(57)【要約】【課題】  実質的に光学的等方性で、波長分散が小さく、表面硬度が高いフィルムを提供すること。【解決手段】  下記式（Ｉ）および（II）を満たすフィルムの表面に紫外線吸収機能を持つ層を形成させた積層フィルム。  式（Ｉ）：  ０≦Ｒｅ(630)≦１０かつ｜Ｒｔｈ(630)｜≦２５  式（II）：  ｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５［式中、Ｒｅ(λ)は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）および（II）を満たすフィルムの表面に紫外線吸収機能を持つ層を形成させた積層フィルム。
式（Ｉ）：  ０≦Ｒｅ(630)≦１０かつ｜Ｒｔｈ(630)｜≦２５
式（II）：  ｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５
［式中、Ｒｅ(λ)は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
【請求項２】
紫外線吸収機能を持つ層が、紫外線吸収剤、活性エネルギー線硬化樹脂および重合開始剤の混合物を活性エネルギー線で硬化した材料からなる請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項３】
前記フィルムが、アシル置換度が２.８５〜３．００のセルロースアシレートのフィルムであって、フィルムの光学的異方性を低下させる化合物の少なくとも１種をセルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０重量％含むことを特徴とする請求項１または２に記載の積層フィルム。
【請求項４】
前記フィルムの膜厚が１０〜１２０μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の積層フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に形成してなる偏光板。
【請求項６】
請求項５に記載の偏光板を有する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に有用なフィルムおよびその製造方法に関し、さらにそれを用いた光学補償フィルム、偏光板などの光学材料および液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、セルロースアシレートフィルムはその強靭性と難燃性から写真用支持体や各種光学材料に用いられてきた。特に、近年は液晶表示装置用の光学透明フィルムとして多く用いられている。セルロースアシレートフィルムは、光学的に透明性が高いことと、光学的に等方性が高いことから、液晶表示装置のように偏光を取り扱う装置用の光学材料として優れており、これまで偏光子の保護フィルムや、斜め方向からの見た表示を良化（視野角補償）できる光学補償フィルムの支持体として用いられてきた。
【０００３】
液晶表示装置用の部材のひとつである偏光板には偏光子の少なくとも片側に偏光子の保護フィルムが貼合によって形成されている。一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素または二色性色素で染色することにより得られる。
多くの場合、偏光子の保護フィルムとしてはＰＶＡに対して直接貼り合わせることができる、セルロースアシレートフィルム、なかでもトリアセチルセルロースフィルムが用いられている。この偏光子の保護フィルムは、光学的等方性に優れることが重要であり、偏光子の保護フィルムの光学特性が偏光板の特性を大きく左右する。
【０００４】
最近の液晶表示装置においては、視野角特性の改善がより強く要求されるようになっており、偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などの光学透明フィルムは、より光学的に等方性であることが求められている。光学的に等方性であるとは、光学フィルムの複屈折と厚みの積で表されるレターデーション値が小さいことが重要である。とりわけ、斜め方向からの表示良化のためには、正面方向のレターデーション（Ｒｅ）だけでなく、膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を小さくする必要がある。具体的には光学透明フィルムの光学特性を評価した際に、フィルム正面から測定したＲｅが小さく、角度を変えて測定してもそのＲｅが変化しないことが要求される。
【０００５】
これまでに、正面のＲｅを小さくしたセルロースアシレートフィルムはあったが、角度によるＲｅ変化が小さい、すなわちＲｔｈが小さいセルロースアシレートフィルムは作製が難しかった。
【０００６】
セルロースアシレートフィルムの製造において、一般的に製膜性能を良化するため可塑剤と呼ばれる化合物が添加される。可塑剤の種類としては、リン酸トリフェニル、リン酸ビフェニルジフェニルのようなリン酸トリエステル、フタル酸エステル類などが開示されている（例えば、非特許文献１参照）。これら可塑剤の中には、セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる効果を有するものが知られており、例えば、特定の脂肪酸エステル類が開示されている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、従来知られているこれらの化合物を用いたセルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる効果は十分とはいえない。
【０００７】
さらにこれらのフィルムを偏光板の保護フィルムとして用いた場合、紫外線や太陽光あるいは液晶表示装置のバックライトなどによりフィルムの光学特性や物理特性が劣化したり、着色したりする問題があった。さらにセルロースアシレートフィルムの表面硬度は低く取り扱い中に傷が付くという問題があった。
【０００８】
また、最近の液晶表示装置においては、表示色味の改善も要求されるようになっている。そのため偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などの光学透明フィルムは、波長４００〜８００ｎｍの可視領域でＲｅやＲｔｈを小さくするだけでなく、波長によるＲｅやＲｔｈの変化、すなわち波長分散を小さくする必要がある。
【特許文献１】特開２００１−２４７７１７号公報
【非特許文献１】プラスチック材料講座、第１７巻、日刊工業新聞社、「繊維素系樹脂」、１２１頁（昭和４５年）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の第１の課題は、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく実質的に光学的等方性であり、さらには光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）の波長分散が小さいセルロースアシレートフィルムを提供することである。
本発明の第２の課題は、耐光性が優れたセルロースアシレートフィルムを提供することである。
本発明の第３の課題は、表面硬度が優れたセルロースアシレートフィルムを提供することである。
本発明の第４の課題は、視野角特性などの光学特性に優れた光学材料を提供し、さらにこれらを用いた液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、光学的異方性が小さく、波長分散が小さい材料を用いてフィルムを形成し、さらにその表面に紫外線吸収機能を持つ層を設けることによって、上記課題を解決しうることを見いだした。このような発見に基づいて、以下の構成を有する本発明が提供された。
［１］  下記式（Ｉ）および（II）を満たすフィルム（以下、基材フィルムともいう）の表面に紫外線吸収機能を持つ層を形成させた積層フィルム。
式（Ｉ）：  ０≦Ｒｅ(630)≦１０かつ｜Ｒｔｈ(630)｜≦２５
式（II）：  ｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５
［式中、Ｒｅ(λ)は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
［２］  紫外線吸収機能を持つ層が、紫外線吸収剤、活性エネルギー線硬化樹脂および重合開始剤の混合物を活性エネルギー線で硬化した材料からなる［１］に記載の積層フィルム。
［３］  前記フィルムが、アシル置換度が２.８５〜３．００のセルロースアシレートのフィルムであって、フィルムの光学的異方性を低下させる化合物の少なくとも１種をセルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０重量％含むことを特徴とする［１］または［２］に記載の積層フィルム。
［４］  前記フィルムの膜厚が１０〜１２０μｍであることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかに記載の積層フィルム。
［５］  ［１］〜［４］のいずれかに記載の積層フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に形成してなる偏光板。
［６］  ［５］に記載の偏光板を有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の積層フィルムは、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さくて実質的に光学的等方性であり、かつ波長分散が小さいという特徴を有する。また、本発明の積層フィルムは耐光性に優れており、また、表面硬度も改善することができる。このような積層フィルムは、視野角特性などの光学特性に優れた光学フィルムとして有用であり、偏光板の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などとして用いることができる。さらに、これらの光学フィルムを用いれば優れた機能を有する液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下において、本発明の積層フィルム等について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１３】
本発明の積層フィルムは、基材フィルムの表面に紫外線吸収機能を持つ層を形成した構造を有する。
