(57)【要約】【課題】  耐衝撃性に優れ、割れや気泡噛み等の損傷を抑制できる衝撃吸収積層構造体及び該衝撃吸収積層構造体を備えるディスプレイ装置を提供する。【解決手段】  本発明の衝撃吸収積層構造体Ａは、溶融成形アルミノケイ酸薄板ガラスである基層４と、基層４の衝撃面側表面に積層されたエラストマーからなる衝撃吸収層１と、該衝撃吸収層１の衝撃面側表面に積層されたアクリル樹脂からなる衝撃層３を有し、上記衝撃吸収層１と上記衝撃層３とは、放射線硬化型接着剤を硬化させて形成され、弾性率が１ＭＰａ以上である接着層２により接着されている。【選択図】  図１
2006150755.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側に設けられている衝撃層と、を有し、上記衝撃吸収層及び上記衝撃層の間に、放射線硬化型接着剤を硬化させて形成される接着層を有することを特徴とする衝撃吸収積層構造体。
【請求項２】
上記衝撃吸収層及び上記衝撃層は、上記接着層により接着されている請求項１記載の衝撃吸収積層構造体。
【請求項３】
上記放射線硬化型接着剤は、水酸基を含有するエポキシ（メタ）アクリレート及びウレタン（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含有する放射線硬化型接着剤である請求項１又は２記載の衝撃吸収積層構造体。
【請求項４】
上記放射線硬化型接着剤は、下記式（１）で表される化合物を含有する放射線硬化型接着剤である請求項１又は２記載の衝撃吸収積層構造体。
【化１】
2006150755.tif 000014
［式（１）において、Ｘはアクリロイル基、グリシジル基、メルカプト基又はハロゲン基であり、Ｒ１は２価の有機基であり、Ｒ２は炭化水素基である。］
【請求項５】
２５℃における全光線透過率が９０％以上である請求項１乃至４のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体。
【請求項６】
上記接着層の弾性率が１ＭＰａ以上である請求項１乃至５のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体。
【請求項７】
上記接着層の弾性率が、上記衝撃吸収層の弾性率よりも大きい請求項１乃至６のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体。
【請求項８】
上記衝撃吸収層は、極性基変性オレフィン系共重合体と、金属イオン及び／又は金属化合物と、よりなるエラストマー層を少なくとも１層有する請求項１乃至７のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体。
【請求項９】
上記極性基変性オレフィン系共重合体は、極性基変性エチレン・α−オレフィン系共重合体及び極性基変性エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体から選ばれる少なくとも１種である請求項８記載の衝撃吸収積層構造体。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とするＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体、又は請求項１０記載のＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とするディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、衝撃吸収積層構造体、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）、プラズマディスプレイ、有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）ディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体、及び該衝撃吸収積層構造体を有するディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルに代表される平面状ディスプレイパネルを構成するガラス板等の基層は、薄く且つ無アクリルガラスを使用する必要がある。そして、当該基層は、あまり粘弾性がなく、押さえつけたり、あるいはぶつけたりすることで容易に破損することが知られている。そのため、従来、携帯電話等で平面状ディスプレイパネルを用いる場合、そのパネルを保護するために、ポリカーボネート製又はアクリル製の透明樹脂層を使用していた。また、ディスプレイパネルの保護に関し、下記特許文献１及び２には、樹脂フィルムの一方の面に粘着剤等を設け、ディスプレイパネルの表面に貼付するディスプレイパネル保護シートが開示されている。
【０００３】
一方、エラストマーフィルムを構成するエラストマーとして、従来より、オレフィン系熱可塑性エラストマーが知られている。かかるオレフィン系熱可塑性エラストマーとしては、オレフィン系樹脂とオレフィン系共重合ゴムとを混合してなる熱可塑性エラストマー、オレフィン系樹脂とオレフィン系共重合ゴムとを、架橋剤によって部分的に架橋させてなる熱可塑性エラストマー等が知られている。例えば、下記特許文献３には、エチレン、炭素数が３〜１０のα−オレフィン、官能基を有する不飽和単量体、及び必要に応じて非共役ジエンが共重合されてなるオレフィン系ランダム共重合体と、このオレフィン系ランダム共重合体を架橋する金属イオンとよりなることを特徴とするオレフィン系熱可塑性エラストマーが開示されている。かかるオレフィン系熱可塑性エラストマーは、従来のオレフィン系熱可塑性エラストマーと同様のゴム弾性、柔軟性及び成形加工性を有し、しかも、機械的特性及び耐摩耗性が良好で、特に耐傷付性に優れるという作用効果を有する。
【０００４】
また、下記特許文献４には、特定の水添ブロック共重合体と、パラフィン系プロセスオイル等の液状添加剤とを特定の割合で含有する軟質組成物が開示されている。そして、かかる軟質組成物は、柔軟性、低分子保持性、力学的性質、ホットメルト粘・接着性及び液体保持性に優れていることが記載されている。更に、下記特許文献５には、特定の熱可塑性ブロック共重合体よりなる三次元連続網目骨格間に、パラフィン油等の低分子材料が保持されており、クッション材料等に用いられる高分子網状構造体が開示されている。更に、下記特許文献６には、下記特許文献５に開示されている高分子網状構造体と、ゴム材料とを混合してなるゴム組成物が開示されている。かかるゴム組成物は、低分子材料が均一に分散し、且つ該低分子材料を良好に保持して低分子材料のブリードが少ない低弾性のゴム組成物であることが開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開平４−０３０１２０号公報
【特許文献２】特開２０００−５６６９４号公報
【特許文献３】特開２００３−８２０２３号公報
【特許文献４】特開平９−２６３６７８号公報
【特許文献５】特開平８−１２７６９８号公報
【特許文献６】特開平８−１２７６９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記特許文献１に示すようなディスプレイパネル保護シートは、梱包状態の輸送時の保護や、据置型ディスプレイの保護用が主な用途であり、携帯電話等用ディスプレイパネルの保護のために作られたものではない。また、上記特許文献２のディスプレイパネル用保護シートは、衝撃や引っ掻き等の保護をすることができるが、落下して床に衝突することによる衝撃、尻ポケットに該装置を入れて座ったり、押さえ付けられたり等の携帯時の負荷に対しては言及されていない。
【０００７】
更に、ディスプレイパネルを保護するために、ポリカーボネート製又はアクリル製の透明樹脂層を使用する場合、かかる透明樹脂層を設けても、透明樹脂層と液晶パネルの基層との間に空隙を設けないと、衝撃や負荷による透明樹脂層の変形が基層に伝わり、基層が破損してしまうことがあった。一方で、このような空隙を設けると、空隙と透明樹脂層との間や、空隙と基層との間で光が反射し二重映り等を起こし、見にくくなることがあった。また、透明樹脂層と基層との空隙に破壊強度の低い衝撃吸収層を設けた場合、衝撃を受けた際に、基層の破損が生じなくても、ディスプレイパネルに気泡噛み（衝撃が加わることにより、衝撃吸収層中又は層間に気泡が生じること。）が生じることがある。このような気泡噛みが生じると、やはり視認性や商品性が低下することから、このような気泡噛みの発生も防ぐ必要がある。しかも、携帯電話等、携行する製品用途では、ディスプレイパネルはできるだけ薄くできることが好ましい。
【０００８】
かかる観点から、単に基層の損傷を防ぐだけでなく、気泡噛みをも防止することができ、しかも、保護板自体の厚さを薄くすることができる手段が望まれている。かかる実情に鑑み、基層の押さえ付けや衝突等に由来する破損及び気泡噛みを防ぐことができる衝撃吸収層を設けることが検討されている。そして、かかる衝撃吸収層として利用できる衝撃吸収体の開発が検討されている。
【０００９】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、耐衝撃性に優れ、割れや気泡噛み等の損傷を抑制することで、厚さをより薄くすることができる衝撃吸収積層構造体及びＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体、並びに該衝撃吸収積層構造体を有するディスプレイ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は以下の通りである。
〔１〕衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側に設けられている衝撃層と、を有し、上記衝撃吸収層及び上記衝撃層の間に、放射線硬化型接着剤を硬化させて形成される接着層を有することを特徴とする衝撃吸収積層構造体。
〔２〕上記衝撃吸収層及び上記衝撃層は、上記接着層により接着されている請求項１記載の衝撃吸収積層構造体。
〔３〕上記放射線硬化型接着剤は、水酸基を含有するエポキシ（メタ）アクリレート及びウレタン（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含有する放射線硬化型接着剤である上記〔１〕又は〔２〕記載の衝撃吸収積層構造体。
〔４〕上記放射線硬化型接着剤は、下記式（１）で表される化合物を含有する放射線硬化型接着剤である上記〔１〕又は〔２〕記載の衝撃吸収積層構造体。
【化１】
2006150755.tif 000003
［式（１）において、Ｘはアクリロイル基、グリシジル基、メルカプト基又はハロゲン基であり、Ｒ１は２価の有機基であり、Ｒ２は炭化水素基である。］
〔５〕２５℃における全光線透過率が９０％以上である上記〔１〕乃至〔４〕のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体。
〔６〕上記接着層の弾性率が１ＭＰａ以上である上記〔１〕乃至〔５〕のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体。
〔７〕上記接着層の弾性率が、上記衝撃吸収層の弾性率よりも大きい上記〔１〕乃至〔６〕のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体。
〔８〕上記衝撃吸収層は、極性基変性オレフィン系共重合体と、金属イオン及び／又は金属化合物と、よりなるエラストマー層を少なくとも１層有する上記〔１〕乃至〔７〕のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体。
〔９〕上記極性基変性オレフィン系共重合体は、極性基変性エチレン・α−オレフィン系共重合体及び極性基変性エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体から選ばれる少なくとも１種である上記〔８〕記載の衝撃吸収積層構造体。
〔１０〕上記〔１〕乃至〔９〕のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とするＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体。
〔１１〕上記〔１〕乃至〔９〕のいずれかに記載の衝撃吸収積層構造体、又は上記〔８〕記載のＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とするディスプレイ装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の衝撃吸収積層構造体は、上記構成を備えることにより、優れた耐衝撃性を奏する。よって、従来よりも薄い厚さで、衝撃等による基層の割れや気泡噛み等を防止することができる。また、従来のように保護板パネルを設け、保護板パネルと基層との間に空隙を設ける必要がなくなるため、筐体等の設計の自由度を高めることができる。
本発明の衝撃吸収積層構造体において、上記衝撃吸収層及び上記衝撃層を上記接着層により接着されている構成とすると、より優れた耐衝撃性を奏する。
本発明の衝撃吸収積層構造体において、上記放射線硬化型接着剤を特定の種類の放射線硬化型接着剤とすると、容易に上記接着層を形成することができる。
本発明の衝撃吸収積層構造体において、２５℃における全光線透過率を９０％以上とすると、視認性に優れ、ディスプレイ用に好適に使用できる。
本発明の衝撃吸収積層構造体において、上記接着層の弾性率を１ＭＰａ以上とすると、耐衝撃性を更に向上させることができる。
本発明の衝撃吸収積層構造体において、上記接着層の弾性率を上記衝撃層の弾性率よりも大きい構成とすると、耐衝撃性を更に向上させることができる。
本発明の衝撃吸収積層構造体において、上記衝撃吸収層を、極性基変性オレフィン系共重合体と、金属イオン及び／又は金属化合物と、よりなるエラストマー層を少なくとも１層有する衝撃吸収層とすると、耐衝撃性を更に向上させることができる。特に、上記極性基変性オレフィン系共重合体を、極性基変性エチレン・α−オレフィン系共重合体及び極性基変性エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体から選ばれる少なくとも１種とすると、耐衝撃性を更に向上させることができる。
本発明のＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体は、上記構成を備えることにより、ＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用の衝撃吸収構造体として好適に使用することができる。
本発明のディスプレイ装置は、上記構成を備えることにより、従来よりも薄い厚さで、衝撃等による基層の割れや気泡噛み等を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を詳しく説明する。
（１）衝撃吸収積層構造体
本発明の衝撃吸収積層構造体の一例を図１に示す。
本発明の衝撃吸収積層構造体Ａは、衝撃吸収層１と、該衝撃吸収層１の衝撃面１’側に設けられている衝撃層３と、を有し、上記衝撃吸収層１及び上記衝撃層３は、上記式（１）で表される化合物を含有する接着剤を硬化させて形成される接着層２により接着されている。尚、本発明において、「衝撃面」とは、衝撃が加わる側の面であり、「対衝撃面」とは、上記「衝撃面」とは反対側の面をいう。図１では、衝撃吸収積層構造体Ａの上面が「衝撃面」１’であり、下面が「対衝撃面」１’’である。
【００１３】
（Ａ）衝撃層
