(57)【要約】【課題】  各種ディスプレイにおいて発生する特定波長の光を選択的にカットすると共に、ディスプレイの色純度を阻害せず、可視光透過率の高い光学フィルターを提供する。【解決手段】  基材中、５４０〜６２０ｎｍに吸収極大を有するベンゾピロメテン金属キレート化合物、特に下記式（１）の化合物を少なくとも１種含有してなる光学フィルター。     【化１】2006065121.tif 000005【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材中、５４０〜６２０ｎｍに極大吸収波長を有するベンゾピロメテン金属キレート化合物を、少なくとも１種含有してなる光学フィルター。
【請求項２】
ベンゾピロメテン金属キレート化合物が、下記式（１）で表される化合物である請求項１記載の光学フィルター。
【化１】
2006065121.tif 000004
［式中、Ｒ1〜Ｒ7は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数２０以下のアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ジアルキルアミノ基、ジアルキルアミノカルボニル基、アルキルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、フェニルアミノカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、フェニルチオ基又はアルケニル基を表し、Ｒ6とＲ7は結合して、5員環または6員環を形成してもよく、また、この5員環または6員環にフェニル基が縮環していてもよい。Ｍは２価の金属原子を表す。］
【請求項３】
一般式（１）において、Ｒ1〜Ｒ7が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数２０以下のアルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、アリール基またはフェニルチオ基である請求項２記載の光学フィルター。
【請求項４】
一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3がそれぞれ独立に水素原子、炭素数２０以下のアルキル基またはジアルキルアミノ基であり、Ｒ4、Ｒ5が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アリール基または炭素数２０以下のアルキル基であり、Ｒ6、Ｒ7が、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数２０以下のアルキル基またはアリール基であるか、もしくは、Ｒ6とＲ7が結合して、5員環または6員環を形成しており、この5員環または6員環にフェニル基が縮環している請求項２または３記載の光学フィルター。
【請求項５】
一般式(１)において、２価の金属原子Ｍが、Ｃｕ(II)、Ｚｎ(II)、Ｆｅ(II)、Ｃｏ(II)、Ｎｉ(II)、Ｐｄ(II)またはＳｎ(II)である請求項２〜４のいずれかに記載の光学フィルター。
【請求項６】
光学フィルターが基材及び透明粘着層を有し、該透明粘着層にベンゾピロメテン金属キレート化合物が含有されてなる請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルター。
【請求項７】
光学フィルターが高分子成型体の基材からなり、該基材内にベンゾピロメテン金属キレート化合物が含有されてなる請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルター。
【請求項８】
光学フィルターの基材表面に設けられたコート層に、ベンゾピロメテン金属キレート化合物が含有されてなる請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ベンゾピロメテン金属キレート化合物を含む光学フィルターに関するものである。更に詳しくは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の発光色の色純度を向上させるために取り付けられる光学フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置は、赤、青、緑の三原色の光の組み合わせでカラー画像を表示する。しかし、これらのディスプレイでは、三原色蛍光体からの発光に余分な光（５５０ｎｍ及び５９５ｎｍ）が含まれているため、正確な色再現性が出来ないという問題点を有している。この不要発光波長の光を抑えるために、その波長の光を選択的に吸収する色素を含有する光学フィルターを用いることが有効である。
【０００３】
光学フィルターとしては、ジピロメテン金属キレート化合物を用いるものが、特開２００３−５７４３６号公報に開示されているが、これは４８０ｎｍ付近の光をカットする用途に使用されており、上記した波長の光に対応するものではない。
５４０〜６２０ｎｍの波長の光を選択的に吸収する光学フィルターとしては、例えば、特開昭５０−９３６５９号公報や特開昭５９−２３３０６号公報に開示されているが、５５０ｎｍ及び５９５ｎｍの不要光を同時に効率よく吸収する色素を含有する光学フィルターは知られていない。
【０００４】
【特許文献１】特開昭５０−９３６５９号公報
【特許文献２】特開昭５９−２３３０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、上記従来技術に鑑み、各種ディスプレイにおいて発生する特定の波長の光を選択的にカットすると共に、ディスプレイの色純度を阻害しない、可視光透過率が高い実用的なフィルターを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ベンゾピロメテン金属キレート化合物を用いた光学フィルターを作製することにより、５４０〜６２０ｎｍの余分の光をカットする光学フィルターが得られることを見い出し本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、
