(57)【要約】【課題】有機ＥＬ層に対してダメージを与えることなくその良否を正確に判定できる紫外線照射方式の有機ＥＬ層検査装置を提供する。【解決手段】検査対象ワークｗとしての有機ＥＬ表示素子中間品に紫外線を照射するための光学系が、紫外線を射出する紫外光源１、紫外線の射出光路に進退させるシャッタ板２３とこれをアーム２２を介して回動させるモータ２１からなるシャッタ機構２、ハーフミラー３１と集光レンズ３２と遮光マスク３３からなる紫外線をワークｗに導くための導光部３、及びワークｗの検査単位区画ｓに照射され反射した紫外線を取り込むＣＣＤカメラ４とで構成されている。【選択図】図１
2006329819.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネッセンス層に紫外線を照射し、この紫外線の反射光による画像に基づき欠陥の有無を検査する有機エレクトロルミネッセンス層検査装置であって、
紫外線を射出する光源と、
射出された紫外線を前記有機エレクトロルミネッセンス層の所定区画に照射させる導光手段と、
前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射された光の反射光を電気信号の画像信号に変換して取得する画像認識手段と、
前記紫外線の照射時間を前記画像信号を得るのに必要な時間に制限する照射制御手段とを、
有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
【請求項２】
紫外線の照射対象区画を変更するために前記有機エレクトロルミネッセンス層が形成された検査対象試料を同一平面内において移動させる試料移動手段を、更に有していることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
【請求項３】
前記照射制御手段は、前記紫外線の光路に進退自在に設けられた遮光手段と、前記試料移動手段の移動速度を検出する速度検出回路を備え、前記速度検出回路により検査対象試料の停止が検知された時点で前記遮光手段を前記導光路から所定時間だけ退避させ、前記画像認識手段に前記画像信号を取得させることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
【請求項４】
可視光線を射出する第２の光源と、
射出された可視光線を前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射させる第２の導光手段と、
前記可視光線の光路に進退自在に設けられた第２の遮光手段とを更に有し、
前記照射制御手段は、前記検査対象試料が移動しているときに選択的に前記第２の遮光手段を可視光線の光路から退避させ、可視光線による検査対象試料の動画像を前記画像認識手段に取得させることを特徴とする請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
【請求項５】
前記照射制御手段は、前記検査対象試料の移動が停止した後の所定時間に加えて前記検査対象試料の移動が開始してから停止するまでの間も前記遮光手段を紫外線の光路から退避させ、紫外線による前記検査対象試料の動画像も前記画像認識手段に取得させることを特徴とする請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
【請求項６】
前記照射制御手段は、前記試料移動手段の移動速度を検出する速度検出回路を備え、前記速度検出回路により検査対象試料の停止が検知された時点で前記紫外線の光源を所定時間だけ点灯し、前記画像認識手段に前記画像信号を取得させることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
【請求項７】
前記画像認識手段は、前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射された光の反射光を画像信号に変換して出力する撮像素子と、該画像信号に基づき有機エレクトロルミネッセンス層の画像を表示する表示手段を備えていることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れかに請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
