(57)【要約】【課題】塗布する際にムラが顕著に減少し、均一な膜厚で塗布できる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を含む薄膜表示装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤および溶剤を含み、前記界面活性剤は有機フッ素系化合物、所定の第１のシリコーン系化合物、所定の第２のシリコーン系化合物を含む感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を含む薄膜表示装置およびその製造方法である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤および溶剤を含み、
前記界面活性剤は、下記の化学式（１）で表される有機フッ素系化合物、下記の化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物、および下記の化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物を含む、感光性樹脂組成物：
【化１】
2006184908.tif 000022
前記化学式（１）中、Ｒｆは５〜１０個の炭素原子を有する鎖状または分枝状のパーフルオロアルキレン基であり、Ｚは水素原子またはフッ素原子である、
【化２】
2006184908.tif 000023
前記化学式（２）中、Ｒは２〜５個の炭素原子を有する鎖状または分枝状アルキレン基であり、ｘおよびｙはそれぞれ独立して１〜２０の整数である、
【化３】
2006184908.tif 000024
前記化学式（３）中、Ｒ’は１〜２０個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキル基、または２〜２１個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキルカルボニル基であり、ｖおよびｗはそれぞれ独立して１〜２０の整数であり、ｍおよびｌはそれぞれ独立して１〜２０の整数である。
【請求項２】
前記感光性樹脂組成物は、全固形分に対して５０乃至９８質量％のアルカリ可溶性樹脂、１．７乃至４９．９９９７質量％のキノンジアジド化合物、および３×１０−４乃至０．３質量％の界面活性剤を含有する、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記有機フッ素系化合物は、３−パーフルオロヘキシル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン、および３−パーフルオロデシル−１，２−エポキシプロパンからなる群より選択される少なくとも１つを含む、請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記有機フッ素系化合物の含有量を、前記界面活性剤の総質量に対してｄ質量％とし、前記第１のシリコーン系化合物の含有量を、前記界面活性剤の総質量に対してｅ質量％とし、前記第２のシリコーン系化合物の含有量を、前記界面活性剤の総質量に対してｆ質量％とした場合、ｄ、ｅ，ｆはそれぞれ、１０≦ｄ≦５０、１０≦ｅ≦５０、１０≦ｆ≦５０（ただし、ｄ＋ｅ＋ｆ≦１００）である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記有機フッ素系化合物、前記第１のシリコーン系化合物、および前記第２のシリコーン系化合物の含有量は、前記感光性樹脂組成物の全質量に対してそれぞれ１×１０−４乃至０．１質量％である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記第１のシリコーン系化合物は、ビス（トリメチルシロキシ）メチルシランとポリアルキレングリコールモノアリルエーテルとの反応物である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
前記第２のシリコーン系化合物は、トリメチルシリル末端（ジメチルシロキサン−メチルハイドロシロキサン）共重合体と、ポリアルキレングリコールアリルアルキルエーテルまたはポリアルキレングリコールアリルエーテルのカルボン酸エステルとの反応物である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項８】
カチオン重合開始剤、フェノール化合物、架橋剤、重合性モノマー、およびシランカップリング剤からなる群より選択される少なくとも一つをさらに含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項９】
基板と、
前記基板上に形成されている薄膜パターンと、
前記薄膜パターン上に形成され、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤、および溶剤を含有する感光性樹脂組成物から形成される絶縁膜とを有し、
前記界面活性剤は、下記の化学式（１）で表される有機フッ素系化合物、下記の化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物、および下記の化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物を含む、薄膜表示装置：
【化４】
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前記化学式（１）中、Ｒｆは５〜１０個の炭素原子を有する鎖状または分枝状のパーフルオロアルキレン基であり、Ｚは水素原子またはフッ素原子である、
および
【化５】
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前記化学式（２）中、Ｒは２〜５個の炭素原子を有する鎖状または分枝状アルキレン基であり、ｘおよびｙはそれぞれ独立して１〜２０の整数である、
【化６】
2006184908.tif 000027
前記化学式（３）中、Ｒ’は１〜２０個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキル基、または２〜２１個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキルカルボニル基であり、ｖおよびｗはそれぞれ独立して１〜２０の整数であり、ｍおよびｌはそれぞれ独立して１〜２０の整数である。
【請求項１０】
前記薄膜パターンは、ゲート電極を含むゲート線、前記ゲート線上に形成されているゲート絶縁膜、前記ゲート絶縁膜上の所定領域に形成されている半導体層、前記ゲート絶縁膜および前記半導体層上に形成されてソース電極を含むデータ線、ならびに前記ソース電極と所定間隔を置いて対向しているドレイン電極を含む、請求項９に記載の薄膜表示装置。
【請求項１１】
前記絶縁膜上に前記ドレイン電極と接続されている画素電極をさらに含む、請求項１０に記載の薄膜表示装置。
【請求項１２】
前記絶縁膜の上部または下部にカラーフィルタをさらに含む、請求項１０または１１に記載の薄膜表示装置。
【請求項１３】
基板上に薄膜パターンを形成する段階と、
前記薄膜パターン上に、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤および溶剤を含み、前記界面活性剤は、下記の化学式（１）で表される有機フッ素系化合物、下記の化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物、および下記の化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物を含む感光性樹脂組成物：
【化７】
2006184908.tif 000028
前記化学式（１）中、Ｒｆは５〜１０個の炭素原子を有する鎖状または分枝状のパーフルオロアルキレン基であり、Ｚは水素原子またはフッ素原子である、
【化８】
2006184908.tif 000029
前記化学式（２）中、Ｒは２〜５個の炭素原子を有する鎖状または分枝状アルキレン基であり、ｘおよびｙはそれぞれ独立して１〜２０の整数である、
【化９】
2006184908.tif 000030
前記化学式（３）中、Ｒ’は１〜２０個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキル基、または２〜２１個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキルカルボニル基であり、ｖおよびｗはそれぞれ独立して１〜２０の整数であり、ｍおよびｌはそれぞれ独立して１〜２０の整数である、を塗布する段階と、
前記感光性樹脂組成物の塗布層を露光する段階と、
露光された前記感光性樹脂組成物の塗布層を現像する段階と、
を含む、薄膜表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記感光性樹脂組成物を塗布する段階は、スリット型ノズルを用いて行われる、請求項１３に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記感光性樹脂組成物の塗布層を１．０乃至８．０μｍの厚さに形成する、請求項１３または１４に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記感光性樹脂組成物の塗布層を露光する段階より前に、前記感光性樹脂組成物から溶剤を除去する段階をさらに含む、請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１７】
露光した前記感光性樹脂組成物の塗布層を現像する段階より後に、露光する段階をさらに含む、請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１８】
露光した前記感光性樹脂組成物の塗布層を現像する段階より後に、後硬化段階をさらに含む、請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１９】
前記薄膜パターンを形成する段階は、
基板上にゲート電極を含むゲート線を形成する段階と、
前記ゲート線上にゲート絶縁膜および半導体層を順次に積層する段階と、
前記半導体層をエッチングする段階と、
前記半導体層上に配置されたデータ線およびソース電極に対して、所定の間隔を置いて対向しているドレイン電極を形成する段階と、
を含む、請求項１３〜１８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２０】
前記感光性樹脂組成物の塗布層を現像する段階において、前記感光性樹脂組成物が除去された領域を通じて、前記ドレイン電極と接続される画素電極を形成する段階をさらに含む、請求項１３〜１９のいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を含む薄膜表示装置およびその製造方法に関し、より詳しくは、液晶表示装置または有機発光表示素子等において絶縁膜材料として用いられる感光性樹脂組成物、ならびに該感光性樹脂組成物を含む薄膜表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）は、現在最も広く用いられている平板表示装置（ＦＰＤ）の一つであって、電極が形成されている２枚の基板、およびその間に挿入されている液晶層からなり、電極に電圧を印加して液晶層の液晶分子を再配列させることで、透過する光の量を調節する表示装置である。
【０００３】
現在主に用いられている液晶表示装置は、電界を形成させる電極が２つの表示板にそれぞれ具備されている形態である。この中でも、１つの表示板には複数の画素電極が列状に配列されており、もう１つの表示板には、表示板全面を覆う１つの共通電極が備えられている構造の形態が主流となっている。このような液晶表示装置において、画像表示は各画素電極に異なる電圧を印加することによって行われる。そのために、画素電極に印加される電圧をスイッチングするための三端子素子である薄膜トランジスタを各画素電極に接続させ、該薄膜トランジスタを制御するための信号を伝達するゲート線と、画素電極に印加される電圧を伝達するデータ線とを表示板に配置する。前記薄膜トランジスタは、ゲート線を通じて伝達される走査信号に従って、データ線を通じて伝達される画像信号を画素電極に伝達もしくは遮断するスイッチング素子としての役割を果たす。このような薄膜トランジスタは、自発光素子である能動型有機発光表示素子（ＡＭ−ＯＬＥＤ）においても、各発光素子を個別的に制御するスイッチング素子としての役割を果たす。
【０００４】
前記のような液晶表示装置または有機発光表示素子は、各層を絶縁するための絶縁膜を備える。該絶縁膜は有機物質もしくは無機物質から形成されるが、有機絶縁膜から形成される場合、無機絶縁膜から形成される場合と比べて透過率を向上させ、液晶表示装置等における視野角を拡大させ、輝度を向上させるというメリットがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、有機絶縁膜を用いる場合、該有機絶縁膜の材料となる感光性樹脂組成物の塗布時に、様々なムラが発生するという問題点がある。液晶表示装置が大型化するにつれて、基板を回転させて感光性樹脂組成物を塗布する既存のスピンコーティング方式の代わりに、スリット型ノズルをある一方向に移動させて感光性樹脂組成物を塗布するスリット塗布方式、または前記スリット塗布方式とスピンコーティング方式を併行するスピン＆スリット塗布方式が主に用いられる。この際、スリット型ノズルの進行方向に沿って発生する横筋ムラ、スリット型ノズルに一致して発生する縦筋ムラ、および基板全面に発生する不定形ムラなどが発生する。また、基板の端部は基板の中心部に比べて有機物質が厚く形成されるため後の現像工程で完全には溶解せず、それによる残留物がムラとなって残る。結果的にこのようなムラは表示装置の表示品質を低下させることになる。
【０００６】
本発明の目的は前記問題点を解決するためのものであって、塗布する際にムラが顕著に減少し、均一な膜厚で塗布できる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を含む薄膜表示装置およびその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため、本発明は、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤および溶剤を含み、前記界面活性剤は下記化学式（１）で表される有機フッ素系化合物、下記化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物、および下記化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物を含む、感光性樹脂組成物を提供する。
【０００８】
【化１】
2006184908.tif 000003
【０００９】
前記化学式（１）中、Ｒｆは５〜１０個の炭素原子を有する鎖状または分枝状のパーフルオロアルキレン基であり、Ｚは水素原子またはフッ素原子である、
【００１０】
【化２】
2006184908.tif 000004
【００１１】
前記化学式（２）中、Ｒは２〜５個の炭素原子を有する鎖状または分枝状アルキレン基であり、ｘおよびｙはそれぞれ独立して１〜２０の整数である、
【００１２】
【化３】
2006184908.tif 000005
【００１３】
前記化学式（３）中、Ｒ’は１〜２０個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキル基、または２〜２１個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキルカルボニル基であり、ｖおよびｗはそれぞれ独立して１〜２０の整数であり、ｍおよびｌはそれぞれ独立して１〜２０の整数である。
【００１４】
また、本発明は、基板と、該基板上に形成されている薄膜パターンと、該薄膜パターン上に形成されて感光性樹脂組成物からなる絶縁膜とを含み、前記感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤および溶剤を含み、前記界面活性剤は、下記の化学式（１）で表される有機フッ素系化合物、下記の化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物、および下記の化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物を含む、薄膜表示装置を提供する。
【００１５】
【化４】
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【００１６】
前記化学式（１）中、Ｒｆは５〜１０個の炭素原子を有する鎖状または分枝状のパーフルオロアルキレン基であり、Ｚは水素原子またはフッ素原子である、
【００１７】
【化５】
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【００１８】
