(57)【要約】【課題】  高精細なインク流路を備えたインクジェット記録ヘッドを、歩留りよく製造する方法を提供する。【解決手段】  液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、液体を吐出するための吐出口と、該吐出口へ液体を供給するための流路と、を備える液体吐出ヘッドの製造方法において、ネガ型感光性樹脂が流路形成用遮光膜パターンを介して複数積層されたネガ型感光性樹脂の積層物を、前記エネルギー発生素子が形成された基板上に形成する工程と、  該積層物に吐出口マスクを介して露光，現像することにより、前記吐出口と前記流路とを形成する工程と、を有する。【選択図】  図１
2006347072.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、液体を吐出するための吐出口と、該吐出口へ液体を供給するための流路と、を備える液体吐出ヘッドの製造方法において、
ネガ型感光性樹脂が流路形成用遮光膜パターンを介して複数積層されたネガ型感光性樹脂の積層物を、前記エネルギー発生素子が形成された基板上に形成する工程と、
該積層物に吐出口マスクを介して露光，現像することにより、前記吐出口と前記流路とを形成する工程と、
を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記積層物を前記基板上に形成する工程が、
前記基板上に第一のネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
前記第一のネガ型感光性樹脂層上に遮光膜形成材料を積層する工程と、
遮光膜形成材料をパターニングすることにより、前記遮光膜パターンを形成する工程と、
前記第一のネガ型感光性樹脂層と前記遮光膜パターン上に第二のネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記積層物が３層以上のネガ型感光性樹脂を積層することによって形成される請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記複数のネガ型感光性樹脂が、全て同一の組成のものである請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記ネガ型感光性樹脂が、エポキシ基を含有するエポキシ樹脂である請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記流路および前記吐出口を形成する工程において、遮光膜を除去することを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記露光時に、前記吐出口マスクによる遮光領域にまで前記遮光膜パターンを延在させることを特徴とする、請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記積層物中の複数の遮光膜パターンがすべて異なることを特徴とする請求項３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記ネガ型感光性樹脂層のうち、少なくとも基板に対して最上層のものに吐出口を形成する請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９までのいずれかに記載の製造方法によって製造された液体吐出ヘッド。
【請求項１１】
記録媒体の被記録面に対向して前記吐出口が設けられている請求項１０に記載の液体吐出ヘッドと、該ヘッドを戴置するための部材とを少なくとも具備することを特徴とする液体吐出記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液体を吐出する液体吐出ヘッドの製造方法に関し、具体的にはインクジェット記録ヘッドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液体を吐出する液体吐出ヘッドを用いる例としては、インクジェット記録方式が挙げられる。
【０００３】
インクジェット記録方式に適用されるインクジェット記録ヘッドは、一般に微細な記録液吐出口、液体流路および液体流路の一部に設けられる液体吐出エネルギー発生部を備えている。従来このようなインクジェット記録ヘッドを製造する方法としては、例えば、以下のようなものが知られている。
