(57)【要約】【課題】近赤外線の遮断性、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れた近赤外線吸収フィルムおよび近赤外線吸収フィルターを提供する。【解決手段】透明基材フィルム上に、透明樹脂と、波長８００〜１１００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素を含有する組成物からなる近赤外線吸収層を積層してなる近赤外線吸収フィルムであって、前記近赤外線吸収色素の１つがビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸を対アニオンとする芳香族ジインモニウム系化合物であることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルム上に、透明樹脂と、波長８００〜１１００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素を含有する組成物からなる近赤外線吸収層を積層してなる近赤外線吸収フィルムであって、前記近赤外線吸収色素の１つがビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸を対アニオンとする芳香族ジインモニウム系化合物であることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
【請求項２】
前記近赤外線吸収色素として、さらにシアニン系化合物を用いることを特徴とする請求項１記載の近赤外線吸収フィルム。
【請求項３】
シアニン系化合物の対アニオンが金属錯体であることを特徴とする請求項１または２記載の近赤外線吸収フィルム。
【請求項４】
基材フィルムが紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルム。
【請求項５】
基材フィルムが少なくとも３層以上の積層構造からなり、前記紫外線吸収剤が前記の積層構造の中間層に含有されてなることを特徴とする請求項４記載の近赤外線吸収フィルム。
【請求項６】
基材フィルムに積層された近赤外線吸収層とは反対面に反射防止層を積層してなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルム。
【請求項７】
基材フィルムの少なくとも片面に、水性ポリエステル樹脂と、水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物、水溶性のジルコニウムキレート化合物、または水溶性のジルコニウムアシレート化合物の少なくとも１種とを主たる構成成分とする接着改質層が積層されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルム。
【請求項８】
前記近赤外線吸収層には、ＨＬＢが２以上１２以下の界面活性剤が含有されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルムの近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤よりなる粘着層を積層してなることを特徴とする近赤外線吸収フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）の前面板や自動車用近赤外線カットフィルムに好適な、近赤外線吸収フィルムおよび近赤外線吸収フィルターに関する。さらに詳しくは、耐久性に優れる近赤外線吸収フィルムおよび近赤外線吸収フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
近赤外線吸収能を有する光学フィルムは、近赤外線を遮断し、可視光を通過させる性質を有しており、各種の用途に使用されている。近年、薄型大画面ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されているが、プラズマディスプレイから放出される近赤外線により、近赤外線リモコンを使用する電子機器が誤動作を起こす問題があり、近赤外線吸収フィルムをプラズマディスプレイの前面に設け、近赤外線をカットすることが行われている。
【０００３】
近赤外線吸収能を有するフィルムとしては、（１）燐酸系ガラスに、銅や鉄などの金属イオンを含有したフィルム、（２）屈折率の異なる層を積層し、透過光を干渉させることで特定の波長を透過させる干渉フィルム、（３）共重合体に銅イオンを含有するアクリル系樹脂フィルム、（４）樹脂に色素を分散又は溶解した層を積層したフィルム、が提案されている。これらの中で（４）のフィルムは、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比較的大きく、各種の方法が提案されている（例えば、特許文献１〜７を参照）。
【０００４】
これらの方法の中には、プラズマディスプレイから放出される近赤外線を十分に遮断する能力を有するものもある。しかしながら、色素としてジインモニウム系化合物を用いた場合には、熱、酸化等による劣化が進み、フィルターの耐久性の点で問題があった。
【０００５】
前記の課題の解決法として、示差走査熱量測定において温度２２０℃以上に吸熱ピークを有するジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルムが開示されている（例えば、特許文献８を参照）。しかしながら、市場要求を満たすレベルには到っていなかった。
【０００６】
また、上記の近赤外線吸収フィルムに用いられる色素は耐候性が良くなく、例えば、プラズマディスプレイから放出される近赤外線を遮断する光学用フィルターとして用いる場合には、さらなる改良が強く求められていた。また、前記の光学フィルターは近赤外線吸収能を有すること以外にも、可視光線領域に特定吸収を付与する色調調整、反射防止性、表面の耐傷付き性等の他の機能を付与することが好ましい。前記の課題解決の方策として、例えば、各種機能を有した機能層を多層化した多層タイプの近赤外線吸収パネルが開示されている（例えば、特許文献９を参照）
この特許文献９においては、近赤外線吸収能以外の機能を付与した機能層としては、電磁波吸収層、反射防止層および紫外線吸収層が開示されている。しかしながら、紫外線吸収層に関しては、明細書中には詳細に記載されていない。詳細な記載のある電磁波吸収層と反射防止層の多層化は、それぞれの機能を有する機能フィルムを近赤外線吸収フィルムと貼り合わせる方法が用いられている。
【０００７】
また、帯電防止層を含む反射防止機能および紫外線吸収層を複合した近赤外線カットフィルムをプラズマディスプレイパネル表面に直接貼り付けるプラズマディスプレイパネル直貼り用フィルターが開示されている（例えば、特許文献１０参照）。
【０００８】
特許文献１０においては、帯電防止層を含む反射防止機能を有するフィルムと近赤外線カットフィルムとを紫外線吸収剤を含有する透明性の接着（粘着）剤層によって貼り合わせ、さらに近赤外線カットフィルムの表面に透明感圧接着（粘着）剤層を複合した構成が開示されている。
【０００９】
また、近赤外線吸収剤がニッケル錯体化合物に限定されてはいるが、紫外線吸収およびハードコート層の多層化による複合が開示されている（例えば、特許文献１１を参照）。この特許文献１１においても、紫外線吸収剤含有フィルムと近赤外線吸収色素含有のシートとを貼り合わせる方法が開示されている。
【００１０】
一方、一枚の基材フィルムで多機能化を行った構成が開示されている（特許文献１２参照）。この特許文献１２においては、近赤外線吸収機能以外の機能として、反射防止と紫外線吸収機能が付加されている。しかしながら、特許文献１２において開示されている構成は、紫外線吸収剤が近赤外線吸収機能を有する積層体を透明な硬質基板に固定するための粘着層に配合されている。そのため、実際にフィルターとして使用する際には、紫外線吸収機能を有する層は近赤外線吸収機能を有する層の反外光側に位置しており、実際の使用時に問題となる外光中の紫外線による近赤外線吸収色素の劣化を抑制する効果は発現されない構成となっている。したがって、外光による近赤外線吸収色素の耐候性を向上させるという市場要求を満足するものではなかった。
【００１１】
上記の公知技術における市場要求を満たす光学特性を有した積層体は、それぞれの機能を有する２枚以上の機能性フィルムを貼り合わせた構成となっている。そのため、貼り合わせによる界面の増加による光学特性の低下の点が改善できていないだけでなく、貼り合わせ工程を必要とするため経済的に不利であるという課題も残されている。また、総厚みが厚くなるため、被貼着体に対する貼着の作業性が劣るという課題を有している。一方、総厚みが薄く被貼着体に対する貼着の作業性が改善された一枚の基材フィルムよりなる構成の積層体は、紫外線吸収機能は付与されているものの、実際の使用時に要求される外光による耐候性の改善効果は発現できない構成になっている。
【特許文献１】特開２００２−８２２１９号公報
【特許文献２】特開２００２−２１４４２７号公報
【特許文献３】特開２００２−２６４２７８号公報
【特許文献４】特開２００２−３０３７２０号公報
【特許文献５】特開２００２−３３３５１７号公報
【特許文献６】特開２００３−８２３０２号公報
【特許文献７】特開２００３−９６０４０号公報
【特許文献８】特開２００３−１１４３２３号公報
【特許文献９】特許第３３０８５４５号公報
【特許文献１０】特開２００２−１８９４２３号公報
【特許文献１１】特開２００３−４９０４号公報
【特許文献１２】特開２００２−１３８２０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、従来技術の課題を背景になされたもので、近赤外線の遮断性と、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れる近赤外線吸収フィルムを提供することにある。さらに、近赤外線の遮断性およびその耐久性や耐候性に優れる近赤外線吸収フィルム、反射防止性、虹彩状色彩（干渉縞）発生の抑制等の光学特性に優れる近赤外線吸収フィルム、外観欠点の少ない近赤外線吸収フィルム、また、薄膜化により、被貼着体に対する貼着の作業性が改善された近赤外線吸収フィルターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記の課題を解決することができた本発明の近赤外線吸収フィルムは、透明基材フィルム上に、透明樹脂と、波長８００〜１１００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素を含有する組成物からなる近赤外線吸収層を積層してなる近赤外線吸収フィルムであって、前記近赤外線吸収色素の１つがビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸を対アニオンとする芳香族ジインモニウム系化合物であることを特徴とする近赤外線吸収フィルムである。また、上記の近赤外線吸収フィルムの近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤よりなる粘着層を積層してなることを特徴とする近赤外線吸収フィルターである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の近赤外線吸収フィルムは、近赤外線の遮断性と、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れているため、プラズマディスプレイ等の近赤外線を吸収する機能が要求される表示装置等の光学用フィルターとして好適に使用することができる。また、本発明の近赤外線吸収フィルターは、粘着剤で貼り合わせることなく１枚の基材フィルムよりなる多層フィルムで、近赤外線の遮断性、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れており、さらに、一枚の基材フィルムの構成で薄膜状態を維持し、その他の各種機能が付与できるので、被貼着体に対する貼着の作業性が改善され、かつ経済性にも優れており、プラズマディスプレイ等の近赤外線を吸収する機能が要求される表示装置等の光学用フィルターとして好適に使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１６】
本発明における基材フィルムの材質は、透明体であれば限定されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートあるいはポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル樹脂から構成された二軸配向ポリエステルフィルムが、機械的特性、光学特性、耐熱性および経済性の点より好適である。なお、前記のポリエステルは、ホモポリマーでもよいし、２種以上のポリエステルをブレンドして使用したものでもかまわない。さらに、共重合ポリエステルであっても構わない。共重合ポリエステルの場合、共重合成分としては、ジカルボン酸成分またはグリコール成分の少なくとも一方に２種以上の成分を用いる。ジカルボン酸成分としては、アジピン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸；テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸；トリメリット酸及びピロメリット酸等の多官能カルボン酸等が用いられる。また、グリコール成分としては、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール等の脂肪酸グリコール；ｐ−キシレングリコール等の芳香族グリコール；１，４−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族グリコール；数平均分子量が１５０〜２００００のポリエチレングリコール等が用いられる。共重合成分の質量比率は２０質量％未満である。２０質量％以上ではフィルム強度、透明性、耐熱性が劣る傾向がある。また、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）よりなるフィルムも透明性等の光学特性が優れているため好適である。
【００１７】
本発明においては、近赤外線吸収色素の１つがビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸を対アニオンとする芳香族ジインモニウム系化合物であることが重要である。例えば、下記の一般式（Ｉ）で示される化合物を挙げることができる。
【００１８】
【化１】
2006184820.tif 000002
【００１９】
前記の一般式（Ｉ）で示される芳香族ジインモニウム系化合物において、Ｒ1〜Ｒ8は、水素原子、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基を表わし、それぞれ同じであっても、異なっていても良い。Ｒ9〜Ｒ12は、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルコキシ基を表わし、それぞれ同じであっても、異なっていても良い。Ｒ1〜Ｒ12で置換基を結合できるものは置換基を有しても良い。Ｘ-はアニオンを示し、Ｘはビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸である。
【００２０】
本発明では、近赤外線領域全体において、良好な近赤外線の遮断性を付与する目的で、上記のジインモニウム系化合物以外の構造の近赤外線吸収色素を併用するのが好ましい実施態様である。ジインモニウム系化合物以外の近赤外線吸収色素としては、ポリメチン系、金属錯体系、スクアリリウム系、シアニン系、フタロシアニン系、インドアニリン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、クロコニウム系、テトラデヒドロコリン系、トリフェニルメタン系、アミニウム系等が挙げられる。
【００２１】
本発明では、これらの色素の１種または２種以上を併用するのが好ましい。前記の特定のジインモニウム系化合物に併用することができる近赤外線吸収色素としては、シアニン系化合物が好ましい。さらに、前記シアニン系化合物のアニオンが金属錯体であることがより好ましい実施態様である。
【００２２】
前記のシアニン系化合物は近赤外線吸収能を有するものであれば限定されないが、例えば下記の一般式（II）〜（IV）で示されるカチオンを有するシアニン系化合物が好適である。
【００２３】
【化２】
2006184820.tif 000003
【００２４】
