(57)【要約】【課題】液体供給システムを有するリソグラフィ装置において、リソグラフィ装置の投影システムと基板の間を流れる液体の方向を切り換えることなく、基板を異なる方向に移動させることができるリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】本発明によれば、リソグラフィ装置の投影システムと基板の間の空間に液体を供給するようになされた入口と、この液体の少なくとも一部を除去するようになされた出口とを有し、基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りに、この入口、出口もしくはその両方を回転させるようになされた液体供給システムを有する液浸リソグラフィ装置が提供される。【選択図】図５
2006165550.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターン化デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン化デバイスが前記放射線ビームの断面にパターンを付与するように構成されている支持構造と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン化されたビームを前記基板のターゲット部分に投射するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された入口、および前記液体の少なくとも一部を除去するように構成された出口を有する液体供給システムであって、前記入口、前記出口もしくはその両方を、前記基板の露光平面に対して実質的に直角な軸線の周りで回転させるように構成された液体供給システムと
を有するリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記液体供給システムが、前記液体を前記空間に少なくとも部分的に拘束するように構成された液体拘束構造を有し、前記液体拘束構造が前記入口および前記出口を有し、且つ前記軸線の周りで回転するように構成されている請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記パターン化されたビームが投射される露光視野の両側に前記入口および出口がそれぞれ配置されている請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記液体拘束構造が、前記装置のベースまたはグランドに接続されたフレームによって支持され、前記液体供給システムが、前記液体拘束構造を前記フレームに対して回転させるように構成された１または複数の電動機を有している請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記空間内を流れる前記液体の方向と前記基板の移動方向とが実質的に一致している請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記空間内を流れる前記液体の方向と前記基板の走査移動方向とが実質的に一致している請求項５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記基板がどのように動かされたとしても、前記入口、前記出口もしくはその両方を回転させることによって、前記空間内を流れる前記液体の方向を、前記基板の移動方向と実質的に一致するように維持するコントローラを有している請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記入口、前記出口もしくはその両方が３６０度以内の範囲で回転するように構成されている請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記入口、前記出口もしくはその両方が２００度以内の範囲で回転するように構成されている請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記コントローラは、前記入口から前記出口へ向かう方向が前記基板の走査移動方向に実質的に平行であり且つ同じ方向である位置にのみ、前記入口、前記出口もしくはその両方を回転させるように構成されている請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記入口、前記出口もしくはその両方を前記軸線の周りに反時計方向および時計方向に回転させるように構成された１または複数の電動機を有している請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記液体供給システムが、複数の入口、複数の出口もしくはそれらの両方を有し、且つ該複数の入口、該複数の出口もしくはそれらの両方を回転させるように構成されている請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記空間内を流れる前記液体の方向と前記基板が移動する方向が実質的に直角である請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記液体供給システムが、前記基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りにのみ前記入口を回転させるように構成されている請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記液体供給システムが、前記基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りにのみ前記出口を回転させるように構成されている請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
前記液体供給システムが、前記基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りに前記入口および出口を回転させるように構成されている請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１７】
放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターン化デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン化デバイスが前記ビームの断面にパターンを付与するように構成されている支持構造と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン化されたビームを前記基板のターゲット部分に投射するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された入口、および前記液体の少なくとも一部を除去するように構成された出口を有する液体供給システムであって、前記基板の移動の変化に応じて、前記入口および出口を並んだ状態で、前記投影システムの光軸と実質的に平行な軸線の周りで回転させるように構成された液体供給システムと