上記衝撃層の材質・形状・構造は、特に限定はない。例えば、上記衝撃層は単層構造でもよく、同一又は異なる材質、物性を有する２層以上の層で構成される多層構造でもよい。また、上記衝撃層は、シート状でもよく、フィルム状でもよい。更に、上記衝撃層の厚さは、通常は３．０ｍｍ以下、好ましくは２．０ｍｍ以下、更に好ましくは１．０ｍｍ以下、より好ましくは０．７ｍｍ以下とすることができる。また、本発明の衝撃吸収積層構造体は電子・電気機器等のディスプレイパネルに用いることができる。そのため、上記衝撃層は、ディスプレイパネルの表示内容の視認性の観点から、透明であることが好ましい。具体的には、例えば、２５℃（特には、２５℃、０．５ｍｍ厚の条件）で全光線透過率を９０％以上、好ましくは９１％以上、更に好ましくは９２％以上とすることができる。
【００１４】
また、上記衝撃層を構成する部材の材質にも特に限定はない。本発明の衝撃吸収積層構造体は、電子・電気機器等のディスプレイパネル（例えば、ＬＣＤパネル、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、有機ＥＬディスプレイパネル、フィールドエミッションディスプレイパネル又は電子ペーパーディスプレイパネル等）に好適に使用できる。特に携帯電話等用ディスプレイパネル等では、尻ポケットに該装置を入れて座る等により、ディスプレイパネルへ負荷がかかるおそれもある。よって、上記衝撃層を構成する部材は、かかる負荷に耐え得る可とう性を有する部材であることが好ましい。
【００１５】
上記衝撃層を構成する部材としては、例えば、各種樹脂（特には透明樹脂）及び機能性部材等が挙げられる。上記機能性部材として具体的には、例えば、紫外線カット板、偏光板（偏光板を構成する各種フィルム等も含む）、アレイ基板、カラーフィルタ、視野角拡大フィルム、アンチリフレクションフィルム、アンチグレアフィルム、透明導電膜、位相差フィルム、電磁波吸収フィルム、赤外線吸収フィルム、及びタッチパネル用フィルム等が挙げられる。
【００１６】
また、上記透明樹脂として具体的には、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系樹脂、１，２−ポリブタジエン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、環状オレフィン共重合体、変性ノルボルネン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、脂環式アクリル樹脂、ポリシクロヘキシルエチレン等の非晶性ポリオレフィン、非晶性フッ素樹脂、ポリスチレン系樹脂、透明ＡＢＳ樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、非晶性コポリエステル、ポリアリレート、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、セルロースアセテート、アリルジグリコールカーボネート樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ、通常、３質量％以上の酢酸ビニル単位を含有する。）、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ビニルエステル系樹脂（ＥＶＡを除く。）、非晶性ポリアミド系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂並びにケイ素系樹脂等が挙げられる。これらのうち、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂等の樹脂が好ましい。
【００１７】
（Ｂ）衝撃吸収層
上記衝撃吸収層は、上記衝撃面に加わった衝撃を吸収・緩和することができる限り、その材質・形状・構造に特に限定はない。例えば、上記衝撃吸収層は、通常シート状、フィルム状等の固形状物であるが、その他、ゲル状物でもよく、あるいは封止した液状物でもよい。また、上記衝撃吸収層は単層構造でもよく、同一又は異なる材質、物性を有する２層以上の層で構成される多層構造でもよい。多層構造の上記衝撃吸収層としては、例えば弾性率の異なる２以上の層を積層してなる衝撃吸収層が挙げられる。上記弾性率とは、ＪＩＳ  Ｋ７１６２に準拠して測定した引張弾性率の値である。
【００１８】
上記衝撃吸収層の厚さは、通常は３．０ｍｍ以下、好ましくは２．０ｍｍ以下、更に好ましくは１．０ｍｍ以下、より好ましくは０．７ｍｍ以下とすることができる。この厚さは、上記衝撃吸収層が多層構造の場合、各衝撃吸収層が上記範囲内であってもよく、あるいは全衝撃吸収層の厚さの合計が上記範囲内であってもよい。また、上記衝撃吸収層が多層構造の場合、各層の厚さは同じであってもよく、異なっていてもよい。例えば、弾性率の大小に関わらず各層の厚みを同一としたり、又は弾性率の高い層ほど薄く、弾性率の低い層ほど厚くすることができる。衝撃吸収の観点から、弾性率の低い層ほど厚くすることが好ましい。具体的には、低弾性率層の厚さと高弾性率層の厚さの比（低弾性率層の厚さ／高弾性率層の厚さの比）を１を超え１０以下、好ましくは１．５〜７、更に好ましくは２〜５とすることができる。より具体的には、例えば、図２（Ａ）に示す２層構造の場合、低弾性率層１１と高弾性率層１２との厚さの比（低弾性率層１１の厚さ／高弾性率層１２の厚さ）を上記範囲とすることができる。
【００１９】
上記衝撃吸収層の透明度についても特に限定はない。即ち、本発明の衝撃吸収積層構造体は、ディスプレイパネル等の表示部材以外の用途にも適用できることから、不透明でもよいが、ディスプレイパネル等の表示部材に用いる場合には、透明であることが望ましい。具体的には、２５℃（特に２５℃、０．５ｍｍ厚の条件）で全光線透過率が９０％以上、特に９１％以上、更には９２％以上であることが好ましい。また、上記衝撃吸収層は、広い温度範囲で優れた透明性を有するものとすることができる。具体的には、上記衝撃吸収層は、−１００〜９０℃、好ましくは−５０〜９０℃、更に好ましくは−４０〜９０℃で透明（肉厚０．５ｍｍにおける全光線透過率が９０％以上、好ましくは９１％以上、更に好ましくは９２％以上）を維持することができる。尚、上記全光線透過率は、実施例記載の方法により測定した値を示す。更に、上記衝撃吸収層が２以上の多層構造である場合、上記衝撃吸収層を構成する各層の屈折率をほぼ同程度（通常は±１０％以内、好ましくは±５％以内、更に好ましくは±３％以内）とすると、ディスプレイパネルの視認性を向上させることができるので好ましい。
【００２０】
上記衝撃吸収層の材質としては、例えば、エラストマー（油展ゴムを含む）でもよく、樹脂でもよいが、特にエラストマーが好ましい。
【００２１】
上記エラストマーとしては、例えば、共役ジエンのブロック（共）重合体、共役ジエンと芳香族ビニル化合物とのブロック共重合体、共役ジエンのブロック（共）重合体の水素添加物、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体の水素添加物、エチレン・α−オレフィン系共重合体、エチレン・ビニルアセテート共重合体及びそのケン化物、極性基変性オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体と金属イオン及び／又は金属化合物とよりなるエラストマー、アクロルニトリル−ブタジエン系ゴム等のニトリル系ゴム、ブチルゴム、アクリル系ゴム、熱可塑性ポリオレフィンエラストマー（ＴＰＯ）、熱可塑性ポリウレタンエラストマー（ＴＰＵ）、熱可塑性ポリエステルエラストマー（ＴＰＥＥ）、ポリアミドエラストマー（ＴＰＡＥ）、ジエン系エラストマー（１，２−ポリブタジエン等）などの熱可塑性エラストマー、シリコーン系エラストマー、フッ素系エラストマー等を挙げることができる。
【００２２】
上記共役ジエンとしては、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン、４，５−ジエチル−１，３−オクタジエン、クロロプレン等が挙げられる。これらのうち、１，３−ブタジエン、イソプレン及び１，３−ペンタジエンが好ましく、特に１，３−ブタジエン及びイソプレンが好ましい。尚、上記例示した化合物は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。この共役ジエンを用いてなるブロック（共）重合体としては、ブタジエンブロック共重合体、ブタジエン−イソプレン−ブタジエンブロック共重合体等が挙げられる。
【００２３】
上記芳香族ビニル化合物としては、スチレン、ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、α−クロロスチレン、ｐ−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノスチレン等が挙げられる。上記例示した化合物は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。この芳香族ビニル化合物と共役ジエンとを用いてなるブロック共重合体としては、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体等が挙げられる。
【００２４】
また、上記エラストマーとしては、共役ジエンのブロック（共）重合体の水素添加物、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体の水素添加物でもよい。前者の場合は、ブロック共重合体として、以下のブロック重合体の水素添加物を用いることが好ましい。即ち、この水素添加物とするためのブロック重合体としては、ビニル結合含量が２５％未満であるブタジエン重合体ブロック（Ｉ）と、共役ジエン単位（ａ１）及び他の単量体単位（ａ２）の質量割合［（ａ１）／（ａ２）］が（１００〜５０）／（０〜５０）であり、ビニル結合含量が２５〜９５％である重合体ブロック（ＩＩ）とを、それぞれ分子中に少なくとも１つ有するジエン系ブロック重合体（以下、「重合体（Ｐ）」という。）が好ましい。
【００２５】
上記ブタジエン重合体ブロック（Ｉ）において、ビニル結合（１，２−結合）の含量は、好ましくは２５％未満、より好ましくは５〜２０％、更に好ましくは７〜１９％である。従って、上記ブタジエン重合体ブロック（Ｉ）は、水素添加によりエチレン・ブテン共重合体に類似した構造を示す結晶性のブロックとなる。ビニル結合含量を上記範囲とすることにより、成形体の力学的性質及び形状保持性を向上させることができる。
【００２６】
また、上記重合体ブロック（ＩＩ）は、共役ジエン単位のみからなるブロックであってもよいし、共役ジエン単位（ａ１）と他の単量体単位（ａ２）とからなるブロックであってもよい。共役ジエン単位（ａ１）及び他の単量体単位（ａ２）の質量割合［（ａ１）／（ａ２）］は、好ましくは（１００〜５０）／（０〜５０）であり、より好ましくは（１００〜７０）／（０〜３０）、更に好ましくは（１００〜９０）／（０〜１０）である。このような範囲とすることにより、粘弾性に優れた成形体を得ることができる。尚、上記重合体ブロック（ＩＩ）において、ビニル結合（１，２−結合及び３，４−結合）の含量は、好ましくは２５〜９５％であり、より好ましくは２５〜９０％、更に好ましくは３０〜８５％である。
【００２７】
従って、上記重合体（Ｐ）としては、ブタジエン重合体ブロック（Ｉ）を「Ａ１」、重合体ブロック（ＩＩ）を「Ｂ１」とした場合、（Ａ１−Ｂ１）ｍ１、（Ａ１−Ｂ１）ｍ２−Ａ１、（Ｂ１−Ａ１）ｍ３−Ｂ１等で表されるものを用いることができる。各一般式において、ｍ１〜ｍ３は１以上の整数を示す。また、上記重合体（Ｐ）は、トリブロック以上のブロックを有する共重合体であると、水素添加物とした場合に、更に形状保持性及び力学的性質により優れる成形体を得ることができる。従って、上記一般式において、ｍ１は、２以上の整数であることが好ましい。
【００２８】
尚、上記重合体（Ｐ）は、上記ブタジエン重合体ブロック（Ｉ）及び上記重合体ブロック（ＩＩ）をそれぞれ分子中に少なくとも１つ有していればよく、これら以外に、他のブロック、例えば、共役ジエン単位以外の他の単量体単位からなるブロックを有する重合体であってもよい。
【００２９】
上記重合体（Ｐ）を構成する上記ブタジエン重合体ブロック（Ｉ）及び上記重合体ブロック（ＩＩ）の含有割合［（Ｉ）／（ＩＩ）］は、好ましくは（５〜６０）／（９５〜４０）、より好ましくは（７〜６０）／（９３〜４０）、更に好ましくは（８〜５０）／（９２〜５０）である。上記各ブロックの含有割合を上記範囲とすることにより、水素添加物とした場合に、形状保持性及び力学的性質に特に優れた成形体を得ることができる。
【００３０】
上記共役ジエンと芳香族ビニル化合物とのブロック共重合体（以下、「ジエン系重合体（Ｑ）という。）としては、共役ジエン単位（ｂ１）及び芳香族ビニル化合物（ｂ２）の質量割合［（ｂ１）／（ｂ２）］が（９９〜５０）／（１〜５０）であり、ビニル結合含量が６５〜９５％である重合体ブロックを、分子中に少なくとも１つ有するジエン系重合体が好ましい。このようなジエン系重合体を用いると、粘弾性に優れた成形体を得ることができる。
【００３１】
また、上記ジエン系重合体（Ｑ）は、芳香族ビニル化合物からなる重合体ブロックを少なくとも２つ有する共重合体であると、水素化物とした場合に、形状保持性及び力学的性質により優れる成形体を得ることができる。
【００３２】
上記ジエン系重合体（Ｑ）において、芳香族ビニル化合物からなる重合体ブロック（Ｉ）と、共役ジエンと芳香族ビニル化合物とからなる重合体ブロック（ＩＩ）との含有割合［（Ｉ）／（ＩＩ）］は、好ましくは（１〜４０）／（９９〜６０）、より好ましくは（３〜３０）／（９７〜７０）、更に好ましくは（５〜２０）／（９５〜８０）である。上記各ブロックの含有割合を上記範囲とすることにより、水素化物とした場合に、形状保持性及び力学的性質に特に優れた成形体を得ることができる。従って、上記ジエン系重合体（Ｑ）としては、重合体ブロック（Ｉ）を「Ａ１」、重合体ブロック（ＩＩ）を「Ｂ１」とした場合、Ｂ１、（Ａ１−Ｂ１）ｍ１、（Ａ１−Ｂ１）ｍ２−Ａ１、（Ｂ１−Ａ１）ｍ３−Ｂ１等で表されるものを用いることができる。各一般式において、ｍ１〜ｍ３は１以上の整数を示す。
【００３３】
尚、上記重合体（Ｐ）及び上記ジエン系重合体（Ｑ）においても、（Ａ１−Ｂ１）ｎＸ、（Ｂ１−Ａ１）ｎＸ、（Ａ１−Ｂ１−Ａ１）ｎＸ、（Ｂ１−Ａ１−Ｂ１）ｎＸ等のように、カップリング剤残基Ｘを介して重合体分子鎖が延長又は分岐されたものでもよい。各一般式において、ｎは２以上の整数を示す。また、上記各一般式において、ｎが３以上のとき、水素添加物とした場合に、形状保持性、ホットメルト粘・接着性に優れた成形体を得ることができる。上記カップリング剤としては、１，２−ジブロモエタン、メチルジクロロシラン、トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、ジビニルベンゼン、アジピン酸ジエチル、アジピン酸ジオクチル、ベンゼン−１，２，４−トリイソシアナート、トリレンジイソシアナート、エポキシ化１，２−ポリブタジエン、エポキシ化アマニ油、テトラクロロゲルマニウム、テトラクロロスズ、ブチルトリクロロスズ、ブチルトリクロロシラン、ジメチルクロロシラン、１，４−クロロメチルベンゼン、ビス（トリクロロシリル）エタン等が挙げられる。
【００３４】
上記重合体（Ｐ）及び上記ジエン系重合体（Ｑ）の水素添加は、ブロック中のオレフィン性不飽和結合に対して行い、水添率を、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、特に好ましくは９０％以上と高くすることで、得られる水素添加物により成形体とした場合の形状保持性及び力学的性質を向上させることができる。尚、上記重合体（Ｐ）及び上記ジエン系重合体（Ｑ）の水素化は、例えば、特開平２−１３３４０６号公報、特開平３−１２８９５７号公報、特開平５−１７０８４４号公報等に開示される方法等によって行うことができる。
【００３５】
