(57)【要約】【課題】  光ファイバ先端と光導波路コアがずれ対して信頼性の高い構造の光導波路装置を提供する。【解決手段】  支持基板１６の導波路実装領域１７ａ外に光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃが設けられている。この光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに沿うようにして、光ファイバ２０ａ〜２０ｃが設置されている。また、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの端面と、光導波路１１のコア１４が露出した端面は、対向し、且つ略平行となっている。さらに、光導波路１１のコア１４が露出した端面は、支持基板１６の表面と鋭角を成すように形成されている。これにより、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端は、コア１４に対して、光導波路装置９の厚み方向にずれにくい構造となっている。【選択図】      図５
2006065163.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバ実装用の光ファイバガイドを形成された光ファイバ実装領域及び光導波路実装領域を有する基板と、前記光導波路実装領域に実装された、光を透過伝搬するためのコア及びコアを囲むクラッド層からなる光導波路とを備えた光導波路装置において、
前記光導波路の端面の少なくとも一部に、前記光ファイバガイドの上方へ向けて張り出すようにして、前記光ファイバガイドの長さ方向に垂直な面から傾斜した傾斜面が形成されており、
前記光ファイバガイドに保持された光ファイバの端面の少なくとも一部と前記光導波路端面に設けられた傾斜面とが接触していることを特徴とする光導波路装置。
【請求項２】
前記光ファイバの端面が、前記光導波路の端面に形成された傾斜面と略平行に傾いていることを特徴とする、請求項１に記載の光導波路装置。
【請求項３】
前記光ファイバの端面が、前記光ファイバガイドの長さ方向に垂直な面に対して前記光導波路の端面と同じ向きに傾き、かつ、前記光ファイバの端面の前記垂直面からの傾きが、前記光導波路の端面の前記垂直面からの傾きよりも小さくなっており、前記光ファイバの端面と前記光導波路の端面との間に空間が形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の光導波路装置。
【請求項４】
前記光導波路の上面が、前記光ファイバの上面よりも上方に位置していることを特徴とする、請求項１に記載の光導波路装置。
【請求項５】
前記光導波路の上面が、前記光ファイバの上面よりも下方に位置し、前記光ファイバの中心軸よりも上方に位置していることを特徴とする、請求項１に記載の光導波路装置。
【請求項６】
前記光ファイバの端面は、前記光ファイバの光軸方向に垂直になるように形成されており、光導波路の端面に形成された傾斜面の先端が、光ファイバの端面に接触していることを特徴とする、請求項５に記載の光導波路装置。
【請求項７】
光ファイバ実装用の光ファイバガイドを形成された光ファイバ実装領域及び光導波路実装領域を有する基板と、前記光導波路実装領域に実装された、光を透過伝搬するためのコア及びコアを囲むクラッド層からなる光導波路とを備えた光導波路装置において、
前記光ファイバガイドに保持された光ファイバは、前記基板側に向けて突曲するように弾性的に湾曲させられていることを特徴とする光導波路装置。
【請求項８】
前記光ファイバガイドが光ファイバを保持する保持高さは、光導波路に隣接する位置よりも、光導波路から離れた位置で高くなっていることを特徴とする、請求項７に記載の光導波路装置。
【請求項９】
光ファイバ実装用の光ファイバガイドを形成された光ファイバ実装領域及び光導波路実装領域を有する基板と、前記光導波路実装領域に実装された、光を透過伝搬するためのコア及びコアを囲むクラッド層からなる光導波路とを備えた光導波路装置において、
前記光導波路の端面の一部が前記光ファイバガイドの上方へ向けて突出しており、
前記光ファイバガイドに保持された光ファイバの端部は、前記光導波路端面で突出した部分と前記光ファイバガイドとの間に挟持されていることを特徴とする光導波路装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路装置に関し、特に光ファイバと光導波路とを接続するための構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大容量データを高速で伝送できる光ファイバを用いた通信が主流となりつつあり、このような通信に対応した電化製品（例えば、パソコンや、テレビ、ＤＶＤなど）が各家庭等にまで普及しはじめている。したがって、光ファイバや光源、光検出素子等との接続部で用いる光導波路装置は、安価で大量生産に適したものが要求されている。
【０００３】
光導波路装置は、Ｖ溝などの光ファイバガイドを形成した基板の上にコア及びクラッドからなる光導波路を実装して構成されている。従来より、安価で大量生産に適した光導波路装置の製造方法として、光導波路を複製法（あるいは、スタンパ法）で製造する方法が知られている。複製法は、クラッド層となる透明な樹脂にスタンパを押し当てて溝部を形成して硬化させ、この溝部にコア材料となる透明樹脂を充填し、平面板等で押圧することによって光導波路のコアを形成する方法である。
【０００４】
この方法によれば、大面積のクラッド層に多数の光導波路の溝部を同時に形成してから溝部内にコアを形成した後、光ファイバガイドを形成した基板と接合してから個々のチップに切断することによって、一度に多数の光導波路装置を製造することができる。
【０００５】
しかしながら、このように光導波路装置を大量生産できても、光導波路のコアに接続する光ファイバなどの他の部材の設定位置の調整及び固定が煩雑であっては、最終的な生産効率が向上することはない。
【０００６】
したがって、光導波路のコア端と光ファイバを正確に位置合わせする方法が提案されている。図１は、従来の光ファイバガイド一体型の光導波路装置１を説明するための分解斜視図である。
【０００７】
この光導波路装置１は、光ファイバガイド４ａ〜４ｃを表面に備えた基板８と、基板８上に形成されていて溝部３に形成されたＹ字形のコア５を備えた第１のクラッド層２ａと、コア５及び第１のクラッド層２ａの上面を覆うように形成された第２のクラッド層２ｂと、カバーガラス６から構成されている。光ファイバガイド４ａ〜４ｃは、光ファイバ７ａ〜７ｃを位置決めするための溝であって、断面がＶ字状になっている。
【０００８】