【０００４】
特許文献１に開示される製造方法では、基板上に、インク路形成用第１感光性材料層を設けて、次いでマスクを介してインク流路形成用パターン露光を行う。次に第１感光性材料層上に第１の感光性材料と感光波長が異なる第２感光性材料層を設けた後、第２感光性材料層にインク流路形成用パターン露光に用いた波長と異なる波長の光で吐出口形成用パターン露光を行うことでインクジェット記録ヘッドを製造する。
【０００５】
一方、特許文献２、及び特許文献３においては、染料を入れることにより感度差を出した二つの材料を積層し、照射する電子線の強度を変化させることで、インクジェット記録ヘッドを製造する。
【０００６】
具体的には、まず基板上に、染料を入れることで架橋速度が遅く低感度である性質を持たせたネガ型レジスト下層を形成し、その上に、染料なしで高感度の性質を有するネガ型レジスト上層を形成する。その後、照射する電子線の強度を下げ、吐出口パターン・インク供給口パターンを露光する。最後に、現像を行い、未架橋部を除去することで、インク流路及び吐出口・インク供給口パターンを形成する。
【特許文献１】特開平０４−２１６９５１号公報
【特許文献２】米国特許第６４４７１０２号公報
【特許文献３】米国特許第６５２０６２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に開示されている方法では、第１感光性材料の上に第２感光性材料を形成する際、スピンコート法を用いて塗布を行うため、第１感光性材料の未露光部分が、第２感光性材料を溶かしている溶媒に溶解してしまう虞があった。
【０００８】
また、特許文献２、３に開示されている方法では、形成する上層と下層のレジストにおいて電子線に対する感度の差が十分につけられない虞があった。
【０００９】
いずれの方法においても、現像液で現像する際に、現像液に対して、溶解可能な領域と溶解不可能な領域との境界が曖昧になってしまう虞があった。そのため現像液の濃度のばらつきによる影響を受けやすく、結果としてオリフィス（吐出口）プレートの厚さにもばらつきが生じる可能性があった。その結果高精細なインク流路を備えたインクジェット記録ヘッドを歩留りよく製造することが出来なかった。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は上記の点に鑑み成されたものであって、高精細なインク流路を備えたインクジェット記録ヘッドを、歩留りよく製造する方法を提供することを目的とする。
【００１１】
本発明は、液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、液体を吐出するための吐出口と、該吐出口へ液体を供給するための流路と、を備える液体吐出ヘッドの製造方法において、
ネガ型感光性樹脂が流路形成用遮光膜パターンを介して複数積層されたネガ型感光性樹脂の積層物を、前記エネルギー発生素子が形成された基板上に形成する工程と、
該積層物に吐出口マスクを介して露光，現像することにより、前記吐出口と前記流路とを形成する工程と、
を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、現像液で現像する際に、現像液に対して、溶解可能な領域と、溶解不可能な領域との境界を明確にすることが可能であり、そのため現像液の濃度ばらつきの影響を十分許容できる。よってオリフィスプレートの厚さのばらつきをおさえ、高精細なインク流路を備えたインクジェット記録ヘッドを歩留りよく得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００１４】
本説明では、本発明の適用例として、インクジェット記録方式を例に挙げて説明を行うが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものではない。
【００１５】
まず、本発明を適用可能なインクジェット記録ヘッド、およびインクジェット記録ヘッドを搭載したインクジェットカートリッジについて説明する。
【００１６】
図６は、本発明の一実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを示す模式図である。
【００１７】
