(57)【要約】      （修正有）【課題】メンテナンスが容易に行えるウエハローダ及び該ウエハローダによりウエハがロード・アンロードされる露光装置を提供する。【解決手段】ウエハローダ１０は、そのチャンバ１２の床略全面に主ベース２５を敷設し、この主ベース２５上に、副ベース２６を固定及び移動可能に配置している。この副ベース２６上には、直線運動機構、プリアライメントステージ及びアンロードスライダなどが搭載される。主ベース２５には、その表面側に所定の深さの２本の案内溝２７，２８が形成される。副ベース２６をチャンバ１２の外部に引き出す際、主ベース２５上で副ベース２６を案内溝２７，２８に沿って移動させることにより、ロードロボットとアンロードロボットなどの副ベース２６の周辺位置に配置された主ベース２５上の周辺ユニットに接触することなく、円滑にチャンバ１２の外部に引き出すことが可能となる。【選択図】図２
2006041053.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光ビームでマスクを介して基板を露光する露光装置に該基板を搬送する搬送機構を搭載した副ベースを、チャンバ内の主ベース上に、固定及び移動可能に配置してなり、前記搬送機構を搭載した状態で前記副ベースを前記主ベース上で移動させて前記チャンバの外部に引き出すようにしたウエハローダであって、
前記主ベースに、案内部を設け、
前記副ベースに、前記案内部を転動又は摺動するカムフォロア部と、前記主ベース上を転動するローラを設けて、
前記副ベースを前記主ベース上で前記案内部に沿って移動させることにより、前記副ベースを前記チャンバ内部の所定位置から前記チャンバの外部に引き出し、又は前記副ベースを前記外部から前記所定位置に設置することを特徴とする、ウエハローダ。
【請求項２】
請求項１に記載のウエハローダにおいて、
前記案内部は主ベースの表面に設けた案内溝であり、また前記カムフォロア部は該案内溝内を転動又は摺動するカムフォロアであり、且つ
前記副ベースの異なる２箇所にそれぞれ前記カムフォロアを設け、
前記主ベースに前記各カムフォロアを案内する前記案内溝をそれぞれ設けてなることを特徴とするウエハローダ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のウエハローダにおいて、
前記主ベースは、アルミニウム又はアルミニウム合金製で、前記ローラが転動する表面をステンレス鋼製のカバープレートで覆うことを特徴とするウエハローダ。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか一項に記載のウエハローダにおいて、
前記主ベースは、複数に分割した方形状の主ベース片を組み合わせて構成されることを特徴とするウエハローダ。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか一項に記載のウエハローダにおいて、
前記主ベースの、前記副ベースが設置され、移動する領域の外側に、配線配管用の収容溝を配置してなることを特徴とするウエハローダ。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか一項に記載のウエハローダにおいて、
前記ローラは、前記副ベースを前記主ベース上の前記所定位置に固定して設置するときに、前記副ベース内に後退して収容されることを特徴とするウエハローダ。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項に記載のウエハローダにおいて、
前記副ベースに、該副ベースを前記主ベース上の所定位置に着脱可能に固定する固定脚を配置してなることを特徴とするウエハローダ。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか一項に記載のウエハローダにおいて、
前記副ベース上に、前記搬送機構のアーム上に保持された前記基板を前記露光装置に搬送する前に位置決めをする位置決め機構を、さらに搭載してなることを特徴とするウエハローダ。
【請求項９】
請求項８に記載のウエハローダにおいて、
前記各種ユニットは、前記アーム上に前記基板を載置するロードロボット及び／又は前記アーム上から前記基板を取り出すアンロードロボットであることを特徴とするウエハローダ。
【請求項１０】
露光ビームでマスクを介してステージ上の基板を露光する露光装置であって、
請求項１乃至９の何れか一項に記載のウエハローダにより前記ステージ上に前記基板を搬送することを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置のウエハステージ上に未露光のウエハを搬送する一方、該ウエハステージから露光済みのウエハを搬出するウエハローダであって、メンテナンス作業を容易にしたウエハローダ及び露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置には、基板としてのウエハの交換を行うためのウエハローダが隣接して装備され、このウエハローダによって露光済みのウエハを露光装置のウエハステージから搬出（アンロード）する一方、ウエハカセット又はラインから送られてくる未露光のウエハをウエハステージ上に搬送（ロード）するようにしてある。
