(57)【要約】【課題】  位置合わせを容易かつ精度よく行うことができ、さらに、被ハンドリング体への異物落下を防止するハンドリング治具の提供を目的とする。【解決手段】  ハンドリング治具１は、グリップ２と、このグリップ２に回動自在に軸支されたレバー３と、グリップ２に取り付けられた固定アーム４と、レバー３に取り付けられた回動アーム５とからなり、フォトマスク用基板１０の主表面１１に対してグリップ２の中心軸２０が所定の距離Ｈだけ離れた状態で平行となるように、グリップ２を設けた構成としてある。【選択図】  図１
2006108154.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の被ハンドリング体を挟持する一対の挟持部材と、前記挟持部材を支持し、人手により把持される把持部材と、前記挟持部材の少なくとも一方を駆動させる駆動部材とを有するハンドリング治具であって、
前記把持部材の中心軸が前記被ハンドリング体の主表面と平行となり、かつ、前記駆動部材の摺動部が、前記被ハンドリング体の主表面の外側上方に位置し、前記一対の挟持部材がそれぞれ鉤状に折り曲げられた形状を有することを特徴とするハンドリング治具。
【請求項２】
前記被ハンドリング体の真上領域の外側に、前記挟持部材を設けたことを特徴とする請求項１記載のハンドリング治具。
【請求項３】
前記挟持部材を交換可能に取り付けたことを特徴とする請求項１又は２記載のハンドリング治具。
【請求項４】
前記被ハンドリング体を、フォトマスク基板としたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のハンドリング治具。
【請求項５】
前記挟持部材を、前記フォトマスク基板上に形成されるペリクルを避けた位置に設けたことを特徴とする請求項４記載のハンドリング治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハンドリング治具に関し、特に、フォトマスク用基板などの衝撃等を与えることなく慎重に取り扱われる被ハンドリング体を対象とし、位置合わせを容易かつ精度よく行うことができ、さらに、被ハンドリング体への異物落下を防止するハンドリング治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、半導体装置，表示装置，撮像装置、あるいは、これらの製造におけるリソグラフィー工程において用いられるフォトマスク，磁気記録媒体等の電子デバイスは、各製造工程ごとに異なる複数の製造装置を用いて製造される。たとえば、半導体装置，表示装置，撮像装置等の製造に用いられるフォトマスクは、透明基板上に微細加工された遮光膜パターンが形成されたものが代表的であるが、フォトマスク用基板に遮光膜を成膜する成膜装置，遮光膜上にレジストを塗布する塗布装置，レジスト膜にパターン描画を施す描画装置，レジストを現像する現像装置，遮光膜をエッチングするエッチング装置，洗浄装置，各種検査装置など、多数の装置が用いられる。各装置においては、処理部へ移送するための移送手段（ローダー）を備えているのが一般的であるが、装置どうしを連結する連結移送手段を備えていない。このため、作業者が、ハンドリング治具を用いてフォトマスク用基板，フォトマスクブランク（透明基板上に遮光膜が形成されたフォトマスクの素材），及びフォトマスク等（以下、これらフォトマスクを製造する段階を含めた基板を、フォトマスク基板と総称する。）を移動させ、各装置の移送手段に取付け及び取外しを行っている。
【０００３】
また、上記のような電子デバイスは、異物が付着することによって品質が低下することから、クリーンルームにて製造される。しかしながら、クリーンルームにおいても、異物が完全に排除できるわけではなく、異物の付着に注意を払う必要がある。
たとえば、半導体装置，表示装置，撮像装置等の製造に用いられるフォトマスクは、透明基板上に微細加工された遮光膜パターンが形成されたものが代表的であるが、フォトマスクの製造過程、すなわち、フォトマスク用基板やフォトマスクブランク（透明基板上に遮光膜が形成されたフォトマスクの素材）の状態で異物が付着することで、フォトマスクのパターン欠陥につながってしまう。さらに、フォトマスクの完成後に付着した異物は、デバイスのリソグラフィー工程において異物が転写され、デバイス欠陥を引き起こす。したがって、フォトマスク用基板の取扱いにおいて、異物の付着を防止する必要がある。
【０００４】
たとえば、特許文献１には、被搬送用平板（被ハンドリング体）の側部を保持するための保持部に先端が固定され、被搬送用平板上領域の外側に位置するような形状の第１腕部及び第２腕部が回転支点軸を枢軸として接続された鋏状構造を有するハンドリング治具の技術が開示されている。
