(57)【要約】【課題】  コア層とクラッド層との界面の平坦性を高め、記録情報の再現性を向上させる。【解決手段】  コア層１３ａの上に、紫外線硬化樹脂を塗布してクラッド層１４を形成した後、情報用凹凸部１６に対応した凹凸パターンを有する樹脂スタンパ２３を表面に貼り合せた状態で紫外線照射（露光量１５００ｍＪ／ｃｍ2）を行い、クラッド層１４を硬化させる。クラッド層１４が硬化した後、樹脂スタンパ２３を剥離すると、クラッド層１４に情報用凹凸部１６が転写される。次いで、クラッド層１４の上に、紫外線硬化樹脂を塗布してコア層１３を形成した後、紫外線照射（露光量１８０ｍＪ／ｃｍ2）を４回実施し、コア層１３を硬化させる。この後、上記方法によってコア層１３の上にクラッド層１４を形成する。【選択図】        図３
2006277900.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈折率の異なる第１樹脂層と第２樹脂層とを交互に積層し、前記第１樹脂層と前記第２樹脂層との一方の界面に情報再生用の凹凸部を形成してなる光導波路型の光メモリの製造方法において、
前記第１樹脂層の上面に前記凹凸部を形成し、この上に光硬化性樹脂を塗布して前記第２樹脂層を形成した後、複数回の光照射を行って前記第２樹脂層を硬化させることを特徴とする光メモリの製造方法。
【請求項２】
前記複数回の光照射において、露光量を各光照射ごとに段階的に大きくすることを特徴とする請求項１記載の光メモリの製造方法。
【請求項３】
前記第２樹脂層の上に、光硬化性樹脂を塗布して前記第１樹脂層を形成した後、前記凹凸部に対応した凹凸パターンを有し、光透過性を有するスタンパを表面に貼り合せた状態で、前記スタンパを介して前記第１樹脂層に光照射を行い、前記第１樹脂層が硬化した後、前記スタンパを剥離することによって前記凹凸部を形成すること特徴とする請求項１または２記載の光メモリの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路型の光メモリの製造方法に関し、特に記録情報の再現性を向上させることができる光メモリの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、樹脂製のコア層と、このコア層の上下に積層された樹脂製のクラッド層とからなり、コア層とクラッド層との一方の界面に、再生像を得るため情報用凹凸部を形成した平面型の光導波路を、１個又は複数個積層してなる光メモリ（情報記録媒体）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
図６に示すように、コア層１０１とクラッド層１０２とが交互に積層されてなる光メモリ１００に記録された記録情報を読み出す際には、側部に形成された光導入面１０３に対して、シリンドリカルレンズ１０４によって縦幅約５μｍに絞った光（レーザ光）を照射し、所望のコア層１０１に光を導入する。コア層１０１に導入された光は、界面に形成された情報用凹凸部によって散乱されながら伝播する。この時、情報用凹凸部で散乱された散乱光（再生光）は導入光に対して交差する方向（上下方向）に光メモリ１００内を透過し、光メモリ１００の上面及び下面から外部へ放出される。
【０００４】
この例では、光メモリ１００の上面から放出された散乱光をイメージセンサ１０５で受光するようにしている。イメージセンサ１０５が受光した散乱光の２次元干渉パターン（再生像）をデジタル情報に復調することで、光メモリ１００に記録された記録情報が再現する。
【特許文献１】特開２００２−１２０２８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記光メモリ１００において、情報用凹凸部が存在しないコア層１０１とクラッド層１０２との界面の平坦性は、記録情報の再現性（ビットエラーレート）に影響を与える。つまり、上記界面の平坦性が劣化していると、導入光の伝播に支障が生じることや、散乱光に位相のずれが生じて再生像の輝点が再現されないことが原因となり、記録情報の再現性が低下する。
【０００６】
