(57)【要約】【課題】４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報の高密度記録及び再生が可能であり、記録再生特性（特に感度、変調度）に優れた光情報記録媒体を提供する。【解決手段】基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層中に一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有する光情報記録媒体。一般式（Ｉ）【化１】2006289961.tif 000019  一般式（Ｉ）において、R11〜R18は各々独立に水素原子または置換基を表す。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層中に一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有することを特徴とする光情報記録媒体。
一般式（Ｉ）
【化１】
2006289961.tif 000016
一般式（Ｉ）において、R11〜R18は各々独立に水素原子または置換基を表す。
【請求項２】
記録層中に一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有し、かつ、該一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンにおける溶液吸収極大波長と膜吸収極大波長がいずれも350nm〜385nmであることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
記録層中に一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有し、かつ、該記録層の４４０ｎｍ以下のレーザー光の発振波長における屈折率nおよび消衰係数kが、ｎ≧2.0と0.01≦k≦0.4を同時に満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層中に一般式（ＩＩ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有する請求項１〜３のいずれかに記載の光情報記録媒体。
一般式（ＩＩ）
【化２】
2006289961.tif 000017
一般式（ＩＩ）において、R21〜R28はそれぞれ独立して置換または無置換のアルキル基を表す。但し、R21〜R28のうち少なくとも一つの置換基は、さらにヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ヘテロ環基のいずれかによって置換された基である。
【請求項５】
基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層中に一般式（ＩＩＩ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有する請求項１〜３のいずれかに記載の光情報記録媒体。
一般式（ＩＩＩ）
【化３】
2006289961.tif 000018
一般式（ＩＩＩ）において、R31〜R38はそれぞれ独立して置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、または置換もしくは無置換のアルキルチオ基を表す。但し、R31〜R38のうち少なくとも一つの置換基は、さらにヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ヘテロ環基のいずれかによって置換された基である。
【請求項６】
記録層とは別に金属からなる光反射層が設けられている請求項１〜５のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
記録層とは別に保護層が設けられている請求項１〜６のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項８】
基板が、その表面にトラックピッチ0．2μｍ〜0．5μｍのプリグルーブを有する透明な円盤状基板であり、記録層が該プリグルーブが形成された側の表面に設けられている請求項１〜７のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー光を用いて情報の記録および再生が可能な光情報記録媒体および情報記録方法、およびこれに適した新規化合物に関するものである。特に本発明は、波長４５０ｎｍ以下の短波長レーザー光を用いて情報を記録するのに適したヒートモード型の光情報記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も間近にひかえて、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。前述のＣＤ−Ｒ及び、可視レーザー光（630nm〜680nm）を記録用レーザーとして高密度記録を可能としたＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位をある程度までは確保されるものの、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量を有しているとは言えない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長のレーザー光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が進められ、例えば４０５ｎｍの青色レーザーを用いたＢｌｕ−ｒａｙ方式と称する光記録ディスクが上市された。
【０００４】
有機色素を含む記録層を有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより、情報の記録再生を行う記録再生方法が開示されている。具体的には、記録層の色素として、ポルフィリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を用いた光ディスクに、青色（波長４００〜４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザー光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法が提案されている。
【０００５】
先行技術に、青色レーザーによる記録、再生が可能な光学記録媒体として、記録層にポルフィリン系化合物を用いたものが提案されている。
【特許文献１】特開平11−334207号公報
【特許文献２】特開2001-138634号公報
【特許文献３】特開平11-58957号公報
【特許文献４】特開2001-143317号公報
【特許文献５】特開2001-287465号公報
【特許文献６】特開2003-272234号公報
【特許文献７】特開2003-272259号公報
【特許文献８】特開2004-58365号公報
【特許文献９】特開2004-111011号公報
【特許文献１０】特開2004-160742号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特開平11−334207号公報に記載されるポルフィリン系化合物を用いた光学記録媒体であれば、４８８nmの青色レーザーによる記録、再生が可能であるが、４４０ｎｍ以下の青色レーザーを用いた場合、良好な記録再生特性は得られない。また、特開2001−138634号公報に記載されるオクタエチル白金ポルフィリンにおいては、有機溶媒に対する溶解性が非常に悪く、塗布による記録層の形成が困難であり安価な光学記録媒体を作製することが困難であり、また、４４０ｎｍ以下の青色レーザーを用いた場合、良好な記録再生特性は得られない。そこで、４４０ｎｍ以下の青色レーザー光照射による情報の記録再生を良好に行うことを可能にする有機色素の開発が望まれている。
【０００７】
