(57)【要約】【課題】  少なくとも１層の塗膜の不要部分を剥離液にて除去するに際し、除去状態が良好で、長期間安定して除去性能を維持でき、且つ良好な画像が得られる優れた電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体用の剥離液、電子写真感光体の提供。【解決手段】  導電性基体上に形成された少なくとも１層の塗膜の不要部分を、剥離液にて除去する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、該剥離液は沸点が１１０℃以下、且つ水を少なくとも１０質量％含有しうる有機溶媒を主溶媒とするものであって、水を０．５〜１０．０質量％含有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体上に形成された少なくとも１層の塗膜の不要部分を、剥離液にて除去する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、該剥離液は沸点が１１０℃以下、且つ水を少なくとも１０質量％含有しうる有機溶媒を主溶媒とするものであって、水を０．５〜１０．０質量％含有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項２】
前記少なくとも１層の塗膜のバインダーが、ポリカーボネート樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記主溶媒が、環状エーテル類であることを特徴とする請求項１または２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記主溶媒が、テトラヒドロフランであることを特徴とする請求項３に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項５】
前記主溶媒が、ジオキソランであることを特徴とする請求項３に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項６】
前記除去が、剥離液と剥離部材とを用いて行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項７】
導電性基体上に形成された少なくとも１層の塗膜の不要部分を、剥離液で除去する工程に用いる電子写真感光体用の剥離液において、該剥離液は沸点が１１０℃以下、且つ水を少なくとも１０質量％含有しうる有機溶媒を主溶媒とするものであって、水を０．５〜１０．０質量％含有することを特徴とする電子写真感光体用の剥離液。
【請求項８】
前記少なくとも１層の塗膜のバインダーが、ポリカーボネート樹脂であることを特徴とする請求項７に記載の電子写真感光体用の剥離液。
【請求項９】
前記主溶媒が、環状エーテル類であることを特徴とする請求項７または８に記載の電子写真感光体用の剥離液。
【請求項１０】
前記主溶媒が、テトラヒドロフランであることを特徴とする請求項９に記載の電子写真感光体用の剥離液。
【請求項１１】
前記主溶媒が、ジオキソランであることを特徴とする請求項９に記載の電子写真感光体用の剥離液。
【請求項１２】
前記除去が、剥離液と剥離部材とを用いて行うことを特徴とする請求項７〜１１のいずれか１項に記載の電子写真感光体用の剥離液。
【請求項１３】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法で作られたことを特徴とする電子写真感光体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電写真感光体の製造方法、電子写真感光体用の剥離液及び電子写真感光体に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、電子写真感光体（以下、単に感光体ともいう）は、導電性基体（以下、単に基体ともいう）上に中間層、電荷発生層と電荷輸送層からなる感光層、必要に応じ導電層、保護層等の塗膜を有する。
【０００３】
上記のような塗膜の層構成を有する感光体を、複写機、レーザープリンタなどに使用する場合、感光体と現像ロールとの距離は、現像性能を良好にするために、常に一定に保持されなければならない。そのため、通常は、感光体の端部にコロを当てたり、カラーリングで保持する等の感光体と現像ロールの距離を一定にする方法が採用されている。その場合、コロやカラーリングが当接する部分に、凹凸が有ると感光体と現像ロールとの距離が変動したり、塗膜の凸部がクリーニングブレードを磨耗させてクリーニング性を不良にしたり、塗膜の凹部に入り込んだトナーをクリーニングできなくなるという問題が生じる。したがって、コロやカラーリングが当接する部分には塗膜が無いことが望ましい。
【０００４】
塗膜を形成する塗布方法のうち、基体を塗布液に浸漬させ、次いで基体を引き上げることにより塗膜を形成する浸漬塗布方法は、任意の形状、特に円筒状の基体の表面にも、継ぎ目なく、一定の膜厚の塗膜を形成できるため、感光体の製造には好適である。その場合、基体の上端部は基体の浸漬高さを調節することにより塗膜を形成せずに容易に露出できるが、基体の下端部は塗布液中に浸漬して塗布するので塗膜が形成されてしまい基体を露出させることはできない。又、下端部は、塗布液がたれて膜厚が厚くなるので感光体と現像ロールとの距離を一定に保つには問題となる。
【０００５】
したがって、下端部に形成される塗膜は、塗布後に除去しなければならない。またスプレー塗布の場合、上端部や下端部の未塗布部分を形成することは浸漬塗布よりも容易であるが、均一な塗膜層を形成するのが難しかったり、生産性も悪く実用的ではない。
【０００６】
従来、基体下端部の塗膜を除去するためには、例えば、剥離液中で超音波により除去する方法、ブラシで除去する方法、掻き取り部材により除去する方法等が知られている（例えば、特許文献１〜４参照。）。これらの中では剥離液を用いての除去が実用的であった。
【０００７】
剥離に用いられる剥離液（溶媒）としては、ハロゲン系溶媒、有機溶媒が用いられてきた（例えば、特許文献５参照。）。
【０００８】
ハロゲン系溶媒としては、メチクロ、エチクロ、トリクレン等が提案されてきた。しかしながらこれらのハロゲン系溶媒は環境上好ましくない。
【０００９】
有機溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、γ−ブチロラクトン等が提案されてきた。しかしながら上記溶媒を用いて塗膜の除去を行うと、除去した塗膜の端部に凹凸ができたり、プリント中に塗膜端部から塗膜が剥離したり、塗膜除去装置の配管やタンクの壁に除去した塗膜が付着したり、剥離液が汚れたり、剥離部材としてブラシを用いると除去塗膜がブラシに付着し除去能力を低下させたりして実用上問題をかかえていた。又、これらの有機溶媒は発火性の危険も有しており改善が望まれていた。
【特許文献１】特開昭５９−１４２５５５号公報
【特許文献２】特開昭６０−９７８６１号公報