コア層１０１およびクラッド層１０２は、光硬化性樹脂を塗布し、これを光照射して硬化させることによって形成されているため、硬化収縮の影響により上記界面の平坦性が劣化し、記録情報の再現性が低いという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、コア層とクラッド層との界面の平坦性を高め、記録情報の再現性を向上させることができる光メモリの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の光メモリの製造方法は、屈折率の異なる第１樹脂層と第２樹脂層とを交互に積層し、前記第１樹脂層と前記第２樹脂層との一方の界面に情報再生用の凹凸部を形成してなる光導波路型の光メモリの製造方法において、前記第１樹脂層の上面に前記凹凸部を形成し、この上に光硬化性樹脂を塗布して前記第２樹脂層を形成した後、複数回の光照射を行って前記第２樹脂層を硬化させることを特徴とする。
【０００９】
なお、前記複数回の光照射において、露光量を各光照射ごとに段階的に大きくすることが好ましい。
【００１０】
また、前記第２樹脂層の上に、光硬化性樹脂を塗布して前記第１樹脂層を形成した後、前記凹凸部に対応した凹凸パターンを有し、光透過性を有するスタンパを表面に貼り合せた状態で、前記スタンパを介して前記第１樹脂層に光照射を行い、前記第１樹脂層が硬化した後、前記スタンパを剥離することによって前記凹凸部を形成することが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の光メモリの製造方法によれば、第１樹脂層（クラッド層またはコア層）の上面に凹凸部を形成し、この上に光硬化性樹脂を塗布して第２樹脂層（コア層またはクラッド層）を形成した後、低照度にて複数回の光照射を行って第２樹脂層を硬化させることにより、第２樹脂層の硬化収縮を抑え、表面の平坦性を高めることができる。これにより、第２樹脂層内の光の伝播が良好となるとともに、再生光の位相が乱されにくくなるため、記録情報の再現性が向上する。
【００１２】
また、上記複数回の光照射において、露光量を各光照射ごとに段階的に大きくすることにより、露光量を一定とする場合と比べて、照射回数を減らすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１に示す積層導波路型の光メモリ１０は、２つのユニット１１が接着層１２を介して上下に貼り合わされた構成となっている。ユニット１１は、コア層１３とクラッド層１４とがフイルム１５ａ上に交互に積層されており、最上層には、フイルム１５ｂが貼着されている。
【００１４】
コア層１３及びクラッド層１４は、紫外線硬化樹脂で形成されており、この紫外線硬化樹脂としては、（メタ）アクリル系、エポキシ系などの樹脂が適当である。コア層１３の厚さは、１．０〜１．５μｍ程度が適当であり、例えば、１．４μｍにされている。クラッド層１４の厚さは、８〜１０μｍ程度が適当であり、例えば、１０μｍにされている。コア層１３の屈折率はクラッド層１４の屈折率より大きく、コア層１３の屈折率は１．５２、クラッド層１４の屈折率は１．５１とされている。
【００１５】
コア層１３とクラッド層１４との一方の界面には、情報用凹凸部１６が形成されている。この情報用凹凸部１６は、光メモリ１０に記録すべきデジタル情報を２次元符号化し、その符号化されたデジタル情報を元に計算機によって合成されたパターン（計算機ホログラムと称される）が転写されたものである。なお、情報用凹凸部１６の凹凸の高さは約１００ｎｍ、導波方向への凹凸の配列ピッチは数百ｎｍである。この配列ピッチは、コア層１３への導入光の波長およびコア層１３の屈折率によって決定される（配列ピッチ＝（導入光の波長）／（コア層１３の屈折率））。例えば、導入光として波長６６０ｎｍのレーザ光を使用し、コア層１３の屈折率を１．５２とした場合には、凹凸の配列ピッチは約４４０ｎｍである。
【００１６】
光導波路１７は、１つのコア層１３と、その上下に積層された２つのクラッド層１４とによって構成されている。なお、各ユニット１１の最上層に形成されたコア層１３ｂの上にはクラッド層１４が形成されていないが、その上に形成されたフイルム１５ｂの屈折率をクラッド層１４の屈折率とほぼ同一としているため、最上層のコア層１３ｂも光導波路１７を構成する。
【００１７】
同図において、各ユニット１１を３層の光導波路１７で構成しているが、これは図を簡略化するためであり、実際には２０層程度の光導波路１７で各ユニット１１を構成することが好ましい。この場合、ユニット１１の厚さは、０．４ｍｍ程度となる。また、同図において、光メモリ１０を２つのユニット１１で構成しているが、これも図を簡略化するためであり、実際には５個程度のユニット１１で光メモリ１０を構成することが好ましい。
