(57)【要約】【課題】投影レンズと球面ミラー間の光束通過エリアを不活性ガスのエアーカーテンで大気雰囲気から遮断して酸素濃度を低下させること。【解決手段】半導体露光装置の縮小投影光学系の透過波面計測装置において、真空紫外波長の光を発する光源を有し、前記投影光学系の像側空間を不活性ガスで満たすために、前記投影光学系の像側空間に不活性ガスを供給する手段と前記不活性ガスで満たす像側空間の容積を小さくするための板状部材を有し、且つ、前記投影光学系の像側空間を大気中に配置することを特徴とする。【選択図】図１
2006165439.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体露光装置の縮小投影光学系の透過波面計測装置において、
真空紫外波長の光を発する光源を有し、前記投影光学系の像側空間を不活性ガスで満たすために、前記投影光学系の像側空間に不活性ガスを供給する手段と前記不活性ガスで満たす像側空間の容積を小さくするための板状部材を有し、且つ、前記投影光学系の像側空間を大気中に配置することを特徴とする透過波面形状計測装置。
【請求項２】
前記真空紫外光源は波長１５７．６３ｎｍ近辺の光を発するエキシマレーザであり、且つ、トワイマングリーン型干渉計の光学配置で構成されたことを特徴とする請求項１記載の透過波面計測装置。
【請求項３】
前記真空紫外光源は波長１５７．６３ｎｍ近辺の光を発する高コヒーレントな固体レーザであり、且つ、フィゾー型干渉計の光学配置で構成されたことを特徴とする請求項１記載の透過波面計測装置。
【請求項４】
前記不活性ガス供給手段には不活性ガスの供給量を調節可能な機能を有し、不活性ガスの消費量を最小限に抑制することを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の透過波面計測装置。
【請求項５】
前記不活性ガスに窒素及びヘリウムの何れかを使用することを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の透過波面計測装置。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか記載された透過波面計測装置を用いて製造されることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影光学系、例えば半導体素子製造用の投影露光装置等に用いられる投影レンズの透過波面収差の測定装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィー技術を用いてマイクロデバイスを製造する際に、マスクに描画された回路パターンを投影光学系によってウェハに所望の倍率で縮小投影して回路パターンを転写する縮小投影光学装置が従来から使用されている。近年の電子機器の小型化及び薄型化への要求を実現するためには、電子機器に搭載されるデバイスを高集積化する必要があり、転写される回路パターンの微細化、即ち、高解像度化が益々要求されている。
【０００３】
高解像力を得るためには、光源の波長を短くすること及び投影光学系の開口数を上げることが有効であるが、同時に投影光学系の収差を極めて小さく抑えなければならない。投影光学系は諸収差が充分小さく抑えられた光学性能を有するように設計され、又、組立て調整工程においては透過波面収差を測定し、そのデータを基にレンズ間隔や偏心調整を実施して、設計値に限りなく近い光学性能へと追込まれる。
【０００４】
光学部品の透過波面収差を測定する装置として干渉計が一般的に利用され、高精度なフィゾー型干渉計やトワイマングリーン型干渉計が干渉計タイプとして一般的に採用されている。半導体露光装置の投影レンズの透過波面を計測する干渉計では、被検レンズのサイズが大きく、光路長が数メートルと長いため、透過波面を計測する干渉計の構造は大型化する傾向にある。
【０００５】
