(57)【要約】【課題】  単純な干渉計システムで所望のビームパターンを実現する。【解決手段】  第１および第２光学素子スタックを含む干渉計システム１００。第１光学素子スタックにおいて、第１プリズム１０２傾斜面が第２プリズム１０４の傾斜面に取り付けられ、傾斜面の間の界面に第１ＰＢＳ１０６が含まれる。第２光学素子スタックにおいて、第３プリズム１１２の傾斜面が第４プリズム１１４の傾斜面に取り付けられ、傾斜面の間の界面に第２ＰＢＳ１１６が含まれる。第１及び第２プリズムの傾斜面は、第４プリズムの傾斜面にアライメントされ、第１〜第４波長板素子１２２〜１２８が菱形アセンブリと測定光学素子及び参照光学素子の少なくとも一方との間のビーム経路内に配置され、リダイレクト光学素子１３２が少なくとも第１及び第３プリズムの垂直面に隣接して配置される。【選択図】  図１
2006038869.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１垂直面及び第１傾斜面を具備する第１プリズムと、第２傾斜面及び第３傾斜面を具備する第２プリズムとを含み、前記第１プリズムは、前記第１傾斜面を前記第２傾斜面に固定することによって前記第２プリズムに取り付けられ、前記第１傾斜面と前記第２傾斜面との第１界面は、第１偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）を具備し、前記第３傾斜面が第１ミラーを構成する、第１光学スタックと、
第２垂直面及び第４傾斜面を具備する第３プリズムと、第５傾斜面及び第６傾斜面を具備する第４プリズムとを含み、前記第３プリズムは、前記第４傾斜面を前記第５傾斜面に固定することによって前記第４プリズムに取り付けられ、前記第４傾斜面と前記第５傾斜面との第２界面は、第２ＰＢＳを具備し、前記第６傾斜面が第２ミラーを構成する、前記第１光学スタックの上の第２光学スタックと
を含む菱形アセンブリと、
前記菱形アセンブリと、測定光学素子及び参照光学素子の少なくともいずれかとの間のビーム経路内に配置されている第１〜第４波長板素子と、
少なくとも、前記第１垂直面及び前記第２垂直面に隣接して配置されたリダイレクト光学素子と
を有する干渉計システム。
【請求項２】
前記リダイレクト光学素子と、前記第１垂直面及び前記第２垂直面との間に配置された第５波長板素子をさらに有することを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記第４傾斜面及び前記第５傾斜面が、前記第３傾斜面にほぼアライメントされており、
前記第１波長板素子が、前記第１ＰＢＳと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子の一方との間の第１ビーム経路において、前記第１ＰＢＳに対向して取り付けられており、
前記第２波長板素子が、前記第１ミラーと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子のもう一方との間の第２ビーム経路において、前記第１ミラーに対向して取り付けられており、
前記第３波長板素子が、前記第２ＰＢＳと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子の前記もう一方との間の第３ビーム経路において、前記第２ＰＢＳに対向して取り付けられており、
前記第４波長板素子が、前記第２ミラーと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子の前記一方との間の第４ビーム経路において、前記第２ミラーに対向して取り付けられていることを特徴とする請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記第１〜第５波長板素子が四分の一波長板であり、
前記第１及び第２ＰＢＳがＰＢＳコーティングを含んでおり、
前記第１及び第２ミラーが全反射鏡を含んでおり、
前記リダイレクト光学素子が再帰性反射素子であり、
前記測定光学素子が測定平面鏡であり、
前記参照光学素子が参照平面鏡であることを特徴とする請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記第１〜第５波長板素子が個別の四分の一波長板であることを特徴とする請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記第１ＰＢＳが、前記第２プリズムにおいて、出射ポートに対向して配置されており、
第２ＰＢＳが、前記第１プリズムにおいて、入射ポートに対向して配置されており、
前記第１波長板素子が、前記第２ＰＢＳと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子の一方との間の第１ビーム経路において、前記第２ＰＢＳに対向して取り付けられており、
前記第２波長板が、前記第２ミラーと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子のもう一方との間の第２ビーム経路において、前記第２ミラーに対向して取り付けられており、
前記第３波長板が、前記第１ＰＢＳと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子の前記もう一方との間の第３ビーム経路において、前記第１ＰＢＳに対向して取り付けられており、
前記第４波長板が、前記第１ミラーと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子の前記一方との間の第４ビーム経路において、前記第１ミラーに対向して取り付けられていることを特徴とする請求項２に記載のシステム。
【請求項７】
前記第１〜第５波長板素子が四分の一波長板であり、
前記第１及び第２ＰＢＳがＰＢＳコーティングを含んでおり、
前記第１及び第２ミラーが全反射鏡を含んでおり、
前記リダイレクト光学素子が再帰性反射素子であり、
前記測定光学素子が測定平面鏡であり、
前記参照光学素子が参照平面鏡であることを特徴とする請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記第１〜第５波長板素子が、個別の四分の一波長板であることを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記第６傾斜面が、前記第１傾斜面及び前記第２傾斜面にほぼアライメントされており、
前記第１波長板が、前記第２ＰＢＳと前記測定光学素子及び前記参照光学素子の一方との間の第１ビーム経路において、前記第２ＰＢＳに対向して取り付けられ、
前記第２波長板が、前記第１ＰＢＳと前記測定光学素子及び前記参照光学素子のもう一方との間の第２ビーム経路において、前記第１ＰＢＳに対向して取り付けられ、
前記第３波長板が、前記第２ミラーと前記測定光学素子及び前記参照光学素子の前記もう一方との間の第３ビーム経路において、前記第２ミラーに対向して取り付けられており、
前記第４波長板が、前記第１ミラーと前記測定光学素子及び前記参照光学素子の前記一方との間の第４ビーム経路において、前記第１ミラーに対向して取り付けられていることを特徴とする請求項２に記載のシステム。
【請求項１０】
前記第１〜第５波長板素子が四分の一波長板であり、
前記第１及び第２ＰＢＳにＰＢＳコーティングが含まれ、
前記第１及び第２ミラーが全反射鏡を含んでおり、
前記リダイレクト光学素子が再帰性反射素子であり、
前記第１光学素子が測定平面鏡であり、
前記第２光学素子が参照平面鏡であることを特徴とする請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記第１〜第４波長板素子が、個別の四分の一波長板であることを特徴とする請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
第１垂直面及び第１傾斜面を具備する第１プリズムと第２傾斜面及び第３傾斜面を具備する第２プリズムとを含んでおり、前記第１プリズムが、前記第１傾斜面を前記第２傾斜面に固定することによって前記第２プリズムに取り付けられ、前記第１傾斜面と前記第２傾斜面との第１界面の下部が、第１偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）を具備し、第４傾斜面及び第５傾斜面を具備する第３プリズムを含んでおり、前記第２プリズムが、前記第３傾斜面を前記第４傾斜面に固定することによって前記第３プリズムに取り付けられ、前記第３傾斜面と前記第４傾斜面との第２界面が、少なくとも第２ＰＢＳを具備し、前記第５傾斜面が、第１ミラーを構成する、光学素子スタックと、
前記光学素子スタックと、測定光学素子及び参照光学素子の少なくとも一方との間のビーム経路内に配置されている第１〜第４波長板素子と、
少なくとも、前記垂直面に隣接して取り付けられたリダイレクト光学素子と
を有する干渉計システム。
【請求項１３】
前記リダイレクト光学素子と、前記垂直面の少なくとも一部との間に配置された第５波長板がさらに含まれることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第２ＰＢＳが前記第２界面の上部を構成し、前記第２界面の下部が第２ミラーを具備することを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記第１波長板素子が、前記第１ＰＢＳと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子の一方との間の第１ビーム経路において、前記第１ＰＢＳに対向して取り付けられ、
前記第２波長板素子が、前記第２ミラーと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子のもう一方との間の第２ビーム経路において、前記第２ミラーに対向して取り付けられ、
前記第３波長板素子が、前記第２ＰＢＳと、前記測定光学素子及び前記参照光学素子の前記もう一方との間の第３ビーム経路において、前記第２ＰＢＳに対向して取り付けられ、
前記第４波長板素子が、前記第１ミラーの上部と、前記測定光学素子及び前記参照光学素子の前記一方との間の第４ビーム経路において、前記第１ミラーの上部に対向して取り付けられていることを特徴とする請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記第１〜第４波長板素子が四分の一波長板であり、
前記第５波長板素子が、前記垂直面の一部だけに対応する半波長板または前記垂直面全体に対応する四分の一波長板から構成されるグループから選択され、
前記第１及び第２ＰＢＳにＰＢＳコーティングが含まれ、
前記第１ミラーが全反射鏡を含んでおり、
前記第２ミラーに高反射率コーティングが含まれ、
前記リダイレクト光学素子が再帰性反射素子であり、
前記測定光学素子が測定平面鏡であり、
前記参照光学素子が参照平面鏡であることを特徴とする請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記第１〜第４波長板素子が個別の四分の一波長板であることを特徴とする請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記第２界面に、前記第３傾斜面の上部と前記第４傾斜面が含まれており、前記第３傾斜面の下部が第２ミラーを構成することを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１９】
前記第１波長板素子が、前記第１ＰＢＳと前記測定光学素子及び前記参照光学素子の一方との間の第１ビーム経路において、第１ＰＢＳに対向して取り付けられており、
前記第２波長板素子が、前記第２ミラーと前記測定光学素子及び前記参照光学素子のもう一方との間の第２ビーム経路において、前記第２ミラーに対向して取り付けられており、
前記第３波長板素子が、前記第２ＰＢＳと前記測定光学素子及び前記参照光学素子の前記もう一方との間の第３ビーム経路において、前記第２ＰＢＳに対向して取り付けられており、
