(57)【要約】【課題】移動体をそれに必要な制御性や剛性等の特性に悪影響を及ぼさないで軽量化する。【解決手段】基準面に支持され移動可能な移動体と、該移動体を該基準面上で非接触支持するための第１静圧軸受と、該移動体を所定方向に案内する案内面を有するガイドと、該案内面と該移動体とを非接触に保つための第２静圧軸受と、該移動体側に可動子を設けたリニアモータとを有するステージ装置において、該第１静圧軸受、第２静圧軸受およびリニアモータ可動子が接合される該移動体の部所の少なくとも１つに肉抜きを施す。  【選択図】  図１
2006100852.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を吸着して保持するチャックと、該チャックを搭載するステージと、該チャックに保持された基板に露光を行なう手段とを備え、
該チャックは基板を吸着する面の裏側がリブ構造となっており、
該リブの間隔は基板への最大露光画角以上でかつ保持すべき基板の最大サイズの半径以下に設定したことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
移動体を所定方向に走査移動しながら露光を行なう露光装置であって、
基板を吸着して保持するチャックと、該チャックを搭載するステージと、該チャックに保持された基板に露光を行う手段とを備え、
該チャックは基板を吸着する面の裏側がリブ構造となっており、
前記リブは前記所定方向と直交する方向に沿って複数本形成されていることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の露光装置を用意する工程と、該露光装置を用いて基板に露光を行なう工程を含む製造工程によってデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項４】
露光前に基板にレジストを塗布する工程と、露光後に現像を行なう工程をさらに有することを特徴とする請求項３記載のデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体デバイスや液晶デバイスのリソグラフィ工程等で用いる露光装置ならびにデバイス生産方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体デバイス等の製造に用いられる露光装置としては、基板（ウエハやガラス基板）をステップ移動させながら基板上の複数の露光領域に原版（レチクルやマスク）のパターンを投影光学系を介して順次露光するステップ・アンド・リピート型の露光装置（ステッパと称することもある）や、ステップ移動と走査露光とを繰り返すことにより、基板上の複数の領域に露光転写を繰り返すステップ・アンド・スキャン型の露光装置（スキャナまたは走査型露光装置と称することもある）が代表的である。
特にステップ・アンド・スキャン型は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に近い部分のみを使用しているため、より高精度かつ広画角な微細パターンの露光が可能となっており、今後の主流となると見られている。
これら露光装置はウエハやレチクルを高速で移動させて位置決めするステージ装置（ウエハステージ、レチクルステージ）を有しているが、ステージを駆動すると加減速に伴う慣性力の反力が生じ、これが定盤に伝わると定盤やこれを固定する床の揺れや振動を引き起こす原因となる。
これらの振動により露光装置の機構系の固有振動が励起されて振動となり、高速、高精度な位置決めを妨げる可能性がある。
昨今、処理速度（スループット）の向上に伴うステージ加速度は増加の一途であり、例えばステップ・アンド・スキャン型の露光装置では、いまやステージの最大加速度はレチクルステージは４Ｇ、ウエハステージは１Ｇにも達する。
さらにレチクルや基板の大型化に伴ってステージ質量も増大している。このため、＜移動体の質量＞×＜加速度＞で定義される駆動力は非常に大きなものとなり、その反力は膨大なものである。
そのため、加速度増加と重量増加による設置床の加振は見過ごせない問題となってきた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
