(57)【要約】【課題】  材質の脆いシリコン基板においても基板端面の欠けや基板の割れが発生し難い基板を提供して、基板端面からの発塵を防止し、プロセスカセットとのこすれによる発塵を防止できる基板を提供する。【解決手段】  基板の主表面と外周側端面との間の面取り部の長さＬが０．１±０．０３ｍｍであって、かつ主表面と外周側端面との間の面取り部とのなす角度αが４５度±５度である磁気記録媒体用シリコン基板とする。基板の主表面と外周側面取り部との間に半径０．０１ｍｍ以上０．３ｍｍ未満の曲面を介在させることもできる。【選択図】                    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の主表面と端面との間に面取り部を設けた磁気記録媒体用のシリコン基板であって、前記主表面と外周側端面との間の面取り部の長さが０．１±０．０３ｍｍであって、かつ前記主表面と外周側端面との間の面取り部とのなす角度が４５度±５度であることを特徴とする磁気記録媒体用シリコン基板。
【請求項２】
前記主表面と内周側端面との間の面取り部の長さが０．１±０．０３ｍｍであって、かつ前記主表面と内周側端面との間の面取り部とのなす角度が４５度±５度であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用シリコン基板。
【請求項３】
前記基板の主表面と面取り部との間に半径０．０１ｍｍ以上０．３ｍｍ未満の曲面を介在させたことを特徴とする請求項１にまたは請求項２に記載の磁気記録媒体用シリコン基板。
【請求項４】
前記曲面が、基板の外周側にあることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用シリコン基板。
【請求項５】
前記曲面が、基板の内周側にあることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用シリコン基板。
【請求項６】
前記請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用シリコン基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成したことを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報機器の記録媒体として使用される小型の磁気記録媒体用のシリコン基板及びその基板を使用した磁気記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年各種情報機器の進展にともない、磁気記録媒体の記憶容量は増大の一途をたどっている。特にコンピュータの外部メモリとして中心的な役割をはたしている磁気ディスクは年々記録容量、記録密度ともに増加しているが、更に高密度な記録を行なうための開発必要とされている。例えば、ノート型パソコンやパームトップパソコンの開発により、小型で衝撃に強い記録装置が望まれ、そのためにより高密度記録ができ、機械強度の強い磁気記録媒体が望まれている。さらに最近ではナビゲーションシステムや携帯用音楽再生装置にも、超小型の磁気記録媒体を使用したものが採用されるようになってきた。
【０００３】
従来よりこの磁気記録媒体である磁気ディスク用の基板としては、アルミニウム合金およびその表面にＮｉＰメッキ処理をしたものやガラス基板が採用されている。しかしながら、アルミニウム合金の基板は耐摩耗性や加工性が悪く、この欠点を補うためにＮｉＰメッキ処理を施すが、このＮｉＰメッキ処理を施したものでは反りが生じ易く、かつ高温処理時に磁性を帯びる等の欠点を有する。また、ガラス基板は強化処理時に表面にひずみ層が発生して圧縮応力が作用し、基板加熱時に反りが生じ易いという問題点がある。
【０００４】
より高密度記録が可能な直径１インチ（２７．６ｍｍφ）や０．８５インチ（２１．６ｍｍφ）の超小型の磁気記録媒体の場合、基板の反りは致命的な欠点でてある。超小型の磁気記録媒体の基板としては、より薄くて外力に対して変形しにくく、表面が平滑で磁気記録層の形成し易い材質のものが望まれる。
