(57)【要約】【解決手段】（ａ）内部を有する圧力容器であって、容器の内部にガスを導入するのに適合した入口、容器の内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する圧力容器、（ｂ）圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは、混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を持つ、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、（ｃ）圧力容器の内部に配置され、そして該容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、を含むイオン輸送膜システム。【選択図】図４Ａ
2006187769.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）内部を有する圧力容器であって、容器の内部にガスを導入するのに適合した入口、容器の内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する圧力容器、
（ｂ）圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは、混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を持つ、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、
（ｃ）圧力容器の内部に配置され、そして該容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、
を含むイオン輸送膜システム。
【請求項２】
各平面状膜モジュールが平面状平行表面を有する複数のウェハーを含み、圧力容器が円筒形であって、軸線がウェハーの平面状平行表面の一部又は全てに対して平行である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
圧力容器の内部に配置された流動封じ込めダクトを更に含み、この流動封じ込めダクトは内部領域を有し、複数の平面状イオン輸送膜モジュールを取り囲み、且つ圧力容器の入口及び出口と連通しており、そして１又はそれ以上のガス流動制御隔壁が流動封じ込めダクトの内部領域に配置されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
流動封じ込めダクト及び１又はそれ以上のガス流動制御隔壁が、鉄と、ニッケル及びクロムよりなる群から選ばれる１種以上の元素とを含有する耐酸化性金属合金を含む、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
平面状イオン輸送膜モジュールのうちの少なくとも２つがモジュールの軸線を規定し、圧力容器が円筒形であって、且つモジュールの軸線と平行又は同軸である軸線を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
平面状イオン輸送膜モジュールのうちの少なくとも２つがモジュールの軸線を規定し、圧力容器が円筒形であって、且つモジュールの軸線に対して垂直な軸線を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
１又はそれ以上の流動制御隔壁の各々が、ガスの最初の流動方向をガスの最終の流動方向へと転ずるような向きにされており、ガスの最初の流動方向とガスの最終の流動方向の間に形成される角度が、０度より大きく且つ１８０度に等しいかこれより小さい角度を形成する、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
１又はそれ以上の流動制御隔壁の各々が、ガスの最初の流動方向をガスの最終の流動方向へと転ずるような向きにされており、ガスの最初の流動方向とガスの最終の流動方向の間に形成される角度が、９０度より大きく且つ１８０度に等しいかこれより小さい角度を形成する、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
１又はそれ以上の流動制御隔壁の各々が、ガスの最初の流動方向をガスの最終の流動方向へと転ずるような向きにされており、ガスの最初の流動方向とガスの最終の流動方向の間に形成される角度が１８０度の角度を形成する、請求項７に記載のシステム。
【請求項１０】
（ｄ）１又はそれ以上の更なる圧力容器であって、各々が、内部、容器の内部にガスを導入するのに適合した入口、容器の内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する、１又はそれ以上の更なる圧力容器、
（ｅ）各々の圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を有する、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、
（ｆ）各々の圧力容器の内部に配置され、そして１又はそれ以上の圧力容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、
を更に含み、少なくとも２つの圧力容器は、１つの圧力容器の出口が別の圧力容器の入口と連通するよう、直列に配列される、請求項１記載のシステム。
【請求項１１】
（ｄ）１又はそれ以上の更なる圧力容器であって、各々が、内部、容器の内部にガスを導入するのに適合した入口、容器の内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する、１又はそれ以上の更なる圧力容器、
（ｅ）各々の圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を有する、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、
（ｆ）各々の圧力容器の内部に配置され、そして１又はそれ以上の圧力容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、
を更に含み、少なくとも２つの圧力容器は、１つの圧力容器の入口と別の圧力容器の入口とが共通の原料導管と連通するよう、並列に配列される、請求項１記載のシステム。
【請求項１２】
直列に配列された任意の２つの平面状イオン輸送膜モジュールの間に配置された触媒を更に含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
触媒が、ニッケル、コバルト、白金、金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、及び鉄よりなる群から選ばれる１又はそれ以上の金属又はそれを含有する化合物を含む、請求項１２に記載の反応器システム。
【請求項１４】
触媒が直列の複数のモジュールの間に配置され、そして触媒の活性が直列のモジュール間の別々の位置で異なる、請求項１２に記載の反応器システム。
【請求項１５】
（ａ）次の（１）〜（３）、すなわち、
（１）内部を有する圧力容器であって、容器の内部にガスを導入するのに適合した入口、容器の内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する圧力容器、
（２）圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を有する、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、
（３）圧力容器の内部に配置され、そして容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、
を含むイオン輸送膜分離器システムを用意すること、
（ｂ）加熱した加圧酸素含有原料ガス流を供給し、この原料ガス流を圧力容器の入口を通して膜モジュールの外部領域へ導入し、そしてこの原料ガス流を混合金属酸化物セラミック材料と接触させること、
（ｃ）この混合金属酸化物セラミック材料を通して酸素イオンを透過させ、膜モジュールの内部領域で高純度酸素ガス製品を回収し、そしてこの高純度酸素ガス製品を膜モジュールの内部領域からガスマニホールドを通して圧力容器外部へ抜き出すこと、そして、
（ｄ）圧力容器の出口から酸素の減少した酸素含有ガスを抜き出すこと、
を含む、酸素含有ガスから酸素を回収する方法。
【請求項１６】
酸素含有原料ガスの圧力が高純度酸素ガス製品の圧力よりも高い、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
圧力容器の内部に配置された流動封じ込めダクトを更に含み、この流動封じ込めダクトは、内部領域と外部領域を有し、複数の平面状イオン輸送膜モジュールを取り囲み、且つ圧力容器の入口及び出口と連通しており、そして１又はそれ以上のガス流動制御隔壁が流動封じ込めダクトの内部領域に配置される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
圧力容器の入口と出口の間の任意の箇所における、流動封じ込めダクトの内部領域と外部領域との圧力差を、０に等しいかそれより大きい値に維持し、そしてダクト内部の圧力がダクト外部の圧力容器内の圧力に等しいか又はそれより高い、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
（ａ）次の（１）〜（３）、すなわち、
（１）内部を有する圧力容器であって、容器の内部にガスを導入するのに適合した入口、容器の内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する圧力容器、
（２）圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を有する、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、
（３）圧力容器の内部に配置され、そして容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、
を含むイオン輸送膜反応器システムを用意すること、
（ｂ）加熱した加圧反応物原料ガス流を供給し、この反応物原料ガス流を圧力容器の入口を通して膜モジュールの外部領域へ導入すること、
（ｃ）酸素を含有する酸化剤ガスを膜モジュールの内部領域に供給し、混合金属酸化物セラミック材料を通して酸素イオンを透過させ、酸素を膜モジュールの外部領域において反応物原料ガス流の成分と反応させてそこで酸化生成物を生成させ、そしてこの酸化生成物を膜モジュールの外部領域から出口を通して圧力容器の外部へ抜き出して酸化生成物流を提供すること、そして、
（ｄ）酸素の減少した酸素含有ガスを膜モジュールの内部領域から１又はそれ以上のマニホールドを通して圧力容器の外部へ抜き出すこと、
を含む酸化方法。
【請求項２０】
加圧反応物原料ガス流の圧力が酸素含有酸化剤ガスの圧力よりも高い、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
圧力容器の内部に配置された流動封じ込めダクトを更に含み、この流動封じ込めダクトは、内部領域と外部領域を有し、複数の平面状イオン輸送膜モジュールを取り囲み、且つ圧力容器の入口及び出口と連通しており、そして１又はそれ以上のガス流動制御隔壁が流動封じ込めダクトの内部領域に配置される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
圧力容器の入口と出口の間の任意の箇所における、流動封じ込めダクトの内部領域と外部領域との圧力差を、０に等しいかそれより大きい値に維持し、そしてダクト内部の圧力がダクト外部の圧力容器内の圧力に等しいか又はそれより高い、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
加圧反応物原料ガス流が１又はそれ以上の炭素原子を有する１種又はそれ以上の炭化水素を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】
加圧反応物原料ガス流がメタンを含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
酸化生成物流が水素と炭素酸化物を含む、請求項２３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
セラミックイオン輸送膜を通る酸素イオンの透過は、高温で運転する種々のガス分離機器及び酸化反応器システムについての基礎であり、それらでは透過した酸素が高純度酸素製品として透過物側で回収され、又は透過物側で酸化可能な化合物と反応して酸化又は部分酸化製品を生成する。これらのガス分離機器及び酸化反応器システムの実用化には、表面積の大きな膜アセンブリ、原料ガスを膜の原料側に接触させる手段、及び膜の透過物側から製品ガスを抜き出す手段が必要である。これらの膜アセンブリは、原料ガスをモジュールに導入し、製品ガスをそのモジュールから抜き出すための適当なガス流動配管を有するモジュールに配置され組み立てられた複数の個別の膜を含むことができる。
【０００２】
