(57)【要約】【課題】  ムラ等による表示品位の低下を生じることなく、画像表示装置の視野角の拡大に寄与する光学補償シートを提供する。【解決手段】  液晶性化合物の少なくとも一種、及び一般式（１）：（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n（Ａｒは（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環基又は芳香族炭化水素環基を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆはアルキル基又はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１又は２を表す）で表される化合物の少なくとも一種を含有する組成物をダイコーターにより塗布して形成された光学異方性層を有する光学補償シートである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶性化合物の少なくとも一種、及び下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも一種を含有する組成物を、ダイコーターにより塗布して形成された光学異方性層を有する光学補償シート：
一般式（１）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
式（１）中、Ａｒは（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環基又は芳香族炭化水素環基を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆはアルキル基又はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１又は２を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲｆおよびＸは同一でも異なっていてもよい。
【請求項２】
前記組成物が、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの少なくとも１種をさらに含有する請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項３】
前記組成物が、１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の少なくとも１種をさらに含有する請求項１又は２に記載の光学補償シート。
【請求項４】
前記組成物が、セルロースエステルの少なくとも１種をさらに含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項５】
前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項６】
前記光学異方性層中、前記液晶性化合物の分子がハイブリッド配向し、該ハイブリッド配向が固定されている請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項７】
液晶性化合物の少なくとも一種、及び請求項１中に記載の一般式（１）で表される化合物の少なくとも一種を含有する組成物を、ダイコーターにより塗布して、前記液晶性化合物の分子を、前記一般式（１）で表される化合物の存在下で水平配向させる工程と、
該水平配向した液晶性化合物の分子をハイブリッド配向させる工程と、
該ハイブリッド配向状態にある液晶性化合物を固定して光学異方性層を形成する工程と、
を含む光学補償シートの製造方法。
【請求項８】
少なくとも、偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方の表面に透明保護膜とを有し、該透明保護膜が、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シートである偏光板。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シートを有する液晶表示装置。
【請求項１０】
液晶セルと、該液晶セルの両側にそれぞれ配置された一対の偏光膜とを有し、前記一対の偏光膜の少なくとも一方と液晶セルとの間に請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シートを有する請求項９に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な光学補償シート及びその製造方法、ならびにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置の技術分野に属する。また、本発明は、液晶、特にディスコティック液晶性化合物の空気界面における傾斜角を制御する方法の技術分野にも属する。
【背景技術】
【０００２】
光学補償シートは画像着色解消や視野角拡大のために、様々な液晶表示装置で用いられている。従来から光学補償シートとしては延伸複屈折フイルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フイルムに代えて、透明支持体上にディスコティック液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。この光学異方性層は、通常、ディスコティック液晶性化合物を含む組成物を配向膜上に塗布し、配向温度よりも高い温度に加熱してディスコティック液晶性化合物を配向させ、その配向状態を固定することにより形成される。一般に、ディスコティック液晶性化合物は、大きな複屈折率を有するとともに、多様な配向形態がある。そして、ディスコティック液晶性化合物を用いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になってきている。また、一方で、ディスコティック液晶性化合物には、多様な配向形態が存在するため、所望の光学特性の発現には、光学異方性層におけるディスコティック液晶性化合物の配向を制御する技術が必要である。特に光学補償性能の発現には、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角を支持体面からの距離に伴って変化するように配向させる、いわゆる「ハイブリッド配向」の状態を実現することが重要であり、光学補償シートの性能、すなわち、視野角拡大、視角変化によるコントラスト低下、階調反転、黒白反転、および色相変化等を決める最も重要な因子となる。
【０００３】
このハイブリッド配向は、ディスコティック液晶性化合物の配向の方位角を規制する目的で支持体上に設けられる配向膜表面の傾斜角と、光学補償シートの最外面である空気側界面の傾斜角との差を利用して実現されている。ディスコティック液晶性化合物を用いて光学補償シートを塗設、乾燥した後、ディスコティック液晶性化合物は、空気界面と配向膜界面の両方でそれぞれ安定な傾斜角でモノドメイン配向する。その結果、膜の厚み方向に連続的に傾斜角が変化した配向状態が形成される。そのため、ハイブリッド配向を実現するには、配向膜界面の傾斜角は、空気界面の傾斜角より大幅に小さくしなくてはならない。ポリビニルアルコールを用いた配向膜は、その傾斜角が０°に近いために目的のハイブリッド配向の実現に好適に用いられている（特許文献１）。
【０００４】
一方、所望の光学補償機能を得るためには、空気界面側の傾斜角を増大させる必要がある。通常の空気界面で得られる傾斜角である５０°を凌ぐ角度を得る方法としてセルロース部分エステル化物を添加する方法が提案されている（特許文献２）。しかし、本発明者がこれらの光学補償シートを実際に使用してみたところ、偏光板の斜め方向からの光漏れが認められ、視野角が充分に、すなわち、理論的に期待できる程度まで拡大しないものもあることが判明した。光学補償機能が不充分になる理由の一つとして、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角が充分に制御できていないことが考えられる。
【０００５】
また、従来は、光学異方性層の形成時には、ワイヤーバーを用いた塗布方法が主に用いられていた。しかし、ワイヤーバーを用いた塗布方法では、液受け槽中の塗布液振動、又は塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより、段状のムラが発生しやすい。またこれらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が比較的困難である。そのためこれらの塗布方式ではある速度以上の塗布の高速化が困難であり、塗布本来の生産性の高さが活かし切れていない。さらに、近年は、より高機能の光学補償シートを作製するために、従来よりも薄い膜厚（例えば２０μｍ以下）の光学異方性層を安定的に形成し得る塗布技術に対する要求が高まっている。高精度な薄層塗布技術としては、スロットダイの先端リップをシャープエッジ化する技術の提案がなされている（特許文献３）。
【０００６】
【特許文献１】特開平８−５０２０６号公報
【特許文献２】特開平８−９５０３０号公報
【特許文献３】特表平９−５１１６８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、光学補償機能に優れ、画像表示装置、特に、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード等の液晶表示装置に適用した場合に、視野角の拡大に寄与する新規な光学補償シートを提供することを課題とする。また、本発明は、ムラ等による表示品位の低下を生じることなく、画像表示装置の視野角の拡大に寄与する光学補償シートを提供することを課題とする。また、本発明は、充分な傾斜角（特に空気界面側の傾斜角）でハイブリッド配向した液晶性分子からなる光学異方性層を有する光学補償シートを安定的に且つ迅速に作製し得る方法を提供することを課題とする。また、本発明は、画像表示装置、特に、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード等の液晶表示装置に適用した場合に、視野角の拡大に寄与する新規な光学補償シートを安定的に且つ迅速に作製し得る方法を提供することを課題とする。
【０００８】
［１］  液晶性化合物の少なくとも一種、及び下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも一種を含有する組成物を、ダイコーターにより塗布して形成された光学異方性層を有する光学補償シート：
一般式（１）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
式（１）中、Ａｒは（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環基又は芳香族炭化水素環基を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆはアルキル基又はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１又は２を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲｆおよびＸは同一でも異なっていてもよい。
［２］  前記組成物が、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの少なくとも１種をさらに含有する［１］の光学補償シート。
［３］  前記組成物が、１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の少なくとも１種をさらに含有する［１］又は［２］に記載の光学補償シート。
［４］  前記組成物が、セルロースエステルの少なくとも１種をさらに含有する［１］〜［３］のいずれかの光学補償シート。
［５］  前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である［１］〜［４］のいずれかの光学補償シート。
［６］  前記光学異方性層中、前記液晶性化合物の分子がハイブリッド配向し、該ハイブリッド配向が固定されている［１］〜［５］のいずれかの光学補償シート。
［７］  前記セルロースエステルがセルロースアセテートブチレートである［１］〜［６］のいずれかの光学補償シート。
【０００９】
［８］  液晶性化合物の少なくとも一種、及び［１］中に記載の一般式（１）で表される化合物の少なくとも一種を含有する組成物を、ダイコーターにより塗布して、前記液晶性化合物の分子を、前記一般式（１）で表される化合物の存在下で水平配向させる工程と、
該水平配向した液晶性化合物の分子をハイブリッド配向させる工程と、
該ハイブリッド配向状態にある液晶性化合物を固定して光学異方性層を形成する工程とを含む光学補償シートの製造方法。
［９］  前記透明支持体上に塗布液を塗布して形成される塗膜の湿潤膜厚が２０μｍ以下となるように塗布する［８］に記載の製造方法。
【００１０】
［１０］  ［１］〜［７］のいずれかの光学補償シートを有する液晶表示装置。
［１１］  液晶セルと、該液晶セルの両側にそれぞれ配置された一対の偏光膜とを有し、前記一対の偏光膜の少なくとも一方と液晶セルとの間に［１］〜［７］のいずれかの光学補償シートを有する［１１］の液晶表示装置。
［１２］  少なくとも、偏光膜と、該偏光膜の片面に設けられた透明保護膜とを有し、該透明保護膜が、［１］〜［７］のいずれかの光学補償シートである偏光板。
【発明の効果】
【００１１】
本発明では、液晶性化合物とともに、前記一般式（１）で表される化合物を含有する組成物を、ダイコーターで塗布して光学異方性層を形成することにより、光学補償機能に優れ、且つ画像表示装置に適用した場合に、広い視野角拡大性能を有する光学補償シートを提供している。本発明の光学補償シートは、光学異方性層形成時の塗布ムラに起因する画像表示ムラを生じさせることなく、表示品位を損なわずに、画像表示装置の視野角の拡大に寄与し得る。また、本発明の方法によれば、液晶性分子を充分な傾斜角（特に空気界面側の傾斜角）でハイブリッド配向させることができ、さらにダイコーターを用いることにより、薄い膜厚の光学異方性層を安定的に且つ迅速に形成することができる。その結果、種々の表示モード、特にＴＮモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード等の液晶表示装置に適用可能な光学補償シートを安定的に且つ迅速に作製することができる。
【発明の実施の形態】
【００１２】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の光学補償シートは、液晶性化合物の少なくとも一種、及び後述する一般式（１）で表される化合物の少なくとも一種を含有する組成物を、ダイコーターにより塗布して形成された光学異方性層を有する。まず、ダイコーターを用いた塗布方法について説明する。ダイコーターは、例えば、塗布液等を貯蔵するタンクと、該タンクから所定量の塗布液をダイに供給するポンプ等から構成される塗布液供給手段と、供給された塗布液をビードとして連続的に搬送されるフイルム等に供給するダイとから構成される。ダイコーターによる塗布方式は、供給部において、ポンプの回転数等を制御することで、塗布液の供給量を一定量とすることができる、いわゆる前計量方式である。その結果、安定的に均一の膜厚の光学異方性層を形成することができる。また、高速化した場合も、塗布ムラに起因する段状のムラが発生することが少なく、光学補償シートの生産性を向上させることもできる。
【００１３】
本発明に用いるダイコーターとしては、スロットダイを用いるのが好ましい。スロットダイを用いることにより、より安定的に均一な膜厚の光学異方性層を形成することができる。図１に本発明に使用可能なスロットダイコーターの一例の概略模式図を示す。コーター１０は、バックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブ（例えば、透明フイルム）１２の表面に、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして供給して、ウェブ１２表面に塗布膜１４ｂを形成する。