本実施形態のインクジェット記録ヘッドは、インク吐出圧力発生素子（インク吐出エネルギー発生素子）６０１が所定のピッチで２列に並んで形成されたＳｉ基板６０２を有している。Ｓｉ基板６０２には、Ｓｉを異方性エッチングすることによって形成されたインク供給口６０３が、インク吐出圧力発生素子６０１の２つの列の間に開口されている。Ｓｉ基板６０２上には、インク流路壁形成部材６０４によって、各インク吐出圧力発生素子１の上方に開口する吐出口６０５と、インク供給口６０３から各インク吐出口６０５に連通する個別のインク流路が形成されている。
【００１８】
このインクジェット記録ヘッドは、インク供給口６０３が形成された面が記録媒体の記録面に対面するように配置される。そしてこのインクジェット記録ヘッドは、インク供給口６０３を介してインク流路内に充填されたインクに、インク吐出圧力発生素子６０１によって発生する圧力を加えることによって、インク吐出口６０５からインク液滴を吐出させ、これを記録媒体に付着させることによって記録を行う。
【００１９】
このインクジェット記録ヘッドは、プリンタ、複写機、ファクシミリ、プリンタ部を有するワードプロセッサなどの装置、さらには各種処理装置と複合的に組み合わせた産業記録装置に搭載可能である。
【００２０】
次に、本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法によるインク流路の製造工程を、図１を用いて説明する。図１の各図は、図６のＡ−Ａ’線における断面図を示している。
【００２１】
図１（ａ）に示すように、発熱抵抗体１を備えた基板２に、第一の感光性材料層３を形成する。第一の感光性材料層３を形成する感光性材料としては、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。次いで図１（ｂ）に示すように、第一の感光性材料層３の上に、遮光膜層４を形成する。遮光膜層４を形成する材料としては、照射エネルギーを遮断できるように、Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉなどの金属物資や、染料を入れたフォトレジストなどを適用することができる。ここで遮光膜層は、入射された紫外線やＸ線などを、反射及び／または、吸収することにより、それらのエネルギーを遮断する。照射光に対して十分な遮光効果のあるものであり、その膜厚を薄くすることができるため、精度良くパターニングが可能である。
【００２２】
次いで、図１（ｃ）のように、マスク１９を用いて遮光膜層４のパターニングを行い、遮光膜パターン５を形成する（図１（ｄ））。
【００２３】
ここで、遮光膜層４が金属物質の場合、耐エッチング性のあるレジストをマスク材として用いて、ドライエッチング工程によってパターニングを行うことができる。また染料を入れたフォトレジストの場合は、フォトリソグラフィイ工程にてパターニングが可能である。本説明では遮光膜層に、染料を入れたフォトレジストを用いた例を示している。
【００２４】
さらに、図１（ｅ）のように、遮光膜パターン層５上に、ノズル壁となるネガ型感光性材料層６を形成する。
【００２５】
ここで、ノズル壁となるネガ型感光性材料層６を形成する材料は、インク流路を形成するネガ型感光性材料層３を形成する材料と、必ずしも同一の組成のものである必要はない。
【００２６】
以上のようにして、遮光膜パターンを介して積層されたネガ型感光性樹脂の積層物１４が基板２上に形成される。
【００２７】
次いで、この積層物に対して図１（ｆ）のように、吐出口パターンを有するフォトマスク７を用いて露光を行う。ノズル壁となる前記ネガ型感光性材料層６に、露光部８及び未露光部９を形成する。またこのとき、遮光膜パターン層５は照射光を遮断するため、第一のネガ型感光性材料層３の、上部に遮光膜層パターンのない領域１０が露光される。また、第一のネガ型感光性材料３の、吐出口マスク７及び遮光膜パターン層５の下方にある部分１１は、未露光部となる。
【００２８】
その後、現像を行い、図１（ｆ）において未露光部分である９と１１を溶出することにより吐出口１３及びインク流路１２が形成され、図１（ｇ）のように、ノズルが完成する。
【００２９】
遮光膜パターン５は、吐出口マスク７とのアライメントが精度の良いものであれば、必ずしも除去しなくても構わない。
【００３０】
