(57)【要約】【課題】浮力のばらつきが小さい傾斜部構造を有するスライダと、当該傾斜部を精度よく、ばらつきを抑えて、効率的に製造できるスライダの製造方法を提供する。【解決手段】スライダは、記録媒体と対向する媒体対向面に凸部として設けられるリードライト部２４と、空気流流入方向側に位置する凹部２６とを接続する傾斜部６とを有している。傾斜部６は、リードライト部２４の表面と接続されている略直線状の第一の傾斜部６１と、凹部２６と接続されている略直線状の第二の傾斜部６２とを備え、第一の傾斜部の凹部２６に対する第一の傾斜角θ１が、第二の傾斜部６２の凹部２６に対する第二の傾斜角θ２よりも大きく形成されている。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体と対向する媒体対向面に凸部として設けられ、該記録媒体への情報の書込みをおこなう書込み素子と、該記録媒体からの情報の読出しをおこなう読込み素子の少なくとも一方が設けられたリードライト部と、
前記リードライト部と、前記媒体対向面の凹部であって前記記録媒体が回転駆動されるときの空気流流入方向側に位置する凹部とを接続する傾斜部であって、該リードライト部との接続位置と該凹部との接続位置とを結ぶ直線が該リードライト部の表面に対して９０°を越える角度をなすように形成されている傾斜部とを有し、
前記傾斜部は、前記リードライト部の表面と接続されている略直線状の第一の傾斜部と、前記凹部と接続されている略直線状の第二の傾斜部とを備え、該第一の傾斜部の該凹部に対する第一の傾斜角が、該第二の傾斜部の該凹部に対する第二の傾斜角よりも大きい、スライダ。
【請求項２】
前記第一の傾斜角は、２５°以上、３５°以下の範囲に形成され、
前記第二の傾斜角は、８°以上、１５°以下の範囲に形成されている、請求項１に記載のスライダ。
【請求項３】
前記第一の傾斜部の高さは、前記リードライト部と前記凹部の表面間の高さの１／２０以上、１／８以下である、請求項２に記載のスライダ。
【請求項４】
前記傾斜部の前記空気流流入方向の長さは、前記凸部の高さの４倍以上、６倍以下である、請求項３に記載のスライダ。
【請求項５】
前記第一の傾斜角は、７０°以上、９０°以下の範囲に形成され、
前記第二の傾斜角は、２°以上、５°以下の範囲に形成されている、請求項１に記載のスライダ。
【請求項６】
前記第一の傾斜部の高さは、前記リードライト部と前記凹部の表面間の高さの１／５以上、１／４以下である、請求項５に記載のスライダ。
【請求項７】
前記傾斜部の前記空気流流入方向側の長さは、前記凸部の高さの１４倍以上、２０倍以下である、請求項６に記載のスライダ。
【請求項８】
前記第一の傾斜部と前記第二の傾斜部との間に少なくとも一つの中間傾斜部を有し、
前記中間傾斜部の各々は、前記第一の傾斜部から前記第二の傾斜部まで、順次互いに接続され、各々の前記凹部に対する傾斜角が、前記第一の傾斜部に接続された前記中間傾斜部から前記第二の傾斜部に接続された前記中間傾斜部に向けて、前記第一の傾斜角よりも順次小さくなり、かつ前記第二の傾斜角よりは大きくなるように形成されている、請求項１から７のいずれか１項に記載のスライダ。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載され、前記記録媒体に対向して配置されるスライダと、
前記スライダを弾性的に支持するサスペンションと
を有するヘッドジンバルアセンブリ。
【請求項１０】
請求項１から８のいずれか１項に記載され、回転駆動される円盤状の記録媒体に対向して配置されるスライダと、
前記スライダを支持するとともに前記記録媒体に対して位置決めする位置決め装置と
を有するハードディスク装置。
【請求項１１】
基板と、該基板の記録媒体と対向する媒体対向面に凸部として設けられ、該記録媒体への情報の書込みをおこなう書込み素子と、該媒体対向面の凹部であって該記録媒体が回転駆動されるときの空気流流入方向側に位置する凹部とを接続する傾斜部であって、該リードライト部との接続位置と該凹部との接続位置とを結ぶ直線が該リードライト部の表面に対して９０°を越える角度をなすように形成される傾斜部とを有するスライダの製造方法であって、
前記基板上の前記リードライト部が形成された部分に保護層を形成する、保護層形成ステップと、
前記保護層が形成された基板を、ＣＦ4ガスを含む第一の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、該基板の、前記空気流流入方向側の該保護層の基部に隣接する部分に、前記リードライト部の表面と接続される略直線状の第一の傾斜部を形成する、第一の傾斜部形成ステップと、