なお、上記一般式（II）〜（IV）において、環Ａ及び環Ａ′は、ベンゼン環、ナフタレン環又はピリジン環を示し、Ｒ13及びＲ13′は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１〜８のアルコキシ基を示し、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は、ハロゲン原子、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数１〜８のアルキル基を示し、ＣおよびＣ′は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、プロパン−２，２−ジイル、ブタン−２，２−ジイル、炭素数３〜６のシクロアルカン−１，１−ジイル、−ＮＨ−又は−ＮＢ1−を示し、Ｂ、Ｂ′及びＢ1は、炭素数１〜３０の有機基を表し、ｒ及びｒ′は０〜２の整数を示す。
【００２５】
上記一般式（II）〜（IV）で示されるシアニン系化合物において、Ｒ13及びＲ13′で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。また、炭素数６〜３０のアリール基としては、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、２，５−ジ第三ブチルフェニル、２，６−ジ−第三ブチルフェニル、２，４−ジ第三ペンチルフェニル、２，５−ジ第三アミルフェニル、２，５−ジ第三オクチルフェニル、２，４−ジクミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェニル、２，４，５−トリメチルフェニルが挙げられる。
【００２６】
上記一般式（II）〜（IV）のＲ13及びＲ13′において、炭素数１〜８のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシルが挙げられる。また、Ｒ13及びＲ13′で示される炭素数１〜８のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、イソプロピルオキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシが挙げられる。Ｒ14、Ｒ15及びＲ16で示されるハロゲン原子、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数１〜８のアルキル基としては、上記Ｒ13で例示したものが挙げられる。
【００２７】
上記一般式（II）〜（IV）のＣ及びＣ′における炭素数３〜６のシクロアルカン−１，１−ジイルとしては、シクロプロパン−１，１−ジイル、シクロブタン−１，１−ジイル、２，４−ジメチルシクロブタン−１，１−ジイル、３−ジメチルシクロブタン−１，１−ジイル、シクロペンタン−１，１−ジイル、シクロヘキサン−１，１−ジイルが挙げられる。
【００２８】
上記一般式（II）〜（IV）のカチオンにおいて、Ｂ、Ｂ′及びＢ1で示される炭素数１〜３０の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ペプタデシル、オクタデシル等のアルキル基、ビニル、１−メチルエテニル、２−メチルエテニル、プロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、１−フェニルプロペン−３−イル等のアルケニル基、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、シクロヘキシルフェニル等のアルキルアリール基、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基等が挙げられる。
【００２９】
また、これらがエーテル結合、チオエーテル結合で中断されたものでもよい。例えば、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、３−メトキシブチル、２−フェノキシエチル、３−フェノキシプロピル、２−メチルチオエチル、２−フェニルチオエチルが挙げられる。さらに、これらの基は、アルコキシ基、アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。
【００３０】
上記一般式（II）〜（IV）において、Ｒ14がハロゲン原子であると、光学フィルターの近赤外線吸収効果に優れているため好ましい。また、Ｃ及びＣ′がプロパン−２，２−ジイル、ブタン−２，２−ジイル、炭素数３〜６のシクロアルカン−１，１−ジイルから選ばれる基である場合、光安定性が大きいため好ましい。
【００３１】
また、前記のシアニン化合物の対アニオンは、励起状態にある活性分子を脱励起させる（クエンチングさせる）機能を有する。このようなアニオンとしては、金属錯体が好ましい。その構造は限定されないが、例えば、ベンゼンジチオール金属錯体化合物が好ましい。ベンゼンジチオール金属錯体化合物のアニオンとしては、例えば、下記の一般式（Ｖ）で示されるアニオンが挙げられる。
【００３２】
【化３】
2006184820.tif 000004
【００３３】
上記の一般式（Ｖ）で示されるアニオンにおいて、Ｍは、ニッケル原子または銅原子を示し、Ｒ17及びＲ17′は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、−ＳＯ2−Ｚ基を示し、Ｚは、炭素数１〜８のアルキル基、ハロゲン原子で置換してもよい炭素数６〜３０のアリール基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、ピペリジノ基、モルフォリノ基を示し、ｑ及びｑ′は、１〜４の整数を示す。
【００３４】
上記の一般式（Ｖ）で示されるアニオンにおいて、Ｒ17及びＲ17′で示されるハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜３０アリール基としては、前記の一般式（II）〜（IV）においてＲ13で例示したもの挙げられる。また、Ｚで示される炭素数１〜８のアルキル基も同様である。上記ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜３０のアリール基は、前記の一般式（II）〜（IV）においてＲ13で例示したもの、又はこれらのベンゼン環が１〜４個のハロゲン原子で置換されたものが挙げられる。さらに、ジアルキルアミノ基又はジアリールアミノ基に含有されるアルキル基、アリール基としては、前記の一般式（II）〜（IV）においてＲ13で例示したものが挙げられる。
【００３５】
本発明に係る上記のカチオンとアニオンとからなるシアニン系化合物は、上記カチオンとアニオンとの塩であり、従来周知の方法に準じて製造することができる。例えば、前記構造のカチオンと、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、フッ素アニオン等のハロゲンアニオン；過塩素酸アニオン、塩素酸アニオン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リンアニオン、六フッ化アンチモンアニオン、四フッ化ホウ素アニオン等の無機系アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン；オクチルリン酸アニオン、ドデシルリン酸アニオン、オクタデシルリン酸アニオン、フェニルリン酸アニオン、ノニルフェニルリン酸アニオン、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）ホスホン酸アニオン等の有機リン酸系アニオンとの塩化合物と、前記アニオンとテトラエチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン等のテトラアルキルアンモニウムカチオンとの塩化合物塩交換により容易に得ることができる。
【００３６】
近赤外線吸収色素は、目的とする近赤外線の吸収と、可視域での透過率を達成するように調整して基材上に設けることが重要であり、好ましくは、０．０１ｇ／ｍ2以上１．０ｇ／ｍ2以下となるように近赤外線吸収層中に近赤外線吸収色素を存在させる。近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、近赤外線領域での吸収能が不充分となることがある。一方、多い場合には可視光域での透明性が不足してディスプレイの輝度が低下しやすくなる。
【００３７】
近赤外線吸収色素は、樹脂中に分散あるいは溶解した状態で前記の基材フィルムに積層する方法が推奨される。この樹脂としては、近赤外線吸収色素を均一に溶解あるいは分散できるものであれば特に限定されないが、ポリエステル系、アクリル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系、ポリスチレン系化合物などの合成樹脂、ゼラチン、セルロース誘導体などの天然高分子などを好適に用いることができる。さらには、Ｏ−ＰＥＴ（カネボウ製）、ＺＥＯＮＥＸ（登録商標；日本ゼオン製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ製）、オプトレッツ（日立化成製）、バイロン（登録商標；東洋紡績製）なども使用することができる。このうち、柔軟性と基材との密着性に優れるポリエステル系樹脂およびアクリル系樹脂が好ましい。特に、好ましくは、柔軟性と基材との密着性に優れるポリエステル系樹脂である。樹脂が硬い場合には、後加工の工程で塗膜に微小なひび割れが発生する問題がある。さらに、樹脂のガラス転移温度が、利用する機器の使用保証温度以上であることが好ましい。
【００３８】
ガラス転移温度が機器使用温度以下であると、樹脂中に分散された色素同士の相互作用や、樹脂が外気中の水分等を吸収による加水分解により、色素やバインダ−樹脂の劣化が大きくなる。また、本発明において、樹脂のガラス転移温度は、機器使用温度以上であれば特に限定されないが、特に好ましくは８５℃以上１６０℃以下である。ガラス転移温度が８５℃未満の場合、色素と樹脂との相互作用、色素間の相互作用等が起こり、色素の変性が発生するおそれがある。また、ガラス転移温度が１６０℃を超える場合、前記の樹脂を溶剤に溶解し、透明基材上に塗布した時に十分な乾燥をしようとすれば高温にしなければならず、基材の熱シワによる平面性不良、さらには、色素の劣化が発生しやすくなる。低温で乾燥した場合、乾燥時間が長く生産性が悪くなり、生産性が不良となる。また、十分な乾燥ができない可能性もあり、溶剤が塗膜中に残留し、前述のように樹脂の見かけのガラス転移温度が低下し、やはり、色素の変性を引き起こしやすくなる。
【００３９】
樹脂中の近赤外線吸収色素の量は、１質量％以上１０質量％以下が好ましい。樹脂中の近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、目的とする近赤外線吸収能を達成するために、近赤外線吸収層の塗工量を増やすことが必要となる。一方、十分な乾燥をしようとすれば高温及び／又は長時間にすることが必要になる。そのため、色素の劣化、基材の平面性不良の問題が発生しやすくなる。逆に、樹脂中の近赤外線吸収色素の量が多い場合には、色素間の相互作用が強くなり、残留溶媒を少なくしたとしても経時での色素の変性が起こりやすくなる。
【００４０】
本発明においては、近赤外線吸収層にＨＬＢが２以上１２以下の界面活性剤を含有させることが好ましい実施態様である。本発明においては、上記の近赤外線吸収能を発現する近赤外線吸収層は、樹脂と近赤外線吸収色素を主に含有する塗液を基材上に塗布乾燥して積層する方法が好ましいが、この塗液中に、ＨＬＢが２以上１２以下の界面活性剤を含有させることがより好ましい実施態様である。界面活性剤を添加することにより近赤外線吸収色素のバインダー樹脂への分散性が向上し、前記の近赤外線吸収層の塗工外観、特に、微小な泡によるヌケ、異物等の付着より凹み、乾燥工程でのハジキが改善され、近赤外線吸収層の外観が良好となる。さらには、界面活性剤が、塗液の塗布乾燥時に、塗膜表面にブリードすることにより、滑り性が付与され、近赤外線吸収層あるいは／及び反対面に表面凹凸を形成しなくともハンドリング性が良好となり、ロール状に巻取ることが容易になる。
【００４１】
上記界面活性剤は、カチオン系、アニオン系、ノニオン系の公知のものを好適に使用できるが、近赤外線吸収色素の劣化等の問題から極性基を有していないノニオン系が好ましく、さらには、界面活性能に優れるシリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。
【００４２】
シリコーン系界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、アミノシラン、アクリルシラン、ビニルベンジルシラン、ビニルベンジルアミノシラン、グリシドシラン、メルカプトシラン、ジメチルシラン、ポリジメチルシロキサン、ポリアルコキシシロキサン、ハイドロジエン変性シロキサン、ビニル変性シロキサン、ヒドロキシ変性シロキサン、アミノ変性シロキサン、カルボキシル変性シロキサン、ハロゲン化変性シロキサン、エポキシ変性シロキサン、メタクリロキシ変性シロキサン、メルカプト変性シロキサン、フッ素変性シロキサン、アルキル基変性シロキサン、フェニル変性シロキサン、アルキレンオキシド変性シロキサンなどが挙げられる。
【００４３】
フッ素系界面活性剤としては、４フッ化エチレン、パーフルオロアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルスルホン酸アミド、パーフルオロアルキルスルホン酸ナトリウム、パーフルオロアルキルカリウム塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルアミノスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルアルキル化合物、パーフルオロアルキルアルキルベタイン、パーフルオロアルキルハロゲン化物などが挙げられる。
【００４４】
界面活性剤は、上記近赤外線吸収層中に０．０１質量％以上２．００質量％以下含まれていることが好ましい。界面活性剤の含有量が少ない場合には、塗工外観や滑り性が不十分となる場合がある。一方、界面活性剤の含有量が多い場合には近赤外線吸収層が水分を吸着しやすくなり、色素の劣化が促進される。
【００４５】
本発明においては、界面活性剤のＨＬＢは２以上１２以下であることが好ましい。ＨＬＢが低い場合には界面活性能の不足によりレベリング性が不足する。逆に、ＨＬＢが高い場合には、滑り性が不足するだけでなく、近赤外線吸収層が水分を吸着しやすくなり、経時安定性が不良となる。なお、ＨＬＢとは、界面活性剤の分子中に含まれる親水基と親油基のバランスを指標化した特性値であり、この値が小さいほど親油性が、逆に大きいほど親水性が高いことを意味する。
【００４６】
本発明においては、上記の近赤外線吸収層は、塗液を前記の基材フィルム上に塗布、乾燥することにより積層されるが、前記の塗液は、塗工性を考慮して、有機溶媒により希釈することが重要である。この有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、トリデシルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−メチルシクロヘキシルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン等のグリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチレンエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、エチレングリコールモノブチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルアセテート等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸イソプロピレン、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソホロン、ジアセトンアルコール等のケトン類を例示することができ、これら単独あるいは２種以上を混合して使用することができる。好ましくは、色素の溶解に優れるケトン系を塗液中の溶媒中に３０質量％以上８０質量％以下含有させ、それ以外は、レベリング性、乾燥性を考慮して選定することが好ましい。また、溶媒の沸点は、６０℃以上１８０℃以下が好ましい。沸点が低い場合には、塗工中に塗液の固形分濃度が変化し、塗工厚みが安定化しにくい問題がある。逆に、沸点が高い場合には、塗膜中に残存する溶媒量が増え、経時安定性が不良となる。
