(57)【要約】【課題】  十分に高い散乱強度を有する拡散反射板及びその製造方法を提供する。【解決手段】  本実施形態に係る拡散反射板の製造方法では、まず、光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂膜２０にパターン露光を施す（パターン露光工程(ｂ)）。次に、パターン露光が施された感光性樹脂膜２１に熱処理を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを拡散させ、未反応の光架橋性モノマーを含有し凹凸面２ｃを有する感光性樹脂層２２を形成する（熱処理工程(ｃ)）。次に、感光性樹脂層２２の凹凸面２ｃに全面露光を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを架橋させ、凹凸面２ｄを有する樹脂層２を形成する（全面露光工程(ｄ)）。次に、樹脂層２の凹凸面２ｄ上に反射膜３を形成する（反射膜形成工程(ｅ)）。【選択図】  図２
2006154293.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂膜にパターン露光を施すパターン露光工程と、
前記パターン露光が施された感光性樹脂膜に熱処理を施すことにより未反応の前記光架橋性モノマーを拡散させ、前記未反応の前記光架橋性モノマーを含有し凹凸面を有する感光性樹脂層を形成する熱処理工程と、
前記感光性樹脂層の前記凹凸面に全面露光を施すことにより前記未反応の前記光架橋性モノマーを架橋させ、凹凸面を有する樹脂層を形成する全面露光工程と、
前記樹脂層の前記凹凸面上に反射膜を形成する反射膜形成工程と、
を含む、拡散反射板の製造方法。
【請求項２】
凹凸面を有する樹脂層と、
前記樹脂層の前記凹凸面上に設けられた反射膜と、
を備え、
前記樹脂層は、光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂膜にパターン露光を施し、前記パターン露光が施された感光性樹脂膜に熱処理を施すことにより未反応の前記光架橋性モノマーを拡散させ、前記未反応の前記光架橋性モノマーを含有し凹凸面を有する感光性樹脂層を形成し、前記感光性樹脂層の前記凹凸面に全面露光を施すことにより前記未反応の前記光架橋性モノマーを架橋させて得られる、拡散反射板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、拡散反射板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
２インチから４インチ程度の小型の携帯情報端末用表示器には薄型、軽量、低消費電力であることが求められる。反射型液晶表示器では、バックライトを用いず周囲の背景光を利用して表示を行うため、薄型化、軽量化、低消費電力化が可能である。反射型液晶表示器では、背景光が強ければ強いほど表示が鮮明に見えるため、屋外での使用に有利である。
【０００３】
反射型液晶表示器は、反射板と、入射光及び反射板による反射光の光量を制御する光制御手段（電極・液晶層等）と、偏光板とを組み合わせて表示を行うものである。
【０００４】
散乱のない鏡上に書かれた文字は、背景光の映り込みによって視認性が低下する。反射型液晶表示器の表示文字の視認性を向上させるためには、入射光を散乱させる必要がある。
【０００５】
しかしながら、この場合、散乱による単位立体角当たりの反射光量が減少する。カラーフィルタを用いた場合、白黒表示に対して更に反射光量が低下する。このため、従来、高輝度のカラー反射型液晶表示器が製造できなかった。したがって、高散乱強度の拡散反射板が求められている。
【０００６】
すなわち、拡散反射板には、背景光の映り込みによる視認性の低下を回避するために、適度な拡散反射機能が要求される一方、明るい表示を実現するために、背景光を適度に観察者に反射し、視認性に有効活用するための工夫が求められる。
【０００７】
下記特許文献１に記載の拡散反射板の製造方法では、小面積の貫通孔を形成し、熱処理でリフローすることにより凹面を形成している。
【０００８】
下記特許文献２に記載の拡散反射板の製造方法では、孤立突起を形成している。
【０００９】
しかしながら、貫通孔を形成する方法や、孤立突起を形成する方法では、微細な貫通孔や孤立突起の形成が必要であるため、生産性の高い一括露光法にかわり、解像度に優れた高価なステッパ露光装置やミラープロジェクション装置が必要となる。また、いずれの方法においても現像処理が必要であることから品質管理が難しいことやコストが高いといった問題点がある。
【００１０】
また、下記特許文献３に記載の拡散反射板の製造方法では、吸光性が付与されたポジ型の感光性樹脂膜を特定条件のギャップで露光することにより、現像条件の変動に対して品質が安定した凹凸構造を形成している。