前記第一の傾斜部が形成された前記基板を、ＣＦ4ガスとＣ2Ｈ2ガスとを含む第二の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、該第一の傾斜部の表面上、および、該第一の傾斜部に隣接して前記保護層の反対方向に延びる該基板の表面上に堆積物を堆積させる、堆積ステップと、
前記堆積物が堆積した前記基板を、前記第二の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、前記凹部、および該凹部の表面と接続される略直線状の第二の傾斜部を、前記凹部に対する傾斜角が前記第一の傾斜部の前記凹部に対する傾斜角よりも小さくなるように形成する、第二の傾斜部形成ステップと
を有する、スライダの製造方法。
【請求項１２】
前記第一の傾斜部形成ステップは、反応ガスにＡｒガスをさらに含んでいる、請求項１１に記載のスライダの製造方法。
【請求項１３】
前記第一の傾斜部形成ステップは、前記保護層形成ステップが終了した状態のまま、反応ガスを前記第二の反応ガスに変更し、１０〜４５秒間エッチングをおこなうことを含んでいる、請求項１１または１２に記載のスライダの製造方法。
【請求項１４】
前記第二の傾斜部形成ステップは、前記第一の傾斜部形成ステップの終了後、引き続き１〜１０分間エッチングをおこなうことを含んでいる、請求項１３に記載のスライダの製造方法。
【請求項１５】
前記第二の傾斜部形成ステップは、反応ガスを前記第二の反応ガスのままでエッチングをおこなう、請求項１４に記載のスライダの製造方法。
【請求項１６】
前記第二の傾斜部形成ステップの終了後、有機系溶液により前記保護膜を除去するステップを有する、請求項１１から１５のいずれか１項に記載のスライダの製造方法。
【請求項１７】
前記第二の傾斜部形成ステップの終了後、前記堆積物をＯ2ガスによって除去するステップを有する、請求項１１から１６のいずれか１項に記載のスライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主に、ハードディスクドライブに用いられるスライダおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高速、大容量、高信頼性、低コストの記録媒体としてハードディスクドライブが、デジタル情報の記録に広く用いられており、長年の技術開発によりハードディスクドライブの記録密度は、１００ギガビット／平方インチを超えつつある。ハードディスクドライブには、アームと、アームの先端に設けられたヘッドジンバルアセンブリとを有するヘッドアームアセンブリが、記録媒体である磁気ディスクの枚数に応じて複数個設けられている。ヘッドジンバルアセンブリは磁気ヘッドスライダ（以下、スライダという。）を有し、スライダは、記録媒体への情報の書込みをおこなう書込み素子と、記録媒体からの情報の読出しをおこなう読込み素子の少なくとも一方が設けられたリードライト部を有している。リードライト部はスライダの一端部に設けられている。スライダが記録媒体と対向する面は媒体対向面（ＡＢＳ）と呼ばれる。
【０００３】
スライダが記録媒体への情報の記録・再生をおこなう際には、スライダと高速回転する記録媒体との間に空気流が流入する。空気流は、リードライト部の設けられている端部の反対側の端部から流入し、リードライト部の設けられた端部からスライダ外へと抜ける。スライダはこの空気流によって、記録媒体からわずかに浮上する。このように空気流によって浮上しているときのＡＢＳと記録媒体の表面との距離は浮上量と呼ばれている。
【０００４】
浮上量が小さくなると記録媒体のビット長が短くなるため、記録媒体の高密度化には浮上量の低減が有効である。このため、ハードディスクドライブの近年のさらなる高記録密度化の要求に応じ、浮上量をより一層抑えることが要求されている。
【０００５】
ところで、スライダの媒体対向面には、スライダと記録媒体との間に適切に空気流を流入させるために、空気の流れを整える凹凸部が形成されている。凸部は、リードライト部と、空気流流入方向に延びるレール部とを含んでいる。しかし、リードライト部と凹部とが９０°に近い角度で、すなわちほぼ直角に形成されたエッジ部で接続されると、エッジ部の壁面の近傍で渦流が発生し、空気の流れが不安定となるだけでなく、エッジ部の欠落が起こりやすくなり好ましくない。そのため、リードライト部と凹部との間は傾斜部で接続されることがある。傾斜部を設けることによって、空気流は傾斜部に沿って、リードライト部と記録媒体との間の微小空間にスムーズに流入する。傾斜部は、曲面段傾斜構造とされる場合もある（特許文献１，特許文献２の図３（ｄ）参照。）。
【０００６】
