(57)【要約】      （修正有）【課題】波長５６５〜６１５ｎｍ近辺の発光を有効にカットすることができ、かつ、赤、青、緑の３原色発光に悪影響を及ぼさず、耐熱性、耐光性等の耐久性の良好な色調整フィルターを与えるスクアリリウム系化合物、該化合物からなる色素及び該化合物を使用した色調整フィルター、色純度改善フィルター、色再現範囲拡大フィルター等の光学フィルターの提供。【解決手段】下記式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物。このスクアリリウム系化合物よりなる色素。このスクアリリウム系化合物を用いた光学フィルター。2006160618.tif 000014〔Ｒ１〜Ｒ４は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、アルケニル基、アルコキシカルボニル基、又はフェニル基、Ｒ５はさらに水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、Ｗは、イミノ基又はアルキルイミノ基、Ｘは、カルボニル基又はスルホニル基、Ｒ６は、水素原子又は１価基、ｌ及びｍは０〜５の整数、ｎは１〜３の整数、ｌ＋ｍ＋ｎ≦５〕【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物。
【化１】
2006160618.tif 000013
〔式（Ｉ）中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルケニル基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基、又は置換基を有していても良いフェニル基を表し、
Ｒ５は、水酸基、ハロゲン原子、置換基を有していても良いアルキル基、又は置換基を有していても良いアルコキシ基を示し、
Ｗは、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示し、
Ｘは、カルボニル基、又はスルホニル基を示し、
Ｒ６は、水素原子、又は１価基を示し、
ｌ及びｍはそれぞれ独立して０〜５の整数、ｎは１〜３の整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎ≦５である。
ここで、ｍ及びｎが２以上の場合には、複数存在するＲ５同士及び−Ｗ−Ｘ−Ｒ６基同士はそれぞれ別種の基であっても良い。〕
【請求項２】
請求項１のスクアリリウム系化合物からなる色素。
【請求項３】
請求項１に記載のスクアリリウム系化合物を含有する層を有することを特徴とする光学フィルター。
【請求項４】
ディスプレイ用であることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なスクアリリウム系化合物、該化合物からなる色素及び該化合物を使用した光学フィルター、特にはディスプレイ用フィルターに関する。詳しくは、プラズマディスプレイや液晶ディスプレイ等のディスプレイの発光強度を弱めることなく、色調を調節でき、或いは、発光の色純度、及び色温度を高めることのできるディスプレイ用フィルターを製造するのに有用なスクアリリウム系化合物と、この化合物よりなる色素、及びこの化合物を用いた光学フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々の電子機器の表示パネルとして、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の蛍光体発光型ディスプレイが使用され、その需要が増大し、今後もその数は益々増加するものと考えられる。
【０００３】
蛍光体発光型ディスプレイでは、蛍光体に電子線や紫外線を照射し、赤、青、緑のそれぞれの蛍光体の発光を利用して３原色発光を得て表示を行うが、これらの三色の発光に悪影響を及ぼさずに三色の色バランスを補正する色調整フィルターが求められている。
【０００４】
特に、蛍光体発光型ディスプレイにおいては、赤の色純度を向上させたり、色温度を上げたりするために５６５〜６１５ｎｍ近辺に吸収をもつ色素を配合する必要があり、例えば、ピロール基を有するスクアリリウム系色素がプラズマディスプレイ用フィルターに用いることができることが知られている（例えば、特許文献１参照）。  
しかしながら、上記文献には記載されているピロール基を有するスクアリリウム系色素は、耐久性、特に耐光性に劣り、実用には不適当である。
【特許文献１】特開２００４−４２３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、波長５６５〜６１５ｎｍ近辺の発光を有効にカットすることができ、かつ、赤、青、緑の３原色発光に悪影響を及ぼさず、耐熱性、耐光性等の耐久性の良好な色調整フィルターを与えるスクアリリウム系化合物、該化合物からなる色素及び該化合物を使用した色調整フィルター、色純度改善フィルター、色再現範囲拡大フィルター等の光学フィルターを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、種々検討を重ね、特開２００４−４２３２号公報に記載のスクアリリウム系化合物のイミノ基に特定の置換基を導入すると、耐久性が向上し、該特定の置換基を有するスクアリリウム系色素を含有する層を有するフィルターが上記課題を解決することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明の要旨は、下記一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物、該化合物からなる色素、及び該化合物を用いた光学フィルター、に存する。
