(57)【要約】【課題】外力の印加した場合にも、基材の意匠性が維持される複合材を提供する。【解決手段】本発明では、延性基材と、該延性基材上に設けられた被覆部とを有し、該被覆部はシリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは有機基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも１種、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種からなり、平均密度が１．９ｇ／ｃｍ３以上であり、略透明であることを特徴とする複合材を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
延性基材と、該延性基材上に設けられた被覆部とを有し、該被覆部はシリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは有機基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも１種、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種からなり、平均密度が１．９ｇ／ｃｍ３以上であり、略透明であることを特徴とする複合材。
【請求項２】
前記被覆部は、延性基材に塗布されたポリシラザン含有液をシリカ転化して形成されたことを特徴とする請求項１記載の複合材。
【請求項３】
前記被覆部は、延性基材に塗布されたポリシラザン含有液を、基材ごと４５０℃以下の温度域で加熱することにより形成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の複合材。
【請求項４】
前記被覆部は粒界を含まないことを特徴とする請求項１乃至３いずれかに記載の複合材。
【請求項５】
前記ポリシラザン含有液は、触媒を含むことを特徴とする請求項２又は３記載の複合材。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれかに記載の複合材を、少なくとも使用面側の一部に備えたシンク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、外力を印加した場合にも、基材の意匠性が維持される複合材に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に延性基材は加工性に優れるため、様々な工業製品として活用されている。例えばステンレス、アルミニウム等の金属は延性材料の代表例であり、調理器具やキッチンシンクなどで用いられている。しかしながら、延性基材はその特性ゆえ表面硬度が低く、外力を印加した場合に傷が発生するなどして、意匠性が損なわれるという問題があった。
【０００３】
このような課題を解決するために、従来より、金属酸化物膜を形成し、防汚性を向上させたステンレスシンク（例えば、特許文献１参照。）や、ステンレス表面に釉薬層を形成した防汚製品（例えば、特許文献２参照。）、ステンレス表面に凹凸を設置し、耐疵付性と耐汚染性を改善した流し台シンク用ステンレス鋼板（例えば、特許文献３参照。）などが開示されている。
【特許文献１】特開２００４−７６０７１
【特許文献２】特開２００１−１５２３６７
【特許文献３】特開２００４−１３７７９６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１記載の金属酸化物膜を形成したステンレスシンクでは、ある程度の表面硬度の向上は達成されているものの、例えば焼成された金属酸化物からなる陶器などとの接触では傷が容易に発生し、耐傷性は十分ではなかった。
【０００５】
また、特許文献２記載の釉薬層を形成した防汚製品では、焼成により釉薬層を形成するため、８００℃以上の温度にて焼成する必要があり、基材に金属を用いた場合、表面が酸化して変色し、外観を損ねるという問題があるため、着色した不透明な釉薬層を形成する必要があり、必然的に基材の質感が失われるという問題があった。
【０００６】
特許文献３記載のステンレス鋼板では、シンク本来の質感が失われてしまった。
【０００７】
本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、外力を印加した場合にも、基材の意匠性が維持される複合材を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明では、延性基材と、該延性基材上に設けられた被覆部とを有し、該被覆部はシリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは有機基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも１種、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種からなり、平均密度が１．９ｇ／ｃｍ３以上であり、略透明であることを特徴とする複合材を提供する。
