(57)【要約】【課題】分散されている透明性微粒子により表面が凹凸化されている透明性防眩層が透明プラスチック基材の上に設けられ、透明性防眩層上には透明性保護層がさらに設けられている防眩性のフィルムであって、特にその透明性防眩層中の微粒子が取扱中に摩擦により脱落することがないように、しかも防眩層に由来する所期の防眩性が損なわれないようになっていることを特徴とする防眩性フィルムの提供を目的とする。【解決手段】透明プラスチック基材上には、分散されている透明性微粒子により表面が凹凸化されている透明性防眩層を設けると共に、この透明性防眩層上にはその表面の凹凸構造に追従するように真空成膜法によって成膜されたアクリル系モノマーを主体としてなる均一な薄膜の硬化薄膜である透明性保護層をさらに設ける。【選択図】図２
2006243314.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分散されている透明性微粒子により表面が凹凸化されている透明性防眩層が透明プラスチック基材上に設けられていると共に、この透明性防眩層上にはその表面の凹凸構造に追従するように真空成膜法によって成膜されたアクリル系モノマーを主体としてなる均一な薄膜の硬化薄膜である透明性保護層がさらに設けられていることを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項２】
前記透明性保護層の厚さは０．１〜５μｍであることを特徴とする請求項１に記載の防眩性フィルム。
【請求項３】
前記透明性防眩層はその表面がＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠して測定した輪郭曲線の算術平均高さＲａが０．１〜０．６μｍとなるように粗面化されていることを特徴とする請求項１または２に記載の防眩性フィルム。
【請求項４】
前記透明性保護層は真空成膜法によって成膜されたアクリル系モノマーを主体としてなる薄膜が放射線照射をエネルギー源とする付加重合反応で硬化されたものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかにに記載の防眩性フィルム。
【請求項５】
前記真空成膜法によって成膜されたアクリル系モノマーを主体としてなる薄膜は、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート及び／またはそれらのアクリル基の一部及び／またはすべてをメタクリル基で置換されたものの少なくとも１つを成分に含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の防眩性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、分散されている透明性微粒子により表面が凹凸化されている透明性防眩層が透明プラスチック基材の上に設けられ、透明性防眩層上には透明性保護層がさらに設けられている防眩性のフィルムであって、特にその透明性防眩層中の微粒子が取扱中の摩擦により脱落することがないように、しかも防眩層に由来する所期の防眩性が損なわれないようになっていることを特徴とする防眩性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、画像表示関連の分野においては、表示画像の視認性向上のために防眩層を表面部分に付与したディスプレイや、種々のディスプレイの前に設置して使用される防眩層を設けた防眩性フィルムが多く使用されている。これらの光学部材における防眩層は、表面での反射光を和らげたり、表面に映り込んだ反射像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイといった画像表示装置において鮮明な画像が認識できるようにするためのものである。そしてこのような防眩層は、一般的にはその表面が凹凸化された構成となっている。
【０００３】
従来このような凹凸構造を防眩層の表面に形成する方法としては、サンドブラスト加工法、凹凸構造を有する賦型フィルム使用による転写加工法、あるいは微粒子を添加した塗布剤の薄膜を塗布する方法等が知られている。
【０００４】
しかし、特許文献１に開示されているようなサンドブラスト加工法では、非常に粗い凹凸ができたり、凹凸の制御が容易でなかったりと、一定の品質の防眩層を得ることが困難であった。
【０００５】
