(57)【要約】【課題】パターンの欠陥がなく、かつ磁気ヘッドの浮上を安定化することができる磁気記録媒体を提供する。【解決手段】凸部をなす強磁性層のパターンにより、記録トラックを含むデータ領域と、プリアンブル領域、アドレス領域およびバースト領域を含むサーボ領域とが形成された磁気記録層を有し、前記アドレス領域と前記バースト領域とが両者の間に記録トラックの一部を挟んで分断されていることを特徴とする磁気記録媒体。【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸部をなす強磁性層のパターンにより、記録トラックを含むデータ領域と、プリアンブル領域、アドレス領域およびバースト領域を含むサーボ領域とが形成された磁気記録層を有し、前記アドレス領域と前記バースト領域とが両者の間に記録トラックの一部を挟んで分断されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
さらに、前記プリアンブル領域と前記アドレス領域とが両者の間に記録トラックの一部を挟んで分断されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記バースト領域がＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄの領域を含み、さらに、前記ＡＢバースト領域と前記ＣＤバースト領域とが両者の間に記録トラックの一部を挟んで分断されていることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の強磁性層のパターンに相当する拡大パターンが形成されていることを特徴とする電子線縮小投影描画用レチクル。
【請求項５】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の強磁性層のパターンに相当する拡大パターンが形成されている電子線縮小投影描画用レチクルを作製し、
原盤にレジストを塗布し、前記電子線縮小投影描画用レチクルを用いて電子線縮小投影描画を行うことにより前記拡大パターンを縮小転写してレジスト原盤を作製し、
前記レジスト原盤を用いて電鋳を行うことによりスタンパを作製し、
非磁性基板上に強磁性層を成膜し、その表面にレジストを塗布し、前記スタンパを用いてインプリントリソグラフィーを行うことにより請求項１ないし３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体を製造することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、強磁性層のパターンによりサーボ領域が形成された磁気記録層を有する磁気記録媒体、この磁気記録媒体を製造するために用いられる電子線縮小投影描画用レチクル、および磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置（ハードディスクドライブ、以下ＨＤＤと記す）に組み込まれる磁気記録媒体（磁気ディスク）は常に記録容量の増大が要求されている。
【０００３】
ＨＤＤは、筐体の内部に、ドーナツ型の磁気ディスクと、磁気ヘッドを含むヘッドスライダと、ヘッドスライダを支持するヘッドサスペンションアッセンブリと、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）と、回路基板とを備えた構造を有する。
【０００４】
磁気ディスクは、同心円状に形成された多数のトラックに区分され、各トラックは一定角度毎に区切られたセクタを有する。磁気ディスクはスピンドルモータに取り付けられて回転され、磁気ヘッドにより各種のデジタルデータが記録・再生される。そのため円周方向にユーザーデータを記録するトラックが配される一方、位置制御のためのサーボマークが各トラックを跨ぐ方向に配される。サーボマークはプリアンブル、アドレス、バーストなどの領域を含む。また、これらの領域に加えてギャップ部を含んでいることもある。
【０００５】
磁気ディスクの高密度化技術の１つとして、記録トラックを強磁性層のパターンで形成した、いわゆるディスクリートトラック媒体が提案されている。ディスクリートトラック媒体を製造する際には、記録トラックを含むデータ領域だけでなく、サーボ領域も強磁性層のパターンで形成することが望まれる。これは、一方の領域を先に形成し、後から他方の領域を付加的に形成する方法をとると、位置合わせが困難になり、複雑な工程を経ることになるからである。