そこで、ステージを構成するステージ可動部材やステージ定盤に溝や空洞を設けてそれらの重量を減少させる、いわゆる肉抜きを施すことが行なわれている。
しかしながら、このような肉抜きを施すと、ステージ可動部材やステージ定盤に副共振が発生したり、床などの振動がステージ固定部を通じてステージ可動部に伝搬し易くなって、ステージの制御性を悪化させていた。
また、肉抜きはその加工性の点から、無垢材に対してその表面に溝が形成されるように施すのが一般的であり、そのため剛性が不足したり、あるいは逆に剛性を確保しようとすると、充分に肉抜きして軽量化を図ることができなかった。
さらに、ステージの上部に位置する天板には空調エアーが吹きつけるため、天板上部を肉抜きすると空調エアーの乱流を招き、露光精度が劣化するという問題があった。
本発明は、上述の従来例における問題点に鑑み、移動体に必要な制御性や剛性等の特性に悪影響を及ぼさないで移動体を軽量化することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の露光装置は、基板を吸着して保持するチャックと、該チャックを搭載するステージと、該チャックに保持された基板に露光を行なう手段とを備え、
該チャックは基板を吸着する面の裏側がリブ構造となっており、
該リブの間隔は基板への最大露光画角以上でかつ保持すべき基板の最大サイズの半径以下に設定したことを特徴とする。
さらに、本発明の露光装置は、移動体を所定方向に走査移動しながら露光を行なう露光装置であって、
基板を吸着して保持するチャックと、該チャックを搭載するステージと、該チャックに保持された基板に露光を行う手段とを備え、
該チャックは基板を吸着する面の裏側がリブ構造となっており、
前記リブは前記所定方向と直交する方向に沿って複数本形成されていることを特徴とする。
さらに、本発明のデバイス製造方法は、前記露光装置を用意する工程と、該露光装置を用いて基板に露光を行なう工程を含む製造工程によってデバイスを製造することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の露光装置によれば、基板を吸着して保持するチャックと、該チャックを搭載するステージと、該チャックに保持された基板に露光を行なう手段とを備え、
該チャックは基板を吸着する面の裏側がリブ構造となっており、
該リブの間隔は基板への最大露光画角以上でかつ保持すべき基板の最大サイズの半径以下に設定する。
この構成によれば、チャックの軽量化が果たせる。また、リブを裏面に配置することで、平面矯正時の平面方向変形を防ぐことができる。
さらに、本発明の露光装置によれば、移動体を所定方向に走査移動しながら露光を行なう露光装置であって、
基板を吸着して保持するチャックと、該チャックを搭載するステージと、該チャックに保持された基板に露光を行う手段とを備え、
該チャックは基板を吸着する面の裏側がリブ構造となっており、
前記リブは前記所定方向と直交する方向に沿って複数本形成されている。
この構成によれば、リブを一方向にのみ通しているため、チャックをより軽量化することができる。
なお、リブの方向をステージ走査方向と直交する方向にしているため、ウエハをステージ走査方向と直交する方向には平面矯正できるが、ステージ走査方向と平行な方向への矯正はできない。
しかし、走査露光装置では、走査方向のうねりはいわゆる先読みフォーカス計測に基づく露光面位置制御により補正可能であるため、問題は少ない。
また、本発明のデバイス製造方法によれば、本発明の露光装置を用い優れた生産性のデバイス生産方法を提供することができる。
【０００６】
以上説明したように、本発明によれば、移動体の剛性を確保した上で肉抜き軽量化を図れる。
したがって、移動体の駆動制御時に発生する可動部の副共振の発生を抑え、移動体の応答制御性を改善し、目標位置への整定時間の短縮および位置決め精度の向上が得られる。
その結果、このようなステージを有する露光装置では、スループットの向上および露光精度の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
【実施例１】
【０００８】
第１の実施例
図１は本発明の第１の実施例に係る走査露光装置を構成するステージ装置の構成を示す。