前記第４波長板素子が、前記第１ミラーと前記測定光学素子及び前記参照光学素子の前記一方との間の第４ビーム経路において、前記第１ミラーに対向して取り付けられていることを特徴とする請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記第１〜第４波長板素子が四分の一波長板であり、
前記第５波長板素子が、前記垂直面の一部だけに対応する半波長板または前記垂直面全体に対応する四分の一波長板から構成されるグループから選択され、
前記第１及び第２ＰＢＳにＰＢＳコーティングが含まれ、
前記第１及び第２ミラーが全反射鏡を含んでおり、
前記リダイレクト光学素子が再帰性反射素子であり、
前記測定光学素子が測定平面鏡であり、
前記参照光学素子が参照平面鏡であることを特徴とする請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記第１〜第４波長板素子が個別の四分の一波長板であることを特徴とする請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
入射ポートと、前記入射ポートに隣接した第１ミラーと、前記第１ミラーに隣接した出射ポートと、前記出射ポートに隣接した第２ミラーとを具備した第１面と、
第１方向に沿って前記入射ポートに対向しており、第２方向に沿って前記第１ミラーに対向している第１偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）と、前記第１ＰＢＳに隣接し、前記第１方向に沿って前記第１ミラーに対向している第１中間ポートと、前記第１中間ポートに隣接し、前記第１方向に沿って前記出射ポートに対向しており、前記第２方向に沿って前記第２ミラーに対向している第２ＰＢＳと、前記第２ＰＢＳに隣接し、前記第１方向に沿って前記第２ミラーに対向している第２中間ポートとを具備した、前記第１面に対して平行な第２面と
を有するシャープレートと、
第３方向に沿った前記第１ＰＢＳと第１光学素子との間の第１ビーム経路において、前記第１ＰＢＳに対向している第１波長板と、
前記第３方向に沿った前記第１中間ポートと第２光学素子との間の第２ビーム経路において、前記第１中間ポートに対向している第２波長板と、
前記第３方向に沿った前記第２ＰＢＳと前記第２光学素子との間の第３ビーム経路において、前記第２ＰＢＳに対向している第３波長板と、
前記第３方向に沿った前記第２中間ポートと第１光学素子との間の第４ビーム経路において、前記第２中間ポートに対向している第４波長板と、
第４方向に沿ったビーム経路において、前記第１及び第２ＰＢＳに対向しているリダイレクト光学素子と
を含む干渉計システム。
【請求項２３】
第５波長板が、前記リダイレクト光学素子と、前記第１及び第２ＰＢＳとの間に配置されていることを特徴とする請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記リダイレクト光学素子が、前記第１〜第４方向によって形成される平面内における、オフセットしているが平行な経路に光を戻すように配向されていることを特徴とする請求項２３に記載のシステム。
【請求項２５】
前記第１〜第５波長板素子が四分の一波長板であり、
前記第１及び第２ＰＢＳにＰＢＳコーティングが含まれ、
前記入射ポート、前記出射ポート、前記第１中間ポート、及び、前記第２中間ポートに反射防止コーティングが施され、
前記第１及び第２ミラーがミラーコーティングを含んでおり、
前記リダイレクト光学素子が再帰性反射素子であり、
前記第１光学素子が測定平面鏡であり、
前記第２光学素子が参照平面鏡であることを特徴とする請求項２４に記載のシステム。
【請求項２６】
前記第１〜第４波長板素子が個別の四分の一波長板であることを特徴とする請求項２５に記載のシステム。
【請求項２７】
第１垂直面と第１傾斜面と第２垂直面と第２傾斜面とを具備し、前記第２傾斜面が、第１方向と前記第１方向に対して直交する第２方向との間で光を反射するミラーを構成する、第１プリズムと、
水平面と第３垂直面と第３傾斜面とを具備し、前記第３傾斜面を前記第１傾斜面に固定することによって前記第１プリズムに取り付けられ、前記第１傾斜面と前記第３傾斜面との界面が前記ミラーに対向しており、前記第１及び第２方向の一方に沿って光を透過し、前記第１と第２方向の間で光を反射するための偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）を具備する第２プリズムと、
前記ミラーと、測定光学素子及び参照光学素子の少なくとも一方との間の第１複数ビーム経路において、前記ミラーに対向して、少なくとも前記第２垂直面に隣接して取り付けられた第１波長板素子及び第２波長板素子と、
前記ＰＢＳと、測定光学素子及び参照光学素子の少なくとも一方との間の第２複数ビーム経路において、前記ＰＢＳに対向して、少なくとも前記第３垂直面に隣接して取り付けられた第３波長板素子及び第４波長板素子と、
前記第２プリズムの前記水平面に少なくとも隣接して取り付けられ、前記第１及び第２方向に対して直交する第３方向に沿ってオフセットした平行経路に光を戻すリダイレクト光学素子と
を有する干渉計システム。
【請求項２８】
前記リダイレクト光学素子と前記第２プリズムの前記水平面との間に配置された第５波長板素子がさらに含まれることを特徴とする請求項２７に記載のシステム。
【請求項２９】
前記第１〜第５波長板素子が四分の一波長板であり、
前記ＰＢＳにＰＢＳコーティングが含まれ、
前記ミラーが全反射鏡を含んでおり、
前記リダイレクト光学素子が再帰性反射素子であり、
前記測定光学素子が測定平面鏡であり、
前記参照光学素子が参照平面鏡であることを特徴とする請求項２８に記載のシステム。
【請求項３０】
前記第１〜第５波長板素子が個別の四分の一波長板であることを特徴とする請求項２９に記載のシステム。
【請求項３１】
入射ポートと、前記入射ポートに隣接した出射ポートと、第１ミラー素子と前記出射ポートに隣接した第２ミラー素子とを具備した第１傾斜面と、
第１方向に沿って前記入射ポートに対向しており、第２方向に沿って前記第１ミラーに対向している第１ＰＢＳ素子と、前記第１方向に沿って前記出射ポートに対向しており、前記第２方向に沿って前記第２ミラーに対向している第２ＰＢＳ素子と、前記第１方向に沿って前記第１ミラーに対向している第１中間ポートと、前記第１方向に沿って前記第２ミラーに対向している第２中間ポートとを具備した、前記第１傾斜面に対して平行な第２傾斜面と
を含むシャープレートと、
第３方向に沿った前記第１ＰＢＳ素子と第１光学素子との間の第１ビーム経路において、前記第１ＰＢＳ素子に対向している第１波長板素子と、
前記第３方向に沿った前記第２ＰＢＳ素子と第２光学素子との間の第２ビーム経路において、前記第２ＰＢＳ素子に対向している第２波長板素子と、
前記第３方向に沿った前記第１中間ポートと前記第２光学素子との間の第３ビーム経路において、前記第１中間ポートに対向している第３波長板素子と、
前記第３方向に沿った前記第２中間ポートと第１光学素子との間の第４ビーム経路において、前記第２中間ポートに対向している第４波長板素子と、
第４方向に沿った第５ビーム経路において、前記第１及び第２ＰＢＳに対向しているリダイレクト光学素子と
を有する干渉計システム。
【請求項３２】
前記リダイレクト光学素子と前記第１及び第２ＰＢＳとの間に配置された第５波長板素子がさらに含まれることを特徴とする請求項３１に記載のシステム。
【請求項３３】
前記リダイレクト光学素子に、前記第１〜第４方向によって形成される平面内に位置する、オフセットしているが平行な経路に光を戻すような配向が施されていることを特徴とする請求項３２に記載のシステム。
【請求項３４】
前記入射ポート及び前記出射ポートに同じ反射防止コーティングが施され、
前記第１ミラー素子及び前記第２ミラー素子に同じ高反射率コーティングが含まれ、
前記第１ＰＢＳ素子及び前記第２ＰＢＳ素子に同じＰＢＳコーティングが含まれ、
前記第１中間ポート及び前記第２中間ポートに同じ反射防止コーティングが施されていることを特徴とする請求項３３に記載のシステム。
【請求項３５】
前記第１〜第５波長板素子が四分の一波長板であり、
前記リダイレクト光学素子が再帰性反射素子であり、
前記第１光学素子が測定平面鏡であり、
前記第２光学素子が参照平面鏡であることを特徴とする請求項３３に記載のシステム。
【請求項３６】
前記第１〜第５波長板素子が個別の四分の一波長板であることを特徴とする請求項３５に記載のシステム。
【請求項３７】
前記リダイレクト光学素子に、前記第１〜第４方向によって形成される平面に対して直交する第５方向に沿った、オフセットしているが平行な経路に光を戻すような配向が施されていることを特徴とする請求項３２に記載のシステム。
【請求項３８】
前記入射ポート及び前記出射ポートに反射防止コーティングが施されており、
前記第１ミラー素子及び前記第２ミラー素子に高反射率コーティングが含まれ、
前記第１ＰＢＳ素子及び前記第２ＰＢＳ素子にＰＢＳコーティングが含まれ、
前記第１中間ポート及び前記第２中間ポートに反射防止コーティングが施されていることを特徴とする請求項３７に記載のシステム。
【請求項３９】
前記第１〜第５波長板素子が四分の一波長板であり、
前記入射及び出射ポートが、前記第５方向に沿って互いにオフセットしており、
前記第１及び第２ミラー素子が、前記第５方向に沿って互いにオフセットしており、
前記第１及び第２ＰＢＳ素子が、前記第５方向に沿って互いにオフセットしており、
前記第１及び第２中間ポートが、前記第５方向に沿って互いにオフセットしており、
前記リダイレクト光学素子が再帰性反射素子であり、
前記第１光学素子が測定平面鏡であり、
前記第２光学素子が参照平面鏡であることを特徴とする請求項３８に記載のシステム。
【請求項４０】
前記第１〜第５波長板素子が個別の四分の一波長板であることを特徴とする請求項３９に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
微分干渉計の用途によっては、２つの測定ビーム光路間における２つの参照ビーム光路（またはその逆の）から構成されるインラインビームパターンか、または、左上及び右下の測定ビーム光路と右上及び左下の参照ビーム光路（またはその逆の）から構成される２次元ビームパターンを備えることが望ましい場合がある。先行技術文献（例えば、特許文献１参照）には、シャープレート及び独立した偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）アセンブリを利用して、所望の２次元ビームパターンを実現する微分干渉計の構成方法を開示したものがある。特許文献１の場合、適正な働きが得られるように、シャープレートとＰＢＳの間に半波長板が挿入される。これは、所望の測定及び参照ビームパターンを生成するための、複雑でコストのかかる方法である。
【０００２】
【特許文献１】米国特許第４，６９３，６０５号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従って、本発明の目的は、独立したＰＢＳアセンブリをなくし、同時に、ガラスの利用を最小限に抑えて、所望のビームパターンを実現するためのより単純な干渉計システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
異なる図における同じ参照番号の利用は、同様または同一の要素を表わしている。
【０００５】
