(57)【要約】【課題】  フィルタの水分を効率よく除去し、不活性ガス循環立ち上げ時間を短縮する。【解決手段】  露光装置本体の少なくとも一部を隔離するチャンバ３と、該チャンバに不活性ガスを循環させる送風機１０と、該不活性ガスを清浄化するフィルタ１１とを有する露光装置において、ドライガスを生成し、前記チャンバを経由することなく前記フィルタを介して前記ドライガスを循環させるフィルタドライ手段２５を設ける。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置本体の少なくとも一部を隔離するチャンバと、該チャンバに不活性ガスを循環させる送風機と、該不活性ガスを清浄化するフィルタとを有する露光装置において、
ドライガスを生成し、前記チャンバを経由することなく前記フィルタを介して前記ドライガスを循環させるフィルタドライ手段を設けたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記フィルタドライ手段は、前記フィルタを介して前記ドライガスを循環させる送風機と、前記フィルタを通過したガスを冷却する冷却器と、冷却したガスを加熱する加熱器とを備えることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記フィルタドライ手段の送風機、冷却器および加熱器の少なくとも１つとして、前記不活性ガス循環系のものを兼用したことを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記フィルタドライ手段は、前記チャンバの入口部および出口部に前記不活性ガス循環経路を遮断する弁を備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項５】
前記フィルタドライ手段は、前記チャンバをバイパスする経路と、ガス循環経路を前記チャンバ側とバイパス経路側とに切り替える弁を備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項６】
前記フィルタドライ手段は、前記フィルタ部の温度を検知する温度センサと、該温度センサの出力に基づいて前記ドライガスを温調する手段とを備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項７】
前記ドライガスが、前記不活性ガスであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項８】
前記フィルタドライ手段は、ドライガスをドライガス循環系に供給する供給弁と、該循環系からガスを排出する排出弁とを有し、該排出弁を前記冷却器部分に配置され、該排出弁を介して前記冷却器で生じる結露水の排出が可能であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１つに記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不活性ガスの温調循環システムを有する露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造等に用いられる露光装置の光源は、露光パターンの微細化に伴い短波長化が進んでいる。すなわち、露光光源は、ｉ線からエキシマレーザへとシフトし、さらにはそのレーザ光源もＫｒＦからＡｒＦへとシフトしてきた。現在さらなる微細化への要求を満足するためにＦ２レーザの使用が検討されている。
【０００３】
Ｆ２レーザを光源に用いた露光システムを構築するためには、露光光エネルギー減衰に対する対策が必要となる。Ｆ２レーザ光は大気中に含まれる水分や酸素、有機ガス等にエネルギーが吸収されるため、従来の露光装置をそのまま適用することはできない。
【０００４】
そこでＦ２レーザへの対応を図る手段として、露光光が通過する空間全てを隔壁で密閉し、その空間に窒素等の不活性ガスを充填する方法が考えられる。しかし、この方法においてもウエハおよびレチクルが配置される空間はステージのリニアモータ等による発熱量が多く、位置精度を維持するためには空間内温度揺らぎ除去を目的とする不活性ガスの温調循環システムを必要とする。
【０００５】
図３に従来の不活性ガス循環システムの概略図を示す。露光装置本体内部のウエハ空間１およびレチクル空間２をチャンバ３で囲み、チャンバ３内部を密閉空間とする。各空間には温調ガス吹出し部４および回収部５が設けられている。
【０００６】
前記チャンバ３に温調およびコンタミ除去された不活性ガスを循環させるために、循環装置６が設置され、チャンバ３の吹出し部４と回収部５にそれぞれ供給ダクト７とリターンダクト８を介して接続される。循環装置６は、不活性ガスの流れ方向に冷却器９、送風機１０、フィルタ１１、加熱器１２の順に配置された内部機器を備える。