【００１８】
ユニット１１は、光導波路１７が一定数積層された積層体の上下に比較的高剛性のフイルム１５ａ，１５ｂが貼着されてなる。フイルム１５ａ，１５ｂは、積層体の反りや撓みを抑えるために設けられている。フイルム１５ａ，１５ｂは、アートン（登録商標）等の非晶質ポリオレフィン、ポリカーボネート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）などの樹脂からなり、その厚さは１５０μｍ程度である。
【００１９】
各ユニット１１を接着する接着層１２としては、紫外線硬化樹脂が用いられる。接着層１２の屈折率が、フイルム１５ａ，１５ｂの屈折率と大きく異なると、接着層１２とフイルム１５ａ，１５ｂとの界面で再生光が反射して、光量やＳ／Ｎ比が低下してしまうことがあるため、接着層１２とフイルム１５ａ，１５ｂとの屈折率はほぼ等しく設定されている。
【００２０】
各ユニット１１の端部には、光導入面１８が形成されている。光導入面１８からコア層１３に光（レーザ光）が導入されると、導入光は、クラッド層１４との界面で反射されながらコア層１３を伝播するとともに、一部が情報用凹凸部１６によって散乱（回折）される。
【００２１】
光メモリ１０を構成するコア層１３、クラッド層１４、フイルム１５ａ，１５ｂ、及び接着層１２の各層は、情報用凹凸部１６で散乱された散乱光（再生光）の波長に対して透明であるので、各光導波路１７から上下に放出される再生光は各層を透過し、光メモリ１０の上面及び下面から外部へ放出される。この再生光をＣＣＤなどの２次元イメージセンサで受光し、イメージセンサの撮像信号をデジタル信号化し、所定の画像処理を行うことで、元の記録情報が再現する。
【００２２】
以下に、記録情報の再現性を向上させることを可能とする光メモリ１０の製造方法について説明する。図２（Ａ）において、まず、ガラス基板２１を用意する。ガラス基板２１は、厚さ約１ｍｍ程度であり、その上面及び下面は凹凸がなく平坦である。なお、ガラス基板２１に代えて、アートン（登録商標）等の非晶質ポリオレフィンや、ポリカーボネートからなる硬質の基板等を用いても良い。このガラス基板２１の表面に硬化後の屈折率が１．５１の紫外線硬化樹脂をスピンコータによって塗布して接着層１２を形成する。
【００２３】
図２（Ｂ）において、接着層１２の上にフイルム１５ａをラミネート（貼着）し、フイルム１５ａの上方から紫外線照射装置によって紫外線照射（露光量９００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を行う。このフイルム１５ａは、紫外線に対して透過性を有しており、接着層１２は、フイルム１５ａを透過した紫外線を受けて硬化する。この結果、フイルム１５ａは、接着層１２を介してガラス基板２１上に接着される。
【００２４】
図２（Ｃ）において、フイルム１５ａ上に硬化後の屈折率が１．５２の紫外線硬化樹脂であるコア材（液体コア樹脂）をスピンコータによって塗布してコア層１３ａを形成し、紫外線照射装置を用い、窒素雰囲気下にて紫外線照射（露光量９００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を行い、コア層１３ａを硬化させる。
【００２５】
図３（Ａ）において、コア層１３ａの上に硬化後の屈折率が１．５１の紫外線硬化樹脂であるクラッド材（液体クラッド樹脂）をスピンコータによって塗布してクラッド層１４を形成する。図３（Ｂ）において、クラッド層１４の上に、可撓性を有する樹脂スタンパ２２をラミネートする。樹脂スタンパ２２は、紫外線に対して透過性を有しており、下面には、前述の情報用凹凸部１６に対応した凹凸パターンが形成されている。この状態で、樹脂スタンパ２２の上方から紫外線照射装置によって紫外線照射（露光量１５００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を行い、クラッド層１４を硬化させる。
【００２６】
図３（Ｃ）において、樹脂スタンパ２２をクラッド層１４から剥離すると、クラッド層１４の表面に情報用凹凸部１６が転写される。図３（Ｄ）において、クラッド層１４の上に、前述のコア材をスピンコータによって塗布してコア層１３を形成し、紫外線照射装置を用い、窒素雰囲気下にて紫外線照射（露光量１８０ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を４回実施し、コア層１３を硬化させる。
