(57)【要約】【課題】  体積収縮の抑制効果をイミド単量体自身に持たせ、極めて高い光硬化性を有しながら、光硬化時の塗膜の収縮が極めて少なく、寸法安定性および基材との密着性が大幅に改善され、加えて硬化物の透明性の高い、重合性イミド単量体を含む光硬化性組成物を提供する。【解決手段】  光酸発生剤を少なくとも一種含有し、かつ、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする光硬化性組成物。    一般式（１）    （Ｌ）m−（Ａ）k（式中、Ｌは連結基を表し、Ａは下記構造式Ａを表す。但し、Ｌは下記構造式Ａ中のＲ1またはＲ2またはＱ1の任意の部位と結合している。ｋは１から６の整数を表し、ｍは０あるいは１の整数を表す。）    【化１】2006160940.tif 000069    【化２】2006160940.tif 000070【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光酸発生剤を少なくとも一種含有し、かつ、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする光硬化性組成物。
一般式（１）    （Ｌ）m−（Ａ）k
（式中、Ｌは連結基を表し、Ａは下記構造式Ａを表す。但し、Ｌは下記構造式Ａ中のＲ1またはＲ2またはＱ1の任意の部位と結合している。ｋは１から６の整数を表し、ｍは０あるいは１の整数を表す。）
【化１】
2006160940.tif 000066
（式中、Ｒ1は水素原子または置換基を表し、Ｒ2は置換基を表し、Ｑ1は芳香族環を形成するのに必要な原子団を表す。但しＲ1またはＲ2のうち少なくとも一つは、脂環式エポキシド構造含有置換基またはオキセタン環含有置換基またはチエタン環含有置換基またはチイラン環含有置換基のうち少なくとも一つを含む。ｎは０から１０の整数を表す。）
【化２】
2006160940.tif 000067
（式中、Ｒ5およびＲ6は水素原子または置換基を表し、Ｒ7は置換基を表し、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7のうち、少なくとも一つは脂環式エポキシド構造含有置換基またはオキセタン環含有置換基またはチエタン環含有置換基またはチイラン環含有置換基のうち少なくとも一つを含む。Ｑ3およびＱ4は芳香族環を形成する為に必要な原子団又は単なる結合手を表す。但しＱ3およびＱ4は同時に単なる結合手とはならない。ｒは０から１０の整数を表す。）
【請求項２】
上記一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物が、脂環式エポキシド構造含有置換基またはオキセタン環含有置換基のいずれか、あるいはその両方を有することを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
【請求項３】
上記一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物が、脂環式エポキシド構造含有置換基を有することを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
【請求項４】
脂環式エポキシド構造含有置換基が、そのオキシラン環を構成する２つの炭素原子の少なくとも一つにアルキル基を置換した脂環式エポキシド構造を有することを特徴とする請求項３に記載の光硬化性組成物。
【請求項５】
脂環式エポキシド構造含有置換基が、そのオキシラン環を構成する２つの炭素原子の少なくとも一つにメチル基を置換した脂環式エポキシド構造を有することを特徴とする請求項３に記載の光硬化性組成物。
【請求項６】
光酸発生剤が下記一般式（ｂ）で表されるスルホニウム塩であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
【化３】
2006160940.tif 000068
（式中、Ｒb1からＲb3は置換基を表し、Ｘbは対アニオンを表す。）
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性組成物に紫外線を照射することを特徴とする光硬化性組成物の硬化方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性組成物に紫外線を照射することにより得られることを特徴とする硬化物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、重合性イミド単量体を含有する光硬化性組成物およびその硬化方法およびその硬化物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、耐熱性感光性樹脂は、電気・電子工業の分野を中心に被覆材料、耐熱性フォトレジスト、接着、ポッティング剤などとして広く利用されている。これらの耐熱性感光性樹脂には、その本来の特性として、光硬化性、耐熱性、基材との密着性に優れていることが望まれる。特に、ポリイミド樹脂は、耐熱性、電気特性、及び機械的強度に優れていることから、これまで広く用いられている。
【０００３】
ところが、従来公知のポリイミド樹脂でこれらの要求をいずれも満足するものは少ない。一般に感光性ポリイミド前駆体は光ラジカル重合を利用しているものがほとんどで、光硬化時に塗膜の収縮を生ずる為、寸法安定性に問題がある。
【０００４】
例えば、光硬化性とその後の熱硬化時の塗膜収縮の抑制を両立する為にイミドアルコールとアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる光ラジカル重合性イミド単量体を使用した光硬化性組成物が提案されている（例えば、特許文献１参照。）が、ラジカル重合を利用しているが為に、光硬化時の硬化収縮や酸素による重合阻害があるという問題を孕んでいる上、その硬化収縮の抑制には感光性ポリマーの寄与が必要な為、組成物あるいは硬化物の性質は感光性ポリマーに大きく依存する。
【０００５】
一方、イミド化アクリレートとラジカル重合性化合物あるいはさらにカチオン重合性化合物を組み合わせることによって、取扱い性が高く、体積収縮の小さい光硬化性樹脂組成物を得られる（例えば、特許文献２参照。）としているが、ラジカル重合であるがゆえに、酸素による重合阻害は避けられず、体積収縮の改善も十分ではない。またカチオン重合性化合物を構成に含むことはできるが、ラジカル重合性化合物とともに用いなければ高い効果は望めない。
【特許文献１】特開２００４−２６７２７号公報  （発明の詳細な説明）
【特許文献２】特開２０００−１４３７４０号公報  （発明の詳細な説明）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記のような問題点を解決する為になされたものであり、その目的は、体積収縮の抑制効果をイミド単量体自身に持たせ、極めて高い光硬化性を有しながら、光硬化時の塗膜の収縮が極めて少なく、寸法安定性および基材との密着性が大幅に改善され、加えて硬化物の透明性の高い、重合性イミド単量体を含む光硬化性組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
【０００８】
（請求項１）
光酸発生剤を少なくとも一種含有し、かつ、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする光硬化性組成物。
【０００９】
一般式（１）    （Ｌ）m−（Ａ）k
（式中、Ｌは連結基を表し、Ａは下記構造式Ａを表す。但し、Ｌは下記構造式Ａ中のＲ1またはＲ2またはＱ1の任意の部位と結合している。ｋは１から６の整数を表し、ｍは０あるいは１の整数を表す。）
【００１０】
【化１】
2006160940.tif 000002
【００１１】
（式中、Ｒ1は水素原子または置換基を表し、Ｒ2は置換基を表し、Ｑ1は芳香族環を形成するのに必要な原子団を表す。但しＲ1またはＲ2のうち少なくとも一つは、脂環式エポキシド構造含有置換基またはオキセタン環含有置換基またはチエタン環含有置換基またはチイラン環含有置換基のうち少なくとも一つを含む。ｎは０から１０の整数を表す。）
【００１２】
【化２】
2006160940.tif 000003
【００１３】
（式中、Ｒ5およびＲ6は水素原子または置換基を表し、Ｒ7は置換基を表し、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7のうち、少なくとも一つは脂環式エポキシド構造含有置換基またはオキセタン環含有置換基またはチエタン環含有置換基またはチイラン環含有置換基のうち少なくとも一つを含む。Ｑ3およびＱ4は芳香族環を形成する為に必要な原子団又は単なる結合手を表す。但しＱ3およびＱ4は同時に単なる結合手とはならない。ｒは０から１０の整数を表す。）
