(57)【要約】      （修正有）【課題】光の品質を損なわせることのない、フォトリソグラフィーシステムならびに他の光学システムにおいて光を減衰させる光学素子を提供する。【解決手段】光学素子200が、第１の表面と第２の表面との間において１０００ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系202と、ガラス光学系202の第１の表面に入射する光を減衰させる、第１の表面に配置されているパターン203とを包含する。【選択図】図２Ａ
2006178452.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を減衰させる光学素子において、
第１の表面と第２の表面との間において１０００ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系と、
前記ガラス光学系の前記第１の表面に入射する光を減衰させる、前記第１の表面に配置されているパターンとを包含することを特徴とする、光学素子。
【請求項２】
前記パターンはクロムを包含する、請求項１記載の光学素子。
【請求項３】
前記パターンは複数の幾何学的な形状を包含する、請求項１記載の光学素子。
【請求項４】
前記複数の幾何学的な形状は前記第１の表面にわたりランダムに配置されている、請求項３記載の光学素子。
【請求項５】
さらに前記パターンを覆う非反射性のコーティングを包含する、請求項１記載の光学素子。
【請求項６】
前記減衰は光学素子の単位面積当たり５％から２５％である、請求項１記載の光学素子。
【請求項７】
照明減衰システムにおいて、
複数の光学素子を有し、該複数の光学素子はそれぞれ、
第１の表面と第２の表面との間において１０００ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系と、
前記ガラス光学系の前記第１の表面に入射する光を減衰させる、前記第１の表面に配置されているパターンとを包含することを特徴とする、照明減衰システム。
【請求項８】
前記パターンはクロムを包含する、請求項７記載のシステム。
【請求項９】
前記パターンは複数の幾何学的な形状を包含する、請求項７記載のシステム。
【請求項１０】
前記複数の幾何学的な形状は前記第１の表面にわたりランダムに配置されている、請求項９記載のシステム。
【請求項１１】
さらに前記パターンを覆う非反射性のコーティングを包含する、請求項７記載のシステム。
【請求項１２】
光学素子の減衰は該光学素子の単位面積当たり５％から２５％である、請求項７記載のシステム。
【請求項１３】
光を減衰させる光学素子を製造する方法において、
（１）光学ブランクの表面にパターンを配置するステップと、
（２）第１の保護コーティングを用いて前記パターンを覆うステップと、
（３）前記光学ブランクを切断し、該切断により、少なくとも１つの光学素子の第１の表面におけるパターンの一部を包含する少なくとも１つの光学素子を成形するステップと、
（４）少なくとも１つの光学素子から材料を除去し、該除去により、前記光学素子の第１の表面と第２の表面との間の厚さが１０００ミクロン以下になるまで前記第２の表面を成形するステップと、
（５）少なくとも１つの光学素子を清浄するステップと、
（６）少なくとも１つの光学素子の前記第１の表面を第２の光学的なコーティングでもって覆うステップとを有することを特徴とする、光を減衰させる光学素子を製造する方法。
【請求項１４】
前記ステップ（１）は前記表面への複数の幾何学的な形状のランダムな配置を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記ステップ（１）は前記表面へのクロムの配置を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１６】
前記ステップ（２）はフォトレジストを用いるパターンのコーティングを含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１７】
前記ステップ（３）は少なくとも１つの光学素子の端面の研削を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１８】
前記ステップ（４）は少なくとも１つの光学素子の少なくとも１回の研削およびポリッシングすることを含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１９】
前記ステップ（５）は少なくとも１つの光学素子の少なくとも１回の機械的な清浄および化学的な清浄を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項２０】