【００４７】
近赤外線吸収色素および樹脂を溶媒中に溶解あるいは分散する方法としては、加温下での攪拌、分散及び粉砕等の方法が挙げられる。加温することにより色素及び樹脂の溶解性を向上させることができ、未溶解物等による塗工外観への不良が妨げられる。また、樹脂及び色素を分散及び粉砕して、０．３μｍ以下の微粒子状態で塗液中に分散すれば、透明性に優れる層を形成することが可能となる。分散機及び粉砕機としては、公知のものを用いることができ、具体的には、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、ホモミキサー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー、バタフライミキサー、プラネタリーミキサー、ヘンシェルミキサー等が挙げられる。
【００４８】
塗液中にコンタミや１μｍ以上の未溶解物が存在した場合、塗布後の外観が不良になるため、塗布する前に、フィルタ等で除去することが重要である。フィルタとしては各種公知のものが好適に使用できるが、１μｍの大きさのものを９９％以上除去することのできるフィルタを用いることが好ましい。１μｍ以上のコンタミや未溶解物を含む塗液を塗布して乾燥した場合には、その周囲に凹み等が発生し、１００〜１０００μｍサイズの欠点になる場合がある。
【００４９】
塗液中に含まれる樹脂及び色素等の固形分濃度は、１０質量％以上３０質量％が好ましい。固形分濃度が低い場合には、塗布後の乾燥に時間が掛かり生産性が劣るばかりか、塗膜中に残存する溶剤量が増加し、経時安定性が不良となる。逆に、固形分濃度が高い場合には、塗布液の粘度が高くなりレベリング性が不足して塗工外観が不良となる。塗液の粘度は、１０ｃｐｓ以上３００ｃｐｓ以下が塗工外観の面で好ましく、この範囲になるように、固形分濃度、溶媒量等を調整することが好ましい。
【００５０】
本発明で、上記の近赤外線吸収層を基材フィルム上に塗布する方法としては、グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式、バーコート方式、リップコート方式など通常用いられている方法が適用できる。これらのなかで、均一に塗布することのできるグラビアコート方式、特にリバースグラビア方式が好ましい。また、グラビアの直径は、８０ｍｍ以下であることが好ましい。直径が大きい場合には流れ方向にうねスジが発生する問題がある。
【００５１】
乾燥後の近赤外線吸収層の付着量は特に限定されないが、好ましい下限は１ｇ／ｍ2、特に好ましくは３ｇ／ｍ2である。一方、好ましい上限は５０ｇ／ｍ2、特に好ましくは３０ｇ／ｍ2以下である。乾燥後の付着量が少ない場合には、近赤外線の吸収力が不足する問題があり、樹脂中の近赤外線吸収色素の存在量を増やすことにより近赤外線の吸収能を所望レベルまで高めたとしても、色素間の相互作用が強くなり、色素の劣化等が起こりやすくなり経時安定性が不良となる。逆に、乾燥後の付着量が多い場合には、近赤外線の吸収能は十分であるが、可視光領域での透明性が低下し、ディスプレイの輝度が低下する。樹脂中の近赤外線吸収色素の存在量を低減することにより光学特性は調節できるが、乾燥が不十分になりやすく、塗膜中の残留溶媒により経時安定性が不良となり、乾燥を十分にした場合には基材の平面性が不良となる。
【００５２】
上記の塗布液を基材フィルム上に塗布し、乾燥する方法としては、公知の熱風乾燥、赤外線ヒーター等が挙げられるが、乾燥速度が早い熱風乾燥が好ましい。塗布後の初期の恒率乾燥の段階では、２０℃以上８０℃以下で、２ｍ／秒以上３０ｍ／秒の熱風を用いて乾燥することが好ましい。初期乾燥を強く行いすぎる（熱風温度が高い、熱風の風量が大きい）場合には、泡由来の微小なコートヌケ、微小なハジキ、クラック等の塗膜の微小な欠点が発生しやすくなる。逆に、初期乾燥を弱くしすぎる（熱風温度が低い、熱風の風量が小さい）場合には、外観は良好になるが乾燥時間が掛かりコスト面で問題がある。
【００５３】
減率乾燥の工程では、初期乾燥よりも高温とし、塗膜中の溶剤を減少させることが重要であり、好ましい温度は、１２０℃以上１８０℃以下である。温度が低い場合には、塗膜中の溶剤が減少しにくい問題がある。特に、樹脂のガラス転移温度より熱風温度が低い場合に、塗膜中に溶剤が減少しにくくなる。逆に、高温の場合には、熱シワにより基材の平面性が不良となるだけでなく、近赤外線色素が熱により劣化する問題がある。また、通過時間としては、５秒以上１８０秒以下であることが好ましい。時間が短い場合には塗膜中の残留する溶剤が多くなり経時安定性が不良となり、逆に時間が長い場合には、生産性が不良となるだけでなく、基材に熱シワが発生して平面性が不良となる。
【００５４】
乾燥の最終では、熱風温度を樹脂のガラス転移温度以下にし、フラットの状態で基材フィルムの実温を樹脂のガラス転移温度以下にすることが好ましい。高温のままでは乾燥炉を出た場合には、塗工面がロール表面に接触した際に滑りが不良となり、キズ等が発生するだけでなく、カール等が発生する場合がある。
【００５５】
上記の近赤外線吸収層は、高温、高湿度下に放置されても、近赤外線の透過率、可視光の透過率が変化しないことが好ましい。高温、高湿度下の経時安定性が不良の場合には、ディスプレイの映像の色調が変化するばかりか、近赤外線リモコンを用いた電子機器の誤動作を防止する本発明の効果がなくなる場合がある。上記の本発明の近赤外線吸収層は前記の経時安定性が従来公知の方法に比べて改善されているが、上述の塗液中の溶剤の種類、塗布膜厚、乾燥条件等に由来する近赤外線吸収層中の残留溶媒量や、樹脂中の色素の含有量の調整状態によっても影響を受けるので、これらの点についても配慮することも好ましい実施態様である。なお、近赤外線吸収層の残留溶媒の量は、少なければ少ないほど良いが、３質量％以下にすることが好ましい。３質量％以下になれば、実質的に経時安定性に差がなくなる。しかしながら、さらに残留溶媒量を低下させるために、乾燥を過酷な条件で行うと、フィルムの平面性が不良になる等の弊害が発生するので、適切に調整する。
【００５６】
上記の近赤外線吸収層の塗工外観としては、直径３００μｍ以上、より好ましくは１００μｍのサイズの欠点が存在しないようにすることが望ましい。３００μｍ以上の欠点は、プラズマディスプレイの前面に設置すると輝点のようになって、欠点が顕著化される。また、塗工層の薄いスジ、ムラ等もディスプレイ前面では顕著化されて問題となる。前記の塗工外観は、前記の要件を満たすことで達成できる。
【００５７】
本発明においては、可視光領域に吸収を有する色素の一種を含有させて、色調補正をすることが好ましい実施態様である。例えば、プラズマディスプレイは、６００ｎｍ付近を中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光するため、赤色にオレンジ色が混ざって、鮮やかな赤色が得られない欠点がある。前記の課題は、５５０〜６２０ｎｍの波長域に極大吸収を有する色補正色素を上記の近赤外線吸収層および／または基材フィルムに配合することで解決できる。この色補正色素は、５５０〜６２０ｎｍ、さらには、５７０〜６００ｎｍに、シャープな吸収を有することが好ましい。波長５５０〜６２０ｎｍにおける極大吸収波長での透過率は、５０％以下が好ましく、特に好ましくは３０％以下である。波長５５０〜６２０ｎｍにおける極大吸収波長での透過率が５０％を超える場合、プラズマディスプレイから放出されるネオン光を十分に吸収しなくなり、色純度が低下する傾向がある。また、この領域の吸収が広い場合には、Ｒ、Ｇ、Ｂ光のバランスが崩れ、コントラストが低下する傾向がある。
【００５８】
波長５５０〜６２０ｎｍにおいて、極大吸収を有する色補正色素としては、例えば、シアニン系、スクアリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系、フタロシアニン系、キノン系、アズレニウム系、ピリリウム系、クロコニウム系、ジチオール金属錯体系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系化合物等の色素が挙げられる。これらのなかで、スクアリリウム系化合物がネオン光にシャープな吸収があり好ましい。色補正色素を配合する層は限定されないが、前記の近赤外線吸収色素と共に近赤外線吸収層に配合するのが好ましい実施態様である。
【００５９】
近赤外線吸収フィルムの色調としては、Ｌａｂ表色系で表現すると、ａ値は−１０．０〜＋１０．０、ｂ値は−１０．０〜＋１０．０であることが好ましい。この範囲であれば、プラズマディスプレイの前面に設置した場合でもナチュラル色となり好ましい。
【００６０】
本発明の近赤外線吸収フィルムには、光あるいは熱に対する安定化を図る目的で各種安定化剤を使用することができ、安定化剤としては、例えば、ハイドロキノン誘導体、ハイドロキノンジエーテル誘導体、フェノール誘導体、スピロインダン又はメチレンジオキシベンゼンの誘導体、クロマン、スピロクロマン又はクマランの誘導体、ハイドロキノンモノエーテル又はパラアミノフェノールの誘導体、ビスフェノール誘導体、ニトロソ化合物）、ジインモニウム化合物、酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤等が挙げられる。
【００６１】
本発明においては、基材フィルムに紫外線吸収剤を配合するのが好ましい実施態様である。本実施態様により、近赤外線吸収層の外光に対する耐候性が改善される。この紫外線吸収剤は紫外線吸収能を有する化合物で、かつ基材フィルムの製造工程での熱に耐えられるものであれば限定されない。添加される紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤が挙げられるが、透明性の観点から有機系紫外線吸収剤が好ましい。有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系等、及びその組み合わせが挙げられるが特に限定されない。しかし、耐久性の観点からはベンゾトアゾール系、環状イミノエステル系が特に好ましい。２種以上の紫外線吸収剤を併用した場合には、別々の波長の紫外線を同時に吸収させることができるので、一層紫外線吸収効果を改善することができる。
【００６２】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−［２´−ヒドロキシ−５´−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２´−ヒドロキシ−５´−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２´−ヒドロキシ−５´−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２´−ヒドロキシ−５´−（メタクリロイルオキシヘキシル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２´−ヒドロキシ−３´−ｔｅｒｔ−ブチル−５´−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２´−ヒドロキシ−５´−ｔｅｒｔ−ブチル−３´−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２´−ヒドロキシ−５´  −（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２´−ヒドロキシ−５´−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２´−ヒドロキシ−５´−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−シアノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２´−ヒドロキシ−５´−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２´−ヒドロキシ−５´−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ニトロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【００６３】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，２´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２´−ジヒドロキシ−４，４´−ジメトキシベンゾフェノン、２，２´−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２´−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２´−ジヒドロキシ−４，４´−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２´−ジヒドロキシ−４，４´−ジメトキシ−５，５´−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウム塩などが挙げられる。
【００６４】
環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、２，２´−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−メチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ブチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−フェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（１−又は２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（４−ビフェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｍ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ベンゾイルフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｏ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−シクロヘキシル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−（又はｍ−）フタルイミドフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２，２´−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジノン−４−オン）２，２´−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−エチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−テトラメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−デカメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−（４，４´−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−（２，６−又は１，５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−（１，４−シクロヘキシレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゼン、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン、および２，４，６−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン、２，８−ジメチル−４Ｈ，６Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ´）ビス−（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジメチル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ´）ビス−（１，３）−オキサジン−４，９−ジオン、２，８−