(57)【要約】【課題】  コア層とクラッド層との界面の平坦性を高め、記録情報の再現性を向上させる。【解決手段】  コア層１３ａの上に、紫外線硬化樹脂を塗布してクラッド層１４を形成した後、情報用凹凸部１６に対応した凹凸パターンを有する樹脂スタンパ２３を表面に貼り合せた状態で紫外線照射を行い、クラッド層１４を硬化させる。クラッド層１４が硬化した後、樹脂スタンパ２３を剥離すると、クラッド層１４に情報用凹凸部１６が転写される。次いで、クラッド層１４の上に、紫外線硬化樹脂を塗布してコア層１３を形成した後、樹脂フイルムなどの平滑な面を有する平滑基体２２をコア層１３の表面に貼り付け、この状態で紫外線照射を行い、コア層１３を硬化させる。コア層１３が硬化した後、平滑基体２２を剥離すると、コア層１３の表面が平坦化される。この後、上記方法によってコア層１３の上にクラッド層１４を形成する。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈折率の異なる第１樹脂層と第２樹脂層とを交互に積層し、前記第１樹脂層と前記第２樹脂層との一方の界面に情報再生用の凹凸部を形成してなる光導波路型の光メモリの製造方法において、
前記第１樹脂層の上面に前記凹凸部を形成し、この上に樹脂を塗布して前記第２樹脂層を形成した後、平滑な面を有する基体を表面に貼り合せた状態で前記第２樹脂層を硬化させ、前記第２樹脂層が硬化した後、前記基体を剥離することを特徴とする光メモリの製造方法。
【請求項２】
前記樹脂は光硬化性を有し、前記基体は光透過性を有し、前記基体を透過した光によって前記第２樹脂層を硬化させることを特徴とする請求項１記載の光メモリの製造方法。
【請求項３】
前記基体は、フイルム状であって可撓性を有することを特徴とする請求項１または２記載の光メモリの製造方法。
【請求項４】
前記第２樹脂層の上に、樹脂を塗布して前記第１樹脂層を形成した後、前記凹凸部に対応した凹凸パターンを有するスタンパを表面に貼り合せた状態で前記第１樹脂層を硬化させ、前記第１樹脂層が硬化した後、前記スタンパを剥離することによって前記凹凸部を形成すること特徴とする請求項１ないし３いずれか記載の光メモリの製造方法。
【請求項５】
前記樹脂は光硬化性を有し、前記スタンパは光透過性を有し、前記スタンパを透過した光によって前記第１樹脂層を硬化させることを特徴とする請求項４記載の光メモリの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路型の光メモリの製造方法に関し、特に記録情報の再現性を向上させることができる光メモリの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、樹脂製のコア層と、このコア層の上下に積層された樹脂製のクラッド層とからなり、コア層とクラッド層との一方の界面に、再生像を得るため情報用凹凸部を形成した平面型の光導波路を、１個又は複数個積層してなる光メモリ（情報記録媒体）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
図８に示すように、コア層１０１とクラッド層１０２とが交互に積層されてなる光メモリ１００に記録された記録情報を読み出す際には、側部に形成された光導入面１０３に対して、シリンドリカルレンズ１０４によって縦幅約５μｍに絞った光（レーザ光）を照射し、所望のコア層１０１に光を導入する。コア層１０１に導入された光は、界面に形成された情報用凹凸部によって散乱されながら伝播する。この時、情報用凹凸部で散乱された散乱光（再生光）は導入光に対して交差する方向（上下方向）に光メモリ１００内を透過し、光メモリ１００の上面及び下面から外部へ放出される。
【０００４】
この例では、光メモリ１００の上面から放出された散乱光をイメージセンサ１０５で受光するようにしている。イメージセンサ１０５が受光した散乱光の２次元干渉パターン（再生像）をデジタル情報に復調することで、光メモリ１００に記録された記録情報が再現する。
【特許文献１】特開２００２−１２０２８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記光メモリ１００において、情報用凹凸部が存在しないコア層１０１とクラッド層１０２との界面の平坦性は、記録情報の再現性（ビットエラーレート）に影響を与える。つまり、上記界面の平坦性が劣化していると、導入光の伝播に支障が生じることや、散乱光に位相のずれが生じて再生像の輝点が再現されないことが原因となり、記録情報の再現性が低下する。
【０００６】
