(57)【要約】【課題】同一高さの溝を容易に認識可能にして、ウェハを水平に配置する。【解決手段】  開口した前面を有する筐体を構成する一対の側壁１１ａ，１１ｂと、前記一対の側壁に夫々複数設けられた溝部３と、前記溝部へ照明光を照射するために前記筐体の裏壁又は側壁の一方に設けられる開口部５とを具備したことを特徴とする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口した前面を有する筐体を構成する一対の側壁と、
前記一対の側壁に夫々複数設けられた溝部と、
前記溝部へ照明光を照射するために前記筐体の裏壁又は側壁の一方に設けられる開口部とを具備したことを特徴とするウェハカセット。
【請求項２】
請求項１に記載のウェハカセットの前面側又は背面側に配置され、前記開口した前面又は前記裏壁に設けられた開口部を介して前記一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明する照明手段を具備したことを特徴とするウェハ位置指示装置。
【請求項３】
前記照明手段は、前記一対の溝部を夫々照明する２つの光出射手段を具備したことを特徴とする請求項２に記載のウェハ位置指示装置。
【請求項４】
前記照明手段は、前記一対の溝部を夫々交互に照明するための水平面の法線方向を軸にした回転機構を具備したことを特徴とする請求項２に記載のウェハ位置指示装置。
【請求項５】
請求項１に記載のウェハカセットの側面に配置され、前記側壁に設けられた開口部を介して前記一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明する照明手段を具備したことを特徴とするウェハ位置指示装置。
【請求項６】
前記照明手段は、異なる高さの前記一対の溝部を照明するために照明の高さを変更する手段を具備したことを特徴とする請求項２又は６のいずれか一方に記載のウェハ位置指示装置。
【請求項７】
開口した前面を有する筐体を構成する一対の側壁と、
前記一対の側壁に夫々複数設けられた溝部と、
前記溝部へ照明光を照射するために前記筐体の裏壁又は側壁の一方に設けられる開口部と、
前記前面側又は背面側に配置され、前記開口した前面又は前記裏壁に設けられた開口部を介して前記一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明する照明手段を有するウェハ位置指示装置と、
を具備したことを特徴とするウェハカセット。
【請求項８】
前記照明手段は、前記一対の溝部を夫々照明する２つの光出射手段を具備したことを特徴とする請求項７に記載のウェハカセット。
【請求項９】
前記照明手段は、前記一対の溝部を夫々交互に照明するための水平面の法線方向を軸にした回転機構を具備したことを特徴とする請求項７に記載のウェハカセット。
【請求項１０】
開口した前面を有する筐体を構成する一対の側壁と、
前記一対の側壁に夫々複数設けられた溝部と、
前記溝部へ照明光を照射するために前記筐体の裏壁又は側壁の一方に設けられる開口部と、
前記側壁の近傍に配置され、前記側壁に設けられた開口部を介して前記一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明する照明手段を有するウェハ位置指示装置と、
を具備したことを特徴とするウェハカセット。
【請求項１１】
前記照明手段は、異なる高さの前記一対の溝部を照明するために照明の高さを変更する手段を具備したことを特徴とする請求項７又は１０のいずれか一方に記載のウェハカセット。
【請求項１２】
電気光学装置用基板を、請求項１乃至１１のいずれか１つに記載のウェハカセットの前記一対の側壁に夫々複数設けられた溝部のうちの対応する位置の溝部に挿入する工程を具備したことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数枚の半導体基板、ガラス基板、石英基板等を収納可能なウェハカセットに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に電気光学装置、例えば、電気光学物質に液晶を用いて所定の表示を行う液晶装置は、一対の基板間に液晶が挟持された構成となっている。このうち、ＴＦＴ駆動、ＴＦＤ駆動等によるアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置等の電気光学装置においては、縦横に夫々配列された多数の走査線（ゲート線）及びデータ線（ソース線）の各交点に対応して、画素電極及びスイッチング素子を基板（アクティブマトリクス基板）上に設けて構成される。