前記ステップ（６）は非反射性のコーティングを用いる前記第１の表面の被覆を含む、請求項１３記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を減衰させる光学素子および該光学素子を製造する方法および照明減衰システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィーシステム／ツールは多様な製造用途において基板上にフィーチャをプリントするために使用される。典型的には動作時に、パターニングされたフィーチャを有するレチクルが、例えばフィーチャのイメージを成形するためのレーザのような照明源によって露光される。光学システムはフィーチャのイメージを基板上に投影する。
【０００３】
慣例のフォトリソグラフィーシステムは基板に達する照明光の量を、例えば光ビームアライメント、ホモジナイザ、機械的なトリミングおよび／または回折素子によって制御する。これらの慣例の技術は基板に達する光の品質を損なわせる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
したがって本発明の課題は、光の品質を損なわせることのない、フォトリソグラフィーシステムならびに他の光学システムにおいて光を減衰させる光学素子ならびにこの光学素子を製造する方法を提供することである。さらに本発明の課題は、この光学素子を包含する照明減衰システムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
光学素子に関する課題は、光学素子が、第１の表面と第２の表面との間において１０００ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系と、ガラス光学系の第１の表面に入射する光を減衰させる、第１の表面に配置されているパターンとを包含することによって解決される。
【０００６】
光学素子を製造する方法に関する課題は、方法が、光学ブランクの表面にパターンを配置するステップと、第１の保護コーティングを用いてパターンを覆うステップと、光学ブランクを切断し、この切断により、少なくとも１つの光学素子の第１の表面におけるパターンの一部を包含する少なくとも１つの光学素子を成形するステップと、少なくとも１つの光学素子から材料を除去し、この除去により、光学素子の第１の表面と第２の表面との間の厚さが１０００ミクロン以下になるまで第２の表面を成形するステップと、少なくとも１つの光学素子を清浄するステップと、少なくとも１つの光学素子の第１の表面を第２の光学的なコーティングでもって覆うステップとを有することによって解決される。
【０００７】
照明減衰システムに関する課題は、照明減衰システムが、複数の光学素子を有し、複数の光学素子はそれぞれ、第１の表面と第２の表面との間において１０００ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系と、ガラス光学系の第１の表面に入射する光を減衰させる、第１の表面に配置されているパターンとを包含することによって解決される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明は超薄高精度ガラス光学系および超薄高精度ガラス光学系の製造方法を提供する。また、例えばフォトリソグラフィーシステム／ツールにおいて有効である超薄高精度ガラス光学系を包含する減衰システムを提供する。
【０００９】
超薄高精度ガラス光学系は１０００ミクロン以下の薄さの軸厚を有する。光学システムにおける光強度の制御された減衰を供給するために、パターンおよび／またはコーティングがガラス光学系の表面に配置される。１つの実施形態においては、ガラス光学系は光を減衰させる第１の表面に配置されているパターンを有する。オプションの非反射性のコーティングはパターニングされた表面および／または第２の平行な表面を覆う。別の実施形態においては、ガラス光学系は光を減衰させる第１の表面におけるパターンの代わりに誘電性のコーティングを有する。収差の二次的な作用、焦点の偏位、ブラックボーダー作用、散乱光などを最小限にすることがガラス光学系の特徴である。
【００１０】
パターンはランダムまたは擬似ランダムに表面を覆う例えば方形、ドット、格子などのような幾何学的な形状を含む。パターンは例えばクロムを用いることにより成形することができる。択一的に、誘電性のコーティングをパターンの代わりに使用することができる。実施形態においては、パターンまたは誘電性のコーティングは入射光を単位面積当たり５〜２５％減衰させる。他の減衰率も達成することができる。
