(57)【要約】【課題】従来の水フィルタを使用する露光装置では、大量の気体を水槽に貯留した水の中を通すために多量の気泡が発生し、充分な気体流量が得にくく、また、水槽中の水を入れ替えるためには、大型の設備が必要になり、さらに周りの湿度の上昇も大きくなる。【解決手段】照明光学系２、レチクル３、投影レンズ４およびステージ５を備えた露光装置本体６を収納するチャンバ１と、前記チャンバ内に設けられ、前記チャンバ１外から取り込んだ気体を前記レチクル３およびステージ５付近に供給する気体供給手段７、１３、１７、１８と、前記気体供給手段７、１３、１７、１８への気体取込口８付近に設けられ、気体が透過する水膜が形成される湿式フィルタ１０と、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光学系、レチクル、投影レンズおよびステージを備えた露光装置本体を収納するチャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、前記チャンバ外から取り込んだ気体を前記レチクルおよびステージ付近に供給する第１の気体供給手段と、
前記第１の気体供給手段の上流側に設けられ、フィルタ本体を水により湿潤させる湿式フィルタと、を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
照明光学系、レチクル、投影レンズおよびステージを備えた露光装置本体を収納するチャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、前記チャンバ外から取り込んだ気体を前記レチクルおよびステージ付近に供給する第１の気体供給手段と、
前記第１の気体供給手段の上流側に設けられ、気体が透過する水膜が形成される湿式フィルタと、を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項３】
前記湿式フィルタは、管状の噴射ノズルの噴出孔から水を噴射させて気体が透過する水膜を形成するものであることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記湿式フィルタは、超音波振動子により水からミストを発生させ、このミストを噴射させて気体が透過する水膜を形成するものであることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記チャンバとは独立したレチクルストッカ室と、
前記レチクルストッカ室内に設けられ、室外から取り込んだ気体をレチクルストッカに供給する第２の気体供給手段と、
前記第２の気体供給手段の上流側に設けられた前記湿式フィルタと、を備えたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】
前記湿式フィルタは、前記フィルタ本体がハニカム構造体であり、前記フィルタ本体の上部に設けられた水噴射手段から噴出される水を前記フィルタ本体に供給するものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の露光装置。
【請求項７】
前記フィルタ本体は、複数の前記ハニカム構造体を斜行させて突き合わせて構成されたものであることを特徴とする請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
前記湿式フィルタは、前記フィルタ本体が多孔質セラミックからなり、前記フィルタ本体の上部に設けられた水噴射手段から噴出される水を前記フィルタ本体に供給するものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の露光装置。
【請求項９】
前記湿式フィルタは、前記フィルタ本体が無機繊維からなり、前記フィルタ本体の上部に設けられた水噴射手段から噴出される水を前記フィルタ本体に供給するものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１０】
前記気体供給手段の気体流路中に、前記湿式フィルタとともに除塵フィルタが設けられていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１１】