ジフェニル−４Ｈ，８Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ´）ビス−（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジフェニル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ´）ビス−（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、６，６´−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−ビス（２−エチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，��，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−エチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−ブチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−ブチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−オキシビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−スルホニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６´−カルボニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７´−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７´−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７´−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７´−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７´−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７´−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７´−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７´−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７´−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７´−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７´−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などが挙げられる。
【００６５】
特に、分解開始温度が２９０℃以上の紫外線吸収剤を用いることが、製膜時の工程汚染を少なくする上で好ましい。
【００６６】
上記の紫外線吸収剤を配合する目的は、後述する本発明の近赤外線吸収フィルムの主機能である近赤外線吸収能を発現させるための近赤外線吸収色素が、耐候性に劣り、外光中に含まれる紫外線による近赤外線吸収色素の性能低下が起こるという現象を抑えることにある。従って、３８０ｎｍ以下の波長における透過率が１０％以下であることが好ましい実施態様である。３９０ｎｍ以下の波長における透過率が１０％以下であることがより好ましく、４００ｎｍ以下の波長における透過率が１０％以下であることが特に好ましい。前記の特性を満足する前記紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステル等の樹脂に対し、０．１〜４質量％が好ましく、さらには０．３〜２質量％が好ましい。この量が０．１質量％未満では紫外線吸収効果が小さく、４質量％を越えるとフィルムが黄変したり、ポリエステルフィルムの製膜性が低下したりするので好ましくない。
【００６７】
本発明においては、表層へのブリードの問題がない高分子タイプの紫外線吸収剤を添加することも好ましい実施態様として推奨される。前記の高分子タイプの紫外線吸収剤とは、紫外線吸収剤として有用な骨格を側鎖に有するポリマーである。ポリエステル樹脂との相溶性から主にポリエステル系、アクリル系ポリマー紫外線吸収剤が好ましい。例えば、ポリエステル樹脂が、ジカルボン酸成分としてテレフタル酸、ジオール成分としてエチレングリコールおよび／または１、４−ブタンジオールを主成分とするポリエステルであって、共重合成分として一般式（VI）で示されるナフタレンテトラカルボン酸ジイミドと一般式（VII）で示されるナフタレンジカルボン酸を含有した紫外線吸収化合物（三菱化学製、Ｎｏｖａｐｅｘ  Ｕ−１１０）、２−（２−ヒドロキシルフェニル）ベンゾトリアゾール骨格を側鎖に有するアクリル系ポリマー（ＢＡＳＦ製、ＵＶＡ−１６３５）などが目的とするＵＶカット性能および透明性などの特性が優れ好ましい。
【００６８】
【化４】
2006184820.tif 000005
（上記一般式（VI）において、Ｒ18、Ｒ19はアルキレン基等、Ｄはヒドロキシ基等を示す。）
【００６９】
【化５】
2006184820.tif 000006
【００７０】
前記高分子タイプの紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステルに対し、０．１〜２０質量％が好ましく、さらには０．５〜１５質量％が好ましい。この量が０．１質量％未満では紫外線劣化防止効果が小さく、２０質量％を超えるとフィルムが黄変したり、ポリエステルフィルムの製膜性が低下しやすくなる。
【００７１】
上記紫外線吸収剤の配合方法は限定されないが、例えば、ポリエステル樹脂の場合は、重合時、または溶融押出時が好ましい。その際、紫外線吸収剤はマスターペレットにして添加することが好ましい実施態様である。例えば、好ましい配合方法として以下の方法が例示される。
【００７２】
基材フィルムがポリエステルフィルムの場合について説明する。まず、ポリエステル樹脂と紫外線吸収剤とをブレンドしマスターペレットを調製する。前記のマスターペレットは、易滑性付与を目的とした粒子を実質的に含有していないペレットである。前記のマスターペレットとポリエステル樹脂とを混合した原料ペレットを十分に真空乾燥した後、押出機に供給し、シート状に溶融押出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸ポリエステルシートを製膜する。この際、押出機の溶融部、混練り部、メルトライン、ギアポンプ、フィルターまでの樹脂温度は２８０〜２９０℃、その後のメルトライン、フラットダイまでの樹脂温度は２７０〜２８０℃とすることが紫外線吸収剤のダイス出口での昇華、引取ロールの汚染を防止するために好ましい。
【００７３】
また、溶融樹脂が約２８０℃に保たれた任意の場所で、樹脂中に含まれる異物を除去するために高精度濾過を行う。溶融樹脂の高精度濾過に用いられる濾材は、特に限定はされないが、ステンレス焼結体の濾材の場合、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｃｕを主成分とする凝集物及び高融点有機物の除去性能に優れ好適である。さらに、濾材の濾過粒子サイズ（初期濾過効率９５％）は、２０μｍ以下、特に１５μｍ以下が好ましい。濾材の濾過粒子サイズ（初期濾過効率９５％）が２０μｍを超えると、２０μｍ以上の大きさの異物が十分除去できない。濾材の濾過粒子サイズ（初期濾過効率９５％）が２０μｍ以下の濾材を用いて溶融樹脂の高精度濾過を行うことにより、生産性が低下する場合があるが、粗大粒子による突起の少ないフィルムを得るための重要な工程である。
【００７４】
原料ポリマー中に存在する異物、及び紫外線吸収剤が昇華しロールを汚染し、それらがフィルムに付着したものが存在すると製膜時の延伸工程でこの異物の周囲でポリエステル分子の配向が乱れ、光学的歪みが発生する。この光学的歪みのため、実際の異物の大きさよりもかなり大きな欠点として認識されるため、著しく品位を損なう。例えば、大きさ２０μｍの異物でも、光学的には５０μｍ以上の大きさとして認識され、さらには１００μｍ以上の大きさの光学欠点として認識される場合もある。高透明なフィルムを得るためには、基材フィルム中に易滑性を付与するための粒子を含有させないか、透明性を阻害しない程度に少量しか含有させないことが望ましいが、粒子含有量が少なくフィルムの透明性が高くなるほど、微小な異物による光学欠点はより鮮明となる傾向にある。また、フィルムが厚手になるほど、フィルム単位面積当たりの異物の含有量が薄手のフィルムより多くなる傾向にあり、一層この問題は大きくなる。
【００７５】
得られた未延伸フィルムを８０〜１２０℃に加熱したロールで長手方向（縦方向：積層フィルム製造時の走行方向）に２．５〜５．０倍延伸し、一軸配向フィルムを得る。引き続いて、フィルムの端部をクリップで把持して１２０〜１５０℃に加熱された熱風ゾーンに導き、幅方向に２．５〜５．０倍に延伸し２００〜２５０℃にて熱処理し、この熱処理工程中で必要に応じて幅方向に３％の弛緩処理し、２軸配向ポリエステルフィルムを得る。
【００７６】
本発明においては、請求項５に記載のごとく基材フィルムが少なくとも３層以上の積層構造からなり、上記紫外線吸収剤が基材フィルムの積層構造の中間層（表層以外の層を指す）に含有されてなることがより好ましい実施態様である。すなわち、両表層には紫外線吸収剤を含有させない態様である。この実施態様により、製膜時の押出工程での紫外線吸収剤の昇華が抑制され、前記の昇華物によるダイスの吐出出口や押出原反を冷却する冷却ロールの汚染や、前記の汚染により引き起こされるフィルムの欠点発生が抑制される。また、フィルム内部よりの紫外線吸収剤のブリードが抑制されるので、前記のブリードアウトした紫外線吸収剤による製膜工程のロールやテンターの汚染が軽減され、前記の汚染に起因するフィルム欠点の発生が抑制される。また、前記の紫外線吸収剤のブリードアウトにより引き起こされる接着阻害の発生が抑制される。
【００７７】
前記の方法で実施する場合の層厚み比率は限定なく任意であるが、両表層の厚みがそれぞれ全厚みの３〜１５％であることが好ましい。５〜１０％がより好ましい。最外層（片側）の比率が３％より低い場合、近赤外線吸収層に含まれる有機系紫外線吸収剤の昇華、およびブリードアウトを十分に防止することができない。また、１５％より高い場合は、上記防止効果が飽和し、かつ近赤外線吸収層の紫外線吸収効果が不足する場合があり好ましくない。
【００７８】
本発明における基材フィルム（二軸配向積層ポリエステルフィルム）の各層を構成するポリエステル樹脂は、同種、異種のどちらでも構わないが、生産管理の容易さや屑樹脂の回収等の点より、同種で、かつ全ての層ともにポリエチレンテレフタレート樹脂を用いるのが好ましい実施態様である。
【００７９】
本発明者等は、前記の基材フィルムの多層化の効果として発現される紫外線吸収剤のフィルムの厚み方向の偏在度合いを表面ＩＲ分析法を用いて評価する方法を確立した。評価方法の詳細は実施例の評価方法において記述をするが、多層化による効果は本評価法により得られる数値で管理するのが好ましい。紫外線吸収剤のフィルムの厚み方向の偏在度合いは、基材フィルムの表層と中間層の厚み比の影響を大きく受けるが、同じ厚み構成比でも、例えば、製膜のフィルター後の溶融樹脂移送管やフラットダイスの樹脂温度等によっても変化する。前記の数値で示される紫外線吸収剤の偏在度としては、０．２０以下が好ましい。０．１０以下がより好ましく、０．０５以下が特に好ましい。
【００８０】
上記方法で得られた２軸配向ポリエステルフィルムは表面に存在する深さ１μｍ以上、長さ３ｍｍ以上のキズが１００個／ｍ2以下であることが好ましい。上記キズの個数は３０個／ｍ2以下がより好ましく、１０個／ｍ2以下であることがさらに好ましい。上記キズの個数をこのような範囲とすれば、光学欠点による問題が生じない。
【００８１】
前記のフィルムのキズの発生を防止するためには、（ａ）フィルム表面そのものやロール表面、特にフィルムと接触するロール表面にキズの原因となる「欠点」を発生させないこと、（ｂ）接触するロールの表面上でフィルムが縦方向および横方向にずれないようにすることが重要である。上記の「欠点」とは、ロール表面に形成されるキズ、堆積物、付着物、異物などの、フィルムと接触することによりフィルムに微細なキズを発生させるすべての要因を指す。よって、これらの欠点を無くすことで、フィルム表面へのキズの発生を低減できる。上記欠点の発生を防止するためには、例えば、下記に挙げる方法を採用することができる。
【００８２】
上記フィルム製造時に用いるロールの表面粗度をＲａで０．１μｍ以下とする方法や、堆積物、付着物、異物などのキズ発生要因のロール表面への堆積を防止するため、縦延伸工程の予熱入口と冷却ロールにロールクリーナーを設置する方法が挙げられる。
【００８３】
また、上記フィルム製造工程におけるクリーン度をクラス１０００以下（１立方フィート当たりの体積中に０．５μｍ以上の粒子が１０００個以下）とする方法があり、特にロール周りはクラス１００以下、キャスト工程で反ロール面を冷却するための送風冷却装置についてもクラス１００以下のクリーンエアを使用することが好ましい。
【００８４】
さらに、上記フィルム製造前に、研磨材を用いてロール上の欠陥を削り取る作業などによりロールの掃除を行う方法も挙げられる。また、静電気の発生によってフィルムがゴミなどを吸着し、欠点となることを避けるため、フィルムの帯電量が全工程で±１５００Ｖ以下になるよう除電装置を設ける方法も挙げられる。基材フィルムのキャストから後述するテンターまでの工程はキズが主に発生し易い工程であり、この区間をコンパクトにレイアウトし、通過時間を５分以下にすることも欠点の発生抑制に寄与し得る。
【００８５】
ロールについては、ロール表面に水膜を形成したり、エアフローティングタイプのロールとすることで、フィルムにロール表面の欠点が直接接触しない構造にすることができる。また、フィルムから析出するオリゴマー量を１０００ｐｐｍ以下とすることで、ロール表面への欠点の付着を減少させ、ロール表面の欠点を低減することができる。
【００８６】
さらに、延伸後の巻き取り工程において、フィルムの幅方向の端部側の表面を突起付きのローラで押圧して、その部分に凹凸部を形成すると共に、前記の凹凸部が形成されたフィルムを巻取り機構でロール状に巻き取るよう構成し、さらに前記の突起付きのローラにおける突起を先窄まり状に形成し、前記の突起の頂部に丸みをつけ、その頂面の曲率半径を０．４ｍｍ以下に設定することで、フィルムの巻取り装置において、フィルムと欠点が接触しないようにすることもできる。
【００８７】
また、ロール表面上で、フィルムがずれないようにすることもキズ発生防止方法として有効である。例えば下記に挙げる方法が採用可能である。例えば、ロールを小径化すること、サクションロールの使用、静電密着、パートニップの密着装置を使用するなどしてフィルムのロールへの密着力を増大させることにより、長いキズの発生を抑えることができる。特にロールを小径化することは、フィルムのずれ量の細分化にもなり、長いキズの発生防止に寄与し得る。また、キズの多くはロール幅方向の端部に向かうほど、長さおよび頻度が増加し、ロール幅方向の端部においてはキズのない部分を得ることが困難であるため、キズの少ないロール幅方向の中央付近をトリミングすることで、キズの少ないフィルムを得ることが可能となる。
【００８８】
また、縦方向キズまたは横方向キズの発生要因としては、夫々フィルムの縦方向または横方向での、膨張、収縮などの変形も挙げられる。これらのフィルムの変形は、主としてフィルムの温度変化によって生じる。よって、例えば、ロール表面でのフィルムの温度変化を抑制することで、こうした温度によるフィルム変形量を小さくでき、縦方向キズや横方向キズの発生を防止できる。具体的には、ロール１本当たりでのフィルムの温度変化を４０℃以下、好ましくは３０℃以下、さらに好ましくは２０℃以下、さらに一層好ましくは１０℃以下、特に好ましくは５℃以下とすることが推奨される。前記のロール表面でのフィルムの温度変化を抑制する方法としては、例えば、ロール間での空中冷却、水槽を通過させる水中冷却などが挙げられる。さらに、ロール本数を多くすることにより、１本当たりのロール表面でのフィルムの温度変化を低減できる。好ましくは、縦延伸工程でのロール数を１０本以上とするのがよい。
【００８９】