【０００３】
ＴＦＴ素子等のスイッチング素子は、ゲート線に供給されるオン信号によってオンとなり、ソース線を介して供給される画像信号を画素電極（透明電極（ＩＴＯ））に書込む。これにより、画素電極と対向電極相互間の液晶層に画像信号に基づく電圧を印加して、液晶分子の配列を変化させる。こうして、画素の透過率を変化させ、画素電極及び液晶層を通過する光を画像信号に応じて変化させて画像表示を行う。
【０００４】
このようなスイッチング素子を構成する素子基板は、集積回路等の半導体装置と同様に、半導体プロセスによって製造される。即ち、シリコンウェハに相当するガラス又は石英基板（以下、これらを総称してウェハという）上に、所定のパターンを有する半導体薄膜、絶縁性薄膜又は導電性薄膜を積層することによって構成される。即ち、各種膜の成膜工程とフォトリソグラフィ工程の繰返しによって、ＴＦＴ基板等は形成されている。
【０００５】
このような半導体プロセスによって製造される電気光学装置等を含む半導体装置においては、一般的には、各プロセスの処理を行う装置間の搬送に際して、多数枚のウェハを一旦カセット（ウェハ治具又はウェハカセットともいう）に収納してウェハ治具毎に搬送する方法が採用される。
【０００６】
ウェハ治具は、例えば前面が開口した筐体であり、筐体内の左右の側面には、ウェハを支持するための複数の溝が形成されている。この溝内にウェハの両端を挿入することで各ウェハを支持するようになっている。
【０００７】
この場合において、ウェハのカセットへのローディング（収納）又はアンローディングを容易にするものとして、特許文献１においては、自動ロボットを採用した装置が開示されている。
【特許文献１】特開平５−１１４６４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、半導体プロセス中の実験、試験や検査のための工程にウェハが投入されることがある。また、製品とするウェハ以外のダミーウェハが工程中に投入されることもある。このような場合には、搬送工程において自動ロボットを利用することができず、人手でウェハをウェハ治具に収納する必要があることがある。
【０００９】
しかしながら、ウェハ治具の溝の上下の間隔が左右の溝間の距離に比べて極めて小さいことから、同一高さの左右の溝を確認することが困難である。このため、左右で異なる高さの溝にウェハを挿入してしまうこともあり、また、同一高さの左右の溝に正確にウェハを挿入するために、比較的長時間を要してしまうことがあるという問題点があった。
【００１０】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、左右の同一高さの位置に照明光を照射することで、容易に対応する一対の溝を確認することができるウェハカセット及びウェハ位置指示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係るウェハカセットは、開口した前面を有する筐体を構成する一対の側壁と、前記一対の側壁に夫々複数設けられた溝部と、前記溝部へ照明光を照射するために前記筐体の裏壁又は側壁の一方に設けられる開口部とを具備したことを特徴とする。
【００１２】
このような構成によれば、筐体を構成する一対の側壁には、夫々溝部が複数設けられる。筐体の裏壁又は側壁の一方には、開口部が設けられる。この開口部を介して溝部に照明光を照射することで、左右で同一高さの溝部同士を認識することが容易となる。これにより、ウェハを一対の側壁の同一位置に簡単に収納することができる。
【００１３】
本発明に係るウェハ位置指示装置は、上記ウェハカセットの前面側又は背面側に配置され、前記開口した前面又は前記裏壁に設けられた開口部を介して前記一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明する照明手段を具備したことを特徴とする。
【００１４】
このような構成によれば、照明手段は、ウェハカセットの前面側又は背面側に配置される。前面側に配置された場合には、開口した前面を介して、一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明し、背面側に配置された場合には、裏壁に設けられた開口部を介して一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明する。これにより、ウェハカセットの左右で同一高さの溝部同士を認識することが容易となり、ウェハを一対の側壁の同一位置に簡単に収納することができる。
