(57)【要約】【課題】記録再生特性を損なわない耐光性および耐久性が向上した青色レーザー光対応の情報記録媒体を提供する。【解決手段】基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、トラックピッチが０．２〜０．５ｍｍのプリグルーブが形成された透明な円盤状基板の該プリグルーブが設けられた側の表面に、メチン色素と有機酸化剤とを含む記録層が設けられたヒートモード型の情報記録媒体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体において、該記録層がメチン色素及び有機酸化剤を含むことを特徴とするヒートモード型の情報記録媒体。
【請求項２】
前記基板がトラックピッチが０．２〜０．５μｍのプリグルーブが形成された透明な円盤状基板であり、該プリグルーブが設けられた側の表面に、前記記録層が設けられたことを特徴とする請求項１に記載のヒートモード型の情報記録媒体。
【請求項３】
前記メチン色素の酸化電位ｂボルトが０．５＜ｂ＜１．２の範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の情報記録媒体。
【請求項４】
還元電位が−０．４ボルトより貴である前記有機酸化剤を含む記録層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項５】
前記有機酸化剤が、第４級アンモニウムイオンまたはピリジニウムイオンであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項６】
前記有機酸化剤が、下記一般式（Ｄ）または（Ｅ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の情報記録媒体。
【化１】
2006289967.tif 000042
［式中、Ｒ８１，Ｒ８２は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表す。Ｒ８３，Ｒ８４は、置換基（置換原子を含む）を表す。Ｒ８５，Ｒ８６は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表す。なお、Ｒ８１とＲ８２、Ｒ８３とＲ８４またはＲ８５とＲ８６が互いに連結して環を形成してもよい。ｐおよびｑは０から４の整数を表し、ｐが２以上の場合、Ｒ８３は互いに同じでも異なってもよく、ｑが２以上の場合、Ｒ８４は互いに同じでも異なってもよい。］
【請求項７】
前記メチン色素が、一般式（Ｃ−Ｉ）で表されるオキソノール色素であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の情報記録媒体。
一般式（Ｃ−Ｉ）
【化２】
2006289967.tif 000043
［式中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは電子吸引性基を表し、ＡとＢもしくはＣとＤは互いに連結して環を形成していてもよく、互いに結合しない場合にはＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基である。Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ７１は０乃至１の整数を表し、ｎ７１は０乃至２ｍ７１＋１の整数を表し、ｎ７１が２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１乃至１０の整数を表す。］
【請求項８】
前記メチン色素が、一般式（Ｃ−ＩＩ）、一般式（Ｃ−ＩＩＩ）、一般式（Ｃ−ＩＶ）で表されるオキソノール色素であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の情報記録媒体。
一般式（Ｃ−ＩＩ）
【化３】
2006289967.tif 000044
一般式（Ｃ−ＩＩＩ）
【化４】
2006289967.tif 000045
一般式（Ｃ−ＩＶ）
【化５】
2006289967.tif 000046
［式中、Ｃ及びＤは電子吸引性基を表し、互いに連結して環を形成していてもよく、互いに連結しない場合にはＣとＤのハメットのσｐ値の合計が０．６以上となる電子吸引性基である。Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ７１は０乃至１の整数を表し、ｎ７１は０乃至２ｍ７１＋１の整数を表し、ｎ７１が２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１乃至１０の整数を表す。Yは−O−または−NR1−または−CR2R3−のいずれかであり、R1、R2、R3、R8、R9は各々独立に水素原子または置換基を表し、Zは置換または無置換のアルキレン基を表し、ｘは１または２を表す。］
【請求項９】
前記メチン色素が、一般式（Ｃ−Ｖ）、一般式（Ｃ−ＶＩ）で表されるオキソノール色素であることを特徴とする請求項１〜7のいずれかに記載の情報記録媒体。
一般式（Ｃ−Ｖ）
【化６】
2006289967.tif 000047
一般式（Ｃ−ＶＩ）
【化７】
2006289967.tif 000048
［式中、Ｃ及びＤは電子吸引性基を表し、互いに連結して環を形成していてもよく、互いに連結しない場合にはＣとＤのハメットのσｐ値の合計が０．６以上となる電子吸引性基である。Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ７１は０乃至１の整数を表し、ｎ７１は０乃至２ｍ７１＋１の整数を表し、ｎ７１が２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１乃至１０の整数を表す。R4〜R7は各々独立に水素原子または置換基を表し、Gは酸素原子または硫黄原子を表す。］
【請求項１０】
前記ｍ７１が０であることを特徴とする請求項７〜９のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項１１】
基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、トラックピッチが０．２〜０．５μｍのプリグルーブが形成された透明な円盤状基板の該プリグルーブが設けられた側の表面に、メチン色素と還元電位が−０．４ボルトより貴である有機酸化剤とを含み、該メチン色素の酸化電位ｂボルトと有機酸化剤の還元電位ａボルトとの差が、１．０≦ｂ−ａ≦１．３の関係式を満たすように組み合わされてなる記録層が設けられたことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のヒートモード型の情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー光を用いて情報の記録および再生が可能な光情報記録媒体および情報記録方法、およびこれに適した新規化合物に関するものである。特に本発明は、波長４４０ｎｍ以下の短波長レーザー光を用いて情報を記録するのに適したヒートモード型の光情報記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上にメチン色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も間近にひかえて、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。前述のＣＤ−Ｒ及び、可視レーザー光（６３０ｎｍ〜６８０ｎｍ）を記録用レーザーとして高密度記録を可能としたＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位をある程度までは確保されるものの、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量を有しているとは言えない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長のレーザー光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が進められ、例えば４０５ｎｍの青色レーザーを用いたＢｌｕ−ｒａｙ方式と称する光記録ディスクが市販された。
【０００４】
従来、ＣＤ−Ｒ型の光ディスクにおいては、その記録層に含有する色素化合物として、近赤外域に吸収を有する、例えば、ベンゾインドレニン骨格を有するジカルボシアニン系色素（メチン鎖が５個）やトリカルボシアニン系色素（メチン鎖が７個）が有利に用いられている（特開昭６４−４０３８２号公報、同６４−４０３８７号公報）。また耐光性を改良するために、一般に退色防止剤として上記のようなシアニン系色素と共に一重項酸素クエンチャーとを組み合わせて使用することが行われている。例えば、このような退色防止剤としては、ニトロソ化合物（特開平２−３００２８８号公報）及びニッケル錯体（特開平４−１４６１８９号公報）などが良く知られている。
【０００５】
特開昭６３−６４７９４号公報には、シアニン系色素と電子受容性化合物とを含む記録層を有する、耐光性が改良された情報記録媒体が提案されている。そしてここには、具体例として、シアニン系色素としては、ベンゾインドレニン骨格などを有するトリカルボシアニン系色素（メチン鎖が７個）が記載されており、一方、電子受容性化合物としては、テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）とテトラシアノエチレンが記載されている。
【０００６】
特開平１０−１５１８６１および特開平１０−３２４０６５号公報についても同様に、シアニン系色素と電子受容性化合物とを含む記録層を有する情報記録媒体が提案されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
一般に色素の吸収極大波長は、その光吸収の原因であるパイ電子系の広がりが大きいほど長波長になることが知られている。特に従来多くの光ディスクに実用化されているシアニン系色素あるいはオキソノール色素の場合には共役メチン鎖の長さが長い程長波長になる。従って、記録再生用のレーザ光の波長がＤＶＤ−Ｒより短い青色レーザー対応光記録ディスクにおいては、色素の吸収極大波長もレーザ光の波長に合わせて従来のＤＶＤ−Ｒで用いた色素よりも短波長化させることが必要になり、そのため共役メチン鎖を短くし、短波長化したシアニン系色素等が検討対象となるが、得られる青色レーザー対応光記録ディスクにおいて高い耐光性をもつ記録層を有する情報記録媒体を得ることが重要になる。
【０００８】
本発明の目的は、記録再生特性を損なわない耐光性および耐久性が向上した青色レーザー光対応の情報記録媒体及びこれを用いる情報の記録方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記４４０ｎｍ以下の青色レーザーを用いた光記録ディスクの製造に際して、本発明の褪色防止剤がある場合と無い場合との性能比較検討を行った。その結果、本発明の褪色防止剤無しの場合よりも本発明の褪色防止剤が記録層中に存在する方が良好な記録再生特性が得られることが判明した（「発明が解決しようとする課題」の項からここに移した）。
本発明者の検討により、メチン色素と有機酸化剤、特にメチン色素と還元電位が−０．６Ｖより貴である有機酸化剤との組み合わせにおいて、メチン色素の酸化電位と有機酸化剤の還元電位が一定の関係となるように組み合わせた場合、あるいはまたメチン色素として特定の構造を持つシアニン色素あるいはオキソノール色素を用いた場合に、記録再生特性を損なうことなく、耐光性および耐久性が顕著に改良された青色レーザー対応の情報記録媒体を製造できることが見出された。
【００１０】
ここで、有機酸化剤の還元電位の値は、その有機酸化剤がボルタンメトリーにおいて陰極で電子の注入を受けて還元される電位を意味し、一方、メチン色素の酸化電位は、そのメチン色素がボルタンメトリーにおいて陽極で電子を放出して酸化される電位を意味する。酸化電位及び還元電位は、このボルタンメトリー法によって正確に測定することが可能である。即ち、支持電解質としてテトラ−ｎ−プロピルアンモニウム過塩素酸塩０．１Ｍを含むアセトニトリル中で、有機酸化剤１×１０−３Ｍのボルタモグラムを測定し、これより得られる半波電位として求めることができる。なお、作用電極には白金を、比較電極には飽和カロメル電極（ＳＣＥ）をそれぞれ使用し、測定は２５℃で行なう。
酸化電位の値（Ｅox）は当業者が容易に測定することができる。この方法に関しては、例えばＰ．Ｄｅｌａｈａｙ著“Ｎｅｗ  ＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔａｌＭｅｔｈｏｄｓ  ｉｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”（１９５４年  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ社刊）やＡ．Ｊ．Ｂａｒｄ他著“Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｔｈｏｄｓ”（１９８０年  ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ社刊）、藤嶋昭他著“電気化学測定法”（１９８４年  技報堂出版社刊）に記載されている。
【００１１】
具体的に酸化電位は、過塩素酸ナトリウムや過塩素酸テトラプロピルアンモニウムといった支持電解質を含むジメチルホルムアミドやアセトニトリルのような溶媒中に、被験試料を１×１０−２〜１×１０−６モル／リットル溶解して、サイクリックボルタンメトリーや直流ポーラログラフィーを用いてＳＣＥ（飽和カロメル電極）に対する値として測定する。この値は、液間電位差や試料溶液の液抵抗などの影響で、数１０ミルボルト程度偏位することがあるが、標準試料（例えばハイドロキノン）を入れて電位の再現性を保証することができる。
なお、電位を一義的に規定する為、本発明では、０．１ｍｏｌｄｍ−３の過塩素酸テトラプロピルアンモニウムを支持電解質として含むアセトニトリル中（色素の濃度は０．００１ｍｏｌｄｍ−３）でサイクリックボルタンメトリーにより測定した値（ｖｓ  ＳＣＥ）を色素の酸化電位とする。
本発明の課題は、以下の構成によって好ましく達成された。
【００１２】
［１］基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体において、該記録層がメチン色素及び有機酸化剤を含むことを特徴とするヒートモード型の情報記録媒体。
［２］前記基板がトラックピッチが０．２〕〜０．５μｍのプリグルーブーブが形成された透明な円盤状基板であり、該プリグルーブが設けられた側の表面に、前記記録層が設けられたことを特徴とする［１］に記載のヒートモード型の情報記録媒体。
［３］前記メチン色素の酸化電位ｂボルトが０．５＜ｂ＜１．２の範囲にあることを特徴とする［１］または［２］に記載の情報記録媒体。
［４］還元電位が−０．４ボルトより貴である前記有機酸化剤を含む記録層を有することを特徴とする［１］〜［３］のいずれかに記載の情報記録媒体。
［５］前記有機酸化剤が、第４級アンモニウムイオンまたはピリジニウムイオンであることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかに記載の情報記録媒体。
［６］前記有機酸化剤が、下記一般式（Ｄ）または（Ｅ）で表される化合物であることを特徴とする［１］〜［５］のいずれかに記載の情報記録媒体。
【００１３】
【化１】
2006289967.tif 000002
【００１４】
［式中、Ｒ８１，Ｒ８２は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表す。Ｒ８３，Ｒ８４は、置換基（置換原子を含む）を表す。Ｒ８５，Ｒ８６は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表す。なお、Ｒ８１とＲ８２、Ｒ８３とＲ８４またはＲ８５とＲ８６が互いに連結して環を形成してもよい。ｐおよびｑは０から４の整数を表し、ｐが２以上の場合、Ｒ８３は互いに同じでも異なってもよく、ｑが２以上の場合、Ｒ８４は互いに同じでも異なってもよい。］
［７］前記メチン色素が、一般式（Ｃ−Ｉ）で表されるオキソノール色素であることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかに記載の情報記録媒体。
一般式（Ｃ−Ｉ）
【００１５】
【化２】
2006289967.tif 000003
【００１６】
［式中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは電子吸引性基を表し、ＡとＢもしくはＣとＤは互いに連結して環を形成していてもよく、互いに結合しない場合にはＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基である。Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ７１は０乃至１の整数を表し、ｎ７１は０乃至２ｍ７１＋１の整数を表し、ｎ７１が２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１乃至１０の整数を表す。］
一般式（Ｃ−Ｉ）で表されるオキソノール色素と［８］に記載の一般式（Ｄ）または（Ｅ）で表される化合物との併用が好ましく、一般式（Ｄ）で表される化合物との併用がより好ましい。
［８］前記メチン色素が、一般式（Ｃ−ＩＩ）、一般式（Ｃ−ＩＩＩ）、一般式（Ｃ−ＩＶ）で表されるオキソノール色素であることを特徴とする［１］〜［７］のいずれかに記載の情報記録媒体。
一般式（Ｃ−ＩＩ）
【００１７】
【化３】
2006289967.tif 000004
【００１８】
一般式（Ｃ−ＩＩＩ）
【００１９】
【化４】
2006289967.tif 000005
【００２０】
一般式（Ｃ−ＩＶ）
【００２１】
【化５】
2006289967.tif 000006
