(57)【要約】【課題】  液晶パネルの加熱を迅速にかつ均一に行うことができ、もって液晶パネル処理の省エネルギー化を実現できる液晶パネル処理装置を提供する。【解決手段】  本発明の液晶パネル処理装置は、減圧加熱処理によって液晶パネルを分解処理する液晶パネル処理装置であり、内部に液晶パネルを収容するチャンバー２０と、該チャンバー内部の液晶パネルを加熱する加熱装置２１と、前記チャンバー内部を減圧する減圧ポンプ２４とを具備し、前記加熱手段２１が、前記液晶パネル１０に対しマイクロ波を照射するマイクロ波照射手段であることを特徴としている。【選択図】        図１
2006159100.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
減圧加熱処理によって液晶パネルを分解処理する液晶パネル処理装置であって、
内部に液晶パネルを収容する処理容器と、該処理容器内部の被処理物を加熱する加熱手段と、前記処理容器内部を減圧する排気手段とを具備し、
前記加熱手段が、前記液晶パネルにマイクロ波を照射して加熱するマイクロ波照射手段であることを特徴とする液晶パネル処理装置。
【請求項２】
減圧加熱処理によって液晶パネルを分解処理する液晶パネル処理装置であって、
内部に液晶パネルを収容する処理容器と、該処理容器内部の被処理物を加熱する加熱手段と、前記処理容器内部を減圧する排気手段とを具備し、
前記加熱手段が、前記処理容器内に配設された一対の電極と、該一対の電極に接続された高周波電源とを具備しており、前記一対の電極間に配置した前記液晶パネルを誘電加熱するものであることを特徴とする液晶パネル処理装置。
【請求項３】
前記処理容器内に収容した液晶パネルを支持するパネル支持手段を備え、
前記パネル支持手段が、前記マイクロ波の照射又は高周波電力の印加により加熱可能であることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項４】
前記パネル支持手段に、前記マイクロ波照射又は高周波電力の印加により発熱する発熱媒体が設けられていることを特徴とする請求項３に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項５】
減圧加熱処理により液晶パネルの分解処理を行うに際して、
減圧状態の処理容器内に収容した前記液晶パネルに対してマイクロ波を照射することにより加熱し、該液晶パネルから液晶を蒸散させることを特徴とする液晶パネル処理方法。
【請求項６】
減圧加熱処理により液晶パネルの分解処理を行うに際して、
減圧状態の処理容器内に収容した前記液晶パネルを誘電加熱により加熱し、該液晶パネルから液晶を蒸散させることを特徴とする液晶パネル処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネル処理装置及び液晶パネル処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、一般廃棄物や産業廃棄物の量が増加の一途を辿っており、廃棄量の増加の抑制や、廃棄物による環境の悪化を抑制するための無害化に対する要請が高まっている。
例えば、家電製品や情報機器等の表示部に用いられている液晶パネルは、省電力、省スペースという利点から今後も急速に使用量が増大することが予想され、それに伴う廃棄量の増大を抑えるためのリサイクル技術の確立は非常に重要である。
【０００３】
液晶パネルは、一般的には、２枚のガラス基板を、それらの間に枠状のシール材を介在させて貼り合わせ、前記シール材の内側に液晶を封入した構成を備えている。ガラス基板の内側（液晶側）には、ＩＴＯ等の透光性導電材料からなる電極や、着色した樹脂材料からなるカラーフィルタが設けられており、ガラス基板の間に封入された液晶は、有機物を主成分とするものである。一方、ガラス基板の外側には、樹脂フィルムからなる偏光板や位相差板が設けられている。
【０００４】
上述した構成を備える液晶パネルからガラスや希少金属を回収する方法や回収装置の提案が既に成されている。例えば下記特許文献１に記載の技術は、液晶パネルを破砕しないで反応炉に配置し、反応炉内を減圧状態にして加熱することで、液晶パネルを構成する有機物（液晶、カラーフィルタ、偏光板等）を蒸発ないし炭化させることでガラス基板を回収するものである。
