(57)【要約】【課題】    窒化珪素膜の塩素不純物量の低減を実現し、ウェットエッチ耐性の高い窒化珪素膜の形成を可能とした窒化珪素膜の製造方法及びこの製造方法を備えた半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】    基体の表面に窒化珪素膜を形成する窒化珪素膜の製造方法であって、珪素と塩素とを含む第１のガスを前記基体の表面に供給する第１の工程と、窒素を含む第２のガスを前記基体の表面に供給する第２の工程と、水素を含む第３のガスを前記基体の表面に供給する第３の工程と、をこの順に繰り返すことを特徴とする窒化珪素膜の製造方法を提供する。【選択図】  図１
2006041337.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体の表面に窒化珪素膜を形成する窒化珪素膜の製造方法であって、
珪素と塩素とを含む第１のガスを前記基体の表面に供給する第１の工程と、
窒素を含む第２のガスを前記基体の表面に供給する第２の工程と、
水素を含む第３のガスを前記基体の表面に供給する第３の工程と、
をこの順に繰り返すことを特徴とする窒化珪素膜の製造方法。
【請求項２】
前記水素は、活性化してなることを特徴とする請求項１記載の窒化珪素膜の製造方法。
【請求項３】
前記水素は、原子状及びラジカルの少なくともいずれかに活性化してなることを特徴とする請求項１または２に記載の窒化珪素膜の製造方法。
【請求項４】
前記窒素は、活性化してなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の窒化珪素膜の製造方法。
【請求項５】
前記活性化は、プラズマにより生じてなることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１つに記載の窒化珪素膜の製造方法。
【請求項６】
前記活性化は、触媒及び紫外線の少なくともいずれかにより生じてなることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１つに記載の窒化珪素膜の製造方法。
【請求項７】
前記第１の工程と前記第２の工程との間に、前記基体の表面から前記第１のガスを除去する工程を実施し、
前記第２の工程と前記第３の工程との間に、前記基体の表面から前記第２のガスを除去する工程を実施することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の窒化珪素膜の製造方法。
【請求項８】
シリコン基板と、前記シリコン基板の上に設けられた窒化珪素膜と、を有する半導体装置の製造方法であって、
前記窒化珪素膜を請求項１〜７のいずれか１つに記載の窒化珪素膜の製造方法により製造することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項９】
半導体層と、前記半導体層の主面上に選択的に設けられたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜の上に設けられたゲート電極と、を有する基体を形成する工程と、
前記基体の上に、請求項１〜７のいずれか１つに記載の窒化珪素膜の製造方法により窒化珪素膜を製造する工程と、
前記半導体層の前記主面に対して略垂直方向に前記窒化珪素膜をエッチングすることにより、前記半導体層及び前記ゲート電極の上の前記窒化珪素膜を除去し、前記ゲート絶縁膜及びゲート電極の側面に前記窒化珪素膜からなる側壁を残留させる工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
半導体層の上に、請求項１〜７のいずれか１つに記載の窒化珪素膜の製造方法により窒化珪素膜を製造する工程と、
前記窒化珪素膜の上に層間絶縁層を形成する工程と、
前記層間絶縁層の上に開口を有する層を形成する工程と、
前記窒化珪素膜に対するエッチング速度よりも前記層間絶縁層に対するエッチング速度のほうが大なる条件で、前記開口を介して前記層間絶縁層をエッチングする工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窒化珪素膜の製造方法及び半導体装置の製造方法に関し、特に、ＬＰ−ＣＶＤ（Low PressureーChemical Vapor Deposition）法による窒化珪素膜の製造方法及びこの方法を備えた半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置のゲート電極のサイドウォールやライナー膜などを形成する目的で、ＬＰ−ＣＶＤ法により窒化珪素膜が成膜される。ところが、この場合に、原料としてＳｉＨ２Ｃｌ２，ＳｉＣｌ４，Ｓｉ２Ｃｌ６等のシリコン原料とＮＨ３とを用いると、シリコン原料に含まれる塩素およびＮＨ３に含まれる水素が、成膜された膜中に不純物として残留する。この現象は、低温、例えば６００℃以下での成膜では特に顕著となり、窒化膜の密度の低下やウェットエッチ耐性の低下などの問題が起こる。