【特許文献３】特開平５−１４２７８９号公報
【特許文献４】特開昭６１−２２２５７１号公報
【特許文献５】特開２００３−１３１４０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、少なくとも１層の塗膜の不要部分を剥離液にて除去するに際し、除去状態が良好で、長期間安定して除去性能を維持でき、且つ良好な画像が得られる優れた感光体の製造方法、感光体用の剥離液、感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、下記構成を採ることにより達成される。
【００１２】
（請求項１）
導電性基体上に形成された少なくとも１層の塗膜の不要部分を、剥離液にて除去する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、該剥離液は沸点が１１０℃以下、且つ水を少なくとも１０質量％含有しうる有機溶媒を主溶媒とするものであって、水を０．５〜１０．０質量％含有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【００１３】
（請求項２）
前記少なくとも１層の塗膜のバインダーが、ポリカーボネート樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【００１４】
（請求項３）
前記主溶媒が、環状エーテル類であることを特徴とする請求項１または２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【００１５】
（請求項４）
前記主溶媒が、テトラヒドロフランであることを特徴とする請求項３に記載の電子写真感光体の製造方法。
【００１６】
（請求項５）
前記主溶媒が、ジオキソランであることを特徴とする請求項３に記載の電子写真感光体の製造方法。
【００１７】
（請求項６）
前記除去が、剥離液と剥離部材とを用いて行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【００１８】
（請求項７）
導電性基体上に形成された少なくとも１層の塗膜の不要部分を、剥離液で除去する工程に用いる電子写真感光体用の剥離液において、該剥離液は沸点が１１０℃以下、且つ水を少なくとも１０質量％含有しうる有機溶媒を主溶媒とするものであって、水を０．５〜１０．０質量％含有することを特徴とする電子写真感光体用の剥離液。
【００１９】
（請求項８）
前記少なくとも１層の塗膜のバインダーが、ポリカーボネート樹脂であることを特徴とする請求項７に記載の電子写真感光体用の剥離液。
【００２０】
（請求項９）
前記主溶媒が、環状エーテル類であることを特徴とする請求項７または８に記載の電子写真感光体用の剥離液。
【００２１】
（請求項１０）
前記主溶媒が、テトラヒドロフランであることを特徴とする請求項９に記載の電子写真感光体用の剥離液。
【００２２】
（請求項１１）
前記主溶媒が、ジオキソランであることを特徴とする請求項９に記載の電子写真感光体用の剥離液。
【００２３】
（請求項１２）
前記除去が、剥離液と剥離部材とを用いて行うことを特徴とする請求項７〜１１のいずれか１項に記載の電子写真感光体用の剥離液。
【００２４】
（請求項１３）
請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法で作られたことを特徴とする電子写真感光体。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の感光体の製造方法は、感光体の塗膜の不要部分を良好に除去でき、塗膜端部に凹凸が無く、プリント中に塗膜端部から塗膜が剥離してくることなく優れている。
【００２６】
又、剥離液で除去した塗膜は溶解したり微細にならず膜形状を保ったままなので、除去した塗膜が剥離液タンク、配管、剥離部材として用いるブラシに付着せず、剥離液の汚れも無く多数本処理しても良好な除去性能を維持できるすぐれた効果を有する。
【００２７】
さらに、本発明で用いる剥離液は、ハロゲ系溶媒を用いないため環境に優しく、且つ、水を含有しているので発火の危険性も少なく優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
本発明者等は、特定の有機溶媒に適量の水を添加した剥離液を用いると、除去した塗膜が剥離液タンク、配管、剥離部材として用いるブラシに付着せず、剥離液の汚れも無く多数本処理しても良好な除去性能を維持できるすぐれた効果を有することを見いだした。
【００２９】
又、上記剥離液は、水を含有しているので発火の危険性も少なくできることを確認している。
【００３０】
又、上記剥離液で塗膜の不要部分を除去して得られた感光体は、長期間良好な画像をプリントできることを確認している。
【００３１】
以下本発明について詳細に説明する。
【００３２】
［剥離液］
本発明で用いられる剥離液は、沸点が１１０℃以下、好ましくは５０〜９０℃で、且つ水を少なくとも１０質量％含有しうる有機溶剤を主溶媒とするものであって、該剥離液は水を０．５〜１０．０質量％、好ましくは１．０〜８．０質量％含有する。
【００３３】
沸点が１１０℃以下、好ましくは５０〜９０℃の主溶媒を用いると、塗膜の除去性や塗膜中への溶剤浸透性も良好で、塗膜の取り残しが発生せず、且つ塗膜除去後の基体の乾きが速く生産スピードも確保できる。
【００３４】
又、水を１０質量％含有し得る主溶媒を用いると、添加した水が分離したり、塗膜除去中に発生した結露水が分離して部分的除去むらを発生させたり、剥離液の寿命を短くする問題を回避できる。
【００３５】
又、水を０．５〜１０質量％含有、好ましくは１．０〜８．０質量％含有する剥離液を用いると、除去塗膜が溶解或いは微細な剥離片とならず大きな剥離片となるので、剥離液を汚すこともなく、塗膜除去装置のタンク壁等にへばりつく（付着する）こともなくメンテナンスが簡単になり、除去部材であるブラシにからみつかずブラシの除去能力を長期間良好に維持でき、且つ静電摩擦、引火等による発火の危険性も低減させることができる。尚、剥離液がこの範囲の水を含有しても、塗膜の除去性能は確保できる。
【００３６】
主溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン（１０１．３℃）、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦともいう）（６５℃）、テトラヒドロピラン（８８℃）、アセトン（５６．１℃）、メチルエチルケトン（以下、ＭＥＫともいう）（７９．６℃）、ジオキソラン（７４℃）、メチルジオキソラン（８１℃）、メタノール（６４．７℃）、エタノール（７８．３℃）、１−プロパノール（９７．２℃）を挙げることができる。これらの中ではメチルエチルケトン、テトラヒドロフランやジオキソラン等沸点が９０℃以下の環状エーテルが好ましい。更に好ましくはテトラヒドロフラン、ジオキソランである。
【００３７】
