(57)【要約】【課題】  多品種生産が多くなってきたことにより、フォトリソグラフィ処理を行うカセット単位で露光処理時間が異なってくる場合が多く、その際のカセット毎のスループット差により、１つの露光装置は露光処理を行っているが、他の露光装置は処理する基板が搬送されずに待ち状態になり、生産性を悪くしているような状態であった。【解決手段】  本発明は、複数台の露光装置と、複数の基板収納カセットを載置可能なカセット・ステーションと、前記複数の露光装置へ前記カセット内の基板を搬送する基板搬送ロボットと、生産ラインの管理を行うホストコンピュータとを備える露光処理ラインにおいて、前記複数のカセットに収容される基板の露光処理に要する時間をホストコンピュータで管理することを特徴とする。【選択図】  図１
2006005285.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数台の露光装置と、複数の基板収納カセットを載置可能なカセット・ステーションと、前記複数の露光装置へ前記カセット内の基板を搬送する基板搬送ロボットと、生産ラインの管理を行うホストコンピュータとを備える露光処理ラインにおいて、前記複数のカセットに収容される基板の露光処理に要する時間をホストコンピュータで管理することを特徴とする露光処理ライン。
【請求項２】
前記ホストコンピュータは、前記カセット毎に露光処理する露光装置を選択することを特徴とする請求項１記載の露光処理ライン。
【請求項３】
前記ホストコンピュータは、既に露光処理指示を行った順序を変更することを特徴とする請求項１記載の露光処理ライン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は複数の露光装置を用いてフォトリソグラフィ処理を行う液晶パネルやＩＣチップの生産を行うシステムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
複数台の露光装置と、複数の基板収納カセットを載置可能なカセット・ステーションと、レジストなどの塗布現像処理を行う塗布現像装置と、露光装置と塗布現像装置との間で基板搬送を行う基板搬送ロボットを、生産ラインの管理を行うホストコンピュータと接続して、前記カセット内の基板の塗布処理を行った後に、１つのカセット内の全基板を任意の１つの露光装置で露光処理を行うことを特徴とするフォトリソグラフィ・ラインにおいて、生産を管理するホストコンピュータからのフォトリソグラフィ処理要求コマンドの順番に従って処理を行っていた。この時、ホストコンピュータはフォトリソグラフィ処理に要する時間を特に考慮はしないで、前記コマンドを前記フォトリソグラフィ・ラインに通信していた。
【特許文献１】特開平９−５８８４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来のフォトリソグラフィ処理を行うラインにおいては、少品種／大量生産のニーズが多く露光処理を行うデバイスも殆ど固定であった。しかしながら近年、液晶パネルなどの生産を行う工場においては、民生市場における液晶モニターやＴＶ、ＰＤＡ、携帯電話などの液晶ニーズの多様化から、複数種類の液晶パネルを生産する必要性が発生してきている。
【０００４】
しかしながら従来方式の露光処理ラインでは、ほぼ同一サイズの液晶パネルを露光処理してきたことから、生産する液晶パネル毎に露光処理を行う際のスループットが異なってくることは無く、フォトリソグラフィ・ラインに処理するカセットをカセット・ステーションに載置した順番でフォトリソグラフィ処理を行っていた。しかしながら多品種生産が多くなってきたことにより、フォトリソグラフィ処理を行うカセット単位で露光処理時間が異なってくる場合が多く、その際のカセット毎のスループット差により、１つの露光装置は露光処理を行っているが、他の露光装置は処理する基板が搬送されずに待ち状態になり、生産性を悪くしているような状態であった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記のような複数の露光装置を有するフォトリソグラフィ処理ラインにおいて、複数台の露光装置と、複数の基板収納カセットを載置可能なカセット・ステーションと、前記複数の露光装置へ前記カセット内の基板を搬送する基板搬送ロボットと、生産ラインの管理を行うホストコンピュータとを備える露光処理ラインにおいて、前記複数のカセットに収容される基板の露光処理に要する時間をホストコンピュータで管理することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、複数の露光装置を接続して液晶パネル等の生産を行うフォトリソグラフィ・ラインにおいて、フォトリソグラフィ処理時間が最短になるように制御が行われたことにより、液晶パネルの生産性が向上した。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
図１及び図２は本発明を最も良く表す図である。
【０００８】
図１においては、カセット・ステーション６がそれぞれ１台の塗布装置４および現像装置５に接続され、塗布装置と現像装置は基板搬送ロボット３を介して２台の露光装置１，２に接続され、それらがホストコンピュータ１１（以下、ホストと称す）と通信接続され、ホストの管理によって生産を行うフォトリソグラフィ・ラインの例を示している。
【０００９】
ここで露光装置１，２はホスト１１と通信手段１０−１で接続されている。露光装置において露光処理する液晶パネルなどの露光時間や基板上に露光されるレイアウトなどの条件が露光装置内のコンピュータに入力されると、該コンピュータは前記条件から基板１枚当たりの露光処理予測時間の計算を行い、前記通信手段１０−１でホスト１１に通信する。ホスト１１はカセット・ステーション６に載置するカセット内に保持されている基板の枚数を管理しており、カセット単位で露光処理に要する時間の計算を行う。