【００２２】
［式中、Ｃ及びＤは電子吸引性基を表し、互いに連結して環を形成していてもよく、互いに連結しない場合にはＣとＤのハメットのσｐ値の合計が０．６以上となる電子吸引性基である。Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ７１は０乃至１の整数を表し、ｎ７１は０乃至２ｍ７１＋１の整数を表し、ｎ７１が２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１乃至１０の整数を表す。Yは−O−または−NR1−または−CR2R3−のいずれかであり、R1、R2、R3、R8、R9は各々独立に水素原子または置換基を表し、Zは置換または無置換のアルキレン基を表し、ｘは１または２を表す。］
［９］前記メチン色素が、一般式（Ｃ−Ｖ）、一般式（Ｃ−ＶＩ）で表されるオキソノール色素であることを特徴とする請求項［１］〜［７］のいずれかに記載の情報記録媒体。
一般式（Ｃ−Ｖ）
【００２３】
【化６】
2006289967.tif 000007
【００２４】
一般式（Ｃ−ＶＩ）
【００２５】
【化７】
2006289967.tif 000008
【００２６】
［式中、Ｃ及びＤは電子吸引性基を表し、互いに連結して環を形成していてもよく、互いに連結しない場合にはＣとＤのハメットのσｐ値の合計が０．６以上となる電子吸引性基である。Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ７１は０乃至１の整数を表し、ｎ７１は０乃至２ｍ７１＋１の整数を表し、ｎ７１が２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１乃至１０の整数を表す。R4〜R7は各々独立に水素原子または置換基を表し、Gは酸素原子または硫黄原子を表す。］
［１０］前記ｍ７１が０であることを特徴とする［７］〜［９］のいずれかに記載の情報記録媒体。
［１１］前記有機酸化剤が、下記一般式（Ａ）で表される化合物であることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかに記載の情報記録媒体。
一般式（Ａ）：
【００２７】
【化８】
2006289967.tif 000009
【００２８】
［式中、Ｘ１及びＸ２は各々独立に、酸素原子、硫黄原子、＝ＮＲ１  基、または＝ＣＲ２  Ｒ３  基を表し、ｍ及びｎはｍ＋ｎ≧２となるような０〜３の整数を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３  は各々独立に水素原子または置換基を表し、そしてＬ１及びＬ２は各々独立に二価の連結基を表す。］
［１２］前記有機酸化剤が、下記一般式（Ａ−Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする［１１］に記載の情報記録媒体。
一般式（Ａ−Ｉ）：
【００２９】
【化９】
2006289967.tif 000010
【００３０】
［式中、Ｘ１１及びＸ１２は各々独立に酸素原子、硫黄原子、＝ＮＲ８基、又は＝ＣＲ９Ｒ１０基を表し、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０は各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ１１とＲ１２、及びＲ１３とＲ１４は各々連結して不飽和縮合環を形成しても良い。］
［１３］前記有機酸化剤が、下記一般式（Ａ−ＩＩ）で表される化合物であることを特徴とする［１１］または［１２］に記載の情報記録媒体。
一般式（Ａ−ＩＩ）：
【００３１】
【化１０】
2006289967.tif 000011
【００３２】
［式中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ１５とＲ１６、及びＲ１７とＲ１８は各々連結して不飽和縮合環を形成しても良い。］
［１４］前記メチン色素が、下記一般式（Ｂ−Ｉ）で表されるシアニン色素であることを特徴とする［１］に記載の情報記録媒体。
【００３３】
【化１１】
2006289967.tif 000012
【００３４】
［式中、Ｚ１及びＺ２は各々独立に、５員または６員の含窒素複素環を形成するために必要な原子群を表し、Ｒ３０およびＲ３１は各々独立に置換されていても良いアルキル基を表し、Ｌ３は置換されていても良いメチン基を表し、Ｍ１は電荷中和対イオンを表し、そしてｍ１は分子中の電荷を中和させるために必要な０以上の数を表す。」
［１５］前記メチン色素が、下記一般式（Ｂ−ＩＩ）、一般式（Ｂ−ＩＩＩ）または一般式（Ｂ−ＩＶ）で表されるシアニン色素であることを特徴とする［１４］に記載の情報記録媒体。
【００３５】
【化１２】
2006289967.tif 000013
【００３６】
［式中、Ｚ１１は置換基を有していてもよい５員もしくは６員の含窒素ヘテロ環を形成するために必要な原子群を表し、Ｒ１１２及びＲ１１３は各々独立にアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｌ１２及びＬ１３は各々独立に置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｘｎ２−は有機又は無機のｎ２価のアニオンを表し、ｎ２は１乃至５の整数を表す。］
【００３７】
【化１３】
2006289967.tif 000014
【００３８】
［式中、Ｚ２１は置換基を有していてもよい５員もしくは６員の含窒素ヘテロ環を形成するために必要な原子群を表し、Ｒ２２及びＲ２３は各々独立にアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｌ２２及びＬ２３は各々独立に置換基を有していてもよいメチン基を表す。］
【００３９】
【化１４】
2006289967.tif 000015
【００４０】
［式中、Ｚ３１は置換基を有していてもよい５員もしくは６員の含窒素ヘテロ環を形成するために必要な原子群を表し、Ｒ３２は各々独立にアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｒ３３及びＲ３４は各々独立にアルキル基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｒ３３とＲ３４が連結して環を形成していてもよい。Ｌ３２及びＬ３３は各々独立に置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｘｎ３−は有機又は無機のｎ３価のアニオンを表し、ｎ３は１乃至５の整数を表す。］
一般式（Ｂ−ＩＩ）、一般式（Ｂ−ＩＩＩ）または一般式（Ｂ−ＩＶ）で表されるシアニン色素と、［４］に記載の一般式（Ａ）（好ましくは［５］に記載の一般式（Ａ−Ｉ）、更に好ましくは［６］に記載の一般式（Ａ−ＩＩ））との併用が好ましい。
［１６］基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体において、トラックピッチが０．２〜０．５μｍのプリグルーブが形成された透明な円盤状基板の該プリグルーブが設けられた側の表面に、メチン色素と還元電位が−０．４ボルトより貴である有機酸化剤とを含み、該メチン色素の酸化電位ｂボルトと有機酸化剤の還元電位ａボルトとの差が、０＜ｂ−ａ＜１．６の関係式を満たすように組み合わされてなる記録層が設けられたことを特徴とするヒートモード型の［１］〜［１５］のいずれかに記載の情報記録媒体。
【発明の効果】
【００４１】
記録層に含有するメチン色素と有機酸化剤とを、互いの電位差、特定の化学構造が特定の関係となるように組み合わせることにより、記録再生特性を損なうことなく、また記録後においても高い耐光性と高温高湿度下の保存性を持つ４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な情報記録媒体を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
本発明は、基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する情報記録媒体である。
【００４３】
本発明は、以下の態様であることが好ましい。本発明の情報記録媒体は、トラックピッチが０．２〜０．５μｍのプリグルーブが形成された透明な円盤状基板上にメチン色素と有機酸化剤とを含む記録層を有する。本発明に用いる有機酸化剤は、その還元電位ａ（Ｖ）が−０．４Ｖより貴である化合物である。有機酸化剤の還元電位ａ（Ｖ）は、−０．４＜ａ＜０．５（好ましくは、−０．４＜ａ＜０．２、さらに好ましくは、−０．４＜ａ＜−０．１）の範囲にあることが好ましい。一方、メチン色素の酸化電位ｂ（Ｖ）は、０．５＜ｂ＜１．２（好ましくは、０．６＜ｂ＜１．１、更に好ましくは、０．６＜ｂ＜１．０）の範囲にあることが好ましい。
【００４４】
本発明においては、上記のような特定の有機酸化剤とメチン色素とを、該メチン色素の酸化電位ａ（Ｖ）と有機酸化剤の還元電位ｂ（Ｖ）との差が、０＜ｂ−ａ＜１．６（好ましくは、０．４＜ｂ−ａ＜１．５、更に好ましくは、０．７＜ｂ−ａ＜１．４）の関係式を満たすように組み合わせて使用する。１．０≦ｂ−ａ≦１．３の関係式を満たすことが特に好ましい。
【００４５】
更に、本発明においては、上記のような特定の有機酸化剤と、メチン色素として、一般式（Ｂ−Ｉ）、一般式（Ｂ−ＩＩ）、一般式（Ｂ−ＩＩＩ）、一般式（Ｂ−ＩＶ）で表されるシアニン色素または一般式（Ｃ−Ｉ）で表されるオキソノール色素とを組み合わせて使用することが好ましい。更に、一般式（Ａ）（好ましくは一般式（Ａ−Ｉ）、更に好ましくは一般式（Ａ−ＩＩ）、（Ａ−ＩＩＩ）、（Ａ−ＩＶ））で表される有機酸化剤と一般式（Ｂ−ＩＩ）、一般式（Ｂ−ＩＩＩ）、一般式（Ｂ−ＩＶ）で表されるシアニン色素とを組み合わせて使用することがより好ましい。
一般式（Ｄ）または一般式（Ｅ）で表される有機酸化剤と一般式（Ｃ−Ｉ）で表されるオキソノール色素とを組み合わせて使用することが更に好ましい。
更に、一般式（Ｄ）または一般式（Ｅ）で表される有機酸化剤と一般式（Ｃ−ＩＩ）、一般式（Ｃ−ＩＩＩ）、一般式（Ｃ−ＩＶ）、一般式（Ｃ−Ｖ）、または一般式（Ｃ−ＶＩ）で表されるオキソノール色素とを組み合わせて使用することが特に好ましい。
【００４６】
以下に、本発明で使用される有機酸化剤及びメチン色素について説明する。
まず、メチン色素に対して用いる好ましい有機酸化剤について説明する。メチン色素に対して用いる有機酸化剤としては、環外二重結合を複数個有する炭素環あるいはヘテロ環化合物、または第４級アンモニウムイオンまたはピリジニウムイオンが好ましく、環外二重結合を複数個有する炭素環あるいはヘテロ環化合物またはピリジニウムイオンであることがより好ましい。
メチン色素がシアニン色素である場合、組み合わせる有機酸化剤としては環外二重結合を複数個有する炭素環あるいはヘテロ環化合物（好ましくは一般式（Ａ）（好ましくは一般式（Ａ−Ｉ）、更に好ましくは一般式（Ａ−ＩＩ）、（Ａ−ＩＩＩ）、（Ａ−ＩＶ））で表される有機酸化剤）が好ましい。
メチン色素がオキソノール色素である場合、組み合わせる有機酸化剤としては第４級アンモニウムイオンまたはピリジニウムイオンが好ましく、ピリジニウムイオン（好ましくは一般式（Ｄ）または一般式（Ｅ）で表される有機酸化剤）であることがより好ましい。
メチン色素
【００４７】
環外二重結合を複数個有する炭素環あるいはヘテロ環化合物について説明する。環を構成する原子としては、炭素以外に窒素、酸素、硫黄及びセレンを挙げることができる。本発明において、環外二重結合を複数個有する炭素環あるいはヘテロ環化合物としては、下記一般式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。
【００４８】
【化１５】
2006289967.tif 000016
【００４９】
式中、Ｘ１及びＸ２は各々独立に、酸素原子、硫黄原子、＝ＮＲ１基、又は＝ＣＲ２Ｒ３基を表す。ｍ及びｎはｍ＋ｎ≧２となるような０〜３の整数を表す。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は各々独立に、水素原子または置換基を表す。そしてＬ１及びＬ２は各々独立に二価の連結基を表す。
【００５０】
以下に、一般式（Ａ）で表される有機酸化剤について詳述する。一般式（Ａ）において、ｍ及びｎは共に１である場合が好ましい。上記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基は、ハロゲン原子、または水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子が組み合わされてなる置換基である。置換基の例としては、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシスルホニルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルファモイル基、カルボキシル基（塩を含む）、及びスルホ基（塩を含む）を挙げることができる。これらは、更に、これらの置換基で置換されていてもよい。
【００５１】
上記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基の例について更に詳しく説明する。
ハロゲン原子としては例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子を挙げることができる。アルキル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）の直鎖、分岐鎖または環状の置換基を有していてもよいアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、３−メトキシプロピル、２−アミノエチル、アセトアミドメチル、２−アセトアミドエチル、カルボキシメチル、２−カルボキシエチル、２−スルホエチル、ウレイドメチル、２−ウレイドエチル、カルバモイルメチル、２−カルバモイルエチル、３−カルバモイルプロピル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルを挙げることができる。アルケニル基は、炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜６）の直鎖、分岐鎖または環状のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、１−プロペニル、２−ペンテニル、１，３−ブタジエニル、２−オクテニル、３−ドデセニルを挙げることができる。
【００５２】
アラルキル基は、炭素数７〜１０のアラルキル基であり、例えば、ベンジルを挙げることができる。アリール基は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１０のアリール基であり、例えば、フェニル、ナフチル、ｐ−ジブチルアミノフェニル、ｐ−メトキシフェニルを挙げることができる。ヘテロ環基は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から構成される５〜６員環の飽和または不飽和のヘテロ環基であり、環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複数であってもよく、例えば、フリル、ベンゾフリル、ピラニル、ピロリル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、ピラゾリル、ベンゾトリアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、チエニル、インドリル、キノリル、フタラジニル、キノキサリニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、インドリニル、モルホリニルを挙げることができる。
【００５３】
アルコキシ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）の置換基を有していてもよいアルコキシ基であり、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、２ーメトキシエトキシ、２ーメタンスルホニルエトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、オクタデシルオキシを挙げることができる。アリールオキシ基は、炭素数６〜１０の置換基を有していてもよいアリールオキシ基であり、例えば、フェノキシ、ｐーメトキシフェノキシを挙げることができる。アルキルチオ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、ウンデシルチオ、ドデシルチオ、ヘキサデシルチオ、オクタデシルチオを挙げることができる。アリールチオ基は、炭素数６〜１０の置換基を有していてもよいアリールチオ基で例えば、フェニルチオ、４ーメトキシフェニルチオを挙げることができる。アシルオキシ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアシルオキシ基で例えば、アセトキシ、プロパノイルオキシ、ペンタノイルオキシ、オクタノイルオキシ、ドデカノイルオキシ、オクタデカノイルオキシを挙げることができる。
【００５４】
