(57)【要約】【課題】迅速にアライメントを行うための位置決定方法およびリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】本発明の一実施例は、センサを用いる、マスク上のアライメント領域内のフィーチャの位置測定に適用することができる。アライメント領域内におけるフィーチャの位置は、設計から既知である。位置を測定されたフィーチャは、測定したフィーチャとフィーチャの間の相対位置と、設計から既知の相対位置とを比較することによって識別される。マスクの位置は、識別されたフィーチャの測定位置から、識別されたフィーチャの既知の位置を引き算することによって得られる。【選択図】図３
2006108669.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
センサを有するリソグラフィ装置において、互いに対して固有の位置を有する複数のフィーチャを備えたオブジェクトの位置を決定する方法であって、
前記複数のフィーチャのうちの１つの位置に対する残りのフィーチャの位置を示す参照情報を提供するステップと、
前記複数のフィーチャのサブセットの各々の位置を測定するために前記センサを使用するステップであって、これら測定位置は座標系内に基準位置を含んでいるステップと、
前記サブセット内のフィーチャを、その他の測定フィーチャに対する当該フィーチャの測定位置に基づいて識別するステップと、
前記識別したフィーチャのアイデンティティ、前記参照情報、および前記座標系内の測定基準位置に基づいて、前記オブジェクトの位置を決定するステップと
を含む決定方法。
【請求項２】
前記オブジェクトが３つのフィーチャを備え、前記サブセットが２つのフィーチャを有している請求項１に記載の決定方法。
【請求項３】
前記センサが、互いに対する位置が分かっている測定デバイスの組を有し、該測定デバイスは、フィーチャが存在するかどうかを検出するように構成されており、また
フィーチャを検出した測定デバイスのアイデンティティに基づいてそのフィーチャの位置示すステップをさらに含む請求項１に記載の決定方法。
【請求項４】
前記オブジェクトの位置を決定する前記ステップに基づいて前記オブジェクトを移動させるステップをさらに含む請求項１に記載の決定方法。
【請求項５】
オブジェクトの位置を決定する前記ステップに基づいて、前記オブジェクトおよび他のオブジェクトを互いに対して移動させるステップをさらに含む請求項１に記載の決定方法。
【請求項６】
前記複数のフィーチャが回転対称でなく、また
前記複数のフィーチャの前記サブセットのさらなるサブセットのフィーチャの複数の測定位置に基づいて、前記センサに対する前記オブジェクトの回転を決定するステップをさらに含む請求項１に記載の決定方法。
【請求項７】
前記複数のフィーチャの各々が回転対称でなく、また
前記複数のフィーチャの前記サブセットのさらなるサブセットのフィーチャの複数の測定位置に基づいて、前記センサに対する前記オブジェクトの回転を決定するステップをさらに含む請求項１に記載の決定方法。
【請求項８】
前記オブジェクトが、基板、基板を支持するように構成された基板テーブル、パターニング構造、およびパターニング構造を支持するように構成された支持テーブルからなる群のうちの１つを有している請求項１に記載の決定方法。
【請求項９】
他のフィーチャが識別され、また前記方法が、
前記複数のフィーチャのうちの識別された２つのフィーチャの測定位置に基づいて測定距離を決定するステップと、
前記識別された２つのフィーチャ間の基準距離を前記参照情報から検索するステップと、
前記測定距離と前記基準距離の間の比率を決定するステップと、
決定した比率に基づいて前記センサを較正するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項１０】
フィーチャを識別する前記ステップに続いて、その測定位置の精度に基づいてフィーチャを選択するステップをさらに含み、
オブジェクトの位置を決定する前記ステップが該選択したフィーチャの位置に基づいていることを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項１１】
互いに対して固有の位置を有する複数のフィーチャを備えたオブジェクトを支持するように構成されたオブジェクト・テーブルと、
前記複数のフィーチャのサブセットの各々を検出するように構成された位置センサと、
前記複数のフィーチャのうちの基準フィーチャの位置に対する残りのフィーチャの位置を示す参照情報を記憶するように構成された記憶装置と、
前記位置センサおよび前記記憶装置に接続された処理デバイスであって、前記サブセット内のフィーチャを他の検出フィーチャに対する当該フィーチャの検出位置に基づいて識別するようになされ、また前記センサに対する前記オブジェクトの位置を、前記参照情報および座標系内における前記基準フィーチャの測定位置に基づいて決定するようになされている処理デバイスと
を有するリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記オブジェクトと前記位置センサとの間に配置されたテレセントリック検出光学系をさらに有する請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記オブジェクトが３つのフィーチャを備え、前記サブセットが２つのフィーチャを含んでいる請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記センサが、互いに対する位置が分かっている測定デバイスの組を有し、該測定デバイスは、フィーチャが存在するかどうかを検出するように構成されており、また
前記処理デバイスは、フィーチャの位置をそのフィーチャを検出した測定デバイスのアイデンティティに基づいて示すことを特徴とする請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
決定された前記オブジェクトの位置に基づいて前記オブジェクトを移動させるように構成されたポジショナをさらに有する請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
決定された前記オブジェクトの位置に基づいて、別のオブジェクトを該オブジェクトに対して移動させるように構成されたポジショナをさらに有する請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１７】
前記複数のフィーチャが回転対称でなく、また