イオン輸送膜は平面状又は管状いずれかの構造で製作することができる。平面構造では、複数の平らなセラミックプレートが、原料ガスを平面膜を通過させ、平面膜の透過物側から製品ガスを抜き出す配管手段を有する積重体又はモジュールとなるよう加工されもしくは組み立てられる。管構造の場合は、複数のセラミック管を、これら複数の管の原料側と透過物側を隔離するための適当なチューブシートアセンブリを備えた差し込み式のもしくはシェル・アンド・チューブ構造に配置することができる。
【０００３】
平面状又は管状モジュール構造で使用する個々の膜は、典型的には、ガスを活性膜層表面へ、そして該表面から流動させる大きな気孔又は通路を有する材料に支持された活性膜材料の極めて薄い層を含んでいる。膜モジュールのセラミック膜材料と構成成分は、通常の定常状態での運転時に、そして特に非定常状態である運転開始、停止、及び不調状態の際に、著しい機械的応力にさらされることがある。このような応力は、セラミック材料の熱膨張及び収縮によって引き起こされることがあり、また、膜材料の酸素化学量論量の変化に起因する化学組成もしくは結晶構造の変化によって惹起される寸法変化によって引き起こされることがある。これらのモジュールは、膜及び膜シールをまたぐ著しい圧力差を伴って運転し、そして膜モジュールの設計にはこのような圧力差が惹起する応力を考慮しなければならない。更に、これらの現象の相対的重要性は、モジュールをガス分離の際に運転させるのかそれとも酸化のために運転させるのかによって異なることがある。これらの現象によって惹起される可能性のある運転の際の問題は、回収された製品の純度及び膜の使用寿命に著しいマイナスの影響を及ぼしかねない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
膜モジュールは、原料ガスをモジュールに導入してモジュールから製品ガスを抜き出すのと、膜の少なくとも片側を大気圧以上の圧力で運転するのに適合した圧力容器内に設置することができる。これらのモジュールの設計及び圧力容器内のモジュールの向きは、小型で費用効果の高い圧力容器の使用を可能にすべきである。
【０００５】
高温セラミック膜反応器システムの分野では、これらの潜在的な運転上の問題に対処しそれらを克服する新たな膜モジュール及び容器の設計が必要とされている。そのような設計は、効率的な運転、長い膜寿命、最小限の資本費、広範囲の生産速度にわたり膜システムを指定できること、及び小型の圧力容器を可能にする特性を包含すべきである。ここに開示する発明の態様は、これらの設計上の問題に対処するものであり、酸素の製造と酸化システムの両者のための改良されたモジュール及び容器の設計を包含する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の１つの態様は、（ａ）内部を有する圧力容器であって、容器内部にガスを導入するのに適合した入口、容器内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する圧力容器、（ｂ）圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を持つ、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、（ｃ）圧力容器の内部に配置され、そして容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、を含むイオン輸送膜システムに関する。
【０００７】
各平面状膜モジュールは平面状の平行表面を有する複数のウェハーを含むことができ、圧力容器は円筒形でよく、そして軸線はウェハーの平面状平行表面の一部又は全てに対して平行であることができる。
【０００８】
このシステムは更に、圧力容器の内部に配置された流動封じ込めダクトを含むことができ、ここでこの流動封じ込めダクトは、内部領域を有し、複数の平面状イオン輸送膜モジュールを取り囲み、そして圧力容器の入口及び出口と連通しており、また、流動封じ込めダクトの内部領域には１又はそれ以上のガス流動制御隔壁が配置される。流動封じ込めダクト及び１又はそれ以上のガス流動制御隔壁は、鉄と、ニッケル及びクロムよりなる群から選ばれる１以上の元素とを含有する耐酸化性の金属合金を含むことができる。
【０００９】
平面状イオン輸送膜モジュールのうちの少なくとも２つがモジュールの軸線を規定することができ、圧力容器は円筒形でよく、且つモジュールの軸線と平行又はそれと同軸である軸線を有することができ、あるいは軸線はモジュール軸線に対して垂直であってもよい。
【００１０】
１又はそれ以上の流動制御隔壁は、ガスの最初の流動方向がガスの最終の流動方向へと転ずるような向きにすることができ、ここで、ガスの最初の流動方向とガスの最終の流動方向の間に形成される角度は、０度より大きく１８０度に等しいかそれより小さい角度を形成するか、あるいは９０度より大きく１８０度に等しいかそれより小さい角度を形成する。もう一つの別態様では、１又はそれ以上の流動制御隔壁を、ガスの最初の流動方向がガスの最終の流動方向へと転ずるような向きにすることができ、ここで、ガスの最初の流動方向とガスの最終の流動方向の間に形成される角度は、１８０度の角度を形成する。
【００１１】
この態様のシステムは更に、（ｄ）１又はそれ以上の更なる圧力容器であって、各々が、内部、容器内部にガスを導入するのに適合した入口、容器内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する、１又はそれ以上の更なる圧力容器、（ｅ）各々の圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を有する、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、（ｆ）各々の圧力容器の内部に配置され、そして１又はそれ以上の圧力容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、を含むことができ、ここで少なくとも２つの圧力容器は、１つの圧力容器の出口が別の圧力容器の入口と連通するよう、直列に配列することができる。
【００１２】
あるいはまた、この態様のシステムは、（ｄ）１又はそれ以上の更なる圧力容器であって、各々が、内部、容器内部にガスを導入するのに適合した入口、容器内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する、１又はそれ以上の更なる圧力容器、（ｅ）各々の圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を有する、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、（ｆ）各々の圧力容器の内部に配置され、そして１又はそれ以上の圧力容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、を含むことができ、ここで少なくとも２つの圧力容器は、１つの圧力容器の入口と別の圧力容器の入口とが共通の原料導管と連通するよう、並列に配列することができる。
【００１３】
このシステムは更に、直列に配列した平面状イオン輸送膜モジュールのうちの任意の２つの間に配置された触媒を含むことができる。この触媒は、ニッケル、コバルト、白金、金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、及び鉄よりなる群から選ばれる１種以上の金属又はこれを含有する化合物を含むことができる。反応器の触媒は、直列の複数のモジュールの間に配置でき、そして触媒の活性は、直列のモジュール間の別々の位置で異なる。
【００１４】
本発明のもう一つの態様は、
（ａ）次の（１）〜（３）、すなわち、
（１）内部を有する圧力容器であって、容器の内部にガスを導入するのに適合した入口、容器内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する圧力容器、
（２）圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を持つ、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、
（３）圧力容器の内部に配置され、そして容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、
を含むイオン輸送膜分離器システムを用意すること、
（ｂ）加熱した加圧酸素含有原料ガス流を供給し、この原料ガス流を圧力容器の入口を通して膜モジュールの外部領域へ導入し、そしてこの原料ガス流を混合金属酸化物セラミック材料と接触させること、
（ｃ）この混合金属酸化物セラミック材料を通して酸素イオンを透過させ、膜モジュールの内部領域で高純度酸素ガス製品を回収し、そしてこの高純度酸素ガス製品を膜モジュールの内部領域からガスマニホールドを通して圧力容器外部へ抜き出すこと、そして、
（ｄ）圧力容器の出口から酸素の減少した酸素含有ガスを抜き出すこと、
を含む、酸素含有ガスから酸素を回収する方法に関する。
【００１５】
酸素含有原料ガスの圧力は、高純度酸素ガス製品の圧力よりも高くてよい。この方法は更に、圧力容器内部に配置された流動封じ込めダクトを含むことができ、ここでこの流動封じ込めダクトは、内部領域と外部領域とを有し、複数の平面状イオン輸送膜モジュールを取り囲み、そして圧力容器の入口及び出口と連通し、また、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁は流動封じ込めダクトの内部領域に配置される。圧力容器の入口と出口の間の任意の箇所における流動封じ込めダクトの内部領域と外部領域との圧力差は、０に等しいかそれより大きい値に維持することができ、また、ダクト内部の圧力はダクト外部の圧力容器内の圧力に等しいかそれより高い。
【００１６】
本発明の別の態様は、
（ａ）次の（１）〜（３）、すなわち、
（１）内部を有する圧力容器であって、容器の内部にガスを導入するのに適合した入口、容器内部からガスを抜き出すのに適合した出口、及び軸線を有する圧力容器、
（２）圧力容器の内部に配置されそして直列に配列されている複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールは混合金属酸化物セラミック材料を含み、且つ内部領域と外部領域を持つ、複数の平面状イオン輸送膜モジュール、並びに、
（３）圧力容器の内部に配置され、そして容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁、
を含むイオン輸送膜反応器システムを用意すること、
（ｂ）加熱した加圧反応物原料ガス流を供給し、この反応物原料ガス流を圧力容器の入口を通して膜モジュールの外部領域へ導入すること、
（ｃ）酸素を含有する酸化剤ガスを膜モジュールの内部領域に供給し、混合金属酸化物セラミック材料を通して酸素イオンを透過させ、酸素を膜モジュールの外部領域において反応物原料ガス流の成分と反応させてそこで酸化生成物を生成させ、そしてこの酸化生成物を膜モジュールの外部領域から出口を通して圧力容器の外部へ抜き出して酸化生成物流を提供すること、そして、
（ｄ）酸素の減少した酸素含有ガスを膜モジュールの内部領域から１又はそれ以上のマニホールドを通して圧力容器の外部へ抜き出すこと、
を含む酸化方法を包含する。
【００１７】
加圧反応物原料ガス流の圧力は、酸素含有酸化剤ガスの圧力よりも高くてよい。この方法は更に、圧力容器内部に配置された流動封じ込めダクトを含むことができ、ここでこの流動封じ込めダクトは内部領域と外部領域を持ち、複数の平面状イオン輸送膜モジュールを取り囲み、そして圧力容器の入口及び出口と連通し、また、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁が流動封じ込めダクトの内部領域に配置される。圧力容器の入口と出口の間の任意の箇所における流動封じ込めダクトの内部領域と外部領域との圧力差は、０に等しいかそれより大きい値に維持することができ、ここでダクト内部の圧力はダクト外部の圧力容器内の圧力に等しいか又はそれより高い。
【００１８】
加圧反応物原料ガス流は、１又はそれ以上の炭素原子を有する１種又はそれ以上の炭化水素を含むことができ、特にメタンを含むことができる。酸化生成物流は、水素と炭素酸化物を含むことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の態様は、酸素回収又は酸化プロセスのいずれかに使用するための、直列に運転する複数の膜モジュールを利用するイオン輸送膜システムの設計及び運転を対象とするものである。膜を横切る酸素の輸送が発熱反応をもたらすことになる場合、例えばメタンから合成ガスを生産する場合、膜を横切る過度の温度勾配を防ぐために、個々の膜を横切る反応物の転化の度合を制限せねばならないということが判明した。また、膜が酸素を低圧の透過物流へと輸送している場合、膜の前端と後端の間の膜材料における過度の酸素欠乏勾配を防ぐために、個々の膜を横切る酸素抽出量を制限せねばならないということも判明した。過度の温度勾配又は酸素欠乏勾配は膜に過大な応力を引き起こし、それは膜の寿命をかなり甚だしく制限しかねない。
【００２０】
