(57)【要約】【課題】  異物のブラシや基板への再付着を防止して、洗浄性能を大幅に向上させ、ブラシの性能や寿命を安定または持続させ、使用電気量を削減しうる洗浄装置を提供する。【解決手段】円柱形状で回転可能なブラシ体と、このブラシ体に供給される洗浄液とを有して、対象物の洗浄を行う洗浄装置において、前記ブラシ体は、断面円環形状のブラシ部を有して、円柱軸を中心に回転自在に配設され、前記ブラシ体を回転させて、前記ブラシ部を前記対象物の処理対象面に摺接させ、洗浄を行う洗浄装置であって、前記洗浄液は、前記ブラシ体の回転方向に向いた流路を経由して、このブラシ体に回転力を与えるよう制御されて流入される洗浄装置とした。【選択図】      図１
2006289319.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円柱形状で回転可能なブラシ体と、このブラシ体に供給される洗浄液とを有して、対象物の洗浄を行う洗浄装置において、
前記ブラシ体は、断面円環形状のブラシ部を有して、円柱軸を中心に回転自在に配設され、
前記ブラシ体を回転させて、前記ブラシ部を前記対象物の処理対象面に摺接させ、洗浄を行う洗浄装置であって、
前記洗浄液は、前記ブラシ体の回転方向に向いた流路を経由して、このブラシ体に回転力を与えるよう制御されて流入される、ことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の洗浄装置において、
前記ブラシ体のブラシ部はブラシ幅を有し、
前記洗浄液は、前記ブラシ幅に合わせて形成された流路から流入される、ことを特徴とする洗浄装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の洗浄装置において、
前記洗浄液の流路は、前記ブラシ体の外周面に添い、所定の間隔を設け、複数個数配設される、ことを特徴とする洗浄装置。
【請求項４】
請求項１〜３いずれかに記載の洗浄装置において、
前記ブラシ体の外周面に添って、前記洗浄液の流出を防ぐためのハウジングを形成した、ことを特徴とする洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＬＴＰＳ−ＴＦＴを含むＦＰＤ用のガラス基板の製造工程などにおいて用いられる洗浄装置にかかり、より詳細には、ガラス基板の洗浄などに有効な回転ブラシ式の洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＦＰＤ用などのガラス基板製造工程においては、搬送された被洗浄物であるガラス基板に、回転するブラシを押し付けながら、ブラシに向かって洗浄液を吹き付け、洗浄液の洗浄力と、ブラシが回転しながら基板に接触するときに生ずる物理力とによって、基板上の異物を取り除く、とする洗浄処理を行っている。
【０００３】
図３は、従来の回転ブラシ式のガラス基板洗浄装置の一例を示す側面図である。
図３の洗浄装置２０は、搬送されるガラス基板２の表裏面に接する様に配設された円柱状のブラシ１(１’)と、洗浄液４(４’)を内蔵して噴射するシャワーノズル３(３’)とを有する。そして、シャワーノズル３(３’)は、これらのブラシ１(１’)またはガラス基板２に向かって洗浄液４(４’)を吹き付けられるように、ブラシ１(１’)の近傍付近に設置されている。
【０００４】
このブラシ１は連動する動力によって回転させられており、回転しているブラシ１に向かってシャワーノズル３から洗浄液４を吹き出すと、この洗浄液４がガラス基板２の表面に達すると共に、その表面部分をブラシ１が摺動することとなるので、洗浄液４の洗浄力及びブラシ１の摺接による物理力によって、ガラス基板２の表面の異物や汚れ等が取り除かれる洗浄処理が行われる。なお、通常の装置では、この洗浄液４は、フィルタリング及び新液の補充を逐次行いながら、循環再利用されている。
【特許文献１】特開２００５−６６５０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このように、従来の回転ブラシ式のガラス基板洗浄装置１０においては、ブラシ１はモーター(図示せず)によって回転されており、そのときに、シャワーノズル３から吹き出される洗浄液４は、ブラシ１またはブラシ１近傍の基板２に当たるよう設定されていた。こうして、噴射される洗浄液４の洗浄力と、モーターによって回動されたブラシ１と基板２との回転摺接により生じる物理力とによって、ガラス基板２上の異物の剥離除去が行われるのであるが、つぎのような問題点があった。
【０００６】
ノズルからのシャワーによって、基板上にあった異物は剥離されて除去されることとなるが、基板から離された異物の一部は、ブラシ側に流れるかまたは跳ねを生じ、ブラシに再付着することがあった。また、ブラシによって基板から離された異物の一部は、シャワーによってブラシ側に押し戻されて、ブラシに再付着することがあった。
