(57)【要約】      （修正有）【課題】循環経路が極めて長い業務用の浴槽循環システムでは、レジオネラ菌の増殖を抑止するため濾過器の洗浄と共に循環経路全体を洗浄、すなわちレジオネラ菌の滅菌処理を行っているが、湯が薬品臭く、またイニシャルコストやランニングコストが高いといった問題があった。このことから、確実にレジオネラ菌を死滅させ、且つイニシャルコストと共にランニングコストを低減でき、既設の浴槽循環システムにも容易に用いることができる浴槽循環システムの洗浄方法を提供する。【解決手段】循環システムに設けられている浴槽１の排出管２と注入管３の間を、３方弁（２ｂ／３ｂ）を介在させてバイパス管５で接続し、循環システムを洗浄する際は、３方弁（２ｂ／３ｂ）を操作して循環する湯の流れを注入管３から排出管２へ流す経路に切替え、且つその湯の温度を循環システム全域で少なくともレジオネラ菌が死滅する温度に昇温して所定の時間循環させて洗浄する。【選択図】  図１
2006326189.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
循環する湯の温度を上昇させる昇温手段を備えた浴槽循環システムにおいて湯の循環部位を同時洗浄できるようにするための方法であって、湯の排出管の浴槽と濾過器の間の任意の部位と注入管の昇温手段と浴槽の間の任意の部位を開閉手段を介在させて接続し、循環システムを洗浄する際、前記開閉手段を開放し且つ任意の閉鎖手段によって排出管および注入管の浴槽側を閉鎖し、その状態で昇温手段によって所定の温度に昇温した湯を所定の時間循環させることを特徴とする浴槽循環システムの洗浄方法
【請求項２】
前記排出管と注入管の接続部位が、浴槽手前の浴槽に近接した位置であることを特徴とする請求項１の浴槽循環システムの洗浄方法
【請求項３】
前記排出管と注入管の接続部位が、浴槽内へ湯を注入する湯の注入口であると共に浴槽から湯を排出する湯の排出口であることを特徴とする請求項１の浴槽循環システムの洗浄方法
【請求項４】
前記排出管と注入管の接続部位を、浴槽に近接してまたは浴槽内に新規に配設した配管に設けていることを特徴とする請求項１の浴槽循環システムの洗浄方法
【請求項５】
循環式浴槽に用いる浴槽循環システムであって、該浴槽循環システムは少なくとも浴槽から排出された湯を濾過する濾過器と循環する湯の温度を上昇させる昇温手段を備え、且つ湯の排出管の浴槽と濾過器の間の任意の部位と注入管の昇温手段と浴槽の間の任意の部位が開閉手段を介在させて接続されていることを特徴とする浴槽循環システム
【請求項６】
前記システムが所定の制御手段によって制御されることを特徴とする請求項１の浴槽循環システムの洗浄方法または請求項５の浴槽循環システム
【請求項７】
湯の循環経路に所定の滅菌手段を配設していることを特徴とする請求項１の浴槽循環システムの洗浄方法または請求項５の浴槽循環システム
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浴槽循環システムの洗浄方法に関し、特に既設の浴槽循環システムに対しその循環系を同時洗浄できるように改善するための方法とその方法からなる洗浄手段を備えた浴槽循環システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、循環式浴槽においてレジオネラ菌の発生が問題となっており、その対策の一つとして、湯を濾過する濾過器内にセットされた濾過材の洗浄や交換等によってレジオネラ菌の増殖を阻止している。
そして、循環経路が極めて長い業務用の浴槽循環システムでは、濾過器内の濾過材の洗浄や交換だけではレジオネラ菌の増殖を十分に抑えることができないため、その他の方法も併用することによってレジオネラ菌を抑止している。
【０００３】
