(57)【要約】【課題】  溶解ディスクリが大きく現像ラチチュードに優れると共に、耐薬品性にも優れたヒートモード対応ポジ型画像記録材料を提供する。【解決手段】  支持体上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を含み、該構造単位が有するフェノール性水酸基の一部又は全部が、非共有電子対結合部位及び水素結合可能な水素原子を有し、熱的に可逆な２以上の水素結合を形成しうる置換基で修飾された高分子化合物、及び赤外線吸収剤を含有する記録層を有することを特徴とするヒートモード対応ポジ型画像記録材料。    【化１】2006184517.tif 000038［一般式（Ｉ）中、Ｒ01は、水酸基を置換基として有する芳香族基を表す。］【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を含み、該構造単位が有するフェノール性水酸基の一部又は全部が、非共有電子対結合部位及び水素結合可能な水素原子を有し、熱的に可逆な２以上の水素結合を形成しうる置換基で修飾された高分子化合物、及び赤外線吸収剤を含有する記録層を有することを特徴とするヒートモード対応ポジ型画像記録材料。
【化１】
2006184517.tif 000037
［一般式（Ｉ）中、Ｒ01は、水酸基を置換基として有する芳香族基を表す。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は平版印刷版原版やカラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターとして使用できる画像記録材料に関し、特にコンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザを走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版原版に使用可能なヒートモード対応ポジ型画像記録材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年におけるレーザの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できるようになっている。コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用である。
【０００３】
ポジ型記録層は、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、該バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤とを含むものであるが、中でも、露光の際に赤外線レーザを用いるポジ型記録層においては、上記バインダー樹脂と、溶解阻止剤との他に、光を吸収し熱を発生する赤外線吸収染料等の光熱変換剤を含有することが好ましい。これらの光熱変換剤の中でも、特にシアニン染料は、上記溶解阻止剤としての機能をも有することから、赤外線レーザ対応のポジ型記録層の光熱変換剤として好適に用いられる。
【０００４】
しかしながら、このような赤外線レーザ用ポジ型記録層では、様々な使用条件における未露光部（画像部）の現像液に対する耐溶解性と、露光部（非画像部）の溶解性との間の差（ディスクリミネーション；以下、溶解ディスクリと称する。）が未だ十分とは言えず、使用条件の変動による現像過剰や現像不良が起きやすいという問題があった。
【０００５】
この問題に対して、アルカリ可溶性樹脂の大部分がノボラック樹脂で形成されている感光性組成物（例えば、特許文献１参照。）を用いることで、溶解ディスクリを向上させる技術が知られている。このノボラック樹脂のフェノール性水酸基同士の水素結合、或いは、感光性組成物内に含有されている他添加剤との相互作用等により、未露光部では現像液に対する溶解性が抑制され、露光部では熱により溶解性が増大することで、溶解ディスクリをつけている。しかし実際には、溶解ディスクリの大きさは不充分であり、使用条件による現像安定性（現像ラチチュード）が低いという問題があった。
【０００６】
溶解ディスクリを広げるための技術としては、アルカリ可溶性樹脂として、ノボラック樹脂と、特定の官能基をもつ構造単位を有する樹脂と、を併用した感光性組成物が知られている（例えば、特許文献２参照）。この感光性組成物は、フェノール性水酸基部分と、特定官能基部分との強い相互作用により、感光層内の膜密度を高めることで溶解ディスクリを大幅に向上させている。しかし、該アルカリ可溶性樹脂は、耐薬品性に劣るため、印刷中にインクの付きが悪くなった時に用いるプレートクリーナーに対する耐性が低く、該クリーナーで版面を拭いた時に、感光性組成物が溶出してしまうといった問題があった。
【０００７】
また、耐薬品性の高い感光性組成物として、水素結合を有する非共有電子対結合部位をもつ置換基と、フェノ−ル性水酸基と、を有するポリマーを含有するアルカリ可溶性樹脂が知られている（例えば、特許文献３参照）。このような特定の樹脂を平版印刷版材料に用いることで、耐薬品性は大幅に向上したが、溶解ディスクリについては不充分であり、そのため現像安定性が低くなるという問題があった。
【特許文献１】欧州特許出願公開第８２３３２７号明細書
【特許文献２】特開２０００−７５４８５号公報
【特許文献３】米国特許第６５０６５３６号明細書
【０００８】
本発明は、前記従来における技術的問題点を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、溶解ディスクリが大きく現像ラチチュードに優れると共に、耐薬品性にも優れたヒートモード対応ポジ型画像記録材料を提供することにある。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは鋭意研究の結果、画像記録材料の記録層中に、特定の構造を有する高分子化合物を含有させることにより、上記目的が達成されること見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明のヒートモード対応ポジ型画像記録材料は、支持体上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を含み、該構造単位が有するフェノール性水酸基の一部又は全部が、非共有電子対結合部位及び水素結合可能な水素原子を有し、熱的に可逆な２以上の水素結合を形成しうる置換基（以下、適宜「特定置換基」と称する）で修飾された高分子化合物（以下、適宜「特定高分子化合物」と称する。）、及び赤外線吸収剤を含有する記録層を有することを特徴とする。
【００１０】
【化１】
2006184517.tif 000002
【００１１】
一般式（Ｉ）中、Ｒ01は、水酸基を置換基として有する芳香族基を表す。
【００１２】
本発明における記録層は、単層でもよく、また、それぞれの構成成分が異なる複数の層からなる重層構造であってもよい。重層構造の記録層の場合には、下層にこの特定高分子化合物を含有する態様が効果の観点から好ましい。
【００１３】
本発明の作用は明確ではないが、以下のように推測される。
本発明における記録層に含有される特定高分子は、一般式（Ｉ）で表されるようなアセ
タール構造を有する構造単位を含む高分子化合物であり、その構造中に酸素原子を多数有する。このため、未露光部においては、アセタール構造中の酸素原子が、特定置換基と強く相互作用するために、現像液に対する溶解性を抑制するものと推測される。さらには、特定高分子化合物内に存在するアセタール構造に起因して、優れた皮膜特性、耐薬品性を示すものと推測される。
一方、露光部においては、該相互作用が熱等のエネルギーで容易に解除されるため、特定高分子化合物が本来有するアルカリ水溶液に対する溶解性が発現され、高い現像性が確保できるものと推測される。また、前述のように強い相互作用を有するため、耐キズ性、特に、高濃度アルカリ水溶液の影響によるキズの発生抑制効果も向上し、結果として、現像ラチチュードが拡大されると推測される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、溶解ディスクリが大きく現像ラチチュードに優れると共に、耐薬品性にも優れたヒートモード対応ポジ型画像記録材料を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明のヒートモード対応ポジ型画像記録材料（以下、単に「画像記録材料」と称する場合がある。）について詳細に説明する。
本発明の画像記録材料は、支持体上に、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を含み、該構造単位が有するフェノール性水酸基の一部又は全部が、非共有電子対結合部位及び水素結合可能な水素原子を有し、熱的に可逆な２以上の水素結合を形成しうる置換基（特定置換基）で修飾された高分子化合物（特定高分子化合物）、及び赤外線吸収剤を含有する記録層を有することを特徴とする。
本発明における記録層は、その層構成に特に制限はなく、単層構造であっても、それぞれの構成成分が異なる複数の層からなる重層構造であってもよい。記録層が重層構造の場合には、上記特定高分子化合物は、いずれの層に含まれていてもよいが、特に下層に含まれることが効果の観点から好ましい。
先ず、単層型記録層を有する本発明の平版印刷版原版の各構成について、順次、詳細に説明する。
【００１６】
［単層型記録層］
〔特定高分子化合物〕
本発明における特定高分子化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を含み、該構造単位が有するフェノール性水酸基の一部又は全部が、非共有電子対結合部位及び水素結合可能な水素原子を有し、熱的に可逆な２以上の水素結合を形成しうる置換基（特定置換基）で修飾されていることを特徴とする。
【００１７】
【化２】
2006184517.tif 000003
【００１８】
一般式（Ｉ）中、Ｒ01は、水酸基を置換基として有する芳香族基を表す。
特定高分子化合物は、Ｒ01が置換基として有する水酸基（フェノール性水酸基）の一部又は全部が、後に詳述する特定置換基により修飾されることが必要である。
【００１９】
一般式（Ｉ）中、Ｒ01で表される、水酸基を置換基として有する芳香族基に含まれ
る芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、等が挙げられる。
Ｒ01で表される、水酸基を置換基として有する芳香族基は、水酸基以外の他の置換基を更に有していてもよい。導入可能な他の置換基としては、例えば、水素を除く一価の非金属原子団が挙げられる。水素を除く一価の非金属原子団の好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリ−ルウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、
【００２０】
アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基（以下、「スルホナト基」という。）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アリ−ルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＲ）3、Ｒはアルキル基を表す。）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＡｒ）3、Ａｒはアリール基を表す。）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、「ホスホナト基」という。）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｒ2、Ｒはアルキル基を表す。）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ａｒ2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アルキルホスホナト基」という。）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アリールホスホナト基」という。）、
【００２１】
ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、「ホスホナトオキシ基」という。）、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｒ2、Ｒはアルキル基を表す。）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ａｒ2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基（例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等が挙げられる。）、アルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基等が挙げられる。）、アルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。）、アシル基、等が挙げられる。
