(57)【要約】【課題】リソグラフィ装置及び位置測定方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィ装置において、周囲空間の圧力を正確に測定することによって、周囲空間に存在する物体の、周囲空間の圧力変化の影響を受ける物体位置測定系による位置測定が修正される。所定の流動特性で周囲空間と流体接続した基準圧力体積を提供することができる。基準圧力体積の圧力と周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差が測定される。基準圧力体積の絶対圧力が圧力差に加算され、周囲空間の圧力変化が決定される。別法としては、圧力差が時間で積分され、それにより基準圧力体積の圧力変化が決定され、基準圧力体積のこの圧力変化が圧力差に加算され、周囲空間の圧力変化が決定される。流体接続には、開閉可能な弁を使用することも可能である。【選択図】図２
2006108681.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準圧力体積と流体接続した周囲空間に存在する物体の位置を、物体位置測定系を使用して測定するための方法であって、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定することと、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記基準圧力体積の前記絶対圧力と前記圧力差を加算することと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の位置測定を修正することと
を含む方法。
【請求項２】
前記基準圧力体積の圧力と雰囲気圧の間の前記圧力差が前記周囲空間の少なくとも２つの位置で測定され、前記圧力変化が前記少なくとも２つの異なる位置で決定される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも２つの位置が物体位置測定系の測定経路に沿って位置している、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
基準圧力体積と流体接続した周囲空間に存在する物体の位置を、物体位置測定系を使用して測定するための方法であって、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、
前記基準圧力体積の圧力変化を決定するために、前記圧力差を所定の時間にわたって積分することと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記所定の時間の終了時における前記圧力差を前記基準圧力体積の前記圧力変化に加算することと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の位置測定を修正することと
を含む方法。
【請求項５】
前記圧力差の測定に先立って前記周囲空間の初期雰囲気圧を測定することと、前記初期雰囲気圧を前記所定時間の終了時における前記圧力差及び前記基準圧力体積の前記圧力変化に加算することとをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定することと、前記積分ことを較正するために前記基準圧力体積の前記絶対圧力の測値を使用することとをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
基準圧力体積と開閉可能に流体接続した周囲空間に存在する物体の位置を、物体位置測定系を使用して測定するための方法であって、
前記流体接続を開くことと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記接続を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の位置測定を修正することと
を含む方法。
【請求項８】
前記圧力差の測定に先立って前記周囲空間の初期雰囲気圧を測定することと、前記初期雰囲気圧を前記圧力変化に加算することとをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
基準圧力体積と開閉可能に流体接続した周囲空間に存在する物体の位置を、物体位置測定系を使用して測定するための方法であって、
前記接続を開くことと、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定することと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記接続を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の位置測定を修正することと
を含む方法。
【請求項１０】
周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置であって、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記基準圧力体積の前記絶対圧力を前記圧力差に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えた装置。
【請求項１１】
前記物体位置測定系がレーザ干渉計系である、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記接続が毛管である、請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を、前記物体位置測定系の測定経路に沿って位置する少なくとも２つの位置で測定するように形成された少なくとも２つの差圧センサを備えた、請求項１０に記載の装置。
【請求項１４】
前記基準圧力体積が導電材料を含んでいる、請求項１０に記載の装置。
【請求項１５】
前記導電材料が導電性に優れた微細メッシュを含んでいる、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記導電材料が温度制御されている、請求項１４に記載の装置。
【請求項１７】
前記基準圧力体積が非膨張材料で作られている、請求項１０に記載の装置。
【請求項１８】
前記基準圧力体積がインバールで作られている、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記基準圧力体積が炭素繊維で作られている、請求項１７に記載の装置。
【請求項２０】
周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置であって、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記圧力差を所定の時間にわたって積分するように形成された、前記基準圧力体積の圧力変化を決定するための積分器と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記所定の時間の終了時における前記圧力差を前記基準圧力体積の前記圧力変化に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えた装置。
