(57)【要約】【課題】物体の自重を支持するための支持力を常時発生するアクチュエータを不要とし、そのアクチュエータの発熱に起因する不都合を解消する。【解決手段】支持装置５２ａは、真空雰囲気中に配置されている。支持装置５２ａは、鉛直方向に伸びる内周面を備えた筒状部材１７０と、前記内周面に沿って移動可能なスライダ７０の上端部とによって、気体室１０９が形成されている。気体室１０９は、管路（１１８，１２８）を介して大気開放されている。スライダ７０の下端部には、永久磁石７２を有する差動排気型の静圧軸受機構７０ｂが結合されている。静圧軸受機構７０ｂから噴出される気体の静圧と永久磁石７２の予圧力とのバランスにより物体３０が所定のクリアランスを介してスライダ機構７０ｂに支持されている。気体室内の気体と真空雰囲気との差圧（圧力差）によって生じる力により物体の自重が支持される。【選択図】図５
2006165363.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空雰囲気中で用いられ、物体を支持する支持装置であって、
前記物体と対向する第１の静圧軸受機構と；
鉛直方向に伸びる内周面を備えた筒状部材と；
一端に前記第１の静圧軸受機構が結合され、前記内周面に沿って移動可能なスライダと；
前記筒状部材と、前記スライダの他端部とにより形成された気体室と；
前記真空雰囲気との差圧により前記物体の自重を支持するように、前記気体室に所定圧力の気体を供給する供給装置と；を備えたことを特徴とする支持装置。
【請求項２】
前記スライダの移動は、非接触型の駆動装置により行われることを特徴とする請求項１に記載の支持装置。
【請求項３】
前記非接触型の駆動装置の温度を調節する温度調節機構を備えることを特徴とする請求項２に記載の支持装置。
【請求項４】
前記第１の静圧軸受機構は、前記物体に対して気体を噴出する噴出し部と、該噴出し部の周囲で真空を用いて前記気体を回収する第１の回収部と、該第１の回収部の周囲で前記第１の回収部よりも高真空で前記気体を回収する第２の回収部とを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の支持装置。
【請求項５】
前記筒状部材と前記スライダとの間に、前記鉛直方向に沿ってクリアランスを形成する第２の静圧軸受機構が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の支持装置。
【請求項６】
前記第２の静圧軸受機構は、前記クリアランス内に気体を噴出する噴出し部と、該噴出し部の周囲で真空を用いて前記気体を回収する第１の回収部と、該第１の回収部の周囲で前記第１の回収部よりも高真空で前記気体を回収する第２の回収部とを有することを特徴とする請求項５に記載の支持装置。
【請求項７】
前記第１の静圧軸受機構による前記物体に対する力に抗する予圧力を発生する予圧機構を備えたことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の支持装置。
【請求項８】
前記供給装置は、前記筒状部材に形成され、前記気体室に連通する通気路を有していることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の支持装置。
【請求項９】
前記気体室は、前記通気路を介して大気に連通していることを特徴とする請求項８に記載の支持装置。
【請求項１０】
前記供給装置は、前記筒状部材に形成され、前記所定圧力の気体を収納可能なバッファ部を有していることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の支持装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の支持装置を有する２次元面内で移動可能なステージを備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項１２】
前記ステージを所定の一軸方向に駆動する一対の駆動装置を備え、
前記一対の駆動装置が、前記鉛直方向の位置をずらして設けられていることを特徴とする請求項１１に記載のステージ装置。
【請求項１３】
ステージ装置を駆動して基板を露光し、前記基板にパターンを形成する露光装置において、
前記ステージ装置が請求項１１又は１２に記載のステージ装置であることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持装置、ステージ装置及び露光装置に係り、更に詳しくは、真空雰囲気中で用いられ、物体を支持する支持装置、該支持装置を備えるステージ装置及び該ステージ装置を備える露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体素子、液晶表示素子等を製造するためのリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下「レチクル」と総称する）に形成されたパターンを、投影光学系を介してレジスト等が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板（以下、適宜ウエハともいう）上に転写するステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆる「ステッパ」）や、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャナ）などが主として用いられている。
【０００３】
これらの露光装置では、半導体素子の高集積化及びこれに伴うパターンの微細化により、投影光学系の解像度の更なる向上が求められるようになってきた。このため、露光光の波長が年々短波長化しており、最近では、波長が１００ｎｍ以下の極端紫外光（ＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光）を発生するＳＯＲ（Synchrotron Orbital Radiation）リング又はレーザプラズマ光源等を露光光源として使用するＥＵＶ露光装置（ＥＵＶＬ）の開発が行われるようになってきた。
【０００４】
ＥＵＶ露光装置では、ＥＵＶ光を好適に透過する光学材料が現時点では存在しないことから、照明光学系及び投影光学系は、反射型の光学部材（反射光学素子）のみから成るオール反射の光学系が採用され、レチクルもまた反射型レチクルが用いられる。また、ＥＵＶ光は、殆どの物質で吸収されるため、ＥＵＶ光の光路空間は所定の高真空状態に設定する必要があり、通常ＥＵＶ露光装置の本体は、真空チャンバ内に設置される。
【０００５】
近年、レチクル及びウエハの大型化に伴い、主としてスループット向上の観点から、一括露光装置に比べて大面積を一度に露光可能な走査型露光装置が主流となっている。走査型露光装置で、レチクルをより高精度に位置制御するための手段として、走査方向に長ストロークで移動するレチクル粗動ステージと、該レチクル粗動ステージに対して微小駆動可能でレチクルを保持する微動ステージとを具備する粗微動構造のステージが比較的多く採用されている。
【０００６】
ＥＵＶ露光装置に粗微動構造のステージを採用する場合、反射型のレチクルを用いることからレチクルを保持する微動ステージを吊り下げ状態で、かつ振動低減の観点からは非接触で、粗動ステージに対して支持する必要がある。従って、ボイスコイルモータ等のアクチュエータによりレチクル微動ステージの自重を支持するための力を常時発生させる必要があるが、最近では、このアクチュエータの発熱が、露光精度に影響を与えることが懸念されている。
【０００７】
同様の問題は、ウエハを保持するテーブルを、非接触軸受を介してステージに対して支持する場合にも起こり得る。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上述した事情の下になされたものであり、第１の観点からすると、真空雰囲気中で用いられ、物体（３０）を支持する支持装置であって、前記物体と対向する第１の静圧軸受機構（７０ｂ）と；鉛直方向に伸びる内周面を備えた筒状部材（１７０）と；一端に前記第１の静圧軸受機構が結合され、前記内周面に沿って移動可能なスライダ（７０）と；前記筒状部材と、前記スライダの他端部とにより形成された気体室（１０９）と；前記真空雰囲気との差圧により前記物体の自重を支持するように、前記気体室に所定圧力の気体を供給する供給装置（１０８、１１８、１２８）と；を備えたことを特徴とする支持装置である。
【０００９】
本明細書において、筒状部材は、鉛直方向に伸びる筒状部を有し、その内壁面を前記内周面とする部材であっても良いし、鉛直方向に伸びる開口部（貫通孔であっても良いし、一端が閉じていても良い）が形成され、その開口部の内壁面を前記内周面とする部材であっても良い。要は、スライダを鉛直方向に案内する内周面が一部に形成された部材であれば良い。また、スライダは、筒状部材に応じた形状のものが用いられ、前記内周面に沿って移動可能で、その他端部が内周面に連通する筒状部材の内部の壁とともに気体室を区画するものであれば良い。
【００１０】
これによれば、気体室内の気体と真空雰囲気との差圧（圧力差）によって生じる力により物体の自重が支持される。従って、物体の自重を支持するための支持力を常時発生するためのアクチュエータが不要であり、そのアクチュエータの発熱に起因する種々の不都合が問題とならない。また、第１の静圧軸受機構により物体を非接触で保持することができる。また、前記第１の静圧軸受機構が設けられたスライダは、筒状部材に設けられた鉛直方向に伸びる内周面に沿って移動可能であるので、物体の少なくとも鉛直方向の移動も許容されている。
