(57)【要約】      （修正有）【課題】  光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的むら補正パターンを決定する場合、回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できかつ最適な補正値選択のための工数を減らすことができる補正パターンの決定方法及び光ビーム走査装置を提供する。【解決手段】  回転多面鏡の１回転を１周期とした周期的変調パターンの位相を変えた周期的変調パターンにより所定の画像信号を変調して出力しむらの小さい第１補正値を選択し、次にその選択された補正値の周期的変調パターンで振幅を変えた周期的変調パターンにより画像信号を変調して出力しむらの小さい第２補正値を選択することで周期的むら補正パターンを決定する際に、粗い分解能で変化させた補正値群から補正値を選択し、次に細かい分解能で変化させた補正値群から補正値を選択するようにして２段階に分けて実行する。【選択図】  図３
2006285003.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転多面鏡の１回転を１周期とした周期的むら補正パターンにより画像信号を変調し、前記変調された画像信号により強度変調された光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を主走査するとともに、前記記録体を前記光ビームに対して前記主走査方向と略垂直な方向に相対移動させることで副走査する装置の周期的むら補正パターンの決定方法において、
前記回転多面鏡の１回転を１周期とした周期的変調パターンの位相及び振幅のいずれか一方を変えた周期的変調パターンにより所定の画像信号を変調して出力しむらの小さい第１補正値を選択する第１選択工程と、その選択された補正値の周期的変調パターンで前記位相及び振幅の他方を変えた周期的変調パターンにより前記画像信号を変調して出力しむらの小さい第２補正値を選択する第２選択工程と、により周期的むら補正パターンを決定する際に、前記第１選択工程及び前記第２選択工程の少なくとも一方を、第１分解能で変化させた補正値群から補正値を選択する第１工程と前記第１分解能よりも細かい第２分解能で変化させた補正値群から補正値を選択する第２工程との少なくとも２段階に分けて実行することを特徴とする周期的むら補正パターンの決定方法。
【請求項２】
前記補正値を複数段階に変化させて前記第１工程を実行し、その選択した補正値に基づいて前記補正値を複数段階に前記第１工程よりも細かく変化させて前記第２工程を実行する請求項１に記載の周期的むら補正パターンの決定方法。
【請求項３】
前記第１工程を前記位相及び振幅のいずれか一方について実行してから、その他方について実行し、次に、前記第２工程を前記位相及び振幅のいずれか一方について実行してから、その他方について実行する請求項１または２に記載の周期的むら補正パターンの決定方法。
【請求項４】
前記第１選択工程及び第２選択工程の実行途中でむらが許容範囲内となったとき、その許容範囲内となった補正値を前記補正値と決定する請求項１，２または３に記載の周期的むら補正パターンの決定方法。
【請求項５】
回転多面鏡の１回転を１周期とした周期的むら補正パターンにより画像信号を変調し、前記変調された画像信号により強度変調された光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を主走査するとともに、前記記録体を前記光ビームに対して前記主走査方向と略垂直な方向に相対移動させることで副走査する光ビーム走査装置において、
前記回転多面鏡の１回転を１周期とした周期的変調パターンの位相及び振幅のいずれか一方を変えた周期的変調パターンにより所定の画像信号を変調して出力しむらの小さい第１補正値を選択可能な第１選択手段と、
その選択された補正値の周期的変調パターンで前記位相及び振幅の他方を変えた周期的変調パターンにより前記入力信号を変調して出力しむらの小さい第２補正値を選択可能な第２選択手段と、を備え、
