(57)【要約】【課題】封止剤分配領域にのみ紫外線を照射して金属ライン上に分配された封止剤を硬化できるガラスキャップ接着方法を提供する。【解決手段】本発明は、ガラス11の基板対応部に多数の凹部11Aを形成する工程；ガラスの基板対応部の反対部分の表面に多数の光不透過層11Bを形成する工程；ガラス11の基板接着領域または基板のキャップ接着領域に封止剤Sを分配する工程；基板に形成された各活性領域Aがガラスの各凹部内に収納された状態でガラス11を基板10に接着する工程；基板10に接着されないガラスの上部に紫外線を照射して封止剤分配領域の封止剤Sを硬化させる工程；及び、接着されたガラス11と基板10を切断して個別に素子化する工程を含む。これにより、基板10の活性領域に照射される紫外線を遮断して活性領域Aを保護することができ、金属ライン上に分配された封止剤Sをも完全に硬化させる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に形成された活性領域を封止するためのガラスキャップを接着する方法において、
ガラスの基板対応部に多数の凹部を形成する工程；
ガラスの基板対応部の反対部分の表面に多数の光不透過層を形成する工程；
ガラスの基板接着領域または基板のキャップ接着領域に封止剤を分配する工程；
基板に形成された各活性領域がガラスの各凹部内に収納された状態でガラスを基板に接着する工程；
基板に接着されないガラスの上部に紫外線を照射して封止剤分配領域の封止剤を硬化させる工程；及び
接着されたガラスと基板を切断して個別に素子化する工程；
を含むことを特徴とするキャップ接着方法。
【請求項２】
前記ガラスの光不透過層は、基板に形成された多数の活性領域とそれぞれ対応することを特徴とする請求項１に記載のキャップ接着方法。
【請求項３】
前記光不透過層は、スパッタリングまたはサンドブラスト工程を介して形成されたクロムまたはモリブデン薄膜である請求項２に記載のキャップ接着方法。
【請求項４】
基板に形成された活性領域を封止するためのガラスキャップを接着する方法において、
多数の凹部が形成されたガラスの基板接着領域または基板のキャップ接着領域に封止剤を分配する工程；
基板に形成された各活性領域がガラスの各凹部内に収納された状態でガラスを基板に接着する工程；
ガラス上部に封止剤硬化用マスクを位置させた後、前記マスクを介して紫外線を封止剤分配領域に選択的に照射して封止剤を硬化させる工程；及び
接着されたガラスと基板を切断して個別に素子化する工程；
を含むことを特徴とするキャップ接着方法。
【請求項５】
前記マスクは石英で製造され、ガラス対応面には、基板に形成された活性領域とそれぞれ対応する光不透過層が形成されていることを特徴とする請求項４に記載のキャップ接着方法。
【請求項６】
前記マスクは石英で製造され、マスクのガラス対応面及びその反対面には、基板に形成された活性領域とそれぞれ対応する光不透過層が形成されていることを特徴とする請求項４に記載のキャップ接着方法。
【請求項７】
ガラス対応面に形成された各不透過層の幅または面積は、その反対面に形成された対応不透過層の幅または面積より広いことを特徴とする請求項６に記載のキャップ接着方法。
【請求項８】
前記光不透過層は、モリブデンまたはクロム薄膜である請求項５または請求項６に記載のキャップ接着方法。
【請求項９】
キャップが接着された基板と対応して基板に照射される紫外線の一部を遮断することにより基板に形成された活性領域を保護する封止剤硬化用マスクにおいて、
基板対応面の第１面及びその反対面の第２面には、多数の光不透過層がそれぞれ形成され、前記第１面及び第２面の互いに対応する光不透過層は、活性領域とそれぞれ対応することを特徴とする封止剤硬化用マスク。
【請求項１０】