本発明は、複数の膜モジュール又はモジュールのバンクを直列に並べて、その結果各モジュールの膜を横切って抽出される酸素量を、膜材料における過度の酸素欠乏勾配を防止するのに充分低くすることにより、これらの問題に対処する。各個別モジュールを横切って抽出される酸素の量はモジュールを適切な大きさにすることにより制限され、そして望ましい酸素抽出の全体的な度合は、選ばれた複数のモジュールを直列に運転することにより達成できる。膜を横切る酸素輸送が発熱反応をもたらす場合、各モジュールにおいて個々の膜を横切る反応物の転化度は、流れ方向に膜を横切る過度の温度勾配を防止するのに充分低くなければならない。各個別モジュールを横切る転化度はモジュールを適切な大きさにすることにより制限することができ、そして望ましい全体的な転化は、選ばれた複数のモジュールを直列に運転することによって達成できる。
【００２１】
各膜モジュールの膜の外側を流れるガスは、下記で説明するように、モジュール内部の膜の内側にあるガスよりも高圧であるのが好ましい。気相物質移動の抵抗を最小とするため、より高圧のガスは高速で、そしてできるだけ均一に、膜の外表面を一方から他方へと導くべきである。
【００２２】
イオン輸送膜システムの独特な運転条件のゆえに、このシステムの設計には、圧力容器、容器内部に配置され一連の膜モジュールを取り囲む随意的なガス流動封じ込め装置又はダクト、及び容器壁を膜モジュールよりも低い温度で運転するのを可能にするための容器内部の断熱材を含めることができる。下記で説明するようなこれらの構成要素のおのおのの適切な物理的配置が、このシステムの製作、据え付け、及び長期の運転可能性を改善する。更に、全体としてのイオン輸送膜システムの長期の信頼性に貢献し得るその他の内部設計の工夫が開示される。
【００２３】
ここに提示する本発明の態様の説明で使用する用語に対して、以下の定義が適用される。
【００２４】
イオン輸送膜モジュールとは、ガスが膜構造体の外表面を一方から他方へと流動するように配置されたガスの流入領域とガスの流出領域を有する複数の膜構造体の集合体である。膜モジュールの流入領域から流出領域へと流れるガスは、それがモジュールの膜構造体の表面を一方から他方へと進むにつれ、その組成が変化する。各膜構造体には、酸素イオンを透過させる活性膜層又は領域によって隔てられている酸素含有ガス供給側と透過物側がある。各膜構造体にはまた、内部領域と外部領域もある。膜モジュールが酸素分離装置として働く一つの態様では、酸素含有ガス供給側が膜構造体の外部領域に隣接することができ、透過物側が膜構造体の内部領域に隣接することができる。
【００２５】
膜モジュールが酸化反応装置として働く別の態様では、酸素含有ガス供給側が膜構造体の内部領域に隣接することができ、透過物側が膜構造体の外部領域に隣接することができる。この別態様では、反応物原料ガスは膜構造体の外部領域を流れ、そして透過した酸素と反応する。従ってこの態様では、透過物側が膜構造体の反応物ガス側でもある。
【００２６】
膜構造体は、酸素含有ガスが管の片側に接触して流れ（すなわち、管の内部領域又は外部領域のいずれかであり）、酸素イオンが管壁中又は管壁上の活性膜材料を透過して管の他の側に至る管構造を有してもよい。酸素含有ガスは、管の内側又は外側を管の軸線に対して一般に平行な方向に流れてもよく、逆に管の軸線に対して平行でない方向に管の外側を流れてもよい。モジュールは、複数の管の供給側と透過物側を隔離するための適当なチューブシートアセンブリを備えた差し込み式のもしくはシェル・アンド・チューブ構造に配列された複数の管を含む。
【００２７】
あるいはまた、膜構造体は、中央又は内部領域及び外部領域を有するウェハーが少なくとも周縁の一部をシールされた２つの平行な平面部材によって形成されている、平面構造を有することができる。酸素イオンは、平面部材の片面又は両面に配置することができる活性膜材料を透過する。ガスはウェハーの中央又は内部領域を流れることができ、そしてウェハーには、ガスがウェハーの内部領域に入り及び／又はそこから出ていけるよう、１以上のガス流動用開口部がある。こうして、酸素イオンは外部領域から内部領域へ透過してもよく、あるいは逆に内部領域から外部領域へ透過してもよい。
【００２８】
膜モジュールの構成要素には、酸素イオンを輸送又は透過させ、また電子を輸送してもよい活性膜層、この活性膜層を支持する構造要素、そして膜表面へ及び膜表面からガスの流れを導くための構造要素が含まれる。活性膜層は、一般的には混合金属酸化物セラミック材料を含み、そしてまた１種以上の元素金属を含んでもよい。膜モジュールの構造要素は、例えば混合金属酸化物セラミック材料のような任意の適当な材料で製作することができ、そしてまた１種以上の元素金属を含んでもよい。活性膜層及び構造要素のいずれも同じ材料で製作してもよい。
【００２９】
単一モジュールを直列に配列することができ、これはいくつかのモジュールを単一の軸線に沿って配置することを意味する。典型的には、第一のモジュールの膜構造体の表面を一方から他方へと通過したガスは、そのモジュールの流出領域から流出し、その後このガスの一部又は全てが第二のモジュールの流入領域に入り、そしてその後第二のモジュールの膜構造体の表面を一方から他方へと流れる。一連の単一モジュールの軸線は、全体的な流れの方向に対して、又は直列のモジュールを通過するガスの軸線に対して、平行であるか又はほぼ平行とすることができる。
【００３０】
モジュールは２又はそれ以上の並列なモジュールのバンクに配置でき、この場合、並列モジュールのバンクは、全体的な流れの方向に対して、又はモジュール上を通過するガスの軸線に対して平行でなく、そして一般的にはそれに対して直角であることができる。モジュールの複数のバンクを直列に配列することができ、これは、定義により、モジュールのバンクが、第一のモジュールバンクの膜構造体の表面を通り越したガスの少なくとも一部が第二のモジュールバンクの膜構造体の表面を流れるように配置されることを意味する。
【００３１】
任意の数の単一モジュール又はモジュールバンクを直列に配列することができる。一つの態様では、直列単一モジュール又は直列モジュールバンクのモジュールが、軸線の数が１に等しいかあるいは各バンクのモジュールの数に等しい、１つの共通の軸線上あるいは複数の共通の軸線上にあることができる。下記で説明する別の態様では、直列のモジュール又はモジュールバンク中の連続するモジュール又はモジュールバンクを、それぞれ、モジュールが少なくとも２つの軸線上にあり、あるいはバンク中のモジュール数よりも多い数の軸線上にあるように、交互にオフセットさせることができる。これらの態様のどちらも、ここで使用する直列モジュールの定義に包含される。
【００３２】
好ましくは、膜モジュールの外部領域で外表面に接触するガスは、膜モジュールの内部領域内のガスよりも高圧である。
【００３３】
流動封じ込めダクトとは、流動するガスを直列のモジュールの向こう側へ導く、複数の直列膜モジュールを取り囲む導管又は閉鎖流路として定義される。
【００３４】
マニホールドとは、ガスを膜モジュールの内部領域に入り及び／又はそこから出るよう導く、パイプ又は導管の集成体である。第一の又は内側の導管を第二の又は外側の導管内に設置することにより、２つのマニホールドを組み合わせることができ、この場合、第一の導管が第一のマニホールドを提供し、導管の間の環状部が第二のマニホールドを提供する。これらの導管は同一中心又は同軸でよく、この場合これら二つの用語は同じ意味を有する。あるいはまた、導管は同一中心又は同軸でなくてもよく、別々の平行又は非平行の軸線を持つことができる。複合マニホールドの機能を提供する内管及び外管のこの構造を、ここでは入れ子式マニホールドと定義する。
【００３５】
連通（ｆｌｏｗ  ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ）とは、膜モジュール及び容器システムの構成要素がお互いに関して、ガスが１つの構成要素から別の構成要素へと容易に流れることができるように適応していることを意味する。
【００３６】
ウェハーとは、中心又は内部領域及び外部領域を有する膜構造体であり、ここでのウェハーは、少なくとも周縁の一部がシールされた２つの平行な平面部材によって形成される。平面部材のいずれか又は両方の表面に、活性膜材料を配置することができる。ガスはウェハーの中央又は内部領域を流れることができ、すなわち内部領域の全ての部分が連通しており、そしてウェハーは、ガスがウェハーの内部領域に入り及び／又はそこから出るのを可能にする１又はそれ以上のガス流動開口部を有する。ウェハーの内部領域は、ガスが内部領域を流れるのを可能にし、且つ平行な平面部材を機械的に支持する、多孔質及び／又は流路のある材料を含んでもよい。活性膜材料は、酸素イオンを輸送又は透過させるが、いかなるガスの流れも通さない。
【００３７】
酸素とは、原子番号８を有する元素を含む酸素の諸形態に対する一般用語である。一般用語の酸素は、酸素イオンも、またガス状酸素（Ｏ2又は二酸素）も包含する。酸素含有ガスは、空気、又は酸素、窒素、水、一酸化炭素、及び二酸化炭素よりなる群から選ばれる１以上の成分を含むガス混合物を包含することができるが、これらに限定されるわけではない。
【００３８】
反応物ガス又は反応物原料ガスとは、酸素と反応して酸化生成物を生成する少なくとも１つの成分を含むガスである。反応物ガスは１種又はそれ以上の炭化水素を含有してもよく、ここでの炭化水素は、主として又は専ら水素原子と炭素原子を含む化合物である。炭化水素は他の原子、例えば酸素などを含むこともできる。
【００３９】
合成ガスとは、少なくとも水素と炭素酸化物を含有するガス混合物である。
【００４０】
イオン輸送膜とは、高温で酸素イオンを輸送又は透過することができる混合金属酸化物を含むセラミック膜材料の活性層である。イオン輸送膜は、酸素イオンと同様に電子を輸送することもでき、このタイプのイオン輸送膜は一般に混合導体膜と記載される。イオン輸送膜はまた、それにより複合膜を形成する１種以上の元素金属を含むこともできる。
【００４１】
イオン輸送膜システムとは、酸素回収又は酸化反応に使用する複数のイオン輸送膜モジュールのアレイに対する一般用語である。イオン輸送膜分離システムは、酸素含有ガスから酸素を分離及び回収するために使用するイオン輸送膜システムである。イオン輸送膜反応器システムとは、酸化反応に使用するイオン輸送膜システムである。
【００４２】
本発明の態様における一連の膜モジュールは、上記のように管状又は平面構造のいずれかで製作することができる。平面構造は多くの用途にとって好ましく、様々な構造の平面膜モジュールが可能である。平面膜モジュール構造は、例えば２００３年３月２１日出願の同時係属米国特許出願第１０／３９４６２０号明細書に記載されており、この出願は参照によりここに組み入れられる。
【００４３】
原語書類中において使用する不定冠詞「ａ」及び「ａｎ」は、本明細書及び特許請求の範囲に記載の本発明の態様におけるいずれかの特徴に適用される場合、１又はそれ以上を意味する。「ａ」及び「ａｎ」の使用は、限定するように特に述べていない限り、単一を意味することに限定するものではない。単数もしくは複数名詞又は名詞句に先行する定冠詞「ｔｈｅ」は、指定した特定の単数又は複数の特徴を表示するものであり、使用状況に応じて単数又は複数の意味を有し得る。形容詞「いずれかの（ａｎｙ）」は、いかなる量であれ区別することなく、１、いくつか、又は全てを意味する。
【００４４】
典型的な平面膜モジュールの例を図１に示し、これは本発明の態様に従う酸素回収又は酸化プロセスに使用するための膜ウェハー積重体又はモジュールの模式正面図である。この例の積重体又はモジュールは、中空スペーサー３で隔てられ随意的なキャップ５を有する複数の平面ウェハー１を含んでいる。ウェハー及びスペーサーは、図示のように交互に配置及び接合されて、積重体又はモジュールの軸線７を形成している。ウェハーは平面図において任意の形状であってよいが、正方形又は長方形が一般に好ましい。正方形又は長方形ウェハーの辺の寸法は２ｃｍと４５ｃｍの間とすることができる。積重体におけるウェハーの数は１０００までの範囲とすることができる。
【００４５】
積重体又はモジュールの外部領域とは、ウェハー及びスペーサーの外表面を取り囲む領域である。下記で詳細に述べるように、ウェハー１は、スペーサー３の内部と連通するように配置される内部領域を有し、ウェハーとスペーサーの間にはガスを漏らさないシールが形成される。底部の中空スペーサー１１にある開口部９は、ガスが積重体又はモジュールの内部領域に入り及び／又はそこから出てゆくことを可能にし、モジュールの内部領域はウェハーの内部領域と中空スペーサーにある開口部によって形成されている。従って、開口部９はモジュールの内部領域と連通している。
【００４６】
図１のモジュール側面図を図２Ａに示し、これは酸化プロセスに使用するための典型的構造を例示する。この例では、ウェハー２００の間のスペーサー２０１はそれぞれ、開口部２０３及び２０５の２つの別々な組を有している。スペーサー２０１にある開口部２０３、並びにスペーサー２０１の上方及び下方に配置されたスペーサーにある別の開口部は、内部マニホールドを形成し、この内部マニホールドは、ウェハーの左端でウェハーの層を通り抜ける適切に配置された開口部（図示せず）により、ウェハーの内部領域と連通している。ウェハー層を通り抜けるこれらの開口部も、スペーサー２０１の内部開口部２０３並びにスペーサー２０１の上方及び下方のスペーサーの内部開口部を相互に連通させる。同様に、スペーサー２０１の開口部２０５、並びにスペーサー２０１の上方及び下方に配置されたスペーサーにある別の開口部が、内部マニホールドを形成し、この内部マニホールドは、ウェハーの右端でウェハーの層を通り抜ける適切に配置された開口部（図示せず）により、ウェハーの内部領域と連通している。ウェハーの層を通り抜けるこれらの開口部もまた、スペーサー２０１の内部開口部２０５並びにスペーサー２０１の上方及び下方のスペーサーにある内部開口部を相互に連通させる。