その併用される方法の代表的なものとし次の方法がある。次亜塩素ナトリウムを湯に注入することによって薬剤よってレジオネラ菌を殺菌する次亜塩素ナトリウム注入方式。湯にオゾンガスを通過させ高酸化作用によってレジオネラ菌を殺菌するオゾンガス通過方式。湯に二酸化チタン等の光触媒を接触させＯＨラジカル（活性酸素）を発生させることによってレジオネラ菌を殺菌する光触媒接触方式。湯に紫外線を照射してレジオネラ菌を殺菌する紫外線照射方式がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述の各方式はメリットだけではなくデメリットも併せ持っており、次亜塩素ナトリウム注入方式においては、導入を安価にでき、調整が容易である反面、薬品臭が強く、機器類に損傷が生じ、メンテナンス性が劣るといったデメリットがある。
そして、オゾンガス通過方式においては、酸化作用を局所的に発生でき、レジオネラ菌を完全に破壊できる反面、導入コストが極めて高価、ＯＨラジカル（活性酸素）が浴槽内に進入する危険が有るといったデメリットがある。
【０００５】
また、光触媒接触方式においては、酸化作用を局所的に発生でき、機器類への損傷を少なくできる反面、導入コストが比較的高価、触媒交換が年１回でランニングコストが割高、ＯＨラジカル（活性酸素）が浴槽内に進入する危険が有るといったデメリットがある。
そして、紫外線照射方式においては、効力を局所的に発生でき、機器類への損傷が無く、ランニングコストが安価である反面、浸透力が無く濁り湯への効果が低く、レジオネラ菌を完全に死滅できず再び繁殖する危険が有るといったデメリットがある。
【０００６】
従って、本発明は上述した問題点に鑑みてなされたもので、確実にレジオネラ菌を死滅させ、且つイニシャルコストと共にランニングコストを低減でき、そして、既設の浴槽循環システムにも容易に用いることができる洗浄方法とその洗浄方法からなる洗浄手段を備えた浴槽循環システムを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の要旨とするところは、循環する湯の温度を上昇させる昇温手段を備えた浴槽循環システムにおいて湯の循環部位を同時洗浄できるようにするための方法であって、湯の排出管の浴槽と濾過器の間の任意の部位と注入管の昇温手段と浴槽の間の任意の部位を開閉手段を介在させて接続し、循環システムを洗浄する際、前記開閉手段を開放し且つ任意の閉鎖手段によって排出管および注入管の浴槽側を閉鎖し、その状態で昇温手段によって所定の温度に昇温した湯を所定の時間循環させることを特徴とする浴槽循環システムの洗浄方法である。
【０００８】
本発明の浴槽循環システムの洗浄方法をさらに詳しく説明すると、浴槽循環システムとは、浴槽に貯めた湯に所定の処理を行うことによって所長期間の使用を可能にするシステムであり、湯は、浴槽から排出されると濾過器に入りそこでゴミ等が濾過され、次に熱交換器等の昇温手段に入りそこで所定の温度に昇温されて浴槽に再度注入される。すなわち、浴槽から出た湯は一定の経路を経てまた浴槽に戻るように配管が設けられており、その途中で少なくとも濾過と湯温調節が行われ、また、必要に応じてレジオネラ菌等の雑菌の殺菌処理が行われる。本発明は、この循環システムの湯の排出管の浴槽と濾過器の間の任意の部位と注入管の昇温手段と浴槽の間の任意の部位を開閉手段を介在させて接続した形態の浴槽循環システムである。
【０００９】
昇温手段とは、システム内を循環する湯の温度を上昇させることができる任意の装置を指すものである。普通、浴槽循環システムにはボイラーと熱交換器が備えられており、熱交換器によってボイラーで昇温された１次側水が、循環する２次側水すなわち湯を昇温するようになっている。
