(57)【要約】【課題】ステージに装着されたシート体の装着位置を高精度且つ効率的に検出する。【解決手段】露光ステージ１８を介して基板Ｆを移動させ、基板Ｆに形成された各アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈにストロボ６４ａ、６４ｂからの照明光を所定の間隔で照射し、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂにより各アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈ毎に複数の画像を取得してそれらの平均位置を求め、規定の位置と比較して基板Ｆの装着位置の補正データを算出する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージに装着されたシート体の基準部位を読み取り、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を検出するシート体位置検出方法において、
前記シート体が装着された前記ステージを移動させ、前記ステージの異なる複数の移動位置での前記基準部位を所定の地点から読み取り、前記基準部位の前記各移動位置に対する読取位置を測定するステップと、
測定された前記各読取位置の平均位置を算出するステップと、
前記移動位置に対する前記平均位置の関係から、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を算出するステップと、
からなることを特徴とするシート体位置検出方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
前記各移動位置毎に前記基準部位に照明光を照射して前記基準部位を読み取ることを特徴とするシート体位置検出方法。
【請求項３】
ステージに装着されたシート体の基準部位を読み取り、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を検出するシート体位置検出装置において、
前記シート体が装着された前記ステージの異なる複数の移動位置での前記基準部位を所定の地点から読み取る読取手段と、
前記各移動位置で読み取った前記基準部位の各読取位置の平均位置を算出する平均位置算出手段と、
前記移動位置に対する前記平均位置の関係から、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を算出する装着位置算出手段と、
を備えることを特徴とするシート体位置検出装置。
【請求項４】
請求項３記載の装置において、
前記読取手段は、前記基準部位の二次元位置情報を取得する二次元撮像素子からなることを特徴とするシート体位置検出装置。
【請求項５】
請求項４記載の装置において、
前記読取手段は、前記各移動位置毎に前記基準部位に照明光を照射する照明手段を備え、前記二次元撮像素子は、前記照明光が照射された前記基準部位を撮像することを特徴とするシート体位置検出装置。
【請求項６】
請求項３記載の装置において、
前記ステージの移動位置を検出する移動位置検出手段を備えることを特徴とするシート体位置検出装置。
【請求項７】
ステージに装着されたシート体に対して描画を行う描画装置において、
前記ステージを移動させるステージ移動手段と、
前記ステージの異なる複数の移動位置における前記シート体の基準部位を所定の地点から読み取る読取手段と、
前記各移動位置で読み取った前記基準部位の各読取位置の平均位置を算出する平均位置算出手段と、
前記移動位置に対する前記平均位置の関係から、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を算出する装着位置算出手段と、
前記装着位置に基づき、前記シート体に描画する描画データの描画位置及び／又は描画方向を補正する描画位置補正手段と、
前記ステージとともに移動する前記シート体に描画を行う描画手段と、
を備えることを特徴とする描画装置。
【請求項８】
請求項７記載の装置において、
前記描画位置補正手段は、前記ステージの位置及び／又は移動方向に対する傾斜角度を補正することで、前記描画データの描画位置及び／又は描画方向を補正することを特徴とする描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージに装着されたシート体の基準部位を読み取り、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を検出するシート体位置検出方法及び装置並びにそれを用いた描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、感光材料からなるシート体を露光ステージに位置決め固定し、この露光ステージをシート体とともに移動させる一方、レーザビームを所望の画像パターンに従い変調してシート体を露光走査することにより、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフィルタや多層プリント配線基板を製造する露光装置が開発されている（特許文献１参照）。
【０００３】
