(57)【要約】【課題】  不斉付加反応、不斉共役付加反応や不斉ヒドロホウ素化反応等を高選択的に行うことを可能にし、さらに容易かつ安価に調製しうる不斉配位子およびそれを含む不斉遷移金属錯体を提供すること。【解決手段】    一般式（Ｉ）：    【化１】2006347884.tif 000045（式中、Ａ環は存在しないかまたは置換基を有していてもよいベンゼン環を示し、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロヘキシル基等を示し、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基等を示し、Ｘは、−ＯＲ５または−ＮＨＲ６（ここで、Ｒ５およびＲ６は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基等を示す。）で表される残基を示す。）で表される化合物、当該化合物を配位子として含有する不斉遷移金属錯体および当該錯体を不斉触媒として用いる光学活性化合物の製造方法。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）：
【化１】
2006347884.tif 000028
（式中、Ａ環は存在しないかまたは置換基を有していてもよいベンゼン環を示し、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロヘキシル基、２−フリル基または３−フリル基を示し、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｘは、−ＯＲ５または−ＮＨＲ６（ここで、Ｒ５およびＲ６は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）で表される残基を示す。）で表される化合物。
【請求項２】
Ｒ１およびＲ２がそれぞれ独立してフェニル基、トリル基またはシクロヘキシル基である、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ５またはＲ６が不斉中心を有する残基である、請求項１または２記載の化合物。
【請求項４】
光学活性化合物である、請求項１〜３のいずれかに記載の化合物。
【請求項５】
請求項４記載の化合物を配位子として含有することを特徴とする、不斉遷移金属錯体。
【請求項６】
遷移金属が、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｒｈ、ＣｕおよびＡｇから選ばれる金属である、請求項５記載の不斉遷移金属錯体。
【請求項７】
請求項４記載の化合物と遷移金属塩またはその錯体とを反応させることにより調製される、請求項５または６記載の不斉遷移金属錯体。
【請求項８】
遷移金属塩またはその錯体が、ＣｕＸ１、Ｃｕ（Ｘ１）２、Ｒｈ（ｃｏｄ）２Ｘ１、（ｎｂｄ）Ｒｈ（ａｃａｃ）、ＣｙＲｕ（Ｘ１）２およびＡｇＸ１（Ｘ１はハロゲン原子、ＢＦ４、アセトキシ、ＳｂＦ６、ＰＦ６およびＯＳＯ２ＣＦ３から選ばれる対イオンを示し、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエンを示し、ｎｂｄはノルボナジエンを示し、Ｃｙはシメンを示し、ａｃａｃはアセチルアセトンを示す。）から選ばれる、請求項７記載の不斉遷移金属錯体。
【請求項９】
請求項５〜８のいずれかに記載の不斉遷移金属錯体を含有することを特徴とする、不斉触媒。
【請求項１０】
不斉反応による光学活性化合物の製造方法であって、基質と請求項５〜８のいずれかに記載の不斉遷移金属錯体を接触させることを特徴とする光学活性化合物の製造方法。
【請求項１１】
不斉反応が不斉付加反応、不斉共役付加反応、不斉ヒドロホウ素化反応、不斉ジホウ素化反応、不斉［３＋２］環化反応、不斉置換反応または不斉ディールスアルダー［４＋２］環化反応である、請求項１０記載の製造方法。
【請求項１２】
不斉反応が不斉付加反応である、請求項１１記載の製造方法。
【請求項１３】
不斉遷移金属錯体が、請求項４記載の化合物とＣｕＸ１（Ｘ１はハロゲン原子、ＢＦ４、アセトキシ、ＳｂＦ６、ＰＦ６およびＯＳＯ２ＣＦ３から選ばれる対イオンを示す。）との反応により調製されたものである、請求項１２記載の製造方法。
【請求項１４】
基質が、一般式（II）：Ｒ７ＣＨＯ（II）（式中、Ｒ７は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよい低級アルキニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）で表される化合物、一般式（III）：ＨＮＲ８Ｒ９（III）（式中、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示すか、あるいはＲ８とＲ９が隣接する窒素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい脂肪族含窒素複素環を形成してもよい。）で表される化合物および一般式（IV）：ＨＣ≡ＣＲ１０（IV）（式中、Ｒ１０は水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、トリアルキルシリル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）で表される化合物であり、光学活性化合物が一般式（Ｖ）：
【化２】
2006347884.tif 000029
（式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物である、請求項１２または１３記載の製造方法。
【請求項１５】
Ｒ８とＲ９が隣接する窒素原子と一緒になって４−ピペリジノンを形成する、請求項１４記載の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の方法により製造される一般式（Ｖａ）：
【化３】
2006347884.tif 000030
（式中、Ｒ７は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよい低級アルキニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、Ｒ１０は水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、トリアルキルシリル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物またはその塩を脱保護することを特徴とする、一般式（Ｖｂ）：
【化４】
2006347884.tif 000031
（式中、各記号は前記と同義を示す。）で表される化合物またはその塩の製造方法。
【請求項１７】
不斉反応が不斉共役付加反応である、請求項１１記載の製造方法。
【請求項１８】
不斉遷移金属錯体が、請求項４記載の化合物、Ｃｕ（Ｘ１）２（Ｘ１はハロゲン原子、ＢＦ４、アセトキシ、ＳｂＦ６、ＰＦ６およびＯＳＯ２ＣＦ３から選ばれる対イオンを示す。）および還元剤との反応により調製されたものである、請求項１７記載の製造方法。
【請求項１９】
基質が、一般式（XXVI）：
【化５】
2006347884.tif 000032
（式中、Ｙ１およびＹ２はそれぞれ独立して、酸素原子またはＮＲ２６（ここで、Ｒ２６は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）を示し、Ｙ３は炭素原子、硫黄原子を示し、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ独立して、水素原子、オキソ、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示すか、またはＲ２３およびＲ２４が一緒になってオキソを形成してもよく、Ｒ２５は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアルキル基、−ＯＣＯＲ２７、−ＮＲ２８Ｒ２９または−ＳＲ３０（ここで、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９およびＲ３０はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示すか、あるいはＲ２８とＲ２９が隣接する窒素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい脂肪族含窒素複素環を形成してもよい。）を示す。）で表される化合物および一般式（IV）：ＨＣ≡ＣＲ１０（IV）（式中、Ｒ１０は水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、トリアルキルシリル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）で表される化合物であり、光学活性化合物が一般式（XXVII）：
【化６】
2006347884.tif 000033
（式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｒ１０、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物である、請求項１７または１８記載の製造方法。
【請求項２０】
不斉反応が不斉ヒドロホウ素化反応である、請求項１１記載の製造方法。
【請求項２１】
不斉遷移金属錯体が、請求項４記載の化合物とＲｈ（ｃｏｄ）２Ｘ１（Ｘ１はハロゲン原子、ＢＦ４、アセトキシ、ＳｂＦ６、ＰＦ６およびＯＳＯ２ＣＦ３から選ばれる対イオンを示し、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエンを示す。）との反応により調製されたものである、請求項２０記載の製造方法。
【請求項２２】
基質が一般式（VI）：Ｒ１１−ＨＣ＝ＣＨ−Ｒ１２（VI）（式中、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、Ｒ１２は、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）で表される化合物および一般式（VII）：ＨＢＲ１３Ｒ１４（VII）（式中、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ独立して、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基またはアリールアルコキシ基を示すか、あるいはＲ１３とＲ１４が結合するホウ素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい複素環またはその縮合環を形成してもよい。）で表されるホウ素化合物またはその錯体であり、光学活性化合物が、一般式（VIII）：
【化７】
2006347884.tif 000034
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物である、請求項２０または２１記載の製造方法。
【請求項２３】
請求項２２で製造される一般式（VIII）で表される化合物を酸化剤と反応させる工程を包含する、一般式（IX）：
【化８】
2006347884.tif 000035
（式中、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、Ｒ１２は、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物の製造方法。
【請求項２４】
請求項２２で製造される一般式（VIII）で表される化合物をヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸と反応させる工程を包含する、一般式（Ｘ）：
【化９】
2006347884.tif 000036
（式中、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、Ｒ１２は、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物の製造方法。
【請求項２５】
請求項２２で製造される一般式（VIII）で表される化合物を一般式（XI）：Ｍ１ＣＨ２Ｘ２（XI）（式中、Ｍ１はＬｉ、Ｎａ、ＭｇＸ５またはＺｎＸ５（ここで、Ｘ５はハロゲン原子を示す。）を示し、Ｘ２はハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応させる工程を包含する、一般式（XII）：
【化１０】
2006347884.tif 000037
（式中、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、Ｒ１２は、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物の製造方法。
【請求項２６】
請求項２２で製造される一般式（VIII）で表される化合物を一般式（XIII）：Ｍ２ＣＨ（Ｘ３）２（XIII）（式中、Ｍ２はＬｉ、Ｎａ、ＭｇＸ６またはＺｎＸ６（ここで、Ｘ６はハロゲン原子を示す。）を示し、Ｘ３はハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応させる工程を包含する、一般式（XIV）：
【化１１】
2006347884.tif 000038
（式中、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、Ｒ１２は、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物の製造方法。
【請求項２７】
不斉反応が不斉ジホウ素化反応である、請求項１１記載の製造方法。
【請求項２８】
不斉遷移金属錯体が、請求項４記載の化合物と（ｎｂｄ）Ｒｈ（ａｃａｃ）（ｎｂｄはノルボナジエンを示し、ａｃａｃはアセチルアセトンを示す。）との反応により調製されたものである、請求項２７記載の製造方法。
【請求項２９】
基質が一般式（XV）：
【化１２】
2006347884.tif 000039
（式中、Ｒ１５およびＲ１６はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し（但し、Ｒ１５およびＲ１６は同一の置換基になる場合はない。）、Ｒ１７は水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示すか、あるいはＲ１６とＲ１７がそれぞれ結合する炭素原子と一緒になって同素環またはその縮合環を形成してもよい。）で表される化合物および一般式（XVI）：Ｒ１８Ｒ１９Ｂ−ＢＲ１８Ｒ１９（XVI）（式中、Ｒ１８およびＲ１９はそれぞれ独立して、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基またはアリールアルコキシ基を示すか、あるいはＲ１８とＲ１９が結合するホウ素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい複素環またはその縮合環を形成してもよい。）で表されるホウ素化合物またはその錯体であり、光学活性化合物が、一般式（XVII）：
【化１３】
2006347884.tif 000040
（式中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物である、請求項２７または２８記載の製造方法。
【請求項３０】
請求項２９で製造される一般式（XVII）で表される化合物を酸化剤と反応させる工程を包含する、一般式（XVIII）：
【化１４】
2006347884.tif 000041
（式中、＊は不斉炭素を示し、Ｒ１５およびＲ１６はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し（但し、Ｒ１５およびＲ１６は同一の置換基になる場合はない。）、Ｒ１７は水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示すか、あるいはＲ１６とＲ１７がそれぞれ結合する炭素原子と一緒になって同素環またはその縮合環を形成してもよい。）で表される化合物の製造方法。
【請求項３１】
一般式（XIX）：
【化１５】
2006347884.tif 000042
（式中、Ａ環は存在しないかまたは置換基を有していてもよいベンゼン環を示し、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｘ４はハロゲン原子、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキシまたはトリフルオロメタンスルホニルオキシを示す。）で表される化合物を下記工程（ｉ）〜（iii）：
（ｉ）一般式（XX）：ＨＯＲ５（XX）または一般式（XXI）：Ｈ２ＮＲ６（XXI）（式中、Ｒ５およびＲ６は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）で表される化合物と反応させて、Ｘ４で表される残基をＸ（Ｘは、−ＯＲ５または−ＮＨＲ６（ここで、Ｒ５およびＲ６は前記と同義を示す。）で表される残基を示す。）で表される残基に変換する工程；
（ii）トリフルオロメタンスルホン酸無水物と塩基の存在下反応させて、水酸基を−ＯＴｆ（ここで、Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を示す。）に変換する工程；および
（iii）前記工程（ｉ）および（ii）により得られる一般式（XIX’）：
【化１６】
2006347884.tif 000043
（式中、各記号は前記と同義を示す。）で表される化合物の−ＯＴｆを、ホスフィン類を含む遷移金属錯体の存在下、一般式（XXII）：ＨＰＲ１Ｒ２（XXII）（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロヘキシル基、２−フリル基または３−フリル基を示す。）で表される化合物と反応させて、−ＰＲ１Ｒ２（式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同義を示す。）で表される残基に変換する工程；
に付することを包含する、一般式（Ｉ）：
【化１７】
2006347884.tif 000044
（式中、各記号は、前記と同義を示す。）で表される化合物の製造方法。
【請求項３２】
Ｒ５またはＲ６が不斉中心を有する残基である、請求項３１記載の製造方法。
【請求項３３】
ジアステレオマー混合物である一般式（Ｉ）で表される化合物を分離する工程を包含する請求項３２記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規モノホスフィン化合物、該モノホスフィン化合物を配位子として含有する不斉遷移金属錯体および該不斉遷移金属錯体を不斉触媒として用いる光学活性化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、不斉触媒反応の触媒として多くの不斉遷移金属錯体が報告されており、そのための不斉配位子が数多く開発されてきた。
そのような不斉配位子の多くは、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビスナフチル（ＢＩＮＡＰ）に代表される不斉ジホスフィン化合物であり、特に不斉水素化反応において、極めて優れた選択性と収率を達成できることが報告されている。しかしながら、これら不斉ジホスフィン化合物を用いた不斉遷移金属錯体の不斉水素化反応以外への不斉反応への応用は限られており、不斉環化反応、不斉アルドール反応などへの適用が報告されているものの（非特許文献１〜５参照）、選択性や収率が十分とは言い難い。特に不斉反応として有用性が高い不斉付加反応、不斉共役付加反応や不斉ヒドロホウ素化反応への応用については、適応可能な基質に限りがあり、選択性や収率が十分とは言い難い。
【０００３】
非特許文献６には、不斉遷移金属錯体のモノホスフィン配位子として、１−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル)イソキノリン（以下、ＱＵＩＮＡＰと略すこともある。）が開示されており、ＱＵＩＮＡＰを配位子として有する不斉遷移金属錯体が、ＢＩＮＡＰ等の使用では困難な不斉ヒドロホウ素化反応（非特許文献７）またはエナミンおよびイミニウムイオンへのアルキン類の不斉付加反応（非特許文献８および９）を高い選択性で触媒することが報告されている。
【非特許文献１】「ザジャーナルオブオルガニックケミストリー（The Journal of Organic Chemistry）」，（米国），２０００年，第６５巻，ｐ．５８０６−５８１６．
【非特許文献２】「ジャーナルオブザアメリカンケミカルソサイアティー（Journal of the American Chemical Society）」，（米国），２０００年，第１２２巻，ｐ．４５２８−４５２９．
【非特許文献３】「テトラヘドロンレターズ（Tetrahedron Letters）」，（オランダ），２０００年，第４１巻，ｐ．８９１−８９５．
【非特許文献４】「シンレット（Synlett）」，（ドイツ），１９９９年，第５巻，ｐ．６０５−６０７．
【非特許文献５】「テトラヘドロンアシメトリー（Tetrahedron Asymmetry）」，（オランダ），２０００年，第１１巻，ｐ．３５６１−３５６８．
【非特許文献６】「テトラヘドロンアシメトリー（Tetrahedron Asymmetry）」，（オランダ），１９９３年，第４巻，ｐ．７４３−７５６．
【非特許文献７】「ジャーナルオブザケミカルソサイアティ，ケミカルコミュニケーションズ（Journal of the Chemical Society, Chemical Communications）」，（英国），１９９３年，ｐ．１６７３−１６７４．
【非特許文献８】「アンギヴァンテケミーインターナショナルエディション（Angewandte Chemie International Edition）」，（米国），２００２年，第４１巻，ｐ．２５３５−２５４１．
【非特許文献９】「アンギヴァンテケミーインターナショナルエディション（Angewandte Chemie International Edition）」，（米国），２００３年，第４２巻，ｐ．５７６３−５７６６．
【非特許文献１０】「アンギヴァンテケミーインターナショナルエディション（Angewandte Chemie International Edition）」，（米国），２００４年，第４３巻，ｐ．５９７１−５９７３．
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ＱＵＩＮＡＰの調製にはラセミ体を得るのに７工程という長い工程を要し、コストが極めて高くなる上に、その光学分割においては０．５当量の不斉パラジウム化合物とのジアステレオマー複合体の形成が必要であり（非特許文献８参照）、さらに、不斉パラジウム化合物はラセミ化しやすく、ジアステレオマー複合体の分離精製が困難であるため実用的ではなかった。
本発明の解決しようとする課題は、従来のＢＩＮＡＰ等を使用した不斉遷移金属錯体では適用することが難しかった不斉付加反応、不斉共役付加反応や不斉ヒドロホウ素化反応等を高選択的に行うことを可能にし、さらに容易かつ安価に調製しうる不斉配位子およびそれを含む不斉遷移金属錯体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、上記課題を解決するため鋭意研究をした結果、ＱＵＩＮＡＰのイソキノリン環に代わり、４位に置換基を有するフタラジン環を有する化合物を配位子とした不斉遷移金属錯体においてもＱＵＩＮＡＰと同等以上の選択性と収率を達成することができ、当該配位子が既知化合物から容易に調製できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
［１］一般式（Ｉ）：
【０００６】
【化１】
2006347884.tif 000002
【０００７】
（式中、Ａ環は存在しないかまたは置換基を有していてもよいベンゼン環を示し、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロヘキシル基、２−フリル基または３−フリル基を示し、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｘは、−ＯＲ５または−ＮＨＲ６（ここで、Ｒ５およびＲ６は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）で表される残基を示す。）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）ともいう。）。
［２］Ｒ１およびＲ２がそれぞれ独立してフェニル基、トリル基またはシクロヘキシル基である、上記［１］記載の化合物。
［３］Ｒ５またはＲ６が不斉中心を有する残基である、上記［１］または［２］記載の化合物。
［４］光学活性化合物である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。
【０００８】
［５］上記［４］記載の化合物を配位子として含有することを特徴とする、不斉遷移金属錯体。
［６］遷移金属が、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｒｈ、ＣｕおよびＡｇから選ばれる金属である、上記［５］記載の不斉遷移金属錯体。
［７］上記［４］記載の化合物と遷移金属塩またはその錯体とを反応させることにより調製される、上記［５］または［６］記載の遷移金属錯体。
［８］遷移金属塩またはその錯体が、ＣｕＸ１、Ｃｕ（Ｘ１）２、Ｒｈ（ｃｏｄ）２Ｘ１、（ｎｂｄ）Ｒｈ（ａｃａｃ）、ＣｙＲｕ（Ｘ１）２およびＡｇＸ１（Ｘ１はハロゲン原子、ＢＦ４、アセトキシ、ＳｂＦ６、ＰＦ６およびＯＳＯ２ＣＦ３から選ばれる対イオンを示し、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエンを示し、ｎｂｄはノルボナジエンを示し、Ｃｙはシメンを示し、ａｃａｃはアセチルアセトンを示す。）から選ばれる、上記［７］記載の不斉遷移金属錯体。
【０００９】
［９］上記［５］〜［８］のいずれかに記載の不斉遷移金属錯体を含有することを特徴とする、不斉触媒。
【００１０】
［１０］不斉反応による光学活性化合物の製造方法であって、基質と上記［５］〜［８］のいずれかに記載の不斉遷移金属錯体を接触させることを特徴とする光学活性化合物の製造方法。
［１１］不斉反応が不斉付加反応、不斉共役付加反応、不斉ヒドロホウ素化反応、不斉ジホウ素化反応、不斉［３＋２］環化反応、不斉置換反応または不斉ディールスアルダー［４＋２］環化反応である、上記［１０］記載の製造方法。
【００１１】
［１２］不斉反応が不斉付加反応である、上記［１１］記載の製造方法。
［１３］不斉遷移金属錯体が、上記［４］記載の化合物とＣｕＸ１（Ｘ１は前記と同義を示す。）との反応により調製されたものである、上記［１２］記載の製造方法。