前記処理デバイスが、前記複数のフィーチャの前記サブセットのさらなるサブセットのフィーチャの複数の測定位置に基づいて、前記センサに対する前記オブジェクトの回転を決定するように構成されている請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記複数のフィーチャの各々が回転対称でなく、また
前記処理デバイスが、前記複数のフィーチャの前記サブセットのさらなるサブセットのフィーチャの複数の測定位置に基づいて、前記センサに対する前記オブジェクトの回転を決定するように構成されている請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１９】
前記オブジェクトが、基板、基板を支持するように構成された基板テーブル、パターニング構造、およびパターニング構造を支持するように構成された支持テーブルからなる群のうちの１つを有している請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２０】
前記処理デバイスが、前記サブセットの他のフィーチャを、その他の検出フィーチャに対する当該フィーチャの検出位置に基づいて識別するように構成され、
前記処理デバイスが、前記複数のフィーチャのうちの識別された２つのフィーチャの測定位置に基づいて測定距離を決定し、前記識別された２つのフィーチャ間の基準距離を前記記憶装置から検索し、また前記測定距離と前記基準距離との間の比率を決定するように構成され、また
前記リソグラフィ装置が、決定された前記比率に基づいて前記センサを較正するように構成されている、請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記処理デバイスが、その測定位置の精度に基づいてフィーチャを選択し、選択した該フィーチャの位置に基づいて前記オブジェクトの位置を決定するように構成されている請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２２】
複数のフィーチャを備えたオブジェクトの位置を決定する方法であって、該複数のフィーチャのそれぞれが、他の任意の２つのフィーチャに対して固有の位置を二次元平面内に有している方法において、
前記複数のフィーチャのサブセットの各々の位置を測定するためにリソグラフィ装置のセンサを使用するステップと、
前記サブセット内のフィーチャを、他の測定フィーチャに対する当該フィーチャの測定位置に基づいて識別するステップと、
（Ａ）識別したフィーチャのアイデンティティ、（Ｂ）前記複数のフィーチャのうちの基準フィーチャの位置に対する残りのフィーチャの位置を示す参照情報、および（Ｃ）座標系内における前記基準フィーチャの位置、に基づいて前記オブジェクトの位置を決定するステップと
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ方法および装置、ならびにオブジェクトの位置を決定するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板のターゲット部分に所望のパターンを適用するためのマシンである。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。その場合、マスクあるいはレチクルとも称されるパターニング構造（パターン付与構造）が、ＩＣの個々の層に対応する回路パターンを生成するように使用され、このパターンが、放射線感光材料（レジスト）の層を有する基板（例えばシリコン・ウェハ）上の（例えば１または複数のダイの一部を含む）ターゲット部分にイメージング（結像）される。１枚の基板は通常、順次露光される隣接ターゲット部分のネットワークを含む。公知のリソグラフィ装置には、パターン全体を１回でターゲット部分に露光することによって各ターゲット部分を照射する、いわゆるステッパと、パターンを投影ビームで所与の方向（「走査」方向）に走査し、同時に基板をこの方向に平行に、あるいは逆平行に同期走査することによって各ターゲット部分を照射する、いわゆるスキャナとがある。
【０００３】
プリント回路基板およびＩＣは通常、複数回にわたって処理され、それにより互いに重なり合う複数のパターンが生成される。正確に決定された位置にターゲット部分を互いに重ね合わせて配置することが極めて重要であり、これは一般にオーバレイと呼ばれる。良好なオーバレイはパターニング構造に対して基板を整列させることによって達成され、これは一般にアライメントと呼ばれる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来、基板は、ターゲット部分に対する位置が分かっているアライメント・マークを備えている。アライメントの間、アライメント・センサによってアライメント・マークの位置が測定され、この方法でターゲット部分の位置が決定される。アライメント・センサは、所与の時間で、基板上の小さい領域のみを調査することができる（これは、アライメント・センサのフットプリントと見なすことができる）。アライメントを開始する際に、アライメント・マークとアライメント・センサが調査する領域とが一致しないことがしばしばある。この問題を解決するために、基板は、アライメント・センサの真下で、アライメント・センサが調査する領域をアライメント・マークが確実に通過するだけの十分な長さの距離にわたって走査される。アライメント・センサが調査する領域をアライメント・マークが通過する際に、アライメント・マークの位置が測定される。
【０００５】
このアライメント方法に考えられる欠点は、基板の走査に時間がかかり、したがってリソグラフィ装置を使用して処理することができる時間当たりの基板数に影響を及ぼすことである。
【０００６】
米国特許第３，８９８，６１７号明細書には、アライメント・マークの使用に代わって、回路フィーチャの位置を測定することによるアライメント、すなわち回路フィーチャを対象としたアライメントが記載されている。アライメント・センサは、基板上のターゲット部分の小さい領域を調査し、ターゲット部分の領域に配置された回路フィーチャのイメージを記録する。記録したイメージと、回路フィーチャのイメージおよび関連する位置を含んだライブラリとが比較される。測定したイメージとライブラリのイメージとの間に整合が見出されると、ライブラリから検索される関連位置によって基板の位置が分かる。
【０００７】
この方法に考えられる欠点は、アライメント・センサの真下で基板を走査し、記録したイメージとライブラリのイメージとの間に整合が見出されるまでに時間かかかることである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
