(57)【要約】【課題】高出力でかつ良好な再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）、温度サイクルに伴う出力の低下量が少ない磁気テープを提供する。【解決手段】磁気テープの最上層磁性層に、粒子サイズ３０ｎｍ以下の略粒状の磁性粉末を含有させ、磁気テープの最上層磁性層の長手方向における保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が１４０ｋＡ／ｍ以上ＨｃＭＤ以下で、かつ−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率を１０％以下にする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体と、非磁性支持体の一方の面に、少なくとも１層の磁性層を有し、前記磁性層の最上層磁性層が、粒子サイズ３０ｎｍ以下の略粒状の磁性粉末を含有する磁気テープであって、前記磁気テープの最上層磁性層の長手方向における保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差〔ＨｃMＤ−ＨｃTＤ〕が１４０ｋＡ／ｍ以上ＨｃMＤ以下であり、かつ−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率が１０％以下であることを特徴とする磁気テープ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高記録密度特性に優れた磁気テープ、特にリニアレコーディングタイプのコンピュータ磁気テープカートリッジに用いる磁気テープに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気テープカートリッジは、オーディオ用磁気テープカートリッジ、ビデオ用磁気テープカートリッジ、コンピュータ用磁気テープカートリッジ等、種々の用途があるが、特にデータバックアップ用磁気テープカートリッジの分野では、バックアップの対象となるハードディスクの大容量化に伴い、１巻当たり数１００ＧＢの記録容量のものが商品化されている。また、１ＴＢを超える大容量バックアップ用磁気テープカートリッジも提案されている。
【０００３】
磁気テープカートリッジには、ビデオ用磁気テープカートリッジやＤＤＳコンピュータ用磁気テープカートリッジに用いられているようなヘリキャルスキャンレコーディングタイプの磁気テープカートリッジと、ＬＴＯコンピュータカートリッジに用いられるようなリニアレコーディングタイプの磁気テープカートリッジに大別される。
【０００４】
ＤＤＳコンピュータカートリッジのようなヘリキャルスキャンレコーディングタイプのカートリッジは、磁気テープを一定速度で走行させながら磁気ヘッドを回転させることで、磁気テープの長手方向と一定角度の方向に磁気記録するタイプで、トラック幅が狭くできるので磁気テープ単位面積当りの記録密度を高くできる反面、記録・再生には１対の磁気ヘッド（記録と再生に同一の磁気ヘッドを用いる場合は１個の磁気ヘッド）を使用するので、一般的に転送速度が遅い。このタイプでは２個のリールを内蔵したカートリッジが使用される。
なお、ヘリキャルスキャンレコーディングタイプのカートリッジを記録・再生する装置で多数対の磁気ヘッドを搭載しているタイプのものもあるが、このタイプでは多数対の磁気ヘッドは時間差を設けて記録・再生されるので、同時に使用される磁気ヘッドは１対のみである。
【０００５】
一方、ＬＴＯコンピュータカートリッジのようなリニアレコーディングタイプのカートリッジは、磁気テープの長手方向に沿って磁気記録するタイプで、磁気テープの長手方向にのびるサーボバンドと、データ記録用のデータバンドが設けられている。このうちサーボバンドは、各々サーボトラック番号を磁気的に記録した複数のサーボ信号記録部からなる。磁気テープのサーボと記録・再生を行う磁気ヘッドアレイは、一対（順方向用と逆方向用）のサーボトラック用の磁気抵抗効果型（ＭＲ）ヘッドと、例えば８ｘ２対の磁気ヘッド（一般に磁気誘導型の記録ヘッド１６個と再生用ＭＲヘッド１６個）で構成され、サーボトラック用のＭＲヘッドからの信号に基づいて磁気ヘッドアレイ全体が連動して動くことで、記録・再生用ヘッドがテープ幅方向に移動してデータトラックに到達する。このタイプでは数トラック（８ｘ２対の磁気ヘッドを使用した場合は８トラック）を同時に記録・再生できるので、一般的に転送速度が極めて速い。また、リニアレコーディングタイプのカートリッジでは、順方向と逆方向のいずれの方向にも記録・再生できるようになっている。このタイプではカートリッジ１巻あたりの体積記憶容量を高くするため、１個のリールを内蔵したカートリッジが使用される。
なお、このタイプでは、上述の磁気テープの磁気記録層にサーボトラック用の磁気信号を記録する方式の他、磁気テープのバック層にサーボトラック用の磁気信号を記録する方式、バック層にサーボトラック用の光学信号を設ける方式もある。
【０００６】
データバックアップ用磁気テープカートリッジの分野では、バックアップの対象となるハードディスクの大容量化にともない、転送速度が速く、かつカートリッジ１巻あたりの体積記憶容量も高い、単一リールのリニアレコーディングタイプの磁気テープカートリッジが主流になりつつある。
【０００７】
このようなデータバックアップ用テープカートリッジの高容量化に伴う、短波長記録に対応するため、年々磁性粉末の微粒子化がはかられ、現在では、粒子長さが０．１μｍ程度の針状のメタル磁性粉末や、この磁性粉末を使用した磁気テープが実用化に供されている。また、短波長記録時の減磁による出力低下を防止するため、年々高保磁力化がはかられ、たとえば、鉄−コバルト合金系の針状のメタル磁性粉末においては、２３８．９Ａ／ｍ（３，０００Ｏｅ）程度の保磁力が実現されている（特許文献１〜３参照）。しかし、針状粒子を用いる磁気記録媒体では、保磁力が形状異方性に起因することから、上記粒子径からの大幅な微粒子化は困難になってきている。
【０００８】
そこで、保磁力が形状異方性によらず結晶異方性によることから微粒子化が容易で、かつ高保磁力化が可能な、平均粒子サイズが５〜２００ｎｍの範囲にある粒状ないし楕円状の希土類−鉄−ホウ素系磁性粉末を用いた磁気記録媒体が開示されている（特許文献４参照）。また、Ｆｅ16Ｎ2 相を主相とした磁性粉末を使用した磁気記録媒体も開示されている（特許文献５〜８）。例えば、特許文献５には、粒子形状が不定形で、Ｆｅ16Ｎ2 相を主相としたＢＥＴ比表面積が１０ｍ2 ／ｇ以上の窒化鉄系磁性粉末を用いることにより、９４．７〜１７９．１ｋＡ／ｍ（１，１９０〜２，２５０Ｏｅ）程度の高保磁力を得ることが提案されている。また、特許文献６〜８には、平均粒子サイズが５〜５０ｎｍで、保磁力が２００ｋＡ／ｍ以上の、本質的に球状ないし楕円状で、かつＦｅ16Ｎ2 相を主相とする希土類−鉄−窒化鉄系磁性粉末を用いた磁気記録媒体が開示されている。
【０００９】
また、電磁変換特性の改善のため、磁性層中の磁性粉末の配向構造を規定した磁気記録媒体の提案もなされている（特許文献９〜１１参照）。例えば、特許文献９、１０には、短波長信号から長波長信号の幅広い記録波長領域において高い電磁変換特性を発揮する磁気記録媒体を得る目的で、磁性粉末として板状の強磁性六方晶系フェライトを主体としたものを使用し、磁性層の厚さを１μｍ以下とした磁気記録媒体において、長手方向の抗磁力をＨｃ1 、垂直方向の抗磁力をＨｃ2 、幅方向の抗磁力をＨｃ3 としたとき、Ｈｃ1 ＞Ｈｃ2 ＞Ｈｃ3 の関係、またはＨｃ2 ＞Ｈｃ1 ＞Ｈｃ3 の関係を有するようにした磁気記録媒体が開示されている。
【００１０】
特許文献１１には、高出力化等のすぐれた短波長特性を発揮する磁気記録媒体を得る目的で、平均粒子径が５〜１００ｎｍの粒状の希土類−遷移金属系磁性粉末を使用し、磁性層の厚さを３００ｎｍ以下とした磁気記録媒体において、（長手方向の保磁力／幅方向の保磁力）を１．２０以上（通常は、１．３５まで）、かつ（長手方向における角形／幅方向における角形）を１．９以上（通常は、４．０まで）の磁気記録媒体が開示されている。
【００１１】
【特許文献１】特開平３−４９０２６号公報（第４頁）
【特許文献２】特開平１０−３４０８０５号公報（第２頁）
【特許文献３】特開平１０−８３９０６号公報（第３頁）
【特許文献４】特開２００１−１８１７５４号公報（第４頁、第２２頁）
【特許文献５】特開２０００−２７７３１１号公報（第３頁、図４）
【特許文献６】ＷＯ０３／０７９３３２Ａ１パンフレット（国際公開第０３／０７９３３２号パンフレット）（請求項、実施例）
【特許文献７】ＷＯ０３／０７９３３３Ａ１パンフレット（国際公開第０３／０７９３３３号パンフレット）（請求項、実施例）
【特許文献８】ＵＳ２００４／００７２０２５Ａ１（請求項、実施例）
【特許文献９】特開平０６−２７４８４７号公報（請求項、実施例）
【特許文献１０】特開平０６−２８２８３５号公報（請求項、実施例）
【特許文献１１】特開２００３−２７２１２３号公報（請求項、
【００１２】
、実施例）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
特許文献１〜１１に開示される磁性粉末およびこれを用いた磁気記録媒体は、各文献に記載される前記独自の構成とすることでそれに応じた特有の効果が奏される。例えば、文献６〜８では、磁性粉末を略球状ないし楕円体状の窒化鉄系の微粒子磁性粉末とし、かつ高保磁力とすることで、高い再生出力（Ｃ）と高い再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）を実現している。しかし、結晶異方性を利用した、略球状ないし楕円体状の微粒子を用いた磁気記録媒体では、保磁力の温度依存性が高く、高温−低温の温度サイクルにより、記録磁化が減磁して、ＣおよびＣ／Ｎが低下するという問題がある。また、リニアレコーディングタイプの磁気テープカートリッジ用の磁気テープでは磁気テープの長手方向に沿って記録・再生を行うので、磁気テープの長手方向の保磁力が高く、かつ最上層磁性層の長手方向の磁気異方性（最上層磁性層の長手方向の保磁力と幅方向の保磁力との差）を大きくする必要がある。しかし、特許文献６〜８に開示されている磁気テープでは、最上層磁性層の長手方向の保磁力は高いが、長手方向と幅方向との磁気異方性については開示されていない。また、特許文献９〜１１に開示されている磁気テープでは、最上層磁性層の長手方向と幅方向との磁気異方性について配慮されているが、磁気異方性は不充分であった。
【００１４】
本発明は、このような問題点を解決して、高記録密度（１．０Ｇｂ／ｉｎ２ 以上）に適したコンピュータ用バックアップ磁気テープ、特にリニアレコーディングタイプのコンピュータ用バックアップ磁気テープを得ることを目的とする。但し、本発明は、ヘリキャルレコーディングタイプの磁気テープであっても、記録・再生方向が、磁気テープの長手方向に略沿っている磁気テープ、すなわち、記録・再生方向と、磁気テープの長手方向との角度が０．２６ラジアン以下（１５°以下）のコンピュータ用バックアップ磁気テープを排除するものではない。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、結晶磁気異方性に基づく、略粒状の微粒子磁性粉末を用いた、バックアップ用途のコンピュータ用磁気テープに関して、高記録密度（１Ｇｂ／ｉｎ２以上）における電磁変換特性に優れ、かつ高温・低温サイクル時の電磁変換特性の低下が少ない磁気テープの完成を目的に、最上層に使用する磁性粉末の粒子サイズと形状、磁気テープの長手方向における保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）、特定温度間における保磁力の変化率について詳細に検討した。その結果、本発明者らは、最上層磁性層に特定粒子サイズ以下、特定形状の磁性粉末を含有させ、磁気テープの長手方向の保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）を特定範囲にすると共に、特定温度間の保磁力の変化率を特定値以下にしたときに、高密度記録時の電磁変換特性に優れ、かつ温度サイクルによる電磁変換特性の劣化のない磁気テープが得られることを知り、本発明を完成するに至った。
【００１６】
すなわち、本発明は、非磁性支持体と、非磁性支持体の一方の面に、少なくとも１層の磁性層を有し、前記磁性層の最上層磁性層が、粒子サイズ３０ｎｍ以下の略粒状の磁性粉末を含有する磁気テープであって、前記磁気テープの最上層磁性層の長手方向における保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差〔ＨｃMＤ−ＨｃTＤ〕が１４０ｋＡ／ｍ以上ＨｃMＤ以下であり、かつ−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率が１０％以下である磁気テープに関するものである。
【００１７】
本発明の磁気テープでは、最上層磁性層の磁性粉末の粒子サイズは、３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましく、１５ｎｍ以下がさらに好ましく、１５ｎｍ未満がいっそう好ましい。粒子サイズ３０ｎｍ以下が好ましいのは、３０ｎｍを超えると磁気テープのノイズ（Ｎ）が高くなり再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）が低くなるためである。また、粒子サイズを３ｎｍ以上にすると、磁性塗料調製時の分散が容易になるので３ｎｍ以上が好ましい。さらに、粒子サイズを３ｎｍ以上にすると、保磁力の温度変化が小さくなる傾向にある。５ｎｍ以上がより好ましく、８ｎｍ以上がさらに好ましい。粒子サイズが３０ｎｍを超えたり、３ｎｍ未満の磁性粒子の混入を排除するものではないが、その場合でも、粒子サイズの中央値が３０ｎｍ以下、３ｎｍ以上が好ましい。