【００１１】
本発明は、第２の観点からすると、本発明の支持装置を有する２次元面内で移動可能なステージ（ＲＳＴ）を備えることを特徴とするステージ装置である。
【００１２】
これによれば、物体の自重を支持するための支持力を常時発生するためのアクチュエータの発熱の問題を解消した支持装置を有するステージを備えているので、ステージ周辺の部材及び雰囲気に与える熱的な影響を低減することができる。例えば、ステージの位置情報を光学式の計測装置で計測する場合、その計測精度に与える熱の影響を軽減することができ、ステージの位置制御性を向上させることができる。
【００１３】
本発明は、第３の観点からすると、ステージ装置（１２）を駆動して基板（Ｗ）を露光し、前記基板にパターンを形成する露光装置において、前記ステージ装置が本発明のステージ装置であることを特徴とする露光装置である。
【００１４】
これによれば、ステージの位置制御性を向上可能なステージ装置を駆動して基板を露光し、その基板にパターンを形成するので、結果的に基板上に高精度なパターンを形成することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図５に基づいて説明する。
【００１６】
図１には、一実施形態に係る露光装置１０の全体構成が概略的に示されている。この図１では、露光装置１０を構成する、投影ユニットＰＵ及びウエハステージチャンバ４５が、その内部構造を示すため破断して断面図にて示されている。
【００１７】
この露光装置１０では、反射型マスクとしてのレチクルＲからの反射光束を、基板としてのウエハＷ上に垂直に投射する投影光学系を内部に有する投影ユニットＰＵが採用されているので、以下においては、この投影光学系からウエハＷへの照明光の投射方向を投影光学系の光軸方向と呼ぶとともに、この光軸方向をＺ軸方向、これに直交する面内で図１における紙面内左右方向をＹ軸方向、紙面に直交する方向をＸ軸方向として説明する。
【００１８】
この露光装置１０は、レチクルＲに形成された回路パターン（以下、「レチクルパターン」と略述する）の一部の像を投影ユニットＰＵ内の投影光学系を介してウエハＷ上に投影しつつ、レチクルＲとウエハＷとを投影ユニットＰＵに対して１次元方向（Ｙ軸方向）に相対走査することにより、レチクルパターンをウエハＷ上の複数のショット領域の各々にステップ・アンド・スキャン方式で転写するものである。
【００１９】
露光装置１０は、レチクルＲを照明光（ＥＵＶ光）ＥＬで照明する照明ユニット１０Ａと、該照明ユニット１０Ａにその一部が接続された露光装置本体部１０Ｂとを備えている。
【００２０】
照明ユニット１０Ａは、図１では、図示の便宜上から単なるブロックで示されているが、実際には、軟Ｘ線領域の照明光（ＥＵＶ光）、例えば波長１１ｎｍの照明光（ＥＵＶ光）ＥＬを射出するＳＯＲ（Synchrotron Orbital Radiation）リングから成る不図示の露光光源及び照明光学系、並びにこれらを接続する不図示のビームライン等から成る照明系と、該照明系を収容する照明系チャンバ４０とを備えている。
【００２１】
前記照明系チャンバ４０は、床面Ｆ上に設けられた複数本の支持部材５３と、これらの支持部材５３によって水平に支持された支持定盤５０とから構成される照明系保持架台５６上に設置されている。照明系チャンバ４０は、該照明系チャンバ４０と支持定盤５０とによって区画される空間等の高真空状態を維持できるように、気密性が高く構成されている。
【００２２】
前記照明光学系は、例えばミラー系、フライアイミラー及びミラーユニット（例えば複数のトロイダル非球面斜入射ミラーから成る反射ミラー）等を含んで構成されている。この照明光学系の構成部分のうち、ミラーユニットは、照明系の射出端を構成し、その一部分が支持部材５３の上方の所定の空間を覆う照明系チャンバ４０の開口からはみ出した状態とされている。この照明光学系は、光源から射出された照明光ＥＬを順次反射して最終的に所定の入射角、例えば約５０〔ｍｒａｄ〕でレチクルＲのパターン面（図１における下面（−Ｚ側の面））に入射させる。
【００２３】
前記露光装置本体部１０Ｂは、図１に示されるように、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴと該レチクルステージＲＳＴ及びその駆動系等を収容するレチクルステージチャンバ等を含むレチクルステージ装置１２、前記レチクルＲのパターン面で反射された照明光ＥＬをウエハＷの被露光面に投射する投影光学系を含む投影ユニットＰＵ、ウエハＷが載置されるウエハステージＷＳＴ、投影ユニットＰＵを保持する第１コラム３１、該第１コラム３１を構成する鏡筒定盤（メインフレーム）３５上で前記レチクルステージ装置１２を支持する第２コラム３７、及びウエハステージＷＳＴ等を収容するウエハステージチャンバ４５等を備えている。
【００２４】
前記レチクルＲとしては、照明光ＥＬが波長１１ｎｍのＥＵＶ光であることと対応して反射型レチクルが用いられている。このレチクルＲは、そのパターン面が下面となる状態でレチクルステージＲＳＴに保持されている。このレチクルＲは、シリコンウエハ、石英、低膨張ガラスなどの薄い板から成り、その−Ｚ側の表面（パターン面）には、ＥＵＶ光を反射する反射膜が形成されている。この反射膜は、モリブデンＭｏとベリリウムＢｅの膜が交互に約５．５ｎｍの周期で、約５０ペア積層された多層膜である。この多層膜は波長１１ｎｍのＥＵＶ光に対して約７０％の反射率を有する。
【００２５】
レチクルＲのパターン面に形成された多層膜の上には、吸収層として例えばニッケルＮｉ又はアルミニウムＡｌが一面に塗布され、その吸収層にパターンニングが施されて回路パターンが形成されている。
【００２６】
レチクルＲの吸収層が残っている部分に当たった照明光（ＥＵＶ光）ＥＬはその吸収層によって吸収され、吸収層の抜けた部分（吸収層が除去された部分）の反射膜に当たった照明光ＥＬはその反射膜によって反射され、結果として回路パターンの情報を含んだ照明光ＥＬがレチクルＲのパターン面からの反射光として投影ユニットＰＵへ向かう。
【００２７】
前記第２コラム３７は、第１コラム３１上面に設けられた複数本、例えば３本又は４本の支柱３９と、該複数本の支柱３９によって支持され、第２コラム３７の天板を構成する下側プレート１９とを含んで構成されている。なお、この第２コラム３７によって支持されたレチクルステージ装置１２の詳細な構成等については、後述する。
【００２８】
前記第１コラム３１は、床面Ｆ上に設けられた複数本（例えば３本又は４本）の支持部材２３と、各支持部材２３上部にそれぞれ各１つ設けられた複数の防振ユニット２５と、これら支持部材２３及び防振ユニット２５によって床面Ｆ上でほぼ水平に支持された前記鏡筒定盤３５とを含んで構成されている。
【００２９】
前記各防振ユニット２５は、支持部材２３の上部に直列（又は並列）に配置された内圧が調整可能なエアマウントとボイスコイルモータとを含んで構成されている。各防振ユニット２５のエアマウントによって、床面Ｆ及び支持部材２３を介して鏡筒定盤３５に伝わる床面Ｆからの微振動が絶縁されるようになっている。
【００３０】
前記鏡筒定盤３５は鋳物等から成り、その中央部に形成された平面視（上方から見て）円形の第１開口３５ａと該第１開口３５ａから＋Ｘ方向に所定距離離れた位置に形成された第２開口（不図示）とを有している。
【００３１】
前記鏡筒定盤３５の第１開口３５ａの内部に、前述の投影ユニットＰＵが上方から挿入され、鏡筒定盤３５上に設けられた３つの防振ユニット（図１では１つの防振ユニットのみが図示されている）２９によって、投影ユニットＰＵのフランジ部ＦＬＧが下方から３点支持されている。各防振ユニット２９としては、前述の防振ユニット２５と同様の構成のものが用いられている。
【００３２】
前記鏡筒定盤３５の第２開口の内部には、不図示のアライメント検出系が上方から挿入され、外周部に設けられたフランジを介して鏡筒定盤３５に固定されている。このアライメント検出系としては、ブロードバンド光をウエハＷ上のアライメントマーク（又は後述する空間像計測器ＦＭ）に照射し、その反射光を受光して画像処理によりマーク検出を行うＦＩＡ（Field Image Alignment ）方式のアライメントセンサ、レーザ光をウエハＷ上の回折格子状のアライメントマークに２方向から照射し、発生した２つの回折光を干渉させ、その位相からアライメントマークの位置情報を検出するＬＩＡ（Laser Interferometric Alignment）方式のアライメントセンサ、レーザ光をウエハＷ上のアライメントマークに照射し、回折・散乱された光の強度を利用してマーク位置を計測するＬＳＡ（Laser Step Alignment）方式のアライメントセンサやＡＦＭ（原子間力顕微鏡）のような走査型プローブ顕微鏡等種々のものを用いることができる。
【００３３】
前記投影ユニットＰＵは、鏡筒１４と、該鏡筒１４の内部に図１に示されるような所定の位置関係で上から下に順に配置された、第２ミラーＭ２、第４ミラーＭ４、第３ミラーＭ３及び第１ミラーＭ１の合計４つのミラー（反射光学素子）から成る投影光学系とを備えている。この投影光学系は、開口数（Ｎ．Ａ．）が例えば０．１で、投影倍率が１／４倍に設定されている。また、第４ミラーＭ４には、図１に示されるように、開口が形成されている。
