(57)【要約】【課題】  安価であって、薬品を用いることもなく、バクテリア等の雑菌を除去して、充分な洗浄機能を確保できる基板処理装置を提供する。【解決手段】  循環配管内ＵＶ照射装置１０３及びタンク内浸漬式ＵＶ照射装置１０５によって紫外線を照射した後のＵＶ処理液（洗浄液）を、洗浄液供給部９によってブラシ基部５１に供給し、ブラシ基部５１では、洗浄液案内路１３を通して吐出口１３１からブラシ毛束５０に対して上記紫外線照射後のＵＶ処理液を吐出して、ブラシ毛束５０での雑菌繁殖を防止する。【選択図】      図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理用のブラシ毛がブラシ基部に立設されてなるブラシ部と、
前記ブラシ毛洗浄用の洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記洗浄液に対して紫外線を照射する照射手段とを備え、
前記ブラシ基部には、前記照射手段による紫外線照射後の洗浄液が前記洗浄液供給手段から流入され、この洗浄液を前記ブラシ毛に向けて案内する洗浄液案内路と、この洗浄液案内路を流れる洗浄液を前記ブラシ毛立設面から前記ブラシ毛に吐出する吐出口とが設けられている基板処理装置。
【請求項２】
前記洗浄液供給手段によって前記ブラシ毛に供給された前記洗浄液を前記洗浄液供給手段に戻す洗浄液回収手段を備え、
前記照射手段は、当該洗浄液回収手段によって回収された洗浄液に対して紫外線を再度照射し、
前記洗浄液供給手段は、前記照射手段によって紫外線が再度照射された洗浄液を前記ブラシ基部の洗浄液案内路に供給する請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記照射手段は、循環状態にある前記洗浄液に対して前記紫外線を照射する循環式照射手段を備える請求項１又は請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記照射手段は、前記洗浄液を貯留する洗浄液貯留手段と、この洗浄液貯留手段によって貯留された洗浄液に対して前記紫外線を照射する貯留式照射手段とを備える請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記洗浄液貯留手段は、ステンレス製洗浄液貯留タンクを備え、当該貯留タンクに貯留されている洗浄液に対して前記貯留式照射手段によって紫外線が照射される請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記照射手段によって照射される紫外線は、254nm線である請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記洗浄液供給手段によって供給されるブラシ毛洗浄用の洗浄液は、基板洗浄用の洗浄液としても用いられる請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示デバイス（ＬＣＤ）、プラズマ表示デバイス（ＰＤＰ）、半導体デバイス等の製造プロセスにおいて、ＬＣＤ又はＰＤＰ用ガラス基板、半導体基板、プリント基板等に対して各種の処理、例えば洗浄処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＬＣＤまたはＰＤＰ用ガラス基板等の基板製造ラインにおいては、例えばエッチング処理等の薬液を用いた特定の処理装置の後に基板洗浄機構を設け、基板表面に残った薄膜やパーティクル等の異物を洗浄除去することが行われている。このような基板洗浄機構を有する基板処理装置としては、例えば、特許文献１に示されるように、搬送される基板の上面側及び下面側に、棒状ブラシを所定間隔をおいて複数配設し、基板の上方から純水等の洗浄液を供給しながら、基板搬送方向に対して直交する方向に往復運動させることで基板上の埃等を除去する洗浄装置が提案されている。
