(57)【要約】【課題】  凹凸のパターンの凹部のみに膜を形成でき、製造工程を低減することができる成膜方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置を提供する。【解決手段】  基板１９をＸ軸モータＭ１にて移動させて、液滴吐出ヘッドの液滴吐出ノズル３４に対して相対移動させる。このとき、液滴吐出ヘッドに設けた段差検出センサ３５が先行して基板１９上の凹部２２を検出する。制御部４１は、その検出した凹部２２が液滴吐出ノズル３４の前方を通過するタイミングを求める。制御部４１は、その求めたタイミングにて、液滴吐出ノズル３４を駆動させて前記検出した凹部２２に機能液Ｒを吐出させる。【選択図】        図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸のパターンが形成された基板とヘッド本体に液滴吐出ノズルを備えた液滴吐出ヘッドとを、相対的に移動しながら前記液滴吐出ノズルから前記基板上に対して機能液を吐出して前記基板に膜を形成する成膜方法であって、
前記ヘッド本体に、前記基板に形成された凹凸のパターンを検知する凹凸部検出手段を設け、前記相対的に移動した時に、前記凹凸部検出手段の前方を通過する前記基板上の凹部を検出し、その検出した凹部が前記液滴吐出ノズルの前方を通過するタイミングを求め、その求めたタイミングで前記液滴吐出ノズルを駆動させて、前記検出した凹部に機能液を吐出させて前記凹部内に膜を形成するようにしたことを特徴とする成膜方法。
【請求項２】
ヘッド本体に基板上に対して機能液を吐出する液滴吐出ノズルを備えた液滴吐出ヘッドにおいて、
前記基板上に形成されたパターンを検出する凹凸部検出手段を前記ヘッド本体に設けたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
請求項２に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、
前記凹凸部検出手段は、その検出中心位置と前記液滴吐出ノズルの中心位置を結ぶ線が、前記基板と前記液滴吐出ヘッドとの相対移動方向と平行するように前記ヘッド本体に設けたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
凹凸のパターンが形成された基板に機能液を吐出する液滴吐出ノズルをヘッド本体に備えた液滴吐出ヘッドと
前記基板又は前記液滴吐出ヘッドの少なくともいずれか一方を移動させて前記基板と前記液滴吐出ヘッドを相対移動させる移動手段と、
前記ヘッド本体に設けられ、前記基板に形成された凹凸のパターンを検出する凹凸部検出手段と、
前記凹凸部検出手段の検出結果に基づいて前記基板上の凹部を検出し、その検出した凹部が前記液滴吐出ノズルの前方を通過するタイミングを求める通過タイミング算出手段と、
通過タイミング算出手段にて求めたタイミングにて、前記液滴吐出ノズルを駆動させて前記検出した凹部に機能液を吐出させるヘッド駆動制御手段と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液滴吐出装置において、
前記凹凸部検出手段は、その検出中心位置と前記液滴吐出ノズルの中心位置を結ぶ線が、前記相対移動する方向と平行するように前記ヘッド本体に設けたことを特徴とする液滴吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置の配向膜を形成する場合、液滴吐出装置の吐出ノズルで膜の材料を含む機能液を基板に吐出させて成膜する技術が提案されている（例えば特許文献１、特許文献２）。特許文献１及び特許文献２は、液滴吐出装置で機能液を吐出させて一度膜を形成した後、膜厚測定し成膜不足部分を再び機能液を吐出させて膜厚の凹凸をなくし平坦な配向膜を形成するようにしている。
【特許文献１】特開平９−１６６７８３号公報
