(57)【要約】  【課題】  化合物に必要な一般的物性、熱、光などの対する安定性、小さな粘度、適切な光学異方性、適切な誘電率異方性、ネマチック相の広い温度範囲、および他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する液晶性化合物であり、特にネマチック相の広い温度範囲を有する液晶性化合物を提供する。  【解決手段】  下記の式（１）で表される化合物とする。2006160727.tif 000090例えば、ＲａおよびＲｂは独立して炭素数１〜２０のアルキルであり；環Ａ１は１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ１は単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり；Ｙ１は水素またはハロゲンであり；Ｒｃは炭素数１〜４のアルキルであり；ｍは０、１または２であり、複数のｍの和は０、１または２である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の式（１）で表される化合物。
2006160727.tif 000083
式（１）において、ＲａおよびＲｂは独立して水素または炭素数１〜２０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；環Ａ１は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの環において任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そしてこれらの環において任意の水素はハロゲン、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆで置き換えられてもよく；Ｚ１は独立して単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；Ｗは炭素数２〜４のアルキレンであり、アルキレンにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；Ｙ１は独立して水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであり、そしてＹ１の一方はハロゲン、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであり；Ｒｃは炭素数１〜４のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；そして、ｍは独立して０、１または２であり、複数のｍの和は０、１または２である。
【請求項２】
式（１）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜２０のアルキル、炭素数１〜１９のアルコキシ、炭素数２〜１９のアルコキシアルキル、炭素数２〜２０のアルケニル、炭素数１〜２０のポリフルオロアルキル、または炭素数１〜１９のポリフルオロアルコキシであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、６−フルオロピリジン−２，５−ジイル、またはピリダジン−３，６−ジイルであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＯ−、−ＣＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＳｉＨ２−、−ＳｉＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−または−（ＣＨ２）４−、であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであり、そしてＹ１の一方はフッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであり；そしてＲｃが炭素数２〜４のアルキル、炭素数２〜３のアルコキシ、炭素数２〜３のアルコキシアルキル、または炭素数２〜４のアルケニルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
式（１）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜２０のアルキル、炭素数１〜１９のアルコキシ、炭素数２〜１９のアルコキシアルキル、炭素数２〜２０のアルケニル、炭素数１〜２０のポリフルオロアルキル、または炭素数１〜１９のポリフルオロアルコキシであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、６−フルオロピリジン−２，５−ジイル、またはピリダジン−３，６−ジイルであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＯ−、−ＣＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＳｉＨ２−、−ＳｉＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗは−（ＣＨ２）２−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであり、そしてＹ１の一方が、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであり；そしてＲｃが炭素数２〜４のアルキル、炭素数２〜３のアルコキシ、炭素数２〜３のアルコキシアルキル、または炭素数２〜４のアルケニルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
式（１）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜７のアルコキシ、炭素数２〜７のアルコキシアルキル、または炭素数２〜８のアルケニルであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合または−（ＣＨ２）２−であり；Ｗが−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、−ＣＦ２Ｈまたは−ＣＦ３であり、そしてＹ１の一方がフッ素、−ＣＨ２Ｆまたは−ＣＦ３であり；Ｒｃが−ＣＨ３である請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
式（１）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜７のアルコキシ、炭素数２〜７のアルコキシアルキル、または炭素数２〜８のアルケニルであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合または−（ＣＨ２）２−であり；Ｗが−（ＣＨ２）２−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、−ＣＦ２Ｈまたは−ＣＦ３であり、そしてＹ１の一方が−ＣＦ２Ｈまたは−ＣＦ３であり；Ｒｃが−ＣＨ３である請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
下記の式（１−１）から式（１−６）のいずれか１つの式で表される化合物。
2006160727.tif 000084
式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂは独立して水素または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；環Ａ１は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの環において任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そしてこれらの環において任意の水素はハロゲン、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、または−ＣＨ２Ｆで置き換えられてもよく；Ｚ１は独立して単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、アルキレンにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＯ−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；Ｗは−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−または−（ＣＨ２）４−、であり；Ｙ１は独立して水素、ハロゲン、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、または−ＣＨ２Ｆであり；Ｒｃは炭素数１〜４のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい
【請求項７】
式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０のポリフルオロアルキル、または炭素数２〜１０のポリフルオロアルコキシであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−または−（ＣＨ２）４−、であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、または−ＣＨ２Ｆであり、そしてＹ１の一方が塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、または−ＣＨ２Ｆであり；そしてＲｃが炭素数１〜４のアルキル、炭素数２〜４のアルコキシ、炭素数２〜４のアルコキシアルキル、または炭素数２〜４のアルケニルである、請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０のポリフルオロアルキル、または炭素数２〜１０のポリフルオロアルコキシであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗは−（ＣＨ２）２−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、または−ＣＨ２Ｆであり、Ｙ１の一方が塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２または−ＣＨ２Ｆであり；そしてＲｃが炭素数１〜４のアルキル、炭素数２〜４のアルコキシ、炭素数２〜４のアルコキシアルキル、または炭素数２〜４のアルケニルである、請求項６に記載の化合物。
【請求項９】
式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、−ＣＨ２Ｆ、または−ＯＣＨ２Ｆであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｗは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；独立してＹ１がフッ素、塩素、−ＣＦ３、または−ＣＨＦ２であり、Ｙ１の一方が、塩素、−ＣＦ３、または−ＣＨＦ２であり；Ｒｃが炭素数１〜４のアルキルである請求項７に記載の化合物。
【請求項１０】
式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、または炭素数２〜１０のアルケニル、であり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合または−（ＣＨ２）２−であり；Ｗが−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｙ１が独立してフッ素、水素、−ＣＦ２Ｈまたは−ＣＦ３であり、Ｙ１の一方がフッ素、−ＣＦ２Ｈまたは−ＣＦ３であり；Ｒｃが−ＣＨ３である請求項７に記載の化合物。
【請求項１１】
式（１−１）から式（１−６）において、Ｗが−ＣＨ２Ｏ−であり；Ｙ１が独立してフッ素、−ＣＦ３、または−ＣＦ２Ｈである請求項７に記載の化合物。
【請求項１２】
式（１−１）から式（１−６）において、Ｗが−ＣＨ２Ｏ−であり；Ｙ１が共にフッ素である請求項７に記載の化合物。
【請求項１３】
式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、−ＣＨ２Ｆ、または−ＯＣＨ２Ｆであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｙ１が独立してフッ素、塩素、−ＣＦ３、または−ＣＨＦ２であり、Ｙ１の一方が塩素、−ＣＦ３、または−ＣＨＦ２であり；Ｒｃがアルキルである請求項８に記載の化合物。
【請求項１４】
式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜７のアルコキシ、炭素数２〜７のアルコキシアルキル、または炭素数２〜８のアルケニルであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合または−（ＣＨ２）２−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素または−ＣＦ３であり、Ｙ１の一方が−ＣＦ３であり；Ｒｃが−ＣＨ３である請求項８に記載の化合物。
【請求項１５】
下記の式（Ｉ）から式（ＩＸ）のいずれか１つの式で表される化合物。
2006160727.tif 000085
式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、ＲａおよびＲｂは独立して水素または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗは−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｙ１は独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、または−ＣＦ２Ｈである。
【請求項１６】
式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗが−ＣＨ２Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３または−ＣＨＦ２であり、そしてＹ１の一方が、フッ素、塩素、−ＣＦ３または−ＣＨＦ２である、請求項１５に記載の化合物。
【請求項１７】
式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗが−（ＣＨ２）２−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、−ＣＦ３、または−ＣＦ２Ｈであり、Ｙ１の一方が−ＣＦ３または−ＣＦ２Ｈである、請求項１５に記載の化合物。
【請求項１８】
式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、Ｚ１が独立して単結合または−ＣＨ＝ＣＨ−であり；Ｗが−ＣＨ２Ｏ−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素または−ＣＦ３であり、そしてＹ１の一方がフッ素または−ＣＦ３である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１９】
式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、；Ｚ１が単結合であり；Ｙ１が独立してフッ素または−ＣＦ３である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２０】
式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、Ｚ１が単結合であり；Ｙ１が共にフッ素である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２１】
式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、Ｚ１が単結合であり；Ｙ１が共に−ＣＦ３である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２２】
式（Ｉ）および式（III）において、Ｒａが炭素数１〜６のアルキル、アルケニルであり、Ｒｂが炭素数１〜４のアルコキシであり；Ｚ１が単結合であり；Ｗが−ＣＨ２Ｏ−であり；Ｙ１が共にフッ素である、請求項１６に記載された化合物。
【請求項２３】
請求項１〜２２のいずれか１項に記載した化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する液晶組成物。
【請求項２４】
下記の式（２）、（３）および（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する請求項２３に記載の液晶組成物。
2006160727.tif 000086
式中、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ１はフッ素、塩素、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３であり；環Ｂは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、環Ｅは１，４−シクロヘキシレンまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ４は独立して−（ＣＨ２)２−、−（ＣＨ２)４−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり；そしてＬ１は独立して水素またはフッ素である。
【請求項２５】
下記の式（５）および（６）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する請求項２３に記載の液晶組成物。
2006160727.tif 000087
式中、Ｒ１は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ２は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ５は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合であり；Ｌ１は独立して水素またはフッ素であり；そしてｂは独立して０または１である。
【請求項２６】
下記の式（７）、（８）、（９）、（１０）、および（１１）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する請求項２３に記載の液晶組成物。
2006160727.tif 000088
式中、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｒ２はフッ素または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたはデカヒドロ−２，６−ナフタレンであり；Ｚ６は独立して−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−または単結合であり；そしてＬ２は独立して水素またはフッ素であり、Ｌ２の少なくとも一つはフッ素である。
【請求項２７】
