクリューシャフトの回転により、前記光ディスクを立設状態で前記アニール炉内を通過させ、この光ディスクの通過中に、前記収納室内に熱風を一方向に通過させることで前記複数の光ディスクをアニールする光ディスクのアニール方法であって、前記熱風の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、前記熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速を０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）以上にすることを特徴としている。
請求項６記載の発明は光ディスクのアニール方法に係り、中央に開口孔を有する複数の光ディスクをアニール炉の内部空間の天井と床の間に全てほぼ垂直に立てた状態で固定又は移動させ、前記天井と前記床との方向に熱風を通過させることで前記複数の光ディスクをアニールする光ディスクをアニール方法であって、前記熱風の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、前記熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速を０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）以上にすることを特徴としている。
請求項７記載の発明は光ディスクのアニール炉に係り、内部空間が直方体に形成されたアニール炉内に一方向に通過させる熱風を発生する装置を熱風発生装置を収納室外に備え、かつ、前記熱風の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、前記熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速を０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）以上にすることを特徴としている。
請求項８記載の発明は、請求項７記載のアニール炉において、前記熱風発生装置が温度が５０°Ｃ以上の熱風を発生させることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１７】
上記の構成により、炉内の全ての光ディスクに対して同じ温度の熱風が当たるようになるので、Ｔ−ＴＩＬＴ規格が±０．３、Ｒ−ＴＩＬＴが０．２以下の良質な光ディスクを得ることが出来る
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明について詳細に説明する。
図１（ａ）は多数の光ディスクＤを串刺しした光ディスク保持器１２０を垂直に立てるタイプのアニール炉１１０に本発明を適用した例で、（ｂ）はその改良方法である。
図１（ａ）において、アニール炉１１０は縦Ｌ＝１．１ｍ、横１．１ｍ、高さ１ｍの箱状のアニール炉で、図８と同じ構造のものである。したがって、アニール炉１１０の一側面から熱風１９が流入し、炉中に収納されている横５本／列×縦５列の合計２５本の光ディスク保持器１２０が立設している（なお、図面を見易くするため台車は省略し、２段のうち他方の段も図示は省略している。）。多数の光ディスクＤを加熱した熱風１９は炉外に流出し、炉外に設けられている循環ファン（図８参照）と加熱器（電気ヒータ）で所定の温度にまで加熱されたあと、再びアニール炉１１０内に流入する。
【００１９】
熱風１９の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、本発明により、熱風の吹出し孔ｈ１（図８）から５０ｍｍ内部での風速をｖとするとき、
ｖ＝０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）・・・・・（式１）
以上としているのが特徴である。
従来の炉では熱風の風速を炉長Ｌの長さによって規定していなかったので、光ディスクＤの縦列が長くなると下流の光ディスクＤにチルト不良品が発生していたが、上記式１を採用したところ、アニール炉長（したがって、光ディスクＤの縦列）が長くなっても、もはや下流の光ディスクＤにチルト不良品が発生することがなくなった。その理由は炉長が長くなると、当然中に収納される光ディスク保持器１２０の縦列も増加するから熱風の抵抗も大きくなるからであり、平面図で正方形に近いアニール炉においては、その係数０．７３が実験結果から得られた最適な数値である。特に、この係数０．７３に限界（臨界）的効果があるわけではないが、係数０．５および０．６で実験したところ最下流の光ディスクＤにチルト不良品が見られたが、０．７ではチルト不良品が発生しなかったので、若干安全係数を加えて、「０．７３」とした。