このハンドリング治具は、被搬送用平板上領域に第１腕部及び第２腕部が位置しないので、被搬送用平板上に治具から異物が落下するのを防止することができ、また、上下ハンド板（取手部）を前方下向きに傾けた状態で、水平状態の被搬送用平板（被ハンドリング体）を保持することができる。
【０００５】
また、特許文献２には、ほぼ平行に配置された一対のアームと四つの係止部を備えたフォトマスク基板の持ち運び治具の技術が開示されている。
この持ち運び治具によれば、長板状のフォトマスク基板を安定した状態で保持し、持ち運びすることができる。
【特許文献１】特開２０００−１７４１０７号公報  （請求項１、図１，２）
【特許文献２】実開平６−２６２６１号公報  （請求項１、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１のハンドリング治具は、取手部を前方下向きに傾けた状態で、被ハンドリング体を保持する構造となっており、被ハンドリング体を保持する際、取手部の傾斜角度を合わせる必要があり、位置合わせしづらいといった問題があった。
また、保持した被ハンドリング体を装置の移送手段に取り付ける際、取手部の傾斜角度を合わせる必要があり、位置合わせしづらく、たとえば、移送手段の載置面に突設された位置決め部材に被ハンドリング体をぶつけてしまうといった問題があった。
【０００７】
また、上記特許文献２のフォトマスク基板の持ち運び治具は、第１のレバー（駆動アーム）がフォトマスク基板の斜め上方に延びているため、基板を保持する際に、位置合わせがしづらいといった問題があった。
また、第２のレバー先端がフォトマスク基板の主表面の下方に位置するため、フォトマスク基板の手前側に第２のレバーの操作スペースを必要とし、この条件を満足しない移送手段（ローダー）に対応することができないといった問題があった。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決すべく、位置合わせを容易かつ精度よく行うことができ、さらに、被ハンドリング体への異物落下を防止するハンドリング治具の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明のハンドリング治具は、板状の被ハンドリング体を挟持する一対の挟持部材と、前記挟持部材を支持し、人手により把持される把持部材と、前記挟持部材の少なくとも一方を駆動させる駆動部材とを有するハンドリング治具であって、前記把持部材の中心軸が前記被ハンドリング体の主表面と平行となり、かつ、前記駆動部材の摺動部が、前記被ハンドリング体の主表面の外側上方に位置し、前記一対の挟持部材がそれぞれ鉤状に折り曲げられた形状を有する構成としてある。
このようにすると、駆動部材の摺動部から磨耗粉等の異物が、被ハンドリング体の表面に落下するといった不具合を効果的に防止することができる。また、保持される被ハンドリング体の主表面に対して、把持部材の中心軸を平行としてあるので、三軸ロボットの要領で容易かつ精度よく位置合わせすることができる。さらに、駆動部材の操作範囲を被ハンドリング体の主表面より上方に設定することにより、移送手段の載置面の上方から被ハンドリング体の取付け及び取外しを行うことができ、各装置の移送手段に対応することができる。さらに、各挟持部材の直線部が、把持部材の中心軸と平行又は直交する位置関係となるので、これら直線部を目安に把持部材の状態（中心軸）を精度よく修正することができ、位置合わせ精度をさらに向上させることができる。なお、鉤状に折り曲げるとは、曲げる方向にかかわらず、ほぼ直角に折り曲げることをいうものとする。
【００１０】
また、本発明のハンドリング治具は、前記被ハンドリング体の真上領域の外側に、前記挟持部材を設けた構成としてある。
このようにすると、ハンドリング治具から異物が落下するといった不具合を防止することができる。
【００１１】
また、本発明のハンドリング治具は、前記挟持部材を交換可能に取り付けた構成としてある。
このようにすると、各挟持部材が破損した場合に容易に交換することができ、また、大きさの異なる被ハンドリング体や保持位置の異なる被ハンドリング体に対して、各挟持部材を交換することにより対応することができるので、把持部材や駆動部材等の主要部を共用化することができる。
【００１２】
また、本発明のハンドリング治具は、前記被ハンドリング体を、フォトマスク基板とした構成としてある。
このようにすると、クリーンルームにおいて、フォトマスク基板へ異物が付着する危険性を低減することができる。
【００１３】
また、本発明のハンドリング治具は、前記挟持部材を、前記フォトマスク基板上に形成されるペリクルを避けた位置に設けた構成としてある。