特開平11−334207号公報に具体的に記載されているポルフィリン系化合物はポルフィリン核の中心に水素原子、Mg、Ni、Co、Fe、Cu、Zn、Cr、In、Mnなどを有している化合物であるが、本発明のようにポルフィリンの中心金属を白金（Pt）にすることによって他の元素（水素原子、Mg、Ni、Co、Fe、Cu、Zn、Cr、In、Mnなど）に比べて溶液吸収極大波長および膜吸収極大波長が短波長となり、これにより屈折率nおよび消衰係数kが適切な値となり、その結果４４０ｎｍ以下の青色レーザーにおいて良好な記録再生特性が得られるようになることが判明した。
【０００８】
特開2001−138634号公報に記載されるオクタエチル白金ポルフィリンにおいては、有機溶媒に対する溶解性が非常に悪く、塗布による記録層の形成が困難であり安価な光学記録媒体を作製することが困難であるが、本発明における好ましい置換基を用いることにより、溶解性が改善されて有機溶剤による塗布が可能となり、さらに均質で良好な膜が形成できるようになる。
【０００９】
また、良好な記録再生特性が得るためには、記録層の４４０ｎｍ以下のレーザー光の発振波長における屈折率nおよび消衰係数kが、ｎ≧2.0と0.01≦k≦0.4を同時に満たすことが望ましく、その為には記録層に用いる本発明の化合物において、溶液吸収極大波長と膜吸収極大波長がいずれも350nm〜385nmであることが必要である。この理由は、溶液吸収極大波長が385nmより大きい化合物は、405nmにおけるモル吸光係数が大きくなり、0.01≦k≦0.4を満たすことが困難であるからである。
【００１０】
本発明は、４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報の高密度記録及び再生が可能であり、記録再生特性（特に感度、変調度）に優れた光情報記録媒体を提供することにある。又、そのような光情報記録媒体を作製することのできる色素を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の課題は、以下の構成によって好ましく達成された。
【００１２】
[1]  基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層中に一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有する光情報記録媒体。
一般式（Ｉ）
【００１３】
【化１】
2006289961.tif 000002
【００１４】
一般式（Ｉ）において、R11〜R18は各々独立に水素原子または置換基を表す。
[2]  記録層中に一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有し、かつ、該一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンにおける溶液吸収スペクトルの最大ピーク波長と膜吸収スペクトルの最大ピーク波長がいずれも350nm〜385nmであることを特徴とする[1]に記載の光情報記録媒体。
[3]  記録層中に一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有し、かつ、該記録層の４４０ｎｍ以下のレーザー光の発振波長における屈折率nおよび消衰係数kが、ｎ≧2.0と0.01≦k≦0.4を同時に満たすことを特徴とする[1]または[2]に記載の光情報記録媒体。
[4]  基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層中に一般式（ＩＩ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有する[1]〜[3]のいずれかに記載の光情報記録媒体。
一般式（ＩＩ）
【００１５】
【化２】
2006289961.tif 000003
【００１６】
一般式（ＩＩ）において、R21〜R28はそれぞれ独立してアルキル基を表す。但し、R21〜R28のうち少なくとも一つの置換基は、さらにヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ヘテロ環基のいずれかによって置換された基である。
[5]  基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層中に一般式（ＩＩＩ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有する[1]〜[3] のいずれかに記載の光情報記録媒体。
一般式（ＩＩＩ）
【００１７】
【化３】
2006289961.tif 000004
【００１８】
一般式（ＩＩＩ）において、R31〜R38はそれぞれ独立して置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、または置換もしくは無置換のアルキルチオ基を表す。但し、R31〜R38のうち少なくとも一つの置換基は、さらにヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ヘテロ環基のいずれかによって置換された基である。
[6]  記録層とは別に金属からなる光反射層が設けられている[1]〜[5] のいずれかに記載の光情報記録媒体。
[7]  記録層とは別に保護層が設けられている[1]〜[6] のいずれかに記載の光情報記録媒体。
[8]  基板が、その表面にトラックピッチ0．2μｍ〜0．5μｍのプリグルーブを有する透明な円盤状基板であり、記録層が該プリグルーブが形成された側の表面に設けられている[1]〜[7] のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の光情報記録媒体は、特定の白金ポルフィリン化合物を記録層の記録材料として用いることにより、波長４４０ｎｍ以下の短波長レーザー光、とりわけ汎用性の高い４０５ｎｍ付近のレーザー光を照射して情報の高密度記録及び再生が可能であり、かつ高変調度といった良好な記録再生特性を有する、という効果を奏する。即ち、従来のＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒよりも高密度での情報の記録が可能となり、更に大容量の情報の記録が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の光情報記録媒体及び情報記録方法の実施の形態、および化合物について詳細に説明する。
【００２１】
本発明の光情報記録媒体は、基板上に４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層中に一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリン（色素）を少なくとも一つ含有する光情報記録媒体である。
【００２２】
本発明に係るポルフィリン系化合物を示す前記一般式（Ｉ）において、R11〜R18は各々独立に水素原子または置換基を表す。置換基の例として、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が挙げられる。また、R11とR12、R13とR14、R15とR16、R17とR18はそれぞれ互いに結合しても良い。
【００２３】
更に詳しくは、R11〜R18としてハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２―エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、アミノ基、アルキルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ）、アニリノ基（炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えばアニリノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフェノキシカルボニルアミ��、m-ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、t-ブチルスルホニル、s-ブチルスルホニル、フェニルスルホニル、ピリジルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシ��ルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