上記エチレン・α−オレフィン共重合体としては、エチレンと、以下に例示するα−オレフィンとの共重合体であれば特に限定されず、エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体等であってもよい。但し、上記エチレン・α−オレフィン共重合体及びエチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体におけるα−オレフィンは、エチレンを除くα−オレフィンであるものとする。このα−オレフィンとしては、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、１−オクテン、１−デセン、１−ウンデセン等が挙げられ、炭素数が３〜１２であるα−オレフィンが好ましく、特に、プロピレン及び１−ブテンが好ましい。尚、上記例示したα−オレフィンは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３６】
上記エチレン・α−オレフィン共重合体としては、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・１−ブテン共重合体、エチレン・１−ペンテン共重合体、エチレン・３−メチル−１−ブテン共重合体、エチレン・１−ヘキセン共重合体、エチレン・３−メチル−１−ペンテン共重合体、エチレン・４−メチル−１−ペンテン共重合体、エチレン・３−エチル−１−ペンテン共重合体、エチレン・１−オクテン共重合体、エチレン・１−デセン共重合体、エチレン・１−ウンデセン共重合体等が挙げられる。これらのうち、エチレン・プロピレン共重合体及びエチレン・１−ブテン共重合体が好ましい。尚、上記例示したエチレン・α−オレフィン共重合体は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３７】
また、エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体とする場合の上記非共役ジエンとしては、１，４−ペンタジエン、１，４−ヘキサジエン、１，５−ヘキサジエン、１，７−オクタジエン、１，９−デカジエン、３，６−ジメチル−１，７−オクタジエン、４，５−ジメチル−１，７−オクタジエン、５−メチル−１，８−ノナジエン、ジシクロペンタジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−ビニル−２−ノルボルネン、２，５−ノルボルナジエン等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３８】
上記エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体としては、エチレン・プロピレン・ジシクロペンタジエン共重合体、エチレン・プロピレン・５−エチリデン−２−ノルボルネン共重合体、エチレン・１−ブテン・ジシクロペンタジエン共重合体、エチレン・１−ブテン・５−エチリデン−２−ノルボルネン共重合体等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３９】
上記例示したエチレン・α−オレフィン共重合体及びエチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体は、それぞれ１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４０】
尚、上記エチレン・α−オレフィン共重合体及び上記エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体は、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、アルコキシシリル基、スルホン酸基、ニトリル基等の極性基を有する極性基変性オレフィン系共重合体であってもよい。即ち、この極性基変性オレフィン系共重合体は、重合体中に、極性基含有単量体（極性基を有する共重合性単量体）からなる単量体単位を含有する重合体である。
【００４１】
上記極性基含有単量体としては、上記官能基を少なくとも１種有する不飽和化合物が好ましい。このような不飽和化合物は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。また、部分架橋共重合体は、これらの単量体に多官能性不飽和結合含有単量体を共重合して得られるが、この多官能性不飽和結合含有単量体としては、多価アリル化合物、多価（メタ）アクリレート化合物、ジビニル化合物、ビスマレイミド化合物、ジオキシム化合物などが挙げられる。
【００４２】
上記極性基含有単量体の使用量は、極性基変性オレフィン系共重合体中の単量体単位を１００モル％とした場合に、好ましくは０．０１〜２０モル％、より好ましくは０．１〜１０モル％である。この使用割合を０．０１モル％以上とすると、得られる成形体の架橋密度を高くすることができ、その結果、成形体の機械的強度及び耐熱性を向上させることができるので好ましい。一方、この使用割合を２０モル％以下とすると、架橋密度が高くなり過ぎることにより、硬度が高すぎて脆い成形体となることを抑制することができるので好ましい。
【００４３】
カルボキシル基を有する不飽和化合物としては、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸、下記式（２）で表される環式化合物等を用いることができる。
【化２】
2006150755.tif 000004
（上記式（２）において、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又は−ＣＯＯＨであり、Ｙ１、Ｙ２及びＹ３のうち少なくとも１つは−ＣＯＯＨであり、また、Ｙ１、Ｙ２及びＹ３のうち２つ以上が−ＣＯＯＨである場合は、それらは互いに連結して形成された酸無水物（−ＣＯ−（Ｏ）−ＣＯ−）であってもよい。ｏは０〜２の整数であり、ｐは０〜５の整数である。）
【００４４】
上記環式化合物として具体的には、例えば、５，６−ジメチル−５，６−ジカルボキシ−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５，６−ジエチル−５，６−ジカルボキシ−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５，６−ジメチル−５，６−ビス（カルボキシ）−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５，６−ジエチル−５，６−ビス（カルボキシ）−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５−メチル−５−カルボキシ−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５−エチル−５−カルボキシ−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５−カルボキシ−５−カルボキシメチル−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５−メチル−５−カルボキシ−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５−エチル−５−カルボキシ−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、８，９−ジメチル−８，９−ジカルボキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、８，９−ジエチル−８，９−ジカルボキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、８−メチル−８−カルボキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、８−エチル−８−カルボキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４５】
上記式（２）で表される化合物を用いる場合、その使用量は、全単量体に対して、好ましくは０．０１〜５モル％、より好ましくは０．０１〜４モル％である。また、上記式（２）で表される化合物を共重合させたエチレン・α−オレフィン共重合体又はエチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体は、ランダム共重合体であることが好ましい。また、共重合により得られたランダム共重合体の、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗは、好ましくは１，０００〜３，０００，０００、より好ましくは３，０００〜１，０００，０００、更に好ましくは５，０００〜７００，０００である。
【００４６】
また、上記式（２）で表される環式化合物を用いて得られた共重合体に例示される上記極性基変性オレフィン系共重合体に化学的架橋構造又はそれと類似した拘束点を有する構造を形成させる場合には、金属イオン、金属化合物等を用いることができる。この金属イオンは、以下に例示する元素のイオン及びこの元素を含む金属化合物のイオンも意味する。この金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、セシウム、ストロンチウム、ルビジウム、チタン、亜鉛、銅、鉄、錫、鉛、ジルコニウム等周期表第１Ａ〜５Ｂ族の元素等が挙げられる。これらの元素を含むイオンは、上記で得られたランダム共重合体中の官能基に対するイオン結合あるいは静電的な結合により共重合体どうしの間に架橋構造を形成することもできる。尚、上記金属化合物のイオンとするための物質としては、各金属の酸化物、水酸化物、塩、錯体、金属元素を含む有機化合物等が挙げられる。
【００４７】
上記金属化合物として具体的には、例えば、ＣｕＯ、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、Ｆｅ２Ｏ３、ＳｎＯ、ＣａＯ、ＴｉＯ２等の金属酸化物、ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃｕ（ＯＨ）２、Ｃｕ２Ｏ（ＯＨ）２、Ｍｇ（ＯＨ）２、Ｍｇ２Ｏ（ＯＨ）２、Ｂａ（ＯＨ）２、Ｚｎ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２、Ｃａ（ＯＨ）２等の金属水酸化物等が挙げられる。
【００４８】
また、金属元素を含む有機化合物は、有機基を有する金属化合物であればよく、金属−炭素結合を有する化合物の他、金属−有機基中のヘテロ原子（酸素等）結合を有する化合物、有機化合物の金属塩、錯体等も含む。上記金属元素を有する有機化合物として具体的には、例えば、金属アルコキシド、アルキルアルコキシ金属化合物［アルキル（エチル等）トリアルコキシ金属化合物、ジアルキル（エチル等）ジアルコキシ金属化合物、トリアルキル（エチル等）アルコキシ金属化合物］、金属カルボキシレート、金属アセチルアセトナート等が挙げられる。上記金属アルコキシドを構成するアルコキシドの炭素数は、通常１〜８、好ましくは１〜６、更に好ましくは１〜４であり、より具体的には、例えば、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド等が挙げられる。更に、上記金属元素を有する有機化合物としてより具体的には、例えば、ジルコニウムブトキシド〔Ｚｒ（ＯＢｕ）４〕、チタンブトキシド〔Ｔｉ（ＯＢｕ）４〕、アルミニウムブトキシド〔Ａｌ（ＯＢｕ）４〕、及び亜鉛ブトキシド〔Ｚｎ（ＯＢｕ）４〕等が挙げられる。
【００４９】
上記金属イオンにより化学的架橋構造（アイオノマー構造）を形成するための金属化合物の使用量は、上記式（１）で表される環式化合物を用いて得られた共重合体を構成する環式化合物より形成された単位の１当量に対し、好ましくは０．０１〜５０当量、より好ましくは０．０５〜１０当量、特に好ましくは０．０５〜５当量である。上記使用量が少なすぎると、得られる成形体は、架橋密度又は拘束点密度が低く、機械的強度及び耐熱性に劣る傾向がある。一方、使用量が多すぎると、得られる成形体は、架橋密度又は拘束点密度が高くなり、硬度が高すぎて脆くなることがある。
【００５０】
更に、上記式（１）で表される環式化合物を用いて得られた共重合体に対する、上記金属化合物等の混和性及び得られる成形体の耐熱性を向上させるために、活性剤としてカルボン酸等の有機酸の金属塩を添加してもよい。このカルボン酸の金属塩としては、炭素数３〜２３、好ましくは３〜２０、更に好ましくは３〜１５の１価あるいは２価のカルボン酸の金属塩を用いることが好ましい。また、上記カルボン酸の金属塩を構成する金属元素としては、例えば、上記化学的架橋構造（アイオノマー構造）を形成するのに必要な金属元素から選択することができる。上記カルボン酸の金属塩としては、上記化学的架橋構造（アイオノマー構造）を形成するのに必要な金属元素と同種の金属元素を含むカルボン酸の金属塩を用いることが好ましい。
【００５１】
上記ブチルゴムとしては、イソブチレンとイソプレンとの共重合体、イソブチレンとイソプレンと極性基含有単量体との共重合体、更にはこれらの部分架橋共重合体等を挙げることができる。即ち、具体的なブチルゴムとしては、イソブチレン−イソプレン共重合体を挙げることができる。また、この共重合体がハロゲン化された塩素化イソブチレン−イソプレン共重合体、及び臭素化イソブチレン−イソプレン共重合体等であってもよい。
【００５２】
上記アクリル系ゴムは、少なくともアクリル酸アルキルエステルを用いて重合又は共重合されたゴムである。共重合ゴムである場合は、アクリル酸アルキルエステル以外に、アルキルビニルエーテル、極性基を有する共重合性単量体及びその他の単量体を用いることができるが、通常、アルキルビニルエーテルが用いられる。これらのうち１種を用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。更にはこれらの部分架橋共重合ゴムでもよい。
【００５３】
上記アクリル酸アルキルエステルとしては、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル等を挙げることができる。
【００５４】
上記アルキルビニルエーテルとしては、クロロメチルビニルエーテル及びクロロエチルビニルエーテル等を挙げることができる。
【００５５】
更に、その他の単量体として、アクリル系ゴムの耐寒性を向上させることができるアクリル酸メトキシメチル、アクリル酸エトキシメチル、アクリル酸メトキシエチル及びアクリル酸エトキシエチル等のアクリル酸アルコキシアルキルや、エチレン等を用いることもできる。また、各単量体と共重合することで部分架橋共重合ゴムを得ることができる多官能性不飽和結合含有単量体を挙げることができる。この多官能性不飽和結合含有単量体は、前記ブチルゴムの説明における上記多官能性不飽和結合含有単量体を適用できる。
【００５６】
上記エラストマーの中でも、共役ジエンのブロック（共）重合体、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体、これらの水素添加物、エチレン・α−オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体と金属イオン及び／又は金属化合物とよりなるエラストマー、ブチルゴム及びアクリル系ゴムからなる群から選ばれる少なくとも１種及び／又はこれらの組成物（エラストマー組成物）が好ましい。特に、共役ジエンのブロック（共）重合体の水素添加物、極性基変性オレフィン系共重合体と金属イオン及び／又は金属化合物とよりなるエラストマーが好ましい。
【００５７】
