(57)【要約】【課題】融着温度の低い無鉛ガラス組成物、及びこの無鉛ガラスを用いた磁気ヘッドを提供する。【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＢｉ２ Ｏ３ ：７０％を超え７８％以下、Ｂ２ Ｏ３ ：１３〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、Ｎａ２ Ｏ：０〜５％、Ｋ２ Ｏ：０〜２％、Ｐ２Ｏ５ ：０〜４％、ＴｅＯ２ ：０〜４％、Ｓｂ２ Ｏ３ ：０〜２％、Ｌｉ２Ｏ：０〜３％、ＳｉＯ２：０〜６％を含有し、ＰｂＯを含まないことを特徴とする無鉛ガラス組成物。この無鉛ガラスを用いて磁気ヘッドを構成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物基準の質量％表示でＢｉ２ Ｏ３ ：７０％を超え７８％以下、Ｂ２ Ｏ３ ：１３〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、Ｎａ２ Ｏ：０〜５％、Ｋ２ Ｏ：０〜２％、Ｐ２Ｏ５ ：０〜４％、ＴｅＯ２ ：０〜４％、Ｓｂ２ Ｏ３ ：０〜２％、Ｌｉ２Ｏ：０〜３％、ＳｉＯ２：０〜６％からなる
ことを特徴とする無鉛ガラス組成物。
【請求項２】
酸化物基準の質量％表示でＢｉ２ Ｏ３ ：７２〜７７％、Ｂ２ Ｏ３ ：１４〜２０％、ＺｎＯ：６〜７％、Ｎａ２ Ｏ：０〜４％、ＴｅＯ２：０〜２％、Ｓｂ２Ｏ３ ：０〜２％、Ｌｉ２ Ｏ：０〜２％からなり、
Ｎａ２ Ｏ＋ＴｅＯ２ ＋Ｓｂ２ Ｏ３ ＋Ｌｉ２Ｏ：０．５〜４％である
ことを特徴とする請求項１記載の無鉛ガラス組成物。
【請求項３】
請求項１記載の無鉛ガラスを用いて成る
ことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項４】
前記無鉛ガラスが摺動面に露出しないように、巻線溝に連続してギャップデプスを規制する狭小溝内に充填されて成る
ことを特徴とする請求項３記載の磁気ヘッド。
【請求項５】
磁気コアがアモルファス磁性金属薄膜を有する積層膜で形成されて成る
ことを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無鉛ガラス組成物に関する。より詳しくは、フェライトやメタルなどの融着に使用される磁気ヘッド用ボンディングガラスに関し、例えば磁気ヘッドの接合に好適なボンディングガラスに関するものである。
さらに、本発明は、上記無鉛ガラスを用いた磁気ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気コア材としてアモルファス磁性金属を使用する磁気ヘッドは、アモルファス金属が結晶化温度以上に加熱されると磁気特性が劣化し、出力が低下する。これを防ぐために、アモルファス金属の結晶化温度よりも低い温度で加熱する必要があり、ヘッド製造工程でガラスを融着する際にも結晶化温度よりも低温で融着しなければならない。余裕を見ると結晶化温度よりも３０℃位低い温度に抑えたい。
【０００３】
磁気ヘッド用のアモルファス磁性金属としては、例えば、Ｃｏ aＺｒ bＮｂ cＴａ d（ａ，ｂ，ｃ，ｄは原子％）で
７９≦ａ≦８３
２≦ｂ≦６
１０≦ｃ≦１４
１≦ｄ≦５
ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００
