(57)【要約】【課題】  液晶表示装置において、低コストで基板間隔（セルギャップ）を厳密に制御し、表示品質の優れた液晶表示装置を提供する。【解決手段】  セル厚制御用のスペーサ部材として無機絶縁体膜を用い、対向する二枚の基板を貼り合わせるための封止材１５０（接着剤）の両側を挟み込むように無機絶縁体膜からなる壁状スペーサを配置し接着する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素電極が形成された画素領域を有する第１の基板と、第２の電極を有する第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板の間には、壁状スペーサと封止剤パターンが設けられた液晶表示装置において、
前記封止材パターンは前記画素領域の外側に形成され、前記壁状スペーサは、前記封止材パターンに対して前記画素領域側でかつ前記画素領域より外側の領域と、前記封止材パターンに対して前記画素領域と反対側の領域と、の両方に形成された無機材料よりなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記画素電極はマトリクス状に複数配置されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記封止材パターンに対して前記画素領域と反対側の領域に形成された前記壁状スペーサは、不連続に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記封止材パターンに対して前記画素領域側でかつ前記画素領域の外側の領域に形成された前記壁状スペーサは、連続的に配置され、前記配置された領域よりも前記画素領域側の領域を閉空間としていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記封止材パターンに対して前記画素領域と反対側の領域に形成された前記壁状スペーサは、連続的に配置されていることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記画素電極が反射電極であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記封止材パターンに対して前記画素領域側でかつ前記画素領域の外側の領域に形成された前記壁状スペーサと、前記封止材パターンに対して前記画素領域と反対側の領域に形成された前記壁状スペーサは、同じ材料で形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
第１の基板の表面に第１の電極を形成する工程と、前記第１の基板の表面上にあって、画素領域より外側に無機材料からなる複数の壁状スペーサを形成する工程と、第２の基板の表面に第２の電極を形成する工程と、前記第１の基板と前記第２の基板をダイシングによりチップに分割する工程と、前記分割した第１の基板の周縁部に形成された複数の前記壁状スペーサによって挟まれる形で封止材パターンを形成する工程と、前記分割した第２の基板と前記分割した第１の基板を貼り合わせる工程と、前記封止材パターンの内側の前記画素領域に液晶材料を注入し封止する工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
第１の基板の表面に第１の電極を形成する工程と、前記第１の基板の表面上にあって、画素領域より外側に無機材料からなる複数の壁状スペーサを形成する工程と、第２の基板の表面に第２の電極を形成する工程と、前記第１の基板の表面上にあって前記第１の基板の周縁部でかつ前記無機材料からなる複数の壁状スペーサによって挟まれる形で封止材パターンを形成する工程と、前記画素領域に液晶材料を滴下する工程と、前記第２の基板と前記第１の基板を所定の間隙を有して貼り合わせる工程とを有し、上記工程を行った後にダイシングにより分割することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１の基板の表面に前記第１の電極を形成する際に、前記第１の電極の表面に透明かつ絶縁体からなる膜を形成し、前記壁状スペーサを形成する工程において該膜をストッパーとして使用することを特徴とする請求項８，９のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に係り、特に、パターニングで形成された壁状の無機材料によるスペーサを用いた液晶表示装置と、その製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、表面に電極を有する一対の基板を対抗配置し、この基板間に液晶材料を狭持した構造を有する装置であり、電極間に印加した電圧に応じて液晶材料による偏光状態を制御して画像を出力する。透過型、反射型、あるいは半透過型の液晶表示装置が多くの機器で使用されている。