【００２４】
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニルが挙げられる。また、R11〜R18は更に置換基によって置換されていても良い。
【００２５】
R11〜R18として好ましくはハロゲン原子、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、５または６員の置換もしくは無置換のヘテロ環基、シアノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、より好ましくは、炭素数１から３０のアルキル基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基であり、さらに好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、または炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基である。
【００２６】
本発明の化合物の一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい形態は、一般式（ＩＩ）または一般式（ＩＩＩ）であり、一般式（ＩＩＩ）であることがより好ましい。
【００２７】
一般式（ＩＩ）について説明する。R21〜R28はそれぞれ独立して炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。但し、R21〜R28のうち少なくとも一つの置換基は、さらにヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ヘテロ環基のいずれかによって置換されたアルキル基である。
【００２８】
R21〜R28のうち少なくとも一つの置換基は、ヒドロキシル基、カルボキシル基、無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、メルカプト基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキルチオカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換もしくは無置換のヘテロ環基のいずれかによって置換されたアルキル基であり、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、置換もしくは無置換のヘテロ環基のいずれかによって置換されたアルキル基であることが好ましく、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアルキルアミノ基のいずれかによって置換されたアルキル基であることがより好ましく、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基のいずれかによって置換されたアルキル基であることがさらに好ましく、置換もしくは無置換のアルコキシ基によって置換されたアルキル基であることが特に好ましい。
【００２９】
一般式（ＩＩＩ）について説明する。R31〜R38はそれぞれ独立して炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基を表す。但し、R31〜R38のうち少なくとも一つの置換基は、さらにヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ヘテロ環基のいずれかによって置換された基である。
【００３０】
R31〜R38のうち少なくとも一つの置換基は、ヒドロキシル基、カルボキシル基、無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、メルカプト基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキルチオカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換もしくは無置換のヘテロ環基のいずれかによって置換された基（アルコキシ基またはアルキルチオ基）であり、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のヘテロ環基のいずれかによって置換された基であることが好ましく、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアルキルアミノ基のいずれかによって置換された基であることがより好ましく、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアルキルアミノ基のいずれかによって置換された基であることがさらに好ましく、置換もしくは無置換のアルコキシ基によって置換された基であることが特に好ましい。
【００３１】
一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンにおける溶液吸収スペクトルの最大ピーク波長と膜吸収スペクトルの最大ピーク波長はいずれも350〜385ｎｍであり、溶液吸収スペクトルの最大ピーク波長と膜吸収スペクトルの最大ピーク波長好ましい波長の範囲は360〜380nmであり、より好ましくは３６５〜３８０ｎｍである。この理由は、屈折率ｎがより大きな値となり、変調度が大きくなりやすく、記録特性が良好になるからである。上記の吸収スペクトル測定に用いる溶媒はいずれの溶剤でもよいが、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールまたはクロロホルムが好ましく、本発明では２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールまたはクロロホルムを溶媒として用いて得た値とする。上記の膜吸収スペクトル測定に用いる膜は白金ポルフィリンを含有する膜なら、いずれでもよいが、白金ポルフィリンの溶液（好ましくは溶剤、例えば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール）をスピンコート法等により塗布して形成された膜であり、光情報記録媒体における白金ポルフィリン含有記録層でもよく、形成された膜は結晶状態でも、非晶質（アモルファス）状態でもよいが、好ましくは非晶質（アモルファス）状態である。膜の厚みは特に制限ないが、本発明では１０〜３００ｎｍの膜厚の値を採用する。
【００３２】
一般式（Ｉ）で表される白金ポルフィリンを少なくとも一つ含有する記録層の４４０ｎｍ以下のレーザー光の発振波長における屈折率nおよび消衰係数kは、ｎ≧2.0と0.01≦k≦0.4を同時に満たすことが必要である。
【００３３】
屈折率nおよび消衰係数kの好ましい範囲としてはｎ≧2.1と0.1≦k≦0.4を同時に満たすことであり、より好ましい範囲としてはｎ≧2.1と0.2≦k≦0.4を同時に満たすことであり、さらに好ましい範囲としてはｎ≧2.1と0.3≦k≦0.4を同時に満たすことである。上記の好ましい範囲では、変調度が大きくなり記録特性が良好になるからである。
【００３４】
以下に、本発明で用いられるポルフィリン系化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３５】
【化４】
2006289961.tif 000005
【００３６】
【化５】
2006289961.tif 000006
【００３７】
本発明に対する比較化合物を以下に示す。
【００３８】
【化６】
2006289961.tif 000007