（請求項２）
上記一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物が、脂環式エポキシド構造含有置換基またはオキセタン環含有置換基のいずれか、あるいはその両方を有することを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
【００１４】
（請求項３）
上記一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物が、脂環式エポキシド構造含有置換基を有することを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
【００１５】
（請求項４）
脂環式エポキシド構造含有置換基が、そのオキシラン環を構成する２つの炭素原子の少なくとも一つにアルキル基を置換した脂環式エポキシド構造を有することを特徴とする請求項３に記載の光硬化性組成物。
【００１６】
（請求項５）
脂環式エポキシド構造含有置換基が、そのオキシラン環を構成する２つの炭素原子の少なくとも一つにメチル基を置換した脂環式エポキシド構造を有することを特徴とする請求項３に記載の光硬化性組成物。
【００１７】
（請求項６）
光酸発生剤が下記一般式（ｂ）で表されるスルホニウム塩であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
【００１８】
【化３】
2006160940.tif 000004
【００１９】
（式中、Ｒb1からＲb3は置換基を表し、Ｘbは対アニオンを表す。）
（請求項７）
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性組成物に紫外線を照射することを特徴とする光硬化性組成物の硬化方法。
【００２０】
（請求項８）
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性組成物に紫外線を照射することにより得られることを特徴とする硬化物。
【発明の効果】
【００２１】
本発明により、体積収縮の抑制効果をイミド単量体自身に持たせ、極めて高い光硬化性を有しながら、光硬化時の塗膜の収縮が極めて少なく、寸法安定性および基材との密着性が大幅に改善され、且つ溶媒への溶解性や成形性、取扱い性に優れ、加えて硬化物の透明性の高い、重合性イミド単量体を含む光硬化性組成物を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明を更に詳しく説明する。構造式（Ａ）において、Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、Ｒ2は置換基を表す。Ｒ1またはＲ2は同一であっても異なっていても良く、但しＲ1またはＲ2のうち少なくとも一つは後述する脂環式エポキシド構造含有置換基またはオキセタン環含有置換基またはチエタン環含有置換基またはチイラン環含有置換基のうち少なくとも一つを含む。
【００２３】
本発明における脂環式エポキシド構造含有置換基、オキセタン環含有置換基、チエタン環含有置換基、チイラン環含有置換基はカチオン性重合性基として作用するが、従来公知のものでよく、同一分子内に一種又は必要に応じて二種以上含んでも良い。さらに本発明において、カチオン性重合性基として、脂環式エポキシド構造含有置換基とオキセタン環含有置換基の二種のいずれか、あるいはその両方であることがより好ましく、脂環式エポキシド構造含有置換基であることがさらに好ましい。
【００２４】
脂環式エポキシド構造含有置換基に含まれる脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセンまたはシクロペンテン環等のシクロアルケン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイドが好ましく、シクロヘキセンオキサイドがより好ましい。
【００２５】
さらに脂環式エポキシド構造含有置換基として下記一般式（４）で表される置換基がより好ましい。
【００２６】
【化４】
2006160940.tif 000005
【００２７】
式中、Ｒ101からＲ110は各々水素原子または置換基または連結基を表す。ただし、Ｒ101〜Ｒ110は全てが同時に水素原子を表すことはなく、オキシラン環と脂肪族炭化水素環の縮合炭素上の置換基すなわちＲ109またはＲ110の少なくともひとつはアルキル基であることが好ましく、Ｒ109またはＲ110の少なくともひとつはメチル基あるいはエチル基であることがより好ましく、Ｒ109またはＲ110の少なくともひとつはメチル基であることがさらに好ましい。Ｒ101からＲ110のうち少なくともひとつは一般式（１）または一般式（２）で表される化合物の任意の部位と結合する連結基であり、上記連結基としては以下に列挙する置換基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基、およびそれらと−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
【００２８】
一般式（４）において、Ｒ101からＲ110で各々表される置換基としては、例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、プロパルギル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、複素芳香族基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、２−キノリル基、１−イソキニリル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロチエニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基等）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、が挙げられる。Ｒ101からＲ108のうち少なくとも２つが互いに結合して２価の基となり環を形成してもよい。Ｒ101からＲ110で各々表される置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、ハロゲン原子、フッ化炭化水素基である。
【００２９】
これらのＲ101からＲ110で各々表される基は、更に置換基を有していてもよい。Ｒ101からＲ110で各々表される置換基に置換可能な基の例としてはアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、複素芳香族基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、２−キノリル基、１−イソキニリル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロチエニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等）、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基等が挙げられ、これらの置換基は、上述したＲ101からＲ110で各々表される置換基に置換可能な基の例と同義の基によってさらに置換されていてもよく、またこれらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。
【００３０】
Ｒ101からＲ110で各々表される置換基に置換可能な基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、水酸基、フッ化炭化水素基である。Ｒ101からＲ110で表される置換基の任意の位置のいずれかが、一般式（４）と同義の脂環式エポキシド構造含有置換基を置換基として有し、二官能以上の多官能エポキシド構造含有置換基となっても良い。
オキセタン環含有置換基について詳細に説明する。オキセタン環とは環状４員環エーテル構造を表し、本発明のオキセタン環含有置換基とは、４員環エーテル構造を置換基中に少なくとも一つ以上有していれば良く、他の部分構造は特に制限は無い。本発明のオキセタン環含有置換基のオキセタン環の数およびその他の部分構造は、本発明の光硬化性組成物を実際に使用するにあたり、使用者の所望する性能を発揮するために必要な種々の性能評価を検討の上、決定すればよい。
【００３１】
下記一般式（５）で表されるオキセタン環含有置換基は本発明においてより好ましい。
【００３２】
【化５】
2006160940.tif 000006
【００３３】