【００１４】
スロットダイ１３は、その内部にポケット１５及びスロット１６が形成されている。ポケット１５は、その形状の断面が曲線及び直線で構成される。例えば、図１に示すような略円形でもよいし、半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向（図１中では、紙面を垂直に貫く方向。以下同様である）に、同一の断面形状で延長された空間であり、塗布液を溜めておくのに利用される。その幅方向の延長の有効長さは、塗布幅（例えば、透明フイルムの幅）と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロットとは反対側の面中央から、例えば、供給量を制御可能な供給ポンプ（不図示）等で行われる。ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ないようにするための栓を設けてもよい。
【００１５】
スロット１６は、ポケット１５と同様に、スロットダイ１３の幅方向に、同一の断面形状で延長された空間であり、ポケット１５からウェブ１２への塗布液１４の流路である。ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、幅規制板（不図示）等を用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６の、スロット先端におけるバックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、一般に３０°以上９０°以下であるのが好ましいが、この範囲に限定されるものではない。
【００１６】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１７ａとされている。この平坦部１７ａであって、スロット１６に対してウェブ１２の進行方向の上流側を以下、上流側リップランド１８と称し、下流側を下流側リップランド１９と称する。
【００１７】
下流側リップランド１９のウェブ走行方向における長さＩＬＯは３０μｍ〜５００μｍが好ましく、より好ましくは３０μｍ〜１００μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜６０μｍである。また、上流側リップランド１８のウェブ進行方向における長さＩＵＰは特に限定されないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。
【００１８】
図２は、スロットダイ１３の断面形状の概略図（Ａ）と、他のスロットダイ３０の断面形状の概略図（Ｂ）である。図２（Ｂ）に示すスロットダイ３０では、下流側リップランド３１のランド長さＩＬＯは、上流側リップランドの長さＩＵＰと同様の長さになっている。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、図２（Ａ）に示すスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩＬＯが上流側リップランドの長さＩＵＰと比較して短くなっている。本発明では、いずれの形状のスロットダイを用いることもできるが、膜厚が２０μｍ以下の塗布を行う場合は、スロットダイ１３の様に、ＩＬＯがＩＵＰより短い形状のスロットダイを用いるほうが、より高い精度で均一の膜厚の塗布を行えるので好ましい。さらに、下流側リップランド１９のランド長さＩＬＯが３０μｍ〜１００μｍの範囲であると、寸法精度のよいリップランドを形成することができるので、より好ましい。
【００１９】
また、塗膜の膜厚を高精度で均一化するためには、下流側リップランド１９のランド長さＩＬＯのスロットダイ１３の幅方向における変動幅を２０μｍ以内にするのが好ましい。変動幅が前記範囲であると、ビードをより安定的に形成することができ、外乱等が生じてもビードが不安定となるのを防止し、製造適性を維持することができる。
【００２０】
スロットダイの材質については特に制限はないが、スロット１６の開口部ａを含む先端リップ１７の強度や表面状態の向上の観点から、少なくともこの箇所を含むスロットダイの材質を、超硬材質にするのが好ましい。超硬材質を用いることにより、表面形状の均質性が改善するとともに、常に吐出される塗布液による先端リップの摩耗を防止することもできる。塗布液として研磨材を含む磁性液等を塗布する場合は特に有効である。超硬材質としては、ＷＣを主成分とする材質が挙げられる。例えば、ＷＣ炭化物結晶をＣｏをはじめとする結合金属で結合して調製された材質などが挙げられる。結合金属はＣｏに限定されず、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂをはじめとする各種金属を使用することもできる。前記ＷＣ結晶の平均粒径については特に制限はないが、平均粒径は小さいのが好ましく、５μｍ以内であるのが好ましい。
【００２１】
さらに、薄層の塗布膜厚を高精度に均一に維持するには、スロットダイ１０の先端部における寸法精度のみならず、バックアップロール１３の真直度の精度も重要である。従って、下流側リップランド１９のランド長さＩＬＯの塗布幅方向における寸法精度を維持するほかに、スロットダイ１３の先端リップ１７とバックアップロール１１の両方の真直度の精度が高いのが好ましい。真直度は下記の式（１）により、概算ではあるが、実用的に十分な精度で求めることができる。但し、下記式（１）を満たさないスロットダイコーターであっても、勿論、本発明に用いることができる。ここで、図３に示すように、Ｐｏはウェブ１２の進行方向側におけるビードメニスカス外の圧力、Ｐｐはポケット１５の内圧、σは塗布液１４の表面張力、μは塗布液１４ａの粘度、Ｕは塗布速度、ｈは膜厚、ｄは下流側リップランド１９とウェブ１２との隙間の長さ、Ｌはスロットダイ１３のスロット１６の長さ、Ｄはスロットダイ１３のスロット間隙である。そしてスロットダイ１３のポケット１５の内圧Ｐｐと、ウェブ進行方向側のビードメニスカス外の圧力Ｐｏの差圧Ｐｏ−Ｐｐを、スロットダイ１３の幅方向に一定として、下記（１）式を用いて、必要真直度を求める。これは、スロットダイ１３の先端部とバックアップロール１１との隙間の長さｄが変化しても、スロットダイ１３のポケット１５の中と前記ビードメニスカス外の差圧が一定となるように、スロットダイ１３の幅方向の流れがポケット１５の中で発生して、流量分布となることによる。
Po-Pp=1.34σ/h・(μU/σ)2/3+12μUILO(d/2-h)/d3-12μhUL/D3・・・（１）
【００２２】
上記数式（１）を満たす条件でスロットダイコーターにより塗布を実施すると、一般の工業的生産に用いられる塗布系においては、５μｍ程度のダイブロック幅方向の真直度で、塗布膜厚分布が２％程度（条件により厳密には異なる場合もある）になる。従って、高精度の薄膜塗布を実施する際の限界はこの数字であるとみなすことができる。これにより、前記スロットダイ１３を塗布位置にセットしたときに，前記先端リップとウェブとの隙間の前記スロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以内となるように、先端リップと前記バックアップロールの真直度を維持するのが好ましい。
【００２３】
また、本発明のダイコーターとして、スライドコーターを用いることもできる。スライドコーターは、多層塗布を行う場合に好ましく用いられる。例えば、２以上の光学異方性層を有する光学補償シートを作製する場合には、複数の層の形成用塗布液を安定的に同時に塗布できる。スライドコーターは、スロット部を有するダイのブロックを複数積層した構成であり、スロットから供給される塗布液を安定な多層流として、ウェブに供給するスライド面を有する。積層するブロックの数は、形成する光学異方性層の数に応じて決定することができる。スライドコーターの具体例については、特開平７−３１８７２７号公報、特開平８−４３６２５号公報等に詳細が記載され、いずれも本発明に用いることができる。
その他、本発明には種々のダイコーターを用いることができるが、ダイコーターの中でも、上記したスロットダイコーター及びスライドコーターが好ましく、特に図２（Ａ）に示した構造のスロットダイコーターが好ましい。
【００２４】
次に、本発明の光学補償シートの作製に用いられる種々の材料について説明する。
［光学補償シート］
本発明の光学補償シートの一実施形態は、透明支持体と、該透明支持体上に、液晶性化合物と一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種とを含有する組成物を、ダイコーターにより塗布して形成された光学異方性層を有する。前記組成物中には、液晶性化合物の少なくとも一種、後述する一般式（１）で表される化合物の少なくとも一種以外に、種々の添加剤等を含有させてもよい。また、本発明の光学補償シートは、前記透明支持体と光学異方性層との間に、配向膜を有していてもよい。
【００２５】
（一般式（１）で表される化合物）
次に本発明の光学補償シートに用いられる下記一般式（１）で表される化合物について説明する。該化合物は、液晶性化合物の空気界面における傾斜角を増加させるのに寄与する。
一般式（１）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
式（１）中、Ａｒは（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環基又は芳香族炭化水素環基を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆはアルキル基又はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１又は２を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲｆおよびＸは同一でも異なっていてもよい。
【００２６】
更に詳細に説明すると、上記一般式（１）において、Ａｒで表される（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環基は、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２の芳香族ヘテロ環の基である。例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子の少なくとも１種を含む芳香族ヘテロ環の残基であり、より具体的には、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、イソキサゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、１，３，５−トリアジン環、インドール環、インダゾール環、キノリン環、カルバゾール環の残基が好ましい。Ａｒで表される（ｍ＋ｎ）価の芳香族炭化水素環の基は、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環の残基であり、ベンゼン環の残基が最も好ましい。Ａｒは（ｍ＋ｎ）価の芳香族炭化水素環の基であるのが好ましい。
【００２７】
Ａｒで表される（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環の基又は芳香族炭化水素環の基は、−Ｘ−Ｒｆ及び−Ｗ以外の置換基を有していてもよく、該置換基の例としては以下のものが挙げられる。
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００２８】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００２９】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００３０】
Ａｒの−Ｘ−Ｒｆ及び−Ｗ以外の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基が好ましく、特に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基である。但し、Ａｒは、−Ｘ−Ｒｆ及び−Ｗ以外の置換基で置換されていないのが最も好ましい。
【００３１】
前記式（１）中、Ｘで表される２価の連結基はアルキレン基、アルケニレン基、２価の芳香族基、２価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。２価の連結基は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる２価の連結基を少なくとも２つ組み合わせた基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、可能であれば前述のＡｒの置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基など）によって置換されていてもよい。
Ｘは２価の連結基であるのが好ましく、中でもアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であるのがより好ましい。
【００３２】
Ｒｆで表されるアルキル基は、環状構造であっても、分岐構造を有していてもよい。炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数４〜２０であることがより好ましく、炭素数８〜２０であることが特に好ましい。
【００３３】
Ｒｆで表されるフッ素原子で置換されたアルキル基は、環状構造であっても、分岐構造を有していてもよく、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数４〜１６であることがより好ましく、炭素数４〜１２であることが特に好ましい。フッ素原子の置換率は、アルキル基に含まれる水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されていることが好ましく、６０％以上が置換されていることがより好ましい。Ｒｆは、末端がＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基であることが好ましく、ＣＦ3基であることが特に好ましい。Ｒｆで表されるフッ素原子で置換されたアルキル基は、可能であれば前述のＡｒの置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基など）によって置換されていてもよい。
以下に、Ｒｆの具体例を示す。
【００３４】
Ｒｆ１：ｎ−Ｃ8Ｆ17−
Ｒｆ２：ｎ−Ｃ6Ｆ13−
Ｒｆ３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−
Ｒｆ４：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ５：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ７：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）3−
Ｒｆ８：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）3−
Ｒｆ９：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）3−
Ｒｆ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−
Ｒｆ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−