【特許文献２】特開２００４−２１６２１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、例えば、半導体基板、ガラス基板等の基板に絶縁層を形成する場合、基板上にマスクでパターンを形成し、そのマスクで囲まれた凹部に絶縁層を形成する場合がある。この絶縁層の形成を、特許文献１及び特許文献２の技術を使って行う場合には、マスクで囲まれた凹部のみに絶縁材料を形成するといったことを想定していないため難しかった。つまり、パターンに関係なく基板全面に絶縁材料を含む機能液を吐出して絶縁層を一旦全面に形成し、後工程で凹部内に形成された絶縁層を残して研削等で平坦化する必要があった。従って、工程数が増え製造効率の低下を招く。
【０００４】
本発明は、上記問題点を解消するためになされたものであって、その目的は、凹凸のパターンの凹部のみに膜を形成でき、製造工程を低減することができる成膜方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の成膜方法は、凹凸のパターンが形成された基板とヘッド本体に液滴吐出ノズルを備えた液滴吐出ヘッドとを、相対的に移動しながら前記液滴吐出ノズルから前記基板上に対して機能液を吐出して前記基板に膜を形成する成膜方法であって、前記ヘッド本体に、前記基板に形成された凹凸のパターンを検知する凹凸部検出手段を設け、前記相対的に移動した時に、前記凹凸検出手段の前方を通過する前記基板上の凹部を検出し、その検出した凹部が前記液滴吐出ノズルの前方を通過するタイミングを求め、その求めたタイミングで前記液滴吐出ノズルを駆動させて、前記検出した凹部に機能液を吐出させて前記凹部内に膜を形成するようにした。
【０００６】
この成膜方法によれば、基板とヘッド本体を相対移動させることによって、ヘッド本体に設けた凹凸部検出手段はその前方を通過する基板のパターンの凹凸を検出して、その凹部がヘッド本体に液滴吐出ノズルの前方を通過するタイミングを求める。そして、求めた通過するタイミングになると、液滴吐出ノズルを駆動させることによって液滴吐出ノズルから吐出された機能液は凹部内に着弾する。従って、凹部のみに、機能液を着弾させることができるため、凹凸のパターンの凹部のみに膜を形成できる。
【０００７】
本発明の液滴吐出ヘッドは、ヘッド本体に基板上に対して機能液を吐出する液滴吐出ノズルを備えた液滴吐出ヘッドにおいて、前記基板上に形成されたパターンを検出する凹凸部検出手段を前記ヘッド本体に設けた。
【０００８】
この液滴吐出ヘッドによれば、液滴吐出ノズルを備えた液滴吐出ヘッドに凹凸検出手段を設けたので、液滴吐出ノズルと液滴吐出ヘッドに凹凸検出手段の距離が精度よく確定でき、液滴吐出ノズルの前方を通過するタイミングを精度よく求めることができる。
【０００９】
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記凹凸部検出手段は、その検出中心位置と前記液滴吐出ノズルの中心位置を結ぶ線が、前記基板と前記液滴吐出ヘッドとの相対移動方向と平行するように前記ヘッド本体に設けてもよい。
これによれば、液滴吐出ヘッドに設けた凹凸部検出手段が先行しての凹部を検出し、続いて液滴吐出ノズルが凹部に機能液を吐出させることができる。
【００１０】
本発明の液滴吐出装置は、凹凸のパターンが形成された基板に機能液を吐出する液滴吐出ノズルをヘッド本体に備えた液滴吐出ヘッドと、前記基板又は前記液滴吐出ヘッドの少なくともいずれか一方を移動させて前記基板と前記液滴吐出ヘッドを相対移動させる移動手段と、前記ヘッド本体に設けられ、前記基板に形成された凹凸のパターンを検出する凹凸部検出手段と、前記凹凸検出手段の検出結果に基づいて前記基板上の凹部を検出し、その検出した凹部が前記液滴吐出ノズルの前方を通過するタイミングを求める通過タイミング算出手段と、通過タイミング算出手段にて求めたタイミングにて、前記液滴吐出ノズルを駆動させて前記検出した凹部に機能液を吐出させるヘッド駆動制御手段とを備えた。
【００１１】
この液滴吐出装置によれば、移動手段が基板とヘッド本体と基板を相対移動させることによって、ヘッド本体に設けた凹凸部検出手段はその前方を通過する基板のパターンの凹凸を検出する。通過タイミング算出手段は、凹凸部検出手段の検出に基づいて凹部を検出しその凹部が液滴吐出ノズルの前方を通過するタイミング求める。ヘッド駆動制御手段は、求めた通過するタイミングになると、液滴吐出ノズルを駆動させる。これによって、液滴吐出ノズルから吐出された機能液は凹部内に着弾する。従って、凹部のみに、機能液を着弾させることができるため、凹凸のパターンの凹部のみに膜を形成できる。