【０００３】
これに対して、Ｓｉ／Ｎ比を一定に維持しつつ不純物含有量を少なくすること等を目的として、Ｓｉ２Ｃｌ６およびＮＨ３を用いた原子層蒸着（atomic layer deposition：ＡＬＤ）による窒化珪素膜形成手法が提案されている。
【０００４】
図１５は、本発明者が本発明に至る過程で検討した窒化珪素膜の形成手法を表すフローチャートである。  
すなわち、この方法の場合、第１の工程１１０として、反応室内のシリコンウェーハ上に、ＳｉＨ２Ｃｌ２，Ｓｉ２Ｃｌ６等の塩素を含むシリコン原料のガスを導入する。  
次に、第２の工程１２０として、窒素ガスを導入し反応室内の未反応ガスを置換する。  次に、第３の工程１３０として、活性化した窒素原料のガスを反応室内に導入する。  
次に、第４の工程１４０として、窒素ガスを導入し反応室内の未反応ガスを置換する。
【０００５】
この手法により、通常のＬＰＣＶＤによる窒化珪素膜と比較して塩素不純物量の少ない膜を形成することが可能である（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−３４３７９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、半導体装置のゲート電極のサイドウォールやライナー膜として窒化膜を使用する場合、低サーマルバジェット実現のためには、成膜温度が５００℃以下、例えば成膜温度４５０℃で、膜質が良好でありかつ被覆率の高い窒化膜の成膜方法が必要である。これに対して、これまでの成膜方法によると、成膜温度の低下とともに膜中の不純物量が増加してしまい、ウェットエッチ耐性などの点で膜質が劣化する問題がある。
【０００７】
例えば、ダマシンゲートプロセスによりメタルゲート電極を有する半導体装置を作成する場合、ライナー膜を窒化珪素膜により形成した後、ＨＦ溶液による洗浄工程が必要となる。従来技術にて成膜温度５００℃以下にて成膜した窒化膜では、ＨＦ溶液によるエッチング量が大きいため、目的とする構造の形成が難しい。
【０００８】
本発明は、かかる課題の認識に基づいてなされたものであり、その目的は、窒化珪素膜の塩素不純物量の低減を実現し、ウェットエッチ耐性の高い窒化珪素膜の形成を可能とした窒化珪素膜の製造方法及びこの製造方法を備えた半導体装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一態様によれば、基体の表面に窒化珪素膜を形成する窒化珪素膜の製造方法であって、
珪素と塩素とを含む第１のガスを前記基体の表面に供給する第１の工程と、
窒素を含む第２のガスを前記基体の表面に供給する第２の工程と、
水素を含む第３のガスを前記基体の表面に供給する第３の工程と、
をこの順に繰り返すことを特徴とする窒化珪素膜の製造方法が提供される。
【００１０】
ここで、前記水素は、活性化してなることを特徴とする。  
また、前記水素は、原子状及びラジカルの少なくともいずれかに活性化してなることを特徴とする。  
また、前記窒素は、活性化してなることを特徴とする。  
またここで、前記活性化は、プラズマにより生じてなることを特徴とする。  
または、前記活性化は、触媒及び紫外線の少なくともいずれかにより生じてなることを特徴とする。
【００１１】
また、前記第１の工程と前記第２の工程との間に、前記基体の表面から前記第１のガスを除去する工程を実施し、
前記第２の工程と前記第３の工程との間に、前記基体の表面から前記第２のガスを除去する工程を実施することを特徴とする。
【００１２】
一方、本発明の他の一態様によれば、シリコン基板と、前記シリコン基板の上に設けられた窒化珪素膜と、を有する半導体装置の製造方法であって、
前記窒化珪素膜を上記のいずれかの窒化珪素膜の製造方法により製造することを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される
または、本発明のさらに他の一態様によれば、半導体層と、前記半導体層の主面上に選択的に設けられたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜の上に設けられたゲート電極と、を有する基体を形成する工程と、
前記基体の上に、上記のいずれかの窒化珪素膜の製造方法により窒化珪素膜を製造する工程と、
前記半導体層の前記主面に対して略垂直方向に前記窒化珪素膜をエッチングすることにより、前記半導体層及び前記ゲート電極の上の前記窒化珪素膜を除去し、前記ゲート絶縁膜及びゲート電極の側面に前記窒化珪素膜からなる側壁を残留させる工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
