(57)【要約】    【課題】  低コストで、磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、錆が発生することが効果的に防止された希土類ボンド磁石、および、この希土類ボンド磁石を、高い生産性をもって、製造することができる希土類ボンド磁石の製造方法を提供する。    【解決手段】  希土類ボンド磁石（１０．０ｍｍ×１４．５ｍｍ×０．５ｍｍ）を、温度７０±５℃の純水１０ｍＬに、浸漬させて、１時間にわたり、振とうしたときに、フェニルホスホン酸（ＰＰＡ）誘導体の溶出量が、ＰＰＡに相当する割合で、１０ないし１０００μｇ／ｃｍ３になるように、その表面近傍に、ＰＰＡ誘導体を有している希土類ボンド磁石、および、希土類ボンド磁石素材を、濃度が１ないし１０質量％のＰＰＡ誘導体の溶液で処理する表面処理工程を含む希土類ボンド磁石の製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
希土類ボンド磁石素材を、濃度が１質量％ないし１０質量％のフェニルホスホン酸誘導体の溶液で、処理する表面処理工程を含むことを特徴とする希土類ボンド磁石の製造方法。
【請求項２】
前記表面処理工程が、希土類ボンド磁石素材を、室温ないし前記フェニルホスホン酸誘導体の溶液の沸点以下の温度範囲で、前記フェニルホスホン酸誘導体の溶液に、浸漬させるように構成されることを特徴とする請求項１に記載の希土類ボンド磁石の製造方法。
【請求項３】
さらに、表面処理された希土類ボンド磁石を純水で洗浄する洗浄工程と、洗浄された希土類ボンド磁石を乾燥する乾燥工程を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の希土類ボンド磁石の製造方法。
【請求項４】
希土類ボンド磁石であって、その表面近傍に、フェニルホスホン酸誘導体を有し、縦１０．０ｍｍ、横１４．５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの大きさを有する前記希土類ボンド磁石を、温度７０℃±５℃の純水１０ｍＬに、浸漬させて、１時間にわたり、振とうしたときに、前記フェニルホスホン酸誘導体が前記純水に溶出する溶出量が、前記希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、１０μｇないし１０００μｇになるように、前記フェニルホスホン酸誘導体を有していることを特徴とする希土類ボンド磁石。
【請求項５】
前記フェニルホスホン酸誘導体が、フェニルホスホン酸またはフェニルホスホン酸ジメチルであることを特徴とする請求項４に記載の希土類ボンド磁石。
【請求項６】
前記希土類ボンド磁石が、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石（ここに、ＲはＹを含む希土類元素から選択される１種または２種以上の元素、ＴＭは遷移金属元素から選択される１種または２種以上の元素であり、Ｆｅを主成分とする元素、Ｂはホウ素である。）であることを特徴とする請求項４または５に記載の希土類ボンド磁石。
【請求項７】
前記Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石が、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類ボンド磁石であることを特徴とする請求項６に記載の希土類ボンド磁石。
【請求項８】
前記希土類ボンド磁石が、シート磁石であることを特徴とする請求項４ないし７のいずれか１項に記載の希土類ボンド磁石。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、希土類ボンド磁石および希土類ボンド磁石の製造方法に関するものであり、さらに詳細には、低コストで、磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、錆が発生することが効果的に防止された希土類ボンド磁石、および、低コストで、かつ、高い生産性をもって、磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、錆が発生することが効果的に防止された希土類ボンド磁石を製造することができる希土類ボンド磁石の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
種々の用途に使用される磁石として、フェライト磁石や希土類磁石などが実用化されている。これらの磁石は、通常、焼結法によって製造されるために、脆く、所望の形状に成形することが困難であり、さらに、焼結時に１５％ないし２０％も収縮するため、寸法精度がきわめて悪いという欠点を有している。
【０００３】
このような焼結磁石の欠点を解決できる磁石として、バインダ樹脂と磁性粉末などの磁性材料とを含む混練組成物を成形して得られるボンド磁石が知られている。とくに、希土類系磁性材料を用いた希土類ボンド磁石は、かかる焼結磁石の欠点を解決することが可能になるとともに、小型化および軽量化を実現でき、優れた磁気特性を有することが知られている。
【０００４】
このような利点を有する希土類ボンド磁石は、焼結磁石に代わり、車載機器や、ＩＴ関連機器などの種々の用途への応用が期待されているが、その一方で、腐食しやすく、長い期間にわたって、安定した磁気特性を発揮しにくいという欠点を有している。
【０００５】
希土類ボンド磁石の腐食性を改善する方法として、希土類ボンド磁石を構成する磁性材料に、あらかじめ表面処理を施して、磁性材料に被覆を形成することによって、希土類ボンド磁石の腐食性を改善する方法が提案されている。たとえば、このような被覆が形成された磁性材料として、強磁性金属窒化物微粉末を、有機基を含まない無機燐酸化合物の薄膜によって表面を覆うことにより、耐酸化性を付与したプラスチックマグネット用の強磁性微粉末が提案されている（特開２０００−２６０６１６号公報（特許文献１）参照）。
【特許文献１】特開２０００−２６０６１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、一般に、磁性材料の表面に、均一な被覆を形成することは困難であった。加えて、特許文献１に記載されているように、被覆が形成された磁性材料は、磁性体を粉砕して、磁性材料とした後に、表面処理されて、被覆が形成されるが、粉砕後の磁性材料は、その磁力によって互いに凝集しているため、磁性材料同士が凝集している接触面は、表面処理されにくく、この接触面に、腐食性を改善できる程度に、被覆が形成されないことがあった。
【０００７】
さらには、通常、ボンド磁石は、磁性材料とバインダ樹脂とを混練して製造されるため、磁性材料とバインダ樹脂とを混練する際に加わる剪断力によって、凝集している磁性材料同士が解砕される場合には、被覆が形成されていない接触面が露出することがあり、また、このときに加わる剪断力によって、表面処理された磁性材料同士が衝突し、または、摩擦し合う場合には、被覆が破損し、または、被覆が剥がれ落ちてしまうことがあった。
【０００８】
したがって、被覆が形成された磁性材料を用いて製造された希土類ボンド磁石は、磁性材料に均一な被覆を形成することができた場合においても、その後の製造プロセスに起因して、錆が発生することを、均一に、かつ、効果的に防止することが困難であるという問題があった。
【０００９】
一方、希土類ボンド磁石の腐食性を改善する別の方法として、磁性材料とバインダ樹脂とを混練した後に、成形して希土類ボンド磁石素材とし、次いで、得られた希土類ボンド磁石素材を表面処理して、希土類ボンド磁石素材の表面に被覆を形成することによって、希土類ボンド磁石の腐食性を改善する方法が提案されている。たとえば、ＳｍＦｅＮの磁性粉を樹脂バインダに混合して所望の形状に成形してなる成形体の表面にリン酸アルミニウムなどの無機リン酸塩の被膜処理が施してあることを特徴とするプラスチック磁石成形体が提案されている（特開２０００−２０８３２１号公報参照。）。