【０００６】
強磁性層のパターンによってデータ領域とサーボ領域とが形成された磁気記録層を形成するには、非磁性基板上に強磁性層を成膜し、その表面にレジストを塗布した後、スタンパを用いてインプリントリソグラフィーを行う方法が効率的である。このようなスタンパを作製するには、１００ｎｍ以下のサイズで凹凸を形成する微細加工技術が求められる。
【０００７】
スタンパを作製する方法として、従来は電子線直接描画が用いられていた。これに対して、電子線直接描画によりレチクルを作製し、電子線ステッパを用いレチクルを通して縮小投影描画することによりスタンパを作製することも検討されている。これは、後者の方法ではパターン精度の向上が期待できるためである。
【０００８】
これまで、レチクルを用いて電子線縮小投影描画技術によりスタンパを作製し、このスタンパを用いてインプリントリソグラフィーによりディスクリートトラック媒体を製造した例は知られていない。ここでは、光学記録媒体の製造方法（特許文献１参照）を参考にして、電子線縮小投影描画技術を利用したディスクリートトラック媒体の製造方法の一例を説明する。
【０００９】
まず、電子線直接描画技術を利用して、目標とする磁気ディスクのパターンのｎ倍に相当する拡大パターンを有するレチクルを作製する。スタンパ作製用のウエハ（原盤）上にレジストを塗布し、電子線ステッパを用い、得られたレチクルを通して電子線縮小投影描画する。ウエハ上に塗布されたレジストには、拡大パターンがｎ分の１に縮小投影された所望の微細パターンが描画される。レジストの現像処理を施し、表面に凹凸を有するレジスト原盤を作製する。スパッタリングによりレジスト原盤の凹凸面にメッキシード層を形成した後、電鋳を行い電鋳層を形成する。電鋳層およびメッキシード層をレジスト原盤から剥離した後、洗浄、裏面研磨、打ち抜きなどの工程を行い、スタンパを作製する。
【００１０】
一方、ガラス基板上に強磁性層を成膜し、表面にレジストを塗布する。このレジストに対してインプリントによりスタンパの凹凸を転写する。リアクティブイオンエッチング（以下、ＲＩＥと記す）により、レジスト凹部の底にあるレジスト残渣を除去し、強磁性層を露出させる。イオンミリングにより、強磁性層の露出部をエッチングして強磁性層のパターンを形成する。最後に、強磁性層のパターン上に残ったレジストを除去し、ディスクリートトラック媒体を製造する。
【００１１】
上記の電子線縮小投影描画に利用されるレチクルにはステンシルマスクとメンブレンマスクの２タイプのものがある。それぞれの特徴を簡潔に説明する。
【００１２】
ステンシルマスクは、描画されたパターン層以外の部分が貫通部となっているものである。電子線縮小投影描画時には、貫通部に電子線を透過させ、非貫通部であるパターン層で電子線を散乱させることによりレチクルのパターンを反映させた描画を実施することができる。ステンシルマスクでは、貫通部を電子線が透過するため、低散乱や色収差が起こらない。
【００１３】
メンブレンマスクは、電子線を透過しやすいシリコンやシリコン窒化膜などの軽元素からなるメンブレン層上に、電子線を散乱させるクロムやタングステンなどの重金属元素からなるパターン層を形成したものである。メンブレン層を電子線が透過するためステンシルマスクに比べて無散乱電子の割合が小さくなる。また、弾性散乱により角度を変えた電子はほとんどアパーチャで除去され、アパーチャを通過し描画に寄与し得る電子の一部は非弾性散乱によりエネルギーを失う。つまり電子のエネルギー分散が増大し解像度が低下する（色収差）という問題が生じやすい。
【特許文献１】特開２００２−３４２９８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
上述したレチクルのうち、ステンシルマスクのパターン層の厚みは２μｍ程度であり、メンブレンマスクの厚みはさらに薄いため、いずれも機械的強度が非常に低い。このように厚みの薄いレチクルでは、隣接する２つの領域でパターンの面積比が大きく変化すると、２つの領域の境界領域に応力が集中して歪みなどの変形や欠落を生じやすくなる。
【００１５】