【０００３】
図７は従来の反射型液晶表示装置の概念的な断面図である。表面に駆動回路や反射電極が形成されたＳｉ基板１１０と、表面に透明電極が形成されたガラス基板１２０とが対抗配置されており、封止材１５０によってＳｉ基板１１０とガラス基板１２０とが接着固定され、セルが形成されている。セル内には液晶材料１３０が封入され、基板間隔（セルギャップ）を厳密に制御するためスペーサ１４０が液晶材料１３０内及び封止材１５０の少なくとも一方に入れられている。従来、スペーサ１４０としては、図７に示すように主に樹脂またはシリカからなる球状のものが使用されている。しかし、液晶材料１３０中の球状スペーサは移動し易いため、表示部への移動によるコントラストの低下やスペーサの不均一分布によるセルギャップの不均一化の問題がある。また封止材１５０に球状スペーサを混入した場合にも基板１１０，ガラス基板１２０とスペーサ１４０とが点接触になるため、応力集中などによるダメージの問題がある。最近では球状スペーサに変えて感光性樹脂を用いたスペーサの使用が検討されている。感光性樹脂を用いたスペーサは、露光・現像処理によって基板１１０上に形成できるため、スペーサ自身を微細加工し所望の位置に正確に配置できるメリットがあるものの耐湿性や強度に劣り、また樹脂中の有機成分が液晶材料の劣化を促進するなどの問題もある。これらの問題を解決するために、特許文献１（特開平６−２７３７７３）には、シリコン酸化膜・シリコン窒化膜等の無機絶縁体膜からなるスペーサを使用した液晶表示装置が開示されている。しかし、剛性の高い無機絶縁体からなる壁状スペーサ１４１の近傍を封止材１５０で接着する場合、図８（ａ）（ｂ）に示すように、封止材の収縮に伴いガラス基板１２０が反ってセルギャップの均一性を損なうことになる。この問題を解決するために、特許文献１（特開平６−２７３７７３）では図８（ｃ）のように、壁状スペーサ１４１の両側に封止材１５０を配置することで解決している。
【特許文献１】特開平６−２７３７７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の構造では、液晶材料１３０と封止材１５０が直接接触するため、封止材１５０内に含有される有機成分が液晶材料１３０の劣化を促進するという問題や、一般に封止材の幅は１ｍｍ程度と広いため設置面積が広くなってしまうという問題がある。また、図９に示すように、封止部分を拡大すると壁状スペーサ１４１の形成は露光・現像・エッチング等の半導体（もしくは半導体に準ずる）プロセスによって形成するため壁面形状は直線的であるが、封止材１５０はシリンジ等による塗布工程で形成されるため壁面形状が波状になる。これは、Ｓｉ基板１１０とガラス基板１２０及び封止材１５０で囲まれたセルの容積にばらつきが生じることを意味している。直視型などの大判液晶表示装置の場合にはさして問題にはならないが、ＬＣＯＳ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｏｎ  Ｓｉｌｉｃｏｎ）や高温Ｐｏｌｙ−Ｓｉパネル等のチップサイズの小さな液晶表示装置の場合には、液晶材料１３０の総量が微少であるためセル容積のばらつきが無視できない。そのため、大判液晶表示装置の製造において製造コストを下げ、異物による歩留低下を防ぐために実施されている封止材の塗布・液晶滴下・基板貼合わせの一環プロセスが採用できないという問題点があった。本発明はこれらの問題を解決して、表示品質の優れた液晶表示装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、液晶表示装置において、低コストで基板間隔（セルギャップ）が厳密に制御された表示品質の優れた液晶表示装置を提供するための手段として、セル厚制御用のスペーサ部材として無機絶縁体膜を用い、スペーサを表示画素領域外に配置することを特徴とする。また、図１０に示すように対向する二枚の基板を貼り合わせるための封止材１５０（接着剤）の両側を挟み込むように無機絶縁体膜からなる壁状スペーサ１４１を配置し接着することを特徴とする。無機絶縁体膜としては、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン炭化物、水素を含有するシリコン炭化膜、アルミニウム酸化物等及びその積層膜を使用することが出来る。