【特許文献１】特開平１０−３４０９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記特許文献１に示される洗浄装置は、基板面の洗浄を続けるうちに、棒状ブラシの植毛内で、洗浄液として供給される上記純水中に含まれるバクテリア等の雑菌の繁殖が生じることがある。ブラシ植毛内で繁殖した雑菌は、パーティクルとなって基板を汚染したり、洗浄液循環路に備えられているフィルタの目詰まりの原因となる等の事態が発生し、洗浄性能の低下に繋がるおそれがある。この洗浄性能低下を防止するために、過酸化水素水等の薬品を使用した殺菌処理や、上記雑菌を除去可能な高価な微細フィルタを配設して高頻度で取り換えること等が行われているが、この場合、薬品使用による基板に対する悪影響や、高頻度でのフィルタ取り換えによるコスト高が問題となる。
【０００４】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、安価であって、薬品を用いることもなく、洗浄液中に含まれる雑菌が繁殖することを防止して、充分な洗浄機能を確保できる基板処理装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の請求項１に記載の発明は、基板処理用のブラシ毛がブラシ基部に立設されてなるブラシ部と、
前記ブラシ毛洗浄用の洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記洗浄液に対して紫外線を照射する照射手段とを備え、
前記ブラシ基部には、前記照射手段による紫外線照射後の洗浄液が前記洗浄液供給手段から流入され、この洗浄液を前記ブラシ毛に向けて案内する洗浄液案内路と、この洗浄液案内路を流れる洗浄液を前記ブラシ毛立設面から前記ブラシ毛に吐出する吐出口とが設けられているものである。
【０００６】
この構成では、照射手段によって紫外線を照射した後の洗浄液を、洗浄液供給手段によってブラシ基部に供給し、ブラシ基部では、洗浄液案内路を通して吐出口からブラシ毛に対して上記紫外線照射後の洗浄液を吐出して、ブラシ毛での雑菌繁殖を防止する。
【０００７】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置であって、前記洗浄液供給手段によって前記ブラシ毛に供給された前記洗浄液を前記洗浄液供給手段に戻す洗浄液回収手段を備え、
前記照射手段は、当該洗浄液回収手段によって回収された洗浄液に対して紫外線を再度照射し、
前記洗浄液供給手段は、前記照射手段によって紫外線が再度照射された洗浄液を前記ブラシ基部の洗浄液案内路に供給するものである。
【０００８】
この構成では、洗浄液回収手段によって回収された洗浄液に対して、照射手段が紫外線を再度照射し、この再照射後の洗浄液を洗浄液供給手段が再びブラシ基部の洗浄液案内路に供給するようになっている。
【０００９】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の基板処理装置であって、前記照射手段は、循環状態にある前記洗浄液に対して前記紫外線を照射する循環式照射手段を備えるものである。
【００１０】
この構成では、循環状態にある洗浄液に対して循環式照射手段により紫外線を照射することによって、洗浄液に含まれる雑菌を殺菌するようにしている。
【００１１】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記照射手段は、前記洗浄液を貯留する洗浄液貯留手段と、この洗浄液貯留手段によって貯留された洗浄液に対して前記紫外線を照射する貯留式照射手段とを備えるものである。
【００１２】
この構成では、洗浄液貯留手段によって貯留された状態の洗浄液に対して、貯留式照射手段により紫外線を照射することによって、洗浄液中に含まれる雑菌を殺菌している。
【００１３】
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の基板処理装置であって、前記洗浄液貯留手段は、ステンレス製洗浄液貯留タンクを備え、当該貯留タンクに貯留されている洗浄液に対して前記貯留式照射手段によって紫外線が照射されるものである。