前記第１面に形成された各不透過層の幅または面積は、前記第２面に形成された対応不透過層の幅または面積より広いことを特徴とする請求項９に記載の硬化用マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスキャップ接着方法及び封止剤硬化用マスクに関し、特に、基板の活性領域を損傷せずに分配された封止剤を完全に硬化させることができるガラスキャップ接着方法及びそれに用いられる封止剤硬化用マスクに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機電界発光は、有機物（低分子または高分子）薄膜で陰極と陽極を介して注入された電子と正孔が再結合して 励起子が形成され、形成された励起子からのエネルギーにより特定波長の光を発生する現象である。
【０００３】
このような現象を利用した有機電界発光素子は、図１に示されるような基本的な構造を有している。有機電界発光素子の基本的な構成は、ガラス基板１、ガラス基板１の上部に形成されてアノード電極として使用されるインジウムスズ酸化物層２（Indium Tin Oxide film；以下、'ＩＴＯ層'と称する）、絶縁層と有機物層３及びカソード電極である金属層４が順に積層された構造である。各隔壁Ｗは、ＩＴＯ層２上に多数の金属層４を分離された状態で蒸着するために形成される。
【０００４】
図２は、図１に示された有機電界発光素子の平面図であり、便宜上、図１に示されたキャップ６を除去した状態を示した。図２に示されるように、活性領域Ａに形成された多数のＩＴＯ層２と金属層４は活性領域Ａの外側部分に延在し、ＩＴＯ層２と金属層４の各端部が基板１の一部分に集中してパッド部Ｐを形成することになる。
【０００５】
上述したような工程を介して各要素２、３、４、Ｗからなる活性領域Ａを形成した後、封止剤５（シーラント）を利用してキャップ６を基板１に接着する。キャップ６が接着された領域は基板１の外側部分、すなわち、活性領域Ａの外側領域Ｓ１、Ｓ２である。キャップ６によって、活性領域Ａは、外部と完全に隔離され、活性領域Ａの外側に延在されたＩＴＯ層２（データライン）と金属層４（スキャンライン）が集中したパッド部Ｐのみがキャップ６の外部に露出される。
【０００６】
図１に示されるように、キャップ６と基板１との間には密閉空間が形成され、該密閉空間内に位置した要素２、３、４、Ｗは、湿気などのような外部環境に影響されない。一方、キャップ６は金属またはガラスで製造され、封止剤５としては紫外線（Ｕ．Ｖ．）硬化性接合剤が使用される。また、キャップ６の中央部底面には（有機物質からなる）テープ７によって吸湿剤であるゲッター８が接着されている。
【０００７】
以上のような金属キャップ６を基板１に接着する過程を図１、２及び３を参考にして簡単に説明すれば、次の通りである。
キャップトレー（未図示）に積載された多数の金属キャップ６に、ゲッターをそれぞれ接着した後、キャップ６の基板接着領域（キャップの外周表面）に封止剤を分配する。基板１とキャップ６とを整列させた後、基板１に形成された活性領域Ａの外側領域Ｓ１、Ｓ２にキャップ６を接着し、キャップ６の接着状態を堅固にするために、基板１のキャップ接着領域Ｓ１、Ｓ２に紫外線を選択的に照射して封止剤を硬化させる。このとき、キャップ６は金属材料からなり、紫外線が透過できなく、したがって、ガラス基板１に紫外線を照射することになる。
【０００８】
一方、素子の活性領域に紫外線が照射される場合、アクティブ・マトリックスでは駆動トランジスタの閾電圧が変化する現象が発生するようになる。また、パッシブ・マトリックスでは有機物が損傷され、素子自体の発光機能に深刻な影響をもたらすようになる。
【０００９】
このような問題点を解決するために、素子の活性領域Ａに紫外線が照射されないようにすることが好ましく、したがって、基板（封止剤と対応する部分）に紫外線を選択的に照射するために、封止剤硬化用マスクが用いられる。
【００１０】
