(57)【要約】【課題】  ポリアセタール樹脂からのホルムアルデヒド発生を大幅に抑制する。【解決手段】  ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、活性水素原子を有する特定の窒素含有化合物（アシルアセトアミド化合物、特定のアミン化合物、及び／又は芳香族イミダゾロン化合物）で構成された消臭剤０．０１〜３０重量部を含むポリアセタール樹脂組成物を構成する。前記樹脂組成物は、さらに、消臭助剤（塩基性窒素含有化合物、弱酸又はその金属塩、アルコール類、吸着性無機化合物、活性水素原子を含有するリン化合物など）を含んでいてもよい。消臭助剤の割合は、消臭剤１００重量部に対して、０．０１〜１００００重量部であってもよい。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアセタール樹脂と、アルデヒド臭を消臭するための消臭剤とを含むポリアセタール樹脂組成物であって、前記消臭剤が、(A1)下記式(1)で表されるジケトン化合物、(A2)下記式(2)で表されるアミン化合物、及び(A3)芳香族イミダゾロン化合物から選択された少なくとも一種を含むポリアセタール樹脂組成物。
【化１】
2006225550.tif 000011
［式中、Ｒ1は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、Ｎ，Ｎ−二置換アミノ基、又はアルコキシ基を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、水素原子又はアルキル基を示し、Ｘ1は炭化水素基、鎖状ヘテロ原子含有基、複素環基又はポリマー残基を示し、ｑは１〜５０の整数を示す。但し、Ｒ3が水素原子であり、ｑが１である場合、Ｘ1は炭素数３以上の炭化水素基、鎖状ヘテロ原子含有基、複素環基又はポリマー残基である］
【化２】
2006225550.tif 000012
［式中、環Ａ1は芳香族炭化水素環を示し、Ｒ4はヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基又はＮ−モノ置換アミノ基を示し、Ｒ5はアルキレン基、アリール置換アルキレン基、カルボニル基、スルホキシド基（−ＳＯ−）、又はスルホン基（−ＳＯ2−）を示し、Ｒ6は置換基を示す。Ｘ2は水素原子、直接結合、アルキレン基、カルボニル基、エーテル基（−Ｏ−）、チオエーテル基（−Ｓ−）、スルホキシド基、又はスルホン基を示し、Ｘ3は水素原子、一価又は多価の炭化水素基、一価又は多価の鎖状ヘテロ原子含有基、もしくは一価又は多価の複素環基を示す。Ｘ3で表される炭化水素基又は複素環基は置換基を有していてもよい。ｒは０〜３の整数を示し、ｓは１〜６の整数を示す。Ｘ2が水素原子の場合、Ｘ3は水素原子又はｓ価基であり、Ｘ2が直接結合又は二価基の場合、Ｘ3は水素原子又は一価基であり、ｓは２である。但し、Ｒ4がアミノ基のとき、Ｘ3は炭化水素基、鎖状ヘテロ原子含有基、又は複素環基である］
【請求項２】
式(1)のジケトン化合物(A1)において、Ｒ1が、アルキル基であり、Ｒ2及びＲ3が水素原子であり、Ｘ1が置換基を有していてもよいアリール又はアリーレン基であり、ｑは１〜６の整数である請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項３】
式(2)のアミン化合物(A2)において、環Ａ1がＣ6-10芳香族炭化水素環であり、Ｒ4がヒドロキシル基であり、Ｒ5がメチレン基又はカルボニル基であり、Ｘ2が水素原子であり、Ｘ3が水素原子、アルキレン基、アリール基、アラルキル基、又はアリーレン基であり、ｓが１〜４の整数である請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項４】
(A3)芳香族イミダゾロン化合物が、下記式(3)で表される化合物である請求項１記載の樹脂組成物。
【化３】
2006225550.tif 000013
（式中、環Ａ2はＣ6-14芳香族炭化水素環を示し、Ｒ7は水素原子又は炭化水素基を示し、Ｒ8は置換基を示し、Ｘ4は水素原子、直接結合、又はｔ価の有機基を示し、ｔは１〜３の整数を示し、ｕは０〜３の整数を示す）
【請求項５】
式(3)において、環Ａ2がＣ6-10芳香族炭化水素環であり、Ｒ7が水素原子であり、ｔが１又は２であり、Ｒ8がアミノ基又はＮ−置換アミノ基であり、Ｘ4が水素原子、直接結合、アルキレン基、カルボニル基、エーテル基、チオエーテル基、スルホキシド基、又はスルホン基である請求項４記載の樹脂組成物。
【請求項６】
ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、消臭剤を０．０１〜３０重量部含む請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項７】
さらに、塩基性窒素含有化合物、弱酸又はその金属塩、アルコール類、吸着性無機化合物及び活性水素原子を含有するリン化合物から選択された少なくとも一種の消臭助剤を含む請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項８】
消臭助剤の割合が、消臭剤１００重量部に対して、０．０１〜１００００重量部である請求項７記載の樹脂組成物。
【請求項９】
さらに、酸化防止剤、耐熱安定剤、加工安定剤、耐候（光）性安定剤、耐衝撃性改良剤、光沢性制御剤、摺動性改良剤、着色剤及び充填剤から選択された少なくとも一種を含む請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項１記載の樹脂組成物で形成された成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アルデヒド臭（特にホルムアルデヒド臭）を消臭するのに有用な消臭剤及び樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
アルデヒド、特にホルムアルデヒドは、樹脂（例えば、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール樹脂など）の原料として住宅用建材、接着剤、コーティング剤や成形品などの種々の分野で使用されている。しかし、このような樹脂からは、ホルムアルデヒドが揮散し、刺激臭により生活環境や居住者の健康を損なうことが問題になっている。
【０００３】
アルデヒドの消臭剤としては、例えば、メラミン類、尿素類、アミノ酸類、多価アルコール類などが知られている。
【０００４】
また、特開２０００−５１３３７号公報（特許文献１）には、活性メチレン化合物、非環式尿素類、環式尿素類、ベンゼン誘導体、グリコールウリル化合物などのスカベンジャー化合物を主成分とするホルムアルデヒド含有悪臭ガスの脱臭剤が開示されている。特開２００２−３０６５８２号公報（特許文献２）には、アミノ酸がアルデヒド類に対して優れた脱臭性能を有することが開示されている。特開平４−２９３４７４号公報（特許文献３）には、２−イミダゾリドン、４−メチル−２−イミダゾリドン、２−オキシ−ヘキサヒドロ−ピリミジン、２−オキシ−１，３−ジアゼパンなどの環状尿素誘導体を含む食品保存剤を用いて、食品の保存中に発生したアセトアルデヒドを除去することが開示されている。
【０００５】
一部のカルボン酸ヒドラジドがアルデヒド類に対する消臭性を有することも知られている。例えば、特開平１０−３６６８１号公報（特許文献４）には、合成樹脂と、ヒドラジド化合物とを含有する消臭性樹脂組成物が、アセトアルデヒドやホルムアルデヒドなどに対する消臭効果を有することが開示されている。
【０００６】
さらに、ホルムアルデヒド捕捉剤として、アセト酢酸アミド、モノメチルアセト酢酸アミド、モノエチルアセト酢酸アミドなども知られている［米国特許第５１６０６７９号明細書（特許文献５）及び同第５１１２６５２号明細書（特許文献６）、欧州特許出願第４３８２８４Ａ１号公報（特許文献７）］。特表平９−５１１００７号公報（特許文献８）では、遊離ホルムアルデヒドを含むメラミン−ホルムアルデヒド樹脂分散液をアセトアセタミドやジシアンジアミドで処理して、分散液の粘着防止性を低下させることなく、遊離ホルムアルデヒド含量を低下できることが開示されている。また、欧州特許出願第３０２２８９号公報（特許文献９）には、シアンアセトアミド又はアセトアセタミドが遊離ホルムアルデヒドの発生を低減することが開示されている。
【０００７】
また、アルデヒドを生成する樹脂のうち、ポリアセタール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂などの熱可塑性樹脂は、加熱溶融により成形（ペレット化も含む）し、さらに、生産性の点から、温度が高い状態で成形品（ペレットを含む）を梱包する場合が多い。このような場合、成形品の温度が高くなることによりアルデヒドが容易に生成する。しかし、前述の従来のアルデヒド消臭剤では、特にポリアセタール樹脂などのアルデヒドを発生する樹脂などと組み合わせた場合、アルデヒド発生の抑制性能や耐熱性（熱変色性など）が不十分で、アルデヒドを確実に捕捉、消臭できなかったり、揮発発散性や染出性（ブルーミング）の改善効果が不十分である。また、捕捉能又は消臭能を長期に亘り維持できない場合もある。
【特許文献１】特開２０００−５１３３７号公報
【特許文献２】特開２００２−３０６５８２号公報
【特許文献３】特開平４−２９３４７４号公報
【特許文献４】特開平１０−３６６８１号公報
【特許文献５】米国特許第５１６０６７９号明細書
【特許文献６】米国特許第５１１２６５２号明細書
【特許文献７】欧州特許出願第４３８２８４Ａ１号公報
【特許文献８】特表平９−５１１００７号公報
【特許文献９】欧州特許出願第３０２２８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、ポリアセタール樹脂の特性を損なうことなく、ポリアセタール樹脂からのアルデヒド発生を大幅に抑制できるポリアセタール樹脂組成物を提供することにある。
【０００９】
本発明の他の目的は、アルデヒド臭を効率よく抑制できるとともに、耐熱性（熱変色安定性）に優れるポリアセタール樹脂組成物を提供することにある。
【００１０】
本発明のさらに他の目的は、ブリードアウトや揮発発散を抑制できるポリアセタール樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、特定の窒素含有化合物が、優れたアルデヒド捕捉能又は消臭能を有するとともに樹脂と組合せて用いても高いアルデヒド消臭性を維持できること、並びに前記窒素含有化合物は、アルデヒド消臭性に加えて、耐熱性（熱変色安定性）、非ブルーミング性、低揮発性を有することを見出し、本発明を完成した。