の組成のものが使用される。このようなアモルファス磁性金属の結晶化温度は、５５０℃付近にあるため、磁気ヘッド用ガラスの融着温度としては、余裕をみて５２０℃付近以下が望ましい。従って、上記のようなアモルファス磁性金属を磁気コア材として使用する磁気ヘッドに用いる融着用ガラスとしては、融着温度が５２０℃付近以下のものが要求される。
【０００４】
また、２回以上のガラス融着工程を経て加工が行われる磁気ヘッドでは、２回目以降の融着に用いるガラスを１回目のガラス融着工程で用いられたガラスのガラス転移点より低い温度で融着しないと、１回目で融着した融着部分の再溶融などが生じ、磁気ヘッドを所定寸法内に維持できなくなる。１回目の融着ガラスとしては、融着治具の加圧力を変化させにくい７６０℃程度以下の融着温度のガラスを使用したく、そのガラス転移点は高くても５６０℃程度である。したがって、２回目のガラス融着に用いるガラスとしては、融着温度が５６０℃付近未満のものが要求される。
このように各種磁気ヘッドにおいて、低温で融着できるガラスが要求されている。
【０００５】
更に、融着ガラスに要求される条件として、磁気コア材との熱膨張係数の適合化も重要で、ガラスの熱膨張係数が酸化物磁性材料や金属磁性材料の熱膨張係数（約１００×１０-7〜１４０×１０-7〔℃−１〕程度）と大きく異なると、磁気コアを接合した時に残留応力が累積されてガラスクラックなどが発生しやすく、ガラスが圧縮応力に対して強いことを考慮すると、融着ガラスとしては、酸化物磁性材料や金属磁性材料の熱膨張係数より少し小さめの熱膨張係数が９０×１０-7〜１１０×１０-7〔℃−１〕程度のものが好ましい。しかしながら、一般に融着温度の低いガラスは熱膨張係数が大きく、逆に融着温度の高いガラスは熱膨張係数が小さくなる傾向にあるので組成を変えて両者のバランスを取ることが必要である。
【０００６】
一方、磁気ヘッドに使用する融着ガラスには、低融化させるためにＰｂＯが含まれていて、より低い温度で使用する場合にはＰｂＯが多量に含まれている。特許文献１にはＰｂＯを含有した磁気ヘッド用のガラス組成物が開示されている。しかし鉛は環境管理物質であるため、環境問題や廃棄処分の問題があり、鉛を含まない無鉛化低融点ガラスが求められている。また、鉛系ガラスと同様に、磁気コアの材質、ガラスを融着させる場所、形状によって異なる熱膨張係数と融着温度を制御できることが要求される。
【０００７】
しかし、無鉛ガラスは鉛が主成分のガラスよりも低融化することが困難である。Ｐ２ Ｏ5 系の非鉛ガラスは、特許文献２などで公開されているが、線径の極めて小さいロッド状に形成できなかったり、雰囲気制御しなければガラスにならなかったり、結晶が析出したりする。
【特許文献１】特開平９−２６８０２３号公報
【特許文献２】特開２００１−１９９７４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上述の点に鑑み、磁気ヘッド用ガラスに求められる特性を満足し、作業環境および廃棄物処理に問題のない無鉛系のガラス組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、このような無鉛系のガラスを用いた磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を達成するために、作業環境および廃棄物処理に問題のないＢｉ２ Ｏ３、Ｂ２ Ｏ３ 、ＺｎＯなどの酸化物に着目し、鉛を含まずに鉛系と同等以上の特性を持つ安定なガラス組成物を見出した。
【００１０】