本発明の実施態様の１つでは、干渉計システムに、第１光学素子スタックと、その上に取り付けられた第２光学素子スタックが含まれている。第１光学素子スタックには、その傾斜面（angled face）（例えば、４５度の傾斜）が第２プリズムの傾斜面（例えば、４５度の傾斜）に取り付けられた第１プリズムが含まれている。これらの傾斜面の間の界面には、第１偏光ビームスプリッタが含まれている。第２光学素子スタックには、その傾斜面（例えば、４５度の傾斜）が第４プリズムの傾斜面（例えば、４５度の傾斜）に取り付けられた第３プリズムが含まれている。これらの傾斜面の間の界面には、第２偏光ビームスプリッタが含まれている。第１プリズムと第２プリズムの傾斜面は、第４プリズムの傾斜面とアライメントされている。第１〜第４波長板素子が、菱形アセンブリと、測定光学素子及び参照光学素子の少なくとも一方との間のビーム経路内に配置されている。リダイレクト光学素子が、少なくとも、第１及び第３プリズムの垂直面に隣接して配置されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の実施態様による微分干渉計システムには、菱形アセンブリ（rhomboid assembly）またはシャープレートアセンブリ(shear plate assembly)によって、シャープレート及び偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）の機能が組み込まれており、その結果、従来の干渉計システムにおいて見受けられる大型の正方形ＰＢＳ及び付随する大型のコーナキューブ再帰性反射素子が取り除かれている。これらのシステムによれば、ガラスの利用を最小限に抑えて、所望のビームパターンが実現される。さらに、これらのシステムは、本質的により小型であり、互いに近接して組み合わせ、スタックして、多軸測定が行えるようにすることが可能である。従って、より小型で、軽量で、低コストの干渉計システムが得られることになる。
【０００７】
図１には、本発明の実施態様の１つにおける微分干渉計システム１００が例示されている。干渉計システム１００には、上部光学素子スタックが下部光学素子スタックの上に取り付けられた菱形アセンブリが含まれている。下部光学素子スタックには、プリズム１０２及びプリズム１０４が含まれている。プリズム１０２は、垂直面１０２Ａ、水平面１０２Ｂ、及び、傾斜面１０２Ｃ（例えば、４５度の傾斜）を備えている。プリズム１０４は、傾斜面１０４Ａ（例えば、４５度の傾斜）、水平面１０４Ｂ、傾斜面１０４Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面１０４Ｄを備えている。反射防止（ＡＲ）コーティングを施された光学ウィンドウ１１５Ａ（今後は「ＡＲウィンドウ」）が、入射ビーム１０５Ａの入射ポートとして役立つように、水平面１０４Ｄに取り付けられている。傾斜面１０４Ｃが全反射（ＴＩＲ）鏡の働きをする点に留意されたい。
【０００８】
プリズム１０２は、傾斜面１０２Ｃを傾斜面１０４Ａに固定する（例えば、接着する）ことによって、プリズム１０４に取り付けられている。偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）１０６が、プリズム１０２と１０４との界面に形成されている。実施態様の１つでは、ＰＢＳ１０６は、傾斜面１０２Ｃまたは１０４Ａに形成されたＰＢＳコーティングである。
【０００９】
上部光学素子スタックには、プリズム１１２及びプリズム１１４が含まれている。プリズム１１２は、垂直面１１２Ａ、水平面１１２Ｂ、傾斜面１１２Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面１１２Ｄを備えている。プリズム１１４は、傾斜面１１４Ａ（例えば、４５度の傾斜）、水平面１１４Ｂ、傾斜面１１４Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面１１４Ｄを備えている。ＡＲウィンドウ１１５Ｂが、出射ビーム１０５Ｂの出射ポートとして役立つように、水平面１１４Ｄに取り付けられている。傾斜面１１４ＣがＴＩＲ鏡の働きをする点に留意されたい。
【００１０】
プリズム１１２は、傾斜面１１２Ｃを傾斜面１１４Ａに固定することによって、プリズム１１４に取り付けられている。ＰＢＳ１１６が、プリズム１１２と１１４との界面に形成されている。実施態様の１つでは、ＰＢＳ１１６は、傾斜面１１２Ｃまたは１１４Ａに形成されたＰＢＳコーティングである。ＰＢＳ１１６及び１０６は、一方の直線偏光（例えば、垂直偏光）を伝搬させ、もう一方の直交する直線偏光（例えば、水平偏光）を反射することによって、経路の分離及び再結合を行う。傾斜面１１２Ｃは、傾斜面１０４Ｃにアライメントされている点に留意されたい。
【００１１】
上部光学素子スタックは、水平面１１２Ｄを水平面１０２Ｂ及び１０４Ｂに固定することによって、下部光学素子スタックの上に取り付けられている。
【００１２】
四分の一波長板素子１２２、１２４、及び、１２６が、それぞれ、ＰＢＳ１０６、ミラー１０４Ｃ、及び、ＰＢＳ１１６に対向して水平面１１２Ｂの上に直接、または、その上方に間接的に取り付けられている。四分の一波長板（ｑｕａｒｔｅｒ‐ｗａｖｅ  Ｐｌａｔｅ；ＱＷＰ）素子１２８は、ミラー１１４Ｃに対向して水平面１１４Ｂの上に直接またはその上方に間接的に取り付けられている。ＱＷＰ１３０が、垂直面１０２Ａ及び１１２Ａの上に直接またはそれらに隣接して間接的に取り付けられている。リダイレクト光学素子１３２（例えば、コーナキューブ再帰性反射素子）の入射／出射面が、ＱＷＰ１３０の上に直接またはそれに隣接して間接的に取り付けられている。個別に例示されているが、ＱＷＰ素子１２２、１２４、１２６、および、１２８は、個別のＱＷＰとすることも、あるいは、単一ＱＷＰの一部とすることも可能である。
【００１３】
以下では、干渉計１００を通る経路の説明が行われる。レーザ源（不図示）が、入射ポート１１５Ａに対するコヒーレントでコリメートされた入射ビーム１０５Ａを生成する。入射ビーム１０５Ａは、２つの直交偏光周波数成分から構成されている。周波数成分の一方ｆA（例えば、当初水平偏光にされている、太い点線で例示の直線偏光測定ビーム）が、システムの測定経路に入射し、もう一方の周波数成分ｆB（例えば、当初垂直偏光にされている、細い連続線として例示の直線偏光参照ビーム）が、システムの参照経路に入射する。
【００１４】
測定経路において、入射ビーム１０５Ａは、入射ポート１１５Ａを通って伝搬し、ＰＢＳ１０６に入射する。初期偏光状態にある測定ビームは、ＰＢＳ１０６を透過して伝搬し、一方、参照ビームはＰＢＳ１０６から反射する。次に、測定ビームは、ＱＷＰ１２２を透過して伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、一般に可動ステージに取り付けられている測定平面鏡１４２によって反射され、それ自体に戻されて、さらにＱＷＰ１２２を透過する。測定ビームは、ＱＷＰ１２２を二度通過するので、戻り偏光は９０度回転し、今では垂直偏光した測定ビームが、ＰＢＳ１０６によって直角に反射され、ＱＷＰ１３０を透過して再帰性反射素子１３２に入射する。
【００１５】
測定ビームは、再帰性反射素子１３２によってオフセットしているが平行な経路内に戻され、ＱＷＰ１３０を透過する。測定ビームは、二度ＱＷＰ１３０を通過するので、戻り偏光は９０度回転し、今では水平偏光した測定ビームが、ＰＢＳ１１６を透過して伝搬し、ミラー１１４Ｃに達する。測定ビームは、ミラー１１４Ｃによって直角に反射され、ＱＷＰ１２８を透過して、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ１１６まで後戻りする。ＱＷＰ１２８を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ１１６から反射され、出射ポート１１５Ｂを通って伝搬し、検出器（不図示）に入射する。
【００１６】
参照経路において、参照ビームは、ＰＢＳ１０６によって直角に反射され、ミラー１０４Ｃに達する。参照ビームは、ミラー１０４Ｃによって直角に反射され、ＱＷＰ１２４を透過して、固定参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ１０６まで後戻りする。ＱＷＰ１２４を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ１０６及びＱＷＰ１３０を透過して伝搬し、出射ポート１１５Ｂを通って伝搬し、再帰性反射素子１３２に入射する。
【００１７】
参照ビームは、再帰性反射素子１３２によってオフセットしているが平行な経路内に戻され、ＱＷＰ１３０を透過する。ＱＷＰ１３０を二度通過した後、垂直偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ１１６から反射され、ＱＷＰ１２６を透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ１２６を透過して、ＰＢＳ１１６に戻る。ＱＷＰ１２６を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ１１６を透過して伝搬し、測定ビームと再結合して、出射ビーム１０５Ｂを形成する。次に、出射ビーム１０５Ｂは、出射ポート１１５Ｂを透過して伝搬し、検出器に入射する。検出器は、位相の変化を検出し、測定平面鏡１４２の変位の変化を求めることが可能である。
【００１８】
上述のように、干渉計１００によれば、２つの参照ビーム光路が２つの測定ビーム光路間に挟まれているビームパターンが生じる。もちろん、測定経路と参照経路の方向を逆にして、入射ビーム１０５Ａがポート１１５Ｂに入射し、出射ビーム１０５Ｂがポート１１５Ａから出射するようにすることが可能である。さらに、測定経路と参照経路を取り替えて、２つの測定ビーム光路が２つの参照ビーム光路に挟まれるようにすることも可能である。
【００１９】
実施態様の１つでは、ＱＷＰ１３０を、垂直面１０２Ａまたは１１２Ａに直接またはそれに隣接して間接的に取り付けられた半波長板（ｈａｌｆ‐ｗａｖｅ  ｐｌａｔｅ:ＨＷＰ）に置き換えることによって、同じビームパターンが生成される。もう１つの実施態様では、ＱＷＰ１３０をそっくり除去することによって、第１測定ビーム光路、第１参照ビーム光路、第２測定ビーム光路、及び、第２参照ビーム光路から構成される異なるビームパターンが生成される。
【００２０】
図２には、本発明の実施態様の１つにおける微分干渉計システム２００が例示されている。干渉計システム２００には、プリズム２０２、２０４、及び、２０６から構成される光学素子スタックを備えた菱形アセンブリが含まれている。プリズム２０２は、垂直面２０２Ａ、水平面２０２Ｂ、及び、傾斜面２０２Ｃ（例えば、４５度の傾斜）を備えている。プリズム２０４は、傾斜面２０４Ａ（例えば、４５度の傾斜）、水平面２０４Ｂ、傾斜面２０４Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面２０４Ｄを備えている。プリズム２０６は、傾斜面２０６Ａ（例えば、４５度の傾斜）、水平面２０６Ｂ、傾斜面２０６Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面２０６Ｄを備えている。傾斜面２０６ＣがＴＩＲ鏡の働きをする点に留意されたい。
【００２１】
プリズム２０２は、傾斜面２０２Ｃを傾斜面２０４Ａに固定する（例えば、接着する）ことによって、プリズム２０４に取り付けられている。ＰＢＳ２０８は、プリズム２０２と２０４との界面の下半分に形成されている。実施態様の１つでは、ＰＢＳ２０８は、面２０２Ｃまたは２０４Ａに形成されたＰＢＳコーティングである。
【００２２】
プリズム２０４は、傾斜面２０４Ｃを傾斜面２０６Ａに固定することによって、プリズム２０６に取り付けられている。ＰＢＳ２１０は、プリズム２０４と２０６との界面の上半分に形成され、ミラー２１２は、プリズム２０４と２０６との界面の下半分に形成されている。実施態様の１つでは、ＰＢＳ２１０は、面２０４Ｃまたは２０６Ａに形成されたＰＢＳコーティングであり、ミラー２１２は、面２０４Ｃまたは２０６Ａに形成された高反射率（ＨＲ）のコーティングである。ＰＢＳ２１０及び２０８は、一方の直線偏光（例えば、垂直偏光）を伝搬させ、もう一方の直交する直線偏光（例えば、水平偏光）を反射することによって、経路の分離及び再結合を行う。
【００２３】
ＡＲウィンドウ２１５が、入射／出射ビーム１０５Ａ及び１０５Ｂの入射／出射ポートの働きをするように、水平面２０４Ｄ及び２０６Ｄに取り付けられている。
【００２４】