前記除塵フィルタは、酸性ガス除去用のケミカルフィルタ、アルカリ性ガス除去フィルタ、有機ガス除去フィルタ、酸化チタン、またはＴｉ-Ｖ系薄膜を利用した光触媒フィルタから選択された一または複数のフィルタからなることを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記湿式フィルタの下流に、気体の温度湿度を調整する温度湿度調整装置が配置されていることを特徴とする請求項１０または１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
除塵フィルタ、送風機、前記湿式フィルタおよび前記温度湿度調整装置をこの順序で配置してフィルタユニットを構成し、前記フィルタユニットを前記チャンバまたはレチクルストッカ室に連結したことを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子等を製造する際のリソグラフィ工程で使用される露光装置に関し、特に、レチクルや光学素子の曇り防止手段を備えた露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、露光用室内に配される被露光体に、露光用室内の気体が露光光により照射されることにより発生する不所望成分が侵入するのを回避するため、水槽に貯留した水を通して浄化した気体を被露光体の表面に流すようにした露光装置がある（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２０００−５８４３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
半導体製造プロセスの最小工寸法の微細化により、リソグラフィに使用される露光波長は、３６５ｎｍ（高圧水銀ランプ）から，２４８ｎｍ（KｒFエキシマレーザ），１９３ｎｍ（AｒFエキシマレーザ） １５７ｎｍ（F２エキシマレーザ）、１３ｎｍ（ＥＵＶ光源）等、短波長化が進んでいる。
【０００４】
水銀ランプを光源にしたｇ線（４３５ｎｍ）やｉ線（３６５ｎｍ）リソグラフィでは、レチクルのくもりや光学系の汚染は、比較的程度が低い。しかし、現在主に使用されているKｒFリソグラフィでは、レーザーパルス数の増加（つまり積算露光量の増加）にともない、レンズ、ミラー等の光学系やレチクルの汚れが顕著になってきている。AｒFリソグラフィに至っては、定期的にレンズの清掃をしたり、レチクルのクリーニングをしたりしなければならないほど、露光装置内の汚れは顕著である。
【０００５】
その原因を追求するべく、レジスト材料との因果関係、レチクル・レンズ周りの気体のクリーン度との因果関係、レチクルケースのクリーン度との因果関係などの可能性が取り上げられているが、決め手になる原因は現在のところ判明していない。
【０００６】
さまざまな環境分析、析出物の分析の分析がなされ、今のところ析出物の主成分は、硫酸アンモニウムや亜硫酸アンモニウムであることが分かってきている（ＢＵＣＵＳ２００２、 特開平１１−１１１５９３号公報参照）。この結果を踏まえ、硫酸の発生源を探すこ試みがなされているが、今のところ不確定である。
【０００７】
本発明者らは、種々の試験の結果、短波長化によるこれらの光学系の汚染（つまり、レーザーが通過した部分での汚染）の原因は以下の通りであることを見出した。
【０００８】
すなわち、光化学スモッグが発生する原理と同様に、気体中の硫化酸化物ＳＯｘが短波長の紫外線により活性化され、気体中の水と反応し、硫酸や亜硫酸が発生するという原理である。これを化学反応式で表すと、
【化１】
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【０００９】
同様のことは、窒素酸化物でもおこる。これを化学反応式    で表すと、
【化２】
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【００１０】
クリーンルーム中のガスにもＳＯｘはある程度含まれていると考えられ、これらは、現在導入されている露光装置の雰囲気ガスのクリーン化フィルタ（酸アルカリフィルタ、有機物フィルタ、有機酸フィルタ）では取り除くことが難しい。効率的にＳＯｘを取り除かなければ、露光装置内の紫外線の通過経路で酸が発生してしまう現象を抑えることはできないと考えられる。
【００１１】
このように発生した硫酸（Ｈ2ＳＯ4）や硝酸（ＨＮＯ3）は、光学系、レチクルあるいはペリクル上で堆積あるいは吸着する。それが気体中に存在するアミンと中和反応すると塩ができる。これを化学反応式で表すと、
【化３】
2006196632.tif 000005
