(57)【要約】【課題】        シール面への異物の付着を防ぎ、リークの発生を防止するゲート弁及び真空ゲート弁を提供すること。【解決手段】    処理室側排気口１３及びポンプ側排気口１４に設けられた対向するシール面１３ａ及びシール面１４ａを開閉する真空ゲート弁２であって、開弁時にシール面１３ａ，１４ａに当接し、かつ処理室側排気口１３とポンプ側排気口１４との間を連通させる開弁体２８と、閉弁時にシール面１３ａ，１４ａに当接し、かつ処理室側排気口１３とポンプ側排気口１４との間を遮断させる閉弁体３１と、開弁体２８と閉弁体３１とを収納する弁箱１１と、弁箱１１内で開弁体２８と閉弁体３１とをシール面１３ａ，１４ａに対し交換的に移動させるハンドル２２とを備えるようにした。【選択図】      図１
2006038121.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体の通り道に設けられた対向するシール面を開閉するゲート弁であって、
開弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を連通させる開弁体と、
閉弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を遮断させる閉弁体と、
前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、
前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段とを備える
ことを特徴とするゲート弁。
【請求項２】
請求項１に記載のゲート弁において、
前記開弁体と前記閉弁体とに一対の弁板を備え、
前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構を備える
ことを特徴とするゲート弁。
【請求項３】
請求項２に記載のゲート弁において、
前記開弁体の前記一対の弁板間にベローズを備える
ことを特徴とするゲート弁。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載のゲート弁において、
前記弁箱に開閉可能な点検口を形成すると共に、該点検口を閉弁時に移動した前記開弁体と対向する位置に設ける
ことを特徴とするゲート弁。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載のゲート弁において、
前記弁箱に開閉により前記弁箱内の流体を供排する２つの開閉弁を設け、
開弁状態から閉弁状態または閉弁状態から開弁状態に操作するときに、少なくともどちらか一方の前記開閉弁を開状態とし、操作終了後に前記２つの開閉弁を閉状態とする
ことを特徴とするゲート弁。
【請求項６】
処理室側とポンプ側との間に設けられた連通路を開閉する真空ゲート弁において、
開弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接することで前記連通路を形成させる開弁体と、
閉弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接して、前記連通路を遮断させる閉弁体と、
前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、
前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段と、
前記開弁体及び前記閉弁体の前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構と、
前記開弁体の前記一対の弁板間に設けられ、かつ前記弁箱内と前記連通路内とを隔離するベローズと、
閉弁時に移動した前記開弁体と対応するように前記弁箱に形成され、かつ開閉可能な蓋部を有する点検口と、
前記弁箱内と前記処理室内とを連通する配管に設けられた処理室側開閉弁と、
前記弁箱内と前記ポンプとを連通する配管に設けられたポンプ側開閉弁とを備える
ことを特徴とする真空ゲート弁。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ゲート弁及び真空ゲートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来からゲート弁は、真空処理室と、この真空処理室を真空排気するための真空ポンプとの間に設けられるこが多く、このように使用されるゲート弁は真空ゲート弁と言われている。近年、真空ゲート弁は、液晶，半導体製造装置の分野における真空システムを構成する重要な装置として位置づけられている。
【０００３】
真空ゲート弁は、真空処理室の真空度を上げる場合に弁を開弁状態にし、真空ポンプの駆動により真空処理室内の真空度を上げて高真空状態にするために用いられている。また、弁を閉弁状態にして真空処理室内を低真空（低圧）または大気圧にすることにより、真空処理室内で処理されたワークの取り出しや真空処理室内の反応生成物の除去を可能とする。更に、真空ポンプを低圧または大気圧から保護し、真空ポンプの劣化や破壊を防いでいる。