また、特許文献２に開示されているような転写方法では、あらかじめ凹凸が設けられている透明賦型フィルムを紫外線照射硬化型樹脂組成物の塗膜上に載せて紫外線照射を照射して賦型フィルムの凹凸形状を転写させる方法であるため、透明賦型フィルムにより紫外線の吸収ロスがあり、このため紫外線照射硬化型樹脂組成物の塗膜（ハードコート層）の硬化が不十分となり、得られる凹凸層（防眩層）に耐摩耗性が不足したり、基材とハードコート層との密着性が十分ではなく剥離が生じることがあった。さらに賦型フィルムを塗膜上に載せる際に気泡の混入や、シワが発生し易いという加工上の問題点があり、さらには賦型フィルムの使用が１回のみであるため資源の有効活用という点からは考慮の余地があった。
【０００６】
さらに、特許文献３に開示されているような、マット剤となる微粒子を含有する塗料組成物により防眩層を形成する方法は、微粒子のサイズやその含有量を制御することにより防眩層の凹凸構造の制御が可能であるため、近年要求されているようなキメの細やかな感じを出したり、ざらつき感を解消することができる。しかしながら、このようにして形成された防眩層の凹凸構造は、微粒子の固着が弱く、表面に突き出した微粒子が使用中の摩擦によって脱落することがあった。
【特許文献１】特開平１１−２４５２９２号公報
【特許文献２】特開２０００−１５１７４号公報
【特許文献３】特開２００２−１８２０１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は以上のような状況に鑑みなされたものであり、分散されている透明性微粒子に
より表面が凹凸化されている透明性防眩層が透明プラスチック基材上に少なくとも設けられてなる防眩性フィルムであって、特にその透明性防眩層中の微粒子が使用時の摩擦により脱落することがなく、解像性やハードコート性にも優れる防眩性フィルムの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記のような課題を達成するためになされ、請求項１に記載の発明は、透明プラスチック基材上には、分散されている透明性微粒子により表面が凹凸化されている透明性防眩層が設けられていると共に、この透明性防眩層上にはその表面の凹凸構造に追従するように真空成膜法によって成膜されたアクリル系モノマーを主体としてなる均一な薄膜の硬化薄膜である透明性保護層がさらに設けられていることを特徴とする防眩性フィルムである。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の防眩性フィルムにおいて、前記透明性保護層の厚さは０．１〜５μｍであることを特徴とする。
【００１０】
さらにまた、請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の防眩性フィルムにおいて、前記透明性防眩層はその表面がＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠して測定した輪郭曲線の算術平均高さＲａが０．１〜０．６μｍとなるように粗面化されていることを特徴とする。
【００１１】
さらにまた、請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれかに記載の防眩性フィルムにおいて、前記透明性保護層は真空成膜法によって成膜されたアクリル系モノマーを主体としてなる薄膜が放射線照射をエネルギー源とする付加重合反応で硬化されたものであることを特徴とする。
【００１２】
さらにまた、請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれかに記載の防眩性フィルムにおいて、前記真空成膜法によって成膜されたアクリル系モノマーを主体としてなる薄膜は、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート及び／またはそれらのアクリル基の一部及び／またはすべてをメタクリル基で置換されたものの少なくとも１つを成分に含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
上記のように、本発明の防眩性フィルムは、真空成膜法によって成膜された薄膜の硬化薄膜である透明性保護層が透明性防眩層の微細な凹凸構造の上に追従するような形で形成されていて、下層に位置する防眩層の凹凸構造が忠実に保持されているために、防眩層由来の防眩効果が所期の通りに発現される。また微粒子を含む防眩層の表面を確実に透明性保護層で被覆する構成であるため、微粒子の脱落が生じることがなく、所期の耐擦傷性を付与することができる。そして、成膜に特定の樹脂を使用したり、硬化条件を限定することにより、その表面をよりハードコート性に優れた状態とすることも可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１５】
