(57)【要約】【課題】ダブルテレセントリックシステムを提供するためのシステム及び方法を提供する。【解決手段】放射の照明ビームを発生する照明系２０２と、反射系２１６と、物体面を規定するパターンジェネレータ２０６と、投影系２０８とが設けられており、パターンジェネレータの反射部がデフォルト状態にある場合に反射系の反射部２２２がパターンジェネレータの反射部に対して実質的に平行であり、照明ビームが物体面の近くにおいてテレセントリックであり、パターニングされた照明ビーム画像面の近くにおいてテレセントリックであるように、パターンジェネレータの反射部が、照明ビームをパターニングし、パターニングされた照明ビーム２１４を、投影系２０８を介して、像面を規定する基板２１０へ方向付ける。【選択図】図２
2006041530.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射の照明ビームを発生する照明系と、反射系と、物体面を規定するパターンジェネレータと、投影系とが設けられており、パターンジェネレータの反射部がデフォルト状態にある場合に反射系の反射部がパターンジェネレータの反射部に対して実質的に平行であり、照明ビームが物体面の近くにおいてテレセントリックであり、パターニングされた照明ビームが像面の近くにおいてテレセントリックであるように、パターンジェネレータの反射部が、照明ビームをパターニングし、パターニングされた照明ビームを、投影系を介して、像面を規定する基板へ方向付けることを特徴とする、システム。
【請求項２】
パターンジェネレータが複数の制御可能なエレメントを有しており、それぞれの複数の制御可能なエレメントが、反射系の反射部に対して実質的に平行になるようにデフォルト状態において調節可能な反射面を有している、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
複数の制御可能なエレメントの反射面が、物体面に対して角度を成して位置決め可能である、請求項２記載のシステム。
【請求項４】
複数の制御可能なエレメントにおいてエレメントを位置決めする校正系が設けられている、請求項２記載のシステム。
【請求項５】
照明ビームが、実質的に全ての照明ビームが複数の制御可能なエレメントと相互作用するように形成される、請求項２記載のシステム。
【請求項６】
複数のパターンジェネレータが設けられており、それぞれのパターンジェネレータが、１つ又は２つ以上の反射面を有しており、
反射系の反射部が複数の区分を有しており、これらの区分が、複数のパターンジェネレータに設けられたデフォルト状態の１つ又は２つ以上の反射面に対して実質的に平行である、請求項１記載のシステム。
【請求項７】
反射部が照明ビームを内向きに反射する、請求項６記載のシステム。
【請求項８】
反射部が照明ビームを外向きに反射する、請求項６記載のシステム。
【請求項９】
反射部が、物体面の中央開口を通るように照明を反射する、請求項６記載のシステム。
【請求項１０】
反射部が、物体面の周囲開口を通るように照明ビームを反射する、請求項６記載の請求項６記載のシステム。
【請求項１１】
リソグラフィシステムにおいて、
照明ビームを形成する照明系と、
照明ビームをパターニングする複数の制御可能な反射エレメントを有するダイナミックパターンジェネレータと、
デフォルト状態における複数の制御可能な反射エレメントの個々の反射面に対して実質的に平行な円錐形の反射面を有する反射器と、
パターニングされた照明ビームを基板へ向ける投影系とが設けられており、
照明ビームが物体面の近くにおいてテレセントリックであり、パターニングされた照明ビーム画像面の近くにおいてテレセントリックであることを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項１２】
反射器が照明ビームを外向きにダイナミックパターンジェネレータに向かって方向付ける、請求項１１記載のリソグラフィシステム。
【請求項１３】
反射器が照明ビームを、物体面における周囲開口を通るように方向付ける、請求項１１記載のリソグラフィシステム。
【請求項１４】
複数の制御可能なエレメントがデフォルト状態において円錐形の反射面に対して実質的に平行であるように、複数の制御可能なエレメントにおけるそれぞれのエレメントを位置決めするために使用される校正系が設けられている、請求項１１記載のリソグラフィシステム。
【請求項１５】
リソグラフィシステムにおいて、
照明ビームを形成する照明系と、
照明ビームをパターニングする複数の制御可能な反射エレメントを有するダイナミックパターンジェネレータと、
デフォルト状態における複数の制御可能な反射エレメントの個々の反射面に対して実質的に平行なピラミッド形の反射面を有する反射器と、