【００１１】
オプションの非反射性のコーティングはパターニングされた表面および／または第２の平行な表面を覆い、この第２の平行な表面を介して光がガラス光学系から放射される。コーティングはガラス光学系を通過する光の透過性を、コーティングされた各表面に関して約４〜７％改善する。
【００１２】
実施形態においては、超薄高精度ガラス光学系は光学ブランクまたはレチクルの表面上にパターンを配置することによって製造される。パターニングされた表面はパターンおよびガラス光学系を保護するためのコーティングでもって覆われている。個々のガラス光学系は光学ブランクから切断されるので、各光学素子はパターンの一部を包含する。ガラス光学系は、１０００ミクロン以下の薄さの軸厚を有するようになるまでガラス光学系から材料を除去することによって薄くされる。ガラス光学系は薄くされた後に清浄されて、オプションの非反射性のコーティングでもって覆われる。選択されたステップの間に、光学ブランクおよび／または光学素子を固定するためにワックスを使用することができる。
【００１３】
パターニングされない実施形態においては、超薄高精度ガラス光学系は保護コーティングを用いて光学ブランクまたはレチクルの第１の表面を覆うことによって製造される。個々のガラス光学系は光学ブランクから切断される。ガラス光学系は、１０００ミクロン以下の軸厚を有するようになるまでガラス光学系のコーティングされていない表面から材料が除去されることによって薄くされる。ガラス光学系は薄くされた後に清浄されて、誘電性のコーティングでもって第１の表面が覆われる。オプションの非反射性のコーティングが、光を通過させてガラス光学系から放射させる表面に施される。
【００１４】
次に、本発明の別の実施形態、特徴および利点ならびに本発明の種々の実施形態の構造および動作について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１５】
図面には本発明が示されており、それらの図面はその説明とともに本発明の基本原理を説明するのに役立つものであり、それによって当業者であれば本発明を実施し利用することができるようになる。
【実施例】
【００１６】
本発明は超薄高精度ガラス光学系および超薄高精度ガラス光学系の製造方法を提供する。また、例えばフォトリソグラフィーシステム／ツールにおいて有効である超薄高精度ガラス光学系を包含する減衰システムを提供する。以下では特別な構成や装置について論じるが、これは単に例示を目的としていると理解すべきである。当業者であれば、本発明の着想や範囲を逸脱することなく他の構成や装置も使用できる。また、本発明を種々の他の用途において採用できることも、当業者であれば自明である。
【００１７】
図１は本発明の実施形態による、超薄高精度ガラス光学系を包含する減衰システムを含む例示的なフォトリソグラフィーシステム１００の概略図である。フォトリソグラフィーシステム１００は照明源１０２、照明光学系１０４，パターン１０６、投影光学系１０８および基板１１０を包含する。
【００１８】
照明源１０２は紫外光を含む光を放射するあらゆる光源である。実施形態において照明源１０２はレーザである。照明源１０２から放射された光は照明光学系１０４に入射する。
【００１９】
照明光学系１０４は照明源１０２によって放射された光を調節する。光を調節するために使用することができる種々の光学素子、例えば拡散光学系、格子光学系などが当業者には公知である。
【００２０】
照明光学系１０４は減衰システム１０５も包含する。減衰システム１０５は多数の超薄高精度ガラス光学系を有し、この超薄高精度ガラス光学系は品質を損なわせることなく光を減衰させる。本発明による減衰システムを以下において図２から図５を参照してさらに詳細に説明する。
【００２１】
パターン１０６は典型的には、レチクル上に配置されているクロムパターンを有するレチクルであるか、パターンを形成する空間光変調器である。レチクルの場合には、照明光学系１０４からの光がレチクルを通過して、このレチクルに配置されているパターンを基板１１０上に再現する。空間光変調器の場合には、光が例えば基板１１０上で所望のパターンを形成するためにミラーにおいて反射される。
【００２２】
投影光学系１０８はパターン１０６からの光を基板１１０上に焦点合わせする。実施形態において投影光学系１０８は光の基板１１０への焦点合わせのプロセスにおいてパターン１０６の大きさも縮小する。
【００２３】
図２Ａから図２Ｄは超薄高精度ガラス光学系を有する減衰システムの種々の実施形態を表す概略図である。これらの実施形態をフォトリソグラフィーシステム１００と共に使用することができる。
【００２４】