図中、１はステージ定盤であり、２はＹ方向の駆動を行なうＹリニアモータの固定子、３はＹ方向の直動ガイドを行なうＹガイド、４はＹ方向の移動を行なうとともに後述のＸガイドを搭載するＹステージである。５はＸ方向の駆動を行なうＸリニアモータの固定子、６はＸ方向の直動ガイドを行なうＸガイド、７はＸ方向に移動するＸスライダである。Ｘリニアモータ固定子５はＹ方向に移動自在なＹステージ４に結合されているので、Ｘスライダ７はＸ方向およびＹ方向の両方に自在に移動可能である。８は静圧軸受を構成するＸ底エアーパッドであり、上記Ｙステージ４およびＸステージ７を上記ステージ定盤１に対して数μｍないし数十μｍ浮上させている。９はＺ方向の移動およびＸＹＺの各軸回りの回転方向に可動な微動天板、１０は不図示のウエハを吸着するチャックである。
【０００９】
図２は図１におけるステージ定盤１の断面構造を、図３はＸスライダ７の断面構造を示す。図において、２１，３１，３２，３３は肉抜き部であり、制振ゴムやゲル状のゴム、樹脂、液体などの制振材を充填してある。
従来のステージ可動部材では、部材に制振材を充填していなかったため、ステージ駆動制御時に可動部材が副共振が発生した場合、制御性を悪化させていた。また、ステージ固定部に制振材を充填していなかったため、ステージ固定部に伝わる振動を減衰できずに、ステージ可動部に伝播させ制御性を悪化させていた。
そこで、本実施例では、ステージ可動部（Ｘスライダ７、Ｘガイド６、Ｘリニアモータ固定子５、微動天板９など）の材質に高剛性かつ高い比強度を示すセラミックを用い、かつ肉抜きを施してステージ可動部の軽量化を図るとともに、それらの肉抜き部３１，３２，３３に制振材（制振ゴム、ゲル状のゴム、樹脂、液体など）を充填することにより、ステージ可動部副共振のピークを制限している。
また、ステージ固定部（ステージ定盤１、Ｙガイド２など）にも同様に肉抜きを施し、その肉抜き部２１に制振材（制振ゴム、ゲル状のゴム、樹脂、液体など）を充填することにより、ステージ固定部にユニット外部から伝播する振動を制限し、また、ステージ可動部の移動により発生する振動のステージ外部への伝播を制限している。
【００１０】
このようにステージ可動部および固定部の肉抜き部に制振材を充填し、ステージ制御時に可動部に発生する副共振およびユニット外部から伝播する振動を減衰することにより、ステージ応答制御性を改善し、目標位置への整定時間の短縮および位置決め精度の向上が得られ、結果、本実施例のステージ装置を露光装置に用いた場合、その露光装置のスループットの向上および露光精度の向上が可能になる。
本実施例では、さらに、制振材充填後に重心と力点を一致させている。すなわち、Ｘスライダ７、微動天板９およびチャック１０などからなるＸステージの重心をＸリニアモータの駆動力点に一致させ、前記ＸステージならびにＸリニアモータ固定子５、Ｘガイド６およびＹステージ４を合わせた重心をＹリニアモータの駆動力点に一致させる。これにより、ステージの制御性をさらに向上させることができ、上記露光装置のスループットおよび露光精度をさらに向上させることができる。
なお、重心と力点を一致させるのは、ステージ可動部に回転モーメントが加わらないようにして、ステージ移動時のピッチングやローリングを少なくするためである。しかし、この種のステージ装置に頻繁に用いられる静圧軸受といえども軸受の摩擦および静圧流体や軸受剛性向上のための吸引磁石の粘性等の抵抗成分を有する。このような抵抗成分をも考慮した場合には、むしろ可動部重心をリニアモータによる駆動力点より高い位置に持ってくることが好ましい。
【実施例２】
【００１１】
第２の実施例
図４は本発明の第２の実施例の露光装置を構成するステージ装置に係るＸステージの構成を示す。
同図において、第１の実施例と共通または対応する部分には同一の符号を付している。４１はＸスライダ７を構成するＸ底板、４２はＸスライダ７をＸガイド６に対しＹ方向に支持するための静圧軸受を構成するＸ横エアーパッド、４３はＸリニアモータの可動子である。可動子は、リニアモータが磁石可動型である場合は磁石であり、コイル可動型である場合はコイルである。また、固定子は、磁石可動型リニアモータではコイルであり、コイル可動型がリニアモータでは磁石である。
従来のステージ装置における可動部肉抜きでは、剛性を確保できなかった。すなわち、従来は剛性を確保した上で可動部肉抜きをして軽量化することができなかった。