アルキルアミノ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアルキルアミノ基であり、例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、オクチルアミノ、ジオクチルアミノ、ウンデシルアミノを挙げることができる。アミド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアミド基であり、例えば、アセトアミド、アセチルメチルアミノ、アセチルオクチルアミノ、アセチルデシルアミノ、アセチルウンデシルアミノ、アセチルオクタデシルアミノ、プロパノイルアミノ、ペンタノイルアミノ、オクタノイルアミノ、オクタノイルメチルアミノ、ドデカノイルアミノ、ドデカノイルメチルアミノ、オクタデカノイルアミノを挙げることができる。スルホンアミド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）の置換基を有していてもよいスルホンアミド基であり、例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、プロピルスルホンアミド、２−メトキシエチルスルホンアミド、３−アミノプロピルスルホンアミド、２−アセトアミドエチルスルホンアミド、オクチルスルホンアミド、ウンデシルスルホンアミドを挙げることができる。
【００５５】
アルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜６）のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、オクチルオキシカルボニルアミノ、ウンデシルオキシカルボニルアミノを挙げることができる。アルコキシスルホニルアミノ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアルコキシスルホニルアミノ基であり、例えば、メトキシスルホニルアミノ、エトキシスルホニルアミノ、オクチルオキシスルホニルアミノ、ウンデシルオキシスルホニルアミノを挙げることができる。スルファモイルアミノ基は、炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜６）のスルファモイルアミノ基であり、例えば、メチルスルファモイルアミノ、ジメチルスルファモイルアミノ、エチルスルファモイルアミノ、プロピルスルファモイルアミノ、オクチルスルファモイルアミノ、ウンデシルスルファモイルアミノを挙げることができる。
【００５６】
ウレイド基は、炭素数１〜１８（好ましくは、炭素数１〜６）の置換基を有していてもよいウレイド基であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、オクチルウレイド、ウンデシルウレイドを挙げることができる。チオウレイド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）の置換基を有していてもよいチオウレイド基であり、例えば、チオウレイド、メチルチオウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルチオウレイド、オクチルチオウレイド、ウンデシルチオウレイドを挙げることができる。アシル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアシル基であり、例えばアセチル、ベンゾイル、オクタノイル、デカノイル、ウンデカノイル、オクタデカノイルを挙げることができる。アルコキシカルボニル基は、炭素数２〜１８（好ましくは、炭素数２〜６）のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ウンデシルオキシカルボニルを挙げることができる。
【００５７】
カルバモイル基は、炭素数１〜１８（好ましくは、炭素数１〜６）の置換基を有していてもよいカルバモイル基であり、例えば、カルバモイル、Ｎ，  Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジオクチルカルバモイル、Ｎ−ウンデシルカルバモイルを挙げることができる。アルキルスルホニル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）の置換基を有していても良いアルキルスルホニル基であり、例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、２ークロロエタンスルホニル、オクタンスルホニル、ウンデカンスルホニルを挙げることができる。アルキルスルフィニル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアルキルスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル、オクタンスルフィニルを挙げることができる。スルファモイル基は、炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜６）の置換基を有していてもよいスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル、ジメチルスルファモイル、エチルスルファモイル、オクチルスルファモイル、ジオクチルスルファモイル、ウンデシルスルファモイルを挙げることができる。
【００５８】
Ｌ１及びＬ２は、各々独立に２価の連結基を表す。ここで、２価の連結基とは、炭素原子、窒素原子、酸素原子あるいは硫黄原子から構成され、Ｘ１、Ｘ２が結合している炭素原子と共同で４〜８員環を構成する。Ｌ１、及びＬ２具体例としては、−Ｃ（Ｒ４）（Ｒ５）−、−Ｃ（Ｒ６）＝、−Ｎ（Ｒ７）−、−Ｎ＝、−Ｏ−、及び−Ｓ−を組み合わせて構成される２価の連結基を挙げることができる。ここで、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は各々独立に、水素原子または置換基を表し、その詳細は、前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３にて説明したものと同義である。また、この４〜８員環は飽和あるいは不飽和の縮合環を形成してもよく、その縮合環の例としては、シクロアルキル環、アリール環またはヘテロ環を挙げることができ、その詳細は、前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３にて説明したものと同義である。
【００５９】
上記４〜８員環について更に詳細に説明する。４員環の例としては、シクロブタンジオン、シクロブテンジオン、ベンゾシクロブテンキノンを挙げることができる。５員環の例としては、シクロペンタンジオン、シクロペンテンジオン、シクロペンタントリオン、シクロペンテントリオン、インダンジオン、インダントリオン、テトラヒドロフランジオン、テトラヒドロフラントリオン、テトラヒドロピロールジオン、テトラヒドロピロールトリオン、テトラヒドロチオフェンジオン、テトラヒドロチオフェントリオンを挙げることができる。６員環の例としては、ベンゾキノン、キノメタン、キノジメタン、キノンイミン、キノンジイミン、チオベンゾキノン、ジチオベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、ジヒドロクロメントリオン、ジヒドロピリジンジオン、ジヒドロピラジンジオン、ジヒドロピリミジンジオン、ジヒドロピリダジンジオン、ジヒドロフタラジンジオン、ジヒドロイソキノリンジオン、テトラヒドロキノリントリオンを挙げることができる。
【００６０】
７員環の例としては、シクロヘプタンジオン、シクロヘプタントリオン、アザシクロヘプタントリオン、ジアザシクロヘプタントリオン、オキソシクロヘプタントリオン、ジオキソシクロヘプタントリオン、オキソアザシクロヘプタントリオンを挙げることができる。８員環の例としては、シクロオクタンジオン、シクロオクタントリオン、アザシクロオクタントリオン、ジアザシクロオクタントリオン、オキソシクロオクタントリオン、ジオキソシクロオクタントリオン、オキソアザシクロオクタントリオン、シクロオクテンジオン、シクロオクタジエンジオン、ジベンゾシクロオクテンジオンを挙げることができる。Ｌ１及びＬ２が、Ｘ１及びＸ２が結合している炭素原子と共同で構成する環としては、好ましくは６員環である。
【００６１】
環外二重結合を複数個有する炭素環あるいはヘテロ環化合物としては、下記一般式（Ａ−Ｉ）で表される化合物であることがより好ましい。
【００６２】
【化１６】
2006289967.tif 000017
【００６３】
式中、Ｘ１１及びＸ２２は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、＝ＮＲ８、又は＝ＣＲ９Ｒ１０を表す。またＲ８、Ｒ９およびＲ１０は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ１１及びＸ２２で表される＝ＮＲ８、及び＝ＣＲ９Ｒ１０は、それぞれ前記一般式（Ａ）におけるＸ１及びＸ２で表される＝ＮＲ１、及び＝ＣＲ２Ｒ３と同義であり、その好ましい範囲も同一である。またＲ８、Ｒ９及びＲ１０で表される置換基は、前記一般式（Ａ）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基と同義であり、またその好ましい範囲も同一である。Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ１１及びＲ１２、あるいはＲ１３及びＲ１４が同時に置換基となる場合、これらは、各々連結して不飽和縮合環を形成してもよい。この不飽和縮合環は置換基を有していてもよく、その置換基としては、前記Ｒ１〜Ｒ３にて説明したものと同じものが挙げられる。
【００６４】
上記Ｘ１１及びＸ２２は、各々独立に、酸素原子あるいは＝ＣＲ９Ｒ１０基であることが好ましく、共に酸素原子あるいは共に＝ＣＲ９Ｒ１０基となることがより好ましい。ここで、Ｒ９及びＲ１０は、各々独立に、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はアルキルスルホニル基であることが好ましい。Ｘ１１及びＸ２２が共に酸素原子となる場合について説明する。
Ｘ１１及びＸ２２が共に酸素原子となる場合、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４の少なくとも２つが電子吸引性基であることが更に好ましい。ここで電子吸引性基とは、ハメットのσｐ値がプラスの置換基を意味し、具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、又はアルキルスルフィニル基を挙げることができる。Ｘ１１及びＸ２２が共に酸素原子となる場合の特に好ましい組み合わせとしては、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は、各々独立に水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシスルホニルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、及びスルファモイル基であって、このうち少なくとも２つが電子吸引性基である場合である。
【００６５】
最も好ましい組み合わせとしては、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のアミド基、炭素数１〜６のスルホンアミド基、炭素数１〜６のウレイド基、炭素数１〜６のアシル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜６のカルバモイル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基であって、このうち少なくとも２つがハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルホニル基またはアルキルスルフィニル基である。
【００６６】
Ｘ１１及びＸ２２が共に＝ＣＲ９Ｒ１０基となる場合、環外二重結合を複数個有する炭素環あるいはヘテロ環化合物としては、下記一般式（Ａ−ＩＩ）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【００６７】
【化１７】
2006289967.tif 000018
【００６８】
式中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、及びＲ１８は、各々独立に、前記Ｒ１１〜Ｒ１４について説明したものと同義である。
【００６９】
環外二重結合を複数個有する炭素環あるいはヘテロ環化合物としては、下記一般式（Ａ−ＩＩＩ）または一般式（Ａ−ＩＶ）で表される化合物であることが特に好ましい。
【００７０】
【化１８】
2006289967.tif 000019
【００７１】
式中、Ｒ１９はハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アシル基、又はアルコキシカルボニル基を表す。Ｒ２０は、前記Ｒ１〜Ｒ３にて説明したものと同じものを意味する。ｍ４は、１〜４の整数を表し、ｍ４または４−ｍ４が２以上の整数を表すとき、複数のＲ１９と複数のＲ２０はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【００７２】
【化１９】
2006289967.tif 000020
【００７３】
式中、Ｒ２１は水素原子または置換基を表す。ここで、置換基とは、前記Ｒ１〜Ｒ３にて説明したものと同じものを意味する。ｍ５は０〜６の整数を表し、ｍ５が２以上の整数を表すとき、複数のＲ２１はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【００７４】
一般式（Ａ−ＩＩＩ）において、Ｒ１９とＲ２０の好ましい組み合わせについて述べる。Ｒ１９はハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜８のアシル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基であり、Ｒ２０は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基である組み合わせが好ましく、最も好ましい組み合わせは、Ｒ１９が炭素数１〜６のアルコキシ基で、かつＲ２０が水素原子である。
【００７５】
一般式（Ａ−ＩＶ）において、Ｒ２１は好ましくは、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、又はアシル基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のアミド基、炭素数１〜６のスルホンアミド基、炭素数１〜６のウレイド基、炭素数１〜６のアシル基であり、特に好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基であり、最も好ましくは、水素原子である。
【００７６】
本発明に用いるメチン色素に対する有機酸化剤である環外二重結合を複数個有する炭素環あるいはヘテロ環化合物の具体的な化合物例としては特開平１０−１５１８６１および特開平１０−３２４０６５に記載の有機酸化剤または下記化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７７】
【化２０】
2006289967.tif 000021
【００７８】
ピリジニウムイオンについて説明する。ピリジニウムイオンとしてはＮ−アルキルピリジニウム、Ｎ−アルケニルピリジニウム、Ｎ−アルキニルピリジニウム、Ｎ−アリールピリジニウムが挙げられる。さらに詳しくは炭素数１〜６０の置換または無置換のＮ−アルキルピリジニウム、炭素数１〜６０の置換または無置換のＮ−アルケニルピリジニウム、炭素数１〜６０の置換または無置換のＮ−アルキニルピリジニウム、炭素数１〜６０の置換または無置換のＮ−アリールピリジニウムが挙げられる。
【００７９】
ピリジニウムイオンは、前記一般式（Ｄ）または一般式（Ｅ）で表される化合物が好ましい。
【００８０】
一般式（Ｄ）または一般式（Ｅ）について説明する。Ｒ８１，Ｒ８２，Ｒ８５よびＲ８６で表されるアルキル基は、炭素数１から１８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、シクロプロピル等が挙げられる。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ、Ｂｒ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８のアルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ等）、炭素数６から１０のアリールオキシ基（例、フェノキシ、ｐ−メトキシフェノキシ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８のアルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ等）、炭素数６から１０のアリールチオ基（例、フェニルチオ等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアシル基（例、アセチル、プロピオニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルケニル基（例、ビニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルキニル基（例、エチニル等）、炭素数６から１０のアリール基（例、フェニル、ナフチル等）、炭素数７から１１のアリーロキシカルボニル基（例、ナフトキシカルボニル等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８のアミノ基（例、無置換のアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミノ、モリホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、アセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８のカルバモイル基（例、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、ピロリジノカルバモイル等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８のスルファモイル基（例、無置換のスルファモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、水酸基、ヘテロ環基（例、オキサゾール、ベンゾオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、インドレニン、ピリジン、スルホラン、フラン、チオフェン、ピラゾール、ピロール、クロマン、クマリンなど）を挙げることができる。