このようにすると、フォトマスク基板に形成されたペリクルと干渉するといった不具合を防止することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のハンドリング治具は、駆動部材の摺動部を被ハンドリング体の主表面より外側上方に位置させることにより、駆動部材の摺動部から磨耗粉等の異物が、被ハンドリング体の表面に落下するといった不具合を効果的に防止することができる。
また、保持される被ハンドリング体の主表面に対して、把持部材の中心軸を平行としてあるので、三軸ロボットの要領で容易かつ精度よく位置合わせすることができる。
さらに、駆動部材の操作範囲を被ハンドリング体の主表面より上方に設定することにより、移送手段の載置面の上方から被ハンドリング体の取付け及び取外しを行うことができ、各装置の移送手段に対応することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
[第一実施形態]
図１は、本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を、（ｃ）は下面図を示している。
同図において、ハンドリング治具１は、グリップ２と、このグリップ２に回動自在に軸支されたレバー３と、グリップ２に取り付けられた固定アーム４と、この固定アーム４と対をなす、レバー３に取り付けられた回動アーム５と、固定アーム４及び回動アーム５の先端に取り付けられる爪６とからなっている。
なお、ハンドリング治具１は、フォトマスク用基板１０をハンドリングする治具としてあるが、被ハンドリング体としては、フォトマスク用基板１０に限定されるものではない。
【００１６】
（グリップ）
把持部材であるグリップ２は、ポリカーボネート製の四角棒としてあり、グリップ２に取り付けられた固定アーム４がフォトマスク用基板１０の主表面１１に対して所定の距離Ｈだけ離れた状態で設けてある。
ここで、所定の距離Ｈは、レバー３の操作範囲がフォトマスク用基板１０の主表面より上方に位置するように、レバー３を設けることが可能な距離としてある。このようにすると、製造装置の移送手段（図示せず）における載置面１００の上方からフォトマスク用基板１０の取付け及び取外しを行うことができ、各装置の移送手段に対応することができる。
また、フォトマスク用基板１０に、保護部材としてペリクルフレーム（図示せず）が取り付けられる場合には、フォトマスク用基板１０の主表面１１から固定アーム４までの距離Ｈを、少なくともペリクルフレームの高さ（たとえば、約７ｍｍ）よりも長くするとよい。このようにすると、ペリクルフレームを取り付けた状態のフォトマスク用基板１０を、支障なく保持することができ、ペリクルフレームと干渉するといった不具合を回避することができる。
【００１７】
さらに、保持されるフォトマスク用基板１０の主表面１１に対して、グリップ２の中心軸２０を平行としてあるので、グリップ２の中心軸２０をフォトマスク用基板１０の主表面１１に対して平行に維持した状態で、グリップ２を左右方向（Ｘ軸方向），前後方向（Ｙ軸方向）及び上下方向（Ｚ軸方向）に移動することにより、三軸ロボットの要領で容易に位置合わせすることができる。
また、三軸ロボットの要領で三次元の直交軸方向にグリップ２を移動することにより、位置合わせ精度を向上させることができ、フォトマスク用基板１０に衝撃を与えるといった不具合を防止することができる。
なお、グリップ２は、この構造に限定されるものではなく、たとえば、樹脂及び／又は金属からなる棒状部材であればよい。
【００１８】
また、グリップ２は、被ハンドリング体側の上端部に、固定アーム４が二本のねじ４１によって交換自在に固定されている。本実施形態では、被ハンドリング体側の上端部に溝２１を形成し、この溝２１に固定アーム４の手前側端部を嵌合させた状態で、ねじ（たとえば、十字穴付き皿小ねじ）４１を用いて固定してある（図２（ａ）参照）。このようにすると、固定アーム４が破損した場合に容易に交換することができ、また、大きさの異なるフォトマスク用基板１０や保持位置の異なるフォトマスク用基板１０に対して、固定アーム４を交換することにより対応することができるので、グリップ２やレバー３等の主要部を共用化することができる。
【００１９】
（レバー）
駆動部材であるレバー３は、被ハンドリング体側の端部がグリップ２に回動自在に軸支され、四角棒３１がグリップ２とほぼ平行に手前側に延設された構造としてある。
また、レバー３は、被ハンドリング体側の下端部に、回動アーム５が二本のねじ５１によって交換自在に固定されている。本実施形態では、被ハンドリング体側の下端部に溝３２を形成し、この溝３２に回動アーム５の手前側端部を嵌合させた状態で、ねじ（たとえば、十字穴付き皿小ねじ）５１を用いて固定してある（図２（ａ）参照）。このようにすると、回動アーム５が破損した場合に容易に交換することができ、また、大きさの異なるフォトマスク用基板１０や保持位置の異なるフォトマスク用基板１０に対して、回動アーム５を交換することにより対応することができるので、グリップ２やレバー３等の主要部を共用化することができる。
