(57)【要約】      （修正有）【課題】塗膜均一性（モトル耐性）、生産性に優れ、かつインク吸収性及びひび割れ耐性が改良されたインクジェット記録用紙の製造方法を提供することにある。【解決手段】連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、該多孔質層を塗布してから１０秒以内に該電離放射線の照射を開始することを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。【選択図】図１
2006192585.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、該多孔質層を塗布してから１０秒以内に該電離放射線の照射を開始することを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。
【請求項２】
連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、該塗布膜に該電離放射線を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ2照射する以前の領域における乾燥風の風速が、１５ｍ／ｓｅｃ以下であることを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。
【請求項３】
連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、該塗布膜に該電離放射線を照射した後、３０秒以内に該塗布膜の膜面温度を３０℃以上とすることを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。
【請求項４】
連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、該塗布膜の含水率が３０〜２００％の領域で、該塗布膜の膜面温度を３０℃以上、１００℃以下とすることを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。
【請求項５】
連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、
該多孔質層を塗布してから１０秒以内に該電離放射線の照射を開始し、
該塗布膜に該電離放射線を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ2照射する以前の領域における乾燥風の風速が、１５ｍ／ｓｅｃ以下であり、
該塗布膜に該電離放射線を照射した後、３０秒以内に該塗布膜の膜面温度を３０℃以上とし、
かつ、該塗布膜の含水率が３０〜２００％の領域で、該塗布膜の膜面温度を３０℃以上、１００℃以下とすることを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。
【請求項６】
前記多孔質層を塗布してから１０秒以内に前記電離放射線の照射を開始することを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載のインクジェット記録用紙の製造方法。
【請求項７】
前記塗布膜に前記電離放射線を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ2照射する以前の領域における乾燥風の風速が、１５ｍ／ｓｅｃ以下であることを特徴とする請求項３または４に記載のインクジェット記録用紙の製造方法。
【請求項８】
前記塗布膜に前記電離放射線を照射した後、３０秒以内に前記塗布膜の膜面温度を３０℃以上とすることを特徴とする請求項４に記載のインクジェット記録用紙の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電離放射線により架橋する高分子化合物を用いた新規のインクジェット記録用紙の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録は、インクの微小液滴を種々の作動原理により飛翔させて紙などの記録シートに付着させ、画像・文字などの記録を行うものであるが、比較的高速、低騒音、多色化が容易である等の利点を有している。
【０００３】
上記のインクジェット記録方法で従来から問題となっていたノズルの目詰まりとメンテナンスについては、インク及び装置の両面から改良が進み、現在では各種プリンター、ファクシミリ、コンピューター端末等、様々な分野に急速に普及している。
【０００４】
特に最近ではプリンターの高画質化が進み写真画質に到達していることから、インクジェット記録用紙も写真画質を実現し、かつ写真の風合い（光沢、平滑性、コシなど）を再現することが求められている。
【０００５】
このインクジェット記録用紙で用いられる支持体としては、一般には、紙等の吸水性支持体とポリエステルフィルムや樹脂被覆紙等の非吸水性支持体とが知られている。前者は、支持体自身がインクを吸収できるため、高インク吸収能を有している利点がある反面、支持体の吸水性に起因するプリント後にシワが発生（コックリングともいう）するという問題があり、高品位なプリントが得にくかったり、プリント時にコックリングに伴い、記録ヘッドとプリント表面との間で擦りが起き易いなどの課題を有している。これに対し、非吸水性の支持体を使用する場合には、上述の問題はなく、高品位なプリントが得られる利点がある。
【０００６】
一方、支持体上に設けるインク吸収層としては、例えば、高平滑性を有する支持体上に、インク吸収層としてゼラチンやポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などの親水性バインダーを塗布してインク吸収層を形成するインクジェット記録用紙が知られている。このタイプのインクジェット記録用紙は、バインダーの膨潤性を利用して印字したインクを吸収する。しかしながら、このインク吸収層は、バインダーが水溶性樹脂であるが故、プリント後のインク乾燥性に難があり、また形成された画像や皮膜が水分に対して弱く耐水性が乏しい。更に、昨今のインクジェットプリンターにおいては印画速度が早いため、バインダーの膨潤による吸収性がインクの吐出量や吐出速度に追いつかず、インク溢れや形成した画像がまだら状となり適応性がなくなっている等の問題があった。
【０００７】
一方、特開昭６３−１８３８７号公報には、変性ポリビニルアルコールと耐水化剤を用いたインク吸収層を設けたインクジェット記録用紙が開示されている。また、電離放射線により架橋された親水性バインダーによるインク吸収層を有する水性インク用記録シートが開示されている（例えば、特許文献１参照。）。硬化されたバインダーをインク吸収層とすることにより、画像や皮膜の耐水性は解決されているが、本来、樹脂の膨潤能によりインクを吸収させているため、インク吸収性そのものの改良はなされていない。
【０００８】
上記水系樹脂の膨潤性を利用してインクを吸収するタイプのインクジェット用記録用紙に対し、特開平１０−１１９４２３号公報には、微小な空隙構造を有する多孔質層をインク吸収層として設けた記録用紙が提案されており、高インク吸収性と高速乾燥性であり、最も銀塩写真画質に近い画質が得られる方法の一つになりつつある。
【０００９】
この多孔質層は、主に親水性バインダーと微粒子とで形成されており、微粒子としては無機または有機の微粒子が広く適用されているが、一般的には、無機微粒子がより小粒径であり、高光沢の多孔質層を実現できるため好ましく用いられる。更に、上記無機微粒子に対し、相対的に少量の親水性バインダーを使用することにより、この無機微粒子間に空隙が形成されて高空隙率の多孔質層が得られる。
【００１０】
この多孔質層は、主に親水性バインダーと微粒子とで形成されており、微粒子としては無機または有機の微粒子が知られているが、一般的には、無機微粒子がより小粒径で高光沢の多孔質層を実現できるため好ましく用いられる。
【００１１】