また、遮光膜層をフォトレジストとした場合は、その種類によっては、未露光部である９と１１の現像時に、同時に除去することも可能である。
【００３１】
また、アライメント精度の要求を下げるために、遮光膜パターンを吐出口下部に延在するように形成する、もしくは、遮光膜パターンが、吐出口下部で開口してない形状であり、結果としてインクの吐出に影響を及ぼす場合は、遮光膜の除去が必要である。この場合は、専用のリムーバー、ドライエッチングなどにより除去することができる。
【００３２】
このように、本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法によれば、遮光膜パターンにより、最終的にノズル壁となる硬化部と除去される未露光部が明確に区別され、現像液の濃度ばらつきの影響をうけにくくなっている。
【００３３】
また、遮光膜層とインク流路壁となる感光性材料が密着した構造であるため、光学像形成時に、膜厚方向での回折光の影響も軽減される。そのため、形状の矩形性が保たれ、パターン精度の向上が可能であり、また、ノズル形状の自由度も向上する。
【００３４】
なお、遮光膜をネガ型感光性材料で形成する場合は、インク流路壁を形成するネガ型感光材料が、遮光膜パターンを形成する際に用いる感光波長によって感光されないことが望ましい。つまりそれぞれの材料の感光波長が異なっていることが望ましい。この好適な材料の組み合わせとしては、例えば、インク流路壁とノズル壁となるネガ型感光性材料として、遠紫外線で感光するエポキシ樹脂を、遮光膜層としてキノンジアジド系感光性樹脂を選択する方法がある。
【００３５】
このとき、エポキシ樹脂は遠紫外域に感度をもつが、キノンジアジド系感光性樹脂は遠紫外線を吸収するため遮光膜層として機能する。さらに、キノンジアジド系レジストは、エポキシ樹脂が感度をもたない、ｇ線，ｉ線の露光にてパターニング可能であるため、遮光膜パターン形成時のインク流路を形成する壁感光性材料の感光は回避できる。
【００３６】
また、二段形状またはそれ以上の段差を有する形状のインク流路の形成を行う場合には、インク流路壁となるネガ型感光性材料層と遮光膜層の積層を繰り返せばよく、材料の増加による工程の複雑化は生じない。よって、簡便な方法で、吐出特性を向上させることが可能である。
【００３７】
また図７は、図６に示すインクジェット記録ヘッドを搭載したインクジェットカートリッジの一例を示す斜視図である。インクジェットカートリッジ７００は、前述したインクジェット記録ヘッド８００と、該インクジェット記録ヘッド８００へ供給するためのインクを収容するインク収容部９００を備え、これらが一体となっている。なお、これらは必ずしも一体になっている必要はなく、インク収容部９００の取り外しが可能な形態を取ることもできる。
【００３８】
次いで、上述したようなカートリッジタイプの記録ヘッドを搭載可能な液体吐出記録装置について説明する。図８は、本発明の液体吐出ヘッドを搭載可能な記録装置の一例を示す説明図である。
【００３９】
図８に示す記録装置において、図７に示した記録ヘッドカートリッジ７００がキャリッジ１０２に位置決めして交換可能に搭載されており、キャリッジ１０２には、記録ヘッドカートリッジ７００上の外部信号入力端子を介して各吐出部に駆動信号等を伝達するための電気接続部が設けられている。
【００４０】
キャリッジ１０２は、主走査方向に延在して装置本体に設置されたガイドシャフト１０３に沿って往復移動可能に案内支持されている。そして、キャリッジ１０２は主走査モータ１０４によりモータプーリ１０５、従動プーリ１０６およびタイミングベルト１０７等の駆動機構を介して駆動されるとともにその位置および移動が制御される。また、ホームポジションセンサ１３０がキャリッジ１０２に設けられている。これにより遮蔽板１３６の位置をキャリッジ１０２上のホームポジションセンサ１３０が通過した際に位置を知ることが可能となる。
【００４１】
印刷用紙やプラスチック薄板等の記録媒体１０８は給紙モータ１３５からギアを介してピックアップローラ１３１を回転させることによりオートシートフィーダ（ＡＳＦ）１３２から一枚ずつ分離給紙される。更に搬送ローラ１０９の回転により、記録ヘッドカートリッジ７００の吐出口面と対向する位置（プリント部）を通って搬送（副走査）される。搬送ローラ１０９はＬＦモータ１３４の回転によりギアを介して行われる。その際、給紙されたかどうかの判定と給紙時の頭出し位置の確定は、ペーパエンドセンサ１３３を記録媒体１０８が通過した時点で行われる。さらに、記録媒体１０８の後端が実際にどこに有り、実際の後端から現在の記録位置を最終的に割り出すためにもペーパエンドセンサ１３３は使用されている。