【請求項８】
前記画像認識手段は、前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射された光の反射光を画像信号に変換して出力する撮像素子と、該画像信号に基づき有機エレクトロルミネッセンス層中の欠陥の有無を判定する画像処理手段を備えていることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れかに請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス層検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線を照射して合否を判定する有機エレクトロルミネッセンス層の検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、低消費電力で明瞭な画像が得られるフラットパネルディスプレイとして、有機エレクトロルミネッセンス表示素子（以下、有機ＥＬ表示素子という）が知られている。この有機ＥＬ表示素子は、有機電子材料層を一対の電極間に挟持してなり、有機電子材料層の発光層に正孔と電子を注入することにより発現するエレクトロルミネッセンス（electroluminescence）発光現象を利用して表示を行うものである。
【０００３】
この有機ＥＬ表示素子により良好な表示品位を得るためには、電極間に挟持される有機電子材料層層の層厚が所期の厚さで均一であることが要求される。従って、形成された有機エレクトロルミネッセンス層（以下、有機ＥＬ層という）に対し、厚さの不均一な欠陥箇所の有無を検査する必要がある。
【０００４】
有機ＥＬ層の層厚を検査する方法として、通常の可視光線を使用した顕微鏡等による目視検査を採用することができない。なぜなら、有機ＥＬ層は通常は透明または半透明であるため、可視光線を照射しても反射光が殆ど得られず、顕微鏡等による目視検査は極めて困難であるからである。
【０００５】
そこで、特許文献１に示されるように紫外線を検査対象の有機ＥＬ層に照射する方法が提案されている。この場合、有機ＥＬ層が紫外線を吸収して光を発するから、この光をＣＣＤ（電荷結合素子）等により取り込んでモニタ表示させたり、顕微鏡観察の場合はその有機ＥＬ光による像を目視観察することにより、検査が可能となる。
【特許文献１】特開２００３−２３３３３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、紫外線を有機ＥＬ層に照射する方法は、その累積照射量に応じて有機ＥＬ層がダメージを受け、有機ＥＬ表示素子としての表示品位が低下したり、表示素子としての寿命が短くなるという問題がある。
【０００７】
本発明の目的は、有機ＥＬ層に対してダメージを与えることなくその良否を正確に判定できる紫外線照射方式の有機ＥＬ層検査装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の有機ＥＬ層検査装置は、有機エレクトロルミネッセンス層に紫外線を照射し、この紫外線の反射光による画像に基づき欠陥の有無を検査する有機エレクトロルミネッセンス層検査装置であって、紫外線を射出する光源と、射出された紫外線を前記有機エレクトロルミネッセンス層の所定区画に照射させる導光手段と、前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射された光の反射光を電気信号の画像信号に変換して取得する画像認識手段と、前記紫外線の照射時間を前記画像信号を得るのに必要な時間に制限する照射制御手段とを、有することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の有機ＥＬ層検査装置によれば、画像を得るために検査対象の有機ＥＬ層に照射される紫外線の光量を必要最小限に制限するから、検査の際における紫外線の累積照射量により有機ＥＬ層を劣化させる不具合が防止され、表示品位や寿命を低下させずに有機ＥＬ表示素子を正確に検査することができる。
【００１０】