【００１１】
また、下記特許文献４及び５に記載の製造方法では、感光性樹脂膜に、パターン露光を行い、さらに熱処理を行うことで凹凸構造を形成している。
【特許文献１】特開２００１−２９６４１１号公報
【特許文献２】特開平０４−２４３２２６号公報
【特許文献３】特開２００４−０４６１３９号公報
【特許文献４】特開平１１−２４８９０９号公報
【特許文献５】特開２０００−２６７０８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
特許文献４及び５に記載の拡散反射板の製造方法は、感光性樹脂膜をパターン露光した後に加熱することで、未反応の光架橋性モノマーの“染み出し”を促し、熱硬化させることにより凹凸構造を形成するものである。これらの製造方法は、現像に付随する凹凸構造の品質管理の煩雑さを回避でき、低コストの拡散反射板を容易に形成することを可能とするものである。しかしながら、特許文献４及び５に記載の製造方法により製造される拡散反射板では十分に高い散乱強度が得られない。これは、加熱により感光性樹脂膜を硬化させるので凹凸構造がだれ易くなり、その結果、凹凸構造における凸部の高さ（凹部の深さ）が０．２μm程度と小さくなってしまうことが原因と考えられる。
【００１３】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、十分に高い散乱強度を有する拡散反射板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上述の課題を解決するため、本発明の拡散反射板の製造方法は、光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂膜にパターン露光を施すパターン露光工程と、パターン露光が施された感光性樹脂膜に熱処理を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを拡散させ、未反応の光架橋性モノマーを含有し凹凸面を有する感光性樹脂層を形成する熱処理工程と、感光性樹脂層の凹凸面に全面露光を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを架橋させ、凹凸面を有する樹脂層を形成する全面露光工程と、樹脂層の凹凸面上に反射膜を形成する反射膜形成工程とを含む。
【００１５】
本発明の拡散反射板の製造方法によれば、全面露光工程において熱ではなく露光により未反応の光架橋性モノマーを架橋させるので、熱処理工程において形成された感光性樹脂層の凹凸面の形状が全面露光工程においてもほとんど変形しない。このため、熱処理工程において所望の形状の凹凸面を有する感光性樹脂層を形成しておけば、全面露光工程において当該凹凸面と略同じ凹凸面を有する樹脂層を形成することができる。よって、樹脂層の凹凸面における凸部の高さ（凹部の深さ）を調整することにより、得られる拡散反射板の散乱強度を制御することができる。
【００１６】
したがって、本発明の拡散反射板の製造方法を用いると、十分に高い散乱強度を有する拡散反射板が得られる。
【００１７】
また、本発明の拡散反射板は、凹凸面を有する樹脂層と、樹脂層の凹凸面上に設けられた反射膜とを備え、樹脂層は、光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂膜にパターン露光を施し、パターン露光が施された感光性樹脂膜に熱処理を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを拡散させ、未反応の光架橋性モノマーを含有し凹凸面を有する感光性樹脂層を形成し、感光性樹脂層の凹凸面に全面露光を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを架橋させて得られる。
【００１８】
本発明の拡散反射板では、上述のように、樹脂層の凹凸面における凸部の高さ（凹部の深さ）を調整することができる。このため、本発明の拡散反射板は十分に高い散乱強度を有する。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、十分に高い散乱強度を有する拡散反射板及びその製造方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一又は同等の要素には同一符号を用い、重複する説明を省略する。
【００２１】
（カラーフィルタ及び拡散反射板）