この空隙部は、毛管現象によりインクを吸収するので、架橋剤等を併用してバインダーを架橋し、耐水性を向上させても、吸収速度を損なうことはないという利点を有している。特に、紙支持体の両面をポリエチレン樹脂で被覆したポリエチレンコート紙のような非吸水性支持体上に、このような多孔質インク吸収層を設けたインクジェット記録用紙の場合には、インクジェット記録する際、一時的にはすべてのインクをインク吸収層に保持する必要があるため、インク吸収層は高空隙容量の多孔質層でなくてはならず、従って、高空隙率の厚い塗膜を形成させる必要がある。通常は、乾燥膜厚として２５〜５０μｍが好ましく、３０〜５０μｍがより好ましい。
【００１２】
このような特徴を有する多孔質インク吸収層は、上述のように、その主成分が無機微粒子であり、元来硬い塗膜であることから、厚膜の多孔質層を非吸水性支持体上に塗布する場合、皮膜強度が低下し、乾燥時にひび割れ等の故障を誘発しやすい。
【００１３】
多孔質インク吸収層の形成過程においては、少量の親水性バインダーが微粒子表面に吸着し、その親水性バインダー間で絡み合う、もしくは親水性バインダー間の水素結合等の相互作用により微粒子を保持し、保護コロイドを作って多孔質層を形成している。その後、乾燥過程において塗膜の急激な収縮がおき、その収縮応力により、膜面にひび割れが起こると考えられている。そのため、ひび割れ等が発生しない良好な塗膜を得るための技術開発が求められていた。
【００１４】
このような課題に対し、例えば、多孔質層を形成する親水性バインダーとして、非架橋性のポリビニルアルコールを用いたインクジェット記録用紙の製造方法として、インク吸収層の塗布液を塗布した塗膜の膜面温度を３０℃以下で乾燥させることにより、インク吸収量に優れ、吹かれ、ひび割れがなく塗膜強度の優れたインクジェット記録用紙を効率よく製造するインクジェット記録用紙の製造方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。また、塗布後の含水率１０００〜５００％の塗膜に対して、乾燥風の膜面風速を１０ｍ／ｓｅｃ以下とし、乾燥風温度を３０℃を超える温度とし、かつ膜面温度を２０℃を超える温度として乾燥を行うことにより、色材受容層のひび割れや光沢ムラ等の発生を防止したインクジェット記録用シートの製造方法が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。
【００１５】
一方、活性エネルギー線硬化型モノマーをバインダーとして用いたインクジェット記録用紙が開示されている（例えば、特許文献４参照。）。また、インク吸収層、光沢発現層を順次設けたインクジェット記録用紙で、光沢発現層が、主にコロイド粒子及び１分子中に２個以上のエチレン性二重結合を含有する親水性の電離放射線硬化性化合物からなり、電離放射線を照射することにより硬化する方法が提案されている（例えば、特許文献５参照。）。
【００１６】
このような電離放射線により架橋（硬化）する特性を備えた親水性ポリマーを用いたインク吸収層では、高インク吸収能を維持した状態で、塗膜強度を高めることができる。また、この様な構成からなるインクジェット記録用紙の製造過程では、特許文献２、３に記載のような非架橋性のポリビニルアルコールを用いたインクジェット記録用紙に比較すると、製造時の乾燥条件の制約はやや緩和されるものの、電離放射線照射により硬化させインク吸収性やひび割れ耐性等の効果を十分に発現させるためには、製造過程、特に、支持体上へ塗布した以降の乾燥工程、調湿工程における厳密な制御が必要とされるが、特許文献４、５には、全くそれに関する記載や示唆が見られない。
【００１７】
例えば、支持体上へ電離放射線により架橋する高分子化合物を含む多孔質層を塗布した後、形成した塗布膜に電離放射線を照射するまでに要する時間が長いと、多孔質層を塗設した支持体の搬送中に、幅手の両端部間での搬送速度差、あるいは平行搬送性のゆがみ等により発生する支持体のたわみ（ツレともいう）の形状に対応して、塗設した多孔質層塗布液のレベリング、すなわち塗布液の平準化が生じ、正常の均一な平面状態に戻った際に、縦ムラ状の故障（モトル状故障）を引き起こす。このモトルの発生は、上述のような多孔質層を塗設してから電離放射線を照射するまでの時間の他に、電離放射線を照射するまでの乾燥雰囲気、あるいは電離放射線照射後の乾燥条件に大きく依存していることが判明した。
【特許文献１】特開平１−２８６８８６号公報
【特許文献２】特開２００１−１０２０７号公報
【特許文献３】特開２００３−１０３９１２号公報
【特許文献４】特開平７−４０６４９号公報
【特許文献５】特許第３３３３３３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、塗膜均一性（モトル耐性）、生産性に優れ、かつインク吸収性及びひび割れ耐性が改良されたインクジェット記録用紙の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【００２０】
（請求項１）
連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、該多孔質層を塗布してから１０秒以内に該電離放射線の照射を開始することを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。
【００２１】
（請求項２）
連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、該塗布膜に該電離放射線を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ2照射する以前の領域における乾燥風の風速が、１５ｍ／ｓｅｃ以下であることを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。
【００２２】
（請求項３）
連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、該塗布膜に該電離放射線を照射した後、３０秒以内に該塗布膜の膜面温度を３０℃以上とすることを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。
【００２３】
（請求項４）
連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、該塗布膜の含水率が３０〜２００％の領域で、該塗布膜の膜面温度を３０℃以上、１００℃以下とすることを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。
【００２４】
（請求項５）
連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、
該多孔質層を塗布してから１０秒以内に該電離放射線の照射を開始し、
該塗布膜に該電離放射線を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ2照射する以前の領域における乾燥風の風速が、１５ｍ／ｓｅｃ以下であり、
該塗布膜に該電離放射線を照射した後、３０秒以内に該塗布膜の膜面温度を３０℃以上とし、
かつ、該塗布膜の含水率が３０〜２００％の領域で、該塗布膜の膜面温度を３０℃以上、１００℃以下とすることを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。
【００２５】
（請求項６）
前記多孔質層を塗布してから１０秒以内に前記電離放射線の照射を開始することを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載のインクジェット記録用紙の製造方法。
【００２６】
（請求項７）
前記塗布膜に前記電離放射線を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ2照射する以前の領域における乾燥風の風速が、１５ｍ／ｓｅｃ以下であることを特徴とする請求項３または４に記載のインクジェット記録用紙の製造方法。
【００２７】
（請求項８）
前記塗布膜に前記電離放射線を照射した後、３０秒以内に前記塗布膜の膜面温度を３０℃以上とすることを特徴とする請求項４に記載のインクジェット記録用紙の製造方法。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、塗膜均一性（モトル耐性）、生産性に優れ、かつインク吸収性及びひび割れ耐性が改良されたインクジェット記録用紙の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