【０００４】
そして、これまで数多くの真空ゲート弁が提供されてきており、具体的には、弁箱に真空処理室側排気口と真空ポンプ側排気口とを形成し、この真空処理室側排気口に開閉自在に着脱する真空処理室側弁板と、真空ポンプ側排気口に開閉自在に着脱する真空ポンプ側弁板とを備える真空ゲート弁が提供されている。
【０００５】
このような従来の真空ゲート弁は、例えば、特許文献１に開示されている。
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−９９３２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
半導体製造工程における層間絶縁膜積層技術であるＣＶＴ（Chemical Vapor Deposition：化学的気相堆積法）プロセスでは、材料ガスを様々な方法（プラズマ，熱，光等）で反応させた反応生成膜をシリコンウエハー上に積層させる。しかし同時に、チャンバーの内壁や電極、配管内及び真空ゲート弁の弁箱内にも反応生成物が堆積する。特に、真空ゲート弁においては、その堆積した反応生成物により弁リークの発生や弁の可動不良を招き、真空ゲート弁としての機能を発揮できない場合がある。
【０００８】
しかしながら、上述した従来の真空ゲート弁においては、完全にリークを防止しようとするものではない。このために、反応生成物がシール面だけではなく、弁板や弁箱内に付着するので、チャンバー内の真空度の低下を招くと共に、クリーニング作業の負担を大きくしてしまう。更に、リークのために閉弁ができなくなると、仮に、チャンバー内の堆積物を除去しようとすると、チャンバー側と真空ポンプ側とを遮断できないので、真空ポンプを一時停止しなくてはならないので、ＣＶＴ装置を再稼動するときには、チャンバー内の真空度が上がるまで時間がかかってしまい、膨大な時間を要していた。
【０００９】
従って、本発明は上記課題を解決するものであって、シール面への異物の付着を防ぎ、リークの発生を防止するゲート弁及び真空ゲート弁を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決する第１の発明に係るゲート弁は、
流体の通り道に設けられた対向するシール面を開閉するゲート弁であって、
開弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を連通させる開弁体と、
閉弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を遮断させる閉弁体と、
前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、
前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段とを備える
ことを特徴とする。
【００１１】
上記課題を解決する第２の発明に係るゲート弁は、
第１の発明に係るゲート弁おいて、
前記開弁体と前記閉弁体とに一対の弁板を備え、
前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構を備える
ことを特徴とする。
【００１２】
上記課題を解決する第３の発明に係るゲート弁は、
第２の発明に係るゲート弁おいて、
前記開弁体の前記一対の弁板間にベローズを備える
ことを特徴とする。
【００１３】
上記課題を解決する第４の発明に係るゲート弁は、
第１乃至３のいずれかの発明に係るゲート弁において、
前記弁箱に開閉可能な点検口を形成すると共に、該点検口を閉弁時に移動した前記開弁体と対向する位置に設ける
ことを特徴とする。
【００１４】
上記課題を解決する第５の発明に係るゲート弁は、
第１乃至４のいずれかの発明に係るゲート弁において、
前記弁箱に開閉により前記弁箱内の流体を供排する２つの開閉弁を設け、
開弁状態から閉弁状態または閉弁状態から開弁状態に操作するときに、少なくともどちらか一方の前記開閉弁を開状態とし、操作終了後に前記２つの開閉弁を閉状態とする
ことを特徴とする。
【００１５】
上記課題を解決する第６の発明に係る真空ゲート弁は
処理室側とポンプ側との間に設けられた連通路を開閉する真空ゲート弁において、
開弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接することで前記連通路を形成させる開弁体と、
閉弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接して、前記連通路を遮断させる閉弁体と、
前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、
前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段と、
前記開弁体及び前記閉弁体の前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構と、
