(57)【要約】      （修正有）【課題】複数の基板を多面取りする大型基板を支持する際に、裁断予定線にピンが重なるようにした基板載置ステージを提供する。【解決手段】支持プレート上に複数の固定ピン３が取り付けられている。この固定ピン３の平面視での位置は、この基板載置ステージに載置される大型基板の有効エリア外となる外周縁Ｌ１に重なる位置に配置され、また大型基板を２面取りする裁断予定線Ｌ２に重なる位置にも配置されている。一方、前記支持プレート形成した貫通穴に可動ピン５が挿通され、各可動ピン５は大型基板を更に面取りする裁断予定線Ｌ３，Ｌ４に重なる位置に配置されている。そして横方向の可動ピン５が支持プレート下方の連結プレートに共通して取り付けられ、シリンダユニットを駆動することで横方向の可動ピン５を同時に昇降動せしめるようにしている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
後工程で複数に裁断される大寸法ガラス基板などの大型基板を載置する基板載置ステージにおいて、この基板載置ステージは、ステージ上面に植設された複数の固定ピンと、ステージに形成した厚み方向貫通穴に挿通され昇降動可能とされた複数の可動ピンとを備え、前記固定ピンは平面視で載置する大型基板の有効エリア外の外周縁に重なる位置に配置され、前記可動ピンは平面視で大型基板の裁断予定線に重なる位置に配置されていることを特徴とする基板載置ステージ。
【請求項２】
請求項１に記載の基板載置ステージにおいて、前記複数の可動ピンは縦方向または横方向に配列されたもの同士が１つの昇降機構によって昇降動せしめられることを特徴とする基板載置ステージ。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の基板載置ステージにおいて、前記大型基板を２面取りする裁断予定線に重なる位置にも固定ピンが配置されていることを特徴とする基板載置ステージ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示パネル用のガラス基板に各種処理を施す際にガラス基板を載置する基板載置ステージに関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板を水平にした状態で各種処理を施すには従来から基板載置ステージを用いている。（特許文献１〜３）
従来の基板載置ステージはいずれもステージに厚み方向の貫通穴を複数形成し、これら複数の貫通孔に支持ピンを挿通し、１つのシリンダユニットなどで複数の支持ピンを同時に上昇させて基板を受け取り、そのまま支持ピンを下降せしめることでステージ上面に基板を載置するようにしている。
【特許文献１】特開平６−９７２６９号公報
【特許文献２】特開平１１−１１１６００号公報
【特許文献３】特開２００１−５３１３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上述した基板載置ステージにあっては、支持ピンが降下した状態でガラス基板の下面は直接ステージ上面に接触する。そのためステージ上面の温度がガラス基板の温度と異なっている場合には、ガラス基板表面に形成した塗膜にムラなどの悪影響が発生する。
【０００４】
上記の問題を解消するには、基板載置ステージにピンを取り付け、このピンの上にガラス基板を載置した状態で、各種処理例えば減圧乾燥処理を行なえばよいのであるが、ピンの上端部がガラス基板下面に当たるため、この部分にピン跡が残ってしまう。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
液晶表示パネルの生産効率を高めるには、大きなガラス基板に共通の処理を施した後に、個々の液晶表示パネルの寸法に裁断することになるが、この裁断する部分に沿った部分は有効エリアとしては使用しない無効エリアになっている。この点を利用して上記課題を解決するために本願発明がなされた。
【０００６】
本願発明に係る基板載置ステージは、後工程で複数に裁断される大寸法ガラス基板などの大型基板を載置することを前提とした基板載置ステージであって、ステージ上面に植設された複数の固定ピンと、ステージに形成した厚み方向貫通穴に挿通され昇降動可能とされた複数の可動ピンとを備え、前記固定ピンは平面視で載置する大型基板の有効エリア外の外周縁に重なる位置に配置され、前記可動ピンは平面視で大型基板の裁断予定線に重なる位置に配置された構成とした。
このように構成することで、ガラス基板などの有効エリアにピン跡が残ることがない。
【０００７】