【化４】
2006196632.tif 000006
【００１２】
紫外線が通過し、酸が発生したところで塩が生成すると、生成した塩は結晶性のため、光の散乱・反射が起こる。これにより光学系・レチクルの透過率が低下し、半導体量産中に、レジストの露光感度が日々変化することになり、また、露光装置内で光散乱が起こるため、フレアの発生源にもなる。このことは、レジストへ届くパターンの光コントラストを低下させることになり、レジストの形状も悪化させる。
【００１３】
アンモニアは塩基フィルタで取り除くことができるので、このようなフィルタにより塩の生成を防ぐことができるのではないかとも考えられる。しかし、たとえば露光中に酸で覆われたレチクルを露光装置の外に出せば、そこで気体中のアミンと反応して塩の析出が起こる。つまり、酸の生成を事前に抑えることが、光学系とレチクルの曇りを低減する上で最も効果的である。
【００１４】
従来は、紫外光によって活性化された基板表面で、微小な残留物を核にして気体中に浮遊していた物質により、欠陥が成長するというモデルが提言されている。しかしながら、本発明者らの実験によれば、露光中に光が通過した経路に沿って気体中で酸が生成し、この酸が光学系やレチクルへ吸着し、堆積する。そして、この酸が塩になる反応（化３、化４）は、光の照射で活性化した基板表面上で起こるというよりも、露光中、露光後にかかわらず、紫外光通過経路中で自然におこる中和反応によると考えられる。
【００１５】
本発明者らは、これらの問題を解決するために、これらの酸の発生原因になっているＳＯxあるいはＮＯxを紫外光通過経路中で低減することが有効であることを見出した。
【００１６】
従来用いられているケミカルフィルタだけでは、ＳＯx あるいはNOｘの除去効果は十分ではなく、かつ、長期のフィルタ使用で破過が起こりやすい。また、特許文献１に開示されているような水フィルタは、大量の気体を水槽に貯留した水の中を通すため、多量の気泡が発生し、この気泡による気体損失のため、充分の気体流量が得にくい。また、水の純度を保つためには水を循環させる必要があるが、水槽中の水を入れ替えるため、多量の水を必要とし、必然的に設備が大型化するとともに、周りの湿度も過大に上昇することがあった。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
第１の発明によれば、
照明光学系、レチクル、投影レンズおよびステージを備えた露光装置本体を収納するチャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、前記チャンバ外から取り込んだ気体を前記レチクルおよびステージ付近に供給する第１の気体供給手段と、
前記第１の気体供給手段の上流側に設けられ、フィルタ本体を水により湿潤させる湿式フィルタと、を備えたことを特徴とする露光装置が提供される。
第２の発明によれば、
照明光学系、レチクル、投影レンズおよびステージを備えた露光装置本体を収納するチャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、前記チャンバ外から取り込んだ気体を前記レチクルおよびステージ付近に供給する第１の気体供給手段と、
前記第１の気体供給手段の上流側に設けられ、気体が透過する水膜が形成される湿式フィルタと、を備えたことを特徴とする露光装置が提供される。
【００１８】
第１の発明の露光装置においては、気体流路に形成された湿潤されたフィルタ本体からなる湿式フィルタを通して露光装置のチャンバ内に気体を取り込むことにより、湿式フィルタを通過する間に湿潤水分により酸化物が除去され、外部から露光装置本体内へ酸化物が混入することが防止され、レンズおよびレチクルの汚染を低減させ、これらの曇り、欠陥の発生頻度を低減することができ、したがって、レチクルの洗浄やレンズのふき取り洗浄の頻度を低減することができる。
第２の発明の露光装置においては、気体流路に形成された水膜を有する湿式フィルタを通して露光装置のチャンバ内に気体を取り込むことにより、水膜を通過する間に酸化物が除去され、外部から露光装置本体内へ酸化物が混入することが防止され、レンズおよびレチクルの汚染を低減させ、これらの曇り、欠陥の発生頻度を低減することができ、したがって、レチクルの洗浄やレンズのふき取り洗浄の頻度を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。
【００２０】