【請求項２１】
前記周囲空間の雰囲気圧を測定するように形成された絶対圧力センサをさらに備え、前記加算器が、前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記雰囲気圧をさらに加算するように形成されている、請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置であって、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えた装置。
【請求項２３】
周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置であって、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えた装置。
【請求項２４】
放射ビームを制御するように形成された照明系と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与し、それによりパターン形成された放射ビームを形成することができるパターン形成装置を支持するように形成されたパターン形成装置支持体と、
基板を保持するように形成された基板支持体と、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するように形成された投影系と、
前記支持体のうちの１つの位置を測定するように形成された位置測定装置とを有していて、前記位置測定装置が、
周囲空間に配置された、前記１つの支持体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記基準圧力体積の前記絶対圧力を前記圧力差に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えている、リソグラフィ装置。
【請求項２５】
前記基準圧力体積が前記投影系の投影レンズである、請求項２４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２６】
放射ビームを制御するように形成された照明系と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与し、それによりパターン形成された放射ビームを形成することができるパターン形成装置を支持するように形成されたパターン形成装置支持体と、
基板を保持するように形成された基板支持体と、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するように形成された投影系と、
前記支持体のうちの１つの位置を測定するように形成された位置測定装置とを有していて、前記位置測定装置が、
周囲空間に配置された、前記１つの支持体の位置を測定するように形成されたレーザ干渉計系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記圧力差を所定の時間にわたって積分するように形成された、前記基準圧力体積の圧力変化を決定するための積分器と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記所定時間の終了時における前記圧力差を前記基準圧力体積の前記圧力変化に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記レーザ干渉計系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えている、リソグラフィ装置。
【請求項２７】
放射ビームを制御するように形成された照明系と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与し、それによりパターン形成された放射ビームを形成することができるパターン形成装置を支持するように形成されたパターン形成装置支持体と、
基板を保持するように形成された基板支持体と、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するように形成された投影系と、
前記支持体のうちの１つの位置を測定するように形成された位置測定装置とを有していて、前記位置測定装置が、
周囲空間に配置された、前記１つの支持体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えている、リソグラフィ装置。
【請求項２８】
放射ビームを制御するように形成された照明系と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与し、それによりパターン形成された放射ビームを形成することができるパターン形成装置を支持するように形成されたパターン形成装置支持体と、
基板を保持するように構成された基板支持体と、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するように形成された投影系と、
前記支持体のうちの１つの位置を測定するように形成された位置測定装置とを有していて、前記位置測定装置が、
周囲空間に配置された、前記１つの支持体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えている、リソグラフィ装置。
【請求項２９】
パターンをパターン形成装置から基板上へ転送するように形成されたリソグラフィ装置であって、
周囲空間に存在する可動物体と、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記基準圧力体積の前記絶対圧力を前記圧力差に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えたリソグラフィ装置。
【請求項３０】
パターンをパターン形成装置から基板上へ転送するように形成されたリソグラフィ装置であって、
周囲空間に存在する可動物体と、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記圧力差を所定の時間にわたって積分するように形成された、前記基準圧力体積の圧力変化を決定するための積分器と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記所定時間の終了時における前記圧力差を前記基準圧力体積の前記圧力変化に加算するように形成された加算器と、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えたリソグラフィ装置。
【請求項３１】
パターンをパターン形成装置から基板上へ転送するように形成されたリソグラフィ装置であって、
