(57)【要約】【課題】  互いに非導通とされた複数の配線パターンが形成された試料における各配線パターンの断線の検査を効率良く行うこと。【解決手段】  荷電粒子ビーム源１と、荷電粒子ビーム源１から放出された荷電粒子ビーム１４を試料１０上に照射するための照射系７と、荷電粒子ビーム１４の照射により生じる試料１０上の吸収電流を検出するための複数の探針８と、検出された吸収電流に基づいて画像信号を形成するための画像信号形成部１２と、画像信号形成部１２により形成された画像信号に基づいて画像を表示するための表示部２０とを備える荷電粒子ビーム装置において、画像信号形成部１２は、前記複数の探針８のうちの少なくとも２つの探針８ａ，８ｂにより検出された吸収電流信号を加算して得られる合成信号を基に画像信号を形成する。【選択図】図１
2006071522.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビーム源と、荷電粒子ビーム源から放出された荷電粒子ビームを試料上に照射するための照射系と、試料表面に先端が接触し、荷電粒子ビームの照射により試料を流れる吸収電流を検出するための複数の探針と、検出された吸収電流信号に基づいて画像信号を形成するための画像信号形成部と、画像信号形成部により形成された画像信号に基づいて画像を表示するための表示部とを備え、画像信号形成部は、前記複数の探針のうちの少なくとも２つの探針により検出された吸収電流信号を加算した合成信号を基に画像信号を形成することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
【請求項２】
前記画像信号形成部は、前記少なくとも２つの探針により検出された吸収電流信号の信号レベルが同等になるようにレベル調整し、その後当該吸収電流信号の加算を行うことを特徴とする請求項１記載の荷電粒子ビーム装置。
【請求項３】
前記荷電粒子ビームの照射により前記試料から発生する被検出電子を検出するための電子検出器をさらに備え、前記画像信号形成部は、前記合成信号と、電子検出器により検出された被検出電子に基づく検出信号とを加算して画像信号を形成することを特徴とする請求項１若しくは２記載の荷電粒子ビーム装置。
【請求項４】
荷電粒子ビーム源と、荷電粒子ビーム源から放出された荷電粒子ビームを試料上に照射するための照射系と、試料表面に先端が接触し、荷電粒子ビームの照射により試料を流れる吸収電流を検出するための複数の探針と、検出された吸収電流信号に基づいて画像信号を形成するための画像信号形成部と、画像信号形成部により形成された画像信号に基づいて画像を表示するための表示部と、これらを制御するための制御部とを備える荷電粒子ビーム装置の制御方法において、制御部による制御により、画像信号形成部は前記複数の探針のうちの少なくとも２つの探針により検出された吸収電流信号を加算した合成信号を基に画像信号を形成することを特徴とする荷電粒子ビーム装置の制御方法。
【請求項５】
前記画像信号形成部は、前記少なくとも２つの探針により検出された吸収電流信号の信号レベルが同等になるようにレベル調整し、その後当該吸収電流信号の加算を行うことを特徴とする請求項４記載の荷電粒子ビーム装置の制御方法。
【請求項６】
前記画像信号形成部は、前記合成信号と、前記荷電粒子ビームの照射により前記試料から発生する被検出電子に基づく検出信号とを加算して画像信号を形成することを特徴とする請求項４若しくは５記載の荷電粒子ビーム装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、試料の検査を行うための荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム装置の制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
試料に形成された微細な配線パターンにおける断線の有無等を検査するために、当該試料に電子ビームからなる荷電粒子ビームを照射して、その際に試料に発生する吸収電流を検出する荷電粒子ビーム装置が開発されている。