【発明の効果】
【０００６】
スペーサ部材として無機絶縁体膜を用いることにより、表示画素内の無機絶縁体膜を露光・現像・エッチングによる一連の方法でパターニングして、表示画素外にのみスペーサを配置することができ、液晶材料の配向特性等に悪影響を及ぼさないように出来る。更に、無機絶縁体膜は機械的強度が高く、基板接着のプレスの際にも膜が破壊されず、所定のセル厚を保持できる。封止材１５０の両側に無機絶縁体膜からなる壁状スペーサ１４１を配置することにより、封止材１５０が収縮した場合にも封止材１５０の両側で剛性の高い無機絶縁体膜からなる壁状スペーサ１４１が均等にガラス基板１２０を保持するため、ガラス基板１２０の反りを防止することができる。更に、液晶材料１３０と接するのは内側の無機絶縁体膜からなる壁状スペーサ１４１なので、壁面形状が直線的でＳｉ基板１１０とガラス基板１２０及び壁状スペーサ１４１で囲まれたセルの容積にばらつきが生じることがなく、また封止材１５０と液晶材料１３０が直接接触しないため、有機成分による液晶材料１３０の劣化も起こらない。
【０００７】
したがって、本発明を用いることにより、液晶の配向特性に悪影響を及ぼすことなく、セルギャップが均一な厚さの液晶表示装置を提供でき、コントラストが高く均一な表示を達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
【０００９】
なお、以下に述べる実施の形態は、それぞれ、本発明の好適な具体例であり、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の技術的範囲はこれらの形態に限られるものではない。
【００１０】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの上面図である。本実施形態のセルは、画素領域として１４ｍｍ×１８ｍｍ、チップ面積として１６ｍｍ×２０ｍｍの表面に反射電極及び駆動回路を有するＳｉ基板１１０と、前記Ｓｉ基板１１０の表面上にあって前記Ｓｉ基板１１０の周縁部にそって形成された幅１ｍｍの封止材パターン１５０と、前記封止材パターン１５０の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による幅２０μｍの壁状スペーサＡ１４２と、前記封止材パターン１５０の外側に形成された無機材料による幅２０μｍの壁状スペーサＢ１４３と、表面に透明電極を有するガラス基板１２０と、前記Ｓｉ基板１１０と前記ガラス基板１２０を２μｍの間隙を有して貼り合わせたセルと、前記セル内に注入されたＶＡ液晶１３１とを有している。封止材には紫外線硬化型の接着剤を、無機材料による壁状スペーサにはＳＯＧ（Ｓｐｉｎ−Ｏｎ−Ｇｌａｓｓ）を使用した。無機材料による壁状スペーサはいずれも連続的である必要は無い。このような構成にすることで、前記Ｓｉ基板１１０と前記ガラス基板１２０を貼り合わせた間隙の均一性を面内で±５％に抑えられ、前記ガラス基板１２０の反りも無く、良好な画像が得られるＬＣＯＳデバイスが得られた。図１では壁状スペーサＡ１４２及び壁状スペーサＢ１４３はそれぞれ１本で記載してあるが、それぞれ２本以上でも良い。更に、前記Ｓｉ基板１１０の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Ｐｏｌｙ−Ｓｉパネルにおいても同様の効果が得られる。
【００１１】
（第２の実施形態）
図２は、本発明の第２の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの上面図である。本実施形態のセルは、画素領域として１４ｍｍ×１８ｍｍ、チップ面積として１６ｍｍ×２０ｍｍの表面に反射電極及び駆動回路を有するＳｉ基板１１０と、前記Ｓｉ基板１１０の表面上にあって前記Ｓｉ基板１１０の周縁部にそって形成された幅１ｍｍの封止材パターン１５０と、前記封止材パターン１５０の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による幅２０μｍの壁状スペーサＡ１４２と、前記封止材パターン１５０の外側に形成された無機材料による幅２０μｍの壁状スペーサＢ１４３と、表面に透明電極を有するガラス基板１２０と、前記Ｓｉ基板１１０と前記ガラス基板１２０を２μｍの間隙（セルギャップ）を有して貼り合わせたセルと、前記セル内に注入されたＶＡ液晶１３１とを有している。