周囲空間に存在する可動物体と、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えたリソグラフィ装置。
【請求項３２】
パターンをパターン形成装置から基板上へ転送するように形成されたリソグラフィ装置であって、
周囲空間に存在する可動物体と、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した、開閉可能な弁を備えた基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の絶対圧力を測定するように形成された絶対圧力センサと、
前記周囲空間の圧力変化を決定するために、前記弁を閉じた後に前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の前記位置測定を修正するように形成された位置測定修正器と
を備えたリソグラフィ装置。
【請求項３３】
周囲空間に存在する物体の位置を測定するための方法であって、
基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、
前記圧力差に基づいて前記周囲空間の圧力変化を決定することと、
決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体の位置測定を修正することと含む方法。
【請求項３４】
周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置であって、
前記周囲空間に配置された、前記物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、
前記周囲空間と流体接続した基準圧力体積と、
前記基準圧力体積の圧力と前記周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、
前記圧力差に基づいて前記周囲空間の圧力変化を決定するように形成された計算ユニットと、
決定された前記周囲空間の圧力変化に基づいて前記物体位置測定系の位置測定を修正するように形成された位置測定修正器とを備えた装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はリソグラフィ装置及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
物体の位置を極めて正確に決定するためには、レーザ干渉計系などの物体位置測定系を使用することができる。使用しているレーザ光の波長が測定単位を構成している増分系であるレーザ干渉計系では、物体の反射表面におけるレーザ光の反射が測定され、内部基準経路と比較される。物体の位置がレーザ・ビームに一致して変化する場合、基準レーザ・ビームと測定レーザ・ビームの間の比較は、変位に比例する多数の干渉遷移（測定経路と基準経路の間の強め合う干渉／弱め合う干渉からなる）を示すことになる。干渉遷移の数は、変位に比例しているだけでなく、レーザ光の波長にも比例している。詳細には、干渉遷移の数は、変位によって生じる光路長の変化を波長で割った値に等しい。
【０００３】
空気中における光の波長は、真空中における公称波長をその光が移動する媒体の屈折率で割った値に依存している。空気中における屈折率ｎａｉｒは、いわゆるＥｄｌｅｎの公式（参照により本明細書に援用されている、Ｂ．Ｅｄｌｅｎ、Ｔｈｅ  ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ  ｉｎｄｅｘ  ｏｆ  ａｉｒ、Ｍｅｔｒｏｌｏｇｉａ、Ｖｏｌ．２、ｎｒ．２、７１〜８０頁（１９６６））によって表すことができる。
【０００４】
【数１】
2006108681.tif 000003
上式で、
Ｄ＝０．２７６５１７５４・１０−３（１＋５３．５・１０−８（Ｃ−３００））であり、
Ｐは、（空気の）圧力［Ｐａ］
Ｔは、（空気の）温度［℃］
Ｆは、水蒸気分圧［Ｐａ］
Ｃは、ＣＯ２濃度［ｐｐｍ］
に対応している。
【０００５】
Ｋ．Ｐ．Ｂｉｒｃｈ、Ｍ．Ｊ．Ｄｏｗｎｓ、１９９４年、Ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｕｐｄａｔｅｄ  Ｅｄｌｅｎ  ｅｑｕａｔｉｏｎ  ｆｏｒ  ｔｈｅ  ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ  ｉｎｄｅｘ  ｏｆ  ａｉｒ、Ｍｅｔｒｏｌｏｇｉａ３１、３１５〜３１６頁（参照により本明細書に援用されている）に、パラメータの基本相互依存性が不変である公式（１）の他のバージョンが記載されている。
【０００６】
公式（１）では、ｎａｉｒは、空気の圧力に依存しており、また、より詳細には本発明の文脈においては考慮されていない他のパラメータに依存していることは理解されよう。
【０００７】
したがって、レーザ干渉計系を使用して位置を測定する場合、空気の圧力を考慮することが望ましい。正確な圧力を知ることにより、屈折率を正確に決定することができる。また、干渉遷移の数（「縞の総数」）をレーザ干渉計系の中で正確に決定することができる。圧力の正確な測定結果と縞の総数を組み合わせることにより、求める位置を正確に決定することができる。
【０００８】
以上の考察の結果、レーザ干渉計系若しくは多数の波長の正確な測定に基づく他の任意の測定系を使用して、たとえば空気などの媒体中における物体の位置を正確に測定するためには、媒体の圧力を正確に決定することが望ましい。
【０００９】
リソグラフィ装置は、高精度の位置測定が望ましいツールの一例である。リソグラフィ装置には、通常、レーザ干渉計測定系が使用されている。
【００１０】
リソグラフィ装置は、基板、一般的には基板の目標部分に所望のパターンを適用する機械である。リソグラフィ装置は、たとえば集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。その場合、マスク或いはレチクルとも呼ばれているパターン形成装置を使用して、ＩＣの個々の層に形成すべき回路パターンが生成され、このパターンが、基板（たとえばシリコン・ウェハ）上の目標部分（たとえば１つ以上のダイ部分が含まれている）に転送される。パターンの転送は、通常、基板に提供されている放射感応材料（レジスト）の層への画像化を介して実施される。通常、１枚の基板には、順次パターン形成される目標部分に隣接する回路網が含まれている。
【００１１】
従来のリソグラフィ装置には、パターン全体を１回で目標部分に露光することによって目標部分の各々が照射される、いわゆるステッパと、パターンを放射ビームで所与の方向（「走査」方向）に走査し、且つ、基板をこの方向に平行に、或いは逆平行に同期走査することによって目標部分の各々が照射される、いわゆるスキャナがある。パターンを基板上へ転写することによってパターン形成装置から基板へパターンを転送することも可能である。
【００１２】