本発明の有機ＥＬ層検査装置は、紫外線の照射対象区画を変更するために前記有機エレクトロルミネッセンス層が形成された検査対象試料を同一平面内において移動させる試料移動手段を更に有していることが好ましく、これにより、表示エリアの大きい有機ＥＬ表示素子も正確且つ迅速に検査することができる。
【００１１】
また、本発明の有機ＥＬ層検査装置においては、照射制御手段が、紫外線の光路に進退自在に設けられた遮光手段と、試料移動手段の移動速度を検出する速度検出回路を備え、前記速度検出回路により検査対象試料の停止が検知された時点で前記遮光手段を前記導光路から所定時間だけ退避させ、画像認識手段に画像信号を取得させる構成とすることが好ましく、これにより、有機ＥＬ層に対する紫外線の累積照射量を必要最小限の量に的確に制限できる。
【００１２】
そして、上述の紫外線の照射を検査対象試料が停止した時間に制限する場合において、可視光線を射出する第２の光源と、射出された可視光線を前記有機エレクトロルミネッセンス層に照射させる第２の導光手段と、可視光線の光路に進退自在に設けられた第２の遮光手段とを更に有し、照射制御手段は、検査対象試料が移動しているときに選択的に前記第２の遮光手段を可視光線の光路から退避させ、可視光線による検査対象試料の動画像を前記画像認識手段に取得させる構成とすることがより好ましく、これにより、取得された検査対象試料の動画像に基づき照射対象エリアを変更する際の検査対象試料の移動距離を最短化して、検査作業を効率よく実施することができる。
【００１３】
また、照射制御手段が、検査対象試料の移動が停止した後の所定時間に加えて検査対象試料の移動が開始してから停止するまでの間も遮光手段を紫外線の光路から退避させ、紫外線による検査対象試料の動画像も前記画像認識手段に取得させる構成とすることがより好ましく、これにより、可視光線を照射するための第２の光源、同導光手段、及び同シャッタ部材を設けなくても、上述の場合と同様に効率よく検査作業を実施することができる。
【００１４】
さらに、照射制御手段が、試料移動手段の移動速度を検出する速度検出回路を備え、前記速度検出回路により検査対象試料の停止が検知された時点で紫外線の光源を所定時間だけ点灯し、前記画像認識手段に前記画像信号を取得させる構成としてもよく、これにより、照射制御手段の構成が簡素化する。
【００１５】
またさらに、画像認識手段が、有機ＥＬ層に照射された光の反射光を画像信号に変換して出力する撮像素子と、該画像信号に基づき有機ＥＬ層の画像を表示する表示手段を備えていることが好ましく、これにより、検査作業者は表示された画像を観察しつつ有機ＥＬ層の検査を容易に実施することができる。
【００１６】
加えて、画像認識手段が、有機ＥＬ層に照射された光の反射光を画像信号に変換して出力する撮像素子と、該画像信号に基づき有機ＥＬ層中の欠陥の有無を判定する画像処理手段とを備えていることが好ましく、これにより、有機ＥＬ層中の欠陥の有無を人間の視覚を経ることなく正確に自動判定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１は本発明の第１実施形態としての有機ＥＬ層検査装置における光学系の構成を示す斜視図で、図２はその検査装置により検査される検査対象試料である有機ＥＬ層が塗布形成された半製品状態の有機ＥＬ表示素子中間品を示す模式的部分断面図である。
【００１８】
本実施形態の有機ＥＬ層検査装置における光学系は、図１に示されるように、大略、紫外線を射出する紫外光源１、シャッタ機構２、導光部３、撮像素子としてのＣＣＤカメラ４で構成されている。
【００１９】
まず、図２に基づき、本実施形態の有機ＥＬ層検査装置により検査される試料（以下、ワークという）ｗとしての有機ＥＬ表示素子中間品５の構造について説明する。
【００２０】
ガラス基板５１の表面には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電膜からなる複数の第１の電極５２が所定方向（本例では紙面左右方向）へ互いに平行に配設されている。
【００２１】
また、それら第１の電極５２の延在方向に直交させて、複数のメタルバンク５３が等間隔で互いに平行に配設されている。メタルバンク５３は、金や銅等の金属からなり、画素列間に対応させて配設され、画素列を区画する土手（バンク）となる。また、本実施形態のメタルバンク５３は、各画素エリア毎に対応させて設けられている薄膜トランジスタ（不図示）に電気接続されており、各画素毎に薄膜トランジスタを介して有機ＥＬ層を駆動するソース配線を兼ねている。なお、メタルバンク５３の周表面には絶縁膜（不図示）がコーティングされており、これにより周囲に対する絶縁性が確保されている。