【００４７】
この例の構造では、ガス流２０７は開口部２０３及びそれらの上方の開口部により形成された内部マニホールドを上向きに流れ、次いでウェハーの内部領域を水平に流れる。次に、ウェハーの内部領域からのガスは、開口部２０５及びそれらの上方の開口部により形成された内部マニホールドを下向きに流れ、ガス流２０９としてモジュールを出る。モジュールのガス流入領域の第二のガス２１１は、スペーサー２０１の両側のモジュールの外部領域を通りウェハー２００の外表面に接触して流れる。ウェハー２００の外表面に接触後、ガス２１３はモジュールのガス流出領域を流れる。このモジュールは、６００〜１１００℃典型的な温度範囲で運転することができる。
【００４８】
図２Ａのモジュールは酸化反応器システムの一部として使用でき、この場合、代表的なガス２１１は反応ガスであり、代表的なガス２０７は酸化剤又は酸素含有ガスである。酸素含有ガス２０７は、開口部２０３を経由して内部マニホールドを流れ、またウェハーの内部領域を流れ、酸素は、ウェハーの平面部材にある活性膜材料を透過し、そして酸素の減少したガス２０９が開口部２０５を通ってモジュールから流れる。透過した酸素は、ガスがウェハーの外表面を流れるにつれて反応物ガス又は反応物原料ガス２１１中の反応物成分と反応し、そして酸化生成物を生成する。モジュールからの出口ガス２１３は、酸化生成物と未反応成分を含んでいる。一つの例となる態様では、反応物ガス２１１はメタン又はメタン含有原料ガスを含み、出口ガス２１３は未反応メタン、水素、炭素酸化物、及び水の混合物であり、酸素含有ガス２０７は空気であり、そして酸素の減少したガス２０９は、ガス２０７に比べて窒素に富み酸素が減少している。典型的には、ガス２１１及び２１３の圧力はモジュールの内部領域のガス圧力よりも高い。
【００４９】
図１のモジュールの別の側面図を図２Ｂに示し、これは酸素含有ガスから高純度酸素を回収するプロセスに使用するための典型的な構造を例示している。この例では、ウェハー２１７の間のスペーサー２１５は開口部２１９を有しており、開口部２１９及びスペーサー２１５の下方に配置したスペーサーにある別の開口部が、ウェハーの内部領域と連通する内部マニホールドを形成している。こうして開口部２２１は、モジュールの内部領域を製品ガスの導管（図示せず）と連通させる。モジュールのガス流入領域の酸素含有ガス２２３、例えば空気は、スペーサー２１５の両側のモジュールの外部領域を通りウェハー２１７の外表面に接触して流れる。ウェハー２１７の外表面に接触後、酸素の減少したガス２２５がモジュールのガス流出領域を流れる。このモジュールは、６００〜１１００℃の典型的な温度範囲で運転することができる。
【００５０】
酸素含有ガスがモジュールの外部領域を流れそしてこのガスがウェハーの外表面に接触すると、酸素はウェハーの平面部材の活性膜材料を透過し、モジュールの内部領域に高純度酸素ガスが集まる。高純度酸素製品ガス２２７は開口部２２１から流出する。一般的に、酸素含有ガス２２３及び２２５の圧力はモジュールの内部領域にある高純度酸素の圧力よりも高い。
【００５１】
図１、２Ａ及び２Ｂにおけるウェハーの内部領域の１つの典型的構造を、図３Ａ及び３Ｂの断面図で例示する。図１の２−２断面を表す図３Ａを参照すれば、このウェハーは、ガスが気孔を通って流動するのを可能にする多孔性セラミック材料製の外部支持層３０１及び３０３を有している。緻密な活性膜層３０５及び３０７が外部支持層３０１及び３０３と接触しており、そして流動流路層３１５及び３１７の一部である支持リブ３２１及び３２９によって支持されている。これらのリブもまた、ガスの流動のための開口部又はスロット３１３を有するスロット付き支持層３０９により支持されている。開放の流路３１９と３２５が、開口部又はスロット３１３を介して連通している。随意に、図２Ｂのモジュールを酸素含有ガスから酸素を回収するのに使用する場合には、支持層３０１及び３０３は必要ないことがある。
【００５２】
「緻密な」という語は、焼結又は焼成した場合に、ガスがそれを通り抜けて流れることのできないセラミック材料を指す。膜が無傷でガスを漏出させるひび、穴、又は欠陥がない限り、ガスは混合伝導性多成分金属酸化物材料でできた緻密なセラミック膜を通り抜けて流れることはできない。酸素イオンは、高温、典型的には６００℃より高い温度で、混合伝導性多成分金属酸化物材料でできた緻密なセラミック膜を透過することができる。
【００５３】
図２Ａ及び２Ｂの４−４断面を表す図３Ｂは、図３Ａの断面を９０度回転させたウェハー断面を示す。この断面は、同一に見える外部支持層３０１及び３０３と同一に見える緻密な活性膜材料層３０５及び３０７を示している。この断面はまた、先のものに代わるスロット付き支持層３０９と流動流路層３１５及び３１７も示している。交互に配された支持リブ３３３の間に開放の流路３３１が形成され、ウェハーの内部領域をガスが流れるのを可能にしている。従って、ウェハーの内部領域は、流動流路層３１５、流動流路層３１７、及びスロット付き支持層３０９の内部にある一体化した開放容積として定義される。
【００５４】
緻密な活性膜層３０５及び３０７は、好ましくは、一般式（ＬａxＣａ1-x）yＦｅＯ3-δ（式中、１．０＞ｘ＞０．５、１．１≧ｙ＞１．０、そしてδは該組成物の電荷を中性にする数である）を有する少なくとも１つの混合伝導性多成分金属酸化物化合物を含有する混合金属酸化物セラミック材料を含む。多孔性支持層３０１及び３０３のためには任意の適当な材料を使用でき、この材料は、例えば、活性膜層３０５及び３０７と同じ組成を持つセラミック材料でよい。好ましくは、多孔性支持層３０１及び３０３は混合伝導性多成分金属酸化物材料である。スロット付き支持層３０９並びに流動流路層３１５及び３１７の構造部材には任意の適当な材料を使用でき、この材料は、例えば、活性膜層３０５及び３０７と同じ組成を持つセラミック材料でよい。流路を備えた支持層の材料は、好ましくは、緻密なセラミック材料である。一つの態様では、活性膜層３０５及び３０７、多孔性支持層３０１及び３０３、スロット付き支持層３０９、並びに流動流路層３１５及び３１７は、全て同じ組成の材料で製造することができる。
【００５５】
緻密な活性膜層３０５及び３０７は、随意に、１種以上の酸素還元触媒を酸化剤側に含むことができる。この１種以上の触媒又は触媒は、白金、パラジウム、ルテニウム、金、銀、ビスマス、バリウム、バナジウム、モルブデン、セリウム、プラセオジム、コバルト、ロジウム及びマンガンよりなる群から選ばれる金属又はこの群から選ばれる金属を含有する化合物を含むことができる。
【００５６】
多孔性支持層３０１及び３０３は、随意に、炭化水素の酸化、改質、及び／又は該多孔性層で起こるその他の反応を促進するための１種以上の触媒を含んでもよい。この１種以上の触媒は、多孔性支持層３０１及び３０３の一方又は両方の表面に配置してもよく、あるいはこの層全体に分散させてもよい。この１種以上の触媒は、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、金、ニッケル、コバルト、銅、カリウム及びこれらの混合物よりなる群から選ばれる金属又はこの群から選ばれる金属を含有する化合物を含むことができる。構造及び／又はプロセス上の理由で望ましい場合には、それぞれ活性膜層３０５及び３０７と隣接する流動流路層３１５及び３１７の間に、更なる多孔性層を配置してもよい。
【００５７】
図１、２Ａ及び２Ｂの酸素回収用途向けウェハーの内部領域のもう一つの可能な構造を、図３Ｃ及び３Ｄの断面図に例示する。図１の２−２断面を表す図３Ｃを参照すれば、ウェハーは外側緻密層３５１及び３５３を有する。３５５及び３５７の多孔性セラミック層が、外側緻密層３５１及び３５３と接触している。多孔性セラミック層３５５は、流動流路層３６５の一部である支持リブ３７１によって支持されている。多孔性セラミック層３５５は、流動流路層３６５の一部である流動流路３６６と接触している。多孔性セラミック層３５７は、流動流路層３６７の一部である流動流路３６８と接触している。
【００５８】
リブ３７１はまた、ガスの流動のための開口部又はスロット３６３を有する流動流路層３５８によって支持されている。流動流路層３６７は流動流路層３５９のリブ３７３によって支持されており、そしてブリッジ３７９が流動流路３６８の端部を形成している。ブリッジ３７２が流動流路３６３の端部を形成し、そして流動流路３６８は流動流路層３５９の流動流路３７４と連通している。開放の流路３７４及び３６３は連通している。
【００５９】
図２Ａ及び２Ｂの４−４断面を表す図３Ｄは、図３Ｃの断面を９０度回転させたウェハーの断面を例示している。この断面は、同一に見える外部緻密層３５１及び３５３と同一に見える多孔性セラミック層３５５及び３５７を示している。多孔性セラミック層３５５が、流動流路層３６５によって支持されている。多孔性セラミック層３５５は、流動流路層３６５の一部である流動流路３６６と接触している。多孔性セラミック層３５７は、流動流路層３６７のリブ３７８によって支持されている。多孔性層３５７は、流動流路層３６７の一部である流動流路３６８と連通している。
【００６０】
リブ３７８はまた、ガスの流動のための開口部又はスロット３７４を有する流動流路層３５９によって支持されている。流動流路層３６５は流動流路層３５８のリブ３７５によって支えられている。ブリッジ３７１が、流動流路３６６の端部を形成している。ブリッジ３７６が、流動流路３７４の端部を形成し、そして流動流路３６６は流動流路層３５８の流動流路３６３と連通している。開放の流路３７４及び３６３は連通している。
【００６１】
従って、ウェハーの内部領域は、流動流路層３６５、流動流路層３６７、流動流路層３５８、及び流動流路層３５９の内部にある一体化した開放容積として定義される。層３６５及び３５８の流動流路は互いに直行していてよく、層３６７及び３５９の流動流路もまた同様である。あるいはまた、流動流路３５８及び３５９は、ウェハーの中央から放射状に延在し且つウェハー中央の中心口と連通している流動流路を含む単一の流動流路層に置き換えてもよい。
【００６２】
緻密活性膜のための代表的な組成物が米国特許第６０５６８０７号明細書に記載されており、それは参照によりここに組み入れられる。緻密活性膜層３５１及び３５３は、好ましくは、一般式（ＬａxＳｒ1-x）ＣｏyＯ3-δ（式中、１．０＜ｘ＜０．４、１．０２≧ｙ＞１．０、そしてδは該組成物の電荷を中性にする数である）を有する少なくとも１つの混合伝導性多成分金属酸化物化合物を含有する混合金属酸化物セラミック材料を含む。多孔性支持層３５５及び３５７のためには任意の適当なセラミック材料を使用することができ、この材料は、例えば、活性膜層３５１及び３５３と同じ組成の材料でよい。好ましくは、多孔性支持層３５５及び３５７は混合伝導性多成分金属酸化物材料である。流動流路層３６５、３６７、３５８及び３５９の構造部材には任意の適当な材料を使用でき、そしてこの材料は、例えば、活性膜層３５１及び３５３と同じ組成を持つセラミック材料でよい。流路を設けた流動層の材料は、好ましくは、緻密なセラミック材料である。一つの態様では、活性膜層３５１及び３５３、多孔性支持層３５５及び３５７、並びに流路を設けた流動層３５８、３５９、３６５及び３６７は、全て同じ組成を持つ材料で製作することができる。
【００６３】
随意に、緻密層３５１及び３５３の外表面に多孔性層を適用してもよい。酸素発生用途向けのウェハーの内部領域のためのその他の典型的な構造が、米国特許第５６８１３７３号明細書に記載されており、それは参照によりここに組み込まれる。
【００６４】
本発明の態様は、上に明示したように直列に配列される複数の膜モジュールを利用する。この直列モジュールはまた、ガス流をモジュールへ導きそしてガスをモジュールから導くための適当なガス流動封じ込めダクト、導管、及び／又はマニホールドを備えた１又はそれ以上の容器に取り付けることができる。これらの態様の一つを図４Ａに例示し、これは酸素含有ガスから高純度酸素を回収するのに使用するための典型的な膜分離器容器の内部の模式側面図である。膜モジュール４０１、４０３、４０５、４０７、及び４０９は、圧力容器４１３内の随意的な流動封じ込めダクト４１１内に直列に取り付ける。これらの膜モジュールは、例えば、図１及び２Ｂを参照して先に説明したモジュールと同様でよい。随意的な流動封じ込めダクト４１１は、入口ガス流４１７をこのダクトを通してモジュール４０１〜４０９のウェハーの外表面と接触させるよう導くための入口４１５を有する。この入口ガス流は、任意の適当な方法（図示せず）で６００℃〜１１００℃の温度に加熱された加圧酸素含有酸化剤ガス、例えば空気である。ダクト４１１内のガスの圧力は０．２〜８ＭＰａの範囲内でよい。流動封じ込めダクトは、好ましくは、鉄と、ニッケル及びクロムよりなる群から選ばれる１以上の元素とを含有する耐酸化性金属合金を含む。流動封じ込めダクト用に利用できる商業的に入手可能な合金には、ハイネス（Ｈａｙｎｅｓ、登録商標）２３０、インコロイ（Ｉｎｃｏｌｌｏｙ、登録商標）８００Ｈ、ハイネス（登録商標）２１４、及びインコネル（Ｉｎｃｏｎｅｌ、登録商標）６９３合金がある。