リソグラフィ装置では、マスクと基板（即ち、一般にレチクル・ステージ（即ちマスク・テーブル即ちパターン支持体）と呼ばれているそれらの個々のステージと、ウェハ・ステージ（即ち基板テーブル即ち基板支持体））を正確に配置しなければならず、そのためにレーザ干渉計系が使用されている。初期化段階では、マスク及び基板上に予め提供されている位置合せマーク上で、或いはそれらのキャリア上でスケーリングするための位置合せセンサを使用して、ありうる位置ずれを修正することができるため、位置合せの精度が制限されている。初期化段階の後、位置合せ位置が残される時、位置合せの精度は、通常、高精度である。
【００１３】
実際の波長に対する圧力の影響の観点からすると、上で説明したように、初期化段階において、ある程度限定された（絶対）精度で絶対圧力を測定し、測定した絶対圧力を使用して、たとえば公式（１）若しくは公式（１）の他のバージョンを使用して真空中における既知の値に対する実際の波長を決定することができる。初期化段階においては、位置合せマークを使用してスケーリングが実行されるため、圧力測定の精度及び再現性はそれほど高くはない。
【００１４】
しかしながら、レチクル・ステージ若しくはウェハ・ステージの位置合せ後における圧力の変化は、ステージの位置決めに直接影響することがある。レーザ干渉計系によって測定される波長に対する圧力変化のスケーリング効果は、絶対圧力に対する実際の圧力変化に比例している。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
従来の圧力センサでは、高い精度で絶対圧力を測定することは困難であり、また、十分な速度及び精度で速い圧力変化を測定することは困難である。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の実施例には、物体位置測定系を雰囲気圧が変化する状況下で使用して、周囲空間に存在する物体の位置を極めて正確に測定するための方法及び装置が含まれている。
【００１７】
本発明の一実施例によれば、周囲空間に存在する物体の位置を測定するための方法が提供される。この方法には、物体の位置を測定するために、物体位置測定系を周囲空間に提供することと、所定の流動特性で周囲空間と流体接続した基準圧力体積を提供することと、基準圧力体積の絶対圧力を測定することと、基準圧力体積の圧力と周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、周囲空間の圧力変化を決定するために、基準圧力体積の絶対圧力と圧力差を加算することと、決定された周囲空間の圧力変化に基づいて物体位置測定系の位置測定を修正することが含まれている。
【００１８】
本発明の一実施例によれば、周囲空間に存在する物体の位置を測定するための方法には、物体の位置を測定するために、物体位置測定系を周囲空間に提供することと、所定の流動特性で周囲空間と流体接続した基準圧力体積を提供することと、基準圧力体積の圧力と周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、基準圧力体積の圧力変化を決定するために、圧力差を所定の時間にわたって積分することと、周囲空間の圧力変化を決定するために、所定の時間の終了時における圧力差と基準圧力体積の圧力変化を加算することと、決定された周囲空間の圧力変化に基づいて物体位置測定系の位置測定を修正することが含まれている。
【００１９】
本発明の他の実施例によれば、周囲空間に存在する物体の位置を測定するための方法には、物体の位置を測定するために、物体位置測定系を周囲空間に提供することと、周囲空間と開閉可能に流体接続した基準圧力体積を提供することと、接続を開くことと、周囲空間の圧力変化を決定するために、接続を閉じた後に基準圧力体積の圧力と周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、決定された周囲空間の圧力変化に基づいて物体位置測定系の位置測定を修正することが含まれている。
【００２０】
本発明のさらに他の実施例によれば、周囲空間に存在する物体の位置を測定するための方法には、物体の位置を測定するために、物体位置測定系を周囲空間に提供することと、周囲空間と開閉可能に流体接続した基準圧力体積を提供することと、接続を開くことと、基準圧力体積の絶対圧力を測定することと、周囲空間の圧力変化を決定するために、接続を閉じた後に基準圧力体積の圧力と周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、決定された周囲空間の圧力変化に基づいて物体位置測定系の位置測定を修正することが含まれている。
【００２１】
本発明の一実施例によれば、周囲空間に存在する物体の位置を測定するための方法には、所定の流動特性で周囲空間と流体接続した基準圧力体積の圧力と周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定することと、圧力差に基づいて周囲空間の圧力変化を決定することと、決定された周囲空間の圧力変化に基づいて物体の位置測定を修正することが含まれている。
【００２２】
本発明の一実施例によれば、周囲空間に存在する物体の位置を測定するための装置は、周囲空間に配置された、物体の位置を測定するように形成された物体位置測定系と、周囲空間と流体接続した基準圧力体積であって、該流体接続が所定の流動特性を有する基準圧力体積と、基準圧力体積の圧力と周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、圧力差に基づいて周囲空間の圧力変化を決定するように形成された計算ユニットと、決定された周囲空間の圧力変化に基づいて物体位置測定系の位置測定を修正するように形成された修正器とを備えている。
【００２３】
本発明によるリソグラフィ装置は、放射ビームを制御するように形成された照明系と、放射ビームの断面にパターンを付与し、それによりパターン形成された放射ビームを形成することができるパターン形成装置を支持するように形成されたパターン形成支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投射するように形成された投影系と、デバイスの位置を測定するように形成された位置測定装置であって、周囲空間に配置された、該デバイスの位置を測定するように形成された物体位置測定系を備えた位置測定装置と、周囲空間と流体接続した基準圧力体積であって、該流体接続が所定の流動特性を有する基準圧力体積と、基準圧力体積の圧力と周囲空間の雰囲気圧の間の圧力差を測定するように形成された差圧センサと、圧力差に基づいて周囲空間の圧力変化を決定するように形成された計算ユニットと、決定された周囲空間の圧力変化に基づいて物体位置測定系の位置測定を修正するように形成された修正器とを備えている。
【００２４】
本発明のさらに他の実施例によれば、上記方法を具体化した装置が提供される。より詳細には、上記方法を実施したリソグラフィ装置が提供される。
【００２５】