前記第１選択手段及び前記第２選択手段の少なくとも一方により第１分解能で変化させた補正値群から補正値を選択し、前記第１分解能よりも細かい第２分解能で変化させた補正値群から補正値を選択することで決定した前記周期的むら補正パターンにより前記画像信号を変調することを特徴とする光ビーム走査装置。
【請求項６】
前記補正値を前記第１分解能で複数段階に変化させた補正値群から選択し、その選択した補正値に基づいて前記補正値を複数段階に前記第１工程よりも細かい第２分解能で変化させた補正値群から選択する請求項５に記載の光ビーム走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的むら補正パターンの決定方法及び光ビームを回転多面鏡で偏向して記録体上を走査する光ビーム走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記特許文献１は、回転多面鏡の１回転を１周期とした周期的むら補正パターンにより画像信号Ｇを変調し、変調された画像信号Ｇにより強度変調された光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を主走査するとともに、その記録体を光ビームに対して主走査方向と略垂直な方向に相対移動させることにより副走査する装置の周期的むら補正パターンの決定方法において、正弦波の位相を変えた周期的変調パターンにより入力信号を変調して出力し、むらの小さい位相を選択し、次に、選択された位相の周期的変調パターンの振幅を変えた周期的変調パターンにより入力信号を変調して出力し、むらの小さい振幅を選択し、周期的むら補正パターンを決定することを開示する（要約参照）。このようにして、回転多面鏡の１回転を１周期とした複数の周期的変調パターンで画像信号Ｇを変調し、その中でむらが低減したパターンを選択し、その選択したパターンを周期的むら補正パターンとして画像信号Ｇを変調する。
【０００３】
上述の特許文献１における周期的むら補正パターンを決定する工程Ａ１〜Ａ６について図４を参照して説明する。
【０００４】
〈Ａ１〉回転多面鏡の１回転を１周期とした正弦波を以下の式（１）で示す基本的周期的変調パターンｇ（ｘ）とする。
ｇ（ｘ）＝１＋ａ・ｓｉｎｘ            （１）
ｈ（ｘ）＝１＋ａ・ｓｉｎ（ｘ＋δ）    （２）
上記式（１）の基本的周期的変調パターンの位相δを変化させた上記式（２）で示す周期的変調パターンｈ（ｘ）をパターン発生器により発生させ、この周期的変調パターン信号と、一定の値の画像信号とを乗算して入力し、テストフィルムに画像記録をする。このとき、基本的周期的変調パターンの所定の振幅の正弦波の位相δを、所定の副走査長さ毎に所定の角度例えば４５°ずつ８段階ずらせて、パターン発生器が周期的変調パターンを発生させる。
【０００５】
〈Ａ２〉テストフィルムを現像処理し、最もむらの消えているものを選択し、最もむらの消えている位相δをメモリに記憶させる。例えば、図４では４番目の位相のもの（位相を１３５°ずらせたもの）が最もむらが消えている。
【０００６】
〈Ａ３〉次に、メモリに記憶されている位相δの正弦波でその振幅ａを０から所定の割合（例えば０．４％）ずつ、８段階に所定の副走査長さ毎に大きくして、パターン発生器が周期的変調パターンを発生させる。
【０００７】
〈Ａ４〉テストフィルムを現像処理し、テストフィルムを主走査方向で前、中、後で３等分して、前、中、後の各部で最もむらの消えているものを選択する。前、中、後の各部で、最もむらの消えている振幅を装置に入力し、入力された振幅ａをメモリにそれぞれ記憶させる。以上のようにして最適な位相と振幅がきまり、周期的むら補正パターンを決定できる。なお、上述のようにして、周期的むら補正パターンを決めた後、バイアス調整により濃度変調パターンを決める。
【０００８】
ところで、回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正しようとした場合、または、回転多面鏡の面倒れ補正性能の悪い光学系を使用した場合、または、倒れ角性能の悪い回転多面鏡によるむらを補正しようとした場合、位相／振幅を正確に合わせることが必要となり、位相／振幅をより細かく変えた周期的変調パターンを出力し、補正値を選択する必要がある。このため、補正値選択のためのパターン出力のためのテストフィルム枚数が増え、上述のように最適値を選択する工数も増える。