【００１２】
この液滴吐出装置において、凹凸部検出手段は、その検出中心位置と前記液滴吐出ノズルの中心位置を結ぶ線が、前記相対移動する方向と平行するように前記ヘッド本体に設けてもよい。
これによれば、液滴吐出ヘッドに設けた凹凸部検出手段が先行しての凹部を検出し、続いて液滴吐出ノズルが凹部に機能液を吐出させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した第１実施形態を図１〜図４に従って説明する。図１は液滴吐出装置としての膜形成装置を説明するための要部斜視図を示す。
【００１４】
図１において、液滴吐出装置としての成膜装置は、テーブル１１には、Ｘ軸基台１２が固設されている。Ｘ軸基台１２は、四角枠体であって、その枠内にＸ矢印方向にＸ軸スクリューネジ１３を回転可能に支持している。Ｘ軸スクリューネジ１３は、Ｘ軸基台１２の外側面に取着したＸ軸モータＭ１によって正逆回転するようになっている。Ｘ軸モータＭ１には、Ｘ軸モータ回転検出器Ｓ１が設けられている。Ｘ軸モータ回転検出器Ｓ１は、ロータリーエンコーダとを有し、Ｘ軸モータＭ１の回動量及び回動方向を検出する。
【００１５】
Ｘ軸基台１２には、Ｙ軸基台１４がＸ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に往復動可能に載置されている。Ｙ軸基台１４の基端部１５は、Ｘ軸基台１２の枠内に嵌合するとともに、前記Ｘ軸スクリューネジ１３に螺合している。従って、Ｘ軸モータＭ１がＸ軸スクリューネジ１３を正逆回転させると、Ｙ軸基台１４はＸ軸基台１２（テーブル１１）に対してＸ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に往復移動する。
【００１６】
Ｙ軸基台１４は、四角枠体であって、その枠内にＸ矢印方向と直交するＹ矢印方向にＹ軸スクリューネジ１６を回転可能に支持している。Ｙ軸スクリューネジ１６は、Ｙ軸基台１４の外側面に取着したＹ軸モータＭ２によって正逆回転するようになっている。Ｙ軸モータＭ２には、Ｙ軸モータ回転検出器Ｓ２が設けられている。Ｙ軸モータ回転検出器Ｓ２は、ロータリーエンコーダとを有し、Ｙ軸モータＭ２の回動量及び回動方向を検出する。
【００１７】
Ｙ軸基台１４には、載置台１７がＹ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に往復動可能に載置されている。載置台１７の基端部１８は、Ｙ軸基台１４の枠内に嵌合するとともに、前記Ｙ軸スクリューネジ１６に螺合している。従って、Ｙ軸モータＭ２がＹ軸スクリューネジ１６を正逆回転させると、載置台１７はＹ軸基台１４（テーブル１１）に対してＹ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に往復移動する。つまり、載置台１７は、Ｘ軸モータＭ１及びＹ軸モータＭ２の正逆回転によって、テーブル１１に対してＸ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に往復移動するとともに、Ｙ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に往復移動する。
【００１８】
載置台１７には、配線膜を形成するための基板１９が載置固定されている。従って、基板１９は、載置台１７とともにＸ軸モータＭ１及びＹ軸モータＭ２の正逆回転によって、テーブル１１に対してＸ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に往復移動するとともに、Ｙ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に往復移動する。基板１９は、同載置台１７の上方に配置された後記する液滴吐出ヘッド３０の液滴吐出ノズル３４から吐出される配線材料を含む機能液Ｒ（図３参照）を着弾させその着弾させた箇所に配線膜を形成するためのパターンが形成されている。図２（ａ）は、そのパターンが形成された基板１９の断面図を示し、載置台１７に載置固定した状態において、Ｘ矢印方向に切断したときの要部断面図である。図２（ａ）において、パターンの形成は、基板１９の上面に形成された二酸化ケイ素よりなる絶縁膜２０の上に公知のフォトリソグラフィー法で形成されるレジスト膜（マスク）２１を形成することによって行われる。そして、レジスト膜２３が形成されていない所望の部分（凹部２２）に配線材料を含む機能液Ｒを着弾させることによって行われる。