本発明の実施例によれば、雰囲気圧を正確に測定することによって物体の位置を正確に測定することができる。
【００２６】
以下、本発明の実施例について、単なる実施例にすぎないが、添付の略図を基準して説明する。図において、対応する基準記号は、対応する部品を表している。
【実施例】
【００２７】
図１は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を略図で示したものである。このリソグラフィ装置は、放射ビームＢ（たとえばＵＶ放射若しくは他の適切なタイプの放射）を制御するように形成された照明系（イルミネータ）ＩＬと、パターン形成装置（たとえばマスク）ＭＡを支持するように形成された、及び該パターン形成装置を特定のパラメータに従って正確に位置決めするように形成された第１の位置決め装置ＰＭに接続された支持構造即ちパターン形成装置支持体（たとえばマスク・テーブル）ＭＴとを備えている。このリソグラフィ装置は、さらに、基板（たとえばレジスト被覆ウェハ）Ｗを保持するように形成された、及び該基板を特定のパラメータに従って正確に位置決めするように形成された第２の位置決め装置ＰＷに接続された基板テーブル即ち基板支持体（たとえばウェハ・テーブル）ＷＴ、及びパターン形成装置ＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗの目標部分Ｃ（たとえば１つ以上のダイが含まれている）に投影するように形成された投影系（たとえば屈折投影レンズ系）ＰＳを備えている。
【００２８】
照明系は、放射を導き、整形し、或いは制御するための屈折光学部品、反射光学部品、磁気光学部品、電磁光学部品、静電光学部品或いは他のタイプの光学部品若しくはそれらの任意の組合せなどの様々なタイプの光学部品を備えることができる。
【００２９】
支持構造体は、パターン形成装置を支持している。つまりパターン形成装置の重量を支えている。支持構造体は、パターン形成装置の配向、リソグラフィ装置の設計及び他の条件、たとえばパターン形成装置が真空環境中で保持されているか否か等に応じた態様でパターン形成装置を保持している。支持構造体には、パターン形成装置を保持するための機械式締付け技法、真空締付け技法、静電締付け技法或いは他の締付け技法を使用することができる。支持構造体は、たとえば必要に応じて固定若しくは移動させることができるフレームであっても、或いはテーブルであっても良い。支持構造体は、たとえば投影系に対してパターン形成装置を確実に所望の位置に配置することができる。本明細書における「レチクル」或いは「マスク」という用語の使用はすべて、より一般的な「パターン形成装置」という用語の同義語と見なすことができる。
【００３０】
本明細書に使用されている「パターン形成装置」という用語は、放射ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板の目標部分にパターンを生成するために使用することができる任意の装置を意味するものとして広義に解釈されたい。また、放射ビームに付与されるパターンは、たとえばそのパターンに移相フィーチャ即ちいわゆる補助フィーチャが含まれている場合、基板の目標部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。通常、放射ビームに付与されるパターンは、目標部分に生成されるデバイス、たとえば集積回路中の特定の機能層に対応している。
【００３１】
パターン形成装置は、透過型であっても或いは反射型であっても良い。パターン形成装置の実施例には、マスク、プログラム可能ミラー・アレイ及びプログラム可能ＬＣＤパネルがある。マスクについてはリソグラフィにおいては良く知られており、バイナリ、交番移相及び減衰移相などのマスク・タイプ、及び様々なハイブリッド・マスク・タイプが知られている。プログラム可能ミラー・アレイの実施例には、マトリックスに配列された微小ミラーが使用されている。微小ミラーの各々は、入射する放射ビームが異なる方向に反射するよう、個々に傾斜させることができ、傾斜したミラーによって、ミラー・マトリックスで反射する放射ビームにパターンが付与される。
【００３２】
本明細書に使用されている「投影系」という用語には、使用する露光放射に適した、或いは液浸液の使用若しくは真空の使用などの他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系、磁気光学系、電磁光学系及び静電光学系若しくはそれらの任意の組合せを始めとする任意のタイプの投影系が包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における「投影レンズ」という用語の使用はすべて、より一般的な「投影系」という用語の同義語と見なすことができる。
【００３３】
図に示すように、このリソグラフィ装置は、反射型（たとえば反射型マスクを使用した）タイプの装置である。別法としては、このリソグラフィ装置は、透過型（たとえ透過型マスクを使用した）タイプの装置であっても良い。
【００３４】
リソグラフィ装置は、場合によっては２つ（二重ステージ）以上の基板テーブル即ち基板支持体（及び／又は複数のマスク・テーブル即ちパターン形成装置支持体）を有するタイプの装置であり、このような「多重ステージ」機械の場合、追加テーブル即ち支持体を並列に使用することができ、或いは１つ以上の他のテーブル即ち支持体を露光のために使用している間、１つ以上のテーブル即ち支持体に対して予備ことを実行することができる。
【００３５】
また、リソグラフィ装置は、基板の少なくとも一部が比較的屈折率の大きい液体、たとえば水で覆われ、それにより投影系と基板の間の空間が充填されるタイプの装置であっても良い。また、リソグラフィ装置内の他の空間、たとえばマスクと投影系の間に液浸液を充填することも可能である。液浸技法は、当分野においては、投影系の開口数を大きくすることで良く知られている。本明細書で使用されている「液浸」という用語は、基板などの構造が液体に浸されることを意味しているのではなく、露光の間、投影系と基板の間に液体が存在していることを単に意味しているにすぎない。
【００３６】
図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受け取っている。放射源がたとえばエキシマ・レーザである場合、放射源及びリソグラフィ装置は、個別の構成要素にすることができる。このような場合、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成しているとは見なされず、放射ビームは、たとえば適切な誘導ミラー及び／又はビーム・エキスパンダを備えたビーム引渡し系（図示せず）を使用して放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ引き渡される。それ以外のたとえば放射源が水銀灯などの場合、放射源は、リソグラフィ装置の一構成部品にすることができる。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、ビーム引渡し系が使用されている場合、そのビーム引渡し系と共に放射系と呼ぶことができる。