下記の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する請求項２３に記載の液晶組成物。
2006160727.tif 000089
式中、Ｒ１は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｊは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【請求項２８】
請求項２５に記載の式（５）および（６）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する請求項２４に記載の組成物。
【請求項２９】
請求項２７に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する請求項２４に記載の組成物。
【請求項３０】
請求項２７に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する請求項２５に記載の組成物。
【請求項３１】
請求項２７に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する請求項２６に記載の組成物。
【請求項３２】
少なくとも一つの光学活性化合物をさらに含有する請求項２３〜３１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項３３】
請求項２３〜３２のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子に関する。さらに詳しくはスチレン化合物、これを含有し、そしてネマチック相を有する液晶組成物およびこの組成物を含有する液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子において、液晶の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＢＴＮ（Bistable twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）などである。素子の駆動方式に基づいた分類は、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭ（passive matrix）はスタティック（static）とマルチプレックス（multiplex）などに分類され、ＡＭはＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。
【０００３】
これらの素子は、適切な物性を有する組成物を含有する。素子の特性を向上させるには、この組成物が適切な物性を有するのが好ましい。組成物の成分である化合物に必要な一般的物性は、次のとおりである。（１）化学的な安定性と物理的な安定性。（２）高い透明点。透明点は、液晶相−等方相の転移温度である。（３）液晶相の低い下限温度。液晶相は、ネマチック相、スメクチック相などを意味する。（４）小さな粘度。（５）適切な光学異方性。（６）適切な誘電率異方性。大きな誘電率異方性を有する化合物は、大きな粘度を有することが多い。（７）大きな比抵抗。
【０００４】
組成物は多くの化合物を混合して調製される。したがって、化合物は他の化合物とよく混和するのが好ましい。素子を氷点下の温度で使うこともあるので、低い温度で良好な相溶性を有する化合物が好ましい。高い透明点または液晶相の低い下限温度を有する化合物は、組成物におけるネマチック相の広い温度範囲に寄与する。好ましい組成物は、小さな粘度と素子のモードに適した光学異方性を有する。化合物の大きな誘電率異方性は、組成物の低いしきい値電圧に寄与する。このような組成物によって、使用できる温度範囲が広い、応答時間が短い、コントラスト比が大きい、駆動電圧が小さい、消費電力が小さい、電圧保持率が大きいなどの特性を有する素子を得ることができる。
【０００５】
従来、ベンゼン環にアルキル基を有する化合物として、例えば下記の化合物（Ａ）が報告されている。しかしこれらの化合物の液晶性は乏しい（例えば特許文献１参照。）
2006160727.tif 000002
【０００６】
従来の技術は下記のとおりである。さらに好ましい液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子が望まれている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−２９１９４５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の第一の目的は、化合物に必要な一般的物性、熱、光などの対する安定性、小さな粘度、適切な光学異方性、適切な誘電率異方性、ネマチック相の広い温度範囲、および他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する液晶性化合物であり、特にネマチック相の広い温度範囲を有する液晶性化合物を提供することである。第二の目的は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、および低いしきい値電圧を有する液晶組成物であり、特にネマチック相の高い上限温度およびネマチック相の低い下限温度を有する液晶組成物を提供することである。第三の目的は、この組成物を含有し、使用できる広い温度範囲、短い応答時間、小さな消費電力、大きなコントラスト、および低い駆動電圧を有する液晶表示素子を提供することにあり、特に、使用できる広い温度範囲を有する液晶表示素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は下記の項などである。化合物（１）における末端基、環および結合基に関して好ましい例も述べる。
１．  下記の式（１）で表される化合物。
2006160727.tif 000003
式（１）において、ＲａおよびＲｂは独立して水素または炭素数１〜２０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。
【００１０】
「アルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−などで、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−などで置き換えられてもよい」の句の意味を一例で示す。ＣＨ３（ＣＨ２）３−において任意の−ＣＨ２−を−Ｏ−で、または任意の−（ＣＨ２）２−を−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えた基の例は、ＣＨ３（ＣＨ２）２Ｏ−、ＣＨ３−Ｏ−（ＣＨ２）２−、ＣＨ３−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、Ｈ２Ｃ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−などである。このように「任意の」語は、「区別なく選択された少なくとも一つの」を意味する。化合物の安定性を考慮して、酸素と酸素とが隣接したＣＨ３−Ｏ−Ｏ−ＣＨ２−よりも、酸素と酸素とが隣接しないＣＨ３−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−の方が好ましい。
【００１１】
ＲａまたはＲｂの例は、水素、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルキルチオ、アルキルチオアルコキシ、アシル、アシルアルキル、アシルオキシ、アシルオキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、アルケニル、アルケニルオキシ、アルケニルオキシアルキル、アルコキシアルケニル、アルキニル、アルキニルオキシ、シラアルキル、およびジシラアルキルである。少なくとも一つの水素がハロゲンで置き換えられたこれらの基も好ましい。好ましいハロゲンはフッ素および塩素である。さらに好ましいハロゲンはフッ素である。これらの基において分岐よりも直鎖の方が好ましい。ＲａおよびＲｂが分岐の基であっても光学活性であるときは好ましい。
【００１２】
好ましいＲａまたはＲｂはアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルケニル、ポリフルオロアルキル、およびポリフルオロアルコキシである。
さらに好ましいＲａまたはＲｂはアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルケニル、−ＣＨ２Ｆ、および−ＯＣＨ２Ｆである。
最も好ましいＲａまたはＲｂはアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、およびアルケニルである。
【００１３】
アルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７、−ＣＨ＝ＣＨＣ４Ｈ９、−Ｃ２Ｈ４ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、および−Ｃ２Ｈ４ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５のような奇数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはトランス配置が好ましい。−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、および−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７のような偶数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはシス配置が好ましい。
【００１４】
アルキルの具体的な例は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−Ｃ５Ｈ１０、−Ｃ６Ｈ１３、−Ｃ７Ｈ１５、および−Ｃ８Ｈ１７である。アルコキシの具体的な例は、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１０、−ＯＣ６Ｈ１３、および−ＯＣ７Ｈ１５、である。アルコキシアルキルの具体的な例は、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＯＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＯＣ３Ｈ７、−（ＣＨ２）２ＯＣＨ３、−（ＣＨ２）２ＯＣ２Ｈ５、−（ＣＨ２）２ＯＣ３Ｈ７、−（ＣＨ２）３ＯＣＨ３、−（ＣＨ２）４ＯＣＨ３、および−（ＣＨ２）５ＯＣＨ３である。
【００１５】
アルケニルの具体的な例は、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、および−（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨ２である。アルケニルオキシの具体的な例は、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、および−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５である。アルキニルの具体的な例は、−Ｃ≡ＣＣＨ３、および−Ｃ≡ＣＣ３Ｈ７である。
【００１６】
少なくとも一つの水素がハロゲンで置き換えられたアルキルの具体的な例は、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、−ＣＦ３、−（ＣＨ２）２Ｆ、−ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−（ＣＨ２）３Ｆ、−（ＣＦ２）２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、および−ＣＨＦＣＦ２ＣＦ３である。少なくとも一つの水素がハロゲンで置き換えられたアルコキシの具体的な例は、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＯＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＦ３、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、−ＯＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、および−ＯＣＨＦＣＦ２ＣＦ３である。少なくとも一つの水素がハロゲンで置き換えられたアルケニルの具体的な例は、−ＣＨ＝ＣＨＦ、−ＣＨ＝ＣＦ２、−ＣＦ＝ＣＨＦ、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２Ｆ、−ＣＨ＝ＣＨＣＦ３、および−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＦ２である。
【００１７】
好ましいＲａまたはＲｂの具体的な例は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−Ｃ５Ｈ１０、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１０、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−（ＣＨ２）２ＯＣＨ３、−（ＣＨ２）３ＯＣＨ３、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＯＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＦ３、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、−ＯＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、および−ＯＣＨＦＣＦ２ＣＦ３である。
【００１８】
さらに好ましいＲａまたはＲｂの具体的な例は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−Ｃ５Ｈ１０、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１０、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２Ｆ、および−ＯＣＨ２Ｆである。
【００１９】
最も好ましいＲａまたはＲｂの具体的な例は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−Ｃ５Ｈ１０、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨ２、および−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３である。
【００２０】
環Ａ１は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの環において任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そしてこれらの環において任意の水素はハロゲン、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆで置き換えられてもよい。
【００２１】
「これらの環において任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく」を適用した環の例は、下記の環（１５−１）〜（１５−４８）である。好ましい例は、環（１５−１）、（１５−２）、（１５−３）、（１５−４）、（１５−１５）、（１５−２３）、（１５−３１）、（１５−３２）、（１５−３３）、（１５−４０）、（１５−４３）、および（１５−４８）である。
【００２２】
2006160727.tif 000004
【００２３】
2006160727.tif 000005
【００２４】
「これらの環において任意の水素はハロゲン、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆで置き換えられてもよく」を適用した環の例は、下記の環（１６−１）〜（１６−７１）である。好ましい例は、環（１６−１）、（１６−２）、（１６−３）、（１６−４）、（１６−６）、（１６−１０）、（１６−１１）、（１６−１２）、（１６−１３）、（１６−１４）、（１６−１５）、（１６−５４）、（１６−５５）、（１６−５６）、（１６−５７）、（１６−５８）、および（１６−５９）である。
【００２５】
2006160727.tif 000006
【００２６】
2006160727.tif 000007
【００２７】
2006160727.tif 000008
【００２８】
環Ａ１の例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，３，５−トリフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、６−フルオロピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、およびナフタレン−２，６−ジイルである。１，４−シクロヘキシレンおよび１，３−ジオキサン−２，５−ジイルの立体配置はシスよりもトランスが好ましい。１，３−ジオキサン−２，５−ジイルは、４，６−ジオキサン−２，５−ジイルと構造的に同一であるので、後者は例示しなかった。この規則は、２−フルオロ−１，４−フェニレンや２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンなどにも適用される。
【００２９】
好ましい環Ａ１は、１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、６−フルオロピリジン−２，５−ジイル、およびピリダジン−２，５−ジイルである。
【００３０】
さらに好ましい環Ａ１は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、および２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンである。
【００３１】
最も好ましい環Ａ１は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、および２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンである。
【００３２】
Ｚ１は独立して単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、アルキレンにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。
【００３３】
Ｚ１の例は、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＯ−、−ＣＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＳｉＨ２−、−ＳｉＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−（ＣＨ２）２ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）２−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２Ｏ−、および−ＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−である。−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２Ｏ−、および−ＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−のような結合基の二重結合に関する立体配置はシスよりもトランスが好ましい。