【００１８】
なお、本発明の磁性粉末の粒子サイズは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により倍率２０万倍で撮影した、０．７μｍ×０．５μｍの視野の写真から求めた最大さしわたし径（長軸径）である。粒子サイズは、同写真から粒子サイズ（最大さしわたし径、長軸径）を求め、５０個の粒子サイズの中央値と粒子サイズの範囲とを求めた。本発明の粒子サイズは中央値である。粒子サイズの中央値および範囲は上下各５個を除外した４０個の中央値および範囲である。本発明の軸比は、同写真から求めた最大さしわたし径（長軸径）と、最大さしわたし径方向と直交する方向のさしわたし最大径（短軸径）との比〔（最大さしわたし径）／（最大さしわたし径方向と直交する方向のさしわたし最大径）〕である。軸比は、５０個の粒子の軸比を求め、中央値と軸比の範囲とを求めた。本発明の軸比は中央値である。軸比の中央値および範囲は上下各５個を除外した４０個の中央値および範囲である。磁気テープの磁性粉末の粒子サイズは、磁気テープの縦断面（長手方向に切断）の最上層磁性層を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真を倍率２０万倍、０．５μｍ×０．３μｍの視野で撮影して求めた。この写真の視野で３０ｎｍ以上の粒子サイズの磁性粉末が混入している場合には、上述の磁性粉末の場合と同様に、５０個の磁性粉末における粒子サイズの中央値と範囲を測定する。３ｎｍ未満の粒子が混入している場合も必要に応じて同様にして粒子サイズの中央値と範囲を求める。０．５μｍ×０．３μｍの視野で５０個の磁性粉末の粒子サイズが測定できない場合は適宜写真枚数を増やして測定する。磁性粉末と、カーボンブラック、研磨剤とは、通常ＳＥＭ写真のコントラストや形状で区別できるが、磁性粉末と、カーボンブラック、研磨剤との区別がつかない場合にはピンポイント元素分析法を併用してもよい。
【００１９】
また、本発明の磁気テープでは、最上層磁性層の磁気テープの長手方向における、−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率は１０％以下が好ましく、８％以下がより好ましく、５％以下がさらに好ましく、３％以下がいっそう好ましい。−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率は１０％以下が好ましいのは、保磁力の変化率が１０％をこえると、高温・低温サイクルで、短波長記録時の再生出力（Ｃ）および再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）が劣化するためである。最上層磁性層の長手方向における保磁力の変化率は理想的には０であるが、現状技術では１％が限界である。
【００２０】
本発明において、最上層磁性層の長手方向の、−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率は、ヘリウムガス雰囲気中、−１００℃、５０℃で測定された保磁力について、保磁力の最大値と最小値との差（ΔＨｃ）を求め、この差と最小値（最小Ｈｃ）との比から次式より保磁力の変化率を求めた。
保磁力の変化率＝（ΔＨｃ／最小Ｈｃ）×１００（％）
なお、磁気テープの長手方向における−２００℃〜１００℃の温度範囲における保磁力の温度変化の一例を図１に示すように、保磁力は温度低下と共に連続的に上昇するので、−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率は、−１００℃〜５０℃の温度範囲における保磁力の変化率に相当する。
【００２１】
本発明の最上層磁性層の長手方向における保磁力は、東英工業社製の試料振動型磁力計で、−１００℃と５０℃で、最大外部磁場１２７３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）で定法に準じて測定した値である。測定試料の調製は、磁気テープ２０枚を貼り合わせ、これを直径８ｍｍに打ち抜いて行った。
なお、２層以上の磁性層を有する磁気テープの最上層磁性層の長手方向の保磁力を測定する場合には、磁化の値をカー回転角で測定する方法を利用してもよい。この場合には、直径８ｍｍに打ち抜いた磁気テープ１枚を使用する。
【００２２】
本発明において、−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率を１０％以下にするための手段は、特に制限されないが、好ましくは以下の（ａ）〜（ｆ）の方法が挙げられる。
以下の（ａ）〜（ｆ）の方法を単独で用いて、好ましくはこれらの幾つかを併用することにより、保磁力の変化率が１０％以下の値を有する磁気テープを製造することができる。もちろん、保磁力の変化率の値を制御する方法は、以下の（ａ）〜（ｆ）の方法に限定されず、他の公知の方法を、適宜併用しても差し支えない。
【００２３】
（ａ）−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率を小さくするためには、磁性粉末中のナトリウム、硝酸痕等の不純物量を減少させる。例えば、略粒状の窒化鉄系微粒子では、原材料であるマグネタイト粒子に希土類元素、アルミニウム、シリコン他を被着後、濾液の電導度が１００μＳ／ｃｍ以下になるまで充分に洗浄する。
【００２４】
（ｂ）−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率を小さくするためには、磁性粉末の結晶性を高くする。例えば、略粒状の窒化鉄系微粒子等では、原材料であるマグネタイト粒子に希土類元素、アルミニウム、シリコン他を被着後、還元処理前に窒素ガス雰囲気等の乾燥雰囲気中１００℃〜９００℃で熱処理する。１２０℃〜７００℃がより好ましく、１５０℃〜５００℃がさらに好ましく、２００℃〜４００℃がいっそう好ましい。同様に、熱処理時の昇温速度を１０℃／ｍｉｎ．〜５０℃／ｍｉｎ．のように遅い速度で昇温することも有効である。
【００２５】
（ｃ）−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率を小さくするためには、磁性粉末の粒子間の組成の分布を少なくする。例えば、略粒状の窒化鉄系微粒子等では、還元の起こらない不活性ガス雰囲気で粉末全体の温度を還元温度に調整後、還元ガスを導入して均一温度で還元する。また、同様に、窒化鉄系微粒子では還元終了後、不活性ガスに切り替えて、窒化の起こらない不活性ガス雰囲気で粉末全体の温度を窒化処理温度に調整後、アンモニアガスを導入して均一温度で窒化する。さらに、窒化鉄系微粒子等では、酸化処理時に、はじめに低濃度の酸素を含有する不活性ガス（例：２００ｐｐｍの低濃度酸素−窒素混合ガス）を導入することで酸化熱による磁性粉末の温度上昇を抑制し、磁性粉末表面に均一温度で表面酸化膜を形成した後、高濃度の酸素を含有する不活性ガス（例：１０００ｐｐｍの酸素−窒素混合ガス）を導入して、均一厚さの酸化膜を形成する。また、酸素濃度を順次、２００ｐｐｍ、１０００ｐｐｍ、２０００ｐｐｍ、３０００ｐｐｍ、５０００ｐｐｍのようにさらに段階を増やして酸化処理したり、２００ｐｐｍ〜５０００ｐｐｍの間で連続的に酸素濃度を徐々に増やしながら酸化処理してもよい。さらに、還元処理、窒化処理、表面酸化処理の各工程を繰り返し行うことも、磁性粉末の粒子間の組成の分布を少なくするのに有効である。
【００２６】
（ｄ）−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率を小さくするためには、磁性粉末の粒子間の粒度分布、形状分布を少なくする。特に、粒度分布を少なくして３ｎｍ未満の微小磁性粉末の混入を少なくすることが有効である。例えば、略粒状の窒化鉄系微粒子等では、原材料であるマグネタイト粒子に粒度分布が少なく、かつ３ｎｍ未満の超微粒子の混入がないマグネタイト粒子を使用すると共に、粒子間の希土類元素、アルミニウム、シリコン他の被着量を均一にする。このようにすれば、磁性粉末の粒子間の粒度分布、形状分布が少なくなると共に、（ｃ）の組成分布も小さくなる。また、保磁力の温度変化の大きい磁性粉末の混入を避けることができる。
【００２７】
（ｅ）−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率を小さくするためには、磁性粉末の各粒子を単結晶または単結晶に近い粒子にする。例えば、略粒状の窒化鉄系微粒子等では、上記（ａ）〜（ｄ）を適宜組み合わせる方法が有効である。磁性粉末の各粒子が単結晶または単結晶に近い粒子であるかは、高分解能電子顕微鏡写真で格子像を観察することで判断できる。
【００２８】
（ｆ）−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率を小さくするためには、磁性塗料での磁性粉末の分散性を向上させることが有効である。磁性塗料での磁性粉末の分散性を向上させると、−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率が小さくなる理由は不明であるが、磁性粉末が密な部分と、粗な部分では粒子間の磁気的相互作用が温度によって異なるためと考えられる。
このための手法は、微粒子磁性粉末の分散性を上げるために従来から用いられている公知の手法が可能であり、これらを適宜組み合せて実施すればよい。磁性塗料の調製においては、磁性粉末を混練する前に、分散工程で良くほぐれるように、予め分散剤や樹脂と一緒に高速撹拌混合しておくのが好ましい。
混練には、樹脂とよくなじむように、大きなせん断力がかかる加圧型混練機や連続式２軸混練機等を用いるのが好ましく、通常の混練機であるならば、磁性粉末のバッチ量を適宜工夫するのが好ましい。分散は、通常のサンドミル型の分散機でよい。分散メディアとしては、従来の一般的な材質のものが使えるが、粒径が１ｍｍ未満で、チタニア、ジルコニアを主成分とする比重の大きいビーズを使用するのが好ましい。これは小粒径で比重が大きいほど分散能力が大きいからである。また、分散しやすいように磁性粉末の表面を、公知の表面処理剤で処理してもよい。さらに、バインダとして用いる樹脂には、分散性を向上させる官能基を持つ従来公知の樹脂を使用するのが好ましい。また、カーボンブラックやアルミナのような充填剤を磁性粉末とは別に分散して、予め分散しておいた磁性粉末、分散剤、樹脂の分散塗料に添加して磁性層用の塗料にする方法が好ましい。
【００２９】
さらに、本発明の磁気テープでは、長手方向の保磁力と幅方向の保磁力との差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）は、１４０ｋＡ／ｍ以上が好ましく、１５５ｋＡ／ｍ以上がより好ましく、１６０ｋＡ／ｍ以上がさらに好ましく、１８０ｋＡ／ｍ以上がいっそう好ましい。この範囲の（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が好ましいのは、（ＨｃMＤ−ＨｃTＤ）を１４０ｋＡ／ｍ以上にすると、短波長記録時の再生出力Ｃが大きくノイズＮが小さくなって、再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）が大きくなるためである。
なお、ＨｃＭＤ、ＨｃＴＤは何れも正の値なので、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）はＨｃＭＤ 以下である。
【００３０】
また、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）がＨｃＭＤ  の９０％を超える磁気テープの作製は難しい。このような磁気テープの作製が難しい理由は、磁性粉末の粒子形状が略粒状で完全な球ではなく、またカーボンブラックやアルミナ等の充填剤の存在、磁性粉末の不均一分散等により、磁性粒子の回転が束縛されて、磁性粉末の磁化容易軸を長手方向に完全に配向させることが難しいためである。なお、小規模実験によると、長手方向の保磁力と幅方向の保磁力の差をＨｃＭＤの９０％にするためには、完全な球に近い単結晶の磁性粉末を充分分散し、カーボンブラックやアルミナ等の充填剤を除去する方法、またはカーボンブラックやアルミナ等の充填剤を磁性粉末とは別に分散した後、磁性粉末の分散体と混合する方法（本願発明では別分散法という）、最上層磁性層と非磁性支持体の間に下層を設け、下層の充填剤表面をアルミナ処理する方法等を採用し、０．７Ｔ以上のソレノイド磁界中で配向および乾燥を行う方法が有効である。
【００３１】
本発明の最上層磁性層の長手方向、幅方向における保磁力は、東英工業社製の試料振動型磁力計で、２５℃、最大外部磁場１２７３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）で定法に準じて測定した値である。測定試料の調製は、磁気テープ２０枚を貼り合わせ、これを直径８ｍｍに打ち抜いて行った。
なお、２層以上の磁性層を有する磁気テープの最上層磁性層の長手方向の保磁力を測定する場合には、磁化の値をカー回転角で測定する方法を利用してもよい。この場合には、直径８ｍｍに打ち抜いた磁気テープ１枚を使用する。
【００３２】
本発明において、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）の値を１４０ｋＡ／ｍ以上にするための手段は、特に制限されないが、好ましくは以下の（ｇ）〜（ｊ）の方法が挙げられる。