Ｒｆ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−
Ｒｆ１３：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１４：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１５：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−ＣＨ2ＣＨ2−（ｎ−Ｃ4Ｆ9−ＣＨ2ＣＨ2−）ＣＨＣＨ2−
【００３５】
Ｗはスルホ基であることが好ましく、ｍは１又は２が好ましく、ｎは１が好ましい。
【００３６】
前記一般式（１）の範囲には、下記一般式（１ａ）が含まれる。
【００３７】
【化１】
2006053391.tif 000002
一般式（１ａ）において、Ｘ2は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ2はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｒは水素原子又はアルコキシ基を表す。
【００３８】
一般式（１ａ）において、Ｘ2及びＲｆ2は一般式（１）におけるＸ及びＲｆと同義であり、好ましい範囲も同一である。Ｒで表されるアルコキシ基のアルキル基部分は、環状構造であっても、分岐構造を有していてもよい。前記アルコキシ基は、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数４〜２０であることがより好ましく、炭素数８〜２０であることが特に好ましい。Ｒで表されるアルコキシ基は、可能であれば前述のＡｒの置換基として例示された基によって置換されていてもよい。Ｒは無置換のアルコキシ基が特に好ましい。
【００３９】
また、前記一般式（１）の範囲には、下記一般式（２）が含まれる。
【００４０】
一般式（２）
（Ｒｆ1−Ｘ1−）2Ａｒ1（−Ｗ1）n1
式（２）中、Ａｒ1は芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘ1は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ1はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗ1はスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｎ１は１又は２を表す。
【００４１】
更に詳細に説明すると、上記一般式（２）において、Ａｒ1、Ｘ1、Ｒｆ1、Ｗ1、及びｎ１は、前記一般式（１）におけるＡｒ、Ｘ、Ｒｆ、Ｗ、及びｎと同義であり、好ましい範囲も同一である。式（２）中、二つのＸ1及びＲｆ1は、各々同一でも異なっていてもよい。
【００４２】
前記一般式（２）で表される化合物の中でも、下記一般式（２ａ）で表される化合物が好ましい。
【００４３】
【化２】
2006053391.tif 000003
一般式（２ａ）において、Ｘ3は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ3はフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。
【００４４】
前記一般式（２ａ）において、Ｘ3及びＲｆ3は、前記一般式（２）におけるＸ1及びＲｆ1と同義であり、好ましい範囲も同一である。
【００４５】
上記一般式（１）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【００４６】
【化３】
2006053391.tif 000004
【００４７】
【化４】
2006053391.tif 000005
【００４８】
【化５】
2006053391.tif 000006
【００４９】
【化６】
2006053391.tif 000007
【００５０】
前記一般式（１）で表される化合物は、一般的なヒドロキシ基のアルキル化反応及び芳香族化合物のスルホ化反応等を組み合わせることによって容易に合成することができる。
【００５１】
前記一般式（１）で表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％が特に好ましく、０．０５〜１質量％が最も好ましい。本発明では、前記一般式（１）で表される化合物の１種を用いてもよく、また２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、少なくとも１種は、前記一般式（２）で表される化合物であるのが好ましい。前記一般式（１ａ）で表される化合物の少なくとも一種と、前記一般式（２）で表される化合物の少なくとも一種との組み合わせが好ましく、前記一般式（１ａ）で表される化合物の少なくとも一種と、前記一般式（２ａ）で表される化合物の少なくとも一種との組み合わせがより好ましい。
【００５２】
（液晶性化合物）
本発明の光学補償シートは、液晶性化合物の配向によって発現された光学異方性を有する。光学異方性層中において液晶性化合物の分子は、配向状態に固定されているのが好ましく、ハイブリッド配向状態に固定されているのがより好ましい。本発明に用いられる液晶性化合物については特に制限はなく、種々の化合物を用いることができる。棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましく、ディスコティック液晶性化合物を用いるのがより好ましい。また、液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶であってもよい。さらに、低分子液晶性化合物が層を形成する際に架橋され、もはや液晶性を示さなくなったものも含まれる。
【００５３】
（棒状液晶性化合物）
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、本発明の棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。棒状液晶性化合物については、例えば、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載のものを採用できる。
棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
【００５４】
棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基またはエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。
【００５５】
（ディスコティック液晶性化合物）
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年））に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０））に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年））に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年））、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【００５６】
ディスコティック液晶性化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。ディスコティック液晶性化合物から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物がディスコティック液晶性化合物である必要はなく、例えば、低分子のディスコティック液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００５７】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式（III）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００５８】
一般式（III）
Ｄ（−ＬＱ）n
一般式（III）中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｑは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
【００５９】
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（またはＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｑ）との組み合わせを意味する。
【００６０】
【化７】
2006053391.tif 000008
【００６１】
【化８】
2006053391.tif 000009
【００６２】
【化９】
2006053391.tif 000010
【００６３】
【化１０】
2006053391.tif 000011
【００６４】
【化１１】
2006053391.tif 000012
【００６５】
【化１２】
2006053391.tif 000013
【００６６】
【化１３】
2006053391.tif 000014
【００６７】
【化１４】
2006053391.tif 000015
【００６８】
ハイブリッド配向では、液晶性化合物の長軸（ディスコティック液晶性化合物では円盤面）と支持体の面との角度、すなわち傾斜角が、光学異方性層の深さ（すなわち、透明支持体に垂直な）方向に増加または減少している。角度は、支持体面からの距離の増加と共に増加していることが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。しかしながら、傾斜角は連続的に変化することが好ましい。
【００６９】
液晶性化合物の長軸（ディスコティック液晶性化合物では円盤面）の平均方向（各分子の長軸方向の平均）は、一般に液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の液晶性化合物の長軸（ディスコティック液晶性化合物では円盤面）方向は、液晶性化合物の種類を選択することによって、及び液晶性化合物と共に使用する、上記一般式（１）で表される化合物の作用により調整することができる。
【００７０】
光学異方性層中には、液晶性化合物、上記一般式（１）で表される化合物以外に、他の添加剤を含有させてもよい。他の添加剤の例には、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどが含まれる。これらの添加剤は、液晶性化合物等の必須成分に対し相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角の制御に寄与するか、又は配向を阻害しないことが好ましい。
【００７１】
（セルロースエステル）
前記光学異方性層形成用の組成物中に、セルロースエステルを含有させると、空気界面側の液晶性化合物の分子の傾斜角をより増加させることができるので、好ましい。また、セルロースエステルは、組成物を支持体面上等に塗布した際のハジキの発生を軽減するのにも寄与する。本発明に使用可能なセルロースエステルの好ましい例には、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース及びカルボキシメチルセルロースが含まれる。中でも、セルロースアセテートブチレートが好ましい。前記セルロースエステルの添加量は、液晶性化合物の総量に対して質量百分率で、好ましくは０．０１〜８％、より好ましくは０．０１〜２％、さらに好ましくは０．０１〜１％である。
【００７２】
（フルオロ脂肪族基含有ポリマー）
前記光学異方性層は、フルオロ脂肪族基含有ポリマーをさらに含有しているのが好ましい。フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、光学異方性層の形成時に用いられる組成物（塗布液）中に含有させることができる。該フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、光学異方性層のムラの防止に寄与する。従来の大型液晶表示装置では、光学フイルムに起因する表示ムラの問題があったが、本発明の光学補償シートを用いることによって、大型液晶表示装置のムラを軽減し、大型液晶表示装置の画像品位を改善することができる。
【００７３】
本発明では、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーとして、下記一般式（３）で表されるモノマーから誘導される少なくとも一種の繰り返し単位を含む重合体を用いるのが好ましい。
【００７４】
【化１５】
2006053391.tif 000016
一般式（３）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ2）−を表し、Ｈfは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。ｍは１〜６の整数であり、１又は２が好ましい。ｎは２〜４の整数であり、２又は３が好ましい。前記重合体は、複数種の前記一般式（３）で表されるモノマーの共重合体であってもよい。
一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーのより具体的なモノマーの例を以下にあげるがこの限りではない。
【００７５】
【化１６】
2006053391.tif 000017
【００７６】
【化１７】
2006053391.tif 000018
【００７７】
【化１８】
2006053391.tif 000019
【００７８】
【化１９】
2006053391.tif 000020
【００７９】
【化２０】
2006053391.tif 000021
【００８０】
【化２１】
2006053391.tif 000022
【００８１】
【化２２】
2006053391.tif 000023
【００８２】
前記フルオロ脂肪族化合物は、テロメリゼーション法（テロマー法）またはオリゴメリゼーション法（オリゴマー法）により製造することができる。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  ＩＩ」（Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ  １８７，Ｅｄ  ｂｙ  Ｍｉｌｏｓ  Ｈｕｄｌｉｃｋｙ  ａｎｄ  Ａｔｔｉｌａ  Ｅ．Ｐａｖｌａｔｈ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９９５）の７４７−７５２ページに記載されている。テロメリゼーション法とは、ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である（Ｓｃｈｅｍｅ−１に例を示した）。
【００８３】
【化２３】
2006053391.tif 000024
【００８４】
得られた、末端ヨウ素化テロマーは通常、例えば（Ｓｃｈｅｍｅ２）のごとき適切な末端化学修飾を施され、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合物は必要に応じ、さらに所望のモノマー構造へと変換され、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの製造に使用される。
【００８５】
【化２４】
2006053391.tif 000025
【００８６】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、さらに下記一般式（４）で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
【００８７】
【化２５】
2006053391.tif 000026