また、本発明では、上記エラストマーに液状材料を含有させてもよい。この場合、より柔軟性を有する衝撃吸収体とすることができる。上記液状材料は、２５℃において液体又はペースト状であれば、その種類に特に限定はない。上記液状材料は、より詳細には、通常−１００〜５０℃、好ましくは−８０〜５０℃、更に好ましくは−５０〜５０℃で不揮発性（液状）の液状材料であり、その種類について特に限定はない。また、上記液状材料の４０℃における動粘度は、通常８００ｍｍ２／ｓ（＝８００ｃＳｔ）以下、好ましくは７００ｍｍ２／ｓ以下、更に好ましくは６００ｍｍ２／ｓ以下、より好ましくは０．１〜５００ｍｍ２／ｓである。上記液状材料の４０℃における動粘度を上記範囲とすると、広い温度領域で形状を保持することができるので好ましい。より具体的には、例えば、上記液状材料として、４０℃における動粘度が８００ｍｍ２／ｓ以下であり、−１００〜５０℃で不揮発性の液状材料が好ましい。更に、低温環境における使用の観点から、上記液状材料は、流動点が−１０℃以下、特には−２０℃以下、更には−４０℃以下、水分が５００ｐｐｍ以下、特には２００ｐｐｍ以下、更には１００ｐｐｍ以下であり、重金属等の不純物が少ないものが好ましい。尚、動粘度の単位として、１ｃｍ２／ｓ＝１Ｓｔである。
【００５８】
上記液状材料として具体的には、例えば、プラスチック・ゴム用の各種滑剤、可塑剤、軟化剤及び液状オリゴマー等の１種又は２種以上が挙げられる。上記滑剤としては、パラフィン系滑剤、炭化水素系滑剤、金属セッケン等が挙げられる。また、上記可塑剤としては、フタル酸誘導体、イソフタル酸誘導体、テトラヒドロフタル酸誘導体、アジピン酸誘導体、セバシン酸誘導体、フマル酸誘導体、クエン酸誘導体等の各種脂肪酸誘導体等の１種又は２種以上が挙げられる。更に、上記軟化剤としては、パラフィン系プロセスオイル等の石油系軟化剤、エチレン−α−オレフィン系コオリゴマー及びギルソナイト等の鉱物油系軟化剤、オレイン酸やリシノール酸等の脂肪酸等の１種又は２種以上が挙げられる。また、上記液状オリゴマーとしては、ポリイソブチレンや各種液状ゴム（ポリブタジエンやスチレン−ブタジエンゴム等）、シリコーンオイル等の１種又は２種以上が挙げられる。特に、携帯電話等、屋外で使用される液晶ディスプレイパネル等に使用される場合は、上記液状材料として、パラフィン系プロセスオイル、パラフィン系合成油、水添パラフィン系オイル等のように、二重結合がないオイル又は二重結合を有する成分が少ない（具体的には２０質量％以下、更には１０質量％以下）オイルの１種又は２種以上を用いると、耐候性に優れた成形体とすることができるので好ましい。尚、上記液状材料は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５９】
上記液状材料の使用量は、上記エラストマーに含有される重合体の全量を１００質量部とした場合、好ましくは５０〜５０００質量部、より好ましくは５０〜４０００質量部、更に好ましくは５０〜３０００質量部、特に好ましくは５０〜２０００質量部、最も好ましくは６０〜１８００質量部である。上記液状材料の配合量が５０質量部未満であると、所望の耐衝撃性を有する成形体が得られない場合がある。一方、上記液状材料の配合量が５０００質量部を超えると、成形体から液状材料がにじみ出ることがあり、形状を維持することが困難になる場合がある。
【００６０】
上記液状材料を含有する上記エラストマーを得る方法は特に限定はない。通常は、上記エラストマー成分と上記液状材料とを、必要の応じて他の成分を添加し、適宜の方法により混合すればよい。また、上記エラストマーが三次元骨格を形成することができる条件で混合してもよい。更に、各成分の混合には、液状の材料を高速攪拌できる機器を用いるのが好ましい。より具体的には、例えば、上記エラストマーと上記液状材料とを、必要の応じて他の成分を添加し、ホモミキサー等を用いて、温度８０〜２００℃、好ましくは９０〜１９０℃の条件で、回転数１０ｒｐｍ以上、好ましくは３０ｒｐｍ以上の剪断下で攪拌することによって調製することができる。
【００６１】
上記樹脂として具体的には、例えば、１，２−ポリブタジエン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ、通常、３質量％以上の酢酸ビニル単位を含有する。）及びポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリル樹脂｛（メタ）アクリレート樹脂等｝、ビニルエステル樹脂（ＥＶＡを除く。）、飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂（ポリフッ化ビニリデン等）、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、（メタ）アクリル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂及びケイ素樹脂等が挙げられる。これらの樹脂のうち、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂等の軟質樹脂が好ましい。
【００６２】
上記衝撃吸収層を得る方法には特に限定はない。例えば、上記衝撃吸収層がエラストマー層で構成されている場合、エラストマーの成形方法として好ましくは、コーティング法、キャスト法（無溶剤キャスト法及び溶剤キャスト法）、プレス法、押出法、射出成形法、注型法又はインフレーション法等が挙げられる。例えば、上記エラストマーを構成する成分を溶媒に溶解又は分散させた液状物、又は上記エラストマーを構成する成分の溶融液を調製し、次いで、該液状物又は溶融液を塗布し、その後、必要により溶媒の除去等をすることにより成形することができる。
【００６３】
また、多層構造である上記衝撃吸収層を得る方法としては、例えば、第１層を形成した後、該第１層の表面に第２層を積層し、以下、必要に応じて繰り返す方法が挙げられる。
例えば、特定の弾性率を有する衝撃吸収材の衝撃面側表面に、この衝撃吸収材よりも弾性率が大きい衝撃吸収材を積層し、以下、必要に応じて同様の積層を繰り返す。勿論、これとは逆に、特定の弾性率を有する衝撃吸収材の対衝撃面側表面に、この衝撃吸収材より弾性率が小さい衝撃吸収材を積層し、以下、必要に応じて同様の積層を繰り返してもよい。ここで、上記「積層」とは、完全な固形状の層をある層の表面に積層する場合だけでなく、溶媒に溶解した溶液及び加熱等により溶融した溶融液等の液状物や、加熱等によりゲル状又は半固形状となった半固形物を塗布等の手段により載置し、その後、冷却等により完全な固形状にする場合も含む。
【００６４】
上記積層の方法としては、例えば、上記衝撃吸収層を構成する層の表面に、他の層を積層し、両者を接着剤又は粘着剤を用いて接合する方法が挙げられる。その他の方法として、コーティング法、キャスト法、プレス法、押出法、射出成形法又はインフレーション法等が挙げられる。更に、上記衝撃吸収層を構成する成分の溶融物を用い、共押出法等の方法によって、成形と同時に各層を貼り合わせて積層する方法等が挙げられる。例えば、図２（Ａ）に示す２層構造の衝撃吸収層を得る方法として、高弾性率層１２を低弾性率層１１の衝撃面側表面に積層し、両者を接着剤又は粘着剤を用いて接合する方法が挙げられる。その他、上記高弾性率層１２を積層する方法として、コーティング法、キャスト法、プレス法、押出法、射出成形法又はインフレーション法等の方法等が挙げられる。更に、上記高弾性率層１２を構成する成分の溶融物及び上記低弾性率層１１を構成する成分の溶融物を用い、共押出法等の方法によって、上記高弾性率層１２及び上記低弾性率層１１を成形すると共に、両者を貼り合わせて積層する方法等が挙げられる。
【００６５】
上記プレス法では、プレスロール等を用いてホットプレス及びコールドプレス（単に押しつけて接合する場合も含む。）等により加圧しながら直接接合する。勿論、この場合、接着剤又は粘着剤を用いて接合してもよく、これらを用いずに、加圧のみで直接接合してもよい。例えば、図２（Ａ）に示す２層構造の衝撃吸収層では、上記低弾性率層を搬送しながら、加熱により半硬化状態である上記高弾性率層を押出し、又はドクターブレードで上記低弾性率層の表面に供給し、次いでローラー等で圧着し、その後冷却等することにより、積層することができる。上記低弾性率層が柔軟であると共に粘着性を有している場合、加熱せずに圧着してもよいが、加熱しながら圧着するのが好ましい。
【００６６】
上記コーティング法及びキャスト法として具体的には、例えば、図２（Ａ）に示す２層構造の衝撃吸収層の場合、（１）上記高弾性率層を構成する成分を溶媒に溶解又は分散させることにより混合液を調製し、該混合液を任意の方法によって成形した上記低弾性率層の衝撃面側表面に塗布することにより、上記低弾性率層の少なくとも一方の表面に上記高弾性率層を形成したり、あるいは（２）加熱や溶媒等に溶解又は分散させる等により液状又は半固形状となった上記高弾性率層を、上記低弾性率層の衝撃面側表面に塗布することにより、上記低弾性率層の衝撃面側表面に、上記高弾性率層を形成する。上記塗布の方法については特に限定はない。上記塗布の方法としては、例えば、ロールコーターにより塗布する他、溶媒キャスト法、スピンコート法等によって塗布することができる。そして、上記塗布後、必要に応じて溶媒を除去したり、あるいは乾燥等を行うことにより、上記高弾性率層を積層することができる。上記溶媒の除去方法には特に限定はなく、例えば、加熱、減圧、水蒸気蒸留等の周知の方法により除去することができる。
【００６７】
上記押出法は、従来公知の押出法であればよく、その方法、条件について特に限定はない。具体的には、例えば、Ｔダイ押出法により成形することができる。即ち、シリンダー内に上記衝撃吸収層を構成する成分を添加溶融し、溶融物をＴダイへ移送して、上記衝撃吸収層を構成する他の層の表面に押出す押出法により成形することができる。また、上記Ｔダイ押出法において、上記衝撃吸収層を構成する成分の含有液は、溶媒を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。溶媒を含む場合は、上記シリンダー内で加熱し、ベント口から溶媒を留去することが好ましい。
【００６８】
上記衝撃吸収層がエラストマーで構成されている場合、上記衝撃吸収層は、架橋されていないエラストマーにより構成されていてもよいし、少なくとも一部が架橋されたエラストマーにより構成されていてもよい。例えば、上記エラストマーが上記極性基変性オレフィン系共重合体を含むエラストマーの場合、上記極性基を介した上記金属イオン及び／又は金属化合物による架橋の他、上記極性基変性オレフィン系共重合体の少なくとも一部に、その他の架橋を形成していてもよい。かかる架橋構造を有することにより、本発明の衝撃吸収体の耐熱性を向上させることができる。
【００６９】
上記架橋する方法については特に限定はなく、例えば、電子線照射、紫外線照射、及び架橋剤（例えば、有機過酸化物等）を用いる方法から選ばれる手段が挙げられる。上記架橋を電子線照射により行う場合は、得られた衝撃吸収層について、電子線照射装置により電子線照射することにより、架橋を形成することができる。また、紫外線照射の場合は、得られた衝撃吸収層について、紫外線照射装置により紫外線照射することにより、必要に応じて配合された光増感剤の効果によって架橋を形成することができる。更に、架橋剤を用いる方法の場合は、得られた衝撃吸収層について、通常、窒素雰囲気等、空気の存在しない雰囲気で加熱することにより、必要に応じて配合された有機過酸化物等の架橋剤、更には架橋助剤の効果によって架橋を形成することができる。
【００７０】
（Ｃ）接着層
本発明では、上記衝撃層及び上記衝撃吸収層の間に、放射線硬化型接着剤を硬化させて形成される接着層を有する。通常、上記衝撃層及び上記衝撃吸収層は、上記接着層により接着されている。上記放射線硬化型接着剤は、放射線により硬化し、上記接着層を形成することができる限り、その種類及び特性について特に限定はない。勿論、上記放射線硬化型接着剤は、放射線により硬化し、上記接着層を形成し、上記衝撃吸収層及び上記衝撃層を接着することができる性質を有することが好ましい。尚、ここで、「接着」とは、上記衝撃層及び上記衝撃吸収層が上記接着層から離れない程度に固定されていればよく、固定の強弱は問わない。また、上記放射線とは、可視光、紫外線、電子線、Ｘ線等活性エネルギー線等をいう。特に好ましくは、光（可視光又は紫外線）である。
【００７１】
上記放射線硬化型接着剤として具体的には、例えば（１）水酸基を含有するエポキシ（メタ）アクリレート及びウレタン（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含有する放射線硬化型接着剤等が挙げられる。また、上記放射線硬化型接着剤として、（２）（ａ）水酸基を含有するエポキシ（メタ）アクリレート及びウレタン（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる（メタ）アクリレートの少なくとも１種、（ｂ）（ａ）成分以外のラジカル重合性化合物、並びに（ｃ）紫外線感応型光重合開始剤を含有する接着剤用放射線硬化型樹脂組成物を使用することもできる。
【００７２】
上記（ａ）（メタ）アクリレートである上記水酸基を含有するエポキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、アルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、ビスフェノールＡグリシジルエーテル、又はグリシジル（メタ）アクリレートの如きグリシジル基含有化合物と、（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物等が挙げられる。これらの中で、ビスフェノールＡグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物が好ましい。上記水酸基を含有するエポキシ（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−１３０、Ｒ−１９０、ＥＸ−２３２０、Ｒ−１３１、Ｒ−１４６、Ｒ−２８０（以上、日本化薬社製）、 ＥＡ−１３７０（以上、三菱化学社製）、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５１９−１、ＳＰ−１５６３、ＳＰ−２５００、ＶＲ６０、ＶＲ７７、ＶＲ９０（以上、昭和高分子社製）等を挙げることができる。
【００７３】
上記（ａ）（メタ）アクリレートである上記ウレタン（メタ）アクリレートは、（ｘ）ジイソシアネート、（ｙ）水酸基含有（メタ）アクリレート、及び（ｚ）ジオールを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレートを使用することが好ましい。この反応としては、例えば、（１）ジオール、ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートを一括に仕込んで反応させる方法、（２）ジオール及びジイソシアネートを反応させ、次いで水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法、（３）ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでジオールを反応させる方法、並びに（４）ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでジオールを反応させ、最後にまた水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法等が挙げられる。
【００７４】
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、ジオールが１分子中に好ましくは２分子以上の繰り返し単位、より好ましくは１分子中に３分子以上の繰り返し単位として含まれるように、上記（ｚ）ジオールと上記（ｘ）ジイソシアネートとの反応割合等を調整して反応させる。具体的には、例えば、上記（ｘ）ジイソシアネートのモル比は、上記（ｚ）ジオール１モルに対して１．５モル以下になるように調整する。上記（ｙ）水酸基含有（メタ）アクリレートの割合は、上記（ｚ）ジオールと上記（ｘ）ジイソシアネートのモル比から計算される過剰のイソシアネート当量に対して１．０〜１．５当量となるように調整することが好ましい。
【００７５】