剥離液は、主溶媒に他の有機溶媒を混合し混合溶媒（水は算入しない）として用いても良い。この場合、主溶媒が６０質量％以上含有することが好ましい。主溶媒に混合する他の有機溶媒としては、主溶媒と相分離せずに混合でき、且つ水を０．５〜１０．０質量％混入しても相分離しないものであれば限定はないが、好ましくは非ハロゲン溶媒である。
【００３８】
［塗膜の除去］
本発明は、基体上に塗布して形成された塗膜の不要部分を、前記剥離液を用いて除去することを特徴としている。
【００３９】
塗膜の不要部分を除去する塗膜除去装置としては、本発明に係る剥離液を用い塗膜の不要部分の除去ができれば特に限定されない。好ましい具体例としては、剥離部材であるブラシに本発明に係る剥離液を供給し、該剥離液を含浸させたブラシを回転或いは接触させて塗膜の不要部分を除去できる装置を挙げることができる。
【００４０】
図１は、塗膜の不要部分を除去して感光体を製造する工程で得られる基体上の塗膜の模式図である。
【００４１】
図中、ａは基体、２０は塗膜、２１は塗膜の不要部分、５１は剥離液タンク、５１Ｅは剥離液、５５は剥離部材を示す。
【００４２】
図１の（ａ）は基体ａ上に塗膜２０が形成され、塗膜の不要部分２１が有る状態を示す。（ｂ）は塗膜除去装置の剥離液タンク５１に設けた剥離部材５５に剥離液５１Ｅ含浸させ、剥離液５１Ｅと剥離部材５５とで塗膜の不要部分を除去している状態を示す。（ｃ）は塗膜の不要部分が除去された状態を示す。
【００４３】
図２は、本発明で用いる塗膜除去装置の一例を示す断面図である。
【００４４】
基体ａは基体搬送手段７により、上下に移動可能に把持され、塗膜除去装置５の塗膜除去台（塗膜除去手段）５４に備えられている剥離部材５５に当接される。塗膜除去台５４にはスポンジ状の基体保持部材５４１も備えられ、基体ａは基体保持台と剥離部材で下端部を支持されている。又、塗膜除去台５４はモーター駆動等により回転可能に設計されている。基体に塗膜が形成された後、感光体は基体内部を把持する把持手段（Ｏリングチャック、エアピッカチャック等）を有する搬送手段７により、塗膜除去台５４に設置され、感光体下端部が剥離部材５５に当接される（図２（ａ））。このとき塗膜除去台５４は洗浄手段である剥離液タンク５１の液面から出た状態にある。基体上の端部塗膜の残留溶媒が６０質量％以下になった状態で、塗膜除去台５４は回転し、該回転と共に基体下端部の塗膜が剥離部材５５で拭き取られる。この拭き取りが終了した後、基体は基体搬送手段７（分離手段を兼ねる）により持ち上げられ、塗膜除去台５４から分離される。その後、塗膜除去台５４は塗膜除去台５４の上下移動を可能とするシリンダー（塗膜除去手段の移動手段）５４２の回転により、洗浄手段である剥離液タンク５１の剥離液５１Ｅ中に浸漬し（図２（ｂ））、剥離液タンク中で、超音波洗浄機とシリンダーによる塗膜除去台の上下移動、及び回転運動等を組み合わせて、剥離部材を含めた塗膜除去台全てが洗浄される。その後、再びシリンダー５４２の回転により、剥離液タンク５１の液面上に持ち上げられ、次の塗膜の除去に備える。又、剥離液タンク内には超音波振動子Ｕを設置して、塗膜除去手段の洗浄効率を高めることが好ましい。尚、図２のように、同時に２本以上の基体塗膜の除去を行う場合には、各塗膜除去手段の間に隔壁板５９を設け、各基体塗膜除去中の跳ね返り等による、欠陥発生を防止することが好ましい。
【００４５】
前記、剥離部材としてはブラシ、スポンジ、布、ポリマー繊維布等を用いることができるが、これらの中ではブラシが好ましい。
【００４６】
ブラシの材質としては、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等が好適である。ブラシを塗膜除去台５４に植毛する１つの穴の大きさは０．５〜２ｍｍ程度で、穴の間隔は１〜３ｍｍ程度である。ブラシの全体の幅は、除去すべき塗膜の幅に対応させて使用することが好ましい。
【００４７】
剥離部材は、乾燥時の剥離部材の質量を１００質量部としたとき、剥離液を０．５〜２００質量部含浸した状態で用いることが好ましい。
【００４８】
図３は、基体ａに剥離液を含浸した剥離部材であるブラシ５５１が当接している状態の一例を示す縦断面図である。
【００４９】
図４は、塗膜除去装置の全体構成図である。
【００５０】
塗膜除去装置５は剥離液タンク５１、剥離液オーバーフロー室５２、補給タンク５３、塗膜除去台５４、剥離部材５５、剥離液循環パイプ５６、ポンプ５７、フィルター５８、基体搬送手段７等から構成されている。
【００５１】
塗膜除去台５４には剥離部材５５及び基体保持部材５４１が取り付けられており、基体ａを固定すると同時に塗膜除去台５４の回転により剥離部材が回転すると、感光体下端の塗膜を拭き取り、除去する。尚、図４に示されているように塗膜除去台５４は剥離部材５５等と共にシリンダー５４２の回転により剥離液タンク５１の内外に移動可能に設計されている。
【００５２】
又、剥離液タンク中の剥離液は、補給タンク５３から剥離液循環パイプ５６を経由して常に順環しており、剥離液が塗膜除去手段を十分洗浄できるように、順環パイプの途中にフィルターを設けて、塗膜成分は除去されている。
【００５３】
図５は、塗膜除去装置を用いた感光体の製造装置の一例を示す概念図である。
【００５４】
以下、図５の製造装置を用いた製造の一連の動作を記載する。
【００５５】
図５中、１は塗布工程（塗布装置）、２は塗膜除去工程（塗膜除去装置）、３は乾燥工程（乾燥装置）を示す。即ち、塗布工程では基体ａを把持した入口受け台８が、基体搬送手段６の真下に搬送され、停止する。次に基体搬送手段６が降下してきて、入口受け台８上の基体ａを基体搬送手段６下端の基体把持手段６１により、把持する。基体を渡した入口受け台８は塗布槽４上面から移動する。
【００５６】
前記塗布槽４は、塗布液タンク４１、塗布液供給管４２、オーバーフロー液回収装置４３等から構成されている。この塗布液タンクに基体搬送手段６が下降し、懸垂されている基体ａが塗布液タンク中の塗布液に浸漬する。基体ａに塗布液が十分浸漬された後、再び基体搬送手段６が上昇し、基体ａは引き上げられて基体上に塗膜（感光層等）が形成される。
【００５７】
次に塗膜除去工程の作業が開始される。即ち、基体搬送手段６が塗布槽４の上に上昇した後、塗膜除去装置５の真上に移動する。その後、基体搬送手段６は下降し、塗膜除去台５４に基体を設置する。ここで、塗膜除去装置５は図２に示すような構成を有する。図２の塗膜除去装置５は剥離液タンク５１、剥離部材５５、スポンジ状の基体保持部材５４１、塗膜除去台５４、及び塗膜除去台５４の上下移動を可能とするシリンダー５４２等から構成されている。図２の（ａ）は、塗膜除去台５４が剥離液液面から出た状態で塗布後の基体を塗膜除去台５４上に設置した状態である。
【００５８】