従って、光源から干渉縞検出系までの総光路長も通常の汎用的な干渉計と比較して長くなる。又、露光装置の使用波長での透過波面計測が必要とされる。露光装置はこれまで半導体パターンの微細化を図るため、露光波長をＩ線（λ＝３６５ｎｍ）、ＫｒＦ（λ＝２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（λ＝１９３ｎｍ）へと短波長化してきており、更に、その先のＦ2 （λ＝１５７ｎｍ）、ＥＵＶ（λ＝１３．４ｎｍ）の使用まで検討されている。
【０００６】
可視光からＫｒＦまでの波長では基本的に大気雰囲気中に干渉計光学系及び被検光学系である投影レンズを配置しても、大気による光の減衰は殆どなく前述したように干渉計の総光路長に制約を設けなくとも高精度な干渉計測が可能であった。
【０００７】
ところが、波長２００ｎｍ程度以下の真空紫外域では大気中の酸素、水分による光の吸収が起こるため、干渉計光学系を大気中に剥き出しで配置すると干渉縞検出カメラに到達する光量が不足してしまい、干渉縞の強度減衰や強度均一性が乱され、透過波面の測定精度に影響を及ぼしてしまう。
【０００８】
そこで、例えば図４に示すようなＡｒＦエキシマレーザ（λ＝１９３ｎｍ）と同一波長を発振する固体レーザを光源とした投影レンズ透過波面計測装置では、光源１０１から投影レンズ１１０までの全ての光路を光路チャンバー１１５ａ〜１１５ｄで密閉空間としてその内部を窒素等の不活性ガスでパージが行われる。投影レンズ１１０と波面測定装置側のチャンバー１１５ｃとの接続部分についても不活性ガス雰囲気にすることが望ましいが、ＡｒＦ波長では光源の発光スペクトル線が大気中の酸素の吸収スペクトル領域とは完全に重ならないため、フィゾーレンズ１０９から投影レンズ１１０間及び投影レンズ１１０から球面ラー１１１間の空間を大気中に配置しても、この部分の光路長が１ｍ以下程度であるので、酸素の吸収に起因する大幅な光利用効率の低下による波面計測精度への影響は極めて小さい。
【０００９】
ところが、更に短波長のＦ2 波長（λ＝１５７ｎｍ）では、光源の発振スペクトル領域が酸素の吸収スペクトルと重なるため、大気中では数ｍｍ程度の透過率しか得られず、光が完全に消失してしまう。又、酸素の光吸収によりオゾンが発生する。光路に酸素が残存していると透過率が得られないばかりか、オゾンが発生すると光学部品等との化学反応を引き起こし、装置性能や耐久性の低下を招く。このため、Ｆ2 波長では光路を全てチャンバー等で密閉空間とし内部を窒素等の不活性ガスを充填して無酸素状態を作り出す必要がある。前述したＡｒＦ波長では大気中に配置しても差し支えなかった投影レンズ１１０と装置側チャンバー１１５ｃとの間の空間についてもＦ2 波長では無酸素状態としなければならない。
【００１０】
従って、Ｆ2 波長の波面計測装置を構築するためには、例えば光源から投影レンズまでの光学系空間を小領域に分割して、投影レンズと干渉計との接続部分も密閉空間を実現できる構造とするか、若しくは投影レンズを含む干渉計光学系全てを密閉空間内に配置する等の方法で光路を不活性ガスパージして無酸素状態を作り出す必要がある。類似した技術を記載したものとして、特許文献１がある。
【００１１】
【特許文献１】特開平０６−２６０３８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、投影レンズ透過波面計測装置では投影レンズの有効画角内の複数像高で波面計測を行う必要があるため、投影レンズへの入射光位置を決めるフィゾーレンズの焦点位置、球面ミラーの曲率中心位置を互いに共役関係を保ちながら３次元的に移動させる必要がある。このフィゾーレンズ及び球面ミラーは精密ステージ上に配置され、ナノメートルオーダーでの位置制御を要求されるため、可動部の光路を無酸素状態にするためには、光路近辺だけではなく精密ステージを内蔵した空間を密閉空間とする必要があり、それら空間は必然的に大容量となってしまう。そのため、不活性ガス雰囲気の体積即ち、不活性ガスの消費量が増大しコスト面で好ましくない。
【００１３】