【００３４】
また、鏡筒１４には、図１から分かるように、周壁の−Ｙ側に開口５９ａが形成されており、該開口５９ａを介して、鏡筒１４の内側に前述のミラーユニットを構成する１つの反射ミラーＭｃが挿入されている。更に、鏡筒１４の上壁（天井壁）及び底壁には、図１に示されるように、照明光ＥＬの通路となる開口５９ｂ，５９ｃが形成されている。
【００３５】
また、鏡筒１４と照明系チャンバ４０との間には、開口５９ａとこれに対向する照明系チャンバ４０側の開口の周囲部分に、鏡筒１４と照明系チャンバ４０とを接続する伸縮自在のベローズ４７が設けられている。このベローズ４７により、鏡筒１４の内部空間と照明系チャンバ４０の内部空間とが、外部に対してほぼ気密状態で隔離されるとともに、鏡筒１４と照明系チャンバ４０との間における振動の伝達が抑制されている。
【００３６】
上述のようにして構成された投影ユニットＰＵによると、図１に示されるように、前述の照明光ＥＬが、反射ミラーＭｃの反射面に到達し、その反射面で反射、集光された後、鏡筒１４の開口５９ｂを介してレチクルＲのパターン面（下面）に所定の入射角、例えば５０（ｍｒａｄ）で入射する。これにより、レチクルＲのパターン面が円弧スリット状の照明光ＥＬにより照明される。
【００３７】
そして、そのレチクルＲのパターン面で反射されたレチクルパターンの情報を含む照明光ＥＬは、開口５９ｂを介して鏡筒１４内に入射し、第１ミラーＭ１に到達する。この第１ミラーＭ１の反射面で反射された照明光ＥＬは、第４ミラーＭ４の開口を介して第２ミラーＭ２の反射面に入射し、その反射面で反射され第４ミラーＭ４の開口を介して第３ミラーＭ３の反射面に入射する。その第３ミラーＭ３の反射面で反射された照明光ＥＬは、第４ミラーＭ４の反射面で反射され、主光線の向きが鉛直下向きに偏向される。そして、この照明光ＥＬは、ウエハＷ上に投射される。これによりレチクルパターンの縮小像がウエハＷ上に形成される。
【００３８】
さらに、投影ユニットＰＵの鏡筒１４には、不図示の保持部を介してウエハフォーカスセンサ（１１２ａ，１１２ｂ）が一体的に取り付けられている。このウエハフォーカスセンサ（１１２ａ，１１２ｂ）としては、投影光学系の光軸に対して所定角度傾斜した方向から被検面（ウエハＷの表面）に複数の光束を照射する照射系１１２ａと、各光束の被検面からの反射光を個別に受光する複数の受光素子を有する受光系１１２ｂとを備えた斜入射方式の多点焦点位置検出系が用いられている。このウエハフォーカスセンサ（１１２ａ，１１２ｂ）によって、投影ユニットＰＵの鏡筒１４を基準とするウエハＷ表面のＺ軸方向の位置及び傾斜量が計測されている。このウエハフォーカスセンサ（１１２ａ，１１２ｂ）と同様の構成の多点焦点位置検出系は、例えば特開平６−２８３４０３号公報（対応米国特許第５，４４８，３３２号）等に詳細に開示されている。
【００３９】
前記ウエハステージＷＳＴは、例えば磁気浮上型２次元リニアアクチュエータから成るウエハステージ駆動部（不図示）によってウエハステージベース３３上に浮上支持されている。ウエハステージＷＳＴは、前記ウエハステージ駆動部によりＸ軸方向及びＹ軸方向に所定ストローク（ストロークは例えば３００〜４００ｍｍである）で駆動されるとともに、θｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）にも微小量駆動されるようになっている。また、このウエハステージＷＳＴは、ウエハステージ駆動部によってＺ軸方向及びＸＹ面に対する傾斜方向にも微小量だけ駆動可能に構成されている。
【００４０】
ウエハステージＷＳＴの上面には、静電チャック方式の不図示のウエハホルダが載置され、該ウエハホルダによってウエハＷが吸着保持されている。ウエハステージＷＳＴの位置は、外部に配置されたウエハレーザ干渉計（以下、「ウエハ干渉計」という）８２Ｗにより、例えば、０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。なお、実際には、Ｘ軸方向に測長軸を有する干渉計及びＹ軸方向に測長軸を有する干渉計が設けられているが、図１ではこれらが代表的にウエハ干渉計８２Ｗとして示されている。それらの干渉計は、測長軸を複数有する多軸干渉計で構成され、ウエハステージＷＳＴのＸ、Ｙ位置の他、回転（ヨーイング（Ｚ軸回りの回転であるθｚ回転）、ピッチング（Ｘ軸回りの回転であるθｘ回転）、ローリング（Ｙ軸回りの回転であるθｙ回転））も計測可能となっている。
【００４１】
ウエハ干渉計８２Ｗ及びウエハフォーカスセンサ（１１２ａ、１１２ｂ）の計測値は、不図示の主制御装置に供給され、該主制御装置によってウエハステージ駆動部が制御され、ウエハステージＷＳＴの６次元方向の位置及び姿勢制御が行われるようになっている。
【００４２】
ウエハステージＷＳＴ上面の一端部には、レチクルＲに形成されたパターンがウエハＷ面上に投影される位置と前述のアライメント検出系との相対位置関係の計測（いわゆるベースライン計測）等を行うための空間像計測器ＦＭが設けられている。この空間像計測器ＦＭは、従来のＤＵＶ露光装置の基準マーク板に相当するものである。
【００４３】
前記ウエハステージチャンバ４５は、上面が開口した概略箱状の形状を有し、鏡筒定盤３５の下面に固定されている。このウエハステージチャンバ４５は、該ウエハステージチャンバ４５と鏡筒定盤３５とによって区画される閉空間の高真空状態を維持できるように構成されている。
【００４４】
次に、レチクルステージ装置１２及びその近傍の構成部分について、図２〜図４に基づいて説明する。図２には、走査方向であるＹ軸方向に直交する面で断面したレチクルステージ装置１２の縦断面図が示されている。また、図３には、前述のレチクルステージチャンバＲＣの内部に収容されたレチクルステージ装置１２の構成部分が平面図にて示されている。
【００４５】
レチクルステージ装置１２は、図２に示されるように、レチクルステージチャンバＲＣと、該レチクルステージチャンバＲＣの内部に収容されたレチクルステージＲＳＴ及びその駆動系、並びにカウンタマスとしての機能を有する枠状部材２０（図３参照）等を備えている。
【００４６】
前記レチクルステージチャンバＲＣは、図２に示されるように、前述の第２コラム３７の天板を構成する下側プレート１９と、該下側プレート１９上に固定されたＸＺ断面が内側が開口したＵ字状で、平面視（上方から見て）矩形枠状の環状部材から成る側壁部材１８と、該側壁部材１８の上部に固定された上側プレート１６とを備えている。
【００４７】
前記下側プレート１９の中央部には、開口１９ａが形成されており、下側プレート１９の開口１９ａの周囲の部分と投影光学系ＰＬの上端面とが、ベローズ２１によって接続され、これによってレチクルステージチャンバＲＣの内部空間や鏡筒１４の内部空間に外部の気体が入り込むのが防止されている。これまでの説明からわかるように、本実施形態では、レチクルステージチャンバＲＣ、ベローズ２１、投影ユニットＰＵの鏡筒１４、ベローズ４７、照明系チャンバ４０、及びウエハステージチャンバ４５それぞれの内部を相互に連通する気密空間が形成されている。ここでは、一例としてその気密空間内が１０-4〔Ｐａ〕程度の高真空状態に維持されているものとする。
【００４８】
前記枠状部材２０は、図２及び図３を総合するとわかるように、平面視矩形の枠状の形状を有し、側壁部材１８の内壁面に、その外側面及び上下面が対向した状態で配置されている。この枠状部材２０の上下面の四隅近傍には、差動排気型の気体静圧軸受３４（図３において上面側のみ図示）が設けられ、側壁部材１８に対して非接触で支持されている。このため、この枠状部材２０は、水平方向の力の作用により自由運動を行う。
【００４９】
この枠状部材２０の＋Ｘ側端面には、図２に示されるように、トリムモータＴＭの可動子８８ａの一端が固定され、この可動子８８ａの他端は、側壁部材１８に形成された開口を介して側壁部材１８の外部に露出している。そして、この可動子８８ａには、固定子８８ｂが側壁部材１８の外部から係合しており、これら可動子８８ａ、固定子８８ｂによって、枠状部材２０をＹ軸方向に微小駆動して、枠状部材２０のＹ軸方向の位置調整を行うトリムモータＴＭが構成されている。固定子８８ｂは、下側プレート１９上に固定された支持部材８９に支持されている。なお、不図示ではあるが、実際にはトリムモータＴＭと側壁部材１８との間の隙間は、差動排気型気体静圧軸受その他の適宜なシール機構により、気密状態がほぼ維持されている。また、不図示ではあるが、上記トリムモータＴＭと同様の構成のＸ軸トリムモータを設けても良い。
【００５０】
前記枠状部材２０の内部空間（枠内）には、図３に示されるように、−Ｘ側端部近傍、＋Ｘ側端部近傍にＹ軸方向に伸びるＹ軸固定子２２ａ、２２ｂがそれぞれ配置され、これらＹ軸固定子２２ａ、２２ｂの内側にＹ軸方向に伸びるＹ軸ガイド２４ａ，２４ｂがそれぞれ配置されている。
【００５１】
これらＹ軸固定子２２ａ、２２ｂ及びＹ軸ガイド２４ａ，２４ｂそれぞれの＋Ｙ側の端部は、枠状部材２０の＋Ｙ側の辺の内壁面に固定され、それぞれの−Ｙ側の端部は、枠状部材２０の−Ｙ側の辺の内壁面に固定されている。すなわち、これらＹ軸固定子２２ａ、２２ｂ及びＹ軸ガイド２４ａ，２４ｂは、枠状部材２０の＋Ｙ側辺と−Ｙ側辺の相互間に架設されている。この場合、Ｙ軸固定子２２ａ，２２ｂは平面視で左右対称に配置され、Ｙ軸ガイド２４ａ，２４ｂは平面視で左右対称に配置されている。