以下の（ｇ）〜（ｊ）の方法を単独で用いて、好ましくはこれらの幾つかを併用することにより、所定の（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）の値を有する磁気テープを製造することができる。また、（ｇ）〜（ｊ）の方法と、上記（ｄ）（ｅ）（ｆ）の方法を組合わせることも有効である。もちろん、（ＨｃＭＤ −ＨｃＴＤ ）の値を制御する方法は、以下の（ｇ）〜（ｊ）の方法に限定されず、他の公知の方法を、適宜併用しても差し支えない。
【００３３】
（ｇ）同じ長手方向の保磁力でも、幅方向の保磁力を小さくして、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）の値を大きくするには、磁性粉末の形状を選定する。
磁性粉末が球に近い程磁性粉末が磁場配向しやすいので、磁性粉末の形状は略粒状である。また、単結晶の磁性粉末に近い程磁場配向した場合のＨｃＴＤが小さくなり、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が大きくなる。本発明の略粒状の磁性粉末とは、軸比（長径／短径）が２未満、好ましくは１．５以下、より好ましくは１．５未満である、球状、略球状、楕円体状、略楕円体状、多面体状、略多面体状、板状、略板状の粒子である。
なお、長径とは、略球状、楕円体状、略楕円体状、多面体状、略多面体状では最大さしわたし径であり、板状、略板状粒子では板径（いびつな場合は最大板径）である。また、短径とは、略球状、楕円体状、略楕円体状、多面体状、略多面体状粒子では最大さしわたし径と直角方向のさしわたし最大径であり、板状、略板状粒子では板厚である。磁性粉末が単結晶か否かは高分解能ＴＥＭで格子像を観察することで判断できる。
ＨｃＭＤに対し、相対的にＨｃＴＤをより小さくして、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）の値を大きくするには、略粒状の微粒子磁性粉末の粒子サイズは３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましい。また、３ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、８ｎｍ以上がさらに好ましい。この範囲の粒子サイズが好ましいのは、３ｎｍ未満では磁性粉末の磁気塗料への分散が難しいため、相対的にＨｃＴＤ が高くなり、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）の値が小さくなりやすい。また、３０ｎｍを超えると、磁気テープのノイズが高くなる傾向にある。
【００３４】
（ｈ）焼結の少ない磁性粉末を用いることが好ましい。
本発明の磁気テープに用いられる最上層磁性層に含まれる略粒状の磁性粉末としては、希土類元素、アルミニウム、珪素、ジルコニウム、チタンのように、その酸化物が６００℃以下の水素還元によって還元されない元素（特に、希土類元素、アルミニウム、珪素）の少なくとも一つが外層部分に主体的に存在し、かつ鉄または鉄を主体とする遷移金属元素と窒素がコアー部分に主体的に存在するものが好ましい。
磁性粉末の外層部分をこのような構成にすることにより、磁性粉末製造時の磁性粉末どうしの焼結が防止され、ＨｃＭＤ に対して、相対的にＨｃＴＤをより小さくして、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）の値を大きくすることができる。さらに、コアー部分がＦｅ16Ｎ2 相を含有する窒化鉄系磁性粉末がより好ましい。また、磁性粉末の粒子毎の窒素等の組成分布が小さいことが好ましい。
【００３５】
（ｉ）媒体の長手方向の角形を制御することが好ましい。
記録方向つまり長手方向の保磁力ＨｃＭＤ を大きくすることと電磁変換特性を低下させないことのため、長手方向の角形は０．７５以上であるのが好ましい。角形は大きければ大きいほど好ましい。理論的な値としては１であるが、現実的には０．９５程度が限界である。また、媒体のＳＦＤ（異方性磁界分布）は小さい方が好ましい。ＳＦＤは１．０以下が好ましく、０．７以下がより好ましい。粒子径がそろっている、つまり粒度分布が狭い磁性粉末を用いると、ＳＦＤは良好になる。媒体のＳＦＤが小さい方が、同じ長手方向の角形を示しても幅方向の保磁力ＨｃＴＤ が小さく、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）の値を大きくする効果がある。粒子径がそろっている方が分散が均一に行えて同様の効果が生じる。
これらを具現化する方法としては、最上層磁性層の塗布後に強い（例えば０．５Ｔ以上の）配向磁界を印加し、その後、均一配向磁界（例えば０．１Ｔ以上）を最上層磁性層が略乾燥するまで継続して印加すればよい。均一磁界の印加方法としては、反発磁石を多数並べる方法と、ソレノイドを使用する方法、両者の併用方法があり、いずれの方法を採用してもよい。反発磁石を多数並べる方法はランニングコストが安いという長所があるが、反発磁石と反発磁石の間で磁界が磁気媒体膜面方向に対して磁界が垂直方向に立ったり、磁界がない部分や反転が生じたりするので、磁性塗膜の乾燥位置を長手方向に磁界が生じている部分にうまく合わせる必要がある。一方、ソレノイドを使用する方法は電力等のランニングコストは高いが、配向磁界が磁気テープの長手方向に正確に向くので、磁性粉末の磁化容易軸の長手方向への配向が良くなり、長手方向の保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が非常に大きくなるという長所を有する。
【００３６】
（ｊ）ＨｃＭＤに対して、相対的にＨｃＴＤをより小さくして、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）を大きくするには、下層の研磨剤等を表面処理して研磨剤等の分散性を向上して、下層表面の凹凸やうねりをなくすことで下層の上に形成する磁性層の凹凸やうねりをなくことが好ましい。磁性層の凹凸やうねりがない程磁性粉末の磁化容易軸が磁気テープ長手方向に配向しやすくなるからである。下層の研磨剤等の分散性を向上する方法の一例としては、酸化鉄等のような研磨剤等の表面をアルミナ、シリカやジルコニア（特にアルミナ）で被覆する方法がある。その他、下層の研磨剤等の分散性を向上する方法には従来公知の方法を用いることができる。
【発明の効果】
【００３７】
このように、本発明によれば、コンピュータ用の磁気テープカートリッジ、特にリニアレコーディングタイプのコンピュータ用の磁気テープカートリッジに使用する磁気テープの長手方向における、−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率、最上層磁性層の配向構造を規定したことにより、短波長記録時の電磁変換特性、温度サイクルに伴う電磁変換特性の低下の少ない磁気テープ、特に、再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）が高く、温度サイクルに伴う再生出力（Ｃ）の低下が少ない磁気テープを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下に、コンピュータ用の磁気テープカートリッジにおける、本発明の磁気テープの構成要素として、磁気テープの構成、非磁性支持体、磁性層、磁性粉末、磁性塗料の調製、磁場配向処理、下層、潤滑剤、バック層、有機溶剤の順に、項分けして、詳しく説明する。
【００３９】
＜磁気テープの構成＞
本発明の磁気テープは、非磁性支持体、非磁性支持体の上に少なくとも１層の磁性層を有する構成で、高密度記録に寄与する磁性層は最上層磁性層である。また、必要に応じて、磁性層形成面（記録面）とは反対の面にバック層を設けてもよく、最上層磁性層と非磁性支持体の間に下層を設けてもよい。さらに、最上層磁性層の下に下層を介してサーボ信号を記録する下層磁性層を設けてもよい。
【００４０】
磁気テープの厚さ（磁気テープの総厚）は、８μｍ未満が好ましく、６μｍ未満がより好ましく、５．５μｍ未満がさらに好ましく、５．０μｍ未満がいっそう好ましい。磁気テープの厚さが８μｍ以上では、リールに巻回できる磁気テープの全長が短くなって、磁気テープカートリッジ１巻当たりの容量が低下するためである。また、薄い非磁性支持体は得にくいのと、得られても高コストなので、磁気テープの厚さは通常２．５μｍ以上である。
【００４１】
磁気テープの長手方向のヤング率ＥＭＤは、５ＧＰａ以上が好ましく、７ＧＰａ以上がより好ましい。この範囲が好ましいのは、磁気テープの長手方向のヤング率は、５ＧＰａ未満になると、磁気テープが伸びたり、傷ついたりして、電磁変換特性が劣化する場合があるためである。また、磁気テープ幅が１／２インチ以下の磁気テープで、磁気テープ全厚が６μｍ未満の磁気テープでは、８ＧＰａ以上が好ましく、１１ＧＰａ以上がより好ましく、１２ＧＰａ以上がさらに好ましく、１４ＧＰａ以上がいっそう好ましい。通常、磁気テープの長手方向のヤング率ＥＭＤは、３０ＧＰａ以下である。理由は、３０ＧＰａ以上のＥＭＤは得にくいのと、得られても高コストになるためである。また、ＥＭＤが３０ＧＰａを超えると、ＬＴＯコンピュータカートリッジのようなリニアレコーディングタイプでは、磁気テープと磁気ヘッドアレイとのコンタクトが悪くなって、Ｃ／Ｎの低下やエラーレートの上昇が起こる場合があるためである。
【００４２】
＜非磁性支持体＞
非磁性支持体には、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ナフタレンテレフタレートフィルム、芳香族ポリアミドフィルム、芳香族ポリイミドフィルム等が使用される。
非磁性支持体の厚さは、用途により異なるが、通常２〜８μｍ、好ましくは２〜７μｍ、より好ましくは２〜５μｍ、さらに好ましくは２〜４．５μｍ、いっそう好ましくは２〜４μｍである。この範囲の厚さの非磁性支持体が使用されるのは、２μｍ未満では製膜が難しく、またテープ強度が小さくなり、７μｍを超えるとテープ全厚が厚くなり、テープ１巻当りの記録容量が小さくなるためである。
【００４３】
非磁性支持体の長手方向のヤング率ＥＳＭＤは、磁気テープ幅、非磁性支持体の厚さによって異なるが、通常５ＧＰａ以上が好ましく、７Ｇｐａ以上が好ましい。この範囲のヤング率の非磁性支持体が好ましいのは、５ＧＰａ未満では、磁気テープの長手方向のヤング率ＥＭＤが低くなる場合があるためである。また、磁気テープ幅が１／２インチ以下で、磁気テープ全厚が６μｍ未満の場合は、８ＧＰａ以上が好ましく、１０ＧＰａ以上がより好ましく、１２ＧＰａ以上のものがさらに好ましい。１５ＧＰａ以上がいっそうこの好ましい。この範囲のヤング率の非磁性支持体が好ましいのは、８ＧＰａ未満では、磁気テープの長手方向の強度が低くなる場合があるためである。非磁性支持体の長手方向のヤング率ＥＳＭＤを高くする方法には、芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドのようにヤング率が高い樹脂のフィルムを用いて長手方向に延伸する、フィルム中にヤング率の高いフィラを添加する、フィルムの表面にヤング率の高い金属等の膜を形成する、ヤング率の高い金属等をフィルムでラミネートする方法等がある。
なお、長手方向のヤング率ＥＳＭＤが高い非磁性支持体は高コストなので、ＥＳＭＤは通常４０ＧＰａ以下である。
【００４４】
＜磁性層＞
磁性層は、少なくとも１層の、記録層として設けられる最上層磁性層からなり、この最上層磁性層の厚さは、５〜１５０ｎｍ以下が好ましい。１２０ｎｍ以下がより好ましく、９０ｎｍ以下がさらに好ましい。また、１０ｎｍ以上がより好ましく、１５ｎｍ以上がさらに好ましい。この範囲が好ましいのは、５ｎｍ未満では均一厚さの磁性層形成が難しく、１５０ｎｍを超えると厚さ減磁により再生出力の低下が起こりやすいためである。
なお、最上層磁性層が９０ｎｍ以下と薄い場合、非磁性下層を介して最上層磁性層の下に、サーボ信号記録用の下層磁性層を設けてもよい。
【００４５】
磁気テープの最上層磁性層の長手方向における保磁力は、２２０〜４００ｋＡ／ｍが好ましく、２５０ｋＡ／ｍ以上がより好ましい。２２０ｋＡ／ｍ未満では、記録波長を十分小さくし難く、４００ｋＡ／ｍを超えると、磁気ヘッドによる記録が不十分になる場合がある。３８０ｋＡ／ｍ以下が好ましく、３５０ｋＡ／ｍ以下がより好ましい。
【００４６】
上述のように、磁気テープの最上層磁性層の長手方向における、−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率は１０％以下が好ましく、８％以下がより好ましく、５％以下がさらに好ましく、３％以下がいっそう好ましい。保磁力の変化率は理想的には０であるが、現状の技術では１％が限界である。
【００４７】
上述のように、磁気テープの長手方向における保磁力と幅方向の保磁力との差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）は、１４０ｋＡ／ｍ以上が好ましく、１５５ｋＡ／ｍ以上がより好ましく、１６０ｋＡ／ｍ以上がさらに好ましく、１８０ｋＡ／ｍ以上がいっそう好ましい。ＨｃＭＤ、ＨｃＴＤは何れも正の値なので、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）はＨｃＭＤ 以下である。また、実用上の上限値はＨｃＭＤ の９０％である。
【００４８】
磁気テープの最上層磁性層の残留磁束密度（Ｂｒ）と厚さδとの積（Ｂｒ・δ）は０．００１μＴｍ以上、０．０６μＴｍ以下が好ましい。Ｂｒ・δは０．００４μＴｍ以上、０．０４μＴｍ以下がより好ましい。Ｂｒ・δが０．００１μＴｍ未満だと、ＭＲヘッドを使用した場合でも再生出力（Ｃ）が小さくなり再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）が小さくなり、Ｂｒ・δが０．０６μＴｍを越えると、ＭＲヘッドが飽和してノイズ（Ｎ）が高くなり再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）が小さくなるためである。