この基体設置後、基体搬送手段６は図５のように上昇し、さらに塗布工程に移動する。つづいて基体搬送手段７が塗膜除去台５４の上に移動し、下降してきて、塗膜除去台上の基体ａを基体把持手段７１により把持する。この間に端部塗膜中の残留溶媒は６０質量％以下になり、塗膜の流動性が止まり、生乾きの状態になっている。その後、図示されないモーターによる回転駆動により塗膜除去台５４を回転させ、基体下端部の塗膜を除去する。塗膜除去が完了すると、図５に示されるように再び基体搬送手段７は上昇し、基体を塗膜除去台から分離し、出口受け台１０の上に移動した後下降して、出口受け台１０に基体ａを移動させる。
【００５９】
一方、塗膜除去台５４は塗膜除去台５４の上下移動を可能とするシリンダー（塗膜除去手段の移動手段）５４２の回転により、洗浄手段である剥離液タンク５１の剥離液中に浸漬し（図２（ｂ））、剥離液タンク中で、超音波洗浄機とシリンダーによる塗膜除去台の上下移動、及び回転運動等を組み合わせて、剥離部材を含めた塗膜除去台全てが洗浄される。その後、再びシリンダー５４２の回転により、剥離液タンク５１の剥離液液面上に持ち上げられ、次の塗膜の除去に備える。又、出口受け台１０上の基体ａは以後の乾燥工程３に移行する。即ち、出口受け台は乾燥工程のベルトコンベア１１上に停止する。
【００６０】
次に出口受け台上の基体は基体把持手段を有する基体把持手段（図示せず）を用いて、出口受け台上の基体をベルトコンベア１１に移動させ乾燥室に基体を運ぶ。ベルトコンベアにより運ばれて乾燥工程の乾燥室に移動してきた基体は、そのままベルトコンベア上で乾燥した後、乾燥室の出口へ移動する。その後、乾燥室の出口では基体把持手段を用いてベルトコンベア上の基体を製品保存箱に保管して、全ての工程が終了する。
【００６１】
［感光体］
本発明に係る感光体は、基体上に形成された少なくとも１層の塗膜の不要部分を除去する工程を経て作製されるものである。
【００６２】
以下、本発明に係る感光体を構成する基体、導電層、中間層、感光層である電荷発生層と電荷輸送層、保護層について説明する。
【００６３】
（基体）
感光体で用いられる基体としてはシート状、円筒状のどちらを用いても良いが、画像形成装置をコンパクトに設計するためには円筒状基体の方が好ましい。
【００６４】
円筒状基体とは回転することによりエンドレスに画像を形成できるに必要な円筒状の基体を意味し、真直度で０．１ｍｍ以下、振れ０．１ｍｍ以下の範囲にある導電性の基体が好ましい。この真直度及び振れの範囲を上記範囲にすることにより良好な画像形成ができる。
【００６５】
基体の材料としてはアルミニウム、ニッケル等の金属ドラム、又はアルミニウム、酸化錫、酸化インジュウム等を蒸着したプラスチックドラム、又は導電性物質を塗布した紙・プラスチックドラムを使用することができる。基体としては常温で比抵抗１０3Ωｃｍ以下が好ましい。
【００６６】
又、基体は、その表面に封孔処理されたアルマイト膜が形成されたものを用いても良い。アルマイト処理は、通常例えばクロム酸、硫酸、シュウ酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸等の酸性浴中で行われるが、硫酸中での陽極酸化処理が最も好ましい結果を与える。硫酸中での陽極酸化処理の場合、硫酸濃度は１００〜２００ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度は１〜１０ｇ／Ｌ、液温は２０℃前後、印加電圧は約２０Ｖで行うのが好ましいが、これに限定されるものではない。又、陽極酸化被膜の平均膜厚は、通常２０μｍ以下、特に１０μｍ以下が好ましい。
【００６７】
（中間層）
本発明では、基体と感光層の接着性改良、或いは該基体からの電荷注入を防止するために、基体と感光層の間に中間層（下引層も含む）を設けることが好ましい。中間層の材料としては、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂が挙げられる。これら樹脂の中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さくできる樹脂としてはポリアミド樹脂が好ましい。又、これら樹脂を用いた中間層の膜厚は０．０１〜１．０μｍが好ましい。
【００６８】
又、本発明に好ましく用いられる中間層はシランカップリング剤、チタンカップリング剤等の有機金属化合物を熱硬化させた硬化性金属樹脂を用いた中間層が挙げられる。硬化性金属樹脂を用いた中間層の膜厚は０．１〜２μｍが好ましい。
【００６９】
又、本発明に好ましく用いられる中間層は無機粒子をバインダー樹脂中に分散した中間層が挙げられる。無機粒子の平均粒径は０．０１〜１μｍが好ましい。特に、表面処理をしたＮ型半導性微粒子をバインダー中に分散した中間層が好ましい。例えばシリカ・アルミナ処理及びシラン化合物で表面処理した平均粒径が０．０１〜１μｍの酸化チタンをポリアミド樹脂中に分散した中間層が挙げられる。このような中間層の膜厚は１〜２０μｍが好ましい。
【００７０】
（導電層）
本発明に係る感光体は、基体と中間層の間に導電層を設けてもよい。導電層は、基本的にバインダー樹脂と導電性顔料から構成される層である。導電層の膜厚は０．３〜２０μｍが好ましく、１〜１５μｍがより好ましい。
【００７１】
尚、導電層で用いるバインダー樹脂は、中間層を塗布後も均一な塗膜を維持するため、中間層で用いる溶剤に溶解しないよう硬化性樹脂を用い、中間層の塗布前に硬化しておくことが好ましい。
【００７２】
（電荷発生層）
電荷発生層には電荷発生物質（ＣＧＭ）を含有する。その他の組成物として必要によりバインダー樹脂、添加剤を含有しても良い。
【００７３】
電荷発生物質（ＣＧＭ）としては公知の電荷発生物質（ＣＧＭ）を用いることができる。例えばフタロシアニン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、アズレニウム顔料等を用いることができる。これらの中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくできるＣＧＭは複数の分子間で安定な凝集構造をとりうる結晶構造を有するものであり、具体的には特定の結晶構造を有するフタロシアニン顔料、ペリレン顔料のＣＧＭが挙げられる。例えばＣｕ−Ｋα線に対するブラッグ角２θが２７．２°に最大ピークを有するチタニルフタロシアニン、同２θが１２．４に最大ピークを有するベンズイミダゾールペリレン等のＣＧＭは繰り返し使用に伴う劣化がほとんどなく、残留電位増加小さくすることができる。
【００７４】
電荷発生層中に電荷発生物質を分散させる分散媒としてバインダー樹脂を用いる場合、バインダー樹脂としては公知の樹脂を用いることができるが、好ましい樹脂としてはホルマール樹脂、ブチラール樹脂、シリコン樹脂、シリコン変性ブチラール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂と電荷発生物質との割合は、バインダー樹脂１００質量部に対し電荷発生物質２０〜６００質量部が好ましい。これらの樹脂を用いることにより、繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくできる。電荷発生層の膜厚は０．０１μｍ〜２μｍが好ましい。
【００７５】
（電荷輸送層）