ここで、光ファイバ７ａ〜７ｃは、図２（ａ）に示すように、光ファイバ７ａ〜７ｃの光軸とコア５の光軸が一致するようにして光ファイバガイド４ａ〜４ｃ内に嵌め込まれる。言い換えると、光ファイバ７ａ〜７ｃのコア端面と光導波路のコア５の端面が一致するように配置されている。また、光ファイバ７ａ〜７ｃは、光ファイバガイド４ａ〜４ｃのほぼ全長にわたって光ファイバガイド４ａ〜４ｃと光ファイバ７ａ〜７ｃ光ファイバガイド４ａ〜４ｃの間の空間に接着剤を充填して光ファイバ７ａ〜７ｃを基板８に固定している。
【０００９】
しかしながら、このような構造の光導波路装置では、光ファイバ７ａ〜７ｃは、光ファイバガイド４ａ〜４ｃによって、光導波路装置１の幅方向には位置決めされているが、厚み方向には位置決めされていない。このような状態で光ファイバ７ａ〜７ｃを接着剤で固定していると、光ファイバ７ａ〜７ｃ自身の持つ反りや、光ファイバ７ａ〜７ｃの長さ方向における接着剤の硬化収縮によって生じた光ファイバ７ａ〜７ｃの波打ちにより、光ファイバ７ａ〜７ｃの先端が光ファイバガイド４ａ〜４ｃから浮き上がる。その結果、図２（ｂ）（ｃ）に示すように、光ファイバ７ａ〜７ｃが上にずれて接着されてしまうことがあった。さらに、光ファイバ７ａ〜７ｃの先端が浮き上がると、光ファイバガイド４ａ〜４ｃから離れてしまうため、光ファイバ７ａ〜７ｃは光導波路装置１の幅方向へも位置決めされなくなってしまう。
【００１０】
このように、光ファイバ７ａ〜７ｃと光導波路のコア５の端面とがずれると、光ファイバ７ａ〜７ｃとコア５の光軸ずれを起こし、光ファイバ７ａ〜７ｃからコア５へ、または、コア５から光ファイバ７ａ〜７ｃへの光の挿入損失が悪化してしまう。したがって、光ファイバの端面と光導波路のコア端面とがずれないように位置決めして光ファイバの上からカバーで押さえて固定する必要があった。
【００１１】
【特許文献１】特開２００１−２８１４７９
【特許文献２】特願２００２−１７２０２７
【特許文献３】特願２００３−１１７０９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、光導波路に光ファイバを接続するとき、あるいは光導波路に光ファイバを接続した後、光ファイバの端面と光導波路のコアとの間に位置ずれが発生しにくく、光ファイバの端面の位置ずれに対して信頼性の高い光導波路装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明にかかる第１の光導波路装置は、光ファイバ実装用の光ファイバガイドを形成された光ファイバ実装領域及び光導波路実装領域を有する基板と、前記光導波路実装領域に実装された、光を透過伝搬するためのコア及びコアを囲むクラッド層からなる光導波路とを備えた光導波路装置において、前記光導波路の端面の少なくとも一部に、前記光ファイバガイドの上方へ向けて張り出すようにして、前記光ファイバガイドの長さ方向に垂直な面から傾斜した傾斜面が形成されており、前記光ファイバガイドに保持された光ファイバの端面の少なくとも一部と前記光導波路端面に設けられた傾斜面とが接触していることを特徴としている。ここで、光導波路は、端面の全体が傾斜して傾斜面となっていてもよく、端面の一部すなわち光ファイバの接触する箇所のみを傾斜させて傾斜面としてもよい。
【００１４】
本発明にかかる第１の光導波路装置にあっては、光導波路の端面の少なくとも一部に、光ファイバガイドの上方へ向けて張り出すようにして光ファイバガイドの長さ方向に垂直な面から傾斜した傾斜面が形成されているので、光ファイバガイドに保持された光ファイバの端面の少なくとも一部が前記光導波路端面の傾斜面に押し当てると、光ファイバの先端が光導波路端面の傾斜面によって下向きに押し下げられる。よって、光ファイバの先端部の浮き上がりが防止され、光ファイバの先端部が確実に光ファイバガイドに押し当てられる。その結果、光ファイバガイドによって光ファイバの幅方向の位置決めも行なわれ、光ファイバと光導波路のコアが確実に光軸合わせを行なわれる。さらに、光ファイバを押さえる為のカバーが不要になる。カバーを併用した場合には、さらに光ファイバを安定して保持することができる。
【００１５】
本発明にかかる第１の光導波路装置のある実施態様においては、前記光ファイバの端面が、前記光導波路の端面に形成された傾斜面と略平行に傾いている。かかる実施態様によれば、光ファイバの端面と光導波路の端面とが面接触するので、光ファイバがより安定した状態で光導波路に接続される。ここで、略平行とは前記光ファイバの端面に対して、前記光導波路の端面に形成された傾斜面が平行から±３°程度の範囲内にあることである。
【００１６】
本発明にかかる第１の光導波路装置の別な実施態様においては、前記光ファイバの端面が、前記光ファイバガイドの長さ方向に垂直な面に対して前記光導波路の端面と同じ向きに傾き、かつ、前記光ファイバの端面の前記垂直面からの傾きが、前記光導波路の端面の前記垂直面からの傾きよりも小さくなっており、前記光ファイバの端面と前記光導波路の端面との間に空間が形成されている。かかる実施態様では、光ファイバの端面の傾き（角度）が光導波路の端面の傾斜角の傾きと等しくなくてもよいので、光ファイバの端面を斜めにカットする際、高い精度を要求されず、光ファイバの接続作業が容易になる。
【００１７】
本発明にかかる第１の光導波路装置のさらに別な実施態様においては、前記光導波路の上面が、前記光ファイバの上面よりも上方に位置している。かかる実施態様では、光導波路の端面で確実に光ファイバの端面を押さえ込むことができる。
【００１８】
本発明にかかる第１の光導波路装置のさらに別な実施態様においては、前記光導波路の上面が、前記光ファイバの上面よりも下方に位置し、前記光ファイバの中心軸よりも上方に位置している。かかる実施態様では、光導波路装置の薄型化を図ることができる。
【００１９】
本発明にかかる第１の光導波路装置のさらに別な実施態様においては、前記光ファイバの端面が、前記光ファイバの光軸方向に垂直になるように形成されており、光導波路の端面に形成された傾斜面の先端が、光ファイバの端面に接触している。かかる実施態様によれば、光ファイバの端面と光導波路の端面に形成された傾斜面の間に充填される接着剤の硬化収縮により、光ファイバ先端が下向きに引っ張られる。よって、光ファイバの先端部の浮き上がりが防止され、光ファイバの先端部が確実に光ファイバガイドに押し当てられる。その結果、光ファイバガイドによって光ファイバの幅方向の位置決めも行なわれ、光ファイバと光導波路のコアが確実に光軸合わせを行なわれる。
【００２０】
本発明にかかる第２の光導波路装置は、光ファイバ実装用の光ファイバガイドを形成された光ファイバ実装領域及び光導波路実装領域を有する基板と、前記光導波路実装領域に実装された、光を透過伝搬するためのコア及びコアを囲むクラッド層からなる光導波路とを備えた光導波路装置において、前記光ファイバガイドに保持された光ファイバは、前記基板側に向けて突曲するように弾性的に湾曲させられていることを特徴としている。