このような露光装置では、シート体の所定位置に画像を正確に記録するため、シート体を露光ステージに高精度に位置決めする必要がある。特に、カラー液晶ディスプレイのカラーフィルタや多層プリント配線基板のように、同一のシート体の着脱を繰り返しながら所定のパターンを所定位置に重ねて露光記録しなければならないものにおいては、パターン間の位置ずれを回避するため、極めて高い位置決め精度が要求される。
【０００４】
そこで、レーザビームを出力して画像を記録する露光ヘッドとは別に、シート体の所定位置に配設された位置決め用のマークを読み取るマーク読取手段を設け、このマーク読取手段によって読み取ったマークの位置情報に基づいて、画像パターンの記録位置を補正することにより、露光ステージに対するシート体の位置決め誤差を吸収するようにしている。
【０００５】
【特許文献１】米国特許第５１３２７２３号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、シート体に対する効率的な記録処理を遂行するためには、露光ステージを往路移動させながらマークを読み取ってシート体の位置情報を取得した後、露光ステージを復路移動させ、取得した位置情報に従って記録位置を補正して画像パターンをシート体に記録することが望ましい。
【０００７】
しかしながら、露光ステージを移動させながらマークの読み取りを行うと、読み取ったマークの画像が露光ステージの移動方向に流れて変形し、あるいは、マークの画像がぼけてしまうため、マークの位置情報を高精度に取得することができなくなってしまう。特に、固体撮像素子を用いたＣＣＤカメラ等においては、各撮像素子に所望の電荷量を蓄積するために一定の露光時間が必要であるが、撮影中にマークが移動していると、画像にぶれが発生してしまう。
【０００８】
本発明は、前記の不具合を解消するためになされたもので、ステージに装着されたシート体の装着位置を高精度且つ効率的に検出することのできるシート体位置検出方法及び装置並びにそれを用いた描画装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記の課題を解決するため、本発明は、ステージに装着されたシート体の基準部位を読み取り、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を検出するシート体位置検出方法において、
前記シート体が装着された前記ステージを移動させ、前記ステージの異なる複数の移動位置での前記基準部位を所定の地点から読み取り、前記基準部位の前記各移動位置に対する読取位置を測定するステップと、
測定された前記各読取位置の平均位置を算出するステップと、
前記移動位置に対する前記平均位置の関係から、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を算出するステップと、
からなることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明は、ステージに装着されたシート体の基準部位を読み取り、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を検出するシート体位置検出装置において、
前記シート体が装着された前記ステージの異なる複数の移動位置での前記基準部位を所定の地点から読み取る読取手段と、
前記各移動位置で読み取った前記基準部位の各読取位置の平均位置を算出する平均位置算出手段と、
前記移動位置に対する前記平均位置の関係から、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を算出する装着位置算出手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１１】
さらに、本発明は、ステージに装着されたシート体に対して描画を行う描画装置において、
前記ステージを移動させるステージ移動手段と、
前記ステージの異なる複数の移動位置における前記シート体の基準部位を所定の地点から読み取る読取手段と、
前記各移動位置で読み取った前記基準部位の各読取位置の平均位置を算出する平均位置算出手段と、
前記移動位置に対する前記平均位置の関係から、前記ステージに対する前記シート体の装着位置を算出する装着位置算出手段と、
前記装着位置に基づき、前記シート体に描画する描画データの描画位置を補正する描画位置補正手段と、
前記描画位置の補正された前記描画データに基づき、前記ステージとともに移動する前記シート体に描画を行う描画手段と、
を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のシート体位置検出方法及び装置並びにそれを用いた描画装置では、ステージを移動させながら、ステージに装着されたシート体の装着位置を高精度且つ効率的に検出することができる。また、ステージを往路移動させながらシート体の装着位置を検出した後、ステージを復路移動させ、検出したシート体の装着位置に基づいて描画データの描画位置を補正することにより、シート体に対して高精度且つ効率的に描画を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１は、本発明の実施形態に係るシート体位置検出装置を含む描画装置であるプリント配線基板等の露光処理を行う露光装置１０を示す。露光装置１０は、複数の脚部１２によって支持された変形の極めて小さい定盤１４を備え、この定盤１４上には、２本のガイドレール１６を介して露光ステージ１８が矢印方向に往復移動可能に設置される。露光ステージ１８には、感光材料が塗布された矩形状の基板Ｆ（シート体）が吸着保持される。
