(57)【要約】【課題】  ワイピングを伴う回復処理の回数を減らし長時間に渡って安定的な吐出が可能な液滴吐出ヘッドおよびこの液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置を提供すること。【解決手段】  ノズル２１から機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドのノズル基板のノズル面２２ａには、ノズル２１の開口部２１ａを含む周辺域に開口部２１ａに近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理を施した。そして撥液処理された領域の外側には下地処理として親液処理を施した。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルから機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドであって、
前記ノズルが開口されたノズル基板と、
前記ノズルに連通する機能液流路と、
前記機能液流路に充填された前記機能液を前記ノズルから吐出させるためのエネルギーを発生するエネルギー発生手段とを備え、
前記ノズル基板の少なくとも一方の表面には、前記ノズルの開口部に近づくほど前記機能液に対する濡れ性が低下する表面処理が施されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項２】
前記表面処理は、前記ノズルの開口部に近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
前記表面処理は、前記ノズルの開口部に近づくほど親液性が低下するように親液処理されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
前記表面処理は、前記ノズル基板の少なくとも一方の表面に親液処理を施した後に、前記ノズルの開口部を含む周辺域に前記開口部に近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項５】
前記表面処理は、前記ノズル基板の少なくとも一方の表面に撥液処理を施した後に、前記ノズルの開口部を含む周辺域に前記開口部に近づくほど親液性が低下するように親液処理されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項６】
前記表面処理は、前記ノズル基板の少なくとも一方の表面に撥液処理を施した後に、前記ノズルの開口部を含む周辺域に前記開口部に近づくほど撥液性が上昇するようにさらに撥液処理されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項７】
ノズルから機能液を液滴として吐出させるエネルギー発生手段を有する液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
ノズル基板に前記ノズルを開口するノズル形成工程と、
前記ノズルが形成された前記ノズル基板の少なくとも一方の表面に前記ノズルの開口部に近づくほど前記機能液に対する濡れ性が低下するように表面処理を施す表面処理工程と、
前記表面処理が施された前記ノズル基板をエネルギー発生手段を有すると共に前記ノズルが連通する機能液流路を有する基板に接合する接合工程とを備えたことを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
ノズルから機能液を液滴として吐出させるエネルギー発生手段を有する液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
ノズル基板に前記ノズルを開口するノズル形成工程と、
前記ノズルが形成された前記ノズル基板の少なくとも一方の表面に親液処理を施す第１表面処理工程と、
前記親液処理が施された前記表面に前記ノズルの開口部を含む周辺域に前記開口部に近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理を施す第２表面処理工程と、
前記撥液処理が施された前記ノズル基板を前記エネルギー発生手段を有すると共に前記ノズルが連通する機能液流路を有する基板に接合する接合工程とを備えたことを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記第２表面処理工程では、前記ノズルに対応する位置に開口部を有するマスクを前記ノズルと前記開口部とが対向するように前記親液処理が施された前記ノズル基板に対して所定の間隔を置いて対向配置させ、前記マスクを介して撥液性材料を処理ガスとするプラズマ処理を実施して前記ノズル基板上に撥液性を有する被膜を成膜することを特徴とする請求項８に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
ノズルから機能液を液滴として吐出させるエネルギー発生手段を有する液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
ノズル基板に前記ノズルを開口するノズル形成工程と、
前記ノズルが形成された前記ノズル基板の少なくとも一方の表面に撥液処理を施す第１表面処理工程と、
前記撥液処理が施された前記表面に前記ノズルの開口部を含む周辺域に前記開口部に近づくほど撥液性が上昇するようにさらに撥液処理を施す第２表面処理工程と、
前記撥液処理が施された前記ノズル基板を前記エネルギー発生手段を有すると共に前記ノズルが連通する機能液流路を有する基板に接合する接合工程とを備えたことを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
ノズルから機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドであって、
請求項７ないし１０のいずれか一項に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法を用いて製造されたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項１２】