【０００３】
このため、ウエハローダのチャンバ内には、アーム上にウエハを保持してウエハステージまで搬送する搬送機構と、該搬送機構のアーム上に未露光のウエハを載置するロードロボットと、露光済みのウエハをアンロードするアンロードロボットが装備されている。また、プリアライメント光学系が装備されていて、該プリアライメント光学系により未露光のウエハの位置、方位などを計測して予め位置決めした後、搬送機構によりウエハステージに搬送している。
【０００４】
搬送機構は、ウエハをウエハステージ上に搬送するために重要な部分であり、定期的なメンテナンスが要求される。このメンテナンスに際し、搬送機構を一旦ウエハローダのチャンバの一方の側面から外部に引き出す必要がある。
【０００５】
通常、搬送機構は、プリアライメント光学系などと共にウエハローダのチャンバ内の床である主ベース（大ベース）上に固定及び移動可能に配置された副ベース（小ベース）上に搭載され、ロードロボットやアンロードロボットなどの周辺ユニットは、この副ベースを取り囲むようにして主ベース上に固定配置される。
【０００６】
搬送機構を搭載した副ベースの総重量は２００ｋｇから３００ｋｇで、作業員が抱えてチャンバの外部に引き出すことが出来る程度の重さではなく、このため、副ベースの底面にローラ（コロ）を設け、該ローラを利用して主ベース上で移動出来るようにしている。
【０００７】
しかし、副ベースの周辺の主ベース上にはロードロボットやアンロードロボットなどが固定配置されていることから、これらに全く接触することなく副ベースを移動させることは困難である。仮に副ベースがその周辺のロードロボットなどに接触した場合、副ベースの総重量が非常に重いことから、副ベース自身あるいはロードロボットなどの周辺ユニットを破損するおそれがあり、この点の解決が要望されていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ロードロボットやアンロードロボットなどの周辺ユニットに接触して破損するようなおそれなく、搬送機構などを搭載した副ベースを主ベース上で移動させることができるようにした、ウエハローダ、及び該ウエハローダによりウエハが搬送、搬出される露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成する、本発明の請求項１に記載のウエハローダ（１０）は、露光ビームでマスクを介して基板を露光する露光装置（５０）に該基板を搬送する搬送機構を搭載した副ベース（２６）を、チャンバ内の主ベース（２５）上に、固定及び移動可能に配置してなり、前記搬送機構を搭載した状態で前記副ベースを前記主ベース上で移動させて前記チャンバの外部に引き出すようにしたウエハローダであって、前記主ベースに、案内部（２７，２８）を設け、前記副ベースに、前記案内部を転動又は摺動するカムフォロア部（３１，３２）と、前記主ベース上を転動するローラ（３０）を設けて、前記副ベースを前記主ベース上で前記案内溝に沿って移動させることにより、前記副ベースを前記チャンバ内部の所定位置から前記チャンバの外部に引き出し、又は前記副ベースを前記外部から前記所定位置に設置することを特徴とする。
【００１０】
前記案内部は主ベースの表面に設けた案内溝であり、また前記カムフォロア部は該案内溝内を転動又は摺動するカムフォロアであり、且つ前記副ベースの異なる２箇所にそれぞれ前記カムフォロアを設け、前記主ベースに前記各カムフォロアを案内する前記案内溝をそれぞれ設けてもよい（請求項２）。
【００１１】
また、前記主ベースを、アルミニウム又はアルミニウム合金製で構成し、前記ローラが転動する前記主ベースの表面をステンレス鋼製のカバープレートで覆うようにしてもよい（請求項３）。
【００１２】
また、前記主ベースを、複数に分割した方形状の主ベース片を組み合わせて構成するようにしてもよい（請求項４）。
【００１３】
また、前記主ベースの、前記副ベースが設置され、移動する領域の外側に、配線配管用の収容溝を配置してもよい（請求項５）。
【００１４】
また、前記ローラは、前記副ベースを前記主ベース上の前記所定位置に固定して設置するときに、前記副ベース内に後退して収容するようにしてもよい（請求項６）。
【００１５】
また、前記副ベースに、該副ベースを前記主ベース上の所定位置に着脱可能に固定する固定脚を配置してもよい（請求項７）。
【００１６】
また、前記副ベース上に、前記搬送機構のアーム上に保持された前記基板を前記露光装置に搬送する前に位置決めをする位置決め機構を、さらに搭載してもよい（請求項８）。
【００１７】
また、前記各種ユニットは、前記アーム上に前記基板を載置するロードロボット及び／又は前記アーム上から前記基板を取り出すアンロードロボットである（請求項９）。
【００１８】