【００８１】
Ｒ８１，Ｒ８２，Ｒ８５およびＲ８６で表されるアルケニル基は、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、１−プロペニル、１，３−ブタジエニル、シクロヘキセニル等が挙げられる。アルケニル基の置換基としては、アルケニル基を除くアルキル基の置換基として挙げたものと同義である。
【００８２】
Ｒ８１，Ｒ８２，Ｒ８５およびＲ８６で表されるアルキニル基は、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、２−プロピニル等が挙げられる。アルキニル基の置換基としては、アルキニル基を除くアルキル基の置換基として挙げたものと同義である。
【００８３】
Ｒ８１，Ｒ８２，Ｒ８５およびＲ８６で表されるアリール基は、炭素数６から１８、好ましくは炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル、ナフチル等が挙げられる。アリール基の置換基としては、アルキル基の置換基として挙げたものと同義であり、さらに置換基としてアルキル基（例、メチル、エチル等）が挙げられる。
【００８４】
Ｒ８１とＲ８２は互いに連結して環を形成してもよい。環を形成する場合、Ｒ８１とＲ８２中の炭素原子同士、炭素原子とヘテロ原子、またはヘテロ原子同士で結合するのが好ましい。より好ましくは炭素原子同士であり、特に好ましくは、メチレン基同士で結合するのが好ましい。
【００８５】
Ｒ８５とＲ８６は互いに連結して環を形成することが好ましい。形成される環は、５、６、７員環が好ましく、より好ましくは６員環である。環を形成する場合、Ｒ８５とＲ８６中の炭素原子同士、炭素原子とヘテロ原子またはヘテロ原子同士が結合することにより環が形成されるが、好ましくはＲ８５とＲ８６中の炭素原子同士の結合によるものである。より好ましくは、メチレン基の結合によって形成される環である。
【００８６】
Ｒ８３またはＲ８４で表される置換基は、例えば、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、メトキシエチル、エトキシカルボニルエチル、シアノエチル、ジエチルアミノエチル、ヒドロキシエチル、クロロエチル、アセトキシエチル等）、炭素数７から１８、好ましくは炭素数７から１２の置換もしくは無置換のアラルキル基（例えば、ベンジル、カルボキシベンジル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルケニル基（例、ビニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルキニル基（例、エチニル等）、炭素数６から１８、好ましくは炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリール基（例えば、フェニル、４−メチルフェニル、４−メトキシフェニル、４−カルボキシフェニル、３、５−ジカルボキシフェニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換のアシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、クロロアセチル等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、炭素数７から１８、好ましくは炭素数７から１２のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４−メチルフェノキシカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニル等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−ブトキシ、メトキシエトキシ等）、炭素数６から１８、好ましくは炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、４−メトキシフェノキシなど）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルキシ、ベンゾイルオキシ、クロロアセチルオキシなど）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のカルバモイルオキシ基（例えば、メチルカルバモイルオキシ、ジエチルカルバモイルオキシ等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８の置換もしくは無置換のアミノ基（例えば、無置換のアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミノ、モリホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、エチルチオカルバモイルアミノ、メチルスルファモイルアミノ、フェニルスルファモイルアミノ、アセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、エチルチオカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、ピロリジノカルバモイル等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８の置換もしくは無置換のスルファモイル基（例えば、無置換のスルファモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基等が挙げられる。
【００８７】
Ｒ８３、Ｒ８４で表される置換基は、水素原子、またはアルキル基であることが好ましい。特に好ましくは、両方とも水素原子である。
【００８８】
Ｒ８３とＲ８４が互いに連結して炭素環または複素環を形成してもよい。好ましくは、炭素環であり、より好ましくはＲ３とＲ４それぞれ結合しているピリジン環との縮合芳香環である。
【００８９】
上記一般式（Ｄ）、一般式（Ｅ）で表される第４級アンモニウムイオンの例としては、特開平１０−１０９４７５号、特開平１０−２９７１０３号、特開２００１−６３２１１号に記載の化合物のカチオン部が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００９０】
次に、本発明で用いられるメチン色素について説明する。使用可能なメチン色素としては、例えば、シアニン系色素、メロシアニン系色素、フタロシアニン系色素、オキソノール系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、トリアリールメタン系色素、ポリメチン系色素、スクアリウム系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素、及びピラン系色素を挙げることができる。
本発明においては、下記一般式（Ｂ−Ｉ）、一般式（Ｂ−ＩＩ）、一般式（Ｂ−ＩＩＩ）、一般式（Ｂ−ＩＶ）で表されるシアニン色素あるいは下記一般式（Ｃ−Ｉ）で表されるオキソノール色素を使用することが好ましい。
一般式（Ｂ−Ｉ）
【００９１】
【化２１】
2006289967.tif 000022
【００９２】
［式中、Ｚ１及びＺ２は各々独立に、５員または６員の含窒素複素環を形成するために必要な原子群を表し、Ｒ３０およびＲ３１は各々独立にアルキル基を表し、Ｌ３、Ｌ４及びＬ５は各々独立にメチン基を表し、Ｍ１は電荷中和対イオンを表し、そしてｍ１は分子中の電荷を中和させるために必要な０以上の数を表す。］
【００９３】
【化２２】
2006289967.tif 000023
【００９４】
［式中、Ｚ１１は置換基を有していてもよい５員もしくは６員の含窒素ヘテロ環を形成するために必要な原子群を表し、Ｒ１１２及びＲ１１３は各々独立にアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｌ１２及びＬ１３は各々独立に置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｘｎ２−は有機又は無機のｎ２価のアニオンを表し、ｎ２は１乃至５の整数を表す。］
【００９５】
【化２３】
2006289967.tif 000024
【００９６】
［式中、Ｚ２１は置換基を有していてもよい５員もしくは６員の含窒素ヘテロ環を形成するために必要な原子群を表し、Ｒ２２及びＲ２３は各々独立にアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｌ２２及びＬ２３は各々独立に置換基を有していてもよいメチン基を表す。］
【００９７】
【化２４】
2006289967.tif 000025
【００９８】
［式中、Ｚ３１は置換基を有していてもよい５員もしくは６員の含窒素ヘテロ環を形成するために必要な原子群を表し、Ｒ３２は各々独立にアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｒ３３及びＲ３４は各々独立にアルキル基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｒ３３とＲ３４が連結して環を形成していてもよい。Ｌ３２及びＬ３３は各々独立に置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｘｎ３−は有機又は無機のｎ価のアニオンを表し、ｎは１乃至５の整数を表す。］
一般式（Ｃ−Ｉ）
【００９９】
【化２５】
2006289967.tif 000026
【０１００】
［式中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは電子吸引性基を表し、ＡとＢもしくはＣとＤは互いに連結して環を形成していてもよく、互いに結合しない場合にはＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基である。Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ７１は０乃至１の整数を表し、ｎ７１は０乃至２ｍ７１＋１の整数を表し、ｎ７１が２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１乃至１０の整数を表す。］
【０１０１】
一般式（Ｂ−Ｉ）で表されるシアニン色素について、以下に詳細に説明する。
Ｚ１及びＺ２は、各々独立に５員または６員の含窒素複素環を形成するために必要な原子群を表す。Ｚ１及びＺ２によって形成される核としては、３，３−ジアルキルインドレニン核、３，３−ジアルキルベンゾインドレニン核、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナフトオキサゾール核、オキサゾリン核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、セレナゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、ナフトテルラゾール核、テルラゾリン核、イミダゾール核、ベンズイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、ピリジン核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔４，５ーｂ〕キノキザリン核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核などを挙げることができる。ここで挙げられた５員または６員の含窒素複素環は、可能な場合は、置換基を有していてもよく、ここで置換基としては、前記一般式（Ａ）において説明したＲ１、Ｒ２及びＲ３と同じものを挙げることができる。
【０１０２】
上記置換基の例を更に詳しく説明する。アルキル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の直鎖、分岐鎖または環状の置換基を有していてもよいアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、２ーヒドロキシエチル、４ーカルボキシブチル、ヘキシル、オクチル、ベンジル及びフェネチルを挙げることができる。アルケニル基は、炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の直鎖、分岐鎖または環状のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、１ープロペニル、２ーペンテニル、１，３ーブタジエニル、及び２ーオクテニルを挙げることができる。
【０１０３】
アラルキル基は、炭素数７〜１０のアラルキル基であり、例えば、ベンジルを挙げることができる。アリール基は、炭素数６〜１０の置換基を有していてもよいアリール基であり、例えば、フェニル、ナフチル、４ーカルボキシフェニル、３ーカルボキシフェニル、３，５−ジカルボキシフェニル、４ーメタンスルホンアミドフェニル、及び４ーブタンスルホンアミドフェニルを挙げることができる。ヘテロ環基は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から構成される５〜６員環の飽和または不飽和のヘテロ環基であり、環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複数であってもよく、例えば、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、５ーカルボキシベンゾオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環及びクマリン環を挙げることができる。
【０１０４】
ハロゲン原子としては例えば、フッ素原子、塩素原子、及び臭素原子を挙げることができる。アルコキシ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、及びブトキシを挙げることができる。アリールオキシ基は、炭素数６〜１０の置換基を有していてもよいアリールオキシ基であり、例えば、フェノキシ、及びｐーメトキシフェノキシを挙げることができる。アルキルチオ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ及びエチルチオを挙げることができる。アリールチオ基は、炭素数６〜１０のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオを挙げることができる。アシルオキシ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ、プロパノイルオキシ、ペンタノイルオキシ、オクタノイルオキシを挙げることができる。
【０１０５】
アルキルアミノ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルアミノ基であり、例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ及びオクチルアミノを挙げることができる。アミド基は、炭素数１〜１８（好ましくは、炭素数１〜８）のアミド基であり、例えば、アセトアミド、プロパノイルアミノ、ペンタノイルアミノ、オクタノイルアミノ、オクタノイルメチルアミノ、及びベンズアミドを挙げることができる。スルホンアミド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のスルホンアミド基であり、例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、プロピルスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、およびベンゼンスルホンアミドを挙げることができる。アルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ、及びエトキシカルボニルアミノを挙げることができる。アルコキシスルホニルアミノ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルコキシスルホニルアミノ基であり、例えば、メトキシスルホニルアミノ、及びエトキシスルホニルアミノを挙げることができる。
【０１０６】
スルファモイルアミノ基は、炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換基を有していてもよいスルファモイルアミノ基で例えば、メチルスルファモイルアミノ、ジメチルスルファモイルアミノ、エチルスルファモイルアミノ、プロピルスルファモイルアミノ、オクチルスルファモイルアミノを挙げることができる。ウレイド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換基を有していてもよいウレイド基であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎージメチルウレイド、オクチルウレイドを挙げることができる。チオウレイド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換基を有していてもよいチオウレイド基であり、例えば、チオウレイド、メチルチオウレイド、Ｎ，Ｎージメチルチオウレイド、オクチルチオウレイドを挙げることができる。アシル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアシル基であり、例えばアセチル、ベンゾイル、及びプロパノイルを挙げることができる。アルコキシカルボニル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、及びオクチルオキシカルボニルを挙げることができる。