【００４９】
＜磁性粉末＞
塗布型磁気テープでは磁性粉末を磁性層に用いるが、この磁性粉末の特性が磁気テープの特性に重要な役割を果たす。磁性粉末には、針状の鉄系磁性粉末、略粒状の希土類元素−ホウ素−鉄系磁性粉末、略粒状の希土類元素−鉄系磁性粉末、略粒状の窒化鉄系磁性粉末、略粒状のＦｅ16Ｎ2相含有窒化鉄系磁性粉末、板状の六方晶系Ｂａフェライト磁性粉末がある。これらの磁性粉末の中、略粒状の磁性粉末が好ましく、略粒状の窒化鉄系磁性粉末がより好ましく、略粒状のＦｅ16Ｎ2相含有窒化鉄系磁性粉末が最上層磁性層の磁性粉末として特に好ましい。
略粒状のＦｅ16Ｎ2相含有窒化鉄系磁性粉末が最上層磁性層の磁性粉末として特に好ましいのは、３０ｎｍ以下の微粒子でも保磁力を高くでき、かつ磁気テープの（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）を大きくしやすく、しかも保磁力の変化率を小さく制御しやすいためである。ここでいうＦｅ16Ｎ2 相は、Ｆｅ16Ｎ2 相の、鉄（Ｆｅ）の一部が鉄以外の元素、窒素（Ｎ）の一部が窒素以外の元素で置換されたもの、鉄と窒素の化学量論量が１６：２よりずれたものを含む。このようなＦｅ16Ｎ2相の含有の有無はＸ線回折によって確認できる。
【００５０】
希土類元素、アルミニウム、珪素のようにその酸化物が６００℃以下の水素還元温度で還元されない元素の少なくとも一つの元素を外層部分に主体的に含有し、コアー部分にＦｅ16Ｎ2 を含有する窒化鉄系微粒子磁性粉末がより好ましい。外層部分の希土類元素、アルミニウム、珪素等は、磁性粉末の製造工程の一つである水素還元工程における粒子間の焼結を防止して粒子サイズの小さい窒化鉄系微粒子磁性粉末を得やすくするためである。希土類元素の中、イットリウム、サマリウムまたはネオジムが、還元時の粒子形状の維持効果が大きいので好ましい。また、コアー部分に窒化物（特に、Ｆｅ16Ｎ2 相）を主体的に含有させる理由は、保磁力、飽和磁化の高い窒化鉄系微粒子磁性粉末を得やすくするためである。また、必要に応じて、アルミニウム、珪素、リン、ジルコニウムのように分散性向上に有効な元素または化合物を、磁性粉末表面にさらに含有または吸着させてもよい。
なお、コアー部分をＦｅ16Ｎ2 相単層にすることがより好ましいが、Ｆｅ16Ｎ2 相とα−Ｆｅ相、あるいはＦｅ４Ｎ相との混相を排除するものではない。
【００５１】
鉄に対する希土類元素、シリコン、アルミニウムの総含有量は、０．１〜４０原子％が好ましく、１〜３０原子％がより好ましく、３〜２５原子％がさらに好ましく、３〜２０原子％がいっそう好ましい。これらの元素の総含有量が少なすぎると、還元時に焼結などにより粗大粒子が生成しやすくなり、粒度分布が悪くなり、幅方向の保磁力（ＨｃＴＤ ）が大きくなりやすい。また、これらの元素の合算含有量が多すぎると、飽和磁化の過度な低下が起こりやすい。合算含有量の中で、希土類元素の含有量は、０．１〜１５原子％がより好ましく、２〜１０原子％がさらに好ましい。希土類元素が多すぎると、コストアップの要因になるばかりでなく、飽和磁化の過度な低下が起こりやすい。また、窒化が起こりにくい。希土類元素が少なすぎると、焼結防止効果による保磁力向上効果、希土類元素に基づく磁気異方性の寄与が小さくなる場合があるからである。
なお、希土類元素、シリコン、アルミニウムの中、シリコン、アルミニウムはＦｅ16Ｎ2相への窒化が起こりやすいという利点を有する。一方、希土類元素は磁気テープの耐食性を向上させやすいという利点を有する。また、希土類元素、シリコン、アルミニウム以外にも、効果は希土類元素、シリコン、アルミニウムより劣るが、ホウ素、リン、チタン、ジルコニウム、カーボンも焼結防止効果を有するので、目的に応じて、ホウ素、リン、チタン、ジルコニウム、カーボンを使用してもよい。
【００５２】
Ｆｅ16Ｎ2相含有窒化鉄系磁性粉末における、鉄に対する窒素の含有量は、１．０〜２０原子％が好ましく、５．０〜１８原子％がより好ましく、８．０〜１５原子％がさらに好ましく、８〜１３原子％がいっそう好ましい。鉄に対する窒素の含有量が少なすぎると、Ｆｅ16Ｎ2 相の形成量が少なく、保磁力増加の効果が少なくなり、鉄に対する窒素の含有量が多すぎると、Ｆｅ4 ＮやＦｅ3 Ｎ等の保磁力や飽和磁化の小さい窒化鉄や、非磁性窒化物が形成されやすく、保磁力増加や飽和磁化増加の効果が少なくなり、特に飽和磁化の低下が過度になる。
【００５３】
磁性粉末および磁気テープに含まれる元素は、蛍光Ｘ線分析やＸ線光電子分光分析に代表される非破壊分析法、ならびに原子吸光分析装置や窒素分析装置などによる破壊分析法を用いて測定することが出来る。本発明では、希土類元素、アルミニウム、シリコンの鉄に対する量については、蛍光Ｘ線分析法で定法に従って分析し（分析視野：直径１０ｍｍ）、窒素の鉄に対する量については、Ｘ線光電子分光分析法で定法に従って分析した（分析視野：直径５ｍｍ）。Ｘ線光電子分光分析法で窒素量を分析する場合には、アルゴンガスでエッチングした後、鉄に対する窒素量を分析して、エッチング時間と鉄に対する窒素量との関係を求め、鉄に対する窒素量が一定になるエッチング時間での鉄に対する窒素量を求めた。
【００５４】
上述のように、最上層磁性層の磁性粉末の粒子サイズは、３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましく、１５ｎｍ以下がさらに好ましく、１５ｎｍ未満がいっそう好ましい。また、粒子サイズは３ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、８ｎｍ以上がさらに好ましい。
【００５５】
本発明の磁気テープの最上層磁性層に使用する略粒状のＦｅ16Ｎ2相含有窒化鉄系磁性粉末の粒子体積は５００ｎｍ３〜５０００ｎｍ３がより好ましく、５００〜３０００ｎｍ３がさらに好ましく、５００〜２０００ｎｍ３がいっそう好ましい。この範囲の磁性粉末の粒子体積がより好ましいのは、磁性粉末の粒子体積が５００ｎｍ３未満では、磁性塗料への磁性粉末の均一分散が難しく、かつ保磁力の温度変化が大きくなる場合があり、５０００ｎｍ３を超えると磁気テープの粒子性ノイズ（Ｎ）が高くなると共に、磁性層表面の平滑性が低下してノイズ（Ｎ）が高くなって、再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）が低くなる場合があるためである。略粒状の磁性粉末とは、軸比（長径／短径）が２未満、好ましくは１．５以下、より好ましくは１．５未満である、球状、略球状、楕円体状、略楕円体状、多面体状、略多面体状、板状、略板状の粒子である。略粒状の磁性粉末は、表面に凹凸のあるもの、及び若干の変形を有するものでも良い。これらの粒子体積は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて撮影した写真から実測した粒子サイズを用いて算出した粒子体積である。粒子サイズや形状に分布がある場合には、５０個の粒子から、数平均長軸長、数平均短軸長等を求め、この値から数平均体積を求める。算出の方法は、粒子形状によって、（ａ）球体モデル（粒子体積＝４πｒ３／３：ｒ＝粒子サイズの１／２）、（ｂ）円柱モデル（粒子体積＝πｒ２ｈ：ｒ＝短軸長の１／２、ｈ＝長軸長）、（ｃ）角柱モデル（粒子体積＝ｄ２ｈ：ｄ＝短軸長、ｈ＝長軸長）のモデルで個々の粒子の体積を計算する。また、これら以外にも粒子形状によって回転楕円体モデルを用いて計算することができる。
なお、磁性粉末が真球の場合、磁性粉末の粒子体積が５００ｎｍ３は、磁性粉末の粒子サイズが約１０ｎｍ、２０００ｎｍ３は約１６ｎｍ、３０００ｎｍ３は約１８ｎｍ、５０００ｎｍ３は約２１ｎｍに相当する。
【００５６】
希土類−Ｆｅ16Ｎ2相含有窒化鉄系磁性粉末は、飽和磁化が５０〜１５０Ａｍ2 ／ｋｇ（５０〜１５０ｅｍｕ／ｇ）が好ましく、６０〜１２０Ａｍ2 ／ｋｇ（６０〜１２０ｅｍｕ／ｇ）がより好ましく、６０〜１００Ａｍ2 ／ｋｇ（６０〜１００ｅｍｕ／ｇ）がさらに好ましい。磁性粉末の保磁力および飽和磁化は、最上層磁性層の保磁力、および残留磁束密度（Ｂｒ）と厚さδとの積（Ｂｒ・δ）が上述の磁性層の好ましい特性になるように選択すればよい。
【００５７】
また、上述のように、この希土類−窒化鉄系磁性粉末は、−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率を１０％以下にすると、磁気テープの保磁力の温度変化率も小さくなる傾向にあるので好ましい。
なお、磁性粉末の保磁力の変化率も、上述の磁気テープの長手方向における保磁力の変化率を求める方法に準拠して求めた。
【００５８】
＜磁性粉末の製造方法＞
つぎに本発明の磁性粉末の製造方法について、説明する。
出発原料としては、鉄系酸化物、酸水酸化物または水酸化物を使用する。たとえば、ヘマタイト、マグネタイト、ゲータイトなどが挙げられる。粒子サイズは、とくに限定されないが、３０ｎｍ以下で、保磁力の温度変化が小さい磁性粉末を作製するためには、５〜３０ｎｍ程度が好ましい。粒子サイズが小さすぎると、還元処理時に粒子間焼結が生じやすく、また大きすぎると、還元処理が不均質となりやすく、粒子サイズ、粒子体積や磁気特性の制御が難しくなる。また、保磁力の温度変化が小さい磁性粉末を作製するためには、粒子サイズの分布の少ない出発原料を使用する。形状は、球状、略球状、楕円体状、略楕円体状、多面体状、略多面体状、板状、略板状などの粒子であり、とくに限定されないが、軸比（長軸長／短軸長）２未満が好ましく、１．５未満がより好ましい。
【００５９】
この出発原料に希土類元素、シリコン、アルミニウム、または必要に応じて、チタン、ジルコニウム、炭素、リン、ホウ素などの元素を含む化合物を被着する。希土類元素を被着させる場合、通常は、アルカリまたは酸の水溶液中に出発原料を分散させ、これに希土類元素の塩を溶解させ、中和反応などにより原料粉末に希土類元素を含む水酸化物や水和物を沈殿析出させればよい。また、ホウ素、シリコン、アルミニウム、リンなどの元素を含む化合物を被着させる場合、原料粉末を浸漬した溶液に、これらの化合物を溶解させ、吸着により被着させることもできる。あるいは沈澱析出を行うことにより被着しても良い。原料粉末に対して、前記元素を同時にあるいは交互に被着させてもよい。これらの被着処理を効率良く行うため、還元剤、ｐＨ緩衝剤、粒径制御剤などの添加剤を混入させてもよい。保磁力の温度変化が小さい磁性粉末を作製するためには、濾液の導電度が１００μＳ／ｃｍ以下になるまで洗浄することが好ましい。
【００６０】
つぎに、これを窒素ガス等の雰囲気中または窒素ガス等を流しながら熱処理を行う。使用ガスは特に限定されず、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスなどの不活性ガス、酸素、空気などの酸化性ガス、およびこれらの混合ガスを用いることが出来る。保磁力の温度変化が小さい磁性粉末を作製するためには、熱処理温度は１００℃〜９００℃とするのが好ましい。１２０℃〜７００℃がより好ましく、１５０℃〜５００℃がさらに好ましく、２００〜４００℃がいっそう好ましい。熱処理温度が９００℃を超えると、粒子同士が焼結し、粒子サイズの分布が大きくなる。また、１００℃に満たない低い温度では、出発原料に含まれる水分により、還元が不均一となりやすい。また、１０〜５０℃／ｍｉｎ．の比較的遅い速度で昇温することが好ましい。
【００６１】
熱処理後、水素ガス中で加熱還元する。還元ガスは、とくに限定されず、水素ガス以外に、一酸化炭素ガスなどの還元性ガスを使用してもよい。還元温度としては、３００℃〜６００℃とするのが好ましい。還元温度が３００℃より低くなると、還元反応が十分進まなくなり、また、６００℃を超えると、粉末粒子の焼結が起こりやすくなる。また、保磁力の温度変化が小さい磁性粉末を作製するためには、還元温度になるまでは不活性ガス中で昇温して、試料温度が均一になってから還元性ガスに切り替えて還元処理を行うことが好ましい。さらに、１０〜５０℃／ｍｉｎ．の比較的遅い速度で昇温することが好ましい。
【００６２】
加熱還元処理後、窒化処理を施す。窒化処理としては、アンモニアを含むガスを用いて行うのが好ましい。アンモニアガス単体のほかに、水素ガス、ヘリウムガス、窒素ガス、アルゴンガスなどをキャリアーガスとした混合ガスを使用してもよい。窒素ガスは安価なため、とくに好ましい。窒化処理温度は、９０℃〜２５０℃がよい。窒化処理温度が低すぎると、窒化が十分進まず、保磁力増加の効果が少ない。高すぎると、窒化が過剰に促進され、Ｆｅ４ＮやＦｅ３Ｎ相などの割合が増加し、保磁力がむしろ低下し、さらに飽和磁化の過度な低下を引き起こしやすい。また、保磁力の温度変化が小さい磁性粉末を作製するためには、窒化温度になるまでは不活性ガス中で降温して、試料温度が均一になってから窒化処理ガスに切り替えて窒化処理を行うことが好ましい。
【００６３】
このような窒化処理後、酸化処理を行うことにより、本発明の鉄と窒素を構成要素とし、適度な表面化合物層を有する磁性粉末が得られる。酸化処理としては、酸素を含む混合ガスを用いて行うのが好ましい。これには窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスなどを用いることができる。また、保磁力の温度変化が小さい磁性粉末を作製するためには、酸化温度になるまでは不活性ガス中で昇温または降温して、試料温度が均一になってから低濃度の酸素を含む不活性ガスに切り替えて酸化処理を行うことが好ましい。