封止材には紫外線硬化型の接着剤を、無機材料による壁状スペーサにはＳＯＧ（Ｓｐｉｎ−Ｏｎ−Ｇｌａｓｓ）を使用した。前記封止材パターン１５０の外側に形成された無機材料による壁状スペーサＢ１４２は、前記セルを内包した閉曲線である。このような構成にすることで、前記Ｓｉ基板１１０と前記ガラス基板１２０を貼り合わせた間隙の均一性を面内で±５％に抑えられ、前記ガラス基板１２０の反りも無く、また、封止材１５０よりも耐湿性に優れた無機材料による壁状スペーサＢ１４２によって前記セルが囲まれているため、良好な画像が得られ信頼性の高いＬＣＯＳデバイスが得られた。図２では壁状スペーサＡ１４２及び壁状スペーサＢ１４３はそれぞれ１本で記載してあるが、それぞれ２本以上でも良い。更に、前記Ｓｉ基板１１０の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Ｐｏｌｙ−Ｓｉパネルにおいても同様の効果が得られる。
【００１２】
（第３の実施形態）
図３は、本発明の第３の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの上面図である。本実施形態のセルは、画素領域として１４ｍｍ×１８ｍｍ、チップ面積として１６ｍｍ×２０ｍｍの表面に反射電極及び駆動回路を有するＳｉ基板１１０と、前記Ｓｉ基板１１０の表面上にあって前記Ｓｉ基板１１０の周縁部にそって形成された幅１ｍｍの封止材パターン１５０と、前記封止材パターン１５０の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による幅２０μｍの壁状スペーサＡ１４２と、前記封止材パターン１５０の外側に形成された無機材料による幅２０μｍの壁状スペーサＢ１４３と、表面に透明電極を有するガラス基板１２０と、前記Ｓｉ基板１１０と前記ガラス基板１２０を２μｍの間隙（セルギャップ）を有して貼り合わせたセルと、前記セル内に注入されたＶＡ液晶１３１とを有している。封止材には紫外線硬化型の接着剤を、無機材料による壁状スペーサにはＳＯＧ（Ｓｐｉｎ−Ｏｎ−Ｇｌａｓｓ）を使用した。前記封止材パターン１５０の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による壁状スペーサＡ１４２は、前記セルを内包した閉曲線である。このような構成にすることで、前記Ｓｉ基板１１０と前記ガラス基板１２０を貼り合わせた間隙の均一性を面内で±５％に抑えられ、前記ガラス基板１２０の反りも無く、また、前記セルが、端面が直線状で位置精度の高い壁状スペーサＡ１４２で囲まれており、前記セルギャップも寸法精度の高い壁状スペーサＡ１４２、壁状スペーサＢ１４３で規定されるため、前記セル容積の精度も高く、良好な画像が得られるＬＣＯＳデバイスが得られた。図３では壁状スペーサＡ１４２及び壁状スペーサＢ１４３はそれぞれ１本で記載してあるが、それぞれ２本以上でも良い。更に、前記Ｓｉ基板１１０の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Ｐｏｌｙ−Ｓｉパネルにおいても同様の効果が得られる。
【００１３】
（第４の実施形態）
図４は、本発明の第４の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの上面図である。本実施形態のセルは、画素領域として１４ｍｍ×１８ｍｍ、チップ面積として１６ｍｍ×２０ｍｍの表面に反射電極及び駆動回路を有するＳｉ基板１１０と、前記Ｓｉ基板１１０の表面上にあって前記Ｓｉ基板１１０の周縁部にそって形成された幅１ｍｍの封止材パターン１５０と、前記封止材パターン１５０の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による幅２０μｍの壁状スペーサＡ１４２と、前記封止材パターン１５０の外側に形成された無機材料による幅２０μｍの壁状スペーサＢ１４３と、表面に透明電極を有するガラス基板１２０と、前記Ｓｉ基板１１０と前記ガラス基板１２０を２μｍの間隙（セルギャップ）を有して貼り合わせたセルと、前記セル内に注入されたＶＡ液晶１３１とを有している。封止材には紫外線硬化型の接着剤を、無機材料による壁状スペーサにはＳＯＧ（Ｓｐｉｎ−Ｏｎ−Ｇｌａｓｓ）を使用した。