パターニングされた照明ビームを基板へ向ける投影系とが設けられており、
照明ビームが物体面の近くにおいてテレセントリックであり、パターニングされた照明ビームが像面の近くにおいてテレセントリックであることを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項１６】
反射器が照明ビームを外向きにダイナミックパターンジェネレータに向かって方向付ける、請求項１５記載のリソグラフィシステム。
【請求項１７】
反射器が照明ビームを、物体面における周囲開口を通るように方向付ける、請求項１５記載のリソグラフィシステム。
【請求項１８】
複数の制御可能なエレメントがデフォルト状態においてピラミッド形の反射面に対して実質的に平行であるように、複数の制御可能なエレメントにおけるそれぞれのエレメントを位置決めするために使用される校正系が設けられている、請求項１１記載のリソグラフィシステム。
【請求項１９】
リソグラフィシステムにおいて、
照明ビームを形成する照明系が設けられており、
照明ビームをパターニングする複数の制御可能な反射エレメントを有するダイナミックパターンジェネレータが設けられており、
反射器が設けられており、該反射器の個々の反射区分が、デフォルト状態における複数の制御可能な反射エレメントの個々の反射面に対して実質的に平行であり、
パターニングされた照明ビームを基板へ向ける投影系とが設けられており、
照明ビームが物体面の近くにおいてテレセントリックであり、パターニングされた照明ビーム画像面の近くにおいてテレセントリックであることを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項２０】
反射器が照明ビームを内向きにダイナミックパターンジェネレータに向かって反射する、請求項１９記載のリソグラフィシステム。
【請求項２１】
反射器が照明ビームを、物体面における中央開口を通るように反射する、請求項１９記載のリソグラフィシステム。
【請求項２２】
複数の制御可能なエレメントにおけるエレメントがデフォルト状態において反射器に対して実質的に平行であるように前記エレメントを位置決めする校正系が設けられている、請求項１９記載のリソグラフィシステム。
【請求項２３】
デバイスを形成する方法において、
（ａ）照明ビームを反射系から、物体面を規定するパターンジェネレータに向かって反射するステップと、
（ｂ）パターンジェネレータを使用して照明ビームをパターニングするステップと、
（ｃ）パターニングされた照明ビームを投影系を使用して、像面を規定する基板へ方向付けるステップとを含み、該基板上にデバイスが形成され、
（ｄ）パターンジェネレータがデフォルト状態にある場合に反射系の反射部をパターンジェネレータの反射部に対して実質的に平行に位置決めし、照明ビームが像面の近くにおいてテレセントリックであり、パターニングされた照明ビーム画像面の近くにおいてテレセントリックであるように、パターンジェネレータの反射部が照明ビームをパターニングしかつパターニングされた照明ビームを基板へ方向付けるステップを含むことを特徴とする、デバイスを形成する方法。
【請求項２４】
ステップ（ｂ）が、デフォルト状態において反射系の反射部に対して実質的に平行になるように調整可能な反射面をそれぞれが有する複数の制御可能なエレメントを使用することを含む、請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
複数の制御可能なエレメントのそれぞれの反射面が物体面に対して角度を成して位置決め可能である、請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
（ｅ）エレメントを複数の制御可能なエレメントに位置決めするために校正方法を使用する、請求項２４記載の方法。
【請求項２７】
ステップ（ａ）が、実質的に全ての照明ビームが複数の制御可能なエレメントと相互作用するように照明ビームを形成することを含む、請求項２３記載の方法。
【請求項２８】
ステップ（ａ）が、
パターンジェネレータとして複数のパターンジェネレータを使用することを含み、それぞれのパターンジェネレータが、反射面を有する複数の制御可能なエレメントを含んでおり、
制御可能なエレメントがデフォルト状態にある場合に反射部に設けられた反射区分が制御可能なエレメントの反射面に対して実質的に平行であるように、複数の制御可能なエレメントのそれぞれの調節することを含んでいる、請求項２３記載の方法。
【請求項２９】
反射区分が照明ビームを内向きに反射する、請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
反射区分が照明ビームを外向きに反射する、請求項２８記載の方法。
【請求項３１】