本発明で用いる基材フィルムは、上記式（Ｉ）を満足する光学異方性が小さいフィルムである。すなわち、波長６３０ｎｍにおける面内のレターデーションＲｅ(630)が１０ｎｍ以下（０≦Ｒｅ(630)≦１０）でかつ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ(630)の絶対値が２５ｎｍ以下（｜Ｒｔｈ｜≦２５ｎｍ）である。好ましくは、０≦Ｒｅ(630)≦５かつ｜Ｒｔｈ｜≦２０ｎｍであり、特に好ましくは、０≦Ｒｅ(630)≦２かつ｜Ｒｔｈ｜≦１５ｎｍである。
また、  本発明で用いる基材フィルムは、上記式（II）を満足する波長分散が小さいフィルムである。すなわち、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５である。好ましくは、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦５かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦２５であり、特に好ましくは、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦３かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦１５である。
【００１４】
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA  21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)、面内の遅相軸（KOBRA  21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA  21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA  21ADHはnx、ny、nzを算出する。この算出されたnx,ny,nzよりNz=（nx−nz）/(nx−ny)がさらに算出される。
【００１５】
式（Ｉ）および（II）を満たすフィルム
本発明で用いる式（Ｉ）および（II）を満たすフィルムの種類やレターデーションの調整方法は特に制限されない。例えば、セルロースアシレートフィルム、ポリカーボネート系フィルム、熱可塑性シクロオレフィンフィルムを用いることが可能であり、具体的には、特開２００１−３１８２３３号公報や特開２００２−３２８２３３号公報に記載されるフィルム、ＺＥＯＮＯＲ（日本ゼオン社製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ社製）などを用いることが可能である。特に好ましいのは、セルロースアシレートフィルムである。そこで、以下においてセルロースアシレートフィルムを例にとって具体的に説明する。
【００１６】
[セルロースアシレート］
（原料綿）
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明の積層フィルムに対しては特に限定されるものではない。
【００１７】
（置換度）
次に上述のセルロースを原料に製造されるセルロースアシレートについて記載する。セルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸および／または炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することができる（水酸基が１００％置換したときの置換度は３である）。
【００１８】
上述のように本発明で用いるセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度は特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度は２．５０〜３．００であることが好ましい。さらには置換度が２．７５〜３．００であることがより好ましく、２．８５〜３．００であることがさらに好ましい。
【００１９】
セルロースの水酸基に置換する酢酸および／または炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、iso−ブタノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましい。
【００２０】
本発明の発明者が鋭意検討した結果、上述のセルロースの水酸基に置換するアシル基が実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基から選択される２種類以上からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性が低下することがわかった。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらに好ましくは２．６５〜３．００である。
【００２１】
（重合度）
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００がさらに好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【００２２】
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。本発明においてセルロースアシレートの製造に使用する際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下である。一般に、セルロースアシレートは水を含有しており、含水率は２．５〜５質量％であることが知られている。セルロースアシレートの含水率を２質量％以下にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
【００２３】
本発明のセルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いてもよい。
【００２４】
[セルロースアシレートへの添加剤]
式（Ｉ）および（II）を満たすフィルムは、上記のセルロースアシレートに適宜、添加剤を添加して製造することができる。すなわち、セルロースアシレートには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができる。例えば、フィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いて光学的異方性を十分に低下させ、ＲｅがゼロかつＲｔｈがゼロに近くなるように調整することができる。また、レターデーションの波長分散を抑制する化合物を用いることによって、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜および｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜が小さくなるように調整することができる。
添加剤の添加時期は特に制限されない。ドープ調整時に添加してもよいし、ドープ調製工程の最後に添加してもよい。
以下において、本発明において好ましく用いることができる添加剤について説明する。
【００２５】
（セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物）
セルロースアシレートには、セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物を好ましく添加することができる。特に、フィルム膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を低下させる化合物を、下記式（ｉ）、（ii）を満たす範囲で少なくとも１種添加することが好ましい。
式（ｉ）：  （Ｒｔｈ［Ａ］−Ｒｔｈ［０］）／Ａ≦−１．０
式（ii）：  ０．０１≦Ａ≦３０
上記式（ｉ）、（ii）は
式（ｉ−１）：  （Ｒｔｈ［Ａ］−Ｒｔｈ［０］）／Ａ≦−２．０
式（ii−１）：  ０．０５≦Ａ≦２５
であることがより好ましく、
式（ｉ−２）：  （Ｒｔｈ［Ａ］−Ｒｔｈ［０］）／Ａ≦−３．０
式（ii−２）：  ０．１≦Ａ≦２０
であることがさらに好ましい。
上式において、Ｒｔｈ［Ａ］、Ｒｔｈ［０］、Ａは、それぞれ以下のように定義される。
Ｒｔｈ（Ａ）：  Ｒｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ
（単位ｎｍ）
Ｒｔｈ（０）：  Ｒｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ
（単位ｎｍ）
Ａ：  フィルム原料ポリマーの重量を１００としたときのＲｔｈを低下
させる化合物の重量（単位％）
【００２６】
光学的異方性を低下させる化合物は、フィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制する作用を有しており、フィルムの光学的異方性を十分に低下させ、ＲｅがゼロかつＲｔｈがゼロに近くすることができる。光学的異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【００２７】
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有しても良いし、含有しなくても良い。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０〜３０００であることが好ましく、１７０〜２０００であることが好ましく、２００〜１０００であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造であっても良い。
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。
光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００２８】
光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％となるように用いることが好ましい。化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより、表面および中心部の化合物量を測定して求めることができる。
【００２９】
光学異方性を低下させる化合物としては、下記一般式（１）で表されるスルホンアミド、カルボンアミドが好ましく用いられる。
【化１】
2006195136.tif 000002
【００３０】