本実施例では、ステージ可動部のＸスライダ７内側面を肉抜き形状とし、その肉抜き面にＸリニアモータ可動子４３のベースおよびＸ横エアーパッド４２のベースを接合することにより、肉抜き部３２および３３を箱型で閉じた構造にしている。これにより、ステージ可動部の剛性を落とすことなく軽量化を図ることができる。
また、ステージ可動部のＸ底板４１のＸ底エアーパッド８の側面を肉抜き形状とし、その肉抜き面にＸ底エアーパッド８のベースを接合することにより、肉抜き部３１を箱型で閉じた構造にしている。これにより、ステージ可動部の剛性を落とすことなく軽量化を図ることができる。
さらに、ステージ可動部のＸガイド６のＸリニアモータ固定子５側のＸガイド６内側面を肉抜き形状とし、その肉抜き面にＸリニアモータ固定子５のベースを接合することにより、肉抜き部（不図示）を箱型で閉じた構造にしている。これにより、ステージ可動部の剛性を落とすことなく軽量化を図ることができる。
【００１２】
図５は図４のＸスライダ７に微動天板９を搭載した状態を示す。
同図において、５１は微動天板９をＺおよびＸＹＺの各軸回りに微動させる際のガイドとなるラジアルガイドである。
本実施例では、図４および５に示すように、ステージ可動部のＸスライダ７内側面を肉抜き形状とし、微動天板着地面およびラジアルガイド結合面側をフラットとすることにより、肉抜き部の裏側にラジアルガイド８および微動天板９の位置決めに必要な広いフラット面５２を効率よく確保することができる。
本実施例によれば、ステージ可動部の高剛性を確保した上で、該可動部の軽量化を図ることができ、ステージ制御時に可動部の副共振の発生を抑え、ステージ応答制御性を改善し、目標位置への整定時間の短縮および位置決め精度の向上が得られ、結果、露光装置のスループットの向上および露光精度の向上が可能になる。
【実施例３】
【００１３】
第３の実施例
図６は本発明の第３の実施例の露光装置を構成するステージ装置を示す。
本実施例は本発明を微動天板９に適用した例を示す。同図において、６１は肉抜き部、６２はチャック１０に吸着保持されたウエハ、６３はステージのＹ方向の位置を計測するためのＹバーミラー、６４は空調エアーである。
従来のステージ可動部材の微動天板では、剛性を確保しかつ空調エアーの乱れを無くした上で可動部肉抜きを行なって可動部の軽量化を図ることは行なっていなかった。
本実施例によれば、空調エアー６４の流路とならない、微動天板９の裏面に肉抜き部６１を設けることにより、軽量化を図りながら、ウエハ６２およびチャック１０ならびにバーミラー６３等を支持する微動天板９の表側をフラット面６５にすることにより、微動天板９の表面の空調エアー６４の流路をフラットに構成でき、ステージ近傍での空調エアーの気流の乱れ（乱流）の発生を防ぐことができる。また、微動天板の軽量化を図ることにより、ステージの高速応答制御性を改善し、目標位置への整定時間の短縮および位置決め精度の向上が得られ、結果、露光装置のスループットおよび露光精度の向上が可能になる。
【実施例４】
【００１４】
第４の実施例
上記の第２および第３の実施例においても、組み上がった状態のＸおよびＹステージの可動部の重心をそれぞれＸおよびＹリニアモータの駆動力点に略一致させるか、または重心より低い位置に駆動力点を合わせることが好ましい。
例えば図７（ａ）に示すように、Ｘスライダ７およびＸリニアモータ可動子４３などからなるＸ可動部７１の重心Ｇｘ をＸリニアモータの駆動力点Ｆｘ に一致させ、さらに、図７（ｂ）に示すように、Ｘ可動部７１を走査露光中心に位置させたときのＸ可動部７１、Ｘリニアモータ７２、Ｙスライダ７３およびＹリニアモータ７４の可動子などからなるＹステージ可動部の重心Ｇｙ をＹリニアモータ７４の駆動力点Ｆｙ に一致させる。駆動力点Ｆｙ は、左側Ｙリニアモータ７４の駆動力点Ｊ１ と右側Ｙリニアモータ７４の駆動力点Ｊ２ とを合成した力点である。
一般にＸ可動部７１の重心Ｇｘ は、Ｘ可動部７１が無垢材であれば、図８（ａ）に示すように中心より下側にある。これを一般にＸ可動部７１のほぼ中心にある駆動力点Ｆｘ に一致させるか、力点Ｆｘ より上に持ってくるためには、Ｘ可動部７１の重心Ｇｘ を高くしなければならない。その方法を、図８（ｂ）および（ｃ）に示す。図８（ｂ）では、Ｘ可動部７１の上部の肉抜き部８１，８２を小さく肉抜きし、下部の肉抜き部８３，８４を大きく肉抜きした例を示す。また、図８（ｃ）は、制振材を充填する場合のもので、上部の肉抜き部には重い充填材８５を下部の肉抜き部には重い充填材８６を充填した例を示す。