一実施例によれば、センサを有するリソグラフィ装置において、互いに対して固有の位置を有する複数のフィーチャを備えたオブジェクトの位置を決定する方法であって、複数のフィーチャのうちの１つの位置に対する残りのフィーチャの位置を示す参照情報を提供するステップと、複数のフィーチャのサブセットの各々の位置を測定するためにセンサを使用するステップであって、これらの測定位置が座標系内に基準位置を含んでいるステップと、サブセット内のフィーチャを、その他の測定フィーチャに対する当該フィーチャの測定位置に基づいて識別あるいは同定するステップと、識別したフィーチャのアイデンティティ、参照情報、および座標系内における測定基準位置に基づいて、オブジェクトの位置を決定するステップとを含む方法が提供される。
【０００９】
他の実施例によれば、リソグラフィ装置が、互いに対して固有の位置を有する複数のフィーチャを備えたオブジェクトを支持するようになされたオブジェクト・テーブルと、複数のフィーチャのサブセットの各々を検出するようになされた位置センサと、複数のフィーチャのうちの基準フィーチャの位置に対する残りのフィーチャの位置を示す参照情報を記憶するようになされた記憶装置と、位置センサおよび記憶装置に接続された処理デバイスであって、サブセット内のフィーチャを他の検出フィーチャに対する当該フィーチャの検出位置に基づいて識別するようになされ、またセンサに対するオブジェクトの位置を、参照情報および座標系内における基準フィーチャの測定位置に基づいて決定するようになされた処理デバイスとを有している。
【００１０】
他の実施例によれば、複数のフィーチャを備えたオブジェクトの位置を決定する方法であって、複数のフィーチャのそれぞれが、他の任意の２つのフィーチャに対して固有の位置を二次元平面内に有している方法において、複数のフィーチャのサブセットの各々の位置を測定するためにリソグラフィ装置のセンサを使用するステップと、サブセット内のフィーチャを、その他の測定フィーチャに対する当該フィーチャの測定位置に基づいて識別するステップと、（Ａ）識別したフィーチャのアイデンティティ、（Ｂ）複数のフィーチャのうちの基準フィーチャの位置に対する残りのフィーチャの位置を示す参照情報、および（Ｃ）座標系内における基準フィーチャの位置に基づいてオブジェクトの位置を決定するステップとを含む方法が提供される。
【００１１】
以下、本発明の実施例を、単なる例として、添付の略図を参照して説明する。図中、対応する参照記号は対応する部品を表している。
【実施例】
【００１２】
本発明による実施例は、オブジェクトを走査することなくその位置を決定するための方法を含み、リソグラフィ装置は、オブジェクトを走査することなくその位置を決定することができる。
【００１３】
本発明の一実施例による方法を使用することにより、アライメント領域の任意の部分にセンサを配置することができ、また位置を決定することができる。走査は一切不要である。また本発明の一実施例による装置を使用することにより、リソグラフィ装置によるパターニング構造の走査を必要とすることなくその位置を決定することができる。
【００１４】
図１は、本発明の特定の実施例によるリソグラフィ装置を略図で示したものである。このリソグラフィ装置は、
投影放射線（例えばＵＶ放射線またはＤＵＶ放射線）ビームＰＢを提供するための照明システム（イルミネータ）ＩＬと、
パターニング構造（例えばマスク）ＭＡを支持するための第１の支持構造（例えばマスク・テーブル）ＭＴであって、アイテムＰＬに対してパターニング構造を正確に位置決めするために第１のポジショナＰＭに接続された第１の支持構造ＭＴと、
基板（例えばレジスト被覆ウェハ）Ｗを保持するための基板テーブル（例えばウェハ・テーブル）ＷＴであって、アイテムＰＬに対して基板を正確に位置決めするために第２のポジショナＰＷに接続された基板テーブルＷＴと、
パターニング構造ＭＡによって投影ビームＰＢに付与されたパターンを基板Ｗの（例えば１つまたは複数のダイを含む）ターゲット部分Ｃに結像するための投影システム（例えば屈折型投影レンズ）ＰＬと
を有している。
【００１５】
図に示すように、このリソグラフィ装置は（例えば透過型マスクを用いた）透過型タイプの装置である。別法として、このリソグラフィ装置は（例えば上で言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイを使用した）反射型タイプの装置であってもよい。
【００１６】
イルミネータＩＬは、放射線源ＳＯから放射線ビームを受け取る。放射線源が例えばエキシマ・レーザである場合、放射線源およびリソグラフィ装置は、別個の構成要素とすることができる。このような場合、放射線源は、リソグラフィ装置の一部を形成しているものとは見なされず、放射線ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビーム・エキスパンダを備えたビーム・デリバリ・システムＢＤを使用して放射線源ＳＯからイルミネータＩＬへ送達される。放射線源がそれ以外の、例えば水銀灯などである場合には、放射線源をリソグラフィ装置の一構成要素とすることができる。放射線源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要に応じて、ビーム・デリバリ・システムＢＤと共に放射線システムと呼んでもよい。
【００１７】
イルミネータＩＬは、放射線ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタＡＭを備えていてもよい。通常、イルミネータのひとみ平面内における強度分布の少なくとも外部および／または内部ラジアル範囲（一般に、それぞれσアウターおよびσインナーと呼ばれる）は調整が可能である。またイルミネータＩＬは通常、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの他の様々なコンポーネントを備えている。イルミネータは、所望の一様な強度分布をその断面に有する条件付けされた放射線ビームを提供し、これは投影ビームＰＢと呼ばれる。
【００１８】
投影ビームＰＢは、マスク・テーブルＭＴ上に保持されたマスクＭＡに入射する。マスクＭＡを透過した投影ビームＰＢは、投影ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃに集束させるレンズＰＬを通過する。基板テーブルＷＴは、第２のポジショナＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉デバイス）を使用して正確に移動させることができ、それにより例えば異なるターゲット部分Ｃを投影ビームＰＢの光路内に配置することができる。同様に、第１のポジショナＰＭおよびもう１つの位置センサ（図１には明確に示されていない）を使用して、例えばマスク・ライブラリから機械的に検索した後で、もしくは走査中に、マスクＭＡを投影ビームＰＢの光路に対して正確に配置することができる。通常、オブジェクト・テーブルＭＴおよびＷＴの移動は、ポジショナＰＭおよびＰＷの一部を形成する長ストローク・モジュール（粗位置決め）および短ストローク・モジュール（精密位置決め）を使用して実現されるが、ステッパ（スキャナではなく）の場合、マスク・テーブルＭＴは、短ストローク・アクチュエータのみに接続することができ、あるいは固定していてもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスク・アライメント・マークＭ１、Ｍ２および基板アライメント・マークＰ１、Ｐ２を使用して整列させることができる。