前記化学式（２）中、Ｒは２〜５個の炭素原子を有する鎖状または分枝状アルキレン基であり、ｘおよびｙはそれぞれ独立して１〜２０の整数である、
【００１９】
【化６】
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【００２０】
前記化学式（３）中、Ｒ’は１〜２０個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキル基、または２〜２１個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキルカルボニル基であり、ｖおよびｗはそれぞれ独立して１〜２０の整数であり、ｍおよびｌはそれぞれ独立して１〜２０の整数である。
【００２１】
さらに、本発明は、基板上に薄膜パターンを形成する段階と、前記薄膜パターン上にアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤および溶剤を含み、前記界面活性剤は、下記の化学式（１）で表される有機フッ素系化合物、下記の化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物、および下記の化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物を含む感光性樹脂組成物：
【００２２】
【化７】
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【００２３】
前記化学式（１）中、Ｒｆは５〜１０個の炭素原子を有する鎖状または分枝状のパーフルオロアルキレン基であり、Ｚは水素原子またはフッ素原子である、
【００２４】
【化８】
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【００２５】
前記化学式（２）中、Ｒは２〜５個の炭素原子を有する鎖状または分枝状アルキレン基であり、ｘおよびｙはそれぞれ独立して１〜２０の整数である、
【００２６】
【化９】
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【００２７】
前記化学式（３）中、Ｒ’は１〜２０個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキル基、または２〜２１個の炭素原子を有する鎖状または分枝状のアルキルカルボニル基であり、ｖおよびｗはそれぞれ独立して１〜２０の整数であり、ｍおよびｌはそれぞれ独立して１〜２０の整数である、を塗布する段階と、前記感光性樹脂組成物の塗布層を露光する段階と、露光した前記感光性樹脂組成物の塗布層を現像する段階と、を含む、薄膜表示装置の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、塗布する際にムラが顕著に減少し、均一な膜厚で塗布できる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を含む薄膜表示装置およびその製造方法を提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明による感光性樹脂組成物について、より具体的に説明する。
【００３０】
本発明による感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤および溶剤を含む。
【００３１】
前記感光性樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂は、硬化性を有する化合物であることが好ましく、例えば、不飽和カルボン酸から誘導される構成単位（ａ１）、および架橋基を有する不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ２）を含む共重合体が好ましく用いられ、この際構成単位（ａ２）は、不飽和カルボン酸を含まない。
【００３２】
前記構成単位（ａ１）には、例えば不飽和モノカルボン酸または不飽和ジカルボン酸のように、分子中に単数または複数のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸などが含まれる。前記不飽和カルボン酸として、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、または桂皮酸などがある。
【００３３】
前記構成単位（ａ２）には、例えばグリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、３−エチル−３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、４−メチル−４，５−エポキシペンチル（メタ）アクリレート、２，３−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、１−ビニルシクロヘキセンオキシド、３−ビニルシクロヘキセンオキシド、または４−ビニルシクロヘキセンオキシドなどのエポキシ基を含有する不飽和化合物；３−メタ−クリルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン、２−フェニル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−メタアクリルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリルオキシエチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリルオキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−メタクリルオキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−メタクリルオキシエチルオキセタン、または２−ペンタフルオロエチル−３−メタクリルオキシエチルオキセタンなどのオキセタニル基を含有する不飽和化合物などが含まれる。
【００３４】
前記構成単位（ａ２）としては、前記オキセタニル基を含有する不飽和化合物が好ましく、例えば３−メタクリルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン、２−フェニル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリルオキシエチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリルオキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−メタクリルオキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−メタアクリルオキシエチルオキセタン、または２−ペンタフルオロエチル−３−メタクリルオキシエチルオキセタンなどが含まれ、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタンがより好ましい。
【００３５】
構成単位（ａ２）として、前記オキセタニル基を含有する不飽和化合物を含むアルカリ可溶性樹脂を使用して、感光性樹脂組成物を調製する場合、前記感光性樹脂組成物の保存安定性の面で特に有利である。
【００３６】
本発明における硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂は、オレフィン性二重結合を有するカルボン酸エステルから誘導される構成単位（ａ３１）、重合性の炭素−炭素の不飽和結合を有する芳香族化合物から誘導される構成単位（ａ３２）、シアン化ビニル化合物から誘導される構成単位（ａ３３）、およびＮ−置換マレイミド化合物から誘導される構成単位（ａ３４）からなる群より選択される少なくとも１種の構成単位（ａ３）をさらに含むことができる。
【００３７】
前記構成単位（ａ３１）のカルボン酸エステルとしては、例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、フェニルメタクリレート、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの不飽和カルボン酸エステル；アミノエチルメタクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル；酢酸ビニルまたはプロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステルなどが含まれる。
【００３８】
前記構成単位（ａ３２）の重合性の炭素−炭素の不飽和結合を有する芳香族化合物としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、またはビニルトルエンなどが含まれる。
【００３９】
前記構成単位（ａ３３）のシアン化ビニル化合物としては、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、またはα−クロロ（メタ）アクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物など含まれる。
【００４０】
前記構成単位（ａ３４）のＮ−置換マレイミド化合物としては、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（４−アセチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ジメチルアミノ−３，５−ジニトロフェニル）マレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−（１−アニリノナフチル−４）−マレイミド、Ｎ−[４−（２−ベンズオキサゾリル）フェニル]マレイミド、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミドなどが含まれる。
【００４１】
前記構成単位（ａ１）、（ａ２）、（ａ３１）、（ａ３２）、（ａ３３）、および（ａ３４）は、それぞれに対して上記例示した化合物単位の単数または複数の組み合わせで用いることができる。
【００４２】
不飽和カルボン酸から誘導される構成単位（ａ１）および架橋基を有する不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ２）を含む共重合体において、前記構成単位（ａ１）は共重合体の構成単位の総モル数に対して、好ましくは５乃至５０モル％、より好ましくは１５乃至４０モル％含まれる。また、構成単位（ａ２）は、共重合体構成単位の合計モル数に対して、好ましくは５０乃至９５モル％、より好ましくは６０乃至８５モル％含まれる。
【００４３】
本発明の感光性樹脂組成物において、共重合体の構成単位（ａ１）および（ａ２）が前記のような範囲で含まれる場合、現像液に対し適当な溶解速度および高い硬化性を有することができる。
【００４４】
本発明の感光性樹脂組成物において、前記アルカリ可溶性樹脂が構成単位（ａ１）および（ａ２）に加えて、任意の成分として別の構成単位（ａ３）をさらに含む場合、前記（ａ３）の構成比率は共重合体を構成する全構成単位の合計モル数に対するモル分率で、好ましくは０．０１乃至９０モル％、より好ましくは０．０１乃至８０モル％である。
【００４５】
前記構成単位を有する共重合体の調製方法は、例えば、
（１）Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，ＰａｒｔＡ  Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．，（１９６８）、６（２）、ｐ．２５７〜２６７に記載されているように、単量体および重合開始剤を有機溶媒に混合し、必要に応じて連鎖移動剤を混合し、６０〜３００℃で溶液重合する方法；
（２） Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，ＰａｒｔＡ  Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．，（１９８３）、２１（１０）、ｐ．２９４９〜２９６０に記載されているように、単量体が溶解されない溶媒を使用して、６０〜３００℃で懸濁重合または乳化重合する方法;
（３）特開平６−８０７３５号公報に記載されているように、６０〜２００℃で塊状重合する方法；
（４）特開平１０−１９５１１１号公報に記載されているように、用いる単量体などを連続的に重合器に供給し、重合器内で重合開始剤の存在下または非存在下で、１８０〜３００℃で５〜６０分間加熱し、得られた反応物を連続的に重合器の外で取出す方法；
などがある。
【００４６】
特にその中でも、単量体および重合開始剤を有機溶媒に混合して反応させる方法、重合開始剤を添加した有機溶剤中に単量体を連続的に供給する方法、単量体および重合開始剤を有機溶剤中に連続的に供給する方法が好ましい。反応熱を分散させるためには、単量体を連続的に供給することが好ましい。さらに、分子量分布の狭い高分子化合物を得るためには、重合開始剤も連続的に供給することが好ましい。
【００４７】
前記構成単位を有する共重合体を得る反応の反応温度は、好ましくは４０乃至２００℃、より好ましくは５０乃至１５０℃、最も好ましくは６０乃至１２０℃であり、反応時間は好ましくは１乃至２０時間、より好ましくは２乃至１０時間である。単量体を連続的に供給する場合、そのすべての量を１乃至５時間にわたって供給し、その後１乃至１０時間の間連続加熱する方法も好ましい。この際、総反応液の質量に対する総モノマーの質量は、好ましくは１０乃至７０質量％、より好ましくは２０乃至６０質量％である。
【００４８】
前記構成単位を有する共重合体を得る反応の有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、エーテルグリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールなどのエーテル類；エチルアセテート、ブチルアセテート、アミルアセテート、メチルラクテート、エチルラクテート、ブチルラクテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ−１−ブチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、１，３−プロパンジオールジアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシイソブタン酸メチル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、γ―ブチロラクトンなどのエステル類；およびトルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素などが挙げられる。
【００４９】
前記有機溶媒としては、２種類以上の有機溶媒を用いることもできる。
【００５０】
構成単位（ａ１）および（ａ２）を含む共重合体としては、例えば、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリル酸／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリル酸／メタクリル酸／スチレン共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／スチレン共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／シクロヘキシルメタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／メタクリル酸メチル共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ｔ−ブチルメタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／イソボニルメタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ベンジルアクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／シクロヘキシルアクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／イソボニルアクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ジシクロペンタニルメタクリル酸共重合体、または３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ｔ−ブチルアクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／フェニルマレイミド共重合体、３−エチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン／メタクリル酸／シクロヘキシルマレイミド共重合体などがある。