ここで、大型基板を幾つに裁断するかは目的とする液晶パネルなどの大きさによって異なるが、元になる大型基板の寸法は決まっている。したがって、必ず支持しなければならない外周縁（無効エリア）を先ず固定ピンで支持し、一方、裁断予定線は大型基板を幾つに面取りするか或いは面取り形状によって異なるので、この部分については、必要な場合のみ可動ピンを上昇させて可動ピンで支持する。
【０００８】
前記複数の可動ピンは縦方向または横方向に配列されたもの同士を１ユニットとし、ユニットごと１つの昇降機構によって昇降動せしる構成とすることで、機構が簡略化される。
【０００９】
また、前記大型基板は必ず２以上に面取りされるので２面取りする裁断予定線は必ず存在する。そこでこの２面取りの裁断予定線に重なる位置にも固定ピンを配置してもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ガラス基板などの基板の外周縁及び裁断予定線の部分のみを固定ピン或いは可動ピンで支持するため、ピン跡が残った場合でも何ら不利は生じない。
【００１１】
また、本発明によれば、裁断枚数変更によって裁断予定線の位置が変更されて裁断予定線から可動ピンがずれた場合には、当該可動ピンを後退させ、新たな裁断予定線の位置に重なる可動ピンを突出させて基板を支持することが簡単にできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。図１は本発明に係る基板載置ステージの平面図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿った要部拡大断面図である。
この基板載置ステージは、例えば大型ガラス基板に塗布したレジスト液などを減圧乾燥せしめる工程で使用される。
【００１３】
基板載置ステージはベース１上に比較的薄厚の基板載置ステージが取り付けられ、この支持プレート２上に複数の固定ピン３…が取り付けられている。この固定ピン３…の平面視での位置は、この基板載置ステージに載置される大型基板Ｗの有効エリア外となる外周縁Ｌ１に重なる位置に配置され、また大型基板を２面取りする裁断予定線Ｌ２に重なる位置にも配置されている。
【００１４】
一方、前記支持プレート２には厚み方向に複数の貫通穴４…が形成され、各貫通穴４に可動ピン５…が挿通されている。各可動ピン５…は大型基板を更に面取りする裁断予定線Ｌ３，Ｌ４に重なる位置に配置されている。
【００１５】
本実施例では横方向の可動ピン５…が支持プレート２下方の連結プレート６に共通して取り付けられ、この連結プレート６がベース１を貫通するガイドロッド７に取り付けられ、このガイドロッド７をベース１下面に設けたシリンダユニット８を駆動することで横方向の可動ピン５…を同時に昇降動せしめるようにしている。
【００１６】
そして、可動ピン５…はその上限位置で前記固定ピン３…と同一の高さとなり、大型基板Ｗを水平状態で支持し、一方上限位置から可動ピン５…が若干下降することで、当該可動ピン５…は基板の支持に関与しなくなる。
【００１７】
図３（ａ）〜（ｃ）は別実施例を示す図１と同様の図であり、（ａ）に示す実施例は、８面取りの例を示しており、この実施例では固定ピン３…はそのままで、可動ピン５…は大型基板を更に面取りする裁断予定線Ｌ５，Ｌ６に重なる位置に配置されている。
【００１８】
また（ｂ）に示す実施例は、１２面取りの例で、裁断予定線Ｌ７，Ｌ８，Ｌ９に重なる位置に可動ピン５…が配置されているが、固定ピン３…と可動ピン５…の配置数および配置箇所は（ａ）に示した例と同一である。
【００１９】
更に、（ｃ）に示す実施例は、２４面取りの例で、裁断予定線Ｌ１０，Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ１３，Ｌ１４に重なる位置に可動ピン５…が配置されている。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係る基板載置ステージの平面図
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った要部拡大断面図
【図３】（ａ）乃至（ｃ）は別実施例を示す図１と同様の図
【符号の説明】
【００２１】
１…ベース
２…支持プレート
３…固定ピン
４…貫通穴
５…可動ピン
６…連結プレート
７…ガイドロッド
８…シリンダユニット
Ｌ１…外周縁
Ｌ２…大型基板を２面取りする裁断予定線
Ｌ３〜Ｌ１４…２面取り以上する際の裁断予定線
Ｗ…大型基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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