(57)【要約】【課題】生産性が良く、ヘイズが低くて良好な視認性を有するとともに、耐熱性に優れた電磁波遮蔽材を提供する。【解決手段】基材１上に、接着層２を介して、メッシュ状の金属薄膜３が積層されており、金属薄膜３に形成されている開口部３ａ内に光透過性無機材料４が充填されていることを特徴とする電磁波遮蔽材。【選択図】        図１
2006108357.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、接着層を介して、メッシュ状の金属薄膜が積層されており、前記金属薄膜に形成されている開口部内に光透過性無機材料が充填されていることを特徴とする電磁波遮蔽材。
【請求項２】
前記光透過性無機材料がケイ素化合物であることを特徴とする請求項１記載の電磁波遮蔽材。
【請求項３】
基材上に接着層を介して金属薄膜を積層した後、該金属薄膜にエッチング処理を施して開口部を形成することにより前記金属薄膜をメッシュ状に加工する工程と、前記金属薄膜の開口部内に光透過性無機材料を充填する工程を有することを特徴とする電磁波遮蔽材の製造方法。
【請求項４】
請求項１または２に記載の電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波遮蔽材およびその製造方法、ならびに該電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
電磁波遮蔽材は様々な分野で用いられているが、最近ではプラズマディスプレイなどの画面上に設ける用途が増えている。ディスプレイの画面上に設ける場合には、電磁波遮蔽性能だけでなく、良好な視認性を有することが重要である。
【０００３】
従来のディスプレイ用電磁波遮蔽材として、例えば、基材上に接着層を介して銅箔などの金属箔を貼り合わせた後、ケミカルエッチング法などにより金属箔に開口部を形成してメッシュ状に加工する方法が知られている（例えば、下記特許文献１）。
【０００４】
かかる方法においては、接着層と金属箔との良好な密着性を得るために、金属箔の表面が粗化されている。また、コントラスト向上のために金属箔の表面を予め黒化処理する手法も知られており、黒化処理後の金属箔表面はより粗くなっている。
そして、このように金属箔の表面が粗いと、接着層上に金属箔を積層した際に、金属箔表面の凹凸が接着層に転写される。したがって、金属箔をメッシュ状とした後の開口部内には、かかる凹凸が転写された接着層が露出することになる。このため開口部内を光が透過する際に散乱が生じ易く、その結果、開口部内でぎらつきが生じ、視認性の劣化を招くという不都合がある。
【０００５】
かかる不都合に対して、金属箔の開口部内に露出している接着層を、該接着層と屈折率が近い樹脂で被覆する方法が知られている（例えば、下記特許文献１）。
【特許文献１】特許第３３８８６８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
開口部内の接着層を被覆する樹脂としては、通常、熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂が用いられるが、熱硬化性樹脂は硬化速度が遅いため、生産性が悪いという問題がある。
一方、紫外線硬化性樹脂は、一般的に塗布液（樹脂液）の粘度が高いため、開口部に塗布した際に、開口部内に空孔ができやすい。開口部内に存在する空孔はヘイズ（くもり度）上昇の原因となる。そこで、紫外線硬化性樹脂液（塗布液）の固形分濃度を低くして粘度を下げることによって空孔の発生を防止しようとすると、硬化し難くなる。
さらに、紫外線硬化性樹脂は耐熱性の点で不満があり、特にプラズマディスプレイなど放熱量が大きいディスプレイの画面上に適用された場合に、熱によって反り等の変形が生じ易いという問題もある。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、生産性が良く、ヘイズが低くて良好な視認性を有するとともに、耐熱性に優れた電磁波遮蔽材、およびその製造方法、ならびに該電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明の電磁波遮蔽材は、基材上に、接着層を介して、メッシュ状の金属薄膜が積層されており、前記金属薄膜に形成されている開口部内に光透過性無機材料が充填されていることを特徴とする。
前記光透過性無機材料がケイ素化合物であるが好ましい。
また本発明は、基材上に接着層を介して金属薄膜を積層した後、該金属薄膜にエッチング処理を施して開口部を形成することにより前記金属薄膜をメッシュ状に加工する工程と、前記金属薄膜の開口部内に光透過性無機材料を充填する工程を有することを特徴とする電磁波遮蔽材の製造方法を提供する。