【００５１】
構成単位（ａ１）および（ａ２）を含む共重合体の重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフィ（Ｇｅｌ  Ｐｅｒｍｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ：ＧＰＣ）によるポリスチレン換算値で、好ましくは２，０００乃至１００，０００、より好ましくは２，０００乃至５０，０００、最も好ましくは３，０００乃至２０，０００である。重量平均分子量が前記範囲である場合、現像の時に残留する膜の比率（残膜率）を維持しながら、速い現像速度が得ることができ好ましい。
【００５２】
本発明による感光性樹脂組成物において、構成単位（ａ１）および（ａ２）を含む共重合体の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して好ましくは５０乃至９８質量％、より好ましくは６０乃至９５質量％である。共重合体の含有量が前記の範囲にあると、感光特性を維持することができ、また他の成分を含有することができるので、好ましい。
【００５３】
本発明の感光性樹脂組成物において、キノンジアジド化合物としては、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、または１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどが含まれる。
【００５４】
キノンジアジド化合物の詳細な例としては、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、または２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのトリヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、または２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのテトラヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、または２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのペンタヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、または３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのヘキサヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、４，４’−[１−[４−[１−[４−ヒドロキシフェニル]−１−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、または２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのポリヒドロキシフェニルアルカン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルなどが含まれる。
【００５５】
前記キノンジアジド化合物は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５６】
本発明において、前記キノンジアジド化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、好ましくは１．７乃至４９．９９９７質量％、より好ましくは５乃至４０質量％である。
【００５７】
キノンジアジド化合物が前記のような範囲で含まれる場合、未露光部と露光部との溶解速度差が大きくなり、現像後の残膜率が高く維持されて好ましい。
【００５８】
本発明の感光性樹脂組成物は溶剤を含有する。この溶剤としては、例えばエチレンクリコールモノメチルエーテル、エチレンクリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ペンチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ヘプチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−オクチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールメチル−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチル−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチル−ｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコールエチル−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールエチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールエチル−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールエチル−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールエチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールエチル−ｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコール−ｎ−プロピルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコール−ｎ−プロピル−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコール−ｎ−プロピル−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコール−ｎ−プロピル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコール−ｎ−プロピル−ｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピル−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピル−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピル−ｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコール−ｎ−ブチル−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコール−ｎ−ブチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコール−ｎ−ブチル−ｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコール−ｓｅｃ−ブチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコール−ｓｅｃ−ブチル−ｎ−ペンチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類；３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシイソブタン酸メチル、エチルラクテート、ブチルラクテート、ブチルアセテート、アミルアセテート、ピルピン酸メチル、１，３−ブタンジオールジアセテートなどのエステル類などが含まれる。前記溶剤は、単独でまたは組み合わせて用いられる。
【００５９】
前記に例として挙げた溶剤のなかでは、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルラクテート、ブチルラクテート、ブチルアセテートなどが好ましく、この好ましい溶剤を組み合わせることも好ましい。好ましい溶媒の組み合わせとしては、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよび３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびエチルラクテート、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびブチルラクテート、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびブチルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよび３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびエチルラクテート、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびブチルラクテート、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびブチルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよび３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびエチルラクテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびブチルラクテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびブチルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチルおよびエチルラクテート、３−エトキシプロピオン酸エチルおよびブチルラクテート、ならびに３−エトキシプロピオン酸エチルおよびブチルアセテートなどの組み合わせがあり、より好ましくは、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよび３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびブチルラクテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよび３−エトキシプロピオン酸エチル、ならびにジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびブチルアセテートの組み合わせであり、特に好ましくは、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよび３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびブチルラクテート、ならびにジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびブチルアセテートの組み合わせである。
【００６０】
前記溶剤の含有量は、前記感光性樹脂組成物の総質量に対する質量％で、好ましくは５０乃至９５質量％、より好ましくは７０乃至９０質量％である。
【００６１】
特に、スリット型ノズルで塗布する工程のみがある塗布装置に、前記感光性樹脂組成物を適用する際の溶剤の含有量は、前記感光性樹脂組成物の総質量に対して、７５乃至９０質量％であるのが最も好ましい。また、スリット型ノズルで塗布する工程と共に、前記感光性樹脂組成物が塗布された基板を回転させる工程をさらに含む塗布装置に、前記感光性樹脂組成物を適用する場合、溶剤の含有量は前記感光性樹脂組成物の総質量に対して、６５乃至８０質量％であるのが最も好ましい。
【００６２】
溶剤の含有量が前記のような範囲である場合、ムラの少ない塗布膜を形成できる。
【００６３】
本発明による感光性樹脂組成物は、前記アルカリ可溶性樹脂、前記キノンジアジド化合物、および前記溶剤に加えて界面活性剤をさらに含む。
【００６４】
前記界面活性剤は、下記化学式（１）で表される有機フッ素系化合物、下記化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物、および下記化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物を含む。
【００６５】
【化１０】
2006184908.tif 000012
【００６６】
前記化学式（１）中、Ｒｆは５〜１０個の炭素原子を有する鎖状または分枝状のパーフルオロアルキレン基であり、Ｚは水素原子またはフッ素原子である、
【００６７】
【化１１】
2006184908.tif 000013
【００６８】
前記化学式（２）中、Ｒは２〜５個の炭素原子を有する鎖状または分枝状アルキレン基であり、ｘおよびｙはそれぞれ独立して１〜２０の整数である、
【００６９】
【化１２】
2006184908.tif 000014
【００７０】
前記化学式（３）中、Ｒ’は１〜２０個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキル基、または２〜２１個の炭素原子を有する鎖状もしくは分枝状のアルキルカルボニル基であり、ｖおよびｗはそれぞれ独立して１〜２０の整数であり、ｍおよびｌはそれぞれ独立して１〜２０である。
【００７１】
前記化学式（１）で表される有機フッ素系化合物において、Ｒｆとしては、例えば１，１，２，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロ−ｎ−ペンチレン基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロ−ｎ−ヘキシレン基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−テトラデカフルオロ−ｎ−ヘプチレン基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−ヘキサデカフルオロ−ｎ−オクチレン基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−オクタデカフルオロ−ｎ−ノニレン基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０−イコサフルオロ−ｎ−デシレン基、１，１，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ウンデカフルオロ−２−ペンタフルオロエチルヘキシレン基などが含まれ、好ましくは１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロ−ｎ−ヘキシレン基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−ヘキサデカフルオロ−ｎ−オクチレン基、パーフルオロｎ−デシレン基である。
【００７２】
前記有機フッ素系化合物の例としては、例えば３−パーフルオロヘキシル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロデシル−１，２−エポキシプロパンが含まれ、特に３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパンが好ましい。
【００７３】
この際、前記有機フッ素系化合物の含有量は、前記感光性樹脂組成物の総質量に対して、好ましくは１乃至１，０００ｐｐｍ（１×１０−４乃至０．１質量％）、より好ましくは１０乃至５００ｐｐｍ（１×１０−３乃至０．０５質量％）、最も好ましくは５０乃至３００ｐｐｍ（５×１０−３乃至０．０３質量％）である。前記有機フッ素化合物が、前記のような範囲で感光性樹脂組成物中に含まれている場合、ムラの少ない塗布膜を形成することができる。
【００７４】
前記化学式（２）で表される第１のシリコーン化合物および前記化学式（３）で表されるおよび第２のシリコーン系化合物において、Ｒとしては、エチレン基、ｎ−プロピレン基、ｎ−ブチレン基、ペンタメチレン基、イソプロピレン基、２−メチル−ｎ−プロピレン基、３−メチル−ｎ−プロピレン基、２−メチル−ｎ−ブチレン基、３−メチル−ｎ−ブチレン基、および２，２−ジメチル−ｎ−プロピレン基などが好ましく、エチレン基、ｎ−プロピレン基、およびイソプロピレン基が特に好ましい。
【００７５】
また、前記化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物において、ｘは１乃至２０の整数であり、２乃至６の整数が好ましい。ｙは１乃至２０の整数であり、５乃至１０の整数が好ましい。
【００７６】