【００３４】
好ましいＺ１は、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＯ−、−ＣＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＳｉＨ２−、−ＳｉＨ２ＣＨ２−、および−（ＣＨ２）４−である。
さらに好ましいＺ１は、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−Ｃ≡Ｃ−である。
最も好ましいＺ１は、単結合、および−（ＣＨ２）２−である。
【００３５】
Ｗは炭素数２〜４のアルキレンであり、アルキレンにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。
【００３６】
Ｗの例は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＯ−、−ＣＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＳｉＨ２−、−ＳｉＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−（ＣＨ２）２ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）２−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２Ｏ−、および−ＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−である。−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２Ｏ−、および−ＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−のような結合基の二重結合に関する立体配置はシスよりもトランスが好ましい。
【００３７】
好ましいＷは、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＯ−、−ＣＯＣＨ２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、および−（ＣＨ２）４−である。
さらに好ましいＷは、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２、および−ＣＨ＝ＣＨ−である。
最も好ましいＷは−（ＣＨ２）２−および−ＣＨ２Ｏ−である。
【００３８】
Ｙ１は独立して水素、ハロゲン、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであるが、Ｙ１の一方はハロゲン、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆである。好ましいハロゲンはフッ素および塩素である。最も好ましいハロゲンはフッ素である。好ましいＹ１は水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、および−ＯＣＨ２Ｆである。さらに好ましいＹ１は水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＯＣＦ３、および−ＯＣＨＦ２である。最も好ましいＹ１は水素、フッ素および−ＣＦ３である。
【００３９】
式（１）の部分構造である式（１７）において、Ｙ１の組み合わせの好ましい例は（１７−１）〜（１７−４１）である。さらに好ましい例は、（１７−１）〜（１７−８）、（１７−１８）〜（１７−２６）、および（１７−３２）〜（１７−４１）である。最も好ましい例は、（１７−１）〜（１７−３）である。
【００４０】
2006160727.tif 000009
【００４１】
2006160727.tif 000010
【００４２】
2006160727.tif 000011
【００４３】
Ｒｃは炭素数１〜４のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。
【００４４】
Ｒｃの例は、水素、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルキルチオ、アルキルチオアルコキシ、アシル、アシルアルキル、アシルオキシ、アシルオキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、アルケニル、アルケニルオキシ、アルケニルオキシアルキル、アルコキシアルケニル、アルキニル、アルキニルオキシ、シラアルキル、およびジシラアルキルである。これらの基において分岐よりも直鎖の方が好ましい。
【００４５】
好ましいＲｃはアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、およびアルケニルである。さらに好ましいＲｃはアルキル、アルコキシ、およびアルケニルである。最も好ましいＲｃはアルキルである。
【００４６】
アルキルの具体的な例は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、および−Ｃ４Ｈ９である。アルコキシの具体的な例は、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５および−ＯＣ３Ｈ７である。アルコキシアルキルの具体的な例は、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＯＣ２Ｈ５および−（ＣＨ２）２ＯＣＨ３である。
【００４７】
アルケニルの具体的な例は、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨ２、および−ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ２である。アルケニルオキシの具体的な例は、−ＯＣＨ＝ＣＨ２および−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２である。アルキニルの具体的な例は、−Ｃ≡ＣＨである。
【００４８】
好ましいＲｃの具体的な例は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＯＣ２Ｈ５、−（ＣＨ２）２ＯＣＨ３、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ＝ＣＨ２、および−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２である。
【００４９】
さらに好ましいＲｃの具体的な例は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＯＣＨ３、および−ＣＨ＝ＣＨ２である。最も好ましいＲｃの具体的な例は−ＣＨ３である。
【００５０】
ｍは独立して０、１または２であり、そして複数のｍの和は０、１または２である。化合物の物性に大きな差異がないので、化合物（１）は２Ｈ（重水素）、１３Ｃなどの同位体を天然存在比の量より多く含んでもよい。
【００５１】
２．  式（１）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜２０のアルキル、炭素数１〜１９のアルコキシ、炭素数２〜１９のアルコキシアルキル、炭素数２〜２０のアルケニル、炭素数１〜２０のポリフルオロアルキル、または炭素数１〜１９のポリフルオロアルコキシであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、６−フルオロピリジン−２，５−ジイル、またはピリダジン−３，６−ジイルであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＯ−、−ＣＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＳｉＨ２−、−ＳｉＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−または−（ＣＨ２）４−、であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであり、そしてＹ１の一方はフッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであり；そしてＲｃが炭素数２〜４のアルキル、炭素数２〜３のアルコキシ、炭素数２〜３のアルコキシアルキル、または炭素数２〜４のアルケニルである、項１に記載の化合物。
【００５２】
３．  式（１）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜２０のアルキル、炭素数１〜１９のアルコキシ、炭素数２〜１９のアルコキシアルキル、炭素数２〜２０のアルケニル、炭素数１〜２０のポリフルオロアルキル、または炭素数１〜１９のポリフルオロアルコキシであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、６−フルオロピリジン−２，５−ジイル、またはピリダジン−３，６−ジイルであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＯ−、−ＣＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＳｉＨ２−、−ＳｉＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗは−（ＣＨ２）２−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであり、そしてＹ１の一方が、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆであり；そしてＲｃが炭素数２〜４のアルキル、炭素数２〜３のアルコキシ、炭素数２〜３のアルコキシアルキル、または炭素数２〜４のアルケニルである、項１に記載の化合物。
【００５３】
４．  式（１）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜７のアルコキシ、炭素数２〜７のアルコキシアルキル、または炭素数２〜８のアルケニルであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合または−（ＣＨ２）２−であり；Ｗが−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、−ＣＦ２Ｈまたは−ＣＦ３であり、そしてＹ１の一方がフッ素、−ＣＨ２Ｆまたは−ＣＦ３であり；Ｒｃが−ＣＨ３である項１に記載の化合物。
【００５４】
５．  式（１）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜７のアルコキシ、炭素数２〜７のアルコキシアルキル、または炭素数２〜８のアルケニルであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合または−（ＣＨ２）２−であり；Ｗが−（ＣＨ２）２−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、−ＣＦ２Ｈまたは−ＣＦ３であり、そしてＹ１の一方が−ＣＦ２Ｈまたは−ＣＦ３であり；Ｒｃが−ＣＨ３である項１に記載の化合物。
【００５５】
６．  下記の式（１−１）から式（１−６）のいずれか１つの式で表される化合物。
2006160727.tif 000012
式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂは独立して水素または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；環Ａ１は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの環において任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そしてこれらの環において任意の水素はハロゲン、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、または−ＣＨ２Ｆで置き換えられてもよく；Ｚ１は独立して単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、アルキレンにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＯ−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；Ｗは−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−または−（ＣＨ２）４−、であり；Ｙ１は独立して水素、ハロゲン、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、または−ＣＨ２Ｆであり；Ｒｃは炭素数１〜４のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。
【００５６】
７．  式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０のポリフルオロアルキル、または炭素数２〜１０のポリフルオロアルコキシであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−または−（ＣＨ２）４−、であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、または−ＣＨ２Ｆであり、そしてＹ１の一方が塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、または−ＣＨ２Ｆであり；そしてＲｃが炭素数１〜４のアルキル、炭素数２〜４のアルコキシ、炭素数２〜４のアルコキシアルキル、または炭素数２〜４のアルケニルである、項６に記載の化合物。
【００５７】
８．  式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０のポリフルオロアルキル、または炭素数２〜１０のポリフルオロアルコキシであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗは−（ＣＨ２）２−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、または−ＣＨ２Ｆであり、Ｙ１の一方が塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２または−ＣＨ２Ｆであり；そしてＲｃが炭素数１〜４のアルキル、炭素数２〜４のアルコキシ、炭素数２〜４のアルコキシアルキル、または炭素数２〜４のアルケニルである、項６に記載の化合物。
【００５８】
９．  式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、−ＣＨ２Ｆ、または−ＯＣＨ２Ｆであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｗは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；独立してＹ１がフッ素、塩素、−ＣＦ３、または−ＣＨＦ２であり、Ｙ１の一方が、塩素、−ＣＦ３、または−ＣＨＦ２であり；Ｒｃが炭素数１〜４のアルキルである項７に記載の化合物。
【００５９】
１０．  式（１−１）から式（１−６）において、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜８のアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、またはアルケニルであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合または−（ＣＨ２）２−であり；Ｗが−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｙ１が独立してフッ素、水素、−ＣＦ２Ｈまたは−ＣＦ３であり、Ｙ１の一方がフッ素、−ＣＦ２Ｈまたは−ＣＦ３であり；Ｒｃが−ＣＨ３である項７に記載の化合物。
【００６０】
１１．  式（１−１）から式（１−６）において、Ｗが−ＣＨ２Ｏ−であり；Ｙ１が独立してフッ素、−ＣＦ３、または−ＣＦ２Ｈである項７に記載の化合物。
【００６１】
１２．  式（１−１）から式（１−６）において、Ｗが−ＣＨ２Ｏ−であり；Ｙ１が共にフッ素である項７に記載の化合物。
【００６２】
１３．  式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜９のアルコキシアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、−ＣＨ２Ｆ、または−ＯＣＨ２Ｆであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｙ１が独立してフッ素、塩素、−ＣＦ３、または−ＣＨＦ２であり、Ｙ１の一方が塩素、−ＣＦ３、または−ＣＨＦ２であり；Ｒｃがアルキルである項８に記載の化合物。
【００６３】
１４．  式（１−１）から式（１−６）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜７のアルコキシ、炭素数２〜７のアルコキシアルキル、または炭素数２〜８のアルケニルであり；環Ａ１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ１が独立して単結合または−（ＣＨ２）２−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素または−ＣＦ３であり、Ｙ１の一方が−ＣＦ３であり；Ｒｃが−ＣＨ３である項８に記載の化合物。
【００６４】
１５．  下記の式（Ｉ）から式（ＩＸ）のいずれか１つの式で表される化合物。
2006160727.tif 000013
式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、ＲａおよびＲｂは独立して水素または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）２ＣＦ２Ｏ−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗは−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｙ１は独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３、または−ＣＦ２Ｈである。
【００６５】
１６．  式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗが−ＣＨ２Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＦ３または−ＣＨＦ２であり、そしてＹ１の一方が、フッ素、塩素、−ＣＦ３または−ＣＨＦ２である、項１５に記載の化合物。