【０００９】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部は、延性基材に塗布されたポリシラザン含有液をシリカ転化して形成されるようにする。
【００１０】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部は、延性基材に塗布されたポリシラザン含有液を、基材ごと４５０℃以下の温度域で加熱することにより形成されるようにする。
【００１１】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部は粒界を含まないようにする。
【００１２】
本発明の好ましい態様においては、前記ポリシラザン含有液は、触媒を含むようにする。
【００１３】
本発明の複合材を、少なくとも使用面側の一部に備えたシンクは、食器等との接触による摺動磨耗等の外力を印加した場合に、基材の意匠性が維持される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、延性基材と、該延性基材上に設けられた被覆部とを有し、該被覆部はシリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは有機基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも１種、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種からなり、平均密度が１．９ｇ／ｃｍ３以上であり、略透明であることを特徴とする、外力を印加した場合にも、基材の意匠性が維持される複合材を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の複合材とシンク、複合材の製造方法について具体的に説明する。
本発明において意匠性が維持されるとは、基材の光沢、質感、色調が維持されることを意味する。
【００１６】
本発明において、外力を印加した場合にも、基材の意匠性が維持されるとは、例えば固形物との接触による傷発生による意匠性の低下を抑制する作用を意味し、より具体的には、例えば、シンクの場合では、食器等の摺動等により傷が発生し、意匠性が低下することを抑制する作用を意味する。
【００１７】
本発明において、延性基材とは、物質が弾性の限界を超えて破壊されずに引き延ばされる性質を有する基材を意味し、特に延性に富んだ材料として、ステンレス鋼、アルミニウムなどの金属材料が挙げられる。
【００１８】
本発明において、シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは有機基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも１種、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種とは、延性基材上にシロキサンネットワークを構築するものである。
【００１９】
本発明において、平均密度とは、被覆部の一部分の密度の平均値である。
被覆部の平均密度が１．９ｇ／ｃｍ３以上であると、外力を印加したときに基材の意匠性を維持する作用が得やすく、２．１５ｇ／ｃｍ３以上であるとより意匠性を維持する作用が得やすく望ましい。
【００２０】
本発明において、略透明とは、基材の質感が損なわれない程度の透明性を有し、外観上、基材の意匠性を確認できる程度の透明性を意味する。
例えばステンレス基材に被覆部を形成した複合材は、ステンレスの光沢、質感、色調を確認できることを意味し、基材に絵柄などの模様が存在する場合に、その絵柄、模様が確認できる程度の透明性を意味する。
【００２１】
本発明で用いられるポリシラザンは、次の構造式で表される化合物[−（ＳｉＲ１Ｒ２）−（ＮＲ３）−]ｎ（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基である）であり、鎖状、環状、架橋構造を有するもの、あるいは分子内にこれら複数の構造を同時に有するもののうち、いずれか単独でも混合物でもよい。
【００２２】
本発明において、シリカ転化とは、延性基材上に形成したポリシラザンの膜を、常温または加熱、加湿等により、シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは有機基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも１種、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種へと転化させ、シロキサンネットワークを構築させるものである。