上記目的を達成する、本発明の請求項１０に記載の露光装置は、露光ビームでマスクを介してステージ上の基板を露光する露光装置であって、請求項１乃至９の何れか一項に記載のウエハローダにより前記ステージ上に前記基板を搬送することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の請求項１に記載のウエハローダによれば、主ベースに案内部を設け、副ベースに該案内部を転動又は摺動するカムフォロア部と主ベース上を転動するローラを設けて、副ベースを主ベース上で案内部に沿って移動させるようにしてあるので、主ベース上の副ベース周辺に配置されたユニットに接触するおそれがなく、副ベースをチャンバ内部の所定位置からチャンバの外部に引き出し、又は副ベースを外部から所定位置に設置することが容易である。このため、メンテナンス作業の効率を向上させることが出来る。
【００２０】
また、本発明の請求項２に記載のウエハローダによれば、副ベースの異なる２箇所にそれぞれカムフォロアを設け、主ベースに各カムフォロアを案内する案内溝をそれぞれ設けてあるので、案内溝上の各位置において副ベースの姿勢（向き）は一意に決まり、このため副ベースを案内溝に沿って確実且つ円滑に移動させることが出来る。
【００２１】
また、本発明の請求項３に記載のウエハローダによれば、アルミニウム又はアルミニウム合金製の主ベースの、ローラが転動する表面を、ステンレス鋼製のカバープレートで覆っているので、加工性のよいアルミニウムやアルミニウム合金で主ベースを構成しても、副ベースを移動させる際の障害となるようなローラの跡が残るおそれがない。
【００２２】
また、本発明の請求項４に記載のウエハローダによれば、主ベースを、複数に分割した方形状の主ベース片を組み合わせて構成するようにしてあるので、主ベースの製造が容易である。
【００２３】
また、本発明の請求項５に記載のウエハローダによれば、主ベースの、副ベースが設置され、移動する領域の外側に、配線配管用の収容溝を配置してあるので、配線配管の処理が副ベースに邪魔されずに行うことが出来る。
【００２４】
また、本発明の請求項６に記載のウエハローダによれば、副ベースを主ベース上の所定位置に固定して設置するときには、ローラを副ベース内に後退して収容するようにしてあるので、ローラが長期間主ベースの表面に圧着することにより生じる不都合、例えば主ベースの表面にローラの跡が残るようなおそれがない。
【００２５】
また、本発明の請求項７に記載のウエハローダによれば、副ベースに、該副ベースを主ベース上の所定位置に着脱可能に固定する固定脚を配置してあるので、副ベースを主ベース上に固定する際、特別に固定手段を準備する必要がなく、副ベースの固定作業を効率良く行いことが出来る。
【００２６】
また、本発明の請求項８に記載のウエハローダによれば、副ベース上に、搬送機構のアーム上に保持された基板を露光装置に搬送する前に位置決めをする位置決め機構を搭載してあるので、メンテナンスに際し、副ベースと共に位置決め機構をチャンバの外部に引き出すことができ、位置決め機構のメンテナンス作業を効率よく行うことが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明のウエハローダ及び該ウエハローダを装備した露光装置の実施形態について図１乃至図１４を参照して説明する。
【００２８】
図１は本実施態様のウエハローダ１０、及びこのウエハローダ１０により基板としてのウエハＷがロードされる露光装置５０の概略を示している。ウエハローダ１０の動作はウエハローダ制御系１１により制御され、また露光装置５０の動作は主制御系５１により制御される。主制御系５１とウエハローダ制御系１１との間ではウエハＷの受け渡しのタイミング情報などが交換される。
【００２９】
先ず、露光装置５０について説明する。この露光装置５０は、図１に示すように、マスクとしてのレチクルＲを照明する照明光学系ＩＬと、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳと、投影光学系ＰＬと、ウエハローダ１０によりウエハＷがロード（搬送）あるいはアンロード（搬出）されるウエハステージＷＳと、アライメント検出系ＡＳと、これらの制御系としての上述した主制御系５１を備える。
【００３０】
この露光装置５０は、ウエハＷ上の１つのショット領域への回路パターンの露光が終了すると、ウエハステージＷＳをステッピングさせて、ウエハＷ上の次のショット領域を投影光学系ＰＬの露光領域内に移動させて露光を行う、ステップ・アンド・リピート方式である。
【００３１】
図１において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸの方向をＺ軸方向とし、図１の紙面左右方向をＹ軸方向とし、図１の紙面直交方向をＸ軸方向とする。
【００３２】
レチクルステージＲＳは、例えばレチクルＲを真空吸着又は静電吸着などにより吸着保持する。レチクルステージＲＳは、そのＸＹ平面内の位置情報が不図示の干渉計などにより検出され、この検出された位置情報に基づいて、主制御系５１の指示の下、例えば不図示のリニアモータなどにより照明光学系ＩＬの光軸（投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと一致）に垂直なＸＹ平面内で少なくとも微小駆動可能に構成される。レチクルＲに描かれた回路パターンは、照明光学系ＩＬからの照明光（露光光）により照明され、それによりその回路パターン上にほぼ均一な照度の照明領域が形成される。