酸化温度は、２００℃以下とするのがよい。酸化温度が高すぎると、酸化が過剰に進み、窒化鉄相が著しく減少し、保磁力や飽和磁化の劣化を招く。また、保磁力の温度変化が小さい磁性粉末を作製するためには、はじめに低濃度の酸素を含有する不活性ガス（例：２００ｐｐｍの低濃度酸素−窒素混合ガス）を導入することで磁性粉末の温度上昇を抑制し、磁性粉末表面に均一温度で表面酸化膜を形成した後、高濃度の酸素を含有する不活性ガス（例えば酸素濃度１０００ｐｐｍの不活性ガス）を導入して、均一厚さの酸化膜を形成することが好ましい。
なお、磁性粉末の温度上昇がない範囲で徐々に酸素濃度を増加させる方法を採用してもよい。
【００６４】
＜結合剤＞
塗布型磁気テープの磁性層には、特許文献６、７等に記載のバインダ樹脂（以下、単にバインダと記載）と量を適用できる。バインダとして２種以上の樹脂を併用する場合、官能基の極性を一致させるのが好ましく、中でも−ＳＯ3 Ｍ基どうしの組み合わせが好ましい。−ＳＯ3 Ｍ基のような官能基を有する塩化ビニル系樹脂と、−ＳＯ3 Ｍ基のような官能基を有するポリウレタン樹脂とを複合するか、同種の官能基を有する複数のポリウレタン樹脂を複合して用いるのがより好ましい。これらのバインダとともに、バインダ中に含まれる官能基等と結合させて架橋するために、ポリイソシアネート化合物等の熱硬化性の架橋剤を併用するのが好ましい。しかし、下層の上にウエット・オン・ウエットで磁性層を塗布する場合には、下層塗料からある程度のポリイソシアネート化合物が拡散供給されるので、ポリイソシアネート化合物を併用しなくても、磁性層はある程度架橋される。
【００６５】
＜充填剤＞
塗布型磁気テープの最上層磁性層には、特許文献に記載の従来公知のα−アルミナ、α−酸化鉄等のモース硬度が６以上の研磨材を単独でまたは組み合せて添加することができる。通常、これら研磨剤の数平均粒子径は、１０〜１５０ｎｍである。また、必要に応じて、数平均粒子径が１０〜１００ｎｍの板状粒子を添加してもよい。さらに、磁性層には、導電性向上と表面潤滑性向上のため、従来公知の数平均粒子径が１０〜１００ｎｍのカーボンブラックを添加することができる。また、導電性向上のために、数平均粒子径が１０〜１００ｎｍの板状ＩＴＯ粒子を添加してもよい。磁性層に含ませる研磨剤やカーボンブラック等の非磁性粉末は、粒度分布が小さいものほど、幅方向の保磁力（ＨｃＴＤ ）が小さくなりやすく、好ましい。
【００６６】
＜磁性塗料の調製＞
塗布型磁気テープの最上層磁性層には、粒子サイズが３０ｎｍ以下の略粒状の超微粒子磁性粉末を塗膜中に高充填化し、かつ高分散させるためには、下記のような工程で、塗料製造を行うのが好ましい。
混練工程の前工程として、磁性粉末の顆粒を解砕機で解砕し、その後、混合機でリン酸系の有機酸等やバインダ樹脂と混合し、磁性粉末の表面処理、バインダ樹脂との混合を行う工程を設けるのが好ましい。
混練工程には、連続式２軸混練機により固形分濃度８０〜８５重量％、磁性粉末に対するバインダ樹脂の割合が１７〜３０重量％で混練を行うのが好ましい。
【００６７】
混練工程の後工程として、連続式２軸混練機か他の希釈装置を用いて、バインダ樹脂溶液および／または溶媒を加えて、少なくとも１回以上混練希釈する工程、サンドミル等の微小メデイア回転型分散装置による分散工程等により塗料分散を行うのが好ましい。
なお、磁性層に含ませる非磁性粉末が磁性粉末よりも大きなものでは、非磁性粉末が磁性塗料の分散時に分散力となる分散メディアによるせん断応力を遮断して、磁性粉末の分散を阻害する場合がある。このような非磁性粉末は、磁性粉末とは別に分散してスラリー状にしておき、これを磁性粉末を分散した塗料と混合して磁性層用塗料を調製するようにすると、磁気テープの長手方向における、−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率が小さくなる。また、幅方向の保磁力（ＨｃＴＤ ）が小さくなりやすく、（ＨｃＭＤ −ＨｃＴＤ ）が高い最上層磁性層が得やすいので好ましい。
【００６８】
＜磁場配向処理＞
磁気テープの最上層磁性層の磁場配向処理は、前述したように従来公知の磁場配向方法で行うことができる。塗布後に、反発磁石で強い（例えば０．５Ｔ以上）配向磁界を印加し、引き続きソレノイド電磁石で均一配向磁界（例えば０．１Ｔ以上）の印加を、最上層磁性層が略乾燥するまで継続させて行うのが好ましい。また、ランニングコストを安くするためには、反発磁石を多数並べる方法を採用してもよいが、磁界の反転が繰り返されるので、均一磁界発生部で乾燥するようにするのが好ましい。
【００６９】
＜下層＞
本発明の磁気テープカートリッジに使用する磁気テープにおいては、最上層磁性層の配向性の向上、平滑性の向上、厚さむらの低減、耐久性の向上のため、下層を形成するのが好ましい。特に、磁性層厚さが９０ｎｍ以下の磁気テープにおいては下層形成効果が大きい。また、最上層磁性層の磁気記録信号を乱さないため、通常、下層は非磁性である。
【００７０】
下層の厚さは、０．１〜１．５μｍが好ましく、０．１５〜１．０μｍがより好ましく、０．１５〜０．９μｍがさらに好ましい。０．１μｍ未満では、磁気テープの耐久性向上効果が小さく、１．５μｍを超えると、磁気テープの耐久性の向上効果が飽和し、またテープ全厚が厚くなり、１巻当りのテープ長さが短くなり、記憶容量が小さくなる。
【００７１】
下層に使用するバインダ樹脂は、磁性層と同様のものが用いられる。また、下層には、塗料粘度やテープ剛性の制御を目的に、特許文献に記載の従来公知の酸化チタン、酸化鉄、酸化アルミニウムなどの研磨剤を含ませることができる。非磁性の酸化鉄、酸化アルミニウムには、針状のほか、粒状または無定形のものがある。針状のものは、平均長軸長は５０〜２００ｎｍ、平均短軸長（平均粒径）は５〜１００ｎｍが好ましく、粒状または無定形のものでは、平均粒径は５〜２００ｎｍが好ましく、５〜１５０ｎｍがより好ましく、５〜１００ｎｍが最も好ましい。粒径が上記よりも小さいと均一分散が難しく、また上記よりも大きいと下層と磁性層の界面の凹凸が増加しやすい。
粒状または無定形の酸化アルミニウムは、平均粒径は１０〜１００ｎｍが好ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましく、３０〜１００ｎｍが最も好ましい。平均粒径が上記よりも小さいと均一分散が難しくなり、また上記よりも大きいと下層と磁性層の界面の凹凸が増加しやすい。
【００７２】
下層の研磨剤等の分散性を向上するために、酸化鉄等のような非磁性粉末等の表面をアルミナ、シリカやジルコニア（特にアルミナ）で被覆することが好ましい。下層の研磨剤等を表面処理して分散性を向上させると、下層表面の凹凸やうねりがなくなることで下層の上に形成する最上層磁性層の凹凸やうねりがなくなる。最上層磁性層の凹凸やうねりがない程磁性粉末の磁化容易軸が磁気テープ長手方向に配向しやすくなり、その結果、ＨｃＭＤに対して相対的にＨｃＴＤがより小さくなり、（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が大きくなる。
【００７３】
また、特許文献６、７に記載されるように、０．９μｍ以下の下層には、数平均板径が１０〜１００ｎｍの板状酸化アルミニウム粒子や酸化鉄を使用することができる。
このような超微粒子の板状非磁性粉末を使用すると、０．９μｍ以下の下層塗布においても厚みむらが小さく、また表面の平滑性が低下することもない。また、板状の粒子が重なった状態で塗膜が形成されるので、塗膜の平面方向の補強効果が大きく、同時に温度、湿度の変化による寸法安定性も大きくなる。
非磁性板状粒子としては、酸化アルミニウムに限らず、セリウムなどの希土類元素、ジルコニウム、珪素、チタン、マンガン、鉄等の元素の酸化物または複合酸化物が用いられる。導電性改良の目的で、板状ＩＴＯ（インジウム、スズ複合酸化物）粒子を添加してもよい。非磁性板状微粒子の製造方法としては、特許文献６、７に記載の方法が用いられる。
【００７４】
下層には、導電性改良の目的で、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラックなどのカーボンブラックを含ませることができる。
これらのカーボンブラックの平均粒径は通常５〜２００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍがより好ましい。カーボンブラックは、ストラクチャー構造を持っており、平均粒径が小さすぎるとカーボンブラックの分散が難しくなり、大きすぎると表面平滑性が悪くなる。
なお、表面平滑性を損なわない範囲で、平均粒径が前記範囲を超える大粒径のカーボンブラックを含ませることを排除するものではない。この場合、下層へのカーボンブラックの添加量は、両者のカーボンブラックを合わせて、無機粉末１００重量部に対して、通常５〜７０重量部、特に１５〜５０重量部が好ましい。
【００７５】
＜潤滑剤＞
塗布型磁気テープでは、磁性層、下層には、特許文献６、７に記載の従来公知の潤滑剤を添加でき、その添加量も上記公知の量でよい。例えば、下層にミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸等の炭素数１０以上の高級脂肪酸と、ステアリン酸ブチルなどの高級脂肪酸のエステルを含有させると、ヘッドとの摩擦係数が小さくなるので、好ましい。また、磁性層には、パルミチン酸、ステアリン酸等のアミドである脂肪酸アミドと、高級脂肪酸のエステルを含有させると、テープ走行時の摩擦係数が小さくなるので、好ましい。
なお、磁性層の潤滑剤と下層の潤滑剤の相互移動を排除するものではない。
【００７６】
＜分散剤＞
下層や磁性層に含まれる非磁性粉末やカーボンブラック、磁性粉末は、結合剤（バインダ樹脂）との分散性を良くするため、適宜の分散剤で表面処理することができる。また、上記各粉体を含む下層、磁性層を形成するための塗料中に適宜の分散剤を添加してもよい。分散剤としては、リン酸系分散剤、カルボン酸系分散剤、アミン系分散剤、キレート剤、各種シランカップリング剤などが好適なものとして用いられる。これらの分散剤は、混練前処理工程、混練工程や初期分散工程の後に配合するのが好ましい。リン酸系分散剤としては、リン酸モノメチル、リン酸ジメチル、リン酸モノエチル、リン酸ジエチルなどのアルキルリン酸エステル類、フエニルホスホン酸、モノオクチルフエニルホスホン酸などの芳香族リン酸類などが挙げられ、市販品として、東邦化学製の「ＧＡＲＦＡＣ ＲＳ４１０」、城北化学工業製の「ＪＰ−５０２」、「ＪＰ−５０４」、「ＪＰ−５０８」などを用いることができる。また、カルボン酸系分散剤としては、炭素数１２〜１８個の脂肪酸、具体的には、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアリン酸などが用いられる。また、上記脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属からなる金属石けん、上記脂肪酸のアミド、上記脂肪酸のエステルまたはこれにフッ素を含ませた化合物、ポリアルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル、レシチン、トリアルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンはエチレン、プロピレンなど）、硫酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、銅フタロシアニン、安息香酸、フタル酸、テトラカルボキシルナフタレン、ジカルボキシルナフタレン、炭素数１２〜２２の脂肪酸などが挙げられる。アミン系分散剤としては炭素数８〜２２の脂肪族アミン、芳香族アミン、アルカノールアミン、アルコキシアルキルアミン等がある。さらに、キレ―ト剤としては、１，１０−フエナントロリン、ＥＤＴＡ、ジメチルグリオキシム、アセチルアセトン、グリシン、ジチアゾン、ニトリロ三酢酸などが挙げられる。これらは、単独でも組み合わせて使用してもよい。
分散剤は、いずれの層においても結合剤１００重量部に対して通常、０．５〜２０重量部の範囲で添加される。
【００７７】
＜バック層＞
本発明の磁気テープを構成する非磁性支持体の他方の面（磁性層が形成されている面とは反対側の面）には、走行性の向上等を目的として、バック層を形成できる。
このバック層は、蒸着、スパッタ、ＣＶＤ、塗布により、形成できる。バック層に磁気サーボ信号を記録する場合には、従来公知の薄膜型または塗布型磁性層がバック層に使用されるが、磁性層に磁気サーボ信号を記録する場合や、バック層に光学サーボ信号を記録する場合には、バック層としてバックコート層が使用される。バックコート層としては、カーボンブラックとバインダ樹脂からなるバックコート層が一般的である。このようなバックコート層の厚さとしては、０．２〜０．８μｍが好ましい。また、表面粗さＲａとしては、３〜８ｎｍが好ましく、４〜７ｎｍがより好ましい。
【００７８】
バックコート層に含ませるカーボンブラックには、従来公知のアセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等の小粒径カーボンブラックと、少量の大粒径カーボンブラックを使用する。小粒径カーボンブラックの数平均粒子径は５〜１００ｎｍで、大粒径カーボンブラックの数平均粒径２００〜４００ｎｍである。
バックコート層のバインダ樹脂としては、セルロース系樹脂とポリウレタン系樹脂を使用するのが好ましい。また、バインダ樹脂を硬化するために、ポリイソシアネート化合物等の架橋剤を用いるのが好ましい。
また、バックコート層には、必要により、強度向上を目的として、数平均粒子径が１０〜１００ｎｍの酸化アルミニウム、セリウム等の希土類元素、ジルコニウム、珪素、チタン、マンガン、鉄等の元素の酸化物または複合酸化物の粒状粒子や板状粒子、導電性改良を目的として、板状ＩＴＯを添加することができる。
【００７９】
＜有機溶剤＞