【００１５】
また、前記照明手段は、前記一対の溝部を夫々照明する２つの光出射手段を具備したことを特徴とする。
【００１６】
このような構成によれば、２つの光出射手段によって、相互に離間した一対の側壁に設けられた溝部を同時に照射することができる。
【００１７】
また、前記照明手段は、前記一対の溝部を夫々交互に照明するための水平面の法線方向を軸にした回転機構を具備したことを特徴とする。
【００１８】
このような構成によれば、回転機構によって照明光を回転させることで、相互に離間した一対の側壁に設けられた溝部を交互に照射することができる。
【００１９】
また、上記ウェハカセットの側面に配置され、前記側壁に設けられた開口部を介して前記一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明する照明手段を具備したことを特徴とする。
【００２０】
このような構成によれば、照明手段は、ウェハカセットの側面側に配置される。照明手段は、側壁に設けられた開口部を介して、一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明する。これにより、ウェハカセットの左右で同一高さの溝部同士を認識することが容易となり、ウェハを一対の側壁の同一位置に簡単に収納することができる。
【００２１】
また、前記照明手段は、異なる高さの前記一対の溝部を照明するために照明の高さを変更する手段を具備したことを特徴とする。
【００２２】
このような構成によれば、照明の高さを変更して任意の高さの一対の溝部を照明することができるので、所望の位置において同一高さの溝部の確認が容易となる。これにより、ウェハを任意の高さに配置することができる。
【００２３】
また、本発明に係るウェハカセットは、開口した前面を有する筐体を構成する一対の側壁と、前記一対の側壁に夫々複数設けられた溝部と、前記溝部へ照明光を照射するために前記筐体の裏壁又は側壁の一方に設けられる開口部と、前記前面側又は背面側に配置され、前記開口した前面又は前記裏壁に設けられた開口部を介して前記一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明する照明手段を有するウェハ位置指示装置と、具備したことを特徴とする。
【００２４】
また、前記照明手段は、前記一対の溝部を夫々照明する２つの光出射手段を具備したことを特徴とする。
【００２５】
また、前記照明手段は、前記一対の溝部を夫々交互に照明するための水平面の法線方向を軸にした回転機構を具備したことを特徴とする。
【００２６】
また、本発明に係るウェハカセットは、開口した前面を有する筐体を構成する一対の側壁と、前記一対の側壁に夫々複数設けられた溝部と、前記溝部へ照明光を照射するために前記筐体の裏壁又は側壁の一方に設けられる開口部と、前記側壁の近傍に配置され、前記側壁に設けられた開口部を介して前記一対の側壁の同一高さに設けられた一対の溝部を照明する照明手段を有するウェハ位置指示装置と、具備したことを特徴とする。
【００２７】
また、前記照明手段は、異なる高さの前記一対の溝部を照明するために照明の高さを変更する手段を具備したことを特徴とする。
【００２８】
これらの構成によれば、ウェハ位置指示装置が一体的に構成されていることから、裏壁及び側壁と照明手段との位置関係が固定されるので、照明光の高さ調整が容易である。
【００２９】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学装置用基板を、上記ウェハカセットの前記一対の側壁に夫々複数設けられた溝部のうちの対応する位置の溝部に挿入する工程を具備したことを特徴とする。
【００３０】
このような構成によれば、一対の側壁の対応する位置の溝部同士を容易に認識することができるので、電気光学装置用基板を確実に対応する位置の突部又は溝部に配置することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。図１及び図２は本発明の第１の実施の形態に係り、図１はウェハカセットを示す正面図であり、図２はウェハ位置指示装置を示す説明図である。
【００３２】