シリカ転化を生じさせるためには１２０℃以上で加熱することが望ましく、１６０℃以上で加熱すると、より転化反応が促進され望ましい。
【００２３】
また、例えば延性基材の代表である金属の場合、耐熱性は有するものの、加熱により金属表面の酸化による変色が発生し、例えばステンレス鋼であれば、４５０℃より高温では、表面の酸化による変色が発生するため、意匠性を損ねることとなる。
【００２４】
本発明において、粒界とは、結晶粒どうしの境界を意味する。
被覆部に粒界があると、外力を印加した場合に、粒界を起点に被覆部が剥離しやすいため、基材の意匠性を維持しにくい。本発明における被覆部に粒界がないことにより、外力を印加した場合にも基材の意匠性を有する被覆部を容易に得ることができる。
粒状物質を出発原料とすると、被覆部には粒界が存在し、好ましくない。粒界のない被覆部を得るためには、広義のゾル−ゲル法が一般的に用いられ、例えばポリシラザン含有液を用いるのが好ましい。
【００２５】
本発明において、触媒を用いることにより、より低温でシリカ転化を生じさせることができるため、延性基材として金属を用いる場合、金属表面の酸化による変色が発生しない程度の温度に加熱すればよく、基材の意匠性を維持しやすい。
【００２６】
本発明で用いられる触媒は、次の構造式で表される化合物[−（ＳｉＲ１Ｒ２）−（ＮＲ３）−]ｎ（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基である）のシリカ転化を促進するものであり、具体的に示すと、１−メチルピペラジン、１−メチルピペリジン、４，４’−トリメチレンジピペリジン、４，４’−トリメチレンビス（１−メチルピペリジン）、ジアザビシクロ−［２，２，２］オクタン、シス−２，６−ジメチルピペラジン、４−（４−メチルピペリジン）ピリジン、ピリジン、ジピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、ピペリジン、ルチジン、ピリミジン、ピリダジン、４，４’−トリメチレンジピリジン、２−（メチルアミノ）ピリジン、ピラジン、キノリン、キノクサリン、トリアジン、ピロール、３−ピロリン、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール、１−メチルピロリジンなどのＮ−ヘテロ環状化合物；メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ペンチルアミン、ジペンチルアミン、トリペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ジヘプチルアミン、オクチルアミン、ジオクチルアミン、トリオクチルアミン、フェニルアミン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミンなどのアミン類；更にＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］７−ウンデセン）、ＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］５−ノネン）、１，５，９−トリアザシクロドデカン、１，４，７−トリアザシクロノナンなどが挙げられる。
【００２７】
また、有機酸、無機酸、金属カルボン酸塩、アセチルアセトナ錯体、金属微粒子も好ましい触媒として挙げられる。有機酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、マレイン酸、ステアリン酸などが、また無機酸としては、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、過酸化水素、塩素酸、次亜塩素酸などが挙げられる。金属カルボン酸塩としては、式：（ＲＣＯＯ）ｎＭ〔式中、Ｒは脂肪族基、または脂環族基で、炭素数１〜２２のものを表し、ＭはＮｉ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ａｌからなる群より選択された少なくとも１種の金属を表し、ｎはＭの原子価である。〕で表わされる化合物である。金属カルボン酸塩は無水物でも水和物でもよい。アセチルアセトナ錯体としては、アセチルアセトン（２，４−ペンタジオン）から酸解離により生じた陰イオンａｃａｃ‘が金属原子に配位した錯体であり、一般的には、式（ＣＨ３ＣＯＣＨＣＯＣＨ３）ｎＭ〔式中、Ｍはイオン価ｎの金属を表す。〕好適な金属Ｍとしては、例えば、ニッケル、白金、パラジウム、アルミニウム、ロジウムなどが挙げられる。金属微粒子としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｎｉが好ましく、特にＡｇが好ましい。金属微粒子の粒径は、０．５μｍより小さいことが好ましく、０．１μｍ以下がより好ましく、０．０５μｍより小さいことがさらに好ましい。これら以外にも、過酸化物、メタルクロライド、フェロセン、ジルコノセンなどの有機金属化合物なども用いることができる。
