(57)【要約】【課題】  透明大型基板から均質でギャップムラの発生の少ない複数の液晶表示パネルを同時に製造する方法を提供すること。【解決手段】  以下の(1)〜(4)の工程を備えることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。それぞれ複数の液晶表示パネル領域が形成された一対の基板１１、２１の少なくとも一方に、前記各液晶表示パネル領域毎にセルギャップｄ１を一定に保つ柱状スペーサ２２を配置すると共に、各液晶表示パネル領域の外側に沿ってシール材１６を設ける工程、(2)前記一対の基板の一方の外縁側に前記セルギャップｄ１より小さい粒径ｄ２のスペーサ粒子２３を配置する工程、(3)前記一対の基板をそれぞれの各液晶表示パネル領域が重なるように載置して、均一に加圧しながら前記シール材を硬化させる工程、(4)前記(3)の工程で得られた一対の基板を、前記シール材の間の位置で各液晶表示パネル領域毎に分断する工程。【選択図】        図５
2006184741.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の（１）〜（４）の工程を備えることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
・  それぞれ複数の液晶表示パネル領域が形成された一対の基板の少なくとも一方に、前記各液晶表示パネル領域毎にセルギャップを一定に保つ柱状スペーサを配置すると共に、各液晶表示パネル領域の外側に沿ってシール材を設ける工程、
・  前記一対の基板の一方の外縁側に前記セルギャップより小さい粒径のスペーサ粒子を配置する工程、
（３）前記一対の基板をそれぞれの各液晶表示パネル領域が重なるように載置して、均一に加圧しながら前記シール材を硬化させる工程、
（４）前記（３）の工程で得られた一対の基板を、前記シール材の間の位置で各液晶表示パネル領域毎に分断する工程。
【請求項２】
前記一対の基板は各液晶表示領域毎に画素電極が形成されている基板と共通電極が形成されている基板とからなり、前記柱状スペーサは前記共通電極が形成されている側の基板に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記柱状スペーサはフォトレジストからなることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記スペーサ粒子は前記各液晶表示領域にも配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記シール材はディスペンサによる描画法によって設けられたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか１項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルの製造方法及び該製造方法により製造された液晶表示パネルに関し、特に透明な一対の基板上に複数の液晶表示パネル領域を形成して各液晶表示パネル領域が重なるように載置した後、各液晶表示パネル領域毎に分断して液晶表示パネルを製造するに際し、均質でギャップムラの発生の少ない液晶表示パネルの製造方法及び該製造方法により製造された液晶表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
表示パネルの一種である液晶表示パネルは、各画素電極が形成された第一の基板と、少なくとも共通電極が形成された第二の基板とを、その周囲をシール材によって液密に貼り合わせ、その基板の間に液晶を封入することにより製造されている。このような液晶表示パネルの製造方法としては、所定の大きさの液晶表示パネル領域を複数形成した大型の基板をシール材で貼り合せ、その後、所定の液晶表示パネル領域毎に分断して製造する方法が慣用的に採用されている（下記特許文献１参照）。
【０００３】
そして、本願の出願人も既に大型の基板から所定の大きさの液晶表示パネルを複数個製造する液晶表示パネルの製造方法において、液晶封入の際の液だれの問題点を軽減し、さらに、ディスペンサでの描画法によるシール材塗布方法を採用した場合においても液晶封入口の位置決めが容易に行え、また、液晶注入前に液晶封入口の位置がずれている液晶表示パネルを容易に選別できるような液晶表示パネルの製造方法に関する特許出願（下記特許文献２参照。以下、この出願の発明を「先願発明」という。）を行っている。そこで、本発明の理解のために、前記先願発明に係る液晶表示パネルの製造方法を図１〜図３を用いて簡単に説明する。
【０００４】