そして、変形や欠落の生じたレチクルを用いて電子線縮小投影描画によりスタンパを作製し、さらに作製されたスタンパを用いてインプリントリソグラフィーによりディスクリートトラック媒体を製造すると、ディスクリートトラック媒体にパターンの欠陥が生じるおそれがある。また、パターンの欠陥が生じない場合でも、隣接する２つの領域でパターンの面積比が大きく変化すると、媒体上での磁気ヘッドの浮上が不安定になる。これらの要因から、信号特性の良好なディスクリートトラック媒体を得ることが困難になる。
【００１６】
本発明の目的は、パターンの欠陥がなく、かつ磁気ヘッドの浮上を安定化することができる磁気記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の一態様に係る磁気記録媒体は、凸部をなす強磁性層のパターンにより、記録トラックを含むデータ領域と、プリアンブル領域、アドレス領域およびバースト領域を含むサーボ領域とが形成された磁気記録層を有し、前記アドレス領域と前記バースト領域とが両者の間に記録トラックの一部を挟んで分断されていることを特徴とする。
【００１８】
本発明の他の態様に係る電子線縮小投影描画用レチクルは、上記の磁気記録媒体の強磁性層のパターンに相当する拡大パターンが形成されていることを特徴とする。
【００１９】
本発明のさらに他の態様に係る磁気記録媒体の製造方法は、上記の磁気記録媒体の強磁性層のパターンに相当する拡大パターンが形成されている電子線縮小投影描画用レチクルを作製し；原盤にレジストを塗布し、前記電子線縮小投影描画用レチクルを用いて電子線縮小投影描画を行うことにより前記拡大パターンを縮小転写してレジスト原盤を作製し；前記レジスト原盤を用いて電鋳を行うことによりスタンパを作製し；非磁性基板上に強磁性層を成膜し、その表面にレジストを塗布し、前記スタンパを用いてインプリントリソグラフィーを行うことにより上記の磁気記録媒体を製造することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の実施形態によれば、パターンの欠陥がなく、かつ磁気ヘッドの浮上を安定化することができる磁気記録媒体を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。
【００２２】
図１に本発明の一実施形態に係るディスクリートトラック媒体の平面図を示す。図１に示されるように、このディスクリートトラック媒体１には、実質的に同心円と見なされる溝で分離された強磁性層のパターンからなる記録トラックを有するデータ領域２と、データ領域２を区切るように径方向に沿ってほぼ円弧状に形成されたサーボ領域３が含まれる。データ領域２の記録トラックにはユーザーデータが記録される。磁気ヘッドはサーボ領域３から位置情報を得る。ＨＤＤとしての記録密度を確保するために、サーボ領域３はデータ領域２の１０分の１以下の面積である。
【００２３】
図２は、従来の磁気ディスクと同様のサーボ領域を有するディスクリートトラック媒体の磁気記録層を示す平面図である。データ領域２は記録トラック２１を含んでいる。サーボ領域３はプリアンブル領域３１、アドレス領域３２、およびバースト領域３３を含んでいる。ディスクリートトラック媒体では、記録トラック２１、プリアンブル領域３１、アドレス領域３２、およびバースト領域３３が凸部をなす強磁性層のパターンで形成される。強磁性層のパターン間のスペースは非磁性体で埋め込まれることが多い。サーボ領域３を従来の磁気ディスクと同様に設計すると、プリアンブル領域３１、アドレス領域３２、およびバースト領域３３を互いに隣接して連続的に形成することになる。
【００２４】
これらの各領域においてパターニングされた非磁性部が占める面積比率は、データ領域２（記録トラック２１）で約３３％、プリアンブル領域３１で約５０％、アドレス領域３２で約５０％、バースト領域３３で約２５％となっている。
【００２５】
レチクルを用いて電子線縮小投影描画技術によりスタンパを作製し、このスタンパを用いてインプリントリソグラフィーによりディスクリートトラック媒体を製造する場合、レチクル上のパターン層の面積比率も上記と同様になっている。
【００２６】