【００１９】
載置台１７の上方位置には、液滴吐出ヘッド３０が配置されている。液滴吐出ヘッド３０は、図３に示すように、そのヘッド本体３１が、テーブル１１からのびた支持フレーム３２（図１では省略している）に固設されている。ヘッド本体３１の下面３１ａの一側（図３では左側）には液滴吐出ノズル３４が設けられている。そして、ヘッド本体３１に内蔵された圧電素子を駆動することによって、同じくヘッド本体３１に貯留された配線材料を含む機能液Ｒを液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａから吐出させる。つまり、液滴吐出ヘッド３０は液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａから配線材料を含む機能液Ｒを吐出させて、基板１９のレジスト膜２１が形成されていない凹部２２に着弾するように制御されるようになっている。
【００２０】
ヘッド本体３１の下面３１ａであって、液滴吐出ノズル３４の右側（Ｘ矢印側）には凹凸部検出手段としての段差検出センサ３５が設けられている。段差検出センサ３５は、下方に載置台１７に載置された基板１９に形成されたパターンの表面凹凸を光学的に検知し前記凹部２２を検出するためのセンサである。そして、載置台１７（基板１９）をＸ軸線方向に移動させたとき、段差検出センサ３５は、その直下をＸ矢印又は反Ｘ矢印方向に通過する基板１９に形成されたパターンの表面凹凸を検出するようになっている。
【００２１】
そして、ヘッド本体３１の下面３１ａにそれぞれ設けられた段差検出センサ３５と液滴吐出ノズル３４は、段差検出センサ３５の検出中心位置Ｐ１と液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａの中心位置Ｐ２とを結ぶ線がＸ矢印方向と平行、即ち、Ｘ矢印方向の移動方向と平行となるように配置されている。また、段差検出センサ３５の検出中心位置Ｐ１と、液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａの中心位置Ｐ２とを結ぶ距離Ｄは予め設定されてい
る。
【００２２】
従って、図３において、基板１９が液滴吐出ヘッド３０に対して、左方（反Ｘ軸線方向）に移動する際、段差検出センサ３５が凹部２２（正確にレジスト膜２１と凹部２２の段差）を検知すると、その検出した凹部２２が液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａの直下にくるタイミングは、基板１９の移動距離（Ｘ軸モータＭ１の回動量）で分かることになる。
【００２３】
次に、上記のように構成した膜形成装置の電気的構成を図４に従って説明する。
図４において、通過タイミング算出手段及びヘッド駆動制御手段としての制御部４１は、マイクロコンピュータよりなり、制御部４１に内蔵した記憶装置に記憶した制御プログラムに従って、載置台１７の移動及び液滴吐出ノズル３４の吐出のための処理動作を実行する。制御部４１は、ノズル駆動回路４２と接続し、ノズル駆動信号を出力するようになっている。ノズル駆動回路４２は、制御部４１からのノズル駆動信号に応答して前記液滴吐出ノズル３４に設けた圧電素子を通電して同ノズル３４から機能液Ｒを基板１９に向けて吐出させる。
【００２４】
制御部４１は、Ｘ軸モータ駆動回路４３と接続し、同Ｘ軸モータ駆動回路４３に対してＸ軸モータ駆動制御信号を出力するようになっている。Ｘ軸モータ駆動回路４３は、制御部４１からのＸ軸モータ駆動制御信号に応答して前記Ｘ軸モータＭ１を正転又は逆転させるようになっている。制御部４１は、Ｙ軸モータ駆動回路４４と接続し、同Ｙ軸モータ駆動回路４４に対してＹ軸モータ駆動制御信号を出力するようになっている。Ｙ軸モータ駆動回路４４は、制御部４１からのＹ軸モータ駆動制御信号に応答して前記Ｙ軸モータＭ２を正転又は逆転させるようになっている。
【００２５】