そこで半導体素子基板として多用されているシリコン基板を磁気記録媒体として使用することが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
単結晶シリコンはアルミニウムより比重が小さく、ヤング率が大きく、熱膨脹率が小さくて高温特性が良く、導電性を有する等の多くの長所があるため、磁気記録媒体用の基板材として好ましいものである。基板の直径が小さくなるほど受ける衝撃力も小さくなり、シリコン基板を使用しても耐久性のある磁気記録装置とすることができる。
通常、磁気記録媒体用の基板を製造するには、まず、引き上げ法により単結晶シリコンインゴットを作る。次に、中心に貫通円孔を穿孔した後、所定の厚みにスライス加工する。スライス加工されたドーナツ状の円板は中心円孔および外周の縁部を砥石等により面取り加工した後、その表裏面にラッピング加工やポリッシング加工を施して鏡面に仕上げて使用される。
【０００５】
上記のような製造工程を経る際に、シリコン基板は搬送用のプロセスカセットに収納して移送されるが、シリコン基板は材質が脆いので割れや欠けが生じ易い難点がある。割れや欠けが生じると磁気記録媒体の製造歩留まりが下がるばかりでなく、プロセスカセットが擦れて発生したパーティクルが記録再生時のエラーや記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュを引き起こす原因にもなってくる。
シリコンのような脆性材料から割れや欠けの無い磁気記録媒体用の基板を得るために、基板の内円周及び外円周の面取り角度を２０度以上２４度以下とし、面取り長さを０．０３ｍｍ以上０．１５ｍｍ以下に加工する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
図４に従来の磁気記録媒体用のシリコン基板の縦断面図を示す。図４において、基板１の主表面２，３と端面４との間に角度αが２０度以上２４度以下で傾斜させた面取り部を設けてある。また、この面取り部の長さＬは０．０３ｍｍ以上０．１５ｍｍ以下としてある。図示は省略したが、基板内周部にも同様な面取り部が設けてある。
このような外周部形状の基板とすることにより、製造工程中のハンドリングもしくは落下による基板の傷や欠け等の欠陥が減少し、製造歩留まりが格段に向上するとされている。
【０００６】
また、ガラス基板においては、高密度記録を達成するため磁気記録媒体に対する磁気ヘッドの低浮上化が計られており、記録再生を行う方式もコンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）方式から、ロード・アンロード方式（ランプロード方式）へと徐々に置き換わりつつある。これらの記録再生方式においても、記録再生時のエラーや記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュすることのない装着信頼性の高い基板が求められている。
この目的の沿った基板として、基板の端面と面取り部との間、及び基板の主表面と面取に部との間のうちの少なくとも一方に、半径０．００３ｍｍ以上０．２ｍｍ未満の曲面を介在させた基板が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
この基板を使用すれば、記録再生時のエラーや、記録再生時に磁気ヘッドがクラッシュすることのない装着信頼性の高い磁気記録媒体が得られるとされている。
【特許文献１】特開平０６−７６２８２号公報
【特許文献２】特開平０７−２４９２２３号公報
【特許文献３】特開２００２−１０００３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、製造工程で使用するプロセスカセット中ではカセットの基板受駒に基板端面が載置されており、シリコン基板は材質が脆いので特許文献２や特許文献３に記載された外周部形状のシリコン基板では、衝撃により基板端面に傷や欠けが発生し、それを起点にして基板の割れが発生したり、プロセスカセットとの擦れにより発塵してパーティクルとなって混在し、磁気記録媒体の不良品の発生原因となっている。