［１４］基質が、一般式（II）：Ｒ７ＣＨＯ（II）（式中、Ｒ７は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよい低級アルキニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）で表される化合物（以下、化合物（II）ともいう。）、一般式（III）：ＨＮＲ８Ｒ９（III）（式中、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示すか、あるいはＲ８とＲ９が隣接する窒素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい脂肪族含窒素複素環を形成してもよい。）で表される化合物（以下、化合物（III）ともいう。）および一般式（IV）：ＨＣ≡ＣＲ１０（IV）（式中、Ｒ１０は水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、トリアルキルシリル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）で表される化合物（以下、化合物（IV）ともいう。）であり、光学活性化合物が一般式（Ｖ）：
【００１２】
【化２】
2006347884.tif 000003
【００１３】
（式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物（以下、化合物（Ｖ）ともいう。）である、上記［１２］または［１３］記載の製造方法。
【００１４】
［１５］  Ｒ８とＲ９が隣接する窒素原子と一緒になって４−ピペリジノンを形成する、上記［１４］記載の製造方法。
［１６］上記［１５］記載の方法により製造される一般式（Ｖａ）：
【００１５】
【化３】
2006347884.tif 000004
【００１６】
（式中、各記号は前記と同義を示す。）で表される化合物（以下、化合物（Ｖａ）ともいう。）またはその塩を脱保護することを特徴とする、一般式（Ｖｂ）：
【００１７】
【化４】
2006347884.tif 000005
【００１８】
（式中、各記号は前記と同義を示す。）で表される化合物（以下、化合物（Ｖｂ）ともいう。）またはその塩の製造方法。
【００１９】
［１７］不斉反応が不斉共役付加反応である、上記［１１］記載の製造方法。
［１８］不斉遷移金属錯体が、上記［４］記載の化合物、Ｃｕ（Ｘ１）２（Ｘ１はハロゲン原子、ＢＦ４、アセトキシ、ＳｂＦ６、ＰＦ６およびＯＳＯ２ＣＦ３から選ばれる対イオンを示す。）および還元剤との反応により調製されたものである、上記［１７］記載の製造方法。
［１９］基質が、一般式（XXVI）：
【００２０】
【化５】
2006347884.tif 000006
【００２１】
（式中、Ｙ１およびＹ２はそれぞれ独立して、酸素原子またはＮＲ２６（ここで、Ｒ２６は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）を示し、Ｙ３は炭素原子、硫黄原子を示し、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ独立して、水素原子、オキソ、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示すか、またはＲ２３およびＲ２４が一緒になってオキソを形成してもよく、Ｒ２５は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアルキル基、−ＯＣＯＲ２７、−ＮＲ２８Ｒ２９または−ＳＲ３０（ここで、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９およびＲ３０はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示すか、あるいはＲ２８とＲ２９が隣接する窒素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい脂肪族含窒素複素環を形成してもよい。）を示す。）で表される化合物（以下、化合物（XXVI）ともいう。）および化合物（IV）であり、光学活性化合物が一般式（XXVII）：
【００２２】
【化６】
2006347884.tif 000007
【００２３】
（式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｒ１０、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物（以下、化合物（XXVII）ともいう。）である、上記［１７］または［１８］記載の製造方法。
【００２４】
［２０］不斉反応が不斉ヒドロホウ素化反応である、上記［１１］記載の製造方法。
［２１］不斉遷移金属錯体が、上記［４］記載の化合物とＲｈ（ｃｏｄ）２Ｘ１（Ｘ１およびｃｏｄは前記と同義を示す。）との反応により調製されたものである、上記［２０］記載の製造方法。
［２２］基質が一般式（VI）：Ｒ１１−ＨＣ＝ＣＨ−Ｒ１２（VI）（式中、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、Ｒ１２は、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。）で表される化合物（以下、化合物（VI）ともいう。）および一般式（VII）：ＨＢＲ１３Ｒ１４（VII）（式中、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ独立して、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基またはアリールアルコキシ基を示すか、あるいはＲ１３とＲ１４が結合するホウ素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい複素環またはその縮合環を形成してもよい。）で表されるホウ素化合物（以下、ホウ素化合物（VII）ともいう。）またはその錯体であり、光学活性化合物が、一般式（VIII）：
【００２５】
【化７】
2006347884.tif 000008
【００２６】
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物（以下、化合物（VIII）ともいう。）である、上記［２０］または［２１］記載の製造方法。
［２３］上記［２２］で製造される化合物（VIII）を酸化剤と反応させる工程を包含する、一般式（IX）：
【００２７】
【化８】
2006347884.tif 000009
【００２８】
（式中、Ｒ１１およびＲ１２は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物（以下、化合物（IX）ともいう。）の製造方法。
［２４］上記［２２］で製造される化合物（VIII）をヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸と反応させる工程を包含する、一般式（Ｘ）：
【００２９】
【化９】
2006347884.tif 000010
【００３０】
（式中、Ｒ１１およびＲ１２は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物（以下、化合物（Ｘ）ともいう。）の製造方法。
［２５］上記［２２］で製造される化合物（VIII）を一般式（XI）：Ｍ１ＣＨ２Ｘ２（XI）（式中、Ｍ１はＬｉ、Ｎａ、ＭｇＸ５またはＺｎＸ５（ここで、Ｘ５はハロゲン原子を示す。）を示し、Ｘ２はハロゲン原子を示す。）で表される化合物（以下、化合物（XI）ともいう。）と反応させる工程を包含する、一般式（XII）：
【００３１】
【化１０】
2006347884.tif 000011
【００３２】
（式中、Ｒ１１およびＲ１２は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物（以下、化合物（XII）ともいう。）の製造方法。
［２６］上記［２２］で製造される化合物（VIII）を一般式（XIII）：Ｍ２ＣＨ（Ｘ３）２（XIII）（式中、Ｍ２はＬｉ、Ｎａ、ＭｇＸ６またはＺｎＸ６（ここで、Ｘ６はハロゲン原子を示す。）を示し、Ｘ３はハロゲン原子を示す。）で表される化合物（以下、化合物（XIII）ともいう。）と反応させる工程を包含する、一般式（XIV）：
【００３３】
【化１１】
2006347884.tif 000012
【００３４】
（式中、Ｒ１１およびＲ１２は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物（以下、化合物（XIV）ともいう。）の製造方法。
［２７］不斉反応が不斉ジホウ素化反応である、上記［１１］記載の製造方法。
［２８］不斉遷移金属錯体が、上記［４］記載の化合物と（ｎｂｄ）Ｒｈ（ａｃａｃ）（ｎｂｄおよびａｃａｃは前記と同義を示す。）との反応により調製されたものである、上記［２７］記載の製造方法。
［２９］基質が一般式（XV）：
【００３５】
【化１２】
2006347884.tif 000013
【００３６】
（式中、Ｒ１５およびＲ１６はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し（但し、Ｒ１５およびＲ１６は同一の置換基になる場合はない。）、Ｒ１７は水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示すか、あるいはＲ１６とＲ１７がそれぞれ結合する炭素原子と一緒になって同素環またはその縮合環を形成してもよい。）で表される化合物（以下、化合物（XV）ともいう。）および一般式（XVI）：Ｒ１８Ｒ１９Ｂ−ＢＲ１８Ｒ１９（XVI）（式中、Ｒ１８およびＲ１９はそれぞれ独立して、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基またはアリールアルコキシ基を示すか、あるいはＲ１８とＲ１９が結合するホウ素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい複素環またはその縮合環を形成してもよい。）で表されるホウ素化合物（以下、ホウ素化合物（XVI）ともいう。）またはその錯体であり、光学活性化合物が、一般式（XVII）：
【００３７】
【化１３】
2006347884.tif 000014
【００３８】
（式中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物（以下、化合物（XVII）ともいう。）である、上記［２７］または［２８］記載の製造方法。
［３０］上記［２９］で製造される化合物（XVII）を酸化剤と反応させる工程を包含する、一般式（XVIII）：
【００３９】
【化１４】
2006347884.tif 000015
【００４０】
（式中、Ｒ１５、Ｒ１６およびＲ１７は前記と同義を示し、＊は不斉炭素を示す。）で表される化合物（以下、化合物（XVIII）ともいう。）の製造方法。
［３１］一般式（XIX）：
【００４１】
【化１５】
2006347884.tif 000016
【００４２】
（式中、Ａ環，Ｒ３およびＲ４は前記と同義を示し、Ｘ４はハロゲン原子、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキシまたはトリフルオロメタンスルホニルオキシを示す。）で表される化合物（以下、化合物（XIX）ともいう。）を下記工程（ｉ）〜（iii）：
（ｉ）一般式（XX）：ＨＯＲ５（XX）または一般式（XXI）：Ｈ２ＮＲ６（XXI）（式中、Ｒ５およびＲ６は前記と同義を示す。）で表される化合物（以下それぞれ、化合物（XX）および化合物（XXI）ともいう。）と反応させて、Ｘ４で表される残基をＸ（Ｘは、前記と同義を示す。）で表される残基に変換する工程；
（ii）トリフルオロメタンスルホン酸無水物と塩基の存在下反応させて、水酸基を−ＯＴｆ（ここで、Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を示す。）に変換する工程；および
（iii）前記工程（ｉ）および（ii）により得られる一般式（XIX’）：
【００４３】
【化１６】
2006347884.tif 000017
【００４４】
（式中、各記号は前記と同義を示す。）で表される化合物（以下、化合物（XIX’）ともいう。）の−ＯＴｆを、ホスフィン類を含む遷移金属錯体の存在下、一般式（XXII）：ＨＰＲ１Ｒ２（XXII）（式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同義を示す。）で表される化合物（以下、化合物（XXII）ともいう。）と反応させて、−ＰＲ１Ｒ２（式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同義を示す。）で表される残基に変換する工程；
に付することを包含する化合物（Ｉ）の製造方法。
［３２］Ｒ５またはＲ６が不斉中心を有する残基である、上記［３１］記載の製造方法。
［３３］ジアステレオマー混合物である化合物（Ｉ）を分離する工程を包含する上記［３２］記載の製造方法。
【発明の効果】
【００４５】
本発明の化合物（Ｉ）を不斉配位子として含有する不斉遷移金属錯体は、ＢＩＮＡＰ等の従来の不斉配位子を用いた触媒では適用困難であった不斉付加反応、不斉共役付加反応や不斉ヒドロホウ素化反応等を高選択率かつ高収率で行うことを可能にした。
また化合物（Ｉ）は、公知化合物から３工程と比較的短い工程数で、特殊な操作を行うことなく調製することができ、その光学分割においてもＱＵＩＮＡＰのように光学活性パラジウム化合物とのジアステレオマー複合体を形成する必要がないため、簡便かつ低コストに調製することができる。
さらに当該製造方法は、化合物（Ｉ）の置換基や構造変換がＱＵＩＮＡＰに比べ容易であるため、様々な不斉反応に適したリガンドを設計する上で有用性が高い方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
以下、本発明について詳細に説明する。
まず、本明細書で使用している各記号の定義を行う。
【００４７】
Ｒ３、Ｒ４、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５およびＸ６に示される「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。Ｒ３およびＲ４は、好ましくは塩素原子またはフッ素原子である。Ｘ２およびＸ３は、好ましくは塩素原子または臭素原子である。Ｘ４は、好ましくは塩素原子または臭素原子である。Ｘ５およびＸ６は、好ましくは塩素原子または臭素原子である。
【００４８】
Ｘ１に示される対イオンとしての「ハロゲン原子」とはフッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンであり、好ましくは塩素イオンまたは臭素イオンである。
【００４９】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１８およびＲ１９に示される「低級アルコキシ基」としては、炭素数１〜１２の直鎖または分枝のアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ネオペントキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ等が挙げられ、好ましくはメトキシ、エトキシ、イソプロポキシまたはｔｅｒｔ−ブトキシである。
【００５０】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９およびＲ３０に示される「低級アルキル基」としては、炭素数１〜１２の直鎖または分枝のアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、２−エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等が挙げられ、好ましくはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチルまたはｔｅｒｔ−ブチルである。
【００５１】
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９およびＲ３０に示される「低級アルキル基」は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、当該置換基としては上記で定義されたハロゲン原子、上記で定義された低級アルコキシ基、水酸基、オキソ、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アルキル部分が上記で定義された「低級アルキル基」であるアルコキシカルボニル基等が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
【００５２】
Ｒ２５に示される「ヘテロアルキル基」とは、上記の低級アルキル基の炭素原子の１〜３個が、酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも一種のヘテロ原子で置換されたものを意味し、例えば、メトキシメチル、１−、または２−メトキシエチル、１−、または２−エトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、メチルチオメチル等が挙げられる。
当該「ヘテロアルキル基」は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、当該置換基としては、上記「置換基を有していてもよい低級アルキル基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
【００５３】
Ｒ７、Ｒ８およびＲ９に示される「置換基を有していてもよい低級アルケニル基」の「低級アルケニル基」としては、炭素数２〜１０の直鎖または分枝のアルケニル基、例えばエテニル、１−プロペニル、アリル、１−メチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、１−ヘプテニル、２−ヘプテニル、１−オクテニル、２−オクテニル、１−ノネニル、２−ノネニル、１−デセニル、２−デセニル等が挙げられ、好ましくはアリルである。当該アルケニル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記で定義されたハロゲン原子、上記で定義された低級アルコキシ基、水酸基、オキソ、アミノ基、ニトロ基、シアノ基，カルボキシル基，アルキル部分が上記で定義された「低級アルキル基」であるアルコキシカルボニル基、下記で定義するアリール基等が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
【００５４】
Ｒ７に示される「置換基を有していてもよい低級アルキニル基」の「低級アルキニル基」としては、炭素数２〜１０の直鎖または分枝のアルキニル基、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、１−ヘプチニル、２−ヘプチニル、１−オクチニル、２−オクチニル、１−ノニニル、２−ノニニル、１−デシニル、２−デシニル等が挙げられる。当該アルキニル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアルケニル基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
【００５５】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９およびＲ３０に示される「アリール基」としては、炭素数６〜２０のアリール基、例えばフェニル、１−、または２−ナフチル、ビフェニル等が挙げられる。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９およびＲ３０に示されるアリール基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記で定義されたハロゲン原子、上記で定義された低級アルキル基、上記で定義された低級アルコキシ基、水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基，カルボキシル基，アルキル部分が上記で定義された「低級アルキル基」であるアルコキシカルボニル基、上記で定義されたアリール基、下記で定義するアラルキル基等が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
【００５６】
Ｒ１およびＲ２に示される「置換基を有していてもよいフェニル基」の置換基としては、上記アリール基が有していてもよい置換基と同様である。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
「置換基を有していてもよいフェニル基」の具体例としては、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基、ｏ−トリル基、キシリル基（２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基または３，５−キシリル基）が挙げられる。
【００５７】
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９およびＲ３０に示される「ヘテロアリール基」としては、例えば炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１〜３個含む５〜１０員の芳香性を有する複素環基、及びその縮合ヘテロ環基等が挙げられる。例えば２−、又は３−チエニル、２−、又は３−フリル、１−、２−、又は３−ピロリル、１−、２−、４−、又は５−イミダゾリル、２−、４−、又は５−オキサゾリル、２−、４−、又は５−チアゾリル、１−、３−、４−、又は５−ピラゾリル、３−、４−、又は５−イソオキサゾリル、３−、４−、又は５−イソチアゾリル、１，２，４−トリアゾール−１−、３−、４−、又は５−イル、１，２，３−トリアゾール−１−、２−、又は４−イル、１Ｈ−テトラゾール−１−、又は５−イル、２Ｈ−テトラゾール−２−、又は５−イル、２−、３−、又は４−ピリジル、２−、４−、又は５−ピリミジニル、１−、２−、３−、４−、５−、６−、又は７−インドリル、２−、３−、４−、５−、６−、又は７−ベンゾフリル、２−、３−、４−、５−、６−、又は７−ベンゾチエニル、１−、２−、４−、５−、６−、又は７−ベンズイミダゾリル、２−、３−、４−、５−、６−、７−、又は８−キノリル、１−、３−、４−、５−、６−、７−、又は８−イソキノリル等が挙げられる。
【００５８】
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９およびＲ３０に示されるヘテロアリール基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
【００５９】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７およびＲ２５に示される「置換基を有していてもよいシクロアルキル基」の「シクロアルキル基」としては、炭素数３〜７個のシクロアルキル基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチルが挙げられる。当該シクロアルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基またはオキソが挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
【００６０】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９およびＲ３０に示される「置換基を有していてもよいアラルキル基」の「アラルキル基」としては、上記で定義された「低級アルキル基」の任意の位置に上記で定義された「アリール基」が置換して形成されるアラルキル基、例えばベンジル、１−または２−フェニルエチル、１−、２−または３−フェニルプロピル、１−または２−ナフチルメチル、１−または２−（１−ナフチル）エチル、１−または２−（２−ナフチル）エチル、２−エチル−１−フェニルブチル、ベンズヒドリル、トリチル等が挙げられる。当該アラルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基またはオキソが挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
「置換基を有していてもよいアラルキル基」としては、２−フェニルエチル、２−（４−トリル）エチル、２−エチル−２−ヒドロキシ−１−フェニルブチル、２−（１−ナフチル）エチル、２−（２−ナフチル）エチル等が挙げられる。
【００６１】
Ｒ２５に示される「置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基」の「ヘテロアリールアルキル基」としては、上記で定義された「低級アルキル基」の任意の位置に上記で定義された「ヘテロアリール基」が置換して形成されるヘテロアリールアルキル基、例えば２−、又は３−チエニルメチル、２−、又は３−フリルメチル、１−、２−、又は３−ピロリルメチル、１−、２−、４−、又は５−イミダゾリルメチル、２−、４−、又は５−オキサゾリルメチル、２−、４−、又は５−チアゾリルメチル、１−、３−、４−、又は５−ピラゾリルメチル、３−、４−、又は５−イソオキサゾリルメチル、３−、４−、又は５−イソチアゾリルメチル、１，２，４−トリアゾール−１−、３−、４−、又は５−イルメチル、１，２，３−トリアゾール−１−、２−、又は４−イルメチル、１Ｈ−テトラゾール−１−、又は５−イルメチル、２Ｈ−テトラゾール−２−、又は５−イルメチル、２−、３−、又は４−ピリジルメチル、２−、４−、又は５−ピリミジニルメチル、１−、２−、３−、４−、５−、６−、又は７−インドリルメチル、２−、３−、４−、５−、６−、又は７−ベンゾフリルメチル、２−、３−、４−、５−、６−、又は７−ベンゾチエニルメチル、１−、２−、４−、５−、６−、又は７−ベンズイミダゾリルメチル、２−、３−、４−、５−、６−、７−、又は８−キノリルメチル、１−、３−、４−、５−、６−、７−、又は８−イソキノリルメチル、１−、または２−（２−、又は３−チエニル）エチル、１−、または２−（２−、又は３−フリル）エチル、１−、または２−（１−、２−、又は３−ピロリル）エチル、１−、または２−（１−、２−、４−、又は５−イミダゾリル）エチル、１−、または２−（２−、４−、又は５−オキサゾリル）エチル、１−、または２−（２−、４−、又は５−チアゾリル）エチル、１−、または２−（１−、３−、４−、又は５−ピラゾリル）エチル、１−、または２−（３−、４−、又は５−イソオキサゾリル）エチル、１−、または２−（３−、４−、又は５−イソチアゾリル）エチル、１−、または２−（１，２，４−トリアゾール−１−、３−、４−、又は５−イル）エチル、１−、または２−（１，２，３−トリアゾール−１、２−、又は４−イル）エチル、１−、または２−（１Ｈ−テトラゾール−１−、又は５−イル）エチル、１−、または２−（２Ｈ−テトラゾール−２−、又は５−イル）エチル、１−、または２−（２−、３−、又は４−ピリジル）エチル、１−または２−（２−、４−、又は５−ピリミジニル）エチル、１−、または２−（１−、２−、３−、４−、５−、６−、又は７−インドリル）エチル、１−、または２−（２−、３−、４−、５−、６−、又は７−ベンゾフリル）エチル、１−、または２−（２−、３−、４−、５−、６−、又は７−ベンゾチエニル）エチル、１−、または２−（１−、２−、４−、５−、６−、又は７−ベンズイミダゾリル）エチル、１−、または２−（２−、３−、４−、５−、６−、７−、又は８−キノリル）エチル、１−、または２−（１−、３−、４−、５−、６−、７−、又は８−イソキノリル）エチル等が挙げられる。当該ヘテロアリールアルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基またはオキソが挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