【００１２】
すなわち、本発明のポリアセタール樹脂組成物は、ポリアセタール樹脂と、アルデヒド臭を消臭するための消臭剤とを含むポリアセタール樹脂組成物であって、前記消臭剤が、(A1)下記式(1)で表されるジケトン化合物、(A2)下記式(2)で表されるアミン化合物、及び(A3)芳香族イミダゾロン化合物から選択された少なくとも一種で構成されている。
【００１３】
【化１】
2006225550.tif 000002
【００１４】
［式中、Ｒ1は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、Ｎ，Ｎ−二置換アミノ基、又はアルコキシ基を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、水素原子又はアルキル基を示し、Ｘ1は炭化水素基、鎖状ヘテロ原子含有基、複素環基又はポリマー残基を示し、ｑは１〜５０の整数を示す。但し、Ｒ3が水素原子であり、ｑが１である場合、Ｘ1は炭素数３以上の炭化水素基、鎖状ヘテロ原子含有基、複素環基又はポリマー残基である］
【００１５】
【化２】
2006225550.tif 000003
【００１６】
［式中、環Ａ1は芳香族炭化水素環を示し、Ｒ4はヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基又はＮ−モノ置換アミノ基を示し、Ｒ5はアルキレン基、アリール置換アルキレン基、カルボニル基、スルホキシド基（−ＳＯ−）、又はスルホン基（−ＳＯ2−）を示し、Ｒ6は置換基を示す。Ｘ2は水素原子、直接結合、アルキレン基、カルボニル基、エーテル基（−Ｏ−）、チオエーテル基（−Ｓ−）、スルホキシド基、又はスルホン基を示し、Ｘ3は水素原子、一価又は多価の炭化水素基、一価又は多価の鎖状ヘテロ原子含有基、もしくは一価又は多価の複素環基を示す。Ｘ3で表される炭化水素基又は複素環基は置換基を有していてもよい。ｒは０〜３の整数を示し、ｓは１〜６の整数を示す。Ｘ2が水素原子の場合、Ｘ3は水素原子又はｓ価基であり、Ｘ2が直接結合又は二価基の場合、Ｘ3は水素原子又は一価基であり、ｓは２である。但し、Ｒ4がアミノ基のとき、Ｘ3は炭化水素基、鎖状ヘテロ原子含有基、又は複素環基である］
前記式(1)のジケトン化合物(A1)において、Ｒ1は、アルキル基、Ｒ2及びＲ3は水素原子、Ｘ1は置換基を有していてもよいアリール又はアリーレン基であってもよく、ｑは１〜６の整数であってもよい。
【００１７】
前記式(2)のアミン化合物(A2)において、環Ａ1はＣ6-10芳香族炭化水素環、Ｒ4はヒドロキシル基、Ｒ5はメチレン基又はカルボニル基、Ｘ2は水素原子、Ｘ3は水素原子、アルキレン基、アリール基、アラルキル基、又はアリーレン基であってもよく、ｓは１〜４の整数であってもよい。
【００１８】
前記芳香族イミダゾロン化合物(A3)は、下記式(3)で表される化合物で構成してもよい。
【００１９】
【化３】
2006225550.tif 000004
【００２０】
（式中、環Ａ2はＣ6-14芳香族炭化水素環を示し、Ｒ7は水素原子又は炭化水素基を示し、Ｒ8は置換基を示し、Ｘ4は水素原子、直接結合、又はｔ価の有機基を示し、ｔは１〜３の整数を示し、ｕは０〜３の整数を示す）
前記式(3)において、環Ａ2はＣ6-10芳香族炭化水素環、Ｒ7は水素原子、ｔは１又は２、Ｒ8はアミノ基又はＮ−置換アミノ基であってもよく、Ｘ4は水素原子、直接結合、アルキレン基、カルボニル基、エーテル基、チオエーテル基、スルホキシド基、又はスルホン基であってもよい。
【００２１】
ポリアセタール樹脂組成物は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、前記消臭剤を０．０１〜３０重量部程度含んでもよい。樹脂組成物は、さらに、塩基性窒素含有化合物、弱酸又はその金属塩、アルコール類、吸着性無機化合物及び活性水素原子を含有するリン化合物から選択された少なくとも一種の消臭助剤を含んでいてもよい。消臭助剤の割合は、消臭剤１００重量部に対して、０．０１〜１００００重量部程度であってもよい。
【００２２】
また、樹脂組成物は、酸化防止剤、耐熱安定剤、加工安定剤、耐候（光）安定剤、耐衝撃改良剤、光沢制御剤、摺動性改良剤、着色剤及び充填剤から選択された少なくとも一種を含んでいてもよい。
【００２３】
本発明には、前記ポリアセタール樹脂組成物で形成された成形体も含まれる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明のポリアセタール樹脂組成物は、特定の窒素含有化合物で構成された消臭剤を含有するので、ポリアセタール樹脂の特性を損なうことなく、ポリアセタール樹脂からのアルデヒド発生を大幅に抑制できる。また、前記樹脂組成物は、アルデヒド臭を効率よく抑制できるとともに、耐熱性（熱変色安定性）にも優れる。さらに、樹脂組成物におけるブリードアウトや揮発発散を抑制することもできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
［ポリアセタール樹脂］
ポリアセタール樹脂とは、オキシメチレン基（−ＣＨ2Ｏ−）を主たる構成単位とする高分子化合物であり、ポリアセタールホモポリマー又はポリオキシメチレン（例えば、米国デュポン社製，商品名「デルリン」、旭化成工業（株）製、商品名「テナック４０１０」など）、オキシメチレン単位とコモノマー単位とを含有するポリアセタールコポリマー（例えば、ポリプラスチックス（株）製，商品名「ジュラコン」など）が含まれる。コポリマーにおいて、コモノマー単位には、炭素数２〜６程度（好ましくは炭素数２〜４程度）のオキシアルキレン単位（例えば、オキシエチレン基（−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）、オキシプロピレン基、オキシテトラメチレン基など）が含まれる。コモノマー単位の含有量は、少量、例えば、ポリアセタール樹脂全体に対して、０．０１〜３０モル％、好ましくは０．０３〜２０モル％（例えば、０．０５〜１８モル％）、さらに好ましくは０．１〜１５モル％程度の範囲から選択できる。
【００２６】
ポリアセタールコポリマーは、二成分で構成されたコポリマー、三成分で構成されたターポリマーなどであってもよい。ポリアセタールコポリマーは、ランダムコポリマーの他、ブロックコポリマー（例えば、特公平２−２４３０７号公報に記載のコポリマー，旭化成工業（株）製，商品名「テナックＬＡ」「テナックＬＭ」など）、グラフトコポリマーなどであってもよい。また、ポリアセタール樹脂は、線状のみならず分岐構造であってもよく、架橋構造を有していてもよい。さらに、ポリアセタール樹脂の末端は、例えば、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸又はそれらの無水物とのエステル化、イソシアネート化合物とのウレタン化、エーテル化などにより安定化してもよい。ポリアセタールの重合度、分岐度や架橋度も特に制限はなく、溶融成形可能であればよい。ポリアセタール樹脂の分子量は特に制限されず、例えば、重量平均分子量５，０００〜５００，０００、好ましくは１０，０００〜４００，０００程度である。
【００２７】
前記ポリアセタール樹脂は、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド類、トリオキサン、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、スチレンオキサイド、シクロヘキサンオキサイド、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、ジエチレングリコールホルマール、１，４−ブタンジオールホルマールなどの環状エーテルや環状ホルマールを重合することにより製造できる。さらには、共重合成分として、アルキル又はアリールグリシジルエーテル（例えば、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ナフチルグリシジルエーテルなど）、アルキレン又はポリアルキレングリコールジグリシジルエーテル（例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテルなど）、アルキル又はアリールグリシジルアルコール、環状エステル（例えば、β−プロピオラクトンなど）及びビニル化合物（例えば、スチレン、ビニルエーテルなど）を使用することもできる。
【００２８】
これらのポリアセタール樹脂は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。例えば、ポリアセタール樹脂には、ポリアセタールコポリマーと、分岐構造及び／又は架橋構造を有していてもよいポリアセタールターポリマーとの混合物も含まれる。
【００２９】
［消臭剤］
アルデヒド臭を消臭するための消臭剤としては、活性水素原子を有する窒素含有化合物［活性水素原子を有するジケトン化合物(A1)、アミン化合物(A2)及び芳香族イミダゾロン化合物(A3)など］が挙げられる。これらの消臭剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００３０】
(A1)ジケトン化合物（アシルアセトアミド化合物）
前記式(1)において、Ｒ1で表される炭化水素基としては、アルキル基（メチル、エチル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル基などの直鎖又は分岐Ｃ1-20アルキル基など）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基などのＣ5-6シクロアルキル基など）、アリール基（フェニル基などのＣ6-10アリール基など）、アラルキル基（ベンジル基などのＣ6-10アリール−Ｃ1-4アルキル基など）が挙げられる。
【００３１】
また、Ｒ1で表されるＮ，Ｎ−二置換アミノ基としては、ジアルキルアミノ基（ジメチルアミノ基などのジＣ1-6アルキルアミノ基など）、ジアリールアミノ基（ジフェニルアミノ基などのジＣ6-10アリールアミノ基など）、アルキルアリールアミノ基（メチルフェニルアミノ基などのＣ1-6アルキル−Ｃ6-10アリールアミノ基など）が挙げられる。Ｒ1で表されるアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ基などの直鎖又は分岐Ｃ1-6アルコキシ基が挙げられる。