コア層１０１およびクラッド層１０２は、光硬化性樹脂を塗布し、これを窒素雰囲気下で光照射して硬化させることによって形成されているため、硬化収縮の影響により上記界面の平坦性が劣化し、記録情報の再現性が低いという問題がある。これに対して、光硬化性樹脂への光の照射量を下げ、硬化収縮量を減らすことによって平坦性を高める方法も考えられるが、この方法では硬化が不十分となるため、完成後の光メモリの耐久性が低下する。
【０００７】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、コア層とクラッド層との界面の平坦性を高め、記録情報の再現性を向上させることができる光メモリの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の光メモリの製造方法は、屈折率の異なる第１樹脂層と第２樹脂層とを交互に積層し、前記第１樹脂層と前記第２樹脂層との一方の界面に情報再生用の凹凸部を形成してなる光導波路型の光メモリの製造方法において、前記第１樹脂層の上面に前記凹凸部を形成し、この上に樹脂を塗布して前記第２樹脂層を形成した後、平滑な面を有する基体を表面に貼り合せた状態で前記第２樹脂層を硬化させ、前記第２樹脂層が硬化した後、前記基体を剥離することを特徴とする。
【０００９】
なお、前記樹脂は光硬化性を有し、前記基体は光透過性を有し、前記基体を透過した光によって前記第２樹脂層を硬化させることが好ましい。また、前記基体は、フイルム状であって可撓性を有することが好ましい。
【００１０】
また、前記第２樹脂層の上に、樹脂を塗布して前記第１樹脂層を形成した後、前記凹凸部に対応した凹凸パターンを有するスタンパを表面に貼り合せた状態で前記第１樹脂層を硬化させ、前記第１樹脂層が硬化した後、前記スタンパを剥離することによって前記凹凸部を形成することが好ましい。
【００１１】
さらに、前記樹脂は光硬化性を有し、前記スタンパは光透過性を有し、前記スタンパを透過した光によって前記第１樹脂層を硬化させることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光メモリの製造方法によれば、第１樹脂層（クラッド層またはコア層）の上面に凹凸部を形成し、この上に樹脂を塗布して第２樹脂層（コア層またはクラッド層）を形成した後、平滑な面を有する基体を表面に貼り合せた状態で第２樹脂層を硬化させ、第２樹脂層が硬化した後、基体を剥離するので、第２樹脂層の硬化収縮を抑え、表面の平坦性を高めることができる。これにより、第２樹脂層内の光の伝播が良好となるとともに、再生光の位相が乱されにくくなるため、記録情報の再現性が向上する。
【００１３】
また、第２樹脂層の硬化時に、第２樹脂層の表面は基体で覆われているため、この硬化工程は、酸素による樹脂の硬化不足を防止するための窒素雰囲気下で実施する必要がなく、空気中において実施できるため、製造コストの削減を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図１に示す積層導波路型の光メモリ１０は、２つのユニット１１が接着層１２を介して上下に貼り合わされた構成となっている。ユニット１１は、コア層１３とクラッド層１４とがフイルム１５ａ上に交互に積層されており、最上層には、フイルム１５ｂが貼着されている。
【００１５】
コア層１３及びクラッド層１４は、紫外線硬化樹脂で形成されており、この紫外線硬化樹脂としては、（メタ）アクリル系、エポキシ系などの樹脂が適当である。コア層１３の厚さは、１．０〜１．５μｍ程度が適当であり、例えば、１．４μｍにされている。クラッド層１４の厚さは、８〜１０μｍ程度が適当であり、例えば、１０μｍにされている。コア層１３の屈折率はクラッド層１４の屈折率より大きく、コア層１３の屈折率は１．５２、クラッド層１４の屈折率は１．５１とされている。
【００１６】
コア層１３とクラッド層１４との一方の界面には、情報用凹凸部１６が形成されている。この情報用凹凸部１６は、光メモリ１０に記録すべきデジタル情報を２次元符号化し、その符号化されたデジタル情報を元に計算機によって合成されたパターン（計算機ホログラムと称される）が転写されたものである。なお、情報用凹凸部１６の凹凸の高さは約１００ｎｍ、導波方向への凹凸の配列ピッチは数百ｎｍである。この配列ピッチは、コア層１３への導入光の波長およびコア層１３の屈折率によって決定される（配列ピッチ＝（導入光の波長）／（コア層１３の屈折率））。例えば、導入光として波長６６０ｎｍのレーザ光を使用し、コア層１３の屈折率を１．５２とした場合には、凹凸の配列ピッチは約４４０ｎｍである。
