(57)【要約】【課題】磁気ヘッドスライダの段差加工の製造ばらつきを極力抑えること。【解決手段】磁気記録媒体との対向面が金属または半金属材料からなる磁気ヘッドスライダの対向面に、透明基板からなり、所望の複数の段差面と鏡像の複数の段差面を有する金型を押接する工程と、レーザを照射し、前記金属または半金属材料を軟化あるいは溶融し、金型の鏡像段差パターンを対向面に転写する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スライダ基材に磁気ヘッドが構成された磁気ヘッドスライダの磁気記録媒体との対向面に、前記磁気ヘッドスライダを前記磁気記録媒体上で浮上させるための複数の段差面を製造する方法であって、
前記磁気記録媒体との対向面が金属または半金属材料からなる前記磁気ヘッドスライダの前記対向面に、透明基板からなり、所望の前記複数の段差面と鏡像の複数の段差面を有する金型を押接する工程と、
レーザーを照射し、前記金属または半金属材料を軟化あるいは溶融し、前記金型の前記鏡像複数の段差面を前記金属または半金属材料に転写することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項２】
前記スライダ基材が、Si基板からなることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項３】
前記スライダ基材が、Al基板からなることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録に用いられる磁気ヘッドスライダの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録装置、特にハードディスクドライブ装置における面記録密度の上昇が著しいが、面記録密度の増加に伴い、磁気ヘッド素子と、磁気記録媒体のスペーシングロスを減じるため、磁気ヘッドを構成した磁気ヘッドスライダの浮上高さも低下し、１０ｎｍ程度になっている。
【０００３】
ところで、磁気ヘッドスライダを磁気記録媒体上で浮上させるため、磁気ヘッドスライダの磁気記録媒体との対向面には、複数の段差面形状が施されている。上述したような、低浮上の実現には、複数の段差面形状は微細で、複雑な形状を用いて実現されている。
【０００４】
このような構成を実現するため、特許文献１には、以下に示すような製造方法が開示されている。
【０００５】
特許文献１においては、上述の段差を浅溝、深溝加工ということで実現している。
【０００６】
即ち、図３（ａ）に示すように、磁気ヘッドスライダ３０を治具にセットし、その磁気記録媒体との対向面上に、深溝加工のための液状のフォトレジスト３１を塗布する。
【０００７】
次に図３（ｂ）に示すように、塗布したフォトレジスト３１を、深溝用のマスク３４を介して所定量の露光を行い、現像して、図３（ｃ）に示すように、深溝用フォトレジストパターン３２を形成する。更に、フォトレジスト３１における架橋を完全に行うためにベーキングを行う（図示せず）。次に図３（ｄ）に示すように、形成した深溝用フォトレジストパターン３２上に、２層目の浅溝用のフォトレジスト３１’を塗布する。フォトレジスト３１’の膜厚は、上記（１）式を満足するものとする。
【０００８】
次に図１（ｅ）に示すように、浅溝用のマスク３５を介して所定量の露光を行い、現像して、図３（ｆ）に示すように、浅溝用フォトレジストパターン３３を、深溝用フォトレジストパターン３２上に階段上に形成する。更に図３（ｇ）に示すように、浅溝フォトレジストパターン３３、深溝フォトレジストパターン３２を、ドライエッチング等により加工することにより、図３（ｈ）に示すように、磁気ヘッドスライダの磁気録媒体との対向面に、浅溝フォトレジストパターン３３、深溝フォトレジストパターン３２の形状を転写させ、浅溝パターン３１２、深溝パターン３１３の加工が完了する。
【０００９】
以上のように上記従来例の磁気ヘッドスライダの製造方法においては、浅溝、深溝の形成が１回のエッチングでできる。
【特許文献１】特開２００１−３５７５０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、磁気ヘッドスライダの浮上高さは、磁気記録再生装置の使用環境温度、使用場所の高度に伴う気圧変化等のマージンのみならず、磁気ヘッドスライダの段差加工の製造ばらつきを考慮して設計しなければならない。
【００１１】
上述したように、磁気記録密度の増加に伴い、磁気ヘッドスライダの浮上高さは１０ｎｍ程度になっているが、このような低浮上になると、磁気ヘッドスライダの段差加工の製造ばらつきを極力抑えることが必要となる。
【００１２】
しかしながら、上記従来の製造方法によれば、段差（浅溝、深溝）量は、ドライエッチング時のエッチングレートやエッチング時間に依存するだけでなく、１回のエッチングで浅溝、深溝を形成するため、フォトレジスト３１及びフォトレジスト３１’の塗布膜厚については、特定の条件を満たさなければならないため、フォトレジストの膜厚管理が必要で、また、浅溝、深溝パターンの位置精度もフォトマスクの位置合わせ精度に依存するなど、製造上のばらつきを抑えることが困難であった。
【００１３】
本発明は、上記従来の課題を解決するもので、低浮上を確保するため、磁気ヘッドスライダの磁気記録媒体との対向面に形成する複数の段差面をばらつくことなく形成するための製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記従来の課題を解決するために、本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法は、磁気記録媒体との対向面が金属または半金属材料からなる磁気ヘッドスライダの前記対向面に、透明基板からなり、所望の前記複数の段差面と鏡像の複数の段差面を有する金型を押接する工程と、レーザーを照射し、前記金属または半金属材料を軟化あるいは溶融し、前記金型の前記鏡像複数の段差面を前記金属または半金属材料に転写することを特徴とする。