【００３３】
投影光学系ＰＬは、例えば、両側テレセントリックで、所定の縮小倍率（例えば１／４又は１／５）を有する屈折光学系が装備される。照明光（露光光）によりレチクルＲに照明領域が形成されると、このレチクルＲを通過した照明光（露光光）により、投影光学系ＰＬを介して、レチクルＲの、照明領域内の回路パターンの縮小像が、ウエハステージＷＳに吸着保持されたウエハＷ上に形成される。
【００３４】
ウエハステージＷＳは、リニアモータ、ボイスコイルモータなどを含む不図示のウエハステージ駆動部によりウエハベース５４上をＸＹ平面内（Ｚ軸回りの回転方向θｚ方向を含む）及びＺ軸方向に移動可能であり、ＸＹ平面に対する傾斜方向（Ｘ軸回りの回転方向θｘ及びＹ軸回りの回転方向θｙ）にも微小駆動可能となっている。また、ウエハステージＷＳのＸＹ平面内での位置（Ｚ軸回りの回転方向θｚ方向を含む）は、複数の側長軸を有する、不図示の干渉計によって、例えば０．５ｎｍ乃至１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。この干渉計によって検出されたウエハステージＷＳの位置情報（又は速度情報）は主制御系５１に供給される。主制御系５１は、ウエハステージＷＳの位置情報（又は速度情報）に基づいて、不図示のウエハステージ駆動部を介してウエハステージＷＳの位置（速度）を制御する。この制御により、ウエハステージＷＳは、投影光学系ＰＬ真下の露光位置（投影光学系ＰＬを介したパターンの転写位置）から２点鎖線で示されるウエハＷのローディングポジションまで移動する。ウエハステージＷＳの中央部近傍には、ウエハＷを真空吸着あるいは静電吸着する吸着部を有するセンターテーブルＣＴが配置される。このセンターテーブルＣＴは、主制御系５１の指示の下、ウエハステージＷＳに対してウエハＷをロードする際又はウエハＷをアンロードする際に、不図示の駆動機構により駆動されて、ウエハＷの中央部を下方から吸着保持した状態で上下動する。
【００３５】
投影光学系ＰＬの側面近傍には、オフアクシス方式のアライメント検出系ＡＳが設けられている。このアライメント検出系ＡＳとしては、例えばディジタル画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系センサが使用される。このアライメント検出系ＡＳの撮像結果は主制御系５１に出力される。
【００３６】
次に、ウエハローダ１０について説明する。このウエハローダ１０は、図１に示すように、露光装置５０に隣接して配置されており、そのチャンバ１２は露光装置５０のチャンバ５２と開口部１３，５３を介して内部空間が互いに連結（連通）され（図３参照）、これら開口部１３，５３を介して露光済みのウエハＷが露光装置５０のウエハステージＷＳからウエハローダ１０に搬出（アンロード）される一方、未露光のウエハＷがウエハローダ１０からウエハステージＷＳ上に搬送（ロード）される。
【００３７】
ウエハローダ１０には、図３に示すように、ウエハＷを保持してウエハローダ１０のチャンバ１２と露光装置５０のチャンバ５２との間を往復移動するロードスライダ１４と、該ロードスライダ１４をチャンバ５２とチャンバ１２との間で往復移動させる直線運動機構１５と、フロント・オープニング・ユニファイド・ポッド（Front Opening Unified Pod:以下「FOUP」と略記する）６０から未露光のウエハＷを取り出すロードロボット１６と、該ロードロボット１６からロードスライダ１４へのウエハＷの受け渡しの中継を行いつつ、その中継の間にウエハＷに対するプリアライメントを行うプリアライメントステージ１７と、該プリアライメントステージ１７上に搭載されたターンテーブル１８と、露光済みのウエハＷをウエハステージＷＳからアンロードするためのアンロードスライダ１９と、該アンロードスライダ１９からウエハＷを受け取るアンロードロボット２０などが装備される。
【００３８】
ロードスライダ１４は、真空吸着又は静電吸着などによりウエハＷを保持した状態で、上述の如く、直線運動機構１５により、チャンバ１２とチャンバ５２との間を、開口部１３，５３を通過して移動する。ウエハローダ１０内で未露光のウエハＷを受け取ったロードスライダ１４は、図３に示すように、チャンバ５２内のウエハステージＷＳのローディングポジション上方に移動する。ロードスライダ１４と、ローディングポジションに位置するウエハステージＷＳのセンタテーブルＣＴ（図１参照）との協調動作により、ウエハステージＷＳへのウエハＷのロードが実行される。
【００３９】
ロードロボット１６は、そのアーム先端にウエハＷを吸着保持して搬送が可能な水平多関節ロボットであり、主にＦＯＵＰ６０からプリアライメントステージ１７へのウエハＷの搬送、アンロードロボット２０からの露光済みのウエハＷの回収を行う。ロードロボット１６の姿勢制御は、ウエハローダ制御系１１の指示の下、ロードロボット１６の関節などに組み込まれた不図示の回転モータなどを駆動して行われる。
【００４０】