このような傾斜部を形成するためには、イオンミリングが用いられる。イオンミリングとは、イオン源チャンバー内で発生させたプラズマ中のイオンを引出電極によってイオンビームとして引き出し、スライダの製造工程で基板等の被加工物の表面をミリングする方法である。イオンビームの進行方向と被加工物表面の法線との角度を９０度以外に設定し（すなわち、イオンビームを斜め入射させ）、被加工物を法線のまわりで回転させることによって、イオンビームがレジストの陰になる部分が生じ、傾斜部を容易に形成することができる。傾斜部の形成には、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）が用いられることもある（特許文献３参照）。ＲＩＥでは、反応性ガス（ＣＦ4、ＣＨ2、Ｈ2など）雰囲気でミリングを行うことで、エッチング速度を増加させることができる。
【特許文献１】特開２００１−２２９５１４号公報
【特許文献２】特開２００２−３１２９１６号公報
【特許文献３】特開２００３−３２３７０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述の通り、スライダの浮上量を抑えることは、ハードディスクドライブの高記録密度化を達成する上で重要である。そのためには、空気流をよりスムーズに制御することが重要であり、傾斜部を単なる平面や曲面ではなく、より最適化された形状とすることが望ましい。
【０００８】
一方、スライダの浮上量を抑えるためには浮上量のばらつきを抑えることも重要である。そのためには、大きな浮力が発生する傾斜部の裾の長さ（すなわち斜面の長さ）のばらつきを抑えることが重要であり、傾斜部を精度よく、ばらつきなく製造することが望まれる。従来技術においては、このような観点から、傾斜部の角度の調整や、曲面傾斜部の形成が容易なイオンミリング法が使われてきた。しかし、イオンミリング法は、傾斜部の長さの製造上のばらつきが目標長さに対して２倍〜５倍に達することがあり、浮上量のばらつきが大きくなっていた。また、硬度の高いセラミクスの形成に使用すると、エッチング速度が非常に遅く、生産性が低下するという問題があった。
【０００９】
また、ＲＩＥは、イオンの入射方向によってエッチングの方向を決定できるイオンミリングとは異なり、反応性ガスによる化学エッチングを利用しているため、エッチング方向を制御することができず、傾斜部の角度の調整や、特殊形状の斜面構造の形成は困難であった。すなわち、ＲＩＥでは、高周波電力を印加してからプラズマが安定するまでに数秒間を要し、その間に１０ｎｍ以上エッチングが進んでしまい、この不安定期間中のエッチングがばらつきの原因となり、上述のような斜面構造を精度よく形成することは困難であった。
【００１０】
本発明の目的は、上記の状況を踏まえ、浮力のばらつきが小さい傾斜部構造を有するスライダと、当該傾斜部を精度よく、ばらつきを抑えて、効率的に製造できるスライダの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明のスライダは、記録媒体と対向する媒体対向面に凸部として設けられ、記録媒体への情報の書込みをおこなう書込み素子と、記録媒体からの情報の読出しをおこなう読込み素子の少なくとも一方が設けられたリードライト部と、リードライト部と、媒体対向面の凹部であって記録媒体が回転駆動されるときの空気流流入方向側に位置する凹部とを接続する傾斜部であって、リードライト部との接続位置と凹部との接続位置とを結ぶ直線がリードライト部の表面に対して９０°を越える角度をなすように形成されている傾斜部とを有している。そして、傾斜部は、リードライト部の表面と接続されている略直線状の第一の傾斜部と、凹部と接続されている略直線状の第二の傾斜部とを備え、第一の傾斜部の凹部に対する第一の傾斜角が、第二の傾斜部の凹部に対する第二の傾斜角よりも大きく形成されている。
【００１２】
傾斜部はこのように、空気流流入方向側側の凹部からリードライト部に向かって滑らかに形成されているので、空気流は、リードライト部と媒体対向面との間に形成される微小空間に安定的に流入し、スライダの浮上量のばらつきを抑えることができる。
【００１３】
一つの実施態様では、第一の傾斜角は、２５°以上、３５°以下の範囲に形成され、第二の傾斜角は、８°以上、１５°以下の範囲に形成されていることが好ましい。第一の傾斜部の高さは、リードライト部と凹部の表面間の高さの１／２０以上、１／８以下であることが好ましく、傾斜部の空気流流入方向の長さは、凸部の高さの４倍以上、６倍以下であることが好ましい。
【００１４】
また、他の実施態様では、第一の傾斜角は、７０°以上、９０°以下の範囲に形成され、第二の傾斜角は、２°以上、５°以下の範囲に形成されていることが好ましい。第一の傾斜部の高さは、リードライト部と凹部の表面間の高さの１／５以上、１／４以下であることが好ましく、傾斜部の空気流流入方向側の長さは、凸部の高さの１４倍以上、２０倍以下であることが好ましい。
【００１５】
