(57)【要約】【課題】  寸法測定位置の補正を効率的に行うことにより、測定時間を短縮する。【解決手段】  測定位置の補正は、測定装置に固定された被測定対象物の被測定箇所の位置ずれが大きい場合のみ、位置ずれを補正するために移動してから測定する。しかし、被測定箇所の位置ずれが小さい場合には、位置ずれを補正しないで測定する。  また、測定倍率や、測定画像内の被測定箇所の位置等、測定条件の違いに対応して位置ずれ量の許容値を予め定め、測定するガラス基板等の被測定対象物上の被測定箇所の位置ずれ量を検出し、位置ずれ量が許容値未満の場合にはそのまま測定し、位置ずれ量が許容値以上の場合のみ位置を補正してから測定を行う。【選択図】  図４
2006184085.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顕微鏡と、該顕微鏡を通して被測定対象物の被測定箇所からの入射光を受光し映像信号として出力する撮像部と、該映像信号から上記被測定箇所の寸法や位置を測定する画像処理部と、上記被測定対象物の被測定箇所を上記顕微鏡の所望の視野位置に移動するために、上記被測定対象物または撮像部の少なくとも１つを移動する移動手段とを備え、上記画像処理部は、あらかじめ設定された検査情報に基づいて、上記顕微鏡、上記撮像部、及び上記移動手段を制御することによって、上記被写体箇所の寸法や位置を測定する寸法測定装置の寸法測定方法において、
上記被測定箇所を上記視野位置に移動するステップと、
移動した上記視野位置と上記検査情報の位置とのずれ量を検出するステップと、
上記ずれ量が所定の許容値より大か小かを判定するステップと、
上記判定ステップによって、上記ずれ量が上記許容値より大であれば、上記ずれ量に応じて上記顕微鏡視野位置を補正移動するステップとを有し、
上記被写体箇所の寸法または位置を測定することを特徴とする寸法測定装置の寸法測定方法。
【請求項２】
顕微鏡と、該顕微鏡を通して被測定対象物の被測定箇所からの入射光を受光し映像信号として出力する撮像部と、該映像信号から上記被測定箇所の寸法や位置を測定する画像処理部と、上記被測定対象物の被測定箇所を上記顕微鏡の所望の視野位置に移動するために、上記被測定対象物または撮像部の少なくとも１つを移動する移動手段とを備え、上記画像処理部は、あらかじめ設定された検査情報に基づいて、上記顕微鏡、上記撮像部、及び上記移動手段を制御することによって、上記被写体箇所の寸法や位置を測定する寸法測定装置の寸法測定方法において、
上記被測定箇所を上記視野位置に移動するステップと、
移動した上記視野位置と上記検査情報の位置とのずれ量を検出するステップと、
上記ずれ量が所定の許容値より大か小かを判定するステップと、
上記判定ステップによって、上記ずれ量が上記許容値より小であれば、上記被写体箇所の寸法または位置を測定することを特徴とする寸法測定装置の寸法測定方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２のいずれかに記載の寸法測定装置の寸法測定方法において、上記検査情報を設定する時に、上記視野位置内の被測定箇所を設定した時点で、上記許容値を自動的に算出することを特徴とする寸法測定装置の寸法測定方法。
【請求項４】
顕微鏡と、該顕微鏡を通して被測定対象物の被測定箇所からの入射光を受光し映像信号として出力する撮像部と、該映像信号から上記被測定箇所の寸法や位置を測定する画像処理部と、上記被測定対象物の被測定箇所を上記顕微鏡の所望の視野位置に移動するために、上記被測定対象物または撮像部の少なくとも１つを移動する移動手段とを備え、上記画像処理部は、あらかじめ設定された検査情報に基づいて、上記顕微鏡、上記撮像部、及び上記移動手段を制御することによって、上記被写体箇所の寸法や位置を測定する寸法測定装置において、
上記被測定箇所を上記視野位置に移動する手段と、
移動した上記視野位置と上記検査情報の位置とのずれ量を検出する手段と、
上記ずれ量が所定の許容値より大か小かを判定する手段と、
上記判定ステップによって、上記ずれ量が上記許容値より大であれば、上記ずれ量に応じて上記顕微鏡視野位置を補正移動する手段とを有し、
上記被写体箇所の寸法または位置を測定することを特徴とする寸法測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は撮像装置によって被測定対象物の被測定箇所を撮像し、撮像された画像を画像処理して検査や測定をする寸法測定装置に関し、特に測定位置の自動修正を効率的に行う方法に関わる。