【０００８】
【化２】
2006160618.tif 000002
〔式（Ｉ）中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルケニル基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基、又は置換基を有していても良いフェニル基を表し、
Ｒ５は、水酸基、ハロゲン原子、置換基を有していても良いアルキル基、又は置換基を有していても良いアルコキシ基を示し、
Ｗは、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示し、
Ｘは、カルボニル基、又はスルホニル基を示し、
Ｒ６は、水素原子、又は１価基を示し、
ｌ及びｍはそれぞれ独立して０〜５の整数、ｎは１〜３の整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎ≦５である。  
ここで、ｍ及びｎが２以上の場合には、複数存在するＲ５同士及び−Ｗ−Ｘ−Ｒ６基同士はそれぞれ別種の基であっても良い。〕
【発明の効果】
【０００９】
本発明のスクアリリウム系化合物は、そのイミノ基に導入されたカルボニル基（Ｃ＝Ｏ）又はスルホニル基（Ｏ＝Ｓ＝Ｏ）という酸素との二重結合を有する置換基の存在により、優れた耐熱、耐光性を示す。従って、このようなスクアリリウム系化合物を用いることにより、波長５６５〜６１５ｎｍ近辺の発光を有効にカットすることができ、かつ、赤、青、緑の３原色発光に悪影響を及ぼさず、耐熱性、耐光性等の耐久性の良好な色調整フィルター、色純度改善フィルター、色再現範囲拡大フィルター等の光学フィルターを実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下の説明は、本発明に好適な実施の形態の一例であって、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に限定されない。
【００１１】
［１］スクアリリウム系化合物
本発明のスクアリリウム系化合物は、下記一般式（Ｉ）で表されるものである。
【化３】
2006160618.tif 000003
【００１２】
上記一般式（Ｉ）の置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルケニル基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基、又は、置換基を有していても良いフェニル基を表す。
【００１３】
Ｒ１〜Ｒ４で表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の炭素数１〜８のアルキル基が好ましい。Ｒ１〜Ｒ４で表されるアルケニル基としては、直鎖状、又は分岐鎖状の炭素数２〜８のアルケニル基が好ましい。Ｒ１〜Ｒ４で表されるアルコキシカルボニル基としては、直鎖状、又は分岐鎖状の炭素数２〜９のアルコキシカルボニル基が好ましい。
【００１４】
Ｒ１〜Ｒ４で表されるアルキル基、又は、アルケニル基の置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。
【００１５】
Ｒ１〜Ｒ４で表されるアルコキシカルボニル基の置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、炭素数１〜８のアルコキシ基、シアノ基等が挙げられる。
【００１６】
Ｒ１〜Ｒ４で表されるフェニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基等が挙げられる。
【００１７】
これらのうち、置換基Ｒ１〜Ｒ４としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基等が特に好ましい。
【００１８】
上記一般式（Ｉ）の置換基Ｒ５は、水酸基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、置換基を有していても良いアルキル基、又は置換基を有していても良いアルコキシ基である。
【００１９】
ここで、上記アルキル基として好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ペンタデシル基等の炭素数１〜２０の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられ、また、上記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基が挙げられ、このうち上記アルキル基及びアルコキシ基としては炭素数１〜１０のものが好ましい。
【００２０】