【００６２】
Ａ環がベンゼン環の場合に有していてもよい置換基としては、Ｒ３およびＲ４で示されるハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基等が挙げられる。
【００６３】
Ｒ８およびＲ９またはＲ２８およびＲ２９が結合する窒素原子と一緒になって形成してもよい脂肪族含窒素複素環としては、Ｒ８およびＲ９またはＲ２８およびＲ２９が結合する窒素原子以外に、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族複素環、例えば、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン等が挙げられる。当該脂肪族含窒素複素環は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基またはオキソが挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
Ｒ８およびＲ９に示される「置換基を有していてもよい脂肪族含窒素複素環」としては、４−ピペリジノンが好ましい。
【００６４】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１８およびＲ１９に示される「アリールアルコキシ基」としては、上記で定義された「低級アラルキル基」を有するアリールアルコキシ基、例えばベンジルオキシ、１−、または２−フェニルエトキシ、１−、２−、または３−フェニルプロポキシ、１−、または２−ナフチルメトキシ、ベンズヒドリルオキシ、トリチルオキシ等が挙げられる。
【００６５】
Ｒ１０に示される「トリアルキルシリル基」としては、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基等が挙げられ、トリメチルシリル基またはトリエチルシリル基が好ましい。
【００６６】
Ｒ１３とＲ１４またはＲ１８とＲ１９が結合するホウ素原子と一緒になって形成されてもよい、置換基を有していてもよい複素環またはその縮合環としては、ホウ素原子以外に１〜３個の酸素原子、窒素原子または硫黄原子を有していてもよい複素環またはその縮合環、例えば１，３，２−ジオキサボロラン、１，３，２−ベンゾジオキサボロール、９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナン等が挙げられ、１，３，２−ベンゾジオキサボロールが好ましい。当該複素環またはその縮合環は、置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
【００６７】
化合物（XV）においてＲ１６およびＲ１７がそれぞれ結合する炭素原子と一緒になって形成してもよい同素環またはその縮合環としては、シクロペンテン、シクロヘキセン、インデン、１，２−ジヒドロナフタレン等が挙げられる。
【００６８】
ホウ素化合物（VII）または（XVI）の錯体としては、例えばテトラヒドロフラン、ジメチルスルフィド、アンモニア、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルアミン、イソプロピルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、モルホリン、ピリジン等が配位した錯体が挙げられる。
【００６９】
化合物（Ｖ）、（Ｖａ）、（Ｖｂ）、（VIII）、（IX）、（Ｘ）、（XII）、（XIV）、（XVII）、（XVIII）および（XXVII）における＊は、付された炭素原子が不斉炭素であることを示し、それぞれの化合物が光学活性な化合物であることを意味する。
本明細書において光学活性とは、不斉炭素においてその立体配置が異なる異性体の等量混合物（例えば、ラセミ体）でないことを意味し、一方の立体異性体が過剰に存在する場合（例えば、６：４の混合物）であれば、光学活性と定義される。
【００７０】
化合物（Ｉ）、（XIX）および（XIX’）は、フタラジン環とナフタレン環を繋ぐ単結合の回転障害に基づくアトロプ異性を示し、室温において分割可能な不斉を示す。
【００７１】
本明細書で定義される化合物は、塩の形態であってもよい。そのような塩としては、例えば無機酸塩（例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等）；有機酸塩（例えば酢酸塩、プロピオン酸塩、メタンスルホン酸塩、４−トルエンスルホン酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等）；アルカリ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩等）；アルカリ土類金属塩（例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等）；有機塩基塩（例えばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩等）等が挙げられる。
【００７２】
化合物（Ｉ）において、Ｒ１およびＲ２としては置換基を有していてもよいフェニル基またはシクロヘキシル基が好ましく、フェニル基、トリル基（ｐ−トリル基またはｍ−トリル基）またはシクロヘキシル基がより好ましい。Ｒ３およびＲ４としては水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シクロアルキル基が好ましく、水素原子、メトキシ基がより好ましい。
【００７３】
化合物（Ｉ）のＸにおけるＲ５およびＲ６としては、置換基を有していてもよいアラルキル基が好ましく、さらに不斉中心を有する残基である態様がより好ましい。具体的には、（Ｒ）−、または（Ｓ）−２−フェニルエチル基、（Ｒ）−、または（Ｓ）−２−（４−トリル）エチル、（Ｒ）−、または（Ｓ）−２−エチル−２−ヒドロキシ−１−フェニルブチル、（Ｒ）−、または（Ｓ）−２−（１−ナフチル）エチル、（Ｒ）−、または（Ｓ）−２−（２−ナフチル）エチル等が好ましい。
【００７４】
本発明の化合物（Ｉ）は、下記反応スキームによって示される製法１によって製造することができる。
【００７５】
【化１７】
2006347884.tif 000018
【００７６】
（式中、各記号は前記と同義を示す。）
すなわち、化合物（XIX）を原料として、
（ｉ）化合物（XX）または化合物（XXI）と反応させて、Ｘ４で表される残基をＸで表される残基に変換する工程；
（ii）トリフルオロメタンスルホン酸無水物と塩基の存在下反応させて、水酸基を−ＯＴｆに変換する工程；および
（iii）前記工程（ｉ）および（ii）により得られた化合物（XIX’）の−ＯＴｆを、ホスフィン類を含む遷移金属錯体の存在下、化合物（XXII）と反応させて、−ＰＲ１Ｒ２（式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同義を示す。）で表される残基に変換する工程を包含する方法によって、化合物（Ｉ）を製造することができる。
【００７７】
このような製法１を採用することにより、公知化合物である化合物（XIX）から特殊な操作を行うことなく、３工程という短い工程で化合物（Ｉ）を容易に製造することができる。
また、ＸにおけるＲ５およびＲ６が、好ましい態様である不斉中心を有する残基である場合は、化合物（Ｉ）自身がジアステレオマー混合物となるため、ＱＵＩＮＡＰの場合のように光学活性パラジウム化合物とのジアステレオマー複合体とするまでもなく、光学分割が可能である。
【００７８】
さらに当該製法１により、化合物（Ｉ）の置換基であるＸ、Ｒ３およびＲ４などの置換基や母核自体も容易に変換することができ、電子的または立体的効果が異なる様々なリガンドを容易に調製することが可能であるので、製法１は様々な不斉反応に適したリガンドを設計する上において有用性が高い方法である。
【００７９】
以下、製法１について説明する。工程（ｉ）〜（iii）において、製造される各化合物は、通常の処理操作、例えば抽出操作後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーなどに付することによって単離精製することができる。
【００８０】
製法１において、工程（ｉ）と工程（ii）の順番は特に限定されるものではなく、どちらを先に行ってもよいが、工程（ｉ）において化合物（XXI）と反応させる場合は、工程（ｉ）を先に行うと変換された−ＮＨＲ６で表される基のプロトンが工程（ii）によりトリフルオロメタンスルホニル化される虞があるため、工程（ii）を先に行う方が好ましい。
【００８１】
工程（ｉ）において、化合物（XX）と反応させる場合（以下、工程（ｉ−１）という。）と化合物（XXI）と反応させる場合（以下、工程（ｉ−２）という。）は反応条件が異なるため、以下、場合分けして説明する。
【００８２】
工程（ｉ−１）は、原料化合物（化合物（XIX）またはそのトリフラート）と化合物（XX）を溶媒中において、塩基の存在下反応させることで行うことができる。試薬の添加順序は特に限定はないが、化合物（XX）と塩基を予め溶媒中で反応させて化合物（XX）のアルコラートに十分変換後、原料化合物を添加する順序が好ましい。
【００８３】
工程（ｉ−１）に用いる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられるが、水素化ナトリウムが好ましい。塩基の使用量は、化合物（XX）に対して１〜５当量が好ましく、１．１〜２．５当量がより好ましい。塩基の使用量がこの範囲外でも反応を行うことができるが、この範囲より少ないと化合物（XX）のアルコラートが十分生成しない場合があり、多い場合は副生成物が生成する虞がある。
【００８４】
化合物（XX）の使用量は、原料化合物に対して１〜５当量が好ましく、１〜１．５当量がより好ましい。
【００８５】
工程（ｉ−１）で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，２−ジメトキシエタン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジメチルスルホキシドの単独または混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、原料化合物１ｋｇに対して０．２〜５０Ｌの範囲である。
【００８６】
工程（ｉ−１）の反応温度は、通常は−２０℃〜１００℃であるが、０℃〜４０℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常４時間〜４０時間である。
【００８７】
工程（ｉ−２）は、原料化合物（化合物（XIX）またはそのトリフラート）と化合物（XXI）を溶媒中または無溶媒で反応させることで行うことができる。試薬の添加順序は特に限定はない。化合物（XXI）はそれ自身の求核性が高いため、塩基を要することなく反応が進行する。
【００８８】
化合物（XXI）の使用量は、原料化合物に対して１〜２０当量が好ましく、１〜７当量がより好ましい。化合物（XXI）の使用量がこの範囲外でも反応を行うことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しない場合があり、多い場合はコストが高くなり不利になる。
【００８９】
工程（ｉ−２）は溶媒中で行うこともできるが、化合物（XXI）を比較的多く用いた場合は無溶媒で行うことが好ましい。溶媒を用いる場合は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，２−ジメトキシエタン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル，１，４−ジオキサン等の単独または混合溶媒を用いて行うこともできる。溶媒の使用量は、原料化合物１ｋｇに対して０．１Ｌ〜５０Ｌの範囲が好ましい。
【００９０】
工程（ｉ−２）の反応温度は、通常は０℃〜１８０℃であるが、２０℃〜１５０℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常０．５時間〜４０時間である。
【００９１】
工程（ii）は、原料化合物（化合物（XIX）またはそのＸ４がＸに変換された化合物）とトリフルオロメタンスルホン酸無水物を溶媒中において、塩基の存在下反応させることで行うことができる。試薬の添加順序は特に限定はなく、各試薬を順次または同時に添加すればよい。
【００９２】
工程（ii）に用いる塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン等が挙げられるが、ピリジンまたはトリエチルアミンが好ましい。塩基の使用量は、原料化合物に対して１〜１０当量が好ましい。塩基の使用量がこの範囲外でも反応を行うことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しない場合があり、多い場合はコストが高くなり不利になる。
【００９３】
トリフルオロメタンスルホン酸無水物の使用量は、原料化合物に対して１〜５当量が好ましく、１〜１．２当量がより好ましい。トリフルオロメタンスルホン酸無水物の使用量がこの範囲外でも反応を行うことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しない場合があり、多い場合は副反応が起こり、副生成物ができる虞がある。
【００９４】
工程（ii）で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばジクロロメタン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，２−ジメトキシエタン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、酢酸エチル、アセトニトリル、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンの単独または混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、原料化合物に対して０．２〜５０倍重量の範囲である。
【００９５】
工程（ii）の反応温度は、通常は−７８℃〜１００℃であるが、―２０℃〜４０℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常０．５時間〜４０時間である。
【００９６】
工程（iii）では、例えば溶媒中において、化合物（XIX’）をホスフィン類を含む遷移金属錯体の存在下、化合物（XXII）と反応させることにより、化合物（Ｉ）を製造することができる。試薬の添加順序は特に限定はなく、各試薬を順次または同時に添加すればよい。
【００９７】
工程（iii）に用いるホスフィン類を含む遷移金属錯体としては、例えばＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）、ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｐ）、ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｂ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｅ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｐ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｂ）（ここで、ｄｐｐｅは１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンを示し、ｄｐｐｐは１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンを示し、ｄｐｐｂは１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタンを示す。）等が挙げられるが、ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）が好ましい。ホスフィン類を含む遷移金属錯体の使用量は、化合物（XIX’）に対して０．０１〜１当量が好ましく、０．０２〜０．２当量がより好ましい。ホスフィン類を含む遷移金属錯体の使用量がこの範囲外でも反応を行うことができるが、この範囲より少ないと反応が遅くなる傾向があり、多い場合はコストが高くなり不利になる。
【００９８】
化合物（XXII）の使用量は、化合物（XIX’）に対して１〜１０当量が好ましく、１〜３当量がより好ましい。化合物（XXII）の使用量がこの範囲外でも反応を行うことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しない場合があり、多い場合はコストが高くなり不利になる。
【００９９】
工程（iii）は、副成するトリフルオロメタンスルホン酸の酸性をトラップする目的で、塩基を添加して行うのが好ましい。当該塩基としては、例えば、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の３級アミンが挙げられる。当該塩基の使用量は、化合物（XIX’）に対して１〜３０当量が好ましく、３〜１０当量がより好ましい。塩基の使用量がこの範囲外でも反応を行うことができるが、この範囲より少ないと原料または生成物が分解し、副生成物ができる虞があり、多い場合はコストが高くなり不利になる。
【０１００】
工程（iii）で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、１，２−ジメトキシエタン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、酢酸エチル、アセトニトリル、１，２−ジクロロエタンの単独または混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物（XIX’）に対して０．２〜５０倍重量の範囲である。
【０１０１】
工程（iii）の反応温度は、通常は０℃〜１８０℃であるが、４０℃〜１４０℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常２時間〜４０時間である。
【０１０２】
ＸにおけるＲ５およびＲ６が不斉中心を有する残基である場合は、製法１により得られる化合物（Ｉ）はジアステレオマー混合物であり、分離精製することにより光学活性な化合物（Ｉ）を得ることができる。分離精製は、通常の分別再結晶またはシリカゲルクロマトグラフィーなどにより行うことができる。
【０１０３】
製法１の原料である化合物（XIX）は公知化合物であり、J. Org. Chem., 2003, 68, p.6806-2609に記載の方法に準じて調製することができる。
【０１０４】
本発明の化合物（Ｉ）が光学活性化合物である場合（以下、光学活性化合物（Ｉ）という。）は、光学活性化合物（Ｉ）を配位子として含有する不斉遷移金属錯体は、不斉反応のための触媒、すなわち不斉触媒として用いることができる。
【０１０５】
当該遷移金属錯体の遷移金属としては、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｒｈ、ＣｕまたはＡｇ等が挙げられ、Ｒｈ、ＣｕまたはＡｇが好ましい。
【０１０６】
当該不斉遷移金属錯体は、例えば溶媒中において、光学活性化合物（Ｉ）と遷移金属塩またはその錯体とを反応させることにより調製することができる。
【０１０７】
不斉遷移金属錯体調製に使用される遷移金属塩またはその錯体としては、例えばＣｕＸ１、Ｃｕ（Ｘ１）２、Ｒｈ（ｃｏｄ）２Ｘ１、（ｎｂｄ）Ｒｈ（ａｃａｃ）、ＣｙＲｕ（Ｘ１）２またはＡｇＸ１（ここで、記号または略号は前記と同義を示す）等が挙げられ、ＣｕＸ１、Ｒｈ（ｃｏｄ）２Ｘ１、（ｎｂｄ）Ｒｈ（ａｃａｃ）またはＡｇＸ１が好ましい。
【０１０８】
遷移金属塩またはその錯体の使用量はその種類にもよるが、光学活性化合物（Ｉ）に対して０．５〜２当量が好ましく、１〜１．３当量がより好ましい。
【０１０９】
遷移金属の酸化数を変えるために、必要により、還元剤を添加してもよい。かかる還元剤としてはアスコルビン酸またはその塩（例えば、アスコルビン酸、アスコルビン酸ナトリウム、アスコルビン酸カリウム等）、ホスフィン類（例えば、トリフェニルホスフィン、トリｎ−ブチルホスフィン等）等が挙げられる。
かかる還元剤の使用量は、変化させる酸化数に応じて適宜決定すればよく、例えば酸化数を一価変化させる場合は、遷移金属塩またはその錯体に対して１当量〜４０当量添加すればよい。
【０１１０】
不斉遷移金属錯体調製に用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばテトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１，２−ジメトキシエタン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、酢酸エチル、アセトニトリル、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール溶媒等の単独または混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、光学活性化合物（Ｉ）に対して０．２〜５０倍重量の範囲である。
【０１１１】
不斉遷移金属錯体調製の反応温度は、通常は−２０℃〜１３０℃であるが、０℃〜４０℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常０．５時間〜４０時間である。
【０１１２】
得られた不斉遷移金属錯体は常法により単離精製してもよいが、反応混合物の溶液をそのまま不斉触媒として使用してもよい。
【０１１３】
本発明の不斉遷移金属錯体で触媒される不斉反応としては特に限定はなく、例えば不斉水素化反応、不斉付加反応、不斉共役付加反応、不斉ヒドロホウ素化反応、不斉ジホウ素化反応、不斉環化反応、不斉アルドール反応、不斉置換反応または不斉ディールスアルダー［４＋２］環化反応等が挙げられるが、従来の不斉触媒で適用困難な不斉付加反応、不斉共役付加反応、不斉ヒドロホウ素化反応、不斉ジホウ素化反応または不斉［２＋３］環化反応，不斉Ｓｎ２’置換反応等が好ましい。
【０１１４】
当該不斉反応においては、例えば溶媒中において基質を不斉遷移金属錯体に接触させることにより光学活性化合物を得ることができる。
ここで、基質とは当該不斉反応の原料となる化合物を意味し、アキラルまたはプロキラルな化合物が好ましいが、不斉中心を有する光学活性化合物またはラセミ体等をも包含するものである。また、基質は単独の化合物でもよいし、２種以上の化合物の組み合わせであってもよい。
【０１１５】
不斉付加反応の一態様を製法２として下記反応スキームに示す。製法２は、例えば溶媒中において、基質として化合物（II）、化合物（III）および化合物（IV）を用い、不斉触媒として本発明の不斉遷移金属錯体を用いて反応させることにより、化合物（Ｖ）を製造することができる。この場合、不斉遷移金属錯体としては、光学活性化合物（Ｉ）とＣｕＸ１（Ｘ１は前記と同義を示す。）との反応により調製されたものであるのが好ましい。
【０１１６】
【化１８】
2006347884.tif 000019
【０１１７】
（式中、各記号は前記と同義を示す。）
製法２において、試薬の添加順序は特に限定はないが、好ましくは不斉遷移金属錯体を調製した溶液に化合物（II）〜（IV）を順次または同時に添加する。
【０１１８】
不斉遷移金属錯体の使用量は、化合物（II）に対して０．００１〜２当量が好ましく、０．０１〜０．２当量がより好ましい。不斉遷移金属錯体の使用量がこの範囲外でも反応を行うことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しない場合があり、多い場合はコストが高くなり、不利になる。
【０１１９】
化合物（III）の使用量は、化合物（II）に対して１〜１０当量が好ましく、１〜２当量がより好ましい。化合物（IV）の使用量は、化合物（II）に対して１〜２０当量が好ましく、１〜５当量がより好ましい。
【０１２０】
製法２においては、反応を促進するため乾燥剤を添加するのが好ましい。かかる乾燥剤としては、モルキュラシーブ、シリカゲル、セライト等が挙げられ、モルキュラシーブ４Åが好ましい。当該乾燥剤の使用量は、化合物（II）に対して、０．５〜４０重量倍が好ましく、１〜１０重量倍がより好ましい。
【０１２１】
製法２においては、反応を促進するため塩基を添加するのが好ましい。かかる塩基としては、第３級アミンが用いられる。例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられる。当該塩基の使用量は、化合物（IV）に対して、０．１〜５当量が好ましく、０．４〜２当量がより好ましい。
【０１２２】
製法２において使用される溶媒は、触媒調製時の溶媒と同じものが好ましく、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１，２−ジメトキシエタン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、酢酸エチル、アセトニトリル、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、ジクロロメタン、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール溶媒の単独または混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物（II）に対して０．２〜５０倍重量の範囲である。
【０１２３】
反応温度は、通常は−７８℃〜１３０℃であるが、−２０℃〜４０℃が好ましい。反応温度が低いと立体選択性が向上する傾向にあるが、反応速度が遅くなる。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常１時間〜３００時間である。
【０１２４】
得られる化合物（Ｖ）は、常法により単離精製することができる。例えば、抽出操作を行った後か、あるいは反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付することにより、化合物（Ｖ）を単離精製することができる。
【０１２５】
製法２で得られる化合物（Ｖ）のＲ８とＲ９が隣接する窒素原子と一緒になって４−ピペリジノンを形成する態様、すなわち化合物（Ｖａ）は、下記スキームに示すように４−ピペリジノン環を脱保護することにより、一級プロパルギルアミンである化合物（Ｖｂ）に導くことができるので、有用な態様である。
【０１２６】
【化１９】
2006347884.tif 000020
【０１２７】
（式中、各記号は前記と同義を示す。）
４−ピペリジノン環を脱保護して一級アミンへ変換するこのような方法は、三重結合のような不安定な基が存在していても、光学純度を保持して収率よく進行する。したがって、この反応は種々の不安定な官能基が存在していても副反応を伴うことなく簡便かつ収率よく進行すると考えられる。このように、４−ピペリジノン誘導体からアミン誘導体への一般的な変換に応用可能であり、一級アミンの新規製法として有用である。