上記一般式（１）において、Ｚは−ＳＯ2−または−ＣＯ−を表す。Ｒ1はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、アミル基、イソアミル基、t−アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、t−オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ジデシル基）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、トリフェニルフェニル基）が特に好ましい。
一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明で用いることができる光学異方性を低下させる化合物はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００３１】
【化２】
2006195136.tif 000003
【００３２】
【化３】
2006195136.tif 000004
【００３３】
【化４】
2006195136.tif 000005
【００３４】
【化５】
2006195136.tif 000006
【００３５】
【化６】
2006195136.tif 000007
【００３６】
【化７】
2006195136.tif 000008
【００３７】
【化８】
2006195136.tif 000009
【００３８】
【化９】
2006195136.tif 000010
【００３９】
【化１０】
2006195136.tif 000011
【００４０】
【化１１】
2006195136.tif 000012
【００４１】
【化１２】
2006195136.tif 000013
【００４２】
【化１３】
2006195136.tif 000014
【００４３】
（波長分散調整剤）
セルロースアシレートフィルムの波長分散を低下させる化合物（波長分散調整剤ともいう）について説明する。
セルロースアシレートフィルムのＲｔｈの波長分散を良化させるためには、下記式（iii）で表されるＲｔｈの波長分散を低下させる化合物を、下記式（iv）、（ｖ）を満たす範囲で少なくとも１種含有させることが好ましい。
式（iii）：  ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜
式（iv）：  （ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−２．０
式（ｖ）：  ０．０１≦Ｂ≦３０
上記式（iv）、（ｖ）は
式（iv−１）：  （ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−３．０
式（ｖ−１）：  ０．０５≦Ｂ≦２５
であることがより好ましく、
式（iv−２）：  （ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−４．０
式（ｖ−２）：  ０．１≦Ｂ≦２０
であることがさらに好ましい。
【００４４】
２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜および｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜を低下させる化合物の少なくとも１種を、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０重量％含有させることが好ましい。
【００４５】
セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。したがって相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって波長分散を平滑にすることが要求される。一方２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。
【００４６】
したがって上述したような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。このためには波長分散を調整する化合物はセルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。
【００４７】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜および｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜を低下させる化合物をセルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れている要求される。本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％〜９５％であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％であることが好ましい。
【００４８】
上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、さらに好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【００４９】
上述した本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０重量％であることが好ましく、０．１〜２０重量％であることがより好ましく、０．２〜１０重量％であることが特に好ましい。
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００５０】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５１】
ベンゾトリアゾール系化合物としては一般式（１０１）で示されるものが本発明の波長分散調整剤として好ましく用いられる。
一般式（１０１）：    Ｑ1−Ｑ2−ＯＨ
（式中、Ｑ1は含窒素方向芳香族へテロ環を表し、Ｑ2は芳香族環を表す。）
【００５２】
Ｑ1は含窒素方向芳香族へテロ環を表し、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、セレナゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンゾセレナゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、ナフトチアゾール環、ナフトオキサゾール環、アザベンズイミダゾール環、プリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、トリアザインデン環、テトラザインデン環等が挙げられ、さらに好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンズオキサゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環が好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾール環である。
Ｑ1で表される含窒素芳香族ヘテロ環はさらに置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環してさらに環を形成してもよい。
【００５３】
Ｑ2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、さらに好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。さらに好ましくはベンゼン環である。
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環である。
Ｑ2であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ2はさらに置換基を有してもよく、置換基Ｔが好ましい。
【００５４】
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル基、エチル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、置換または未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００５５】
一般式（１０１）で表される化合物として好ましいものは、下記一般式（１０１−Ａ）で表される化合物である。
一般式（１０１−Ａ）
【化１４】
2006195136.tif 000015
【００５６】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
Ｒ1およびＲ3として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【００５７】
Ｒ2およびＲ4として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００５８】
Ｒ5およびＲ8として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００５９】
Ｒ6およびＲ7として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【００６０】
以上例に挙げたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以下のものを含まずにセルロースアシレートフィルムを作製した場合、保留性の点で有利であることが確認された。
【００６１】
また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（１０２）で示されるものが好ましく用いられる。
一般式（１０２）
【化１５】
2006195136.tif 000016
（式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子または硫黄原子を表す。）
【００６２】
Ｑ1およびＱ2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。
Ｑ1およびＱ2で表される芳香族炭化水素環として好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、さらに好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。さらに好ましくはベンゼン環である。