【００１０】
しかしながら、このように希土類ボンド磁石の表面に、無機リン酸塩の被覆を形成する場合には、所望の厚さに形成された被覆によって、希土類ボンド磁石の磁気特性が低下するという問題があった。とくに、磁性材料に加えてバインダ樹脂を含有してなる希土類ボンド磁石は、優れた磁気特性を有している希土類磁性材料を用いても、希土類ボンド磁石としての磁気特性がもともと低下しているから、腐食性を改善するために、希土類ボンド磁石の表面に被覆を形成した場合には、磁気特性がさらに低下することが避けられない。
【００１１】
また、特許文献１および特開２０００−２０８３２１号公報に記載されているように、磁性材料または希土類ボンド磁石素材の表面に、被覆を形成する場合には、これらの被覆を形成するための塗料組成物を調製した後、磁性材料または希土類ボンド磁石素材の表面に、塗料組成物の塗膜を形成し、さらに、所定の条件で、この塗膜を乾燥または焼付けて、被覆を形成する必要があるため、被覆形成工程が煩雑で、製造コストが上昇し、希土類ボンド磁石の生産性に劣るという問題があった。
【００１２】
さらには、希土類ボンド磁石の腐食性を改善するさらに別の方法として、希土類ボンド磁石素材を製造するための組成物として、磁性材料、バインダ樹脂、防錆剤を含む組成物を用いることによって、この組成物から得られる希土類ボンド磁石の腐食性を改善する方法が提案されている。たとえば、磁性粉体とこの磁性粉体の防錆を行う添加物とをバインダ樹脂にてバインドさせてなる樹脂結合磁石の製造方法であって、磁性粉体表面にバインダ樹脂を均一に付着させた後、このバインダ樹脂に上記磁性粉体の防錆を行う添加物を吸着或いは付着させることによって上記磁性粉体と上記添加物とをバインドし、さらにこのバインド粉を成型して永久磁石とすることを特徴とする樹脂結合型磁石を製造する製造方法が提案されている（特開平１−１４７８０６号公報）。
【００１３】
しなしながら、このように、防錆剤を含む組成物を用いて希土類ボンド磁石を製造した場合には、組成物を充分に攪拌して防錆剤を均一に分散させなければ、得られた希土類ボンド磁石の防錆効果を発揮させることが困難であり、また、得られた希土類ボンド磁石は、ある程度の防錆効果を発揮しても、長期間にわたって、強度などの機械的特性を充分に満足することができないという問題があった。
【００１４】
したがって、本発明の目的は、低コストで、磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、錆が発生することが効果的に防止された希土類ボンド磁石を提供することにある。
【００１５】
また、本発明の別の目的は、低コストで、かつ、高い生産性をもって、磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、錆が発生することが効果的に防止された希土類ボンド磁石を製造することができる希土類ボンド磁石の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
従来より、希土類ボンド磁石の腐食性を効果的に改善するためには、磁性材料に被覆を形成すること、希土類ボンド磁石素材の表面に被覆を形成すること、または、希土類ボンド磁石素材を製造するための組成物に防錆剤を含有させることなどが必要であると考えられていた。とくに、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類ボンド磁石は、腐食性がきわめて大きく、非常に錆びやすい特性を有しているため、このＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類ボンド磁石の腐食性を効果的に改善するためには、他の希土類ボンド磁石の場合に比して、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材料またはＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類磁石素材の表面を、均一に、かつ、確実に、被覆し、厚い被覆を形成する必要があると考えられていた。
【００１７】
しかるに、本発明者は、本発明の前記目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、磁性材料またはボンド磁石素材の表面を、煩雑な被覆形成工程を経て形成される厚い被覆によって、完全に、覆わなくても、希土類ボンド磁石素材を、単に、フェニルホスホン酸誘導体の溶液で、処理し、処理後の土類ボンド磁石が、縦１０．０ｍｍ、横１４．５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの大きさを有する希土類ボンド磁石を、温度７０℃±５℃の純水１０ｍＬに、浸漬させて、１時間にわたり、振とうしたときに、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量が、希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、１０μｇないし１０００μｇとなるように、その表面近傍に、フェニルホスホン酸誘導体を有していることによって、より低コストで、希土類ボンド磁石の磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、錆が発生することを効果的に防止することが可能になることを見出した。
【００１８】
本発明はかかる知見に基づくものあり、本発明によれば、本発明の前記目的は、希土類ボンド磁石であって、その表面近傍に、フェニルホスホン酸誘導体を有し、縦１０．０ｍｍ、横１４．５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの大きさを有する前記希土類ボンド磁石を、温度７０℃±５℃の純水１０ｍＬに、浸漬させて、１時間にわたり、振とうしたときに、前記フェニルホスホン酸誘導体が前記純水に溶出する溶出量が、前記希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、１０μｇないし１０００μｇになるように、前記フェニルホスホン酸誘導体を有していることを特徴とする希土類ボンド磁石によって達成される。
【００１９】
本発明において、フェニルホスホン酸誘導体を純水に溶出させる方法としては、縦１０．０ｍｍ、横１４．５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの大きさを有する希土類ボンド磁石を、温度７０℃±５℃の純水１０ｍＬに、浸漬させて、１時間にわたり、振とうすればよく、その他の条件は、とくに限定されるものではなく、たとえば、振とう恒温水槽を用いて、水温を７０℃±５℃に維持し、５０サイクル／分ないし８０サイクル／分で、１時間にわたり、振とうする方法が挙げられる。
【００２０】
本発明において、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量は、複数の希土類ボンド磁石を用いて複数回測定し、それらの平均値とすることが好ましい。
【００２１】
また、本発明において、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量は、いかなる方法によって、決定してもよいが、イオンクロマトグラフィー（ＩＣ）により、検量線を作成して、決定する方法が好ましい。
【００２２】
さらに、本発明において、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量は、その分子量によって大きく異なるため、上述のようにして測定されたフェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量を、フェニルホスホン酸に相当する割合に換算した値として、定義される。
【００２３】
本発明において、希土類ボンド磁石は、その表面近傍にフェニルホスホン酸誘導体を有していればよいが、その表面にフェニルホスホン酸誘導体を有していることが好ましい。