【００５２】
前記Ｙ軸固定子２２ａ、２２ｂのそれぞれは、図２に示されるようにＸＺ断面Ｔ字状の形状を有し、Ｙ軸方向に沿って所定ピッチで配置された複数の電機子コイルを有する電機子ユニットから成る。但し、Ｙ軸固定子２２ａとＹ軸固定子２２ｂとは、図２から分かるように、その高さが異なっている。すなわち、Ｙ軸固定子２２ａの方が、Ｙ軸固定子２２ｂより高い位置にあり、両者はレチクルステージＲＳＴの重心の高さ位置から＋Ｚ側、−Ｚ側に略同一の距離離れた位置となるように、その高さが設定されている。
【００５３】
前記Ｙ軸ガイド２４ａ，２４ｂは、図２に示されるように、ＸＺ断面矩形の形状を有し、その周囲の四面（上面、下面、右側面、左側面）の平坦度が高く設定されている。また、Ｙ軸ガイド２４ａ，２４ｂのそれぞれは、Ｙ軸固定子２２ａ，２２ｂとそれぞれ同一の高さ位置に配置されている。
【００５４】
前記レチクルステージＲＳＴは、図２及び図３に示されるように、Ｙ軸ガイド２４ａ，２４ｂに沿って移動するレチクル粗動ステージ２８と、該レチクル粗動ステージ２８に対してＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）に３つのアクチュエータ５４ａ，５４ｂ，５４ｃにより微小駆動されるレチクル微動ステージ３０とを備えている。
【００５５】
これを更に詳述すると、前記レチクル粗動ステージ２８は、レチクルステージＲＳＴを取り出して斜視図にて示す図４から分かるように、Ｘ軸方向に幾分長い長方形の板状部材４２と、該板状部材４２の下面に固定され、該板状部材４２の＋Ｘ側の端面及び＋Ｙ側の端面に沿って配置された平面視（上方から見て）Ｌ字状の取り付け部材４４と、板状部材４２の下面の−Ｘ側端部近傍に固定されＹ軸方向に伸びるＹ軸スライダ４６ａと、前記取り付け部材４４の下面に固定されＹ軸方向に伸びるＹ軸スライダ４６ｂと、Ｙ軸スライダ４６ａの−Ｘ側端面、Ｙ軸スライダ４６ｂの＋Ｘ側端面にそれぞれ固定されたＹ軸可動子４８ａ，４８ｂと、を備えている。
【００５６】
前記板状部材４２には、図３及び図４に示されるように、所定大きさの正三角形（又は二等辺三角形）の各頂点に位置する３つの丸孔（段付き丸孔）６４ａ，６４ｂ，６４ｃが形成さている。これらの丸孔（段付き丸孔）６４ａ，６４ｂ，６４ｃの内部に３つの支持装置としてのＺ軸支持装置５２ａ，５２ｂ，５２ｃがそれぞれ挿入されている。これらのＺ軸支持装置５２ａ，５２ｂ，５２ｃは、それぞれの上端面が板状部材４２の上面とほぼ面一となるような状態で、その板状部材４２によって支持されている。また、これらのＺ軸支持装置５２ａ，５２ｂ，５２ｃは、物体としてのレチクル微動ステージ３０を非接触状態で吊り下げ支持している。なお、Ｚ軸支持装置５２ａ，５２ｂ，５２ｃの構成、作用等については、後に詳述する。
【００５７】
前記取り付け部材４４は、図４に示されるように、＋Ｚ側から見てＬ字状であるとともに、−Ｙ側から見ても略Ｌ状となる特殊な形状を有している。
【００５８】
前記一対のＹ軸スライダ４６ａ，４６ｂのそれぞれは、ＸＺ断面が矩形枠状でＹ軸方向に伸び、その内面（４面）に設けられた複数の差動排気型の気体静圧軸受を有している。これらのＹ軸スライダ４６ａ，４６ｂは、前述したＹ軸ガイド２４ａ，２４ｂそれぞれの周囲に取り付けられている。この場合、複数の差動排気型の気体静圧軸受により、Ｙ軸ガイド２４ａ、２４ｂとＹ軸スライダ４６ａ，４６ｂとのＺ軸方向及びＸ軸方向の間隔が数μｍ程度に維持されるようになっている。これにより、レチクルステージＲＳＴ（レチクル粗動ステージ２８）を、非接触でＹ軸方向にガイドするガイド機構が実現されている。
【００５９】
前記Ｙ軸可動子４８ａ，４８ｂは、図４中に、一方のＹ軸可動子４８ａについて具体的に示されるように、断面Ｕ字状のヨーク５４と、該ヨーク５４の内部の上下対向面にＹ軸方向に沿って所定ピッチでかつ対向して配置された複数の界磁石（Ｎ極永久磁石、Ｓ極永久磁石５８とを備えている。この場合、隣り合う界磁石５８同士、対向する界磁石５８同士が逆極性とされ、ヨーク５４の内部空間には、Ｙ軸方向に沿って交番磁界が形成されている。
【００６０】
Ｙ軸可動子４８ａ，４８ｂは、図２に示されるように、前述した一対のＹ軸固定子２２ａ，２２ｂにそれぞれ係合し、レチクルステージＲＳＴをＹ軸方向に駆動する、ムービングマグネット型の電磁力駆動リニアモータから成る一対のＹ軸リニアモータＲＭａ，ＲＭｂを、それぞれ構成する。なお、Ｙ軸リニアモータＲＭａ，ＲＭｂとして、ムービングコイル型のリニアモータを用いても良い。
【００６１】
前記レチクル微動ステージ３０は、静電チャック６０を備え、該静電チャック６０によってレチクルＲが静電吸着され、保持されている。このレチクル微動ステージ３０の−Ｘ側端部には、その下面にＸ軸移動鏡６２ＸがＹ軸方向に延設されている。なお、不図示ではあるが、レチクル微動ステージ３０の−Ｙ側端部には、Ｙ軸移動鏡（たとえば、一対のレトロリフレクタ等から構成される）が設けられている。
【００６２】
レチクル微動ステージ３０と前述のレチクル粗動ステージ２８との間には、図３に示されるように、３つの水平駆動用のボイスコイルモータ５４ａ〜５４ｃが設けられている。これらのボイスコイルモータ５４ａ〜５４ｃのうち、１つのボイスコイルモータ５４ｃは、図２，図３に示されるように、レチクル微動ステージ３０の＋Ｘ側に設けられ、その他２つのボイスコイルモータ５４ａ，５４ｂは、レチクル微動ステージ３０の＋Ｙ側に設けられている。
【００６３】
これらのボイスコイルモータ５４ａ〜５４ｃのそれぞれは、図２及び図３を総合するとわかるように、レチクル粗動ステージ２８を構成する取り付け部材４４側に固定された側面視Ｔ字状の電機子ユニットから成る固定子と、レチクル微動ステージ３０側に固定され、前記固定子に対して、図３中の矢印方向に微小駆動される磁極ユニットから成る可動子とを有している。すなわち、レチクル微動ステージ３０は、ボイスコイルモータ５４ｃにより、レチクル粗動ステージ２８に対してＸ軸方向に微小駆動されるとともに、ボイスコイルモータ５４ａ，５４ｂにより、レチクル粗動ステージ２８に対してＹ軸方向及びθｚ方向に微小駆動されるようになっている。
【００６４】
前記側壁部材１８の一部には、図２に示されるように、下側プレート１９上に固定されたＸ軸干渉計３２Ｘからの測長ビーム，参照ビームそれぞれの通路となる開口部１８ａ，１８ｂが形成されている。これらの開口部１８ａ，１８ｂは側壁部材１８の外面側に設けられた不図示の窓ガラスで閉塞され、それらの開口部１８ａ，１８ｂを介して外部からレチクルステージチャンバＲＣの内部に気体が入り込むのが防止されている。
【００６５】
前記枠状部材２０の一部には、図２に示されるように、側壁部材１８に形成された前述の開口部１８ａ、１８ｂにそれぞれ対向する位置に開口部２０ａ，２０ｂが形成され、開口部１８ａ及び開口部２０ａ、開口部１８ｂ及び開口部２０ｂによって、前述のＸ軸干渉計３２Ｘからの測長ビーム，参照ビームそれぞれの通路が形成されている。
【００６６】
また、図示は省略されているが、側壁部材１８及び枠状部材２０の−Ｙ側の側壁には、不図示のＹ軸干渉計から測長ビーム，参照ビームそれぞれの通路となる開口がそれぞれ形成されている。勿論、この場合も、その開口の側壁部材１８の外面側に窓ガラスが設けられている。
【００６７】
レチクルステージＲＳＴの下方（−Ｚ側）には、図２に示されるように、中央部に照明光ＥＬの通路となる開口が形成された保持部材９８が配置されている。この保持部材９８は、投影ユニットＰＵの鏡筒１４の上面に固定された一対の支持部材９９ａ、９９ｂによって水平に支持されている。保持部材９８上面の−Ｘ側端部近傍には、レチクルフォーカス送光系１１ａが設けられるとともに、保持部材９８上面の＋Ｘ側端部近傍には、レチクルフォーカス送光系１１ａとともに前述のウエハフォーカスセンサ（１１２ａ，１１２ｂ）と同様の斜入射方式の多点焦点位置検出系から成るレチクルフォーカスセンサを構成するレチクルフォーカス受光系１１ｂが設けられている。また、この保持部材９８上面のレチクルフォーカス送光系１１ａの−Ｘ側には、Ｘ軸固定鏡１６２Ｘが設けられている。
【００６８】
前述のＸ軸干渉計３２Ｘからの参照ビームは側壁部材１８に形成された開口部１８ｂ、枠状部材２０に形成され開口部２０ｂを介して、Ｘ軸固定鏡１６２Ｘに照射され、その反射光がＸ軸干渉計３２Ｘ内に戻る。また、Ｘ軸干渉計３２Ｘからは、側壁部材１８に形成された開口部１８ａ、枠状部材２０に形成された開口部２０ａを介して、Ｘ軸移動鏡６２Ｘに照射され、その反射光が干渉計３２Ｘに戻る。Ｘ軸干渉計３２Ｘ内に戻った測長ビームの反射光及び参照ビームの反射光は、Ｘ軸干渉計３２Ｘ内部の光学系により同軸に合成された後、偏光子を介して偏光方向を一致させられることで干渉する。その干渉によって生じた干渉光が内部のディテクタによって受光され、その干渉光に応じた干渉信号に基づいて、不図示の信号処理系により、レチクル微動ステージ３０のＸ軸方向の位置情報が、Ｘ軸固定鏡１６２Ｘを基準として、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。
【００６９】