すなわち、本発明の無鉛ガラス組成物は、酸化物基準の質量％表示でＢｉ２ Ｏ３：７０％を超え７８％以下、Ｂ２ Ｏ３ ：１３〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、Ｎａ２ Ｏ：０〜５％、Ｋ２ Ｏ：０〜２％、Ｐ２Ｏ５ ：０〜４％、ＴｅＯ２ ：０〜４％、Ｓｂ２ Ｏ３ ：０〜２％、Ｌｉ２Ｏ：０〜３％、ＳｉＯ２：０〜６％の組成で構成され、ＰｂＯを含有しないものである。
【００１１】
また、好ましくは、酸化物基準の質量％表示でＢｉ２ Ｏ３ ：７２〜７７％、Ｂ２ Ｏ３ ：１４〜２０％、ＺｎＯ：６〜７％、Ｎａ２ Ｏ：０〜４％、ＴｅＯ２ ：０〜２％、Ｓｂ２Ｏ３ ：０〜２％、Ｌｉ２ Ｏ：０〜２％からなり、Ｎａ２Ｏ＋ＴｅＯ２ ＋Ｓｂ２ Ｏ３ ＋Ｌｉ２ Ｏ：０．５〜４％であることを特徴とする無鉛ガラス組成物である。ここでは、Ｋ２Ｏ＝０％、Ｐ２Ｏ５＝０％、ＳｉＯ２＝０％とするのが好ましい。
【００１２】
Ｂｉ２ Ｏ３ は無鉛ガラス組成物の主要成分であり、軟化点や粘性を下げる効果がある。この含有量は７０％を超え７８％以下（これ以降、％とは特に断りのない限り質量％を意味する）である。磁気ヘッド用ボンディングガラスは通常、ロッド状に線引きして使用するのであるが、Ｂｉ２ Ｏ３の含有量が７８％を超えるとガラスが不安定になって線引時にガラス表面に析出物が突出するようになり、７０％以下では作業温度が高くなり本発明の要求するぬれ性を実現できない。Ｂｉ２ Ｏ３ のより好ましい含有量は７２〜７７％の範囲である。
【００１３】
Ｂ２ Ｏ３ はガラスの形成成分としての効果を持ち、この含有量は１３〜２０％である。Ｂ２ Ｏ３ の含有量が２０％を超えると融着温度が高くなり、１３％未満ではガラスが不安定になって失透しやすくなる。確実な失透防止を考慮するとＢ２ Ｏ３ のより好ましい含有量は、１４〜２０％の範囲である。
【００１４】
ＺｎＯは、無鉛ガラスの主要成分でありガラスを安定化させるのに効果がある。この含有量は５〜７％である。ＺｎＯの含有量が７％を超えると融着温度が上昇して濡れ性が劣化し本発明の要求するぬれ性を実現できず、５％未満ではガラスが不安定になって失透しやすくなる。ＺｎＯのより好ましい含有量は、６〜７％の範囲である。
【００１５】
Ｎａ２ Ｏは、ガラスの溶融を促進する効果があり融着温度を下げるが、大量に含有するとガラスの信頼性を下げ、熱膨張が大きくなる。よってこの含有量は０〜５％とした。Ｎａ２ Ｏの含有量が５％を超えるとガラスの耐水性が大幅に下がり、またガラスが不安定になって線引できなくなる。Ｎａ２ Ｏの好ましい含有量は０〜４％の範囲であり、Ｎａ２Ｏが特に効果を発揮するより好ましい含有量は、０．５〜4％の範囲である。
【００１６】
Ｋ２ Ｏは、Ｎａ２ Ｏと同じアルカリ金属酸化物であるので融着温度を下げる効果があるが、大量に含有するとガラスの信頼性を下げ、熱膨脹が大きくなる。この含有量は０〜２％である。Ｋ２Ｏの含有量が２％を超えるとガラスの耐水性が大幅に下がり、またガラスが不安定になって線引きできなくなる。
【００１７】
Ｐ２ Ｏ５ はガラスの網目構造を形成する。この含有量は０〜４％である。Ｐ２Ｏ５ の含有量が４％を超えるとガラスの融着温度が上昇して濡れ性が劣化し、本発明の要求するぬれ性を実現できなくなる。Ｐ２Ｏ５ を含有しなくてもガラス化する場合はＰ２ Ｏ５ を含有しなくてもよい。
【００１８】