【００１７】
光導波路１７は、１つのコア層１３と、その上下に積層された２つのクラッド層１４とによって構成されている。なお、各ユニット１１の最上層に形成されたコア層１３ｂの上にはクラッド層１４が形成されていないが、その上に形成されたフイルム１５ｂの屈折率をクラッド層１４の屈折率とほぼ同一としているため、最上層のコア層１３ｂも光導波路１７を構成する。
【００１８】
同図において、各ユニット１１を３層の光導波路１７で構成しているが、これは図を簡略化するためであり、実際には２０層程度の光導波路１７で各ユニット１１を構成することが好ましい。この場合、ユニット１１の厚さは、０．４ｍｍ程度となる。また、同図において、光メモリ１０を２つのユニット１１で構成しているが、これも図を簡略化するためであり、実際には５個程度のユニット１１で光メモリ１０を構成することが好ましい。
【００１９】
ユニット１１は、光導波路１７が一定数積層された積層体の上下に比較的高剛性のフイルム１５ａ，１５ｂが貼着されてなる。フイルム１５ａ，１５ｂは、積層体の反りや撓みを抑えるために設けられている。フイルム１５ａ，１５ｂは、アートン（登録商標）等の非晶質ポリオレフィン、ポリカーボネート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）などの樹脂からなり、その厚さは１５０μｍ程度である。
【００２０】
各ユニット１１を接着する接着層１２としては、紫外線硬化樹脂が用いられる。接着層１２の屈折率が、フイルム１５ａ，１５ｂの屈折率と大きく異なると、接着層１２とフイルム１５ａ，１５ｂとの界面で再生光が反射して、光量やＳ／Ｎ比が低下してしまうことがあるため、接着層１２とフイルム１５ａ，１５ｂとの屈折率はほぼ等しく設定されている。
【００２１】
各ユニット１１の端部には、光導入面１８が形成されている。光導入面１８からコア層１３に光（レーザ光）が導入されると、導入光は、クラッド層１４との界面で反射されながらコア層１３を伝播するとともに、一部が情報用凹凸部１６によって散乱（回折）される。
【００２２】
光メモリ１０を構成するコア層１３、クラッド層１４、フイルム１５ａ，１５ｂ、及び接着層１２の各層は、情報用凹凸部１６で散乱された散乱光（再生光）の波長に対して透明であるので、各光導波路１７から上下に放出される再生光は各層を透過し、光メモリ１０の上面及び下面から外部へ放出される。この再生光をＣＣＤなどの２次元イメージセンサで受光し、イメージセンサの撮像信号をデジタル信号化し、所定の画像処理を行うことで、元の記録情報が再現する。
【００２３】
以下に、記録情報の再現性を向上させることを可能とする光メモリ１０の製造方法について説明する。図２（Ａ）において、まず、ガラス基板２１を用意する。ガラス基板２１は、厚さが約１ｍｍ程度のものを用い、その上面及び下面は凹凸がなく平坦である。なお、ガラス基板２１に代えて、アートン（登録商標）等の非晶質ポリオレフィンや、ポリカーボネートからなる硬質の基板等を用いても良い。次いで、ガラス基板２１の表面に硬化後の屈折率が１．５１の紫外線硬化樹脂をスピンコータによって塗布して接着層１２を形成する。
【００２４】
図２（Ｂ）において、接着層１２の上にフイルム１５ａをラミネート（貼着）し、フイルム１５ａの上方から紫外線照射装置によって紫外線を照射する。このフイルム１５ａは、紫外線に対して透過性を有しており、接着層１２は、フイルム１５ａを透過した紫外線を受けて硬化する。この結果、フイルム１５ａが、接着層１２を介してガラス基板２１上に接着される。
【００２５】
図２（Ｃ）において、フイルム１５ａ上に硬化後の屈折率が１．５２の紫外線硬化樹脂であるコア材（液体コア樹脂）をスピンコータによって塗布してコア層１３ａを形成し、このコア層１３ａの上に平滑基体２２をラミネートする。平滑基体２２は、紫外線に対して透過性を有しており、表面は平坦である。この状態で、平滑基体２２の上方から紫外線照射装置によって紫外線を照射してコア層１３ａを硬化させ、コア層１３ａが完全に硬化した後、平滑基体２２をコア層１３ａから剥離する。コア層１３ａには平坦な表面が形成される。
【００２６】
図２（Ｄ）において、コア層１３ａの上に硬化後の屈折率が１．５１の紫外線硬化樹脂であるクラッド材（液体クラッド樹脂）をスピンコータによって塗布してクラッド層１４を形成する。図３（Ａ）において、クラッド層１４の上に、可撓性を有する樹脂スタンパ２３をラミネートする。樹脂スタンパ２３は、紫外線に対して透過性を有しており、下面には、前述の情報用凹凸部１６に対応した凹凸パターンが形成されている。この状態で、樹脂スタンパ２３の上方から紫外線照射装置によって紫外線を照射してクラッド層１４を硬化させる。クラッド層１４が完全に硬化した後、図３（Ｂ）において、樹脂スタンパ２３をクラッド層１４から剥離すると、クラッド層１４の表面に情報用凹凸部１６が転写される。