【背景技術】
【０００２】
寸法測定装置は、基板（例えば、LCD（ Liquid Crystal Display ）基板、以下、液晶パネルと称する）の TFT（ Thin Film Transistor ）や半導体のマスクのパターン幅やパターン間隔などの測定を行う装置である。寸法測定装置は、例えば、透明ガラス基板（試料）上に形成されたパターンに照明を照射して得られるパターン像を顕微鏡で拡大し、その画像を CCD（ Charge Coupled Device ）カメラで撮像して得られるパターン像を画像処理して、寸法を測定する。
【０００３】
近年、TFT（ Thin Film Transistor ）液晶パネルの需要が拡大している。これに伴い、液晶パネルの製造工程では、液晶用ガラス基板の大型化、液晶ガラス基板１枚中で取得できる液晶パネル数（製品数）の増加、等によって、生産効率の向上を図っている。
従って、液晶用ガラス基板の大型化に伴い、ガラス基板上でのパターン露光誤差（位置ずれ）が一般的に増大する傾向にある。
位置ずれが大きくなる結果、検査装置では、所定の測定位置を撮像するために XY ステージを移動しても、ガラス基板上でのパターン位置がずれていることになるために、撮像した映像内に画像処理に必要な被測定箇所の一部がはみ出す状況が生じてしまうことがある。
【０００４】
位置ずれは、例えば、ガラス基板の寸法誤差やガラス基板上のパターン露光誤差等によって、露光するガラス基板ごと及び露光する工程ごとに発生している。このようなガラス基板上のパターン等の被測定箇所の位置ずれを補正するため、パターン認識等の方法によりパターン位置のずれ量を検出し、位置ずれを補正するために XY ステージを移動した後に寸法等の測定を行うことにより、安定した測定を実現している（例えば、特許文献１または特許文献２参照。）。このため、測定時間が、位置ずれを補正する時間分、多くかかる。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２８３３６号公報
【特許文献２】特開２００４−１８４４１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前述の従来技術では、パターン位置のずれが少ない場合でも、必ず、ずれ量を補正するために、XY ステージを移動（以下、補正移動とする）してから測定する。このため、測定時間がずれ量の補正をする時間分多くかかる。
本発明の目的は、測定位置の補正を効率的に行うことにより、測定時間が短い測定方法及び測定装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、本発明の寸法測定方法及び寸法測定装置は、測定位置の補正を効率的に行うことにより、測定時間を短縮する。
即ち、本発明の測定装置の測定方法は、顕微鏡と、顕微鏡を通して被測定対象物の被測定箇所からの入射光を受光し映像信号として出力する撮像部と、映像信号から被測定箇所の寸法や位置を測定する画像処理部と、被測定対象物の被測定箇所を顕微鏡の所望の視野位置に移動するために、被測定対象物または撮像部の少なくとも１つを移動する移動手段とを備え、画像処理部は、あらかじめ設定された検査情報に基づいて、顕微鏡、撮像部、及び移動手段を制御することによって、被写体箇所の寸法や位置を測定する測定装置の測定方法において、被測定箇所を視野位置に移動するステップと、移動した視野位置と検査情報の位置とのずれ量を検出するステップと、ずれ量が所定の許容値より大か小かを判定するステップと、判定ステップによって、ずれ量が許容値より大であれば、ずれ量に応じて顕微鏡視野位置を補正移動するステップとを有し、被写体箇所の寸法または位置を測定するものである。
【０００８】
また、本発明の一側面の測定装置の測定方法は、顕微鏡と、顕微鏡を通して被測定対象物の被測定箇所からの入射光を受光し映像信号として出力する撮像部と、映像信号から被測定箇所の寸法や位置を測定する画像処理部と、被測定対象物の被測定箇所を顕微鏡の所望の視野位置に移動するために、被測定対象物または撮像部の少なくとも１つを移動する移動手段とを備え、画像処理部は、あらかじめ設定された検査情報に基づいて、顕微鏡、上記撮像部、及び移動手段を制御することによって、被写体箇所の寸法や位置を測定する測定装置の測定方法において、被測定箇所を視野位置に移動するステップと、移動した視野位置と検査情報の位置とのずれ量を検出するステップと、ずれ量が所定の許容値より大か小かを判定するステップと、判定ステップによって、ずれ量が許容値より小であれば、被写体箇所の寸法または位置を測定するものである。