を有するリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記入口および前記出口が２００度以内の範囲で回転するように構成されている請求項１７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１９】
前記空間内を流れる前記液体の方向と前記基板の移動方向とが実質的に直角である請求項１７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２０】
リソグラフィ装置の投影システムと基板の間の空間に液体を供給するステップと、
前記空間に前記液体を供給するように構成された入口、前記液体を除去するように構成された出口、もしくはその両方を、前記基板の露光平面に対して実質的に直角な軸線の周りで回転させるステップと、
前記投影システムを使用して、パターン化された放射線ビームを、前記液体を通して前記基板のターゲット部分に投射するステップと
を含むデバイス製造方法。
【請求項２１】
前記液体を前記空間に少なくとも部分的に拘束するための液体拘束構造であって、前記入口および前記出口を有し、且つ前記軸線の周りで回転するように構成されている液体拘束構造を使用するステップを含む請求項２０に記載のデバイス製造方法。
【請求項２２】
前記パターン化されたビームが投射される露光視野の両側に前記入口および出口がそれぞれ配置されている請求項２１に記載のデバイス製造方法。
【請求項２３】
前記液体拘束構造を、前記リソグラフィ装置のベースまたはグランドに接続されたフレームによって支持するステップと、
前記液体拘束構造を前記フレームに対して回転させるステップと
を含む請求項２１に記載のデバイス製造方法。
【請求項２４】
前記空間内を流れる前記液体の方向と前記基板の移動方向とが実質的に一致している請求項２０に記載のデバイス製造方法。
【請求項２５】
前記空間内を流れる前記液体の方向と前記基板の走査移動方向とが実質的に一致している請求項２４に記載のデバイス製造方法。
【請求項２６】
前記基板がどのように動かされたとしても、前記入口、前記出口もしくはその両方を回転させることによって、前記空間内を流れる前記液体の方向を、前記基板の移動方向と実質的に一致するように維持するステップを含む請求項２０に記載のデバイス製造方法。
【請求項２７】
前記入口、前記出口もしくはその両方を３６０度以内の範囲の角度で回転させるステップを含む請求項２０に記載のデバイス製造方法。
【請求項２８】
前記入口、前記出口もしくはその両方を２００度以内の範囲の角度で回転させるステップを含む請求項２０に記載のデバイス製造方法。
【請求項２９】
前記入口、前記出口もしくはその両方を回転させるステップであって、前記入口から前記出口へ向かう方向が前記基板の走査移動方向と実質的に平行であり且つ同じ方向である位置にのみ回転させるステップを含む請求項２０に記載のデバイス製造方法。
【請求項３０】
前記空間内を流れる前記液体の方向と前記基板の移動方向とが実質的に直角である請求項２０に記載のデバイス製造方法。
【請求項３１】
前記基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りにのみ前記入口を回転させるステップを含む請求項２０に記載のデバイス製造方法。
【請求項３２】
前記基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りにのみ前記出口を回転させるステップを含む請求項２０に記載のデバイス製造方法。
【請求項３３】
前記基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りに前記入口および出口を回転させるステップを含む請求項２０に記載のデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置およびデバイスを製造するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板（一般的には基板のターゲット部分）に所望のパターンを適用するマシンである。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。その場合、マスクあるいはレチクルとも呼ばれるパターン化デバイス（すなわちパターン付与デバイス）が、ＩＣの個々の層に形成するための回路パターンを生成するために使用され、この生成したパターンが基板（例えばシリコン・ウェハ）上のターゲット部分（例えば１つまたは複数のダイの一部からなる）に転送される。パターンの転送は、通常、基板の上に提供された放射線感応材料（レジスト）の層への結像（イメージング）を介して実施される。通常、１枚の基板は、順次パターン化される隣接ターゲット部分のネットワークを含む。知られているリソグラフィ装置には、パターン全体を１回でターゲット部分に露光することによってターゲット部分の各々を照射する、いわゆるステッパと、パターンを放射線ビームで所与の方向（「走査」方向）に走査し、同時に、基板をこの方向に平行に、あるいは逆平行に同期走査することによってターゲット部分の各々を照射する、いわゆるスキャナとがある。パターンを基板上へ転写することによってパターン化デバイスから基板へパターンを転送することも可能である。
【０００３】
投影システムの最終エレメントと基板の間の空間を充填するために、比較的屈折率の大きい液体（例えば水）中に、リソグラフィ投影装置内の基板を浸す方法が提案されている。この方法のポイントは、液体中では露光放射線の波長がより短くなるため、より小さいフィーチャを結像できることにある。（また、液体の効果は、システムの有効開口数（ＮＡ）が大きくなること、および焦点深度が長くなることにあると見なすこともできる。）固体粒子（例えば水晶）が浮遊した水を含む、他の液浸液も提案されている。
【０００４】
しかしながら、基板、もしくは基板と基板テーブルを液体槽に浸すこと（例えば参照によりその全体が本明細書に組み込まれる米国特許第４，５０９，８５２号明細書を参照されたい）は、走査露光の間に加速しなければならない大量の液体が存在していることを意味しており、そのためにはモータを追加するか、あるいはより強力なモータが必要であり、また液体の攪乱により、望ましくない予測不可能な影響がもたらされることがある。
【０００５】
提案されている解決法の１つは、液体供給システムに関して、基板の局部的な領域にのみ、尚且つ投影システムの最終エレメントと基板の間にのみ液体を提供することである（基板の表面積は、通常、投影システムの最終エレメントの表面積より広い）。参照によりその全体が本明細書に組み込まれる国際特許出願ＷＯ９９／４９５０４号パンフレットは、そのために提案された方法の１つが開示されている。図２および図３に示すように、液体は、好ましくは基板が最終エレメントに対して移動する方向に沿って、少なくとも１つの入口ＩＮから基板に供給され、投影システムの下を通過した後、少なくとも１つの出口ＯＵＴによって除去される。つまり、基板を最終エレメントの下を−Ｘ方向に走査する際、最終エレメントの＋Ｘ側で液体が供給され、−Ｘ側で除去される。図２は、入口ＩＮを介して液体が供給され、最終エレメントのもう一方の側で、低圧源に接続された出口ＯＵＴによって除去される構造を略図で示したものである。図２に示す図解では、液体は、必ずしもそうである必要はないが、基板が最終エレメントに対して移動する方向に沿って供給されている。様々な配向および数の入口および出口を最終エレメントの周りに配置することが可能である。図３はその実施例の１つを示したもので、両側に出口を備えた４組の入口が、最終エレメントの周りに一定のパターンで提供されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
