(57)【要約】【課題】  所望の加熱分布の実現を可能とする成形品の製造方法及びその製造装置を提供する。【解決手段】  対向する平面部同士（上部磁性部材２０の下面２０ａと下部磁性部材３０の上面３０ａ）が平行となるように配置された一対の磁性部材（上部磁性部材２０と下部磁性部材３０）間の領域に設けられたキャビティ８０に、磁性粉が含まれた熱硬化性ポリマーを充填する工程と、キャビティ８０を含む領域に一様な磁場を形成し、かつ該磁場の大きさを変化させて、熱硬化性ポリマーに含まれた前記粉による磁気ヒステリシス損失を利用して、熱硬化性ポリマーを加熱して硬化させる工程と、を有することを特徴とする。【選択図】  図１
2006326876.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する平面部同士が平行となるように配置された一対の磁性部材間の領域に設けられたキャビティに、磁性粉が含まれた熱硬化性ポリマーを充填する工程と、
前記キャビティを含む領域に一様な磁場を形成し、かつ該磁場の大きさを変化させて、熱硬化性ポリマーに含まれた前記粉による磁気ヒステリシス損失を利用して、熱硬化性ポリマーを加熱して硬化させる工程と、を有することを特徴とする成形品の製造方法。
【請求項２】
対向する平面部同士が平行となるように配置される一対の磁性部材と、
これらの磁性部材間に磁場を形成する磁場形成手段と、
一対の磁性部材間の領域のうち、一様な磁場が形成される領域にキャビティを形成する、非磁性かつ非導電性の金型と、を備え、
前記キャビティ内に充填された、磁性粉が含まれた熱硬化性ポリマーに対して印加する一様な磁場の大きさを変化させて、前記粉による磁気ヒステリシス損失を利用して、熱硬化性ポリマーを加熱して硬化させることを特徴とする成形品の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ヒステリシス損失による発熱を利用した成形品の製造方法及びその製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ゴムや熱硬化性樹脂などの熱硬化性ポリマーを素材とする成形品の成形方法としては、一般的に、圧縮成形法，トランスファ成形法、及び射出成形法がある。これらの成形法においては、成形温度に加熱しておいた金型内のキャビティに材料を充填し、金型からの伝熱によりキャビティ内に充填された材料を一定時間加熱して硬化させるのが一般的である。
【０００３】
このような成形方法の場合には、キャビティ内の材料の加熱は、金型の熱容量が問題となる。また、金型からの伝熱によって材料を加熱するため、材料を所定温度まで昇温させるのに時間がかかるという問題もある。更に、成形品の肉厚が厚い場合には、表面側と内部側とで昇温速度が大きく異なってしまうなどの問題もある。
【０００４】
また、他の加熱方法として、誘導渦電流や磁気ヒステリシス損失を利用したものも知られているが、従来知られた方法では、被加熱部の形状や大きさによっては、被加熱部を均一に加熱するなど所望の加熱分布を実現することが困難であった。特に、誘導渦電流を利用した方法の場合には、誘導渦電流がキャビティ内において、表面側に偏在してしまい、所望の加熱分布を実現することは非常に困難であった。
【０００５】
関連する技術としては、特許文献１〜１４に開示された技術がある。
【特許文献１】特開昭６３−２２１０１９号公報
【特許文献２】特開平６−２９７０４９号公報
【特許文献３】特公平２−２５６２９号公報
【特許文献４】特許第３２０９３８４号公報
【特許文献５】特開平９−１６１２６９号公報
【特許文献６】特開平５−１５９９５４号公報
【特許文献７】特開平３−２８５９２４号公報
【特許文献８】特開２００２−１８５２４号公報
【特許文献９】特開平７−１１７１３３号公報
【特許文献１０】特開平１１−２１９７７８号公報
【特許文献１１】特許第２５４７４３０号公報
【特許文献１２】特開平１１−１８７５３２号公報
【特許文献１３】特開昭６３−１１３６２３号公報