プリアライメントステージ１７は、ＸＹ平面内を移動することが可能なステージで、Ｙ軸方向に関しては、ロードスライダ１４へのウエハＷの受け渡しが可能な位置と、ロードロボット１６によるウエハＷの受け渡しが可能な位置との間の移動が少なくとも可能となるように構成される。このプリアライメントステージ１７の制御は、ウエハローダ制御系１１の指示の下、リニアモータなどの駆動機構２１の駆動により行われる。図３では、ロードスライダ１４へのウエハＷの受け渡しが可能な位置にあるプリアライメントステージ１７が示されている。
【００４１】
ターンテーブル１８は、プリアライメントステージ１７の略中央部に配置されていて、上下動可能で且つウエハＷを保持してＺ軸に平行な回転軸を中心に自転可能に構成されている。このターンテーブル１８には、真空吸着あるいは静電吸着などによりウエハＷを吸着保持するための円板状のウエハ吸着保持面が設けられており、ターンテーブル１８の自転によりこのウエハ吸着保持面に吸着保持されたウエハＷを回転させることが可能である。この回転は、ウエハローダ制御系１１の指示の下に不図示の駆動機構の駆動により行われる。
【００４２】
プリアライメントステージ１７では、ウエハＷの周縁の少なくとも３箇所のエッジ位置を検出するために、これらエッジ位置の上方に撮像装置２２Ａ乃至２２Ｃ（図１参照）が配置される。これら撮像装置２２Ａ乃至２２Ｃは、例えば照明光学系、対物光学系、及びこの対物光学系によって形成される像を撮像する撮像素子などを備え、この撮像素子からの撮像信号がウエハローダ制御系１１に供給される。ウエハローダ制御系１１では、撮像装置２２Ａ乃至２２Ｃの撮像信号を処理することにより、ウエハＷの中心位置及び回転角を求め、これら中心位置及び回転角に基づいてターンテーブル１８の回転及びプリアライメントステージ１７のＸＹ平面内の移動を介してウエハＷの中心位置及び回転角を制御する。
【００４３】
なお、プリアライメントステージ１７のＸＹ位置、ターンテーブル１８の回転位置及びウエハ吸着保持面（ウエハＷ）の高さなどに関する情報は、不図示の位置検出センサによって検出され、ウエハローダ制御系１１に送られる。ウエハローダ制御系１１では、その情報に基づいて、プリアライメントステージ１７のＸＹ位置とターンテーブル１８の位置（回転位置、Ｚ位置）を制御する。
【００４４】
ＦＯＵＰ６０は、例えば特開平８−２７９５４６号公報に開示された搬送コンテナと同様のもので、一方の面にのみウエハＷを出し入れ可能な開口部が設けられ、該開口部に開閉可能な扉（蓋）が取り付けられた開閉型コンテナ（密閉型ウエハカセット）である。このＦＯＵＰ６０の内部には、不図示のＦＵＯＰ搬送装置により図３に示す位置にセッティングされる。このセッティングにより、ウエハローダ１０のチャンバ１２に形成されたＦＵＯＰ６０用の開口部２３がＦＵＯＰ６０の開口部と連結される。そして、この開口部の扉が開かれた状態で、該開口部及び開口部２３を介してＦＵＯＰ６０の内部のウエハＷをチャンバ１２に搬入することが可能となる。
【００４５】
次に本発明の特徴部分について詳細に説明する。ウエハローダ１０は、図２及び図３に示すように、そのチャンバ１１の床略全面に主ベース（大ベース）２５を敷設しており、この主ベース２５上の、引き出し口のある一側部（図３の右側）で且つ露光装置５０側の前端部（図３の上側）に、副ベース（小ベース）２６を固定及び移動可能に配置している。この副ベース２６上には、上述した、直線運動機構１４と、ロードロボット１６と、プリアライメントステージ１７と、アンロードスライダ１９と、アンロードロボット２０などのうち、直線運動機構１４、プリアライメントステージ１７及びアンロードスライダ１９などが搭載される。これら直線運動機構１４、プリアライメントステージ１７などは、メンテナンス時に副ベース２６上に搭載された状態で、副ベース２６と共に引き出し口からチャンバ１２の外部に引き出される。ロードロボット１６とアンロードロボット２０などは、副ベース２６の周辺位置で主ベース２５上に固定される。
【００４６】
主ベース２５には、例えば、図４に示すように、その表面に案内部として所定の深さの２本の案内溝２７，２８が形成される。これら２本の案内溝２７，２８は、ロードロボット１６とアンロードロボット２０などの副ベース２６の周辺位置に配置された主ベース２５上の周辺ユニットに接触することなく、副ベース２６を主ベース２５上で移動させてチャンバ１２から引き出す際の、主ベース２５上で描く副ベース２６上の２点、例えば露光装置５０側に位置する副ベース２６の前端側の任意の１点と、露光装置５０から離れた副ベース２６の後端側の任意の１点が描く移動軌跡に沿って形成される。したがって、副ベース２６をチャンバ１２の外部に引き出す際、主ベース２５上で副ベース２６を案内溝２７，２８に沿って移動させることにより、ロードロボット１６とアンロードロボット２０などの副ベース２６の周辺位置に配置された主ベース２５上の周辺ユニットに接触することなく、円滑にチャンバ１２の外部に引き出すことが可能となる。
【００４７】