ＱＷＰ素子２１４及び２１６が、それぞれ、ＰＢＳ２０８及びミラー２１２に対向して水平面２０２Ｂの上に直接またはその上方に間接的に取り付けられている。ＱＷＰ２１８が、ＰＢＳ２１０に対向して水平面２０４Ｂの上に直接またはその上方に間接的に取り付けられている。ＱＷＰ２２０が、ミラー２０６Ｃの上部に対向して水平面２０６Ｂの上に直接またはその上方に間接的に取り付けられている。個別に例示されているが、ＱＷＰ素子２１４、２１６、２１８、及び、２２０は、光学素子スタックの上または上方に取り付けられた単一ＱＷＰの一部とすることも可能である。ＨＷＰ２２２が、垂直面２０２Ａの上部に直接またはそれに隣接して間接的に取り付けられている。代わりに、ＨＷＰ２２２は、垂直面２０２Ａ全体をカバーするＱＷＰに置き換えることも可能である。リダイレクト光学素子２２４（例えば、コーナキューブ再帰性反射素子）の入射／出射面が、ＨＷＰ２２２の上に直接またはそれに隣接して間接的に取り付けられている。
【００２５】
測定経路において、入射ビーム１０５Ａは、ＡＲウィンドウ２１５を通って伝搬し、ＰＢＳ２０８に入射する。初期偏光状態にある測定ビームは、ＰＢＳ２０８を透過して伝搬し、一方、参照ビームはＰＢＳ２０８から反射する。次に、測定ビームは、ＱＷＰ２１４を透過して伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射され、それ自体に戻されて、ＱＷＰ２１４を透過し、ＰＢＳ２０８に戻される。ＱＷＰ２１４を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ２０８から直角に反射されて、伝搬し、再帰性反射素子２２４に入射する。
【００２６】
測定ビームは、再帰性反射素子２２４によってオフセットしているが平行な経路を戻されて、ＨＷＰ２２２を透過する。測定ビームは、ＨＷＰ２２２を通過するので、その偏光は９０度回転し、今では水平偏光した測定ビームが、ＰＢ２１０を透過して伝搬する。測定ビームは、次に、ミラー２０６Ｃの上部まで伝搬する。測定ビームは、ミラー２０６Ｃによって直角に反射され、ＱＷＰ２２０を透過して、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ２１０まで後戻りする。ＱＷＰ２２０を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ２１０から直角に反射され、ミラー２０６Ｃの下部に達する。測定ビームは、ミラー２０６Ｃによって直角に反射され、ミラー２１２に達し、ミラー２１２によって直角に反射されて、ＡＲウィンドウ２１５を通って、検出器に入射する。
【００２７】
参照経路において、参照ビームは、ＰＢＳ２０８によって直角に反射されて、ミラー２１２に達する。参照ビームは、ミラー２１２によって直角に反射され、ＱＷＰ２１６を透過して、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ２１６を透過して、ミラー２１２まで戻ることになる。参照ビームは、ミラー２１２によって直角に反射され、ＰＢＳ２０８に戻される。ＱＷＰ２１６を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ２０８を透過して伝搬し、再帰性反射素子２２４に入射する。
【００２８】
参照ビームは、再帰性反射素子２２４によってオフセットしているが平行な経路内に戻され、ＨＷＰ２２２を透過する。ＨＷＰ２２２を通過した後、垂直偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ２１０から反射され、ＱＷＰ２１８を透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ２１８を透過して、ＰＢＳ２１０に戻る。ＱＷＰ２１８を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ２１０を透過して伝搬し、測定ビームと再結合して、出射ビーム１０５Ｂを形成する。次に、出射ビーム１０５Ｂは、ミラー２０６Ｃによって直角に反射されて、ミラー２１２に達し、ミラー２１２によって直角に反射されて、ＡＲウィンドウ２１５を透過し、検出器に入射する。
【００２９】
上述のように、干渉計システム２００によれば、２つの参照ビーム光路が２つの測定ビーム光路間に挟まれているビームパターンが生じる。もちろん、測定経路と参照経路の方向を逆にすることもできるし、測定経路と参照経路を取り替えることも可能である。実施態様の１つでは、ＨＷＰ２２２を、垂直面２０２Ａ全体に直接またはそれに隣接して間接的に取り付けられたＱＷＰに置き換えることによって、同じビームパターンが生成される。もう１つの実施態様では、ＨＷＰ２２２をそっくり除去することによって、第１測定ビーム光路、第１参照ビーム光路、第２測定ビーム光路、及び、第２参照ビーム光路から構成される異なるビームパターンが生成される。
【００３０】
図３には、本発明の実施態様の１つにおける微分干渉計システム３００が例示されている。干渉計システム３００は、プリズム２０６がより短いプリズム３０６に置き換えられて、傾斜面２０４Ｃの下部が、別の媒体（例えば、空気）に対して露出するようになっている点を除けば、干渉計システム２００（図２）と同様である。したがって、傾斜面２０４Ｃの下部は、ＴＩＲ鏡の働きをする。プリズム３０６の傾斜面３０６ＣがＴＩＲ鏡の働きをする点に留意されたい。さらに、ＡＲウィンドウ３１５Ａが、入射ビーム１０５Ａの入射ポートの働きをするように、水平面２０４Ｄに取り付けられ、ＡＲウィンドウ３１５Ｂが、出射ビーム１０５Ｂの出射ポートの働きをするように、水平面３０６Ｄに取り付けられている。
【００３１】
測定経路において、入射ビーム１０５Ａは、入射ポート３１５Ａを通って伝搬し、ＰＢＳ２０８に入射する。初期偏光状態にある測定ビームは、ＰＢＳ２０８を透過して伝搬し、一方、参照ビームはＰＢＳ２０８から反射する。次に、測定ビームは、ＱＷＰ２１４を透過して伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射され、それ自体に戻されて、ＱＷＰ２１４を透過し、ＰＢＳ２０８に戻される。ＱＷＰ２１４を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ２０８から直角に反射されて、伝搬し、再帰性反射素子２２４に入射する。
【００３２】
測定ビームは、再帰性反射素子２２４によってオフセットしているが平行な経路を戻され、ＨＷＰ２２２を透過する。ＨＷＰ２２２を通過した後、水平偏光した測定ビームが、次に、ＰＢ２１０を透過して、ミラー３０６Ｃまで伝搬する。測定ビームは、ミラー３０６Ｃによって直角に反射され、ＱＷＰ２２０を透過して、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ２２０を透過して、ミラー３０６Ｃまで戻る。測定ビームは、ミラー３０６Ｃによって直角に反射され、ＰＢＳ２１０に達する。ＱＷＰ２２０を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ２１０から直角に反射され、出射ポート３１５Ｂを通って伝搬し、検出器に入射する。
【００３３】
参照経路において、参照ビームは、ＰＢＳ２０８によって直角に反射されて、ミラー２０４Ｃに達する。参照ビームは、ミラー２０４Ｃによって直角に反射され、ＱＷＰ２１６を透過して、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ２１６を透過して、ミラー２０４Ｃまで戻ることになる。参照ビームは、ミラー２０４Ｃによって直角に反射され、ＰＢＳ２０８に戻される。ＱＷＰ２１６を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ２０８を透過して伝搬し、再帰性反射素子２２４に入射する。
【００３４】
参照ビームは、再帰性反射素子２２４によってオフセットしているが平行な経路内に戻され、ＨＷＰ２２２を透過する。ＨＷＰ２２２を通過した後、垂直偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ２１０から反射され、ＱＷＰ２１８を透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ２１８を透過して、ＰＢＳ２１０に戻る。ＱＷＰ２１８を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ２１０を透過して伝搬し、測定ビームと再結合して、出射ビーム１０５Ｂを形成する。次に、出射ビーム１０５Ｂは、出射ポート３１５Ｂを透過して伝搬し、検出器に入射する。
【００３５】
上述のように、干渉計システム３００によれば、２つの参照ビーム光路が２つの測定ビーム光路間に挟まれているビームパターンが生じる。もちろん、測定経路と参照経路の方向を逆にすることもできるし、測定経路と参照経路を取り替えることも可能である。干渉計システム２００と同様、ＨＷＰ２２２をＱＷＰに置き換えて、同じビームパターンを生成することもできるし、あるいは、ＨＷＰ２２２をそっくり除去して、第１測定ビーム光路、第１参照ビーム光路、第２測定ビーム光路、及び、第２参照ビーム光路から構成される異なるビームパターンを生成することも可能である。
【００３６】
図４には、本発明の実施態様の１つにおける微分干渉計システム４００が例示されている。干渉計システム４００には、平行面４０４及び４１４を備えたシャープレート４０２が含まれている。面４０４には、入射ポート４０６、入射ポート４０６に隣接したミラー４０７、ミラー４０７に隣接した出射ポート４０８、及び、出射ポート４０８に隣接したミラー４０９が含まれている。入射ポート４０６及び出射ポート４０８は、面４０４のＡＲコーティングまたはＡＲウィンドウから構成することが可能である。ミラー４０７及び４０９は、面４０４のＨＲコーティングまたはミラー光学素子から構成することが可能である。
【００３７】
面４１４には、ＰＢＳ４１６、ＰＢＳ４１６に隣接した中間ポート４１７、中間ポート４１７に隣接したＰＢＳ４１８、及び、ＰＢＳ４１８に隣接した中間ポート４１９が含まれている。ＰＢＳ４１６及び４１８は、一方の直線偏光（例えば、垂直偏光）を伝搬させ、もう一方の直交する直線偏光（例えば、水平偏光）を反射することによって、経路の分離及び再結合を行う。ＰＢＳ４１６は、（１）方向Ａに対して平行なビーム経路において入射ポート４０６に対向して配置され、（２）方向Ｂに対して平行なビーム経路においてミラー４０７に対向して配置されている。方向Ａ及びＢは、最終的には、入射ビーム１０５Ａに対するシャープレート４０２の角度によって決まる。中間ポート４１７は、方向Ａに対して平行なビーム経路においてミラー４０７に対向して配置されている。ＰＢＳ４１８は、（１）方向Ａに対して平行なビーム経路において出射ポート４０８に対向して配置され、（２）方向Ｂに対して平行なビーム経路においてミラー４０９に対向して配置されている。中間ポート４１９は、方向Ａに対して平行なビーム経路においてミラー４０９に対向して配置されている。ＰＢＳ４１６及び４１８は、面４１４のＰＢＳコーティングまたはＰＢＳ光学素子から構成することが可能である。中間ポート４１７及び４１９は、面４１４のＡＲコーティングまたはＡＲウィンドウから構成することが可能である。
【００３８】
ＱＷＰ素子４２６が、方向Ｃに対して平行な測定ビーム経路において、ＰＢＳ４１６と測定平面鏡１４２の間に配置されている。方向Ｃは、入射ビーム１０５Ａのもとの方向である。ＱＷＰ素子４２７が、方向Ｃに対して平行な参照ビーム経路において、中間ポート４１７と参照平面鏡１４４の間に配置されている。ＱＷＰ素子４２８が、方向Ｃに対して平行なもう１つの参照ビーム経路において、ＰＢＳ４１８と参照平面鏡１４４の間に配置されている。ＱＷＰ素子４２９が、方向Ｃに対して平行なもう１つの測定ビーム経路において、中間ポート４１９と測定平面鏡１４２の間に配置されている。ＱＷＰ素子４２６、４２７、４２８、及び、４２９は、個別のＱＷＰまたは単一ＱＷＰの一部とすることが可能である。
【００３９】
ＱＷＰ４３０及びリダイレクト光学素子（例えば、コーナキューブ再帰性反射素子）が、方向Ｄに対して平行なビーム経路においてＰＢＳ４１６及び４１８に対向して配置されている。方向Ｄは、最終的には、入射ビーム１０５Ａに対するシャープレート４０２の角度によって決まる。
【００４０】