図１は、実施形態に係る拡散反射板Ｒを備えたカラーフィルタＣＦの断面図である。本実施形態において、カラーフィルタＣＦは液晶用のカラーフィルタである。カラーフィルタＣＦは、拡散反射板Ｒと、拡散反射板Ｒ上に設けられた着色樹脂領域４Ｒ，４Ｇ，４Ｂとを備える。着色樹脂領域４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、例えば、それぞれ赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の樹脂からなり、ストライプ状に形成される。着色樹脂領域４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ上には、必要に応じて、着色樹脂領域４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを覆う透明の保護膜６が設けられている。さらに、本実施形態では、例えばＩＴＯ等からなる液晶駆動用の透明電極５が保護膜６上に設けられている。
【００２２】
拡散反射板Ｒは、基板１と、基板１上に設けられ凹凸面２ｄを有する樹脂層２と、樹脂層２の凹凸面２ｄ上に設けられた反射膜３とを備える。基板１は、例えば、ガラス基板等の透明基板である。
【００２３】
反射膜３は、例えば、金属膜を含むものである。この場合、高反射率を達成することができる。金属膜の構成材料としては、例えばアルミニウム等が挙げられ、純アルミニウム、アルミニウム合金（Ａｌ−Ｎｄ合金等）や銀合金（Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金等）等が好適である。なお、反射膜３は、その特性に悪影響を与えない他の元素を構成材料として含んでいてもよい。反射膜３の厚みは、０．１〜０．３μｍであることが好ましく、０．１５〜０．２５μｍであることがより好ましい。また、反射膜３は誘電体多層膜であってもよい。反射膜３は、必要に応じて、光透過部やマーク類を有していてもよい。光透過部やマーク類は、例えばエッチング等により反射膜の不要部分を除去することにより形成される。
【００２４】
着色樹脂領域４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、液晶中に表示不良の原因となる不純物を溶出しなければ、いかなる材料を含んでいてもよい。具体的には、任意の選択された光のみを透過するように膜厚制御された無機膜や、染色、染料分散又は顔料分散された樹脂からなる樹脂膜等が挙げられる。
【００２５】
着色樹脂領域４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの構成材料の種類は特に制限されないが、例えば、アクリル、ポリビニルアルコール、ポリイミド等が挙げられる。なお、製造プロセスの簡便さや耐候性等の観点から、顔料分散された樹脂膜を用いることが好ましい。
【００２６】
（拡散反射板の製造方法及びカラーフィルタの製造方法）
図２(ａ)〜図２(ｆ)は、拡散反射板Ｒの製造方法及びカラーフィルタＣＦの製造方法における各工程を模式的に示す工程断面図である。拡散反射板Ｒは、例えば、以下の各工程(ａ)〜(ｅ)を順次実行することによって製造される。また、カラーフィルタＣＦは、例えば、以下の各工程(ａ)〜(ｆ)を順次実行することによって製造される。
【００２７】
［塗布工程(ａ)］
まず、図２(ａ)に示されるように、基板１上に、光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂膜２０を形成する。感光性樹脂膜２０は、光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂組成物と溶剤とからなる感光性樹脂溶液を基板１上に塗布し、乾燥することにより形成される。感光性樹脂溶液の構成材料の具体例については後述する。
【００２８】
上記感光性樹脂組成物は、光架橋性モノマーに加えて、例えば、バインダー樹脂、光重合開始剤、光重合開始助剤、添加剤等を含有することが好ましい。添加剤としては、例えば、界面活性剤、密着促進剤、レベリング剤、凝集防止剤、有機酸、硬化剤、バインダー樹脂以外の高分子化合物等が挙げられる。なお、上記感光性樹脂溶液として、市販のネガ型のフォトレジストを用いてもよい。ネガ型のフォトレジストとしては、例えば、商品名「オプトマーＮＮ５００，ＮＮ７００」シリーズ（ＪＳＲ（株）製）、商品名「Ｖ２５９−ＰＡ」（新日鐵化学（株）製）等が挙げられるが、これらに制限されるものではない。
【００２９】
［パターン露光工程(ｂ)］
次に、微小な光透過部Ｔがランダムに多数配置されたフォトマスク７を介して感光性樹脂膜２０に光Ｌ１を照射する。すなわち、感光性樹脂膜２０にパターン露光を施す。光Ｌ１は、フォトマスク７の光透過部Ｔを透過した後、回折し、感光性樹脂膜２０に到達する。これにより、図２(ｂ)に示されるように、パターン露光が施された感光性樹脂膜２１が基板１上に形成される。感光性樹脂膜２１は、光透過部Ｔに対応した潜像２ａと、光Ｌ１が照射されていない未露光部２ｂとからなる。