本発明のスライダは、第一の傾斜部と第二の傾斜部との間に少なくとも一つの中間傾斜部を有し、中間傾斜部の各々は、第一の傾斜部から第二の傾斜部まで、順次互いに接続され、各々の凹部に対する傾斜角が、第一の傾斜部に接続された中間傾斜部から第二の傾斜部に接続された中間傾斜部に向けて、第一の傾斜角よりも順次小さくなり、かつ第二の傾斜角よりは大きくなるように形成されていてもよい。
【００１６】
本発明のヘッドジンバルアセンブリは、記録媒体に対向して配置される上述のスライダと、スライダを弾性的に支持するサスペンションとを有している。
【００１７】
本発明のハードディスク装置は、回転駆動される円盤状の記録媒体に対向して配置される上述のスライダと、スライダを支持するとともに記録媒体に対して位置決めする位置決め装置とを有している。
【００１８】
本発明のスライダの製造方法は、基板と、基板の記録媒体と対向する媒体対向面に凸部として設けられ、記録媒体からの情報の読出しをおこなう読込み素子の少なくとも一方が設けられたリードライト部と、記録媒体への情報の書込みをおこなう書込み素子と、媒体対向面の凹部であって記録媒体が回転駆動されるときの空気流流入方向側に位置する凹部とを接続する傾斜部であって、リードライト部との接続位置と凹部との接続位置とを結ぶ直線がリードライト部の表面に対して９０°を越える角度をなすように形成される傾斜部とを有するスライダの製造方法である。本製造方法は、基板上のリードライト部が形成された部分に保護層を形成する保護層形成ステップと、保護層が形成された基板を、ＣＦ4ガスを含む第一の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、基板の、空気流流入方向側の保護層の基部に隣接する部分に、リードライト部の表面と接続される略直線状の第一の傾斜部を形成する、第一の傾斜部形成ステップと、第一の傾斜部が形成された基板を、ＣＦ4ガスとＣ2Ｈ2ガスとを含む第二の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、第一の傾斜部の表面上、および、第一の傾斜部に隣接して保護層の反対方向に延びる基板の表面上に堆積物を堆積させる、堆積ステップと、堆積物が堆積した基板を、第二の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、凹部、および凹部の表面と接続される略直線状の第二の傾斜部を、凹部に対する傾斜角が第一の傾斜部の凹部に対する傾斜角よりも小さくなるように形成する、第二の傾斜部形成ステップとを有している。
【００１９】
このように、ＣＦ4ガスを含む第一の反応ガスでエッチングして第一の傾斜部を形成した後、ＣＦ4ガスとＣ2Ｈ2ガスとを含む第二の反応ガスでエッチングすることによって、Ｃ2Ｈ2ガスによって生成されたカーボンおよびＤＬＣが第一の傾斜部やその周辺の基板に堆積する。この堆積物は、引き続き行なわれる第二の傾斜部形成ステップにおいて、堆積物の下方にある第一の傾斜部や基板を保護するので、エッチングの進行が堆積物で覆われていない基板に比べて遅くなる。このため、上述したような形状の傾斜部を形成することができる。
【００２０】
第一の傾斜部形成ステップは、反応ガスにＡｒガスをさらに含んでいてもよい。
【００２１】
第一の傾斜部形成ステップは、保護層形成ステップが終了した状態のまま、反応ガスを第二の反応ガスに変更し、１０〜４５秒間エッチングをおこなうことが好ましい。
【００２２】
また、第二の傾斜部形成ステップは、第一の傾斜部形成ステップの終了後、引き続き１〜１０分間エッチングをおこなうことが好ましく、第二の傾斜部形成ステップは、反応ガスを第二の反応ガスのままでエッチングをおこなうことが好ましい。
【００２３】
第二の傾斜部形成ステップの終了後、有機系溶液により保護膜を除去するステップを有していてもよい。また、第二の傾斜部形成ステップの終了後、堆積物をＯ2ガスによって除去するステップを有していてもよい。
【発明の効果】
【００２４】
以上説明したように、本発明のスライダによれば、傾斜部を２つ以上の角度を持つ面を組み合わせた多段傾斜構造とすることで、浮力のばらつきが小さい傾斜部構造を有するスライダを提供することができる。また、本発明のおよびスライダの製造方法によれば、このような多段斜面構造を、反応性イオンエッチング法で精度よく製造できるので、製造時間の短縮など製造効率の向上も可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、図面を参照して、本発明のスライダおよびスライダの製造方法について詳細に説明する。図１には、スライダを先端に有するヘッドアームアセンブリの斜視図を示している。ヘッドアームアセンブリ１は、ハードディスク装置（図１１参照）の内部に、ディスクの枚数に応じて複数個設けられている。