【特許文献１４】特開平７−２５６６７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、所望の加熱分布の実現を可能とする成形品の製造方法及びその製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
【０００８】
すなわち、本発明の成形品の製造方法は、
対向する平面部同士が平行となるように配置された一対の磁性部材間の領域に設けられたキャビティに、磁性粉が含まれた熱硬化性ポリマーを充填する工程と、
前記キャビティを含む領域に一様な磁場を形成し、かつ該磁場の大きさを変化させて、熱硬化性ポリマーに含まれた前記粉による磁気ヒステリシス損失を利用して、熱硬化性ポリマーを加熱して硬化させる工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の成形品の製造装置は、
対向する平面部同士が平行となるように配置される一対の磁性部材と、
これらの磁性部材間に磁場を形成する磁場形成手段と、
一対の磁性部材間の領域のうち、一様な磁場が形成される領域にキャビティを形成する、非磁性かつ非導電性の金型と、を備え、
前記キャビティ内に充填された、磁性粉が含まれた熱硬化性ポリマーに対して印加する一様な磁場の大きさを変化させて、前記粉による磁気ヒステリシス損失を利用して、熱硬化性ポリマーを加熱して硬化させることを特徴とする。
【００１０】
これらの発明によれば、対向する平面部同士が平行に配置された一対の磁性部材間の領域に、一様な磁場、すなわち、均一な磁束密度の磁場が形成される。そして、この領域にキャビティが備えられるため、キャビティ内には均一な磁束密度の磁場が形成される。これにより、このキャビティ内に存在する複数の磁性粉が、磁気ヒステリシス損失によってそれぞれ均一に発熱する。従って、キャビティ内の加熱分布は、この粉の分布により制御することができる。例えば、熱硬化性ポリマーに、この粉を均一に充填（混入）させておけば、キャビティの形状や大きさに関係なく、キャビティ内に充填された熱硬化性ポリマーを均一に加熱することができる。
【発明の効果】
【００１１】
以上説明したように、本発明によれば、所望の加熱分布の実現が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に図面を参照して、この発明を実施するための最良の形態を、実施例に基づいて例示的に詳しく説明する。ただし、この実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。なお、以下の実施例１では、基本的な製造方法と製造装置について示し、実施例２〜４では、より具体的な応用例を示す。
【実施例１】
【００１３】
図１を参照して、本発明の実施例１に係る成形品の製造方法及びその製造装置について説明する。図１は本発明の実施例１に係る成形品の製造装置の模式的断面図である。
【００１４】
＜製造装置＞
本発明の実施例１に係る成形品の製造装置１００は、磁性材（強磁性材）からなる支柱１０と、同じく磁性材（強磁性材）からなる一対の板状の磁性部材（それぞれ上部磁性部材２０，下部磁性部材３０と称する）とを備えている。ここで、支柱１０と下部磁性部材３０は固定されており、下部磁性部材３０は土台としての役割も担っている。また、上部磁性部材２０は、支柱１０に対して摺動可能に設けられており、駆動機構５０によって、図中上下動するように構成されている。なお、駆動機構５０は、適宜、公知技術を採用すればよい。また、上部磁性部材２０と支柱１０は、これらの間に磁力線が十分通過すれば良く、密着性はそれほど厳格に要求されない。例えば、すべり軸受けにより、上部磁性部材２０が支柱１０に対して摺動するように構成することができる。なお、図中Ｓ０は摺動部を示している。また、支柱１０にはコイル４０が巻かれている。
【００１５】
そして、上部磁性部材２０と下部磁性部材３０は、対向する平面部同士（すなわち上部磁性部材２０の下面２０ａと下部磁性部材３０の上面３０ａ）が平行となるように配置されている。
【００１６】
