(57)【要約】【課題】  液晶パネルに対する洗浄処理を簡単、短時間、且つ十分な信頼性を持って行うことができる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】  一対の基板をシール材によって貼り合わせ、さらにそれらの基板間に液晶を封入して成る液晶パネル６１を洗浄する液晶パネルの洗浄装置である。この洗浄装置は、液晶パネル６１を収容する処理室２と、処理室２内に設けられ液晶パネル６１を複数の点状領域で支持するパネル支持器５と、処理室２の内部を加熱する加熱装置３と、処理室２の内部を減圧する減圧ポンプ８とを有する。加熱装置３及び減圧ポンプ８は処理室２の内部を液晶が揮発する温度及び気圧に設定する。液晶パネル６１は短冊状パネルであることが望ましい。液晶パネル６１内の不要な液晶は処理室２の内部で揮発して液晶パネル６１から除去される。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板をシール材によって貼り合わせ、さらにそれらの基板間に液晶を封入して成る液晶パネルを洗浄する液晶パネルの洗浄装置において、
前記液晶パネルを収容する処理室と、
該処理室内に設けられていて前記液晶パネルを複数の点状領域で支持するパネル支持手段と、
前記処理室の内部を加熱する加熱手段と、
前記処理室の内部を減圧する減圧手段とを有し、
前記加熱手段及び前記減圧手段は前記処理室の内部を前記液晶が揮発する温度及び気圧にする
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄装置。
【請求項２】
請求項１記載の液晶パネルの洗浄装置において、
前記パネル支持手段は、前記液晶パネルにおける前記シール材の外側に対応する領域で該液晶パネルを複数の点状領域で支持する
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の液晶パネルの洗浄装置において、
前記加熱手段によって加熱される前記処理室の内部温度は、前記シール材についての高温側の許容限界温度以下である
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄装置。
【請求項４】
請求項３記載の液晶パネルの洗浄装置において、
前記シール材はエポキシ樹脂によって形成され、前記許容限界温度は約２００℃である
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１つに記載の液晶パネルの洗浄装置において、
前記減圧手段は前記処理室の内部を１０ｋＰａ以下の気圧まで減圧する
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の液晶パネルの洗浄装置において、
前記パネル支持手段は、前記液晶パネルの形成領域が複数個分１列につながった状態の短冊状パネルを支持できる
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄装置。
【請求項７】
一対の基板をシール材によって貼り合わせ、さらにそれらの基板間に液晶を封入して成る液晶パネルを洗浄する液晶パネルの洗浄装置において、
前記液晶パネルを収容する処理室と、
前記処理室の内部を加熱する加熱手段と、
前記処理室の内部を減圧する減圧手段と、
前記液晶パネルに装着される輻射熱遮蔽手段であって、前記シール材へ輻射熱が伝わることを防止すると共に前記液晶パネルのうちの前記シール材よりも外側領域へ輻射熱が伝わることを許容する輻射熱遮蔽手段とを有し、
前記加熱手段及び前記減圧手段は前記処理室の内部を前記液晶が揮発する温度及び気圧にする
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄装置。
【請求項８】
請求項７記載の液晶パネルの洗浄装置において、
前記輻射熱遮蔽手段は断熱材によって形成され、この断熱材は前記液晶パネルのうちの前記シール材に対応する領域を覆うように該液晶パネルの表裏両面のうちの少なくとも１つに接触して配置される
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄装置。
【請求項９】
請求項７又は請求項８記載の液晶パネルの洗浄装置において、
前記処理室は、前記液晶パネルの形成領域が複数個分１列につながった状態の短冊状パネルを収容できる
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれか１つに記載の液晶パネルの洗浄装置において、
不活性ガスを送り出すガス供給手段をさらに有し、
前記処理室は、前記ガス供給手段から送り出された不活性ガスを受け入れる吸気口と、該処理室の内部のガスを外部へ排出する排出口とを有する
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄装置。
【請求項１１】
一対の基板をシール材によって貼り合わせ、さらにそれらの基板間に液晶を封入して成る液晶パネルを洗浄する液晶パネルの洗浄方法において、
前記液晶パネルを処理室の内部において複数の点状領域で支持しながら、前記処理室の内部を前記液晶が揮発する気圧及び温度に保持する工程を有する
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄方法。
【請求項１２】
一対の基板をシール材によって貼り合わせ、さらにそれらの基板間に液晶を封入して成る液晶パネルを洗浄する液晶パネルの洗浄方法において、次の工程、すなわち
（ａ）前記液晶パネルを処理室内に収容し、
（ｂ）前記液晶パネルに輻射熱遮蔽手段を装着することにより前記シール材へ輻射熱が伝わることを防止すると共に前記液晶パネルのうちの前記シール材よりも外側領域へ輻射熱が伝わることを許容しながら、
（ｃ）前記処理室の内部を前記液晶が揮発する気圧及び温度にする
工程を有することを特徴とする液晶パネルの洗浄方法。
【請求項１３】
請求項１１又は請求項１２記載の液晶パネルの洗浄方法において、
前記液晶パネルは、液晶パネルの形成領域が複数個分１列につながった状態の短冊状パネルである
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄方法。
【請求項１４】
請求項１１から請求項１３のいずれか１つに記載の液晶パネルの洗浄方法において、
前記処理室の内部へ不活性ガスを供給しながら該処理室の内部のガスを外部へ排出する工程を有する