【実施例５】
【００１５】
第５の実施例
図９は本発明の第５の実施例の露光装置を構成するステージ装置に係るウエハステージを示す。
図１〜８と共通または対応する部分には同一の符号を付して説明は省略する。同図において、９１はチャックを自動で着脱して受け渡すための着脱フォーク、９２はＸバーミラーである。
図１０は本実施例のチャック１０の側面図を、図１１は従来のチャックを示すの側面図である。また、図１２は本実施例のチャック１０を下側から仰ぎ見た図である。図において、１０１は肉抜き部（または段差）、１２１はリフトピン用貫通穴、１２２はウエハ吸着用バキューム穴である。
チャック１０を自動的に交換するために、従来よりロボット搬送系によるチャックの着説が行なわれてきた。その際、２本のフォーク９１によってなる着脱ハンドが、ステージ天板（微動天板）９とチャック１０の間に入り込み、チャックを持ち上げることで、交換動作を行なってきた。なお、ステージ天板に搭載されるチャックには、ウエハの平坦度を矯正するための機能を持たせているため、十分な剛性を確保するに足る厚さが必要であった。
従来、交換用フォークは、図１１に示すようにステージ天板９の嵩上げによってできた間隙に外部からチャック着脱フォーク９１を挿入して交換動作を行なってきた。しかし、今後、ステージの軽量化のためにステージ可動部の高さを低くする必要があり、特に上部に位置するチャック１０は、可動部の重心に近づける必要性が高い。
【００１６】
本実施例は、フォーク９１の空間を確保しつつ、チャックをステージ天板に近づけることを可能としたものである。すなわち、本実施例では、チャック１０の裏面側に部分的に段差１０１を設け、ステージ天板９とチャック１０との間に空間を設けた。段差１０１は、走査露光の方向（Ｙ軸方向）に対し、直交する方向（Ｘ軸方向）に設けた。したがって、フォーク９１は、走査方向と直交する方向から、入り込むことになる。
したがって、本実施例によれば、チャックの重心が、ステージ可動部重心に近づき、ステージの動特性が改善する。つまり、慣性モーメントが小さくなって、制御特性が向上する。また、ウエハ６２の表面（像面）が、ステージ天板９に近づくことで、像面高さで干渉計計測するビーム位置も下がり、バーミラー６３，９２自体の必要高さも低く、質量を軽くでき、軽量化がより効果的に可能となる。また、バーミラー６３，９２の高さを低くできることにより、ステージ天板９上の凹凸を少なくでき、ステージ近傍での空調エアーの気流の乱れ（乱流）の発生を防ぐことができる。
【実施例６】
【００１７】
第６の実施例
図１３は本発明の第６の実施例の露光装置に係るチャック１０を下側から仰ぎ見た図である。
このチャック１０は、全体的には薄く構成すると共に、裏面に同心円環状のリブ１３１〜１３４および半径方向のリブ１３５を設け、これらのリブの組み合わせにより補強している。逆にみると、十分な厚みを有する従来のチャックの裏面に肉ぬきを施して、チャックによるウエハ平面度矯正力を維持したままチャックの軽量化を図っている。
従来のウエハチャックは、露光基板に合わせて円盤状であった。そりを有するウエハを真空吸着によって吸引保持することでウエハ全面を約１μｍ以下の平坦度になるように平面矯正していた。材質は、より高剛性を確保するためにセラミック材料が用いられていた。このように、従来のウエハチャックは、比重の軽いセラミック材料を用いてきたが、ステージの高速化にともない、特にステージの重心から最も離れた位置に配置されるウエハチャックは、ステージ移動に伴って自身の慣性力がピッチング挙動の加振源になるという問題がある。
【００１８】
本実施例は、この影響を軽減し、もってステージの整定および位置決め制御の高速・高精度化を図るものである。
ウエハのそり量は、半導体素子製造の過程において約１００μｍ程度発生している。そのそり形状は、お椀型、鞍型の変形形状であり主に２次変形や３次変形となっている。チャックの平面矯正能力として５次変形程度の能力は要求される。要求される平坦度も矯正後に０．５μｍ以下であり、およそ１／２００に変形矯正しなければならない。
まず、最小チャック厚を見積もると以下の通りになる。