図３は、封止剤硬化工程に使用されたマスクと有機電界発光素子との関係を示した図面である。図３では、便宜上、２個の有機電界発光素子（以下、'素子'と称する）のみを図示しており、活性領域Ａを除いた残りの構成要素は図示しなかった。
【００１１】
封止剤硬化に使用されるマスクｍは、ガラスより屈折率の小さい石英（quartz）で製造され、基板１に形成された各活性領域Ａと対応する部分にはモリブデン（Ｍｏ）またはクロム（Ｃｒ）薄膜からなる光不透過層ｍ１が形成されている。一方、キャップトレー（未図示）にローディングされたキャップを基板に接着する過程で、ある程度の圧力が基板１に作用し、該圧力は基板１と接触状態にあるマスクｍにも伝達される。したがって、このような圧力による変形を防止するためにマスクｍは所定の厚さを有しなければならない。
【００１２】
マスクｍの上部に位置した紫外線ランプ（未図示）で発生された紫外線がマスクｍを透過して基板１に照射され、紫外線はガラス基板１を透過して封止剤５を硬化させることになる。一方、この過程で、マスクｍの光不透過層ｍ１に到達した紫外線は光不透過層ｍ１を透過できなく、したがって、各光不透過層ｍ１に対応する基板１の各活性領域Ａには紫外線が到達しない。
【００１３】
マスクｍを通過した紫外線が基板１に対して垂直に照射されるという仮定下では、上記のような光不透過層ｍ１が形成されたマスクｍを利用して、各活性領域Ａに照射される紫外線を完全に遮断することができる。しかし、図４に示されるように、マスクｍを通過した紫外線が基板１に対して垂直に照射（図４のａ）されることが理想であるが、紫外線発生装置の構造によって理想的な紫外線照射を期待することは難しい。
【００１４】
即ち、紫外線装置において、光源より発生された紫外線は、構成部材であるガラスプレートに反射された後、マスクｍに照射される。したがって、ガラスプレート表面で乱反射された紫外線は、多様な角度を有してマスクｍに照射される。
【００１５】
乱反射された紫外線が、所定の厚さを有する石英材質のマスクｍに所定角度傾斜した状態で入射されると、紫外線はマスク表面で屈折して基板１の活性領域Ａに照射（図４のｂ）される場合が発生する。また、マスクｍに垂直に入射した紫外線であってもマスクｍ表面で屈折が発生し、屈折された紫外線が活性領域Ａを照射（図４のｃ）することになる。
【００１６】
上記のような理由により、活性領域Ａに照射された紫外線は、素子の機能に深刻な影響を及ぼすことになり、したがって、封止剤の硬化工程時、活性領域Ａに紫外線が照射される現象を防止することができるマスクが求められている。
【００１７】
一方、キャップ６が接着された領域（図２のＳ１、Ｓ２）には、活性領域ＡのＩＴＯ層（図１の２）と金属層（図１の４）からそれぞれ延在された金属ラインが形成されているため、マスクｍを通過した紫外線の一部がこの金属ラインによって遮断され、封止剤５に照射され得ない。したがって、この領域（図２のＳ１、Ｓ２）で、金属ライン上に分配された封止剤５が十分に硬化されない問題も発生する。結果的に封止剤の硬化のためにキャップ６が接着される領域（図２のＳ１、Ｓ２）で、金属ラインの幅を最小限にすることが好ましい。
【００１８】
また、マスクｍを利用して基板１に紫外線を照射する場合、マスクｍと基板１（即ち、キャップ６）と間の正確なアラインメントが求められる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
そこで、本発明は、基板に金属キャップを接着するための封止剤硬化工程時、発生する上記した問題点を解決するためのものである。
【００２０】
本発明の目的は、マスクを使用しなくても、封止剤分配領域にのみ紫外線を照射することができ、金属ライン上に分配された封止剤も完全に硬化させることができるガラスキャップ接着方法を提供することにある。
【００２１】
また、本発明の他の目的は、基板の活性領域に照射される紫外線を効果的に遮断して活性領域を保護することができる封止剤硬化用マスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