【００３７】
イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調整するように形成されたアジャスタ（図示せず）を備えることができる。通常、イルミネータのひとみ平面内における強度分布の少なくとも外部及び／又は内部ラジアル・エクステント（一般に、それぞれσ−外部及びσ−内部と呼ばれている）は調整が可能である。また、イルミネータＩＬは、インテグレータ（図示せず）及びコンデンサ（図示せず）などの他の様々な部品を備えることができる。イルミネータを使用して放射ビームを制御し、所望する一様な強度分布をその断面に持たせることができる。
【００３８】
放射ビームＢは、支持構造体（たとえばマスク・テーブルＭＴ即ちパターン形成装置支持体）上に保持されているパターン形成装置（たとえばマスクＭＡ）に入射し、パターン形成装置によってパターン形成される。マスクＭＡで反射した放射ビームＢは、放射ビームを基板Ｗの目標部分Ｃに集束させる投影系ＰＳを通過する。基板テーブル即ち基板支持体ＷＴは、第２の位置決め装置ＰＷ及び位置センサＩＦ２（たとえば干渉装置、リニアエンコーダ若しくは容量センサ）を使用して正確に移動させることができ、それによりたとえば異なる目標部分Ｃを放射ビームＢの光路内に位置決めすることができる。同様に、第１の位置決め装置ＰＭ及びもう１つの位置センサＩＦ１を使用して、たとえばマスク・ライブラリから機械的に検索した後、若しくは走査中に、マスクＭＡを放射ビームＢの光路に対して正確に位置決めすることができる。通常、マスク・テーブル即ちパターン形成装置支持体ＭＴの移動は、第１の位置決め装置ＰＭの一部を形成している長ストローク・モジュール（粗位置決め）及び短ストローク・モジュール（精密位置決め）を使用して実現されている。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２の位置決め装置ＰＷの一部を形成している長ストローク・モジュール及び短ストローク・モジュールを使用して実現されている。ステッパ（スキャナではなく）の場合、マスク・テーブルＭＴは、短ストローク・アクチュエータのみに接続することができ、或いは固定することも可能である。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスク位置合せマークＭ１、Ｍ２及び基板位置合せマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合せすることができる。図に示すように、基板位置合せマークは専用目標部分を占有しているが、基板位置合せマークは、目標部分と目標部分の間の空間に配置することも可能である（これらの位置合せマークは、スクライブ・レーン位置合せマークとして知られている）。同様に、マスクＭＡに複数のダイが提供される場合、ダイとダイの間にマスク位置合せマークを配置することができる。
【００３９】
図に示す装置は、以下に示す複数のモードのうちの少なくとも１つのモードで使用することができる。
【００４０】
ステップ・モード：マスク・テーブル即ちパターン形成装置支持体ＭＴ及び基板テーブル即ち基板支持体ＷＴが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Ｃに１回で投影される（即ち単一静止露光）。次に、基板テーブルＷＴがＸ及び／又はＹ方向にシフトされ、異なる目標部分Ｃが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Ｃのサイズが制限される。
【００４１】
走査モード：放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影されている間、マスク・テーブル即ちパターン形成装置支持体ＭＴ及び基板テーブル即ち基板支持体ＷＴが同期走査される（即ち単一動的露光）。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影系ＰＳの倍率（縮小率）及び画像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅（非走査方向の幅）が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ（走査方向の高さ）が決定される。
【００４２】
その他のモード：プログラム可能パターン形成装置を保持するためにマスク・テーブル即ちパターン形成装置支持体ＭＴが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影されている間、基板テーブル即ち基板支持体ＷＴが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルＷＴが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン形成装置が更新される。この動作モードは、上で言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン形成装置を利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
【００４３】
上で説明した使用モードの組合せ及び／又はその変形形態若しくは全く異なる使用モードを使用することも可能である。
【００４４】
上で説明した位置決め装置ＰＭ及びＰＷの各々は、位置制御系ＰＣＳに結合することができる。位置制御系ＰＣＳは、マスク・テーブル即ちパターン形成装置支持体ＭＴ及び基板テーブル即ち基板支持体ＷＴの各々を正確に位置決めするために、それぞれレーザ干渉計位置センサＩＦ１及びＩＦ２に結合することができる。図１には、このような結合がダッシュ線を使用して略図で示されている。位置制御系ＰＣＳは、位置センサＩＦ１の測定領域における絶対圧力を決定するための絶対圧力センサＰＳＡ１に結合することができる。また、位置制御系ＰＣＳは、位置センサＩＦ２の測定領域における絶対圧力を決定するための絶対圧力センサＰＳＡ２に結合することができる。絶対圧力センサＰＳＡ１、ＰＳＡ２を使用して測定した絶対圧力値を使用して、それぞれ位置センサＩＦ１、ＩＦ２が使用するレーザ光の波長を決定することができ、延いては位置センサＩＦ１、ＩＦ２を使用して測定した測値を修正することができる。
【００４５】
位置センサＩＦ１、ＩＦ２の各々に個別の絶対圧力センサＰＳＡ１、ＰＳＡ２を使用する代わりに、１つの絶対圧力センサを位置センサＩＦ１、ＩＦ２の両方に使用することも可能である。レーザ干渉計位置センサＩＦ１及び／又はＩＦ２以外の系を使用してマスク・テーブルＭＴ及び／又は基板テーブルＷＴの位置を決定する場合は、絶対圧力センサＰＳＡ１及び／又はＰＳＡ２を省略することができる。また、マスク・テーブルＭＴ及び／又は基板テーブルＷＴの初期位置決めがレーザ干渉計位置センサＩＦ１及び／又はＩＦ２のみによって確立され、或いはレーザ干渉計位置センサＩＦ１及び／又はＩＦ２以外の他の系（マスク若しくはマスク・テーブルＭＴ上の位置合せマーク及び／又は基板若しくは基板テーブルＷＴ上の位置合せマークなど）を使用して確立される場合も、絶対圧力センサＰＳＡ１及び／又はＰＳＡ２を省略することができる。