【００２２】
Ｒ01で表される、水酸基を置換基として有する芳香族基としては、以下に示す基であることが好ましい。
【００２３】
【化３】
2006184517.tif 000004
【００２４】
上記式中、Ｒ02は−ＯＨを表す。Ｒ03は、−ＯＨ、−ＯＣＨ3、−Ｂｒ、−ＯＣＨ2−Ｃ≡ＣＨ3の何れかを表し、Ｒ04は−Ｂｒ又は−ＮＯ2を表す。
【００２５】
特定高分子化合物においては、一般式（Ｉ）で表される構造単位として、同一のＲ01を有する構造単位のみを含んでいてもよいし、異なるＲ01を有する構造単位を複数含んでいてもよい。本発明における特定高分子化合物の好適な態様については後に詳述する。
【００２６】
特定高分子化合物は、既述のごとく、一般式（Ｉ）中のＲ01が有するフェノール性水酸基の一部又は全部が、非共有電子対結合部位及び水素結合可能な水素原子を有し、熱的に可逆な２以上の水素結合を形成しうる置換基（特定置換基）で修飾されている。
【００２７】
特定置換基が有する非共有電子対結合部位とは、後述の水素結合可能な水素原子と水素結合を形成しうる部位を指し、具体的には、＝Ｏ、＝Ｎ−、＝Ｓ、＝Ｐ−、などが挙げられ、中でも、水素原子とより強い水素結合を形成する観点からは、＝Ｏ、＝Ｎ−が好ましい。
【００２８】
また、特定置換基が有する水素結合可能な水素原子とは、前記一般式（Ｉ）で表される構造単位が有するアセタール構造中の酸素原子、又は、上記非共有電子対結合部位と、水素結合しうる活性状態の水素原子を指し、具体的には、窒素原子と共有結合している水素原子、酸素原子と共有結合している水素原子、硫黄原子と共有結合している水素原子、リン原子と共有結合している水素原子、などが挙げられる。中でも、上記非共有電子対結合部位とより強い水素結合を形成する観点からは、窒素原子と共有結合している水素原子、酸素原子と共有結合している水素原子が好ましい。
【００２９】
本発明においては、特定高分子化合物を用いて形成された膜中において、前記一般式（Ｉ）で表される構造単位が有するアセタール構造中の酸素原子、又は、上記非共有電子対結合部位と、水素結合可能な水素原子とが熱的に可逆な水素結合を形成する。なお、特定置換基間で上記水素結合が形成される場合には、該水素結合は、同一の特定置換基中の部位同士で形成されるのではなく、膜中に存在する別の特定置換基との間に形成される。
【００３０】
このように、本発明における特定置換基は、前記一般式（Ｉ）で表される構造単位が有するアセタール構造中の酸素原子、又は、上記非共有電子対結合部位との間に水素結合を形成するため、分子の回転運動が起こらない安定した相互作用が形成されるものと考えられる。また、この水素結合は、熱的に可逆的であるため、画像形成時のレーザー露光等で容易に解除され、現像により露光部（非画像部）が除去される。
【００３１】
本発明における特定置換基の好ましい具体例を以下に示す。なお、具体例中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、及びＲ4aは、各々独立に、水素又はアルキル基を表し、Ｙは、Ｙ’（ＮＣＯ）2で表されるジイソシアネートからの誘導体を表し、Ｒ5aはＲ5a’（ＯＨ）nで表されるフェノール性水酸基の残基を表す。
【００３２】
【化４】
2006184517.tif 000005
【００３３】
【化５】
2006184517.tif 000006
【００３４】
本発明における特定高分子化合物は、一般式（Ｉ）におけるＲ01が有するフェノール性水酸基の一部又は全部を、上述した特定置換基で置換することで得られる。ここで、フェノール性水酸基（以下、特定高分子化合物の説明中では、適宜、「水酸基」と称する。）とは、高分子化合物の分子内に存在するベンゼン骨格に直接結合した水酸基を意味する。
特定高分子化合物中において、一般式（Ｉ）で表される構造単位は、１０〜６０モル％含まれることが好ましく、２０〜５５モル％含まれることがより好ましく、３０〜５０モル％含まれることがさらに好ましい。
一般式（Ｉ）で表される構造単位中のフェノール性水酸基を特定官能基で置換する割合としては、高分子化合物の種類等により適宜決定されるが、好ましくは１モル％〜８０モル％程度、好ましくは１〜６０モル％程度、より好ましくは１〜４０モル％程度である。
【００３５】
本発明における特定高分子化合物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、上記した一般式（Ｉ）で表される構造単位以外の、他の構造単位を含むことができる。併用可能な他の構造単位としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーに由来する構造単位等が挙げられる。
【００３６】
アクリル酸エステル類としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−又はｉ−）、プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート等が挙げられる。
【００３７】
メタクリル酸エステル類としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート（ｎ−又はｉ−）、プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等が挙げられる。
【００３８】
アクリルアミド類としては、例えば、アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
【００３９】
メタクリルアミド類としては、例えば、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。
【００４０】
ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。
スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。
【００４１】
これらのモノマーの中でも、炭素数２０以下のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルが好ましい。
【００４２】
本発明における特定高分子化合物としては、下記一般式（II）で表される高分子化合物が好ましい。
【化６】
2006184517.tif 000007
【００４３】
一般式（II）中、Ｒ01は水酸基を置換基として有する芳香族基を表し、Ｒ2は炭化水素基を表す。ｍ＝１０〜６０モル％、ｎ＝５〜４０モル％、ｏ＝１〜２０モル％、ｐ＝５〜５０モル％である。
【００４４】
上記構造単位（ａ）中、Ｒ01は一般式（Ｉ）におけるＲ01と同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（II）中、構造単位（ａ）の共重合比であるｍは、１０〜６０モル％であり、２０〜５５モル％であることがより好ましく、３０〜５０モル％であることがさらに好ましい。
【００４５】
一般式（II）で表される高分子化合物中、構造単位（ａ）としては、同一のＲ01を有する構造単位（ａ）のみを含んでいてもよく、異なるＲ01を有する構造単位（ａ）を複数含んでいてもよい。
【００４６】
上記構造単位（ｂ）中、Ｒ2は炭化水素基を表し、直鎖状、分岐状、環状のアルキル基が好適に挙げられる。
Ｒ2としては、炭素数１〜１２（好ましくは３〜１０）の直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシ基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボニル基が挙げられ、これらの中でも、炭素数が３〜１０のアルキル基がより好ましい。
【００４７】
一般式（II）中、構造単位（ｂ）の共重合比であるｎは、５〜４０モル％であり、１０〜３５モル％であることがより好ましく、１５〜３０モル％であることがさらに好ましい。
一般式（II）で表される高分子化合物中、構造単位（ｂ）としては、同一のＲ2を有する構造単位（ｂ）のみを含んでいてもよく、異なるＲ2を有する構造単位（ｂ）を複数含んでいてもよい。
【００４８】
一般式（II）中、構造単位（ｃ）の共重合比であるｏは、１〜２０モル％であり、２〜１５モル％であることがより好ましく、３〜１０モル％であることがさらに好ましい。
また、構造単位（ｄ）の共重合比であるｐは、５〜５０モル％であり、１０〜４５モル％であることがより好ましく、１５〜４０モル％であることがさらに好ましい。
【００４９】
一般式（II）で表される高分子化合物は、上記構造単位（ａ）（ｂ）（ｃ）及び（ｄ）以外の他の構造単位を含んでいてもよい。
【００５０】
一般式（II）で表される高分子化合物の中でも、本発明における特定高分子化合物としては、下記一般式（III）で表される高分子化合物であることがより好ましい。
【００５１】
【化７】
2006184517.tif 000008
【００５２】
一般式（III）中、構造単位（ａ）（ｂ）（ｃ）及び（ｄ）は、一般式（Ｉ）における
構造単位（ａ）（ｂ）（ｃ）及び（ｄ）と同義であり、好ましい範囲も同様である。
構造単位（ｅ）中、Ｒ6は、−（ＣＨ2）x―ＣＯＯＨ、−Ｃ≡ＣＨ、又は以下に示す基を表す。Ｘは１以上の整数を表し、好ましくは１〜１２の整数を表す。ｑは０〜２０モル％である。
【００５３】
【化８】
2006184517.tif 000009
【００５４】
上記式中、Ｒ7は、―ＣＯＯＨ、―（ＣＨ2）xＣＯＯＨ、−Ｏ−（ＣＨ2）xＣＯＯＨを表す。Ｘは１以上の整数を表し、好ましくは１〜１２の整数を表す。
【００５５】
一般式（III）中、構造単位（ｅ）の共重合比であるｑは、０〜２０モル％であり、３〜１７モル％であることがより好ましく、５〜１５モル％であることがさらに好ましい。
【００５６】
一般式（III）で表される高分子化合物中、構造単位（ｅ）は、同一のＲ6を有する構造単位（ｅ）のみを含んでいてもよく、異なるＲ6を有する構造単位（ｅ）を複数含んでいてもよい。
【００５７】
以下に、本発明において好適に用いられる特定高分子化合物の具体例〔特定高分子化合物（ａ）〜（ｈ）〕を示すが、これらに限定されるものではない。
【００５８】
【化９】
2006184517.tif 000010
【００５９】
＜特定高分子化合物（ａ）＞
ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝３７／３６／２／２５／０；重量平均分子量：１６０００
Ｒ01＝４−ヒドロキシフェニル基
Ｒ2＝ｎ−ブチル基
Ｒ01が有するフェノール性水酸基は、該水酸基の総モル数に対して１０モル％の割合で下記の特定置換基で置換。
【００６０】
【化１０】
2006184517.tif 000011
【００６１】
＜特定高分子化合物（ｂ）＞
ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝４９／１２／１７／２２／０；重量平均分子量：１４０００）
Ｒ01＝３−ヒドロキシフェニル基
Ｒ2＝ｎ−ブチル基
Ｒ01が有するフェノール性水酸基は、該水酸基の総モル数に対して７モル％の割合で下記の特定置換基で置換。
【００６２】
【化１１】
2006184517.tif 000012
【００６３】
＜特定高分子化合物（ｃ）＞
ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝４１／３０／２／２０／９；重量平均分子量：１８０００
Ｒ01＝２−ヒドロキシフェニル基
Ｒ2＝ｎ−ブチル基
Ｒ3＝グリオキシル基
Ｒ01が有するフェノール性水酸基は、該水酸基の総モル数に対して１５モル％の割合で下記の特定置換基で置換。
【００６４】
【化１２】
2006184517.tif 000013
【００６５】
＜特定高分子化合物（ｄ）＞
ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝４３／２１／２／２４／１０；重量平均分子量：１６０００
Ｒ01＝３−ヒドロキシフェニル基
Ｒ2＝ｎ−ブチル基
Ｒ3＝プロパルギル基
Ｒ01が有するフェノール性水酸基は、該水酸基の総モル数に対して１モル％の割合で下記の特定置換基で置換。
【００６６】
【化１３】
2006184517.tif 000014
【００６７】
＜特定高分子化合物（ｅ）＞
ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝４２／３８／２／１８／０；重量平均分子量：１８０００
Ｒ01＝２−ヒドロキシフェニル基
Ｒ2＝ｎ−ブチル基
Ｒ01が有するフェノール性水酸基は、該水酸基の総モル数に対して７．５モル％の割合で下記の特定置換基で置換。