【００２１】
本発明にかかる第２の光導波路装置にあっては、光ファイバが基板側に向けて突曲するように弾性的に湾曲させられているので、その弾性復元力によって光ファイバの先端部は基板側に向けて付勢される。よって、光ファイバの先端部の浮き上がりが防止され、光ファイバの先端部が確実に光ファイバガイドに押し当てられる。その結果、光ファイバガイドによって光ファイバの幅方向の位置決めも行なわれ、光ファイバと光導波路のコアが確実に光軸合わせを行なわれる。
【００２２】
本発明にかかる第２の光導波路装置のある実施態様においては、前記光ファイバガイドが光ファイバを保持する保持高さは、光導波路に隣接する位置よりも、光導波路から離れた位置で高くなっている。かかる実施態様によれば、光ファイバを光ファイバガイドに保持させるだけで、光ファイバを基板側で突曲するように弾性的に湾曲させることができる。
【００２３】
本発明にかかる第３の光導波路装置は、光ファイバ実装用の光ファイバガイドを形成された光ファイバ実装領域及び光導波路実装領域を有する基板と、前記光導波路実装領域に実装された、光を透過伝搬するためのコア及びコアを囲むクラッド層からなる光導波路とを備えた光導波路装置において、前記光導波路の端面の一部が前記光ファイバガイドの上方へ向けて突出しており、前記光ファイバガイドに保持された光ファイバの端部は、前記光導波路端面で突出した部分と前記光ファイバガイドとの間に挟持されていることを特徴としている。
【００２４】
本発明にかかる第３の光導波路装置にあっては、光ファイバガイドに保持された光ファイバの端部が、光導波路端面で突出した部分と光ファイバガイドとの間に挟持されているので、光ファイバの端部の浮き上がりを防止することができる。よって、光ファイバの先端部が確実に光ファイバガイドに押し当てられ、その結果、光ファイバガイドによって光ファイバの幅方向の位置決めも行なわれ、光ファイバと光導波路のコアが確実に光軸合わせを行なわれる。
【００２５】
なお、本発明の以上説明した構成要素は、可能な限り任意に組み合わせることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施例を図面に従って詳細に説明する。ただし、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものでないことは勿論である。
【実施例１】
【００２７】
図３、図４は、本発明の実施例１における光導波路装置９の概略斜視図及び概略分解斜視図である。本発明の光導波路装置９は、実装用基板１０と光導波路１１とから構成されている。光導波路１１は、カバーガラス１２、透光性材料からなる下部クラッド層１３、下部クラッド層１３より屈折率の高い光学材料からなり、内部で光を透過伝搬させるコア１４、下部クラッド層１３と同じ光学材料からなる上部クラッド層１５で構成されている。
【００２８】
一方、実装用基板１０は、支持基板１６の表面中央部に上記光導波路１１を積層するための導波路実装領域１７ａを形成され、その両側には光ファイバ実装領域１７ｂが形成されている。この光ファイバ実装領域１７ｂには、光ファイバ２０ａ〜２０ｃを位置決めするための光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃが設けられている。光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃは、Ｖ溝状、角溝状、丸溝状など、その断面形状は問わない。また、支持基板１６の上面は、導波路実装領域１７ａを除く全面をＮｉやＡｕ等の金属薄膜１９によって覆われている。なお、支持基板１６には、シリコン基板を用いたが、ガラス基板などを用いてもよい。また、支持基板１６にシリコン基板を用いる場合には、支持基板１６の表面を酸化させてＳｉＯ２膜を形成した上から金属薄膜１９を形成してもよい。
【００２９】
上記光導波路１１は、カバーガラス１２を最下層とし、その上に順次下部クラッド層１３、コア１４、上部クラッド層１５を形成した後、図３に示すように、上下反転された状態で実装用基板１０の導波路実装領域１７ａの上に設置される。光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃは光ファイバ実装領域１７ｂに設けられており、光導波路１１から露出している。また、図４に示すように、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃと対向する上記光導波路１１の端面には、コア１４が露出している。平面視では、コア１４の各端部における光軸と各光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの中心とが一致している。
【００３０】
さらに、図４に示すように、コア１４が露出している光導波路１１の端面は、その上部が光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの上方へ向けて張り出すようにして、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの長さ方向（軸線方向）に垂直な平面から傾いている。図示例では、光導波路１１の端面に立てた外向き法線が、支持基板１６の上面に垂直で、かつ、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの長さ方向と平行な平面内に含まれているが、当該外向き法線は、支持基板１６の上面に平行な水平方向よりも下方を向いていれば、前記平面から外にはみ出ていても差し支えない。
【００３１】
図５（ａ）は、上記光導波路装置９に光ファイバ２０ａ〜２０ｃを実装した状態を示す、図３のＸ方向矢視図である。図５（ｂ）は、上記光導波路装置９に光ファイバ２０ａ〜２０ｃを実装した状態を示す、図３のＹ方向矢視図である。光ファイバ２０ａ〜２０ｃは、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに納めて位置決めした状態で固定されており、それによってコア１４の光軸と光ファイバ２０ａ〜２０ｃの光軸が自動的に調芯されている。ここで、光導波路１１の上面は、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの上面よりも上に位置しており、また、下部クラッド層１３の上面は光ファイバ２０ａ〜２０ｃの上面よりも下に位置している。また、コア１４と対向する光ファイバ２０ａ〜２０ｃの端面は、光導波路１１の端面と略平行となるようにカットされている。ここで、略平行とは光導波路１１の端面に対して、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの端面が平行から±３°程度の範囲内にあることである。