【０００３】
このような荷電粒子ビーム装置の一例として、試料ステージに載置された試料上で電子ビームを走査し、このときに試料に流れる吸収電流を試料ステージを介して検出する装置がある。この場合、試料ステージには電流アンプが接続されており、試料ステージを介して検出された吸収電流信号を増幅し、増幅された吸収電流信号を電子ビームの走査に同期して取り出すことにより画像信号を形成する。これにより形成された画像信号を表示装置に供給することにより、吸収電流画像が表示される。ここで、電流アンプは、プリアンプとメインアンプとから構成されている。
【０００４】
このようにして試料に発生した吸収電流を検出する際には、直流電流を検出する直流検出モードや、交流電流を検出する交流検出モードによりその検出が行われている。交流検出モードを行うときには、電流アンプ内において、プリアンプとメインアンプとの間にコンデンサを介在させる。
【０００５】
試料の検査を行うオペレータは、表示装置に表示された吸収電流画像を目視にて確認することにより、試料に形成された配線パターンにおける断線の有無の判断や、断線があった場合における断線箇所の特定を行うことができる。
【０００６】
また、上記の構成からなる装置の他に、探針を試料上の配線パターンに接触させ、電子ビームが試料上を走査する際に試料に流れる吸収電流を探針を介して検出するものもある（例えば、特許文献１、特許文献２、及び特許文献３参照）。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−２９６３１４号公報
【特許文献２】特開２００２−３４３８４３号公報
【特許文献３】特開２００２−３６８０４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記構成からなる装置では、試料に流れる吸収電流を試料ステージを介して検出しているので、得られる吸収電流画像は試料上での平均情報となる。よって、互いに非導通とされた複数の配線パターンが試料に形成されている場合でも、電子ビームの走査領域に検査対象となるこれら複数の配線パターンが含まれていれば、一つの吸収電流画像を確認することにより当該複数の配線パターンについての検査を行うことができる。
【０００９】
しかしながら、この場合、試料に形成された各配線パターンの何れかに断線があったときには、得られた吸収電流画像におけるその断線箇所の部分のみの輝度が低下するだけで、その断線箇所を間に挟んで両側に位置する配線の部分の輝度は低下しない。
【００１０】
よって、パターン欠損が大きく、これによる断線箇所の領域が広い場合には、吸収電流画像を目視にて確認することによりその断線箇所の特定を行うことができるが、パターンの断裂に起因する場合等の断線箇所の領域が非常に狭い場合には、その箇所の特定を目視にて行うことが困難であった。なお、このことは、一つの配線パターンのみを検査対象として含めるように電子ビームの走査領域を設定した場合でも同様である。
【００１１】
また、上記各特許文献に記載されているように、探針を試料上の配線パターンに接触させ、当該探針を介して試料に発生する吸収電流を検出すれば、探針の接触箇所から見て断線箇所以降に位置する配線の輝度が低下するので、当該断線箇所の領域が非常に狭い場合でもその箇所の特定を行うことができる。
【００１２】
しかしながら、上述のように、互いに非導通とされた複数の配線パターンが形成された試料における各配線パターンの断線を検査する際には、一つの配線パターンに探針を接触させて吸収電流画像を得て検査をした後、次々に別の配線パターンに当該探針を接触させて吸収電流画像を得て検査をしなければならいので、手間がかかるとともに効率が良くなかった。
【００１３】