勿論、これに限定されるものではなく、バーナー等によって循環する湯を直接昇温するものであってもよい。
【００１０】
排出管と注入管を接続する際その間に設けられる開閉手段とは、排出管と注入管の接続を開放（導通）または閉鎖（非導通）状態とするためのものである。すなわち、後で説明する排出管および注入管の浴槽側を閉鎖するための閉鎖手段と共に、湯が流れる経路を切り替えるために用いられるものである。
その開閉手段は液体に使用可能なものであればよく、具体的なものとしては、弁等の開閉手段を用いるのがよい。
【００１１】
そして、循環システムの洗浄の際には、排出管および注入管の浴槽側を閉鎖するのであるが、その閉鎖手段は、循環システムの通常使用時には浴槽側を開放できるものでなければならない。これが可能であれば、例えば、浴槽側を閉鎖する際は、浴槽の湯の注入口と浴槽の湯の排出口に蓋を装着し、浴槽側を開放する際は、その蓋を取り外す（撤去）ようにしてもよい。しかしながら、望ましくは、液体に使用可能な弁等の開閉手段を用いるのがよい。
【００１２】
また、排出管と注入管の接続の際に介在させる開閉手段と、洗浄の際に排出管および注入管の浴槽側を閉鎖し且つ循環システムの通常使用時には浴槽側を開放できるようにする開閉手段を１つの部材で切換できるようにしてもよい。具体的な部材としては、液体に使用可能な３方弁を用いるのがよい。
【００１３】
循環システムの排出管と注入管の接続部位は、排出管と注入管の浴槽付近に位置するところで接続するのがよく、例えば、浴槽手前の浴槽に近接した位置であったり、また、注入管の湯を浴槽内へ注入する湯の注入口また浴槽から湯を排出管へ排出する排出口であったり、さらには、浴槽に近接してまたは浴槽内に新規に配設した配管にその接続部位を設けてもよい。すなわち、その配管の任意の部を開閉手段を介在させて接続してもよい。排出管であれば浴槽と濾過器の間であり、また、注入管であれば昇温手段と浴槽の間である。
【００１４】
そして、洗浄の際に流す湯温は、少なくともレジオネラ菌を死滅できる温度でなければならない。すなわち、６０度以上としなければならず、また、その湯が流れる循環システム全域において湯温が６０度以上に保たれるように昇温の際の湯温を調節しなければならない。また、その湯の循環時間は循環システムの形態等によって決定すればよい。
【００１５】
循環システムは、所定の制御手段によって制御してもよく、例えば、洗浄の際に、弁（電動弁）を駆動したり、また、湯温を洗浄温度すなわちレジオネラ菌を死滅できる温度に自動的に昇温させたり、さらには、湯の状態や循環時間またレジオネラ菌の数等によって洗浄時期を知らせるようにしてもよい。勿論、制御は全てを自動制御できるようにしても、また、手動制御と自動制御を併用するようにしてもよい。自動制御は、所定のセンサーを循環システム内に配設し、そのセンサーの検出結果をパソコン等の処理装置で判定し、そのパソコンによってシステム内の機器を制御するようにしてもよい。
また、湯の循環経路に、少なくともレジオネラ菌の抑制に効果のある滅菌手段を配設してもよい。
【００１６】
そして、上述した洗浄方法からなる洗浄手段を用いて新たな浴槽循環システムを構築してもよい。すなわち、該浴槽循環システムは少なくとも浴槽から排出された湯を濾過する濾過器と循環する湯の温度を上昇させる昇温手段を備え、且つ湯の排出管の浴槽と濾過器の間の任意の部位と注入管の昇温手段と浴槽の間の任意の部位が開閉手段を介在させて接続する。
且つ浴槽付近で湯の排出管と注入管が開閉手段を介在させて接続する。
また、濾過器には５方弁を設けて、洗浄が終了した都度または所定の回数の後に湯の循環方向を逆にして濾過器内の濾過材に付着した汚れを除去すると共に、５方弁を操作してその除去した汚れを循環システム外部に排出させてもよい。