【００３０】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、連続走行する支持体上に、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜に電離放射線を照射して製造するインクジェット記録用紙の製造方法において、１）該多孔質層を塗布してから１０秒以内に該電離放射線の照射を開始するインクジェット記録用紙の製造方法、２）該塗布膜に該電離放射線を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ2照射する以前の領域における乾燥風の風速が、１５ｍ／ｓｅｃ以下であるインクジェット記録用紙の製造方法、３）該塗布膜に該電離放射線を照射した後、３０秒以内に該塗布膜の膜面温度を３０℃以上とするインクジェット記録用紙の製造方法、あるいは４）該塗布膜の含水率が３０〜２００％の領域で、該塗布膜の膜面温度を３０℃以上、１００℃以下とするインクジェット記録用紙の製造方法から選ばれる少なくとも１つのインクジェット記録用紙の製造方法により、塗膜均一性（モトル耐性）、生産性に優れ、かつインク吸収性及びひび割れ耐性が改良されたインクジェット記録用紙の製造方法、あるいは上記１）から４）の全ての要件を満たしたインクジェット記録用紙の製造方法により実現できることを見出し、本発明に至った次第である。
【００３１】
以下、本発明の詳細について説明する。
【００３２】
本発明に係るインクジェット記録用紙（以下、単に記録用紙ともいう）は、支持体上に多孔質層（以下、インク吸収層ともいう）を有し、該多孔質層が少なくとも無機微粒子及び電離放射線により架橋する高分子化合物を含有することを１つの特徴とする。
【００３３】
はじめに、本発明に係る無機微粒子について説明する。
【００３４】
本発明に係る記録用紙において用いることのできる無機微粒子としては、例えば、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、カオリン、クレー、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、ハイドロタルサイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、シリカ（例えば、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ）、アルミナ、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、水酸化アルミニウム、リトポン、ゼオライト、水酸化マグネシウム等の白色無機顔料等を挙げることができる。
【００３５】
本発明に係る無機微粒子としては、低コストであることや高い反射濃度が得られる観点から低屈折率の微粒子であることが好ましく、更には、シリカまたはアルミナであることが好ましい。
【００３６】
本発明に用いられるシリカとは、珪酸ソーダを原料として沈降法またはゲル法により合成された湿式シリカまたは気相法シリカである。例えば、湿式シリカでは沈降法による（株）トクヤマ製のファインシールが、ゲル法によるシリカとしては日本シリカ工業（株）製のＮＩＰＧＥＬが市販されている。沈降法シリカは、概ね１０〜６０ｎｍ、ゲル法シリカは概ね３〜１０ｎｍの一次粒子が二次凝集体を形成したシリカ粒子として特徴づけられる。
【００３７】
湿式シリカの一次粒子径に関する下限は、特に制約はないが、シリカ粒子の製造安定性の観点から３ｎｍ以上であり、皮膜の透明性の観点から５０ｎｍ以下であることが好ましい。一般的にはゲル法により合成される湿式シリカの方が、沈降法に対して一次粒径が小さい傾向にあり好ましい。
【００３８】
気相法シリカとは、四塩化ケイ素と水素を原料にし燃焼法により合成されるものであり、例えば、日本アエロジル（株）製のアエロジルシリーズが市販されている。
【００３９】
高空隙率の多孔質層を得る為には、ＢＥＴ法により測定される比表面積が４００ｍ2／ｇ未満であることが好ましく、または分散前の孤立シラノール基比率が０．５〜２．０であることが好ましく、０．５〜１．５であることがより好ましく、０．５〜１．１であることが特に好ましい。比表面積の下限は、銀塩写真に近似の光沢が得られる観点から４０ｍ2／ｇであることが好ましい。なお、本発明でいうＢＥＴ法とは、気相吸着等温線から１ｇ当たりの表面積を求める方法により比表面積を測定する方法である。また、この範囲の比表面積を有する気相法シリカにおいて、一次粒径分布における変動係数は、０．４以下であることが空隙率を大きくできる点から好ましい。なお、湿式シリカにおいては、一次粒子自身が細孔径を持つためこの限りではない。
【００４０】
一方、本発明に係る記録用紙に好ましく用いることのできるアルミナとは、酸化アルミニウム及びその水和物のことであり、結晶質でも非晶質でもよく、不定形、球状、板状、針状の形態を有している物が使用される。特に、アスペクト比が２以上で、一次粒径の平均粒径が５〜３０ｎｍの平板状アルミナ水和物、気相法アルミナが好ましい。
【００４１】
上記無機微粒子の水溶性塗布液における含有量は、５〜４０質量％であり、特に７〜３０質量％が好ましい。
【００４２】
本発明に係る多孔質層に用いられる電離放射線により架橋される高分子化合物とは、紫外線、電子線等の電離放射線の照射により、反応を起こして架橋する水溶性樹脂であり、架橋反応後、架橋反応前よりも水溶性が低下する樹脂である。ただし、該樹脂は、架橋後もインクに対し十分な親和性を維持することが好ましい。
【００４３】
このような樹脂としては、ポリビニルアルコールなどに対し光二量化型、光分解型、光解重合型、光変性型、光重合型等の変性基を作用させ、変性基を介して光により架橋を起こす架橋基変性ポリマー、または電子線により直接架橋するポリマーが使用可能であり、中でも光二量化型、光重合型の化合物が好ましい。
【００４４】
光二量化型の電離放射線架橋型樹脂としては、ジアゾ型、もしくはシンナモイル基、スチルバゾニウム基、スチルキノリウム基を導入した化合物が好ましい。
【００４５】
具体的には、特開昭６０−１２９７４２号公報に記載のポリビニルアルコール構造体中に、スチルバゾニウム基を導入した化合物で、下記一般式（１）で表される構成単位を有する感光性樹脂を挙げることができる。
【００４６】
【化１】
2006192585.tif 000003
【００４７】
上記一般式（１）において、Ｒ1は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ａ-はアニオン性基を表す。
【００４８】
また、光重合型の電離放射線架橋型樹脂としては、特開２０００−１８１０６２号公報に記載の下記一般式（２）で表される構成単位を有する樹脂を挙げることができる。
【００４９】
【化２】
2006192585.tif 000004
【００５０】
上記一般式（２）において、Ｒ2はメチル基または水素原子を表し、Ｙは芳香族環または単なる結合手を表し、ｎは１または２を表す。
【００５１】
芳香族環としては、例えば、下記のものを挙げることができる。
【００５２】
【化３】
2006192585.tif 000005
【００５３】
式中、Ｚ1及びＺ2は、各々メチル基、エチル基またはハロゲン原子を表す。
【００５４】
また、上記一般式（２）で表される構成単位の例としては、以下に示すものが挙げられる。
【００５５】
【化４】
2006192585.tif 000006
【００５６】
【化５】
2006192585.tif 000007
【００５７】
【化６】
2006192585.tif 000008
【００５８】
【化７】
2006192585.tif 000009
【００５９】
本発明に係る電離放射線により架橋される高分子化合物において、母核であるＰＶＡの重合度が５００以上であることが好ましく、１７００以上であることがより好ましい。
【００６０】
本発明に係る親水性バインダーにおいて、セグメントに対する電離放射線反応架橋基の変性率が４ｍｏｌ％以下であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜１ｍｏｌ％である。