【００２４】
本発明において、希土類ボンド磁石が、その表面近傍にフェニルホスホン酸誘導体を有しているとは、希土類ボンド磁石の表面近傍に、フェニルホスホン酸誘導体が付着している場合、フェニルホスホン酸誘導体が物理吸着されている場合、フェニルホスホン酸誘導体と希土類ボンド磁石の表面とが化学反応して化学結合している場合などを含む。
【００２５】
本発明において、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量が、希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、１０μｇ未満である場合には、希土類ボンド磁石の表面近傍に、フェニルホスホン酸誘導体を付着させた効果が小さく、錆が発生することを防止することが困難である。一方、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量が、希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、１０００μｇを超えている場合には、６０℃、相対湿度９０％の環境下に、５００時間にわたって、希土類ボンド磁石を保存したときに、変形によって、希土類ボンド磁石に亀裂が発生するなど、長期間にわたって、機械的特性を充分に満足することができないことがある。
【００２６】
本発明において、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量は、希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、５０μｇないし４００μｇであることが好ましい。フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量が、希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、５０μｇないし４００μｇである場合には、希土類ボンド磁石の磁気特性を低下させることなく、希土類ボンド磁石に錆が発生することを、より一層、効果的に防止することが可能になる。
【００２７】
本発明において、希土類ボンド磁石がその表面近傍に有しているフェニルホスホン酸誘導体としては、とくに限定されるものではなく、たとえば、１または２以上の置換基を有するフェニルホスホン酸誘導体、フェニルホスホン酸のモノアルキルエステル体またはフェニルホスホン酸のジアルキルエステル体などが挙げられる。フェニルホスホン酸誘導体は、水やアルコールに易溶であるため、フェニルホスホン酸誘導体を用いて希土類ボンド磁石を処理する場合には、取り扱いが容易で、コストを削減することもでき、生産性にも優れている。
【００２８】
これらの中でも、フェニルホスホン酸誘導体としては、フェニルホスホン酸またはフェニルホスホン酸ジメチルが好ましい。フェニルホスホン酸誘導体として、フェニルホスホン酸またはフェニルホスホン酸ジメチルを用いた場合には、希土類ボンド磁石の磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、希土類ボンド磁石に錆が発生することを、より一層、効果的に防止することが可能になる。
【００２９】
本発明において、希土類ボンド磁石が、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石（ここに、ＲはＹを含む希土類元素から選択される１種または２種以上の元素、ＴＭは遷移金属元素から選択される１種または２種以上の元素であり、Ｆｅを主成分とする元素、Ｂはホウ素である。）であることが好ましい。
【００３０】
Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石の１種であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類ボンド磁石は、腐食性がきわめて大きく、非常に錆びやすい特性を有しているが、本発明によれば、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類ボンド磁石であっても、磁気特性を低下させることなく、錆が発生することを効果的に防止することが可能になる。したがって、本発明においては、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石として、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類ボンド磁石を用いることが可能になる。
【００３１】
本発明において、希土類ボンド磁石が、板状に成形されたシート磁石であることが好ましい。希土類ボンド磁石がシート磁石である場合には、ＩＴ関連機器などに使用される小型モータに組み込まれる永久磁石や、レーザプリンタなどに組み込まれるマグネットロール用永久磁石などとして、好適に使用される。
【００３２】
本発明において、希土類ボンド磁石が、板状に成形されたシート磁石であればよく、とくに限定されるものではないが、１．５ｍｍ以下の厚さを有する薄板状であることが好ましい。
【００３３】
また、本発明者は、本発明の前記別の目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、単に、希土類ボンド磁石素材に、濃度が１質量％ないし１０質量％のフェニルホスホン酸誘導体の溶液で、表面処理を施すことによって、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量を、希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、１０μｇないし１０００μｇの範囲になるように、希土類ボンド磁石の表面近傍に、フェニルホスホン酸誘導体を付着させることが可能になり、磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、錆が発生することが効果的に防止された希土類ボンド磁石を、容易に、かつ、高い生産性を持って、製造することが可能になることを見出した。
【００３４】
したがって、本発明の前記別の目的は、希土類ボンド磁石素材を、濃度が１質量％ないし１０質量％のフェニルホスホン酸誘導体の溶液で、処理する表面処理工程を含むことを特徴とする希土類ボンド磁石の製造方法によって達成される。
【００３５】
本発明において、希土類ボンド磁石素材とは、フェニルホスホン酸誘導体の溶液で表面処理されていない希土類ボンド磁石をいう。
【００３６】
本発明において、希土類ボンド磁石素材を、フェニルホスホン酸誘導体の溶液で、処理する方法としては、希土類ボンド磁石素材を、濃度が１質量％ないし１０質量％のフェニルホスホン酸誘導体の溶液で表面処理すればよく、その他の条件は、とくに限定されるものではない。フェニルホスホン酸誘導体の溶液は、１質量％ないし９質量％の濃度を有していることが好ましい。
【００３７】
本発明において、表面処理工程が、希土類ボンド磁石素材を、室温ないしフェニルホスホン酸誘導体の溶液の沸点以下の温度範囲で、濃度が１質量％ないし１０質量％のフェニルホスホン酸誘導体の溶液に、浸漬させるように構成されることが好ましく、希土類ボンド磁石素材を、０．５分ないし２分程度にわたり、浸漬させるように構成されることがより好ましい。表面処理がこのように構成された場合には、フェニルホスホン酸誘導体を、容易に、かつ、均一に、希土類ボンド磁石素材の表面近傍に付着させることが可能になる。
【００３８】
本発明において、希土類ボンド磁石の製造方法は、前記表面処理工程に次ぎ、さらに、表面処理された希土類ボンド磁石を純水で洗浄する洗浄工程と、洗浄された希土類ボンド磁石を乾燥する乾燥工程を含んでいることが好ましい。
【００３９】
本発明において、希土類ボンド磁石の製造方法に用いられるフェニルホスホン酸誘導体は、とくに限定されるものではないが、フェニルホスホン酸またはフェニルホスホン酸ジメチルであることが好ましい。
