(57)【要約】【課題】新たに制振部材のスペースを設ける必要なく高い外乱振動特性を備えた光学素子調整システムを構成することができ、より高い光学素子の位置決め精度、更には高い光学像性能をコンパクトに且つ環境（コンタミネーションやアウトガスなく）を悪化させることなく実現すること。【解決手段】光学素子を保持する手段と、前記光学素子と前記保持手段とを位置及び／又は角度調整する手段があって、前記位置及び／又は角度調整手段は加工による対向する面を持ち、前記対向する面に制振手段が挿入されていることを特徴とする。【選択図】図１
2006119333.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子を保持する手段と、前記光学素子と前記保持手段とを位置及び／又は角度調整する手段があって、前記位置及び／又は角度調整手段は加工による対向する面を持ち、前記対向する面に制振手段が挿入されていることを特徴とする光学素子調整システム。
【請求項２】
光学素子を保持する手段と、前記光学素子と前記保持手段とを位置及び／又は角度調整する手段があって、前記保持する手段は加工による対向する面を持ち、前記対向する面に制振手段が挿入されていることを特徴とする光学素子調整システム。
【請求項３】
光学素子を保持する手段と、前記光学素子と前記保持手段とを位置及び／又は角度調整する手段があって、前記位置及び／又は角度調整手段と前記保持する手段は加工による対向する面を持ち、前記対向する面に制振手段が挿入されていることを特徴とする光学素子調整システム。
【請求項４】
前記対向する面の間隔は１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学素子調整システム。
【請求項５】
前記制振材料は、制振ゴムであることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学素子調整システム。
【請求項６】
前記制振材料は、高分子系制振材料であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学素子調整システム。
【請求項７】
前記制振材料は、ゴム材料であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学素子調整システム。
【請求項８】
前記制振材料は、グリースであることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学素子調整システム。
【請求項９】
前記制振材料を挿入された前記対向する面は、概略水平方向であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学素子調整システム。
【請求項１０】
前記光学素子の位置及び／又は角度を調整する手段は、前記光学素子の位置及び／又は角度を計測手段によって計測し、光学性能を満足する位置及び／又は角度になるように前記光学素子を調整することを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学素子調整システム。
【請求項１１】
前記光学素子の位置及び／又は角度を調整する手段は、前記保持手段の位置及び／又は角度を計測手段によって計測し、光学性能を満足する位置及び／又は角度になるように前記光学素子を調整することを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学素子調整システム。
【請求項１２】
光学素子を保持する手段と、前記光学素子と保持手段とを一軸以上の位置及び／又は角度調整する手段があって、調整する軸以外の軸も計測し、その結果によって演算の上、再度光学性能を満足するように位置及び／又は角度調整することを特徴とする光学素子調整システム。
【請求項１３】
前記光学素子と前記保持手段の周上の間隔に概ね全周に亘って制振材料が挿入されていることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学素子調整システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、精密な駆動装置、特に半導体や液晶デバイスを製造する工程において使用する露光装置の光学素子（レンズやミラー等）の位置、姿勢を微調整するための装置に関する。特に、露光装置において、光学素子を原版（マスク、レチクル等）の像を対象物（ウエハ等）に投影露光する際、正確な結像関係を得るために光学素子の位置、姿勢の微調整を行う駆動装置及びそれを用いる露光装置等に関する。尚、お本発明で述べる駆動装置は、上記のような露光装置等の光学装置における光学素子の位置、姿勢調整以外にも、電子顕微鏡の試料台等のように、特殊環境で高精度な位置決めを要する装置にも適用可能である。