一般式（４）において、Ｒ3は水素原子又はメチル基を表し、Ｙは２価の連結基を表し、Ｒ4は置換もしくは無置換のポリ（アルキレンオキシ）基、置換基もしくは無置換の炭素数１〜２０の直鎖、又は炭素数４〜２０の分岐もしくは炭素数３〜２０の環状のアルキル基を示す。
【００８８】
Ｙが表す２価の連結基としては、酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ5）−が好ましい。ここでＲ5は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましい。Ｒ5は、より好ましくは、水素原子又はメチル基である。Ｙは、酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−および−Ｎ（ＣＨ3）−がより好ましい。
【００８９】
Ｒ4が表す置換換基を有してもよいポリ（アルキレンオキシ）基は、（ＲＯ）xで表すことができ、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基であり、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）−であることが好ましい。
前記のポリ（アルキレンオキシ）基中のアルキレンオキシ単位はポリ（プロピレンオキシ）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のアルキレンオキシが不規則に分布されたものであってもよい。直鎖もしくは分岐状のプロピレンオキシ又はエチレンオキシ単位、直鎖もしくは分岐状のプロピレンオキシ単位のブロック又はエチレンオキシ単位のブロックとして存在するものであってもよい。
【００９０】
前記ポリ（アルキレンオキシ）鎖は、複数のポリ（アルキレンオキシ）単位同士が１つまたはそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など、ここでＰｈはフェニレン基を表す）で連結されたものであってもよい。連鎖の結合が３つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、分岐鎖のアルキレンオキシ単位を得ることができる。また、ポリ（アルキレンオキシ）基の化合物量は２５０〜３，０００が適当である。
【００９１】
Ｒ4で表される炭素数１〜２０の直鎖、炭素数４〜２０の分岐または炭素数３〜２０の環状のアルキル基の例には、直鎖および分岐してもよいメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等；シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基；及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基等の多環シクロアルキル基が含まれる。
【００９２】
Ｒ4で表されるポリ（アルキレンオキシ）基またはアルキル基は置換されていてもよく、該置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等が挙げられるが、この限りではない。
【００９３】
前記一般式（４）で表されるモノマーは、アルキル（メタ）アクリレートまたはポリ（アルキレンオキシ）（メタ）アクリレートであることが特に好ましい。
一般式（４）で示されるモノマーの具体例を次に示すが、この限りではない。
【００９４】
【化２６】
2006053391.tif 000027
【００９５】
【化２７】
2006053391.tif 000028
【００９６】
【化２８】
2006053391.tif 000029
【００９７】
【化２９】
2006053391.tif 000030
【００９８】
【化３０】
2006053391.tif 000031
【００９９】
【化３１】
2006053391.tif 000032
【０１００】
【化３２】
2006053391.tif 000033
【０１０１】
【化３３】
2006053391.tif 000034
【０１０２】
【化３４】
2006053391.tif 000035
【０１０３】
【化３５】
2006053391.tif 000036
【０１０４】
【化３６】
2006053391.tif 000037
【０１０５】
【化３７】
2006053391.tif 000038
【０１０６】
【化３８】
2006053391.tif 000039
【０１０７】
なお、ポリ（アルキレンオキシ）アクリレートおよびメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（アルキレンオキシ）材料、例えば商品名“プルロニック”（Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製）、“アデカポリエーテル”（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”（Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス））、“トリトン”（Ｔｏｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ製））および“Ｐ．Ｅ．Ｇ”（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。また、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。
【０１０８】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーとしては、前記一般式（３）で表されるモノマーのホモポリマー、又は前記一般式（３）で表されるモノマーと前記一般式（４）で表されるモノマー（より好ましくは、ポリアルキレンオキシ（メタ）アクリレート、さらに好ましくはポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートまたはポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレート）との共重合体が好ましい。
【０１０９】
本発明に用いるフルオロ脂肪族基含有ポリマーは、上記一般式（３）及び上記一般式（４）で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位以外の繰り返し単位を含んだ、共重合体であってもよい。上記各モノマーと共重合可能なモノマーの好ましい共重合比率としては、全モノマー中の２０モル％以下、より好ましくは１０モル％以下である。このようなモノマーとしては、「ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）」の第２章の１〜４８３頁記載のものを用いることが出来る。例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【０１１０】
具体的には、以下のモノマーを挙げることができる。
アクリル酸エステル類：
フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど、
メタクリル酸エステル類：
フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど、
【０１１１】
アリル化合物：
アリルエステル類（例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど
【０１１２】
ビニルエーテル類：
アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど
【０１１３】
ビニルエステル類：
ビニルビチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。
【０１１４】
イタコン酸ジアルキル類：
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。
フマール酸のジアルキルエステル類またはモノアルキルエステル類：
ジブチルフマレートなど
その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど。
【０１１５】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマー中の前記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該ポリマーの構成モノマー総量の５モル％以上であるのが好ましく、より好ましくは２０モル％以上、さらに好ましくは３０モル％以上である。本発明のフルオロ脂肪族基含有ポリマー中の前記一般式（４）で表されるモノマーの量は、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの構成モノマー総量の１０モル％以上であるのが好ましく、より好ましくは１５〜７０モル％であり、さらに好ましくは２０〜６０モル％である。
【０１１６】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの好ましい重量平均分子量は、３，０００〜１００，０００であり、より好ましく６，０００〜８０，０００である。
更に、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの、光学異方性層形成用の組成物中における含有量は、好ましくは０．００５〜８質量％であり、より好ましくは０．０１〜１質量％であり、さらに好ましくは０．０５〜０．５質量％である。前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの添加量を０．００５質量％以上とすることにより、より良好なものが得られ、また８質量％以下とすることにより、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、光学フイルムとしての性能（例えばレターデーションの均一性等）に悪影響を及ぼすのをより効果的に防止できる。
【０１１７】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは公知の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有する（メタ）アクリレート、ポリアルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート等の単量体を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。
以下、本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有ポリマーの具体的な構造の例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは重量平均分子量を表す。
【０１１８】
【化３９】
2006053391.tif 000040
【０１１９】
【化４０】
2006053391.tif 000041
【０１２０】
【化４１】
2006053391.tif 000042
【０１２１】
【化４２】
2006053391.tif 000043
【０１２２】
【化４３】
2006053391.tif 000044
【０１２３】
【化４４】
2006053391.tif 000045
【０１２４】
【化４５】
2006053391.tif 000046
【０１２５】
【化４６】
2006053391.tif 000047
【０１２６】
【化４７】
2006053391.tif 000048
【０１２７】
（１，３，５−トリアジン環基を有する化合物）
前記光学異方性層は、１，３，５−トリアジン環基を有する化合物を含有していてもよい。該化合物は、液晶性化合物、特にディスコティック液晶性化合物を、水平配向状態からハイブリッド配向状態に安定的に転移させるのに寄与する。１，３，５−トリアジン環基を有する化合物は、光学異方性層を形成する際に用いる組成物中に含有させることができる。なお、本発明に使用可能な１，３，５−トリアジン環基を有する化合物としては、下記一般式（５）または（６）で表される化合物が好ましい。
【０１２８】
【化４８】
2006053391.tif 000049
【０１２９】
一般式（５）において、Ｌ1、Ｌ2およびＬ3はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表し、Ａ1、Ａ2およびＡ3はそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、ｍ2、ｍ3およびｍ4は０以上の整数を表す。Ｒ10、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ独立に有機基であり、ｍ2が０の時、Ｒ10はアルキル基であり、ｍ3が０の時、Ｒ11はアルキル基であり、ｍ4が０の時、Ｒ12はアルキル基である。
【０１３０】
【化４９】
2006053391.tif 000050
【０１３１】
一般式（６）において、Ｘ4及びＹ4はそれぞれ独立に、ＮＲa（Ｒaは水素原子またはアルキル基を表す）、Ｏ及びＳのいずれかを表し、Ｚ4は二価の連結基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ独立に、置換基を表す。
【０１３２】
まず、前記一般式（５）で表される化合物について詳細に説明する。
Ｌ1、Ｌ2およびＬ3で各々表される二価の連結基の例としては、例えば−ＣＯ−、―ＮＲa−（Ｒaはアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。より好ましくは、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基であり、さらに好ましくは−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ2−からなる群選ばれる二価の連結基、又は該群から選ばれる二価の連結基の２種又は３種の組み合わせである。最も好ましくは、−ＮＲa−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の連結基、又は該群から選ばれる二価の連結基の２種又は３種の組み合わせである。
【０１３３】
Ａ1、Ａ2およびＡ3で各々表されるアルキレン基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、また置換されていてもよい。前記置換もしくは無置換のアルキレン基は、炭素数２〜３０のアルキレン基であるのが好ましく、その例には、−ＣＨ2−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2−及び−（ＣＨ2）4−）が含まれる。好ましくは−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−（ＣＨ2）4−である。
【０１３４】
ｍ2、ｍ3およびｍ4は０以上の整数を表わし、好ましくは１〜１０で、より好ましくは１〜５である。
【０１３５】
Ｒ10、Ｒ11およびＲ12で各々表される有機基としては、アルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ドデシル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２−エチルヘキシル基、２‐へキシルデシル基、２−オクチルドデシル基、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル基、
【０１３６】
シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基が挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ（１．２．２）ヘプタン−２−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクタン−３−イル基）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が得に好ましい。）、
【０１３７】
アルケニル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基、多シクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ（２．２．１）ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクト−２−エン−４−イル基またはトリシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が特に好ましい）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基）、
【０１３８】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェニル基、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェニル基、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェニル基、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェニル基）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族ヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、等が挙げられる。
【０１３９】
Ｒ10、Ｒ11およびＲ12で各々表される有機基は、置換基を有してもよく、該置換基としては、前記一般式（１）においてＡｒで表される芳香族ヘテロ環基または芳香族炭化水素環基の置換基として挙げた基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｒ10、Ｒ11およびＲ12で各々表される有機基の置換基は、特に好ましくは、置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１４０】
前記一般式（５）で表される化合物の中でも、下記一般式（５ａ）で表される化合物が好ましい。
【０１４１】
【化５０】
2006053391.tif 000051
【０１４２】
一般式（５ａ）において、Ａ1、Ａ2およびＡ3はそれぞれ独立し、アルキレン基を表し、ｍ2、ｍ3およびｍ4は０以上の整数を表し、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ独立し有機基であり、ｍ2が０の時、Ｒ10はアルキル基であり、ｍ3が０の時、Ｒ11はアルキル基であり、ｍ4が０の時、Ｒ12はアルキル基である。
【０１４３】
一般式（５ａ）においてＡ1、Ａ2およびＡ3、ｍ2、ｍ3およびｍ4、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12は一般式（５）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲も同一である。
【０１４４】
次に、前記一般式（６）で表される化合物について詳細に説明する。
式中、Ｚ4で表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価のアリール基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。
【０１４５】
Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16で各々表される置換基としては、アルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ドデシル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２−エチルヘキシル基、２‐へキシルデシル基、２−オクチルドデシル基、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル）基、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基が挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ（１．２．２）ヘプタン−２−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクタン−３−イル基）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が得に好ましい。）、
【０１４６】
アルケニル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基が挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ（２．２．１）ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクト−２−エン−４−イル基）、やトリシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が得に好ましい。）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基）、
【０１４７】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェニル基、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェニル基、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェニル、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェニル基）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
【０１４８】
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノキシ基、２−パーフルオロヘキシルエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェノキシ基、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェノキシ基、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェノキシ基、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、
【０１４９】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、
【０１５０】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、３−パーフルオロヘキシルプロピルアミノ基、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミノ、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ基、３−（２−ヘキシルデカノオキシ）プロピルアミノ基、３−ドデシルオキシプロピルアミノ基、３−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）プロピルアミノ基、３−（３−（６Ｈ−パーフルオロヘキシル）プロピルオキシ）プロピルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、２−メチルオキシアニリノ基、２−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基、２−（２−パーフルオロブチルエチルオキシ）アニリノ基、２、４−ジ（２−パーフルオロヘキシルエチルオキシ）アニリノ基、２−（６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）アニリノ基、３，４−ジ（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基、Ｎ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、
【０１５１】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、
【０１５２】
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイ基ル、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、
【０１５３】
アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、
【０１５４】
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールアゾ基およびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、
【０１５５】
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）が挙げられる。
【０１５６】
上記置換基の中で水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていてもよい。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基などが挙げられる。
【０１５７】
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、それらの置換基は同一でも、異なっていてもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１５８】
好ましくはＲ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は、置換もしくは無置換のアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基又はヘテロ環アミノ基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換のアルキルアミノ基（例えばメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、３−パーフルオロヘキシルプロピルアミノ基、３−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミノ基、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ基、３−（２−ヘキシルデカノオキシ）プロピルアミノ基、３−ドデシルオキシプロピルアミノ基、３−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）プロピルアミノ基、３−（３−（６Ｈ−パーフルオロヘキシル）プロピルオキシ）プロピルアミノ）基、アリールアミノ基（例えばアニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、２−メチルオキシアニリノ基、２−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基、２−（２−パーフルオロブチルエチルオキシ）アニリノ基、２，４−ジ（２−パーフルオロヘキシルエチルオキシ）アニリノ基、２−（６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）アニリノ基、３，４−ジ（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基）である。
【０１５９】
前記一般式（６）で表される化合物の中でも、下記一般式（６ａ）で表される化合物が特に好ましい。
【０１６０】
【化５１】
2006053391.tif 000052
【０１６１】
一般式（６ａ）において、Ｚ5はポリ（アルキレンオキシ）基を表し、Ｒaは水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20はそれぞれ独立に置換基を表し、ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４はそれぞれ０〜５の整数を表す。ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４が２以上のとき複数の、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。
【０１６２】
ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４はそれぞれ０〜５の整数を表す。好ましくは１、２又は３である。
【０１６３】
Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20で各々表される置換基の例としては、前記一般式（６）におけるＲ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16として挙げた基が挙げられる。好ましくは置換もしくは無置換のアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基である。さらに好ましくは置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノキシ基、２−パーフルオロヘキシルエトキシ基、３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ基、２−パーフルオロブチルエチルオキシ基、６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ基）である。
【０１６４】
本発明に使用可能な１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【０１６５】
【化５２】
2006053391.tif 000053
【０１６６】
【化５３】
2006053391.tif 000054
【０１６７】
【化５４】
2006053391.tif 000055
【０１６８】
１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の添加量としては、液晶性化合物（好ましくはディスコティック液晶性化合物）に対して、０．０１〜２０質量％であるのが好ましく、０．０５〜１０質量％であるのがより好ましく、０．１〜５質量％であるのがさらに好ましい。
【０１６９】
（光学異方性層の製造方法）
光学異方性層は、支持体表面に直接又は支持体上に設けられた配向膜表面に、液晶性化合物等を含有する組成物をスロットダイコーターを用いて、適用して形成することができる。光学異方性層形成用の組成物は、液晶性化合物、前記一般式（１）で表される化合物、および所望により種々の添加剤を含有する。これらの原料を溶媒に溶解して塗布液を調製し、支持体表面等に塗布するのが好ましい。光学異方性層の形成に用いられる配向膜については特に制限はなく、ポリビニルアルコール等のポリマー層を形成した後、該ポリマー層の表面を所定の方向にラビング処理することによって形成された配向膜などが利用できる。配向膜として好ましい例は、特開平８−３３８９１３号公報に記載されている。前記配向膜の膜厚は、１０μｍ以下であるのが好ましい。なお、配向膜は光学異方性層の形成時のみに用い、光学異方性層を形成した後は、剥離可能な場合は剥離してもよい。かかる場合は、仮支持体上に配向膜を形成し、配向膜上で光学異方性層を形成した後に、該光学異方性層を、透明支持体に転写して、本発明の光学補償シートを作製してもよい。