式中、Ｒ201からＲ206は、各々水素原子または置換基または連結基を表す。ただし、Ｒ201からＲ206は全てが同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ201からＲ206のうち少なくともひとつは一般式（１）または一般式（２）で表される化合物の任意の部位と結合する連結基である。この連結基は以下に列挙する置換基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基、およびそれらと−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
【００３４】
一般式（５）において、Ｒ201からＲ206で各々表される置換基は、前記一般式（４）中のＲ101と同義の基でよい。Ｒ201からＲ206の六つの基のうち少なくとも二つが互いに結合して２価の基となり環を形成してもよい。
【００３５】
Ｒ201からＲ206で各々表される置換基に置換可能な基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、水酸基、フッ化炭化水素基である。Ｒ201からＲ206で表される置換基の任意の位置のいずれかが、一般式（５）と同義のオキセタン環を置換基として有し、二官能以上の多官能オキセタン環含有置換基となっても良い。
【００３６】
上述したオキセタン環の製造方法は特に制限されず、従来知られた方法に従えば良く、以下の文献に記載の方法に準じて合成することができる。
【００３７】
Ａ：Ｈｕ  Ｘｉａｎｍｉｎｇ，Ｒｉｃｈａｒｄ  Ｍ．Ｋｅｌｌｏｇｇ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，５３３〜５３８，Ｍａｙ（１９９５）
Ｂ：Ａ．Ｏ．Ｆｉｔｔｏｎ，Ｊ．Ｈｉｌｌ，Ｄ．Ｅｊａｎｅ，Ｒ．Ｍｉｌｌｅｒ，Ｓｙｎｔｈ．，１２，１１４０（１９８７）
Ｃ：Ｔｏｓｈｉｒｏ  Ｉｍａｉ  ａｎｄ  Ｓｈｉｎｙａ  Ｎｉｓｈｉｄａ，Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｖｏｌ．５９，２５０３〜２５０９（１９８１）
Ｄ：Ｎｏｂｕｊｉｒｏ  Ｓｈｉｍｉｚｕ，Ｓｈｉｎｔａｒｏ  Ｙａｍａｏｋａ  ａｎｄ  Ｙｕｈｏ  Ｔｓｕｎｏ，Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，５６，３８５３〜３８５４（１９８３）
Ｅ：Ｗａｌｔｅｒ  Ｆｉｓｈｅｒ  ａｎｄ  Ｃｙｒｉｌ  Ａ．Ｇｒｏｂ，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．，６１，２３３６（１９７８）
Ｆ：Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１０１，１８５０（１９６８）
Ｇ：“Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  ｗｉｔｈ  Ｔｈｒｅｅ−  ａｎｄ  Ｆｏｕｒ−ｍｅｍｂｅｒｅｄ  Ｒｉｎｇｓ”，Ｐａｒｔ  Ｔｗｏ，Ｃｈａｐｔｅｒ  ＩＸ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ（１９６４）
Ｈ：Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，６１，１６５３（１９８８）  Ｉ：Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ａ２９（１０），９１５（１９９２）  Ｊ：Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ａ３０（２＆ａｍｐ；３），１８９（１９９３）
Ｋ：特開平６−１６８０４号公報
Ｌ：ドイツ特許第１，０２１，８５８号明細書
構造式（Ａ）において、Ｒ2で表される置換基が複数の場合、各々は同一であっても異なっていても良い。
【００３８】
一般式（１）中のｋは１から６の整数を表し、好ましくは１から３の整数を表し、より好ましくは１から２の整数を表す。ｍは０あるいは１の整数を表し、ｋが１のときｍは０である。ｎは０から１０の整数であり、好ましくは０から６の整数であり、より好ましくは０から３の整数である。
【００３９】
構造式（Ａ）において、Ｒ1及びＲ2で各々表される置換基のうちカチオン重合性の置換基でないものとしては、例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、プロパルギル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、複素芳香族基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、２−キノリル基、１−イソキニリル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロチエニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基等）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、が挙げられる。また複数のＲ2が互いに結合して２価の基となり環を形成してもよい。Ｒ1およびＲ2で各々表される置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、ハロゲン原子、フッ化炭化水素基である。
【００４０】
Ｒ1およびＲ2で各々表される基は、更に置換基を有していてもよい。Ｒ1およびＲ2で各々表される置換基に置換可能な基の例としてはアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、複素芳香族基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、２−キノリル基、１−イソキニリル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロチエニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、��ロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等）、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基等が挙げられ、これらの置換基は、上述したＲ1およびＲ2で各々表される置換基に置換可能な基の例と同義の基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｒ1およびＲ2で各々表される置換基に置換可能な基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、水酸基、フッ化炭化水素基である。
【００４１】
構造式（Ａ）中のＱ1は芳香族環を形成するのに必要な原子団を表し、該芳香族環としては芳香族炭化水素環でも芳香族複素環でも良く、縮合環を有していても良く、例としては芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、テトラセン環、ペンタセン環等）、芳香族複素環（例えば、フラン環、チオフェン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、ピリジン環、ピロール環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ナフチリジン環、キノリン環、アクリジン環、フェナジン環、キナゾリン環、フタラジン環、アンチリジン環、チアゾール環、オキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環等）等が挙げられ、好ましくはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ピリジン環であり、より好ましくはベンゼン環、ナフタレン環である。
【００４２】
一般式（１）中のＬは主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数０〜１５の２価の連結基あるいは単結合であることが好ましく、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い２価の連結基の例としては、以下の列挙する基及びこれらの基と−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
【００４３】
メチレン基［−ＣＨ2−］
エチリデン基［＞ＣＨＣＨ3］
イソプロピリデン［＞Ｃ（ＣＨ3）2］
１，２−エチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2−］