【００６６】
１７．  式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、ＲａおよびＲｂが独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｚ１が独立して単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−（ＣＨ２）４−であり；Ｗが−（ＣＨ２）２−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素、−ＣＦ３、または−ＣＦ２Ｈであり、Ｙ１の一方が−ＣＦ３または−ＣＦ２Ｈである、項１５に記載の化合物。
【００６７】
１８．  式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、Ｚ１が独立して単結合または−ＣＨ＝ＣＨ−であり；Ｗが−ＣＨ２Ｏ−であり；Ｙ１が独立して水素、フッ素または−ＣＦ３であり、そしてＹ１の一方がフッ素または−ＣＦ３である、項１６に記載の化合物。
【００６８】
１９．  式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、；Ｚ１が単結合であり；Ｙ１が独立してフッ素または−ＣＦ３である、項１６に記載の化合物。
【００６９】
２０．  式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、Ｚ１が単結合であり；Ｙ１が共にフッ素である、項１６に記載の化合物。
【００７０】
２１．  式（Ｉ）から式（ＩＸ）において、Ｚ１が単結合であり；Ｙ１が共に−ＣＦ３である、項１６に記載の化合物。
【００７１】
２２．  式（Ｉ）および式（III）において、Ｒａが炭素数１〜６のアルキル、アルケニルであり、Ｒｂが炭素数１〜４のアルコキシであり；Ｚ１が単結合であり；Ｗが−ＣＨ２Ｏ−であり；Ｙ１が共にフッ素である、項１６に記載された化合物。
【００７２】
２３．  項１〜２２のいずれか１項に記載した化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する液晶組成物。
【００７３】
２４．  下記の式（２）、（３）および（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する項２３に記載の液晶組成物。
2006160727.tif 000014
式中、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ１はフッ素、塩素、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３であり；環Ｂは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、環Ｅは１，４−シクロヘキシレンまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ４は独立して−（ＣＨ２)２−、−（ＣＨ２)４−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり；そしてＬ１は独立して水素またはフッ素である。
【００７４】
２５．  下記の式（５）および（６）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する項２３に記載の液晶組成物。
2006160727.tif 000015
式中、Ｒ１は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ２は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ５は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合であり；Ｌ１は独立して水素またはフッ素であり；そしてｂは独立して０または１である。
【００７５】
２６．  下記の式（７）、（８）、（９）、（１０）、および（１１）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する項２３に記載の液晶組成物。
2006160727.tif 000016
式中、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｒ２はフッ素または炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたはデカヒドロ−２，６−ナフタレンであり；Ｚ６は独立して−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−または単結合であり；そしてＬ２は独立して水素またはフッ素であり、Ｌ２の少なくとも一つはフッ素である。
【００７６】
２７．  下記の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する項２３に記載の液晶組成物。
2006160727.tif 000017
式中、Ｒ１は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｊは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【００７７】
２８．  項２５に記載の式（５）および（６）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する項２４に記載の組成物。
【００７８】
２９．  項２７に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する項２４に記載の組成物。
【００７９】
３０．  項２７に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する項２５に記載の組成物。
【００８０】
３１．  項２７に記載の式（１２）、（１３）および（１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有する項２６に記載の組成物。
【００８１】
３２．  少なくとも一つの光学活性化合物をさらに含有する項２３〜３１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００８２】
３３．  項２３〜３２のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【発明の効果】
【００８３】
本発明の化合物は、化合物に必要な一般的物性、熱、光などに対する安定性、小さな年度、適切な光学異方性、適切な誘電率異方性、ネマチック相の広い温度範囲、および他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する。特に、ネマチック相の広い温度範囲を有する。本発明の液晶組成物は、これらの化合物の少なくとも一つを含有し、そしてネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、低いしきい値電圧を有する。特に、ネマチック相の高い上限温度およびネマチック相の低い下限温度を有する。本発明の液晶表示素子は、この組成物を含有し、そして使用できる広い温度範囲、短い応答時間、小さな消費電力、大きなコントラスト比、および低い駆動電圧を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００８４】
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。液晶性化合物は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶性化合物、液晶組成物、液晶表示素子をそれぞれ化合物、組成物、素子と略すことがある。液晶表示素子は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。ネマチック相の上限温度はネマチック相−等方相の相転移温度であり、そして単に上限温度と略すことがある。ネマチック相の下限温度を単に下限温度と略すことがある。式（１）で表わされる化合物を化合物（１）と略すことがある。この略記は式（２）などで表される化合物にも適用することがある。式（１）から式（１４）において、六角形で囲んだＡ１、Ｂ、Ｅなどの記号はそれぞれ環Ａ１、環Ｂ、環Ｅなどに対応する。百分率で表した化合物の量は組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。Ａ１、Ｙ１、Ｂなど複数の同じ記号を同一の式または異なった式に記載したが、これらはそれぞれが同一であってもよいし、または異なってもよい。以下に本発明をさらに説明する。
【００８５】
第一に、本発明の化合物（１）をさらに説明する。ナフタレン環などの縮合環は一環と数える。化合物（１）は炭素数２以上のアルキル基を有する二環、三環および四環の化合物である。この化合物は、素子が通常使用される条件下において物理的および化学的に極めて安定であり、そして他の液晶性化合物との相溶性がよい。この化合物を含有する組成物は素子が通常使用される条件下で安定である。この組成物を低い温度で保管しても、この化合物が結晶（またはスメクチック相）として析出することがない。この化合物は、化合物に必要な一般的物性、適切な光学異方性、そして適切な誘電率異方性を有する。
【００８６】
化合物（１）の末端基、環および結合基を適切に選択することによって、光学異方性、誘電率異方性などの物性を任意に調整することが可能である。末端基ＲａおよびＲｂ、環Ａ１、および結合基Ｚ１の種類が、化合物（１）の物性に与える効果を以下に説明する。
【００８７】
化合物（１）は、誘電率異方性が負で大きい。負で大きな誘電率異方性を有する化合物は、組成物のしきい値電圧を下げるための成分である。ＲａおよびＲｂが水素、アルキルまたはアルコキシなどであり、そしてＹ１がハロゲンなどであるとき、この化合物の誘電率異方性は負で大きい。
【００８８】
ＲａまたはＲｂが直鎖であるときは液晶相の温度範囲が広くそして粘度が小さい。ＲａまたはＲｂが分岐鎖であるときは他の液晶性化合物との相溶性がよい。ＲａまたはＲｂが光学活性基である化合物は、キラルドーパントとして有用である。この化合物を組成物に添加することによって、素子に発生するリバース・ツイスト・ドメイン（Reverse twisted domain）を防止することができる。ＲａまたはＲｂが光学活性基でない化合物は組成物の成分として有用である。ＲａまたはＲｂがアルケニルであるとき、好ましい立体配置は二重結合の位置に依存する。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、高い上限温度または液晶相の広い温度範囲を有する。Mol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 109およびMol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 327に詳細な説明がある。
【００８９】
環Ａ１が、２位および３位の水素がハロゲンなどで置き換えられた１，４−フェニレンであるときは負で大きな誘電率異方性を有する。環Ａ１が、任意の水素がハロゲンで置き換えられてもよい１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリダジン−３，６−ジイルであるときは光学異方性が大きい。環Ａ１が、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであるときは光学異方性が小さい。
【００９０】
少なくとも二つの環が１，４−シクロヘキシレンであるときは、上限温度が高く、光学異方性が小さく、そして粘度が小さい。少なくとも一つの環が１，４−フェニレンのときは、光学異方性が比較的大きく、そして配向秩序パラメーター（orientational order parameter）が大きい。少なくとも二つの環が１，４−フェニレンであるときは、光学異方性が大きく、液晶相の温度範囲が広く、そして上限温度が高い。
【００９１】
結合基Ｚ１が単結合、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−（ＣＨ2）４−であるときは粘度が小さい。結合基が単結合、−（ＣＨ2）2−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＣＨ＝ＣＨ−であるときは粘度がより小さい。結合基が−ＣＨ＝ＣＨ−であるときは液晶相の温度範囲が広く、そして弾性定数比Ｋ33／Ｋ11（Ｋ33：ベンド弾性定数、Ｋ11：スプレイ弾性定数）が大きい。結合基が−Ｃ≡Ｃ−のときは光学異方性が大きい。
【００９２】
結合基Ｗが−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−（ＣＨ2）４−であるときは粘度が小さい。結合基Ｗが−（ＣＨ2）2−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＣＨ＝ＣＨ−であるときは、より粘度が小さい。結合基Ｗが−ＣＨ＝ＣＨ−であるときは、液晶相の温度範囲はより広く、かつその透明点は高く、負に大きなΔεを示し、粘度は小さく、そして弾性定数比Ｋ33／Ｋ11（Ｋ33：ベンド弾性定数、Ｋ11：スプレイ弾性定数）が大きい。結合基Ｗが−（ＣＨ2）2−であるときは液晶相の温度範囲が広く、かつその透明点は高く、負に大きなΔεを示し、粘度が小さい。結合基Ｗが−ＣＨ2Ｏ−であるときは液晶相の温度範囲がより広く、かつその透明点は高く、負に大きなΔεを示し、より粘度が小さい。
【００９３】
置換基Ｙ１の一方が水素であり、Ｙ１の一方がハロゲン、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＯＣＦ３、または−ＯＣＦ２Ｈであるときは誘電率異方性値が負に大きい。置換基Ｙ１の両方がハロゲン、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＯＣＦ３、または−ＯＣＦ２Ｈであるときは誘電率異方性値がさらに負に大きい。Ｙ１がハロゲン、−ＣＦ３または−ＣＦ２Ｈであるときは液晶相の温度範囲が広い。
【００９４】
化合物（１）が二環または三環を有するときは粘度が小さい。化合物（１）が三環または四環を有するときは上限温度が高い。以上のように、末端基、環および結合基の種類、環の数を適当に選択することにより目的の物性を有する化合物を得ることができる。したがって、化合物（１）はＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡなどの素子に用いられる組成物の成分として有用である。
【００９５】
化合物（１）の好ましい例は、本発明の項６に記載した化合物（１−１）〜（１−６）である。より具体的な例は、下記の化合物（１−１−１）〜（１−６−３）である。これらの化合物におけるＲａ、Ｒｂ、Ａ1、およびＺ１の記号の意味は、項６に記載した記号の意味と同一である。Ｙ１はハロゲン、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆである。Ｒｅは炭素数１〜４のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、任意の−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。
【００９６】
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【００９７】
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【００９８】
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【００９９】
化合物（１）は有機合成化学における手法を適切に組み合わせることにより合成する。出発物に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、オーガニックシンセシス（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc)、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）などの成書に記載されている。
【０１００】
結合基Ｚ１を生成する方法の一例に関して、最初にスキームを示し、次に項（Ｉ）〜項（XI）でスキームを説明する。このスキームにおいて、ＭＳＧ１またはＭＳＧ２は少なくとも一つの環を有する１価の有機基である。スキームで用いた複数のＭＳＧ１（またはＭＳＧ２）は、同一であってもよいし、または異なってもよい。化合物（１Ａ）から（１Ｋ）は化合物（１）に相当する。
【０１０１】
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【０１０２】
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【０１０３】
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【０１０４】
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【０１０５】
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【０１０６】
（Ｉ）単結合の生成
アリールホウ酸（２１）と公知の方法で合成される化合物（２２）とを、炭酸塩水溶液とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で反応させて化合物（１Ａ）を合成する。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で化合物（２２）を反応させることによっても合成される。
【０１０７】
（II）−ＣＯＯ−と−ＯＣＯ−の生成
化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、続いて二酸化炭素を反応させてカルボン酸（２４）を得る。化合物（２４）と、公知の方法で合成されるフェノール（２５）とをＤＤＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）とＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させて−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｂ）を合成する。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成する。
【０１０８】
（III）−ＣＦ２Ｏ−と−ＯＣＦ２−の生成