当該脱保護は、例えば、アルコール溶媒中、化合物（Ｖａ）をアンモニアおよびアンモニウム塩と反応させることにより行うことができる。以下に当該態様について説明するが、これに限定されるものではない。
【０１２８】
使用するアンモニウム塩としては、塩化アンモニウムが好ましい。アンモニウム塩の使用量は、化合物（Ｖａ）に対して１〜４０当量が好ましく、１〜５当量がより好ましい。
【０１２９】
アンモニアとしては、使用するアルコール溶媒に飽和させた形態で使用すればよい。アルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノールを使用することができる。
アンモニアを飽和させたアルコール溶媒の使用量は、化合物（Ｖａ）に対して、１〜１００重量倍の範囲である。
【０１３０】
反応温度は、通常は０℃〜１３０℃であるが、４０℃〜１００℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常０．５時間〜４８時間である。
【０１３１】
得られる化合物（Ｖｂ）は、常法により単離精製することができる。例えば、抽出操作を行った後か、あるいは反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付することにより、化合物（Ｖｂ）を単離精製することができる。
【０１３２】
不斉ヒドロホウ素化反応の一態様を、製法３として下記反応スキームに示す。製法３は例えば溶媒中において、基質として化合物（VI）およびホウ素化合物（VII）を用い、不斉触媒として本発明の不斉遷移金属錯体を用いて反応させることにより、化合物（VIII）を製造することができる。この場合、不斉遷移金属錯体としては、光学活性化合物（Ｉ）とＲｈ（ｃｏｄ）２Ｘ１（Ｘ１およびｃｏｄは前記と同義を示す。）との反応により調製されたものであるのが好ましい。
【０１３３】
【化２０】
2006347884.tif 000021
【０１３４】
（式中、各記号および略号は前記と同義を示す。）
製法３において、試薬の添加順序は特に限定はないが、好ましくは触媒を溶解した溶液に、化合物（VI）およびホウ素化合物（VII）を順次または同時に添加する。
【０１３５】
不斉遷移金属錯体の使用量は、化合物（VI）に対して０．００１〜２当量が好ましく、０．０１〜０．２当量がより好ましい。不斉遷移金属錯体の使用量がこの範囲外でも反応を行うことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しない場合があり、多い場合はコストが高くなり、不利になる。
【０１３６】
製法３に使用されるホウ素化合物（VII）としては特に限定はないが、カテコールボラン、ピナコールボラン等が挙げられ、カテコールボラン好ましい。ここで、ホウ素化合物（VII）は使用前に蒸留等で精製したものを用いるのが好ましい。ホウ素化合物（VII）の使用量は、化合物（VI）に対して１〜１０当量が好ましく、１〜３当量がより好ましい。
【０１３７】
当該ヒドロホウ素化反応において使用される溶媒は反応を阻害しないものであればよく、例えばトルエン、テトラヒドロフラン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、１，２−ジメトキシエタン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン等の単独または混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物（VI）に対して０．２〜５０倍重量の範囲である。
【０１３８】
反応温度は、通常は−７８℃〜１２０℃であるが、−２０℃〜４０℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常０．１時間〜４０時間である。
【０１３９】
得られる化合物（VIII）は不安定であるため、通常単離精製することなく、反応混合物を続く工程に付することにより、有用な光学活性化合物へと導くことができる。
【０１４０】
例えば、化合物（VIII）を含む反応混合物にエタノール等を添加して反応を停止させた後、酸化剤を添加して反応させるか、または直接反応混合物に酸化剤を添加することにより、化合物（IX）を得ることができる。
【０１４１】
酸化剤としては、通常、過酸化水素水溶液を用いる。この時、水酸化ナトリウム水溶液等を添加することが好ましい。酸化剤の使用量は、化合物（VI）に対して５〜６０当量が好ましく、１０〜４０当量がより好ましい。
【０１４２】
当該酸化の反応温度は、通常は−７８℃〜５０℃であるが、−２０℃〜３０℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常０．５時間〜２４時間である。
【０１４３】
得られる化合物（IX）は常法に従い単離精製することができる。例えば、抽出等を行った後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーなどに付して単離精製することができる。
【０１４４】
また、下記スキームに示すように、J. M. Chem. Eur. J., 2000, 6, p.1840-1846に記載の方法に従い、化合物（VIII）をヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸（すなわち、ヒドロキシルアミンの硫酸エステル）と反応させることにより化合物（Ｘ）を製造することができ、また、J. Org. Chem., 1999, 64, p.9704-9710に記載の方法に従い、化合物（VIII）を化合物（XI）と反応させた後に過酸化水素水溶液と反応させることにより化合物（XII）を製造でき、あるいは、化合物（VIII）を化合物（XIII）と反応させた後に亜塩素酸ナトリウムと反応させることにより化合物（XIV）を製造することができる。
【０１４５】
【化２１】
2006347884.tif 000022
【０１４６】
（式中、各記号は前記と同義を示す。）
不斉ジホウ素化反応の一態様を、製法４として下記反応スキームに示す。製法４は、J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, p.8702-8703の記載の方法に準じて、ＱＵＩＮＡＰの代わりに光学活性化合物（Ｉ）を使用することにより、化合物（XVII）および化合物（XVIII）を製造することができる。この場合、不斉遷移金属錯体としては、光学活性化合物（Ｉ）と（ｎｂｄ）Ｒｈ（ａｃａｃ）（ｎｂｄおよびａｃａｃは前記と同義を示す。）との反応により調製されたものであるのが好ましい。
【０１４７】
【化２２】
2006347884.tif 000023
【０１４８】
（式中、各記号および略号は前記と同義を示す。）
不斉置換反応（Ｓｎ２’）の一態様を、製法５として下記反応スキームに示す。製法５は、Tetrahedron, 1994, 50, p.4493-4506の記載の方法に準じて、ＱＵＩＮＡＰの代わりに光学活性化合物（Ｉ）を使用することにより、式（XXIII）で表される化合物を製造することができる。
【０１４９】
【化２３】
2006347884.tif 000024
【０１５０】
（式中、各記号前記と同義を示す。）
不斉ディールスアルダー環化反応の一態様を、製法６として下記反応スキームに示す。製法６は、J. Organometallics, 2001, 20, p.2454-2458の記載の方法に準じて、ＱＵＩＮＡＰの代わりに光学活性化合物（Ｉ）を使用することにより、一般式（XXIV）で表される化合物を製造することができる。この場合、不斉遷移金属錯体としては、光学活性化合物（Ｉ）、ＣｙＲｕ（Ｘ１）２（ＣｙおよびＸ１は前記と同義を示す。）およびＡｇＳｂＦ６との反応により調製されたものであるのが好ましい。
【０１５１】
【化２４】
2006347884.tif 000025
【０１５２】
（式中、Ｒ２０は、上記でＲ３等として定義された低級アルキル基を示し、他の記号および略号は前記と同義を示す。）
不斉［３＋２］環化反応の一態様を、製法７として下記反応スキームに示す。製法７は、J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, p.10174-10175の記載の方法に準じて、ＱＵＩＮＡＰの代わりに光学活性化合物（Ｉ）を使用することにより、一般式（XXV）で表される化合物を製造することができる。この場合、不斉遷移金属錯体としては、光学活性化合物（Ｉ）とＡｇＸ１（Ｘ１は前記と同義を示す。）との反応により調製されたものであるのが好ましい。
【０１５３】
【化２５】
2006347884.tif 000026
【０１５４】
（式中、Ｒ２１およびＲ２２は、同一または異なって、上記でＲ３等として定義された低級アルキル基を示し、Ａｒは上記でＲ３等として定義された置換基を有していてもよいアリール基を示し、他の記号は前記と同義を示す。）
【０１５５】
不斉共役付加反応の一態様を、製法８として下記反応スキームに示す。製法８は、J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, p.6054-6055の記載の方法に準じて、本発明の不斉遷移金属錯体を適用することによって行うことができる。例えば溶媒中において、基質として化合物（XXVI）および化合物（IV）を用い、不斉触媒として本発明の不斉遷移金属錯体を用いて反応させることにより、化合物（XXVII）を製造することができる。この場合、不斉遷移金属錯体としては、光学活性化合物（Ｉ）、Ｃｕ（Ｘ１）２（Ｘ１は前期と同義を示す。）および還元剤との反応により調製されたものであるのが好ましい。
化合物（XXVII）は、環構造を開裂させることにより様々なアルキンカルボン酸誘導体に導くことができる有用なシントンである。
【０１５６】
【化２６】
2006347884.tif 000027
【０１５７】
（式中、各記号および略号は前記と同義を示す。）
製法８において、試薬の添加順序は特に限定はないが、好ましくは触媒を溶解した溶液に、化合物（XXVI）および化合物（IV）を順次または同時に添加する。
【０１５８】
原料化合物（XXVI）は、Tetrahedron, Vol.41, p.1919-1929(1985)、Tetrahedron Lett., Vol.42, p.5203-5205(2001) または Synth. Commun., Vol.10, p.661-665(1980)に記載の方法に従って合成することができる。
化合物（XXVI）としては、メルドラム酸誘導体（Ｙ１およびＹ２が酸素原子であり、Ｙ３が炭素原子であり、Ｒ２３およびＲ２４がメチルである）またはバルビツール酸誘導体（Ｙ１およびＹ２がＮＲ２６であり、Ｙ３が炭素原子であり、Ｒ２３およびＲ２４が一緒になってオキソを形成する）が好ましい。
【０１５９】
触媒調製時に使用する還元剤としてはアスコルビン酸塩が好ましく、アスコルビン酸ナトリウムがより好ましい。還元剤の使用量は、Ｃｕ（Ｘ１）２に対して１〜３０当量が好ましく、１〜５当量がより好ましい。
【０１６０】
不斉遷移金属錯体の使用量は、化合物（XXVI）に対して０．０１〜１当量が好ましく、０．０５〜０．５当量がより好ましい。不斉遷移金属錯体の使用量がこの範囲外でも反応を行うことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しない場合があり、多い場合はコストが高くなり、不利になる。
【０１６１】
化合物（IV）の使用量は、化合物（XXVI）に対して1〜１０当量が好ましい。
【０１６２】
共役付加反応において使用される溶媒は反応を阻害しないものであればよいが、水または水と共溶媒の混合溶媒が挙げられる。かかる共溶媒としてはブタノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール等のアルコール溶媒、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジオキサン、酢酸エチル、トルエン等またはこれらの混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、反応溶液の濃度が０．１Ｍ〜１０Ｍとなる量を使用すればよい。
【０１６３】
反応温度は、通常は−２０℃〜１００℃であるが、−２０℃〜４０℃が好ましい。反応時間は用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常１時間〜１２０時間である。
【０１６４】
得られる化合物（XXVII）は、常法により単離精製することができる。例えば、抽出操作を行った後か、あるいは反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付することにより、化合物（XXVII）を単離精製することができる。
【実施例】
【０１６５】
以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
なお、ＮＭＲデータ中J値はＨｚを表す。
【０１６６】
参考例１：１−（４−クロロフタラジン−１−イル）−ナフタレン−２−オール
１，４−ジクロロフタラジン（９．９６ｇ， ５０ｍｍｏｌ）のジクロロエタン溶液（１８０ｍｌ）に２−ナフトール（７．２４ｇ，５０ｍｍｏｌ）と塩化アルミニウム（７．３８ｇ， ５５ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１７時間撹拌した。赤暗色溶液を水（６００ｍｌ）に注ぎ、得られた茶褐色懸濁液を１時間激しく撹拌した。固体を濾過し、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥して、１１．８ｇの表題化合物をベージュ色の固体として得た。（収率：７７％）
1H-NMR (300MHz, DMSO-d6) δ: 6.99(d, J=8.0, 1H), 7.24-7.35(m, 2H), 7.37(d, J =8.9, 1H), 7.49(d, J=8.3, 1H), 7.91-8.01(m, 2H), 8.04(d, J=9.0, 1H), 8.13-8.19(m, 1H), 8.41(d, J=8.4, 1H), 9.94(s, 1H).
【０１６７】
参考例２：１−（４−クロロフタラジン−１−イル）−７−メトキシ−ナフタレン−２−オール
１Ｌのフラスコに、窒素下、１，４−ジクロロフタラジン（１１．４ｇ， ５７．３ｍｍｏｌ）と７−メトキシ−ナフタレン−２−オール（１０．０ｇ， ５７．７ｍｍｏｌ）を混合し、これに１，２−ジクロロエタン（４５０ｍｌ）を加えた。１０分間攪拌後、塩化アルミニウム（７．６４ｇ，５７．４ｍｍｏｌ）を加えた。得られた懸濁物を８０℃で２０時間攪拌した。室温に冷却後、黒色の懸濁物を氷水（５００ｍｌ）に注ぎ、１時間攪拌した。二つの層に分離し、水層をジクロロメタン（３ｘ２００ｍｌ）で抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。粗製の固体をジクロロメタン（３５ｍｌ）で１時間トリチュレートし、ろ過して、１５．２ｇの表題化合物を灰色結晶として得た。（収率：８０％）
【０１６８】
mp： > 210 ℃
1H-NMR(300 MHz, DMSO-d6) δ3.50(s, 3H), 6.33(d, J=2.4, 1H), 7.01(dd, J=2.4, J=8.7, 1H), 7.20(d, J=8.7, 1H), 7.52(d, J=8.4, 1H), 7.86(d, J=9.0, 1H), 7.94(d, J=8.7, 1H), 7.96-8.02(m, 1H), 8.13-8.18(m, 1H), 8.40(d, J=8.4, 1H).
13C-NMR(75 MHz, DMSO-d6) δ55.6, 103.6, 113.9, 115.5, 116.2, 123.9, 125.6, 126.1, 127.4, 129.1, 130.5, 131.5, 134.9, 135.0, 135.5, 154.7, 154.8, 158.8, 159.2.  
FTIR(thin film, cm-1): 3017(w), 1625(m), 1513(s), 1462(w), 1342(m), 1290(m), 1221(s), 772(s).  
HRMS(ESI, pos.) calcd for C19H13N2O2Cl (M+H)+337.07. found 337.07.  
Anal. Calcd for C19H13N2O2Cl: C, 67.76; H, 3.89. Found: C, 67.58; H, 4.13.  
【０１６９】
参考例３：５−（シクロプロピルメチレン）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
シクロプロピルマグネシウムブロミドの０．５Ｍテトラヒドロフラン溶液（１３ｍｌ，６．６ｍｍｏｌ）を５−ジメチルアミノメチレン−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（１．０ｇ，５．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１２ｍｌ）溶液に２３℃で滴下した。混合物を１時間攪拌した後、反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液でクェンチした。有機層を分離し、水層をジクロロメタンで抽出した。合わせた有機層を水および食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル ５：１）で精製し、ヘキサンから結晶化して、４９８ｍｇの純粋な表題化合物を淡黄色粉末として得た。（収率：５１％）
【０１７０】
mp: 91-92 ℃.
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 1.06-1.12(m, 2H), 1.42-1.49(m, 2H), 1.73(s, 6H), 3.15-3.25(m, 1H), 7.18(d, J=11.9, 1H).
13C-NMR(75MHz, CDCl3) δ 14.2, 16.8, 27.7, 104.6, 114.5, 160.8, 162.2, 174.2. 
FTIR(thin film, cm-1): 2998(w), 1725(s), 1603(s), 1396(s), 1276(s), 1201(s), 1005(m), 931(s), 856(m), 796(m).  
MS(ESI, pos.) calcd for C10H12NaO4+(M+Na+) 219.1, found 219.1.
Anal. Calcd for C10H12O4: C, 61.22; H, 6.16. Found: C, 61.19; H, 6.21.
【０１７１】
実施例１：（Ｒ）−１−［４−（１−フェニルエトキシ）−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−オール
水素化ナトリウム（１．２１ｇ， ５０．４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン懸濁液（１００ｍｌ）に２３℃で、(Ｒ)−フェニルエタノール（３．１１ｇ， ２５．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍｌ）を１０分間以上かけて、注意深く添加した。反応混合物を１５分間撹拌し、次いで、１−（４−クロロフタラジン−１−イル）−ナフタレン−２−オール（７．６６ｇ， ２５．０ｍｍｏｌ）を分割滴下した。得られた赤色の懸濁液を２３℃で２６時間撹拌し、次いで溶媒を減圧下留去した。残渣をジクロロメタンに溶かし、食塩水に注いだ。有機層を分離し、水層をさらにジクロロメタンで２回抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５：１から２：１）で精製し、８．０７ｇの表題化合物を白色泡状物として得た。（ジアステレオマーの１：１混合物、収率：８２％）
【０１７２】
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ: 1.80(d, J=6.5, 3H), 1.82(d, J=6.5, 3H), 6.63-6.70(m, 2H), 7.05-7.38(m, 15H), 7.49-7.57(m, 7H), 7.66-7.80(m, 5H), 8.30-8.37(m, 2H).
13C-NMR(100MHz, CDCl3) δ: 22.6, 22.7, 74.6, 74.7, 114.5, 114.6, 119.4, 119.6, 120.6, 120.7, 123.0, 123.1, 123.1, 124.6, 124.6, 126.2, 126.2, 126.3, 126.9, 127.0, 127.8, 127.8, 128.0, 128.1, 128.5, 128.5, 128.6, 128.6, 129.3, 129.3, 130.9, 132.0, 132.1, 132.1, 132.2, 133.3, 133.3, 142.2, 142.3, 153.8, 153.8, 154.2, 154.2, 159.5, 159.5.
HRMS(MALDI) calcd. for C26H21N2O2[M+H]+393.1598. found 393.1603.
Anal. Calcd for C26H20N2O2: C, 79.57; H, 5.14; N, 7.14. Found: C, 79.42; H, 5.25; N, 7.21.
【０１７３】
実施例２：トリフルオロメタンスルホン酸  （Ｒ）−１−［４−（１−フェニルエトキシ）−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−イル  エステル
（Ｒ）−１−［４−（１−フェニルエトキシ）−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−オール（０．９１ｇ， ２．３ｍｍｏｌ）のピリジン（０．５６ｍｌ， ６．９ｍｍｏｌ）とジクロロメタン溶液（１０ｍｌ）に０℃で、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．４１ｍｌ， ２．４ｍｍｏｌ）を滴下した。得られた溶液を０℃で２時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液でクェンチした。有機層を分離し、水層をジクロロメタンで２回洗浄した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥して、濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン／ヘキサン＝２０：１）で精製し、１．１ｇの表題化合物を白色の泡状物として得た。（収率；９１％）
【０１７４】
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ: 1.89(d, J=6.5, 3H), 1.91(d, J=6.5, 3H), 6.87(sextet, J=6.5, 2H), 7.27-7.47(m, 12H), 7.53-7.64(m, 6H), 7.65-7.71(m, 4H), 7.85-7.90(m, 2H), 7.97-8.01(m, 2H), 8.09-8.13(m, 2H), 8.43-8.46(m, 2H).
13C-NMR(100MHz, CDCl3) δ: 22.4, 22.5, 74.8, 74.9, 118.0(q, JCF=320), 118.2 (q, JCF=320), 119.5, 119.6, 120.0, 123.4, 123.4, 125.4, 125.4, 125.9, 126.1, 126.3, 126.4, 126.4, 126.5, 126.5, 126.7, 127.2, 127.4, 127.7, 127.8, 127.9, 128.2, 128.3, 128.4, 128.5, 129.1, 129.1, 131.6, 131.7, 132.1, 132.1, 132.3, 132.4, 132.4, 132.4, 133.3, 133.3, 133.5, 142.2, 142.4, 145.3, 145.4, 150.5, 150.6, 159.7, 159.7.
HRMS(MALDI) calcd. for C27H20F3N2O4S [M+H]+ 525.1090. found 525.1085.
【０１７５】
実施例３：（Ｒ，Ｓａｘ）−１−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−４−（１−フェニルエトキシ）フタラジンおよび（Ｒ，Ｒａｘ）−１−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−４−（１−フェニルエトキシ）フタラジン
ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）（２０１ｍｇ， ０．３８１ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｍｌ）にジフェニルホスフィン（１．３３ｍｌ， ７．６４ｍｍｏｌ）を２３℃で添加した。得られた赤暗色溶液を１００℃で１時間撹拌した。次いで、トリフルオロメタンスルホン酸  （Ｒ）−１−［４−（１−フェニルエトキシ）−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−イル  エステル（２．００ｇ， ３．８１ｍｍｏｌ）および１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（１．７１ｇ， １５．３ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｍｌ）をカニューレで添加した。得られた緑暗色溶液を１００℃で１１時間撹拌した。混合物を２３℃に冷却し、次いでジエチルエーテル（４００ｍｌ）を手早く加えた。得られた混合物を水および飽和食塩水（それぞれ３００ｍｌ）で洗浄した。有機層をシリカゲル中に注いで、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝１０：１）で精製して、１．２１ｇの表題化合物をオフホワイトの固体として得た。（ジアステレオマーの１：１混合物，収率：５７％）該ジアステレオマー混合物は、さらにシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝２００：３）で分離精製した。（Ｒ，Ｓａｘ）−１−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−４−（１−フェニルエトキシ）フタラジンをジエチルエーテル−ヘキサンから再結晶することによりＸ線グレードのサンプル（無色板状晶）を得、Ｘ線結晶回析よりＳの軸性キラリティーの立体配置を有することが立証された。
【０１７６】
（Ｒ，Ｓａｘ）−１−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル)−４−（１−フェニルエトキシ）フタラジン：
mp: 179-180 ℃
[α]D27= -160.4(c= 0.53, CHCl3).