【００２２】
メタルバンク５３で区画された各画素列には、まず有機ＥＬ層のうちの正孔注入層５４が第１の電極５２を覆ってノズル塗布方式により形成される。正孔注入層５４を形成する有機電子材料としては、フェニルアミン系、或いはフタロシアニン系の酸化バナジウムや酸化モリブデン等が好適に用いられる。
【００２３】
正孔注入層５４上には、インターレイヤ層５５を介して発光層５６がノズル塗布方式により積層される。本実施形態の有機ＥＬ表示素子はフルカラー表示素子であり、従って、発光層５６は赤、緑、青の画素配置に応じてそれぞれの色の発光要素層が配設されている。各色発光要素層を形成するための有機電子材料としては、シクロペンタジエン誘導体やトリフェニルアミン誘導体等の色素系発光材料、アルミキノリノール錯体等の金属錯体系発光材料、或いはポリパラフェニレンビニレン誘導体等の高分子系発光材料が、好適に用いられる。
【００２４】
なお、インターレイヤ層５５は、発光層５６の発光効率を高めるために設けられており、正孔注入層５４や発光層５６と同様に、有機電子材料を用いてノズル塗布方式により形成される。
【００２５】
上述した正孔注入層５４と発光層５６及びインターレイア層５５は、それぞれ、上述した各材料をトルエンやテトラリン等の有機溶剤に溶かしてインク状に液状化し、有機ＥＬ材塗布装置により重畳塗布される。
【００２６】
図１に戻って、シャッタ機構２は、回転方向を正、逆各方向に自在に切換え可能なモータ２１と、モータ２１のシャフトにアーム２２を介して連結されたシャッタ板２３とからなり、光源１から紫外線が射出される光路にシャッタ板２３を自在に進退させる構成となっている。すなわち、シャッタ板２３は、紫外線の射出光路Ｐuから退避した実線で示される退避位置と、射出光路Ｐuに進出して紫外線の進行を遮断する進出位置との間で、モータ２１の正、逆各回転によりアーム２２と一体に往復回動される。なお、シャッタ板２３は、射出紫外線の透過を確実に遮断できる材質及び寸法で形成されている。
【００２７】
導光部３は、ハーフミラー３１と集光レンズ３２及び遮光マスク３３が、この順序でシリーズに配置されてなる。ハーフミラー３１は射出された紫外線の進行方向をワークｗが載置されている部位に向けて反射させると共にワークｗからの反射光を透過させる。
【００２８】
集光レンズ３２は、凸レンズであり、ハーフミラー３１により反射された紫外線を集光するために設けられている。
【００２９】
遮光マスク３３は、矩形の開口３３１が穿設されてなり、ワークｗとしての有機ＥＬ表示素子中間品５に対する紫外線の照射エリアａを画定し、無駄な紫外線の照射による有機ＥＬ層の劣化を防止するために設けられている。照射エリアａは遮光マスク３３の位置とその開口３３１の大きさにより画定され、予め設定されている検査単位区画と一致する照射エリアａが得られるように、最適な開口３３１を備えた遮光マスク３３が選定され、その位置が調整される。
【００３０】
導光部３のワークｗに対向する側とは反対側に、ＣＣＤカメラ４が配置されている。ＣＣＤカメラ４は、ワークｗにおける紫外線が照射される検査単位区画を撮像するものである。従って、ＣＣＤカメラ４の最適視野と紫外線の照射エリアａ（検査単位区画）とは、互いに一致するようにそれぞれが最適調整される。
【００３１】
次に、本第１実施形態の有機ＥＬ層検査装置における試料ステージの構成とこれと上述した光学系を制御して実施される検査システムについて、図３に基づき説明する。
【００３２】
本実施形態の試料ステージ６は、手動式であり、ワークｗをＸ軸方向に移動させるＸ軸移動機構６１と、Ｘ軸に直交するＹ軸方向へワークｗを載置されたＸ軸移動機構６１ごと移動させるＹ軸移動機構６２とからなる。Ｘ、Ｙ各軸移動機構６１、６２は、それぞれ、各軸方向に沿って延在させたボールネジ６１１、６２１を、作業者がハンドル６１２、６２２を回転操作することにより、各ステージ部６１３、６２３をそれぞれＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って往復直線移動させるものである。Ｘ、Ｙ各軸移動機構６１、６２には、それぞれ、エンコーダ６１４、６２４が設置されており、各ステージ６１３、６２３の移動速度情報が、本有機ＥＬ層検査装置全体の駆動を制御するコントローラ７に出力される。
