(57)【要約】【課題】  微細でエッジラフネスの小さな磁性材パターンを有する磁気転写用マスタ担体を製造するのに適した方法、および、そのような磁気転写用マスタ担体を提供すること。【解決手段】  本発明は、磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込むための磁気転写用マスタ担体Ｘ１を製造するための方法である。本製造方法は、めっき法用の下地層１２を基材１１上に形成するための工程と、下地層１２上にレジスト膜を形成するための工程と、下地層１２が臨む開口部１３１をレジスト膜に形成することにより、情報に対応するパターン形状を有するレジストパターン１３を当該下地層１２上に形成するための、レジストパターン形成工程と、開口部１３１に臨む下地層１２上にめっき法により磁性材料を成長させることにより、情報に対応するパターン形状を有する磁性材パターン１４を形成するための、磁性材パターン形成工程と、を含む。【選択図】  図１
2006040469.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込むための磁気転写用マスタ担体を製造するための方法であって、
めっき法用の下地層を基材上に形成するための工程と、
上記下地層上にレジスト膜を形成するための工程と、
上記下地層が臨む開口部を上記レジスト膜に形成することにより、上記情報に対応するパターン形状を有するレジストパターンを上記下地層上に形成するための、レジストパターン形成工程と、
上記開口部に臨む下地層上にめっき法により磁性材料を成長させることにより、上記情報に対応するパターン形状を有する磁性材パターンを形成するための、磁性材パターン形成工程と、を含む磁気転写用マスタ担体の製造方法。
【請求項２】
上記磁性材パターン形成工程では、上記レジストパターンを越える高さまで上記磁性材料を成長させる、請求項１に記載の磁気転写用マスタ担体の製造方法。
【請求項３】
上記レジストパターン形成工程の後に、上記レジストパターンの硬度を上げるための硬化工程を更に含む、請求項１または２に記載の磁気転写用マスタ担体の製造方法。
【請求項４】
磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込むための磁気転写用マスタ担体であって、
基材と、
上記基材上に形成されためっき法用の下地層と、
上記下地層が臨む開口部を伴って上記情報に対応するパターン形状、を有して上記下地層上に形成されたレジストパターンと、
上記開口部に臨む下地層上にめっき法により形成された、上記情報に対応するパターン形状を有する磁性材パターンと、を備える磁気転写用マスタ担体。
【請求項５】
静電気を除去するための、上記レジストパターンおよび上記磁性材パターンを覆う除電層を、更に備える、請求項４に記載の磁気転写用マスタ担体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスクに対して磁気転写法により情報を書き込むのに使用することのできるマスタ担体の製造方法、および、磁気転写用マスタ担体に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータシステムにおける情報処理量の増大に伴い、ハードディスクなどの記憶装置を構成する磁気記録媒体（磁気ディスク）に対しては、記録容量の増大化が要求される。そのような要求に応え得る媒体として、近年、垂直磁気記録方式の磁気ディスク（垂直記録型磁気ディスク）が注目を集めている。垂直記録型磁気ディスクは、垂直磁化膜よりなる記録層を有し、この記録層が媒体の記録面を構成する。
【０００３】
磁気ディスクの製造過程においては、記録再生用の磁気ヘッドを磁気ディスクに対して位置決め制御するための所定のサーボ情報が、当該ディスクの記録面（記録層）に磁気的に記録される場合があるところ、そのようなサーボ情報の記録手法の一つとして、磁気転写法が知られている。磁気転写法は、記録すべきサーボ情報を有するマスタ担体と磁気ディスクとを所定の態様で重ね合わせた状態でこれらに磁界を印加することにより、当該マスタ担体が有するサーボ情報を磁気ディスクの記録面に磁気的に転写する方法である。
【０００４】