【０００９】
また、本発明の一側面の寸法測定方法は、検査情報を設定する時に、視野位置内の被測定箇所を設定した時点で、許容値を自動的に算出するものである。
【００１０】
また、本発明の測定装置は、顕微鏡と、顕微鏡を通して被測定対象物の被測定箇所からの入射光を受光し映像信号として出力する撮像部と、映像信号から被測定箇所の寸法や位置を測定する画像処理部と、被測定対象物の被測定箇所を顕微鏡の所望の視野位置に移動するために、被測定対象物または撮像部の少なくとも１つを移動する移動手段とを備え、画像処理部は、あらかじめ設定された検査情報に基づいて、顕微鏡、撮像部、及び移動手段を制御することによって、被写体箇所の寸法や位置を測定する測定装置において、被測定箇所を視野位置に移動する手段と、移動した視野位置と検査情報の位置とのずれ量を検出する手段と、ずれ量が所定の許容値より大か小かを判定する手段と、判定ステップによって、ずれ量が許容値より大であれば、ずれ量に応じて顕微鏡視野位置を補正移動する手段とを有し、被写体箇所の寸法または位置を測定するものである。
【発明の効果】
【００１１】
以上により、測定不能なほどパターン位置がずれた場合のみ測定位置を自動的修正し、測定時間を伸ばすことなく、正確な自動測定が可能となる。
設定値が不正な為に測定不可となった場合でも、設定を自動修正する機能を用いることで、測定を続行することが可能であるため、ユーザの負担が軽減される。
また、高速なＸＹステージや、移動精度の劣るＸＹステージを使用しても、安定した測定が可能となる為、システム構築の自由度が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の寸法測定方法及び寸法測定装置は、測定位置の補正を効率的に行うことにより、測定時間を短縮する。例えば、測定位置の補正は、測定装置に固定された被測定対象物の被測定箇所（例えば、パターン）の位置ずれが大きい場合のみ、位置ずれを補正するために移動してから測定する。しかし、被測定箇所の位置ずれが小さい場合には、位置ずれを補正しないで（即ち、補正移動しないで）測定する。
【００１３】
また、本発明の測定方法及び測定装置は、例えば、測定倍率や、測定画像内の被測定箇所の位置等、測定条件の違いに対応して位置ずれ量の許容値を予め定め、測定するガラス基板等の被測定対象物上の被測定箇所の位置ずれ量を検出し、位置ずれ量が許容値未満の場合にはそのまま測定し、位置ずれ量が許容値以上の場合のみ位置補正移動してから測定を行う。
【００１４】
即ち、本発明の寸法測定方法及び寸法測定装置は、顕微鏡と顕微鏡による拡大被写体像を撮像するテレビカメラ等のエリアセンサを組合せて寸法測定等のための画像処理を行う測定装置及び測定方法において、自動測定処理を安定する手段である測定位置の自動修正機能を効率的に行うものである。
この結果、測定不能なほど被測定箇所の位置ずれがあった場合のみ測定位置を自動的補正し、位置ずれが小さい場合には測定位置を補正しないで測定するため、測定時間を短縮でき、かつ正確な測定が可能となる。
【００１５】
更に、上記測定において、設定値（位置ずれ量の許容値）が不正なためや何らかの原因で測定不可となった場合でも、設定を自動補正する機能を備え、測定不可となった場合には、設定値を変更して、補正機能を動作することで、測定を続行することができるため、ユーザの負担を軽減できる。
また、高速な XY ステージや、移動精度の劣る XY ステージを使用しても、安定した測定が可能となるため、測定装置を含めた製造システムや検査システム構築の自由度が向上する。
【００１６】
以下、この発明の一実施例を図１により説明する。図１は、本発明の一実施例の構成を示すブロック図である。1 は被測定対象物、2 は顕微鏡、3 は対物レンズ、2−1 は顕微鏡 2 の光軸、4 は撮像部、5 は画像処理部、6 は画像処理用モニタ、7 は照明部、7−1 は照明部 7 が出力した照明光を顕微鏡 2 に導くライトガイド、8 は装置制御部、9 は装置制御用モニタ、10 はステージ制御部、11 は XY ステージ、12 は Z ステージ、1−0 は XY ステージ11 ベースである。撮像部 4 は、例えば、CCD（ Charge Coupled Device ）カメラ等のテレビジョンカメラである。また装置制御部 8 は、例えば、PC（ Personal Computer ）である。