ことを特徴とする液晶パネルの洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルから主に不要な液晶を除去する液晶パネルの洗浄装置及び洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶パネルは、シール材によって貼り合わされた一対の基板間に液晶を封入した構造を有している。この液晶パネルを製造する際には、例えば、一対の基板をシール材によって貼り合わせた後に、そのシール材に予め形成してある開口を通して液晶を注入し、その注入が終了した後にその開口を樹脂によって封止する。
【０００３】
一対の基板の間であってシール材によって囲まれた領域内に上記のようにして液晶を注入する際、液晶はシール材によって囲まれる領域に限らず、シール材の外側の領域の基板間にも進入するのが普通である。この液晶は液晶パネルにとっては不要な液晶であり、このような不要な液晶は液晶パネルから除去されなければならない。このような不要な液晶を除去するため、従来、液晶の注入処理が終わった後の液晶パネルを、容器の中に貯留された洗浄液の中に漬けて、不要な液晶を液晶パネルから洗い流すという洗浄方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
他方、液晶パネルの洗浄の分野ではないが、液晶パネルのリサイクル処理（すなわち、液晶パネルの再利用）の分野において、廃棄された液晶パネルを減圧及び加熱してその液晶パネルに含まれる液晶、シール材、その他の構成要素を揮発及び炭化させることにより、ガラス基板、液晶、その他の有機物を再利用できる状態で回収しようとする真空加熱処理の技術が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−０１８３７４号公報（第４〜７頁、図５）
【特許文献２】特開２００４−２３０２２９号公報（第４〜７頁、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
液晶パネルの製造方法においては、通常、液晶パネルの形成領域が複数個分１列につながった状態のパネル構造体（いわゆる、短冊状パネル）に対して液晶の注入処理を行い、その注入処理の終了後にブレイク処理（すなわち、切断処理）を行って液晶パネルを個々に形成していた。そして、従来の液晶パネルの洗浄処理は、液晶パネルを切断によって個々に形成した後に、それらの液晶パネルを個々又はまとめて洗浄液に浸漬することによって行っていた。しかしながら、この処理は、非常に面倒で時間のかかる作業を必要としていた。
【０００７】
本発明者は、液晶パネルに対する洗浄処理を簡単、短時間、且つ十分な信頼性を持って行うことを企図して種々の検討を行った。そして、その検討の中で上記の真空加熱処理に着眼した。そして、真空加熱処理を所定の条件で活用することが液晶パネルを洗浄する上で極めて有効であることを知見した。しかしながら真空加熱処理は、液晶を揮発処理させる為に液晶パネルのシール材にもダメージを与えてしまう、という課題が存することも同時に知見した。
【０００８】
本発明は、前記した知見に基づいて成されたものであって、液晶パネルに対する洗浄処理を簡単、短時間、且つシール材にダメージを与えないで十分な信頼性を持って行うことができる洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る液晶パネルの洗浄装置は、一対の基板をシール材によって貼り合わせ、さらにそれらの基板間に液晶を封入して成る液晶パネルを洗浄する液晶パネルの洗浄装置において、前記液晶パネルを収容する処理室と、該処理室内に設けられていて前記液晶パネルを複数の点状領域で支持するパネル支持手段と、前記処理室の内部を加熱する加熱手段と、前記処理室の内部を減圧する減圧手段とを有し、前記加熱手段及び前記減圧手段は前記処理室の内部を前記液晶が揮発する温度及び気圧にすることを特徴とする。
【００１０】
上記構成において、「処理室」は、例えば、気密なチャンバによって形成できる。また、「加熱手段」は、例えば、通電によって発熱する発熱線を用いて構成されたヒータを用いることができる。また、「減圧手段」は任意の構造の減圧用機器、例えば、ロータリーポンプ、ドライポンプ、ターボ分子ポンプ等を用いて構成できる。
【００１１】
「液晶が揮発する温度及び気圧」は、両者の相対的な関係で種々に決まるものであるが、例えば、気圧が１０ｋＰａ以下の適宜の気圧に設定されるときに、温度は２００℃以下の適宜の温度に設定される。気圧を１０ｋＰａ以下に設定するのは、気圧が１０ｋＰａを越えると低温での液晶の揮発が不可能になるからである。なお、液晶等を揮発させる上で気圧はできるだけ低いことが望ましい。しかしながら、気圧を低く設定する場合には、それに対応して前記処理室の機械的強度を強くしなければならないと考えられる。
【００１２】
上記構成の本発明に係る液晶パネルの洗浄装置によれば、液晶パネルを構成する一対の基板の間であってシール材の外側に付着している不要な液晶を、処理室の内部において揮発させて液晶パネルから除去できる。このため、本発明の洗浄装置によれば、簡単且つ短時間に十分な信頼性を持って液晶パネルから不要な液晶を除去することができる。
【００１３】
ところで、液晶パネルが処理室の内部において、仮に、平板状の支持部材の上に面接触の状態で支持されるものとすると、液晶パネルから不要な液晶を除去することが十分な信頼性をもって実現できないおそれがある。何故ならば、液晶パネル内のシール材が高温のために損傷することを防止するために、処理室内の温度をあまり高く上げられないからである。
【００１４】
このことに関し、本発明のように、パネル支持手段によって液晶パネルを複数の点状領域で支持するようにすれば、仮に処理室の内部をかなりの高温に設定した場合でも、伝熱によって液晶パネルが過度に高温になることを防止できる。このため、シール材をあまり高温にすることなく、不要な液晶が存在する領域をかなりの高温にすることができ、それ故、シール材の損傷を防止しつつ、しかし、不要な液晶は確実に揮発させて除去できる。
【００１５】
次に、本発明に係る液晶パネルの洗浄装置において、前記パネル支持手段は、前記液晶パネルにおける前記シール材の外側に対応する領域で該液晶パネルを複数の点状領域で支持することが望ましい。こうすれば、シール材が過度に高温になることを防止しつつ、シール材の外側の領域にある不要な液晶だけを所望の高温に設定できる。
【００１６】
次に、本発明に係る液晶パネルの洗浄装置において、前記加熱手段によって加熱される前記処理室の内部温度は、前記シール材についての高温側の許容限界温度以下であることが望ましい。一般に、シール材はその材質に従って使用可能な高温側の許容温度が決まっている。シール材の周囲の温度がその許容温度よりも高くなると、シール材は損傷してしまい、一対の基板を貼り合わせるという本来の機能を奏することができなくなるおそれがある。従って、本発明において加熱手段によって加熱される処理室の内部温度は、シール材の許容限界温度以下であることが望ましい。これにより、シール材及びその他の液晶パネル構成要素を損傷すること無く、不要な液晶だけを液晶パネルから除去できる。