Ｑ1およびＱ2で表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかひとつを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては環、例えば環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは環、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環である。
Ｑ1およびＱ2であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり環、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、さらに好ましくは置換または無置換のベンゼン環である。
Ｑ1およびＱ2はさらに置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【００６３】
ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘとして好ましくは、ＮＲ（Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基はさらに置換してもよい。）、またはＯであり、特に好ましくはＯである。
【００６４】
置換基Ｔの具体例と好ましい範囲は、上記のとおりである。
【００６５】
一般式（１０２）で表される化合物として好ましいものは、下記一般式（１０２−Ａ）で表される化合物である。
一般式（１０２−Ａ）
【化１６】
2006195136.tif 000017
【００６６】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【００６７】
Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ8およびＲ9として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００６８】
Ｒ2として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。
【００６９】
Ｒ7として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。
【００７０】
また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるシアノ基を含む化合物としては一般式（１０３）で示されるものが好ましく用いられる。
一般式（１０３）
【化１７】
2006195136.tif 000018
（式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ1およびＸ2は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｑ1およびＱ2で表わされる芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。）
【００７１】
芳香族炭化水素環として好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、さらに好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。さらに好ましくはベンゼン環である。
【００７２】
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデンＱ2で表される芳香族環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン環、トリアジン環、キノリンＱ2で表される芳香族環である。
【００７３】
Ｑ1およびＱ2であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。
Ｑ1およびＱ2はさらに置換基を有してもよく、置換基としては上記の置換基Ｔが好ましい。置換基Ｔの具体例と好ましい範囲は上記のとおりである。
【００７４】
Ｘ1およびＸ2は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ1およびＸ2で表される置換基は前述の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ1およびＸ2はで表される置換基はさらに他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ1およびＸ2はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。
【００７５】
Ｘ1およびＸ2として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、さらに好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。
【００７６】
一般式（１０３）として好ましくは下記一般式（１０３−Ａ）で表される化合物である。
一般式（１０３−Ａ）
【化１８】
2006195136.tif 000019
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9およびＲ10はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ1およびＸ2は一般式（１０３）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【００７７】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9およびＲ10はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基ととしては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基はさらに別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【００７８】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ9、およびＲ10として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００７９】
Ｒ3およびＲ8として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。
【００８０】
一般式（１０３）としてより好ましくは下記一般式（１０３−Ｂ）で表される化合物である。
一般式（１０３−Ｂ）
【化１９】
2006195136.tif 000020
（式中、Ｒ3およびＲ8は一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好
ましい範囲も同様である。Ｘ3は水素原子、または置換基を表す。）
【００８１】
Ｘ3は水素原子、または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合はさらに他の置換基で置換されてもよい。Ｘ3として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、さらに好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。
【００８２】
一般式（１０３）としてさらに好ましくは一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物である。
一般式（１０３−Ｃ）
【化２０】
2006195136.tif 000021
（式中、Ｒ3およびＲ8は一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好
ましい範囲も同様である。Ｒ21は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）
【００８３】
Ｒ21として好ましくはＲ3およびＲ8が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、tert−オクチル基、２−エチルへキシル基、n−デシル基、、n−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。
【００８４】
Ｒ21として好ましくはＲ3およびＲ8が水素以外の場合には、一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。
【００８５】
本発明一般式（１０３）で表される化合物はJounal  of  American Chemical Society ６３巻  ３４５２頁（１９４１）記載の方法によって合成できる。
【００８６】
（マット剤微粒子）
本発明で用いるセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を好ましく加えることができる。
【００８７】
本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【００８８】
これらの微粒子は、通常平均粒子サイズが０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子サイズは０．２μｍ〜１．５μｍが好ましく、０．４μｍ〜１．２μｍがさらに好ましく、０．６μｍ〜１．１μｍが最も好ましい。１次、２次粒子サイズは、フィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子サイズとする。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子サイズとする。
【００８９】
二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【００９０】
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【００９１】
本発明において２次平均粒子サイズの小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子がさらに再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。