化合物（１Ｂ）をローソン試薬のような硫黄化剤で処理して化合物（２６）を得る。化合物（２６）をフッ化水素ピリジン錯体とＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）でフッ素化し、−ＣＦ２Ｏ−を有する化合物（１Ｃ）を合成する。M. Kuroboshi et al., Chem. Lett., 1992，827.を参照。化合物（１Ｃ）は化合物（２６）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化しても合成される。W. H. Bunnelle et al., J. Org. Chem. 1990, 55, 768.を参照。この方法によって−ＯＣＦ２−を有する化合物も合成する。Peer. Kirsch et al., Anbew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によってこれらの結合基を生成させることも可能である。
【０１０９】
（IV）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのホルムアミドと反応させてアルデヒド（２８）を得る。公知の方法で合成されるホスホニウム塩（２７）をカリウムｔ−ブトキシドのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、アルデヒド（２８）に反応させて化合物（１Ｄ）を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。
【０１１０】
（V）−（ＣＨ２）２−の生成
化合物（１Ｄ）をパラジウム炭素のような触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｅ）を合成する。
【０１１１】
（VI）−（ＣＨ２）４−の生成
ホスホニウム塩（２７）の代わりにホスホニウム塩（２９）を用い、項（IV）の方法に従って−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を得る。これを接触水素化して化合物（１Ｆ）を合成する。
【０１１２】
（VII）−Ｃ≡Ｃ−の生成
ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下で、化合物（２３）に２−メチル−３−ブチン−２−オールを反応させたのち、塩基性条件下で脱保護して化合物（３０）を得る。ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物（３０）を化合物（２２）と反応させて、化合物（１Ｇ）を合成する。
【０１１３】
（VIII）−ＣＦ＝ＣＦ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（３１）を得る。化合物（２２）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと化合物（３１）と反応させて化合物（１Ｈ）を合成する。
【０１１４】
（IX）−ＣＨ２Ｏ−または−ＯＣＨ２−の生成
化合物（２８）を水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤で還元して化合物（３２）を得る。これを臭化水素酸などでハロゲン化して化合物（３３）を得る。炭酸カリウムなどの存在下で、化合物（３３）を化合物（２５）と反応させて化合物（１Ｊ）を合成する。
【０１１５】
（X）−（ＣＨ2）3Ｏ−または−Ｏ（ＣＨ2）3−の生成
化合物（２８）の代わりに化合物（３４）を用いて、項（IX）の方法に従って化合物（１Ｋ）を合成する。
【０１１６】
（XI）−（ＣＦ2）2−の生成
J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 5414.に記載された方法に従い、ジケトン（−ＣＯＣＯ−）をフッ化水素触媒の存在下、四フッ化硫黄でフッ素化して−（ＣＦ2）2−を有する化合物を得る。  
【０１１７】
第二に、本発明の組成物をさらに説明する。この組成物の成分は化合物（１）から選ばれた複数の化合物のみであってもよい。好ましい組成物は化合物（１）から選択された少なくとも一つの化合物を１〜９９％の割合で含有する。この組成物は化合物（２）〜（１４）の群から選択された成分を主として含有する。組成物を調製するときには、化合物（１）の誘電率異方性を考慮して成分を選択する。
【０１１８】
誘電率異方性が正で大きい化合物（１）を含有する好ましい組成物は次のとおりである。この好ましい組成物は化合物（２）、（３）および（４）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。別の好ましい組成物は、化合物（５）および（６）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。別の好ましい組成物は、このような二つの群のそれぞれから選択された少なくとも二つの化合物を含有する。これらの組成物は、液晶相の温度範囲、粘度、光学異方性、誘電率異方性、しきい値電圧などを調整する目的で、化合物（１２）、（１３）および（１４）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。これらの組成物は、物性をさらに調整する目的で、化合物（７）〜（１１）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。これらの組成物は、ＡＭ−ＴＮ素子、ＳＴＮ素子などに適合させる目的で、その他の液晶性化合物、添加物などの化合物をさらに含有してもよい。
【０１１９】
別の好ましい組成物は化合物（１２）、（１３）および（１４）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。この組成物は、物性をさらに調整する目的で、化合物（７）〜（１１）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、ＡＭ−ＴＮ素子、ＳＴＮ素子などに適合させる目的で、その他の液晶性化合物、添加物などの化合物をさらに含有してもよい。
【０１２０】
誘電率異方性が負で大きい化合物（１）を含有する好ましい組成物は次のとおりである。好ましい組成物は化合物（７）〜（１１）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。この組成物は、化合物（１２）、（１３）および（１４）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、物性をさらに調整する目的で、化合物（２）〜（６）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、ＶＡ素子などに適合させる目的で、その他の液晶性化合物、添加物などの化合物をさらに含有してもよい。
【０１２１】
別の好ましい組成物は、化合物（１２）、（１３）および（１４）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。この組成物は、化合物（７）〜（１１）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、化合物（２）〜（６）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物はその他の液晶性化合物、添加物などの化合物をさらに含有してもよい。
【０１２２】
誘電率異方性が小さい化合物（１）を含有する好ましい組成物は次のとおりである。好ましい組成物は化合物（２）、（３）および（４）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。別の好ましい組成物は、化合物（５）および（６）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。別の好ましい組成物は、このような二つの群のそれぞれから選択された少なくとも二つの化合物を含有する。これらの組成物は、液晶相の温度範囲、粘度、光学異方性、誘電率異方性、しきい値電圧などを調整する目的で、化合物（１２）、（１３）および（１４）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、物性をさらに調整する目的で、化合物（７）〜（１１）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、ＡＭ−ＴＮ素子、ＳＴＮ素子などに適合させる目的で、その他の液晶性化合物、添加物などの化合物をさらに含有してもよい。
【０１２３】
別の好ましい組成物は、化合物（７）〜（１１）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。この組成物は、化合物（１２）、（１３）および（１４）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、物性をさらに調整する目的で、化合物（２）〜（６）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、ＶＡ素子などに適合させる目的で、その他の液晶性化合物、添加物などの化合物をさらに含有してもよい。
【０１２４】
化合物（２）、（３）および（４）は、誘電率異方性が正で大きいので、ＡＭ−ＴＮ素子用の組成物に主として用いられる。この組成物において、これらの化合物の量は１〜９９％である。好ましい量は１０〜９７％である。より好ましい量は４０〜９５％である。この組成物に化合物（１２）、（１３）または（１４）をさらに添加する場合、この化合物の好ましい量は６０％以下である。より好ましい量は４０％以下である。
【０１２５】
化合物（５）および（６）は、誘電率異方性が正で非常に大きいので、ＳＴＮ素子用の組成物に主として用いられる。この組成物において、これらの化合物の量は１〜９９％である。好ましい量は１０〜９７％である。より好ましい量は４０〜９５％である。この組成物に化合物（１２）、（１３）または（１４）をさらに添加する場合、この化合物の好ましい量は６０％以下である。より好ましい量は４０％以下である。
【０１２６】
化合物（７）、（８）、（９）、（１０）、および（１１）は、誘電率異方性が負であるので、ＶＡ素子用の組成物に主として用いられる。これらの化合物の好ましい量は８０％以下である。より好ましい量は４０〜８０％である。この組成物に化合物（１２）、（１３）または（１４）をさらに添加する場合、この化合物の好ましい量は６０％以下である。より好ましい量は４０％以下である。
【０１２７】
化合物（１２）、（１３）および（１４）の誘電率異方性は小さい。化合物（１２）は粘度または光学異方性を調整する目的で主に使用される。化合物（１３）および（１４）は上限温度を上げて液晶相の温度範囲を広げる、または光学異方性を調整する目的で使用される。化合物（１２）、（１３）および（１４）の量を増加させると組成物のしきい値電圧が高くなり、粘度が小さくなる。したがって、組成物のしきい値電圧の要求値を満たすかぎり多量に使用してもよい。
【０１２８】
好ましい化合物（２）〜（１４）は、それぞれ化合物（２−１）〜（２−９）、化合物（３−１）〜（３−９７）、化合物（４−１）〜（４−３３）、化合物（５−１）〜（５−５６）、化合物（６−１）〜（６−３）、化合物（７−１）〜（７−４）、化合物（８−１）〜（８−６）、化合物（９−１）〜（９−４）、化合物（１０−１）、化合物（１１−１）、化合物（１２−１）〜（１２−１１）、化合物（１３−１）〜（１３−２１）、および化合物（１４−１）〜（１４−６）である。これらの化合物において、Ｒ1、Ｒ２、Ｘ1、およびＸ２の記号の意味は、化合物（２）〜（１４）におけるこれらの記号の意味と同一である。
【０１２９】
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【０１３０】
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【０１３１】
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【０１３２】
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【０１３３】
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【０１３４】
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【０１３５】
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【０１３６】
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【０１３７】
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【０１３８】
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【０１３９】
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【０１４０】
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【０１４１】
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【０１４２】
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【０１４３】
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【０１４４】
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【０１４５】
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【０１４６】
本発明の組成物は公知の方法によって調製される。例えば、成分である化合物を混合し、加熱によって互いに溶解させる。組成物に適当な添加物を加えて組成物の物性を調整してもよい。このような添加物は当業者によく知られている。メロシアニン、スチリル、アゾ、アゾメチン、アゾキシ、キノフタロン、アントラキノン、テトラジンなどの化合物である二色性色素を添加してＧＨ素子用の組成物を調製してもよい。一方、液晶のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与える目的でキラルドーパントが添加される。キラルドーパントの例は上記の光学活性化合物（Ｏｐ−１）〜（Ｏｐ−１３）である。
【０１４７】
キラルドーパントを組成物に添加してねじれのピッチを調整する。ＴＮ素子およびＴＮ−ＴＦＴ素子用の好ましいピッチは４０〜２００μｍの範囲である。ＳＴＮ素子用の好ましいピッチは６〜２０μｍの範囲である。ＢＴＮ素子用の好ましいピッチは１．５〜４μｍの範囲である。ＰＣ素子用の組成物にはキラルドーパントを比較的多量に添加する。ピッチの温度依存性を調整する目的で少なくとも二つのキラルドーパントを添加してもよい。
【０１４８】
また、紫外線や酸化などによる組成物の劣化防止の目的で安定剤を添加してもよい。安定剤の例は安定剤（Ｓｂ−１）〜（Ｓｂ−３２）である。
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【０１４９】
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【０１５０】
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【０１５１】
本発明の組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＢＴＮ，ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡなどの素子に使用できる。これらの素子は駆動方式がＰＭであってもよいし、またはＡＭであってもよい。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）素子、例えばＰＮ（polymer network）素子にも使用できる。
【実施例】
【０１５２】
第三に、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれらの実施例によって制限されない。Ｎｏ．１などの化合物番号は、実施例１４において示した化合物のそれと対応する。得られる化合物は核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルなどで同定する。核磁気共鳴スペクトルにおいて、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｍはマルチプレットである。
【０１５３】
成分または液晶性化合物の割合（百分率）は、液晶性化合物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。組成物は、液晶性化合物などの成分の重量を測定してから混合することによって調製される。したがって、成分の重量％を算出するのは容易である。しかし、組成物をガスクロマト分析することによって成分の割合を正確に算出するのは容易でない。補正係数が液晶性化合物の種類に依存するからである。幸いなことに補正係数はほぼ１である。さらに、成分化合物における１重量％の差異が組成物の特性に与える影響は小さい。したがって、本発明においてはガスクロマトグラフにおける成分ピークの面積比を成分化合物の重量％と見なすことができる。つまり、ガスクロマト分析の結果（ピークの面積比）は、補正することなしに液晶性化合物の重量％と等価であると考えてよいのである。
【０１５４】
特性値の測定において、化合物単体をそのまま試料として用いる場合、化合物を母液晶に混合し試料として用いる場合、そして組成物をそのまま試料として用いる場合の３通りの方法がある。化合物を母液晶に混合する場合は、次の方法をとる。１５重量％の化合物および８５重量％の母液晶を混合することによって試料を調製した。測定によって得られた値から外挿法よって化合物の特性値を算出した。外挿値＝（試料の測定値−０．８５×母液晶の測定値）／０．１５。この割合でスメクチック相（または結晶）が２５℃で析出するときは、化合物と母液晶の割合を１０重量％：９０重量％、５重量％：９５重量％、１重量％：９９重量％の順に変更した。
【０１５５】
測定で得られた値のうち、化合物単体をそのまま試料として用い得られた値と、組成物をそのまま試料として用いて得られた値は、そのままの値を実験データとして記載する。化合物を母液晶に混合し試料として用い得られた値は、そのままの値を実験データとして記載する場合もあるし、外挿法で得られた値を記載する場合もある。
【０１５６】
化合物を母液晶に混合し試料として用いる場合、その母液晶は複数存在する。誘電率異方性が正である化合物のとき、母液晶の一例は母液晶Ａである。誘電率異方性が負である化合物のとき、母液晶の一例は母液晶Ｂである。母液晶ＡとＢの組成は、次のとおりである。
【０１５７】
母液晶Ａ：
2006160727.tif 000046
【０１５８】
母液晶Ｂ：
2006160727.tif 000047
【０１５９】
特性値の測定は下記の方法にしたがった。それらの多くは、日本電子機械工業会規格（Standard of Electric Industries Association of Japan）ＥＩＡＪ・ＥＤ−２５２１Ａに記載された方法、またはこれを修飾した方法である。測定に用いたＴＮ素子またはVA素子には、ＴＦＴを取り付けなかった。
【０１６０】