【００１４】
この構成では、洗浄液貯留手段において、ステンレス製洗浄液貯留タンクに貯留されている洗浄液に対して、貯留式照射手段によって紫外線を照射することで、洗浄液中に含まれる雑菌を殺菌している。
【００１５】
また、請求項６に記載の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記照射手段によって照射される紫外線は、254nm線であるものである。
【００１６】
この構成では、照射手段によって照射される紫外線の波長を254nm線としているので、比較的低いコストでもって効率よく雑菌を殺菌できる。例えば、254nm線よりも短波長の光源は、オゾン生成を促進しやすく局所排気設備等が必要になるが、254nm線の光源であれば、そのような設備は不要であり、しかも、バクテリア等の殺菌において特に有効である。
【００１７】
また、請求項７に記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記洗浄液供給手段によって供給されるブラシ毛洗浄用の洗浄液は、基板洗浄用の洗浄液としても用いられるものである。
【００１８】
この構成では、洗浄液供給手段から供給されるブラシ毛洗浄用の洗浄液を、基板洗浄用の洗浄液としても用い、上記紫外線が照射された洗浄液を基板面に供給して、当該基板面をブラシ部でブラッシングすることによって、ブラシ毛の洗浄効率だけでなく、基板面の洗浄効率も高めるようにしている。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１に記載の発明によれば、ブラシ毛に対して紫外線照射後の洗浄液を吐出して、ブラシ毛での雑菌繁殖を防止するので、洗浄液中でバクテリア等の雑菌が増加することがなく、洗浄液循環路に備えられているフィルタの目詰まりを防止することができる。また、基板面上に上記雑菌を要因とするパーティクルが再付着する等の事態も発生しないので、充分な洗浄性能を確保することができる。また、紫外線照射による殺菌方式を採用しているので、薬品使用による場合のような基板に対する悪影響がなく、低コストでの殺菌を行うことができる。
【００２０】
請求項２に記載の発明によれば、一度使用した洗浄液に紫外線を再度照射して再利用するので、低コストでブラシ毛の殺菌が可能である。また、回収した洗浄液中にバクテリア等の雑菌が混入していたとしても、これを確実に殺菌して再度ブラシ毛に供給することができるので、これら回収、殺菌及び再供給を繰り返すことによりブラシ毛の洗浄性能を更に向上させることができる。
【００２１】
請求項３に記載の発明によれば、循環状態にある洗浄液に対して紫外線を照射して、洗浄液を一カ所に滞留させずに殺菌を行うので、洗浄液の照射のために要する機構を小さく構成することが可能になる。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、貯留された状態の洗浄液に対して紫外線を照射して洗浄液を殺菌するので、紫外線の照射を確実に行うことができ、殺菌作用を向上させることができる。
【００２３】
請求項５に記載の発明によれば、ステンレス製洗浄液貯留タンクに貯留されている洗浄液に紫外線を照射して殺菌を行うので、照射時にタンク内で紫外線を反射させて照射効率が向上する。また、長時間使用した場合であっても、紫外線の照射によるタンクの変成を防止することができる。
【００２４】
請求項６に記載の発明によれば、照射手段によって照射される紫外線を254nm線としているので、比較的易いコストでもって効率よく雑菌を殺菌できる。例えば、254nm線よりも短波長の光源は、オゾン生成を促進しやすく局所排気設備等が必要になるが、254nm線の光源であれば、そのような設備は不要であり、しかも、バクテリア等の殺菌において特に有効である。
【００２５】