【００１７】
図１において、XY ステージ 11 は、被測定対象物 1 を固定する試料台を備え、試料台には、被測定対象物 1 、例えば、液晶ガラス基板の１つが固定されている。XY ステージ 11 及び Z ステージ 12 は、オペレータ及び装置制御部 8 にあらかじめ格納されている制御プログラムによって制御され、X 方向（水平方向の１）、Y 方向（水平方向の他の１）、Z 方向（垂直方向）の３次元の方向に移動することで、焦点合せや位置制御を行う。制御プログラムは、被測定対象物（製品、等）の種類に応じた検査情報を有する製品対応検査プログラムを取込むことができ、製品対応検査プログラムの被測定箇所の位置、測定条件、位置ずれ許容値、等の製品ごとの測定に必要な検査情報を基に測定を行う。
【００１８】
この検査情報は、あらかじめ登録することも、製品測定開始直前あるいは製品測定途中でも任意にオペレータによって変更することができる。
尚、以下の本発明の記述では、測定装置または測定方法あるいは測定処理と称して説明を行っているが、検査装置または検査方法あるいは検査処理と置き換えて用いても良いことは明らかである。
【００１９】
顕微鏡 2 は、測定倍率に応じて、顕微鏡 2 の光軸 2−1 を中心とした被測定対象物 1 の視野範囲（視野位置）内の反射光像を対物レンズ 3 で拡大し、撮像装置 4 に入射する。撮像装置 4 は、入射された反射光像を画素ごとに光電変換して、入射光像を映像信号として画像処理部 5 に出力する。
画像処理部 5 は、映像信号の明度が適正な値になるように、照明部 7 を制御するとともに、撮像部 4 が取得した映像信号の輝度情報から被測定箇所の寸法（例えば、パターンの線幅やパターン間隔）や位置等を測定する。
【００２０】
その他、画像処理部 5 には、オペレータが測定装置を操作するための操作器や、照明部 7 、顕微鏡 2 、撮像部 4 と信号を送受し合い、それらからの情報を受取り、あるいはそれらに信号を送ってそれらを制御する機能を有する。
【００２１】
画像処理用モニタ 6 は、その表示画面に、撮像部 4 が取得した視野位置の入射光像や測定結果等を表示する。
装置制御部 8 は、画像処理部 5 およびステージ制御部 10 をオペレータの指示や制御用プログラムに応じて制御し、XY ステージ 11 及び Z ステージ 12 を X 方向、Y 方向、Z 方向の少なくとも１方向に駆動させながら視野位置を移動し、測定処理を行う。
【００２２】
装置制御用モニタ 16 は、その表示画面に、測定位置情報や測定結果等を表示する。尚、画像処理用モニタ 6 が表示する測定結果は、例えば、表示されている画像中のデータである場合が多いが、装置制御用モニタ 16 が表示する測定結果は、例えば、被測定対象物ごとの測定結果や座標データや被測定箇所に対応した測定結果等が、例えばリストで、表示される。
【００２３】
本発明による装置の一実施例では、ガラス基板上の測定位置と、その測定位置を含む視野範囲を撮像して取得する映像信号内での被測定箇所を予め検査情報として設定（登録）する必要がある。以下、視野位置を撮像して得られた映像信号を画像処理用モニタ 6 の表示画面内に表示した画像を測定画像と称する。
図２により、測定画像内のマッチングエリアと被測定箇所について説明する。図２は、本発明の一実施例を説明するための図で、図１の画像処理用モニタ 6 の表示画面に表示された測定画像の一例である。20 は測定画像、ハッチング線で示した 13 はガラス基板上に形成されたパターン、点線枠 14 はマッチングエリア、実線枠 15 と 16 は被測定箇所であり、例えば、この枠内に含まれたパターン 13 のパターン幅を線幅として測定する。具体的な測定アルゴリズムは、例えば、特許文献２の段落 0017 、図８、及び図９に説明されている技術等、周知の技術を用いている。またこのとき、実際の測定に必要な走査範囲は、例えば、被測定箇所の実線枠 16 内でパターン 13 の線幅を測定する場合には、パターン 13 のほか、その周辺の部分が必要になるので、実線枠 16 はパターン 13 より広い領域を指定する。
ここで、一点鎖線 21 と 22 の交点は、顕微鏡 2 の光軸 2−1 が通過する点であり、測定画像の中心である。
【００２４】