図１は、先願発明の液晶表示パネル製造用の基板を示す正面図であり、図２は先願発明の液晶表示パネル製造方法において基板に形成される液晶表示パネル領域の１つについて順を追って説明した製造工程説明図であり、また、図３は上記図２（ａ）〜図２（ｄ）の製造工程に従って製造された基板を所定の大きさに分断することによって製造された液晶表示パネルの正面断面図である。
【０００５】
図１において、第一の基板１１は、例えば大型のガラス基板からなり、平坦性に優れ、凹凸やうねりがない表面を有し、比較的小さく所定の大きさの液晶表示パネル領域がｍ行×ｎ列で行列状に配列されるように、縦方向及び横方向に個別の液晶表示パネル領域に分断するための分断予定線１２ａ、１２ｂが複数本設けられている。
【０００６】
そして、周囲を分断予定線１２ａ、１２ｂで囲まれた所定の大きさの液晶表示パネル領域１１１１〜１１ｍｎには、入出力端子あるいはＴＦＴ素子等の表示制御部（図示せず）がそれぞれ設けられており、さらに、基板分断後に液晶を封入するための液晶封入部を設ける際の目印として、所定の図形が液晶封入口を設けようとする位置に設けられている。
【０００７】
この図形は、ディスペンサによりシール材を塗布する際の塗布開始点及び塗布終点を検出するためのものであり、長さと方向が定まるものであれば任意の図形を採用することができる。例えば、この図形として、１本ないし数本の線分、長方形、或いは複数の点などであっても良い。図２にはこの図形１３として２本の同じ長さの平行線としたものを示してある。
【０００８】
次に図２を参照して、先願発明の液晶表示パネルの製造方法における各製造工程を説明する。ただし、図２に示した工程は、基板１に形成されている各液晶表示パネル領域１１１１〜１１ｍｎの全てについて共通に行われるものであるので、理解を容易にするために一つの液晶表示パネル領域１１１１を取り上げて説明する。
【０００９】
図２（ａ）に示されている液晶表示パネル領域１１１１は、最終的には第一の基板１１から所定の大きさの液晶表示パネルを形成するように引かれた分断予定線１２ａ、１２ｂに従って分断されるものであり、この液晶表示パネル領域１１１１上には、各液晶表示パネルの大きさ、あるいは液晶封入口の位置等の条件から選定される液晶封入口を設ける箇所に長さの等しい平行な２本の線分１３が予め設けられている。
【００１０】
そして、第一の基板１１の液晶表示パネル領域１１１１に液晶駆動用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子や入出力端子からなる表示制御部（図示省略）を設けた後、各液晶封入領域１４に配向膜１５（図３参照）をラビング処理によって設け、その上にセルギャップを一定に維持するためのスペーサ（図示省略）を均一に分散配置しておく。
【００１１】
次に、上記のようにして得られた液晶表示パネル領域１１１１の表面に、図２（ｂ）に示したように、シール材１６の塗布工程を行う。このシール材１６の塗布は、ディスペンサ１７による描画によって行われる。このディスペンサ１７によって行われるシール材１６の塗布は、液晶封入領域１４にラビングされた配向膜１５の端部に沿って行われ、かつ液晶封入口付近は予め設けられた線分１３の端部に沿って形成されるようになし、シール材１６の塗布は線分１３に沿って液晶表示パネルの外方向に向かって平行に形成されるように塗布される。通常、上記シール材１６としては一液性の熱硬化樹脂であるエポキシ樹脂あるいはフェノール樹脂等が使用される。
【００１２】
次いで、図２（ｃ）において、上記各工程が行われた液晶表示パネル領域１１１１の上方から、第一の基板１１と対になる少なくとも対向電極（図示せず）が設けられた第二の基板２１の前記液晶表示パネル領域１１１１に対応する液晶表示パネル領域２１１１が重なるように配置し、両液晶表示パネル領域１１１１及び２１１１を一方の基板の表面から均等に圧力を加えると共に、シール材が熱硬化性樹脂の場合は加熱して前記シール材を熱硬化させ、図２（ｄ）に示したように液晶表示パネル領域１１１１、２１１１を一体化する。
【００１３】
次いで上記図２（ａ）〜図２（ｄ）の工程を経て形成された第一の基板１１及び第二の基板２１を、所定の大きさに分断して空の液晶表示パネル１０’を得る。このようにして製造された空の液晶表示パネル１０’を図３に示す。なお、この時の分断方法は、一般にスクライブ・ブレイク法や、レーザー割断法が採用される。上記分断方法によって分断された液晶表示パネルは、液晶表示パネル領域１１１１、２１１１が形成された第一の基板１１及び第二の基板２１と、両基板を張り合わせているシール材１６とによって形成される液晶封入領域１４を備えており、この液晶封入領域１４へ液晶封入口１８から液晶を封入し、その後に液晶封入口１８をシールすることにより液晶表示パネル１０が完成される。