【００１４】
定盤１４の中央部には、ガイドレール１６を跨ぐようにして門型のコラム２０が設置される。このコラム２０の一方の側部には、基板Ｆの所定位置に記録されたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄ及び６０ｅ〜６０ｈ（基準部位）を検出するＣＣＤカメラ２２ａ及び２２ｂが固定され、他方の側部には、基板Ｆに対して画像を露光記録する複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊが位置決め保持されたスキャナ２６が固定される。ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂには、ロッドレンズ６２ａ、６２ｂを介してストロボ６４ａ、６４ｂが装着される。ストロボ６４ａ、６４ｂは、基板Ｆを感光することのない赤外光からなる照明光をＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂの撮像域に照射する。
【００１５】
アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈは、露光ステージ１８によって搬送される基板Ｆの搬送方向両側部に所定間隔で配設された正方形状のマークからなり、画像が描画される基板Ｆと明確に区別することのできる色や切り欠き等により構成することができる。なお、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈは、正方形状に限られるものではなく、その位置を高精度に検出できるものであれば、任意の形状とすることができる。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊは、基板Ｆの走査方向（露光ステージ１８の移動方向）と直交する方向に２列で千鳥状に配列される。
【００１６】
図２は、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの構成を示す。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊには、例えば、光源ユニット２８を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビームＬが合波され光ファイバ３０を介して導入される。レーザビームＬが導入された光ファイバ３０の出射端には、ロッドレンズ３２、反射ミラー３４、及びデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が順に配列される。
【００１７】
ここで、ＤＭＤ３６は、ＳＲＡＭセル（メモリセル）の上に格子状に配列された多数のマイクロミラーを揺動可能な状態で配置したものであり、各マイクロミラーの表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。ＳＲＡＭセルにＤＭＤ制御ユニット４２から描画データに従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号に応じて各マイクロミラーが所定方向に傾斜し、その傾斜状態に従ってレーザビームＬのオンオフ状態が実現される。
【００１８】
オンオフ状態が制御されたＤＭＤ３６によって反射されたレーザビームＬの射出方向には、拡大光学系である第１結像光学レンズ４４、４６、ＤＭＤ３６の各マイクロミラーに対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー４８、ズーム光学系である第２結像光学レンズ５０、５２が順に配列される。なお、マイクロレンズアレー４８の前後には、迷光を除去するとともに、レーザビームＬを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー５４、５６が配設される。
【００１９】
図３は、露光装置１０の制御回路ブロック図である。露光装置１０は、ステージ駆動部６６（ステージ移動手段）を制御して露光ステージ１８を矢印方向に往復移動させるステージコントローラ６８と、露光ステージ１８に吸着保持された基板Ｆのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈを読み取るＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂ（読取手段）を制御するカメラコントローラ７０と、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊ（描画手段）を制御して基板Ｆに画像を描画する露光ヘッドコントローラ７２とを備える。
【００２０】