磁気テープ用の磁性塗料、下層塗料、磁気テープ用のバックコート層塗料に使用する有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル系溶剤等が挙げられる。これらの有機溶剤は、単独でまたは混合して使用でき、さらにトルエンなどと混合して使用することもできる。
【００８０】
つぎに、本発明の実施例を記載して、さらに具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものではない。
なお、以下の実施例および比較例において、部とあるのは重量部を示すものとする。
【実施例】
【００８１】
（Ａ）窒化鉄系磁性粉末の製造
磁性粉末Ａ１
形状が略球状で、粒子サイズの分布が小さい、粒子サイズ（中央値）が１７ｎｍのマグネタイト粒子（粒子サイズの範囲：１５〜１９ｎｍ）１０部を５００部の水中に、超音波分散機を用いて３０分間分散させた。この分散液に２．５部の硝酸イットリウム［Y(NO３)３・6H２O］を加えて溶解し、３０分間撹拌した。これとは別に、０．８５部の水酸化ナトリウムを１００部の水に溶解した。この水酸化ナトリウム水溶液を上記の分散液に約３０分間かけて滴下し、滴下終了後、さらに１時間攪拌した。この処理により、マグネタイト粒子表面にイットリウムの水酸化物を被着析出させた。これを、濾液の電導度が８０μＳになるまで水洗し、ろ過後、９０℃で乾燥して、マグネタイト粒子の表面にイットリウムの水酸化物を被着形成した粉末を得た。
【００８２】
このようにして得られた、マグネタイト粒子の表面にイットリウムの水酸化物を被着形成した粉末を、窒素気流中で２０℃／ｍｉｎ．の速度で２００℃まで昇温し、窒素ガス気流中２００℃で１時間熱処理した。ついで、窒素気流中２０℃／ｍｉｎ．の速度で４００℃まで昇温し、温度が４００℃均一になった時点で、ガスを水素ガスに切り替え、水素ガス気流中４００℃で１０時間加熱還元して、イットリウム−鉄系磁性粉末を得た。水素還元の終了は出口の水素中の水蒸気濃度が１００ｐｐｍ以下になったことで確認した。つぎに、水素ガスを流した状態で、約２時間で、１２０℃まで降温した。１２０℃に到達した状態で、ガスをアンモニアガスに切り替え、温度を１２０℃に保った状態で、３０時間窒化処理を行った。その後、アンモニアガスを窒素ガスに切り替えて、１２０℃から１００℃まで降温した。１００℃に到達した状態で、２００ｐｐｍの酸素を含む、酸素と窒素の混合ガスに切り替え、２時間安定化処理を行った後、１０００ｐｐｍの酸素を含む、酸素と窒素の混合ガスに切り替え、さらに４時間安定化処理を行った後、室温まで冷却した。磁気テープ作製用の磁性粉末はそのままコンテナに移し、磁気特性等の測定用試料は、温度上昇がないことを確認しながら、徐々に酸素濃度を増加させて最終的に酸素濃度が２０％になった時点で空気中に取り出した。
【００８３】
このようにして得られたイットリウム−窒化鉄系磁性粉末は、そのイットリウムと窒素の含有量を蛍光Ｘ線分析法およびＸ線光電子分光分析法により測定したところ、それぞれＦｅに対して５．３原子％と１０．８原子％であった。また、Ｘ線回折パターンより、Ｆｅ16Ｎ2 相を示すプロファイルを得た。さらに、高分解能分析透過電子顕微鏡で粒子形状を観察したところ、ほぼ球状の粒子で、粒子サイズ（中央値）は１７ｎｍ（粒子サイズの範囲：１５〜１９ｎｍ）であった。平均粒子体積は２６００ｎｍ３であった。図２は、この磁性粉末の透過型電子顕微鏡写真を示したものである。また、１，２７３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）の磁界を印加して測定した室温における飽和磁化は１０１．６Ａｍ2 ／ｋｇ（１０１．６ｅｍｕ／ｇ）、保磁力は２４０．４ｋＡ／ｍ（３，０２０Ｏｅ）であった。さらに、測定部をヘリウムガスで置換した後、−１００℃、２５℃（室温）、５０℃で保磁力を測定した。保磁力の最大値（−１００℃の保磁力）と最小値（５０℃の保磁力）から求めた保磁力の変化率は、２．９％であった。
【００８４】
磁性粉末Ａ２
出発原料である粒子サイズ（中央値）が１７ｎｍのマグネタイト粒子を、粒子サイズ（中央値）が１５ｎｍのマグネタイト粒子（粒子サイズの範囲：１３〜１７ｎｍ）に変更し、硝酸イットリウム［Y(NO３)３・6H２O］と水酸化ナトリウムをそれぞれ、２．５部から５．５部に、０．８５部から２．０部に変更した以外は、磁性粉末Ａ１と同様にして、イットリウム−窒化鉄系磁性粉末を製造した。
このイットリウム−窒化鉄系磁性粉末は、そのイットリウムと窒素の含有量を蛍光Ｘ線分析法およびＸ線光電子分光分析法により測定したところ、それぞれＦｅに対して１１．２原子％と９．５原子％であった。また、Ｘ線回折パターンより、Ｆｅ16Ｎ2 相を示すプロファイルを得た。
【００８５】
さらに、高分解能分析透過電子顕微鏡で粒子形状を観察したところ、略球状の粒子で、粒子サイズ（中央値）は１５ｎｍ（粒子サイズの範囲：１３〜１７ｎｍ）であった。平均粒子体積は１８００ｎｍ３であった。また、室温における飽和磁化は９０．１Ａｍ2 ／ｋｇ（９０．１ｅｍｕ／ｇ）、保磁力は２２６．９ｋＡ／ｍ（２，８５０Ｏｅ）であった。さらに−１００℃、２５℃（室温）、５０℃で保磁力を測定した後、保磁力の最大値と最小値から求めた保磁力の変化率は、７．２％であった。
【００８６】
磁性粉末Ａ３
酸化処理温度を１００℃から１２０℃に変更し、アンモニアガス処理後、窒素ガスに切り替えて３０分後保持した以外は、磁性粉末Ａ１と同様にして、イットリウム−窒化鉄系磁性粉末を製造した。
このイットリウム−窒化鉄系磁性粉末は、そのイットリウムと窒素の含有量を蛍光Ｘ線分析法およびＸ線光電子分光分析法により測定したところ、それぞれＦｅに対して５．１原子％と８．５原子％であった。また、Ｘ線回折パターンより、Ｆｅ16Ｎ2 相を示すプロファイルを得た。
【００８７】
さらに、高分解能分析透過電子顕微鏡で粒子形状を観察したところ、略球状の粒子で、粒子サイズ（中央値）は１７ｎｍ（粒子サイズの範囲：１５〜１９ｎｍ）であった。平均粒子体積は２６００ｎｍ３であった。また、室温における飽和磁化は６５．８Ａｍ2 ／ｋｇ（６５．８ｅｍｕ／ｇ）、保磁力は２１８．９ｋＡ／ｍ（２，７５０Ｏｅ）であった。さらに−１００℃、２５℃（室温）、５０℃で保磁力を測定した後、保磁力の最大値と最小値から求めた保磁力の変化率は、８．８％であった。
【００８８】
磁性粉末Ａ４
磁性粉末Ａ１の作製に使用した、粒子サイズ（中央値）が１７ｎｍのマグネタイト粒子１０部を５００部の水に、超音波分散機を用いて、３０分間分散させ、この分散液に２．５部の硝酸イットリウム［Y(NO３)３・6H２O］と３．３部の塩化アルミニウム［AlCl３・6H２O］を加えて溶解し、３０分間撹拌した。これとは別に、２．４３部の水酸化ナトリウムを１００部の水に溶解した。この水酸化ナトリウム水溶液を上記の分散液に約３０分間かけて滴下し、滴下終了後１０分間攪拌し、ついで、０．１Ｎの塩酸溶液を滴下して中性（約ｐＨ７）にした後さらに３時間攪拌した。この処理により、マグネタイト粒子表面にイットリウムとアルミニウムの化合物を被着析出させた。これを磁性粉末Ａ１と同様に濾液の電導度が８０μＳになるまで水洗し、ろ過後、９０℃で乾燥して、マグネタイト粒子の表面にイットリウムとアルミニウムの化合物を被着形成した粉末を得た。
【００８９】
このようにマグネタイト粒子の表面にイットリウムとアルミニウムの化合物を被着形成した粉末から、磁性粉末Ａ１と同様に、熱処理、水素還元処理、窒化処理、安定化処理を行い、イットリウム−アルミニウム−窒化鉄系磁性粉末を作製した。
【００９０】
このイットリウム−アルミニウム−窒化鉄系磁性粉末は、そのイットリウム、アルミニウムおよび窒素の含有量を蛍光Ｘ線分析法およびＸ線光電子分光分析法により測定したところ、それぞれＦｅに対して５．３原子％、１０．５原子％および９．４原子％であった。また、Ｘ線回折パターンより、Ｆｅ16Ｎ2 相を示すプロファイルを得た。さらに、高分解能分析透過電子顕微鏡で粒子形状を観察したところ、略球状の粒子で、粒子サイズ（中央値）は１７ｎｍ（粒子サイズの範囲：１５〜１９ｎｍ）であった。平均粒子体積は２６００ｎｍ３であった。また、室温における飽和磁化は１０４．１Ａｍ2 ／ｋｇ（１０４．１ｅｍｕ／ｇ）、保磁力は２３５．７ｋＡ／ｍ（２，９６２Ｏｅ）であった。さらに−１００℃、２５℃（室温）、５０℃で保磁力を測定した後、保磁力の最大値と最小値から求めた保磁力の変化率は、２．０％であった。
【００９１】
磁性粉末Ａ５
磁性粉末Ａ１の作製に使用した、粒子サイズ（中央値）が１７ｎｍのマグネタイト粒子１０部を５００部の水に、超音波分散機を用いて、３０分間分散させ、この分散液に２．２部の珪酸ソーダ［SiO２・NaO］を加えて溶解し、３０分間撹拌した。これとは別に、０．１Ｎの希塩酸水溶液２００部を作製した。この希塩酸水溶液を上記の分散液に約３０分間かけて滴下し、滴下終了後、さらに３時間攪拌した。この処理により、マグネタイト粒子表面にシリコンの化合物を被着析出させた。これを磁性粉末Ａ１と同様に濾液の電導度が８０μＳになるまで水洗し、ろ過後、９０℃で乾燥して、マグネタイト粒子の表面にシリコンの化合物を被着形成した粉末を得た。
【００９２】
このようにマグネタイト粒子の表面にシリコンの化合物を被着形成した粉末から、磁性粉末Ａ１と同様に、熱処理、水素還元処理、窒化処理、安定化処理を行い、シリコン−窒化鉄系磁性粉末を作製した。
【００９３】
このシリコン−窒化鉄系磁性粉末は、そのシリコンおよび窒素の含有量を蛍光Ｘ線分析法およびＸ線光電子分光分析法により測定したところ、それぞれＦｅに対して１２．６原子％および１１．０原子％であった。また、Ｘ線回折パターンより、Ｆｅ16Ｎ2 相を示すプロファイルを得た。さらに、高分解能分析透過電子顕微鏡で粒子形状を観察したところ、略球状の粒子で、粒子サイズ(中央値)は１７ｎｍ（粒子サイズの範囲：１５〜１９ｎｍ）であった。平均粒子体積は２６００ｎｍ３であった。また、室温における飽和磁化は７５．３Ａｍ2 ／ｋｇ（７５．３ｅｍｕ／ｇ）、保磁力は２２０．８ｋＡ／ｍ（２７７５Ｏｅ）であった。さらに−１００℃、２５℃（室温）、５０℃で保磁力を測定した後、保磁力の最大値と最小値から求めた保磁力の変化率は、４．８％であった。
【００９４】
磁性粉末Ｂ１
最終洗浄濾液の電導度を２００μＳにしたこと、熱処理を行わなかったこと、水素還元時の昇温を水素気流中で行ったこと、窒化処理温度までの降温を水素気流中で行ったこと、安定化温度までの降温をアンモニア雰囲気中で行ったことを除き、磁性粉末Ａ１と同様にして、イットリウム−窒化鉄系磁性粉末の作製と取り出しを行った。
【００９５】
このようにして得られたイットリウム−窒化鉄系磁性粉末は、そのイットリウムと窒素の含有量を蛍光Ｘ線分析法およびＸ線光電子分光分析法により測定したところ、それぞれＦｅに対して５．３原子％と１０．８原子％であった。また、Ｘ線回折パターンより、Ｆｅ16Ｎ2 相を示すプロファイルを得た。さらに、高分解能分析透過電子顕微鏡で粒子形状を観察したところ、ほぼ球状の粒子で、粒子サイズ（中央値）は１７ｎｍ（粒子サイズの範囲：１５〜１９ｎｍ）であった。平均粒子体積は２６００ｃｍ３であった。１，２７３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）の磁界を印加して測定した室温における飽和磁化は１３０．５Ａｍ2 ／ｋｇ（１３０．５ｅｍｕ／ｇ）、保磁力は２１１．０ｋＡ／ｍ（２，６５０Ｏｅ）であった。さらに、測定部をヘリウムガスで置換した後、−１００℃、２５℃（室温）、５０℃で保磁力を測定した。保磁力の最大値と最小値から求めた保磁力の変化率は、１２．５％であった。
【００９６】
磁性粉末Ｂ２
安定化処理温度を１００℃から２２０℃に変更した以外は、磁性粉末Ａ１と同様にして、イットリウム−窒化鉄系磁性粉末を製造した。
このイットリウム−窒化鉄系磁性粉末は、そのイットリウムと窒素の含有量を蛍光Ｘ線分析法およびＸ線光電子分光分析法により測定したところ、それぞれＦｅに対して４．９原子％と５．６原子％であった。また、Ｘ線回折パターンより、Ｆｅ16Ｎ2 相とマグネタイト相を示すプロファイルを得た。
【００９７】
さらに、高分解能分析透過電子顕微鏡で粒子形状を観察したところ、略球状の粒子で、粒子サイズ（中央値）は１７ｎｍ（粒子サイズの範囲：１５〜１９ｎｍ）であった。平均粒子体積は２６００ｎｍであった。また、室温における飽和磁化は４８．３Ａｍ2 ／ｋｇ（４８．３ｅｍｕ／ｇ）、保磁力は１８１．５ｋＡ／ｍ（２，２８０Ｏｅ）であった。さらに−１００℃、２５℃（室温）、５０℃で保磁力を測定した後、保磁力の最大値と最小値から求めた保磁力の変化率は、１３．５％であった。
【００９８】
磁性粉末Ｂ３
出発原料である粒子サイズ（中央値）が１７ｎｍのマグネタイト粒子を、粒子サイズ（中央値）が３４ｎｍ（粒子サイズの範囲：３１〜３７ｎｍ）のマグネタイト粒子に変更し、還元処理温度を４００℃から４５０℃、窒化処理温度を１２０℃から１６０℃に変更した以外は、磁性粉末Ａ１と同様に、熱処理、水素還元処理、窒化処理、安定化処理を行い、イットリウム−窒化鉄系磁性粉末を作製した。
このイットリウム−窒化鉄系磁性粉末は、そのイットリウムと窒素の含有量を蛍光Ｘ線分析法およびＸ線光電子分光分析法により測定したところ、それぞれ５．５原子％と１０．５原子％であった。また、Ｘ線回折パターンより、Ｆｅ16Ｎ2 相を示すプロファイルを得た。
【００９９】
さらに、高分解能分析透過電子顕微鏡で粒子形状を観察したところ、略球状の粒子で、粒子サイズ（中央値）は３５ｎｍ（粒子サイズの範囲：３２〜３８ｎｍ）であった。平均粒子体積は１４１００ｎｍ３であった。また、室温における飽和磁化は１２０．５Ａｍ2 ／ｋｇ（１２０．５ｅｍｕ／ｇ）、保磁力は２４６．８ｋＡ／ｍ（３，１００Ｏｅ）であった。さらに−１００℃、２５℃（室温）、５０℃で保磁力を測定した後、保磁力の最大値と最小値から求めた保磁力の変化率は、４．３％であった。