請求項１〜６および１１のいずれか一項に記載された液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の液滴吐出ヘッドとしては、機能液としてのインクを液滴として吐出し記録紙等の記録媒体に印字するインクジェットヘッドが知られている。このインクジェットヘッドのノズルの内壁やノズルが形成されたノズルプレート（ノズル基板）の表面には、吐出されたインクがノズルプレートの表面に付着して次に吐出されるインクと触れることによって吐出方向が変わってしまう所謂飛行曲がり等の不具合を低減するために付着したインクが濡れ拡がらないように撥インク性の被膜を形成する表面処理を行うことが提案されている。この表面処理の方法は、例えば特許文献１〜３に開示されており、ノズルの内壁を含む出口側のノズルプレートの表面全体にほぼ均一に撥インク性の被膜を形成するものである。
【０００３】
またこのようなインクジェットヘッドを備えた液滴吐出装置の１つであるインクジェットプリンタには、定期的にすべてのノズルからインク液滴を吐出する予備吐出、ノズル内で増粘したインクを吸引して取り除きノズルの目詰まりを解消する吸引処理、あるいはノズルプレートに付着した不要なインク等の異物を弾性ブレードで拭き取るワイピングなどの回復処理を行うクリーニング機構が備えられていることが特許文献４に開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平５−１１６３２７号公報
【特許文献２】特開平９−２８６９４１号公報
【特許文献３】特開２００４−１０６２０３号公報
【特許文献４】特開２００３−８９２２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、機能液を用い従来の液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置で大型基板上に機能性材料からなる膜を成膜する場合、成膜品質を確保するために上記回復処理を頻繁に行うことは、生産性の低下に繋がってしまう。
【０００６】
本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、ワイピングを伴う回復処理の回数を減らし長時間に渡って安定的な吐出が可能な液滴吐出ヘッドおよびこの液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液滴吐出ヘッドは、ノズルから機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドであって、ノズルが開口されたノズル基板と、ノズルに連通する機能液流路と、機能液流路に充填された機能液をノズルから吐出させるためのエネルギーを発生するエネルギー発生手段とを備え、ノズル基板の少なくとも一方の表面には、ノズルの開口部に近づくほど機能液に対する濡れ性が低下する表面処理が施されていることを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、ノズル基板の少なくとも一方の表面には、ノズルの開口部に近づくほど機能液に対する濡れ性が低下する表面処理が施されているため、エネルギー発生手段によってノズルから機能液が液滴として吐出されるときに発生する微小の余剰液滴がノズル基板の少なくとも一方の表面に付着しても、付着した余剰液滴は濡れ性が低下するノズルの開口部とは反対の方向に向かって成長しながら移動してゆき次第にノズルの開口部から離れて行く。ゆえにノズルの開口部付近の表面に成長した余剰液滴が残留しにくいため、残留した余剰液滴と吐出される液滴とが合体して吐出方向が曲がってしまう飛行曲がりの不具合を減少させることができる。すなわち、ノズルの開口部付近に付着した余剰液滴を取り除くワイピングを伴う回復処理の回数を減らして長時間に渡って安定的な吐出を可能とすることができる。
【０００９】
上記表面処理は、ノズルの開口部に近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理されたものであることを特徴とする。
【００１０】
この構成によれば、ノズル基板の少なくとも一方の表面には、ノズルの開口部に近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理が施されているため、ノズル基板の少なくとも一方の表面に付着した微小の余剰液滴は、撥液性が高いノズルの開口部から撥液性の低い方向、すなわちより表面エネルギーの大きい方向に向かって成長しながら移動してゆき次第にノズルの開口部から離れて行く。ゆえにノズルの開口部付近の表面に余剰液滴をより残留しにくくして、吐出される液滴の飛行曲がりの不具合を減少させて安定的な吐出を可能とすることができる。
【００１１】
上記表面処理は、ノズルの開口部に近づくほど親液性が低下するように親液処理されたものであってもよい。
【００１２】
この構成によれば、ノズル基板の少なくとも一方の表面には、ノズルの開口部に近づくほど親液性が低下するように親液処理が施されているため、ノズル基板の少なくとも一方の表面に付着した微小の余剰液滴は、親液性が低いノズルの開口部から親液性の高い方向、すなわち表面エネルギーが大きい方向に向かって成長しながら移動してゆき次第にノズルの開口部から離れて行く。ゆえにノズルの開口部付近の表面に余剰液滴をより残留しにくくして、吐出される液滴の飛行曲がりの不具合を減少させて安定的な吐出を可能とすることができる。
【００１３】
上記表面処理は、ノズル基板の少なくとも一方の表面に親液処理を施した後に、ノズルの開口部を含む周辺域に開口部に近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理されたものであってもよい。
【００１４】
この構成によれば、ノズル基板の少なくとも一方の表面には、親液処理が施された後に、ノズルの開口部を含む周辺域に開口部に近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理されているため、ノズル基板の少なくとも一方の表面に付着した微小の余剰液滴は、撥液性の高いノズルの開口部から開口部の周辺域外側の親液性を有する方向、すなわちより表面エネルギーの大きい方向に向かって成長しながら移動してゆき次第にノズルの開口部から離れて行く。ゆえにノズルの開口部付近の表面に余剰液滴をより残留しにくくして、吐出される液滴の飛行曲がりの不具合を減少させて安定的な吐出を可能とすることができる。
【００１５】