１，２−プロピレン基［−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−］
１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］
２，２−ジメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2ＣＨ2−］
２，２−ジメトキシ−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ2Ｃ（ＯＣＨ3）2ＣＨ2−］
２，２−ジメトキシメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ2ＯＣＨ3）2ＣＨ2−］
１−メチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2−］
１，４−ブタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］
１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］
オキシジエチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］
チオジエチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2−］
３−オキソチオジエチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2ＳＯＣＨ2ＣＨ2−］
３，３−ジオキソチオジエチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2−］
１，４−ジメチル−３−オキサ−１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−］
３−オキソペンタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＣＨ2ＣＨ2−］
１，５−ジオキソ−３−オキサペンタンジイル基［−ＣＯＣＨ2ＯＣＨ2ＣＯ−］
４−オキサ−１，７−ヘプタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］
３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］
１，４，７−トリメチル−３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−］
５，５−ジメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］、
５，５−ジメトキシ−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ（ＯＣＨ3）2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］
５，５−ジメトキシメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ（ＣＨ2ＯＣＨ3）2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］
４，７−ジオキソ−３，８−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−ＣＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯ−ＯＣＨ2ＣＨ2−］
３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−ＣＯＣＨ2ＣＨ2−］
１，３−シクロペンタンジイル基［−１，３−Ｃ5Ｈ8−］
１，２−シクロヘキサンジイル基［−１，２−Ｃ6Ｈ10−］
１，３−シクロヘキサンジイル基［−１，３−Ｃ6Ｈ10−］
１，４−シクロヘキサンジイル基［−１，４−Ｃ6Ｈ10−］
２，５−テトラヒドロフランジイル基［２，５−Ｃ4Ｈ6Ｏ−］
ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ6Ｈ4−］
ｍ−フェニレン基［−ｍ−Ｃ6Ｈ4−］
α，α′−ｏ−キシリレン基［−ｏ−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−］
α，α′−ｍ−キシリレン基［−ｍ−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−］
α，α′−ｐ−キシリレン基［−ｐ−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−］
フラン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ2−Ｃ4Ｈ2Ｏ−ＣＨ2−］
チオフェン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ2−Ｃ4Ｈ2Ｓ−ＣＨ2−］
イソプロピリデンビス−ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ6Ｈ4−Ｃ（ＣＨ3）2−ｐ−Ｃ6Ｈ4−］。
【００４４】
一般式（１）中のＬは置換基を有していても良く、例えば、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、等が挙げられる。
【００４５】
Ｒ1またはＲ2で各々表される置換基のうちカチオン重合性の置換基でないものとして好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。これらのうち置換可能なものはさらに置換されていても良い。またＬで表される連結基は主鎖あるいは置換基の任意の部位から必要な数だけの水素原子を除いてできる３価または４価または５価または６価の連結基であってもよい。
【００４６】
一般式（１）においてｋが２以上の場合、複数のＲ1およびＲ2およびＱ1は同一であっても異なっていても良い。
【００４７】
一般式（２）中のＲ5およびＲ6は水素原子または置換基を表し、Ｒ7は置換基を表す。Ｒ5またはＲ6またはＲ7はそれぞれ同一でも異なっていても良く、Ｒ5およびＲ6およびＲ7で表される置換基は前記構造式（Ａ）中のＲ1で表される置換基と同義の基で良く、Ｒ5またはＲ6またはＲ7のうち少なくとも一つは前記一般式（１）中のカチオン重合性の置換基と同義の置換基を少なくとも一つ含む。式中ｒは０から１０の整数を表し、好ましくは０から６の整数を表し、より好ましくは０から４の整数を表す。ｒが２以上のとき、複数のＲ7は同一であっても異なっていても良い。
【００４８】
Ｑ3及びＱ4は芳香環を形成する為に必要な原子団もしくは単なる結合手を表す。但しＱ3及びＱ4は同時に単なる結合手とはならない。Ｑ3及びＱ4で形成される芳香族環としては芳香族炭化水素環でも芳香族複素環でも良く、縮合環を有していても良く、例としては芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、テトラセン環、ペンタセン環等）、芳香族複素環（例えば、フラン環、チオフェン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、ピリジン環、ピロール環、ピリダジン環、ピラジン環、ナフチリジン環、キノリン環、アクリジン環、フェナジン環、キナゾリン環、フタラジン環、アンチリジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環等）等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ピリジン環であることが好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環であることがより好ましい。
【００４９】
以下に一般式（１）および一般式（２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５０】
【化６】
2006160940.tif 000007
【００５１】
【化７】
2006160940.tif 000008
【００５２】
【化８】
2006160940.tif 000009
【００５３】
【化９】
2006160940.tif 000010
【００５４】
【化１０】
2006160940.tif 000011
【００５５】
【化１１】
2006160940.tif 000012
【００５６】
【化１２】
2006160940.tif 000013
【００５７】
【化１３】
2006160940.tif 000014
【００５８】