【００３０】
光透過部Ｔの形状は、円形、リング状、楕円形又はこれらに事実上対応する六角形以上の多角形であってもよい。光透過部Ｔの外径は、３μｍ以上２０μｍ以下であると好ましく、３μｍ以上１５μｍ以下であるとより好ましい。ここで、光透過部Ｔの外径とは、光透過部Ｔが円形又はリング状である場合には外径の寸法（直径）を意味し、楕円形や多角形である場合には、中心点となる重心位置から外周までの平均距離の２倍を意味するものとする。
【００３１】
また、光透過部Ｔの配置パターンは、拡散反射板Ｒの凹凸面２ｄにおける凸部の配置パターンに対応するので、光透過部Ｔの重心位置と、凹凸面２ｄにおける凸部の頂点とは略一致している。
【００３２】
光Ｌ１は、未反応の光架橋性モノマーの架橋反応に寄与する波長の光を含む。光Ｌ１は、波長が４５０ｎｍ以下の青色光又は紫外線であることが好ましい。光Ｌ１としては、例えば、ｇ線（４３５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）等といった水銀ランプの輝線波長を含む光が好ましい。
【００３３】
光Ｌ１の照射法としては、例えば、プロキシミティー露光法、プロジェクション露光法、ステッパ露光法、直描法等が挙げられる。これらの中でも、生産性の観点から、大面積のフォトマスクを用いるプロキシミティー露光法、プロジェクション露光法等が特に好ましい。
【００３４】
［熱処理工程(ｃ)］
次に、感光性樹脂膜２１に熱処理を施すことにより、図２(ｃ)に示されるように、凹凸面２ｃを有する感光性樹脂層２２を形成する。感光性樹脂膜２１に熱処理を施すことにより、未露光部２ｂ中の未反応の光架橋性モノマーを潜像２ａ中に拡散させる。これにより、感光性樹脂層２２が凹凸構造を有することとなる。なお、感光性樹脂層２２は未反応の光架橋性モノマーを含有している。
【００３５】
熱処理における加熱温度は、常圧における光架橋性モノマーの沸点よりも１０℃以上低いことが好ましく、２０℃以上低いことがより好ましく、３０℃以上低いことが特に好ましい。熱処理における加熱温度が高いと、未反応の光架橋性モノマーの蒸発が顕著となり、熱処理を行う熱処理装置が汚染される場合がある。この場合、生産性が低下してしまう。
【００３６】
また、感光性樹脂膜２１中に光重合開始剤が含まれる場合、熱処理における加熱温度は光重合開始剤の分解開始温度未満であることが好ましい。この場合、未露光部２ｂ中の未反応の光架橋性モノマーが重合しないので、硬化せずに高い流動性が維持される。このため、未露光部２ｂ中の未反応の光架橋性モノマーは、熱拡散し易くなる。
【００３７】
また、光架橋性モノマーとして光硬化型のアクリル系材料を用いる場合、熱処理における加熱温度は９０〜１７０℃であることが好ましく、１００〜１７０℃であることがより好ましい。熱処理における加熱温度がこの数値範囲内であると、この数値範囲外である場合に比べて未露光部２ｂ中の未反応の光架橋性モノマーが潜像２ａ中に十分拡散するので、所望の形状の凹凸面２ｃを形成し易くなる。
【００３８】
熱処理における昇温速度は、特に制限されない。熱処理装置としては、例えば、一般にＦＰＤ製造に用いられるホットプレートや対流型のオーブン等を用いることができる。ホットプレートを用いる場合、加熱時間は６０〜１８０秒であることが好ましい。対流型のオーブンを用いる場合、加熱時間は１０〜３０分であることが好ましい。熱処理時の雰囲気はクリーン環境であることが好ましく、例えば空気である。
【００３９】
［全面露光工程(ｄ)］
次に、図２(ｄ)に示されるように、感光性樹脂層２２の凹凸面２ｃの全面にわたって光Ｌ２を照射することにより感光性樹脂層２２中の未反応の光架橋性モノマーを架橋させ、凹凸面２ｄを有する樹脂層２を形成する。樹脂層２中の未反応の光架橋性モノマーは、光Ｌ２により架橋する。これにより、未反応の光架橋性モノマーが硬化するので、凹凸面２ｄの形状は安定する。
【００４０】
光Ｌ２は、未反応の光架橋性モノマーの架橋反応に寄与する波長の光を含む。光Ｌ２は、波長が４５０ｎｍ以下の青色光又は紫外線であることが好ましい。光Ｌ２としては、例えば、ｇ線（４３５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）等といった水銀ランプの輝線波長を含む光が好ましい。また、光Ｌ２の露光量は、光Ｌ１の露光量より大きいことが好ましい。これにより、樹脂層２を確実に硬化させることができる。
【００４１】