【背景技術】
【０００２】
半導体露光装置は、数多くの異なる種類のパターンを有する原版（レチクル）をシリコンウエハ（基盤）に転写する装置である。高集積度の回路を作成するためには、解像性能だけでなく重ね合わせ精度の向上が不可欠である。
【０００３】
露光装置等において、露光装置外部からの振動が光学素子（レンズやミラー等）に伝わってしまうと、解像性能や重ね合わせ精度が低下してしまう。そこで、その解像性能や重ね合わせ精度を向上させるために、外部からの振動が光学素子に伝わらないように振動の伝播を抑制する制振装置が開発されてきた。
【０００４】
このような制振装置として特許文献１にあるようなオイルやグリース等の粘性体１０のスクイズフィルム効果を用いたもの等がある。図９は従来例である粘性体１０を用いた制振機能付のアクチュエータの一部断面斜視図である。
【０００５】
図９に示すアクチュエータ内蔵減衰手段は、ベローズ１１内の圧力を圧力制御機器（不図示）により調整することで、フランジ１２の出力を調節するアクチュエータであり、ベローズ１１の内部に配置した僅かなの隙間に粘性体１０を挟むことで同時に減衰効果も得ることができる。この手法により、例えば粘性体１０からのアウトガスを外に出すことなくクリーンな制振装置を提供することができる。この制振装置は、粘性体の封入方法によっては、不要なアウトガスの影響を排除するだけでなく真空環境でも用いることができる。
【０００６】
制振材料を用いた別の構成例としては、特許文献２〜４に提案がなされている。
【０００７】
一方、真空中の制振機構としては、摩擦を用いたものが特許文献５に提案されている。
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−０４４８３４号公報
【特許文献２】特許第３４０３７４８号公報
【特許文献３】特開平１０−２５５２９０号公報
【特許文献４】特開平１１−２１１９５６号公報
【特許文献５】特開平１１−２３３０３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１（特開平１１−０４４８３４号公報）で用いられている方法は、ベローズを用いた流体アクチュエータを使用する場合にのみ適用可能であり、圧電アクチュエータ等、異なる駆動源のアクチュエータを用いた機構の場合は使用することができない。
【００１０】
又、特許文献２（特許第３４０３７４８号公報）に記載された手法は、ゲル状微粒子を重力方向の隙間に沿って配置、硬化させる方法であるが、ゲル状微粒子はアウトガスや、コンタミネーション等の点で半導体露光装置環境に不適切な場合が多い。
【００１１】
更に、特許文献３，４（特開平１０−２５５２９０号公報、特開平１１−２１１９５６号公報）は何れも光学素子の支持部材等に減衰要素を適用した例であるが、２群構成のレンズ支持部に適用したり、弾性部材を包むように減衰材料を適用したりした例であり、半導体露光装置の鏡筒内部に適用することはできない。
【００１２】
又、特許文献５（特開平１１−２３３０３９号公報）の制振装置で用いられている方法では、摩擦を用いて制振を行うため、必然的に発塵してしまう。従って、この特許文献５に記載された制振装置を、僅かな塵埃であっても問題となる露光装置に適用することは困難である。
【００１３】
本発明は上記問題に鑑みてなされたもので、その目的とする処は、脱ガスと発塵の少ない制振機構を用いた光学素子調整システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するため、本発明は以下の構成を採用する。
【００１５】
光学素子を保持する手段と、前記光学素子と保持手段とを位置及び／又は角度調整する手段があって、前記位置及び／又は角度調整手段は機械加工による対向する面を持ち、前記対向する面に制振手段が挿入されていることを特徴とする。
【００１６】
光学素子を保持する手段と、前記光学素子と前記保持手段とを位置及び／又は角度調整する手段があって、前記保持する手段は機械加工による対向する面を持ち、前記対向する面に制振手段が挿入されていることを特徴とする。