反射区分が照明を、物体面の中央開口を通るように反射する、請求項２８記載の方法。
【請求項３２】
反射区分が照明ビームを、物体面の周囲開口を通るように反射する、請求項２８記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はリソグラフィシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィシステムにおいて、露光プロセス中に基板をパターニングするためにパターンジェネレータが使用される。リソグラフィシステム例は、反射形又は透過形マスクレス、浸漬、及びマスクベースのシステムを含むが、これらに限定されない。基板例は、半導体ウェハ、フラットパネルディスプレイ基板、フレキシブル基板等を含むが、これらに限定されない。パターンジェネレータにおける照明箇所と相互作用する光はパターニングされる。パターニングされた光は、投影光学系を使用して、露光プロセス中に、基板の１つ又は２つ以上の目標領域へ投影され、基板上の感光性材料（例えばフォトレジスト）にフィーチャを形成する。
【０００３】
リソグラフィシステムの幾つかの用途において、ダブルテレセントリック照明を有することが望ましく、これは、照明ビームの主光線が物体空間及び像空間の両方においてテレセントリックであることを意味する。物体空間は物体面に近く、通常はパターンジェネレータによって規定される。像空間は像面に近く、通常は基板によって規定される。ダブルテレセントリック照明を有する慣用のシステムは概して透過形光学系を使用して、照明を照明器からパターンジェネレータへ、さらにパターンジェネレータから投影光学系へ方向付ける。しかしながら、透過形光学系は照明を吸収する傾向があり、ひいては低い効率を有する可能性がある。例えば、典型的な透過形光学系は、時折、照明器と投影系との間で光の約２０〜２５％しか透過することができない。また、透過形光学系は、照明に分極、収差、歪曲収差、複屈折及びその他のエラーを生じるおそれがあり、これは、時折、修正するために複雑な光学系を必要とする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
したがって、ダブルテレセントリックシステムを提供するために使用されることができるシステム及び方法であって、照明の吸収を排除又は実質的に低減しかつ／又は照明ビームに導入される分極変化、複屈折、収差、歪曲収差及び／又はその他のエラーを排除又は実質的に低減するシステム及び方法が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の実施形態は、放射の照明ビームを発生する照明系と、反射系と、物体面を規定するパターンジェネレータと、投影系と、像面を規定する基板とを含むシステムを提供する。反射系の反射部は、パターンジェネレータの反射部がデフォルト状態にある場合にパターンジェネレータの反射部に対して実質的に平行である。パターンジェネレータの反射部は、照明ビームをパターニングし、パターニングされた照明ビームを投影系を介して基板へ方向付け、これにより、照明ビームが物体面の近くでテレセントリックであり、パターニングされた照明ビームが像面の近くでテレセントリックである。
【０００６】
本発明の別の実施形態は、照明ビームを発生する照明系と、照明ビームをパターニングする複数の制御可能な反射素子を有するダイナミックパターンジェネレータと、デフォルト状態の複数の制御可能な反射素子の個々の反射面に対して実質的に平行な円錐形の反射面を有する反射器と、パターニングされた照明ビームを基板に向ける投影系とを含むリソグラフィシステムを提供する。照明ビームは物体面の近くでテレセントリックであり、パターニングされた照明ビームは像面の近くでテレセントリックである。
【０００７】
本発明の別の実施形態は、照明ビームを発生する照明系と、照明ビームをパターニングする複数の制御可能な反射素子を有するダイナミックパターンジェネレータと、デフォルト状態における複数の制御可能な反射素子の反射面に対して実質的に平行な個々の反射面を有する第１及び第２の反射器と、パターニングされた照明ビームを基板に向ける投影系とを含むリソグラフィシステムを提供する。照明ビームは物体面においてテレセントリックであり、パターニングされた照明ビームは像面においてテレセントリックである。
【０００８】