図２は本発明に係る防眩性フィルムの概略の断面構成を示している。この防眩性フィルム１０は、図面からも明らかなように、透明プラスチック基材１の一方の面上に、分散されている透明性微粒子２、３により表面が凹凸化されている透明性防眩層４が設けられていると共に、この透明性防眩層４上にはその表面の凹凸構造に追従するように真空成膜法によって成膜されたアクリル系モノマーを主体としてなる均一な薄膜の硬化薄膜である透明性保護層５がさらに設けられてなるものである。
【００１６】
透明プラスチック基材１としては、例えば、ポリオレフィン、各種ビニル化合物、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、セルロース、トリアセチルセルロース、アクリル樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリ乳酸、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール等、あるいはこれらの少なくとも一つを成分及び／または共重合成分に持つも高分子化合物等からなるフィルム状の基体が挙げられる。より具体的には、用途や要求物性によりこれらの中から適宜のものが選択して用いればよいが、ディスプレイ用途を考慮したときには、例えば、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル等からなる高い透明性を有する基材の使用が奨められる。
【００１７】
透明プラスチック基材１の厚さは特に限定するものではないが、９μｍから２００μｍ程度のものが使用しやすい。
【００１８】
この透明プラスチック基材１上に設けられている透明性防眩層４は、ポリオレフィン、各種ビニル化合物、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、セルロース、トリアセチルセルロース、アクリル樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリ乳酸、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール等の透明性樹脂中に透明性微粒子が少なくとも分散されている防眩層の薄膜形成用材料により所望の厚さで成膜された、表面が凹凸化されてなる薄膜層である。
【００１９】
この透明性防眩層４は、防眩性フィルム１０の表面での反射光を和らげたり、表面に映り込んだ反射像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させることによって、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイといった画像表示装置において鮮明な画像が認識できるようにするためのものである。
【００２０】
透明性微粒子２、３としては、シリカ、アルミナ、タルク、クレイ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、二酸化チタン、酸化ジルコニウム等の透明性無機微粒子を挙げることができる。これらの中から一種、または二種以上を選択し、前記した透明性樹脂中に分散して使用される。
【００２１】
透明性微粒子２、３の粒径や添加量は、透明性防眩層４の薄膜形成用材料の他の構成材料の種類によっても異なるが、防眩性や解像性を損なわないことを十分配慮しながらその値を決定する必要がある。特に、微粒子の添加量が極端に少ない場合には防眩性が十分でなくなり、また多すぎる場合には解像性が極端に低下してしまうので留意すべきであり、粒径としては０．５〜５μｍ程度のものが、またその添加量は０．１〜１０重量％程度が好ましい。
【００２２】
そして、このような点を配慮して形成する透明性防眩層４は、その表面がＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠して測定した輪郭曲線の算術平均高さＲａが０．１〜０．６μｍとなるように粗面化されていることが望ましい。また、層の厚さは０．３〜４μｍ程度であることが好ましい。
【００２３】
透明性防眩層４の算術平均高さＲａが０．１μｍより小さく、凹凸構造が平滑すぎると、後述する透明性保護層５により表面の凹凸が埋まってしまって必要な防眩性が得られ難くなる。また逆にＲａが０．６μｍより大きく、粗い凹凸構造の場合には、真空成膜法によって成膜されたアクリル系モノマーを主体とする均一な薄膜の硬化層である透明性保護膜５によってある程度まで凹凸を埋めて表面のざらつき感を無くすことは可能であるが、それでも凹凸構造が粗くなりすぎてしまい、キメ細かい感じが出せず、ザラツキ感が残ってしまう。