なお、不図示ではあるが、保持部材９８上面の−Ｙ側端部近傍には、Ｙ軸固定鏡が設けられている。そして、不図示のＹ軸干渉計から参照ビームが、側壁部材１８及び枠状部材２０の−Ｙ側の側壁に形成された開口をそれぞれ介してＹ軸固定鏡に照射されるとともに、測長ビームが側壁部材１８及び枠状部材２０の−Ｙ側の側壁に形成された開口をそれぞれ介して前述したＹ軸移動鏡（例えば一対のレトロリフレクタ）のそれぞれに照射され、前記Ｙ軸固定鏡からの参照ビームの反射光、Ｙ軸移動鏡からの測長ビームの反射光がＹ軸干渉計に戻り、その戻り光束に基づいてＹ軸干渉計内部で上述と同様の処理を行うことで、不図示の信号処理系により、上記一対のレトロリフレクタそれぞれのＹ軸方向の位置情報が、固定鏡を基準として、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。従って、Ｙ軸干渉計の各測長軸の計測値に基づいて、レチクル微動ステージ３０のＹ軸方向の位置及びθｚ回転の情報を得ることができる。
【００７０】
Ｘ軸干渉計３２Ｘ及びＹ軸干渉計の計測値は、レチクルフォーカスセンサ（１１ａ，１１ｂ）の計測値とともに不図示の主制御装置に供給され、該主制御装置によって前述のリニアモータＲＭａ，ＲＭｂ、ボイスコイルモータ５４ａ〜５４ｃ、及びＺ軸支持装置５２ａ〜５２ｃをそれぞれ構成するボイスコイルモータが制御され、レチクル微動ステージ３０の６次元方向の位置及び姿勢制御が行われるようになっている。
【００７１】
次に、Ｚ軸支持装置５２ａ〜５２ｃについて説明する。ここでは、そのうちの１つのＺ軸支持装置５２ａを代表的に採りあげて説明する。Ｚ軸支持装置５２ａは、図５に拡大して、断面にて示されるように、板状部材４２に形成された丸孔６４ａに挿入された筒状部材としての本体部材１７０と、該本体部材１７０に対してＺ軸方向に相対移動可能なスライダ機構７０とを備えている。
【００７２】
前記本体部材１７０は、径が異なる３つの円柱部分、すなわち第１部分１７１ａ、第２部分１７１ｂ及び第３部分１７１ｃを、同心状態で、繋ぎあわせたような段付き円柱状の外観形状を有しており、直径のもっとも小さな一番下の第１部分１７１ａが板状部材４２の下面から露出した状態となっており、その他の部分が板状部材４２によって支持されている。
【００７３】
本体部材１７０には、第１部分１７１ａの上端面から第２部分１７１ｂの高さ方向の中間位置に至る所定深さを有し、本体部材１７０の中心位置に形成された円形開口１７０ａが形成され、該円形開口１７０ａの内部底面の中央部には該内部底面から第３部分１７１ｃの下端面に至る前記円形開口と同心で該円形開口より小径の丸孔１７０ｂとが形成されている。すなわち、円形開口１７０ａと丸孔１７０ｂとによって、高さ方向の中央位置よりやや上方の位置よりも上側の部分の径が他の部分より大きく設定された、段付きの貫通孔が形成されている。
【００７４】
前記スライダ機構７０は、上下方向（Ｚ軸方向）を長手方向とし、下端部の一部を除く、残りの部分が、前述の本体部材１７０に形成された段付きの貫通孔に挿入された状態となっているスライダ７０ａと、該スライダ７０ａの下端にベローズ７０ｃを介して非接触かつＸ軸回りの回転及びＹ軸回りの回転が許容された状態で接続された先端部材７０ｂとを備えている。
【００７５】
前記スライダ７０ａは、上端部（＋Ｚ側端部）の一部、下端部の一部が他の部分より大径に形成されている。そして、上端側の大径部２７０ａは、円柱状に形成され、その中央に所定深さの凹部１０３が形成されている。一方、下端側の大径部２７０ｃは、テーパ部分を介して小径部２７０ｂに連接されている。また、スライダ７０ａの下端面には、その一部に凹面（曲面）が形成されている。
【００７６】
スライダ７０ａのＺ軸方向ほぼ中央部には、複数、例えば４つの永久磁石７８が、＋Ｘ側、−Ｘ側の側面に、各２つＺ軸方向に関して所定間隔で埋め込まれている。この場合、Ｚ軸方向に並んで配置される２つの磁石同士が逆極性とされている。
【００７７】
また、スライダ７０ａ内には、凹部１０３の内部底面と下端部（−Ｚ側端部）とを連通する状態で、本体側供給管路９４、第１の本体側吸引管路９６ａ及び第２の本体側吸引管路９６ｂがそれぞれ形成されている。この場合、本体側供給管路９４がスライダ７０ａのＸＹ断面のほぼ中心部に形成され、その本体側供給管路９４の両側に第１の本体側吸引管路９６ａ、第２の本体側吸引管路９６ｂがそれぞれ形成されている。これら各管路の上端（＋Ｚ側端）にはコネクタＣＮを介して、供給管１０４、第１の吸引管１０６ａ、第２の吸引管１０６ｂの一端がそれぞれ接続されている。このうち、供給管１０４の他端は、所定圧力の気体を供給する気体供給装置（不図示）に接続されている。また、第１の吸引管１０６ａの他端は、不図示の低真空（１０2〜１０3Ｐａ程度）の吸引装置（真空ポンプ）に接続されており、第２の吸引管１０６ｂの他端は、不図示の高真空（１０-2〜１０-3Ｐａ程度）の吸引装置（真空ポンプ）に接続されている。
【００７８】
前記先端部材７０ｂは、その下面がレチクル微動ステージ３０の上面に所定のクリアランス（例えば数μｍ程度）を介して対向し得る平面とされ、その反対側の面が、前述のスライダ７０ａの下端面の一部に形成された凹面に所定のクリアランス（例えば数μｍ程度以下）を介してその一部が対向し得る球面とされている。この先端部材７０ｂの下面には、その中央に、永久磁石７２が埋め込まれ、該永久磁石７２の周囲に噴出し部としての噴出し溝７４が形成されている。また、先端部材７０ｂの下面には、噴出し溝７４の周囲を取り囲むように、円環状の第１の吸引溝７６ａが形成され、更に、該第１の吸引溝７６ａの周囲を取り囲むように、円環状の第２の吸引溝７６ｂが形成されている。
【００７９】
先端部材７０ｂには、噴出し溝７４と先端部材７０ｂの上面の外部とを連通する先端部側供給管路８４が上下方向に形成されている。また、先端部材７０ｂには、第１の吸引溝７６ａと先端部材７０ｂの上面の外部とを連通する第１の先端部側吸引管路８６ａと、第２の吸引溝７６ｂと先端部材７０ｂの上面の外部とを連通する第２の先端部側吸引管路８６ｂとが、それぞれ形成されている。
【００８０】
すなわち、不図示の気体供給装置から供給管１０４を介して加圧気体が供給されると、その加圧気体は第１の本体側供給管路９４を介して、スライダ７０ａと先端部材７０ｂとの間のクリアランスに流れ出し、該クリアランス内に充満した加圧気体が第１の先端部側供給管路８４に至る。そして、この加圧気体が噴出し溝７４からレチクル微動ステージ３０表面に対して噴出される。
【００８１】
一方、上述の如くして噴出し溝７４から噴出された加圧気体は、先端部材７０ｂとレチクル微動ステージ３０表面との間のクリアランスを介して噴出し溝７４の周囲に向かって流れ出す。このとき、不図示の第１の真空ポンプが作動していると、その真空ポンプの発生する真空吸引力の作用により、第１の吸引管１０６ａ、第１の吸引管路９６ａ及び第１の先端部側吸引管路８６ａの内部が順次負圧状態となる。この場合、第１の吸引管１０６ａの内部が最も高真空であり、第１の先端部側吸引管路８６ａの内部が最も低い真空状態となることは言うまでもない。従って、噴出し溝７４の周囲に向かって流れ出した加圧気体は、第１の吸引溝７６ａから第１の先端部側吸引管路８６ａ、第１の吸引管路９６ａ及び第１の吸引管１０６ａを順次介して第１の真空ポンプによって回収され、排気される。
【００８２】
更に、不図示の第２の真空ポンプが作動していると、上記と同様に、第１の吸引溝７６ａを介して回収できなかった残りの加圧気体が、第２の吸引溝７６ｂから第２の先端部側吸引管路８６ｂ、第２の吸引管路９６ｂ及び第２の吸引管１０６ｂを順次介して第２の真空ポンプによって回収され、排気される。
【００８３】
このように、本実施形態では、噴出し溝７４，第１の吸引溝７６ａ，第２の吸引溝７６ｂを含む先端部材７０ｂによって、図５に示される第１の静圧軸受機構としての差動排気型の静圧軸受機構が構成されている。以下では、必要に応じ、先端部材７０ｂを静圧軸受機構７０ｂとも記述するものとする。この静圧軸受機構７０ｂでは、噴出し溝７４によって物体に対して気体を噴出す噴出し部が構成され、第１の吸引溝７６ａによって該噴出し部の周囲で真空を用いて前記気体を回収する第１の回収部が構成され、第２の吸引溝７６ｂによって第１の回収部の周囲で前記第１の回収部よりも高真空で前記気体を回収する第２の回収部が構成されている。
【００８４】
本実施形態では、先端部材７０ｂの底面の中央部には前述の永久磁石７２が設けられており、この永久磁石７２が対向する部分を含むレチクル微動ステージ３０の少なくとも一部は、磁性体により構成されている。このため、永久磁石７２の磁気的吸引力により前述の静圧軸受機構７０ｂから噴出される加圧気体の静圧に抗してレチクル微動ステージ３０が先端部材７０ｂに吸引されるようになっている。すなわち、永久磁石７２と磁性体とによって磁気力を利用した予圧機構が構成されている。以下では、必要に応じ、「予圧機構７２」とも呼ぶ。本実施形態では、前記加圧気体の静圧による先端部材７０ｂとレチクル微動ステージ３０とを離間させようとする力（斥力）と、予圧機構７２が発生する先端部材７０ｂとレチクル微動ステージ３０とを接近させようとする力（引力）（より正確には、該引力と第１の吸引溝７６ａ，第２の吸引溝７６ｂ近傍に生じる負圧による引力との合力）とのバランスによって、レチクル微動ステージ３０と先端部材７０ｂとの間に所定のクリアランス（例えば数μｍ）が維持されるようになっている。
【００８５】