本発明のさらに別の実施形態は、デバイスを形成する方法を提供し、この方法は、（ａ）照明ビームを反射系から、像面を規定するパターンジェネレータに向かって反射するステップと、（ｂ）パターンジェネレータを使用して照明ビームをパターニングするステップと、（ｃ）パターニングされたビームを投影系を使用して、像面を規定しかつデバイスが形成される基板に方向付けるステップと、（ｄ）パターンジェネレータがデフォルト状態にある場合に反射系の反射部をパターンジェネレータの反射部に対して実質的に平行に位置決めするステップとを含んでおり、パターンジェネレータの反射部が、照明ビームをパターニングし、パターニングされた照明ビームを基板へ方向付け、これにより、照明ビームが物体面の近くでテレセントリックであり、パターニングされた照明ビームが像面の近くでテレセントリックである。
【０００９】
本発明の別の実施形態、特徴及び利点並びに本発明の様々な実施形態の構造及び働きを以下に添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１０】
本明細書に組み込まれかつ明細書の一部を構成した添付図面は、本発明の様々な実施形態を示しており、詳細な説明と共に、発明の原理を説明し、当業者が発明を実施することを可能にするために働く。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
ここで本発明を添付図面を参照して説明する。図面において、同じ参照符号は、同一又は機能的に類似のエレメントを表す。さらに、参照符号の左側の数字は、その参照符号が最初に示された図面を表している。
【００１２】
特定の構成及び配列が説明されるが、これは例示のためにのみ成されていることが理解されるべきである。当業者は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなくその他の構成及び配列が用いられることができることを認識するであろう。本発明が様々な他の用途にも用いられることができることが当業者には明らかになるであろう。
【００１３】
本発明の１つ又は２つ以上の実施形態は、反射系と、物体面を規定するパターンジェネレータと、投影系と、像面を規定する基板とを使用して、基板に１つ又は２つ以上のデバイスを形成するために、照明をパターニングするために使用されるシステム及び方法を提供する。反射系の反射部は、デフォルト状態のパターンジェネレータの反射部に対して実質的に平行である。パターンジェネレータの反射部は、照明ビームをパターニングし、パターニングされた照明ビームを投影系を介して基板へ向ける。反射系とパターンジェネレータとの関係に基づき、照明ビームは物体面の近くにおいてテレセントリックであり、パターニングされた照明ビームは像面の近くにおいてテレセントリックである。光を照明器と投影系との間で方向付けるために、透過形光学系ではなく反射形光学系を使用することにより、照明効率が高められ、照明に加わるエラーが減じられる。
【００１４】
用語
詳細な説明において、“パターンジェネレータ”及び“パターンジェネレーティングデバイス”は、反射形及び透過形レチクル、マスク、コントラストデバイス、液晶ディスプレイ、空間光変調器、回折格子光弁、デジタルミラーデバイス、又は光ビームにパターンを提供するために使用されることができるその他のあらゆる装置を含んでおり、このことはこの説明を読むことにより当業者に明らかになるであろう。
【００１５】
また、“システム”又は“リソグラフィシステム”は、フォトリソグラフィ、直接描画リソグラフィ、マスクレスリソグラフィ、浸漬リソグラフィ等を含むことを意味する。
【００１６】
“光”又は“放射”は、特定の用途にとって望ましいあらゆる波長を含むことを意味する。
【００１７】
“テレセントリック”は、物体空間又は像空間を横切る全ての箇所のための主光線が平行にされている、特別な性質を表す。例えば、主光線が、物体空間及び／又は像空間において、光軸に対して実質的に平行である場合にテレセントリックな状態が生じる。テレセントリックな状態を表す別の方法は、システムの入射瞳及び／又は射出瞳が無限遠に位置しているということである。
【００１８】
“平行”及び／又は“実質的に平行”は、特別な用途又はシステムが許容するように設計されている程度の平行に対する差異を含むことを意味する。つまり、この用語は、パターンジェネレータでパターンを形成するために必要なシステムの要求によって規定される差異を含むことを意味する。
【００１９】
パターンジェネレータのための環境の概要
前記のように、リソグラフィの最中、基板ステージに載置された基板は、パターンジェネレータ又はパターンジェネレータのアレイによって形成されたイメージ（例えばパターン）に曝される。イメージは、リソグラフィ装置内に配置された投影光学系によって基板に投影される。投影光学系はリソグラフィの場合に使用されるが、種々異なるタイプの露光装置を、特定の用途に応じて使用することができる。例えば、エキシマレーザ、Ｘ線、イオン、電子、光子リソグラフィは、当業者に知られているように、それぞれ異なる露光装置を必要とする。リソグラフィの特定の例は、例示のためにのみここで論じられている。