図２Ａは減衰システム２００の概略図である。減衰システム２００は、光路または光ビーム２０４へと伸びている複数の超薄高精度ガラス光学系２０２を包含する。各超薄高精度ガラス光学系２０２は１０００ミクロン以下の薄さの軸厚を有する。実施形態においては、軸圧は０．５００ｍｍ，０．３００ｍｍ，０．２００ｍｍ，０．１５０ｍｍおよび０．１００ｍｍのオーダである。
【００２５】
１つの実施形態においては、ガラス光学系２０２を通過する光の制御された減衰を提供するために、パターンが各ガラス光学系２０２の表面２０３に配置される。減衰量はパターンによって決定される。オプションの非反射性のコーティングはパターニングされた表面および／またはこのパターニングされた表面とは反対側の表面を覆い、この反対側の表面を介して光がガラス光学２０２系から放射される。別の実施形態においては、光を減衰させるパターンの代わりに各ガラス光学系２０２が表面２０３上に誘電性のコーティングを有する。
【００２６】
パターニングされる実施形態においては、パターンはランダムまたは擬似ランダムに表面２０３を覆う例えば方形、ドット、格子などのような幾何学的な形状を含む。パターンを例えばクロムを用いて成形することができる。
【００２７】
実施形態においは、減衰システム２００の各超薄高精度ガラス光学系２０２は超薄高精度ガラス光学系２０２が収容されている場所において可動である。ガラス光学系２０２は例えば、超薄高精度のパターンコーティングされたガラス光学系２０２と接続されているアクチュエータ（図示せず）を用いて移動される。超薄高精度のパターンコーティングされたガラス光学系２０２を適切に位置決めすることによって、光の品質を損なうことなく基板１１０を露光する光強度の均一性を最適化することができる。
【００２８】
減衰システム２００のガラス光学系を例えば垂直方向にも水平方向にも配向させることができ、垂直方向に配向されることによって重力は各ガラス光学系２０２の光学軸に垂直に作用し、水平方向に配向されることによって重力は各ガラス光学系２０２の光学軸に平行に作用する。
【００２９】
ガラス光学系２０２に関するさらなる詳細は図３および図４に関連させて後述する。
【００３０】
図２Ｂは減衰システム２１０の概略図である。減衰システム２１０の超薄高精度ガラス光学系２０２は２つのグループ２０２ａおよび２０２ｂに分割されている。図２Ｂに示されているように、２つのグループ２０２ａおよび２０２ｂが対向する側から光路２１２へと伸びている。
【００３１】
実施形態において各超薄高精度ガラス光学系２０２は超薄高精度ガラス光学系２０２が収容されている場所において可動である。ガラス光学系２０２を超薄高精度ガラス光学系２０２に接続されているアクチュエータ（図示せず）によって、光路２１２の中心に接近するように、もしくは光路２１２の端部に接近するように移動させることができる。実施形態においては、減衰システム２１０がユニットとしてまたは別個にフォトリソグラフィーシステム１００において設置、交換、置換および／または再配置されている。このことはまた本明細書に記載されている他の減衰システムにも該当する。
【００３２】
図２Ｃは超薄高精度ガラス光学系２０２および光学マスク２２２を包含する減衰システム２２０の概略図である。図２Ｃおよび図２Ｄに示されているように、超薄高精度ガラス光学系２０２は２つのグループ２０２ｃおよび２０２ｄに分割されている。これらの２つのグループを形成する各超薄高精度ガラス光学系２０２の一端が光路へと突出している。
【００３３】
実施形態においは減衰システム２２０の各超薄高精度ガラス光学系２０２は超薄高精度ガラス光学系２０２を収容している場所において可動である。ガラス光学系２０２を図２Ｄに示されているように、取り付け中にまたは超薄高精度ガラス光学系２０２に接続されているアクチュエータ（図示せず）によって、マスク２０４の中心に接近するように、もしくはマスク２０４の端部に接近するように移動させることができる。ガラス光学系２０２を適切に位置決めすることによって、光の品質を損なうことなく基板１１０を露光する光強度の均一性を最適化することができる。実施形態においては、減衰システム２２０がユニットとしてまたは別個に光学システム、例えばフォトリソグラフィーシステム１００において設置、交換、置換および／または再配置されている。
【００３４】
図３は単一の超薄高精度ガラス光学系２０２の概略図である。図３に示されているように、実施形態において超薄高精度ガラス光学系２０２は長さＬ、幅Ｗおよび厚さＴを有する。長さＬはガラス光学系２０２が減衰されるべき光の光路に達するに足る十分な長さであるよう選定されている。幅Ｗは補正されるべき光の周波数に基づき選定されている。実施形態においてＷは４ｍｍ，８ｍｍおよび１２ｍｍのオーダにある。厚さＴは１０００ミクロン以下である。実施形態において、Ｔは０．５００ｍｍ，０．３００ｍｍ，０．２００ｍｍ，０．１５０ｍｍおよび０．１００ｍｍのオーダにある。ガラス光学系２０２の薄さに基づきリプル、陰および光散乱の作用が低減される。他の実施形態は異なる寸法および／または形状を有する。