また本発明は、本発明の電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムを提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の電磁波遮蔽材は、生産性が良く、ヘイズが低くて視認性が良好であり、優れた耐熱性を有する。
本発明の電磁波遮蔽材の製造方法によれば、ヘイズが低くて視認性が良好であり、優れた耐熱性を有する電磁波遮蔽材を生産性良く製造することができる。
本発明の電磁波遮蔽材はディスプレイ用フィルムに好適であり、ヘイズが低くて視認性が良好であり、優れた耐熱性を有するディスプレイ用フィルムが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
＜電磁波遮蔽材＞
図１は、本発明の電磁波遮蔽材の一実施形態を模式的に示した断面図である。図中符号１は基材、２は接着層、３は金属薄膜、３ａは金属薄膜の開口部、４は光透過性無機材料、５は機能層をそれぞれ示す。
［基材］
基材１は透明な材料で構成される。視認性を妨げない範囲で着色していてもよい。基材１は可撓性を有することが好ましく、透明な樹脂フィルムまたは樹脂シートが好適に用いられる。基材１における可視光の透過率は８０％以上が好ましい。
基材１の材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡ（エチレン−酢酸ビニル共重合体）などのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、セルロース系樹脂などの樹脂が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレートが好ましい。
基材１は単層で構成されていてもよく、多層構造であってもよい。
基材１の厚さは特に限定されないが、例えば１２〜３００μｍ程度が好ましく、５０〜２００μｍ程度がより好ましい。基材１の厚さが上記範囲の下限値以上であれは、良好な取り扱い性が得られ、上記範囲の上限値以下とすることにより良好な可視光透過率を確保することができる。
【００１１】
［接着層］
接着層２は、透明性と接着性の両方を有する材料で構成される。
接着層２の材料の具体例としては、アクリル系接着剤（屈折率１．４５〜１．５５）、エポキシ系接着剤（屈折率１．４５〜１．５５）、シリコーン系接着剤（屈折率１．４５〜１．５５）、ウレタン系接着剤（屈折率１．４５〜１．５５）等が挙げられる。中でも好ましいのはウレタン系接着剤である。
【００１２】
接着層２の厚さは、基材１と金属薄膜３との良好な接着性が得られる範囲で任意に設定することができるが、透明性の点では薄い方が好ましい。接着層２の厚さは材質にもよるが、例えば０．１〜１０μｍ程度とすることができる。
本発明においては、金属薄膜の開口部３ａ内において露出している接着層２の表面が粗面化されていてもよい。
【００１３】
［金属薄膜］
金属薄膜３は、導電性を有する金属材料で構成される。具体例としては、銅、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン、白金、コバルト等が挙げられる。これらを２種以上組み合わせた合金でもよい。これらの中でも、銅、銀が好ましい。
金属薄膜３は、好ましくは開口部３ａを有するメッシュ状の金属箔で構成される。例えば銅箔等の金属箔に開口部が形成されたものが好ましく用いられる。
金属薄膜３の厚さは特に限定されないが、例えば０．５〜２０μｍ程度が好ましく、１〜１０μｍ程度がより好ましい。金属薄膜３の厚さを上記範囲の下限値以上とすることにより良好な電磁波遮蔽効果が得られ、上記範囲の上限値以下とすることにより、開口部３ａの形成加工がし易くなり、広い視野角を確保することができる。
【００１４】
金属薄膜３には開口部３ａが形成されてメッシュ状になっている。開口部３ａの平面形状や大きさは特に限定されず、良好な視認性が得られるように適宜設定することができる。
例えば開口部３ａの平面形状としては、正多角形や、その他の多角形から選ばれる１種または２種以上が好ましく用いられる。
金属薄膜３は、開口部３ａの周囲のライン状の枠部をなすものであるが、この枠部（金属薄膜３）の幅は、好ましくは０．５〜２００μｍ程度、より好ましくは５〜１００μｍ程度とされる。枠部（金属薄膜３）の幅を上記範囲の下限値以上とすることにより十分な導電性が得られ、上記範囲の上限値以下とすると良好な視認性を得ることができる。
開口率は、特に制限されないが、好ましくは７０％以上、より好ましくは８５％以上である。これ以下であると視認性が低下する。
【００１５】
金属薄膜３は黒化処理が施されていることが好ましい。少なくとも視認側の金属薄膜３表面に黒化処理が施されていると、これによりコントラストが向上する。より優れたコントラストを得るためには、金属薄膜３表裏両面が黒化処理されていることが好ましく、さらに開口部３ａの側壁も黒化処理されていることがより好ましい。また金属薄膜３の接着層２側の表面に黒化処理が施されていれば、これにより接着層２との良好な密着性が得られる。