Ｉ．基材中、５４０〜６２０ｎｍに極大吸収波長を有するベンゾピロメテン金属キレート化合物を少なくとも１種含有してなる光学フィルター。
II．ベンゾピロメテン金属キレート化合物が、透明粘着層に含有されている前記Ｉの光学フィルター。 
III．ベンゾピロメテン金属キレート化合物が、高分子成型体に含有されている前記Ｉの光学フィルター。
IV．高分子成型体又はガラス表面に形成されているコート層にベンゾピロメテン金属キレート化合物が含有されている前記Ｉの光学フィルター。 
に関するものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の光学フィルターは、各種ディスプレイにおいて発生する５５０ｎｍ及び５９５ｎｍ付近にある余分な光を効率よくカットするため、可視光線の色再現性に優れる。
【発明の詳細な記述】
【０００８】
本発明の光学フィルターは、基材中、５４０〜６２０ｎｍに極大吸収波長を有するベンゾピロメテン金属キレート化合物を少なくとも1種含有するものである。ベンゾピロメテン金属キレート化合物としては、５４０ｎｍより短波長側或いは６２０ｎｍより長波長側に吸収を持たないことが望ましい。また、基材樹脂との相溶性、成型性に優れ、成型後の耐久性に優れたものが望ましい。特に好ましい化合物としては、下記一般式（１）で表されるベンゾピロメテン金属キレート化合物が挙げられる。
【０００９】
【化１】
2006065121.tif 000002
［式中、Ｒ1〜Ｒ7は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数２０以下のアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ジアルキルアミノ基、ジアルキルアミノカルボニル基、アルキルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、フェニルアミノカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、フェニルチオ基又はアルケニル基を表し、Ｒ6とＲ7は結合して、5員環または6員環を形成してもよく、また、この5員環または6員環にフェニル基が縮環していてもよい。Ｍは２価の金属原子を表す。］
【００１０】
本発明で用いる一般式(１)で表されるベンゾピロメテン金属キレート化合物について、以下具体的に述べる。
Ｒ１〜Ｒ7としては、水素原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基やフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン原子、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、１,２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｃｙｃｌｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２,３−ジメチルブチル基、１,３−ジメチルブチル基、２,２−ジメチルブチル基、１,２−ジメチルブチル基、１,１−ジメチルブチル基、３−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−エチルブチル基、１,２,２−トリメチルブチル基、１,１,２−トリメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２,４−ジメチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘキシル基、２，５，５−トリメチルペンチル基、２，４−ジメチルヘキシル基、２，２，４−トリメチルペンチル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、４−エチルオクチル基、４−エチル−４，５−ジメチルヘキシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、１，３，５，７−テトラエチルオクチル基、４−ブチルオクチル基、６，６−ジエチルオクチル基、ｎ−トリデシル基、６−メチル−４−ブチルオクチル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、３，５−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプチル基、２，４−ジメチルヘプチル基、２，２，５，５−テトラメチルヘキシル基、１−ｃｙｃｌｏ−ペンチル−２，２−ジメチルプロピル基、１−ｃｙｃｌｏ−ヘキシル−２，２−ジメチルプロピル基等の直鎖、分岐または環状の炭素数２０以下のアルキル基、
【００１１】
メトキシエチル基、エトキシエチル基、ｉｓｏ−プロピルオキシエチル基、３−メトキシプロピル基、２−メトキシブチル基等のアルコキシアルキル基、
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基ｉｓｏ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ｉｓｏ−ペントキシ基、ｎｅｏ−ペントキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基等のアルコキシ基、
メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、３−メトキシプロピルオキシ基、３−
（ｉｓｏ−プロピルオキシ）プロピルオキシ基等のアルコキシアルコキシ基、
フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、２−メトキシフェノキシ基、４−ｉｓｏ−プロピルフェノキシ基等のアリールオキシ基、ホルミル基、アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｉｓｏ−ペンチルカルボニル基、ｎｅｏ−ペンチルカルボニルオニル基、２−メチルブチルカルボニル基、ニトロベンジルカルボニル基等のアシル基、