【００３５】
実施形態においては、例えば図３、図２Ａおよび図２Ｂに示されているように、超薄高精度ガラス光学系２０２の短い端面３０４はその長い端面３０６に対して垂直である。他の実施形態においては、短い端面３０４が長い端面３０６に対して垂直ではないので、ガラス光学系２０２を図２Ｄに示されているような角度に配向することができる。ある角度にガラス光学系２０２を配向することは、殊にステップ・アンド・スキャン式のフォトリソグラフィーツールにおいて、例えば隣接するガラス光学系２０２間のあらゆるギャップに起因する基板１１０の露光の制御を支援する。
【００３６】
超薄高精度ガラス光学系２０２の表面３０２はこの表面３０２に配置されているパターンまたは誘電性コーティングを有し、これらが光を減衰させる。実施形態においては、減衰は５〜２５％である。他の減衰量も例えば、単位面積当たりの表面３０２におけるパターンの幾何学的な形状の数または表面３０２における誘電性コーティングの厚さを変更することによって達成することができる。
【００３７】
パターニングされる実施形態においては、パターンがランダムまたは擬似ランダム（均一）に表面３０２にわたり分散されている例えば方形、ドット、格子などのような数百万の幾何学的な形状から構成されている。幾何学的な形状は大きさを変更することができる。１つの実施形態においては、例えば、パターンがおよそ１．０〜５０ミクロンの大きさの小さな方形クロムの島を使用して成形されている。
【００３８】
超薄高精度のパターンコーティングされたガラス光学系２０２は選択的に非反射性のコーティングでもって覆われている。実施形態においては、非反射性のコーティングはガラス光学系２０２の光透過性をコーティングされた各表面に関して約４〜７％改善する（すなわち光がガラス光学系２０２に入射する表面と光をガラス光学系２０２から放射させる表面のコーティングは光透過性を約８〜１４％改善する）。
【００３９】
図４は超薄高精度のパターンコーティングされたガラス光学系２０２の実施形態に関する例示的な光透過性プロフィール４０２を表す概略図である。実施形態に示されているように、超薄高精度のパターンコーティングされたガラス光学系２０２の全体の長さに関する透過率は０．８５である。したがって減衰量は１５％である。値０．８５は単に例示的な値であり、本発明の制限を意図するものではない。本発明の他の実施形態は異なる透過プロフィールを有する。
【００４０】
図５は光学マスク２２２の概略図である。光学マスク２２２は長さＬおよび幅Ｗを有する。光学マスク２２２の長さおよび幅は、例えばフォトリソグラフィーシステム１００のパターン１０６（またはレチクル）に存在する照明横断面に基づき選定されている。
【００４１】
光学マスク２２２の表面は複数のクロム線５０２でもって覆われている。クロム線５０２は、隣接する超薄高精度ガラス光学系２０２間のギャップにより生じる可能性がある基板１１０における不均一性を低減する。クロム線５０２はマスク２２２の端面に関して角度θに配向されている。角度θの値は超薄高精度ガラス光学系２０２の配向に適合するよう選定されている（例えばクロム線は隣接するガラス光学系２０２におけるギャップ間を通過する光を阻止するよう位置決めされている）。１つの実施形態においては、図５に示されている角度θはゼロである。別の実施形態では角度θはゼロより大きい。
【００４２】
図６は本発明の実施形態による超薄高精度ガラス光学系を製造するための方法６００のフローチャートである。方法６００は６つのステップを有する。
【００４３】
ステップ６０２においては、パターンが光学ブランクに配置される。実施形態においては、パターンがランダムまたは擬似ランダムに光学ブランクにわたり分散されている例えば方形、ドット、格子などのような数百万の幾何学的な形状から構成されている。幾何学的な形状の大きさを変更することができる。１つの実施形態においてはパターンがクロムおよび慣例のレチクル製造プロセスを用いて成形される。実施形態においては、単位面積当たりのパターンの幾何学的な形状の数が所望の透過率または減衰率を達成するために変更される。
【００４４】
光学ブランクは例えば市販のレチクルなどの適切なあらゆるガラス光学系でよい。
【００４５】