又、投影レンズは所望の光学性能を達成するまで透過波面測定装置での波面測定工程と、間隔、偏心、面加工等の調整工程が繰返される。そのため、透過波面測定装置の被検光路へ投影レンズを挿入、着脱が頻繁に行われる。従って、その都度レンズ上下部分と接続されている前記精密ステージを含む大空間の不活性ガス雰囲気を破ると、無酸素状態を復元するまでに多大な時間を要するばかりか、干渉計内部に配置された光学部品が大気雰囲気に曝されてしまい、汚染による透過率の低下を招いてしまう。それらを回避するためにレンズ接続部分を開閉可能な隔壁等で空間を分離可能な構造とすることが避けられず、その結果として装置は複雑で大掛かりな構造とならざるを得ない。
【００１４】
本発明は上記問題に鑑みてなされたもので、その目的とする処は、投影レンズと球面ミラー間の光束通過エリアを不活性ガスのエアーカーテンで大気雰囲気から遮断して酸素濃度を低下させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するため、本発明は、半導体露光装置の縮小投影光学系の透過波面計測装置において、真空紫外波長の光を発する光源を有し、前記投影光学系の像側空間を不活性ガスで満たすために、前記投影光学系の像側空間に不活性ガスを供給する手段と前記不活性ガスで満たす像側空間の容積を小さくするための板状部材を有し、且つ、前記投影光学系の像側空間を大気中に配置することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、投影レンズと球面ミラー間の光束通過エリアを不活性ガスのエアーカーテンで大気雰囲気から遮断して酸素濃度を低下させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
【００１８】
＜実施の形態１＞
図１に本発明をＦ2 波長の投影レンズ透過波面計測用トワイマン・グリーン干渉計に適用した実施の形態を示す。光源１は、波長λ＝１５７．６３ｎｍ、発振波長スペクトル幅は約１ｐｍのＦ2 エキシマレーザである。エキシマレーザ光源１から発した光束は、強度断面が通常矩形形状をしており、又、矩形の長辺方向、短辺方向でそれぞれビームの広がり角が異なるので、ビーム整形部２により両方向の拡大若しくは縮小倍率を調整して、所望のビーム径の光束を得る。整形された光束は、集光レンズ３によりピンホール４上に集光される。
【００１９】
ここで、ピンホール４は、射出光が理想球面波となるように穴径が設計されている。ピンホール４を射出した理想球面波は、レンズ５により平行光へと変換された後、ハーフミラー６により２光束に振幅分割される。ハーフミラー６で反射された光束（以下、被検光とする）は引回し光路７を経由してレチクル側ＸＹＺ精密ステージ８を含むレチクル側チャンバー１０へ導光され、更にレチクル側ＸＹＺ精密ステージ８内の引回し系によりコリメータレンズ９へ入射する。
【００２０】
コリメータレンズ９は、レチクル側ＸＹＺ精密ステージ８上に配置されており、ステージを駆動することで所望の測定座標へと入射光を導光する。前述のようにＦ２
波長を含む真空紫外域では大気中の酸素に光が吸収されるため、干渉測定に充分な透過率を得るには光源からの投影レンズ１１まで及び投影レンズ１１からＣＣＤカメラ２０までの光路は、全て光路チャンバー２１ａ〜２１ｆ及びレチクルチャンバー１０で密閉空間とし、内部を窒素等の不活性ガスで置換している。図中には各チャンバー２１ａ〜２１ｆ、レチクルチャンバー１０への不活性ガス供給系を図示していないが、被検レンズ１１を含む光路は、不活性ガスパージにより全て酸素濃度をｐｐｍオーダまで低下させている。
【００２１】
レチクルチャンバー１０と被検レンズである投影レンズ１１との接続部分についても密閉空間とする必要があるので、本実施の形態では、蛇腹状のフレキシブルな接続部材１７でこの空間を覆い、これら接続部材は簡単に着脱可能な構造とする。又、被検レンズ１１が被検光路から取外される際には、レチクルチャンバー１０内に配置された可動式隔壁１６を閉じることで、レチクルチャンバー１０の内部を大気開放状態にすることを回避している。
【００２２】