ヘッドアームアセンブリ１は、アーム１１と、アーム１１の先端に設けられたヘッドジンバルアセンブリ２とを有しており、アーム１１の他端は回転する軸１２に支持されている。ヘッドジンバルアセンブリ２は、薄膜磁気ヘッド部２８（図２参照）を有するスライダ２１と、スライダ２１を支持するフレクシャ２２と、フレクシャ２２をアーム１１に接続するロードビーム２３とを有している。ヘッドアームアセンブリ１は、軸１２を中心に回転し、記録媒体Ｐに対してスライダ２１を所定の位置に位置決めする。ロードビーム２３と、ロードビーム２３をアーム１１に取り付けるベースプレート２３ａとを合わせて、サスペンションと呼ばれることもある。図１においては、スライダ２１は記録媒体Ｐの下側に設けられているが、記録媒体Ｐの上側にも同様のヘッドアームアセンブリが設置されている。
【００２６】
図２には、スライダを媒体対向面ＡＢＳからみた斜視図を示す。スライダ２１は、図１と同様に斜め上から見下ろす向きで表示されており、スライダ２１の上方に、回転駆動される円盤状の記録媒体Ｐが設けられている。図１、２におけるｘ方向は、記録媒体Ｐのトラック横断方向、ｚ方向は記録媒体Ｐの円周方向で、記録媒体Ｐの回転中は空気流流入方向となる。
【００２７】
スライダ２１は、基板２７と、積層体からなる薄膜磁気ヘッド部２８とを有している。スライダ２１はほぼ六面体形状をなし、六面のうちの一面が記録媒体Ｐと対向する媒体対向面ＡＢＳを形成している。媒体対向面ＡＢＳには、薄膜磁気ヘッド部２８の読み込み・書き込み素子が設けられたリードライト部２４と、レール部２５ａ、２５ｂとが設けられ、これらは媒体対向面ＡＢＳの凸部２９を形成している。リードライト部２４の空気流流入方向には、リードライト部２４に接続された傾斜部６が形成されている。残りの部分は、媒体対向面ＡＢＳの凹部２６を形成し、傾斜部６は、凹部２６の空気流流入方向側に接続されている。
【００２８】
記録媒体Ｐが回転すると、空気流は、スライダ２１の空気流流入方向側から進入し、薄膜磁気ヘッド部２８が設けられた記録媒体進行方向ｚの下流側端部からスライダ２１外へ抜ける。すなわち、空気流は、レール部２５ｂと記録媒体Ｐとの間のわずかな隙間に入り、レール部２５ａ，２５ｂと傾斜部６で整流され、リードライト部２４と記録媒体Ｐとの間の隙間に入る。この空気流によって、図１、２のｙ方向下向きの揚力が生じ、スライダ２１は、記録媒体Ｐの表面から浮上する。
【００２９】
図３には、図２に示すスライダの、同図中３−３線に沿った断面図を示す。図３において、記録媒体Ｐ（図示せず）は、媒体対向面ＡＢＳの図面上側に、図面と垂直な方向に広がっている。薄膜磁気ヘッド部２８は、記録媒体Ｐから磁気記録を読み出す磁気抵抗効果素子と、記録媒体Ｐに磁気記録の書き込みを行なう誘導型磁気変換素子とを有しているが、いずれか一方だけを有していてもかまわない。誘導型磁気変換素子は、記録媒体Ｐの面内方向への記録を行なう水平記録方式と、記録媒体Ｐの面外方向への記録を行なう垂直記録方式のいずれでもよい。
【００３０】
薄膜磁気ヘッド部２８は、図中右側の、アルティック（Ａｌ2Ｏ3・ＴｉＣ）等のセラミック材料からなる基板２７から、図中左側に向けて順次積層されて構成されている。基板２７の上（図中では左側。以下同じ。）には、絶縁層を介して、例えばパーマロイ（ＮｉＦｅ）からなるシールド層３１が形成されている。シールド層３１の上には読み込み素子であるＭＲ素子３２が、媒体対向面ＡＢＳに面して設けられている。ＭＲ素子３２としては、ＡＭＲ（異方性磁気抵抗効果）素子、ＧＭＲ（巨大磁気抵抗効果）素子、またはＴＭＲ（トンネル磁気抵抗効果）素子等の磁気抵抗効果を示す感磁膜を用いた素子を用いることができる。また、ＭＲ素子３２には、読み取った信号を送る一対のリード層（図示せず）が接続されている。
【００３１】
ＭＲ素子３２の上には、例えば、パーマロイやＣｏＮｉＦｅ等の、めっき法によって成膜可能な磁性材料からなる下部磁極層３３が形成されている。下部磁極層３３は、記録ヘッドの下部磁極層としての機能と、再生ヘッド（ＭＲ素子３２）の上部シールド層としての機能を兼ねている。
【００３２】
下部磁極層３３の上には、絶縁のための記録ギャップ３４を介して、上部磁極層３５が設けられている。記録ギャップ３４の材料としては、例えば、ＮｉＰ等のめっき法によって成膜可能な非磁性金属材料が用いられる。上部磁極層３５の材料としては、例えば、パーマロイやＣｏＮｉＦｅ等のめっき法によって成膜可能な磁性材料が用いられ、特に、高飽和磁束密度材料が好ましい。下部磁極層３３と上部磁極層３５は接続部３６によって接続され、全体で１個のＵ字型導体を形成している。
【００３３】