図６は、磁気転写法において使用される従来のマスタ担体の一例であるマスタ担体Ｘ’の部分断面図である。マスタ担体Ｘ’は、基材９１および磁性材パターン９２を有する。基材９１は、サーボ情報記録の対象である磁気ディスクより大きなディスク形状を有する。磁性材パターン９２は、高透磁率を有する軟磁性材料よりなる。また、磁性材パターン９２は、磁気ディスクに記録すべきサーボ情報に対応するパターン形状を有する。
【０００５】
図７は、マスタ担体Ｘ’の製造方法を表す。本製造方法では、まず、図７（ａ）に示すように、基材９１上にレジストパターン９３を形成する。具体的には、スピンコーティング法により基材９１上にレジスト膜（電子線レジスト膜またはフォトレジスト膜）を形成した後、当該レジスト膜に対して露光処理および現像処理を施すことにより、レジストパターン９３を形成する。次に、図７（ｂ）に示すように、レジストパターン９３をマスクとして基材９１に対してエッチング処理を施す。次に、図７（ｃ）に示すように、磁性膜９２’を形成する。具体的には、スパッタリング法によりレジストパターン９３上および基材９１上にわたって所定の磁性材料を成膜することにより、磁性膜９２’を形成する。次に、図７（ｄ）に示すように、所定の溶剤を作用させることによりレジストパターン９３を除去することによって、当該レジストパターン９３上の磁性膜９２’を剥離（リフトオフ）する。以上のようにして、所定の磁性材パターン９２を有するマスタ担体Ｘ’を製造することができる。このような従来のマスタ担体製造方法については、例えば下記の特許文献１や特許文献２に記載されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−３４９３８号公報
【特許文献２】特開２００１−３１２８１８号公報
【０００７】
マスタ担体Ｘ’を使用して行う磁気転写法により垂直記録型磁気ディスクにサーボ情報を記録するには、まず、磁気ディスクの記録層に対して所定方向（例えば、記録層に垂直な方向）に初期磁化磁界を印加することにより、記録層の磁化方向を一様に揃える。次に、マスタ担体Ｘ’の磁性材パターン９２と磁気ディスクの記録面とが対向するように、マスタ担体Ｘ’および磁気ディスクを重ね合わせる。次に、初期磁化磁界とは逆方向の転写磁界をマスタ担体とともに磁気ディスクに印加することにより、記録層において磁性材パターン（サーボ情報に対応するパターン形状を有する）に対向する箇所の磁化方向を反転させる。このようにして、磁気ディスクないしその記録層にサーボ情報が記録される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述の磁気転写法により磁気ディスクに記録されるサーボ情報の高密度化を図るためには、磁性材パターン９２を微細に形成する必要がある。すなわち、マスタ担体Ｘ’の磁性材パターン９２のパターン幅Ｗp’（図７（ｄ）参照）およびパターン間距離を小さくする必要がある。そして、パターン幅Ｗp’を小さくするためには、レジスト膜９２’および基材９１をエッチングすることにより形成される開口部９３１の幅Ｗm’（図７（ｂ）参照）をパターン幅Ｗp’に応じて小さくする必要がある。
【０００９】
しかしながら、リフトオフを適切に行うためにはレジストパターン９３の厚さｔ’（図７（ｂ）参照）を一定以上に確保する必要があるので、開口部９３１の深さｄ’（図７（ｂ）参照）は一定以上に大きくならざるを得ない。そのため、磁性材パターン９４のパターン幅Ｗp’を小さくするほど、開口部９３１のアスペクト比（ｄ’／Ｗm’）は大きくなる傾向にある。開口部９３１のアスペクト比が大きいほど、スパッタリング法により磁性膜９２’を形成する際に開口部９３１内に磁性材料を充填することが困難であり、磁性材パターン９２を適切に形成することが困難である。このように、マスタ担体Ｘ’においては、磁性材パターン９２の微細化を図るのが困難なのである。磁性材パターン９２の微細化が困難なマスタ担体Ｘ’は、磁気ディスクの記録密度の向上に伴うサーボ情報の高密度化を図るうえでは、好ましくない。
【００１０】