図３に、パターンが高密度に形成されている領域と、パターンが低密度に形成されている領域とが隣接している状態を一般化して示す。このように隣接する２つの領域でパターンの面積比が大きく変化する場合、その境界領域に応力が集中して歪みなどの変形や欠落を生じやすくなる。たとえば図２の例では、アドレス領域３２とバースト領域３３との間でパターンの面積比率の変化が最も大きく（５０％と２５％）、これらの２つの領域に境界領域に最も応力が集中して歪みなどの変形や欠落を生じやすくなる。他の境界領域でも同様な現象が生じる。こうして変形や欠落の生じたレチクルを用いて電子線縮小投影描画によりスタンパを作製し、さらに作製されたスタンパを用いてインプリントリソグラフィーによりディスクリートトラック媒体を製造すると、そのディスクリートトラック媒体の信号特性は悪化する。
【００２７】
そこで、本発明の実施形態に係るディスクリートトラック媒体においては、少なくともアドレス領域とバースト領域を両者の間に記録トラックの一部を挟んで分断する。さらに、本発明の実施形態においては、プリアンブル領域とアドレス領域を両者の間に記録トラックの一部を挟んで分断してもよいし、ＡＢバースト領域とＣＤバースト領域を両者の間に記録トラックの一部を挟んで分断してもよい。ここで、ＡＢバースト領域においては、位相の同じパターンが含まれる領域をそれぞれＡバースト領域、Ｂバースト領域としている。一例として図４においてＡバースト領域をＡ、Ｂバースト領域をＢとしている。ただし、Ａ、Ｂの順番は必須ではなく、逆であっても構わない。ＣＤバースト領域においても同様に位相の同じパターンが含まれる領域をそれぞれＣバースト領域、Ｄバースト領域としている。一例として図４においてＣバースト領域をＣ、Ｄバースト領域をＤとしている。ただし、Ｃ、Ｄの順番は必須ではなく、逆であっても構わない。
【００２８】
図４に、本発明の一実施形態に係るディスクリートトラック媒体の磁気記録層の平面図を示す。図４では、プリアンブル領域３１とアドレス領域３２との間、アドレス領域３２とＡＢバースト領域３３１との間、およびＡＢバースト領域３３１とＣＤバースト領域３３２との間に、それぞれ記録トラック２１の一部を挟んで、サーボ領域３内の隣接する２つの領域を分断している。
【００２９】
本発明に一実施形態に係る電子線縮小投影描画用レチクルも図４に相当する拡大パターンを有する。このように、サーボ領域３内の隣接する２つの領域を、記録トラック２１の一部を挟んで分断することにより、サーボ領域３内の境界領域での応力の集中を緩和して、レチクル全体で応力を分散させることができる。
【００３０】
図５に、図２に相当するパターンを有するレチクルの平面図と、そのレチクル内に生じる応力（破線）を示す。図６に、図４に相当するパターンを有するレチクルの平面図と、そのレチクル内に生じる応力（破線）を示す。図５および図６においては、応力の大きさを破線の太さで表示している。図６に示すように、サーボ領域３内の各領域を分断すると、レチクル全体で応力を分散させることができる。したがって、歪みや欠落のない良好なレチクルを作製することができる。
【００３１】
そして、変形や欠落のないレチクルを用いて電子線縮小投影描画によりスタンパを作製し、さらに作製されたスタンパを用いてインプリントリソグラフィーによりディスクリートトラック媒体を製造すると、ディスクリートトラック媒体にパターンの欠陥が生じることはない。また、隣接する２つの領域でパターンの面積比の変化が小さいので、媒体上での磁気ヘッドの浮上が安定になる。この結果、再生クロック抽出誤り率、アドレス誤り率、ノイズ、トラックピッチ誤差の低減した高性能のディスクリートトラック媒体を提供できる。
【００３２】
次に、図７（ａ）〜（ｇ）を参照して、本発明の一実施形態に係るステンシルマスクの製造方法を説明する。
【００３３】
シリコン基板５１上にエッチング時のストッパーとなるシリコン酸化膜５２を形成し、その上にＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）層５３を形成する。レジスト（日本ゼオン社製、ＺＥＰ−５２０）をアニソールで１．５倍に希釈し、０．２μｍのメンブランフィルタでろ過してレジスト溶液を調製する。ＳＩＯ層５３上にレジスト溶液をスピンコートし、２００℃で３分間プリベークして、０．３μｍ厚のレジスト５４を形成する（図７（Ａ））。
【００３４】
このシリコン基板５１を電子線描画装置の搬送系によって所定位置に搬送し、真空下において目標とするディスクリートトラック媒体のパターンを４倍に相当する拡大パターンを電子線で直接描画する。描画の際には、図４に示したように、サーボ領域内のプリアンブル領域、アドレス領域、バースト領域が記録トラックの一部を挟んで分断されたパターンとなるように、描画装置を制御する。４倍の拡大パターンでは描画装置のマージンが大きいため、等倍の微細パターンと比較して、高精度の描画が可能である。