前記開弁体の前記一対の弁板間に設けられ、かつ前記弁箱内と前記連通路内とを隔離するベローズと、
閉弁時に移動した前記開弁体と対応するように前記弁箱に形成され、かつ開閉可能な蓋部を有する点検口と、
前記弁箱内と前記処理室内とを連通する配管に設けられた処理室側開閉弁と、
前記弁箱内と前記ポンプとを連通する配管に設けられたポンプ側開閉弁とを備える
ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
第１の発明に係るゲート弁によれば、流体の通り道に設けられた対向するシール面を開閉するゲート弁であって、開弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を連通させる開弁体と、閉弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を遮断させる閉弁体と、前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段とを備えることにより、前記シール面への異物の付着を防ぎ、リークの発生を防止することができる。
【００１７】
第２の発明に係るゲート弁によれば、第１の発明に係るゲート弁おいて、前記開弁体と前記閉弁体とに一対の弁板を備え、前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構を備えることにより、開閉時において前記シール面をシールすることができるので、リークの発生を防止することができる。
【００１８】
第３の発明に係るゲート弁によれば、第２の発明に係るゲート弁おいて、前記開弁体の前記一対の弁板間にベローズを備えることにより、前記通り道と前記弁箱内とを隔離することができるので、前記弁箱内への異物の浸入を防ぐことができ、リークの発生を防止することができる。
【００１９】
第４の発明に係るゲート弁によれば、第１乃至３のいずれかの発明に係るゲート弁において、前記弁箱に開閉可能な点検口を形成すると共に、該点検口を閉弁時に移動した前記開弁体と対向する位置に設けることにより、閉弁時に前記開弁体に付着した異物の堆積具合を点検することが可能であり、また、異物を除去することができるので、メンテナンス費用やランニングコストの低減を図ることができる。
【００２０】
第５の発明に係るゲート弁によれば、第１乃至４のいずれかの発明に係るゲート弁において、前記弁箱に開閉により前記弁箱内の流体を供排する２つの開閉弁を設け、開弁状態から閉弁状態または閉弁状態から開弁状態に操作するときに、少なくともどちらか一方の前記開閉弁を開状態とし、操作終了後に前記２つの開閉弁を閉状態とすることにより、前記開弁体及び前記閉弁体の操作を円滑に行うことができる。
【００２１】
第６の発明に係る真空ゲート弁によれば、処理室側とポンプ側との間に設けられた連通路を開閉する真空ゲート弁において、開弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接することで前記連通路を形成させる開弁体と、閉弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接して、前記連通路を遮断させる閉弁体と、前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段と、前記開弁体及び前記閉弁体の前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構と、前記開弁体の前記一対の弁板間に設けられ、かつ前記弁箱内と前記連通路内とを隔離するベローズと、閉弁時に移動した前記開弁体と対応するように前記弁箱に形成され、かつ開閉可能な蓋部を有する点検口と、前記弁箱内と前記処理室内とを連通する配管に設けられた処理室側開閉弁と、前記弁箱内と前記ポンプとを連通する配管に設けられたポンプ側開閉弁とを備えることにより、前記シール面への異物の付着を防ぎ、リークの発生を防止することができるので、真空度の低下を招くことがない。また、前記連通路と前記弁箱内とを隔離することができるので、前記弁箱内への異物の浸入を防ぐことができ、前記弁箱内の堆積物の除去作業が低減できると共に、メンテナンスの長期化を図ることができる。更に、リークのために閉弁ができなくなるという問題がないので、前記処理室内をクリーニングする際にも、前記ポンプを停止させることがないので、前記ポンプを再稼動するまでの時間を要しない。また更に、閉弁時に前記開弁体に付着した異物の堆積具合を点検することが可能であり、異物を除去することもできるので、メンテナンス費用やランニングコストの低減を図ることができる。しかも、前記開弁体及び前記閉弁体が円滑に移動できるので操作性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明に係る真空ゲート弁の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
【００２３】