【００４０】
また、本発明においては、希土類ボンド磁石が、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石（ここに、ＲはＹを含む希土類元素から選択される１種または２種以上の元素、ＴＭは遷移金属元素から選択される１種または２種以上の元素であり、Ｆｅを主成分とする元素、Ｂはホウ素である。）であることが好ましく、希土類ボンド磁石として、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類ボンド磁石も使用することができる。
【００４１】
さらに、本発明においては、希土類ボンド磁石がシート磁石であることが好ましい。
【００４２】
本発明において、希土類ボンド磁石素材を製造する方法は、とくに限定されるものではなく、公知の方法によって、希土類ボンド磁性素材を製造することができるが、希土類ボンド磁石素材が、シート磁石素材である場合には、希土類磁性材料が、芳香族ジカルボン酸、および、この磁性材料の含水率を０．０５質量％以上、０．７質量％未満に設定できる量の水で、表面処理される磁性材料表面処理工程と、磁性材料表面処理工程で表面処理された希土類磁性材料、バインダ樹脂、および、有機溶剤を混練して、磁性塗料が調製される混練工程と、混練工程で調製された磁性塗料が、被付着体に付着させられる付着工程と、付着工程で用いた被付着体が、磁性塗料から剥離される剥離工程とを含む製造方法によって、シート磁石素材が製造されることが好ましい。
【００４３】
このようにして、シート磁石素材が製造される場合には、強度や磁気特性を低下させることなく、安定して薄板状のシート磁石素材を製造することが可能になるとともに、シート磁石素材の可撓性を自由に調整することが可能になる。さらには、シート磁石素材に錆が発生することを、より一層、効果的に防止することが可能になる。
【発明の効果】
【００４４】
本発明によれば、低コストで、磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、錆が発生することが効果的に防止された希土類ボンド磁石を提供することが可能になる。
【００４５】
また、本発明によれば、低コストで、かつ、高い生産性をもって、磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、錆が発生することが効果的に防止された希土類ボンド磁石を製造することができる希土類ボンド磁石の製造方法を提供することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
本発明の希土類ボンド磁石は、その表面近傍に、フェニルホスホン酸誘導体を有し、縦１０．０ｍｍ、横１４．５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの大きさを有する希土類ボンド磁石を、温度７０℃±５℃の純水１０ｍＬに、浸漬させて、１時間にわたり、振とうしたときに、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量が、希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、１０μｇないし１０００μｇになるように、フェニルホスホン酸誘導体を有している。
【００４７】
フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量が、希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、１０μｇ未満である場合には、錆が発生することを防止することが困難であり、一方、１０００μｇを超えている場合には、長期間にわたって、機械的特性を充分に満足することができないことがある。
【００４８】
本発明において、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量が、希土類ボンド磁石１ｃｍ３に対して、フェニルホスホン酸に相当する割合で、５０μｇないし４００μｇであることが好ましい。この場合には、希土類ボンド磁石の磁気特性を低下させることなく、希土類ボンド磁石に錆が発生することを、より一層、効果的に防止することが可能になる。
【００４９】
希土類ボンド磁石がその表面近傍に有しているフェニルホスホン酸誘導体としては、とくに限定されるものではなく、たとえば、１または２以上の置換基を有するフェニルホスホン酸誘導体、フェニルホスホン酸のモノアルキルエステル体またはフェニルホスホン酸のジアルキルエステル体などが挙げられる。フェニルホスホン酸誘導体は、水やアルコールに易溶であるため、フェニルホスホン酸誘導体を用いて希土類ボンド磁石を処理する場合には、取り扱いが容易で、コストを削減することもでき、生産性にも優れている。
【００５０】
これらの中でも、フェニルホスホン酸誘導体としては、フェニルホスホン酸またはフェニルホスホン酸ジメチルが好ましい。この場合には、希土類ボンド磁石の磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、希土類ボンド磁石に錆が発生することを、より一層、効果的に防止することが可能になる。
【００５１】
とくに限定されるものではないが、本発明において、希土類ボンド磁石が、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石であることが好ましい。
【００５２】
ここに、Ｒは、Ｙを含む希土類元素から選択される１種または２種以上の元素であり、具体的には、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｔｂからなる群から選択される少なくとも１種、または、さらに、Ｌａ、Ｓｍ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｐｍ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｙからなる群から選択される１種以上を含むものが好ましい。
【００５３】
ＴＭは、遷移金属元素から選択される１種または２種以上の元素であり、Ｆｅを主成分とする元素である。
【００５４】
Ｂは、ホウ素である。Ｂの一部として、Ｃ、Ｐ、Ｓの１種以上の元素を含んでいてもよく、さらには、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｈｆからなる群から選択される１種以上の元素を含んでいてもよい。
【００５５】
また、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石には、Ｒ、ＴＭおよびＢに加えて、不可避的不純物を含んでいてもよく、不可避的不純物としては、たとえば、Ｃａ、Ｏ、Ｃなどが挙げられる。
【００５６】
本発明において、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石のＲ、ＴＭおよびＢの存在比（原子％）は、とくに限定されるものではない。
【００５７】
Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石の１種であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類ボンド磁石は、腐食性がきわめて大きく、非常に錆びやすい特性を有しているが、本発明によれば、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類ボンド磁石であっても、磁気特性を低下させることなく、錆が発生することを効果的に防止することが可能になる。したがって、本発明においては、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石として、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類ボンド磁石を用いることが可能になる。