ＴｅＯ２ は、Ｂｉ２ Ｏ３ の一部と置換することにより、ガラスの融着温度を比較的上昇させずに耐水性、耐アルカリ性を向上させる効果がある。この含有量は０〜４％である。ＴｅＯ２の含有量が４％を超えるとガラスが不安定になり、融着時のガラス中に析出物が発生し易くなって、ガラスの濡れが悪くなったり、析出部にクラックが入ったりする。ＴｅＯ２の好ましい含有量は０〜２％の範囲であり、ＴｅＯ２が特に効果を発揮するより好ましい含有量は、０．５〜２％の範囲である。
【００１９】
Ｓｂ２ Ｏ３ は、Ｂｉ２ Ｏ３の一部と置換することにより、ガラスの融着温度を比較的上昇させずに耐水性、耐アルカリ性を向上させる効果がある。この含有量は０〜２％である。Ｓｂ２Ｏ３ の含有量が２％を超えるとガラスが不安定になり、融着時のガラス中に析出物が発生し易くなって、ガラスの濡れが悪くなったり、析出部にクラックが入ったりする。Ｓｂ２Ｏ３の好ましい含有量は０〜２％の範囲であり、Ｓｂ２Ｏ３ が特に効果を発揮するより好ましい含有量は、０．５〜２％の範囲である。
【００２０】
Ｌｉ２ Ｏは、Ｎａ２ ＯやＫ２ Ｏと同じアルカリ金属酸化物であるので融着温度を下げる効果があるが、大量に含有するとガラスの信頼性を下げ、熱膨脹が大きくなる。この含有量は０〜３％である。Ｌｉ２Ｏの含有量が３％を超えるとガラスの耐水性が大幅に下がり、またガラスが不安定になって線引できなくなる。Ｌｉ２ Ｏの好ましい含有量は、０〜２％の範囲であり、Ｌｉ２Ｏが特に効果を発揮するより好ましい含有量は、０．５〜２％の範囲である。
【００２１】
ＳｉＯ２は、ガラスの網目構造を形成する。この含有量は０〜６％である。ＳｉＯ２の含有量が６％を超えるとガラスの融着温度が上昇して濡れ性が劣化し、本発明の要求するぬれ性を実現できなくなる。ＳｉＯ２を含有しなくてもガラス化する場合はＳｉＯ２を含有しなくてもよい。
【００２２】
本発明の磁気ヘッドは、上記組成による無鉛ガラスを、例えばヘッドの空隙部充填材、接合材、絶縁材などに用いて構成する。
【００２３】
本発明の磁気ヘッドは、上記の無鉛ガラスが摺動面に露出しないように、巻線溝に連続してギャップデプスを規制する狭小溝内に充填して構成することができる。
本発明の磁気ヘッドは、好ましくは磁気コア材としてアモルファス磁性金属薄膜を有する積層膜で形成した磁気ヘッドに適用する。
【００２４】
上記範囲での組成の融着ガラスは、磁気ヘッドの空隙部充填材、接合材料、絶縁材料として使用すれば、低温での融着が可能となり、アモルファス磁性金属を用いた磁気ヘッドや、ガラス緩みによる寸法逸脱を防ぐためにできるだけ低温での融着を必要とする複数回のガラス融着工程のある磁気ヘッドの複数回目の融着工程に適用して高い効果が得られる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明に係る無鉛ガラス組成物によれば、鉛成分を含有しないことから、作業環境の改善につながり、さらに廃棄物処理に困らない効果を奏する。
また、磁気ヘッド用の融着ガラスとして用いる場合、本発明のガラスは鉛成分を含有しないにもかかわらず、アモルファス磁性金属を結晶化させない程度の低温で融着を行なうことが可能であり、高性能の磁気ヘッドを製造することが可能である。
また、本発明に係る無鉛ガラス組成物は、例えば線径が０．１５ｍｍ±０．０２ｍｍの細さの線引きが可能になり、磁気ヘッドの製造に適用して好適ならしめる。
【００２６】
本発明に係る磁気ヘッドによれば、上述の無鉛ガラスを用いて構成されるので、製造に際して作業環境を改善することができ、また、廃棄処理でも環境を汚染させることがない。