【００１７】
次に、本発明に係る液晶パネルの洗浄装置において、前記シール材はエポキシ樹脂によって形成することができる。そしてその場合、前記許容限界温度は約２００℃であることが望ましい。エポキシ樹脂はこれを約２００℃に加熱してもその機能に支障は発生しないと考えられる。従って、液晶パネルのシール材をエポキシ樹脂によって形成した場合には、処理室の内部の温度は約２００℃以下とすることが望ましい。ここで、約２００℃とは、２００℃の近傍でエポキシ樹脂の機能に支障を生じない程度の誤差を含む意味である。
【００１８】
次に、本発明に係る液晶パネルの洗浄装置において、前記減圧手段は前記処理室の内部を１０ｋＰａ以下の気圧まで減圧することが望ましい。ここで、１０ｋＰａ以下とするのは、気圧が１０ｋＰａを越えると液晶を低温で揮発させることが難しくなるからである。
【００１９】
次に、本発明に係る液晶パネルの洗浄装置において、前記パネル支持手段は、前記液晶パネルの形成領域が複数個分１列につながった状態の短冊状パネルを支持できることが望ましい。この短冊状パネルは、細長い長方形状であることが多いことからこのように呼ばれるものである。また、通常の液晶パネルの製造方法においては、液晶パネルの複数個分の構成要素を大面積のガラス基板の表面上の縦横にマトリクス状に形成し、液晶の注入工程の前に横１列又は縦１列に液晶パネルの複数個分の構成要素が載るように上記大面積のガラス基板を１次ブレイク（すなわち、１次切断）して上記の短冊状の液晶パネルを形成することがある。このため、この短冊状パネルは中面積の液晶パネルと呼ばれることもある。
【００２０】
本発明において、液晶パネルから不要な液晶を除去するための洗浄を上記の短冊状パネルの状態で行うようにすれば、従来のように１個１個の液晶パネルを切り出した後にそれらを洗浄液に浸漬して洗浄を行う場合に比べて、作業者が汚れることがなく清潔であり、作業自体が簡単であり、１個の液晶パネルについての作業時間も短くて済み、さらに、洗浄能力も十分に確保できる。
【００２１】
次に、本発明に係る第２の液晶パネルの洗浄装置は、一対の基板をシール材によって貼り合わせ、さらにそれらの基板間に液晶を封入して成る液晶パネルを洗浄する液晶パネルの洗浄装置において、前記液晶パネルを収容する処理室と、前記処理室の内部を加熱する加熱手段と、前記処理室の内部を減圧する減圧手段と、前記液晶パネルに装着される輻射熱遮蔽手段であって前記シール材へ輻射熱が伝わることを防止すると共に前記液晶パネルのうちの前記シール材よりも外側領域へ輻射熱が伝わることを許容する輻射熱遮蔽手段とを有し、前記加熱手段及び前記減圧手段は前記処理室の内部を前記液晶が揮発する温度及び気圧にすることを特徴とする。
【００２２】
この構成において、「輻射熱遮蔽手段」は処理室内においてシール材へ輻射熱が伝わることを防止できる部材によって構成できる。例えば、鉄（Ｆｅ）、布等といった伝熱性部材を液晶パネルに接触させること無く少しの隙間をもってシール材を覆うことにより輻射熱遮蔽手段を構成できる。また、アスベスト、グラスウール、ゴム等といった断熱性部材を液晶パネルに接触させること無く少しの隙間をもってシール材を覆うことにより輻射熱遮蔽手段を構成できる。また、上記の断熱性部材を液晶パネルの表面に接触させた状態でシール材を覆うことにより輻射熱遮蔽手段を構成することもできる。
【００２３】
また、輻射熱遮蔽手段は液晶パネルの表面上に載せるだけでも良いし、接着剤又は粘着剤によって液晶パネルの表面に着けるようにしても良いし、あるいは、適宜の挟み機構を用いて輻射熱遮蔽手段と液晶パネルとを挟み付けて両者を互いに固着するようにしても良い。
【００２４】
上記構成の本発明に係る第２の液晶パネルの洗浄装置によれば、液晶パネルを構成する一対の基板の間であってシール材の外側に付着している不要な液晶を、処理室の内部において揮発させて液晶パネルから除去できる。このため、本発明の洗浄装置によれば、簡単且つ短時間に十分な信頼性を持って液晶パネルから不要な液晶を除去することができる。
【００２５】
特に、輻射熱遮蔽手段の働きによってシール材に輻射熱が加わることを防止し、且つシール材の外側領域には高温を付与できるようにしたので、シール材の外側領域にある不要な液晶に対しては高温を付与してそれを除去し、シール材にはそのような高温を付与しないでその損傷を防止する、という状態を実現できる。
【００２６】
次に、本発明に係る第２の液晶パネルの洗浄装置において、前記輻射熱遮蔽手段は断熱材によって形成され、この断熱材は前記液晶パネルのうちの前記シール材に対応する領域を覆うように該液晶パネルの表裏両面のうちの少なくとも１つに接触して配置されることが望ましい。断熱部材としては、アスベスト、グラスウール、ゴム等を用いることができる。
【００２７】
断熱部材をシール材に対応する領域の液晶パネル上に「接触」させれば、シール材に関して輻射熱及び伝導熱の両方を遮蔽することができるので、高温に起因するシール材の損傷を確実に防止できる。
【００２８】
次に、本発明に係る第２の液晶パネルの洗浄装置において、前記処理室は前記液晶パネルの形成領域が複数個分１列につながった状態の短冊状パネルを収容できることが望ましい。このように、短冊状の液晶パネルに対して洗浄処理を行うことができるようにすれば、従来のように１個１個の液晶パネルを切り出した後にそれらを洗浄液に浸漬して洗浄を行う場合に比べて、作業者が汚れることがなく清潔であり、作業自体が簡単であり、１個の液晶パネルについての作業時間も短くて済み、さらに、洗浄能力も十分に確保できる。
【００２９】
次に、本発明に係る液晶パネルの洗浄装置は、不活性ガスを送り出すガス供給手段をさらに有することが望ましく、それと共に前記処理室は、前記ガス供給手段から送り出された不活性ガスを受け入れる吸気口と、該処理室の内部のガスを外部へ排出する排出口とを有することが望ましい。こうすれば、洗浄によって液晶パネルから除去された不要な液晶を、処理室の内部に過剰に滞留させることなく外部へ排出できる。
【００３０】
次に、本発明に係る液晶パネルの洗浄方法は、一対の基板をシール材によって貼り合わせ、さらにそれらの基板間に液晶を封入して成る液晶パネルを洗浄する液晶パネルの洗浄方法において、前記液晶パネルを処理室の内部において複数の点状領域で支持しながら、前記処理室の内部を前記液晶が揮発する気圧及び温度にする工程を有することを特徴とする。