【００２７】
図３（Ｃ）において、クラッド層１４の上に、前述のコア材をスピンコータによって塗布してコア層１３を形成し、このコア層１３の上に平滑基体２２をラミネートする。この状態で、平滑基体２２の上方から紫外線照射装置によって紫外線を照射してコア層１３を硬化させる。コア層１３が完全に硬化した後、図３（Ｄ）において、平滑基体２２をコア層１３から剥離すると、コア層１３には平坦な表面が形成される。
【００２８】
このようにして、フイルム１５ａ上に、コア層１３とクラッド層１４とが形成される。この後、図２（Ｄ）〜図３（Ｄ）の工程を繰り返し実施して、コア層１３とクラッド層１４とを交互に積層することにより、図４（Ａ）に示すように、コア層１３とその上下のクラッド層１４とからなる光導波路１７が形成される。
【００２９】
所望の数の光導波路１７を形成した後、図４（Ｂ）において、最上層のクラッド層１４の上に、前述のコア材をスピンコータによって塗布してコア層１３ｂを形成し、このコア層１３ｂの上に、前述のフイルム１５ａと同様のフイルム１５ｂをラミネートする。この状態で、フイルム１５ｂの上方から紫外線照射装置によって紫外線を照射してコア層１３ｂを硬化させる。
【００３０】
図４（Ｃ）において、ガラス基板２１を接着層１２から剥離することによってユニット１１が形成される。そして、ユニット１１の両端部をダイシング装置で切断して光導入面１８を形成し、適宜の大きさに切断されたユニット１１を上下に積層して、加圧及び加熱を施すことにより、接着層１２を介してユニット１１が互いに接続され、図１に示す光メモリ１０が完成する。
【００３１】
上記製造方法では、コア材を塗布して形成したコア層１３の表面に、平滑な表面を有する平滑基体２２をラミネートした状態で、コア層１３を光硬化させるようにしているので、コア層１３の硬化収縮を抑え、表面の変動（凹凸）を低減することができる。これにより、コア層１３内の光の導波が良好となるとともに、情報用凹凸部１６による散乱光の位相がコア層１３の表面で乱されにくくなるため、光メモリ１０のビットエラーレート（以下、ＢＥＲと称する）が低下し、記録情報の再現性が向上する。
【００３２】
また、紫外線硬化樹は酸素を含む空気中では硬化しにくいといった性質を有するが、上記製造方法では、コア層１３の硬化時には、その表面を平滑基体２２で覆い、クラッド層１４の硬化時には、その表面を樹脂スタンパ２３で覆うので、各硬化工程は、従来のように酸素を排除した窒素雰囲気下で行う必要がなく、空気中において実施できるため、さらに製造コストの削減を図ることができる。
【００３３】
なお、平滑基体２２としては、光透過性を有する樹脂フイルムやガラスが好ましく、さらには硬化したコア層１３からきれいに剥離することができる平坦な部材であることが好ましい。また、この剥離性を考慮すると、平滑基体２２としては、可撓性を有する樹脂フイルムがより好ましく、光透過性と可撓性とを備えた、ＰＥＴ、ＰＥＮ、テフロン（登録商標）フイルム、ナイロン、ポリカーボネートなどを用いることも好適である。また、剥離性が悪い場合には、平滑基体２２の表面に離型性樹脂を平滑に設置するなどの離型処理を行えばよい。
【００３４】
上記実施形態では、コア層１３およびクラッド層１４を紫外線硬化樹脂によって形成しているが、これに限定されず、紫外線硬化樹脂に代えて、紫外線以外の波長の光によって硬化する光硬化性樹脂を用いてもよい。また、光硬化性樹脂に代えて、熱によって硬化する熱硬化性樹脂を用いることも可能である。この場合には、平滑基体２２として、光透過性を有さない金属やシリコンウエハなどを用いることが可能である。
【００３５】
また、上記実施形態では、ガラス基板２１上に接着されたフイルム１５ａ上に、コア層１３及びクラッド層１４を交互に積層しているが、これに限定されず、フイルム１５ａを設けず、ガラス基板２１上に直接、コア層１３及びクラッド層１４を積層してもよい。
【００３６】
また、上記実施形態では、スピンコータによって樹脂の塗布を行っているが、これに限定されず、スピンコータに代えて、ブレードコート法、グラビアコート法、ダイコート法等を利用した塗布装置を用いてもよい。
【００３７】