図１は本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の開弁状態を示す横断面図、図２は本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の開弁状態を示す縦断面図、図３は本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の閉弁状態を示す横断面図、図４は本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の動作を示すものであり、同図（ａ）は閉弁状態，同図（ｂ）は閉弁状態から開弁状態への動作，同図（ｃ）は開弁状態を示した概略図、図５は他の実施例に係る真空ゲート弁の概略図、図６は本発明の一実施例における真空処理装置の概略図である。
【００２４】
図６は、例えばＣＶＴ装置等である真空処理装置１の概略図を示す。真空ゲート弁２は真空処理室３と真空ポンプ４との間に設置され、真空処理室３と真空ポンプ４との間の密閉を図るものである。真空ゲート弁２と真空処理室３とは配管５で連通し、配管５には開閉弁６が設けられている。同様に、真空ゲート弁２と真空ポンプ４とは配管７で連通し、配管７には開閉弁８が設けられている。
【００２５】
この真空ゲートポンプ２について図１乃至３を参照しながら詳細に説明する。
【００２６】
図１乃至３に示すように、真空ゲート弁２は箱状の弁箱１１と、この弁箱１１の上部に配置された円筒状のケース１２とから構成されている。
【００２７】
弁箱１１には真空処理室３と連通する円形の処理室側排気口１３と、真空ポンプ４と連通する円形のポンプ側排気口１４とが形成され、この処理室側排気口１３及びポンプ側排気口１４はシール面１３ａ，１４ａを有している。また、処理室側排気口１３の下方には配管５が接続する処理室側連通口１５が形成されると共に、ポンプ側排気口１４の下方には配管７が接続するポンプ側連通口１６が形成されている。
【００２８】
一方、ケース１２内にはベローズ１７が上下方向に延設されている。このベローズ１７は上端がベロー受け１８に支持されると共に、下端がベロー受け１９に支持されている。ステム２０はこのベローズ１７に挿入され、ケース１２を貫通するように配置されている。また、ベロー受け１８の突起部１８ａはケース１２に開口する長穴２１に挿入され、かつ上下方向に摺動可能になっている。そして、ケース１２の上部にはハンドル（移動手段）２２が設置されており、ハンドル２２のねじ部２２ａとステム２０のねじ部２０ａとは噛み合わさっている。
【００２９】
弁箱１１内に位置するステム２０の下端には一対の上下方向に延設する弁ホルダー２３が設置されている。弁ホルダー２３の上下部には上部ローラホルダー２４と下部ローラホルダー２５が設置されている。即ち、弁ホルダー２３は上部ローラホルダー２４を介してステム２０に支持されている。また、上部ローラホルダー２４及び下部ローラホルダー２５はそれぞれ一対のローラ２６，２７を備えており、このローラ２６，２７は弁箱１１の内壁に当接し、かつ回転可能に支持されている。
【００３０】
弁ホルダー２３の上方には開弁状態に専用で使用する開弁体２８が配置され、一方、下方には閉弁状態に専用で使用する閉弁体３１が配置されている。
【００３１】
開弁体２８は真空処理室３側の処理室側開弁板２９と、真空ポンプ４側のポンプ側開弁板３０とから構成されている。この処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０には、処理室側排気口１３及びポンプ側排気口１４と同径の連通穴２９ａ，３０ａが対向して開口されている。また、連通穴２９ａ，３０ａの周囲には、シール面１３ａ，１４ａに押圧するシール面２９ｂ，３０ｂが形成されている。処理室側開弁板２９とポンプ側開弁板３０との間には、連通穴２９ａ，３０ａ間を連通するベローズ３４が設置されている。そして、この連通穴２９ａ，３０ａとベローズ３４とは連通路３５を形成している。
【００３２】
処理室側開弁板２９とポンプ側開弁板３０とは弁ホルダー２３を前後方向から挟むように設置されている。処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁３０はその両側端部の上下の位置において、弁ホルダー２３に４つリンク部材３６で支持している。
【００３３】
リンク部材３６は２つの板材から構成され、連結部３６ａ及び支持部３６ｂを有している。連結部３６ａは、板材の一端同士が弁ホルダー２３の側端部で重なって連結する部位である。支持部３６ｂは、一方の板材の他端が処理室側開弁板２９の側端部を支持すると共に、他方の板材の他端がポンプ側開弁板３０の側端部を支持する部位である。
【００３４】
同様に、閉弁体３１は真空処理室３側の処理室側閉弁板３２と、真空ポンプ４側のポンプ側閉弁板３３とから構成されている。処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３には、処理室側排気口１３のシール面１３ａ及びポンプ側排気口１４のシール面１４ａに押圧するシール面３２ａ，３３ａが形成されている。この処理室側閉弁板３２とポンプ側閉弁板３３とは弁ホルダー２３を前後方向から挟むように設置されている。処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３はその両側端部の上下の位置において、弁ホルダー２３に４つリンク部材３７で支持されている。