【００６８】
【化１４】
2006184517.tif 000015
【００６９】
＜特定高分子化合物（ｆ）＞
ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝３８／２５／１２／２６／０；重量平均分子量：１６０００
Ｒ01＝４−ヒドロキシフェニル基
Ｒ2＝ｎ−ブチル基
Ｒ01が有するフェノール性水酸基は、該水酸基の総モル数に対して０．５モル％の割合で下記の特定置換基で置換。
【００７０】
【化１５】
2006184517.tif 000016
【００７１】
＜特定高分子化合物（ｇ）＞
ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝１０／１６／１２／４４／１８；重量平均分子量：１８０００
Ｒ01＝２−ヒドロキシフェニル基
Ｒ2＝ｎ−イソバレル基
Ｒ3＝４−ホルミルフェノキシル基
Ｒ01が有するフェノール性水酸基は、該水酸基の総モル数に対して５５モル％の割合で下記の特定置換基で置換。
【００７２】
【化１６】
2006184517.tif 000017
【００７３】
＜特定高分子化合物（ｈ）＞
ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝４４／１４／２／４０／０；重量平均分子量：１６０００
Ｒ01＝３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル基
Ｒ2＝ｎ−ブチル基
Ｒ01が有するフェノール性水酸基は、該水酸基の総モル数に対して３モル％の割合で下記の特定置換基で置換。
【００７４】
【化１７】
2006184517.tif 000018
【００７５】
（本発明における特定高分子化合物の合成）
本発明における特定高分子化合物は、既述のごとく、一般式（Ｉ）におけるＲ01が有するフェノール性水酸基の一部又は全部を、上述した特定置換基で置換することで得られる。フェノール性水酸基の一部又は全部を特定置換基で置換するための高分子化合物は、例えば、「高分子化学」第２３巻３４８〜３５３頁（１９６６年）等に記載の方法にて、酢酸ビニルと必要に応じて用いられるその他の共重合成分との共重合体を合成し、その後、アルカリ性条件で酢酸ビニル部分を加水分解し、酢酸ビニル、ビニルアルコールの共重合体とした後に、或いは、特開平１１−２４２７２号公報等に記載の方法にて、ビニルアルコールと必要に応じて用いられるその他の共重合成分との共重合体を得た後に、ヒドロキシベンズアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒド等の任意のアルデヒドによりアセタール化する方法により合成することができる。
【００７６】
本発明における特定高分子化合物の構造には特に制限はなく、線状高分子であっても、枝分かれ構造を有する高分子であってもよい。また、特定高分子化合物が、前記各構造単位の共重合体の場合には、ブロック構造であっても、グラフト構造を有していてよい。
特定高分子化合物の重量平均分子量は、ポジ型の画像形成性と耐薬品性の観点から、好ましくは、２，０００〜１，０００，０００、より好ましくは、５，０００〜５００，０００、更に好ましくは、１０，０００〜３００，０００の範囲である。
【００７７】
単層型記録層である場合における、特定高分子化合物の含有量は、記録層の比較強度及び耐薬品性向上の観点から、記録層全固形分中、５０〜９９質量％であることが好ましく、６０〜９７質量％であることがより好ましく、６５〜９５質量％であることが特に好ましい。特定高分子化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７８】
単層型記録層には、特定高分子化合物以外のアルカリ可溶性樹脂を併用してもよい。併用可能なアルカリ可溶性樹脂としては、後述する重層型記録層（上層）に用いられる、一般的なアルカリ可溶性樹脂が挙げられ、中でもノボラック樹脂が好ましい。
一般的なアルカリ可溶性樹脂を混合する比率としては、特定高分子化合物を含む全アルカリ可溶性樹脂の４０質量％以下が好ましく、更に好ましくは３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。
【００７９】
〔赤外線吸収剤〕
本発明における単層型記録層は、赤外線吸収剤を含有する。
本発明における記録層に使用できる赤外線吸収剤としては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザーへの適合性の観点から波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。
【００８０】
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。
【００８１】
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【００８２】
また、米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
【００８３】
また、染料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（ＩＩ）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【００８４】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。更に、下記一般式（ａ）〜一般式（ｅ）で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式（ａ）で示されるシアニン色素は、本発明における記録層中で使用した場合に、アルカリ可溶性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
【００８５】
【化１８】
2006184517.tif 000019
【００８６】
一般式（ａ）中、Ｘ1は、水素原子、ハロゲン原子、−ＮＰｈ2、−Ｘ2−Ｌ1又は以下に示す基を表す。ここで、Ｘ2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、Ｌ1は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅを示す。
【００８７】
【化１９】
2006184517.tif 000020
【００８８】
前記式中、Ｘa-は、後述するＺa-と同様に定義され、Ｒaは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、Ｒ1及びＲ2は、炭素原子数２個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、Ｒ1とＲ2とは互いに結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に好ましい。
【００８９】
Ａｒ1、Ａｒ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基が挙げられる。Ｙ1、Ｙ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ3、Ｒ4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚa-は、対アニオンを示す。ただし、一般式（ａ）で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合には、Ｚa-は必要ない。好ましいＺa-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。
【００９０】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ａ）で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開２００１−１３３９６９明細書の段落番号［００１７］〜［００１９］、特開２００２−４０６３８明細書の段落番号［００１２］〜［００３８］、特開２００２−２３３６０明細書の段落番号［００１２］〜［００２３］に記載されたものを挙げることができる。
【００９１】
【化２０】
2006184517.tif 000021
【００９２】
【化２１】
2006184517.tif 000022
【００９３】
【化２２】
2006184517.tif 000023
【００９４】
【化２３】
2006184517.tif 000024
【００９５】
前記一般式（ｂ）中、Ｌは共役炭素原子数７以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ｚｂ+は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン（Ｎａ+、Ｋ+、Ｌｉ+）などが挙げられる。Ｒ9〜Ｒ14及びＲ15〜Ｒ20は互いに独立に水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを２つ若しくは３つ組合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ここで、前記一般式（ｂ）中、Ｌが共役炭素原子数７のメチン鎖を表すもの、及び、Ｒ9〜Ｒ14及びＲ15〜Ｒ20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。
【００９６】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｂ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【００９７】
【化２４】
2006184517.tif 000025
【００９８】
【化２５】
2006184517.tif 000026
【００９９】
前記一般式（ｃ）中、Ｙ3及びＹ4は、それぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Ｍは、共役炭素数５以上のメチン鎖を表す。Ｒ21〜Ｒ24及びＲ25〜Ｒ28は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Ｚａ-は対アニオンを表し、前記一般式（ａ）におけるＺａ-と同義である。
【０１００】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｃ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１０１】
【化２６】
2006184517.tif 000027
【０１０２】
【化２７】
2006184517.tif 000028
【０１０３】
前記一般式（ｄ）中、Ｒ29ないしＲ31は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。Ｒ33及びＲ34は、各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に０ないし４の整数を示す。Ｒ29とＲ30、又はＲ31とＲ32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またＲ29及び／又はＲ30はＲ33と、またＲ31及び／又はＲ32はＲ34と結合して環を形成してもよく、更に、Ｒ33或いはＲ34が複数存在する場合に、Ｒ33同士或いはＲ34同士は互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ2及びＸ3は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、Ｘ2及びＸ3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Ｑは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、２価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Ｚｃ-は対アニオンを示し、前記一般式（ａ）におけるＺａ-と同義である。
【０１０４】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｄ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１０５】
【化２８】
2006184517.tif 000029
【０１０６】
【化２９】
2006184517.tif 000030
【０１０７】
前記一般式（ｅ）中、Ｒ35〜Ｒ50は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示し、構造によっては更に置換基を有してもよい。Ｍは２つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のＩＡ、ＩＩＡ、ＩＩＩＢ、ＩＶＢ族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。