【００９２】
本発明で用いることができる方法はこれらに限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％がさらに好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇがさらに好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。
【００９３】
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【００９４】
（可塑剤、劣化防止剤、剥離剤）
上記の光学的に異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、マット剤の他に、本発明で用いるセルロースアシレートフィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤など）を加えることができる。これらの添加剤は、固体でも油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。さらにまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【００９５】
（添加剤の比率）
本発明で用いるセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレートの重量に対して５〜４５％であることが好ましい。より好ましくは１０〜４０％であり、さらに好ましくは１５〜３０％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましく、１０００以下がさらに好ましい。これら化合物の総量が５％以下であると、セルロースアシレート単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５％以上であると、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する(フィルムからの泣き出し)などの問題が生じやすくなる。
【００９６】
セルロースアシレートフィルムの製造
本発明に用いるセルロースアシレートフィルムの製造方法は特に制限されないが、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。このとき、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。
【００９７】
（溶媒）
セルロースアシレートを溶解するために用いる溶媒は特に制限されない。
溶媒として好ましい有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素である。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
セルロースアシレートに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒として用いても良いし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としても良い。
【００９８】
その他、本発明のセルロースアシレート溶液およびフィルムについての好ましい溶媒は、その溶解方法も含めて、例えば、特開２０００−９５８７６号、特開平１２−９５８７７号、特開平１０−３２４７７４号、特開平８−１５２５１４号、特開平１０−３３０５３８号、特開平９−９５５３８号、特開平９−９５５５７号、特開平１０−２３５６６４号、特開平１２−６３５３４号、特開平１１−２１３７９号、特開平１０−１８２８５３号、特開平１０−２７８０５６号、特開平１０−２７９７０２号、特開平１０−３２３８５３号、特開平１０−２３７１８６号、特開平１１−６０８０７号、特開平１１−１５２３４２号、特開平１１−２９２９８８号、特開平１１−６０７５２号、特開平１１−６０７５２号各公報などに記載されている。これらの公報には、セルロースアシレートに対する好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載されている。これらを採用することも、本発明においては好ましい。
【００９９】
（溶解工程）
セルロースアシレートの溶媒への溶解方法は特に限定されない。溶解は室温で行ってもよいし、冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらを組み合わせて使用してもよい。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【０１００】
（ドープ溶液の透明度）
セルロースアシレート溶液のドープ透明度は８５％以上であることが好ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。セルロースアシレートドープ溶液には、上記の各種の添加剤が十分に溶解する。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定する方法を採用することができる。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出する。
【０１０１】
（流延、乾燥、巻き取り工程）
次に、セルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。セルロースアシレートフィルムを製造する方法および設備としては、従来から用いられているセルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置を用いることができる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明のセルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
セルロースアシレートフィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。
【０１０２】
紫外線吸収機能を持つ層
本発明では、上記式（Ｉ）および式（II）を満たすフィルムの表面に紫外線吸収機能を持つ層（以下、紫外線吸収層という）を形成する。紫外線吸収層は、通常は紫外線吸収剤とバインダーを含有する層であり、好ましくは紫外線吸収剤、活性エネルギー線硬化性樹脂（特に紫外線硬化性樹脂）および重合開始剤の混合物を活性エネルギー線で硬化した層である。以下において、紫外線吸収層に用いる材料について説明する。
【０１０３】
（紫外線吸収剤）
本発明に用いる紫外線吸収剤は、波長３８０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れた化合物である。一般に用いられる紫外線吸収剤として、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物（オキシベンゾフェノン系化合物を含む）、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体などが挙げられる。
【０１０４】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、下記一般式〔１〕で示される化合物が好ましく用いられる。
【０１０５】
【化２１】
2006195136.tif 000022
【０１０６】
一般式〔１〕のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ同一であってもよいし異っていてもよく、水素原子、ハロゲン原子（塩素、臭素、沃素、フッ素）、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、アミノプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、クロロブチル基、ｎ−アミル基、ｉｓｏ−アミル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ステアリルアミドブチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、メタアリル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、オクタデセニル基など）、アリール基（例えばフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エトキシフェニル基、２−ヘキソキシフェニル基、３−ヘキソキシフェニル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、クロロブトキシ基、デコキシ基、ジアミノフェノキシ基、エトキシ基、ペンタデコキシ基、オクタデコキシ基など）、アシルオキシ基（例えば、カルボメトキシ基、カルボブトキシ基、カルボヘキソキシ基、カルボペンタデコキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２−プロピルフェノキシ基、３−アミルフェノキシ基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｔ−オクチルチオ基、ベンジルチオ基など）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、メチルフェニルチオ基、エチルフェニルチオ基、メトキシフェニルチオ基、エトキシフェニルチオ基、ナフチルチオ基など）、モノまたはジアルキルアミノ基（例えば、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−ｔ−オクチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブチルアミノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メタンスルホニルアミノ基など）、酸素または窒素を含む５または６員の複素環基（例えば、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ピペラジノ基など）を示し、Ｒ4とＲ5は閉環して炭素原子からなる５または６員環を形成してもよい。
一般式〔１〕において、Ｒ1〜Ｒ5で示される置換基の炭素数は５〜３６であることが好ましく、アルキル基の炭素数は１〜１８であることが好ましい。
【０１０７】