電荷輸送層には電荷輸送物質（ＣＴＭ）及びバインダー樹脂を含有する。その他の組成物として必要により酸化防止剤等の添加剤を含有しても良い。
【００７６】
電荷輸送物質（ＣＴＭ）としては、トリフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、ブタジエン化合物等を用いることができる。これら電荷輸送物質は通常、バインダー樹脂中に溶解して塗膜形成が行われる。電荷輸送層の膜厚は形成される塗膜の中では最も厚く、１０〜４０μｍが好ましい。
【００７７】
電荷輸送層（ＣＴＬ）に用いられるバインダー樹脂としては、例えばポリスチレン−アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位構造のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂を挙げることができる。又これらの絶縁性樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げられる。
【００７８】
バインダー樹脂として特に好ましいものとしてはポリカーボネート樹脂を挙げることができる。ポリカーボネート樹脂はＣＴＭの分散性、電子写真特性を良好にすることにおいて特に好ましい。バインダー樹脂と電荷輸送物質との割合は、バインダー樹脂１００質量部に対し電荷輸送物質１０〜２００質量部が好ましい。
【００７９】
又、電荷輸送層には酸化防止剤を含有させることが好ましい。前記酸化防止剤とは、その代表的なものは感光体中ないしは感光体表面に存在する自動酸化性物質に対して、光、熱、放電等の条件下で酸素の作用を防止ないし、抑制する性質を有する物質である。酸化防止剤としては、公知のものを用いることができ、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールが挙げられる。
【００８０】
（保護層）
本発明に係る感光体は、保護層として電荷輸送層上に膜耐久性向上の目的で耐久性向上層、或いは電荷注入の働きをする電荷注入層を設けてもよい。
【００８１】
耐久性向上層は、基本的に硬化性のバインダー樹脂から構成され、必要に応じ電荷輸送物質が添加して構成された層であってもよい。耐久性向上層の膜厚は０．３〜１０μｍが好ましく、１〜５μｍがより好ましい。
【００８２】
電荷注入層は、基本的に導電性微粒子、硬化性のバインダー樹脂から構成される層である。電荷注入層の導電性微粒子としては、脂肪酸塩類、高級アルコール類、硫酸エステル類、脂肪酸アミン類、第四級アンモニウム塩類、アルキルピリジウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、イミダゾリン誘導体等のアニオン系、カチオン系、又はノニオン系有機電解質；Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属；ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3含有ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3含有ＳｎＯ2等の金属酸化物；ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＢｉＦ2、ＡｌＦ2、ＳｎＦ2、ＳｎＦ4、ＴｉＦ4等の金属フッ化物；テトラインプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、チタンアセチルアセトネート、チタンラクテートエチルエステル等の有機チタン化合物；及びそれらの混合物等が挙げられる。電荷注入層の膜厚は０．３〜１０μｍが好ましく、１〜５μｍがより好ましい。
【００８３】
又、電荷注入層の体積抵抗は１０10〜１０15Ω・ｃｍの範囲になるように設定するのが好ましく、１０10〜１０14Ω・ｃｍがより好ましい。膜強度的には、導電性粒子の量が増えれば増えるほど弱くなるため、導電性粒子の量は、電荷注入層の抵抗及び残留電位が許容できる範囲において、少なくする方が好ましい。
【００８４】
上記に本発明で用いる好ましい感光体の層構成を例示したが、上記以外の感光体の層構成でも良い。
【００８５】
導電層、中間層、電荷発生層、電荷輸送層、保護層等の塗膜形成に用いられる溶媒又は分散媒としては、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、ブタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ等が挙げられる。本発明はこれらに限定されるものではないが、ブタノール、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン等が好ましく用いられる。又、これらの溶媒は単独或いは２種以上の混合溶媒として用いることもできる。
【００８６】
又、これらの各層の塗布溶液は塗布工程に入る前に、塗布溶液中の異物や凝集物を除去するために、金属フィルター、メンブランフィルター等で濾過することが好ましい。例えば、日本ポール社製のプリーツタイプ（ＨＤＣ）、デプスタイプ（プロファイル）、セミデプスタイプ（プロファイルスター）等を塗布液の特性に応じて選択し、濾過をすることが好ましい。
【００８７】
基体に塗布液を塗布する塗布方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、円形量規制型塗布等の塗布加工法が用いられるが、これらの中では塗膜を均一に形成できる浸漬塗布又は円形量規制型（円形スライドホッパ型）塗布が好ましい。前記円形量規制型塗布については例えば特開昭５８−１８９０６１号公報に詳細に記載されている。
【実施例】
【００８８】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。
【００８９】
実施例１
下記のごとくして感光体を作製した。
【００９０】
〈基体〉
基体としてはＲｚ１．８μｍのコンパックス加工を施したアルミニウムドラムを用いた。
【００９１】
〈中間層〉
下記組成物を溶解して中間層用塗布液を調製した。この塗布液を上記基体上に浸漬塗布法で塗布して中間層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、中間層用剥離液（メタノール／ジオキソラン＝１／２質量比、含水率０．５質量％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１００℃で３０分乾燥して膜厚が１．０μｍの中間層を形成した。
【００９２】
エチレン−酢酸ビニル系共重合体「エルバックス４２６０」（三井デュポンケミカル社製）                                                                ５０ｇ
トルエン                                                    １６００ｍｌ