なお、全面露光工程(ｄ)の後、必要に応じて、凹凸面２ｄの形状をほとんど変化させないように樹脂層２に熱処理を施すとしてもよい。この熱処理は、全面露光工程(ｄ)を経た後において未反応の光架橋性モノマーが樹脂層２中に残存している場合に有効である。この熱処理における加熱温度は、１７０〜２５０℃であることが好ましい。この場合、樹脂層２中の未反応の光架橋性モノマーを熱により硬化させることができる。
【００４２】
［反射膜形成工程(ｅ)］
次に、図２(ｅ)に示されるように、樹脂層２の凹凸面２ｄ上に反射膜３を形成する。反射膜３は、例えば、蒸着法、スパッタ法等を用いて形成される。これにより、拡散反射板Ｒを製造することができる。
【００４３】
［着色樹脂領域形成工程(ｆ)］
次に、必要に応じて、図２(ｆ)に示されるように、拡散反射板Ｒ上に着色樹脂領域４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ、保護膜６及び透明電極５を順に形成する。これにより、カラーフィルタＣＦを製造することができる。
【００４４】
本実施形態に係る拡散反射板の製造方法によれば、全面露光工程(ｄ)において熱ではなく光Ｌ２により感光性樹脂層２２中の未反応の光架橋性モノマーを架橋、硬化させる。このため、熱処理工程(ｃ)において形成された感光性樹脂層２２の凹凸面２ｃの形状が全面露光工程(ｄ)においてもほとんど変形しない。よって、熱処理工程(ｃ)において所望の形状の凹凸面２ｃを有する感光性樹脂層２２を形成しておけば、全面露光工程(ｄ)において凹凸面２ｃと略同じ凹凸面２ｄを有する樹脂層２を形成することができる。よって、樹脂層２の凹凸面２ｄにおける凸部の高さ（凹部の深さ）を調整することにより、得られる拡散反射板Ｒの散乱強度を制御することができる。
【００４５】
具体的には、例えば、樹脂層２の凹凸面２ｄにおける凸部の高さ（凹部の深さ）を０．５〜１．５μｍとすることによって、拡散反射板Ｒの散乱強度を高くすることができる。
【００４６】
したがって、本実施形態に係る拡散反射板の製造方法を用いると、十分に高い散乱強度を有する拡散反射板Ｒが得られる。このように、拡散反射板Ｒは、樹脂層２の凹凸面２ｄにおける凸部の高さ（凹部の深さ）が調整されているので十分に高い散乱強度を有する。
【００４７】
図３は、本実施形態に係る拡散反射板Ｒを有するカラーフィルタＣＦを備えた液晶表示装置ＬＣＤ１を模式的に示す断面図である。液晶表示装置ＬＣＤ１は、例えば、１枚偏光板方式の反射型カラー液晶表示装置である。液晶表示装置ＬＣＤ１は、カラーフィルタＣＦと、カラーフィルタＣＦに対向配置された対向基板１０とを備える。カラーフィルタＣＦと対向基板１０との間には所定の間隙が設けられており、その間隙には液晶層９が充填されている。対向基板１０の内側（液晶層９側）には、カラーフィルタＣＦの着色樹脂領域４Ｒ，４Ｇ，４Ｂにそれぞれ対向配置された複数の画素電極１１が設けられている。対向基板１０の外側には、偏光板１２が設けられている。
【００４８】
図４は、本実施形態の変形例に係る拡散反射板Ｒ１を有するカラーフィルタＣＦ１を備えた液晶表示装置ＬＣＤ２を模式的に示す断面図である。拡散反射板Ｒ１は、上述の拡散反射板Ｒにおける反射膜３に複数の開口部３ａが設けられたものである。これらの開口部３ａは、カラーフィルタＣＦの着色樹脂領域４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ下にそれぞれ形成されている。この場合、拡散反射板Ｒ１における樹脂層２は、可視光に対する透過率が９０％以上であることが好ましい。これにより、バックライト等から出射された光は、基板１に入射し、樹脂層２及び開口部３ａを透過することができるので、液晶表示装置ＬＣＤ２は半透過反射型の液晶表示装置となる。
【００４９】
上記拡散反射板Ｒ，Ｒ１は、カラーフィルタＣＦ，ＣＦ１に用いるだけでなく、その上に配線や駆動素子を形成するための素子基板としても用いることも可能である。
【００５０】
以下、上記感光性樹脂溶液の構成材料の具体例について各々説明する。
【００５１】
（光架橋性モノマー）
光架橋性モノマーとしては、例えば、光が照射されることによって光重合開始剤から発生した活性ラジカル、酸等によって重合し得る化合物等が挙げられる。また、光架橋性モノマーとして、例えば、重合性の炭素−炭素不飽和結合を有する化合物等が挙げられる。光架橋性モノマーは、単官能の光重合性化合物であってもよいし、２官能又は３官能以上の多官能の光重合性化合物であってもよい。
【００５２】
単官能の光重合性化合物としては、例えば、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。
【００５３】
２官能の光重合性化合物としては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５４】