【０００７】
ウエハ空間１およびレチクル空間２の内部からリターンダクト８を経て回収された不活性ガスは、ウエハ空間１およびレチクル空間２の内部発熱を吸収しているため、冷却器９にて冷媒と熱交換される。冷却された不活性ガスは、フィルタ１１へ送られコンタミ除去される。ここでフィルタ１１は、レジスト反応性に富むアンモニアを除去するケミカルフィルタや、光学部材を劣化させるシロキサンその他有機ガス等を除去する活性炭フィルタや、さらにはパーティクルを除去するＵＬＰＡフィルタ等で構成される。冷却およびコンタミ除去された不活性ガスは、さらに加熱器１２にて加熱温調され、温調ガス吹出し部４へ循環される。この循環の流体移送の動力源は送風機１０である。
【０００８】
併せて、不活性ガス注入弁１３より高純度の不活性ガスをウエハ空間１およびレチクル空間２に注入することにより、ウエハ空間１およびレチクル空間２内の不活性ガスの濃度を維持し、排出弁１４より所定量のガスを絞り弁１５を経て排出させることにより、ウエハ空間１およびレチクル空間２の内圧を上げて、外気の進入を防止する。
【０００９】
不活性ガスの温調は、温度センサ１６が不活性ガスの温度を検出し、その信号が温調器１７に入力され、ＰＩＤフィードバック制御によりその加熱器１２の出力を調整することにより行われる。
【特許文献１】特開平０９−２４６１４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、従来の不活性ガス循環システムは、不活性ガスのコンタミ除去を目的としたフィルタを有するが、該フィルタの実表面積は非常に大きく多量の水分を吸着する。特に初期立ち上げ時やメンテナンス等でフィルタを大気に触れさせると、多くの水分を含んだ状態となるため、水分を所定の濃度以下に下げるまで多くの時間を要してしまう。
そこでフィルタの水分を枯らすためにヒータによる加熱を行うことで水分濃度を下げる時間を短縮できるが、通常の循環経路でそのまま加熱し循環させると露光装置本体も加熱されるため好ましくない。また、循環を行わずフィルタ部のみ密閉できる構造としその空間に不活性ガスをチャージおよび排出し同時に内部を加熱することも考えられるが、自然対流が支配的となり温度むらが生じ均一な加熱が難しく、かつ流体の移動が少ないため直ぐに飽和状態となり十分なドライが行えない。また冷却に多くの時間を必要とし、冷却が不十分な状態で通常の循環を開始すると、密閉系のため内圧が上昇し、これによりレンズ等の圧力に敏感な機器を破壊する危険がある。
【００１１】
本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、フィルタの水分を効率よく除去し、不活性ガス循環立ち上げ時間を短縮することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の目的を達成するため、本発明では、露光装置本体の少なくとも一部を隔離するチャンバと、該チャンバに不活性ガスを循環させる送風機と、該不活性ガスを清浄化するフィルタとを有する露光装置において、ドライガスを生成し、前記チャンバを経由することなく前記フィルタを介して前記ドライガスを循環させるフィルタドライ手段を設けたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、高い水分吸収能を有するドライガスの生成によりフィルタドライの所要時間の短縮化が図れ、また循環を行うことによりドライガスを再利用することから不活性ガスの消費を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の好ましい実施の形態では、気密チャンバと該気密チャンバに不活性ガスを循環させる送風機と不活性ガスを冷却する冷却器と不活性ガスを加熱する加熱器と不活性ガスのコンタミ除去を行うフィルタとからなる不活性ガス循環系と、該循環系の所定の位置に設置されたセンサと温調器により前記気密チャンバ内部の温調および清浄化機能を有する露光装置であって、送風機、冷却器および加熱器で構成されるドライガス生成機能と、生成したドライガスを前記フィルタを介して循環させる循環経路とを有するフィルタドライ機能を有することを特徴とする。
上記構成によれば、高い水分吸収能を有するドライガスの生成によりフィルタドライの所要時間の短縮化が図れ、また循環を行うことによりドライガスを再利用することから不活性ガスの消費を低減することができる。
【００１５】
ここで、ドライガスは、前記不活性ガスと同一または同種のものであることが好ましい。これにより、フィルタドライ終了時のドライガスのパージが不要となる。また、該フィルタドライ機能は、さらにフィルタ部の温度を検知する温度センサおよび温調器を有し、フィルタ部を温調できることが好ましい。これにより、フィルタドライ終了時の冷却待ち時間の短縮化が図れ、前記フィルタドライの所要時間の短縮化に加えて全体の立ち上げ時間の短縮化が図れ、結果としてスループット向上に寄与する。