また、複数のロールの相対的な速度の関係を、フィルムの温度や張力による変形量に対して最も近い速度プロファイルに設定することでフィルムの縦方向のズレを低減することができる。さらに、後述する接着性改質樹脂層形成用の塗布液の塗布工程において、乾燥条件を、ドライヤー区間の初期で乾燥を完了し、出口にかけて冷却することにより、ドライヤー出口でのフィルム温度を４０℃以下として、温度変化によるフィルムのずれを低減することもできる。
【００９０】
また、フィルム走行時の張力が低すぎると把持力が下がってずれが発生し、高すぎても応力変形が大きくなってずれが発生するため、最適な張力範囲である４．９〜２９．４ＭＰａになるように駆動ロール速度と張力調整手段によって調節することが好ましい。また、製造時の使用温度におけるフィルムとロール間の摩擦係数を０．２以上とすることでロール表面でのフィルムのずれを抑制することができる。
【００９１】
さらに、フリーロールについては特殊ベアリングを採用し、１９．６Ｎ以下の回転抵抗とすることが好ましい。駆動ロールについては回転斑を０．０１％以下に制御するのが好ましい。
【００９２】
上記の基材フィルムの厚みは限定なく任意に設定できるが、０．０３８〜０．１８８ｍｍが好ましい範囲である。０．０３８ｍｍ未満では、近赤外線吸収フィルムの取り扱い性が悪化するので好ましくない。逆に、０．１８８ｍｍを超えた場合は、近赤外線吸収フィルムの取り扱い性やプラズマディスプレイ等の被貼着体に貼着する時の作業性が悪化するので好ましくない。また、市場の薄膜化要求にも対応できない。
【００９３】
本発明においては、上記基材フィルムの近赤外線吸収層の反対面に、反射防止機能を有する表面層を積層することが好ましい実施態様である。反射防止機能とは、表面反射を防ぎ、光線透過率を上げると同時に「ギラツキ」を防止する機能を指す。前記の反射防止機能を付与する方法は限定させず任意に選択できるが、例えば、基材の表面に屈折率の異なる層を積層し、前記の層の界面における反射光の干渉を利用して低減する方法が好適である。
【００９４】
前記の方法の反射防止膜を形成する方法として、大きくは下記の２方法が挙げられる。その一つの方法は、基材の表面に、蒸着法やスパッタリング法により反射防止膜を形成する方法であり、他の一つの方法は、基材の表面に、反射防止用塗布液を塗布し乾燥させることにより反射防止膜を形成する方法である。一般論としては、反射防止特性では前者が、経済性では後者が優れていると言われているが、本発明においては、どちらの方法を用いても構わない。また、前記の反射防止膜の材質も限定なく、無機質、有機質あるいは無機／有機のハイブリッドのいずれであっても構わない。
【００９５】
本発明においては、上記の反射防止膜を形成する時に、傷付き防止性を付与するハード加工、帯電防止性を付与する帯電防止加工、および指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れの付着を防止し、付着しても容易に拭き取れる機能を付与する防汚加工等、近赤外線吸収フィルターとして好適な機能を付与する機能層を複合することが好ましい実施態様である。特に、ハード加工は市場要求が強く、反射防止機能を有する表面の鉛筆硬度が１Ｈ以上であることが好ましい実施態様である。前記のハード加工の方法も限定されず任意であるが、多官能性モノマーを主成分とした重合体よりなることが好ましい実施態様である。
【００９６】
上記の反射防止機能を有した表面層を形成することにより、本発明の近赤外線吸収フィルムを実際に使用する時に外光の反射が抑制され、例えばプラズマディスプレイパネル等の表示装置の光学フィルターとして用いた場合に、画像の表面の視認性が向上する機能が付与されている。一方、前記の反射防止機能を付与すると、前記の機能層との界面での光の干渉作用により発現する虹彩状色彩（干渉縞）の影響がより顕著になり、その対策が求められている。前記の虹彩状色彩を抑制する方法として、界面の屈折率差を小さくするために両界面の中間屈折率の中間層を設ける方法が有効であることが知られている。本発明においては、前記の中間層として、水性ポリエステル樹脂と、水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物、水溶性のジルコニウムキレート化合物、または水溶性のジルコニウムアシレート化合物の少なくとも１種とを主たる構成成分とした易接着層（以下、干渉縞抑制易接着層と称する）を積層することにより、上記虹彩状色彩の発生を抑制し、かつ反射防止層と基材フィルムとの接着性が向上することができるので好ましい実施態様として推奨される。
【００９７】
前記の干渉縞抑制易接着層を構成する水性ポリエステル樹脂とは、水または水溶性の有機溶剤、例えばアルコール、アルキルセロソルブ、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤を５０質量％未満含む水溶液に対して、溶解性または分散性を示すポリエステル樹脂を示す。ポリエステル樹脂に水性を付与するためには、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、エーテル基等の親水性基を導入することが重要であるが、塗膜物性及び密着性の点からスルホン酸基の導入が好ましい。特に、導入するスルホン酸基（例えば、５−スルホイソフタル酸等のスルホン酸基含有多価カルボン酸を用いる）の量は、ポリエステルの全酸成分１００モル％中の内、１〜１０モル％含有がより好ましい。スルホン酸基が１モル％より少ないとポリエステル自体の水性の発現性に乏しく、水溶性のチタンまたはジルコニウムのキレート化合物またはアシレート化合物との相溶性も低下するため、均一かつ透明な塗膜が得られにくくなる。また、スルホン酸基が１０モル％より多いと、密着時の耐湿性が低下しやすくなる。さらに、前記の水性ポリエステルのガラス転移温度は４０℃以上が好ましい。
【００９８】
そのため、水性ポリエステルのジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族系を主成分とすることが好ましい。また、グリコール成分として、エチレングリコール、プロパングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール等の比較的炭素数の少ないグリコール、またはビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物等の芳香族系が好ましい。また、ポリエステル原料としてビフェニル等の剛直な成分、または臭素、イオウ等の屈折率の高い原子を有するジカルボン酸成分またはジオール成分をフィルムの物性が低下しない範囲で使用しても特に問題はない。ポリエステルのガラス転移温度が４０℃未満であると、密着時の耐湿性が低下傾向になり、かつポリエステルとしての屈折率も低下するために塗膜の屈折率も低下し、結果として、蛍光灯下での虹彩状色彩の抑制性が低下しやすくなる。
【００９９】
上記干渉縞抑制易接着層を構成するもう一方の主成分は、水溶性のチタンまたはジルコニウムのキレート化合物またはアシレート化合物である。本発明の水溶性とは、水または水溶性の有機溶剤を５０質量％未満含む水溶液に対する溶解性を意味する。水溶性のチタンキレート化合物としては、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナト）チタン、イソプロポキシ（２−エチル−１，３−ヘキサンジオラト）チタン、ジイソプロポキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタンのアンモニウム塩、チタンベロキソクエン酸アンモニウム塩等が挙げられる。また、水溶性のチタンアシレート化合物としては、オキソチタンビス（モノアンモニウムオキサレート）等、また水溶性のジルコニウム化合物としては、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムアセテート等が挙げられる。
【０１００】
本発明においては、上記の干渉縞抑制易接着層を構成する上記両成分の配合比は、水性ポリエステル樹脂に対する水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物、水溶性のジルコニウムキレート化合物、または水溶性のジルコニウムアシレート化合物の少なくとも１種の混合比（質量比）として、９０／１０〜５／９５であることが好ましい実施態様である。８５／１５〜１０／９０がより好ましく、８０／２０〜１５／８５が特に好ましい。水性ポリエステル樹脂が１０より少ないと、基材フィルムとの密着性が低下し、かつ前記の接着層の形成を基材フィルムの製膜工程の延伸前あるいは一軸延伸後に行う、いわゆるインラインコーティング法で実施した場合に、塗膜としての延伸性が低下し、延伸時に均一な膜にならないため、光学用として重要な透明性が低下する。また、機能性付与層との接着性も問題となる。また、水性ポリエステル樹脂が９５より多いと、水溶性のチタンまたはジルコニウムのキレート化合物またはアシレート化合物による架橋が乏しくなるとともに屈折率も低下する。その結果、易接着層の耐湿性が低下し、かつ虹彩状色彩の抑制効果も低下しやすくなる。
【０１０１】
本発明の干渉縞抑制易接着層には、前記の水性ポリエステル樹脂の効果に影響を与えない範囲で、アルキッド樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂およびポリビニルアルコール等のビニル樹脂等を併用してもかまわない。また、架橋剤の併用も上記効果に悪影響を与えない範囲では特に限定されない。使用できる架橋剤としては、尿素、メラミン、ベンゾグアナミンなどとホルムアルデヒドとの付加物、これらの付加物と炭素原子数が１〜６のアルコールからなるアルキルエーテル化合物などのアミノ樹脂、多官能性エポキシ化合物、多官能性イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、多官能性アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、などが挙げられる。
【０１０２】
本発明においては、上記のごとく基材フィルムの両面に機能性を有した層が積層される。したがって、前記の基材フィルムの両面は易接着層（上記干渉縞抑制異接着層との区別のため、汎用易接着層という）を設けたものであることが好ましい実施態様である。上記の干渉縞抑制易接着層を形成するのも一方法であるが限定はされない。この汎用易接着層を構成する樹脂としては、例えば共重合ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂などが挙げられ、少なくとも１つ以上を使用することが好ましい。なかでも、共重合ポリエステル系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなる樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂が、優れた接着性を有しているため、特に好ましい。
【０１０３】
上記汎用易接着層形成に用いる塗布液調整について、以下に共重合ポリエステル系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなる塗布液の一例について説明する。
【０１０４】
本発明の汎用易接着層に用いる共重合ポリエステル系樹脂とは、分岐したグリコール成分を構成成分とすることが好ましい。前記の分岐したグリコール成分とは、例えば、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２、２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２、２−ジ−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−ｎ−ブチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、及び２、２−ジ−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオールなどが挙げられる。上記の分岐したグリコール成分は全グリコール成分の中に、好ましくは１０モル％以上の割合で、さらに好ましくは２０モル％以上の割合で含有される。上記化合物以外のグリコール成分としてはエチレングリコールが最も好ましい。少量であれば、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオールまたは１，４シクロヘキサンジメタノールなどを用いても良い。
【０１０５】
上記の共重合ポリエステル系樹脂の構成成分であるジカルボン酸成分としては、テレフタル酸およびイソフタル酸が最も好ましい。少量であれば、他のジカルボン酸、例えば、ジフェニルカルボン酸、２，６−ナルタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸を加えて共重合させてもよい。上記ジカルボン酸成分の他に、水分散性を付与させるため、５−スルホイソフタル酸を１〜１０モル％の範囲で使用するのが好ましく、例えばスルホテレフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−スルホナフタレンイソフタル酸−２，７−ジカルボン酸および５−（４−スルフォフェノキシ）イソフタル酸及びその塩類等を挙げることができる。
【０１０６】
上記汎用易接着層に用いるポリウレタン樹脂とは、例えば、ブロック型イソシアネート基を含有する樹脂であって、末端イソシアネート基を親水性基で封鎖（以下ブロックと言う）した、熱反応型の水溶性ウレタンなどが挙げられる。上記イソシアネート基のブロック化剤としては、重亜硫酸塩類及びスルホン酸基を含有したフェノール類、アルコール類、ラクタム類オキシム類及び活性メチレン化合物類等が挙げられる。ブロック化されたイソシアネート基はウレタンプレポリマーを親水化あるいは水溶化する。フィルム製造時の乾燥あるいは熱セット過程で、上記樹脂に熱エネルギーが与えられると、ブロック化剤がイソシアネート基からはずれるため、上記樹脂は自己架橋した編み目に混合した水分散性共重合ポリエステル樹脂を固定化するとともに上記樹脂の末端基等とも反応する。塗布液調製中の樹脂は親水性であるため耐水性が悪いが、塗布、乾燥、熱セットして熱反応が完了すると、ウレタン樹脂の親水基すなわちブロック化剤がはずれるため、耐水性が良好な塗膜が得られる。上記ブロック化剤の内、熱処理温度、熱処理時間が適当で、工業的に広く用いられるものとしては重亜硫酸塩類が最も好ましい。
【０１０７】
上記樹脂において使用される、ウレタンプレポリマーの化学組成としては（１）分子内に２個以上の活性水素原子を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは分子内にとも２とも２個の活性水素原子を有する分子量が２００〜２０，０００の化合物、（２）分子内に２個以上のイソシアネート基を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは、（３）分子内に少なくとも２個活性水素原子を有する鎖伸長剤を反応せしめて得られる、末端イソシアネート基を有する化合物である。
【０１０８】
上記（１）の化合物として一般に知られているのは、末端又は分子中に２個以上のヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基あるいはメルカプト基を含むものであり、特に好ましい化合物としては、ポリエーテルポリオールおよびポリエーテルエステルポリオール等が挙げられる。ポリエーテルポリオールとしては、例えばエチレンオキシド及び、プロピレンオキシド等アルキレンオキシド類、あるいはスチレンオキシドおよびエピクロルヒドリン等を重合した化合物、あるいはそれらのランダム重合、ブロック重合あるいは多価アルコールへの付加重合を行って得られた化合物がある。
【０１０９】
ポリエステルポリオール及びポリエーテルエステルポリオールとしては、主として直鎖状あるいは分岐状の化合物が挙げられる。コハク酸、アジピン酸、フタル酸及び無水マレイン酸等の多価の飽和あるいは不飽和カルボン酸、あるいは前記のカルボン酸無水物等と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール及びトリメチロールプロパン等の多価の飽和及び不飽和のアルコール類、比較的低分子量のポリエチレングリコールおよびポリプロピレングリコール等のポリアルキレンエーテルグリコール類、あるいはそれらアルコール類の混合物とを縮合することにより得ることができる。さらにポリエステルポリオールとしてはラクトン及びヒドロキシ酸から得られるポリエステル類、またポリエーテルエステルポリオールとしては、あらかじめ製造されたポリエステル類にエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド等を付加せしめたポリエーテルエステル類も使用することができる。