【００１７】
光学素子を保持する手段と、前記光学素子と前記保持手段とを位置及び／又は角度調整する手段があって、前記位置及び／又は角度調整手段と前記保持する手段は機械加工による対向する面を持ち、前記対向する面に制振手段が挿入されていることを特徴とする。
【００１８】
前記対向する面の間隔は１ｍｍ以下であることが望ましい。
【００１９】
前記制振材料は、制振ゴムか、高分子系制振材料か、ゴム材料かグリースの何れかであるのが良い。
【００２０】
前記制振材料を挿入された前記対向する面は概略水平方向であることが望ましい。
【００２１】
前記光学素子の位置及び／又は角度を調整する手段は、前記光学素子又は保持手段の位置及び／又は角度を計測手段によって計測し、光学性能を満足する位置及び／又は角度になるように前記光学素子を調整することが望ましい。
【００２２】
前記光学素子を保持する手段と、前記光学素子と前記保持手段とを一軸以上の位置及び／又は角度調整する手段があって、調整する軸以外の軸も計測し、その結果によって演算の上、再度光学性能を満足するように位置及び／又は角度調整する光学素子調整システム。
【００２３】
前記光学素子と前記保持手段の周上の間隔に概ね全周に亘って制振材料が挿入されているのが良い。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、新たに制振部材のスペースを設ける必要なく高い外乱振動特性を備えた光学素子調整システムを構成することができ、より高い光学素子の位置決め精度、更には高い光学像性能をコンパクトに且つ環境（コンタミネーションやアウトガスなく）を悪化させることなく実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下に本発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。
【００２６】
＜実施の形態１＞
図２に本発明の光学素子１の保持手段３（セル２２）及び姿勢調整機構（調整装置、位置決め装置）８が搭載される露光装置の全体概要図を示す。
【００２７】
この露光装置は、 一例として波長１９３ｎｍ程度のＡｒＦ光）を用いた縮小投影露光装置である。この露光装置は、
発光装置（不図示）と、発光装置からの光でレチクルを照明する照明光学系（不図示）と、レチクルからの光をウエハに導く投影光学系とを有する。本発明の光学素子保持・
調整システム９は、この投影光学系内、若しくは照明光学系内に配置されており、 光学素子１（ここではレンズ）を保持し、
同時に投射光学系若しくはは照明光学系の光学特性を所望の光学特性を満足するように（光学系の収差が所定の範囲内に収まるように）姿勢調整を行う。
【００２８】
又、この図２の露光装置において、床２３に対して除振装置２４を介して構造体フレーム２５を設置するようにしており、更に、その構造体フレームが投影光学系の鏡筒を支持するように構成されている。この図２において、構造体フレーム２５が支持しているのは投影光学系だけであるが、勿論、照明光学系を支持するように構成しても構わないし、照明光学系、投影光学系の両者、更にウエハやレチクルステージ等を支持するように構成しても構わない。
【００２９】
図１（ａ），（ｂ）は光学素子調整システム９の一例を示す図である。
【００３０】
図１（ａ）は光学素子調整システム９の上面図、（ｂ）は断面斜視図である（ここでは後に述べる変位センサ等は図示していない）。光学素子１は、レンズセル２２に固定されており、このレンズセル２２が姿勢調整機構８によって位置、姿勢を調整可能に構成されている。
【００３１】
本実施の形態で示した姿勢調整機構８は、一例として弾性ヒンジ５と駆動手段４等からなるＺ方向の駆動とチルト角を調整する３軸駆動機構である（図４参照）（光学設計仕様によって、調整駆動軸数は1 軸から６軸の間で様々なものが考えられる）。この３軸駆動機構は、３個の駆動手段４がそれぞれ任意に動作する（伸縮する）ことにより、その可動部７（ここでは、セル２２及び光学素子１）を鏡筒６に対して３自由度に駆動する（位置、姿勢を調整する）ことができる。この駆動手段４としては、積層型の圧電素子が一般的に考えられるが、シリンダやベローズ等の流体アクチュエータ、若しくははモータ、送りねじ等を用いても良い。この姿勢調整機構の構成はこの限りではなく、セル２２の位置、姿勢を１自由度以上調整可能な構成なら光学設計上の仕様に応じて他の構成を用いても構わない。
