(57)【要約】【課題】優れた耐ペン摺動性、耐候性、表面硬度を有するタッチパネル用プラスチック基板及びそれを用いたタッチパネルを提供する。【解決手段】熱可塑性樹脂フィルムをベースフィルムとし、少なくともその片面にハードコート層を有し、ハードコート層積層フィルムのハードコート層のＪＩＳ  Ｋ  ５４００に定める１Ｋｇ荷重での鉛筆硬度が２Ｈ以上、ハードコート層積層フィルムのＪＩＳ  K  ７３５０−４に定める１０００時間の暴露試験後の４００ｎｍにおける光線透過率が７０％以上であり、その上に透明導電層を形成した際の透明導電層の耐ペン摺動性（荷重：２．２Ｎ）１０万回試験前後の抵抗値変化比（Ｒ/Ｒ０）が１．５以下であることを特徴とするタッチパネル用プラスチック基板、及びそれを用いたタッチパネル。【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂フィルムをベースフィルムとし、少なくともその片面にハードコート層を有し、ハードコート層積層フィルムのハードコート層のＪＩＳ  Ｋ  ５４００に定める１Ｋｇ荷重での鉛筆硬度が２Ｈ以上、かつハードコート層積層フィルムのＪＩＳ  K  ７３５０−４に定める１０００時間の暴露試験後の４００ｎｍにおける光線透過率が７０％以上であり、ハードコート層積層フィルムのハードコート層上に透明導電層を形成した際の透明導電層の耐ペン摺動性（荷重：２．２Ｎ）１０万回試験前後の抵抗値変化比（Ｒ/Ｒ０）が１．５以下であることを特徴とするタッチパネル用プラスチック基板。
【請求項２】
前記熱可塑性樹脂がポリエーテルサルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂であることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル用プラスチック基板。
【請求項３】
前記ハードコート層を形成するハードコート剤が、アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤、紫外線吸収剤を含有する請求項１または２記載のタッチパネル用プラスチック基板。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか記載のタッチパネル用プラスチック基板を用いたタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れた耐ペン摺動性、耐候性、表面硬度を有するタッチパネル用プラスチック基板及びそれを用いたタッチパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明タッチパネルは２枚の透明電極層の電極面同士を相対するように配置された構造を有し、その電極間の空間部には誤動作を防ぐ為に少なくとも一方の電極層上に、１０μｍ以下の非導電性のスペーサーにより、一定保持されている。例えば、アナログ式タッチパネルの場合、タッチペン又は指の押し圧により電極面同士が接触して導通し、位置検出をする構造をとる。
【０００３】
透明タッチパネルの構造は、一般的には上部電極／下部電極としてプラスチック基板／ガラス基板、ガラス基板／ガラス基板の構成がほとんどである。上部電極のほとんどはポリエチレンテレフタレート樹脂などのプラスチック基板を用いて作製されており、上部電極にガラス基板を用いる場合にはかなり薄い基板が必要になる。ガラス基板はサイズの大型化が難しく、軽量化、薄型化、破損防止、更にはロール・ツー・ロール方式による高生産性などのメリットから上部電極、下部電極ともにガラス基板からプラスチック基板への置き換えは徐々に進んでいる。
【０００４】
プラスチック基板を用いた透明タッチパネルには、熱可塑性樹脂が好ましく用いられているが、一般に熱可塑性樹脂からなるプラスチック基板は、前記用途での電極パターニング工程、接着工程等で使用される極性溶媒等への耐性が不十分となる場合が多い。また、優れた耐ペン摺動性を得るためには、プラスチック基板の鉛筆硬度が２Ｈ以上が要求され、適当なハードコート層をプラスチック基板の片面もしくは両面に積層する必要がある。
【０００５】
また、熱可塑性樹脂の中にはその化学構造によっては耐候性が劣るものがあり、野外で使用する場合には、長時間の紫外線照射により、プラスチック基板自体やハードコート層が光化学反応により劣化や黄変を生じて実用上問題となり、耐候性の向上も求められている。
【０００６】
このような問題を解決する方法としては、従来よりアクリル系、メラミン系、ウレタン系、あるいはシリコン系といった樹脂、モノマーあるいはオリゴマーに紫外線吸収剤を含有するハードコート剤をプラスチックフィルムに塗布し、加熱により硬化させハードコート層を積層する方法が提案されているが、生産性が低い、表面硬度に劣る、ハードコート剤のポットライフが短いと言った問題があった。従って近年では、生産性が優れた紫外線硬化型のハードコート剤の検討が多く行われている。
【０００７】
しかしながら、プラスチック基板の耐候性向上の為には紫外線をハードコート層でカットする必要が有る為、紫外線硬化を阻害する紫外線吸収剤を添加したハードコート層を紫外線により硬化させなければならないという相反する課題があった。
【０００８】
そこで、プラスチック基板への表面硬度と耐候性を付与出来る紫外線硬化型のハードコート剤の検討が行われ、多官能のウレタンアクリレート、多官能アクリレート、１分子中に１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有し、かつ分子中にヒドロキシル基、環状エーテル結合および鎖状エーテル結合の少なくとも1種を有するアクリレート、コロイダルシリカ、紫外線吸収剤、光開始剤および溶剤の混合物を用いる方法が提案されている。（特許文献１参照）
しかしながら、このハードコート剤は硬化に１０００ｍＪ／ｃｍ2もの紫外線照射が必要な為、プラスチック基板の透明性を損ない、さらにシリカ粒子を含有する為にペン入力時に透明導電性薄膜にクラック、剥離などの破壊が生じてしまうという問題があった。
【０００９】