【００６５】
流動封じ込めダクト４１１内のガス圧力は、好ましくは、圧力容器４１３内の、この容器の内壁と流動封じ込めダクト４１１の外壁のと間のガス圧力より高い。圧力容器４１３の入口と出口の間の任意の箇所におけるダクト４１１の内側と外側との圧力差は、好ましくは、０に等しいかあるいはそれより大きい値に維持され、ここで、ダクト内部の圧力はダクト外部の圧力容器内の圧力と等しいかそれより高い。これは、例えば、ダクト外の空間をダクト内部の処理ガスよりも低圧のガスでパージし、処理ガス出口４２１でダクト外の空間とダクト中の処理ガスとを連通をさせ、パージガスをダクト外の空間へと導入し、又は、ダクト内部よりもダクト外部の空間でより低圧を維持するためにパージガス出口で圧力制御装置を使用しながら、パージガスをパージガス出口を通して抜き出すことにより、達成することができる。
【００６６】
酸素含有ガスが膜モジュール４０１〜４０９のウェハーの表面を直列に通過するにつれ、酸素が緻密な活性膜層を透過し、そしてモジュールの内部領域に集まる。酸素の減少したガス流４１９は、出口４２１を通ってダクト及び圧力容器から出る。モジュールの内部領域からの高純度酸素透過製品は、一次マニホールド４２３、４２５、４２７、４２９、及び４３１、二次マニホールド４３３、４３５、４３７、４３９、及び４４１、そして主マニホールド４４５を流れ、高純度ガス製品流４４７としてこのシステムを出る。膜モジュール４０１〜４０９のうちの少なくとも２つは、圧力容器４１３の軸線又は流動封じ込めダクト４１１の軸線と平行であってもよくあるいは一致してもよいモジュールの軸線を規定する。
【００６７】
上述の典型的な膜分離器容器は、ガスを膜モジュールに供給するための単一の入口、単一の流動封じ込めダクト、及び膜モジュールからの単一の出口を有してはいるが、複数の入口、複数の流動封じ込めダクト、及び／又は複数の出口を使用することができるこのほかの態様が可能である。例えば、圧力容器は、各々が１又はそれ以上の入口及び１又はそれ以上の出口を持つ２個（又はそれ以上）の流動封じ込めダクトを有してもよい。一般的に、分離器容器が入口と出口を有すると記載される場合、これは、それが１又はそれ以上の入口と１又はそれ以上の出口を有することを意味する。一般的に、分離器容器が流動封じ込めダクトを有すると記載される場合、これはそれが１又はそれ以上の流動封じ込めダクトを有することを意味する。
【００６８】
図４Ａの典型的な膜分離器容器のもう一つの図を、図４Ｂに示したように６−６断面によって示す。この態様では、ダクト４１１中に、３つの膜モジュール４０１ａ、４０１ｂ、及び４０１ｃのバンクが平行に取り付けられており、そしてこのバンクは、二次マニホールド４３３に接続した３つの一次マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃを有する。二次マニホールド４３３はまた、主マニホールド４４５に接続している。これとは別に、１つの膜モジュール、２つの並列の膜モジュール、又は３つ以上の並列の膜モジュールを、各バンクで使用してもよい。
【００６９】
二次マニホールド４３３、４３５、４３７、４３９及び４４１と主マニホールド４４５は、図４Ａ及び４Ｂの態様では圧力容器４１３の内部に位置してはいるが、別の態様ではこれらのマニホールドは圧力容器の外部に位置してもよい。この別態様では、一次マニホールド４２３、４２５、４２７、４２９、及び４３１は圧力容器４１３の壁を貫通する。
【００７０】
別の態様では、平面膜モジュール４０１〜４０９を、随意的なダクト４１１を通る長手方向のガスの流れに関して直列の関係に配置した管状膜モジュールと取り替えることができる。これらのモジュールは複数の単一管を利用してもよく、あるいは差し込み式の管を利用してもよく、そしてこれらのモジュールは、ガスが交差流でもって管を横切って流れるか、あるいは平行流でもって管と接触するような向きにすることができる。この別態様では、マニホールドは全て、図４Ａ及び４Ｂに示すように圧力容器内に位置する。
【００７１】
本発明のもう一つの態様を図５に示し、これは酸化プロセスに使用するための典型的な膜反応器容器の内部の模式側面図である。膜モジュール５０１、５０３、５０５、５０７、及び５０９は、圧力容器５１３内部の流動封じ込めダクト５１１内に直列に取り付けられる。これらの膜モジュールは、例えば図１及び２Ａを参照して先に説明したモジュールと同様でよい。随意的な流動封じ込めダクト５１１は、入口ガス流５１７をこのダクトを通してモジュール５０１〜５０９のウェハーの外表面に接触するよう導くための入口５１５を有する。この入口ガス流は、高温で酸素と反応する１又はそれ以上の成分を含有する反応物原料ガスであり、この入口反応物原料ガスは任意の適当な方法（図示せず）で６００℃〜１１００℃の温度に加熱される。ダクト５１１内のガスの圧力は０．２〜８ＭＰａの範囲でよい。反応物原料ガスの例は水蒸気と天然ガスの混合物であり、天然ガスは主としてメタン、そしてより少量の軽質炭化水素を含む。この混合物は、水蒸気、メタン、及び炭素酸化物を含有する反応物原料ガスを生成させるため約８００℃より低い温度で前もって改質することができる。その他の酸化可能な反応物原料ガスとしては、例えば、水素、一酸化炭素、水蒸気、メタノール、エタノール、及び軽質炭化水素の様々な混合物が挙げられる。
【００７２】
流動封じ込めダクト５１１内のガス圧力は、好ましくは、圧力容器５１３の内壁と流動封じ込めダクト５１１の外壁との間の、容器内部のガス圧力より高い。圧力容器５１３の入口と出口の間の任意の点における、ダクト５１１の内部と外部との圧力差は、好ましくは、０に等しいかそれより大きい値に維持され、ダクト内部の圧力はダクト外部の圧力容器内の圧力と等しいかそれより高い。これは、例えば、ダクト外の空間をダクト内部の処理ガスよりも低圧のガスでパージし、処理ガス出口５５９でダクト外の空間とダクト内の処理ガスとを連通させ、パージガスをダクト外の空間へと導入し、そしてダクト内部よりもダクト外部の空間でより低圧を維持するためにパージガス出口で圧力制御装置を使用しながら、パージガスをパージガス出口を通して抜き出すことにより、達成することができる。
【００７３】
膜モジュール５０１〜５０９の内部領域は、２つのマニホールドシステムと連通しており、マニホールドシステムの一方は酸素含有酸化剤ガスをモジュールに導入するため、他方は酸素の減少した酸化剤ガスをモジュールから抜き出すためのものである。これらのマニホールドシステムの第一のものは、主たる入口マニホールド５１９、一次入口マニホールド５２１、５２３、５２５、５２７、及び５２９、そして二次入口マニホールド５３１、５３３、５３５、５３７、及び５３９を含む。これらのマニホールドシステムの第二のものは、主たる出口マニホールド５４１と、一次出口マニホールド５４３、５４５、５４７、５４９、及び５５１を含む。
【００７４】
図５の構造に代わる別の構造（図示せず）では、流動封じ込めダクト５１１内に位置している場合に、二次入口マニホールド５３１、５３３、５３５、５３７、及び５３９をそれぞれ一次出口マニホールド５４３、５４５、５４７、５４９、及び５５１と一体化することができる。第一の又は内部導管を第二の又は外部導管内に組み込むことにより、二つのマニホールドを一体化してもよく、この場合、第一の導管が第一のマニホールドを提供し、導管の間の環状部が第二マニホールドを提供する。これらの導管は同一中心又は同軸でよく、あるいはまた、導管は同一中心又は同軸でなくてもよく、別々の平行又は非平行軸線を持つことができる。複合マニホールド機能を提供する内部導管及び外部導管のこの構造を、ここでは入れ子式マニホールドと定義する。
【００７５】
この別態様の構造では、ガス５５３は中央の導管を流れ、ガス５５５はこれら入れ子式マニホールドの各組の環状部を流れる。入れ子式マニホールドは、流動封じ込めダクト５１１の外にある別々のマニホールドへと推移し、すなわち、図５に示すように、二次入口マニホールド５３１、５３３、５３５、及び５３９と一次出口マニホールド５４３、５４５、５４７、５４９、及び５５１へと推移する。随意的に、一次出口マニホールド５４３、５４５、５４７、５４９、及び５５１は、流動封じ込めダクト５１１内のそれぞれ二次入口マニホールド５３１、５３３、５３５、５３７、及び５３９の中に入れ子状に入っていてもよい。このオプションでは、ガス５５５は中央導管を流れ、ガス５５３はこれら入れ子式マニホールドの各組の環状部を流れることになる。従って、包括的に言えば、二次入口マニホールドと一次出口マニホールドは、流動封じ込めダクト５１１内に位置する場合に、入れ子式とすることができ、そして環状部が二次入口マニホールドかあるいは一次出口マニホールドのいずれかを提供することができる。
【００７６】
加熱した加圧酸素含有酸化剤ガス５５３、例えば、任意の適当な方法（図示せず）で６００〜１１００℃の温度に加熱した空気が、主入口マニホールド５１９に入り、一次入口マニホールド５２１、５２３、５２５、５２７、及び５２９と二次入口マニホールド５３１、５３３、５３５、５３７、及び５３９を通って膜モジュール５０１、５０３、５０５、５０７、及び５０９の入口へと流れる。膜モジュールの内部領域の酸化剤ガスから酸素が、モジュール５０１〜５０９のウェハーの緻密活性膜層を透過し、透過した酸素は膜モジュールの外部領域において反応性成分と反応する。酸素の減少した酸化剤ガスが、一次出口マニホールド５４３、５４５、５４７、５４９、及び５５１と主出口マニホールド５４１を通って膜モジュール内部領域の出口を出て、そして最後の酸素の減少した酸化剤ガスがガス流５５５として抜き出される。反応生成物と未反応の供給成分とを含有する出口ガス流５５７が、出口５５９を通してこの反応器システムから抜き出される。
【００７７】
上述の典型的な反応器容器には膜モジュールへの反応物原料ガスの単一の入口、単一の流動封じ込めダクト、そして膜モジュールからの単一の出口があるが、複数の入口、複数の流動封じ込めダクト、及び／又は複数の出口を使用することができる他の態様も可能である。例えば、圧力容器は、各々に１又はそれ以上の入口及び１又はそれ以上の出口のある２又はそれ以上の流動封じ込めダクトを有することができる。一般的に、反応器容器が入口と出口を有すると記載する場合、これは１又はそれ以上の入口と１又はそれ以上の出口を有することを意味する。一般的に、反応器容器が流動封じ込めダクトを有すると記載する場合、これは１又はそれ以上の流動封じ込めダクトを有することを意味する。
【００７８】
図５の典型的な膜反応器容器の別の図を、図６に示すように８−８断面でもって提示する。この態様では、ダクト５１１内に３つの膜モジュール５０３ａ、５０３ｂ、及び５０３ｃのバンクを平行に設置する。酸化剤ガスは、主入口マニホールド５１９、一次入口マニホールド５２３、及び二次入口マニホールド５３３ａ、５３３ｂ、及び５３３ｃを通って膜モジュール５０３ａ、５０３ｂ、及び５０３ｃの入口へと流れる。酸素が減少した酸化剤ガスは、一次出口マニホールド５４５ａ、５４５ｂ、及び５４５ｃ（二次入口マニホールド５３３ａ、５３３ｂ、及び５３３ｃの背後に位置する）、二次出口マニホールド５６１、そして主出口マニホールド５４１ａ及び５４１ｂを通って、膜モジュール５０３ａ、５０３ｂ、及び５０３ｃを出る。図６の態様には３個の並列の膜モジュールが示されてはいるが、所望に応じ１つの膜モジュール、２つの並列膜モジュール、又は４つ以上の並列膜モジュールを使用してもよい。
【００７９】
ガード床（図示せず）を、入口流４１７及び／又は５１７から微量の汚染物質を除去するため、圧力容器４１３の入口４１５及び／又は圧力容器５１３の入口５１５に取り付けることができる。あるいは、ガード床は圧力容器内部で入口と第一の膜モジュールの間に取り付けてもよい。汚染物質としては、例えば、硫黄、クロム、及び／又は珪素を含有するガス種を挙げることができる。ガード床は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化銅、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸ストロンチウム、酸化ストロンチウム、酸化亜鉛、及びアルカリ土類含有ペロブスカイトよりなる群から選ばれる１種以上の物質を含むことができる。これらの物質は、反応物ガス又は酸素含有ガスの入口流由来の汚染物質と反応してそれを除去する。
【００８０】
１つの容器からの出口ガスを他の容器に供給するように、圧力容器４１３と直列に追加の圧力容器を設置してもよい。追加の圧力容器は並列に配置してもよく、この場合、複数の圧力容器が並列且つ直列に運転する。同様に、１つの容器からの出口ガスを他の容器に供給するように、追加の圧力容器を圧力容器５１３と直列に設置してもよい。追加の圧力容器は並列に配置してもよく、この場合、複数の圧力容器が並列且つ直列に運転する。所望に応じ、ガード床を任意の直列の圧力容器間に配置してもよい。
【００８１】