【００２４】
ここで算術平均高さＲａは、粗さ曲線から、その平均線の方向に基準長さlだけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計し、平均した値であり、以下の式で表される。
【００２５】
Ｒａ＝1／ｌ∫｜ｆ（ｘ）｜ｄｘ
以上のような構成の透明性防眩層４上に設けられているのが透明性保護層５である。この透明性保護層５は、前述したように、透明性防眩層４表面の凹凸構造に追従するように真空成膜法によって成膜されたアクリル系モノマーを主体とする均一な薄膜の硬化薄膜である。
【００２６】
ここでいう真空成膜法とは、真空中に薄膜形成用材料をガス状にして導入し、プラズマ化させることによって発生したラジカルやイオンを被成膜部分に化学反応させて薄膜を形成するＣＶＤ法や、真空中において気体もしくは霧化させた薄膜形成用材料を被薄膜形成部分に付着させた後に電子線等で硬化を誘発させて薄膜を得る方法等を指し、無溶剤で、均一な薄い薄膜の形成が可能な成膜方法である。
【００２７】
透明性防眩層４の凹凸化された表面に真空成膜法により薄膜形成用材料からなる薄膜を付着させ、硬化させて透明性防眩層４表面の微細な凹凸構造に追従するような形で透明性の均一な厚さの透明性保護層５で被覆されるようになるため、下層に位置する防眩層４の凹凸構造が確実に保持される。従って、下に位置する透明性防眩層４に由来する所期の防眩性が損なわれることがない。また微粒子を含む透明性防眩層４の表面を、真空成膜層で均一な厚さの薄膜で被覆するため、透明性防眩層４中の微粒子が取り扱い中に脱落したり、傷が発生することがなくなり、防眩性フィルムに優れた耐擦傷性能を付与することが可能となる。さらに下記のように形成することにより、耐摩耗性や高鉛筆硬度等のハードコート性能を付与することも期待できる。加えて、凹凸構造の表面に成膜するので、透明性防眩層４と透明性保護層５との密着性も良好となる。
【００２８】
透明プラスチック基材上に積層する透明性防眩層は、少なくともバインダー樹脂、マット化剤、添加剤等を溶剤に溶解させて得られる塗工液を塗工した後乾燥させることにより形成することができる。透明性防眩層を設ける前に、透明プラスチック基材上にコロナ処理や易接着処理を施しておいてもよい。また、塗工法としては、グラビアコート、ロールコートワイヤーバーコート等が採用できる。
【００２９】
また、バインダー樹脂としては、アクリル、エポキシ、ポリアミド、ナイロン、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ポリエステル、メラミン、ポリビニルピロリド、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアセタール、ウレタン、アルキッド、ポリアリルアミン、ポリアミンスルホン等が挙げられる。さらに、マット剤微粒子としては、微粉末シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム等の体質顔料が挙げられる。
【００３０】
透明性保護層５の厚さは０．１〜５μｍ程度の範囲が好ましい。厚さが０．１μｍより薄すぎると防眩層の凹凸を完全に覆いきれず耐擦傷性が不足する恐れがある。また５μｍより厚い場合には、防眩層の凹凸に追従するように成膜されるというよりは、防眩層における凹凸を埋めるように成膜された状態になり易くなるため、凹凸構造に由来する防眩性が損なわれる恐れがある。さらに高いハードコート性と防眩性能が要求される場合には、保護層の厚さを０．８〜３μｍ程度とすることが好ましい。
【００３１】
透明性保護層５は、アクリル系モノマーを主体とする薄膜形成用材料で構成されるが、その中のアクリル系モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート及び／またはそれらのアクリル基の一部及び／ま
たはすべてをメタクリル基で置換されたもの等を具体的に挙げることができる。
【００３２】
アクリル系モノマーは、付加重合する化合物であり、縮重合系の化合物に比べて重合前後での体積変化が小さく、また重合速度が速い傾向があるため、高速で成膜した際に成膜装置の搬送ロール等を汚染したり、被薄膜形成部材の裏面に移行したりすることが起こり難くなる。
【００３３】