【００３２】
これにより、光ファイバ２０ａ〜２０ｃは、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに位置決めして光導波路１１と接続した状態において、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの端面と光導波路１１の端面は全面で接触し、さらに、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端面が光導波路１１の傾斜した端面の下に潜り込んだような状態になって下方へ押さえ込まれている。このため、光ファイバ２０ａ〜２０ｃは、光導波路装置９の厚み方向に位置決めされて浮き上がりを防止され、Ｖ溝状の光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃによって、光導波路装置９上の光ファイバ２０ａ〜２０ｃの幅方向にも位置決めされる。したがって、光ファイバ２０ａ〜２０ｃを光導波路１１に接続する際に、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの端面の浮き上がりに起因する光ファイバ２０ａ〜２０ｃと光導波路１１のコア１４との光軸ずれを防止することができる。
【００３３】
また、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端が光導波路１１の端面の下に潜り込んだような状態になっていて、光導波路１１の端面で下方へ押さえられているので、経時的変化により接着剤の接着力が低下したりしても、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端が浮き上がることがなく、コア１４の光軸と光ファイバ２０ａ〜２０ｃの光軸がずれるのを防止できる。さらに、光ファイバ２０ａ〜２０ｃを押さえて固定するカバーが不要となり、カバーを併用した場合は、より安定して光ファイバ２０ａ〜２０ｃを保持することができる。
【００３４】
以下に、図６〜図１３を用いて本発明の光導波路装置９の製造方法を説明する。まず、支持基板１６は、シリコン基板（ウェハ）１６ａの表面をエッチングし、図６に示すように平坦な導波路実装領域１７ａ及び光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃを複数組形成する。図６のシリコン基板１６ａを用いれば一度に４個の実装用基板１０を製造できるが、より大面積のシリコン基板１６ａを用いれば、実装用基板１０ひいては光導波路装置９の大量生産が可能となる。
【００３５】
次に図７に示すようにシリコン基板１６ａの表面のうち導波路実装領域１７ａ以外の領域にＮｉやＡｕ等の金属を蒸着、スパッタリングまたは、無電解メッキ等をして金属薄膜１９を形成する。以下、金属薄膜１９が形成されたシリコン基板１６ａをベース基板１０ａと言う。
【００３６】
一方、上記のシリコン基板１６ａと同面積以上のガラス基板１２ａを用いて、図８に示す下部クラッド層１３およびコア１４からなる光導波路１１の親基板（光導波路親基板１１ａ）を複製法（スタンパ法）で形成する。ガラス基板（ウェハ）１２ａは、光導波路装置９のカバーガラス１２の親基板である。
【００３７】
ここで、紫外線硬化樹脂を用いた複製法（スタンパ法）について、図９を用いて簡単に説明する。図９（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）は、図８のＺ−Ｚ’線断面を示している。まず、図９（ａ）に示すように、ガラス基板１２ａ上に未硬化の紫外線硬化樹脂（下部クラッド樹脂）１３ａを滴下し、表面にコア１４と同じ形状を有するスタンパ（型）２１ａで紫外線硬化樹脂１３ａを押圧してコア溝２２を形成した後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂１３ａを硬化させ、図９（ｂ）に示すようにコア溝２２を有する下部クラッド層１３を成型する。
【００３８】
次に、下部クラッド層１３に成型されたコア溝２２の内部に下部クラッド層１３よりも屈折率の大きな未硬化の紫外線硬化樹脂（コア樹脂）１４ａを注入する。そして、表面が平らになるよう、また、コア溝２２から溢れ出た紫外線硬化樹脂１４ａによって下部クラッド層１３表面に形成されるバリの厚みが非常に薄くなるようにスタンパ２１ｂで押圧し、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂１４ａを硬化させ、コア溝２２内に図９（ｄ）に示すようなコア１４を形成する。
【００３９】
次に、図１０に示すように光導波路親基板１１ａ表面に、未硬化の樹脂１５ａを滴下し、樹脂１５ａによって光導波路親基板１１ａとベース基板１０ａとを接着する。なお、樹脂１５ａは硬化すると上部クラッド層１５となるので、下部クラッド層１３と同じ紫外線硬化樹脂であるか、下部クラッド層１３と同程度の屈折率を有する樹脂であることが望ましく、少なくともコア１４よりも屈折率が小さくなくてはならない。
【００４０】
ベース基板１０ａと光導波路親基板１１ａとを接着するときには、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃやコア１４を精密に位置合わせしておく必要がある。そのためには、光導波路親基板１１ａとベース基板１０ａに設けたアライメントマークにより精度良く位置合わせを行って光導波路親基板１１ａとベース基板１０ａを接着すればよい。大面積のベース基板１０ａと大面積の光導波路親基板１１ａとで位置合わせを行えば、個々の部品同士を位置合わせするような煩雑さがなく、一度に複数のコアとファイバガイド等との位置合わせを精度よく行えるため効率的である。
【００４１】