【００３１】
この構成の液晶パネルの洗浄方法によれば、液晶パネルを構成する一対の基板の間であってシール材の外側に付着している不要な液晶を、処理室の内部において揮発させて液晶パネルから除去できる。このため、本発明の洗浄方法によれば、簡単且つ短時間に十分な信頼性を持って液晶パネルから不要な液晶を除去することができる。
【００３２】
ところで、液晶パネルが処理室の内部において、仮に、平板状の支持部材の上に面接触の状態で支持されているものとすると、液晶パネルから不要な液晶を除去することが十分な信頼性をもって実現できないおそれがある。何故ならば、液晶パネル内のシール材が高温になって損傷することを防止するために、処理室内の温度をあまり高く上げられないからである。
【００３３】
また、本発明のように、液晶パネルを複数の点状領域で支持するようにすれば、仮に処理室の内部をかなりの高温に設定した場合でも、伝熱によって液晶パネルが過度に高温になることを防止できる。このため、シール材をあまり高温にすることなく、不要な液晶が存在する領域をかなりの高温にすることができ、それ故、シール材の損傷を防止しつつ、しかし、不要な液晶は確実に揮発させて除去できる。
【００３４】
次に、本発明に係る液晶パネルの洗浄方法において、前記液晶パネルは、液晶パネルの形成領域が複数個分１列につながった状態の短冊状パネルであることが望ましい。このように、短冊状の液晶パネルに対して洗浄処理を行うことにすれば、従来のように１個１個の液晶パネルを切り出した後にそれらを洗浄液に浸漬して洗浄を行う場合に比べて、作業者が汚れることがなく清潔であり、作業自体が簡単であり、１個の液晶パネルについての作業時間も短くて済み、さらに、洗浄能力も十分に確保できる。
【００３５】
次に、本発明に係る第２の液晶パネルの洗浄方法は、一対の基板をシール材によって貼り合わせ、さらにそれらの基板間に液晶を封入して成る液晶パネルを洗浄する液晶パネルの洗浄方法において、次の工程、すなわち、（ａ）前記液晶パネルを処理室内に収容し、（ｂ）前記液晶パネルに輻射熱遮蔽手段を装着することにより前記シール材へ輻射熱が伝わることを防止すると共に前記液晶パネルのうちの前記シール材よりも外側領域へ輻射熱が伝わることを許容しながら、（ｃ）前記処理室の内部を前記液晶が揮発する気圧及び温度にする、工程を有することを特徴とする。
【００３６】
この第２の液晶パネルの洗浄方法によれば、液晶パネルを構成する一対の基板の間であってシール材の外側に付着している不要な液晶を、処理室の内部において揮発させて液晶パネルから除去できる。このため、本発明の洗浄方法によれば、簡単且つ短時間に十分な信頼性を持って液晶パネルから不要な液晶を除去することができる。
【００３７】
特に、輻射熱遮蔽手段の働きによってシール材に輻射熱が加わることを防止し、且つシール材の外側領域には高温を付与できるようにしたので、シール材の外側領域にある不要な液晶に対しては高温を付与してそれを除去し、シール材にはそのような高温を付与しないでその損傷を防止する、という状態を実現できる。
【００３８】
次に、本発明に係る第２の液晶パネルの洗浄方法において、前記液晶パネルは、液晶パネルの形成領域が複数個分１列につながった状態の短冊状パネルであることが望ましい。このように、短冊状の液晶パネルに対して洗浄処理を行うことにすれば、従来のように１個１個の液晶パネルを切り出した後にそれらを洗浄液に浸漬して洗浄を行う場合に比べて、作業者が汚れることがなく清潔であり、作業自体が簡単であり、１個の液晶パネルについての作業時間も短くて済み、さらに、洗浄能力も十分に確保できる。
【００３９】
次に、本発明に係る液晶パネルの洗浄方法は、処理室の内部へ不活性ガスを供給しながらその処理室の内部のガスを外部へ排出する工程をさらに有することが望ましい。こうすれば、洗浄によって液晶パネルから除去された不要な液晶を、処理室の内部に過剰に滞留させることなく外部へ排出できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
以下、本発明に係る液晶パネルの洗浄装置及び洗浄方法を一実施形態を挙げて説明する。なお、本発明がその実施形態に限定されないことはもちろんである。また、実施形態の説明で用いる図面は特徴的な部分を分かり易く示すために実際の装置等と異なった寸法比で描かれていることに注意を要する。
【００４１】
まず、本発明に係る洗浄装置及び洗浄方法を説明するのに先立って、その洗浄の対象となる液晶パネルについて説明する。本実施形態で洗浄の対象となる液晶パネルは任意の表示モードによって構成できる。例えば、液晶駆動方式でいえば、単純マトリクス方式及びアクティブマトリクス方式のいずれであっても良い。また、液晶モードの種別でいえば、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）、負の誘電率異方性を持つ液晶（すなわち、垂直配向用液晶）、その他任意の液晶を用いることができる。また、採光方式でいえば、反射型、透過型又は半透過反射型のいずれであっても良い。
【００４２】
単純マトリクス方式とは、各画素に能動素子を持たず、走査電極とデータ電極との交差部が画素または表示用ドット領域に対応し、駆動信号が直接に印加されるマトリクス方式である。この方式に対する液晶モードとしては、ＴＮ、ＳＴＮ、垂直配向モードが用いられる。次に、アクティブマトリクス方式とは、画素又は表示用ドット領域ごとに能動素子が設けられ、書き込み期間では能動素子がＯＮ状態となってデータ電圧が書き込まれ、他の期間では能動素子がＯＦＦ状態になって電圧が保持されるマトリクス方式である。この方式で使用する能動素子には３端子型と２端子型がある。３端子型の能動素子には、例えば、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）がある。また、２端子型の能動素子には、例えば、ＴＦＤ（Thin Film Diode）がある。
【００４３】
上記の反射型とは、太陽光、室内光等といった外部光を液晶パネルの内部で反射させて表示に用いる方式である。また、透過型とは、液晶パネルを透過する光を用いて表示を行う方式である。また、半透過反射型とは、反射型表示と透過型表示の両方を選択的に行うことができる方式である。採光方式として透過型及び半透過反射型が採用される場合には、液晶パネルの表示面と反対側の面に照明装置が設けられる。
【００４４】