転移温度（℃）：次のいずれかの方法で測定した。１）偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社ＦＰ−５２型ホットステージ）に試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料が相変化したときの温度を測定した。２）パーキンエルマー社製走査熱量計ＤＳＣ−７システムおよびＤｉａｍｏｎｄ  ＤＳＣシステムを用い３℃／分速度で測定した。
【０１６１】
結晶はＣと表した。結晶の区別がつく場合は、それぞれＣ１またはＣ２と表した。スメクチック相はＳと表した。液体（アイソトロピック）はＩｓｏと表した。ネマチック相はＮと表した。スメクチック相の中で、スメクチックＢ相、スメクチックＣ相またはスメクチックＡ相の区別がつく場合は、それぞれＳＢ、ＳＣまたはＳＡと表した。転移温度の表記として、「Ｃ  ９２．９  Ｎ  １９６．９  Ｉｓｏ」とは、結晶からネマチック相への転移温度（ＣＮ）が９２．９℃であり、ネマチック相から液体への転移温度（ＮＩ）が１９６．９℃であることを示す。他の表記も同様である。
【０１６２】
ネマチック相の上限温度（ＮＩ；℃）：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。
【０１６３】
低温相溶性（ＴＣ；重量％）：母液晶に化合物を２０重量％、１５重量％、１０重量％、５重量％、３重量％および１重量％混合した試料をガラス瓶に入れ、−２０℃のフリーザー中に３０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、２０重量％混合したときの試料が結晶またはスメクチックで、１５重量％混合したときの試料がネマチック相であった場合、ＴＣ＝１５重量％と記載した。
【０１６４】
粘度（η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定にはＥ型回転粘度計を用いた。
【０１６５】
回転粘度（γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：
１）誘電率異方性が正である試料：測定はM. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。ツイスト角が０°であり、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５μｍであるＴＮ素子に試料を入れた。ＴＮ素子に１６ボルトから１９．５ボルトの範囲で０．５ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とM. Imaiらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算で必要な誘電率異方性の値は、この回転粘度の測定で使用した素子にて、下記の誘電率異方性の測定方法で求めた。
【０１６６】
２）誘電率異方性が負である試料：測定はM. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍのＶＡ素子に試料を入れた。この素子に３０ボルトから５０ボルトの範囲で１ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とM. Imaiらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、下記の誘電率異方性で測定した値を用いた。
【０１６７】
光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）：測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率ｎ‖は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率ｎ⊥は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。
【０１６８】
誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）：
１）誘電率異方性が正である試料：２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、そしてツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（１０Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。
【０１６９】
２）誘電率異方性が負である試料：２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍであるＶＡ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。
【０１７０】
しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）：この項目は、誘電率異方性が正である試料のみを測定した。測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９．０μｍであり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に印加する電圧（３２Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから１０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が９０％になったときの電圧である。
【０１７１】
電圧保持率（ＶＨＲ；２５℃で測定；％）：測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は６μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線によって重合する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。
【０１７２】
１Ｈ−ＮＭＲ分析：測定は、ＤＲＸ−５００（ブルカーバイオスピン（株）製）を用いた。ＣＤＣｌ３など重水素化されたサンプルが可溶な溶媒に溶解させた溶液を、室温にて核磁気共鳴装置を用いて測定した。なお、δ値のゼロ点の基準物質にはテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を用いた。
【０１７３】
ガスクロマト分析：測定には島津製作所製のＧＣ−１４Ｂ型ガスクロマトグラフを用いた。キャリアーガスはヘリウム（２ｍｌ／分）である。試料気化室を２８０℃に、検出器（ＦＩＤ）を３００℃に設定した。成分化合物の分離には、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムＤＢ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ；固定液相はジメチルポリシロキサン；無極性）を用いた。このカラムは、２００℃で２分間保持したあと、５℃／分の割合で２８０℃まで昇温した。試料はアセトン溶液（０．１重量％）に調製したあと、その１μＬを試料気化室に注入した。記録計は島津製作所製のＣ−Ｒ５Ａ型Chromatopac、またはその同等品である。得られたガスクロマトグラムは、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積を示した。
【０１７４】
試料を希釈するための溶媒は、クロロホルム、ヘキサンなどを用いてもよい。成分化合物を分離するために、次のキャピラリカラムを用いてもよい。Agilent Technologies Inc.製のＨＰ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、Restek Corporation製のＲｔｘ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、SGE International Pty. Ltd製のＢＰ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）。化合物ピークの重なりを防ぐ目的で島津製作所製のキャピラリーカラムＣＢＰ１−Ｍ５０−０２５（長さ５０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）を用いてもよい。ガスクロマトグラムにおけるピークの面積比は成分化合物の割合に相当する。成分化合物の重量％は各ピークの面積比と完全には同一ではない。しかし、本発明においては、これらのキャピラリカラムを用いるときは、成分化合物の重量％は各ピークの面積比と同一であると見なしてよい。成分化合物における補正係数に大きな差異がないからである。
【０１７５】
実施例１
１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−プロピルシクロヘキシル）エチル）−５−メチルベンゼン（化合物１−１−３−４）の合成
2006160727.tif 000048
【０１７６】
第１工程
窒素雰囲気下、乾燥させたマグネシウム１２．５ｇへテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１５０ｍＬに溶解させた３，４−ジフルオロブロモベンゼン（１）８２．５ｇを滴下し、滴下終了後１時間加熱還流させた。この溶液を、ヨウ化メチル９１．５ｇ、ヨウ化銅（Ｉ）１２．３ｇを加えたＴＨＦ１５ｍＬへ氷浴で冷却しながら滴下した。終夜撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止し、水層をジエチルエーテルで抽出有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。その後蒸留し、３７．６ｇの２，３−ジフルオロトルエン（２）を得た。
【０１７７】
第２工程
窒素雰囲気下、ＴＨＦ２４０ｍＬに溶解させた（２）３０ｇを−７８℃に冷却し、そこへ２８４ｍＬのｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１Ｍ／Ｌ）を加え同温にて２時間撹拌した。さらに同温にてＴＨＦ１２０ｍＬへ溶解させたホウ酸トリメチル４８．７ｇを滴下し、同温で１時間撹拌後室温まで昇温させ、終夜撹拌した。氷浴で冷却しながら３Ｎ−塩酸２００ｍＬを加え、水層をジエチルエーテルで抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、４８．８ｇの２，３−ジフルオロ−５−メチルフェニルホウ酸（３）を精製せず、次の工程へ用いた。
【０１７８】
第３工程  
氷浴で冷却しながら、ＴＨＦ３００ｍＬに溶解させた（３）へ過酸化水素水５３．１ｇをゆっくりと滴下し、その後室温にて３時間撹拌した。氷浴で冷却しながら飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液１００ｍＬを滴下し反応を停止させ、水層をジエチルエーテルで抽出し、有機層を合わせ、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、２２．７ｇの２，３−ジフルオロ−５−メチルフェノール（４）を得た。
【０１７９】
第４工程
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）２００ｍＬに溶解させた（４）へ炭酸カリウム２１．７ｇ、ＭＥＫ１００ｍＬに溶解させたヨウ化エチル３６．６ｇを加え、３時間加熱還流した。水を加え反応を停止し、水層をジエチルエーテルで抽出し、２Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、１９．２ｇの２，３−ジフルオロ−５−メチルエトキシベンゼン（５）を得た。
【０１８０】
第５工程
窒素雰囲気下、ＴＨＦ１００ｍＬに溶解させた（５）１０．０ｇを−７８℃に冷却し、そこへｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１Ｍ／Ｌ）７２．６ｍＬを加え同温にて２時間撹拌した。その後同温にてＴＨＦ１０ｍＬに溶解させた２−（４−プロピルシクロヘキシル）アセトアルデヒド１１．７ｇを滴下し、同温で１時間、室温まで昇温させた後終夜撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、１−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−プロピルシクロヘキシル）エタノール（６）を精製することなく次の工程に用いた。
【０１８１】
第６工程
トルエン１２０ｍＬに溶解させた（６）へｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．５５ｇを加えＤｅａｎ−Ｓｔｏｒｋトラップを用いて水が共沸しなくなるまで加熱撹拌した。水を加え反応を停止させ、水層をトルエンで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した後再結晶を行い、２．０１ｇの１−（２，３−ジフルオロ４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−プロピルシクロヘキシル）エテン（化合物１−１−３−１７）を無色結晶として得た。
【０１８２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．５１（ｄ，１Ｈ）、６．１５（ｄ，１Ｈ）、６．０８（ｄｄ，１Ｈ）、４．０８（ｑ，２Ｈ）、２．２５（ｓ，３Ｈ）、２．０９−２．０３（ｍ，１Ｈ）、１．８５−１．７８（ｍ，４Ｈ）、１．４３（ｔ，３Ｈ）、１．３６−１．２９（ｍ，２Ｈ）、１．２５−１．１６（ｍ，５Ｈ）、０．９５７（ｑ，２Ｈ）、０．８８６（ｔ，３Ｈ）．
【０１８３】
第７工程
トルエン２０ｍＬ、ソルミックス２０ｍＬに溶解させた化合物（１−１−３−１７）にＰｄ／Ｃ０．１ｇ加え、水素雰囲気下、水素を吸収しなくなるまで室温にて撹拌した。Ｐｄ／Ｃを取り除き溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、２．０１ｇの１−（２，３−ジフルオロ４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−プロピルシクロヘキシル）エタン（化合物１−２−３−４）を無色結晶として得た。相転移点（℃）Ｃ  ３４．４  Ｉｓｏ
【０１８４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．５１（ｄ，１Ｈ）、４．０７（ｑ，２Ｈ）、２．５８−２．５４（ｍ，２Ｈ）、２．２３（ｓ，３Ｈ）、１．８２−１．７３（ｍ，４Ｈ）、１．４２（ｔ，３Ｈ）、１．３６−１．２９（ｍ，４Ｈ）、１．２７−１．１３（ｍ，４Ｈ）、０．９５７−０．９５０（ｍ，７Ｈ）．
【０１８５】
実施例２
１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）−５−メチルベンゼン（化合物１−１−３−５）の合成
2006160727.tif 000049
【０１８６】
第１工程
窒素雰囲気下、ＴＨＦ１００ｍＬに溶解させた（５）１０．０ｇを−７８℃に冷却し、そこへｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１Ｍ／Ｌ）７２．６ｍＬを加え同温にて２時間撹拌した。その後同温にてＴＨＦ１３．３ｍＬに溶解させた２−（４−ペンチルシクロヘキシル）アセトアルデヒド１３．３ｇを滴下し、同温で１時間、室温まで昇温させた後終夜撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、１−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−ペンチルシクロヘキシル）エタノール（７）を精製することなく次の工程に用いた。
【０１８７】
第２工程
トルエン１２０ｍＬに溶解させた（７）へｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．５５ｇを加えＤｅａｎ−Ｓｔｏｒｋトラップを用いて水が共沸しなくなるまで加熱撹拌した。水を加え反応を停止させ、水層をトルエンで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した後再結晶を行い、６．５３ｇの１−（２，３−ジフルオロ４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−ペンチルシクロヘキシル）エテン（化合物１−１−３−１８）を無色結晶として得た。
【０１８８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．５１（ｄ，１Ｈ）、６．１５（ｄ，１Ｈ）、６．０８（ｄｄ，１Ｈ）、４．０８（ｑ，２Ｈ）、２．２５（ｓ，３Ｈ）、２．０９−２．０３（ｍ，１Ｈ）、１．８５−１．７８（ｍ，４Ｈ）、１．４３（ｔ，３Ｈ）、１．３６−１．２９（ｍ，２Ｈ）、１．２５−１．１６（ｍ，７Ｈ）、０．９５７−０．９５０（ｍ，７Ｈ）．
【０１８９】
第３工程
トルエン５０ｍＬ、ソルミックス５０ｍＬに溶解させた６．５３ｇの化合物（１−１−３−１８）に０．２７ｇのＰｄ／Ｃ加え、水素雰囲気下、水素を吸収しなくなるまで室温にて撹拌した。Ｐｄ／Ｃを取り除き溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、１．８ｇの１−（２，３−ジフルオロ４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−ペンチルシクロヘキシル）エタン（化合物１−１−３−５）を無色結晶として得た。相転移点（℃）Ｃ  ４１．８  Ｉｓｏ
【０１９０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．５１（ｄ，１Ｈ）、４．０７（ｑ，２Ｈ）、２．５７−２．５４（ｍ，２Ｈ）、２．２３（ｓ，３Ｈ）、１．８２−１．７３（ｍ，４Ｈ）、１．４２（ｔ，３Ｈ）、１．３６−１．２３（ｍ，８Ｈ）、１．１７−１．１５（ｍ，４Ｈ）、０．９５７−０．９５０（ｍ，７Ｈ）．
【０１９１】
実施例３
１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−５−メチルベンゼン（化合物１−３−３−１）の合成
2006160727.tif 000050
【０１９２】
第１工程
窒素雰囲気下、ＴＨＦ１００ｍＬに溶解させた（５）１０．０ｇを−７８℃に冷却し、そこへｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１Ｍ／Ｌ）７２．６ｍＬを加え同温にて２時間撹拌した。その後同温にてＴＨＦ１８ｍＬに溶解させた２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）アセトアルデヒド１７．５ｇを滴下し、同温で１時間、室温まで昇温させた後終夜撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、１−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エタノール（８）を精製することなく次の工程に用いた。
【０１９３】
第２工程
トルエン１２０ｍＬに溶解させた（８）へｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．５５ｇを加えＤｅａｎ−Ｓｔｏｒｋトラップを用いて水が共沸しなくなるまで加熱撹拌した。水を加え反応を停止させ、水層をトルエンで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した後再結晶を行い、１１．２ｇの１−（２，３−ジフルオロ４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エテン（化合物１−３−３−９）を無色結晶として得た。