また、マスタ担体Ｘ’の磁性材パターン９２はリフトオフ法によりパターン形成されたものであるため、図８に示すように、磁性材パターン９２のエッジラフネス（縁端部の荒れ）は比較的に大きい。図７（ｃ）を参照して上述したように、レジストパターン９３上および基材９１上にわたって所定の磁性材料を成膜することにより磁性膜９２’が形成され、図７（ｄ）を参照して上述した工程では、磁性膜９２’におけるレジストパターン９３上の部分と基材９１上の部分との間が破断されることにより、磁性材パターン９２が基板９１上に残存形成される。このような手法によると、磁性材パターン９２のエッジ（縁端部）９２ａは、磁性膜９２’の破断により生ずる。そのため、磁性材パターン９２のエッジラフネスは大きくなってしまうのである。磁性材パターン９２のエッジラフネスが大きいほど、マスタ担体Ｘ’を使用して行う磁気転写法により磁気ディスクに記録されるサーボ情報の精度は低下する傾向にある。この傾向は、磁性材パターン９２のパターン幅Ｗp’が小さいほど、顕著となる。パターン幅Ｗp’が小さくなるほど、それに占めるエッジラフネスの割合が相対的に大きくなるからである。また、サーボ情報の精度低下は、記録再生用磁気ヘッドの位置決め制御の精度の低下を招来し、好ましくない。
【００１１】
本発明は、このような事情の下で考え出されたものであって、微細でエッジラフネスの小さな磁性材パターンを有する磁気転写用マスタ担体を製造するのに適した方法、および、そのような磁気転写用マスタ担体を提供することを、目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の第１の側面によると、磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込むための磁気転写用マスタ担体を製造するための方法が提供される。この製造方法は、めっき法用の下地層を基材上に形成するための工程と、下地層上にレジスト膜を形成するための工程と、下地層が臨む開口部をレジスト膜に形成することにより、情報に対応するパターン形状を有するレジストパターンを当該下地層上に形成するための、レジストパターン形成工程と、開口部に臨む下地層上にめっき法により磁性材料を成長させることによって、情報に対応するパターン形状を有する磁性材パターンを形成するための、磁性材パターン形成工程と、を含む。本発明において、めっき法は、無電解めっき法または電気めっき法を意味する。下地層は、めっき法として無電解めっき法を採用する場合は、めっき成長の開始時に触媒機能を発揮する触媒層であり、めっき法として電気めっき法を採用する場合は、電気めっき法における電極として機能する通電層である。また、本発明において、情報に対応するパターン形状とは、情報を形成するためのポジパターンの形状、または、情報を形成するためのネガパターンの形状を意味しており、レジストパターンおよび磁性材パターンのいずれか一方がポジパターンの形状を有し、他方がネガパターンの形状を有する。
【００１３】
本方法は、微細な磁性材パターンを有するマスタ担体を製造するのに適している。本方法においては、レジストパターンの開口部に臨む下地層上にめっき法により磁性材料を成長させることによって磁性材パターンを形成するところ、めっき法によると、スパッタリング法によるよりも、アスペクト比の大きな開口部に対して所定材料を適切に充填しやすい。したがって、本方法によると、レジストパターン形成工程において形成される開口部の幅を所望の磁性材パターンのパターン幅に応じて小さく設定する場合であっても（即ち、当該開口部のアスペクト比が大きくなる場合であっても）、当該開口部に臨む下地層上に磁性材料を適切に成長させることができ、幅の狭い磁性材パターンを適切に形成することができる。このようにして幅狭な磁性材パターンを形成することのできる本方法は、微細な磁性材パターンを有するマスタ担体を製造するうえで好適である。
【００１４】
加えて、本方法は、エッジラフネスの小さな磁性材パターンを有するマスタ担体を製造するのに適している。本方法においては、上述のように、レジストパターンの開口部に臨む下地層上にめっき法により磁性材料を成長させることによって磁性材パターンを形成する。すなわち、本発明における磁性材パターンは、いわゆるアディティブ法により形成されるものであり、上述のマスタ担体Ｘ’の磁性材パターン９２が形成される過程で経るような磁性膜の破断を経ずに、形成される。したがって、本方法において形成される磁性材パターンには、上述の磁性材パターン９２が有するほどの大きなエッジラフネスは、生じないのである。このように、本方法によると、エッジラフネスの小さな磁性材パターンを有するマスタ担体を製造することができる。
【００１５】