例えば液体供給システムを有するリソグラフィ装置において、リソグラフィ装置の投影システムと基板の間を流れる液体の方向を切り換えることなく、基板を異なる方向に移動させることができるリソグラフィ装置が提供されることが有利であろう。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の１つの観点によれば、
放射線ビームを調整するようになされた照明システムと、
放射線ビームの断面にパターンを付与するようになされたパターン化デバイスを保持する支持構造と、
基板を保持するようになされた基板テーブルと、
パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投射するようになされた投影システムと、
投影システムと基板の間の空間に液体を供給するようになされた入口、およびこの液体の少なくとも一部を除去するようになされた出口を有する液体供給システムであって、基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りに、入口、出口もしくはその両方を回転させるようになされた液体供給システムと
を有するリソグラフィ装置が提供される。
【０００８】
本発明の１つの観点によれば、
放射線ビームを調整するようになされた照明システムと、
放射線ビームの断面にパターンを付与するようになされたパターン化デバイスを保持する支持構造と、
基板を保持するようになされた基板テーブルと、
パターン化された放射線ビームを基板のターゲット部分に投射するようになされた投影システムと、
投影システムと基板の間の空間に液体を供給するようになされた入口、およびこの液体の少なくとも一部を除去するようになされた出口を有する液体供給システムであって、基板の移動の変化に応じて、入口および出口を並んだ状態で、投影システムの光軸に対して実質的に平行な軸線の周りに回転させるようになされた液体供給システムと
を有するリソグラフィ装置が提供される。
【０００９】
本発明の他の観点によれば、
リソグラフィ装置の投影システムと基板の間の空間に液体を供給するステップと、
空間に液体を供給するようになされた入口、この液体を除去するようになされた出口もしくはその両方を、基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りに回転させるステップと、
投影システムを使用して、パターン化された放射線ビームを、液体を通して基板のターゲット部分に投射するステップと
を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１０】
以下、本発明の実施例について、単なる実施例にすぎないが、添付の略図を参照して説明する。図において、対応する参照記号は対応する部品を表す。
【実施例】
【００１１】
図１は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を略図で示したものである。このリソグラフィ装置は、
放射線ビームＰＢ（例えばＵＶ放射線あるいはＤＵＶ放射線）を調整するようになされた照明システム（イルミネータ）ＩＬと、
パターン化デバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構築された支持構造であって、特定のパラメータに従ってパターン化デバイスを正確に位置決めするようになされた第１のポジショナＰＭに接続された支持構造（例えばマスク・テーブル）ＭＴと、
基板（例えばレジスト被覆ウェハ）Ｗを保持するように構築された基板テーブルであって、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするようになされた第２のポジショナＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェハ・テーブル）ＷＴと、
パターン化デバイスＭＡによって放射線ビームＰＢに付与されたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つまたは複数のダイを含む）に投影するようになされた投影システム（例えば屈折投影レンズ系）ＰＬと
を有している。
【００１２】
照明システムは、放射線を導き、整形し、あるいは制御するための屈折光学コンポーネント、反射光学コンポーネント、磁気光学コンポーネント、電磁光学コンポーネント、静電光学コンポーネントあるいは他のタイプの光学コンポーネント、もしくはそれらの任意の組合せなどの様々なタイプの光学コンポーネントを有していてもよい。
【００１３】
支持構造はパターン化デバイスを支持している。すなわち、支持構造はパターン化デバイスの重量を支えている。支持構造は、パターン化デバイスの配向、リソグラフィ装置の設計、および他の条件に応じた方法で、例えばパターン化デバイスが真空環境中で保持されているか否か等に応じた方法でパターン化デバイスを保持している。支持構造には、パターン化デバイスを保持するための機械式クランプ技法、真空クランプ技法、静電クランプ技法あるいは他のクランプ技法を使用することができる。支持構造は、例えば必要に応じて固定もしくは移動させることができるフレームであってもよく、あるいはテーブルであってもよい。支持構造は、（例えば投影システムに対して）パターン化デバイスを所望の位置に確実に配置することができる。本明細書における「レチクル」あるいは「マスク」という用語の使用はすべて、より一般的な「パターン化デバイス」という用語の同義語と見なすことができる。
【００１４】
本明細書に使用されている「パターン化デバイス」という用語は、放射線ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板のターゲット部分にパターンを生成するように使用することができる任意のデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。放射線ビームに付与されるパターンは、例えばそのパターンが位相シフトフィーチャもしくはいわゆる補助フィーチャを備えている場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。放射線ビームに付与されるパターンは、通常、ターゲット部分に生成される、例えば集積回路などのデバイス中の特定の機能層に対応している。
【００１５】