ここで、上記置換基Ｒ５のアルキル基及びアルコキシ基の置換基としては、化合物の溶解度や安定性に影響を与えない基であれば特に限定されないが、好ましい置換基の具体例としては、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基又はアリール基が挙げられ、より好ましくは水酸基、ハロゲン原子又はアルコキシ基である。また、上記アリール基は更に、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等の炭素数１〜１０のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；及び、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子からなる群より選ばれる置換基を有していても良い。
【００２１】
置換基Ｒ５としては、置換基を有してもよいアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が特に好ましい。
【００２２】
置換基Ｒ６は、水素原子又は１価基であり、該１価基としては、分子量が３００以下、好ましくは２５０以下、より好ましくは２００以下ものもが挙げられる。該一価基の具体例としては、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアルケニル基、置換基を有していても良いアミノ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアリールオキシ基、又は置換基を有していても良い複素環基が挙げられる。
【００２３】
上記アルキル基及びアルコキシ基としては、Ｒ５の説明の項で例示したのと同様の基が挙げられる。
【００２４】
上記アルケニル基としては、ビニル基等の炭素数２〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基が挙げられ、上記アリール基としてはフェニル基又はナフチル基等が、上記アリールオキシ基としてはフェノキシ基又はナフチルオキシ基等が挙げられる。また、上記複素環基としては、ピロール基、ピリジル基、フリル基、チエニル基、インドリル基等が挙げられる。
【００２５】
置換基Ｒ６の前記アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アミノ基、アリール基、アリールオキシ基及び複素環基の置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又はアリールオキシ基が挙げられる。
【００２６】
置換基Ｒ６としては好ましくは、水酸基、ハロゲン原子、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換基を有していても良い直鎖状又は分岐鎖状の炭素数１〜２０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基で置換基を有していても良い炭素数３〜７のシクロアルキル基；水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルコキシ基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換基を有していても良い直鎖状又は分岐鎖状の炭素数１〜２０のアルコキシ基；アルケニル基；前述のアルキル基で１又は２置換基を有していても良いアミノ基；ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基及び炭素数１〜１０のアルコキシ基からなる群より選ばれる置換基で置換基を有していても良いフェニル基；ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基及び炭素数１〜１０のアルコキシ基からなる群より選ばれる置換基で置換基を有していても良いフェノキシ基；３−ピリジル基、２−フリル基、２−テトラヒドロフルフリル基又は２−チエニル基等の５〜６員の複素環基が挙げられ、より好ましくは水酸基、ハロゲン原子、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基を有していても良い、直鎖状又は分岐鎖状の炭素数１〜２０のアルキル基であり、特には炭素数１〜１０のアルキル基が好ましい。
【００２７】
Ｗは、イミノ基又はアルキルイミノ基であり、アルキルイミノ基として好ましくは炭素数１〜６、より好ましくは炭素数１〜４、更に好ましくは炭素数１又は２のものである。
【００２８】
Ｘはカルボニル基、又はスルホニル基である。
【００２９】
また、ｌ及びｍはそれぞれ独立して０〜５の整数、ｎは１〜３の整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎ≦５であるが、このうちｌは１〜３が好ましく、ｍは０〜２が好ましく、ｎは１が好ましい。また、水酸基の少なくとも１つがフェニル基のシクロブテンジイリウム基の結合位置のオルト位又はパラ位に結合しているのが好ましく、また、両オルト位及びパラ位が全て置換基で埋まっているのが好ましい。
【００３０】
前記の一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物の好ましい代表例を以下に示すが、本発明は何ら以下のものに限定されるものではない。
【００３１】
【化４】
2006160618.tif 000004
【００３２】
前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物は、例えば、ＤｙｅｓａｎｄＰｉｇｍｅｎｔｓ４９（２００１）１６１−１７９に記載の方法或いはそれらに準じて製造することができる。