ステップ６０４においては、光学ブランクのパターニングされた面が薄い保護コーティングでもって覆われる。このコーティングの目的はステップ６０６の間に生じる小さい切粉および他の破片からパターンおよびガラスを保護することである。パターンおよびガラスを損傷させずにそのパターンおよびガラスを保護するあらゆる適切なコーティングを使用することができる。
【００４６】
ステップ６０６においてはパターニングされた光学的なブランクが光学素子を形成するために切断される。この切断ステップを、例えばソー切断、機械的な研削、手動の研削、フライス削りなどのようなあらゆる公知の切断プロセスを使用して実施することができる。ステップ６０６により、軸厚を除き所望の形状および寸法を有する光学素子が形成される。
【００４７】
ステップ６０８においては、光学素子が例えば１０００ミクロンよりも薄い所望の軸厚まで研削されることによって薄くされる。実施形態においては、光学素子が例えば０．５００ｍｍ，０．３００ｍｍ，０，２００ｍｍ，０．１５０ｍｍまたは０．１００ｍｍの軸厚になるまで薄くされる。
【００４８】
ステップ６１０においては光学素子が清浄される。この清浄ステップは有利には、機械的な清浄および化学的な清浄の両方を含む。清浄は光学素子および／またはガラス表面上のパターンに干渉すべきではない。
【００４９】
ステップ６１２においては、光学素子がオプションの第２のコーティングでもって覆われる。実施形態においては、オプションのコーティングは例えば非反射性のコーティングのような光学的なコーティングである。本発明において使用されるように、光学的なコーティングは光学素子の光学的な特性に作用を及ぼすことを意図したあらゆるコーティングを参照する。光学的なコーティングは例えば、ガラス表面における光の反射を阻止するか、光の所定の波長の透過を阻止または容易にするコーティングを包含する。
【００５０】
当業者であれば理解するように、方法６００は所定の変更を用いて光を減衰させるために、パターンの代わりに誘電性のコーティングを使用する光学素子の製造に使用することができる。例えば、光を減衰させるために誘電性のコーティングを使用する光学素子を製造する場合には、ステップ６０２は実施されない。つまりそのような光学素子はパターンを有さないからである。そのような光学素子を製造する場合には、光を減衰させる誘電性のコーティングがステップ６１２において光学素子に施される。
【００５１】
図７は本発明の実施形態による超薄高精度ガラス光学系を製造するためのより詳細な方法７００のフローチャートである。方法７００は８つのステップを有する。
【００５２】
ステップ７０２においては、クロムパターンがレチクルブランクの表面に配置される。実施形態においてレチクルブランクは商用の６"×６"のレチクルブランクである。パターンがランダムまたは擬似ランダムにレチクルブランクにわたり分散されている例えば方形、ドット、格子および／または他の幾何学的な形状のような数百万の幾何学的な形状から構成されている。実施形態においては、単位面積当たりのパターンの幾何学的な形状の数が所望の透過率または減衰率を達成するために変更される。パターンは慣例のレチクル製造プロセスを用いて成形される。
【００５３】
ステップ７０４においては、レチクルブランクのパターニングされた表面が保護コーティングでもって覆われる。１つの実施形態において保護コーティングはフォトレジストおよびエナメル塗料である。薄さ１ミクロンのフォトレジストのコーティング（またはエナメル塗料、光学的なテープまたはワックス）を施すことは典型的に、レチクルブランクの切断および研削の間に生じる小さい切粉および他の破片からパターンおよびガラスを保護するためには十分である。エナメル塗料はステップ７０６におけるレチクルブランクのワックスでの固定を支援するために使用される。一般的にワックスはフォトレジストに他着しない。他のコーティングも使用することができる。
【００５４】
ステップ７０６においてはレチクルブランクがワックスで固定される。このことはホットワックスをレチクルブランクに流し、ワックスを冷却して硬化することによって達成される。
【００５５】
ステップ７０８においては、複数の光学素子を成形するためにレチクルブランクがソー切断、研削および／またはフライス削りされる。これらの光学素子は軸厚を除いて一定の大きさにするために成形される。
【００５６】
レチクルブランクを切断および研削するために使用されるセットアップおよび装置に依存して、光学素子の各表面を適切な大きさにして仕上げるために、ステップ７０８においては１回または複数回、成形されたレチクルブランクおよび／または光学素子がワックスから取り外され、清浄され、また再度固定される。
【００５７】