測定経路において、入射ビーム１０５Ａは、入射ポート４０６における空気ガラス界面によって屈折させられる。入射ビーム１０５Ａは、シャープレート４０２を透過して、ＰＢＳ４１６まで伝搬する。初期偏光状態にある測定ビームは、ＰＢＳ４１６を透過して伝搬し、一方、参照ビームはＰＢＳ４１６から反射する。ＰＢＳ４１６において、測定ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ４２６を透過して伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射され、それ自体に戻されて、ＱＷＰ４２６を透過し、ＰＢＳ４１６に戻される。ＱＷＰ４２６を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ４１６から直角に反射され、ＱＷＰ４３０を透過して伝搬し、再帰性反射素子４３２に入射する。
【００４１】
測定ビームは、再帰性反射素子４３２によってオフセットしているが平行な経路内に戻され、ＱＷＰ４３０を透過して、ＰＢＳ４１８に達する。ＱＷＰ４３０を二度通過した後、水平偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ４１８を透過して伝搬する。ＰＢＳ４１８において、測定ビームは、空気ガラス界面によって屈折させられ、シャープレート４０２を透過して伝搬し、ミラー４０９に達する。測定ビームは、ミラー４０９によって中間ポート４１９へと反射される。中間ポート４１９において、測定ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ４２９を透過して伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ４１８まで後戻りする。ＱＷＰ４２９を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ４１８から反射され、出射ポート４０８まで伝搬する。出射ポート４０８において、測定ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、検出器まで伝搬する。
【００４２】
参照経路において、参照ビームは、ＰＢＳ４１６によってミラー４０７へと反射され、さらに、ミラー４０７によって反射されて、中間ポート４１７に達する。中間ポート４１７において、参照ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ４２７を透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ４１６まで後戻りする。ＱＷＰ４２７を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ４１６を透過して伝搬する。ＰＢＳ４１６において、参照ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ４３０を透過して伝搬し、再帰性反射素子４３２に入射する。
【００４３】
参照ビームは、再帰性反射素子４３２によってオフセットしているが平行な経路内に戻され、ＱＷＰ４３０を透過して、ＰＢＳ４１８に達する。ＱＷＰ４３０を二度通過した後、垂直偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ４１８から反射され、ＱＷＰ４２８を透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ４２８を透過して、ＰＢＳ４１８に戻る。ＱＷＰ４２８を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ４１８を透過して伝搬する。ＰＢＳ４１８において、参照ビームは、空気ガラス界面によって屈折させられ、次に、測定ビームと再結合して、出射ビーム１０５Ｂを形成する。次に、出射ビーム１０５Ｂは、シャープレート４０２を透過して、出射ポート４０８まで伝搬する。出射ポート４０８において、出射ビーム１０５Ｂは、ガラス空気界面によって屈折させられ、検出器まで伝搬する。
【００４４】
上述のように、干渉計システム４００によれば、２つの参照ビーム光路が２つの測定ビーム光路間に挟まれているビームパターンが生じる。もちろん、測定経路と参照経路の方向を逆にすることもできるし、測定経路と参照経路を取り替えることも可能である。実施態様の１つでは、ＱＷＰ４３０をそっくり除去することによって、第１測定ビーム光路、第１参照ビーム光路、第２測定ビーム光路、及び、第２参照ビーム光路から構成される異なるビームパターンが生成される。
【００４５】
図５には、本発明の実施態様の１つにおける微分干渉計システム５００が例示されている。干渉計システム５００には、平行面５０４及び５１４を備えたシャープレート５０２が含まれている。面５０４には、入射ポート５０６Ａ、入射ポート５０６Ａに隣接した出射ポート５０６Ｂ、出射ポート５０６Ｂに隣接したミラー素子５０８Ａ、及び、ミラー５０８Ａに隣接したミラー素子５０８Ｂが含まれている。入射ポート５０６Ａ及び出射ポート５０６Ｂは、面５０４の同じＡＲコーティングまたはＡＲウィンドウ５０６から構成することが可能であり、一方、ミラー素子５０８Ａ及び５０８Ｂは、面５０４の同じＨＲコーティングまたはミラー光学素子５０８から構成することが可能である。
【００４６】
面５１４には、ＰＢＳ素子５１６Ａ、ＰＢＳ素子５１６Ａに隣接したＰＢＳ素子５１６Ｂ、ＰＢＳ素子５１６Ｂに隣接した中間ポート５１８Ａ、及び、中間ポート５１８Ａに隣接した中間ポート５１８Ｂが含まれている。ＰＢＳ素子５１６Ａは、（１）方向Ａに対して平行なビーム経路において入射ポート５０６Ａに対向して配置され、（２）方向Ｂに対して平行なビーム経路においてミラー素子５０８Ａに対向して配置されている。方向Ａ及びＢは、最終的には、入射ビーム１０５Ａに対するシャープレート５０２の角度によって決まる。ＰＢＳ素子５１６Ｂは、（１）方向Ａに対して平行なビーム経路において出射ポート５０６Ｂに対向して配置され、（２）方向Ｂに対して平行なビーム経路においてミラー素子５０８Ｂに対向して配置されている。ＰＢＳ素子５１６Ａ及び５１６Ｂは、一方の直線偏光（例えば、垂直偏光）を伝搬させ、もう一方の直交する直線偏光（例えば、水平偏光）を反射することによって、経路の分離及び再結合を行う。中間ポート５１８Ａは、方向Ａに対して平行なビーム経路においてミラー素子５０８Ａに対向して配置されている。中間ポート５１８Ｂは、方向Ａに対して平行なビーム経路においてミラー素子５０８Ｂに対向して配置されている。ＰＢＳ素子５１６Ａ及び５１６Ｂは、面５１４の同じＰＢＳコーティングまたはＰＢＳ光学素子５１６から構成することが可能であり、一方、中間ポート５１８Ａ及び５１８Ｂは、面５１４の同じＡＲコーティングまたはＡＲウィンドウ５１８から構成することが可能である。
【００４７】
ＱＷＰ素子５２２が、方向Ｃに対して平行な測定ビーム経路において、ＰＢＳ素子５１６Ａと測定平面鏡１４２の間に配置されている。方向Ｃは、入射ビーム１０５Ａのもとの方向である。ＱＷＰ素子５２４が、方向Ｃに対して平行な参照ビーム経路において、ＰＢＳ素子５１６Ｂと参照平面鏡１４４の間に配置されている。ＱＷＰ素子５２６が、方向Ｃに対して平行なもう１つの参照ビーム経路において、中間ポート５１８Ａと参照平面鏡１４４の間に配置されている。ＱＷＰ素子５２８が、方向Ｃに対して平行なもう１つの測定ビーム経路において、中間ポート５１８Ｂと測定平面鏡１４２の間に配置されている。ＱＷＰ素子５２２、５２４、５２６、及び、５２８は、個別のＱＷＰまたは単一ＱＷＰの一部とすることが可能である。
【００４８】
ＱＷＰ５３０及びリダイレクト光学素子５３２（例えば、コーナキューブ再帰性反射素子）が、方向Ｄに対して平行なビーム経路においてＰＢＳ素子５１６Ａ及び５１６Ｂに対向して配置されている。方向Ｄは、最終的には、入射ビーム１０５Ａに対するシャープレート５０２の角度によって決まる。
【００４９】
測定経路において、入射ビーム１０５Ａは、入射ポート５０６Ａにおける空気ガラス界面によって屈折させられ、シャープレート５０２を透過して、ＰＢＳ５１６Ａまで伝搬する。初期偏光状態にある測定ビームは、ＰＢＳ５１６Ａを透過して伝搬し、一方、参照ビームはＰＢＳ５１６Ａから反射する。測定ビームは、次に、ＱＷＰ５２２を透過して、伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射され、それ自体に戻されて、ＱＷＰ５２２を透過し、ＰＢＳ５１６Ａに戻される。ＱＷＰ５２２を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ５１６Ａから反射され、ＱＷＰ５３０を透過して伝搬し、再帰性反射素子５３２に入射する。
【００５０】
測定ビームは、再帰性反射素子５３２によってオフセットしているが平行な経路を戻され、ＱＷＰ５３０を透過して、ＰＢＳ５１６Ｂに達する。ＱＷＰ５３０を二度通過した後、水平偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ５１６Ｂを透過して伝搬する。ＰＢＳ５１６Ｂにおいて、測定ビームは、空気ガラス界面によって屈折させられ、シャープレート５０２を透過して伝搬し、ミラー５０８Ｂに達する。測定ビームは、ミラー５０８Ｂによって中間ポート５１８Ｂへと反射される。中間ポート５１８Ｂにおいて、測定ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ５２８を透過して伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ５１６Ｂまで後戻りする。ＱＷＰ５２８を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ５１６Ｂから反射され、出射ポート５０６Ｂまで伝搬する。出射ポート５０６Ｂにおいて、測定ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、検出器まで伝搬する。
【００５１】
参照経路において、参照ビームは、ＰＢＳ５１６Ａによってミラー５０８Ａへと反射され、さらに、ミラー５０８Ａによって反射されて、中間ポート５１８Ａに達する。中間ポート５１８Ａにおいて、参照ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ５２６を透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ５１６Ａまで後戻りする。ＱＷＰ５２６を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ５１６Ａを透過して伝搬する。ＰＢＳ５１６Ａにおいて、参照ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ５３０を透過して伝搬し、再帰性反射素子５３２に入射する。
【００５２】
参照ビームは、再帰性反射素子５３２によってオフセットしているが平行な経路を戻され、ＱＷＰ５３０を透過して、ＰＢＳ５１６Ｂに達する。ＱＷＰ５３０を二度通過した後、垂直偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ５１６Ｂから反射され、ＱＷＰ５２４を透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ５２４を透過して、ＰＢＳ５１６Ｂに戻る。ＱＷＰ５２４を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ５１６Ｂを透過して伝搬する。ＰＢＳ５１６Ｂにおいて、参照ビームは、空気ガラス界面によって屈折させられ、次に、測定ビームと再結合して、出射ビーム１０５Ｂを形成する。次に、出射ビーム１０５Ｂは、シャープレート５０２を透過して、出射ポート５０６Ｂまで伝搬する。出射ポート５０６Ｂにおいて、出射ビーム１０５Ｂは、ガラス空気界面によって屈折させられ、検出器まで伝搬する。
【００５３】
上述のように、干渉計システム５００によれば、２つの参照ビーム光路が２つの測定ビーム光路間に挟まれているビームパターンが生じる。もちろん、測定経路と参照経路の方向を逆にすることもできるし、測定経路と参照経路を取り替えることも可能である。実施態様の１つでは、ＱＷＰ５３０をそっくり除去することによって、第１測定ビーム光路、第２測定ビーム光路、第１参照ビーム光路、及び、第２参照ビーム光路から構成される異なるビームパターンが生成される。