【００１９】
図に示す装置は、以下に示す好ましいモードで使用することができる。
（１）ステップ・モード
ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターン全体がターゲット部分Ｃに１回で投影される（すなわち単一の静的露光）。次に、基板テーブルＷＴがＸおよび／またはＹ方向にシフトされ、異なるターゲット部分Ｃが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静的露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
（２）走査モード
走査モード（スキャン・モード）では、投影ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影されている間にマスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴが同期走査される（すなわち単一の動的露光）。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＬの倍率（縮小率）およびイメージ反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の幅（非走査方向の幅）が制限され、また走査運動の長さによってターゲット部分の高さ（走査方向の高さ）が決まる。
（３）その他のモード
その他のモードでは、プログラム可能パターニング構造を保持するようにマスク・テーブルＭＴが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影されている間に基板テーブルＷＴが移動または走査される。このモードでは通常、パルス放射線源が使用され、走査中は、基板テーブルＷＴの移動の都度、あるいは連続する放射線パルスと放射線パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターニング構造が更新される。この動作モードは、上で言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターニング構造を利用したマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
【００２０】
上で説明した使用モードの組み合わせおよび／またはその変形形態、もしくはまったく異なる使用モードを使用することも可能である。
【００２１】
図１に示すリソグラフィ装置は直交座標系で表されている。この座標系では、投影システムＰＬの光軸に平行にｚ座標が規定されている。ｘ座標およびｙ座標は、投影システムの光軸に対して直角である。
【００２２】
図２は、図１に示すリソグラフィ装置の、図１と比較してｙ位置の異なる断面を示している。本発明の一実施例では、測定放射線の放射線源Ｓは、フレームＦに固定されている（あるいはフレームＦに対して既知の位置を有している）。測定放射線は、マスクＭＡ上のアライメント・マークＭ１に向かって導かれる。センサ検出光学系ＤＯは、（ＣＣＤ、ＣＭＯＳあるいは他のこのようなセンサを有する）カメラＣＡＭの上にアライメント・マークＭ１のイメージを形成する。カメラＣＡＭの上に形成されたイメージの形状が位置処理デバイスＰＰＤによって検索される。位置処理デバイスＰＰＤ（例えばプロセッサ、埋込み型プロセッサ、あるいはファームウェアおよび／またはソフトウェア中の１組の命令を実行する複数の論理エレメントの他のアレイ）はマスクの位置を決定する。位置処理デバイスＰＰＤは、位置センサＩＦ２、カメラＣＡＭおよび入力デバイスＩＰから入力を得る。位置センサＩＦ２はフレームＦに固定されており（あるいはフレームＦに対して既知の位置を有し）、第１のポジショナＰＭの位置を測定する。この実施例では、位置センサＩＦ２は干渉計であり、干渉計のベースがフレームＦに固定され、また干渉計の可動部品が第１のポジショナＰＭに固定されている。したがってカメラＣＡＭが読み取る際のフレームに対する第１のポジショナＰＭの位置が知られている。入力デバイスＩＰは、データを入力するためのキーボード、タッチ・スクリーン、マウスあるいは他のデバイスである。
【００２３】
図３は、アライメント・マークを含むマスク領域を略図で示したものである。図３にも図１に示すｘｙ座標系が示されている。マスク上のこの領域は、本明細書ではアライメント領域と呼んでいる。このアライメント領域は、アライメントの間に測定される測定領域よりはるかに広くすることができる。有効なアライメント測定を、アライメント領域内の測定領域の複数の位置で実行することができる。
【００２４】
アライメント領域Ｍ１は、アライメント領域Ｍ１全体に分布した多数のフィーチャ（図３には点で示されており、１つの点が１つのフィーチャを表している）からなっている。これらのフィーチャは、測定放射線源Ｓが放出する放射線を反射する高反射率の小さい領域によって形成されている。フィーチャを取り囲んでいる領域はバックグラウンドであり、より小さい反射率を有している。
【００２５】
アライメント領域Ｍ１の直交座標系の原点ＯＲｍに対するフィーチャの位置を示す参照情報は、位置処理デバイスＰＰＤに記憶されている。フィーチャの位置は、ｘ方向およびｙ方向のフィーチャ間の距離によってフィーチャそれ自体を識別できるように設計されている。例えば、正のｘ方向に１単位の距離を隔てて隣り合うフィーチャを有し、且つ正のｙ方向に１単位の距離を隔てて隣り合うフィーチャを有しているのはフィーチャＦ１のみである。同様に、正のｘ方向に３単位の距離を隔てて隣り合うフィーチャを有し、且つ正のｙ方向に３単位の距離を隔てて隣り合うフィーチャを有しているのはフィーチャＦ２のみである。
【００２６】
位置処理デバイスＰＰＤは、所与のフィーチャに対して、記憶されているフィーチャの位置を使用して、隣り合うフィーチャまでの正のｘ方向およびｙ方向の距離を決定する。位置処理デバイスＰＰＤは、所与のフィーチャのｘ方向およびｙ方向の距離をテーブルに記憶する。隣り合うフィーチャまでの正のｘ方向およびｙ方向の距離の決定は、他のフィーチャに対して繰り返すことができる。