【００６１】
本発明においては、本発明に係る電離放射線により架橋される高分子化合物と共に、光開始剤や増感剤を添加するのも好ましい。これらの化合物は溶媒に溶解、または分散した状態か、もしくは感光性樹脂に対して化学的に結合されていてもよい。
【００６２】
適用される光開始剤、光増感剤について特に制限はなく、従来公知の物を用いることができる。
【００６３】
適用される光開始剤、光増感剤については特に制限は無いが、水溶性の物が混合性、反応効率の観点から好ましい。例えば４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン（ＨＭＰＫ）、チオキサントンアンモニウム塩（ＱＴＸ）、ベンゾフェノンアンモニウム塩（ＡＢＱ）が水系溶媒への混合性という観点で好ましく、特に４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン（ＨＭＰＫ）が安定性、反応効率の観点からより好ましい。更に、一例としベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ビス−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾフェノン、ビス−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類。チオキサトン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、イソプロポキシクロロチオキサントン等のチオキサントン類。エチルアントラキノン、ベンズアントラキノン、アミノアントラキノン、クロロアントラキノン等のアントラキノン類。アセトフェノン類。ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル類。２，４，６−トリハロメチルトリアジン類、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール２量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２，−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール２量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体の２，４，５−トリアリールイミダゾール２量体、ベンジルジメチルケタール、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、フェナントレンキノン、９，１０−フェナンスレンキノン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等ベンゾイン類、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、ビスアシルフォスフィンオキサイド、及びこれらの混合物等が好ましく用いられ、上記は単独で使用しても混合して使用してもかまわない。
【００６４】
これらの開始剤に加え、促進剤等を添加することもできる。これらの例として、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等が挙げられる。
【００６５】
なお、本発明においては、本発明の目的効果を損なわない範囲で、本発明に係る電離放射線により架橋される高分子化合物と共に、従来公知の親水性樹脂を併用しても良い。
【００６６】
併用される親水性樹脂としては、特に制限はなく、従来公知の親水性バインダーとして用いることのできる親水性樹脂を用いることができ、例えば、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等を用いることができるが、ポリビニルアルコールが特に好ましい。
【００６７】
ポリビニルアルコールは、無機微粒子との相互作用を有しており、無機微粒子に対する保持力が特に高く、更に、吸湿性等の湿度依存性が比較的小さなポリマーであり、塗布乾燥時の収縮応力が比較的小さいため、本発明の課題である塗布乾燥時のひび割れに対する適性が優れる。本発明で好ましく用いられるポリビリルアルコールとしては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールやアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。
【００６８】
酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールとしては、平均重合度が３００以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が１０００〜５０００のものが好ましく用いられる。ケン化度は、７０〜１００％のものが好ましく、８０〜９９．５％のものが特に好ましい。
【００６９】
カチオン変成ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号に記載されているような、第１〜３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、これらはカチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。
【００７０】
本発明に係る多孔質層において、電離放射線により架橋される高分子化合物に対する無機微粒子の比率は、質量比で２〜５０倍であることが好ましい。質量比が２倍以上であれば、多孔質層の空隙率は良好であり、充分な空隙容量が得やすく、過剰の電離放射線により架橋される高分子化合物がインクジェット記録時に膨潤して空隙を塞ぐことを避けられる。一方、この比率が５０倍以下であれば、多孔質層を厚膜で塗布した際に、ひび割れが生じにくく好ましい。特に好ましい電離放射線により架橋される高分子化合物に対するシリカ微粒子の比率は、２．５〜２０倍である。また、乾燥塗膜の折れ割れ耐性という観点からは、５〜１５倍が好ましい。
【００７１】
本発明に係る多孔質の多孔質層の空隙は、塗膜の単位面積あたり１５〜４０ｍｌ／ｍ2の容量を持つことが好ましい。ここでいう容量とは、単位体積の塗膜を水につけたときに発生した気泡の体積、塗膜が吸収しうる水の体積、または、最終的に得られる記録用紙を、Ｊ．ＴＡＰＰＩ  ５１に規定される紙および板紙の液体吸収性試験方法（ブリストー法）で測定したときの、接触時間が２秒における液体転移量などで定義される。
【００７２】
本発明に係るインクジェット記録用紙においては、上記構成に加えて、本発明の目的効果を損なわない範囲で、各種の添加剤を添加することができる。そのような添加剤としては、例えば、カチオン性媒染剤、架橋剤、白地色調調整剤、蛍光増白剤、防黴剤、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、ベタイン系の各種界面活性剤、粘度調整剤、低沸点有機、高沸点有機、ラテックスエマルジョン、退色防止剤、紫外線吸収剤、多価金属化合物（水溶性もしくは非水溶性）、光重合開始剤、光増感剤、重合促進剤、マット剤、シリコンオイル等が挙げられ、中でもカチオン性媒染剤は、印字後の耐水性や耐湿性を改良するために好ましい。
【００７３】
カチオン媒染剤としては、第１級〜第３級アミノ基および第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が用いられるが、経時での変色や耐光性の劣化が少ないこと、染料の媒染能が充分高いことなどから、第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が好ましい。
【００７４】
好ましいポリマー媒染剤は、上記第４級アンモニウム塩基を有するモノマーの単独重合体やその他のモノマーとの共重合体または縮重合体として得られる。
【００７５】
また、バインダーとして含有する親水性樹脂の架橋剤を併用して多孔質層へ含有させたり、もしくは塗膜形成、乾燥後にオーバーコートさせることも特に好ましい。架橋剤により、多孔質層の耐水性がさらに改善され、また、インクジェット記録時に親水性バインダーの膨潤が抑制されるためにインク吸収速度が向上する。