【００５４】
図６には、本発明の実施態様の１つにおける微分干渉計システム６００が例示されている。干渉計システム６００には、上部光学素子スタックが下部光学素子スタックの上に取り付けられた菱形アセンブリ含まれている。下部光学素子スタックには、プリズム６０２とプリズム６０４が含まれている。プリズム６０２は、垂直面６０２Ａ、水平面６０２Ｂ、傾斜面６０２Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面６０２Ｄを備えている。ＡＲウィンドウ６１５Ａが、入射ビーム１０５Ａの入射ポートとして役立つように、水平面６０２Ｄの左部分に取り付けられている。プリズム６０４は、傾斜面６０４Ａ（例えば、４５度の傾斜）、水平面６０４Ｂ、傾斜面６０４Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面６０４Ｄを備えている。ＡＲウィンドウ６１５Ｂが、出射ビーム１０５Ｂの出射ポートとして役立つように、水平面６０４Ｄに取り付けられている。傾斜面６０４ＣがＴＩＲ鏡の働きをする点に留意されたい。
【００５５】
プリズム６０２は、傾斜面６０２Ｃを傾斜面６０４Ａに固定する（例えば、接着する）ことによって、プリズム６０４に取り付けられている。ＰＢＳ６０６が、プリズム６０２と６０４との界面に形成されている。実施態様の１つでは、ＰＢＳ６０６は、傾斜面６０２Ｃまたは６０４Ａに形成されたＰＢＳコーティングである。
【００５６】
上部光学素子スタックには、プリズム６１２及びプリズム６１４が含まれている。プリズム６１２は、垂直面６１２Ａ、水平面６１２Ｂ、及び、傾斜面６１２Ｃ（例えば、４５度の傾斜）を備えている。プリズム６１４は、傾斜面６１４Ａ（例えば、４５度の傾斜）、水平面６１４Ｂ、傾斜面６１４Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面６１４Ｄを備えている。傾斜面６１４ＣがＴＩＲ鏡の働きをする点に留意されたい。
【００５７】
プリズム６１２は、傾斜面６１２Ｃを傾斜面６１４Ａに固定することによって、プリズム６１４に取り付けられている。ＰＢＳ６１６が、プリズム６１２と６１４との界面に形成されている。実施態様の１つでは、ＰＢＳ６１６は、傾斜面６１２Ｃまたは６１４Ａに形成されたＰＢＳコーティングである。ＰＢＳ６１６及び６０６は、一方の直線偏光（例えば、垂直偏光）を伝搬させ、もう一方の直交する直線偏光（例えば、水平偏光）を反射することによって、経路の分離及び再結合を行う。
【００５８】
上部光学素子スタックは、水平面６１４Ｄを水平面６０２Ｂの左部分に固定することによって、ＰＢＳ６１６が入射ポート６１５Ａに対向して位置するように、下部光学素子スタックの上に取り付けられている。
【００５９】
ＱＷＰ素子６２２が、ＰＢＳ６１６に対向して水平面６１２Ｂの上に直接またはその上方に間接的に取り付けられている。ＱＷＰ６２４が、ミラー６１４Ｃに対向して水平面６１４Ｂの上に直接またはその上方に間接的に取り付けられている。ＱＷＰ素子６２６が、ＰＢＳ６０６に対向して水平面６０２Ｂの右部分の上に直接またはその上方に間接的に取り付けられている。ＱＷＰ６２８が、ミラー６０４Ｃに対向して水平面６０４Ｂの上に直接またはその上方間接的に取り付けられている。個別に例示されているが、ＱＷＰ素子６２２、６２４、６２６、及び、６２８は、菱形アセンブリの上方に取り付けられた単一ＱＷＰの一部とすることも可能である。あるいはまた、ＱＷＰ素子６２２及び６２４を単一ＱＷＰとし、ＱＷＰ素子６２６及び６２８を単一ＱＷＰとすることも可能である。
【００６０】
ＱＷＰ６３０が、垂直面６０２Ａ及び６１２Ａの上に直接またはそれらに隣接して間接的に取り付けられている。リダイレクト光学素子６３２（例えば、コーナキューブ再帰性反射素子）の入射／出射面が、ＱＷＰ６３０の上に直接またはそれに隣接して間接的に取り付けられている。
【００６１】
測定経路において、入射ビーム１０５Ａは、入射ポート６１５Ａを通って伝搬し、ＰＢＳ６１６に入射する。初期偏光状態にある測定ビームは、ＰＢＳ６１６を透過して伝搬し、一方、参照ビームはＰＢＳ６１６から反射する。次に、測定ビームは、ＱＷＰ６２２を透過して伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射され、それ自体に戻されて、ＱＷＰ６２２を透過し、ＰＢＳ６１６まで戻される。ＱＷＰ６２２を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、ＰＢＳ６１６から反射され、ＱＷＰ６３０を透過して、再帰性反射素子６３２に入射する。
【００６２】
測定ビームは、再帰性反射素子６３２によってオフセットしているが平行な経路内に戻され、ＱＷＰ６３０を透過して、ＰＢＳ６０６に達する。ＱＷＰ６３０を二度通過した後、水平偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ６０６を透過して伝搬し、ミラー６０４Ｃに達する。測定ビームは、ミラー６０４Ｃによって直角に反射され、ＱＷＰ６２８を透過して、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ６０６まで後戻りする。ＱＷＰ６２８を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ６０６から反射され、出射ポート６１５Ｂを通って伝搬し、検出器に入射する。
【００６３】
参照経路において、参照ビームは、ＰＢＳ６１６によって直角に反射され、ミラー６１４Ｃに達する。参照ビームは、ミラー６１４Ｃによって直角に反射され、ＱＷＰ６２４を透過して、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ６１６まで後戻りする。ＱＷＰ６２４を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ６１６及びＱＷＰ６３０を透過して伝搬し、再帰性反射素子６３２に入射する。
【００６４】
参照ビームは、再帰性反射素子６３２によってオフセットしているが平行な経路を戻され、ＱＷＰ６３０を透過する。ＱＷＰ６３０を二度通過した後、垂直偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ６０６から反射され、ＱＷＰ６２６を透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ６２６を透過して、ＰＢＳ６０６に戻る。ＱＷＰ６２６を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ６０６を透過して伝搬し、測定ビームと再結合して、出射ビーム１０５Ｂを形成する。次に、出射ビーム１０５Ｂは、出射ポート６１５Ｂを透過して伝搬し、検出器に入射する。
【００６５】
上述のように、干渉計６００によれば、２つの参照ビーム光路が２つの測定ビーム光路間に挟まれているビームパターンが生じる。もちろん、測定経路と参照経路の方向を逆にすることもできるし、測定経路と参照経路を取り替えることも可能である。実施態様の１つでは、ＱＷＰ６３０をそっくり除去することによって、第１測定ビーム光路、第１参照ビーム光路、第２測定ビーム光路、及び、第２参照ビーム光路から構成される異なるビームパターンが生成される。
【００６６】
図７には、本発明の実施態様の１つにおける微分干渉計システム７００が例示されている。干渉計システム７００には、上部光学素子スタックが下部光学素子スタックの上に取り付けられた菱形アセンブリ含まれている。下部光学素子スタックには、プリズム７０２とプリズム７０４が含まれている。プリズム７０２は、垂直面７０２Ａ、水平面７０２Ｂ、傾斜面７０２Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面７０２Ｄを備えている。プリズム７０４は、傾斜面７０４Ａ（例えば、４５度の傾斜）、水平面７０４Ｂ、傾斜面７０４Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面７０４Ｄを備えている。ＡＲウィンドウ７１５が、入射ビーム１０５Ａ及び出射ビーム１０５Ｂの入射／出射ポートとして役立つように、水平面７０２Ｄ及び水平面７０４Ｄの左部分に取り付けられている。傾斜面７０４ＣがＴＩＲ鏡の働きをする点に留意されたい。
【００６７】
プリズム７０２は、傾斜面７０２Ｃを傾斜面７０４Ａに固定する（例えば、接着する）ことによって、プリズム７０４に取り付けられている。ＰＢＳ７０６が、プリズム７０２と７０４との界面に形成されている。実施態様の１つでは、ＰＢＳ７０６は、傾斜面７０２Ｃまたは７０４Ａに形成されたＰＢＳコーティングである。
【００６８】
上部光学素子スタックには、プリズム７１２及びプリズム７１４が含まれている。プリズム７１２は、垂直面７１２Ａ、水平面７１２Ｂ、及び、傾斜面７１２Ｃ（例えば、４５度の傾斜）を備えている。プリズム７１４は、傾斜面７１４Ａ（例えば、４５度の傾斜）、水平面７１４Ｂ、傾斜面７１４Ｃ（例えば、４５度の傾斜）、及び、水平面７１４Ｄを備えている。傾斜面７１４ＣがＴＩＲ鏡の働きをし、傾斜面７０２Ｃ及び７０４Ａにアライメントされている点に留意されたい。
【００６９】
プリズム７１２は、傾斜面７１２Ｃを傾斜面７１４Ａに固定することによって、プリズム７１４に取り付けられている。ＰＢＳ７１６が、プリズム７１２と７１４との界面に形成されている。実施態様の１つでは、ＰＢＳ７１６は、傾斜面７１２Ｃまたは７１４Ａに形成されたＰＢＳコーティングである。ＰＢＳ７１６及び７０６は、一方の直線偏光（例えば、垂直偏光）を伝搬させ、もう一方の直交する直線偏光（例えば、水平偏光）を反射することによって、経路の分離及び再結合を行う。
【００７０】
上部光学素子スタックは、水平面７１４Ｄを水平面７０２Ｂに固定することによって、下部光学素子スタックの上に取り付けられている。
【００７１】
ＱＷＰ素子７２２が、ＰＢＳ７１６に対向して水平面７１２Ｂの上に直接またはその上方に間接的に取り付けられている。ＱＷＰ７２４及び７２６が、それぞれ、ＰＢＳ７０６及びミラー７１４Ｃに対向して水平面７１４Ｂの上に直接またはそれらの上方に間接的に取り付けられている。ＱＷＰ素子７２８が、ミラー７０４Ｃに対向して水平面７０４Ｂの右部分の上に直接またはその上方に間接的に取り付けられている。ＱＷＰ７３０が、垂直面７０２Ａ及び７１２Ａの上に直接またはそれらに隣接して間接的に取り付けられている。リダイレクト光学素子７３２（例えば、コーナキューブ再帰性反射素子）の入射／出射面が、ＱＷＰ７３０の上に直接またはそれに隣接して間接的に取り付けられている。
【００７２】
測定経路において、入射ビーム１０５Ａは、ＡＲウィンドウ７１５を通って伝搬し、ＰＢＳ７１６に入射する。初期偏光状態にある測定ビームは、ＰＢＳ７１６を透過して伝搬し、一方、参照ビームはＰＢＳ７１６から反射する。次に、測定ビームは、ＱＷＰ７２２を透過して伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射され、それ自体に戻されて、ＱＷＰ７２２を透過し、ＰＢＳ７１６まで戻される。ＱＷＰ７２２を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ７１６から反射され、ＱＷＰ７３０を透過して、再帰性反射素子７３２に入射する。
【００７３】
測定ビームは、再帰性反射素子７３２によってオフセットしているが平行な経路を戻され、ＱＷＰ７３０を透過して、ＰＢＳ７０６に達する。ＱＷＰ７３０を二度通過した後、水平偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ７０６を透過して伝搬し、ミラー７０４Ｃに達する。測定ビームは、ミラー７０４Ｃによって直角に反射され、ＱＷＰ７２８を透過して、測定平面鏡１４２に達する。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ７０６まで後戻りする。ＱＷＰ７２８を二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ７０６から反射され、ＡＲウィンドウ７１５を通って伝搬し、検出器に入射する。