上記（ｘ）ジイソシアネートとしては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、４−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、２，５（又は６）−ビス（イソシアネートメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン等が挙げられる。これらのうち、特に、脂肪族系化合物である２，４−トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）が好ましい。ジイソシアネート成分に脂肪族系化合物を用いることで、加熱時の黄変が抑制することができる。より良好な加熱時の低黄変性を求める場合は、イソホロンジイソシアネート又はメチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）を用いることが好ましい。これらのジイソシアネートは、単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７６】
上記（ｙ）水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルフォスフェート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレートの如きグリシジル基含有化合物と、（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物等を挙げることができる。これら水酸基含有（メタ）アクリレートのうち、特に、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が好ましい。これらの、水酸基含有（メタ）アクリレートは、単独であるいは、２種以上組み合わせて用いることができる。
【００７７】
上記（ｚ）ジオールの例としては、脂肪族ポリエーテルジオール、環状ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、及びポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。
【００７８】
上記脂肪族ポリエーテルジオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール又は２種以上のイオン重合性環状化合物を開環共重合させて得られるポリエーテルジオール等が挙げられる。上記イオン重合性環状化合物としては、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、１，２−ブチレンオキシド、ブテン−１−オキシド、イソブテンオキシド、３，３−ビスクロロメチルオキセタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン、テトラオキサン、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルカーボネート、ブタジエンモノオキシド、イソプレンモノオキシド、ビニルオキセタン、ビニルテトラヒドロフラン、ビニルシクロヘキセンオキシド、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、安息香酸グリシジルエステル等の環状エーテル類が挙げられる。また、上記イオン重合性環状化合物と、エチレンイミン等の環状イミン類、β−プロピオラクトン、グリコール酸ラクチド等の環状ラクトン酸、あるいはジメチルシクロポリシロキサン類とを開環共重合させたポリエーテルジオールを使用することもできる。上記２種以上のイオン重合性環状化合物の具体的な組み合わせとしては、例えばテトラヒドロフランとプロピレンオキシド、テトラヒドロフランと２−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロフランと３−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロフランとエチレンオキシド、プロピレンオキシドとエチレンオキシド、ブテン−１−オキシドとエチレンオキシド、テトラヒドロフラン、ブテン−１−オキシド、エチレンオキシドの３元重合体等を挙げることができる。これらのイオン重合性環状化合物の開環共重合体はランダムに結合していてもよいし、ブロック状の結合をしていてもよい。  これらの中で、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、１，２−ブチレンオキシドとエチレンオキシドとの共重合体及びプロピレンオキシドとエチレンオキシドとの共重合体からなる群から選ばれる少なくとも１種のジオールを使用することが好ましい。
【００７９】
上記脂肪族ポリエーテルジオールの市販品としては、例えば、ＰＰＧ−４００、ＰＰＧ１０００、ＰＰＧ２０００、ＰＰＧ３０００、ＥＸＣＥＮＯＬ７２０、１０２０、２０２０、ＰＲＥＭＩＮＯＬ  ＰＭＬ  Ｓ−Ｘ４００１、ＰＭＬ  Ｓ−４００３、ＰＭＬ  Ｓ−Ｘ４００４、ＰＭＬ  Ｓ−Ｘ４００８、ＰＭＬ  Ｓ−Ｘ４０１１、ＰＭＬ  Ｓ−Ｘ４０１６、ＮＰＭＬ−４００２Ａ（以上、旭硝子ウレタン社製）、ＥＯ／ＢＯ５００、ＥＯ／ＢＯ１０００、ＥＯＢＯ／２０００、ＥＯ／ＢＯ３０００、ＥＯ／ＢＯ４０００（以上、第一工業製薬社製）、ＰＴＭＧ６５０、ＰＴＭＧ１０００、ＰＴＭＧ２０００（以上、三菱化学社製）、ＰＥＧ１０００、ユニセーフＤＣ１１００、ＤＣ１８００（以上、日本油脂社製）、ＰＰＴＧ２０００、ＰＰＴＧ１０００、ＰＴＧ４００、ＰＴＧＬ２０００（以上、保土谷化学社製）、Ｚ−３００１−４、Ｚ−３００１−５、ＰＢＧ２０００Ａ、ＰＢＧ２０００Ｂ（以上、第一工業製薬社製）等を挙げることができる。
【００８０】
上記環状ポリエーテルジオールしては、例えば、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのアルキレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦ、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのアルキレンオキサイド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、ナフトハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、アントラハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、１，４−シクロヘキサンジオールおよびそのアルキレンオキサイド付加ジオール、トリシクロデカンジオール、トリシクロデカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジオール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール等が挙げられる。これらの中で、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加ジオール、トリシクロデカンジメタノールが好ましい。上記環状ポリエーテルポリオールの市販品としては、例えばユニオールＤＡ４００、ＤＡ７００、ＤＡ１０００、ＤＢ４００（以上、日本油脂社製）、Ｎ１１６２（第一工業製薬（株）製）、トリシクロデカンジメタノール（三菱化学社製）等を挙げることができる。
【００８１】
上記ポリエステルジオールとしては、ジオールと二酸塩基とを反応して得られるポリエステルジオール等が挙げられる。上記ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール等が挙げられる。また二塩基酸としては、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸等を挙げることができる。上記ポリエステルジオールの市販品としては、クラポールＰ−２０１０、ＰＭＩＰＡ、ＰＫＡ−Ａ、ＰＫＡ−Ａ２、ＰＮＡ−２０００（以上、クラレ社製）等が挙げられる。
【００８２】
上記ポリカーボネートジオールとしては、例えば、ポリテトラヒドロフランのポリカーボネート、１，６−ヘキサンジオールのポリカーボネート等が挙げられる。上記ポリカーボネートジオールの市販品としては、ＤＮ−９８０、９８１、９８２、９８３（以上、日本ポリウレタン社製）、ＰＣ−８０００（米国ＰＰＧ社製）、及びＰＣ−ＴＨＦ−ＣＤ（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【００８３】
上記ポリカプロラクトンジオールとしては、例えば、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオール等のジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオールが挙げられる。これらのジオールとして、プラクセル２０５、２０５ＡＬ、２１２、２１２ＡＬ、２２０、２２０ＡＬ（以上、ダイセル社製）等が市販品として入手することができる。
【００８４】
上記（ｚ）ジオールの数平均分子量は、好ましくは３００〜１５，０００であり、更に好ましくは１，０００〜１２，０００、特に好ましくは２，０００〜１２，０００である。
【００８５】
上記以外の他のジオールも数多く使用することができる。このような他のジオールとしては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール、β−メチル−δ−バレロラクトン、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、ヒマシ油変性ポリオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ジオール等が挙げられる。
【００８６】
これら他のジオール成分の数平均分子量は、３００〜５，０００、好ましくは３００〜２，０００、更に好ましくは３００〜１，０００である。
【００８７】
また上記したようなジオールを併用する以外にも、ジオ−ルと共にジアミンを併用することも可能である。このようなジアミンとしては、例えばエチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、パラフェニレンジアミン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン等のジアミンやヘテロ原子を含むジアミン、ポリエーテルジアミン等が挙げられる。
【００８８】
上記ウレタン（メタ）アクリレートには、更にジイソシアネート１モルに対して水酸基含有（メタ）アクリレート化合物２モルを反応させたウレタン（メタ）アクリレートを配合することもできる。かかるウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートと２，４−トリレンジイソシアネートの反応物、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートと２，５（または６）−ビス（イソシアネートメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンの反応物、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとイソホロンジイソシアネートの反応物、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートと２，４−トリレンジイソシアネートの反応物、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートとイソホロンジイソシアネートの反応物が挙げられる。
【００８９】
上記（ａ）（メタ）アクリレートは、上記接着剤用放射線硬化型樹脂組成物の全量に対して１〜９５質量％配合されることが好ましく、５〜８０質量％配合されることが更に好ましい。上記範囲とすることにより、十分な接着性を有すると共に、塗工性に優れることから好ましい。
【００９０】
（ｂ）（ａ）成分以外のラジカル重合性化合物としては、例えば、ラジカル重合性単官能化合物及びラジカル重合性多官能化合物が挙げられる。
【００９１】
上記ラジカル重合性単官能化合物としては、例えば、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタムの如きビニル基含有ラクタム、イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートの如き脂環式構造含有（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、並びに下記式（３）及び（４）で表される化合物を挙げることができる。これらラジカル重合性単官能化合物のうち、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタムの如きビニル基含有ラクタム、イソボルニル（メタ）アクリレート、ラウリルアクリレート、アクリロイルモルホリン、及び下記式（４）の化合物が好ましい。これらラジカル重合性単官能化合物の市販品としては、例えば、ＩＢＸＡ（大阪有機化学工業社製）、アロニックスＭ−１１１、Ｍ−１１３、Ｍ１１４、Ｍ−１１７、ＴＯ−１２１０、アロニックスＭ−１１０（以上、東亞合成社製）を挙げることができる。
【００９２】
【化３】
2006150755.tif 000005
（式（３）中、Ｒ３は水素原子又はメチル基を示す。Ｒ４は炭素数２〜６、好ましくは２〜４のアルキレン基を示す。Ｒ５は水素原子又は炭素数１〜１２、好ましくは１〜９のアルキル基を示す。ｌは０〜１２、好ましくは１〜８の数を示す）
【化４】
2006150755.tif 000006
（式（４）中、Ｒ６は水素原子又はメチル基を示す。Ｒ７は炭素数２〜８、好ましくは２〜５のアルキレン基を示す。Ｒ８は水素原子又はメチル基を示す。ｐは好ましくは１〜４の数を示す。）
【００９３】
上記ラジカル重合性単官能化合物は、上記接着剤用放射線硬化型樹脂組成物の接着性を発現させるため、上記接着剤用放射線硬化型樹脂組成物の全量に対して１〜９５質量％配合されることが好ましい。
【００９４】
上記ラジカル重合性多官能化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジイルジメタノールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの両末端（メタ）アクリル酸付加、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエポキシ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。上記ラジカル重合性多官能化合物のうち、トリシクロデカンジイルジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイドを付加させたビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、及びポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００９５】