【０１１０】
上記（２）の有機ポリイソシアネートとしては、トルイレンジイソシアネートの異性体類、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、キシリレンジイソシアネート等の芳香族脂肪族ジイソシアネート類、イソホロンジイソシアネート及び４，４−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート類、ヘキサメチレンジイソシアネート、および２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類、あるいはこれらの化合物を単一あるいは複数でトリメチロールプロパン等とあらかじめ付加させたポリイソシアネート類が挙げられる。
【０１１１】
上記（３）の少なくとも２個の活性水素を有する鎖伸長剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、及び１，６−ヘキサンジオール等のグリコール類、グリセリン、トリメチロールプロパン、およびペンタエリスリトール等の多価アルコール類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、およびピペラジン等のジアミン類、モノエタノールアミンおよびジエタノールアミン等のアミノアルコール類、チオジエチレングルコール等のチオジグリコール類、あるいは水が挙げられる。
【０１１２】
上記（３）のウレタンポリマーを合成するには通常、上記鎖伸長剤を用いた一段式あるいは多段式イソシアネート重付加方法により、１５０℃以下、好ましくは７０〜１２０℃の温度において、５分ないし数時間反応させる。活性水素原子に対するイソシアネート基の比は、１以上であれば自由に選べるが、得られるウレタンプレポリマー中に遊離のイソシアネート基が残存することが重要な点である。さらに遊離のイソシアネート基の含有量は１０質量％以下であればよいが、ブロック化された後のウレタンポリマー水溶液の安定性を考慮すると、７質量％以下であるのが好ましい。
【０１１３】
得られた上記ウレタンプレポリマーは、好ましくは重亜硫酸塩を用いてブロック化を行う。重亜硫酸塩水溶液と混合し、約５分〜１時間、よく攪拌しながら反応を進行させる。反応温度は６０℃以下とするのが好ましい。その後、水で希釈して適当な濃度にして、熱反応型水溶性ウレタン組成物とする。前記の組成物は使用する際、適当な濃度および粘度に調製するが、通常８０〜２００℃前後に加熱すると、ブロック剤の重亜硫酸塩が解離し、活性なイソシアネート基が再生するために、プレポリマーの分子内あるいは分子間で起こる重付加反応によってポリウレタン重合体が生成する、あるいは他の官能基への付加を起こす性質を有するようになる。
【０１１４】
上記のブロック型イソシアネート基を含有する樹脂（Ｂ）の１例としては、第一工業製薬（株）製の商品名エラストロンが代表的に例示される。エラストロンは、重亜硫酸ソーダによってイソシアネート基をブロックしたものであり、分子末端に強力な親水性を有する、カルバモイルスルホネート基が存在するため、水溶性となっている。
【０１１５】
本発明で使用される、上記の分岐したグリコール成分を含有する共重合ポリエステル樹脂（Ａ）および上記のブロック型イソシアネート基を含有する樹脂（Ｂ）を混合して塗布液を調製する場合、樹脂（Ａ）と樹脂（Ｂ）の質量比は（Ａ）：（Ｂ）＝９０：１０〜１０：９０が好ましく、さらに好ましくは（Ａ）：（Ｂ）＝８０：２０〜２０：８０の範囲である。固形分質量に対する上記樹脂（Ａ）の割合が１０質量％未満では、基材フィルムへの塗布性が不適で、表面層と前記のフィルムとの間の接着性が不十分となる。１０質量％未満の場合には、ＵＶ硬化タイプのハードコートにおいては実用性のある接着性が得られない。
【０１１６】
本発明で使用される水性塗布液には、熱架橋反応を促進させるため、触媒を添加しても良く、例えば無機物質、塩類、有機物質、アルカリ性物質、酸性物質および含金属有機化合物等、種々の化学物質が用いられる。また水溶液のｐＨを調節するために、アルカリ性物質あるいは酸性物質を添加してもよい。
【０１１７】
上記水性塗布液を基材フィルム表面に塗布する際には、前記のフィルムへの濡れ性を上げ、塗布液を均一に塗布するために、公知のアニオン性活性剤およびノニオン性の界面活性剤を必要量添加して用いることができる。塗布液に用いる溶剤は、水の他にエタノール、イソプロピルアルコールおよびベンジルアルコール等のアルコール類を、全塗布液に占める割合が５０質量％未満となるまで混合してもよい。さらに、１０質量％未満であれば、アルコール類以外の有機溶剤を溶解可能な範囲で混合してもよい。ただし、塗布液中、アルコール類とその他の有機溶剤との合計は、５０質量％未満とする。有機溶剤の添加量が５０質量％未満であれば、塗布乾燥時に乾燥性が向上するとともに、水のみの場合と比較して塗布膜の外観向上の効果がある。５０質量％を越えると、溶剤の蒸発速度が速く塗工中に塗布液の濃度変化が起こり、粘度が上昇して塗工性が低下するために、塗布膜の外観不良を起こす恐れがあり、さらには火災などの危険性も考えられる。塗布液の溶液粘度は１．０ＰａＳ（パスカルセック）以下が好ましい。１．０ＰａＳ（パスカルセック）以上ではスジ状の塗布厚み斑が発生しやすい。
【０１１８】
本発明では、透明性の点から、易滑性付与を目的とした粒子を、基材フィルム中に含有させずに、汎用易接着層に含有させた構成とすることが好ましい。すなわち、上記水性塗布液に、粒子を添加しフィルム表面に適度な突起を形成するのが好ましい。かかる粒子の例としては、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等の無機粒子、架橋高分子粒子、シュウ酸カルシウム等の有機粒子を挙げることができる。これらの粒子の中でも、シリカ粒子がポリエステル樹脂と屈折率が比較的近く高い透明性が得やすいため最も好適である。
【０１１９】
上記水性塗布液に添加する粒子の平均粒径は、通常０．０１〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．５μｍ以下、さらに好ましくは０．０１〜０．１μｍ以下である。平均粒径が１．０μｍを超えるとフィルム表面が粗面化し、フィルムの透明性が低下する傾向がある。また、上記塗液中に含まれる粒子含有量は、通常、塗布、乾燥後で塗布膜の粒子含有量が６０質量％以下、好ましくは５０質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下になるよう添加する。塗布膜の粒子含有量が６０質量％を超えるとフィルムの易接着性が損なわれることがある。
【０１２０】
フィルム中に、上記粒子を２種類以上配合してもよく、同種の粒子で粒径の異なるものを配合してもよい。いずれにしても、粒子全体の平均粒径、および合計の含有量が上記の範囲を満足することが好ましい。上記塗布液を塗布する際には塗布液中の粒子の粗大凝集物を除去するために塗布直前に塗布液が精密濾過されるように濾材を配置することが重要である。本発明で用いられる塗布液を精密濾過するための濾材は、濾過粒子サイズが２５μｍ以下（初期濾過効率９５％）の濾材を用いることが好ましい。２５μｍ以上では粗大凝集物が十分除去することが困難であり、除去できなかった多くの粗大凝集物は塗布、乾燥後、一軸延伸、あるいは二軸延伸した際に易接着層に粒子の粗大凝集物が広がって１００μｍ以上の凝集物として認識される場合がある。このような塗布層中の凝集物は、光学欠点の発生原因となる。塗布液を精密濾過するための濾材のタイプは上記性能を有していれば特に限定されないが例えばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。塗布液を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、且つ塗布液に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが例えばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。
【０１２１】
上記水性塗布液の組成物には、その効果を消失しない限りにおいて帯電防止剤、顔料、有機フィラーおよび潤滑剤等の種々の添加剤を混合してもよい。さらに、塗布液が水性であるため、その寄与効果を消失しない限りにおいて、性能向上のために、他の水溶性樹脂、水分散性樹脂およびエマルジョン等を塗布液に添加してもよい。
【０１２２】
上記汎用易接着層を塗布するには、公知の任意の方法で行うことができる。例えばリバースロール・コート法、グラビア・コート法、キス・コート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ワイヤーバーバーコート法、パイプドクター法、含浸・コート法およびカーテン・コート法などが挙げられ、これらの方法を単独であるいは組み合わせて行うことができる。
【０１２３】
上記塗布液を塗布する工程は、通常の塗布工程、すなわち二軸延伸し熱固定した基材フィルムに塗布する工程でもよいが、前記のフィルムの製造工程中に塗布するのが好ましい。さらに好ましくは結晶配向が完了する前の基材フィルムに塗布する。水溶液中の固形分濃度は通常３０質量％以下であり、好ましくは１０質量％以下である。前記の水性塗布液は、走行しているフィルム１ｍ2あたり０．０１〜５ｇ、好ましくは０．２〜４ｇが塗布されるように塗工する。前記の水性塗布液を塗布したフィルムは、延伸および熱固定のためにテンターに導かれ、そこで加熱されて、熱架橋反応により安定な被膜を形成した積層ポリエステルフィルムとなる。近赤外線吸収層やハードコート層との密着性を十分に得るためには、最終塗布量がフィルム１ｍ2あたり０．０１ｇ／ｍ2以上であって、１００℃で１分間以上の熱処理を行うことが重要である。塗布液を塗布する際のクリーン度は、埃の付着を少なくする点から、クラス１０００以下が好ましい。
【０１２４】
本発明においては、請求項９に記載のごとく、前記の近赤外線吸収フィルムの近赤外線吸収層の表面に、透明粘着剤よりなる粘着層を積層することにより近赤外線吸収フィルターが形成される。前記の粘着層を積層することにより、本発明の近赤外線吸収フィルムを各種装置、部材への固定や機能性シート等との複合化が可能となる。例えば、近赤外線吸収フィルターとしての上記の光学特性を有する積層体を、プラズマディスプレイパネルの表面に直に貼着したり、電磁波吸収機能を有する透光性シートに貼着したりして、固定することができる。前記の透明粘着剤は限定なく公知のものが用いられるが、ブチルアクリレート等のアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ、ＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー樹脂をベースとしたＴＰＥ系粘着剤等が挙げられる。
【０１２５】
本発明においては、前述のごとく前記の粘着層は近赤外線吸収層表面に形成することが重要である。前記の構成により粘着層を介して、例えばプラズマディスプレイ等に貼着した場合に紫外線吸収層が近赤外線吸収層に対して外光側に設定できるので、特許文献１２において開示されている紫外線吸収機能を有する層が近赤外線吸収機能を有する層の反外光側に位置しており、実際の使用時に問題となる外光中の紫外線による近赤外線吸収色素の劣化を抑制する効果は発現されないという課題が改善でき、外光による近赤外線吸収色素の耐候性を向上させるという市場要求を満たすものである。
【０１２６】
本発明の近赤外線吸収フィルターは、上記粘着層を含めた積層体の総厚みは限定なく、市場要求に従い任意に設定できるが、０．０５〜０．２ｍｍが好ましい範囲である。０．０５ｍｍ未満では、近赤外線吸収フィルターの取り扱い性が悪化するので好ましくない。逆に、０．２ｍｍを超えた場合は、前記の積層体の取り扱い性やプラズマディスプレイ等に貼着する時の作業性が悪化するので好ましくない。また、市場の薄膜化要求にも対応できない。すなわち、近赤外線吸収フィルターの取り扱い性や、プラズマディスプレイ等に貼着する時の作業性の点から、近赤外線吸収フィルターの薄膜化が市場より要望されていたが、従来技術では、２枚以上の機能性フィルムやシートを貼り合わせることにより製造されていたので、総厚みは０．２ｍｍを超えていたものがほとんどであった。本発明では、上記の構成をとることにより高機能性を維持したまま、近赤外線吸収フィルターの薄膜化に対する市場要求に対応することができる。また、従来技術で必要であった、貼り合わせ工程が省略できるので経済的にも優位である。
【０１２７】
本発明における基材フィルムへの各機能を有した層の積層は、粘着層の積層を最後に実施することを除けば、その塗工順序は任意である。また、前記の塗工は各機能層ごとに逐次に行っても良いし、多層コーターを用いて同時に実施しても構わない。
【０１２８】
本発明においては、例えば、前記の構成の近赤外線吸収フィルターを、粘着層を介してプラズマディスプレイに直接貼着することが好ましい実施態様である。前記の方法により高機能で薄膜化された近赤外線吸収フィルターをプラズマディスプレイに貼着しその機能を発現させることができる。
【０１２９】
また、本発明においては、前記の構成の近赤外線吸収フィルターを、粘着層を介して電磁波吸収機能を有した透光性シートに積層することが、別の好ましい実施態様である。前記の実施態様により近赤外線吸収フィルムに電磁波吸収機能を付与し、例えば、プラズマディスプレイ等に組み込むことができる。本発明における電磁波吸収機能を有した透光性シートは、透光性と電磁波吸収機能を合わせて有しておれば限定はされないが、以下のようなものが挙げられる。
（１）金属繊維や金属被覆有機繊維よりなる導電性メッシュ
（２）透明フィルムあるいはシートに金属膜を積層した後に、フォトリソグラフィー等の手法で格子状やパンチングメタル状などの形状にエッジング加工したエッジング法導電メッシュ複合シート
（３）透明フィルムあるいはシートに導電塗料をパターン印刷した導電印刷メッシュ複合シート
（４）透明フィルムあるいはシートに銀薄膜やＩＴＯ薄膜等の透明導電層を積層した透明導電体
【０１３０】
本発明においては、上記粘着層を形成することなく、基材フィルムのそれぞれ片面に反射防止層と近赤外線吸収層を積層した構成として近赤外線吸収フィルムとして使用することも可能である。前記の方法で使用する場合のプラズマディスプレイパネル等の被貼着体への近赤外線吸収フィルムの固定方法に限定はないが、接着剤や粘着剤を用いて行うのが好ましい実施態様である。この場合、近赤外線吸収層を被貼着体側として固定して使用することが重要である。前記の固定法により、各機能層の機能を発現することができる。
【実施例】
【０１３１】
以下、実施例をもとに本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例における物性の評価方法は以下の通りである。
【０１３２】
１．光線透過率
分光光度計（日立製作所製、Ｕ−３５００型）を用い、近赤外線吸収層側から光が透過するようにして、波長２００〜１１００ｎｍにおける透過率を連続的に測定し、透過率のデータは１０ｎｍ毎に取り込んだ。なお、透過率の測定の際に、空気層を標準として測定した。紫外線透過率は３８０ｎｍにおける透過率を、可視光領域の透過率は、４５０〜７００ｎｍにおける透過率の平均値を、ネオン光領域の透過率は、５７０〜６００ｎｍの透過率の平均値を、近赤外線領域の透過率は、９００〜１１００ｎｍの透過率の平均値を求めた。
【０１３３】
２．色調
色差計（日本電色工業製、ＺＥ−２０００）を用い、近赤外線吸収層側に光を照射するようにして、Ｌａｂ表色系のａ値、ｂ値を、標準光としてＤ６５光源、１０度視野角で測定した。
【０１３４】
３．経時安定性
フィルムを、温度６０℃、湿度９５％ＲＨ雰囲気中で５００時間放置した後、上記記載の分光特性及び色調を測定した。波長８００〜１１００ｎｍにおける近赤外線領域の透過率の経時処理前後の変化量を下記式（１）より求め、以下の判断基準でランク付けを行った。
◎：透過率の変化が５％未満
○：透過率の変化が５％以上１０％未満
△：透過率の変化が１０％以上２０％未満
×：透過率の変化が２０％以上
変化量（％）＝（｜処理前の透過率−処理後の透過率｜／処理前の透過率）×１００
・・・（１）
【０１３５】
また、色調の経時処理前後での下記式（２）の変化量より求め、以下の判断基準でランク付けを行った。
◎：透過率の変化が１未満