【００３５】
シリコン基板５１を現像液（日本ゼオン社製、ＺＥＤ−Ｎ５０）に９０秒間浸漬してレジストパターン５４を現像し、リンス液（日本ゼオン社製、ＺＭＤ−Ｂ）に９０秒間浸漬してリンスを行い、エアーブローにより乾燥させる（図７（Ｂ））。レジストパターン５４をマスクとしてＳＯＩ層５３をシリコン酸化膜５２が露出するまで異方性エッチングする（図７（Ｃ））。不要なレジストを除去した後、シリコン基板５１の裏面にレジストを塗布し、リソグラフィーによりレジストパターン５５を形成する（図７（Ｄ））。シリコン基板５１の裏面をシリコン酸化膜５２が現れるまでＫＯＨでエッチングする（図７（Ｅ））。不要なレジストを除去する（図７（Ｆ））。さらに、フッ酸によりシリコン酸化膜５２を除去して、歪みや欠陥のない良好なステンシルマスクを得る（図７（Ｇ））。
【００３６】
次に、本発明の一実施形態に係るスタンパの製造方法を説明する。  
レジスト（日本ゼオン社製、ＺＥＰ−５２０）をアニソールで２倍に希釈し、０．２μｍのメンブランフィルタでろ過してレジスト溶液を調製する。Ｓｉ原盤上にレジスト溶液をスピンコートし、２００℃で３分間プリベークして、０．１μｍ厚のレジストを形成する。
【００３７】
縮小投影電子線露光装置を用い、上記のようにして得たステンシルマスクを通して１／４の電子線縮小投影描画を行うことにより、ステンシルマスクの拡大パターンを縮小転写したレジスト原盤を作製する。レジスト原盤を現像液（日本ゼオン社製、ＺＥＤ−Ｎ５０）に９０秒間浸漬してレジストパターンを現像し、リンス液（日本ゼオン社製、ＺＭＤ−Ｂ）に９０秒間浸漬してリンスを行い、エアーブローにより乾燥させる。
【００３８】
このとき、図８（ａ）に示すように、４倍の拡大パターンにおいてトラックピッチのむら（標準偏差σ）やプリアンブル領域のラインのうねり（距離Ｄ）があったとしても、１／４縮小転写すると、図８（ｂ）に示すように、トラックピッチのむらはσ／４になり、ラインのうねりはＤ／４になる。上述したように、４倍の拡大パターンは高精度の描画が可能なうえに、縮小転写によりパターンの乱れも縮小できるので、極めて高精度のパターンを形成することができる。
【００３９】
レジスト原盤上にスパッタリング法によってメッキシード層となる導電膜を形成する。たとえば、ターゲットに純ニッケルを使用し、チャンバーを８×１０-3Ｐａまで真空引きした後にアルゴンガスを導入して１Ｐａに調整し、４００Ｗの電力を印加して４０秒間スパッタリングを行い、厚さ３０ｎｍの導電膜を形成する。
【００４０】
導電膜を形成したレジスト原盤をスルファミン酸ニッケルメッキ液（昭和化学（株）製、ＮＳ−１６０）を使用し、７５分間電鋳する。電鋳条件はたとえば次の通りである。
【００４１】
スルファミン酸ニッケル：６００ｇ／Ｌ
ホウ酸：４０ｇ／Ｌ
界面活性剤（ラウリル硫酸ナトリウム）：０．１５ｇ／Ｌ
液の温度：５５℃
ｐＨ：４．０
電流密度：２０Ａ／ｄｍ2。
【００４２】
電鋳膜の厚さは約３００μｍとなる。レジスト原盤から電鋳膜および導電膜を剥離し、レジスト残渣を酸素プラズマアッシングによって除去する。酸素プラズマアッシングは、チャンバーに酸素ガスを１００ｓｃｃｍで導入して４Ｐａに調整し、１００Ｗの電力を印加して約１０分間行う。こうして導電膜および電鋳膜を備えたファザースタンパを得る。得られたスタンパの不要部を金属刃で打ち抜くことによりインプリント用スタンパを作製する。
【００４３】
次に、本発明の一実施形態に係るディスクリートトラック媒体の製造方法を説明する。  
スタンパをアセトンで１５分間超音波洗浄する。フルオロアルキルシラン［ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＭｅ）3］（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製、ＴＳＬ８２３３）をエタノールで５％に希釈した溶液を調製する。この溶液は、インプリント時の離型性を高めるために用いる。スタンパをこの溶液に３０分浸し、ブロアーで溶液をとばした後、１２０℃で１時間アニールする。
【００４４】