【００７４】
参照経路において、参照ビームは、ＰＢＳ７１６によって直角に反射され、ミラー７１４Ｃに達する。参照ビームは、ミラー７１４Ｃによって直角に反射され、ＱＷＰ７２６を透過して、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ７１６まで後戻りする。ＱＷＰ７２６を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ７１６及びＱＷＰ７３０を透過して伝搬し、再帰性反射素子７３２に入射する。
【００７５】
参照ビームは、再帰性反射素子７３２によってオフセットしているが平行な経路を戻され、ＱＷＰ７３０を透過して、ＰＢＳ７０６に達する。ＱＷＰ７３０を二度通過した後、垂直偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ７０６から反射され、ＱＷＰ７２４を透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ７２４を透過して、ＰＢＳ７０６に戻る。ＱＷＰ７２４を二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ７０６を透過して伝搬し、測定ビームと再結合して、出射ビーム１０５Ｂを形成する。次に、出射ビーム１０５Ｂは、ＡＲウィンドウ７１５を透過して伝搬し、検出器に入射する。
【００７６】
上述のように、干渉計７００によれば、２つの参照ビーム光路が２つの測定ビーム光路間に挟まれているビームパターンが生じる。もちろん、測定経路と参照経路の方向を逆にすることもできるし、測定経路と参照経路を取り替えることも可能である。実施態様の１つでは、ＱＷＰ７３０をそっくり除去することによって、第１測定ビーム光路、第２測定ビーム光路、第１参照ビーム光路、及び、第２参照ビーム光路から構成される異なるビームパターンが生成される。
【００７７】
図８Ａ、図８Ｂ、及び、図８Ｃには、本発明の実施態様の１つにおける微分干渉計システム８００が例示されている。干渉計システム８００には、下部プリズム８０２及び上部プリズム８０４を備えた菱形アセンブリ含まれている。下部プリズム８０２は、垂直面８０２Ａ、傾斜面８０２Ｂ、垂直面８０２Ｃ、及び、傾斜面８０２Ｄを備えている。傾斜面８０２ＤがＴＩＲ鏡の働きをする点に留意されたい。ＡＲウィンドウ８１５が、入射ビーム１０５Ａ及び出射ビーム１０５Ｂの入射／出射ポートとして役立つように、垂直面８０２Ａに取り付けられている。
【００７８】
プリズム８０４には、水平面８０４Ａ、垂直面８０４Ｂ、及び、傾斜面８０４Ｃが含まれている。プリズム８０４は、傾斜面８０４Ｃを傾斜面８０２Ｂに固定する（例えば、接着する）ことによって、プリズム８０２の上に取り付けられている。ＰＢＳ８０５が、プリズム８０２と８０４との界面に形成されている。実施態様の１つでは、ＰＢＳ８０５は、面８０４Ｃまたは８０２Ｂに形成されたＰＢＳコーティングである。ＰＢＳ８０５は、一方の直線偏光（例えば、垂直偏光）を伝搬させ、もう一方の直交する直線偏光（例えば、水平偏光）を反射することによって、経路の分離及び再結合を行う。
【００７９】
ＱＷＰ素子８０６Ａ及び８０６Ｂが、垂直面８０２Ｃの上に直接またはそれらに隣接して間接的に取り付けられている。ＱＷＰ素子８０８Ａ及び８０８Ｂが、垂直面８０４Ｂの上に直接またはその上方に間接的に取り付けられている。ＱＷＰ素子８０６Ａ、８０６Ｂ、８０８Ａ、及び、８０８Ｂは、個別のＱＷＰとすることもできるし、あるいは、単一ＱＷＰの一部とすることも可能である。ＱＷＰ素子８１０が、水平面８０４Ａの上に直接またはそれに隣接して間接的に取り付けられている。リダイレクト光学素子８１２（例えば、コーナキューブ再帰性反射素子）が、ＱＷＰ８１０の上に直接またはそれに隣接して間接的に取り付けられている。
【００８０】
測定経路において、入射ビーム１０５Ａは、ＡＲウィンドウ８１５を通って伝搬し、ＰＢＳ８０５に入射する。初期偏光状態にある測定ビームは、ＰＢＳ８０５を透過して伝搬し、一方、参照ビームはＰＢＳ８０５から反射する。次に、測定ビームは、方向Ａに沿って伝搬し、ＱＷＰ８０８Ａを透過して、測定平面鏡１４２に達する。実施態様の１つにおいて、参照平面鏡１４４には、測定ビームが通過して、測定平面鏡１４２に到達する開口部が設けられている。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射され、それ自体に戻されて、ＱＷＰ８０８Ａを透過し、ＰＢＳ８０５まで戻される。ＱＷＰ８０８Ａを二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、ＰＢＳ８０５から反射されて、方向Ａに対して直交する方向Ｂに沿って伝搬し、ＱＷＰ８１０を透過して、再帰性反射素子８１２に入射する。
【００８１】
測定ビームは、再帰性反射素子８１２によって、方向Ａ及びＢの両方に対して直交する方向Ｃに沿ってオフセットさせられ、さらに、平行な経路を戻されて、ＱＷＰ８１０を透過し、ＰＢＳ８０５に達する。ＱＷＰ８１０を二度通過した後、水平偏光した測定ビームは、次に、方向Ｂに沿って伝搬し、ＰＢＳ８０５を透過して、ミラー８０２Ｄに達する。測定ビームは、ミラー８０２Ｄによって直角に反射されて、方向Ａに沿ってＱＷＰ８０６Ｂを透過し、測定平面鏡１４２に達する。上述のように、参照平面鏡１４４には、測定ビームが通過して、測定平面鏡１４２に到達する開口部を設けることが可能である。
【００８２】
測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ８０５まで後戻りする。ＱＷＰ８０６Ｂを二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ８０５から反射されて、方向Ａに沿って伝搬し、ＡＲウィンドウ８１５を透過して、検出器に入射する。
【００８３】
参照経路において、参照ビームは、ＰＢＳ８０５によって直角に反射され、方向Ｂに沿ってミラー８０２Ｄに達する。参照ビームは、ミラー８０２Ｄによって直角に反射され、方向Ａに沿って伝搬し、ＱＷＰ８０６Ａを透過して、参照平面鏡１４４に達する。
【００８４】
参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ８０５まで後戻りする。ＱＷＰ８０６Ａを二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ８０５及びＱＷＰ８１０を透過して伝搬し、再帰性反射素子８１２に入射する。
【００８５】
参照ビームは、再帰性反射素子８１２によって、方向Ｃに沿ってオフセットさせられ、さらに、平行な経路を戻されて、ＱＷＰ８１０を透過し、ＰＢＳ８０５に達する。ＱＷＰ８１０を二度通過した後、垂直偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ８０５から反射され、方向Ａに沿って伝搬し、ＱＷＰ８０８Ｂを透過して、参照平面鏡１４４に達する。
【００８６】
参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ８０８Ｂを透過して、ＰＢＳ８０５に戻る。ＱＷＰ８０８Ｂを二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ８０５を透過して伝搬し、測定ビームと再結合して、出射ビーム１０５Ｂを形成する。次に、出射ビーム１０５Ｂは、ＡＲウィンドウ８１５を透過して伝搬し、検出器に入射する。
【００８７】
上述のように、また、図８Ｂに示すように、干渉計８００によれば、左上及び右下の測定光路と、右上及び左下の参照光路によるビームパターンが生じる。もちろん、測定経路と参照経路の方向を逆にすることもできるし、測定経路と参照経路を取り替えることも可能である。実施態様の１つでは、ＱＷＰ８１０をそっくり除去することによって、左上及び右上の測定光路と、左下及び右下の参照光路から構成される異なるビームパターンが生成される。
【００８８】
図９Ａ、９Ｂ、及び、９Ｃには、本発明の実施態様の１つにおける微分干渉計システム９００が例示されている。干渉計システム９００には、平行面９０４及び９１４を備えたシャープレート９０２が含まれている。面９０４には、入射ポート９０６Ａ、入射ポート９０６Ａから方向Ａに沿ってオフセットした出射ポート９０６Ｂ、ミラー素子９０８Ａ、及び、ミラー素子９０８Ａから方向Ａに沿ってオフセットしたミラー素子９０８Ｂが含まれている。入射ポート９０６Ａ及び出射ポート９０６Ｂは、面９０４の同じＡＲコーティングまたはＡＲウィンドウから構成することが可能であり、ミラー９０８Ａ及び９０８Ｂは、面９０４の同じＨＲコーティングまたはミラー光学素子から構成することが可能である。
【００８９】
面９１４には、ＰＢＳ素子９１６Ａ、ＰＢＳ素子９１６Ａから方向Ａに沿ってオフセットしたＰＢＳ素子９１６Ｂ、ＰＢＳ素子９１６Ａに隣接した中間ポート９１８Ａ、及び、中間ポート９１８Ａから方向Ａに沿ってオフセットした中間ポート９１８Ｂが含まれている。ＰＢＳ素子９１６Ａは、（１）方向Ｂに対して平行なビーム経路において入射ポート９０６Ａに対向して配置され、（２）方向Ｃに対して平行なビーム経路においてミラー素子９０８Ａに対向して配置されている。方向Ｂ及びＣは、最終的には、入射ビーム１０５Ａに対するシャープレート９０２の角度によって決まる。ＰＢＳ素子９１６Ｂは、（１）方向Ｂに対して平行なビーム経路において出射ポート９０６Ｂに対向して配置され、（２）方向Ｃに対して平行なビーム経路においてミラー素子９０８Ｂに対向して配置されている。ＰＢＳ素子９１６Ａ及び９１６Ｂは、一方の直線偏光（例えば、垂直偏光）を伝搬し、もう一方の直交する直線偏光（例えば、水平偏光）を反射することによって、経路の分離及び再結合を行う。中間ポート９１８Ａが、方向Ｂに対して平行なビーム経路においてミラー素子９０８Ａに対向して配置されている。中間ポート９１８Ｂが、方向Ｂに対して平行なビーム経路においてミラー素子９０８Ｂに対向して配置されている。ＰＢＳ素子９１６Ａ及び９１６Ｂは、面９１４の同じＰＢＳコーティングまたはＰＢＳ光学素子から構成することが可能であり、一方、中間ポート９１８Ａ及び９１８Ｂは、面９１４の同じＡＲコーティングまたはＡＲウィンドウから構成することが可能である。
【００９０】
ＱＷＰ素子９２２Ａが、方向Ｄに沿った測定ビーム経路においてＰＢＳ９１６Ａと測定平面鏡１４２の間に配置されている。方向Ｄは、入射ビーム１０５Ａのもとの方向である。ＱＷＰ素子９２２Ｂが、方向Ｄに沿った参照ビーム経路においてＰＢＳ９１６Ｂと参照平面鏡１４４の間に配置されている。ＱＷＰ素子９２４Ａが、方向Ｄに沿ったもう１つの参照ビーム経路において中間ポート９１８Ａと参照平面鏡１４４の間に配置されている。ＱＷＰ素子９２４Ｂが、方向Ｄに沿ったもう１つの測定ビーム経路において中間ポート９１８Ｂと測定平面鏡１４２の間に配置されている。ＱＷＰ素子９２２Ａ、９２２Ｂ、９２４Ａ、及び、９２４Ｂは、個別のＱＷＰまたは単一ＱＷＰの一部とすることが可能である。
【００９１】
ＱＷＰ９３０及びリダイレクト光学素子９３２（例えば、コーナキューブ再帰性反射素子）が、方向Ｅに沿ったビーム経路においてＰＢＳ９１６Ａ及び９１６Ｂに対向して配置されている。方向Ｅは、最終的には、入射ビーム１０５Ａに対するシャープレート９０２の角度によって決まる。方向Ｂ、Ｃ、Ｄ、及び、Ｅは、全て、方向Ａに対して直交する平面内にある。
【００９２】