【００３２】
前記式(1)において、Ｒ2及びＲ3で表されるアルキル基としては、前記Ｒ1の項で例示のアルキル基のうち、Ｃ1-4アルキル基などが挙げられる。Ｒ2及びＲ3は、通常、水素原子であるのが好ましい。
【００３３】
なお、前記式(1)において、基Ｘ1は、下記式(1a)で表される１級又は２級アミン化合物の残基である。このような基Ｘ1としては、炭化水素基、ヘテロ原子含有基（鎖状ヘテロ原子含有基、複素環基など）、及びポリマー残基が挙げられる。基Ｘ1は、ｑに対応して、一価基であってもよく多価基であってもよい。
【００３４】
【化４】
2006225550.tif 000005
【００３５】
（式中、Ｒ3、Ｘ1及びｑは前記に同じ）
Ｘ1で表される炭化水素基のうち、一価基としては、前記Ｒ1の項で例示の炭化水素基、例えば、Ｃ1-8アルキル基、Ｃ5-6シクロアルキル基、Ｃ6-10アリール基、Ｃ6-10アリール−Ｃ1-4アルキル基などが挙げられる。また、二価の炭化水素基としては、一価の炭化水素基に対応する二価基、例えば、Ｃ1-8アルキレン基、Ｃ5-6シクロアルキレン基、Ｃ6-10アリーレン基の他、ビシクロＣ6-14アルキレン基（ノルボルネン−ジイル基など）、Ｃ5-6シクロアルキレン−ジＣ1-6アルキレン基（水添キシリレン基など）、Ｃ6-10アリーレン−ジＣ1-6アルキレン基（キシリレン基など）、ビスＣ6-10アリーレン基［ビフェニレン基；ジフェニルメタン、２，２−ジフェニルプロパンなどのビスＣ6-10アリール直鎖又は分岐Ｃ1-4アルカン、ビスＣ6-10アリール−ケトン（ジフェニルケトンなど）、ビスＣ6-10アリールエーテル（ジフェニルエーテルなど）、ビスＣ6-10アリールスルフィド（ジフェニルスルフィドなど）、ビスＣ6-10アリールスルホキシド（ジフェニルスルホキシドなど）、ビスＣ6-10アリールスルホン（ジフェニルスルホンなど）などのビスアリール化合物に対応する二価基など］などが挙げられる。３価以上の多価基としては、例えば、Ｃ1-6アルカン、Ｃ5-6シクロアルカン、Ｃ6-10芳香族炭化水素環（ベンゼン環、ナフタレン環など）、ビスアリール環（ビフェニル、前記ビスアリール化合物）などの炭化水素に対応する多価基（３又は４価基など）が挙げられる。
【００３６】
Ｘ1で表される鎖状ヘテロ原子含有基としては、例えば、下記式に対応する二価又は三価基、ポリ（Ｃ1-3アルキレンアミン）に対応する多価基などの鎖状脂肪族窒素原子含有基などが挙げられる。
【００３７】
Ｙ1−Ｎ（Ｙ2）−Ｙ3
（式中、Ｙ1及びＹ3は同一又は異なってＣ1-6アルキル基、Ｃ5-6シクロアルキル基、Ｃ6-10アリール基又はＣ6-10アリール−Ｃ1-4アルキル基を示し、Ｙ2は水素原子、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ5-6シクロアルキル基、Ｃ6-10アリール基又はＣ6-10アリール−Ｃ1-4アルキル基を示す）
Ｘ1で表される複素環基に対応する複素環としては、酸素、イオウ及び窒素原子から選択された少なくとも一種を、環を構成するヘテロ原子として有する５〜８員複素環などが挙げられる。前記複素環としては、トリアジン環［１，３，５−トリアジン、１，２，３−トリアジン、１，２，４−トリアジン環（特に１，３，５−トリアジン環）など］、トリアゾール環（１，２，４−トリアゾール環など）、イミダゾリン環類（イミダゾリン環、イミダゾロン環、ベンゾイミダゾロン環など）などの窒素含有環などが好ましい。
【００３８】
前記複素環において、前記式(1)における基−ＮＲ3−に対する結合手は、窒素原子上に有していてもよく、炭素原子上に有していてもよい。なお、ベンゾイミダゾロン環において、結合手はイミダゾロン環の窒素原子上に有していてもよいが、通常、ベンゼン環の３級炭素原子上に有している。
【００３９】
前記基Ｘ1のうち、炭化水素基及び複素環基は、１つの置換基を有していてもよく、同種又は異種の複数の置換基を有していてもよい。前記置換基としては、メチル基などの直鎖又は分岐Ｃ1-6アルキル基；シクロヘキシル基などのＣ5-6シクロアルキル基；フェニル基などのＣ6-10アリール基；ベンジル基などのＣ6-10アリール−Ｃ1-4アルキル基；オキソ基（＝Ｏ）；ヒドロキシル基；メトキシ基などのＣ1-6アルコキシ基；カルボキシル基；メトキシカルボニル基などのＣ1-4アルコキシ−カルボニル基；カルバモイル基又はＮ−置換カルバモイル基；アミノ基又はＮ−置換アミノ基［Ｎ−モノ又はＮ，Ｎ−ジＣ1-4アルキルアミノ基；Ｎ−モノ又はＮ，Ｎ−ジアシルアミノ基（アセチルアミノ基などのＮ−モノ又はＮ，Ｎ−ジＣ2-6脂肪族アシルアミノ基；２−ヒドロキシナフトイルアミノ基などのＮ−モノ又はＮ，Ｎ−（ジＣ6-10アリール−カルボニル）アミノ基など）など］；スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）；スルフィナモイル基（スルファミド基）；ニトロ基；ハロゲン原子（塩素原子など）などが挙げられる。なお、これらの置換基のうち、カルボキシル基やスルホン酸基は、アルカリ金属（Ｎａ，Ｋなど）と塩を形成してもよい。
【００４０】
前記式(1)において、Ｘ1としては、芳香族炭化水素環（特に、ベンゼン環）を含む炭化水素基（特に、アリール基、アリーレン基、ビスアリーレン基など）が好ましく、前記芳香族炭化水素環が前記例示の置換基を有していてもよい。
【００４１】
なお、Ｒ3が水素原子であり、ｑが１であるとき、Ｘ1は、炭素数３以上の炭化水素基、ヘテロ原子含有基（複素環基、鎖状ヘテロ原子含有基など）又はポリマー残基である。
【００４２】
Ｘ1が炭化水素基であるアミン化合物(1a)としては、モノアミン［置換基（アルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホン酸基、ニトロ基及び／又は塩素原子など）を有していてもよいＣ6-10芳香族アミン（アニリンなど）、前記置換基を有していてもよいＣ5-6シクロヘキシルアミン及びＣ1-6アルキルアミンなど］、ポリアミン［鎖状脂肪族ジアミン（エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどのＣ2-6アルキレンジアミンなど）；メンセンジアミン、イソホロンジアミン、ビス（４−アミノ−３−メチルジシクロヘキシル）メタン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、ビス（アミノメチル）シクロヘキサンなどの脂肪族環状ジアミン；（メタ）フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジエチルジフェニルメタンなどの芳香族ジアミンなど］などが挙げられる。
【００４３】
Ｘ1がヘテロ原子含有基であるアミン化合物(1a)としては、モノアミン（アミノピペリジン、アミノピリジンなどのアミノ基含有５又は６員複素環モノアミンなど）、ポリアミン［ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミンなどのジ乃至ペンタＣ2-4アルキレントリ乃至ヘキサミンなどの鎖状脂肪族ポリアミン；Ｎ−アミノエチルピペラジン、３，９−ビス（３−アミノプロピル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンなどの脂肪族環状ポリアミン；メラミン、グアナミン、テトラオキサスピログアナミンなどの複数のアミノ基を有するトリアジン環類など］などが挙げられる。
【００４４】
前記アミン化合物(1a)は窒素原子に結合した活性水素原子（アミノ基又はイミノ基）を含有するポリマー（窒素原子含有ポリマー）であってもよく、この場合、式(1)においてＸ1はポリマー残基となる。前記窒素原子含有ポリマーとしては、例えば、ポリアミド系樹脂（末端アミノ基を有するポリアミド系樹脂、例えば、ナイロン６、ナイロン１２、ナイロンＭＸＤ６、ナイロン６−１２などのホモ又はコポリアミドなど）、アミノ樹脂（尿素樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂など）、アミノ基含有ビニル系ポリマー（ポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリアクリルアミドなど）などが挙げられる。これらのポリマーは、ホモポリマーであってもよく、コポリマー（共重合性モノマーとのコポリマーなど）であってもよい。
【００４５】
前記式(1)において、ｑはＸ1の種類に応じて、１〜５０の整数、好ましくは１〜３０の整数、さらに好ましくは１〜２０の整数から選択できる。Ｘ1が炭化水素基又はヘテロ原子含有基である場合、ｑは、例えば、１〜４の整数、好ましくは１〜３の整数、特に１又は２であってもよい。
【００４６】
前記式(1)において、好ましいＲ1〜Ｒ3、Ｘ1及びｑの組合せは以下の通りである。
【００４７】
Ｒ1：アルキル基、例えば、直鎖又は分岐Ｃ1-4アルキル基（特にＣ1-2アルキル基）
Ｒ2：水素原子
Ｒ3：水素原子
Ｘ1：Ｃ6-10アリール基、Ｃ6-10アリーレン基、ビスＣ6-10アリーレン基（いずれも前記置換基を有していてもよい）
ｑ：１又は２
ジケトン化合物(1)の具体例としては、芳香族環を有するジケトン化合物（特にアセト酢酸の芳香族アミド化合物）、例えば、Ｃ6-10アリールアシル酢酸アミド［フェニル基に置換基（Ｃ1-4アルキル基、Ｃ1-4アルコキシ基、カルボキシル基、スルホン酸基、カルバモイル基及び／又は塩素原子）を有していてもよいフェニルＣ2-6アシル酢酸アミド（フェニルアセト酢酸アミド、フェニルｔ−ブチルカルボニル酢酸アミドなど）などのＣ6-10アリールＣ2-6酢酸アミドなど］；１，４−ビス（アセトアセトアミノ）ベンゼンなどのビス（アセトアセトアミノ）Ｃ6-10芳香族炭化水素；４，４’−ビス（アセトアセトアミノ）ビフェニル、３，３’５，５’−テトラメチル−４，４’−ビス（アセトアセトアミノ）ビフェニルなどのビス（アセトアセトアミノＣ6-10アリール）類などが挙げられる。
【００４８】
ジケトン化合物(1)は、前記アミン化合物(1a)と、ケテンダイマー化合物(1b)又はβ−ケト酸エステル化合物(1c)との反応により得ることができる。
【００４９】
【化５】
2006225550.tif 000006
【００５０】
［式中、Ｒ1aは、前記Ｒ1から基−ＣＨ2−を除いた基を示し、Ｒ9はＣ1-4アルキル基（メチル、エチル基など）を示す。Ｒ1及びＲ2は前記に同じ］