請求項７に記載の発明によれば、上記紫外線が照射された洗浄液を基板面に供給するので、当該基板面をブラシ部でブラッシングすることによって、ブラシ毛の洗浄効率だけでなく、基板面の洗浄効率も高められる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の一実施形態に係る基板処理装置について図面を参照して説明する。図１は、本発明に係る基板処理装置が好適に適用されるエッチング処理装置Ｅを示す概略図である。このエッチング処理装置Ｅは、例えば液晶表示器用のガラス基板上に形成された薄膜にエッチングを施す処理を行う装置であって、ローダＥ１及びアンローダＥ２と、処理すべき基板若しくは処理後の基板をストックするカセットＣに対し基板を搬入・搬出する動作を行うロボットハンドを備える移送ロボットＥ３と、処理すべき基板を図示省略の基板搬送手段で搬送しつつ、この基板に対して各種の処理を行う基板処理部Ｅ４、すなわちエッチングユニットＥ４１、水洗処理ユニットＥ４２、及び乾燥ユニットＥ４３からなる基板処理部Ｅ４とから構成されている。
【００２７】
上記基板処理部Ｅ４のエッチングユニットＥ４１は、被処理基板にエッチング処理を施すユニットであり、例えば、搬送されてくる基板の表面にノズルからエッチング液を供給し、エッチング液を基板表面に作用させて基板にエッチング加工を施すものである。水洗処理ユニットＥ４２（基板洗浄装置）は、前記エッチング処理がなされた基板の表面を清浄化すべく、基板表面に純水等を供給して基板を水洗するものである。また乾燥ユニットＥ４３は、水洗後の基板に対して温風等を供給し、該基板の表裏面を乾燥させるものである。本発明にかかる基板処理装置は、例えばこのようなエッチング処理装置Ｅにおける前記水洗処理ユニットＥ４２（基板洗浄装置）として好適に用いることができる。以下、本発明をこのような基板洗浄装置に適用する場合について、その具体的実施形態を説明する。
【００２８】
図２は水洗処理ユニットＥ４２に備えられるブラシ部及びその駆動機構を簡易的に示す構成図である。水洗処理ユニットＥ４２に備えられるブラシ部２２１は、基板Ｂの面洗浄用のブラシ毛束５０と、このブラシ毛束５０が立設（植毛）される平板状のブラシ基部５１とを有する。これらブラシ毛束５０及びブラシ基部５１からなるブラシ部２２１は、基板Ｂの搬送方向に直交する方向又はそれに近い方向であって、基板Ｂの上面に平行な方向に長尺状に延びる形状とされている。なお、ブラシ毛束５０をなす各毛は、例えば、ナイロン系、テフロン（登録商標）系、塩化ビニール（ＰＶＣ：Poly Vinyl Chloride）系の材質等からなり、径は0.05〜0.2(mm)とされる。
【００２９】
ブラシ基部５１の上面部５１１側には、ブラシ部２２１を吊止め支持する支持材６０が取り付けられ、この支持材６０によってブラシ部２２１が、剛直な部材からなるブラシ取り付けベース６１に取り付けられている。ブラシ取り付けベース６１には、揺動機構８が取り付けられており、この揺動機構８から与えられる振動駆動力によりブラシ取り付けベース６１が、基板Ｂの搬送方向に直交する基板Ｂ上面に平行な方向（例えば、図２の左右方向）に揺動されることで、ブラシ取り付けベース６１に取り付けられているブラシ部２２１のブラシ毛束５０の先端５０Ｈが、基板Ｂの上面と平行な方向に揺動される。なお、揺動機構８は、ブラシ取り付けベース６１に出力軸が連結されるバイブレータ８１と、該バイブレータ８１を駆動するための、電動モータや空圧機器等からなる駆動源８２とから構成されている。図２では、これらの構成を簡略化して記載しており、具体的な構成例は後述の図６で説明する。なお、支持材６０は、図２に示す距離Ｇを可変させられるように、ブラシ取り付けベース６１に対して移動自在に設けられている。
【００３０】
ブラシ部２２１のブラシ基部５１には、純水等を紫外線（ＵＶ）で照射したＵＶ処理液が、洗浄液として洗浄液供給部９から供給される。洗浄液供給部９は、洗浄液を貯留する洗浄液貯留タンク９１、この洗浄液貯留タンク９１からブラシ基部５１まで洗浄液を送る供給路９２、及び供給路９２の途中に設けられる供給ポンプ９３を有している。純水等に紫外線（ＵＶ）を照射してＵＶ処理液（洗浄液）を生成する機構については後述する。