また、ｘおよびｙの整数の組み合わせとしては、前記の範囲内で任意に組み合わせることができ、特に前記の好ましい範囲内で組み合わせるのが好ましい。
【００７７】
前記化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物としては、例えばビス（トリメチルシロキシ）メチルシランと、ポリアルキレングリコールモノアリルエーテルとの反応物があり、特にビス（トリメチルシロキシ）メチルシランと、分子量が２００乃至５００のポリエチレングリコールモノアリルエーテルとの反応物が好ましい。
【００７８】
前記化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物の含有量は、感光性樹脂の総質量に対して、好ましくは１乃至１０００ｐｐｍ（１×１０−４乃至０．１質量％）、より好ましくは１０乃至５００ｐｐｍ（１×１０−３乃至０．０５質量％）、最も好ましくは５０乃至３００ｐｐｍ（５×１０−３乃至０．０３質量％）である。前記のような範囲である場合、ムラの少ない塗布膜を形成することができる。
【００７９】
前記化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物中のＲ’としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−メチルヘキシル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基、ｎ−ノニルカルボニル基、ｎ−デシルカルボニル基、ｎ−ドデシルカルボニル基、ｎ−ウンデシルカルボニル基、ｎ−テトラデシルカルボニル基、ｎ−ヘキサデシルカルボニル基、ｎ−オクタデシルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基、２−メチルヘキシルカルボニル基などが含まれ、特に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−メチルヘキシル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基、ｎ−デシルカルボニル基、ｎ−ウンデシルカルボニル基、ｎ−テトラデシルカルボニル基、ｎ−ヘキサデシルカルボニル基、ｎ−オクタデシルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基、２−メチルヘキシルカルボニル基が好ましい。
【００８０】
前記化学式（３）中、ｖは１乃至２０の整数であり、２乃至６の整数が好ましい。
【００８１】
前記化学式（３）中、ｗは１乃至２０の整数であり、５乃至１０の整数が好ましい。
【００８２】
前記ｖおよびｗは前記範囲内であれば任意に組み合わせることができ、前記好ましい範囲で組み合わせることが好ましい。
【００８３】
前記化学式（３）中、ｍは１乃至２０の整数であり、特に１乃至９の整数が好ましい。
【００８４】
前記化学式（３）中、ｌは１乃至２０の整数であり、特に１乃至９の整数が好ましい。
【００８５】
前記ｍおよびｌは前記範囲内であれば任意に組み合わせることができる。
【００８６】
前記化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物としては、トリメチルシリル末端のジメチルシロキサン−メチルシロキサン共重合体と、ポリアルキレングリコールアリルアルキルエーテルまたはポリアルキレングリコールアリルエーテルのカルボン酸エステルとの反応物が含まれ、特に、トリメチルシリル末端のジメチルシロキサン−メチルシロキサン共重合体と、ポリエチレングリコールアリルアルキルエーテルまたはポリエチレングリコールアリルエーテルのカルボン酸エステルとの反応物が好ましい。
【００８７】
前記化学式（３）で表される前記第２のシリコーン系化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の総質量に対して、好ましくは１乃至１０００ｐｐｍ（１×１０−４乃至０．１質量％）、より好ましくは１０乃至５００ｐｐｍ（１×１０−３乃至０．０５質量％）、最も好ましくは５０乃至３００ｐｐｍ（５×１０−３乃至０．０３質量％）である。前記のような範囲で含まれる場合、ムラの少ない塗布膜を形成することができる。
【００８８】
前記化学式（１）で表される有機フッ素系化合物の含有量を、前記界面活性剤の総質量に対してｄ質量％とし、前記化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物の含有量を、前記界面活性剤の総質量に対してｅ質量％とし、前記化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物の含有量を、前記界面活性剤の総質量に対してｆ質量％とした場合、ｄ、ｅ、ｆはそれぞれ、１０≦ｄ≦５０、１０≦ｅ≦５０、１０≦ｆ≦５０（ただし、ｄ＋ｅ＋ｆ≦１００）であることが好ましい。ｄが１０未満である場合、前記感光性樹脂組成物から形成される膜の中心部および端部において膜厚が異なる現象が発生する場合があり、ｄが５０を超える場合、前記感光性樹脂組成物の塗布時に不定形ムラが発生する場合がある。
【００８９】
また、ｅが１０未満である場合、前記感光性樹脂組成物の塗布時に不定形ムラが発生する場合があり、ｅが５０を超える場合、前記感光性樹脂組成物から形成される膜の中心部および端部において膜厚が異なる現象が著しくなって、厚さの均一性が低下する場合がある。
【００９０】
さらにｆが前記範囲以外の場合、接着力において悪影響を与える場合がある。
【００９１】
前記化学式（１）で表される有機フッ素系化合物、前記化学式（２）で表される第１のシリコーン系化合物、および前記化学式（３）で表される第２のシリコーン系化合物を含む界面活性剤の含有量は、感光性樹脂組成物の総質量に対して３乃至３０００ｐｐｍ（３×１０−４乃至０．３質量％）であることが好ましい。前記の範囲にあると、固形物を均一に溶解する界面活性剤として作用し、感光特性に影響を与えにくい傾向があり、好ましい。前記範囲において、溶解性および感光性を考慮する場合、より好ましくは５乃至８００ｐｐｍ（５×１０−４乃至０．０８質量％）、最も好ましくは１０乃至８００ｐｐｍ（１×１０−３乃至０．０８質量％）である。界面活性剤の含有量が前記のような範囲である場合、ムラの少ない塗布膜を形成することができる。
【００９２】
前記化学式（１）、（２）および（３）で表される化合物を含む界面活性剤は、アルカリ可溶性樹脂およびキノンジアジド化合物のような固形成分を、溶剤に均一に溶解させる役割を果たす。これにより、基板などに絶縁膜として感光性樹脂組成物を塗布する場合、充分に均一に拡散された状態が得られうる。
【００９３】
従来の感光性樹脂組成物の中には、拡散状態が不良であるため絶縁膜として基板などに塗布した場合、厚さが不均一になるものがある。このような不均一な膜に光が透過、反射する場合、絶縁膜の厚さの不均一性が外部からムラとして認識され、表示特性が低下するという問題点を有する。また、基板端部に感光性樹脂がより厚く塗布され、絶縁膜の中心部および端部において膜厚が異なる、いわゆるビルドアップ（ｂｕｉｌｄ−ｕｐ）現象が生じ、そのため絶縁膜の端部の現像が不完全となる問題が発生する可能性がある。
【００９４】
本発明による感光性樹脂組成物は、前記化学式（１）、（２）、および（３）で表される化合物を含む界面活性剤が、前記アルカリ可溶性樹脂、前記キノンジアジド化合物、および前記溶剤と混合されて、均一な膜厚で塗布できる感光性樹脂組成物を形成することによって、前記の問題点を顕著に改善することができる。
【００９５】
本発明による感光性樹脂組成物は、前記アルカリ可溶性樹脂、前記キノンジアジド化合物、前記界面活性剤および前記溶剤の他に、カチオン重合開始剤、フェノール化合物、架橋剤、重合性モノマー、またはシランカップリング剤などをさらに含有しても良い。
【００９６】
前記カチオン重合開始剤の例としては、オニウム塩がある。前記オニウム塩は、オニウムカチオンおよびルイス塩基からなる。
【００９７】
前記オニウムカチオンの具体的な例としては、ジフェニルヨードニウムイオン、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムイオン、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムイオン、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムイオン、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムイオン、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムイオン、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムイオン、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムイオン、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムイオン、トリフェニルスルホニウムイオン、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムイオン、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムイオン、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムイオン、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムイオン、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムイオン、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムイオン、ジメチルメトキシスルホニウムイオン、ジメチルエトキシスルホニウムイオン、ジメチルプロポキシスルホニウムイオン、ジメチルブトキシスルホニウムイオン、ジメチルオクチルオキシスルホニウムイオン、ジメチルオクタデカンオキシスルホニウムイオン、ジメチルイソプロポキシスルホニウムイオン、ジメチルｔ−ブトキシスルホニウムイオン、ジメチルシクロペンチルオキシスルホニウムイオン、ジメチルシクロヘキシルオキシスルホニウムイオン、ジメチルフルオロメトキシスルホニウムイオン、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムイオン、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムイオン、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムイオン、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムイオン、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムイオン、およびジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムイオンなどが含まれる。
【００９８】
特に、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムイオン、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムイオン、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムイオン、トリフェニルスルホニウムイオン、およびトリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムイオンが好ましい。
【００９９】
前記ルイス塩基の具体的な例としては、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセナート、ヘキサフルオロアンチモネート、またはテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが含まれ、ヘキサフルオロアンチモナート、またはテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好ましい。
【０１００】
前記オニウムカチオンおよびルイス塩基は、任意に組み合わせることができる。
【０１０１】
カチオン重合開始剤の具体的な例としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェンル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルメトキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルエトキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルプロポキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルブトキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルオクチルオキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルオクタデカンオキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルイソプロポキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルｔ−ブトキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルシクロペンチルオキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルシクロヘキシルオキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルフルオロメトキシスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルメトキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルエトキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルプロポキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルブトキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルオクチルオキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルオクタデカンオキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルイソプロポキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルｔ−ブトキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルシクロペンチルオキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルシクロヘキシルオキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチルフルオロメトキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムフルオロアンチモナート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルメトキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルエトキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルプロポキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルブトキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルオクチルオキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルオクタデカンオキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルイソプロポキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル（ｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルシクロペンチルオキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルシクロヘキシルオキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルフルオロメトキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンモナート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルナフチルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、エチルナフチルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルナフチルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジエチルナフチルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルメトキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルエトキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルプロポキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルブトキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルオクチルオキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルオクタデカンオキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルイソプロポキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルｔ−ブトキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルシクロペンチルオキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルシクロヘキシルオキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルフルオロメトキシスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２
−クロロエトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどがあり、好ましくはビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセナート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートであり、特に好ましくは、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、およびトリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
【０１０２】
前記カチオン重合開始剤を用いる場合、その含有量は感光性樹脂組成物の全固形分に対して、好ましくは０．０１乃至１０質量％、より好ましくは０．１乃至５質量％である。重合開始剤の含有量が前記のような範囲である場合、熱硬化時の硬化速度を向上させ、熱硬化時の解像度の低下を抑制すると共に、硬化膜の耐溶剤性が向上させる傾向を有するため好ましい。
【０１０３】
前記フェノール化合物には、分子中に２つ以上のフェノール性ヒドロキシル基（−ＯＨ）を含む化合物、ヒドロキシスチレンを原料モノマーとする重合体、またはノボラック樹脂などが含まれる。
【０１０４】
前記分子中に２つ以上のフェノール性ヒドロキシル基を含む化合物としては、例えばキノンジアジド化合物の説明で例示した、トリヒドロキシベンゾフェノン類、テトラヒドロキシベンゾフェノン類、ペンタヒドロキシベンゾフェノン類、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン類、および（ポリヒドロキシフェニル）アルカン類などのフェノール類が含まれる。
【０１０５】
また、ヒドロキシスチレンを原料モノマーとする重合体の具体的な例としては、ポリヒドロキシスチレン、ヒドロキシスチレン／メチルメタクリレート共重合体、ヒドロキシスチレン／シクロヘキシルメタクリレート共重合体、ヒドロキシスチレン／スチレン共重合体、およびヒドロキシスチレン／アルコキシスチレン共重合体などが含まれる。
【０１０６】
また、前記ノボラック樹脂には、例えばフェノール類、クレゾール類およびカテコール類からなる群より選択された１種以上の化合物と、アルデヒド類およびケトン類からなる群より選択された１種以上の化合物とを、重合して得られる樹脂が含まれる。
【０１０７】
前記フェノール化合物を含有する場合、その含有量は感光性樹脂組成物の全固形分に対して、好ましくは０．０１乃至４０質量％、より好ましくは０．１乃至２５質量％である。フェノール化合物の含有量が前記範囲である場合、解像度が向上し、可視光透過率が低下しない傾向があって好ましい。
【０１０８】
前記架橋剤にはメチロール化合物などが含まれる。
【０１０９】
前記メチロール化合物としては、アルコキシメチル化メラミン樹脂、およびアルコキシメチル化尿素樹脂などのアルコキシメチル化アミノ樹脂などが含まれる。アルコキシメチル化メラミン樹脂としては、例えばメトキシメチル化メラミン樹脂、エトキシメチル化メラミン樹脂、プロポキシメチル化メラミン樹脂、およびブトキシメチル化メラミン樹脂などが含まれる。また、アルコキシメチル化尿素樹脂としては、例えばメトキシメチル化尿素樹脂、エトキシメチル化尿素樹脂、プロポキシメチル化尿素樹脂、およびブトキシメチル化尿素樹脂などが含まれる。
【０１１０】
前記架橋剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１１】
本発明の感光性樹脂組成物において架橋剤を用いる場合、その含有量は感光性樹脂組成物の全固形分に対して好ましくは０．０１乃至１５質量％である。架橋剤の含有量が前記の範囲であるとき、本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる膜の可視光透過率が増大し、パターンの性能が向上して好ましい。
【０１１２】
前記重合性モノマーとしては、例えば加熱によってラジカル重合しうる重合性モノマー、またはカチオン重合しうる重合性モノマーなどが含まれる。特に、カチオン重合しうる重合性モノマーが好ましい。
【０１１３】
前記ラジカル重合によって得られた重合性モノマーとして、例えば重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物などが含まれる。前記重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物は、単官能の重合性モノマー、二官能の重合性モノマー、または三官能以上の重合性モノマーであり得る。
【０１１４】
単官能の重合性モノマーとしては、例えばノニルフェニルカルビトールアクリレート、ノニルフェニルカルビトールメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールメタアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、およびＮ−ビニルピロリドンなどが含まれる。
【０１１５】
二官能の重合性モノマーとしては、例えば１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロキシエチル）エーテル、３−メチルペンタンジオールジアクリレート、および３−メチルペンタンジオールジメタクリレートなどが含まれる。
【０１１６】
三官能以上の重合性モノマーとしては、例えばトリメチルオールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、およびジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートなどが含まれる。
【０１１７】
前記重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物において、特に二官能または三官能以上の重合性モノマーが好ましく用いられる。詳細には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、またはジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートがより好ましい。また、２官能または多官能の重合性モノマーと、単官能の重合性モノマーとを組み合わせて用いることもできる。
【０１１８】
カチオン重合しうる重合性モノマーとしては、例えばビニルエーテル基、プロペニルエーテル基、エポキシ基、およびオキセタニル基などのカチオン重合性の官能基を有するモノマーが含まれる。
【０１１９】
前記ビニルエーテル基を含むモノマーとしては、例えばトリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、およびドデシルビニルエーテルなどが含まれる。
【０１２０】
前記プロペニルエーテル基を含むモノマーとしては、４−（１−プロペニルオキシメチル）−１，３−ジオキソラン−２−オンなどが含まれる。
【０１２１】
前記エポキシ基を含む化合物としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、および複素環式エポキシ樹脂などが含まれる。
【０１２２】
前記オキセタニル基を含む化合物としては、例えばビス［３−（３−エチルオキセタニル）メチル］エーテル、１，４−ビス［３−（３−エチルオキセタニル）メトキシ］ベンゼン、１，３−ビス［３−（３−エチルオキセタニル）メトキシ］ベンゼン、１，４−ビス［３−（３−エチルオキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン、１，３−ビス［３−（３−エチルオキセタニル）メトキシ］ベンゼン、１，４−ビス［３−（３−エチルオキセタニル）メトキシ］シクロヘキサン、１，３−ビス［３−（３−エチルオキセタニル）メトキシ］シクロヘキサン、１，４−ビス［３−（３−エチルオキセタニル）メトキシメチル］シクロヘキサン、１，３−ビス［３−（３−エチルオキセタニル）メトキシメチル］シクロヘキサン、および３−（３−エチルオキセタニル）メチル化ノボラック樹脂などが含まれる。
【０１２３】
前記重合性モノマーは、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。前記重合性モノマーを含有する場合、その含有量は本発明の感光性樹脂組成物の全固形分に対して、好ましくは０．００１乃至２０質量％、より好ましくは０．０１乃至１０質量％である。
【０１２４】
前記シランカップリング剤としては、例えばメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−クロロプロピル−トリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチル−ジクロロシラン、３−クロロプロピルメチル−ジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチル−ジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピル−トリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピル−トリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチル−ジメトキシシラン、３−メルカプトプロピル−トリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピル−トリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチル−ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル−トリメトキシシラン、Ｎ−２−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、ジアミノシラン、トリアミノプロピル−トリメトキシシラン、３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、３−アミノプロピル−トリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチル−ジエトキシシラン、３−アミノプロピル−トリス（２−メトキシエトキシエトキシ）シラン、３−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、３−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチル−ジメトキシシラン、３−ウレイドプロピル−トリメトキシシラン、３−ウレイドプロピル−トリエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、N−アミノエチル−３−アミノプロピルメチル−ジメトキシシラン、Ｎ−メチル−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピル−トリメトキシシランなどが含まれ、好ましくは３−グリシドキシプロピル−トリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピル−トリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチル−ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル−トリメトキシシランであり、より好ましくは２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル−トリメトキシシランである。
【０１２５】
前記シランカップリング剤を含有する場合、その含有量は本発明の感光性樹脂組成物の全固形分に対して好ましくは０．０１乃至１０質量％、より好ましくは０．１乃至２質量％、最も好ましくは０．２乃至１質量％である。前記のような範囲で含まれる場合、本発明の感光性樹脂組成物から形成されるパターンと基板との密着性が向上して好ましい。
【０１２６】
本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じて別の成分、例えば酸化防止剤、溶解抑止制、増減制、紫外線吸収剤、光安定剤、接着性改良剤または電子供与体などの各種添加物をさらに含むこともできる。
【０１２７】
本発明の感光性樹脂組成物は、例えば前記アルカリ可溶性樹脂を溶剤に溶解した溶液、前記キノンジアジド化合物を溶剤に溶解した溶液、および界面活性剤を溶剤と混合した溶液を混合して調製できる。
【０１２８】
また、前記アルカリ可溶性樹脂、前記キノンジアジド化合物、および前記界面活性剤を混合した後、溶剤と混合して調製することも可能である。その場合、溶液を混合した後、濾過して不溶な固形分を除去するのが好ましい。この際、濾過は、孔径が好ましくは３μｍ以下、より好ましくは０．１乃至２μｍ程度のフィルターを用い手行うとよい。前記アルカリ可溶性樹脂および前記キノンジアジド化合物に対して用いる溶剤は互いに同じであるか、または異なっても良い。また、互いに混合する溶剤である場合、複数の溶剤を混合して使用することもできる。
【０１２９】
以下、前記感光性樹脂組成物のパターンを形成する方法について詳細に説明する。
【０１３０】
まず、透明ガラスなどから形成される基板上に、前記感光性樹脂組成物からなる層を形成した後、露光および現像を行う。この時、前記基板上には薄膜トランジスタ、カラーフィルタ、有機発光表示素子のような単一層または多層の薄膜パターンが形成されることもある。
【０１３１】
前記感光性樹脂組成物からなる層は、様々な方法で基板上に塗布できる。例えば、スリット型ノズルを備えた塗布装置を利用するスリット塗布法、スリット型ノズルを利用して１次塗布した後、例えばスピンコーターなどを利用して２次塗布するスリット＆スピン塗布法、ダイ塗布法、またはカーテンプロ塗布法などがあり、好ましくはスリット＆スピン塗布法が用いられる。また、塗布後プレベーク処理によって溶剤などの揮発成分を揮発させることで感光性樹脂組成物層を形成することができ、これにより、前記感光性樹脂組成物層は揮発成分をほとんど含有しなくなる。また、前記感光性樹脂組成物層は約１．０乃至８．０μｍ程度の厚さに形成できる。
【０１３２】