被検レンズ１１とウェハ側ＸＹＺ精密ステージ１３を含む空間は密閉空間とせず大気中に配置する。図２にウェハ側空間の拡大図を示す。被検レンズ最終面３２と球面ミラー３６間は僅か数十ｍｍの光路長ではあるが、大気開放状態では被検光は全て大気中の酸素に吸収されてしまう。そこで、球面ミラー３６を埋め込んだ板状部材３７をウェハ側ＸＹＺ精密ステージ３５に前記球面ミラー３６と共に搭載し、板状部材３７をレンズ最終面３２へ極力、例えば１ｍｍ程度まで近づけて配置して像側空間３３の容積を小さくする。
【００２３】
更に、対向する位置に不活性ガス供給系３９ａ，３９ｂを配置し、先端に取り付けたメッシュ状拡散吹付け部材４０ａ，４０ｂから前記容積を小さく設定した像側空間３３へ不活性ガスを対向する方向から吹き付ける。吹き付ける不活性ガスの流量は、レギュレータ３８ａ，３８ｂで調節可能とする。対向する方向から像側空間３３へ吹き付けられたガス流は、光束通過エリア３４近辺で衝突して光束通過エリア３４から外向きに別の方向へ流れを作り出すので、光束通過エリア３４を不活性ガスのエアーカーテンで大気雰囲気から遮断して、光路の酸素濃度をｐｐｍレベルまで低下させることが可能となる。
【００２４】
又、ウェハ側ＸＹＺ精密ステージ３５の移動により測定座標を変化させても、光束通過エリア３４の無酸素状態が変化しないように板状部材３７は、被検レンズ３１の有効画面より充分大きな面積を有するものを使用する。尚、不活性ガス吹付け機構は波面測定装置側に取付けても良く、又、被検レンズの鏡筒内側に取付けても本発明を実施する上では差し支えない。
【００２５】
これらの結果、被検レンズ３１からの射出光は像側空間３３で酸素の吸収による光利用効率の低下を招くことなく球面ミラー３６で反射され、往路と同じ光路を逆方向へと辿り前記ハーフミラー６まで戻る。
【００２６】
他方被検光と干渉する参照光はハーフミラー６を透過した後、前記ハーフミラー６から球面ミラー１２までの被検光路長と等しい光路長に設定された参照光路を伝播し、参照平面ミラー１８で反射され再びハーフミラー６へ戻る。ハーフミラー６により再結合された被検光と参照光は、瞳結像レンズ２０を介してＣＣＤカメラ２１へと導光される。
【００２７】
以上のように被検、参照光路共に全て無酸素状態が形成されていれば、ＣＣＤカメラ２１に充分な光量が到達し干渉縞を観測することができる。
【００２８】
ＣＣＤカメラ２１で撮像された干渉縞から被検光学系の透過波面収差の計測には一般的にフリンジスキャン法が用いられる。これは被検光路と参照光路との光路長差を走査した際の複数枚の干渉縞画像から干渉縞の初期位相を算出するものである。上記光路長差の走査は、図面内には図示していないが、ＰＺＴ等の高精度アクチュエータに参照平面ミラー１９を固定し、制御コンピュータによってＣＣＤカメラ２１及びエキシマレーザ光源１と同期してアクチュエータを駆動することにより行われる。
【００２９】
このようにＦ2 波長投影レンズの透過波面測定装置において、像側空間を大気開放として不活性ガスの吹付け機構を具備し、光路をエアーカーテンにより大気雰囲気から遮断する構造にすることで、可動式の隔壁を設けた複雑な密閉空間が不要となり装置構造を簡便にすることができる。又、本実施の形態では、投影レンズの波面測定時以外は像側の不活性ガスパージが不要となり、不活性ガスの消費量を大幅に削減可能となる。
【００３０】
＜実施の形態２＞
図３に本発明をＦ2 波長の投影レンズ透過波面計測用フィゾー干渉計に適用した実施の形態を示す。光源５１は、波長λ＝１５７．６３ｎｍの固体レーザ光源である。この固体レーザ光源は、時間的コヒーレンスに優れ、往復光路長が約４ｍ以上に達する投影レンズの透過波面をフィゾー型干渉計で測定することが可能である。固体レーザ光源５１から発した光束は、強度断面が通常楕円形状をしており、又、楕円の長径方向、短径方向でそれぞれビームの広がり角が異なるので、ビーム整形部５２により両方向の屈折力を調整して、所望のビーム径の光束を得る。
【００３１】
整形された光束は、集光レンズ５３によりピンホール５４上に集光される。ここで、ピンホール５４は、射出光が理想球面波となるように穴径が設計されている。ピンホール５４を射出した理想球面波は、レンズ５５により平行光へと変換された後、ハーフミラー５６により２光束に振幅分割される。ハーフミラー５６で反射された光束は、引回し光路５７を経由してレチクル側ＸＹＺ精密ステージ５８を含むレチクル側チャンバー６０へ導光され、更にレチクル側ＸＹＺ精密ステージ５８内の引回し系によりフィゾーレンズ５９へ入射する。