上記表面処理は、ノズル基板の少なくとも一方の表面に撥液処理を施した後に、ノズルの開口部を含む周辺域に開口部に近づくほど親液性が低下するように親液処理されたものであってもよい。またノズル基板の少なくとも一方の表面に撥液処理を施した後に、ノズルの開口部を含む周辺域に開口部に近づくほど撥液性が上昇するようにさらに撥液処理されたものであってもよい。
【００１６】
この構成によれば、ノズル基板の少なくとも一方の表面には、撥液処置が施された後に、ノズルの開口部を含む周辺域に開口部に近づくほど親液性が低下するように親液処理されている。あるいはノズルの開口部を含む周辺域に開口部に近づくほど撥液性が上昇するようにさらに撥液処理されているため、ノズル基板の少なくとも一方の表面に付着した微小の余剰液滴は、親液性が低いノズルの開口部から開口部の周辺域の親液性が高い方向、あるいは撥液性が高いノズルの開口部から開口部の周辺域のより撥液性が低い方向、すなわちいずれもより表面エネルギーの大きい方向に向かって成長しながら移動してゆき次第にノズルの開口部から離れて行く。ゆえにノズルの開口部付近の表面に余剰液滴をより残留しにくくして、吐出される液滴の飛行曲がりの不具合を減少させて安定的な吐出を可能とすることができる。
【００１７】
本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法は、ノズルから機能液を液滴として吐出させるエネルギー発生手段を有する液滴吐出ヘッドの製造方法であって、ノズル基板にノズルを開口するノズル形成工程と、ノズルが形成されたノズル基板の少なくとも一方の表面にノズルの開口部に近づくほど機能液に対する濡れ性が低下するように表面処理を施す表面処理工程と、表面処理が施されたノズル基板をエネルギー発生手段を有すると共にノズルが連通する機能液流路を有する基板に接合する接合工程とを備えたことを特徴とする。
【００１８】
この方法によれば、ノズル形成工程でノズル基板にノズルを開口させた後に、表面処理工程でノズル基板の少なくとも一方の表面にノズルの開口部に近づくほど機能液に対する濡れ性が低下するように表面処理を施す。そして接合工程でノズル基板をエネルギー発生手段を有すると共にノズルが連通する機能液流路を有する基板に接合させるため、エネルギー発生手段による液滴吐出時に発生する微小の余剰液滴がノズル基板の少なくとも一方の表面に付着しても濡れ性が低下するノズルの開口部とは反対の方向に向かって成長しながら移動してゆき次第にノズル開口部から離れて行く。ゆえにノズルの開口部付近の表面に成長した余剰液滴が残留しにくく、余剰液滴と吐出される液滴とが合体して吐出方向が曲がってしまう飛行曲がりの不具合を減少させた安定した吐出特性を有する液滴吐出ヘッドを製造することができる。すなわちノズルの開口部付近に付着した余剰液滴を取り除くワイピングを伴う回復処理の回数を減らして長時間に渡って安定的な吐出を可能とする液滴吐出ヘッドを製造することができる。
【００１９】
本発明の他の液滴吐出ヘッドの製造方法は、ノズルから機能液を液滴として吐出させるエネルギー発生手段を有する液滴吐出ヘッドの製造方法であって、ノズル基板にノズルを開口するノズル形成工程と、ノズルが形成されたノズル基板の少なくとも一方の表面に親液処理を施す第１表面処理工程と、親液処理が施された表面にノズルの開口部に近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理を施す第２表面処理工程と、撥液処理が施されたノズル基板をエネルギー発生手段を有すると共にノズルが連通する機能液流路を有する基板に接合する接合工程とを備えたことを特徴とする。
【００２０】
この方法によれば、ノズル形成工程でノズル基板にノズルを開口させた後に、第１表面処理工程で少なくとも一方の表面に親液処理を施こし、第２表面処理工程で親液処理が施されたノズル基板の表面にノズルの開口部に近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理を施こす。そして接合工程でノズル基板をエネルギー発生手段を有すると共にノズルが連通する機能液流路を有する基板に接合させるため、ノズル基板の少なくとも一方の表面に付着した余剰液滴を撥液性が高いノズルの開口部からその外側の親液性を有する側、すなわち表面エネルギーがより大きい方向に遠ざけることができる。ゆえにノズルの開口部付近の表面に成長した余剰液滴がより残留しにくく、余剰液滴と吐出される液滴とが合体して吐出方向が曲がってしまう飛行曲がりの不具合が発生しにくいより安定した吐出特性を有する液滴吐出ヘッドを製造することができる。
【００２１】
上記第２表面処理工程では、ノズルに対応する位置に開口部を有するマスクをノズルと開口部とが対向するように親液処理が施されたノズル基板に対して所定の間隔を置いて対向配置させ、マスクを介して撥液性材料を処理ガスとしてプラズマ処理を実施してノズル基板上に撥液性を有する被膜を成膜することを特徴とする。
【００２２】
この方法によれば、第２表面処理工程では、撥液性材料からなる処理ガスは、マスクの開口部を通過した後に拡散して開口部から遠ざかるほど濃度が低下した状態で親液処理が施されたノズル基板の表面をプラズマ処理するため、マスクの開口部に対応して位置するノズルに近づくほど撥液処理密度が上昇する。すなわちノズルに近づくほど撥液性が上昇するように容易に表面処理することができる。
【００２３】
本発明の他の液滴吐出ヘッドの製造方法は、ノズルから機能液を液滴として吐出させるエネルギー発生手段を有する液滴吐出ヘッドの製造方法であって、ノズル基板にノズルを開口するノズル形成工程と、ノズルが形成されたノズル基板の少なくとも一方の表面に撥液処理を施す第１表面処理工程と、撥液処理が施された表面にノズルの開口部を含む周辺域に開口部に近づくほど撥液性が上昇するようにさらに撥液処理を施す第２表面処理工程と、撥液処理が施されたノズル基板をエネルギー発生手段を有すると共にノズルが連通する機能液流路を有する基板に接合する接合工程とを備えたことを特徴とする。
【００２４】