【化１４】
2006160940.tif 000015
【００５９】
【化１５】
2006160940.tif 000016
【００６０】
【化１６】
2006160940.tif 000017
【００６１】
【化１７】
2006160940.tif 000018
【００６２】
【化１８】
2006160940.tif 000019
【００６３】
【化１９】
2006160940.tif 000020
【００６４】
【化２０】
2006160940.tif 000021
【００６５】
【化２１】
2006160940.tif 000022
【００６６】
【化２２】
2006160940.tif 000023
【００６７】
【化２３】
2006160940.tif 000024
【００６８】
【化２４】
2006160940.tif 000025
【００６９】
【化２５】
2006160940.tif 000026
【００７０】
【化２６】
2006160940.tif 000027
【００７１】
【化２７】
2006160940.tif 000028
【００７２】
【化２８】
2006160940.tif 000029
【００７３】
【化２９】
2006160940.tif 000030
【００７４】
【化３０】
2006160940.tif 000031
【００７５】
【化３１】
2006160940.tif 000032
【００７６】
【化３２】
2006160940.tif 000033
【００７７】
【化３３】
2006160940.tif 000034
【００７８】
【化３４】
2006160940.tif 000035
【００７９】
【化３５】
2006160940.tif 000036
【００８０】
【化３６】
2006160940.tif 000037
【００８１】
【化３７】
2006160940.tif 000038
【００８２】
【化３８】
2006160940.tif 000039
【００８３】
【化３９】
2006160940.tif 000040
【００８４】
【化４０】
2006160940.tif 000041
【００８５】
上記の例示化合物は例えば以下のような方法で合成出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００８６】
（合成例１）
例示化合物ＥＰＳ２の合成
【００８７】
【化４１】
2006160940.tif 000042
【００８８】
＜Ｍ−１の合成＞
Ｎ−ヒドロキシエチルフタルイミド１４．８ｇ（０．１ｍｏｌ）及び乾燥ジメチルアニリン１２．１ｇ（０．１ｍｏｌ）を乾燥ＴＨＦに溶かし、攪拌しながら４−メチル−３−シクロヘキセンカルボン酸クロライド１５．９ｇ（０．１ｍｏｌ）を滴下した。滴下後２時間還流した後、水を加えて、酢酸エチルで抽出した。抽出液を１０％硫酸水溶液で数回洗浄し、乾燥後、濾過濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって分離して、Ｍ−１、１６．３ｇ（０．０５２ｍｏｌ、収率５２％）を得た。
【００８９】
＜ＥＰＳ２の合成＞
Ｍ−１、１５．７ｇ（０．０５ｍｏｌ）に３５〜４０℃で、過酢酸含有率が２５質量％のアセトン溶液３８．５ｇ（過酢酸９．６ｇ（０．１２５ｍｏｌ））を４時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度でさらに４時間反応した。反応液は−１１℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の９８％が反応していることを確認した。
【００９０】
次いで、反応液をトルエン５０ｍｌで希釈し、減圧下で５０℃に加熱し留出物がなくなるまで低沸点成分を留去した。残った反応組成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって分離し、目的の例示化合物ＥＰＳ２、７．９ｇ（０．０２４ｍｏｌ、収率４８％）を得、元素分析により同定した。
【００９１】
（合成例２）
例示化合物ＯＸＳ−１の合成
【００９２】
【化４２】
2006160940.tif 000043
【００９３】
＜ＯＸＳ−１の合成＞
水素化ナトリウム４．８ｇ（０．２ｍｏｌ）に６０ｍｌのジメトキシエタンを加えた混合液に、上記の通り合成したＮ−ヒドロキシエチルフタルイミド１４．８ｇ（０．１ｍｏｌ）を４０ｍｌのジメトキシエタンに溶かした溶液を、５０℃で加えて３０分反応した後に、２−クロロメチル−２−エチルオキセタン２６．９ｇ（０．２ｍｏｌ）を４０ｍｌのジメトキシエタンに溶かした溶液を加え、さらに２時間反応した後、ゆっくりと水を加え反応を停止した。酢酸エチルで抽出後、水洗乾燥し、濾過濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって分離して、ＯＸＳ−１、１４．１ｇ（０．０４３ｍｏｌ、収率４３％）を得、元素分析によって同定した。
【００９４】
本発明において光酸発生剤としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる（有機エレクトロニックス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版（１９９３年）、１８７〜１９２ページ参照）。本発明に好適な化合物の例を以下に挙げる。
【００９５】
第１に、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどの芳香族オニウム化合物の、ＢＦ4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、ｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-塩、ＣＦ3ＳＯ3-塩などのスルホン酸塩を挙げることができる。対アニオンとしてボレート化合物をもつものおよびＰＦ6-塩が酸発生能力が高く好ましい。オニウム化合物の具体的な例を以下に示す。
【００９６】
【化４３】
2006160940.tif 000044
【００９７】
第２に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができる。具体的な化合物を以下に例示する。
【００９８】
【化４４】
2006160940.tif 000045
【００９９】
第３に、ハロゲン化水素を発生するハロゲン化物も用いることができる。以下に具体的な化合物を例示する。
【０１００】
【化４５】
2006160940.tif 000046
【０１０１】
第４に、鉄アレン錯体を挙げることができる。
【０１０２】
【化４６】
2006160940.tif 000047
【０１０３】
本発明で用いられる光酸発生剤としては、アリールスルホニウム塩誘導体（例えば、ユニオン・カーバイド社製のサイラキュアＵＶＩ−６９９０、サイラキュアＵＶＩ−６９７４、旭電化工業社製のアデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２）、アリルヨードニウム塩誘導体（例えば、ローディア社製のＲＰ−２０７４）、アレン−イオン錯体誘導体（例えば、チバガイギー社製のイルガキュア２６１）、ジアゾニウム塩誘導体、トリアジン系開始剤及びその他のハロゲン化物等の酸発生剤が挙げられる。これら光酸発生剤は、１種又は２種以上を選択して使用することができる。
【０１０４】
本発明で用いられる光酸発生剤として好ましいのは、前記一般式（ｂ）で表されるアリールスルホニウム塩化合物である。
【０１０５】
一般式（ｂ）において、Ｒb1からＲb3は置換基を表し、それぞれが同一でも異なる置換基でも良く、該置換基としては特に制限は受けないが、例としては、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、複素芳香族基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）等が挙げられ、これらのＲb1からＲb3で表される置換基はさらに置換基を有していても良く、Ｒb1からＲb3で表される置換基に置換可能な基の例としては、上述したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、複素環基の他に、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等）、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基等が挙げられ、これらの置換基は、上述した置換基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒb1からＲb3は各々任意に互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒb1からＲb3は好ましくは、アルキル基、芳香族炭化水素基であり、これらはさらに置換基を有していても良く、該置換基としては上述したＲb1からＲb3で表される置換基に置換可能な基の例を挙げることができる。