【００１４】
この先願発明の液晶表示パネル製造方法は、液晶封入口１８が全ての液晶表示パネル領域１１１１〜１１ｍｎについてずれのない状態で設けられているため、自動液晶封入機器によって作業を行った場合においても液晶のこぼれをなくすることができ、さらに、すべての工程を自動的に一連の作業で行うことができ、液晶表示パネルの製造の際の歩留りが向上すると共に、ディスペンサによる描画法によってシール材１６を塗布するようにしたため、少量多種の製造を行う際にもコストを少なくすることができるという優れた効果を奏するものである。
【００１５】
一方、前記先願発明に従って製造された液晶表示パネルだけでなく、従来から慣用的に採用されている基板から所定の大きさの液晶表示パネルを複数個製造する方法によって製造された液晶表示パネルにおいても、有効表示領域にセルギャップを一定にするためのスペーサが必要である。
【００１６】
このスペーサとしては、通常は、
・  シリカ、ポリスチレン等からなる球状もしくは柱状スペーサを基板上に散布する方法、又は、
（２）フォトレジストを用いてフォトリソグラフィー法により基板上にギャップ支持用の柱を形成させる方法（下記特許文献３及び４参照）、
のいずれかが採用されている。
【００１７】
しかしながら、前記（１）のスペーサを基板上に散布する方法では、スペーサを基板上に散在させる工程でスペーサの不均一な散布は表示不良となり、歩留まりの低下を招くし、また、特にフィールドシーケンシャル方式の液晶表示パネルにおいては、約２μ程度という狭いセルギャップを実現しなければならないが、約２μｍの微小な球状スペーサを散布するには異物の混入を厳しく管理する必要があり、現実的ではない。そのため、近年に至り前記（２）のフォトレジストを用いてフォトリソグラフィー法により設ける方法が注目されるようになってきた。
【特許文献１】特開２００２−３６５６４８号公報（段落［０００２］〜［０００９］、図１６〜図１８）
【特許文献２】特願２００３−３３６７３２号
【特許文献３】特開平１１−０９５１９４号公報
【特許文献４】特開２００４−２３３８２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
しかしながら、前述のような所定の大きさの液晶表示パネル領域を複数形成した大型の基板をシール材で貼り合せ、その後、所定の液晶表示パネル領域毎に分断して製造する液晶表示パネルの製造方法において、スペーサとしてフォトレジストを用いて柱状のスペーサをフォトリソグラフィー法により設ける方法を採用すると、基板中央部のセルギャップが不均一になることがあった。
【００１９】
本発明者は、この原因について種々検討した結果、各画素電極が形成された第一の基板１１と少なくとも共通電極が形成された第二の基板２１とをシール材で貼り合わせると、第一の基板と第二の基板が両端部で互いに接触してしまうことがあり、このような状態が生じると、基板中央部の空気の抜けが悪くなり、セルギャップの不均一性に繋がることに気付いた。このような状態を図４（ａ）及び図４（ｂ）を用いて説明する。なお、図４（ａ）は第一の基板１１と第二の基板２１とを貼り合わせる前の拡大断面図であり、図４（ｂ）は貼り合わせた後の拡大断面図である。
【００２０】
すなわち、液晶表示パネルの製造に際して、フォトレジストを用いて柱状のスペーサをフォトリソグラフィー法により設ける方法を採用する場合、例えば図４（ａ）に示したように、各画素電極（図示せず）の周囲にシール材１６が形成された第一の基板１１上に、少なくとも共通電極（図示せず）が形成され、所定位置に柱状のスペーサ２２が形成された第二の基板２１を第一の基板１１上に配置し、一方の基板２１の表面から均等に圧力Ｐを加えると共に加熱して前記シール材１６を熱硬化させて製造されている。この場合、柱状のスペーサ２２の高さが一定であるため、セルギャップｄは通常は均一な厚さとなるはずであるので、従来はギャップムラは生じないものと考えられていた。
【００２１】
しかしながら、第一の基板１１及び第二の基板２１としては幅Ｌ１が５０ｃｍ以上、場合によっては１ｍ以上の大きさのものが使用されることがあるが、前記第一基板及び第二基板の周縁部には様々な認識マークを設けたりハンドリングするための領域Ｌ２及びＬ３が幅約５ｃｍ〜１０ｃｍ程度にわたって設けられており、この領域Ｌ２及びＬ３には第一基板及び第二基板のうち上側に位置する基板を支持するものが存在していない。したがって、セルギャップｄ１は約２〜６μｍと小さいため、第一の基板１１ないし第二の基板２１のうち上側に位置する基板が自重により曲がり、例えば図４（ｂ）の破線丸印で囲んだ部分Ｘに示したように、第一の基板１１と第二の基板２１とが両端部で互いに接触してしまうことがある。