【００３９】
＜光情報記録媒体＞
本発明の光情報記録媒体は、様態[1]：厚さ０．７〜２ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．０１〜０．５ｍｍのカバー層と、をこの順に有する光情報記録媒体または様態[2]：厚さ０．１〜１．０ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．１〜１．０ｍｍの保護基板と、をこの順に有する光情報記録媒体であることが好ましい。様態[1]においては前記基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチが５０〜５００ｎｍ、溝幅が２５〜２５０ｎｍ、溝深さが５〜１５０ｎｍであることが好ましく、様態[2]においては前記基板に形成されるのプリグルーブのトラックピッチが２００〜６００ｎｍ、溝幅が５０〜３００ｎｍ、溝深さが３０〜２００ｎｍであり、ウォブル振幅が１０〜５０ｎｍであることが好ましい。
様態[1]の光情報記録媒体は、少なくとも、基板と、追記型記録層と、カバー層を有する様態であり、まずこれらに必須の部材について順に説明する。
【００４０】
〔様態[1]の基板〕
好ましい様態[1]の基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されていることが必須である。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【００４１】
プリグルーブのトラックピッチは、２００〜５００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が４２０ｎｍ以下であることが好ましく、３７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、２６０ｎｍ以上であることが好ましい。
トラックピッチが２００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、５００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【００４２】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２５〜２５０ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２００ｎｍ以下であることが好ましく、１７０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝幅が２５ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、２５０ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【００４３】
プリグルーブの溝深さは、５〜１５０ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２８ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝深さが５ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、１５０ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【００４４】
また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７５°以下であることがより好ましく、７０°以下であることが更に好ましく、６５°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝傾斜角度が２０°未満では、十分なトラッキングエラー信号振幅が得られないことがあり、８０°を超えると、成型が困難となる。
【００４５】
本発明において用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であることを要し、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
【００４６】
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液
をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００４７】
〔様態[1]の追記型記録層〕
好ましい様態[1]の追記型記録層は、色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板上又は後述する光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。ここで、追記型記録層は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行われることになる。
塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００４８】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００４９】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は２３〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２４〜３７℃の範囲であることが特に好ましい。
【００５０】
このようにして形成された追記型記録層の厚さは、グルーブ（前記基板において凸部）上で、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることが更に好ましく、１８０ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限値としては３０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、７０ｎｍ以上であることが更に好ましく、９０ｎｍ以上であることが特に好ましい。 
また、追記型記録層の厚さは、ランド上（前記基板において凹部）で、４００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限値としては、７０ｎｍ以上であることが好ましく、９０ｎｍ以上であることがより好ましく、１１０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
更に、グルーブ上の追記型記録層の厚さ／ランド上の追記型記録層の厚さの比は、０．４以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましく、０．６以上であることが更に好ましく、０．７以上であることが特に好ましい。上限値としては、１未満であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることが更に好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【００５１】
塗布液が結合剤を含有する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。追記型記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。
【００５２】
また、追記型記録層には、該追記型記録層の耐光性をさらに向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。本発明においてもこの一重項酸素クエンチャーを混合させることによって更なる耐光性の向上が期待できる。一重項酸素クエンチャーとしては、前記特許文献１に記載のものを利用することができる。
【００５３】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００５４】