また、風速の係数「０．７３以上」の上限をどこにおくかは、循環ファンと加熱器のコスト・大きさ等から決めればよい。
また、この時の熱風の温度を５０°Ｃに設定したところ、光ディスクＤにチルト不良品が発生せず、良好であった。熱風の温度が高くなればアニール温度も高くなり、アニール温度が高くなればなるほど電気特性は良好となる結果が得られたが、その一方で、アニール温度は低い方が貼合品の機械的特性は良くなるということも判り、熱風温度はトレードオフの関係にあることが判った。したがって、総合的に判断すると、熱風の温度を５０°Ｃ近傍に設定すれば、光ディスクＤにチルト不良品が発生せず、電気特性および機械的特性も良好であるという結果が得られた。
【００２０】
図１（ｂ）は、（ａ）の本発明による改良方法である。
図１（ｂ）において、（ａ）で炉中に収納されている横５本／列×縦５列のうち、縦列の真ん中の列Ｌ１を間引いた状態で２０本の光ディスク保持器１２０を配設しているのが特徴である。このように縦列の真ん中の列Ｌ１を間引いてアニールすることにより、他の光ディスクのチルトが大幅に改善されることが判った。
【００２１】
図１２（ａ）は斜視図である図１（ｂ）の炉の部分の平面図である。
1本の光ディスク保持器（例えば、５０１−１）に串刺しされる光ディスクＤの枚数が７０枚、１列横隊の光ディスク保持器の本数が５本、列数が５列などはすべて図１２（ｂ）で説明したのと同じである。ただ、図の（ａ）が図の（ｂ）と異なるのは、図の（ｂ）では、４列がアニール炉９０に互いに「４列等間隔で」配設されているのに対して、図の（ａ）では４列のうち、真ん中の２列同士の間隔を１列分開けている（言い換えれば、５列を等間隔に配設したあと、真ん中の１列を間引いた状態にする。）ことである。
このようにしてアニール処理したところ、炉の中央付近の各光ディスクＤのタンジェンシャル・チルトとラディアル・チルトが大幅に改善された。
【００２２】
図２は図１２（ａ）によるアニール処理した結果の各光ディスクＤの（ａ）タンジェンシャル・チルト（Ｔ−ＴＩＬＴ：円周方向チルト）とラディアル・チルト（Ｒ−ＴＩＬＴ：半径方向チルト）を示すグラフである。
グラフにおいて、横軸は貼合処理順の光ディスクＤの番号である。番号の振り方は図１１の場合と同じであるので、重複説明は省略する。
【００２３】
アニール条件は、風速は０．６ｍ／ｓとし、熱風温度は２４°Ｃ→（1時間）→８０°Ｃ（２時間）→８０°Ｃ→（１時間）→２４°Ｃと変えていった。
ＤＶＤの場合、Ｔ−ＴＩＬＴ規格は±０．３であるが、実験結果、グラフ中に楕円Ｄ１で囲った光ディスクＤ番号３５１〜１０５１の範囲でもＴ−ＴＩＬＴが０．３を超える光ディスクが殆ど無くなっている（わずかに、２〜３枚程度）ことが判る。
同じく、図６のＲ−ＴＩＬＴについても、±０．２を超える光ディスクＤは１枚も見られなかった。
【００２４】
図３の線図は、図１の（ａ）の場合において、アニール条件を（ａ）風速は０．６ｍ／ｓとし、熱風温度は２４°Ｃ→（1時間）→８０°Ｃ（２時間）→８０°Ｃ→（１時間）→２４°Ｃと変えていった場合の各部位の光ディスク１〜７の時間−温度変化を示す線図である。光ディスク１〜７は図１の（ａ）に示す光ディスク保持器１〜７のそれぞれ下から３５枚目（つまりポールの真ん中）の光ディスクＤを選んでいる。
その結果、各光ディスク１〜７の時間対温度変化は図のようになった。
【００２５】
図から判ることは、光ディスク１〜３（すなわち、最上流に位置する光ディスク）は温度上昇が早いが、それ以外の光ディスクは所定温度８０に達するのに時間がかかり、最後列の光ディスクでは２時間経っても所定温度８０に達せず、また、真ん中の光ディスク４は加熱されにくいが、冷めにくいことが判る。
【００２６】
図４の線図は、図１の（ｂ）の場合において、アニール条件を（ｂ）、風速は０．８ｍ／ｓとし、熱風温度は２４°Ｃ→（０．５時間）→８０°Ｃ（３時間）→８０°Ｃ→（０．５時間）→２４°Ｃと変えていった場合の各部位の光ディスク１〜１２の時間−温度変化を示す線図である。光ディスク１〜１２は図１（ｂ）に示す光ディスク保持器１〜１２のそれぞれ下から３５枚目（つまりポールの真ん中）の光ディスクＤを選んでいる。
その結果、各光ディスク１〜１２の時間対温度変化は図のようになった。
【００２７】
図から判ることは、光ディスク１〜１２のいずれも温度上昇が早くなり、特に最後列の光ディスクでも１１０分でほぼ所定温度８０に達していることが判る。