【００１２】
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、２，４−ジメチルブチルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基
メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ヘキシルアミノカルボニル基等のアルキルアミノカルボニル基、
ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プチルアミノカルボニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシルアミノカルボニル基等のジアルキルアミノカルボニル基、
アセチルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ブチルカルボニルアミノ基等のアルキルカルボニルアミノ基、
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロビルアミノ基、ジブチルアミノ基等のジアルキルアミノ基、
フェニルアミノカルボニル基、４−メチルフェニルアミノカルボニル基、２−メトキシフェニルアミノカルボニル基、４−ｎ−プロピルフェニルアミノカルボニル基等のフェニルアミノカルボニル基、
フェニルカルボニルアミノ基、４−エチルフェニルカルボニルアミノ基、３−ブチルフェニルカルボニルアミノ基等のフェニルカルボニルアミノ基、
フェノキシカルボニル基、４−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基等のフェノキシカルボニル基、
【００１３】
ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ジクロロベンジル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基等のアラルキル基、
フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基等のアリール基、
ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オキサゾイル基、イソキサゾイル基、オキサジアゾイル基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチアゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル基、インドイル基等のヘテロアリール基、
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉｓｏ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｉｓｏ−ペンチルチオ基、２−メチルブチルチオ基、１−メチルブチルチオ基、ｎｅｏ−ペンチルチオ基、１，２−ジメチルプロピルチオ基、１，１−ジメチルプロピルチオ基等のアルキルチオ基、
フェニルチオ基、４−メチルフェニルチオ基、２−メトキシフェニルチオ基、４-ｔ-ブチルフェニルチオ基等のフェニルチオ基、
ビニル基、プロペニル基、１−ブテニル基、ｉｓｏ−ブテニル基、１−ペンテニル基、ｉｓｏ−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、２−メチル−１−ブテニル基、３−メチル−１−ブテニル基、２−メチル−２−ブテニル基、２，２−ジシアノビニル基、２−シアノ−２−メチルカルボキシルビニル基、２−シアノ−２−メチルスルホンビニル基等のアルケニル基を挙げることができる。
また、Ｒ6とＲ7は結合してシクロペンチル環あるいはシクロヘキシル環を形成することができ、形成されたシクロペンチル環あるいはシクロヘキシル環に、更にフェニル基が縮環することもできる。
【００１４】
これらの中でも、Ｒ1〜Ｒ7が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数２０以下のアルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、アリール基またはフェニルチオ基であるものが好ましく、とりわけ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3がそれぞれ独立に水素原子、炭素数２０以下のアルキル基またはジアルキルアミノ基であり、Ｒ4、Ｒ5が、それぞれ独立に、水素原子、アリール基または炭素数２０以下のアルキル基であり、Ｒ6、Ｒ7が、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数２０以下のアルキル基またはアリール基であるか、もしくは、Ｒ6とＲ7が結合して、5員環または6員環を形成しており、この5員環または6員環にフェニル基が縮環しているものが、特に好ましい。
Ｍで表される２価の金属の例としては、Ｃｕ(II)、Ｚｎ(II)、Ｆｅ(II)、Ｃｏ(II)、
Ｎｉ(II)、Ｒｕ(II)、Ｒｈ(II)、Ｐｄ(II)、Ｐｔ(II)、Ｍｎ(II)、Ｍｇ(II)、Ｔｉ(II)、Ｂｅ(II)、Ｃａ(II)、Ｂａ(II)、Ｃｄ(II)、Ｈｇ(II)、Ｐｂ(II)、Ｓｎ(II)等が挙げられる。
好ましいＭとしては、Ｃｕ(II)、Ｚｎ(II)、Ｆｅ(II)、Ｃｏ(II)、Ｎｉ(II)、Ｐｄ(II)、Ｓｎ(II)であるが、Ｃｕ(II)、Ｚｎ(II)、Ｃｏ(II)が特に好ましい。
一般式（１）の代表例を次の表．１に示す。
【００１５】
【表１】
2006065121.tif 000003
【００１６】
上記表中、Ｐｅはペンチル基、Ｐｈはフェニル基、Ｎａｐｈはナフチル基を表す。