そこで本発明の目的は、材質の脆いシリコン基板においても製造工程中で基板外周部の欠けや基板の割れが発生し難い基板を提供して、基板端面からの発塵を防止し、プロセスカセットとのこすれによる発塵を防止できる基板のシリコン形状を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明は、以下に掲げた（１）基板の主表面と端面との間に面取り部を設けた磁気記録媒体用のシリコン基板であって、前記主表面と外周側端面との間の面取り部の長さが０．１±０．０３ｍｍであって、かつ前記主表面と外周側端面との間の面取り部とのなす角度が４５度±５度である磁気記録媒体用シリコン基板、（２）前記主表面と内周側端面との間の面取り部の長さが０．１±０．０３ｍｍであって、かつ前記主表面と内周側端面との間の面取り部とのなす角度が４５度±５度である（１）に記載の磁気記録媒体用シリコン基板、（３）前記基板の主表面と面取り部との間に半径０．０１ｍｍ以上０．３ｍｍ未満の曲面を介在させた（１）にまたは（２）に記載の磁気記録媒体用シリコン基板、（４）前記曲面が、基板の外周側にある（１）から（３）のいずれか１つに記載の磁気記録媒体用シリコン基板、（５）前記曲面が、基板の内周側にあることを特徴とする（１）から（４）のいずれか１つに記載の磁気記録媒体用シリコン基板、（６）前記（１）から（５）のいずれか１つに記載の磁気記録媒体用シリコン基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成したことを特徴とする磁気記録媒体、の各発明を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、基板の主表面と端面との間に面取り部を設けた磁気記録媒体用のシリコン基板において、前記主表面と外周側端面との間の面取り部の長さが０．１±０．０３ｍｍであって、かつ前記主表面と外周側端面との間の面取り部とのなす角度が４５度±５度になっているので、製造工程で使用するプロセスカセット中でカセットの基板受駒に基板が安定良く載置され、衝撃により基板端面の欠けが発生したり、それを起点にして基板の割れが発生したり、あるいはプロセスカセットとの擦れにより発塵することもなく、磁気記録媒体の不良品の発生原因を取り除いて製品歩留まりを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。
図１は、本発明の磁気記録媒体用シリコン基板を中央で切断したときの断面図である。
図１に示すように本発明の磁気記録媒体用シリコン基板１は、ドーナツ状の円盤からなっており、円盤の表裏に磁気記録を形成するための主表面２，３が有り、円盤の最外周に外周端面４が、また円盤の中心部のドーナツ状リングの内側に内周端面５が形成されている。そして主表面２，３と外周端面４との間に外周面取り部６が形成され、主表面２，３と内周端面５との間に内周面取り部７が形成されている。
これら主表面２，３、外周端面４、内周端面５、外周面取り部６及び内周面取り部７はいずれも鏡面状態に研磨加工されている。
【００１１】
本発明の磁気記録媒体用シリコン基板１においては、外周面取り部６の長さＬは０．１±０．０３ｍｍに形成されており、また主表面２，３と外周面取り部６とのなす角度αは４５度±５度に形成してある。
外周面取り部６の長さＬが０．１３ｍｍを越えると主表面の記録する領域の面積が狭くなって記憶容量を高めることができない。また、外周面取り部６の長さＬが０．０７ｍｍより小さくなると、プロセスカセットに収納する場合にシリコン基板端面が傷つき易くなる。
主表面２，３と外周面取り部６とのなす角度αが４０度より小さいと、プロセスカセットに収納する場合にシリコン基板の出し入れが円滑にできなくなり、基板外周部が傷つき易くなる。また、主表面２，３と外周面取り部６とのなす角度αが４０度を越えると、面取り部の効果が発揮されずに、欠けが発生し易くなる。
したがって、シリコン基板の外周部を上記のような形状に形成することにより、プロセスカセットの基板受駒に基板が安定良く載置されるので、製造工程でプロセスカセットを動かしても衝撃により基板端面の欠けが発生したり、それを起点にして基板の割れが発生したり、あるいはプロセスカセットとの擦れにより発塵するのを防ぐことができるようになる。