上記の各種方式の液晶パネルは、例えば図４に示すように構成される。この液晶パネル１は、透光性のガラス、プラスチック等によって形成された第１基板５１と、同じく透光性のガラス、プラスチック等によって形成された第２基板５２とを有する。これらの基板は、環状のシール材５３によって貼り合わされている。そして、第１基板５１、第２基板５２、及びシール材５３によって囲まれる隙間内、いわゆるセルギャップ内に液晶５４が封入される。シール材５３には、液晶を注入する際に液晶通路となる開口５５が設けられる。
【００４５】
第１基板５１の外側の表面には偏光板５６ａが貼着等によって装着される。また、第２基板５２の外側の表面には偏光板５６ｂが貼着等によって装着される。液晶パネル１の採光方式如何によってはいずれか一方の偏光板は不要になる場合もある。また、偏光板５６ａ，５６ｂ以外の光学要素、例えば位相差板等が偏光板５６ａ，５６ｂに加えて又はそれらに代えて用いられることもある。第１基板５１及び第２基板５２の内側表面には、電極、アクティブ素子、カラーフィルタ、配向膜、反射膜、樹脂層、オーバーコート層、その他種々の光学要素が設けられる。アクティブ素子としては、例えば、ＴＦＤ等といった２端子型の素子や、ＴＦＴ等といった３端子型の素子等が考えられる。
【００４６】
第１基板５１は第２基板５２の外側へ張り出す張出し部５７を有する。本実施形態では、この張出し部５７に３個の駆動用ＩＣ５８が実装されている。この実装は、例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）を用いたＣＯＧ（Chip On Glass）技術によって行うことができる。また、張出し部５７の辺端に配線基板としてのＦＰＣ（Flexible Printed Circuit：可撓性プリント回路）５９が接続され、このＦＰＣ５９を介して駆動用ＩＣ５８へ所定の信号が供給される。なお、基板５１上に駆動用ＩＣ５８を直接に実装するというＣＯＧ技術に代えて、ＦＰＣ５９上に駆動用ＩＣ５８を実装する実装方法を採用することもできる。
【００４７】
図４に示す液晶パネル１が単純マトリクス方式である場合には、第１基板５１及び第２基板５２のそれぞれの内側の表面、すなわち液晶５４側の表面にＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウムスズ酸化物）等によって電極が形成され、それらの電極が互いに対向する部分に画素又は表示用ドット領域が形成される。そして、それらの画素等に印加する電圧を画素ごとに制御することにより、第１基板５１の外側表面又は第２基板５２の外側表面に適宜の像を表示する。
【００４８】
液晶パネル１がアクティブマトリクス方式である場合には、第１基板５１及び第２基板５２のそれぞれの内側の表面にＩＴＯ等によって電極が形成され、それらの電極が互いに対向する部分に画素又は表示用ドット領域が形成され、さらにそれらの画素の１つ１つにＴＦＤ等といった２端子素子や、ＴＦＴ等といった３端子素子等から成るスイッチング素子が付設される。そして、各画素に印加される電圧をそれらのスイッチング素子のＯＮ／ＯＦＦによって画素ごとに制御することにより、第１基板５１の外側表面又は第２基板５２の外側表面に適宜の像を表示する。
【００４９】
上記のような液晶パネル１において、カラー表示を行う場合には、一対の基板の５１，５２のうちの一方にカラーフィルタが設けられる。カラーフィルタは、特定の波長域の光を選択的に透過する複数のフィルタによって形成される。例えば、３原色であるＢ（青），Ｇ（緑），Ｒ（赤）の１色ずつを基板上の各画素又は各表示用ドット領域に対応させて所定の配列、例えばストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列で並べることによってカラーフィルタが形成される。このように３つの異なった色の組み合わせによってカラー表示を行う場合は、それら３つの表示用ドット領域の集まりによって１つの画素が形成される。一方、白黒等といった２色によってモノカラー表示を行う場合は、１つの表示用ドット領域によって１つの画素が形成される。
【００５０】
図４に示す液晶パネル１は、例えば、図３に示す液晶表示装置の製造方法によって製造される。本実施形態では、ＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶パネルを製造する場合を例示するものとする。また、本実施形態では、図４に示す液晶パネル１を１個ずつ製造するのではなく、液晶パネル１の複数個分の光学要素を１枚の大面積の基板（いわゆる、マザー基板）の表面上に形成する、いわゆる多数個取りの製造方法を例示するものとする。
【００５１】
図３の工程Ｐ１〜Ｐ４は、図４の第１基板５１の複数個分の面積を有するマザー第１基板の表面上に素子基板の複数個分の構成要素を形成するための工程である。また、工程Ｐ１１〜Ｐ１４は、図４の第２基板５２の複数個分の面積を有するマザー第２基板の表面上にカラーフィルタ基板の複数個分の構成要素を形成するための工程である。また、工程Ｐ２１〜Ｐ２９は必要な構成要素が形成されたマザー第１基板とマザー第２基板とを貼り合わせて図４に示す液晶パネル１を製造する工程である。
【００５２】
図８（ａ）及び図８（ｂ）は、マザー第１基板５１’及びマザー第２基板５２’の一例を示している。本実施形態では、これらのマザー基板を用いて４×４＝１６個の液晶パネルを一度に製造する例を示すものとするが、実際の製造工程では必要に応じて１６個以外の種々の数の液晶パネルを一度に製造することができる。
【００５３】
図３の工程Ｐ１において、図８（ａ）及び図８（ｂ）のマザー第１基板５１’の一方の表面（例えば、図８（ｂ）の下側の表面）にＴＦＤ素子を形成する。具体的には、例えばＴａＷ（タンタル・タングステン）を材料としてフォトエッチング処理によって所定形状の第１素子電極を形成し、その上に陽極酸化膜（ＴａＯｘ）を形成し、その上に例えばＣｒ（クロム）を材料としてフォトエッチング処理によって所定形状の第２素子電極を形成し、これにより第１素子電極、酸化膜、第２素子電極から成る３層構造のＴＦＤ素子が個々の表示用ドット領域に付属するように形成される。
【００５４】
次に、工程Ｐ２において、透光性を有する感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって、複数のフォトスペーサを形成する。これらのフォトスペーサは液晶を封入するための隙間であるセルギャップを一定の間隔に保持するための要素である。これらのフォトスペーサは、好ましくは表示用ドット領域から外れる領域、すなわちブラックマスクに対応する領域に形成される。これらのフォトスペーサは、例えば、マザー基板の表面から突出する円柱形状に形成される。なお、フォトスペーサに代えて、直径が一定である多数の球状のスペーサをマザー基板上に散布するようにしても良い。
【００５５】