以上の構成により、不図示の電源によりコイル４０に電流を流すことで、上部磁性部材２０と下部磁性部材３０との間の領域には、一様な磁場（均一な磁束密度の磁場）が形成される。本実施例では、上部磁性部材２０及び下部磁性部材３０の周縁部付近を除く領域に一様な磁場が形成される。そして、コイル４０に交流を流すことによって、上記の一様な磁場の大きさや向きを周期的に変化させることができる。
【００１７】
また、上部磁性部材２０と下部磁性部材３０との間に、非磁性かつ非導電性の上型６０及び下型７０が設けられている。これら上型６０及び下型７０の具体的な材料としては、例えば、セラミックス，プラスチックを挙げることができる。上型６０は上部磁性部材２０に固定されており、下型７０は下部磁性部材３０に固定されている。これにより、駆動機構５０によって、上部磁性部材２０を図中上方向に移動させることで型開きを行うことができ、上部磁性部材２０を図中下方向に移動させることで型締めを行うことができる。
【００１８】
そして、上型６０と下型７０により形成されるキャビティ８０は、上述した一様な磁場が形成される領域内に配置されるように構成されている。
【００１９】
＜製造方法＞
本実施例により成形される成形品の材料として、ゴムや熱硬化性樹脂などの熱硬化性ポリマーに、磁性粉が含まれたもの（充填されたもの、あるいは添加剤として微量に混入されたもの）が用いられる。また、本実施例では、磁性粉は、熱硬化性ポリマーに均一に充填（混入）されている。
【００２０】
このように、磁性粉が含まれた熱硬化性ポリマーを、上型６０と下型７０により形成されるキャビティ８０に充填する。そして、不図示の電源によりコイル４０に交流を流すことによって、キャビティ８０内に、大きさや向きが周期的に変化する一様な磁場を印加する。これにより、キャビティ８０内に存在する粉が、磁気ヒステリシス損失によって均一に発熱する。本実施例では、粉は熱硬化性ポリマーに均一に充填（混入）されているため、キャビティ８０に充填された熱硬化性ポリマーは均一に加熱される。これにより熱硬化性ポリマーは硬化して成形品が成形される。なお、成形品の材料に含まれる磁性粉は、導電性であっても非導電性であっても構わないが、成形品の材料全体としては、非導電性または導電率が低いのが好ましい。何故なら、成形品の材料全体で導電性を有する（導電率が高い）場合には、上記のような磁場が印加されると渦電流損失が発生してしまい、これによる発熱は表面側に偏ってしまうからである。つまり、磁気ヒステリシス損失は磁性粉が粉の状態でも発生するが、粉が導電性を有していても、粉の状態では渦電流は発生しない。そのため、粉自体は導電性であっても構わないが、成形品の材料全体では、非導電性または導電率は低いほうが好ましい。従って、例えば、成形品の材料として、フェノールに黒鉛を充填し、酸化鉄系のものを混ぜたものなども適用できる。
【００２１】
＜本実施例の優れた点＞
本実施例によれば、熱硬化性ポリマーに含まれた、磁性粉が均一に発熱するため、キャビティ８０の形状や大きさに関係なく、キャビティ８０に充填された熱硬化性ポリマーは均一に加熱される。従って、硬化反応や加硫が均一に進行するため、成形品の変形を抑制することができる。また、金型（上型６０及び下型７０）を加熱することなく、キャビティ８０内の材料のみを加熱することができるので、急速加熱及び冷却が可能となり、サイクルタイムを短くすることができ、生産性が向上する。また、エネルギー効率も良くなる。なお、本実施例で成形される製品の一例としては、燃料電池のセパレータを挙げること
ができる。
【実施例２】
【００２２】
図２を参照して、本発明の実施例２に係る成形品の製造方法及びその製造装置について説明する。図２は本発明の実施例２に係る成形品の製造装置の模式的断面図である。本実施例では、圧縮成形法に応用した例を示す。
【００２３】
＜製造装置＞