【特許文献１】特開２００４−２３０２２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記特許文献１に記載の技術を用いて液晶パネルの処理を行う場合、液晶パネルの液晶はシール材によって封止された状態であるから、ガラス基板と液晶とを分離するには、加熱によってシール材又は封止材（シール材の開口部を封止する部材）を脆弱化させてパネル内部から液晶を蒸発させる必要がある。ところが、上記特許文献１に記載の技術を用いて液晶とガラス基板とを分離しようとすると、液晶パネルを減圧下で加熱する際に、処理容器内が真空状態であるため昇温しにくく、液晶パネルへの加温の効率が低くなるために処理時間が長くなるという問題がある。
【０００６】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、液晶パネルの加熱を迅速にかつ均一に行うことができ、もって液晶パネル処理の省エネルギー化を実現できる液晶パネル処理装置、及び液晶パネル処理方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために、減圧加熱処理によって液晶パネルを分解処理する液晶パネル処理装置であって、内部に液晶パネルを収容する処理容器と、該処理容器内部の被処理物を加熱する加熱手段と、前記処理容器内部を減圧する排気手段とを具備し、前記加熱手段が、前記液晶パネルにマイクロ波を照射して加熱するマイクロ波照射手段であることを特徴とする液晶パネル処理装置を提供する。
この構成によれば、液晶パネルを加熱する加熱手段としてマイクロ波照射手段を用いるので、チャンバーの内壁部を加熱してその輻射熱によって液晶パネルを加熱する構成の液晶パネル処理装置に比して、高効率にかつ均一に液晶パネルを加熱することができ、液晶パネルを迅速に加熱することによる処理時間の短縮と、消費するエネルギーの削減を実現できる。これにより、処理量の増大と処理コストの低減を図ることができる。
また、液晶パネルに液晶を封止しているシール材や封止材を、ガラス基板より早く加熱することができるため、封止材やシール材の脆弱化による液晶のリーク路の形成を促進することができる。これにより、当該リーク路からの液晶の蒸散開始を早めることができるので、処理時間の短縮や消費エネルギーの節約に特に有効なものとなっている。
また、液晶パネルを直接的に加熱するので、処理容器の内壁の温度は液晶パネルから蒸散する液晶の蒸発温度程度にまで下げることができ、液晶が過熱されて変質するのを効果的に防止することができる。また、処理容器の加熱に要するエネルギーを低減できる。
【０００８】
また本発明の液晶パネル処理装置としては、減圧加熱処理によって液晶パネルを分解処理する液晶パネル処理装置であって、内部に液晶パネルを収容する処理容器と、該処理容器内部の被処理物を加熱する加熱手段と、前記処理容器内部を減圧する排気手段とを具備し、前記加熱手段が、前記処理容器内に配設された一対の電極と、該一対の電極に接続された高周波電源とを具備しており、前記一対の電極間に配置した前記液晶パネルを誘電加熱するものであることを特徴とする構成も適用できる。
このような構成とした場合にも、前記電極を介して液晶パネルに作用する電界によって液晶パネルを加熱することができ、液晶パネルを短時間に指定温度まで昇温でき、また均一に加熱することができる。したがって従来の液晶パネル処理装置に比して処理時間を短縮することができ、また消費エネルギーも低減することができる。
【０００９】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記処理容器内に収容した液晶パネルを支持するパネル支持手段を備え、該パネル支持手段が、前記マイクロ波の照射又は高周波電力の印加により加熱可能である構成とすることが好ましい。
この構成によれば、前記加熱手段によってパネル支持手段を加熱し、その熱を液晶パネルに伝導させることができるので、液晶パネルの加熱をさらに迅速に行うことができ、処理量を向上させることができる。
【００１０】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記パネル支持手段に、前記マイクロ波の照射又は高周波電力の印加により発熱する発熱媒体が設けられている構成としてもよい。