【００４６】
位置制御系ＰＣＳは、それぞれ位置センサＩＦ１、ＩＦ２の測定領域の相対圧力を決定するための差圧センサＰＳＤＳ１、ＰＳＤ２に結合することができる。差圧センサＰＳＤＳ１、ＰＳＤ２の配置については、図２〜図４を参照して以下で詳細に説明する。
【００４７】
図２は、基準圧力体積２０を示したものである。基準圧力体積２０は、流動特性が分かっている毛管２４を介した周囲空間２２との開いた接続を除いて密閉されている。基準圧力体積２０（以下、容器２０とも呼ぶ）は、さらに、差圧センサ２６（ＰＳＤＳ１、ＰＳＤ２など）の一方の側に接続されている。差圧センサ２６のもう一方の側は、周囲空間２２に開放されている。本発明の一実施例では、このもう一方の側は、毛管２４の位置と実質的に同じ位置に配置されている。このように配置することにより、以下で説明するように、周囲空間の圧力変化を極めて迅速に、且つ、正確に測定することができる。
【００４８】
周囲空間の圧力は、時間の関数Ｐ（ｔ）で表すことができ、また、容器の圧力はＰｖ（ｔ）で表すことができる。差圧センサ２６の両端間の差圧は、ΔＰ（ｔ）で表すことができる。したがって、
ΔＰ（ｔ）＝Ｐ（ｔ）−Ｐｖ（ｔ）
であり、
【００４９】
【数２】
2006108681.tif 000004
と等価である。上式で、
ｓは、微分演算子ｄ／ｄｔ
Ｒは、毛管２４の流動抵抗［Ｐａ＊ｓ＊ｍ−３］
Ｖは、容器の容量［ｍ３＊Ｐａ−１］
に対応している。したがって、
【００５０】
【数３】
2006108681.tif 000005
が得られる。Ｐ０（積分定数）は、時間ｔ＝０における圧力である。
【００５１】
したがって、ｔ＝ｔ１（ｔ＝ｔ０からの）における圧力変化ΔＰｓｉｎｃｅ＿ｔ０（ｔ１）は、
ΔＰｓｉｎ  ｃｅ＿ｔ０（ｔ１）＝Ｐ（ｔ１）−Ｐ０
【００５２】
【数４】
2006108681.tif 000006
である。
【００５３】
したがって、上記式（２）から、定数Ｐ０、Ｒ及びＶが分かると、周囲空間２２の実際の圧力Ｐ（ｔ）を計算することができる。Ｐ０は、絶対圧力センサ（ＰＳＡ１、ＰＳＡ２など）を使用して測定することができ、Ｒ及びＶは、設計選択によって決定される。
【００５４】
実際の圧力変化を計算する場合、定数Ｐ０を知る必要がないため、干渉計系を使用して測定すべき位置を時間ｔ０で知り、また、容器の圧力変化を知る（毛管２４を通る流量は差圧に比例するため、容器の圧力変化は、既知の毛管流動抵抗と結合した差圧センサ測定によって決定することができる）場合に極めて有利である。
【００５５】
絶対圧力の変化によって毛管２４を通って流れる気体の特性が変化するため、基準圧力容器２０の圧力変化を計算する際の基礎となる流量予測の精度が保証されるのは、ある限られた範囲の絶対圧力に対してのみであることが分かっている。
【００５６】
図３に示すように、容器３０は、略図で示す、それ自体公知の態様において、たとえば制御されたアクチュエータによって開閉することができる弁３４を介して周囲空間３２に接続することも可能である。弁３４は、図３に示す位置では閉じており、したがって容器３０を周囲空間３２から分離している。容器３０と周囲空間３２の間の圧力差は、差圧センサ３６を使用して測定することができる。弁３４が開くと、差圧センサ３６の両端間には差圧が存在せず、弁３４が閉じると、差圧センサ３６の両端間に差圧が確立される。
【００５７】
周囲空間３２の実際の圧力Ｐ（ｔ）は、弁３４を閉じた場合のＰ０と差圧ΔＰ（ｔ）の和として決定することができる。Ｐ０は、絶対圧力センサ（ＰＳＡ１、ＰＳＡ２など）を使用して測定することができる。
【００５８】
周囲空間の実際の圧力変化を計算するために定数Ｐ０を知る必要がないため、干渉計系を使用して測定すべき位置を時間ｔ０で知り、また、周囲空間の圧力変化を知る（周囲空間の圧力変化は、差圧センサ測定によって決定することができる）場合に極めて有利である。弁３４は、測定に先立って開くことができ、また、時間ｔ０及び測定の間、閉じることができる。
【００５９】
本発明の他の実施例では、毛管及び弁を並列に接続することができ、測定に先立って弁を開くことができるため、差圧センサの両端間の圧力差を確実にゼロに等しくすることができ（図３に示す機能と同じ機能）、また、時間ｔ０及び測定の間、弁を閉じることができる（図２に示す機能と同じ機能）。
【００６０】
温度変化に起因する圧力変化を小さくするためには、容器２０（図２）若しくは容器３０（図３）の温度は、極めて安定していなければならないことが分かっている（たとえば１ｍＫ以下の程度）。また、容器２０及び３０内の圧力変化（とりわけ、毛管２４を通って流れる気体による容器２０内の圧力変化）によって容器内に断熱温度効果が誘起されるため、逆行を回避しなければならない。雰囲気圧の減少によって気体が容器内で膨張すると、断熱膨張によって気体の温度が低くなる。本発明の一実施例では、容器２０及び３０は、温度安定性を提供するために温度制御される、導電性に優れた材料の微細メッシュを含むことができる。
【００６１】
また、温度及び力などの外部からの影響によって容器２０及び３０の体積が変化することが分かっている。本発明の一実施例では、容器２０及び３０は、容器２０及び３０の体積変化を防止するために、非膨張材料（温度の変化及び外力によって膨張しない材料）でできている。本発明の一実施例では、分厚い壁のインバール又は炭素繊維容器を使用することができる。これらの材料は、剛性が高く、且つ、熱膨張係数が小さい。別法として、及び／又は性能を改善するために、受動タイプ（絶縁）及び／又は能動タイプ（温度制御された）の熱分離を使用することも可能である。
【００６２】
上の段落で言及した影響によって生じる問題は、図２及び図３にそれぞれダッシュ線で示すように、それぞれ容器２０及び３０と流体接続した絶対圧力センサ２８及び３８を使用することによって解決することができる。絶対圧力センサは、通常、一方の面が測定すべき圧力に晒され、もう一方の面が絶対真空に晒される膜若しくはベローズによって応力を受ける共振素子に基づいている。共振素子は、典型的な圧力依存固有振動数で振動する。この固有振動数が非常に正確な内部クロック及び専用電子工学によって正確に測定される。測定に利用することができる時間間隔が長いほど、より正確に固有振動数を測定することができ、延いてはより正確に絶対圧力を決定することができる。容器２０及び３０の圧力変化の速度は極めて遅いため、絶対圧力センサ２８及び３８は、数秒程度の長時間の更新間隔（低更新速度）及び高い精度、たとえば通常の１０倍以上の精度で測定することができる。一方、差圧センサ２６及び３６は、測定範囲が比較的狭く、且つ、相対測定誤差を極端に小さくする必要がないため、１０Ｈｚから１００Ｈｚ若しくはそれ以上の更新速度で使用することができる。したがって、絶対圧力センサ２８及び３８と差圧センサ２６及び３６を組み合わせて同時に使用することにより、高い精度及び速い更新速度を達成することができる。ある絶対圧力センサアップデートから次の絶対圧力センサアップデートまでの圧力変化（勾配）が極めて小さいため、差圧センサのアップデート毎に、絶対圧力センサのその前の２つのアップデートの補外から、その絶対圧力センサによって測定される圧力を正確に予測することができる。したがって、達成される高有効更新速度の大きな利点により、動的圧力を測定することが可能であり、とりわけ、天候が嵐の場合などに生じるように、周囲空間の圧力状態が比較的速く変化する場合の動的圧力の測定が可能である。