【００１６】
また、該フィルタドライ機能が有する冷却器部にドレン排出口を設け、前記ドライガスがフィルタ部にて吸収した水分を外部に排出できる構造であることが好ましい。また、前記フィルタドライ機能は、不活性ガス供給口および不活性ガス排出口を有し、高純度の不活性ガスを注入することにより内部の不活性ガスの濃度を維持できることが好ましい。さらに不活性ガス排出口は、前記ドレン排出口と兼用させると好適である。
また、不活性ガス循環系の経路上において、前記フィルタの上流でかつ前記ドライガス循環経路の接続口の上流側および前記フィルタの下流でかつ前記ドライガス循環経路の接続口の下流の出口部に不活性ガス循環経路を遮断する弁を新たに設けることにより、前記ドライガスが露光装置本体に到達することを防止することが好ましい。不活性ガス循環経路を遮断する弁を設けた場合、チャンバ内メンテナンス時もフィルタに大気を接触させることなく復帰および立ち上げ時間を短縮できるという効果もある。
【００１７】
該フィルタドライ機能は、前記不活性ガス循環系を構成する送風機、冷却器および加熱器を用いて実現することもできる。例えば、前記チャンバをバイパスするバイパス経路を新たに設け、前記バイパス経路および前記チャンバの各入口部および各出口部に遮断弁を設け、チャンバとバイパスの経路切替を行う。また、不活性ガスを前記循環系に供給する供給弁、および前記循環系に不活性ガスを排出する排出弁を、前記排出弁は前記冷却器部に設け、前記冷却器で生じる結露水の排出も行い、前記供給弁は前記チャンバおよび前記バイパス経路以外の循環系に少なくとも１つ以上設けることが好ましい。これにより、露光装置が元々備えている不活性ガス循環系の機器類にてドライガスを生成循環し、フィルタドライ機能を兼用させることができる。
【実施例】
【００１８】
以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。
［第１の実施例］
図１は、本発明の第１の実施例に係る露光装置の概念図である。同図の露光装置は、図３に示す従来例に対し、ドライガス生成装置２５を設け、このドライガス生成装置２５をフィルタ１１の上流側および下流側にそれぞれ排気ダクト２３および供給ダクト２４を介して接続したものである。
すなわち、図１の露光装置では、露光装置本体内部のウエハ空間１およびレチクル空間２をチャンバ３で囲み、チャンバ３内部を密閉空間とする。各空間には温調ガス吹出し部４および回収部５が設けられている。前記チャンバ３に温調およびコンタミ除去された不活性ガスを循環させるために、循環装置６が設置され、チャンバ３の吹出し部４と回収部５にそれぞれ供給ダクト７とリターンダクト８を介して接続される。循環装置６は、不活性ガスの流れ方向に冷却器９、送風機１０、フィルタ１１、加熱器１２の順に配置された内部機器を備える。
【００１９】
不活性ガスの循環装置６の内部に備えられたフィルタ１１の上流側および下流側に、新たにドライガス排気口２１およびドライガス給気口２２を設ける。また、ドライガス排気口２１およびドライガス給気口２２に其々排気ダクト２３および給気ダクト２４を設け、ドライガス生成装置２５と接続する。これにより、フィルタ１１とドライガス生成装置２５間を循環するドライガス循環経路ができる。通常の不活性ガス循環時にフィルタ１１をバイパスする経路ができることを防ぐため、該ドライガス循環経路上には少なくとも１つ遮断弁２６を設ける。
【００２０】
また、不活性ガス循環系の経路上においても、前記フィルタ１１の上流でかつ前記ドライガス排気口２１の上流側に遮断弁２７を、さらに前記フィルタ１１の下流でかつ前記ドライガス給気口２の下流側に遮断弁２８を設け、通常の不活性ガス循環時は遮断弁２７および遮断弁２８を開状態とするが、フィルタドライ時は遮断弁２７および遮断弁２８を閉状態とし不活性ガスの循環経路を閉鎖し、高温のドライガスの本体への進入を防ぐ。
【００２１】
前記ドライガス生成装置２５は、流れ方向にドライガス冷却器２９、ドライガス送風機３０、ドライガス加熱器３１の順に配置された内部機器を備える。また、該ドライガス冷却器２９部にはドレン排出弁３２が設けられている。
また、前記ドライガス生成装置２５は、さらに不活性ガス供給口３３および不活性ガス排出口３４を有し、不活性ガスを注入および排出できる構造とする。
さらにフィルタ１１部の温度を検知する温度センサ３５およびその検知温度に応じてドライガス加熱器３１への出力を調節する温調器３６を有し、フィルタ部を温調できる構造とする。
【００２２】
本実施例におけるフィルタドライの方法について述べる。
