(57)【要約】      （修正有）【課題】リソグラフィ装置のパターン形成手段に用いる、個別制御可能要素のサイズを縮小できる個別制御可能要素のアレイを構成可能にするシステム及び方法を提供すること。【解決手段】個別制御可能要素１０のそれぞれが細長いヒンジによって基部上の支持体に装着された平面反射体から成り、ヒンジはそれぞれ一端が平面反射体に連結され、他端が基部上の支持体に連結される。この配置によってより細かいピッチで個別制御可能要素のアレイを作成する。【選択図】図３
2006165580.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射のビームを供給する照明系と、
前記ビームをパターン形成する個別制御可能要素のアレイと、
前記パターン形成したビームを基板の標的部分上に投影する投影系と、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記個別制御可能要素のアレイは、前記個別制御可能要素が装着される複数の支持体を有する基部を含み、
前記個別制御可能要素のそれぞれが、
実質的に反射平面内に位置する反射表面を有する平面反射体を含み、さらに
細長い部分を有する少なくとも２個のヒンジを含み、前記ヒンジはそれぞれ、一端が前記平面反射体に連結され、他端が前記基部上の前記支持体の一方に連結される、装置。
【請求項２】
前記平面反射体に対する連結部と前記支持体との間の前記ヒンジの長さは、前記反射平面を横切る前記平面反射体の最小寸法の少なくとも半分である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
それぞれのヒンジの前記細長い部分の少なくとも一部は、その細く延びる方向が、それが連結される前記平面反射体の辺に実質的に平行である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
それぞれのヒンジは、前記細長い部分の少なくとも第１及び第２の部分であって、前記細長い部分の前記第１及び第２の部分の前記細く延びる方向が前記平面反射体の第１及び第２の辺にそれぞれ実質的に平行であるように配置されている少なくとも第１及び第２の部分を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
それぞれのヒンジの前記細長い部分の少なくとも一部は、その細く延びる方向が、それが連結される前記平面反射体の辺と実質的に直交するように配置される、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記支持体のそれぞれは、相互に隣接する前記平面反射体の第１及び第２の平面反射体にそれぞれ連結される前記少なくとも２個のヒンジのそれぞれの第１及び第２のヒンジに連結される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記支持体のそれぞれは、前記平面反射体の第１から第４までの平面反射体にそれぞれ連結される前記少なくとも２個のヒンジのそれぞれの第１から第４までのヒンジに連結され、前記平面反射体の前記第１から第４までの平面反射体は、それぞれが前記平面反射体の２個の隣接する平面反射体から成る２つの隣接する横列を形成するように配置される、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記支持体のそれぞれは、実質的に横列に配置された複数の前記平面反射体に連結される複数の前記少なくとも２個のヒンジに連結される、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記平面反射体及び前記連結されたヒンジは、同じ物質から一体に作製される、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記支持体の共通の支持体に連結された前記少なくとも２個のヒンジの２個以上が、同じ物質から一体に作製される、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記個別制御可能要素が、
実質的に前記反射平面内に配置された軸の回りに前記個別制御可能要素が回転するように、前記関連する個別制御可能要素を駆動するアクチュエータをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記個別制御可能要素が、
前記反射平面と実質的に直交する方向に前記個別制御可能要素が並進するように、前記関連する個別制御可能要素を駆動するアクチュエータをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
平面反射体が、その関連するヒンジの上に積み重ねられる、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記ヒンジは柔軟性である、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
放射のビームをパターン形成するように構成された、個別制御可能要素のアレイであって、
複数の個別制御可能要素を備え、それぞれが、
実質的に反射平面内に位置する反射表面を有する平面反射体と、
少なくとも２個の細長いヒンジと、を備え、
前記個別制御可能要素が装着される複数の支持体を有する基部を備え、
前記ヒンジはそれぞれ、一端が前記平面反射体に連結され、他端が前記基部上の前記支持体の一方に連結される、個別制御可能要素のアレイ。
【請求項１６】
平面反射体が、その関連するヒンジの上に積み重ねられる、請求項１５に記載の個別制御可能要素のアレイ。
【請求項１７】
前記ヒンジは柔軟性である、請求項１６に記載の個別制御可能要素のアレイ。
【請求項１８】
デバイス製造方法であって、
個別制御可能要素のアレイを形成するために複数の個別制御可能要素を基部上の複数の支持体に装着するステップを含み、それぞれの個別制御可能要素は平面反射体を備え、
第１のヒンジを前記個別制御可能要素のそれぞれと、その関連する平面反射体とに連結し、第２のヒンジを前記個別制御可能要素のそれぞれと、前記基部上の前記支持体の一方とに連結するステップを含み、
前記個別制御可能要素のアレイを使用して放射のビームをパターン形成するステップを含み、
前記放射のパターン形成したビームを基板の標的部分上に投影するステップを含む、方法。
【請求項１９】
前記個別制御可能要素のサイズを縮小するために、前記平面反射体をその関連するヒンジの上に積み重ねるステップをさらに含む、請求項１８に記載のデバイス製造方法。
【請求項２０】
前記パターンを前記ビームに付与するために、必要に応じて前記平面反射体を位置決めするためにそれらを駆動するステップをさらに含む、請求項１８に記載のデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板の標的部分の上に所望のパターンを施す機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）、平面パネル・ディスプレイ、及び微細構造を含む他のデバイスの製造に使用可能である。従来のリソグラフィ装置では、パターン形成手段（マスク又はレチクルとも呼ばれる）を使用してＩＣ（又は他のデバイス）の個別層に対応する回路パターンを作成することが可能であり、放射感光物質（例えば、レジスト）の層を有する基板（例えば、シリコン・ウェーハ又はガラス板）上の標的部分（例えば、１個又は数個のダイの一部を含む）上に、このようなパターンを描画することができる。このパターン形成手段は、マスクの代わりに、回路パターンを作成する個別制御可能要素のアレイを含み得る。
【０００３】