本発明の光学フィルターは、基材中、５４０〜６２０ｎｍに極大吸収波長を有するベンゾピロメテン金属キレート化合物を少なくとも１種含有してなるもので、本発明で言う基材に含有するとは、基材の内部に含有されることは勿論、基材の表面に塗布した状態、基材と基材の間に挟まれた状態を意味する。基材としては、透明樹脂板、透明フィルム、透明ガラス等が挙げられ、波長４００〜７００ｎｍの光線透過率が４０％以上の透明性があれば、特に制限はない。
【００１７】
かかる基材としては、具体的に例示すると、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ポリメチルメタクリレート等のポリメタクリル酸エステル、ポリカーボネイト、ポリエーテルエーテルケトン、ポリプロピレン、トリアセチルセルロース等が挙げられる。特に、ポリエチレンテレフタレート及びトリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレート等のポリメタクリル酸エステル、ポリカーボネイト樹脂等が好ましい。
基材の厚さは、ある程度の機械的強度があれば特に制限はないが、通常は２０μｍ〜１０ｍｍであり、２０μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０μｍ〜２００μｍが特に好ましい。
【００１８】
(光学フィルターの製造)
上記ベンゾピロメテン金属キレート化合物を用いて本願の光学フィルターを作製する方法としては、特に限定されるものではないが、１）透明粘着剤に含有させる方法  ２）高分子成型体へ含有させる方法  ３）高分子成型体又はガラス表面にコーティングする方法等が挙げられる。
【００１９】
１）に挙げた透明粘着剤の具体的な例としては、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着剤等を挙げることができる。ベンゾピロメテン金属キレート化合物の添加量は、通常１０ｐｐｍ〜３０重量％であり、１０ｐｐｍ〜２０重量％が好ましく、１０ｐｐｍ〜１０重量％が特に好ましい。
【００２０】
ベンゾピロメテン金属キレート化合物は、予め溶媒中に分散・溶解させ希釈剤を調製して粘着剤と混合し、これを基材上に塗工して光学フィルターを作製するなどの適宜の公知の方法により製造することができる。
【００２１】
２）に挙げた高分子成型体へ含有させる方法としては、Ａ．樹脂にベンゾピロメテン金属キレート化合物を混練し、加熱成型する方法と、Ｂ．有機溶剤に、樹脂または樹脂モノマーとベンゾピロメテン金属キレート化合物を分散、溶解させ、キャスティング法により高分子成型体を作製する方法が挙げられる。
【００２２】
Ａで使用される樹脂は、板またはフィルム作製した際に、できるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的にはポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリカーボネイト、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステ  ル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることができる。
【００２３】
加工条件は、用いるベンゾピロメテン金属キレート化合物、ベース高分子によって、加工温度、フィルム化条件等が多少異なるが、ベンゾピロメテン金属キレート化合物をベース高分子の粉体あるいはペレットに添加し、１５０〜３５０℃で加熱、溶解させた後、成型して板を作製する方法。押し出し機でフィルム化をする方法。押し出し機で原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に１軸ないし２軸に延伸して、１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。
【００２４】
尚、混練する際に可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤を加えてもよい。ベンゾピロメテン金属キレート化合物の添加量は、吸収係数、作製する高分子成型体の厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性・透過率等によって異なるが、通常、ベース高分子成型体の重量に対して１ｐｐｍ〜２０重量％であり、１ｐｐｍ〜１０重量％が好ましく、１ｐｐｍ〜５重量％が特に好ましい。
【００２５】
Ｂのキャスティング法では、樹脂または樹脂モノマーの有機溶剤溶液に、ベンゾピロメテン金属キレート化合物を添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加えてキャスティング溶液を調製し、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥又は重合・溶剤揮発・乾燥させることにより、板又はフィルムを製造することができる。
【００２６】
使用する樹脂としては、脂肪酸エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネイト樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変性樹脂、あるいはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーが挙げられる。
【００２７】
溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等が挙げられる。
【００２８】
ベンゾピロメテン金属キレート化合物の濃度は、色素の吸光係数、板またはフィルムの厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性、透過率等によって異なるが、樹脂モノマーの重量に対して、通常、１ｐｐｍ〜２０重量％である。また、樹脂濃度は前記キャスティング溶液全体に対して通常１〜９０重量％である。
【００２９】