なお、ジケトン化合物は、三星化学工業（株）から、ＡＡＡ、ＡＡＯＴ、ＡＡＰＴ、ＡＡＯＡ、ＡＡＰＡ、ＡＡＯＣＡ、ＡＡＢＡ、ＡＡＰＰ、Ｐ５Ａ、ＡＡＳＰ、ＡＡＭＸ、ＡＡ２４Ａ、ＡＡ２５Ａ、ＡＡＣＭＡ、ＡＡ２５４Ａ、ＡＡ４ＢＡ、ＡＣＥＴＯＡＣＥＴＰ−ＣＲＥＳＩＤＩＤＥ、ＣＡＲＢＡＭＯＹＬ  ２ＭＡ、１，４−ＢＩＳ（ＡＣＥＴＯＡＣＥＴＹＬＡＭＩＮＯ）ＢＥＮＺＥＮＥ、紀和化学工業（株）から、Ｇｒｏｕｎｄｅｒ  Ｇ、日本精化（株）からβ−ケトエステル誘導体（Ｎ−フェニル−イソブチロイルアセトアミド、Ｎ−フェニル−ピバロイルアセトアミドなど）などとして入手可能である。
【００５１】
(A2)アミン化合物
前記式(2)において、芳香族炭化水素環Ａ1としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン環などのＣ6-20芳香族環；ビスＣ6-10アリール類（ビフェニルなど）などが挙げられる。
【００５２】
前記式(2)において、Ｒ4は、活性水素含有基であり、通常、ヘテロ原子（酸素原子、イオウ原子又は窒素原子）に結合した活性水素原子を含む基である。このような活性水素含有基には、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基及びＮ−モノ置換アミノ基が含まれる。前記Ｎ−モノ置換アミノ基としては、Ｒ1の項で例示の炭化水素基類で置換されたＮ−モノ置換アミノ基が挙げられる。また、基Ｒ4の活性水素含有基は、アルカリ金属（Ｎａ、Ｋなど）と塩を形成していてもよい。
【００５３】
前記式(2)において、Ｒ5で表されるアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基などの直鎖又は分岐Ｃ1-6アルキレン基が挙げられる。Ｒ5で表されるアリール置換アルキレン基としては、フェニルブチレン基などのＣ6-10アリール基（フェニル基など）を置換基として有するＣ1-6アルキレン基が挙げられる。Ｒ5は、好ましくはカルボニル基又は直鎖又は分岐Ｃ1-4アルキレン基（特にメチレン基）である。
【００５４】
Ｒ6で表される置換基としては、前記Ｘ1の項で例示の置換基が挙げられる。Ｒ6はｒにより異なっていてもよい。
【００５５】
ｒは、好ましくは０〜２の整数、さらに好ましくは０又は１である。
【００５６】
式(2)において、Ｘ2で表されるアルキレン基としては、メチレン、ジメチルメチレン、エチレン、プロピレン、ヘキサメチレン基などの直鎖又は分岐Ｃ1-10アルキレン基が挙げられ、通常、直鎖又は分岐Ｃ1-8アルキレン基であってもよい。
【００５７】
基Ｘ3、及びｓは、基Ｘ2の種類に応じて選択できる。基Ｘ2が水素原子の場合、Ｘ3は水素原子又はｓ価基であり、Ｘ2が直接結合又は二価基の場合、Ｘ3は水素原子又は一価基であり、ｓは２である。
【００５８】
前記Ｘ3で表される炭化水素基、鎖状ヘテロ原子含有基、及び複素環基としては、前記Ｘ1の項で例示の一価又は多価の炭化水素基、鎖状ヘテロ原子含有基及び複素環基が例示できる。好ましい基Ｘ3は、水素原子；アルキレン基；アリール基、及びアラルキル基などの一価芳香族炭化水素基；アリーレン基、ビスアリーレン基（ビフェニレン基、前記ビスアリール化合物に対応する二価基など）、アラルキレン基（ｏ−、ｍ−、又はｐ−キシリレン基などのアレーンジアルキレン基）などの多価（例えば、２〜６価）の芳香族炭化水素基、前記複素環に対応する多価基（例えば、２〜４価基）などが挙げられる。なお、Ｒ4がアミノ基のとき、Ｘ3は炭化水素基、鎖状ヘテロ原子含有基又は複素環基である。
【００５９】
ｓは、好ましくは１〜４の整数、さらに好ましくは１〜３の整数、特に１又は２である。
【００６０】
Ｘ3で表される炭化水素基又は複素環基は、１つもしくは同種又は異種の置換基を複数有していてもよい。置換基としては、前記Ｘ1の項で例示の置換基の他、アセトアセチル基などのＣ2-6アシル−Ｃ2-6アシル基が挙げられる。好ましい置換基は、Ｃ1-4アルキル基、Ｃ1-4アルコキシ基、アセトアセチル基、ニトロ基、塩素原子などである。
【００６１】
なお、式(2)において、−（ＮＨ）s−Ｘ3はアミン化合物の残基であり、対応するアミン化合物Ｘ3−（ＮＨ2）sとしては、前記アミン化合物(1a)の項で例示のアミン化合物のうち、一級アミンが挙げられる。
【００６２】
環Ａ1、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ2、Ｘ3及びｓの組合せのうち、例えば、下記の組合せが好ましい。
【００６３】
環Ａ1：Ｃ6-10芳香族環（ベンゼン環、ナフタレン環など）
Ｒ4：ヒドロキシル基
Ｒ5：カルボニル基、Ｃ1-2アルキレン基（特に、メチレン基）
Ｘ2：水素原子
Ｘ3：水素原子、Ｃ1-10アルキレン基、Ｃ6-10アリール基、Ｃ6-10アリール−直鎖又は分岐Ｃ1-4アルキル基、アリーレン基［Ｃ6-10アリーレン基、ビスＣ6-10アリーレン基（ビフェニレン基、前記ビスアリール化合物に対応する二価基）など］、ベンズイミダゾロン環に対応する１価又は２価基
ｓ：１又は２
前記式(2)のアミン化合物のうち、Ｘ2が水素原子であり、Ｒ5がアルキレン基である化合物は、例えば、特開昭５３−７３３００号公報、米国特許第３７５１４７１号明細書に記載の方法などにより得ることができる。例えば、下記式(2a)アルデヒド化合物と、前記アミン化合物(Ｘ3−（ＮＨ2）s)との反応により、前記式(2)のアミン化合物を得ることができる。なお、Ｎ，Ｎ’−ビス［（２−ヒドロキシナフチ−１−イル）メチル］−１，６−ジアミノヘキサンは、Ｎ，Ｎ’−ビス［２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ナフト−［１，２−ｅ］−［１，３］−オキサジン−２−イル］−１，６−ジアミノヘキサンの開環反応により得ることもできる。また、Ｘ2が水素原子であり、Ｒ5がアルキレン基である前記アミン化合物は、塩化水素アクセプターの存在下、α−クロロ−ｏ−トリルベンゾエートとヒドラジン水化物との反応により得ることもできる（米国特許第３，２７８，５９６号明細書）。
【００６４】
【化６】
2006225550.tif 000007
【００６５】
（式中、Ｒ5aは直接結合、又は前記Ｒ5のアルキレン基より炭素数が１つ少ないアルキレン基を示す。環Ａ1、Ｒ4、Ｒ6及びｒは前記に同じ）
また、Ｘ2が水素原子であり、Ｒ5がカルボニル基であるアミン化合物は、米国特許第６４０６２９７号明細書に記載の方法などにより得ることができる。例えば、下記式(2b)で表されるエステル化合物と、前記アミン化合物（Ｘ3−（ＮＨ2）s）との反応により得ることができる。
【００６６】
【化７】
2006225550.tif 000008
【００６７】
［式中、Ｒ5bは、Ｃ1-4アルキル基（メチル基など）を示す。環Ａ1、Ｒ4、Ｒ6及びｒは前記に同じ］
また、前記アミン化合物のうち、例えば、環Ａ1がナフタレン環であり、Ｒ4がヒドロキシル基であり、Ｒ5がカルボニル基であり、Ｘ2が水素原子であり、ｓが１である化合物は、紀和化学工業（株）から、GrounderシリーズＰＨ、ＬＣ、ＩＴＲ、ＫＢ、ＯＬ、ＢＳ、ＣＬ、ＢＩ、ＡＳ、Ｄ、ＢＡ、Ｅ、ＢＧ及びＲＬなどとして入手可能である。また、前記アミン化合物は、三星化学工業（株）から、ＢＯＮＡＭＩＤＥ、ＨＮＢＩ、ＮＡＰＨＴＨＯＬシリーズ、ＡＳ−ＯＬ、ＡＳ−ＰＨ、ＡＳ−ＣＡ、ＡＳ−ＩＴＲ、ＡＳ−ＬＣ及びＡＳ−ＲＬなどとして入手可能である。
【００６８】
(A3)芳香族イミダゾロン化合物
芳香族イミダゾロン化合物としては、イミダゾロン環に芳香族炭化水素環が縮合した化合物が挙げられる。このような芳香族イミダゾロン化合物には、例えば、前記式(3)で表される化合物が含まれる。
【００６９】
前記イミダゾロン化合物において、イミダゾロン環に縮合した芳香族炭化水素環（式(3)においては環Ａ2で表される芳香族炭化水素環）としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン環などのＣ6-20芳香族炭化水素環；ビフェニルなどが挙げられる。
【００７０】
Ｒ7で表される炭化水素基としては、前記Ｒ1の項で例示の炭化水素基（アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基）が挙げられる。
【００７１】
ｔは好ましくは１又は２、特に１である。
【００７２】
Ｒ8で表される置換基としては、前記Ｘ1の項で例示の置換基の他、Ｎ−置換アミノ基として、Ｎ−モノ又はジ（アセトアセチル）アミノ基などが挙げられる。これらの置換基のうち、アミノ基又はＮ−置換アミノ基（２−ヒドロキシナフトイルアミノ基などのＮ−アシルアミノ基；Ｎ−アセトアセチルアミノ基など）が好ましい。
【００７３】
置換基Ｒ8の個数ｕは、好ましくは０〜２の整数、さらに好ましくは０又は１である。Ｒ8はｕによって異なっていてもよい。
【００７４】
Ｘ4で表されるｔ価の有機基としては、前記Ｘ1の項で例示の１価又は多価の炭化水素基（１〜３価の炭化水素基など）の他、カルボニル基、エーテル基、チオエーテル基、スルホキシド基、スルホン基などの２価の有機基が挙げられる。好ましい基Ｘ4には、水素原子、直接結合、アルキレン基（前記Ｘ2で例示の直鎖又は分岐鎖Ｃ1-6アルキレン基など）、カルボニル基、エーテル基、チオエーテル基、スルホキシド基、及びスルホン基が含まれる。
【００７５】
芳香族イミダゾロン化合物(3)において、環Ａ2、Ｒ7、Ｒ8、ｔ及びＸ4の組合せのうち、下記の組合せが好ましい。
【００７６】
環Ａ2：Ｃ6-14芳香族炭化水素環（特にベンゼン環などのＣ6-10芳香族炭化水素環）
Ｒ7：水素原子
Ｒ8：アミノ基又はＮ−置換アミノ基（Ｎ−アセトアセチルアミノ基など）
ｔ：１又は２
Ｘ4：水素原子、直接結合、アルキレン基、カルボニル基、エーテル基、チオエーテル基、スルホキシド基、又はスルホン基
本発明では、前記活性水素原子を有する消臭剤をポリアセタール樹脂と組み合わせることにより、ポリアセタール樹脂から生成するアルデヒドを大幅に低減できる。特に、前記消臭剤は、少量であってもポリアセタール樹脂から発生するアルデヒドを有効に捕捉して消臭できるとともに、ポリアセタール樹脂との親和性も高い。そのため、ポリアセタール樹脂の特性を損なうことがなく、樹脂からのブリードアウトも防止できる。
【００７７】
消臭剤の割合は、アルデヒド（ホルムアルデヒド）に対する捕捉能が発現する有効量であればよく、例えば、樹脂１００重量部に対して、０．０１〜３０重量部（例えば、０．０１〜２５重量部）、好ましくは０．０２〜１５重量部、さらに好ましくは０．０３〜１０重量部程度であり、０．０５〜５重量部（例えば、０．０５〜３重量部）程度であってもよく、アルデヒドの発生及びアルデヒド臭を効果的に抑制することができる。
