(57)【要約】【課題】  被ハンドリング体を静電破壊から保護するハンドリング治具及びハンドリング治具用スタンドの提供を目的とする。【解決手段】  ハンドリング治具１は、グリップ２と、このグリップ２に回動又は往復移動自在に取り付けられたレバー３と、グリップ２に取り付けられた固定アーム４と、レバー３に取り付けられた回動アーム５と、固定アーム４及び回動アーム５に取り付けられ、フォトマスク基板１０と当接する爪６とからなるハンドリング治具1であって、グリップ２，レバー３，固定アーム４，回動アーム５及び爪６に、導電性材料又は帯電防止剤による帯電防止処理を施した材料を使用した構成としてある。【選択図】  図１
2006108157.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被ハンドリング体を保持する保持部と、この保持部と連結され、人手により把持される把持部を有するハンドリング治具であって、
前記保持部及び把持部に、導電性材料又は帯電防止処理を施した材料を用いたことを特徴とするハンドリング治具。
【請求項２】
前記保持部が、前記被ハンドリング体を挟持する、固定アーム及び該固定アームに対して、回動又は往復移動自在に取り付けられた駆動アームと、該駆動アームを操作するレバーと、前記固定アーム及び駆動アームに取り付けられ、被ハンドリング体と当接する当接部材とを備え、かつ、前記把持部を、グリップとしたことを特徴とする請求項１記載のハンドリング治具。
【請求項３】
前記被ハンドリング体を、フォトマスク基板としたことを特徴とする請求項１又は２記載のハンドリング治具。
【請求項４】
前記保持部に、導電性材料を用い、かつ、前記把持部を接地したことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のハンドリング治具。
【請求項５】
棒状の把持部を有するハンドリング治具を、立て掛けて保持するハンドリング治具用スタンドであって、
基台と、
この基台に設けられ、前記把持部と当接し該把持部を支持する、接地された支持部材と
を具備したことを特徴とするハンドリング治具用スタンド。
【請求項６】
前記ハンドリング治具を、上記請求項１〜３のいずれかに記載のハンドリング治具としたことを特徴とする請求項５記載のハンドリング治具用スタンド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハンドリング治具及びハンドリング治具用スタンドに関し、特に、フォトマスク基板などの静電対策を必要とする被ハンドリング体を対象とし、被ハンドリング体を静電破壊から保護するハンドリング治具及びハンドリング治具用スタンドに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、半導体装置，表示装置，撮像装置、あるいは、これらの製造におけるリソグラフィー工程において用いられるフォトマスク，磁気記録媒体等の電子デバイスは、各製造工程ごとに異なる複数の製造装置を用いて製造される。たとえば、半導体装置，表示装置，撮像装置等の製造に用いられるフォトマスクは、透明基板上に微細加工された遮光膜パターンが形成されたものが代表的であるが、フォトマスク用ガラス基板に遮光膜を成膜する成膜装置，遮光膜上にレジストを塗布する塗布装置，レジスト膜にパターン描画を施す描画装置，レジストを現像する現像装置，遮光膜をエッチングするエッチング装置，洗浄装置，各種検査装置など、多数の装置が用いられる。各装置においては、処理部へ移送するための移送手段（ローダー）を備えているのが一般的であるが、装置どうしを連結する連結移送手段を備えていない。このため、作業者が、ハンドリング治具を用いてフォトマスク用ガラス基板，フォトマスクブランク（透明基板上に遮光膜が形成されたフォトマスクの素材），及びフォトマスク等（以下、これらフォトマスクを製造する段階を含めた基板を、フォトマスク基板と総称する。）を移動させ、各装置の移送手段に取付け及び取外しを行っている。
このように使用されるハンドリング治具として、様々なハンドリング治具が開発されてきた。
【０００３】
たとえば、特許文献１には、被搬送用平板（被ハンドリング体）の側部を保持するための保持部（当接部材）に先端が固定され、被搬送用平板上領域の外側に位置するような形状の第１腕部及び第２腕部が回転支点軸を枢軸として接続された鋏状構造を有するハンドリング治具の技術が開示されている。
このハンドリング治具は、上下ハンド板を閉めることにより、被ハンドリング体を保持することができる。
【０００４】