次に、図１１に示すようにベース基板１０ａを下にし、光導波路親基板１１ａを上下反転させてベース基板１０ａの上方に重ね、導波路実装領域１７ａの縁を通過するようにして光導波路親基板１１ａにダイシングブレードで切り込みを入れて分離溝２３ａ、２３ｂを形成する。なお、この分離溝２３ａ、２３ｂの切り込み工程により、同時にコア１４の端面が形成される。分離溝２３ａ、２３ｂによって分割された光導波路親基板１１ａのうち、ベース基板１０ａの表面に金属薄膜１９が形成されている領域（導波路実装領域１７ａの外側の領域）では、金属薄膜１９と上部クラッド層１５の界面での密着力が弱いので、分割された光導波路親基板１１ａのうちから不要部分（導波路実装領域外に対応している領域）に力を加えると、この不要部分をベース基板１０ａから簡単に剥がすことができる。したがって、図１１に斜線を施して示す、内部にコア１４が形成されている領域でのみ光導波路１１ａを残し、ベース基板１０ａの光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃを露出させることができる。ベース基板１０ａ上に残ってる光導波路親基板１１ａの端面には、コア１４の各端面が露出している。なお、内部にコア１４が形成されている領域でのみ光導波路１１ａを残し、ベース基板１０ａの光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃを露出させた後、金属薄膜１９をエッチングなどにより除去してもよい。
【００４２】
次に、図５（ａ）に示すように光導波路親基板１１ａのコア１４が露出した端面と実装用基板の表面のなす角度が鋭角になるように、光導波路親基板１１ａのコア１４が露出した端面をダイシングブレードで斜めに切る。なお、分離溝２３ａ、２３ｂの形成時に、光導波路親基板１１ａのコア１４が露出した端面と実装用基板１０ａの表面のなす角度が鋭角になるように切り込みを入れてもよい。その後、図１１のＡ−Ａ’線、Ｂ−Ｂ’線、Ｃ−Ｃ’線に沿ってベース基板１０ａと光導波路親基板１１ａを切断し、図１２に示すようなチップに分割し、実装用基板１０ａの上に光導波路１１ａが接合されたものを得る。このとき光導波路親基板１１ａに不要部分が残っているものについては、それを除去する。
【００４３】
次に、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端を光導波路１１のコア１４が露出した端面と実装用基板１０の表面のなす角度に合わせてカットし、光ファイバの先端面が光導波路親基板１１ａのコア１４が露出した端面に接するようにして光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに光ファイバ２０ａ〜２０ｃを納める。そして、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃにより光ファイバ２０ａ〜２０ｃを位置決めした状態で、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端部と実装用基板１０の上面との間に上から接着剤を滴下して光ファイバ２０ａ〜２０ｃを固定し、図３に示す光導波路装置９を完成する。
【００４４】
なお、上記実施例１では、光ファイバの端面は、光導波路の端面と同じ角度にカットされていたが、光導波路の上面が光ファイバの上面よりも高い場合には、光ファイバの端面の傾きと光導波路の端面の傾きとは異なっていても差し支えなく、また。光ファイバの端面が光導波路の端面と反対向きに傾いていてもよい。光導波路の上面が光ファイバの上面よりも上にある場合には、光ファイバの端面の傾きの方向や傾きの大きさによらず、光ファイバの少なくとも１箇所が光導波路の端面に当接している限り、光ファイバを下向きに押すことができる。
【００４５】
しかし、光ファイバの端面の傾きが大きく、かつ、光ファイバの端面の傾きが光導波路の端面の傾きと反対向きである場合のように光ファイバの先端の鋭角側の角が光導波路の端面に当接していると、光ファイバの当接している角が変形する恐れがある。従って、光ファイバの端面の傾きと光導波路の端面の傾きが異なっていて一部が接触していて両端面間に空間が生じている場合であっても、光ファイバの端面と光導波路の端面とが同じ方向に傾いていて、光ファイバの先端の鈍角側の角が光導波路の端面に当接していることが望ましい。あるいは、光ファイバの鋭角側の先端を光ファイバガイド内に逃がしてやれば、光導波路の鈍角側の角が光ファイバの先端の鋭角側の角の近傍に当接していてもよい。
【００４６】
また、光ファイバの端面と光導波路の端面とが略平行でない場合には、光ファイバの端面と光導波路の端面との間に空間が生じるので、この空間に光ファイバのコア及び光導波路のコアとほぼ屈折率の等しい接着剤を充填させてもよい。
【実施例２】
【００４７】
図１３は、実施例２にかかる光導波路装置９ａの側面図である。実施例２は、実施例１において、カバーガラス１２が無い以外は、実施例１と同じである。実施例１と同様に、光ファイバ２０ａ〜２０ｃを光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに納めて位置決めして接着した状態において、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端面が光導波路１１の端面の下に潜り込んだような状態になっている。このため、光ファイバ２０ａ〜２０ｃは、光導波路１１の厚み方向に位置決めされて浮き上がりを防止され、Ｖ溝状の光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに嵌り込むことによって、光導波路装置９ａの横幅方向にも位置決めされる。したがって、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端は、光ファイバ自身の反りや接続時のずれなどによって、浮き上がることがなく、コア１４の光軸と光ファイバ２０ａ〜２０ｃの光軸がずれにくくなり、正確に光軸合わせを行なうことができる。さらに、カバーガラス１２が無いため、実施例１よりも光導波路装置９の薄型化が可能となる。
【００４８】
実施例２の光導波路装置の製造方法も実施例１で説明した光導波路装置の製造工程と大部分が同じであるため、以下には実施例１と異なる部分を中心に説明する。
【００４９】
まず、光導波路親基板１１ｂを製造する工程において、図１４に示すように、ガラス基板１２ａの下部クラッド層１３を形成する側の表面全面にＮｉやＡｕ等の金属を蒸着、スパッタリングまたは、無電解メッキ等をして金属薄膜２４を形成し、ガラス基板１２ｂを作製する。このガラス基板１２ｂを用いて、実施例１で説明した製造工程と同様に下部クラッド層１３、コア１４を順次形成し、光導波路親基板１１ｂを作製する。
【００５０】
次に、上部クラッド層１５となる樹脂１５ａを接着剤としてベース基板１０ａと光導波路親基板１１ｂを接着した後、ダイシングブレードで光導波路親基板１１ｂに切り込みを入れて分離溝２３ａ、２３ｂを形成する。その後、光導波路親基板１１ｂのコア１４が形成されていない不要な部分を剥離して取り除く。
【００５１】
また、ガラス基板１２ｂに形成した金属薄膜２４と下部クラッド層１３の界面での密着力が弱いので、ガラス基板１２ｂに力を加えると、ガラス基板１２ｂを下部クラッド層１３の界面から簡単に剥がすことができる。これにより、図１４で示した実施例２の構成を有する光導波路１１ｂを得ることができる。