【００７８】
［消臭助剤］
本発明の樹脂組成物は、さらに消臭助剤を含んでいてもよい。消臭剤と消臭助剤とを組合せて用いることにより、アルデヒドの発生を相乗的に抑制して、アルデヒド臭を効率よく脱臭できるとともに、ポリアセタール樹脂からのアルデヒドの発生を大幅に抑制できる。
【００７９】
消臭助剤としては、(i)塩基性窒素含有化合物、(ii)弱酸又はその金属塩、(iii)アルコール類、(iv)吸着性無機化合物、(v)活性水素原子を含有するリン化合物などが使用できる。消臭助剤は、単独で又は二種以上組合せて使用できる。なお、消臭助剤は、アルデヒドに対して反応性を有していてもよい。なお、塩基性窒素含有化合物(i)としては、通常、前記消臭剤とは異なる種類の化合物が用いられる。
【００８０】
(i)塩基性窒素含有化合物
塩基性窒素含有化合物には、低分子量化合物や高分子量化合物（窒素含有樹脂）、例えば、尿素類（非環状尿素化合物、環状尿素化合物など）、アミノトリアジン類、グアニジン類、ポリアミド類、有機カルボン酸ヒドラジド類、アミノ酸類、アミン類、アンモニウム化合物（有機カルボン酸アンモニウム類、無機アンモニウム化合物など）などが含まれる。これらの塩基性窒素含有化合物は単独で又は二種以上組合せて使用できる。
【００８１】
尿素類としては、特開２００２−２１２４３３号公報に記載の尿素化合物、例えば、非環状尿素化合物［尿素、アルキル基などの置換基が置換したＮ−置換尿素、非環状の尿素縮合体（ビウレット、ビウレアなどの尿素の多量体；メチレン二尿素、ホルム窒素などの尿素とアルデヒド化合物との縮合体など）、環状尿素化合物［環状モノウレイド、例えば、Ｃ1-10アルキレン尿素（エチレン尿素、クロトニリデン尿素など）、アリーレン尿素（イメサチンなど）、ジカルボン酸のウレイド（パラバン酸、バルビツル酸、イソシアヌール酸、ウラミルなど）、β−アルデヒド酸のウレイド（ウラシル、チミン、ウラゾールなど）、α−オキシ酸のウレイド（ヒダントイン、５，５−ジメチルヒダントイン、アラントイン、ジヒドロキシアルミニウムアラントイナートなどのヒダントイン類など）；環状ジウレイド、例えば、尿酸、アルキル置換尿酸、アセチレン尿素（グリコールウリル）、α−オキシ酸のジウレイド（１，１−メチレンビス（５，５−ジメチルヒダントイン）など）、ｐ−ウラジンなどのジウレア、ジカルボン酸のジウレイド（アロキサンチン、プルプル酸など）など］などが例示できる。
【００８２】
前記アミノトリアジン類としては、アミノ基含有１，３，５−トリアジン類［メラミン、置換メラミン（２−メチルメラミンなどのアルキルメラミン、グアニルメラミンなど）、メラミン縮合物（メラム、メレム、メロンなど）、メラミンの共縮合樹脂（メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−メラミン樹脂、ベンゾグアナミン−メラミン樹脂、芳香族ポリアミン−メラミン樹脂など）などのメラミン又はその誘導体；アンメリン、アンメリドなどのシアヌール酸アミド類；グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、サクシノグアナミン、ＣＴＵ−グアナミンなどのグアナミン又はその誘導体など］、アミノ基含有１，２，３−トリアジン類（１，２，３−トリアジン、ベンゾ−１，２，３−トリアジンなど）及び１，２，４−トリアジン類などが挙げられる。なお、アミノ基はトリアジン環を構成する適当な部位（窒素原子及び炭素原子、特に、炭素原子）に置換していてもよい。アミノ基の個数は、特に制限されず、例えば、１〜４個程度、好ましくは１〜３個程度、さらに好ましくは２〜３個程度である。前記アミノトリアジン類のうち、特に、アミノ基含有１，３，５−トリアジン類［メラミン、メラミン縮合物（特にメラム、メレム、メロンなど）など］が好ましい。
【００８３】
グアニジン類としては、特開２０００−３４４１７号公報に記載のグアニジン類、例えば、非環状グアニジン（グリコシアミン、グアノリン、グアニジン、シアノグアニジンなど）、環状グアニジン（グリコシアミジン、クレアチニンなどのグリコシアミジン類；オキサリルグアニジン、２，４−ジイミノパラバン酸などのオキサリルグアニジン又はその構造と類似の環状グアニジンなど）；イミノ基置換ウラゾール化合物（イミノウラゾール、グアナジンなど）；イソシアヌール酸イミド類（イソアンメリド、イソアンメリンなど）；マロニルグアニジン、タルトロニルグアニジン；メソキサリルグアニジンなどが挙げられる。
【００８４】
前記ポリアミド類には、例えば、ナイロン３（ポリβ−アラニン）、ナイロン４６、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロンＭＸＤ６、ナイロン６−１０、ナイロン６−１１、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６−６１０などの単独又は共重合ポリアミド；メチロール基やアルコキシメチル基を有する置換ポリアミドなどのポリアミド樹脂が含まれる。
【００８５】
有機カルボン酸ヒドラジド類としては、例えば、脂肪族カルボン酸ヒドラジド［１２−ヒドロキシステアリン酸ヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジドなどのＣ2-24脂肪族（ポリ）カルボン酸の（ポリ）ヒドラジドなど］、芳香族カルボン酸ヒドラジド［安息香酸ヒドラジド、ヒドロキシ安息香酸ヒドラジド、ナフトエ酸ヒドラジドなどの芳香族Ｃ7-11モノカルボン酸のヒドラジド；イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、ベンゼントリカルボン酸トリヒドラジドなどの芳香族ポリＣ7-16カルボン酸の（ポリ）ヒドラジドなど］などが挙げられる。
【００８６】
アミノ酸類としては、脂肪族アミノ酸［アラニン、β−アラニン、γ−アミノ酪酸、アミノヘプタン酸、アミノノナン酸、アミノウンデカン酸、ヒドロキシアミノ酸（セリンなど）、イオウ原子含有アミノ酸（システインなど）、酸性アミノ酸（アスパラギン酸など）、塩基性アミノ酸（アルギニンなど）などのＣ2-20脂肪族アミノ酸；フェニルアラニン、チロシンなどのＣ6-10アリル基を有するＣ2-20脂肪族アミノ酸など］、芳香族アミノ酸［アントラニル酸、ｏ，ｍ，ｐ−アミノ安息香酸などのＣ7-18芳香族アミノ酸など］、及びこれらのアミノ酸の誘導体（エステル誘導体、アミド誘導体など）が挙げられる。前記アミノ酸は、アミノ基及びカルボキシル基をそれぞれ複数個有していてもよい。
【００８７】
アミン類としては、例えば、脂肪族アミン［ジエチルアミン、トリエチルアミンなどのモノ乃至トリＣ1-4アルキルアミン；メタノールアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのモノ乃至トリス（ヒドロキシＣ1-4アルキル）アミンなど］、芳香族アミン（ｏ，ｍ又はｐ−トルイジン、ｏ，ｍ又はｐ−フェニレンジアミンなどの芳香族第２級アミン又は第３級アミン）などが挙げられる。
【００８８】
アンモニウム化合物としては、例えば、ＷＯ０１／６２３０９号公報に記載のアンモニウム化合物が使用できる。
【００８９】
アンモニウム化合物としては、通常、有機カルボン酸アンモニウム類が用いられる場合が多く、このような有機カルボン酸アンモニウム類としては、有機カルボン酸のアンモニウム塩、例えば、飽和脂肪族カルボン酸［酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸などの飽和Ｃ1-34モノカルボン酸；コハク酸、アジピン酸、セバシン酸などの飽和Ｃ2-30ジカルボン酸；これらのオキシ酸（乳酸、ヒドロキシ酪酸、１２−ヒドロキシステアリン酸など）など］や不飽和脂肪族カルボン酸［（メタ）アクリル酸、クロトン酸などの不飽和Ｃ3-34モノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸などの不飽和Ｃ4-30ジカルボン酸；これらのオキシ酸（プロピオール酸など）など］のアンモニウム塩などが例示できる。
【００９０】
(ii)弱酸又はその金属塩
弱酸には、前記有機カルボン酸アンモニウム塩の項で例示の有機カルボン酸及び硼酸（オルトホウ酸などの非縮合ホウ酸、四ホウ酸、無水ホウ酸などの縮合ホウ酸など）などが含まれる。前記有機カルボン酸としては、特に、飽和Ｃ1-5モノカルボン酸、飽和Ｃ2-6ジカルボン酸、不飽和Ｃ3-8モノカルボン酸、不飽和Ｃ4-12ジカルボン酸などが好ましい。
【００９１】
弱酸の金属塩には、例えば、ＷＯ０１／６２３０９号公報に記載の弱酸金属塩が含まれ、例えば、アルカリ金属（カリウム、ナトリウムなど）、遷移金属（マンガンなどの周期表第７族金属；鉄などの周期表第８族金属；コバルトなどの周期表第９族金属；ニッケルなどの周期表第１０族金属；銅などの周期表第１１族金属など）などとの塩などが例示できる。弱酸金属塩のうち、特にアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩が好ましい。
【００９２】
これらの弱酸又はその金属塩は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００９３】
(iii)アルコール類
前記アルコール類は、モノアルコール（ミリスチルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコールなどの飽和又は不飽和Ｃ4-24脂肪族アルコール；シクロヘキシルアルコールなどの飽和又は不飽和Ｃ5-8脂環族アルコールなど）であってもよいが、通常、多価アルコールを用いるのが好ましい。前記多価アルコールとしては、ジオール類［例えば、エチレングリコール、トリメチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、デカンジオールなどのＣ2-12アルキレングリコール；ポリオキシＣ2-4アルキレングリコール（例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなど）；脂環族ジオール（例えば、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールＡなど）など］の他、グリセリン、ジグリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ポリペンタエリスリトール、ソルビトールなどの多価アルコールが例示できる。前記アルコール類は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００９４】