【００３２】
ところで、本実施の形態のように、光学素子１が床２３に対して幾つかの要素を通じて機械的に結合された姿勢調整機構８である場合、床２３等の露光装置外部の振動によって光学素子１が振動してしまうことがある。この場合、光学素子１の振動の大きさ（振幅の大きさ）によっては光学系全体の光学性能を低下させる可能性がある。
【００３３】
そこで、図２で示した系の床２３に、一例として１０ｇａｌ（０．１ｍ／ｓ2 ）の加速度を与えた場合のある光学素子１の振動（周波数対振幅）の予測計算結果を図３に示す。ここでは、姿勢調整機構８のばね定数及び質量等を考慮して、光学素子調整システム全体の固有振動数を約１５０Ｈｚ、減衰率は０．００５として計算した。この結果の図３からは、前述のようなこの光学素子１が固有振動数（約１５０Ｈｚ）において約７０ｎｍの振幅の振動が起きることが分かる。光学性能上、この光学素子１の許容振幅がこの値より小さな値を要求する場合は、次の何れかによる対策が必要となる。
【００３４】
１．床２２から進入する外乱振動を低減する
２．外乱振動を除振装置（ダンパ）２４で抑制する
３．光学素子調整システム９の固有振動数が高くなるように構成する
４．光学素子調整システム９の減衰率が大きくなるように減衰装置を付加する
「１．床２２から侵入する外乱振動を低減する」には、頑丈な床を備えた露光装置を設置する建物が求められる。
【００３５】
「２．外乱振動を除振装置（ダンパ）２４で抑制する」は、アクティブマウントを採用したりする等で、除振性能を上げることが考えられる。
【００３６】
「３．光学素子調整システム９の固有振動数が高くなるように構成する」は、一般的に必要な調整ストロークと相反する関係にあり、容易に固有振動数を上げる設計はできない。
【００３７】
本実施の形態においては、上の「４．光学素子保持・調整システム９の減衰率が大きくなるように減衰装置を付ける」に着目した。
【００３８】
図４に、図１で示した３軸駆動機構の１ユニットの側面詳細を示す。駆動入力源は、圧電アクチュエータや、直動変換機能を備えた回転モータや、シリンダやベローズのような流体圧力を利用した直動アクチュエータ１４等で行い、その変位は変位直交変換機構２７によってＺ軸方向に変換される。このような機構を、前述のようにセル２２の円周上３点に配置することで、Ｚ，θx ，θy の３軸駆動を実現している。
【００３９】
直動アクチュエータ１４は、ボール２で直交変換機構２７に連結され、多端は与圧ねじ２１でアクチュエータ・ホルダ３２と固定されている。尚、ボール２は与圧ねじ２１側にあっても良く、ボール２の代わりに弾性ヒンジ等があっても良い。
【００４０】
直交変換機構２７は、主に回転レバー３０によって方向変換されているが、アクチュエータとの取り付け位置、即ち弾性ヒンジを連結する位置と、中間リンク３４と連結する位置の長さ比の取り方によって、直動アクチュエータ４による変位を拡大したり、縮小したりすることができる。
【００４１】
回転レバー３０による変位を、できるだけ純粋なＺ軸方向変位にするために、平行ばねリンク機構２８による案内が設けられている。平行ばねリンク機構２８は、不要な軸方向の変位（クロストーク）を軽減することができる。この平行ばねリンク機構２８は、出力リンク２９に対して配置されていても良い。
【００４２】
セル２２と姿勢調整機構８とは、出力リンク２９において連結されている。可動部７と、姿勢調整機構８との位置関係は、図４に示したのとは、上下反転させた図１に示した方向の方が良い。可動部７の自重により、直動アクチュエータに圧縮力が掛かるためである（圧電アクチュエータは、引っ張り力を受けると、破壊し易いため）。
【００４３】
図６は、図１で示した３軸光学素子姿勢調整機構８の位置計測センサ３３位置を模式的に示してある。
【００４４】
計測センサ３３は、Ｚ軸方向（紙面に垂直な方向）に３個（３３ｚ）、Ａ（３３ｘ）、Ｙ（３３ｙ）方向にそれぞれ１個ずつ、合計５個の変位センサ３３が配置されている。基本的にＺ軸方向合計３個の変位センサ３３ｚだけでＺ，θx ，θy の３軸の位置制御ができる（図７参照）。しかし、高い光学性能を満足するために、駆動させる３軸以外のＸ，Ｙ方向のクロストークに関しても変位センサ３３ｘ，３３ｙによって計測し、その発生した誤差量に従って光学敏感度からθx ，θy による擬似的な補正量を算出し、修正する方法もある。
【００４５】