【００５２】
なお、実施例２のように、光導波路の上面が光ファイバの上面よりも下に位置している場合には、光ファイバの端面の傾きが光導波路の端面の傾きと反対向きになっている場合には、光導波路の端面によって光ファイバを押さえることはできない。しかし、この実施例でも光ファイバの端面と光導波路の端面とが略平行になっていれば、光ファイバの少なくとも１箇所が光導波路の端面に当接していて、光ファイバの端面と光導波路の端面との間に空間が発生している場合でも、光ファイバを下向きに押すことができる。
【００５３】
また、光ファイバの端面と光導波路の端面とが略平行でない場合には、光ファイバの端面と光導波路の端面との間に空間が生じるので、この空間に光ファイバのコア及び光導波路のコアとほぼ屈折率の等しい接着剤を充填させてもよい。
【実施例３】
【００５４】
図１５に実施例３にかかる光導波路装置９ｂの側面図を示す。この光導波路装置９ｂは、光ファイバ先端の形状が実施例２とは異なっており、他の部分は実施例２の場合と同じ構成を有している。
【００５５】
実施例２においては、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの端面は斜めにカットされていたが、この実施例では、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの端面を光軸方向に垂直となるようにカットしている。一方、光導波路１１の上面は光ファイバ２０ａ〜２０ｃの上面よりも低い位置にあるので、光導波路１１の端面のうち鋭角に形成されている上端部Ａの一部は、当該光ファイバ２０ａ〜２０ｃの端面に当接している。
【００５６】
従って、光ファイバ２０ａ〜２０ｃをそれぞれ光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに納めて位置決めして接着するときに、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端面と光導波路親基１１ａのコア１４が露出した端面の間の空間に接着剤を充填して接着すれば、空間の上部よりも空間の下部で隙間が大きいため、空間の上部よりも空間の下部で接着剤量が多くて接着剤の硬化収縮が大きくなるので、接着剤の硬化収縮により、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端は下向きに引っ張られる。このため、光ファイバ２０ａ〜２０ｃは、光導波路装置９の厚み方向に位置決めされて浮き上がりを防止され、Ｖ溝状の光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃによって、光導波路装置９ｂ横幅方向にも位置決めされる。したがって、光ファイバ２０ａ〜２０ｃは、接着剤の硬化収縮や光ファイバ自身の反りなどによって、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端が浮き上がらず、コア１４の光軸と光ファイバ２０ａ〜２０ｃの光軸もずれにくくなっている。
【００５７】
また、実施例３の光導波路装置の製造方法は、実施例１および実施例２で説明した光導波路装置の製造工程と光ファイバ先端形状が異なるだけであるから、省略する。
【実施例４】
【００５８】
図１６は、実施例４にかかる光導波路装置９ｄを示す側面図である。この光導波路装置９ｄにおいて、図１６に示すように支持基板１６の光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの端部が階段状に形成されており、支持基板１６の端部に近づくほど、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの深さが次第に浅くなっている。この光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに光ファイバ２０ａ〜２０ｃを納めて位置決めして接着すると、光ファイバ２０ａ〜２０ｃは、支持基板１６の端部で上方向に曲げられて固定される。このとき、光ファイバ２０ａ〜２０ｃには、元の状態（曲がっていない状態）に戻ろうとする弾性復帰力が発生する。この弾性復帰力は、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端を光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに押しつける方向に働くので、光ファイバ２０ａ〜２０ｃ先端の浮き上がりが防止される。
【００５９】
ここで、支持基板１６は、実施例１と同様にシリコン基板（ウェハ）１６ａの表面をエッチングし、導波路実装領域１７ａ及び光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃを複数形成する。このとき、エッチングされる領域とエッチングされない領域をマスキングなどによって区分しながら、エッチングを複数回繰り返すことによって、支持基板１６端部の光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの深さを変えることができる。
【００６０】
なお、実施例４において、支持基板１６端部の光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃ内を階段状にすることによって、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの深さを変化させたが、光ファイバ２０ａ〜２０ｃが支持基板１６の端部で上方向に曲げられて固定されれば、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの深さを変化させるための形状は問わない。
【実施例５】
【００６１】
図１７は、実施例５にかかる光導波路装置９ｅを示す側面図である。この光導波路装置９ｅにおいては、図１７に示すように、光導波路１１のカバーガラス１２の端面の一部が光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの上方へ向けてほぼ水平に（即ち、光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの長さ方向と平行に）突出している。つまり、図１７に示すように、光導波路装置９ｅを側面から見た場合、カバーガラス１２の端面からは庇部２６ａが水平に張りだしており、光導波路１１の端面と実装用基板１０との間には、コ字状をした空間が形成されている。
【００６２】