相転移温度Ｃ  ９２．９  Ｎ  １９６．９  Ｉｓｏ
【０１９４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．５１（ｄ，１Ｈ）、６．１５（ｄ，１Ｈ）、６．０７（ｄｄ，１Ｈ）、４．０８（ｑ，２Ｈ）、２．２６（ｓ，３Ｈ）、２．０９−２．０２（ｍ，１Ｈ）、１．８５（ｄ，２Ｈ）、１．７９−１．７０（ｍ，４Ｈ）、１．４３（ｔ，３Ｈ）、１．３４−１．２７（ｍ，２Ｈ）、１．２１−０．９４（ｍ，１１Ｈ）、０．９５７（ｑ，２Ｈ）、０．８７１（ｔ，３Ｈ）、０．８８６−０．８１１（ｍ，２Ｈ）．
【０１９５】
第３工程
トルエン５０ｍＬ、ソルミックス５０ｍＬに溶解させた化合物（１−３−３−９）６．２０ｇにＰｄ／Ｃ０．３１ｇ加え、水素雰囲気下、水素を吸収しなくなるまで室温にて撹拌した。Ｐｄ／Ｃを取り除き溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、５．０３ｇの１−（２，３−ジフルオロ４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エタン（化合物１−３−３−１）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ１  ６８．６  Ｃ２  ８７．１  Ｎ  １２７．４  Ｉｓｏ
【０１９６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．５１（ｄ，１Ｈ）、４．０７（ｑ，２Ｈ）、２．５７−２．５４（ｍ，２Ｈ）、２．２２（ｓ，３Ｈ）、１．８３（ｄ，２Ｈ）、１．７５−１．６８（ｍ，６Ｈ）、１．４２（ｔ，３Ｈ）、１．３５−１．２６（ｍ，４Ｈ）、１．２２−１．１２（ｍ，４Ｈ）、１．０１−０．９０３（ｍ，８Ｈ）、０．８８１−０．８０１（ｍ，５Ｈ）．
【０１９７】
実施例４
１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−５−メチルベンゼン（化合物１−３−３−２）の合成
2006160727.tif 000051
【０１９８】
第１工程
窒素雰囲気下、ＴＨＦ７０ｍＬに溶解させた（５）７．０ｇを−７８℃に冷却し、そこへｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１Ｍ／Ｌ）４８．８ｍＬを加え同温にて２時間撹拌した。その後同温にてＴＨＦ１３ｍＬに溶解させた２−（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）アセトアルデヒド１３．６ｇを滴下し、同温で１時間、室温まで昇温させた後終夜撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、１−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エタノール（９）を精製することなく次の工程に用いた。
【０１９９】
第２工程
トルエン６０ｍＬに溶解させた（９）へｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．１６ｇを加えＤｅａｎ−Ｓｔｏｒｋトラップを用いて水が共沸しなくなるまで加熱撹拌した。水を加え反応を停止させ、水層をトルエンで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した後再結晶を行い、１１．２ｇの１−（２，３−ジフルオロ４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エテン（化合物１−３−３−１０）を無色結晶として得た。
【０２００】
第３工程
トルエン１２．５ｍＬ、ソルミックス１２．５ｍＬに溶解させた化合物（１−３−３−１０）１．６５ｇにＰｄ／Ｃ０．０８ｇ加え、水素雰囲気下、水素を吸収しなくなるまで室温にて撹拌した。Ｐｄ／Ｃを取り除き溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、０．８３ｇの１−（２，３−ジフルオロ４−エトキシ−６−メチルフェニル）−２−（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エタン（化合物１−３−３−２）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ  ６３．９３  （ＳｍＢ  ６３．３）  Ｎ  １３１．８  Ｉｓｏ
【０２０１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．５１（ｄ，１Ｈ）、４．０７（ｑ，２Ｈ）、２．５７−２．５４（ｍ，２Ｈ）、２．２２（ｓ，３Ｈ）、１．８３（ｄ，２Ｈ）、１．７６−１．６８（ｍ，６Ｈ）、１．４２（ｔ，３Ｈ）、１．３５−１．１８（ｍ，８Ｈ）、１．１６−１．０７（ｍ，４Ｈ）、１．０１−０．９２４（ｍ，８Ｈ）、０．８８１−０．８０１（ｍ，５Ｈ）．
【０２０２】
実施例５
１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）メトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物１−３−３−５）の合成
2006160727.tif 000052
【０２０３】
第１工程
窒素雰囲気下、ＴＨＦ３０ｍＬに溶解させた（５）５．０ｇを−７８℃に冷却し、そこへ３５．２ｍＬのｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１Ｍ／Ｌ）を加え同温にて２時間撹拌した。さらに同温にてＴＨＦ１５ｍＬへ溶解させたホウ酸トリメチル６．０３ｇを滴下し、同温で１時間撹拌後室温まで昇温させ、終夜撹拌した。氷浴で冷却しながら３Ｎ−塩酸２５ｍＬを加え、水層をジエチルエーテルで抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、６．１９ｇの２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチルフェニルホウ酸（１０）を精製せず、次の工程へ用いた。
【０２０４】
第２工程
氷浴で冷却しながら、ＴＨＦ３７ｍＬに溶解させた（１０）へ過酸化水素水６．５７ｇをゆっくりと滴下し、その後室温にて３時間撹拌した。氷浴で冷却しながら飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液２０ｍＬを滴下し反応を停止させ、水層をジエチルエーテルで抽出し、有機層を合わせ、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、３．８４ｇの２，３−ジフルオロ−５−メチルフェノール（１１）を得た。
【０２０５】
第３工程
１−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４−ブロモメタン５．０ｇ、化合物（１１）２．５ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）０．２２ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）７０ｍＬに溶解させ、炭酸カリウム２．３ｇを加え３時間加熱還流を行った。水を加え反応を停止させ、水層をトルエンで抽出し有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、３．７８ｇの１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）メトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物１−３−３−５）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ１  ３３．０  Ｃ２  ６１．７  Ｎ  １２８．９  Ｉｓｏ
【０２０６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．４９（ｄｄ，１Ｈ）、４．０５（ｑ，２Ｈ）、３．７３（ｄ，２Ｈ）、２．２０（ｓ，３Ｈ）、１．９４（ｄ，２Ｈ）、１．７８−１．７０（ｍ，８Ｈ）、１．４１（ｔ，３Ｈ）、１．３２−１．２７（ｍ，２Ｈ）、１．１５−１．１３（ｍ，２Ｈ）、１．０４−０．９３６（ｍ，８Ｈ）、０．８６９（ｔ，３Ｈ）０．８５４−０．８０８（ｍ，２Ｈ）．
【０２０７】
実施例６
１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）メトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物１−３−３−６）の合成
2006160727.tif 000053
【０２０８】
第１工程
１−（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−４−ブロモメタン１０．９ｇ、化合物（１１）５．０ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）０．４４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１４０ｍＬに溶解させ、炭酸カリウム４．６ｇを加え３時間加熱還流を行った。水を加え反応を停止させ、水層をトルエンで抽出し有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、４．４３ｇの１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）メトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物１−３−３−６）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ  ６３．１  Ｎ  １３０．０  Ｉｓｏ
【０２０９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．４９（ｄｄ，１Ｈ）、４．０５（ｑ，２Ｈ）、３．７３（ｄ，２Ｈ）、２．２０（ｓ，３Ｈ）、１．９４（ｄ，２Ｈ）、１．７８−１．７０（ｍ，８Ｈ）、１．４１（ｔ，３Ｈ）、１．３１−１．２３（ｍ，６Ｈ）、１．１５−１．１３（ｍ，２Ｈ）、１．０４−０．９３６（ｍ，８Ｈ）、０．８６９（ｔ，３Ｈ）０．８５４−０．８０８（ｍ，２Ｈ）．
【０２１０】
実施例７
１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−１，１−ジフルオロメトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物１−３−３−７）の合成
2006160727.tif 000054
【０２１１】
第１工程
窒素雰囲気下、クロロホルム１８０ｍＬに溶解させた（１２）２５．６ｇを−３０℃に冷却し、そこへクロロホルム１８ｍＬに溶解させた臭素１６．７ｇを滴下し、同温にて３０分撹拌した。水を加え、水層をヘプタンで抽出した後、有機層を合わせ、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、３７．５ｇの１−ブロモ−１−ブロモジフルオロメチル−４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサン（１３）を得た。
【０２１２】
第２工程  
化合物（１１）５．０ｇ、炭酸カリウム７．７３ｇ、ＴＢＡＢ０．４３ｇをＤＭＦ３５ｍＬに溶解させた。１１０℃まで昇温させた後、同温にてＤＭＦ３０ｍＬに溶解させた化合物（１３）を滴下し、同温にて４時間加熱撹拌した。室温まで冷却させた後水を加え反応を停止し、トルエンで抽出した。有機層を合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、６．２２ｇの５−エトキシ−３，４−ジフルオロ−１−メチル−２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキセニル）ジフルオロメトキシベンゼン（１４）を得た。
【０２１３】
第３工程
トルエン５０ｍＬ、ソルミックス５０ｍＬに溶解させた化合物（１４）６．２２ｇへ０．３１ｇのＰｄ／Ｃを加え、水素雰囲気下、水素を吸収しなくなるまで室温にて撹拌した。Ｐｄ／Ｃをろ別し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、１．７５ｇの１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ジフルオロメトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物１−３−３−７）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ  ９２．５  Ｎ  １４３．９  Ｉｓｏ
【０２１４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．５８（ｄｄ，１Ｈ）、４．０８（ｑ，２Ｈ）、２．２１（ｓ，３Ｈ）、２．１１−２．０３（ｍ，３Ｈ）、１．８５（ｄ，２Ｈ）、１．７７−１．７０（ｍ，４Ｈ）、１．４３（ｔ，３Ｈ）、１．４６−１．３８（ｍ，２Ｈ）、１．３４−１．２７（ｍ，２Ｈ）、１．１４（ｔ，３Ｈ）、１．０９−０．９４（ｍ，６Ｈ）、０．８７２（ｔ，３Ｈ）０．８８６−０．８１５（ｍ，２Ｈ）．
【０２１５】
実施例８
１−（１，１−ジフルオロ−１−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチルフェニル）メトキシ）−４−（４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼン（化合物１−３−３−１５）の合成
2006160727.tif 000055
【０２１６】
第１工程
窒素雰囲気下、ＴＨＦ２８０ｍＬに溶解させた（５）２０．０ｇを−７８℃に冷却し、１４０．０ｍＬのｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１Ｍ／Ｌ）を加え同温にて２時間撹拌した。そこへドライアイス塊を加え−７８℃にて１時間撹拌後、室温まで昇温させた後、終夜撹拌した。３Ｎ塩酸１００ｍＬを加え、水層をエーテルで抽出した後、有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、アセトンで再結晶を行い、１２．７ｇの２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチル安息香酸（１５）を得た。
【０２１７】
第２工程  
１０．０ｇの化合物（１５）および１０．１ｇの４−（４−プロピルシクロヘキシル）フェノールを５００ｍＬのジクロロメタンに溶解し、そこへ４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）６．２ｇを加え、室温で１時間撹拌した。そこへ室温にてジクロロメタン２００ｍＬに溶解させた１０．５ｇのＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）を加え、室温して終夜撹拌した。反応液にエーテル１００ｍＬを加え析出したウレアをろ別し、ろ液に飽和食塩水５００ｍＬを加え、３時間撹拌した。有機層を分液し、３Ｎ−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、１９．９ｇの２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチル安息香酸  ４−（４−プロピルシクロヘキシル）（１６）を得た。
【０２１８】
第３工程
メシチレン１８０ｍＬに溶解させた１７．９ｇの化合物（１６）へ３４．８ｇのローソン試薬を加え、加熱還流下４時間撹拌した。反応液を室温に戻した後水を加え、水層をトルエンで抽出し、有機層を合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、２．３４ｇの２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチルチオ安息香酸  Ｏ−４−（４−プロピルシクロヘキシル）（１７）を得た。
【０２１９】
第４工程
ジクロロメタン２０ｍＬに溶解させた１．９３ｇのＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）へ−７８℃にてフッ化水素ピリジン２．３２ｇを滴下し、同温にて２０分撹拌した。−７８℃にて反応液へジクロロメタン１０ｍＬに溶解させた化合物（１７）２．３４ｇを滴下し、同温にて３時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液へ反応液を注ぎ込み、室温にて終夜撹拌した。水層をジクロロメタンで抽出し、有機層を合わせ、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３Ｎ−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、１．８６ｇの１−（１，１−ジフルオロ−１−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチルフェニル）メトキシ）−４−（４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼン（化合物１−３−３−１５）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ  ７８．１  Ｉｓｏ
【０２２０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；７．１７（ｍ，４Ｈ）、６．５６（ｄ，１Ｈ）、４．１３（ｑ，２Ｈ）、２．５０（ｓ，３Ｈ）、２．４８−２．４２（ｍ，１Ｈ）１．８９−１．８４（ｍ，４Ｈ）、１．４５（ｔ，３Ｈ）、１．４６−１．１８（ｍ，７Ｈ）、１．０７−０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．８９９（ｔ，３Ｈ）．
【０２２１】
実施例９
１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−プロピルシクロヘキシル）メトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物１−１−３−１１）の合成
2006160727.tif 000056
【０２２２】
第１工程
１−（４−プロピルシクロヘキシル）−４−ブロモメタン５．１４ｇ、化合物（１１）４．０ｇ、ＴＢＡＢ０．３４ｇをＤＭＦ１４０ｍＬに溶解させ、炭酸カリウム３．２４ｇを加え３時間加熱還流を行った。水を加え反応を停止させ、水層をトルエンで抽出し有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、４．３９ｇの１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−プロピルシクロヘキシル）メトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物１−１−３−１１）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ  ２９．９  Ｉｓｏ