前記アルコール類のうち、特に、ジエチレングリコールなどのポリアルキレングリコール；グリセリン、（ポリ）ペンタエリスリトール、ソルビトールなどの多価アルコールが好ましい。
【００９５】
(iv)吸着性無機化合物
吸着性無機化合物には、多孔質担体などとして知られている無機系化合物が含まれる。このような吸着性無機化合物としては、例えば、多孔質無機酸化物（アルミニウム及び／又はケイ素酸化物、例えば、ゼオライト、シリカゲル、アルミナ、セピオライトなど）、パーライト、活性炭（鉱物系活性炭など）などが含まれる。前記ゼオライトは、合成ゼオライトであってもよく、天然ゼオライト（ホージャサイトなど）であってもよい。これらの吸着性無機化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００９６】
(v)活性水素原子を含有するリン化合物
消臭助剤としてのリン化合物には、活性水素原子を有する有機ホスフィン、有機ホスフォナイト及び有機ホスホネート化合物が含まれる。これらのリン化合物(v)は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００９７】
消臭助剤の割合は、例えば、前記消臭剤１００重量部に対して、その種類に応じて、広い範囲、例えば、０．０１〜１００００重量部程度から選択でき、例えば、０．０１〜５０００重量部（例えば、０．０１〜３０００重量部）、好ましくは、０．０５〜２０００重量部（例えば、０．１〜１５００重量部）、さらに好ましくは、０．５〜１５００重量部（例えば、１〜１０００重量部）程度であってもよい。また、消臭助剤の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、例えば、０．０１〜１００重量部、好ましくは０．１〜８０重量部、さらに好ましくは１〜５０重量部程度である。
【００９８】
本発明の樹脂組成物は、さらに酸化防止剤（ヒンダードフェノール系化合物など）、耐候（光）安定剤、耐熱安定剤、及び加工安定剤から選択された少なくとも一種の安定剤を含んでもよい。これらの安定剤を含有することにより、ポリアセタール樹脂からのホルムアルデヒド発生の抑制効果をさらに改善することもできる。これらの安定剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００９９】
（ヒンダードフェノール系化合物）
ヒンダードフェノール系化合物としては、慣用のフェノール系酸化防止剤又は安定剤、例えば、単環式ヒンダードフェノール化合物（２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールなど）、炭化水素基又はイオウ原子を含む基で連結された多環式ヒンダードフェノール化合物［２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタンなどのＣ1-10アルキレンビス乃至テトラキス（ｔ−ブチルフェノール）類；４，４′−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）などのＣ2-10アルケニレン又はジエニレンビス乃至テトラキス（ｔ−ブチルフェノール）類；１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼンなどのＣ6-20アリーレン又はアラルキレンビス乃至テトラキス（ｔ−ブチルフェノール）類；４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）などのイオウ原子を有する基で連結されたビス（ｔ−ブチルフェノール）類など］、エステル基又はアミド基を有するヒンダードフェノール化合物［ｎ−オクタデシル−３−（４′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、ｎ−オクタデシル−２−（４′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネートなどのＣ2-10アルキレンカルボニルオキシ基を有するｔ−ブチルフェノール；１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］などの脂肪酸のポリオールエステルで連結されたビス乃至テトラキス（ｔ−ブチルフェノール）類；３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンなどのヘテロ環基とＣ2-10アルキレンカルボニルオキシ基とを有するビス乃至テトラキス（ｔ−ブチルフェノール）類；２−ｔ−ブチル−６−（３′−ｔ−ブチル−５′−メチル−２′−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレートなどのＣ3-10アルケニルカルボニルオキシ基を有するｔ−アルキルフェノール（例えば、ｔ−ブチルフェノール及びｔ−ペンチルフェノールなど）；ジ−ｎ−オクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートなどのホスホン酸エステル基を有するヒンダードフェノール化合物；Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ジヒドロシンナムアミド）などのアミド基を有するヒンダードフェノール化合物など］などが挙げられる。
【０１００】
（耐候（光）安定剤）
耐候（光）安定剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、芳香族ベンゾエート系化合物、シアノアクリレート系化合物、シュウ酸アニリド系化合物、及びヒンダードアミン系化合物などが挙げられる。
【０１０１】
(i)ベンゾトリアゾール系化合物
ベンゾトリアゾール系化合物としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾールなどのヒドロキシル基及びＣ1-6アルキル基で置換されたアリール基を有するベンゾトリアゾール類；２−［２′−ヒドロキシ−３′，５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどのヒドロキシル基及びアラルキル（又はアリール）基で置換されたアリール基を有するベンゾトリアゾール類；２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾールなどのヒドロキシル基及びアルコキシ（Ｃ1-12アルコキシ）基で置換されたアリール基を有するベンゾトリアゾール類などが挙げられる。
【０１０２】
(ii)ベンゾフェノン系化合物
ベンゾフェノン系化合物としては、複数のヒドロキシル基を有するベンゾフェノン類（２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンなどのジ乃至テトラヒドロキシベンゾフェノン；２−ヒドロキシ−４−オキシベンジルベンゾフェノンなどのヒドロキシル基、及びヒドロキシル置換アリール又はアラルキル基を有するベンゾフェノン類など）；ヒドロキシル基及びアルコキシ（Ｃ1-16アルコキシ）基を有するベンゾフェノン類（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノンなど）などが挙げられる。
【０１０３】
(iii)芳香族ベンゾエート系化合物
芳香族ベンゾエート系化合物としては、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレートなどのアルキルアリールサリシレート類が挙げられる。
【０１０４】
(iv)シアノアクリレート系化合物
シアノアクリレート系化合物としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートなどのシアノ基含有ジアリールアクリレート類などが挙げられる。
【０１０５】
(v)シュウ酸アニリド系化合物
シュウ酸アニリド系化合物としては、Ｎ−（２−エチルフェニル）−Ｎ′−（２−エトキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）シュウ酸ジアミド、Ｎ−（２−エチルフェニル）−Ｎ′−（２−エトキシ−フェニル）シュウ酸ジアミド等の窒素原子上に置換されていてもよいアリール基などを有するシュウ酸ジアミド類が挙げられる。
【０１０６】
(vi)ヒンダードアミン系化合物
ヒンダードアミン系化合物としては、立体障害性基を有するピペリジン誘導体、例えば、エステル基含有ピペリジン誘導体［４−アセトキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのＣ2-20脂肪族アシルオキシ−テトラメチルピペリジン；４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのＣ7-11芳香族アシルオキシ−テトラメチルピペリジン；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）オギザレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）マロネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アジペート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバケートなどのＣ2-20脂肪族ジカルボン酸−ビスピペリジルエステル；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）テレフタレート、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ベンゼン−１，３，５−トリカルボキシレートなどの芳香族ジ又はトリカルボン酸−ビス又はトリスピペリジルエステルなど）、エーテル基含有ピペリジン誘導体［４−メトキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのＣ1-6アルコキシ−テトラメチルピペリジン；４−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのＣ5-8シクロアルキルオキシ−ピペリジン；４−フェノキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのアリールオキシピペリジン；４−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどＣ6-10アリール−Ｃ1-4アルキルオキシ−ピペリジン；１，２−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシ）エタンなどのＣ1-10アルキレンジオキシ−ビスピペリジンなど］、アミド基含有ピペリジン誘導体［４−（フェニルカルバモイルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのカルバモイルオキシピペリジン；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレン−１，６−ジカルバメートなどのカルバモイルオキシ置換アルキレンジオキシ−ビスピペリジンなど］などが挙げられる。また、高分子量のピペリジン誘導体重縮合物（コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物など）なども含まれる。