【００７６】
架橋剤としては、従来公知の架橋剤を使用することができ、無機系架橋剤（例えば、クロム化合物、アルミニウム化合物、ジルコニウム化合物、ホウ酸類など）や有機系架橋剤（例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、Ｎ−メチロール系架橋剤、アクリロイル系架橋剤、ビニルスルホン系架橋剤、活性ハロゲン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、エチレンイミノ系架橋剤等）等を使用することができる。
【００７７】
これらの架橋剤は、親水性バインダーに対して、概ね１〜５０質量％であり、好ましくは２〜４０質量％である。
【００７８】
親水性バインダーがポリビニルアルコール類であり、微粒子がシリカである場合、架橋剤としては、３族、４族元素を含む化合物、特にホウ酸類やアルミニウム化合物、ジルコニウム化合物などの無機系架橋剤およびエポキシ系架橋剤が、特に好ましい。
【００７９】
本発明においては、多価金属化合物を上記多孔質層に添加し用いることができる。
【００８０】
多価金属化合物としては、例えば、Ｍｇ2+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+、Ｚｒ2+、Ｎｉ2+、Ａｌ3+などの硫酸塩、塩化物、硝酸塩、酢酸塩等を用いることができる。なお、好ましくは、塩基性ポリ水酸化アルミニウムや酢酸ジルコニルなどの無機ポリマー化合物である。多孔質層に多価金属化合物を含有させることにより、滲みや耐水性を向上させることができる。これらの多価金属化合物の多価金属イオンは、記録用紙１ｍ2当たり、概ね０．０５〜２０ミリモル、好ましくは０．１〜１０ミリモルの範囲で多孔質層に含有させることができる。
【００８１】
本発明のインクジェット記録用紙に用いられる支持体としては、吸水性支持体（例えば、紙など）や非吸水性支持体を用いることができるが、より高品位なプリントが得られる観点から、非吸水性支持体が好ましい。
【００８２】
好ましく用いられる非吸水性支持体としては、例えば、ポリエステル系フィルム、ジアセテート系フィルム、トリアテセート系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、アクリル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリ塩化ビニル系フィルム、ポリイミド系フィルム、セロハン、セルロイド等の材料からなる透明または不透明のフィルム、あるいは基紙の両面をポリオレフィン樹脂被覆層で被覆した樹脂被覆紙、いわゆるＲＣペーパー等が用いられる。
【００８３】
上記支持体上に、前記の水溶性塗布液を塗布するに当たっては、表面と塗布層との間の接着強度を大きくする等の目的で、支持体にコロナ放電処理や下引処理等を行うことが好ましい。さらに、本発明のインクジェット記録用紙は着色された支持体であってもよい。
【００８４】
本発明で好ましく用いられ支持体は、透明ポリエステルフィルム、不透明ポリエステルフィルム、不透明ポリオレフィン樹脂フィルムおよび紙の両面をポリオレフィン樹脂でラミネートした紙支持体である。
【００８５】
以下、最も好ましいポリオレフィンの代表であるポリエチレンでラミネートした紙支持体について説明する。
【００８６】
紙支持体に用いられる原紙は、木材パルプを主原料とし、必要に応じて木材パルプに加えてポリプロピレンなどの合成パルプあるいはナイロンやポリエステルなどの合成繊維を用いて抄紙される。木材パルプとしては、例えば、ＬＢＫＰ、ＬＢＳＰ、ＮＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＤＰ、ＮＤＰ、ＬＵＫＰ、ＮＵＫＰのいずれも用いることができるが、短繊維分の多いＬＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＢＳＰ、ＮＤＰ、ＬＤＰをより多く用いることが好ましい。但し、ＬＢＳＰまたはＬＤＰの比率は１０質量％以上、７０質量％以下であることが好ましい。
【００８７】
上記パルプは、不純物の少ない化学パルプ（硫酸塩パルプや亜硫酸塩パルプ）が好ましく用いられ、又、漂白処理を行って白色度を向上させたパルプも有用である。
【００８８】
原紙中には、高級脂肪酸、アルキルケテンダイマー等のサイズ剤、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタンなどの白色顔料、スターチ、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等の紙力増強剤、蛍光増白剤、ポリエチレングリコール類等の水分保持剤、分散剤、４級アンモニウム等の柔軟化剤などを適宜添加することができる。
【００８９】
抄紙に使用するパルプの濾水度は、ＣＳＦの規定で２００〜５００ｍｌであることが好ましく、また、叩解後の繊維長がＪＩＳ−Ｐ−８２０７に規定される２４メッシュ残分質量％と、４２メッシュ残分質量％との和が３０〜７０質量％が好ましい。なお、４メッシュ残分の質量％は、２０質量％以下であることが好ましい。
【００９０】
原紙の坪量は３０〜２５０ｇが好ましく、特に５０〜２００ｇが好ましい。原紙の厚さは４０〜２５０μｍが好ましい。原紙は、抄紙段階または抄紙後にカレンダー処理を施して、高平滑性を与えることもできる。原紙密度は０．７〜１．２ｇ／ｍ2（ＪＩＳ−Ｐ−８１１８に規定の方法に準ずる）が一般的である。更に、原紙剛度はＪＩＳ−Ｐ−８１４３に規定される条件で２０〜２００ｇが好ましい。原紙表面には表面サイズ剤を塗布しても良く、表面サイズ剤としては、前記原紙中添加できるサイズ剤と同様のものを使用することができる。原紙のｐＨは、ＪＩＳ−Ｐ−８１１３で規定された熱水抽出法により測定した場合、５〜９であることが好ましい。
【００９１】
原紙表面および裏面を被覆するポリエチレンは、主として低密度のポリエチレン（ＬＤＰＥ）または高密度のポリエチレン（ＨＤＰＥ）であるが、他のＬＬＤＰＥやポリプロピレン等も一部使用することができる。
【００９２】
また、塗布層側のポリエチレン層には、写真用印画紙で広く行われているようにルチルまたはアナターゼ型の酸化チタンをポリエチレン中に添加し、不透明度および白色度を改良したものが好ましい。酸化チタン含有量は、ポリエチレンに対して、１〜２０質量％、好ましくは２〜１５質量％である。
【００９３】
ポリエチレン被覆紙は、光沢紙として用いることも、また、ポリエチレンを原紙表面上に溶融押し出ししてコーティングする際に、いわゆる型付け処理を行って通常の写真印画紙で得られるようなマット面や絹目等の微粒面を形成したものも本発明で使用することができる。
【００９４】
原紙の表裏のポリエチレンの使用量は、水系塗布組成物の膜厚やバック層を設けた後で低湿および高湿化でのカールを最適化するように選択されるが、本発明に係る水系塗布組成物を塗布する側のポリエチレン層としては２０〜４０μｍ、バック層側が１０〜３０μｍの範囲であることが好ましい。
【００９５】
更に、上記ポリエチレン被覆紙支持体は、以下の特性を有していることが好ましい。
【００９６】
１）引っ張り強さ：ＪＩＳ−Ｐ−８１１３で規定される強度で、縦方向が２０〜３００Ｎ、横方向が１０〜２００Ｎであることが好ましい
２）引き裂き強度：ＪＩＳ−Ｐ−８１１６による規定方法で、縦方向が０．１〜２Ｎ、横方向が０．２〜２Ｎが好ましい
３）圧縮弾性率：≧１０３０Ｎ／ｃｍ2
４）表面ベック平滑度：ＪＩＳ−Ｐ−８１１９に規定される条件で、５００秒以上が光沢面としては好ましいが、いわゆる型付け品ではこれ以下であっても良い
５）裏面ベック平滑度：ＪＩＳ−Ｐ−８１１９に規定される条件で、１００〜８００秒が好ましい
６）不透明度：直線光入射／拡散光透過条件の測定条件で、可視域の光線での透過率が２０％以下、特に１５％以下が好ましい
７）白さ：ＪＩＳ−Ｐ−８１２３に規定されるハンター白色度で、９０％以上が好ましい。また、ＪＩＳ−Ｚ−８７２２（非蛍光）、ＪＩＳ−Ｚ−８７１７（蛍光剤含有）により測定し、ＪＩＳ−Ｚ−８７３０に規定された色の表示方法で表示したときの、Ｌ*＝９０〜９８、ａ*＝−５〜＋５、ｂ*＝−１０〜＋５が好ましい。