【００３３】
即ち、下記一般式（ＩＡ）で表される化合物１モルに、下記一般式（ＩＢ）で表される化合物１モルをエタノール、酢酸、ｎ−ブチルアルコール−トルエン混合溶媒、及び、ｎ−ブチルアルコール−ベンゼン混合溶媒等といった溶媒の存在下で、７０〜１５０℃程度に加熱しながら脱水縮合させることにより合成することができる。
【００３４】
【化５】
2006160618.tif 000005
〔式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｗ、Ｘ、ｌ、ｍ及びｎは、前記一般式（Ｉ）と同じ意義を示す。〕
【００３５】
【化６】
2006160618.tif 000006
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、前記一般式（Ｉ）と同じ意義を示す。〕
【００３６】
前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物は、その透過率曲線の最小値における波長が５６５ｎｍ〜６１５ｎｍの付近の範囲であり、より好ましくは５８０〜６０５ｎｍのものである。また、その吸収スペクトルの形状としては、半値幅が１００ｎｍ以下、より好ましくは６０ｎｍ以下、更に好ましくは４０ｎｍ以下である。加えて、５７０ｎｍ〜６１５ｎｍ付近の透過率曲線の最小値以外には、大きな吸収ピークを有さず、ディスプレイ用の光学フィルターに用いてもディスプレイの明るさ等に影響を与えないという優れた性能を有するものである。
【００３７】
更に、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物は、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン等のエーテル系溶媒に対する溶解度が良好であり、これらの溶媒を使用した塗布方法により、容易に色素薄膜を製造することができるため、工業的にも好ましい。
【００３８】
前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物は、具体的には、ジメトキシエタンを溶媒として用いた場合の溶解度が０．０５重量％以上、好ましくは０．５重量％以上、より好ましくは１．０重量％以上のものである。
【００３９】
［２］光学フィルター
本発明の光学フィルターは、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物を含有する層を有するものである。
【００４０】
（スクアリリウム系化合物含有層）
前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物を含有する層は、
(1)  各種樹脂に直接溶解或いは分散させて得られた該スクアリリウム系化合物を含有する樹脂を、射出成形、Ｔダイ成形、カレンダー成形或いは圧縮成形などの成形技術を用いて成形、フィルム化し、必要に応じて他の透明基板と張り合わせる；
(2)  透明基板を構成する樹脂シート又はフィルムに染着させる、もしくは、樹脂シート又はフィルムに染着させて他の透明基板と張り合わせる；
或いは
(3)  フィルム或いはシート等に成形された透明基板に、該スクアリリウム系化合物を含む塗工液を塗布する；
等により製造することができるが、このうち、(3)透明基板上に塗工液を塗布する方法が好ましい。
【００４１】
上記透明基板の材質としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない材料であれば特に制限はない。具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等を挙げることができる。これらの中では、特に非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が好ましい。上記の樹脂には、一般的に公知である添加剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができる。また、上記樹脂は、公知の射出成形、Ｔダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶融させてキャスティングする方法などを用い、フィルム又はシート（板）に成形される。その厚みとしては、目的に応じて１０μｍ〜５ｍｍの範囲が望ましい。かかる透明基板を構成する基材は、未延伸でも延伸されていても良い。また、他の基材と積層されていても良い。更に、該透明基板は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施しても良い。
【００４２】
塗工液は、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物をバインダーと共に有機溶剤に溶解させる方法、又は粒径０．１〜３μｍに微粒化した該スクアリリウム系化合物を、必要に応じ分散剤を用い、バインダーと共に溶剤に分散させる方法により調製される。このとき溶剤に溶解又は分散されるスクアリリウム系化合物、バインダー及び分散剤の塗工液に対する含有量は０．５〜５０重量％で、スクアリリウム系化合物、バインダー及び分散剤の中でスクアリリウム系化合物が占める割合は０．０５〜５０重量％、好ましくは０．１〜２０重量％である。
【００４３】