【００２０】
パターンジェネレータは、光をパターニングするためにリソグラフィシステムにおいて使用され、この光は、フィーチャを基板上に形成するために使用されるイメージを形成する。このような基板は、フラットパネルディスプレイ（例えば液晶ディスプレイ）、回路板、集積回路等の製造において使用されるものを含むことができる。このような用途のために頻繁に使用される基板は半導体ウェハ又はフラットパネルディスプレイ基板（例えばガラスから形成されている）である。この説明の一部は例示のために半導体ウェハに関して記載されているが、当業者は、この説明が当業者に知られたその他のタイプの基板にも当てはまることを認識するであろう。一般的に、レチクル（又はマスク）、空間光変調器（ＳＬＭ）、又はコントラスト装置（以下両者ともＳＬＭと呼ぶ）、例えばデジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、グレーティング・ライト・バルブ（ＧＬＶ）等、又は透過形及び／又は反射形パターンを含むあらゆるその他のエレメントが、パターンジェネレータとして使用されることができる。
【００２１】
パターンジェネレータは、ｎ×ｍ（この場合ｎ及びｍは１よりも大きな整数である）の能動デバイス（若しくはピクセル）のアレイを有する、能動領域を含むことができる。例えば、能動領域は、ＤＭＤにおけるミラーのアレイ、ＧＬＶにおける回折格子のアレイ、又はＬＣＤにおける反射形／透過形デバイスのアレイを含むことができるが、これらに限定されない。それぞれの能動デバイスは、個々に、１つ又は２つ以上の個別状態を介してオンとオフとの間で能動デバイスを移動させるように制御される。例えば、能動デバイスがＤＭＤにおけるミラーであるならば、それぞれのミラーは、ミラーをバイナリ位置又はマルチプル位置へ回転、傾斜又は往復運動させるように、個々に制御される。別の例としては、能動デバイスがＧＬＶにおけるストリップであるならば、ストリップのセットは湾曲又は直線化されることができ、これにより、進入してくる光ビームの反射又は回折を生ぜしめる。
【００２２】
能動領域における能動デバイスが部分的に又は完全にオン又はオフであるように能動デバイスを制御することはこの分野においてはよく知られているので、ここでは簡略化のために完全には説明しない。一般的に、関連分野において知られているように、所望の露光パターンに基づいて前もって記憶された所定のアルゴリズムが、能動デバイスをオン（又は部分的にオン）及びオフするために使用される。
【００２３】
投影されたイメージは、基板の層に堆積された層（例えばフォトレジスト）の特性を変化させる。これらの変化は、露光中に基板に投影されたイメージにおけるフィーチャに対応している。露光の後、表面はエッチングされることができ、これにより、パターニングされた層を形成する。パターンは、露光中に基板に投影されたパターンに対応している。次いで、このパターニングされた層は、基板内の下に位置する構造層、例えば、導電層、半導体層、絶縁層の露光された部分を除去又はさらに処理するために使用される。次いで、このプロセスは、所望の構造が形成されるまでその他のステップと共に繰り返される。
【００２４】
ステップアンドスキャン技術は、狭いイメージングスロットを有する投影光学系に関連して働く。パターンジェネレータによって形成されたイメージで一度に基板全体を露光するのではなく、個々のフィールドが、イメージングスリットを介して１つずつ基板上にスキャンされる。このことは、基板を移動させ、イメージングスロットがスキャニング中にフィールドを横切るように、パターンジェネレータにおける能動デバイスを制御することによって達成される。次いで、基板ステージはフィールド露光の間にステップ移動させられ、これにより、パターンジェネレータ上の能動デバイスによって形成されたパターンの多数のコピーが、基板層上に露光される。この形態では、基板上に投影されるイメージの質が最大化される。
【００２５】
ダブルテレセントリックビームを形成するために透過光学系を使用するシステム
図１は、ダブルテレセントリック照明を使用する典型的なリソグラフィシステム１００を示している。システム１００は、照明系１０２と、ビームスプリッタ１０４と、パターンジェネレータ１０６と、投影系１０８と、基板１１０とを有している。その他のシステムエレメント（例えば基板ステージ、照明源等）は図面及び以後の説明を簡略にするために省略されている。
【００２６】
（照明源（図示せず））からの照明光ビーム１１２はビームスプリッタ１０４によってパターンジェネレータ１０６に向けられる。パターンジェネレータ１０６との反射により、光ビーム１１４は、パターンジェネレータ１０６によってパターニングされ、ビームスプリッタ１０４を通過した後、投影系１０８を使用して基板１１０へ向けられる。