このように、風速を速くしてかつ真ん中の列を１列間引くことにより、所定の温度にする加熱時間を速めても、追随性がよくなることが判る。
【００２８】
図５は多数の光ディスクＤを串刺しした光ディスク保持器１２０を水平に置いたタイプのアニール炉２１に本発明を適用した例で、（ｂ）はその改良である。
図５（ａ）において、アニール炉２１は縦Ｌ＝１．１ｍ、横１．１ｍ、高さ１ｍの箱状のアニール炉である。アニール炉２１の一側面から熱風２９が流入し、炉中に収納されている６本の光ディスク保持器２２が炉内の熱風２９の進行方向に対して直角方向に横設している（なお、図面を見易くするため台車は省略し、２段のうち他方の段も図示は省略している。）。多数の光ディスクＤを加熱した熱風２９は炉外に流出し、炉外に設けられている循環ファン（図８参照）と加熱器（電気ヒータ）で所定の温度にまで加熱されたあと、再びアニール炉２１内に流入する。
【００２９】
熱風２９の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、本発明により、熱風の吹出し孔ｈ１（図８）から５０ｍｍ内部での風速をｖとするとき、
ｖ＝０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）・・・・・（式１）
以上としているのが特徴である。
このように光ディスク自体を立置きにしても上記式１を採用したところ、アニール炉長（したがって、光ディスクＤの縦列）が長くなっても、下流の光ディスクＤにチルト不良品が発生することがなくなった。平面図で正方形に近いアニール炉においては、その係数０．７３が実験結果から得られた最適な数値であるが、特に、この係数０．７３に限界（臨界）的効果があるわけではない。係数０．５および０．６で実験したところ最下流の光ディスクＤにチルト不良品が見られたが、０．７ではチルト不良品が発生しなかったので、若干安全係数を加えて、「０．７３」とした数値である。また、風速の係数「０．７３以上」の上限をどこにおくかは、循環ファンと加熱器のコスト・大きさ等から決めればよい。
また、この時の熱風の温度は５０°Ｃで光ディスクＤにチルト不良品が発生せず、電気特性および機械的特性も良好であった。
【００３０】
なお、上記例では、光ディスクを串刺しする例であったが、必ずしも串差しする必要はなく、皿立て等のような立てかけるものであれば何でもよい。
【００３１】
図５（ｂ）は、（ａ）の本発明による改良方法である。
図５（ｂ）において、（ａ）で炉中に収納されている６列のうち、真ん中の列Ｌ１を間引いた状態で５本の光ディスク保持器２２を横置きに配設しているのが特徴である。このように縦列の真ん中の列Ｌ１を間引いてアニールすることにより、他の光ディスクのチルトがさらに大幅に改善された。
【００３２】
以上の図１および図５は台車に光ディスク保持器を収納してアニール炉内に入れてアニール処理をバッチ処理するタイプのものであったが、図６は多数の光ディスクＤをインライン処理するタイプに本発明を適用した例で、（ｂ）はその改良である。
図６（ａ）において、インライン処理の搬送器は、光ディスクＤの直径よりも短い間隔をあけてスクリューシャフト３２、３３をそれぞれ水平かつ互いに平行に配設し、さらにこれらの２本のスクリューシャフト３２、３３の垂直２等分線上で２本のスクリューシャフト３２、３３を含む平面よりも下側で光ディスクＤの３点支持となる位置に第３のスクリューシャフト３４を配設し、それぞれ同方向、同回転数で回転されて成る。そして、３本のスクリューシャフト３２、３３、３４はそれぞれ同径であり、かつ同方向・同幅・同ピッチとなるラセン溝がそれぞれに刻まれており、そのラセン溝の溝幅は光ディスクＤの厚みがその溝に入って直立する程度の値となっている。これら３本のスクリューシャフト３２、３３、３４を同一回転数で同方向に回転させ、３本のスクリューシャフト３２、３３、３４の各ラセン溝に光ディスクＤを載せて３点支持させると、光ディスクＤが直立した状態で搬送される。この３本のスクリューシャフト３２、３３、３４をアニール炉３１内を貫通させて熱風３９を当てることにより、炉内でアニール処理され、インラインで炉外に搬出される。
この場合、熱風２９の通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、本発明により、熱風の吹出し孔ｈ１（図８）から５０ｍｍ内部での風速をｖとするとき、
ｖ＝０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）・・・・・（式１）