本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、互いに非導通とされた複数の配線パターンが形成された試料における各配線パターンの断線の検査を効率良く行うことのできる荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム装置の制御方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明における荷電粒子ビーム装置は、荷電粒子ビーム源と、荷電粒子ビーム源から放出された荷電粒子ビームを試料上に照射するための照射系と、試料表面に先端が接触し、荷電粒子ビームの照射により試料を流れる吸収電流を検出するための複数の探針と、検出された吸収電流信号に基づいて画像信号を形成するための画像信号形成部と、画像信号形成部により形成された画像信号に基づいて画像を表示するための表示部とを備え、画像信号形成部は、前記複数の探針のうちの少なくとも２つの探針により検出された吸収電流信号を加算した合成信号を基に画像信号を形成することを特徴とする。
【００１５】
また、本発明における荷電粒子ビーム装置の制御方法は、荷電粒子ビーム源と、荷電粒子ビーム源から放出された荷電粒子ビームを試料上に照射するための照射系と、試料表面に先端が接触し、荷電粒子ビームの照射により試料を流れる吸収電流を検出するための複数の探針と、検出された吸収電流信号に基づいて画像信号を形成するための画像信号形成部と、画像信号形成部により形成された画像信号に基づいて画像を表示するための表示部と、これらを制御するための制御部とを備える荷電粒子ビーム装置の制御方法において、制御部による制御により、画像信号形成部は前記複数の探針のうちの少なくとも２つの探針により検出された吸収電流信号を加算した合成信号を基に画像信号を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明においては、前記複数の探針のうちの少なくとも２つの探針により検出された吸収電流信号を加算した合成信号を基に画像信号形成部が画像信号を形成し、当該画像信号に基づいた画像が表示部により表示される。
【００１７】
よって、これらの探針が、試料に形成された互いに非導通とされた個別の配線パターンにそれぞれ接触していれば、当該各配線パターンにおけるそれぞれの吸収電流信号が加算された合成信号を基に画像信号が形成され、当該画像信号に基づいた画像が表示されるので、当該各配線パターンの検査を同一画像内で同時に行うことができる。
【００１８】
これにより、試料に形成された複数の配線パターンの検査を効率良く行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して、本発明における実施の形態について説明する。
【００２０】
図１は、本発明における荷電粒子ビーム装置を示す概略構成図である。同図において、１は荷電粒子ビーム源となる電子銃であり、この電子銃１からは電子ビーム（荷電粒子ビーム）１４が加速された状態で放出される。
【００２１】
電子銃１から放出された電子ビーム１４は、集束レンズ２及び対物レンズ４により試料１０の表面１０ａに細く集束された状態で照射される。このとき、走査コイル３により、電子ビーム１４は偏向され、試料１０の表面１０ａにおける所定領域を走査領域として走査する。
【００２２】
ここで、集束レンズ２、走査コイル３、及び対物レンズ４により照射系７が構成される。従って、電子銃１から放出された電子ビーム１４は、照射系７により制御されて試料１０上に照射される。
【００２３】
電子銃１、集束レンズ２、走査コイル３、及び対物レンズ４は、それぞれ対応する駆動部１ａ〜４ａにより駆動される。これら各駆動部１ａ〜４ａはバスライン１３に接続されている。バスライン１３には演算制御部２２が接続されており、この演算制御部２２は、荷電粒子ビーム装置の各構成要素を制御するとともに、必要な演算を実行する。
【００２４】
従って、演算制御部２２の制御によって各駆動部１ａ〜４ａは制御され、それに基づいて電子銃１、集束レンズ２、走査コイル３、及び対物レンズ４は駆動される。よって、電子ビーム１４が偏向されて試料１０上を走査する際には、演算制御部２２からの制御信号が走査コイル３を駆動する駆動部３ａに送られ、これにより走査コイル３が駆動されて電子ビーム１４が偏向される。このときには、電子銃１を駆動する駆動部１ａにも当該駆動部１ａを制御する制御信号が演算制御部２２から送られる。また、集束コイル２を駆動する駆動部２ａ及び対物レンズ４を駆動する駆動部４ａにも、それぞれ所定の制御信号が演算制御部２２から送られる。