上記ラジカル重合性多官能化合物の市販品としては、例えば、ユピマーＵＶ、ＳＡ−１００２、ＳＡ−２００６、ＤＸ−ＴＥＭＡ（以上、三菱化学社製）、アロニックスＭ−２０３、Ｍ−２０８、Ｍ−２１０、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−３１５、Ｍ−３２０、Ｍ−３２５、Ｍ−３５０、Ｍ−３６０、ＴＯ−１２１０（以上、東亞合成社製）、ＧＸ−８３４５、 ＧＸ−８４６５、 ＧＸ−８４４８Ｄ、 ＧＸ−８４４９、ＰＥ−２００、ＰＥ−３００、ＰＥ−４００、ＢＰＥ−４、ＢＰＰ−４、ＨＢＰＥ−４（以上、第一工業製薬社製）、ビスコート＃３７００、ビスコート＃７００、Ｖ＃３１０ＨＰ、Ｖ＃３３５ＨＰ、Ｖ＃７００、Ｖ＃３６０、Ｖ＃ＧＰＴ（以上、大阪有機化学工業社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、 Ｒ−６０４、 Ｒ−６８４、ＨＢＡ−０２４Ｅ、 ＨＢＡ−０２４Ｐ（以上、日本化薬社製）、ＣＤ４０１、 ＣＤ４０６、 ＣＤ５４０、 ＣＤ５４１、 ＣＤ５４２、ＳＲ３４８、 ＳＲ３４９、 ＳＲ４８０、ＣＤ５８１、ＣＤ５８２、ＳＲ６０１、ＳＲ６０２、ＣＤ９０３８、ＳＲ９０３６（以上、サートマー社製）、ライトアクリレート３ＥＧＡ、４ＥＧＡ、９ＥＧＡ、ＢＰ−４ＥＡ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＴＭＰ−３ＥＯ−Ａ、ＰＴＭＧＡ−２５０、ＤＣＰ−Ａ、ＢＰ−１３４、ライトエステル２ＥＧ、ＢＰ−２ＥＭ、ＢＰ−４ＥＭ、 ＢＰ−４ＰＡ（以上、共栄社化学社製）を使用することができる。
【００９６】
上記ラジカル重合性多官能化合物は、上記接着剤用放射線硬化型樹脂組成物の硬化物の剛直性、強度を増加させるため、上記接着剤用放射線硬化型樹脂組成物の全量に対して１〜９０質量％配合されることが好ましい。上記配合量が上記範囲内であると、硬化物の弾性率が高くなりすぎて十分な接着性が得られなくなることを抑制できるので好ましい。
【００９７】
上記（ｃ）紫外線感応型光重合開始剤としては、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４，４′−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。上記紫外線感応型光重合開始剤は１種単独又は２種以上併用することができる。上記（ｃ）紫外線感応型光重合開始剤の市販品としては、例えばイルガキュアー１８４、３６９、６５１、５００、９０７、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１（以上、チバスペシャリティーケミカルズ社製）、ルシリンＬＲ８７２８（ＢＡＳＦ社製）、Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１１６、１１７３（以上、メルク社製）；ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００９８】
上記（ｃ）紫外線感応型光重合開始剤は、接着剤中に０．１〜１５質量％配合することが好ましく、０．１〜１０質量％配合することがより好ましい。
【００９９】
上記（ｃ）紫外線感応型光重合開始剤は必要に応じて、光増感剤を添加することが好ましい。該光増感剤としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。上記光増感剤の市販品としては、例えばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【０１００】
上記放射線硬化型接着剤は、更に接着性を上げるために、下記式（１）で表される化合物を含有することができる。
【化１】
2006150755.tif 000007
［式（１）において、Ｘはアクリロイル基、グリシジル基、メルカプト基又はハロゲン基であり、Ｒ１は２価の有機基であり、Ｒ２は炭化水素基である。］
【０１０１】
上記Ｘはアクリロイル基、グリシジル基、メルカプト基又はハロゲン基からなる群から選ばれる官能基である。この中で、特にアクリロイル基及びメルカプト基が、高い接着性を発現する上で好ましい。
【０１０２】
上記Ｒ１は２価の有機基であれば、その構造に限定はない。例えば、上記Ｒ１の炭素数は、通常１〜２０、好ましくは１〜１８、更に好ましくは２〜１５、より好ましくは３〜１２である。また、上記Ｒ１は直鎖構造でもよく、分岐構造を有していてもよい。更に、上記Ｒ１は飽和有機基（飽和アルキル基等）でもよく、不飽和有機基（不飽和アルキル基等）でもよく、脂環式又は芳香族式の有機基でもよい。上記Ｒ１として具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、ｎ−ブチレン基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げられる。
【０１０３】
上記Ｒ２は炭化水素基であれば、その種類及び構造には特に限定はない。通常、上記Ｒ２の炭素数は１〜１０、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜６、より好ましくは１〜４である。また、上記Ｒ２は直鎖構造でもよく、分岐構造を有していてもよい。更に、上記Ｒ１は飽和炭化水素基でもよく、不飽和炭化水素基でもよく、脂環式又は芳香族式の炭化水素基でもよい。尚、上記式（１）において、各Ｒ２同士は同じ基でもよく、異なる基でもよい。
【０１０４】
上記炭化水素基としてより具体的には、例えば、（１）メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコシル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、及びｔ−ドデシル基等の直鎖又は分岐アルキル基、（２）シクロペンチル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等の脂環族基、ノルボルニル基、トリシクロデカニル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、メチルアダマンチル基、エチルアダマンチル基、及びブチルアダマンチル基等の有橋脂環族基、（３）ビニル基及びプロペニル基等のアルケニル基、（４）フェニル基、トルイル基、ベンジル基、メチルベンジル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、及びアントリル基等のアリール基、並びに（５）ピリジル基、イミダゾリル基、モルホリニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基等のヘテロアリール基等が挙げられる。この中で、炭素数１〜３のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基）が好ましい。
【０１０５】
また、上記式（１）中、上記Ｒ１及びＲ２は、構造中に更に他の官能基又は原子を有していてもよい。他の官能基としては、例えば、チオール基、ヒドロキシル基、エーテル基、チオエーテル基、スルフィニル基、スルホニル基、カルボニル基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、ニトリル基、及びアミド基等が挙げられる。また、上記原子としては、例えば、各種へテロ原子（酸素原子、窒素原子、硫黄原子等）及びハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子等）が挙げられる。上記他の官能基又は原子は１種のみでもよく、２種以上含んでいてもよい。また、上記他の官能基又は原子の数も特に限定はなく、１個でもよく、２個以上含んでいてもよい。
【０１０６】
上記式（１）で表される化合物として具体的には、例えば、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等が上げられる。これらの中で、炭素数１〜２のアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤が好ましい。特にγ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン及びγ−メルカプトプロピルトリアルコキシシランが、高い接着性を発現する上で好ましい。
【０１０７】
上記放射線硬化型接着剤中の上記式（１）で表される化合物の含有量は特に限定はない。上記式（１）で表される化合物の含有量は、通常、上記放射線硬化型接着剤中０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％、更に好ましくは０．１〜３質量％である。
【０１０８】
また、上記放射線硬化型接着剤は、必要に応じて更に他の添加剤を含んでいてもよい。例えば、紫外線や加熱による黄変を抑制するために、下記式（５）で表される亜リン酸エステルとフェノール基を有する化合物を添加することができる。
（Ｒ９Ｏ）ｎＰ（ＯＲ１０）３−ｎ      （５）
（式（５）中、ｎは１〜３の整数を示し、Ｒ９はフェノール性水酸基を有する有機基を示し、Ｒ１０はリン原子を含んでいてもよい有機基を示す。）
【０１０９】
上記Ｒ９及びＲ１０は、炭素以外の元素を有してもよい。該炭素以外の元素としては、例えば、窒素、硫黄、酸素、ハロゲン及びリンが挙げられる。また、上記Ｒ９及びＲ１０は、２以上の上記Ｒ９及びＲ１０が連結した環状の有機基でもよい。
【０１１０】
上記Ｒ９としては、例えば、ベンゼン又はナフタレン環上に１〜３個のアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよいヒドロキシフェニル、ヒドロキシナフチル又はヒドロキシフェニルアルキル基が挙げられる。また上記Ｒ１０としては、例えば、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基等が挙げられる。ここでアリール基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が置換していてもよいフェニル又はナフチル基が挙げられる。アリールアルキル基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が置換していてもよいフェニルアルキル基が挙げられる。また、上記のように、上記Ｒ９及び上記Ｒ１０は連結していてもよい。上記Ｒ１０がリン原子を含む場合としては、２〜４価のアルカン残基又は２〜４価の芳香族炭化水素残基等にフェノール性水酸基を有する亜リン酸エステルが２〜４個結合している場合が挙げられる。尚、上記式（５）中、上記Ｒ９が２以上ある場合、各Ｒ９同士は同じ基でもよく、異なる基でもよい。同様に、上記Ｒ１０が２以上ある場合、各Ｒ１０同士は同じ基でもよく、異なる基でもよい。
【０１１１】
上記式（５）で表される亜リン酸エステル基とフェノール性水酸基を有する化合物の具体例としては、２−メチル−４−ヒドロキシフェニルジエチルホスファイト、２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルジエチルホスファイト、２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルジエチルホスファイト、ビス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）エチルホスファイト、トリス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−２，５−ジ−ｔ−ブチル−ヒドロキシキノンジイル−ホスファイトが挙げられる。
【０１１２】
上記式（５）で表される亜リン酸エステル基とフェノール性水酸基を有する化合物として、特に好ましくは、下記式（６）又は（７）で表される化合物が挙げられる。
【化５】
2006150755.tif 000008
【化６】
2006150755.tif 000009
【０１１３】
これら亜リン酸エステル基とフェノール性水酸基を有する化合物の市販品としては、例えば、「スミライザーＧＰ」（住友化学社製）が挙げられる。
【０１１４】
上記式（５）で表される亜リン酸エステル基とフェノール性水酸基を有する化合物の含有量は、上記接着剤用放射線硬化型樹脂組成物の全量に対して好ましくは０．１〜１０質量％、更に好ましくは０．１〜５質量％、特に好ましくは０．１〜３質量％である。
【０１１５】
上記放射線硬化型接着剤は、硬化後の端面のタックを減少させるために、ジアルキルアミノ安息香酸エステルを含有させることができる。上記ジアルキルアミノ安息香酸エステルの具体例としては、例えばジアルキルアミノ安息香酸のメチル、エチル、プロピル、ブチル又はイソアミルエステル等のジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル等を挙げることができる。ここで、ジアルキルアミノ基のアルキル基としては炭素数１〜６のものが好ましい。エステル残基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。またジアルキルアミノ安息香酸のジアルキルアミノ基とカルボキシル基とはベンゼン環上のパラ位に結合しているのが好ましい。これらの中でもｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルが特に好ましい。上記ジアルキルアミノ安息香酸エステルの市販品としては、カヤキュアＥＰＡ、カヤキュアＤＭＢＩ（以上、日本化薬社製）等が挙げられる。上記ジアルキルアミノ安息香酸エステルの含有量は、端面の硬化性点から、上記接着剤用放射線硬化型樹脂組成物の全量に対して０．０５〜５質量％であるのが好ましく、より好ましくは０．１〜３質量％、特に好ましくは０．２〜１質量％である。
【０１１６】
上記放射線硬化型接着剤は、耐湿熱性を向上させるために、芳香族チオール化合物を含有させることができる。上記芳香族チオール化合物としては、メルカプト基を有する芳香族複素環化合物が好ましく、具体例としては、例えばメルカプトベンズオキサゾール、メルカプトベンゾチアゾール、１−フェニル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール等が挙げられる。上記芳香族チオール化合物の市販品としては、ノクセラー Ｍ、ノクセラー Ｍ−Ｐ、ノクラック ＭＢ、ノクラックＭＭＢ（以上、大内新興化学社製）、アクセル Ｍ、アンテージ ＭＢ（以上、川口化学社製）、サンセラー Ｍ、サンセラー Ｍ−Ｇ（以上、三新化学社製）、ソクシノール Ｍ、スミライザー ＭＢ（以上、住友化学工業社製）等が挙げられる。上記芳香族チオール化合物の含有量は、耐湿熱性の点から、上記接着剤用放射線硬化型樹脂組成物の全量に対して０．０１〜５質量％であるのが好ましく、より好ましくは０．０５〜４質量％である。
【０１１７】
上記放射線硬化型接着剤は、熱安定性及び色安定性を向上させるために、酸化防止剤を含有させることができる。上記酸化防止剤の種類に特に制限は無いが、フェノールのヒドロキシル基が結合した炭素原子の両側の炭素原子に、メチル基及び炭素数が１〜８の炭化水素基が結合した構造を有するヒンダードフェノール型酸化防止剤を好ましく使用することができる。上記ヒンダードフェノール型酸化防止剤としては、例えば、ベンゼンプロパン酸−３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニロキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、トリエチレングリコール−ビス｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、２，２−チオ−ジエチレンビス｛３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝等が挙げられる。上記ヒンダードフェノール型酸化防止剤の市販品としては、例えば、イルガノックス２４５、１０３５（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、スミライザーＧＡ−８０（住友化学工業社製）等が挙げられる。上記ヒンダードフェノール型酸化防止剤の含有量は、熱安定性及び色安定性の点から、上記接着剤用放射線硬化型樹脂組成物の全量に対して好ましくは０．０１〜３質量％、より好ましくは０．０３〜１質量％、さらに好ましくは０．０５〜０．５質量％である。
【０１１８】