【００２２】
この第一の基板及び第二の基板の周縁部の領域Ｌ２及びＬ３にもフォトリソグラフィー法によりフォトレジストからなる柱状のスペーサを配置することは、表示エリア外や基板周縁部に配置された様々な認識マークの存在のためにスペーサの配置エリアが限定され、しかも露光回数が増えて生産能力の低下につながるという新たな問題点が生じるので、直ちには採用し難い。
【００２３】
本願の発明者は、フォトレジストを用い、柱状のスペーサをフォトリソグラフィー法により設ける方法を採用して液晶表示パネルを製造する際に、上述のように第一の基板１１と第二の基板２１とが両端部で互いに接触することを防止できる方法を種々検討した結果、セルギャップｄ１よりも小さい粒径の球状スペーサを前記第一基板及び第二基板の周縁部に散布すれば、たとえ第一基板１１ないし第二基板２１のうち上側に位置する方の基板が自重により曲がったとしても前記球状のスペーサにより支持されるため、第一の基板１１と第二の基板２１とが両端部で互いに接触することがなくなり、結果として基板中央部の空気の抜けが良好となるのでセルギャップの均一性が維持されることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
【００２４】
すなわち、本発明は、フォトレジストを用いてフォトリソグラフィー法により形成した柱状のスペーサを有し、一対の基板上に複数の液晶表示パネル領域を形成して各液晶表示パネル領域が重なるように載置した後、各表液晶表示パネル領域毎に分断して液晶表示パネルを製造するに際し、均質でギャップムラの発生の少ない液晶表示パネルの製造方法及び該製造方法により製造された液晶表示パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
本発明の上記目的は以下の構成により達成し得る。すなわち、本願の請求項１に記載の表示パネルの製造方法の発明は、以下の（１）〜（４）の工程を備えることを特徴とする。
・  それぞれ複数の液晶表示パネル領域が形成された一対の基板の少なくとも一方に、前記各液晶表示パネル領域毎にセルギャップを一定に保つ柱状スペーサを配置すると共に、各液晶表示パネル領域の外側に沿ってシール材を設ける工程、
・  前記一対の基板の一方の外縁側に前記セルギャップより小さい粒径のスペーサ粒子を配置する工程、
・  前記一対の基板をそれぞれの各液晶表示パネル領域が重なるように載置して、均一に加圧しながら前記シール材を硬化させる工程、
・  前記（３）の工程で得られた一対の基板を、前記シール材の間の位置で各液晶表示パネル領域毎に分断する工程。
【００２６】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の表示パネルの製造方法において、前記一対の基板は各液晶表示領域毎に画素電極が形成されている基板と共通電極が形成されている基板とからなり、前記柱状スペーサは前記共通電極が形成されている側の基板に設けられていることを特徴とする。
【００２７】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の表示パネルの製造方法において、前記柱状スペーサはフォトレジストからなることを特徴とする。
【００２８】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の表示パネルの製造方法において、前記スペーサ粒子は前記各液晶表示領域にも配置されていることを特徴とする。
【００２９】
また、請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の表示パネルの製造方法において、前記シール材はディスペンサによる描画法によって設けられたことを特徴とする。
【００３０】
さらに、請求項６に記載の液晶表示パネルの発明は、請求項１〜５の何れか１項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００３１】
本発明は、上述の構成を備えることにより以下のような優れた効果を奏する。すなわち、請求項１に記載の発明によれば、表示領域内のセルギャップを柱状スペーサで均一にし、基板両端部は、球状スペーサで端部のギャップを保つことにより、一対の基板のうちの上側にある基板の端部が自重により曲がったとしても前記球状のスペーサにより支持されるため、前記一対の基板が両端部で互いに接触することがなくなる。そのため、基板中央部の空気の抜けが良好となるので、各液晶表示パネルのセルギャップが均一となり、高表示品質の液晶表示パネルが得られる。