【００９７】
上記支持体のインク受容層側には、インク受容層との接着性を改良する目的で、下引き層を設けることが好ましい。下引き層のバインダーとしては、ゼラチンやポリビニルアルコール等の親水性ポリマーやＴｇが−３０〜６０℃のラテックスポリマーなどが好ましい。これらバインダーは、記録用紙１ｍ2当たり０．００１〜２ｇの範囲で用いられる。下引き層中には、帯電防止の目的で、従来公知のカチオン性ポリマーなどの帯電防止剤を少量含有させることができる。
【００９８】
上記支持体のインク受容層側と反対側の面には、滑り性や帯電特性を改善する目的でバック層を設けることもできる。バック層のバインダーとしては、やはりゼラチンやポリビニルアルコール等の親水性ポリマーやＴｇが−３０〜６０℃のラテックスポリマーなどが好ましく、またカチオン性ポリマーなどの帯電防止剤や各種の界面活性剤、更には平均粒径が０．５〜２０μｍ程度のマット剤を添加することもできる。バック層の厚みは、概ね０．１〜１μｍであるが、バック層がカール防止のために設けられる場合には、概ね１〜２０μｍの範囲である。また、バック層は２層以上から構成されていても良い。
【００９９】
下引き層やバック層の塗設に当たっては、支持体表面のコロナ処理やプラズマ処理などの表面処理を併用することが好ましい。
【０１００】
次に、本発明のインクジェット記録用紙の製造方法について、具体的に説明する。
【０１０１】
はじめに、本発明のインクジェット記録用紙の製造方法に適用できる製造工程フローについて、図を用いて説明する。
【０１０２】
図１は、本発明のインクジェット記録用紙の製造方法に適用できる製造工程フローの一例を示す模式図である。
【０１０３】
インクジェット記録用紙の製造工程１では、支持体をロール状に積層した支持体元巻２より、支持体Ｆを繰り出し、サポートロールＳを介して、塗布部Ｃに搬送される。塗布部Ｃは、支持体Ｆの裏面部を保持するバックアップロール３とコータ４とで構成され、コータ４には、電離放射線により架橋する高分子化合物を含む親水性バインダーおよび無機微粒子を含有する多孔質層塗布液５をコータ４に供給するための調整釜が配管を介して接続されている。
【０１０４】
連続走行する支持体Ｆ上に、コータ４より多孔質層塗布液を所定の湿潤膜厚で塗布を行った後、その下流部に配置されている電離放射線照射部６により電離放射線を照射して、多孔質層中に含有している高分子化合物を硬化（架橋）させた後、冷却ゾーン７で十分に冷却セットさせた後、乾燥部８に搬送して、温度及び湿度を制御した乾燥風を吹き付ながら、搬送ロール９及びリバーサー１０を介して搬送して乾燥される。乾燥が完了したインクジェット記録用紙は、巻き取り部でロール状に積層される。
【０１０５】
なお、図１においては、一例として冷却ゾーン７を設けた例を示したが、冷却ゾーンを省略した形態でも良く、また、図１では、一例として冷却ゾーン７の前に電離放射線照射部６を設けた例を示したが、冷却ゾーン７の後に電離放射線照射部６を設けた形態であってもよく、本発明で規定する電離放射線の照射条件を満たす範囲であれば、電離放射線照射部６の設置位置は制限されない。
【０１０６】
調製釜で調製する多孔質層塗布液５は、電離放射線により架橋する高分子化合物と必要に応じて別の親水性樹脂をバインダーと、フィラーとして用いる無機微粒子とを、必要に応じて界面活性剤等の存在下で混合、分散した後、必要であれば上述の添加剤等を更に混合して調製し、この多孔質層塗布液を少なくとも支持体の片面に塗布して、多孔質層を形成するための塗布膜を形成する。
【０１０７】
本発明に係る記録用紙の多孔質層は、単層であっても多層であっても良く、多層構成の場合には、全ての多孔質層を同時に塗布することが、製造コストを低減できる観点から好ましい。
【０１０８】
上記多孔質層塗布液、あるいはその他の構成層の支持体への塗布方法としては、公知の方法から適宜選択して行うことができ、例えば、グラビアコーティング法、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、押し出し塗布方法、カーテン塗布方法あるいは米国特許第２，６８１，２９４号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法が好ましく用いられる。
【０１０９】
次に、塗膜に電離放射線、例えば、紫外線（具体的な光源は、後述するが、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ等）等を照射する。この電離放射線の照射により、電離放射線により架橋する高分子化合物の側鎖間で架橋反応を生じさせ、塗膜の粘弾性を上昇させ、流動化を抑えてゲル化し、均一な塗膜を形成させることができる。電離放射線照射後に、塗膜を乾燥させ、支持体上に均一な、親水性バインダーと微粒子を主として含有する空隙を有する多孔質層が形成されたインクジェット記録媒体を得ることができる。
【０１１０】
本発明においては、塗布部Ｃで支持体上に多孔質層塗布液を塗設してから電離放射線照射部６により電離放射線を照射するまでの時間ｔを１０秒以下にすることを特徴の１つとし、好ましくは塗布後０．１〜３秒の間に電離放射線を照射することが、本発明の下記目的効果をいかんなく発揮する観点から好ましい。すなわち、この照射条件をとることにより、速やかな電離放射線により架橋する高分子化合物の架橋反応を行い、支持体の搬送中に、幅手の両端部間で発生する支持体のツレによる縦ムラ状の故障（モトル状故障）を効率よく防止することができる。
【０１１１】
また、本発明のインクジェット記録用紙の製造方法においては、塗布膜に電離放射線を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ2の範囲の照射量で照射する以前の領域、すなわち、塗布部Ｃで支持体上に多孔質層塗布液を塗設してから電離放射線照射部６により電離放射線を照射するまでの時間ｔの間で搬送される領域において、塗膜面に吹き付ける乾燥風の風速を１５ｍ／ｓｅｃ以下とすることを特徴とし、好ましくは１〜１５ｍ／ｓｅｃであり、更に好ましくは塗布後３秒以内の領域で、塗膜面に吹き付ける乾燥風の風速を１〜１５ｍ／ｓｅｃ以下とすることが好ましい。上記で規定する条件とすることにより、電離放射線照射前で未硬化状態の塗布膜への外風による吹かれムラ（風の影響により、塗膜が部分的に一定方向に移動してムラを生じる現象）を防止することにより、均一性の高い塗布膜を形成することができる。
【０１１２】
また、本発明のインクジェット記録用紙の製造方法においては、塗布膜に電離放射線を照射した後、３０秒以内に塗布膜の膜面温度を３０℃以上とすることが好ましく、更に好ましくは３０秒以内に塗布膜の膜面温度を３０℃以上、８０℃以下とすることが好ましい。上記で規定する条件とすることにより、硬化した塗布膜の乾燥を効率よく行うことができ、その結果、高い生産性を得ると共に、ひび割れ耐性をより一層向上させることができる。
【０１１３】
また、本発明のインクジェット記録用紙の製造方法では、乾燥工程において、塗布膜の含水率が３０〜２００％の領域で塗布膜の膜面温度を３０℃以上、１００℃以下とすることを特徴とし、上記で規定する条件とすることにより、硬化した塗布膜の乾燥を効率よく行うことができ、その結果、高い生産性を得ると共に、ひび割れ耐性をより一層向上させることができる。
【０１１４】
本発明のインクジェット記録用紙の製造方法においては、上記で規定する各製造条件に加えて、必要に応じて、塗布膜の含水率が２００％以下の領域で、更に波長３５０〜４００ｎｍの紫外線を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ2の範囲の照射させることが、より塗膜の硬度を高める観点から好ましい。
【０１１５】
また、乾燥終了後、ロール状に巻いたままあるいは種々のサイズのシートやロールに断裁後、３０〜６０℃で一定時間、例えば１日〜１ヶ月間保管することが好ましい。コストの観点から、１日〜３日がより好ましい。
【０１１６】
本発明のインクジェット記録用紙の製造方法で使用可能な電離放射線としては、例えば、電子線、紫外線、アルファ線、ベータ線、ガンマ線、Ｘ線等が挙げられ、人体への影響が少なく、取り扱いが容易で、工業的にもその利用が普及している紫外線が好ましく用いられる。