必要に応じて使用される分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、スクアリリウム系化合物に対して０．５〜１５０重量倍、好ましくは０．５〜２０重量倍である。
【００４４】
使用されるバインダーとしては、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂等のアクリレート系樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合樹脂、エチレンー酢酸ビニル共重合樹脂、ＡＳ樹脂、ポリエステル樹脂、塩酢ビ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ＰＶＰＡ、ポリスチレン系樹脂、フェノール系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリスルフォン、ナイロン、セルロース系樹脂、酢酸セルロース系樹脂等が挙げられる。その使用量はスクアリリウム系化合物に対して、１０〜５００重量倍、好ましくは５０〜３５０重量倍である。
【００４５】
前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物を含む塗工液のコーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、プレードコート法及びエアーナイフコート法等の公知の塗工方法で行うことができ、膜厚０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍとなるようコーティングされる。
【００４６】
また、本発明の光学フィルターをプラズマディスプレイのネオン発光カットといったような用途に用いる場合には、波長５６５ｎｍ〜６１５ｎｍの範囲における透過率曲線の最小値が４０％以下、好ましくは３０％以下となるように本発明のスクアリリウム系化合物の含有量を調節するのが好ましい。更に、前述の範囲以外に透過率曲線の極小値以外を有さないことが好ましいが、有したとしてもその透過率が７０％以上、より好ましくは８０％以上であり、可視光透過率が３５％以上であり、より好ましくは４０％以上となるように他の部材との組み合わせを調整するのが良い。
【００４７】
（紫外線吸収層）
本発明の光学フィルターには、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物含有層に紫外線吸収剤を共存させるか、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物含有層の他に紫外線吸収剤含有層を積層させるのが好ましいが、前記スクアリリウム系化合物含有層に紫外線吸収剤を共存させる方法より、前記スクアリリウム系化合物含有層に紫外線吸収層を積層する方が、耐光性向上効果が遥かに大きく好ましい。
【００４８】
上記紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤及び無機系紫外線吸収剤のいずれもが使用できる。有機系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、フェニルサルシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサルシレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾーエート等のヒドロキシベンゾエート系化合物等を挙げることができる。無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等を挙げることができる。これらの紫外線吸収剤は１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００４９】
紫外線吸収剤としては、５０％透過率での波長が３５０〜４２０ｎｍのものが好ましく、より好ましくは３６０ｎｍ〜４００ｎｍであり、３５０ｎｍより低波長では、紫外線遮断能が弱く、４２０ｎｍより高波長では着色が強くなり好ましくない。
【００５０】
紫外線吸収剤含有層に用いられる樹脂としては、前記スクアリリウム系化合物含有層のバインダーとして挙げた樹脂等の、バインダー樹脂として一般的なものを使用することができる。
【００５１】
紫外線吸収剤含有層の積層方法としては、前記スクアリリウム系化合物含有層に接して積層しても良いし、前記スクアリリウム系化合物含有層を形成した透明基板の前記スクアリリウム系化合物含有層と反対側に積層しても良い。
【００５２】
紫外線吸収剤含有層の膜厚は０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍとなるように積層する。
【００５３】
また、紫外線吸収剤含有層を塗布して形成する代わりに、市販の紫外線カットフィルターを積層して使用しても良い。この様なフィルターとしては、シャープカットフィルターＳＣ−３８、ＳＣ−３９、ＳＣ−４０（富士写真フィルム（株）製）やアクリプレンＨＢＳ、ＨＢＥ、ＨＢＣ（三菱レーヨン（株））等を挙げることができる。
【００５４】
（酸化防止剤含有層）
更に、上記光学フィルターには、必要に応じて、酸化防止剤等を含有する層を設けることができ、酸化防止剤を紫外線吸収剤と併用することにより耐光性の向上効果を高めることができる。これは、紫外線吸収剤によって遮断しきれなかった紫外光又は可視光線による色素の活性化により生じる系色素のラジカルを酸化防止剤が不活性化することにより、色素の耐光性が向上することによるものと考えられる。