ところで、本実施の形態で示す光学素子調整システム９は、各要素を剛体と見なし場合の質点ばね系の等価図で示すと図５のように表すことができる。ここに、Ｋ１
及びＣ１ はそれぞれ光学素子１を接着や、クランプ等によって保持する手段のばね定数及び減衰係数である。又、Ｋ２
及びＣ２ はそれぞれ姿勢調整機構８のばね定数及び減衰係数である。
【００４６】
光学素子調整システム９の減衰率が大きくなるように減衰装置を付加する方法として、Ｃ２
の姿勢調整機構８の減衰係数を大きくする方法が考えられる。この方法として、図４に一例として示した機構の場合、数多くのワイヤカット放電加工等で施した溝があるが、この溝の中に減衰材料１０等を装着することが考えられる（溝部の拡大図を図１０に示す）。この減衰材料として、制振ゴムやフォームラバー、高分子系制振材料、ゴム材料等を利用することもできるが、半導体露光装置の中で使用するため、コンタミネーションやアウトガスのことを考慮して、例えば真空用のフッ素系グリース等を使用しても良い。
【００４７】
尚、制振材料１０の持つ減衰係数や使用する量、機構に挿入する部位によって姿勢調整機構８の減衰係数Ｃ２
が大きく変わる他に、溝の隙間幅も影響するため、必要な減衰係数Ｃ２ に応じて調整する必要がある。特に溝の幅に関しては、減衰材料を挿入する部分のみ溝幅を変えても良いが、幅が広くなるほど減衰効果が低減される。一般的なワイヤ放電加工の幅と装置のスペースの観点から、減衰材料１０を挿入する溝の幅は１ｍｍ以下であることが望ましい。
【００４８】
又、挿入する制振材料１０は、なるべく水平方向の軸に沿った溝部に挿入するのが、重力による制振材料１０の落下・ズレによる、汚損、特性の変化がなくて良く、それを防止するために制振材料１０を硬化させる必要がなくて良い。
【００４９】
＜実施の形態２＞
次に、本発明の実施の形態２について説明する。
【００５０】
実施の形態１では、光学素子調整システム９の姿勢調整機構部８に減衰付加機能を適用する手段として、ワイヤカット溝等の隙間に制振ゴム等の制振材料１０を挿入する方法を述べた。図８に実施の形態２として、光学素子保持手段３に制振手段を適用した例を示す。
【００５１】
ここで述べる光学素子保持手段３とは、光学素子１をクランプや接着等により機械的に拘束するだけでなく、露光エネルギによる熱歪みを緩和する、或は駆動手段４等から入る外力を光学素子１に伝えて変形させるのを緩和する機能も備えたものである。尚、この外力を緩和する機能の一例として古くからセル２２と光学素子１の間に接線方向に沿った板ばねを配置することが知られているが、図８の例ではこの板ばねをワイヤカット等でセル２２と一体で実現している。このワイヤカット溝に、実施の形態１で示したような制振材料１０を装着し、材料の粘度や溝の隙間厚、材料を入れる幅等を調整すれば、図５のＣ１
を自由に変化させることができる（溝部の拡大図を図１１に示す）。この減衰材料として、制振ゴムやフォームラバー、高分子系制振材料、ゴム材料等を利用することもできるが、半導体露光装置の中で使用するため、コンタミネーションやアウトガスのことを考慮して、例えば真空用のフッ素系グリース等を使用しても良い。
【００５２】
尚、制振材料１０の持つ減衰係数や使用する量、機構に挿入する部位によって姿勢調整機構８の減衰係数Ｃ１
が大きく変わる他に、溝の隙間幅も影響するため、必要な減衰係数Ｃ１ に応じて調整する必要がある。特に、溝の幅に関しては、減衰材料を挿入する部分のみ溝幅を変えても良いが、幅が広くなるほど減衰効果が低減される。一般的なワイヤ放電加工の幅と装置のスペースの観点から、減衰材料１０を挿入する溝の幅は１ｍｍ以下であることが望ましい。
【００５３】
又、挿入する制振材料１０は、なるべく水平方向の軸に沿った溝部に挿入するのが、重力による制振材料１０の落下・ズレによる、汚損、特性の変化がなくて良く、それを防止するために制振材料１０を硬化させる必要がなくて良い。
【００５４】
尚、ここで示した例は、光学素子保持手段３に外力緩和手段が接線方向のみに付加されたものであるが、更に外力緩和機能を強化する目的で、例えば光学素子１の接線方向周りの軸、同半径方向周りの軸に自由度を持つための弾性ヒンジが形成されても良く、更にその形成のための溝等の間に制振手段が挿入されてあっても良い。
【００５５】