透明性保護層５の成膜に当たっては、薄膜形成用材料を減圧下で気化もしくは霧化させる必要があるため、薄膜形成用材料の粘度や分子量といった物性も材料選択の重要な因子となる。例えば従来のハードコート用アクリル系ウレタン化合物を含有するような巨大分子は適さない。
【００３４】
従って、薄膜形成用材料としては、減圧下で加熱することで気化もしくは霧化することが可能で、かつ付加重合により架橋度が向上して強靭性が発現するような、上記のようなアクリル系のモノマーを主体とするものを用いることが好ましい。
【００３５】
より具体的には、これらの薄膜形成用材料の中から、膜硬度、耐摩耗性、密着性、耐熱性、硬化適正、取り扱い性等の要求性能に対応できるものを適宜選択して用いればよい。この際、上記アクリル系モノマーから２種以上のものを選択し、混合して用いることもできる。さらには、放射線硬化型樹脂、各種添加剤例えばレベリング剤、滑剤、界面活性剤等を一緒に混合させても構わない。
【００３６】
真空成膜されたアクリル系モノマーを主体とする薄膜形成用材料の均一な薄膜は、放射線照射をエネルギー源とする付加重合反応により硬化させる。薄膜の硬化に当たっては、減圧下で加熱して硬化を行う方法があるが、この方法によると被薄膜形成部材である基材からの再蒸発が起こることが懸念され、また熱重合に一般的に用いられる熱ラジカル開始剤であるアゾビスイソブチロニトリルやベンゾイルパーオキサイド等には加熱・気化させる際に分解・失活してしまう恐れや、モノマーが被薄膜形成部材（基材）に付着する前に重合反応を起こす恐れもある。よって、前記したように、真空成膜されたアクリル系モノマーを主体とする薄膜形成用材料の均一な薄膜の硬化には放射線硬化法を選択することが好ましい。
【００３７】
放射線としては、例えば電子線、紫外線、α線、β線、γ線、Ｘ線、中性子線等が挙げられるが、取扱い安さや安全性を考慮すると、電子線や紫外線が好ましい。しかし、放射線はこれに限定されるものではなく、装置のコストや製品に要求される物性に応じ、これらの中から適宜のものを選択して用いればよい。
【００３８】
電子線による硬化は、加速電圧３０〜５００ＫＶ、特に５０〜２００ＫＶの電子線を照射することにより行うことが好ましい。照射線量としては５〜２００ＫＧｙ程度が好ましく、さらに好ましくは１０〜１００ＫＧｙである。
【００３９】
また、紫外線による硬化は、照射する光の波長や添加する重合開始剤による影響も関係するが、高圧水銀灯やメタルハライドランプ等により行い、その紫外線照射量は４００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲が適切である。
【００４０】
以下に、本願発明の一実施例を図面に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、「部」、「％」は特記しない限り重量基準である。
【００４１】
＜凹凸化透明プラスチック基材の作成と透明性保護層形成用材料溶液（成膜用溶液）の調整＞
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績  Ａ４３００）［以下基材Ａ１という］上に、電離放射線硬化塗料（大日本インキ化学工業  ユニディック１７−８０６）と粒径２．５μｍの多孔質シリカ（富士シリシア化学  サイリシア４３６）と粒径３．５μｍの多孔質シリカ（富士シリシア化学  サイリシア４４５）および光重合開始剤（チバ・スペシァリティ・ケミカルズ  イルガキュア６５１）からなる防眩層形成用塗布液の薄膜を塗布した後、その薄膜に対して高圧水銀灯から紫外線照射して防眩層を形成し、凹凸化透明プラスチック基材を５種類（基材Ｂ１、基材Ｂ２、基材Ｂ３、基材Ｂ４、基材Ｂ５）作成した。
【００４２】
各凹凸化透明プラスチック基材の表面粗さを、Ｓｕｒｆｃｏｍ５５０ＡＤによって測定し、算術平均高さＲａを求めたところ、基材Ｂ１は０．２１μｍ、基材Ｂ２は０．１１μｍ、基材Ｂ３は０．６２μｍ、基材Ｂ４は０．４２μｍ、そしてＢ５は０．７８μｍであった。
【００４３】
続いて、透明性保護層の薄膜形成用材料として下記組成のモノマー混合液Ｃ、Ｄ、Ｅを作成した。
【００４４】
＜モノマー混合液Ｃの組成＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄社化学  ライトアクリレートＰＥ−３Ａ）            ・・・１００部
・ネオペンチルグリコールジアクリレート（共栄社化学  ライトアクリレートＮＰ−Ａ）
・・・  １５部
＜モノマー混合液Ｄの組成＞
・ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学  ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ）      ・・・１００部