前記本体部材１７０の丸孔１７０ｂが形成された部分には、前述したスライダ機構７０の＋Ｘ側、−Ｘ側の側面に設けられた各２つの永久磁石７８にほぼ対向する状態で、電機子コイル１７８が各１つ設けられている。各電機子コイル１７８に流れる電流と、永久磁石７８の発生する磁界との電磁相互作用により各電機子コイル１７８にＺ軸方向のローレンツ力が作用し、このローレンツ力の反力がスライダ機構７０をＺ軸方向に駆動する駆動力となる。すなわち、本実施形態では、永久磁石７８と電機子コイル１７８とによって、非接触型の駆動装置としてのボイスコイルモータが構成されている。なお、前述のスライダ機構７０側の永久磁石の個数、配置や本体部材１７０側の電機子コイルの個数、配置などは特に限定されるものではなく、要は、スライダ機構７０をＺ軸方向に駆動する駆動力を発生し得る構成であれば良い。
【００８６】
また、本体部材１７０の電機子コイル１７８近傍には、液体室１８０が形成されている。この液体室１８０には液体供給管２００ａ及び液体供給管路１９０ａを介して外部に設けられた不図示の液体供給装置から冷却液が供給されている。この液体室１８０内の冷却液と電機子コイル１７８との間で熱交換が行われ、電機子コイル１７８が冷却される。この熱交換により温度が上昇した液体室１８０内の冷却液は、液体回収管路１９０ｂ及び液体回収管２００ｂを介して外部に設けられた不図示の液体回収装置により回収されることで、液体室１８０内部の液体の温度は常時所定温度に保たれるようになっている。すなわち、本実施形態では、液体供給管路１９０ａ、液体室１８０及び液体回収管路１９０ｂによって、不図示の液体供給装置から液体供給管２００ａを介して供給される冷却液を用いて、電機子コイル１７８を冷却し、その冷却後の冷却液を液体回収管２００ｂを介して液体回収装置に回収させることで、ボイスコイルモータの温度を調節する温度調節機構が構成されている。
【００８７】
また、本体部材１７０の開口１７０ａ部分の内壁には、Ｚ軸方向に所定幅で全周にわたって所定深さの給気溝１１４が形成され、該給気溝１１４の上下の位置には、給気溝１１４より幅が狭く、深さが深く、内壁の全周にわたる低真空吸引溝１１６ａ1，１１６ａ2がそれぞれ形成されている。さらに、上側の低真空吸引溝１１６ａ1の更に上側の位置には、低真空吸引溝１１６ａ1，１１６ａ2と略同一幅、同一深さの高真空吸引溝１１６ｂが前記内壁の全周にわたって形成されている。
【００８８】
給気溝１１４には、本体部材１７０に形成されたＬ字状の給気管路１２４の一端が接続され、該給気管路１２４の他端は、給気管１３４を介して不図示の気体供給装置に接続されている。低真空吸引溝１１６ａ1，１１６ａ2には、本体部材１７０に形成された一部で枝分かれした低真空吸引管路１２６ａの枝分かれしたそれぞれの端部が接続され、該低真空吸引管路１２６ａの他端部は、低真空吸引管１３６ａを介して不図示の低真空（１０2〜１０3Ｐａ程度）の吸引装置に接続されている。更に、高真空吸引溝１１６ｂには、本体部材１７０に形成されたＬ字状の高真空吸引管路１２６ｂの一端が接続され、該吸引管路１２６ｂの他端は、高真空吸引管１３６ｂを介して不図示の高真空（１０-2〜１０-3Ｐａ程度）の吸引装置に接続されている。
【００８９】
この場合、不図示の気体供給装置から給気管１３４を介して加圧気体が供給されると、その加圧気体は、給気管路１２４を介して給気溝１１４の全周に行き渡った後、スライダ７０ａ上端側の大径部２７０ａに向けて噴出され、この噴出された加圧気体の静圧により、スライダ７０ａの上端側の大径部２７０ａと本体部材１７０の開口１７０ａの内壁面との間に所定のクリアランス（例えば数μｍ程度）が形成される。この場合、スライダ７０ａの全周に渡り加圧気体が存在するので、静圧同士のバランスにより全周に渡って所定のクリアランスが形成され、加圧気体が噴出されている限り、そのクリアランスが維持される。
【００９０】
一方、上述の如くして給気溝１１４から噴出された加圧気体は、スライダ７０ａの上端側の大径部２７０ａと本体部材１７０の開口１７０ａの内壁面との間のクリアランス内で給気溝１１４の上下の空間に拡がる。このとき、不図示の低真空の吸引装置が作動していると、上述の如くしてクリアランス内で拡がった加圧気体は、その大部分が、低真空吸引溝１１６ａ1，１１６ａ2、低真空吸引管路１２６ａ、低真空吸引管１３６ａを順次介して低真空の吸引装置によって回収され、装置外に排気される。この場合において、高真空の吸引装置が作動していると、上記と同様に、低真空吸引溝１１６ａ1，１１６ａ2を介して回収できなかった残りの加圧気体が、高真空吸引溝１１６ｂから高真空吸引管路１２６ｂ、高真空吸引管１３６ｂを順次介して高真空の吸引装置で回収され、装置外に排気される。
【００９１】
このように、本実施形態では、給気溝１１４から噴出された加圧気体の静圧により、スライダ７０ａの上端側の大径部２７０ａと本体部材１７０の開口１７０ａの内壁面との間に所定のクリアランスを形成、維持することができる。また、そのクリアランス内の加圧気体は前述の低真空吸引溝１１６ａ1，１１６ａ2、高真空吸引溝１１６ｂを介して外部に強制的に排出されるので、その気体がレチクルステージチャンバＲＣの内部空間に漏れ出すことを、ほぼ確実に回避できる。
【００９２】
本実施形態では、上述の給気溝１１４、低真空吸引溝１１６ａ1，１１６ａ2及び高真空吸引溝１１６ｂが形成された本体部材１７０の開口１７０ａ内壁面近傍部分により、図５に示される差動排気型の静圧軸受機構１０１が実質的に構成されている。この場合、給気溝１１４によって前記所定のクリアランス内に気体を噴出す噴出し部が構成され、低真空吸引溝１１６ａ1，１１６ａ2によって該噴出し部の周囲で真空を用いて前記気体を回収する第１の回収部が構成され、高真空吸引溝１１６ｂによって該第１の回収部の周囲で前記第１の回収部よりも高真空で前記気体を回収する第２の回収部が構成されている。
【００９３】
また、本実施形態では、図５に示されるように、本体部材１７０の丸孔１７０ｂ部分の内壁の下端部近傍部分により、差動排気型の静圧軸受機構１０２が実質的に構成されている。この静圧軸受機構１０２は、上述の静圧軸受機構１０１と上下対称ではあるが同様に構成されているので、詳細説明は省略する。
【００９４】
この静圧軸受機構１０２の給気溝から噴出された加圧気体の静圧により、スライダ７０ａの小径部２７０ｂと本体部材１７０の丸孔１７０ｂの内壁面との間に所定のクリアランスを形成、維持することができるとともに、そのクリアランス内の加圧気体を低真空吸引溝、高真空吸引溝を介して外部に強制的に排出することで、その気体がレチクルステージチャンバＲＣの内部空間に漏れ出すことを、ほぼ確実に回避できるようになっている。
【００９５】
また、スライダ機構７０の上端部、すなわちスライダ本体７０の上端側の大径部２７０ａと、本体部材１７０の円形開口１７０ａの内壁面（内部底面を含む）との間に、気体室１０９が形成されている。この気体室１０９は、本体部材１７０に形成された通気路１１８及び該通気路１１８に接続された配管１２８を介して、レチクルステージチャンバＲＣ外部の空間に連通されている。通気路１１８は途中でその一部が分岐している。
【００９６】
また、本体部材１７０の第１部分１７１ｃの内部には、図５に示されるように、所定内容積の環状の空気室１０８が形成されている。この空気室１０８には前述の通気路１１８の分岐端部が接続されている。すなわち、空気室１０８は、通気路１１８及び配管１２８を介してレチクルステージチャンバＲＣ外部空間に連通されるとともに、通気路１１８を介して気体室１０９にも連通されている。
【００９７】
以上のようにして気体室１０９、通気路１１８、空気室１０８が構成されているので、レチクルステージチャンバＲＣ外部の空気が配管１２８及び通気路１１８を介して気体室１０９内に流入し、その結果気体室１０９内部の空気の圧力がレチクルステージチャンバＲＣ外部雰囲気と同じ大気圧程度となっている。すなわち、気体室１０９の内部がレチクルステージチャンバＲＣ外部の大気中に解放されている。
【００９８】
また、レチクルステージチャンバＲＣ外部の空気が配管１２８及び通気路１１８を介して空気室１０８の内部にも流入し、その空気室１０８の内部も大気圧の空気が充填されている。すなわち、気体室１０９内の気体（空気）が、経時的に減少した場合、外部から配管１２８及び通気路１１８を介して空気が補充される。このとき、空気が配管１２８を通過する際に圧力損失が生じたものとすると、配管１２８を介して供給される空気の圧力より空気室１０８内の空気の圧力の方が高くなるので、この空気室１０８内の空気が通気路１１８を介して気体室１０９内に優先的に供給される。このようにして、気体室１０９内の空気の圧力がほぼ大気圧に維持されるようになっている。すなわち、本実施形態では、空気室１０８は、気体室１０９内の気体（この場合、空気）の圧力を所定圧力（この場合、大気圧）に維持するためのバッファ部を構成している。なお、気体室１０９への空気の供給により、内部圧力が低下した空気室１０８に対しては配管１２８及び通気路１１８を介して外部の空気が供給され、その結果、空気室１０８の内部圧力は再び大気圧になる。
【００９９】
これまでの説明からわかるように、通気路１１８、空気室１０８及び配管１２８により、気体室１０９に所定圧力（大気圧）の気体（空気）を供給する供給装置が構成されている。
【０１００】
その他のＺ軸支持装置５２ｂ，５２ｃは、上記Ｚ軸支持装置５２ａと全く同様に構成されているので、詳細説明は省略する。