その後、感光性樹脂組成物層にマスクによって１次露光する。マスクのパターンは硬化樹脂パターンの目的に応じて適切に選択する。前記１次露光は、例えばｇ線またはｉ線などを感光性樹脂組成物層の全面に対し垂直に照射させる。この際、マスクアライナまたはステッパーなどを用いてマスクと感光性樹脂組成物層との位置合わせを正確に行うことができる。
【０１３３】
前記１次露光後に現像する。現像は１次露光後の感光性樹脂組成物層に対して、例えばパドル法、浸潤法またはシャワー法などによって行う。現像液としては通常アルカリ水溶液が用いられる。アルカリ水溶液としては、無機化合物または有機化合物が溶解した溶液を任意に選択できる。
【０１３４】
前記無機化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ニナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素ニアンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、またはホウ酸アンモニウムなどが含まれる。
【０１３５】
前記有機化合物としては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミンまたはエタノールアミンなどが含まれる。
【０１３６】
前記無機化合物および前記有機化合物は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。前記無機化合物または前記有機化合物の含有量は、前記現像液に対して０．０１乃至１０質量％が好ましく、０．１乃至５質量％がより好ましい。
【０１３７】
前記現像液は界面活性剤を含有しても良い。この界面活性剤としては、例えばノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、またはアニオン系界面活性剤などが含まれる。
【０１３８】
前記ノニオン系界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテルなどのポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロック共重合体、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、およびポリオキシエチレンアルキルアミンなどが含まれる。
【０１３９】
前記カチオン界面活性剤としては、例えばステアリルアミン塩酸塩などのアミン塩、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドなどの第４級アンモニウム塩などが含まれる。
【０１４０】
前記アニオン系界面活性剤としては、例えばラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムまたはオレインアルコール硫酸エステルナトリウムなどの高級アルコール硫酸エステル塩；ラウリル硫酸ナトリウムまたはラウリル硫酸アンモニウムなどのアルキル硫酸塩；ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムまたはドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルアリルスルホン酸塩などが含まれる。
【０１４１】
前記ノニオン系界面活性剤、前記カチオン系界面活性剤、および前記アニオン系界面活性剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、現像液は有機溶剤を含有しても良い。前記有機溶剤としては、例えばメタノール、エタノールなどの水溶性の有機溶剤などが含まれる。
【０１４２】
現像工程によって、感光性樹脂組成物層上に、１次露光段階で露光された領域（以下、露光領域と言う）は現像液に溶解し、露光されない領域（以下、未露光領域と言う）は現像液によって溶解せずに、残ってパターンを形成する。
【０１４３】
本発明による感光性樹脂組成物は、キノンジアジド化合物を含有するため、感光性樹脂組成物層が現像液と触れる時間が短くても、露光領域が容易に溶解して除去される一方、現像液と触れる時間が長くなっても、未露光領域が現像液に溶解して消失する問題はほとんど発生しない。
【０１４４】
現像後に脱イオン水を用いて充分に洗浄し、その後基板を乾燥する。乾燥後に得られたパターンの全面または一部に対して２次露光を行う。２次露光は、紫外線または深紫外線を用いることが好ましく、単位面積当たりの照射量が、１次露光のときよりも多くなるように調節する。
【０１４５】
上述の方法で形成された感光膜樹脂組成物パターンは、好ましくは約１５０乃至２５０℃、より好ましくは１８０乃至２４０℃で、好ましくは５乃至１２０分、より好ましくは１５乃至９０分間後硬化処理を行うのが好ましい。後硬化は、基板をホットプレートまたはクリーンオーブンなどの加熱装置によって加熱する方法で行う。前記後硬化処理により、硬化した感光性樹脂組成物パターンの耐熱性および耐溶剤性が向上される効果が得られる。
【０１４６】
ここで、本発明の一実施形態による、前記感光性樹脂組成物を含む絶縁膜を含む薄膜トランジスタ型表示装置の製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。
【０１４７】
図面は、各層および領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示している。明細書全体を通じて類似した部分については、同一の図面符号を付けている。層、膜、領域、板などの部分が、他の部分の「上に」あるとする場合、これは他の部分の「すぐ上に」ある場合に限らず、その中間に更に他の部分がある場合も含む。一方、ある部分が他の部分の「すぐ上に」あるとする場合、これは中間に他の部分がない場合を意味する。
【０１４８】
まず、図１および図２を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置用薄膜表示装置の構造について詳細に説明する。
【０１４９】
図１は、本発明の一実施例による薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型表示表示の構造を示した概略図であり、図２は、図１の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型表示装置の、ＩＩ−ＩＩ’線による断面図である。
【０１５０】
図１および図２のように、絶縁基板１１０上にゲート信号を伝達するゲート線１２１が形成されている。ゲート線１２１は横方向に延び、各ゲート線１２１の一部はゲート電極１２４をなす。また、各ゲート線１２１の他の一部は下方向に突出して拡張部１２７をなしている。
【０１５１】
ゲート線１２１は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金、クロム、銅、タイタニウム、タンタル、モリブデンなどの金属を含む。ゲート線１２１は、物理的な性質の異なる二つ以上の膜を備える多重層構造を有することもできる。前記ゲート電極１２４の側面は傾斜し、その傾斜角は絶縁基板１１０の表面に対して約３０乃至８０度である。
【０１５２】
ゲート線１２１上には窒化ケイ素などから形成されるゲート絶縁膜１４０が形成されている。
【０１５３】
ゲート絶縁膜１４０上には、水素化非晶質シリコンなどから形成される線状の半導体層１５１が形成されている。線状の半導体層１５１は縦方向に延び、ここから突出部１５４がゲート電極１２４に向かって延びている。また、線状の半導体層１５１は、ゲート線１２１と接する地点の付近で幅が広くなり、ゲート線１２１の広い面積を覆っている。
【０１５４】
半導体層１５１上には、シリサイド、またはｎ型不純物が高濃度にドーピングされている水素化非晶質シリコンなどの物質から形成される線状抵抗性接触層１６１、および島状抵抗性接触層１６３、１６５が形成されている。島状抵抗性接触層１６３、１６５は対をなして、半導体層１５１の突出部１５４上に位置する。半導体層１５１および島状抵抗性接触層１６３、１６５の側面もまた傾斜しており、その傾斜角は絶縁基板１１０に対して３０乃至８０度である。
【０１５５】
抵抗性接触層１６１、１６３、１６５、およびゲート絶縁膜１４０上には、それぞれデータ線１７１、ドレイン電極１７５、およびストレージキャパシタ用導電体１７７が形成されている。
【０１５６】
データ線１７１は、縦方向に延びてゲート線１２１と交差し、データ電圧を伝達する。各データ線１７１からドレイン電極１７５に向かって延びた分枝が、ソース電極１７３をなす。一対のソース電極１７３およびドレイン電極１７５は互いに分離され、ゲート電極１２４に対して互いに反対側に位置している。
【０１５７】
ソース電極１７３を備えるデータ線１７１、１７５、およびドレイン電極１７５は、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）またはモリブデン（Ｍｏ）などから形成される単一層、二重層、または三重層によって形成できる。この際、三重層で形成する場合は、第１金属層１７１ｐ、１７３ｐ、１７５ｐ、および１７７ｐは下部層との接着性に優れ、かつ半導体層をなすシリコンの拡散を防ぐ金属で形成され、第３金属層１７１ｒ、１７３ｒ、１７５ｒ、および１７７ｒは、上部の画素電極との接着性が優れた金属で形成される。好ましくは、モリブデンを含む第１金属層１７１ｐ、１７３ｐ、１７５ｐ、１７７ｐ、アルミニウムを含む第２金属層１７１ｑ、１７３ｑ、１７５ｑ、１７７ｑ、およびモリブデンを含む第３金属層１７１ｒ、１７３ｒ、１７５ｒ、１７７ｒが順次に形成される。
【０１５８】
ゲート電極１２４、ソース電極１７３、およびドレイン電極１７５は、半導体層１５１の突出部１５４と共に薄膜トランジスタをなし、薄膜トランジスタのチャンネルは、ソース電極１７３とドレイン電極１７５間の突出部１５４に形成される。ストレージキャパシタ用導電体１７７は、ゲート線１２１の拡張部１２７と重なっている。
【０１５９】
データ線１７１、ドレイン電極１７５およびストレージキャパシタ用導電体１７７もゲート線１２１と同様に、その側面が絶縁基板１１０に対して傾斜しており、その傾斜角は約３０乃至８０度である。
【０１６０】
島状抵抗性接触層１６３、１６５は、下部の半導体層の突出部１５４と、上部のソース電極１７３およびドレイン電極１７５との間に存在し、接触抵抗を低くする役割を果たす。線状の半導体層１５１は、ソース電極１７３とドレイン電極１７５との間など、データ線１７１およびドレイン電極１７５で覆われずに露出した部分を有する。殆どの領域で、線状の半導体層１５１の幅はデータ線１７１の幅よりも小さいが、上述のようにゲート線１２１と接する部分の近傍で幅が広くなり、ゲート線１２１とデータ線１７１との間の絶縁を強化する。
【０１６１】
データ線１７１、ドレイン電極１７５、ストレージキャパシタ用導電体１７７、および露出した半導体層１５１の上には、平坦化特性が優れ、かつ感光性を有する本発明による感光性樹脂組成物で、保護膜１８０が形成されている。
【０１６２】
保護膜１８０は、前記アルカリ可溶性樹脂、前記キノンジアジド化合物、前記界面活性剤、および前記溶剤を含む本発明の感光性樹脂組成物から形成される。
【０１６３】
本発明による感光性樹脂組成物を用いて保護膜を形成する場合、前記界面活性剤によって、前記アルカリ可溶性樹脂および前記キノンジアジド化合物のような固形分の溶解性を向上させ、塗布時に均一な拡散が実現できる。このような均一な拡散によって保護膜の厚さがほぼ均一となりうる。したがって、保護膜の中心部および端部において膜厚が異なるビルドアップ現象が顕著に改善されると共に、膜厚が不均一である保護膜の、透過および反射特性不良によって発生する現像ムラの問題も顕著に改善される。
【０１６４】
また、保護膜１８０は、前記した有機絶縁膜と窒化ケイ素のような無機絶縁膜とを含む二重層で形成されうる。
【０１６５】
前記保護膜１８０は約１．０乃至８．０μｍの厚さに形成されうる。
【０１６６】
保護膜１８０には、ドレイン電極１７５、ストレージキャパシタ用導電体１７７、およびデータ線の端部１７９をそれぞれ露出させる接触孔１８５、１８７、１８２が形成されている。
【０１６７】
保護膜１８０上には、ＩＴＯまたはＩＺＯを含む画素電極１９０、および接触補助部材８１、８２が設けられている。
【０１６８】
画素電極１９０は、接触孔１８５、１８７を通じてドレイン電極１７５およびストレージキャパシタ用導電体１７７とそれぞれ物理的・電気的に接続され、ドレイン電極１７５からデータ電圧が印加され、ストレージキャパシタ用導電体１７７にデータ電圧を伝達する。
【０１６９】
データ電圧が印加された画素電極１９０は、共通電圧の印加を受ける他の表示装置（図示せず）の共通電極（図示せず）と共に電場を生成することによって、液晶層の液晶分子を再配列させる。
【０１７０】
また、上述のように、画素電極１９０および共通電極は液晶キャパシタをなして、薄膜トランジスタがターンオフされた後にも印加された電圧を維持するが、電圧維持能力を強化するために、液晶キャパシタと並列に接続された他のキャパシタを設けることができる。これをストレージキャパシタという。ストレージキャパシタは、画素電極１９０およびこれと隣接するゲート線１２１（これを前段ゲート線と言う）の重畳などで形成されうる。ストレージキャパシタの静電容量、即ち保持容量を増やすために、ゲート線１２１を拡張した拡張部１２７を設けて重畳面積を拡大させる一方で、画素電極１９０と接続され拡張部１２７に重なるストレージキャパシタ用導電体１７７を保護膜１８０の下に設けて、画素電極１９０と突出部１２７との間の距離を短くする。
【０１７１】
低誘電率である有機物質で保護膜１８０を形成する場合、画素電極１９０を、隣接するゲート線１２１およびデータ線１７１と重畳させて、開口率を向上させることができる。
【０１７２】
接触補助部材８１、８２は、接触孔１８１、１８２を通じて、それぞれゲート線の端部１２９およびデータ線の端部１７９と接続される。接触補助部材８２は、データ線の端部１７９と駆動用集積回路のような外部装置との接着性を補完し、これらを保護する。
【０１７３】
また、画素電極１９０が形成されている保護膜１８０上には、テーパー構造の傾斜面を有するプレチルト膜（図示せず）をさらに形成させることもできる。プレチルト膜は保護膜１８０と同様に、本発明による感光性樹脂組成物で形成されうる。プレチルト膜は基板１１０に対して約１乃至１０度の傾斜角を有し、プレチルト膜の傾斜角によって液晶分子の横になる方向が決定される。また、プレチルト膜は、液晶分子の応答速度を改善する役割を果たす。
【０１７４】
以下、図１および図２に示した薄膜トランジスタ型表示装置を本発明の一実施形態によって製造する方法について、図３Ａ乃至図６Ｂ、図１、および図２を参照して詳細に説明する。
【０１７５】
図３Ａ、図４Ａ、図５Ａおよび図６Ａは、図１および図２に示した薄膜トランジスタ型表示装置を、本発明の一実施形態によって製造する方法について工程順で示した概略図であり、図３Ｂは、図３ＡのＩＩＩＢ−ＩＩＩＢ’線による断面図であり、図４Ｂは、図４ＡのＩＶＢ−ＩＶＢ’線による断面図であり、図５Ｂは、図５ＡのＶＢ−ＶＢ’線による断面図であり、図６Ｂは、図６ＡのＶＩＢ−ＶＩＢ’線による断面図である。
【０１７６】
まず、図３Ａおよび図３Ｂに示したように、透明ガラスなどの絶縁基板１１０上に金属層を形成する。
【０１７７】
ここで金属層は、単一層または二重層で形成できるが、本実施形態では、アルミニウム、またはアルミニウムにネオジウム（Ｎｄ）が所定量添加されたアルミニウム合金を含む第１金属層１２４ｐ、１２７ｐ、１２９ｐ、およびモリブデンを含む第２金属層１２４ｑ、１２７ｑ、１２９ｑからなる二重層である。
【０１７８】
第１金属層１２４ｐ、１２７ｐ、１２９ｐ、および第２金属層１２４ｑ、１２７ｑ、１２９ｑは共スパッタリングで形成する。共スパッタリングのスパッタリングターゲットとしては、アルミニウム、アルミニウムにネオジウムが所定量添加されたアルミニウム合金およびモリブデンが用いられうる。
【０１７９】
共スパッタリングは次のような方法で実施する。
【０１８０】
最初ににモリブデンターゲットには電圧を印加せず、アルミニウムまたはアルミニウム合金ターゲットにのみ電圧を印加して、基板上にアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる第１金属層１２４ｐ、１２７ｐ、１２９ｐを形成する。この際、約２，５００Å程度の厚さを有するのが好ましい。
【０１８１】
次に、アルミニウムターゲットに印加された電圧をオフとした後、モリブデンターゲットに電圧を印加して第２金属層１２４ｑ、１２７ｑ、１２９ｑを形成する。
【０１８２】
次に、第１金属層１２４ｐ、１２７ｐ、１２９ｐ、および第２金属層１２４ｑ、１２７ｑ、１２９ｑを一度にエッチングして、ゲート電極１２４、拡張部１２７、およびゲート線の端部１２９を含むゲート線１２１を形成する。
【０１８３】
次に、図４Ａおよび図４Ｂに示したように、ゲート線１２１およびゲート電極１２４を覆うように窒化ケイ素または酸化ケイ素を蒸着してゲート絶縁膜１４０を形成する。ゲート絶縁膜１４０の積層温度は、約２５０乃至５００℃が好ましく、厚さは２，０００乃至５，０００Å程度であるのが好ましい。