【００１２】
磁気記録媒体用シリコン基板１の中心部については、主表面２，３と内周端面５との間の内周面取り部７の長さＬ’は基板強度の点からは特に制限はないが、主表面の記録する領域の面積確保の観点から短い方が良く、０．０３ｍｍ程度有れば充分である。また、主表面２，３と内周面取り部７とのなす角度βは２０度以上有れば充分である。
もちろん外周部分と同様に主表面２，３と内周端面５との間の内周面取り部７の長さＬ’を０．１±０．０３ｍｍとし、主表面２，３と内周面取り部７とのなす角度を４５度±５度に形成しても良い。
【００１３】
さらに本発明の磁気記録媒体用シリコン基板１においては、主表面２，３と外周面取り部６との交点及び外周端面４と外周面取り部６との交点に、半径Ｒが０．０１ｍｍ以上０．３ｍｍ未満の曲面を形成するのが好ましい。
このような曲面を設けることにより、材質の脆いシリコン基板においてもコーナー部分が欠けることが無く、割れが発生したりプロセスカセットとの擦れにより発塵してパーティクルとなって混在し、磁気記録媒体の不良品を発生させることが少なくなる。
０．０１ｍｍ〜０．３ｍｍの半径の曲面は、すべての大きさのシリコン基板に適用可能であるが、特に直径０．８５インチから２．５インチの基板について有効である。
【００１４】
ここで曲面の半径Ｒの測定方法を図２を参照して説明する。まず主表面の延長線を引き、その延長線と曲面が離れる位置を起点Ａとする。主表面の起点Ａから１０μｍ離れた位置を点Ｂとし、さらに起点Ａから１０μｍ離れた面取り部上の位置を点Ｃとする。そしてこれらの３点Ａ，Ｂ，Ｃを通る円Ｏの半径を、曲面の半径Ｒとする。この曲面の半径Ｒを０．０１ｍｍ以上０．３ｍｍ以下とすれば、基板のコーナー部分が欠け落ちるのを防ぐことができる。Ｒが０．０１ｍｍ未満では角が急激すぎて衝撃に弱く、ハンドリングやぶつけた時に欠け易くなる。Ｒが０．３ｍｍより大きくなると、情報を記録する主表面の面積が狭くなるので好ましくない。
【００１５】
次に、磁気記録媒体用にシリコン基板をプロセスカセットに収納する方法について説明する。
図２に磁気記録媒体用にシリコン基板を製造する工程で使用するプロセスカセットの外観斜視図を示す。磁気記録媒体用のシリコン基板を製造する工程で使用するプロセスカセット１０は、樹脂製の舟形をした枠１１の内側に、多数の仕切り板１２を設けてあり、シリコン基板を１枚ずつ立てかけて収納するようになっている。シリコン基板は各仕切り板１２間の底部に設けられた基板受駒１３上に載置されて収納される。
【００１６】
図３にはプロセスカセットの基板受駒１３上に磁気記録媒体用にシリコン基板１を載置した状態を示す。図に示すように磁気記録媒体用のシリコン基板１は、その外周部分の主表面２，３と外周面取り部６との交わる点Ｓ，Ｓで、１組の基板受駒１３，１３によって支えられている。
製造工程中では各工程毎にシリコン基板をプロセスカセットから頻繁に出し入れし、プロセスカセットを移送する際に振動が加わるので、シリコン基板外周部に傷が発生したり欠けが生じる恐れがある。したがって、製造工程中でのシリコン基板外周部の傷や欠けの発生を防ぐためには、基板受駒とシリコン基板外周部の形状を、シリコン基板の出し入れが円滑に行えてしかもシリコン基板が安定して保持できるものにする必要がある。
このような観点からシリコン基板外周部の形状を検討した結果、主表面と外周側端面との間の面取り部の長さが０．１±０．０３ｍｍであって、かつ主表面と外周側端面との間の面取り部とのなす角度が４５度±５度とするのが最も良いことが判明した。
さらに、シリコン基板の主表面と外周側面取り部との間に半径０．０１ｍｍ以上０．３ｍｍ未満の曲面を介在させるとさらに好ましいことも判明した。
【００１７】
主表面と外周側端面との間の面取り部とのなす角度が４５度±５度であるシリコン基板を得るには、例えばシリコン基板を回転させながら４５度±５度の所定の角度になるように加工した回転砥石を当てて研削加工すればよい。
【００１８】
主表面と外周側端面との間の面取り部とのなす角度が４５度±５度で、主表面と外周側面取り部との間に半径０．０１ｍｍ以上０．３ｍｍ未満の曲面を介在させたシリコン基板を得るには、例えば多数のシリコン基板をスペーサーを介して重ね合わせたシリコン基板の積層体を使用する。