上記の態様では、圧力容器４１３及び５１３の壁をそれぞれの膜モジュール４０１〜４０９及び５０１〜５０９の温度よりも低い温度に維持するために内部断熱材を使用するのが望ましい。これは、図７〜１３に示す種々の断熱材の態様により達成することができ、これらの図は酸素含有ガスから酸素を回収するのに使用する図４Ａ及び４Ｂの態様のための断熱材の構造配置を例示している。同様の断熱材の構造配置（図示せず）を、図５及び６の酸化反応器の態様のために使用してもよい。
【００８２】
これらの断熱材の態様の第一番目を図７に示し、ここでは断熱材７０１を圧力容器７０３の内部に配置しており、そしてそれは圧力容器の内壁に接触させてもよい。この態様では、流動封じ込めダクトを使用せず、代わりに断熱材自体により空洞７０５を形成し、そしてこの空洞がガスの流れを膜モジュールの外部領域を通り過ぎて導く役割を果たす。この断熱材は、一次マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃ、二次マニホールド４３３、そして主マニホールド４４５と接触させてもよい。
【００８３】
第二の断熱材の構造配置を図８に示し、ここでは断熱材８０１を圧力容器４１３の内壁に隣接して配置しており、そしてそれは圧力容器の内壁に接触させてもよい。この態様では、流動封じ込めダクト４１１を使用し、そして好ましくはこれを断熱材８０１と接触させない。断熱材は好ましくは、一次マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃ、二次マニホールド４３３、並びに主マニホールド４４５と接触させない。
【００８４】
第三の断熱材の構造配置を図９に示し、ここでは断熱材９０１は、圧力容器の内壁と、流動封じ込めダクト４１１、一次マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃ、二次マニホールド４３３、並びに主マニホールド４４５の外表面との間の、該容器の内部領域を完全に充填している。断熱材は、容器内壁、並びに流動封じ込めダクト４１１、一次マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃ、二次マニホールド４３３、そして主マニホールド４４５の外表面と、接触してもよい。
【００８５】
もう一つの態様の断熱材の構造配置を図１０に示し、ここでは断熱材１００１は、膜モジュールの周囲に空洞１００３を形成しており、そしてこの空洞がモジュールの外部領域を通り越してガスの流れを導く役割を果たしている。断熱材１００１は一次マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃと接触してもよく、典型的には圧力容器４１３の内壁と接触しない。
【００８６】
図１１はもう一つの態様の断熱材の構造配置を示しており、ここでは断熱材１１０１は流動封じ込めダクト４１１を取り囲み、そしてそれがまた上記のように膜モジュールを取り囲んでいる。断熱材１１０１は一次マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃと接触してもよく、そして一般に圧力容器４１３の内壁及び流動封じ込めダクト４１１の外表面と接触しない。
【００８７】
もう一つの断熱材の構造配置を図１２に示し、ここでは断熱材１２０１は流動封じ込めダクト４１１を取り囲み、そしてそれがまた上記のように膜モジュールを取り囲んでいる。断熱材１２０１は一次マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃと接触してもよく、一般に流動封じ込めダクト４１１の外表面と接触し、そして一般に圧力容器４１３の内壁とは接触しない。
【００８８】
最後の断熱材の構造配置を図１３に示し、ここでは断熱材１３０３は流動封じ込めダクト４１１内に、且つ一般に該ダクトの内壁と接触して配置され、この場合、断熱材は膜モジュールの周囲に空洞１３０５を形成し、そしてこの空洞がガスの流れをモジュールの外部領域を通り越して導く役割を果たす。断熱材１３０３は一次マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃと接触してもよい。
【００８９】
図７〜１３の上述の態様のいずれにおいても、一次マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃでは、金属マニホールドからセラミックモジュールへと推移させるため、一般に金属−セラミックシールを使用する。同様に、図６に記載の酸化反応器の態様及び図７〜１３の態様と類似の対応する断熱材の態様では、金属マニホールドからセラミックモジュールへと推移させるため、一次マニホールド５３３ａ、５３３ｂ、及び５３３ｃで一般的に金属−セラミックシールを使用する。図１０〜１３の態様（及び酸化反応器のための同様の態様）では、これらのシールは、所望のシール運転温度を実現するため、断熱材１００１、１１０１、１２０１、及び１３０３の内部に（マニホールド４２３ａ、４２３ｂ、及び４２３ｃと接触させるがマニホールド４３３には接触させずに）位置させるのが好ましい。
【００９０】
図７〜１３の態様のいずれにおいても、例えば高温となる可能性のある容器表面から運転要員を防御するために、圧力容器の外表面の周囲に更なる断熱材（図示せず）を配置してもよい。この更なる断熱材はまた、容器内部を容器内のいかなるガスの露点よりも確実に高くする役割を果たすことができる。図１０〜１３の態様のいずれにおいても、更なる断熱材（図示せず）を圧力容器の内面に隣接して配置することができる。図４Ａ、４Ｂ及び５〜１３の態様のいずれにおいても、マニホールドのいずれも内部及び／又は外部を断熱する（図示せず）ことができる。この断熱は、流動封じ込めダクト４１１及びマニホールドの熱膨張の均一性を改善する役割を果たす。
【００９１】
図７〜１３の態様に使用する断熱材は、アルミナ、アルミノケイ酸塩、シリカ、ケイ酸カルシウム、又は高温での使用に好適なその他の通常の断熱材料を包含することができる。断熱材は、例えば、繊維状アルミナ、繊維状アルミノケイ酸塩、多孔性アルミナ、及び多孔性アルミノケイ酸塩よりなる群から選ばれる１種又はそれ以上の材料を含むことができる。図７、１０、及び１３の態様では、断熱材自体が膜モジュールの周囲に空洞を形成するが、この空洞の内壁を断熱材由来の揮発性成分が膜モジュールに接触するのを防止する材料で被覆し又は覆うことができる。例えば、この空洞をハイネス２１４のような金属でできた箔で裏打ちして、断熱材料から発生する可能性があるＳｉ含有蒸気種及び／又は金属配管材料から発生する可能性があるＣｒ含有蒸気種が膜モジュールに接触するのを防止することができる。
【００９２】
断熱材としては、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化銅、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸ナトリウム、酸化亜鉛、酸化ストロンチウム、及びアルカリ土類含有ペロブスカイトよりなる群から選ばれる１又はそれ以上の更なる材料を挙げることができ、これらの材料を断熱材表面に適用してもよく、及び／又は断熱材全体に分散させてもよい。これらの更なる材料を、上述の１以上のガード床の代わりに、又はそれに加えて使用してもよい。これらの材料は、反応物ガスの入口流中に存在することがある汚染物質と反応してそれらを除去し、これらの汚染物質としては、例えば、硫黄、クロム、ケイ素又は酸素を含有するガス種を挙げることができる。
【００９３】
ウェハーの群を直列の流れの構成に配置する別態様を図１４に示す。この態様では、背の高い積重体を上記のようにウェハーとスペーサーで形成し、この積重体を圧力容器１４０１内に設置する。入口管路１４０３及び出口管路１４０５をガスマニホールドシュラウドアセンブリ１４０７と接続し、このアセンブリが入口ガス１４０８の流れを、ウェハー群と接触して交互の向きに流れ且つ出口管路１４０５を通って出口流１４０９として流れるよう導く。この態様では、積重体はシュラウドアセンブリによって第一ウェハー区域１４１１、第二ウェハー区域１４１３、及び第三ウェハー区域１４１５に分けられている。こうして、入口ガス１４０８は直列にウェハー区域１４１１、１４１３、及び１４１５を横切って直列に流れ、そして出口管路１４０５を通って出てゆく。ここには例示を目的として３つのウェハー区域を示しているが、必要に応じて任意の数のウェハー区域を使用することができる。
【００９４】
図１４の態様は、酸素回収装置として、又は酸化反応装置として使用することができる。酸素回収装置として使用する場合、積重体は、図１及び２Ｂを参照して先に説明したようにウェハーとスペーサーで形成される。酸素回収プロセスでは、入口ガス１４０８は加熱した加圧酸素含有ガス（例えば空気）であり、出口流１４０９は酸素の減少した酸素含有ガスであり、そして出口管路１４１９を通って流れる流れ１４１７は、一般に加圧酸素含有ガスよりも低圧の、高純度酸素製品の流れである。酸化反応器システムとして使用する場合、積重体は、図１及び２Ａを参照して先に説明したようにウェハー及びスペーサーで形成される。酸化プロセスでは、入口ガス１４０８は加熱した加圧反応物ガスであり、出口ガス１４０９は酸化反応生成物と未反応の反応物ガス成分の混合物である。流れ１４１７は、一般に加圧反応物ガスよりも低圧の、酸素の減少した酸素含有ガスの流れである。新たな酸素含有酸化剤ガス（例えば空気）は、図２Ａを参照して先に説明したように内部積重体マニホールドを通って積重体へ流入し、このマニホールドへの入口は、出口管路１４１９の背後にあるため、図１４では見えない。
【００９５】
図１４の態様は、所望に応じて、直列の及び／又は並列の複数の圧力容器を用いて運転することができる。所望ならば、複数のモジュールを単一の圧力容器に設置してもよい。
【００９６】
図４Ａ、４Ｂ、５、及び６を参照して先に説明したように、一連の膜モジュールを並列モジュールのバンクに配置してもよい。これを、流動封じ込めダクト５１１とこのダクト内の膜モジュールの断面図（縮尺は一定でない）である図１５でもって説明する。この典型的な態様では、３つの並列モジュールの５つのバンクが一連のモジュールの各個別の組が共通のモジュール軸線上に位置するように、すなわち、モジュール５０１ａ、５０３ａ、５０５ａ、５０７ａ、及び５０９ａが同一の軸線上にあり、モジュール５０１ｂ、５０３ｂ、５０５ｂ、５０７ｂ、及び５０９ｂが同一軸線上にあり、そしてモジュール５０１ｃ、５０３ｃ、５０５ｃ、５０７ｃ、及び５０９ｃが同一軸線上にあるように、配置されている。従ってこの例では、各バンクにおけるモジュール数に等しい３つの軸線がある。各バンクは並列の複数のモジュールを含み、例えば、モジュール５０１ａ、５０１ｂ、及び５０１ｃは並列モジュールの１つのバンクを構成する。複数のモジュールを直列に配列してもよく、例えば、モジュール５０１ｃ、５０３ｃ、５０５ｃ、５０７ｃ、及び５０９ｃは直列のモジュールを構成する。直列モジュールの定義は、モジュールのバンクをも包含することができ、例えば、モジュール５０１ａ、５０１ｂ、及び５０１ｃのバンクはモジュール５０３ａ、５０３ｂ、及び５０３ｃのバンクと直列である。このように、図１５のモジュール構成は直列のモジュールと並列のモジュールを包含する。
【００９７】
実際問題として、ガスが膜モジュールの周囲をバイパスする悪影響を最小にするため、一連のモジュールバンクの間のガスの実質的に半径方向の混合（すなわち、直列のモジュールの軸線からそれる方向のガスの流れ）を促進するのが望ましいことがある。従って、図１５のモジュールの形状配置は、一番よい表現をしたとしても、並列のモジュールと、直列に運転する並列モジュールのバンクを含むものである。多くのガス流分配システムの設計におけるように、半径方向の混合の程度は、内部構成要素（すなわち膜モジュール）間の軸線方向及び半径方向の間隔を適切に選択すること、及び／又はガスの混合を促進するための流動バッフルを使用することによって最大にすることができる。
【００９８】
入口１５０３における入口ガス流１５０１は、半径方向に整列した（すなわち並列の）モジュールの各バンクを越えて直列に流れる。モジュール間の軸線方向及び半径方向の間隔を適切に選択すれば、少量のガスがモジュール５０１ａ、５０１ｂ、及び５０１ｃをバイパスする可能性があるが、それは半径方向に混合又は拡散するので、最終的には下流のモジュールと接触する。出口ガス流１５０５は出口１５０７を通って流れる。一連のモジュールバンクの各々を越えてゆくガスの流れが、１つの並列モジュールバンクからのガスの全て又はほぼ全てが一連のモジュールにおける次の並列モジュールバンクと接触するこの態様の直列の配列を規定する。所望の任意の数のモジュールを半径方向に並列にして使用してもよく、また、所望の任意の数の並列モジュールバンクを軸線方向に直列にして使用してもよい。
【００９９】