光ファイバ２０ａ〜２０ｃを光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに嵌め、このコ字状の空間に光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端を差し込むと、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの上面が庇部２６ａの下面によって押さえ付けられ、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの端部の浮き上がりが防止される。
【００６３】
このため、光ファイバ２０ａ〜２０ｃは、光導波路装置９ｅの厚み方向に位置決めされ、Ｖ溝状の光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃによって、光導波路装置９eの横幅方向にも位置決めされることになる。
【００６４】
ここで、図１８〜図２０を用いて本発明の光導波路装置９ｅの製造方法を説明する。図１８（ａ）〜（ｆ）は、図１９のＸ−Ｘ’線断面に相当する断面を示している。ただし、実施例１で説明した光導波路装置９の製造工程と異なる部分を中心に説明する。
【００６５】
まず、実施例１と同様に、図１８（ａ）に示すように、ガラス基板１２ａ上に未硬化の紫外線硬化樹脂（下部クラッド樹脂）１３ａを滴下し、表面にコア１４と同じ形状を有するスタンパ（型）２１ａで紫外線硬化樹脂１３ａを押圧し、コア溝２２を形成する。その後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂１３ａを硬化させ、図１８（ｃ）に示すように、コア溝２２を有する下部クラッド層１３を成型する。このとき、図１８（ｂ）に示すように、ベース基板１０ａの導波路実装領域１７ａと対応する領域だけに紫外線が照射されるようにし、他の部分をマスクなどで覆って紫外線硬化樹脂１３ａを硬化させる。紫外線硬化樹脂１３ａの硬化後、未硬化の紫外線硬化樹脂１３ａは、洗浄などにより除去する。
【００６６】
次に、下部クラッド層１３に成型されたコア溝２２の内部に下部クラッド層１３よりも屈折率の大きな未硬化の紫外線硬化樹脂（コア樹脂）１４ａを注入する。次に、表面が平らになるよう、また、コア溝２２から溢れ出た紫外線硬化樹脂１４ａによって下部クラッド層１３表面に形成されるバリの厚みを薄くするためにスタンパ２１ｂで押圧する。次に、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂１４ａを硬化させて、図１８（ｆ）に示すように、コア溝２２内にコア１４を形成し、光導波路親基板１１ｃを形成する。このとき、図１８（ｅ）に示すように、下部クラッド層１３の形成と同様に、ベース基板１０ａの導波路実装領域１７ａと対応する領域だけに紫外線が照射されるようにし、他の部分をマスクなどで覆って紫外線硬化樹脂１４ａを硬化させる。紫外線硬化樹脂１４ａの硬化後、未硬化の紫外線硬化樹脂１４ａは、洗浄などにより除去する。
【００６７】
次に、図１９に示すように、光導波路親基板１１ｃのコア１４の縁を通過するようにして光導波路親基板１１ｃをダイシングブレードで切り込みを入れてコア１４の端面を形成する。このとき、同時に図１９に示すように、ガラス基板１２ａをハーフカットして、矩形の光ファイバカバー溝２６ｂを形成する。なお、光ファイバカバー溝２６ｂは、ガラス基板１２ａのエッチングなどで形成してもよい。
【００６８】
次に、光導波路親基板１１ｃの表面に、未硬化の樹脂１５ａを滴下し、樹脂１５ａによって光導波路親基板１１ｃをベース基板１０ａとを接着する。なお、樹脂１５ａは硬化すると上部クラッド層１５となるために、下部クラッド層１３と同じ紫外線硬化樹脂であるか、下部クラッド層１３と同程度の屈折率を有する樹脂であることが望ましく、少なくともコア１４よりも屈折率が小さくなくてはならない。
【００６９】
次に、図２０に示すようにベース基板１０ａを下に、光導波路親基板１１ｃを上にして置き、導波路実装領域１７ａの縁を通過するようにして光導波路親基板１１ｃをダイシングブレードで切り込みを入れて分離溝２３ａ、２３ｂを形成する。このとき、図２０に示すように、光導波路親基板１１ｃに形成した光ファイバカバー溝２６ｂの一部がコア１４を形成した側に残るように、分離溝２３ａ、２３ｂを形成することにより庇部２６ａが形成される。分離溝２３ａ、２３ｂによって分割された光導波路親基板１１ｃのうち、ベース基板１０ａの表面に金属薄膜１９が形成されている領域（導波路実装領域１７ａの外側の領域）では、金属薄膜１９と上部クラッド層１５の界面での密着力が弱いので、分割された光導波路親基板１１ｃのうちから不要部分（導波路実装領域外に対応している領域）に力を加えると、この不要部分をベース基板１０ａから簡単に剥がすことができる。したがって、図２０に斜線を施して示す、内部にコア１４が形成されている領域のみを残し、ベース基板１０ａの光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃを露出させることができる。ベース基板１０ａ上に残ってる光導波路親基板１１ｃの外周面には、コア１４の各端面が露出している。
【００７０】
次に、図２０のＡ−Ａ’線、Ｂ−Ｂ’線、Ｃ−Ｃ’線に沿ってベース基板１０ａと光導波路親基板１１ｃを切断し、図２１に示すようなチップに分割し、実装用基板１０の上に光導波路１１が接合されたものを得る。このとき光導波路親基板１１ｃに不要部分が残っているものについては、それを除去する。
【実施例６】
【００７１】
図２２は、実施例６にかかる光導波路装置９ｆの側面図である。この光導波路装置９ｆにあっては、図２２に示すように、光導波路１１のカバーガラス１２の端面を斜めにカットして傾斜面２７ａを形成している。そして、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの角をカバーガラス１２の傾斜面２７ａに当接させている。すなわち、カバーガラス１２の端面は、上部が光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃの上方へ向けて張り出すように傾斜しており、この傾斜面２７ａが光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端上部に接する構造となっている。
【００７２】