ｎ−ブタノール                                                ４００ｍｌ
〈電荷輸送層〉
次に、下記組成物を直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で１７時間分散して電荷発生層用塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層上に浸漬塗布法で塗布して電荷発生層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、電荷発生層用剥離液（ＭＥＫ／ジオキソラン＝２／１質量比、含水率０．６質量％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１００℃で３０分乾燥して膜厚が１．５μｍの電荷発生層を形成した。
【００９３】
チタニルフタロシアニン「ＣＧＭ−１」（ＣｕＫαの特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の９．５°、１５．０°、２４．１°および２７．３°に強いピークを有するオキシチタニウムフタロシアニン）                          １００ｇ
シリコン樹脂「ＫＲ−５２４０」（信越化学社製）                  １００ｇ
ｔ−酢酸ブチル                                              １０００ｍｌ
〈電荷輸送層〉
次に、下記組成物を溶解して電荷輸送層用塗布液を調製した。この塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布して電荷輸送層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、電荷輸送層用剥離液（ＴＨＦ、含水率０．５質量％）で塗膜の不要部分を除去した。その後、１１０℃で１時間乾燥して膜厚が２３μｍの電荷輸送層を形成し、「感光体１」を作製した。
【００９４】
ＣＴＭ−１                                                      ５００ｇ
ポリカーボネート「Ｚ−２００」（三菱瓦斯化学社製）              ５６０ｇ
ジオキソラン（沸点７４〜７５℃）                            ２８００ｍｌ
メチルフェニルシリコンオイル「ＫＦ−５４」（信越化学社製）
全固形分に対し１００ｐｐｍ添加
【００９５】
【化１】
2006065053.tif 000002
【００９６】
実施例２〜４
実施例１で用いた電荷輸送層用剥離液を、表１に記載の電荷輸送層用剥離液に変更した以外は実施例１と同様にして「感光体２〜４」を作製した。
【００９７】
実施例５
下記のごとくして感光体を作製した。
【００９８】
〈基体〉
基体としては、Ｒｚ１．６μｍのコンパックス加工を施したアルミニウムドラムを用いた。
【００９９】
〈中間層〉
下記組成物を溶解して中間層用塗布液を調製した。この塗布液を上記基体上に浸漬塗布法で塗布して中間層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、中間層用剥離液（ＴＨＦ／メタノール＝１／３質量比、含水率０．５質量％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１３０℃で５０分乾燥して膜厚が１．０μｍの中間層を形成した。
【０１００】
チタンキレート化合物「ＴＣ−７５０」（松本製薬社製）              ３０ｇ
シランカップリング剤「ＫＢＭ−５０３」（信越化学社製）            １７ｇ
２−プロパノール                                              １５０ｍｌ
〈電荷発生層〉
下記組成物を混合し、サンドミルを用いて１０時間分散し、電荷発生層用塗布液を調製した。この塗布液を上記中間層の上に浸漬塗布法で塗布して電荷発生層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、電荷発生層用剥離液（ＭＥＫ／酢酸ブチル＝３／１質量比、含水率０．７質量％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１０１】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン「ＣＧＭ−３」（ＣｕＫαのブラッグ角２θ±０．２°が７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強いピークを有する）                                          ６０ｇ
シリコン樹脂溶液「ＫＲ５２４０」（信越化学社製）                ７００ｇ
メチルエチルケトン                                          ２０００ｍｌ
〈電荷輸送層〉
下記組成物を混合・溶解して電荷輸送層用塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布して電荷輸送層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、電荷輸送層用剥離液（ＴＨＦ／ジオキソラン＝１／１質量比、含水率３．０質量％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１１０℃で１時間乾燥して膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成し、「感光体５」を作製した。
【０１０２】
ＣＴＭ−２                                                      ２００ｇ
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート「ＴＳ２０５０」（帝人化成社製）
３００ｇ
テトラヒドロフラン                                          ２０００ｍｌ
【０１０３】
【化２】
2006065053.tif 000003
【０１０４】
〈保護層〉
メチルトリメトキシシラン１０００ｇとジメチルジメトキシシラン５３３ｇをブタノール２．５４Ｌに溶かし、これに３％酢酸水溶液４００ｍｌを加え、６０℃で２時間加熱撹拌する。室温で一夜放置後、メタノールシリカゾル（濃度３０％）（日産化学社製）８２１ｇをこれに加え、さらにジヒドロキシメチルトリフェニルアミン４２７ｇを加え、硬化触媒としてアルミニウムテトラアセチルアセトナート２８．７ｇを添加し撹拌溶解させた固形分濃度３０％の保護層用塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により塗布して保護層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、保護層用剥離液（メタノール／ＴＨＦ＝４／１質量比、含水率０．９質量％）で基体の上端と下端の塗膜の不要部分を除去した。次いで、１２０℃で１時間乾燥し乾燥膜厚が３．５μｍの保護層を形成し、「感光体５」を製造した。