本発明による装置の一実施例では、測定画像内にパターン 13 の任意位置でのパターンの線幅などを測定するため、オペレータは、マッチングエリア 14 と被測定箇所 15 及び測定位置等を指定すると、画像処理部 5 はそれらの位置等の検査情報を設定し、被測定箇所 15 をマッチングエリア 14 との相対位置として登録する。
【００２５】
実際の液晶ガラス基板を測定する場合、液晶ガラス基板の寸法誤差や露光誤差等によって、図３に示すようにパターンの位置ずれが発生する場合がある。図３は、本発明の一実施例の測定画像の一例を説明するための図で、被測定箇所であるパターンの位置がずれた場合の測定画像を説明する図である。
図３の測定画像 30 において、被測定箇所 15 は測定可能であるが、被測定箇所 16 は測定画像内に全部が収まらない（画像データが取得できない）ために測定不能となってしまう。
【００２６】
本発明では、図３の被測定箇所 16 のようなパターンの位置ずれに対応するため、画像処理部 5 は、図４に示す流れに従って測定処理を行っている。図４は、本発明の一実施例の測定処理のフローチャートである。
図４において、あらかじめ、被測定対象物 1 は XY ステージ 11 に固定され、被測定対象物 1 の位置合せを終了している。
【００２７】
測定位置移動ステップ 401 では、設定された所定の測定位置を撮像するために XY ステージ 11 と Z ステージ 12 を移動し、かつ、あらかじめ登録された倍率、照度、等の撮像条件にするように、対物レンズ 3 、照明部 7 、撮像部 4 、その他の必要なユニットを制御する。次に、測定画像取得ステップ 402 の処理を実行する。
【００２８】
測定画像取得ステップ 402 では、撮像部 4 が測定画像を取得し、次にマッチングステップ 403 の処理を実行する。
マッチングステップ 403 では、取得された測定画像について、マッチングエリア 14 とのパターンマッチング処理を行い、マッチングエリア 14 の位置を検出する。次にパターン位置ずれ判定ステップ 404 の処理を実行する。
【００２９】
パターン位置ずれ判定ステップ 404 では、マッチングステップ 403 で実際に検出された位置とあらかじめ登録された位置とのずれを算出し、パターン位置ずれ量があらかじめ設定されている所定の値より大きいか小さいかを判定する。
位置ずれ量が小さいと判定した場合は、測定ステップ 406 の処理を実行し、位置ずれ量が大きいと判定した場合は、補正移動ステップ 405 の処理を実行する。
【００３０】
補正移動ステップ 405 では、XY ステージ 11 を補正移動し、測定画像取得ステップ 402 の処理を実行する。
以下、既に説明した測定画像取得ステップ 402 、マッチングステップ 403 、及び、パターン位置ずれ判定ステップ 404 を行う。そして、位置ずれ量が小さいと判定した場合は、測定ステップ 406 の処理を実行し、位置ずれ量が大きいと判定した場合は、補正移動ステップ 405 の処理を実行する。
【００３１】
測定ステップ 406 では、あらかじめ登録された被測定箇所（例えば、図２の被測定箇所 15 、16 等）について、測定処理を実行する。
上記に述べたように、従来は、設定された所定の測定位置を撮像するために XY ステージ 11 と Z ステージ 12 を移動し他時には、必ず、位置ずれ量を補正するための補正移動を行っていた。このため、位置ずれ量の補正が不要な場合でも補正移動を実行するため、測定時間が余計かかっていた。
しかし、本発明によれば、測定画像ごとに位置ずれ許容値を任意に設定し、不要な位置ずれ補正移動を省くことによって、測定時間を短縮することができる。
【００３２】
尚、上記実施例では、位置ずれ補正移動ステップ 405 で補正移動後、測定画像取得ステップ 402 にて測定画像を取得した後に、再度マッチングステップ 403 、パターン位置ずれ判定ステップ 404 、及び、位置ずれ補正移動ステップ 405 を実行しているが、位置ずれ許容値が大きい場合には、１度の補正移動だけで、位置ずれ量の補正が十分であり、測定画像によっては、あるいは、全ての測定画像について、再度の位置ずれ量の補正を省略しても良い。
【００３３】
図５は、本発明による位置ずれ許容値を自動的に設定する方法を説明する図である。図５によって、位置ずれ許容値を自動的に設定する方法を説明する。
位置ずれ許容値の設定は、例えば、被測定対象物（製品、等）の種類に応じた製品対応検査プログラムを作成する時あるいは変更する時に行うことができる。
【００３４】