【００４２】
なお、記録媒体１０８は、プリント部において平坦なプリント面を形成するように、その裏面をプラテン（不図示）により支持されている。この場合、キャリッジ１０２に搭載された記録ヘッドカートリッジ７００は、それらの吐出口面がキャリッジ１０２から下方へ突出して前記２組の搬送ローラ対の間で記録媒体１０８と平行になるように保持されている。
【００４３】
記録ヘッドカートリッジ７００は、各吐出部における吐出口の並び方向が上述したキャリッジ１０２の走査方向に対して交差する方向になるようにキャリッジ１０２に搭載され、これらの吐出口列から液体を吐出して記録を行う。
【００４４】
以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
【００４５】
（実施例１）
図１を参照し、本発明の第一の実施例を説明する。
【００４６】
まずインク滴を吐出させるためのエネルギー発生素子１とドライバーやロジック回路が形成されたシリコン基板２を用意した。
【００４７】
次いで、この基板上に、以下の組成の材料をスピンコート法によって塗布し（平板上膜厚１２μｍ）、１００℃で２分間（ホットプレート）のベークを行い、第一の感光性材料層３を形成した（図１（ａ））。
【００４８】
（組成物１）
ＥＨＰＥ（ダイセル化学工業製）                          １００重量部
ＳＰ−１７０（旭電化工業製）                                ２重量部
Ａ−１８７（日本ユニカー製）                                ５重量部
メチルイソブチルケトン                                  １００重量部
ジグライム                                              １００重量部
引き続き、被処理基板上に東京応化製ＯＦＰＲを、スピンコートにより０．５μｍの膜厚となるように塗布し、ホットプレートにてベークを行い、遮光膜層４を形成した（図１（ｂ））。
【００４９】
次いで、図１（ｃ）に示すようにＦＰＡ−３０００ｉＷ（キヤノン製）にて、マスク１９を用いて、３６５ｎｍの波長で２００Ｊ／ｍ２の露光量にてパターン露光した後、現像を行うことにより、遮光膜パターン５を形成した（図１（ｄ））。
【００５０】
続いて、更に、前記組成物１を、スピンコート法により塗布し（平板上膜厚１０μｍ）、１００℃で２分間（ホットプレート）のベークを行い、第二の感光性材料６を形成した（図１（ｅ））。
【００５１】
次いで、吐出口レチクルを用いて、ＦＰＡ−３０００ＧＭＲ（キヤノン製）にて２４８ｎｍの波長で、５００Ｊ／ｍ２の露光量にて露光した（図１（ｆ））。ここで、ＯＦＰＲからなる遮光パターン層５は、２４８ｎｍの光を吸収するため、遮光パターンの下方に相当するインク流路となる第二の感光性材料層の感光は回避できる。
【００５２】
その後、ホットプレートにて９０℃３分のＰＥＢを行い、メチルイソブチルケトンにて現像を行うことにより、未露光部９および１１を完全に取り除くことにより、インク吐出口１３及びインク流路１２を形成した（図１（ｇ））。なお、本実施例ではφ１０μｍの吐出口パターンを形成した。
【００５３】
最後に、インク供給のための開口パターンを形成（不図示）した後、発熱抵抗体１を駆動するための電気的接合（図示せず）を行って、インクジェット記録ヘッドが完成した。
【００５４】
（実施例２）
図２を参照し、本発明の第二の実施例として、流路形成工程において遮光膜の除去を行う製造方法を説明する。
【００５５】
本実施例においては、遮光膜は最終的に除去されるため、遮光膜パターンを、吐出口マスクによる遮光領域、すなわち吐出口形成予定部位の流路側端面の領域にまで延在して設けることができる。これにより、吐出口パターン露光の際、遮光膜パターンと、吐出口マスクとの位置合わせを、実施例１と比較して厳密に行う必要がない。
【００５６】
まず、実施例１と同様に、基板２上に、前記組成物１をスピンコートにより形成し、第一の感光性材料層２１を形成した（図２（ａ））。