図８の例では、光学素子１とセル２２は、合計３箇所で支持接触されているため、光学素子１に蓄えられた露光エネルギはその３箇所しか逃がす場所がない。上で述べた制振材料１０を支持点以外の概ね全周の光学素子１とセル２２の隙間に装着することで熱伝導性を改善でき、露光エネルギによる収差の改善に有用である。
【００５６】
又、露光装置内の投影光学系の場合、鏡筒内を特殊ガスでパージしてある場合があるが、図８で示したような構成では封止することができないので、やはり概ね光学素子１とセル２２との間全周に制振材料１０を装着するのが良い。
【００５７】
本実施の形態の構成によって、例えば駆動手段４に減衰手段が装着できない場合等の対外乱振動特性を改善することができる。 
＜実施の形態３＞
次に、本発明の実施の形態３について説明する。
【００５８】
前記実施の形態１では、光学素子調整システム９の姿勢調整機構部８に減衰付加機能を適用する方法について述べ、実施の形態２では、光学素子調整システム９の保持手段３に減衰付加機能を適用する方法について述べた。対外乱振動特性の改善が上記何れか一方の手段では不十分な場合、駆動手段４と保持手段３両方のワイヤカット加工等の溝部に減衰材料１０を挿入し、調整することで改善することができる。この減衰材料１０として、制振ゴムやフォームラバー、高分子系制振材料、ゴム材料等を利用することもできるが、半導体露光装置の中で使用するため、コンタミネーションやアウトガスのことを考慮して、例えば真空用のフッ素系グリース等を使用しても良い。 
尚、制振材料の持つ減衰係数や使用する量、機構に挿入する部位によって姿勢調整機構８の減衰係数Ｃ1 及びＣ2 が大きく変わる他に、溝の隙間幅も影響するため必要な減衰係数Ｃ1 及びＣ2 に応じて調整する必要がある。特に、溝の幅に関しては、減衰材料１０を挿入する部分のみ溝幅を変えても良いが、幅が広くなるほど減衰効果が低減される。一般的なワイヤ放電加工の幅と装置のスペースの観点から、減衰材料１０を挿入する溝の幅は１ｍｍ以下であることが望ましい。 
又、挿入する制振材料１０は、なるべく水平方向の軸に沿った溝部に挿入するのが、重力による制振材料１０の落下・ズレによる、汚損、特性の変化がなくて良く、それを防止するために制振材料１０を硬化させる必要がなくて良い。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】弾性ヒンジを用いた光学素子保持・調整システムの上面及び断面斜視図である。
【図２】光学素子保持調整機構が搭載される露光装置の全体図である。
【図３】光学素子の外乱振動特性図である。
【図４】姿勢調整機構詳細図である。
【図５】光学素子調整システムの等価図である。
【図６】変位センサ取り付け位置の概要を示す図である。
【図７】３軸光学素子調整機構の制御概要図である。
【図８】レンズ保持手段の詳細図である。
【図９】アクチュエータ内蔵減衰手段を示す図である。
【図１０】姿勢調整機構の溝部拡大図である。
【図１１】レンズ保持手段の溝部拡大図である。
【符号の説明】
【００６０】
１    光学素子
２    ボール
３    保持手段
４    駆動手段
５    弾性ヒンジ
６    鏡筒
７    可動部
８    姿勢調整機構
９    光学素子保持・調整システム
１０  粘性体、又は減衰材料、又は制振材料
１１  ベローズ
１２  フランジ
１３  支柱
１４  直動アクチュエータ
２１  与圧ねじ
２２  セル
２３  床
２４  除振装置
２５  構造体フレーム
２６  可動リング
２７  直交変換機構
２８  平行ばねリンク機構
２９  出力リンク
３０  回転レバー
３１  固定部
３２  アクチュエータ・ホルダ
３３  変位センサ
３４  中間リンク
３５  スペーサ
【図１】
2006119333.tif 000003
【図２】
2006119333.tif 000004
【図３】
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【図４】
2006119333.tif 000006
【図５】
2006119333.tif 000007
【図６】
2006119333.tif 000008
【図７】
2006119333.tif 000009
【図８】
2006119333.tif 000010
【図９】
2006119333.tif 000011
【図１０】
2006119333.tif 000012
【図１１】
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