(57)【要約】【課題】より簡便な操作で、安価に製造することができ、しかも低い酸素透過率と低い水蒸気透過率を示す樹脂層ガラス層積層体およびその製造方法を提供する。【解決手段】ガラス層と樹脂層とからなる樹脂層ガラス層積層体であって、該ガラス層が、アルキル基および／またはアリール基とＳｉおよびＯとを含有するガラス状物質から実質的になることを特徴とする樹脂層ガラス層積層体。アルキル基および／またはアリール基とＳｉおよびＯとを含有するガラス状物質と、有機溶媒とから実質的になるガラス形成液を樹脂層の上に塗布し、次いで乾燥させることを特徴とする樹脂層ガラス層積層体の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス層と樹脂層とからなる樹脂層ガラス層積層体であって、該ガラス層が、アルキル基および／またはアリール基とＳｉおよびＯとを含有するガラス状物質から実質的になることを特徴とする樹脂層ガラス層積層体。
【請求項２】
ガラス層が、さらにＰを含有するガラス状物質から実質的になることを特徴とする請求項１記載の樹脂層ガラス層積層体。
【請求項３】
ガラス状物質が、式ｘＲ1Ｒ2ＳｉＯ・（１／３）ｙＰ2Ｏ5・（２−（２／３）ｙ）Ｈ3ＰＯ4（ただし、ｘは１以上４以下の範囲の値であり、ｙは０以上３以下の範囲の値であり、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基および炭素数６〜１２のアリール基から選ばれる基を示す。）で示される組成を有するガラス状物質である請求項２に記載の樹脂層ガラス層積層体。
【請求項４】
ガラス状物質が、（ａ−ｂ）Ｒ1Ｒ2ＳｉＯ・（１／３）ｃＰ2Ｏ5・ｂＭＯ・（２−（２／３）ｃ）Ｈ3ＰＯ4（ただし、ａは２以上３以下の範囲の値であり、ｂは０以上１．５以下の範囲の値であり、ｃは０以上３以下の範囲の値であり、Ｒ1およびＲ2は、上記と同じ意味を有し、Ｍは２価の金属元素を示す。）で示される組成を有するガラス状物質である請求項２に記載の樹脂層ガラス層積層体。
【請求項５】
Ｒ1およびＲ2のうち少なくとも１つがフェニル基である請求項３または４に記載の樹脂層ガラス層積層体。
【請求項６】
ＭがＳｎであることを特徴とする請求項４に記載の樹脂層ガラス層積層体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の樹脂層ガラス層積層体から実質的になることを特徴とするディスプレイ用基板。
【請求項８】
アルキル基および／またはアリール基とＳｉおよびＯとを含有するガラス状物質と、有機溶媒とから実質的になるガラス形成液を樹脂層の上に塗布し、次いで乾燥させることを特徴とする樹脂層ガラス層積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス層と樹脂層とからなる樹脂層ガラス層積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス層と樹脂層とからなる樹脂層ガラス層積層体は、包装材として用いられており、また、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイ用の基板や照明装置用の基板として用いることが提案されている。樹脂層ガラス層積層体からなる基板は、従来のガラス基板と異なり、軽量でフレキシビリティがある基板として期待されている。
【０００３】
このような樹脂層ガラス層積層体としては、従来から、ＰＥＴ樹脂からなる樹脂層の上にＣＶＤ法によりシリカ（ＳｉＯ2）からなるガラス層を形成してなる樹脂層ガラス層積層体が知られているが、製造するにあたり、高価なＣＶＤ装置が必要となるため、より簡便で安価に得られる樹脂層ガラス層積層体の開発が求められていた。
【０００４】
そのような樹脂層ガラス層積層体として、１−プロパノールと水との混合物にテトラエトキシシランを加えてなる溶液をガラス形成液とし、樹脂層の上に塗布して１２０℃で乾燥させて樹脂層の上にエトキシ基と水とが残存したシリカガラス層を形成してなる樹脂層ガラス層積層体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら当該積層体は、その酸素透過度が、２３℃、９０％ＲＨ（相対湿度）下で０．５２ｍｌ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ、水蒸気透過度は、２３℃、９０％ＲＨ下で０．０６ｇ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍであり、包装材用としても、また液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ用の基板用としても十分なものではない。