露光ステージ１８には、露光ステージ１８の移動位置を検出するエンコーダ等からなる位置検出器７４（移動位置検出手段）が連結される。位置検出器７４により検出された露光ステージ１８の移動位置は、トリガ信号生成部７６に供給される。また、トリガ信号生成部７６には、マーク位置データメモリ７８からマーク位置データが供給される。マーク位置データは、各アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈ毎に設定されており、基板Ｆが露光ステージ１８の正しい位置に位置決めされ、基板Ｆとともに各アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈが移動してＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂの所定の読取位置に到達したときに、位置検出器７４から出力される露光ステージ１８の移動位置として設定される。トリガ信号生成部７６は、位置検出器７４からの移動位置のデータと、マーク位置データメモリ７８からのマーク位置データとが一致したとき、一定の時間間隔、又は、位置検出器７４から供給される移動位置のデータに基づく露光ステージ１８の一定の移動間隔でトリガ信号Ｔ１〜Ｔ４をストロボコントローラ８０に出力する。ストロボコントローラ８０は、トリガ信号Ｔ１〜Ｔ４に従ってストロボ６４ａ、６４ｂを駆動し、照明光を間欠的に基板Ｆに照射する。
【００２１】
カメラコントローラ７０は、トリガ信号生成部７６から供給されるトリガ信号Ｔ１〜Ｔ４に基づき、ＣＣＤカメラシャッタ（電子シャッタ又はメカニカルシャッタ）を所定時間開放してアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの画像を撮像する一方、ＣＣＤカメラシャッタが閉塞した後の所定のタイミングでＡ／Ｄ変換器８２を制御し、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂによって撮像した画像を読み取る。
【００２２】
Ａ／Ｄ変換器８２によってデジタル信号に変換されたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの画像データは、画像データメモリ８４に記憶された後、補正データ算出部８６（平均位置算出手段、装着位置算出手段）に供給される。補正データ算出部８６は、マーク位置データメモリ７８から供給されるマーク位置データと、画像データメモリ８４から供給されるアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの画像データとに基づき、露光ステージ１８に対する基板Ｆの装着位置の補正データを算出する。
【００２３】
補正データ算出部８６は、補正データを描画データ補正部８８に供給する。描画データ補正部８８は、描画データメモリ９０から供給される描画データを前記補正データに従って補正し、露光ヘッドコントローラ７２に供給する。露光ヘッドコントローラ７２は、描画データ補正部８８から供給される補正された描画データに基づいて露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを制御し、基板Ｆに所望の画像を露光記録する。
【００２４】
本実施形態の露光装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その動作について説明する。
【００２５】
先ず、露光ステージ１８の所定位置に基板Ｆを吸着保持させる。この場合、基板Ｆが露光ステージ１８の正しい位置に位置決めされていないと、画像を高精度に記録することができない。また、基板Ｆが伸縮しているような場合においても同様に、画像を高精度に記録することができなくなってしまう。
【００２６】
そこで、基板Ｆを露光ステージ１８に吸着保持させた後、露光ステージ１８とともにスキャナ２６側に移動させ、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂによりアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈを撮像することにより、基板Ｆの装着位置を検出して補正データを算出する。この処理手順を図４に示すタイミングチャートに従って説明する。
【００２７】
ステージコントローラ６８は、ステージ駆動部６６を制御し、露光ステージ１８を一定の移動速度でスキャナ２６側に移動させる。位置検出器７４は、露光ステージ１８の移動位置を検出し、そのデータをトリガ信号生成部７６に供給する。一方、トリガ信号生成部７６には、マーク位置データメモリ７８から各アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの中心位置を示すマーク位置データが供給される。なお、マーク位置データは、基板Ｆが露光ステージ１８の正しい位置に位置決めされ、基板Ｆとともに各アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈが移動してＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂの所定の読取位置に到達したときの位置検出器７４から出力される露光ステージ１８の移動位置のデータに一致するように設定されている。
【００２８】
そこで、トリガ信号生成部７６は、マーク位置データメモリ７８から供給されるアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈのマーク位置データと、位置検出器７４により検出した移動位置のデータとが一致したとき、一定の時間間隔、又は、位置検出器７４から供給される移動位置のデータに基づく露光ステージ１８の一定の移動間隔からなるトリガ信号Ｔ１〜Ｔ４をカメラコントローラ７０及びストロボコントローラ８０に出力する。
【００２９】