このようなブラシへの異物の付着量は時間と共に増加していくので、時間が経つにつれて、異物が基板へ再付着するという汚染が発生する頻度が高くなり、基板洗浄装置の洗浄能力を大きく低下させる虞があった。
【０００７】
本発明の洗浄装置は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、異物のブラシや基板への再付着を防止して、ブラシを用いた洗浄装置の洗浄性能を大幅に向上させるとともに、ブラシの洗浄性能や寿命を安定または持続させることができ、使用電気量をも削減しうるような洗浄装置を提供することをその目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（１）円柱形状で回転可能なブラシ体と、このブラシ体に供給される洗浄液とを有して、対象物の洗浄を行う洗浄装置において、
前記ブラシ体は、断面円環形状のブラシ部を有して、円柱軸を中心に回転自在に配設され、
前記ブラシ体を回転させて、前記ブラシ部を前記対象物の処理対象面に摺接させ、洗浄を行う洗浄装置であって、
前記洗浄液は、前記ブラシ体の回転方向に向いた流路を経由して、このブラシ体に回転力を与えるよう制御されて流入される洗浄装置とした。
【０００９】
（２）(１)の洗浄装置において、
前記ブラシ体のブラシ部はブラシ幅を有し、前記洗浄液は、前記ブラシ幅に合わせて形成された流路から流入される。
（３）(１)または(２)の洗浄装置において、
前記洗浄液の流路は、前記ブラシ体の外周面に添い、所定の間隔を設け、複数個数配設される。
（４）(１)〜(３)いずれかの洗浄装置において、
前記ブラシ体の外周面に添って、前記洗浄液の流出を防ぐハウジングを形成した、ことを特徴とする洗浄装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の洗浄装置によれば、つぎのような格別の効果を奏する。
・洗浄液の供給とブラシの回転洗浄とが同時にかつ同一方向で行われ、洗浄液の流量調整と同時にブラシの回転数も調整されて制御され、常に洗浄液の流量とブラシの回転数が最適な組み合わせとなる。このため、異物がブラシや基板へ再付着することを防止し、洗浄装置の洗浄能力の向上と安定化に大きく寄与することができる。
・洗浄液については、均一な流れ方向への設定や適正な液量の付加が容易になり、装置の洗浄性能が安定して、装置の制御も容易になる。
・ブラシが自己洗浄能力を有することにより、ブラシが常に清浄な状態を保持することができ、ブラシの洗浄能力を低下させることなく長時間持続させることができるとともに、ブラシの毛倒れを防止して、ブラシの寿命を延ばすことができる。
・ブラシを回動させるためのモーター等の回転駆動機構が不要となり、装置の構造を簡明にできるとともに、使用電気量を削減でき、コストダウンにも貢献できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を、添付の図面を参照して説明する。
ここで、図１は、本発明の一実施形態にかかる洗浄装置１００の構造を説明するための構成図であり、また、図２は、洗浄装置１００の主要部を示す断面図である。
本実施形態の洗浄装置１００は、円柱形状で回転するブラシ体１０と、このブラシ体１０に供給される洗浄液３０(３０ａ,３０ｂ,３０ｃ,３０ｄ,３０ｅ)とを備えて、処理対象物である基板２０の洗浄を行う洗浄装置である。
【００１２】
ブラシ体１０は全体として略円柱形状をなすが、図２に示すように、中心にある略円柱形状の支持部１０ｂと、この支持部１０ｂの外周側部材として断面円環形状のブラシ部１０ａとを備え、ブラシ体１０の軸ｐを中心に回転自在になるよう配置設定されている。
このブラシ体１０は回転しながら、その外周面１０Ａ側が、基板２０の処理対象面２０Ａに摺動して接触されるような配置設定となっており、これにより、基板２０の洗浄を行うことができる。
【００１３】
図１に示すように、洗浄装置１００は、ブラシ体１０の外周面に添って所定の間隔を設けて複数個数配設された流路４０(４０ａ,４０ｂ,４０ｃ,４０ｄ,４０ｅ)を経由して、それぞれの流路から洗浄液３０(３０ａ,３０ｂ,３０ｃ,３０ｄ,３０ｅ)が導入される構造である。これらの流路４０(４０ａ,４０ｂ,４０ｃ,４０ｄ,４０ｅ)は、ブラシ体１０の回転する方向に向けられていて、このとき吹き出しにより流入される洗浄液３０については、ブラシ体１０に所定の回転力を与えるように、その流量や圧力が調整または制御されて供給される。
【００１４】