【００２７】
この実施形態において、物体面はパターンジェネレータ１０６によって規定されており、像面は基板１１０によって規定されている。ビーム１１２の第１の主光線（図示せず）は物体面の近くにおいてテレセントリックであり、ビーム１１４の第２の主光線（図示せず）は像面の近くにおいて及び、投影系１０８に入射及び投影系１０８から射出するときにテレセントリックであり、システム１００はダブルテレセントリック照明を有している。
【００２８】
この実施形態において、照明ビーム１１２及び１１４は、ビームスプリッタ１０４を通過する間に吸収され、ビームスプリッタは照明効率を劇的に減じる。また、ビームスプリッタ１０４は極性変化、複屈折、収差、歪曲等のエラーを照明ビーム１１２及び１１４に生じさせる。
【００２９】
ダブルテレセントリックビームを形成するために反射光学系を使用するシステム
図２及び図５は、それぞれ、本発明の２つの実施形態による、ダブルテレセントリック照明を使用するリソグラフィシステム２００及び５００を示している。これらのシステムは、光を照明系２０２／５０２からパターンジェネレータ２０６／５０６へ向けるために透過光学系の代わりに反射系２１６／５１６を使用することにより、照明ビームに生ぜしめられる吸収及びエラーを排除又は著しく低減する。
【００３０】
図２を参照すると、システム２００では、照明系２０２からの光は反射系２１６からパターンジェネレータ２０６に向かって反射される。この反射は、外向きでありかつ／又は物体面の中央開口を通過すると考えられる。１つの例において、物体面は、パターンジェネレータ２０６の長手方向軸線を通過する平面、又はこのような平面に対して平行な平面によって規定されている。パターンジェネレータ２０６は複数の制御可能なエレメント２１８を有しており、このエレメントはそれぞれ反射面２２０を有している。１つの例において、エレメント２１８は、前記のように及び当業者に知られているように、パターンジェネレータ２０６の能動領域であり、静電作動を使用して制御される。
【００３１】
１つの例において、照明系２０２は光源（図示せず）及び照明系（図示せず）を有している。別の例において、照明系２０２は照明光学系のみを有しており、光ビームは、遠隔の光源から照明系２０２へ導かれる。
【００３２】
適切に整列させられていると、反射面２２０は、反射系２１６の反射部２２２に対して実質的に平行である。１つの例において、反射面２２０がパターンジェネレータ２０６に対して角度を成しているような傾斜位置は、エレメント２１８のデフォルト位置であることができる。例えば、反射面２２０は約２〜３゜だけ傾斜させられている。１つの例において、反射部２２２に対する反射面２２０の適切な整列は、初期の、及び可能であれば断続的な校正によって得られることができる。校正は、本願の開示に基づいて当業者に明らかであるような校正プロセスによって行われることができる。校正は、エレメント２１８又は反射面２２０の欠陥又は湾曲を修正するためにも必要とされる。
【００３３】
１つの例において、校正系２２６は１つ又は２つ以上の可動な（引込み可能な）ビームスプリッタ２２８を有しており、これらのビームスプリッタは、１つ又は２つ以上の反射されたビーム２１４の光路へ進入したり（位置２２８）外れたり（位置２２８′）するようになっている。光路に位置している場合、ビーム２１４の一部は、１つ又は２つ以上の検出器若しくはセンサ２３０へ向けられ、これらの検出器若しくはセンサは制御信号を発生し、制御信号は１つ又は２つ以上の制御装置２３２へ伝送される。制御装置２３２は、パターンジェネレータ２０６における個々のエレメント２１８を制御する制御信号を発生する。その他の現在公知の又は開発された制御システム及びプロセスも、本発明の範囲内で考えられる。
【００３４】
１つの例において、さらに照明効率を高めるために、照明システム２０２は、ビーム２１２における所望の光分布を提供する光学素子を含んでいる。これは、光学装置（図示せず）、例えば回折光学装置を使用して照明ビーム２１２を成形及び／又は方向付けすることを含むことができる。成形及び方向付けエレメント（図示せず）を使用することにより、実質的に全ての照明ビーム２１２がパターンジェネレータ２０６のエレメント２１８のみと相互作用し、パターンジェネレータ２０６の不活性領域２２４から逸らされる。成形及び方向付けシステムの例は、Coston他によって２００４年３月２５日に出願された米国特許出願連続番号第１０／８０８４３６号明細書に記載されており、この出願は、譲受人によって共同で所有されており、引用したことにより全体が本明細書に記載されたものとする。
【００３５】
図３及び図４は、本発明の様々な実施形態による図２に示したシステムの一部をＡ−Ａ線に沿って示している。
【００３６】