【００５７】
引き続き、被処理基板上に、遮光膜層として、Ｃｒ含有の金属膜２２をスパッタにより形成した。（図２（ｂ））
次いで、図２（ｃ）に示すように、前記金属膜上に、レジストパターン１８をフォトリソグラフィにより形成し、更にドライエッチングを行うことにより、遮光膜パターン２３を形成した。（図２（ｄ））
続いて、更に、前記組成物を、スピンコートすることで、第二の感光性材料層２４を形成した（図２（ｅ））。
【００５８】
次いで、ＭＰＡ−６００Ｓｕｐｅｒ（キヤノン製）にて、吐出口マスク２５を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量にて露光を行う。この際、遮光膜パターン２３には、吐出口マスクの基板に対する投影領域内に含まれる部位２３ｂと含まれない部位２３ａが存在する。２３ｂの範囲内であれば、露光の際、吐出口マスク２５の位置合わせにずれが生じたとしても、流路形成予定部位２８は露光されない。（図２（ｆ））。
【００５９】
その後、ホットプレートにてＰＥＢを行い、メチルイソブチルケトンにて現像を行うことにより、インク吐出口２９及びインク流路３０を形成した。（図２（ｇ））
次いで、遮光膜パターン２４を専用のリムーバーに浸漬することにより、除去した。（図２（ｈ））
最後に、実施例１と同様の工程を行うことにより、インクジェット記録ヘッドが完成した。
【００６０】
（実施例３）
図３を参照し、本発明の第三の実施例として、遮光膜パターンにおいて、吐出口形成部位の流路側端部に相当する部分が、開口していないパターンを用いた製造方法の例を説明する。
【００６１】
本実施例においては吐出口下部に相当する部分全面において平坦な遮光膜が形成されているため、インク吐出口が形成される最上層を平坦に積層することが可能である。
【００６２】
まず実施例１と同様に、基板２上に、第一の感光性材料層３１を形成した（図３ａ）。
【００６３】
ここで、第一の感光性材料層を形成する性材料として、ＩＢＭ製ＳＵ８に、短波長側に感度を持たすための光開始剤を添加したものを用いた。
【００６４】
引き続き、被処理基板上に、遮光膜層３２として、東京応化製ＯＦＰＲ膜を形成した（図３ｂ）。
【００６５】
次いで、ＦＰＡ−３０００ｉＷ（キヤノン製）を用い、フォトリソグラフィ工程により、遮光膜パターン３３を形成した（図３（ｃ）〜（ｄ））。このとき、遮光膜パターンとして、吐出口下部に相当する部分が、開口していないパターンを用いた。
【００６６】
続いて、更に、上記ＳＵ８を、スピンコートすることで、第２の感光性材料層３５を形成した。（図３（ｅ））
次いで、ＦＰＡ−３０００ＧＭＲ（キヤノン製）にて、吐出口マスク３５を用い、３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量にて露光した後（図３（ｆ））、ホットプレートにてＰＥＢを行い、ＳＵ８デベロッパーにて現像を行うことにより、ノズル壁となる感光性材料層の未露光部分を除去してインク吐出口３８を形成した（図３（ｇ））。
【００６７】
次いで、遮光膜パターン３４を、専用のリムーバーを用い、除去した後、インク流路壁となる感光性材料の未露光部分を除去することで、インク流路を形成した。（図３（ｈ））
最後に、実施例１と同様の工程を通すことにより、インクジェット記録ヘッドが完成した。
【００６８】
（実施例４）
図４を参照し、本発明の第四の実施例として、インク流路が二段形状のインクジェット記録ヘッドの製造方法例を示す。本実施例を適用することにより、より複雑なインク流路形状の形成が可能となる。
【００６９】
まず実施例１と同様に、基板２上に前記組成物１をスピンコートにより形成し、第一の感光性材料層４１を１２μｍ厚で形成した。
【００７０】
次いで、被処理基板上に、実施例１に示す方法と同様の方法で第一の遮光膜層を形成し、フォトリソグラフィにより、遮光膜パターン１層目４２を形成した（図４ａ）。
【００７１】
続いて、更に、前記組成物１を、スピンコートすることで、第二の感光性材料層４３を４μｍ厚で形成した（図４ｂ）。
【００７２】
その後、実施例１と同様の方法で、第二の遮光膜層を形成した後、パターニングを行い、第二の遮光膜パターン層４５を形成した。
【００７３】
続いて、前記組成物１を、スピンコートすることで、第三の感光性材料層４４を６μｍ厚で形成した（図４ｃ）。