また、特許文献２には、ほぼ平行に配置された一対のアームと四つの係止部を備えたフォトマスク基板の持ち運び治具の技術が開示されている。
この持ち運び治具によれば、第２のレバーを操作してフォトマスク基板を保持すると、第２のレバーに作用する付勢力によって、フォトマスク基板を保持した状態を維持することができる。
【特許文献１】特開２０００−１７４１０７号公報  （請求項１、図１，２，３）
【特許文献２】実開平６−２６２６１号公報  （請求項１、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、フォトマスク基板は、表面に極めて微細なマスクパターンが形成されており、このマスクパターンに静電気が流れると、マスクパターンが静電破壊されるといった問題があった。そして、この静電破壊は、ハンドリング治具を用いてフォトマスクを保持するときにも発生する。このため、フォトマスク基板を保持するハンドリング治具は、静電対策が施されている必要がある。
しかしながら、上記特許文献１のハンドリング治具は、上下ハンド板やアームの材料を特定しておらず、静電対策についてなんら考慮されていない。
また、アーム先端に取り付けられ被ハンドリング体と当接する滑り止めブッシュも、弾性部材としてあるものの、静電対策についてはなんら考慮されていない。
【０００６】
また、上記特許文献２のフォトマスク基板の持ち運び治具も、特許文献１のハンドリング治具と同様に、静電対策については言及されておらず、なんら考慮されていない。
【０００７】
本発明は、上記問題を解決すべく、被ハンドリング体を静電破壊から保護するハンドリング治具及びハンドリング治具用スタンドの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明のハンドリング治具は、被ハンドリング体を保持する保持部と、この保持部と連結され、人手により把持される把持部を有するハンドリング治具であって、前記保持部及び把持部に、導電性材料又は帯電防止処理を施した材料を用いた構成としてある。
このようにすると、ハンドリング治具の表面電位を下げることができ、ハンドリング治具の静電気により、被ハンドリング体を静電破壊するといった不具合を防止することができる。
【０００９】
また、本発明のハンドリング治具は、前記保持部が、前記被ハンドリング体を挟持する、固定アーム及び該固定アームに対して、回動又は往復移動自在に取り付けられた駆動アームと、該駆動アームを操作するレバーと、前記固定アーム及び駆動アームに取り付けられ、被ハンドリング体と当接する当接部材とを備え、かつ、前記把持部を、グリップとした構成としてある。
このように、ハンドリング治具は、保持部が被ハンドリング体を挟持する構成であってもよい。なお、保持部の構成は、上記構成に限定されるものではなく、たとえば、吸着などを利用して保持する構成としてもよい。
【００１０】
また、本発明のハンドリング治具は、前記被ハンドリング体を、フォトマスク基板とした構成としてある。
このようにすると、フォトマスク基板を静電破壊から効果的に保護することができる。
【００１１】
また、本発明のハンドリング治具は、前記保持部に、導電性材料を用い、かつ、前記把持部を接地した構成としてある。
このようにすると、作業者が帯電している場合であっても、ハンドリング治具を掴むと、帯電した静電気を逃がすことができるので、ハンドリング治具の表面電位を確実に低減することができる。
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明のハンドリング治具用スタンドは、棒状の把持部を有するハンドリング治具を、立て掛けて保持するハンドリング治具用スタンドであって、基台と、この基台に設けられ、前記把持部と当接し該把持部を支持する、接地された支持部材とを具備した構成としてある。
このようにすると、ハンドリング治具を保管しているときに、ハンドリング治具の静電気を除電することができる。
【００１３】
また、本発明のハンドリング治具用スタンドは、前記ハンドリング治具を、上記請求項１〜３のいずれかに記載のハンドリング治具とした構成としてある。
このようにすると、接地することにより、ハンドリング治具の表面電位を確実に下げることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のハンドリング治具は、ハンドリング治具の表面電位を下げることができ、ハンドリング治具の静電気により、被ハンドリング体が静電破壊されるといった不具合を防止することができる。