【０１８４】
なお、ゲート絶縁膜１４０上に突出部１５４、および抵抗性接触層１６４を連続して積層し、抵抗性接触層１６４および突出部１５４を写真エッチングして、突出部１５４および不純物がドーピングされた非晶質シリコン層１６４を備える線状の半導体層１５１を形成する。
【０１８５】
次に、図５Ａおよび図５Ｂに示したように、抵抗性接触層１６１、１６３、および１６５上に、スパッタリング法などにより金属層を形成する。金属層は、単一層、二重層、または三重層で形成できるが、本実施形態では、モリブデンを含む第１金属層１７１ｐ、１７３ｐ、１７５ｐ、１７７ｐ、１７９ｐ、アルミニウムを含む第２金属層１７１ｑ、１７３ｑ、１７５ｑ、１７７ｑ、１７９ｑ、およびモリブデンを含む第３金属層１７１ｒ、１７３ｒ、１７５ｒ、１７７ｒ、１７９ｒを順次に形成する。第１金属層１７１ｐ、１７３ｐ、１７５ｐ、１７７ｐ、１７９ｐ、第２金属層１７１ｑ、１７３ｑ、１７５ｑ、１７７ｑ、１７９ｑ、および第３金属層１７１ｒ、１７３ｒ、１７５ｒ、１７７ｒ、１７９ｒを全て合せて約４，０００Å程度の厚さに形成し、スパッタリング温度は約１５０℃程度に調節する。
【０１８６】
次に、前記金属層をエッチング液で一度に写真エッチングして、ソース電極１７３、ドレイン電極１７５、ストレージキャパシタ用導電体１７７、およびデータ線の端部１７９を形成する。エッチング液としては、リン酸、硝酸、酢酸、および脱イオン水を好適な割合で含むものを用いる。前記エッチング液は、好ましくは、リン酸の濃度が６３〜７０％、硝酸の濃度が４〜８％、酢酸の濃度が８〜１１％である、脱イオン水の水溶液である。
【０１８７】
次に、ソース電極１７３、ドレイン電極１７５およびストレージキャパシタ用導電体１７７で覆われずに、露出した抵抗性接触層１６１、１６３、１６５を除去することによって、突出部１５４を露出させる。この際、露出した突出部１５４の表面を安定化させるために、酸素プラズマ処理を実施することが好ましい。
【０１８８】
次に、図６Ａおよび図６Ｂに示したように、平坦化特性が優れ、かつ感光性を有する本発明による感光性樹脂組成物で保護膜１８０を形成する。
【０１８９】
保護膜１８０は、前記アルカリ可溶性樹脂、前記キノンジアジド化合物、前記界面活性剤、および前記溶剤を含む、本発明の感光性樹脂組成物で形成する。
【０１９０】
本発明の一実施形態による、感光性樹脂組成物を用いた保護膜の形成方法は、以下の通りである。
【０１９１】
まず、スリット塗布法によって基板の一側から他側にスリットノズルを移動させて前記感光性樹脂組成物を噴射し、約１．０乃至８．０μｍの厚さの感光性樹脂組成物層を形成する。
【０１９２】
次に、前記感光性樹脂組成物層が形成された基板をオーブンに入れ、約９０乃至１１０℃の温度で９０乃至１８０秒間プレベーク処理を行う。このプレベーク処理によって、溶剤などの揮発成分を揮発させる。
【０１９３】
次に、前記感光性樹脂組成物層に対して、マスクアライナを用いて１次露光を行う。マスクは、後の接触孔１８１、１８５、１８７、１８２が形成されるパターンが含まれたものを選択する。前記１次露光は、例えばｇ線またはｉ線などを、感光性樹脂組成物層の全面に対して垂直に照射させる。
【０１９４】
次に、露光した前記感光性樹脂組成物層を現像する。前記現像は、パドル法によって行い、現像液として、ジイソプロピルアミンを３質量％含有するアルカリ水溶液を用いる。
【０１９５】
現像工程により、前記感光性樹脂組成物層上に、１次露光の段階で露光された領域（以下、露光領域と言う）は現像液に溶解し、露光されなかった領域（以下、未露光領域と言う）は、現像液に溶解せずに残ってパターンを形成する。
【０１９６】
露光領域は、ゲート線の端部１２９、ドレイン電極１７５、ストレージキャパシタ用導電体１７７、およびデータ線の端部１７９をそれぞれ露出させる接触孔１８１、１８５、１８７、および１８２となり、未露光領域は保護膜１８０が残ったままである。
【０１９７】
次に、脱イオン水を用いて充分に洗浄した後に、基板を乾燥する。
【０１９８】
乾燥後、得られたパターンの全面または一部に対して２次露光を行う。２次露光は紫外線または深紫外線を用い、単位面積当たりの照射量は１次露光のときよりも多くなるように調節する。
【０１９９】
上述の方法で形成されたパターンを、好ましくは約１５０乃至２５０℃、より好ましくは１８０乃至２４０℃で、好ましくは５乃至１２０分、より好ましくは１５乃至９０分間後硬化処理を行う。前記後硬化は、基板をホットプレートまたはクリーンオーブンなどの加熱装置で加熱する方法により行われる。前記後硬化により、硬化されたパターンの耐熱性および耐溶剤性が向上する効果が得られる。
【０２００】
このようにして、図６Ａおよび図６Ｂのように、ゲート線の端部１２９、ドレイン電極１７５、ストレージキャパシタ用導電体１７７、およびデータ線の端部１７９をそれぞれ露出させる接触孔１８２、１８５、１８７、１８２、および保護膜１８０が形成される。
【０２０１】
最後に図１および図２に示したように、前記保護膜１８０上にＩＴＯまたはＩＺＯをスパッタリングで積層し、写真エッチング工程によって画素電極１９０および接触補助部材８１、８２を形成する。
【０２０２】
画素電極１９０は、接触孔１８５、１８７を通じてドレイン電極１７５およびストレージキャパシタ用導電体１７７とそれぞれ物理的・電気的に接続され、ドレイン電極１７５からデータ電圧が印加されて、ストレージキャパシタ用導電体１７７にデータ電圧を伝達する。
【０２０３】
データ電圧が印加された画素電極１９０は、共通電圧の印加を受ける別の表示板（図示せず）の共通電極（図示せず）と共に電場を生成することによって、液晶層の液晶分子を再配列させる。
【０２０４】
また、上述のように、画素電極１９０および共通電極は液晶キャパシタをなして、薄膜トランジスタがターンオフされた後にも印加された電圧を維持し、電圧維持能力を強化するために液晶キャパシタと並列に接続された別のキャパシタを設ける。これをストレージキャパシタと言う。ストレージキャパシタは、画素電極１９０およびこれと隣接するゲート線１２１（これを前段ゲート線と言う）の重畳などで形成されうる。ストレージキャパシタの静電容量、即ち保持容量を増やすために、ゲート線１２１を拡張した拡張部１２７を設けて重畳面積を拡大させる一方で、画素電極１９０と接続され拡張部１２７に重なっているストレージキャパシタ用導電体１７７を保護膜１８０の下に設けて画素電極１９０と突出部１２７との間の距離を短くする。  
【０２０５】
接触補助部材８１、８２は、接触孔１８１、１８２を通じてゲート線の端部１２９、およびデータ線の端部１７９とそれぞれ接続される。接触補助部材８１、８２は、ゲート線の端部１２９またはデータ線の端部１７９と、駆動集積回路のような外部装置との接着性を補完し、これらを保護する。
【０２０６】
本実施形態において、保護膜１８０には本発明による感光性樹脂組成物を適用したが、これに限定されるものではなく、絶縁特性が要求される他の層にも同様に適用することができる。
【０２０７】
さらに、本発明の他の実施形態による、薄膜トランジスタ型表示装置がカラーフィルタをさらに備える構成である表示装置の製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。
【０２０８】
図７は、本実施形態による薄膜トランジスタ型表示装置の概略図であり、図８は、図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ’線による断面図である。
【０２０９】
図７および図８のように、絶縁基板１１０上にゲート信号を伝達するゲート線１２１が形成されている。ゲート線１２１は横方向に延び、各ゲート線１２１の一部はゲート電極１２４、拡張部１２７、およびゲート線の端部１２９をなしている。
【０２１０】
ゲート線１２１は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金、クロム、銅、タイタニウム、タンタル、モリブデンなどの金属を含む。ゲート線１２１は、物理的な性質の異なる二つ以上の膜を備える多重層構造を有することもできる。
【０２１１】
ゲート電極１２４の側面は傾斜し、その傾斜角は絶縁基板１１０の表面に対して約３０乃至８０度である。
【０２１２】
ゲート線１２１上には窒化ケイ素などから形成されるゲート絶縁膜１４０が形成されている。
【０２１３】
ゲート絶縁膜１４０上には、水素化非晶質シリコンなどから形成される線状の半導体層１５１が形成されている。線状の半導体層１５１は縦方向に延び、ここから突出部１５４がゲート電極１２４に向かって延びている。また、線状の半導体層１５１はゲート線１２１と接する地点の付近で幅が広くなり、ゲート線１２１の広い面積を覆っている。
【０２１４】
半導体層１５１上には、シリサイドまたはｎ型不純物が高濃度にドーピングされている水素化非晶質シリコンなどの物質から形成される線状抵抗性接触層１６１、および島状抵抗性接触層１６３、１６５が形成されている。島状抵抗性接触層１６３、１６５は対をなして、半導体層１５１の突出部１５４上に位置する。半導体層１５１および抵抗性接触層１６１、１６３、１６５の側面もまた傾斜しており、その傾斜角は絶縁基板１１０に対して３０乃至８０度である。
【０２１５】
抵抗性接触層１６１、１６３、１６５、およびゲート絶縁膜１４０上には、それぞれデータ線１７１、ドレイン電極１７５、およびストレージキャパシタ用導電体１７７が形成されている。
【０２１６】
データ線１７１は、縦方向に延びてゲート線１２１と交差し、データ電圧を伝達する。各データ線１７１からドレイン電極１７５に向かって延びた分枝が、ソース電極１７３をなす。一対のソース電極１７３およびドレイン電極１７５は互いに分離され、ゲート電極１２４に対して互いに反対側に位置する。
【０２１７】
ソース電極１７３を備えるデータ線１７１、１７５、およびドレイン電極１７５は、クロム、アルミニウム、チタン、タンタル、またはモリブデンなどから形成される単一層、二重層、または三重層によって形成することができる。この際、三重層で形成する場合には、第１金属層１７１ｐ、１７３ｐ、１７５ｐ、１７７ｐ、および１７９ｐは下部層との接着性に優れ、かつ半導体層をなすケイ素の拡散を防ぐ金属で形成され、第３金属層１７１ｒ、１７３ｒ、１７５ｒ、１７７ｒ、および１７９ｒは上部の画素電極との接着性が優れた金属で形成される。好ましくは、モリブデンを含む第１金属層１７１ｐ、１７３ｐ、１７５ｐ、１７７ｐ、１７９ｐ、アルミニウムを含む第２金属層１７１ｑ、１７３ｑ、１７５ｑ、１７７ｑ、１７９ｑ、およびモリブデンを含む第３金属層１７１ｒ、１７３ｒ、１７５ｒ、１７７ｒ、１７９ｒが順次に形成される。
【０２１８】
ゲート電極１２４、ソース電極１７３、およびドレイン電極１７５は、半導体層１５１の突出部１５４と共に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をなし、薄膜トランジスタのチャンネルはソース電極１７３とドレイン電極１７５間の突出部１５４に形成される。ストレージキャパシタ用導電体１７７はゲート線１２１の拡張部１２７と重なっている。
【０２１９】
データ線１７１、ドレイン電極１７５、およびストレージキャパシタ用導電体１７７もゲート線１２１と同様に、その側面が絶縁基板１１０に対して傾斜しており、その傾斜角は約３０乃至８０度である。
【０２２０】
島状抵抗性接触層１６３、１６５は、下部の突出部１５４と、その上部のソース電極１７３およびドレイン電極１７５との間に存在し、接触抵抗を低くする役割を果たす。線状の半導体層１５１は、ソース電極１７３およびドレイン電極１７５との間など、データ線１７１およびドレイン電極１７５で覆われず露出した部分を有する。殆どの領域において、線状の半導体層１５１の幅はデータ線１７１の幅より小さいが、上述のようにゲート線１２１と接する部分の近傍で幅が広くなり、ゲート線１２１とデータ線１７１との間の絶縁を強化する。
【０２２１】
データ線１７１、ドレイン電極１７５、およびストレージキャパシタ用導電体１７７上には、第１層間絶縁膜１８０ｐが形成されている。前記第１層間絶縁膜１８０ｐは、感光性特性を有する感光性樹脂組成物、プラズマ化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ）で形成されるａ−Ｓｉ：Ｃ：Ｏ、ａ−Ｓｉ：Ｏ：Ｆなどの低誘電率絶縁物質、または無機物質である窒化ケイ素などから形成される。前記第１層間絶縁膜１８０ｐは、後に形成されるカラーフィルタ２３０の顔料（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が突出部１５４に流入するのを防ぐ役割を果たす。
【０２２２】
第１層間絶縁膜１８０ｐ上には赤のカラーフィルタ（Ｒ）、緑のカラーフィルタ（Ｇ）、青のカラーフィルタ（Ｂ）がそれぞれ形成されている（各色については図示せず）。
【０２２３】
カラーフィルタ２３０は、データ線１７１によって区画される画素列に沿って、データ線１７１が並ぶ方向に長く延び、画素列に交互に形成されている。
【０２２４】
この際、赤のカラーフィルタ（Ｒ）、緑のカラーフィルタ（Ｒ）、青のカラーフィルタ（Ｂ）は、外部回路と接合するゲート線の端部１２９、またはデータ線の端部１７９には形成しない。カラーフィルタ２３０の周縁は、データ線１７１の上部に重畳されている。このように、赤のカラーフィルタ（Ｒ）、緑のカラーフィルタ（Ｇ）、青のカラーフィルタ（Ｂ）の周縁を重畳させることで、画素領域間の漏洩光を遮断する機能を有する。
【０２２５】
このように、赤のカラーフィルタ（Ｒ）、緑のカラーフィルタ（Ｇ）、および青のカラーフィルタ（Ｂ）が薄膜トランジスタ型表示装置側に設けられる場合、画素の開口率が向上する。
【０２２６】
カラーフィルタ２３０上には第２層間絶縁膜１８０ｑが形成されている。前記第２層間絶縁膜１８０ｑは、カラーフィルタ２３０の顔料（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が画素電極１９０に流入することを防ぐ。
【０２２７】
第２層間絶縁膜１８０ｑは、前記アルカリ可溶性樹脂、前記キノンジアジド化合物、前記界面活性剤および前記溶剤を含む、本発明の感光性樹脂組成物から形成される。
【０２２８】
本発明の感光性樹脂組成物を用いて層間絶縁膜を形成する場合、前記界面活性剤によって、前記アルカリ可溶性樹脂および前記キノンジアジド化合物のような固形分の溶解性を向上させる。これにより、塗布時に均一な拡散が実現され、保護膜の厚さが均一に形成される。その結果、保護膜の中心部および端部において膜厚が異なビルドアップ現象が顕著に改善されると共に、膜厚が不均一である保護膜の、透過および反射特性不良によって発生する現像ムラの問題も顕著に改善される。
【０２２９】
第２層間絶縁膜１８０ｑには、ゲート線の端部１２９、ドレイン電極１７５、ストレージキャパシタ用導電体１７７、およびデータ線の端部１７９をそれぞれ露出させる接触孔１８１、１８５、１８７、１８２が形成されている。
【０２３０】
また、第２層間絶縁膜１８０ｑ上にはＩＴＯまたはＩＺＯからを含む画素電極１９０、および接触補助部材８１、８２が形成される。画素電極１９０および接触補助部材８１、８２は、接触孔１８１、１８５、１８７、１８２を通じてゲート線の端部１７１、ドレイン電極１７５、ストレージキャパシタ用導電体１７７、およびデータ線の端部１７９とそれぞれ接触している。
【０２３１】
画素電極１９０は、接触孔１８５、１８７を通じてドレイン電極１７５およびストレージキャパシタ用導電体１７７とそれぞれ物理的・電気的に接続され、ドレイン電極１７５からデータ電圧が印加され、ストレージキャパシタ用導電体１７７にデータ電圧を伝達する。
【０２３２】
データ電圧が印加された画素電極１９０は、共通電圧の印加を受ける他の表示装置（図示せず）の共通電極（図示せず）と共に電場を生成することによって、液晶層の液晶分子を再配列させる。
【０２３３】
接触補助部材８１、８２は、接触孔１８１、１８２を通じてゲート線の端部１２９、およびデータ線の端部１７９とそれぞれ接続される。接触補助部材８１、８２は、ゲート線の端部１２９またはデータ線の端部１７９と、駆動用集積回路のような外部装置との接着性を補完し、これらを保護する。
【０２３４】
以下、図７および図８で示した薄膜トランジスタ型表示装置を本発明の一実施形態によって製造する方法について、図９Ａ乃至図１０Ｂを参照して詳細に説明する。
【０２３５】
まず、図９Ｂのように、透明ガラスなどから形成される絶縁基板１１０上に、アルミニウムまたはアルミニウム合金などから形成される第１金属層１２４ｐ、１２７ｐ、１２９ｐと、モリブデンを含む第２金属層１２４ｑ、１２７ｑ、１２９ｑとを順次に積層して、ゲート電極１２４、拡張部１２７、およびゲート線の端部１２９を含むゲート線１２１を形成する。
【０２３６】
次に、ゲート線１２１上にゲート絶縁膜１４０、半導体層１５１、突出部１５４、抵抗性接触層１６１、１６３、１６５、データ線１７１、およびドレイン電極１７５を形成する。
【０２３７】
次に、第１層間絶縁膜１８０ｐをプラズマ化学気相蒸着方法で形成する。第１層間絶縁膜１８０ｐは、カラーフィルタの顔料から半導体層１５１、突出部１５４を保護する役割を果たす。