以上のように、本発明の第１の側面に係る磁気転写用マスタ担体製造方法は、微細でエッジラフネスの小さな磁性材パターンを有する磁気転写用マスタ担体を製造するのに適している。磁気転写用マスタ担体の磁性材パターンが微細であるほど、当該マスタ担体を使用して行う磁磁気転写法により磁気ディスクに記録される情報（例えばサーボ情報）の密度は高く、且つ、磁性材パターンのエッジラフネスが小さいほど、当該情報の精度は高くなる傾向にある。
【００１６】
本発明の第１の側面において、好ましくは、磁性材パターン形成工程では、レジストパターンを超える高さまで磁性材料を成長させる。レジストパターンを超える高さとは、レジストパターンの上面（下地層とは反対の側の面）から突出する高さを意味する。このような構成によると、磁性材パターンがレジストパターンよりも表面において突出する磁気転写用マスタ担体を得ることができる。
【００１７】
本発明の第１の側面において、好ましくは、磁性材パターン形成工程の前に、開口部の内壁と当該開口部に臨む下地層とに、極性を有する物質を付着させるための工程を更に含む。極性を有する物質とは、水より小さい極性を有する物質を意味し、好適には水酸基を有する物質（例えばアルコール）である。本工程を経ることにより、開口部の内壁と当該開口部に臨む下地層との、めっき法において使用されるめっき液（水溶液）に対する濡れ性が、高められる。
【００１８】
本発明の第１の側面において、好ましくは、レジストパターン形成工程の後に、レジストパターンの硬度を上げるための硬化工程を更に含む。この場合、好ましくは、レジスト膜は、高分子構造中にケイ素を含む樹脂材料よりなり、当該硬化工程では、ケイ素を酸化ケイ素化することによりレジストパターンの硬度を上げる。このような構成によると、耐久性の高いレジストパターンを有する磁気転写用マスタ担体を得ることができる。磁気転写用マスタ担体は、磁気転写過程において磁気ディスクと適切に密着すべく比較的大きい圧力を受けるところ、耐久性の高いレジストパターンを有する磁気転写用マスタ担体は、破損しにくい。
【００１９】
本発明の第１の側面において、好ましくは、磁性材パターン形成工程の後に、上記レジストパターンおよび上記磁性材パターンを覆うように、静電気を除去するための除電層を形成するための工程を更に含む。このような構成によると、除電機能を有する除電層を表面に有する磁気転写用マスタ担体を得ることができる。
【００２０】
本発明の第２の側面によると、磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込むための磁気転写用マスタ担体が提供される。この磁気転写用マスタ担体は、基材と、基材上に形成されためっき法用の下地層と、下地層が臨む開口部を伴って情報に対応するパターン形状、を有して下地層上に形成されたレジストパターンと、開口部に臨む下地層上にめっき法により形成された、情報に対応するパターン形状を有する磁性材パターンと、を備える。本磁気転写用マスタ担体は、本発明の第１の側面の方法により適切に製造することができる。したがって、本マスタ担体は、微細でエッジラフネスの小さな磁性材パターンを具備することができる。
【００２１】
本発明の第２の側面において、好ましくは、磁性材パターンは、レジストパターンを越えて突出している。このような構成は、磁気転写過程を終えた磁気ディスクからの磁気転写用マスタ担体の離脱を容易にするうえで好適である。
【００２２】
本発明の第２の側面において、好ましくは、静電気を除去するための、レジストパターンおよび磁性材パターンを覆う除電層を、更に備える。このような構成は、磁気ディスクと接触する側における磁気転写用マスタ担体への塵埃の付着を抑制するうえで好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る磁気転写用のマスタ担体Ｘ１を表す部分断面図である。
【００２４】
マスタ担体Ｘ１は、基材１１と、触媒層１２と、レジストパターン１３と、磁性材パターン１４と、除電層１５とを有し、作製目的の磁気ディスクに対して磁気転写法によりサーボ情報を書き込むためのものである。サーボ情報は、例えば、サーボクロック、アドレスマーク、および位置検出マークを含む。
【００２５】
基材１１は、マスタ担体Ｘ１に要求される剛性を確保するためのものであり、作製目的の磁気ディスクより大きなディスク形状を有する。このような基材１１は、例えば、ＳｉやＮｉよりなる。
【００２６】