【０００９】
例えば、図４の従来例では位相を４５°毎に８段階変化させたパターンを１枚に出力、また、振幅を０．４％毎に８段階変化させたパターンを１枚に出力している。しかし、むらを高精度に補正しようとした場合、例えば、位相を５°毎に７２段階変化させたパターンをテストフィルム９枚に分けて出力し、振幅を０．１％毎に３２段階変化させたパターンをテストフィルム４枚に分けて出力する必要がある。これは、１枚のフィルムに７２段階または３２段階変化させたパターンを出力すると、１つのパターン幅が狭くなり、むらが判別し難くなり、好ましくないためである。
【特許文献１】特開平０９−４９９７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上述のような従来技術の問題に鑑み、光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的むら補正パターンを決定する場合、回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できかつ最適な補正値選択のための工数を減らすことができる補正パターンの決定方法及び光ビームを回転多面鏡で偏向して記録体上を走査する光ビーム走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明による周期的むら補正パターンの決定方法は、回転多面鏡の１回転を１周期とした周期的むら補正パターンにより画像信号を変調し、前記変調された画像信号により強度変調された光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を主走査するとともに、前記記録体を前記光ビームに対して前記主走査方向と略垂直な方向に相対移動させることで副走査する装置の周期的むら補正パターンの決定方法において、前記回転多面鏡の１回転を１周期とした周期的変調パターンの位相及び振幅のいずれか一方を変えた周期的変調パターンにより所定の画像信号を変調して出力しむらの小さい第１補正値を選択する第１選択工程と、その選択された補正値の周期的変調パターンで前記位相及び振幅の他方を変えた周期的変調パターンにより前記画像信号を変調して出力しむらの小さい第２補正値を選択する第２選択工程と、により周期的むら補正パターンを決定する際に、前記第１選択工程及び前記第２選択工程の少なくとも一方を、第１分解能で変化させた補正値群から補正値を選択する第１工程と前記第１分解能よりも細かい第２分解能で変化させた補正値群から補正値を選択する第２工程との少なくとも２段階に分けて実行することを特徴とする。
【００１２】
この周期的むら補正パターンの決定方法によれば、粗い第１分解能による第１工程（粗調整）と細かい第２分解能による第２工程（微調整）との少なくとも２段階に分けて補正値を選択し、細かい第２分解能による微調整は粗調整で選択した補正値に基づいて実行できるので、回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できるとともに、余分な微調整を行わずに済み、このため、最適な補正値選択のための工数を減らすことができる。
【００１３】
上記周期的むら補正パターンの決定方法において、前記補正値を複数段階に変化させて前記第１工程を実行し、その選択した補正値に基づいて前記補正値を複数段階に前記第１工程よりも細かく変化させて前記第２工程を実行することが好ましく、細かい第２分解能による微調整は粗調整で選択した補正値に基づいて実行できるようになる。
【００１４】
また、前記第１工程を前記位相及び振幅のいずれか一方について実行してから、その他方について実行し、次に、前記第２工程を前記位相及び振幅のいずれか一方について実行してから、その他方について実行することが好ましい。これにより、各工程では、その直前に選択した位相または振幅の各補正値を使用して粗調整・微調整を実行できる。
【００１５】
また、前記第１選択工程及び第２選択工程の実行途中でむらが許容範囲内となったとき、その許容内となった補正値を前記補正値と決定することが好ましい。これにより、それ以上の余分な工程を省略して補正値を決定できるので、最適な補正値選択のための工数を更に減らすことができる。