第１の発明の実施形態による露光装置は、
照明光学系２、レチクル３、投影レンズ４およびステージ５を備えた露光装置本体６を収納するチャンバ１と、
前記チャンバ１内に設けられ、前記チャンバ１外から取り込んだ気体を前記レチクル３およびステージ５付近に供給する第１の気体供給手段７、１３、１７，１８と、
前記第１の気体供給手段の上流側に設けられ、フィルタ本体２０を水により湿潤させる湿式フィルタ１０と、を備える。
第２の発明の実施形態による露光装置は、
照明光学系２、レチクル３、投影レンズ４およびステージ５を備えた露光装置本体６を収納するチャンバ１と、
前記チャンバ１内に設けられ、前記チャンバ１外から取り込んだ気体を前記レチクル３およびステージ５付近に供給する気体供給手段７、１３、１７、１８と、
前記気体供給手段７、１３、１７、１８の上流側に設けられ、気体が透過する水膜２１が形成される湿式フィルタ１０と、を備える。
【００２１】
図１は、本発明の露光装置の第１の実施形態を示す概略構成図である。同図において、チャンバ１内に、照明光学系２、レチクル３、投影レンズ４、ステージ５を備えた露光装置本体６が設置されている。チャンバ１により、露光装置本体６の周囲環境は一定に保たれている。
【００２２】
露光装置本体６において、光源（図示せず）から出射された露光は照明光学系２で所定の光束にされた後、レチクル３を照明し、照明されたレチクル３上の回路パターンは投影レンズ４を介してステージ５上に載置されたウエハＷ上に結像され、ウエハＷの表面に塗布されたレジストを感光させるようになっている。
【００２３】
チャンバ１の外周部には、右辺流路７a、上辺流路７ｂおよび左辺流路７ｃからなる気体流路７が形成されている。この右辺流路７ａの下端部には、クリーンルーム（図示せず）からの気体を導入する気体取込口８付近に通ずる導入側の湿式フィルタ１０および露光装置本体６からリターンしてきた気体を取り込むリターン側の湿式フィルタ１１が設けられている。これらの湿式フィルタ１０、１１の上方（下流）に温度湿度調整装置１２、その下流に第１の送風機１３、その出口に除塵フィルタ１４ａ，１４ｂ，１４ｃがそれぞれ設けられている。左辺流路７ｃには、レチクル３付近およびステージ５付近に開口する気体供給口１５、１6が形成され、これらの気体供給口１５，１６に第２および第３の送風機１７，１８が設けられ、その送風口にも除塵フィルタ１４ｄ、１４ｅが設けられている。
【００２４】
除塵フィルタ１４ａ〜１４ｅは、以下に例示するような周知の構成のものから、任意のものが選択される。
（ａ）ヤシガラを基材とした活性炭に薬品添着し、それを表面処理した濾材で構成された、酸性ガス除去用（ＳＯx、ＮＯｘ対応）ケミカルフィルタ。
（ｂ）紫外線を受けると有機物や酸性ガス（ＮＯｘ、ＳＯｘ）を分解する酸化チタン光触媒フィルタ。光源は殺菌灯でも紫外線ランプでもよい。
（ｃ）耐久力のあるフッ素樹脂に酸化チタンをコーティングしたフィルタ。
（ｄ）３次元Ｓｉ／ＳｉＣ多孔質セラミックスに光触媒（酸化チタン）をコーティングしたもの。
（ｅ）ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）を含浸したガラスクロスメッシュの上に、酸化チタン（光触媒）を付けたもの。
（ｆ）バグフィルタ（消石灰、活性炭注入）＋触媒（Ｔｉ-Ｖ系ハニカム型）
（ｇ）アルカリ除去フィルタ。
（ｈ）有機ＨＥＰＡフィルタ。
【００２５】
次に、導入側の湿式フィルタ１０およびリターン側の湿式フィルタ１１の構成を説明する。
【００２６】
湿式フィルタ１０、１１は、水を散水、スプレー、あるいはミスト化することにより、０．３ミクロン以下に超微細化して、これに気体を通すことにより、ＳＯx、ＮＯｘ等の酸化物からなるガス状汚染物質を水に吸着させて除去するものである。
【００２７】
図２は、湿式フィルタの第１の構成例を示す斜視図である。同図に示すように、ハニカム構造のフィルタ本体２０の上部に、複数の噴射孔１９ａを有する噴射ノズル１９（水噴射手段）が配置され、下部には排水パン３０および排水パン３０から水を排出する排水管３１が設けられている。噴射孔１９ａから水をフィルタ本体２０に向けて噴射させることにより、水がフィルタ本体２０に沿って滴下し、フィルタ本体２０の両面に水膜２１が形成される。また、フィルタ本体２０も水が浸透することにより、ハニカム構造の孔内にも入ってこれを湿潤する。大気は、矢印Ａ方向から水膜２１および湿潤されたフィルタ本体２０を透過し、矢印Ｂ方向に抜ける間に酸化物が除去され、下部の排水管３１より廃棄される。なお、ハニカム構造の壁面に孔を形成しておくことにより、より湿潤効果が向上する。