【０１０８】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｅ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１０９】
【化３０】
2006184517.tif 000031
【０１１０】
前記顔料としては、市販の顔料又はカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）及び「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。
【０１１１】
前記顔料の種類としては、例えば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラックを用いることができる。
【０１１２】
これらの顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート）を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０１１３】
顔料の粒径は、塗布液中の分散物の安定性や記録層の均一性の観点から、０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることが更に好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。
【０１１４】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０１１５】
赤外線吸収剤は、記録層と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。別の層とする場合、記録層に隣接する層へ添加するのが望ましい。
更に、赤外線吸収剤が溶解抑制能を有する化合物である場合には、前記特定高分子化合物と同一の層に添加することで、該赤外線吸収剤が光熱変換機能のみならず、現像抑制剤としても機能するため好ましい。
赤外線吸収剤の添加量としては、感度や記録層の耐久性（膜性）等の観点から、単層型記録層全固形分中、０．０１〜５０質量％添加することが好ましく、０．１〜１０質量％添加することが更に好ましい。染料の場合、特に好ましくは０．５〜１０質量％、顔料の場合特に好ましくは０．１〜１０質量％の割合で添加することができる。
【０１１６】
〔その他の成分〕
本発明における単層型記録層を形成するにあたっては、上記の成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
【０１１７】
＜現像抑制剤＞
本発明における記録層には、そのインヒビション（溶解抑制能）を高める目的で、現像抑制剤を含有させることが好ましい。例えば、オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の、熱分解性であり、分解しない状態では、アルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することは、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で好ましい。
【０１１８】
本発明において用いられるオニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げられ、特に好適なものとしては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）、特開平５−１５８２３０号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１４０１４０号の明細書に記載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、
【０１１９】
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第５，０４１，３５８号、同第４，４９１，６２８号、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、
【０１２０】
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０２，１１４号、同４，４９１，６２８号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号に記載のスルホニウム塩、
【０１２１】
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
このようなオニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平５−１５８２３０号公報記載のものが挙げられる。
【０１２２】
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
【０１２３】
好適なキノンジアジド類としては、ｏ−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物は、少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、ｏ−キノンジアジドは熱分解により現像抑制剤としてのインヒビションを失うことと、ｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により上層の溶解性を助ける。
そのようなｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ．Ｉｎｃ．）第３３９〜３５２頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されているようなベンゾキノン（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１、２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第３，０４６，１２０号及び同第３，１８８，２１０号に記載されているベンゾキノン−（１，２−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
【０１２４】
更にナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂或いはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なｏ−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭４７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公昭４９−１７４８１号、米国特許第２，７９７，２１３号、同第３，４５４，４００号、同第３，５４４，３２３号、同第３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４９５号、同第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２２７，６０２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，２６７，００５号、同第１，３２９，８８８号、同第１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４，８９０号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。
【０１２５】
ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは単層型記録層全固形分に対し、０．１〜８質量％、より好ましくは０．２〜５質量％の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
また特開平１１−２８８０８９号記載の少なくとも一部がエステル化されたアルカリ可溶性樹脂を含んでも良い。
【０１２６】
また、記録層表面のインヒビションの強化とともに表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開２０００−１８７３１８号に記載されているような、分子中に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を２又は３個有する（メタ）アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することが好ましい。
添加量としては、単層型記録層全固形分に対し、０．５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは１〜１０質量％の範囲である。
【０１２７】
＜現像促進剤＞
本発明における単層型記録層には、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加してもよい。
酸無水物類としては環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−Δ４−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては無水酢酸などが挙げられる。
【０１２８】
フェノール類としては、ビスフェノールＡ、２，２’−ビスヒドロキシスルホン、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，４’，３”，４”−テトラヒドロキシ−３，５，３’，５’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
【０１２９】
有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２号、特開平２−９６７５５号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の単層型記録層全固形分に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
【０１３０】
＜界面活性剤＞
本発明における単層型記録層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開昭６２−１７０９５０号公報、特開平１１−２８８０９３号公報、特願２００１−２４７３５１に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
【０１３１】
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両性活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名「アモーゲンＫ」：第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【０１３２】
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、（株）チッソ社製、ＤＢＥ−２２４、ＤＢＥ−６２１、ＤＢＥ−７１２、ＤＢＰ−７３２、ＤＢＰ−５３４、独Ｔｅｇｏ社製、Ｔｅｇｏ  Ｇｌｉｄｅ１００等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることが出来る。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の単層型記録層全固形分に占める割合は、０．０１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５．０質量％、更に好ましくは０．５〜２．０質量％である。
【０１３３】
＜焼出し剤／着色剤＞
本発明における単層型記録層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６４４号及び同６３−５８４４０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
【０１３４】
画像着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレットラクトン、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料は特に好ましい。
これらの染料は、単層型記録層の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で添加することができる。
【０１３５】
＜可塑剤＞