【００１５】
本製造方法によれば、複数の段差を有するパターン形状においても、鏡像の複数の段差面を有する金型を用いて、この形状を直接磁気ヘッドスライダに転写するため、エッチング手法を用いることがないため、エッチングによる段差のばらつきは生じないため、製造上のばらつきに起因する浮上高さのばらつきを抑えることができる。
【００１６】
また、複数の段差を有する場合の、各段差部の位置精度も同様に、金型形状を直接磁気ヘッドスライダに転写するため、フォトマスクの位置合わせが不要で、この位置ばらつきに起因する浮上高さのばらつきを抑えることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法によれば製造上の加工ばらつきに起因する、磁気ヘッドスライダの浮上高さのばらつきを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１９】
図１は本実施の形態により製造された磁気ヘッドスライダの斜視図、図２に図１のＡ−Ａ‘線の断面における磁気ヘッドスライダの製造工程を示したものである。
【００２０】
図１に示すように、シリコン（Ｓｉ）基板からなるスライダ基材２に磁気ヘッド部を含む薄膜部３が構成された磁気ヘッドスライダ１には、磁気ヘッドスライダ１と磁気記録媒体（図示せず）との対向面４上に第１の段差面５、第２の段差面６が形成されている。
【００２１】
磁気ヘッド部７は対向面４の最高部に位置しており、その両側部８では、第２の段差面より低い位置にまで、薄膜部３は除去されている。
【００２２】
次に、製造方法について説明する。
【００２３】
図２（ａ）に示すように、石英からなり、図１に示す第１の段差５、第２の段差６の鏡像パターン８が形成された金型２０を磁気ヘッドスライダ１の対向面４上に位置合わせして押接する。なお、金型２０と磁気ヘッドスライダ１の対向面４との位置合わせに関しては、図示していないが、磁気ヘッドスライダの対向面４上と金型２０上に位置合わせようマーカーを設けることによって位置合わせを行う。
【００２４】
そして、図２（ｂ）に示すように、レーザ２２を、金型２０を通して、対向面４に照射する。これにより、対向面４が加熱され、軟化させる。なお、レーザ２２に対し、スライダ基材はレーザ波長に対し、大きな吸収係数を有するため、レーザしょうしゃめ対向面表面近傍のみが加熱、軟化される。つまり、スライダ基材のシリコン（Ｓｉ）は波長２５０ｎｍ近傍で吸収係数ｋが７程度と大きな値を有するため、照射したレーザ波長は２５０ｎｍとすることにより、効率よく対向面４を加熱することができる。
【００２５】
金型２０は対向面４に押接されているため、図２（ｃ）に示すように対向面４の溶融に伴い、金型２０の鏡像パターン２１が対向面４に転写される。
【００２６】
レーザ照射を終了し、対向面４が冷却後、金型２０を取り外すと、対向面４には所望の第１の段差部、第２の段差部が形成される。
【００２７】
上述のように、本実施の形態によれば、磁気ヘッドスライダ１の磁気記録媒体との対向面４に形成される第１の段差５、第２の段差６は、金型２０の鏡像パターン２１を対向面４に転写して形成される。従って、第１の段差５、第２の段差６の段差量、及び、第１の段差５、第２の段差６の位置関係は、金型２０の鏡像パターン２１で決定されるため、ばらつくことがない。
【００２８】
よって、製造上のばらつきに起因する磁気ヘッドスライダの浮上高さのばらつきを抑えることができ、良好な磁気記録装置を提供することができる。
【００２９】
本実施の形態において、スライダ基材をSiとしたが、Alのような軟化点が低いものであっても、あるいは、合金系のものであっても良く、レーザ波長についても、特に制限されるものでもない。但し、スライダ基材の材料の吸収係数の波長依存性を考慮し、吸収係数が大きい領域でのレーザを用いることにより、加熱の効率を向上させることができる。
【００３０】
なお、本実施の形態においては、対向面４に形成する段差は２段としたが、１段、あるいは３段以上であっても、各々の段差量や位置は、対向面４上での所望の段差形状の鏡像パターンを有する金型２０を用いて、対向面４に転写するため、製造上のばらつきを抑えられることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００３１】
本発明にかかる磁気ヘッドスライダの製造方法は、磁気ヘッドスライダと磁気記録媒体との対向面上に形成される所望の複数の段差面と鏡像の複数の段差面を有する金型を押接する工程と、レーザを照射し、前記金属または半金属材料を軟化あるいは溶融し、前記金型の前記鏡像複数の段差面を前記金属または半金属材料に転写することを特徴とすることにより、磁気ヘッドスライダの製造方法として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施の形態に製造した磁気ヘッドスライダの斜視図
【図２】本発明の実施の形態における磁気ヘッドスライダの製造方法を示す図
【図３】従来の垂直磁気記録媒体と記録ヘッドの概略図
【符号の説明】
【００３３】
１，３０    磁気ヘッドスライダ
２    スライダ基材
３    薄膜部
４    対向面
５    第１の段差部
６    第２の段差部
７    磁気ヘッド部
８    磁気ヘッドの両側部
２０    金型
２１    鏡像パターン
２２    レーザ光
３１，３１‘    フォトレジスト
３２    深溝用フォトレジストパターン
３３    浅溝用フォトレジストパターン
３４    深溝用マスク
３５    浅溝用マスク
３１２    浅溝パターン３１２
３１３    深溝パターン３１３
【図１】
2006099858.tif 000003
【図２】
2006099858.tif 000004
【図３】
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