図４Ａと４Ｂ又は図５と６に関連する本発明の別態様では、並列膜モジュールのバンクを、３つのモジュールの第一のバンクの次に３つのモジュールのオフセットした第二のバンクが直列に続き、その次に３つのモジュールのオフセットした第三のバンクが直列に続く、等々といったように、千鳥状の又はオフセットした直列配置に整列させてもよい。これを図１６で説明すると、３つのモジュール５０２ａ、５０２ｂ、及び５０２ｃの第一のバンクの次に、流動封じ込めダクト５１１の軸線に垂直な方向にオフセットした３つのモジュール５０４ａ、５０４ｂ、及び５０４ｃの第二のバンクが直列に続く。３つのモジュール５０６ａ、５０６ｂ、及び５０６ｃの第三のバンクは第二のバンクに関してオフセットしているが、これらのモジュールは第一のバンクのモジュールと同軸である。このオフセット関係は、モジュール５０８ａ、５０８ｂ、及び５０８ｃの第四のバンクとモジュール５１０ａ、５１０ｂ、及び５１０ｃの第五のバンクを通じて同様に続くことができる。各々のバンクは並列の複数のモジュールを含むことができ、例えば、モジュール５０２ａ、５０２ｂ、及び５０２ｃは並列モジュールの１つのバンクを構成する。複数のモジュールを直列に配列してもよく、例えば、モジュール５０２ｃ、５０４ｃ、５０６ｃ、５０８ｃ、及び５１０ｃが直列のモジュールを構成してもよい。直列モジュールの定義はモジュールのバンクをも包含することができ、例えば、モジュール５０２ａ、５０２ｂ、及び５０２ｃのバンクは、モジュール５０４ａ、５０４ｂ、及び５０４ｃのバンクと直列になっている。図１６のモジュールの配置は、このように直列のモジュールと並列のモジュールを包含する。
【０１００】
図１６のモジュールは６つの軸線上にあり、すなわちモジュール５０２ｃ、５０６ｃ、及び５１０ｃが１つの軸線上にあり、モジュール５０４ｃ及び５０８ｃがもう一つの軸線上にある、といったようになっている。これらの軸線は、モジュールを越えてゆくガスの全体的な流れの方向に対し平行であることができる。この態様では、軸線の数は各モジュールバンクのモジュール数よりも多くなっている。
【０１０１】
図１６の態様では、入口ガス流１６０１が入口１６０３を通って入り、第一バンクのモジュール５０２ａ、５０２ｂ、及び５０２ｃを越えて流れる。このガスの一部はモジュール５０２ａをバイパスする可能性があるが、著しい半径方向の混合がなければ、少なくともオフセットしたモジュール５０４ａに接触する。モジュール５０２ａ、５０２ｂ、及び５０２ｃの間を流れるガスは、少なくとも次の一組のオフセットしたモジュール５０４ｂ及び５０４ｃに接触する。第一バンクのモジュール５０２ａから流れてきたガスの一部は、第二バンクの少なくとも２つのモジュール（５０４ａ及び５０４ｂ）に接触する。このようにして、こういったオフセットの配置は、共通の軸線上にあるモジュールの列の間の間隙をガスがまっすぐにバイパスするのを防止する。その代わりに、モジュールバンク中のいずれかのモジュールをバイパスするガスは、次のモジュールバンクのモジュールに直接突き当たる。著しい半径方向の混合がなければ、バンク中の１又はそれ以上のモジュールからのガスの少なくとも一部は次のバンクのモジュールのうちの１又はそれ以上に接触し、そしてこれがこの態様におけるモジュールの直列の配列を規定する。
【０１０２】
従って、本発明に従って直列に配列されたモジュールの定義は、図１５と１６を参照して先に説明した両方の態様を包含する。これらの態様では、モジュールバンクの軸線と直列モジュールの軸線は一般に互いに直行してよく、また直列モジュールの軸線は一般に、容器を通るガスの流れの全体的な方向に対して平行でよい。モジュールバンクの軸線が直列モジュールの軸線に対しておおむね直行しておらず、及び／又は直列モジュールの軸線が容器を通り抜けるガスの流れの全体的方向に対しておおむね平行でない別の態様が可能である。これらの別態様では、モジュールバンクは容器を通り抜けるガスの流れの全体的方向に対して鋭角をなしている。これらの別態様は、本発明による直列に配列されたモジュールの定義に包含される。
【０１０３】
上記の直列反応器システムは、天然ガスのような炭化水素含有原料ガスから合成ガスを生産する酸化施設で使用することができる。この用途では、改質触媒を、容器内の任意の直列モジュール間、任意の並列モジュール間、任意の連続及び並列モジュール間に、及び／又は最終モジュールの後に配置することができる。改質触媒は、水及び／又は二酸化炭素と炭化水素、特にメタンが吸熱反応して水素及び一酸化炭素を生成するのを促進する。この触媒は、透過した酸素とモジュール内の活性膜材料表面に隣接する反応物との間に起こる発熱酸化反応を完全にし、又はそのバランスをとるために利用してもよい。多モジュールの直列反応器システム内のモジュール間の効果的な位置の改質触媒を適切に使用することにより、反応器を横切る温度プロファイルと生成ガス組成とを制御して反応器の最適な運転を達成することができる。
【０１０４】
本発明の１つの態様を、多モジュールの直列酸化反応器システムのモジュール間に適切な触媒を配置する例によって説明する。例えば、図１５を参照すると、触媒５０１ｄ、５０１ｅ、及び５０１ｆを、モジュール５０１ａ、５０１ｂ、及び５０１ｃの第一バンクとモジュール５０３ａ、５０３ｂ、及び５０３ｃの第二バンクの全てのモジュール間の間隙に直列に配置することができる。あるいは、触媒５０１ｄ、５０１ｅ、及び５０１ｆを、流動封じ込めダクト５１１の内壁の間に連続的に延在させてもよい。同様に、触媒を、第二と第三のモジュールバンク、第三と第四のモジュールバンク、第四と第五のモジュールバンクのいずれかもしくは全ての間、又は第五バンクの後に、配置（図示せず）することもできる。同じように、触媒を、図１６の態様における任意の又は全てのオフセットモジュールバンクの間に直列式に配置することもできる。例えば、図１６を参照すれば、触媒５０２ｄ、５０２ｅ、及び５０２ｆを第一及び第二モジュールバンクの間の間隙に直列式に配置することができる。あるいは、触媒５０２ｄ、５０２ｅ、及び５０２ｆを流動封じ込めダクト５１１の内壁の間に連続的に延在させることもできる。一般に、触媒は、図１５及び１６の直列モジュールバンクのいずれか又は全ての間又は下流に直列式に配置することができる。
【０１０５】
更に、又はこれに代わり、モジュール間を通り抜けるガスの改質反応を促進するため、並列モジュールバンクのモジュール間に触媒を配置してもよい。例えば、図１５では、触媒５０５ｄと５０５ｅをモジュール５０５ａと５０５ｂの間、及び５０５ｂと５０５ｃの間に配置することができる。別法として、触媒５０５ｄと５０５ｅを第一ないし第五モジュールバンクの間で、軸線方向に連続的に延在させてもよい。例えば、図１６では、触媒５０６ｄと５０６ｅをモジュール４０６ａと５０６ｂの間、及び５０６ｂと５０６ｃの間に配置することができる。一般に、触媒は、図１５及び１６における並列モジュールのいずれか又は全ての間に並列式に配置することができる。
【０１０６】
従って、この概念の最も広い適用では、図１５及び１６の態様、又は直列及び並列のモジュール配置の両方を有する他のいずれかの態様において、触媒は任意の２つの隣接するモジュール間の間隙に配置することができる。更に、圧力容器５１３を別の同様の圧力容器と直列に運転する場合には、一方の圧力容器からの流出ガスが別の圧力容器へと進む前に触媒を通過するように、触媒を容器の間に配置することができる。
【０１０７】
圧力容器内のモジュールの間に軸線方向に置くか半径方向に置くかによって、触媒の種類及び／又は量が異なってくることがある。例えば、１つの選択枝では、反応器を通じてのモジュール温度の最適な制御のために、触媒活性を軸線方向で異ならせることができる。例えば、反応器の入り口付近の触媒区域は低温で活性な触媒（すなわちＮｉ量が多い）を含むことができ、それに対し反応器の高温領域では、最適な触媒組成はより低い活性とより高い熱安定性を必要とすることがある（すなわちＮｉ量が少ない）。このようにして、反応器内のあらゆる軸線方向の位置で、触媒の熱安定性を維持しつつ最適な触媒活性を達成することができる。このほかの触媒の配列が可能であり、それらは特許請求の範囲に記載される発明の態様の範囲内に入る。
【０１０８】
この態様で使用するための触媒としては、ニッケル、コバルト、白金、金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、及び鉄よりなる群から選ばれる１種以上の金属又はそれらを含有する化合物を挙げることができる。触媒は、アルミナ又はその他の酸化物担体で担持することができ、そしてランタン又はカリウムなどを添加して含んでもよい。触媒は、例えば、モジュール間の間隙に適合する適当な触媒ホルダー内の一体品を使用し又は粒状触媒を使用することを含めた、任意の既知の手段によりモジュールの間に配置することができる。
【０１０９】
上記のイオン輸送膜システムは、酸素回収又は酸化プロセスのいずれかに使用するために、直列に運転する複数の膜モジュールを利用するものであり、これらのモジュールは、個々のモジュールを横切って抽出される酸素の量又は個々の膜をまたぐ転化の程度を制御するために、直列に流動する構成に配列される。単一のモジュール又は複数モジュールのバンクを容器の軸線にほぼ平行である軸線に沿って直列に配列する場合、容器の長さは直列のモジュール又はバンクの数によって決定される。多数のモジュールには過度に長い容器が必要となり、多くの設計状況ではより短い容器長が必要とされよう。例えば、非常に長い容器の輸送は、困難且つ費用がかかる可能性がある。更に、非常に長い容器が必要とする配置面積又は「設置面積」は、例えば都市環境、沖合のプラットホーム、及び船舶といった限られた空間への適用の際に問題を提起しかねない。また、一部の用途では、わずかに直径の長い、有意に短い容器が、より費用効果が高いことがある。
【０１１０】
膜モジュール外表面を流れるガスの複数の進路を組み込んだ容器の設計により、これらの問題は以下に述べる本発明の態様において対処される。一部の用途では、偶数の進路が、容器の同じ側にガス入口ノズルとガス出口ノズルを配置して、それにより熱交換器のような他の処理機器への配管の長さや複雑度を減少させるのを可能にする。これは、配管からの熱損失を少なくすることにより達成される資本費と運転費のより少ない、より小型のプラントの設計につながり得る。
【０１１１】
先に説明した単一進路又は複数の並列進路のシステムでは、膜の外側を流れるガスは、膜モジュール容器をほぼ軸線方向に流れ、すなわち流れは入口から出口に至るまで容器の軸線とほぼ平行である。膜モジュールに突き当たるガス流により軸線方向でない局所的な流れが生ずることがあるかも知れないが、大部分の流れは軸線方向である。第一の端部と第二の端部を有する容器の軸線は、容器内を第一の端部から第二の端部へ、側面に平行に進む直線によって規定される。加圧操作のための大部分の容器は円筒形であり、円筒形の容器では、軸線は円筒の軸線と共通しており、且つ容器の壁に平行である。
【０１１２】
圧力容器内部に配置され、そしてガスの流れを任意の方向に導くのに及び／又はガスの流れを容器内で非軸線方向へと転換するのに適合させた、１又はそれ以上のガス流動制御隔壁を使用することにより、本発明の様々な態様において複数のガス流動進路が達成される。例えば、ガス流動制御隔壁を取り付けて、下記で説明するようにガス流を容器の軸線から約９０度と約１８０度の間の方向に変化させることができる。容器の軸線に対し任意の方向にガス流を制御することが可能である。
【０１１３】
ガス流動制御隔壁は、容器内に配置又は取り付けられ、容器内のガスの流れを導くのに及び／又は容器内のガスの流動方向を変化させるのに適合した、任意の形状の部材として定義される。ガス流動制御隔壁は容器壁から離れているが、この隔壁は容器壁にくっつけてもよく、容器内のガスの流れを制御及び／又は誘導するよう壁と協同して働いてもよい。ガス流動制御隔壁は、容器内に取り付けた膜モジュール又は触媒とは異なる別個のものである。「ガスの流れの方向」又は「ガスの流動方向」という語は同意義であって、容器内の第一の位置と第二の位置の間で膜の外側を流れるガスの向きを意味する。局所的なガス流が渦、乱れ、又は逆流を含むこともあるが、大部分のガスの流れは第一位置と第二位置の間のガス流の向きを規定する。
【０１１４】
図１７Ａに複数ガス流動進路の態様を例示する。流動封じ込めダクト１７０１は、外形は図１５及び１６のものに極めて似通っており、外壁１７０３、入口１７０５、及び出口１７０７を有する。このダクトは、例えば図４Ａ及び５に示したように圧力容器内に同軸で取り付けることができる。このダクトには、ガス流動制御隔壁１７１１に接続したガス流動制御隔壁１７０９が取り付けられている。このダクトには、ガス流動制御隔壁１７１５に接続したガス流動制御隔壁１７１３も取り付けられている。下側の壁１７０３、ガス流動制御隔壁１７０９、及びガス流動制御隔壁１７１１により形成される流路には、膜モジュール１７１７、１７１９、１７２１、１７２３、及び１７２５が入っている。ガス流動制御隔壁１７０９、１７１１、１７１３、及び１７１５により形成される流路には、膜モジュール１７２７、１７２９、１７３１、１７３３、及び１７３５が入っている。ガス流動制御隔壁１７１５、ガス流動制御隔壁１７１３、及び上側の壁１７０３により形成される流路には、膜モジュール１７３７、１７３９、１７４１、１７４３、及び１７４５が入っている。これらの膜モジュールは、酸素回収又は酸化プロセスについて先に説明したモジュールのうちのいずれであってもよい。
【０１１５】