【０１０６】
Ｘbは対イオンを表し、該対アニオンとしては、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-などのハロゲンイオン、ＢＦ4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、ＧａＦ6-、などの錯イオン、ベンゼンスルホン酸イオン（例えばｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-、Ｃ6Ｈ5ＳＯ3-、）、アルキルスルホン酸イオン（例えばＣＨ3ＳＯ3-、Ｃ2Ｈ5ＳＯ3-）、フッ化アルキルスルホン酸イオン（例えばＣＦ3ＳＯ3-、Ｃ2Ｆ5ＳＯ3-、Ｃ9Ｆ19ＳＯ3-）、フッ化アルキルベンゼンスルホン酸イオン（例えばｐ−ＣＦ3−Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-、ｐ−ＣＦ3−Ｃ6Ｆ4ＳＯ3-）、フッ化ベンゼンスルホン酸イオン（例えばｐ−Ｆ−Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-、Ｃ6Ｆ5ＳＯ3-、）などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしては、ＰＦ6-、ＢＦ4-、ＳｂＦ6-、ＧａＦ6-、ＡｓＦ6-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、フッ化アルキルスルホン酸イオン（例えばＣＦ3ＳＯ3-、Ｃ2Ｆ5ＳＯ3-、Ｃ9Ｆ19ＳＯ3-）、がより好ましく、ＢＦ4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-およびＰＦ6-が最も好ましい。
【０１０７】
一般式（ｂ）で表される化合物は下記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩のいずれかであることが好ましい．
【０１０８】
【化４７】
2006160940.tif 000048
【０１０９】
上記一般式（Ｉ−１）中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13は置換基を表し、ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表す。Ｘ11-は対イオンを表す。
【０１１０】
【化４８】
2006160940.tif 000049
【０１１１】
上記一般式（Ｉ−２）中、Ｒ14は置換基を表し、ｑは０〜２の整数を表す。Ｒ15、Ｒ16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ12-は対イオンを表す。
【０１１２】
【化４９】
2006160940.tif 000050
【０１１３】
上記一般式（Ｉ−３）中、Ｒ17は置換基を表し、ｒは０〜３の整数を表す。Ｒ18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ19、Ｒ20は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ13-は対イオンを表す。
【０１１４】
更に、一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩について説明する。一般式（Ｉ−１）で、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。
【０１１５】
置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシル基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表しそれぞれが１以上であることが好ましい。Ｘ11-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-などの錯イオン、ｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-、ＣＦ3ＳＯ3-などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ6-が酸発生能力が高く好ましい。
【０１１６】
一般式（Ｉ−２）で、Ｒ14は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。ｑは０〜２の整数を表し１以上であることが好ましく、より好ましくは２である。
【０１１７】
またＲ15、Ｒ16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、水酸基等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基である。
【０１１８】
Ｒ15、Ｒ16として好ましくは、置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、水酸基である。
【０１１９】
Ｘ12-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-などの錯イオン、ｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-、ＣＦ3ＳＯ3-などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ6-が酸発生能力が高く好ましい。
【０１２０】
一般式（Ｉ−３）で、Ｒ17は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。ｒは０〜３の整数を表し１以上であることが好ましく、より好ましくは２である。
【０１２１】
Ｒ18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ19、Ｒ20は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。
【０１２２】
Ｒ18として好ましくは、水素原子または無置換の低級アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基）であり、Ｒ19、Ｒ20として、好ましくは置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。Ｘ13-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-などの錯イオン、ｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-、ＣＦ3ＳＯ3-などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ6-が酸発生能力が高く好ましい。
【０１２３】
以下に、一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２４】
【化５０】
2006160940.tif 000051
【０１２５】
【化５１】
2006160940.tif 000052
【０１２６】
【化５２】
2006160940.tif 000053
【０１２７】
【化５３】
2006160940.tif 000054
【０１２８】
【化５４】
2006160940.tif 000055
【０１２９】
さらに一般式（Ｉ−１）は下記一般式（Ｔ−１）で表されるスルホニウム塩であることがより好ましい。
【０１３０】
【化５５】
2006160940.tif 000056
【０１３１】