・ネオペンチルグリコールジアクリレート（共栄社化学  ライトアクリレートＮＰ−Ａ）
・・・  １５部
＜モノマー混合液Ｅの組成＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学  ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）      ・・・１００部
・ネオペンチルグリコールジアクリレート（共栄社化学  ライトアクリレートＮＰＡ−Ａ）            ・・・  １５部
【実施例１】
【００４５】
モノマー混合液Ｃを真空環境下で加熱・気化させて、上記透明プラスチック基材Ｂ１の透明性防眩層上に１．９μｍの厚さで薄膜を成膜させた後、薄膜面に５Ｍｒａｄの電子線を照射して硬化させて透明性保護層とし、実施例１に係る防眩性フィルムを得た。
【実施例２】
【００４６】
透明性防眩層を形成する基材として上記透明プラスチック基材Ｂ２を用い、モノマー混合液Ｃからなる薄膜の厚さを０．１μｍとした以外は実施例１と同様の条件とし、実施例２に係る防眩性フィルムを作成した。
【実施例３】
【００４７】
防眩層を形成する基材として上記透明プラスチック基材Ｂ３を用い、モノマー混合液Ｃからなる薄膜の厚さを０．１μｍとした以外は実施例１と同様の条件とし、実施例３に係る防眩性フィルムを作成した。
【実施例４】
【００４８】
モノマー混合液Ｃからなる薄膜の厚さを５．０μｍとした以外は実施例３と同様の条件
とし、実施例４に係る防眩性フィルムを作成した。
【実施例５】
【００４９】
防眩層を形成する基材として上記基材Ｂ１を用い、モノマー混合液Ｃからなる薄膜の厚さを０．０５μｍとした以外は実施例１と同様の条件とし、比較のための実施例５に係る防眩性フィルムを作成した。
【実施例６】
【００５０】
モノマー混合液Ｃからなる薄膜の厚さを６．０μｍとした以外は実施例５と同様の条件とし、比較のための実施例６に係る積層フィルムを作成した。
【実施例７】
【００５１】
保護層を形成する基材として上記基材Ａを用い、モノマー混合液Ｃからなる薄膜の厚さを０．０５μｍとした以外は実施例１と同様の条件とし、比較のための実施例７に係る積層フィルムを作成した。
【実施例８】
【００５２】
モノマー混合液Ｃからなる薄膜の厚さを１．９μｍとした以外は実施例７と同様の条件とし、比較のための実施例８に係る積層フィルムを作成した。
【実施例９】
【００５３】
モノマー混合液Ｃからなる薄膜の厚さを６．０μｍとした以外は実施例７と同様の条件とし、比較のための実施例９に係る積層フィルムを作成した。
【実施例１０】
【００５４】
保護層を形成する基材として上記基材Ｂ４を用いた以外は実施例７と同様の条件とし、比較のための実施例１０に係る防眩性フィルムを作成した。
【実施例１１】
【００５５】
保護層を形成する基材として上記基材Ｂ４を用いた以外は実施例８と同様の条件とし、比較のための実施例１１に係る防眩性フィルムを作成した。
【実施例１２】
【００５６】
保護層を形成する基材として上記基材Ｂ４を用いた以外は実施例９と同様の条件とし、比較のための実施例１２に係る積層フィルムを作成した。
【実施例１３】
【００５７】
保護層を形成する基材として上記基材Ｂ５を用いた以外は実施例７と同様の条件とし、比較のための実施例１３に係る防眩性フィルムを作成した。
【実施例１４】
【００５８】
保護層を形成する基材として上記基材Ｂ５を用いた以外は実施例８と同様の条件とし、比較のための実施例１４に係る防眩性フィルムを作成した。
【実施例１５】
【００５９】
保護層を形成する基材として上記基材Ｂ５を用いた以外は実施例９と同様の条件とし、比較のための実施例１５に係る積層フィルムを作成した。
【実施例１６】
【００６０】
保護層を設けるための基材として上記基材Ａを用い、透明性保護層の薄膜形成用材料と
してモノマー混合液Ｄを用いた以外は実施例１と同様の条件とし、比較のための実施例１６に係る積層フィルムを作成した。
【実施例１７】
【００６１】
透明性保護層の薄膜形成用材料してモノマー混合液Ｅを用いた以外は実施例１６と同様の条件とし、比較のための実施例１７に係る積層フィルムを作成した。
【００６２】
以上のようにして得られた各実施例に係るフィルムの防眩性、解像度、ハードコート性を下記のようにして評価した。
【００６３】
＜防眩性＞
ＪＩＳ−Ｋ５４００に準拠した方法で、入出角度６０°における光沢度（％）を測定し、防眩性を評価した。評価に当たっては、光沢度が７０以下のものを○、光沢度が７０〜８０のものを△、光沢度が８０以上のものを×とした。