【００１６】
本発明による光ビーム走査装置は、回転多面鏡の１回転を１周期とした周期的むら補正パターンにより画像信号を変調し、前記変調された画像信号により強度変調された光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を主走査するとともに、前記記録体を前記光ビームに対して前記主走査方向と略垂直な方向に相対移動させることで副走査する光ビーム走査装置において、前記回転多面鏡の１回転を１周期とした周期的変調パターンの位相及び振幅のいずれか一方を変えた周期的変調パターンにより所定の画像信号を変調して出力しむらの小さい第１補正値を選択可能な第１選択手段と、その選択された補正値の周期的変調パターンで前記位相及び振幅の他方を変えた周期的変調パターンにより前記入力信号を変調して出力しむらの小さい第２補正値を選択可能な第２選択手段と、を備え、前記第１選択手段及び前記第２選択手段の少なくとも一方により第１分解能で変化させた補正値群から補正値を選択し、前記第１分解能よりも細かい第２分解能で変化させた補正値群から補正値を選択することで決定した前記周期的むら補正パターンにより前記画像信号を変調することを特徴とする。
【００１７】
この光ビーム走査装置によれば、粗い第１分解能による粗調整と細かい第２分解能による微調整との少なくとも２段階に分けて補正値を選択し、細かい第２分解能による微調整は粗調整で選択した補正値に基づいて実行できるので、回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できるとともに、余分な微調整を行わずに済む。このため、最適な補正値選択を短時間で実行できる。
【００１８】
上記光ビーム走査装置において前記補正値を前記第１分解能で複数段階に変化させた補正値群から選択し、その選択した補正値に基づいて前記補正値を複数段階に前記第１工程よりも細かい第２分解能で変化させた補正値群から選択することで、細かい第２分解能による微調整は粗調整で選択した補正値に基づいて実行可能な構成にできる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の補正パターンの決定方法によれば、光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的むら補正パターンを決定する場合、回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できかつ最適な補正値選択のための工数を減らすことができる。
【００２０】
また、本発明の光ビーム走査装置によれば、回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できるとともに、余分な微調整を行わずに済むため、最適な補正値選択を短時間で実行できるので、光ビーム走査の迅速な実行が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を用いて説明する。図１は本実施の形態における光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的むら補正パターンの決定方法の原理を説明するための図であり、振幅０．０３Ｄの周期むらを補正した場合を想定し、振幅のずれ量（横軸、％）と回転多面鏡１回転周期におけるフィルム濃度のむら強度（縦軸、ＮＷＳ(ｍｍ-2)）との関係を示すグラフ（ａ）、位相のずれ量（横軸、度）と回転多面鏡１回転周期におけるフィルム濃度のむら強度（縦軸、ＮＷＳ(ｍｍ-2)）との関係を示すグラフ（ｂ）である。
【００２２】
光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する際に、例えばフィルムに画像形成を行う画像形成装置の場合はフィルム上の出力画像にむらが生じたとき、図１（ａ）、（ｂ）のように、補正値（振幅、位相）が最適値（横軸０）からずれるに従い、フィルム上のむら強度が大きくなる。図１（ａ）、（ｂ）から分かるように、最適値（横軸０）を中心にむら強度がより急峻に変化し、振幅、位相が最適値からずれると急にむら強度が悪化することが分かる。従って、むら強度を精度よく補正するためには、位相、振幅のずれを少なくすることが必要である。