また、本発明に係る磁気ヘッドによれば、線引き加工された上述の無鉛ガラスを用いることにより、無鉛ガラスが摺動面に露出しないように、巻線溝に連続してギャップデプスを規制する狭小溝内に充填させた磁気ヘッドを提供できる。
また、結晶化温度より低い融着温度を有する無鉛ガラスを用い、磁気コアとしてアモルファス磁性金属薄膜を有する積層膜で形成するときは、高性能のアモルファス金属積層型の磁気ヘッドを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【００２８】
先ず、本実施の形態に係る無鉛ガラス組成物について説明する。無鉛ガラスを構成する各成分を表１（実施例）、表２（比較例）に示す割合で混合して１１００〜１３００℃で溶解後、線引き作業を行い、ロッド状の無鉛ガラスを作製した。単位は質量％である。尚、比較例に載せたガラスは、本発明の請求範囲から外れる組成の無鉛ガラスならびに現在使用されている鉛系ガラスである。
【００２９】
【表１】
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【００３０】
【表２】
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【００３１】
表１、表２で得られた各ガラスについて、熱膨張係数（１００℃〜３５０℃）及びガラス転移点と融着温度を測定した。結果を表３に示す。なお、融着温度とは粘度が１０３ Ｐａ・ｓｅｃになる温度を表す。
【００３２】
【表３】
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【００３３】
表１の組成から得られた実施例のガラスのうち各試料１〜３９はすべてガラス化し、結晶化や失透はみられなかった。
また、熱膨張係数（１００℃〜３５０℃において）は８６×１０-7〜１１８×１０-7〔／℃〕、ガラス転移点は３５３℃〜４６２℃、融着温度は５００℃〜５５５℃となった。
【００３４】
表２の組成から得られた比較例のガラスについて説明する。
試料４０は従来の鉛含有の低融点ガラスである。
試料４１は無鉛ガラスであるが、本発明の目的である融着温度が５２０℃以下、または５６０℃未満よりも融着温度が高く、本発明の趣旨に反する。
試料４２は無鉛ガラスであるが、Ｂ２Ｏ３の含有量が１３％未満であり、線引時に失透してしまい、うまく融着できなくなる。
試料４３は無鉛ガラスであるが、Ｂ２Ｏ３の含有量が１３％未満であり、かつＢｉ２Ｏ３の含有量が７８％を超え、線引時にガラス表面に析出物が突出し、うまく融着できなくなる。
【００３５】
次に、図面を用いて上述のガラス組成物を補強充填材として使用した本発明に係る磁気ヘッドの実施の形態を説明する。
図１は、本発明に係る磁気ヘッドをアモルファス金属薄膜積層ヘッドに適用した実施の形態を示す。本実施の形態に係る磁気ヘッド１は、両面を例えば非磁性セラミックからなるガード材８で挟まれるように積層アモルファス金属薄膜２による磁気コアを配置して構成される。すなわち、ガード材８となる非磁性セラミック基板に結晶化温度が５５０℃のＣｏ８１Ｚｒ４Ｎｂ１２Ｔａ３〔原子％〕のアモルファス金属磁性薄膜と非磁性薄膜（例えばＣｒ薄膜）を交互に多層にスパッタして積層アモルファス金属薄膜２を形成する。この積層アモルファス金属薄膜２を有する一対の磁気コア半体３Ｌ及び３Ｒ同士を対向させ、金属磁性薄膜２面をギャップ膜を介して突合わせて磁気ギャップ部ｇを形成する。ギャップ膜は例えば金（Ａｕ）で形成し、１０ＭＰａの圧力と２５０℃の温度をかけて接合する。