上記技術的課題を解決するための本発明に係るガラスキャップを接着する方法は、ガラスの基板対応部に多数の凹部を形成する工程；ガラスの基板対応部の反対部分の表面に多数の光不透過層を形成する工程；ガラスの基板接着領域または基板のキャップ接着領域に封止剤を分配する工程；基板に形成された各活性領域がガラスの各凹部内に収納された状態でガラスを基板に接着する工程；基板に接着されないガラスの上部に紫外線を照射して封止剤分配領域の封止剤を硬化させる工程；及び、接着されたガラスと基板を切断して個別素子化する工程；を含む。
【００２３】
ガラスの光不透過層は、基板に形成された多数の活性領域とそれぞれ対応し、光不透過層はスパッタリングまたはサンドブラスト工程を介して形成されたクロムまたはモリブデン薄膜である。
【００２４】
また、本発明に係る他のガラスキャップ接着方法は、多数の凹部が形成されたガラスの基板接着領域または基板のキャップ接着領域に封止剤を分配する工程；基板に形成された各活性領域がガラスの各凹部内に収納された状態でガラスを基板に接着する工程；ガラス上部に封止剤硬化用マスクを位置させた後、マスクを介して紫外線を封止剤分配領域に選択的に照射して封止剤を硬化させる工程；及び、接着されたガラスと基板を切断して個別に素子化する工程；を含む。
【００２５】
マスクのガラス対応面には、基板に形成された活性領域とそれぞれ対応する光不透過層が形成される。また、本発明に係るマスクのガラス対応面及びその反対面には、基板に形成された活性領域とそれぞれ対応する光不透過層が形成され、この場合、ガラス対応面に形成された各不透過層の幅（面積）は、その反対面に形成された不透過層の幅（面積）より広くすることが好ましい。
【発明の効果】
【００２６】
上述した本発明に係る封止剤硬化用マスクは、金属ギャップを基板に接着する工程においても用いることができ、基板に照射される紫外線の一部を遮断することによって、基板に形成された活性領域を保護することもできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、添付図面を参考にして本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００２８】
第１実施形態
図５は、本発明の第１実施形態に係るガラスキャップ接着方法を説明するための基板とガラスとの関係を示した図面であり、多数の活性領域Ａが形成された基板１０及び単一ガラス１１を示している。ガラス１１には、基板１０に形成された各活性領域Ａを収納するための多数の凹部１１Ａが形成されている。
本実施形態に係るガラスキャップ接着方法を説明すれば、次の通りである。
まず、ガラスキャップを形成するために使用されるガラス１１の上部面（即ち、基板１０対応面の反対面）に、多数の光不透過層１１Ｂを形成する。光不透過層１１Ｂは、スパッタリングまたはサンドブラスト工程を介して形成されたクロムまたはモリブデンコーティング層であり、基板１０に形成された多数の活性領域Ａとそれぞれ対応する。
【００２９】
ガラス１１に形成された多数の凹部底面に吸湿剤であるゲッター（未図示）をそれぞれ接着し、次に、ガラス１１の基板接着領域（各凹部１１Ａの外周表面）または基板１０のキャップ接着領域（図２のＳ１、Ｓ２）に封止剤Ｓを分配する。
【００３０】
封止剤分配後、基板１０にガラス１１を対応させた状態で両部材を加圧して接着することによって、基板１０に形成された各活性領域Ａがガラス１１の各凹部１１Ａ内に収納された状態でガラス１１が基板１０に接着される。
【００３１】
この状態で、ガラス１１の上部（即ち、基板１０対応部の反対部分）に紫外線を照射して封止剤Ｓを硬化させ、接着されたガラス１１と基板１０を切断して個別に素子化する。このとき、切断された各ガラスは、基板１０の各活性領域Ａを封止する個別的なガラスキャップとしての機能を果たす。