さらに、上記実施形態では、クラッド層１４の上面に情報用凹凸部１６を形成する場合を例に説明したが、これに限定されず、コア層１３の上面に情報用凹凸部１６を形成してもよい。この場合には、塗布したコア材の表面に樹脂スタンパ２３をラミネートしてコア層１３を形成し、塗布したクラッド材の表面に平滑基体２２をラミネートしてクラッド層１４を形成する。
【実施例１】
【００３８】
上記製造方法を用いて測定用サンプルおよび光メモリ（ユニット１１）を製造し、コア層の平坦性およびＢＥＲの測定を行った。なお、実験３は、実験１，２に対する比較実験として実施したものである。
【００３９】
[樹脂スタンパの作成]
まず、以下のようにして図５に示す樹脂スタンパ２３を作成した。情報用凹凸部１６と同一の凹凸パターンが表面に形成されたシリコンウエハ（マスタパターン）の上に、コア層１３の形成に用いられる下記の組成のコア材Ａをスピンコータによって、約２μｍの膜厚になるように塗布して、凹凸層２３ａを形成した。次いで、この凹凸層３１の上に、気泡が入らないように樹脂フイルム２３ｂ（ＪＳＲ製アートンフイルム，膜厚２００μｍ）をラミネートし、この状態で、樹脂フイルム２３ｂの上方から紫外線（高圧水銀灯，露光量２０００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を照射して凹凸層２３ａを硬化させた。そして、シリコンウエハを剥離し、空気中にて、さらに上記紫外線の照射を４回実施して、凹凸パターンが転写された凹凸層２３ａを十分に硬化させた。
【００４０】
[コア材Ａ]
ライトアクリレ−ト1,6-HX-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）４０質量部
ライトアクリレ−トTMP-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）  ２０質量部
ライトアクリレ−トDCP-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）  ２０質量部
カラヤッドR-712（日本化薬(株)製アクリレ−トモノマ−）             ２０質量部
ダロキュア1173（チバ・ガイギー(株)製光重合開始材）              ０．５質量部
【００４１】
[平滑基体の作成]
次に、以下のようにして図６に示す平滑基体２２を作成した。平坦なシリコンウエハの上に、クラッド層１４の形成に用いられる下記の組成のクラッド材Ｂをスピンコータによって、約５μｍの膜厚になるように塗布し、窒素雰囲気下にて紫外線（高圧水銀灯，露光量２０００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を照射してクラッド材Ｂを硬化させ、平滑層２２ａを形成した。次いで、この平滑層２２ａの上にコア材Ａをスピンコータによって、約２μｍの膜厚になるように塗布して接着層２２ｂを形成し、この接着層２２ｂの上に、気泡が入らないように樹脂フイルム２２ｃ（ＪＳＲ製アートンフイルム，膜厚２００μｍ）をラミネートし、この状態で、樹脂フイルム２２ｃの上方から上記紫外線を照射して接着層２２ｂを硬化させ、シリコンウエハを剥離した。そして、空気中にて、さらに上記紫外線の照射を４回実施して、平滑層２２ａを十分に硬化させた。
【００４２】
[クラッド材Ｂ]
ライトアクリレ−トTMP-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）  ２０質量部
ライトアクリレ−ト1,6-HX-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）４０質量部
ＵＶ６１００Ｂ（日本合成化学(株)製ウレタンアクリレ−トオリゴマ−） ４０質量部
ダロキュア1173（チバ・ガイギー(株)製光重合開始材）              ０．５質量部
【００４３】
[実験１]
次に、上記のようにして作成した樹脂スタンパ２３および平滑基体２２を用い、以下のようにして図７に示す測定用サンプルを作成した。ガラス基板２１にシランカップリング処理を行い、このガラス基板２１の上にクラッド材Ｂをスピンコータによって、約１０μｍの膜厚になるように塗布し、クラッド層１４を形成した。次いで、このクラッド層１４の上に、気泡が入らないように樹脂スタンパ２３をラミネートし、この状態で、樹脂スタンパ２３の上方から紫外線（高圧水銀灯，露光量１５００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を照射してクラッド層１４を硬化させた後、樹脂スタンパ２３を剥離した。そして、情報用凹凸部１６が転写されたクラッド層１４の上にコア材Ａをスピンコータによって、約１．４μｍの膜厚になるように塗布してコア層１３を形成し、このコア層１３の上に平滑層２２ａが接するように平滑基体２２をラミネートした。