〔様態[1]のカバー層〕
好ましい様態[1]のカバー層は、上述した追記型記録層又は後述するバリア層上に、接着剤や粘着剤を介して貼り合わされる。
本発明において用いられるカバー層としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
【００５５】
また、カバー層は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバー層の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５６】
カバー層の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長やＮＡにより、適宜、規定されるが、本発明においては、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内であり、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
また、カバー層と、接着剤又は粘着剤からなる層と、を合わせた総厚は、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。
なお、カバー層の光入射面には、光情報記録媒体の製造時に、光入射面が傷つくことを防止するための保護層（ハードコート層）が設けられていてもよい。
【００５７】
カバー層を貼り合せるために用いられる接着剤は、例えばＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。
接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、若しくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層表面に供給してもよい。また、作製される光情報記録媒体の反りを防止するため、接着層を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。
【００５８】
接着剤は、例えば、バリア層からなる被貼り合わせ面上に、所定量塗布し、その上に、カバー層を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。
このような接着剤からなる接着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【００５９】
また、カバー層を貼り合せるために用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。
【００６０】
上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。
【００６１】
粘着剤は、バリア層からなる被貼り合わせ面上に、所定量、均一に塗布し、その上に、カバー層を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層の片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。
また、カバー層に、予め、粘着剤層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。
このような粘着剤からなる粘着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【００６２】
〔様態[1]におけるその他の層〕
好ましい様態[1]の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層としては、例えば、基板の裏面（追記型記録層形成面側に対する裏面）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、基板と追記型記録層との間に設けられる光反射層（後述）、追記型記録層とカバー層との間に設けられるバリア層（後述）、該光反射層と追記型記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。ここで、かかるレーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂などを用いて形成される。
なお、これら必須及び任意の層は、いずれも単層でもよいし、多層構造を有してもよい。
【００６３】
〔様態[1]における光反射層〕
好ましい様態[1]の光情報記録媒体において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、基板と追記型記録層との間に、光反射層を形成することが好ましい。
光反射層は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【００６４】
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
【００６５】
〔様態[1]におけるバリア層（中間層）の形成工程〕
好ましい様態[1]の光情報記録媒体においては、追記型記録層とカバー層との間にバリア層を形成することが好ましい。
該バリア層は、追記型記録層の保存性を高める、追記型記録層とカバー層との接着性を向上させる、反射率を調整する、熱伝導率を調整する、等のために設けられる。
バリア層に用いられる材料としては、記録及び再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に、制限されるものではないが、例えば、 一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。
具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ＺｎＳ、ＭｏＯ2、ＧｅＯ2、ＴｅＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｕＯ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ２Ｏ３が好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3がより好ましい。
【００６６】
また、バリア層は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましく、ＲＦスパッタリングを用いることが更に好ましい。
本発明におけるバリア層の厚さは、１〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、２〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、３〜５０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【００６７】
次に好ましい様態[2]の光情報記録媒体について説明する。
ここで、様態[2]の光情報記録媒体は、貼り合わせ型の層構成を有する光情報記録媒体であり、その代表的な層構成としては、下記の通りである。
（１）第１の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設ける構成である。
（２）第２の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設ける構成である。
（３）第３の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板を設ける構成である。
（４）第４の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設ける構成である。
（５）第５の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設ける構成である。