カメラコントローラ７０は、最初のトリガ信号Ｔ１に従い、ＣＣＤカメラシャッタを所定時間開放してＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂによる画像の撮影を可能な状態とする。一方、ストロボコントローラ８０は、トリガ信号生成部７６から出力される各トリガ信号Ｔ１〜Ｔ４に従い、ストロボ６４ａ、６４ｂを駆動して基板Ｆのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈに照明光を照射する。
【００３０】
ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂを構成する撮像素子には、ストロボ６４ａ、６４ｂの各発光に応じてアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの画像情報に応じた電荷が蓄積される。図５は、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂの１つにより撮像した画像Ｐに含まれる１つのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの画像Ｐ１〜Ｐ４を示す。この場合、ＣＣＤカメラシャッタが開放状態となって画像Ｐを撮像している間、露光ステージ１８は、一定の速度で移動しており、ストロボ６４ａ、６４ｂがトリガ信号Ｔ１〜Ｔ４に基づく所定のタイミングで発光する毎に、１つのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈに対して４つの画像Ｐ１〜Ｐ４が撮像される。
【００３１】
１つのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの画像Ｐが撮像されてＣＣＤカメラシャッタが閉塞された後、カメラコントローラ７０は、Ａ／Ｄ変換器８２を制御して画像Ｐを読み取り、この画像Ｐを画像データメモリ８４に一旦記憶させる。
【００３２】
ここで、画像データメモリ８４に記憶される画像Ｐの画像データは、図６に模式的に示すように、各画像Ｐ１〜Ｐ４が、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂを構成する二次元撮像素子の各画素ｋの集合として構成されている。そして、各画像Ｐ１〜Ｐ４は、露光ステージ１８を移動させながら撮像しているため、各画素ｋに対応する各撮像素子の電荷蓄積量が不安定であり、また、ストロボ６４ａ、６４ｂからの照明光の照明むらやノイズの影響等があるため、ハッチングで示すように、正方形状のアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの形状に正確に対応した形状とはならず、また、画像Ｐ１〜Ｐ４毎の形状も一般的に異なっている。
【００３３】
そこで、補正データ算出部８６は、露光ステージ１８の移動方向及びそれと直交する方向に対する４つの画像Ｐ１〜Ｐ４の中心位置を算出し、各中心位置の平均位置を画像Ｐ１〜Ｐ４の代表位置とする。この場合、個々の画像Ｐ１〜Ｐ４から算出された中心位置の誤差が平均化されるため、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの読取位置を高精度に算出することができる。補正データ算出部８６は、算出したアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの読取位置のデータと、マーク位置データメモリ７８から供給されるアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの正しいマーク位置データとの差を求めることで、露光ステージ１８に対する基板Ｆの装着位置の位置ずれを補正する補正データを算出する。なお、補正データを各アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈ毎に算出することで、基板Ｆ上の８個所の補正データを得ることができる。また、各アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの補正データを補間処理すれば、基板Ｆ上の所望の位置に対する補正データを得ることもできる。算出された補正データは、描画データ補正部８８に供給される。
【００３４】
以上のようにして補正データを算出した後、ステージコントローラ６８は、ステージ駆動部６６を介して露光ステージ１８を復路移動させ、スキャナ２６による露光処理を開始する。
【００３５】
露光ステージ１８は、定盤１４のガイドレール１６に沿ってＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂ側に移動する。光源ユニット２８から出力されたレーザビームＬは、光ファイバ３０を介して各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに導入される。導入されたレーザビームＬは、ロッドレンズ３２から反射ミラー３４を介してＤＭＤ３６に入射する。
【００３６】