【特許文献１】特開平９−１５７３１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、上記の様な透明性の低下や耐ペン摺動性の低下という問題点に鑑み、３官能以上のアクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤、紫外線吸収剤、希釈溶剤の混合物をハードコート層として用いることにより、シリカ粒子を用いること無く、優れた耐ペン摺動性、耐候性、及び表面硬度を有するタッチパネル基板及びそれを用いたタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
すなわち本発明は、
（１）熱可塑性樹脂フィルムをベースフィルムとし、少なくともその片面にハードコート層を有し、ハードコート層積層フィルムのハードコート層のＪＩＳ  Ｋ  ５４００に定める１Ｋｇ荷重での鉛筆硬度が２Ｈ以上、かつハードコート層積層フィルムのＪＩＳ  K  ７３５０−４に定める１０００時間の暴露試験後の４００ｎｍにおける光線透過率が７０％以上であり、ハードコート層積層フィルムのハードコート層の上に透明導電層を形成した際の透明導電層の耐ペン摺動性（荷重：２．２Ｎ）１０万回試験前後の抵抗値変化比（Ｒ/Ｒ０）が１．５以下であることを特徴とするタッチパネル用プラスチック基板、
（２）前記熱可塑性樹脂がポリエーテルサルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂である（１）項記載のタッチパネル用プラスチック基板、
（３）前記ハードコート層を形成するハードコート剤が、アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤、紫外線吸収剤を含有する（１）または（２）項記載のタッチパネル用プラスチック基板、
（４）（１）〜（３）項のいずれか記載のタッチパネル用プラスチック基板を用いたタッチパネル、
である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に従うと、タッチパネル用プラスチック基板の表面硬度、耐候性、及び耐ペン摺動性を改善することが出来、さらに紫外線硬化性樹脂からなるハードコート層を用いている為、生産性に優れ、透明性への影響度合いも少なく、品質面で向上したハードコート層積層フィルムからなるタッチパネル用プラスチック基板を得ることが出来る。  
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明のタッチパネル用プラスチック基板は、熱可塑性樹脂からなるベースフィルムの少なくとも片面にハードコート層を積層し、さらにその上に透明導電層を積層したものである。前記タッチパネル用プラスチック基板の構成は本発明の効果を損なわない範囲で、ベースフィルムの片面又は両面に目的に応じて各種構成層を設けても良い。各種構成層としては例えば、ガスバリア性の向上、透明導電層と透明プラスチックとの密着性などを向上させるには金属酸化物層を積層することも出来る。
【００１４】
本発明のタッチパネル用プラスチック基板は、紫外線吸収剤を有するハードコート層を積層することにより、そのハードコート層積層フィルムはＪＩＳ  K  ７３５０−４に定める１０００時間の暴露試験後も、４００nmにおいて７０％以上の光線透過率を有することを特徴としている。該波長での光線透過率が７０％未満であると、タッチパネル用プラスチック基板が黄色に着色し、透明度が下がり視認性が低下するという問題が出る。
【００１５】
本発明のタッチパネル用プラスチック基板は、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に定める１Ｋｇ荷重での鉛筆硬度が２Ｈ以上のハードコート層を積層することにより、その上に透明導電層を形成した際の透明導電層の耐ペン摺動性（荷重：２．２Ｎ）１０万回試験試験前の抵抗値Ｒ０、試験後の抵抗値Ｒの比（Ｒ／Ｒ０）が１．５以下であることを特徴としている。耐ペン摺動性試験前の抵抗値の変化比（Ｒ/Ｒ０）が１．５を超えると、正確な位置の検出が難しくなるという問題が発生し、実使用に耐えうるものではない。
【００１６】
本発明に使用するベースフィルムの樹脂は熱可塑性樹脂であり、例えばポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等があげられる。また、これらのフィルムは滑剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、顔料、染料、無機質充填剤などを適宜ブレンドしても良い。また、高度の耐ペン摺動性が要求される用途では、透明導電層が結晶化しやすい１５０℃以上のガラス転移温度を有していることが好ましく、タッチパネル製造上、耐熱性、透明性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエーテルスルホン樹脂が特に好ましい。
【００１７】
本発明に使用するベースフィルムの厚みは、特に限定はしないが、好ましくは５０〜５００μｍであり、より好ましくは１００〜４００μｍである。
【００１８】
本発明に用いられるハードコート剤の主成分のアクリレートとしては、特に限定はしないが、透明導電層積層時の温度に耐え、透明性を維持できる樹脂が好ましく、その硬化物のガラス転位温度が１５０℃以上であることが好ましい。さらに硬化後の機械特性及び透明性、耐薬品性、耐熱性はもちろんのこと、塗布加工時の低粘度化等の諸物性を考慮した場合、具体的には３次元架橋の期待出来る３官能以上のアクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマーを架橋して成る紫外線硬化性樹脂が好ましい。３官能以上のアクリレートとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステルアクリレート等が好ましいが、特に好ましいのは、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレートおよびポリエステルアクリレートである。これらは単独で用いても良いし、２種以上併用しても構わない。また、これら３官能以上のアクリレートの他にエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、等のいわゆるアクリル系樹脂を併用することが可能である。これらの樹脂は、いずれのコート方法用いても工業的な製造を考慮すると５分以内で硬化できるものが望ましい。