【００７４】
次いで、ＦＰＡ−３０００ＧＭＲ（キヤノン製）にて、吐出口レチクルを用い、露光した後（図４ｄ）、ホットプレートにてＰＥＢを行い、メチルイソブチルケトンにて現像を行うことにより、インク吐出口５５及びインク流路５６を形成した（図４ｅ）。
【００７５】
最後に、実施例１と同様の工程を通すことにより、インクジェット記録ヘッドが完成した。
【００７６】
（実施例５）
図５を参照し、本発明の第五の実施例として、基板上に積層する複数の感光性材料層が、異なる組成の感光性材料層で形成される例を示す。
【００７７】
まず本実施例に用いる感光性材料として、以下のものを用意した。
【００７８】
感光性材料Ａ
ＩＢＭ製ＳＵ８に、短波長側に感度を持たすための光開始剤を添加したもの
感光性材料Ｂ
感光性材料Ａに、染料を加えることにより感光速度を高めたもの
次に実施例１と同様に、基板２上に、感光性材料Ａを用いて第一の感光性材料層６１を形成した（図５ａ）。
【００７９】
引き続き、被処理基板上に、遮光膜層６２として、東京応化製ＯＦＰＲ膜を形成した（図５ｂ）。
【００８０】
次いで、実施例３に示した方法と同様の方法で、遮光膜パターン６３を形成した（図５ｃ）。
【００８１】
続いて、感光性材料Ｂをスピンコート法を用いて、第二の感光性材料層６５を形成した（図５ｄ）。
【００８２】
次いで、ＦＰＡ−３０００ＧＭＲ（キヤノン製）にて吐出口マスク６５を用い、３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量にて露光した後、露光した（図５ｅ）後、ホットプレートにてＰＥＢを行い、ＳＵ８デベロッパーにて現像を行うことにより、第二の感光性材料層の未露光部分を除去してインク吐出口６８を形成した（図５（ｆ））。
【００８３】
次いで、遮光膜パターン６４を、専用のリムーバーを用い、除去した後、第一の感光性材料の未露光部分を除去することで、インク流路を形成した（図５（ｇ））。
【００８４】
最後に、実施例１と同様の工程を通すことにより、インクジェット記録ヘッドが完成した。
【００８５】
以上のように、実施例１〜５の製造方法で製造したインクジェット記録ヘッドを記録装置に搭載し、吐出および記録評価を行ったところ、良好な画像記録が可能であった。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法の基本工程および実施例１の製造工程を時系列的に示す模式的断面図である。
【図２】本発明の実施例２の製造工程を時系列的に示す模式的断面図である。
【図３】本発明の実施例３の製造工程を時系列的に示す模式的断面図である。
【図４】本発明の実施例４の製造工程を時系列的に示す模式的断面図である。
【図５】本発明の実施例５の製造工程を時系列的に示す模式的断面図である。
【図６】本発明の製造方法を用いて製造されたインクジェット記録ヘッドの構成を示す斜視図である。
【図７】本発明の製造方法を用いて製造されたインクジェット記録ヘッドを搭載したインクジェット記録ヘッドカートリッジを示す図である。
【図８】インクジェット記録ヘッドを搭載可能なインクジェット記録装置の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００８７】
１、６０１  インク吐出圧力発生素子
２、６０２  基板
３、２１、３１、４１、６１  第一の感光性材料層
４、２２、３２、６２  遮光膜
５、２３、３３、４２、４５、６３  遮光膜パターン
６、２４、３４、４３、６４  第二の感光性材料層
７、２５、３５、４６、６５  吐出口マスク
８、１０、２６、２７、３６、３７、４９、５１、５２、６６、６７  露光部
９、１１、５４、５３  未露光部
１２、３０、３９、５６、６９  インク流路
１３、２９、３８、５５、６８、６０５  吐出口
１４  積層物
１７、１９  マスク
１８  レジストパターン
６０３  インク供給口
６０４  インク流路壁形成部材
７００  インクジェットカートリッジ
８００  インクジェットヘッド
９００  インク収容部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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