一般式〔１〕で表される化合物例を以下に示すが、本発明で用いることができる紫外線吸収剤はこれらに限定されるものではない。
（１−１）  ２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール
（１−２）  ２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール
（１−３）  ２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
（１−４）  ２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
（１−５）  ２−（２’−ヒドロキシ−５’−イソオクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール
（１−６）  ２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｎ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール
（１−７）  ２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾール
（１−８）  ２−（２’−ヒドロキシ−５’−ドデシルフェニル）−ベンゾトリアゾール
（１−９）  ２−（２’−ヒドロキシ−５’−ヘキサデシルフェニル）−ベンゾトリアゾール
（１−１０）  ２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−アミル−５’−ベンゾフェニル）−ベンゾトリアゾール
【０１０８】
また本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤のひとつであるベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、下記一般式〔２〕で表される化合物が好ましく用いられる。
【０１０９】
【化２２】
2006195136.tif 000023
【０１１０】
一般式〔２〕中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、およびフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基およびフェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−ＣＯ（ＮＨ）n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍおよびｎは１または２を表す。
【０１１１】
上記において、アルキル基としては炭素数２４までの直鎖または分岐のアルキル基を例示することができ、アルコキシ基としては炭素数１８までのアルコキシ基を例示することができ、アルケニル基としては炭素数１６までのアルケニル基を例示することができ、具体的にはアリル基、２−ブテニル基などを挙げることができる。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子など）、ヒドロキシ基、フェニル基、(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子などが置換していてもよい)などが挙げられる。
【０１１２】
以下に一般式〔２〕で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明で用いることができる紫外線吸収剤はこれらに限定されるものではない。
【０１１３】
【化２３】
2006195136.tif 000024
【０１１４】
【化２４】
2006195136.tif 000025
【０１１５】
【化２５】
2006195136.tif 000026
【０１１６】
また本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤のひとつであるサリチル酸エステル系化合物としては、例えばフェニルサリシレートなどが挙げられる。
また本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤のひとつであるシアノアクリレート系化合物としては、例えば２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリレートなどが挙げられる。
また本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤のひとつである無機粉体としては、例えば、超微粒子酸化チタン、超微粒子酸化亜鉛、超微粒子酸化鉄、超微粒子酸化セリウム、シリカ−酸化セリウム被覆顔料などが挙げられる。
【０１１７】
（紫外線吸収層）
紫外線吸収層は、紫外線吸収剤を単独あるいは２種以上混合して、合成樹脂等のバインダー成分や溶媒成分に配合して塗布、印刷加工が可能となるように調製し、グラビア塗布方式やフレキソ印刷方式等の公知の印刷手段によって、フィルムの表面に塗布、印刷加工することで形成される。硬化が必要な場合は、乾燥後、活性エネルギー線等により硬化させる。
紫外線吸収層は、紫外線遮蔽性および他の物性を保持できる厚みがあればよく、厚みとしては０．５〜５０μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。紫外線吸収層は、上記式（Ｉ）および（II）を満たすフィルムの少なくとも一方の表面に形成する。紫外線吸収層は該フィルムの両面に形成してもよい。紫外線吸収層を形成することによって、耐光性を高めるとともに、フィルムの着色を防止することができる。
【０１１８】
紫外線吸収層に使用される合成樹脂としては、セルロースアシレート、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等の一般に用いられる合成樹脂を挙げることができる。
使用される溶剤としては、溶解に問題が無い限り、一般の溶剤を用いることができる。好ましくはメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エタノール等のアルコール類などが挙げることができる。
合成樹脂等のバインダーに対する紫外線吸収剤の配合量は、バインダー１００質量部に対して紫外線吸収剤が０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜５質量部であることがより好ましい。紫外線吸収剤が０．１質量部以上であれば紫外線吸収効果が得られやすく、紫外線吸収剤が１０質量部以下であれば紫外線吸収剤が泣き出してヘイズが大きくなるような障害が生じにくい傾向がある。
【０１１９】
（活性エネルギー線硬化性樹脂）
さらに紫外線吸収層の硬度を上げるため、上記の合成樹脂の代わりに活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることができる。硬化方法としては、電子線や紫外線を照射する方法が好ましく、紫外線を照射する方法がより好ましい。紫外線で硬化する樹脂としては、光ラジカル重合するエチレン性不飽和基を有する多官能アクリレートや光カチオン重合する開環重合性化合物が好ましい。
【０１２０】
好ましいエチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。なお、これらの同一分子内にエチレン性不飽和基を２個以上含む硬化性樹脂は、単独でも混合して併用してもよい。
エチレン性不飽和基を同一分子内に２個以上含む硬化性樹脂としては、多官能（メタ）アクリレートモノマーと称される硬化性樹脂やウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートと称される分子内に３個以上の（メタ）アクリル酸エステル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。本明細書において、（メタ）アクリレートはアクリレートまたはメタクリレートを意味する。
【０１２１】
同一分子内に２個以上のアクリル基を有する硬化性樹脂の具体例としては、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート類、ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート、ビスフェノールＡなどとグリシジルアクリレートなどの反応によって得られるエポキシアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートなどを挙げることができる。
【０１２２】
その他の硬化性樹脂としては、スチレン化合物（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル）、１，４−ジビニルシクロヘキサノン、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）などを挙げることができる。
さらに硬化性樹脂やそのモノマーとしては、例えば、「光硬化技術データブック  材料編」（テクノネットブックス、テクノネット社）などに記載されているものが用いることができる。
【０１２３】
開環重合性基を含む硬化性樹脂として好ましくは、カチオン、アニオン、ラジカルなどの作用により開環重合が進行する環構造を有する硬化性樹脂であり、この中でもヘテロ環状基含有硬化性樹脂が好ましい。このような硬化性樹脂としてエポキシ化合物、オキセタン化合物、テトラヒドロフラン化合物、環状ラクトン化合物、環状カーボネート化合物、オキサゾリン化合物などの環状イミノエーテル類などが挙げられ、特にエポキシ化合物、オキセタン化合物、オキサゾリン化合物が好ましい。
本発明において開環重合性基を有する硬化性樹脂は、同一分子内に２個以上の開環重合性基を有することが好ましいが、より好ましくは３個以上有することが好ましい。また、本発明において開環重合性基を有する硬化性樹脂は、２種以上併用してもよく、この場合、同一分子内に開環重合性基を１個有する硬化性樹脂を必要に応じて併用することができる。
【０１２４】