以上としているのが特徴である。
このように光ディスク自体を立置きにしてかつインラインにおいても上記式１を採用したところ、アニール炉長が長くなっても、下流の光ディスクＤにチルト不良品が発生することがなくなった。平面図で正方形に近いアニール炉においては、その係数０．７３が実験結果から得られた最適な数値であるが、特に、この係数０．７３に限界（臨界）的効果があるわけではない。係数０．５および０．６で実験したところ最下流の光ディスクＤにチルト不良品が見られたが、０．７ではチルト不良品が発生しなかったので、若干安全係数を加えて、「０．７３」とした数値である。また、風速の係数「０．７３以上」の上限をどこにおくかは、循環ファンと加熱器のコスト・大きさ等から決めればよい。
また、この時の熱風の温度を５０°Ｃで設定したところ、光ディスクＤにチルト不良品が発生せず、電気特性および機械的特性も良好であった。
【００３３】
図６（ｂ）は、（ａ）の本発明による改良方法である。
図６（ｂ）において、（ａ）で炉中に収納されている５列のうち、真ん中の列Ｌ１を間引いた状態で４組のスクリューシャフト３２、３３、３４を配設しているのが特徴である。このように縦列の真ん中の列Ｌ１を間引いてアニールすることにより、他の光ディスクＤのチルトがさらに大幅に改善された。
【００３４】
以上の図１〜図６は熱風がアニール炉内に水平方向に流れているタイプであったが、図７は熱風が炉の天井側から床側へ（または、その逆も可）流れるタイプの炉に本発明を適用した例で、（ａ）はバッチ処理型、（ｂ）はインライン型である。
図７（ａ）において、アニール炉４１ａは縦１．１ｍ、横１．１ｍ、高さＬ＝１ｍの箱状のアニール炉である。アニール炉４１ａ天井から熱風４９ａが流入し、炉中に収納されている６本の光ディスク保持器２２が炉内の熱風４９ａの進行方向に対し垂直角方向に横設している。多数の光ディスクＤを加熱した熱風４９ａは炉外に流出し、炉外に設けられている循環ファン（図８参照）と加熱器（電気ヒータ）で所定の温度にまで加熱されたあと、再びアニール炉４１ａ内に流入する。
熱風４９ａの通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、本発明により、熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速をｖとすると、
ｖ＝０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）・・・・・（式１）
以上としているのが特徴である。
このように熱風の向きが変わっても、上記式１を採用することにより光ディスクＤにチルト不良品が発生することがなくなった。図では光ディスクＤの１層分しか図示していないが、実際はその下部（紙面で垂直方向下方）に２層目、３層目、・・・の光ディスクＤの層があり、アニール炉全体は立方体に近く（縦１．１ｍ×横１．１ｍ×高さ１．０ｍ）なっている。このような炉においては、その係数０．７３が実験結果から得られた最適な数値であった。特に、この係数０．７３に限界（臨界）的効果があるわけではないが、係数０．５および０．６で実験したところ最下流の光ディスクＤにチルト不良品が見られたのに対して、０．７ではチルト不良品が発生しなかったので、若干安全係数を加えて、「０．７３」とした数値である。また、風速の係数「０．７３以上」の上限をどこにおくかは、循環ファンと加熱器のコスト・大きさ等から決めればよい。
また、この時の熱風の温度は５０°Ｃで光ディスクＤにチルト不良品が発生せず、電気特性および機械的特性も良好であった。
【００３５】
図７（ｂ）におけるインライン処理の搬送器は図６（ａ）のそれと同じであるので、重複説明は省略する。３本のスクリューシャフト３２、３３、３４の各ラセン溝に光ディスクＤが立った状態で炉内に搬送され、熱風４９ｂを当てることにより、炉内でアニール処理され、インラインで炉外に搬出される。
この場合、熱風４９ｂの通過方向のアニール炉長をＬ（ｍ）としたとき、本発明により、熱風の吹出し孔から風下方向へ５０ｍｍ離れた位置での風速をｖとするとき、
ｖ＝０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）・・・・・（式１）
以上としているのが特徴である。
このように光ディスク自体を立置きにしたインラインにおいて熱風の向きを変えても、上記式１を採用したところ、光ディスクＤにチルト不良品が発生することがなくなった。
熱風の温度は５０°Ｃで光ディスクＤにチルト不良品が発生せず、電気特性および機械的特性も良好であった。