３官能以上の光重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００５５】
上記光重合性化合物は、それぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いられるが、２官能以上の光重合性化合物が好ましく用いられる。２官能の光重合性化合物のみを用いると線状の高分子（樹脂）が得られる。３官能の光重合性化合物を用いると立体架橋構造を有する高分子が得られるので、得られる高分子の硬度や耐熱性が向上する。２種以上の光重合性化合物を組み合わせて用いる場合、少なくとも１種は２官能以上の光重合性化合物を用いることが好ましい。
【００５６】
光架橋性モノマーの使用量は、通常は、バインダー樹脂及び光架橋性モノマーの合計量１００質量％として、１０質量％以上７０質量％以下であることが好ましい。
【００５７】
（バインダー樹脂）
バインダー樹脂としては、感光性樹脂組成物に膜形成性を付与し、他成分とともに光照射により架橋性を感光性樹脂組成物に付与するバインダーポリマーが好適に使用される。このようなバインダーポリマーとしては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等の芳香族ビニル化合物の重合物；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸エステル化合物の重合物；アミノエチルアクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル化合物の重合物；グリシジル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル化合物の重合物；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル化合物の重合物；（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物の重合物；３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン等の不飽和カルボン酸オキセタンエステル化合物の重合物；メラミンアクリレート樹脂；ポリエステル樹脂等が挙げられる。
【００５８】
また、バインダーポリマーとして、上記重合物のモノマーのうち２種以上を組み合わせて得られる共重合体を使用することもできる。このような共重合体としては、例えば、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、スチレン／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体等が挙げられる。
【００５９】
バインダー樹脂としては、ポリスチレンを標準としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で求められる重量平均分子量が、５，０００〜４００，０００の範囲内、好ましくは１０，０００〜３００，０００の範囲内であるものが好適である。
【００６０】
バインダー樹脂は、上記バインダーポリマーをそれぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。バインダー樹脂の使用量は、通常、バインダー樹脂及び光架橋性モノマーの合計量を１００質量％として、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上７０質量％以下であることがより好ましい。
【００６１】
（光重合開始剤）
光重合開始剤としては、例えば、光が照射されることによって活性ラジカルを発生する活性ラジカル発生剤が挙げられる。このような活性ラジカル発生剤としては、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。
【００６２】
アセトフェノン系化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オン等のオリゴマー等が挙げられる。
【００６３】
ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。
【００６４】
ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。
【００６５】
チオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。
【００６６】
トリアジン系化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【００６７】