【０１０７】
カルバモイル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換基を有していてもよいカルバモイル基であり、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎージメチルカルバモイル、及びＮ−エチルカルバモイルを挙げることができる。アルキル又はアリールスルホニル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキル又はアリールスルホニル基で例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、及びベンゼンスルホニルを挙げることができる。アルキルスルフィニル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル、及びオクタンスルフィニルを挙げることができる。スルファモイル基は、炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換基を有していていも良いスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル、ジメチルスルファモイル、エチルスルファモイル、ブチルスルファモイル、オクチルスルファモイル、及びフェニルスルファモイルを挙げることができる。
【０１０８】
Ｚ１およびＺ２は、置換または無置換の３，３−ジアルキルインドレニン核、３，３−ジアルキルベンゾインドレニン核であることが好ましい。
【０１０９】
Ｒ３０、及びＲ３１は各々独立にアルキル基を表す。Ｒ３０、及びＲ３１で表されるアルキル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換または無置換の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、その置換基としては、含窒素複素環の置換基として挙げたものと同義であり、またその好ましい範囲も同一である。好ましくは、無置換のアルキル基、あるいはアリール基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アミド基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基又はスルホ基で置換されたアルキル基である。これらの例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ベンジル、２−フェニルエチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、２−カルボキシエチル、３−カルボキシプロピル、４−カルボキシブチル、カルボキシメチル、２−メトキシエチル、２−（２−メトキシエトキシ）エチル、２−スルホエチル、３−スルホプロピル、３−スルホブチル、４−スルホブチル、２−（３−スルホプロポキシ）エチル、２−ヒドロキシ−３−スルホプロピル、３−スルホプロポキシエトキシエチル、２−アセトキシエチル、カルボメトキシメチル、及び２−メタンスルホニルアミノエチルを挙げることができる。
【０１１０】
Ｌ３で表されるメチン基は、無置換または置換メチン基であり、その置換基の詳細としては、含窒素複素環の置換基としてに説明したものと同義であり、その好ましい範囲も同一である。また、置換基を有する場合には、助色団と５〜７員環を形成することもできる。
Ｌ３としては無置換メチン基が好ましい。
【０１１１】
Ｍ１は電荷均衡対イオンを表す。Ｍ１は陽イオンでも陰イオンでも良い。陽イオンとしては、例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオンなどのアルカリ金属イオン、テトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオンなどの有機イオンが挙げられる。陰イオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど）、スルホネートイオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオンなど）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロほう酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、下記式で示される金属錯体イオン：
【０１１２】
【化２６】
2006289967.tif 000027
【０１１３】
および、リン酸イオン（例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン、下記式で示されるリン酸イオン：
【０１１４】
【化２７】
2006289967.tif 000028
【０１１５】
を挙げることができる。ｍ１は電荷を均衡させるのに必要な数（０以上、好ましくは０〜４の数）を表し、分子内で塩を形成する場合には０である。一般式（Ｂ−Ｉ）で表される化合物は、任意の炭素原子上で２種が結合して、ビス型構造を形成してもよい。
【０１１６】
一般式（Ｂ−ＩＩ）、一般式（Ｂ−ＩＩＩ）、一般式（Ｂ−ＩＶ）で表されるシアニン色素について、以下に詳細に説明する。Ｒ１１２、Ｒ１１３、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ３２、Ｒ３３及びＲ３４で表されるアルキル基として好ましいものは、炭素数１乃至２０の鎖状又は環状の置換基を有していてもよいアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ−ブチル、メトキシエチル、ヒドロキシエチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、シクロヘキシル）であり、更に好ましくは炭素数１乃至６のアルキル基であり、特にメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、またはメトキシエチルが好ましい。
【０１１７】
Ｒ１１２、Ｒ１１３、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ３２で表されるアリール基として好ましいものは、炭素数６乃至１８の置換基を有していてもよいアリール基（例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントラセニル）であり、更に好ましくはフェニル、１−ナフチル又は２−ナフチルであり、特にフェニルが好ましい。
【０１１８】
Ｒ１１２、Ｒ１１３、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ３２、Ｒ３３及びＲ３４で表されるアラルキル基として好ましいものは、炭素原子数７乃至１８の置換基を有していてもよいアラルキル基（例えば、ベンジル、フェネチル、アニシル）であり、特にベンジルが好ましい。
【０１１９】
Ｒ１１２、Ｒ１１３、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ３２、Ｒ３３及びＲ３４で表されるヘテロ環基として好ましいものは、炭素数４乃至７の飽和または不飽和の、置換基を有していてもよいヘテロ環基であり、含有されるヘテロ原子としては特に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、例えば４−ピリジル、２−ピリジル、２−ピラジル、２−イミダゾリル、２−フリル、２−チオフェニル、２−ベンゾオキサゾリル、２−ベンゾチオキサゾリルを挙げることができる。
【０１２０】
Ｒ１１３、Ｒ２３として好ましいものはアリール基又はヘテロ環基であり、より好ましくはアリール基であり、特にフェニルが好ましい。
【０１２１】
本発明においては、前記のアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基はいずれも、置換基を有していてもよい基を表す意味で用いている。Ｒ１１２、Ｒ１１３、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ３２、Ｒ３３及びＲ３４が有してよい置換基としては、例えば以下に記載のものを挙げることができる。
炭素原子数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基（アルキル基以外への置換基として例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル）、炭素原子数６〜１８の置換または無置換のアリール基（例えば、フェニル、クロロフェニル、アニシル、トルイル、２，４−ジ−ｔ−アミル、１−ナフチル）、アルケニル基（例えば、ビニル、２−メチルビニル）、アルキニル基（例えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メトキシプロピルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数１〜１０のカルバモイル基、炭素原子数１〜１０のアミド基、炭素原子数２〜１２のイミド基、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘテロ環）。
【０１２２】
上記置換基としては、炭素原子数１乃至６のアルキル基（特に、メチル）、炭素原子数６乃至１０のアリール基（特に、フェニル）、炭素原子数１乃至１０のアルコキシ基（特にメトキシ）及びハロゲン原子（特に塩素原子）が好ましく、特に好ましくは、炭素原子数１乃至４のアルキル基である。
【０１２３】
Ｌ１２、Ｌ１３、Ｌ２２、Ｌ２３、Ｌ３２及びＬ３３で表されるメチン基は、各々独立に置換基を有していてもよいメチン基である。置換基の例としては、上記Ｒ１１２、Ｒ１１３、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ３２、Ｒ３３及びＲ３４の置換基の例として挙げたものと同様のものを挙げることができる。Ｌ１２、Ｌ１３、Ｌ２２、Ｌ２３、Ｌ３２及びＬ３３で表されるメチン基は、無置換のメチン基、あるいは置換基として炭素数１乃至４のアルキル基（例、メチル、エチル）、フェニル基、塩素原子、炭素数１乃至８のカルバモイル基、炭素数１乃至８のアミド基、もしくは炭素数２乃至８のイミド基を有するメチン基であることが好ましく、特に無置換のメチン基、置換基としてメチル又はフェニルを有するメチン基が好ましい。
【０１２４】
Ｘｎ２−及びＸｎ３−で表される各々ｎ２、ｎ３価のアニオンは、無機のアニオンであっても有機のアニオンであっても良い。無機のアニオンの例としては、ハロゲンイオン、塩素酸イオン、過塩素酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、リン酸イオン、リン酸水素イオン、タングストリン酸イオンなどが挙げられる。有機のアニオンの例としては、カルボン酸イオン（例えば、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、安息香酸イオン、琥珀酸イオン、マレイン酸イオン、フマル酸イオン、テレフタル酸イオン）、スルホン酸イオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ブタン−１，４−ジスルホン酸イオン、シクロヘキサン−１，４−ジスルホン酸イオン、ベンゼン−１，３−ジスルホン酸イオン、３，３’−ビフェニルジスルホン酸イオン、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−１，６−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，６−ジスルホン酸イオン、１−メチルナフタレン−２，６−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，７−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，８−ジスルホン酸イオン、１−ナフトール−３，６−ジスルホン酸イオン、２−ナフトール−３，６−ジスルホン酸イオン、２，７−ジヒドロキシ−３，６−ジスルホン酸イオン、２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸イオン、１，８−ジヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオン、１，５−ジヒドロキシナフタレン−２，６−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−１，３，５−トリスルホン酸イオン、ナフタレン−１，３，６−トリスルホン酸イオン、ナフタレン−１，３，７−トリスルホン酸イオン、１−ナフトール−３，６，８−トリスルホン酸  イオン、２−ナフトール−３，６，８−トリスルホン酸イオン、ナフタレン−１，３，５，７−テトラスルホン酸イオン）、ポリ硫酸モノエステル（例、プロピレングリコール−１，２−ジスルフェート、ポリビニルアルコールポリ硫酸エステルイオン）などが挙げられ、中でもスルホン酸イオンが好ましく、更にアリールスルホン酸イオンが好ましく、ｎ２、またはｎ３は１乃至４価であることが好ましく、更に好ましくは１乃至３であり、特に２が好ましい。
【０１２５】
Ｚ１１、Ｚ２１、Ｚ３１によって形成されるヘテロ環としてはチアゾリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、セレナゾリン環、セレナゾール環、ベンゾセレナゾール環、３，３−ジアルキルインドレニン環（例えば３，３−ジメチルインドレニン）、３，３−ジアルキルベンゾインドレニン環（例えば３，３−ジメチルベンゾインドレニン）、イミダゾリン環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、２−ピリジン環、２−キノリン環、１−イソキノリン環、３−イソキノリン環、イミダゾ〔４，５−ｂ〕キノキザリン環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、テトラゾール環、ピリミジン環などを挙げることができるが、好ましくはチアゾリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、３，３−ジアルキルインドレニン環（例えば３，３−ジメチルインドレニン）、３，３−ジアルキルベンゾインドレニン環（例えば３，３−ジメチルベンゾインドレニン）、ベンズイミダゾール環、２−ピリジン環、２−キノリン環、１−イソキノリン環、３−イソキノリン環であり、さらに好ましくはチアゾリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、３，３−ジアルキルインドレニン環（例えば３，３−ジメチルインドレニン）、３，３−ジアルキルベンゾインドレニン環（例えば３，３−ジメチルベンゾインドレニン）、ベンズイミダゾール環であり、特に好ましくはチアゾリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンズイミダゾール環、または３，３−ジメチルインドレニン環である。
【０１２６】
一般式（Ｂ−ＩＶ）で表される化合物は、２量体を形成していてもよく、とりわけ下記一般式（Ｂ−Ｖ）で表される２量体であることが好ましい。
一般式（Ｂ−Ｖ）
【０１２７】
【化２８】
2006289967.tif 000029
【０１２８】
式中、Ｚ３１、Ｒ３２、Ｌ３２、Ｌ３３は一般式（Ｂ−ＩＶ）におけると同義であり、Ｌ４２、Ｌ４３は各々Ｌ３２、Ｌ３３と同義であり、Ｒ５０はピペラジン環の炭素原子上の置換基または縮合環を表し、ｒは０乃至８の整数を表し、（Ｘ４）ｔ−は有機又は無機のｔ価のアニオンを表し、ｔは１乃至５の整数を表す。
【０１２９】
シアニン色素の具体的な化合物例としては特開２００１−３０１３３３号公報に記載のシアニン色素や下記化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１３０】
【化２９】
2006289967.tif 000030
【０１３１】
【化３０】
2006289967.tif 000031
【０１３２】
シアニン色素とシアニン色素に対して用いる有機酸化剤は、一分子内で対になることが好ましい。一分子内にシアニン色素と有機酸化剤を有する化合物例としては、以下の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１３３】
【化３１】
2006289967.tif 000032
【０１３４】
【化３２】
2006289967.tif 000033
【０１３５】
一般式（Ｃ−Ｉ）で表されるオキソノール色素について、以下に詳細に説明する。
【０１３６】
一般式（Ｃ−Ｉ）はアニオンの局在位置の表記の違いによる複数の互変異性体を含むものであるが、特にＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかが−ＣＯ−Ｅ（Ｅは置換基）である場合、酸素原子上に負電荷を局在させて表記することが一般的である。例えばＤが−ＣＯ−Ｅである場合、表記としては下記一般式（Ｃ−Ｉ’）が一般的であり、このような表記のものも一般式（Ｃ−Ｉ）に含まれる。
【０１３７】
【化３３】
2006289967.tif 000034
【０１３８】
一般式（Ｃ−Ｉ’）におけるＡ、Ｂ、Ｃ、Ｒ、ｍ７１、ｎ７１、Ｙｔ＋、ｔの定義は一般式（Ｃ−Ｉ）と同一である。
【０１３９】