金属薄膜３の黒化処理方法は特に制限されず、既知の手法を適宜用いることができる。例えば、酸化処理による黒化処理が施された銅箔を金属薄膜３として用いることが好ましい。
【００１６】
［光透過性無機材料］
光透過性無機材料４は、透明な無機材料で構成される。視認性を妨げない範囲で着色していてもよい。光透過性無機材料４における可視光の透過率は８０％以上が好ましい。
また光透過性無機材料４の屈折率と、接着層２の屈折率との差が小さい方が、視認性の点で好ましい。光透過性無機材料４の屈折率と、接着層２の屈折率との差は、好ましくは０．３以下であり、０．２以下がより好ましい。
光透過性無機材料４の材料の具体例としては、ポリシラザン、ポリシロキサン等のケイ素化合物や、Ｍ（ＯＲ）Ｘで表される金属アルコキシド等が挙げられる。上記Ｍは、チタン、アルミニウム、ジルコニウム、錫、亜鉛等の金属原子を表し、Ｒは有機官能基を表し、Ｘは自然数を表す。なおＸが２以上の場合、Ｒは互いに異なるものであっても構わない。
【００１７】
ポリシロキサンとして、下記一般式（Ｉ）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物が好ましい。
ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘ  ・・・（Ｉ）
（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦４を満たす整数である）
かかるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。中でもテトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシランが好ましい。
前記加水分解物は、一般式（Ｉ）で示されるケイ素アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
なお、光透過性無機材料４には、一般式（Ｉ）で示されるケイ素アルコキシド、すなわち未反応の加水分解物の原料が存在していても構わない。
【００１８】
前記Ｍ（ＯＲ）Ｘで表される金属アルコキシドとしては、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラブトキシド、アルミニウムテトライソプロポキシド、アルミニウムアセチルセトナート、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、テトラメトキシ錫、テトラエトキシ錫などが挙げられる。
【００１９】
前記ポリシラザン又は前記ポリシロキサンから得られる光透過性無機材料の屈折率は１．４０〜１．５５程度である。また、前記金属アルコキシドから得られる光透過性無機材料の屈折率は１．６０〜２．４０程度である。
【００２０】
光透過性無機材料４の厚さは、少なくとも金属薄膜３の開口部３ａ内で露出している接着層２の表面が光透過性無機材料４で覆われていればよく、特に限定されない。図１に示す例のように、光透過性無機材料４が金属薄膜３よりも薄くてもよい。あるいは、光透過性無機材料４の厚さと金属薄膜３の厚さが等しくて両者の表面が面一になっていてもよく、又は光透過性無機材料４の方が金属薄膜３よりも厚くて金属薄膜３全体が光透過性無機材料４で覆われている状態であってもよい。
光透過性無機材料４の厚さが厚いほど、耐熱性は向上し、可撓性は低下する傾向がある。また光透過性無機材料４の塗布液の性状にもよるが、生産性の点では一回の塗布で形成できる膜厚とすることが好ましい。これらのことを考慮すると、光透過性無機材料４の好ましい厚さは１〜２０μｍ程度であり、５〜１２μｍ程度がより好ましい。
【００２１】
［機能層］
基材１、接着層２、金属薄膜３、および光透過性無機材料４の他に、必要に応じて各種の機能を付与するための機能層５を任意に設けてもよい。
例えば、基材１上に、接着層２、金属薄膜３および光透過性無機材料４が設けられた状態で、光透過性無機材料４が設けられている側の表面が平坦でなければ、光透過性の材料からなる平坦化層（機能層５）を設けることが好ましい。
光透過性無機材料４が設けられている側の表面上に、さらに他のフィルムやシートを積層する場合は光透過性材料からなる接着層（機能層５）を設けることが好ましい。
あるいは、赤外吸収機能を有する層、紫外線吸収機能を有する層、反射防止機能を有する層、特定波長の光を選択的に吸収して色調を補正する機能を有する層、防汚機能を有する層、耐擦傷機能を有する層など、ディスプレイ用フィルムを構成する層として知られている各種の機能を有する層（機能層５）を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜設けることができる。機能層５は一層でもよく複数層が積層されていてもよい。また一層で複数の機能を兼ね備えた層を含んでもよい。
また図示していないが、基材１の裏面上（接着層２と反対側）に、上記の機能層を設けてもよく、基材１の表裏両側に機能層を設けてもよい。