【００３５】
リンク部材３７は２つの板材から構成され、連結部３７ａ及び支持部３７ｂを有している。連結部３７ａは、板材の一端同士が弁ホルダー２３の側端部で重なって連結する部位である。支持部３７ｂは、一方の板材の他端が処理室側閉弁板３２の側端部を支持すると共に、他方の板材の他端がポンプ側閉弁板３３の側端部を支持している。
【００３６】
なお、リンク部材３６は図３に示す位置に開弁体２８が配置されるときには、連結部３６ａが支持部３６ｂよりも上方の位置になるように設置されている。また、リンク部材３７は図１に示す位置に閉弁体３１が配置されるときには、連結部３７ａが支持部３７ｂよりも下方の位置になるように設置されている。
【００３７】
処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０の上端部の中央にはコロ３８が設置されると共に、処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３の下端部の中央にはコロ３９が設置されている。このコロ３８，３９に対向するように弁箱１１の上部及び下部の内壁には、ストッパー部４０，４１が形成されている。
【００３８】
次に、図４（ａ）〜（ｃ）を参照しながら真空ゲート弁２の動作について説明する。
【００３９】
先ず、図４（ａ）を用いて閉弁状態を説明する。
【００４０】
ハンドル２２を回転することによりステム２０が上方に移動すると、弁ホルダー２３も上方に移動する。これにより、開弁体２８は弁箱１１内の上方に移動する。
【００４１】
このとき、リンク部材の３６の連結部３６ａは弁ホルダー２３の移動により上昇し、リンク部材３６の支持部３６ｂは弁箱１１の中央側に移動しながら上昇する。従って、この支持部３６ｂに支持されている処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０も弁箱１１の中央側に移動しながら上昇する。ベローズ３４は、処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０の弁箱１１の中央側への移動により縮まされる。そして、コロ３８がストッパー部４０に当接し、開弁体２８は弁箱１１内の上方に配置される。
【００４２】
更に、弁ホルダー２３が上方に移動すると、連結部３６ａだけが上昇し、処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０はコロ３８の回転により弁箱１１の中央側に更に移動する。
【００４３】
一方、閉弁体３１は、弁ホルダー２３の上方への移動に伴い、処理室側排気口１３及びポンプ側排気口１４に対向する位置に移動する。このとき、リンク部材３７の連結部３７ａが弁ホルダー２３の移動により上昇するので、リンク部材３７の支持部３７ｂは弁箱１１の側壁側に移動する。これにより、この支持部材３７ｂに支持されている処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３は、シール面３２ａを処理室側排気口１３のシール面１３ａに押圧すると共に、シール面３３ａをポンプ側排気口１４のシール面１４ａに押圧する。
【００４４】
従って、弁箱１１と真空処理室３及び真空ポンプ４とを遮断することができる。つまり、真空処理室３と真空ポンプ４との間を密閉することができる。
【００４５】
次に、図４（ｂ）を用いて閉弁状態から開弁状態への動作について説明する。
【００４６】
閉弁状態から開弁状態へ動作させるときは、ハンドル２２を回転することによりステム２０を下方に移動し、弁ホルダー２３を下方に移動させる。これにより、開弁体２８及び閉弁体３１も下方へ移動する。
【００４７】
そして、リンク部材３６の連結部３６ａは弁ホルダー２３の移動により下降し、リンク部材３６の支持部３６ｂは弁箱１１の側壁側に移動しながら下降する。従って、処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０も弁箱１１の側壁側に移動しながら下降する。このとき、ベローズ３４は下方へ移動すると共に、徐々に伸びていく。また、リンク部材３７の連結部３７ａは弁ホルダー２３の移動により下降し、リンク部材３７の支持部３７ｂは弁箱１１の中央側に移動しながら下降する。従って、処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３０も弁箱１１の中央側に移動しながら下降する。
【００４８】
更に、開弁体２８及び閉弁体３１が下方に移動すると、図４（ｃ）に示す開弁状態になる。
【００４９】
次に、図４（ｃ）を用いて開弁状態を説明する。
【００５０】