○：透過率の変化が１以上２未満
△：透過率の変化が２以上４未満
×：透過率の変化が４以上
変化量  ＝  （（処理前ａ値−処理後ａ値）2＋（処理前ｂ値−処理後ｂ値）2）1/2
・・・（２）
【０１３６】
４．耐候性
試験試料を以下の条件で、促進耐候性試験を行い評価した。紫外線オートフェードメーター（スガ試験機製、ＦＡＬ−ＡＵ−Ｈ−ＢＲ）による照射試験を、ブラックパネル温度６３℃で１９２時間行い、前記の試験前後の試験試料の近赤外線領域の極大吸収波長での透過率を測定した。試験前の透過率をＴと試験後の透過率をＴ1とした。前記の測定値から、下記式（３）で近赤外線吸収能残存率Ｒ（％）を求めた。前記の評価は、粘着層を介して、厚さ２ｍｍのＳＵＳ板に試料を貼着し、表面層側より紫外線を照射する方法で行った。
Ｒ（％）＝（Ｔ／Ｔ1）×１００  ・・・（３）
【０１３７】
５．反射防止層の表面層の反射率
分光光度計（日立製作所製、Ｕ−３５００型）を用い、ＪＩＳ−Ｒ−３１０６に準じて、表面層側の５°正反射を測定し、波長３８０〜７００ｎｍでの最小の反射率を求めた。表面層を積層しない比較例のサンプルについては基材フィルムの表面の測定を行った。
【０１３８】
６．反射防止層の表面硬度
反射防止機能を有する表面層の表面について、鉛筆引掻き硬度で評価した。サンプルを温度２５℃、相対湿度６０％ＲＨの条件下で２時間調湿した後評価した。鉛筆引掻き硬度はＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じて実施した。評価結果の鉛筆硬度は９．８Ｎの荷重にて傷が全く認められない鉛筆の硬度である。表面層を積層しない比較例のサンプルについては基材フィルムの表面の測定を行った。
【０１３９】
７．近赤外線吸収色素を含有する近赤外線吸収層の塗膜外観
近赤外線吸収層を積層した積層フィルムを白色フィルム上に置き、３波長の蛍光灯下で観察して評価を行った。
【０１４０】
（７−１）微小欠点
微小欠点は、１００ｍ2あたりの３００μｍ以上の大きさの欠点の個数を計測し、以下の判断基準でランク付けを行った。
◎：微小欠点が１個未満
○：微小欠点が１個以上５個未満
△：微小欠点が５個以上１０個未満
×：微小欠点が１０個以上
【０１４１】
（７−２）塗工不良
塗工ムラ、スジ等の塗工不良を以下の判断基準でランク付けを行った。
◎：近赤外線吸収フィルムを動かしながら観察すると若干外観不良が見られない
○：近赤外線吸収フィルムを動かしながら観察すると若干外観不良が判る
△：近赤外線吸収フィルムを動かしながら観察すると外観不良が判る
×：静止状態でも外観不良が判る
【０１４２】
８．基材フィルムに対する反射防止層および近赤外線吸収層の接着性
ＪＩＳ−Ｋ５４００の８．５．１記載に準じた試験方法で接着性を求めた。すなわち、それぞれ、両表面より基材フィルムに達する１００個の升目状の切り傷を隙間間隔２ｍｍのカッターガイドを用いて付け、セロハン粘着テープ（ニチバン製、４０５番；２４ｍｍ幅）を升目状の切り傷面に貼り付け、気泡や密着不良な部分が残らないようにプラスティック片でこすって完全に付着させた後、垂直に引き剥がして目視により、下記式（４）から接着性を求めた。なお、１つの升目で部分的に剥がれているものは、剥がれた升目とした。
接着性（％）＝（１−剥がれた升目の数／評価した升目の数）×１００  ・・・（４）
【０１４３】
９．干渉縞
近赤外線吸収フィルターを１０×１５ｃｍのサイズにカットし測定試料とした。前記の測定用試料を黒色光沢紙に粘着層を介して貼着した。この貼着体のハード近赤外線吸収フィルター面を上面にして、ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（Ｆ．Ｌ  １５ＥＸ−Ｎ  １５Ｗ）を光源として斜め上方より反射光を目視で観察した。目視で観察した結果を、下記の基準でランク分けをする。なお、観察は前記の評価に精通した５名で行ない、最も多いランクを評価ランクとする。仮に、２つのランクで同数となった場合には、３つに分かれたランクの中心を採用した。例えば、◎と○が各２名で△が１名の場合は○を、◎が１名で○と△が各２名の場合には○を、◎と△が各２名で○が１名の場合には○を、それぞれ採用する。
◎：あらゆる角度からの観察でも虹彩状色彩が見られない
○：ある角度によっては僅かに虹彩状色彩が見られる
△：僅かに虹彩状色彩が観察される
×：はっきりとした虹彩状色彩が観察される
【０１４４】
１０．基材フィルムの表面傷評価
２５０ｍｍ×２５０ｍｍのフィルム片１６枚について評価した。この評価は製膜開始から２４時間後のものについて評価した。投光器として２０Ｗ×２灯の蛍光灯をＸＹテーブル下方４００ｍｍに配置し、ＸＹテーブル上に設けたスリット幅１０ｍｍのマスク上に測定対象の試験片を載置する。投光器と受光器を結ぶ線と、試験片表面の鉛直方向とのなす角度を１２°となるよう光を入射すると、入射位置の試験片に傷が存在する場合に、その部分が光り輝く。その部分の光量をＸＹテーブル上方５００ｍｍに配置したＣＣＤイメージセンサカメラで電気信号に変換し、その電気信号を増幅し、微分してスレッシュホールド（しきい値）レベルとコンパレータで比較して、光学欠点の検出信号を出力する。
【０１４５】
また、ＣＣＤイメージセンサカメラを用いて、傷の画像を入力し、入力された画像のビデオ信号を所定の手順により解析して、光学欠点の大きさを計測し、５０μｍ以上の欠点の位置を表示する。前記の方法による光学欠点の検出は、試験片の両面について行う。上記方法において検出される光学欠点部分から、傷による欠点を選出する。上記方法で傷と判定された部分が中央付近にくるように試料を適当な大きさに裁断し、形状観察用試験片を採取した。前記の試験片について、３次元形状測定装置（マイクロマップ製、ＴＹＰＥ５５０）を用いて、試験片の欠点を検出した表面に対して垂直方向から観察し、傷の大きさを測定する。
【０１４６】
なお、試験片、すなわちフィルムの表面に対して垂直方向から観察した時に、５０μｍ以内に近接する傷の凹凸は同一の傷とした。これらの傷の最外部を覆う最小面積の長方形の長さおよび幅を、傷の長さおよび幅とする。これらの傷の深さ（傷の最も高いところと最も低いところの高さの差）および長さを計測する。この結果より、深さ１μｍ以上且つ長さ３ｍｍ以上の傷の個数（個／ｍ2）を求め、以下の基準で判定した。
◎：３０個／ｍ2以下
○：３１〜５０個／ｍ2
△：５１〜１００個／ｍ2
×：１０１個／ｍ2以上
【０１４７】
１１．基材フィルム表面の異物評価
上記傷評価において記載した方法で検出した光学欠点の中より、異物起因の欠点を選別し、前記の部分の試験片をサンプリングした。前記の試験片の欠点が検出された面にＡｌ蒸着を行い、非接触式三次元粗さ計（マイクロマップ製、ＴＹＰＥ５５０）でフィルム面に対して垂直方向から観察した。最大径が２０μｍ以上の異物の個数（個／ｍ2）を求め、以下の基準で判定した。
◎：２個／ｍ2以下
○：３〜５個／ｍ2
△：６〜１０個／ｍ2
×：１１個／ｍ2以上
【０１４８】
１２．基材フィルム中の厚み方向の紫外線吸収剤の偏在性評価
ＦＴ−ＩＲにより基材ポリエステルフィルム（Ｂ）の表層のポリエステルの特性吸収に対する紫外線吸収剤の特性吸収の吸光度比（Ｘ）とフィルム中央部の同様にして求めた吸光度比（Ｙ）を下記方法で測定し、Ｘ／Ｙで表示した。値が小さいほど紫外線吸収剤の偏在度が高くなる。
【０１４９】
Ｘ：  ブランク試料（ＵＶ吸収剤を含有しないポリエチレンテレフタレートフィルム）の表層のＩＲスペクトル（Ｉ）と本発明の試料の表層ＩＲスペクトル（II）を測定
する。（Ｉ）と（II）の差スペクトルをとり、１７００〜１８００ｃｍ-1での吸光度（
紫外線吸収剤の特徴的な吸収）と（II）のＩＲスペクトルから得られた１５０５ｃｍ-1での吸収（ポリエチレンテレフタレートの吸収）との吸光度比（１７００〜１８００ｃｍ-1／１５０５ｃｍ-1）をとりＸを求めた。
Ｙ：  本発明の試料を厚み方向に全厚みの５０％を削りとり、むき出しになった面（フィルム中央部）について、上記と同様の測定を行い、Ｙを求めた。
【０１５０】
ＩＲスペクトルは下記方法で測定した。
ＦＴ−ＩＲ装置：  Digilab製  FTS-7000e
１回反射ＡＴＲ装置：  Thermo  Spectra-Tech製  Thunderdome
ＩＲＥ：  Ｇｅ
入射角  ：  ４５°
分解能  ：  ８ｃｍ-1
積算回数：  １２８回
【０１５１】
実施例１
１．基材フィルムの製造
（１）紫外線吸収剤含有マスターバッチの調製
乾燥させた、環状イミノエステル系紫外線吸収剤（サイテック社製、ＣＹＡＳＯＲＢ  ＵＶ−３６３８；２，２´−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン））１０質量部、粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂（東洋紡績製、ＭＥ−５５３）９０質量部を混合し、混練押出機を用い、マスターバッチを作製した。この時の押出温度は２８５℃であり、押出時間は７分であった。
【０１５２】
（２）汎用易接着層形成用の塗布液の調製
汎用易接着層形成用の塗布液を以下の方法に従って調製した。ジメチルテレフタレート（９５質量部）、ジメチルイソフタレート（９５質量部）、エチレングリコール（３５質量部）、ネオペンチルグリコール（１４５質量部）、酢酸亜鉛（０．１質量部）および三酸化アンチモン（０．１質量部）を反応容器に仕込み、１８０℃で３時間かけてエステル交換反応を行った。次に、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（６．０質量部）を添加し、２４０℃で１時間かけてエステル化反応を行った後、重縮合反応を行い、ポリエステル樹脂を得た。得られたポリエステル樹脂の３０質量％水分散液を６．７質量部、重亜硫酸ソーダでブロックしたイソシアネート基を含有する自己架橋型ポリウレタン樹脂の２０質量％水溶液（第一工業製薬製、エラストロンＨ−３）を４０質量部、エラストロン用触媒（第一工業製薬製、Ｃａｔ６４）を０．５質量部、水を４７．８質量部およびイソプロピルアルコールを５質量部、それぞれ混合し、さらにアニオン性界面活性剤を塗布液に対し１質量％、コロイダルシリカ粒子（日産化学工業製、スノーテックスＯＬ）を塗布液の固形分に対し５質量％添加し塗布液とした。
【０１５３】
（３）基材フィルムの製膜
固有粘度が０．６２ｄｌ／ｇのＰＥＴ樹脂の粒子を含有しないペレット（東洋紡績製、ＭＥ−５５３）９０質量部と、前記の紫外線吸収剤含有マスターバッチ１０質量部とを１３５℃で６時間減圧乾燥（１３３．３２Ｐａ：１Ｔｏｒｒ）した後、押出機に供給した。押出機の溶融部、混練部、メルトライン、ギアポンプ、フィルターまでの樹脂温度は２８０℃、その後のメルトライン及びダイスでは樹脂温度を２７５℃とした。また、前記のフィルターは、ステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度：１０μｍ以上の粒子を９５％カット）を用いた。
【０１５４】
ダイスのスリット部よりシート状に溶融押出しした樹脂を、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラム（ロール径４００φ、Ｒａ０．１μｍ以下）に巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時の吐出量は４８ｋｇ／ｈｒであり、得られた未延伸シートは幅３００ｍｍ、厚さ１４００μｍであった。次に、上記キャストフィルムを、加熱されたロール群および赤外線ヒーターを用いて１００℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で長手方向（走行方向）に３．５倍延伸して一軸配向フィルムを得た。前記のフィルム製造時に用いる全ロールに関し、ロールの表面粗度をＲａで０．１μｍ以下となるように管理し、縦延伸工程の予熱入口と冷却ロールにロールクリーナーを設置した。縦延伸工程のロール径は１５０ｍｍであり、サクションロール、静電密着、パートニップの密着装置を採用してフィルムをロールへ密着させた。
【０１５５】
その後、汎用易接着層形成用の塗布液を濾過粒子サイズ（初期濾過効率９５％）２５μｍのフェルト型ポリプロピレン製濾材で精密濾過し、リバースロール法で両面に塗布、乾燥した。塗布後、引き続いて、フィルムの端部をクリップで把持して１３０℃に加熱された熱風ゾーンに導き、乾燥後、幅方向に４．０倍に延伸した。さらに、２３０℃にて５秒間熱処理し、この熱処理工程中で幅方向に３％の弛緩処理を行い、基材フィルムを得た。前記のフィルムの厚さ１００μｍであり、この時の汎用易接着層の塗布量は０．０１ｇ／ｍ2であった。得られたフィルムの波長３８０ｎｍの透過率を表１に示す。得られた基材フィルムは優れた紫外線吸収性を有していた。また、長時間生産しても表面傷や表面異物等の表面欠点の発生（評価法として記載した方法で評価）が抑制されており、高品質な積層フィルムが安定して生産できた。
【０１５６】
２．反射防止層（表面層）の形成
前記の基材フィルムに紫外線硬化型ハードコート塗料（大日精化製、セイカビームＥＸＦ−０１Ｂ）をリバースコーティング法にて乾燥後の膜厚が５μｍになるように塗工した。次いで、溶剤を乾燥後、高圧水銀灯により紫外線を８００ｍＪ／ｃｍ2で照射しハードコート層を形成した。次に、γ−アミノプロピルトリメトキシシランの部分加水分解縮合物５質量部、メタノール３０質量部、エタノール３０質量部、イソプロパノール３５質量部からなる塗布液を乾燥後膜厚０．０２μｍになるように塗工し、１４０℃で２０秒間乾燥して高屈折率層を形成した。次いで、テトラエトキシシラン２４質量部、エタノール５０質量部、水２０質量部、塩酸４質量部を混合し、加水分解を行った。この低屈折率層を乾燥後の膜厚が０．０９μｍになるように塗工し、１４０℃で１分間乾燥して低屈折率層を形成した。さらに、前記低屈折率層の上に、Ｃ3Ｆ7−（ＯＣ3Ｆ6）34−Ｏ−（ＣＦ2）2−Ｃ2Ｈ4−Ｏ−ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3からなるパーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤を、パーフルオロへキサンで０．５質量％に希釈した塗布液を塗布した。次いで、１２０℃で１分間乾燥して、膜厚８ｎｍの防汚層を最表面層として形成した。
【０１５７】
得られた積層フィルムの表面層の特性値を表１に示す。本実施例で得られた積層フィルムは表面反射率が低く、かつ表面硬度も良好であった。また、防汚性にも優れていた。なお、前記の防汚性は、油性ペンの拭き取り性と指紋の拭き取り性で評価した。油性ペンの拭き取り性は、最表面層表面に油性ペンで線を引きその線を、また、指紋の拭き取り性は、最表面層表面に付着させた指紋をセルロース製の不織布（旭化成製、ベンコットンＭ−３）で拭き取り、その取れやすさを目視判定した。どちらも完全に拭き取ることができた。
【０１５８】
３．近赤外線吸収層の形成
下記組成の塗布液（固形分濃度が１７質量％、粘度が４０ｃｐｓ）を上記の基材フィルムに表面層を積層した積層フィルムの基材フィルム面上に、乾燥後の塗布量が８．５ｇ／ｍ2になるように、直径６０ｃｍの斜線グラビアを用いてリバースで塗工した。次いで、４０℃で５ｍ／秒の熱風で２０秒間、１５０℃で２０ｍ／秒の熱風で２０秒間、さらに、９０℃で２０ｍ／秒の熱風で１０秒間通過させて乾燥し、近赤外線吸収フィルムを作成した。
【０１５９】
［近赤外線吸収層形成用の塗布液］
有機溶剤、樹脂、色素、界面活性剤を下記の質量比で混合し、加温下で色素および樹脂を溶解し、公称ろ過精度１μｍのフィルムで未溶解物を除去して塗布液を作成した。
・シクロペンタノン                                    ４１．３５質量％
・トルエン                                            ４１．３５質量％
・フルオレン骨格を有する共重合ポリエステル系樹脂      １６．４０質量％
（カネボウ製、ポリエステル樹脂Ｏ−ＰＥＴ）
・ジインモニウム塩化合物                                ０．６１質量％
（日本カーリット製、ＣＩＲ−１０８５；アニオンがビス（トリフルオロメタンス
ルホニル）イミド酸イオンタイプ）
・シアニン系化合物                                      ０．０５質量％
（旭電化工業製、ＴＺ−１１４；アニオンが金属錯体タイプ）
・フタロシアニン系化合物                                ０．１６質量％
（日本触媒製、ＩＲ−１４）
・スクアリリウム塩系化合物                              ０．０５質量％