本発明の実施例２に係る成形品の製造装置１０１は、磁性材（強磁性材）からなる支柱１１と、同じく磁性材（強磁性材）からなる一対の板状の磁性部材（それぞれ上部磁性部材２１，下部磁性部材３１と称する）とを備えている。ここで、支柱１１と下部磁性部材３１は固定されており、下部磁性部材３１は土台としての役割も担っている。また、上部磁性部材２１は、支柱１１に対して摺動可能に設けられており、駆動機構５１によって、図中上下動するように構成されている。なお、駆動機構５１は、適宜、公知技術を採用すればよい。また、上部磁性部材２１と支柱１１は、これらの間に磁力線が十分通過すれば良く、密着性はそれほど厳格に要求されない。例えば、すべり軸受けにより、上部磁性部材２１が支柱１１に対して摺動するように構成することができる。なお、図中Ｓ１は摺動部を示している。また、支柱１１にはコイル４１が巻かれている。
【００２４】
そして、上部磁性部材２１と下部磁性部材３１は、対向する平面部同士（すなわち上部磁性部材２１の下面２１ａと下部磁性部材３１の上面３１ａ）が平行となるように配置されている。
【００２５】
以上の構成により、不図示の電源によりコイル４１に電流を流すことで、上部磁性部材２１と下部磁性部材３１との間の領域には、一様な磁場（均一な磁束密度の磁場）が形成される。本実施例では、上部磁性部材２１及び下部磁性部材３１の周縁部付近を除く領域に一様な磁場が形成される。そして、コイル４１に交流を流すことによって、上記の一様な磁場の大きさや向きを周期的に変化させることができる。
【００２６】
また、上部磁性部材２１と下部磁性部材３１との間に、非磁性かつ非導電性の圧縮成形用の金型（上型６１及び下型７１）が設けられている。これら上型６１及び下型７１の具体的な材料としては、例えば、セラミックス，プラスチックを挙げることができる。上型６１は上部磁性部材２１に固定されており、下型７１は下部磁性部材３１に固定されている。これにより、駆動機構５１によって、上部磁性部材２１を図中上方向に移動させることで型開きを行うことができ、上部磁性部材２１を図中下方向に移動させることで型締めを行うことができる。
【００２７】
そして、上型６１と下型７１により形成されるキャビティ８１は、上述した一様な磁場が形成される領域内に配置されるように構成されている。なお、キャビティ８１の周囲には、余分な材料を逃がすための逃げ通路９１が設けられている。
【００２８】
＜製造方法＞
本実施例により成形される成形品の材料として、ゴムや熱硬化性樹脂などの熱硬化性ポリマーに、磁性粉が含まれたもの（充填されたもの、あるいは添加剤として微量に混入されたもの）が用いられる。また、本実施例では、磁性粉は、熱硬化性ポリマーに均一に充填（混入）されている。
【００２９】
まず、駆動機構５１により型を開き、キャビティ８１となる部分に、上記の磁性粉が含まれた熱硬化性ポリマーで構成された成形材料を入れる。そして、駆動機構５１により型を閉じて成形材料を加圧しつつ、不図示の電源によりコイル４１に交流を流すことによっ
て、キャビティ８１内に、大きさや向きが周期的に変化する一様な磁場を印加する。これにより、キャビティ８１内に存在する粉が、磁気ヒステリシス損失によって均一に発熱する。本実施例では、粉は熱硬化性ポリマーに均一に充填（混入）されているため、キャビティ８１に充填された熱硬化性ポリマーは均一に加熱される。これにより熱硬化性ポリマーは硬化して成形品が成形される。なお、型を開いて、成形品を取り出した後、製品部以外の部分（逃げ通路９１に相当する部分（いわゆるバリ））は適宜切除される。なお、成形品の材料に含まれる磁性粉は、導電性であっても非導電性であっても構わないが、成形品の材料全体としては、非導電性または導電率が低いのが好ましい。何故なら、成形品の材料全体で導電性を有する（導電率が高い）場合には、上記のような磁場が印加されると渦電流損失が発生してしまい、これによる発熱は表面側に偏ってしまうからである。つまり、磁気ヒステリシス損失は磁性粉が粉の状態でも発生するが、粉が導電性を有していても、粉の状態では渦電流は発生しない。そのため、粉自体は導電性であっても構わないが、成形品の材料全体では、非導電性または導電率は低いほうが好ましい。従って、例えば、成形品の材料として、フェノールに黒鉛を充填し、酸化鉄系のものを混ぜたものなども適用できる。
【００３０】
以上により、本実施例の場合にも、上記実施例１の場合と同様の効果を得ることができる。