上記放射線硬化型接着剤には、上記以外の各種塗料添加剤、例えば紫外線吸収剤、光安定剤、老化防止剤、消泡剤、レベリング剤、帯電防止剤、界面活性剤、保存安定剤、熱重合禁止剤、可塑剤、濡れ性改良剤等を必要に応じて配合することもできる。
【０１１９】
上記放射線硬化型接着剤の市販品としては、例えば、デソライト（日本特殊コーティング社製）等が挙げられる。
【０１２０】
上記接着層は、上記放射線硬化型接着剤を硬化させることにより形成することができる。上記硬化の方法については特に限定はなく、使用した上記接着剤の性質に応じて選択することができる。例えば、上記接着層の厚みが１０〜１００μｍなるように、上記接着層を上記衝撃吸収層と上記衝撃層との間に満たし、次いでメタルハライドランプで照射光量が５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ2となるように照射する方法が挙げられる。この方法によれば、容易に上記放射線硬化型接着剤を硬化させて上記接着層を形成することができる。
【０１２１】
上記接着層の構造及び物性については特に限定はない。例えば、上記接着層は単層構造でもよく、同一又は異なる材質、物性を有する２層以上の層からなる多層構造でもよい。また、上記接着層は、少なくとも上記衝撃吸収層と上記衝撃層との間に設けられていればよく、本発明の衝撃吸収積層構造体の他の箇所に設けられていてもよい。例えば、上記接着層を、更に上記衝撃吸収層と後述する基層との間に設け、上記衝撃吸収層と上記基層とを接着させる構成とすることができる。
【０１２２】
上記接着層の厚さは、通常は１．０ｍｍ以下、好ましくは０．７ｍｍ以下、更に好ましくは０．５ｍｍ以下、より好ましくは０．３ｍｍ以下とすることができる。上記接着層もまた、ディスプレイパネルの表示内容の視認性の観点から、透明であることが好ましい。具体的には、例えば、２５℃（特に２５℃、０．５ｍｍ厚の条件）で全光線透過率が９０％以上、好ましくは９１％以上、更に好ましくは９２％以上とすることができる。
【０１２３】
上記接着層の弾性率は、通常１ＭＰａ以上、好ましくは１０ＭＰａ以上、更に好ましくは１００ＭＰａ以上、より好ましくは１０００ＭＰａ以上である。上記接着層の弾性率を上記範囲とすると、更に耐衝撃性を向上させることができるので好ましい。また、上記接着層の弾性率は、上記衝撃吸収層の弾性率よりも大きい値とすることができる。かかる構成とすることにより、更に耐衝撃性を向上させることができるので好ましい。
【０１２４】
（Ｄ）製造方法
本発明の衝撃吸収積層構造体は、上記衝撃吸収層及び上記衝撃層を上記接着層により接着することにより製造することができる。例えば、上記衝撃吸収層の衝撃面側表面に上記接着層を構成する上記放射線硬化型接着剤を塗布し、次いで上記衝撃層を積層することにより、上記衝撃吸収層及び上記衝撃層を張り合わせ、その後、上記放射線硬化型接着剤を熱又は放射線等により硬化させることにより上記接着層を形成し、上記衝撃吸収層及び上記衝撃層を接着させることにより、本発明の衝撃吸収積層構造体を得ることができる。また、上記衝撃吸収層の衝撃面側表面に上記接着層を構成する上記放射線硬化型接着剤を滴下し、次いで上記衝撃吸収層の衝撃面側表面に上記衝撃層を配設することにより、上記放射線硬化型接着剤を上記衝撃吸収層の衝撃面側表面全体に広げると共に、上記衝撃層を積層してもよい。尚、上記衝撃層の対衝撃面側表面に上記放射線硬化型接着剤を塗布又は滴下し、次いで上記衝撃吸収層を張り合わせてもよい。
【０１２５】
（Ｅ）その他
本発明の衝撃吸収積層構造体の形状、厚さについては特に限定はなく、用途に応じて種々の形状、厚さとすることができる。例えば、本発明の衝撃吸収積層構造体の形状としては、例えば、シート状及びフィルム状等が挙げられる。また、本発明の衝撃吸収積層構造体を構成する全ての上記衝撃吸収層及び上記衝撃層との厚みの合計を、通常２ｍｍ以下、好ましくは１．５ｍｍ以下、更に好ましくは１．０ｍｍ以下とすることができる。本発明の衝撃吸収積層構造体は、保護板パネルと基層との間に空隙を設ける必要がなくなることから、従来よりも薄い厚さとすることができる。更に、本発明の衝撃吸収積層構造体は、不透明でもよいが、ディスプレイパネル等の表示面に用いる場合、ディスプレイパネルの表示内容の視認性の観点から、透明であることが好ましい。具体的には、２５℃（特に２５℃、０．５ｍｍ厚の条件）で全光線透過率が９０％以上、好ましくは９１％以上、更に好ましくは９２％以上である。
【０１２６】
本発明の衝撃吸収積層構造体を構成する各層、特に上記衝撃吸収層は、本発明の作用効果を阻害しない限り、必要に応じて他の成分を含んでもよい。上記他の成分として、顔料、染料、滑剤、軟化剤、光増感剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤等の安定剤、耐候剤、金属不活性剤、紫外線吸収剤、光安定剤、銅害防止剤等の安定剤、防菌・防かび剤、分散剤、可塑剤、結晶核剤、難燃剤、粘着付与剤、発泡助剤、架橋剤、共架橋剤、加硫剤、加硫助剤、発泡剤、酸化チタン、カーボンブラック等の着色剤、フェライト等の金属粉末、ガラス繊維、金属繊維等の無機繊維、炭素繊維、アラミド繊維等の有機繊維、複合繊維、チタン酸カリウムウィスカー等の無機ウィスカー、ガラスビーズ、ガラスバルーン、ガラスフレーク、アスベスト、マイカ、炭酸カルシウム、タルク、シリカ、ケイ酸カルシウム、ハイドロタルサイト、カオリン、けい藻土、グラファイト、軽石、エボ粉、コットンフロック、コルク粉、硫酸バリウム、フッ素樹脂、ポリマービーズ等の充填剤又はこれらの混合物、ポリオレフィンワックス、セルロースパウダー、ゴム粉、木粉等の充填剤、低分子量ポリマー、シランカップリング剤、並びにチタンカップリング剤等が挙げられる。これらは１種単独で又は２種以上用いることができる。
【０１２７】
本発明の衝撃吸収積層構造体は、必要に応じて種々の構造体とすることができる。例えば、本発明の衝撃吸収積層構造体において、上記衝撃吸収層の数は特に限定はなく、１層であってもよいし、２層以上の複数であってもよい。
【０１２８】
本発明の衝撃吸収積層構造体は、更に上記衝撃吸収層の対衝撃面側に基層を有する構造とすることができる。上記基層の材質・形状・構造について特に限定はない。上記基層は単層構造でもよく、同一又は異なる材質、物性を有する２層以上の層からなる多層構造でもよい。上記基層を構成する部材は、シート状でもよく、フィルム状でもよい。更に、上記基層の厚さについても特に限定はなく、対象となる製品等に合わせて任意に選択することができる。更に、上記基層は不透明でもよいが、ディスプレイパネル等の表示面に用いる場合、ディスプレイパネルの表示内容の視認性の観点から、透明であることが好ましい。具体的には、２５℃（特に２５℃、０．５ｍｍ厚の条件）で全光線透過率が９０％以上、好ましくは９１％以上、更に好ましくは９２％以上である。
【０１２９】
上記基層を構成する部材としては、例えば、任意の材質のガラス板及びプラスチック板、並びに機能性部材（紫外線カット板、偏光板〔偏光板を構成する各種フィルム等も含む〕、アレイ基板、カラーフィルタ、視野角拡大フィルム、アンチリフレクションフィルム、アンチグレアフィルム、透明導電膜、位相差フィルム、電磁波吸収フィルム、赤外線吸収フィルム及びタッチパネル用フィルム等）等が挙げられる。これらのうち、ガラス板が好ましい。該ガラス板を構成するガラスとしては、例えば、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、及びアルミノホウケイ酸ガラス、並びにこれらのガラスのアルカリ金属含有量を減少させた低アルカリガラス及び無アルカリガラス等が挙げられる。その他、シリカガラスやソーダ石灰ガラス等を用いることもできる。これらのうち、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、及びアルミノホウケイ酸ガラス、並びにこれらの低アルカリガラスが好ましく、更にはこれらの無アルカリガラスが好ましい。
【０１３０】
また、本発明の衝撃吸収積層構造体は、上記基層、上記衝撃吸収層及び上記衝撃層以外の他の層を有していてもよい。上記他の層としては、上述の各種樹脂（特には透明樹脂）で構成される樹脂層及び各種機能性材料で構成される機能層が挙げられる。該機能層としては、例えば、紫外線カット板、偏光板（偏光板を構成する各種フィルム等も含む）、アレイ基板、カラーフィルタ、視野角拡大フィルム、アンチリフレクションフィルム、アンチグレアフィルム、透明導電膜、位相差フィルム、電磁波吸収フィルム、赤外線吸収フィルム及びタッチパネル用フィルム等の１種又は２種以上が挙げられる。上記偏光板を構成する各種フィルム等としては、偏光フィルム、基板フィルム、保護フィルム及び粘着剤層等が挙げられる。尚、上記機能層の層数については特に限定はなく、１層でもよいし、２層以上の複数でもよい。また、上記機能層を２層以上設ける場合、各機能層は連続して配置されていてもよく、あるいは上記基層、上記衝撃吸収層又は上記衝撃層により分断して配置されていてもよい。
【０１３１】
上記機能層の配置パターンについても特に限定はない。上記機能層は上記衝撃層の衝撃面側表面に設けてられていてもよく、あるいは、上記基層の対衝撃面側表面に設けられていてもよい。また、上記機能層は、上記基層と上記衝撃層の間に設けられていてもよい。例えば、上記基層の上記衝撃面側表面に設けたり、あるいは、上記衝撃層の対衝撃面側表面に設けてもよい。尚、上記機能層は、上記基層及び上記衝撃層と接していてもよく、あるいは、間に上記衝撃吸収層が介在していてもよい。
【０１３２】
（２）ＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体。
本発明のＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体は、本発明の衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とする。本発明のＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体は、上記基層が液晶ユニット又はプラズマユニットとなることから、本発明の衝撃吸収積層構造体のうち、上記基層を有しない構成とすることができる。本発明のＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体は、ＬＣＤパネル、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、有機ＥＬディスプレイパネル、フィールドエミッションディスプレイパネル、電子ペーパーディスプレイパネル等に好適に使用することができる。本発明のＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体は、上記基層の点を除けば、本発明の衝撃吸収積層構造体の説明がそのまま妥当する。
【０１３３】
（３）ディスプレイ装置
本発明のディスプレイ装置は、本発明の衝撃吸収積層構造体、又は本発明のＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー用衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とする。本発明のディスプレイ装置としては、例えば電子・電気機器等のディスプレイ装置が挙げられる。上記ディスプレイ装置の用途は特に限定されず、デスクトップ型コンピュータ用ディスプレイ等のディスプレイ機能単体の用途の他、携帯電話、携帯情報端末（いわゆるＰＤＡ、モバイル機器を含む）、ノート型コンピュータ、車載用コンピュータ、タッチパネル、テレビジョン、時計及び測定機器等に組み込む用途を例示することができる。更に、本発明のディスプレイ装置は、携行及び据置き等の形態を問わない。
【０１３４】
上記ディスプレイ装置は、板状ディスプレイ装置であれば好ましいが、その形状は問わない。例えば、平坦でもよいし、湾曲していても構わない。上記ディスプレイ装置の種類の例として、ＬＣＤ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ又は電子ペーパー等が挙げられる。
【実施例】
【０１３５】
以下、本発明について、実施例を挙げて具体的に説明する。尚、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。また、実施例中の「％」及び「部」は、特に断らない限り質量基準である。
【０１３６】
（１）衝撃吸収積層構造体の構成
実施例１の衝撃吸収積層構造体を図１に示す。
実施例１の衝撃吸収積層構造体Ａは、図１に示すように、基層４と、該基層４の衝撃面側表面に設けられた衝撃吸収層１と、該衝撃吸収層１の衝撃面側表面に衝撃層３が設けられている。そして、上記衝撃吸収層１と上記衝撃層３とは、接着層２により接着されている。
【０１３７】
上記基層４は、厚さ０．７ｍｍ、縦幅６０ｍｍ、横幅８０ｍｍの溶融成形アルミノケイ酸薄板ガラス（コーニング社製、「ｃｏｒｎｉｎｇ  １７３７」）である。上記衝撃層３は、上記基層４と同じ大きさで、厚さ０．５ｍｍのアクリル樹脂（日東樹脂工業株式会社製、「クラレックス」）である。上記衝撃吸収層１は、上記基層４と同じ大きさで、厚さ０．４ｍｍ、弾性率０．８ＭＰａであるフィルム（ｉ）で構成されている。また、上記接着層２は、上記基層４と同じ大きさで、厚さは０．１ｍｍ、弾性率は１５００ＭＰａである。
【０１３８】
尚、上記フィルム（ｉ）の弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ７１６２に準拠して測定した。また、接着層２の弾性率は次の方法で測定した。即ち、厚み１００μｍの「テフロン」（商品名）フィルムの上に、バーコーターを用いて下記放射線硬化型接着剤（ｉ）を厚み１００μｍで塗布し、その上に厚み１００μｍの「テフロン」（商品名）フィルムを気泡が入らないように貼り合わせて積層フィルムを得た。その積層フィルムに、メタルハライドランプを用いて１０００ｍＪ／ｃｍ２の条件で紫外線を照射し、上記放射線硬化型接着剤（ｉ）を硬化させた。硬化後、２３℃、湿度５０％ＲＨの条件で２４時間状態調節した。その後、接着剤を「テフロン」（商品名）フィルムから剥離して、ＪＩＳ  Ｋ７１６２に準拠して弾性率を測定した。
【０１３９】
（２）衝撃吸収積層構造体の調製
<衝撃吸収層の調製>
極性基変性オレフィン系共重合体として、エチレンに由来する単量体単位の含量が８６．３モル％、プロピレンに由来する単量体単位の含量が１０．６モル％、５−エチリデン−２−ノルボルネンに由来する単量体単位の含量が２．６モル％、及び８−メチル−８−カルボキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンに由来する単量体単位の含量が０．５モル％であり、且つ重量平均分子量（ＭＷ）が１６．５×１０４である共重合体（Ａ−１）を用いた。また、金属化合物（Ｂ−１）としてテトラｎ−ブトキシジルコニウム（和光純薬社製）を用いた。
【０１４０】
窒素雰囲気下で、上記共重合体（Ａ−１）１００質量部及び上記金属化合物（Ｂ−１）１．２質量部をそれぞれ２３０℃に加熱した１０Ｌ双腕型加圧ニーダー（モリヤマ社製）に投入し、４０ｒｐｍで２０分間混練りした（ずり速度２００ｓ−１）。その後、得られた溶融状態の塊状混練物を１８０℃、４０ｒｐｍに設定したフィーダールーダー（モリヤマ社製）によって造粒し、ペレット化したエラストマー材料を得た。そして、得られたエラストマー材料のペレットを、電熱加圧プレス成形機（関西ロール社製）によって、金型温度が２３０℃、加圧加熱時間が１０分間、加圧冷却時間が５分間の条件でプレス成形することにより、厚さ０．４ｍｍ、縦幅１２０ｍｍ、横幅１２０ｍｍであるフィルム（ｉ）を得た。また、プレス条件を変更することにより、厚みの異なるフィルム（ｉ）を得た。更に、以下の表１に示す配合割合に基づいて、フィルム（ｉ）と同様の方法によりフィルム（ｉｉ）を得た。
【０１４１】
【表１】
2006150755.tif 000010
【０１４２】
<放射線硬化型接着剤の調製>