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ: 1.84(d, J =6.5, 3H), 6.84(q, J=6.5, 1H), 7.06(d, J=8.2, 1H), 7.11-7.32(m, 13H), 7.35-7.48(m, 5H), 7.61-7.65(m, 1H), 7.71-7.76(m, 1H), 7.85(d, J=8.2, 1H), 7.88(d, J=8.3, 1H), 8.35 (d, J=8.2, 1H).
13C-NMR(100MHz, CDCl3) δ: 22.6 (CH3), 74.4(CH), 119.8(C), 123.1(CH), 126.0(CH), 126.5(CH), 126.6(CH), 126.6(CH), 126.7(CH), 126.9(CH), 127.6(CH),127.9(CH), 128.1(CH), 128.2(CH), 128.3(CH), 128.3(CH), 128.3(CH), 128.4(CH), 128.5(CH), 129.1(CH), 129.9(C), 129.9(C), 130.1(CH), 131.4(CH), 131.6(CH), 133.0(C), 133.0(C), 133.1(CH), 133.3(CH), 133.5(C), 133.7(CH), 133.9(CH), 135.8(C), 135.9(C), 137.1(C), 137.2(C), 137.3(C), 137.5(C), 141.0(C), 141.4(C), 142.7(C), 156.2(C), 156.3(C), 159.2(C).
31P-NMR(121MHz, CDCl3) δ: -13.2.
FTIR(KBr, cm-1): 1581(m), 1537(m), 1493(m), 1479(m), 1378(s), 1358(s), 1310(s), 1056(m), 884(m), 819(m) 741(s), 692(s).  
HRMS(MALDI) calcd. for C39H29N2OP [M+H]+ 561.2090. found 561.2089.
Anal. Calcd for C38H29N2OP: C, 81.41; H, 5.21; N, 5.00. Found: C, 81.14; H, 5.32; N, 4.84.
【０１７７】
（Ｒ，Ｒａｘ）−１−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−４−(１−フェニルエトキシ)フタラジン：
mp: 64-65 ℃
[α]D25= 78.5(c=0.25, CHCl3).
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ: 1.88(d, J=6.5, 3H), 6.83 (q, J=6.5, 1H), 7.07-7.76 (m, 14H), 7.39-7.52 (m, 5H), 7.63-7.67 (m, 2H), 7.72-7.78 (m, 1H), 7.87-7.92 (m, 2H), 8.33-8.37(m, 1H).
13C-NMR(100MHz, CDCl3) δ: 22.5(CH3), 74.4(CH), 119.8(C), 123.1(CH), 126.0(CH), 126.5(CH), 126.5(CH), 126.5(CH), 126.7(CH), 126.9(CH), 127.7(CH), 128.0(CH), 128.2(CH), 128.2(CH), 128.2(CH), 128.2(CH), 128.3(CH), 128.4(CH), 128.4(CH), 129.0(CH), 129.9(C), 129.9(C), 130.0(CH), 131.4(CH), 131.7(CH), 133.0(C), 133.0(C), 133.1(C), 133.3(CH), 133.5(CH), 133.6(CH), 133.8(CH), 136.2(C), 136.3(C), 136.8(C), 136.9(C), 137.3(C), 137.4(C), 140.7(C), 141.0(C), 142.6(C), 156.2(C), 156.2(C), 159.3(C).
31P-NMR(121MHz, CDCl3) δ: -12.3
FTIR(KBr, cm-1): 1582(m), 1537(m), 1491(m), 1433(m), 1410(m), 1378(s), 1307(s), 1164(w), 1111(w) 1068(m), 817(w), 742(s), 693(s).
HRMS(MALDI) calcd. for C39H29N2OP [M+H]+ 561.2090. found 561.2085.
Anal. Calcd for C38H29N2OP: C, 81.41; H, 5.21; N, 5.00. Found: C, 81.34; H, 5.49; N, 4.86.
【０１７８】
実施例４：（Ｒ， Ｓａｘ）−１−［２−ジ（ｐ−トリル）ホスファニルナフタレン−１−イル］−４−［１−フェニルエトキシ］フタラジンおよび（Ｒ， Ｒａｘ）−１−［２−ジ（ｐ−トリル）ホスファニルナフタレン−１−イル］−４−［１−フェニルエトキシ］フタラジン
ジ（ｐ−トリル）ホスフィン（３００ｍｇ， １．４ｍｍｏｌ）、ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）（３７ｍｇ， ０．０７ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）の混合物をアルゴン雰囲気下、１００℃で０．５時間撹拌した。トリフルオロメタンスルホン酸  （Ｒ）−１−[４−(１−フェニルエトキシ)−フタラジン−１−イル]−ナフタレン−２−イル  エステル（３６７ｍｇ， ０．７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１ｍｌ）を１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（３１４ｍｇ，２．８ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１ｍｌ）に加え、この混合物をカニューレで先の反応溶液に一度に移した。反応混合物を１００℃で２４時間撹拌した。混合物を０℃に冷却し、水（１０ｍｌ）に注ぎ、ジエチルエーテル（１０ｍｌ）で２回抽出した。有機層を水（１０ｍｌ）と飽和食塩水（１０ｍｌ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝１００：１，ｖ／ｖ）で精製し、表題化合物を二つのジアステレオマーの混合物（低極性ジアステレオマー：高極性ジアステレオマー＝１／１．１）として１７５ｍｇ得た。（収率：４２％）該ジアステレオマー混合物は、さらにシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝２００：１−１００／１，ｖ／ｖ）に付し、低極性ジアステレオマー（５５．１ｍｇ， ０．０９４ｍｍｏｌ）を白色のアモルファス状の粉末として得た。高極性ジアステレオマーは、同定できる程度にまだ精製されていない。
【０１７９】
低極性ジアステレオマー：
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ: 1.58(3H, d, J=6.5 Hz), 2.28(3H, s), 2.32(3H, s), 6.85(1H, q, J=6.5Hz), 6.97-7.45(17H, m), 7.64(2H, d, J=6.8Hz), 7.45(1H, t, J=7.2Hz), 7.87(2H, t, J=7.2Hz), 8.35 (1H, d, J=8.4Hz).
31P-NMR(121MHz, CDCl3) δ: -14.20.
HRMS(MALDI) Calcd for C40H33N2OP+H: 589.2409. Found: M+H =589.2397.
【０１８０】
実施例５：（Ｒ， Ｓａｘ）−１−（２−ジシクロヘキシルホスファニルナフタレン−１−イル）−４−［１−フェニルエトキシ］フタラジンおよび（Ｒ， Ｒａｘ）−１−(２−ジシクロヘキシルホスファニルナフタレン−１−イル)−４−［１−フェニルエトキシ］フタラジン
１０ｍｌのシュレンクフラスコ中で、ジシクロヘキシルホスフィン（１３９ｍｇ， ０．７ｍｍｏｌ）、ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）（１８．５ｍｇ， ０．０３５ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）の混合物をアルゴン雰囲気下、１００℃で０．５時間撹拌した。トリフルオロメタンスルホン酸  （Ｒ）−１−[４−(１−フェニルエトキシ)−フタラジン−１−イル]−ナフタレン−２−イル  エステル（１３８．６ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１ｍｌ）を１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（１５７ｍｇ， １．４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１ｍｌ）に加え、この混合物をカニューレで先の反応溶液に一度に移した。反応混合物を１００℃で２０時間撹拌した。混合物を０℃に冷却し、水（１０ｍｌ）に注ぎ、ジエチルエーテル（１０ｍｌ）で２回抽出した。有機層を水（１０ｍｌ）と飽和食塩水（１０ｍｌ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝１００：１，ｖ／ｖ）で精製し、表題化合物を二つのジアステレオマーの混合物（低極性ジアステレオマー：高極性ジアステレオマー＝１／１）として１４．４ｍｇ得た。（収率：７．２％）
【０１８１】
ジアステレオマー混合物：
1H-NMR (400MHz, CDCl3) δ: 0.72-2.19(26H, m), 1.87(1.5H, d, J=6.5Hz), 1.90(1.5H, d, J=6.5Hz), 6.82(0.5H, q, J=6.5Hz), 6.88(0.5H, q, J=6.5Hz), 7.02-8.39(15H, m).31P-NMR (121MHz, CDCl3) δ: -9.228, 9.284.
HRMS (MALDI) Calcd for C38H41N2OP+H: 573.3035. Found: M+H =589.3023.
【０１８２】
実施例６：７−メトキシ-１−［４−（（Ｒ）−１−フェニルエトキシ）−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−オール
水素化ナトリウム（０．８０ｇ， ３３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（８０ ｍｌ）懸濁液に２３℃で（Ｒ）−フェニルエタノール（２．０ｇ， １７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍｌ）溶液を注意深く１０分間かけて加えた。混合物を１５分間撹拌し、次いで、１−（４−クロロフタラジン−１−イル）−７−メトキシ−ナフタレン−２−オール（５．１ｇ， １５ｍｍｏｌ）少しずつ加えた。得られた赤色懸濁物を２３℃で２０時間撹拌し、次いで、溶媒を減圧下留去した。残渣をジクロロメタンに溶かし、食塩水に注いだ。有機層を分離し、水層をジクロロメタンで２回抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル ４：１−１：１)で精製し、５．５ｇ（１３ｍｍｏｌ）の白色泡状物の表題化合物を１：１のジアステレオマー混合物として得た。
HRMS (MALDI, pos.) calcd: for C27H22N2O3[M+H] 423.16. found: 423.17.
【０１８３】
実施例７：パーフルオロ−１−ブタンスルホン酸  ７−メトキシ−１−［４−（（Ｒ）−１−フェニル−エトキシ)−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−イル  エステル
７−メトキシ-１−［４−（（Ｒ）−１−フェニルエトキシ）−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−オール（１．０ｇ， ２．４ｍｍｏｌ）のジイソプロピルエチルアミン（０．９４ｍｌ， ７．１ｍｍｏｌ）およびジクロロメタン（３５ｍｌ）の溶液をＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ， ５０ｍｇ， ０．４１ｍｍｏｌ）と０℃で処理した。次いで、パーフルオロ−１−ブタンスルホニルフルオリド（０．５１ｍｌ， ２．８ｍｍｏｌ）を滴下し、得られた溶液を２３℃で１９時間攪拌した。得られた溶液を塩化アンモニウム水溶液でクエンチした。有機層を分離し、水層をジクロロメタンで２回抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（へキサン／酢酸エチル  ３：１）で精製し、１．４ｇ（２．０ｍｍｏｌ）の表題化合物を油状物として得た。
HRMS (MALDI, pos.) calcd for C31H21F9N2O5S (M+H) 705.10. found 705.11.
【０１８４】
実施例８：１−（２−ジフェニルホスホニル−７−メトキシナフタレン−１−イル）−４−（（Ｒ）−１−フェニルエトキシ）−フタラジン
ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）（０．２４ｇ， ０．４６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）溶液を２３℃でジフェニルホスフィン（１．６ｍｌ， ９．２ｍｍｏｌ）で処理した。得られる暗赤色溶液を１２０℃で３０分間攪拌した。次いで、パーフルオロ−１−ブタンスルホン酸  ７−メトキシ−１−［４−（（Ｒ）−１−フェニルエトキシ)−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−イル  エステル（２．３ｇ， ４．２ｍｍｏｌ）と１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ， ２．１ｇ， １８ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１８ｍｌ）溶液をシリンジを介して添加し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）でフラスコを洗い込んだ。得られた緑色溶液を１０５℃で１７時間攪拌した。混合物を減圧下（２０ｍｂａｒ，バス温７０℃）で濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン→トルエン／酢酸エチル １０：１）で精製して、１．４ｇ（２．３ｍｍｏｌ）の油状の表題化合物を１：１のジアステレオマー混合物を得た。ジアステレオマーの分離は、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン→トルエン／酢酸エチル １０：１）で行った。
（１ｓｔジアステレオマー）
HRMS(MALDI, pos.) calcd for C39H31N2O2P (M+H) 591.21. found 591.22.
[α]D31= -102.3(c=0.50, CHCl3)
（２ｎｄジアステレオマー）
HRMS(MALDI, pos.) calcd for C39H31N2O2P (M+H) 591.21. found 591.22.
[α]D29= 16.9(c=0.50, CHCl3)
【０１８５】
実施例９：トリフルオロメタンスルホン酸  １−（４−クロロフタラジン−１−イル）−ナフタレン−２−イル  エステル
１−（４−クロロフタラジン−１−イル）−ナフタレン−２−オール（１．０ｇ， ３．３ｍｍｏｌ）およびピリジン（０．８０ｍｌ， ９．８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン懸濁液（１０ｍｌ）に、０℃でトリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．５８ｍｌ，３.４ｍｍｏｌ）を２時間で滴下し、得られた溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液でクェンチした。有機層を分離し、水層をジクロロメタンで２回洗浄した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３：１）で精製し、１．３ｇの表題化合物を明茶色の泡状物として得た。（収率；９３％）
【０１８６】
mp: 54-55 ℃ (泡状物).
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ: 7.27(d, J=6.9, 1H), 7.41-7.47(m, 2H), 7.57-7.66(m, 2H), 7.80-7.87(m, 1H), 8.00-8.07(m, 2H), 8.17(d, J=9.3, 1H), 8.46(d, J=8.4, 1H).
13C-NMR(100MHz, CDCl3) δ: 118.0(C, q, JCF=312), 119.3(CH), 125.1(C), 125.5(CH), 125.7(C), 125.8(CH), 126.2(CH), 127.4(CH), 128.3(CH), 128.4(CH), 132.3(C),132.3 (CH), 132.8(C), 133.8(CH), 134.0(CH), 145.1(C), 155.0(C), 155.6(C).
FTIR(thin film, cm-1): 3073(w), 1583(w), 1569(w), 1528(w), 1512(m), 1423(s), 1376(m), 1290(s), 1217(s), 1138(s), 1072(m), 950(s), 833(s), 770(m), 639(m), 622 (m).
HRMS(MALDI) calcd. for C19H11ClF3N2O3S [M+H]+ 439.0126, found 439.0131.
Anal. Calcd for C19H10ClF3N2O3S: C, 52.01; H, 2.30; N, 6.38. Found: C, 52.27; H, 2.56; N, 6.31.
【０１８７】
実施例１０：トリフルオロメタンスルホン酸  （Ｒ）−１−［４−（１−フェニルエチルアミノ）−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−イル  エステル
トリフルオロメタンスルホン酸  １−（４−クロロフタラジン−１−イル）−ナフタレン−２−イル  エステル（４．９ｇ， １１ｍｍｏｌ）の（Ｒ）−１−フェニルエチルアミン溶液（７．２ｍｌ， ５６ｍｍｏｌ）を１２０℃で４時間撹拌し、次いで２３℃に冷却した。得られた粘性の溶液をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝７：１）で精製し、５．４ｇの表題化合物を明茶色の固体として得た。（ジアステレオマーの１：１混合物，収率：９３％）
【０１８８】
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ: 1.79(t, J =6.7Hz, 6H), 5.49(d, J=7.0Hz, 2H), 5.88(quint, J=6.8Hz, 2H), 7.13-7.65(m, 22H), 7.73-7.82(m, 2H), 7.85-7.90(m, 2H), 7.94-8.00(m, 2H), 8.08(d, J=9.1Hz, 2H).
13C-NMR(100MHz, CDCl3) δ: 21.9, 22.0, 50.7, 50.7, 117.8, 117.8, 118.0(q, JCF=320), 118.7(q, JCF=320), 119.4, 119.5, 120.8, 126.1, 126.1, 126.4, 126.5, 126.7, 126.7, 127.1, 127.2, 127.2, 127.4, 127.5, 127.5, 127.7, 128.1, 128.2, 128.5, 128.6, 131.3, 131.3, 131.4, 131.4, 131.4, 131.5, 132.5, 132.5, 133.6, 133.6, 144.0, 144.3, 145.5, 145.6, 146.5, 146.5, 152.7, 152.8.
HRMS (MALDI) calcd. for C27H21F3N3O3S [M+H]+ 524.1250, found 524.1258.
Anal. Calcd for C27H20F3N3O3S: C, 61.94; H, 3.85; N, 8.03. Found: C, 62.15; H, 3.99; N, 7.79.
【０１８９】
実施例１１：（Ｒ，Ｓａｘ）−［４−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イル］−（１−フェニルエチル）アミンおよび（Ｒ，Ｒａｘ）−［４−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イル］−（１−フェニルエチル）アミン
ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）（５４０ｍｇ， １．０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（４０ｍｌ）にジフェニルホスフィン（３．６ｍｌ， ２０ｍｍｏｌ）を２３℃で添加した。得られた赤暗色溶液を１００℃で１時間撹拌した。次いで、トリフルオロメタンスルホン酸  （Ｒ）−１−［４−（１−フェニルエチルアミノ）−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−イル  エステル（５．３ｇ， １０ｍｍｏｌ）および１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（４．６ｇ， ４１ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（４０ｍｌ）をカニューレで添加した。得られた緑暗色溶液を１００℃で１５時間撹拌した。次いで、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを５０℃で留去し、残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝１０：１）で精製して、４．５ｇの表題化合物をオフホワイトの固体として得た。（２．５：１ジアステレオマー混合物，収率：７９％）
ジアステレオマー混合物をトルエン（５０ｍｌ）とジクロロメタン（１００ｍｌ）に溶解させた。ジクロロメタンのほとんどを減圧下除去し、ヘキサン（５０ｍｌ）を加え、（Ｒ，Ｓａｘ）−［４−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イル］−（１−フェニルエチル）アミンを純粋な白色沈殿（２．０ｇ，収率３６％）として得た。得られた沈殿は、トルエン−ヘキサンから再結晶することにより、  Ｘ線グレードのサンプル（無色板状晶）を得、Ｘ線結晶回析よりＳの軸性キラリティーの立体配置が立証された。
濾液に含有されるジアステレオマー混合物は、さらに、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝２００：５）で分離精製した。
【０１９０】
（Ｒ，Ｓａｘ）−［４−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イル］−（１−フェニルエチル）アミン：
mp: > 210 ℃
[α]D29= -162.0 (c=0.54, CHCl3).
1H-NMR (400MHz, CDCl3) δ: 1.68(d, J=6.8, 3H), 5.34(d, J=7.2, 1H), 5.81(quint, J=6.9Hz, 1H), 7.01(d, J =8.1Hz, 1H), 7.11-7.18(m, 5H), 7.18-7.24(m, 8H), 7.28-7.33(m, 3H), 7.36-7.43(m, 2H), 7.50-7.53(m, 2H), 7.55-7.59(m, 1H), 7.70(d, J=8.3Hz, 1H), 7.79-7.84(m, 2H).
13C-NMR(100 MHz) 22.2(CH3), 50.4(CH), 117.7(C), 120.3(CH), 126.5(CH), 126.7(CH), 126.8(CH), 126.8(CH), 126.9(CH), 126.9(CH), 127.2(CH), 127.8(CH), 128.0(CH), 128.2(CH), 128.2(CH), 128.2(CH), 128.3(CH), 128.3(C), 128.3(C), 128.4(CH), 128.6(CH), 128.8(CH), 130.1(CH), 130.7(CH), 130.8(CH), 133.1(CH), 133.2(C), 133.3(CH), 133.3(C), 133.6(C), 133.7(CH), 133.9(CH), 135.8(C), 136.0(C), 137.3(C), 137.4(C), 137.7(C), 137.8(C), 141.8(C), 142.1(C), 144.6(C), 152.2(C), 152.5(C), 152.6(C).
31P-NMR(121 MHz, CDCl3) δ: -13.18.
FTIR(thin film, cm-1): 3351(br, s), 1654(w), 1559(w), 1508(s), 1420(w), 1361(w), 1217(w), 820(w), 772(s), 698(m).
HRMS(MALDI) calcd. for C38H31N3P+[M+H]+ 560.2250. found 560.2257.
Anal. Calcd for C17H21NO3: C, 81.55; H, 5.40; N, 7.51; P, 5.53. Found: C, 81.44; H, 5.52; N, 7.39; P, 5.67.
【０１９１】
（Ｒ，Ｒａｘ）−［４−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イル］−（１−フェニルエチル）アミン（十分同定できる程度にはまだ精製されていない）：
31P-NMR(121MHz, CDCl3) δ: -12.77.
HRMS(MALDI) calcd. for C38H31N3P+[M+H]+ 560.2250, found 560.2249.