【００２７】
このようにして、フイルム１５ａ上に、コア層１３とクラッド層１４とが形成される。この後、図３（Ａ）〜図３（Ｄ）の工程を繰り返し実施して、コア層１３とクラッド層１４とを交互に積層することにより、図４（Ａ）に示すように、コア層１３とその上下のクラッド層１４とからなる光導波路１７が形成される。
【００２８】
所望の数の光導波路１７を形成した後、図４（Ｂ）において、最上層のクラッド層１４の上に、前述のコア材をスピンコータによって塗布してコア層１３ｂを形成し、このコア層１３ｂの上に、前述のフイルム１５ａと同様のフイルム１５ｂをラミネートする。この状態で、フイルム１５ｂの上方から紫外線照射装置によって紫外線照射（露光量１５００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を行い、コア層１３ｂを硬化させる。
【００２９】
図４（Ｃ）において、ガラス基板２１を接着層１２から剥離することによってユニット１１が形成される。そして、ユニット１１の両端部をダイシング装置で切断して光導入面１８を形成し、適宜の大きさに切断されたユニット１１を上下に積層して、加圧及び加熱を施すことにより、接着層１２を介してユニット１１が互いに接続され、図１に示す光メモリ１０が完成する。
【００３０】
上記製造方法では、図３（Ｄ）の工程において、紫外線硬化樹脂を塗布して形成したコア層１３を硬化させる際に、紫外線照射を低露光量（露光量１８０ｍＪ／ｃｍ2）で４回実施することにより、十分な硬化度を維持しながら硬化収縮量を抑えるようにしているので、コア層１３の表面変動（凹凸）が低減する。これにより、コア層１３内の光の導波が良好となるとともに、情報用凹凸部１６による散乱光の位相が乱されにくくなるため、光メモリ１０のビットエラーレート（以下、ＢＥＲと称する）が低下し、記録情報の再現性が向上する。なお、単に低露光量で１回の照射とした場合には、硬化収縮量が小さいためＢＥＲは低下するが、硬化度が不十分となり、完成後の光メモリ１０の耐久性が低下するといった問題がある。
【００３１】
硬化度は、赤外分光分析法に基づく下式にて表されるモノマー反応率Ｒで定義する。光メモリ１０の耐久性の観点から必要とされるコア層１３およびクラッド層１４の硬化度は、モノマー反応率Ｒが６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。
【００３２】
Ｒ（％）＝１００・（Ｉ0810／Ｉ01508−Ｉ810／Ｉ1508）／（Ｉ0810／Ｉ01508）
Ｉ0810：未照射時の８１０ｃｍ-1のピーク強度
Ｉ01508：未照射時の１５０８ｃｍ-1のピーク強度
Ｉ810：照射後の８１０ｃｍ-1のピーク強度
Ｉ1508：照射後の１５０８ｃｍ-1のピーク強度
【００３３】
なお、８１０ｃｍ-1は、モノマーの２重結合由来のピーク位置であり、１５０８ｃｍ-1は、露光条件によって変化が見られないピーク位置である。
【００３４】
上記実施形態では、コア層１３の硬化時に、紫外線照射を低露光量（露光量１８０ｍＪ／ｃｍ2）で４回実施するようにしているが、露光量および照射回数はこれに限定されない。硬化収縮量をできるだけ抑えるためには、より低露光量で、より多数の照射を行うことが好ましいが、露光量を低くしすぎると多数回照射を行っても十分な硬化度に達せず、また、照射回数を多くしすぎると生産性が低下するといった問題があるので、１回当りの露光量を、前述の好ましい硬化度が得られる露光量の１／２〜１／５とし、この露光量に応じて照射回数を２〜５回とすることが好ましい。また、各紫外線照射ごとに露光量を変化させてもよい。例えば、複数回照射の初期の照射時には露光量を低くし、それ以降の照射時には、硬化収縮が生じない程度に露光量を段階的に上げるようにしてもよい。この場合には、露光量を一定とする場合と比べて、照射回数を減らすことができる。
【００３５】
また、上記実施形態では、クラッド層１４の上面に情報用凹凸部１６を形成する場合を例に説明したが、これに限定されず、コア層１３の上面に情報用凹凸部１６を形成してもよい。この場合には、コア層１３の上に紫外線硬化樹脂を塗布してクラッド層１４を形成した後、上記と同様に、低露光量で複数回の紫外線照射を行い、クラッド層１４を硬化させる。これにより、クラッド層１４は硬化収縮が抑えられ、表面変動が低減する。