次に、工程Ｐ３において、例えばポリイミドを材料としてマザー基板の表面に配向膜を形成する。さらに、工程Ｐ４において、その配向膜にラビング処理を施す。これにより、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示すマザー第１基板５１’上に、図４の第１基板５１上に形成すべき構成要素が液晶パネル１の複数個分、形成される。
【００５６】
一方、図３の工程Ｐ１１において、図８（ａ）及び図８（ｂ）のマザー第２基板５２’の一方の表面（例えば、図８（ｂ）の上側の表面）にカラーフィルタを形成する。具体的には、例えば遮光性物質を材料としてフォトエッチング処理によって格子状の遮光膜をマザー第２基板５２’上の各液晶パネル形成領域に形成し、その遮光膜によって囲まれる各ドット状領域の中にＢ（青色）、Ｇ（緑色）、Ｒ（赤色）の３原色の着色要素を１色ずつ所定の配列を成すように形成する。所定の配列としては、例えば、ストライプ、デルタ、モザイク等といった周知の配列を採用できる。
【００５７】
次に、工程Ｐ１２において、ポリイミドを材料としてフォトエッチング処理によってカラーフィルタの上に配向膜を形成し、さらに、工程Ｐ１３においてその配向膜にラビング処理を施す。さらに、工程Ｐ１４において、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示す環状のシール材５３を各液晶パネルの形成領域内に形成する。これらのシール材５３は、例えば、エポキシ系樹脂等を材料としてスクリーン印刷、その他の膜形成手法を用いて形成される。シール材５３の１辺には液晶注入口５５が形成される。以上により、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示すマザー第２基板５２’上に、図４の第２基板５２上に形成すべき構成要素が液晶パネル１の複数個分、形成される。
【００５８】
その後、図３の工程Ｐ２１において、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示すように、マザー第１基板５１’とマザー第２基板５２’とを所定の位置関係にアライメントした上でシール材５３によって貼り合わせ、さらに、加熱又は紫外線照射によってシール材５３を硬化させて両マザー基板５１’，５２’を互いに接合する。これにより、液晶が未封入である大面積の空のパネル構造体６０が形成される。
【００５９】
次に、工程Ｐ２２において、図８（ａ）のスクライブ線Ｌ１に沿ってパネル構造体６０をブレイク（すなわち、切断）し、図５に示すように複数（本実施形態では４個）の液晶パネル形成領域Ａ１が１列につながった状態のパネル構造体６１、いわゆる短冊状パネル、又は中面積のパネル構造体が形成される。こうして形成された短冊状パネル６１の１辺において各シール材５３の液晶注入口５５が外部に露出している。
【００６０】
次に、図３の工程Ｐ２３において、図５の各シール材５３の液晶注入口５５を介してそれらのシール材５３によって囲まれる領域内に液晶を注入する。具体的には、例えば、真空領域内で容器の中に液晶を貯留して液晶溜まりを形成しておき、短冊状パネル６１をその真空領域内に入れてシール材５３によって囲まれる領域内を真空状態に設定し、その後、各シール材５３の液晶注入口５５を液晶溜まりに浸漬する。この状態から短冊状パネル６１の周りの真空領域を高圧、例えば大気圧へと開放すると、液晶溜まり内の液晶がその高圧に押されてシール材５３によって囲まれる領域内へ図６に符号５４で示すように充填される。この液晶注入が終了した後、液晶注入口５５は樹脂６２によって封止される。
【００６１】
以上のような液晶封入処理が行われるとき、液晶は、シール材５３によって囲まれる領域内に進入するだけでなく、斜線Ｂで示すように各シール材５３の外側領域の基板間にも進入する。このようにシール材５３の外側領域に進入した液晶は液晶パネルの機能上全く不要な液晶であり、除去されなければならない。図３の工程Ｐ２４では、そのような不要な液晶を液晶パネルから除去する処理、すなわち液晶の洗浄処理を行う。この洗浄処理の詳細は後述する。
【００６２】
以上のようにして短冊状パネル６１の各液晶パネル形成領域内に液晶が封入された後、図３の工程Ｐ２５において、図６の短冊状パネル６１をスクライブ線Ｌ２に沿って２次ブレイク（すなわち、２回目の切断）をすることにより、液晶パネルを個々に切り出す。次に、工程Ｐ２６において切り出した各液晶パネルを、再度、洗浄する。この洗浄は、例えば、Ｏ２プラズマ洗浄及び洗浄液を使った洗浄の２種類の洗浄によって行われる。Ｏ２プラズマ洗浄は、例えば、大気圧の中で酸素を流してプラズマを立てて有機物を溶かす洗浄である。また、洗浄液を使った洗浄は、その後に液晶パネルに装着される各種の要素とその液晶パネルとの間の密着性を良くするために行われる。
【００６３】
以上の２次洗浄が終了した後、工程Ｐ２７において、図４の駆動用ＩＣ５８の実装が行われ、さらに、図４のＦＰＣ５９が液晶パネル１の辺端に接続される。さらに、工程Ｐ２８において、図４の偏光板５６ａ及び５６ｂが基板５１及び５２の表面に貼着等によって装着される。さらに、工程２９において、図４の液晶パネル１に照明装置（図示せず）が装着される。この照明装置は、液晶パネルの表示面の裏側に設けられてバックライトとして機能することもできるし、液晶パネルの表示面に対向して配置されてフロントライトとして機能することもできる。以上により、図４に示す液晶パネル１及びその液晶パネル１を用いた液晶表示装置、すなわち電気光学装置が製造される。
【００６４】
以下、工程Ｐ２４の短冊状パネルの洗浄工程について詳しく説明する。
この短冊状パネル洗浄工程に入ると、図２の工程Ｐ３１において、図６の液晶封入後の短冊状パネル６１の表面を洗浄する。この洗浄は本来の洗浄を行う前に、例えばエタノール、アセトン等を含む洗浄液によって液晶パネル１の表面の液晶を前もって除去するために行われるものである。
【００６５】
次に、図２の工程Ｐ３２において、図７に示すように、輻射熱遮蔽手段としての断熱材６３を短冊状パネル６１の各液晶パネル形成領域Ａ１内の所定の位置に置く。これらの断熱材６３は、本実施形態では、図８（ｂ）に示すように、マザー第１基板５１’及びマザー第２基板５２’の表裏両方の表面に置くものとする。この場合、パネル構造体６１の鉛直上方側の表面に置かれた断熱材６３は重力の作用によってパネル構造体６１の上に位置不動に置くことができるが、パネル構造体６１の鉛直下方側の表面に置かれた断熱材６３は何等の措置も講じなければ重力の作用によりパネル構造体６１から離れて落下してしまう。
【００６６】