この構成によれば、前記発熱媒体により直接又はパネル支持手段を介して液晶パネルを加熱することができ、液晶パネルを迅速に加熱することができる。また、マイクロ波照射や高周波電力印加に好適な発熱媒体を選択できるので、パネル支持手段に対する加熱の効率を向上させることができる。
【００１１】
次に、本発明の液晶パネル処理方法は、減圧加熱処理により液晶パネルの分解処理を行うに際して、減圧状態の処理容器内に収容した前記液晶パネルに対してマイクロ波を照射することにより加熱し、該液晶パネルの液晶を蒸散させることを特徴とする。
次に、本発明の液晶パネル処理方法は、減圧加熱処理により液晶パネルの分解処理を行うに際して、減圧状態の処理容器内に収容した前記液晶パネルを誘電加熱により加熱し、該液晶パネルの液晶を蒸散させることを特徴とする。
【００１２】
これらの処理方法によれば、前記液晶パネルをマイクロ波照射又は高周波電力印加によって加熱するので、処理容器内部を加熱し、処理容器内壁からの輻射熱により液晶パネルを加熱する従来の液晶パネル処理方法に比して、液晶パネルの加熱効率を著しく向上させることができる。そして、液晶パネルが迅速に加熱される結果、処理時間の短縮と消費エネルギーの削減を実現することができる。
また、液晶パネルを直接的に加熱できることから、処理容器内壁の温度を液晶の蒸発温度程度にまで下げることができ、この点でも消費エネルギーの低減に大いに寄与する処理方法となっている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明に係る液晶パネル処理装置の一構成例を示す概略構成図である。図２は、液晶パネル処理装置の主要部たるチャンバーの２種類の形態を示す断面構成図である。
【００１４】
図１に示す液晶パネル処理装置は、内部に液晶パネルを収容するチャンバー（処理容器）２０と、チャンバー２０内部を減圧可能に接続された減圧ポンプ（排気手段）２４と、チャンバー２０と減圧ポンプ２４との間に介挿され、チャンバー２０の排気から液晶を凝集、分離する凝集器２２と、凝集器２２にて分離された液晶を回収する回収装置２３と、減圧ポンプ２４からの排気を処理するガス処理装置２５とを備えている。チャンバー２０には、収容された液晶パネルを加熱する加熱装置（加熱手段）２１が設けられている。
【００１５】
チャンバー２０は、本実施形態の場合、図２に示すように、内部に密閉可能な空間を有する略球状を成して構成されており、その内部空間２０ａに複数（図示では６枚）の液晶パネル１０を収容できるようになっている。図２（ａ）に示す構成は、液晶パネル１０に高周波電力を印加することで誘電加熱する形態を示し、（ｂ）に示す構成は、液晶パネル１０にマイクロ波を照射して加熱する形態を示している。
【００１６】
まず、図２（ａ）に示す形態では、チャンバー内部に収容された液晶パネル１０を挟んで両側に電極２１ａ、２１ｂが配設され、これらの電極２１ａ、２１ｂには、これらの電極に高周波電力を印加する高周波電源３８が接続されている。前記電極２１ａ、２１ｂと高周波電源３８とは、図１に示した加熱装置２１に対応する誘電加熱装置３９を構成しており、電極２１ａ、２１ｂ間に形成される電界による誘導電界によって液晶パネル１０を誘電加熱するようになっている。
【００１７】
一方、図２（ｂ）に示す形態では、チャンバー２０の一部の壁面から導波管２０ｂが延出されており、この導波管２０ｂに、マイクロ波発生装置４７と調整器４８とを含むマイクロ波照射装置（マイクロ波照射手段）４９が接続されている。また図示は省略したが、チャンバー２０内には、マイクロ波照射装置４７から供給されるマイクロ波をチャンバー内で攪拌するためのスターラ（金属製のファン）を設けてもよい。
マイクロ波発生装置４７は、発振素子にマグネトロンやクライストロン、ジャイロトロン等を用いてなる公知のマイクロ波発生装置である。マイクロ波の発振周波数は通常の２．４５ＧＨｚのものでもよいが、マイクロ波帯（３００ＭＨｚ〜３００ＧＨｚ）であれば問題なく用いることができる。
【００１８】
調整器４８は、サーキュレータ（アイソレータ）、方向性結合器、インピーダンス整合器等を含んで構成され、チャンバー２０内に導入するマイクロ波の状態を調整する機能を奏する。なお、サーキュレータは、チャンバー２０側から戻る反射波を熱に変換して除去するものであり、方向性結合器は、進行波電力と反射波電力とを検出して出力するものであり、インピーダンス整合器は、内蔵した可変コンデンサの容量変化によりインピーダンス整合をとるものである。