上記構成とすることにより、レバー３は、開方向に回動されると、回動アーム５が開かれ、閉方向に回動されると、回動アーム５が閉じられる。
【００２０】
（固定アーム）
一対の挟持部材の一つである固定アーム４は、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、手前側先端が、上述したようにグリップ２に固定され、被ハンドリング体側先端に、爪６が取り付けられている。
また、固定アーム４は、鉤状に折り曲げられることにより、前後方向直線部４２と上下方向直線部４３が形成される。そして、前後方向直線部４２は、グリップ２の中心軸２０と平行な位置関係となるので、一般的にグリップ２より長い前後方向直線部４２を目安にグリップ２の中心軸２０を、フォトマスク用基板１０の主表面１１と平行に精度よく修正することができ、位置合わせ精度をさらに向上させることができる。
【００２１】
さらに、前後方向直線部４２をフォトマスク用基板１０の前後方向の中心軸１２（あるいは、載置面１００の中心軸）と平行に位置合わせすることにより、グリップ２の上下方向（Ｚ軸方向）廻りの角度を精度よく修正することができ、位置合わせ精度をより向上させることができる。
また、上下方向直線部４３は、グリップ２の中心軸２０と直角な位置関係となるので、上下方向直線部４３をフォトマスク用基板１０の主表面１１と直交するように位置合わせすることにより、グリップ２の前後方向（Ｙ軸方向）廻りの角度を精度よく修正することができ、位置合わせ精度をさらに向上させることができる。
【００２２】
（回動アーム）
一対の挟持部材のもう一つであり、駆動アームとしての回動アーム５は、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、手前側先端が、上述したようにレバー３に固定され、被ハンドリング体側先端に、爪６が取り付けられている。
また、回動アーム５は、鉤状に折り曲げられることにより、前後方向直線部５２と上下方向直線部５３が形成される。そして、上下方向直線部５３は、グリップ２の中心軸２０とほぼ直角な位置関係となるので、上下方向直線部５３をフォトマスク用基板１０の主表面１１と直交するように位置合わせすることにより、グリップ２の前後方向（Ｙ軸方向）廻りの角度を精度よく修正することができ、位置合わせ精度をさらに向上させることができる。
【００２３】
（爪）
爪６は、樹脂製の直方体状としてあり、側面に溝６１を形成してある。このように、溝６１を設けることにより、フォトマスク用基板１０を溝６１に係止した状態で、保持することができる。
また、固定アーム４に取り付けられた爪６と回動アーム５に取り付けられた爪６は、同じ高さに対向して配設してある。
なお、爪６は、固定アーム４及び回動アーム５に交換自在に、たとえば、ねじ（図示せず）により固定されており、このようにすることにより、フォトマスク用基板１０の厚さに応じて、爪６を容易に交換することができ、グリップ２及びレバー３等の主要部を共用化することができる。
【００２４】
（軸支機構）
次に、ハンドリング治具１の軸支機構について、図面を参照して説明する。
図２は、本発明の実施形態にかかるハンドリング治具の軸支機構を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は図１におけるＡ−Ａ断面図を、（ｂ）はＢ−Ｂ断面図を示している。
同図において、グリップ２は、被ハンドリング体側の端部下面に、レバー３の被ハンドリング体側の端部を、非摺動の状態で収納する収納溝２２が形成してある。また、収納溝２２の被ハンドリング体側の端部に、レバー３と当接する凸部２２１が突設してあり、この凸部２２１により、閉方向に付勢されたレバー３の閉方向限界位置が設定される。
【００２５】
グリップ２は、被ハンドリング体側の端部両側面に対向するように配設されたホルダー２５及びすり割り付き止めねじ２７を介して、固定軸２６の両端を支持している。
また、グリップ２は、溝２１の手前側上面から、レバー３に向けて、雌ねじ２８が形成され、さらに、雌ねじ２８とほぼ同径の貫通孔２８１が穿設してあり、圧縮ばね（駆動用ばね）２９が取り付けられる。
圧縮ばね２９は、貫通孔２８１に貫入され、先端部がレバー３の位置決め穴３４に係止された状態で、すり割付き止めねじ２９１が雌ねじ２８に締め込まれることにより、レバー３を閉方向に付勢する。
【００２６】
また、圧縮ばね２９は、先端部が位置決め穴３４に係止されているので、レバー３が、固定軸２６の中心軸方向に移動すると復元力が作用し、レバー３がグリップ２と接触しないように所定のクリアランスを保持することができる。このようにすると、レバー３を回動させても、レバー３とグリップ２が摺動しないので、擦れによる磨耗粉の発生を防ぐことができる。
【００２７】