【０１９２】
実施例１２：トリフルオロメタンスルホン酸  １−［４−（（Ｒ）−２−エチル−２−ヒドロキシ−１−フェニルブチルアミノ）フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−イル  エステル
トリフルオロメタンスルホン酸  １−（４−クロロフタラジン−１−イル）−ナフタレン−２−イル  エステル （６００ ｍｇ， １．３７ ｍｍｏｌ）に、３−（（Ｒ）−アミノフェニル−メチル）ペンタン−３−オール （１．０６ ｇ， ５．４９ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた懸濁液を１２０℃で２４時間攪拌した。混合物をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル １０：０ → ５：１）で精製し、ジエチルエーテルから再結晶して、４５１ｍｇの表題化合物のジアステレオマー混合物を白色粉末として得た。（収率：５５％）
【０１９３】
mp: 117-119 ℃.
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ 0.84-1.00(m, 12H), 1.18-1.32(m, 2H), 1.39-1.50(m, 2H), 1.71-1.95(m, 4H), 2.05-2.33(m, 2H), 5.67(d, J=8.4, 1H), 5.7387(d, J=8.5, 1H), 6.54-6.73(m, 2H), 7.15-7.36(m, 10 H), 7.43(d, J=3.4, 1H), 7.51-7.65(m, 9H), 7.75-7.79(m, 2H), 7.97-8.11(m, 6H).
13C-NMR(125 MHz, CDCl3) δ 7.6, 7.8, 8.4, 8.5, 28.1, 28.2, 29.1, 29.1, 59.1, 59.7, 78.0, 78.1, 118.1, 118.3, 118.4(q, JCF=318), 118.7 (q, JCF=318), 119.9, 119.9, 121.1, 121.2, 126.2, 126.9, 127.0, 127.5, 127.6, 127.7, 127.8, 127.8, 128.2, 128.2, 128.4, 128.5, 128.6, 128.6, 129.0, 129.3, 131.7, 131.7, 131.8, 131.9, 133.0, 133.0, 133.9, 134.0, 140.6, 140.9, 145.8, 145.9, 146.5, 146.7, 153.3, 153.4.
FTIR(thin film, cm-1): 3395(w), 3052(w), 2964(w), 1508(s), 1420(s), 1544(w), 1213(s), 1138(s).
HRMS (MALDI, pos.) calcd for C32H31N3O5F3S+(M+H+) 596.1825, found 596.1828.
【０１９４】
実施例１３：（Ｒ， Ｐ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］フェニルメチル｝ペンタン−３−オール（１ｓｔ ジアステレオマー）および（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−ナフタレン−１−イル）フタラジン−１−イルアミノ］フェニルメチル｝ペンタン−３−オール（２ｎｄ ジアステレオマー)
ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）（３７ｍｇ，０．０７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２．５ｍｌ）溶液を２３℃でジフェニルホスフィン（０．２４４ｍｌ， １．４０ｍｍｏｌ）で処理した。得られる暗赤色溶液を１２０℃で３０分間攪拌した。次いで、トリフルオロメタンスルホン酸  １−［４−（（Ｒ）−２−エチル−２−ヒドロキシ−１−フェニルブチルアミノ）−フタラジン−１−イル］ナフタレン−２−イル  エステル（４１７ｍｇ， ０．７０ｍｍｏｌ）と１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ， ４４９ｍｇ， ２．８ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２．５ｍｌ）溶液をシリンジを介して添加した。得られた緑色溶液を１２０℃で１２時間攪拌した。混合物を減圧下（２０ｍｂａｒ，バス温７０℃)で濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン→トルエン／ＥｔＯＡｃ５：１）で精製して、３６４ｍｇの表題化合物のジアステレオマー混合物を灰白色固体として得た。（収率：８２％）
ジアステレオマーの分離は、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン→トルエン／ＥｔＯＡｃ５：１）で行った。
【０１９５】
（１ｓｔ ジアステレオマー）
mp: 162-164 ℃.
[α]D27 = 134.9 (c = 0.50, CHCl3).
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ 0.86(t, J=7.5, 3H), 0.93(t, J=7.6, 3H), 1.18-1.27(m, 1H), 1.35-1.45(m, 1H), 1.74-1.89(m, 2H),1.99(bs, 1 H), 5.64(d, J=8.4, 1H), 5.57(d, J=8.4, 1H), 7.02(d, J=8.0, 1H), 7.10-7.45(m, 17H), 7.60-7.68(m, 3H), 7.58-7.89(m, 2H), 7.96(d, J=8.3, 1H).
13C-NMR(125MHz, CDCl3) δ 7.8, 8.5, 28.2, 29.1, 59.2, 78.1, 118.1, 120.9, 126.8, 126.9, 127.2, 127.6, 128.3, 128.5, 128.5, 128.5, 128.6, 128.7, 128.7, 128.7, 129.1, 129.2, 130.4, 131.2, 131.4, 133.5, 133.5, 133.7, 133.8, 133.9, 134.0, 136.3, 136.5, 137.5, 137.6, 138.2, 138.3, 141.1, 142.1, 142.4, 152.6, 152.7, 152.9.
31P-NMR(121MHz, CDCl3) δ -12.58.
FTIR(KBr, cm-1): 3365(s), 3052(m), 2965(m), 2879(m), 1576(w), 1505(s), 1478(m), 1435(m), 1392(m), 1138(w), 912(s), 728(s).
HRMS(MALDI, pos.) calcd for C42H39N3O2P+(M+H+) 632.2825, found 632.2814.
Anal. Calcd for C42H38N3O2P: C, 79.85; H, 6.06. Found: C, 80.06; H, 6.02.
【０１９６】
（２ｎｄ  ジアステレオマー）
mp: ≧ 200 ℃
[α]D26 = -68.3 (c = 0.665, CHCl3)
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ 0.89(t, J=7.4, 3H), 0.98(t, J=7.5, 3H), 1.23-1.32(m, 2H), 1.39-1.48(m, 1H), 1.76-1.95(m, 3H), 5.68(bs, 1H), 6.52(bs, 1H), 6.99-7.48(m, 17H), 7.49-7.57(m, 1H), 7.61-7.63(m, 2H), 7.68-7.72(m, 1H), 7.89-7.91(m, 2H), 7.98(d, J=8.1, 1H).
13C-NMR(125MHz, CDCl3) δ 7.8, 8.5, 28.2, 29.2, 59.5, 78.2, 118.2, 121.0, 126.9, 127.0, 127.2, 127.7, 128.4, 128.5, 128.6, 128.6, 128.7, 129.1, 129.1, 130.4, 131.3, 131.4, 133.6, 133.6, 133.8, 134.0, 134.0, 134.0, 136.7, 136.8, 137.4, 137.5, 137.9, 138.0, 140.9, 141.9, 142.2, 152.7, 153.0.
31P-NMR(121 MHz, CDCl3) δ -11.74.
FTIR(KBr, cm-1): 3354(m), 3052(m), 2954(m), 2868(w), 1581(w), 1505(s), 1435(m), 1392(m), 911(s), 739(s).
MS (HiResMALDI, pos.) calcd for C42H39N3O2P+(M+H+) 632.2825, found 632.2830.
【０１９７】
実施例１４：トリフルオロメタンスルホン酸  １−（４−クロロフタラジン−１−イル）−７−メトキシナフタレン−２−イル  エステル
１−（４−クロロフタラジン−１−イル）−７−メトキシナフタレン−２−オール（５．５ｇ， １６ｍｍｏｌ）およびピリジン（４．２ｍｌ， ５４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５００ｍｌ）中の懸濁物にトリフルオロメタンスルホン酸無水物（３．２ｍｌ， １９ｍｍｏｌ）を４０分間かけて滴下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。得られた溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液でクェンチした。有機層を分離し、水層をジクロロメタンで２回抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた灰色固体をジクロロメタンに溶解し、シリカゲルのショートプラグに通した。濾液を減圧下濃縮した。残渣をペンタンでトリチュレートして、６．３ｇ（１４ｍｍｏｌ）の表題化合物を灰色粉末として得た。
【０１９８】
mp: 140 ℃.
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ3.54(s, 3H), 6.50(s, 1H), 7.22(dd, J=9.0, J=1.5), 7.45(d, J=8.4, 1H), 7.47(d, J=8.4, 1H), 7.81-7.90(m, 2H), 8.00-8.06(m, 2H), 8.43(d, J=8.1, 1H).  
13C-NMR(100MHz, CDCl3) δ 55.3, 104.3, 116.7, 117.9 (q, JCF=315), 123.6, 125.5, 125.8, 126.2, 127.9, 128.2, 129.9, 131.9, 133.8, 134.0, 134.3, 145.8, 155.2, 155.5, 159.3.
FTIR(thin film, cm-1): 3072(w), 3008(w), 2941(w), 2835(w), 1625(s), 1508(s), 1468(s), 1422(s), 1378(s), 1344(m), 1290(s), 1229(s), 1139(s), 989(s), 870(s).
HRMS(ESI, pos.) calcd for C20H12N2O2F3SCl (M+H)+ 469.02. found 469.02.  
Anal. Calcd for C20H12N2O2F3SCl: C, 51.24; H, 2.58. Found: C, 51.47; H, 2.73.  
【０１９９】
実施例１５：トリフルオロメタンスルホン酸  ７−メトキシ−１−［４−（（Ｒ）−１−フェニルエチルアミノ）−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−イル  エステル
トリフルオロメタンスルホン酸  ７−メトキシ−１−（４−クロロフタラジン−１−イル）−ナフタレン−２−イル  エステル(２．２ｇ， ４．７ｍｍｏｌ)の（Ｒ）−１−フェニルエチルアミン（３．５ｍｌ， ２７ｍｍｏｌ）溶液を１３０℃で８時間撹拌し、次いで２３℃に冷却した。得られた粘凋な混合物をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル ５：１−３：１）で精製し、２．１ｇ（３．８ｍｍｏｌ）の明茶色泡状物の表題化合物をジアステレオマーの１：１混合物として得た。
HRMS(MALDI, pos.) calcd for C28H22F3N3O4S (M+H) 554.13. found 554.13.
【０２００】
実施例１６：［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イル］−（（Ｒ）−１−フェニルエチル）−アミン
ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）（０．２２ｇ， ０．４２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ ｍｌ）溶液を２３℃でジフェニルホスフィン（１．５ ｍｌ， ８．４ ｍｍｏｌ）で処理した。得られる暗赤色溶液を１２０℃で３０分間攪拌した。次いで、トリフルオロメタンスルホン酸  ７−メトキシ−１−［４−（（Ｒ）−１−フェニルエチルアミノ）−フタラジン−１−イル］−ナフタレン−２−イル  エステル（２．３ｇ， ４．２ｍｍｏｌ）と１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ， １．９ｇ， １７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１３ｍｌ）溶液をシリンジを介して添加し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）でフラスコを洗い込んだ。得られた緑色溶液を１２０℃で１７時間攪拌した。混合物を減圧下（２０ ｍｂａｒ，バス温７０℃)で濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン→トルエン／酢酸エチル５：１）で精製して、１．５ｇ（２．５ ｍｍｏｌ）のオフホワイトの表題化合物をジアステレオマーの１．７：１（１ｓｔジアステレオマー：２ｎｄジアステレオマー）混合物として得た。ジアステレオマーの分離は、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン→トルエン／酢酸エチル４：１）で行った。
【０２０１】
（１ｓｔジアステレオマー）
[α]D28 = -171.8(c=0.50, CHCl3)
HRMS(MALDI, pos.) calcd for C39H32N3OP (M+H) 589.23. found 589.23.
（２ｎｄジアステレオマー）
[α]D28 = 65.3(c=0.50, CHCl3)
HRMS(MALDI, pos.) calcd for C39H32N3OP (M+H) 589.23. found 589.23.  
【０２０２】
実施例１７：トリフルオロメタンスルホン酸  １−［４−（（Ｒ）−２−エチル−２−ヒドロキシ−１−フェニルブチルアミノ）−フタラジン−１−イル］−７−メトキシナフタレン−２−イル  エステル
トリフルオロメタンスルホン酸  １−（４−クロロフタラジン−１−イル）−７−メトキシナフタレン−２−イル  エステル（５．０ｇ， １１ｍｍｏｌ）に、３−（（Ｒ）−α−アミノ−ベンジル）−ペンタン−３−オール（１０ｇ， ５２ｍｍｏｌ）を添加し、懸濁物を１２０℃で１８時間攪拌した。２５℃に冷却後、混合物にジクロロメタンを加え、ろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン/酢酸エチル＝１０：１−５：１）で精製して、表題化合物を茶色固体として得た。これをヘキサン／ジエチルエーテルからトリチュレートし、４．８ ｇ（７．７ ｍｍｏｌ）の純品をジアステレオマー混合物として得た。
【０２０３】
mp： 175-177 ℃
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ 0.88-1.02(m, 12H), 1.21-1.40(m, 2H), 1.41-1.49(m, 2H), 1.72-1.97(m, 4H), 3.41(s, 3H), 3.60(s, 3H), 5.71(d, J=8.7, 1H), 5.87 (d, J=8.8, 1H), 6.52-6.58(m, 3H), 6.74(d, J=2.4, 1H), 7.14-7.42(m, 12H), 7.54-7.64(m, 6H), 7.76-7.85(m, 4H), 7.93-8.00(m, 4H).
13C-NMR(125MHz, CDCl3) δ7.5, 7.6, 8.2, 8.3, 27.7, 27.7, 28.9, 28.9, 55.2, 55.2, 58.6, 59.4, 77.8, 78.2, 105.0, 105.2, 117.8 (q, J = 319), 117.0, 117.1, 117.8, 118.0, 118.2(q, JCF=318), 119.7, 119.9, 120.5, 125.4, 125.9, 126.1, 126.2, 127.3, 127.3, 128.0, 128.1, 128.2, 128.5, 128.9, 129.7, 129.7, 130.7, 130.8, 131.4, 131.4, 131.4, 135.1, 135.2, 140.0, 140.4, 146.1, 146.2. 146.3, 152.8, 152.9, 158.9, 159.0.
FTIR(thin film, cm-1): 2996(w), 1625(w), 1579(w), 1544(w), 1508(s), 1420(m), 1219(s), 1139(m), 772(s).
HRMS(MALDI, pos.) calcd for C32H30N3O5F3S (M+H) 626.19. found 626.19.
Anal. Calcd for C32H30N3O5F3S: C, 61.43; H, 4.83. Found: C, 61.53; H, 4.74.
【０２０４】
実施例１８:（Ｒ，Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル-メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔ ジアステレオマー） および（Ｒ， Ｐ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル-メチル｝−ペンタン−３−オール（２ｎｄ ジアステレオマー)
ＮｉＣｌ２（ｄｐｐｅ）（０．６１ｇ， １．２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）溶液を２３℃でジフェニルホスフィン（４．０ｍｌ， ２３ｍｍｏｌ）で処理した。得られる暗赤色溶液を１２０℃で３０分間攪拌した。次いで、トリフルオロメタンスルホン酸  １−［４−（（Ｒ）−２−エチル−２−ヒドロキシ−１−フェニルブチルアミノ）−フタラジン−１−イル］−７−メトキシナフタレン−２−イル  エステル（７．３ｇ， １２ｍｍｏｌ）と１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ， ５．２ｇ， ４６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６５ｍｌ）溶液をシリンジを介して添加し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍｌ）でフラスコを洗い込んだ。得られた緑色溶液を１２０℃で１２時間攪拌した。混合物を減圧下（２０ｍｂａｒ，バス温７０℃)で濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン→トルエン／ＥｔＯＡｃ４：１）で精製して、５．２ｇ（７．８ｍｍｏｌ）の灰白色の表題化合物をジアステレオマーの１．７：１（１ｓｔジアステレオマー：２ｎｄジアステレオマー）混合物として得た。ジアステレオマーの分離は、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（トルエン→トルエン／ＥｔＯＡｃ４：１）で行った。
【０２０５】
（１ｓｔ ジアステレオマー）
mp： 180 ℃.
[α]D28 = 151.7(c=0.50, CHCl3).  
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ 0.87(t, J=5.9, 3H), 0.97(t, J=6.0, 3H), 1.21-1.26(m, 1H), 1.39-1.47(m, 1H), 1.79-1.93(m, 2H), 3.30(s, 3H), 5.63(d, J=6.8, 1H), 6.31(d, J=1.8, 1H). 6.54(d, J=6.7, 1H), 7.08-7.42(m, 11H), 7.46(app t, J=5.8, 1H), 7.58(d, J=5.7, 2H), 7.71(app t, J=6.2, 1H), 7.79(dd, J=11.2, 7.2, 2H), 8.00 (d, J=6.6, 1H).
13C-NMR(125MHz, CDCl3) δ ７．８, 8.61, 28.1, 29.2, 55.4, 59.4, 78.1, 105.4, 105.4, 118.3, 119.7, 120.9, 126.8, 127.5, 128.2, 128.4, 128.5, 128.6, 128.6, 128.6, 128.7, 128.7, 129.2, 129.5, 129.8, 131.2, 131.4, 133.7, 133.8, 133.9, 134.0, 134.7, 134.7, 137.0, 137.1, 137.6, 137.7, 138.2, 138.3, 140.5, 140.8, 141.1, 152.6, 152.7, 153.0, 158.5.
FTIR(KBr, cm-1): 3337(s), 3048(m), 2963(m), 2936(m), 2878(m), 1619(s), 1579(s), 1552(s), 1504(s), 1405(s), 1370(s), 1225(s), 1141(m), 1028(s), 838(s) 696(s).  
HRMS(MALDI, pos.) calcd for C43H40N3O2P (M+H) 662.29. found 662.29.  
Anal. Calcd for C43H40N3O2P : C, 78.04; H, 6.09. Found: C, 78.11; H, 6.02.
【０２０６】
（２ｎｄ ジアステレオマー）
mp： 143-145 ℃.
[α]D29= -41.5(c = 0.50, CHCl3).  
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ 0.85-0.96(m, 6H), 1.23-1.30(m, 1H), 1.41-1.45(m, 1H), 1.78-1.82(m, 1H), 1.87-1.92(m, 1H), 3.50(s, 3H), 5.68 (s, 1H), 6.49 (d, J=1.9, 1H), 6.99-7.42 (m, 19H), 7.62-7.67 (m, 3H), 7.80-7.82 (m, 2H), 8.08 (s, 1H).
13C-NMR(125 MHz, CDCl3) δ 7.8, 8.5, 28.1, 29.0, 55.4, 59.5, 78.0, 105.6, 119.4, 126.8, 127.6, 127.7, 128.1, 128.2, 128.3, 128.3, 128.4, 128.4, 128.5, 128.5, 128.6, 128.6, 128.7, 129.2, 129.4, 129.9, 130.0, 131.2, 131.3, 131.4, 133.8, 133.8, 133.9, 134.0, 134.7, 134.7, 137.4, 137.4, 137.5, 137.8, 137.9, 140.8, 152.5, 152.9, 158.5.
FTIR(KBr, cm-1): 3389(m), 3053(m), 2961(s), 2877(m), 1619(s), 1579(m), 1504(s), 1432(s), 1262(m), 1224(s), 1092(m), 1028(m), 838(s), 695(s).
HRMS(MALDI, pos.) calcd for C43H40N3O2P (M+H) 662.29. found 662.29.
【０２０７】
実施例１９：（Ｓ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル-メチル｝−ペンタン−３−オール
３−（（Ｒ）−α−アミノ−ベンジル）−ペンタン−３−オールの代わりに３−（（Ｓ）−α−アミノ−ベンジル）−ペンタン−３−オールを用いたこと以外は実施例１７および１８と同様に行い、表題化合物を得た。
mp： 180 ℃
[α]D25 = -160.0(c=0.50, CHCl3)
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ 0.87(t, J=5.9, 3H), 0.97(t, J=6.0, 3H), 1.21-1.26(m, 1H), 1.39-1.47(m, 1H), 1.79-1.93(m, 2H), 3.30(s, 3H), 5.63(d, J=6.8, 1H), 6.31 (d, J=1.8, 1H). 6.54(d, J=6.7, 1H), 7.08-7.42(m, 11H), 7.46(app t, J=5.8, 1H), 7.58 (d, J=5.7, 2H), 7.71 (app t, J=6.2, 1H), 7.79 (dd, J=11.2, 7.2, 2H), 8.00 (d, J=6.6, 1H).
13C NMR(125MHz, CDCl3) δ 7.8, 8.61, 28.1, 29.2, 55.4, 59.4, 78.1, 105.4, 105.4, 118.3, 119.7, 120.9, 126.8, 127.5, 128.2, 128.4, 128.5, 128.6, 128.6, 128.6, 128.7, 128.7, 129.2, 129.5, 129.8, 131.2, 131.4, 133.7, 133.8, 133.9, 134.0, 134.7, 134.7, 137.0, 137.1, 137.6, 137.7, 138.2, 138.3, 140.5, 140.8, 141.1, 152.6, 152.7, 153.0, 158.5.
FTIR(KBr, cm-1): 3337 (s), 3048(m), 2963(m), 2936(m), 2878(m), 1619(s), 1579(s), 1552(s), 1504(s), 1405(s), 1370(s), 1225(s), 1141(m), 1028(s), 838(s) 696(s).