本発明でいう開環重合性基を有する硬化性樹脂とは、上記のような環状構造を有する硬化性樹脂であれば特に制限がない。このような硬化性樹脂の好ましい例としては、例えば単官能グリシジルエーテル類、単官能脂環式エポキシ類、２官能脂環式エポキシ類、ジグリシジルエーテル類（例えばグリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル）、３官能以上のグリシジルエーテル類（トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレートなど）、４官能以上のグリシジルエーテル類（ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど）、脂環式エポキシ類（セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１（以上、ダイセル化学工業（株）製）、ＥＨＰＥ（ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど）、オキセタン類（ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）など）などが挙げられるが、本発明で用いることができる硬化性樹脂はこれらに限定されるものではない。
【０１２５】
開環重合性基を有する硬化性樹脂として、開環重合性基を繰り返し単位に含む架橋性ポリマーを含有していることが特に好ましい。例えば、開環重合性基を有するアクリル酸エステルが好ましく、開環重合性基としては、エポキシ環、オキセタン環、テトラヒドロフラン環、ラクトン環、カーボネート環、オキサゾリン環などのイミノエーテル環などを含む一価の基が挙げられ、この中でも特に好ましくはエポキシ環、オキセタン環、オキサゾリン環を含む一価の基である。具体例としてはグリシジルメタクリレートの重合体が挙げられる。
【０１２６】
（重合開始剤）
本発明において紫外線吸収層を形成する際には、重合開始剤を用いてもよい。特に、紫外線照射による硬化の場合、感光波長が近紫外領域にある重合開始剤を組合わせて用いることで紫外線吸収剤による硬化不足を防止することができる。近紫外領域にある重合開始剤の例としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）ＴＰＯ；チバスペャシティーケミカルズ社製）、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フォスフィンオキサイド（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９；チバガイギー社製）；チバスペャシティーケミカルズ社製）、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドなどのフォスフィンオキサイド類、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどのチオキサントン、Ｎ−メチルアクリドン、ビス（ジメチルアミノフェニル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）３６９；チバスペャシティーケミカルズ社製）などのケトン類、１，２−オクタンジオン−１−[４−（フェニルチオ）−２，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）]などのオキシム類などの４００ｎｍ付近まで吸収末端がある化合物が好ましい。作製したフィルムの着色を少なくさせため、照射後の消色が大きなフォスフィンオキサイドが特に好ましい。
紫外線の波長としては、３００〜４６０ｎｍの範囲が好ましく、線源としては高圧水銀灯、メタルハライドランプが好ましい。紫外線の照射量としては、３００〜１２００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、４００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2がさらに好ましい。照射部は窒素などの不活性ガスを充満させておくことが好ましい。また、紫外線照射は、フラットな状態でも、冷却あるいは加温したロールに巻き付けた状態でも行うことができる。
【０１２７】
積層フィルムの用途
本発明の積層フィルムは、様々な用途に用いることができる。特に、本発明の積層フィルムは光学特性が良好であることから、光学フィルムとして好ましく使用することができる。以下に、本発明の積層フィルムの代表的な用途について説明する。
【０１２８】
（偏光板）
本発明の積層フィルムは、特に偏光板の保護フィルムとして有用である。偏光板の保護フィルムとして用いる場合、偏光板そのものの作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。代表的な方法として、得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法を挙げることができる。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号各公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子およびその両面を保護する保護フィルムで構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成されるのが一般的である。プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは、偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明の積層フィルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムには透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることが得に好ましい。
【０１２９】
（光学補償フィルム）
本発明の積層フィルムは光学補償フィルムとして用いることもできる。光学補償フィルムとして用いる場合は、偏光素子の透過軸と、セルロースアシレートフィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。典型的な液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
【０１３０】
（液晶表示装置への使用）
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
本発明の積層フィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＡＦＬＣ（Anti-ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Supper Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）、およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のセルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
【０１３１】
（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明の積層フィルムは、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Mori）他の論文（Jpn. J. Appl. Phys. Vol.36 (1997) p.143や、Jpn. J. Appl. Phys. Vol.36 (1997) p.1068にも記載がある。
【０１３２】
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明の積層フィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０１３３】
（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明の積層フィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有用である。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅを０〜１５０ｎｍとし、Ｒｔｈを７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅは２０〜７０ｎｍであることがさらに好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈは７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈは１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。
【０１３４】
（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明の積層フィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体、または偏光板の保護膜としても特に有用である。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護膜のうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護膜（セル側の保護膜）に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。さらに好ましくは、偏光板の保護膜と液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のリターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。
【０１３５】
（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明の積層フィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有用である。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Mori）他の論文（Jpn. J. Appl. Phys. Vol.38 (1999) p.2837）にも記載がある。
【０１３６】
（反射型液晶表示装置）
本発明の積層フィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Guest-Host）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有用である。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号公報、国際公開第９８／４８３２０号パンフレット、特許第３０２２４７７号公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、国際公開第００−６５３８４号パンフレットに記載がある。
