(57)【要約】【課題】  反射膜の反射率の低下を抑制することのできる光記録媒体製造用シート、および反射膜の反射率の低下が抑制された光記録媒体を提供する。【解決手段】  硬化後の水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下である接着剤層１１と、保護シート１２とを備えた光ディスク製造用シート１を、光ディスク基板２に形成された情報記録層３（反射膜３１、誘電体膜３２、相変化膜３３および誘電体膜３２’の積層体）上に積層する。接着剤層１１は、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体３０〜９０質量％と、分子中に脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物１０〜７０質量％とを含有するエネルギー線硬化性の材料を主成分とする。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射膜を有する光記録媒体を製造するためのシートであって、
硬化後の水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下である硬化性層を備えたことを特徴とする光記録媒体製造用シート。
【請求項２】
前記硬化性層は、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体３０〜９０質量％と、分子中に脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物１０〜７０質量％とを含有するエネルギー線硬化性の材料を主成分とすることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項３】
前記硬化性層は粘接着性を有しており、前記硬化性層の一方の面には、光記録媒体を構成する他の層が積層され、前記硬化性層の他方の面には、必要に応じて剥離シートが積層されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項４】
前記硬化性層はスタンパー受容層であり、前記スタンパー受容層の片面または両面には、必要に応じて剥離シートが積層されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項５】
前記硬化性層の硬化前の貯蔵弾性率は１×１０３〜１×１０６Ｐａであり、硬化後の貯蔵弾性率は１×１０６Ｐａ以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の光記録媒体製造用シートを使用して製造されたことを特徴とする光記録媒体。
【請求項７】
少なくとも反射膜と、水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下である接着層とを備えたことを特徴とする光記録媒体。
【請求項８】
少なくとも反射膜と、水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下であるスタンパー受容層とを備えたことを特徴とする光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体および光記録媒体を製造することのできる光記録媒体製造用シートに関するものであり、特に、反射膜の反射率の低下が抑制された光記録媒体およびかかる光記録媒体を製造することのできる光記録媒体製造用シートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクとして、ポリカーボネートからなる光ディスク基板と、光ディスク基板上に形成された情報記録層と、接着層を介して情報記録層に接着された保護フィルムとから構成されるものが一般的に知られている。光ディスクが読出し専用のものである場合、情報記録層にはピットを構成する凹凸パターンが形成され、光ディスクが書換え可能なものである場合、情報記録層にはグルーブおよびランドを構成する凹凸パターンが形成される。
【０００３】
情報記録層の形成方法としては、例えば、光硬化性樹脂からなる光硬化性フィルム（スタンパー受容層に相当）をポリカーボネートからなる光ディスク基板にラミネートし、次いでスタンパーを光硬化性フィルムに圧着し、その状態で光を照射して光硬化性フィルムを硬化させた後、光硬化したフィルムとスタンパーとを分離し、光硬化したフィルムのエンボス面に光反射層を形成する方法が知られている（特許文献１）。
【０００４】
また、保護フィルムと情報記録層との接着方法としては、例えば、保護フィルムまたは情報記録層に光硬化性樹脂を塗工して接着層を形成し、その接着層によって保護フィルムと情報記録層とを貼り合わせる方法が知られている（特許文献２）。
【特許文献１】特許第２９５６９８９号公報
【特許文献２】特開平１０−２８３６８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
光ディスクの情報記録層は、通常、金属からなる反射膜によって構成されているか、または金属からなる反射膜を含む多層構造を有しているが、従来の光ディスクでは、経時により反射膜の材料である金属が腐食し、反射膜の反射率が低下するという問題があった。反射膜の反射率が低下すると、光ディスクの再生時に読み取りエラーが発生する等の不具合が生じる。
【０００６】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、反射膜の反射率の低下を抑制することのできる光記録媒体製造用シート、および反射膜の反射率の低下が抑制された光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、第１に本発明は、反射膜を有する光記録媒体を製造するためのシートであって、硬化後の水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下である硬化性層を備えたことを特徴とする光記録媒体製造用シートを提供する（請求項１）。
【０００８】
なお、本明細書における「反射膜」は、レーザ光の全部または一部を反射する膜であり、半透明膜も含むものとする。また、「光記録媒体」とは、光学的に情報を記録・再生することのできる媒体をいい、主として再生専用型、追記型または書換え型のディスク状の媒体（例えば、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＬＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ、ＭＯ等；いわゆる光ディスク（光磁気ディスクを含む））が該当するが、必ずしもこれらに限定されるものではない。さらに、「硬化性層」は、光記録媒体を構成する他の層、例えば保護層や基板を接着するための接着層であってもよいし、スタンパー受容層であってもよい。
【０００９】
このような発明（請求項１）に係る光記録媒体製造用シートを用いて製造された光記録媒体においては、硬化後の硬化性層（硬化層）の水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下であることにより、硬化層にて水分透過が制限されて反射膜に水分が到達し難くなり、反射膜の腐食を抑制することができ、これにより、反射膜の反射率が低下し難いものとなる。
【００１０】
上記発明（請求項１）において、前記硬化性層は、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体３０〜９０質量％と、分子中に脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物１０〜７０質量％とを含有するエネルギー線硬化性の材料を主成分とすることが好ましい（請求項２）。なお、本明細書における「（メタ）アクリル酸エステル」とは、アクリル酸エステルおよび／またはメタクリル酸エステルを意味し、「（共）重合体」とは、重合体および／または共重合体を意味するものとする。
【００１１】
上記発明（請求項２）によれば、上記水蒸気透過係数を達成することができるとともに、好ましい粘接着性または凹凸パターン転写性が得られ、かつ硬化層が光記録媒体に好適な層となり得る。
【００１２】
上記発明（請求項１，２）において、前記硬化性層は粘接着性を有しており、前記硬化性層の一方の面には、光記録媒体を構成する他の層（例えば保護層や基板）が積層され、前記硬化性層の他方の面には、必要に応じて剥離シートが積層されていてもよいし（請求項３）、前記硬化性層はスタンパー受容層であり、前記スタンパー受容層の片面または両面には、必要に応じて剥離シートが積層されていてもよい（請求項４）。