この方法によれば、ノズル形成工程でノズル基板にノズルを開口させた後に、第１表面処理工程で少なくとも一方の表面に撥液処理を施こし、第２表面処理工程で撥液処理が施された表面にノズルの開口部に近づくほど撥液性が上昇するようにさらに撥液処理を施こす。そして接合工程でノズル基板をエネルギー発生手段を有すると共にノズルが連通する機能液流路を有する基板に接合させる。よって第１表面処理工程の撥液処理によりノズル基板の少なくとも一方の表面が機能液と接触して腐食し発生するノズルの目詰まりを抑える。そして第２表面処理工程の撥液処理により少なくとも一方の表面に付着した余剰液滴は、より撥液性が高いノズルの開口部からより撥液性が低い開口部とは反対の方向、すなわち表面エネルギーがより大きい方向に向かって成長しながら移動してゆき次第にノズルから離れてゆく。ゆえにノズルの開口部付近の表面に成長した余剰液滴がより残留しにくく、余剰液滴と吐出される液滴とが合体して吐出方向が曲がってしまう飛行曲がりやノズル目詰まりの不具合を減少させたより安定した吐出特性を有する液滴吐出ヘッドを製造することができる。
【００２５】
本発明の他の液滴吐出ヘッドは、ノズルから機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドであって、上記発明の液滴吐出ヘッドの製造方法を用いて製造されたことを特徴とする。
【００２６】
この構成によれば、ノズル基板の少なくとも一方の表面には、ノズルの開口部から遠ざかるほど表面エネルギーが大きくなるように表面処理が施されるため、少なくとも一方の表面に付着した余剰液滴は、ノズルの開口部とは反対の方向に向かって成長して移動してゆき次第にノズルの開口部から離れて行く。ゆえにノズルの開口部付近に成長した余剰液滴が残留しにくく、余剰液滴による飛行曲がりの不具合を低減し安定した吐出特性を有する液滴吐出ヘッドを提供することができる。
【００２７】
本発明の液滴吐出装置は、上記発明の液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴とする。
【００２８】
この構成によれば、安定した吐出特性を有する液滴吐出ヘッドを備えているため、液滴吐出ヘッドのワイピングを伴う回復処理（予備吐出、ノズル内で増粘した機能液の吸引処理）の回数を減らして連続運転が可能な高い生産性を有する液滴吐出装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明の液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法び液滴吐出装置の一実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００３０】
（第１の実施形態）
まず本発明の一実施形態である液滴吐出装置について図１を基に説明する。図１は、液滴吐出装置の構造を示す概略斜視図である。
【００３１】
図１に示すように本実施形態の液滴吐出装置１０は、機能液を液滴として吐出して基板Ｗ上に機能液からなる膜を形成するものである。そして基板Ｗが載置されるステージ４と、載置された基板Ｗに機能液を液滴として吐出する複数の液滴吐出ヘッド２０（図２参照）を有するヘッドユニット１とを備えている。
【００３２】
また液滴吐出装置１０は、ヘッドユニット１を副走査方向（Ｘ方向）に駆動するためのＸ方向ガイド軸２と、Ｘ方向ガイド軸２を回転させるＸ方向駆動モータ３とを備えている。また、ステージ４を主走査方向（Ｙ方向）にガイドするためのＹ方向ガイド軸５と、Ｙ方向ガイド軸５に係合して回転するＹ方向駆動モータ６とを備えている。そしてＸ方向ガイド軸２とＹ方向ガイド軸５とが上部に配設された基台７を備え、その基台７の下部には、制御装置８を備えている。
【００３３】
さらに、ヘッドユニット１の複数の液滴吐出ヘッド２０をクリーニング（回復処理）するためのクリーニング機構１４および吐出された機能液を加熱し溶媒を蒸発・乾燥させるためのヒータ１５とを備えている。またクリーニング機構１４にもＹ方向駆動モータ１６が備えられている。
【００３４】
ヘッドユニット１には、機能液をノズル２１（吐出口）から吐出して基板Ｗに塗布する複数の液滴吐出ヘッド２０（図２参照）を備えている。そして、これら複数の液滴吐出ヘッド２０により、制御装置８から供給される吐出電圧に応じて個別に機能液を吐出できるようになっている。この液滴吐出ヘッド２０については後述する。
【００３５】
Ｘ方向駆動モータ３は、これに限定されるものではないが例えばステッピングモータ等であり、制御装置８からＸ軸方向の駆動パルス信号が供給されると、Ｘ方向ガイド軸２を回転させ、Ｘ方向ガイド軸２に係合したヘッドユニット１をＸ方向に移動させる。
【００３６】
同様にＹ方向駆動モータ６，１６は、これに限定されるものではないが例えばステッピングモータ等であり、制御装置８からＹ軸方向の駆動パルス信号が供給されると、Ｙ方向ガイド軸５に係合して回転し、Ｙ方向駆動モータ６，１６を備えたステージ４およびクリーニング機構１４をＹ軸方向に移動させる。
【００３７】
クリーニング機構１４は、液滴吐出ヘッド２０をクリーニングする際には、ヘッドユニット１を臨む位置に移動し、液滴吐出ヘッド２０のノズル面に密着して不要な機能液を吸引するキャッピング、機能液等が付着したノズル面を拭き取るワイピング、液滴吐出ヘッド２０の全ノズルから機能液の吐出を行う予備吐出あるいは不要となった機能液を受けて排出させる処理を行う。クリーニング機構１４の詳細は省略する。
【００３８】
ヒータ１５は、これに限定されるものではないが例えばランプアニールにより基板Ｗを熱処理する手段であり、基板Ｗ上に吐出された機能液の蒸発・乾燥を行うとともに膜に変換するための熱処理を行うようになっている。このヒータ１５の電源の投入及び遮断も制御装置８によって制御される。
【００３９】
液滴吐出装置１０の塗布動作は、制御装置８から所定の駆動パルス信号をＸ方向駆動モータ３およびＹ方向駆動モータ６とに送り、ヘッドユニット１を副走査方向（Ｘ方向）に、ステージ４を主走査方向（Ｙ方向）に相対移動させる。そして、この相対移動の間に制御装置８から吐出電圧を供給し、ヘッドユニット１から基板Ｗの所定の領域に機能液を液滴として吐出し塗布を行う。
【００４０】
ヘッドユニット１から吐出される液滴の吐出量は、制御装置８から供給される吐出電圧の大きさによって調整することができる。
【００４１】
次に本発明の一実施形態である液滴吐出ヘッドについて図２、図３に基づいて説明する。
【００４２】