上部磁極層３５と下部磁極層３３との間の、媒体対向面ＡＢＳと接続部３６との間には、銅等の導電性材料からなる２段積みのコイル３７ａ、３７ｂが設けられている。コイル３７ａ、３７ｂは接続部３６を中心に巻回して設けられ、上部磁極層３５と下部磁極層３３とに磁束を供給する。コイル３７ａは絶縁層３８に、コイル３７ｂは絶縁層３９、４０に取り囲まれて周囲から絶縁されている。コイル３７ｂには外部からの電流信号を受けるリード層（図示せず）が接続している。上部磁極層３５とリード層とを覆うように、オーバーコート層４１が形成されている。オーバーコート層４１の材料には、例えばアルミナ等の絶縁材料が用いられる。
【００３４】
媒体対向面ＡＢＳは、レール部２５ａが記録媒体Ｐに対して最も突出し、リードライト部２４は、レール部２５ａよりも１〜３ｎｍほど記録媒体Ｐに対して引込んでいる。レール部２５ａ、２５ｂの段差は必ずしも必要ではない。媒体対向面ＡＢＳには、ＳｉとＤＬＣ(Diamond like carbon；ダイヤモンド状炭素)との混合膜からなる厚さ１〜４ｎｍ程度の保護膜４２が形成されている。スライダ２１の媒体対向面ＡＢＳの裏面４３はスライダ２１を支持するフレクシャ２２との接触面となる。
【００３５】
図４（ａ）には、図３のＡ部に示す傾斜部のｙｚ面（図２参照）と平行な面内における部分拡大断面図を示す。傾斜部６は、リードライト部２４と、記録媒体が回転駆動されるときの空気流流入方向側の凹部２６とを接続する直線Ｌが、リードライト部２４の表面に対して９０°を越える角度αをなすように形成されている。傾斜部６は略直線状の第一の傾斜部６１と、略直線状の第二の傾斜部６２とを有している。第一の傾斜部６１はリードライト部２４の表面と交差角θ１で接続し、第二の傾斜部６２は一方が第一の傾斜部６１と接続し、他方が凹部２６と交差角θ２で接続している。図４（ｂ）は従来技術による傾斜部の部分拡大図を示すが、本実施形態のスライダにおいては、交差角θ１は交差角θ２より大きい。また、図中に示す交差角θ１，θ２、リードライト部２４と凹部２６との段差ｄ、リードライト部２４と、第一，第二の傾斜部６１，６２の交点６３との段差ｄ１、傾斜部長さｓは、表１に示す範囲が好ましい。なお、交差角θ１は、第一の傾斜部６１とリードライト部２４の表面とのなす角度β１の補角であり、交差角θ２は、第二の傾斜部６２と凹部２７の表面とのなす角度β２の補角である。換言すれば、第一の傾斜部６１の凹部２６または凹部２６の延長線に対する第一の傾斜角（交差角θ１に等しい）が、第二の傾斜部６２の凹部２６または凹部２６の延長線に対する第二の傾斜角（交差角θ２に等しい）よりも大きいということである。
【００３６】
【表１】
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これらの２ケースの形状をレール２５ａの設計にあわせて使い分けることで、より安定に浮上するスライダを製造することができる。
【００３７】
また、傾斜部の形状は上述した２段傾斜構造に限定されず、３段以上の多段傾斜構造も可能である。この場合、スライダは、第一の傾斜部と第二の傾斜部との間に少なくとも一つの中間傾斜部を有し、中間傾斜部の各々は、凹部２６に対する傾斜角が、第一の傾斜部から第二の傾斜部に向けて、第一の傾斜角よりも順次小さくなり、かつ第二の傾斜角よりは大きくなるように形成される。
【００３８】
また、リードライト部の形状も上述した構造に限定されず、２段以上の多段構造であっても良い。
【００３９】
次に、以上説明したスライダの製造方法、特に傾斜部の形成方法を図５のフロー図を参照して説明する。
【００４０】
（ステップ５１）まず、図６（ａ）のように、ウエハ７１の上に多数個の薄膜磁気ヘッド部２８を薄膜工程によって積層し、図６（ｂ）のように、ウエハ７１を短冊状の複数のバー７２に切断する。なお、ウエハ７１および切断されたバー７２には、次のステップ５２における媒体対向面ＡＢＳの研磨量を管理するため、あらかじめ複数の薄膜磁気ヘッド部２８ごとに１つの測定素子７３が設けられている。
【００４１】
（ステップ５２）次に、バー７２の裏面４３を研磨する。研磨作業は例えば、ダイヤモンド砥粒を含む水溶性または油性のラップ液を供給しながら、回転する研磨台上にバー７２を固定し、裏面４３を押し当てておこなわれる。これによって裏面４３が平滑化され、完成したスライダ２１がフレクシャ２２に確実に固定される。
【００４２】
（ステップ５３）次に、媒体対向面ＡＢＳを研磨する。この研磨作業は、図７に示すように、ＭＲ素子３２のＭＲ高さ（ＭＲ素子の媒体対向面ＡＢＳから反対側の端部までの高さ）をあらかじめ余裕をもって形成しておき、媒体対向面ＡＢＳを研磨することによって所定のＭＲ高さを形成するためにおこなわれる。研磨作業は例えば、Ｓｎ（スズ）からなる円板の表面にダイヤモンド砥粒を埋め込んで形成された研磨板の表面に、バー７２の媒体対向面ＡＢＳを押し当てておこなわれる。これによって、媒体対向面ＡＢＳの位置は本ステップ開始前に比べて全体的に内側（コイル３７ａ等のある側）移動する。