これを防止するため、断熱材６３はパネル構造体６１の表面に接着、粘着等によって固着させることができる。また、適宜の挟み付け機構を用いて断熱材６３をパネル構造体６１の表裏両面に位置不動に押し付けるようにしても良い。また、断熱材６３はパネル構造体６１の表裏両面のいずれか一方だけに設けるようにしても良い。なお、断熱材６３は、図７に示すように、各液晶パネル形成領域Ａ１において、シール材５３及び封止樹脂６２を覆うと共に、液晶パネル形成領域Ａ１のうちのシール材５３の外側領域は覆わないように、パネル構造体６１に装着される。
【００６７】
断熱材６３は、例えば、アスベスト、グラスウール、ゴム等といった断熱性部材によって形成される。本実施形態では、この断熱材６３をパネル構造体６１の表面に面接触させている。この断熱材６３が輻射熱遮蔽手段として最低限果たさなければ成らない機能は、シール材５３へ輻射熱が伝わることを防止することである。断熱材６３は、必ずしもパネル構造体６１の表面に面接触すること無く、少しの隙間をもって離れていてもシール材５３への輻射熱の伝達を防止できると考えられる。従って、断熱材６３は、パネル構造体６１の表面に面接触させることなく、少しの隙間をもって離して配置しても良い。また、シール材５３への輻射熱の伝達を防止することが可能であるならば、断熱材以外の物質、例えば、鉄、布等といった伝熱性部材をパネル構造体６１に接触又は非接触状態で配置することもできる。
【００６８】
以上により、図２の工程Ｐ３２の輻射断熱材装着工程が終了すると、図７の短冊状パネル６１は工程Ｐ３３の減圧・加熱洗浄工程に移動する。この減圧・加熱洗浄工程は、短冊状パネル６１の周囲の気圧を所定の気圧までに減圧した上で、その短冊状パネル６１を所定温度に加熱することにより、短冊状パネル６１に付着している不要な液晶（すなわち、主に図６においてシール材５３の外側領域であってマザー基板５１’とマザー基板５２’との間に付着している液晶）を除去するために行われる工程である。
【００６９】
図１は、そのような洗浄を行うための洗浄装置であって、本発明に係る液晶パネルの洗浄装置の一実施形態を示している。この洗浄装置は、処理対象である短冊状パネル６１を収容する処理室としてのチャンバ２と、チャンバ２の内部に設けられていて短冊状パネル６１を支持するパネル支持器５と、短冊状パネル６１を加熱する加熱装置３とを有する。
【００７０】
また、この洗浄装置は、チャンバ２の吸気ポート２ａを通してチャンバ２の内部へガスを供給するガス供給装置４と、チャンバ２の排気ポート２ｂに接続された分離装置７と、分離装置７の後段に設けられた減圧手段としての減圧ポンプ８と、その減圧ポンプ８の排気ポートに接続された後処理フィルタ９とを有する。以上の各要素は、ガス流路１１によってつながっている。ガス供給装置４は、窒素ガス、アルゴンガス等といった不活性ガスをチャンバ２の内部へ供給して、チャンバ２の内部及びガス流路１１を流れるキャリアガスの流れを形成する。
【００７１】
チャンバ２は、減圧環境に対して強度の高い材料であるステンレス鋼、あるいはその他の材料によって形成されていて、軸線Ｘ０を中心とする筒形状、例えば円筒形状、角筒形状等に形成されている。パネル支持器５は、矢印Ａ方向から見て長方形状、正方形状等に形成された基台１２と、その基台１２上に設けられた複数の支持ピン１３とを有する。短冊状パネル６１は複数の支持ピン１３の上に載せられた状態でチャンバ２の内部の所定位置、例えば略中央に配置されている。基台１２は図１ではチャンバ２の内部で宙に浮いているように見えるが、実際には、筒形状のチャンバ２の内周面上にその基台１２の２辺が止まっている状態になっている。
【００７２】
支持ピン１３は、本実施形態の場合、先端が尖った長い円錐形状に形成されている。支持ピン１３の先端を尖らせてあるのは、複数の支持ピン１３と短冊状パネル６１との接触面積の合計をできる限り小さくするためである。また、支持ピン１３と短冊状パネル６１との接触面積を小さくするのは、支持ピン１３から短冊状パネル６１への伝熱をできるだけ小さくするためである。
【００７３】
支持ピン１３の材質は特定のものに限定されないが、伝熱を抑える意味からすれば、断熱材を用いることが良いと考えられる。しかしながら、本実施形態のように支持ピン１３の先端の面積を小さく形成しておけば、仮に支持ピン１３が伝熱性の物質、例えば鉄合金、ステンレス、銅合金等、によって形成されたとしても実用上は問題が無い。なお、支持ピン１３の上に載せられた短冊状パネル６１が滑って移動することを防止するために、支持ピン１３の上に摩擦係数の高い（すなわち、滑り難い）物質、例えばゴム等を被せたり、支持ピン１３の頂部を摩擦係数の高い物質によって形成することが望ましい。
【００７４】
次に、複数の支持ピン１３が短冊状パネル６１を支える位置、すなわち支持ピン１３の先端と短冊状パネル６１とが接触する位置は、特定の位置に限定されるものではない。しかしながら、複数の支持ピン１３は、図６に符号Ｂで示す斜線領域、すなわち、シール材５３の外側領域の中のいずれかの位置であることが望ましい。その理由は、シール材５３及びそのシール材５３によって囲まれる液晶（すなわち、表示に寄与する液晶）に熱が伝わることをできるだけ抑えたいからである。
【００７５】
図１において、加熱装置３は、例えば通電によって発熱するヒータ線を用いて構成される。この加熱装置３は、チャンバ２の内部（すなわち、短冊状パネル６１の周囲）を、シール材５３に損傷を与えることの無い温度であってできるだけ高い温度まで加熱する。できるだけ高い温度にしたいのは、図６において矢印Ｂで示す領域に付着する不要な液晶をできるだけ確実に揮発させて除去したいからである。この加熱温度は、シール材５３の材質及び使用する液晶の熱的な特性に応じて変化するが、現状では、約２００℃が限界温度であると考えられる。従ってシール材に加わる温度は約２００℃以下であるように制御しなければならない。
【００７６】
一方で液晶を約２００℃以下で揮発させる為には、１０ＫＰＡ以下に減圧させる必要がある。即ち処理室内の最低温度は約２００℃であり、これに対応した処理室内圧力は１０ＫＰＡ以下が条件となる。
【００７７】
更にチャンバ２の内部気圧が低くなればなる程、液晶は低い温度で揮発するので、チャンバ２の内部の設定温度を低くすることができる。逆に短冊状パネルの断熱効果が高い程、処理室内の温度を上げて液晶の揮発を効率的に行うことができる。
【００７８】
図１において、減圧ポンプ８は、例えばロータリーポンプ、ドライポンプ等によって形成される。ロータリーポンプは、それ自体周知の回転式容積移送式真空ポンプの一種であり、ステータ内において偏心状態で回転する偏心ロータと、ステータ内壁に摺動する翼板との作用で定常流を吐き出す構造のポンプである。また、ドライポンプとは、油又は液体を運動する部分のすきまを密閉する目的に使用しない容積移送式真空ポンプである。本実施形態において、減圧ポンプ８はチャンバ２の内部を、例えば、０．０１ｋＰａ〜１０ｋＰａの範囲内の適宜の気圧まで減圧する。