図５において、測定画像 50 が取得されている。このとき、オペレータがマッチングエリア 14 を設定し、更に被測定箇所 15 を設定した場合、この測定画像 50 の位置ずれ許容値は、X 方向が測定画像 50 の縁と被測定箇所 15 の距離 26 となり、y 方向が測定画像 50 の縁と被測定箇所 15 の距離 23 となる。この距離 26 が右方向の位置ずれ許容値で、距離 23 が上方向の位置ずれ許容値となる。また、距離 26′が左方向の位置ずれ許容値で、距離 23′が下方向の位置ずれ許容値となる。
以上のように、測定画像 50 内の被測定箇所 15 の上下左右端から測定画像端までの距離 23 、23′、26 、26′を位置ずれ許容値として、画像処理装置 5 にて自動的に設定が可能である。
【００３５】
次に、図５において、更に被測定箇所 16 をオペレータが設定した場合には、画像処理部 5 では、左方向の位置ずれ許容値が、距離 25 として検出される。そして、画像処理部 5 は、前の左方向の位置ずれ許容値（距離 26′）と比較を行い、いずれか値が小さい方を左方向の位置ずれ許容値として登録する。同様に下方向の位置ずれ許容値が、距離 24 を登録する。上方向と右方向の許容値も同様に検出されるが、この場合は、前に登録された被対象箇所 15 の値が小さいので、前のままの設定となる。
【００３６】
次に、図６によって、設定した位置ずれ許容値が不正な場合に、位置ずれ許容値を画像処理部 5 が設定を変更する、本発明の一実施例を説明する。図６は、本発明の位置ずれ許容値を修正する方法の一実施例を説明するための図である。
図６は、オペレータが測定画像 60 において、上方向の位置ずれ許容値を距離 61 、下方向の位置ずれ許容値を距離 62 、右方向の位置ずれ許容値を距離 63 、左方向の位置ずれ許容値を距離 64 に設定していた場合の例である。図６において、測定時の実際のパターン位置ずれ量は、下方向に距離 65 （説明を簡単にするために、図６の実施例では、下方向にしかずれていない。）で、初めに設定されている位置ずれ許容値が距離 62 以下の場合でも、被測定箇所 16 のように測定不可となる状況が発生する。
【００３７】
このように、設定した位置ずれ許容値が不正となることは、例えば、オペレータが仮に設定した位置ずれ許容値や製品ごとに一括で設定された位置ずれ許容値であった場合、あるいはその被測定対象物だけが異常な位置ずれを発生している場合、等に発生する。
この場合、測定不可となった被測定箇所 16 の測定領域はみだし量（距離 66 ）と方向を算出し、該当する方向のパターン位置ずれ許容値 62 をとして自動的に修正すれば良い。
即ち、新しい位置ずれ許容値 62′は、“位置ずれ許容値 62′＝実際のパターン位置ずれ量 65 −測定領域はみだし量 66 ”として求められる。
【００３８】
尚、上述の実施例では、被測定対象物の被測定箇所への移動や補正移動を、XY ステージによって行っているが、XY ステージに限らず、顕微鏡側を移動させる構成であっても良く、またそれらの組合せであっても良いことは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の一実施例の構成を示すブロック図。
【図２】本発明の一実施例の測定画像の一例を説明するための図。
【図３】本発明の一実施例の測定画像の一例を説明するための図。
【図４】本発明の一実施例の測定処理のフローチャート。
【図５】本発明の位置ずれ許容値の設定方法の一実施例を説明するための図。
【図６】本発明の位置ずれ許容値を修正する方法の一実施例を説明するための図。
【符号の説明】
【００４０】
1：被測定対象物、  1−0：ベース、  2：顕微鏡、  2−1：光軸、  3：対物レンズ、  4：撮像部、  5：画像処理部、  6：画像処理用モニタ、  7：照明部、  7−1：ライトガイド、  8：装置制御部、  9：装置制御用モニタ、  10：ステージ制御部、  11：XY ステージ、  12：Z ステージ、  13：パターン、  14：マッチングエリア、  15，16：被測定箇所、  20，30，50，60：測定画像、  21，22：中心線、  23，23′，24，25，26，26′，61，62，63，64，65，66：距離。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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