【００２８】
本発明において、延性基材上へのポリシラザン膜の形成方法としては、例えばポリシラザン含有液を、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、ロールコート法ならびにこれらの併用等、既知の塗布手段を適宜採用することができる。
【００２９】
本発明で用いられる溶媒は、ポリシラザンおよび触媒を溶解することができるものであればいずれのものであってもよく、ミネラルスピリットなどの石油溶媒、パラフィン系溶媒、芳香族系溶媒、環式脂肪族溶媒、エーテル類、ハロゲン化炭化水素などを例示することができる。
具体的には、パラフィン系としてはＣ８のオクタン、２，２，３−トリメチルペンタン、Ｃ９のノナン、２，２，５−トリメチルヘキサン、Ｃ１０のデカン、Ｃ１１のｎ−ウンデカンなどが、芳香族系溶媒としては、Ｃ８のキシレン、Ｃ９のクメン、メシチレン、Ｃ１０のナフタレン、テトラヒドロナフタレン、ブチルベンゼン、ｐ−シメン、ジエチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、Ｃ１１のペンチルベンゼンなどが、環式脂肪族系溶媒としては、Ｃ７のメチルシクロヘキサン、Ｃ８のエチルシクロヘキサンＣ１０のｐ−メンタン、α−ピネン、ジペンテン、デカリンなどが、エーテル類としては、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ポリグリコールエーテル、テトラヒドロフランなどが、ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼンなどを例示することができる。
【００３０】
本発明において、少なくとも使用面側の一部に本発明の被覆部を備えたシンクとは、シンク底面部のうち、食器等との接触が特に顕著である底面部中央付近のみに被覆部が形成されていても良いし、もちろん、底面部全面に被覆部が形成されていても良い。また、立面部にも形成されていると、シンク内のたわし等での洗浄時の摺動等による立面部への傷の発生も抑制されより好ましい。
【００３１】
本発明における被覆部を備えたシンクの製造方法としては、延性基材をシンク形状に加工した後、該シンクにポリシラザン含有液を塗布し、ポリシラザンをシリカ転化して被覆部を形成させても良いし、本発明の被覆部を備えた複合材を、シンクの少なくとも使用面側の一部に貼り付けても良い。
ポリシラザン含有液を用いる方法により、シンク形状に加工するための外力の印加による被覆部へのクラックの発生を防止することができ、さらに被覆部への残留応力を軽減できるため、外力を印加した場合に、基材の意匠性を維持する作用が良好に発揮される。
【実施例】
【００３２】
以下に実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。
【００３３】
延性基材上に被覆部が設けられており、該被覆部は外力を印加した場合にも、基材の意匠性を維持する作用を発揮する。
【００３４】
このような複合材は、例えば、食器等の摺動等による外力の印加があった場合でも基材の意匠性を維持することができる。
【００３５】
次いで、複合材の好ましい製造方法について、実験結果をもとに説明する。
【００３６】
（実施例１）
基材として１００×１００ｍｍのＳＵＳ３０４ステンレス板を用いた。基材の前処理として、ヘキサン中で１０分間超音波洗浄した後、さらにアセトン中で１０分間超音波洗浄し、基材表面を洗浄した。
パラジウム系触媒を含むポリシラザン含有液｛ＮＬ１１０Ａ−１０、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製｝をフローコート法にて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、被覆部を有する複合材を得た。
【００３７】
（実施例２）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
ポリシラザン含有液｛ＮＬ１１０Ａ−１０｝をフローコート法にて基材に塗布した後、２００℃で６０分加熱して、被覆部を有する複合材を得た。
【００３８】
（実施例３）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
ポリシラザン含有液｛ＮＬ１１０Ａ−１０｝をフローコート法にて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、被覆部を有する複合材を得た。
【００３９】
（実施例４）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