図１において、ウェハカセット１は前面が開口した筐体である。ウェハカセット１は、平面的にはウェハ４よりも若干大きなサイズに構成されて、ウェハ４を収納可能である。即ち、ウェハ４が円形状である場合には、平面的にはウェハカセット１の縦方向及び横方向の寸法は、ウェハ４の直径よりも若干大きなサイズに設定され、ウェハ４が四角形の場合には、平面的には、ウェハカセット１の縦方向及び横方向の寸法は、ウェハ４の縦方向及び横方向の寸法よりも夫々若干大きなサイズに設定される。
【００３３】
ウェハカセット１は、高さ方向には所定の高さを有して、所定枚数のウェハ４を収納することができるようになっている。ウェハカセット１は左右方向の一対の側壁１１ａ，１１ｂに、内側に向けて突出した複数の段部２が設けられている。段部２はウェハカセット１の前面から奥行き方向に延出し、上下の段部２同士でウェハカセット１の前面から奥行き方向まで延びた溝部３を構成する。
【００３４】
左右の側壁１１ａ，１１ｂに設けた各段部２は、対応する左右の段同士で相互に同一の高さに配置され、左右の溝部３はウェハカセット１の同一高さの位置に設けられる。なお、各段部２の高さ方向の寸法（肉厚）は、必ずしも同一でなくてもよいが、例えば、各段部２の上面、即ち、溝部３の底面の位置は、少なくとも左右の対応する段部同士で同一となっている。
【００３５】
本実施の形態においては、ウェハカセット１は背面壁６が後述する高さ確認用の光を透過させるための開口部５を有している。本実施の形態においては、図２に示すように、ウェハカセット１の背面側にウェハ位置指示装置１０を配置するようになっている。ウェハ位置指示装置１０は、ウェハカセット１の高さと同様の高さを有する光照射部１１を有している。光照射部１１は一対の出射レンズ１２ａ，１２ｂを有しており、これらの一対の出射レンズ１２ａ，１２ｂは、相互に同一高さに配置され、図示しない駆動機構によって同時に駆動されて、上下動自在となっている。出射レンズ１２ａ，１２ｂは、略水平な光を出射することができるようになっており、出射レンズ１２ａ，１２ｂからの各出射光１３ａ，１３ｂは、高さ確認用の光として、ウェハカセット１の背面の開口部５を介して左右の側壁部１１ａ，１１ｂに設けられた溝部３を照明するようになっている。
【００３６】
出射レンズ１２ａ，１２ｂの上下動は、コントロール部１４によって制御される。コントロール部１４は、出射光１３ａ，１３ｂによって照射される位置を制御することができるようになっている。例えば、コントロール部１４は、溝部３の上下方向の段数によって、出射光１３ａ，１３ｂの照射位置を指定することができるようになっている。
【００３７】
なお、本実施の形態においては、ウェハ位置指示装置１０は、ウェハカセット１の側壁部１１ａ，１１ｂの内面を夫々照射する照射レンズ１２ａ，１２ｂを設けた例を示したが、１つの照射レンズのみを用い、光照射部１１を水平面内で回動させることで、１つの出射光を回転させて、ウェハカセット１の両側壁部１１ａ，１１ｂの内面を照射させるようにしてもよい。
【００３８】
また、光照射部１１はレーザー光を出射するものであってもよく、また、集光されたランプ光を出射するものであってもよい。
【００３９】
このように構成された実施の形態においては、オペレータは、左右の側壁部１１ａ，１１ｂに夫々形成された溝部３に照射される高さ確認用の光を参考にしながら、ウェハ４をウェハカセット１内に収納する。即ち、ウェハ位置指示装置１０のコントロール部１４は、ウェハ４を挿入する位置として適宜段数を設定し、この設定に応じて、出射レンズ１２ａ，１２ｂの上下位置を設定する。出射レンズ１２ａ，１２ｂは同時に上下動して、同一高さとなる。
【００４０】
コントロール部１４は出射レンズ１２ａ，１２ｂが設定位置に到達すると、出射レンズ１２ａ，１２ｂから光を出射させる。出射光１３ａ，１３ｂは、ウェハカセット１の背面の開口部５を介して夫々側壁部１１ａ，１１ｂの内面に照射される。コントロール部１４の高さ制御によって、出射光１３ａ，１３ｂは同一高さ位置の側壁部１１ａ，１１ｂの所定の溝部３に照射される。
【００４１】
オペレータは、図示しないウェハピンセットを用いてウェハ４を保持し、両側壁部１１ａ，１１ｂの溝部３に照射された光を見ながら、この光の位置の溝部３にウェハ４を挿入して溝部３内にウェハ４を格納する。光が照射された左右の溝部３同士は、ウェハカセット１内の同一の高さの位置に設けられており、オペレータが光が照射された左右の溝部３にウェハ４を収納することで、ウェハ４を確実に水平に配置することができる。
【００４２】