【００１９】
紫外線吸収剤の例としては、特に限定せず、ヒンダ−ドアミン系のような高分子用光安定剤も含まれる。本発明のハードコート層の主成分のアクリレートに対する良好な溶解性及びプラスチック基板の耐候性改善と言う点から、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、安息香酸フェニル系、シアノアクリレート系の誘導化合物であり、その最大吸収波長が２５０〜４００ｎｍの範囲にあるものが好ましい。
【００２０】
本発明で用いる紫外線吸収剤の具体例としては、２−ヒドロキシベンゾフェノン、５−クロロー２―ヒドロキシベンゾフェノン、２,４−ジヒドロキシベンゾエノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−iso−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルフォベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−4−アクリロキシベンゾフェノン、２,２’,４,４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−ドデシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシー４−オクタデシルオキシベンゾフェノン、２−２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−２’−ジヒドロキシ−４,４’ジメトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’− tert−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’ ,５’−ジ−tert−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’ ,５’−ジ−tert−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２‘−ヒドロキシ−３’ ,５’−ジ−tert−ブチルフェニル）−５−ベンゾトリアゾール、２−｛２’−ヒドロキシ−３’ ,５’−ジ（１，１−ジメチルベンジル）フェニル｝−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４,6−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−｛５−クロロ（２H）−ベンゾトリアゾール−２−イル｝−４−メチル−６−（tert−ブチル）フェノール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、フェニルサリシレート、p−tert−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は単独で使用しても良いし、２種以上併用しても構わない。
【００２１】
前記紫外線吸収剤の添加量は、主成分のアクリレート１００重量部に対して０．５〜１０重量部であることが好ましく、１〜５重量部がより好ましい。添加量が下限値未満の場合、ハードコート層積層フィルムの耐候性が低下し、また上限値を超えた場合はハードコート層の硬化が十分に行われず、表面硬度及びベースフィルムとハードコート層との十分な密着性が得られなくなる。
【００２２】
本発明で用いる光重合開始剤は特に限定しない。具体例として、２,４,６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシサイド、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられる。これらの光重合開始剤は単独で使用しても良いし、２種以上併用しても構わない。
【００２３】
前記、光重合開始剤の添加量は主成分のアクリレートに対して０．１〜５重量部であり好ましくは０．５〜３重量部である。下限値未満ではハードコート層の硬化が不十分となり好ましくない。また、上限値を超える場合は、ハードコート層の黄変を生じたり、耐候性が低下するため好ましくない。
【００２４】
溶剤については、前記の主成分のアクリレートを溶解するものであれば特に限定しない。具体的には、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、等が挙げられる。これらの溶剤は１種を単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００２５】
前記溶剤の添加量は前記のアクリレート成分、紫外線吸収剤、光重合開始剤の混合物１００重量部に対し、３０〜４００重量部である。下限値未満ではハードコート層を均一に積層することが出来ず好ましくない。また、上限値以上であるとハードコート層の膜厚が薄くなり表面硬度が低下するために好ましくない。
【００２６】
本発明のハードコート剤の塗布量は、硬化被膜の膜厚が１〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。膜厚が下限値未満になると十分な表面硬度が得られず、上限値以上になると、硬化が不十分になる、硬化被膜にクラックが入る、外観や透明性が悪くなるため好ましくない。
【００２７】
本発明のハードコート層は、グラビアコート法、キスコート法等の公知の方法を用いて塗布することが出来る。
【００２８】