【００１３】
また、本発明のさらに他の一態様によれば、半導体層の上に、上記のいずれかの窒化珪素膜の製造方法により窒化珪素膜を製造する工程と、
前記窒化珪素膜の上に層間絶縁層を形成する工程と、
前記層間絶縁層の上に開口を有する層を形成する工程と、
前記窒化珪素膜に対するエッチング速度よりも前記層間絶縁層に対するエッチング速度のほうが大なる条件で、前記開口を介して前記層間絶縁層をエッチングする工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、窒化珪素膜の塩素不純物量の低減を実現し、ウェットエッチ耐性を向上できる。すなわち、本発明によれば、サーマルバジェットが低く、Ｓｉ／Ｎ比が一定で、不純物量の少ない窒化珪素膜が得られ、従来技術よりも更に塩素不純物量を減少させることにより、ウェットエッチ耐性などの膜質を向上できる。
【００１５】
例えば、ダマシンゲートプロセスによりメタルゲート電極を有する半導体装置を作成する場合、ライナー膜を窒化膜にて形成した後、ＨＦ溶液による洗浄工程が必要となる。従来技術にて成膜温度５００℃以下にて成膜した窒化膜ではＨＦ溶液によるエッチング量が大きいため、目的とする構造の形成が難しい。これに対して、本発明によればＨＦ溶液によるエッチング量の小さい良質な窒化膜を形成することが可能なため、製造プロセス上の問題を回避し、かつ電気的特性を向上させることができる。
すなわち、本発明によれば、窒化珪素膜の塩素不純物量の低減を実現し、ウェットエッチ耐性を向上することが可能となり、産業上のメリットは多大である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。  
図１は、本発明の実施の形態にかかる窒化珪素膜の製造方法を表すフローチャートである。すなわち、本具体例は、ＬＰＣＶＤ法により窒化珪素膜を成膜する方法を例示する。
【００１７】
まず、第１の工程１１として、反応室内に配置されたシリコンウェーハなどの基体上に、珪素と塩素とを含む原料ガスを導入する。このような原料ガスとしては、例えば、ＳｉＨ２Ｃｌ２，Ｓｉ２Ｃｌ６等を挙げることができる。以降、これらの原料ガスを「第１のガス」とする。
【００１８】
次に、第２の工程１２として、窒素ガスを導入し反応室内の未反応ガスを置換する。  
次に、第３の工程１３として、窒素を含む原料ガスを反応室内に導入する。以後、窒素を含む原料ガスを「第２のガス」とする。  
次に、第４の工程１４として、窒素ガスを導入し反応室内の未反応ガスを置換する。  
次に、第５の工程１５として、活性化した水素を含む原料ガスを反応室内に導入する。以後、活性化した水素を含む原料ガスを「第３のガス」とする。  
最後に、第６の工程１６として、窒素ガスを導入し反応室内の未反応ガスを置換する。
【００１９】
以上説明した第１〜第６の工程を一周期とし、この周期を所望の膜厚に達するまで繰り返すことによって、塩素濃度の低い窒化珪素膜を形成する。一周期は、例えば約３０秒間程度とすることができる。
【００２０】
図２は、本発明の実施の形態にかかる半導体装置の製造方法を説明する工程断面図である。  
図２（ａ）は、図１に関して前述した第１の工程１１におけるシリコンウェーハの断面構造を例示する模式図である。すなわち、第１のガス（ＳｉＨ２Ｃｌ２，Ｓｉ２Ｃｌ６等の塩素を含むシリコン原料のガス）を反応室に導入することによって、シリコンウェーハ２１上に、シリコンと塩素２５とを含む層２２が形成される。
【００２１】
図２（ｂ）は、図１に関して前述した第３の工程１３におけるシリコンウェーハの断面構造を例示する模式図である。すなわち、第２のガス（窒素を含む原料ガス）を反応室に導入することによりシリコンと窒素とが結合し、塩素２５を含む窒化珪素薄膜２３が形成される。なおここで、シリコンと窒素との結合を促進するために、窒素をラジカルあるいは原子状などの活性化した状態にして供給してもよい。
【００２２】
図２（ｃ）は、図１に関して前述した第５の工程１５におけるシリコンウェーハの断面構造を例示する模式図である。第３のガス（活性化した水素を含む原料ガス）を反応室内に導入することにより、塩素２５の含有量が低減された窒化珪素薄膜２３が形成される。すなわち、活性化した水素原料のガスを導入することにより、活性化した水素２６と残留した塩素２５とが反応化合物を形成し、膜から取り除かれる。その結果、窒化珪素薄膜２３内の含有塩素量が低減される。
【００２３】
なお、図２には、説明の便宜上、平坦なシリコンウェーハ２１の上に窒化珪素膜を形成する場合を例示したが、シリコンウェーハ２１の表面にはトランジスタなどの構造が形成されていてもよく、またシリコンウェーハの代わりにＳＯＩ（semiconductor on insulator）基板などの各種の基板を用いることができる。