HRMS(MALDI, pos.) calcd for C43H40N3O2P (M+H) 662.29. found 662.29.
Anal. Calcd for C43H40N3O2P : C, 78.04; H, 6.09. Found: C, 77.78; H, 6.12.
【０２０８】
実施例２０：Ｎ，Ｎ−ジベンジル−２−メチル−５−デシン−４−アミン
臭化銅（Ｉ）（３．６ｍｇ, ０．０２５ｍｍｏｌ）、（Ｒ，Ｓａｘ）−［４−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イル］−（１−フェニルエチル）アミン（１５．４ｍｇ, ０．０２８ｍｍｏｌ）および４Åモルキュラシーブス（０．３ｇ）をシュレンクチューブに入れ、５分間アルゴンでフラッシュし、次いで、トルエン（２ｍｌ）を添加した。得られた懸濁液を２３℃で１時間撹拌した。続いて、反応混合物に１−へキシン（４１ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）、３−メチルブタナル（４３ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）およびジベンジルアミン（９９ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）を添加した。得られた反応混合物を２３℃で５日間撹拌した後、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製し、１２８ｍｇの表題化合物を無色油状物として得た。（収率：７４％，９２％ｅ．ｅ．）
【０２０９】
[α]D32 = +167(c=1.09, CHCl3).
ＨＰＬＣ条件：
カラム：キラルセルＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ，ダイセル化学），移動相：９９．５％ ヘキサン/０．５％ｉＰｒＯＨ，流速：０．１ ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：(minor)＝４５．３分， （major)＝５０．３分.
【０２１０】
実施例２１：Ｎ，Ｎ−ジベンジル−４−メチル−１−フェニル−１−ペンチン−３−アミン
１−へキシンの代わりにフェニルアセチレン（５１ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）、３−メチルブタナルの代わりに２−メチルプロパナル（３６ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）を用いたこと以外は実施例２０と同様に行い、表題化合物を無色油状物として１５６ｍｇ得た。（収率：８８％，９０％ｅ．ｅ．）
【０２１１】
[α]D26 = +313(c=1.06, CHCl3).
ＨＰＬＣ条件：カラム：キラルセルＯＤ−Ｈ×２（２５ｃｍ，ダイセル化学），移動相：９９．５％ ヘキサン／０．５％ｉＰｒＯＨ，流速：０．２ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：(minor)＝３６．９分， (major)＝４１．０分.
【０２１２】
実施例２２：Ｎ，Ｎ−ジベンジル−４−メチル−１−ペンチン−３−アミン
１−へキシンの代わりにトリメチルシリルアセチレン（７４ｍｇ， ０．７５ｍｍｏｌ）、３−メチルブタナルの代わりに２−メチルプロパナル（３６ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）を用い、反応時間を３日間にした以外は実施例２０と同様に行い、Ｎ，Ｎ−ジベンジル−４−メチル−１−（トリメチルシリル）−１−ペンチン−３−アミンを無色油状物として１４７ｍｇ得た。（収率：８４％）
[α]D33 = +237(c=0.99, CHCl3).
【０２１３】
上記で得られたＮ，Ｎ−ジベンジル−４−メチル−１−（トリメチルシリル）−１−ペンチン−３−アミン（１０５ｍｇ， ０．３００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２ｍｌ）に溶かし、０℃に冷却した。この溶液に、テトラブチルアンモニウムフルオリド（０．３３０ｍｌ， ０．３３０ｍｍｏｌ）を滴下した。反応終了後、トルエン（２ｍｌ）を加え、テトラヒドロフランを減圧下留去した後、トルエン層を直接シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーに付し、表題化合物を無色油状物として７７．４ｍｇ得た。（収率：９３％，８０％ｅ．ｅ．）
【０２１４】
[α]D35 = +205(c=1.07, CHCl3).
ＨＰＬＣ条件：カラム：キラルセルＯＤ−Ｈ×２（２５ｃｍ，ダイセル化学），移動相：ヘキサン，流速：０．２ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：(minor)＝５３．０分， (major)＝６０．２分.
【０２１５】
実施例２３：１−（１−（トリメチルシリル）オクト−１−イン−３−イル）ピペリジン−４−オン
臭化銅（Ｉ）（３．６ｍｇ， ０．０２５ｍｍｏｌ）、（Ｒ，Ｒａｘ）−［４−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イル］−（１−フェニルエチル）アミン（１５．７ｍｇ， ０．０２８ｍｍｏｌ）および４Åモルキュラシーブ（粉末、０．２５ｇ）を１０ｍｌのシュレンクチューブに入れ、次いで、５分間アルゴンでパージした。ジクロロメタン（１ｍｌ）を加え、得られた懸濁物を６０分間攪拌した。反応混合物にトリエチルアミン（５６ｍｇ， ０．５５ｍｍｏｌ）、４−ピペリジノン一塩酸塩一水和物（１５４ｍｇ， １．０ｍｍｏｌ）、（トリメチルシリル）アセチレン（９８ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）およびｎ−ヘキサナール（５０ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）を添加した。フラスコをジクロロメタン（１ｍｌ）でリンスし、シールした。反応混合物を２３℃で２２時間激しく攪拌した。反応混合物をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９：１）で精製し、１０２ｍｇの表題化合物を得た。（収率：７３％）
【０２１６】
[α]D25: -11.0 °
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 0.13 (s, 9H, TMS), 0.89(t, J=6.9, 3H), 1.28-1.34(m, 4H), 1.43-1.48(m, 2H), 1.63(q, J=7.5, 2H), 2.42-2.48(m, 4H), 2.64-2.72(m, 2H), 2.84-2.93(m, 2H), 3.42(t, J=7.5, 1H).
13C-NMR(75MHz, CDCl3) δ 0.3, 14.1, 22.6, 26.2, 31.5, 33.6, 41.5, 49.1, 57.4, 90.0, 103.0, 209.0.
FTIR(thin film, cm-1): 2957(s), 2860(m), 2160(m), 1723(s), 1469(w), 1337(m), 1250(s), 843(s).
MS(EI) calcd for C16H29NOSi [M-H]+ 278.1935 found 278.1936.
表題化合物をメタノール中炭酸カリウムと２３℃で４時間処理して、脱シリル体に導いた後、ガスクロマトグラフィー（Ｇａｍｍａ １， １１５ ℃，保持時間：(minor)＝７０．４７２分，（major)＝７１．５９３分）でキラル分析を行った。光学純度は９０％ｅｅであった。
[α]D25: -18.0 °（脱シリル体）
【０２１７】
実施例２４：１−（４−メチル−１−（トリメチルシリル）ペント−１−イン−３−イル）ピペリジン−４−オン
ｎ―ヘキサナールの代わりにイソブタナール（１０８ｍｇ， １．５０ｍｍｏｌ）を用いたこと以外は、実施例２３と同様に反応を行い、１１１ｍｇの表題化合物を無色油状物として得た。（収率：８８％）
[α]D23: -25.1 °
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 0.15(s, 9H, TMS), 1.03(dd, J1=6.5, J2=16.2, 6H), 1.73-1.83(m, 1H), 2.42-2.53(m, 4H), 2.61-2.69(m, 2H), 2.82-2.90(m, 2H), 2.95(d, J=10.3, 1H).
13C-NMR(75MHz, CDCl3) δ 0.3, 19.8, 20.6, 30.9, 41.6, 49.3, 64.6, 90.5, 102.4, 209.3.
FTIR(thin film, cm-1): 2959(s), 2905(m), 2815(m), 2160(m), 1720(s), 1467(w), 1249(m), 1212(m), 1075(m), 1008(m), 843(s), 760(m).
MS (EI) calcd for C14H25NOSi [M-H]+ 250.1622 found 250.1621.
表題化合物をメタノール中炭酸カリウムと２３℃で４時間処理して、脱シリル体に導いた後、ガスクロマトグラフィー（Ｇａｍｍａ １， １２０ ℃，保持時間：(minor)＝１５．８３７分，（major)＝１６．２１１分）でキラル分析を行った。光学純度は９６％ｅｅであった。
[α]D25: -37.9 °（脱シリル体）
【０２１８】
実施例２５：１−（１−（フラン−２−イル）−３−（トリメチルシリル）プロプ−２−イニル）ピペリジン−４−オン
ｎ―ヘキサナールの代わりにフルフラール（４８ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）を用いたこと以外は、実施例２３と同様に反応を行い、８１ｍｇの表題化合物を白色固体として得た。（収率：５８％）
[α]D26: -2.5 °
1H-NMR(300 MHz, CDCl3) δ 0.17(s, 9H, TMS), 2.38-2.54(m, 4H), 2.73-2.82(m, 4H), 4.8(s, 1H), 6.31-6.32(m, 1H), 6.41(d, J=3.43, 1H), 7.38-7.39(m, 1H).
13C-NMR(75MHz, CDCl3) δ 0.1, 41.3, 49.0, 55.5, 91.9, 98.1, 109.6, 110.0, 142.8, 150.7, 208.4.
FTIR(thin film, cm-1): 3117(w), 2959(s), 2903(m), 2817(s), 2168(m), 1718(s), 1501(w), 1330(m), 1250(s), 1204(s), 1070(m), 995(s), 844(s).
MS (EI) calcd for C15H21NO2Si [M-H]+ 274.1258 found 274.1258.
表題化合物をガスクロマトグラフィー（Ｇａｍｍａ １， １３５ ℃，保持時間：(minor)＝９７．００６分，（major)＝９８．５６８分）でキラル分析を行った。光学純度は９０％ｅｅであった。
【０２１９】
実施例２６：１−（４−メチル−１−フェニルペント−１−イン−３−イル）ピペリジン−４−オン
ｎ―ヘキサナールの代わりにイソブタナール（１０８ｍｇ， １．５０ｍｍｏｌ）、（トリメチルシリル）アセチレンの代わりにフェニルアセチレン（５１ ｍｇ，０．０５ ｍｍｏｌ）を用いたこと以外は、実施例２３と同様に反応を行い、１０５ｍｇの表題化合物を白色固体として得た。（収率：８２％、光学純度：８５％ｅｅ）
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルセル  ＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学）およびキラルセル  ＯＤ−Ｈ（１５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：９８．５％ヘキサン／１．５％ｉＰｒＯＨ，流速：０．２５ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(major)＝５３．６５分，（minor)＝６０．９５分．
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 1.11(dd, J1=6.5, J2=20.2, 6H), 1.86-1.99(m, 1H), 2.41-2.56(m, 4H), 2.73-2.79(m, 2H), 2.81-3.03(m, 2H), 3.19 (d, J=10.0, 1H), 7.26-7.43(m, 5H).
13C-NMR(75MHz, CDCl3) δ 20.0, 20.8, 41.7, 49.5, 64.4, 86.2, 86.5, 123.0, 127.9, 128.2, 131.5, 209.2.
FTIR(thin film, cm-1): 3055(w), 2960(s), 2908(m), 2869(w), 2813(m), 2360(w), 1717(s), 1680(w), 1598(w), 1489(m), 1334(m), 1212(s), 1074(m), 757(s).
MS(EI) calcd for C17H21NO [M-H]+254.1539 found 254.1541.
【０２２０】
実施例２７：４−メチル−１−フェニルペント−１−イン−３−アミン
２５ｍｌの耐圧チューブに１−（４−メチル−１−フェニルペント−１−イン−３−イル）ピペリジン−４−オン（７６．６ ｍｇ， ０．３０ ｍｍｏｌ）および塩化アンモニウム（４８ ｍｇ， ０．９０ ｍｍｏｌ）を入れた。耐圧チューブをアルゴンで５分間パージし、ついで、飽和アンモニアエタノール溶液（２ ｍｌ）を加えた。耐圧チューブをきつくシールして、反応混合物を９０℃で２４時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、茶色の残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／メタノール ＝ １９：１）で精製して、３３．３ｍｇの純粋な表題化合物を黄色油状物として得た。（収率：６４％）
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 1.06(d, J=6.7, 6H), 1.81-1.92(m, 1H), 3.62(d, J=5.4, 1H), 7.26-7.43(m, 5H).
【０２２１】
実施例２８：Ｒｈ錯体の調製
１０ｍｌのシュレンクフラスコ中で、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４（４１ｍｇ， ０．１ｍｍｏｌ）および（Ｒ，Ｓａｘ）−１−（２−ジフェニルホスファニルナフタレン−１−イル）−４−（1-フェニルエトキシ）フタラジン（５９ｍｇ， ０．１０５ｍｍｏｌ）の混合物にアルゴン脱気したジクロロメタン（５ｍｌ）を加えた。混合物を２０分間撹拌した後、溶媒を減圧下留去した。得られた黄橙色の残渣をスパチュラでフラスコの壁からこすり落とし、アルゴン脱気したジエチルエーテル（５ｍｌ）中で粉砕した。ジエチルエーテルをカニューラで除き、黄橙色の残渣を減圧下乾燥し、Ｒｈ錯体を得た。得られた複合体は空気中で安定ではなく、２５℃で酸素と湿気を除いたグローブボックスに保管した。
【０２２２】
実施例２９：（Ｓ）−１−フェニルエタノール
実施例２８で得られたロジウム錯体（３．４ｍｇ， ４μｍｏｌ）のアルゴン脱気したジクロロメタン溶液をシリンジで反応容器に移した。ジクロロメタンを減圧下留去し、次いでアルゴン脱気した乾燥トルエン（１ｍｌ）、スチレン（４１．７ｍｇ， ０．４０ｍｍｏｌ）およびフレッシュに蒸留したカテコールボラン（５６μｌ， ０．４５ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を２時間室温で撹拌し、氷浴で冷却し、エタノール（１ｍｌ）でクェンチした。２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１ｍｌ）および３０％過酸化水素水溶液（１ｍｌ）を加え、混合物を３０分間かけて室温まで放置し、次いで同温で２時間撹拌した。ジエチルエーテル（１０ｍｌ）を加え、橙色の有機層を１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ペンタン／ジエチルエーテル＝２：１）で精製し、３５．７ｍｇの表題化合物を得た。（収率：７３％，９２％ｅ．ｅ．）
【０２２３】
[α]D29 = -49.5(c=0.525, CHCl3).
ＨＰＬＣ条件：カラム：キラルセルＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ，ダイセル化学），移動相：９９％ ヘキサン／１％ｉＰｒＯＨ，流速：０．９ ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：Ｒ体＝２４．５分， Ｓ体＝３２．５分.
【０２２４】
実施例３０：（Ｓ）−１−（４−メチルフェニル）エタノール
スチレンの代わりに４−メチルスチレン（４７．３ｍｇ， ０．４０ｍｍｏｌ）を用いたこと以外は実施例２９と同様に行い、５１．２ｍｇの表題化合物を得た。（収率：９４％，９２％ｅ．ｅ．）
【０２２５】
１−（４−メチルフェニル）エタノール：２−（４−メチルフェニル）エタノール＝９８：２（1Ｈ−ＮＭＲより）
[α]D27 = -53.0(c=0.55, CHCl3).
ＨＰＬＣ条件：カラム：キラルセルＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ，ダイセル化学），移動相：９９．５％ ヘキサン／０．５％ｉＰｒＯＨ，流速：０．９ ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：Ｒ体＝３９．８分， Ｓ体＝４２．６分.
【０２２６】
実施例３１：（Ｓ）−１−（３−メチルフェニル）エタノール
スチレンの代わりに３−メチルスチレン(４７．３ｍｇ， ０．４０ｍｍｏｌ)を用いたこと以外は実施例２９と同様に行い、４６．４ｍｇの表題化合物を得た。（収率：８５％，８４％ｅ．ｅ．）
【０２２７】
１−（３−メチルフェニル）エタノール：２−（３−メチルフェニル）エタノール＝９２：８（１Ｈ−ＮＭＲより）
[α]D26 = -42.6(c=0.62, CHCl3).
ＨＰＬＣ条件：カラム：キラルセルＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ，ダイセル化学），移動相：９９％ ヘキサン／１％ｉＰｒＯＨ，流速：０．８ ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：Ｒ体＝２０．１分， Ｓ体＝２８．６分.
【０２２８】
実施例３２：（Ｓ）−１−（２−メチルフェニル）エタノール
スチレンの代わりに２−メチルスチレン（４７．３ｍｇ， ０．４０ｍｍｏｌ）を用いたこと以外は実施例２９と同様に行い、４４．２ｍｇの表題化合物を得た。（収率：８１％，９１％ｅ．ｅ．）
【０２２９】
１−（２−メチルフェニル）エタノール：２−（２−メチルフェニル）エタノール＝９１：９（１Ｈ−ＮＭＲより）
[α]D29 = -72.1(c=0.535, CHCl3).
ＨＰＬＣ条件：カラム：キラルセルＯＢ−Ｈ（２５ｃｍ，ダイセル化学），移動相：９０％ ヘキサン／１０％ｉＰｒＯＨ，流速：０．５ ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：Ｓ体＝１０．０分， Ｒ体＝１３．７分.
【０２３０】
実施例３３：（Ｓ）−１−（４−メトキシフェニル）エタノール
スチレンの代わりに４−メトキシスチレン（５３．７ｍｇ， ０．４０ｍｍｏｌ）を用い、酸化処理前の反応時間を３時間にしたこと以外は実施例２９と同様に行い、４８．５ｍｇの表題化合物を得た。（収率：８０％，９０％ｅ．ｅ．）
【０２３１】
１−（４−メトキシフェニル）エタノール：２−（４−メトキシフェニル）エタノール＝９５：５（１Ｈ−ＮＭＲより）
[α]D28 = -45.5(c=0.545, CHCl3).
ＨＰＬＣ条件：カラム：キラルセルＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ，ダイセル化学），移動相：９９％ ヘキサン／１％ｉＰｒＯＨ，流速：０．９ ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：Ｒ体＝４０．０分， Ｓ体＝４５．６分.
【０２３２】
実施例３４：（Ｓ）−１−（４−クロロフェニル）エタノール
スチレンの代わりに４−クロロスチレン（５５．４ｍｇ， ０．４０ｍｍｏｌ）を用い、酸化処理前の反応時間を３時間にしたこと以外は実施例２９と同様に行い、５４．２ｍｇの表題化合物を得た。（収率：８７％，８７％ｅ．ｅ．）
【０２３３】
１−（４−クロロフェニル）エタノール：２−（４−クロロフェニル）エタノール＝９８：２（１Ｈ−ＮＭＲより）
[α]D27 = -42.4(c=0.495, CHCl3).
ＨＰＬＣ条件：カラム：キラルセルＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ，ダイセル化学），移動相：９９％ ヘキサン／１％ｉＰｒＯＨ，流速：０．９ ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：Ｓ体＝２４．８分， Ｒ体＝２７．６分.
【０２３４】
実施例３５：（Ｓ）−１−（２−ナフチル）エタノール
スチレンの代わりに２−ビニルナフタレン（６１．７ｍｇ， ０．４０ｍｍｏｌ）を用い、酸化処理前の反応時間を４時間にしたこと以外は実施例２９と同様に行い、５６．９ｍｇの表題化合物を得た。（収率：８０％，８１％ｅ．ｅ．）
【０２３５】
１−（２−ナフチル）エタノール：２−（２−ナフチル）エタノール＝８６：１４（１Ｈ−ＮＭＲより）
[α]D29 = -31.7(c=0.51, CHCl3).
ＨＰＬＣ条件：カラム：キラルセルＯＢ−Ｈ（２５ｃｍ，ダイセル化学），移動相：９０％ ヘキサン／１０％ｉＰｒＯＨ，流速：０．５ ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：Ｓ体＝１７．９分， Ｒ体＝２０．７分.
【０２３６】
実施例３６：（Ｒ）−（＋）−５−（１−イソプロピル−３−フェニルプロピン−２−イル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
酢酸銅（ＩＩ）一水和物（５．０ ｍｇ， ０．０２５ ｍｍｏｌ）の水（０．２ ｍｌ）溶液を（Ｌ）−アスコルビン酸ナトリウム（１０ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）で処理し、混合物が明橙色になるまで（３分間）攪拌した。続いて、（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル−メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔジアステレオマー， １６．５ ｍｇ， ０．０２５ ｍｍｏｌ）およびフェニルアセチレン（０．２７５ ｍｌ， ２．５ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を２３℃で１０分間攪拌し、０℃に冷却して５分間撹拌した後、５−イソブチリデン−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（５０ｍｇ， ０．２５ ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を０℃で１４時間激しく撹拌し、ジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル ３：１）に直接付して、７１ｍｇの純粋な表題化合物を白色固体として得た。（収率：９４％）
【０２３７】
mp: 111-113℃．
[α]D25= 7.93 (c = 0.5, CHCl3).