【００３１】
ブラシ基部５１の内部には、洗浄液を流通させる洗浄液案内路１３が内設されており、この洗浄液案内路１３の開口端１３Ｅには、供給路９２の端末部が接続され、洗浄液供給部９から送られてくる洗浄液を受け入れるようになっている。そして、この洗浄液を、ブラシ毛束５０を介して基板Ｂの表面へ吐出すべく、ブラシ基部５１におけるブラシ毛束５０の立設箇所には、多数の洗浄液吐出口１３１が設けられている。
【００３２】
このように構成された基板洗浄装置１０の動作を説明する。まず、ブラシ基部５１の高さ位置の設定がなされる。この高さ位置は、ブラシ毛束５０をなす各毛の径や材質等、並びに洗浄ターゲットとするパーティクルの粒径等を考慮し、洗浄すべき基板Ｂの上面に、どの程度の圧力でブラシ毛束５０の先端５０Ｈを接触させるか、の観点から決定される。この基板Ｂ上面に対してブラシ毛束５０の先端５０Ｈの位置を微調整する作業は、ブラシ取り付けベース６１に対する支持材６０の位置を調整することで可能とされている。例えば、ブラシ基部５１が、大型の基板に対応した長尺状のものとされている場合、ブラシ基部５１の長手方向略中央部は、下方向に撓みやすい。そのような場合には、当該撓んだ部分に近い支持材６０のブラシ取り付けベース６１に対する位置を調整し、撓んだ部分を上方向に持ち上げることで、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈの基板Ｂ上面に対する位置関係を、ブラシ部２２１の長手方向において均一にすることが可能となっている。
【００３３】
このように、基板Ｂの上面に対するブラシ毛束５０の先端５０Ｈの位置関係が調整された上で、基板Ｂの洗浄処理が行われる。この洗浄処理に際しては、洗浄液供給部９の供給ポンプ９３を動作させ、洗浄液をブラシ基部５１に設けられた洗浄液吐出口１３１から洗浄液を基板Ｂに向けて吐出させつつ、バイブレータ８１を駆動源８２で駆動してブラシ取り付けベース６１を揺動させる。これにより、搬送されてくる基板Ｂの表面にブラシ毛束５０の先端５０Ｈが、基板Ｂに対して、洗浄液の存在下で揺動接触することとなり、ブラシ毛束５０が基板Ｂに作用してパーティクル等が除去される。
【００３４】
以上が本実施形態にかかる基板洗浄装置１の全体概略構成及び概略動作であるが、続いて各要部の態様につき詳述する。図３は、図２に示した簡易的な構成図の要部、特にブラシ部２２１及び支持材６０の部分を詳細に示す一部破断側面図である。図４は、ブラシ部２２１の内部構成の概略を示す側断面図である。
【００３５】
先ずブラシ部２２１につき説明すると、ブラシ基部５１の基板Ｂとの対向面には、所定本数のブラシ毛が束ねられた多数のブラシ毛束５０が植毛されている。この植毛は、ブラシ基部５１の表面に設けられた収納凹部に、前記ブラシ毛束５０の根元部分５０Ｂを嵌入する方式が採られている。このように植毛されたブラシ毛束５０により、その毛先側において、平面状のブラシ先端５０Ｈが形成されている。そしてブラシ先端Ｈが、搬送ローラ２１（図５）により図中矢印ａの方向に搬送されてくる基板Ｂに対し、所定の長さだけ接触することで、基板Ｂの表面に描画されているパターン溝等に付着しているパーティクル等の異物が掃き出される。
【００３６】
ブラシ基部５１の内部に設けられている洗浄液流通用の洗浄液案内路１３は、比較的大口径の貯留部１３２と、該貯留部１３２に連通するよう多数形成された比較的小口径の洗浄液吐出口１３１とからなる。この、貯留部１３２と洗浄液吐出口１３１とは主配管と分岐管の関係にあり、いわゆるマニホールド構造を呈している。洗浄液吐出口１３１は、例えば、ブラシ毛束５０の植毛間隔部に設けられている。
【００３７】