触媒層１２は、基材１１上に形成され、後述の無電解めっき法による磁性材料の成長の開始時に触媒機能を発揮する下地層である。触媒層１２を構成する材料としては、例えば、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｐｔなどから選択される単体金属、または、これらから選択される複数種の金属からなる合金を採用することができる。このような触媒層１２の厚さは、例えば、５０〜２００ｎｍである。
【００２７】
レジストパターン１３は、サーボ情報に対応するパターン形状を有して触媒層１２上に形成されている。サーボ情報に対応するパターン形状とは、本発明では、サーボ情報を形成するためのポジパターンの形状、または、サーボ情報を形成するためのネガパターンの形状を意味する。このパターン形状は、開口部１３１を伴っており、この開口部１３１には触媒層１２が臨む。レジストパターン１３を構成する材料としては、所望の強度を確保できる樹脂材料が好ましく、高分子構造中のケイ素が酸化ケイ素化して硬度が高められた樹脂材料を採用することができる。そのような樹脂材料としては、例えば、高分子構造中のケイ素が酸化ケイ素化されたＦＨ−ＳＰ（富士フィルムオーリン（株）製）が挙げられる。このようなレジストパターン１３の厚さは、例えば５０〜２００ｎｍである。
【００２８】
磁性材パターン１４は、サーボ情報に対応するパターン形状を有して、開口部１３１に臨む触媒層１２上に形成されている。磁性材パターン１４は、軟磁性材料または強磁性材料よりなる。軟磁性材料としては、例えば、パーマロイ、Ｎｉ、およびＦｅＣｏＮｉを採用することができる。強磁性材料としては、例えば、ＦｅＣｏおよびＣｏＣｒを採用することができる。サーボ情報に対応するパターン形状とは、本発明では、サーボ情報を形成するためのポジパターンの形状、または、サーボ情報を形成するためのネガパターンの形状を意味する。但し、レジストパターン１３がポジパターンの形状を有する場合、磁性材パターン１４はネガパターンの形状を有し、レジストパターン１３がネガパターンの形状を有する場合、磁性材パターン１４はポジパターンの形状を有する。このような磁性材パターン１４の厚さは、例えば５５〜２０５ｎｍである。
【００２９】
除電層１５は、レジストパターン１３および磁性材パターン１４を覆い、静電気を除去するためのものである。除電層を構成する材料としては、例えば、自己導電性物質を採用することができる。自己導電性物質は、それ自体導電性を有するものであり、例えば、金属結合により導電性を示す物質、余剰電子の移動によって電荷の移動が起こるもの、空孔の移動によって電荷の移動が起こるもの、イオンを生成し、そのイオンが電荷を運ぶもの、主鎖に沿ってπ結合を持ち、その相互作用により導電性を示す物質、および側鎖にある基の相互作用によって電荷の移動を起こす物質が挙げられ、具体的には、アルミナや導電性セラミクスなどが挙げられる。除電層１５を有することにより、マスタ担体Ｘ１の静電気除去性能が高まるため、磁気ディスクと接触する側において例えば静電気に起因する塵埃の付着が抑制される。このような除電層１５の厚さは、例えば１〜３ｎｍである。
【００３０】
次に、マスタ担体Ｘ１の製造方法の一例について図面を参照しつつ説明する。図２および図３は、マスタ担体Ｘ１の製造方法の一連の工程を表す。
【００３１】
まず、図２（ａ）に示すように、基材１１上に触媒層１２を形成する。触媒層１２の形成手法としては、例えば、無電解めっき法、スパッタリング法、蒸着法、または置換めっき法を採用することができる。
【００３２】
次に、図２（ｂ）に示すように、触媒層１２上にレジスト膜１３’を形成する。レジスト膜１３’は、電子線レジスト膜またはフォトレジスト膜である。レジスト膜１３’の形成手法としては、例えば、スピンコーティング法が挙げられる。
【００３３】
次に、図２（ｃ）に示すように、レジスト膜１３’に対して露光処理および現像処理を施し、触媒層１２が臨む（露出する）開口部１３１を形成することにより、サーボ情報に対応するパターン形状を有するレジストパターン１３を形成する（レジストパターン形成工程）。
【００３４】
レジスト膜１３’を構成する材料として、例えば、高分子構造中にケイ素を含んで当該ケイ素が酸化ケイ素化することにより硬化し得る樹脂材料を採用する場合には、次に、当該ケイ素を酸化ケイ素化することにより、レジストパターン１３を硬化させる（硬化工程）。この酸化ケイ素化するための手法としては、例えば、酸素プラズマによるアッシングや酸素中での熱アニールが挙げられる。レジストパターン１３は、硬化することにより高い耐久性を獲得することとなる。