図２は、液滴吐出ヘッドの要部構造を示す概略断面図である。液滴吐出ヘッド２０は、ノズル２１が開口されたノズル基板２２と、ノズル２１に連通する機能液流路としての圧力室２４と、圧力室２４に充填された機能液としての機能液をノズル２１から吐出させるためのエネルギーを発生させるエネルギー発生手段として圧電体素子（ピエゾ）３０とを備えたものである。尚、実際の液滴吐出ヘッド２０には、ノズル基板２２に形成された複数のノズル２１とこれに対応する圧力室２４、圧電体素子３０を有している。また圧力室基板２３の各圧力室２４に連通した共通キャビティ（図示省略）が設けられており、この共通キャビティに外部から機能液を供給することによって、圧力室２４に機能液を充填することができる構造となっている。
【００４３】
図２に示すように、圧力室２４の一面を構成する振動板部２５は、絶縁膜２７および下部電極２６を積層して構成され、圧電体素子３０は圧電体層３２および上部電極３１を積層して構成されている。下部電極２６、圧電体層３２および上部電極３１によって圧電体素子３０として機能させることができる。
【００４４】
このようなピエゾ方式の液滴吐出ヘッド２０の圧力室２４に機能液を充填し、圧電体素子３０によって圧力室２４を加圧すれば、圧力室２４に連通するノズル２１から機能液を液滴として吐出することができる。またピエゾ方式による液滴吐出は機能液に熱を与えないため、機能液の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
【００４５】
図３は、ノズル出口側のノズル基板の表面処理状態を示す平面図である。図３に示すようにノズル基板２２のノズル２１の出口側の表面（以下、ノズル面という）２２ａには、ノズル２１の開口部２１ａを含む周辺域に開口部２１ａに近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理が施されている。そして撥液処理された領域の外側には下地処理として親液処理が施されている。
【００４６】
次に本発明の一実施形態である液滴吐出ヘッドの製造方法について説明する。
【００４７】
本実施形態の液滴吐出ヘッドの製造方法は、ノズル基板２２にノズル２１を開口するノズル形成工程と、ノズル２１が形成されたノズル基板２２の少なくともノズル面２２ａに親液処理を施す第１表面処理工程と、親液処理が施されたノズル基板２２にノズル２１の開口部２１ａに近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理を施す第２表面処理工程と、撥液処理が施されたノズル基板２２をエネルギー発生手段としての圧電体素子３０を有すると共にノズル２１が連通する機能液流路としての圧力室２４を有する圧力室基板２３に接合する接合工程とを備えている。
【００４８】
また上記第２表面処理工程は、ノズル２１に対応する位置に開口部５１を有するマスク５０（図４（ｃ）参照）をノズル２１と開口部５１とが対向するように親液処理が施されたノズル基板２２に対して所定の間隔を置いて対向配置させ、マスク５０を介して撥液性材料を処理ガスとするプラズマ処理を実施してノズル基板２２の表面に撥液性を有する被膜４０を成膜するプラズマ処理工程を備えている。
【００４９】
図４（ａ）〜（ｃ）は、第１の実施形態のノズル基板の表面処理方法を示す概略図である。同図（ａ）はノズル形成工程を示す概略図である。同図（ａ）に示すように、まずノズル基板２２に複数のノズル２１を所定の口径およびピッチで開口させる。この場合、ノズル基板２２の材料としては、例えば金属、セラミックス、シリコン、ガラス、プラスチック等を用い、好ましくはチタン、クロム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、スズ、の単一金属もしくはニッケル−リン合金、スズ−銅−リン合金（リン青銅）、銅−亜鉛合金、ステンレス鋼等の合金、およびポリカーボネイト、ポリサルフォン、ＡＢＳ樹脂（アクリルニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体）、ポリエチレンテレフタレート、ポリアセタール、各種の感光性樹脂を用いる。したがって、ノズル２１の形成方法は、ノズル基板２２の材料に応じた加工方法を選択する。例えばドリルによる穿孔、砥粒や機能液のジェット噴流による穿孔、金型を用いたプレス、ケミカルエッチング等である。
【００５０】
同図（ｂ）は第１表面処理工程を示す概略図である。同図（ｂ）に示すようにノズル基板２２のノズル面２２ａに親液処理を施す。親液処理の方法としては、例えば大気雰囲気中で酸素を処理ガスとしてノズル基板２２に衝突させて親液化するＯ2プラズマ処理を用いることができる。具体的には、ノズル基板２２に対しプラズマ放電電極からプラズマ状態の酸素を照射することで行う。Ｏ2プラズマ処理の条件としては、例えばプラズマパワーが５０〜１０００Ｗ、酸素ガス流量が５０〜１００ｍｌ／ｍｉｎ、プラズマ放電電極に対するノズル基板２２の基板搬送速度が０．５〜１０ｍｍ／ｓｅｃ、基板温度が７０〜９０℃とされる。
【００５１】
尚、ノズル基板２２がそれ自体の表面が親液性を有する例えばガラス基板ならば、この第１表面処理工程は必ずしも行わなくてよい。
【００５２】
同図（ｃ）は第２表面処理工程を示す概略図である。同図（ｃ）に示すように親液処理されたノズル面２２ａに撥液処理を施す。撥液処理の方法としては、例えばノズル２１に対応する位置に開口部５１を有するマスク５０をノズル２１と開口部５１とが対向するように親液処理が施されたノズル基板２２に対して所定の間隔を置いて対向配置させ、マスク５０の上方から撥液性材料として４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ4プラズマ処理）を行う。処理ガスは開口部５１を通過して拡散しノズル基板２２に到達してノズル面２２ａに撥液性を有する被膜４０が成膜される。処理ガスは開口部５１から遠ざかるほど濃度が低下するため、被膜４０はノズル２１の開口部２１ａに近づくほど密度が高くなる。したがって、ノズル２１の開口部２１ａに近づくほど撥液性が上昇する被膜４０が形成される。ＣＦ4プラズマ処理の条件は、例えばプラズマパワーが５０〜１０００ｋＷ、４フッ化メタンガス流量が５０〜１００ｍｌ／ｍｉｎ、基板温度が７０〜９０℃とされる。なお、処理ガスとしては、４フッ化メタン（四フッ化炭素）に限らず、他のフルオロカーボン系のガスを用いることもできる。また処理ガスとして低分子シロキサンを用いプラズマ重合させて被膜４０を成膜してもよい。
【００５３】