このようにブラシ毛束５０間に洗浄液吐出口１３１を配置することで、図４に示すように、洗浄液吐出口１３１から吐出される洗浄液の多くが、ブラシ毛束５０をなすブラシ毛を経由して基板Ｂの表面に供給される。また、より確実に洗浄液がブラシ毛束５０の根元部分５０Ｂに供給されるよう、洗浄液吐出口１３１の吐出方向を前記根元部分５０Ｂに配向する孔形状としても良い。このような洗浄液の供給形態とすることで、ブラシ毛束５０の根元部分５０Ｂには常に新鮮な洗浄液が供給されて清浄に保たれることになる。従って、ブラシ毛束５０（ブラシ毛）において洗浄液が滞留してバクテリアが繁殖するといった問題は解消される。
【００３８】
次に、支持材６０の具体的態様につき説明する。支持材６０は、ブラシ基部５１に一端が固定される吊止めボルト６００と、調整ナット６０１と、ワッシャー６０３とを備えている。前記吊止めボルト６００は、一端側に大径ネジ部６０４が設けられている一方、本体胴部にはネジ部６００Ｎが形成されている。前記大径ネジ部６０４は、ブラシ基部５１の裏面５１１側に設けられたネジ凹部１１２に螺合される。そして、前記吊止めボルト６００は、抜け止め用の調整ナット６０５が締結されることにより、本体胴部６００がブラシ基部５１からその背面方向に突出する形で、ブラシ基部５１にその一端側が固定される構成とされている。
【００３９】
吊止めボルト６００の他端側は、ブラシ取り付けベース６１に設けられている貫通孔６１０を貫通し、ブラシ取り付けベース６１の上面側に突出している。そして、該ブラシ取り付けベース６１の上面側において、前記調整ナット６０１がそのネジ部６００Ｎに螺合されている。調整ナット６０１の下面は、ワッシャー６０３を介してブラシ取り付けベース６１の上面側と当接しており、該当接面において吊止めボルト６００を係止し、これによりブラシ基部５１（ブラシ部２２１）が吊止め支持されるようになっている。
【００４０】
このような吊止めボルト６００の取り付け構造によれば、調整ナット６０１を回転させることにより、ブラシ取り付けベース６１の下面とブラシ基部５１の裏面５１１とのギャップＧの長さを調整することができる。つまりギャップＧの間隔調整機構として機能する。従って、ブラシ基部５１に下方向の撓みが生じている部位があれば、その近傍に取り付けられている吊止めボルト６００の調整ナット６０１を締め付け方向に回転させ、当該部位を上方向に持ち上げるようにすることで、前記の「撓み」を矯正できるようになる。
【００４１】
なお、ブラシ基部５１が成型クセや熱履歴等の要因で上方向に反っている部位があれば、上記の場合とは逆に調整ナット６０１を緩める方向に回転させ、当該部位に押圧力を与えることで、前記の「反り」等を矯正することができるようになる。なお、特に「撓み」や「反り」が存在しない場合は、ブラシ部２２１を安定的に支持するために最低限必要な部位（例えばブラシ取り付けベース２のコーナー部に位置する部位）の吊止めボルト６００に対してのみ調整ナット６０１を螺合させ、その他の吊止めボルト６００には調整ナット６０１を螺合させないようにしても良い。上記複数の支持材６０が、ブラシ基部５１の下方向への撓みを矯正する矯正手段として機能する。
【００４２】
次に、純水等に紫外線を照射してＵＶ処理液（洗浄液）を生成する機構を説明する。図５はブラシ部２２１による基板Ｂの洗浄機構、洗浄液供給部９及びＵＶ処理液生成機構の概略を示す図である。水洗処理ユニットＥ４２（基板洗浄装置）には、エッチングユニットＥ４１によるエッチング処理を終えた基板Ｂを受け入れて搬送する搬送ローラ２１と、搬送ローラ２１によって搬送される基板Ｂの上面に接触して洗浄するブラシ部２２１と、基板Ｂの下面に接触して洗浄するブラシ部２２２と、基板Ｂの上面に対して洗浄液（基板洗浄のために用いる各種の処理液、純水等を含む。）を供給する洗浄液供給ノズル（液供給部）２３１と、基板Ｂの下面に対して洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル２３２とを有している。これらブラシ部２２１，２２２と、洗浄液供給ノズル２３１，２３２はそれぞれ複数設けられている。また、ブラシ部２２２はブラシ部２２１と同様の構造である。なお、洗浄液供給ノズル２３１，２３２は図略の洗浄液供給源に接続されている。