このように、本実施の形態においては、段部同士の間隔が狭い場合でも、光照射された左右の溝部にウェハを挿入することで、ウェハを確実に水平状態で溝内に収納することができる。
【００４３】
なお、ウェハカセット１の前方からウェハ位置指示装置１０によって溝部３に光を照射しながら、ウェハ４の挿入が可能である場合には、ウェハ位置指示装置１０をウェハカセット１の前方に配置してもよく、この場合には、ウェハカセット１の背面に開口部６を設ける必要はない。
【００４４】
図３及び図４は本発明の第２の実施の形態に係り、図３はウェハカセット及びウェハ位置指示装置を示す説明図であり、図４は高さ確認用光の照射を説明するための説明図である。
【００４５】
第１の実施の形態においては、ウェハカセットの背面又は前面から左右の側壁部に夫々光を照射することで、左右の同一高さの溝を確認した。これに対し、本実施の形態は、ウェハカセットの側面から左右の側壁部に光を照射することで、左右の同一高さの溝を確認可能にしたものである。
【００４６】
本実施の形態においては、ウェハカセット１に代えてウェハカセット２１を採用する。図３に示すように、ウェハカセット２１の背面には開口部は設けられておらず、ウェハカセット２１は、各溝部３に対応して、側壁部２５ａ，２５ｂに開口部２２が設けられている。
【００４７】
本実施の形態においては、図３に示すように、ウェハカセット２１の側面側にウェハ位置指示装置３１を配置するようになっている。ウェハ位置指示装置３１は、ウェハカセット２１の高さと同様の高さを有する光照射部３２を有している。光照射部３２は出射レンズ３５を有しており、出射レンズ３５は図示しない駆動機構によって駆動されて、上下動自在となっている。出射レンズ３５は、略水平な光を出射することができるようになっており、出射レンズ３５からの出射光３６は、高さ確認用の光として、ウェハカセット２１の側壁部２５ｂの開口部２２を介して左右の側壁部２５ａ，２５ｂに設けられた溝部３を照明するようになっている。
【００４８】
出射レンズ３５の上下動は、コントロール部３３によって制御される。コントロール部３３は、出射光３６によって照射される位置を制御することができるようになっている。例えば、コントロール部３３は、入力部３４を有しており、オペレータによって溝部３の上下方向の段数が指示され、この指示に基づいて出射光３６の照射位置を指定することができるようになっている。
【００４９】
このように構成された実施の形態においても、オペレータは、左右の側壁部２５ａ，２５ｂに夫々形成された溝部３に照射される高さ確認用の光を参考にしながら、ウェハ４をウェハカセット２１内に収納する。即ち、ウェハ位置指示装置３１のコントロール部３３は、入力部３４の操作によってウェハを挿入する段数が指示される。コントロール部３３この指示に従って、出射レンズ３５の上下位置を設定する。
【００５０】
コントロール部３３は出射レンズ３５が設定位置に到達すると、出射レンズ３５から光を出射させる。出射光３６は、図４に示すように、ウェハカセット１の側壁部２５ｂに設けた開口部２２を介して側壁部２５ａ，２５ｂを照明し、側壁部２５ｂの内面まで照らす。コントロール部３３の高さ制御によって、出射光３６は所定高さの側壁部２５ａ，２５ｂの溝部３に照射される。
【００５１】
オペレータは、図示しないウェハピンセットを用いてウェハ４を保持し、両側壁部２５ａ，２５ｂの溝部３に照射された光を見ながら、この光の位置の溝部３にウェハ４を挿入して溝部３内にウェハ４を格納する。光が照射された左右の溝部３同士は、ウェハカセット１内の同一の高さの位置に設けられており、オペレータが光が照射された左右の溝部３にウェハ４を収納することで、ウェハ４を確実に水平に配置することができる。
【００５２】
このように、本実施の形態においても、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００５３】
なお、本実施の形態においては、ウェハ位置指示装置３１がウェハカセット２１と別体に構成されている例を示したが、両者が一体的に構成されるものを採用することもできることは明らかである。この場合には、背面壁及び側壁と照明出射レンズとの位置関係が固定されるので、照明光の高さ調整が容易である。
【００５４】
また、各上記実施の形態においては、１色の照明光のみを用いて、左右の溝部を照明する例について説明したが、複数色の照明光を異なる高さに出射可能であれば、複数の高さの左右の溝部を同時に照明することも可能である。また、十分に離間した高さで複数の照明光を出射可能であれば、同一色の光を用いた場合でも、複数の高さの左右の溝部を同時に照明してもよい。