案内溝２７，２８は、主ベース２５上の周辺ユニットに接触することなく、副ベース２６を主ベース２５上で移動させてチャンバ１２から引き出す際、副ベース２６の所定の部位が主ベース２５上に描く移動軌跡に沿って形成されており、副ベース２６のどの部位が主ベース２０上に描く移動軌跡を採用するかによって、その形状が異なる。本実施態様では、上述の如く、副ベース２６の前端側の任意の１点と後端側の任意の１点が主ベース２５上で描く移動軌跡に基づいて案内溝２７，２８が形成されている。この副ベース２６の前端側の任意の１点位置と後端側の任意の１点位置に、後述するカムフォロア３１，３２がそれぞれ配置される。案内溝２７，２８の出入口端は、それぞれ主ベース２５の引き出し口１２Ａ（図３参照）のある一側部に位置している。
【００４８】
また、主ベース２５は、略正方形状の複数枚の主ベース片２５Ａに分割されていて、これら主ベース片２５Ａをチャンバ１２の床面上に互いに隙間が生じないように組み合わせて敷設することにより構成される（図２，４参照）。各主ベース片２５Ａは、例えば加工性が優れ且つ軽量なアルミニウム又はアルミニウム合金などから形成され、その表面は、例えば厚さ２ｍｍ程度のステンレス鋼板製のカバープレート２９（図５参照）によって覆われていて、平滑面になっている。したがって、主ベース２５上で副ベース２６を円滑に移動させることができ、また副ベース２６の総重量（例えば２００ｋｇから３００ｋｇ）が主ベース２５に作用してもその表面が窪むなどの変形が生じるおそれがない。
【００４９】
なお、図５に示すように、案内溝２７，２８の底面はカバープレート２９が覆われておらず、アルミニウム又はアルミニウム合金で形成された部分が露呈しているが、この部分には後述するカムフォロア３１，３２が転動又は摺動するだけであり、副ベース２６の総重量がカムフォロア３１，３２を介して作用することがなく、何ら支障は生じない。
【００５０】
副ベース２６には、図５に示すように、その底面側に主ベース２５の表面上を転動する複数のローラ（コロ）３０が適宜間隔をあけて配置される。また、副ベース２６には、その底面側の互いに離れた２箇所（副ベース２６の前端側の任意の１点位置と後端側の任意の１点位置）に案内溝２７，２８内を転動又は摺動するカムフォロア３１，３２がそれぞれ配置される。したがって、カムフォロア３１，３２を案内溝２７，２８内に転動又は摺動させながら、ローラ３０を介して、副ベース２６を主ベース２５上で移動させることにより、案内溝２７，２８上の各位置において、副ベース２６の姿勢（向き）が一意に決まり、ロードロボット１３とアンロードロボット１７などの副ベース２６の周辺位置に配置された主ベース２５上の周辺ユニットに接触することなく、副ベース２６を案内溝２７，２８に沿って確実且つ円滑に移動させることが可能となる。
【００５１】
ローラ３０は、図５に示すように、主ベース２５の表面上を転動するローラ部分３０Ａと、該ローラ部分３０Ａを副ベース２６に支える支持脚部３０Ｂとを備える。支持脚部３０Ｂの外周面には雄ネジが形成してあり、この雄ネジを副ベース２６に貫通して形成した雌ネジ穴３４に螺合することにより、ローラ部分３０Ａを副ベース２６の底面から突出させたり、あるいは雌ネジ穴３４内に後退（収容）させたりすることが出来る。メンテナンス時など、副ベース２６を移動させる必要があるときだけ、ローラ部分３０Ａを副ベース２６の底面から突出させてカバープレート２９上で転動可能な状態にしておき、それ以外のときにはローラ部分３０Ａを雌ネジ穴３４（副ベース２６）内に収容しておく。
【００５２】
副ベース２６の適宜箇所には、図５に示すように、副ベース２６を主ベース２５上に着脱自在に固定するための固定脚３５が複数配置される。この固定脚３５は、上端が開き、底部が閉じ、且つ上端外周に鍔部を有する筒状の脚部３５Ａと、該脚部３５Ａの底部のネジ穴３５Ｂ及び主ベース２５の所定箇所に形成した固定用ネジ穴３６に螺合して脚部３５Ａを主ベース２５に固定する有頭ネジ３５Ｃとを備える。脚部３５Ａの外周面には雄ネジが形成してあり、該雄ネジを副ベース２６に貫通して形成した雌ネジ穴３７に螺合することによって、脚部３５Ａの底部を主ベース２５の表面上に降ろしたり、あるいは脚部３５Ａを雌ネジ穴３７内に後退（収容）させたりすることが出来る。メンテナンス時など、副ベース２６を移動させる必要があるときだけ、有頭ネジ３５Ｃを緩めて固定用ネジ穴３６から外しておき、脚部３５Ａを雌ネジ穴３７内に収容するが、それ以外のときには脚部３５Ａを主ベース２５の表面に降ろし、有頭ネジ３５Ｃを介して主ベース２５に固定する。
【００５３】
主ベース２５の、副ベース２６の設置や移動のための領域の外側には、図４に示すように、直線運動機構１４と、ロードロボット１６と、プリアライメントステージ１７と、アンロードロボット２０などための配線配管を収容する複数の収容溝３８が配置される。
【００５４】
次に図６乃至図１４を参照して副ベース２６を主ベース２５上で移動させてチャンバ１２の外部に引き出す方法などについて説明する。
【００５５】
図６（Ａ）は案内溝２７，２８を備えた主ベース２５を概略的に示し、同図（Ｂ）は該案内溝２７，２８内を転動又は摺動するカムフォロア３１，３２を備えた副ベース２６を概略的に示し、同図（Ｃ）は副ベース２６を主ベース２５のチャンバ１２から引き出す際に使用される搬出用台車４０を概略的に示している。