【００２４】
図３は、本発明の実施の形態にかかる窒化珪素膜の製造方法に用いることができる反応室を例示する模式図である。すなわち、同図は、ＬＰＣＶＤ装置の反応室を例示する。  
反応室３１内において、ウェーハステージ３６上にシリコンウェーハ３５が載置可能とされている。反応室３１の側壁には、第１のガス（ＳｉＨ２Ｃｌ２，Ｓｉ２Ｃｌ６などのシリコンと塩素とを含む原料ガス）を導入するためのインジェクター３２と、第２のガス（ＮＨ３などの窒素を含む原料ガス）を導入するためのインジェクター３３と、第３のガス（活性化した水素原料のガス）を導入するためのインジェクター３４と、真空ポンプに接続されている排気口３７とが設けられている。
【００２５】
活性化した水素は、例えば、リモートプラズマ発生装置としてＲＦジェネレータにて１３．５６ＭＨｚ（メガヘルツ）の高周波を８００Ｗ（ワット）印加することにより生成できる。または、水素を触媒に接触させたり、紫外線を照射することによっても活性化できる。触媒としては、例えば、タングステン、白金、パラジウム、モリブデン、タンタル、チタン、チタン酸化物、バナジウム、シリコン、アルミナ、炭化珪素、金属蒸着セラミックスなどを挙げることができる。また、光触媒の原理を利用して水素を活性化させてもよい。  
紫外線により水素を活性化させる場合、紫外線の波長は概ね４００ナノメータ以下とすると効率的である。  
このようにして水素を活性化した後、反応室３１に導入する。
【００２６】
また、窒素を含む第２のガスとしては、例えば、ＮＨ３を用いることができる。また、第２のガスとして、活性化した窒素を含むガスを導入してもよい。この場合もプラズマを利用して窒素を活性化できる。  
成膜条件としては、例えば温度４５０℃、圧力１３０Ｐａ（パスカル）、Ｓｉ２Ｃｌ６流量１０ｃｃ、ＮＨ３流量１０００ｃｃ、Ｈ２流量１０００ｃｃにて実施することができる。
【００２７】
活性化した水素原料のガスとしては、水素ラジカルや原子状水素などを含むガスを挙げることができる。例えば、プラズマや触媒あるいは紫外線照射などより水素分子を分解させると、不対電子を持つ水素原子が得られる。この水素原子は反応性が高く、活性である。
【００２８】
また、窒素を含む第２のガスとしては、ＮＨ３以外にも、アミン系のガスなどを用いることができ、例えばヒドラジンを用いることができる。
【００２９】
本実施形態によれば、上記した工程を経ることにより、塩素含有量の低い窒化珪素膜を低温で成膜できる。低温で成膜させることにより、製造工程途中の半導体装置に余分な熱を加えることなく、窒化膜の膜質を改善し、半導体装置の信頼性を向上する効果が得られる。
【００３０】
図４は、窒化珪素膜中の塩素濃度を全反射蛍光Ｘ線法により測定した結果を表すグラフ図である。  
すなわち、Ｓｉ２Ｃｌ６およびＮＨ３の２種類のガスを同時に導入して成膜した第１の比較例の窒化珪素膜４１と、第１のガス：Ｓｉ２Ｃｌ６、第２のガス：活性化したＮＨ３を交互に導入し、これを繰り返すことにより成膜した第２の比較例の窒化珪素膜４２と、本発明による第１のガス：Ｓｉ２Ｃｌ６、第２のガス：活性化したＮＨ３に続いて、第３のガス：活性化した水素を導入し、これを繰り返すことにより成膜した窒化珪素膜４３の３種の膜について比較した。
【００３１】
全反射蛍光Ｘ線法により測定した塩素濃度は、通常のＬＰＣＶＤにて成膜した第１比較例の窒化珪素膜４１で１．４０×１０１４（ｃｍ−２）、第２比較例の窒化珪素膜４２で８．６０×１０１３（ｃｍ−２）であったのに対し、本発明の方法で成膜した窒化珪素膜４３では４．７９×１０１３（ｃｍ−２）であった。つまり、第１比較例の窒化珪素膜４１と比較して６５％減少、第２比較例の窒化珪素膜４２と比較して４５％ほど、残留塩素量を減少させることが可能であることが明らかとなった。
【００３２】
図５は、ＨＦ溶液に対するエッチング量の評価を行った結果を示すグラフ図である。ＤＨＦ（希フッ酸）０．５％溶液に対するウェットエッチレート（対ＳｉＯ２比）は、通常のＬＰＣＶＤにて成膜した第１比較例の窒化珪素膜４１で１９．７、第２比較例の窒化珪素膜４２で８．５であったのに対し、本発明の方法で成膜した窒化珪素膜４３では４．７であった。すなわち、第１比較例の窒化珪素膜４１と比較して約４．２倍、第２比較例の窒化珪素膜４２と比較して約１．８倍、ウェットエッチ耐性を向上させることが可能となった。
【００３３】
次に、本発明の窒化珪素膜の製造方法を備えた半導体装置の製造方法について説明する。
【００３４】
図６は、本発明の実施の形態にかかる半導体装置の製造方法を例示する工程断面図である。すなわち、本具体例は、ゲート側壁の形成工程を表す。  