【００３３】
コントローラ７は、中央制御回路７１、速度判定回路７２、画像バッファメモリ７３等からなる。速度判定回路７２には試料ステージ６におけるＸ、Ｙ各軸移動機構６１、６２の各エンコーダ６１４、６２４からそれぞれの速度情報が入力され、速度判定回路７２は、これら速度情報から試料ステージ６が停止しワークｗが静止しているか否かを判断し、試料ステージ６が停止していると判断したらその旨の信号を中央制御回路７１に出力する。
【００３４】
中央制御回路７１は、上記ステージ停止信号が入力されたら、シャッタ機構２（図１参照）を駆動するシャッタ回路２４に信号を出力してシャッタ板２１を紫外線の射出光路から最短必要時間だけ退避させる（シャッタを開く）。これにより、紫外線がワークｗの検査単位エリアａに照射され、その画像がＣＣＤカメラ４により撮像される。撮像された画像は、ＣＣＤカメラ回路４１を介し画像データとしてコントローラ７に送られる。コントローラ７では、中央制御回路７１から画像バッファメモリ７３に画像データの取込みを指示する信号が出力され、送られてきた画像データが画像バッファメモリ７３に記憶される。そして、この記憶された画像データは、モニタ８に所定時間だけ静止画として表示される。検査作業者は、モニタ８に表示される検査単位エリアａの静止画を観察し、有機ＥＬ層の層厚が規定範囲外となった欠陥部を検出する。
【００３５】
ここで、上述の検査工程で実施される動作フローを、図１及び図３を参照しつつ図４のフローチャート図と図５のワークｗを示す斜視図に基づき詳細に説明する。
【００３６】
本実施形態においては、図５に示すように、ワークｗの最終製品である有機ＥＬ表示素子の有効表示エリアに対応する有機ＥＬ層が形成されたＥＬ層形成エリアＡが、縦（Ｙ軸方向）３区画、横（Ｘ軸方向）４区画の計１２区画の同じ検査単位区画ｓ1〜ｓ12に分割されている。
【００３７】
まず、図３において、検査作業者は、試料ステージ６を移動させるＸ軸移動機構６１とＹ軸移動機構６２の各ハンドル６１１、６２１を回転操作し、ワークｗを検査が開始される初期位置つまり検査単位区画ｓ1に紫外線が照射される位置にセットする。この初期位置のセットは、Ｘ、Ｙ各軸移動機構６１、６２に設けられている目盛り（不図示）を予め設定されている基準値に合わせることにより、容易且つ正確に実施される。
【００３８】
ワークｗの初期位置へのセットが完了し、試料ステージ６の停止が検知されたら、直ちにシャッタ板２１が紫外線射出光路Ｐuから退避し、紫外線がワークｗの検査単位区画ｓ1に照射される。この紫外線の照射は、検査単位区画ｓ1の静止画をＣＣＤカメラ４で撮像するのに最小限必要な時間ｔ（図４参照）だけ実施され、この時間ｔが経過したらシャッタ板２１は直ちに紫外線射出光路Ｐuに進出した元の閉成位置に復帰し、紫外線の進行を遮断する。
【００３９】
紫外線の照射により得られる検査単位区画ｓ1の画像は、ＣＣＤカメラ４により撮像され、画像データとして画像バッファメモリ７３に記憶されるとともにモニタ８に静止画で表示される。検査作業者は、この静止画を観察しながらワークｗの最初の検査単位区画ｓ1に対する欠陥部の有無の検査（以下、検査Ｅ1という）を行う。この検査Ｅ1の実施時間は任意であり、検査作業者が完了と判断するまで実施できる。従って、検査作業者は、検査単位区画ｓ1の静止画を観察しながら正確に欠陥部の有無を判定できる。なお、この検査単位区画ｓ1の静止画は、次の検査単位区画ｓ2の画像データが画像バッファメモリ７３に上書きされるまでモニタ８に表示されている。
【００４０】
検査作業者は、検査Ｅ1が完了したと判断したら、次に、Ｘ軸移動機構６１とＹ軸移動機構６２の各ハンドル６１１、６２１のうちの例えばＸ軸移動ハンドル６１２を回転操作し、ワークｗを１検査単位区画のＸ軸方向幅分だけ移動させる。これにより、紫外線が照射される照射エリアａが最初の検査単位区画ｓ1に対して重複或いは離隔することなく次順の検査単位区画ｓ2に正確に変更される。
【００４１】