触媒を含まないポリシラザン含有液｛ＮＮ１１０Ａ−１０、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製｝をフローコート法にて基材に塗布した後、４００℃で６０分加熱して、被覆部を有する複合材を得た。
【００４０】
（実施例５）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
ポリシラザン含有液｛ＮＮ１１０Ａ−１０｝をフローコート法にて基材に塗布した後、２５０℃で６０分加熱して、被覆部を有する複合材を得た。
【００４１】
（比較例１）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
ポリシラザン含有液｛ＮＬ１１０Ａ−１０｝をフローコート法にて基材に塗布した後、１００℃で６０分加熱して、被覆部を有する複合材を得た。
【００４２】
（比較例２）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
ポリシラザン含有液｛ＮＬ１１０Ａ−１０｝をフローコート法にて基材に塗布した後、常温乾燥して、被覆部を有する複合材を得た。
【００４３】
（比較例３）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
ポリシラザン含有液｛ＮＮ１１０Ａ−１０｝をフローコート法にて基材に塗布した後、５００℃で６０分加熱して、被覆部を有する複合材を得た。
【００４４】
（比較例４）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
ポリシロキサン溶液｛グラスカＴ２２０２、ＪＳＲ（株）製｝をフローコート法にて基材に塗布した後、１５０℃で３０分加熱して、被覆部を有する複合材を得た。
【００４５】
（評価方法）
（１）粒界の有無
複合材の被覆部中の粒界の有無を評価した。
複合材を１５×１５ｍｍの平板状に切り出し、日立ハイテクノロジーズ（株）製の走査型電子顕微鏡Ｓ−４１００にて倍率１０，０００倍で被覆部を観察し、粒界の有無を判定した。
（２）密度
複合材の被覆部の密度を測定した。
複合材を５０×５０ｍｍの平板状に切り出し、（株）テクノス製の半導体用密度・膜厚測定装置ＳＭＡＴ２１２にて測定した。Ｘ線のスリットは１０ｍｍ、測定開始角度は０．１ｄｅｇ、測定終了角度は０．２５ｄｅｇとし、１０×１０ｍｍの範囲の平均密度が測定された。
（３）外観
目視にて複合材の外観を評価した。
判定基準  ○：基材の意匠性を完全に維持  △：やや曇りが生じているが、基材の意匠性は維持  ×：基材の意匠性を著しく損なっており、基材の意匠が確認できない
（４）外力を印加したときの基材の意匠性の維持性の評価
陶器質タイルを２０×２０ｍｍに切り出したものを摺動子として用いた。荷重をさらに加えた状態で、基材表面で往復摺動させた後、基材の意匠変化を目視にて判定した。
荷重は１００ｇにて評価し、摺動回数は２００回とした。荷重１００ｇではマグカップ程度の重量物との接触を想定して設定した。
判定基準  ◎：傷の発生なく、意匠性変化なし  ○：微小な傷が発生するものの、意匠性は維持  △：傷発生し、意匠性が低下  ×：顕著に傷が発生し、著しく意匠性を損なう
【００４６】
（評価結果）
評価結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
2006326915.tif 000003
【００４８】
本発明の実施例１乃至実施例５の被覆部には粒界が存在しなかった。
【００４９】
本発明の実施例１、実施例２、実施例４の被覆部の平均密度は２．１９ｇ／ｃｍ３であった。
本発明の実施例３の被覆部の平均密度は２．１３ｇ／ｃｍ３であった。
本発明の実施例５の被覆部の平均密度は２．０１ｇ／ｃｍ３であった。
【００５０】
本発明の実施例１乃至実施例３、実施例５は、被覆部を形成した後でも基材の意匠性が維持されていた。
実施例４は、被覆部を形成する際の加熱温度が高いため、被覆部を形成した後には基材の若干の曇りがみられたが、基材の意匠性は維持されていた。
【００５１】
本発明の実施例１、実施例２、実施例４は、外力を印加したときにも基材の意匠性が維持されていた。石英ガラスの密度２．２ｇ／ｃｍ３とほぼ同等の密度２．１９ｇ／ｃｍ３であり、緻密な膜が形成されているため、外力を印加しても基材の意匠性を維持することができた。
実施例３及び実施例５は、外力を印加したときにも、微小の傷が入るものの、基材の意匠性は維持されていた。
【００５２】
触媒を含むポリシラザン含有液を使用し、１６０℃以上に加熱した実施例１及び実施例２においては、基材自体と区別がつかないほどの外観を維持し、さらに外力の印加によってもその意匠性を維持した。