【００５６】
搬出用台車４０は、副ベース２６をチャンバ１２から引き出す際、チャンバ１２の引き出し口１２Ａ（図３参照）に横付けされ、副ベース２６の引き出し完了後、副ベース２６を所定のメンテナンス位置に搬送する。搬出用台車４０の表面には、主ベース２５から搬出用台車４０上に副ベース２６を移動させる際、該副ベース２６を案内する案内溝４１，４２が形成される。副ベース２６のカムフォロア３１，３２は、副ベース２６が主ベース２５から搬出用台車４０上に乗り移る際、案内溝２７，２８から案内溝４１，４２内に移り、該案内溝４１，４２内を転動又は摺動する。これにより、副ベース２６は、主ベース２５から搬出用台車４０上に乗り移る際、その姿勢（向き）が一意に決まり、搬出用台車４０から落下するおそれがなく、スムーズに引き出される。
【００５７】
副ベース２６が主ベース２５上に固定されているときは、図７に示すように、副ベース２６は引き出し口１２Ａ（図３参照）のあるチャンバ１２（主ベース２５）の一側部で且つ前端部に位置しており、カムフォロア３１が案内溝２７の内端部に位置し、カムフォロア３２が案内溝２８の内端部に位置している。メンテナンスなどのために副ベース２６をチャンバ１２から引き出す際には、先ず副ベース２６上に搭載された直線運動機構１４やプリアライメントステージ１７などの配線や配管を外す。次いで、固定脚３５を主ベース２５から外して、ローラ３０（ローラ部分３０Ａ）を主ベース２５の表面に降ろす。次いで、図８に示すように、一旦副ベース２６を案内溝２７，２８に沿って主ベース２５の他側部方向（図８の左側）に平行移動させる。次いで、図９乃至図１１に示すように、副ベース２６を主ベース２５上で略時計方向に回動させる。これにより副ベース２６の前端側から突出していた直線運動機構１４の先端が、引き出し口１２Ａ（図３参照）があるチャンバ１２（主ベース２５）の一側部から外部に突出するようになる。次いで、図１２に示すように、搬出用台車４０を主ベース２５の一側部に横付けし、案内溝２７，２８の出入口端部に搬出用台車４０の案内溝４１，４２の一端部を位置させる。この状態でさらに副ベース２６を略時計方向に回動させると、図１３に示すように、カムフォロア３１が案内溝２７から案内溝４１内に移動する。副ベース２６を案内溝４１に沿って搬出用台車４０の他端部側に移動させると、図１４に示すように、カムフォロア３２が案内溝２８から案内溝４２内に移動し、副ベース２６は主ベース２５上から搬出用台車４０上に完全に乗り移り、副ベース２６を、直線運動機構１４などを搭載した状態で主ベース２５（チャンバ１２）から完全に引き出すことが出来る。副ベース２６は、図７に示す位置から図１４に示す位置まで移動させる過程で、ロードロボット１６とアンロードロボット２０などの副ベース２６の周辺位置に配置された主ベース２５上の周辺ユニットに接触するおそれがない。引き出された副ベース２６は、搬出用台車４０により所定の位置に搬送され、メンテナンスなどが施される。
【００５８】
メンテナンスなどの終了後、副ベース２６を主ベース２５上に戻すには、図１４に示すように、副ベース２６を搭載した搬出用台車４０を主ベース２５（チャンバ１２）の引く出し口１２Ａ（図３参照）のある一側部に横付けする。そして、副ベース２６を主ベース２５側に押すと、図１３に示すようにカムフォロア３２が案内溝４２から案内溝２８内に移動して、副ベース２６の後端側が搬出用台車４０から主ベース２５上に乗り移る。その後、副ベース２６を、引き出すときと反対の軌跡をたどって、図７に示す主ベース２５上の固定位置に戻す。このときも、副ベース２６は図７に示す位置でローラ３０（ローラ部分３０Ａ）を主ベース２５から引き上げ、副ベース２６内に収容する。また、固定脚３５を、有頭ネジ３５Ｃを介して主ベース２５上に固定する。副ベース２６を主ベース２５上に戻す際にも、前回と同様に、副ベース２６がロードロボット１３とアンロードロボット１７などの副ベース２６の周辺位置に配置された主ベース２５上の周辺ユニットに接触するおそれはない。
【００５９】
上述した本発明の実施態様によれば、主ベース２５に２本の案内溝２７，２８を設けた場合を示しているが、これに限定されず、例えば、案内溝を１本あるいは３本設けてもよい。
【００６０】
案内溝を１本設ける場合、副ベース２６を案内溝に沿って移動させる際、案内溝とこの案内溝を転動又は摺動するカムフォロアとの間に隙間があると、副ベース２６の姿勢（向き）がぐらつくおそれがあるので、この隙間を可及的に少なくすることにより、副ベース２６の姿勢（向き）を保持する必要がある。また、案内溝を３本設ける場合、副ベース２６の移動が、３本の案内溝とこれら案内溝に転動又は摺動する３個のカムフォロアとにより拘束されるので、副ベース２６の姿勢（向き）がぐらつくおそれがないものの、若干移動し難くなるおそれがあるので、案内溝とカムフォロアとの間に生じる摩擦を減ずるように工夫する必要がある。
【００６１】
また、主ベース２５に設ける案内部として案内溝２７，２８を設け、副ベース２６にこれら案内溝２７，２８内を転動又は摺動するカムフォロア３１，３２を設けた場合を示したが、これに限定されず、例えば主ベース２５に案内部として案内レールを設け、副ベース２６にこの案内レール上を転動又は案内レールを挟む車輪タイプのカムフォロアを設けるようにしてもよい。