【００１３】
上記発明（請求項１〜４）において、前記硬化性層の硬化前の貯蔵弾性率は１×１０３〜１×１０６Ｐａであり、硬化後の貯蔵弾性率は１×１０６Ｐａ以上であることが好ましい（請求項５）。
【００１４】
第２に本発明は、前記光記録媒体製造用シート（請求項１〜５）を使用して製造された光記録媒体を提供する（請求項６）。
【００１５】
第３に本発明は、少なくとも反射膜と、水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下である接着層とを備えたことを特徴とする光記録媒体を提供する（請求項７）。
【００１６】
第４に本発明は、少なくとも反射膜と、水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下であるスタンパー受容層とを備えたことを特徴とする光記録媒体を提供する（請求項８）。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の光記録媒体製造用シートによって得られる光記録媒体または本発明の光記録媒体においては、水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下である硬化層の存在によって、反射膜の材料である金属の腐食が抑制され、反射膜の反射率が低下し難いものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について説明する。
〔第１の実施形態〕
第１の実施形態では、光記録媒体としての書き込み可能な光ディスクにおける保護シートを形成するための光ディスク製造用シートについて説明する。図１は本発明の第１の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図であり、図２（ａ）〜（ｄ）は同実施形態に係る光ディスク製造用シートを用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。
【００１９】
図１に示すように、第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１は、接着剤層（硬化性層）１１と、接着剤層１１の一方の面（図１中上面）に積層された保護シート（保護層）１２と、接着剤層１１の他方の面（図１中下面）に積層された剥離シート１３とからなる。なお、保護シート１２は光ディスクにおける保護層となるものであり、剥離シート１３は、光ディスク製造用シート１の使用時に剥離されるものである。
【００２０】
接着剤層１１は、光ディスク基板２上に形成された情報記録層３（図２参照）と、保護シート１２とを接着するためのものであり、硬化後の水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下である硬化性の材料によって構成される。接着剤層１１の硬化後の水蒸気透過係数がかかる値を示すことにより、水分が接着剤層１１を透過することが制限されて、情報記録層３に水分が到達し難くなり、情報記録層３における反射膜３１の腐食を抑制することができる。これにより、反射膜３１の反射率が低下し難いものとなる。
【００２１】
さらに、接着剤層１１の硬化後の水蒸気透過係数は、６．０×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下であることがより好ましい。
【００２２】
上記硬化性の材料は、硬化させる前は感圧接着性（粘着性）を示し、硬化後は強固な接着性を示すものであるのが好ましい。具体的には、接着剤層１１の硬化前の貯蔵弾性率が１×１０３〜１×１０６Ｐａ、特に１×１０４〜５×１０５Ｐａであるのが好ましく、硬化後の貯蔵弾性率が１×１０６Ｐａ以上、特に１×１０７〜１０１０Ｐａであるのが好ましい。
【００２３】
なお、硬化前の貯蔵弾性率の測定温度は、光ディスク製造用シート１と光ディスク基板２とを重ね合わせる（圧着する）作業環境と同じ温度であるものとする。一般的には、光ディスク製造用シート１と光ディスク基板２とは室温で重ね合わせるため、貯蔵弾性率は、室温下で測定したものとなる。一方、硬化後の貯蔵弾性率の測定温度は、得られる光ディスクの保管環境と同じ温度、すなわち室温であるものとする。
【００２４】
接着剤層１１の硬化前の貯蔵弾性率が上記のような範囲にあると、光ディスク製造用シート１を光ディスク基板２に圧着することにより、保護シート１２と情報記録層３とを容易に接着することができる。また、接着剤層１１の硬化後の貯蔵弾性率が上記のような範囲にあると、保護シート１２と光ディスク基板２とを確実に接着・固定し、得られる光ディスクＤ１の強度や耐久性等での信頼性を維持することができる。
【００２５】
接着剤層１１を構成する材料は、上記水蒸気透過係数を有し、光ディスクに適したものであればよいが、特に、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）３０〜９０質量％と、分子中に脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物（Ｂ）１０〜７０質量％とを含有するエネルギー線硬化性の材料を使用することが好ましい。かかる材料を使用することにより、上記水蒸気透過係数を達成することができるとともに、好ましい粘接着性が得られ、かつ硬化後の接着剤層１１が光ディスクに好適な層となり得る。
【００２６】
（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）は、エネルギー線硬化性を有するものであってもよいし、エネルギー線硬化性を有しないものであってもよい。まず、エネルギー線硬化性を有する（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）について説明する。
【００２７】
エネルギー線硬化性を有する（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）としては、官能基含有モノマー単位を有する（メタ）アクリル系共重合体（ａ１）と、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物（ａ２）とを反応させて得られる、側鎖にエネルギー線硬化性基を有する分子量１００，０００以上のエネルギー線硬化型共重合体（Ａ１）であるのが好ましい。
【００２８】
ここで、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は、０．１〜３０ｍｏｌ％であるのが好ましい。エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率が０．１ｍｏｌ％未満であると、所望のエネルギー線硬化性が得られず、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率が３０ｍｏｌ％を超えると、接着剤層１１の硬化に伴う体積収縮により光ディスクに反りが発生することがある。
【００２９】
なお、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は、次の式によって算出される。
エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率＝（エネルギー線硬化性基のモル数／アクリル系共重合体を構成するモノマーの総モル数）×１００
【００３０】
アクリル系共重合体（ａ１）は、官能基含有モノマーから導かれる構成単位と、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位とからなる。
【００３１】
アクリル系共重合体（ａ１）が有する官能基含有モノマーは、重合性の二重結合と、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基とを分子内に有するモノマーであり、好ましくはヒドロキシル基含有不飽和化合物、カルボキシル基含有不飽和化合物が用いられる。
【００３２】
このような官能基含有モノマーのさらに具体的な例としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸等のカルボキシル基含有化合物が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。
【００３３】
アクリル系共重合体（ａ１）を構成する（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、シクロアルキル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アルキル基の炭素数が１〜１８であるアルキル（メタ）アクリレートが用いられる。これらの中でも、特に好ましくはアルキル基の炭素数が１〜１８であるアルキル（メタ）アクリレート、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が用いられる。
【００３４】
アクリル系共重合体（ａ１）は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位を通常３〜１００重量％、好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％の割合で含有し、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位を通常０〜９７重量％、好ましくは６０〜９５重量％、特に好ましくは７０〜９０重量％の割合で含有してなる。
【００３５】
アクリル系共重合体（ａ１）は、上記のような官能基含有モノマーと、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体とを常法で共重合することにより得られるが、これらモノマーの他にも少量（例えば１０重量％以下、好ましくは５重量％以下）の割合で、ジメチルアクリルアミド、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、スチレン等が共重合されてもよい。
【００３６】
上記官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体（ａ１）を、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物（ａ２）と反応させることにより、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ１）が得られる。
【００３７】
不飽和基含有化合物（ａ２）が有する置換基は、アクリル系共重合体（ａ１）が有する官能基含有モノマー単位の官能基の種類に応じて、適宜選択することができる。例えば、官能基がヒドロキシル基、アミノ基または置換アミノ基の場合、置換基としてはイソシアネート基またはエポキシ基が好ましく、官能基がカルボキシル基の場合、置換基としてはイソシアネート基、アジリジニル基、エポキシ基またはオキサゾリン基が好ましく、官能基がエポキシ基の場合、置換基としてはアミノ基、カルボキシル基またはアジリジニル基が好ましい。このような置換基は、不飽和基含有化合物（ａ２）１分子毎に一つずつ含まれている。
【００３８】
また不飽和基含有化合物（ａ２）には、エネルギー線重合性の炭素−炭素二重結合が、１分子毎に１〜５個、好ましくは１〜２個含まれている。このような不飽和基含有化合物（ａ２）の具体例としては、例えば、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート、アリルイソシアネート；ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物；ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸、２−（１−アジリジニル）エチル（メタ）アクリレート、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン等が挙げられる。
【００３９】
不飽和基含有化合物（ａ２）は、上記アクリル系共重合体（ａ１）の官能基含有モノマー１００当量当たり、通常１０〜１００当量、好ましくは２０〜９５当量、特に好ましくは２５〜９０当量の割合で用いられる。
【００４０】
アクリル系共重合体（ａ１）と不飽和基含有化合物（ａ２）との反応においては、官能基と置換基との組合せに応じて、反応の温度、圧力、溶媒、時間、触媒の有無、触媒の種類を適宜選択することができる。これにより、アクリル系共重合体（ａ１）中に存在する官能基と、不飽和基含有化合物（ａ２）中の置換基とが反応し、不飽和基がアクリル系共重合体（ａ１）中の側鎖に導入され、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ１）が得られる。この反応における官能基と置換基との反応率は、通常７０％以上、好ましくは８０％以上であり、未反応の官能基がエネルギー線硬化型共重合体（Ａ１）中に残留していてもよい。
【００４１】
このようにして得られるエネルギー線硬化型共重合体（Ａ１）の重量平均分子量は、１００，０００以上であるのが好ましく、特に１５０，０００〜１，５００，０００であるのが好ましく、さらに２００，０００〜１，０００，０００であるのが好ましい。なお、本明細書における重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により測定したポリスチレン換算の値である。
【００４２】
エネルギー線硬化性を有しない（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）としては、従来粘着剤として使用されている（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体の中から、任意のものを適宜選択して用いることができる。このような（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体としては、（メタ）アクリル酸エステルまたはその誘導体を主成分とした重合体や、所望により他のモノマーを共重合した共重合体を用いることができる。
【００４３】
（メタ）アクリル酸エステルとしては、前述した（メタ）アクリル酸エステルモノマーを例示することができる。他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ―メチロ−ルアクリルアミド等の官能基含有モノマーの他、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン等が挙げられる。
【００４４】
エネルギー線硬化性を有しない（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）の重量平均分子量は、１００,０００〜２,０００,０００であるのが好ましく、特に３００,０００〜１,５００,０００であるのが好ましい。
【００４５】
接着剤層１１を構成する材料中、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）の配合量は、３０〜９０質量％であり、好ましくは４０〜８０質量％である。（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）の配合量が３０質量％未満では良好な接着性を得ることが困難であり、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）の配合量が９０質量％を超えると、相対的に脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物（Ｂ）の配合量が少なくなり過ぎて、当該エネルギー線硬化性化合物（Ｂ）による水分透過抑制効果が得られ難くなる。
【００４６】
分子中に脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物（Ｂ）としては、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロデカン（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の脂環式構造を有する（メタ）アクリレート類の他、脂環式構造を有するアルコールと、例えば（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネートのように一分子中にイソシナネート基および（メタ）アクリロイル基を有する化合物とを反応させて得られるウレタンアクリレート（Ｕ１）や、脂環式構造を有するアルコールとポリイソシアネート化合物と水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物とを反応させることによって得られるウレタンアクリレート（Ｕ２）などが挙げられ、これらは１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４７】
脂環式構造を有するアルコールの例としては、シクロヘキサノール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ヒドロキシトリシクロデカン、ヒドロキシジシクロペンタジエンなどが挙げられる。
【００４８】
ポリイソシアネート化合物の例としては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイシアネート等の他、多価アルコールにこれらを反応させて得られるポリイソシアネート化合物などが挙げられる。
【００４９】
水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物の例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００５０】
ウレタンアクリレート（Ｕ１）におけるイソシアネート基と水酸基とのモル比率（ＮＣＯ／ＯＨ）は、９５／１００〜１００／９５であることが好ましい。かかるモル比率にすることにより、ウレタンアクリレート（Ｕ１）の貯蔵安定性が高くなり、また遊離（メタ）アクリレートが少なくなる。
【００５１】
ウレタンアクリレート（Ｕ２）における脂環式構造を有するアルコールとポリイソシアネート化合物と水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物とのモル比は、特に限定されないが、脂環式構造を有するアルコールの水酸基（ＯＨ（１））とポリイソシアネート化合物のシアネート基とのモル比率（ＯＨ（１）／ＮＣＯ）は４０／１００〜８０／１００であることが好ましく、また、（メタ）アクリレート化合物の水酸基（ＯＨ（２））とポリイソシアネート化合物のシアネート基とのモル比率（ＯＨ（２）／ＮＣＯ）は２０／１００〜６０／１００であることが好ましい。上記モル比率がこれらの範囲を超えると、ウレタンアクリレート（Ｕ２）中における（メタ）アクリロイル基の濃度が高くなり過ぎて硬化収縮率が大きくなり、光ディスクに反りを生じたり、またはウレタンアクリレート（Ｕ２）中における（メタ）アクリロイル基の濃度が低くなり過ぎて硬化性が悪くなるという問題が生じる可能性がある。
【００５２】
接着剤層１１を構成する材料に上記エネルギー線硬化性化合物（Ｂ）を配合することにより、硬化後の接着剤層１１において水分の透過を効果的に妨げることができる。
【００５３】
接着剤層１１を構成する材料中、脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物（Ｂ）の配合量は、固形分濃度として１０〜７０質量％であり、好ましくは２０〜６０質量％である。上記エネルギー線硬化性化合物（Ｂ）の配合量が１０質量％未満では水分透過抑制効果が得られ難く、上記エネルギー線硬化性化合物（Ｂ）の配合量が７０質量％を超えると、相対的に（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）の配合量が少なくなり過ぎ、良好な接着性を得ることが困難となる。
【００５４】
ここで、接着剤層１１を硬化させるためのエネルギー線として紫外線を用いる場合には、接着剤層１１を構成する材料に光重合開始剤を添加することが好ましく、この光重合開始剤の使用により、重合硬化時間および光線照射量を少なくすることができる。
【００５５】
このような光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、２，４−ジエチルチオキサンソン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、（２，４，６−トリメチルベンジルジフェニル）フォスフィンオキサイド、２−ベンゾチアゾール−Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−プロペニル）フェニル］プロパノン｝、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５６】
光重合開始剤は、エネルギー線硬化性成分の合計量（（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）がエネルギー線硬化性を有する場合には、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）と脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物（Ｂ）との合計量、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）がエネルギー線硬化性を有しない場合には、脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物（Ｂ）の量）１００質量部に対して０．１〜１０質量部、特には０．５〜５質量部の範囲の量で用いられることが好ましい。
【００５７】
接着剤層１１を構成する材料は、上記成分以外にも、架橋剤や、その他の添加剤を含有していてもよい。架橋剤としては、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）が有する官能基との反応性を有する多官能性化合物を用いることができる。このような多官能性化合物の例としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アミン化合物、メラミン化合物、アジリジン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド化合物、オキサゾリン化合物、金属アルコキシド化合物、金属キレート化合物、金属塩、アンモニウム塩、反応性フェノール樹脂等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５８】
架橋剤は、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）１００質量部に対して０．０１〜１０質量部、特には０．１〜５質量部の範囲の量で用いられることが好ましい。
【００５９】
その他の添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、粘着付与剤、染料、カップリング剤等が挙げられる。これら他の添加剤の配合量は特に限定されず、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）および脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物（Ｂ）の合計量１００質量部に対して０〜３０質量部の範囲で適宜決定される。
【００６０】
ここで、接着剤層１１の厚さの下限は、１μｍ以上であることが好ましく、特に５μｍ以上であることが好ましく、さらには１５μｍ以上であることが好ましい。接着剤層１１の厚さが１μｍ未満であると、接着剤層１１の硬化後の水蒸気透過係数が上記範囲内にあっても、十分な水分透過制限効果が得られ難くなるおそれがある。
【００６１】
一方、接着剤層１１の厚さの上限は、光ディスク基板２に形成されている凹凸パターンの深さや光ディスク基板２に対する接着力、さらには光ディスクＤ１の厚みの規格に応じて適宜決定され、通常は１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以下である。
【００６２】
本実施形態における保護シート１２は、光ディスクＤ１における情報記録層３を保護するためのものであり、光ディスクＤ１の受光面を構成する。
【００６３】
保護シート１２の材料としては、基本的には、情報読み取りのための光の波長域に対し十分な光透過性を有するものであればよいが、光ディスクＤ１を容易に製造するために、剛性や柔軟性が適度にあるものが好ましく、また、光ディスクＤ１の保管のために、温度に対して安定なものであるのが好ましい。このような材料としては、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン等の樹脂を用いることができる。
【００６４】
保護シート１２の線膨張係数は、高温で光ディスクが反りを起こさないよう、光ディスク基板２の線膨張係数とほぼ同じであるのが好ましい。例えば、光ディスク基板２がポリカーボネート樹脂からなる場合には、保護シート１２も同じポリカーボネート樹脂からなるのが好ましい。
【００６５】
保護シート１２の厚さは、光ディスクＤ１の種類や光ディスク基板２の厚さ等に応じて決定されるが、通常は２５〜３００μｍ程度であり、好ましくは５０〜２００μｍ程度である。
【００６６】
剥離シート１３としては、従来公知のものを使用することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリプロピレンなどの樹脂フィルムをシリコーン系剥離剤等で剥離処理したものを使用することができる。
【００６７】
剥離シート１３は、接着剤層１１に平滑性を付与するために、剥離処理した側（接着剤層１１と接触する側）の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下であるのが好ましい。また、剥離シート１３の厚さは、通常１０〜２００μｍ程度であり、好ましくは２０〜１００μｍ程度である。
【００６８】
本実施形態に係る光ディスク製造用シート１は、接着剤層１１を構成する材料と、所望によりさらに溶媒とを含有する塗布剤を調製し、キスロールコーター、リバースロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、ダイコーター等の塗工機によって保護シート１２上に塗布して乾燥させ、接着剤層１１を形成した後、その接着剤層１１の表面に剥離シート１３の剥離処理面を重ねて両者を積層することによって、あるいは、上記塗布剤を剥離シート１３の剥離処理面に塗布して乾燥させ、接着剤層１１を形成した後、その接着剤層１１の表面に保護シート１２を積層することによって得られる。
【００６９】
次に、上記光ディスク製造用シート１を使用した光ディスクＤ１（片面１層式）の製造方法の一例について説明する。
【００７０】
最初に、図２（ａ）に示すように、グルーブおよびランドからなる凹凸パターンを有する光ディスク基板２を製造する。この光ディスク基板２は、通常、ポリカーボネートからなり、射出成形等の成形法によって成形することができる。
【００７１】
上記光ディスク基板２の凹凸パターン上には、図２（ｂ）に示すように、情報記録層３を形成する。この情報記録層３は、通常、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体によって構成され、特に、下から順に反射膜３１、誘電体膜３２、相変化膜３３および誘電体膜３２’からなる積層体によって構成されることが多い。これらの膜は、スパッタリング等の手段によって形成することができる。
【００７２】
反射膜３１の材料としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｗ等の金属やそれらの合金、例えば、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｎｄ等が添加されたＡｌ−Ｃｒ、Ａｇ−Ｐｔ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｎｄ等を使用することができる。反射膜３１の厚さは、通常３〜２００ｎｍ程度である。
【００７３】
誘電体膜３２および誘電体膜３２’の材料としては、例えば、ＳｉＯ２、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、Ｓｉ−ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＭｇＯ等からなる単一のものまたはそれらを組み合わせたものを使用することができる。誘電体膜３２および誘電体膜３２’の厚さは、通常２０〜２００ｎｍ程度である。
【００７４】
相変化膜３３の材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｔｅ系、Ｇｅ−Ｔｅ−Ｓｂ系、Ｇｅ−Ｓｎ−Ｔｅ系等のカルコゲン系合金薄膜や、Ｓｂ−Ｔｅ共晶系薄膜等を使用することができる。相変化膜３３の厚さは、通常５〜２０ｎｍ程度である。
【００７５】
情報記録層３は、下から反射膜と色素膜とからなる積層体であってもよい。色素膜の色素としては、例えば、ポリメチン系色素、アントラキノン系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素等が挙げられる。色素膜は、スピンコート法などによって形成され、厚さは通常２０〜２０００ｎｍ程度である。
【００７６】
次に、図２（ｃ）に示すように、光ディスク製造用シート１の剥離シート１３を剥離除去して接着剤層（硬化性層）１１を露出させ、図２（ｄ）に示すように、接着剤層１１を光ディスク基板２上の情報記録層３表面に圧着する。
【００７７】
この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、保護シート（保護層）１２側または光ディスク基板２側から接着剤層１１に対してエネルギー線を照射し、接着剤層１１を硬化させる。
【００７８】
エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。エネルギー線の照射量は、エネルギー線の種類によって異なるが、例えば紫外線の場合には、光量で１００〜５００mJ/cm２程度が好ましく、電子線の場合には、１０〜１０００krad程度が好ましい。
【００７９】
このようにして得られる光ディスクＤ１においては、接着剤層１１の水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下であるため、水分が接着剤層１１を透過することが制限されて、情報記録層３に水分が到達し難くなり、情報記録層３における反射膜３１の腐食を抑制することができる。これにより、反射膜３１の反射率が低下し難いものとなる。
【００８０】
〔第２の実施形態〕
第２の実施形態では、スタンパーの凹凸パターンが転写されるスタンパー受容層を備えた光ディスク製造用シートについて説明する。図３は本発明の第２の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図であり、図４（ａ）〜（ｇ）は同実施形態に係る光ディスク製造用シートを用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。
【００８１】
図３に示すように、第２の実施形態に係る光ディスク製造用シート４は、スタンパー受容層（硬化性層）４１と、スタンパー受容層４１の両面に積層された剥離シート４２，４２’とからなる。ただし、剥離シート４２，４２’は、光ディスク製造用シート４の使用時に剥離されるものである。
【００８２】
スタンパー受容層４１は、スタンパーに形成されている凹凸パターンが転写され、ランドおよびグルーブが構成される層であって、かつ情報記録層３Ａ，３Ｂが形成または接着される層である。このスタンパー受容層４１は、硬化後の水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下である硬化性の材料によって構成される。スタンパー受容層４１の水蒸気透過係数がかかる値を示すことにより、水分がスタンパー受容層４１を透過することが制限されて、情報記録層３Ａ，３Ｂに水分が到達し難くなり、情報記録層３Ａ，３Ｂにおける反射膜３１および反射膜（半透明膜）３４の腐食を抑制することができる。これにより、反射膜３１および反射膜（半透明膜）３４の反射率が低下し難いものとなる。
【００８３】
さらに、スタンパー受容層４１の硬化後の水蒸気透過係数は、６．０×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下であることがより好ましい。
【００８４】
スタンパー受容層４１を構成する硬化性の材料としては、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１の接着剤層１１を構成する接着剤と同様のものを使用することができる。かかる材料を使用することにより、上記水蒸気透過係数を達成することができるとともに、好ましい凹凸パターン転写性が得られ、かつ硬化後のスタンパー受容層４１が光ディスクに好適な層となり得る。なお、この場合、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）の配合量が３０質量％未満であるか、分子中に脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物（Ｂ）の配合量が７０質量％を超えると、スタンパー受容層４１の機械的強度が不足し、層変形による厚みむらが生じるなどの不具合が発生する可能性がある。
【００８５】
また、スタンパー受容層４１は転写された凹凸パターンの形状を維持する必要があるため、硬化後の貯蔵弾性率は１×１０８Ｐａ以上であるのが好ましく、特に１×１０８〜１×１０１１Ｐａであるのが好ましい。また、情報記録層３Ｂを形成するときにスタンパー受容層４１の表面温度が上昇することがあるため、ガラス転移温度は８０℃以上であるのが好ましい。
【００８６】
スタンパー受容層４１の厚さは、形成すべき凹凸パターン（ランドおよびグルーブ）の深さおよび得られる水分透過制限効果を考慮して決定され、５〜１００μｍであることが好ましく、特に５〜６０μｍであることが好ましく、さらには１５〜４０μｍであることが好ましい。
【００８７】
剥離シート４２，４２’としては、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１の剥離シート１３と同様のものを使用することができるが、剥離シート４２，４２’のうち、先に剥離する方は軽剥離タイプのものとし、後に剥離する方は重剥離タイプのものとするのが好ましい。
【００８８】
本実施形態に係る光ディスク製造用シート４は、スタンパー受容層４１を構成する材料と、所望によりさらに溶媒とを含有する塗布剤を調製し、キスロールコーター、リバースロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、ダイコーター等の塗工機によって剥離シート４２の剥離処理面に塗布して乾燥させ、スタンパー受容層４１を形成した後、そのスタンパー受容層４１の表面にもう１枚の剥離シート４２’の剥離処理面を重ねて両者を積層することによって得られる。
【００８９】
次に、上記光ディスク製造用シート４および第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１を使用した光ディスクＤ２（片面２層式）の製造方法の一例について説明する。
【００９０】
最初に、図４（ａ）〜（ｂ）に示すように、グルーブおよびランドからなる凹凸パターンを有する光ディスク基板２を製造し、その光ディスク基板２の凹凸パターン上に第１の情報記録層３Ａを形成する。この第１の情報記録層３Ａの構成および材料は、上記第１の実施形態における光ディスクＤ１の情報記録層３の構成および材料と同様とすることができる。
ここまでは、上記第１の実施形態における光ディスクＤ１の製造方法と同様にして行うことができる。
【００９１】
次に、図４（ｃ）に示すように、光ディスク製造用シート４の剥離シート４２’を剥離除去してスタンパー受容層４１を露出させ、図４（ｄ）に示すように、スタンパー受容層（硬化性層）４１を光ディスク基板２上の情報記録層３Ａ表面に圧着する。そして、図４（ｄ）に示すように、スタンパー受容層４１上に積層されている剥離シート４２を剥離除去し、スタンパー受容層４１を露出させる。
【００９２】
次いで、図４（ｅ）に示すように、露出したスタンパー受容層４１の表面にスタンパーＳを圧着し、スタンパー受容層４１にスタンパーＳの凹凸パターンを転写する。この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、スタンパーＳ側または光ディスク基板２側からスタンパー受容層４１に対してエネルギー線を照射し、スタンパー受容層４１を硬化させる。
【００９３】
スタンパーＳは、ニッケル合金等の金属材料やノルボネン樹脂等の透明樹脂材料から構成される。なお、図４（ｅ）に示すスタンパーＳの形状は板状であるが、これに限定されるものではなく、ロール状であってもよい。
【００９４】
スタンパー受容層４１が硬化したら、スタンパーＳをスタンパー受容層４１から分離する。このようにしてスタンパー受容層４１にスタンパーＳの凹凸パターンが転写・固定され、ランドおよびグルーブが形成されたら、次に、図４（ｆ）に示すように、スタンパー受容層４１の凹凸パターン上に、第２の情報記録層３Ｂを形成する。この第２の情報記録層３Ｂは、通常、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体によって構成され、特に、下から順に反射膜（半透明膜）３４、誘電体膜３２、相変化膜３３および誘電体膜３２’からなる積層体によって構成されることが多い。また、反射膜（半透明膜）３４の下側にさらに誘電体膜が形成されることもある。これらの膜は、スパッタリング等の手段によって形成することができる。
【００９５】
反射膜（半透明膜）３４の材料としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｗ等の金属やそれらの合金、例えば、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｎｄ等が添加されたＡｌ−Ｃｒ、Ａｇ−Ｐｔ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｎｄ等を使用することができる。反射膜（半透明膜）３４の厚さは、通常、３〜２０ｎｍ程度である。反射膜（半透明膜）３４以外の膜の材料は、第１の情報記録層３Ａ、すなわち上記第１の実施形態における光ディスクＤ１の情報記録層３を構成する膜の材料と同様である。
【００９６】
最後に、図４（ｇ）に示すように、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１の剥離シート１３を剥離除去して接着剤層１１を露出させ、その接着剤層１１を情報記録層３Ｂ表面に圧着する。
【００９７】
この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、保護シート１２側または光ディスク基板２側から接着剤層１１に対してエネルギー線を照射し、接着剤層１１を硬化させる。
【００９８】
このようにして得られる光ディスクＤ２においては、スタンパー受容層４１および接着剤層１１の水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下であるため、水分がスタンパー受容層４１および接着剤層１１を透過することが制限されて、情報記録層３Ａ，３Ｂに水分が到達し難くなり、情報記録層３Ａ，３Ｂにおける反射膜３１および反射膜（半透明膜）３４の腐食を抑制することができる。これにより、反射膜３１および反射膜（半透明膜）３４の反射率が低下し難いものとなる。
【００９９】
〔第３の実施形態〕
第３の実施形態では、書き込み可能な光ディスクにおける保護シートを形成するための光ディスク製造用シートであって、スタンパーの凹凸パターンが転写されるスタンパー受容層を備えたもの、および２層の情報記録層を互いに接着するための光ディスク製造用シートについて説明する。図５（ａ），（ｂ）は本発明の第３の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図であり、図６（ａ）〜（ｅ）は同実施形態に係る光ディスク製造用シートを用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。
【０１００】
図５（ａ）に示すように、本実施形態に係る第１の光ディスク製造用シート５は、スタンパー受容層（硬化性層）５１と、スタンパー受容層５１の一方の面（図５中上面）に積層された保護シート（保護層）５２と、スタンパー受容層５１の他方の面（図５中下面）に積層された剥離シート５３とからなる。ただし、剥離シート５３は、光ディスク製造用シート５の使用時に剥離されるものである。
【０１０１】
スタンパー受容層５１としては、上記第２の実施形態に係る光ディスク製造用シート４のスタンパー受容層４１と同様のものを使用することができる。また、保護シート５２および剥離シート５３としては、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１の保護シート１２および剥離シート１３と同様のものを使用することができる。
【０１０２】
このような光ディスク製造用シート５は、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１と同様の方法によって製造することができる。
【０１０３】
一方、図５（ｂ）に示すように、本実施形態に係る第２の光ディスク製造用シート６は、接着剤層６１と、接着剤層６１の両面に積層された剥離シート６２，６２’とからなる。ただし、剥離シート６２，６２’は、光ディスク製造用シート６の使用時に剥離されるものである。
【０１０４】
接着剤層６１としては、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１の接着剤層１１と同様のものを使用することができる。また、剥離シート６２，６２’としては、上記第２の実施形態に係る光ディスク製造用シート４の剥離シート４２，４２’と同様のものを使用することができる。
【０１０５】
このような光ディスク製造用シート６は、上記第２の実施形態に係る光ディスク製造用シート４と同様の方法によって製造することができる。
【０１０６】
次に、上記第１の光ディスク製造用シート５および第２の光ディスク製造用シート６を使用した光ディスクＤ３（片面２層式）の製造方法の一例について説明する。
【０１０７】
最初に、図６（ａ）〜（ｂ）に示すように、第１の光ディスク製造用シート５の剥離シート５３を剥離除去し、露出したスタンパー受容層（硬化性層）５１をスタンパーＳに圧着し、スタンパー受容層５１にスタンパーＳの凹凸パターンを転写する。この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、スタンパーＳ側または保護シート５２側からスタンパー受容層５１に対してエネルギー線を照射し、スタンパー受容層５１を硬化させる。
【０１０８】
スタンパー受容層５１が硬化したら、スタンパーＳをスタンパー受容層５１から分離する。このようにしてスタンパー受容層５１にスタンパーＳの凹凸パターンが転写・固定され、ランドおよびグルーブが形成されたら、次に、図５（ｃ）に示すように、スタンパー受容層５１の凹凸パターンに、第２の情報記録層３Ｂを形成する。この第２の情報記録層３Ｂは、通常、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体によって構成され、特に、図６中上から順に誘電体膜３２’、相変化膜３３、誘電体膜３２および反射膜（半透明膜）３４からなる積層体によって構成されることが多い。また、反射膜（半透明膜）３４の上側にさらに誘電体膜が形成されることもある。これらの膜は、スパッタリング等の手段によって形成することができる。各膜の材料は、上記第２の実施形態における光ディスクＤ２の情報記録層３Ｂを構成する膜の材料と同様である。
【０１０９】
一方、図６（ｄ）に示すように、第２の光ディスク製造用シート６を使用し、第２の実施形態と同様にして、光ディスク基板２と、情報記録層３Ａと、接着剤層（硬化性層）６１と、剥離シート６２とからなる積層体を作製する（図４（ａ）〜（ｄ）参照）。
【０１１０】
図６（ｅ）に示すように、上記積層体から剥離シート６２を剥離して接着剤層６１を露出させたら、その接着剤層６１と、上記第２の情報記録層３Ｂが形成された積層体（保護シート５２＋スタンパー受容層５１＋情報記録層３Ｂ）の第２の情報記録層３Ｂとを重ねるようにして両積層体を圧着する。
【０１１１】
そして、エネルギー線照射装置を使用して、保護シート５２側または光ディスク基板２側から接着剤層６１に対してエネルギー線を照射し、接着剤層６１を硬化させる。
【０１１２】
このようにして得られる光ディスクＤ３においては、スタンパー受容層４１および接着剤層１１の水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下であるため、水分がスタンパー受容層４１および接着剤層１１を透過することが制限されて、情報記録層３Ａ，３Ｂに水分が到達し難くなり、情報記録層３Ａ，３Ｂにおける反射膜３１および反射膜（半透明膜）３４の腐食を抑制することができる。これにより、反射膜３１および反射膜（半透明膜）３４の反射率が低下し難いものとなる。
【０１１３】
上述した光ディスクの製造方法はあくまでも一例であり、本実施形態に係る光ディスク製造用シートによる光ディスクの製造方法は、これらの製造方法に限定されるものではない。
【０１１４】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【０１１５】
例えば、第２の実施形態に係る光ディスク製造用シートＤ２の接着剤層１１は公知の接着剤によって構成されてもよく、また、実施例３に係る光ディスク製造用シートＤ３のスタンパー受容層５１は、公知の硬化性材料によって構成されてもよい。
【０１１６】
また、光ディスク製造用シート１，４，５，６における剥離シート１３，４２，４２’，５３，６２，６２’は省略されてもよい。
【実施例】
【０１１７】
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。
【０１１８】
〔実施例１〕
ｎ−ブチルアクリレート５３質量部と、メチルメタクリレート２０質量部と、２−ヒドロキシエチルアクリレート２８質量部とを、酢酸エチル／メチルエチルケトン混合溶媒（重量比５０：５０）中で反応させ、アクリル酸エステル共重合体溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。
【０１１９】
上記アクリル酸エステル共重合体溶液に、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート３３．７質量部（アクリル酸エステル共重合体中の水酸基１００当量に対し９０当量）を添加し、窒素雰囲気下、４０℃で４８時間反応させて、エネルギー線硬化性基であるメタクリロイル基の平均側鎖導入率が２５．４ｍｏｌ％であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が約７８万であるエネルギー線硬化性のアクリル酸エステル共重合体を得た。
【０１２０】
得られたエネルギー線硬化性のアクリル酸エステル共重合体溶液１００質量部（固形分濃度３５質量％）に対して、脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物としてのジメチロールトリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学社製,ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ）１５質量部（配合量：２８．１質量％）と、光重合開始剤としての２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製，イルガキュア６５１）３質量部と、ポリイソシアネートからなる架橋剤（東洋インキ製造社製，オリバインＢＨＳ−８５１５）１質量部（固形分濃度３７．５質量％）とを加え、最後にメチルエチルケトンを加えて固形分濃度を約３０質量％に調整し、これを粘接着剤塗布液とした。
【０１２１】
一方、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面を重剥離型のシリコーン樹脂で剥離処理した重剥離型剥離シート（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ３８１１，厚さ：３８μｍ，表面粗さ（Ｒａ）：０．０１６μｍ）と、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面を軽剥離型のシリコーン樹脂で剥離処理した軽剥離型剥離シート（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ３８ＧＳ，厚さ：３８μｍ，表面粗さ（Ｒａ）：０．０１６μｍ）とを用意した。
【０１２２】
上記粘接着剤塗布液を、上記重剥離型剥離シートの剥離処理面に、乾燥膜厚が２５μｍとなるようにナイフコーターによって塗布し、９０℃で１分間乾燥させ、粘接着剤層を形成した。その粘接着剤層の表面に上記軽剥離型剥離シートを積層し、これを粘接着シートとした。
【０１２３】
〔実施例２〕
ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートの量を７．５質量部（配合量：１６．５質量％）とし、光重合開始剤の配合量を２．６質量部とした以外は実施例１と同様にして粘接着剤塗布液を調製した。得られた粘接着剤塗布液を使用し、実施例１と同様の方法によって粘接着シートを作製した。
【０１２４】
〔実施例３〕
ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートに替えて、４，８−ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカンおよびイソホロンジイシアネートの反応生成物と２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとを１：２：２のモル比で反応させて得られたウレタンアクリレートを使用した以外は実施例１と同様にして粘接着剤塗布液を調製した。得られた粘接着剤塗布液を使用し、実施例１と同様の方法によって粘接着シートを作製した。
【０１２５】
〔実施例４〕
ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートに替えて、１，４−シクロヘキサンジメタノールおよびイソホロンジイシアネートの反応生成物と２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとを１：２：２のモル比で反応させて得られたウレタンアクリレートを使用した以外は実施例１と同様にして粘接着剤塗布液を調製した。得られた粘接着剤塗布液を使用し、実施例１と同様の方法によって粘接着シートを作製した。
【０１２６】
〔実施例５〕
ｎ−ブチルアクリレート８０質量部とアクリル酸２０質量部とを酢酸エチル中で反応させ、重量平均分子量（Ｍｗ）が約５０万であるアクリル酸エステル共重合体溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。
【０１２７】
上記アクリル酸エステル共重合体溶液１００質量部（固形分濃度３５質量％）に対して、脂環式構造を有するエネルギー線硬化性化合物としてのジメチロールトリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学社製,ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ）３５質量部（配合量：４８．４質量％）と、光重合開始剤としての２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製，イルガキュア６５１）２．１質量部と、アルミキレート系架橋剤（川研ファインケミカル社製，アルミキレートＤ）０．２５質量部とを加え、最後にメチルエチルケトンを加えて固形分濃度を約３０質量％に調整し、これを粘接着剤塗布液とした。
【０１２８】
得られた粘接着剤塗布液を使用し、実施例１と同様の方法によって粘接着シートを作製した。
【０１２９】
〔比較例１〕
ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートに替えて、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（東亞合成社製，Ｍ−３５０）を使用した以外は実施例１と同様にして粘接着剤塗布液を調製した。得られた粘接着剤塗布液を使用し、実施例１と同様の方法によって粘接着シートを作製した。
【０１３０】
〔比較例２〕
ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートの量を３．５質量部（配合量：８．４質量％）とした以外は実施例１と同様にして粘接着剤塗布液を調製した。得られた粘接着剤塗布液を使用し、実施例１と同様の方法によって粘接着シートを作製した。
【０１３１】
〔試験例１〕
実施例および比較例で製造した粘接着シートに対して紫外線を照射し（リンテック株式会社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ  ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm2，光量３００mJ/cm2）、粘接着剤層を硬化させた後、両剥離シートを剥離するとともに１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切断して、これを試験片とした。
【０１３２】
上記試験片について、水蒸気透過度計（Ｌｙｓｓｙ社製，Ｌ８０−５０００型）を使用し、ＪＩＳ  Ｋ７１２９に従って水蒸気透過度ＷＶＴＲ（ｇ／ｍ２・２４ｈ）を測定した。そして、その水蒸気透過度ＷＶＴＲと試験片の厚さ（ｍ）から、次式により水蒸気透過係数（ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ）を算出した。結果を表１に示す。
水蒸気透過係数＝ＷＶＴＲ×試験片の厚さ
【０１３３】
〔試験例２〕
厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート板上に、スパッタ法により厚さ１００ｎｍの銀薄膜を形成した。実施例および比較例で製造した粘接着シートから軽剥離型剥離シートを剥離し、露出した粘着剤層を上記銀薄膜上に圧着した。その状態で、試験例１と同様にして重剥離型剥離シート側から紫外線を照射し、粘接着剤層を硬化させた後、重剥離型剥離シートを剥離した。
【０１３４】
上記のようにして得られた積層体を、８０℃、９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ１５０時間放置した。分光光度計（島津製作所社製，ＵＶ−３１０１ＰＣ型）を使用して、恒温恒湿槽投入前後の銀薄膜の反射率（波長：４０５ｎｍ）を測定し、次式により反射率変化（％）を算出した。なお、光記録媒体における反射率変化の望ましい値は、５％以下である。結果を表１に示す。
反射率変化（％）＝（恒温恒湿槽投入前の４０５ｎｍにおける反射率−恒温恒湿槽投入後の４０５ｎｍにおける反射率）／恒温恒湿槽投入前の反射率×１００
【０１３５】
〔試験例３〕
実施例および比較例で製造した粘接着シートの粘接着剤層の硬化前の貯蔵弾性率を、粘弾性測定装置（Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃｓ社製，装置名：ＤＹＮＡＭＩＣ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＲＤＡ II）を用いて１Ｈｚで２５℃の値を測定した。結果を表１に示す。
【０１３６】
また、上記粘接着剤層に対して紫外線を照射し（リンテック株式会社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ  ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm2，光量３００mJ/cm2）、硬化後の粘接着剤層の貯蔵弾性率を、粘弾性測定装置（オリエンテック株式会社製，装置名：レオパイブロンＤＤＶ−II−ＥＰ）を用いて３．５Ｈｚで２５℃の値を測定した。結果を表１に示す。
【０１３７】
【表１】
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【０１３８】
表１から分かるように、粘着剤層の硬化後の水蒸気透過係数が６．５×１０−３ｇ・ｍ／ｍ２・２４ｈ以下であるものは、反射率変化が小さく、高温多湿の条件下でも反射率の低下が抑制されている。
【産業上の利用可能性】
【０１３９】
本発明は、耐久性に優れ、経時による読み取りエラーの少ない光記録媒体の製造に、または当該光記録媒体として有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１４０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図である。
【図２】同実施形態に係る光ディスク製造用シートを使用した書き込み可能な光ディスク製造方法の一例を示す断面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図である。
【図４】同実施形態に係る光ディスク製造用シートを使用した書き込み可能な光ディスク製造方法の一例を示す断面図である。
【図５】本発明の第３の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図である。
【図６】同実施形態に係る光ディスク製造用シートを使用した書き込み可能な光ディスク製造方法の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１４１】
１，４，５，６…光ディスク製造用シート
１１，６１…接着剤層
４１，５１…スタンパー受容層
１２，５２…保護シート
２…光ディスク基板
３，３Ａ，３Ｂ…情報記録層
３１…反射膜
３２，３２’…誘電体膜
３３…相変化膜
３４…反射膜（半透明膜）
Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３…光ディスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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