まず、図６（ａ）に表したように、シリコン基板６１の上に、ゲート絶縁膜６２を介してゲート電極６３を形成する。  
次に、図６（ｂ）に表したように、これらの上に、窒化珪素膜６４を形成する。この時に図１乃至図３に関して前述したような本発明の方法により形成する。
【００３５】
次に、図６（ｃ）に表したように、窒化珪素膜６４をドライエッチングによって加工してサイドウォール７１を形成する。すなわち、ＲＩＥ（reactive ion etching）などの異方性の高いエッチング方法によりシリコン基板６１の主面に対して略垂直方向からエッチングすると、ゲート絶縁膜６２及びゲート電極７３の側面のみに窒化珪素膜が残り、サイドウォール７１として形成される。このサイドウォール７１は、本発明の実施の形態にかかる製造方法によって成膜されているので、膜中の塩素濃度は低減されている。
【００３６】
図７は、前述した比較例１あるいは比較例２の窒化珪素膜を設けた半導体装置の断面構造を例示する模式図である。すなわち、シリコン基板６１の上に、ゲート絶縁膜８３を介してゲート電極８４が設けられていて、ゲート電極８４の側面をサイドウォール８１が覆っている。このサイドウォール８１は、比較例の方法によりＳｉ２Ｃｌ６とＮＨ３を用いて成膜したので、膜中の塩素８２の濃度が高い。
【００３７】
本発明におけるサイドウォール７１と比較して、比較例のサイドウォール８１は、膜中の塩素８２の濃度が高く、例えば、ゲート絶縁膜８３やゲート電極８４に対して塩素が拡散することにより、半導体装置の信頼性を低下させる懸念がある。これに対して、本発明におけるサイドウォール７１では、残留する塩素の含有量を低減していることにより、例えばゲート絶縁膜７２やゲート電極７３に対する不純物拡散量を抑制することができるため、半導体装置の信頼性を向上する効果が得られる。
【００３８】
本発明は、半導体装置のサイドウォールのみならず、その他、例えば、窒化珪素膜からなるゲート絶縁膜やライナー膜（エッチングストッパ膜）の形成に用いても、含有塩素濃度を低減させた良質の膜を低温で形成できる点で有利な効果が得られる。
【００３９】
図８は、本発明により製造される半導体装置の要部断面構造を例示する模式図である。  すなわち、同図は、半導体集積回路を構成するＭＯＳＦＥＴ（Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transister）の要部断面構造を表す。
【００４０】
シリコン基板の表面部分が素子分離領域１０１により絶縁分離され、これら分離されたウエル１０２のそれぞれにＭＯＳＦＥＴが形成されている。それぞれのＭＯＳＦＥＴは、ソース領域１０７、ドレイン領域１０８と、これらの間に設けられたチャネル１０３と、を有する。チャネル１０３の上には、ゲート絶縁膜１０４を介してゲート電極１０６が設けられている。ソース・ドレイン領域１０７、１０８とチャネル１０３との間には、いわゆる「ショートチャネル効果」などを防ぐ目的で、ＬＤＤ（lightly doped drain）領域１０３Ｄが設けられている。そして、これらＬＤＤ領域１０３Ｄの上には、ゲート電極１０６に隣接してゲート側壁１０５が設けられている。ゲート側壁１０５は、ＬＤＤ領域１０３Ｄをセルフアライン（自己整合）的に形成するために設けられている。
【００４１】
また、ソース・ドレイン領域１０７、１０８とゲート電極１０６の上には、電極とのコンタクトを改善するためにシリサイド層１１９が設けられている。これら構造体の上は、第１の層間絶縁膜１１０と第２の層間絶縁膜１１１と第３の層間絶縁膜１１２により覆われ、これらを貫通するコンタクトホールを介して、ソースコンタクト１１３Ｓ、ゲートコンタクト１１３Ｇ、ドレインコンタクト１１３Ｄが形成されている。ここで、第１の層間絶縁膜１１０と第３の層間絶縁膜１１２は、例えば、窒化珪素により形成され、第２の層間絶縁膜１１１は、例えば、酸化シリコンにより形成することができる。
【００４２】
さらに、この上に、第４の層間絶縁膜１１４と第５の層間絶縁膜１１５が形成されている。そして、これらを貫通するトレンチにソース配線１１６Ｓ、ゲート配線１１６Ｇ、ドレイン配線１１６Ｄがそれぞれ埋め込み形成されている。ここで、第４の層間絶縁膜１１４は酸化シリコンにより形成され、第５の層間絶縁膜１１５は、窒化珪素により形成することができる。
【００４３】
以上説明したような半導体装置を製造するに際し、本発明によれば、ゲート側壁１０５のみならず、ゲート絶縁膜１０４、第１の層間絶縁膜１１０、第３の層間絶縁膜１１２、第５の層間絶縁膜１１５などを構成する窒化珪素膜を、図１乃至図３に関して前述した本発明により形成できる。
【００４４】
図９乃至図１３は、本発明の実施の形態にかかる半導体装置の製造方法を表す工程断面図である。  