【０１０１】
このようにして構成された、３つのＺ軸支持装置５２ａ〜５２ｃによると、レチクルステージＲＳＴ全体が真空雰囲気内に配置されることから、Ｚ軸支持装置５２ａ〜５２ｃの気体室１０９内部の空気の圧力と真空雰囲気との差圧により各スライダ機構７０及び各スライダ機構７０により支持されるレチクル微動ステージ３０の自重を、支持することができる。従って、レチクル微動ステージ３０の自重を支持するための支持力をボイスコイルモータなどのアクチュエータの駆動力によって得る必要がなくなる。
【０１０２】
また、Ｚ軸支持装置５２ａ〜５２ｃでは、それらが取り付けられたレチクル粗動ステージ２８に対して支持対象物であるレチクル微動ステージ３０を非接触で吊り下げ支持することができ、各スライダ機構７０をそれぞれの本体部材１７０に対して非接触で支持することができる。また、Ｚ軸支持装置５２ａ〜５２ｃでは、各ボイスコイルモータ（７８，１７８）により、必要に応じ各スライダ機構７０をＺ軸方向に、相互に独立して駆動することができる。
【０１０３】
この場合、３つのＺ軸支持装置５２ａ〜５２ｃは、一直線上にない３箇所にが設けられているので、Ｚ軸支持装置５２ａ〜５２ｃのそれぞれが発生するＺ軸方向の駆動力を同一大きさとすることで、レチクル微動ステージ３０をＺ軸方向に微小駆動することができるとともに、Ｚ軸支持装置５２ａ〜５２ｃのそれぞれが発生するＺ軸方向の駆動力の大きさを異ならせることにより、レチクル微動ステージ３０をＸ軸回りの回転方向（θｘ方向）及びＹ軸回りの回転方向（θｙ方向）に微小駆動することができる。この場合において、各スライダ機構７０の先端部材７０ｂは、各スライダ７０ａに対してＸ軸回り及びＹ軸回りの回転が自在とされているので、レチクル微動ステージ３０の傾きが変化しても、各先端部材７０ｂとレチクル微動ステージ３０との間隔を所定間隔に維持することが可能である。また、各ベローズ７０ｃにより、各スライダ７０ａと各先端部材７０ｂとの間の隙間から気体が外部に流出するのを防止することが可能となっている。
【０１０４】
次に、上述のように構成された本実施形態の露光装置１０による露光動作について説明する。
【０１０５】
まず、不図示のレチクル搬送系によりレチクルＲが搬送され、ローディングポジションにあるレチクルステージＲＳＴに吸着保持される。次に、不図示の主制御装置により、ウエハステージＷＳＴ、及びレチクルステージＲＳＴの位置が制御され、レチクルＲ上に形成された不図示のレチクルアライメントマークのウエハＷ面上への投影像が空間像計測器ＦＭを用いて検出され、レチクルアライメントマークのウエハＷ面上への投影位置が求められる。すなわち、レチクルアライメントが行われる。
【０１０６】
次に、主制御装置によって、空間像検出器ＦＭが不図示のアライメント検出系の直下へ位置するように、ウエハステージＷＳＴが移動され、アライメント検出系の検出信号及びその時のウエハ干渉計８２Ｗの計測位置に基づいて、間接的にレチクルＲのパターン像のウエハＷ面上への結像位置とアライメント検出系の相対距離、すなわちベースラインが求められる。
【０１０７】
かかる、ベースライン計測が終了すると、主制御装置により、ウエハアライメント（例えばＥＧＡなど）が行われ、ウエハＷ上の全てのショット領域の位置情報（例えばウエハ干渉計の測長軸で規定されるステージ座標系上の位置座標）が求められる。
【０１０８】
そして、その後、主制御装置の管理の下、上記のベースラインの計測結果とウエハアライメント結果とを用いて、ウエハＷ上の各ショット領域の露光のための走査開始位置（加速開始位置）にウエハステージＷＳＴを移動させる動作と、そのショット領域に対して走査露光方式でレチクルパターンを転写する動作とを、交互に繰り返す、ステップ・アンド・スキャン方式の露光が通常のスキャニング・ステッパ（スキャナ）と同様に行われる。
【０１０９】
このように、露光装置１０では、通常のスキャナと同様の手順で露光工程の処理が実行されるが、走査露光中に、主制御装置が、ウエハステージＷＳＴの６自由度方向の位置及び姿勢を制御するのみならず、レチクル微動ステージ３０の６次元方向の位置及び姿勢制御をも前述のようにして実行するようになっている。
【０１１０】
以上詳細に説明したように、本実施形態に係るＺ支持装置５２ａ〜５２ｃによると、Ｚ支持装置５２ａ〜５２ｃが備える各気体室１０９内の気体（空気）と真空雰囲気との差圧（圧力差）によって生じる力によりレチクル微動ステージ３０の自重（レチクルＲの自重をも含む）が支持される。従って、レチクル微動ステージ３０の自重を支持するための支持力を常時発生するためのアクチュエータが不要であり、そのアクチュエータの発熱に起因する種々の不都合が問題とならない。また、各先端部材７０ｂに設けられた予圧機構７２と静圧軸受機構７０ｂとによってレチクル微動ステージ３０を非接触で保持することができるので、レチクル粗動ステージ２８側の振動がレチクル微動ステージ３０側へ与える影響を低減することができる。また、前記各静圧軸受機構７０ｂが設けられた各スライダ機構７０は、本体部材１７０に形成された鉛直方向に伸びる内周面（開口１７０ａの内周面、丸孔１７０ｂの内周面）に沿って移動可能であるので、レチクル微動ステージ３０の鉛直方向並びにθｚ方向及びθｙ方向の移動も許容されている。
【０１１１】
また、本実施形態のＺ軸支持機構５２ａ〜５２ｃによると、Ｚ軸支持機構５２ａ〜５２ｃをそれぞれ構成する各スライダ機構７０の駆動が、非接触型の駆動装置であるボイスコイルモータ（７８，１７８）により行われるが、Ｚ軸支持機構５２ａ〜５２ｃのそれぞれが、そのボイスコイルモータの温度を調節する温度調節機構（１９０ａ、１８０，１９０ｂ）を備えているので、そのボイスコイルモータの発熱が外部へ与える熱的な影響を極力抑制することが可能である。
【０１１２】
また、本実施形態に係るレチクルステージ装置１２によると、レチクル微動ステージ３０の自重を支持するための支持力を常時発生するためのアクチュエータの発熱の問題を解消したＺ軸支持装置５２ａ〜５２ｃを有するレチクルステージＲＳＴを備えているので、レチクルステージＲＳＴ周辺の部材及び雰囲気に与える熱的な影響を低減することができる。すなわち、レチクルステージＲＳＴのＺ軸方向及びθｘ，θｙ方向の位置情報、より正確には該レチクルステージＲＳＴに保持されたレチクルＲのＺ軸方向及びθｘ，θｙ方向の位置情報を計測するレチクルフォーカスセンサ１１ａ，１１ｂの計測精度が、上記のアクチュエータの発熱により影響を受けて低下するのを効果的に防止することができる。この点において、レチクルステージＲＳＴの位置制御性を向上させることができる。
【０１１３】
また、本実施形態に係るレチクルステージ装置１２では、一対のリニアモータＲＭａ、ＲＭｂが、Ｚ軸方向の位置をずらして設けられている。これにより、本実施形態のように、干渉計３２Ｘのビームの位置の影響でリニアモータの一方をレチクルステージＲＳＴの重心よりも＋Ｚ側に配置しなければならないときでも、他方のリニアモータの駆動点を重心に関して一方のリニアモータの駆動点と対称な位置に設定することで、レチクルステージＲＳＴの重心駆動が可能となり、高精度なレチクルステージＲＳＴの位置制御が可能となる。
【０１１４】
また、本実施形態の露光装置１０によると、レチクルステージＲＳＴの位置制御性の向上したレチクルステージ装置１２を有し、前記レチクルステージＲＳＴをウエハステージＷＳＴと同期して駆動することで、レチクルＲに形成されたパターンをウエハＷ上の複数のショット領域にそれぞれ転写するので、結果的にウエハ上に高精度なパターンを形成することが可能となる。
【０１１５】
なお、上記実施形態では、レチクル微動ステージ３０を３つのＺ軸支持装置５２ａ〜５２ｃを用いて、３点支持する場合について説明したが、これはレチクル微動ステージ３０のＺ軸方向の位置制御のみならず、レベリング制御をも行うためにこのようにしたが、レベリング制御が不要な場合には、レチクル微動ステージ３０を単一のＺ軸支持装置によって支持することとしても良いことは勿論である。
【０１１６】
上記実施形態では、静圧軸受機構７０ｂ、静圧軸受機構１０１、１０２の全てが、噴出し溝又は該噴出し溝に相当する給気溝に加え、低真空の吸引溝と高真空の吸引溝とを有する場合について説明したが、これはレチクルステージチャンバＲＣ内部の高真空空間内への加圧気体の漏出を確実に防止する観点からこのようにしたものである。従って、多少の気体の漏出を許容できる場合には、低真空の吸引溝と高真空の吸引溝の一方又は両方を備えていなくても良い。
【０１１７】
また、上記実施形態では、供給装置が通気路１１８、配管１２８の他、バッファ部としての空気室１０８をも含んで構成されている場合について説明したが、これは気体室１０９内部の気体(空気)の圧力を大気圧程度に維持するためにこのようにしたものである。従って、気体室１０９内部の気体(空気)の圧力の変動を許容できる場合や、気体室１０９内部の気体(空気)の圧力の変動を防止する他の構成を採用する場合には、バッファ部（空気室１０８）は必ずしも設ける必要はない。気体室１０９内部の気体(空気)の圧力の変動を防止する他の構成としては、例えば配管１２８の通気路１１８とは反対側の端部をレギュレータ等の圧力調整機構を介して加圧気体の供給源に接続し、気体室１０９内部の気体の圧力を検出するセンサを設け、該センサの検出値に基づいてレギュレータを制御することで、気体室１０９内部の気体(空気)の圧力を所望の値に維持する構成などを採用できる。