【０２２３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．４９（ｄｄ，１Ｈ）、４．０４（ｑ，２Ｈ）、３．７４（ｄ，２Ｈ）、２．２０（ｓ，３Ｈ）、１．９３−１．７９（ｍ，４Ｈ）、１．７６−１．６８（ｍ，１Ｈ）、１．４１（ｔ，３Ｈ）、１．３６−１．２８（ｍ，２Ｈ）、１．２５−１．１５（ｍ，３Ｈ）、１．１１−１．０３（ｍ，２Ｈ）、０．９７６−０．９２２（ｍ，２Ｈ）０．８８２（ｔ，３Ｈ）．
【０２２４】
実施例１０
１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−ペンチルシクロヘキシル）メトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物１−１−３−１２）の合成
2006160727.tif 000057
第１工程
１−（４−ペンチルシクロヘキシル）−４−ブロモメタン５．７８ｇ、化合物（１１）４．０ｇ、ＴＢＡＢ０．３４ｇをＤＭＦ１４０ｍＬに溶解させ、炭酸カリウム３．２４ｇを加え３時間加熱還流を行った。水を加え反応を停止させ、水層をトルエンで抽出し有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、５．８９ｇの１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−ペンチルシクロヘキシル）メトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物１−１−３−１２）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ  ３１．６  Ｉｓｏ
【０２２５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；６．４９（ｄｄ，１Ｈ）、４．０５（ｑ，２Ｈ）、３．７４（ｄ，２Ｈ）、２．２０（ｓ，３Ｈ）、１．９３−１．７９（ｍ，４Ｈ）、１．７６−１．６８（ｍ，１Ｈ）、１．４１（ｔ，３Ｈ）、１．３４−１．１７（ｍ，９Ｈ）、１．１１−１．０３（ｍ，２Ｈ）、０．９７４−０．９２２（ｍ，２Ｈ）０．８８５（ｑ，３Ｈ）．
【０２２６】
実施例１１
２−（２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）エチル）−２，３−ジフルオロ−４−エトキシトルエン（化合物１−３−３−１２）の合成
2006160727.tif 000058
【０２２７】
第１工程
窒素雰囲気下、ＴＨＦ１８０ｍＬに溶解させた（５）１５．０ｇを−７８℃に冷却し、１０５．０ｍＬのｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１Ｍ／Ｌ）を加え同温にて２時間撹拌した。そこへＴＨＦ１２０ｍＬに溶解させたＤＭＦ８．２８ｇを加え−７８℃にて１時間撹拌後、室温まで昇温させた後、終夜撹拌した。３Ｎ塩酸８０ｍＬを加え、水層をトルエンで抽出した後、有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、１２．０ｇの２，３−ジフルオロ−４−エトキシ−６−メチルベンズアルデヒド（１８）を得た。
【０２２８】
第２工程  
乾燥させた１−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）メチルトリフェニルホスホニウムブロミド１８．７ｇへＴＨＦ６０ｍＬを加え、窒素雰囲気下−６０℃に冷却した。その懸濁液へカリウムｔ−ブトキシド３．７０ｇを加え、１時間撹拌した。さらにその懸濁液へＴＨＦ６０ｍＬへ溶解させた６．０ｇの化合物（１８）を滴下し、同温で１時間撹拌させた後、室温にて終夜撹拌した。反応液をシリカゲル層へ通し、ろ液の溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、１０．６ｇの２−（２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）エテニル）−２，３−ジフルオロ−４−エトキシトルエン（１９）を得た。
【０２２９】
第３工程
トルエン１００ｍＬ、ソルミックス１００ｍＬに溶解させた化合物（１９）１０．６ｇへ０．５３ｇのＰｄ／Ｃを加え、水素雰囲気下、水素を吸収しなくなるまで室温にて撹拌した。Ｐｄ／Ｃをろ別し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、６．９０ｇの２−（２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）エチル）−２，３−ジフルオロ−４−エトキシトルエン（化合物１−３−３−１２）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ  ８２．４  Ｉｓｏ
【０２３０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；７．１４−７．１０（ｍ，４Ｈ）、６．５１（ｄｄ，１Ｈ）、４．０８（ｑ，２Ｈ）、２．８６−２．８３（ｍ，２Ｈ）、２．７５−２．７１（ｍ，２Ｈ）、２．４７−２．４１（ｍ，１Ｈ）、２．１５（ｓ，３Ｈ）、１．８９−１．８４（ｍ，４Ｈ）、１．４８−１．１９（ｍ，１Ｈ）、１．４３（ｔ，３Ｈ）、１．０８−１．００（ｍ，２Ｈ）、０．９０１（ｔ，３Ｈ）．
【０２３１】
実施例１２
２−（２−（４−（４−プロピルフェニル）フェニル）エチル）−２，３−ジフルオロ−４−エトキシトルエン（化合物１−３−３−２２）の合成
2006160727.tif 000059
【０２３２】
第１工程  
乾燥させた１−（４−（４−プロピルフェニル）フェニル）メチルトリフェニルホスホニウムブロミド１２．１ｇへＴＨＦ４０ｍＬを加え、窒素雰囲気下−６０℃に冷却した。その懸濁液へカリウムｔ−ブトキシド２．４７ｇを加え、１時間撹拌した。さらにその懸濁液へＴＨＦ４０ｍＬに溶解させた４．０ｇの化合物（１８）を滴下し、同温で１時間撹拌させた後、室温にて終夜撹拌した。反応液をシリカゲル層へ通し、ろ液の溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、７．２９ｇの２−（２−（４−（４−プロピルフェニル）フェニル）エテニル）−２，３−ジフルオロ−４−エトキシトルエン（２０）を得た。
【０２３３】
第２工程
トルエン１００ｍＬ、ソルミックス１００ｍＬに溶解させた化合物（２０）７．２９ｇへ０．３６ｇのＰｄ／Ｃを加え、水素雰囲気下、水素を吸収しなくなるまで室温にて撹拌した。Ｐｄ／Ｃをろ別し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、６．００ｇの２−（２−（４−（４−プロピルフェニル）フェニル）エチル）−２，３−ジフルオロ−４−エトキシトルエン（化合物１−３−３−２２）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ  ８０．８  Ｉｓｏ
【０２３４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；７．５０（ｄ，４Ｈ）７．２４−７．２１（ｍ，４Ｈ）、６．５０（ｄｄ，１Ｈ）、４．０７（ｑ，２Ｈ）、２．９０−２．８６（ｍ，２Ｈ）、２．８２−２．７９（ｍ，２Ｈ）、２．６２（ｔ、２Ｈ）、２．１５（ｓ，３Ｈ）、１．７１−１．６３（ｍ，２Ｈ）、１．４２（ｔ，３Ｈ）、０．９６８（ｔ，３Ｈ）．
【０２３５】
実施例１３
２−（４−プロピルフェニル）エチル−２，３−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）トルエン（化合物１−２−３−３）の合成
2006160727.tif 000060
【０２３６】
第１工程
窒素雰囲気下、ＴＨＦ７０ｍＬに溶解させた（２）１０．０ｇを−７８℃に冷却し、８５．０ｍＬのｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１Ｍ／Ｌ）を加え同温にて２時間撹拌した。そこへＴＨＦ３５ｍＬに溶解させたヨウ素２３．８ｇを加え−７８℃にて１時間撹拌後、室温まで昇温させた後、終夜撹拌した。水４０ｍＬを加え、水層をエーテルで抽出した後、有機層を合わせ、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、２０．０ｇの３−ヨード−４，５−ジフルオロトルエン（２１）を得た。
【０２３７】
第２工程
トルエン５０ｍＬとソルミックス５０ｍＬの混合溶媒に溶解させた９．０４ｇの化合物（２１）、６．８４ｇの４−ペンチルフェニルホウ酸に５．７４ｇのＴＢＡＢ、９．８４ｇの炭酸カリウム、０．７６ｇのＰｄ／Ｃを加え、４時間加熱還流下にて撹拌した。ろ過によりＰｄ／Ｃを取り除いた後、ろ液を分液し、水層をトルエンで抽出し有機層を合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、８．９３ｇの３，４−ジフルオロ−５−（４−ペンチルフェニル）トルエン（２２）を得た。
【０２３８】
第３工程
窒素雰囲気下、ＴＨＦ６６ｍＬに溶解させた（２２）８．９３ｇを−７８℃に冷却し、３９．０ｍＬのｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１Ｍ／Ｌ）を加え同温にて２時間撹拌した。そこへＴＨＦ４４ｍＬに溶解させたＤＭＦ３．５６ｇを加え−７８℃にて１時間撹拌後、室温まで昇温させた後、終夜撹拌した。３Ｎ塩酸２０ｍＬを加え、水層をトルエンで抽出した後、有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、７．６１ｇの２，３−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）−６−メチルベンズアルデヒド（２３）を得た。
【０２３９】
第４工程
乾燥させた１（４−プロピルフェニル）メチルトリフェニルホスホニウムブロミド１０．５ｇへＴＨＦ４０ｍＬを加え、窒素雰囲気下−６０℃に冷却した。その懸濁液へカリウムｔ−ブトキシド２．４７ｇを加え、１時間撹拌した。さらにその懸濁液にＴＨＦ４０ｍＬへ溶解させた６．０ｇの化合物（２３）を滴下し、同温で１時間撹拌させた後、室温にて終夜撹拌した。反応液をシリカゲル層へ通し、ろ液の溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、６．５０ｇの２−（４−プロピルフェニル）エテニル−２，３−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）トルエン（２４）を得た。
【０２４０】
第５工程
トルエン１００ｍＬ、ソルミックス１００ｍＬに溶解させた化合物（２４）６．５０ｇへ０．３３ｇのＰｄ／Ｃを加え、水素雰囲気下、水素を吸収しなくなるまで室温にて撹拌した。Ｐｄ／Ｃをろ別し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶で精製し、３．９４ｇの２−（４−プロピルフェニル）エチル−２，３−ジフルオロ−４−（４−ペンチルフェニル）トルエン（化合物１−２−３−３）を無色結晶として得た。
相転移点（℃）Ｃ  ４７．１  Ｉｓｏ
【０２４１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）；７．４５−７．２３（ｍ，４Ｈ）、７．１４−７．１０（ｍ、４Ｈ）、６．９５（ｄ，１Ｈ）、２．９５−２．９２（ｍ，２Ｈ）、２．８２−２．７９（ｍ，２Ｈ）、２．６４（ｔ、２Ｈ）、２．５６（ｔ、２Ｈ）、２．２２（ｓ，３Ｈ）、１．６８−１．５９（ｍ，４Ｈ）、１．３６−１．３３（ｍ，４Ｈ）、０．９３５（ｔ，３Ｈ）、０．９０５（ｔ，３Ｈ）．
【０２４２】
実施例１４
実施例１〜実施例１３、さらに記載した合成法をもとに、下記の化合物１−１−１−１〜１−９−３−１０を合成する。実施例１〜実施例１３で得られる化合物（１−１−３−４、１−１−３−５、１−１−３−１１、１−１−３−１２、１−２−３−３、１−３−３−１、１−３−３−２、１−３−３−５、１−３−３−６、１−３−３−７、１−３−３−９、１−３−３−１２、１−３−３−１５および１−３−３−２２）も再掲した。上限温度、粘度、光学異方性および誘電率異方性の測定手順は実施例１５で説明する。
【０２４３】
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【０２４４】
2006160727.tif 000062
【０２４５】
2006160727.tif 000063
【０２４６】
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【０２４７】
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【０２４８】
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【０２４９】
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【０２５０】
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【０２５１】
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【０２５２】
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【０２５３】
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【０２５４】
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【０２５５】
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【０２５６】
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【０２５７】
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【０２５８】
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【０２５９】
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【０２６０】
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【０２６１】
実施例１５
５つの化合物を混合して、ネマチック相を有する組成物Ａ（母液晶Ｂ）を調製した。５つの化合物は、４−エトキシフェニル＝４−プロピルシクロヘキサンカルボキシレート（１７．２％）、４−ブトキシフェニル＝４−プロピルシクロヘキサンカルボキシレート（２７．６％）、４−エトキシフェニル＝４−ブチルシクロヘキサンカルボキシレート（２０．７％）、４−メトキシフェニル＝４−ペンチルシクロヘキサンカルボキシレート（２０．７％）、および４−エトキシフェニル＝４−ペンチルシクロヘキサンカルボキシレート（１３．８％）である。組成物Ａの物性は次のとおりであった。上限温度（ＮＩ）＝７４．０℃；粘度（η２０）＝１８．９ｍＰａ・ｓ；光学異方性（Δｎ）＝０．０８７；誘電率異方性（Δε）＝−１．３。
【０２６２】
この組成物Ａの８５％と実施例３で得られる１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）−５−メチルベンゼン（化合物Ｎｏ．１−３−３−１）の１５％とからなる組成物Ｂを調製した。組成物Ｂの物性値は次のとおりである。光学異方性（Δｎ）＝０．０８８；誘電率異方性（Δε）＝−１．９３。化合物Ｎｏ．１−３−３−１を加えることによって、誘電率異方性が負に大きくなり、液晶表示素子にしたときに低い駆動電圧を有することが分かった。
【０２６３】
実施例１６
実施例１５に記載した組成物Ａの８５％と実施例６で得られる１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（２−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）メトキシ）−５−メチルベンゼン（化合物Ｎｏ．１−３−３−５）の１５％とからなる組成物Ｃを調製した。組成物Ｃの物性は次のとおりである。光学異方性（Δｎ）＝０．０８７；誘電率異方性（Δε）＝−１．８３。化合物Ｎｏ．１−３−３−５を加えることによって、誘電率異方性が負に大きくなり、液晶表示素子にしたときに低い駆動電圧を有することが分かった。
【０２６４】
比較例１
特許文献１（特開平１０−２９１９４５）に報告されているベンゼン環にアルキル基を有する化合物の物性値と、類似の構造である実施例５（化合物１−３−３−５）、実施例６（化合物１−３−３−６）にて合成した化合物の物性値の比較を行った。その結果、従来報告されているベンゼン環にアルキル基を有する化合物は液晶相を発現しないか、もしく液晶相を発現しても２．５℃程度と非常に狭い。それに比べ本願化合物は液晶相（ネマチック相）を発現し、かつその温度範囲は６０℃程度と広い事が比較より確認された。
【０２６５】
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【０２６６】
比較例２
特許文献１（特開平１０−２９１９４５）に報告されているベンゼン環にアルキル基を有する化合物の物性値と、類似の構造である実施例３（化合物１−３−３−１）、実施例４（化合物１−３−３−２）にて合成した化合物の物性値の比較を行った。その結果、従来報告されているベンゼン環にアルキル基を有する化合物は液晶相を発現しないか、もしく液晶相を発現しても２．５℃程度と非常に狭い。それに比べ本願化合物は液晶相（ネマチック相）を発現し、かつその温度範囲は４０℃〜６０℃と広い事が比較より確認された。
【０２６７】
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【０２６８】
比較例３
特許文献１（特開平１０−２９１９４５）に報告されているベンゼン環にアルキル基を有する化合物の物性値と、類似の構造である実施例５（化合物１−３−３−５）、実施例６（化合物１−３−３−６）にて合成した化合物を母液晶Ｂに対する室温での相溶性の比較を行った。その結果、従来報告されているベンゼン環にアルキル基を有する化合物は母液晶に対し、５％または１０％しか溶解しなかった。それに対して本願化合物は母液晶に対し少なくとも１５％は溶解しており、相溶性に優れていることが比較より確認された。
【０２６９】
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【０２７０】
比較例４
特許文献１（特開平１０−２９１９４５）に報告されているベンゼン環にアルキル基を有する化合物の物性値と、類似の構造である実施例３（化合物１−３−３−１）、実施例４（化合物１−３−３−２）にて合成した化合物を母液晶Ｂに対する室温での相溶性の比較を行った。その結果、従来報告されているベンゼン環にアルキル基を有する化合物は母液晶に対し、５％、１０％のしか溶解しなかった。それに対して本願化合物は母液晶に対し少なくとも１５％は溶解しており、相溶性に優れていることが比較より確認された。
【０２７１】
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