【００５８】
本発明において、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石には、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁性材料とバインダ樹脂が含まれている。
【００５９】
Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁性材料は、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石を構成できる磁性材料であれば、とくに限定されるものではないが、主としてロール急冷法またはガスアトマイズ法によって作製されたＲ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁性材料であることが好ましく、とくに、ガスアトマイズ法によって作製されたＲ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁性材料であることが好ましい。ガスアトマイズ法によって作製されたＲ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁性材料は、球状粉であるため等方性磁石を作製できるとともに、針状粉と比較すると磁性粉の比表面積が小さく、混練するバインダ樹脂を少なくできるため、磁力の大きい磁石とすることができる。これらのＲ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁性材料は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００６０】
バインダ樹脂は、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁性材料と結合可能であれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、エラストマー、ゴムなどが好ましく使用される。これらの中でも、柔軟性と反発性に優れ、残留応力緩和性が少なく、シート磁石としたきの特性に優れる点で、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタンまたはこれらの混合物、とくに、ポリカーボネートポリウレタンが好ましく、使用される。これらのバインダ樹脂は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００６１】
本発明において、希土類ボンド磁石が、とくに、高温環境下においても、安定した磁気特性を発揮するためには、高温域におけるバインダ樹脂の流動性を抑制する必要があるから、バインダ樹脂を十分に架橋させることが必要になる。本発明においては、バインダ樹脂が、約８０％ないし９０％のゲル分率を有するように、架橋されていることが好ましい。ここに、ゲル分率は、反応生成物を溶剤で環流抽出し、溶出量を定量することによって、求めることができる。
【００６２】
なお、バインダ樹脂の架橋度は、バインダ樹脂に含まれる官能基、架橋剤に含まれる官能基、磁性材料表面に存在する官能基の種類や数などによって、大きく影響される。
【００６３】
Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類ボンド磁石には、必要に応じて、架橋剤（硬化剤）、硬化促進剤、劣化防止剤、潤滑剤、可塑剤などの添加剤が含まれてもよい。
【００６４】
約８０％ないし９０％のゲル分率を有するように、バインダ樹脂を架橋させる架橋剤（硬化剤）としては、とくに限定されるものではなく、種々の架橋剤を用いることができるが、バインダ樹脂として、ポリカーボネートポリウレタンを使用する場合には、メチレンジイソシアネート（ＭＤＩ）系イソシアネート化合物のイソシアネート基を保護した、ＭＤＩ系ブロック型イソシアネート化合物が、架橋剤として、好ましく用いられる。
【００６５】
本発明において、希土類ボンド磁石が成形される形状は、とくに限定されるものではなく、希土類ボンド磁石が用いられる用途などに応じて、所望の形状に成形される。希土類ボンド磁石は、種々の形状に成形することが容易であり、板状、円形、リング状など、どのような形状にも成形することができる。たとえば、ＩＴ関連機器などに使用されるマイクロモータに組み込まれる永久磁石や、レーザプリンタなどに組み込まれるマグネットロール用永久磁石などとして、使用する場合には、板状に成形されることが好ましい。
【００６６】
本発明の希土類ボンド磁石が用いられる用途は、とくに限定されるものではなく、たとえば、各種産業用回転機器、民生用回転機器、光ピックアップ装置などに用いられる。とくに、本発明の希土類ボンド磁石が板状に成形されたシート磁石である場合には、ＩＴ関連機器などに使用される小型モータに組み込まれる永久磁石や、レーザプリンタなどに組み込まれるマグネットロール用永久磁石などとして、好ましく用いられる。
【００６７】
本発明にかかる希土類ボンド磁石は、以下のようにして、製造される。
【００６８】
本発明の希土類ボンド磁石素材の製造方法は、とくに限定されるものではなく、公知の方法によって、希土類ボンド磁石素材を製造することができるが、たとえば、以下のようにして、製造される。
【００６９】
ガスアトマイズ法や溶融急冷法によって、希土類磁性材料を作製し、得られた希土類磁性材料とバインダ樹脂と流動助剤などの添加剤とを所望の混合比で混練して、混練組成物が作製される。得られた混練組成物を、金型を用いた射出成形、圧縮成形法、押出成形、塗布成形などによって、所望の形状に成形し、所望の大きさに裁断して、希土類ボンド磁石素材が製造される。
【００７０】
このようにして、希土類ボンド磁石素材を製造することによって、所望の形状、大きさを有する希土類ボンド磁石素材を製造することができる。
【００７１】
本発明において、板状に成形されたシート磁石素材を製造する場合には、希土類磁性材料が、芳香族ジカルボン酸、および、この磁性材料の含水率を０．０５質量％以上、０．７質量％未満に設定できる量の水で、表面処理される磁性材料表面処理工程と、磁性材料表面処理工程で表面処理された希土類磁性材料、バインダ樹脂、および、有機溶剤を混練して、磁性塗料が調製される混練工程と、混練工程で調製された磁性塗料が、被付着体に付着させられる付着工程と、付着工程で用いた被付着体が、磁性塗料から剥離される剥離工程とを含む製造方法によって、シート磁石素材が製造されることが好ましい。
【００７２】
このようにして、シート磁石素材が製造される場合には、押出成形などによる製造方法では得られない薄いシート磁石素材を安定して製造することができ、また、混練工程で用いた有機溶剤を後の工程で容易に除去することができるため、従来の固体潤滑剤が残存するシート磁石素材に比べて、シート磁石素材に対する磁性材料の含有率を高くでき、したがって、従来のシート磁石素材に比べて、少ない含量の磁性材料で、同等の磁力を有するシート磁石素材を製造することが可能になる。さらには、得られるシート磁石素材の表面と裏面の可撓性を互いに異なるように、シート磁石素材を製造することができるから、このシート磁石素材から得られるシート磁石は、たとえば、小型モータのハウジングなどに容易に挿入することができる。さらには、このような製造方法によって、シート磁石素材を製造することによって、シート磁石素材に錆が発生することを、より一層、効果的に防止することが可能になる。
【００７３】
好ましくは、シート磁石素材は、以下のようにして、製造される。
【００７４】
シート磁石素材を好ましく製造する方法は、ラッカ作製工程、磁性材料表面処理工程、混練工程、付着工程、乾燥工程、剥離工程、架橋工程および裁断工程を、この順で、含んでいる。
【００７５】