【００１９】
上記構成のもと、図２（ｂ）に示すチャンバーを具備した液晶パネル処理装置は、マイクロ波照射装置４９から導入されるマイクロ波を液晶パネル１０に照射し、マイクロ波により励起される分子の振動によって液晶パネル１０を加熱するようになっている。
【００２０】
図１に戻り、減圧ポンプ２４は、チャンバー２０の内部空間２０ａを例えば０．０１〜１０ｋＰａ程度に減圧可能なポンプである。減圧ポンプ２４とチャンバー２０との間に配設された凝集器２２は、減圧加熱処理により液晶パネル１０から蒸発した液晶のガスを冷却し、液化させて排気から分離するものである。凝集器２２で分離された液晶は回収装置２３に送られ、リサイクルするために回収される。あるいは回収装置２３は、液晶を分解して低分子化したり、無害化する分解装置であってもよい。ガス処理装置２５は、液晶を分離した後の排気を清浄化する装置であり、例えば活性炭フィルタ等を用いて排気に含まれる有機物のガス等を吸着除去するものを適用できる。
【００２１】
本実施形態の液晶パネル処理装置による減圧加熱処理に供される液晶パネル１０は、液晶パネルの製造工場より排出されたり、市場において使用済みとなった表示装置等から取り出されたものである。
ここで図３は、液晶パネル１０の平面構成図であり、図４は、図３のＡ−Ａ線に沿う断面構成図である。本実施形態では液晶パネル１０としてパッシブマトリクス型のものを例示して説明するが、液晶パネル処理装置を用いて処理できる液晶パネルの種類は、パッシブマトリクス型に限られず、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）が基板上に形成されたアクティブマトリクス型のパネルであってもよい。また、基板内面にアルミニウムや銀等からなる反射膜が形成された反射型や半透過反射型の液晶パネルであってもよい。
【００２２】
液晶パネル１０は、図３及び図４に示すように、シール材７を介して所定間隔に対向配置された２枚のガラス基板１１，１２を備え、ガラス基板１１，１２とシール材７とに囲まれる領域に注入された液晶をシール材７の開口部に設けられた封止材７ｂによって封止したものとなっている。なお、図３には封止材７ｂを有する液晶パネル１０を示しているが、シール材に開口部が設けられていない、いわゆる封口レスタイプの液晶パネルであっても、本発明に係る処理装置は問題なく処理することが可能である。
【００２３】
図４に示す断面構造をみると、液晶パネル１０を構成するガラス基板１１，１２は、それらの間に分散配置されたスペーサ３４により所定間隔に離間され、基板端部に設けられたシール材７によって貼り合わされており、ガラス基板１１，１２とシール材７とに囲まれた空間に液晶３５が封入されている。各ガラス基板１１，１２の外面側には、それぞれ粘着材を介して偏光板や位相差板等の光学素子３１，３２が設けられている。
【００２４】
ガラス基板１１の内面側（液晶側）には、カラーフィルタ１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが配列形成されており、これらのカラーフィルタの間には遮光膜（ブラックマトリクス）１６が形成されている。カラーフィルタ１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを覆って樹脂材料等からなる平坦化膜１３が形成され、平坦化膜１３上にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電材料かからなる平面視略ストライプ状の電極パターン４０と、ポリイミド等からなる配向膜２１とが順に形成されている。
【００２５】
ガラス基板１２の内面側には、平面視略ストライプ状を成して前記電極パターン４０と交差する方向に延びる電極パターン５０が形成されており、電極パターン５０上に、樹脂材料等からなるオーバーコート膜２９と、ポリイミド等からなる配向膜２２とが順に形成されている。
【００２６】
次に、上記構成を具備した液晶パネル処理装置を用いた液晶パネル処理方法について、適宜図面を参照しつつ説明する。
【００２７】