【００２８】
図３は、湿式フィルタの第２の構成例を示す斜視図である。同図において、噴射孔２３ａ付きの噴射ノズル２３が左右に２本づつ立設され、噴射ノズル２３（水噴射手段）の上部には給水タンク２４が、下部には排水パン３０および排水管３１が設けられている。
【００２９】
給水管２５から給水タンク２４に水を供給し、給水タンク２４の水は各噴射ノズル２３に供給され、噴射孔２３ａから側方に向けて噴射され、左右の噴射ノズル２３，２３の間に微細化された水膜２１を形成する。この第２の構成例では、水膜２１のみで湿式フィルタ１０が構成される。大気は、矢印Ａ方向から水膜２１を透過し、矢印Ｂ方向に抜ける間に酸化物が除去され、下部の排水管３１より廃棄される。
【００３０】
図４は、湿式フィルタ１０、１１の他の構成例を示している。
（ａ）図２に示す、第１の構成例の側面図であり、ハニカム構造のフィルタ本体２０の両側面に落下流動する水膜２１が形成されている。
（ｂ）２枚のハニカム構造のフィルタ本体２０ａ，２０ｂを、ハニカム部分を斜行させて突き合わせ、（ａ）と同様に噴射孔１９ａから水を噴出させることにより、フィルタ本体２０ａ，２０ｂの両面に沿って水膜２１を形成する。この構成により、水膜２１の数が増えるとともに、フィルタ本体２０ａ，２０ｂの孔が細かくなり、フィルタリング効果がより向上する。
(ｃ)ハニカム構造に代えて多孔質セラミックまたは無機繊維のフィルタ本体２０を用いる。そのほかは（ａ）のものと同一である。
(ｄ)上記第２の構成例の変形例で、上部に２本の噴射ノズル２３を設け、その噴射孔２３ａから下方に向けて水を噴射し、下方に落下流動する水膜２１を形成する。噴射ノズル２３の本数を増すことにより、水膜２１の厚みを大きくすることができる。
(ｅ)水２２を収容した容器２９内に設けた超音波振動子２７によりミスト２８を発生させ、矢印Ｘ方向にエアを供給することにより、噴射孔２６からミストを噴出させて、気体取込口８付近にミスト状の水膜２１を形成する。この構成例でも、水膜２１のみで湿式フィルタ１０が構成される。
【００３１】
なお、上記構成例（ａ）（ｂ）および(ｃ)では、水膜２１の代わりに、あるいは水膜２１とともに、フィルタ本体(20)内に浸透する水により内部が湿潤され、この湿潤水分によっても酸化物が除去される。
上記湿式フィルタ１０，１１に使用する水は、純水または不揮発性のアルカリ水溶液（長鎖アンモニア）が使用される。
【００３２】
次に、上記露光装置の動作を説明する。
露光装置の露光動作中に、第１〜第３の送風機１３，１７，１８を動作させることにより、クリーンルームの空気を気体取込口８から湿式フィルタ１０を介して取り込む。図４（ａ）〜（ｅ）に示すように、の噴射孔１９ａ、２３ａ、２６から連続的に水がまたはミストが噴出され、水膜２１が気体取込口８の内側に形成されて湿式フィルタ１０を構成する。気体取込口８から取り込まれた気体は、湿式フィルタ１０の水膜２１を透過し、その間に前記反応式（化１および化２）の原理により、硫黄酸化物（ＳＯｘ）や窒素酸化物（NOｘ）が除去され、水膜２１とともに落下して下部の排水パン３０を通って排水管３１から排出される。これにより、ほぼクリーン化された気体は、温度湿度調整装置１２に入り、ここで最適に温度湿度調整された後、第１〜第５の除塵フィルタ１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ，１４ｅを通る間に、気体中に残存するＳＯｘやNOｘの酸性ガスが完全に除去されて、気体供給口１５，１６からレチクル３付近およびステージ５付近に供給される。
【００３３】
露光装置本体６から出てきた気体は、リターン側の湿式フィルタ１１に吸い込まれ、ここで再び酸性ガスが除去された後、上記のように循環する。
【００３４】
以上のように、湿式フィルタ１０を通して気体をチャンバ１内に取り込むことにより、外部から露光装置本体６内へ酸化物が混入することが防止され、照明光学系２や投影レンズ４およびレチクル３の汚染が低減され、これらの曇り、欠陥の発生頻度を低減することができ、したがって、レチクル３の洗浄やレンズのふき取り洗浄の頻度を低減できる。レチクル３の洗浄はパターンの寸法を変動させるので，洗浄できる回数に制限があり、高価なレチクル３を洗浄し、寿命を短くすることはデバイスの製造コストにとって大きな損失であるが、本実施形態により、これらの回数を低減させることができるため、デバイスの製造コストを低減することが可能となる。