まず、ラッカ作製工程において、有機溶剤に、バインダ樹脂を溶解して、ラッカ溶液が作製される。ラッカ作製工程において好ましく用いられる有機溶剤としては、メチルエチルケトン、トルエン、アセトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、イソプロパノール、質量比が１：１のメチルエチルケトンとトルエンの混合溶液などが挙げられる。
【００７６】
このようにして作製されたラッカ溶液は、後述する混練工程において、磁性塗料に強い剪断力が加えられたとき、表面処理された希土類磁性材料などが、ラッカ溶液に、均一に、分散し、混合できる程度の粘度を有していることが好ましい。ラッカ溶液の粘度が低い場合には、表面処理された希土類磁性材料などを、ラッカ溶液に、均一に、分散し、混合させることが困難で、表面処理された希土類磁性材料とバインダ樹脂との密着性が低下するだけでなく、バインダ樹脂が表面処理された希土類磁性材料全体を均一に被覆することができなくなり、したがって、得られるシート磁石素材の強度が低下し、また、得られるシート磁石素材の露出部に、錆が発生するおそれがある。
【００７７】
次いで、磁性材料表面処理工程において、ガスアトマイズ法などによって作製した球状の希土類磁性材料に、芳香族ジカルボン酸および所望量の水によって、表面処理が施される。希土類磁性材料の表面処理は、具体的には、たとえば、希土類磁性材料（含水率は、通常０．０１質量％程度）に、この希土類磁性材料に対して、０．１質量％以上の芳香族ジカルボン酸を加え、混合しながら、希土類磁性材料の含水量を０．０５質量％以上、０．７質量％未満に設定できる量の水を加えて、約１０分間ないし約３０分間にわたり、混合し、攪拌することによって、行われる。希土類磁性材料、芳香族ジカルボン酸および水は、たとえば、自動乳鉢、混練押出機、加圧ニーダー、バンバリーミキサー、ヘンシェルミキサーなどを用いて、混合され、攪拌される。
【００７８】
磁性材料表面処理工程においては、このように、希土類磁性材料を、芳香族ジカルボン酸および水で同時に処理してもよいが、芳香族ジカルボン酸または水のいずれか一方で処理した後に、他方で処理してもよい。
【００７９】
芳香族ジカルボン酸としては、とくに限定されるものではないが、たとえば、ｏ-フタル酸、ｍ-フタル酸、ナフタリンジカルボン酸などが好ましく用いられ、ｏ-フタル酸またはｍ−フタル酸がとくに好ましく用いられる。これらの芳香族ジカルボン酸は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。芳香族ジカルボン酸は、希土類磁性材料に対して、０．１質量％ないし０．２質量％の割合で用いられることが好ましい。
【００８０】
水は、とくに限定されるものではないが、脱イオン水であることが好ましい。この水は、希土類磁性材料の含水率を、０．０５質量％以上、０．７質量％未満に調整できる量に設定され、用いられることが好ましい。希土類磁性材料の含水率が、０．０５質量％未満である場合には、バインダ樹脂と磁性材料の粒子表面とのなじみ性を十分に改良することが困難で、柔軟なシート磁石素材を製造することが困難である。一方、希土類磁性材料の含水率が、０．７質量％以上である場合には、磁性材料の充填密度が低くなる。
【００８１】
混練工程は、好ましくは、第１の混練工程と第２の混練工程とを含んでいる。
【００８２】
第１の混練工程においては、磁性材料表面処理工程において表面処理された希土類磁性材料と、ラッカ作製工程で作製されたラッカ溶液とが混練され、表面処理された希土類磁性材料とラッカ溶液とを均一に分散させ、混合させる。表面処理された希土類磁性材料とラッカ溶液とを均一に分散させ、混合させることによって、得られるシート磁石素材の強度が高くなり、シート磁石素材の露出部に錆が発生ことを防止することができる。
【００８３】
表面処理された希土類磁性材料とラッカ溶液は、たとえば、自動乳鉢、混練押出機、加圧ニーダー、バンバリーミキサー、ヘンシェルミキサーなどを用いて、均一に、分散させ、混合させることができる。
【００８４】
表面処理された希土類磁性材料とラッカ溶液を混練する際のラッカ溶液に含まれるバインダ樹脂と表面処理された希土類磁性材料との質量比は、とくに限定されるものではないが、１：１５ないし１：５０に設定されることが好ましい。表面処理された希土類磁性材料の質量比が５０を超えている場合には、シート磁石素材の柔軟性が低下して圧延しにくくなり、長尺の板状とすることが困難になることがある。一方、表面処理された希土類磁性材料の質量比が１５未満であると、シート磁石素材中のバインダ樹脂の占積率が高くなりすぎて、シート磁石素材の磁力が低下することがある。
【００８５】
表面処理された希土類磁性材料は、バインダ樹脂と混合しやすくするために、さらに、カップリング剤で表面処理されてもよく、防錆剤で表面処理されてもよく、また、熱硬化性樹脂からなる表面被覆膜が形成されてもよい。
【００８６】
第２の混練工程においては、ラッカ作製工程で用いた有機溶剤と、上述の架橋剤などが、第１の混練工程で作製した混練組成物に加えられ、さらに、混練されて、磁性塗料が調製される。
【００８７】
第２の混練工程は、第１の混練工程で作製された混練組成物の粘性を低下させて、次工程において、被付着部材上に塗布された磁性塗料が被付着部材上を流動して平坦化するように、混練組成物の粘度を調整することを目的とするものである。この場合において、磁性塗料の粘度は、塗布方法や速度に応じて、適宜、所望の粘度に調整することができる。
【００８８】
さらに、付着工程において、その表面に剥離剤が被覆されている被付着体上に、第２の混練工程で調整された磁性塗料が、所定の厚さになるように、塗布される。
【００８９】
被付着体としては、磁性塗料を付着でき、かつ、磁性塗料から剥離できる部材であれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、ＰＥＴ、ＰＥ、ＰＰ、ＰＥＮなどのフィルム状の部材や、板状の種々の部材が好ましく用いられる。磁性塗料を被付着体から容易に剥離させるために、剥離剤を用いてもよく、被付着体に被覆される剥離剤としては、とくに限定されるものではないが、たとえば、シリコン樹脂、フッ素樹脂、パラフィンなどが好ましく用いられる。
【００９０】
磁性塗料を被付着体に塗布する方法は、被付着体上に、均一な厚さを有するように、磁性塗料を塗布することができる方法であれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、アプリケーターコータなどの塗布装置を用いて、磁性塗料を被付着体上に塗布する方法や、被付着体を磁性塗料の溶液に浸漬して、磁性塗料を被付着体上に付着させるディップ塗布法などが挙げられる。
【００９１】
次いで、乾燥工程において、被付着体上に塗布された磁性塗料が乾燥され、有機溶剤が除去される。有機溶剤を除去することによって、シート磁石素材となる磁性塗料中の磁石充填率を高めることができる。
【００９２】
さらに、剥離工程において、乾燥させた磁性塗料から、被付着体が剥離される。これにより、薄板状であって、所定の厚さを有するシート磁石素材を得ることができる。
【００９３】
次いで、架橋工程において、加熱などによって、シート磁石素材に含まれているバインダ樹脂が架橋される。
【００９４】
最後に、裁断工程において、バインダ樹脂を架橋させて得られたシート磁石素材が、所望のサイズに裁断される。
【００９５】
上述したシート磁石素材の製造方法においては、ラッカ作製工程と第１の混練工程が、それぞれ、別個に実行されているが、磁性材料表面処理工程の後に、ラッカ作製工程と第１の混練工程を併せて実行されるようにしてもよい。すなわち、磁性材料表面処理工程で得られた混練組成物に、バインダ樹脂と、有機溶剤とが加えられ、攪拌されて、混練組成物が調製されるようにしてもよい。
【００９６】
また、上述したシート磁石素材の製造方法においては、架橋工程後に、裁断工程が実行されているが、裁断などの加工がより容易な架橋工程前に、裁断工程を実行し、次いで、架橋工程を実行するようにしてもよく、また、後述するＰＰＡ処理後に、裁断工程が実行されるようにしてもよい。
