(57)【要約】【課題】  この発明は、真空装置自体の能力を維持すると共に、真空を形成する部品点数を減少させた真空装置を提供する。【解決手段】  この発明は、仕切バルブを介して連設された複数の真空容器と、該真空容器内に配され、それぞれの真空容器間を移動可能な少なくとも一つのキャリヤと、それぞれの真空容器に接続される一次排気機構と、それぞれの真空容器に接続される真空形成機構と、それぞれの真空容器にスパッタ用ガスを供給するスパッタ用ガス供給機構とを少なくとも具備する真空装置において、前記真空形成機構は、一つの真空ポンプと、該真空ポンプとそれぞれの真空容器との間に配される一つの中間真空容器とを具備する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
仕切バルブを介して連設された複数の真空容器と、該真空容器内に配され、それぞれの真空容器間を移動可能な少なくとも一つのキャリヤと、それぞれの真空容器に接続される一次排気機構と、それぞれの真空容器に接続される真空形成機構と、それぞれの真空容器にガスを供給するガス供給機構とを少なくとも具備する真空装置において、
前記真空形成機構は、一つの真空ポンプと、該真空ポンプとそれぞれの真空容器との間に配される一つの中間真空容器とを具備することを特徴とする真空装置。
【請求項２】
前記真空形成機構は、さらに前記中間真空容器と前記それぞれの真空容器との間を接続するそれぞれの接続部を有し、該接続部は、前記中間容器と真空容器とを接続する配管と、該配管を開閉する開閉弁とを具備することを特徴とする請求項１記載の真空装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、スパッタ装置等のように真空を利用する装置であって、真空容器を複数個設置した真空装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、スパッタ処理等の真空処理と、その前後処理との流れ作業の円滑化を図ることを目的とし、挿入室の前段の大気側には前処理された複数枚の基板を集積し、且つ挿入室に搬送しうる補助収容器を設置し、取出室の後段の大気側には真空処理された真空内の基板を集積し且つ後処理工程に搬送しうる補助収容容器を設置する連続真空処理装置を開示する。
【０００３】
特許文献２は、それぞれ独立した排気系を有する複数の基板処理室（基板の入出力室を含む）が、やはり独立した排気系を有するセパレーション室の周囲にそれぞれゲートバルブを介して配置され、前記複数の基板処理室とセパレーション室の間に設けられたゲートバルブが、複数の基板処理室とセパレーション室の間を完全に遮断する能力を持つと同時に、ゲートバルブ相互は同時に開くことがなく、且つ１つのゲートバルブが開くときには他のゲートバルブは必ず閉められており、１つのゲートバルブが閉まってから一定の遅延時間の後に他のゲートバルブが開くように構成された基板処理装置を開示する。
【０００４】
特許文献３は、真空処理装置の処理対象物搬入部又は搬出部に連設されるロードロック装置において、荒引排気系が接続された複数の真空チャンバが処理対象物搬送路の形成が可能な仕切弁を介して連設されているものを開示する。
【特許文献１】特開昭５７−６３６７７号公報
【特許文献２】特開昭６３−１５７８７０号公報
【特許文献３】特開平７−１２６８４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した特許文献１では、挿入室、スパッタ室、取出室のそれぞれに独立した排気ポンプが設けられることが開示され、特許文献２では、複数の基板処理室が独立した排気系を有することが開示される。また、特許文献３では、スパッタリングを行うスパッタリングチャンバの前後に複数の真空室からなるロードロック装置が連設されることが開示され、このロードロック装置が複数の真空チャンバから構成され、スパッタリングチャンバの手前にあるローディングチャンバには真空排気ポンプが接続され、ローディングチャンバの手前の真空チャンバには荒引きポンプ（ロータリポンプ）が接続されることが開示される。
【０００６】
しかしながら、処理基板の小型化に伴って真空容器自体が小型化され、それぞれの真空容器に独立した排気系が形成されることから、小型化に限界があるという問題点があった。また、処理基板の小型化に伴って処理基板自体の価格が低下してきたため、設備の原価低減が必要となってきている。
【０００７】
このため、この発明は、真空装置自体の能力を維持すると共に、真空を形成する部品点数を減少させた真空装置を提供することある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
したがって、この発明は、仕切バルブを介して連設された複数の真空容器と、該真空容器内に配され、それぞれの真空容器間を移動可能な少なくとも一つのキャリヤと、それぞれの真空容器に接続される一次排気機構と、それぞれの真空容器に接続される真空形成機構と、それぞれの真空容器にガスを供給するガス供給機構とを少なくとも具備する真空装置において、前記真空形成機構は、一つの真空ポンプと、該真空ポンプとそれぞれの真空容器との間に配される一つの中間真空容器とを具備することにある。
【０００９】
また、前記真空形成機構は、さらに前記中間真空容器と前記それぞれの真空容器との間を接続するそれぞれの接続部を有し、該接続部は、前記中間容器と真空容器とを接続する配管と、該配管を開閉する開閉弁とを具備するものである。