【００３６】
また、上記実施形態では、コア層１３およびクラッド層１４を紫外線硬化樹脂によって形成しているが、これに限定されず、紫外線硬化樹脂に代えて、紫外線以外の波長の光によって硬化する光硬化性樹脂を用いてもよい。
【００３７】
さらに、上記実施形態では、スピンコータによって樹脂の塗布を行っているが、これに限定されず、スピンコータに代えて、ブレードコート法、グラビアコート法、ダイコート法等を利用した塗布装置を用いてもよい。
【実施例１】
【００３８】
上記製造方法を用いて図５に示す測定用サンプルを作成して表面の平坦性（表面変動量）の測定を行い、また、光メモリ（ユニット１１）を作成してＢＥＲの測定を行った。また、コア層１４のモノマー反応率、および硬度の測定を別途行った。なお、実験３，４は、実験１，２に対する比較実験として実施したものである。
【００３９】
[実験１]
ガラス基板２１にシランカップリング処理を行い、このガラス基板２１の上に下記の組成のクラッド材Ｂを、スピンコータによって約１０μｍの膜厚になるように塗布し、クラッド層１４を形成した。次いで、このクラッド層１４の上に、気泡が入らないように樹脂スタンパ２２をラミネートし、この状態で、樹脂スタンパ２２の上方から紫外線照射（露光量１５００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を行ってクラッド層１４を硬化させた後、樹脂スタンパ２２を剥離した。そして、情報用凹凸部１６が転写されたクラッド層１４の上に下記の組成のコア材Ａを、スピンコータによって約１．４μｍの膜厚になるように塗布してコア層１３を形成し、窒素雰囲気下にて紫外線照射（露光量１８０ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を４回実施してコア層１３を硬化させた。
【００４０】
この状態で、白色干渉計（Zygo社製 NewView5000）を用い、可干渉深度を１μｍ（測定深さ設定＋オフセット）に調整して表面形状を測定することで、硬化後のコア層１３の表面変動量（測定長２ｍｍあたりの最大値）を求めた。
【００４１】
また、上記段落〔００２２〕〜〔００２９〕の方法でクラッド層１４とコア層１３とを交互に積層することで光メモリ（ユニット１１）を作成し、ＢＥＲの測定を行った。ＢＥＲの測定は、発振波長６６０ｎｍ、パワー１０ｍＷのレーザ光をコア層１３に入射して、情報用凹凸部１６による散乱光の２次元干渉パターンをイメージセンサで取り込み、これをデジタル情報に復調して元のデジタル情報と比較することにより行った。このＢＥＲの測定では、イメージセンサに取り込まれたデータをエリアごとに元のデジタル情報と比較し、ＢＥＲが１０-4未満のエリアの全体に対する割合を百分率で算出する。つまり、この百分率が大きいほどエラーが少ない（記録情報の再現性が高い）。
【００４２】
また、ガラス基板２１上に下記の組成のコア材Ａを、スピンコータによって約１．４μｍの膜厚になるように塗布してコア層１３を形成し、窒素雰囲気下にて紫外線照射（露光量１８０ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を４回実施してコア層１３を硬化させた後、このコア層１３をガラス基板２１剥離し、上記モノマー反応率Ｒの測定を行った。この測定には、フーリエ変換赤外分光光度計（島津(株)製 IRPrestige-21）を用いた。
【００４３】
また、ガラス基板２１上に下記の組成のコア材Ａを、スピンコータによって約１．４μｍの膜厚になるように塗布してコア層１３を形成し、窒素雰囲気下にて紫外線照射（露光量１８０ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を４回実施してコア層１３を硬化させた状態において、超微小ダイナミック硬度計（島津(株)製 DUH-200）を用い、２３℃５０％ＲＨの環境下で、荷重０．０８ｇｆ，変位０．３μｍにて、硬化後のコア層１３の表面硬度を測定した。
【００４４】
[コア材Ａ]
ライトアクリレ−ト1,6-HX-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）４０質量部
ライトアクリレ−トTMP-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）  ２０質量部