図３に示された例においては、円錐形の反射系２１６は１つ又は２つ以上のパターンジェネレータ２０６によって包囲されている。４つのパターンジェネレータ２０６が図示されているが、システム２００の所望の動作に基づいて、あらゆる数のパターンジェネレータが使用されてよい。
【００３７】
図４に示された例において、ピラミッド形の反射系２１６′が示されており、この反射系は、ピラミッドのそれぞれの側に１つのパターンジェネレータ２０６を有している。
【００３８】
図３及び図４は、反射系２１６の形状と、システム２００において使用することができるパターンジェネレータ２０６の数とに関して、典型的であって、網羅的ではないことを意味している。
【００３９】
ここで図５を参照すると、システム５００において、照明系５０２からの光は反射系５１６からパターンジェネレータ５０６に向かって反射される。この反射は、内向きでありかつ／又は物体面の周囲開口を通るものと考えられる。１つの例において、物体面は、パターンジェネレータ５０６の長手方向軸線を通る平面、又はこのような平面に対して平行な平面によって規定されている。パターンジェネレータ５０６は、複数の制御可能なエレメント５１８を有しており、それぞれのエレメントは反射面５２０を有している。１つの例において、エレメント５１８は、前記のように及び当業者に知られているように、パターンジェネレータ５０６の能動領域であり、静電作動を使用して制御される。
【００４０】
１つの例において、照明系５０２は、光源（図示せず）及び照明光学系（図示せず）とを含んでいる。別の例において、照明系５０２は、照明光学系のみを有しており、光ビームは遠隔の光源から照明系５０２へ導かれる。
【００４１】
適切に整列させられていると、反射面５２０は、反射系５１６の第１及び第２の反射部５２２Ａ及び５２２Ｂそれぞれに対して実質的に平行である。１つの例において、反射面５２０がパターンジェネレータ５０６に対して角度を成している傾斜位置は、エレメント５１８のデフォルト位置であることができる。例えば、反射面５２０は約２〜４゜傾斜させられている。１つの例において、反射部５２２Ａ及び５２２Ｂに対する反射面５２０の適切な整合は、初期の、及び可能であれば断続的な校正によって得ることができる。校正は、本明細書の記載に基づいて当業者に明らかになるような校正プロセスによって行うことができる。校正は、エレメント５１８又は反射面５２０の欠陥又は湾曲を修正するためにも必要とされる。
【００４２】
１つの例において、校正系５２６は１つ又は２つ以上の可動な（引込み可能な）ビームスプリッタ５２８を有しており、これらのビームスプリッタは、１つ又は２つ以上の反射されたビーム５１４の光路へ進入したり（位置５２８）外れたり（位置５２８′）するようになっている。光路に位置している場合、ビーム５１４の一部は、１つ又は２つ以上の検出器若しくはセンサ５４０へ向けられ、これらの検出器若しくはセンサは、制御信号を発生し、制御信号は１つ又は２つ以上の制御装置５４２へ伝送される。制御装置５４２は、パターンジェネレータ５０６における個々のエレメント５１８を制御する制御信号を発生する。その他の現在公知の又は開発された制御システム及びプロセスも、本発明の範囲内で考えられる。
【００４３】
１つの例において、さらに照明効率を高めるために、照明系５０２は、ビーム５１２における所望の光分布を提供する光学素子を含んでいる。これは、光学装置（図示せず）例えば回折光学装置を使用して照明ビーム５１２を成形及び／又は方向付けすることを含むことができる。成形及び方向付けエレメント（図示せず）を使用することにより、実質的に全ての照明ビーム５１２がパターンジェネレータ５０６のエレメント５１８のみと相互作用し、パターンジェネレータ５０６の不活性領域２２４から逸らされる。成形及び方向付けシステムの例は、前記米国特許出願連続番号第１０／８０８４３６号明細書に記載されている。
【００４４】
図６は、本発明の１つの実施形態による図５に示されたシステムの一部をＢ−Ｂ線に沿って示している。図６に示された例では、反射系５１６の数はいくつでもよいが、便宜上４つのコンポーネントしか示されていない。同様に、反射系５１６の数に対応することができるあらゆる数のパターンジェネレータが使用されることができる。
【００４５】
図７は、本発明の１つの実施形態による、反射系７１６とパターンジェネレータ７０６との関係を示している。傾斜角度βは、パターンジェネレータ７０６の長手方向軸線である軸線７４０と、エレメント７１８の長手方向軸線である軸線７４２との間の角度である。所望の傾斜角度βは、以下の公式を使用することによって得られる。
（ｄ／ｈ）＝ｔａｎ２α