このようにしてノズル面２２ａが表面処理されたノズル基板２２を接合工程で圧電体素子３０を有すると共にノズル２１が連通する圧力室２４を有する圧力室基板２３に接合すれば液滴吐出ヘッド２０が完成する。接合工程では、ノズル基板２２に用いられた材料と圧力室基板２３に用いられた材料（通常は物性が相互に同等あるいは類似の材料）に応じて接合方法が選択される。例えば相互にシリコン基板を用いた場合には陽極接合が望ましい。また熱硬化あるいは光硬化型の接着剤を用いて基板同士を所定の位置で接着してもよい。
【００５４】
上記のように製造された液滴吐出ヘッド２０において、圧電体素子３０によってノズル２１から機能液を液滴として吐出した際に発生する微小の余剰液滴がノズル面２２ａに付着して成長しても、成長した余剰液滴はノズル面２２ａに施された表面処理によって撥液性の高いノズル２１の開口部２１ａから親液性を有する開口部２１ａの周辺域外側の領域に向かって移動してゆきやがてノズル２１から離れてゆく。したがって、飛行曲がりの原因となる余剰液滴がノズル２１の開口部２１ａ付近に成長した状態で残留しにくいので、成長した余剰液滴をワイピングする頻度を低減することが可能となる。
【００５５】
上記第１の実施形態の効果は、以下のとおりである。
【００５６】
（１）液滴吐出ヘッド２０において、ノズル面２２ａには、ノズル２１の開口部２１ａに近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理された被膜４０が形成され、撥液処理された領域の外側には下地処理として親液処理が施されているため、エネルギー発生手段としての圧電体素子（ピエゾ）３０による液滴吐出の際に発生する微小な余剰液滴がノズル面２２ａに付着して成長しても、成長した余剰液滴は、撥液性の高いノズル２１の開口部２１ａから親液性を有する開口部２１ａの周辺域外側の領域に向かって移動してゆきやがて次第にノズル２１の開口部２１ａから離れて行く。ゆえにノズル面２２ａに余剰液滴が残留しにくく、余剰液滴と吐出される液滴とが合体して吐出方向が曲がってしまう飛行曲がりの不具合を減少させることができる。すなわちノズル２１の開口部２１ａ付近に付着した余剰液滴を取り除くワイピングを伴う回復処理の回数を減らして長時間に渡って安定的な吐出が可能な液滴吐出ヘッド２０を提供することができる。
【００５７】
（２）本実施形態の液滴吐出ヘッドの製造方法は、ノズル形成工程でノズル基板２２にノズル２１を開口させた後に、第１表面処理工程でノズル面２２ａに親液処理を施こし、第２表面処理工程でノズル面２２ａにノズル２１の開口部２１ａに近づくほど撥液性が上昇するように撥液処理を施こす。そして接合工程でノズル基板２２を圧電体素子３０を有すると共にノズル２１が連通する圧力室２４を有する圧力室基板２３に接合させるため、ノズル面２２ａに付着した余剰液滴を撥液性が高いノズル２１の開口部２１ａからその外側の親液性を有する側、すなわち表面エネルギーがより大きい方向に遠ざけることができる。ゆえにノズル２１の開口部２１ａ付近の表面に成長した余剰液滴が残留しにくく、余剰液滴と吐出される液滴とが合体して吐出方向が曲がってしまう飛行曲がりの不具合を減少させたより安定した吐出特性を有する液滴吐出ヘッド２０を製造することができる。
【００５８】
（３）本実施形態の液滴吐出ヘッドの製造方法において、第２表面処理工程は、ノズル２１に対応する位置に開口部５１を有するマスク５０を介して撥液性材料としての４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を実施してノズル面２２ａに撥液性を有する被膜４０を成膜する。したがって、処理ガスはマスク５０の開口部５１を通過した後に拡散してノズル２１に近いほど密度が高い被膜４０が形成されるため、ノズル２１の開口部２１ａに近づくほど撥液性が上昇するように被膜４０を容易に形成することができる。
【００５９】
（４）液滴吐出装置１０は、本発明の一実施形態である液滴吐出ヘッド２０を備えているため、液滴吐出ヘッド２０のワイピングを伴う回復処理（予備吐出、ノズル内で増粘した機能液の吸引処理）の回数を減らして連続運転が可能な高い生産性を有する液滴吐出装置１０を提供することができる。また回復処理の回数が減少することにより機能液の無駄を減少させることができる液滴吐出装置１０を提供することができる。
【００６０】
（５）液滴吐出装置１０を用いれば、電気光学装置としてのディスプレーデバイスの例えばカラーフィルタ、有機ＥＬ発光素子、画素を形成する電極等の金属配線の製造において、液滴吐出ヘッド２０のワイピングを伴う回復処理の回数を減らして高い生産性でこれらの素子や配線等を大型基板上に成膜することができる。
【００６１】
（第２の実施形態）
次に第２の実施形態の液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法および液滴吐出装置について説明する。第２の実施形態における液滴吐出装置および液滴吐出ヘッドの構造は第１の実施形態の図１および図２に示したものと同様なため説明を省略する。
【００６２】
本実施形態の液滴吐出ヘッドの製造方法は、ノズル基板２２にノズル２１を開口するノズル形成工程と、ノズル２１が形成されたノズル基板２２の少なくともノズル面２２ａに撥液処理を施す第１表面処理工程と、撥液処理が施されたノズル基板２２にノズル２１の開口部２１ａに近づくほど親液性が低下するように親液処理を施す第２表面処理工程と、親液処理が施されたノズル基板２２をエネルギー発生手段としての圧電体素子３０を有すると共にノズル２１が連通する機能液流路としての圧力室２４を有する圧力室基板２３に接合する接合工程とを備えている。
【００６３】
また第２表面処理工程は、ノズル２１の開口部２１ａを含む周辺域をマスキングして親液材料からなる親液処理部４４（図５（ｅ）参照）をノズル２１の開口部２１ａに近づくほど親液性が低下するように形成するものである。
【００６４】
図５（ａ）〜（ｅ）は、第２の実施形態のノズル基板の表面処理方法を示す概略図である。同図（ａ）はノズル形成工程を示す概略図である。同図（ａ）に示すように、まずノズル基板２２に複数のノズル２１を所定の口径およびピッチで開口させる。ノズル基板２２の材料およびノズル形成方法は、第１の実施形態と同様なため説明を省略する。
【００６５】