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１０７５４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、より簡便な操作で、安価に製造することができ、しかも低い酸素透過率と低い水蒸気透過率を示す樹脂層ガラス層積層体およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記事情に鑑み、種々検討した結果、特定組成のガラス状物質から実質的になるガラス層と樹脂層とからなる樹脂層ガラス層積層体が、樹脂層の上にガラス形成液を塗布し、次いで乾燥させてガラス層を形成することにより得られ、また当該積層体が、低い酸素透過率と低い水蒸気透過率を併せ持つことを見出し、本発明に至った。
【０００８】
すなわち本発明は、下記の樹脂層ガラス層積層体およびその製造方法を提供するものである。
＜１＞ガラス層と樹脂層とからなる樹脂層ガラス層積層体であって、該ガラス層が、アルキル基および／またはアリール基とＳｉおよびＯとを含有するガラス状物質から実質的になることを特徴とする樹脂層ガラス層積層体。
＜２＞ガラス層が、さらにＰを含有するガラス状物質から実質的になることを特徴とする前記の樹脂層ガラス層積層体。
＜３＞ガラス状物質が、式ｘＲ1Ｒ2ＳｉＯ・（１／３）ｙＰ2Ｏ5・（２−（２／３）ｙ）Ｈ3ＰＯ4（ただし、ｘは１以上４以下の範囲の値であり、ｙは０以上３以下の範囲の値であり、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基および炭素数６〜１２のアリール基から選ばれる基を示す。）で示される組成を有するガラス状物質である前記＜２＞に記載の樹脂層ガラス層積層体。
＜４＞ガラス状物質が、（ａ−ｂ）Ｒ1Ｒ2ＳｉＯ・（１／３）ｃＰ2Ｏ5・ｂＭＯ・（２−（２／３）ｃ）Ｈ3ＰＯ4（ただし、ａは２以上３以下の範囲の値であり、ｂは０以上１．５以下の範囲の値であり、ｃは０以上３以下の範囲の値であり、Ｒ1およびＲ2は、上記と同じ意味を有し、Ｍは２価の金属元素を示す。）で示される組成を有するガラス状物質である前記＜２＞に記載の樹脂層ガラス層積層体。
＜５＞Ｒ1およびＲ2のうち少なくとも１つがフェニル基である前記＜３＞または＜４＞に記載の樹脂層ガラス層積層体。
＜６＞ＭがＳｎであることを特徴とする前記＜４＞に記載の樹脂層ガラス層積層体。
＜７＞前記＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の樹脂層ガラス層積層体から実質的になることを特徴とするディスプレイ用基板。
＜８＞アルキル基および／またはアリール基とＳｉおよびＯとを含有するガラス状物質と、有機溶媒とから実質的になるガラス形成液を樹脂層の上に塗布し、次いで乾燥させることを特徴とする樹脂層ガラス層積層体の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の樹脂層ガラス層積層体は低い酸素透過率と低い水蒸気透過率を示すことから、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイの基板用、照明装置の基板用および包装材用として好適であり、特に本発明の樹脂層ガラス層積層体は、透明性およびフレキシビリティも併せ持つので、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイの中でもフレキシブルディスプレイの前面の基板用に好適である。そして、本発明の製造方法によれば該樹脂層ガラス層積層体をより簡便な操作で安価に製造することができるので、本発明は工業的に極めて有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の樹脂層ガラス層積層体は、ガラス層と樹脂層とからなる樹脂層ガラス層積層体であって、該ガラス層が、アルキル基および／またはアリール基とＳｉおよびＯとを含有するガラス状物質から実質的になることを特徴とする。該ガラス状物質は水分を含有しない有機溶媒に溶解させることができ、それをガラス形成液として、樹脂層の上にガラス形成液を塗布し、次いで乾燥させてガラス層を形成させて樹脂層ガラス層積層体を得ることができる。そして、本発明の樹脂層ガラス層積層体は、ゾルゲル法により得られた樹脂層ガラス層積層体と異なり、水分とアルコキシ基を含まない。このような本発明の樹脂層ガラス層積層体は、その理由は必ずしも明らかではないが、低い酸素透過率と低い水蒸気透過率を示す。
【００１１】