紫外線照射エリアａに検査単位区画ｓ2が位置し試料ステージ６の移動が停止したら、上述の検査Ｅ1と同じ動作フローで検査単位区画ｓ2に対する検査Ｅ2が実施される。この後、同じ動作フローで検査単位区画ｓ3、ｓ4に対する検査Ｅ3、Ｅ4が実施される。
【００４２】
ワークｗのＸ軸方向１ラインにわたる検査単位区画ｓ1〜ｓ4に対する検査Ｅ1〜Ｅ4が終了したら、ワークｗをＹ軸方向へ検査単位区画のＹ軸方向幅分だけ移動させ、検査単位区画ｓ5〜ｓ8に対する各検査を同じ動作フローで実施し、この後、再度、ワークｗをＹ軸方向へ検査単位区画のＹ軸方向幅分だけ移動させ、検査単位区画ｓ9〜ｓ12に対する各検査を同じ動作フローで実施する。これにより、ワークｗに対する有機ＥＬ層の検査が終了する。
【００４３】
以上のように、本実施形態の有機ＥＬ層検査装置は、ワークｗの移動が停止した後の画像取込みに最低限必要な時間だけシャッタ機構２を開いてワークｗに紫外線を必要で且つ充分な量だけ照射し、検査単位区画の画像を画像データとして一旦画像バッファメモリ７３に記憶してその静止画像をモニタ８に表示するから、有機ＥＬ層が形成状態によって欠陥の有無の判定に時間を要し検査時間が長くなっても、紫外線の照射量は前述した時間ｔだけ照射される最低限必要な量で一定である。また、遮光マスク３３によりＣＣＤカメラ４の視野（検査単位区画）以外のエリアへの紫外線の照射が阻止される。従って、紫外線を過度に累積照射して有機ＥＬ層を劣化させることなく、検査時間中は継続表示されている静止画像を観察しながら有機ＥＬ層を高い精度で周到に検査できる。その結果、高表示品位で且つ高寿命の有機ＥＬ表示素子を、高い歩留りで効率よく製造することが可能となる。
【００４４】
次に、本発明の第２実施形態としての有機ＥＬ層検査装置について、図６に基づき説明する。なお、上記実施形態と同一の構成要素については同一の符号を付して、その説明を省略する。
【００４５】
本実施形態の有機ＥＬ層検査装置は、上述した第１実施形態の有機ＥＬ層検査装置に、可視光線を射出する第２の光源としての可視光源９、射出された可視光線の光路Ｐvに対して進退自在に設けられた第２シャッタ機構１０、及び第２導光部１１を追加設置したものである。
【００４６】
第２シャッタ機構１０は、紫外線の射出光路Ｐuに進退させるシャッタ機構（以下、第１シャッタ機構という）２と同じものであり、モータ１０１とアーム１０２及びシャッタ板１０３からなる。この第２シャッタ機構１０も、第１シャッタ機構２と同様に、図３に示されるコントローラ７によりその駆動が制御される。
【００４７】
第２導光部１１は、専用のハーフミラー１１１に第１導光部３の集光レンズ３２と遮光マスク３３を兼用する構成となっている。
【００４８】
上述のように構成された第２実施形態の有機ＥＬ層検査装置の動作について、図７のフローチャートに基づき説明する。なお、検査対象ワークは、上記第１実施形態の場合と同じ図５に示されるワークｗである。
【００４９】
まず、第１実施形態の場合と同様に試料ステージ６を初期位置にセットする。このとき、第１（紫外線）シャッタ機構２は閉じ、第２（可視光線）シャッタ機構１０は開いている。従って、ワークｗには可視光線が照射され、その反射光による画像がモニタ８に表示される。この画像は、ワークｗの可視光線が照射されるエリアがＣＣＤカメラ４により撮像されて画像データとして出力され、その画像データは画像バッファメモリ７３に記憶されることなくリアルタイムでモニタ８に表示される動画像である。従って、検査作業者は、その動画像を観察しながら試料ステージ６を手動操作し、ワークｗを所望の位置つまり初期位置へ最短距離で効率良く容易に移動させることができる。この場合、試料ステージ６の移動を初期位置近傍までは動画像を観察しつつ最終的なセットは試料ステージ６の目盛りを基準として行うことにより、目盛りだけによる場合に比べてワークｗを容易且つ迅速に初期位置近傍へ移動させ、且つ正確に初期位置へセットすることができる。なお、可視光線による画像では、透明に近い有機ＥＬ層を認識することは難しいが、薄膜トランジスタ回路やメタルバンクは可視光線でも充分に認識可能であるから、所望位置近傍への大まかな移動には何ら支障はない。
【００５０】