光ファイバ２０ａ〜２０ｃをそれぞれ光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃに納めて位置決めして接着するときに、コア１４の光軸方向でコア１４の端面に向かって適当な力を加えた状態で接着すると、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの角がカバーガラス１２の傾斜面２７ａに当たるので、光ファイバ２０ａ〜２０ｃはカバーガラス１２の傾斜面２７ａによって下向きに押さえつけられ、下向きに力が加わった状態で固定される。このため、光ファイバ２０ａ〜２０ｃは、光導波路装置９ｆの厚み方向に固定され、Ｖ溝状の光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃによって、光導波路装置９ｆの横幅方向にも固定されることになる。したがって、光ファイバ２０ａ〜２０ｃは、光ファイバ２０ａ〜２０ｃ自身の反りや接続時の位置ずれなどによって、光ファイバ２０ａ〜２０ｃの先端が浮き上がりにくくなる。
【００７３】
この光導波路装置９ｆの製造方法は、実施例５の矩形の光ファイバカバー溝２６ｂを形成する工程と同様な工程において、図２１に示すように、光導波路親基板１１ｃのコア１４の縁を通過するようにして光導波路親基板１１ｃをダイシングブレードで切り込みを入れてコア１４の端面を形成した後、Ｖ溝用のブレードを用いて、ガラス基板１２ａをハーフカットすることにより、図２３に示すような、Ｖ溝状の光ファイバカバー溝２７ｂを形成することができる。
【００７４】
次に、光導波路親基板１１ｃの表面に、未硬化の樹脂１５ａを滴下し、樹脂１５ａによって光導波路親基板１１ｃをベース基板１０ａとを接着する。なお、樹脂１５ａは硬化すると上部クラッド層１５となるために、下部クラッド層１３と同じ紫外線硬化樹脂であるか、下部クラッド層１３と同程度の屈折率を有する樹脂であることが望ましく、少なくともコア１４よりも屈折率が小さくなくてはならない。
【００７５】
次に、図２３に示すようにベース基板１０ａを下に、光導波路親基板１１ｃを上にして置き、導波路実装領域１７ａの縁を通過するようにして光導波路親基板１１ｃをダイシングブレードで切り込みを入れて分離溝２３ａ、２３ｂを形成する。このとき、図２３に示すように、光導波路親基板１１ｃに形成した光ファイバカバー溝２７ｂのＶ溝の中心部をダイシングブレードが通過するように、分離溝２３ａ、２３ｂを形成することにより、カバーガラス１２に傾斜面２７ａを形成する。分離溝２３ａ、２３ｂによって分割された光導波路親基板１１ｃのうち、ベース基板１０ａの表面に金属薄膜１９が形成されている領域（導波路実装領域１７ａの外側の領域）では、金属薄膜１９と上部クラッド層１５の界面での密着力が弱いので、分割された光導波路親基板１１ｃのうちから不要部分（導波路実装領域外に対応している領域）に力を加えると、この不要部分をベース基板１０ａから簡単に剥がすことができる。したがって、図２０に斜線を施して示す、内部にコア１４が形成されている領域のみを残し、ベース基板１０ａの光ファイバガイド１８ａ〜１８ｃを露出させることができる。ベース基板１０ａ上に残ってる光導波路親基板１１ｃの外周面には、コア１４の各端面が露出している。
【００７６】
なお、上記各実施例の光導波路装置においては、光ファイバガイドに保持された各光ファイバをガラス板等のカバー部材で押さえるようにしてもよい。
【００７７】
また、図２４に示すように、光導波路装置９ｇはケース２８内に納められていてもよい。即ち、光導波路装置９ｇをケース２８内の保持台２９の上に固定し、光導波路装置９ｇに接続された光ファイバ２０ａ〜２０ｃをケース２９に設けられたファイバ保持ブロック３０で保持するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】従来の光ファイバガイドを備えた光導波路装置を説明する概略分解斜視図である。
【図２】（ａ）は光ファイバが正しく位置決めされている状態を示す、同上の光導波路装置の正面図、（ｂ）は光ファイバ先端が浮き上がった状態を示す、同上の光導波路装置の正面図、（ｃ）は、光ファイバ先端が浮き上がった状態を示す、同上の光導波路装置の側面図である。
【図３】本発明の一実施例による光導波路装置の斜視図である。
【図４】同上の実施例における光導波路装置の分解斜視図である。
【図５】（ａ）は、同上の実施例における光導波路装置の図３のＸ方向矢視図、（ｂ）は、同上の実施例における光導波路装置の図３のＹ方向矢視図である。
【図６】同上の実施例における光導波路装置の製造方法を説明する図である。
【図７】図６の続図である。
【図８】図７の続図である。
【図９】図８の製造工程の概略を示した図である。
【図１０】図８の続図である。
【図１１】図１０の続図である。
【図１２】図１１の続図である。
【図１３】本発明の別な実施例における、光導波路装置を示す側面図である。
【図１４】同上の実施例における光導波路装置の製造方法を説明する図である。
【図１５】本発明のさらに別な実施例における、光導波路装置の側面図である。
【図１６】本発明のさらに別な実施例における、光導波路装置の側面図である。
【図１７】本発明のさらに別な実施例における、光導波路装置の側面図である。
【図１８】同上の実施例における光導波路装置の製造方法を説明する図である。
【図１９】図１８の続図である。
【図２０】図１９の続図である。
【図２１】図２０の続図である。
【図２２】本発明のさらに別な実施例における、光導波路装置の側面図である。
【図２３】同上の実施例における光導波路装置の製造方法を説明する図である。
【図２４】ケースに収めた光導波路装置を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００７９】
９、９ａ〜９ｂ、９ｄ〜９ｇ  光導波路装置
１２  カバーガラス
１３  下部クラッド層
１４  コア
１５  上部クラッド層
１６  支持基板
１７ａ  導波路実装領域
１７ｂ  光ファイバ実装領域
１８ａ〜１８ｃ  光ファイバガイド
２０ａ〜２０ｃ  光ファイバ
２３ａ〜２３ｂ  分離溝
２６ａ  庇部
２７ａ  傾斜面
２６ｂ、２７ｂ  光ファイバカバー溝
【図１】
2006065163.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2006065163.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
2006065163.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
2006065163.tif 000021
【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
2006065163.tif 000024
【図２３】
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【図２４】
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