同図（ｂ）は第１表面処理工程を示す概略図である。同図（ｂ）に示すようにノズル面２２ａに撥液処理を施す。この場合、撥液処理はノズル基板２２のノズル２１内壁を含む両面にフッ素系高分子を用いて共析メッキ処理を施したものである。共析メッキ処理の方法は、まずノズル基板２２の表面を酸で洗浄した後に、マトリクス金属イオンを含む水溶液中にフッ素系高分子の粒子を分散させノズル基板２２を浸漬する。これによりフッ素系高分子の粒子がマトリクス金属を媒介してノズル基板２２の表面に付着し被膜４１が形成される。そしてノズル基板２２をフッ素系高分子の融点以上の温度（例えば３５０℃）以上に加温することにより被膜４１を均質なメッキ層とする。フッ素系高分子としては、例えばポリテトラフルオロエチレン、ポリパーフルオロアルコキシブタジエン、ポリフルオロビニリデン、ポリフルオロビニル、ポリジパーフルオロアルキルフマレート等が挙げられる。これらの高分子は単独あるいは複数混合して使用してもよい。
【００６６】
また共析メッキ処理以外の撥液処理方法としては、第１の実施形態と同様に４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理法（ＣＦ4プラズマ処理法）、低分子シロキサンを処理ガスとするプラズマ重合法を用いてマスク５０を対向配置させない状態で処理する方法が挙げられる。これらの方法を用いて被膜４１は、少なくともノズル面２２ａに形成すればよい。
【００６７】
同図（ｃ）〜（ｅ）は第２表面処理工程を示す概略図である。この場合、第２表面処理工程は、親液材料として紫外線露光によってより良好な親液性を発揮する光触媒材料を用い、光触媒材料が溶媒に分散された溶液をノズル２１の開口部２１ａを含む周辺域をマスキングして塗布する塗布工程と、マスキングを除き塗布された溶液を乾燥させて光触媒材料からなる被膜４３をノズル面２２ａに形成する乾燥工程と、被膜４３を露光する露光工程とを備えている。
【００６８】
光触媒材料としては、光半導体として知られる例えば酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、および酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）のうち、いずれか１種または２種以上の物質を含む微粒子分散液を用いることができる。また、このような光触媒材料に酸素欠陥や不純物を導入すると、この光触媒材料の紫外光や可視光に対する感度が高くなり、好ましい。使用する溶剤としては、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好ましい。光触媒材料による親液性の付与は、紫外線照射により空気中の酸素と水とが反応してできる活性酸素の働きによって光触媒材料からなる表面に親液性のＯＨ基（水酸基）が発生することによるものである。
【００６９】
光触媒材料は、光触媒材料単独として用いても良いし、バインダと混合して用いても良い。バインダと混合して光触媒材料を用いる場合には、バインダとしてその主骨格が上記の光触媒材料の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものが好ましく、例えば、オルガノポリシロキサン等が好適とされる。
【００７０】
同図（ｃ）に示すようにまず撥液処理されたノズル面２２ａに感光性樹脂からなるレジストを塗布し露光・現像してノズル２１の開口部２１ａを含む周辺域にマスキング部６０を形成する。そして光触媒材料が溶媒に分散された溶液をスピンコート法で塗布する。塗布された被膜４２は、乾燥工程を経て溶媒成分が除去された均質な層とする。マスキング部６０は溶剤等を用いて剥離する。マスキング部６０上の被膜４２は、マスキング部６０の剥離と伴に除去される。
【００７１】
次に同図（ｄ）に示すように被膜４２が形成されたノズル基板２２の表面に再び感光性樹脂からなるレジストを塗布しノズル２１の開口部２１ａを含む周辺域が先にマスキングされた領域よりも小さくなるように露光・現像する。これによりマスキング部６１が形成される。そしてマスキング部６１が形成されたノズル基板２２に光触媒材料が溶媒に分散された溶液を塗布し乾燥させて先に形成された被膜４２を覆うように被膜４３を形成する。マスキング部６１は溶剤等を用いて剥離する。マスキング部６１上の被膜４３は、マスキング部６１の剥離と伴に除去される。尚、塗布方法としてスピンコート法を用いれば、スプレーコート法に比べマスキング部６０，６１に光触媒材料が分散された溶液が付着しにくいため、後にマスキング部６０，６１を容易に剥離することができる。
【００７２】
同図（ｅ）はマスキング部を剥離した状態を示す概略図である。同図（ｅ）に示すようにマスキング部６１を溶剤等を用いて剥離した後に、露光工程で被膜４３の上方から紫外線を照射すれば、ノズル面２２ａには、ノズル２１の開口部２１ａを含む周辺域の表面４５が撥液性を有し、その外側には被膜４２，４３が段階的に積層された親液性を有する親液処理部４４ができあがる。親液処理部４４は、積層部で密度が高くなりノズル２１から遠ざかるほど親液性が上昇する。尚、親液処理部４４を形成する方法は、上記のような工程を適宜繰り返すことによってその段階的な処理をさらに細かく細分してもよい。またマスキング部を徐々に大きくして段階的に積層された親液処理部４４を形成してもよい。
【００７３】
このようにしてノズル面２２ａが表面処理されたノズル基板２２を接合工程で圧電体素子３０を有すると共にノズル２１が連通する圧力室２４を有する圧力室基板２３に接合すれば液滴吐出ヘッド２０が完成する。接合方法については第１の実施形態と同様な方法を用いればよい。
【００７４】
上記のように製造された液滴吐出ヘッド２０において、圧電体素子３０によりノズル２１から機能液を液滴として吐出した際に発生する微小の余剰液滴がノズル面２２ａに付着して成長しても、成長した余剰液滴はノズル面２２ａに施された表面処理によって撥液性を有するノズル２１の開口部２１ａから親液性が上昇する開口部２１ａの周辺域外側の領域に向かって移動してゆきやがてノズル２１から離れてゆく。したがって、飛行曲がりの原因となる余剰液滴がノズル２１の開口部２１ａ付近に成長した状態で残留しにくいので、成長した余剰液滴をワイピングする頻度を低減することが可能となる。
【００７５】
上記第２の実施形態の効果は、以下のとおりである。また第２の実施形態によれば第１の実施形態の効果（４）、（５）が同様に得られる。
【００７６】