制御部４１は、段差検出センサ３５と接続し、同段差検出センサ３５から検出信号を入力する。制御部４１は、段差検出センサ３５から検出信号に基づいてレジスト膜２１と凹部２２の段差位置を検知する。詳述すると、制御部４１は、段差検出センサ３５の検出中心位置Ｐ１直下をＸ矢印及び反Ｘ矢印方向に通過するレジスト膜２１と凹部２２の段差位置を検知する。
【００２６】
制御部４１は、前記Ｘ軸モータ回転検出器Ｓ１と接続し、前記Ｘ軸モータ回転検出器Ｓ１からの検出信号を入力する。制御部４１は、この検出信号に基づいて、Ｘ軸モータＭ１の回動方向及び回動量を検出し、載置台１７（基板１９）のＸ軸線方向の移動量と移動方向（Ｘ矢印方向又は反Ｘ矢印方向）を算出するようになっている。詳述すると、制御部４１は、段差検出センサ３５の検出中心位置Ｐ１直下を通過したレジスト膜２１と凹部２２の段差位置が、距離Ｄだけ後続（下流）の液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａの中心位置Ｐ２直下を通過するタイミングを算出する。そして、制御部４１は、液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａの中心位置Ｐ２直下をレジスト膜２１と凹部２２の段差位置が通過すると同時に、ノズル駆動回路４２にノズル駆動信号を出力する。そして、液滴吐出ノズル３４に設けた圧電素子を通電させることによって、ノズル３４から機能液Ｒを吐出させ、凹部２２に着弾させるようになっている。
【００２７】
制御部４１は、前記Ｙ軸モータ回転検出器Ｓ２からの検出信号に基づいて、Ｙ軸モータＭ２の回動方向及び回動量を検出し、載置台１７（基板１９）のＹ軸線方向の移動量と移動方向（Ｙ矢印方向又は反Ｙ矢印方向）を算出するようになっている。
【００２８】
制御部４１は、入力装置４５と接続している。入力装置４５は、起動スイッチ、停止スイッチ等の操作スイッチを有し、各スイッチの操作による操作信号を制御部４１に出力する。制御部４１はこれら操作信号に応答し各種動作を実行する。
【００２９】
次に上記のように構成した膜形成装置の作用について説明する。
いま、図１に示すように、載置台１７に基板１９を配置固定する。このとき、説明の便宜上、配置された基板１９は、図２（ａ）に示すように、Ｘ矢印方向に所定の間隔で、レジスト膜２１が形成され、レジスト膜２１とレジスト膜２１の間に凹部２２が形成されているものとする。また、各レジスト膜２１は、Ｘ矢印と直交するＹ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に延びているものとする。従って、各凹部２２はＹ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に延びるレジスト膜２１で区画された溝になっているものとする。
【００３０】
また、基板１９は、液滴吐出ヘッド３０に対して、ホームポジションに配置されている。ホームポジション位置は、図１において右奥角部（反Ｘ矢印側端部であってＹ矢印側端部の角部）である。
【００３１】
この状態から、基板１９を、まず反Ｘ矢印方向に移動させる。基板１９の反Ｘ矢印方向の移動に基いて、段差検出センサ３５が先行して各レジスト膜２１及び凹部２２を検出する。いま、段差検出センサ３５の検出中心位置Ｐ１を、図３に示すレジスト膜２１と凹部２２の段差ＥＧ１が通過すると、制御部４１は、段差検出センサ３５からの検出信号に基づいてレジスト膜２１から凹部２２に移ったことを検出する。続いて、段差検出センサ３５の検出中心位置Ｐ１を、図３に示すレジスト膜２１と凹部２２の段差ＥＧ２が通過すると、制御部４１は、段差検出センサ３５からの検出信号に基づいて凹部２２からレジスト膜２１に移ったことを検出する。
【００３２】
制御部４１は、段差検出センサ３５からの検出信号に基づいて、検出した凹部２２の段差ＥＧ１が液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａの中心位置Ｐ２を通過する第１タイミングと、検出した凹部２２の段差ＥＧ２が液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａの中心位置Ｐ２を通過する第２タイミングを算出する。そして、制御部４１は、第１タイミングが、検出中心位置Ｐ１が段差ＥＧ１が通過した時点から、基板１９が距離Ｄだけ反Ｘ矢印方向に移動した時点であることから、Ｘ軸モータ回転検出器Ｓ１からの検出信号に基づいて段差ＥＧ１が通過した時点からの移動距離（第１移動距離という）を算出する。また、制御部４１は、第２タイミングが、検出中心位置Ｐ１が段差ＥＧ２が通過した時点から、基板１９が距離Ｄだけ反Ｘ矢印方向に移動した時点でことから、Ｘ軸モータ回転検出器Ｓ１からの検出信号に基づいて段差ＥＧ２が通過した時点からの移動距離（第２移動距離という）を算出する。