【００２７】
検出光学系ＤＯによってイメージングされるのは、アライメント領域Ｍ１全体のごく一部、すなわち測定領域ＩＡ１のみである。カメラＣＡＭは、図３に破線で示すこの測定領域ＩＡ１を見ることができる。測定領域ＩＡ１には４つのフィーチャ（Ｆ１および他の３つのフィーチャ）が含まれ、アライメント領域Ｍ１の中にフィーチャのサブセット（部分集合）を形成している。
【００２８】
カメラＣＡＭの出力は、電子データに変換された測定領域ＩＡ１のイメージ（図４に示す）を含む。位置処理デバイスＰＰＤは、測定領域ＩＡ１内の、点で示すＵ１、Ｕ２、Ｕ３およびＵ４のラベルが付けられた４つのフィーチャのアイデンティティ（身元）に関する知識を予め有していなくてもよい。位置処理デバイスＰＰＤは、カメラＣＡＭの直交座標系（例えばカメラのセンサの直交座標系）の原点ＯＲｓに対するフィーチャＵ１、Ｕ２、Ｕ３およびＵ４の位置を決定する。カメラＣＡＭの直交座標系の１単位は、アライメント領域の直交座標系の１単位に対応している。この位置を使用して、測定領域ＩＡ１内におけるフィーチャの正のｘ方向およびｙ方向に隣り合うフィーチャまでの距離が計算され、且つ記憶される。この距離は、未確認のフィーチャ（すなわちＵ１、Ｕ２、Ｕ３およびＵ４）毎に記憶される。
【００２９】
イメージＩＡ１中のフィーチャＵ１の正のｘ方向に隣り合うフィーチャまでの距離は１単位であり、また正のｙ方向に隣り合うフィーチャまでの距離も１単位である。
【００３０】
アライメント領域Ｍ１内のフィーチャのうち、正のｘ方向に隣り合うフィーチャまでの距離が１単位であり、且つ正のｙ方向に隣り合うフィーチャまでの距離が同じく１単位であるフィーチャはＦ１のみであるため、位置処理デバイスＰＰＤは、計算した距離を使用して、イメージＩＡ１内のフィーチャＵ１をアライメント領域Ｍ１内のフィーチャＦ１として識別する。
【００３１】
フィーチャＵ１のアイデンティティを使用して、カメラＣＡＭの位置に対するアライメント領域の位置を決定することができる。アライメント領域の原点ＯＲｍに対するフィーチャの位置が位置処理デバイスＰＰＤに記憶される。この実施例では、アライメント領域内のフィーチャＦ１の座標は（２，８）である。括弧内の最初の数字はｘ座標を表し、２番目の数字はｙ座標を表している。イメージＩＡ１内で識別されたフィーチャＵ１のカメラＣＡＭの原点ＯＲｓに対する座標が（１，１）であることが分かる。カメラＣＡＭの原点ＯＲｓに対するアライメント領域の原点ＯＲｍの位置は、
ＯＲｍ  ＝  座標Ｕ１  −  座標Ｆ１
によって決定される。「座標Ｕ１」はフィーチャＵ１の座標を表し、「座標Ｆ１」はフィーチャＦ１の座標を表す。
【００３２】
図３および図４に示す実施例では、フィーチャＦ１を使用すると、カメラＣＡＭの座標系におけるアライメント領域Ｍ１の原点ＯＲｍの位置は、
ＯＲｍ＝（１，１）−（２，８）＝（−１，−７）
である。
【００３３】
マスクＭＡ上のアライメント領域Ｍ１の位置が分かるため、マスクとリソグラフィ装置を整列させることができる。
【００３４】
アライメント領域Ｍ１内のすべてのフィーチャの位置を位置処理デバイスＰＰＤに記憶する必要はないことが当業者には理解されよう。参照情報に位置が記憶されていないフィーチャが測定されることはなく、またそれらの測定位置によって何らかの識別がもたらされることもない。
【００３５】
図５は、本発明の一実施例におけるアライメント領域Ｍ２を示したものである。図５に示す点は、個々のフィーチャを表している。検出光学系ＤＯがイメージングすることができるのは、アライメント領域Ｍ２全体のごく一部である測定領域ＩＡ２のみである。この測定領域ＩＡ２は破線で示され、２つのフィーチャＦ５、Ｆ６が含まれている。
【００３６】
カメラＣＡＭの出力は、電子データに変換された測定領域ＩＡ２のイメージ（図６に示す）を含む。位置処理デバイスＰＰＤは、測定領域ＩＡ２内のフィーチャのアイデンティティに関する知識を予め有していなくてもよい。位置処理デバイスＰＰＤは、カメラＣＡＭの座標系におけるアライメント領域ＩＡ２内の２つのフィーチャの位置を、Ｕ５に対して（０．５，２．５）、Ｕ６に対して（０．５，０．５）としてそれぞれ決定する。この位置を使用して、測定領域ＩＡ２内におけるフィーチャＵ６の正のｙ方向に隣り合うフィーチャＵ５までの距離が決定され、且つ記憶される。
【００３７】
フィーチャＵ５は、正のｘ方向に隣り合うフィーチャを有していない。イメージＩＡ２の縁部は、正のｘ方向に２．５単位の位置にある。アライメント領域Ｍ２内のフィーチャのうち、正のｘ方向の２．５単位未満の距離に隣り合うフィーチャを有していないのは、フィーチャＦ３、Ｆ４、Ｆ５およびＦ６のみである。したがってフィーチャＵ５がフィーチャＦ３、Ｆ４、Ｆ５もしくはＦ６のいずれかとして識別される。
【００３８】
フィーチャＵ５は、正のｙ方向に隣り合うフィーチャを有していない。また、フィーチャＵ５からイメージＩＡ２の縁部までの距離は０．５単位である。位置処理デバイスＰＰＤに記憶されたテーブルの中では、正のｙ方向に隣り合うフィーチャのすべての距離は少なくとも１単位であり、したがってフィーチャＵ５をさらに識別することはできない。
【００３９】
フィーチャＵ６は、正のｙ方向の距離２単位の位置に隣り合うフィーチャを有している。正のｙ方向の距離２単位の位置に隣り合う最も近いフィーチャを有しているのは、フィーチャＦ７、Ｆ８およびＦ６のみであるため、フィーチャＵ６がフィーチャＦ７、Ｆ８およびＦ６のいずれかとして識別される。
【００４０】
フィーチャＵ６がフィーチャＦ７、Ｆ８もしくはＦ６のうちのいずれかとして識別されると、フィーチャＵ５がフィーチャＦ９、Ｆ１０もしくはＦ５のいずれかとして識別される。フィーチャＵ５は既にフィーチャＦ３、Ｆ４、Ｆ５もしくはＦ６のいずれかとして識別されているため、これらの組み合わせによってフィーチャＵ５がフィーチャＦ５として識別されることになる。
【００４１】
カメラＣＡＭの座標系におけるアライメント領域の原点の位置は、フィーチャＦ５のアイデンティティを使用して、
ＯＲｍ  ＝  座標Ｕ５  −  座標Ｆ５
として見出すことができる。フィーチャＦ５の「座標Ｆ５」は、アライメント領域の座標系に存在し、またフィーチャＵ５の「座標Ｕ５」は、カメラＣＡＭの座標系に存在するため、マスクとリソグラフィ装置とを整列させることができる。
【００４２】
利用し得る各イメージ内の少なくとも１つのフィーチャを固有に識別するために測定領域が十分な数のフィーチャを含むようにアライメント領域を設計することが望ましいことは、当業者に理解されよう。例えばフィーチャは、アライメント領域に無作為に配置することができる。高密度のフィーチャを選択することにより、利用し得る各イメージ内に十分な数のフィーチャが存在することを推定することができる。