一般に、単一の基板は連続露光される隣接標的部分の網構造を含む。知られたリソグラフィ装置には、１回の試みでパターン全体を標的部分上に露光することによって各標的部分を照射する、いわゆるステッパと、ビームによって所与の方向（「走査」方向）にパターンを走査し、他方で同期して、この方向に平行に又は逆平行に基板を走査することによって各標的部分を照射する、いわゆるスキャナとが含まれる。
【０００４】
個別制御可能要素のアレイとして、マトリックス配置にあるミラーのアレイを使用することが知られている。これらのミラーのそれぞれは、適切な局在電界を印加することによって、又は圧電駆動手段を使用することによって、軸回りに個別に傾斜可能である。これらのミラーは、アドレス指定ミラーが入射する放射ビームを非アドレス指定ミラーとは異なる方向に反射するようにマトリックス指定可能である。この様態では、反射ビームはマトリックス指定可能なミラーのアドレス指定パターンに従ってパターン形成される。このマトリックス駆動は適切な電子的手段を使用して実行可能である。リソグラフィを使用して絶えず微小化するデバイスを製造するためには、パターンを作成する個別制御可能要素のサイズを縮小する必要がある。しかし、個別制御可能要素のサイズが縮小するにつれて、個別制御可能要素を支持するヒンジに掛かる機械的応力が増大する。それに応じてヒンジの寿命、ひいては個別制御可能要素の寿命が短縮する。しかも、個別制御可能要素を必要な位置に位置決めするのに要する駆動力の大きさも増大し得る。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、必要とされているものは、個別制御可能要素のサイズを縮小できる個別制御可能要素のアレイを構成可能にするシステム及び方法である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一実施例によれば、照明系、個別制御可能要素のアレイ、及び投影系を備えるリソグラフィ装置が提供される。照明系は放射のビームを供給する。個別制御可能要素のアレイはビームをパターン形成する。投影系はパターン形成したビームを基板の標的部分上に投影する。個別制御可能要素のアレイは、これらの個別制御可能要素が装着される複数の支持体を有する基部を含む。個別制御可能要素はそれぞれ、実質的に反射平面内に位置する反射表面を有する平面反射体と、少なくとも２個の細長いヒンジとを備える。ヒンジはそれぞれ、一端が平面反射体に連結され、他端が基部上の支持体の一方に連結される。
【０００７】
本発明の別の実施例が、放射のビームをパターン形成するように構成されている個別制御可能要素のアレイを提供する。それぞれの個別制御可能要素は、実質的に反射平面内に位置する反射表面を有する平面反射体と、少なくとも２個の細長いヒンジと、これらの個別制御可能要素が装着される複数の支持体を有する基部とを備える。ヒンジはそれぞれ、一端が平面反射体に連結され、他端が基部上の支持体の一方に連結される。
【０００８】
本発明の他の実施例が、以下のステップを含むデバイス製造方法を提供する。個別制御可能要素のアレイを使用して放射のビームをパターン形成するステップ。放射のパターン形成されたビームを基板の標的部分上に投影するステップ。個別制御可能要素のアレイは、これらの個別制御可能要素が装着される複数の支持体を有する基部を含む。個別制御可能要素はそれぞれ、実質的に反射平面内に位置する反射表面を有する平面反射体と、少なくとも２個の細長いヒンジとを備える。ヒンジはそれぞれ、一端が平面反射体に連結され、他端が基部上の支持体の一方に連結される。パターンをビームに付与するために、必要に応じて平面反射体を位置決めするためにそれらが駆動される。
【０００９】
本発明の他の実施例、特徴、及び利点ばかりでなく本発明の様々な構造及び動作も、添付の図面を参照して以下に詳細に説明される。
【００１０】
本発明に組み込まれて本明細書の一部を構成する添付の図面は、説明と併せて本発明を例示すると共に、本発明の原理を説明し、さらに当業者が本発明を作製し且つ使用することを可能にする役割を果たす。
【００１１】
ここで添付の図面を参照して本発明を説明する。これらの図面では、同様の参照符号が同一の要素又は機能的に類似する要素を指し得る。
【実施例】
【００１２】
概説及び用語
本文では、集積回路（ＩＣ）の製造でリソグラフィ装置を使用することに特定して言及するが、本明細書に説明するリソグラフィ装置には、集積光学系、磁気ドメイン記憶装置用の誘導及び検出パターン、平面パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、ミクロ及びマクロ流体装置等々のような他の応用例もあり得ることを理解すべきである。このような他の応用例の文脈では、本明細書の「ウェーハ」又は「ダイ」という用語の使用はいずれも、「基板」又は「標的部分」というより一般的な用語とそれぞれ同義であると見なし得ることが当業者には理解されよう。本明細書で言及する基板は、露光の前に又は後で、例えば、トラック（例えば、典型的にはレジスト層を基板に施し且つ露光済みのレジストを現像するツール）又は計測若しくは検査ツールにおいて処理可能である。応用可能であれば、このような及び他の基板処理ツールに本明細書の開示を応用することもできる。さらには、本明細書に使用する基板という用語を使って複数回処理した層を既に含んでいる基板を指し得るように、例えば、多層ＩＣを作製するために、基板を２回以上処理することも可能である。
【００１３】
本明細書で使用する「個別制御可能要素のアレイ」という用語は、所望のパターンを基板の標的部分中に作成できるように、入射する放射ビームにパターン形成した断面を与えるために使用可能な任意の装置を指すものと広義に解釈されるべきである。「光弁」及び「空間光変調器」（ＳＬＭ）もこのような文脈で使用可能である。このようなパターン形成装置の実施例を以下に論じる。
【００１４】
プログラマブル・ミラー・アレイは、粘弾性制御層及び反射表面を有するマトリックス駆動表面を備える。このような装置の背景にある基本原理は、例えば、反射表面のアドレス指定領域が入射光を回折光として反射するのに対して、非アドレス指定領域は入射光を非回折光として反射するというものである。適切な空間フィルタを使用すると、この非回折光を反射ビームから取り除き、回折光のみを基板に達するように残すことが可能である。このような様態では、ビームがマトリックス指定表面のアドレス指定パターンに従ってパターン形成される。
【００１５】
別法として、このフィルタは回折光を取り除いて非回折光を基板に達するように残すことも可能であることが理解されよう。回折光微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）装置のアレイを対応する様態で使用することも可能である。それぞれの回折光ＭＥＭＳ装置は、入射光を回折光として反射する格子を形成するために相互に対して変形可能な複数の反射リボンを含み得る。
【００１６】
別法による他の実施例は、微小ミラーのマトリックス配置を使用するプログラマブル・ミラー・アレイを含み得るが、これらの微小ミラーのそれぞれは、適切な局在電界の印加によって又は圧電駆動手段の使用によって、軸回りに個別に傾斜可能である。この場合も、アドレス指定ミラーが入射する放射ビームを非アドレス指定ミラーとは異なる方向に反射するように、ミラーをマトリックス駆動することが可能であり、このような様態で、反射ビームはマトリックス駆動可能なミラーのアドレス指定パターンに従ってパターン形成される。必要なマトリックス駆動は適切な電子的手段を使用して実行することができる。
【００１７】
ここで以上に説明した両状況では、個別制御可能要素のアレイが、１つ又は複数のプログラマブル・ミラー・アレイを含むことができる。本明細書で言及するミラー・アレイに関するさらなる情報は、例えば、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第５２９６８９１号明細書及び同第５５２３１９３号明細書、並びにＰＣＴ特許出願国際公開第９８／３８５９７号パンフレット及び同第９８／３３０９６号パンフレットから収集可能である。