【０１１７】
電離放射線として電子線を使用する場合、照射する電子線の量は０．１〜２０Ｍｒａｄ程度の範囲で調節するのが望ましい。０．１Ｍｒａｄ以上とすることにより、充分な照射効果を得ることができ、２０Ｍｒａｄ以上とすることにより、支持体、特に紙やある種のプラスチックの劣化を抑制することができる。電子線の照射方式としては、例えばスキャニング方式、カーテンビーム方式、ブロードビーム方式等が採用され、電子線を照射する際の加速電圧は１００〜３００ｋＶ程度が好ましい。なお、電子線照射方式は、紫外線照射に比べて生産性が高く、増感剤添加による臭気や着色の問題がなく、更に均一な架橋構造をとりやすいといった利点がある。
【０１１８】
電離放射線として紫外線を使用する場合、光源として、例えば、数１００Ｐａから１ＭＰａまでの動作圧力を有する低圧、中圧、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が用いられるが、光源の波長分布という観点で高圧水銀灯、メタルハライドランプが好ましく、メタルハライドランプがより好ましい。また、３００ｎｍ以下の波長光をカットするフィルターを設けることが好ましい。ランプの出力としては４００Ｗ〜３０ｋＷ、照度としては１０ｍＷ／ｃｍ2〜１ｋＷ／ｃｍ2、照射エネルギーとしては０．１ｍＪ／ｃｍ2〜１５０ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、１ｍＪ／ｃｍ2〜５０ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。
【０１１９】
光源波長に３００ｎｍ以下の紫外線が含まれる場合や、照射エネルギーとして１５０ｍＪ／ｃｍ2を超える場合は、電離放射線架橋性樹脂の母核、または共存させる各種添加剤を紫外線により分解する可能性があり、本発明の効果を得られないだけでなく、分解物に由来する臭気などの問題を起こす可能性があるので好ましくない。照射エネルギーが０．１ｍＪ／ｃｍ2に満たない場合は架橋効率が不足し、本発明の効果が十分に得られない。
【０１２０】
紫外線照射の際の照度は０．１ｍＷ／ｃｍ2以上、１Ｗ／ｃｍ2以下が好ましい。照度が１Ｗ／ｃｍ2を超える場合、塗膜の表面硬化性は向上するが、深部硬化性が低下し表面のみ堅い膜が得られる。その場合は、膜の深度方向の堅さのバランスが崩れ、カールなどが起こり、好ましくない。
【０１２１】
照度が０．１ｍＷ／ｃｍ2より低い場合は、膜中の散乱等により架橋が十分進まず、本発明の効果が得られないため好ましくない。
【０１２２】
同一積算光量（ｍＪ／ｃｍ2）を与える場合、照度に好ましい範囲があることは、その光の透過率が変化することに起因する。紫外線の透過性により、発生した架橋反応種の濃度分布が異なり、紫外線照度が高い場合、表層に高濃度の架橋反応種が発生し、塗膜表層に堅い緻密な膜が形成されてしまう。
【０１２３】
照度が好ましい範囲にある場合には、表層の架橋度合いも低く、深部方向への光透過性が高いため緩やかな架橋が深部方向へ均一に形成される。
【０１２４】
照度が低過ぎる場合には、必要積算照度を与える場合に照射時間がかかってしまい、設備導入等の面で不利であるばかりでなく、塗膜による紫外線の散乱による絶対光線量が不足するため好ましくない。
【０１２５】
本発明に係る記録用紙を用いて画像記録（プリント）する際には、インクジェット用のインクを用いることが好ましい。
【０１２６】
上記インクジェット用のインクとは、着色剤、液媒体及びその他の添加剤を有する水性インクである。また、インクとしては、本発明で用いられる支持体に吸収されないものが好ましい。
【０１２７】
上記着色剤としては、インクジェットで公知の直接染料、酸性染料、塩基性染料、反応性染料あるいは食品用色素等の水溶性染料或いは水分散性顔料を用いることができるが、その中でも水分散性顔料を用いることが、本発明に係る構成を採った際に、特に発色性が向上するという観点から特に好ましい。
【０１２８】
上記液媒体としては、主に水及び水溶性の各種有機溶剤で構成されるものが好ましい。前記有機溶剤としては、本発明で用いられる支持体に吸収されないものであれば特に限定されず、例えば、メチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；アセトン、ジアセトンアルコール等のケトンまたはケトンアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２，６−ヘキサントリオール、チオジグリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、トリエタノールアミン等の多価アルコール類；エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールメチル（又はエチル）エーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールの低級アルキルエーテル類等が挙げられるが、これらの中ではジエチレングリコール、トリエタノールアミンやグリセリン等の多価アルコール類、トリエチレングリコールモノブチルエーテルの多価アルコールの低級アルキルエーテル等が好ましく用いられる。
【０１２９】
上記その他の添加剤としては、例えば、ｐＨ調整剤、金属封鎖剤、防カビ剤、粘度調整剤、表面張力調整剤、湿潤剤、界面活性剤及び防錆剤等が挙げられ、必要に応じ添加して用いることが好ましい。
【０１３０】
水性インクとしては、多孔質層に対する濡れ性を良好にするために、２０℃における表面張力は、０．０２５〜０．０６Ｎ／ｍが好ましく、０．０３〜０．０５Ｎ／ｍがより好ましい。また、上記水性インクのｐＨを、５〜１０に調整したものが好ましく、６〜９であるものがより好ましい。
【実施例】
【０１３１】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０１３２】
実施例１
《インク吸収層塗布液の調製》
予め均一に分散されている、一次粒子の平均粒径が約０．０１２μｍの気相法シリカ（日本アエロジル社製；アエロジル２００）を２５％含有するシリカ分散液（ｐＨ４．０、エタノール１．０％含有）の１００ｇに、スチルバゾリウム基を導入し、濃度を１０％に調整した光架橋性ポリビニルアルコール誘導体水溶液（東洋合成工業社製、ＳＰＰ−ＳＨＲ、主鎖ポリビニルアルコール重合度：２３００、ケン化度：８８％）の５０ｋｇを徐々に添加した。
【０１３３】
次いで、上記混合液を三和工業株式会社製の高圧ホモジナイザーで３ｋＮ／ｃｍ2の圧力で分散し、全量を純水で２００Ｌに仕上げ、３０μｍの濾過精度を有するアドバンテック東洋社製のＴＣＰ−３０タイプのフィルターを用いて濾過を行って、インク吸収層塗布液を調製した。
【０１３４】
《記録用紙の作製》
〔記録用紙１０１の作製〕
支持体として、幅が１．５ｍ、長さが約４０００ｍのロール状に積層され、坪量が１７０ｇ、含水率が８％の写真用原紙表面を、アナターゼ型酸化チタンを６％含有するポリエチレンを厚さ３５μｍで押し出し溶融塗布し、裏面には厚さ４０μｍのポリエチレンを押し出し溶融塗布した。表面側は、コロナ放電した後、ポリビニルアルコール（クラレ社製  ＰＶＡ２３５）を記録用紙１ｍ2当たり０．０５ｇになるように下引き層を塗布し、裏面側にはコロナ放電加工した後、Ｔｇが約８０℃のスチレン／アクリル酸エステル系ラテックスバインダーを約０．４ｇ／ｍ2、帯電防止剤（カチオン性ポリマー）を０．１ｇ／ｍ2および約２μｍのシリカを０．１ｇ／ｍ2をマット剤として含有するバック層を塗布したものを使用した。
【０１３５】
次いで、図１に記載のインクジェット記録用紙の製造工程フロー（ただし、図１に記載の冷却ゾーンは未使用とした）を用いて、上記支持体上にシリカの付き量で２６ｇ／ｍ2となるように、インク吸収層塗布液をカーテンコーターを用いて塗布した。塗布開始後、３０秒間は塗布膜に当てる外風の風速を１８ｍ／ｍｉｎとなるように搬送部の空調を制御した後、塗布開始３０秒後に、３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、波長３６５ｎｍにおける照度が６０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を用い、エネルギー量で３０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。その後、紫外線照射４０秒後に、塗布膜の膜面温度を３０℃となるように乾燥を行って、図１に記載の乾燥ゾーンを１１ゾーン設けた乾燥部で乾燥を行って、ロール状に巻き取って記録用紙１を作製した。