【００３２】
上記工程において、紫外線を利用した封止剤硬化工程をより具体的に説明する。
金属とは違い、ガラスは紫外線が透過する材質であり、したがって、基板１０と（ギャップ用）ガラス１１を接着した後、基板１０のキャップ接着領域（図２のＳ１、Ｓ２）に分配された封止剤Ｓを硬化させるために、図３に示されるように、基板１０が紫外線発生装置に向かうように基板１０とガラス１１の位置を変える必要がない。
【００３３】
一方、上記説明のように、ガラスキャップを形成するために使用されたガラス１１の上部面（基板１０対応面の反対面）には、基板１０に形成された多数の活性領域Ａとそれぞれ対応する多数の光不透過層１１Ｂが形成されている。
【００３４】
したがって、紫外線はガラス１１の光不透過層１１Ｂを透過できなく、該光不透過層１１Ｂを除いた領域を透過した紫外線は、封止剤Ｓが分配された領域に照射され、封止剤Ｓを硬化させる。このとき、基板１０のキャップ接着領域（図２のＳ１、Ｓ２）には、活性領域のＩＴＯ層及び金属層で延在された金属ライン（図２の２、４）が形成され、該金属ライン２、４上に封止剤Ｓが分配されているため、紫外線は金属ラインなどの影響を受けずに封止剤に照射される。したがって、分配された封止剤Ｓは紫外線によって完全に硬化され、ガラス１１と基板１０は堅固した接着状態を保持することができる。
【００３５】
一方、上記説明のように、基板１０上の各活性領域Ａでは、有機物層（図１の３）上に金属膜（図１の４）が蒸着されている構造である。従って、ガラス１１が紫外線ランプに対応された状態で紫外線が照射される本発明では、金属膜によって、有機物層は、照射される紫外線に露出されない。その結果、紫外線による有機物層の損傷を防止することができる。
【００３６】
封止剤硬化工程が終了された後、基板１０とガラス１１を所定位置（図５のａ、ｂ及びｃ）で切断することによって、個別的な有機電界発光素子が形成される。
【００３７】
以上のような本発明に係るガラスキャップ接着方法は、ガラス１１が紫外線発生源に向かって配置された状態で紫外線が、先ず、ガラス１１に照射されるため、基板１０のキャップ接着領域Ｓ１、Ｓ２に分配された封止剤Ｓが金属ライン２、４の影響を受けずに完全に硬化できる。したがって、基板１０のキャップ接着領域Ｓ１、Ｓ２における金属ライン２、４の幅に余裕を持たせることができる。また、各活性領域Ａで金属膜によって有機物層が紫外線に露出されないことにより、有機物が損傷することはない。
【００３８】
特に、基板１０に形成された各活性領域Ａと対応する光不透過層１１Ｂがガラス１１自体に形成されているため、マスクを使用しなくても、封止剤硬化工程時、基板１０の活性領域Ａを紫外線から保護することができる。したがって、マスクとガラス（及び基板）のアラインメントを調整する過程を行う必要がない。
【００３９】
第２実施形態
図６は、本発明の第２実施形態に係るキャップ接着方法を説明するための、封止剤硬化用マスクＭ、基板１０及びガラス２１の関係を示した図面である。一方、図６では、図５に示された構成部材と同じ構成部材には同一符号を付した。
【００４０】
図６においても、多数の活性領域Ａが形成された基板１０及び（基板１０の各活性領域Ａを収納するための）多数の凹部２１Ａが形成された単一ガラス２１を示している。
本実施形態に係るキャップ接着方法を説明すれば、次の通りである。
【００４１】
まず、ガラス２１に形成された多数の凹部２１Ａの底面（図６では上部面）に吸湿剤であるゲッター（未図示）をそれぞれ接着し、次に、ガラス２１の基板接着領域（各凹部２１Ａの外周表面）または基板１０のキャップ接着領域（図２のＳ１、Ｓ２）に封止剤Ｓを分配する。
【００４２】
封止剤Ｓ分配後、基板１０にガラス２１を対応させた状態で、両部材を加圧して接着することによって、基板１０に形成された各活性領域Ａがガラス２１の各凹部２１Ａ内に収納された状態で、ガラス２１が基板１０に接着される。