そして、前述した浴槽循環システムの洗浄方法においても、濾過器に５方弁が設けられているものはこのように濾過材に付着した汚れを除去するのがよい。また、濾過器に５方弁が設けられていないものは新たに装着してもよい。
【００１７】
従って、浴槽循環システムの洗浄方法と浴槽循環システムは以上のように構成されているので、既設の循環システムに対して用いる場合は、浴槽に近接した位置の湯の排出管および注入管を切断し、その切断箇所のそれぞれに３方弁を取り付けると共に、それぞれの３方弁の一側を配管等の接続部材で接続する。これにより、湯は排出管および注入管に設けた３方弁の切換によって浴槽を経由する経路の流れと、浴槽を経由しない経路の２つの循環経路を有する。そして、循環システムを洗浄する際は、３方弁を操作して湯の流れを浴槽を経由する流れから浴槽を経由しない流れに切換、この状態で、昇温手段また熱交換器によって湯の温度を昇温させ、また、その温度は湯の循環経路の全てにおいてレジオネラ菌が死滅できる温度にまで昇温させて湯を所定の時間循環させる。
【００１８】
また、浴槽循環システムにおいては、当初から湯の流れを浴槽を経由する経路の流れと、浴槽を経由しない経路の２つの循環経路を有している。従って、循環システムを洗浄する際は、この循環システムにおいても上述のもの（浴槽循環システムの洗浄方法）と同様に、３方弁を操作して湯の流れを浴槽を経由する流れから浴槽を経由しない流れに切換、この状態で、昇温手段また熱交換器によって湯の温度を昇温させ、また、その温度は湯の循環経路の全てにおいてレジオネラ菌が死滅できる温度にまで昇温させて湯を所定の時間循環させる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の浴槽循環システムの洗浄方法と浴槽循環システムは以上のように構成されているので、既設の浴槽循環システムに導入する際も弁部材や配管部材の追加等で対応することができ、また、洗浄すなわちレジオネラ菌の滅菌がシステム内を循環する湯を高温にして循環させることができるので、イニシャルコストと共にランニングコストが低減できる。そのランニングコストにおいては、循環する湯の全体量を昇温させるのではなく浴槽内に貯留される湯を除いた湯を用いるので、湯を昇温するカロリー（熱量）は極めて少なくて済み経済的である。そして、既設の浴槽循環システムに容易にかつ安価に導できる。
【００２０】
循環システムの洗浄すなわちレジオネラ菌の滅菌が高温の湯によって行われるので、一度に全循環システム内を洗浄できると共に、循環経路に形成されたレジオネラ菌のコロニーも高温の湯によって生息不可能な温度領域となるため確実に破壊できる。さらには、湯に薬剤等を混入しないので、湯から薬品臭がすることもなく、また、循環システムの機器が薬剤等の影響を受けることもない。従って、循環システムの耐応年数を延長させることができて経費の削減にも繋がり、さらに、ランニングコストが安価であるため洗浄回数も増やすことができ、安全性を向上させることもできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の浴槽循環システムの洗浄方法と浴槽循環システムを以下図面に従って説明すると、図１は、本発明に係わる洗浄方法へ改善する際の変更部位を示す浴槽循環システムの概略図である。（ａ）図は、既設の浴槽循環システムを示し、（ｂ）図は、本発明に係わる洗浄方法に改善した浴槽循環システムを示す。
１は浴槽、１ａは浴槽１内の湯であり、この湯１ａはシステム内を循環している。２は浴槽１内の排出２ａから排出された湯１ａが通過する排出管、３は所定の処理が行われた湯１ａが通過する注入管で、湯１ａは注入口３ａから浴槽１内に戻る。４は湯１ａが通過するシステム内に備える配管である。