本発明における単層型記録層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加しても良い。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
これらの可塑剤は、単層型記録層全固形分に対し、０．５〜１０質量％、好ましくは１．０〜５質量％の割合で添加することができる。
【０１３６】
＜ＷＡＸ剤＞
本発明における単層型記録層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許第６，１１７，９１３号明細書、或いは本願出願人が先に提案した特願２００１−２６１６２７号、特願２００２−０３２９０４号、特願２００２−１６５５８４号の各明細書に記載されているいるような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることが出来る。
添加量としては、単層型記録層全固形分中に占める割合が０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
【０１３７】
［重層型記録層］
次に、本発明の平版印刷版原版のポジ型記録層が、構成成分の異なる複数の層からなる重層構造をとった場合について述べる。
本発明の重層型記録層においては、本発明の特徴的成分である前記特定高分子化合物は、いずれの層に含有されていてもよいが、特に、下層に含有されていることが好ましい。即ち、本発明における重層型記録層は、特定高分子化合物を含有する下層と、アルカリ可溶性樹脂、及び該アルカリ可溶性樹脂と相互作用を形成してアルカリ現像液に対する溶解性を低下させる化合物を含有する上層と、からなるポジ型記録層であることが好ましい。記録層の下層及び上層の少なくとも一方には、赤外線吸収剤を含有する。
以下、このような重層型記録層について詳細に説明する。
【０１３８】
（下層）
本発明における下層は、上述した特定高分子化合物を含有することが好ましい。
このような重層型記録層の下層における、特定高分子化合物の含有量は、記録層の皮膜性向上及び耐薬品性向上の観点から、下層記録層全固形分中、５０〜９９質量％であることが好ましく、６５〜９７質量％であることがより好ましく、７５〜９５質量％であることが特に好ましい。
【０１３９】
重層型記録層の下層には、バインダー樹脂として、このような特定高分子化合物のみを用いてもよいが、膜性向上の観点から、前記特定高分子化合物に加えて、本発明の効果を損なわない範囲で他の樹脂を併用することができる。
下層自体は、特に非画像部領域において、アルカリ可溶性を発現することを要するため、この特性を損なわない樹脂を選択する必要がある。この観点から、併用可能な樹脂としては、前記特定高分子化合物以外のアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。特定高分子化合物と併用可能なアルカリ可溶性樹脂については、上層の成分として後述する一般的なアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。中でも、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ基を含有する樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリウレタン樹脂等を好ましく挙げることができる。
一般的なアルカリ可溶性樹脂を混合する比率としては、下層に含まれる全アルカリ可溶性樹脂の４０質量％以下が好ましく、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下であることが特に好ましい。
【０１４０】
また、本発明における下層に含まれる成分としては、更に必要に応じて、その他の添加剤を用いることができる。その他の添加剤としては、例えば、現像促進剤、界面活性剤、焼出し剤／着色剤、可塑剤、及びＷＡＸ剤、等が挙げられる。これらの成分についての詳細は、後述する上層の成分として記載されるものと同様である。
【０１４１】
（上層）
本発明における上層は、特定高分子化合物以外の他のアルカリ可溶性樹脂、及び該アルカリ可溶性樹脂と相互作用を形成してアルカリ現像液に対する溶解性を低下させる化合物を含有することが好ましい。
【０１４２】
〔アルカリ可溶性樹脂〕
上層に使用可能なアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖及び／又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体、又はこれらの混合物であることが好ましい。また、上述の特定高分子化合物を上層に添加することもできる。
このような酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、特に、（１）フェノール性水酸基、（２）スルホンアミド基、（３）活性イミド基、（４）カルボン酸基、（５）リン酸基のいずれかの官能基を分子内に有する高分子化合物が挙げられ、中でも、（１）フェノール性水酸基、（２）スルホンアミド基、（３）活性イミド基を有する高分子化合物が特に好ましい。そのような高分子化合物としては、例えば、以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４３】
（１）フェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が挙げられる。フェノール性水酸基を有する高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物を用いることが好ましい。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合とをそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。
【０１４４】
フェノール性水酸基を有する重合性モノマーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。具体的にはＮ−（２−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート等を好適に使用することができる。かかるフェノール性水酸基を有する樹脂は、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。更に、米国特許４，１２３，２７９号明細書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの共重合体を併用してもよい。
【０１４５】
（２）スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、スルホンアミド基を有する重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとしては、１分子中に、窒素原子上に少なくとも１つの水素原子が結合したスルホンアミド基−ＮＨ−ＳＯ2−と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。
【０１４６】
（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂は、活性イミド基を分子内に有するものが好ましく、この高分子化合物としては、１分子中に活性イミド基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。
このような化合物としては、具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【０１４７】
（４）カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
【０１４８】
（５）リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
【０１４９】
上層に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合性モノマーのうち２種類以上を重合させた高分子化合物であることが好ましい。上記重合性モノマーの共重合比、及び重合性モノマーの組み合わせに制限はないが、特にフェノール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホンアミド基を有する重合性モノマー及び／又は活性イミド基を有する重合性モノマーを共重合させる場合には、これら成分の配合重合比は５０：５０から５：９５の範囲にあることが好ましく、４０：６０から１０：９０の範囲にあることが特に好ましい。
【０１５０】
更に、上層に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、上記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーから選択される１種或いは２種類以上の重合性モノマーの他に、他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物であることが好ましい。この場合の共重合比としては、現像性の観点から、アルカリ可溶性を付与するモノマーを１０モル％以上含むことが好ましく、２０モル％以上含むものがより好ましい。
ここで使用可能な他の重合性モノマーとしては、下記（ｍ１）〜（ｍ１２）に挙げる化合物を例示することができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５１】
（ｍ１）２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（ｍ２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
（ｍ３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
（ｍ４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
【０１５２】
（ｍ５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（ｍ６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（ｍ７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（ｍ８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（ｍ９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（ｍ１０）Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（ｍ１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（ｍ１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【０１５３】
上層に用いられるアルカリ可溶性樹脂が、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体の場合、重量平均分子量が２，０００以上、数平均分子量が５００以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が５，０００〜３００，０００で、数平均分子量が８００〜２５０，０００であり、分散度（重量平均分子量／数平均分子量）が１．１〜１０のものである。
特に、本発明における上層に用いられるアルカリ可溶性樹脂が、フェノールホルムアルデヒド樹脂、又は、クレゾールアルデヒド樹脂等である場合には、重量平均分子量が５００〜２０，０００であり、数平均分子量が２００〜１０，０００のものが好ましい。
【０１５４】
上層に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、未露光部において強い水素結合性を生起し、露光部において一部の水素結合が容易に解除されるといった点から、フェノール性水酸基を有する樹脂が望ましく、フェノール性水酸基を有する樹脂の中でも特に好ましくはノボラック樹脂である。
また、本発明においては、アルカリ性水溶液に対し溶解速度の異なる２種類以上のアルカリ可溶性樹脂を混合して用いてもよく、その場合の混合比は自由である。なお、該フェノール性水酸基を有する樹脂と混合するのに好適なアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基を有する樹脂と相溶性が低いことから、アクリル樹脂であることが好ましく、更に好ましくはスルホアミド基を有するアクリル樹脂である。
【０１５５】