３）に挙げた高分子成型体またはガラス表面にコーティングする方法としては、ベンゾピロメテン金属キレート化合物をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて塗料にして用いる方法、未着色のアクリルエマルジョン塗料に、ベンゾピロメテン金属キレート化合物を微粉砕(５０〜５００ｎｍ)したものを分散させ、アクリルエマルジョン系水性塗料にする方法等が挙げられる。
【００３０】
バインダー樹脂としては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネイト樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変性樹脂、あるいはそれらの共重合樹脂等が挙げられる。
【００３１】
溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等が挙げられる。
【００３２】
ベンゾピロメテン金属キレート化合物の濃度は、吸光係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、１ｐｐｍ〜３０重量％である。また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜５０重量％である。アクリルエマルジョン系水系塗料の場合も、前記と同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕(５０〜５００ｎｍ)したものを分散させて得られる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いられるような添加剤を加えてもよい。
【００３３】
上記の方法で作製した塗料は、透明高分子フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上に、バーコーダー、ブレードコーダー、スピンコーター、リバースコーダー、ダイコーター、あるいはスプレー等のコーティング法で、色素を含有させることができる。
【００３４】
本発明の光学フィルターには、電磁波シールド機能と近赤外線遮断機能を付与することが好ましい。電磁波シールドには、銀薄膜を用いた積層体や銅を主として用いる金属メッシュを用いることができる。銀薄膜を用いた積層体としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン等の誘電体と銀を交互に５層になるように作製したものが好ましい。積層数は５層から９層が好ましいが、この総数に限定されるものではなく、密着性や耐久性を上げるために、誘電体と銀との間に光学特性を妨げない程度の超薄膜を挿入してもよい。金属のメッシュとしては、繊維に金属を蒸着した繊維メッシュ、フォトリソグラフィーの技術を用い、パターンを形成してエッチングによりメッシュを得るエッチングメッシュ等を使用することができる。
【００３５】
近赤外線遮断機能は、銀薄膜を用いる電磁波シールドを用いる場合は、銀の自由電子による散乱のため、同時に近赤外線の遮断を行うことができる。金属のメッシュを用いた場合は、別途、近赤外線を吸収するフィルムもしくは近赤外線を反射するフィルムを用いることができる。
【実施例】
【００３６】
以下に本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれにより何ら限定されるものではない。
［実施例１］
表１中、化合物番号(10)で示される公知のベンゾピロメテン金属キレート化合物を酢酸エチル／トルエン(５０：５０重量％)混合溶媒中に濃度が１０００ｐｐｍになるように、分散・溶解させ、アクリル系粘着剤用の色素入り希釈剤とした。アクリル系粘着剤と色素入り希釈剤（８０：２０重量％）を混合し、バッチ式ダイコーターでポリエチレンテレフタレートフィルム〔帝人社製、厚さ７５μｍ〕上に塗工し、乾燥させて光学フィルターを作製した。塗工層の乾燥膜厚は、２５μｍであった。
該フィルターについて、島津製作所製分光光度計ＵＶ−3100にて透過率を測定した。５９０ｎｍの波長での透過率は４６.４％であった。このフィルターの透過スペクトルを図１に示す。
【００３７】
［実施例２］
表１中、化合物番号(８)で示される公知のベンゾピロメテン金属キレート化合物をポリエチレンテレフタレートペレット〔ユニチカ社製、品名１２０３〕に、０.０１重量％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み２００μｍのフィルムを作製した。このフィルムを２軸方向に延伸し、厚み１００μｍの光学フィルターを作製した。
該フィルターについて、島津製作所製分光光度計ＵＶ−3100にて透過率を測定した。５７３ｎｍの波長での透過率は３７.２％であった。
【００３８】
［実施例３］
表１中、化合物番号(17)で示される公知のベンゾピロメテン金属キレート化合物を酢酸エチル／トルエン(５０：５０重量％)混合溶媒中に濃度が１０００ｐｐｍになるように、分散・溶解させ、アクリル粘着剤用の色素入り希釈剤とした。アクリル系粘着剤と色素入り希釈剤（８０：２０重量％）を混合し、バッチ式ダイコーターでポリエチレンテレフタレートフィルム〔帝人社製、厚さ７５μｍ〕上に塗工し、乾燥させて光学フィルターを作製した。塗工層の乾燥膜厚は２５μｍであった。
該フィルターについて、島津製作所製分光光度計ＵＶ−3100にて透過率を測定した。５５１ｎｍの波長での透過率は４０.２％であった。
【００３９】
［産業上の利用可能性］
本発明の光学フィルターは、各種ディスプレイにおいて発生する５５０ｎｍ及び５９５ｎｍ付近にある余分な光を効率よくカットするため可視光線の色再現性に優れる。また、ベンゾピロメテン金属キレート化合物を用いることで成型が容易で、様々な方法でディスプレイ用の光学フィルターの作製が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】実施例１で作製した光学フィルターの透過スペクトル図である。
【図１】
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