ワークｗの初期位置へのセットが完了し、試料ステージ６の停止が検知されたら、直ちに第２シャッタ機構１０が閉じられ、同時に第１シャッタ機構２が所定時間ｔだけ開かれる。これにより、初期位置にセットされたワークｗに紫外線が照射され、この紫外線による検査単位区画ｓ1（図５参照）の静止画像が、モニタ８に表示される。この静止画像は、次の検査単位区画ｓ2に対する検査を行うための試料ステージ６の移動が開始されるまで表示され、この間に、検査作業者がその静止画像を観察することにより検査単位区画ｓ1に対する検査Ｅ1が実施される。
【００５１】
検査Ｅ1が終了したら、検査作業者は次の検査Ｅ2に向けて試料ステージ６の移動を開始する。この試料ステージ６の移動開始と同時に、第２シャッタ機構１０が開かれ、可視光線のワークｗへの照射が再開され、モニタ８には次の検査Ｅ2に向けて移動されるワークｗの動画像が表示される。この後は、上述した動作が繰り返され、検査単位区画ｓ2〜ｓ12に対する各検査が順次実施される。
【００５２】
以上のように、本第２実施形態の有機ＥＬ層検査装置は、紫外線を照射する第１の光学系に加えて可視光線を照射する第２の光学系を設け、検査単位区画を切り替えるためにワークｗを移動する際は可視光線を照射して移動するワークｗの動画像をモニタ表示し、ワークｗを停止させて有機ＥＬ層を検査する際は紫外線を最低限必要な時間だけ照射して検査単位区画の静止画をモニタ表示する構成としたから、紫外線の累積照射量を最小限に抑えて有機ＥＬ層の劣化を防止しつつ、有機ＥＬ層の検査を紫外線が照射されている検査単位区画の静止画をモニタしながら高い精度で実施できるだけでなく、検査単位区画の切り替え手動操作をワークｗの可視光線による動画像をモニタしながら迅速且つ的確に実施することができる。その結果、高表示品位で且つ高寿命の有機ＥＬ表示素子を、より少ない検査工数で効率よく且つ高い歩留りで製造することが可能となる。
【００５３】
次に、本発明の第３実施形態としての有機ＥＬ層検査装置について、図８のタイミングチャートに基づき説明する。
【００５４】
本第３実施形態の有機ＥＬ層検査装置は、第１実施形態の有機ＥＬ層検査装置において、シャッタ機構２の開成タイミングを異ならせただけで、その他の構成は同じである。
【００５５】
図８に示されるように、試料ステージ６が移動を開始すると、これと同時にシャッタ機構２が開いて紫外線の検査単位区画ｓへの照射が開始され、試料ステージ６が停止して所定時間ｔが経過した後にシャッタ機構２が閉じ、紫外線の検査単位区画ｓへの照射が遮断される。
【００５６】
これにより、モニタ８には、シャッタ機構２が開いている間は移動するワークｗの紫外線による動画が表示され、シャッタ機構２が閉じている間は検査単位区画ｓの紫外線による静止画が表示される。したがって、第１実施形態の場合と同様に、検査作業者は、シャッタ機構２が閉じている間に、検査単位区画ｓの静止画をモニタしながら、有機ＥＬ層の検査を必要かつ充分な時間をかけて高い精度で実施することができる。
【００５７】
そして、本実施形態の場合、検査単位区画ｓの手動による切り替え作業を、移動するワークｗの紫外線による動画をモニタしながら迅速且つ的確に実施することができる。また、この切り替え作業中にモニタ８に表示される動画は紫外線によるものであるから、有機ＥＬ層の形成状態も認識することができる。従って、検査単位区画ｓを切り替える際に表示される動画によっても、静止画による本来の検査の前に或る程度の大まかな検査を行うことができ、その結果、本来の検査時間が短縮され、検査作業全体の工数を低減することが可能となる。なおこの場合、紫外線がワーク移動中も照射されるために、第１実施形態の場合よりも有機ＥＬ層に対する紫外線の累積照射量が増加するが、ワーク移動に要する時間は検査に要する時間に比べ格段に短いから、紫外線の照射量が有機ＥＬ層を劣化させるまでに蓄積されることはない。
【００５８】
本発明は、上記第１乃至第３実施形態に限定されるものではない。
例えば、上記実施形態等においてはワークｗを移動させるために試料ステージ６を手動操作する方式を採用しているが、これに限らず、ワーク移動手段を、同一平面内におけるＸ、Ｙ、θの各軸移動機構で構成し、これらを自動ＮＣ制御する方式としてもよい。この場合、コントローラ７にワークｗの位置情報データが入力されるから、画像認識手段として画像処理装置を用い、検査単位区画ｓの画像データと位置データをその画像処理装置に送ることにより、ワークｗの合否判断を全自動で行うことが可能となる。