【００２２】
＜製造方法＞
本実施形態の電磁波遮蔽材は、好ましくは以下の方法で製造される。
まず、基材１上に接着層２を介して金属薄膜３を積層する。
次いで、フォトリソグラフ法を用い、金属薄膜３にエッチング処理を施してその一部を除去することにより開口部３ａを形成してメッシュ状に加工する。こうして基材１、接着層２、および開口部３ａを有する金属薄膜３を備えた第１の積層体を得る。
【００２３】
次に、前記第１の積層体の金属薄膜３の開口部３ａ内に光透過性無機材料４を充填する。
好ましくは光透過性無機材料４を有機溶剤に溶解または分散させた塗布液を、第１の積層体の金属薄膜３側の表面全面に塗布した後、加熱乾燥して光透過性無機材料４からなる塗膜を形成することが好ましい。該塗膜の膜厚は、塗布液の固形分濃度および塗布量によって制御可能である。
塗布方法は、特に制限はなく、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法等を用いることができる。
こうして第１の積層体における金属薄膜３の開口部３ａ内に光透過性無機材料４が充填された第２の積層体を得る。
この後、第２の積層体の光透過性無機材料４を設けた側の表面上に、必要に応じて機能層５を設けることにより、電磁波遮蔽材が得られる。
【００２４】
前記第２の積層体における、金属薄膜３側を視認側として測定したヘイズ（測定方法はＪＩＳ−Ｋ７１０５１２に準じる、以下同様。）の値は、良好な視認性を得るうえで０．５〜１０％であることが好ましく、０．５〜３％がより好ましい。
また第２の積層体における全光線透過率（測定方法はＪＩＳ−Ｋ７１０５１２に準じる、以下同様）の値は、良好な視認性を得るうえで５０〜９０％であることが好ましく、７０〜９０％がより好ましい。
【００２５】
＜ディスプレイ用フィルム＞
本実施形態の電磁波遮蔽材は、該電磁波遮蔽材単独で、またはその他の必要に応じた部材が付加されて、ディスプレイ用フィルムを構成することができる。ディスプレイ用フィルムは、例えばプラズマディスプレイなどの画面上に接着一体化して使用される。
ディスプレイ用フィルムとして用いられる場合、画面側の最外層は接着機能を有する層であることが好ましい。電磁波遮蔽材の光透過性無機材料４が設けられている側を表面とすると、表面が画面側で裏面が視認側でもよく、その反対に表面が視認側で裏面が画面側であってもよい。特に、光透過性無機材料４の耐熱性が優れているので、表面が画面側で裏面が視認側に配された場合に、より耐熱性向上効果が発揮されるので好ましい。
【００２６】
本実施形態によれば、金属薄膜３の開口部３ａに光透過性無機材料を充填することにより、該開口部３ａ内に露出されている接着層２の表面が粗面である場合にも、該開口部３ａ内を透過する光の散乱を抑えることができる。また、低粘度の塗布液を用いて開口部３ａに光透過性無機材料を充填することができるので、開口部３ａ内に空孔が生じるのを防止することができる。したがってヘイズが低くて視認性に優れた電磁波遮蔽材が得られる。
また、開口部３ａ内に充填する材料が無機材料であるので、耐熱性に優れており、熱によって電磁波遮蔽材に反り等の変形が生じるのが抑えられる。
【実施例】
【００２７】
以下、本発明の実施例について具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
（実施例１）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムからなる基材１の一面上にエポキシ系接着剤（ニッカン工業社製、製品名；ニカフレックスＳＡＦ、屈折率１．５８）からなる接着層２を介して、酸化処理による黒化処理が施された厚さ１０μｍの銅箔３を積層一体化した。銅箔３に対してホトリソグラフ法にて開口部３ａを形成して第１の積層体を得た。開口部３ａの平面形状は一辺が５００μｍの正方形とした。また開口部３ａ周囲の枠部のライン幅は２５μｍとした。この第１の積層体について、銅箔３側を視認側として測定したヘイズの値は４８．９％、全光線透過率の値は８３．６％であった。
次いで、第１の積層体の銅箔３上に、ポリシラザンを有機溶剤に溶解させた塗布液（クラリアントジャパン社製、製品名；ＮＬ−１１０Ａ、固形分濃度２０質量％、粘度２．０ｃｐ）をバーコート法により塗布した後、１２０℃のオーブンで５分間加熱処理して厚み９μｍの塗膜（光透過性無機材料４）を形成することにより電磁波遮蔽材を得た。塗膜（光透過性無機材料４）の屈折率は１．４０であった。
なお、本明細書において、粘度の測定方法はＪＩＳ−Ｋ５４００に準じた回転粘度計による方法とする（以下、同様）。
【００２８】
得られた電磁波遮蔽材についての、銅箔３側を視認側として測定したヘイズの値は２．４％、全光線透過率の値は８２．２％であった。