パターン化デバイスは、透過型であってもよく、あるいは反射型であってもよい。パターン化デバイスの実施例には、マスク、プログラム可能ミラー・アレイおよびプログラム可能ＬＣＤパネルがある。マスクについてはリソグラフィにおいてはよく知られており、バイナリ、交互位相シフトおよび減衰位相シフトなどのマスク・タイプ、および様々なハイブリッド・マスク・タイプが知られている。プログラム可能ミラー・アレイの実施例では、マトリックス状に配列された微小ミラーが使用される。微小ミラーの各々は、入射する放射線ビームが異なる方向に反射するよう、個々に傾斜させることができる。この傾斜したミラーによって、ミラー・マトリックスで反射する放射線ビームにパターンが付与される。
【００１６】
本明細書に使用されている「投影システム」という用語には、使用する露光放射線に適した、あるいは液浸液の使用もしくは真空の使用などの他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系、磁気光学系、電磁光学系および静電光学系、もしくはそれらの任意の組合せをはじめとする任意のタイプの投影システムが包含されるものとして広義に解釈されたい。本明細書における「投影レンズ」という用語の使用はすべて、より一般的な「投影システム」という用語の同義語と見なすことができる。
【００１７】
図に示すように、この装置は透過型（例えば透過型マスクを使用した）タイプの装置である。別法として、この装置は、反射型（例えば先に言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイを使用した、あるいは反射型マスクを使用した）タイプの装置であってもよい。
【００１８】
リソグラフィ装置は、場合によっては２つ（デュアル・ステージ）以上の基板テーブル（および／または複数のマスク・テーブル）を有するタイプの装置であり、このような「マルチ・ステージ」マシンの場合、追加のテーブルを並列して使用することができ、あるいは１つまたは複数のテーブルを露光のために使用している間に１つまたは複数の他のテーブルに対して予備ステップを実行することができる。
【００１９】
図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射線源ＳＯから放射線ビームを受け取る。放射線源が例えばエキシマ・レーザである場合、放射線源およびリソグラフィ装置は、別個の構成要素とすることができる。その場合、放射線源は、リソグラフィ装置の一部を形成しているものとは見なされず、放射線ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビーム・エキスパンダを備えたビーム・デリバリ・システムＢＤを使用して放射線源ＳＯからイルミネータＩＬへ引き渡される。それ以外の例えば放射線源が水銀灯などの場合、放射線源は、リソグラフィ装置の一構成部品とすることができる。放射線源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要に応じて、ビーム・デリバリ・システムＢＤと共に放射線システムと呼ぶことができる。
【００２０】
イルミネータＩＬは、放射線ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタＡＤを備えることができる。通常、イルミネータのひとみ平面内における強度分布の少なくとも外部および／または内部ラジアル範囲（一般に、それぞれσアウターおよびσインナーと呼ばれる）は調整が可能である。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの他の様々なコンポーネントを備えることができる。イルミネータを使用して放射線ビームを調整あるいは条件付けし、所望の一様な強度分布をその断面に持たせることができる。
【００２１】
放射線ビームＰＢは、支持構造（例えばマスク・テーブルＭＴ）上に保持されたパターン化デバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターン化デバイスによってパターン化される。マスクＭＡを透過した放射線ビームＰＢは、放射線ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃに集束させる投影システムＰＬを通過する。以下でさらに詳細に説明する液体拘束構造ＩＨは、投影システムＰＬの最終エレメントと基板Ｗの間の空間に液浸液を供給する。
【００２２】
基板テーブルＷＴは、第２のポジショナＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉デバイス、リニア・エンコーダもしくは容量センサ）を使用して正確に移動させることができ、それにより例えば異なるターゲット部分Ｃを放射線ビームＰＢの光路内に配置することができる。同様に、第１のポジショナＰＭおよびもう１つの位置センサ（図１には明確に示されていない）を使用して、例えばマスク・ライブラリから機械的に検索した後で、もしくは走査中に、マスクＭＡを放射線ビームＰＢの光路に対して正確に配置することができる。通常、マスク・テーブルＭＴの移動は、第１のポジショナＰＭの一部を形成している長ストローク・モジュール（粗位置決め）および短ストローク・モジュール（精密位置決め）を使用して実現される。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２のポジショナＰＷの一部を形成している長ストローク・モジュールおよび短ストローク・モジュールを使用して実現される。ステッパ（スキャナではなく）の場合、マスク・テーブルＭＴは、短ストローク・アクチュエータのみに接続することができ、あるいは固定することも可能である。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスク・アライメント・マークＭ１、Ｍ２および基板アライメント・マークＰ１、Ｐ２を使用して位置合せすることができる。図には、専用ターゲット部分を占有している基板アライメント・マークが示されているが、基板アライメント・マークは、ターゲット部分とターゲット部分の間の空間に配置することも可能である（このような基板アライメント・マークは、スクライブ・レーン・アライメント・マークとして知られている）。同様に、複数のダイがマスクＭＡ上に提供される場合、ダイとダイの間にマスク・アライメント・マークを配置することができる。
【００２３】
図に示す装置は、以下に示すモードのうちの少なくとも１つのモードで使用することができる。
（１）ステップ・モード
ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴが基本的に静止状態に維持され、放射線ビームに付与されたパターン全体がターゲット部分Ｃに１回で投影される（すなわち単一静止露光）。次に、基板テーブルＷＴがＸおよび／またはＹ方向にシフトされ、異なるターゲット部分Ｃが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
（２）走査モード