上層の全固形分中に対するアルカリ可溶性樹脂の含有量は、記録層の耐久性や、感度等の観点から、併せて５０〜９８質量％の添加量で用いられることが好ましい。
【０１５６】
〔赤外線吸収剤〕
本発明における記録層が重層型記録層の場合には、記録層の下層及び上層の少なくとも一方に、赤外線吸収剤を添加する。赤外線吸収剤としては、前記単層型記録層で使用したものと同様の赤外線吸収剤を使用することができる。
これらの赤外線吸収剤は、下層に添加しても上層に添加しても、上下層双方に添加してもよいが、感度の観点から記録層の上層或いはその近傍に添加することが好ましい。特に、上層において、溶解抑制能を有する赤外線吸収剤を前記アルカリ可溶性樹脂と同一の層に添加することで、高感度化と同時に、未露光部に耐アルカリ溶解性を持たせることができるため好ましい。
一方、下層に添加した場合には、更なる高感度化を実現することが可能である。上層と下層の双方に赤外線吸収剤を添加する場合には、互いに同じ化合物を用いてもよく、また異なる化合物を用いてもよい。
また、これらの赤外線吸収剤は上下記録層と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けてそこへ添加してもよい。別の層とする場合、記録層に隣接する層へ添加するのが望ましい。
【０１５７】
赤外線吸収剤の添加量としては、上層に添加する場合、感度や記録層の耐久性（膜性）等の観点から、上層全固形分に対し０．０１〜３０質量％、好ましくは０．１〜２０質量％、特に好ましくは１．０〜１０質量％の割合で添加することができる。
【０１５８】
一方、下層に添加する場合、下層全固形分に対し０〜２０質量％、好ましくは０〜１０質量％、特に好ましくは０〜５質量％の割合で添加することができる。下層に赤外線吸収剤を添加する場合、溶解抑制能を有する赤外線吸収剤を用いると下層の溶解性が低下するが、一方、赤外線吸収剤が赤外線レーザ露光時に発熱し、熱による下層の溶解性向上が期待できるため、これらのバランスを考慮して添加する化合物及び添加量を選択すべきである。なお、支持体近傍の０．２〜０．３μｍの領域では露光時に発生した熱が支持体に拡散するなどして、熱による溶解性向上効果が得難く、赤外吸収染料添加による下層の溶解性低下が感度を低下させる要因となる場合がある。従って、先に示した添加量の範囲の中においても、下層の現像液（２５℃〜３０℃）に対する溶解速度が３０ｎｍ／ｓｅｃを下回る如き添加量は好ましくない。
【０１５９】
〔現像抑制剤〕
本発明における上層には、そのインヒビション（溶解抑制能）を高める目的で、現像抑制剤を含有させることが好ましい。特に、前記赤外線吸収剤として溶解抑制能を有しないものを使用する場合には、この現像抑制剤は画像部の耐アルカリ性を維持するための重要成分となりうる。
重層型記録層に用いられる現像抑制剤としては、前記単層型記録層の成分で挙げた現像抑制剤と同様のものを用いることができる。また、後述する画像着色剤のなかにも現像抑制剤として機能する化合物があり、それらもまた好ましく挙げられる。
【０１６０】
例えば、オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の、熱分解性であり、分解しない状態では、アルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが画像部の現像液へのインヒビションの向上を図る点で好ましい。
オニウム塩としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げたオニウム塩と同様のものを用いることができる。
ｏ−キノンジアジド類としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げたｏ−キノンジアジド類と同様のものを用いることができる。
ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは上層全固形分に対し、１〜５０質量％、更に好ましくは５〜３０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％の範囲である。
【０１６１】
また、記録層表面のインヒビションの強化とともに表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開２０００−１８７３１８号に記載されているような、分子中に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を２又は３個有する（メタ）アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することが好ましい。
添加量としては、上層全固形分に対し、０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。
【０１６２】
〔その他の添加剤〕
重合型記録層の下層及び上層を形成するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。以下に挙げる添加剤は、下層のみに添加してもよいし、上層のみに添加してもよいし、両方の層に添加してもよい。
【０１６３】
＜現像促進剤＞
本発明における記録層である上層及び／又は下層には、感度を向上させる目的で、現像促進剤を添加してもよい。そのような現像促進剤としては、前記単層型記録層の現像促進剤として挙げた、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を用いることができる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の下層或いは上層の全固形分に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
【０１６４】
＜界面活性剤＞
本発明における記録層である上層及び／又は下層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、界面活性剤を添加することができる。そのような界面活性剤としては、前記単層型記録層の界面活性剤として挙げた非イオン界面活性剤、両性界面活性剤を用いることができる。
非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の下層或いは上層の全固形分に占める割合は、０．０１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５．０質量％、更に好ましくは０．５〜２．０質量％である。
【０１６５】
＜焼出し剤／着色剤＞
本発明における記録層である上層及び／又は下層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
そのような焼き出し剤または画像着色剤としては、前記単層型記録層で挙げたものと同様の焼き出し剤または画像着色剤を用いることができる。
これらの染料は、下層或いは上層の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で添加することができる。
【０１６６】
＜可塑剤＞
本発明における記録層である上層及び／又は下層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加しても良い。そのような可塑剤としては、前記単層型記録層で挙げたものと同様の可塑剤を用いることができる。
これらの可塑剤は、下層或いは上層の全固形分に対し、０．５〜１０質量％、好ましくは１．０〜５質量％の割合で添加することができる。
【０１６７】
＜ＷＡＸ剤＞
本発明における上層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。このような化合物としては、前記単層型記録層で挙げたＷＡＸ剤と同様のものを用いることができる。添加量として好ましいのは、上層中に占める割合が０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜５質量％である。
【０１６８】
〔記録層の形成〕
本発明における記録層（単層型記録層、或いは、重層型記録層の下層又は上層）は、通常上記各成分を溶剤に溶かして、記録層塗布液とし、適当な支持体上に塗布することにより形成することができる。
ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶剤は単独或いは混合して使用される。
【０１６９】
特に、重層型記録層においては、下層及び上層を、原則的に２つの層を分離して形成することが好ましい。
２つの層を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれる成分と、上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去させる方法等が挙げられる。
以下、これらの方法について詳述するが、２つの層を分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではない。
【０１７０】
下層に含まれる成分と上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法としては、上層用塗布液を塗布する際に、下層に含まれる成分のいずれもが不溶な溶剤系を用いるものである。これにより、二層塗布を行っても、各層を明確に分離して塗膜にすることが可能になる。例えば、下層成分として、上層成分であるアルカリ可溶性樹脂を溶解するメチルエチルケトンや１−メトキシ−２−プロパノール等の溶剤に不溶な成分を選択し、該下層成分を溶解する溶剤系を用いて下層を塗布・乾燥し、その後、アルカリ可溶性樹脂を主体とする上層成分をメチルエチルケトンや１−メトキシ−２−プロパノール等で溶解し、塗布・乾燥することにより二層化が可能になる。
【０１７１】
次に、２層目（上層）を塗布後に、極めて速く溶剤を乾燥させる方法としては、ウェブの走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エアーを吹きつける方法や、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロール（加熱ロール）よりウェブの下面から伝導熱として熱エネルギーを与える方法、或いはそれらの方法の組み合わせを挙げることができる。
【０１７２】
また、新たな機能を付与するために、本発明の効果を充分に発揮する範囲において、積極的に上層及び下層の部分相溶を行う場合もある。そのような方法としては、上記溶剤溶解性の差を利用する方法、２層目を塗布後に極めて速く溶剤を乾燥させる方法何れにおいても、その程度を調整する事によって可能となる。
【０１７３】
支持体上に塗布される記録層塗布液中の、溶剤を除いた前記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
特に、重層型記録層における上層の塗布時は、下層へのダメージを防ぐため、上層塗布方法は非接触式である事が望ましい。また接触型ではあるが溶剤系塗布に一般的に用いられる方法としてバーコーター塗布を用いる事も可能であるが、下層へのダメージを防止するために順転駆動で塗布する事が望ましい。
【０１７４】
単層型記録層における、記録層成分の乾燥後の塗布量は、感度や耐刷性等の観点から、０．７〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．８〜３．０ｇ／ｍ2の範囲である。本発明においては、前記特定高分子化合物の機能により、薄層でも耐刷性、耐薬品性に優れた記録層を形成しうるため、単層型記録層を形成するに当たり、一般的に好適と言われる範囲より塗布量を少なくしても、実用上好適な平版印刷版原版が得られることも大きな特徴であり、画像再現性（画質）の点からも好ましいといえる。
【０１７５】
重層型記録層における、下層成分の乾燥後の塗布量は、感度や耐刷性等の観点から、０．５〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．６〜２．５ｇ／ｍ2の範囲である。
また、上層成分の乾燥後の塗布量は、感度、現像ラチチュード、及び耐傷性等の観点から、０．０５〜１．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．０８〜０．７ｇ／ｍ2の範囲である。
下層及び上層を合わせた乾燥後の塗布量としては、感度、画像再現性、及び耐刷性等の観点から、０．６〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．７〜２．５ｇ／ｍ2の範囲である。
【０１７６】
〔支持体〕
本発明に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
【０１７７】
中でも、本発明においては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸度安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々１０質量％以下である。