レバー３は、両側からボールベアリング３３が埋設してあり、このボールベアリング３３には、固定軸２６が貫通される。このように、ボールベアリング３３を使用することにより、レバー３が回動されても、ボールベアリング３３内のボール（図示せず）が回転するので、異物の発生量を大幅に低減することができる。さらに、本実施形態では、摺動部がボールベアリング３３だけであり、フォトマスク用基板１０の外側に位置するため、ボールベアリング３３から異物が発生したとしても、この異物がフォトマスク用基板１０に落下するのを効果的に防止することができる。また、フォトマスク用基板１０への異物落下を防止するため、ボールベアリング３３の下方にカバー（図示せず）を設けてもよい。
【００２８】
このように、本実施形態のハンドリング治具１は、各装置の移送手段に対応することができ、さらに、保持されるフォトマスク用基板１０の主表面１１に対して、グリップ２の中心軸２０を平行としてあるので、三軸ロボットの要領で容易かつ精度よく位置合わせすることができる。
【００２９】
［第二実施形態］
図３は、本発明の第二実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を示している。
同図において、ハンドリング治具１ａは、第一実施形態と比較して、フォトマスク用基板１０の真上領域の外側に、固定アーム４ａ及び回動アーム５ａを設けた点が相違する。他の構成要素は第一実施形態と同様としてある。
したがって、図３において、図１と同様の構成部分については同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００３０】
（固定アーム）
固定アーム４ａは、フォトマスク用基板１０の真上領域の外側に、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、前後方向直線部４２ａ，上下方向直線部４３ａ及び水平方向直線部４４ａとからなっている。また、前後方向直線部４２ａの手前側先端が、上述したようにグリップ２に固定され、水平方向直線部４４ａの先端に、爪６が取り付けられている。
【００３１】
（回動アーム）
回動アーム５ａは、フォトマスク用基板１０の真上領域の外側に、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、前後方向直線部５２ａ，上下方向直線部５３ａ及び水平方向直線部５４ａとからなっている。また、前後方向直線部５２ａの手前側先端が、上述したようにレバー３に固定され、水平方向直線部５４ａの先端に、爪６が取り付けられている。
【００３２】
また、フォトマスク用基板１０に、保護部材としてペリクルフレーム１３が取り付けられる場合には、水平方向直線部４４ａ，５４ａの長さをあらかじめ設定することにより、ペリクルフレーム１３やフォトマスク用基板１０の四隅に通常配設される位置決め部材（図示せず）等を避けて、フォトマスク用基板１０の前後方向の縁部中央を支持することができ、ペリクルフレーム１３を取り付けた状態のフォトマスク用基板１０を安定した状態で保持することができる。
【００３３】
このように、本実施形態のハンドリング治具１ａは、固定アーム４ａや回動アーム５ａなどから異物が落下するといった不具合を防止することができる。
なお、本実施形態は、手前側から見てフォトマスク用基板１０の右側にグリップ２を設けた構成としてあり、フォトマスク用基板１０の右側に作業スペースがある場合に好適である。また、フォトマスク用基板１０の左側に作業スペースがある場合には、フォトマスク用基板１０の左側にグリップ２を設けた構成とするとよい。
【００３４】
［第三実施形態］
図４は、本発明の第三実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を示している。
同図において、ハンドリング治具１ｂは、第一実施形態と比較して、垂直状態にあるフォトマスク用基板１０の前後方向の縁部上端を支持することにより、フォトマスク用基板１０を保持する点が相違する。他の構成要素は第一実施形態と同様としてある。
したがって、図４において、図１と同様の構成部分については同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００３５】
（固定アーム）
固定アーム４ｂは、フォトマスク用基板１０の真上領域の外側に、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、前後方向直線部４２ｂ，上下方向直線部４３ｂ及び水平方向直線部４４ｂとからなっている。また、前後方向直線部４２ｂの手前側先端が、上述したようにグリップ２に固定され、水平方向直線部４４ｂの先端に、溝６１が上下方向に沿うように、爪６が取り付けられている。
【００３６】
（回動アーム）