【００２３】
図２は、本実施の形態による光ビーム走査装置の要部を概略的に示す図である。
図２の光ビーム走査装置１０は、入力した画像信号Ｇに基づき強度変調されたレーザ光Ｌを、回転多面鏡１３によって偏向して、ハロゲン化銀感光材料からなるシート状のフィルムＦ上を主走査するとともに、フィルムＦをレーザ光Ｌに対して主走査の方向Ｘと略直角な方向Ｙに相対移動させることにより副走査し、レーザ光Ｌにより画像信号Ｇに基づいてフィルムＦに潜像を形成する。なお、フィルムＦに形成された潜像は所定の現像プロセス（湿式や熱現像等）を経ることで可視像化される。
【００２４】
図２において、外部から入力したデジタル信号である画像信号Ｇは、Ｄ／Ａ変換器２４でアナログ信号に変換され、乗算回路２２に入力し、かかるアナログ信号に基づいて駆動回路２１により光源である半導体レーザ１１を駆動することで、半導体レーザ１１から変調されたレーザ光Ｌが出射する。
【００２５】
半導体レーザ１１から出射したレーザ光Ｌは、レンズ１２を通過し、シリンドリカルレンズ１５により上下方向にのみ収束されて、モータ１３ａにより矢印Ａ方向に回転する回転多面鏡１３に対し、その駆動軸に垂直な線像として入射する。回転多面鏡１３はレーザ光Ｌを主走査方向に反射し偏向し、偏向されたレーザ光Ｌは、２枚のレンズを組み合わせてなるシリンドリカルレンズを含むｆθレンズ１４を通過した後、光路上に主走査方向Ｘに延在して設けられたミラー１６で反射されて、搬送ローラ対１７，１８（フィルムＦの被走査面１９上のローラの図示を省略）により副走査方向Ｙに副走査されるフィルムＦの被走査面１９上を、主走査方向Ｘに繰り返し主走査することでレーザ光ＬをフィルムＦ上の被走査面１９の全面にわたって走査する。
【００２６】
図２において、周期的むらを補正するために、光ビーム走査装置１０に入力した画像信号Ｇによるアナログ信号Ｇ１は、乗算回路２２でパターン発生器２３からの周期的むら補正パターン（回転多面鏡一回転周期のむらを補正する）と濃度変調パターン（フィルム主走査方向の濃度差を補正する）を乗算した信号Ｇ２と乗算され、変調されて補正画像信号Ｇ３となる。
【００２７】
また、主走査方向Ｘの一端側に配置された同期センサ２７ａのレーザ光検知に基づいて主走査同期回路２７から主走査同期信号Ｇ４が制御部２０に入力する。また、回転多面鏡１３の面検知回路２８から回転多面鏡１３の各面を特定するための面検知信号Ｇ５が制御部２０に入力する。
【００２８】
駆動回路２１は、制御部２０から出力した主走査同期信号Ｇ４と補正画像信号Ｇ３に基づいて、主走査と同期して光ビームの強度を変調するように、半導体レーザ１１を制御する。
【００２９】
制御部２０は、各回路２１，２２，２４，パターン発生器２３及びモータ１３ａを制御する。パターン発生器２３は、制御部２０から出力した回転多面鏡１３の各面を特定するための面検知信号Ｇ５及び主走査同期信号Ｇ４に基づいて、主走査と同期して、また、回転多面鏡１３の各面毎に、メモリ２６に記憶されている周期的むら補正パターンと濃度変調パターンを読み出し乗算し、乗算回路２２に信号Ｇ２を送る。
【００３０】
キーボードやマウス等のポインティングデバイスから構成される入力部２５からパターン発生器２３における周期的むら補正パターンや濃度変調パターンを決定するための情報を制御部２０に入力する。
【００３１】
図２の回転多面鏡１３の１回転を１周期とした下記式（３）で示す正弦波を基本的周期的変調パターンｇ（ｘ）とする。
ｇ（ｘ）＝１＋ｂ・ｓｉｎｘ            （３）
ｈ（ｘ）＝１＋ｂ・ｓｉｎ（ｘ＋δ）    （４）
【００３２】
上記式（３）の基本的周期的変調パターンの位相δを変化させた上記式（４）で示す周期的変調パターンｈ（ｘ）をパターン発生器２３から発生させ、この周期的変調パターン信号Ｇ２を一定値の画像信号Ｇ１に乗算させて画像信号Ｇ１を変調させた信号Ｇ３で半導体レーザ１１を駆動し、レーザ光Ｌにより回転多面鏡１３の回転と同期して主走査を行いフィルムＦを露光し、所定の副走査長さ（濃度むらをチェックできる程度の幅）で画像を形成する。