【００３５】
次に、開口部１３１の内壁１３１ａと開口部１３１に臨む触媒層１２とに、水の極性より小さいが有意な極性を有する物質を付着させる。そのような極性物質としては、例えば、水酸基を有する物質（例えばアルコール）が挙げられる。これにより、後述の無電解めっき法において使用されるめっき液に対する、当該内壁１３１ａおよび触媒層１２の濡れ性が向上する。
【００３６】
次に、図３（ａ）に示すように、無電解めっき法により磁性材パターン１４を形成する（磁性材パターン形成工程）。具体的には、極性を有する物質を付着させる工程まで経た基材１１を所定の無電解めっき液に浸漬し、開口部１３１に臨む触媒層１２上に磁性材料を選択的に成長させ、磁性材パターン１４形成する。また、本工程では、磁性材料の成長は、レジストパターン１３を超える高さまで行われ、従って、磁性材パターン１４は、その一部がレジストパターン１３に乗り上げているオーバーハングの形態をとる。これにより、レジストパターン１３と磁性材パターン１４との間に有意な段差が生じるため、最終的に製造されるマスタ担体Ｘ１は、磁気ディスクに接触させる側において有意な凹凸を有することとなる。このような構成に代えて、本発明では、本工程における浸漬時間を調節することにより、磁性材パターン１４について、レジストパターン１３に乗り上げていない形態を有するように形成してもよい。
【００３７】
次に、図３（ｂ）に示すように、レジストパターン１３および磁性材パターン１４を覆うように除電層１５を形成する。除電層１５の形成方法としては、例えば、自己導電性物質を含む流動性の除電層形成用組成物を調製し、この除電層形成用組成物をレジストパターン１３および磁性材パターン１４を覆うように塗布して塗膜を形成し、その後、この塗膜を定着処理する方法が挙げられる。
【００３８】
本方法においては、レジストパターン１３の開口部１３１に臨む触媒層１２上にめっき法により磁性材料を成長させることによって磁性材パターン１４を形成するところ、めっき法によると、例えばスパッタリング法によるよりも、アスペクト比の大きな開口部に対して所定材料を適切に充填しやすい。したがって、本方法によると、レジストパターン形成工程において形成される開口部１３１の幅を所望の磁性材パターン１４のパターン幅Ｗp（図３（ａ）参照）に応じて小さく設定する場合であっても、即ち、開口部１３１の幅Ｗmと開口部１３１の深さｄとにより規定されるアスペクト比（ｄ／Ｗm，図２（ｃ）参照）が大きい場合であっても、当該開口部１３１に臨む触媒層１２上に磁性材料を適切に成長させることができ、幅の狭い磁性材パターン１４を適切に形成することができる。このようにして幅狭な磁性材パターン１４を形成することのできる本方法は、微細な磁性材パターン１４を有するマスタ担体Ｘ１を製造するうえで好適である。
【００３９】
加えて、本方法においては、上述のように、レジストパターン１３の開口部１３１に臨む触媒層１２上にめっき法により磁性材料を成長させることによって磁性材パターン１４を形成する。すなわち、本発明における磁性材パターン１４は、いわゆるアディティブ法により形成されるものであり、上述の従来のマスタ担体Ｘ’の磁性材パターン９２が形成される過程で経るような磁性膜の破断を経ずに、形成される。したがって、本方法において形成される磁性材パターン１４には、上述の磁性材パターン９２が有するほどの大きなエッジラフネスは、生じないのである。このように、本方法によると、エッジラフネスの小さな磁性材パターン１４を有するマスタ担体Ｘ１を製造することができる。
【００４０】
図４は、マスク担体Ｘ１を使用して行う磁気転写記録法を表す。マスタ担体Ｘ１を使用して行う磁気転写記録法においては、まず、図４（ａ）に示すように、磁気ディスク３０の記録層３２（垂直磁化膜）を初期磁化する。具体的には、所定方向に初期磁化磁界Ｈ１を印加することにより、記録層３２の磁界方向を一様に揃える。図の簡潔化の観点より、磁気ディスク３０については基板３１および記録層３２以外を省略して簡略化する。次に、図４（ｂ）に示すように、マスタ担体Ｘ１と磁気ディスク３０とを重ね合わせる。次に、図４（ｃ）に示すように、磁性材パターン１４のパターン形状を記録層３２に対して磁気的に転写する。具体的には、上述の初期磁化磁界Ｈ１とは逆方向の転写磁界Ｈ２をマスタ担体Ｘ１とともに磁気ディスク３０に印加することにより、記録層３２において磁性材パターン１４に対向する箇所の磁化方向を反転させる。このようにして、磁気ディスク３０ないしその記録層３２においてサーボ情報が記録される。