【０１１８】
なお、上記実施形態では、レチクルステージＲＳＴのレチクル微動ステージ３０をレチクル粗動ステージ２８から吊り下げ支持するＺ軸支持装置を、物体の支持装置として備える場合について説明したが、ウエハステージＷＳＴ側に支持装置を設けても良い。すなわち、ウエハステージＷＳＴとして、２次元面内を移動するステージと、該ステージに対してＺ、θｘ、θｙ方向に微小駆動可能なウエハテーブルとを備える粗微動構造の、ウエハステージ装置を採用する場合には、ステージ上に、図６に示されるような支持装置としてのＺ軸支持装置５２’を３つ配置し、該３つのＺ軸支持装置５２’によってウエハテーブルＷＴＢを３点支持する構成を採用することができる。なお、図６中の符号ＳＴはステージを示す。
【０１１９】
この図６に示されるＺ軸支持装置５２’は、前述した図５のＺ軸支持装置５２ａを上下逆さまにするとともに、構成を一部変更したものである。
【０１２０】
このＺ軸支持装置５２’は、図５のＺ軸支持装置５２ａと異なり、気体室１０９’が、本体部材１７０の円形開口１７０ａを閉塞する蓋部材２０２と、スライダ７０ａの第１部分１７１ａと、本体部材１７０の円形開口１７０ａの内壁とにより形成（区画）され、該気体室１０９’に送られる大気圧の気体（空気）により、スライダ機構７０に対して＋Ｚ方向の力が付与されるようになっている。また、静圧軸受機構７０ｂに対する給気及び吸引が、静圧軸受機構１０１を介して行われる点が異なっている。
【０１２１】
その他の構成、すなわち、ウエハテーブル（ＷＴＢ）とスライダ機構７０の先端部材７０ｂとの間に所定間隔を維持する静圧軸受機構７０ｂ及び予圧機構７２（永久磁石７２とウエハテーブルＷＴＢ側に設けられた磁性体部材とから構成される）、スライダ７０ａと本体部材１７０の内壁との間に所定間隔を維持する静圧軸受機構１０１，１０２、空気室（バッファ部）１０８、及び永久磁石７８とコイル１７８とにより構成されるボイスコイルモータ等の構成は同様となっている。
【０１２２】
このようなＺ軸支持装置５２’を採用することにより、上記実施形態と同様に、ステージＳＴ上でウエハテーブルＷＴＢを非接触で支持することができるとともに、Ｚ軸支持装置５２’の発熱を効果的に抑制し、Ｚ軸支持装置５２’外部への気体の流出を抑制することが可能である。
【０１２３】
なお、上記実施形態では、静圧軸受機構７０ｂを用い、静圧軸受機構７０ｂによるレチクル微動ステージ３０に対する力に抗する予圧力を発生する予圧機構として、磁気力を用いた予圧機構７２（永久磁石７２とレチクル微動ステージ３０に設けられた磁性体部材とから構成される）を用いることとしたが、本発明がこれに限られるものではない。例えば、図７に示されるような予圧機構を用いることも可能である。
【０１２４】
図７の構成では、スライダ７０ａに代えて、下端部に大径部が存在せず、底面が球面状の凹面とされたスライダ７０ａ’が用いられるとともに、先端部材としてその上端面が前記凹面に係合する球面状の凸面とされ、縦断面がＴ字状の形状を有する先端部材７０ｂ’が用いられている。また、この図７の構成では、先端部材７０ｂ’を上方及び側方から取り囲むような延設部２０４がレチクル微動ステージ３０の上面に設けられている。なお、図７では、スライダ７０ａ’、先端部材７０ｂ’内部の供給管路、吸引管路等は図示が省略されている。
【０１２５】
先端部材７０ｂ’の先端部には、噴出し溝７４とは反対側の面（上面）にも、加圧気体を噴出する噴出し溝７４’、低真空にて高圧気体を吸引する第１の吸引溝７６ａ’、高真空にて高圧気体を吸引する第２の吸引溝７６ｂ’が設けられている。すなわち、これら溝７４’、７６ａ’７６ｂ’を含む差動排気型の気体静圧軸受機構を構成することで、この気体静圧軸受機構と延設部２０４との間のクリアランス内の加圧気体の静圧を、噴出し溝７４、第１の吸引溝７６ａ及び第２の吸引溝７６ｂを含む静圧軸受機構から物体（レチクル微動ステージ３０）に対して噴出される加圧気体の静圧による力に抗する予圧力として利用することができる。先端部材７０ｂ’と延設部２０４との間の加圧気体の静圧と、先端部材７０ｂ’とレチクル微動ステージ３０との間の加圧気体の静圧とをバランスさせることができる。
【０１２６】
なお、上記実施形態では、静圧軸受機構１０１、１０２として、本体部材１７０の一部に形成された溝を含む構成を採用したが、これに限らず、静圧軸受機構を本体部材１７０とは別の部材で構成し、その静圧軸受機構を本体部材１７０に取り付けても良い。
【０１２７】
また、上記実施形態では、本体部材１７０の２箇所に静圧軸受機構１０１、１０２を設けることとしたが、これに限らず、気体室１０９からの気体の流出のおそれが殆どないのであれば、静圧軸受機構１０１、１０２の少なくとも一方を設けなくても良い。
【０１２８】
なお、上記実施形態では、スライダ機構７０を本体部材１７０に対して駆動する駆動装置として、非接触の駆動装置であるボイスコイルモータを採用した場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、例えば、リニアモータや、ボールねじ方式の駆動装置など、スライダを直線的に駆動する駆動装置であれば、種々の駆動装置を採用することができる。
【０１２９】
また、上記実施形態及び変形例では、本発明の支持装置としてのＺ軸支持装置が露光装置を構成するステージ装置（レチクルステージ装置及びウエハステージ装置）に用いられた場合について説明したが、これに限らず、露光装置の他の部分や、その他の装置において、真空雰囲気中で所定の物体を支持する場合であれば種々の用途に用いることが可能である。
【０１３０】
なお、上記実施形態では、露光光としてＥＵＶ光を用い、４枚のミラーのみから成るオール反射の投影光学系を用いる場合について説明したが、これは一例であって、本発明がこれに限定されないことは勿論である。すなわち、例えば、６枚のミラーのみから成る投影光学系を備えた露光装置は勿論、光源に波長１００〜１６０ｎｍのＶＵＶ光源、例えばＡｒ2レーザ（波長１２６ｎｍ）を用い、４〜８枚のミラーを有する投影光学系などを用いることもできる。また、投影光学系としては、レンズのみから成る屈折系の投影光学系、レンズを一部に含む反射屈折系の投影光学系のいずれであっても良い。
【０１３１】
なお、上記実施形態では、露光光として波長１１ｎｍのＥＵＶ光を用いる場合について説明したが、これに限らず、露光光として波長１３ｎｍのＥＵＶ光を用いても良い。この場合には、波長１３ｎｍのＥＵＶ光に対して約７０％の反射率を確保するため、各ミラーの反射膜としてモリブデンＭｏとケイ素Ｓｉを交互に積層した多層膜を用いる必要がある。
【０１３２】
また、上記実施形態では、露光光源としてＳＯＲ（Synchrotron Orbital Radiation）を用いるものとしたが、これに限らず、レーザ励起プラズマ光源、ベータトロン光源、ディスチャージド光源、Ｘ線レーザなどのいずれを用いても良い。
【産業上の利用可能性】
【０１３３】
以上説明したように、本発明の支持装置は、真空雰囲気中で物体を支持するのに適している。本発明のステージ装置は物体を移動面内で所定方向に移動するのに適している。また、本発明の露光装置は、基板を露光してパターンを形成するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【０１３４】
【図１】一実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】レチクルステージ装置の縦断面図である。
【図３】レチクルステージチャンバの内部に収容されたレチクルステージ装置の構成部分を示す平面図である。
【図４】レチクルステージを示す斜視図である。
【図５】Ｚ軸支持装置を示す縦断面図である。
【図６】Ｚ軸支持装置の変形例を示す図である。
【図７】予圧機構の他の例を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１３５】
１０…露光装置、１２…レチクルステージ装置（ステージ装置）、３０…レチクル微動ステージ（物体）、５２ａ〜５２ｃ…Ｚ軸支持装置（支持装置）、７０…スライダ機構、７０ａ…スライダ、７０ｂ…第１の静圧軸受機構、７２…永久磁石（予圧機構）、７４…噴出し溝（噴出し部）、７６ａ…第１の吸引溝（第１の回収部）、７６ｂ…第２の吸引溝（第２の回収部）、７８…永久磁石（非接触型の駆動装置の一部）、１０１…静圧軸受機構（第２の静圧軸受機構）、１０２…静圧軸受機構（第２の静圧軸受機構）、１０８…空気室（バッファ部、供給装置の一部）、１０９…気体室、１１８…通気路（供給装置の一部）、１１４…給気溝（噴出し部）、１１６ａ1，１１６ａ2…低真空吸引溝（第１の回収部）、１１６ｂ…高真空吸引溝（第２の回収部）、１２８…配管（供給装置の一部）、１７０…本体部材（筒状部材）、１７８…コイル（非接触型の駆動装置の一部）、１８０…液体室（温度調節機構の一部）、１９０ａ…液体供給管路（温度調節機構の一部）、１９０ｂ…液体回収管路（温度調節機構の一部）、ＲＳＴ…レチクルステージ（ステージ）、ＲＭａ…リニアモータ（駆動装置）、ＲＭｂ…リニアモータ（駆動装置）、Ｗ…ウエハ（基板）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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