【０１３６】
なお、記録用紙１の作製において、塗布膜の含水率が３０〜２００％の領域における最低温度は２８℃、最高温度は１１０℃とした。
【０１３７】
〔記録用紙１０２〜１０７の作製〕
上記記録用紙１０１の作製において、インク吸収層を塗布してから紫外線を照射するまでの時間を表１に記載のように変更した以外は同様にして、記録用紙１０２〜１０７を作製した。
【０１３８】
《記録用紙の評価》
以上に様にして作製した各記録用紙について、下記の各評価を行った。
【０１３９】
〔モトル耐性の評価〕
上記作製した各記録用紙のインク吸収層の塗布膜厚を、１．０ｃｍ間隔で２０点測定し、下式に従って膜厚変動率を求め、下記の基準に従ってモトル耐性の評価を行った。
【０１４０】
膜厚変動率（％）＝｛（最大膜厚−最小膜厚）／平均膜厚｝×１００
１：膜厚変動率が１．０％未満である
２：膜厚変動率が１．０％以上、２．０％未満である
３：膜厚変動率が２．０％以上、４．０％未満である
４：膜厚変動率が４．０％以上、１０．０％未満である
５：膜厚変動率が１０．０％以上である
〔インク吸収性の評価〕
各記録用紙に対し、セイコーエプソン社製のインクジェットプリンターＰＭ９００Ｃを用い、反射濃度が約１．０のニュートラルグレーのベタ画像及び人物ポートレート画像を印字して、ムラの有無を目視観察し、下記の基準に従ってインク吸収性の評価を行った。
【０１４１】
１：印字ムラの発生が全く認められない
２：印字ムラが僅かに認められるが、ポートレート画像では全く問題ない品質である
３：印字ムラがベタ印字ではやや識別可能なレベルであるが、ポートレート画像では問題のない品質である
４：グレーのベタ画像で色ムラが認められ、かつポートレート画像でも認識され、実技上許容されない品質である
５：グレーのベタ画像及びポートレート画像での画像ムラが強く、全く許容されない品質である
上記の評価ランクにおいて、実用上、１〜３のランクであればインク吸収性に優れ、実用上許容範囲内の品質であると判断した。
【０１４２】
〔ひび割れ耐性の評価〕
上記作製した各記録用紙のインク吸収層塗設面側１００ｃｍ2を、ルーペを用いてひび割れの発生状況を観察し、下記の基準に従ってひび割れ耐性の評価を行った。
【０１４３】
１：ひび割れの発生が全く認められない
２：長さ０．５ｍｍ未満のひび割れがわずかに見られるが、実技上全く問題のない品質である
３：長さ０．５ｍｍ未満のひび割れが散在しているが、実技上は許容範囲内の品質である
４：長さ０．５〜２．０ｍｍのひび割れの発生が数多く認められ、実技上許容されない品質である
５：長さが２．０ｍｍを超えるひび割れの発生が認められ、全く許容されない品質である
以上により得られた結果を、表１に示す。
【０１４４】
【表１】
2006192585.tif 000010
【０１４５】
表１に記載の結果より明らかなように、インク吸収層を塗布してから紫外線を照射するまでの時間を１０秒以内とすることにより、モトル耐性、インク吸収性及びひび割れ耐性に優れたインクジェット記録用紙を製造できることが分かる。
【０１４６】
実施例２
《記録用紙の作製》
〔記録用紙２０１〜２０６の作製〕
実施例１に記載の記録用紙１０１の作製において、塗布開始から紫外線を照射するまでの領域における塗布膜に当てる外風の風速を表２に記載のように変更した以外は同様にして、記録用紙２０１〜２０６を作製した。
【０１４７】
《記録用紙の評価》
上記作製した記録用紙２０１〜２０６と、実施例１で作製した記録用紙１０１について、実施例１に記載の方法と同様にして、モトル耐性、インク吸収性及びひび割れ耐性の評価を行い、得られた結果を表２に示す。
【０１４８】
【表２】
2006192585.tif 000011
【０１４９】
表２に記載の結果より明らかなように、塗布開始から紫外線を照射するまでの領域における塗布膜に当てる外風の風速を１５ｍ／ｓｅｃとして作製した本発明の記録用紙は、比較例に対し、モトル耐性、インク吸収性及びひび割れ耐性に優れていることが分かる。
【０１５０】
実施例３
《記録用紙の作製》
〔記録用紙３０１〜３０６の作製〕
実施例１に記載の記録用紙１０１の作製において、紫外線照射後に、塗布膜の膜面温度を３０℃とするまでの時間を表３に記載のように変更した以外は同様にして、記録用紙３０１〜３０６を作製した。
【０１５１】
《記録用紙の評価》
上記作製した記録用紙３０１〜３０６と、実施例１で作製した記録用紙１０１について、実施例１に記載の方法と同様にして、モトル耐性、インク吸収性及びひび割れ耐性の評価を行い、得られた結果を表３に示す。
【０１５２】
【表３】
2006192585.tif 000012
【０１５３】
表３に記載の結果より明らかなように、紫外線照射後、塗布膜の膜面温度を３０℃とするまでの時間を３０秒以内として作製した本発明の記録用紙は、比較例に対し、モトル耐性、インク吸収性及びひび割れ耐性に優れていることが分かる。
【０１５４】
実施例４
《記録用紙の作製》
〔記録用紙４０１〜４０７の作製〕
実施例１に記載の記録用紙１０１の作製において、塗布膜の含水率が３０〜２００％の領域における最低温度及び最高温度を表４に記載のように変更した以外は同様にして、記録用紙４０１〜４０７を作製した。
【０１５５】
《記録用紙の評価》
上記作製した記録用紙４０１〜４０７と、実施例１で作製した記録用紙１０１について、実施例１に記載の方法と同様にして、モトル耐性、インク吸収性及びひび割れ耐性の評価を行い、得られた結果を表４に示す。
【０１５６】
【表４】
2006192585.tif 000013
【０１５７】
表４に記載の結果より明らかなように、塗布膜の含水率が３０〜２００％の領域における最低温度を３０℃以上、最高温度を１００℃以下となる条件で作製した本発明の記録用紙は、比較例に対し、モトル耐性、インク吸収性及びひび割れ耐性に優れていることが分かる。
【０１５８】
実施例５
《記録用紙の作製》
〔記録用紙５０１〜５０７の作製〕
実施例１に記載の記録用紙１０１の作製において、インク吸収層を塗布してから紫外線を照射するまでの時間、塗布開始から紫外線を照射するまでの領域における塗布膜に当てる外風の風速、紫外線照射後に、塗布膜の膜面温度を３０℃とするまでの時間、及び塗布膜の含水率が３０〜２００％の領域における最低温度及び最高温度を表５に記載のように変更した以外は同様にして、記録用紙５０１〜５０７を作製した。
【０１５９】
《記録用紙の評価》
上記作製した記録用紙５０１〜５０７と、実施例１で作製した記録用紙１０１、１０４、実施例２で作製した記録用紙２０３、実施例３で作製した記録用紙３０４、実施例４で作製した記録用紙４０４について、実施例１に記載の方法と同様にして、モトル耐性、インク吸収性及びひび割れ耐性の評価を行い、得られた結果を表４に示す。
【０１６０】
【表５】
2006192585.tif 000014
【０１６１】
表５に記載の結果より明らかなように、本発明の請求項１〜４で規定する条件を更に組み合わせることにより、モトル耐性、インク吸収性及びひび割れ耐性がより一層向上していることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１６２】
【図１】本発明のインクジェット記録用紙の製造方法に適用できる製造工程フローの一例を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１６３】
１  インクジェット記録用紙の製造工程
２  支持体元巻
３  バックアップロール
４  コータ
５  多孔質層塗布液
６  電離放射線照射部
７  冷却ゾーン
８  乾燥部
９  搬送ロール
１０  リバーサー
Ｃ  塗布部
Ｆ  支持体
Ｓ  サポートロール
【図１】
2006192585.tif 000015