得られた電磁波遮蔽材から１０ｃｍ×１０ｃｍの試験片を切り出し、該試験片に対してオーブンにて１３０℃、４時間の条件で加熱試験を行った。加熱による反りの程度を表す指標として、加熱試験後の試験片を平らな台の上に置いた状態で、台の上面から試験片の端縁までの高さを測定したところ、０．１ｃｍであった。
また、開口部３ａ内を走査型電子線顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、空孔の発生は見られなかった。
【００２９】
（実施例２）
実施例１において、塗膜（光透過性無機材料４）を形成するための塗布液を、下記組成の塗布液に変更した他は同様にして電磁波遮蔽材を製造した。
すなわち、実施例１と同様の第１の積層体の銅箔３上に、下記組成の塗布液（固形分濃度５２質量％、粘度１．８ｃｐ）をバーコート法により塗布した後、１２０℃のオーブンで５分間加熱処理して厚み９μｍの塗膜（光透過性無機材料４）を形成することにより電磁波遮蔽材を得た。塗膜（光透過性無機材料４）の屈折率は１．４２であった。
テトラエトキシシラン（関東化学社製）    ３．１２質量部
１．０Ｎ  塩酸      （和光純薬社製）    ２．０  質量部
イソプロピルアルコール                  ０．８８質量部
【００３０】
得られた電磁波遮蔽材についての、銅箔３側を視認側として測定したヘイズの値は３．０％、全光線透過率の値は８１．６％であった。
実施例１と同様に加熱試験を行ったところ、反りの程度は０．２ｃｍであった。
また、実施例１と同様にして開口部３ａ内を観察したところ、空孔の発生は見られなかった。
【００３１】
（比較例１）
実施例１において、塗膜を形成するための塗布液を、下記組成のＵＶ硬化型アクリル塗料に変更した。
すなわち、実施例１と同様の第１の積層体の銅箔３上に、下記組成の塗布液（固形分濃度５０質量％、粘度３．２ｃｐ）をバーコート法により塗布した後、メタルハライドランプにより４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して厚み１０μｍの塗膜を形成することにより電磁波遮蔽材を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄化学社製）    ５．０質量部
メチルエチルケトン                                      ５．０  質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ）      ０．２５質量部
【００３２】
得られた電磁波遮蔽材についての、銅箔３側を視認側として測定したヘイズの値は３．６％、全光線透過率の値は８４．４％であった。
実施例１と同様に加熱試験を行ったところ、反りの程度は３．０ｃｍであった。
また、実施例１と同様にして開口部３ａ内を観察したところ、空孔の発生が見られた。
【００３３】
（比較例２）
実施例１において、塗膜を形成するための塗布液を、下記組成のＵＶ硬化型アクリル塗料に変更した。
すなわち、実施例１と同様の第１の積層体の銅箔３上に、下記組成の塗布液（固形分濃度２０質量％、粘度２．０ｃｐ）をバーコート法により塗布した後、メタルハライドランプにより４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射したが、塗布液は硬化せず、塗膜は形成されなかった。これは塗布液の固形分濃度が低かったためと考えられる。
ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄化学社製）    ２．０質量部
メチルエチルケトン                                      ８．０  質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ）      ０．１質量部
【００３４】
これらの結果より、実施例１および２においては、銅箔３上に塗膜（光透過性無機材料４）を形成する前に比べて、塗膜を形成した後のヘーズが大きく低減された。また、開口部３ａ内での空孔の発生は見られず、全光線透過率も良好であり、熱による反りも非常に小さかった。
これに対して、銅箔３上に塗布する塗布液として紫外線硬化性樹脂液を用いた比較例１では、開口部３ａ内に空孔が発生した。これは塗布液の粘度が高かったためと考えられる。塗膜形成後の全光線透過率は良好であったが、塗膜形成後のヘーズが実施例１，２に比べて高かった。また、熱による反りが大きかった。
比較例２は、比較例１における塗布液の固形分濃度を下げて、粘度を実施例１と同程度としたものであるが、塗布液が硬化しなかった。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の電磁波遮蔽材の一実施形態を模式的に示した断面図である。
【符号の説明】
【００３６】
１…基材、２…接着層、３…金属薄膜、３ａ…開口部、４…光透過性無機材料。
【図１】
2006108357.tif 000003