以下、上記一般式（Ｃ−Ｉ）で表されるオキソノール色素について説明する。一般式（Ｃ−Ｉにおいて、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは電子吸引性基を表し、ＡとＢもしくはＣとＤは互いに連結して環を形成していてもよく、互いに結合しない場合にはＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基である。Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ７１は０乃至１の整数を表し、ｎ７１は０乃至２ｍ７１＋１の整数を表し、ｎ７１が２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１乃至１０の整数を表す。Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはそれぞれ同一でもよく、また異なっていてもよい。
【０１４０】
ハメットの置換基定数σｐ値（以下、σｐ値という）は、例えばＣｈｅｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）及びこれに引用されている参考文献に記載されており、記載されていないものについても同文献記載の方法によって求めることが可能である。ＡとＢ（ＣとＤ）が連結して環を形成している場合、Ａ（Ｃ）のσｐ値は、−Ａ−Ｂ−Ｈ（−Ｃ−Ｄ−Ｈ）基のσｐ値を意味し、Ｂ（Ｄ）のσｐ値は、−Ｂ−Ａ−Ｈ（−Ｄ−Ｃ−Ｈ）基のσｐ値を意味する。この場合、両者は結合の方向が異なるためσｐ値は異なる。
【０１４１】
Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤで表される電子吸引性基の好ましい具体例としては、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１乃至１０のアシル基（例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ベンゾイル）、炭素原子数２乃至１２のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、デシルオキシカルボニ２０ル）、炭素原子数７乃至１１のアリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル）、炭素原子数１乃至１０のカルバモイル基（例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、フェニルカルバモイル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルホニル基（例、メタンスルホニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルホニル基（例、ベンゼンスルホニル）、炭素原子数１乃至１０のアルコキシスルホニル基（例、メトキシスルホニル）、炭素原子数１乃至１０のスルファモイル基（例、エチルスルファモイル、フェニルスルファモイル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルフィニル基（例、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルフィニル基（例、ベンゼンスルフィニル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルフェニル基（例、メタンスルフェニル、エタンスルフェニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルフェニル基（例、ベンゼンスルフェニル）、ハロゲン原子、炭素原子数２乃至１０のアルキニル基（例、エチニル）、炭素原子数２乃至１０のジアシルアミノ基（例、ジアセチルアミノ）、ホスホリル基、カルボキシル基、５員もしくは６員のヘテロ環基（例えば、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキサゾリル、３−ピリジル、５−（１Ｈ）−テトラゾリル、４−ピリミジル）を挙げることができる。
【０１４２】
一般式（Ｃ−Ｉ）において、Ｒで表されるメチン炭素上の置換基としては、例えば以下に記載のものを挙げることができる。炭素原子数１〜２０の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル）、炭素原子数６〜１８の置換又は無置換のアリール基（例えば、フェニル、クロロフェニル、アニシル、トルイル、２，４−ジ−ｔ−アミル、１−ナフチル）、アルケニル基（例えば、ビニル、２−メチルビニル）、アルキニル基（例えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メトキシプロピルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、
【０１４３】
アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数１〜１０のカルバモイル基、炭素原子数１〜１０のアミド基、炭素原子数２〜１２のイミド基、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘテロ環）である。
【０１４４】
Ｒとして好ましいものは、ハロゲン原子、炭素原子数１乃至８の鎖状又は環状のアルキル基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数１乃至８のアルコキシ基、炭素原子数６乃至１０のアリールオキシ基、炭素原子数３乃至１０のヘテロ環基であり、特に塩素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基（例：メチル、エチル、イソプロピル）、フェニル、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基（例：メトキシ、エトキシ）、フェノキシ、炭素原子数４乃至８の含窒素ヘテロ環基（例：４−ピリジル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル）が好ましい。
【０１４５】
ｎ７１は０乃至２ｍ７１＋１の整数を表すが、ｎ７１が２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。このとき環員数は４乃至８が好ましく、特に５又は６が好ましく、環の構成原子は炭素原子、酸素原子又は窒素原子が好ましく、特に炭素原子が好ましい。ｎ７１としては０が好ましい。
【０１４６】
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ及びＲは更に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、一般式（Ｃ−Ｉ）におけるＲで表される一価の置換基の例として先に挙げたものと同様のものを挙げることができる。
【０１４７】
光ディスクに用いられる色素としては熱分解性の観点からＡとＢ、またはＣとＤが連結して環を形成することが好ましい。ｍ７１は０または１の整数を表すが、０であることが好ましい。
【０１４８】
次に、Ｙｔ+で表されるカチオンについて詳述する。Ｙｔ+で表されるカチオンとしては、例えば、水素イオン又はナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン、カルシウムイオン、鉄イオン、銅イオン等の金属イオン、金属錯体イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、オキソニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン、セレノニウムイオン、ヨードニウムイオン等が挙げられる。Ｙｔ+は、好ましくは、第４級アンモニウムイオンである。
【０１４９】
第４級アンモニウムは、一般に第３級アミン（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミンなど）あるいは含窒素複素環（ピリジン環、ピコリン環、２，２’−ビピリジル環、４，４’−ビピリジル環、１，１０−フェナントロリン環、キノリン環、オキサゾール環、チアゾール環、Ｎ−メチルイミダゾール環、ピラジン環、テトラゾール環など）をアルキル化（メンシュトキン反応）、アルケニル化、アルキニル化あるいはアリール化して得られる。
【０１５０】
Ｙｔ+で表される第４級アンモニウムイオンとしては、含窒素複素環からなる第４級アンモニウムイオンが好ましく、特に好ましくは第４級ピリジニウムイオンである。
【０１５１】
ｔは、１〜１０の整数を表す。好ましくは１〜４である。特に好ましくは２である。
【０１５２】
Ｙｔ+で表されるカチオンは、特開２０００−０５２６５８号公報に記載の一般式（Ｉ−２）で示されるカチオン部が更に好ましい。これらのカチオン部を含む化合物は、通常２，２’−ビピリジルあるいは４，４’−ビピリジルを目的の置換基をもつハロゲン化物とのメンシュトキン反応（例えば、特開昭６１−１４８１６２号公報参照）あるいは、特開昭５１−１６６７５号公報、及び特開平１−９６１７１号公報に記載の方法に準ずるアリール化反応により容易に得ることができる。
なお、前記の特開２０００−０５２６５８号公報に記載の一般式（Ｉ−２）で示される化合物のカチオン部は前記ピリジニウムイオン（第４級ピリジニウムイオン）に該当する。
【０１５３】
一般式（Ｃ−ＩＩ）、一般式（Ｃ−ＩＩＩ）、及び一般式（Ｃ−ＩＶ）について説明する。Ｃ、Ｄ、Ｒ、ｍ７１、ｎ７１、Ｙｔ＋、及びｔは一般式（Ｃ−Ｉ）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｙは−Ｏ−または−ＮＲ1−または−ＣＲ2Ｒ3−のいずれかを表す。Ｙは−Ｏ−または−ＣＲ2Ｒ3−であることが好ましく、−Ｏ−であることがより好ましい。
【０１５４】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ8、Ｒ9は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ8、及びＲ9で表される置換基としては特に限定されないが、前記Ｒで表される置換基と同じものが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【０１５５】
Ｚは置換または無置換のアルキレン基を表す。アルキレン基の好ましい例としては、置換もしくは無置換のメチレン基、置換もしくは無置換のエチレン基、または置換もしくは無置換のプロピレン基であり、より好ましくは置換もしくは無置換のメチレン基、または置換もしくは無置換のエチレン基であり、更に好ましくは置換または無置換のメチレン基である。
【０１５６】
ｘは１または２を表し、好ましくは２である。
【０１５７】
一般式（Ｃ−Ｖ）、一般式（Ｃ−ＶＩ）について説明する。Ｃ、Ｄ、Ｒ、ｍ７１、ｎ７１、Ｙｔ＋、及びｔは一般式（Ｃ−Ｉ）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ4〜Ｒ7は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ4〜Ｒ7で表される置換基としては特に限定されないが、前記Ｒで表される置換基と同じものが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【０１５８】
Ｇは酸素原子または硫黄原子を表し、酸素原子であることが好ましい。
【０１５９】
本発明に用いられる一般式（Ｃ−Ｉ）で表されるオキソノール色素の具体例としては、下記特許文献に記載されたオキソノール色素の具体例を挙げることができる。その一部の化合物を以下に例示する。
［特許文献］特開昭６３−２０９９９５号公報、特開平１０−２９７１０３号公報、特開平１１−７８１０６号公報、特開平１１−３４８４２０公報、特開２０００−５２６５８公報、特開２０００−２７２２４１公報
【０１６０】
【化３４】
2006289967.tif 000035
【０１６１】
【化３５】
2006289967.tif 000036
【０１６２】
ピリジニウムイオンは一般式（Ｄ）または一般式（Ｅ）で表される化合物が好ましい。
【０１６３】
一般式（Ｄ）または一般式（Ｅ）について説明する。Ｒ８１，Ｒ８２，Ｒ８５よびＲ８６で表されるアルキル基は、炭素数１から１８の置換または無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、シクロプロピル等が挙げられる。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ、Ｂｒ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８のアルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ等）、炭素数６から１０のアリールオキシ（例、フェノキシ、ｐ−メトキシフェノキシ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８のアルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ等）、炭素数６から１０のアリールチオ（例、フェニルチオ等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアシル基（例、アセチル、プロピオニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルケニル基（例、ビニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルキニル基（例、エチニル等）、炭素数６から１０のアリール基（例、フェニル、ナフチル等）、炭素数７から１１のアリーロキシカルボニル基（例、ナフトキシカルボニル等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８のアミノ基（例、無置換のアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミノ、モリホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、アセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８のカルバモイル基（例、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、ピロリジノカルバモイル等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８のスルファモイル基（例、無置換のスルファモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、水酸基、ヘテロ環基（例、オキサゾール、ベンゾオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、インドレニン、ピリジン、スルホラン、フラン、チオフェン、ピラゾール、ピロール、クロマン、クマリンなど）を挙げることができる。
【０１６４】
Ｒ８１，Ｒ８２，Ｒ８５およびＲ８６で表されるアルケニル基は、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、１−プロペニル、１，３−ブタジエニル、シクロヘキセニル等が挙げられる。アルケニル基の置換基としては、アルケニル基を除くアルキル基の置換基として挙げたものと同義である。
【０１６５】
Ｒ８１，Ｒ８２，Ｒ８５およびＲ８６で表されるアルキニル基は、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、２−プロピニル等が挙げられる。アルキニル基の置換基としては、アルキニル基を除くアルキル基の置換基として挙げたものと同義である。
【０１６６】
Ｒ８１，Ｒ８２，Ｒ８５およびＲ８６で表されるアリール基は、炭素数６から１８、好ましくは炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル、ナフチル等が挙げられる。アリール基の置換基としては、アルキル基の置換基として挙げたものと同義であり、さらに置換基としてアルキル基（例、メチル、エチル等）が挙げられる。
【０１６７】
Ｒ８１とＲ８２は互いに連結して環を形成してもよい。環を形成する場合、Ｒ８１とＲ８２中の炭素原子同士、炭素原子とヘテロ原子、またはヘテロ原子同士で結合するのが好ましい。より好ましくは炭素原子同士であり、特に好ましくは、メチレン基同士で結合するのが好ましい。
【０１６８】
Ｒ８５とＲ８６は互いに連結して環を形成することが好ましい。形成される環は、５、６、７員環が好ましく、より好ましくは６員環である。環を形成する場合、Ｒ８５とＲ８６中の炭素原子同士、炭素原子とヘテロ原子またはヘテロ原子同士が結合することにより環が形成されるが、好ましくはＲ８５とＲ８６中の炭素原子同士の結合によるものである。より好ましくは、メチレン基の結合によって形成される環である。
【０１６９】