本発明のガラス状物質において、アルキル基としては、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基が挙げられる。また、アリール基としては、炭素数６〜１２のアリール基が好ましく、具体的には、フェニル基、ｏ−メチルフェニル基、ｍ−メチルフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、１，３，５−トリメチルフェニル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、２，４−ジエチルフェニル基、１，３，５−トリエチルフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基が挙げられる。
【００１２】
本発明において、ガラス状物質は、アルキル基および／またはアリール基とＳｉおよびＯとを含有するが、さらに、Ｐ、Ｂ、Ｇｅ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｂｉを含有していてもよい。ガラス層の形成が容易である点では、Ｐが好ましい。
【００１３】
本発明において、ガラス状物質として具体的には、式（１）
ｘＲ1Ｒ2ＳｉＯ・（１／３）ｙＰ2Ｏ5・（２−（２／３）ｙ）Ｈ3ＰＯ4      （１）
で示される組成を有するガラス状物質を挙げることができる。
【００１４】
ただし、式（１）において、ｘは１以上４以下の範囲の値であり、ｙは０以上３以下の範囲の値であり、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基および炭素数６〜１２のアリール基から選ばれる基を示す。
【００１５】
ｘとしては２以上３以下の範囲の値が好ましく、ｘ＝３である場合がより好ましい。
【００１６】
式（１）において、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基および炭素数６〜１２のアリール基から選ばれる基を示し、具体的には上記の基を挙げることができ、ガラス層の形成が容易である点で、メチル基、エチル基、フェニル基が好ましく、Ｒ1とＲ2の一方がフェニル基である場合がより好ましく、Ｒ1とＲ2の一方がフェニル基で他方がメチル基である場合がさらにより好ましい。
【００１７】
また本発明において、ガラス状物質として具体的には、式（２）
（ａ−ｂ）Ｒ1Ｒ2ＳｉＯ・（１／３）ｃＰ2Ｏ5・ｂＭＯ・（２−（２／３）ｃ）Ｈ3ＰＯ4      （２）
で示される組成を有するガラス状物質を挙げることができる。
【００１８】
ただし、式（２）において、ａは２以上３以下の範囲の値であり、ｂは０以上１．５以下の範囲の値であり、ｃは０以上３以下の範囲の値であり、Ｒ1およびＲ2は、上記と同じ意味を有し、Ｍは２価の金属元素を示す。Ｍは、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｚｎからなる群より選ばれる１種以上が好ましく、ＳｎおよびＺｎからなる群より選ばれる１種以上がより好ましく、Ｓｎがさらにより好ましい。
【００１９】
ａおよびｂの値としてはａ＝３かつｂが０．５以上１以下の範囲の値である場合が好ましい。
【００２０】
式（２）において、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基および炭素数６〜１２のアリール基から選ばれる基を示し、炭素数１〜１２のアルキル基および炭素数６〜１２のアリール基として具体的には上記の基を挙げることができ、ガラス層の形成が容易である点で、メチル基、エチル基、フェニル基が好ましく、Ｒ1とＲ2の一方がフェニル基である場合がより好ましく、Ｒ1とＲ2の一方がフェニル基で他方がメチル基である場合がさらにより好ましい。
【００２１】
本発明におけるガラス状物質の組成は、例えば、蛍光Ｘ線、赤外線、ガスクロマトグラフィーを用いることにより、分析することができる。
【００２２】
また本発明において、樹脂層としては、透明なものが好ましい。樹脂層を構成する樹脂として具体的には、ポリエチレン（低密度、高密度）、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、エチレン−ノルボルネン共重合体、エチレン−ドモン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、アイオノマー樹脂などのポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ナイロン−６、ナイロン−６，６、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体；ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂；ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリルなどのスチレン−アクリロニトリル系樹脂；トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水化セルロース系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンなどのハロゲン含有樹脂；ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性樹脂；ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂、ポリアリレート樹脂、液晶樹脂などのエンジニアリングプラスチック系樹脂が挙げられる。中でもエチレン−ノルボルネン共重合体、エチレン−ドモン共重合体などのポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂、液晶樹脂などのエンジニアリングプラスチック系樹脂が、ガラス層の形成が容易である点で、好ましく用いられる。
【００２３】
そして、本発明において、樹脂層の樹脂のＴｇ（ガラス転移点）は、１５０℃以上であることが好ましく、より好ましくは１８０℃以上、さらに好ましくは２００℃以上である。
【００２４】
この樹脂層の厚さは、通常は２０μｍ以上１０００μｍ（１ｍｍ）以下の範囲であり、２０μｍ以上５００μｍ以下の範囲がより好ましく、積層体のフレキシビリティの点で２０μｍ以上３００μｍ以下の範囲がさらに好ましい。
【００２５】
本発明の樹脂層ガラス層積層体には、さらに透明導電層、保護層、光反射層、偏光層等の層を積層してもよい。また本発明の樹脂層ガラス層積層体は、本発明の効果を損なわない範囲で、樹脂層とガラス層の間に滑剤、接着剤等を有していても良い。
【００２６】
このような構成を有することから、本発明の樹脂層ガラス層積層体は、より簡便で安価に得られ、低い酸素透過率と低い水蒸気透過率を示す樹脂層ガラス層積層体となり得る。
【００２７】
次に、本発明の製造方法について説明する。
本発明の製造方法は、アルキル基および／またはアリール基とＳｉおよびＯとを含有するガラス状物質と、有機溶媒とから実質的になるガラス形成液を樹脂層の上に塗布し、次いで乾燥させることを特徴とする。
【００２８】
ガラス形成液は、該ガラス状物質を製造し、それを有機溶媒に溶解することにより製造することができる。
【００２９】
該ガラス状物質は、アルキル基および／またはアリール基を有するクロロシランとリン酸または亜リン酸とを反応させることにより製造することができる。該ガラス状物質が、Ｇｅ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｂｉを含有する場合はそれぞれの塩化物を反応中に共存させればよい。
【００３０】
このクロロシランとしては、Ｓｉ原子にアルキル基および／またはアリール基が２個、塩素原子が２個結合したジクロロシランが好ましく、フェニルメチルジクロロシラン、フェニルエチルジクロロシランがより好ましい。
【００３１】
本発明におけるガラス状物質として好ましいガラス状物質である式（１）で示される組成を有するガラス状物質を製造するには、クロロシラン：リン酸または亜リン酸モル比が所定の比率となるように秤量し、混合して反応させ、ガラス形成液用のガラス状物質とする。なお、この反応は室温でも進行するが、短時間で終了させるために、２５０℃までの温度で加熱して進めてもよい。
【００３２】
所定の比率は、クロロシランのモル量とリン酸または亜リン酸モル量の比が、Ｓｉ：Ｐ＝１：２〜４：２（式（１）において、ｘ＝１〜４の範囲）となる範囲の比であり、Ｓｉ：Ｐ＝２：２〜３：２の範囲が好ましく、Ｓｉ：Ｐ＝３：２となる場合がより好ましい。
【００３３】
また、本発明において、ガラス状物質として好ましいガラス状物質である式（２）で示される組成を有するガラス状物質を用いる場合は、このガラス状物質は、２価の金属を含む塩化物を反応中に共存させて、上記の式（１）で示される組成を有するガラス状物質と同様にして製造することができる。
【００３４】
こうして製造されたガラス状物質、すなわちアルキル基および／またはアリール基とＳｉおよびＯとを含有するガラス状物質を有機溶媒に溶解させる。溶解を促進させるため、該ガラス状物質を溶解の前に、乳鉢、ローラー粉砕機、ボールミル、振動ミル等の工業的に通常用いられる粉砕機を用いて粉砕してもよい。また、有機溶媒と該ガラス状物質をボールミルや振動ミル等の粉砕機に仕込んで粉砕と溶解を同時に行ってもよい。
【００３５】