【００３２】
フィゾーレンズ５９の最終面は所謂フィゾー面となっており、フィゾー面で反射された光束は参照光として往路と同光路を戻る。フィゾーレンズ５９は、レチクル側ＸＹＺ精密ステージ５８上に配置されており、ステージを駆動することで所望の測定座標へと入射光を導光する。前述のようにＦ２
波長を含む真空紫外域では大気中の酸素に光が吸収されるため、干渉測定に充分な透過率を得るには光源からの被検レンズ６１まで及び被検レンズ６１からＣＣＤカメラ６９までの光路は全て光路チャンバー７０ａ〜７０ｅ及びレチクルチャンバー６０で密閉空間とし、内部を窒素等の不活性ガスで置換している。図中には各チャンバー７０ａ〜７０ｅ、レチクルチャンバー６０への不活性ガス供給系を図示していないが、被検レンズ６１を含む光路は不活性ガスパージにより全て酸素濃度をｐｐｍオーダまで低下させている。
【００３３】
レチクルチャンバー６０と被検レンズ６１との接続部分についても密閉空間とする必要があるので、本実施の形態では蛇腹状のフレキシブルな部材６７でこの空間を覆い、これら部材は簡単に着脱可能な構造とする。又、被検レンズ６１が被検光路から取り外される際には、レチクルチャンバー６０内に配置された可動式隔壁６６を閉じることで、レチクルチャンバー６０の内部を大気開放状態にすることを回避している。
【００３４】
被検レンズ６１とウェハ側ＸＹＺ精密ステージ６３を含む空間は実施の形態１と同様に密閉空間とせず大気中に配置する。図２にウェハ側空間の拡大図を示す。被検レンズ最終面３２と球面ミラー３６間は僅か数十ｍｍの光路長ではあるが、大気開放状態では被検光は全て大気中の酸素に吸収されてしまう。そこで、球面ミラー３６を埋め込んだ板状部材３７をウェハ側ＸＹＺ精密ステージ３５に前記球面ミラー３６と共に搭載し、板状部材３７をレンズ最終面３２へ極力、例えば１ｍｍ程度まで近づけて配置して像側空間３３の容積を小さくする。
【００３５】
更に、対向する位置に不活性ガス供給系３９ａ，３９ｂを配置し、先端に取り付けたメッシュ状拡散吹付け部材４０ａ，４０ｂから前記容積を小さく設定した像側空間３３へ不活性ガスを対向する方向から吹き付ける。吹き付ける不活性ガスの流量は、レギュレータ３８ａ，３８ｂで調節可能とする。対向する方向から像側空間３３へ吹き付けられたガス流は、光束通過エリア３４近辺で衝突して光束通過エリア３４から外向きに別の方向へ流れを作り出すため、光束通過エリア３４を不活性ガスのエアーカーテンで大気雰囲気から遮断して、光路の酸素濃度をｐｐｍレベルまで低下させることが可能となる。
【００３６】
又、ウェハ側ＸＹＺ精密ステージ３５の移動により測定座標を変化させても光束通過エリア３４の無酸素状態が変化しないように板状部材３７は被検レンズ３１の有効画面より充分大きな面積を有するものを使用する。尚、不活性ガス吹付け機構は波面測定装置側に取り付けても良いし、又、被検レンズの鏡筒内側に取付けても本発明を実施する上では差し支えない。
【００３７】
これらの結果、被検レンズ３１からの射出光は像側空間３３で酸素の吸収による光利用効率の低下を招くことなく球面ミラー３６で反射され、往路と同じ光路を逆方向へと辿り前記ハーフミラー５６まで戻る。
【００３８】
前記フィゾー面で反射した参照光と投影レンズを透過した被検光は同一光路を戻り、前記ハーフミラー５６を透過して瞳結像レンズ６８を介してＣＣＤカメラ６９へと導光される。
【００３９】
以上のように被検、参照光路共に全て無酸素状態が形成されていれば、ＣＣＤカメラ６９に充分な光量が到達し干渉縞を観測することができる。
【００４０】
ＣＣＤカメラ６９で撮像された干渉縞から被検光学系の透過波面収差の計測には一般的にフリンジスキャン法が用いられる。これは被検光路と参照光路との光路長差を走査した際の複数枚の干渉縞画像から干渉縞の初期位相を算出するものである。上記光路長差の走査は、図面内には図示していないがフィゾーレンズ５９にＰＺＴ等の高精度アクチュエータを固定し、制御コンピュータによってＣＣＤカメラ６９と固体レーザ光源５１と同期してアクチュエータを駆動することにより行われる。