上記活性ラジカル発生剤として、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等を用いることもできる。
【００６８】
上記活性ラジカル発生剤として、市販のものを用いることもできる。市販の活性ラジカル発生剤としては、例えば、上記アセトフェノン系化合物である商品名「Irgacure-907」（Ciba Specialty Chemicals社製）等が挙げられる。
【００６９】
光重合開始剤は、上記活性ラジカル発生剤をそれぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の使用量は、通常、バインダー樹脂及び光架橋性モノマーの合計量を００質量部に対して、１質量部以上３０質量部以下であることが好ましく、３質量部以上２０質量部以下であることがより好ましい。
【００７０】
（光重合開始助剤）
光重合開始助剤は、光重合開始剤と組み合わせて使用され、光重合開始剤によって開始された光架橋性モノマーの重合を促進するために用いられる化合物である。光重合開始助剤としては、例えば、アミン系化合物、アルコキシアントラセン系化合物等が挙げられる。
【００７１】
アミン系化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００７２】
アルコキシアントラセン系化合物としては、例えば、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン等が挙げられる。
【００７３】
上記光重合開始助剤として、市販のものを用いることもできる。市販の光重合開始助剤としては、例えば、商品名「EAB-F」（保土谷化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００７４】
光重合開始助剤を用いる場合、その使用量は、通常、光重合開始剤１モルに対して１０モル以下であることが好ましく、０．０１モル以上５モル以下であることがより好ましい。光重合開始剤及び光重合開始助剤の両方を用いる場合、それらの合計使用量は、通常、バインダー樹脂及び光架橋性モノマーの合計量１００質量部に対して、１質量部以上３０質量部以下であることが好ましく、３質量部以上２０質量部以下であることがより好ましい。
【００７５】
（界面活性剤）
界面活性剤としては、例えば、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。
【００７６】
（密着促進剤）
密着促進剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらは、それぞれ単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００７７】
（溶剤）
溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート等のアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；アニソール、フェネトール、メチルアニソール等の芳香族脂肪族エーテル類；アセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類；エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリン等のアルコール類；３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のエステル類；γ−ブチロラクトン等の環状エステル類等が挙げられる。これらは、それぞれ単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。感光性樹脂溶液における溶剤の含有量は、通常、感光性樹脂溶液全体を１００質量％として、２０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、５０質量％以上８５質量％以下であることがより好ましい。
【００７８】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。
【実施例】
【００７９】
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００８０】
（実施例１）
洗浄した５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．７ｍｍのガラス基板（コーニング１７３７）上に、ネガ型のフォトレジスト（ＪＳＲ（株）製、オプトマーＮＮ７５０）を、４．２μｍのプレベーク後換算膜厚で塗布した。その後、フォトレジストをホットプレート上で９０℃×１１０秒間プレベークして、ガラス基板上に感光性樹脂膜を形成した。次に、外径９μｍの光透過部がランダムに配置されたフォトマスクを介して、高圧水銀ランプからのｉ線を、露光量２００ｍＪ／ｃｍ２の条件で感光性樹脂膜に照射することによりパターン露光を行った。