【００４３】
この状態で、ガラス２１上部（基板１０対応部の反対部分）に封止剤硬化用マスクＭを位置させた後、紫外線を照射して封止剤Ｓを硬化させ、接着されたガラス２１と基板１０を切断して個別に素子化する。このとき、切断された各ガラス２１は基板１０の各活性領域Ａを封止する個別的なガラスキャップとしての機能を果たす。
【００４４】
上記工程において、紫外線を利用した封止剤硬化工程及び使われたマスクＭをさらに具体的に説明する。
【００４５】
ガラスは金属とは違い、紫外線が透過する材質であり、したがって、基板１０と（ギャップ用）ガラス２１を接着した後、基板１０のキャップ接着領域に分配された封止剤Ｓを硬化させるため、図３に示されるように、基板１０が紫外線発生装置に向かうように基板１０とガラス２１の位置を変える必要がない。
一方、本実施形態に使われた封止剤硬化用マスクＭは、ガラスより屈折率の小さい石英で製造され、基板１０に形成された各活性領域Ａと対応する面にはモリブデン（Ｍｏ）またはクロム（Ｃｒ）薄膜からなる光不透過層Ｍ１が形成されている。
【００４６】
マスクＭの上部に位置した紫外線ランプ（未図示）で発生された紫外線が、マスクＭを透過してガラス２１に照射され、紫外線はガラス２１を透過して封止剤Ｓを硬化させることになる。この過程で、マスクＭの光不透過層Ｍ１に到達した紫外線は、光不透過層Ｍ１を透過できなく、したがって、各光不透過層Ｍ１に対応する基板１０の各活性領域Ａは紫外線が到達しない。
【００４７】
不透過層Ｍ１を除いたマスクＭの領域を通過した紫外線は、ガラス２１を透過して封止剤が分配された領域に照射され、したがって、封止剤Ｓが硬化される。このとき、基板１０のキャップ接着領域（図２のＳ１、Ｓ２）では金属ライン上に封止剤Ｓが位置しているため、紫外線は金属配線などの影響を受けずに封止剤Ｓに照射される。したがって、分配された全ての封止剤Ｓが紫外線によって完全に硬化され、ガラス２１と基板１０は堅固した接着状態を保持することができる。
【００４８】
一方、第１実施形態と同様に、基板１０上の各活性領域Ａでは、有機物層（図１の３）上に金属膜（図１の４）が蒸着されている構造である。したがって、ガラス１１が紫外線ランプに対応された状態で紫外線が照射される本発明では、金属膜によって有機物層は紫外線に露出されない。その結果、紫外線による有機物の損傷を防止することができる。
封止剤硬化工程が終了された後、基板１０とガラス２１を所定位置で切断（図６のａ、ｂ、ｃ）することによって、個別的な有機電界発光素子が形成される。
【００４９】
第３実施形態
図７は、本発明の第３実施形態に係るガラスキャップ接着方法を説明するための、封止剤硬化用マスクとガラス、並びに基板の関係を示した図面であり、第１及び第２実施形態の構成部材と同じ構成部材には同一符号を付した。
【００５０】
図７においても、多数の活性領域Ａが形成された基板１０及び（基板１０上の各活性領域Ａを収納するための）多数の凹部２１Ａが形成された単一ガラス２１を示している。
【００５１】
本実施形態に係るガラスキャップ接着工程は、使用されたマスクを除いて第２実施形態の工程と同一である。したがって、ガラス接着工程及び封止剤硬化工程に対する説明は省略し、使われたマスクの構成を具体的に説明する。
【００５２】
ガラスは、金属とは違って紫外線が透過する材質であり、したがって、基板１０と（ギャップ用）ガラス２１を接着した後、基板１０のキャップ接着領域に分配された封止剤Ｓを硬化させるため、図３に示されるように、基板１０が紫外線発生装置（未図示）に向かうように基板１０とガラス２１の位置を変える必要がない。
【００５３】
一方、本実施形態に係るキャップ接着方法に使用された封止剤硬化用マスクＭ１０はガラスより屈折率の小さい石英で製造され、所定の厚さを有して形成される。
【００５４】