ウエハのヤング率をＥｗ、厚さをｔｗ、チャックのヤング率をＥｃ、厚さをｔｃとし、目標平面矯正倍率を１／ｎとすると、
Ｅｃ・ｔｃ３／（Ｅｗ・ｔｗ３）＞ｎ
を満たすｔｃ（チャック厚さ）が必要になる。
軽量化のために、上式によって示されるチャック厚さｔｃ以下に肉厚を薄くする場合は、何らかの補強が必要になる。
【００１９】
そこで、本実施例では、チャックの裏面（ウエハ保持面と反対側の面）にリブを構成して、ウエハそりを矯正するに足る強度を持たせる。隣接するリブ間隙は、露光装置の最大画角と同じか、それ以上であることを特徴としている。つまり、露光装置の最大画角をＳ、基板（ウエハ）半径をＲ、半径方向のリブピッチをγとすると、
Ｓ≦γ≦Ｒ
としている。
これは、単に平面矯正能力を向上させるためには、リブ間隔は小さければ小さいほどよい。しかし、軽量化を目指すとリブピッチを広げたほうがよいとの理由による。
なお、リブの配置は、リブは、同心円環状と半径方向の組み合わせの他に格子リブ、 ハニカムリブなどの多角形リブ、円形に段を付けたリブでもよい。
また、リブをウエハ吸着面と反対側の面に配置することで、変形中立軸を吸着面に近づき、平面矯正の際の平面方向の変形量を最小にすることができる。
【実施例７】
【００２０】
第７の実施例
図１４は本発明の第７の実施例の露光装置に係るチャックの構成を示す。
同図において、１４１はチャックの裏面に露光時の走査方向と直交する方向に向けて平行に形成されたリブである。矢印１４２は露光時の走査方向である。
ステージの軽量化のため、特に可動部上部に位置するチャックの軽量化は特に重要である。チャックの軽量化のための手段として、リブ構造が有効である。
リブの近傍は、剛性が高く、平面矯正能力が高いが、リブ近傍以外の部分は、平面矯正能力が劣化するという課題がある。
一方、露光装置が、走査露光装置の場合、常時フォーカスの合わせ込みを行なっているため、ウエハに多少のうねりが存在しても、フォーカス駆動動作によってその悪影響を回避できるが、走査方向と直交する方向にうねりや変形が存在する場合は、走査露光時に像のひずみを起こす要因になってしまう。
そこで、本実施例では、リブと走査方向に着眼し、リブの方向を走査方向に対して直交する方向に配置することでチャックの軽量化と、平面矯正能力の維持とを同時に果たしている。
【００２１】
（微小デバイス製造の実施例）
次に上記説明した露光装置を利用したデバイス製造方法の例を説明する。
図１５は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行なう。ステップ２（レチクル製作）では設計したパターンを形成したレチクルを製作する。一方、ステップ３（基板製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いて基板を製造する。ステップ４（基板プロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したレチクルと基板を用いて、リソグラフィ技術によって基板上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製された基板を用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００２２】
図１６は上記基板プロセスの詳細なフローを示す。
ステップ１１（酸化）では基板の表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）では基板表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）では基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）では基板にイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）では基板にレジストを塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってレチクルの回路パターンを基板の複数のショット領域に並べて焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光した基板を現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、基板上に多重に回路パターンが形成される。本実施例の生産方法を用いれば、従来は製造が難しかった高精度デバイスを高い生産性すなわち低コストで製造することができる。