攪拌機を備えた反応容器に、以下の表２に示す組成の各成分を加えた。次いで、５０℃で１時間攪拌混合して、放射線硬化型接着剤（ｉ）〜（ｉｖ）を調製した。表２における各成分の内容は以下の通りである。また、表２中の各成分の配合量は「質量部」である。
（Ａ）水酸基含有エポキシアクリレート（商品名「ＶＲ７７、昭和高分子社製）
（Ｂ）テトラエチレングリコールジアクリレート（商品名「ライトアクリレート４ＥＧＡ」、共栄社化学社製）
（Ｃ）Ｎ−ビニルカプロラクタム（ＢＡＳＦ社製）
（Ｄ）テトラフルフリルアクリレート（商品名「ビスコート＃１５０」、大阪有機化学工業社製）
（Ｅ）イソボニルアクリレート（商品名「ＩＢＸＡ」、大阪有機化学工業社製）
（Ｆ）アクリロイルモルホリン（商品名「ＡＣＭＯ」、興人社製）
（Ｇ）ノニルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート（商品名「アロニックスＭ１１３」、東亞合成社製）
（Ｈ）１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
（Ｉ）２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（商品名「ルシリンＴＰＯ−Ｘ」、ＢＡＳＦ社製）
（Ｊ）γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（商品名「ＳＨ６０６２」、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）
（Ｋ）ジメチルアミノ安息香酸エチル（商品名「ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＥＰＡ」、日本化薬社製）
（Ｌ）２−メルカプトベンゾチアゾール（東京化成工業社製）
（Ｍ）３，９−ビス[２−〔３−（３−ｔ−ブチルー４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）・プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル]−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン（商品名「スミライザーＧＡ−８０」、住友化学工業社製）
（Ｎ）６−[３−（３−ｔ−ブチルー４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラーｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（商品名「スミライザーＧＰ」、住友化学工業社製）
（Ｏ）２，２−チオ−ジエチレンビス[３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（商品名「Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
（Ｐ）ウレタンアクリレート
【０１４３】
【表２】
2006150755.tif 000011
【０１４４】
尚、上記「（Ｐ）ウレタンアクリレート」は、次の方法により得た。
上記撹拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート６．８質量部、分子量４０００のポリプロピレングリコール（ＰＰＧ）ジオール（商品名「ＮＰＭＬ−４００２Ａ」、旭硝子ウレタン社製）９１．５質量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０２５質量部を仕込み、これらを撹拌しながら１０℃になるまで氷冷した。この仕込み量比で反応させると、ウレタン（メタ）アクリレート１分子中に３分子のＰＰＧの繰り返し単位が含まれることになる。次にジブチル錫ジラウレート０．０８０質量部を添加し、反応容器を４０〜５５℃に加熱して９０分撹拌した。残留イソシアネート量が０．６５％以下になっていることを確認した後、メタノール０．０６２質量部を添加した。更に４５〜５５℃で４０分撹拌した。続いて２−ヒドロキシエチルアクリレート１．６質量部を添加して、５５〜７０℃で９０分撹拌した。残留イソシアネート量が０．０５％以下になっていることを確認して反応終了とし、上記「（Ｐ）ウレタンアクリレート」を得た。
【０１４５】
<粘着剤の調製>
反応容器に、脱イオン水４０質量部、乳化剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム１質量部、重合開始剤として過硫酸アンモニウム１質量部を仕込み、窒素ガスに置換した後、攪拌しながら７０℃に昇温した。
また、別容器中で、アクリル酸２−エチルヘキシル５０質量部、アクリル酸ｎ−ブチル３０質量部、メチルメタクリレート１５質量部、酢酸ビニル３質量部、アクリル酸２質量部、脱イオン水５０質量部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム１質量部を充分攪拌して、プレエマルジョンを調製した。
上記プレエマルジョンの全量を、８０℃に保持した上記反応容器に４時間かけて連続的に滴下し、攪拌下で乳化重合を行った。添加終了後、８０℃で更に２時間攪拌を続け、乳化重合を完結させた後冷却し、粘着剤であるアクリル系共重合体エマルジョンを得た。
【０１４６】
<衝撃吸収積層構造体の調製>
上記基層４に、上記衝撃吸収層１をラミネーター（大成ラミネーター社製、「ＶＡ−７００」）を用いて８０℃にて積層した。次いで、バーコーターを用いて、上記放射線硬化型接着剤（ｉ）を厚さ０．１ｍｍとなるように上記衝撃吸収層１の表面に塗布した。そして、その上から上記衝撃層３を構成するアクリル板を気泡が入らないように貼りあわせ、次いで、メタルハライドランプを用いて上記基層４の面から１０００ｍＪ／ｃｍ２の条件で紫外線照射することにより、上記放射線硬化型接着剤（ｉ）を硬化させて上記接着層２を形成し、上記衝撃吸収層１と上記衝撃層３とを接着させて、実施例１の衝撃吸収積層構造体Ａを調製した。
また、上記放射線硬化型接着剤の種類を変更する他は、実施例１と同様の方法により、実施例２〜４の衝撃吸収積層構造体を調製した。
【０１４７】
また、実施例１の衝撃吸収積層構造体において、上記接着剤の代わりに上記粘着剤をバーコーター用いて塗布・乾燥して粘着層を形成することにより、上記衝撃吸収層１と上記衝撃層３とを接着させて、比較例１の衝撃吸収積層構造体を調製した。尚、上記粘着層の弾性率は１ＭＰａ未満である。
【０１４８】
更に、上記フィルム（ｉ）で構成される上記衝撃吸収層の厚さを０．４ｍｍとし、上記基層４に上記衝撃吸収層１をラミネーターを用いて８０℃にて積層した。次いで、上記衝撃吸収層１に上記衝撃層３をラミネーターを用いて８０℃にて積層して、比較例２の衝撃吸収積層構造体を調製した。
【０１４９】
また、実施例１において、紫外線を照射して上記放射線硬化型接着剤（ｉ）を硬化させる工程を省略すること以外は、実施例１と同様の方法により、比較例３の衝撃吸収積層構造体を調製した。
【０１５０】
更に、上記フィルム（ｉｉ）の一方表面に、上記フィルム（ｉ）をラミネーターを用いて８０℃にてラミネートすることにより、低弾性率層１１及び高弾性率層１２を有する衝撃吸収層１を得た。次いで、上記基層４と上記低弾性率層１１とが接するように、上記基層４に上記衝撃吸収層１をラミネーターを用いて８０℃にて積層する他は、上記実施例１の衝撃吸収構造体と同様の方法により、比較例４の衝撃吸収積層構造体を調製した。
【０１５１】
上記フィルム（ｉ）で構成される上記衝撃吸収層の厚さを０．４ｍｍとし、上記基層４に上記衝撃吸収層１をラミネーターを用いて８０℃にて積層した。次いで、バーコーターを用いて、上記放射線硬化型接着剤（ｉ）を厚さ０．１ｍｍとなるように上記衝撃層３の表面に塗布し、メタルハライドランプを用いて１０００ｍＪ／ｃｍ２の条件で上記放射線硬化型接着剤（ｉ）の面から紫外線照射することにより、上記放射線硬化型接着剤（ｉ）を硬化させた。その後、上記衝撃層３の上記硬化面の反対側の面と上記衝撃吸収層１とが接するように、上記衝撃吸収層１に上記衝撃層３をラミネーターを用いて８０℃にて積層して、比較例５の衝撃吸収積層構造体を調製した。
【０１５２】
バーコーターを用いて、上記衝撃層３に、シリコーン（商品名「ＳＥ１８８５Ａ」、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）５０質量部及び硬化剤（商品名「ＳＥ１８８５Ｂ」、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）５０質量部からなるシリコーンゲル形成溶液を塗布した。次いで、７０℃にて６０分間熱処理することにより、厚み０．４ｍｍのシリコーンゲル層を上記衝撃層３の表面に形成した。そして、上記シリコーンゲル層と上記基層４とが接するように、上記基層４に上記衝撃層３をラミネーターを用いて８０℃にて積層し、比較例６の衝撃吸収積層構造体を調製した。尚、上記シリコーンゲル層の弾性率は１ＭＰａ未満である。
【０１５３】
バーコーターを用いて、０．４ｍｍ厚みのＰＥＴフィルム（商品名「マイラー」、帝人・デュポンフィルム社製）に、シリコーンハードコート（商品名「ＵＶＨＣ−１１０１」、ＧＥ東芝シリコーン社製）を塗布した。次いで、塗布面から１０００ｍＪ／ｃｍ２の条件で紫外線照射することにより、厚み０．０１ｍｍのハードコート層を有する衝撃吸収層１を得た。その後、上記基層４と上記衝撃吸収層１のハードコート面の反対側の面とが接するように、上記基層４に上記衝撃吸収層１をラミネーターを用いて８０℃にて積層した。続いて、上記衝撃吸収層１に上記衝撃層３をラミネーターを用いて８０℃にて積層して、比較例７の衝撃吸収積層構造体を調製した。
【０１５４】
（３）耐衝撃性の評価
上記の方法により得られた実施例１〜４及び比較例１〜７の衝撃吸収積層構造体を用い、下記に記載の方法により、耐衝撃性及び透明性を評価した。その結果を表３及び表４に示す。
【０１５５】
図３に示すように、大理石等からなる基台６２の上に厚さ１ｍｍのアクリル板６１（日東樹脂工業社製、「クラレックス」）を載せ、この上に基層４がアクリル板６１に接するように、上記実施例１〜４及び比較例１〜７の衝撃吸収積層構造体Ａを載置した。次いで、鉄球７（直径５ｃｍ、質量５５０ｇ）を、所定高さから上記衝撃吸収積層構造体Ａ上に自由落下させ、衝突させた。その後、基層４のガラス割れの有無、衝撃層３の割れ（アクリル割れ）の有無、並びに衝撃吸収層１及び接着層２の気泡噛みの有無を目視で確認した。そして、基層４のガラス割れ、衝撃層３のアクリル割れ、及び衝撃吸収層１及び接着層２の気泡噛みが生じた時の高さの中で一番低い値を落球高度（ｃｍ）として求めた。この落球高度の値が大きいほど耐衝撃性に優れていることを意味する。尚、表４中、比較例１及び７のアクリル割れ及び気泡噛みの項の「−」は、アクリル割れや気泡噛みが生じる前にガラス割れが生じたため、測定不能であったことを意味する。
【０１５６】
また、上記実施例１〜４及び比較例１〜７の衝撃吸収積層構造体について、ＢＹＫ−ガードナーＧｍｂｈ社製モデル（ｈａｚｅ−ｇａｒｄ  ｐｌｕｓ）を使用して、２５℃における全光線透過率（％）を求め、透明性を評価した。
【０１５７】
【表３】
2006150755.tif 000012
【０１５８】
【表４】
2006150755.tif 000013
【０１５９】
（３）実施例の効果
表３より、本発明の衝撃吸収積層構造体である実施例１は、ガラス割れ、アクリル割れが生じる高さが１３０ｃｍ、気泡噛みが生じる高さが１１０ｃｍであり、耐衝撃性に優れていることが分かる。また、本発明の衝撃吸収積層構造体である実施例２は、ガラス割れ、アクリル割れ、気泡噛みが生じる高さが１３０ｃｍであり、耐衝撃性に優れていることが分かる。更に、本発明の衝撃吸収積層構造体である実施例３は、ガラス割れが生じる高さが１３０ｃｍ、アクリル割れ、気泡噛みが生じる高さが１００ｃｍであり、耐衝撃性に優れていることが分かる。また、本発明の衝撃吸収積層構造体である実施例４は、ガラス割れ、アクリル割れ、気泡噛みが生じる高さが１３０ｃｍであり、耐衝撃性に優れていることが分かる。
【０１６０】
一方、表４より、放射線硬化型接着剤で形成された接着層の代わりに粘着層を有する比較例１では、気泡噛みやアクリル割れが生じる前に基層であるガラスの割れが生じている。しかも、比較例１では、ガラス割れは高さ３０ｃｍと、かなり低い段階で生じており、耐衝撃性に劣ることが分かる。
【０１６１】
また、本発明で用いた放射線硬化型接着剤を用いない比較例２では、ガラス割れが生じる高さが８０ｃｍと、比較例１より向上しているが、依然として低い段階でガラス割れが生じていることが分かる。また、高さ２０ｃｍで既に気泡噛みが生じ、４０ｃｍでアクリル割れが生じており、依然として耐衝撃性は実施例１〜４より劣ることが分かる。
【０１６２】
本発明で用いた放射線硬化型接着剤を硬化させなかった比較例３では、ガラス割れが生じる高さが８０ｃｍ、アクリル割れが生じる高さが４０ｃｍであるが、気泡噛みが１０ｃｍと極めて低い高さで生じており、耐衝撃性は実施例１〜４より劣ることが分かる。
【０１６３】
更に、衝撃吸収層を低弾性率エラストマー及び高弾性率エラストマーで構成される２層構造とし、低弾性率エラストマーを基層側に配置した比較例４では、ガラス割れが１００ｃｍであり、気泡噛み、アクリル割れ及びガラス割れが６０ｃｍであり、比較例１〜３よりはかなり耐衝撃性が改善されているが、実施例１〜４と比べると、耐衝撃性に劣ることが分かる。
【０１６４】
本発明で用いた放射線硬化型接着剤を衝撃層と衝撃吸収層の間で硬化させていない比較例５では、ガラス割れが生じる高さが８０ｃｍ、アクリル割れが生じる高さが５０ｃｍであるが、気泡噛みが２０ｃｍと低い高さで生じており、耐衝撃性は実施例１〜４より劣ることが分かる。また、放射線硬化型接着剤を用いず、シリコーンゲルからなる衝撃吸収層を衝撃層に直接接着した比較例６では、ガラス割れが生じる高さが８０ｃｍ、アクリル割れが生じる高さが４０ｃｍであるが、気泡噛みが１０ｃｍと極めて低い段階で生じており、耐衝撃性は実施例１〜４より劣ることが分かる。更に、放射線硬化型接着剤を用いず、衝撃吸収層をハードコート層を有するＰＥＴフィルムとした比較例７では、ガラス割れは高さ２０ｃｍと、かなり低い段階で生じており、耐衝撃性は実施例１〜４より劣ることが分かる。
【０１６５】
尚、本発明は、上記実施例に限らず、目的、用途に応じて本発明の範囲内で種々変更した実施例とすることができる。例えば、上記基層、上記エラストマー層、上記接着層、上記透明樹脂層及び必要に応じて設けられる上記他の層中に、粒径１００ｎｍ以下の粒子を分散させることができる。この粒子は、例えば、コロイダルシリカ等を用いることができる。このような粒子を含めることによって、上記の層に加わる力を複数の粒子が受け止めて応力を分散させることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１６６】
本発明は、耐衝撃性が要求される各種用途に適用することができる。例えば、上述した電子・電気機器等のディスプレイ装置の他、自動車用ガラス、建材用ガラス、防弾ガラス等に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１６７】
【図１】本発明の衝撃吸収積層構造体の一例を説明するための模式断面図である。
【図２】多層構造の衝撃吸収層の一例を説明するための模式断面図である。
【図３】本実施例の耐衝撃性試験を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【０１６８】
Ａ；衝撃吸収積層構造体、１；衝撃吸収層、１’；衝撃面、１’’；対衝撃面、１１；低弾性率層、１２；高弾性率層、１３；中弾性率層、２；接着層、３；衝撃層、４；基層、６１；アクリル板、６２；基台、７；鉄球。
【図１】
2006150755.tif 000015
【図２】
2006150755.tif 000016
【図３】
2006150755.tif 000017