マスクＭ１０のガラス対応面及びその反対面には、光不透過層Ｍ１１、Ｍ１２が互いに対応された状態で形成され、ガラス対応面及びその反対面に形成された１組の不透過層Ｍ１１、Ｍ１２は基板１０に形成された活性領域Ａと対応される。各光不透過層Ｍ１１、Ｍ１２はスパッタリングまたはサンドブラスト工程を介して形成されたクロムまたはモリブデン薄膜である。
【００５５】
一方、マスクＭ１０のガラス対応面に形成された光不透過層Ｍ１１は、その反対面に形成された光不透過層Ｍ１２の幅または面積より広いものが好ましい。
【００５６】
紫外線がマスクＭ１０に対して垂直に照射され得ることはもちろんのこと、マスクＭ１０に対して所定角度傾斜した状態で入射され、マスク表面屈折され得る。マスクＭ１０表面で屈折した紫外線はガラス対応面に形成された光不透過層Ｍ１１によって遮断され、したがって、紫外線は基板１０の活性領域Ａに照射されない。
【００５７】
また、ガラス対応面の反対面に形成された、ある光不透過層Ｍ１２の両側に形成された光不透過層は、マスクＭ１０に対して所定角度傾斜した状態で入射された後、内部で屈折した紫外線を遮断することによって、ガラス対応面に形成された光不透過層Ｍ１１の下部に位置する基板１０の活性領域Ａに、紫外線が照射されることを防止することができる。
【００５８】
光不透過層Ｍ１１、Ｍ１２を除いたマスクＭ１０の領域を通過した紫外線は、ガラス２１を透過して封止剤Ｓが分配された領域に照射され、したがって、封止剤Ｓが硬化される。このとき、基板１０のキャップ接着領域（図２のＳ１、Ｓ２）に形成されたＩＴＯ層及び金属層の金属ライン上に封止剤が分配されているために、紫外線は金属ラインなどの影響を受けずに封止剤Ｓに照射される。したがって、分配された封止剤Ｓ全体が紫外線によって完全に硬化され、ガラス１１と基板１０は堅固した接着状態を保持することができる。
【００５９】
第１及び第２実施形態で説明したように、基板１０上の各活性領域Ａは有機物層（図１の３）上に金属膜（図１の４）が蒸着されている構造である。したがって、ガラス２１が紫外線ランプに対応された状態で紫外線が照射される本発明では、金属膜によって有機物層は照射される紫外線に露出されない。その結果、紫外線による有機物の損傷を防止することができる。
【００６０】
封止剤硬化工程が終了された後、基板１０とガラス２１を所定位置で切断（図７のａ、ｂ、ｃ）することにより、個別的な有機電界発光素子が形成される。
【００６１】
以上のように、第２及び第３実施形態に係るガラスキャップ接着方法は（ギャップ用）ガラスが紫外線発生源に向かって配置された状態で紫外線がガラスに、まず、照射されるため、基板のキャップ接着領域上に分配された封止剤が金属ラインの影響を受けずに完全に硬化される。したがって、基板のキャップ接着領域での金属ラインの幅に余裕を持たせることができる。また、各活性領域で金属膜によって有機物層が紫外線に露出しないことによって、有機物は損傷されない。
【００６２】
一方、図７に示されたマスクは、ガラスキャップだけでなく封止剤を利用して金属キャップを接着する工程においても適用することができる。
【００６３】
図８は、第３実施形態での封止剤硬化用マスクを利用して金属キャップ接着用封止剤を硬化させる状態を示した図面であり、便宜上、基板に接着された２個の金属キャップ６のみを示した。
【００６４】
第３実施形態の説明及び図７でのように、封止剤硬化用マスクＭ１０の基板対応面（以下、'第１面'と称する）及びその反対面（以下、'第２面'と称する）に多数の光不透過層Ｍ１１、Ｍ１２がそれぞれ形成されている。
【００６５】
封止剤硬化用マスクＭ１０は、ガラスより屈折率の小さい石英で製造され、所定の厚さを有して形成される。マスクＭ１０の第１面及び第２面に形成された光不透過層Ｍ１１、Ｍ１２は互いに対応されたた状態である。第１面及び第２面にそれぞれ形成された１組の光不透過層Ｍ１１、Ｍ１２は、基板１に形成された活性領域Ａと対応される。各光不透過層Ｍ１１、Ｍ１２は、スパッタリングまたはサンドブラスト工程を介して形成されたクロムまたはモリブデン薄膜である。