【００４４】
この状態で、平滑基体２２の上方から紫外線（高圧水銀灯，露光量９００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を照射してコア層１３を硬化させ、平滑基体２２を剥離した後、コア層１３の表面の平坦性を測定した。この平坦性の測定は、白色干渉計（NewView5000／Zygo社製）により、可干渉深度を１μｍ（測定深さ設定＋オフセット）に調整して表面形状を測定することで、コア層１３の表面の変動量（測定長２ｍｍあたりの最大値）を求めた。
【００４５】
また、上記段落〔００２３〕〜〔００３０〕の方法でクラッド層１４とコア層１３とを交互に積層することで光メモリ（ユニット１１）を作成し、ＢＥＲの測定を行った。ＢＥＲの測定は、発振波長６６０ｎｍ、パワー１０ｍＷのレーザ光をコア層１３に入射して、情報用凹凸部１６による散乱光の２次元干渉パターンをイメージセンサで取り込み、これをデジタル情報に復調して元のデジタル情報と比較することにより行った。このＢＥＲの測定では、イメージセンサに取り込まれたデータをエリアごとに元のデジタル情報と比較し、ＢＥＲが１０-4未満のエリアの全体に対する割合を百分率で算出する。つまり、この百分率が大きいほどエラーが少ない（記録情報の再現性が高い）。
【００４６】
[実験２]
実験２では、コア層１３の硬化時に、平滑基体２２として、図６に示すものに代えて、可撓性を有する平滑な樹脂フイルム（ＰＥＴフイルム，膜厚１００μｍ）を用いる。このほかは、実験１と同様にして、測定用サンプルを作成し、コア層１３の表面の平坦性を測定した。また、同様に、クラッド層１４とコア層１３とを交互に積層して光メモリ１０を作成し、ＢＥＲの測定を行った。
【００４７】
[実験３]
実験３では、コア層１３の硬化時に、平滑基体２２を用いず、コア層１３の表面を露呈させた状態で、窒素雰囲気下で紫外線（高圧水銀灯，露光量９００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を照射してコア層１３を硬化させた。このほかは、実験１と同様にして、測定用サンプルを作成し、コア層１３の表面の平坦性を測定した。また、同様に、クラッド層１４とコア層１３とを交互に積層して光メモリ１０を作成し、ＢＥＲの測定を行った。
【００４８】
以上の実験１〜実験３によって得られた結果を下表１に示す。表１に示すように、本発明を適用した実験１および実験２では、コア層１３の表面の変動量（最大値）は、１００ｎｍ程度であり、ＢＥＲが１０-4未満のエリアの割合は１００％であった。一方、本発明非適用の実験３では、コア層１３の表面の変動量（最大値）は、２５０ｎｍ程度であり、ＢＥＲが１０-4未満のエリアの割合は２０％であった。従って、コア層１３の硬化時に平滑基体２２でコア層１３の表面を覆うことにより、硬化収縮量が低下して表面の変動量が抑えられ、記録情報の再現性が向上することが分かる。
【００４９】
【表１】
2006277899.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】光メモリの構成を示す縦断面図である。
【図２】光メモリの製造方法（前処理工程）を示す縦断面図である。
【図３】光メモリの製造方法（積層工程）を示す縦断面図である。
【図４】光メモリの製造方法（後処理工程）を示す縦断面図である。
【図５】樹脂スタンパの作成例を示す縦断面図である。
【図６】平滑基体の作成例を示す縦断面図である。
【図７】測定用サンプルの作成例を示す縦断面図である。
【図８】従来の光メモリとその動作原理を説明する外観斜視図である。
【符号の説明】
【００５１】
１０  光メモリ
１３  コア層
１４  クラッド層
１６  情報用凹凸部
１７  光導波路
２２  平滑基体
２３  樹脂スタンパ
【図１】
2006277899.tif 000004
【図２】
2006277899.tif 000005
【図３】
2006277899.tif 000006
【図４】
2006277899.tif 000007
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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