【実施例３】
【００３１】
図３を参照して、本発明の実施例３に係る成形品の製造方法及びその製造装置について説明する。図３は本発明の実施例３に係る成形品の製造装置の模式的断面図である。本実施例では、トランスファ成形法に応用した例を示す。
【００３２】
＜製造装置＞
本発明の実施例３に係る成形品の製造装置１０２は、磁性材（強磁性材）からなる支柱１２と、同じく磁性材（強磁性材）からなる一対の板状の磁性部材（それぞれ上部磁性部材２２，下部磁性部材３２と称する）とを備えている。ここで、支柱１２と下部磁性部材３２は固定されており、下部磁性部材３２は土台としての役割も担っている。また、上部磁性部材２２は、支柱１２に対して摺動可能に設けられている。なお、上部磁性部材２２と支柱１２は、これらの間に磁力線が十分通過すれば良く、密着性はそれほど厳格に要求されない。例えば、すべり軸受けにより、上部磁性部材２２が支柱１２に対して摺動するように構成することができる。なお、図中Ｓ２は摺動部を示している。また、支柱１２にはコイル４２が巻かれている。
【００３３】
そして、上部磁性部材２２と下部磁性部材３２は、対向する平面部同士（すなわち上部磁性部材２２の下面２２ａと下部磁性部材３２の上面３２ａ）が平行となるように配置されている。
【００３４】
以上の構成により、不図示の電源によりコイル４２に電流を流すことで、上部磁性部材２２と下部磁性部材３２との間の領域には、一様な磁場（均一な磁束密度の磁場）が形成される。本実施例では、上部磁性部材２２及び下部磁性部材３２の周縁部付近を除く領域に一様な磁場が形成される。そして、コイル４２に交流を流すことによって、上記の一様な磁場の大きさや向きを周期的に変化させることができる。
【００３５】
また、本実施例に係る成形品の製造装置１０２は、非磁性かつ非導電性のトランスファ成形用の上型６２及び下型７２が設けられている。これら上型６２及び下型７２の具体的な材料としては、例えば、セラミックス，プラスチックを挙げることができる。上述した上部磁性部材２２は、その大部分が上型６２の内部に差し込まれており、上型６２と上部磁性部材２２は一体的に固定されている。また、下型７２は下部磁性部材３２に固定され
ている。
【００３６】
そして、上型６２を駆動する駆動機構５２によって、上型６２を図中上方向に移動させることで型開きを行うことができ、上型６２を図中下方向に移動させることで型締めを行うことができる。なお、駆動機構５２は、適宜、公知技術を採用すればよい。
【００３７】
また、本実施例に係る成形品の製造装置１０２は、上型６２の上側に、プランジャ６２ａと、このプランジャ６２ａを図中上下に駆動する駆動機構６２ｂが設けられている。なお、駆動機構６２ｂは、適宜、公知技術を採用すればよい。
【００３８】
そして、上型６２と下型７２により形成されるキャビティ８２は、上述した一様な磁場が形成される領域内に配置されるように構成されている。また、上型６２とプランジャ６２ａとの間には、材料室（トランスファポット）９２が設けられている。更に、本実施例に係る成形品の製造装置１０２は、上型６２及び上部磁性部材２２のそれぞれに形成された貫通孔と下型７２の表面に形成された溝により、材料室９２からキャビティ８２まで溶融状態の材料を導く通路９３が設けられている。
【００３９】
＜製造方法＞
本実施例により成形される成形品の材料として、ゴムや熱硬化性樹脂などの熱硬化性ポリマーに、磁性粉が含まれたもの（充填されたもの、あるいは添加剤として微量に混入されたもの）が用いられる。また、本実施例では、磁性粉は、熱硬化性ポリマーに均一に充填（混入）されている。
【００４０】
まず、駆動機構５２によって上型６２と下型７２を閉じておき、駆動機構６２ｂによって、プランジャ６２ａを上部に移動させて、材料室９２に、上記の磁性粉が含まれた熱硬化性ポリマーで構成された成形材料を入れる。そして、駆動機構６２ｂにより、プランジャ６２ａを下部に移動させて、プランジャ６２ａにより成形材料を加圧する。このとき、同時に成形材料を加熱し、溶融状態にさせた材料を、通路９３によりキャビティ８２まで移動させる。
【００４１】