【０１３７】
（その他の液晶表示装置）
本発明の積層フィルムは、ＡＳＭ（Axially Symmetric Aligned Microcell ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有用である。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Kume）他の論文（Kume et al., SID 98 Digest 1089 (1998)）に記載がある。
【０１３８】
（透明基板）
本発明の積層フィルムは、光学的異方性がゼロに近く、優れた透明性を持っていることから、液晶表示装置の液晶セルガラス基板の代替品、すなわち駆動液晶を封入する透明基板としても用いることができる。
液晶を封入する透明基板はガスバリア性に優れる必要があることから、必要に応じて本発明のセルロースアシレートフィルムの表面にガスバリアー層を設けてもよい。ガスバリアー層の形態や材質は特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフィルムの少なくとも片面にＳｉＯ2等を蒸着したり、あるいは塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーなど相対的にガスバリアー性の高いポリマーのコート層を設ける方法が考えられ、これらを適宜使用できる。
また液晶を封入する透明基板として用いるには、電圧印加によって液晶を駆動するための透明電極を設けてもよい。透明電極としては特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフィルムの少なくとも片面に、金属膜、金属酸化物膜などを積層することによって透明電極を設けることができる。中でも透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましく、なかでも酸化スズを主として酸化亜鉛を２〜１５％含む酸化インジウムの薄膜が好ましく使用できる。これら技術の詳細は例えば、特開２００１−１２５０７９号や特開２０００−２２７６０３号公報などに記載されている。
【実施例】
【０１３９】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１４０】
（１）セルロースアシレートフィルムの作製
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）で濾過し、さらに絶対濾過精度０．００２５ｍｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にて濾過した。
【０１４１】
＜セルロースアシレート溶液Ａの組成＞
置換度２．８６のセルロースアセテート                      １００質量部
Ｎ−フェニル  ｐ−トルエンスルフォンアミド              １７．７質量部
２−ヒドロキシ  ４−オクチルオキシベンゾフェノン          １．２質量部
シリカ粒子（日本アエロジル（株）製Ｒ９７２）            ０．１３質量部
メチレンクロライド                                        ５１８質量部
メタノール                                                  ７７質量部
クエン酸エステル                                        ０．０１質量部
【０１４２】
上記セルロースアシレート溶液をバンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が約６０質量％になったときにフィルムをバンドから剥離し、１３５℃で２０分乾燥させセルロースアシレートフィルムを作製した。でき上がったセルロースアシレートフィルムの残留溶剤量は０．１５質量％であり、膜厚は８０μｍであった。
【０１４３】
（２）紫外線吸収層の作製
（実施例１の積層フィルムの製造）
下記の各成分をメチルエチルケトンに溶解した塗布液を、膜厚が３μｍになるようにグラビアコーターを用いて８０μｍの上記のセルロースアシレートフィルム上に塗布、乾膜することにより、厚み３μｍの紫外線吸収層を形成した。
２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−
ベンゾトリアゾール                                          ３質量部
ポリビニルブチラール樹脂                                  １００質量部
【０１４４】
（実施例２の積層フィルムの製造）
下記の各成分をメチルエチルケトンに溶解したものを撹拌しながら混合し、孔径１０μｍのフィルター（ポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−１０）で濾過して塗布液を作製した。グラビアコーターを用いて８０μｍの上記のセルロースアシレートフィルムに塗布、乾膜することにより、厚み３μｍの塗布層を形成し、さらにメタルハライドランプで照射（５００ｍＪ/ｃｍ2：３５０〜３９０ｎｍでの観測値）することにより積層フィルムを作製した。
２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−
ベンゾトリアゾール                                          ３質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート
（ビスコート＃２９５；大阪有機化学工業（株）製）          １００質量部
光ラジカル重合開始剤
（Darocur TPO（チバスペシャリティーケミカルズ社製））         ２質量部
【０１４５】
（３）評価
実施例１および実施例２の各積層フィルムと、紫外線吸収層を形成していない上記のセルロースアシレートフィルム（比較例１）について、以下の評価を行った。
（面内のレターデーションＲｅ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈの測定）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃・相対湿度６０％で２時間調湿し、Ｒｅは自動複屈折計KOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長５９０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。また、Ｒｔｈは前記Ｒｅと、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向を０°としてサンプルを１０°ごとに５０°まで傾斜させて波長５９０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８および膜厚を入力し算出した。
【０１４６】
（耐光性試験）
各フィルムに、スーパーキセノン光を２４０時間照射した。照射前後のフィルムの３８０ｎｍの吸収の変化を、２５℃・相対湿度６０％で分光光度計（Ｕ−３２１０、（株）日立製作所）を用いて測定した。変化が０．０３以下であれば許容できる範囲である。
【０１４７】
（耐擦傷性試験）
各フィルムの表面を日本スチールウール（株）製のBon Star No.0000を用いて、２００ｇの荷重をかけて擦った。実施例１および実施例２の積層フィルムについては、紫外線吸収層を形成した側を擦った。表面に肉眼で傷が確認されるようになるまで擦り、擦った回数を記録した。１０回擦っても表面に傷が観察されない場合は試験を終了し、結果は「＜１０」と表記した。
【０１４８】
【表１】
2006195136.tif 000027
【０１４９】
紫外線吸収層を設けた本発明の積層フィルムは、光耐久性が向上している。またさらに、紫外線硬化性樹脂を組合わせることで、表面の耐擦傷性が向上する。
【０１５０】
（偏光板の作製）
実施例２で作製した本発明の紫外線吸収層を積層したセルロースアシレートフィルムを、１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（５５℃）に２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアシレートフィルムの表面をケン化した。
続いて、ヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜を、ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として貼り合わせ、セルロースアシレートフィルムによって保護された偏光板を得た。このとき、紫外線吸収層を設けていない側とポリビニルアルコールとを貼り合わせた。延伸したポリビニルアルコールとの貼合性は十分であり、優れた偏光板加工適性を有していた。
得られた偏光板について、上記の方法で耐光性試験を行った。紫外線吸収層側からスーパーキセノン光を照射した場合の５５０ｎｍ光の透過率の変化は０．５％であり、その反対側からスーパーキセノン光を照射した場合の５５０ｎｍ光の透過率の変化は２％であった（耐光性試験前の透過率は４３％）。
【産業上の利用可能性】
【０１５１】
本発明の積層フィルムは、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さくて実質的に光学的等方性であり、かつ波長分散が小さいという特徴を有する。また、本発明の積層フィルムは耐光性に優れており、また、表面硬度も改善することができる。このような積層フィルムは、視野角特性などの光学特性に優れた光学フィルムとして有用である。
特に本発明の積層フィルムを偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体等に用いて液晶表示装置を製造すれば、表示色味を改善することができる。また、液晶表示装置の表面に用いたときの光劣化や傷つきを防止することもできる。特に、液晶表示装置の偏光板の視認側の表面に用いる場合、またバックライト側の表面に用いる場合に有効である。このため、本発明は産業上の利用可能性が高い。