【００６３】
毛管２４を使用する場合、たとえ改良型実施例の場合であっても、公式（２）の積分は数秒にわたって実行され（通常はもっと長い時間にわたって積分される）、絶対圧力センサからのアップデートを使用して積分アルゴリズムが較正される。
【００６４】
図４に示すように、スキャナ／ステッパ投影レンズを基準圧力体積４０として使用することにより、個別の容器を提供するコストを節約することができる。差圧センサによるレンズの汚染を防止するためには、容器４０から差圧センサへの接続４２は、レンズ・アウトレット上で実施しなければならない。本発明の一実施例では、この接続は、接続を通る流れを最少にするために、レンズ接続の後の約１０ｍｍから２０ｍｍで実施されており、また、投影レンズを通るパージ流から少なくとも分離されている。
【００６５】
図４には、流量計４５、毛管４６、差圧センサ４７及び絶対圧力センサ４８を備えたレンズ・ガス系４４、及び容器４０と差圧センサ４７の位置以外の他の様々な位置との間の圧力差を測定する任意選択の他の複数の差圧センサ４９が示されている。これらの差圧センサを使用して、周囲空間の１つ以上の次元における圧力勾配、たとえばレーザ干渉計系のレーザ・ビームの経路に沿った圧力勾配を決定することができる。
【００６６】
本発明の一実施例では、図４に示す位置測定装置は、圧力差に基づいて周囲空間の圧力変化を決定するように形成された計算ユニットを備えている。本発明の一実施例では、計算ユニットは、上で説明した様々な演算を実行するように形成された積分器及び加算器を備えることができる。
【００６７】
また、本発明の実施例は、位置測定系の位置測定を修正するように形成された位置測定修正器を備えている。
【００６８】
本発明の一実施例による正確で、且つ、高速の雰囲気圧測定により、物体位置測定系（レーザ干渉計系など）を使用して周囲空間中で得られる、その周囲空間の圧力変化の影響を受ける位置測定を修正することができる。周囲空間と基準圧力体積の間の毛管若しくは弁などの流体接続が使用されている。いずれの場合においても、基準圧力体積の絶対圧力は、測定が可能であるか或いは不可能であるかのいずれかである。
【００６９】
本明細書においては、リソグラフィ装置の、とりわけＩＣの製造における使用が言及されているが、本明細書において説明したリソグラフィ装置は、集積光学系、磁気領域メモリのための誘導及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造などの他の応用を有していることを理解されたい。このような代替応用の文脈においては、本明細書における「ウェハ」或いは「ダイ」という用語の使用はすべて、それぞれより一般的な「基板」或いは「目標部分」という用語の同義語と見なすことができることは、当業者には理解されよう。本明細書において言及されている基板は、たとえばトラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、且つ、露光済みレジストを現像するツール）、度量衡学ツール及び／又は検査ツール中で、露光前若しくは露光後に処理することができる。適用可能である場合、本明細書における開示は、このような基板処理ツール及び他の基板処理ツールに適用することができる。また、基板は、たとえば多層ＩＣを生成するために複数回にわたって処理することができるため、本明細書に使用されている基板という用語は、処理済みの複数の層が既に含まれている基板を指している場合もある。
【００７０】
以上の説明においては、とりわけ光学リソグラフィの文脈における本発明の実施例の使用が言及されているが、本発明は、他の応用、たとえば転写リソグラフィに使用することができ、また、文脈が許容する場合、本発明は光学リソグラフィに限定されないことは理解されよう。転写リソグラフィでは、パターン形成装置のトポグラフィが基板に生成されるパターンを画定している。基板に供給されているレジスト層にパターン形成装置のトポグラフィが押し付けられ、電磁放射、熱、圧力若しくはそれらの組合せを印加することによってレジストが硬化する。パターン形成装置がレジストから移動して離れ、レジストが硬化すると、パターンがレジスト中に残される。
【００７１】
本明細書に使用されている「放射」及び「ビーム」という用語には、紫外（ＵＶ）放射（たとえば波長が３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ又は１２６ｎｍの放射或いはこれらの波長に近い波長の放射）、極紫外（ＥＵＶ）放射（たとえば波長の範囲が５ｎｍ〜２０ｎｍの放射）、及びイオン・ビーム或いは電子ビームなどの粒子線を含むあらゆるタイプの電磁放射が包含されている。
【００７２】
「レンズ」という用語は、文脈が許容する場合、屈折光学部品、反射光学部品、磁気光学部品、電磁光学部品及び静電光学部品を始めとする様々なタイプの光学部品のうちの任意の１つ若しくは組合せを意味している。
【００７３】
以上、本発明の特定の実施例について説明したが、説明した以外の方法で本発明を実践することができることは理解されよう。たとえば、本発明は、上で開示した方法を記述した機械可読命令の１つ以上のシーケンスを含んだコンピュータ・プログラムの形態を取ることができ、或いはこのようなコンピュータ・プログラムを記憶したデータ記憶媒体（たとえば半導体メモリ、磁気ディスク若しくは光ディスク）の形態を取ることができる。
【００７４】
以上の説明は、単に本発明の説明を目的としたものにすぎず、本発明の制限を意図したものではない。したがって、特許請求の範囲に示す本発明の範囲を逸脱することなく、上で説明した本発明に改変を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】本発明の一実施例による位置決め装置の一部を示す略図である。
【図３】本発明の他の実施例による位置決め装置の一部を示す略図である。
【図４】本発明のさらに他の実施例による位置決め装置の一部を示す略図である。
【図１】
2006108681.tif 000007
【図２】
2006108681.tif 000008
【図３】
2006108681.tif 000009
【図４】
2006108681.tif 000010