【００３３】
このとき、粗調整のために周期的変調パターンの所定の振幅ｂの正弦波の位相δを、所定の副走査長さ毎に、所定の角度例えば４５°毎に８段階変化させたパターンをテストフィルム１枚に出力する。位相の４５°等の変化幅は入力部２５からオペレータが入力できる。テストフィルムを現像し、現像むらをチェックし、４５°ずつ変化させた８段階の中から最適な位相を選択する。
【００３４】
次に、微調整のために、粗調整で選択した位相を中心に±４０°の範囲を５°毎に１６段階変化させたパターンをフィルム２枚に分けて出力する。位相の５°等の変化幅は入力部２５からオペレータが入力できる。テストフィルムを現像し、現像むらをチェックし、５°ずつ変化させた１６段階の中から最適な位相を選択する。この位相が最終的な最適な位相δ１となる。また、同様の方法で、上述の最適な位相を用いて振幅ｂを変化させながら粗調整と微調整により最適な振幅ｂ１を選択する。
【００３５】
上述のようにして決定した位相δ１及び振幅ｂ１をメモリ２６に記憶させ、画像記録のときに読み出し、下記式（５）で示す周期的むら補正パターンを画像信号と乗算させて半導体レーザ１１を駆動しレーザ光Ｌを射出させることで、回転多面鏡１３の周期的むらを高精度に補正することができる。
ｈ（ｘ）＝１＋ｂ１・ｓｉｎ（ｘ＋δ１）      （５）
【００３６】
次に、図３を参照して図２の光ビーム走査装置の周期的むら補正パターンを決定する工程について更に説明する。図３は図２の光ビーム走査装置の周期的むら補正パターンを決定する工程を説明するための図である。
【００３７】
図３では、周期的むら補正パターンを位相を５°の分解能、振幅を０．１％の分解能で選択する。粗調整、微調整の２段階の工程で、それぞれ８段階変化させたパターンを出力させる。
【００３８】
１．工程１Ａ（位相値の選択粗調整）
【００３９】
仮の振幅を入力した後、位相を４５°づつ８段階変化させたパターンを１枚のテストフィルムＦ１に出力し現像する（Ｓ０１）。オペレータは、テストフィルムＦ１の各パターンから最もむらの消えているものを選択する（Ｓ０２）。例えば、位相９０°を選択したとする。
【００４０】
２．工程１Ｂ（振幅値の選択のための粗調整）
【００４１】
工程１Ａで選択した位相で、振幅を０．４％づつ８段階変化させたパターンを１枚のテストフィルムＦ２に出力し現像する（Ｓ０３）。オペレータは、テストフィルムＦ２の各パターンから最もむらの消えているものを選択する（Ｓ０４）。例えば、振幅０．８％を選択したとする。なお、テストフィルムＦ２を主走査方向（図の横方向）で前、中、後で３等分して、前、中、後の各部で最もむらの消えているものを選択することが好ましい。
【００４２】
３．工程２Ａ（位相値の選択のための微調整）
【００４３】
工程１Ｂで選択した振幅で、位相を工程１Ａで選択した９０°を中心に±４５°の範囲内で５°づつ１６段階変化させたパターンを２枚のテストフィルムＦ３，Ｆ４に出力し現像する（Ｓ０５）。オペレータは、テストフィルムＦ３，Ｆ４の各パターンから最もむらの消えているものを選択する（Ｓ０６）。このようにして選択した最適な位相をメモリ２６に記憶させる。
【００４４】
４．工程２Ｂ（振幅値の選択のための微調整）
【００４５】
工程２Ａで選択した位相で、振幅を工程１Ｂで選択した０．８％を中心に±０．４％の範囲内で０．１％づつ８段階変化させたパターンを１枚のテストフィルムＦ５に出力し現像する（Ｓ０７）。オペレータは、テストフィルムＦ５の各パターンから最もむらの消えているものを選択する（Ｓ０８）。このようにして選択した最適な振幅をメモリ２６に記憶させる。なお、テストフィルムＦ５を主走査方向（図の横方向）で前、中、後で３等分して、前、中、後の各部で最もむらの消えているものを選択し記憶させることが好ましい。
【００４６】
５．工程３（バイアス調整）
【００４７】