【０１７８】
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。
【０１７９】
このようなアルミニウム板には、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理などの表面処理を行なってもよい。以下、このような表面処理について簡単に説明する。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
以上のように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
【０１８０】
陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が１〜８０質量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。
【０１８１】
本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７３４号及び第３，９０２，７３４号に開示されているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６８９，２７２号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
【０１８２】
（下塗り層）
本発明の画像記録材料は、必要に応じて支持体と記録層との間に下塗り層を設けることができる。
下塗り層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、２種以上混合して用いてもよい。
【０１８３】
また、下塗り層にはオニウム基を有する化合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化合物は、特開２０００−１０２９２公報、同２０００−１０８５３８公報等に詳述されている。その他、ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる化合物を用いることもできる。これらの高分子化合物として、より具体的には、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などが挙げられる。
【０１８４】
この有機下塗り層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗り層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の０．００５〜１０質量％の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨ１〜１２の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
有機下塗り層の被覆量は、耐刷性能の観点から、２〜２００ｍｇ／ｍ2が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2である。
【０１８５】
〔バックコート層〕
本発明の画像記録材料の支持体裏面には、必要に応じてバックコート層が設けられる。かかるバックコート層としては、特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）4、Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）4などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
【０１８６】
〔平版印刷版原版の製版〕
上記のようにして作製された画像記録材料は、主に、ポジ型平版印刷版原版として好適に用いられる。以下、本発明の画像記録材料を平版印刷版原版として用いた場合の、製版工程（像露光、現像処理、印刷工程）について説明する。
【０１８７】
（露光）
像露光に用いられる光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
【０１８８】
（現像）
本発明の画像記録材料を用いた平版印刷版原版の現像液及び補充液としては、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。
例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独若しくは２種以上を組み合わせて用いられる。
これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素ＳｉＯ2とアルカリ金属酸化物Ｍ2Ｏの比率と濃度によって現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特開昭５４−６２００４号公報、特公昭５７−７４２７号に記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
【０１８９】
更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量のＰＳ版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
上記現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版原版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の画像記録材料を平版印刷版原版として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【０１９０】
近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【０１９１】
本発明の画像記録材料を用いた平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び／又はリンス及び／又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部（例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など）がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平２−１３２９３号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行なう方法が好ましいが、特開平５９−１７４８４２号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。
【０１９２】
（加熱処理（バーニング処理））
以上のようにして得られた平版印刷版は、所望により不感脂化ガムを塗布した後、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。特に、本発明においては、下層がフェノール性水酸基を有する特定高分子化合物を含み、熱架橋性を有するため、汎用のバーニング処理を行なうことで、耐刷性が著しく向上する。
【０１９３】
なお、バーニング処理前には、特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、或いは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ2（乾燥質量）が適当である。その後、整面液が塗布された平版印刷版は必要により乾燥させてもよい。
【０１９４】
続いて、本発明における平版印刷版に加熱処理を施す。加熱処理の方法としては、版面に熱が加わることにより、本発明の効果の一つであるバーニング耐刷性の向上効果を発現しうるものであれば特に制限はないが、例えば、バーニングプロセッサーにより加熱する方法などが挙げられる。
本発明においては、上記加熱方法の中でも、バーニングプロセッサー（例えば富士写真フイルム（株）より販売されているバーニングプロセッサー：「ＢＰ−１３００」）などで高温に加熱する方法が好ましい。この場合の加熱温度及び加熱時間は、上層及び画像記録層を構成する成分の種類にもよるが、１５０〜３００℃の範囲で０．５〜２０分の範囲が好ましく、１８０〜２７０℃の範囲で１〜１０分の範囲がより好ましい。
【０１９５】
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【実施例】
【０１９６】
以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１９７】
［実施例１〜３、比較例１、２］
〔支持体の作製〕
厚さ０．３ｍｍのＪＩＳ−Ａ−１０５０アルミニウム板を用いて、下記に示す工程を経て処理することで支持体を作製した。
【０１９８】
（ａ）機械的粗面化処理
比重１．１２の研磨剤（ケイ砂）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は８μｍ、最大粒径は５０μｍであった。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロン、毛長５０ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであった。ナイロンブラシはφ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は２００ｒｐｍであった。
【０１９９】
（ｂ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に温度７０℃のＮａＯＨ水溶液（濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％）をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を６ｇ／ｍ2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０２００】
（ｃ）デスマット処理
温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【０２０１】
（ｄ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／リットル）、温度５０℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ＤＵＴＹ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ2であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０２０２】
（ｅ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０２０３】
（ｆ）デスマット処理
温度３０℃の硫酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【０２０４】
（ｇ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸７．５ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／リットル含む）、温度３５℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０２０５】
（ｈ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．１０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０２０６】
（ｉ）デスマット処理
温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０２０７】
（ｊ）陽極酸化処理
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度１７０ｇ／リットル（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度は４３℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約３０Ａ／ｄｍ2であった。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ2であった。
【０２０８】
＜支持体Ａ＞
上記（ａ）〜（ｊ）の各工程を順に行い（ｅ）工程におけるエッチング量は３．４ｇ／ｍ2となるようにして支持体Ａを作製した。
＜支持体Ｂ＞
上記工程のうち（ｇ）（ｈ）（ｉ）の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Ｂを作製した。