【０１７０】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。均一性の高い光学フイルムを作製する場合には、塗布液の表面張力は、２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。
【０１７１】
本発明では、塗布液の塗布は前述した様に、ダイコーターを用いて実施する。本発明の光学補償シートが複数の光学異方性層を有する場合は、少なくとも１層の光学異方性層が、ダイコーターを用いて塗布されて形成された層であればよく、他の層については特に限定されない。例えば、他の光学異方性層については、公知の塗布方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スロットダイコーティング方）により形成してもよい。但し、複数の光学異方性層を形成する場合は、スライドダイコーターを利用して同時に形成するのが好ましい。
【０１７２】
前記塗布液を、支持体表面もしくは配向膜表面に塗布した後、液晶性分子を所望の配向状態にする。以下、液晶性分子をハイブリッド配向させて、光学異方性層を形成する方法について、詳細に説明する。まず、液晶性化合物を、前記一般式（１）で表される化合物、および所望によりセルロースエステル等の他の添加剤の存在下で水平配向させ（第一の配向工程）、その後、水平配向した液晶性化合物をハイブリッド配向に転移させる（第二の配向工程）のが好ましい。この方法によれば、配向欠陥などの欠陥の少ないハイブリッド配向に、迅速に転移させることができ、生産性が改善される。
【０１７３】
前記第一および／または第二の配向工程において、液晶性化合物に電場、磁場、放射線および熱の少なくとも１種を供与することによって、液晶性化合物を水平配向および／またはハイブリッド配向させることができる。例えば、第一と第二の配向工程において、外部から供与するエネルギーの大きさを変化させる（例えば、加熱により配向させる場合は、加熱温度を変化させる）ことによって、または供与するエネルギーの種類を替えることによって、液晶性化合物の配向状態を水平配向からハイブリッド配向へ転移することができる。製造適性の観点から、前記第一および第二の配向工程において、液晶性化合物の加熱温度を変化させることによって、水平配向からハイブリッド配向に転移させるのが好ましい。
【０１７４】
前述した様に、外部からのエネルギーの供与によって、液晶性化合物を所望の配向状態に配向させることができるが、光学異方性層を配向膜上に形成することによって、または液晶性化合物の配向状態を制御し得る化合物（水平配向化剤等）を光学異方性層に添加することによっても、所望の配向状態を達成することもできる。特に、前記一般式（１）で表される化合物とともに、前記１，３，５−トリアジン環基を有する化合物等の水平配向を促進する添加剤を用いると、より迅速に、欠陥の少ないハイブリッド配向の光学異方性層を製造できるので好ましい。
【０１７５】
前記光学異方性層の製造方法の好ましい態様としては、以下の方法を挙げることができる。
液晶性化合物、前記一般式（１）で表される化合物（好ましくは前記一般式（２）で表される化合物、より好ましくは前記一般式（１ａ）で表される化合物と前記一般式（２）で表される化合物）、および所望によりセルロースエステル及び／又は１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の存在下で、液晶性化合物を温度Ｔ1℃で水平配向させる第一の配向工程と、前記第一の配向工程の後、液晶性化合物を温度Ｔ2℃（但し、Ｔ1＜Ｔ2）でハイブリッド配向させる第二の配向工程と、ハイブリッド配向した液晶性化合物をその配向状態に固定する固定化工程を含む光学異方性層の製造方法である。
【０１７６】
前記第一の配向工程では、ネマチック相形成温度まで加熱し、さらに液晶相状態において水平配向状態をとる温度（Ｔ1℃）まで昇温する（第一の配向工程）。温度Ｔ1℃において、前記液晶（特にディスコティック液晶）は水平配向状態になる。その後、該液晶相状態を呈する温度範囲の高温度領域（Ｔ2℃）までさらに昇温して、ハイブリッド配向状態に転移させる（第二の配向工程）。最後に、ＵＶ光の照射等により重合し、配向状態を固定化する（固定化工程）。この製造方法によれば、液晶性化合物、特にディスコティック液晶性化合物が、ハイブリッド配向してなる光学異方性層を配向欠陥の発生を抑制しつつ、迅速に製造できる。
【０１７７】
前記製造方法では、液晶性化合物の配向過程における温度制御が重要である。水平配向状態を呈する温度（Ｔ1℃）としては、５０〜２００℃が好ましく、７０〜２００℃がより好ましく、７０〜１２０℃が特に好ましい。
【０１７８】
水平配向状態を呈する温度（Ｔ1℃）は、ハイブリッド配向状態を呈する温度（Ｔ2℃）よりも低温である。その温度差（Ｔ2−Ｔ1）は１０℃以上であるのが好ましく、２０℃以上であるのがより好ましい。
なお、Ｔ1およびＴ2℃は、光学異方性層の膜面温度として測定される温度である。
【０１７９】
液晶性化合物が水平配向化状態を呈する温度は、液晶性化合物および後述する添加剤の種類や添加量によって任意に制御することができ、それに応じて温度、Ｔ1およびＴ2を設定することができる。また、Ｔ1℃およびＴ2℃の各温度に維持する時間、ならびにＴ1℃からＴ2℃に変化させる時間については、液晶性化合物の種類等に応じて、適宜設定することができる。
【０１８０】
液晶性化合物を、所望の配向状態とした後、その配向状態に固定して光学異方性層を形成する。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。塗布液中には、液晶性化合物の固定化に寄与する、重合性モノマーや重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合性モノマーとしては、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。上記化合物の添加量は、液晶性化合物に対して、一般に１〜５０質量％であり、５〜３０質量％であるのが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることができる。
【０１８１】
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各公報記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号公報記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号公報記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各公報記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号公報記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号、米国特許４２３９８５０号の各公報記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号公報記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であるのが好ましく、０．５〜５質量％であるのがさらに好ましい。
【０１８２】
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０１８３】
この様にして形成された光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。また、光学異方性層上に、保護層を設けてもよい。
【０１８４】
（透明支持体）
本発明の光学補償シートは支持体を有する。支持体は、ガラス又は透明なポリマーフイルムであることが好ましい。支持体は、透明であるのが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフイルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースジアセテート）、ノルボルネン系ポリマーおよびポリメチルメタクリレートが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートンおよびゼオネックスいずれも商品名））を用いてもよい。
【０１８５】
中でもセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。特に炭素原子数が２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）が好ましい。セルロースアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
【０１８６】
なお、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、ＷＯ００／２６７０５号公報に記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明の光学フイルムに用いることもできる。
【０１８７】
偏光板保護フイルム、もしくは位相差フイルムに本発明の光学補償シートを利用する場合は、支持体として用いるポリマーフイルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度は、５７．０〜６２．０％であることがさらに好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算によって求められる。
【０１８８】
支持体として用いるセルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．０〜１．６５であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【０１８９】
セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるポリマーフイルムでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度または多い方が好ましい。２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがさらに好ましく、３２〜４０％であることが最も好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。各位置の置換度は、ＮＭＲによって測定することできる。６位置換度が高いセルロースアセテートは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、そして段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【０１９０】
本発明の光学補償シートは、単独で液晶表示装置の部材に用いることができるが、偏光板と一体化して、偏光板中の一部材として液晶表示装置に組み込むこともできる。本発明の光学補償シートが一体化された偏光板は、偏光機能を有するのみならず、液晶表示装置の視野角の拡大にも寄与する。さらに、偏光膜の保護フイルムとして本発明の光学補償シートを用いた偏光板を用いることは、液晶表示装置の薄型化にも寄与する。
【０１９１】
以下、本発明の光学補償シートを付加した偏光板について詳細に説明する。
［偏光板］
偏光板は一般に、基材フイルムに二色性物質を吸着、配向させて作製された偏光膜と、該偏光膜の少なくとも片面に貼合された保護膜とを有する。偏光膜の基材フイルムに使用されるポリマーとしては、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡ）系ポリマーが一般的である。二色性物質としてはヨウ素あるいは、二色性染料が単独、あるいは組み合わせて用いられる。保護膜としては、低複屈折性、透明性、適度な透湿性、寸度安定性等の物性が求められ、従来はセルロースアセテートフイルムが広く用いられ、その作製において塩素系有機溶媒であるメチレンクロライドを使用しており、環境保全の観点でその改良が望まれている。非塩素系有機溶媒を用いて作製されたセルロースアシレートフイルムは、その作製に際して非塩素系溶媒で流延しフイルム化することで、これらの改良したものである。
【０１９２】
ここで偏光膜に用いるＰＶＡは、通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。ＰＶＡのケン化度は特に限定されないが、溶解性、偏光性、耐熱、耐湿性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。またＰＶＡの重合度は特に限定されないが、フイルム強度や耐熱、耐湿性、延伸性などから１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。また、ＰＶＡのシンジオタクチシチーについては特に限定されず、目的に応じ任意の値をとることもできる。
【０１９３】
ＰＶＡを染色、延伸して偏光膜を作製する手順には、原反となるＰＶＡフイルムを乾式または湿式で延伸した後、ヨウ素あるいは二色性染料の溶液に浸漬する方法、ヨウ素あるいは二色性染料の溶液中でＰＶＡフイルムを延伸し配向させる方法、ヨウ素あるいは二色性染料にＰＶＡフイルムを浸漬後、湿式または乾式で延伸し配向させる方法などがある。また、ＰＶＡ原反を溶液製膜法により製膜する際、ＰＶＡ溶液中に二色性物質をあらかじめ含有させる手法もとることができる。
【０１９４】
代表的な偏光板の湿式延伸による製造法を以下に述べる。まず、原反ＰＶＡフイルムを水溶液で予備膨潤する。次いで二色性物質の溶液に浸漬し、二色性物質を吸着させる。さらにホウ酸等のホウ素化合物の水溶液中で進行方向に一軸延伸する。必要に応じ色味調整浴、硬化浴等をこの後に設けても良い。ある程度乾燥したところでＰＶＡ等の接着剤を用い保護膜を貼合する。さらに乾燥して偏光板が得られる。
【０１９５】
予備膨潤液中には、各種有機溶媒、無機塩、可塑剤、ホウ酸類等を水溶液中に添加してもよい。
【０１９６】
染色液は、二色性物質としてヨウ素を用いる場合を例にすると、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液を用いる。ヨウ素は０．１〜２０ｇ／リットル、ヨウ化カリウムは１〜１００ｇ／リットル、ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比は１〜１００が好ましい。染色時間は３０〜５０００秒が好ましく、液温度は５〜５０℃が好ましい。染色液中にホウ素化合物等ＰＶＡを架橋する化合物を含有させることも好ましい。延伸浴中のホウ素化合物は、ホウ酸が特に好ましい。ホウ酸濃度は、好ましくは１〜２００ｇ／リットルであり、さらに好ましくは１０〜１２０ｇ／リットルである。延伸浴には、ホウ素化合物の他にヨウ化カリウム等の無機塩、各種有機溶媒、あるいは二色性染料等を含むことができる。色味調整浴、硬化浴には二色性染料のほか、ヨウ化カリウム等の無機塩、ホウ素化合物等を必要に応じ含有させる。
【０１９７】
ＰＶＡの延伸工程としては、上に例示した如く連続フイルムの進行方向に張力を付与し、進行方向にフイルムを延伸、配向させる方法が一般的であるが、いわゆるテンター方式等の延伸手段でフイルムの幅手方向に張力を付与し、幅手方向に配向させる方法も適用可能である。延伸は一軸方向に３倍以上行うことが好ましく、４．５倍以上がより好ましい。偏光膜の使用目的により二軸延伸を行ってもよい。延伸後の膜厚は特に限定されないが、取り扱い性、耐久性、経済性の観点より、５〜１００μｍが好ましく、１０〜４０μｍがより好ましい。延伸時の温度は延伸条件によって異なるが、通常１０〜２５０℃である。１００℃以上の温度で乾式延伸する場合は、窒素等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。また、予め延伸したフイルムを染色する前には、１００℃以上の温度で結晶化処理を行うことが好ましい。