まず、図９（ａ）に表したように、ＭＯＳトランジスタの要部を形成する。すなわち、Ｓｉ基板上に素子分離領域１０１、ウェル１０２、チャネル１０３、ゲート絶縁膜１０４、ゲート電極１０６、ＬＤＤ注入サイドウォール（ゲート側壁）１０５を順次形成し、ソース領域１０７、ドレイン領域１０８の形成を行う。さらに、ニッケル（Ｎｉ）のスパッタ、ＲＴＰ（rapid thermalprocessing）を順次行い、ニッケルシリサイドからなるシリサイド層１１９を形成する。  
ここで、ゲート絶縁膜１０４を形成する工程において、図１及び図２に関して前述した方法により窒化珪素膜を形成することができる。また、この時、ゲート絶縁膜１０４は、単一の窒化珪素膜には限定されず、例えば、酸化珪素やhigh-k（高誘電率）材料からなる膜と、窒化珪素膜と、の積層構造とすることができる。この場合には、窒化珪素膜について図１及び図２に関して前述した方法を実施することができる。  
また、ゲート側壁１０５を形成する工程についても、図６に関して前述したように、本発明の窒化珪素膜の製造方法を用いることができる。
【００４５】
次に、図９（ｂ）に表したように、第１の層間絶縁膜１１０及び第２の層間絶縁膜１１１を形成する。ここで、第１の層間絶縁膜１１０として、図１乃至図３に関して前述したように本発明の製造方法により厚みが５０ｎｍ程度の窒化珪素膜を形成する。この時、ニッケルシリサイドからなる下地のシリサイド層１１９のコンタクト抵抗の上昇を防ぐためには、窒化珪素膜の成膜時の温度を５００℃以下に抑えることが望ましい。これに対して、本発明によれば、例えば４５０℃程度の低温でも膜質が良好で、且つ、塩素の含有量の少ない窒化珪素膜を形成できる。
【００４６】
このように第１の層間絶縁膜１１０として窒化珪素膜を形成した後に、第２の層間絶縁膜１１１として、ＴＥＯＳ（tetra ethoxy silane）ガスを用い、プラズマＣＶＤにより６００℃において厚みが６００ｎｍのシリコン酸化膜を形成する。
また、第２の層間絶縁膜１１１の材料として、さらに誘電率の低い材料を用いることができる。そのような材料としては、メチル基を有するシリコン酸化物や、水素基を有するシリコン酸化物、有機ポリマーなど用いることができる。さらに具体的には、例えば、多孔質のメチルシルセスキオキサン（methyl silsequioxane：ＭＳＱ）などの各種のシルセスキオキサン化合物、ポリイミド、炭化フッ素（fluorocarbon）、パリレン（parylene）、ベンゾシクロブテンなどを挙げることができる。また、その形成方法としては、例えば、溶液をスピンコートし熱処理して薄膜を形成するスピン・オン・グラス（spin on glass：ＳＯＧ）法を用いることができる。
【００４７】
このように第２の層間絶縁膜１１１を形成した後に、図９（ｃ）に表したように、この上に第３の層間絶縁膜１１２として、窒化珪素膜を形成する。この時にも、本発明の製造方法により、例えば成膜温度を４５０℃にして厚み１２０ｎｍ程度の窒化珪素膜を形成することができる。成膜温度を低く抑えることにより、シリサイド層１１９を構成するニッケルシリサイドの変質を防ぐことができる。  
その後、レジストを塗布してパターニングすることにより、レジストパターン１２０を形成する。レジストパターン１２０は、例えば、ＡｒＦ露光機を用いて１２０ｎｍ径に露光することにより形成する。
【００４８】
次に、図１０（ａ）に表したように、レジストパターン１２０をマスクとして第３の層間絶縁膜１１２のエッチングを行う。エッチング方法としては、例えば、ＩＣＰ（induction coupled prasma）型反応性イオンエッチング装置を用いることができる。第３の層間絶縁膜１１２のエッチングに際しては、例えば、ＣＨ２Ｆ２：５０ｓｃｃｍ  Ｏ２：５０ｓｃｃｍ  の混合ガスを用いて６．７パスカル（Ｐａ）にてエッチングすることにより、層間絶縁膜１１２に開口部１２１を形成することができる。
【００４９】
次に、図１０（ｂ）に表したように、酸素プラズマによるアッシングを実施してレジストマスク１２０を除去する。
【００５０】
その後、図１０（ｃ）に表したように、第２の層間絶縁膜１１１に接続孔（コンタクトホール）を形成する。第２の層間絶縁膜１１１の接続孔形成を行う際には、Ｃ４Ｆ６：５０ｓｃｃｍ、ＣＯ：５０ｓｃｃｍ、Ｏ２：５０ｓｃｃｍおよびＡｒ：２００ｓｃｃｍの混合ガスを用いて６．７パスカルにて反応性イオンエッチングを行う。このようにして、第２の層間絶縁膜１１１の接続孔１２２を形成する。
【００５１】