【００４３】
アライメント領域には、アライメント領域内の他のすべてのフィーチャから離れた孤立フィーチャが存在していてもよい。このような孤立フィーチャの上に測定領域が置かれ、且つ測定領域に他のフィーチャがまったく存在していない場合であっても、なおこの孤立フィーチャを識別することができる。この識別は、位置処理デバイスＰＰＤに記憶された参照情報に、カメラＣＡＭに見える他のフィーチャなしにカメラＣＡＭの測定位置に存在し得るフィーチャが他にないことを確認することによって実行される。
【００４４】
本発明の一実施例では、マスク上のフィーチャとフィーチャの間の測定距離を使用してアライメント領域を識別することができ、さらにはマスクを識別することができる。マスクＭＡ３がアライメント領域Ｍ３を有し（図７）、マスクＭＡ４がアライメント領域Ｍ４を有している（図７）。アライメント領域Ｍ４は、アライメント領域Ｍ３と同じサイズを有する。アライメント領域Ｍ３およびＭ４は、いずれも座標（２，１０）に基礎フィーチャＦ１（図７に点で示されている）を有し、また同じパターンの複数のフィーチャ（図７に複数の点で示されている）を有しているが、アライメント領域Ｍ４内では、基礎フィーチャまでのすべての距離が、アライメント領域Ｍ３内の距離に対して係数２の倍数になっている。アライメント領域Ｍ３に存在するフィーチャのいくつかは、アライメント領域Ｍ４内では基礎フィーチャＦ１までのそれらの距離が長すぎてアライメント領域Ｍ４の外に出てしまうため、アライメント領域Ｍ４にはそれらに対応するフィーチャが存在しない。アライメント領域Ｍ３内の個々の軸方向の距離は、奇数単位（１、３、・・・等）になるように選択されている。これは、アライメント領域Ｍ４内の個々の軸方向の距離が偶数単位（２および６など）であることを意味する。したがってｘ座標が同じである２つのフィーチャの間の距離を測定することによってフィーチャを識別することができ、またマスクＭＡ３上のアライメント領域Ｍ３あるいはマスクＭＡ４上のアライメント領域Ｍ４を識別することができる。アライメント領域Ｍ４の一部が検出光学系ＤＯ（図１）によってイメージングされる。図８は、カメラＣＡＭが見ることができるイメージＩＡ３を示したものである。
【００４５】
図８は、図７のイメージＩＡ３内に点で示されたフィーチャＵ９およびＵ１０を示している。フィーチャＵ９とＵ１０の間の距離は（２，０）である。したがってこのイメージが得られたアライメント領域がＭ４として識別される。アライメント領域Ｍ４は、マスクＭＡ３の上ではなく、マスクＭＡ４の上に存在しているため、このマスクはＭＡ４として識別される。
【００４６】
アライメント領域を、あるいはマークが存在しているマスクをも識別することができるため、（アライメント領域が識別情報を提供するという意味で）アライメント領域を情報レンジとして述べることができることが理解されよう。
【００４７】
また、比較的反射率が高いフィーチャに対する多くの代替、および反射率がより小さいフィーチャとフィーチャの間の領域に対する多くの代替が存在することが理解されよう。
【００４８】
（１）フィーチャは、特定の放射線に対する反射率が小さいスポットによって形成することができる。スポットの外側の領域には、その放射線に対するより高い反射率を持たせることができる。
【００４９】
（２）フィーチャは、特定の放射線に対する透過率がバックグラウンドの透過率とは異なる透過率を有するスポットによって形成することができる。この場合、センサ（センサがＣＣＤカメラなどの位置感光デバイスである場合）もしくは複数のセンサのセット（センサが位置感光デバイスではなく、例えば光電池である場合）と放射線源との間にマスクを配置することができる。
【００５０】
（３）フィーチャは、入射する特定の放射線を、入射する放射線がバックグラウンドによって散乱する方向とは異なる方向に散乱させるスポットによって形成することができる。
【００５１】
（４）フィーチャは、入射する特定の放射線を、入射する特定の放射線がバックグラウンドによって回折する方向とは異なる方向に回折させるスポットによって形成することができる。
【００５２】
（５）フィーチャは、アライメント領域の他の部分より高い領域にすることができる。測定表面に平行に光を射出することにより、フィーチャなどが存在することによって放射線が遮断される。この場合、放射線源に対向するセンサによってフィーチャの存在を検出することができる。
【００５３】
当業者には理解されるように、本発明には他のタイプのフィーチャを使用することも可能である。
【００５４】
アライメント領域内のフィーチャの位置情報を決定することができる任意のデバイスを使用することができることが理解されよう。フィーチャは、ピック・アンド・プレイス・コンポーネント、バイアまたは電導性領域などといった回路フィーチャであってもよい。
【００５５】
センサは、必ずしも１つの測定デバイスからなる必要はない。相対位置が分かっている複数の適切な検出器の任意のセットをセンサとして使用して、アライメント領域内のフィーチャの位置を決定することができる。個々の測定デバイスによってそのアライメント領域内のフィーチャの有無が検出される。検出されたフィーチャの位置は、そのフィーチャを検出した測定デバイスのアイデンティティによって示される。このようなデバイスの実施例には、エア・ゲージ（局部的な高さを決定することができる）、容量センサ（局部的な容量を決定することができる）およびフォトダイオードがある。異なる測定デバイスには異なる検出原理が対応していることは理解されよう。
【００５６】
検出光学系ＤＯは必ずしも完全でなくてもよく、また測定領域をカメラＣＡＭでイメージングする際の収差の原因になってもよい。例えば、イメージの中心の収差を最小にすることができる。このような場合、イメージの中心のフィーチャの位置のみを使用して、測定する位置精度を最適化することができる。第１のフィーチャを識別した後、中心に近い第２のフィーチャを選択し、その第２のフィーチャの測定位置を使用してアライメント領域の位置を決定することができる。
【００５７】
センサを最初に使用する時（および／または引き続いて周期的に使用する時）、センサを較正することが望ましく、あるいは必要である。センサは、位置処理デバイスＰＰＤ（図２）に記憶された測定済みの位置を使用して較正される。フィーチャＦ５およびＦ６（図５）を識別すると、測定した距離を、位置処理デバイスＰＰＤに記憶された位置から決定される距離と比較することができる。この比較は、測定した距離と、位置処理デバイスＰＰＤに記憶された位置によって決定される距離との間の比率を決定することによって達成される。この比率は、センサの座標系における１単位の距離をマスクＭＡの座標系における１単位の距離にリンクさせている。センサは、そのセンサの原点までの測定距離を所定の比率で割ることによって較正される。