ステップ７０８が終了すると、ステップ７１０による処理に先行して光学素子は有利には要求される規格内にあるかが検査される。実施形態においては、検査することができる規格は光学的な特性に加えて長さ、幅および端面または光学素子の面角度を包含する。付加的に光学素子の面の平行度を検査することができる。他の実施形態に関しても検査することができる他の規格は本明細書の記載から当業者に明らかになる。
【００５８】
ステップ７１０においては、レチクルブランクから成形された光学素子は薄くするためにワックスで固定される。実施形態においては、複数の光学素子が通常の融点よりも高い融点を有するワックスで一緒に固定され、これらの光学素子をステップ７１２において一緒に薄くすることができる。支援体を用いて多数の光学素子を固定することは固定された構造体の剛性を改善する。ワックスの通常の融点よりも高い融点は、薄くしている間に生じる熱をワックスの軟化および／または溶融から阻止する。複数の光学素子を一緒に薄くすることは均一性の保証に役立つ。
【００５９】
ステップ７１２においては光学素子が所望の厚さに薄くされる。光学素子は典型的には１０００ミクロン以下の厚さになるまで研削およびポリッシングによって薄くされる。実施形態においては、光学素子が０．５００ｍｍ，０．３００ｍｍ，０，２００ｍｍ，０．１５０ｍｍまたは０．１００ｍｍのオーダにある軸厚まで薄くされる。薄くしている間に光学素子の間からワックスを除去することができ、他方では最終的な所望の厚さになるまでの光学素子のポリッシングを容易にするために、光学素子を固定する効果的なワックスは残される。定盤およびレーザルーラが有利には光学素子の厚さを変更するために使用される。
【００６０】
ステップ７１４においては光学素子が清浄される。光学素子は最初に、依然として固定されている間に例えばヴァルトロン（Valtron）のような珪藻土と石鹸溶液でもって有利には清浄される。光学素子は続いて固定部から除去され、ワックスを溶解するためにトルエン、アセトンまたは他の商用の溶媒を用いて清浄される。この時点において、干渉計を用いて光学素子の平面度を検査することができる。また光学素子はステップ７０４において施されたフォトレジストコーティングを包含する有機材料を除去するために酸浴槽を用いて清浄される。また光学素子はステップ７１６において非反射性のコーティングを用いて覆うためにメタノールでもって清浄される。
【００６１】
ステップ７１６においては、光学素子が非反射性のコーティングでもってコーティングされる。このコーティングは光学素子の透過性を改善する。
【００６２】
実施形態においては、光学素子がこの光学素子の形状および厚さに適合する金属性のくぼみに配置されており、また非反射性のコーティングは光学素子の露光される表面にわたって流すことができる。このプロセスは各光学素子を完全且つ均一に覆うことを保証する。くぼみが使用されない場合、またはくぼみの深さが光学素子の厚みに適合されていない場合には、光学素子の端面を適切にコーティングしていなくてもよい。
【００６３】
期待される光学素子の性能を保証するために種々の規格を検査したことを言及しておく。検査した寸法は特定の光学素子の形状および／または大きさに依存することになる。
【００６４】
これまで本発明の様々な実施形態について説明してきたが、それらは例示にすぎず、限定を意味するものではないと解釈すべきである。形態や詳細について本発明の範囲を逸脱することなく種々の変更を行えることは、当業者にとって自明である。したがって本発明の範囲は上記のいずれの実施例によっても制限されるものではなく、特許請求の範囲および同等のものによってのみ規定される。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】超薄高精度ガラス光学系を有する減衰システムを包含するフォトリソグラフィーシステムの概略図。
【図２Ａ】超薄高精度ガラス光学系を表している減衰システムの概略図。
【図２Ｂ】超薄高精度ガラス光学系を表している減衰システムの概略図。
【図２Ｃ】超薄高精度ガラス光学系を表している減衰システムの概略図。
【図２Ｄ】超薄高精度ガラス光学系を表している減衰システムの概略図。
【図３】単一の超薄高精度ガラス光学系の概略図。
【図４】超薄高精度ガラス光学系の光透過性プロフィールを表す概略図
【図５】超薄高精度ガラス光学系を有する減衰システムのための光学マスクの概略図。
【図６】超薄高精度ガラス光学系を製造するための方法のフローチャート。
【図７】超薄高精度ガラス光学系を製造するためのさらに詳細な方法のフローチャート。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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