【００５５】
図５及び図６は上記各実施の形態のウェハカセットを用いて製造された電気光学装置を示している。図５は電気光学装置用基板であるＴＦＴ基板等の素子基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図であり、図６は素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の電気光学装置である液晶装置を、図５のＨ−Ｈ'線の位置で切断して示す断面図である。
【００５６】
電気光学装置である液晶装置は、図５及び図６に示すように、例えば、石英基板、ガラス基板、シリコン基板を用いた素子基板１０と、これに対向配置される、例えばガラス基板や石英基板を用いた対向基板２０との間に液晶５０を封入して構成される。対向配置された素子基板１０と対向基板２０とは、シール材４１によって貼り合わされている。
【００５７】
素子基板１０上には画素を構成する画素電極（ＩＴＯ）９ａ等がマトリクス状に配置される。また、対向基板２０上には全面に対向電極（ＩＴＯ）２１が設けられる。素子基板１０の画素電極９ａ上には、配向処理が施された配向膜１６が設けられている。一方、対向基板２０条には第１遮光膜２３が形成され、第１遮光膜２３上には、対向電極（共通電極）２１が基板２０全面に亘って形成されている。対向電極２１上に配向処理が施された配向膜２２が積層されている。また、対向基板２０には表示領域を区画する額縁としての遮光膜４２が設けられている。遮光膜４２は例えば遮光膜２３と同一又は異なる遮光性材料によって形成されている。
【００５８】
液晶を封入するためのシール材４１は、遮光膜４２の外側の領域の素子基板１０と対向基板２０との間に形成される。シール材４１は対向基板２０の輪郭形状に略一致するように配置され、素子基板１０と対向基板２０を相互に固着する。シール材４１は、素子基板１０の１辺の一部において欠落しており、液晶５０を注入するための液晶注入口７８が形成される。貼り合わされた素子基板１０及び対向基板２０相互の間隙には、液晶注入口７８より液晶が注入される。液晶注入後に、液晶注入口７８を封止材７９で封止するようになっている。
【００５９】
素子基板１０のシール材４１の外側の領域には、データ線駆動回路６１及び実装端子６２が素子基板１０の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接する２辺に沿って、走査線駆動回路６３が設けられている。素子基板１０の残る一辺には、画面表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路６３間を接続するための複数の配線６４が設けられている。また、対向基板２０のコーナー部の少なくとも１箇所においては、素子基板１０と対向基板２０との間を電気的に導通させるための導通材６５が設けられている。
【００６０】
上記各実施の形態に係るウェハカセットは、図５及び図６に示す素子基板１０又は対向基板２０の種々の製造工程において採用される。例えば、素子基板１０又は対向基板２０の搬送に際して、素子基板１０又は対向基板２０を上記各実施の形態のウェハカセットに挿入して、搬送するのである。上記各実施の形態のウェハカセットは、左右の対応する溝部が照明されており、素子基板１０又は対向基板２０を確実に同一段に挿入することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】ウェハカセットを示す正面図。
【図２】ウェハ位置指示装置を示す説明図。
【図３】ウェハカセット及びウェハ位置指示装置を示す説明図。
【図４】高さ確認用光の照射を説明するための説明図。
【図５】各実施の形態のウェハカセットを用いて製造された電気光学装置を示す平面図。
【図６】各実施の形態のウェハカセットを用いて製造された電気光学装置を示す断面図。
【符号の説明】
【００６２】
１…ウェハカセット、２…段部、３…溝部、４…ウェハ、１１ａ，１１ｂ…側壁、５…開口部、１０…ウェハ位置指示装置、１１…光照射部、１４…コントロール部。  
【図１】
2006108144.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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