【００９７】
さらに、上述したシート磁石素材の製造方法においては、剥離工程と架橋工程の間に、または、架橋工程と裁断工程の間に、磁石シート素材の可撓性を調整するために、圧延処理を行ってもよい。圧延処理は、付着工程で得られるシート磁石素材の可撓性を調整する必要がある場合に、好ましく行われる。また、圧延処理を実行することによって、シート磁石素材の柔軟性を高めることもできる。たとえば、摩擦材などを表面に貼付した圧延ロールによって、シート磁石素材を圧延処理し、シート磁石素材の可撓性を調整することができる。
【００９８】
このようにして、板状に成形したシート磁石素材を製造することができる。
【００９９】
次いで、こうして得られたシート状の希土類ボンド磁石素材に表面処理が施され、希土類ボンド磁石素材の表面近傍に、フェニルホスホン酸誘導体を付着させる。
【０１００】
フェニルホスホン酸誘導体を付着させる前に、希土類ボンド磁石素材を、定法にしたがって、脱脂、洗浄してもよい。
【０１０１】
希土類ボンド磁石素材の表面近傍に、フェニルホスホン酸誘導体を付着させる方法は、とくに限定されるものではないが、たとえば、希土類ボンド磁石素材を、濃度が１質量％ないし１０質量％のフェニルホスホン酸誘導体の溶液で、処理して、フェニルホスホン酸誘導体を付着させる方法が好ましい。
【０１０２】
フェニルホスホン酸誘導体の溶液に含まれるフェニルホスホン酸誘導体は、とくに限定されるものではなく、たとえば、１または２以上の置換基を有するフェニルホスホン酸誘導体、フェニルホスホン酸のモノアルキルエステル体またはフェニルホスホン酸のジアルキルエステル体などが挙げられる。これらのなかでも、フェニルホスホン酸またはフェニルホスホン酸ジメチルが好ましい。
【０１０３】
フェニルホスホン酸誘導体の溶液は、濃度が１質量％ないし１０質量％に設定されることが好ましく、１質量％ないし９質量％に設定されることがとくに好ましい。
【０１０４】
フェニルホスホン酸誘導体を溶解するために用いられる溶剤は、フェニルホスホン酸誘導体を溶解できる溶剤であれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素の炭化水素溶媒系溶剤、アルコール系溶剤、ハロゲン化炭化水素系溶剤、エーテル類系溶剤などが挙げられる。これらのなかでも、使用しやすい点で、アルコール系溶剤が好ましく、アルコール系溶剤としては、たとえば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどが挙げられる。これらの溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１０５】
フェニルホスホン酸誘導体の溶液は、所望により、各種顔料、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、ｐＨ調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥促進剤などの各種添加剤をさらに含有していてもよい。
【０１０６】
希土類ボンド磁石素材に表面処理を施す際のフェニルホスホン酸誘導体の溶液の温度および処理時間は、フェニルホスホン酸誘導体の溶液の濃度、処理方法などに応じて、任意に設定することができ、とくに限定されるものではない。
【０１０７】
濃度が１質量％ないし１０質量％のフェニルホスホン酸誘導体の溶液によって、希土類ボンド磁石素材を表面処理する方法は、とくに限定されるものではないが、たとえば、希土類ボンド磁石素材の表面に、フェニルホスホン酸誘導体の溶液を塗布する方法、フェニルホスホン酸誘導体の溶液に、希土類ボンド磁石素材を浸漬させる方法などが挙げられ、フェニルホスホン酸誘導体を、容易に、かつ、均一に、希土類ボンド磁石素材の表面近傍に付着させられる点で、フェニルホスホン酸誘導体の溶液に、希土類ボンド磁石素材を浸漬させる方法が好ましい。
【０１０８】
フェニルホスホン酸誘導体の溶液に希土類ボンド磁石素材を浸漬させる場合には、希土類ボンド磁石素材を、室温ないしフェニルホスホン酸誘導体の溶液の沸点以下の温度範囲で、濃度が１質量％ないし１０質量％のフェニルホスホン酸誘導体の溶液に、浸漬させることが好ましい。
【０１０９】
フェニルホスホン酸誘導体の溶液の温度は、室温ないしフェニルホスホン酸誘導体の溶液の沸点以下の温度範囲であることが好ましい。フェニルホスホン酸誘導体の溶液の温度が室温未満であると、フェニルホスホン酸誘導体が希土類ボンド磁石素材の表面近傍に付着しにくくなり、フェニルホスホン酸誘導体の溶液の温度が溶剤の沸点を超えると、作業性が低下する。
【０１１０】
希土類ボンド磁石素材を、フェニルホスホン酸誘導体の溶液に浸漬させる時間は、フェニルホスホン酸誘導体の溶液の濃度や温度などに応じて、任意に設定することができ、とくに限定されるものではないが、たとえば、０．５分ないし２分程度であることが好ましく、１分程度であることがとくに好ましい。浸漬処理時間が０．５分未満であると、フェニルホスホン酸誘導体が希土類ボンド磁石素材の表面近傍に付着しにくくなり、浸漬処理時間が２分を超えると、フェニルホスホン酸誘導体が希土類ボンド磁石素材の表面近傍に付着しすぎることがある。
【０１１１】
本発明においては、希土類ボンド磁石を、フェニルホスホン酸誘導体の溶液で、表面処理した後に、さらに、表面処理された希土類ボンド磁石を純水で洗浄し、次いで、洗浄された希土類ボンド磁石を乾燥することが好ましい。
【０１１２】
洗浄工程においては、希土類ボンド磁石の表面に付着した余剰のフェニルホスホン酸誘導体の溶液が、純水によって洗浄される。洗浄方法は、とくに限定されるものではなく、希土類ボンド磁石の表面近傍に、付着したフェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量を、上述の範囲に調整することができればよい。たとえば、洗浄方法として、スプレーなどによって、希土類ボンド磁石の表面に純水を吹きかける方法、ウエスなどによって、希土類ボンド磁石の表面を拭く方法、希土類ボンド磁石を純水に浸漬させる方法などが挙げられ、これらを組み合わせて、希土類ボンド磁石を洗浄してもよい。これらのなかでも、容易で、かつ、均一に洗浄できる点で、希土類ボンド磁石を純水に浸漬させる方法が好ましく、たとえば、温度が室温に設定された純水中に、希土類ボンド磁石を、浸漬させて攪拌させる方法が挙げられる。希土類ボンド磁石を純水に浸漬させる際の浸漬時間は、とくに限定されるものではないが、純水に浸漬させた希土類ボンド磁石の表面から気泡の発生が確認できなくなるまで、たとえば、１分間ないし２０分間にわたり、希土類ボンド磁石を浸漬させることが好ましい。
【０１１３】
乾燥工程においては、洗浄された希土類ボンド磁石に付着している水分が除去される。乾燥条件は、とくに限定されるものではないが、たとえば、乾燥温度は、室温ないし１００℃であることが好ましく、乾燥時間は、５分ないし６０分であることが好ましい。希土類ボンド磁石を充分に乾燥しないと、残存水分によって、希土類ボンド磁石の腐食性が低下することがある。
【０１１４】
このようにして、単に、希土類ボンド磁石素材に、濃度が１質量％ないし１０質量％のフェニルホスホン酸誘導体の溶液で、表面処理を施すことによって、フェニルホスホン酸誘導体が純水に溶出する溶出量を、所望の範囲になるように、希土類ボンド磁石の表面近傍にフェニルホスホン酸誘導体を付着させることができる。したがって、磁気特性を低下させることなく、長期間にわたって、機械的特性を満足しつつ、錆が発生することが効果的に防止された希土類ボンド磁石を、低コストで、かつ、高い生産性をもって、製造することが可能になる。
【実施例】
【０１１５】
以下、本発明の効果をより明瞭なものとするため、実施例を掲げる。
【０１１６】