測定経路において、入射ビーム１０５Ａは、入射ポート９０６Ａにおける空気ガラス界面によって屈折させられ、シャープレート９０２を透過して、ＰＢＳ９１６Ａまで伝搬する。初期偏光状態にある測定ビームは、ＰＢＳ９１６Ａを透過して伝搬し、一方、参照ビームはＰＢＳ９１６Ａから反射する。ＰＢＳ９１６Ａにおいて、測定ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ９２２Ａを透過して伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。実施態様の１つにおいて、参照平面鏡１４４には、測定ビームが通過して、測定平面鏡１４２に到達する開口部が設けられている。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射され、それ自体に戻されて、ＱＷＰ９２２Ａを透過し、ＰＢＳ９１６Ａまで戻される。ＱＷＰ９２２Ａを二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ９１６Ａから反射され、ＱＷＰ９３０を透過して伝搬し、再帰性反射素子９３２に入射する。
【００９３】
測定ビームは、再帰性反射素子９３２によって方向Ａに沿ってオフセットさせられ、次に、平行な経路を戻されて、ＱＷＰ９３０を透過し、ＰＢＳ９１６Ｂに達する。ＱＷＰ９３０を二度通過した後、水平偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ９１６Ｂを透過して伝搬する。ＰＢＳ９１６Ｂにおいて、測定ビームは、空気ガラス界面によって屈折させられ、シャープレート９０２を透過して伝搬し、ミラー９０８Ｂに達する。
【００９４】
測定ビームは、ミラー９０８Ｂによって中間ポート９１８Ｂへと反射される。中間ポート９１８Ｂにおいて、測定ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ９２４Ｂを透過して伝搬し、測定平面鏡１４２に達する。実施態様の１つにおいて、参照平面鏡１４４には、測定ビームが通過して、測定平面鏡１４２に到達する開口部が設けられている。測定ビームは、測定平面鏡１４２によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ９１６Ｂまで後戻りする。ＱＷＰ９２４Ｂを二度通過した後、垂直偏光した測定ビームは、次に、ＰＢＳ９１６Ｂから反射され、出射ポート９０４Ｂまで伝搬する。出射ポート９０４Ｂにおいて、測定ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、検出器まで伝搬する。
【００９５】
参照経路において、参照ビームは、ＰＢＳ９１６Ａによってミラー９０８Ａへと反射される。参照ビームは、ミラー９０８Ａによって反射されて、中間ポート９１８Ａに送り込まれる。中間ポート９１８Ａにおいて、参照ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ９２４Ａを透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。
【００９６】
参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、さらに、その経路をＰＢＳ９１６Ａまで後戻りする。ＱＷＰ９２４Ａを二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ９１６Ａを透過して伝搬する。ＰＢＳ９１６Ａにおいて、参照ビームは、ガラス空気界面によって屈折させられ、ＱＷＰ９３０を透過して伝搬し、再帰性反射素子９３２に入射する。
【００９７】
参照ビームは、再帰性反射素子９３２によって方向Ａに沿ってオフセットさせられ、平行な経路を戻されて、ＱＷＰ９３０を透過し、ＰＢＳ９１６Ｂに達する。ＱＷＰ９３０を二度通過した後、垂直偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ９１６Ｂから反射され、ＱＷＰ９２２Ｂを透過して伝搬し、参照平面鏡１４４に達する。参照ビームは、参照平面鏡１４４によって反射されて、それ自体に戻され、ＱＷＰ９２２Ｂを透過して、ＰＢＳ９１６Ｂに戻る。ＱＷＰ９２２Ｂを二度通過した後、水平偏光した参照ビームは、次に、ＰＢＳ９１６Ｂを透過して伝搬し、測定ビームと再結合して、出射ビーム１０５Ｂを形成する。ＰＢＳ９１６Ｂにおいて、出射ビーム１０５Ｂは、空気ガラス界面によって屈折させられ、シャープレート９０２を透過して、出射ポート９０６Ｂまで伝搬する。出射ポート９０６Ｂにおいて、出射ビーム１０５Ｂは、ガラス空気界面によって屈折させられ、検出器まで伝搬する。
【００９８】
上述のように、また、図９Ｂに示すように、干渉計システム９００によれば、左上及び右下の測定光路と、右上及び左下の参照光路によるビームパターンが生じる。もちろん、測定経路と参照経路の方向を逆にすることもできるし、測定経路と参照経路を取り替えることも可能である。実施態様の１つでは、ＱＷＰ９３０をそっくり除去することによって、左上及び右上の測定光路と、左下及び右下の参照光路から構成される異なるビームパターンが生成される。
【００９９】
開示された実施態様の特徴のさまざまな改変及び組み合わせは、本発明の範囲内である。光学コンポーネントは、図示のように、別の光学コンポーネントに取り付けられているが、ただ単に、ビームの経路内において互いに隣接して配置することも可能である。さらに、ＱＷＰ及びＨＷＰについて解説されているが、これらの波長板のリタデーションを調整して、測定ビーム及び参照ビームの実際の偏光を補正することが可能である。多数の実施態様が、添付の請求項に包含されている。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図２】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図３】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図４】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図５】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図６】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図７】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図８Ａ】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図８Ｂ】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図８Ｃ】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図９Ａ】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図９Ｂ】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【図９Ｃ】本発明の実施態様における干渉計システムを例示した図である。
【符号の説明】
【０１０１】
１００  干渉計システム
１０２  第１プリズム
１０２Ａ  第１垂直面
１０２Ｃ  第１傾斜面
１０４  第２プリズム
１０４Ａ  第２傾斜面
１０４Ｃ  第３傾斜面
１０６  第１ＰＢＳ
１１２  第３プリズム
１１２Ａ  第２垂直面
１１２Ｃ  第４傾斜面
１１４  第４プリズム
１１４Ａ  第５傾斜面
１１４Ｃ  第６傾斜面
１１６  第２ＰＢＳ
１２２  第１波長板素子
１２４  第２波長板素子
１２６  第３波長板素子
１２８  第４波長板素子
１３０  第５波長板素子
１３２  リダイレクト光学素子
１４２  測定光学素子
１４４  参照光学素子
２００  干渉計システム
２０２  第１プリズム
２０２Ａ  第１垂直面
２０２Ｃ  第１傾斜面
２０４  第２プリズム
２０４Ａ  第２傾斜面
２０４Ｃ  第３傾斜面
２０６  第３プリズム
２０６Ａ  第４傾斜面
２０６Ｃ  第５傾斜面
２０８  第１ＰＢＳ
２１０  第２ＰＢＳ
２１２  第２ミラー
２１４  第１波長板素子
２１６  第２波長板素子
２１８  第３波長板素子
２２０  第４波長板素子
２２２  第５波長板素子
２２４  リダイレクト光学素子
３００  干渉計システム
３０６  第３プリズム
３０６Ｃ  第５傾斜面
４００  干渉計システム
４０２  シャープレート
４０４  第１面
４０６  入射ポート
４０７  第１ミラー
４０８  出射ポート
４０９  第２ミラー
４１４  第２面
４１６  第１ＰＢＳ
４１７  第１中間ポート
４１８  第２ＰＢＳ
４１９  第２中間ポート
４２６  第１波長板
４２７  第２波長板
４２８  第３波長板
４２９  第４波長板
４３０  第５波長板
４３２  リダイレクト光学素子
５００  干渉計システム
５０２  シャープレート
５０４  第１傾斜面
５０６Ａ  入射ポート
５０６Ｂ  出射ポート
５０８Ａ  第１ミラー素子
５０８Ｂ  第２ミラー素子
５１４  第２傾斜面
５１６Ａ  第１ＰＢＳ素子
５１６Ｂ  第２ＰＢＳ素子
５１８Ａ  第１中間ポート
５１８Ｂ  第２中間ポート
５２２  第１波長板素子
５２４  第２波長板素子
５２６  第３波長板素子
５２８  第４波長板素子
５３０  第５波長板素子
５３２  リダイレクト光学素子
６００  干渉計システム
６０２  第１プリズム
６０２Ａ  第１垂直面
６０２Ｃ  第１傾斜面
６０４  第２プリズム
６０４Ａ  第２傾斜面
６０４Ｃ  第３傾斜面
６０６  第１ＰＢＳ
６１２  第３プリズム
６１２Ａ  第２垂直面
６１２Ｃ  第４傾斜面
６１４  第４プリズム
６１４Ａ  第５傾斜面
６１４Ｃ  第６傾斜面
６１５Ａ  入射ポート
６１５Ｂ  出射ポート
６１６  第２ＰＢＳ
６２２  第１波長板素子
６２４  第２波長板素子
６２６  第３波長板素子
６２８  第４波長板素子
６３０  第５波長板素子
６３２  リダイレクト光学素子
７００  干渉計システム
７０２  第１プリズム
７０２Ａ  第１垂直面
７０２Ｃ  第１傾斜面
７０４  第２プリズム
７０４Ａ  第２傾斜面
７０４Ｃ  第３傾斜面
７０６  第１ＰＢＳ
７１２  第３プリズム
７１２Ａ  第２垂直面
７１２Ｃ  第４傾斜面
７１４  第４プリズム
７１４Ａ  第５傾斜面
７１４Ｃ  第６傾斜面
７１６  第２ＰＢＳ
７２２  第１波長板素子
７２４  第２波長板素子
７２６  第３波長板素子
７２８  第４波長板素子
７３０  第５波長板素子
７３２  リダイレクト光学素子
８００  干渉計システム
８０２  第１プリズム
８０２Ａ  第１垂直面
８０２Ｂ  第１傾斜面
８０２Ｃ  第２垂直面
８０２Ｄ  第２傾斜面
８０４  第２プリズム
８０４Ａ  水平面
８０４Ｂ  第３垂直面
８０４Ｃ  第３傾斜面
８０５  ＰＢＳ
８０６Ａ  第１波長板素子
８０６Ｂ  第２波長板素子
８０８Ａ  第３波長板素子
８０８Ｂ  第４波長板素子
８１０  第５波長板素子
８１２  リダイレクト光学素子
９００  干渉計システム
９０２  シャープレート
９０４  第１傾斜面
９０６Ａ  入射ポート
９０６Ｂ  出射ポート
９０８Ａ  第１ミラー素子
９０８Ｂ  第２ミラー素子
９１４  第２傾斜面
９１６Ａ  第１ＰＢＳ素子
９１６Ｂ  第２ＰＢＳ素子
９１８Ａ  第１中間ポート
９１８Ｂ  第２中間ポート
９２２Ａ  第１波長板素子
９２２Ｂ  第２波長板素子
９２６Ａ  第３波長板素子
９２６Ｂ  第４波長板素子
９３０  第５波長板素子
９３２  リダイレクト光学素子
【図１】
2006038869.tif 000003
【図２】
2006038869.tif 000004
【図３】
2006038869.tif 000005
【図４】
2006038869.tif 000006
【図５】
2006038869.tif 000007
【図６】
2006038869.tif 000008
【図７】
2006038869.tif 000009
【図８Ａ】
2006038869.tif 000010
【図８Ｂ】
2006038869.tif 000011
【図８Ｃ】
2006038869.tif 000012
【図９Ａ】
2006038869.tif 000013
【図９Ｂ】
2006038869.tif 000014
【図９Ｃ】
2006038869.tif 000015