【００１８】
プログラマブルＬＣＤ（液晶表示器）アレイも使用することができる。このような構造の１つの実施例が、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる米国特許第５２２９８７２号明細書に見られる。
【００１９】
例えば、構造のプリ・バイアシング、光学的近位補正構造、位相変化技法、及び多重露光技法が使用される場合には、個別制御可能要素のアレイ上に「表示される」パターンは、基板の層に又は基板上に最終的に転写されるパターンとは実質的に異なり得ることを理解すべきである。同様に、最終的に基板上に作成されるパターンは、個別制御可能要素のアレイ上で任意の一瞬に形成されるパターンに対応しない場合もあり得る。これは、基板のそれぞれの部分上に形成される最終的なパターンが、個別制御可能要素のアレイ上のパターン及び／又は基板の相対位置が変化する所与の時間の間又は所与の露光回数にわたって形成される配置における場合に該当し得る。
【００２０】
本文では、ＩＣの製造でリソグラフィ装置を使用することに特定して言及するが、本明細書に説明するリソグラフィ装置には、例えば、ＤＮＡチップ、ＭＥＭＳ、ＭＯＥＭＳ（微小光電子機械システム）、集積光学系、磁気ドメイン記憶装置用の誘導及び検出パターン、平面パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッド等々のような他の応用例もあり得ることを理解すべきである。このような他の応用例の文脈では、本明細書の「ウェーハ」又は「ダイ」という用語の使用はいずれも、「基板」又は「標的部分」というより一般的な用語とそれぞれ同義であると見なし得ることが当業者には理解されよう。本明細書で言及する基板は、露光の前又は後で、例えば、トラック（典型的にはレジスト層を基板に施し且つ露光済みのレジストを現像するツール）又は計測若しくは検査ツールにおいて処理可能である。応用可能であれば、このような及び他の基板処理手段に本明細書の開示を応用することもできる。さらには、本明細書に使用する基板という用語を使って複数回処理した層を既に含んでいる基板を指し得るように、例えば、多層ＩＣを作製するために、基板を２回以上処理することも可能である。
【００２１】
本明細書で使用する「放射」及び「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、又は１２６ナノメートルの波長を有する）及び極紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５〜２０ナノメートルの範囲内の波長を有する）ばかりでなくイオン・ビーム又は電子ビームなどの粒子ビームも含めて、電磁放射の全ての種類を包含する。
【００２２】
本明細書で使用する「投影系」という用語は、屈折光学系、反射光学系、及び反射屈折光学系を含めて、例えば、使用されている露光放射に又は浸液の使用若しくは真空の使用などの他の要素に適切な様々な種類の投影系を包含するものと広義に解釈されるべきである。本明細書の「レンズ」という用語の使用はいずれも、より一般的な用語である「投影系」と同義であると見なし得る。
【００２３】
照射系も、屈折光学要素、反射光学要素、及び反射屈折要素を含めて、放射のビームを誘導、整形、又は制御するための様々な種類の光学要素を包含するものと広義に解釈されるべきであり、このような要素を以下では集合的に又は単独で「レンズ」と呼ぶこともできる。
【００２４】
リソグラフィ装置は、２つ（例えば、２連ステージ）以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスク・テーブル）を有する種類であり得る。このような「多連ステージ」機械では、追加的なテーブルを並行して、即ち、１つ又は複数のテーブル上で予備工程を実行し、他方では１つ又は複数の他のテーブルを露光に使用することができる。
【００２５】
リソグラフィ装置はまた、投影系の最終要素と基板との間の空間を充填するために、相対的に大きな屈折率を有する液体（例えば、水）の中に基板を液浸する種類であり得る。この浸液は、リソグラフィ装置内の他の空間、例えば基板と投影系の最初の要素との間に適用することも可能である。液浸技法は、投影系の開口数を増やすために当業ではよく知られている。
【００２６】
さらにリソグラフィ装置には、流体と基板の被照射部分との間の相互作用を可能にするために（例えば、選択的に化学物質を基板に付着させたり、又は選択的に基板の表面構造を変更したりするために）、流体処理セルを設けることができる。
【００２７】
リソグラフィ投影装置
図１は、本発明の一実施例に係るリソグラフィ投影装置１００を模式的に示す。この装置１００は少なくとも、放射系１０２、個別制御可能要素１０４のアレイ、物体テーブル１０６（例えば、基板テーブル）、及び投影系（「レンズ」）１０８を含む。
【００２８】
放射系１０２を使用して放射（例えば、ＵＶ線放射）のビーム１１０を供給することが可能であり、この特定の場合では、この放射系は放射源１１２も包含する。
【００２９】
個別制御可能要素１０４のアレイ（例えば、プログラマブル・ミラー・アレイ）を使用してビーム１１０にパターンを施すことができる。一般に、個別制御可能要素１０４のアレイの位置は、投影系１０８に対して固定可能である。しかし、別法による配置では、個別制御可能要素１０４のアレイが、それを投影系１０８に対して正確に位置決めするための位置決め装置（図示せず）に連結可能である。この図に示すように、個別制御可能要素１０４は反射型である（例えば、反射型の個別制御可能要素のアレイを有する）。
【００３０】
物体テーブル１０６には、基板１１４（例えば、レジストが塗布されたシリコン・ウェーハ又はガラス板）を保持するための基板保持器（特に図示せず）を設けることが可能であり、この物体テーブル１０６は基板１１４を投影系１０８に対して正確に位置決めするために位置決め装置１１６に連結可能である。
【００３１】
投影系１０８（例えば、水晶及び／若しくはフッ化カルシウムのレンズ系又はこのような物質から作製されたレンズ要素を含む反射屈折光学系、或いはミラー系）を使用してビーム分割器１１８から受け取ったパターン形成したビームを基板１１４の標的部分１２０（例えば、１個又は複数個のダイ）の上に投影することができる。投影系１０８は、個別制御可能要素１０４のアレイの像を基板１１４の上に投影することができる。別法として、投影系１０８は副光源の象を投影することが可能であり、個別制御可能要素１０４のアレイの要素はこの副光源のためのシャッタの役割を果たす。投影系１０８は、この副光源を形成し且つ微小スポットを基板１１４上に投影するための微小レンズ・アレイ（ＭＬＡ）も含むことができる。
【００３２】
光源１１２（例えば、エキシマ・レーザ）は放射のビーム１２２を発生させることができる。ビーム１２２は、直接的に又は調整装置１２６（例えば、ビーム拡張器のような）を横切った後で、照明系（照明器）１２４の中に送出される。照明器１２４は、ビーム１２２中の強度分布の外部及び／又は内部半径範囲（通常はそれぞれσ−外部及びσ−内部と呼ぶ）を設定するための調節装置１２８を備え得る。さらに、照明器１２４は一般に、積分器１３０及び集光器１３２のような他の様々な構成要素を含むことになる。このようにして、個別制御可能要素１０４のアレイ上に当たるビーム１１０は、その断面に望ましい均一性及び強度分布を有する。
【００３３】
図１に関して、光源１１２はリソグラフィ投影装置１００のハウジング内部に存在し得る（光源１１２が、例えば、水銀ランプであるときにしばしば該当するように）ことに留意されるべきである。別法による実施例では、光源１１２がリソグラフィ投影装置１００から遠隔にあってもよい。この場合には、放射ビーム１２２が装置１００の中へ（例えば、適切な誘導ミラーの補助によって）誘導されることになろう。後者の事例は、光源１１２がエキシマ・レーザであるときにしばしば該当する。これらの両方の事例が本発明の範囲内で企図されていることを理解すべきである。