【００４１】
マスタ担体Ｘ１は、磁気ディスク３０に接触させる側において有意な凹凸を有するので、マスタ担体Ｘ１と磁気ディスク３０とを図４（ｂ）に示すように重ね合わせた状態では、当該凹凸の凹部にて隙間が生じる。そのため、当該重ね合わせ工程では、マスタ担体Ｘ１と磁気ディスク３０とを適切に密着させる手段として、当該隙間から空気を吸引することによってマスタ担体Ｘ１と磁気ディスク３０の間に負圧をかける手法を採用することが可能である。また、マスタ担体Ｘ１によると、磁気ディスク３０に隙間なく密着してしまうようなマスタ担体に比べ、磁気ディスク３０との重ね合わせ状態において当該磁気ディスク３０との接触面積が少ないので、重ね合わせ状態で磁気ディスク３０との間に塵埃が介在する確率や、重ね合わせ状態を経ることにより担体側から磁気ディスク３０に塵埃が付着してしまう確率が、低い。加えて、マスタ担体Ｘ１は、磁気ディスク３０に隙間なく密着してしまうようなマスク担体に比べて、磁気ディスク３０から離脱させやすい。
【００４２】
図５は、本発明の第２の実施形態に係る磁気転写用のマスタ担体Ｘ２を表す部分断面図である。本発明の第２の実施形態において、本発明の第１の実施形態と実質的に同一の部材および部分には、同一の符号を付している。
【００４３】
マスタ担体Ｘ２は、基材１１と、通電層２２と、レジストパターン１３と、磁性材パターン１４と、除電層１５とを有し、作製目的の磁気ディスクに対して磁気転写法によりサーボ情報を書き込むためのものである。マスタ担体Ｘ２は、磁性材パターン１４を形成するためのめっき法として電気めっき法を採用する点と、電気めっき法の採用に伴い下地層を通電層２２とする点とにおいて、マスタ担体Ｘ１と異なる。
【００４４】
通電層２２は、基材１１上に形成され、電気めっき法における電極（陰極）として機能する下地層である。通電層２２を構成する材料としては、例えば、Ｃｕを採用することができる。このような通電層２２の厚さは、例えば、３０〜１００ｎｍである。
【００４５】
マスタ担体Ｘ２の製造方法は、図２（ａ）を参照して上述した工程において触媒層１２に代えて通電層２２を形成する点、図３（ａ）を参照して上述した工程において無電解めっき法に代えて電気めっき法を採用する点において、マスタ担体Ｘ１の製造方法と異なる。
【００４６】
マスタ担体Ｘ２の製造において、通電層２２の形成手法としては、例えばスパッタリング法を採用することができる。
【００４７】
マスタ担体Ｘ２の製造における磁性材パターン形成工程では、開口部１３１に臨む通電層２２上に、電気めっき法により磁性材料を選択的に成長させることによって、サーボ情報に対応するパターン形状を有する磁性材パターン１４を形成する。具体的には、極性を有する物質を付着させる工程まで経た基材１１を所定の電解液に浸漬して、通電層２２に所定の電位を付与することによって、開口部１３１に臨む通電層２２上に磁性材パターン１４を形成することができる。また、この磁性材パターン形成工程において、磁性材料の成長は、磁性材パターン１４がレジストパターン１３を超える高さまで行われ、磁性材パターン１４は、その一部がレジストパターン１３に乗り上げているオーバーハングの形態をとることとなる。
【００４８】
マスタ担体Ｘ２の製造方法においては、マスタ担体Ｘ１の製造方法と同様に、レジストパターン１３の開口部１３１内にめっき法により磁性材料を成長させることによって磁性材パターン１４を形成する。したがって、本方法によっても、レジストパターン形成工程において形成される開口部１３１の幅を所望の磁性材パターン１４のパターン幅Ｗp（図３（ａ）参照）に応じて小さく設定する場合であっても、幅の狭い磁性材パターン１４を適切に形成することができる。このようにして幅狭な磁性材パターン１４を形成することのできる本方法は、微細な磁性材パターン１４を有するマスタ担体Ｘ２を製造するうえで好適である。
【００４９】