【発明の効果】
【００１０】
したがって、この発明によれば、それぞれの真空容器の真空引きを行う一台の真空ポンプで行うことができると共に、１台のポンプによる真空引きによる不具合である各真空容器の真空度への影響を、中間真空容器によって緩和することができるため、真空装置の小型化及び設備費用の低減が図れるものである。また、これによって利益率を向上させることができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、この発明の実施例について図面により説明する。
【実施例１】
【００１２】
本願発明の実施例に係る真空装置１は、例えば図１に示すものである。この真空装置１は、少なくとも仕切バルブ２を介して連設された複数の真空容器３，４，５と、この真空容器３，４，５内に配され、それぞれの真空容器３，４，５間を移動可能な少なくとも一つのキャリヤ６と、それぞれの真空容器３，４，５に接続される一次排気機構２０と、それぞれの真空容器３，４，５に接続される真空形成機構４０と、それぞれの真空容器３，４，５にスパッタ用ガス等の処理用ガスを供給するガス供給機構６０とを具備する。
【００１３】
前記真空容器３，４，５内では、例えば、スパッタ、ドライエッチ、ＣＶＤなどの処理がなされる。したがって、それぞれの真空容器３，４，５内において、独立して前記処理がなされる場合には、前記仕切バルブ２を閉状態としてそれぞれの真空容器３，４，５を遮断し、またそれぞれの真空容器３，４，５内に、処理基板７が載置されるキャリヤ６を配する。また、前記処理基板７に連続して異なる処理を行いたい場合には、前記仕切バルブ２を開いて、前記処理基板７が載置されたキャリヤ６を、搬送機構８によって真空容器３から真空容器４へ、さらには真空容器４から真空容器５へと移動させて連続した処理を可能にするものである。また、前記真空容器３，４，５には、それぞれの真空容器３，４，５の真空度を検出することができる真空ゲージ９，１０，１１が備えられる。
【００１４】
前記一次排気機構２０は、排気ポンプ３０と、この排気ポンプ３０から延出する共通配管３１と、前記真空容器３，４，５のそれぞれと前記共通配管３１とを接続する分岐配管２１，２２，２３と、前記分岐配管２１，２２，２３のそれぞれを開閉する開閉弁２４，２５，２６と、前記排気ポンプ３０によって排気された状態を検出する圧力ゲージ２７，２８，２９とによって少なくとも構成される。これによって、処理基板７が載置されたキャリヤ６が、真空容器３，４，５に設置された後、真空引きする前段階として、所定の圧力（例えば、１０Ｐａ程度）まで所定の真空容器３，４，５の圧力を減じることができるものである。
【００１５】
前記真空形成機構４０は、例えばクライオポンプ等の真空ポンプ４１と、この真空ポンプ４１と開閉弁５６を介して接続される中間真空容器４２と、この中間真空容器４２とそれぞれの真空容器３，４，５を接続する配管４４，４５，４６と、これらの配管４４，４５，４６を開閉する開閉弁４７，４８，４９と、それぞれの真空容器３，４，５の真空引き状態を検出する真空ゲージ５０，５１，５２とによって構成される。さらに、前記配管４４，４５，４６には、前記真空容器３，４，５内と大気側とを接続するリーク弁５３，５４，５５が設けられる。また、前記中間真空容器４２には、圧力を検出するための圧力ゲージ４３が設けられる。これによって、前記一次排気機構２０によって所定の圧力まで低下された真空容器３，４，５は、さらに真空形成機構４０によって、１×１０−４Ｐａ程度の真空状態まで真空引きされるものである。
【００１６】
前記ガス供給機構６０は、図示しないガスボンベと接続される共通配管６７と、この共通配管６７とそれぞれの真空容器３，４，５とを接続する分岐配管６１，６２，６３と、これらの分岐配管６１，６２，６３の開度を調整することができる可変流動弁６４，６５，６６とによって構成される。尚、前記ガスボンベに収容されるガスとしては、スパッタ用ガスとしてのアルゴンガスなどがある。これによって、前記真空形成機構４０によって真空状態にされた所定の真空容器３，４，５に、前記可変流動弁６４，６５，６６によって調整されたガスが、真空ゲージ９，１０，１１によって所定の値（例えば、１Ｐａ）となるまで充填され、前記処理が実行されるものである。
【００１７】
以上説明したように、この真空装置１では、真空容器３，４，５の真空排気系を一つの真空ポンプ４１で行うようにしたので、部品点数を減じることが可能となる。また、真空ポンプ４１によって、同時に複数の真空容器３，４，５の真空引きを行った場合、それぞれの真空容器３，４，５の真空状態が異なると、それぞれの真空容器３，４，５の真空状態が不安定になることがあるが、中間真空容器４２を設けたので、それぞれの真空容器３，４，５の真空状態の安定が図れるものである。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本願発明の実施例に係る真空装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００１９】
１  真空装置
２  仕切バルブ
３，４，５  真空容器
２０  一次排気機構
４０  真空形成機構
４１  真空ポンプ
４２  中間真空容器
６０  ガス供給機構
【図１】
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