さらに融着用のガラスロッドを巻線溝６内の磁気ギャップｇ側に挿入し溶融させて補強用ガラス５として充填して磁気ヘッド１が構成される。この場合、線引きされたガラスロッドは巻線溝６に連続してギャップデプスを規制する狭小溝６ａ内に挿入され最終的に融着ガラス５として充填される。この融着ガラス５は磁気記録媒体、例えば磁気テープの摺動面９に露出することはない。この融着ガラス５により、磁気コア半体３Ｌ，３Ｒ同士の接合が補強される。さらに磁気ギャップｇの周辺部分に曲率を形成して摺動面９が形成される。なお、融着ガラス５はフロントギャップ側とバックギャップ側に設けられる。バックギャップ側ではガラス接合溝７内に融着ガラス５が充填される。
【００３６】
そして、本実施の形態においては、融着ガラス５として表１の実施例のガラス、好ましくはアモルファス磁性金属を結晶化させない溶融温度５２０℃以下のガラスを用いる。
例えば、融着ガラス５として表１の実施例の試料３７の無鉛ガラスを使用した本実施の形態の磁気ヘッドと、表２の比較例の試料４０の鉛含有ガラスを使用した磁気ヘッドを作製して比較した。試料３７の無鉛ガラスを用いた本実施の形態の磁気ヘッド１は、試料４０のガラスを使用した比較例の磁気ヘッドと比較して、電気特性や作業過程での問題は全く見られず、無鉛ガラスでも鉛ガラスと同様の磁気ヘッドを作製することができた。
【００３７】
図２は、図１のアモルファス金属薄膜積層ヘッドの具体例である。本実施の形態に係る磁気ヘッド１１は、摺動面９の磁気テープとの当たり幅を狭くするように段差１０を形成し、磁気テープへのヘッド当たりが良好になるように構成される。また、磁気コアの両側にガード材８と共に巻線用の切り欠き１２を形成し、この切り欠き１２と巻線溝６を通してコイル１３が巻回される。その他の、構成は図１と同様であるので、同一符号を付して重複説明を省略する。
この構成においても、表１の実施例に示す無鉛ガラス、好ましくはアモルファス磁性金属が結晶化しない融着温度５２０℃以下の無鉛ガラスを用いることにより、アモルファス金属磁性薄膜が結晶化せず、しかも線引きしてギャップＧ側の狭小溝６ａ内にガラス５を充填させることができ、環境に配慮した高性能の磁気ヘッドを提供できる。
【００３８】
図３は、本発明に係る磁気ヘッドをメタルインギャップ（ＭＩＧ）型の磁気ヘッドに適用した他の実施の形態を示す。本実施の形態に係る磁気ヘッド２１は、フェライトコア半体２２Ｌ及び２２Ｒの突合わせ面に高透磁率の結晶金属磁性薄膜２３を成膜し、結晶金属磁性薄膜２３間にギャップ膜を介して磁気ギャップｇが形成されるように、両フェライトコア半体２２Ｌ及び２２Ｒを接合して構成される。この場合、摺動面２６に露出されるフロントギャップ側に設ける融着ガラスには信頼性の高い（耐アルカリ性で評価される）無鉛ガラス２４を用い、バックギャップ側に設ける融着ガラスには表１の融着温度の低い無鉛ガラス２５を用いる。これら異なる２種類の無鉛ガラス２４及び２５は同時に融着される。フロントギャップ側はガラスを流す距離が短く、バックギャップ側はガラスを流す距離が長い。このため、摺動面２６に露出するフロントギャップ側の無鉛ガラス２４は信頼性の高い（融着温度は高い）ガラス、例えば表２の比較例の試料４１とするが、摺動面に露出しないバックギャップ側の無鉛ガラス２５は表１の融着温度の低い無鉛ガラス、例えば実施例の試料２とすることにより、長い距離を流して融着でき、確実な接合を行なうことが可能となる。
本実施の形態の磁気ヘッド２１によれば、信頼性が高く且つ記録用ヘッドに適し、しかも環境に配慮されたＭＩＧ型の磁気ヘッドを提供することができる。