触媒を含むポリシラザン含有液を用いることで、基材が変色し意匠性を損なうことのない比較的低温での加熱でも、被覆部の平均密度を２．１９ｇ／ｃｍ３とすることができ、良好な外観と耐傷性の両立を達成することができた。
【００５３】
本発明の比較例１の被覆部の平均密度は１．８７ｇ／ｃｍ３であった。
比較例１の被覆部には粒界が存在しなかった。
比較例１は、被覆部を形成した後でも基材の意匠性が完全に維持されていた。しかし比較例１は、外力の印加で顕著な傷の発生が見られ、基材の意匠性が著しく損なわれた。
【００５４】
本発明の比較例２の被覆部の平均密度は１．５３ｇ／ｃｍ３であった。
比較例２の被覆部には粒界が存在しなかった。
比較例２は、被覆部を形成した後でも基材の意匠性が完全に維持されていた。しかし比較例２は、外力の印加で顕著な傷の発生が見られ、基材の意匠性が著しく損なわれた。
【００５５】
本発明の比較例３の被覆部の平均密度は２．１９ｇ／ｃｍ３であった。
比較例３の被覆部には粒界が存在しなかった。
比較例３は、被覆部を形成する際の加熱温度が高いため、基材の変色が著しく、基材の意匠性が著しく損なわれた。比較例３は、外力の印加による傷の発生はなかった。
【００５６】
本発明の比較例４の被覆部の平均密度は１．６２ｇ／ｃｍ３であった。
比較例４の被覆部には粒界が存在しなかった。
比較例４は、被覆部を形成した後でも基材の意匠性が完全に維持されていた。しかし比較例４は、外力の印加で顕著な傷の発生が見られ、基材の意匠性が著しく損なわれた。
【００５７】
以上の結果のように、被覆部の形成により、実施例４においては意匠が維持され、比較例３においては意匠が損なわれたことから、外観を維持するためには４５０℃以下の温度で加熱することが必要であった。
【００５８】
比較例１、比較例２、比較例４においては外力の印加で基材の意匠性が著しく損なわれたが、実施例１乃至実施例５においては外力を印加しても基材の意匠性は維持された。すなわち、本発明の被覆部の平均密度が１．９ｇ／ｃｍ３以上であるとき、外力を印加したときの基材の意匠性を維持する作用が飛躍的に向上した。被覆部の平均密度が２．１５ｇ／ｃｍ３以上であるとより意匠性を維持する作用が得られた。１２０℃以上の温度で加熱すると、被覆部の平均密度が１．９ｇ／ｃｍ３以上となり、外力を印加しても基材の意匠性が維持された。
【００５９】
図２は、本発明の複合材を備えたシンクを有するキッチンの概略図である。
【００６０】
本発明の複合材を備えてなるシンク３とカウンター５が接合されており、シンクには水栓６が設けられており、水栓６より吐出される水によりシンク３内で食器の洗浄等を行うことができ、水は排水口７より排水される。
【００６１】
図３は図２のキッチンのシンク３部の拡大図であり、シンク底面部の一部（網掛け表示部）に被覆部２が形成されている。
【００６２】
本実施例では、図３のように、シンク底面部の一部に被覆部２が形成されている。
【００６３】
続いて、本実施例の使い勝手について説明する。
使用者は、本実施例のシンク３内の底面側の使用面４に食器等を置き、食器の洗浄作業を行う。複数の食器を洗浄するときに、一旦、底面側の使用面４に置いた食器を取り上げたり、シンク内で横に移動させたりする。そのときに、底面側の使用面４に食器を擦りつけてしまった場合などに、傷が発生することがあるが、本実施例では、底面側の使用面４には被覆部２が形成されているため、傷が発生することがなく、基材の意匠性が維持される。
ここで、本発明においてシンクの使用面側とは、図２に示したとおり、側面側や底面側のことであり、詳しくは、キッチンシンクとして使用する面側のことである。図示しない、例えばキャビネット内に隠れている裏側は使用面側ではない。
【００６４】
また、別の実施例として、シンク３の底面部が、図４のように全面に被覆部が形成されているものがある。この場合、被覆部の端部の非被覆部との段差が形成されることがなく、光の反射により被覆部の端部が目立つようなことがなくより好ましい。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明の複合材は、キッチンのシンク等に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の複合材の断面図である。
【図２】本発明のシンクを備えたキッチンの概略図である。
【図３】本発明の、底面部の一部に複合材を備えたシンクの概略図である。
【図４】本発明の、底面部全面に複合材を備えたシンクの概略図である。
【符号の説明】
【００６７】
１  ：延性基材
２  ：被覆部
３  ：シンク
４  ：使用面
５  ：カウンター
６  ：水栓
７  ：排水口
【図１】
2006326915.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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