（協和発酵工業製、ＳＤ−１８４）
・シリコーン系界面活性剤                                  ０．０３質量％
（ダウコーニング製、ペインタッド５７；ＨＬＢ＝６．７）
【０１６０】
得られた近赤外線吸収フィルムの物性を表１に示す。近赤外領域の吸収、ネオン光領域の吸収が強く、可視光領域での透過率が高いフィルムが得られた。また、経時安定性や耐候性に優れ、さらに塗工外観も良好であった。
【０１６１】
比較例１
実施例１において、下記（１）〜（４）の変更をすること以外は実施例１と同様にして、本比較例１の近赤外線吸収フィルムを得た。本比較例１で得られた近赤外線吸収フィルムの特性を表１に示す。
（１）近赤外線吸収層の組成を下記のごとく変更する。
・シクロペンタノン                                  ４１．３７質量％
・トルエン                                          ４１．３６質量％
・フルオレン骨格を有する共重合ポリエステル系樹脂    １６．４０質量％
（カネボウ製、Ｏ−ＰＥＴ）
・ジインモニウム塩化合物                              ０．５８質量％
（日本カーリット製、ＣＩＲ−１０８１；アニオンがヘキサフルオロアンチモン酸イオンタイプ）
・シアニン系化合物                                    ０．０５質量％
（旭電化工業製、ＴＺ−１１４；アニオンが金属錯体タイプ）
・フタロシアニン系化合物                              ０．１６質量％
（日本触媒製、ＩＲ−１４）
・スクアリリウム塩系化合物                            ０．０５質量％
（協和発酵工業製、ＳＤ−１８４）
・シリコーン系界面活性剤                                ０．０３質量％
（ダウコーニング製、ペインタッド５７；ＨＬＢ＝６．７）
（２）基材フィルムへの紫外線吸収剤の配合を取り止める。
（３）基材フィルムへの汎用易接着層の積層を両面とも取り止める。
（４）近赤外線吸収層形成用塗布液への界面活性剤の配合を取り止める。
【０１６２】
本比較例１で得られた近赤外線吸収フィルムは耐久性が劣っている。また、紫外線透過度が高いため、近赤外線吸収色素の光による劣化が大きく耐候性が劣る。また、汎用易接着層が形成されないため、反射防止層や近赤外線吸収層の基材フィルムに対する接着性が劣る。さらに、近赤外線吸収層形成用塗布液への界面活性剤の配合を取り止めたため、近赤外線吸収色素やネオン光カット用の色調調整用色素のバインダー樹脂への分散性が劣るために、近赤外線吸収層の塗膜外観に劣っていた。
【０１６３】
実施例２
１．基材フィルムの製造
（１）紫外線吸収剤含有マスターバッチの調製
乾燥させた、環状イミノエステル系紫外線吸収剤（サイテック社製、ＣＹＡＳＯＲＢ  ＵＶ−３６３８；２，２´−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン））１０質量部、粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂（東洋紡績製、ＭＥ−５５３）９０質量部を混合し、混練押出機を用い、マスターバッチを作製した。この時の押出温度は２８５℃であり、押出時間は７分であった。
【０１６４】
（２）干渉縞抑制易接着層形成用塗布液の調製
ジメチルテレフタレート（９５質量部）、ジメチルイソフタレート９５質量部、エチレングリコール（９７質量部）、ネオペンチルグリコール（７０質量部）、酢酸亜鉛（０．１質量部）および三酸化アンチモン（０．１質量部）を反応容器に仕込み、１８０℃で３時間かけてエステル交換反応を行った。次に、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（１２．１質量部）を添加し、２４０℃で１時間かけてエステル化反応を行った後、重縮合反応を行い、ポリエステル樹脂を得た。得られたポリエステル水分散液（Ｂ−１）４０質量部、ヒドロキシビス（ラクタト）チタンの４４質量％溶液（松本製薬製、ＴＣ３１０）１８質量部、水１５０質量部およびイソプロピルアルコール１００質量部をそれぞれ混合し、さらにアニオン系界面活性剤をそれぞれ塗布液に対し１質量％、コロイダルシリカ微粒子（日本触媒化成製、カタロイドＳＩ８０Ｐ；平均粒径８０ｎｍ）水分散液を樹脂固形分に対しシリカとして２質量％添加し塗布液とした。
【０１６５】
（３）汎用易接着層形成用塗布液の調製
汎用易接着層形成用の塗布液を以下の方法に従って調製した。ジメチルテレフタレート９５質量部、ジメチルイソフタレート９５質量部、エチレングリコール３５質量部、ネオペンチルグリコール１４５質量部、酢酸亜鉛０．１質量部および三酸化アンチモン０．１質量部を反応容器に仕込み、１８０℃で３時間かけてエステル交換反応を行った。次に５−ナトリウムスルホイソフタル酸６．０質量部を添加し、２４０℃で１時間かけてエステル化反応を行った後、重縮合反応を行い、ポリエステル樹脂を得た。得られたポリエステル樹脂の３０質量％水分散液を６．７質量部、重亜硫酸ソーダでブロックしたイソシアネート基を含有する自己架橋型ポリウレタン樹脂の２０質量％水溶液（第一工業製薬製、エラストロンＨ−３）を４０質量部、エラストロン用触媒（Ｃａｔ６４）を０．５質量部、水を４７．８質量部およびイソプロピルアルコールを５質量部、それぞれ混合し、さらにアニオン性界面活性剤を１質量％、コロイダルシリカ粒子（日産化学工業製、スノーテックスＯＬ）を５質量％添加し塗布液とした。
【０１６６】
（４）基材フィルムの製膜
中間層用原料として固有粘度が０．６２ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレート樹脂の粒子を含有しないペレット（東洋紡績製、ＭＥ−５５３）９０質量部と、前記マスターバッチ１０質量部とを１３５℃で６時間減圧乾燥（１３３．３２Ｐａ：１Ｔｏｒｒ）した後、押出機２（中間層Ｂ層用）に供給した。粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートのペレット（東洋紡績製、ＭＥ−５５３）を１３５℃で６時間減圧乾燥（１３３．３２Ｐａ：１Ｔｏｒｒ）した後、押出機１（外層Ａ層用及び外層Ｃ層用）にそれぞれ供給し、押出機熔融部、混練り部、メルトライン、ギアポンプ、フィルターまでの樹脂温度は２８０℃、その後のメルトラインでは２７５℃とし、３層合流ブロックにて、積層し、口金よりシート状にして押出た。これらのポリマーは、それぞれステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）を用いて濾過した。また、フラットダイは樹脂温度が２７５℃になるようにした。
【０１６７】
溶融押出しした樹脂を、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラム（ロール径４００φ、Ｒａ０．１μｍ以下）に巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時の吐出量は４８ｋｇ／ｈｒであり、得られた未延伸シートは幅３００ｍｍ、厚さ１４００μｍであった。また、両表層の厚さの比率が全厚みに対してそれぞれ１０％となるように各押出機の吐出量を調整した。次に、上記キャストフィルムを加熱されたロール群および赤外線ヒーターを用いて１００℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で長手方向（走行方向）に３．５倍延伸して一軸配向フィルムを得た。前記のフィルム製造時に用いる全ロールに関し、ロールの表面粗度をＲａで０．１μｍ以下に管理し、縦延伸工程の予熱入口と冷却ロールにロールクリーナーを設置した。縦延伸工程のロール径は１５０ｍｍであり、サクションロール、静電密着、パートニップの密着装置を採用してフィルムをロールへ密着させた。
【０１６８】
その後、前記した干渉縞抑制易接着層形成用および汎用易接着層の塗布液をそれぞれ濾過粒子サイズ（初期濾過効率９５％）２５μｍのフェルト型ポリプロピレン製濾材で精密濾過し、リバースロール法でそれぞれ片面づつに塗布、乾燥した。塗布後引き続いて、フィルムの端部をクリップで把持して１３０℃に加熱された熱風ゾーンに導き、乾燥後幅方向に４．０倍に延伸し２３０℃にて５秒間熱処理し、この熱処理工程中で幅方向に３％の弛緩処理し、基材フィルムを得た。
【０１６９】
前記のフィルムの厚さは１００μｍであり、この時の各易接着層の塗布量は０．０１ｇ／ｍ2であった。得られたフィルムの波長３８０ｎｍにおける透過率を表１に示す。得られた基材フィルムは優れた紫外線吸収性を有していた。また、長時間生産しても表面傷や表面異物等の表面欠点の発生が抑制されており、前記方法で評価した基材フィルム表面の表面傷および表面の異物評価の結果は共に◎であり、高品質な積層フィルムが安定して生産できた。また、基材フィルム中の厚み方向の紫外線吸収剤の偏在度は０であった。
【０１７０】
２．反射防止層（表面層）の形成
前記の基材フィルムの干渉縞抑制易接着層に実施例１と同様の方法で反射防止層を形成した。実施例１と同様の特性が付与できた。さらに、干渉縞抑制易接着層が積層されているので、前記評価法で干渉縞の評価を行ったところ、その結果は、◎であった。
【０１７１】
３．近赤外線吸収層の形成
バインダー樹脂をガラス転移点が１１０℃のポリエステル樹脂に変更する以外は、実施例１と同様の方法で本実施例２の近赤外線吸収フィルムを得た。本実施例２で得られた近赤外線吸収フィルムの特性を表１に示す。本実施例２で得られた近赤外線吸収フィルムは、実施例１で得られた近赤外線吸収フィルムと同様に高品質であった。
【０１７２】
比較例２
実施例２において、下記（１）〜（４）のように変更すること以外は実施例２と同様にして、本比較例２の近赤外線吸収フィルムを得た。本比較例２で得られた近赤外線吸収フィルムの特性を表１に示す。
（１）近赤外線吸収層の組成を下記のごとく変更する。
・シクロペンタノン                                  ４１．３７質量％
・トルエン                                          ４１．３６質量％
・フルオレン骨格を有する共重合ポリエステル系樹脂    １６．４０質量％
（カネボウ製、Ｏ−ＰＥＴ）
・ジインモニウム塩化合物                              ０．５８質量％
（日本カーリット製、ＣＩＲ−１０８３；アニオンがヘキサフルオロホスフェートイオンタイプ）
・シアニン系化合物                                    ０．０５質量％
（旭電化工業製、ＴＺ−１１４；アニオンが金属錯体タイプ）
・フタロシアニン系化合物                              ０．１６質量％
（日本触媒製、ＩＲ−１４）
・スクアリリウム塩系化合物                            ０．０５質量％
（協和発酵工業製、ＳＤ−１８４）
・シリコーン系界面活性剤                                ０．０３質量％
（ダウコーニング製、ペインタッド５７；ＨＬＢ＝６．７）
（２）基材フィルムへの紫外線吸収剤の配合を取り止める。
（３）基材フィルムへの干渉縞抑制易接着層および汎用易接着層の積層を両面とも取り止める。
（４）近赤外線吸収層形成用塗布液への界面活性剤の配合を取り止める。
【０１７３】
本比較例２で得られた近赤外線吸収フィルムは耐久性が劣っている。また、紫外線透過度が高いため、近赤外線吸収色素の光による劣化が大きく耐候性が劣る。また、各易接着層が形成されないため、反射防止層や近赤外線吸収層の基材フィルムに対する接着性が劣る。さらに、近赤外線吸収層形成用塗布液への界面活性剤の配合を取り止めたため、近赤外線吸収色素やネオン光カット用の色調調整用色素のバインダー樹脂への分散性が悪く、近赤外線吸収層の塗膜外観に劣っていた。さらに、反射防止層と基材フィルムとの界面に干渉縞抑制易接着層が積層されていないので、干渉縞の評価結果は×であった。
【０１７４】
【表１】
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【０１７５】
実施例３、４および比較例３、４
プラズマディスプレイパネル（富士通製、ＰＤＳ４２１１Ｊ−Ｈ）の前面パネルを外し、実施例１、２および比較例１、２で得られた近赤外線吸収フィルムの近赤外線吸収層に、ｎ−ブチルアクリレート（７８．４質量％）、２−エチルヘキシルアクリレート（１９．６質量％）およびアクリル酸（２質量％）の組成よりなるアクリル酸エステル共重合体である透明性粘着剤をコンマコーター法で乾燥後の膜厚で０．０２５ｍｍとなるように積層し、さらにその表面にシリコーン処理した厚み０．０３８ｍｍのポリエチレンテレフタレートよりなるセパレータフィルムを積層し、近赤外線吸収フィルターとセパレータフィルムとの複合体を得た。前記の複合体よりセパレータフィルムを剥がし、粘着層を介してプラズマディスプレイパネルに貼着し、機能の評価を実施した。なお、近赤外線吸収フィルムは、厚みが薄く、かつ粘着層が複合されているので、プラズマディスプレイパネル表面をイソプロピルアルコールで湿らせた状態で、前記のフィルムの貼着を行うと、気泡の混入を抑えて綺麗に貼着することができた。
【０１７６】
実施例１および２で得られた近赤外線吸収フィルムによるフィルター（実施例３および４）は、近赤外線吸収効果が付与されているので、周辺に設置される赤外線リモートコントロール装置に対する妨害を防止できた。また、耐候性や経時安定性が優れているので、長期間使用をしても前記の機能が安定していた。さらに、以下の効果が確認できた。
【０１７７】
（１）表面に反射防止性が付与されているので、外光反射が抑えられ室内照明に用いた蛍光灯の写り込みが減少した。
（２）表面硬度が高いので傷が付き難い。
（３）防汚性が付与されているので、手で触れて指紋がついても拭き取りで簡単に消すことができる。
（４）ネオンカットの色調改善がされているので色再現性が向上した。具体的には、オレンジ色の入った赤が純赤に、緑がかった青が鮮やかな青に、黄ばんだ感じの白が純白になる。
【０１７８】
比較例１の近赤外線吸収フィルムによるフィルター（比較例３）および比較例２の近赤外線吸収フィルムによるフィルター（比較例４）は、経時安定性や耐候性が劣るので、長期使用により、周辺に設置される赤外線リモートコントロール装置に対する妨害が増加した。また、近赤外線吸収層の塗膜外観が劣るため、前記の欠点により画像の質が低下した。さらに、各層の界面の接着性に劣るため、長期使用により界面の部分剥離が発生し、画質の像が低下した。
【０１７９】
実施例５
実施例３で作製した近赤外線吸収フィルターを、粘着層を介して、線径０．０３ｍｍの繊維を１インチ当たり１３５本の密度で縦横に編んだメッシュを無電解メッキ法でニッケルおよび銅をメッキした導電メッシュに貼着した。プラズマディスプレイパネル（富士通製、ＰＤＳ４２１１Ｊ−Ｈ）の前面パネルを外し、上記複合体を接着剤で貼着し、機能の評価を実施した。実施例３で確認した効果に加え、電磁波遮断効果が発現された。
【０１８０】
実施例６
実施例３で作製した近赤外線吸収フィルターを、光学用の粘着剤で近赤外線吸収層側をプラズマディスプレイパネル側としてプラズマディスプレイパネルに貼着して評価をし、実施例３と同様の結果を得た。
【産業上の利用可能性】
【０１８１】
本発明の近赤外線吸収フィルムは、近赤外線の遮断性、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れており、プラズマディスプレイ等の近赤外線を吸収する機能が要求される表示装置等の光学用フィルムとして好適に使用することがでる。また、本発明の近赤外線吸収フィルターは、粘着剤で貼り合わせることなく１枚の基材フィルムよりなる多層フィルムで、近赤外線の遮断性、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れており、さらに、一枚の基材フィルムの構成で薄膜状態を維持し、その他の各種機能が付与できるので、被貼着体に対する貼着の作業性が改善され、かつ経済性にも優れており、プラズマディスプレイなどの映像出力装置または照明器具などから発生される近赤外線を吸収することで近赤外線の浸入を遮断し、当前記の近赤外線領域の光を通信に使用するリモコン／赤外線通信ポートの誤動作を防ぎ、ひいては、これらの遠隔操作機器で制御する機器の誤動作を防ぐ事ができる。またキャッシュカードＩＤカード等の偽造防止に利用することもできる等の幅広い用途分野に利用することができ、産業界に寄与することが大である。