【００２５】
電子ビーム１４が照射された試料１０の表面（試料表面）１０ａからは、２次電子等の被検出電子１５が発生する。この被検出電子１５は、電子検出器１６により検出される。電子検出器１６は、検出した被検出電子１５に基づいて検出信号を出力する。この検出信号は増幅部１７により増幅され、その後Ａ／Ｄ変換部１８によりディジタル信号に変換される。ディジタル信号に変換された検出信号は、バスライン１３を介して画像信号形成部１２に送られる。
【００２６】
このとき、走査コイル３を駆動部３ａにより駆動するための走査信号は、演算制御部２２からバスライン１３を介して画像信号形成部１２にも送られる。そして、画像信号形成部１２は、当該走査信号と検出データとを同期させて画像信号を形成する。このようにして形成された画像信号は、記憶部１９に画像データとして格納される。
【００２７】
また、画像信号形成部１２により形成された画像信号は、バスライン１３を介して表示部２０に送られる。表示部２０は、受けた画像信号に基づいて画像を試料像として表示する。
【００２８】
この装置を操作するオペレータは、表示部２０により表示された画像を目視にて確認する。これにより、被検出電子に基づいて形成された上記の試料像や、後述する吸収電流像を確認することができる。
【００２９】
なお、試料１０は、絶縁部１１を介して試料ステージ６に載置されている。試料ステージ６は、水平面でのＸ−Ｙ方向、垂直方向であるＸ方向に移動するとともに、回転及び傾斜の各動作が行われるようになっている。これにより、試料ステージ６に載置されている試料１０は、試料ステージ６の移動及び動作に伴って動くこととなる。
【００３０】
試料ステージ６は、駆動部６ａにより駆動される。そして、駆動部６ａは、駆動制御部６ｂからの制御信号に基づいて、試料ステージ６を駆動する。駆動制御部６ｂは、バスライン１３を介して、演算制御部２２により制御される。
【００３１】
本装置は、上記構成の他に、プロービングシステム５を備えている。このプロービングシステム５は、試料１０の上方に位置し、複数の探針（プローブ）８を備える。本実施の形態では、２つの探針８ａ，８ｂを備えたプロービングシステム５として説明する。なお、これらの探針８ａ，８ｂは、水平面に対して３０°以上傾いて設置されている。そして、各探針８ａ，８ｂの先端は試料表面１０ａに接触し、これにより試料１０を流れる吸収電流を検出することができる。
【００３２】
このプロービングシステム５における２つの探針８ａ，８ｂは、それぞれ駆動機構５ａ，５ｂに取り付けられている。ここで、駆動機構５ａ，５ｂは、ピエゾ素子等から構成される。
【００３３】
駆動機構５ａ，５ｂは、駆動部５ｃにより駆動される。そして、駆動部５ｃは、駆動制御部５ｄからの制御信号に基づいて、駆動機構５ａ，５ｂを駆動する。駆動制御部５ｄは、バスライン１３を介して、演算制御部２２により制御される。
【００３４】
駆動機構５ａ，５ｂに取り付けられた探針８ａ，８ｂは、それぞれ同軸ケーブル２３ａ，２３ｂを介して、電流増幅器９ａ，９ｂに接続されている。電流増幅器９ａ，９ｂは、探針８ａ，８ｂにより検出された吸収電流信号を増幅し、増幅後の吸収電流信号をＡ／Ｄ変換してバスライン１３に出力する。
【００３５】
電流増幅部９ａ，９ｂによりＡ／Ｄ変換された各吸収電流信号は、バスライン１３を介して、画像信号形成部１２に送られる。画像信号形成部１２は、当該各吸収電流信号の加算を行い、この結果得られる合成信号を取得する。
【００３６】
このとき、上述と同様に、走査コイル３を駆動部３ａにより駆動するための走査信号が、演算制御部２２からバスライン１３を介して画像信号形成部１２に送られる。そして、画像信号形成部１２は、当該走査信号と合成信号とを同期させて画像信号を形成する。このようにして形成された画像信号は、記憶部１９に画像データとして格納される。
【００３７】