【００３４】
ビーム１１０は、ビーム分割器１１８を使用して誘導された後で、引き続いて個別制御可能要素１０４のアレイと交差する。個別制御可能要素１０４のアレイによって反射されると、ビーム１１０はビーム１１０を基板１１４の標的部分１２０の上に合焦する投影系１０８を通過する。
【００３５】
位置決め装置１１６（及び、随意選択的には、基部板１３６上にあってビーム分割器１４０経由で干渉計ビーム１３８を受け取る干渉測定装置１３４）の補助によって、異なる標的部分１２０をビーム１１０の経路中に位置決めするように基板テーブル１０６を正確に移動させることができる。個別制御可能要素１０４のアレイのための位置決め装置は、使用される場合には、例えば、走査時に、個別制御可能要素１０４のアレイの位置をビーム１１０の経路に対して正確に補正するために使用可能である。一般に、物体テーブル１０６の移動は、図１に明示しないが、長行程モジュール（大まかな位置決め）及び短行程モジュール（微細な位置決め）の補助によって実現される。同様のシステムを使用して個別制御可能要素１０４のアレイを位置決めすることもできる。必要な相対移動を与えるために、ビーム１１０を別様に／追加的に移動可能にし、他方で物体テーブル１０６及び／又は個別制御可能要素１０４のアレイは固定位置を有し得ることが理解されよう。
【００３６】
本発明の別法による構成では、基板テーブル１０６が固定可能であり、基板１１４を基板テーブル１０６上で移動させることができる。これを実行する場合には、基板テーブル１０６の平坦な頂部表面上に多くの穴を開け、これらの穴を介してガスを送出して、基板１１４を支持できるガス・クッションを設ける。通常、これをエア・ベアリング配置と呼ぶ。基板１１４をビーム１１０の経路に対して正確に位置決めできる１つ又は複数のアクチュエータ（図示せず）を使用して、基板１１４を基板テーブル１０６上で移動させる。別法として、穴を通過するガスの流れを選択的に開始／停止することによって、基板１１４を基板テーブル１０６上で移動させることができる。
【００３７】
本明細書では、本発明に係るリソグラフィ装置１００は基板上のレジストを露光するためのものとして説明されるが、本発明は、そのような使用に限定されるものではなく、本装置１００は、レジストレス・リソグラフィで使用するためのパターン形成したビーム１１０を投影するために使用することも可能であることが理解されよう。
【００３８】
図示の装置１００は好ましい４つの方式で使用可能である。
【００３９】
１．ステップ方式、即ち、個別制御可能要素１０４のアレイ上のパターン全体が１回の試み（即ち、単一の「閃光」）で標的部分１２０の上に投影される。次いで、パターン形成したビーム１１０によって異なる標的部分１２０を照射するために、基板テーブル１０６をｘ方向及び／又はｙ方向に移動させる。
【００４０】
２．走査方式、即ち、所与の標的部分１２０が単一の「閃光」で露光されるのではないことを除けば、ステップ方式と本質的には同じである。１回で露光されるのではなく、パターン形成したビーム１１０に個別制御可能要素１０４のアレイ上を走査させるように、個別制御可能要素１０４のアレイは速度ｖで所与の方向（いわゆる「走査方向」、例えば、ｙ方向）に移動可能である。並行して、基板テーブル１０６を速度Ｖ＝Ｍｖ（但し、Ｍは投影系１０８の倍率である）で同方向又は逆方向に同時に移動させる。この様態では、解像度を犠牲にする必要もなく相対的に大きな標的部分１２０を露光することができる。
【００４１】
３．パルス方式、即ち、個別制御可能要素１０４のアレイは本質的に静止状態に維持され、パルス放射系１０２を使用してパターン全体が基板１１４の標的部分１２０の上に投影される。パターン形成したビーム１１０に基板１０６を横切る線を走査させるように、基板テーブル１０６を本質的に一定の速度で移動させる。個別制御可能要素１０４のアレイ上のパターンは、必要に応じて放射系１０２のパルスとパルスの合間に更新され、これらのパルスは、連続的な標的部分１２０の基板１１４上の必要な箇所が露光されるようにタイミング調節される。従って、パターン形成したビーム１１０は、基板１１４の細い帯毎に完全なパターンを露光するように基板１１４を横切って走査することができる。この過程は、線を１本１本露光して基板１１４全体の露光が完了するまで反復される。
【００４２】
４．連続走査方式、即ち、実質的に一定の放射系１０２が使用されること及び個別制御可能要素１０４のアレイ上のパターンは、パターン形成したビーム１１０が基板１１４を横切って走査し且つそれを露光するときに更新されることを除けば、本質的にパルス方式と同じである。
【００４３】
上述の使用方式の組合せ及び／若しくはその変型、又は全く異なる使用方式も用いることができる。
【００４４】
従来の個別制御可能要素
図１１ａは個別制御可能要素のアレイを形成するために使用された従来の微小ミラー１００を示し、図１１ｂはこのようなアレイの一部を示す。従来の微小ミラー１００はそれぞれ、支持部分１０４上のヒンジ１０２、１０３に接する１対の対向する頂点に装着された実質的に正方形の平面反射体１０１から形成される。この微小ミラーはヒンジ１０２、１０３を貫通する軸１０５回りに回転するように駆動される。これは平面反射体部分１０１と支持体１０４上に装着された個別制御可能要素の部分との間のヒンジ１０２、１０３の一部の内部に捻れを発生させる。図１１ａに示すように、ヒンジ１０２、１０３の長さＤ１は、反射平面を横切る平面反射体１０１の長さＤ２よりもかなり短い。
【００４５】
図１１ｂは、個別制御可能要素のアレイを形成するように相互に隣接して縦横の列に配置された従来の微小ミラー１００を示す。２個の隣接する微小ミラー１００ａ、１００ｂのためのヒンジ部分は、共通の支持体１０７上に一緒に装着される。絶え間なく微細化するパターン構造を作成するためには、微小ミラー１００のサイズを縮小し、且つアレイ中のそれらの間の間隔を縮小することが望ましい。従って、平面反射体１０１のサイズが縮小されるとき、ヒンジ１０２、１０３の長さも縮小されねばならない。しかし、ヒンジの長さＤ１が短くなると、軸１０５回りに平面反射体１０１の所与の角変形を発生させるヒンジ内部の捻れ応力が増大する。従って、個別制御可能要素を駆動するのに必要な力が増大し、例えば、ヒンジ１０２、１０３の疲労のために、個別制御可能要素の寿命が短縮される。
【００４６】
例示的な要素及びそのアレイ
図２ａ、２ｂ、及び２ｃは、本発明の一実施例に係る個別制御可能要素１０を示す。この個別制御可能要素１０は、ヒンジ１２、１３によって支持体１４上に装着された実質的に正方形の平面反射体１１を含む。例えば、限定するものではないが、円形、楕円形、多角形等のような反射体の他の形状も使用可能であることが理解されよう。
【００４７】
図示のように、それぞれのヒンジは細長い。例えば、ヒンジ１２は第１の細長い部分１２ａ及び肩部分１２ｂを含む。第１の細長い部分１２ａは、それが付着されている平面反射体１１の辺１１ａに、その長さが実質的に平行であるように配置されている。肩部分１２ｂは、辺１１ａとその隣接する辺とを連結する角でヒンジの第１の細長い部分１２ａを平面反射体１１に連結する。この肩部分１２ｂは、ヒンジの第１の細長い部分１２ａと平面反射体１１との間の適切な離隔距離を確立する。ヒンジの第２の細長い部分１２ｃは、肩部分１２ｂが連結されている端部に対して反対側の第１の細長い部分１２ａの端部に連結されている。ヒンジの第２の細長い部分１２ｃは、その長さが平面反射体の第２の辺１１ｂに実質的に平行であり、且つ適切な間隔だけ平面反射体１１から離間されている。ヒンジの第２の細長い部分１２ｃの端部（ヒンジの第１の細長い部分１２ａに連結されていない方）は支持体１４に連結されている。
【００４８】