【００８１】
次に、パターン露光が施された感光性樹脂膜に９０℃で１２０秒の熱処理を施し、感光性樹脂膜の未露光部内に存在する未反応の光架橋性モノマーを潜像内に拡散させた。これにより、凹凸面を有する感光性樹脂層をガラス基板上に形成した。
【００８２】
次に、高圧水銀ランプからのｉ線を、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ２の条件で感光性樹脂層の凹凸面の全面に照射することにより全面露光を行った。これにより、感光性樹脂層中の未反応の光架橋性モノマーを架橋させた。その後、クリーンオーブン中で２００℃×２０分間の熱処理を行った。これにより、凹凸面を有する樹脂層をガラス基板上に形成した。この凹凸面の凸部は、フォトマスクの光透過部の配置パターンに対応してランダムに配置されていた。また、樹脂層の表面において、凹凸面の周囲には完全な平滑面が形成されていた。よって、凹凸面を有する樹脂層が形成されたガラス基板は、カラーフィルタ、ＴＦＴ、ＴＦＤ等に用いられる素子基板として使用可能な状態であった。
【００８３】
次に、インラインスパッタ装置を用いて、０．２μｍの厚さでアルミニウム合金（Ａｌ−Ｎｄ合金）からなる反射膜を樹脂層の凹凸面上に形成した。これにより、実施例１の拡散反射板が得られた。図５は、反射膜側からみた実施例１の拡散反射板の顕微鏡写真を示す図である。図６は、反射膜側からみた実施例１の拡散反射板のＡＦＭ像を示す図である。
【００８４】
（実施例２）
パターン露光が施された感光性樹脂膜に１１０℃で１２０秒の熱処理を施したこと以外は実施例１と同様にして、実施例２の拡散反射板を得た。
【００８５】
（実施例３）
パターン露光が施された感光性樹脂膜に１３０℃で１２０秒の熱処理を施したこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の拡散反射板を得た。
【００８６】
（実施例４）
パターン露光が施された感光性樹脂膜に１５０℃で１２０秒の熱処理を施したこと以外は実施例１と同様にして、実施例４の拡散反射板を得た。
【００８７】
（実施例５）
パターン露光が施された感光性樹脂膜に１７０℃で１２０秒の熱処理を施したこと以外は実施例１と同様にして、実施例５の拡散反射板を得た。
【００８８】
（比較例１）
パターン露光が施された感光性樹脂膜に２００℃で１２０秒の熱処理を施した後、全面露光を施さずに反射膜を形成したこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の拡散反射板を得た。
【００８９】
［評価及び結果］
実施例１〜５及び比較例１の拡散反射板のモデルセルを外径５．７ｃｍのリング状光源の６．２〜１０．８ｃｍ直下に配置し、リング状光源の中央に配置した輝度計を用いて散乱強度（反射光の輝度）を測定した。具体的には、モデルセルをリング状光源の１０．８ｃｍ、８．０ｃｍ、６．２ｃｍ直下に配置することにより、それぞれ、散乱角１５度、２０度、２５度における散乱強度を測定した。これらの測定結果を表１に示す。
【００９０】
【表１】
2006154293.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】実施形態に係る拡散反射板を備えたカラーフィルタの断面図である。
【図２】図２(ａ)〜図２(ｆ)は、実施形態に係る拡散反射板の製造方法及びカラーフィルタの製造方法における各工程を模式的に示す工程断面図である。
【図３】本実施形態に係る拡散反射板を有するカラーフィルタを備えた液晶表示装置を模式的に示す断面図である。
【図４】本実施形態の変形例に係る拡散反射板を有するカラーフィルタを備えた液晶表示装置を模式的に示す断面図である。
【図５】反射膜側からみた実施例１の拡散反射板の顕微鏡写真を示す図である。
【図６】反射膜側からみた実施例１の拡散反射板のＡＦＭ像を示す図である。
【符号の説明】
【００９２】
２０…感光性樹脂膜、Ｌ１，Ｌ２…光、２１…パターン露光が施された感光性樹脂膜、２２…感光性樹脂層、２ｃ…感光性樹脂層の凹凸面、２…樹脂層、２ｄ…樹脂層の凹凸面、３…反射膜、Ｒ，Ｒ１…拡散反射板。
【図１】
2006154293.tif 000004
【図２】
2006154293.tif 000005
【図３】
2006154293.tif 000006
【図４】
2006154293.tif 000007
【図５】
2006154293.tif 000008
【図６】
2006154293.tif 000009