また、本発明のハンドリング治具用スタンドは、ハンドリング治具を保管しているときに、ハンドリング治具の静電気を除電することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
[ハンドリング治具]
図１は、本発明の実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を、（ｃ）は下面図を示している。
同図において、ハンドリング治具１は、把持部としてのグリップ２と、このグリップ２に回動自在に軸支されたレバー３と、グリップ２に取り付けられた固定アーム４と、この固定アーム４と対をなす、レバー３に取り付けられた回動アーム５と、固定アーム４及び回動アーム５の先端に取り付けられる爪（当接部材）６とからなっている。ここで、レバー３，固定アーム４，回動アーム５及び爪６が保持部として機能する。
なお、ハンドリング治具１は、フォトマスク基板１０をハンドリングする治具としてあるが、被ハンドリング体としては、フォトマスク基板１０に限定されるものではない。
【００１６】
（グリップ）
グリップ２は、四角棒としてあり、導電性材料又は帯電防止処理を施した材料を用いてある。
導電性材料としては、たとえば、ステンレスやアルミ等の金属，カーボンや金属繊維等を含む導電性樹脂などを挙げることができる。
また、帯電防止処理を施した材料とは、導電性が低い材料に、導電性の高い帯電防止剤をコーティングしたり、あるいは、導電性が低い材料に、金属等の導電性材料をめっき処理等の被覆処理により被覆した材料をいう。
このようにすると、グリップ２の表面電位を下げることができ、グリップ２の静電気により、フォトマスク基板１０が静電破壊されるといった不具合を防止することができる。なお、本実施形態のハンドリング治具１は、通常、樹脂製のグリップ２が使用されるが、グリップ２の材料として、導電性樹脂又は帯電防止処理を施した樹脂を用いることにより、グリップ２の表面電位を下げることができる。
【００１７】
また、好ましくは、グリップ２，レバー３，固定アーム４，回動アーム５及び爪６に、導電性材料を用い、かつ、グリップ２にアース線２０を接続し、このアース線２０を接地するとよい。このようにすると、作業者が帯電している場合であっても、ハンドリング治具１を掴むと、作業者に帯電した静電気を逃がすことができるので、ハンドリング治具１の表面電位を確実に低減することができる。
なお、図示してないが、アース線２０の先端に、わに口クリップ等の接続手段を設けるとよく、このようにすると、アース線２０の接地を容易に行うことができる。
【００１８】
グリップ２は、被ハンドリング体側の上端部に、固定アーム４が二本のねじ４１によって交換自在に固定されている。本実施形態では、被ハンドリング体側の上端部に溝２１を形成し、この溝２１に固定アーム４の手前側端部を嵌合させた状態で、ねじ（たとえば、十字穴付き皿小ねじ）４１を用いて固定してある（図２（ａ）参照）。このようにすると、固定アーム４が破損した場合に容易に交換することができ、また、大きさの異なるフォトマスク基板１０や保持位置の異なるフォトマスク基板１０に対して、固定アーム４を交換することにより対応することができるので、グリップ２やレバー３等の主要部を共用化することができる。
【００１９】
（レバー）
レバー３は、被ハンドリング体側の端部がグリップ２に回動自在に軸支され、四角棒３１がグリップ２とほぼ平行に手前側に延設された構造としてある。
また、レバー３は、導電性材料又は帯電防止処理を施した材料を用いてある。
【００２０】
また、レバー３は、被ハンドリング体側の下端部に、回動アーム５が二本のねじ５１によって交換自在に固定されている。本実施形態では、被ハンドリング体側の下端部に溝３２を形成し、この溝３２に回動アーム５の手前側端部を嵌合させた状態で、ねじ（たとえば、十字穴付き皿小ねじ）５１を用いて固定してある（図２（ａ）参照）。このようにすると、回動アーム５が破損した場合に容易に交換することができ、また、大きさの異なるフォトマスク基板１０や保持位置の異なるフォトマスク基板１０に対して、回動アーム５を交換することにより対応することができるので、グリップ２やレバー３等の主要部を共用化することができる。
上記構成とすることにより、レバー３は、開方向に回動されると、回動アーム５が開かれ、閉方向に回動されると、回動アーム５が閉じられる。
【００２１】
（固定アーム）
固定アーム４は、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、手前側先端が、上述したようにグリップ２に固定され、被ハンドリング体側先端に雌ねじ（図示せず）が設けてあり、爪６が取り付けられている。