この実施例では、肩部分１２ｂのサイズに応じて、ヒンジの第１及び第２の細長い部分１２ａ、１２ｃの長さＤ４、Ｄ５はそれぞれ、反射表面１１の長さＤ３よりも長くなり得る。従って、平面反射体１１の所与の撓み角では、ヒンジ中の応力が、同じ平面反射体サイズを有する従来サイズの従来の微小ミラーで想定されるものよりも小さい。しかも、ヒンジ１２、１３中の応力は、もはや純然たる捻れではなく、曲げ応力も含む。これは、以下でさらに詳細に論じるように、アレイ内部の隣接する個別制御可能要素１０間に必要な離隔距離をそれ程広げることなく実現される。
【００４９】
一実施例では、この配置によって、ヒンジの小型化によって結果的に個別制御可能要素のヒンジ中の応力を増大させることなく、より細かいピッチで個別制御可能要素のアレイを作製することが可能になる（パターン内部により微細な構造が形成可能になる）。その結果として、これはヒンジ（及び結果的に個別制御可能要素）の寿命が不経済に短縮されるのを解消するか若しくは実質的に抑制し、且つ／又はそれぞれの要素毎に必要な駆動力が許容水準を超えて増大するのを解消するか若しくは実質的に抑制する。後者が重要であり得るのは、駆動力が増大すると、個別制御可能要素のアレイの制御に使用される電力水準の上昇をもたらし、その結果、リソグラフィ装置内部の望ましくない熱効果を回避するために許容以上の高水準の熱を放散する必要が生じ得るからである。
【００５０】
図２ｂは、図２ａに示した線ＢＢを横切る、本発明の一実施例に係る制御可能要素１０の断面を示す。この実施例では、平面反射体１１、ヒンジ１２、１３、及び支持体１４は、アルミニウムのような反射物質の単一層から作製される。支持体部分１４は基部１５上の支持体１６に装着されている。従って、空間１７が基部１５と平面反射体１１との間に設けられる。一実施例では、平面反射体１１を駆動するために使用される装置が適宜に空間１７の内部に配置可能である。図２ａ、２ｂ、及び２ｃに示した実施例では、平面反射体１１を駆動するために使用される装置は容量性の駆動システムである。このような配置では、平面反射体１１と空間１７内部に配置された電極１８との間に印加される電圧差が、これらの２つの構成要素間に引き付け力を発生させる。一実施例では、アレイ内部の個別制御可能要素のそれぞれの平面反射体１１及びヒンジ１２、１３は固定電圧に維持され、個別制御可能要素を駆動するのに必要な電圧が基部１５内部の制御回路（図示せず）によって電極１８に印加される。このような制御回路の詳細は本発明の範囲を超えるものであるが、ＳＬＭ技術分野ではよく知られている。
【００５１】
図２ｃは、本発明の一実施例に係る個別制御可能要素の図２ａに対応する平面図を示す。平面反射体１１及びヒンジ１２、１３の輪郭が波線で示され、また制御電極１８の相対位置が示されている。この実施例では、制御電極１８は、平面反射体１１の１対の対向する頂点（ヒンジ１２、１３が連結されていない方）に配置され得る。このような配置によって、平面反射体１１は、ヒンジ１２、１３が平面反射体１１に結合されている平面反射体１１の頂点間を通過する軸１９回りに回転するように駆動可能になる。
【００５２】
一実施例では、この実施例の個別制御可能要素は、平面反射体を回転方向ではなく直線的に撓ませるか、又は直線的に及び回転方向に撓ませることもできる。例えば、平面反射体１１の対向する角にある両方の電極１８に電圧を印加することによって、平面反射体１１は、この反射体の反射平面に対して垂直の方向に変位可能である。一実施例では、これは個別制御可能要素の位相シフト・アレイを可能にし得るが、そこでは隣接する平面反射体１１が装着されている基部１５に対して、これらの反射体の反射平面に垂直な方向でこれらの反射体を異なる位置に設定することによって、隣接する個別制御可能要素から反射される放射間に位相差を確立することができる。
【００５３】
制御電極１８の別法による構成を使用して平面反射体１１を駆動できることが理解されよう。例えば、制御システムは、平面反射体１１をその非駆動位置に対して単一方向に回転させるだけでよい場合には、１個の制御電極１８を使用することによって簡素化が可能である。また制御電極１８の数を増やすことによって制御感度を高めることもできる。
【００５４】
このような本発明の実施例は、以上に説明し且つ図２ａ、２ｂ、及び２ｃに示した容量性の駆動に限定されないことも理解されよう。様々な実施例では、個別制御可能要素１０のヒンジの柔軟性を高めることにより、ヒンジ１２、１３が装着される平面反射体１１の頂点に制御電極１８を設けて、軸１９に直交する軸回りに平面反射体１１を回転させることができる。他の実施例では、圧電駆動装置を使用して平面反射体１１を駆動することもできる。
【００５５】
一実施例では、個別制御可能要素１０は、図１１ａ及び１１ｂに示すように、微小ミラーを使用する個別制御可能要素と同じ態様で形成可能である。一実施例では、駆動装置を制御するために必要な制御回路、例えば、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）回路を内蔵する基部が設けられる。この基部上には続いて金属の制御電極１８が形成され、その後に犠牲物質層が形成される。次いで、平面反射体１１及びヒンジ１２、１３を形成するために、この犠牲層の上に金属層が施される。この金属層は選択的に、例えば、リソグラフィ技法を用いてパターン形成され、さらに金属層を平面反射体１１とヒンジ１２、１３との間の空間から、また必要に応じて、隣接する個別制御可能要素１０の間から除去するためにエッチングされる。続いて、犠牲層が平面反射体１１とヒンジ１２、１３の真下から除去され、それによって平面反射体を駆動可能するための空間１７を創出する。
【００５６】
一実施例では、ヒンジが連結される支持体は、金属層の前に基部に施された物質の別個の部分から作製可能である。他の実施例では、支持体１６が、処理技法の間に選択的に残される犠牲層の一部であり得る。別の一実施例では、支持体は、平面反射体１１及びヒンジ１２、１３を形成する金属層から作製され且つそれらと一体であり得る。
【００５７】
図２ａ、２ｂ、及び２ｃは必ずしも一定の尺度に従うものではないことが理解されよう。一実施例では、平面反射体１１と制御電極１８との間の離隔距離が、反射平面内の個別制御可能要素のサイズよりも実質的に小さくなり得る。そのような実施例では、平面反射体１１から最も離れたヒンジ端部が基部１５に向かって傾斜するように配置され、別体の支持部分を必要としないで、その基部に直接連結され得る。一実施例では、ヒンジの細長い部分の長さに対するそれらの幅が、図示されたものに限定されないことが理解されよう。別の一実施例では、図示のようにヒンジの厚さが平面反射体の厚さと同じであり得るが（両方とも平面反射体の平面に対して垂直に測って）、これは必ずしもそうである必要はない。特に、平面反射体は、その剛性を高めるために厚くすることができる。図示の構造は全てが鋭い角を有するが、実施では、個別制御可能要素の構造のそれぞれの角は、応力集中をいずれも低減するように丸味を付け得ることも理解されよう。
【００５８】
一実施例では、平面反射体１１のサイズに対してヒンジ１２、１３をさらに長くすると、アレイ内部の各個別制御可能要素１０中の平面反射体１１の自然（非駆動）位置が、それらの各電極１８に電圧が印加されていないときに相互に異なる場合が生じ得る。従って、個別制御可能要素のアレイを試験して個別制御可能要素のアレイ内部の制御電極１８のそれぞれに印加すべきオフセット電圧を算定することが望ましい。これは、個別制御可能要素のアレイ又は個別制御可能要素のアレイの特定部分の上にパターンが設定されていないときに、各平面反射体の位置が相互に十分に一致していることを確実にするために実行され得る。
【００５９】