【００３３】
制御部４１は、第１移動距離が距離Ｄとなると、液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａの中心位置Ｐ２を、検出した凹部２２が反Ｘ矢印に通過を開始したと判断して液滴吐出ノズル３４を駆動させる。従って、液滴吐出ノズル３４の駆動によってノズル孔３４ａから吐出された機能液Ｒは検出した凹部２２に着弾される。液滴吐出ノズル３４の駆動は、前記第２移動距離が距離Ｄとなるまで、正確には、第２移動距離が距離Ｄになる少し前まで行われる。これは、吐出された機能液Ｒが凹部２２内に着弾されるまでに要する時間を考慮して、第２移動距離が距離Ｄになる少し前まで液滴吐出ノズル３４の駆動が予め定めた時間間隔で行われる。そして、制御部４１は、第２移動距離が距離Ｄより少し前になると、液滴吐出ノズル３４の駆動を停止する。この時点で、検出した凹部２２への機能液の吐出は終了し、凹部２２内には、吐出された機能液Ｒが図３点鎖線に示すように半球面状の表面を呈した状態で収容される。
【００３４】
制御部４１は、検出した各凹部２２についてこの第１及び第２タイミングを算出し、この第１及び第２タイミングに基いて各凹部２２に機能液を吐出させる。そして、液滴吐出ヘッド３０が基板１９に対してのＸ矢印方向に相対移動する側端部と対峙したとき１スキャン分の機能液の吐出は終了し反Ｘ矢印方向の移動を停止する。
【００３５】
続いて、本実施形態では、制御部４１は、基板１９をＸ矢印方向に移動させて、元の位置まで戻したのち、基板１９を反Ｙ矢印方向に所定の距離移動させた後、基板１９を再び反Ｘ矢印方向に移動させて、前記と同様に凹部２２毎に第１及び第２タイミングを求めながら新たな１スキャン分の機能液の吐出動作を行う。以後、同様に、反Ｙ矢印方向に所定距離移動させる毎にスキャンし、反Ｙ矢印側の端部まで同様な動作を行うことによって、各凹部２２（配線膜となる溝）内には機能液が収容される。そして、各凹部２２内に収容された機能液Ｒを乾燥させることによって、図２（ｂ）に示すように、機能液Ｒに含まれた配線材料が膜Ｍとなって堆積される。
【００３６】
上記実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）本実施形態によれば、ヘッド本体３１に段差検出センサ３５を設け、基板１９を反Ｘ矢印方向に移動させながら、基板１９の表面に形成したレジスト膜２１よりなる凹凸のパターンの各凹部２２を検出した。そして、制御部４１によって、各凹部２２の第１及び第２タイミングを求め、第１及び第２タイミングに従って液滴吐出ノズル３４を駆動させた。従って、凹部２２のみに、機能液Ｒを着弾させることができるため、凹凸のパターンの凹部２２のみに膜Ｍを形成できる。
【００３７】
（２）上記実施形態によれば、凹部２２のみに機能液Ｒを着弾させ凹部２２のみに膜Ｍを形成することができるので、従来にように、後工程で凹部内に形成された配線層を残して研削等で平坦化するといった工程がなくなり製造時間の短縮を図ることができる。
【００３８】
（３）上記実施形態によれば、凹部２２のみに機能液Ｒを着弾させ凹部２２のみに膜Ｍを形成することができるので、配線材料を含む機能液の消費量は少なくて済み、製造コストの低減を図ることができる。
【００３９】
（４）本実施形態によれば、液滴吐出ノズル３４を備えたヘッド本体３１に対して段差検出センサ３５を設けた。従って、液滴吐出ノズル３４と段差検出センサ３５の距離Ｄが精度よく確定でき、第１及び第２タイミングを精度よく求めることができる。
【００４０】
（５）本実施形態によれば、段差検出センサ３５は、その検出中心位置Ｐ１と液滴吐出ノズル３４（ノズル孔３４ａ）の中心位置Ｐ２を結ぶ線が、相対移動するＸ矢印方向（反Ｘ矢印方向）と平行するようにヘッド本体３１に設けたので、液滴吐出ヘッド３０に設けた段差検出センサ３５が先行しての凹部２２を検出し、続いて液滴吐出ノズル３４が凹部２２に機能液を吐出させることができる。