【００５５】
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤等の１種又は２種以上を挙げることができる。
【００５６】
［３］ディスプレイ用フィルター
本発明のディスプレイ用フィルター、特にプラズマディスプレイ用フィルターにおいては、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物の他に、色調調節用、色純度改善用、又は色再現範囲拡大用色素として、下記一般式（II）で表されるピラゾール系メチン化合物及び／又は下記一般式（III)で表されるピラゾール系スクアリリウム化合物を含有させることができる。
【００５７】
【化７】
2006160618.tif 000007
〔式（II）中、
Ｒ７は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、又は置換基を有していても良いアリール基を示し、
Ｒ８は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良いアミノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基、又は置換基を有していても良いアリールオキシカルボニル基を示し、
Ｒ９は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、又は置換基を有していても良いアリール基を示し、
Ｙは、それぞれ独立に、−Ｏ−、又は−ＮＨ−基を表す。〕
【００５８】
【化８】
2006160618.tif 000008
〔式（III)中、
Ｒ１０は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、又は置換基を有していても良いアリール基を示し、
Ｒ１１は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアミノ基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基、又は置換基を有していても良いアリールオキシカルボニル基を示し、
Ｚは、それぞれ独立に、−Ｏ−、又は−ＮＨ−基を示す。〕
【００５９】
上記一般式（II）で表されるピラゾールメチン系化合物を用いることにより、波長３８０〜４２０ｎｍ近辺の青〜青紫を選択的に効率的に吸収することができ、一方、他の波長領域での吸収は殆どないので、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物に併用することにより、色純度の高いプラズマディスプレイ用フィルターを得ることができる。
【００６０】
一方、上記一般式（III)で表されるピラゾール系スクアリリウム化合物は、青と緑との谷間である波長４８０ｎｍ〜５２０ｎｍ近辺の光を有効に吸収しながら、原色の青や緑の蛍光体発光を阻害することがないので、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物に併用して用いることにより、色純度の高いディスプレイパネル用フィルターが得られる。
【００６１】
特に、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物に上記一般式（II）で表されるピラゾールメチン系化合物と上記一般式（III)で表されるピラゾール系スクアリリウム化合物を共に併用した場合、フィルター色がナチュラルな色調となるので好ましい。
【００６２】
上記一般式（II）及び一般式（III)で表される化合物の好ましい具体例としては、特開２００２−１３１５３０号公報の表−１のＮｏ．Ｉ〜Ｎｏ．２３、及び、Ｖ−１〜Ｖ−８として記載された化合物を挙げることができる。
【００６３】
また、上記化合物は、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のスクアリリウム系化合物含有層に共存させても良いが、別層として積層させても良い。積層体の形成方法としては、上述で記載したような塗工液を塗布し積層する方法、又はそれぞれ透明基板上に層を形成させた上でそれらを貼り合わせる方法等が挙げられる。
【００６４】
更に、本発明のディスプレイ用フィルターの機能を更に高めるため、上記一般式（II）及び／又は（III)で表される化合物の他に黄色光、赤色光、青色光等の可視光を吸収する公知のアントラキノン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、ジピロメテン系、シアニン系、スクアリリウム系、メチン系、テトラアザポルフィリン系等の色素を添加することもできる。
【００６５】
更に、本発明のディスプレイ用フィルターは、必要に応じて、以下のような近赤外線吸収層や電磁波カット層、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止（ノングレア）層等を任意に組み合わせて有するものである。これらの各層の膜厚は、それぞれ、０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍとなるように積層する。
【００６６】