加えて、本方法においては、マスタ担体Ｘ１の製造方法と同様に、いわゆるアディティブ法により磁性材パターン１４を形成する。したがって、本方法によっても、上述の従来のマスタ担体Ｘ’の磁性材パターン９２が形成される過程で経るような磁性膜の破断を経ずに、磁性材パターン１４を形成することができる。したがって、本方法において形成される磁性材パターン１４には、上述の磁性材パターン９２が有するほどの大きなエッジラフネスは、生じないのである。このように、本方法によると、エッジラフネスの小さな磁性材パターン１４を有するマスタ担体Ｘ２を製造することができる。
【００５０】
以上のまとめとして、本発明の構成およびそのバリエーションを以下に付記として列挙する。
【００５１】
（付記１）
磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込むための磁気転写用マスタ担体を製造するための方法であって、
めっき法用の下地層を基材上に形成するための工程と、
上記下地層上にレジスト膜を形成するための工程と、
上記下地層が臨む開口部を上記レジスト膜に形成することにより、上記情報に対応するパターン形状を有するレジストパターンを上記下地層上に形成するための、レジストパターン形成工程と、
上記開口部に臨む下地層上にめっき法により磁性材料を成長させることにより、上記情報に対応するパターン形状を有する磁性材パターンを形成するための、磁性材パターン形成工程と、を含む磁気転写用マスタ担体の製造方法。
（付記２）
上記磁性材パターン形成工程では、上記レジストパターンを越える高さまで上記磁性材料を成長させる、付記１に記載の磁気転写用マスタ担体の製造方法。
（付記３）
上記磁性材パターン形成工程の前に、上記開口部の内壁と当該開口部に臨む下地層とに、極性を有する物質を付着させるための工程を更に含む、付記１または２に記載の磁気転写用マスタ担体の製造方法。
（付記４）
上記物質はアルコールである、付記３に記載の磁気転写用マスタ担体の製造方法。
（付記５）
上記レジストパターン形成工程の後に、上記レジストパターンの硬度を上げるための硬化工程を更に含む、付記１から４のいずれか一つに記載の磁気転写用マスタ担体の製造方法。
（付記６）
上記レジスト膜は、高分子構造中にケイ素を含む樹脂材料よりなり、
上記硬化工程では、上記ケイ素を酸化ケイ素化することによりレジストパターンの硬度を上げる、付記５に記載の磁気転写用マスタ担体の製造方法。
（付記７）
上記磁性材パターン形成工程の後に、上記レジストパターンおよび上記磁性材パターンを覆うように、静電気を除去するための除電層を形成するための工程を更に含む、付記１から６のいずれか一つに記載の磁気転写用マスタ担体の製造方法。
（付記８）
磁気記録媒体に対して磁気転写法により情報を書き込むための磁気転写用マスタ担体であって、
基材と、
上記基材上に形成されためっき法用の下地層と、
上記下地層が臨む開口部を伴って上記情報に対応するパターン形状、を有して上記下地層上に形成されたレジストパターンと、
上記開口部に臨む下地層上にめっき法により形成された、上記情報に対応するパターン形状を有する磁性材パターンと、を備える磁気転写用マスタ担体。
（付記９）
上記磁性材パターンは、上記レジストパターンを越えて突出している、付記８に記載の磁気転写用マスタ担体。
（付記１０）
静電気を除去するための、上記レジストパターンおよび上記磁性材パターンを覆う除電層を、更に備える、付記８または９に記載の磁気転写用マスタ担体。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るマスタ担体の部分断面図である。
【図２】図１に示すマスタ担体の製造方法の一部の工程を表す。
【図３】図２に示す工程の後に続く工程を表す。
【図４】磁気ディスクの製造過程において図１に示すマスタ担体を使用して磁気転写法によりサーボ情報を記録する場合の一連の工程を表す。
【図５】本発明の第２の実施形態に係るマスタ担体の部分断面図である。
【図６】従来のマスタ担体の部分断面図である。
【図７】従来のマスタ担体の製造方法の一連の工程を表す。
【図８】従来のマスタ担体の部分平面図である。
【符号の説明】
【００５３】
Ｘ１，Ｘ２，Ｘ’      マスタ担体
１１      基材
１２      触媒層
１３      レジストパターン
１４      磁性材パターン
１５      除電層
２２      通電層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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