一方、描画データメモリ９０から読み出された描画データは、描画データ補正部８８において補正データにより描画位置が補正され、ＤＭＤ制御ユニット４２に供給される。ＤＭＤ制御ユニット４２は、補正された描画データに従ってＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラーをオンオフ制御する。ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０により所望の方向に選択的に反射されたレーザビームＬは、第１結像光学レンズ４４、４６によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー５４、マイクロレンズアレー４８及びマイクロアパーチャアレー５６を介して所定の径に調整され、次いで、第２結像光学レンズ５０、５２により所定の倍率に調整されて基板Ｆに導かれる。この場合、露光ステージ１８は、定盤１４に沿って移動し、基板Ｆには、露光ステージ１８の移動方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊにより所望の二次元画像が露光記録される。
【００３７】
なお、上述した実施形態では、図４に示すように、ＣＣＤカメラシャッタを開放した状態でストロボ６４ａ、６４ｂを複数回間欠的に発光させることにより、１つの画像Ｐに４つの画像Ｐ１〜Ｐ４を取り込むようにしている。これに対して、図７に示すように、トリガ信号Ｔ１〜Ｔ４に従ってストロボ６４ａ、６４ｂを発光させるとともに、ＣＣＤカメラシャッタを開閉させ、照明光が基板Ｆに照射される毎に画像Ｑ１〜Ｑ４を取り込み（図８参照）、各画像Ｑ１〜Ｑ４におけるアラインメントマーク６０ａ〜６０ｈの画像Ｐ１〜Ｐ４の平均位置を算出して補正データを求めるようにしてもよい。
【００３８】
また、上述した実施形態では、描画データ補正部８８において、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈを読み取って得られる補正データに基づき、描画データの描画位置を補正するものとしているが、例えば、露光ステージ１８に対して基板Ｆが傾斜した状態で装着されている場合には、補正データに基づいて描画方向を微調整するようにしてもよい。また、補正データに基づいて描画データそのものを補正する代わりに、露光ステージ１８の位置又は移動方向を微調整するようにしてもよい。
【００３９】
さらに、基板Ｆの基準部位を表すものとして、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｈを形成しているが、所定のパターンにより構成されるもの、あるいは、基板Ｆの位置を特定できる側縁部等であってもよい。
【００４０】
また、上述した露光装置１０は、例えば、プリント配線基板（ＰＷＢ：Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｗｉｒｉｎｇ  Ｂｏａｒｄ）の製造工程におけるドライ・フィルム・レジスト（ＤＦＲ：Ｄｒｙ  Ｆｉｌｍ  Ｒｅｓｉｓｔ）の露光、液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造工程におけるカラーフィルタの形成、ＴＦＴの製造工程におけるＤＦＲの露光、プラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）の製造工程におけるＤＦＲの露光等の用途に好適に用いることができる。また、本発明では、露光装置に限らず、たとえばインクジェット記録ヘッドを備えた描画装置にも同様して適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本実施形態の露光装置の外観斜視図である。
【図２】本実施形態の露光装置における露光ヘッドの概略構成図である。
【図３】本実施形態の露光装置における制御回路ブロック図である。
【図４】本実施形態の露光装置を構成するシート体位置検出装置の動作説明のタイミングチャートである。
【図５】本実施形態の露光装置を構成するシート体位置検出装置により撮像した画像の説明図である。
【図６】図５に示す画像の拡大説明図である。
【図７】シート体位置検出装置の他の実施形態の動作説明のタイミングチャートである。
【図８】シート体位置検出装置の他の実施形態における撮影画像の説明図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０…露光装置                １４…定盤
１８…露光ステージ            ２２ａ、２２ｂ…ＣＣＤカメラ
２４ａ〜２４ｊ…露光ヘッド    ２６…スキャナ
６４ａ、６４ｂ…ストロボ      ６８…ステージコントローラ
７０…カメラコントローラ      ７２…露光ヘッドコントローラ
７４…位置検出器              ７６…トリガ信号生成部
７８…マーク位置データメモリ  ８０…ストロボコントローラ
８４…画像データメモリ        ８６…補正データ算出部
８８…描画データ補正部        ９０…描画データメモリ
Ｆ…基板
【図１】
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【図２】
2006243004.tif 000004
【図３】
2006243004.tif 000005
【図４】
2006243004.tif 000006
【図５】
2006243004.tif 000007
【図６】
2006243004.tif 000008
【図７】
2006243004.tif 000009
【図８】
2006243004.tif 000010