【００７９】
分離装置７は、例えば、コンデンサ部１４と容器１６とを有する。コンデンサ部１４にはチャンバ２から排気されるガスが流れ込むようになっており、さらにそのコンデンサ部１４には冷却液通路１７が設けられる。チャンバ２から排出されてガス流路１１を流れるガスはコンデンサ部１４において冷却液通路１７を流れる冷却液、例えば冷却水によって冷却される。このとき、揮発した液晶がガスの中に含まれていれば、そのガスが冷却されたとき、ガス中の液晶が凝集してガスから分離される。分離した液晶や有機物は、容器１６の中に回収される。
【００８０】
以下、上記洗浄装置によって行われる短冊状パネル６１に対する洗浄処理について説明する。図２の工程Ｐ３２において図７及び図８（ｂ）のように断熱材６３が装着された短冊状パネル６１を、図１において、パネル支持器５の複数の支持ピン１３の上に載せる。この状態の短冊状パネル６１の内部には図６の矢印Ｂで示す領域に不要な液晶が付着している。
【００８１】
次に、図１の減圧ポンプ８を作動してチャンバ２内を減圧、例えば０．０１ｋＰａ〜１０ｋＰａの範囲内の適宜の気圧まで減圧する。そしてさらに、加熱装置３によってチャンバ２内を低温域、具体的には、シール材５３を損傷又は劣化させること無く、しかし不要な液晶を揮発させることができる温度に加熱する。このような温度は、例えば２００℃以下の温度であると考えられる。以上の減圧及び加熱により、図１の短冊状パネル６１内の不要な液晶を揮発させてそのパネル構造体から除去、すなわち洗浄できる。
【００８２】
上記の処理中又は処理後、必要に応じてガス供給装置４により、窒素ガス、アルゴンガス等といった不活性ガスをチャンバ２内に導入する。これにより、揮発させた液晶をチャンバ２の内部に過剰に充満させること無く、不活性ガスと共にガス流路１１を通してチャンバ２の外部へ排出することができる。排出されたガスは分離装置７のコンデンサ部１４へ送られ、そのコンデンサ部１４において冷却液通路１７を流れる冷却液によって冷却される。
【００８３】
この冷却により、ガスに含まれる液晶が凝集してガスから分離されて容器１６に回収される。液晶が分離された後のキャリアガスは、減圧ポンプ８を通って後処理フィルタ９、例えば活性炭フィルタへ運ばれ、この後処理フィルタ９により清浄化されて無害化された後、外気に放出される。
【００８４】
以上に説明したように、図１に示した洗浄装置を用いた洗浄方法によれば、図６の短冊状パネル６１を構成する一対のマザー基板５１’，５２’の間であってシール材５３の外側領域に付着している不要な液晶を、図１のチャンバ２の内部において揮発させてパネル構造体６１から除去できる。このため、簡単且つ短時間に十分な信頼性を持ってパネル構造体６１から不要な液晶を除去することができる。特に本実施形態では、１個１個の液晶パネルに対して洗浄処理を行うのではなく、複数の液晶パネルが含まれる短冊状パネル６１の状態で洗浄が行われるので、液晶パネル１個についての処理速度を早くすることができる。
【００８５】
また、本実施形態では短冊状パネル６１を支持ピン１３によって点状領域で支えているので、チャンバ２の内部温度が非常に高い場合でも短冊状パネル６１が過度に高温に昇温することを防止できる。このため、チャンバ２の内部温度をかなりの高温に設定することが可能となり、このため、シール材５３をあまり高温にすることなく、不要な液晶が存在する領域をかなりの高温にすることができ、それ故、シール材５３の損傷を防止しつつ、しかし、不要な液晶は確実に揮発させて除去できる。
【００８６】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
例えば、図１において、ガス供給装置４、分離装置７、後処理フィルタ９を用いたガス処理系は必ずしも必要ではない。また、洗浄される液晶パネルは短冊状ではなくて１個１個の液晶パネルであっても良い。
【００８７】
また、図１の実施形態では、減圧ポンプ８としてロータリーポンプ、ドライポンプを用いることにしたが、その他任意の構造のポンプを用いることができる。特に、チャンバ２内の気圧を高真空に設定したい場合には、ロータリーポンプ等といった減圧ポンプに加えてターボ分子ポンプ等といった減圧能力の高いポンプを用いることもできる。
【００８８】
また、短冊状パネル６１を支持するパネル支持器５は、図１に示した支持ピン１３を用いたパネル支持器５に限定されるものでなく、その他の種々の構成のパネル支持器を採用できる。例えば、図９に示すようにチャンバ２の天井面から垂下する複数の線状の支持部材２３によって短冊状液晶パネル６１を複数の点状領域で支持することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】本発明に係る液晶パネルの洗浄装置の一実施形態を示す図である。
【図２】本発明に係る液晶パネルの洗浄方法の一実施形態を示す工程図である。
【図３】液晶パネルの製造方法の一例を示す工程図である。
【図４】液晶パネルの一例を示す斜視図である。
【図５】短冊状パネルの一例を示す平面図である。
【図６】短冊状パネルに液晶を注入した後の状態を示す平面図である。
【図７】短冊状パネルに断熱材を装着した状態を示す平面図である。
【図８】マザーパネル構造体の一例を示す図であって、（ａ）は平面図を示す、（ｂ）は側面図を示している。
【図９】パネル構造体を支持するための支持構造の変形例を示す図である。
【符号の説明】
【００９０】
１．液晶パネル、  ２．チャンバ（処理室）、  ２ａ．吸気ポート、
２ｂ．排気ポート、  ３．加熱装置（加熱手段）、  ４．ガス供給装置、
５．パネル支持器（パネル支持手段）、  ７．分離装置、
８．減圧ポンプ（減圧手段）、  １１．ガス流路、  １２．基台、  １３．支持ピン、
１４．コンデンサ部、  １６．容器、  １７．冷却液通路、  ５１．第１基板、
５１’．マザー第１基板、  ５２．第２基板、５２’．マザー第２基板、
５３．シール材、  ５４．液晶、  ５５．液晶注入口、  ５６ａ，５６ｂ．偏光板、
５７．張出し部、  ５８．駆動用ＩＣ、  ５９．ＦＰＣ（配線基板）、
６０．大面積パネル構造体、  ６１．短冊状パネル、  ６２．封止樹脂、
６３．断熱材（輻射熱遮蔽手段）、  Ａ１．液晶パネル形成領域、
Ｂ．不要液晶付着領域、  Ｌ１.スクライブ線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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