【００１０】
図１における基本的な動作シーケンスを以下に記述する。
【００１１】
ホスト１１の管理によって、フォトリソグラフィ処理を行う基板が保持されたカセットが搭載された搬送ロボット８が、ホスト１１との無線通信１０−４を介した要求により、カセット・ステーション６にカセットＡ１（Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１の場合もある）を載置する。その後、ホスト１１はカセット・ステーション６に対して通信手段１０−３を介してフォトリソグラフィ処理要求を行う。カセット・ステーション６は装置間通信手段１２によって、ホスト１１からの処理要求を全ての装置に転送することにより、各装置にフォトリソグラフィ処理を開始する旨を連絡する。前記フォトリソグラフィ処理要求により、カセット・ステーション６に載置されたカセット内の基板は搬送アーム６−１で前記カセットから取り出され塗布装置４に搬送される。塗布装置４ではレジスト等の塗布関連処理が行われ、基板搬送ロボット３を介して露光装置に搬入され露光処理が行われ、露光処理終了基板は再び基板搬送ロボット３を介して現像装置５に搬送され現像関連処理が行われた後に、カセット・ステーション６上に載置された取り出し元のカセットに収納される。
【００１２】
図２のタイミング・チャートは露光装置の空き時間を少なくすることによる、フォトリソグラフィ処理ラインのスループット向上に関する説明である。
【００１３】
カセットＡ１とカセットＢ１がカセット・ステーション６に載置された後に、両方のカセット内基板の塗布処理が開始され。塗布処理の終わったカセットＡ１の基板は露光装置＃１で露光処理が行われ、カセットＢ１の基板は露光装置＃２で露光処理が行われる。カセットＡ１とカセットＢ１内基板の全ての塗布処理が終了すると、カセットＣ１とカセットＤ１内基板の塗布処理が開始され露光処理に至る。
【００１４】
本発明においては、ホスト１１は露光装置から通信された基板１枚あたりの露光処理予測時間とホスト自体で管理しているカセット内の基板枚数から、各々のカセットを露光するための予測時間を算出する。ホスト１１はそれらの予測時間から、載置されている或いは載置される予定の複数のカセット内基板を、複数の露光装置を用いて全てフォトリソグラフィ処理するための最短時間を計算して、カセット・ステーションに対して、前記通信線１０−３を介して各々のカセットを処理する順番と露光処理を行う露光装置を示した処理要求コマンドを通信する。
【００１５】
図３は露光装置＃１が生産途中で故障した場合の処理の変更を示している。
【００１６】
露光装置＃１が何らかの理由で故障停止したような場合、露光装置＃１のパソコンはホストとの通信手段によって、故障停止した旨をホストに通信する。ホストは故障したことを検知したことにより、露光装置＃１で処理予定だったカセットＡ２及びＤ２を、露光装置＃２で処理するようにカセット・ステーションに通信手段を用いて処理変更コマンドを通信する。前記処理変更コマンドによりカセット・ステーションは、露光装置＃１に対して装置間通信手段によってカセットＡ２とＤ２の処理のキャンセル要求を出すと共に、露光装置＃２にカセットＡ２とカセットＤ２の処理要求を行い、同時に基板搬送ロボットに対してカセットＡ２とカセットＤ２は露光装置＃２へ基板の搬入出を行う処理要求を行う。これによって露光処理順序の変更と処理する露光装置を変更することが可能となる。
【００１７】
また、露光装置＃１の故障が修復した場合には前記パソコンが修復した旨を通信することにより、ホストは改めて露光装置＃１を含めて最適なスループットで生産出来るように露光処理順序を変更して、カセット・ステーションに通信する。
【００１８】
（他の実施例）
上記実施例では、複数のカセットを露光処理する際の露光処理時間差によって発生するスループットの低下を防止することに関して述べたが、複数の塗布あるいは現像装置がフォトリソグラフィ・ラインに設置されたような場合にも、塗布装置や現像装置におけるカセット毎の塗布処理時間を計算することによって、塗布或いは現像処理をする順番を変更することによって処理時間を最短にすることにより、生産性の向上を行うことが出来る。
【００１９】
上記実施例では露光装置が２台接続される場合のものであるが、もちろん３台以上でも同様である。また塗布・現像装置と接続する場合を示したが、塗布装置や現像装置が接続されてなくとも同様の処理をすることにより、生産性が向上する。また、ホストがラインを管理するように述べてあるが、ホストとフォトリソグラフィ・ラインの間に専用のコンピュータを設けて管理することも可能である。さらに、ホストがカセット・ステーションと処理コマンドを通信するものであるが、ホストと露光装置或いは塗布現像装置が通信を行い、そこから各々の装置に装置間通信手段を用いて、ホストからの処理コマンドを通信することも可能である。また、ホストが全ての装置に対して処理コマンドを通信する方法も可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】基本的な構成例。
【図２】本発明を示す動作タイミング・チャート。
【図３】本発明を示す動作タイミング・チャート。
【符号の説明】
【００２１】
１，２  露光装置
３  基板搬送ロボット
４  塗布装置
５  現像装置
６  カセット・ステーション
８  基板搬送ロボット
１１  ホストコンピュータ
【図１】
2006005285.tif 000003
【図２】
2006005285.tif 000004
【図３】
2006005285.tif 000005