この時に、シリコン窒化膜からなる第３の層間絶縁膜１１２をエッチングマスクして用いることにより、安定したエッチングができる。すなわち、第２の層間絶縁膜１１１を構成するシリコン酸化膜と、第３の層間絶縁膜１１２を構成するシリコン窒化膜とでは、エッチング速度を異ならせることにより、大きなエッチング選択比を得ることが容易である。従って、第３の層間絶縁膜１１２により確実にマスクされた状態を維持しつつ、第２の層間絶縁膜１１１をエッチングできる。つまり、マスクの劣化によるエッチング開口サイズの変動などの問題を解消して、所望の開口を安定的に形成することができる。
【００５２】
一方、第１の層間絶縁膜１１０は、第３の層間絶縁膜１１２と同一のシリコン窒化膜により形成されているので、エッチングストッパとして確実に作用する。つまり、オーバーエッチングやアンダーエッチングなどによる問題を解消することもできる。
【００５３】
次に、図１１（ａ）に表したように、第１の層間絶縁膜１１０に接続孔を形成する。第１の層間絶縁膜１１０と第３の層間絶縁膜１１２を同質の材料により形成した場合には、このエッチング工程において、第３の層間絶縁膜１１２もエッチングされる。そこで、第３の層間絶縁膜１１２を第１の層間絶縁膜１１０よりも厚く形成しておくことが必要である。エッチング条件としては、反応性イオンエッチング法により、ＣＨ２Ｆ２：５０ｓｃｃｍ  Ｏ２：５０ｓｃｃｍおよびＡｒ：２００ｓｃｃｍの混合ガスを用いて６．７パスカルにてエッチング行うことができる。
【００５４】
次に、図１１（ｂ）に表したように、コンタクト金属１１３を堆積する。  
そして、化学機械研磨法（chemical mechanical polishing：ＣＭＰ）により研磨して表面を平坦化させて、図１１（ｃ）に表したようにコンタクト金属を埋め込んだ構造を形成できる。なお、この際にも、第３の層間絶縁膜１１２を設けることにより、ＣＭＰによる研磨に対して、第２の層間絶縁膜１１１を保護することができる。つまり、多孔質の酸化シリコンなどの比較的柔らかい材料により形成された第２の層間絶縁膜１１１の上に、窒化珪素などの比較的堅い材料からなる第３の層間絶縁膜１１２を設けることによりＣＭＰの研磨の際に、第２の層間絶縁膜１１１が研磨されて膜厚が薄くなることを防ぐことができる。その結果として、配線間容量の増大や電流リークなどの問題を抑制できる。
【００５５】
次に、図１２（ａ）に表したように、第４の層間絶縁膜１１４として、例えば、ＭＳＱなどの原料を用いて多孔質の酸化シリコンなどを堆積する。そして、さらに、図１２（ｂ）に表したように、第５の層間絶縁膜１１５として、例えば窒化珪素膜を堆積する。この時も、図１乃至図３に関して前述したように本発明の製造方法を用いることができる。
【００５６】
次に、図１３（ａ）に表したように、レジストパターン１２３を形成する。  
そして、図１３（ｂ）に表したように、第５の層間絶縁膜１１５と第４の層間絶縁膜１１４をそれぞれエッチングすることにより、トレンチ１２４を形成する。第５の層間絶縁膜１１５のエッチングに際しては、例えば、ＣＨ２Ｆ２：５０ｓｃｃｍ  Ｏ２：５０ｓｃｃｍ  の混合ガスを用いて６．７パスカル（Ｐａ）にてエッチングすることにより、層間絶縁膜１１５に開口部を形成することができる。第４の層間絶縁膜１１４にトレンチを形成する際には、Ｃ４Ｆ６：５０ｓｃｃｍ、ＣＯ：５０ｓｃｃｍ、Ｏ２：５０ｓｃｃｍおよびＡｒ：２００ｓｃｃｍの混合ガスを用いて６．７パスカルにて反応性イオンエッチング行うことができる。この際に、第５の層間絶縁膜１１５をハードマスクとして用い、同時に、第３の層間絶縁膜１１２をエッチングストッパとして用いることができる。すなわち、酸化シリコンにより形成された第４の層間絶縁膜１１４をエッチングする際に、窒化珪素により形成された第５の層間絶縁膜１１５をハードマスクとして用い、同じく窒化珪素により形成された第３の層間絶縁膜１１２をエッチングストッパとして用いることにより、オーバーエッチングなどを抑制してトレンチを精密に形成できる。
【００５７】
この後、配線用の金属を堆積し、ＣＭＰによって研磨して平滑化することにより、図８に表したように、トレンチにソース配線１１６Ｓ、ゲート配線１１６Ｇ、ドレイン配線１１６Ｄがそれぞれ埋め込まれた層間配線構造を形成できる。
【００５８】
以上説明したように、本実施形態によれば、エッチングストッパやハードマスクなどとして作用する層間絶縁膜１１０、１１２、１１５などを構成する窒化珪素膜を低温で形成することができ、シリサイド層１１９の変質を防ぐことができる。しかも、これら層間絶縁膜を構成する窒化珪素膜は、残留塩素の濃度が低く、半導体装置の信頼性の点でも優れる。
【００５９】
図１４は、本発明の窒化珪素膜の製造方法の変型例を表すフローチャートである。  
すなわち、本変型例の場合、工程１１において第１のガスを導入し、工程１２において窒素ガスによるパージを実施した後に、工程１７において第３のガスとして活性化水素を導入する。すると、基板上に形成されたシリコン層に含有される塩素が活性化水素と反応しシリコン層から取り除かれる。