この洗浄装置１００のブラシ体１０のブラシ部１０ａは、図２に示すように、支持部１０ｂと外周面１０Ａとの間に、全周囲でほぼ一定厚のブラシ幅ｔを有している。洗浄液３０の供給するための流路４０は、このブラシ幅ｔにその寸法や形状を合わせられて設計されており、洗浄液３０を噴き出すにあたっては、その流量／噴出圧力／供給位置／供給角度などが適正になるように、これらの複数の流路(４０ａ,４０ｂ,４０ｃ,４０ｄ,４０ｅ)が調整されて制御される。
【００１５】
また、この洗浄装置１００は、ブラシ体１０の外周面１０Ａに添ってハウジング５０が形成されており、これによって、流入された洗浄液３０の流出を防ぐとともに、ブラシ体１０のブラシ部１０ａに洗浄液３０が万遍なく行き渡るように調整できる設計となっている。図２を参照するに、洗浄液３０は、基板２０と略平行する流路４０に従って、その流路４０の下部分が断面円環形状のブラシ部１０ａの外周面１０Ａに接するようにして、ブラシ部１０ａに向かって吹き出されてくる。そこで、ハウジング５０は、噴出される洗浄液３０の勢いを押さえるとともに、回転する円周方向にその流れを導くために、流路４０から延長されて、ブラシ体１０の外周面１０Ａに添い、基板２０の位置近くまで円弧状に延長・延面されている。このハウジング５０の全体形状は、図１に示すように、円筒形から基板２０側を切り取った樋のような形状となっている。
【００１６】
さて、図１に戻り、本洗浄装置１００は、洗浄対象物である基板２０を載置して搬送するための搬送機構を有している。その搬送機構は、水平に多数配置された駆動軸(７１,７２,７３,７４,７５,７６)が駆動系(図示しない)と結ばれて回転駆動されるものであり、これらの駆動軸上に設けられた搬送用の多数のガイドローラ((８１ａ,８１ｂ,８１ｃ)(８２ａ,８２ｂ,８１ｃ)………)が同時に回転駆動され、これらのガイドローラが基板２０の下面に接触しながら支持し、この基板２０を載置しながら回転方向へ移動させるという搬送方式となっている。
【００１７】
この洗浄装置１００では、回転するブラシ体１０の外周面１０Ａが、被洗浄物である基板２０の下面と接触したとき、摺動と接触による擦り洗浄を行なう。この洗浄に用いる洗浄液３０は、ノズル式の噴出手段によって、多数の流路４０からブラシ体１０のブラシ部１０ａに注入され、ブラシ体１０に回転力を与える。このとき、洗浄液３０の供給とブラシ体１０の回転洗浄とが同時にかつ同一方向で行われ、洗浄液３０の流量調整と同時にブラシ体１０の回転数も調整され、常に洗浄液の流量とブラシの回転数が最適な組み合わせとなるよう調整制御がなされる。
【００１８】
なお、この洗浄装置１００では、洗浄用のブラシ体１０と被洗浄物である基板２０との接触面圧がより大きくなるように、基板２０の上面２０Ｂ側からブラシ体１０側へ基板２０を押し付けるための上ガイドローラなどの設備を設けることもできる。
さらに、図３のように、洗浄すべき基板を挟んで、その上下または左右にブラシ体を２体を配設することも可能である。
このようにすることにより、ブラシ体１０と基板２０との接触圧力や接触面積を高めることができ、洗浄能力をさらに向上させることができる。
【００１９】
本発明による洗浄装置は、上記のような構成として装置が調整・制御されることにより、洗浄で一旦除去された異物が、ブラシ体や基板へ再付着することを防止でき、洗浄液についても均一な流れ方向への設定や適正な液量の付加が容易になり、洗浄装置の洗浄能力の向上と安定化に大きく寄与することができる。また、本発明による洗浄装置の構成によれば、ブラシ体自体が自己洗浄能力を有することとなるので、ブラシ部が常に清浄な状態を保持することができ、ブラシの洗浄能力や寿命を低下させることなく、洗浄工程を長期間安定して操業させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態にかかる洗浄装置１００の構造を説明するための構成図である。
【図２】図１の洗浄装置１００の主要部を示す断面図である。
【図３】従来の洗浄装置の一例を説明するため図である。
【符号の説明】
【００２１】
１００    洗浄装置
１０      ブラシ体
１０ａ    ブラシ部
１０Ａ    ブラシ部の外周面
ｔ        ブラシ部のブラシ幅
１０ｂ    支持部
ｐ        ブラシ体１０の中心軸
２０    基板（処理対象物）
２０Ａ  処理対象面
３０,３０ａ,３０ｂ,３０ｃ,３０ｄ,３０ｅ    洗浄液
４０,４０ａ,４０ｂ,４０ｃ,４０ｄ,４０ｅ    洗浄液の流路
５０    ハウジング
７１,７２,７３,７４,７５,７６      駆動軸
８１ａ,８１ｂ,８１ｃ、８２ａ,８２ｂ,８１ｃ、……    駆動軸上のガイドローラ
【図１】
2006289319.tif 000003
【図２】
2006289319.tif 000004
【図３】
2006289319.tif 000005