図３、４、及び５ａは、本発明の様々な実施例に係る、アレイで配置された個別制御可能要素の配置を示す。図５ｂは、Ａと標識を附した図５ａの一部を拡大した形態で示す。これらの実施例では、個別制御可能要素１０が個別制御可能要素のアレイを形成するように複数の方法で構成可能である。個別制御可能要素１０の各縦列２１ａ、２１ｂ、２１ｃは１対の細長い支持体２０ａ、２０ｂ、２０ｃ、２０ｄに関連し、これらの支持体には、個別制御可能要素をこれらの個別制御可能要素のアレイ上に取り付けるために、それぞれの個別制御可能要素が装着されている。
【００６０】
図３に示すように、細長い支持体２２も個別制御可能要素１０の縦列２１ａ、２１ｂ、２１ｃと直交する方向で個別制御可能要素間に設けられている。図３に示す配置では、支持体２２は特定の支持機能を果たさない。しかし一実施例では、それらは、使用されている支持体２０ａ、２０ｂ、２０ｃ、２０ｄに多少の剛性を追加することができる。一実施例では、それらによって、縦列２１ａ、２１ｂ、２１ｃの方向に沿った個別制御可能要素１０間の離隔距離Ｄ６が、個別制御可能要素の縦列２１ａ、２１ｂ、２１ｃ間の離隔距離Ｄ７と同じであることを確保する。これは、個別制御可能要素のアレイに設けられるパターンの制御を簡素化するために必要となり得る。一実施例では、個別制御可能要素１０の横列間の支持体２２を割愛できることが理解されよう。
【００６１】
図４は、図２ａに示した構成と比較した、個別制御可能要素１０のアレイの別法による配置を示す。この場合では、個別の支持体３０が設けられ、これら支持体はその周囲に配置された４個の個別制御可能要素３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄのヒンジに連結されている。これらの４個の個別制御可能要素は、それぞれが２個の隣接する個別制御可能要素から成る２つの隣接する横列として配置可能である。一実施例では、個別制御可能要素自体が正方形であれば、４個の個別制御可能要素の配置は正方形構成にある。
【００６２】
支持体３０は、この構成の中心に配置される。このような構成を図２ａに示したような個別制御可能要素に関して設けるためには、これらの個別制御可能要素の２個、この場合では、個別制御可能要素３１ｂ、３１ｄは、図２ａに示した個別制御可能要素の鏡像であり、また支持体３０に連結された他方の個別制御可能要素３１ａ、３１ｃの鏡像であることに留意すべきである。個別制御可能要素の当該グループの中心の支持体３０に結合されたヒンジ以外の、個別制御可能要素３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄの他のヒンジは、４個の個別制御可能要素の別のグループの中心に位置する他の支持体にそれぞれ連結されている。この実施例では、個別制御可能要素のアレイの縁にある支持体は、４個の個別制御可能要素のヒンジに連結されていない。
【００６３】
図３に示した個別制御可能要素の配置と比較して、図４に示す配置は、個別制御可能要素１０間の離隔距離Ｄ８が図３の構成の個別制御可能要素間の離隔距離Ｄ６、Ｄ７よりも小さくなり得る。図４の配置における個別制御可能要素のヒンジは、図３に示した配置の個別制御可能要素のヒンジよりも僅かに短く、その結果として匹敵するサイズの個別制御可能要素ではヒンジ中の応力が僅かに大きくなる。
【００６４】
図５ａは、図２ａの個別制御可能要素１０の他の別法による配置を示す。明解にするために、図５ｂは、図５ａにＡと表示された配置の一部の拡大部分を示す。図示のように、隣接する個別制御可能要素４１ａ、４１ｂの対が、共通の支持体４０で連結されている。これを実現するために、隣接する個別制御可能要素４１ａ、４１ｂは相互の鏡像である。個別制御可能要素１０の離隔距離Ｄ８は、図４に示した配置の場合と同じである。しかし、それぞれの支持体４０が小さくなっており（それに対応して支持体４０の数が多くなっている）、図４に示した個別制御可能要素のヒンジよりも個別制御可能要素のヒンジを僅かに長くすることができる（それに対応してヒンジ中の応力を僅かに減少させる）。しかし、支持体４０のサイズが相対的に小さくなると、その構成は図３及び４に示した構成よりも剛性が低下することになり、その結果、１個の個別制御可能要素の動きが、それに連結された個別制御可能要素に伝達されてクロストークをもたらす恐れがある。
【００６５】
図３、４、５ａ、及び５ｂに示した配置に関連して、一実施例では、各平面反射体、各ヒンジ、及び各支持体（又は支持体の少なくとも一部）が、単一金属層を被着し、引き続いてエッチングを行って金属層の不要な部分を除去することによって同時に形成可能であることを理解すべきである。従って、支持体及びそれらに連結されたヒンジ（及びヒンジに連結された平面反射体）は単一の一体構成要素であり得る。別の一実施例では、個別制御可能要素間のクロストークを低減するために、これらの構成要素の一部又は全部が別体の要素として形成可能である。
【００６６】
図３、４，５ａ、及び５ｂに示した構成以外の他の構成を使用して、図２ａに示した個別制御可能要素を組み合わせて個別制御可能要素のアレイを構成することが可能であり、従って本発明は図示の構成に限定されないことも理解されよう。
【００６７】
図６ａは、本発明の一実施例に係る別法による個別制御可能要素５０を示す。この個別制御可能要素は、平面反射体５１と、この平面反射体５１を支持体５４に連結するヒンジ５２、５３とから成る。図２ａに示した個別制御可能要素１０の場合と同様に、図６ａに示す個別制御可能要素５０は、その細長いヒンジ５２が、肩部分５２ａによって平面反射体５１の頂点に連結された第１の細長い部分５２ｂを有するように構成されている。ヒンジの第１の細長い部分５２ｂの細く延びる方向は、ヒンジ５２が付着される平面反射体５１の辺５１ａと実質的に平行であり、適切な離隔距離が平面反射体５１の辺５１ａとヒンジの第１の細長い部分５２ｂとの間に設けられる。ヒンジの第２の細長い部分５２ｃが、ヒンジの第１の細長い部分５２ｂと支持体５４との間に連結される。図２ａに示した個別制御可能要素１０の配置の場合と同様に、ヒンジの第２の細長い部分５２ｃは、その細長い部分が平面反射体５１の第２の辺５１ｂに平行である（さらに、平面反射体５１から適切な離隔距離にある）ように構成されている。
【００６８】
図２ａに示した個別制御可能要素１０の配置とは異なり、個別制御可能要素５０のヒンジの第２部分５２ｃの長さＤ９は、支持体５４が、ヒンジの第２部分５２ｃに平行な平面反射体５１の辺に沿って実質的に中間に配置されるようになってさえいればよい。従って、ヒンジ５２の全長は、平面反射体５１の所与の辺では、図２ａに示した個別制御可能要素１０のヒンジ１２よりも短い。従って、平面反射体の所与のサイズ及び平面反射体の所与の撓み角では、ヒンジ中の応力はより大きいが、図６ｂに示すように、個別制御可能要素のアレイ中の個別制御可能要素５０間の離隔距離は小さくなり得る。
【００６９】
図６ｂは、図５ａに示した構成に対応するものであり、図６ａに示した個別制御可能要素５０を備える本発明の一実施例に係る個別制御可能要素のアレイの一部を示す。隣接する個別制御可能要素５０ａ、５０ｂの対が支持体５７に連結されている。図示のように、隣接する個別制御可能要素間の支持体５７を含む方向における個別制御可能要素５０間の離隔距離Ｄ１０が、平面反射体の対応するサイズでは、図５ａに示した配置における対応する離隔距離Ｄ８よりも小さい。しかし、隣接する個別制御可能要素間の支持体５７を含まない方向では、隣接する個別制御可能要素５０間の離隔距離Ｄ１１が、図５ａに示した配置における個別制御可能要素間の対応する離隔距離Ｄ８に等しく、且つ離隔距離Ｄ１０よりも大きい。
【００７０】
いずれの方向においても個別制御可能要素間の離隔距離を同一に維持することが望ましければ、例えば、追加的な空間を個別制御可能要素間に使用して支持体により大きな剛性を与え、それによって隣接する個別制御可能要素間のクロストークをいずれも低減することができる。
【００７１】
図６ａは本発明の１つの配置を示すが、そこでは平面反射体を支持体に連結する細長いヒンジが、図２ａに示した本発明の典型的な実施例に示したヒンジより（平面反射体のサイズに対して）短い。一般に、平面反射体が駆動されるときに、ヒンジが十分に長くてもヒンジ内部の応力が適切な限度内にあれば、ヒンジは、図６ａに示したヒンジより短くてもよい。