走査モードでは、放射線ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影されている間に、マスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴが同期走査される（すなわち単一動的露光）。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムの倍率（縮小率）およびイメージ反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の幅（非走査方向の幅）が制限され、また、走査運動の長さによってターゲット部分の高さ（走査方向の高さ）が決まる。
（３）その他のモード
その他のモードでは、プログラム可能パターン化デバイスを保持するようにマスク・テーブルＭＴが基本的に静止状態に維持され、放射線ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影されている間に基板テーブルＷＴが移動もしくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射線源が使用され、走査中、基板テーブルＷＴが移動する毎に、あるいは連続する放射線パルスと放射線パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン化デバイスが更新される。この動作モードは、先に言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン化デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
【００２４】
前述した使用モードの組合せおよび／またはその変形形態、あるいは全く異なる使用モードを使用することも可能である。
【００２５】
図４は、局部液体供給システムを使用した他の液浸リソグラフィ解決法を示したものである。液体は、投影システムＰＬの両側の２つの溝入口ＩＮによって供給され、入口ＩＮの半径方向外側に配置された複数の離散出口ＯＵＴによって除去される。入口ＩＮおよびＯＵＴは、投射される投影ビームが通過する孔が中心に穿たれたプレートなどの液体拘束構造内に配置することができる。液体は、投影システムの一方の側に設けられた１つの溝入口ＩＮによって供給され、投影システムのもう一方の側に設けられた複数の離散出口ＯＵＴによって除去され、それにより投影システムと基板の間に液体の薄い膜の流れをもたらしている。使用する入口ＩＮと出口ＯＵＴの組合せの選択は、基板が移動する方向によって決まる（これ以外の入口ＩＮおよび出口ＯＵＴの組合せは有効ではない）。
【００２６】
提案されている局部液体供給システム解決法を使用したもう１つの液浸リソグラフィ解決法は、投影システムの最終エレメントと基板テーブルの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延びる液体拘束構造を備えた液体供給システムを提供することである。図５は、このような解決法を略図で示したものである。液体拘束構造は、Ｚ方向（光軸の方向）における若干の相対移動が存在する可能性があるが、投影システムに対して実質的にＸ−Ｙ平面内に静止している。液体拘束構造と基板の表面の間にシールが形成される。
【００２７】
図５を参照すると、リザーバ１０は、投影システムのイメージ視野の周りの基板に非接触シールを形成し、それにより液体を拘束して基板の表面と投影システムの最終エレメントの間の空間を充填している。リザーバは、投影システムＰＬの最終エレメントの下方に配置されて投影システムＰＬの最終エレメントを取り囲んでいる液体拘束構造１２によって形成される。液体は、液体拘束構造内の、投影システムの下方の空間に導入される。液体拘束構造は、投影システムの最終エレメントの少し上まで延びており、また最終エレメントの上まで液体レベルが上昇しているため、液体のバッファが提供される。液体拘束構造は、一実施例では、上端部の形状が投影システムの形状もしくは投影システムの最終エレメントの形状と緊密に一致した内部周囲、例えば円形の内部周囲を有している。内部周囲の底部は、イメージ視野の形状と緊密に一致しており、例えば、必ずしもそうである必要はないが長方形である。
【００２８】
液体は、液体拘束構造の底部と基板Ｗの表面の間のガス・シール１６によってリザーバ内に拘束される。このガス・シールは、入口１５を介して加圧下で液体拘束構造１２と基板の間のギャップに提供されるガスであって、第１の出口１４を介して排出されるガス（例えば空気、合成空気、Ｎ２もしくは不活性ガス）によって形成される。ガス入口１５の超過圧力、第１の出口１４の真空レベル（減圧レベル）およびギャップの幾何形状は、液体を拘束する高速のガス流が内部に存在するようになされている。参照によりその全体が本明細書に組み込まれる米国特許出願第ＵＳ１０／７０５７８３号に、このようなシステムが開示されている。
【００２９】
図５に示す液体拘束構造の場合、ポート１３を使用して、投影システムと基板／基板テーブルの間の空間へ液体を供給すること、および／または投影システムと基板／基板テーブルの間の空間から液体を除去することができる。一実施例では、ポート１３は、空間に液体を供給する一対の入口１３を備えている（例えば露光視野の両側に）。１つまたは複数の入口１３から供給された液体は、露光視野の周囲を取り囲んでいる出口１４から除去することができる（本明細書において使用されているように、露光視野は、投影ビームが通過する領域を含むだけでなく、追加もしくは別法として、測定放射線ビームを使用した測定を実施するための領域を含むことができる）。出口１４が存在しているため、液体は、基板／基板テーブルが移動する方向には無関係に、空間および露光視野内に拘束される。１つまたは複数の入口１３および出口１４を適切に構成することによって液体の流れを空間内に確立すること、および／または維持することができるが、シール１６のみを使用する場合、１つまたは複数の入口から空間および露光視野内へ供給された液体は、空間および露光視野内に維持されるだけであり、空間内を液体が流れることはない。
【００３０】
一実施例では、ポート１３が、入口および出口を有している（例えば露光視野の両側に）。露光視野を取り囲んでいるシール１６は、液体出口を必要とすることなく空間および露光視野内に液体を拘束する。空間を通る液体の流れが望ましい場合、入口／出口１３を適切に構成することによって流れを確立すること、および／または維持することができる。
【００３１】
一実施例では、ポート１３は、露光視野の周囲に沿って延びており、したがって回転対称の液体入口を提供している。ポート１３が入口のみを備えている場合は、露光視野の周囲に沿って出口１４を提供することができ、それにより基板／基板テーブルが任意の方向に移動している間に露光視野内に液体を拘束することができる。追加もしくは別法として、露光視野の周囲に沿って提供されたシール１６が、基板／基板テーブルが任意の方向に移動している間に露光視野内に液体を拘束することもできる。またポート１３がさらに出口を備えている場合、ポート１３の入口と出口の間に液体の流れが確立され、露光視野の周囲に沿って提供されたシール１６が、基板／基板テーブルが任意の方向に移動している間に露光視野内に液体を拘束することができる。