【００３２】
また、請求項２に記載の発明によれば、柱状スペーサをＴＦＴなどが存在する第一の基板ではなく第二の基板側に形成することで、一方の基板に製造工程が集中することを防止できると共に、ＴＦＴを破損させる可能性も低下するため、歩留まりが向上する。
【００３３】
また、請求項３に記載の発明によれば、フォトリソグラフィー法により所定の位置に効率よく一定の高さの柱状のスペーサを形成できるため、セルギャップのばらつきが少なくなる。
【００３４】
また、請求項４に記載の発明によれば、前記スペーサ粒子の直径はセルギャップより小さいので、このスペーサ粒子が液晶表示領域内に混入するようなことがあっても液晶表示パネルの表示画質に与える影響は小さいから、特にスペーサ粒子の散布範囲を精密に制御する必要がなくなり、効率よく一度に多数の液晶表示パネルを製造することができるようになる。
【００３５】
また、請求項５に記載の発明によれば、シール材を簡単な構成で自動的に塗布することができるようになると共に、大きさが異なる表示パネルにも容易に適合させることができるために、少品種大量生産の場合だけでなく、他品種少量生産の場合にも適用することができるようになる。
【００３６】
また、請求項６に記載の液晶表示パネルの発明によれば、セルギャップが均一であるため、高表示品質の液晶表示パネルが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下、図５を参照して本発明の最良の実施形態を説明するが、図１〜図４に示した先願発明ないし従来例と同様の工程については必要に応じてこれらの図面を参照して説明する。但し、以下に示す実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための液晶表示パネルの製造方法を例示するものであって、本発明をこの液晶表示パネルの製造方法に特定することを意図するものではなく、本発明は、カラーフィルタを備える透過型液晶表示パネル、半透過型液晶表示パネルないし反射型液晶表示パネルや、カラーフィルタを備えていないフィールドシーケンシャル方式の液晶表示パネルに対しても等しく適用し得るものである。
【実施例】
【００３８】
図５は、本発明の実施例の液晶表示パネル製造方法を適用した場合の図４（ｂ）に対応する第一の基板と第二の基板とを貼り合わせた後の両基板の拡大断面図であり、図１〜図４に示した構成と同一の構成については同一の参照符号を付与してある。
【００３９】
本実施例の液晶表示パネルの製造方法においても、図１〜図３に示したものと同様に、たとえば５５０ｍｍ×６５０ｍｍ以上のガラス製大型基板である第一の基板１１の表面に複数の液晶表示パネル領域毎に所定の大きさの画素電極（図示せず）を形成するとともに、これらの画素電極の周囲に熱硬化性樹脂からなるシール材１６をディスペンサにより配置し、また、別のガラス製大型基板である第二の基板２１の表面に少なくとも共通電極（図示せず）を形成した後、その共通電極の表面にフォトレジストを塗布してフォトリソグラフィー法により所定のパターンにセルギャップｄ１に対応する高さの柱状のスペーサ２２を形成する。
【００４０】
次いで、第一基板１１上に設けられた複数の液晶表示領域の周縁部、より具体的には最外縁部にある各液晶表示パネル領域のシール材１６の外側に、前記セルギャップｄ１よりも小径である粒径ｄ２のスペーサ粒子２３を均一に分散配置する。その後、両基板１１及び２１をそれぞれの液晶表示パネル領域が対向するように重ね合わせ、図４（ａ）に示したものと同様にして、第二の基板２１の上方から均等に力Ｐが加わるように加圧すると共に加熱してシール材１６を硬化させる。
【００４１】
そうすると、前記第一基板及び第二基板の周縁部に設けられている幅約５ｃｍ〜１０ｃｍ程度の様々な認識マークを設けたりハンドリングするための領域Ｌ２及びＬ３が存在しているとしても、この領域Ｌ２及びＬ３にはセルギャップｄ１よりも小径である粒径ｄ２のスペーサ粒子２３が存在しているので、この領域Ｌ２及びＬ３の上側に位置する第二基板２１が自重により曲がっても前記スペーサ粒子２３により支持されるから、第一の基板１１と第二の基板２１とが両端部で互いに接触することがなくなる。
【００４２】
その後、両基板１１及び２１を所定の大きさに分断して空の液晶表示パネルを得、両基板間に液晶を封入・密閉することにより所定の液晶表示パネルが得られる。
【００４３】