まず、ガスアトマイズ法によって作製したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材材料（平均粒径４５μｍ、含水率０．０１質量％、ＭＡＧＮＱＵＥＮＣＨ社製：商品名「ＭＱＰ−Ｓ−１１」）８．０ｋｇに、ｏ-フタル酸８．０ｇを加え、三井鉱山株式会社製のヘンシェルミキサー「ＦＭ２０型」（商品名）を用いて、混合しながら、さらに、脱イオン水（イオン交換水）４８．０ｇを添加し、１５分間にわたって、混練し、磁性材料の表面処理を行った。
【０１１７】
次いで、得られた混練組成物に、ポリカーボネートポリウレタン（日本ポリウレタン株式会社製：商品名「ニッポラン５２３０」、固形分濃度３０％）１５２０ｇ（ポリカーボネートポリウレタンと表面処理を施したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材料の質量比は、１：１７．５）を加え、しばらく混合し、さらに、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）７６５ｇを加えて、４５分間にわたって、混合した。
【０１１８】
このようにして得られた混合組成物に、硬化剤として、ＭＤＩ系ブロック型イソシアネート化合物（日本ポリウレタン株式会社製：商品名「コロネート２５１６」、固形分濃度８０％）３０ｇを加えて、磁性塗料とした。
【０１１９】
次いで、こうして調製した磁性塗料を、シリコン樹脂によって、その表面が被覆されたＰＥＴフィルム（東洋メタライジング株式会社製：商品名「セラピール」、厚さ７５μｍ）上に、自作のアプリケーターコータを用いて、塗布し、塗布された磁性塗料を、一夜にわたって、自然乾燥させ、さらに、温度６０℃で、０．５時間にわたって、乾燥させた。
【０１２０】
次いで、乾燥させた磁性塗料から、ＰＥＴフィルムを剥離して、厚さが０．５ｍｍの磁気シートを作製した。
【０１２１】
さらに、得られた磁気シートを、１４０℃で、１．５時間にわたり、加熱して、ポリカーボネートポリウレタンを架橋させ、希土類シート磁石素材を製造した。
【０１２２】
次いで、このようにして製造した希土類シート磁石素材を、室温（２５℃）で、１分間にわたり、濃度が１質量％のフェニルホスホン酸のエタノール溶液に、浸漬させた。
【０１２３】
次いで、フェニルホスホン酸の溶液中の希土類シート磁石素材を取り出し、温度が室温に設定された１０００ｍＬの純水中に、希土類ボンド磁石を、５分間にわたり、浸漬させて、撹拌し、希土類ボンド磁石を洗浄して、さらに、希土類ボンド磁石に付着している余剰の純水をガーゼで拭き取った。
【０１２４】
さらに、希土類ボンド磁石を、２５℃の環境下に、１０分間にわたって、放置し、乾燥させた。
【０１２５】
このようにして、シート磁石サンプル＃１を製造した。
【０１２６】
次いで、フェニルホスホン酸のエタノール溶液で処理された希土類シート磁石を、純水に浸漬させることなく、希土類シート磁石に付着した余剰のフェニルホスホン酸のエタノール溶液を、ガーゼで拭き取って、洗浄した点を除き、シート磁石サンプル＃１と同様にして、シート磁石サンプル＃２を製造した。
【０１２７】
さらに、フェニルホスホン酸のエタノール溶液を３質量％に設定した点を除き、シート磁石サンプル＃１と同様にして、シート磁石サンプル＃３を製造した。
【０１２８】
次いで、フェニルホスホン酸のエタノール溶液を５質量％に設定した点を除き、シート磁石サンプル＃１と同様にして、シート磁石サンプル＃４を製造した。
【０１２９】
さらに、フェニルホスホン酸のエタノール溶液を３質量％に設定するとともに、フェニルホスホン酸のエタノール溶液で処理された希土類シート磁石を、純水に浸漬させることなく、希土類シート磁石に付着した余剰のフェニルホスホン酸のエタノール溶液を、ガーゼで拭き取って、洗浄した点を除き、シート磁石サンプル＃１と同様にして、シート磁石サンプル＃５を製造した。
【０１３０】
次いで、フェニルホスホン酸のエタノール溶液を８質量％に設定した点を除き、シート磁石サンプル＃１と同様にして、シート磁石サンプル＃６を製造した。
【０１３１】
さらに、フェニルホスホン酸のエタノール溶液を１０質量％に設定した点を除き、シート磁石サンプル＃１と同様にして、シート磁石サンプル＃７を製造した。
【０１３２】
次いで、フェニルホスホン酸のエタノール溶液を５質量％に設定するとともに、フェニルホスホン酸のエタノール溶液で処理された希土類シート磁石を、純水に浸漬させることなく、希土類シート磁石に付着した余剰のフェニルホスホン酸のエタノール溶液を、ガーゼで拭き取って、洗浄した点を除き、シート磁石サンプル＃１と同様にして、シート磁石サンプル＃８を製造した。
【０１３３】
次いで、フェニルホスホン酸のエタノール溶液を８質量％に設定するとともに、フェニルホスホン酸のエタノール溶液で処理された希土類シート磁石を、純水に浸漬させることなく、希土類シート磁石に付着した余剰のフェニルホスホン酸のエタノール溶液を、ガーゼで拭き取って、洗浄した点を除き、シート磁石サンプル＃１と同様にして、シート磁石サンプル＃９を製造した。
【０１３４】
このようにして得られた０．５ｍｍの厚さを有するシート磁石サンプル＃１ないし＃９を、それぞれ、縦１０．０ｍｍ、横１４．５ｍｍの大きさに、５枚ずつ切り出して、試験サンプルを作製し、各試験サンプル５枚を、ＴＡＩＹＯ社製の振とう恒温水槽「ＰＬＵＳ  ＳＨＡＫＥＲ  ＥＰ−１」（商品名）を用いて、７０℃の温度に調整された純水１０ｍＬに、浸漬させて、５０サイクル／分で、１時間にわたり、振とうした。
【０１３５】
次いで、各試験サンプルを、それぞれ、純水から取り出し、フェニルホスホン酸が溶出した純水を、以下の条件で、イオンクロマトグラフィー（ＩＣ）にて、測定し、各試験サンプルからのフェニルホスホン酸の溶出量を、検量線を用いて、定量した。
【０１３６】
イオンクロマトグラフィー装置：ＤＩＯＮＥＸ社製、商品名「ＤＸ５００」
カラム：ＩｏｎＰａｃ  ＡＳ１５
溶離液：３８ｍｍｏｌ／Ｌ  ＫＯＨ
流量：１．２ｍＬ／ｍｉｎ
導入量：２５μＬ
検出器：サプレッサー式電気伝導度検出器
【０１３７】
それぞれの試験サンプル＃１ないし＃９につき、このようにして、定量された試験サンプルからのフェニルホスホン酸の溶出量から、試験サンプル１ｃｍ３当たりのフェニルホスホン酸の溶出量（μｇ／ｃｍ３）を算出した。
【０１３８】
測定結果は、表１に示されている。
【０１３９】
次いで、シート磁石サンプル＃１ないし＃９を、それぞれ、温度６０℃、湿度９０％ＲＨの環境下に、５００時間にわたり、放置し、５００時間経過後の各サンプル表面を、目視で、観察した。
【０１４０】
また、シート磁石サンプル＃１ないし＃９を、それぞれ、長野県佐久市の市水（上水道：塩素濃度２．７ｐｐｍ）１０ｍＬ中に、２４時間にわたり、浸漬させ、２４時間経過後に、各サンプルを取り出し、各サンプル表面を、目視で、観察した。
【０１４１】
各シート磁石サンプルの錆びやすさを、各シート磁石サンプルの表面に発生した錆の単位面積当たりの個数を求めて、評価した。評価結果は表１に示されている。
【０１４２】
なお、発生した錆が、０．５ｍｍφ以上の大きさを有している場合には、この錆については、３を乗じて、発生した錆の個数とした。
【０１４３】
表１において、シート磁石サンプル表面に発生した錆が、１ｃｍ２当たり、０．０１個未満である場合が「○」と表示され、１ｃｍ２当たり、０．０２個以上である場合が「×」と表示されている。
【０１４４】
上述のようにして、温度６０℃、湿度９０％ＲＨの環境下に、５００時間にわたり、放置した各サンプルを、それぞれ、直径５ｍｍの円柱に巻き付けて、巻き付けた部分を観察した。観察結果は表１に示されている。
【０１４５】
表１においては、円柱に巻き付けた部分に、クラックが発生していない場合が「○」と表示され、１本でもクラックが発生した場合が「×」と表示されている。
【０１４６】
【表１】
2006108255.tif 000002
【０１４７】
さらに、シート磁石サンプル＃１ないし＃９の磁気特性を、それぞれ、評価したところ、フェニルホスホン酸の溶液で処理した各シート磁石サンプルの磁気特性は、フェニルホスホン酸の溶液で処理する前の各希土類シート磁石素材の磁気特性と比べて、大きく低下していないことが判明した。