本発明の製造方法において用いることのできる有機溶媒としては、ケトン類およびトルエンからなる群より選ばれる１種以上が好ましく、トルエン、アセトン、２−ペンタノンおよび２−ヘプタノンからなる群より選ばれる１種以上がより好ましく、２−ペンタノンおよび２−ヘプタノンからなる群より選ばれる１種以上がさらに好ましい。
【００３６】
こうして得られたガラス形成液を樹脂層の上に塗布する。樹脂層としては、上記に例示した樹脂からなる樹脂層を挙げることができる。
【００３７】
塗布方法としては、ディッピング法、バーコータによるコーティング法、スピンコータによるコーティング法、ドクターブレード法、噴霧塗布法、スクリーンメッシュ印刷法等の工業的に通常用いられている方法により行うことができる。
【００３８】
次に、塗布されたガラス形成液を乾燥させて、ガラス層を得る。乾燥温度は、樹脂層の耐熱温度より低くなければならないが、その範囲内で通常は１００〜４００℃である。乾燥は、熱風乾燥機、赤外線乾燥機、真空乾燥機等の工業的に通常用いられている装置により行うことができる。
【００３９】
上記の乾燥を行えば、本発明の樹脂層ガラス層積層体を得ることができる。
得られるガラス層は、緻密であり高いガスバリア性能を有する。また層厚が１００μｍ以下であれば、樹脂層ガラス層積層体全体でフレキシビリティを有するので、有機ＥＬディスプレイ用の基板として好適に用いることができる。なお、ガラス層は１０μｍあれば単層でも十分なガスバリア性能を有するが、ガラス層の薄層化によるフレキシビリティの向上や機械的強度の向上のため、数μｍ程度の層厚のガラス層を複数積層してもよい。この場合ガラス層の間に樹脂層を挟んだ構造（積層ラミネート構造）とすることが望ましい。
【実施例】
【００４０】
以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【００４１】
実施例１
ガラス状物質の原料としてフェニルメチルジクロロシラン（ＰｈＭｅＳｉＣｌ2、信越化学株式会社）とリン酸（Ｈ3ＰＯ4、和光純薬社）を用いた。両者の混合比はモル比で３：２（Ｓｉ−ＣｌとＨ−ＰＯが全量反応する量論比）とした。攪拌羽根を有する反応容器を窒素雰囲気とし、リン酸を投入した。５０℃に加熱し、攪拌しながらフェニルジクロロシランを滴下した。反応物は極めて粘調で白濁した発泡体となった。その後１００℃、１５０℃、２００℃で順次それぞれ１時間保持し、試料中のＨＣｌガスを十分に除去し、透明な粘調液体を得た。この試料を室温まで冷却し、３ＭｅＰｈＳｉＯ・Ｐ2Ｏ5で表される組成を有するガラス状物質を得た。
【００４２】
該ガラス状物質を回収し、破砕し粉末状にした後、粉末と同重量のトルエンを添加し、窒素雰囲気下で攪拌することによりガラス形成液を製造した。バーコータによるコーティング法を用いて厚さ２００μｍのＰＥＳ基板上にガラス形成液を塗布し、室温で乾燥後、２００℃で加熱し樹脂層ガラス層積層体を得た。この積層体のガスバリア性として、酸素透過度と水蒸気透過度とを以下に記載の比較例と同様にして測定すると、酸素透過度と水蒸気透過度の低い良好な結果が得られる。
【００４３】
比較例１
ゾルゲル法により、樹脂層ガラス層積層体を製造した。アルゴン雰囲気中でテトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4）１０ｇをエタノール３０ｇと混合した。またエタノール３０ｇ、イオン交換水２．５ｇ、１ｍｏｌ／Ｌの塩酸を０．０５ｍＬを混合した溶液を製造し、攪拌したテトラエトキシシラン／エタノール混合溶液に滴下した。混合後５０℃で２時間保持し、ゾルを得る。ディップコート法を用いて厚さ２００μｍのＰＥＳ基板上にゾルを塗布し、５０℃の乾燥器で乾燥後、２００℃で加熱し、仮焼ゲル−樹脂積層体を得た。この積層体のガスバリア性として酸素透過度測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０型）を用いて酸素透過度を測定したところ、２３．５℃、６０％ＲＨ（相対湿度）下で１０５ｍｌ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ、水蒸気透過度測定装置（ＬＹＳＳＹ社製、ＡＧ  Ｌ８０−５０００型）を用いて水蒸気透過度を測定したところ、４０．０℃、９５％ＲＨ（相対湿度）下で７７．１ｇ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍであった。なお、ＰＥＳ基板のみで測定したガスバリア性は、２３．５℃、６０％ＲＨ（相対湿度）下で１３０ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ、水蒸気透過度を測定したところ、４０．０℃、９５％ＲＨ（相対湿度）下で８３．５ｇ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍとなった。