(57)【要約】【課題】  シェーディング性能及びつなぎ補正性能を向上させて高精度な画像露光を行いつつ、生産性の向上と装置の小型化を図る。【解決手段】  複数の露光ヘッド３０に対して相対移動し、感光材料２０を走査方向に沿って搬送するステージ１８における移動方向の同一端部に、複数の露光ヘッド３０から照射された各光ビームにより露光される露光領域のつなぎを補正するために各光ビームによる露光位置を検出するビーム位置検出手段と、複数の露光ヘッド３０から照射された各光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整及び露光量の調整をするために各光ビームの光量分布及び露光量を測定する光量測定手段とを備えた測定ユニット７０を配置する。この各手段を用いて行うビーム位置検出及び光量測定では、ステージ１８移動距離が短くされ、測定時間が短縮される。【選択図】    図１
2006201586.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像情報に応じて変調された光ビームを照射して感光材料を走査露光する複数の露光ヘッドと、
前記複数の露光ヘッドに対して相対移動し、感光材料を走査方向に沿って搬送する搬送手段と、
前記複数の露光ヘッドから照射された各光ビームの露光面上での露光位置を検出するビーム位置検出手段と、
前記複数の露光ヘッドから照射された各光ビームの光量分布及び／又は露光量を測定する光量測定手段と、
を有し、
前記ビーム位置検出手段及び前記光量測定手段が前記搬送手段における移動方向の同一端部に配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記ビーム位置検出手段及び前記光量測定手段が一体的に構成されていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記搬送手段上に載置された前記感光材料の位置情報を取得するために、感光材料に設けられた露光位置の基準を示す基準マークを読み取る読取手段と、
前記搬送手段の前記同一端部に配置され、前記読取手段を校正するために読取手段の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の校正用基準マークを備えるとともにその複数の校正用基準マークが前記搬送手段の移動に伴い読取手段による読み取り位置に配置される校正用部材と、
を有することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記校正用部材が前記ビーム位置検出手段に一体的に設けられていることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
前記同一端部は、前記感光材料を載置するために停止される前記搬送手段の停止位置において前記複数の露光ヘッドに近い側の端部であることを特徴とする請求項１〜請求項４の何れか１項記載の露光装置。
【請求項６】
前記ビーム位置検出手段及び前記光量測定手段に共有され、光ビームを受光してその受光量に応じた信号を出力する受光手段と、
前記受光手段を移動させて前記ビーム位置検出手段による光ビームの検出位置及び前記光量測定手段による光ビームの測定位置に配置する移動手段と、
を有することを特徴とする請求項１〜請求項５の何れか１項記載の露光装置。
【請求項７】
前記光量測定手段を前記複数の露光ヘッドと同数以下で且つ複数有することを特徴とする請求項１〜請求項６の何れか１項記載の露光装置。
【請求項８】
前記ビーム位置検出手段によって取得した前記各光ビームの露光面上でのビーム位置情報に基づいて、前記複数の露光ヘッドから照射された各光ビームにより露光される露光領域のつなぎを補正するつなぎ補正手段を有することを特徴とする請求項１〜請求項７の何れか１項記載の露光装置。
【請求項９】
前記光量測定手段によって取得した前記各光ビームの光量分布及び／又は露光量に基づいて、前記複数の露光ヘッドから照射された各光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整及び露光量の調整を行う制御手段を有することを特徴とする請求項１〜請求項８の何れか１項記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関し、特に、画像情報に応じて空間変調素子等により変調された光ビームを複数の露光ヘッドから感光材料に照射して露光するマルチヘッドの露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）等の空間光変調素子（ＳＬＭ）を利用し、画像データに応じて変調された光ビームで画像露光を行う露光装置が種々提案されている。
【０００３】
例えば、ＤＭＤは、制御信号に応じて反射面の角度が変化する多数のマイクロミラーが、シリコン等の半導体基板上に２次元状に配列されたミラーデバイスであり、このＤＭＤを用いた従来のデジタル走査露光方式の露光装置では、レーザ光を照射する光源、光源から照射されたレーザ光をコリメートするレンズ系、レンズ系の略焦点位置に配置されたＤＭＤ、ＤＭＤで反射されたレーザ光を走査面上に結像するレンズ系、を備えた露光ヘッドにより、画像データ等に応じて生成した制御信号によりＤＭＤのマイクロミラーの各々をオンオフ制御してレーザ光を変調し、変調されたレーザ光で、ステージ上にセットされ走査方向に沿って移動されるプリント配線板や液晶表示素子等の感光材料に対し画像（パターン）を走査露光している。
【０００４】
このようなデジタル露光装置において、特に大面積を露光するために感光材料の搬送方向と交差する方向に沿って複数の露光ヘッドを配列したマルチヘッド構成の装置では、ヘッド間での画像のつなぎを高精度に検出し、高精度に補正する技術が必要となる（例えば、特許文献１参照）。また、微細なパターンを形成するためには、各露光ヘッドのビームパワーを測定し均一に補正するシェーディング技術が必要となり、さらに、微細なパターンを精度良く多層に重ね合わせるためのアライメント計測技術も必要となる（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
そこで、上記の各露光ヘッドから照射された各光ビームにより露光される露光領域のつなぎをのつなぎを補正するために各露光ビームによる露光位置を検出するビーム位置検出手段、各露光ヘッドから照射された各光ビームの光量分布及び露光量を測定する光量測定手段、及び、アライメント機能を校正するための校正用部材（基準板）をステージの端部にそれぞれ設け、各測定時にステージを移動させて、例えば、ビーム位置検出手段又はビームパワー測定手段は露光ヘッドの下方に配置し、また校正用部材は、校正用部材に設けられた基準マークを撮影して校正を行うアライメントカメラの下方に配置するようにしている。
【特許文献１】特開２００５−３７６２号公報
【特許文献２】特開２００４−３４８０４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述した各機能を露光装置に設けた場合、測定のためにステージを移動させる距離が長くなり装置が大型化してしまう。また、近年ではプリント配線板や液晶表示素子等の大型化に伴い露光面積が拡大される傾向にあるため、ヘッド数の増加やステージの大型化に伴う移動距離の増加によって測定時間も長くなり、生産性に与える影響が増している。さらに、パターンの高精度化も進んでいることから、シェーディング性能やつなぎ補正性能を高めるには測定及び補正を頻繁に行う必要があり、このことが生産性の低下を招く要因となる。
【０００７】
本発明は上記事実を考慮して、シェーディング性能及びつなぎ補正性能を向上させて高精度な画像露光を行いつつ、生産性の向上と装置の小型化を図ることができる露光装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために請求項１に記載の発明は、画像情報に応じて変調された光ビームを照射して感光材料を走査露光する複数の露光ヘッドと、前記複数の露光ヘッドに対して相対移動し、感光材料を走査方向に沿って搬送する搬送手段と、前記複数の露光ヘッドから照射された各光ビームの露光面上での露光位置を検出するビーム位置検出手段と、前記複数の露光ヘッドから照射された各光ビームの光量分布及び／又は露光量を測定する光量測定手段と、を有し、前記ビーム位置検出手段及び前記光量測定手段が前記搬送手段における移動方向の同一端部に配置されていることを特徴としている。
【０００９】
請求項１に記載の発明では、複数の露光ヘッドに対して相対移動し、感光材料を走査方向に沿って搬送する搬送手段における移動方向の同一端部に、複数の露光ヘッドから照射された各光ビームの露光面上での露光位置を検出するビーム位置検出手段と、複数の露光ヘッドから照射された各光ビームの光量分布及び／又は露光量を測定する光量測定手段とを配置することにより、この各手段を用いて行うビーム位置検出及び光量測定のために搬送手段を移動させる移動距離が短くされる。これにより、例えば、ビーム位置検出手段によって取得した各光ビームの露光面上でのビーム位置情報に基づいて、複数の露光ヘッドから照射された各光ビームにより露光される露光領域（画像）のつなぎを補正し、且つ、光量測定手段によって取得した各光ビームの光量分布及び／又は露光量に基づいて、複数の露光ヘッドから照射された各光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整及び露光量の調整を行う際に、それらのシェーディング性能及びつなぎ補正性能を向上させて高精度な画像露光を行いつつ、生産性が高められるとともに装置を小型に構成することができる。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１記載の露光装置において、前記ビーム位置検出手段及び前記光量測定手段が一体的に構成されていることを特徴としている。
【００１１】
請求項２に記載の発明では、ビーム位置検出手段と光量測定手段を一体的に構成することにより、別体とした場合に比べて、構成部品の点数を削減できるとともに、搬送手段への取り付けも容易になる。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２記載の露光装置において、前記搬送手段上に載置された前記感光材料の位置情報を取得するために、感光材料に設けられた露光位置の基準を示す基準マークを読み取る読取手段と、前記搬送手段の前記同一端部に配置され、前記読取手段を校正するために読取手段の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の校正用基準マークを備えると共にその複数の校正用基準マークが前記搬送手段の移動に伴い読取手段による読み取り位置に配置される校正用部材と、を有することを特徴としている。
【００１３】
請求項３に記載の発明では、感光材料に設けられた露光位置の基準を示す基準マークを読み取る読取手段が、搬送手段上に載置された感光材料の位置情報を取得する際に、感光材料のサイズ等に応じて位置が変更される基準マークの読み取りに対応するため、例えば走査方向と交差する方向へ移動可能とされる場合、この移動による姿勢変化で、基準マークの読み取り位置に配置された読取手段が正規の位置からずれる場合がある。そこで、搬送手段に設けた校正用部材を搬送手段の移動に伴い読取手段による読み取り位置に配置し、その状態で、読取手段の移動方向に沿って所定の間隔で配列した複数の校正用基準マークの例えば１つを読み取ることにより読取手段を校正する。これにより、読取手段の移動に伴う姿勢変化要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正が可能となり、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。
【００１４】
そして、この校正用部材を、ビーム位置検出手段及び光量測定手段と共に、搬送手段の搬送方向における同一端部に配置することにより、この校正用部材を用いて上記の校正を行うために搬送手段を移動させる移動距離は短くされる。これにより、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上させて高精度な画像露光を行いつつ、生産性が高められるとともに装置を小型に構成することができる。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、請求項３記載の露光装置において、前記校正用部材が前記ビーム位置検出手段に一体的に設けられていることを特徴としている。
【００１６】
請求項４に記載の発明では、光ビームによる露光位置を検出するビーム位置検出手段に校正用部材を一体的に設けることにより、ビーム位置検出手段と校正用部材との間に生じる位置ずれが抑えられるため、これらのビーム位置検出手段と校正用部材を用いて行う読取手段の校正、及び、感光材料に対する露光位置ずれの補正の精度が更に高められる。また、これらのビーム位置検出手段及び校正用部材を別体とした場合に比べて、構成部品の点数を削減できるとともに、取り付けも容易になる。
【００１７】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜請求項４の何れか１項記載の露光装置において、前記同一端部は、前記感光材料を載置するために停止される前記搬送手段の停止位置において前記複数の露光ヘッドに近い側の端部であることを特徴としている。
【００１８】
請求項５に記載の発明では、感光材料を搬送手段に載置するために搬送手段が停止されるが、その搬送手段の停止位置において複数の露光ヘッドに近い側の端部に、ビーム位置検出手段及び光量測定手段、また校正用部材を配置することにより、上記停止位置に配置された搬送手段の上記端部とは反対側の端部側には、すなわち、複数の露光ヘッドに対して遠い側の端部側にはフリースペースが確保される。これにより、この複数の露光ヘッドに対して遠い側の端部側に作業者が位置して感光材料を搬送手段に載置する際の作業性が良好になる。また、露光済みの感光材料をこの停止位置で搬送手段から取り外す場合には、その取り外し作業性も良好になる。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜請求項５の何れか１項記載の露光装置において、前記ビーム位置検出手段及び前記光量測定手段に共有され、光ビームを受光してその受光量に応じた信号を出力する受光手段と、前記受光手段を移動させて前記ビーム位置検出手段による光ビームの検出位置及び前記光量測定手段による光ビームの測定位置に配置する移動手段と、を有することを特徴としている。
【００２０】
請求項６に記載の発明では、光ビームを受光してその受光量に応じた信号を出力する受光手段を移動手段によって移動させ、ビーム位置検出手段による光ビームの検出位置及び光量測定手段による光ビームの測定位置に配置することにより、この受光手段をビーム位置検出手段及び光量測定手段で共有する。これにより、高価な受光手段をビーム位置検出手段及び光量測定手段にそれぞれ設ける場合よりもコストが抑えられる。
【００２１】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜請求項５の何れか１項記載の露光装置において、前記光量測定手段を前記複数の露光ヘッドと同数以下で且つ複数有することを特徴としている。
【００２２】
請求項７に記載の発明では、複数の露光ヘッドに対する露光ビームの光量測定を、複数の光量測定手段によって同時に行うことができるため、全露光ヘッドの光量測定を１つの光量測定手段で行う場合に比べて測定時間を短縮することができ、生産性を更に向上することができる。
【００２３】
請求項８に記載の発明は、請求項１〜請求項７の何れか１項記載の露光装置において、前記ビーム位置検出手段によって取得した前記各光ビームの露光面上でのビーム位置情報に基づいて、前記複数の露光ヘッドから照射された各光ビームにより露光される露光領域のつなぎを補正するつなぎ補正手段を有することを特徴としている。
【００２４】
請求項８に記載の発明では、ビーム位置検出手段によって取得した各光ビームの露光面上でのビーム位置情報に基づいて、つなぎ補正手段が複数の露光ヘッドから照射された各光ビームにより露光される露光領域のつなぎを補正する。これにより、複数の露光ヘッド間での露光領域（画像）のつなぎが高精度に補正される。
【００２５】
請求項９に記載の発明は、請求項１〜請求項８の何れか１項記載の露光装置において、前記光量測定手段によって取得した前記各光ビームの光量分布及び／又は露光量に基づいて、前記複数の露光ヘッドから照射された各光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整及び露光量の調整を行う制御手段を有することを特徴としている。
【００２６】
請求項９に記載の発明では、光量測定手段によって取得した各光ビームの光量分布及び／又は露光量に基づいて、制御手段が複数の露光ヘッドから照射された各光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整及び露光量の調整を行う。これにより、複数の露光ヘッド間での露光領域（画像）のつなぎが高精度に補正される。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の露光装置は上記構成としたので、シェーディング性能及びつなぎ補正性能を向上させて高精度な画像露光を行いつつ、生産性の向上と装置の小型化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態に係る露光装置について図面を参照して説明する。
【００２９】
図１には本発明の一実施形態に係る露光装置が示されている。また、図２〜図６には本実施形態に係る露光装置に適用される露光ヘッド及び空間光変調素子が示されている。
【００３０】
図１に示すように、露光装置１０は、４本の脚部１４に支持された矩形厚板状の設置台１２を備えている。設置台１２の上面には、長手方向に沿って２本のガイド１６が延設されており、これら２本のガイド１６上には、矩形平盤状のステージ１８が設けられている。ステージ１８は、長手方向がガイド１６の延設方向を向くよう配置され、ガイド１６によって設置台１２上を往復移動可能に支持されており、図示しない駆動装置に駆動されてガイド１６に沿って往復移動する（図１の矢印Ｙ方向）。
【００３１】
ステージ１８の上面には、露光対象物となる矩形板状の感光材料２０が図示しない位置決め部により所定の載置位置に位置決めされた状態で載置される。このステージ１８の上面（感光材料載置面）には、図示しない複数の溝部が形成されており、それらの溝部内が負圧供給源によって負圧とされることにより、感光材料２０はステージ１８の上面に吸着されて保持される。また、感光材料２０には、露光位置の基準を示すアライメントマーク２１が複数設けられており、本実施形態では、円形の貫通孔によって構成されるアライメントマーク２１が感光材料２０の四隅近傍にそれぞれ１個づつ計４個配置されている。
【００３２】
設置台１２の中央部には、ステージ１８の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート２２が設けられている。ゲート２２は、両端部がそれぞれ設置台１２上面の両側部に固定されており、ゲート２２を挟んで一方の側には感光材料２０を露光するスキャナ２４が設けられ、他方の側には感光材料２０に設けられたアライメントマーク２１を撮影する複数（例えば、２台）のＣＣＤカメラ２６を備えたアライメントユニット１００が設けられている。
【００３３】
図７に示すように、アライメントユニット１００は、ゲート２２に取り付けられる矩形状のユニットベース１０２を備えている。ユニットベース１０２のカメラ配設面側には、ステージ１８の移動方向（矢印Ｙ方向）と直交する方向（矢印Ｘ方向）に沿って一対のガイドレール１０４が延設されており、各ＣＣＤカメラ２６は、これら一対のガイドレール１０４に摺動可能に案内されるとともに、各々に個別に用意されたボールねじ機構１０６及びそれを駆動する図示しないステッピングモータ等の駆動源により駆動されて、ステージ１８の移動方向と直交する方向に独立して移動する。また、各ＣＣＤカメラ２６は、カメラ本体２６Ａの先端に設けられたレンズ部２６Ｂを下方へ向けるとともにレンズ光軸が略垂直になる姿勢で配置されており、このレンズ部２６Ｂの先端部にはリング状のストロボ光源（ＬＥＤストロボ光源）２６Ｃが取付けられている。
【００３４】
この各ＣＣＤカメラ２６は、感光材料２０のアライメントマーク２１を撮影する際に、上記の駆動源及びボールねじ機構１０６により矢印Ｘ方向に移動されてそれぞれ所定の撮影位置に配置され、すなわち、レンズ光軸が、ステージ１８の移動に伴って移動する感光材料２０のアライメントマーク２１の通過位置に合うように配置され、アライメントマーク２１が所定の撮影位置に至ったタイミングで、ストロボ光源２６Ｃを発光させ、感光材料２０へ照射したストロボ光の感光材料２０上面での反射光をレンズ部２６Ｂを介してカメラ本体２６Ａに入力させることにより、アライメントマーク２１を撮影する。
【００３５】
また、ステージ１８の駆動装置、スキャナ２４、ＣＣＤカメラ２６、ＣＣＤカメラ２６を移動させるための駆動源、及びステージ１８に設けられた後述する測定ユニット７０は、これらを制御するコントローラ２８に接続されている。このコントローラ２８により、後述する露光装置１０の露光動作時には、ステージ１８は所定の速度で移動するよう制御され、ＣＣＤカメラ２６は所定の位置に配置されて所定のタイミングで感光材料２０のアライメントマーク２１を撮影するよう制御され、スキャナ２４は所定のタイミングで感光材料２０を露光するよう制御される。また、測定ユニット７０による各測定動作時には、測定ユニット７０がコントローラ２８によって所定の各測定動作をするよう制御される。
【００３６】
図１及び図２に示すように、スキャナ２４の内部にはｍ行ｎ列（例えば、２行４列）の略マトリックス状に配列された複数（例えば、８個）の露光ヘッド３０が設置されている。
【００３７】
露光ヘッド３０で露光される露光エリア３２は、図２及び図１１に示すように、走査方向を短辺とする矩形状であり、走査方向に対し、所定の傾斜角θで傾斜している。そして、ステージ１８の移動に伴い、感光材料２０には露光ヘッド３０毎に帯状の露光済み領域３４が形成される。
【００３８】
また、図１１に示すように、帯状の露光済み領域３４が走査方向と直交する方向に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍、本実施の形態では１倍）ずらして配置されている。このため、例えば１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａと、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない領域は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない領域は、露光エリア３２Ｃにより露光される。
【００３９】
図３に示すように、各露光ヘッド３０は、それぞれ入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６を備えている。このＤＭＤ３６は、データ処理部とミラー駆動制御部を備えた上述のコントローラ２８に接続されている（図１参照）。
【００４０】
コントローラ２８のデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド３０毎にＤＭＤ３６の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。なお、制御すべき領域については後述する。また、ＤＭＤコントローラとしてのミラー駆動制御部では、データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド３０毎にＤＭＤ３６における各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。なお、この反射面の角度の制御については後述する。
【００４１】
各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３６の光入射側には、図１に示すように、紫外波長領域を含む一方向に延在したマルチビームをレーザ光として出射する照明装置３８からそれぞれ引き出されたバンドル状の光ファイバ４０が接続される。
【００４２】
照明装置３８は、図示は省略するがその内部に、複数の半導体レーザチップから出射されたレーザ光を合波して光ファイバに入力する合波モジュールが複数個設置されている。各合波モジュールから延びる光ファイバは、合波したレーザ光を伝搬する合波光ファイバであって、複数の光ファイバが１つに束ねられてバンドル状の光ファイバ４０として形成される。
【００４３】
また各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３６の光入射側には、図３に示すように、光ファイバ４０の接続端部から出射されたレーザ光を均一の照明光にする均一照明光学系４１と、均一照明光学系４１を透過したレーザ光をＤＭＤ３６に向けて反射するミラー４２とが配置されている。
【００４４】
各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３６の光反射側に設けられる投影光学系は、ＤＭＤ３６の光反射側の露光面にある感光材料２０上に光源像を投影するため、ＤＭＤ３６側から感光材料２０へ向って順に、レンズ系５０、マイクロレンズアレイ５４、対物レンズ系５６の各露光用の光学部材が配置されて構成されている。
【００４５】
ここで、レンズ系５０及び対物レンズ系５６は、図３に示すように複数枚のレンズ（凸レンズや凹レンズ等）を組み合せた拡大光学系として構成されており、ＤＭＤ３６により反射されるレーザビーム（光線束）の断面積を拡大することで、ＤＭＤ３６により反射されたレーザビームによる感光材料２０上の露光エリア３２の面積を所定の大きさに拡大している。なお、感光材料２０は、対物レンズ系５６の後方焦点位置に配置される。
【００４６】
マイクロレンズアレイ５４は、図３に示すように、照明装置３８から各光ファイバ４０を通じて照射されたレーザ光を反射するＤＭＤ３６の各マイクロミラー４６に１対１で対応する複数のマイクロレンズ６０が２次元状に配列され、一体的に成形されて矩形平板状に形成されたものであり、各マイクロレンズ６０は、それぞれレンズ系５０を透過した各レーザビーム（露光ビーム）の光軸上にそれぞれ配置されている。
【００４７】
またＤＭＤ３６は、図５に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）４４上に、マイクロミラー（微小ミラー）４６が支柱により支持されて配置されたものであり、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば、６００個×８００個）の微小ミラーを格子状に配列したミラーデバイスとして構成されている。各ピクセルには、最上部に支柱に支えられたマイクロミラー４６が設けられており、マイクロミラー４６の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。
【００４８】
また、マイクロミラー４６の直下には、図示しないヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル４４が配置されており、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。
【００４９】
ＤＭＤ３６のＳＲＡＭセル４４にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー４６が、対角線を中心としてＤＭＤ３６が配置された基板側に対して±α度（例えば±１０度）の範囲で傾けられる。図６には、ＤＭＤ３６の一部を拡大し、マイクロミラー４６が＋α度又は−α度に制御されている状態の一例を示しており、図６（Ａ）は、マイクロミラー４６がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図６（Ｂ）は、マイクロミラー４６がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。したがって、画像信号に応じて、ＤＭＤ３６の各ピクセルにおけるマイクロミラー４６の傾きを、図６に示すように制御することによって、ＤＭＤ３６に入射された光はそれぞれのマイクロミラー４６の傾き方向へ反射される。
【００５０】
それぞれのマイクロミラー４６のオンオフ（ｏｎ／ｏｆｆ）制御は、ＤＭＤ３６に接続されたコントローラ２８のミラー駆動制御部によって行われ、オン状態のマイクロミラー４６により反射された光は露光状態に変調され、ＤＭＤ３６の光出射側に設けられた投影光学系（図３参照）へ入射する。またオフ状態のマイクロミラー４６により反射された光は非露光状態に変調され、光吸収体（図示省略）に入射する。
【００５１】
また、ＤＭＤ３６は、その短辺方向が走査方向と所定角度（例えば、０．１°〜０．５°）を成すように僅かに傾斜させて配置するのが好ましい。図４（Ａ）はＤＭＤ３６を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる反射光像（露光ビーム）４８の走査軌跡を示し、図４（Ｂ）はＤＭＤ３６を傾斜させた場合の露光ビーム４８の走査軌跡を示している。
【００５２】
ＤＭＤ３６には、長手方向（行方向）に沿ってマイクロミラー４６が多数個（例えば、８００個）配列されたマイクロミラー列が、短手方向に多数組（例えば、６００組）配列されているが、図４（Ｂ）に示すように、ＤＭＤ３６を傾斜させることにより、各マイクロミラー４６による露光ビーム４８の走査軌跡（走査線）のピッチＰ2が、ＤＭＤ３６を傾斜させない場合の走査線のピッチＰ1より狭くなり、解像度を大幅に向上させることができる。一方、ＤＭＤ３６の傾斜角は微小であるので、ＤＭＤ３６を傾斜させた場合の走査幅Ｗ2と、ＤＭＤ３６を傾斜させない場合の走査幅Ｗ1とは略同一である。
【００５３】
また、異なるマイクロミラー列により同じ走査線上における略同一の位置（ドット）が重ねて露光（多重露光）されることになる。このように、多重露光されることで、露光位置の微少量をコントロールすることができ、高精細な露光を実現することができる。また、走査方向に配列された複数の露光ヘッド間のつなぎ目を微少量の露光位置制御により段差無くつなぐことができる。
【００５４】
なお、ＤＭＤ３６を傾斜させる代わりに、各マイクロミラー列を走査方向と直交する方向に所定間隔ずらして千鳥状に配置しても、同様の効果を得ることができる。
【００５５】
上記のように構成された露光ヘッド３０では、照明装置３８からの入射光（レーザ光）をＤＭＤ３６により変調してその露光ビーム（レーザビーム）を感光材料２０の表面に照射して露光（画像形成）を行うが、その動作中に生じる外乱、あるいは経時的な変化等によって、ＤＭＤ３６で反射されて出射される露光ビームにおける、走査方向に直交する方向に対する光量分布が不均一になったり、感光材料２０上における所定の露光量の値で露光されるべき各部分の露光量が、所定の露光量の値から変化してしまう場合がある。
【００５６】
そこで、この露光装置１０では、光量分布を均一化するシェーディング調整と露光量の調整をするため、ＤＭＤ３６側から出射される露光ビームにおける光量分布と露光量を測定するための光量測定手段を設けている。
【００５７】
さらに、この露光ヘッド３０では、光源から結像面に至るまでに多数の光学部材や機構部材等が設けられているため、温度変化による熱膨張や熱収縮、及び長期間使用による経時変化の蓄積等により、各露光ヘッド３０からの露光ビームにより形成される画像（露光済み領域３４）が、つなぎ目において無視できない程度のずれを起こし、画像品質が低下する場合がある。
【００５８】
そこで、この露光装置１０では、複数の露光ヘッド３０が出射する露光ビームによって形成される各画像（露光エリア３２）のつなぎを補正するため、各露光ビームの露光位置を検出するビーム位置検出手段を設けている。
【００５９】
そして、これらの光量測定手段及びビーム位置検出手段は、測定ユニット７０に一体的に構成されてユニット化されている。
【００６０】
図１に示すように、露光装置１０のステージ１８には、感光材料２０を載置するために停止されるステージ１８の停止位置（図１の状態）において、複数の露光ヘッド３０が搭載されたスキャナ２４に近い側の端部であるステージ移動方向の下流側の端部に測定ユニット７０が取り付けられている。測定ユニット７０は、図２及び図８に示すように、ステージ１８に取り付けられる箱状のユニットフレーム７１を備え、ユニットフレーム７１内には、ＤＭＤ３６側から出射された露光ビームにおける走査方向と直交する方向（矢印Ｘ方向）に対する光量分布と露光量を測定する光量測定手段としての光量測定器７２と、光量測定器７２を上面に取り付けた移動ベース７４とが配置されている。
【００６１】
ユニットフレーム７１の両側部に対向して立設された側板部８８Ａ、８８Ｂの間には、ステージ１８の移動方向（矢印Ｙ方向）と直交する方向（矢印Ｘ方向）に沿って２本のガイドシャフト９０Ａ、９０Ｂ、及びボールねじ９２が架設されている。移動ベース７４は、ステージ１８側となる一端部に形成されたガイド孔９４が一方のガイドシャフト９０Ａに挿通され、他端の下部に回転可能に取り付けられたカムフォロア９６が他方のガイドシャフト９０Ｂ上に乗せられて支持されるとともに、下面に取り付けられたボールねじナット９８がボールねじ９２に螺合している。そして、ボールねじ９２が図示しないステッピングモータ等の駆動源によって駆動されることにより、移動ベース７４及び光量測定器７２はガイドシャフト９０Ａ、９０ＢにガイドされてＸ方向に移動する。
【００６２】
光量測定器７２は、矩形箱状のハウジング７６を備えており、ハウジング７６の上面に形成された矩形状の開口７７にはスリット板７８が嵌め込まれて取り付けられている。図９に示すように、スリット板７８には、平面視がＩ字状（直線状）とされた貫通溝のスリット８０が形成されており、このスリット８０は、露光ヘッド３０から出射された露光ビームによる走査方向（ステージ１８の移動方向）と平行な向きにされている。
【００６３】
図１０に示すように、光量測定器７２のハウジング７６内には、スリット板７８の直下で且つスリット８０から入射する露光ビームの光路上に集光レンズ８２が配置され、また、必要に応じて集光レンズ８２の直下に光学フィルタ（ＮＤフィルタ）８４を配置し、さらに、光学フィルタ８４の直下に受光素子（フォトディテクタ）８６が配置されている。
【００６４】
なお、光学フィルタ８４は、感光材料２０の分光感度特性に合わせるために使用する、又は露光ヘッド３０から出射される光ビームの光学波長特性に合わせるために使用するものであり、ＤＭＤ３６と受光素子８６との間であれば光路上の任意の位置に配置することができる。
【００６５】
また、受光素子８６はコントローラ２８に接続され、受光した光量に応じた電気信号をコントローラ２８に出力するよう構成されている。
【００６６】
この光量測定器７２は、前述したように移動ベース７４に取り付けられて測定ユニット７０に搭載されているが、本実施形態では、スリット板７８の上面がステージ１８に載置された感光材料２０の露光面位置と一致するように（感光材料２０の露光面と面一になる状態）に配置されている。
【００６７】
そして、この光量測定器７２により光ビームの光量を測定する際には、スリット８０を通過した光ビームが集光レンズ８２に入射し、集光レンズ８２で集光される光路上で光学フィルタ８４に入射し、所定波長の光ビームが光学フィルタ８４を透過し、受光素子８６上に集光されて受光され、受光素子８６が受光量の測定値に応じた電圧レベルの信号をコントローラ２８に出力する。また、この光ビームの光量測定では、上記のように、スリット板７８を感光材料２０の露光面位置に一致させて配置していることにより、感光材料２０上での実際の露光とほぼ同じレベルの光量を測定することができ、その測定精度を高めることができる。
【００６８】
また、本実施形態の測定ユニット７０には、前述したようにビーム位置検出手段が設けられており、このビーム位置検出手段は、図２及び図８に示すように、ユニットフレーム７１の上板部９９に嵌め込まれて取り付けられた基準板１７０と、移動ベース７４の上面に取り付けられて基準板１７０の下方に配置された受光素子（フォトディテクタ）１７２とを備えている。
【００６９】
このビーム位置検出手段を構成する基準板１７０及び受光素子１７２は、図示のように、光量測定器７２よりもステージ１８側（ステージ移動方向における上流側）に配置されている。
【００７０】
基準板１７０は、スキャナ２４に設けられた複数の露光ヘッド３０の配列方向における全幅寸法よりも長尺とされた矩形状のガラス板によって形成されており、ステージ移動方向に下流側にビーム位置検出部１７０Ａが設けられ、上流側にカメラ位置検出部１７０Ｂが設けられている（図２参照）。
【００７１】
ビーム位置検出部１７０Ａには、クロムメッキ等の金属膜によるパターニングで、Ｘ方向に向かって開く「く」の字型で透明部（透光部）に形成された複数のスリット１２０がＸ方向に沿って所定の間隔で配列されている。
【００７２】
このスリット１２０は、図９に示すように、ステージ移動方向の上流側（カメラ位置検出部１７０Ｂ側）に位置する所定長さを持つ直線状のスリット部１２０ａと、ステージ移動方向の下流側（光量測定器７２）に位置する所定長さを持つ直線状のスリット部１２０ｂと、をそれぞれの一端部で直角に接続した形状に形成されている。すなわち、スリット部１２０ａと、スリット部１２０ｂとは互いに直交するとともに、Ｙ軸に対してスリット部１２０ａは１３５度、スリット部１２０ｂは４５度の角度を有している。
【００７３】
なお、スリット１２０におけるスリット部１２０ａと、スリット部１２０ｂとは、ステージ１８の移動方向（走査方向）に対して４５度の角度を成すように形成したものを図示したが、これらスリット部１２０ａと、スリット部１２０ｂとを、露光ヘッド３０の画素配列に対して傾斜すると同時に、ステージ移動方向に対して傾斜する状態（お互いが平行でないように配置した状態）とできれば、ステージ移動方向に対する角度を任意に設定しても良い。また、スリット１２０に代えて回折格子を使用してもよい。
【００７４】
一方、受光素子１７２は、移動ベース７４の上面における一端部に取り付けられてビーム位置検出部１７０Ａの下方に位置しており、コントローラ２８によってボールねじ９２が駆動制御されることにより、移動ベース７４の移動に伴ってＸ方向に移動し各スリット１２０の真下に配置される。また、受光素子１７２はコントローラ２８に接続され、受光した光量に応じた電気信号をコントローラ２８に出力するよう構成されている。
【００７５】
また、基準板１７０のカメラ位置検出部１７０Ｂには、図９に示すように、クロムメッキ等の金属膜によるパターニングで、円形に形成された検出用マーク１７７Ａ、十字形に形成された検出用マーク１７７Ｂ、及び正方形に形成された検出用マーク１７７ＣがＸ方向に沿って所定の間隔で順番に複数配列されている。
【００７６】
図２０（Ａ）〜（Ｄ）に示すように、この検出用マーク１７７Ａの幅寸法：ＭＡと検出用マーク１７７Ｂの幅寸法：ＭＢと検出用マーク１７７Ｃの幅寸法：ＭＣとは等しくされ（ＭＡ＝ＭＢ＝ＭＣ）、検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃの配列ピッチ：Ｐ１は、ＣＣＤカメラ２６の視野（撮影視野）ＶのＸ方向における長さ寸法：Ｌから、検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃの幅寸法の１／２を差し引いた値に設定されている（Ｐ１＝Ｌ−（ＭＡ／２）＝Ｌ−（ＭＢ／２）＝Ｌ−（ＭＣ／２））。また、ここでは、ＣＣＤカメラ２６のＸ方向への移動単位：Ｕ１は、検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃの幅寸法の１／２に設定されている（Ｕ１＝ＭＡ／２＝ＭＢ／２＝ＭＣ／２）。
【００７７】
次に、この露光装置１０に装備された測定ユニット７０の光量測定器７２を使用して、スキャナ２４の各露光ヘッド３０から出射される露光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整と露光量の調整を行う際の手順について説明する。
【００７８】
まず、上記の各調整を実施するに当たり、露光ビームの光量分布及び露光量を光量測定器７２によって測定する。この測定では、コントローラ２８が照明装置３８及び測定対称となる露光ヘッド３０のＤＭＤ３６を制御して、そのＤＭＤ３６の第１列目（例えば図２では右側となる、走査方向に直交する方向に対して光量測定器７２の初期位置側に位置する第１列目）から最終列目にかけて各列毎に順次点灯させる動作をさせる。
【００７９】
また、コントローラ２８は、この照明装置３８及びＤＭＤ３６に対する制御の開始前に、ＤＭＤ３６の第１列目のマイクロミラー４６群をオン状態（点灯）とし、他のマイクロミラー４６を全てオフ状態としたときに露光ビームが照射される露光面上の所定位置に、スリット８０の中央部が対応して配置されるよう、ボールねじ９２を駆動制御して光量測定器７２を初期位置に移動させ停止させる。
【００８０】
この光量測定器７２の初期位置への配置後に、コントローラ２８は光量測定を開始し、測定対象となるＤＭＤ３６の第１列目のマイクロミラー４６群だけをオン状態（点灯）にさせ、この第１列目のマイクロミラー４６群だけに対応した走査領域の露光量を測定する。続いて、コントローラ２８は、ＤＭＤ３６の第２列目のマイクロミラー４６群で露光される露光面上の走査領域にスリット８０の中央部が位置するように、ボールねじ９２を駆動制御して光量測定器７２を移動させ、その移動停止後に、ＤＭＤ３６の第２列目のマイクロミラー４６群だけをオン状態（点灯）にさせて、この第２列目のマイクロミラー４６群に対応した走査領域の露光量を測定する。
【００８１】
コントローラ２８は、上述した一連の光量測定動作を、第１列目のマイクロミラー４６群から最終列目のマイクロミラー４６群に至るまで順次繰り返す。これにより、測定対象となった一つのＤＭＤ３６で変調され出射された露光ビームの光量分布と露光量とが測定され、コントローラ２８は、これらの測定値を、測定対象となった一つのＤＭＤ３６による露光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整と露光量の調整を行うためにメモリに記憶する。
【００８２】
このようにスリット８０を利用して露光走査方向に対応した、ある１列のマイクロミラー４６群の光量を測定する場合には、図１０に示すように、露光ヘッド３０のＤＭＤ３６におけるオン状態とされた１列のマイクロミラー４６群から出射された所定複数の露光ビーム４８がスリット８０の長手方向中央部を通過し、集光レンズ８２で集光され、光学フィルタ８４を通過した露光ビーム４８が受光素子８６に受光されて、その光量が測定される。
【００８３】
このとき、ＤＭＤ３６におけるオン状態とされた１列のマイクロミラー４６群以外のところから照射される迷光や他の露光ビーム等の光量測定の対象外となる光は、スリット板７８のスリット８０以外の平面部分で反射されて遮断される。そのため、光量測定の対象外となる光が、図１０に３点鎖線で示すように受光素子８６に受光されることは無い。
【００８４】
よって、このようにスリット８０を設けたスリット板７８を使用して光量測定を行う場合には、迷光等の影響を排除して、オン状態とされた所定列のマイクロミラー４６群から出射された所定複数の露光ビームによる実際の露光状態に即した走査領域の光量を測定することができる。
【００８５】
また、この光量測定では、図１１に示すように、例えば、図中の最も左に位置する１行１列目のＤＭＤ３６Ａに対する光量測定を終了した後は、次に、その右隣位置する１行２列目のＤＭＤ３６Ｃに対する光量測定を同様に行い、１行目の全てのＤＭＤ３６（３６Ａ、３６Ｃ、３６Ｅ、３６Ｇ）の光量測定を行う。さらに、１行目の各ＤＭＤ３６に対する光量測定の終了後は、ステージ１８を移動して２行目の各ＤＭＤ３６（３６Ｂ、３６Ｄ、３６Ｆ、３６Ｈ）の光量測定を順に行う。
【００８６】
このようにして測定された各ＤＭＤ３６による露光ビームの光量分布及び露光量は、例えば図１２のグラフにおける実線（スリットあり）で示すようなデータとなる。また、この図１２に例示した光量データは、上述したように、光量測定時にスリット板７８のスリット８０によって迷光等が除外されるため、例えばスリット板７８を設けずに迷光等が受光素子８６に入射してしまうような光量測定手段を使用した場合と比べて精度が向上する。
【００８７】
ここで、図１２に例示するような光量分布が不均一な光量データが得られた場合には、各ＤＭＤ３６による露光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整と露光量の調整を行う。
【００８８】
このシェーディング調整と露光量の調整は、例えば、露光量が多くなる画素に対して多重露光するマイクロミラー４６の数を減らす、又はそのマイクロミラー４６のオン状態の時間を減少させることにより、光量分布における露光量の最低線に沿うよう光量分布を均一化する補正を行う。
【００８９】
なお、各画素に対する露光ビームの状態は、図１３に示すような正規分布の状態となるので、露光量が多くなると画素の露光面積が広くなり、露光量が少なくなると画素の露光面積が狭くなる性質を利用して、露光量が多くなる画素の部分に対応した画像データを狭い面積となるように書き換え、露光量が小さくなる画素の部分に対応した画像データを広い面積となるように書き換えて補正（例えば、露光量が多くなる画素の部分で線の画像を形成する場合には、この線の画像データを細い線とする画像データに書き換えることにより補正）するようにしても良い。
【００９０】
また、上記のシェーディング調整及び露光量の調整は、各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６毎に実施するだけではなく、スキャナ２４に搭載した全ての露光ヘッド３０のＤＭＤ３６で、相対的に光量分布が均一化するように調整することが望ましい。
【００９１】
また、この露光装置１０では、光量測定器７２に設けた光学フィルタ８４を利用して、感光材料２０の分光感度特性に対応した、又は光源となる照明装置３８から出射される光ビームの光学波長特性に対応した露光量の調整を行うことができる。
【００９２】
次に、測定ユニット７０の基準板１７０及び受光素子１７２を使用して、スキャナ２４の各露光ヘッド３０から出射される露光ビームによって形成される各画像のつなぎを補正する手順について説明する。
【００９３】
前述したように、本実施形態のスキャナ２４による露光動作では、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａと、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分が、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂによって露光されるため（図１１参照）、露光エリア３２Ａにつながれる露光エリアは露光エリア３２Ｂである。図１４に、この露光エリア３２Ａ及び露光エリア３２Ｂの位置関係を示す。
【００９４】
図１４に示すように、露光エリア３２Ａと露光エリア３２Ｂとは、露光ヘッド３０Ａの画素である繋ぎ画素Ｐ１と、露光ヘッド３０Ｂの画素である繋ぎ画素Ｐ２とにおいてつなげられる。この繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２とを選択して実際の位置を特定する手順は、先ず、コントローラ２８がステージ１８を移動制御してスリット１２０をスキャナ２４の下方に配置し、露光ヘッド３０Ａの画素のうち、露光ヘッド３０Ｂの画素に重ねるべき画素を繋ぎ画素Ｐ１として選択し、点灯させる。また、このとき、コントローラ２８は、露光ビームが照射されるスリット１２０に受光素子１７２が対応して配置されるよう、ボールねじ９２を駆動制御して移動ベース７４及び受光素子１７２を所定位置に移動させて停止させる。
【００９５】
続いて、ステージ１８をゆっくり移動させ、図１４及び図１５に示すように、スリット１２０をＹ軸方向に沿って移動させて露光エリア３２Ａに配置する。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ０）とする。ここで、前述したように、スリット１２０ａはＹ軸に対して１３５度の角度を成し、スリット１２０ｂはＹ軸に対して４５度の角度を成している。
【００９６】
次に、図１６に示すように、ステージ１８を移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１６における右方に移動させる。そして、図１６において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素Ｐ１からの光が左側のスリット１２０ａを通過して受光素子１７２で検出されたところでステージ１８を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ１１）とする。
【００９７】
続いて、ステージ１８を逆方向へ移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１７における左方に移動させる。そして、図１７において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素Ｐ２からの光が右側のスリット１２０ｂを通過して受光素子１７２で検出されたところでステージ１８を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ１２）とする。
【００９８】
ここで、繋ぎ画素Ｐ１の座標を（Ｘ１，Ｙ１）とすると、Ｘ１＝Ｘ０＋（Ｙ１１−Ｙ１２）／２で表され、Ｙ１＝（Ｙ１１＋Ｙ１２）／２で表される。
【００９９】
繋ぎ画素Ｐ１の座標が求められたら、繋ぎ画素Ｐ１を消灯し、露光ヘッド３０Ｂの画素のうち、露光エリア３２Ａに繋ぐべき画素であって繋ぎ画素Ｐ１に位置の近いものを繋ぎ画素Ｐ２として選択し、点灯させる。
【０１００】
そして、ステージ１８をＹだけ移動させてスリット１２０を露光エリア３２Ｂに位置させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点の座標は（Ｘ０，Ｙ０＋Ｙ）である。
【０１０１】
そして、図１７に示すように、ステージ１８を移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１７における右方に移動させる。図１７において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素Ｐ２からの光が左側のスリット１２０ａを通過して受光素子１７２で検出されたところでステージ１８を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ２１）とする。
【０１０２】
続いて、ステージ１８を逆方向へ移動させ、スリット１２０をＹ軸に沿って図１７における左方に移動させる。そして、図１７において二点鎖線で示すように、繋ぎ画素Ｐ１からの光が右側のスリット１２０ｂを通過して受光素子１７２で検出されたところでステージ１８を停止させる。このときのスリット１２０ａとスリット１２０ｂとの交点を（Ｘ０，Ｙ２２）とする。
【０１０３】
ここで、繋ぎ画素Ｐ２の座標を（ｘ２，ｙ２）とすると、ｘ２＝Ｘ０＋（Ｙ２１−Ｙ２２）／２で表され、ｙ２＝（Ｙ２１＋Ｙ２２）／２で表される。
【０１０４】
このようにして求められた繋ぎ画素Ｐ２（ｘ２，ｙ２）について、図１８に示すように、繋ぎ画素Ｐ１とのＸ座標の差ΔＸ＝Ｘ２−Ｘ１を求める。そして、上記の繋ぎ画素Ｐ２のうち、Ｘ座標の差ΔＸが最も小さなものを繋ぎ画素Ｐ２（Ｘ２，Ｙ２）として選択する。
【０１０５】
繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２とは、Ｘ方向のずれが極めて小さいため、露光タイミングを補正してＹ軸方向のずれを除去し、Ｘ方向については画像が重なるように露光ヘッド３０Ａと露光ヘッド３０Ｂに入力される画像データを制御することにより、図１９に示すように繋ぎ画素Ｐ１と繋ぎ画素Ｐ２との間の画像のずれや重なりを除去できる。
【０１０６】
なお、露光ヘッド３０Ａにおいて繋ぎ画素Ｐ１を複数指定し、前記複数の繋ぎ画素Ｐ１のそれぞれについて上記手順に従って実際のＸＹ座標（Ｘ１，Ｙ１）を特定するとともに、上記繋ぎ画素Ｐ１のそれぞれについて露光ヘッド３０Ｂの画素から繋ぎ画素Ｐ２を指定して実際のＸＹ座標（Ｘ２、Ｙ２）を特定すれば、露光ヘッド３０Ａと露光ヘッド３０Ｂとの間の画像のずれや重なりをさらに小さくすることができる。
【０１０７】
このように、本実施形態の露光装置１０では、ステージ１８を移動させてスリット１２０のスリット１２０ａ及びスリット１２０ｂを透過する露光ビームの光量を受光素子１７２で検出することにより、露光ヘッド３０Ａ及び露光ヘッド３０Ｂの画素から繋ぎ画素Ｐ１及び繋ぎ画素Ｐ２を選択することができ、実際の位置が特定できる。
【０１０８】
また、露光ヘッド３０Ａと露光ヘッド３０Ｂとの相対的な位置関係が仮にずれた場合でも、繋ぎ画素Ｐ１及び繋ぎ画素Ｐ２の実際の位置に関する位置情報に基いて露光ヘッド３０Ａと露光ヘッド３０Ｂとに入力する画像データを制御することにより、露光ヘッド３０Ａ、３０Ｂにより形成される画像のずれや重なりを精度よく補正できる。
【０１０９】
また、上述した露光ヘッド３０Ａ、３０Ｂに対する画像のつなぎ補正は、露光装置１０のスキャナ２４に搭載された全ての露光ヘッド３０に対し同様の手順で実施する。すなわち、全ての露光ヘッド３０間の繋ぎ画素を特定し、その繋ぎ画素で画像が重なるように、各露光ヘッド３０に入力される画像データに対して画像データシフト、画像回転、倍率変換などの補正を行う。これにより、露光装置１０による露光動作では、露光領域全体に亘って繋ぎ目におけるずれの少ない画像を形成することができる。
【０１１０】
次に、上記のように構成された露光装置１０による感光材料２０に対する露光動作について説明する。
【０１１１】
先ず、露光パターンに応じた画像データがコントローラ２８に入力されると、コントローラ２８内のメモリに一旦記憶される。この画像データは、画像を構成する各画素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータである。
【０１１２】
次に、オペレータが、図１に示す初期位置に停止されたステージ１８上に感光材料２０をセットし、コントローラ２８から露光開始の入力操作を行う。なお、露光装置１０により画像露光を行う感光材料２０としては、プリント配線基板や液晶表示素子等のパターンを形成（画像露光）する材料としての基板やガラスプレート等の表面に、感光性エポキシ樹脂等のフォトレジストを塗布、又ドライフィルムの場合はラミネートしたものなどが挙げられる。
【０１１３】
上記の入力操作により、露光装置１０の露光動作が開始すると、コントローラ２８により駆動装置が制御され、感光材料２０を上面に吸着したステージ１８は、ガイド１６に沿って移動方向（矢印Ｙ方向）におけるアライメント計測方向の上流側から下流側に一定速度で移動開始する。このステージの移動開始に同期して、又は、感光材料２０の先端が各ＣＣＤカメラ２６の真下に達する少し手前のタイミングで、各ＣＣＤカメラ２６はコントローラ２８により制御されて作動する。
【０１１４】
ステージ１８の移動に伴い、感光材料２０がＣＣＤカメラ２６の下方を通過する際には、ＣＣＤカメラ２６によるアライメント計測が行われる。
【０１１５】
このアライメント計測では、先ず、感光材料２０の移動方向下流側（前端側）の角部近傍に設けられた２個のアライメントマーク２１が各ＣＣＤカメラ２６の真下（レンズの光軸上）に達すると、所定のタイミングで各ＣＣＤカメラ２６はそれぞれアライメントマーク２１を撮影し、その撮影した画像データを、すなわち、露光位置の基準がアライメントマーク２１によって示された基準位置データを含む画像データをコントローラ２８のデータ処理部へ出力する。アライメントマーク２１の撮影後は、ステージ１８が下流側への移動を再開する。
【０１１６】
また、本実施形態の感光材料２０のように、移動方向（走査方向）に沿って複数のアライメントマーク２１が設けられている場合には、次のアライメントマーク２１（移動方向上流側（後端側）の角部近傍に設けられた２個のアライメントマーク２１）が各ＣＣＤカメラ２６の真下に達すると、同様に所定のタイミングで各ＣＣＤカメラ２６はそれぞれアライメントマーク２１を撮影してその画像データをコントローラ２８のデータ処理部へ出力する。
【０１１７】
なお、感光材料に、移動方向に沿って３個以上のアライメントマークが設けられている場合も同様に、各アライメントマークがＣＣＤカメラ２６の下方を通過する毎に、所定のタイミングでＣＣＤカメラ２６によるアライメントマークの撮影が繰り返し行われ、全てのアライメントマークに対し、その撮影した画像データがコントローラ２８のデータ処理部へ出力される。
【０１１８】
データ処理部は、入力された各アライメントマーク２１の画像データ（基準位置データ）から判明する画像内におけるマーク位置及びマーク間ピッチ等と、そのアライメントマーク２１を撮影したときのステージ１８の位置及びＣＣＤカメラ２６の位置から、演算処理によって、ステージ１８上における感光材料２０の載置位置のずれ、移動方向に対する感光材料２０の傾きのずれ、及び、感光材料２０の寸法精度誤差等を把握し、感光材料２０の被露光面に対する適正な露光位置を算出する。そして、後述するスキャナ２４による画像露光時に、メモリに記憶されている露光パターンの画像データに基づいて生成する制御信号をその適正な露光位置に合わせ込んで画像露光する露光位置ずれの補正（アライメント）を実行する。
【０１１９】
感光材料２０がＣＣＤカメラ２６の下方を通過すると、ＣＣＤカメラ２６によるアライメント計測が完了し、続いてステージ１８は駆動装置により逆方向へ駆動され、ガイド１６に沿って走査方向へ移動する。そして感光材料２０はステージ１８の移動に伴いスキャナ２４の下方を走査方向の下流側へ移動し、被露光面の画像露光領域が露光開始位置に達すると、スキャナ２４の各露光ヘッド３０は露光ビームを照射して感光材料２０の被露光面に対する画像露光を開始する。
【０１２０】
ここで、コントローラ２８のメモリに記憶された画像データが複数ライン分ずつ順次読み出され、データ処理部で読み出された画像データに基づいて各露光ヘッド３０毎に制御信号が生成される。この制御信号には、前述した露光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整と露光量の調整、及びアライメント計測によって得られた感光材料２０に対する露光位置ずれの補正が加えられる。そして、ミラー駆動制御部は、この生成及び補正された制御信号に基づいて各露光ヘッド３０毎にＤＭＤ３６のマイクロミラー４６の各々をオンオフ制御する。
【０１２１】
照明装置３８の光ファイバ４０から出射されたレーザ光がＤＭＤ３６に照射されると、ＤＭＤ３６のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光は、マイクロレンズアレイ５４の各対応するマイクロレンズ６０を含むレンズ系により感光材料２０の露光面上に結像される。このようにして、照明装置３８から出射されたレーザ光が画素毎にオンオフされて、感光材料２０がＤＭＤ３６の使用画素数と略同数の画素単位（露光エリア）で露光される。
【０１２２】
また、感光材料２０がステージ１８とともに一定速度で移動されることにより、感光材料２０がスキャナ２４によりステージ移動方向と反対の方向に走査され、各露光ヘッド３０毎に帯状の露光済み領域３４（図２に図示）が形成される。
【０１２３】
スキャナ２４による感光材料２０の画像露光が完了すると、ステージ１８は駆動装置によりそのまま走査方向の下流側へ駆動されて走査方向の最下流側にある初期位置に復帰する。以上により、露光装置１０による感光材料２０に対する露光動作が終了する。
【０１２４】
次に、本実施形態の露光装置１０におけるアライメント機能（露光位置合わせ機能）の校正方法について説明する。
【０１２５】
上述したアライメント機能を備える本実施形態の露光装置１０では、ＣＣＤカメラ２６が移動する際に姿勢変化（ローリング、ピッチング、及びヨーイング）を起こし、撮影位置に配置された状態で撮影レンズの光軸中心が正規の位置からずれる場合があるため、その影響により、アライメント機能を用いて露光位置を補正し画像露光を行っても、露光位置が適正位置からずれて許容範囲を超えてしまう場合がある。
【０１２６】
このＣＣＤカメラ２６の姿勢変化による光軸ずれ要因により精度が影響されるアライメント機能を校正するため、露光装置１０の製造時やメンテナンス時、あるいは、露光動作における所定のタイミング（例えば、所定数の感光材料に対する露光動作後等）に、以下に説明する校正方法によりアライメント機能の校正作業を実施する。
【０１２７】
この校正作業の手順としては、先にＣＣＤカメラ２６の校正を行い、次に露光基準とカメラ光軸中心との位置関係を取得して、その取得情報を露光ヘッド３０による露光位置合わせに反映させる手順で行うが、この校正作業は感光材料２０に対する露光手順とは別に事前に実施する、又は、感光材料２０に対する露光時に同時に実施することができる。また、ＣＣＤカメラ２６の校正、及び、露光基準とカメラ光軸中心との位置関係の取得については、連続的又は個別に行うことができるが、ここでは、連続的に行う場合で説明する。
【０１２８】
ＣＣＤカメラ２６の校正については、先ず、オペレータが露光対象物となる感光材料２０のアライメントマーク２１の位置データをコントローラ２８に入力する。この位置データの入力によりアライメントマーク２１の座標が取得される。
【０１２９】
続いて、オペレータがコントローラ２８から校正開始の入力操作を行うと、露光装置１０の校正動作が開始し、コントローラ２８は上記の入力された位置データに基づいて各ＣＣＤカメラ２６の駆動源を制御し、各ＣＣＤカメラ２６を感光材料２０のアライメントマーク２１を撮影する所定の撮影位置にそれぞれ移動させる。このとき、各ＣＣＤカメラ２６の位置は、各駆動源（ステッピングモータ）のパルスをカウントすることでコントローラ２８に制御され、また前述した移動単位（Ｕ１）のステップで送られる。
【０１３０】
各ＣＣＤカメラ２６がアライメントマーク２１の撮影位置に配置されると、ステージ１８がガイド１６に沿ってアライメント計測方向の上流側から下流側に移動し、基準板１７０のカメラ位置検出部１７０Ｂを各ＣＣＤカメラ２６の下方（視野内）に配置する位置まで移動する。
【０１３１】
各ＣＣＤカメラ２６の視野内に基準板１７０のカメラ位置検出部１７０Ｂが配置されると、各ＣＣＤカメラ２６はコントローラ２８により制御されてカメラ位置検出部１７０Ｂをそれぞれ撮影する。このとき、各ＣＣＤカメラ２６は、カメラ位置検出部１７０Ｂに配列された複数の検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃのうち少なくとも１つをそれぞれ撮影する。
【０１３２】
次に、撮影された検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃの視野中心（光軸中心）からの位置ずれ量を、コントローラ２８が画像処理等によって計測する。なお、ここでは、撮影した検出用マークが検出用マーク１７７Ａ、検出用マーク１７７Ｂ、及び検出用マーク１７７Ｃの何れであるかは、パターンマッチング等の画像処理を用いて切り替える。
【０１３３】
ここで、撮影された検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃが、複数設けられたうちの何れの検出用マークであるかは上記のパルスによって特定し、また、各検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃマークの絶対位置データは予め別の測定手段によって測定し、コントローラ２８に記憶されており、この絶対位置データと、上記の計測結果（計測値）との差分を演算して、基準板１７０と各ＣＣＤカメラ２６の光軸中心との位置ずれデータを取得する。この計測及び演算結果から、アライメントマーク２１を撮影する位置（アライメント計測位置）における各ＣＣＤカメラ２６の光軸中心ずれ量を補正するための校正用データが得られ、この校正用データはコントローラ２８のメモリに記憶される。そして、ＣＣＤカメラ２６の校正動作を終了し、次に、露光基準とカメラ光軸中心との位置関係の取得動作に移行する。
【０１３４】
この動作が開始すると、コントローラ２８により駆動装置が制御され、ステージ１８は基準板１７０のビーム位置検出部１７０Ａを露光ヘッド３０によるレーザビームの照射位置（露光位置）まで移動する。次に、基準板１７０のビーム位置検出部１７０Ａへ向けて露光ヘッド３０からレーザビームを照射し、前述したビーム位置検出動作により、露光基準点の位置を計測する。
【０１３５】
ここで、ビーム位置検出部１７０Ａとカメラ位置検出部１７０Ｂとは同一の基準板１７０に設けられており、これらの位置関係は予め別の測定手段により測定されている。これにより、露光基準と、上記のカメラの校正動作で撮影した検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃとの位置関係が判明する。したがって、本動作により計測した露光基準データと、カメラの校正動作により取得したＣＣＤカメラ２６の光軸中心との位置ずれデータ（校正用データ）とを演算することで、露光基準とカメラ光軸中心との位置関係を示す露光基準−カメラ光軸中心位置データ（補正データ）が得られ、このデータはコントローラ２８のメモリに記憶される。そして、露光基準とカメラ光軸中心との位置関係の取得動作を終了し、校正動作を終了する。
【０１３６】
以上のアライメント機能の校正方法によって露光装置１０の校正作業を行い、その校正された露光装置１０によって、感光材料２０を画像露光する場合には、コントローラ２８がメモリから露光基準−カメラ光軸中心位置データを読み出し、露光パターンの画像データに基づいて生成する制御信号（露光データ）を、この露光基準−カメラ光軸中心位置データを用いて演算処理することにより校正用データを露光データに反映させる。そしてこの制御信号にさらに、前述したように感光材料２０をアライメント計測して取得した露光位置の補正データを反映させる補正制御（アライメント）を実行し、適正な露光位置に合わせ込んで画像露光を行う。
【０１３７】
また、本実施形態では、図２０（Ａ）〜（Ｄ）に示すように、移動単位（Ｕ１）のステップで送られる各ＣＣＤカメラ２６は、何れの位置に配置されても常に検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃの何れか１つを視野内に捉えて撮影する。これにより、感光材料のサイズ（幅寸法）に応じて走査方向と直交する方向でのアライメントマークの位置が変更される場合でも、そのアライメントマークの位置と対応する所定の位置に各ＣＣＤカメラ２６を配置した状態での校正が可能であり、露光対象の感光材料に対応した高精度な校正を行うことができる。
【０１３８】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１０では、複数の露光ヘッド３０を備えるスキャナ２４に対して相対移動し、感光材料２０を走査方向に沿って搬送するステージ１８の移動方向の同一端部に、各露光ヘッド３０から照射された各露光ビームにより露光される露光エリア３２のつなぎを補正するために各露光ビームの露光面上での露光位置を検出するビーム位置検出手段としての基準板１７０（ビーム位置検出部１７０Ａ）及び受光素子１７２と、各露光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整及び露光量の調整をするために各露光ビームの光量分布及び露光量を測定する光量測定手段としての光量測定器７２を配置したことにより、この各手段を用いて行うビーム位置検出及び光量測定のためにステージ１８を移動させる移動距離が短くされる。
【０１３９】
図２１には、ビーム位置検出手段と光量測定手段を測定ユニット７０に一体構成してステージ１８の下流側端部に配置した本実施形態の露光装置１０（図２１（Ａ））と、各手段をステージ１８の両端部に配置した場合（図２１（Ｂ））とでの装置サイズ及び測定動作時のステージ１８の移動距離を比較した一例を示している。
【０１４０】
図２１（Ｂ）に示した構成では、ステージ１８の上流側端部に、光量測定器７２を備えた光量測定ユニット１８０を配置し、ステージ１８の下流側端部に、本実施形態の基準板１７０に相当するガラス板製の基準板１８２と、受光素子１７２及びその駆動機構等を備えたビーム位置検出ユニット１８４を配置している。
【０１４１】
この構成では、露光ビームの光量測定時に、測定対象の露光ヘッド３０の下方に光量測定器７２を配置するために、ステージ１８を、スキャナ２４を通過させて距離ＹＢだけ移動させる必要がある。これに対し、図２１（Ａ）に示した本実施形態の露光装置１０では、光量測定器７２がスキャナ２４に近接配置されているため、露光ビームの光量測定のためにステージ１８を移動させる距離ＹＡが僅かとなり（距離ＹＡ＜距離ＹＢ）、図２１（Ｂ）の構成に比べて光量測定に掛かる時間が大幅に短縮され、生産性が高められる。
【０１４２】
また、装置サイズについては、本実施形態の露光装置１０の方がＹ方向における長さを光量測定ユニット１８０の相当分（ΔＬ）だけ小さくすることができる。
【０１４３】
このように、本実施形態の露光装置１０では、測定ユニット７０を用いて各測定を行うことにより、シェーディング性能及びつなぎ補正性能を向上させて高精度な画像露光を行うことができるとともに、生産性の向上と装置の小型化を図ることができる。
【０１４４】
また、本実施形態では、ビーム位置検出手段と光量測定手段を測定ユニット７０に一体的に構成したことにより、別体とした場合に比べて、構成部品の点数を削減できるとともに、ステージ１８への取り付けも容易になる。また、ビーム位置検出手段の受光素子１７２と、光量測定器７２の駆動機構を共通化していることにより、コストが低減され、また発塵源が少なくされて装置の故障等が発生しにくくなる。
【０１４５】
また、本実施形態では、ステージ１８上に載置された感光材料２０の位置情報を取得するために、感光材料２０に設けられた露光位置の基準を示すアライメントマーク２１を撮影するＣＣＤカメラ２６は、感光材料のサイズ等に応じて位置が変更される基準マークの撮影に対応するため、走査方向と交差する方向へ移動可能とされている。この場合、前述したように、移動に伴うＣＣＤカメラ２６の姿勢変化で、基準マークの撮影位置に配置されたＣＣＤカメラ２６が正規の位置からずれる場合があるため、ステージ１８に装着した測定ユニット７０に、カメラ位置検出部１７０Ｂを設けた基準板１７０を設置し、この基準板１７０のカメラ位置検出部１７０Ｂを、ステージ１８の移動に伴いＣＣＤカメラ２６による撮影位置に配置し、その状態で、ＣＣＤカメラ２６の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃの何れか１つを読み取ることにより、ＣＣＤカメラ２６を校正している。これにより、ＣＣＤカメラ２６の移動に伴う姿勢変化要因により精度が影響されるアライメント機能の校正が可能となり、感光材料２０に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。
【０１４６】
そして、この基準板１７０を、ビーム位置検出手段及び光量測定手段と共に、ステージ１８の搬送方向における下流側端部に配置していることにより、この基準板１７０を用いて上記の校正を行うためにステージ１８を移動させる移動距離は短くされる。これにより、感光材料２０に対する露光位置ずれの補正精度を向上させて高精度な画像露光を行いつつ、生産性が高められるとともに装置を小型に構成することができる。
【０１４７】
また、本実施形態では、露光ビームによる露光位置を検出するスリット１２０（ビーム位置検出部１７０Ａ）を備える基準板１７０に、上記のＣＣＤカメラ２６の校正を行うためのカメラ位置検出部１７０Ｂを一体的に設けていることにより、それらを別体とする場合に比べ、スリット１２０と検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃとの相対位置が高い精度で計測できるとともに、スリット１２０と検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃとの間に位置ずれ等が生じにくくなる。これにより、この基準板１７０のビーム位置検出部１７０Ａと受光素子１７２とにより検出した露光ビームの露光位置データと、基準板１７０に一体的に設けられたカメラ位置検出部１７０Ｂを用いて取得した校正用データとを演算して求めた補正データであれば、その誤差分が抑えられ、補正データを反映させて行うアライメントをより高精度に行うことができる。また、これらのビーム位置検出部１７０Ａ及びカメラ位置検出部１７０Ｂを別体とした場合に比べて、構成部品の点数を削減できるとともに、測定ユニット７０への取り付けも容易になる。
【０１４８】
さらにここでは、感光材料２０が載置されるステージ１８に測定ユニット７０を装着してこの測定ユニット７０にカメラ位置検出部１７０Ｂを設けた基準板１７０を設置するとともに、この基準板１７０は、ステージ１８に感光材料２０を載置した状態でＣＣＤカメラ２６による検出用マーク１７７Ａ、１７７Ｂ、１７７Ｃの撮影が可能なように配設していることにより、露光装置１０によって感光材料２０を露光する場合でも、アライメント機能が校正できるようになり、校正作業が容易になる。
【０１４９】
また、本実施形態では、感光材料２０を載置するために停止されるステージ１８の停止位置（図１参照）において複数の露光ヘッド３０が搭載されたスキャナ２４に近い側の端部に、ビーム位置検出手段、光量測定手段、及び校正用部材である基準板１７０を備えた測定ユニット７０を配置していることにより、上記停止位置に配置されたステージ１８の上記端部とは反対側の端部側には、すなわち、スキャナ２４に対して遠い側の端部側にはフリースペースが確保される。これにより、このスキャナ２４に対して遠い側の端部側に作業者が位置して感光材料２０をステージ１８に載置する又は露光済みの感光材料２０をステージ１８から取り外す際の作業性が良好になる。
【０１５０】
また、本実施形態の露光装置１０では、測定ユニット７０にビーム位置検出手段及び光量測定手段を一体的に構成していることにより、このビーム位置検出手段に設けた受光素子１７２と、光量測定手段に設けた受光素子８６とを共通化することもできる。
【０１５１】
図２２に、この受光素子を各手段で共有した場合の一例を示す。図２２に示すように、ここでの変形例における１個の受光素子（フォトディテクタ基板）１９０は、両側端の中央部が一対の支持アーム１９２の先端部に回動可能に取り付けられている。この一対の支持アーム１９２は、基端部が光量測定器７２のハウジング７６における両側面の中央部付近に回動可能に取り付けられており、図示しないアクチュエータにより駆動されて基端部を中心に回動する（矢印Ａ方向）。また、受光素子１９０の一端部にはガイドピン１９４が設けられ、このガイドピン１９４は、移動ベース７４の内側面に形成されたガイド溝１９６に嵌め込まれている。
【０１５２】
以上の構成により、受光素子１９０は、一対の支持アーム１９２がアクチュエータにより駆動されて回動されると、ガイド溝１９６にガイドピン１９４がガイドされつつ移動し、図２２（Ａ）に示すように、光量測定器７２による露光ビームの光量測定位置、すなわち、スリット板７８に形成されたスリット８０の真下で且つ集光レンズ８２の光路上に配置され、また、図２２（Ｂ）に示すように、ビーム位置検出手段による露光ビームの検出位置、すなわち、基準板１７０のビーム位置検出部１７０Ａに形成されたスリット１２０の真下に配置される。このように、１個の受光素子１９０をビーム位置検出手段及び光量測定手段で共有することで、高価な受光素子をビーム位置検出手段及び光量測定手段にそれぞれ設ける場合よりもコストが抑えられる。
【０１５３】
以上、本発明を上述した実施の形態により詳細に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、本発明の範囲内にて他の種々の形態が実施可能である。
【０１５４】
例えば、上記の実施の形態では、測定ユニット７０にビーム位置検出手段、光量測定手段、及び校正用部材を一体構成してステージ１８の同一端部（移動方向における下流側端部）に配置しているが、このステージ１８の同一端部に配置するものはビーム位置検出手段、光量測定手段のみでもよい。また、ステージ１８の同一端部に配置するビーム位置検出手段及び光量測定手段は一体的に構成せず、別体として各ユニットを隣接配置するようにしてもよい。
【０１５５】
また、上述した露光装置１０では、光量測定手段（光量測定器７２）の設置数を１つとしているが、この光量測定手段は、スキャナ２４に設けた複数の露光ヘッド３０と同数以下で且つ複数としてもよい。その場合には、複数の露光ヘッド３０に対する露光ビームの光量測定を、複数の光量測定手段によって同時に行うことができるため、上述した露光装置１０のように、全露光ヘッドの光量測定を１つの光量測定手段で行う場合に比べて測定時間を短縮することができ、生産性を更に向上することができる。
【０１５６】
また、上記の実施の形態では、複数の露光ヘッド３０から照射された各光ビームの光量分布を均一化するシェーディング調整及び露光量の調整を行うために、光量測定手段（光量測定器７２）によって各光ビームの光量分布及び露光量を測定する場合で説明したが、この光量測定手段については、シェーディング調整又は露光量の調整の何れか一方を行うために、各光ビームの光量分布又は露光量を測定する構成のものでもよい。
【０１５７】
また、ＣＣＤカメラ２６を校正するために使用する検出用マーク（校正用基準マーク）が円形、十字形、及び正方形の３種類の場合について説明したが、この検出用マークの形状についてはそれら以外の形状を用いることが可能であり、さらに、４種類以上の検出用マークを用いることも可能である。その場合でも、前述したように、ＣＣＤカメラ２６の視野及び移動単位と、検出用マークの配列ピッチとを所定の条件で規定することにより、同等の機能を実現することができる。
【０１５８】
また、上記の実施の形態における露光装置１０の感光材料２０に対する露光動作では、ステージ１８を移動させつつ感光材料２０を走査露光する場合について説明したが、露光動作はこのような走査露光に限らず、他にも、最初の露光位置まで移動させた感光材料２０を一旦停止して所定の露光領域のみを露光し、その露光後に、感光材料２０を次の露光位置まで移動させて再び停止し次の所定の露光領域のみを露光する、というように、感光材料２０の移動→露光位置に停止→画像露光→移動・・・・・・を繰り返すような動作としてもよい。
【０１５９】
また、上記の実施の形態における露光装置１０では、空間変調素子としてＤＭＤを備えた露光ヘッドについて説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用することもできる。例えば、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Special Light Modulator）や、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）や液晶光シャッタ（ＦＬＣ）等の液晶シャッターアレイなど、ＭＥＭＳタイプ以外の空間光変調素子を用いることも可能である。なお、ＭＥＭＳとは、ＩＣ製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、そして制御回路を集積化した微細システムの総称であり、ＭＥＭＳタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。さらに、Grating Light Valve（ＧＬＶ）を複数ならべて二次元状に構成したものを用いることもできる。これらの反射型空間光変調素子（ＧＬＶ）や透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用する構成では、上記したレーザの他にランプ等も光源として使用可能である。
【０１６０】
また、上記の実施の形態における光源としては、合波レーザ光源を複数備えたファイバアレイ光源、１個の発光点を有する単一の半導体レーザから入射されたレーザ光を出射する１本の光ファイバを備えたファイバ光源をアレイ化したファイバアレイ光源、複数の発光点が二次元状に配列された光源（たとえば、ＬＤアレイ、有機ＥＬアレイ等）、等が適用可能である。
【０１６１】
また、上記の露光装置１０には、露光により直接情報が記録されるフォトンモード感光材料、露光により発生した熱で情報が記録されるヒートモード感光材料の何れも使用することができる。フォトンモード感光材料を使用する場合、レーザ装置にはＧａＮ系半導体レーザ、波長変換固体レーザ等が使用され、ヒートモード感光材料を使用する場合、レーザ装置にはＡｌＧａＡｓ系半導体レーザ（赤外レーザ）、固体レーザが使用される。
【図面の簡単な説明】
【０１６２】
【図１】本発明の一実施形態に係る露光装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るスキャナの構成と、ステージ及び測定ユニットの位置関係を示す斜視図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る露光ヘッドの光学系を示す概略構成図である。
【図４】（Ａ）は本発明の第１の実施形態に係る露光装置における、ＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる露光ビームの走査軌跡を示す要部平面図、（Ｂ）はＤＭＤを傾斜させた場合の露光ビームの走査軌跡を示す要部平面図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る露光装置に設けられたＤＭＤの構成を示す部分拡大図である。
【図６】（Ａ）及び（Ｂ）は図５のＤＭＤの動作を説明するための説明図である。
【図７】本発明の一実施形態に係るアライメントユニットの構成を示す斜視図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る測定ユニットの構成を示す斜視図である。
【図９】本発明の一実施形態に係る測定ユニットを模式的に示す平面図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係る光量測定器におけるスリットを利用して点灯している画素の光量を検出する状態を示す説明図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係る光量測定器により露光ビームの光量分布と露光量とを検出する状態を示す説明図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係る光量測定器により測定した光量分布を例示するグラフ図である。
【図１３】本発明の一実施形態に係る露光装置における露光ビームの特性を例示するグラフ図である。
【図１４】本発明の一実施形態に係る露光装置において、特定の露光ヘッドによって露光される特定の露光エリアと、他の露光ヘッドによって露光されるとともに特定の露光エリアにつなげようとする他の露光エリアとの位置関係を示す平面図である。
【図１５】図１４における特定の露光エリア及び他の露光エリアと、測定ユニットの基準板に設けられたスリットとの位置関係を示す平面図である。
【図１６】特定の露光ヘッドの繋ぎ画素である特定の繋ぎ画素の位置をスリットによって特定する手順を示す説明図である。
【図１７】他の露光ヘッドの画素のうち、特定の露光エリアにつなげようとする画素の位置をスリットによって特定する手順を示す説明図である。
【図１８】他の露光ヘッドの画素のうち、図１７の手順によって位置が特定された画素から実際の繋ぎ画素を選択する手順を示す説明図である。
【図１９】特定の繋ぎ画素と他の繋ぎ画素とによって特定の露光エリアと他の露光エリア３２とが繋げられた状態を示す平面図である。
【図２０】（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明の一実施形態に係るカメラ位置検出部をＣＣＤカメラにより撮影する際の検出用マークと撮影視野の関係を示す説明図である。
【図２１】（Ａ）はステージの下流側端部にビーム位置検出手段及び光量測定手段を配置した本発明の一実施形態に係る露光装置の一部を示す平面図、（Ｂ）はステージの下流側端部にビーム位置検出手段を配置し、ステージの上流側端部に光量測定手段を配置した構成の露光装置の一部を示す平面図である。
【図２２】（Ａ）、（Ｂ）は、ビーム位置検出手段及び光量測定手段で受光素子を共有する場合の受光素子の移動機構の概略構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１６３】
１０   露光装置
１８   ステージ（搬送手段）
２０   感光材料
２１   アライメントマーク（校正用基準マーク）
２４   スキャナ
２６   ＣＣＤカメラ（読取手段）
２８   コントローラ（つなぎ補正手段／制御手段）
３０   露光ヘッド
３２   露光エリア（露光領域）
４８   露光ビーム
７０   測定ユニット
７２   光量測定器（光量測定手段）
８６   受光素子（光量測定手段）
１７０ 基準板
１７０Ａ      ビーム位置検出部（ビーム位置検出手段）
１７０Ｂ      カメラ位置検出部（校正用部材）
１７２ 受光素子（ビーム位置検出手段）
１７７Ａ      検出用マーク（校正用基準マーク）
１７７Ｂ      検出用マーク（校正用基準マーク）
１７７Ｃ      検出用マーク（校正用基準マーク）
１９０ 受光素子（受光手段）
１９２ 支持アーム（移動手段）
１９４ ガイドピン
１９６ ガイド溝
【図１】
2006201586.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
2006201586.tif 000012
【図１１】
2006201586.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
2006201586.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
2006201586.tif 000017
【図１６】
2006201586.tif 000018
【図１７】
2006201586.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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