【００３２】
したがって図５に示す液体供給システムを使用することにより、１つまたは複数の特定の入口および／または１つまたは複数の特定の出口をターン・オフ（開く）もしくはターン・オン（閉じる）する必要なく、あるいは基板／基板テーブルの移動方向に無関係に、投影システムと基板／基板テーブルの間の空間および露光視野内に液体が拘束される。
【００３３】
図６および図７を参照すると、本発明の一実施例による液体供給システムの上面図および側面図がそれぞれ略図で示されている。液体供給システムは、投影システムと基板Ｗおよび／または基板テーブルＷＴの間の空間２２に少なくとも部分的に液体を拘束するようになされた液体拘束構造２０を備えている。液体拘束構造２０は、空間に液体を供給するようになされた入口２４および液体を除去するようになされた出口２６を備えている。基板／基板テーブルは、液体拘束構造の平面に対して実質的に平行のＸ−Ｙ平面内を液体拘束構造（および投影システム）に対して移動する。図６および図７では、矢印２８（例えばＸ方向）は、この移動の一例を示したものであるが、他の方向に基板／基板テーブルを移動させる（回転を含む）ことができることは明らかであろう。
【００３４】
液体拘束構造は、フレーム３０を介してベースまたはグランド（図示せず）に接続されている。一実施例では、投影システムは、液体拘束構造とは別のフレーム（図示せず）に接続されており、したがって投影システムと液体拘束構造が機械的に分離されているため、投影システムと液体拘束構造の間の振動および力の伝達が最小化、あるいは小さくなされている。投影システムのためのこの別のフレームはベースまたはグランドに接続することが可能であり、あるいは液体拘束構造のためのフレームに対して独立するように接続することも可能である。液体拘束構造は、ＸおよびＹ方向には実質的に静止しているが、Ｚ方向には移動させることができる。図６では、投影システムの頂部部分（例えば図７に示されている）が省略されているため、液体拘束構造を明確に見ることができる。
【００３５】
一実施例では、図２〜４に示す液体供給システムと同様、基板Ｗ／基板テーブルＷＴの移動が、空間および露光視野内への液体の拘束および分布を容易にしている。詳細には、入口から露光視野の一方の側の空間へ液体が供給され、基板／基板テーブルの移動が露光視野内および露光視野のもう一方の側の出口への液体の分布を容易にしている。したがって、投影システムおよび液体拘束構造が頂部空間の拘束を提供し、基板／基板テーブルが底部空間の拘束を提供し、露光視野の両側の入口および出口が、入口から出口へ向かう方向の基板／基板テーブルの移動と相俟って、空間内における横方向の分布および拘束を提供している。基板／基板テーブルの移動と、露光視野の両側の入口および出口の位置決めの組合せが、空間内における液体の薄膜の流れの確立および維持を容易にしている。矢印３２（例えばＸ方向に延びている）は、空間内における液体の流れの一例を示したものであるが、入口および出口の位置決めと基板／基板テーブルの移動に応じて、液体の流れを他の方向へ移動させる（回転を含む）ことも可能であることは明らかであろう。
【００３６】
図２〜４に示す、基板／基板テーブルの移動方向が変化する液体供給システムの場合、露光視野の周囲もしくは露光視野の周囲の外側に存在する１つまたは複数の特定の入口および出口を活動／非活動状態にすることによって、空間および露光視野内に容易に液体を拘束および分布させることができる。例えば、図２〜４に示す実施例の場合、基板／基板テーブルが第１の入口ＩＮから第２の出口ＯＵＴへ向かって第１の方向に移動するとき、露光視野の一方の側の第１の入口ＩＮが、空間、および露光視野のもう一方の側の第１の出口ＯＵＴに液体を供給する。基板／基板テーブルが、第１の方向に対して１８０°の第２の方向に移動する場合は、第２の入口ＩＮおよび第２の出口ＯＵＴが活動状態になり、第１の入口ＩＮおよび第２の出口ＯＵＴが非活動状態になる。第２の入口ＩＮは、第１の入口ＩＮに対して反対側の位置に配置されており（第１の出口ＯＵＴと隣接している）、第２の出口ＯＵＴは、第１の出口ＯＵＴに対して反対側の位置に配置されている（第１の入口ＩＮと隣接している）。したがってこの構成の場合、基板／基板テーブルの第２の方向は、第２の入口ＩＮから第２の出口ＯＵＴへ向かうものである。一実施例では、例えば液体源から低圧源へ切り換えることによって第１の入口ＩＮを第２の出口ＯＵＴへ切り換えてもよく、また、例えば低圧源から液体源へ切り換えることによって第１の出口ＯＵＴを第２の入口ＩＮへ切り換えてもよい。また基板／基板テーブルを他の方向へ移動させるための入口および出口を提供することも可能である（例えば図３参照）。したがって図２〜４に示す液体供給システムは、非回転対称液体入口および出口システムを使用して、基板／基板テーブルの移動（例えば走査方向の移動）に応じて、１つまたは複数の液体入口および出口を活動状態／非活動状態にすることにより、露光視野の周囲もしくは露光視野の周囲の外側に存在する液体入口および出口の位置を切り換える。
【００３７】
一実施例では、１つまたは複数の入口および／または出口が、基板の露光平面に対して実質的に垂直な軸線、例えばＺ軸すなわち投影システムの光軸の周りに回転する場合、１つまたは複数の液体入口および出口を活動状態／非活動状態にすることによる液体入口および出口位置の切換えを回避することができる。図６および図７を参照すると、１つまたは複数の電動機３４が入口および出口を備えた液体拘束構造をフレームに対して軸線の周りで回転され、したがって入口と出口の両方を並んで（同調して）移動させることができる。湾曲した矢印３８は、液体拘束構造が回転する様子を示したものである。コントローラ４０は、基板／基板テーブルが移動する方向に基づいて１つまたは複数の電動機を制御する。詳細には、コントローラは、１つまたは複数の電動機を制御して、入口から出口に向かう方向と基板／基板テーブルが移動する方向が実質的に平行であり、且つ同じ方向になるように液体拘束構造を位置決めする。この方法によれば、基板／基板テーブルの移動の変化に伴って液体拘束構造が回転する際に、投影システムと基板／基板テーブルの間の空間に液体を拘束した状態を維持し、且つ空間内における液体の流れを基板／基板テーブルが移動する方向と同じ方向に維持するために、入口および出口を活動状態／非活動状態にする必要はない。入口および出口を適切に回転させることにより、基板／基板テーブルのあらゆる方向の移動によって自動的に液体を入口から出口へ輸送することができる。コントローラは、フィードフォワードあるいはフィードバック方式で動作させることができる。
【００３８】