本発明のハードコート層を硬化させるための紫外線照射に関しては、必要な波長の光を選択的に照射してもよい。具体的には、照射部に選択透過フィルターをもうけるか、フィルムの塗膜が形成される側とは反対面から照射する方法などが挙げられる。また大気中の酸素によってハードコート剤の硬化反応を阻害させる場合には、窒素など不活性ガス雰囲気下で照射を行っても良い。紫外線照射量は、３６５ｎｍまたは２５４ｎｍの波長か、ある波長を選択的に照射する場合は、紫外線領域で最大照射量となる波長域での照射量を、紫外線照度計によって測定するとよい。
【００２９】
本発明のハードコート層積層フィルムに透明導電層を積層させる方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＤＶ法等が挙げられるが特に限定はしない。
【実施例】
【００３０】
以下、実施例を上げて本発明を更に詳細に説明するが、これらは単なる例示であり、本発明はこれらの実施例に何ら限定されることはない。
【００３１】
＜実施例１＞
溶融押出し法にて成形された、厚さ２００μｍのポリエーテルスルホンフィルムをベースフィルムとして用いた。このベースフィルムに、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、高圧水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を行った。ハードコート剤として、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート１００重量部、紫外線吸収剤として、２−(２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル)−ベンンゾトリアゾール１重量部、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン０．５重量部、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケート０．５重量部、光重合開始剤として２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン２重量部、酢酸ブチル２００重量部の混合液を用いた。この混合液をグラビアコート法により塗布し、１２０℃で５分間加熱して溶媒を除去後、高圧水銀灯を用いて紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ2照射し、厚さ１０μｍのハードコート層を形成した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表１に示す。次にハードコート層上にＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０‐４Ｐａに引き、酸素／アルゴンガス４％の混合ガスを導入し、１×１０‐１Ｐａの条件下において成膜し、Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８であるＩｎ２Ｏ５、ＳｎＯ２からなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗（Ｒo）は３００Ω／□であり、膜厚は３０Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表１に記す。
【００３２】
＜実施例２＞
ハードコート剤として、トリメチロールプロパントリアクリレート８０重量部、ポリエステルアクリレート２０重量部、光重合開始剤として２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン２重量部、紫外線吸収剤として、２−（２’−ヒドロキシ−５’− tert−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール1.5重量部、２−ヒドロキシベンゾフェノン１重量部、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケート０．５重量部、酢酸ブチル２００重量部の混合液を用いた以外は実施例１と同様にしてハードコート層を積層した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表１に示す。次にハードコート層上に実施例１と同様の方法でＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８であるＩｎ２Ｏ５、ＳｎＯ２からなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗（Ｒo）は３００Ω／□であり、膜厚は３０Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表１に記す。
【００３３】
＜実施例３＞
ベースフィルムとして、溶融押出し法にて成形された厚さ２００μｍのポリカーボネートフィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にしてハードコート層を積層した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表１に示す。次にハードコート層上に実施例１と同様の方法で、Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８であるＩｎ２Ｏ５、ＳｎＯ２からなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗（Ｒo）は３１０Ω／□であり、膜厚は３０Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表１に記す。
【００３４】
＜比較例１＞