なお、上記（１）〜（５）の層構成は単なる例示であり、当該層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもかまわない。また、追記型記録層は、保護基板側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光情報記録媒体となる。更に、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。
本発明の光情報記録媒体として、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、保護基板をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその説明をする。
【００６８】
〔様態[2]の基板〕
好ましい様態[2]における基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されていることが必須である。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【００６９】
プリグルーブのトラックピッチは、２００〜５００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が４５０ｎｍ以下であることが好ましく、４３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、３００ｎｍ以上であることが好ましく、３３０ｎｍ以上であることがより好ましく、３７０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
トラックピッチが２００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、５００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【００７０】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、５０〜３００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１８０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１２０ｎｍ以上であることがより好ましく、１４０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝幅が５０ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、３００ｎｍを超えると、記録時に形成 されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【００７１】
プリグルーブの溝深さは、３０〜２００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１７０ｎｍ以下であることが好ましく、１４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、６０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝深さが３０ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、２００ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【００７２】
好ましい様態[2]において用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができ、具体例及び好ましい例は様態[1]の基板と同様である。
また、基板の厚さは、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【００７３】
なお、後述する追記型記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましく、該下塗層の材料、塗布法及び層厚の具体例及び好ましい例は様態[1]の下塗層と同様である。
【００７４】
〔様態[2]の追記型記録層〕
好ましい様態[2]の追記型記録層に関する詳細な説明は、様態[1]の追記型記録層に関するものと同様である。
【００７５】
〔様態[2]の光反射層〕
好ましい様態[2]において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、追記型記録層上に光反射層を形成することがある。様態[2]の光反射層に関する詳細は様態[1]の光反射層と同様である。
【００７６】
〔様態[2]の接着層〕
好ましい様態[2]における接着層は、上記光反射層と、保護基板との密着性を向上させるために形成される任意の層である。
接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【００７７】
〔様態[2]の保護基板〕
好ましい様態[2]における保護基板（ダミー基板）は、上述した基板と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板の厚さとしては、厚さ０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【００７８】
〔様態[2]の保護層〕
好ましい様態[2]の光情報記録媒体は、その層構成によっては、光反射層や追記型記録層などを物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられることある。
保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。 
保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
【００７９】
また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
【００８０】
〔様態[2]のその他の層〕
好ましい様態[2]の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層の詳細な説明は様態[1]のその他の層と同様である。
【００８１】
＜光情報記録方法＞  
本発明の光情報記録方法は、好ましい様態[1]または[2]の光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。まず光情報記録媒体を定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）または定角速度にて回転させながら、基板側あるいは保護層側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。本発明においては、記録光として３９０〜４５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が用いられる。好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に記録密度の点で３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光を基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００８２】
［実施例］
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００８３】
[化合物（3）の合成]
【００８４】
【化７】
2006289961.tif 000008
【００８５】
ヘマトポルフィリン8gをメタノール80mlに溶解させ、そこへ硫酸0.7mlを加えて１２時間加熱還流させた。反応液を水500ｍｌに流し込むことで沈殿を生成させ、ろ過後水で洗浄することにより化合物（3’）6.1gを得た。