【００４１】
このようにＦ2 波長投影レンズの波面測定装置において、像側空間を大気開放として不活性ガスの吹付け機構を具備し、光路をエアーカーテンにより大気雰囲気から遮断する構造にすることで、可動式の隔壁を設けた複雑な密閉空間が不要となり装置構造を簡便にすることができる。又、本実施の形態では、投影レンズの波面測定時以外は像側の不活性ガスパージが不要となり、不活性ガスの消費量を大幅に削減可能となる。
【００４２】
又、上記のような露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記露光された基板を現像する工程とを有するデバイスの製造方法も本願発明の一部である。
【００４３】
本実施の形態によれば、真空紫外波長の投影レンズ透過波面計測装置において、投影レンズ下部に不活性ガスを噴出する機構を設けることにより、ワーキングディスタンスが短い投影レンズと球面ミラー間の光束通過エリアを不活性ガスのエアーカーテンで大気雰囲気から遮断して酸素濃度をｐｐｍオーダーまで低下させることが可能であり、簡便な装置構造で高精度な透過波面収差測定が実現可能となる。又、投影レンズが干渉計光路から取外されている間に投影レンズ下部のパージが不要となり、不活性ガスの消費量も大幅に節約することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の実施の形態１に係る透過波面測定用のトワイマン・グリーン型干渉計の光路図である。
【図２】図１及び図３の被検レンズ像側空間を拡大した図である。
【図３】本発明の実施の形態２に係る透過波面測定用のフィゾー型干渉計の光路図である。
【図４】波長１９３ｎｍの固体レーザを光源としたＡｒＦ投影レンズ透過波面計測用フィゾー型干渉計の光路図である。
【符号の説明】
【００４５】
１    Ｆ２ エキシマレーザ
２    ビーム整形光学系
３    集光レンズ
４    ピンホール
５    コリメータレンズ
６    ハーフミラー
７    引き回し光学系
８    レクチル側ＸＹＺ精密ステージ
９    コリメータレンズ
１０  レクチルチャンバー
１１  投影レンズ
１２  球面ミラー
１３  ウェハ側ＸＹＺ精密ステージ
１４  板状部材
１５  不活性ガス供給系
１６  可動式隔壁
１７  接続部材
１８  参照平面ミラー
１９  瞳結像レンズ
２０  ＣＣＤカメラ
２１ａ〜２１ｆ  光路チャンバー
３１  投影レンズ
３２  投影レンズ最終面
３３  像側空間
３４  光束通過エリア
３５  ウェハ側ＸＹＺ精密ステージ
３６  球面ラー
３７  板状部材
３８  レギュレータ
３９  不活性ガス供給系
４０  メッシュ状拡散吹出し部材
５１  Ｆ２ 波長固体レーサ゛
５２  ビーム整形光学系
５３  集光レンズ
５４  ピンホール
５５  コリメータレンズ
５６  ハーフミラー
５７  引き回し光学系
５８  レクチル側ＸＹＺ精密ステージ
５９  フィゾーレンズ
６０  レクチルチャンバー
６１  投影レンズ
６２  球面ミラー
６３  ウェハ側ＸＹＺ精密ステージ
６４  板状部材
６５  不活性ガス供給系
６６  可動式隔壁
６７  接続部材
６８  瞳結像レンズ
６９  ＣＣＤカメラ
７０ａ〜７０ｅ  光路チャンバー
１０１  固体レーザ光源
１０２  ビーム整形光学系
１０３  集光レンズ
１０４  ピンホール
１０５  コリメータレンズ
１０６  ハーフミラー
１０７  反射ラー
１０８  レクチル側ＸＹＺステージ
１０９  ＴＳレンズ
１１０  投影レンズ
１１１  球面ミラー
１１２  ウェハ側ＸＹＺステージ
１１３  瞳結像レンズ
１１４  ＣＣＤカメラ
１１５ａ〜１１５ｄ  光路チャンバー
【図１】
2006165439.tif 000003
【図２】
2006165439.tif 000004
【図３】
2006165439.tif 000005
【図４】
2006165439.tif 000006