他のスペクトルデータは、文献（J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 6054-6055）記載のものと一致した。
表題化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、アニリンと１００℃で１時間処理して、（Ｒ）−３−イソプロピル−５−フェニル−４−ペンチンアニリドに導き、これをＨＰＬＣでキラル分析した。光学純度は９５％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルセル  ＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学）およびキラルセル  ＯＤ−Ｈ（１５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：８７％ヘキサン／１３％ｉＰｒＯＨ，流速：０．７ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(minor)＝２５．４分，（major)＝２７．５分．
絶対配置は、表題化合物を（Ｓ）−３−イソプロピル−５−フェニルペンタン酸に導き（１．Ｈ２Ｏ， ＤＭＦ， １００℃；２． Ｈ２， ＰｔＯ２， ＥｔＯＡｃ）、公知文献（J. Org. Chem. 2002, 67, 4680-4683）と比較して決定した。
【０２３８】
実施例３７：（Ｒ）−（＋）−５−（１−シクロヘキシル−３−フェニルプロピン−２−イル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
酢酸銅（ＩＩ）一水和物（５．０ ｍｇ， ０．０２５ ｍｍｏｌ）の水（０．２ ｍｌ）溶液を（Ｌ）−アスコルビン酸ナトリウム（１０ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）で処理し、混合物が明橙色になるまで（３分間）攪拌した。続いて、（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル−メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔジアステレオマー， １６．５ ｍｇ， ０．０２５ ｍｍｏｌ）およびフェニルアセチレン（０．２７５ ｍｌ， ２．５ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を２３℃で１０分間攪拌し、０℃に冷却して５分間撹拌した後、５−（シクロヘキシルメチレン）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（５９ｍｇ， ０．２５ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を０℃で１３時間激しく撹拌し、ジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル３：１）に直接付して、６９ｍｇの純粋な表題化合物を白色固体として得た。（収率：８１％）
【０２３９】
mp: 136-138 ℃.
[α]D31 = 8.93 (c = 0.50, CHCl3).
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 0.98-1.40(m, 5H), 1.55-1.81(m, 10H), 2.11-2.24(m. 1H), 2.32(d, J=12.6, 1H), 3.34 (dd, J=2.7, 10.2, 1H), 3.78(d, J=2.7, 1H), 7.26-7.28(m, 3H), 7.36-7.39(m, 2H).
13C-NMR (75MHz, CDCl3) δ 26.0, 26.0, 26.2, 28.0, 28.6, 30.8, 32.4, 38.9, 39.4, 46.8, 84.3, 87.7, 105.2, 122.8, 128.0, 128.0, 131.6, 163.6, 165.5.
FTIR(thin film, cm-1): 3063(w), 3000(w), 2932(m), 2848(m), 1790(m), 1750(s), 1394(m), 1384(m), 1314(m), 1207(m), 1059(m).
MS(ESI, pos.) calcd for C21H24NaO4+(M+Na+) 363.16 found 363.45.
Anal. Calcd for C21H24O4: C, 74.09; H, 7.11. Found: C, 73.85; H, 7.13.
【０２４０】
表題化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、アニリンと１００℃で１時間処理して、（Ｒ）−３−シクロヘキシル−５−フェニル−４−ペンチンアニリドに導き、これをＨＰＬＣでキラル分析した。光学純度は９４％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルセル  ＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学）およびキラルセル  ＯＤ−Ｈ（１５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：８７％ヘキサン／１３％ｉＰｒＯＨ，流速：０．７ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(major)＝２５．４分，（minor)＝３０．４分．
絶対配置は、表題化合物を（Ｓ）−３−シクロヘキシル−５−フェニル−５−ペンチン酸（４−ブロモフェニル）アミドに導き（ＤＭＦ／４−ブロモアニリン １０：１， １時間, １００℃）、公知化合物（Cambridge Crystallographic Data Centre, No. 268029）と比較して決定した。
【０２４１】
実施例３８：（Ｒ）−（＋）−５−（１−シクロプロピル−３−フェニルプロピン−２−イル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
酢酸銅（ＩＩ）一水和物（５．０ ｍｇ， ０．０２５ ｍｍｏｌ）の水（０．２ ｍｌ）溶液を（Ｌ）−アスコルビン酸ナトリウム（１０ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）で処理し、混合物が明橙色になるまで（３分間）攪拌した。続いて、（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル−メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔジアステレオマー， １６．５ ｍｇ， ０．０２５ ｍｍｏｌ）およびフェニルアセチレン（０．２７５ ｍｌ， ２．５ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を２３℃で１０分間攪拌し、０℃に冷却して５分間撹拌した後、５−（シクロプロピルメチレン）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（４９ｍｇ， ０．２５ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を０℃で５１時間激しく撹拌し、ジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／ジクロロメタン １：３）に直接付して、５９ｍｇの純粋な表題化合物を白色固体として得た。（収率：７９％）
【０２４２】
mp: 96-97 ℃ 
[α]D25  = 105.4 (c = 0.505, CHCl3). 
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 0.30-0.37(m, 1H), 0.51-0.65(m, 2H), 0.70-0.79(m, 1H), 1.66-1.76(m, 1H), 1.80(s, 6H), 2.98(dd, J=2.6, 9.5, 1H), 3.76(d, J=2.6, 1H), 7.25-7.29(m, 3H), 7.37-7.42(m, 2H).
13C-NMR(75 MHz, CDCl3) δ 4.9, 6.3, 14.7, 27.8, 28.5, 37.7, 50.7, 83.4, 86.9, 105.2, 122.7, 128.0, 131.7, 163.6, 164.5. 
FTIR(thin film, cm-1): 3003(w), 2881(w), 1785(m), 1749(s), 1490(w), 1334(m), 1298(s), 1204(m), 1005(m), 758(m), 693(m).  
MS(ESI, neg.) calcd for C18H17O4-(M-H+) 297.1 found 297.2.
Anal. Calcd for C18H18O4: C, 72.47; H, 6.08. Found: C, 72.34; H, 6.11.
【０２４３】
表題化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、アニリンと１００℃で１時間処理して、（Ｒ）−３−シクロプロピル−５−フェニル−４−ペンチンアニリドに導き、これをＨＰＬＣでキラル分析した。光学純度は９７％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルパック  ＡＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：９０％ヘキサン／１０％ｉＰｒＯＨ，流速：０．８ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(minor)＝１４．５分，（major)＝１６．５分．
【０２４４】
実施例３９：（Ｒ）−（＋）−５−（１−イソブチル−３−フェニルプロピン−２−イル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
酢酸銅（ＩＩ）一水和物（１０．０ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）の水（０．２ ｍｌ）溶液を（Ｌ）−アスコルビン酸ナトリウム（２０ ｍｇ， ０．１０ ｍｍｏｌ）で処理し、混合物が明橙色になるまで（３分間）攪拌した。続いて、（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル−メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔジアステレオマー， ３３．１ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）およびフェニルアセチレン（０．２７５ ｍｌ， ２．５ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を２３℃で１０分間攪拌し、０℃に冷却して５分間撹拌した後、５−（１−イソペンチリデン）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（５３ｍｇ， ０．２５ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を０℃で２４時間激しく撹拌し、ジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル５：１）に直接付して、６７ｍｇの純粋な表題化合物を白色固体として得た。（収率：８５％）
【０２４５】
mp: 100-102 ℃. 
[α]D27 = 18.1 (c = 0.52, CHCl3).
1H-NMR(300 MHz, CDCl3) δ 0.99(d, J=2.5, 3H), 1.01(d, J=2.5, 3H), 1.35-1.44(m, 1H), 1.78(s, 6H), 1.87-2.00(m, 1H), 2.10-2.20(m, 1H), 3.65(d, J=2.7, 1H), 3.72-3.79 (m, 1H), 7.24-7.30(m, 3H), 7.35-7.42(m, 2H).
13C-NMR(75 MHz, CDCl3) δ 21.6, 23.3, 26.4, 27.7, 28.6, 30.4, 41.4, 50.3, 83.5, 88.0, 105.2, 122.9, 128.0, 128.1, 131.7, 163.5, 164.3. 
FTIR(thin film, cm-1): 2956(m), 1791(m), 1750(s), 1384(m), 1306(s), 1206(m), 1060(m), 1006(m), 884(w), 756(m).  
MS(ESI, neg.) calcd for C19H21O4-(M-H+) 313.15 found 313.3.
Anal. Calcd for C19H22O4: C, 72.59; H, 7.05. Found: C, 72.52; H, 7.11.
【０２４６】
表題化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、アニリンと１００℃で１時間処理して、（Ｒ）−３−イソブチル−５−フェニル−４−ペンチンアニリドに導き、これをＨＰＬＣでキラル分析した。光学純度は９０％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルセル  ＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学）およびキラルセル  ＯＤ−Ｈ（１５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：８７％ヘキサン／１３％ｉＰｒＯＨ，流速：０．７ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(minor)＝２５．０分，（major)＝２６．８分．
【０２４７】
実施例４０：（Ｒ）−（＋）−５−（１−エチル−３−フェニルプロピン−２−イル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
酢酸銅（ＩＩ）一水和物（１０ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）の水（０．２ ｍｌ）溶液を（Ｌ）−アスコルビン酸ナトリウム（２０ ｍｇ， ０．１０ ｍｍｏｌ）で処理し、混合物が明橙色になるまで（３分間）攪拌した。続いて、（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル−メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔジアステレオマー， ３３．１ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）およびフェニルアセチレン（０．２７５ ｍｌ， ２．５ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を２３℃で１０分間攪拌し、０℃に冷却して５分間撹拌した後、５−（１−プロピリデン）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（４６ｍｇ， ０．２５ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を０℃で２４時間激しく撹拌し、ジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル３：１→２：１）に直接付して、５９ｍｇの純粋な表題化合物を白色固体として得た。（収率：８３％）
【０２４８】
mp: 105-110 ℃. 
[α]D25 = 20.5 (c = 0.54, CHCl3).
他のスペクトルデータは、文献（J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 6054-6055）記載のものと一致した。
表題化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、アニリンと１００℃で１時間処理して、（Ｒ）−３−エチル−５−フェニル−４−ペンチンアニリドに導き、これをＨＰＬＣでキラル分析した。光学純度は８２％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルセル  ＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学）およびキラルセル  ＯＤ−Ｈ（１５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：８７％ヘキサン／１３％ｉＰｒＯＨ，流速：０．７ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(major)＝２７．０分，（minor)＝３３．５分．
【０２４９】
実施例４１：（Ｓ）−（＋）−５−（１，３−ジフェニルプロピン−２−イル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
酢酸銅（ＩＩ）一水和物（２０ ｍｇ， ０．１０ ｍｍｏｌ）の水（０．４ ｍｌ）溶液を（Ｌ）−アスコルビン酸ナトリウム（４０ ｍｇ， ０．２０ ｍｍｏｌ）で処理し、混合物が明橙色になるまで（３分間）攪拌した。続いて、（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル−メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔジアステレオマー， ６６．２ ｍｇ， ０．１０ ｍｍｏｌ）およびフェニルアセチレン（０．５５ ｍｌ， ５．０ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を２３℃で１０分間攪拌し、０℃に冷却して５分間撹拌した後、５−ベンジリデン−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（１１６ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を０℃で６６時間激しく撹拌し、ジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル３：１→１：１）に直接付して、１１０ｍｇの純粋な表題化合物を白色固体として得た。（収率：６４％）
【０２５０】
mp: 153-156 ℃ (分解).
[α]D27 = 59.5 (c = 0.31, CHCl3). 
他のスペクトルデータは、文献（J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 6054-6055）記載のものと一致した。
表題化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、アニリンと１００℃で１時間処理して、（Ｒ）−３，５−ジフェニル−４−ペンチンアニリドに導き、これをＨＰＬＣでキラル分析した。光学純度は８３％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルセル  ＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：８７％ヘキサン／１３％ｉＰｒＯＨ，流速：０．７ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(minor)＝２１．５分，（major)＝２４．４分．
絶対配置は、表題化合物を（Ｓ）−メチル−３，５−ジフェニル−２−メトキシカルボニル−５−オキソペンタンに導き（１．Ｈ２， Ｐｄ／Ｃ， ＭｅＯＨ；２．ｃａｔ. ＨＣｌ， ＭｅＯＨ， 還流；３．ＣｒＯ３， ＡｃＯＨ，ｒｔ）、公知文献（J. Am. Chem. Soc., 1995, 117, 6194-6198）と比較して決定した。
【０２５１】
実施例４２：（Ｓ）−（＋）−５−（３−フェニル−１−ｍ−トリルプロピン−２−イル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
酢酸銅（ＩＩ）一水和物（２０ ｍｇ， ０．１０ ｍｍｏｌ）の水（０．４ ｍｌ）溶液を（Ｌ）−アスコルビン酸ナトリウム（４０ ｍｇ， ０．２０ ｍｍｏｌ）で処理し、混合物が明橙色になるまで（３分間）攪拌した。続いて、（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル−メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔジアステレオマー， ６６．２ ｍｇ， ０．１０ ｍｍｏｌ）およびフェニルアセチレン（０．５５ ｍｌ， ５．０ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を２３℃で１０分間攪拌し、０℃に冷却して５分間撹拌した後、５−（３−メチルベンジリデン）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（１２３ｍｇ， ０．５０ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を０℃で６６時間激しく撹拌し、ジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル３：１→１：１）に直接付して、１５１ｍｇの純粋な表題化合物を白色固体として得た。（収率：８７％）
mp: 136-137 ℃ (分解).
【０２５２】
[α]D27 = 61.3 (c = 0.53, CHCl3). 
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 1.63(s, 3H), 1.74(s, 3H), 2.38(s, 3H), 4.00(d, J=2.6, 1H), 5.12(d, J=2.6, 1H), 7.11(d, J=7.5, 1H), 7.26(t, J=7.5, 1H), 7.30-7.33(m, 3H), 7.43(d, J=7.5, 2H), 7.46-7.51(m, 2H).
13C-NMR (75MHz, CDCl3) δ 21.7, 27.9, 28.4, 37.1, 52.9, 85.4, 86.3, 105.2, 122.7, 125.6, 128.1. 128.2, 128.3 128.5. 129.1, 131.7, 136.9, 138.1, 162.9, 163.7. 
FTIR(thin film, cm-1): 3003(w), 1786(m), 1749(s), 1607(w), 1490(m), 1296(s), 1205(m), 1006(m), 758(m), 692(m).  
MS(ESI, neg.) calcd for C22H19O4-(M-H+) 347.1 found 347.2.
Anal. Calcd for C22H20O4: C, 75.84; H, 5.79. Found: C, 75.66; H, 5.93.
【０２５３】
表題化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、アニリンと１００℃で１時間処理して、（Ｒ）−５−フェニル−３−（ｍ−トリル）−４−ペンチンアニリドに導き、これをＨＰＬＣでキラル分析した。光学純度は９０％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルセル  ＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：８７％ヘキサン／１３％ｉＰｒＯＨ，流速：０．７ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(minor)＝１９．８分，（major)＝２１．７分．
得られた固体（１２３ｍｇ）を４０℃の酢酸エチルから再結晶し、光学純度９８％の白色結晶（８５ｍｇ）を得た。（回収率６９％）
[α]D30 = 67.9 (c = 0.53, CHCl3).
mp: 136-137 ℃ (分解).
【０２５４】
実施例４３：（Ｓ）−５−（１−（４−メトキシフェニル）−３−フェニルプロピン−２−イル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
酢酸銅（ＩＩ）一水和物（１０ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）の水（０．２ ｍｌ）溶液を（Ｌ）−アスコルビン酸ナトリウム（２０ ｍｇ， ０．１０ ｍｍｏｌ）で処理し、混合物が明橙色になるまで（３分間）攪拌した。続いて、（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル−メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔジアステレオマー， ３３．１ ｍｇ， ０．０５ ｍｍｏｌ）およびフェニルアセチレン（０．２７５ ｍｌ， ２．５ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を２３℃で１０分間攪拌し、０℃に冷却して５分間撹拌した後、５−（４−メトキシベンジリデン）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（６５．６ｍｇ， ０．２５ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を０℃で６４時間激しく撹拌し、ジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル３：１→１：１）に直接付して、２５ｍｇの純粋な表題化合物を白色固体として得た。（収率：２７％）
スペクトルデータは、文献（J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 6054-6055）記載のものと一致した。
【０２５５】
表題化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、アニリンと１００℃で１時間処理して、（Ｒ）−３−（４−メトキシフェニル）−５−フェニル−４−ペンチンアニリドに導き、これをＨＰＬＣでキラル分析した。光学純度は８１％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルセル  ＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：８７％ヘキサン／１３％ｉＰｒＯＨ，流速：１ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(minor)＝１８．７分，（major)＝２１．５分．
【０２５６】
実施例４４：（Ｓ）−５−（１−（４−ブロモフェニル）−３−フェニルプロピン−２−イル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
酢酸銅（ＩＩ）一水和物（１０ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）の水（０．２ ｍｌ）溶液を（Ｌ）−アスコルビン酸ナトリウム（２０ ｍｇ， ０．１０ ｍｍｏｌ）で処理し、混合物が明橙色になるまで（３分間）攪拌した。続いて、（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル−メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔジアステレオマー， ３３．1 ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）およびフェニルアセチレン（０．２７５ ｍｌ， ２．５ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を２３℃で１０分間攪拌し、０℃に冷却して５分間撹拌した後、５−（４−ブロモベンジリデン）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（７７．７ｍｇ， ０．２５ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を０℃で４２時間激しく撹拌し、ジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル３：１→１：１）に直接付して、５３ｍｇの純粋な表題化合物を白色固体として得た。（収率：３９％）
スペクトルデータは、文献（J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 6054-6055）記載のものと一致した。
【０２５７】
表題化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、アニリンと１００℃で１時間処理して、（Ｒ）−３−（４−ブロモフェニル）−５−フェニル−４−ペンチンアニリドに導き、これをＨＰＬＣでキラル分析した。光学純度は８０％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルセル  ＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学）およびキラルセル  ＯＤ−Ｈ（１５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：８７％ヘキサン／１３％ｉＰｒＯＨ，流速：１ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(minor)＝１４．８分，（major)＝１９．６分．
【０２５８】
実施例４５：（Ｓ）−５−（１−（フラン−２−イル）−３−フェニルプロピン−２−イル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン
酢酸銅（ＩＩ）一水和物（１０ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）の水（０．２ ｍｌ）溶液を（Ｌ）−アスコルビン酸ナトリウム（２０ ｍｇ， ０．１０ ｍｍｏｌ）で処理し、混合物が明橙色になるまで（３分間）攪拌した。続いて、（Ｒ， Ｍ）−３−｛［４−（２−ジフェニルホスファニル−７−メトキシ−ナフタレン−１−イル）−フタラジン−１−イルアミノ］−フェニル−メチル｝−ペンタン−３−オール（１ｓｔジアステレオマー， ３３．１ ｍｇ， ０．０５０ ｍｍｏｌ）およびフェニルアセチレン（０．２７５ ｍｌ， ２．５ ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を２３℃で１０分間攪拌し、０℃に冷却して５分間撹拌した後、５−（２−フルフリデン）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン（５５．６ｍｇ， ０．２５ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を０℃で６４時間激しく撹拌し、ジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈し、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル３：１→１：１）に直接付して、２６ｍｇの純粋な表題化合物を白色固体として得た。（収率：３２％）
スペクトルデータは、文献（J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 6054-6055）記載のものと一致した。
【０２５９】
表題化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、アニリンと１００℃で１時間処理して、（Ｒ）−３−（フラン−２−イル）−５−フェニル−４−ペンチンアニリドに導き、これをＨＰＬＣでキラル分析した。光学純度は８３％ｅｅであった。
ＨＰＬＣ分析条件：
カラム：キラルセル  ＯＤ−Ｈ（２５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学）およびキラルセル  ＯＤ−Ｈ（１５ｃｍ×４．６ｍｍ，ダイセル化学），移動相：９３％ヘキサン／７％ｉＰｒＯＨ，流速：０．７ｍｌ／ｍｉｎ，検出：２５４ｎｍ，保持時間：(major)＝７２．４分，（minor)＝７９．５分．
【産業上の利用可能性】
【０２６０】
本発明の化合物を配位子として有する不斉遷移金属錯体は不斉反応、特に不斉付加反応、不斉共役付加反応、不斉ヒドロホウ素化反応または不斉ジホウ素化反応等の優れた不斉触媒である。特に、本発明の不斉遷移金属錯体を化合物（XXVI）からの化合物（XXVII）の製造方法などの不斉共役付加反応に用いた場合、光学純度が比較的低い不斉遷移金属錯体を用いても高い光学純度の目的化合物を得ることができる。
したがって、当該不斉遷移金属錯体を不斉触媒として使用する不斉反応は、医薬（例えば、イブプロフェンなど）、農薬等の光学活性な合成中間体の有用な製造方法となり得る。