（１）本実施形態の液滴吐出ヘッド２０において、ノズル基板２２のノズル面２２ａには、ノズル２１の開口部２１ａを含む周辺域は撥液性を有し、その外側ではノズル２１から遠ざかるほど親液性が上昇するように親液処理が施された親液処理部４４が形成されている。したがって、エネルギー発生手段としての圧電体素子（ピエゾ）３０によって機能液が液滴として吐出される際に発生する微小な余剰液滴がノズル面２２ａに付着して成長しても、成長した余剰液滴は撥液性を有する開口部２１ａの周辺域から表面エネルギーがより大きい親液性が上昇する該周辺域の外側の領域に向かって移動してゆきやがてノズル２１から離れて行く。ゆえにノズル２１の開口部２１ａの出口付近に成長した余剰液滴が残留しにくく、余剰液滴と吐出される液滴とが合体して吐出方向が曲がってしまう飛行曲がりの不具合を減少させることができる。またノズル面２２ａには下地処理として共析メッキ処理による撥液処理が施されているため、ノズル面２２ａと機能液とが接触して腐食し発生するノズル２１の目詰まりを低減することができる。すなわちノズル２１の開口部２１ａ付近に付着した余剰液滴を取り除くワイピングを伴う回復処理の回数を減らして長時間に渡って安定的な吐出が可能な液滴吐出ヘッド２０を提供することができる。
【００７７】
（２）本実施形態の液滴吐出ヘッドの製造方法は、ノズル形成工程でノズル基板２２にノズル２１を開口させた後に、第１表面処理工程でノズル基板２２の表面に下地処理として撥液処理を施こし、第２表面処理工程でノズル面２２ａにノズル２１の開口部２１ａに近づくほど親液性が低下するように親液処理を施こす。そして接合工程でノズル基板２２を圧電体素子３０を有すると共にノズル２１が連通する圧力室２４を有する圧力室基板２３に接合させる。したがって、撥液処理によりノズル基板２２の表面が機能液と接触して腐食し発生するノズル２１の目詰まりを抑え、ノズル面２２ａに付着した余剰液滴は、撥液性を有する開口部２１ａの周辺域から表面エネルギーがより大きい親液性が上昇する該周辺域の外側の領域に向かって移動してゆきやがてノズル２１から離れて行く。ゆえにノズル２１の開口部２１ａ付近の表面に成長した余剰液滴が残留しにくく、余剰液滴と吐出される液滴とが合体して吐出方向が曲がってしまう飛行曲がりやノズル目詰まりの不具合を減少させたより安定した吐出特性を有する液滴吐出ヘッド２０を製造することができる。
【００７８】
上記実施形態以外の変形例は以下のとおりである。
【００７９】
（変形例１）図６は、変形例のノズル基板の表面処理状態を示す平面図である。液滴吐出ヘッド２０は、図６に示すようにノズル２１の開口部２１ａに近づくほど撥液性が高くなる（つまり開口部２１ａから遠ざかるほど撥液性が低下する）表面処理が施されたものであってもよい。これによれば、ノズル面２２ａにはノズル２１の開口部２１ａに近づくほど撥液性が高くなる（開口部２１ａから遠ざかるほど撥液性が低下する）表面処理が施されているため、ノズル面２２ａに付着した余剰液滴は、撥液性が高いノズル２１の開口部２１ａ付近から撥液性が低い方向、すなわち表面エネルギーがより大きい撥液性が低い方向に移動してゆき次第にノズル２１から離れて行く。ゆえにノズル２１の開口部２１ａ付近に成長した余剰液滴が残留しにくく、余剰液滴と吐出される液滴が合体して吐出方向が曲がってしまう飛行曲がりの不具合を低減させた液滴吐出ヘッドを提供することができる。このような液滴吐出ヘッド２０の製造方法としては、第１の実施形態の第１表面処理工程を第２の実施形態と同様にフッ素系高分子材料を用いた共析メッキ処理による撥液処理とした後に、第２表面処理工程でさらにＣＦ4プラズマ処理を行い撥液性を有する被膜４０をノズル面２２ａに形成する方法が挙げられる。
【００８０】
（変形例２）液滴吐出ヘッド２０のエネルギー発生手段は、圧電体素子（ピエゾ）３０に限定されない。ノズル面２２ａにノズル２１の開口部２１ａに近づくほど濡れ性が上昇する表面処理が施されていれば、例えばエネルギー発生手段として振動板部と電極とからなる静電方式の電気機械変換素子や発熱体によって機能液を加熱することにより発生する気泡で加圧するバブル方式であってもよい。
【００８１】
（変形例３）第１の実施形態の液滴吐出ヘッドの製造方法において、第１表面処理工程の親液処理の方法は、Ｏ2プラズマ処理に限定されない。例えば親液材料としての光触媒材料を溶媒に分散させた溶液をノズル面２２ａに塗布して被膜を形成し、紫外線を照射すれば被膜の表面に親液性を付与することができる。
【００８２】
（変形例４）第２の実施形態の液滴吐出ヘッドの製造方法において、第１表面処理工程の撥液処理は、必ずしも必要とされない。例えばノズル基板２２の材料としてポリエチレンテレフタレート、ポリアセタール等の撥液性を有する樹脂を選択すれば撥液処理は不要である。したがって、第２表面処理工程のみでノズル面２２ａにノズル２１の開口部２１ａに近づくほど親液性が低下するように親液処理された親液処理部４４が形成される。
【００８３】
（変形例５）液滴吐出装置１０において、クリーニング機構１４を必ずしも具備しなくてもよい。例えばクリーニングが必要なときに、ヘッドユニット１から液滴吐出ヘッド２０を取り出して別に設けたクリーニング装置を用いてクリーニングしてもよい。このようにすればクリーニングしている間に、液滴吐出ヘッド２０を交換して液滴吐出装置１０を稼動させ生産性を向上させることができる。また手動で液滴吐出ヘッド２０をクリーニングしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】液滴吐出装置の構造を示す概略斜視図。
【図２】液滴吐出ヘッドの要部構造を示す概略断面図。
【図３】ノズル出口側のノズル基板の表面処理状態を示す平面図。
【図４】（ａ）〜（ｃ）実施例１のノズル基板の表面処理方法を示す概略図。
【図５】（ａ）〜（ｅ）実施例２のノズル基板の表面処理方法を示す概略図。
【図６】変形例のノズル基板の表面処理状態を示す平面図。
【符号の説明】
【００８５】
１０…液滴吐出装置、２０…液滴吐出ヘッド、２１…ノズル、２１ａ…ノズルの開口部、２２…ノズル基板、２２ａ…少なくとも一方の表面としてのノズル面、２３…機能液流路を有する基板としての圧力室基板、２４…機能液流路としての圧力室、３０…エネルギー発生手段としての圧電体素子（ピエゾ）、４０…被膜、５０…マスク、５１…マスクの開口部。
【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図３】
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【図６】
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