【０１０７】
（耐熱安定剤）
耐熱安定剤としては、アルカリ土類金属化合物、例えば、水酸基を有していてもよいＣ1-36脂肪酸アルカリ土類金属塩（酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、１２−ヒドロキシステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、クエン酸カルシウム、クエン酸マグネシウムなど）、アルカリ土類金属の水酸化物（水酸化マグネシウムなど）、アルカリ土類金属の酸化物（酸化マグネシウムなど）、炭酸アルカリ土類金属塩（炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウムなど）などが挙げられる。これらの耐熱安定剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【０１０８】
（加工安定剤）
加工安定剤としては、長鎖脂肪酸（Ｃ12-30脂肪酸など）のアミド化合物やエステル化合物、ポリアルキレングルコール、ポリエチレンワックスなどが挙げられる。例えば、エチレンビスステアリルアミド、グリセリンモノ乃至トリステアレート、エチレングリコールモノ又はジステアレート、ポリエチレングリコールなどが使用できる。加工安定剤は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【０１０９】
樹脂組成物が、安定剤を含有する場合、前記安定剤の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、０．０１〜３０重量部、好ましくは０．０１〜２０重量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部程度の範囲から選択できる。
【０１１０】
酸化防止剤（ヒンダードフェノール系化合物など）の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、０．００１〜５重量部、好ましくは０．００５〜３重量部、さらに好ましくは０．０１〜１重量部程度である。また、耐候（光）安定剤の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、０．０１〜５重量部、好ましくは０．０１〜３重量部、さらに好ましくは０．１〜２重量部程度である。耐熱安定剤の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、０．００１〜５重量部、好ましくは０．００１〜３重量部（特に０．０１〜２重量部）程度である。加工安定剤の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、０．０１〜５重量部、好ましくは０．０５〜３重量部、さらに好ましくは０．１〜２重量部程度である。
【０１１１】
また、樹脂組成物は、耐衝撃改良剤、光沢制御剤、摺動性改良剤、着色剤及び充填剤から選択された少なくとも一種を含んでいてもよい。
【０１１２】
本発明のポリアセタール樹脂組成物には、必要に応じて、慣用の添加剤、例えば、他の安定剤［酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤など］、可塑剤、強化剤、離型剤、核剤、帯電防止剤、界面活性剤、難燃剤、滑剤、防カビ剤、抗菌剤、芳香剤、香料、窒素含有化合物［アミド類（マロンアミド、イソフタル酸ジアミドなどの多価カルボン酸アミド、ｐ−アミノベンズアミドなど）、ヒドラジン類（ヒドラジン、ヒドラゾンなど）など］、各種ポリマー［アクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレートなどのＣ1-10アルキル（メタ）アクリレートの単独又は共重合体）、アクリル系コアシェルポリマー、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系エラストマー又は樹脂、ポリウレタン系エラストマー又は樹脂、ポリエステル系エラストマー又は樹脂、ポリアミド系エラストマー又は樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系エラストマー又は樹脂など］などを１種で又は２種以上組み合わせて添加してもよい。
【０１１３】
（ポリアセタール樹脂組成物及び成形品の製造方法）
本発明のポリアセタール樹脂組成物は、粉粒状混合物や溶融混合物であってもよく、消臭剤とポリアセタール樹脂と必要により消臭助剤及び／又は他の添加剤などとを慣用の方法で混合することにより調製できる。例えば、(1)各成分を混合して、一軸又は二軸の押出機により混練して押出してペレットを調製した後、成形する方法、(2)一旦組成の異なるペレット（マスターバッチ）を調製し、そのペレットを所定量混合（希釈）して成形に供し、所定の組成の成形品を得る方法、(3)ポリアセタール樹脂のペレットに消臭剤を散布などにより付着させた後、成形し、所定の組成の成形品を得る方法などが採用できる。
【０１１４】
また、基体であるポリアセタール樹脂の粉粒体（例えば、ポリアセタール樹脂の一部又は全部を粉砕した粉粒体）と他の成分（消臭剤など）とを混合して溶融混練すると、添加物の分散を向上させるのに有利である。
【０１１５】
本発明の樹脂組成物は、慣用の成形方法、例えば、射出成形、押出成形、圧縮成形、ブロー成形、真空成形、発泡成形、回転成形、ガスインジェクションモールディングなどの方法で、種々の成形体を成形するのに有用である。
【０１１６】
本発明には、前記樹脂組成物で形成された成形体も含まれる。成形体は、ホルムアルデヒド発生の抑制効果に優れる消臭剤を含有する樹脂組成物で形成されているため、成形体からのホルムアルデヒド発生量が極めて少ない。すなわち、酸化防止剤などの安定剤を含む従来のポリアセタール樹脂で構成された成形品は、比較的多量のホルムアルデヒドを生成し、腐食や変色などの他、生活環境や作業環境を汚染する。例えば、一般に市販されているポリアセタール樹脂成形品からのホルムアルデヒド発生量は、乾式（恒温乾燥雰囲気下）において、表面積１ｃｍ2当たり２〜５μｇ程度である。
【０１１７】
これに対して、本発明のポリアセタール樹脂成形品は、乾式において、ホルムアルデヒド発生量が成形品の表面積１ｃｍ2当たり１．５μｇ以下、好ましくは０〜１．３μｇ、さらに好ましくは０〜１μｇ程度であり、通常、０．０１〜１μｇ程度である。
【０１１８】
なお、乾式でのホルムアルデヒド発生量は、次のようにして測定できる。
【０１１９】
ポリアセタール樹脂成形品を、必要により切断して表面積を測定した後、その成形品の適当量（例えば、表面積１０〜５０ｃｍ2となる程度）を密閉容器（容量２０ｍｌ）に入れ、温度８０℃で２４時間放置する。その後、この密閉容器中に水を５ｍｌ注入し、この水溶液のホルマリン量をＪＩＳ  Ｋ０１０２，２９（ホルムアルデヒドの項）に従って定量し、成形品の表面積当たりのホルムアルデヒド発生量（μｇ／ｃｍ2）を求める。
【０１２０】
また、湿式でのホルムアルデヒド発生量は、次のようにして測定できる。
【０１２１】
ポリアセタール樹脂成形品を、必要により切断して表面積を測定した後、その成形品の適当量（例えば、表面積１０〜１００ｃｍ2となる程度）を、蒸留水５０ｍｌを含む密閉容器（容量１Ｌ）の蓋に吊下げて密閉し、恒温槽内に温度６０℃で３時間放置する。その後、室温で１時間放置し、密閉容器中の水溶液のホルマリン量をＪＩＳ  Ｋ０１０２，２９（ホルムアルデヒドの項）に従って定量し、成形品の表面積当たりのホルムアルデヒド発生量（μｇ／ｃｍ2）を求める。
【０１２２】
本発明において、前記ホルムアルデヒド発生量の数値規定は、ポリアセタール樹脂と消臭剤とを含み、その成形品の表面の大部分（例えば、５０〜１００％）がポリアセタール樹脂で構成された成形品（例えば、多色成形品や被覆成形品など）についても適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１２３】
本発明の樹脂組成物及び成形品は、ホルムアルデヒドが弊害となるいずれの用途にも使用可能であるが、自動車部品や電気・電子部品（能動部品や受動部品など）、建材・配管部品、日用品（生活）・化粧品用部品、及び医用（医療・治療）部品及び写真用部品として好適に使用される。
【０１２４】
より具体的には、自動車部品としては、インナーハンドル、フェーエルトランクオープナー、シートベルトバックル、アシストラップ、各種スイッチ、ノブ、レバー、クリップなどの内装部品、メーターやコネクターなどの電気系統部品、オーディオ機器やカーナビゲーション機器などの車載電気・電子部品、ウインドウレギュレーターのキャリアープレートに代表される金属と接触する部品、ドアロックアクチェーター部品、ミラー部品、ワイパーモーターシステム部品、燃料系統の部品などの機構部品が例示できる。
【０１２５】