ライトアクリレ−トDCP-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）  ２０質量部
カラヤッドR-712（日本化薬(株)製アクリレ−トモノマ−）             ２０質量部
ダロキュア1173（チバ・ガイギー(株)製光重合開始材）              ０．５質量部
【００４５】
[クラッド材Ｂ]
ライトアクリレ−トTMP-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）  ２０質量部
ライトアクリレ−ト1,6-HX-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）４０質量部
ＵＶ６１００Ｂ（日本合成化学(株)製ウレタンアクリレ−トオリゴマ−） ４０質量部
ダロキュア1173（チバ・ガイギー(株)製光重合開始材）              ０．５質量部
【００４６】
[実験２]
実験２では、コア層１３の硬化時に、窒素雰囲気下にて紫外線照射（露光量４５０ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を２回実施した。このほかは、実験１と同様であり、コア層１４の表面の平坦性（表面変動量）、ＢＥＲ、コア層１４のモノマー反応率および硬度の測定を行った。
【００４７】
[実験３]
実験３では、コア層１３の硬化時に、窒素雰囲気下にて紫外線照射（露光量９００ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を１回だけ実施した。このほかは、実験１と同様に、測定用サンプルを作成し、コア層１４のモノマー反応率、硬度、表面の平坦性（表面変動量）を測定した。また、同様に、クラッド層１４とコア層１３とを交互に積層して光メモリ１０を作成し、ＢＥＲの測定を行った。
【００４８】
[実験４］
実験４では、コア層１３の硬化時に、窒素雰囲気下にて紫外線照射（露光量１８０ｍＪ／ｃｍ2，波長３６５ｎｍ）を１回だけ実施した。このほかは、実験１と同様であり、コア層１４の表面の平坦性（表面変動量）、ＢＥＲ、コア層１４のモノマー反応率および硬度の測定を行った。
【００４９】
以上の実験１〜実験４によって得られた結果を下表１に示す。表１に示すように、本発明を適用した実験１および実験２では、モノマー反応率が約８０％、表面硬度が約２０と高い結果、コア層１３の表面変動量（最大値）は１００ｎｍ程度となり、ＢＥＲが１０-4未満のエリアの割合は１００％となった。
【００５０】
実験３では、モノマー反応率が約８０％、表面硬度が約２０と高いが、硬化収縮量が大きいため、コア層１３の表面変動量（最大値）が３００ｎｍと大きく、ＢＥＲが１０-4未満のエリアの割合は２０％となった。また、実験４では、コア層１３の表面変動量（最大値）は１００ｎｍ程度となり、ＢＥＲが１０-4未満のエリアの割合は１００％となったが、モノマー反応率が約４０％、表面硬度が約１０と低く、耐久性に問題がある。
【００５１】
このように、コア層１３を１度の照射で硬化させず、低露光量の照射を複数回行って硬化させることにより、硬化収縮量が低下して表面の変動量が抑えられ、記録情報の再現性が向上することを確認した。
【００５２】
【表１】
2006277900.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】光メモリの構成を示す縦断面図である。
【図２】光メモリの製造方法（前処理工程）を示す縦断面図である。
【図３】光メモリの製造方法（積層工程）を示す縦断面図である。
【図４】光メモリの製造方法（後処理工程）を示す縦断面図である。
【図５】測定用サンプルの作成例を示す縦断面図である。
【図６】従来の光メモリとその動作原理を説明する外観斜視図である。
【符号の説明】
【００５４】
１０  光メモリ
１３  コア層
１４  クラッド層
１６  情報用凹凸部
１７  光導波路
２２  樹脂スタンパ
【図１】
2006277900.tif 000004
【図２】
2006277900.tif 000005
【図３】
2006277900.tif 000006
【図４】
2006277900.tif 000007
【図５】
2006277900.tif 000008
【図６】
2006277900.tif 000009