【０１０５】
実施例６
下記のごとくして感光体を作製した。
【０１０６】
〈基体〉
基体としては、無切削のアルミニウムドラムを用た。
【０１０７】
〈導電層〉
下記組成物を溶解して導電層用塗布液を調製した。この塗布液を上記基体上に浸漬塗布法で塗布して導電層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、導電層用剥離液（ＴＨＦ／メタノール／＝１／４質量比、含水率０．６質量％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１４０℃で３０分間乾燥・硬化して膜厚が１５μｍの導電層を形成した。
【０１０８】
ＳｎＯ2コート処理硫酸バリウム                                   １０部
酸化チタン                                                        ２部
フェノール樹脂                                                    ６部
シリコンオイル                                            ０．００１部
メタノール                                                        ４部
メトキシプロパノール                                            １６部
〈中間層〉
次に、下記組成物を溶解して中間層用塗布液を調製した。この塗布液を上記導電層上に浸漬塗布法で塗布して中間層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、中間層用剥離液（ＴＨＦ／メタノール／＝１／４質量比、含水率０．８質量％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１００℃で３０分乾燥して膜厚が０．５μｍの中間層を形成した。
【０１０９】
Ｎ−メトキシメチル化ナイロン                                      ３部
共重合ナイロン                                                    ３部
メタノール                                                      ６５部
ｎ−ブチルアルコール                                            ３０部
〈電荷発生層〉
次に、下記組成物を直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で４時間分散した後、エチルアセテート１００部を加えて電荷発生層用塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層上に浸漬塗布して電荷発生層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、電荷発生層用剥離液（ＴＨＦ／ＭＥＫ＝１／４質量比、含水率０．８％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１００℃で３０分乾燥して膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１１０】
オキシチタニウムフタロシアニン「ＣＧＭ−２」（ＣｕＫαのブラッグ角（２θ±０．２°）の９．０°、１４．２°、２３．９°および２７．１°に強いピークを有する）                                                                      ４部
ポリビニルブチラール「エスレックＢＭ２」（積水化学社製）          ４部
シクロヘキサノン                                                ６０部
〈電荷輸送層〉
次に、下記組成物を溶解して電荷輸送層用塗布液を調製した。この塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布して電荷輸送層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、電荷輸送層用剥離液（ＴＨＦ、含水率２．５質量％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１１０℃で２時間乾燥して膜厚が２５μｍの電荷輸送層を形成し、「感光体１」を作製した。
【０１１１】
ＣＴＭ−３                                                        ８部
ＣＴＭ−４                                                        ２部
ＢＰＺポリカーボネート「Ｚ−３００」（三菱ガス化学社製）        １２部
ＴＨＦ                                                          ６０部
メタノール                                                      ４０部
【０１１２】
【化３】
2006065053.tif 000004
【０１１３】
実施例７
下記のごとくして感光体を作製した。
【０１１４】
〈基体〉
基体としては、Ｒｚ１．６μｍのコンパックス加工を施したアルミニウムドラムを用いた。
【０１１５】
〈中間層〉
下記組成物を溶解して中間層用塗布液を調製した。この塗布液を前記基体上に浸漬塗布法で塗布して中間層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、中間層用剥離液（メタノール、含水率０．９％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１０５℃で１０分間熱風乾燥して膜厚が０．５μｍの中間層を形成した。
【０１１６】
ポリアミド樹脂「アミランＣＭ８０００」（東レ社製）                ５部
メタノール                                                      ９５部
〈電荷発生層〉