【００３６】
以上のように、本発明によれば、アニール炉内を流れる熱風の風速を熱風の流れる向きの炉の長さの０．７３Ｌ（ｍ／ｓ）以上にし、さらに熱風の温度を５０°Ｃ以上としてアニール処理したところ、炉の中央付近の殆どの光ディスクＤのタンジェンシャル・チルトとラディアル・チルトが規格内に納まるほどに改善された。また、電気特性および機械的特性も良好であった。
なお、以上の実験で使用したアニール炉は全体が立方体に近く（縦１．１ｍ×横１．１ｍ×高さ１．０ｍ）なっていたが、長細い直方体状のアニール炉（縦１．１ｍ×横２．０ｍ×高さ１．０ｍ）で、シミュレーションしたところ、上記安全係数が効いているためか、係数０．７３で最下流の光ディスクＤにチルト不良品が生じなかった。
さらに、熱風の通過方向に３列以上光ディスクが配置される場合において、前記熱風の流入側と流出側にそれぞれ１列ずつ配置し、この両側列の間の複数中間列のうち１列を間引くことにより、炉の中央付近の光ディスクＤのタンジェンシャル・チルトとラディアル・チルトが規格内に納まるほどに大幅に改善された。
【００３７】
以上のバリエーションとして、上記例ではすべて熱風の吹出し口が固定で、光ディスクを熱風の吹出し口に移動させてアニール処理させる例であったが、光ディスクを固定して、熱風の吹出し口が光ディスクまで移動してくるようにしてもよい。
また、熱風の吹出し口と光ディスクが固定で、その間に熱源（電気ヒータ）が割って入り、これを移動させるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】多数の光ディスクＤを収納した光ディスク保持器を垂直に配設したアニール炉に本発明を適用した例（ａ）とその改良例（ｂ）である。
【図２】光ディスクＤをアニール炉に「間引いて」配設してアニール処理した結果の各光ディスクＤの（ａ）タンジェンシャル・チルトと（ｂ）ラディアル・チルトを示すグラフである。
【図３】図１（ａ）の場合において、あるアニール条件１での各部位の光ディスク１〜７の時間−温度変化を示す線図である。
【図４】図１（ｂ）の場合において、あるアニール条件２での各部位の光ディスク１〜７の時間−温度変化を示す線図である。
【図５】多数の光ディスクを串刺しした光ディスク保持器を水平に置いたタイプのアニール炉に本発明を適用した例（ａ）とその改良例（ｂ）である。
【図６】多数の光ディスクＤをインライン処理するタイプに本発明を適用した例（ａ）とその改良例（ｂ）である。
【図７】熱風が炉の天井側から床側へ流れるタイプの炉に本発明を適用した例で、（ａ）はバッチ処理型、（ｂ）はインライン型である。
【図８】従来の光ディスクアニール炉の１例である。
【図９】光ディスク収納台車の説明図で、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図でさらに（１）は図（ａ）のＡ−Ａ矢視図、（２）は図（ａ）のＢ−Ｂ矢視図である。
【図１０】本発明で採用する光ディスク保持器の説明図で、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。
【図１１】光ディスクＤをアニール炉に「等間隔で」配設してアニール処理した結果の各光ディスクＤの（ａ）タンジェンシャル・チルトと（ｂ）ラディアル・チルトを示すグラフである。
【図１２】光ディスクＤをアニール炉に（ａ）間引いて配設する例と（）等間隔配設する例の各平面図である。
【符号の説明】
【００３９】
２１、３１、４１ａ、４１ｂ、８０、１１０  アニール炉
１９、２９、３９、４９ａ、４９ｂ、Ｗ１、Ｗ２  熱風
２２、１２０  光ディスク保持器
３２、３３、３４  スクリューシャフト
８０ａ、８０ｂ  側面
８１  循環ファン
８２  加熱器
８３  扉
Ｄ  光ディスク
ｈ１、ｈ２  風孔
Ｓ  スペーサ
【図１】
2006277801.tif 000003
【図３】
2006277801.tif 000004
【図４】
2006277801.tif 000005
【図５】
2006277801.tif 000006
【図６】
2006277801.tif 000007
【図７】
2006277801.tif 000008
【図８】
2006277801.tif 000009
【図９】
2006277801.tif 000010
【図１０】
2006277801.tif 000011
【図１２】
2006277801.tif 000012
【図２】
2006277801.tif 000013
【図１１】
2006277801.tif 000014