また、上述と同様に、画像信号形成部１２により形成された画像信号は、バスライン１３を介して表示部２０に送られる。表示部２０は、受けた画像信号に基づいて吸収電流像としての画像を表示する。これにより、オペレータは、表示部２０により表示された吸収電流像を目視にて確認することができる。
【００３８】
なお、バスライン１３には入力部２１が接続されている。この入力部２１は、マウスやジョイスティック等のポインティングデバイス及びキーボードを備えている。オペレータは、入力部２１を適宜操作することにより、装置のマニュアル操作を実行したり、動作条件等の必要なデータの入力を行うことができる。
【００３９】
以上が本発明における荷電粒子ビーム装置の構成である。次に、当該荷電粒子ビーム装置の動作について説明する。ここで、本装置の各構成要素の動作は、演算制御部２２の制御により実行される。
【００４０】
試料１０が絶縁部１１を介して試料ステージ６に載置された状態で、電子銃１から試料１０に向けて電子ビーム１４を放出する。電子銃１から放出された電子ビーム１４は、集束レンズ２及び対物レンズ４により試料１０の表面１０ａに細く集束された状態で照射される。このとき、走査コイル３により、電子ビーム１４は偏向され、試料１０の表面１０ａにおける所定領域を走査領域として走査する。
【００４１】
ここで、試料１０の表面１０ａには、互いに非導通とされた複数の配線パターンが形成されているものとする。この配線パターンの例を図２に示す。
【００４２】
図２において、試料１０の表面１０ａには複数の配線パターンが形成されている。ここでは、２つの配線パターン５１，５２が示されている。
【００４３】
一方の配線パターン５１には、配線部６１と、当該配線部６１の両端に形成されたバッド部５３，５４とが設けられている。配線部６１は、表面１０ａに沿ってジグザグ状に形成されている。また、配線パターン５１において、少なくとも両パッド部５３，５４は露出されるようになっている。
【００４４】
また、他方の配線パターン５２にも、配線パターン５１と同様に、配線部６２と、当該配線部６２の両端に形成されたパッド部５５，５６とが設けられている。配線部６２も、上述と同様に、表面１０ａに沿ってジグザグ状に形成されている。また、配線パターン６１において、少なくとも両パッド部５５，５６は露出されるようになっている。
【００４５】
演算制御部２２は、試料１０の表面１０ａに設けられた両配線パターン５１，５２が電子ビーム１４の走査領域に含まれるように、駆動部３ａを制御する。駆動部３ａは、演算制御部２２からの制御信号に基づいて走査コイル３を駆動する。この結果、電子ビーム１４は、走査コイル３により、両配線パターン５１，５２を含む試料表面１０ａ上の所定領域を走査する。
【００４６】
電子ビーム１４が走査された試料表面１０ａ上の上記所定領域からは、被検出電子１５が発生する。この被検出電子１５は、電子検出器１６により検出される。電子検出器１６は、検出した被検出電子１５に基づいて検出信号を出力する。この検出信号は増幅部１７により増幅され、その後Ａ／Ｄ変換部１８によりディジタル信号に変換される。ディジタル信号に変換された検出信号は、バスライン１３を介して画像信号形成部１２に送られる。
【００４７】
このとき、走査コイル３を駆動部３ａにより駆動するための走査信号は、演算制御部２２からバスライン１３を介して画像信号形成部１２に送られる。そして、画像信号形成部１２は、当該走査信号と検出データとを同期させて画像信号を形成する。
【００４８】
画像信号形成部１２により形成された画像信号は、バスライン１３を介して表示部２０に送られる。表示部２０は、受けた画像信号に基づいて試料像としての画像を表示する。
【００４９】
オペレータは、表示部２０により表示された試料像を見て、２つの配線パターン５１，５２が画像の視野内に位置していることを確認する。もし、当該配線パターン５１，５２が視野内に位置していない場合には、入力部２１を操作し、電子ビームの走査条件の変更又は試料１０の位置の変更を適宜行い、試料表面１０ａ上での電子ビーム１４の走査領域を変える。そして、両配線パターン５１，５２が電子ビーム１４の走査領域に含まれて、画像（試料像）の視野内に位置するような状態とする。