【００５９】
また、図５に示すようにワークｗの検査対象エリアＡを１２個の検査単位区画ｓ1〜ｓ12に分割して検査を行う場合、上記実施形態のような手動操作では各検査単位区画ｓ1〜ｓ12をオーバーラップさせずに切り替えることは困難であるが、ＮＣ制御方式によれば、それら１２個の検査単位区画ｓ1〜ｓ12をオーバーラップさせたり離隔させることなく的確且つ迅速に切り替えることができ、検査工数がより低減されるとともに、全検査対象エリアＡにわたり紫外線の累積照射量を略均一化することができる。
【００６０】
このように、ＮＣ制御方式により検査単位区画を切り替えて画像処理により合否判定を行う構成とした有機ＥＬ層検査装置によれば、紫外線の累積照射量が均一化されるから過剰照射による有機ＥＬ層の劣化が確実に防止されるとともに、有機ＥＬ層の合否判定を画像処理により迅速且つ正確に実施することが可能となる。
【００６１】
また、紫外線の照射制御手段としては、上記実施形態におけるようなシャッタ機構を利用する方式に限らず、光源自体を点滅させるストロボ方式としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の第１実施形態としての有機ＥＬ層検査装置における光学系の構成を示す斜視図である。
【図２】上記有機ＥＬ層検査装置により検査される有機ＥＬ表示素子中間品を示す模式的断面図である。
【図３】上記有機ＥＬ層検査装置における試料ステージと制御系の構成を示す説明図である。
【図４】上記有機ＥＬ層検査装置により実施される検査動作を示すフローチャートである。
【図５】上記有機ＥＬ層検査装置により検査される有機ＥＬ表示素子中間品の検査単位区画を示す斜視図である。
【図６】本発明の第２実施形態としての有機ＥＬ層検査装置における光学系の構成を示す斜視図である。
【図７】上記第２実施形態の有機ＥＬ層検査装置により実施される検査動作を示すフローチャートである。
【図８】本発明の第３実施形態としての有機ＥＬ層検査装置により実施される検査動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００６３】
１                        紫外光源
２                        シャッタ機構（第１）
２３                      シャッタ板
３                        導光部（第１）
３１                      ハーフミラー
３２                      集光レンズ
３３                      遮光マスク
４                        ＣＣＤカメラ
４１                      ＣＣＤカメラ回路
５                        有機ＥＬ表示素子中間品
６                        試料ステージ
６１                      Ｘ軸移動機構
６２                      Ｙ軸移動機構
７                        コントローラ
７１                      中央制御回路
７２                      速度判定回路
７３                      画像バッファメモリ
８                        モニタ
９                        可視光源
１０                      第２シャッタ機構
１１                      第２導光部
Ａ                        検査対象エリア
ｓ、ｓ1〜ｓ12             検査単位区画
ｗ                        ワーク（有機ＥＬ表示素子中間品）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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