開弁体２８は、弁ホルダー２３の下方への移動に伴い、処理室側排気口１３及びポンプ側排気口１４に対向する位置に移動する。このとき、処理室側開弁板２９の連通穴２９ａ及びポンプ側開弁板３０の連通穴３０ａは処理室側排気口１３及びポンプ側排気口１４と同じ高さ（位置）に配置される。同時に、リンク部材３６により弁箱１１の側壁側に移動された処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０は、シール面２９ｂを処理室側排気口１３のシール面１３ａに押圧すると共に、シール面３０ｂをポンプ側排気口１４のシール面１４ａに押圧する。また、ベローズ３４も所定の長さに伸ばされる。
【００５１】
一方、閉弁体３１はコロ３８がストッパー部４０に当接し、弁箱１１内の下方に配置される。更に、弁ホルダー２３が下方に移動すると、連結部３７ａだけが下降し、処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３はコロ３９の回転により弁箱１１の中央側に更に移動する。
【００５２】
従って、連通路３５が形成されるので真空処理室３と真空ポンプ４とが連通し、真空ポンプ４による真空処理室４の真空処理を行うことができる。また、排気されたガスが弁箱１１内に浸入することがないので、リークの発生を防止することができる。
【００５３】
ここで、開弁状態から閉弁状態の動作時においては、真空処理室３内及び真空ポンプ４内は真空域であり、弁箱１１内は低圧または大気圧であるため、処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０を容易に移動させることができない場合がある。つまり、処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０を円滑に移動させるには、弁箱１１内も真空域にして、弁箱１１内の圧力と真空処理室３内及び真空ポンプ４内の圧力とを同等にする必要がある。
【００５４】
そこで、開閉弁６を閉弁すると共に開閉弁８を開弁することにより、弁箱１１内と真空処理室３内と真空ポンプ４内との圧力が均一となるので、処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０を円滑に移動させることができる。
【００５５】
同様に、閉弁状態から開弁状態の動作時においては、真空処理室３内及び真空ポンプ４内の圧力と弁箱１１内とに圧力差があるため、処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３を容易に移動することができない場合がある。つまり、処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３を円滑に移動させるには、弁箱１１内の圧力と真空処理室３内の圧力と真空ポンプ４内の圧力とを同等にする必要がある。
【００５６】
そこで、開閉弁６，８を開弁することにより、弁箱１１内と真空処理室３内と真空ポンプ４内との圧力が均一となるので、処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３を円滑に移動させることができる。
【００５７】
また、図５に示すように、閉弁時に移動した処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０と対応する前記弁箱に処理室側点検口４２及びポンプ側点検口４３と形成させてもよい。この点検口４２，４３には蓋部４４，４５が開閉可能に支持されている。図５では、蓋部４４は閉状態を示し、蓋部４５は開状態を示している。これにより、閉弁時において、蓋部４４，４５を開状態にして、処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０と連通路３５に付着した反応生成物の堆積具合を点検することが可能であり、また、反応生成物を除去することができる。よって、メンテナンス費用やランニングコストの低減を図ることができる。更に、蓋部４４，４５を透明な素材で形成させておけば、開状態にしなくても点検ができる。
【００５８】
従って、上述した構成をなすことにより、開弁状態において、弁箱１１内と連通路３５とを隔離することができるので、弁箱１１内への反応生成物の浸入を防ぐことができる。また、開弁状態に専用で使用する開弁体２８と、閉弁状態で使用する閉弁体３１とを備えることにより、開弁状態及び閉弁状態において、常にシール面１３ａ，１４ａがシールされているので、反応生成物の付着を防止することができる。
【００５９】
これにより、リークの発生を防止することができ、真空度の低下を招くこともない。また、弁箱１１内の堆積物の除去作業が低減でき、メンテナンスの長期化を図ることができる。しかも、リークのために閉弁ができなくなるという問題がないので、処理室内をクリーニングする際にも、ポンプを停止させることがないので、装置を再稼動するまでの時間を要しない。
【００６０】