【００６２】
また、副ベース２６に設けるローラ３０として、図５に示すように、主ベース２５の表面上を転動するローラ部分３０Ａを副ベース２６に支える支持脚部３０Ｂの外周に雄ネジを形成し、これを副ベース２６の雌ネジ穴３４に螺合した場合について説明したが、これに限定されず、例えば、支持脚部３０Ｂの外周面に螺旋状に突条を形成する一方、雌ネジ穴３４の代わりに副ベース２６に収容穴を形成して、この収容穴の内周面に該突条が摺動する溝を形成し、例えば支持脚部３０Ｂを時計方向に回動したときに、該支持脚部３０Ｂが収容穴から突出し、反時計方向に回動したとき、支持脚部３０Ｂが収容穴内に戻るように構成してもよい。
【００６３】
また、副ベース２６を主ベース２５上に固定する固定脚部３５として、図５に示すように、筒状の脚部３５Ａと、該脚部３５Ａを主ベース２５に固定する有頭ネジ３５Ｃとを備える場合について説明したが、これに限定されず、例えば、脚部３５Ａを、直接、主ベース２５の所定箇所に形成した固定用ネジ穴３６に螺合するようにしてもよい。
【００６４】
また、露光装置５０として、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置に適用した場合について説明したが、投影光学系ＰＬに対してレチクルＲ及びウエハＷを同期走査するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置にも適用することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明のウエハローダ及び露光装置の一実施形態を示す概略図である。
【図２】図１に示すウエハローダの背面図である。
【図３】図１に示すウエハローダの一部省略した平面図である。
【図４】図１に示すウエハローダの主ベースの平面図である。
【図５】図１に示すウエハローダの主ベースと副ベースを示す部分拡大断面図である。
【図６】（Ａ）は図１に示すウエハローダの主ベースの概略平面図である。（Ｂ）は図１に示すウエハローダの副ベースの概略平面図である。（Ｃ）は（Ｂ）に示す副ベースを搬出する搬出用台車の概略平面図である。
【図７】副ベースを主ベース上で移動させてチャンバの外部に引き出す方法を説明する説明図である。
【図８】副ベースを主ベース上で移動させてチャンバの外部に引き出す方法を説明する説明図である。
【図９】副ベースを主ベース上で移動させてチャンバの外部に引き出す方法を説明する説明図である。
【図１０】副ベースを主ベース上で移動させてチャンバの外部に引き出す方法を説明する説明図である。
【図１１】副ベースを主ベース上で移動させてチャンバの外部に引き出す方法を説明する説明図である。
【図１２】副ベースを主ベース上で移動させてチャンバの外部に引き出す方法を説明する説明図である。
【図１３】副ベースを主ベース上で移動させてチャンバの外部に引き出す方法を説明する説明図である。
【図１４】副ベースを主ベース上で移動させてチャンバの外部に引き出す方法を説明する説明図である。
【符号の説明】
【００６６】
１０  ウエハローダ                    １１  ウエハローダ制御系
１２  チャンバ                        １３  開口部
１４  ロードスライダ                  １５  直線運動機構
１６  ロードロボット                  １７  プリアライメントステージ
１８  ターンテーブル                  １９  アンロードスライダ
２０  アンロードロボット              ２５  主ベース
２６  副ベース                        ２７，２８  案内溝
２９  カバープレート                  ３０  ローラ
３１，３２  カムフォロア              ３５  固定脚
３８  収容溝                          ５０  露光装置
Ｒ  レチクル                          Ｗ  ウエハ
ＲＳ  レチクルステージ                ＷＳ  ウエハステージ
【図１】
2006041053.tif 000003
【図２】
2006041053.tif 000004
【図３】
2006041053.tif 000005
【図４】
2006041053.tif 000006
【図５】
2006041053.tif 000007
【図６】
2006041053.tif 000008
【図７】
2006041053.tif 000009
【図８】
2006041053.tif 000010
【図９】
2006041053.tif 000011
【図１０】
2006041053.tif 000012
【図１１】
2006041053.tif 000013
【図１２】
2006041053.tif 000014
【図１３】
2006041053.tif 000015
【図１４】
2006041053.tif 000016