回動アーム５ｂは、フォトマスク用基板１０の真上領域の外側に、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、前後方向直線部５２ｂ，上下方向直線部５３ｂ及び水平方向直線部５４ｂとからなっている。また、前後方向直線部５２ｂの手前側先端が、上述したようにレバー３に固定され、水平方向直線部５４ｂの先端に、溝６１が上下方向に沿うように、爪６が取り付けられている。
なお、本実施形態において、レバー３の操作範囲がフォトマスク用基板１０の主表面１１より上方に位置するように、レバー３を設けるとは、レバー３の操作範囲がフォトマスク用基板１０の主表面１１よりＸ軸方向に位置するように、レバー３を設けることを意味する。
【００３７】
このように、本実施形態のハンドリング治具１ｂは、垂直状態にあるフォトマスク用基板１０の前後方向の縁部上端を支持することにより、フォトマスク用基板１０を保持することができる。このハンドリング治具１ｂは、たとえば、洗浄装置の洗浄槽やリンス槽にフォトマスク用基板１０を垂直に取り付ける際に使用される。
なお、フォトマスク用基板１０を支持する方向及び位置は、上記各実施形態に限定されるものではない。たとえば、図５に示すハンドリング治具１ｃは、固定アーム４ｃ及び回動アーム５ｃが垂直状態にあるフォトマスク用基板１０の上下方向の縁部中央を支持することにより、フォトマスク用基板１０を保持する構成としてある。
【００３８】
以上、本発明のハンドリング治具について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係るハンドリング治具は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、上記各実施形態では、ボールベアリング３３を介して、レバー３がグリップ２に付勢された状態で回動自在に軸支されているが、この構成に限定されるものではなく、図示してないが、リニアベアリング等を介して、レバー３をグリップ２に往復移動自在に付勢した状態で取り付ける構成としてもよい。このようにすると、リニアベアリングのローラやボールが回転するので、磨耗粉の発生量を大幅に低減することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明のハンドリング治具は、フォトマスク用基板をハンドリングする構成に限定されるものではなく、たとえば、高度の清浄度を必要とする光学機器や医療器具等のハンドリング治具にも好適に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を、（ｃ）は下面図を示している。
【図２】本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の軸支機構を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は図１におけるＡ−Ａ断面図を、（ｂ）はＢ−Ｂ断面図を示している。
【図３】本発明の第二実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を示している。
【図４】本発明の第三実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を示している。
【図５】本発明の応用例にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を示している。
【符号の説明】
【００４１】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ  ハンドリング治具
２  グリップ
３  レバー
４，４ａ，４ｂ，４ｃ  固定アーム
５，５ａ，５ｂ，５ｃ  回動アーム
６  爪
１０  フォトマスク用基板
１１  主表面
１２  中心軸
１３  ペリクルフレーム
２０  中心軸
２１  溝
２２  収納溝
２５  ホルダー
２６  固定軸
２７  すり割り付き止めねじ
２８  雌ねじ
２９  圧縮ばね（駆動用ばね）
３１  四角棒
３２  溝
３３  ボールベアリング
３４  位置決め穴
４１  ねじ
４２，４２ａ，４２ｂ  前後方向直線部
４３，４３ａ，４３ｂ  上下方向直線部
４４ａ，４４ｂ  水平方向直線部
５１  ねじ
５２，５２ａ，５２ｂ  前後方向直線部
５３，５３ａ，５３ｂ  上下方向直線部
５４ａ，５４ｂ  水平方向直線部
６１  溝
１００  載置面
２８１  貫通孔
２９１  すり割付き止めねじ
【図１】
2006108154.tif 000003
【図２】
2006108154.tif 000004
【図３】
2006108154.tif 000005
【図４】
2006108154.tif 000006
【図５】
2006108154.tif 000007