【００６６】
以上のように構成されたマスクＭ１０の機能を図面を参照して説明する。
図８に示されるように、紫外線はマスクＭ１０に対して垂直に照射される（図８のＸ）のはもちろん、マスクＭ１０に対して所定角度傾斜した状態で入射され、マスクＭ１０表面で屈折する。マスクＭ１０表面で屈折した紫外線（図８のＹ）は第１面の不透過層Ｍ１１によって遮断され、したがって、基板１の活性領域Ａに紫外線は照射されない。
【００６７】
また、所定の入射角度を有して入射され、表面で屈折された後、活性領域Ａに照射される紫外線（図８のＺ）は、マスクＭ１０の第２面に形成された光不透過層Ｍ１２により遮断されることによって、基板１の活性領域Ａに紫外線が照射されることを防止することができる。
【００６８】
一方、第１面に形成された光不透過層Ｍ１１の面積（幅）を対応する第２面に形成された光不透過層Ｍ１２の面積（幅）より大きくすることが好ましい。もし、第２面の光不透過層Ｍ１２の面積が第１面の光不透過層Ｍ１１の面積より大きい場合、キャップ６の封止剤分配領域（または基板のキャップ接着領域（図２のＳ１、Ｓ２））に存在する封止剤５に紫外線が到達できないこともあり、したがって、封止剤５の完全な硬化が行われない。
【００６９】
以上のように、第３実施形態で使われた封止剤硬化用マスクＭ１０を金属キャップ工程に用いる場合、マスクＭ１０の上部及び下部不透過層Ｍ１２、Ｍ１１によって素子の活性領域Ａに照射される大部分の紫外線を遮断することができ、封止剤の硬化機能と共に活性領域保護機能をも得ることができる効果がある。
【００７０】
上記で説明した本発明の好ましい実施形態は、例示の目的のために開示された。したがって、本発明に対する通常の知識を有する当業者ならば、本発明の思想と範囲内で、多様な修正、変更、付加が可能である。このような修正、変更及び付加は本発明の特許請求の範囲に属するものである。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】有機電界発光素子の基本的な構造を概略的に示した断面図である。
【図２】図１に示された、キャップを除去した状態の有機電界発光素子の平面図である。
【図３】封止剤硬化工程に使われた一般的なマスクと有機電界発光素子との関係を示した図面である。
【図４】紫外線の経路を説明するためのマスクと基板の一部詳細図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係るキャップ接着方法を説明するためのガラスと基板との関係を示した図面である。
【図６】本発明の第２実施形態に係るキャップ接着方法を説明するためのガラスと基板との関係を示した図面である。
【図７】本発明の第３実施形態に係るキャップ接着方法を説明するためのガラスと基板との関係を示した図面である。
【図８】図７に示されたマスクを利用して金属キャップを基板に接着する状態を示す図面である。
【符号の説明】
【００７２】
１、１０    基板
３  有機物層
４  金属層
５  封止剤
６  キャップ
８  ゲッター
１１    ガラス
１１Ａ、２１Ａ  凹部
１１Ｂ、Ｍ１、Ｍ１１、Ｍ１２  光不透過層
Ａ      活性領域
Ｍ、Ｍ１０    マスク
Ｓ      封止剤
Ｓ１、Ｓ２    キャップ接着領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2006165497.tif 000007
【図６】
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【図７】
2006165497.tif 000009
【図８】
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