【００５８】
センサによる測定に影響する他のパラメータ（回転、視野ひずみおよび収差など）を較正することも可能であることが当業者には理解されよう。これらのパラメータを較正する場合、測定したフィーチャを最小２乗基準もしくは他の適切な任意の基準を使用して識別し、同時に、マスクＭＡの座標系からセンサの座標系への変換パラメータを決定することが望ましい。センサによって測定されるマーカのアライメント領域は、場合によっては回転もしくは拡大されている可能性があり、例えばアライメント領域内のフィーチャの位置をセンサを使用して測定する瞬間における未知の位置以外に、いずれかの軸の周りに何らかの回転角を有している場合がある。考えられる他の変換には、対称回転、非対称回転、対称倍率、非対称倍率、あるいはｘ２もしくはｘｙの位置依存性などのより高次のパラメータがある。
【００５９】
この問題は、本発明の一実施例では、決定すべきパラメータを使用した逆変換モデルを使用することによって解決される。測定したフィーチャの位置に対して逆変換が適用され、そのパラメータを関数とした変換位置が得られる。参照情報の中のフィーチャの位置と、測定したフィーチャの変換位置との差に最小２乗基準を適用することによってパラメータを見出すことができる。最も単純なモデルの形態では、逆変換モデルは平行移動であり、このモデルによって位置が得られる。モデルの他の形態では、パラメータはｘ軸の周りの回転角である。この回転角は、位置と同時に決定される。
【００６０】
フィーチャの測定値の代わりに、参照テーブルの中のフィーチャに対して変換モデルを等しく良好に適用することも可能であることが当業者には理解されよう。しかしながら、測定するフィーチャのサブセット内のフィーチャの数より、参照情報の中のフィーチャの数の方が多いため、参照テーブル内のフィーチャに変換モデルを適用するためには、測定したフィーチャの位置に逆変換モデルを適用する場合より多くの計算労力が必要である。また、変換モデルと逆変換モデルの両方を適用して複数のパラメータを同時に見出すことができることも当業者には理解されよう。
【００６１】
図２に略図で示す検出光学系ＤＯが、マスクと対向する面でテレセントリックである場合、本発明による実施例を有利に使用することができる。イメージ中のフィーチャとフィーチャの間の距離が、マスクＭＡと検出光学系ＤＯの間の距離に無関係であることが保証されるため、テレセントリシティは有用である。したがってマスクのｚ座標とは無関係にｘおよびｙ座標におけるマスクの位置が決定される。
【００６２】
テレセントリック検出光学系を使用する他の利点は、測定したフィーチャＵ５およびＵ６（図６）のサイズを、検出光学系ＤＯからのマスクＭＡの距離を決定するために使用できることにある。検出光学系ＤＯまでのカメラＣＡＭの距離は既知の距離で固定され、イメージ平面を規定している。マスクＭＡ上のアライメント領域が、検出光学系のイメージ平面と共役であるオブジェクト平面内に存在する時、鮮明なイメージＩＡ２が形成される。もしアライメント領域Ｍ２が、関連する共役オブジェクト平面内に存在しなければ、イメージＩＡ２中のフィーチャが不鮮明になり、したがってアライメント領域Ｍ２が共役オブジェクト平面内に存在している場合より大きく見える。フィーチャＵ５およびＵ６のサイズが測定され、測定したサイズを使用して、アライメント領域Ｍ２と検出光学系の間の距離が示される。検出光学系ＤＯまでのカメラＣＡＭの距離を既知の距離で固定することにより、フィーチャＵ５およびＵ６のサイズがアライメント領域およびカメラＣＡＭまでの距離を示すことになる。
【００６３】
二重テレセントリック検出光学系を使用することによってさらに利点を得ることができる。二重テレセントリック検出光学系を使用することにより、イメージ中のフィーチャとフィーチャの間の距離が、検出光学系までのカメラＣＡＭの距離に無関係になり、したがってカメラＣＡＭと検出光学系の間の距離を正確に決定することは必要とされない。
【００６４】
マスクが２つのフィーチャを備えている場合、この２つのフィーチャの中間の一点の周りにマスクが１８０度回転していない限り、マスクの位置および配向を決定することができる。マスクが１８０度回転している場合、フィーチャの位置が逆になり、この２つのフィーチャに対する誤った測定が実施されることになる。正確な識別方法次第では、９０度の回転に対しても識別が逆になることがある。
【００６５】
リソグラフィ製造環境でのマスクを取り扱うので、マスクの配向は、９０度よりはるかに高い精度で知られることになり、したがって上記の問題は回避される。未知の回転が生じる可能性がある場合、マスクは、固有の位置に少なくとも３つのフィーチャＡ、ＢおよびＣを備えていなければならない。固有の位置とは、ＡとＢの間の距離とＢとＣの間の距離、およびＡとＢの間の距離とＡとＣの間の距離が異なっていることを意味する。フィーチャのサブセットを形成する任意の２つの位置およびそれらの間の距離の測定値と、位置処理デバイスＰＰＤに記憶された参照情報とを比較することができる。３つの基準距離のうちの１つが測定した距離に最も緊密に整合することになる。フィーチャＡとＢの位置が決定済みである場合、次にその配向を決定するために、フィーチャの別のサブセットを形成していると見なすことができるフィーチャＣが測定される。このさらに別のフィーチャのサブセットは追加のフィーチャを含むことができ、これは回転を測定するために使用してもよい。
【００６６】
独立した測定を使用して本発明の一実施例による方法の精度を改善することができる。例えば、相対位置が分かっている２つのアライメント領域のうちの１つをそれぞれ測定する第１および第２の（例えばＣＣＤ、ＣＭＯＳ）カメラを使用して、マスクの位置を決定することができる。第１および第２のカメラの相対位置も分かっている。２つのアライメント領域の各測定位置がマスクの位置を示す。アライメント領域の測定位置が、それらの予想位置と比較される。この比較によって第１および第２のカメラに対するマスクの回転が測定される。測定ノイズを小さくするために、第１および第２のカメラを使用して決定した位置を平均することができ、あるいは測定を繰り返すことができる。測定を繰り返す場合、第１のカメラの位置情報と第２のカメラの位置情報とが最も良好に整合する測定が適切な測定として選択される。また、１つのアライメント領域の１つのカメラＣＡＭを使用した複数の測定を平均することもできる。
【００６７】