【００４１】
なお、上記各実施形態は以下のように変更してもよい。
○上記第１実施形態では、液滴吐出ノズル３４の一側に段差検出センサ３５を設けた。これを、液滴吐出ノズル３４の両側に段差検出センサ３５を設けてもよい。この場合、基板１９を、Ｘ矢印方向に移動させるときにも、凹部２２を検出することができるため、成膜時間を短縮することができる。
【００４２】
○上記第１実施形態では、ヘッド本体３１に対して段差検出センサ３５を固設したが、ヘッド本体３１の下面３１ａに対して液滴吐出ノズル３４の中心位置Ｐ２を回動中心に１８０度回動するように取り付けてよい。この場合、スキャンする方向に合わせて段差検出センサ３５の位置を切り替えることによって、１つの段差検出センサ３５で、基板１９を、Ｘ矢印方向に移動させるときにも、凹部２２を検出することができるため、成膜時間を短縮することができる。
【００４３】
○上記第１実施形態では、段差検出センサ３５と液滴吐出ノズル３４の配置を、段差検
出センサ３５の検出中心位置Ｐ１と液滴吐出ノズル３４の中心位置Ｐ２を結んだ線がＸ矢印方向と平行になるようにした。これによって、先行する段差検出センサ３５で凹部２２を検出し後続の液滴吐出ノズル３４で機能液を検出した凹部２２に機能液を吐出させた。
【００４４】
これを、段差検出センサ３５を、反Ｙ矢印方向に、スキャンする際の反Ｙ矢印方向に移動させる分ずらして配置してもよい。つまり、今行っている１スキャン動作中に、次のスキャン時に液滴吐出ノズル３４が通過する凹部２２を段差検出センサ３５が先行して検出するようにしてもよい。
【００４５】
○上記実施形態では、液滴吐出ノズル３４のノズル孔３４ａは、１つであった。これを例えば、Ｙ矢印方向に複数形成し、各ノズル孔３４ａからそれぞれ機能液Ｒを吐出させるようにして実施してもよい。この場合、各ノズル孔３４ａに対して、１つの段差検出センサ３５を設けたり、予め定めたノズル孔３４ａに対して１つの段差検出センサ３５を共用するようにして実施してもよい。
【００４６】
○上記実施形態では、液滴吐出ヘッド３０を固定し、基板１９（載置台１７）を移動させるようにした。これを、基板１９（載置台１７）を移動不能に固定し、液滴吐出ヘッド３０を移動させるようにして実施してもよい。
【００４７】
○上記実施形態では、第１及び第２タイミングを移動距離で実施した。これを、時間で行ってもよい。この場合、移動速度が一定である必要がある。
○上記実施形態では、液滴吐出装置を成膜装置に具体化したが、この限りではなく、他の機能液を吐出する液滴吐出装置に具体化するようにしてもよい。例えば、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイ及び面発光ディスプレイの製造などに用いられる電極材や色材などの機能液を吐出する液滴吐出装置、バイオチップ製造に用いられる生体有機物を吐出する液滴吐出装置、精密ピペットとしての試料吐出装置であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本実施形態の成膜装置の斜視図。
【図２】（ａ）は機能液が吐出される前の基板の断面図、（ｂ）は機能液によって凹部に膜が形成された基板の断面図。
【図３】液滴吐出ヘッドを説明するための説明図。
【図４】成膜装置の電気的構成を説明するための電気ブロック回路。
【符号の説明】
【００４９】
１１…テーブル、１２…Ｘ軸基台、１３…移動手段としてのＸ軸スクリューネジ、１４…Ｙ軸基台、１６…Ｙ軸スクリューネジ、１７…載置台、１９…基板、２１…レジスト膜、２２…凹部、３０…液滴吐出ヘッド、３１…ヘッド本体、３４…液滴吐出ノズル、３５…凹凸部検出手段としての段差検出センサ、４１…通過タイミング算出手段及びヘッド駆動制御手段としての制御部、Ｍ１…移動手段といてのＸ軸モータ、Ｍ２…Ｙ軸モータ、Ｓ１…Ｘ軸モータ回転検出器、Ｓ２…Ｙ軸回転検出器、Ｍ…膜、Ｒ…機能液、Ｐ１…検出中心位置、Ｐ２…中心位置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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