【０１００】
上記の磁性粉末Ａ１〜Ａ６および磁性粉末Ｂ１〜Ｂ３の各磁性粉末の作製条件を表１、表２に、粒子サイズ、粒子体積、元素組成（イットリウム、アルミニウム、シリコンおよび窒素の原子％）、室温での磁気特性および保磁力の変化率を表３にそれぞれまとめて示した。
【０１０１】
【表１】
2006202445.tif 000002
【０１０２】
【表２】
2006202445.tif 000003
【０１０３】
【表３】
2006202445.tif 000004
【０１０４】
（Ｂ）磁気テープの作製
つぎに、本発明の磁気テープを作製した。
実施例１
＜下層塗料成分＞
（１）成分
非磁性針状酸化鉄粉末（平均粒径：１００ｎｍ、軸比：５        ６８部
Ａｌ２Ｏ３：１０重量％）
粒状アルミナ粉末（平均粒径：８０ｎｍ）                        ８部
カーボンブラック（平均粒径：２５ｎｍ）                      ２４部
ステアリン酸                                              ２．０部
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体        ８．８部
（含有−ＳＯ３Ｎａ基：１×１０-4当量／ｇ）
ポリエステルポリウレタン樹脂                              ４．４部
（Ｔｇ：４０℃、含有−ＳＯ３Ｎａ基：１×１０-4当量／ｇ）
シクロヘキサノン                                            ２５部
メチルエチルケトン                                          ４０部
トルエン                                                    １０部
（２）成分
ステアリン酸ブチル                                            １部
シクロヘキサノン                                            ７０部
メチルエチルケトン                                          ５０部
トルエン                                                    ２０部
（３）成分
ポリイソシアネート                                          1.４部
シクロヘキサノン                                            １０部
メチルエチルケトン                                          １５部
トルエン                                                    １０部
【０１０５】
＜磁性塗料成分＞
（１）混練工程成分
粒状磁性粉末（Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）〔磁性粉末Ａ１〕              １００部
（外層部分にＹを主体的に含有し、コアー部分にＦｅ16Ｎ２相
を含有、Ｙ／Ｆｅ：５．３原子％、
Ｎ／Ｆｅ：１０．８原子％、Ｆｅ16Ｎ２相：主相、
飽和磁化量：１０１．６Ａｍ２／ｋｇ（１０１．６ｅｍｕ／ｇ）、
Ｈｃ：２４０．４ｋＡ／ｍ（３，０２０Ｏｅ）、
粒子サイズ：１７ｎｍ、軸比：１〜１．２）
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体          １３部
（含有−ＳＯ３Ｎａ基：０．７×１０-4当量／ｇ）
ポリエステルポリウレタン樹脂                              ４．５部
（含有−ＳＯ３Ｎａ基：１．０×１０-4当量／ｇ）
メチルアシッドホスフェート                                    ２部
テトラヒドロフラン                                          ２０部
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（重量で1：1）            ９部
（２）希釈工程成分
パルミチン酸アミド                                          1.５部
ステアリン酸ｎ−ブチル                                        １部
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（重量で1：1）        ３５０部
（３）別分散スラリー成分
粒状アルミナ粉末（平均粒径：８０ｎｍ）                      １０部
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体            １部
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（重量で1：1）         １５部
（４）配合工程成分
ポリイソシアネート                                          1.５部
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（重量で1：1）         ２９部
【０１０６】
上記の下層塗料成分のうち、（１）成分を回分式ニーダで混練したのち、（２）成分を加えて、攪拌後、サンドミルで滞留時間を６０分として分散処理を行い、これに（３）成分を加えて、攪拌、ろ過したのち、下層塗料（下層用塗料）とした。
これとは別に、上記の磁性塗料成分のうち、（１）の混練工程成分中、磁性粉末全量と樹脂および溶剤の所定量を予め高速撹拌混合しておき、その混合粉末を（１）の混練工程成分となるように調整したのち、連続式２軸混練機で混練し、さらに（２）の希釈工程成分を加えて、連続式２軸混練機で少なくとも２段階以上に分けて希釈を行い、サンドミルで分散メディアとして直径０．５ｍｍのジルコニアビ−ズを用いて、滞留時間を４５分として分散した。これに（３）の別分散スラリー成分をサンドミルで滞留時間を４０分として分散したものを加え、さらに（４）の配合工程成分を加えて、撹拌、ろ過したのち、磁性塗料とした。
【０１０７】
芳香族ポリアミドフイルム（厚さ３．３μｍ、ＭＤ＝１３．７ＧＰａ、ＴＤ＝１３．４ＧＰａ、東レ社製の商品名「ミクトロン」）からなる非磁性支持体（ベースフィルム）上に、上記の下層塗料を、乾燥、カレンダ後の厚さが１．０μｍとなるように塗布し、この下層上に、さらに上記の磁性塗料を、磁場配向処理、乾燥、カレンダ処理後の磁性層の厚さが０．０８μｍとなるように、ウエット・オン・ウエットで塗布し、磁場配向処理後、ドライヤおよび遠赤外線を用いて乾燥し、磁気シートを作製した。
なお、上記磁場配向処理は、ドライヤ前に５０ｃｍ長さ、５ｃｍ厚さのＮ−Ｎ対向磁石（０．５Ｔ）１基、ドライヤ内に５０ｃｍ長さのソレノイド電磁石（０．２Ｔ）５基を２０ｃｍ間隔で設置して行った。Ｎ−Ｎ対向磁石とソレノイド電磁石との距離は２０ｃｍで、対向磁石に近いソレノイド電磁石の極は磁界の反転が起こらないＳ極である。塗膜の指蝕乾燥位置（粒子が全く動かなくなる位置）は、４台目と５台目のソレノイド電磁石の間であった。塗布速度は１００ｍ／分とした。以下、この磁場のかけ方を、配向方法（Ａ）という。
【０１０８】
＜バックコート層用塗料成分＞
カーボンブラック（平均粒径：２５ｎｍ）                      ８０部
カーボンブラック（平均粒径：３５０ｎｍ）                    １０部
粒状酸化鉄粉末（平均粒径：５０ｎｍ）                        １０部
ニトロセルロース                                            ４５部
ポリウレタン樹脂（ＳＯ３Ｎａ基含有）                        ３０部
シクロヘキサノン                                          ２６０部
トルエン                                                  ２６０部
メチルエチルケトン                                        ５２５部
【０１０９】
上記バックコート層用塗料成分を、サンドミルで滞留時間４５分として分散したのち、ポリイソシアネート１５部を加えて、ろ過したのち、バックコート層用塗料を調製した。この塗料を、前記の方法で作製した磁気シートの磁性層の反対面に、乾燥、カレンダ後の厚さが０．５μｍとなるように、塗布し、乾燥した。
その後、この磁気シートを、金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧２００ｋｇ／ｃｍの条件で、鏡面化処理し、さらに磁気シートをコアーに巻いた状態で、７０℃７２時間エージングしたのち、１／２インチ幅に裁断した。これを２００ｍ／分で走行させながら、磁性層表面に対し、ラッピングテープ研磨、ブレード研磨、表面拭き取りの後処理を行い、磁気テープを作製した。
ラッピングテープにはＫ１００００、ブレードには超硬刃、表面拭き取りには東レ社製の商品名「トレシー」を用い、走行テンション０．２９４Ｎで処理を行った。
このようにして得られた磁気テープにサーボライタで磁気サーボ信号を記録し、コンピュータ用磁気テープを作製した。この磁気テープの残留磁束密度と磁性層厚さの積Ｂｒ・δは、０．０２４μＴｍであった。さらに、この磁気テープを単一リールに巻回し、リニアレコーディングタイプのカートリッジに組み込み、コンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１１０】
実施例２
磁性塗料成分中、磁性粉末（磁性粉末Ａ１）を磁性粉末Ａ２（粒子サイズ：１５ｎｍ、軸比は１〜１．２、Ｙ：１１．２原子％、Ｎ：９．５原子％）に変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１１１】
実施例３
磁場配向処理において、ソレノイド電磁石の強度を０．３Ｔに変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１１２】
実施例４
磁場配向処理において、ソレノイド電磁石の強度を０．４Ｔに変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１１３】
実施例５
磁性塗料成分中、（３）の別分散スラリー成分の粒状アルミナ粉末を平均粒径が５０ｎｍの粒状酸化鉄（Ａｌ２Ｏ３：１０重量％）に変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１１４】
実施例６
磁場配向処理において、ソレノイド電磁石の強度を０．１Ｔに変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１１５】
実施例７
磁場配向処理を、下記のように変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
ドライヤ前に５０ｃｍ長さのＮ−Ｎ対向磁石（０．５Ｔ）を設置し、ドライヤ内で塗膜の指蝕乾燥位置の手前側７５ｃｍから５０ｃｍ長さのＳ−Ｓ対向磁石（０．５Ｔ）とＮ−Ｎ対向磁石（０．５Ｔ）各１基を５０ｃｍ間隔で設置して行った。塗布速度は１００ｍ／分とした。以下、この磁場のかけ方を、配向方法（Ｂ）という。
【０１１６】
実施例８
磁性塗料成分中、磁性粉末（磁性粉末Ａ１）を磁性粉末Ａ３（粒子サイズ：１７ｎｍ、軸比は１〜１．２、Ｙ：５．１原子％、Ｎ：８．５原子％）に変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１１７】
実施例９
磁性塗料成分中、磁性粉末（磁性粉末Ａ１）を磁性粉末Ａ４（粒子サイズ：１７ｎｍ、軸比は１〜１．２、Ｙ：５．３原子％、Ａｌ：１０．５原子％、Ｎ：９．４原子％）に変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１１８】
実施例１０
磁性塗料成分中、磁性粉末（磁性粉末Ａ１）を磁性粉末Ａ５（粒子サイズ：１７ｎｍ、軸比は１〜１．２、Ｓｉ：１０．５原子％、Ｎ：１１．０原子％）に変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１１９】
実施例１１
磁性塗料成分中、磁性粉末（磁性粉末Ａ１）を磁性粉末Ｂ１（粒子サイズ：１７ｎｍ、軸比は１〜１．２、Ｙ：５．３原子％、Ｎ：１０．８原子％）に変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１２０】
比較例１
下層の研磨剤としてアルミナ処理をしていない酸化鉄を使用したこと、磁性粉末として磁性粉末Ｂ１を使用したこと、（３）の別分散スラリを使用せず、１０部の粒状アルミナ粉末（平均粒径：８０ｎｍ）を（１）の混練工程成分中に加えたこと以外は、実施例７と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１２１】
比較例２
磁性塗料成分中、磁性粉末として、σｓ：１１０Ａ・ｍ２／ｋｇ（１１０ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１５９．２ｋＡ／ｍ（２，０００Ｏｅ）、平均粒子サイズ：３５ｎｍ、平均軸比：３．５の合金磁性粉末（Ａｌ−Ｙ−Ｃｏ−Ｆｅ）を用いたこと、下層の研磨剤としてアルミナ処理をしていない酸化鉄を使用したこと以外は、実施例６と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１２２】