本発明の一実施例による方法を使用して決定したマスクの位置は、マスクによってパターニングされた投影放射線ビームが基板のターゲット領域に正確に（例えばナノメートルなどの高水準の精度で）投射されるよう、マスクと基板の相対位置を制御するために使用することができる。別法として、基板を固定位置に維持した状態でマスクの位置を制御することができる。さらに別法として、制御ユニットを使用して、マスクを所定の位置に維持した状態で、そのマスクの位置に基づいて基板の位置を制御することも可能である。マスクと基板の相対位置を制御するための制御ユニットを提供することも可能である。
【００６８】
本発明の一実施例の有利な一利用法では、センサに対するマスクの回転が決定され、次に、所望の角度に調整される。所望の角度とは、投影システムＰＬによって形成されるマスクのイメージが基板上のターゲット領域の回転と同じ回転を有する角度である。別法として、基板の回転を調整することも可能である。
【００６９】
別の方法で参照情報を提供することができることが当業者には理解されよう。参照情報は、位置処理デバイスＰＰＤに接続された別個の記憶装置（例えば半導体記憶装置あるいは１または複数のディスク・ドライブ）に記憶することができる。
【００７０】
本発明の原理を説明するために、マスク上のアライメント領域の実施例を示したが、本発明の実施例は、基板上において実践することも可能であり、あるいは適切なフィーチャを有するアライメント領域を備えた、例えば基板テーブルあるいはマスク・テーブルなどのオブジェクト・テーブルによって支持されたオブジェクトの上において実践することも可能であることが理解されよう。別法として、オブジェクト・テーブルは、適切なフィーチャを有するアライメント領域を備えることも可能である。
【００７１】
一実施例によれば、センサを有するリソグラフィ装置において、固有の相対位置を有する複数のフィーチャを備えたオブジェクトの位置を決定する方法は、複数のフィーチャの位置（そのうちの１つは絶対位置である）に関する参照情報を提供するステップを含み、また、センサを使用してフィーチャのサブセットの位置を測定するステップであって、少なくとも１つの位置が座標系内における絶対位置であるステップと、１つまたは複数のフィーチャの他のフィーチャに対する固有の相対位置に基づいて、測定したフィーチャのうちの１つまたは複数を識別するステップと、識別した１つまたは複数のフィーチャのアイデンティティ、参照情報、および座標系内における測定絶対位置のうちの１つまたは複数を使用してオブジェクトの位置を決定するステップとを特徴とする。
【００７２】
他の実施例によるリソグラフィ装置は、固有の相対位置を有する複数のフィーチャを備えたオブジェクトを支持するためのオブジェクト・テーブルと、オブジェクト上のフィーチャのサブセットを検出するようになされた位置センサとを有し、また、複数のフィーチャの位置（そのうちの１つの位置が座標系内における絶対位置である）に関する参照情報を記憶するための記憶装置と、位置センサおよび記憶装置に接続された処理デバイスであって、１つまたは複数のフィーチャの、その他のフィーチャに対する固有の相対位置に基づいて、測定したフィーチャのサブセットの中から１つまたは複数のフィーチャを識別するように構成されており、また、参照情報および座標系内における測定絶対位置を使用して、センサに対するオブジェクトの位置を決定するように構成された処理デバイスとを特徴とする。
【００７３】
以上、本発明の特定の実施例について説明してきたが、説明した以外の方法で本発明を実践できることが理解されよう。例えば本発明は、上で開示した方法を記述した１つまたは複数のマシン可読命令シーケンスを含んだコンピュータ・プログラムの形態とすることができ、あるいはこのようなコンピュータ・プログラムを記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体記憶装置、磁気ディスクまたは光ディスク）の形態とすることができる。以上の説明は、本発明を何ら制限するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】図１に示すリソグラフィ装置の他の断面図である。
【図３】複数のフィーチャを含むアライメント領域を示す図である。
【図４】複数のフィーチャを含むアライメント領域の一部のイメージを示す図である。
【図５】複数のフィーチャを含むアライメント領域を示す図である。
【図６】複数のフィーチャを含むアライメント領域の一部のイメージを示す図である。
【図７】それぞれ異なるオブジェクトの上に位置している２つのアライメント領域を示す図である。
【図８】複数のフィーチャを含むアライメント領域の一部のイメージを示す図である。
【符号の説明】
【００７５】
ＡＭ  放射線ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタ
ＢＤ  ビーム・デリバリ・システム
Ｃ  基板のターゲット部分
ＣＡＭ  カメラ
ＣＯ  コンデンサ
ＤＯ  センサ検出光学系
Ｆ  フレーム
Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４、Ｆ５、Ｆ６、Ｆ７、Ｆ８、Ｆ９、Ｆ１０、Ｕ１、Ｕ２、Ｕ３、Ｕ４、Ｕ５、Ｕ６、Ｕ９、Ｕ１０  フィーチャ
ＩＡ１、ＩＡ２、ＩＡ３  測定領域
ＩＦ、ＩＦ２  位置センサ
ＩＬ  照明システム（イルミネータ）
ＩＮ  インテグレータ
ＩＰ  入力デバイス
ＭＡ、ＭＡ３、ＭＡ４  パターニング構造（マスク）
ＭＴ  第１の支持構造（マスク・テーブル）
Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４  マスク・アライメント・マーク（アライメント領域）
ＯＲｍ  アライメント領域の直交座標系の原点
ＯＲｓ  カメラＣＡＭの直交座標系の原点
ＰＢ  投影放射線ビーム（投影ビーム）
ＰＬ  投影システム（レンズ）
ＰＭ  第１のポジショナ
ＰＰＤ  位置処理デバイス
ＰＷ  第２のポジショナ
Ｐ１、Ｐ２  基板アライメント・マーク
Ｓ、ＳＯ  放射線源
Ｗ  基板
ＷＴ  基板テーブル（ウェハ・テーブル）
【図１】
2006108669.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
2006108669.tif 000006
【図５】
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【図６】
2006108669.tif 000008
【図７】
2006108669.tif 000009
【図８】
2006108669.tif 000010
【外国語明細書】
2006108669000001.pdf