スペーサはシリコン基板と同じく中心部に円孔を有する円板状とし、装着した際にスペーサの端部（側面）がシリコン基板の外周面取部の終端から０〜２ｍｍ程度内側（好ましくは０．５〜２ｍｍ程度内側）になるようにする。また、スペーサの厚さは０．１〜０．３ｍｍ程度が好ましい。また、スペーサの材質としては、ポリウレタン、アクリル、プラスチック、あるいは研磨工程で使用する研磨パッドと同じ材料などシリコン基板より軟質の材料とすることが好ましい。
【００１９】
先ず、シリコン基板の積層体の外周部に、４５度±５度の所定の角度になるように加工した回転砥石を当てて研削加工した後、さらにブラシ研磨する。
研磨ブラシは線径０．０５ｍｍ〜０．３ｍｍ、毛足長１〜１０ｍｍのポリアミド系繊維を螺旋状に植毛した直径２００〜５００ｍｍの筒状ブラシを使用するのが好ましい。
この筒状の研磨ブラシをシリコン基板積層体の外周部分に押し付け、研磨液ををシリコン基板積層体の外周部分と研磨ブラシとの接触面に供給しつつ、シリコン基板積層体を６０ｒｐｍで、また筒状ブラシを７００〜１０００ｒｐｍで互いに逆方向に回転させながら上下に移動させてシリコン基板の外周端面をブラシ研磨することにより、主表面と外周端面との境界接点が半径０．０１〜０．０５ｍｍの曲面となる。
【００２０】
ブラシ研磨を終えたシリコン基板は水洗浄して主表面に第１のポリッシング加工を施す。
第１ポリッシング加工は、上記までの加工で残留したキズや歪みを除去することを目的である。
第１ポリッシング加工には通常用いられる研磨装置を使用し、研磨液として（コロイダルシリカ＋水）を使用し、荷重は１００ｇｆ／ｃｍ２（０．９８Ｎ／ｃｍ２（相対圧））程度、研磨除去量は３０μｍ目標、下定盤回転数：４０ｒｐｍ、上定盤回転数：３５ｒｐｍ、サンギア回転数：１４ｒｐｍ程度、インターナルギア回転教：２９ｒｐｍ程度で行う。
上記第１ポリッシング工程を終えたシリコン基板は水洗して第２ポリッシング加工工程に廻す。
【００２１】
フィニッシュポリッシングとなる第２ポリッシング加工の研磨条件は研磨液として（コロイダルシリカ＋水）を使用し、荷重は１００ｇｆ／ｃｍ２（０．９８Ｎ／ｃｍ２（相対圧）） 程度に軽くし、研磨除去量は５μｍ目標、下定盤回転数：４０ｒｐｍ、上定盤回転数：３５ｒｐｍ、サンギア回転数：１４ｒｐｍ程度、インターナルギア回転教：２９ｒｐｍ程度で行う。
上記第２ポリッシング工程を終えたシリコン基板を、中性洗剤、純水、純水＋ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して超音波洗浄する。
【００２２】
以上の加工工程を経て基板の端面及び面取り部が鏡面であり、主表面と外周側端面との間の面取り部とのなす角度が４５度±５度で、外周面取り部の長さが０．１±０．０３ｍｍに形成されており、さらに主表面と外周側面取り部との間に半径０．０１ｍｍ以上０．３ｍｍ未満の曲面が介在した磁気記録媒体用シリコン基板が得られる。
この磁気記録媒体用シリコン基板は、材質が脆いシリコンであるにもかかわらずプロセスカセットに安定良く収納できるので、基板端面の欠けや基板の割れが発生し難く、基板端面からの発塵を防止し、プロセスカセットとのこすれによる発塵を防止することができる。
【００２３】
上述のようにして得られた磁気記録媒体用のシリコン基板の両面に、従来公知の方法に従って例えばインライン型スパッタリング装置等を用いてＣｒＭｏ下地層、ＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層、水素化カーボン保護層を順次成膜し、ディップ法によってパーフルオロポリエーテル液体潤滑層を成膜すると磁気記録媒体が得られる。
このようにして得られる本発明の磁気記録媒体は、磁気記録層を有する主表面と外周側端面との間の面取り部とのなす角度が４５度±５度で、外周面取り部の長さが０．１±０．０３ｍｍに形成されているので、磁気記録媒体端面の欠けや基板の割れが発生し難く、磁気記録媒体端面からの発塵を防止し、プロセスカセットとのこすれによる発塵を防止することができるので、記録再生時のエラーや、記録再生時の磁気ヘッドクラッシュを防ぐのに効果がある。