この公式において、ｄは、ビーム７１２が反射系７１６の反射部７２２から反射する点と、反射されたビーム７３４がエレメント７１８の反射面７２０によって反射されかつパターニングされる点との間の水平方向の距離であり、ｈは、これらの２つの点の垂直方向の距離である。αは、反射部７２２及び反射面７２０それぞれと垂直に交わる２つの軸線７３６及び７３８の間の角度である。より小さな傾斜角度βが望ましいならば、ｄ、ｈ及び／又はαは増大されなければならないのに対し、より大きな傾斜角度βが望ましいならば、ｄ、ｈ、及び／又はαは減少させられなければならない。
【００４６】
典型的な作動
図８は、本発明の１つの実施形態による方法８００を示すフローチャートである。１つの例において、方法８００は、前記システム２００又は５００の少なくとも一方を作動させるために使用される。
【００４７】
ステップ８０２において、照明ビームは、反射系から、物体面を規定するパターンジェネレータに向かって反射される。ステップ８０４において、照明ビームはパターンジェネレータを用いてパターニングされる。ステップ８０６において、パターニングされた照明ビームが、投影系を用いて、像面を規定しかつデバイスが形成される基板へ向けられる。ステップ８０８において、反射系の反射部は、パターンジェネレータの反射部に対して実質的に平行に位置決めされている。パターンジェネレータの反射部は、照明ビームをパターニングし、パターニングされたビームを基板へ方向付け、これにより、照明ビームは物体面の近くにおいてテレセントリックであり、パターニングされたビームは像面の近くにおいてテレセントリックである。
【００４８】
結論
本発明の様々な実施形態が上に説明されたが、これらの実施形態は、限定するためではなく例としてのみ示されている。発明の精神及び範囲から逸脱することなく形状及び詳細における様々な変更を行うことができることは当業者に明らかになるであろう。すなわち、本発明の広さ及び範囲は、前記の典型的な実施形態の何れによっても限定されるべきではなく、添付の請求項及びその均等物に基づいてのみ定義されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】ダブルテレセントリック照明を使用する典型的なリソグラフィシステムを示している。
【図２】本発明の１つの実施形態による、ダブルテレセントリック照明を使用するリソグラフィシステムを示している。
【図３】本発明の様々な実施形態による図２のシステムの一部をＡ−Ａ線に沿って示している。
【図４】本発明の様々な実施形態による図２のシステムの一部をＡ−Ａ線に沿って示している。
【図５】本発明の１つの実施形態による、ダブルテレセントリック照明を使用するリソグラフィシステムを示している。
【図６】本発明の１つの実施形態による、図５に示されたシステムの一部をＢ−Ｂ線に沿って示している。
【図７】本発明の１つの実施形態による、反射系とパターンジェネレータとの関係を示している。
【図８】本発明の１つの実施形態による方法を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００５０】
１００  リソグラフィシステム、  １０２  照明系、  １０４  ビームスプリッタ、  １０６  パターンジェネレータ、  １０８  投影系、  １１０  基板、  １１２  照明ビーム、  １１４  光ビーム、  ２００，５００  リソグラフィシステム、  ２０２，５０２  照明系、  ２０６，５０６，７０６  パターンジェネレータ、  ２１２  照明ビーム、  ２１４  ビーム、  ２１６，５１６，７１６  反射系、  ２１８，７１８  エレメント、  ２２０  反射面、  ２２２  反射部、  ２２４  不活性領域、  ２２６  校正系、  ２２８  ビームスプリッタ、  ２３０  センサ、  ２３２  制御装置
【図３】
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【図４】
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【図６】
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【図８】
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【図１】
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【図２】
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【図５】
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【図７】
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