下記組成物を、φ１ｍｍガラスビーズを用いたサンドミル装置で、４時間分散して電荷発生層用塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層上に浸漬塗布法で塗布して電荷発生層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、電荷発生層用剥離液（ＭＥＫ、含水率０．８％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１０５℃で１０分間熱風乾燥し膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１１７】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン「ＣＧＭ−２」（ＣｕＫαのブラッグ角２θ±０．２°が７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強いピークを有する）                                          ４部
ポリビニルブチラール樹脂「ＢＸ−１」（積水化学社製）              ２部
シクロヘキサノン                                                ８０部
〈電荷輸送層〉
下記組成物を溶解して電荷輸送層用塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布して電荷輸送層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、電荷輸送層用剥離液（ＴＨＦ／ジオキソラン＝１／１質量比、含水率４．０質量％）で不要塗膜を除去した。次いで、１０５℃で１時間熱風乾燥し膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１１８】
ＣＴＭ−３                                                    ９．２部
ＢＰＺ型ポリカーボネート「Ｚ−２００」（三菱ガス化学社製）      １０部
ＴＨＦ                                                          ７５部
トルエン                                                        ２５部
〈保護層〉
下記組成物をサンドミルにて６６時間かけて分散を行い、更に、ポリテトラフルオロエチレン微粒子（平均粒径０．１８μｍ）２０部を加えて２時間分散を行った。その後、熱硬化性レゾール型フェノール樹脂（アミン系化合物含有）「ＰＬ−４８０４」（群栄化学工業社製）を樹脂成分として３０部を溶解して保護層用塗布液を調製した。この塗布液を、前記電荷輸送層上に浸漬塗布法により塗布して保護層塗膜を形成した。その後、図２に記載の塗膜除去装置を用い、保護層用剥離液（メタノール／エタノール＝１／１質量比、含水率０．７％）で塗膜の不要部分を除去した。次いで、１４５℃の温度で１時間乾燥・硬化して乾燥膜厚が６μｍの保護層（電荷注入層）を形成し、「感光体６」を製造した。
【０１１９】
フッ素変成シランカップリング剤「ＬＳ１０９０」（信越シリコーン社製）で表面処理した（処理量７％）アンチモンドープ酸化スズ超微粒子                ２０部
メチルハイドロジェンシリコンオイル「ＫＦ９９」（信越シリコーン社製）で表面処理した（処理量２０％）アンチモンドープ酸化スズ微粒子                ３０部
エタノール                                                    １５０部
比較例１〜４
実施例１で用いた電荷輸送層用剥離液を、表１に記載の電荷輸送層用剥離液に変更した以外は実施例１と同様にして「比較用感光体１〜４」を製造した。
【０１２０】
［画像評価］
市販の複写機「Ｓｉｔｉｏｓ７１６５」（コニカミノルタ社製）を、上記で作製した感光体を用いて画像形成できるよう改造し、１０万枚のプリントを行った。
【０１２１】
〈画像濃度むら〉
感光体端部の不要塗膜の除去不良（塗膜残が有る状態）により生ずる感光体と現像ロールの距離変動が原因で起こるハーフトーン部の画像濃度むらを目視で評価した。
【０１２２】
評価基準
◎：ハーフトーン部に画像濃度むら無し
○：ハーフトーン部に画像濃度むらがやや見られるが実用上問題無し
×：ハーフトーン部に明らかに画像濃度むらが見られ実用上問題有り。
【０１２３】
〈画像かぶり〉
感光体端部の塗膜の不要部分除去時にできた塗膜端部の凸部で生じたクリーニングブレード傷部を通り抜けたトナーと、凹部をすり抜けたトナーに起因する画像かぶりを目視にて評価した。
【０１２４】
評価基準
◎：１０万枚プリントしても塗膜端部の凹凸部に起因する画像かぶりの発生無し
○：初期プリントでは塗膜端部の凹凸部に起因する画像かぶりの発生は無かったが、１０万枚プリント後では塗膜端部の凹凸部に起因する画像かぶりの発生がやや見られた
×：初期プリントから塗膜端部の凹凸部に起因する画像かぶりの発生が見られ実用上問題有り。
【０１２５】
表１に、電荷輸送層塗膜用剥離液の有機溶媒と含水率、塗膜の不要部分の除去状態、１０万本処理後の剥離液タンク壁の汚れ状態と剥離液の汚れ状態、画像評価結果（画像濃度むら、画像かぶり）を示す。
【０１２６】
【表１】
2006065053.tif 000005
【０１２７】
表１より、本発明の実施例１〜７で得られた「感光体１〜７」は、塗膜の不要部分が良好に除去でき、１０万本処理後の剥離液タンク壁の汚れ（除去した塗膜のこびりつき）も少なく、且つ剥離液の汚染も少なく長時間の安定した性能を維持できていることが判る。
【０１２８】
又、本発明の実施例１〜７で得られた「感光体１〜７」を用いた画像評価では、１０万枚プリントしても塗膜端部の凹凸部に起因する画像濃度むらや画像かぶりの発生がほとんど無く良好であった。
【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１】塗膜の不要部分を除去して感光体を製造する各工程で得られる基体の模式図である。
【図２】本発明で用いる塗膜除去装置の一例を示す断面図である。
【図３】基体ａに剥離液を含浸した剥離部材であるブラシ５５１が当接している状態の一例を示す縦断面図である。
【図４】塗膜除去装置５の全体構成図である。
【図５】塗膜除去装置を用いた感光体製造装置の一例を示す概念図である。
【符号の説明】
【０１３０】
ａ  基体
１  塗布工程（塗布装置）
３  乾燥工程（乾燥装置）
４  塗布槽
５  塗膜除去装置
６、７  基体搬送手段
８  入口受け台
１０  出口受け台
１１  ベルトコンベア
２０  塗膜
２１  塗膜の不要部分
５１  剥離液タンク
５１Ｅ  剥離液
５５  剥離部材
【図１】
2006065053.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
2006065053.tif 000009
【図５】
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