【実施例】
【００２４】
直径２７．６ｍｍ（呼称：１インチ）、内径７ｍｍ、厚さ０．３８１ｍｍのシリコン基板２０枚を使用して、第１段ラッピング加工、第２段ラッピング加工、内外周端面研削加工を施して内外周面取り部を主表面とのなす角度を４５度とした。その後、段落「００１９」に示す方法により外周端面を研磨加工した。すなわち、１００枚のシリコン基板を厚さ０．２ｍｍのポリウレタン製のスペーサーを介して重ねあわせ、スペーサーの端部（側面）がシリコン基板の外周面取部の終端から１ｍｍ程度内側になるようにした後、ブラシ研磨した。研磨ブラシは線径０．１ｍｍ、毛足長５ｍｍのポリアミド系繊維を螺旋状に植毛した直径３００ｍｍの筒状ブラシを使用した。この筒状の研磨ブラシをシリコン基板積層体の外周部分に押し付け、研磨液をシリコン基板積層体の外周部分と研磨ブラシとの接触面に供給しつつ、シリコン基板積層体を６０ｒｐｍで、また筒状の研磨ブラシを８００ｒｐｍで互いに逆方向に回転させながら上下に移動させてシリコン基板の外周端面をブラシ研磨することにより、主表面と外周端面との境界接点を曲面となるように加工した。さらに主表面に第１ポリッシング加工及び第２ポリッシング加工を順次施して磁気記録媒体用のシリコン基板を作成した。
【００２５】
このようにして得られた２０枚のシリコン基板について、搬送用のカセットに収容して移動する際に想定される振動を与えて基板端面の損傷発生の状況と発塵の様子を調べた。
搬送用のカセットを使用した発塵テストは、以下のような手順で行った。
（１）カセット内にシリコン基板を収容して、トップカバーを装着してパッキングする。
（２）搬送を想定して、シリコン基板をカセットの底部方向と天井方向に各１０回づつ動かす。
（３）カセットへの脱着を想定して、カセットの溝からシリコン基板を１０回出し入れする。
以上の（１），（２），（３）の処理が終了したら、基板外周部の損傷発生の状況を基板端面を光学顕微鏡により観察して、大きさ０．１ｍｍ以上のチッピングの発生率を調べた。また、基板外周部でカセット素材であるポリカーボネートパーティクルの発生数を光学顕微鏡を使用して測定した。測定は２０枚の基板を観察し、計数されたパーティクルの数を基板の枚数（２０枚）で除した値を持って比較した。これらの結果を表１に併記して示す。
【００２６】
【表１】
2006114198.tif 000003
【００２７】
（比較例）
比較のため、実施例と同じ基板の主表面と面取り部とのなす角度２２度とし、面取り部長さを０．１ｍｍとしたシリコン基板についても同様の評価をした。これらの結果も表１に併記した。
【００２８】
これらの結果から、材質の脆いシリコン基板においては基板の主表面と面取り部とのなす角度を４５度とすることにより、基板端面の欠けや基板の割れが発生し難い基板となり、基板端面からの発塵が防止でき、プロセスカセットとのこすれによる発塵も防止できることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の磁気記録媒体用シリコン基板の断面図である。
【図２】曲面の半径Ｒの測定方法
【図３】プロセスカセットを示す外観斜視図である。
【図４】プロセスカセット内の基板受駒にシリコン基板を載置した状態を示す図である。
【図５】従来の磁気記録媒体用シリコン基板の断面図の一例である。
【符号の説明】
【００３０】
１・・・・・・シリコン基板、２，３・・・・・・主表面、４・・・・・・外周端面、５・・・・・・内周端面、６・・・・・・外周面取り部、７・・・・・・内周面取り部、  １１・・・・・・枠、１２・・・・・・仕切り板、１３・・・・・・基板受駒
【図１】
2006114198.tif 000004
【図２】
2006114198.tif 000005
【図３】
2006114198.tif 000006
【図４】
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【図５】
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