【００４３】
上述した洗浄液供給部９は、上述した洗浄液貯留タンク９１、供給路９２及び供給ポンプ９３を備え、ＵＶ処理液生成機構１００は、水中ポンプ１０１、洗浄液循環配管１０２、循環配管内ＵＶ照射装置１０３、循環路１０４、タンク内浸漬式ＵＶ照射装置１０５、洗浄液回収管１０６及び純水配水管１０７を備えている。また、洗浄液貯留タンク９１は、紫外線照射時にタンク内で紫外線を反射させて照射効率を向上させるためと、長時間使用した場合であっても、紫外線の照射によるタンクの変成を防止するために、ステンレス製であることが好ましい。なお、洗浄液供給部９の洗浄液貯留タンク９１は、ＵＶ処理液生成機構１００の一部（洗浄液貯留手段、ステンレス製洗浄液貯留タンク）としても機能する。
【００４４】
ＵＶ処理液生成機構１００の純水配水管１０７は、図略の純水供給源から必要に応じて適時に供給される純水を、洗浄液貯留タンク９１に給水する。水中ポンプ１０１は、洗浄液貯留タンク９１に溜まった純水（ＵＶ処理液）を汲み上げ、洗浄液循環配管１０２を通して循環配管内ＵＶ照射装置１０３に案内する。循環配管内ＵＶ照射装置１０３は、水中ポンプ１０１によって洗浄液貯留タンク９１から汲み上げられた純水（ＵＶ処理液）に対して紫外線（例えば、波長が254nm線の紫外線。但し、254nm線の紫外線に限定されず、他の波長の紫外線を用いることも可能。）を照射する。すなわち、循環配管内ＵＶ照射装置１０３は、水中ポンプ１０１によって洗浄液貯留タンク９１から汲み上げられ、洗浄液循環配管１０２を循環する状態にある純水（ＵＶ処理液）に対して紫外線を照射する。
【００４５】
循環路１０４は、循環配管内ＵＶ照射装置１０３による紫外線照射後のＵＶ処理液を洗浄液貯留タンク９１に戻すためのものである。タンク内浸漬式ＵＶ照射装置１０５は、洗浄液貯留タンク９１に貯留された状態にある純水（ＵＶ処理液）に対して例えば、254nm線の紫外線を照射するものである。従って、洗浄液貯留タンク９１内には、循環配管内ＵＶ照射装置１０３及びタンク内浸漬式ＵＶ照射装置１０５によって紫外線が照射されたＵＶ処理液が貯留されていることになる。洗浄液貯留タンク９１内に貯留されているＵＶ処理液は、洗浄液供給部９の供給ポンプ９３によって汲み上げられ、供給路９２を介して、ブラシ部２２１，２２２の洗浄液案内路１３の開口端１３Ｅまで案内される。
【００４６】
上記洗浄液供給部９の供給ポンプ９３によって汲み上げられたＵＶ処理液は、ブラシ部２２１のブラシ毛束５０（ブラシ毛）及び基板Ｂの両方の洗浄液として、ブラシ基部５１内のブラシ部２２１の洗浄液案内路１３を通って吐出口１３１からブラシ毛束５０に向けて吐出される。このブラシ毛束５０に向けて吐出されたＵＶ処理液は、ブラシ毛束５０（ブラシ毛）を伝って基板Ｂの上面まで到達し、基板Ｂは、搬送方向に移動しながら、その上面が当該ブラシ毛束５０の先端５０Ｈによってブラッシングされて洗浄される。ブラッシング洗浄後の洗浄液（ＵＶ処理液）は洗浄液回収管１０６によって回収され、洗浄液貯留タンク９１に戻される。
【００４７】
次に、揺動機構８の具体的態様につき説明する。図６は、バイブレータ８１を用いてブラシ取り付けベース６１（ブラシ先端５０Ｈ）を、基板Ｂの進行方向（図中矢印ｂで表示）と直交する方向（図中矢印ｃの方向）に、直線的な往復運動をさせる揺動機構８の概略を示す平面図である。
【００４８】
バイブレータ８１は、電動モータ（駆動源）８２により駆動されるものであって、駆動源８２の回転軸８２１に結合された回転円板８１１の外周部付近に軸支ピン８１２が突設され、この軸支ピン８１２に駆動シャフト８１３の一端側に設けられた連結孔が遊嵌されてなる。そして駆動シャフト８１３の他端側に設けられた連結孔と、ブラシ取り付けベース６１の側端縁に突設された軸支部６１１とが、連結ピン６１２により回動自在に連結されたクランク機構である。
【００４９】