Ｒ８３またはＲ８４で表される置換基は、例えば、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、メトキシエチル、エトキシカルボニルエチル、シアノエチル、ジエチルアミノエチル、ヒドロキシエチル、クロロエチル、アセトキシエチル等）、炭素数７から１８、好ましくは炭素数７から１２の置換もしくは無置換のアラルキル基（例えば、ベンジル、カルボキシベンジル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルケニル基（例、ビニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルキニル基（例、エチニル等）、炭素数６から１８、好ましくは炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリール基（例えば、フェニル、４−メチルフェニル、４−メトキシフェニル、４−カルボキシフェニル、３、５−ジカルボキシフェニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換のアシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、クロロアセチル等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、炭素数７から１８、好ましくは炭素数７から１２のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４−メチルフェノキシカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニル等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−ブトキシ、メトキシエトキシ等）、炭素数６から１８、好ましくは炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、４−メトキシフェノキシなど）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルキシ、ベンゾイルオキシ、クロロアセチルオキシなど）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のカルバモイルオキシ基（例えば、メチルカルバモイルオキシ、ジエチルカルバモイルオキシ等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８の置換もしくは無置換のアミノ基（例えば、無置換のアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミノ、モリホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、エチルチオカルバモイルアミノ、メチルスルファモイルアミノ、フェニルスルファモイルアミノ、アセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、エチルチオカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、ピロリジノカルバモイル等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８の置換もしくは無置換のスルファモイル基（例えば、無置換のスルファモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基等が挙げられる。
【０１７０】
Ｒ８３、Ｒ８４で表される置換基は、水素原子、またはアルキル基であることが好ましい。特に好ましくは、水素原子である。
【０１７１】
Ｒ８３とＲ８４が互いに連結して炭素環または複素環を形成してもよい。好ましくは、炭素環であり、より好ましくはＲ３とＲ４それぞれ結合しているピリジン環との縮合芳香環である。
【０１７２】
上記一般式（Ｄ）、一般式（Ｅ）で表される第４級アンモニウム塩の例としては、特開平１０−１０９４７５、特開平１０−２９７１０３、特開２００１−６３２１１に記載の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１７３】
＜光情報記録媒体＞
本発明の光情報記録媒体は、態様［１］：厚さ０．７〜２ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．０１〜０．５ｍｍのカバー層と、をこの順に有する光情報記録媒体または態様［２］：厚さ０．１〜１．０ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．１〜１．０ｍｍの保護基板と、をこの順に有する光情報記録媒体であることが好ましい。態様［１］においては前記基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチが２００〜５００ｎｍ、溝幅が２５〜２５０ｎｍ、溝深さが５〜１５０ｎｍであることが好ましく、ウォブル振幅が１０〜５０ｎｍであることが好ましく、１１〜４０ｎｍであることがより好ましく、１０〜５０ｎｍであることが更に好ましい。態様［２］においては前記基板に形成されるのプリグルーブのトラックピッチが２００〜６００ｎｍ、溝幅が５０〜３００ｎｍ、溝深さが３０〜２００ｎｍであり、ウォブル振幅が１０〜５０ｎｍであることが好ましく、１１〜４０ｎｍであることがより好ましく、１０〜５０ｎｍであることが更に好ましい。
態様［１］の光情報記録媒体は、少なくとも、基板と、追記型記録層と、カバー層を有する態様であり、まずこれらに必須の部材について順に説明する。
【０１７４】
〔態様［１］の基板〕
好ましい態様［１］の基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されていることが必須である。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【０１７５】
プリグルーブのトラックピッチは、２００〜５００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が４２０ｎｍ以下であることが好ましく、３７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、２１０ｎｍ以上であることが好ましく、２６０ｎｍ以上であることがより好ましい。
トラックピッチが２００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、５００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【０１７６】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２５〜２５０ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２００ｎｍ以下であることが好ましく、１７０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝幅が２５ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、２５０ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【０１７７】
プリグルーブの溝深さは、５〜１５０ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２８ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝深さが５ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、１５０ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【０１７８】
また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７５°以下であることがより好ましく、７０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝傾斜角度が２０°未満では、十分なトラッキングエラー信号振幅が得られないことがあり、８０°を超えると、成型が困難となる。
【０１７９】
本発明において用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であることを要し、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
【０１８０】
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【０１８１】
〔態様［１］の追記型記録層〕
好ましい態様［１］の追記型記録層は、色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板上又は後述する光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。ここで、追記型記録層は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行われることになる。
塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【０１８２】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１８３】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は２３〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３〜５０℃の範囲であることが特に好ましい。
【０１８４】
このようにして形成された追記型記録層の厚さは、グルーブ（前記基板において凸部）上で、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることが更に好ましく、１８０ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限値としては３０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、７０ｎｍ以上であることが更に好ましく、９０ｎｍ以上であることが特に好ましい。
また、追記型記録層の厚さは、ランド上（前記基板において凹部）で、４００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限値としては、７０ｎｍ以上であることが好ましく、９０ｎｍ以上であることがより好ましく、１１０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
更に、グルーブ上の追記型記録層の厚さ／ランド上の追記型記録層の厚さの比は、０．４以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましく、０．６以上であることが更に好ましく、０．７以上であることが特に好ましい。上限値としては、１未満であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることが更に好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【０１８５】
塗布液が結合剤を含有する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。追記型記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。
【０１８６】
また、追記型記録層には、該追記型記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。本発明においてもこの一重項酸素クエンチャーを混合させることによって更なる耐光性の向上が期待できる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【０１８７】
〔態様［１］のカバー層〕
好ましい態様［１］のカバー層は、上述した追記型記録層又は後述するバリア層上に、接着剤や粘着材を介して貼り合わされる。
本発明において用いられるカバー層としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
【０１８８】
また、カバー層は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバー層の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１８９】
カバー層の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長やＮＡにより、適宜、規定されるが、本発明においては、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内であり、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
また、カバー層と、接着剤又は粘着剤からなる層と、を合わせた総厚は、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。
なお、カバー層の光入射面には、光情報記録媒体の製造時に、光入射面が傷つくことを防止するための保護層（ハードコート層）が設けられていてもよい。
【０１９０】
カバー層を貼り合せるために用いられる接着剤は、例えばＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。
接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、若しくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層表面に供給してもよい。また、作製される光情報記録媒体の反りを防止するため、接着層を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。
【０１９１】
接着剤は、例えば、バリア層からなる被貼り合わせ面上に、所定量塗布し、その上に、カバー層を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。
このような接着剤からなる接着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【０１９２】
また、カバー層を貼り合せるために用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。
【０１９３】
上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。
【０１９４】
粘着剤は、バリア層からなる被貼り合わせ面上に、所定量、均一に塗布し、その上に、カバー層を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層の片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。
また、カバー層に、予め、粘着剤層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。
このような粘着剤からなる粘着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【０１９５】
〔態様［１］におけるその他の層〕
好ましい態様［１］の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層としては、例えば、基板の裏面（追記型記録層形成面側に対する裏面）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、基板と追記型記録層との間に設けられる光反射層（後述）、追記型記録層とカバー層との間に設けられるバリア層（後述）、該光反射層と追記型記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。ここで、かかるレーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂などを用いて形成される。
なお、これら必須及び任意の層は、いずれも単層でもよいし、多層構造を有してもよい。
【０１９６】
〔態様［１］における光反射層〕
好ましい態様［１］の光情報記録媒体において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、基板と追記型記録層との間に、光反射層を形成することが好ましい。
光反射層は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【０１９７】
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
【０１９８】
〔態様［１］におけるバリア層（中間層）の形成工程〕
好ましい態様［１］の光情報記録媒体においては、追記型記録層とカバー層との間にバリア層を形成することが好ましい。
該バリア層は、追記型記録層の保存性を高める、追記型記録層とカバー層との接着性を向上させる、反射率を調整する、熱伝導率を調整する、等のために設けられる。
バリア層に用いられる材料としては、記録及び再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に、制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。
具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ＺｎＳ、ＭｏＯ２、ＧｅＯ２、ＴｅＯ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｕＯ、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｎＯ−Ｇａ２Ｏ３が好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｎＯ−Ｇａ２Ｏ３がより好ましい。
【０１９９】
また、バリア層は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましく、ＲＦスパッタリングを用いることが更に好ましい。