ハードコート剤として、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート１００重量部、光重合開始剤として２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン２重量部、酢酸ブチル２００重量部の混合液を用いた以外は実施例１と同様にしてハードコート層を積層した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表１に示す。次にハードコート層上に実施例１と同様の方法でＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８であるＩｎ２Ｏ５、ＳｎＯ２からなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗（Ro）は３００Ω／□であり、膜厚は３０Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表１に記す。
【００３５】
＜比較例２＞
ハードコート剤として、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート１００重量部、光重合開始剤として２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン２重量部、紫外線吸収剤として、２−(２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル)−ベンンゾトリアゾール１重量部、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン０．５重量部、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケート０．５重量部、粒子径８０ｎｍのシリカ粒子１０重量部、酢酸ブチル２００重量部の混合液を用いた以外は実施例１と同様にして、ハードコート層を積層した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表１に示す。次にハードコート層上に実施例１と同様の方法でＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８であるＩｎ２Ｏ５、ＳｎＯ２からなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗（Ｒｏ）は３０５Ω／□であり、膜厚は３０Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表１に記す。
【００３６】
＜比較例３＞
ハードコート剤として、２−エチルへキシルアクリレート１００重量部、光重合開始剤として２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン２重量部、紫外線吸収剤として、２−(２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル)−ベンンゾトリアゾール１重量部、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン０．５重量部、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケート０．５重量部、酢酸ブチル２００重量部の混合液を用いた以外は実施例１と同様にして、ハードコート層を積層した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表１に示す。次にハードコート層上に実施例１と同様の方法でＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８であるＩｎ２Ｏ５、ＳｎＯ２からなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗（Ｒｏ）は３０５Ω／□であり、膜厚は３０Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表１に記す。
【００３７】
評価の方法及び基準は、下記の（ａ）〜（ｅ）に記載した。
(ａ)  外観については、ハードコート層積層後の熱可塑性樹脂フィルム表面を目視で確認した。
白化、塗布ハジキが見られるものについて不良と判断した。
(ｂ)  ハードコート層とベースフィルムとの密着性については、ＪＩＳ―K５４００に従い
碁盤目剥離試験で評価した。試験結果は、１００個の碁盤目中の剥離しないで残存した目の数を％で示す。
残存した目の割合が９５％未満の場合、不良と判断した。
(ｃ)  ハードコート層の表面硬度は、ＪＩＳ‐K５４００に定める方法で１ｋｇ荷重にて評価した。試験は５回行った後、表面のキズを目視で確認した。
キズが３本以上入っていた場合について不良と判断した。
(ｄ)  ハードコート層積層フィルムの耐候性は、ＪＩＳ−K７３５０−４に定める方法を用いて試験した。試験条件はブラックパネル温度６３℃、照射強度５００Ｗで１０００時間の促進暴露試験を行い、暴露最終サンプルについてハードコート層とベースフィルムとの密着性をＪＩＳ−Ｋ５４００に定める方法で評価した。また、ハードコート層積層フィルムの４００ｎｍにおける光線透過率をＪＩＳ−Ｋ７３６１に定める方法で評価した。
促進暴露試験後の４００ｎｍにおける光線透過率が７０％以下の場合、不良と判断した。
(ｅ)  耐ペン摺動性については、作製したプラスチック基板をペンプロッタＦＰ８３００（グラフテック社製）を使用し、この基板の上面を先端が０．８ｍｍのポリアセタール製のペンで荷重２．２Ｎ、直線状に１０万回摺動後、摺動した線を横切る範囲で抵抗変化をＪＩＳ  Ｋ７１９４に定める方法により評価した。
１．５以下を良とした。
【００３８】
【表１】
2006190189.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明に従うと、タッチパネル用プラスチック基板の表面硬度、耐候性、及び耐ペン摺動性を改善することが出来、さらに紫外線硬化性樹脂からなるハードコート層を用いている為、生産性に優れ、透明性への影響度合いも少なく、品質面で向上したハードコート層積層フィルムからなるタッチパネル用プラスチック基板を得ることが出来る。