【００６０】
しかる後に、工程１８において窒素ガスによりパージし、その後、工程１３において第２逃すとしてアンモニアなどの窒素を含む原料ガスを導入する。この後は、図１に表した工程と同様に実施する。  
本変型例によれば、第１のガスを導入してシリコン層を形成した後に、第３のガスとして活性化水素を導入（工程１７）してシリコン層に含有される塩素を引き抜く。またさらに、第２のガスを導入して窒化珪素膜を形成した後に、活性化水素を導入（工程１５）して窒化珪素層に含有される塩素を引き抜く。このように、シリコン層の状態と、窒化珪素層の状態のそれぞれにおいて活性化水素により残留塩素を引き抜くことにより、膜中の塩素の濃度をさらに低くすることができる。
【００６１】
以上、具体例を参照しつつ本発明の実施の形態について説明した。
【００６２】
しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、本発明の製造方法を使用して製造した半導体装置を構成する要素について当業者が設計変更を加えたものであっても、本発明の要旨を備えたものであれば、本発明の範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の実施の形態にかかるＬＰＣＶＤ法による低温窒化成膜のフローチャートである。
【図２】本発明の実施の形態にかかるＬＰＣＶＤ法による低温窒化成膜の、シリコンウェーハの工程断面構造を例示する模式図である。
【図３】本発明の実施の形態にかかるＬＰＣＶＤ法による低温窒化成膜を行う際に使用する反応室を例示する模式図である。
【図４】窒化珪素膜中の塩素濃度の、全反射蛍光Ｘ線測定結果を示すグラフ図である。
【図５】ＨＦ溶液に対するエッチング量の評価を行った結果を示すグラフ図である。
【図６】本発明の実施の形態にかかる半導体装置の製造方法を例示する模式図である。
【図７】比較例の製造方法によって作成した半導体装置の断面構造を例示する模式図である。
【図８】本発明により製造される半導体装置の要部断面構造を例示する模式図である。
【図９】本発明の実施の形態にかかる半導体装置の製造方法を表す工程断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態にかかる半導体装置の製造方法を表す工程断面図である。
【図１１】本発明の実施の形態にかかる半導体装置の製造方法を表す工程断面図である。
【図１２】本発明の実施の形態にかかる半導体装置の製造方法を表す工程断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態にかかる半導体装置の製造方法を表す工程断面図である。
【図１４】本発明の窒化珪素膜の製造方法の変型例を表すフローチャートである。
【図１５】本発明者が本発明に至る過程で検討した窒化珪素膜の形成手法を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００６４】
１１ 第１の工程
１２ 第２の工程
１３ 第３の工程
１４ 第４の工程
１５ 第５の工程
１６ 第６の工程
２１ シリコンウェーハ
２２ シリコンと塩素とを含む層
２３ 窒化珪素薄膜
２５ 塩素
２６ 水素
３１ 反応室
３２ 第１のガスを供給するインジェクター
３３ 第２のガスを供給するインジェクター
３４ 第３のガスを供給するインジェクター
３５ シリコンウェーハ
３６ ウェーハステージ
３７ 排気口
４１ 通常のＬＰＣＶＤによって形成した窒化珪素膜
４２ 従来技術によって形成した窒化珪素膜
４３ 本発明の製造方法によって形成した窒化珪素膜
６１ シリコン基板
６２ ゲート絶縁膜
６３ ゲート電極
６４ 窒化珪素膜
７１ サイドウォール
７２ ゲート絶縁膜
７３ ゲート電極
８１ サイドウォール
８２ 塩素
８３ ゲート絶縁膜
８４ ゲート電極
１０１ 素子分離領域
１０２ ウェル
１０３ チャネル
１０４ ゲート絶縁膜
１０５ ゲート側壁
１０６ ゲート電極
１０７ ソース領域
１０８ ドレイン領域
１１０〜１１２ 層間絶縁膜
１１３Ｄ ドレインコンタクト
１１３Ｇ ゲートコンタクト
１１３Ｓ ソースコンタクト
１１４、１１５ 層間絶縁膜
１１６Ｄ ドレイン配線
１１６Ｇ ゲート配線
１１６Ｓ ソース配線
１１９ シリサイド層
１２０ レジストパターン
１２０ レジストマスク
１２１ 開口部
１２２ 接続孔
１２３ レジストパターン
１２４ トレンチ
２１０ 第１の工程
２２０ 第２の工程
２３０ 第３の工程
２４０ 第４の工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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