フィルタドライを行う場合は、遮断弁２７および遮断弁２８を閉じて不活性ガス循環経路を遮断し、かつ遮断弁２６も閉じた状態とし、不活性ガス供給口３３から高純度の不活性ガスを注入し、かつ不活性ガス排出口３４からガスを排出させて閉空間を不活性ガスで置換する。不活性ガス置換後、遮断弁２６を開けドライガス循環経路を開通させる。不活性ガス供給口３３からの不活性ガスパージを行いながらドライガス送風機３０を駆動させ循環を行う。
【００２３】
循環ガスは、ドライガス冷却器２９で冷却され、循環ガスの冷却温度での過飽和分の水分を結露させることによりドライガスとなりドライガス加熱器３１へ供給される。ドライガス加熱器３１で加熱温調されたドライガスは、さらなる高い水分吸収能を有したドライガスとなりフィルタ部へ供給される。
このとき温度センサ３５にてフィルタ部の温度が所定の温度になるように温調器３６によりドライガス加熱器３１の出力を制御する。設定温度はドライ性能上１１０℃ぐらいが好ましいが、フィルタ１１の耐熱上限が１１０℃以下の場合耐熱温度が設定される。
【００２４】
ドライガスは、フィルタ１１を通過するときにフィルタ１１が含んでいる水分を最大でドライガス加熱器３１の加熱温度の飽和状態に達するまでの量を吸収し、ドライガス冷却器２９へ循環される。
フィルタ内の水分は、ドライガス冷却器２９で結露しドレン排出弁３２より排出される。
ここでドレン排出弁３２と不活性ガス排出口３４を兼用させるとさらに好適である。
【００２５】
また、本実施例では不活性ガス循環時の気流の流れ方向とフィルタドライ時のドライガスの流れ方向は逆方向であるが、本発明は流れ方向を限定するものではない。従って、不活性ガス循環時の気流の流れ方向とフィルタドライ時のドライガスの流れ方向が同一の場合も本発明に含まれる。
【００２６】
本実施例によれば、高い水分吸収能を有したドライガスの生成によりフィルタドライの所要時間の短縮化が図れ、また循環を行うことによりドライガスを再利用することから不活性ガスの消費を低減することができる。
【００２７】
また、フィルタドライを終了する場合、ドライガス加熱器３１をオフすることで素早くドライガス循環系をドライガス冷却器２９にて冷却することができ、冷却待ち時間の短縮化を図ることができる。
また、フィルタドライから通常の不活性ガス循環への切り替えを行う場合、ドライガス循環系を不活性ガス循環状態と同じ温度設定で温調循環させてから遮断弁２６を閉じてドライガスの循環を止めることにより、遮断弁２７および遮断弁２８を開けたときの温度差による圧力変動を小さくすることができる。
さらに、チャンバ内メンテナンス時は、遮断弁２７および遮断弁２８を閉状態とすることにより、フィルタに大気を接触させることなくメンテナンスを実施することができ、フィルタの湿気吸収を少なくすることができるので、不活性ガス循環の復帰または立ち上げ時間を短縮することができる。
【００２８】
［第２の実施例］
図２は、本発明の第２の実施例に係る露光装置の概念図である。前述した図３に示す従来例および図１に示す第１の実施例と共通する部分は同じ番号で示している。図２の装置は、機能としては前記第１の実施例と同じであるが、ドライガスの生成および循環を専用の生成装置を用いずに不活性ガスの循環装置６を兼用して行うところが前記第１の実施例と異なる。なお、加熱したガスが直接フィルタ１１に供給されるように、第１の実施例とはフィルタ１１と加熱器１２との順序を入れ替えてある。
【００２９】
図２に示すように、露光装置本体内部のウエハ空間１およびレチクル空間２をチャンバ３で囲み、チャンバ３内部を密閉空間とする。各空間には温調ガス吹出し部４および回収部５が設けられている。前記チャンバ３に温調およびコンタミ除去された不活性ガスを循環させるために、循環装置６が設置され、供給ダクト７を介して吹出し部４に、そしてリターンダクト８を介して回収部５にそれぞれ接続される。
循環装置６は、不活性ガスの流れ方向に冷却器９、送風機１０、加熱器１２およびフィルタ１１の順に配置された内部機器を備える。
【００３０】
前記供給ダクト７および前記リターンダクト８間を連通させチャンバ３をバイパスするバイパス経路３７を新たに設け、該バイパス経路３７上にバイパス経路３７を遮断するバイパス経路遮断弁３８を設ける。また、さらに前記バイパス経路３７と供給ダクト７およびリターンダクト８との接合部とチャンバ３の間にチャンバ３への循環経路を遮断するチャンバ経路遮断弁３９を各々に設ける。
【００３１】
前記循環装置６は、内部機器である冷却器９部にはドレン排出口３２が設けられ、またさらに不活性ガス供給口３３および不活性ガス排出口３４を有し、不活性ガスを注入および排出できる構造とする。さらにフィルタ部の温度を検知する温度センサ３５を有し、フィルタ部を温調できる構造とする。
【００３２】
本実施例におけるフィルタドライの方法について述べる。