次に、バイアス調整で濃度変調パターンを決める。濃度変調パターンは周期的むら補正パターンを決めた後に行う。濃度変調パターンを決めるためのテストフィルムの作成では、図２のメモリ２６から読み出した最適な位相と振幅による上記式（５）で示す周期的むら補正パターンに基づいて、所定の副走査長さ毎に所定の割合（例えば１％）ずつバイアスレベルを低くした周期的むら補正パターン信号Ｇ２を乗算回路２２に送り、画像信号として一定値の画像信号Ｇ１と乗算させ画像信号Ｇ１を変調させた信号Ｇ３でフィルムを露光し現像してテストフィルムＦ６を得る（Ｓ０９）。次に、テストフィルムＦ６を主走査方向で前、中、後で３等分して、前、中、後の各部の間で最も濃度が等しい組み合わせを選択する（Ｓ１０）。そして、その組み合わせの前、中、後の各部のバイアスをメモリ２６に記憶させる。
【００４８】
以上のように、光ビーム走査装置１０の周期的むら補正パターンを決定する際に、補正値（位相、振幅）を選択する工程を、粗い分解能のパターンから補正値を選択する工程と、細かい分解能のパターンから補正値を選択する工程の２段階に分けることで、高精度に補正が可能で、かつ補正値選択のためのパターン出力のフィルム枚数を減らすことができ、最適値を選択する工数も減らすことができる。
【００４９】
また、周期的むら補正パターンの位相及び振幅を正確に補正できるので、回転多面鏡の周期的むらの高精度な補正が可能となり、また、回転多面鏡の面倒れ補正性能の悪い光学系を使用した場合や回転多面鏡が倒れ角性能の悪い場合でも周期的むらを高精度に補正できる。このため、光ビーム走査装置１０による画像品質を向上させることができる。
【００５０】
以上のように本発明を実施するための最良の形態について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で各種の変形が可能である。例えば、図３では、位相と振幅の最適な補正値を決定するとき、分解能の粗い工程と分解の細かい工程の２段階に分けて行ったが、更に分解能を変えて３段階以上に分けてもよい。また、図２では、アナログ信号で演算しているが、デジタル信号で演算してもよい。
【００５１】
また、図３の工程１Ａまたは１Ｂにおいて濃度むらが図１（ａ）、（ｂ）の所定の許容値（例えば、１０-4ｍｍ-2）以下となったとき、その補正値を最適な補正値と決定することで、それ以降の余分な工程を省略して補正値を決定できるので、最適な補正値選択のための工数を更に減らすことができる。
【００５２】
また、図２の光ビーム走査装置は、記録体をハロゲン化銀感光材料からなるフィルム等の記録媒体とした画像形成装置として構成可能であるが、本発明はこれに限定されず、例えば、記録体を放射線画像情報が記録された輝尽性蛍光体を含有する放射線画像変換プレートとし、放射線画像変換プレートをレーザ光で走査することで放射線画像情報を読み取る画像読取装置として構成してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本実施の形態における周期的むら補正パターンの決定方法の原理を説明するための図であり、振幅０．０３Ｄの周期むらを補正した場合を想定し、振幅のずれ量（横軸）と回転多面鏡１回転周期におけるフィルム濃度のむら強度（縦軸）との関係を示すグラフ（ａ）、位相のずれ量（横軸）と回転多面鏡１回転周期におけるフィルム濃度のむら強度（縦軸）との関係を示すグラフ（ｂ）である。
【図２】本実施の形態による光ビーム走査装置の要部を概略的に示す図である。
【図３】図２の光ビーム走査装置の周期的むら補正パターンを決定する工程を説明するための図である。
【図４】特許文献１における周期的むら補正パターンを決定する工程を説明するための図である。
【符号の説明】
【００５４】
１０ 光ビーム走査装置
１１ 半導体レーザ
１３ 回転多面鏡
１３ａ モータ
１９ 被走査面
２０ 制御部
２１ 駆動回路
２２ 乗算回路
２３ パターン発生器
２５ 入力部
２６ メモリ
Ｆ フィルム（記録体）
Ｆ１〜Ｆ６ テストフィルム
Ｇ 画像信号
Ｇ１ アナログ信号、画像信号
Ｇ２ 周期的変調パターン信号、補正パターン信号
Ｇ３ 補正画像信号
Ｌ レーザ光
Ｘ 主走査方向
Ｙ 副走査方向
【図１】
2006285003.tif 000003
【図２】
2006285003.tif 000004
【図３】
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【図４】
2006285003.tif 000006