一実施例では、液体供給システムは、入口、出口もしくはその両方を、基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りに回転させるように構成されている。液体供給システムは、これらのすべての回転機能を提供することができるが、実施例では、液体供給システムは、入口のみの回転（出口を回転させることはできない）あるいは出口のみの回転（入口を回転させることはできない）を提供することができ、あるいは入口および出口の両方の回転を提供することができる。つまり、液体供給システムには、これらのすべての回転機能を提供する能力は必要なく、１つのタイプの回転機能のみを提供することでもよい。
【００３９】
図８ａ〜８ｃを参照すると、本発明の一実施例による液体供給システムの動作を説明するために、異なる回転の液体拘束構造が略図で示されているが、この実施例では、液体拘束構造は、図４および図５に示すフレームを使用することなく投影システム（もしくは投影システムを支持しているフレーム）に接続されている。この場合、１つまたは複数の電動機（図示せず）が、液体拘束構造を投影システムに対して投影システムの光軸に実質的に平行な軸線の周りに移動させる。液体拘束構造と投影システムの間の振動および／または力の伝達は、アイソレータもしくはダンピング機構を使用することによって小さくすることができ、あるいは回避することができる。この例示的液体拘束構造の回転は、図４および図５に示す例示的液体拘束構造の回転に実質的に類似している。
【００４０】
図８ａを参照すると、液体拘束構造は、液体拘束構造の入口から出口へ向かう方向（矢印で示す方向）と基板／基板テーブルが移動する方向（矢印で示す方向）が実質的に平行であり且つ同じ方向であるように配置されている。図８ａでは、基板／基板テーブルの移動は走査方向である。基板／基板テーブルの移動が、例えば図８ｂに示すステッピング方向に変化すると、液体拘束構造が時計方向に約９０度回転し、液体拘束構造の入口から出口へ向かう方向（矢印で示す方向）と基板／基板テーブルの移動方向（矢印で示す方向）とが実質的に平行で、且つ同じ方向になる。基板／基板テーブルの移動が、例えば図８ｃに示す走査方向へ再び変化すると（図８ａに示す走査方向とは逆の符号を有している）、液体拘束構造が時計方向にさらに約９０度回転し、液体拘束構造の入口から出口へ向かう方向（矢印で示す方向）と基板／基板テーブルの移動方向（矢印で示す方向）とが実質的に平行で、且つ同じ方向になる。基板／基板テーブルの移動が、例えば図８ｂに示すステッピング方向へ再び変化すると、液体拘束構造に必要な回転は、反時計方向への約９０度の回転のみであり、それにより液体拘束構造の入口から出口へ向かう方向（矢印で示す方向）と基板／基板テーブルの移動方向（矢印で示す方向）とが実質的に平行で、且つ同じ方向になる。したがって、１つまたは複数の入口および／または出口を任意の角度で回転させる（一実施例では、例えば０から３６０度）ことも、１つまたは複数の入口および／または出口を０度から２００度までの範囲内でのみ回転させることもできる。
【００４１】
一実施例では、１つまたは複数の入口および／または出口を、液体拘束構造の入口から出口へ向かう方向と基板／基板テーブルの走査移動方向とが実質的に平行で、且つ同じ方向である位置にのみ回転させることができる。この場合、限られた数の回転のみが必要である。
【００４２】
一実施例では、液体拘束構造を回転させる代わりに、個々の入口および／または出口もしくは入口および／または出口のグループを液体拘束構造自体の内部で回転させることができる。例えば出口が露光視野の周囲に沿って提供されている場合、露光視野の全周囲もしくは周囲の一部に沿った１つまたは複数の入口を単純に回転させることが有利である。
【００４３】
液体拘束構造あるいは１つまたは複数の入口および／または出口を回転させるための１つまたは複数の電動機が説明されているけれども、ほぼあらゆる移動機構を使用することができる。この１つまたは複数の電動機には、１つまたは複数のリニア・モータを使用することができ、あるいは１つまたは複数の機械式アクチュエータを使用することができる。フレームおよび／または液体拘束構造は、１つまたは複数の入口および／または出口、もしくは液体拘束構造の回転を案内するためのトラックを備えることができる。適切な１つまたは複数の軸受を提供してもよい。
【００４４】
複数の入口および／または出口のうちの１つまたは複数を回転させることは、１つまたは複数の入口および／または出口を活動状態／非活動状態にする必要を回避する点で有利である。入口および／または出口を活動状態／非活動状態にすることは、液体の品質に有害な影響を及ぼす可能性がある。例えば、１つまたは複数の入口および／または出口を活動状態／非活動状態にすることによって液体入口および出口位置を切り換える際に、液体供給システム内のバルブが汚染され、延いては液体が汚染されることがある。粒子フィルタおよび／または除泡器を介して液体が流れる方向を変化させ、あるいは液体の流れを停止させることは、１つまたは複数の入口および／または出口を活動状態／非活動状態にすることによって液体入口および出口位置を切り換える際の汚染および／または気泡の原因になることがある。また、液体供給システムが単一の液体入口および単一の液体出口を有している場合、あるいは（例えば図４に示すように）２つの対向する位置の各々に入口／出口の組合せを有している場合、回転させることにより、基板／基板テーブルが移動する特定の方向、例えば単一の液体入口と単一の液体出口を結ぶ線に直角の方向、あるいは対向する位置における入口／出口の組合せと組合せを結ぶ線に直角の方向における液体のリークの回避もしくは減少を促進することができる。また、回転させることにより、１つまたは複数の入口および／または出口を活動状態／非活動状態にすることによってもたらされるリソグラフィ装置内の有害な振動の回避もしくは減少を促進することができる。
【００４５】
一実施例では、基板の移動方向に対して実質的に直角の方向に液体の流れを維持するように入口、出口もしくはその両方を回転させることができる。露光視野内での液体の流れ方向に直角に基板が移動することによって、露光視野から液体が引き出され（表面張力によって液体を実質的に露光視野内に維持することができるような基板の移動方向と同じ方向の液体の流れは除外される）、そしてリソグラフィ装置の液体の存在が望ましくない部分へ流出してしまうので、液体を露光視野内に維持するためにシールもしくは出口を露光視野の周囲に沿って提供して液体を拘束あるいは除去する。図９を参照すると、この実施例の液体供給システムは、露光視野から流出する可能性のある液体を除去するための出口４２が露光視野の周囲に沿って提供されている点を除き、図７に示す液体供給システムと実質的に同じである。液体供給システムの構成、液体の流れおよび／または基板の移動に応じて、出口４２は、必ずしも露光視野を完全に取り囲んでいる必要はない。
【００４６】
一実施例では、基板が移動する方向に対して実質的に直角の方向に、あるいは基板が移動する方向に対して実質的に平行な方向に液体の流れを維持するために、異なる時間もしくは異なるポイントで、入口、出口もしくはその両方を回転させることができる。
【００４７】