前記封止材パターン１５０の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による壁状スペーサＡ１４２と、前記封止材パターン１５０の外側に形成された無機材料による幅２０μｍの壁状スペーサＢ１４３は、共に前記セルを内包した閉曲線である。このような構成にすることで、前記Ｓｉ基板１１０と前記ガラス基板１２０を貼り合わせた間隙の均一性を面内で±５％に抑えられ、前記ガラス基板１２０の反りも無く、また、前記セルが、端面が直線状で位置精度の高い壁状スペーサＡ１４２で囲まれており、前記セルギャップも寸法精度の高い壁状スペーサＡ１４２、壁状スペーサＢ１４３で規定されるため、前記セル容積の精度も高く、また、封止材１５０よりも耐湿性に優れた無機材料による壁状スペーサＡ１４２、Ｂ１４２によって前記セルが囲まれているため、良好な画像が得られ信頼性の高いＬＣＯＳデバイスが得られた。図４では壁状スペーサＡ１４２及び壁状スペーサＢ１４３はそれぞれ１本で記載してあるが、それぞれ２本以上でも良い。更に、前記Ｓｉ基板１１０の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Ｐｏｌｙ−Ｓｉパネルにおいても同様の効果が得られる。
【００１４】
（第５の実施形態）
図５は、本発明の第５の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの製造方法を示す図である。まず、図５（ａ）に示すように、表面に反射電極及び駆動回路を有するＳｉ基板１１０を準備する。次に、図５（ｂ）に示すように壁状スペーサとなる無機材料を成膜する。無機材料は工業的には塗布によって成膜しスピンナの回転速度によって膜厚を制御できるＳＯＧであることが好ましいが、蒸着やスパッタによって行っても良い。本実施形態においては、厚膜用ＳＯＧを２０００ｒｐｍにて塗布し、２５０℃で３分のプリベーク、４００℃で３０分のキュアを行うことで、２μｍのＳＯＧ膜を形成した。次に、図５（ｃ）に示すように、画素領域の外側に幅２０μｍの壁状スペーサＡ１４２と壁状スペーサＢ１４３を、レジスト塗布・露光・現像・エッチングによって形成する。エッチングはドライエッチング装置によって行った。次に、図５（ｄ）に示すように、壁状スペーサＡ１４２と壁状スペーサＢ１４３の間にディスペンサーによって封止材１５０を塗布する。続けて、図５（ｅ）に示すように、前記Ｓｉ基板１１０にガラス基板１２０を貼り付け、１００ｍＷ／平方センチで１５秒のＵＶ照射及び１２０℃６０分の熱処理によって硬化接着した。次に、図５（ｆ）に示すように、注入口１５１からＶＡ液晶１５１を注入し、続けて、図５（ｇ）に示すように封止材Ａ１５２によって液晶を封止する。壁状スペーサＡ１４２、壁状スペーサＢ１４３を機械的強度が高い無機絶縁体膜（本実施例ではＳＯＧ）で形成することで精度良く間隙（セルギャップ）を制御することが可能であり、壁状スペーサＡ１４２及び壁状スペーサＢ１４３を画素領域１６０を完全に囲う閉曲線として形成しておくことで、封止材１５０とＶＡ液晶１３１が直接接触することを防ぎ、封止材１５０中に残留した有機成分がＶＡ液晶１３１の劣化させるのを防ぐとともに耐湿性を向上させることが可能となり、壁状スペーサＢ１４３を不連続に形成することで余分な封止材１５０を壁状スペーサＢ１４３外領域に逃がし、画素領域１６０にはみ出して表示不良や液晶の劣化を防ぐことが可能となる。封止材１５０の塗布量を適正に制御可能な場合には、壁状スペーサＢ１４３も画素領域１６０を完全に囲う閉曲線として形成することで耐湿性を向上させることも可能である。更に、前記Ｓｉ基板１１０の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Ｐｏｌｙ−Ｓｉパネルにおいても同様の効果が得られる。
【００１５】
（第６の実施形態）