そして、ステム２０が摺動しても、ケース１２内においてベローズ１７を設置することで気密性が低下することがない。しかも、ベロー受け１８の突起部１８ａを長穴２１に挿入しているので、ステム２０の摺動に対して、ベローズ１７が容易に伸縮できるようになっている。また、ローラ２６，２７を設置することにより開弁体２８及び閉弁体３１の上下方向の移動をスムーズにすると共に、コロ３８，３９を設置することにより開弁体２８及び閉弁体３１の弁箱１１の中央側または側壁側への移動をスムーズに行える。
【００６１】
なお、ハンドル２２により開弁体２８及び閉弁体３１を移動できるようにしたが、エアーや油圧を用いたシリンダ等でも構わない。
【００６２】
従って、本発明に係る真空ゲート弁によれば、処理室側排気口１３及びポンプ側排気口１４に設けられた対向するシール面１３ａ及びシール面１４ａを開閉する真空ゲート弁２であって、開弁時にシール面１３ａ，１４ａに当接し、かつ処理室側排気口１３とポンプ側排気口１４との間を連通させる開弁体２８と、閉弁時にシール面１３ａ，１４ａに当接し、かつ処理室側排気口１３とポンプ側排気口１４との間を遮断させる閉弁体３１と、開弁体２８と閉弁体３１とを収納する弁箱１１と、弁箱１１内で開弁体２８と閉弁体３１とをシール面１３ａ，１４ａに対し交換時に移動させるハンドル２２とを備えることにより、シール面１３ａ，１４ａへの反応生成物の付着を防ぎ、リークの発生を防止することができる。
【００６３】
また、開弁体２８に処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０を備えると共に、閉弁体３１に処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３とを備え、処理室側開弁板２９のシール面２９ｂ及びポンプ側開弁板３０のシール面３０ｂ、または処理室側閉弁板３２のシール面３２ａ及びポンプ側閉弁板３３シール面３３ａをシール面１３ａ及びシール面１４ａに着脱にするリンク部材３６，３７を備えることにより、開閉時においてシール面１３ａ，１４ａをシールすることができるので、リークの発生を防止することができる。
【００６４】
また、処理室側開弁板２９とポンプ側開弁板３０との間にベローズ３４を備えることにより、連通路３５と弁箱１１内とを隔離することができるので、弁箱１１内への反応生成物の浸入を防ぐことができ、リークの発生を防止することができる。
【００６５】
また、弁箱１１に開閉可能な蓋部４４，４５を有する点検口４２，４３を形成すると共に、該点検口４２，４３を閉弁時に移動した処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０と対向する位置に設けることにより、閉弁時に処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０と連通路３５に付着した反応生成物の堆積具合を点検することが可能となり、また、反応生成物を容易に除去することができるので、メンテナンス費用やランニングコストの低減を図ることができる。
【００６６】
更に、開弁状態から閉弁状態または閉弁状態から開弁状態に操作するときに、開閉弁６，８の少なくともどちらか一方を開状態とし、操作終了後に開閉弁６，８を閉状態とすることにより、弁箱１１内と真空処理室３内または真空ポンプ４内との圧力が均一となるので、開弁板２９，３０及び閉弁板３２，３３の操作を円滑に行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
開弁状態で使用する弁体と、閉弁状態で使用する弁体との２つの弁体を備える真空ゲート弁に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の開弁状態を示す横断面図である。
【図２】本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の開弁状態を示す縦断面図である。
【図３】本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の閉弁状態を示す横断面図である。
【図４】本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の動作を示すものであり、（ａ）は閉弁状態，（ｂ）は閉弁状態から開弁状態への動作，（ｃ）は開弁状態を示した概略図である。
【図５】本発明の他の実施例に係る真空ゲート弁の概略図である。
【図６】本発明の一実施例における真空処理装置の概略図である。
【符号の説明】
【００６９】
１      真空処理装置
２      真空ゲート弁
３      真空処理室
４      真空ポンプ
５，７      配管
６，８      開閉弁
１１      弁箱
１２      ケース
１３      処理室側排気口
１３ａ      シール面
１４      ポンプ側排気口
１４ａ      シール面
１５      処理室側連通路
１６      ポンプ側連通路
１７，３４      ベローズ
１８，１９      ベロー受け
１８ａ      突起部
２０      ステム
２０ａ      ねじ部
２１      長穴
２２      ハンドル
２２ａ      ねじ部