【０１９８】
染色方法としては上に例示した浸漬法だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。また、既に述べた液層吸着のみでなく、寄贈による吸着も必要に応じ行うことができる。二色性色素で染色することも好ましい。二色性色素の具体例としては、例えばアゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素、アントラキノン系色素等の色素系化合物をあげることができる。水溶性のものが好ましいが、この限りではない。又、これらの二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入されていることが好ましい。
【０１９９】
二色性分子の代表的なものとしては、例えばシー．アイ．ダイレクト．イエロー１２、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ３９、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ７２、シー．アイ．ダイレクト．レッド２８、シー．アイ．ダイレクト．レッド３９、シー．アイ．ダイレクト．レッド７９、シー．アイ．ダイレクト．レッド８１、シー．アイ．ダイレクト．レッド８３、シー．アイ．ダイレクト．レッド８９、シー．アイ．ダイレクト．バイオレット４８、シー．アイ．ダイレクト．ブルー６７、シー．アイ．ダイレクト．ブルー９０、シー．アイ．ダイレクト．グリーン５９、シー．アイ．アシッド．レッド３７等が挙げられ、さらに特開平１−１６１２０２号、特開平１−１７２９０６号、特開平１−１７２９０７号、特開平１−１８３６０２号、特開２０００４８１０５号、特開２０００６５２０５号、特開平７−２６１０２４号の各公報に記載の色素等を挙げることができる。特に、シー．アイ．ダイレクト．レッド２８（コンゴーレッド）は古くよりこの用途に好ましいとして知られている。これらの二色性分子は遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として用いられる。
【０２００】
これらの二色性分子は２種以上を配合することにより、各種の色相を有する偏光子を製造することができる。偏光素子または偏光板として偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）や黒色を呈するように各種の二色性分子を配合したものが単板透過率、偏光率とも優れており好ましい。
【０２０１】
偏光膜の耐熱、耐湿性を高める観点から、偏光膜の製造工程においてＰＶＡに架橋させる添加物を含ませることが好ましい。架橋剤としては、米国再発行特許第２３２８９７号に記載のものが使用できるが、ホウ酸、ホウ砂が実用的に好ましく用いられる。また、亜鉛、コバルト、ジルコニウム、鉄、ニッケル、マンガン等の金属塩を偏光膜に含有させることも、耐久性を高めることが知られており好ましい。これら架橋剤、金属塩は、上に述べた予備膨潤浴、二色性物質染色浴、延伸浴、硬化浴、色調整浴等のいずれの工程に含有させても良く、工程の順序は特に限定されない。保護膜と偏光膜を接着する接着剤としては特に限定はなく、ＰＶＡ系、変性ＰＶＡ系、ウレタン系、アクリル系等、知られているものを任意に用いることができる。接着層の厚みは０．０１〜２０μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがさらに好ましい。
【０２０２】
偏光膜の一方の表面には、本発明の光学補償シート（支持体表面が偏光膜と接する様に）貼合し、その反対側の表面には、セルロースアシレート等からなるポリマーフイルムを配置する（光学異方性層／偏光膜／ポリマーフイルムの配置とする）のが好ましい。
【０２０３】
本発明の光学補償シートは、種々の液晶表示装置に用いることができる。本発明の光学補償シートは、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶性化合物を補償するように、光学異方性層の光学特性を決定するのが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶性化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なるので、前記光学異方性層の光学特性の好ましい範囲も、用途によって異なる。液晶セル中の液晶性化合物の配向状態に関しては、ＩＤＷ’００、ＦＭＣ７−２のＰ４１１〜４１４等に記載されている。
【０２０４】
本発明の光学補償シートの光学特性は、前記した様に、その用途、例えば、いずれのモードの液晶セルの光学補償に用いられるかによって、好ましい範囲が異なる。一般的には、光学異方性層のＲｅは０〜７０ｎｍであるのが好ましく、２０〜７０ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｔｈは５０〜４００ｎｍであるのが好ましく、１００〜４００ｎｍであるのがより好ましい。かかる光学特性を示す光学異方性層を形成するには、例えば、ディスコティック液晶性化合物を用い、ハイブリッド配向に固定して光学異方性層を形成する場合は、最小傾斜角０〜９０°（より好ましくは０〜６０°）で、且つ最大傾斜角が３０〜９０°（より好ましくは５０〜９０°）のハイブリッド配向とするのが好ましい。また、透明支持体のＲｅは０〜７０ｎｍであるのが好ましく、０〜５０ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｔｈは、１０〜４００ｎｍであるのが好ましく、４０〜２５０ｎｍであるのがより好ましい。但し、前記好ましい範囲は一例であり、本発明の光学補償シートの光学特性は、この範囲に限定されるものではない。なお、本明細書において、Ｒｅ及びＲｔｈは、各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅは、波長λｎｍの光をフイルム法線方向に入射させて、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）により測定される値とする。また、Ｒｔｈは、前記Ｒｅ(λ)、遅相軸（KOBRA  21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基に、KOBRA  21ADHによって算出された値とする。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フイルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フイルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【０２０５】
以下、液晶表示装置であって、各液晶モードにおける、本発明の光学補償シートの好ましい形態について説明する。
（ＴＮモード液晶表示装置）
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性化合物が寝た配向状態にある。
【０２０６】
セル中央部分の棒状液晶性化合物に対しては、ホメオトロピック配向（円盤面が寝ている水平配向）のディスコティック液晶性化合物もしくは（透明）支持体で補償し、セルの基板近傍の棒状液晶性化合物に対しては、ハイブリット配向（長軸の傾きが偏光膜との距離に伴って変化している配向）のディスコティック液晶性化合物で補償することができる。また、セル中央部分の棒状液晶性化合物に対しては、ホモジニアス配向（長軸が寝ている水平配向）の棒状液晶性化合物もしくは（透明）支持体で補償し、セルの基板近傍の棒状液晶性化合物に対しては、ハイブリット配向のディスコティック液晶性化合物で補償することもできる。
【０２０７】
ホメオトロピック配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が８５〜９５度の状態で配向している。
ホモジニアス配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が５度未満の状態で配向している。
ハイブリット配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が１５度以上であることが好ましく、１５度〜８５度であることがさらに好ましい。
【０２０８】
（透明）支持体もしくはディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層、さらにはホメオトロピック配向したディスコティック液晶性化合物とホモジニアス配向した棒状液晶性化合物の混合体からなる光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が４０ｎｍ〜２００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が０〜７０ｎｍであることが好ましい。前記した様に、本明細書においてＲｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。本発明では、Ｒｅ(λ)は、波長λｎｍの光をフイルム法線方向に入射させて、KOBRA  21ADH（王子計測機器（株）製）を用いて測定される値とする。また、Ｒｔｈ(λ)は、前記Ｒｅ(λ)、遅相軸（KOBRA  21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にKOBRA  21ADHによって算出された値とする。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フイルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フイルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値および膜厚を入力することで、KOBRA  21ADHはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
ホメオトロピック配向（水平配向）しているディスコティック液晶性化合物層およびホモジニアス配向（水平配向）している棒状液晶性化合物層に関しては、特開平１２−３０４９３１号および同１２−３０４９３２号の各公報に記載されている。ハイブリット配向しているディスコティック液晶性化合物層に関しては、特開平８−５０２０６号公報に記載がある。
【０２０９】
（ＯＣＢモード液晶表示装置）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性化合物を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各公報に開示されている。棒状液晶性化合物が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性化合物が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性化合物が寝た配向状態にある。
【０２１０】
黒表示にＴＮモードと液晶の配向は同じ状態であるため、好ましい態様もＴＮモード対応を同じである。ただし、ＴＮモードに比べ、ＯＣＢモードの方がセル中央部で液晶性化合物が立ち上がった範囲が大きいために、ディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層について、若干のレターデーション値の調整が必要である。具体的には、（透明）支持体上のディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が１５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が２０〜７０ｎｍであることが好ましい。
【０２１１】
（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモードおよびＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
【実施例】
【０２１２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例に制限されるものではない。
（実施例１）
（ポリマー基材の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（質量部）        内層          外層
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート      １００          １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤）          ７．８          ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）  ３．９          ３．９
メチレンクロライド（第１溶媒）              ２９３          ３１４
メタノール（第２溶媒）                        ７１            ７６
１−ブタノール（第３溶媒）                  １．５          １．６
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０              ０．８
下記レターデーション上昇剤                  ２．２              ０
────────────────────────────────────
【０２１３】
【化５５】
2006053391.tif 000056
【０２１４】
得られた内層用ドープおよび外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフイルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０２）について、光学特性を測定した。
【０２１５】
得られたポリマー基材（ＰＫ−１）の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは、８０μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、８ｎｍであった。また、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、１００ｎｍであった。
作製したポリマー基材（ＰＫ−１）を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このＰＫ−１の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
【０２１６】
次に、図１に示した構成と同様のスロットダイコーターを用いて、作製したポリマー基材（ＰＫ−１）の面上に、光学異方性層を形成した。具体的には、表面に配向膜用樹脂層を形成したポリマー基材（ＰＫ−１）を、ウェブ１２として送出機により搬送し、ガイドロールによって支持しつつ、ラビング処理ロールで樹脂層にラビング処理を施し、配向膜とした。その後、図１に示した構成と同様のスロットダイコーター１０により、光学異方性層形成用塗布液を配向膜のラビング処理面に塗布した。次に、ウェブ１２を、乾燥ゾーン及び加熱ゾーンに順次通過させ、液晶化合物の分子を配向させた後、紫外線ランプを照射してその配向を固定して光学異方性層を形成し、光学補償シートを得た。