電気・電子部品（機構部品）としては、ポリアセタール樹脂成形品で構成され、かつ金属接点が多数存在する機器の部品又は部材［例えば、カセットテープレコーダなどのオーディオ機器、ＶＴＲ（ビデオテープレコーダー）、８ｍｍビデオ、ビデオカメラなどのビデオ機器、又はコピー機、ファクシミリ、ワードプロセサー、コンピューターなどのＯＡ（オフィスオートメーション）機器、更にはモーター、発条などの駆動力で作動する玩具、電話機、コンピュータなどに付属するキーボードなど］などが例示できる。具体的には、シャーシ（基盤）、ギヤー、レバー、カム、プーリー、軸受けなどが挙げられる。さらに、少なくとも一部がポリアセタール樹脂成形品で構成された光及び磁気メディア部品（例えば、金属薄膜型磁気テープカセット、磁気ディスクカートリッジ、光磁気ディスクカートリッジなど）、更に詳しくは、音楽用メタルテープカセット、デジタルオーディオテープカセット、８ｍｍビデオテープカセット、フロッピー（登録商標）ディスクカートリッジ、ミニディスクカートリッジなどにも適用可能である。光及び磁気メディア部品の具体例としては、テープカセット部品（テープカセットの本体、リール、ハブ、ガイド、ローラー、ストッパー、リッドなど）、ディスクカートリッジ部品（ディスクカートリッジの本体（ケース）、シャッター、クランピングプレートなど）などが挙げられる。
【０１２６】
さらに、本発明のポリアセタール樹脂成形品は、照明器具、建具、配管、コック、蛇口、トイレ周辺機器部品などの建材・配管部品、ファスナー類（スライドファスナー、スナップファスナー、面ファスナー、レールファスナーなど）、文具、リップクリーム・口紅容器、洗浄器、浄水器、スプレーノズル、スプレー容器、エアゾール容器、一般的な容器、注射針のホルダー、（デジタル）カメラ部品、フィルム周辺部品などの広範な生活関係部品・化粧関係部品・医用関係部品・写真用部品に好適に使用される。
【実施例】
【０１２７】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【０１２８】
なお、実施例及び比較例において、成形性（金型付着物の量）、乾式及び湿式での成形品からのホルムアルデヒドの発生量、並びに染み出し性について、以下のようにして評価した。
【０１２９】
［成形性（金型付着物の量）］
ポリアセタール樹脂組成物で形成されたペレットから特定の形状の成形品（径２０ｍｍ×厚み１ｍｍ）を３０ｔ射出成形機にて連続成形（１００ショット）し、金型付着物の程度を５段階に評価した。なお、数値が小さい程、金型付着物が少ない、すなわち、モールドデポジットが少ないことを意味する。
【０１３０】
［乾式での成形品からのホルムアルデヒド発生量］
試験片（２ｍｍ×２ｍｍ×５０ｍｍ）１０個（総表面積約４０ｃｍ2）の樹脂サンプルを密閉容器（容量２０ｍＬ）に入れ、温度８０℃で２４時間、恒温槽内で加熱した後、室温に空冷し、蒸留水５ｍＬをシリンジにて注入した。この水溶液のホルムアルデヒド量を、ＪＩＳＫ０１０２，２９（ホルムアルデヒドの項）に従って定量し、表面積当たりのホルムアルデヒドガス発生量（μｇ／ｃｍ2）を算出した。
【０１３１】
［湿式での成形品からのホルムアルデヒド発生量及び染み出し性］
蒸留水５０ｍＬを含むポリエチレン製瓶（容量１Ｌ）の蓋に、平板状試験片（１００ｍｍ×４０ｍｍ×２ｍｍ；総表面積８５．６ｃｍ2）を２枚吊下げて密閉し、恒温槽内に温度６０℃で３時間放置した後、室温で１時間静置した。ポリエチレン製瓶中の水溶液のホルマリン量をＪＩＳＫ０１０２，２９（ホルムアルデヒドの項）に従って定量し、表面積当たりのホルムアルデヒド発生量（μｇ／ｃｍ2）を算出した。
【０１３２】
さらに、試験後の平板状試験片（成形品）の表面を観察し、染み出しの程度を以下の基準で評価した。
【０１３３】
○：全く染み出しが見られない
△：僅かな染み出しが見られる
×：著しい染み出しが見られる。
【０１３４】
実施例１〜１５及び比較例１
ポリアセタール樹脂コポリマー（メルトインデックス＝９ｇ／１０分）１００重量部に、酸化防止剤として、トリエチレングリコールビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．３重量部、消臭助剤としてメラミン０．０３重量部、及び耐熱安定剤として１２−ヒドロキシステアリン酸カルシウム０．１重量部、加工安定剤として、エチレンビスステアリルアミド０．２重量部をプレブレンドし、１ヶ所のベント口を有する３０ｍｍ径の二軸押出機の主フィード口に投入して溶融混合し、ペレット状のポリアセタール樹脂組成物を調製した。
【０１３５】
このポリアセタール樹脂１００重量部に、表１に示す割合で特定な活性水素を有する窒素化合物化合物（Ａ）を外添した後、射出成形機により所定の試験片を成形し、成形性（モールドデポジット）、試験片からのホルムアルデヒド発生量及び染み出し性の評価を行った。
【０１３６】
比較例として、窒素化合物（Ａ）を外添していない事例（比較例１）を評価した。結果を表１に示す。
【０１３７】
実施例１６〜３０及び比較例２〜３
（実施例１６〜２６）
ポリアセタール樹脂コポリマー（メルトインデックス＝９ｇ／１０分）１００重量部に、表２に示した所定量の活性水素を有する窒素化合物（Ａ）、酸化防止剤としてトリエチレングリコールビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．３重量部、耐熱安定剤として１２−ヒドロキシステアリン酸カルシウム０．１重量部、加工安定剤としてエチレンビスステアリルアミド０．２重量部をプリブレンドし、１ヶ所のベント口を有する３０ｍｍ径の二軸押出機の主フィード口に投入して溶融混合し、ペレット状のポリアセタール樹脂組成物を調製した。
【０１３８】
（実施例２７）
ポリアセタール樹脂コポリマー（メルトインデックス＝９ｇ／１０分）１００重量部に、表２に示した所定量の活性水素を有する窒素化合物（Ａ）、酸化防止剤としてペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．３重量部、消臭助剤としてポリアミド６６（平均粒子径３μｍ）０．０５重量部、耐熱安定剤としてステアリン酸カルシウム０．１重量部、加工安定剤としてエチレングリコールジステアレート０．２重量部をプリブレンドし、実施例１６と同様にペレット状のポリアセタール樹脂組成物を押出調製した。
【０１３９】
（実施例２８〜２９）
ポリアセタール樹脂コポリマー（メルトインデックス＝９ｇ／１０分）１００重量部に、表２に示した所定量の活性水素を有する窒素化合物（Ａ）、酸化防止剤としてペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．０３重量部、耐光安定剤としてビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート０．２重量部と２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール０．４重量部、耐熱安定剤としてステアリン酸カルシウム０．１重量部、加工安定剤としてエチレンビスステアリルアミド０．２重量部をプリブレンドし、実施例１６と同様にペレット状のポリアセタール樹脂組成物を押出調製した。
【０１４０】
（実施例３０）
ポリアセタール樹脂コポリマー（メルトインデックス＝９ｇ／１０分）１００重量部に、表２に示した所定量の活性水素を有する窒素化合物（Ａ）、酸化防止剤としてペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．０３重量部、消臭助剤としてセバシン酸ジヒドラジド０．１重量部、耐光安定剤としてビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート０．２重量部と２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール０．４重量部、耐熱安定剤としてステアリン酸カルシウム０．１重量部、加工安定剤としてグリセリンモノステアレート０．２重量部、着色剤としてカーボンブラック０．５重量部をプリブレンドし、実施例１６と同様にペレット状のポリアセタール樹脂組成物を押出調製した。
【０１４１】
上記実施例で得られたペレット状のポリアセタール樹脂組成物を用いて、射出成形機により所定の試験片を成形し、成形性（モールドデポジット）、試験片からのホルムアルデヒド発生量及び染み出し性の評価を行った。結果を表２に示す。
【０１４２】
比較例として、窒素化合物（Ａ）を添加していない事例（比較例２）、窒素化合物（Ａ）添加しないで消臭助剤としてメラミン０．３重量部を添加した事例（比較例３）を評価した。結果を表２に示す。
【０１４３】
尚、実施例及び比較例で使用した活性水素を有する窒素化合物は以下の通りである。
１．活性水素を有する窒素化合物Ａ
［ジケトン化合物  Ａ１］
（Ａ１−１）：アセト酢酸アニリド
（Ａ１−２）：アセト酢酸ｏ−トルイダイド
（Ａ１−３）：アセト酢酸ｐ−トルイダイド
（Ａ１−４）：アセト酢酸ｏ−アニシダイド
（Ａ１−５）：アセト酢酸ｐ−アニシダイド
（Ａ１−６）：４−カルバモイルアセトアセトアニリド
（Ａ１−７）：１，４−ビス（アセトアセチルアミノ）ベンゼン
（Ａ１−８）：４−（アセチルアミノ）アセトアセトアニリド
（Ａ１−９）：１−アセトアセチルアミノ−５−カルバモイル−２−メチルベンゼン
（Ａ１−１０）：１−アセトアセチルアミノ−２−カルボキシベンゼン
（Ａ１ー１１）：１，６−ビス（アセトアセチルアミノ）ヘキサン
（Ａ１−１２）：１，３−ビス（アセトアセチルアミノメチル）ベンゼン
（Ａ１−１３）：３，３’−ジメチル−４，４’−ビス（アセトアセチルアミノ）ビフェニル
［アミン化合物  Ａ２］
（Ａ２−１）：Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシベンジル）ヘキサメチレンジアミン
（Ａ２−２）：Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシベンジル）ｍ−キシリレンジアミン
（Ａ２−３）：３−ヒドロキシ−２−ナフトアミド
（Ａ２−４）：３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸アニリド
［芳香族イミダゾロン化合物  Ａ３］
（Ａ３−１）：５−アセトアセチルアミノベンゾイミダゾロン
（Ａ３−２）：５−アミノベンゾイミダゾロン
（Ａ３−３）：５−アセチルアミノベンゾイミダゾロン
（Ａ３−４）：ベンゾイミダゾロン
（Ａ３−５）：５−（３’−ヒドロキシ−２’−ナフトイルアミノ）ベンゾイミダゾロン
【０１４４】
【表１】
2006225550.tif 000009
【０１４５】
【表２】
2006225550.tif 000010
【０１４６】
表から明らかなように、実施例では、比較例１及び２に比べ、ホルムアルデヒドの発生が大幅に抑制されており、成形性及び耐染み出し性も高い。なお、比較例３ではホルムアルデヒドの発生量は比較的少ないものの、成形性が低く、染み出しが生じた。