（近赤外線吸収層）
近赤外線吸収層は、ディスプレイから放射される近赤外線によるリモコンや伝送系光通信における誤動作を防止する目的でディスプレイの前面に設置する。近赤外線光のカット領域は特に問題になる波長としてリモコンや伝送系光通信に、波長８００〜１０００ｎｍであり、その領域に吸収を有する近赤外線吸収物質を使用する。この近赤外線吸収物質しては、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、ジチオールニッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物等の近赤外線吸収色素、或いは、カーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズなどの近赤外線吸収化合物を、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使うことができる。
【００６７】
（電磁波カット層）
電磁波カット層は、金属酸化物等の蒸着或いはスパッタリング方法等で形成することができる。通常は酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が一般的であるが、誘電体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで波長１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層の誘電体としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀或いは銀−パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層よりはじまり３層、５層、７層或いは１１層程度交互に積層する。基材は、該フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィルム或いはガラス上に蒸着或いはスパッタリングでこれらの層を積層した後に、該フィルターと貼り合わせても良い。
【００６８】
（反射防止層）
反射防止層は、表面の反射を抑えてフィルターの透過率を向上させるための層であり、その形成方法としては、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンビームアシスト法等で単層或いは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層或いは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
【００６９】
（ノングレア層）
ノングレア層としては、フィルターの視野角を広げる目的で透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法などで形成することができる。インキの硬化には、熱硬化或いは光硬化法を用いることができる。また、ノングレア処理をしたフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必要であればハードコート層を設けることもできる。
【００７０】
（粘着剤層）
本発明のディスプレイ用フィルターの最外層に粘着剤層を設けることによりフィルターをディスプレイと一体形成することができ、プラズマディスプレイ等のディスプレイの薄肉化が可能となる。この際の粘着剤層の厚みは、通常５〜１００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍである。用いる粘着剤としては特に制限はないが、ディスプレイ自体の表面が高温になるので、加熱によりガスが発生するような粘着剤は好ましくない。
【００７１】
具体的には、ポリアクリル酸アルキルエステル系等のポリマー系粘着剤、又はスチレンブタジエンラバー、天然ゴム等のゴム系粘着剤を、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、エ−テル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系等の有機溶剤を単独又は複数混合した溶剤系に分散又は溶解して粘度を調整したものをディッピング法、フロ−コート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、プレードコート法及びエアーナイフコ−ト法等の塗工方法で塗工し、その後溶剤を乾燥させ、粘着剤層とする。
【００７２】
粘着剤層によりプラズマディスプレイにフィルターを貼着する際には、プラズマディスプレイの表面とフィルターとの間に気泡が入ると画像が歪んだり、見にくくなったりする等、実用上の大きな問題となるので、気泡の巻き込みには十分に注意する必要がある。
【００７３】
更にフィルターの縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設けない部分を形成したり、非粘着性のフィルムを挟む等して非粘着部分を形成し、剥離開始部とすれば貼着時の作業がやりやすい。
【００７４】
上記ディスプレイパネル用フィルターは単独はもちろん、更に透明のガラスや他の透明樹脂板等と貼り合わせた積層体として用いることにより、ディスプレイから取り外し可能なフィルターとすることもできる。
【実施例】