そして、キャビティ８２に材料が充填された後に、不図示の電源によりコイル４２に交流を流すことによって、キャビティ８２内に大きさや向きが周期的に変化する一様な磁場を印加する。これにより、キャビティ８２に存在する粉が、磁気ヒステリシス損失によって均一に発熱する。本実施例では、粉は熱硬化性ポリマーに均一に充填（混入）されているため、キャビティ８２に充填された熱硬化性ポリマーは均一に加熱される。これにより熱硬化性ポリマーは硬化して成形品が成形される。なお、型を開いて、成形品を取り出した後、製品部以外の部分（いわゆるバリ）は適宜切除される。なお、成形品の材料に含まれる磁性粉は、導電性であっても非導電性であっても構わないが、成形品の材料全体としては、非導電性または導電率が低いのが好ましい。何故なら、成形品の材料全体で導電性を有する（導電率が高い）場合には、上記のような磁場が印加されると渦電流損失が発生してしまい、これによる発熱は表面側に偏ってしまうからである。つまり、磁気ヒステリシス損失は磁性粉が粉の状態でも発生するが、粉が導電性を有していても、粉の状態では渦電流は発生しない。そのため、粉自体は導電性であっても構わないが、成形品の材料全体では、非導電性または導電率は低いほうが好ましい。従って、例えば、成形品の材料として、フェノールに黒鉛を充填し、酸化鉄系のものを混ぜたものなども適用できる。
【００４２】
以上により、本実施例の場合にも、上記実施例１の場合と同様の効果を得ることができる。
【実施例４】
【００４３】
図４を参照して、本発明の実施例４に係る成形品の製造方法及びその製造装置について説明する。図４は本発明の実施例４に係る成形品の製造装置の模式的断面図である。本実施例では、射出成形法に応用した例を示す。
【００４４】
＜製造装置＞
本発明の実施例４に係る成形品の製造装置１０３は、磁性材（強磁性材）からなる支柱１３と、同じく磁性材（強磁性材）からなる一対の板状の磁性部材（それぞれ上部磁性部材２３，下部磁性部材３３と称する）とを備えている。ここで、支柱１３と上部磁性部材２３は固定されている。また、下部磁性部材３３は、支柱１３に対して摺動可能に設けられており、駆動機構５３によって、図中上下動するように構成されている。なお、駆動機構５３は、適宜、公知技術を採用すればよい。また、下部磁性部材３３と支柱１３は、これらの間に磁力線が十分通過すれば良く、密着性はそれほど厳格に要求されない。例えば、すべり軸受けにより、下部磁性部材３３が支柱１３に対して摺動するように構成することができる。なお、図中Ｓ３は摺動部を示している。また、支柱１３にはコイル４３が巻かれている。
【００４５】
そして、上部磁性部材２３と下部磁性部材３３は、対向する平面部同士（すなわち上部磁性部材２３の下面２３ａと下部磁性部材３３の上面３３ａ）が平行となるように配置されている。
【００４６】
以上の構成により、不図示の電源によりコイル４３に電流を流すことで、上部磁性部材２３と下部磁性部材３３との間の領域には、一様な磁場（均一な磁束密度の磁場）が形成される。本実施例では、上部磁性部材２３及び下部磁性部材３３の周縁部付近を除く領域に一様な磁場が形成される。なお、厳密には、射出ノズル付近は、上部磁性部材２３にノズル用の貫通孔２３ｂが設けられているので、磁場は一様ではないが、型全体の大きさに比較して、この貫通孔２３ｂは非常に小さいので、射出ノズル付近も一様な磁場が形成される。そして、コイル４３に交流を流すことによって、上記の一様な磁場の大きさや向きを周期的に変化させることができる。
【００４７】
また、上部磁性部材２３と下部磁性部材３３との間に、非磁性かつ非導電性の射出成形用の上型６３及び下型７３が設けられている。これら上型６３及び下型７３の具体的な材料としては、例えば、セラミックス，プラスチックを挙げることができる。上型６３は上部磁性部材２３に固定されており、下型７３は下部磁性部材３３に固定されている。これにより、駆動機構５３によって、下部磁性部材３３を図中下方向に移動させることで型開きを行うことができ、下部磁性部材３３を図中上方向に移動させることで型締めを行うことができる。