【００２３】
（発明の適用範囲）
なお、上述においては主に本発明をステップ・アンド・スキャン型の露光装置におけるウエハステージに適用する例について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、レチクルステージに適用してもよい。
また、ウエハステージが高速ステップ移動するステップ・アンド・リピート型の露光装置のウエハステージにおいても有効であり、さらには、一般的なステージ装置についても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の第１の実施例の露光装置を構成するステージ装置を示す斜視図である。
【図２】図１の装置のステージ定盤の断面図である。
【図３】図１の装置のＸスライダの断面図である。
【図４】本発明の第２の実施例の露光装置を構成するステージ装置に係るＸスライダの断面図である。
【図５】図４のＸスライダに微動天板を取り付けた状態の断面図である。
【図６】本発明の第３の実施例の露光装置を構成するステージ装置に係る微動天板を示す断面図である。
【図７】本発明の第４の実施例の露光装置を構成するステージ装置に係るステージ装置を示す断面図である。
【図８】図７の装置のＸスライダの断面図である。
【図９】本発明の第５の実施例の露光装置を構成するステージ装置を示す斜視図である。
【図１０】図８の装置のチャック部分の構成を示す断面図である。
【図１１】図１０のチャック部分に対応する従来例の断面図である。
【図１２】図１０の装置のチャックの斜視図である。
【図１３】本発明の第６の実施例の露光装置に係るチャックを示す断面図である。
【図１４】本発明の第７の実施例の露光装置に係るチャックを示す断面図である。
【図１５】微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図１６】図１５におけるウエハプロセスの詳細な流れを示す図である。
【符号の説明】
【００２５】
１：ステージ定盤、２：Ｙリニアモータ、３：Ｙガイド、４：Ｙステージ、５：Ｘリニアモータ、６：Ｘガイド、７：Ｘステージ、８：エアーパッド、９：微動ステージ、１０：ウエハチャック、２１，３１，３２，３３，６１，８１，８２，８３，８４：肉抜き部、４１：Ｘ底板、４２：Ｘ横エアーパッド、４３：Ｘリニアモータ可動子、５１：ラジアルガイド、５２：肉抜きしない面（広いフラット面）、６２：ウエハ、６３：Ｙバーミラー、６４：空調エアー、７１：Ｘ可動部、Ｇｘ ：Ｘ可動部の重心、７２：Ｘリニアモータ、Ｆｘ ：Ｘリニアモータの駆動力点、７３：Ｙスライダ、７４：Ｙリニアモータ、Ｇｙ ：Ｙ可動部の重心、Ｆｙ ：Ｘリニアモータの駆動力点、８５，８６：制振材、９１：脱着フォーク、９２：Ｘバーミラー、１０１：段差（肉抜き部）、１２１：リフトピン用貫通穴、１２２：ウエハ吸着用バキューム穴、１３１〜１３４：同心円環状のリブ、１３５：半径方向のリブ、１４１：平行リブ、１４２：露光時のステージ走査方向。
【図１】
2006100852.tif 000003
【図２】
2006100852.tif 000004
【図３】
2006100852.tif 000005
【図４】
2006100852.tif 000006
【図５】
2006100852.tif 000007
【図６】
2006100852.tif 000008
【図７】
2006100852.tif 000009
【図８】
2006100852.tif 000010
【図９】
2006100852.tif 000011
【図１０】
2006100852.tif 000012
【図１１】
2006100852.tif 000013
【図１２】
2006100852.tif 000014
【図１３】
2006100852.tif 000015
【図１４】
2006100852.tif 000016
【図１５】
2006100852.tif 000017
【図１６】
2006100852.tif 000018