【００３５】
図５は、導入側の湿式フィルタ１０をユニット化してチャンバ１の外部に設置するようにしたものである。すなわち、湿式フィルタ１０の前部に除塵フィルタ４５および送風機４６を設け、湿式フィルタ１０の後部に温度湿度調整装置１２を設けて、これらを１つのフィルタユニットに構成し、このフィルタユニットを、ダクト（図示せず）等を介してチャンバ１に連結するようにしたものである。このように、フィルタユニットをチャンバ１外に設置することにより、チャンバ１を小型化することが可能になる。なお、湿式フィルタ１０の前部にも送風機４６を設けておくことにより、湿式フィルタ４６による圧損を抑制することができる。
【００３６】
図６は、レチクルストッカ室を露光部とは別に独立して設けた、第２実施形態を示すものである。
すなわち、チャンバ１の一側部に、チャンバ１内と独立した、レチクルストッカ３４を収納するレチクルストッカ室３３が設けられている。レチクルストッカ室３３内に設けられた気体流路３５の下端に湿式フィルタ１０，１１と同様の、導入側の湿式フィルタ３６とリターン側の湿式フィルタ３７が設けられ、湿式フィルタ３６，３７の上部（下流）に送風機３８および除塵フィルタ３９ａ、３９ｂ、３９ｃが設けられている。
【００３７】
気体取込口４０から湿式フィルタ３６を介して取り込んでクリーン化された気体は、除塵フィルタ３９ａ，３９ｂ，３９ｃを通る間に、気体中に残存するＳＯｘやNOｘの酸性ガスが完全に除去されて、レチクルストッカ３４方向に流れ、リターン側の湿式フィルタ３７に吸い込まれ、ここで再び酸性ガスが除去された後、上記のように循環する。
【００３８】
本実施形態においては、レチクルストッカ室３３が露光室（チャンバ１内）と別室となり、露光装置本体６とは分離した気体を流すようになっているため、露光中に発生した酸がレチクルに蓄積することが防止される。
【００３９】
この第２の実施形態においても、湿式フィルタ３６、３７を、図５に示すようにフィルタユニットとしてチャンバ１およびレチクルストッカ室３３の外部に設置することができる。レチクルストッカ室３３は、チャンバ１に隣接して設けてもよいし、チャンバ１から離れた場所に設けてもよいｒ。
【００４０】
また、図１および図６に示すように、チャンバ１およびレチクルストッカ室３３の下部の適当な箇所に除塵フィルタ４２付きの排気口４１を設けて、ここからガスを排出するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】第１の実施形態に係わる露光装置の概略構成図である。
【図２】湿式フィルタの第１の構成例を示す斜視図である。
【図３】湿式フィルタの第２の構成例を示す斜視図である。
【図４】湿式フィルタの変形例を示す側面図である。
【図５】チャンバ外に設置するフィルタユニットの側面図である。
【図６】第２の実施形態に係わる露光装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００４２】
１  チャンバ
２  照明光学系
３  レチクル
４  投影レンズ
５  ステージ
６  露光装置本体
７  気体流路（気体供給手段）
７a  右辺流路
７ｂ  上辺流路
７ｃ  左辺流路
８  気体取込口
１０、１１  湿式フィルタ
１２  温度湿度調整装置
１３  第１の送風機（気体供給手段）
１４a、１４ｂ、１４ｃ  除塵フィルタ
１５，１６  気体供給口
１７，１８  送風機（気体供給手段）
１９  噴射ノズル
１９ａ  噴射孔
２０、２０ａ，２０ｂ  フィルタ本体
２１  水膜
２２  水
２３  噴射ノズル
２３ａ  噴射孔
２４  給水タンク
２５  給水管
２６  噴射孔
２７  超音波振動子
２８  ミスト
２９  容器
３０  排水パン
３１  排水管
３３  レチクルストッカ室
３４  レチクルストッカ
３５  気体流路
３６、３７  湿式フィルタ
３８  送風機
３９ａ、３９ｂ、３９ｃ  除塵フィルタ
４０  気体取込口
４１  排気口
４２  除塵フィルタ
４５  除塵フィルタ
４６  送風機
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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