【００４３】
（ステップ５４）次に、図８に示すように、媒体対向面ＡＢＳに凹凸部を形成する。具体的には、媒体対向面ＡＢＳの一部をＲＩＥによって除去し、凹部２６とレール部２５ｂと、傾斜部６を形成する。このうち、傾斜部６の形成方法について、表１のケース２の形状を形成する場合を例に、図９を参照して詳細に説明する。
【００４４】
まず、図９（ａ）に示すように、基板２７の上にレール２５ａやリードライト部２４をエッチングから保護するためのレジスト６９を形成する。
【００４５】
次に、図９（ｂ）に示すように、ＲＩＥの第一ステップとして、一部がレジスト６９で覆われた基板２７を、ＲＩＥでエッチングする。エッチング条件は表２の第一ステップの欄に示す。反応ガスにはＣＦ4を用いるが、ＣＦ4に不活性ガスＡｒを加えた混合ガスを使用してもよい。このステップによって、第一の傾斜部６１が形成される。第一の傾斜部６１の角度は、ＲＩＥ装置の各条件（拡散チャンバー内気圧、ＣＦ4ガス流量、Ａｒガス流量、コイル電流など）やレジスト６９の厚みによって調整することができる。なお、本製造方法の各ステップにおけるＲＩＥは、ヘリコン波プラズマ方式、平行平板方式、マグネトロン方式、２周波励磁方式、ＥＣＲ（Electron Cyclotron Resonance）方式、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）方式などを適宜選択できる。
【００４６】
次に、ＲＩＥの第二のステップとして、第一ステップが終了した状態のまま、ＲＩＥの条件を表２の第二ステップの条件に変更する。この変更直後から１０〜４５秒後に、図９（ｃ）のように、第一ステップで形成された第一の傾斜部６１の周辺に堆積物６８が形成される。この堆積物６８は、第二ステップの条件で新たに加えたＣ2Ｈ2ガスによって生成されたカーボンおよびＤＬＣである。この堆積物６８は、基板２７およびレジスト６９の表面全体に生成、堆積するが、チャンバー内の気体の流れによって、堆積しやすい場所と堆積しにくい場所とに別れ、図９（ｃ）のように、レジスト６９の基部とその周辺、すなわち、第一の傾斜部６１の周辺や、第一の傾斜部６１から延びる凹部７６に多く堆積する。
【００４７】
その後、続けて第二のステップの条件のまま、１〜１０分間、ＲＩＥによって基板２７をエッチングすると、図９（ｄ）のように第一の傾斜部６１と、第二の傾斜部６２と、凹部２６が形成される。このとき、第二のステップの条件に切り替えたときに生成された堆積物６８によって、第一の傾斜部６１およびその周辺の凹部７６が保護され、これらの部分は、保護されていない凹部７６よりも、図９（ｄ）のようにエッチング量が少なくなり、第二の傾斜部６２が形成される。
【００４８】
その後、ＲＩＥ装置からスライダを取り出し、図９（ｅ）のように有機系溶液によりレジスト６９を剥離する。このとき、図９（ｄ）のエッチングで除去できなかった堆積物６９があった場合は、Ｏ2によるアッシングで除去してもよい。
【００４９】
【表２】
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（ステップ５５）次に、バー７２を１００〜２００℃で１〜２時間、プレヒートする。これは研磨時と製品としての使用時との温度差によって基板２７と薄膜磁気ヘッド部２８との間に生じる熱変形の差を補正するためである。
【００５０】
（ステップ５６）次に、媒体対向面ＡＢＳを常温で再研磨する。これによって、レール２５ａ、２５ｂやリードライト部２４の平滑度が向上し、レール部のエッジが丸みを帯びるため、エッジ部の欠落やレール部周辺への異物の付着を抑えることができる。
【００５１】
（ステップ５７）次に、媒体対向面ＡＢＳに、厚さ１〜４ｎｍ程度の保護膜４２を形成する。保護膜４２としては、ＤＬＣ膜やＳｉＯ2などの無機系材料を用いることができる。このときの状態は図３に示したとおりである。
【００５２】
（ステップ５８）次に、バー７２を洗浄する。
【００５３】
（ステップ５９）次に、バー７２を切断し１片毎のスライダピースを作成する。
【００５４】
なお、本発明は、あらかじめバーを１片毎のスライダピースに切断し、各スライダピースに対して上記の各ステップをおこなう手順や、ステップの途中段階でスライダピースに切断する手順なども可能である。また、第一ステップ、第二ステップを繰り返すことで、３段以上の多段傾斜構造も形成できる。
【００５５】