【００７２】
図７ａは本発明の一実施例に係る個別制御可能要素６０を示すが、そこでは平面反射体のサイズに対して、図２ａに示した実施例に設けられたヒンジよりも長いヒンジが使用されている。この個別制御可能要素６０は、平面反射体６１と、支持体６４に連結されたヒンジ６２、６３とを有する。ヒンジ６２は、平面反射体６１及び隣接する個別制御可能要素からのヒンジ６２、６３の必要な離隔距離を確保するように、肩部分６２ａによって連結された第１、第２、及び第３の細長い部分６２ｂ、６２ｃ、６２ｄを有する。ヒンジの各細長い部分６２ｂ、６２ｃ、６２ｄは、これらの部分の細く延びる方向が平面反射体６１の第１、第２、及び第３の辺６１ａ、６１ｂ、６１ｃのそれぞれに平行であるように配置されている。ヒンジの第１の細長い部分６２ｂは、ヒンジ６２が付着されている平面反射体６１の辺６１ａに平行に配置される。ヒンジ６２の第３の細長い部分６２ｄも、第２のヒンジ６３の第１の細長い部分６３ｂ（これは平面反射体の第３の辺６１ｃに連結されている）に平行である。第１のヒンジ６２の第３の細長い部分６２ｄと第２のヒンジ６３の第１の細長い部分６３ｂとの間には離隔距離が設けてある。
【００７３】
図７ｂは、図７ａに示した個別制御可能要素のような本発明の一実施例に係る個別制御可能要素６０のアレイの一部をどのように配置できるかを示す。図５ａ及び６ｂに対応する態様で、隣接する個別制御可能要素６０ａ及び６０ｂの対が単一の支持部分６７に連結されている。図２ａに示した個別制御可能要素のヒンジよりも（平面反射体のサイズに対して）短いヒンジを有する個別制御可能要素について上で論じた場合と同様に、より長いヒンジを有する個別制御可能要素６０の構成も、そのアレイ内部の個別制御可能要素の離隔距離に影響を与え得る。例えば、第１の方向における平面反射体の離隔距離Ｄ１２は、第２の方向（第１の方向に直交する）における隣接する個別制御可能要素内部の平面反射体の離隔距離Ｄ１３よりも大きい。先程のように、必要であれば離隔距離Ｄ１２、Ｄ１３が等しくなるように、これらの個別制御可能要素は、それらの間により多くの空間を第２の方向に設けるように配置可能である。例えば、追加的な空間を使用して剛性の支持体６７を設けることができる。
【００７４】
一般に、使用可能なヒンジの長さには特定の限度は存在しないことが理解されよう。一実施例では、ヒンジの追加的な細長い部分を含み、それが平面反射体とこの平面反射体に付着されるヒンジ端部により近接するヒンジ部分とを連続的に包囲するように配置されている個別制御可能要素を使用することができる。
【００７５】
一実施例では、平面反射体の所与のサイズ及び平面反射体の所与の必要な角変位に対するヒンジ内部の応力が、平面反射体のサイズに対してヒンジの長さが長くなるにつれて低減する。しかし、隣接する平面反射体間の離隔距離はヒンジが長くなるにつれて増大する。また、ヒンジが平面反射体と一体形成されていれば、これらのヒンジも反射することになる。個別制御可能要素が駆動されるとき、ヒンジは平面反射体と同じ程度には駆動されない。従ってヒンジは、異なる状態の間で切り換えられない個別制御可能要素の一部である。ヒンジが形成する個別制御可能要素の一部が大きくなればなる程（即ち、ヒンジが平面反射体のサイズに対して長くなればなる程）、それだけ個別制御可能要素によって実現可能な、形成されたパターン中のコントラストが低下する。ヒンジを長くすることによって利用可能なコントラストが受ける影響が、使用されるヒンジの長さに対する実用上の限度を設けることになろう。
【００７６】
個別制御可能要素のヒンジが平面反射体の頂点に連結されている配置を参照して、本発明の１つ若しくは複数の実施形態及び／又は実施例を説明してきたが、このような配置に本発明が限定されるものではないことを理解すべきである。
【００７７】
図８ａは、本発明の一実施例に係る個別制御可能要素７０を示す。この実施例では、ヒンジ７２、７３が、平面反射体７１の２つの対向する辺の中間点で平面反射体７１に連結されている。それぞれのヒンジは、このヒンジの第１の細長い部分７２ｂを平面反射体７１の辺に連結し且つヒンジの第１の細長い部分７２ｂと平面反射体との間に適切な離隔距離を設ける肩部分７２ａを有する。ヒンジの第１の細長い部分７２ｂの他端はヒンジの第２の細長い部分７２ｃに連結され、次いで、この第２の細長い部分は個別制御可能要素を基部上に取り付けるための支持体７４に連結される。ヒンジの第１の細長い部分７２ｂは、その長さが、ヒンジが付着される平面反射体７１の辺７１ａに実質的に平行であるように配置され、ヒンジの第２の細長い部分７２ｃは、ヒンジの第１の細長い部分７２ｂに実質的に垂直であり且つ平面反射体７１の第２の辺７１ｂに平行に配置される。
【００７８】
図８ｂは、図８ａに示したような個別制御可能要素７０を組み込む、本発明の一実施例に係る個別制御可能要素のアレイの構成を示す。隣接する個別制御可能要素７０ａ、７０ｂ（これらは相互の鏡像である）の対が共通の支持体７７に連結されている。
【００７９】
上に説明した１つ若しくは複数の実施形態及び／又は実施例では、個別制御可能要素の配置は、ヒンジの連続的な細長い部分が相互に直交し且つ平面反射体の連続的な辺に隣接して（又は少なくともそれらの辺と平行に）配置される。しかし、このような配置に本発明を限定するものではない。
【００８０】
図９ａは、本発明の一実施例に係る個別制御可能要素８０の配置を示す。この個別制御可能要素８０は、平面反射体８１と、この平面反射体を支持体８４に連結するヒンジ８２、８３とを有する。この場合には、それぞれのヒンジが、平面反射体８１の１つの頂点をヒンジの第１の細長い部分８２ｂに連結する肩部分８２ａを有し、この第１の細長い部分は、その長さが、ヒンジが連結される平面反射体８１の辺８１ａに平行であるように配置されている。ヒンジの第２の細長い部分８２ｄが支持体８４に連結される。しかし、図２ａに示した配置とは異なり、例えば、ヒンジの第２の細長い部分８２ｄも、その長さがヒンジを連結する平面反射体８１の辺８１ａに平行であるように配置されている。ヒンジの第２の細長い部分８２ｄは、肘部分８２ｃによって第１の細長い部分８２ｂに連結される。
【００８１】
図９ｂは、図９ａに示したような複数の個別制御可能要素が、本発明の一実施例に係る個別制御可能要素の配置を形成するためにどのように相互に配置されるかを示す。隣接する個別制御可能要素８０ａ、８０ｂ（これらは相互の鏡像である）の対が共通の支持体８７によって連結されている。しかし、このような配置は、共通の支持体８７を共有する個別制御可能要素８０ａ、８０ｂの対間の離隔距離に対応する第１の方向における離隔距離Ｄ１４が、隣接する個別制御可能要素間の第２の方向（第１の方向に直交する）における離隔距離Ｄ１５よりもかなり小さいので、望ましくない場合もあり得ることが理解されよう。
【００８２】
上で説明した１つ若しくは複数の実施形態及び／又は実施例では、ヒンジの少なくとも第１の細長い部分が、ヒンジが連結される平面反射体の辺に平行である個別制御可能要素を説明してきた。しかし、本発明はこのような配置に限定されないことを理解すべきである。
【００８３】
図１０ａは、本発明の一実施例に係る個別制御可能要素９０を示す。この個別制御可能要素９０は、平面反射体９１を備え、細長いヒンジ９２、９３によって支持体９４に連結されている。ヒンジ９２、９３は、平面反射体９１の対向する辺９１ａ、９１ｂの中間点に連結される。ヒンジ９２、９３は、これらのヒンジ９２、９３の細く延びる方向が、それらが連結される平面反射体９１のそれぞれの辺９１ａ、９１ｂに直交するように配置される。
【００８４】