【０２０９】
＜支持体Ｃ＞
上記工程のうち（ａ）及び（ｇ）（ｈ）（ｉ）の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Ｃを作製した。
＜支持体Ｄ＞
上記工程のうち（ａ）及び（ｄ）（ｅ）（ｆ）の工程を省略した以外は各工程を順に行い、（ｇ）工程における電気量の総和が４５０Ｃ／ｄｍ2となるようにして支持体Ｄを作製した。
上記によって得られた支持体Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄには、引き続き下記の親水処理、下塗り処理を行った。
【０２１０】
（ｋ）アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度３０℃の３号ケイ酸ソーダの１質量％水溶液の処理層中へ、１０秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理（シリケート処理）を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。その際のシリケート付着量は３．６ｍｇ／ｍ2であった。
【０２１１】
〔下塗り処理〕
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗り液を塗布し、８０℃で１５秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は１５ｍｇ／ｍ2であった。
【０２１２】
（下塗り液）
・下記高分子化合物（Ｉ又ＩＩ）                  ０．３ｇ
・メタノール                                １００ｇ
・水                                            １ｇ
【０２１３】
【化３１】
2006184517.tif 000032
【０２１４】
（記録層の形成）
次に、上記で得られた下塗層付き支持体に、下記組成の下層用塗布液Ａを、ワイヤーバーで塗布したのち、１２０℃の乾燥オーブンで３０秒間乾燥して塗布量を０．８５ｇ／ｍ2とした。
得られた下層付き支持体に、下記組成の最上層用塗布液Ｂをワイヤーバーで塗布した。塗布後１３０℃４０秒間の乾燥を行い、総塗布量を１．０７ｇ／ｍ2として、実施例１〜３、及び比較例１、２のポジ型平版印刷版原版を得た。
【０２１５】
＜下層用塗布液Ａ＞
・下記表１に記載の特定高分子化合物                          ２．０３ｇ
・シアニン染料Ｐ（下記構造）                                ０．１２４ｇ
・ビス−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホン                      ０．１５６ｇ
・テトラヒドロ無水フタル酸                                  ０．３５ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸                                    ０．００７ｇ
・２−メトキシ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）
ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート          ０．０４２ｇ
・エチルバイオレット６−ナフタレンスルホン酸                ０．０６６ｇ
・フッ素系界面活性剤
（メガファックＦ−７８０、大日本インキ化学工業（株）製）  ０．０３５ｇ
・γ―ブチロラクトン                                      １３．１６ｇ
・メチルエチルケトン                                      ２５．３９ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                          １２．９５ｇ
【０２１６】
＜最上層用塗布液Ｂ＞
・フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールノボラック樹脂
（モル比５０：３０：２０、重量平均分子量５，０００）      ０．２４１ｇ
・シアニン染料Ｐ（下記構造）                                ０．０１９ｇ
・下記構造ポリマーＱ／ＭＥＫ３０％溶液（下記構造）          ０．２４ｇ
・メチルエチルケトン                                        ２．５３ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                            ５．２７ｇ
【０２１７】
【化３２】
2006184517.tif 000033
【０２１８】
［実施例４〜６、比較例３、４］
実施例１〜３と同様の方法で得られた下塗り層付き支持体に、下記組成の塗布液Ｃをワイヤーバーで塗布した。塗布後１３０℃３０秒間の乾燥を行い、総塗布量を１．８０ｇ／ｍ2として実施例４〜６、及び比較例３、４のポジ型平版印刷版原版を得た。
【０２１９】
＜塗布液Ｃ＞
・下記表１に記載の特定高分子化合物                              ０．６５ｇ
・フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールノボラック樹脂
（モル比５０：３０：２０、重量平均分子量５，０００）          ０．２５ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸                                        ０．００３ｇ
・テトラヒドロ無水フタル酸                                      ０．０３ｇ
・シアニン染料Ｐ（下記構造）                                    ０．０１７ｇ
・ビクトリアピュアブルー（ＢＯＨの対アニオンを
１−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料）                  ０．０１５ｇ
・γ−ブチルラクトン                                          １０ｇ
・メチルエチルケトン                                          １０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                                １ｇ
【０２２０】
［実施例７〜９、比較例５、６］
実施例１〜３と同様の方法で得られた下塗り層付き支持体に、下記組成の塗布液Ｄをワイヤーバーで塗布した。塗布後１３０℃３０秒間の乾燥を行い、総塗布量を１．４０ｇ／ｍ2として、実施例７〜９、及び比較例５、６のポジ型平版印刷版原版を得た。
【０２２１】
＜塗布液Ｄ＞
・下記表１に記載の特定高分子化合物                                ２．１３４ｇ
・シアニン染料Ｐ（下記構造）                                      ０．０５２ｇ
・エチルバイオレット６−ナフタレンスルホン酸                      ０．０７８ｇ
・メチルエチルケトン                                            ２５．３０ｇ
【０２２２】
〔平版印刷版原版の評価〕
次に、実施例１〜９、及び、比較例１〜６のポジ型平版印刷版原版の性能評価を行った。なお、評価試験は塗布後２５℃で３０日間保存したものについて行った。
【０２２３】
（現像ラチチュードの評価）
得られた実施例１〜９、比較例１〜６のポジ型平版印刷版原版を、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ８００にて、ビーム強度１２．０Ｗ、ドラム回転速度１２０ｒｐｍの条件でテストパターンの画像状に描き込み（露光）を行った。
次に、実施例１〜６、比較例１〜４については、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−２Ｒの水希釈（１：９）にて、電導度が４４ｍＳ／ｃｍになるまで炭酸ガスを吹き込んだ液及び富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦＧ−１の水希釈（１：１）液を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサーＬＰ−９４０ＨIIを用い、液温を３５度に保って現像時間２０秒で現像した。その後、現像液にＤＴ−２Ｒの水希釈（１：９）液を適量加え、電導度を４５ｍＳ／ｃｍに調整し、先ほどと同じくテストパターンを画像状に描き込んだ平版印刷版原版を現像した。更に電導度を２ｍＳ／ｃｍずつ上げ、画像の現像による膜減りが顕著に観察されるまでこの作業を続けた。
また、実施例７〜９、比較例５、６については、富士写真フイルム（株）製現像液ＬＨ−ＤＲＳに電導度が８０ｍＳ／ｃｍになるまで炭酸ガスを吹き込んだ液を用い、富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦＰ−２Ｗの水希釈（１：１）液を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサーＬＰ９４０ＨIIを用い、液温を４０℃に保って現像時間
２６秒で現像した。その後、炭酸ガスを適量吹き込み、電導度を８０ｍＳ／ｃｍに調整し、先ほどと同じくテストパターンを画像状に描き込んだ平版印刷版原版を現像した。更に電導度を２ｍＳ／ｃｍずつ下げ、現像不良の非画像部残膜に起因する汚れが顕著に観察されるまでこの作業を続けた。
【０２２４】
これら現像後の実施例及び比較例の版において、各電導度で現像した版について、現像不良の非画像部残膜に起因する汚れや着色がないかを５０倍のルーペで確認し、良好に現像が行えた現像液の電導度を決定した。次に、未露光部の現像膜減りが起こらない電導度、具体的には、現像前のベタ部の画像濃度をＧＲＥＴＡＧ反射濃度計Ｄ１９６（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）で測定して、この画像濃度から０．１０以上少ない画像濃度となるベタ部が形成された現像液の電導度を決定した。
良好に現像が行えた現像液の電導度と現像膜減りが維持される限界の電導度の幅を現像ラチチュードとした。結果を表１に示す。
【０２２５】
〔耐薬品性〕
実施例１〜９の平版印刷版原版及び比較例１〜６の平版印刷版原版を、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４にて露光エネルギーを変えて、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、上記Ｂ組成の現像液を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサー９００Ｈを用い、現像温度３５℃、現像時間２０秒で現像を行った。これを、小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用いて連続して印刷した。この際、５，０００枚印刷する毎に、クリーナー（富士写真フイルム社製、マルチクリーナー）で版面を拭く工程を加え、耐薬品性を評価した。枚数が多いほど耐薬品性に優れるものと評価する。結果を表１に示す。
【０２２６】
【表１】
2006184517.tif 000034
【０２２７】
表１中の「特定高分子化合物」は、前記の特定高分子化合物（ａ）〜（ｈ）に対応する。「比較高分子化合物」は、以下に示す通りである。
【０２２８】
＜比較用高分子化合物（ｉ）＞
【化３３】
2006184517.tif 000035
ｍ／ｎ／ｏ／ｐ＝１７／５６／２／２５；重量平均分子量：１６０００
Ｒ01＝４−ヒドロキシフェニル基
Ｒ2＝ｎ−ブチル基
【０２２９】
＜比較用高分子化合物（ｊ）＞
フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールノボラック樹脂（５０／３０／２０、重量平均分子量５，０００）
水酸基の総モル数に対して１０モル％の割合で下記のように特定置換基で置換。
【化３４】
2006184517.tif 000036
【０２３０】
表１に示されるように、特定高分子化合物を用いた実施例１〜９の平版印刷版原版は、比較例１〜６の平版印刷版原版と比べ、いずれも現像ラチチュードが広く、且つ耐薬品性に優れたものであることがわかった。