フィルタドライを行う場合は、チャンバ経路遮断弁３９を閉じバイパス経路遮断弁３８を開け、チャンバ３への循環経路を遮断しバイパス経路３７を開通させた状態とする。この状態で、不活性ガス供給口３３から高純度の不活性ガスを注入するとともに不活性ガス排出口３４から排出させ、バイパス経路３７および循環装置からなる閉空間を不活性ガスで置換（パージ）する。不活性ガス置換後、不活性ガス供給口３３からの不活性ガスパージを行いながら送風機１０を駆動させ循環を行う。
【００３３】
循環ガスは、冷却器９で冷却され、循環ガスの冷却温度での過飽和分の水分を結露させることによりドライガスとなり加熱器１２へ供給される。加熱器１２で過熱温調されたドライガスは、さらなる高い水分吸収能を有したドライガスとなりフィルタ部へ供給される。このとき温度センサ３５にてフィルタ部の温度が所定の温度になるように温調器１７により加熱器１２の出力を制御する。ここで温調器１７は、２系統の温度センサ用の入力を有し、通常の不活性ガス循環時は温度センサ１６からの信号を、フィルタドライ時は温度センサ３５からの信号を入力できる入力切替機能を有し、かつ不活性ガス循環時とフィルタドライ時と別々の温度設定が行える機能を有する構造とする。
フィルタドライ時の設定温度はドライ性能上１１０℃ぐらいが好ましいが、フィルタの耐熱上限が１１０℃以下の場合耐熱温度が設定される。
【００３４】
ドライガスは、フィルタ１１を通過するときにフィルタ１１が含んでいる水分を最大で加熱器１２の加熱温度の飽和状態に達するまでの量を吸収し、冷却器９へ循環される。フィルタ内の水分は、ドライガス冷却器２９で結露しドレン排出口１２より排出される。ここでドレン排出口１２と不活性ガス排出口３４を兼用させるとさらに好適である。
【００３５】
フィルタドライ時は前述したようにチャンバ経路遮断弁３９を閉じているため、露光装置本体ならびにチャンバ３に高温のドライガスが流入することはない。さらなる熱影響を考慮するならば、バイパス経路３７およびチャンバ経路遮断弁３９の設置位置は極力露光装置本体およびチャンバ３から遠ざけることが好ましい。
また、循環装置６内の送風機１０は、通常の不活性ガス循環時とフィルタドライ時各々の最適な風量が設定できるように、インバーター等の不図示の風量調整機能を備えることが好ましい。
【００３６】
本実施例によれば、第１の実施例と同様の機能を通常の不活性ガス循環時に使用する機器類を兼用することで実現できるため、装置の省スペース化およびコストダウン等のメリットがさらに付加される。
【００３７】
［第３の実施例］
次に、この露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。
図４は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。
ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マスク製作）では設計したパターンを形成したマスクを製作する。
一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクを設置した露光装置とウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップ７でこれを出荷する。
【００３８】
上記ステップ４のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するＣＶＤステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに焼付露光する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１の実施例に係る露光装置の概略図である。
【図２】本発明の第２の実施例に係る露光装置の概略図である。
【図３】従来の技術の説明図である。
【図４】デバイスの製造プロセスのフローを説明する図である。
【符号の説明】
【００４０】
１：ウエハ空間
２：レチクル空間
３：チャンバ
４：温調ガス吹出し部
５：回収部
６：循環装置
７：供給ダクト
８：リターンダクト
９：冷却器
１０：送風機
１１：フィルタ
１２：加熱器
１３：不活性ガス注入弁
１４：排出弁
１５：絞り弁
１６：温度センサ
１７：温調器
２１：ドライガス排気口
２２：ドライガス給気口
２３：排気ダクト
２４：供給ダクト
２５：ドライガス生成装置
２６：遮断弁
２７：遮断弁
２８：遮断弁
２９：ドライガス冷却器
３０：ドライガス送風機
３１：ドライガス加熱器
３２：ドレン排出弁
３３：不活性ガス供給口
３４：不活性ガス排出口
３５：温度センサ
３６：温調器
３７：バイパス経路
３８：バイパス経路遮断弁
３９：チャンバ経路遮断弁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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