【００２２】
（回動アーム）
駆動アームとしての回動アーム５は、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、手前側先端が、上述したようにレバー３に固定され、被ハンドリング体側先端に雌ねじ（図示せず）が設けてあり、爪６が取り付けられている。
【００２３】
（爪）
爪６は、ほぼ直方体状としてあり、導電性材料又は帯電防止処理を施した材料を用いてある。また、爪６の側面には、溝６１を形成してあり、このようにすることにより、フォトマスク基板１０を溝６１に係止した状態で、確実に支持することができる。
また、固定アーム４に取り付けられた爪６と回動アーム５に取り付けられた爪６は、同じ高さに対向して配設してある。
なお、爪６は、固定アーム４及び回動アーム５に交換自在に、たとえば、ねじ（図示せず）により固定されており、このようにすることにより、フォトマスク基板１０の厚さに応じて、爪６を容易に交換することができ、グリップ２及びレバー３等の主要部を共用化することができる。
【００２４】
（軸支機構）
次に、ハンドリング治具１の軸支機構について、図面を参照して説明する。
図２は、本発明の実施形態にかかるハンドリング治具の軸支機構を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は図１におけるＡ−Ａ断面図を、（ｂ）はＢ−Ｂ断面図を示している。
同図において、グリップ２は、被ハンドリング体側の端部下面に、レバー３の被ハンドリング体側の端部を、非摺動の状態で収納する収納溝２２が形成してある。また、収納溝２２の被ハンドリング体側の端部に、レバー３と当接する凸部２２１が突設してあり、この凸部２２１により、閉方向に付勢されたレバー３の閉方向限界位置が設定される。
【００２５】
グリップ２は、被ハンドリング体側の端部両側面に対向するように配設されたホルダー２５及びすり割り付き止めねじ２７を介して、固定軸２６の両端を支持している。
また、グリップ２は、溝２１の手前側上面から、レバー３に向けて、雌ねじ２８が形成され、さらに、雌ねじ２８とほぼ同径の貫通孔２８１が穿設してあり、伸縮ばね（駆動用ばね）２９が取り付けられる。
伸縮ばね２９は、貫通孔２８１に貫入され、先端部がレバー３の位置決め穴３４に係止された状態で、すり割付き止めねじ２９１が雌ねじ２８に締め込まれることにより、レバー３を閉方向に付勢する。
【００２６】
また、伸縮ばね２９は、先端部がレバー３の位置決め穴３４に係止されているので、レバー３が、固定軸２６の固定軸方向を左右に移動すると復元力が作用し、レバー３がグリップ２と接触しないように所定のクリアランスＣを確保することができる。このようにすると、レバー３を回動させても、レバー３とグリップ２が摺動しないので、擦れによる磨耗粉の発生を防ぐことができる。
【００２７】
レバー３は、両側からボールベアリング３３が埋設してあり、このボールベアリング３３には、固定軸２６が貫通される。このように、ボールベアリング３３を使用することにより、レバー３が回動されても、ボールベアリング３３内のボール（図示せず）が回転するので、磨耗粉の発生量を大幅に低減することができる。
【００２８】
このように、本実施形態のハンドリング治具１は、グリップ２，レバー３，固定アーム４，回動アーム５及び爪６に、導電性材料又は帯電防止処理を施した材料を用いることにより、ハンドリング治具１の表面電位を下げることができ、ハンドリング治具１の静電気により、フォトマスク基板１０を静電破壊させるといった不具合を防止することができる。
【００２９】
［ハンドリング治具用スタンド］
図３は、本発明の実施形態にかかるハンドリング治具用スタンドの構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を、（ｃ）は背面図を示している。
同図において、ハンドリング治具用スタンド７は、矩形板状の基台７１と、この基台７１の正面側に対向して立設され、第一の支持棒７２，第二の支持棒７３及び第三の支持棒７４を挟持する一対の正面側支持板７５と、基台７１の背面側に対向して立設され、第四の支持棒７６を挟持する一対の背面側支持板７７とからなっている。
このハンドリング治具用スタンド７は、各支持棒７２，７３，７４，７６がグリップ２を支持し、ハンドリング治具１を立て掛けて保持することができる。
【００３０】