まず、図２（ａ）に示した構成のチャンバーを具備した液晶パネル処理装置を用いて液晶パネル１０の減圧加熱処理を行うには、図１及び図２（ａ）に示したように、チャンバー２０内に液晶パネル１０を配置した後、チャンバー２０を密閉して減圧ポンプ２２を動作させ、内部空間２０ａを所定の圧力（０．０１〜１０ｋＰａ）に保持し、その後高周波電源３８を動作させて電極２１ａ、２１ｂに所定の高周波電力を印加する。すると、液晶パネル１０は、高周波電源３８の出力に応じて昇温され、特にシール材７や封止材７ｂ、及びこれらに封止された液晶がガラス基板１１，１２より早く加熱される。そして、熱によりシール材７や封止材７ｂが脆弱化すると、シール機能の低下によって液晶のリーク路が形成され、パネル内に封止されている液晶が内部空間２０ａ内に蒸散されるようになる。
【００２８】
一方、図２（ｂ）に示した構成のチャンバーを用いて液晶パネル１０の減圧加熱処理を行うには、まず、チャンバー２０内に液晶パネル１０を配置した後、チャンバー２０を密閉して減圧ポンプ２２を動作させ、内部空間２０ａを所定の圧力（０．０１〜１０ｋＰａ）に保持する。その後、マイクロ波照射装置４９を動作させてチャンバー内にマイクロ波を導入し、液晶パネル１０に照射する。すると、液晶パネル１０はマイクロ波の照射によって加熱され、特にガラス基板１１，１２より大きい損失係数を有するシール材７や封止材７ｂ、及びこれらの封止された液晶が早く加熱される。そして、熱によりシール材７や封止材７ｂが脆弱化すると、シール機能の低下によって液晶のリーク路が形成され、パネル内に封止されている液晶が内部空間２０ａ内に蒸散されるようになる。
【００２９】
上記加熱装置（誘電加熱装置３９、マイクロ波照射装置４９）による液晶パネル１０の加熱温度は、液晶の分離、回収を行う場合にはシール材７や封止材７ｂの分解温度である１８０℃程度とすることが好ましい。一般的に、液晶パネル１０に封止されている液晶の蒸発温度は１５０℃程度であるため、過度に加熱すると液晶が変質して有害物質が発生したり、リサイクルが容易な状態で回収することができなくなるおそれがあるからである。
【００３０】
その後、内部空間２０ａに蒸散された液晶は、気体の状態で減圧ポンプ２４側へ排出される。そして、凝集器２２により液化された液晶が回収装置２３へ回収され、液晶を除去された排ガスは、ガス処理装置２５を介して無害化された後排出される。
【００３１】
なお、上記液晶の分離回収を行った後、加熱装置（誘電加熱装置３９、マイクロ波照射装置４９）の出力を上昇させて廃液使用パネル１０の温度をさらに上昇させ、シール材７や封止材７ｂ、ガラス基板１１，１２上に形成された各構成部材（光学素子３１，３２やカラーフィルタ等）を気化あるいは炭化させて、ガラス基板１１，１２から有機物の構成部材を除去することもできる。このようにして有機物を処理した後のガラス基板１１，１２は、チャンバー２０から取り出した後、基板上に残る有機物の灰や金属類（反射膜や配線等）を溶解除去することでリサイクル品として回収することができる。また、上記構成部材の気化ないし炭化に際して、ランプヒータ等、他の加熱手段を併用してもよい。
【００３２】
本実施形態の液晶パネル処理装置では、図２に示したように、液晶パネル１０を加熱する手段として誘電加熱装置３９又はマイクロ波照射装置４９を備えたことで、液晶パネル１０に直接に電界ないしマイクロ波を作用させて迅速に加熱でき、また液晶パネル１０を均一に加熱することができるようになっている。そして、かかる加熱手段を用いることで、ガラス基板１１，１２よりも早く封止材７ｂ及びシール材７を加熱できることから、これら封止材７ｂ及びシール材７を効果的に脆弱化させ、液晶の蒸散を促進して迅速に液晶の分離を行えるようになっている。また、液晶パネル１０を指定温度まで昇温する時間を短縮することができ、処理時間を短縮して処理の効率化を実現できる。さらに、加熱に要するエネルギーを節約でき、もって処理コストの低減を実現できる。
【００３３】
また、チャンバー内壁を加熱して輻射熱で液晶パネルを加熱する方式の従来の液晶パネル処理装置と比較すると、従来の液晶パネル処理装置では、内部空間が減圧状態に保持されているために液晶パネルが加熱されにくく、昇温速度を高めるためにチャンバー内壁の温度を高くすると上記液晶の変質が生じるおそれがあった。これに対して、本実施形態の液晶パネル処理装置ではチャンバー内壁の温度は液晶の蒸発温度（１５０℃）程度に保持していればよいため、内部空間での液晶の変質を効果的に防止することができる。またチャンバーの加熱に要するエネルギーを節約できるため、処理コストを低減することができる。