２３      弁ホルダー
２４      上部ローラホルダー
２５      下部ローラホルダー
２６，２７      ローラ
２８      開弁体
２９      処理室側開弁板
２９ａ      連通穴
２９ｂ      シール面
３０      ポンプ側開弁板
３０ａ      連通穴
３０ｂ      シール面
３１      閉弁体
３２      処理室側閉弁板
３２ａ      シール面
３３      ポンプ側閉弁板
３３ａ      シール面
３５      連通路
３６，３７      リンク部材
３６ａ，３７ａ      連結部
３６ｂ，３７ｂ      支持部
３８，３９      コロ
４０，４１      ストッパー部
４２      処理室側点検口
４３      ポンプ側点検口
４４，４５      蓋部
【図１】
2006038121.tif 000003
【図２】
2006038121.tif 000004
【図３】
2006038121.tif 000005
【図４】
2006038121.tif 000006
【図５】
2006038121.tif 000007
【図６】
2006038121.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月8日(2005.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
半導体製造工程における層間絶縁膜積層技術であるＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition：化学的気相堆積法）プロセスでは、材料ガスを様々な方法（プラズマ，熱，光等）で反応させた反応生成膜をシリコンウエハー上に積層させる。しかし同時に、チャンバーの内壁や電極、配管内及び真空ゲート弁の弁箱内にも反応生成物が堆積する。特に、真空ゲート弁においては、その堆積した反応生成物により弁リークの発生や弁の可動不良を招き、真空ゲート弁としての機能を発揮できない場合がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
しかしながら、上述した従来の真空ゲート弁においては、完全にリークを防止しようとするものではない。このために、反応生成物がシール面だけではなく、弁板や弁箱内に付着するので、チャンバー内の真空度の低下を招くと共に、クリーニング作業の負担を大きくしてしまう。更に、リークのために閉弁ができなくなると、仮に、チャンバー内の堆積物を除去しようとすると、チャンバー側と真空ポンプ側とを遮断できないので、真空ポンプを一時停止しなくてはならないので、ＣＶＤ装置を再稼動するときには、チャンバー内の真空度が上がるまで時間がかかってしまい、膨大な時間を要していた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図６は、例えばＣＶＤ装置等である真空処理装置１の概略図を示す。真空ゲート弁２は真空処理室３と真空ポンプ４との間に設置され、真空処理室３と真空ポンプ４との間の密閉を図るものである。真空ゲート弁２と真空処理室３とは配管５で連通し、配管５には開閉弁６が設けられている。同様に、真空ゲート弁２と真空ポンプ４とは配管７で連通し、配管７には開閉弁８が設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
この真空ゲート弁２について図１乃至３を参照しながら詳細に説明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
そして、リンク部材３６の連結部３６ａは弁ホルダー２３の移動により下降し、リンク部材３６の支持部３６ｂは弁箱１１の側壁側に移動しながら下降する。従って、処理室側開弁板２９及びポンプ側開弁板３０も弁箱１１の側壁側に移動しながら下降する。このとき、ベローズ３４は下方へ移動すると共に、徐々に伸びていく。また、リンク部材３７の連結部３７ａは弁ホルダー２３の移動により下降し、リンク部材３７の支持部３７ｂは弁箱１１の中央側に移動しながら下降する。従って、処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３も弁箱１１の中央側に移動しながら下降する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
一方、閉弁体３１はコロ３９がストッパー部４１に当接し、弁箱１１内の下方に配置される。更に、弁ホルダー２３が下方に移動すると、連結部３７ａだけが下降し、処理室側閉弁板３２及びポンプ側閉弁板３３はコロ３９の回転により弁箱１１の中央側に更に移動する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
従って、連通路３５が形成されるので真空処理室３と真空ポンプ４とが連通し、真空ポンプ４による真空処理室３の真空処理を行うことができる。また、排気されたガスが弁箱１１内に浸入することがないので、リークの発生を防止することができる。