一般式（Ｔ−１）において、ＲT11、ＲT12はアルキル基もしくは芳香族基を表し、該アルキル基は直鎖でも分岐を有していても、環状になっていても良く、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等が挙げられ、該芳香族基としては、芳香族炭化水素環基でも芳香族複素環基でも良く、縮合環を有していても良く、例としては芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、等が挙げられる。上述したアルキル基もしくは芳香族基は、さらに置換基を有していていも良く、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していても良く、該置換基の例としては、上述したアルキル基の他に、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、複素芳香族基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等）等が挙げられ、これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。ＲT11、ＲT12で表される、アルキル基もしくは芳香族基は、さらに置換基を有していても、有していなくても良いが、好ましくは、無置換のアルキル基もしくは芳香族基であるかまたは、ハロゲン原子が置換したアルキル基もしくは、アルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは、無置換のアルキル基もしくは芳香族基であるかまたは、フッ素原子が置換したアルキル基、または、アルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としてはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げる事ができる。
【０１３２】
ＺT1は酸素原子または硫黄原子を表し、ＺT1はスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位もしくはパラ位に結合する事が好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。ＲT13、ＲT14は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、該アルキル基、芳香族基は上述したＲT11、ＲT12と同義の基を表し、該アルコキシ基、該アリールオキシ基としては、酸素原子に上述したＲT11、ＲT12と同義の基が一箇所結合した基であり、例としてはアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、等が挙げられ、該アルキルチオ基、該アリールチオ基としては、硫黄原子に上述したＲT11、ＲT12と同義の基が一箇所結合した基であり、例としては、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、等が挙げられる。上述した芳香族基、アリールオキシ基、アリールチオ基は、縮合環を有していても良い。上述したアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基はさらに置換基を有していていも良く、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していても良く、該置換基の例としては、上述したＲT11の置換基の例と同義の基を挙げることができ、これらの置換基は、さらに置換基によって置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。ＲT13、ＲT14で表される、アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基は、さらに置換基を有していても、有していなくても良いが、好ましくは、無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるかまたは、ハロゲン原子が置換したアルキル基もしくは、アルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは、無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるかまたは、フッ素原子が置換したアルキル基、または、アルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としてはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げる事ができる。
【０１３３】
ｍｔ１は０から４の整数を表し好ましく０から３であり、より好ましくは０から２であり、ｎｔ１およびｐｔ１は各々１から５の整数を表し、各々好ましくは１から３であり、より好ましくは各々１から２である。複数個のＲT12、ＲT13、ＲT14、は各々、同じでも異なっても良く、ＲT11とＲT12あるいは複数個のＲT12同士が結合して環を形成しても良く、ＲT12とＲT13あるいは複数個のＲT13同士が結合して環を形成しても良く、ＲT12とＲT14あるいは複数個のＲT14同士が結合して環を形成しても良く、ＲT12とＲT14が結合して環を形成しても良い。ＲT13の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位もしくはパラ位に結合する事が好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。ＲT14の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位もしくはパラ位に結合する事が好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。ＸT1は対アニオンを表し、該対アニオンとしては、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-などのハロゲンイオン、ＢＦ4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、ＧａＦ6-、などの錯イオン、ベンゼンスルホン酸イオン（例えばｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-、Ｃ6Ｈ5ＳＯ3-、）、アルキルスルホン酸イオン（例えばＣＨ3ＳＯ3-、Ｃ2Ｈ5ＳＯ3-）、フッ化アルキルスルホン酸イオン（例えばＣＦ3ＳＯ3-、Ｃ2Ｆ5ＳＯ3-、Ｃ9Ｆ19ＳＯ3-）、フッ化アルキルベンゼンスルホン酸イオン（例えばｐ−ＣＦ3−Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-、ｐ−ＣＦ3−Ｃ6Ｆ4ＳＯ3-）、フッ化ベンゼンスルホン酸イオン（例えばｐ−Ｆ−Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-、Ｃ6Ｆ5ＳＯ3-、）などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしては、ＰＦ6-、ＢＦ4-、ＳｂＦ6-、ＧａＦ6-、ＡｓＦ6-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、フッ化アルキルスルホン酸イオン（例えばＣＦ3ＳＯ3-、Ｃ2Ｆ5ＳＯ3-、Ｃ9Ｆ19ＳＯ3-）、がより好ましく、ＢＦ4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-およびＰＦ6-が最も好ましい。
【０１３４】
以下に一般式（Ｔ−１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３５】
【化５６】
2006160940.tif 000057
【０１３６】
【化５７】
2006160940.tif 000058
【０１３７】
【化５８】
2006160940.tif 000059
【０１３８】
【化５９】
2006160940.tif 000060
【０１３９】
【化６０】
2006160940.tif 000061
【０１４０】
【化６１】
2006160940.tif 000062
【０１４１】