【００３４】
また本実施形態の液晶パネル処理装置によれば、液晶パネル１０を破砕せずにチャンバー内に配置し、密閉された内部空間２０ａ内で液晶を分離できるので、安全に液晶パネルの処理を行うことができる。また、チャンバー２０内壁の加熱温度を液晶の蒸発温度程度にまで下げることができるので、液晶を変質させることなく回収することができ、液晶のリサイクルが容易になるとともに、液晶の変質による有害物質の発生を効果的に抑制でき、液晶処理を安全に行うことができる。
【００３５】
上記実施形態の液晶パネル処理装置において、チャンバー２０内に収容した液晶パネル１０は、図５に示すような形態で支持することができる。
図５は、チャンバー内部構成の他の形態を示す部分断面構成図である。同図に示す液晶パネル処理装置では、チャンバー２０の内部空間に、複数の液晶パネル１０を、その厚さ方向に所定間隔で配列して支持体（パネル支持手段）１７に収容し、かかる液晶パネル１０を挟んで上下に、液晶パネル１０の側端部に対向するように略平面形状の電極２１ａ、２１ｂを配置している。
なお、図５では図２（ａ）に示した構成のチャンバーに支持体１７により支持した液晶パネル１０を収容した場合を示しているが、支持体１７は、図２（ｂ）に示した構成のチャンバーにも、同様の形態で収容することができる。
【００３６】
支持体１７は、基体の一面側に液晶パネル１０を挿入可能なスリット（溝）１７ａを所定間隔で複数形成したものを用いることができる。支持体１７としては、金属酸化物等の絶縁材料の成形体を用いることができ、電極２１ａ、２１ｂを介して印加される高周波電力、ないしマイクロ波照射装置４９から導入されるマイクロ波によって加熱可能なものとすることが好ましい。このような構成とすることで、支持体１７によっても液晶パネル１０を加熱でき、迅速な昇温と消費エネルギーの低減を実現できる。
【００３７】
また、支持体１７を誘電加熱装置３９又はマイクロ波照射装置４９によって加熱可能な構成とするために、中空の基体の内部に加熱用の媒体（発熱媒体）を封止したものとすることもできる。この発熱媒体としては、高沸点のアルコール系化合物やフェノール系化合物を用いることが好ましく、具体的にはオクタノール（沸点１９４．５℃）、フェノール（沸点１８１．８℃）、デカンジオール（沸点２９０℃）等を好適に用いることができる。
【００３８】
また支持体１７は、液晶パネル１０に対するマイクロ波の照射量を均一化するために、回転可能に構成されていてもよい。被加熱物である液晶パネル１０を回転させることで、液晶パネル１０の温度を均一化することができる。
このように、液晶パネル１０を支持体１７により支持する構造を採用するならば、係る支持体１７を介して液晶パネル１０を加熱することができ、高効率に液晶パネル１０の加熱を行えるとともに、液晶パネル１０の特定部位を局所的に加熱することもできるため、液晶パネル１０からの液晶の分離を迅速かつ高効率に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】実施形態に係る液晶パネル処理装置の概略構成図。
【図２】同、チャンバーの内部構成を示す断面構成図。
【図３】液晶パネルの平面構成図。
【図４】液晶パネルの部分断面構成図。
【図５】チャンバー内部におけるパネル支持構造を示す部分断面構成図。
【符号の説明】
【００４０】
１０  液晶パネル、１７  支持部材（パネル支持手段）、１７ａ  スリット、２０  チャンバー（処理容器）、２０ａ  内部空間、２１  加熱装置（加熱手段）、２１ａ，２１ｂ  電極、２２  凝集器、２３  回収装置、２４  減圧ポンプ（排気手段）、２５  ガス処理装置、３８  高周波電源、３９  誘電加熱装置、４９  マイクロ波照射装置。
【図１】
2006159100.tif 000003
【図２】
2006159100.tif 000004
【図３】
2006159100.tif 000005
【図４】
2006159100.tif 000006
【図５】
2006159100.tif 000007