本発明の効果をまとめると以下の通りである。まず、本製造方法によって形成される２段傾斜形状とすることで、傾斜部の長さのばらつきを従来に比べ飛躍的に抑えることができるようになった。従来の形状（図４（ｂ））では、傾斜部の長さは２〜６μｍと、最大値／最小値が３倍にも達していたのに対し、本発明の一実施例では、この比率が最大でも１．７倍（ケース１の場合）となり、ばらつきを抑えることができた。また、本製造方法によって、従来イオンミリングでしかできなかった２段傾斜構造を、反応性イオンエッチングで形成することが可能となり、１バッチ処理あたりの処理時間が短くなる。一例では、イオンミリングで２８分かかった処理が２２分で可能となった。このため、イオンミリングを用いる従来技術の場合よりも、スライダを短時間で形成することが可能となる。
【００５６】
また、ＲＩＥは、上記のような原理から、エッチング面の表面粗さを抑えることが容易であるというメリットもある。一例では、傾斜部の算術平均粗さＲａが８．８６から２．３８に改善された。なお、算術平均粗さＲａとは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４記載の表面粗さの指標で、粗さ曲線から所定の基準長さを抜き取り、抜き取り部分の平均表面高さと実高さとの偏差の絶対値を抜き取り部分の基準長さで平均化した数値である。
【００５７】
最後に、図１０および図１１を参照して、本発明のスライダを用いたヘッドスタックアセンブリとハードディスク装置について説明する。図１０はハードディスク装置の要部を示す説明図、図１１はハードディスク装置の平面図である。ヘッドスタックアセンブリ２５０は、複数のアーム２５２を有するキャリッジ２５１を有している。複数のアーム２５２には、複数のヘッドジンバルアセンブリ２２０が、互いに間隔を開けて直交方向に並ぶように取り付けられている。キャリッジ２５１においてアーム２５２の反対側には、ボイスコイルモータの一部となるコイル２５３が取り付けられている。ヘッドスタックアセンブリ２５０は、ハードディスク装置に組み込まれる。ハードディスク装置は、スピンドルモータ２６１に取り付けられた複数枚のハードディスク２６２を有している。ハードディスク２６２毎に、ハードディスク２６２を挟んで対向するように２つのスライダ２１０が配置される。また、ボイスコイルモータは、ヘッドスタックアセンブリ２５０のコイル２５３を挟んで対向する位置に配置された永久磁石２６３を有している。
【００５８】
スライダ２１０を除くヘッドスタックアセンブリ２５０およびアクチュエータは、本発明における位置決め装置に対応し、スライダ２１０を支持すると共にハードディスク２６２に対して位置決めする。
【００５９】
本ハードディスク装置では、アクチュエータによって、スライダ２１０をハードディスク２６２のトラック横断方向に移動させて、スライダ２１０をハードディスク２６２に対して位置決めする。スライダ２１０に含まれる薄膜磁気ヘッドは、記録ヘッドによって、ハードディスク２６２に情報を記録し、ハードディスク２６２に記録されている情報を再生する。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明のスライダ製造方法の対象となるスライダを先端に有するヘッドアームアセンブリの斜視図である。
【図２】図１に示すスライダの斜視図である。
【図３】図１に示すスライダの積層状態を示す断面図である。
【図４】図３に示すスライダのＡ部の部分詳細図である。
【図５】本発明のスライダ製造方法のフロー図である。
【図６】薄膜磁気ヘッド部が形成されたウエハおよびバーの斜視図である。
【図７】本発明のスライダ製造方法における製造中の一段階の状況を説明する図である。
【図８】本発明のスライダ製造方法における製造中の一段階の状況を説明する図である。
【図９】本発明のスライダ製造方法における傾斜部の加工手順を示すステップ図である。
【図１０】本発明のスライダを組み込んだハードディスク装置の要部を示す説明図である。
【図１１】本発明のスライダを組み込んだハードディスク装置の平面図である。
【符号の説明】
【００６１】
１  ヘッドアームアセンブリ
２  ヘッドジンバルアセンブリ
２１  スライダ
２２  フレクシャ
２３  ロードビーム
２４  リードライト部
２５ａ、２５  レール部
２６  凹部
２７  基板
２８  薄膜磁気ヘッド部
３１  シールド層
３２  ＭＲ素子
３３  下部磁極層
３４  記録ギャップ
３５  上部磁極層
３６  接続部
３７ａ、３７ｂ  コイル
３８、３９、４０  絶縁層
４１  オーバーコート層
４２  保護膜
４３  裏面
４５  仮保護膜
６  傾斜部
６１  第一の傾斜部
６２  第二の傾斜部
７１  ウエハ
７２  バー
ＡＢＳ  媒体対向面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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