【０２３８】
次に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、および青色（Ｂ）の顔料を含む感光性樹脂組成物を順次に塗布し、印刷法によって赤のカラーフィルタ（Ｒ）、緑のカラーフィルタ（Ｇ）、および青のカラーフィルタ（Ｂ）を形成する。
【０２３９】
印刷法により赤のカラーフィルタ（Ｒ）、緑のカラーフィルタ（Ｇ）、および青のカラーフィルタ（Ｂ）を形成する際に、ドレイン電極１７５およびストレージキャパシタ用導電体１７７に対応する部分に開口部２３５、２３７を形成する。
【０２４０】
その後、赤のカラーフィルタ（Ｒ）、緑のカラーフィルタ（Ｇ）、および青のカラーフィルタ（Ｂ）上に、本発明の感光性樹脂組成物を含む第２層間絶縁膜１８０ｑを形成する。
【０２４１】
本発明の感光性樹脂組成物を用いて第２層間絶縁膜１８０ｑを形成する場合、前記界面活性剤によって、前記アルカリ可溶性樹脂および前記キノンジアジド化合物のような固形分の溶解性を向上させる。その結果、塗布時の均一な拡散が可能となり、保護膜の厚さがほぼ均一となりうる。したがって、保護膜の端部におけるビルドアップ現象が顕著に改善されると共に、膜厚が不均一である保護膜における透過および反射特性不良によって発生する現像ムラの問題も顕著に改善できる。
【０２４２】
第２層間絶縁膜１８０ｑを形成する方法は、まず、スリット塗布法によって基板の一側から他側にスリットノズルを移動させながら、前記感光性樹脂組成物を噴射して約１．０乃至８．０μｍの厚さの感光性樹脂組成物層を形成させる。
【０２４３】
次に、感光性樹脂組成物層が形成された基板をオーブンに入れ、約９０乃至１１０℃の温度で、９０乃至１８０秒間プレベーク処理を行う。前記プレベーク処理によって、溶剤などの揮発成分を揮発させる。
【０２４４】
次に、感光性樹脂組成物層を、マスクアライナを用いて１次露光する。マスクは、後に接触孔１８１、１８５、１８７、および１８２が形成されるパターンを含む。前記１次露光は、例えばｇ線またはｉ線などを、前記感光性樹脂組成物層全面に対して垂直に照射させる。
【０２４５】
次に、露光された感光性樹脂組成物層を現像する。前記現像は、パドル（ｐｕｄｄｌｅ）法によって行い、現像液としてジイソプロピルアミンを３質量％含有するアルカリ水溶液を用いる。
【０２４６】
現像工程により、１次露光段階で露光された領域（以下、露光領域と言う）は現像液に溶解し、露光されなかった領域（以下、未露光領域と言う）は、現像液に溶解せずに残ってパターンを形成する。
【０２４７】
露光領域は、ゲート線の端部１２９、ドレイン電極１７５、ストレージキャパシタ用導電体１７７、およびデータ線の端部１７９をそれぞれ露出させる接触孔１８１、１８５、１８７、１８２となり、未露光領域は第２層間絶縁膜１８０ｑが残ったままである。
【０２４８】
次に、脱イオン水を用いて充分に洗浄した後に、基板を乾燥する。
【０２４９】
乾燥後、得られたパターンの全面または一部に対して２次露光を行う。２次露光は紫外線または深紫外線を用い、単位面積当たりの照射量は１次露光のときよりも多くなるように調節する。
【０２５０】
前記方法で形成された感光性樹脂パターンを、好ましくは約１５０乃至２５０℃、より好ましくは１８０乃至２４０℃で、好ましくは５乃至１２０分、より好ましくは１５乃至９０分間後硬化処理を行う。前記後硬化は、基板をホットプレートまたはクリーンオーブンなどの加熱装置で加熱する方法によって行われる。前記後硬化により、硬化された感光性樹脂パターンの耐熱性および耐溶剤性が向上する効果が得られる。
【０２５１】
このようにして、図１０Ａおよび図１０Ｂのように、ゲート線の端部１２９、ドレイン電極１７５、ストレージキャパシタ用導電体１７７、およびデータ線の端部１７９をそれぞれ露出させる接触孔１８１、１８５、１８７、１８２、および第２層間絶縁膜１８０ｑが形成される。
【０２５２】
最後に図７および図８に示したように、前記第２層間絶縁膜１８０ｑ上にＩＴＯまたはＩＺＯをスパッタリング法で積層し、写真エッチング工程によって画素電極１９０、および接触補助部材８１、８２を形成させる。
【０２５３】
画素電極１９０は、接触孔１８５、１８７を通じてドレイン電極１７５およびストレージキャパシタ用導電体１７７とそれぞれ物理的・電気的に接続され、ドレイン電極１７５からデータ電圧が印加されたときに、ストレージキャパシタ用導電体１７７にデータ電圧を伝達する。
【０２５４】
データ電圧が印加された画素電極１９０は、共通電圧の印加を受ける他の表示板（図示せず）の共通電極（図示せず）と共に電場を生成することによって、液晶層の液晶分子を再配列させる。
【０２５５】
また、前記接触補助部材８１、８２は、接触孔１８１、１８２を通じてゲート線の端部１２９およびデータ線の端部１７９とそれぞれ接続される。接触補助部材８１、８２は、ゲート線の端部１２９およびデータ線の端部１７９と、駆動用集積回路のような外部装置との接着性を補完し、これらを保護する。
【０２５６】
本実施形態において、第２層間絶縁膜１８０ｑには本発明による感光性樹脂組成物を適用したが、これに限定されるものではなく、絶縁特性が要求される他の層、例えばゲート絶縁膜１４０または第１層間絶縁膜１８０ｐなどにも同様に適用することができる。
【０２５７】
また、本実施形態では液晶表示装置用薄膜トランジスタ型表示装置を例示したが、例えば薄膜トランジスタ型表示装置に対向する表示装置における絶縁膜、または応答速度改善のために共通電極上に形成されるプレチルト膜においても同様に、本発明の感光性樹脂組成物を適用することができる。また、液晶表示装置の他に、有機発光表示素子のような基板上に薄膜パターンが形成されるいかなる薄膜表示装置においても、同様に本発明の感光性樹脂組成物を適用することができる。
【０２５８】
上述のように、薄膜パターンを含む表示装置において、本発明の感光性樹脂組成物を含む有機絶縁膜を形成する場合、保護膜の厚さをほぼ均一にすることができ、保護膜の端部におけるビルドアップ現象が顕著に改善されると共に、膜厚が不均一である保護膜の、透過および反射特性不良によって発生する現像ムラの問題も顕著に改善することができる。
【実施例】
【０２５９】
以下、本発明を実施例によって詳細に説明する。しかし、本発明は様々な形態で実現することができ、ここで説明する実施例に限定されない。
【０２６０】
（実施例）
まず、本発明による感光性樹脂組成物を調製する方法について説明する。
【０２６１】
合成例１（アルカリ可溶性樹脂の合成）
撹拌機、冷却管および温度計を具備した２００ｍｌ四つ口フラスコに、下記の原料を添加した後、四つ口フラスコを油浴に浸漬させて、フラスコ内の温度を１００〜１１０℃に維持し、窒素雰囲気下で３時間攪拌して反応させた。その結果、アルカリ可溶性樹脂Ａ１を得た。このアルカリ可溶性樹脂Ａ１のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は８，０００であった。
【０２６２】
【表１】
2006184908.tif 000015
【０２６３】
ここで、ポリスチレン換算重量平均分子量の測定は、ＧＰＣ法を利用して以下の条件下で実施した。
【０２６４】
【表２】
2006184908.tif 000016
【０２６５】
合成例２（化学式２の第１シリコーン系化合物の合成）
フラスコ内に下記化学式（４）で表される化合物、つまり分子鎖末端にアリル基およびＯＨ基を有するポリオキシエチレン２０４ｇ、イソプロピルアルコール３００ｇ、塩化白金酸２％のイソプロピルアルコール溶液０．５ｇ、および酢酸カリウム１ｇを入れた後に均一に混合した。次に、イソプロピルアルコールの還流温度（８３℃）まで温度を上げた後、下記化学式（５）で表されるメチルシロキサン１１１ｇを徐々に滴下して、付加反応させた。
【０２６６】
【化１３】
2006184908.tif 000017
【０２６７】
滴下終了後にも４時間反応させて、ＳｉＨ基が形成されたことを確認してから反応を終了した。次に、１１０℃／１０ｍｍＨｇ（１．３ｋＰａ）で２時間加熱してイソプロピルアルコールを除去した結果、下記化学式（６）で表される化合物３１０ｇが得られた。
【０２６８】
【化１４】
2006184908.tif 000018
【０２６９】
感光性樹脂組成物１の調製
前記で得られたアルカリ可溶性樹脂Ａ１  １００質量部、下記化学式（７）で表されるキノンジアジド化合物  ２２質量部、カチオン重合開始剤として（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート  ２質量部、３−エトキシプロピオン酸エチル  ２９１質量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル  ２９１質量部、ブチルアセテート  ３２質量部、ブチルラクテート  ３２質量部、界面活性剤として３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン  ０．０８質量部、第１のシリコーン系化合物として前記化学式（６）で表される化合物  ０．０８質量部、および第２のシリコーン系化合物として東レダウコーニングシリコーン（株）製の商品名ＳＨ８４００  ０．１５質量部を２３℃で混合した後、ポリテトラフルオロエチレンからなる１．０μｍのカートリッジフィルタを通じて加圧濾過して、感光性樹脂組成物１を得た。
【０２７０】
【化１５】
2006184908.tif 000019
【０２７１】
（比較例１）感光性樹脂組成物２の調製
実施例で、界面活性剤として３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン（０．０８質量部）のみを用いることを除いては、前記感光性樹脂組成物１の調製方法と同様に行い、感光性樹脂組成物２を得た。
【０２７２】
（比較例２）感光性樹脂組成物３の調製
実施例で、界面活性剤として第１のシリコーン系化合物を用いないことを除いては、前記感光性樹脂組成物１の調製方法と同様に行い、感光性樹脂組成物３を得た。
【０２７３】
（比較例３）感光性樹脂組成物４の調製
実施例で、界面活性剤として第２のシリコーン系化合物を用いないことを除いては、前記感光性樹脂組成物１の調製方法と同様に行い、感光性樹脂組成物４を得た。
【０２７４】
ムラ発生および塗布均一性の評価
モリブデン金属が蒸着されているガラス基板を４枚用意し、大日本印刷社製のスピン＆スリット方式の感光性塗布装置を用いて、前記感光性樹脂組成物１（実施例）、前記感光性樹脂組成物２（比較例１）、前記感光性樹脂組成物３（比較例２）、および前記感光性樹脂組成物４（比較例３）を、それぞれ基板上に塗布した。その後、ホットプレートで、１００℃の温度で１３５秒間プレベークを行い、溶剤を除去した。
【０２７５】
次に、キャノン社製の露光装置（ＭＰＡ−２０００）を用いて溶剤が除去された前記基板を１次露光し、パドル法で現像した。その後、現像された基板を純水で洗浄し、基板を乾燥させた後、全面露光装置によって２次露光を実施した。ホットプレートを用い、１３０℃の温度で１６０秒間、後硬化処理を行い、パターンを形成した。
【０２７６】
前記で得られたパターンにおけるムラ、および基板端部におけるビルドアップ現象の発生具合を観察した結果を表３および図１１Ａ乃至図１１Ｆに示した。
【０２７７】
【表３】
2006184908.tif 000020
【０２７８】
前記表３のように、本発明による感光性樹脂組成物を用いる場合、感光性樹脂組成物の各成分の拡散性が優れて、塗布または乾燥工程で発生する横筋ムラ、縦筋ムラおよび不定形ムラがほとんど見られなかった。また、基板端部におけるビルドアップ現象もほとんどなく、基板との接着性に関しても顕著に改善されることが確認できた。
【０２７９】
図１１Ａ乃至図１１Ｆは、前記実施例、比較例１、比較例２、および比較例３で用いた基板の写真であり、不定形ムラおよび基板端部におけるビルドアップ現象を示す写真である。図１１Ａおよび図１１Ｂは実施例１で用いた基板の写真であり、図１１Ａは不定形ムラがほとんど発生しない状態を示し、図１１Ｂは、基板端部におけるビルドアップ現象がほとんどない状態（約３乃至４ｍｍ）を示している。図１１Ｃおよび図１１Ｄは、比較例１で用いた基板の写真であって、図１１Ｃは基板の全面に不定形ムラが発生した状態を示し、図１１Ｄは基板端部におけるビルドアップ現象（約６ｍｍ）を示している。図１１Ｅは、比較例２で用いた基板の写真であって、不定形ムラが部分的に発生した状態を示している。図１１Ｆは、比較例３で用いた基板の写真であって、基板端部におけるビルドアップ現象（約１０ｍｍ）を示している。
【０２８０】
表１および図１１Ａ乃至図１１Ｆに示したように、本発明の感光性樹脂組成物を用いた場合、現像後の基板に従来見られた横筋ムラ、縦筋ムラ、不定形ムラ、および基板中心部と基板端部との膜厚の不均一さがほとんど見られない。
【０２８１】
下記表４は、実施例で用いた界面活性剤の各成分の含有量を変えたときの、ムラの発生具合を表す。
【０２８２】
【表４】
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【図面の簡単な説明】
【０２８３】
【図１】本発明の一実施形態による、薄膜トランジスタ型表示装置の構造を示した概略図である。
【図２】図１に示す薄膜トランジスタ型表示装置の、ＩＩ−ＩＩ’線による断面図である。
【図３Ａ】図１および図２に示した薄膜トランジスタ型表示装置を、本発明の一実施形態により製造する方法について示した概略図である。
【図３Ｂ】図３Ａに示すＩＩＩＢ−ＩＩＩＢ’線による断面図である。
【図４Ａ】図１および図２に示した薄膜トランジスタ型表示装置を本発明の一実施形態により製造する方法の、工程を示した概略図である。
【図４Ｂ】図４Ａに示すＩＶＢ−ＩＶＢ’線による断面図である。
【図５Ａ】図１および図２に示した薄膜トランジスタ型表示装置を本発明の一実施形態により製造する方法の、工程を示した概略図である。
【図５Ｂ】図５Ａに示すＶＢ−ＶＢ’線による断面図である。
【図６Ａ】図１および図２に示した薄膜トランジスタ型表示装置を本発明の一実施形態により製造する方法の、工程を示した概略図である。
【図６Ｂ】図６Ａに示すＶＩＢ−ＶＩＢ’線による断面図である。
【図７】本発明の他の実施形態による、薄膜トランジスタ型表示装置の概略図である。
【図８】図７に示すＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ’線による断面図である。
【図９Ａ】本発明の他の実施形態による、薄膜トランジスタ型表示装置の製造方法の、工程を示した概略図である。
【図９Ｂ】図９Ａに示すＩＸＢ−ＩＸＢ’線による断面図である。
【図１０Ａ】本発明の他の実施形態による、薄膜トランジスタ型表示装置の製造方法の、工程を示した概略図である。
【図１０Ｂ】図１０Ａに示すＸＢ−ＸＢ’線による断面図である。
【図１１Ａ】実施例１による感光性樹脂組成物を用いパターンを形成させた基板の写真である。
【図１１Ｂ】本発明の一実施形態による感光性樹脂組成物を用い、パターンを形成させた基板の写真である。
【図１１Ｃ】比較例１による感光性樹脂組成物を用い、パターンを形成させた基板の写真である。
【図１１Ｄ】比較例１による感光性樹脂組成物を用い、パターンを形成させた基板の写真である。
【図１１Ｅ】比較例２による感光性樹脂組成物を用い、パターンを形成させた基板の写真である。
【図１１Ｆ】比較例３による感光性樹脂組成物を用い、パターンを形成させた基板の写真である。
【符号の説明】
【０２８４】
８１、８２    接触補助部材、
１１０    絶縁基板、
１２１    ゲート線、
１２４    ゲート電極、
１２７    拡張部、
１２９    ゲート線の端部、
１４０    ゲート絶縁膜、
１５４    突出部
１６１、  線状抵抗性接触層、
１６３、１６５    島状抵抗性接触層、
１６４    抵抗性接触層、
１７１    データ線、
１７３    ソース電極、
１７５    ドレイン電極、
１７７    ストレージキャパシタ用導電体、
１７９    データ線の端部、
１２４ｐ、１２７ｐ、１２９ｐ、１７１ｐ、１７３ｐ、１７５ｐ、１７７ｐ、１７９ｐ    第１金属層、
１２４ｑ、１２７ｑ、１２９ｑ、１７１ｑ、１７３ｑ、１７５ｑ、１７７ｑ、１７９ｑ    第２金属層、
１７１ｒ、１７３ｒ、１７５ｒ、１７７ｒ、１７９ｒ    第３金属層、
１８０    保護膜、
１８１、１８２、１８５、１８７    接触孔、
１９０    画素電極、
１８０ｐ    第１層間絶縁膜、
１８０ｑ    第２層間絶縁膜、
２３０    カラーフィルタ。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１１Ｄ】
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【図１１Ｅ】
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【図１１Ｆ】
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