図６は、本発明の第６の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの製造方法を示す図である。まず、図６（ａ）に示すように、表面に反射電極及び駆動回路を有するＳｉ基板１１０を準備する。次に、図６（ｂ）に示すように壁状スペーサとなる無機材料を成膜する。無機材料は工業的には塗布によって成膜しスピンナの回転速度によって膜厚を制御できるＳＯＧであることが好ましいが、蒸着やスパッタによって行っても良い。本実施例においては厚膜用ＳＯＧを２０００ｒｐｍにて塗布し、２５０℃で３分のプリベーク、４００℃で３０分のキュアを行うことで、２μｍのＳＯＧ膜を形成した。次に、図６（ｃ）に示すように、画素領域の外側に幅２０μｍの壁状スペーサＡ１４２と壁状スペーサＢ１４３を、レジスト塗布・露光・現像・エッチングによって形成する。エッチングはドライエッチング装置によって行った。次に、図６（ｄ）に示すように、壁状スペーサＡ１４２と壁状スペーサＢ１４３の間にディスペンサーによって封止材１５０を塗布し、連続して垂直配勾型液晶（ＶＡ液晶）を滴下する。続けて、図６（ｅ）に示すように、同一装置内でガラス基板１２０を貼り付け、１００ｍＷ／平方センチで１５秒のＵＶ照射及び１２０℃６０分の熱処理によって硬化接着した。このとき、壁状スペーサＡ１４２、壁状スペーサＢ１４３を機械的強度が高い無機絶縁体膜（本実施例ではＳＯＧ）で形成することで精度良く間隙（セルギャップ）を制御することが可能である。また、壁状スペーサＡ１４２を画素領域１６０を完全に囲う閉曲線として形成しておくことで、封止材１５０とＶＡ液晶１３１が直接接触することを防ぎ、封止材１５０中に残留した有機成分がＶＡ液晶１３１の劣化させるのを防ぐことが可能となり、壁状スペーサＢ１４３を不連続に形成することで余分な封止材１５０を壁状スペーサＢ１４３の外側の領域に逃がし、画素領域１６０にはみ出して表示不良や液晶の劣化を防ぐことが可能となる。封止材１５０の塗布量を適正に制御可能な場合には、壁状スペーサＢ１４３も画素領域１６０を完全に囲う閉曲線として形成することで耐湿性を向上させることも可能である。図示はしていないが、ここまでの工程は全てウエハ状態（大型基板状態）で行い、このあとダイシングによって各チップに分断することで、チップ毎に貼り合わせを実施するのと比較して低コストで液晶表示装置の製造が可能となる。更に、前記Ｓｉ基板１１０の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Ｐｏｌｙ−Ｓｉパネルにおいても同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明における第１の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの上面図及び断面図である。
【図２】本発明における第２の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの上面図及び断面図である。
【図３】本発明における第３の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの上面図及び断面図である。
【図４】本発明における第４の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの上面図及び断面図である。
【図５】本発明における第５の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの製造方法を説明した図である。
【図６】本発明における第６の実施形態の液晶表示装置の一種であるＬＣＯＳデバイスの製造方法を説明した図である。
【図７】従来の反射型液晶表示装置の概念的な断面図である。
【図８】従来構造の封止材の収縮に伴うガラス基板の反りの概念図である。
【図９】従来構造の封止部分の拡大図である。
【図１０】本発明における封止部分の拡大図である。
【符号の説明】
【００１７】
０１  液晶表示装置
１１０  Ｓｉ基板
１２０  ガラス基板
１３０  液晶材料
１３１  ＶＡ液晶
１４０  スペーサ
１４１  壁状スペーサ
１４２  壁状スペーサＡ
１４３  壁状スペーサＢ
１５０  封止材
１５１  注入口
１５２  封止材Ａ
１６０  画素領域
【図１】
2006178301.tif 000003
【図２】
2006178301.tif 000004
【図３】
2006178301.tif 000005
【図４】
2006178301.tif 000006
【図５】
2006178301.tif 000007
【図６】
2006178301.tif 000008
【図７】
2006178301.tif 000009
【図８】
2006178301.tif 000010
【図９】
2006178301.tif 000011
【図１０】
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