【０２１７】
以下、より具体的に、各工程について説明する。
上記ポリマー基材（ＰＫ−１）の表面に、下記組成の配向膜形成用塗布液を塗布して、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥し、配向膜用樹脂層を形成した。
（配向膜塗布液組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                        １０質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                        ０．５質量部
【０２１８】
【化５６】
2006053391.tif 000057
【０２１９】
配向膜用樹脂層をあらかじめ形成した上記ポリマー基材（ＰＫ−１）を、ウェブ１２として搬送し、配向膜用樹脂層の表面にラビング処理を施して配向膜を形成し、そのまま塗布工程へ搬送して塗布を実施した。なお、ラビング処理は、配向膜樹脂層の表面に、ポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と平行な方向に行った。ラビング処理におけるラビングローラの回転周速を５．０ｍ／秒とし、配向膜用樹脂層に対する押しつけ圧力を９．８×１０-3Ｐａに設定した。
【０２２０】
次に、配向膜を形成したポリマー基材（ＰＫ−１）からなるウェブ１２を搬送させつつ、スロットダイ１３により下記組成の光学異方性層形成用塗布液１４を配向膜のラビング処理面に、湿潤膜厚が５μｍとなるように、５ｍｌ／ｍ2で塗布した。塗布速度は６０ｍ／分とした。なお、ウェブ１２の進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバーを設置した。スロットダイ１３の上流側リップランド長ＩＵＰを１ｍｍ、下流側リップランド長ＩＬＯを５０μｍとした。このスロットダイ１３を用いて、湿潤膜厚が５μｍとなるようにウェブ１２上に塗布液１４を５ｍｌ／ｍ2で塗布した。塗布速度は６０ｍ／分とした。下流側リップランド１９とウェブ１２との隙間の長さは４０μｍに設定した。
【０２２１】
（光学異方性層用塗布液の調製）
下記の組成物を、１０２Ｋｇのメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。
下記のディスコティック液晶性化合物（１）              ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ４．０６質量部
一般式（１）の例示化合物（ＩＩ−１）                    ０．０９質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）      ０．０８質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー例示化合物（Ｐ−７２）      ０．１８質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  １．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        ０．４５質量部
【０２２２】
【化５７】
2006053391.tif 000058
【０２２３】
塗布液１４を塗布したウェブ１２を、１００℃に設定した乾燥ゾーン、及び１３０℃に設定した加熱ゾーンを通過させ、この液晶層表面に６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプにより紫外線を照射し、光学補償シート（ＫＨ−１）を作製した。塗布可能性については目視によるビード状態の観察により判断し、ビード１４ａが破断した段階で塗布不可能とした。この結果、本実施例１では、塗布は可能であり、このときの減圧度は１０００Ｐａであった。
【０２２４】
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は５０ｎｍであった。また、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シート（ＫＨ−１）のムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【０２２５】
（液晶性化合物の傾斜角評価）
光学異方性層における液晶性化合物の配向膜近傍の傾斜角および空気界面近傍の傾斜角を、エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所（株）製）を用いて観察角度を変えてレターデーションを測定し、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐｐ．１４３−１４７に記載されている手法で算出した。測定波長は６３２．８ｎｍであった。結果は、第１表に示す。以下に示す実施例２〜７、ならびに比較例１〜３についても同様に、傾斜角を求めた。
【０２２６】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で作製した光学補償シートＫＨ−１を、偏光子（ＨＦ−１）の片側表面に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子（ＨＦ−１）の反対側表面に貼り付けた。
偏光子（ＨＦ−１）の透過軸と、光学補償シートの支持体であるポリマーフイルム（ＰＫ−１）の遅相軸とが平行になるように配置した。偏光子（ＨＦ−１）の透過軸と上記トリアセチルセルロースフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＨＢ−１）を作製した。
【０２２７】
（実施例２）
光学異方性層形成用の塗布液の調製において、一般式（１）の例示化合物（ＩＩ−１）の代わりに、一般式（１）の例示化合物（ＩＩ−２）を添加したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−２）、さらには、ＫＨ−２付偏光板（ＨＢ−２）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、４８ｎｍであった。また、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【０２２８】
（実施例３）
光学異方性層形成用の塗布液の調製において、一般式（１）の例示化合物（ＩＩ−１）の代わりに、一般式（１）の例示化合物（ＩＩ−３）を添加した以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−３）、さらには、ＫＨ−３付偏光板（ＨＢ−３）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、４８ｎｍであった。また、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【０２２９】
（実施例４）
光学異方性層形成用の塗布液の調製において、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの例示化合物（Ｐ−７２）の代わりに、Ｐ−１１を添加した以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−４）、さらには、ＫＨ−４付偏光板（ＨＢ−４）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、５０ｎｍであった。また、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【０２３０】
（実施例５）
光学異方性層形成用の塗布液の調製において、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）の代わりに、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）を添加した以外は、実施例４と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−５）、さらには、ＫＨ−５付偏光板（ＨＢ−５）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、４５ｎｍであった。また、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【０２３１】
（実施例６）
光学異方性層形成用の塗布液の調製において、１，３，５―トリアジン環基を有する例示化合物（Ｈ−１５）を添加し、光学異方性層の形成時の１２０℃の恒温ゾーンでの加熱を２分間から１分間に変えた以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−６）、さらには、ＫＨ−６付偏光板（ＨＢ−６）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、４０ｎｍであった。また、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【０２３２】
（実施例７）
光学異方性層形成用の塗布液の調製において、１，３，５―トリアジン環基を有する例示化合物（Ｈ−１６）を添加し、光学異方性層の形成時の１２０℃の恒温ゾーンでの加熱を２分間から１分間に変えた以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−７）、さらには、ＫＨ−７付偏光板（ＨＢ−７）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、４２ｎｍであった。また、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
（実施例８）
光学異方性層形成用塗布液の調製において、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）を添加しなかった以外は、実施例２と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−８）、さらには、ＫＨ−８付偏光板（ＨＢ−８）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、４０ｎｍであった。
【０２３３】
（実施例９）
光学異方性層形成用の塗布液の塗布方法について、塗布速度を２０、４０、８０、１００、１２０ｍ／分にして塗布した以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには、光学補償シート付き偏光板を作製した。偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、いずれの光学補償シートにもムラは検出されなかった。
【０２３４】
（比較例１）
光学異方性層形成用塗布液の調製において、一般式（１）の例示化合物（ＩＩ−２）を添加しないかった以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−Ｈ１）、さらには、ＫＨ−Ｈ１付偏光板（ＨＢ−Ｈ１）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、２８ｎｍであった。
（比較例２）
光学異方性層形成用塗布液の塗布について、＃３．６のワイヤーバーで連続的に塗布した以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−Ｈ２）、さらには、ＫＨ−Ｈ２付偏光板（ＨＢ−Ｈ２）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、５０ｎｍであった。また、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ると、スジ状のムラが検出された。
【０２３５】
（参考例１）
光学異方性層の加熱熟成方法を８０℃の恒温ゾーンで１分間加熱した以外は、実施例６と同様にして光学補償シートを作製した。
【０２３６】
（ＴＮ液晶セルでの評価）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＱＵＯＳ  ＬＣ２０Ｃ１Ｓ、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例１で作製した偏光板（ＨＢ−１）を、光学補償シート（ＫＨ−１）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。測定結果を第１表に示す。
【０２３７】
【表１】
2006053391.tif 000059
【０２３８】
上記表１に示した結果からわかるように、前記一般式（１）で表される化合物を含有する光学異方性層は、これを含有しない光学異方性層（比較例１）と比較して空気界面における傾斜角が大きく、特に、セルロースエステルを含有する光学異方性層（実施例１〜７）は、空気界面における傾斜角がより大きかった。前記一般式（１）で表される化合物を含有する光学異方性層は、液晶性化合物の空気界面における傾斜角が最適値に制御されているので、該光学異方性層を有する光学補償シートは、液晶表示装置の視野角の拡大に大きく寄与する。さらに、実施例６、７と参考例１の比較から、光学異方性層は低温領域（８０℃の恒温ゾーン）で水平配向を形成したのち、高温領域（１２０℃の恒温ゾーン）でハイブリッド配向に転移していることがわかる。さらにワイヤーバーで塗布した比較例２とスロットダイコーターで塗布した実施例１〜９の結果からスロットダイコーターで塗布することによりムラが検出されず、表示品位の高い液晶表示装置になることを確認した。
【０２３９】
（実施例１０）
実施例１で用いたレターデーション上昇剤の添加量を変えて、Ｒｔｈを８０、９０、１１０、１２０、１３０ｎｍにしたポリマー基材を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。ポリマー基材のＲｔｈを８０、９０、１１０、１２０、１３０ｎｍに変えても、上下左右の視野角は実施例１で得られた視野角とほぼ同等であることを確認した。
【０２４０】
（実施例１１）
実施例１で用いたレターデーション上昇剤を、下記のレターデーション上昇剤に代え、内層の添加量を１．４質量部にし、Ｒｔｈを１１０ｎｍにしたポリマー基材を作製した以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには、光学補償シート付き偏光板を作製した。上下左右の視野角は実施例１で得られた視野角とほぼ同等であることを確認した。
【０２４１】
【化５８】
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【０２４２】
（実施例１２）
実施例１１で用いたレターデーション上昇剤の添加量を変えて、Ｒｔｈを８０、９０、１００、１２０、１３０ｎｍにしたポリマー基材を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。ポリマー基材のＲｔｈを８０、９０、１００、１２０、１３０ｎｍに変えても、上下左右の視野角は実施例１で得られた視野角とほぼ同等であることを確認した。
【図面の簡単な説明】
【０２４３】
【図１】本発明の光学補償シートの作製に利用可能なスロットダイコーターの一例の断面模式図である。
【図２】本発明の光学補償シートの作製に利用可能なスロットダイの例の断面模式図である。
【図３】本発明を実施したスロットダイ先端部における、差圧及びビードの説明図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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