一方、ブラシ取り付けベース６１はリニアガイド６１３により、図中矢印ｃの方向への直線的な往復動が可能なように支持されている。このリニアガイド６１３に代えて、リニアブッシュ等を用いるようにしても良い。
【００５０】
このような構成において、駆動源８２が駆動されると、駆動源８２の回転軸８２１に結合された回転円板８１１が回転され、該回転円板８１１に突設されている軸支ピン８１２に一端側が連結されている駆動シャフト８１３が、図面左右方向のクランク動作を行うことになる。このクランク動作により、連結ピン６１２により駆動シャフト８１３に連結されているブラシ取り付けベース６１は、前記リニアガイド６１３によりガイドされつつ、図中矢印ｃの方向へ往復運動（振動）するものである。すなわち、ブラシ部２２１は、ブラシ毛束５０の先端５０Ｈが基板Ｂの上面に接触し、図中矢印ｃの方向へ往復運動（振動）することによって、基板Ｂの表面上の汚れを掻き取って洗浄する。このようなクランク機構部を有するバイブレータ８１と駆動源８２とを用いた直線往復動機構に代えて、エアシリンダ等を用いた直線往復動機構を採用するようにしても良い。なお、ブラシ部２２２も同様の構成が適用される。
【００５１】
なお、本発明は、上記各実施形態に限定されるものではなく、以下に述べる態様を採用することができる。例えば、上記実施形態では、ＵＶ処理液生成機構１００として、循環配管内ＵＶ照射装置１０３及びタンク内浸漬式ＵＶ照射装置１０５の両方を備えるものをあげているが、いずれか一方の照射装置のみを備えるものであってもよい。
【００５２】
さらに、上記実施形態で示したように、循環配管内ＵＶ照射装置１０３及びタンク内浸漬式ＵＶ照射装置１０５による紫外線は254nm線であることが好ましいが、これ以外の紫外線を適用することも可能である。
【００５３】
また、上記実施形態では、ブラッシング洗浄後の洗浄液（ＵＶ処理液）が洗浄液回収管１０６によって回収されて洗浄液貯留タンク９１に戻る構成とされているが、このような使用済み洗浄液回収機構が備えられていないものであっても構わない。
【００５４】
また、洗浄液貯留タンク９１は、上記実施形態で示したようにステンレス製であることが好ましいが、ステンレス以外の材質からなるタンクを適用することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明に係る基板処理装置が好適に適用されるエッチング処理装置を示す概略図である。
【図２】水洗処理ユニットに備えられるブラシ部及びその駆動機構を簡易的に示す構成図である。
【図３】図２に示した簡易的な構成図の要部、特にブラシ部及び支持材の部分を詳細に示す一部破断側面図である。
【図４】ブラシ部の内部構成の概略を示す側断面図である。
【図５】ブラシ部による基板の洗浄機構、洗浄液供給部及びＵＶ処理液生成機構の概略を示す図である。
【図６】バイブレータを用いてブラシ取り付けベース（ブラシ先端）を、基板の進行方向（図中矢印ｂで表示）と直交する方向（図中矢印ｃの方向）に、直線的な往復運動をさせる揺動機構の概略を示す平面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１      基板洗浄装置
３      ブラシ部
９      洗浄液供給部
１０    基板洗浄装置
１３    洗浄液案内路
１３Ｅ  開口端
２１    搬送ローラ
５０Ｈ  ブラシ先端
５０    ブラシ毛束
９１    洗浄液貯留タンク
９２    供給路
９３    供給ポンプ
１００  処理液生成部
１０１  水中ポンプ
１０２  洗浄液循環配管
１０３  照射装置
１０４  循環路
１０５  照射装置
１０６  洗浄液回収管
１０７  純水配水管
１３１  吐出口
１３２  貯留部
２２１  ブラシ部
２２２  ブラシ部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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