入口ガス流１７４７は、ガス流動制御隔壁１７０９によってそらされて、壁１７０３とガス流動制御隔壁１７１１の間の流路の膜モジュール１７１７、１７１９、１７２１、１７２３、及び１７２５を逐次的に流れる。ガス流１７４９は、ガス流動制御隔壁１７１３及び壁１７０３の隣接部分により、ダクトの軸線及び圧力容器の軸線に対して１８０゜逆転され、逆転したガスは、ガス流動制御隔壁１７１１と１７１５の間の流路の膜モジュール１７２７、１７２９、１７３１、１７３３、及び１７３５を逐次的に流れる。ガス流１７５１は、ガス流動制御隔壁１７０９及び容器壁１７０３の隣接部分により１８０゜逆転され、逆転したガスは、ダクトの軸線及び圧力容器の軸線と平行に、ガス流動制御隔壁１７１５と壁１７０３の間の流路の膜モジュール１７３７、１７３９、１７４１、１７４３、及び１７４５を逐次的に流れる。出口ガス流１７５３は、出口１７０７を通ってダクトを出る。これらのガス流動制御隔壁を使用することにより、ガスの流れを、これらの隔壁がないダクトと容器のおよそ三分の一の長さであるダクト及び容器長でもって、膜モジュール１７１７〜１７４５を直列に導く。
【０１１６】
図１７Ａに示したように、膜の外側を流れるガスが向きを変えながら、ガス流１７４７、１７４９、１７５１、及び１７５３はこのように非軸線方向に進む。
【０１１７】
図１７Ｂは、図１７Ａの１０−１０断面（９０゜回転させてある）を示す図であり、ガス流動制御隔壁とダクトの壁によって形成された流路を通るガスの流れを図示している。壁１７０３、ガス流動制御隔壁１７１１、上部ダクト壁１７１２、及び下部ダクト壁１７１４によって形成された流路１７５５内を、図１７Ｂの平面へと流れるガス流１７４７ａ（モジュール１７１７に接触したもの）が示されており、ここで、ガスは膜モジュール１７１９と次のモジュール１７２１〜１７２５（図示せず）を流れる。ガス流１７４９は逆転され、そしてガス流動制御隔壁１７１１及び１７１５、上部ダクト壁１７１２、及び下部ダクト壁１７１４により形成される流路１７５７を通ってモジュール１７２７〜３１（図示せず）及び１７３３を通過し、そしてガス流１７４９ａが図１７Ｂの平面から流出するのが示されている。このガス流はモジュール１７３５（図示せず）を越えて進み、流動制御隔壁１７０９及び隣接する壁部分（図１７Ａ）により１８０゜逆転されて、モジュール１７３７（図示せず）を越えて進む。流れ１７５１ａとして示すガス流は、図１７Ｂの平面へ、そしてガス流動制御隔壁１７１５、上部ダクト壁１７１２、下部ダクト壁１７１４、及び壁１７０３により形成される流路１７５９の中を、モジュール１７３９、及びモジュール１７４１〜１７４５（図示せず）を越えて流れる。
【０１１８】
図１７Ａ及び１７Ｂのモジュールは、酸素分離モジュール（図４Ａ及び４Ｂのと同様）又は酸化反応モジュール（図５及び６のと同様）のいずれであってもよい。
【０１１９】
これに代わる態様を図１８Ａに示し、ここでは、入口ガスと出口ガスの流れがダクトとこのダクトの入っている圧力容器（図示せず）の同じ端部にあるように、流動封じ込めダクトを２組の並列膜モジュールを取り囲むように設計する。ダクト１８０１は、入口１８０３、出口１８０５、第一の壁１８０７、第二の壁１８０９、端部の壁１８１１、及び内部ガス流動制御隔壁１８１３を含む。入口ガス１８１５は、５つの膜モジュール１８１７〜１８２５及び５つの膜モジュール１８２７〜１８３５の並列の２組を流れる。次いで、中間のガス流１８３６が端部の壁１８１１により１８０゜方向転換され、そして５つの膜モジュール１８３７〜１８４５及び５つの膜モジュール１８４７〜１８５５の並列の２組を流れる。出口ガス流１８５７が出口１８０５を通って出る。
【０１２０】
図１８Ｂは図１８Ａの１２−１２断面（９０゜回転させてある）を示す図であり、ガス流動制御隔壁とダクトの壁で形成された流路を通るガスの流れを例示している。入口ガス流１８１５が、図１８Ｂの平面と、そして壁１８０９、内部隔壁１８１３、上部壁１８６１、及び下部壁１８６３の間に形成された流路１８５９へと流入するのが示されている。ガスは並列のモジュール１８１７及び１８２７を越えて流れ、更に並列のモジュール１８１９〜１８２５と１８２９〜１８３５（図示せず）を越えて流れる。ガス流は上記のように逆転され、そして壁１８０７、ガス流動制御隔壁１８１３、上部壁１８６１、及び下部壁１８６３によって形成される流路１８６５を通って流れ、そこではガスは並列のモジュール１８３７〜１８４３及び１８４７〜１８５３（図示せず）を越えて流れる。ガスは最終的に、モジュール１８４５及び１８５５を通過し、出口ガス流１８５７が出口１８０５を通って出る。
【０１２１】
図１８Ａ及び１８Ｂのモジュールは、酸素分離モジュール（図４Ａ及び４Ｂのと同様）又は酸化反応モジュール（図５及び６のと同様）のいずれであってもよい。
【０１２２】
図１８Ａ及び１８Ｂのシステムの改良版を図１９に示す。この別態様の構成では、ガスは流動封じ込めダクト内で４つの通路を作り、これらの通路は１以上の水平面にある。図１９では、通路１９０１と１９０３が下部の水平面にあり、その一方通路１９０５と１９０７が上部の水平面にある。通路１９０１は、側壁１９０９、下部壁１９１４、ガス流動制御隔壁１９２１、及びガス流動制御隔壁１９２３によって形成されている。通路１９０３は、側壁１９１１、下部壁１９１４、ガス流動制御隔壁１９２１、及びガス流動制御隔壁１９２３によって形成されている。通路１９０５は、側壁１９１１、上部壁１９１３、ガス流動制御隔壁１９２１、及びガス流動制御隔壁１９２３によって形成されている。通路１９０７は、側壁１９０９、上部壁１９１３、ガス流動制御隔壁１９２１、及びガス流動制御隔壁１９２３によって形成されている。
【０１２３】
この改良版では、通路１９０５及び１９０７の並列の２組のモジュールが逆転しており、モジュールマニホールドは膜モジュールの上方にある。これは、より低温のマニホールドとシール領域を流動ダクトの外側に近いより低温の領域の方に向けて配置して、構成要素の寿命を長くするのを可能にする。別の態様（図示せず）は、全モジュールが直立し（すなはち逆転していない）、全モジュールマニホールドが概ね同じ向きにあるものである。シール領域をより低温に維持するために、マニホールドを側面又は底面の流動ダクトから突き出させてもよい。
【０１２４】
図２０にもう一つの態様を示し、ここではガス流動制御隔壁の向きを、ガス流の方向が９０゜の転回と１８０゜の転回の組み合わせで変化するようなものにする。この態様では、流動封じ込めダクト２００１が、外壁２００３、２００５、２００７、及び２００９、入口２０１１、及び出口２０１３で規定される。入口ガス流２０１５は、流れの向きを９０゜、１８０゜、９０゜、１８０゜、そして１８０゜と次々に変化させながらダクト２００１の内部領域を流れ、最終的なガス流２０１７が出口２０１３を通って出る。ガス流動方向のこのような変化はそれぞれ、壁２００３とガス流動制御隔壁２０１９、壁２００５とガス流動制御隔壁２１０９とガス流動制御隔壁２０２１、ガス流動制御隔壁２０２３と壁２００９、壁２００７とガス流動制御隔壁２０２３とガス流動制御隔壁２０２５、ガス流動制御隔壁２０２１とガス流動制御隔壁２０２５と壁２００５によってなされる。壁とガス流動制御隔壁のこの組み合わせが、連続する流動流路２０２７、２０２９、２０３１、２０３３、２０３５、２０３７、２０３９、及び２０４１を提供する。これらの流路を通るガス流は、１３の膜モジュール２０４３〜２０６７を図示するように直列に通過する。
【０１２５】
ガス流動制御隔壁により形成された通路を通るガスの流れは一般に容器の軸線に平行である必要はなく、任意の所望の有利な方向であることができる。また、複数の通路を同一の流動ダクト又は容器内で異なる軸線に沿って配列することもでき、他の角度もまた可能である。容器の軸線に直角である通路は、特に容器と流動ダクトが容器の長軸に沿った１又はそれ以上の箇所にボディフランジを有する場合に、膜モジュール又は容器の一部を保守し又は取り外すのを容易にする上で有利であろう。更に、容器の軸線に直角である通路のあることは、容器の長手方向に沿って軸線の距離とともに単調に変化する温度、圧力、及び／又はガス組成プロファイルを維持する助けとなり得る。これにより、膜及び容器の温度的−化学的−機械的応力を低くすることができ、そしてこれが膜モジュールと容器システムの運転寿命を延ばすことができる。容器を直列に接続してもよく、各容器は、システムの特定のプロセス運転条件に合うように作られた、異なる配置の隔壁及びガス通路を有することができる。
【０１２６】
内部ガス流動制御隔壁は、任意の所望の材料、例えば炭素鋼、合金綱、耐熱合金、及びセラミックなどで製作することができる。ガス流動制御隔壁、及び隔壁間又は隔壁と流動ダクト間の接合部は、必ずしも漏れのないものである必要はなく、通路間の少量の漏れは許容可能である。ガス流動制御隔壁は、所望の任意の方法、例えば溶接、ボルト止め、圧入、バネでの取り付け、又は締め付けでの接続などを利用して、備え付け又は取り付けることができる。
【０１２７】
上記の複数流路の容器の設計は、酸素回収又は酸化プロセスのいずれかに使用するための、直列に運転する複数膜モジュールを利用する任意のイオン輸送膜システムに適用することができる。例えば、上記の態様のいずれも、図４Ａ及び４Ｂを参照して説明した酸素回収のための膜モジュールに適用することができる。あるいはまた、上記の態様のいずれも、図５及び６を参照して先に検討した酸化プロセスを実現するための膜モジュールに適用することができる。これらの直列膜モジュールは、図１５及び１６を参照して先に説明したように、直列モジュールのいずれかの間に改質触媒を配置することができる。
【０１２８】
なお、上で参照している図１〜２０の図面は、必ずしも同一縮尺であるわけではない。
【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１】本発明の態様に従う酸素回収又は酸化プロセスで使用するための膜ウェハー積重体又はモジュールの模式正面図である。
【図２Ａ】酸化プロセスで使用するための図１の膜ウェハー積重体又はモジュールの側面図である。
【図２Ｂ】酸素回収で使用するための図１の膜ウェハー積重体又はモジュールの側面図である。
【図３Ａ】図１、２Ａ及び２Ｂの膜ウェハーの断面図である。
【図３Ｂ】図１、２Ａ及び２Ｂの膜ウェハーのもう一つの断面図である。
【図３Ｃ】図１、２Ａ及び２Ｂの別な膜ウェハーの断面図である。
【図３Ｄ】図１、２Ａ及び２Ｂの別な膜ウェハーのもう一つの断面図である。
【図４Ａ】酸素回収に使用するための膜分離器の容器内部の模式側面図である。
【図４Ｂ】図４Ａの断面図である。
【図５】酸化プロセスに使用するための膜反応器の容器内部の模式側面図である。
【図６】図５の断面図である。
【図７】断熱材料の配置を示す図４Ｂの態様の図である。
【図８】断熱材料の別な配置を示す図４Ｂの第二の態様の図である。
【図９】断熱材料の別な配置を示す図４Ｂの第三の態様の図である。
【図１０】断熱材料の別な配置を示す図４Ｂの第四の態様の図である。
【図１１】断熱材料の別な配置を示す図４Ｂの第五の態様の図である。
【図１２】断熱材料の別な配置を示す図４Ｂの第六の態様の図である。
【図１３】断熱材料の配置を示す図４Ｂの第七の態様の図である。
【図１４】酸素回収又は酸化プロセスで使用するための別な膜容器の内部及びモジュールの配置の模式側面図である。
【図１５】同軸線の平行膜モジュールを有する図４Ａに示す流動封じ込めダクトの断面図である。
【図１６】平行膜モジュールのオフセットバンクを有する流動封じ込めダクトの断面図である。
【図１７Ａ】ガス流の案内のための内部隔壁を有する膜反応器容器及び膜モジュールの態様を示す図である。
【図１７Ｂ】図１７Ａの１０−１０断面図である。
【図１８Ａ】ガス流の案内のための内部隔壁を有する膜反応器容器及び膜モジュールの別の態様を示す図である。
【図１８Ｂ】図１８Ａの１２−１２断面図である。
【図１９】図１８Ｂのシステムの改良版を示す図である。
【図２０】ガス流の案内のための内部隔壁を有する膜反応器容器及び膜モジュールのもう一つ別の態様を示す図である。
【図１】
2006187769.tif 000003
【図２Ａ】
2006187769.tif 000004
【図２Ｂ】
2006187769.tif 000005
【図３Ａ】
2006187769.tif 000006
【図３Ｂ】
2006187769.tif 000007
【図３Ｃ】
2006187769.tif 000008
【図３Ｄ】
2006187769.tif 000009
【図４Ａ】
2006187769.tif 000010
【図４Ｂ】
2006187769.tif 000011
【図５】
2006187769.tif 000012
【図６】
2006187769.tif 000013
【図７】
2006187769.tif 000014
【図８】
2006187769.tif 000015
【図９】
2006187769.tif 000016
【図１０】
2006187769.tif 000017
【図１１】
2006187769.tif 000018
【図１２】
2006187769.tif 000019
【図１３】
2006187769.tif 000020
【図１４】
2006187769.tif 000021
【図１５】
2006187769.tif 000022
【図１６】
2006187769.tif 000023
【図１７Ａ】
2006187769.tif 000024
【図１７Ｂ】
2006187769.tif 000025
【図１８Ａ】
2006187769.tif 000026
【図１８Ｂ】
2006187769.tif 000027
【図１９】
2006187769.tif 000028
【図２０】
2006187769.tif 000029
【外国語明細書】
2006187769000001.pdf