このようにして得られた液晶表示パネルは、第一の基板１１及び第二の基板２１をそれぞれの液晶表示パネル領域が対向するように重ね合わせて加圧及び加熱してシール材１６を硬化させても、第一の基板１１と第二の基板２１とが両端部で互いに接触してしまうことがなくなるため、第一基板１１及び第二基板２１の中央部の空気の抜けが良好に維持されるため、第一の基板１１及び第二の基板全体にわたってセルギャップが均一に維持され、得られる複数の液晶表示パネルのセルギャップは均一となり、高表示品質のバラツキの少ない液晶表示パネルが得られる。また、スペーサの形状が柱状であるので、一定高さのスペーサを容易に得ることができるために、係る点からもセルギャップのばらつきが少なくなる。
【００４４】
なお、本実施例では、セルギャップｄ１を規定する柱状のスペーサ２２を共通電極が設けられている第二の基板２１に設けた例示したが、この柱状のスペーサは第一の基板１１に設けることも可能である。しかしながら、第一の基板にはＴＦＴ、走査線ないし信号線等も形成されているから、製造に多くの工程が必要であるので、第二の基板に柱状のスペーサ２２を設けた方が製造工程を分散させることができるとともにＴＦＴ等を破損させる可能性が減るので好ましい。
【００４５】
また、柱状のスペーサ２２は液晶表示領域のみならずシール材１６が存在する箇所にも設けてもよい。このような構成とすると各液晶表示パネルの基板周縁部のセルギャップも均一に保つことができるようになり、また、この柱状スペーサは液晶表示領域の柱状スペーサを形成する工程で同時に形成することができるために工程数の増加には繋がらない。と同時に柱状スペーサ２２部分の容積分だけシール材１６の削減ができるため、コストダウンの効果がある。
【００４６】
なお、本実施例では、最良の形態として、粒状のスペーサ２３を第一基板１１及び第二基板２１の周縁部に設けられている幅約５ｃｍ〜１０ｃｍ程度の様々な認識マークを設けたりハンドリングするための領域Ｌ２及びＬ３に分散配置した例を示したが、粒状スペーサ２３を周辺部のみに分散配置するためには、例えば、シール材で囲まれた領域内を別部材で覆い、その状態で粒状スペーサを散布する必要があり、作業が煩雑になる。したがって、表示領域および周縁部に粒状スペーサを分散した場合では、粒径ｄ２が液晶表示パネルのセルギャップｄ１よりも小さいスペーサ粒子２３が、液晶表示領域にも分散されていても、分散量を少なくする等の対策をとる事により、表示画質に与える影響は少なくすることも可能にでき、それによりスペーサ粒子の分散配置範囲を精密に制御する必要がなくなり、効率よく一度に多数の液晶表示パネルを製造できることもある。
【００４７】
また、本実施例では、前記シール材１６の塗布方法として、ディスペンサによる描画法を採用したが、この方法によればシール材を簡単な構成で自動的に塗布することができるようになると共に、大きさが異なる表示パネルにも容易に適合させることができるため、少品種大量生産の場合だけでなく、他品種少量生産の場合にも適用することができるようになる。
【００４８】
また、本実施例ではシール材１６として熱硬化性樹脂を用いた例を示したが、光硬化性樹脂も使用することができる。この場合はシール材１６を所定のパターンに塗布した後に紫外線を照射することにより硬化させればよい。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】先願発明の液晶表示パネル製造用の透明大型基板を示す正面図である。
【図２】先願の発明の液晶表示パネル製造方法において、透明大型基板から形成される液晶表示パネル領域の１つについて分かりやすく説明した製造工程説明図である。
【図３】図２（ａ）〜図２（ｄ）の各工程によって形成された透明大型基板を、所定の大きさに分断して作製された液晶表示パネルの正面断面図である。
【図４】従来の液晶表示パネル製造方法における液晶表示パネル領域の状態を示し、図４（ａ）は加圧・加熱時の拡大断面図、図４（ｂ）はシール材硬化時の部分断面図である。
【図５】実施例の液晶表示パネル製造方法における液晶表示パネル領域の部分断面図である。
【符号の説明】
【００５０】
１１    第一の基板
１１１１〜１１ｍｎ    液晶表示パネル領域
１２ａ、１２ｂ    分断予定線
１３    液晶封入口の目印
１４    液晶封入領域
１５    配向膜
１６    シール材
１７    ディスペンサ
１８    液晶封入口
２１    第二の基板
２２    柱状のスペーサ粒子
２３    スペーサ粒子
ｄ１    セルギャップ
ｄ２    スペーサ粒子の粒径
【図１】
2006184741.tif 000003
【図２】
2006184741.tif 000004
【図３】
2006184741.tif 000005
【図４】
2006184741.tif 000006
【図５】
2006184741.tif 000007