本発明の光硬化性組成物は、さらに熱硬化特性を増進させる目的で、必要に応じてエポキシ樹脂や、アミン化合物などのエポキシ樹脂用硬化剤を配合することができる。上記エポキシ樹脂としては、代表的なものを挙げると、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、例えばビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとをアルカリ存在下に反応させて得られるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡとホルマリンを縮合反応した樹脂のエポキシ化物、ビスフェノールＡの代わりにブロム化ビスフェノールＡを用いたものや、ノボラック樹脂にエピクロルヒドリンを反応させてグリシジルエーテル化したノボラック型エポキシ樹脂、例えばフェノールノボラック型、オルソクレゾールノボラック型、ｐ−ｔ−ブチルフェノールノボラック型等のエポキシ樹脂、また、ビスフェノールＦやビスフェノールＳにエピクロルヒドリンを反応させて得られるビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂等がある。さらに、シクロヘキセンオキサイド基、トリシクロデセンオキサイド基、シクロペンテンオキサイド基等を有する環式脂肪族エポキシ樹脂；フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、ジグリシジル−ｐ−オキシ安息香酸、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル樹脂；テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイジン、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、ジグリシジルトリブロムアニリン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジルアミン系樹脂；ヒダントイン環をグリシジル化したヒダントイン型エポキシ樹脂；トリアジン環を有するトリグリシジルイソシアヌレート；ビキシレノール型又はビフェノール型のエポキシ樹脂；側鎖にグリシジル基を有する共重合体等があるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができ、その使用量は前記カチオン重合性イミド単量体１００質量部に対して１００質量部以下の割合が適当である。
【０１４２】
また、アミン化合物としては、ベンジルジメチルアミン、４−（ジメチルアミノ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４，４′，４″−トリアミノトリフェニルメタン、４，４′，４″−トリアミノトリフェニルエタン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニルスルホン、ｏ−，ｍ−，ｐ−フェニレンジアミン、三フッ化ホウ素−アミン・コンプレックス（錯体）、ジシアンジアミド及びその誘導体、有機酸ヒドラジッド、ジアミノマレオニトリル、メラミン及びその誘導体、アミンイミド、ポリアミンの塩等が挙げられる。また、イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、４−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体や、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン類などを用いることもできる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、上記エポキシ樹脂のエポキシ基１モルに対し一般に０．１〜１．１モルの範囲が適当である。
【０１４３】
さらに、本発明の光硬化性組成物には、所望の物性を得る為に、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、他の添加物を配合することができる。例えば、トルエン、エタノール、セルソルブ、テトラハイドロフラン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒、天然ワックス類、合成ワックス類および長鎖脂肪酸の金属塩類等の可塑剤、酸アミド類、エステル類、パラフィン類などの離型剤、ニトリルゴム、ブタジエンゴム等の応力緩和剤、塩素化パラフィン、ブロムトルエン、ヘキサブロモベンゼン、三酸化アンチモン等の難燃剤、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニュウム系カップリング剤等のカップリング剤、溶融シリカ、結晶性シリカ、低α線シリカ、ガラスフレーク、ガラスビーズ、ガラスバルーン、タルク、アルミナ、ケイ酸カルシウム、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、マグネシア、窒化ケイ素、窒化ホウ素、フェライト、希土コバルト、金、銀、ニッケル、銅、鉛、鉄粉、酸化鉄、砂鉄等の金属粉、黒鉛、カーボン、弁柄、黄鉛等の無機質充填剤または導電性粒子等、色材として例えば特開２００３−２３１７５２公報に記載の有機着色剤及び無機着色剤、炭素繊維、ガラス繊維、ボロン繊維、シリコンカーバイト繊維、アルミナ繊維、シリカアルミナ繊維などの無機系繊維、アラミド繊維、ポリエステル繊維、セルロース繊維、炭素繊維などの有機系繊維、酸化安定剤、耐湿性向上剤、チキソトロピー付与剤、希釈剤、消泡剤、他の各種の樹脂、粘着付与剤、帯電防止剤、滑剤、紫外線吸収剤等を配合することもできる。
【０１４４】
次に本発明を実施例によって詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【実施例】
【０１４５】
実施例１〜３５
光カチオン重合性イミド単量体及び重合開始剤として光酸発生剤を表１に示したような割合で混合して調製した光硬化性組成物を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド／アセトン（体積比１対１）の混合溶媒に２０質量％となるように溶解し、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム又はガラス板上に塗布して乾燥したものに、高圧水銀灯を用いて紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2として照射し、以下の評価方法に従って評価し、結果を表１、２に示した。
【０１４６】
比較例１〜４
ラジカル重合性基含有イミド単量体ＲＭ１またはＲＭ２、及び重合開始剤としてチバスペシャリティケミカルズ社製ＣＧＩ５５２またはチバガイギー社製イルガキュアー９０７を表１に示したような割合で混合して調製した光硬化性組成物を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド／アセトン（体積比１対１）の混合溶媒に２０質量％となるように溶解し、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム又はガラス板上に塗布して乾燥したものに、高圧水銀灯を用いて紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2として照射し、実施例１〜３５と同様な評価方法に従って評価し、結果を表２に示した。
【０１４７】
【化６２】
2006160940.tif 000063
【０１４８】
評価方法
硬化性
ＰＥＴフィルムに概ね膜厚１０μｍに塗布したものを対象とし、紫外線照射後、塗膜を触診して硬化性を判断した。その結果、全くタッキネスが認められなかったものを◎とし、紫外線照射直後に多少のタッキネスがあるものの数十秒後には完全に消失したものを○とし、一部に若干のタッキネスが認められたものを△とし、ほとんど硬化せずわずかにゲル化するのみであったものを×とした。◎および○が実用上問題ない硬化性である。
【０１４９】
硬化収縮
ＰＥＴフィルムに概ね膜厚１０μｍに塗布したものを対象とし、紫外線照射後、目視にて硬化収縮の程度を判断した。その結果、フィルムが全くカールしなかったものを◎とし、一部にわずかにカールが認められたものを○とし、全体に若干のカールが認められたものを△とし、全体が大きくカールしたものを×とした。◎および○が実用上問題ない硬化収縮性である。
【０１５０】
基材密着性
ＰＥＴフィルムに概ね膜厚１０μｍに塗布したものを対象とし、紫外線照射後、硬化膜に幅２５ｍｍのセロテープ（登録商標）を貼り付けて強く圧着した後、９０度の剥離角度で素早く剥離し、剥離後の硬化膜の状態を目視観察し、以下の基準に則り基材密着性を評価した。全く硬化膜が剥離しなかったものを◎とし、剥離はしないが硬化膜の縁にわずかに隙間が生じたものを○とし、硬化膜の一部が剥離したものを△とし、硬化膜の大部分が剥離したものを×とした。◎および○が実用上問題ない基材密着性である。
【０１５１】
着色
ガラス板に概ね膜厚１５μｍに塗布したものを対象とし、紫外線照射後、遮光下７０℃で１週間保存し、硬化膜の着色の程度を目視観察した。その結果、全く着色が認められなかったものを◎とし、一部にわずかな着色が認められたものを○とし、全体に若干の着色が認められたものを△とし、全体に濃く着色したものを×とした。◎および○が実用上問題ない着色の程度である。
【０１５２】
【表１】
2006160940.tif 000064
【０１５３】
【表２】
2006160940.tif 000065
【０１５４】
表から明らかなように、本発明の光硬化性組成物は、極めて高い光硬化性を有しながら、光硬化時の塗膜の収縮が極めて少なく、寸法安定性および基材との密着性が大幅に改善され、且つ溶媒への溶解性や成形性、取扱い性に優れ、加えて硬化物の透明性の高い、重合性イミド単量体を含む光硬化性組成物であることがわかる。