一方、被加工基板として、０．８５インチのドーナツ型ガラス基板上に垂直記録膜をスパッタリングにより形成する。その上に、ノボラック系レジスト（ローム・アンド・ハース製、Ｓ１８０１）を回転数３８００ｒｐｍでスピンコートする。レジストに対してスタンパを２０００ｂａｒで１分間プレスすることによって、レジストにスタンパのパターンを転写する。パターンが転写されたレジスト膜を５分間ＵＶ照射した後、１６０℃で３０分間加熱する。
【００４５】
インプリントされた基板をＩＣＰ（誘導結合プラズマ）エッチング装置に入れ、２ｍＴｏｒｒの圧力下で酸素ＲＩＥを行い、続けてＡｒイオンミリングを行って垂直記録膜をエッチングする。４００Ｗ、１Ｔｏｒｒで酸素ＲＩＥを行い、エッチングマスクを剥離する。ＣＶＤ（化学気相成膜法）により保護膜として約３ｎｍ厚のＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）を成膜する。ディップ法により潤滑剤を約１ｎｍ厚となるように塗布する。このようにして本発明の一実施形態に係るディスクリートトラック媒体を製造する。
【００４６】
図９に、得られたディスクリートトラック媒体を組み込んだ磁気ディスク装置（ＨＤＤ）の斜視図を示す。図９に示すように、筐体７０内において、ドーナツ型の磁気ディスク７１はスピンドルモータ７２に回転可能に取り付けられている。磁気ディスク７１の近傍のピボット７３にはアクチュエータアーム７４が取り付けられている。アクチュエータアーム７４の先端にサスペンション７５が取り付けられ、その下面に磁気ヘッドを含むヘッドスライダ７６を支持している。アクチュエータアーム７４の基端にはボイスコイルモータ（ＶＣＭ）７７が設けられている。磁気ディスク７１を回転させながら、ボイスコイルモータ７７によりアクチュエータアーム７４を動かし、ヘッドスライダ７６先端の磁気ヘッドを磁気ディスク７１の所望のトラック上に浮上させて位置決めし、記録・再生を行う。信号は筐体下部に内蔵されている回路基板により処理する。
【００４７】
本発明の実施形態に係るディスクリートトラック媒体を組み込んだＨＤＤで信号評価を行ったところ、良好な信号特性が得られた。これは、サーボ領域内の隣接する２つの領域を記録トラックの一部を挟んで分断した電子線縮小投影描画用レチクルを用い、電子線縮小投影描画によりスタンパを作製し、さらに作製されたスタンパを用いてインプリントリソグラフィーによりディスクリートトラック媒体を製造した結果、パターンの欠陥がなくなったうえに磁気ヘッドの浮上が安定したため、再生クロック抽出誤り率、アドレス誤り率、ノイズ、トラックピッチ誤差を低減できたことによるものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の一実施形態に係るディスクリートトラック媒体の平面図。
【図２】従来の磁気ディスクと同様のサーボ領域を有するディスクリートトラック媒体の磁気記録層を示す平面図。
【図３】パターンが高密度に形成されている領域と、パターンが低密度に形成されている領域とが隣接している状態を一般化して示す模式図。
【図４】本発明の一実施形態に係るディスクリートトラック媒体の磁気記録層の平面図。
【図５】図２に相当するパターンを有するレチクルの平面図と、そのレチクル内に生じる応力を示す図。
【図６】図４に相当するパターンを有するレチクルの平面図と、そのレチクル内に生じる応力を示す図。
【図７】本発明の一実施形態に係るステンシルマスクの製造方法を示す断面図。
【図８】縮小転写によるトラックピッチむらおよびラインのうねりの縮小を示す説明図。
【図９】本発明の一実施形態に係る磁気ディスク装置の斜視図。
【符号の説明】
【００４９】
１…ディスクリートトラック媒体、２…データ領域、３…サーボ領域、２１…記録トラック、３１…プリアンブル領域、３２…アドレス領域、３３…バースト領域、５１…シリコン基板、５２…シリコン酸化膜、５３…ＳＯＩ層、５４…レジスト、５５…レジストパターン、７０…筐体、７１…磁気ディスク、７２…スピンドルモータ、７３…ピボット、７４…アクチュエータアーム、７５…サスペンション、７６…ヘッドスライダ、７７…ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2006277869.tif 000009
【図８】
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【図９】
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