【００４８】
そして、上型６３と下型７３により形成されるキャビティ８３は、上述した一様な磁場が形成される領域内に配置されるように構成されている。また、本実施例に係る成形品の製造装置１０３は、上型６３の上側に射出成形用の加熱シリンダスクリュー９４が設けられており、その先端のノズルは、上部磁性部材２３に設けられた貫通孔２３ｂに挿入されている。そして、上型６３に形成された貫通孔と下型７３の表面に形成された溝により、加熱シリンダスクリュー９４の先端のノズルから射出された溶融状態の材料を導く通路９５が設けられている。
【００４９】
＜製造方法＞
本実施例により成形される成形品の材料として、ゴムや熱硬化性樹脂などの熱硬化性ポリマーに、磁性粉が含まれたもの（充填されたもの、あるいは添加剤として微量に混入されたもの）が用いられる。また、本実施例では、磁性粉は、熱硬化性ポリマーに均一に充填（混入）されている。
【００５０】
まず、駆動機構５３によって、上型６３と下型７３を閉じた状態で、加熱シリンダスクリュー９４から、溶融状態の成形材料（磁性粉が含まれた熱硬化性ポリマー）を射出する。溶融状態の成形材料は、通路９５を通って、キャビティ８３に導かれる。
【００５１】
そして、キャビティ８３に材料が充填された後に、不図示の電源によりコイル４３に交流を流すことによって、キャビティ８３内に、大きさや向きが周期的に変化する一様な磁場を印加する。これにより、キャビティ８３に存在する粉が、磁気ヒステリシス損失によって均一に発熱する。本実施例では、粉は熱硬化性ポリマーに均一に充填（混入）されているため、キャビティ８３に充填された熱硬化性ポリマーは均一に加熱される。これにより熱硬化性ポリマーは硬化して成形品が成形される。なお、型を開いて、成形品を取り出した後、製品部以外の部分（いわゆるバリ）は適宜切除される。なお、成形品の材料に含まれる磁性粉は、導電性であっても非導電性であっても構わないが、成形品の材料全体としては、非導電性または導電率が低いのが好ましい。何故なら、成形品の材料全体で導電性を有する（導電率が高い）場合には、上記のような磁場が印加されると渦電流損失が発生してしまい、これによる発熱は表面側に偏ってしまうからである。つまり、磁気ヒステリシス損失は磁性粉が粉の状態でも発生するが、粉が導電性を有していても、粉の状態では渦電流は発生しない。そのため、粉自体は導電性であっても構わないが、成形品の材料全体では、非導電性または導電率は低いほうが好ましい。従って、例えば、成形品の材料として、フェノールに黒鉛を充填し、酸化鉄系のものを混ぜたものなども適用できる。
【００５２】
以上により、本実施例の場合にも、上記実施例１の場合と同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】図１は本発明の実施例１に係る成形品の製造装置の模式的断面図である。
【図２】図２は本発明の実施例２に係る成形品の製造装置の模式的断面図である。
【図３】図３は本発明の実施例３に係る成形品の製造装置の模式的断面図である。
【図４】図４は本発明の実施例４に係る成形品の製造装置の模式的断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１０，１１，１２，１３  支柱
２０，２１，２２，２３  上部磁性部材
２０ａ，２１ａ，２２ａ，２３ａ  下面
２３ｂ  貫通孔
３０，３１，３２，３３  下部磁性部材
３０ａ，３１ａ，３２ａ，３３ａ  上面
４０，４１，４２，４３  コイル
５０，５１，５２，５３  駆動機構
６０，６１，６２，６３  上型
６２ａ  プランジャ
６２ｂ  駆動機構
７０，７１，７２，７３  下型
８０，８１，８２，８３  キャビティ
９１  通路
９２  材料室
９３  通路
９４  加熱シリンダスクリュー
９５  通路
１００，１０１，１０２，１０３  製造装置
【図１】
2006326876.tif 000003
【図２】
2006326876.tif 000004
【図３】
2006326876.tif 000005
【図４】
2006326876.tif 000006