次に化合物（3’）４ｇ、K2PtCl4 7.6gをメタノール８０ｍｌ、水20ml、トルエン20mlの混合溶媒中で８時間加熱還流させた。反応液に酢酸エチル／水を加えて分液操作を施し、有機層をセライトろ過した後、溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液；ジクロロメタン／メタノール＝９９／１）にて精製することで化合物（3）360mgを得た。得られた化合物はMALDI-MSにより同定した。[M-H]+=848
【００８６】
[化合物（B）の合成]
【００８７】
【化８】
2006289961.tif 000009
【００８８】
化合物（3’）0.7ｇ、Co(OAc)2・4H2O 0.27gをクロロホルム7ml、メタノール３ｍｌの混合溶媒中で２時間加熱還流させた。溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液；ジクロロメタン／メタノール＝９８／２）にて精製することで化合物（B）420mgを得た。得られた化合物はMALDI-TOFMSにより同定した。[M-H]+=712
【００８９】
[化合物（C）の合成]
【００９０】
【化９】
2006289961.tif 000010
【００９１】
化合物（C）は上記スキームの通り、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，７９５（１９９５）（非特許文献１）の方法を参考に合成した。得られた化合物はMALDI-TOFMSにより同定した。[M-H]+=999
また、化合物（１２）については上記の同文献記載の化合物であり、同文献の方法により合成できる。化合物（７）については化合物（１２）を用いて上記化合物（３）と同様にして合成できる。
【００９２】
【化１０】
2006289961.tif 000011
【００９３】
[化合物（D）の合成]
【００９４】
【化１１】
2006289961.tif 000012
【００９５】
得られた化合物はMALDI-TOFMSにより同定した。[M-H]+=1060
【実施例２】
【００９６】
＜光情報記録媒体１の製造＞
（基板の作製）
厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：３２０ｎｍ、溝幅：オングルーブ幅１２０ｎｍ、溝深さ：３５ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行なわれた。
【００９７】
（光反射層の形成）
基板上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍの真空成膜層としてのＡＰＣ光反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１．０質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間内で行った。
【００９８】
（追記型記録層の形成）
表１に示す化合物及び化合物の組合せ０．２ｇを、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール１０ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、光反射層上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、追記型記録層（グルーブ上の厚さ１２０ｎｍ、ランド上の厚さ１７０ｎｍ）を形成した。但し、化合物（Ｄ）、（Ｅ）の場合は溶剤に難溶性のためディスクの作製が不可能であった。
【００９９】
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【０１００】
（バリア層の形成）
その後、追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＲＦスパッタリングによりＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3（ＺｎＯ：Ｇａ2Ｏ3＝７：３（質量比））からなる、厚さ５ｎｍのバリア層を形成した。
【０１０１】
（カバー層の貼り合わせ）
カバー層としては、内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍで、片面に粘着剤が塗設してあるポリカーボネート製フィルム（帝人ピュアエース、厚さ：８０μｍ）を用い、該粘着剤層とポリカーボネート製フィルムとの厚さの合計が１００μｍとなるように設定した。
そして、バリア層上に、該バリア層と粘着剤層とが当接するようにカバー層を載置した後、そのカバー層を押し当て部材にて圧接して、貼り合わせた。
これにより、本発明１〜２、比較例１〜４の光情報記録媒体が作製された。
【０１０２】
比較例１の化合物（Ｅ）は特開2001-138634号公報に記載の化合物３４に相当する。
【０１０３】
＜光情報記録媒体１の評価＞
（１）記録再生特性評価
作製した光情報記録媒体を、４０３ｎｍレーザ、ＮＡ０．８５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６６ＭＨｚ、線速５．２８ｍ／ｓにて、０．１６μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生を行い、記録ピットの読み取りを行った。なお、本評価は、本発明の光情報記録方法を用いたものであり、記録はグルーブ上に行った。結果を表１に示す。
【０１０４】
【表１】
2006289961.tif 000013
【０１０５】
上記表１の結果から、本発明化合物を用いた（本発明１〜２）場合には、比較化合物１〜４で表されるサンプルを用いた場合に比べていずれも記録再生特性に優れることがわかる。
【０１０６】
得られた化合物の溶液吸収スペクトル、膜吸収スペクトルを測定した。結果を図１〜６に示す。
【０１０７】
特開平11-334207号公報範疇の化合物である下記化合物(G)〜(L)（Ｍは表２参照）について溶液吸収スペクトルを測定した。結果を表２に示す。表２より、化合物(G)〜(L)の吸収最大ピーク波長は化合物（Ｂ）と同等、もしくは、化合物（Ｂ）より長波長であることがわかる。よって、化合物(G)〜(L)はｎ≧２．０と０．０１≦ｋ≦０．４を同時に満たすことはない。これらの結果から、Ｍ＝Ｐｔのときに吸収最大ピークが他の金属に比べて特異的に短波長となり、ｎ≧２．０と０．０１≦ｋ≦０．４を同時に満たすことができることがわかる。
【０１０８】
【化１２】
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【０１０９】
【表２】
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【産業上の利用可能性】
【０１１０】
本発明の化合物は、青色レーザー用光情報記録媒体以外に、顔料、写真用材料、ＵＶ吸収材料、レーザー色素、カラーフィルター用染料、色変換フィルター等にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】化合物（３）の溶液吸収スペクトル（２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール中）
【図２】化合物（３）の膜吸収スペクトル
【図３】化合物（E）の溶液吸収スペクトル（クロロホルム中）
【図４】化合物（E）の膜吸収スペクトル（蒸着膜）
【図５】化合物（B）の溶液吸収スペクトル（２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール中）
【図６】化合物（B）の膜吸収スペクトル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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