【００５０】
このように電子ビーム１４が、両配線パターン５１，５２をその走査領域に含むように試料表面１０ａを走査している状態で、オペレータは、得られた試料像を見ながら入力部２１のポインティングデバイスを操作し、探針８ａ，８ｂを動かす。このとき、演算制御部２２は、入力部２１からの操作情報を受け取り、これに基づいて駆動制御部５ｄを制御する。駆動制御部５ｄは、演算制御部２２の制御に基づいて、駆動部５ｃに制御信号を出力する。駆動部５ｃは、駆動制御部５ｄからの制御信号に基づいて、駆動機構５ａ，５ｂを駆動し、これにより駆動機構５ａ，５ｂが駆動することとなり、探針８ａ，８ｂが移動する。
【００５１】
そして、オペレータは、図２に示すように、一方の探針８ａの先端が配線パターン５１のパッド部５３に接触し、また他方の探針８ｂの先端が配線パターン５２のパッド部５５に接触するように、両探針８ａ，８ｂを動かす。
【００５２】
探針８ａ，８ｂがそれぞれ配線パターン５１，５２のパッド部５３，５４に接触した後、さらに続けて電子ビーム１４を試料表面１０ａ上の当該走査領域に走査する。電子ビーム１４が試料表面１０ａをこのように走査すると、試料１０に吸収電流が生じる。配線パターン５１，５２に電子ビーム１４が照射されると、当該配線パターン５１，５２に吸収電流が生じて流れる。当該吸収電流は、それぞれ探針８ａ，８ｂにより検出される。
【００５３】
探針８ａ，８ｂにより検出された各吸収電流信号は、同軸ケーブル２３ａ，２３ｂを介して探針８ａ，８ｂに接続された電流増幅器９ａ，９ｂにより増幅されてＡ／Ｄ変換される。Ａ／Ｄ変換後の各吸収電流信号は、バスライン１３を介して画像信号形成部１２に送られる。画像信号形成部１２は、当該各吸収電流信号の加算を行い、この結果得られる合成信号を取得する。
【００５４】
このとき、走査コイル３を駆動部３ａにより駆動するための走査信号が、演算制御部２２からバスライン１３を介して画像信号形成部１２に送られる。そして、画像信号形成部１２は、当該走査信号と合成信号とを同期させて画像信号を形成する。
【００５５】
画像信号形成部１２により形成された画像信号は、バスライン１３を介して表示部２０に送られる。表示部２０は、受けた画像信号に基づいて吸収電流像としての画像を表示する。これにより、オペレータは、表示部２０により表示された吸収電流像を目視にて確認することができる。このとき、表示部２０によって表示された吸収電流像には、同一画像内に複数（２つ）の配線パターン５１，５２における吸収電流信号が含まれることとなる。
【００５６】
このように本発明においては、複数の探針８ａ，８ｂにより検出された吸収電流信号を加算して得られる合成信号を基に画像信号形成部１２が画像信号を形成し、当該画像信号に基づいた画像（吸収電流像）が表示部２０により表示される。
【００５７】
このとき、探針８ａ，８ｂが、試料１０に形成された互いに非導通とされた個別の配線パターン５１，５２にそれぞれ接触されているので、各配線パターン５１，５２におけるそれぞれの吸収電流信号が加算された合成信号を基に画像信号が形成されて、当該画像信号に基づいた画像が表示されることとなるので、当該各配線パターン５１，５２の検査を同一画像内で同時に行うことができる。
【００５８】
これにより、試料１０に形成された複数の配線パターン５１，５２の検査を効率良く行うことができる。
【００５９】
次に、本発明の変化例を図３を参照して説明する。ここで、図３は、本発明の変形例での試料１０における配線パターンを示す断面図である。
【００６０】
まず、当該試料１０について説明する。この試料１０には、複数の配線パターンが多層配線として形成されている。図３では、２つの配線パターン７１，７２及び複数の絶縁層１０１〜１０３が示されている。一方の配線パターン７１の下方に他方の配線パターン７２が配置されており、これら２つの配線パターン７１，７２の間には、絶縁層１０３が介在している。
【００６１】
配線パターン７１には、配線部８１とパッド部７３とが設けられている。配線部８１は、垂直方向にジグザグ上に形成されている。また、パッド部７３は露出されるようになっている。