【００７５】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。
【００７６】
実施例１
＜一般式（Ｉ）のＮｏ．Ｉ−３のスクアリリウム系化合物の合成＞
下記構造の化合物０．０７ｇ、２−エチルヘキサン酸（３，５−ジヒドロキシフェニル）アミド０．０８ｇ、トルエン２０ｍｌ及びｎ−ブタノール２０ｍｌをジーンスターク装置を備えた反応容器に加え、３０分間加熱還流させた。
【００７７】
【化９】
2006160618.tif 000009
【００７８】
反応終了後、反応混合物をエバポレーターで７ｍｌまで濃縮した後、放冷し、沈殿物を濾過、トルエンで洗浄、乾燥し、目的の下記構造のスクアリリウム系化合物Ｎｏ．Ｉ−３  ０．１１ｇを得た。
【００７９】
【化１０】
2006160618.tif 000010
【００８０】
可視部吸収λｍａｘ：５８０ｎｍ（テトラヒドロフラン）
マススペクトル  ＥＩ−ＭＳ法：ｍ／ｚ＝４５２（Ｍ＋）
【００８１】
＜光学フィルターの製造＞
ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製ＰＥＴフィルム「Ｔ１００Ｅ」、厚み１００μｍ）に、上記の目的化合物として得られた一般式（Ｉ）のＮｏ．Ｉ−３のスクアリリウム系化合物の０．６３重量％テトラヒドロフラン溶液０．１８ｇ、アクリル系樹脂（ダイヤナールＢＲ−８０；三菱レーヨン（株）製）の２０重量％ジメトキシエタン溶液１．０ｇを混合し、濾過後、１．０μｍ  ＰＴＦＥ  Ｍｅｍｂｒａｎｅ（Ｗｈａｔｍａｎ  Ｉｎｃ．社製）で濾過後、バーコーター（Ｎｏ．２４；江藤器械（株）製）で塗工し、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
【００８２】
このフィルターの吸収スペクトルを日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定したところ、吸収スペクトルの最大波長は５８０ｎｍ、吸収スペクトルの半値幅は３６ｎｍであった。
【００８３】
上記のフィルターのスクアリリウム系化合物含有層面と反対側に紫外線カットフィルターＳＣ−３９（富士写真フィルム（株）製）を積層し、キセノンフェードメーター（スガ試験機（株）製  ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣ．Ｂ．ＥＣ）で紫外線カット層側より、４０時間露光し、吸収スペクトルの最大波長において、日立分光光度計（Ｕ−３５００）により吸光度を測定したところ、色素残存率（露光後の吸光度÷照射前の吸光度×１００）は６５％であり、良好な耐光性を示した。
【００８４】
実施例２
＜一般式（Ｉ）の  Ｎｏ．Ｉ−９のスクアリリウム系化合物の合成＞
実施例１において２−エチルヘキサン酸（３，５−ジヒドロキシフェニル）アミド０．０８ｇの代わりに、Ｎ−（３，５−ジヒドロキシフェニル）−エタンスルフォニルアミド０．０７ｇ使用し、他は、実施例１と同様に処理して、目的の下記構造のスクアリリウム系化合物Ｎｏ．Ｉ−９  ０．１８ｇを得た。
【００８５】
【化１１】
2006160618.tif 000011
【００８６】
可視部吸収λｍａｘ：５７０ｎｍ（テトラヒドロフラン）
マススペクトル  ＤＥＩ−ＭＳ法：ｍ／ｚ＝４１８（Ｍ＋）
【００８７】
＜光学フィルターの製造＞
ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製ＰＥＴフィルム「Ｔ１００Ｅ」、厚み１００μｍ）に、実施例１で使用したＮｏ．Ｉ−３のスクアリリウム系化合物の０．６３重量％テトラヒドロフラン溶液０．１８ｇの代わりに、上記の目的化合物として得られた一般式（Ｉ）のＮｏ．Ｉ−９のスクアリリウム系化合物の０．６３重量％テトラヒドロフラン溶液０．１８ｇを使用し、その他は実施例１と同様に処理して膜厚６μｍのコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
【００８８】
このフィルターの吸収スペクトルを日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定したところ、吸収スペクトルの最大波長は５７０ｎｍ、吸収スペクトルの半値幅は３８ｎｍであった。
【００８９】
このフィルターについて実施例１と同様にして色素残存率（％）を測定したところ、６８．３％であり、良好な耐光性を示した。
【００９０】
比較例１
ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製ＰＥＴフィルム「Ｔ１００Ｅ」、厚み１００μｍ）に、特開２００４−４２３２号公報に記載の一般式（１）に属する、下記のスクアリリウム系化合物を使用して、実施例１と同様に処理して膜厚６μｍのコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
【００９１】
【化１２】
2006160618.tif 000012
【００９２】
このフィルターの吸収スペクトルを日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定したところ、吸収スペクトルの最大波長は５８９ｎｍであった。
【００９３】
このフィルターについて、実施例１と同様にして色素残存率（％）を測定したところ、２．４％であり、耐光性が非常に劣っていた。