比較例３
磁性塗料成分中、磁性粉末として、磁性粉末Ｂ２（粒子サイズ：１７ｎｍ、軸比は１〜１．２、Ｙ：４．９原子％、Ｎ：５．６原子％）を用いたこと、下層の研磨剤としてアルミナ処理をしていない酸化鉄を使用したこと以外は、実施例７と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１２３】
比較例４
磁性塗料成分中、磁性粉末として、磁性粉末Ｂ３（粒子サイズ：３５ｎｍ、軸比は１〜１．２、Ｙ：５．５原子％、Ｎ：１０．５原子％）を用いたこと、下層の研磨剤としてアルミナ処理をしていない酸化鉄を使用したこと、磁性層厚さを１５０ｎｍにしたこと以外は、実施例７と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１２４】
比較例５
磁場配向処理に際し、ドライヤ前に５０ｃｍ長さのＮ−Ｎ対向磁石（０．５Ｔ）を１基のみ設置した。この磁場のかけ方を配向方法（Ｃ）という。配向方法（Ｃ）としたこと、下層の研磨剤としてアルミナ処理をしていない酸化鉄を使用したこと以外は、実施例６と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１２５】
比較例６
磁性塗料成分中、粒状アルミナの平均粒径を１６０ｎｍのものに変更し、かつサンドミルの分散メディアを直径１．５ｍｍのチタニアビーズに変更したこと、下層の研磨剤としてアルミナ処理をしていない酸化鉄を使用したこと以外は、実施例６と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１２６】
比較例７
磁性塗料成分中、磁性粉末として、Ｙ／Ｆｅ：０．４原子％、Ａｌ／Ｆｅ：１．５原子％、Ｎ／Ｆｅ：１２．２原子％、Ｆｅ16Ｎ２相：主相、飽和磁化量：１０５．５Ａｍ２／ｋｇ（１０５．５ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２０２．９ｋＡ／ｍ（２，５５０Ｏｅ）、粒子サイズ：１７ｎｍ、軸比：１．２）の粒状磁性粉（Ｙ−Ｎ−Ｆｅ）〔以下、（Ｂ）粉という〕を使用したこと、下層の研磨剤としてアルミナ処理をしていない酸化鉄を使用したこと以外は、実施例６と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１２７】
比較例８
磁性塗料成分中、粒状アルミナの平均粒径を１６０ｎｍのものに変更し、かつサンドミルの分散メディアを直径１．０ｍｍのチタニアビーズに変更したこと、下層の研磨剤としてアルミナ処理をしていない酸化鉄を使用したこと以外は、実施例７と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１２８】
比較例９
磁性塗料成分中、磁性粉末として、σｓ：１２０Ａ・ｍ２／ｋｇ（１２０ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１７１．１ｋＡ／ｍ（２，１５０Ｏｅ）、平均粒子サイズ：１００ｎｍ、平均軸比：６．０の合金磁性粉末（Ａｌ−Ｙ−Ｃｏ−Ｆｅ）を用いたこと、下層の研磨剤としてアルミナ処理をしていない酸化鉄を使用した以外は、実施例６と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１２９】
比較例１０
下層の研磨剤としてアルミナ処理をしていない酸化鉄を使用したこと、  磁場配向処理において、ソレノイド電磁石の強度を０．１Ｔに変更した以外は、実施例１１と同様にして、磁気テープを作製した。また、これを用いてコンピュータ用磁気テープとコンピュータ用磁気テープカートリッジを作製した。
【０１３０】
上記の実施例１〜１１および比較例１〜１０の各磁気テープについて、磁性層（最上層磁性層）の形成に用いた磁性粉末の構成を、表４にまとめて示した。
なお、磁性層中の磁性粉末の粒子サイズは、下記の方法により測定し、原料磁性粉末とほぼ同様の平均粒子サイズ、平均軸比を有していることを確認した。表１中、「ＳＣ」はソレノイド電磁石を意味する。
＜磁性粉末の粒子サイズ＞
磁気テープを樹脂埋めし、それを集束イオンビーム加工装置で長手方向に厚さ方向の断面を切り出し、その断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ） で２０万倍にて必要枚数の磁性層断面の写真撮影を行い、磁性層中の磁性粉末の外形を縁取りする。その外径の最大さしわたしを粒子サイズとして計測する。５０個の磁性粉末から上下各５個を除外して粒子サイズ（中央値）と範囲を求めた。
また、上記の各磁気テープの磁性層および下層の厚さは、下記の方法により、測定したものである。
＜磁性層および下層の厚さ＞
磁気テープを樹脂埋めし、それを集束イオンビーム加工装置で長手方向に厚さ方向の断面を切り出し、その断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で４万倍にて写真撮影を行い、（１）磁性層表面、（２）磁性層−下層の界面、（３）下層−非磁性支持体の界面を縁取りする。つぎに、界面に非磁性粉末のかかっていない任意の５個所を選び、（１）−（２）の縁取りした線間の距離を磁性層の厚さ、（２）−（３）の縁取りした線間の距離を下層の厚さ、として計測した。それらの磁性層および下層の厚さを各層の厚さとした。
なお、必要に応じて複数視野でＳＥＭ写真の撮影を行い、各視野で求めた磁性層および下層の厚さを平均して各層の平均厚さを求めてもよい。
【０１３１】
【表４】
2006202445.tif 000005
【０１３２】
つぎに、上記の実施例１〜１１および比較例１〜１０の各磁気テープについて、下層研磨剤のアルミナ処理の有無、分散機ビーズの構成、配向方法について表５にまとめて示した。
【０１３３】
【表５】
2006202445.tif 000006
【０１３４】
つぎに、上記の実施例１〜１１および比較例１〜１０の各磁気テープについて、磁気特性と共に、電磁変換特性として、下記の方法により、出力（Ｃ）と出力対ノイズ比（Ｃ／Ｎ）および温度サイクルに伴う再生出力（Ｃ）の低下量を測定した。表６に磁気特性の結果を、表７に電磁変換特性、および温度サイクルに伴う再生出力（Ｃ）の低下量の結果を示した。
＜出力と出力対ノイズ比＞
磁気テープの電磁変換特性の測定には、ドラムテスターを用いた。ドラムテスターには電磁誘導型磁気ヘッド（トラック幅２５μｍ、ギャップ０．１μｍ）とＭＲ磁気ヘッド（トラック幅８μｍ）を装着し、誘導型ヘッドで記録、ＭＲヘッドで再生を行った。
両ヘッドは、回転ドラムに対して異なる場所に設置されており、両ヘッドを上下方向に操作することで、トラッキングを合わせることができる。磁気テープはカートリッジに巻き込んだ状態から適切な量を引き出して廃棄し、さらに６０ｃｍを切り出し、回転ドラムの外周に巻き付けた。記録・再生は磁気テープの長手方向である。
出力およびノイズは、ファンクションジェネレータにより、波長０．２μｍの矩形波を書き込み、ＭＲ磁気ヘッドの出力をスペクトラムアナライザーに読み込んだ。０．２μｍのキャリア値を媒体再生出力Ｃとした。また、０．２μｍの矩形波を書き込んだときに、記録波長０．２μｍ以上に相当するスペクトルの成分から、再生出力およびシステムノイズを差し引いた値の積分値をノイズ値Ｎとして用いた。さらに、両者の比をとってＣ／Ｎとした。Ｃ、Ｃ／Ｎ共に、比較例３の磁気テープの値との相対値として、求めた。
＜温度サイクル特性＞
温度サイクル特性は、薄手テープも測定できるように改造したＬＴＯドライブを用いて行った。温度サイクル前に、記録波長０．３７μｍで記録・再生することによって、サイクル前の再生出力（Ｃ）を求めた。出力は１０秒間再生を行った時の最大再生出力（Ｃ）である。但し、突発的に高いＣは除外した。このようにして、信号を記録・再生したＬＴＯ磁気テープカートリッジを、温度サイクル炉に入れ、高温−低温の温度サイクルをかけた。温度サイクルは、最高温度（５０℃）、最低温度（−２０℃）の間を１サイクル４時間のサインカーブで温度を上下させて、１０サイクルの温度サイクルを行った。ついて、室温に取り出し２時間冷却した後、上記の再生を行ったと同じトラック、同じ番地で、サイクル後の再生出力（Ｃ）求めた。出力は１０秒間再生を行った時の最大再生出力（Ｃ）である。但し、突発的に高いＣは除外した。
【０１３５】
【表６】
2006202445.tif 000007
【０１３６】
【表７】
2006202445.tif 000008
【０１３７】
平均粒子サイズが１７ｎｍの略粒状紛末を用いた場合について、長手方向の保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）と、再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）との結果について、図３にプロットして示した。また、−１００℃と５０℃間における保磁力の変化率が異なる磁気テープについて、−１００℃と５０℃間における保磁力の変化率と温度サイクル前後の再生出力（Ｃ）の低下量との関係を図４に示した。磁性粉末の粒子サイズと再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）との関係を図５に示す。さらに、長手方向の保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が１４０ｋＡ／ｍ以上の磁気テープについて、長手方向と幅方向の角形の比[（Ｂｒ／Ｂｍ）ＭＤ／(Ｂｒ／Ｂｍ)ＴＤ]とＣ／Ｎとの関係を図６に示した。
【０１３８】
上記の表６〜表７の結果から、長手方向の保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が１４０ｋＡ／ｍ以上である各磁気テープは、上記差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が１４０ｋＡ／ｍ未満の磁気テープに比べて、ドラムテスターで評価した再生出力（Ｃ）および再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）が高いことがわかる。また、図３の結果から、上記比（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が大きくなるほど、Ｃ／Ｎも高くなることもわかる。また、粒子サイズが３０ｎｍ以下の略粒状の磁性粉末を使用した磁気テープは、Ｃ／Ｎが高い。さらに、−１００℃と５０℃間における保磁力の変化率が１０％以下の磁気テープは、温度サイクル後のＣの低下量が小さい。
なお、略粒状の磁性粉末の粒子サイズが３０ｎｍ以下、磁気テープの（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が１４０ｋＡ／ｍ以上、−１００℃と５０℃間における保磁力の変化率が１０％以下の何れかの条件を満たさない磁気テープ（比較例４、比較例５、比較例１０）は、すべての条件を満たす磁気テープ（実施例１〜１１）に比べてＣ／Ｎ、温度サイクル後のＣの低下量のいずれかの特性が悪くなる。
【０１３９】
図５の結果から、粒子サイズが小さい程、磁気テープのＣ／Ｎが高くなることがわかる。
【０１４０】
図４の結果から、−１００℃と５０℃間における保磁力の変化率が小さい程、温度サイクル後のＣの低下量も小さいことがわかる。
【０１４１】
図６の結果から、長手方向の保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）が１４０ｋＡ／ｍ以上の磁気テープでは、長手方向と幅方向の角形の比[（Ｂｒ／Ｂｍ）ＭＤ／(Ｂｒ／Ｂｍ)ＴＤ]が大きい程、Ｃ、Ｃ／Ｎがさらに高くなることが分かる。
【０１４２】
以上の検討結果から明らかなように、最上層磁性層に、粒子サイズ３０ｎｍ以下の略粒状の磁性粉末を含有する本発明のコンピュータ用の磁気テープは、磁気テープの長手方向における、−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率、および最上層磁性層の（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）を規定したことにより、短波長記録時の電磁変換特性、温度サイクルに伴う電磁変換特性の低下の少ない磁気テープ、特に、再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）が高く、温度サイクルに伴う再生出力（Ｃ）の低下が少ない磁気テープが得られる。
【図面の簡単な説明】
【０１４３】
【図１】−２００℃〜１００℃における磁気テープの保磁力の温度変化の一例である。
【図２】磁性粉末の高分解能電子顕微鏡写真である。
【図３】長手方向の保磁力ＨｃＭＤと幅方向の保磁力ＨｃＴＤとの差（ＨｃＭＤ−ＨｃＴＤ）と、再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）との関係を示す特性図である。
【図４】−１００℃と５０℃間における保磁力の変化率と、温度サイクル前後の再生出力（Ｃ）の低下量との関係を示す特性図である。
【図５】磁性粉末の粒子サイズと再生出力ノイズ比（Ｃ／Ｎ）との関係を示す特性図である。
【図６】長手方向と幅方向の角形の比[（Ｂｒ／Ｂｍ）ＭＤ／(Ｂｒ／Ｂｍ)ＴＤ]とＣ／Ｎとの関係を示す特性図である。
【図１】
2006202445.tif 000009
【図２】
2006202445.tif 000010
【図３】
2006202445.tif 000011
【図４】
2006202445.tif 000012
【図５】
2006202445.tif 000013
【図６】
2006202445.tif 000014