本発明におけるバリア層の厚さは、１〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、２〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、３〜５０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【０２００】
次に好ましい態様［２］の光情報記録媒体について説明する。
ここで、態様［２］の光情報記録媒体は、貼り合わせ型の層構成を有する光情報記録媒体であり、その代表的な層構成としては、下記の通りである。
（１）第１の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設ける構成である。
（２）第２の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設ける構成である。
（３）第３の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板を設ける構成である。
（４）第４の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設ける構成である。
（５）第５の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設ける構成である。
なお、上記（１）〜（５）の層構成は単なる例示であり、当該層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもかまわない。また、追記型記録層は、保護基板側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光情報記録媒体となる。更に、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。
本発明の光情報記録媒体として、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、保護基板をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその説明をする。
【０２０１】
〔態様［２］の基板〕
好ましい態様［２］における基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されていることが必須である。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【０２０２】
プリグルーブのトラックピッチは、２００〜５００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が４５０ｎｍ以下であることが好ましく、４３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、３００ｎｍ以上であることが好ましく、３３０ｎｍ以上であることがより好ましく、３７０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
トラックピッチが２００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、５００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【０２０３】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、５０〜３００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１８０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１２０ｎｍ以上であることがより好ましく、１４０ｎｍ以上であることが更に好ましい。  プリグルーブの溝幅が５０ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、３００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【０２０４】
プリグルーブの溝深さは、３０〜２００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１７０ｎｍ以下であることが好ましく、１４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、６０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝深さが３０ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、２００ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【０２０５】
好ましい態様［２］において用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができ、具体例及び好ましい例は態様［１］の基板と同様である。
また、基板の厚さは、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【０２０６】
なお、後述する追記型記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましく、該下塗層の材料、塗布法及び層厚の具体例及び好ましい例は態様［１］の下塗層と同様である。
【０２０７】
〔態様［２］の追記型記録層〕
好ましい態様［２］の追記型記録層に関する詳細な説明は、態様［１］の追記型記録層に関するものと同様である。
【０２０８】
〔態様［２］の光反射層〕
好ましい態様［２］において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、追記型記録層上に光反射層を形成することがある。態様［２］の光反射層に関する詳細は態様［１］の光反射層と同様である。
【０２０９】
〔態様［２］の接着層〕
好ましい態様［２］における接着層は、上記光反射層と、保護基板との密着性を向上させるために形成される任意の層である。
接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【０２１０】
〔態様［２］の保護基板〕
好ましい態様［２］における保護基板（ダミー基板）は、上述した基板と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板の厚さとしては、厚さ０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【０２１１】
〔態様［２］の保護層〕
好ましい態様［２］の光情報記録媒体は、その層構成によっては、光反射層や追記型記録層などを物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられることある。
保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２、Ｓｉ３Ｎ４等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
【０２１２】
また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
【０２１３】
〔態様［２］のその他の層〕
好ましい態様［２］の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層の詳細な説明は態様［１］のその他の層と同様である。
【０２１４】
＜光情報記録方法＞
本発明の光情報記録方法は、好ましい態様［１］または［２］の光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。まず光情報記録媒体を定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）または定角速度にて回転させながら、基板側あるいは保護層側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。本発明においては、記録光として３９０〜４５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が用いられる。好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に記録密度の点で３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光を基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【０２１５】
［実施例］
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０２１６】
本発明のシアニン色素の合成法の一例を以下に示す。
［化合物（Ｉ−１）の合成］
【０２１７】
【化３６】
2006289967.tif 000037
【０２１８】
化合物（１１１）２ｇとピペラジン１４６ｍｇをアセトニトリル１０ｍｌ中で６時間加熱還流させた。室温に戻し、生成した沈殿物をろ過し、アセトニトリルで洗浄することで化合物（１１２）を１．１６ｇ得た。
次に、化合物（１１２）０．５ｇと２，７−ジヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸二ナトリウム０．２７ｇをメタノール１０ｍｌ、水１０ｍｌ中、１．５時間加熱還流させた。室温に戻し、生成した沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄することで化合物（Ｉ−１）を０．５ｇ得た。構造はＮＭＲにて確認した。１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ‐ｄ６）：ｄ＝０．９（ｔ，６Ｈ），１．４（ｔ，１０Ｈ），１．７（ｍ，４Ｈ），３．８（ｂｒ，８Ｈ），４．５（ｍ，８Ｈ），５．４（ｂｒ，２Ｈ），６．９（ｓ，２Ｈ），７．８（ｄ，２Ｈ），７．９（ｓ，２Ｈ），８．３（ｄ，４Ｈ），１０．４（ｓ，２Ｈ）
【０２１９】
［化合物（Ｉ−１３）の合成］
【０２２０】
【化３７】
2006289967.tif 000038
【０２２１】
化合物（１１４）０．１ｇと化合物（１１５）７８ｍｇをメタノール１０ｍｌ、水１０ｍｌ中、１．５時間室温で反応させた。生成した沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄することで化合物（Ｉ−１３）を０．１ｇ得た。構造はＮＭＲにて確認した。１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ‐ｄ６）：ｄ＝０．９（ｔ，６Ｈ），１．３（ｍ，１４Ｈ），１．７（ｂｒ，４Ｈ），３．８（ｂｒ，８Ｈ），４．１（ｂｒ，４Ｈ），４．４−４．５（ｍ，１２Ｈ），５．４（ｄ，２Ｈ），６．４（ｂｒ，２Ｈ），７．８（ｄ，２Ｈ），８．２（ｄ，４Ｈ）
【０２２２】
本発明のオキソノール色素の合成法の一例を以下に示す。
［化合物（ＩＩ−６）の合成］
【０２２３】
【化３８】
2006289967.tif 000039
【０２２４】
化合物（１１６）１７．３ｇ，化合物（１１７）８．７８ｇをアセトニトリル２００ｍｌに溶解し、撹拌しつつ無水酢酸５．３１ｍｌを滴下し、さらにトリエチルアミン７．９１ｍｌを滴下した。８０℃で１時間反応させ、溶媒溜去後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物（ＩＩ−０）１９．６ｇを得た。
化合物（ＩＩ−０）０．６７ｇをメタノール１０ｍｌに溶解し、化合物（１１９）０．３７ｇを加えて生成する結晶をろ過し、化合物（ＩＩ−６）０．６６ｇを得た。構造はＮＭＲにて確認した。
１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ‐ｄ６）：ｄ＝１．３（ｍ，１Ｈ），１．５（ｍ，３Ｈ），１．７５（ｍ，６Ｈ），３．１（ｄ，６Ｈ）７．２〜８．０（ｍ，８Ｈ），８．０５（ｓ，１Ｈ），９．００（ｄ，２Ｈ），９．６５（ｄ，２Ｈ），１０．７１（ｓ，１Ｈ）．
【実施例１】
【０２２５】
＜光情報記録媒体１の製造＞
（基板の作製）
厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：３２０ｎｍ、溝幅：オングルーブ幅１２０ｎｍ、溝深さ：３５ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行なわれた。
【０２２６】
（光反射層の形成）
基板上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍの真空成膜層としてのＡＰＣ光反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１．０質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
【０２２７】
（追記型記録層の形成）
本発明に係る前記色素化合物、あるいは色素化合物と下記式で示されるニッケル錯体ａとの組合せ（表１参照）をそれぞれ２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールの溶媒に溶解させ、記録層形成用塗布液を調製した。退色防止剤の添加量は、色素に対して１０質量％とした。得られた塗布液の濃度は、２．５質量％であった。そして、光反射層上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、追記型記録層（グルーブ上の厚さ１２０ｎｍ、ランド上の厚さ１７０ｎｍ）を形成した。
【０２２８】
ニッケル錯体ａ
【０２２９】
【化３９】
2006289967.tif 000040
【０２３０】
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【０２３１】
（バリア層の形成）
その後、追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＲＦスパッタリングによりＺｎＯ−Ｇａ２Ｏ３（ＺｎＯ：Ｇａ２Ｏ３＝７：３（質量比））からなる、厚さ５ｎｍのバリア層を形成した。
【０２３２】
（カバー層の貼り合わせ）
カバー層としては、内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍで、片面に粘着剤が塗設してあるポリカーボネート製フィルム（帝人ピュアエース、厚さ：８０μｍ）を用い、該粘着剤層とポリカーボネート製フィルムとの厚さの合計が１００μｍとなるように設定した。
そして、バリア層上に、該バリア層と粘着剤層とが当接するようにカバー層を載置した後、そのカバー層を押し当て部材にて圧接して、貼り合わせた。
これにより、実施例１〜３、比較例１の光情報記録媒体が作製された。
【０２３３】
＜光情報記録媒体１の評価＞
（１）Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）評価
作製した光情報記録媒体を、４０３ｎｍレーザ、ＮＡ０．８５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６６ＭＨｚ、線速５．２８ｍ／ｓにて、０．１６μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生しスペクトルアナライザー（パルステックＭＳＧ２）にて（記録後の）Ｃ／Ｎを測定した。また、Ｘｅランプ（イーグルエンジニアリング製メリーゴーランド型耐光性試験機、セルテスト機ＩＩＩ−５００Ｗ型、熱線反射フィルター付き）を１２時間（ｈ）照射し、その後のピット観察を行った。なお、本評価は、本発明の光情報記録方法を用いたものであり、記録はグルーブ上に行った。また、記録パワー５ｍＷ、再生パワー０．３ｍＷであった。結果を表１に示す。ここで、（記録後の）Ｃ／Ｎが２５ｄＢ以上であると、再生信号強度が十分であり、実用上好ましいことを指す。
【０２３４】
【表１】
2006289967.tif 000041
【０２３５】
上記表１の結果のように、前記本発明に係るオキソノール色素化合物のサンプルの場合には、従来の退色防止剤であるニッケル錯体ａと組み合わせたサンプルに比べていずれも記録再生特性に優れ、また、Ｘｅランプ照射後の性能の劣化も少なく、耐光性が向上する。
【０２３６】
さらに、作製した光情報記録媒体を温度６０℃、相対湿度８０%の環境下で２４時間保存し、同様の測定を行った（加温、加湿実験）。その結果、比較例１についてはピットの読み取りができなかった。これに対して、実施例１〜３についてはピットの読み取りができた。
【０２３７】
上記表１および加温、加湿実験の結果のように、前記本発明に係るオキソノール色素のサンプルの場合（実施例1〜3）には、前記本発明に係るオキソノール色素と、従来の退色防止剤であるニッケル錯体ａと組み合わせたサンプルに比べていずれも記録再生特性、耐光性、高温高湿度下の保存性に優れる。
【０２３８】
光情報記録媒体の作製を化合物（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１０）、（ＩＩ−１３）、（ＩＩ−１４）、（ＩＩ−１５）を用いて行った場合についても、実施例１〜３と同様に記録層を形成させることができ、記録再生特性に優れ、Ｘｅランプ照射後の性能の劣化が少なく、高温高湿度下の保存性も良好であることを確認した。
【０２３９】
上記表１の結果から、本発明に係るシアニン色素と一般式（Ａ）で表される有機酸化剤とを組み合わせたサンプルの場合には、Ｘｅランプを照射した後においても色素の劣化量は顕著に抑制されていることがわかる。特に、シアニン色素あるいはオキソノール色素と有機酸化剤とを、シアニン色素あるいはオキソノール色素の酸化電位と有機酸化剤の還元電位との差（ｂ−ａ）が、０＜ｂ−ａ＜１．６の範囲にあるように組み合わせたサンプルの場合には、色素残存量も多く、従って、良好な耐光性を有していることがわかる。