図１０ｂは、図１０ａに示した本発明の一実施例に係る個別制御可能要素９０のアレイの構成を示す。個別制御可能要素９０ａ、９０ｂの対は、これらの２個の個別制御可能要素のヒンジが相互に一直線に整列するように共通の支持体９７に連結されている。第３の個別制御可能要素（それは個別制御可能要素９０ａ、９０ｂの第１の対と共通のいずれの支持体にも連結されていない）は、第３の個別制御可能要素９０ｃの平面反射体の一部が、個別制御可能要素９０ａ、９０ｂの対の連結されたヒンジと、個別制御可能要素９０ａ、９０ｂの第１の対の平面反射体の辺（それらに個別制御可能要素の第１の対の相互連結されたヒンジが連結されている）とによって画定された空間の内部にあるように配置されている。対応する態様で、個別制御可能要素９０ａ、９０ｂの第１の対のそれぞれの平面反射体の辺（これらの第１の対のヒンジが連結されている当該平面反射体の辺に連結された）の一部が、第３の個別制御可能要素９０ｃのヒンジの一方にそれぞれ隣接して配置されている。
【００８５】
この実施例では、図１０ａに示す配置の個別制御可能要素９０のヒンジの長さＤ１６は、共通の支持体を共有する個別制御可能要素の平面反射体の隣接する辺と辺との間の離隔距離Ｄ１７の半分に達し得る。連結された個別制御可能要素の辺と辺との間のこの離隔距離Ｄ１７は、個別制御可能要素の平面反射体の少なくとも幅Ｄ１８であり得る。従って、ヒンジの長さＤ１６は、平面反射体の幅Ｄ１８の少なくとも半分であり得る。ヒンジのこのような長さ（平面反射体のサイズに対する）は、個別制御可能要素の間隔をそれ程広げる必要もなく、知られている個別制御可能要素のヒンジの長さよりも依然としてかなり長い。図１０に示すような個別制御可能要素はまた、例えば、個別制御可能要素が回転軸回りに回転するようにのみ駆動される場合には、図２ａに示した個別制御可能要素よりも大きな制御安定性を有し得る。
【００８６】
図６ａ、７ａ、８ａ、９ａ、及び１０ａに示した例示的な個別制御可能要素は、個別制御可能要素のアレイを形成するために、これらの個別制御可能要素の単一の対応する配置でのみ示されているが、これらの個別制御可能要素のそれぞれは、図２ａに示した個別制御可能要素が少なくとも図３、４、及び５ａに示したアレイに配置され得るのと同じように、個別制御可能要素のアレイを形成するために他の方法でも構成可能であることが理解されよう。
【００８７】
一般に、平面反射体に使用されるヒンジが長ければ長い程、平面反射体の所与のサイズ及び平面反射体の所与の回転角では、それだけヒンジ内部の応力が低下することも理解されよう。一実施例では、使用されるヒンジが、反射平面内の平面反射体の最小寸法の少なくとも半分である。別の一実施例では、使用されるヒンジが、反射平面を横切る平面反射体の最小寸法と少なくとも同一サイズであり得る。さらに他の一実施例では、ヒンジが、反射平面を横切る平面反射体の最小寸法の少なくとも２倍のサイズであり得る。先の実施例の幾つかでは、ヒンジが平面反射体と同一平面内にあるものとして示されている。別の一実施例では、ミラー及びミラー・マトリックスのサイズを縮小するために、平面反射体が柔軟なヒンジの上にｚ方向に積重ね可能であることが理解されよう。
【００８８】
結語
以上に本発明の様々な実施例を説明してきたが、それらは例示としてのみ提示されているものであって限定ではないことを理解すべきである。本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、本発明の形態及び細部に様々な変更がなされ得ることが当業者には明白であろう。よって、本発明の間口及び範囲は、以上に説明した例示的な実施例のいずれによっても限定されるべきはなく、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等物に従ってのみ画定されるべきである。
【００８９】
発明の開示及び要約部分ではなく、実施例部分を利用して特許請求の範囲を解釈すべきことが意図されていることを理解すべきである。発明の開示及び要約部分は、本発明者（ら）によって企図された本発明の１つ又は複数の（必ずしも全てではない）例示的な実施例が記載され得るものであり、よって如何なる意味においても本発明及び添付の特許請求の範囲を限定しようとするものではない。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の一実施例に係るリソグラフィ装置を示す図である。
【図２ａ】本発明の一実施例に係る個別制御可能要素を示す図である。
【図２ｂ】本発明の一実施例に係る個別制御可能要素を示す図である。
【図２ｃ】本発明の一実施例に係る個別制御可能要素を示す図である。
【図３】本発明の様々な実施例に係る、アレイで配置された個別制御可能要素の配置を示す図である。
【図４】本発明の様々な実施例に係る、アレイで配置された個別制御可能要素の配置を示す図である。
【図５ａ】本発明の様々な実施例に係る、アレイで配置された個別制御可能要素の配置を示す図である。
【図５ｂ】Ａと標識を附した図５ａの一部を拡大した形態で示す図である。
【図６ａ】本発明の一実施例に係る個別制御可能要素を示す図である。
【図６ｂ】本発明の一実施例に係る、アレイで配置された図６ａの複数の個別制御可能要素を示す図である。
【図７ａ】本発明の一実施例に係る個別制御可能要素を示す図である。
【図７ｂ】本発明の一実施例に係る、アレイで配置された図７ａの複数の個別制御可能要素を示す図である。
【図８ａ】本発明の一実施例に係る個別制御可能要素を示す図である。
【図８ｂ】本発明の一実施例に係る、アレイで配置された図８ａの複数の個別制御可能要素を示す図である。
【図９ａ】本発明の一実施例に係る個別制御可能要素を示す図である。
【図９ｂ】本発明の一実施例に係る、アレイで配置された図９ａの複数の個別制御可能要素を示す図である。
【図１０ａ】本発明の一実施例に係る個別制御可能要素を示す図である。
【図１０ｂ】本発明の一実施例に係る、アレイで配置された図１０ａの複数の個別制御可能要素を示す図である。
【図１１ａ】従来の個別制御可能要素を示す図である。
【図１１ｂ】アレイで配置された図１１ａに示した複数の従来の個別制御可能要素を示す図である。
【符号の説明】
【００９１】
１０、５０、６０、７０、８０、９０、１０４  個別制御可能要素
１１、５１、６１、７１、８１、９１  平面反射体
１２、１３、５２、５３、６２、６３、７２、７３、８２、８３、９２、９３  ヒンジ
１５  基部
１６、３０、５４、５７、６４、７４、８７、９４、９７  支持体
１８  制御電極
１９  軸
１００  リソグラフィ投影装置
１０２  放射系
１０８  投影系
１１０  パターン形成したビーム
１１４  基板
１２０  標的部分
１２２  放射のビーム
１２４  照明系（照明器）
【図１】
2006165580.tif 000003
【図２ａ】
2006165580.tif 000004
【図２ｂ】
2006165580.tif 000005
【図２ｃ】
2006165580.tif 000006
【図３】
2006165580.tif 000007
【図４】
2006165580.tif 000008
【図５ａ】
2006165580.tif 000009
【図５ｂ】
2006165580.tif 000010
【図６ａ】
2006165580.tif 000011
【図６ｂ】
2006165580.tif 000012
【図７ａ】
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【図７ｂ】
2006165580.tif 000014
【図８ａ】
2006165580.tif 000015
【図８ｂ】
2006165580.tif 000016
【図９ａ】
2006165580.tif 000017
【図９ｂ】
2006165580.tif 000018
【図１０ａ】
2006165580.tif 000019
【図１０ｂ】
2006165580.tif 000020
【図１１ａ】
2006165580.tif 000021
【図１１ｂ】
2006165580.tif 000022