【００３９】
図４は、本発明に係る磁気ヘッドをデータカートリッジ用磁気ヘッドに適用した他の実施の形態を示す。本実施の形態に係る磁気ヘッド３１は、３つの磁気コア部材をギャップ膜を介して融着ガラスで接合し、再生用ギャップｇ１と記録用ギャップｇ２を有して構成される。この磁気ヘッド３１は、先ず、再生ギャップｇ１側のフェライトヘッド３４の第１及び第２のフェライトコア３４Ａ及び３４Ｂを，例えばＳｉＯ２：４８．０ｗｔ％、Ｂ２ Ｏ３ ：１８．０ｗｔ％、Ｎａ２ Ｏ：１２．０ｗｔ％、ＢａＯ：１２．０ｗｔ％、Ｆｅ２Ｏ３ ：５．６ｗｔ％、ＺｎＯ：４．４ｗｔ％の組成の高融点の無鉛ガラス３６（熱膨張係数９０×１０-7／℃、ガラス転移点５６０℃）を用いて高温（７６０℃）で融着させる。フェライトヘッド３４側の１回目の融着ガラス３６として、上記組成のガラスを用いるのは、融着後の寸法精度を重視するため、融着治具が劣化しない程度（７６０℃程度以下）の融着温度を有し、然も、２回目以降の融着（ＭＩＧ側の融着）も考慮して、出来るだけ高いガラス転移点を有し、更にフェライト等への侵食拡散反応が少ない様に成すためである。
【００４０】
次に、そのガラス３６を溶かさない温度、即ち、上記組成ガラスのガラス転移点（５６０℃）より低い融着温度を有する表１の実施例のガラス、例えば表１の試料１（融着温度５４５℃）の無鉛低融点ガラス３７を用いて、記録側ギャップｇ２の融着を行なう。すなわち、第２のフェライトコア３４Ｂと、フェライトコア３８のギャップ面側に高透磁率の結晶金属磁性膜３９を成膜した第３の磁気コア３４Ｃとを無鉛ガラス３７を用いて接合して記録用ギャップｇ２を形成し、ＭＩＧヘッド３５を形成する。
このＭＩＧヘッド３５側の融着ガラス３７として、表１の試料１の無鉛低融点ガラスを用いると、再生ギャップｇ１側のガラス３６を緩ませないような低温で融着が行なえる。
【００４１】
本実施の形態の磁気ヘッド３１によれば、２回のガラス融着工程を有する記録ヘッドと再生ヘッドからなる高信頼性の複合磁気ヘッドを提供することができる。しかも２回の融着工程で用いるガラスはいずれも無鉛ガラスであるため、環境に考慮した磁気ヘッドとなる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係る磁気ヘッドの一実施の形態を示す構成図である。
【図２】図１に係る磁気ヘッドの具体化された実施の形態を示す構成図である。
【図３】本発明に係る磁気ヘッドの他の実施の形態を示す構成図である。
【図４】本発明に係る磁気ヘッドのさらに他の実施の形態を示す構成図である。
【符号の説明】
【００４３】
１、１１、２１、３１・・磁気ヘッド、２・・積層アモルファス金属磁性薄膜、３Ｌ，３Ｒ・・磁気コア半体、ｇ・・磁気ギャップ、５・・融着ガラス、６・・巻線溝、６ａ・・狭小溝、７・・ガラス接合溝、８・・ガード材、９・・摺動面、１０・・段差、１２・・切り欠き、１３・・コイル、２２Ｌ．２２Ｒ・・フェライトコア、２３・・結晶金属磁性膜、２４、２５・・無鉛ガラス、２６・・摺動面、３４・・フェライトヘッド、３４Ａ，３４Ｂフェライトコア、３４Ｃ・・磁気コア、３５・・ＭＩＧヘッド、３６・・１回目の融着ガラス、３７・・２回目の融着ガラス、３８・・フェライトコア、３９・・結晶金属磁性薄膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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