【００６４】
＜解像度＞
ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠した方法で、ヘーズ値（％）を測定した。併せて上記各フィルムをＣＲＴ画面に取付、各フィルムを介して観察されるＣＲＴ画面上の表示画像のぼけ方を目視にて観察し、評価した。評価に当たっては、ヘーズ値が８以下のものを○、ヘーズ値が８〜１０のものを△、ヘーズ値が１０以上のものを×とした。
【００６５】
＜ハードコート性＞
＃００００のスチールウールにより、上記各フィルムの表面を２５０ｇの荷重をかけながら１０回摩擦し、傷の発生の有無および傷の程度を目視により観察した。
【００６６】
各評価の結果を表１に示す。
【００６７】
【表１】
2006243314.tif 000003
実施例７〜実施例９における評価からも分かるように、凹凸化されていない平滑な基材の場合には、モノマー混合液Ｃを用い、１．９μｍ以上の厚さの薄膜を設けると、ハードコート性が付与できたが、防眩性は認められない。一方、実施例１６のようにモノマー混合液Ｄにより成膜された薄膜を有する積層フィルムは、ハードコート性が不足しており、無数の傷がついてしまい、防眩性や解像度も満足できるものではなかった。さらに実施例１７からも分かるように、ここで用いたモノマー混合液Ｅは、真空中で加熱しても気化させることができず、成膜することが不可能であった。
【００６８】
一方、実施例１、実施例１１、実施例１４のように、モノマー混合液Ｃを用いて凹凸化した基材上に厚さが１．９μｍの保護層を成膜をしたフィルムは、図２に示すように、保護層が凹凸面全面を覆っているため、防眩性は良好であったが、実施例１１と実施例１４に係るフィルムは基材の表面のＲａが０．４２μｍと０．７８μｍと粗い状態のため、解像度が悪かった。
【００６９】
一方、０．０５μｍの膜厚で透明性保護層を成膜した実施例５、実施例１０、実施例１３のフィルムは、共にハードコート性が不足していた。しなしながら防眩性については良好な結果を示した。また、凹凸基材のＲａが０．７８μｍ以上のものではハードコート性が不足しており、基材表面が粗過ぎる場合には、図３に示すように、凹凸基材の凸部が部分的に覆われずに突き出した状態となっていると推定されるが、このような状態では所期の耐擦傷性が得られなかった。
【００７０】
他方、６．０μｍの膜厚で透明性保護層を成膜した実施例６、実施例１２、実施例１５
に係るフィルムは、ハードコート性が付与できたが、防眩性はほとんど発現しなかった。これは図４に示すように、防眩層の凹凸状態を厚い透明性保護膜が覆いつくし、凹凸に追従した状態を越えて、表面を平滑化したためと考えられる。
【００７１】
また、実施例１３〜実施例１５の例から分かるように、表面のＲａが０．７８μｍ程度に粗くなると解像度が低下する。逆に実施例７〜実施例９の例で示すように、凹凸化していない平滑な基材の場合には、解像度は良好であるが、防眩性は発現しなくなる。
【００７２】
そして、Ｒａが０．２１および０．４２μｍの場合には、フィルムの防眩性や解像度は透明性保護間層の膜厚に依った。実施例１のようにＲａが０．２１μｍで、膜厚が１．９μｍの場合には防眩性と解像度が共に優れ、両者はバランスがとれていた。一方、Ｒａが小さく、膜が厚い場合には解像度が優れるが、防眩性は劣る。逆にＲａが大きく、膜が薄い場合には防眩性は優れるが、解像度は劣るものとなる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】透明性防眩層が透明プラスチック基材上に形成されている状態を示す説明図である。
【図２】本発明に係る防眩性フィルムの概略の断面構成を示す説明図である。
【図３】透明性防眩層上に保護層がその凹凸部の全部を覆いきれず、凸部の一部が突き出した状態となっている様子を示す説明図である。
【図４】透明性防眩層上に形成した保護層がその凹凸部の全部を覆いつくし、凹凸が殆ど消滅してしまった状態を示す説明図である。
【符号の説明】
【００７４】
１・・・透明プラスチック基材
２、３・・・微粒子
４・・・透明性防眩層
５、６、７・・・透明性保護層
１０・・・防眩性フィルム
【図１】
2006243314.tif 000004
【図２】
2006243314.tif 000005
【図３】
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【図４】
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