【００６２】
また、配線パターン７１にも、配線部８２とパッド部７５とが設けられている。配線部８２は、配線パターン７１の配線部８１の下方を水平方向に伸張するように設けられている。また、パッド部７５は露出されるようになっている。
【００６３】
そして、この変形例においては、オペレータは、一方の探針８ａの先端が配線パターン７１のパッド部７３に接触し、また他方の探針８ｂの先端が配線パターン７２のパッド部７５に接触するように両探針８ａ，８ｂを動かす。
【００６４】
以下、上述と同様に、探針８ａ，８ｂにより検出された吸収電流信号を加算した合成信号を基に画像信号形成部１２が画像信号を形成し、当該画像信号に基づいた画像（吸収電流像）が表示部２０により表示される。
【００６５】
このとき、他方の配線パターン７２は、一方の配線パターン７１の下方に配置されているので、当該他方の配線パターン７２への電子ビーム１４の照射量は、一方の配線パターン７１への電子ビーム１４の照射量より少なくなる。これにより、この他方の配線パターン７２に生じる吸収電流量は、一方の配線パターン７１に生じる吸収電流量より減少することとなる。
【００６６】
従って、画像信号形成部１２において、単に探針８ａ，８ｂでそれぞれ検出された配線パターン７１，７２の各吸収電流信号の加算を行って画像信号を形成しても、下方に位置する配線パターン７２の吸収電流信号の輝度が著しく低下する場合がある。
【００６７】
このような場合には、画像信号形成部において当該配線パターン７２の吸収電流信号の信号レベルと、その上方に位置する配線パターン７１の吸収電流信号の信号レベルとが同等となるようにレベル調整を行い、その後各吸収電流信号の加算を行うようにすれば良い。このようにすることにより、下方に位置する配線パターン７２の吸収電流信号の輝度を、その上方に位置する配線パターン７１の吸収電流値の輝度に合わせることができ、良好な検査を行うことができる。
【００６８】
なお、図２及び図３に示した各実施例においては、探針８ａ，８ｂにより検出された吸収電流信号を加算した合成信号を基に画像信号形成部１２が画像信号を形成し、当該画像信号に基づいた画像（吸収電流像）が表示部２０により表示されるものであった。
【００６９】
しかしながら、上記各実施例において、上記合成信号と、電子検出器１６により検出された被検出電子１５に基づく検出信号とを画像信号形成部１２により加算して画像信号を形成するようにしても良い。この場合、表示部２０は、このようにして形成された画像信号に基づいた画像を表示する。
【００７０】
この例においては、上記合成信号による吸収電流像と、上記検出信号による試料像とが同一画像内で重ね合わされた状態の画像が表示部２０により表示されることとなる。よって、オペレータは、吸収電流像により確認される断線箇所の位置の特定を、これに重ね合わされて表示されている試料像を確認することにより行うことができる。従って、断線箇所の特定を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明における荷電粒子ビーム装置を示す概略構成図である。
【図２】本発明において検査対象となる試料に形成された配線パターンの例を示す平面図である。
【図３】本発明の変形例において検査対象となる試料に形成された配線パターンの例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００７２】
１…電子銃（荷電粒子ビーム源）、２…集束レンズ、３…走査コイル、４…対物レンズ、５…プロービングシステム、６…試料ステージ、７…照射系、８，８ａ，８ｂ…探針、９ａ，９ｂ…電流増幅部、１０…試料、１０ａ…試料表面、１２…画像信号形成部、１４…電子ビーム（荷電粒子ビーム）、１５…被検出電子、１６…電子検出器、１７…増幅部、１８…Ａ／Ｄ変換部、２０…表示部、２２…演算制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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