デュアル・ステージ液浸リソグラフィ装置の場合、それぞれ基板を支持するための２つのテーブルが設けられる。１つのテーブルを使用して、液浸液が存在しない第１の位置で水準測定が実行され、もう１つのテーブルを使用して、液浸液が存在する第２の位置で露光が実行される。別法として、装置は、別個の水準位置と露光位置の間で移動する１つのテーブルのみを有している。
【００４８】
本明細書では、とりわけＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用について言及しているが、本明細書において説明したリソグラフィ装置は、集積光学系、磁気領域メモリのための誘導および検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造などの他のアプリケーションを有していることを理解されたい。このような代替アプリケーションのコンテキストにおいては、本明細書における「ウェハ」あるいは「ダイ」という用語の使用はすべて、それぞれより一般的な「基板」あるいは「ターゲット部分」という用語の同義語と見なすことができることが当業者には理解されよう。本明細書において言及している基板は、例えばトラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、且つ、露光済みレジストを現像するツール）、測定ツールおよび／または検査ツール中で、露光前もしくは露光後に処理することができる。適用可能である場合、本明細書における開示は、このような基板処理ツールおよび他の基板処理ツールに適用することができる。また、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために複数回に渡って処理することができるため、本明細書において使用されている基板という用語は、処理済みの複数の層が既に含まれた基板を指している場合もある。
【００４９】
本明細書に使用されている「放射線」および「ビーム」という用語には、紫外（ＵＶ）放射線（例えば波長が３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍあるいは１２６ｎｍの放射線もしくはその近辺の波長の放射線）を含むあらゆるタイプの電磁放射線が包含されている。
【００５０】
コンテキストが許容する場合、「レンズ」という用語は、屈折光学コンポーネントおよび反射光学コンポーネントをはじめとする様々なタイプの光学コンポーネントのうちの任意の１つあるいは組合せを意味する。
【００５１】
以上、本発明の特定の実施例について説明したが、説明した以外の方法で本発明を実践できることが理解されよう。例えば、適用可能である場合、本発明は、先に開示した方法を記述した１つまたは複数のマシン可読命令シーケンスを含んだコンピュータ・プログラムの形態とすることができ、あるいはこのようなコンピュータ・プログラムが記憶されたデータ記憶媒体（例えば半導体記憶装置、磁気ディスクもしくは光ディスク）の形態とすることができる。
【００５２】
本発明の１つまたは複数の実施例は、任意の液浸リソグラフィ装置、詳細には、それらに限定されないが、上で言及したタイプの液浸リソグラフィ装置に適用することができる。液体供給システムは、投影システムと、基板および／または基板テーブルとの間の空間に液体を提供する任意の機構である。液体供給システムは、前記空間に液体を提供し且つ拘束する１つまたは複数の構造、１つまたは複数の液体入口、１つまたは複数のガス入口、１つまたは複数のガス出口および／または１つまたは複数の液体出口の任意の組合せを備えることができる。一実施例では、前記空間の表面を基板および／または基板テーブルの一部に制限することができ、あるいは前記空間の表面は、基板および／または基板テーブルの表面を完全に覆っていてもよい。また前記空間は、基板および／または基板テーブルを包んでいてもよい。
【００５３】
液浸リソグラフィ装置に使用される液浸液は、使用する露光放射線の所望の特性および波長に応じて異なる組成を持たせることができる。露光波長が１９３ｎｍの場合、超純水あるいは水をベースとする組成を使用することができるため、液浸液は、水および水に関連する用語で言及されることがしばしばあり、例えば親水性、疎水性、湿度などの用語を使用することができる。
【００５４】
以上の説明は、本発明の例証を意図したものであり、本発明を何ら制限するものではない。したがって、特許請求の範囲に示す各請求項の範囲を逸脱することなく、前述した本発明に改変を加えることができることは当業者には明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】リソグラフィ投影装置に使用するための液体供給システムを示す図である。
【図３】リソグラフィ投影装置に使用するための液体供給システムを示す他の図である。
【図４】リソグラフィ投影装置に使用するための他の液体供給システムを示す図である。
【図５】リソグラフィ投影装置に使用するための他の液体供給システムを示す図である。
【図６】本発明の一実施例による液体供給システムの上面図である。
【図７】図６に示す液体供給システムの側面図である。
【図８ａ】本発明の一実施例による液体拘束システムの回転を示すための図である。
【図８ｂ】本発明の一実施例による液体拘束システムの回転を示すための図である。
【図８ｃ】本発明の一実施例による液体拘束システムの回転を示すための図である。
【図９】本発明の他の実施例による液体供給システムの側面図である。
【符号の説明】
【００５６】
ＡＤ  放射線ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタ
ＢＤ  ビーム・デリバリ・システム
Ｃ  基板のターゲット部分
ＣＯ  コンデンサ
ＩＦ  位置センサ
ＩＨ  液体拘束構造
ＩＬ  照明システム（イルミネータ）
ＩＮ  インテグレータ
ＭＡ  パターン化デバイス（マスク）
ＭＴ  支持構造（マスク・テーブル）
Ｍ１、Ｍ２  マスク・アライメント・マーク
ＰＢ  放射線ビーム
ＰＬ  投影システム
ＰＭ  第１のポジショナ
ＰＷ  第２のポジショナ
Ｐ１、Ｐ２  基板アライメント・マーク
ＳＯ  放射線源
Ｗ  基板
ＷＴ  基板テーブル
１０  リザーバ
１２、２０  液体拘束構造
１３  ポート（入口、入口／出口）
１４、２６、４２  出口
１５、２４  入口
１６  ガス・シール
２２  空間
２８  基板／基板テーブルの移動方向
３０  フレーム
３２  空間内を流れる液体の方向
３４  電動機
３８  液体拘束構造の回転
４０  コントローラ
【図１】
2006165550.tif 000003
【図２】
2006165550.tif 000004
【図３】
2006165550.tif 000005
【図４】
2006165550.tif 000006
【図５】
2006165550.tif 000007
【図６】
2006165550.tif 000008
【図７】
2006165550.tif 000009
【図８ａ】
2006165550.tif 000010
【図８ｂ】
2006165550.tif 000011
【図８ｃ】
2006165550.tif 000012
【図９】
2006165550.tif 000013