また、ハンドリング治具用スタンド７は、基台７１にアース線２０ａが接続されており、上記各部の材料を導電性材料としてあるので、ハンドリング治具１のグリップ２を支持する各支持棒７２，７３，７４，７６は、各支持側板７５，７６及び基台７１を介してアース線２０ａと電気的に接続されている。なお、本実施形態では、上記導電性材料としてステンレスを使用したが、これに限定されるものではなく、たとえば、アルミ等の金属，カーボンや金属繊維等を含む導電性樹脂などを使用してもよい。また、導電性が低い材料に、導電性の高い帯電防止剤をコーティングしたり、あるいは、導電性が低い材料に、金属等の導電性材料をめっき処理等の被覆処理により被覆した材料を使用してもよい。
【００３１】
このように、本実施形態のハンドリング治具用スタンド７は、ハンドリング治具１が立て掛けられた状態で保管されているとき、ハンドリング治具１の静電気を、各支持棒７２，７３，７４，７６，各支持側板７５，７６及び基台７１を介してアース線２０ａに逃がして除電することができる。特に、ハンドリング治具１が、上記アース線２０を備えていない場合には、アース線２０ａにより接地されるので、ハンドリング治具１の表面電位を確実に下げることができる。
【００３２】
以上、本発明のハンドリング治具について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係るハンドリング治具は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、上記各実施形態では、ボールベアリング３３を介して、レバー３がグリップ２に付勢された状態で回動自在に軸支されているが、この構成に限定されるものではなく、図示してないが、リニアベアリング等を介して、レバー３をグリップ２に往復移動自在に付勢した状態で取り付ける構成としてもよい。このようにすると、リニアベアリングのローラやボールが回転するので、磨耗粉の発生量を大幅に低減することができる。
【００３３】
また、ハンドリング治具用スタンド７は、ハンドリング治具１に帯電した静電気をアース線２０ａから逃がす構成としてあるが、この構成に限定されるものではない。たとえば、ハンドリング治具用スタンド７に、あるいは、ハンドリング治具用スタンド７の周囲に、除電するための電極針，ブロータイプの除電機器又はバータイプの除電機器などを設けてもよく、このようにしても、ハンドリング治具１に帯電した静電気を除電することができる。
【００３４】
また、アース線２０，２０ａや、除電機器を用いて除電する構成に限定されるものではなく、たとえば、ハンドリング治具１のグリップ２に水分を付着させることにより除電することができる。さらに、ハンドリング治具用スタンド７が、保管されたハンドリング治具１のグリップ２に水分を付着させることにより、ハンドリング治具１を除電することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３５】
本発明のハンドリング治具は、フォトマスク基板をハンドリングする構成に限定されるものではなく、たとえば、高度の清浄度を必要とする光学機器や医療器具等のハンドリング治具にも好適に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を、（ｃ）は下面図を示している。
【図２】本発明の実施形態にかかるハンドリング治具の軸支機構を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は図１におけるＡ−Ａ断面図を、（ｂ）はＢ−Ｂ断面図を示している。
【図３】本発明の実施形態にかかるハンドリング治具用スタンドの構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を、（ｃ）は背面図を示している。
【符号の説明】
【００３７】
１  ハンドリング治具
２  グリップ
３  レバー
４  固定アーム
５  回動アーム
６  爪
７  ハンドリング治具用スタンド
１０  フォトマスク基板
２０，２０ａ  アース線
２１  溝
２２  収納溝
２５  ホルダー
２６  固定軸
２７  すり割り付き止めねじ
２８  雌ねじ
２９  伸縮ばね（駆動用ばね）
３１  四角棒
３２  溝
３３  ボールベアリング
３４  位置決め穴
４１  ねじ
５１  ねじ
６１  溝
７１  基台
７２  第一の支持棒
７３  第二の支持棒
７４  第三の支持棒
７５  正面側支持板
７６  第四の支持棒
７７  背面側支持板
２２１  凸部
２８１  貫通孔
２９１  すり割付き止めねじ
【図１】
2006108157.tif 000003
【図２】
2006108157.tif 000004
【図３】
2006108157.tif 000005