６は湯１ａを循環させるための循環ポンプ、７は湯１ａを濾過するための濾過器、７ａは排水用のドレン、７ｂは５方弁、８は湯１ａを適温に調節するための熱交換器、９は熱交用に用いる高温水また蒸気を発生させるための昇温ボイラ、１０は昇温ボイラ９で発生された高温水また蒸気を昇温ボイラ９と熱交換器８間で循環させるための循環ポンプである。
そして、（ａ）図で示す既設の浴槽循環システムを（ｂ）図の本発明の浴槽循環システムに改善するには、排出管２および注入管３のそれぞれに、３方弁２ｂと３方弁３ｂを設け、その３方弁２ｂと３方弁３ｂの間にバイパス管５を設ける。
【００２２】
図２は、通常時の湯の循環経路を示す図であり、湯１ａは矢印で示すように、浴槽１の排出口２ａから排出管２に排出され、そして循環ポンプ６を経て濾過器７に入りそこで濾過処理され、さらに配管４を通過して熱交換器８によって湯温が調節され、そして注入管３を通過し注入口３ａから浴槽１へ戻ってくる。湯１ａはこの循環を繰返しており、これが通常時の循環経路である。
【００２３】
図３は、洗浄時の湯の循環経路を示す図であり、図２に示す経路で循環する湯１ａが、排出管２および注入管３に設けられた３方弁２ｂと３方弁３ｂの切換によって浴槽１を経由する流れからバイパス管５を経由する流れに変更になる。
従って、配管内の湯１ａは、排出管２、循環ポンプ６、濾過器７、配管４、熱交換器８、注入管３、３方弁３ｂ、バイパス管５、３方弁２ｂ、そして排出管２に戻る循環経路となる。そして、熱交換器８を通過する際に６０度以上に昇温されて流れる。これが所定の時間行われることによってレジオネラ菌が死滅さらにはそのレジオネラ菌のコロニーが破壊される。
また、濾過器７に５方弁を備えている場合は、洗浄が終了した都度または所定の回数の後に湯の循環方向を矢印の方向と逆に循環させて濾過器７内の濾過材に付着した汚れを除去すると共に、５方弁を操作してその除去した汚れをドレン７ａから循環システム外部に排出するようにしてもよい。
【００２４】
図４は、制御装置を設けた浴槽循環システムの概略図であり、本図は、制御装置１１によって排出管２の３方弁２ｂ、注入管３の３方弁３ｂ、濾過器７の５方弁の開閉を制御するようにしたものを示す。また、温度計測器１２によって循環する湯１ａの温度をモニターする。１３は制御ケーブルである。
図では示していないが、熱交換器８また昇温ボイラ９をも制御装置１１によって制御してもよい。
【００２５】
図５は、他の形態の浴槽循環システムの概略図であり、本図は、循環システムに紫外線滅菌器１４を設けたものを示すもので、営業中にこの紫外線滅菌器１４を作動させて循環する湯１ａ内のレジオネラ菌を多少とも抑制するようにしたものである。
図では示していないが、紫外線滅菌器１４をも制御装置１１によって制御してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明に係わる洗浄方法へ改善する際の変更部位を示す浴槽循環シス          テムの概略図
【図２】通常時の湯の循環経路を示す図
【図３】洗浄時の湯の循環経路を示す図
【図４】制御装置を設けた浴槽循環システムの概略図
【図５】他の形態の浴槽循環システムの概略図
【符号の説明】
【００２７】
１−浴槽，１ａ−湯，２−排出管，２ａ−排出口，２ｂ−３方弁，３−注入管，３ａ−注入口，３ｂ−３方弁，４−配管，５−バイパス管，６−循環ポンプ，７−濾過器，７ａ−ドレン，７ｂ−５方弁，８−熱交換器，９−昇温ボイラ，１０−循環ポンプ，１１−制御装置，１２−温度計測器，１３−制御ケーブル，１４−紫外線滅菌器
【図１】
2006326189.tif 000003
【図２】
2006326189.tif 000004
【図３】
2006326189.tif 000005
【図４】
2006326189.tif 000006
【図５】
2006326189.tif 000007