(57)【要約】【課題】色の再現性及び光源の利用効率が良く、長期間使用してもが画質が低下しない投射型表示装置を提供する。【解決手段】  光源から投影レンズとの間に設ける偏光部材として、基板上の少なくとも一面に、第１の酸化アルミニウム層と、銀層または銀合金層と、第２の酸化アルミニウム層と、フッ化マグネシウム層と、チタン酸化物層またはタンタル酸化物層またはチタンとランタンとの複合酸化物層とを、基板側から順に積層した表面鏡を使用する。【選択図】      図１６
2006208775.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を複数の色の光に分解する光分解手段と、
前記光分解手段によって分解された各色の光ごとに配置された複数のライトバルブと、
前記複数のライトバルブからの光を色合成する光合成手段と、
前記光合成手段により合成された光を投影する投影レンズとを有する投射型表示装置であって、
前記光分解手段と前記光合成手段との間に配置される偏向部材として、
基板上の少なくとも一面に、第１の酸化アルミニウム層と、銀層または銀合金層と、第２の酸化アルミニウム層と、フッ化マグネシウム層と、チタン酸化物層またはタンタル酸化物層またはチタンとランタンとの複合酸化物層とが、前記基板側から順に積層された表面鏡を有することを特徴とする投影型表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の投影型表示装置において、
前記表面鏡は、前記チタン酸化物層または前記タンタル酸化物層または前記複合酸化物層の上に、第３の酸化アルミニウム層が積層された表面鏡であることを特徴とする投影型表示装置。
【請求項３】
光源からの光を透過させる波長範囲を経時変化させる透過波長変更手段と、
デジタルミラーデバイスと、
デジタルミラーデバイスで反射された光を投影する投影レンズを有する投射型表示装置であって、
前記透過波長変更手段と前記デジタルミラーデバイスとの間に配置される偏向部材として、
基板上の少なくとも一面に、第１の酸化アルミニウム層と、銀層または銀合金層と、第２の酸化アルミニウム層と、フッ化マグネシウム層と、チタン酸化物層またはタンタル酸化物層またはチタンとランタンとの複合酸化物層とが、前記基板側から順に積層された表面鏡を有することを特徴とする投影型表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の投影型表示装置において、
前記表面鏡は、前記チタン酸化物層または前記タンタル酸化物層または前記複合酸化物層の上に、第３の酸化アルミニウム層が積層された表面鏡であることを特徴とする投影型表示装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の投影型表示装置において、
前記表面鏡は、パイプ状の反射部材の内面に配置される反射鏡として配置されていることを特徴とする投影型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投射型表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
投射型表示装置として反射型ライトバルブ、透過型ライトバルブ、デジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）等を使用したものが知られている。これらの投射型表示装置では、光源からの光を効率よく引き回すために光路中に反射部材が使用されている。このような装置に使用される反射部材としては、広い波長範囲で反射率が高く、さらに高出力の光源を使用した場合でも耐久性が良いことが要求される。
【０００３】
このような反射部材として、銀層を設け可視光域における反射率を高めた表面鏡が知られている（例えば特許文献１,２参照）。
【特許文献１】特開平６−３１３８０３号公報
【特許文献２】特開平８−２３４００４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
可視域での色の再現性及び光源の利用効率が良く、長期間使用してもが画質が低下しない投射型表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に記載の投射型表示装置は、
光源からの光を複数の色の光に分解する光分解手段と、前記光分解手段によって分解された各色の光ごとに配置された複数のライトバルブと、前記複数のライトバルブからの光を色合成する光合成手段と、前記光合成手段により合成された光を投影する投影レンズとを有する投射型表示装置であって、前記光分解手段と前記光合成手段との間に配置される偏向部材として、基板上の少なくとも一面に、第１の酸化アルミニウム層と、銀層または銀合金層と、第２の酸化アルミニウム層と、フッ化マグネシウム層と、チタン酸化物層またはタンタル酸化物層またはチタンとランタンとの複合酸化物層とが、前記基板側から順に積層された表面鏡を有することを特徴とする投影型表示装置である。
【０００６】
請求項２に記載の投射型表示装置は、請求項１に記載された投射型表示装置の表面鏡を、前記チタン酸化物層または前記タンタル酸化物層または前記複合酸化物層の上に、第３の酸化アルミニウム層が積層された表面鏡とした投影型表示装置である。
【０００７】
請求項３に記載の投射型表示装置は、光源からの光を透過させる波長範囲を経時変化させる透過波長変更手段と、デジタルミラーデバイスと、デジタルミラーデバイスで反射された光を投影する投影レンズを有する投射型表示装置であって、前記透過波長変更手段と前記デジタルミラーデバイスとの間に配置される偏向部材として、基板上の少なくとも一面に、第１の酸化アルミニウム層と、銀層または銀合金層と、第２の酸化アルミニウム層と、フッ化マグネシウム層と、チタン酸化物層またはタンタル酸化物層またはチタンとランタンとの複合酸化物層とが、前記基板側から順に積層された表面鏡を有することを特徴とする投影型表示装置である。
【０００８】
請求項４に記載の投影型表示装置は、請求項３に記載の投射型表示装置の表面鏡を、前記チタン酸化物層または前記タンタル酸化物層または前記複合酸化物層の上に、第３の酸化アルミニウム層が積層された表面鏡とした投影型表示装置である。
【０００９】
請求項５に記載の投射型表示装置は、請求項３又は４に記載の投影型表示装置において、前記表面鏡は、パイプ状の反射部材の内面に配置される反射鏡として配置されていることを特徴とする投影型表示装置である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、可視域での反射率が高く耐久性に優れた表面鏡を使用することによって、長期間に渡り色の再現性及び光源の利用効率がよい投射型表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を用いて本発明の実施形態を説明する。まず、投射型表示装置に用いる表面鏡について説明し、次に、この表面鏡を使用した投射型表示装置の例を説明する。
【実施例１】
【００１２】
本実施形態の表面鏡１０は、図１に示すように、ガラス基板１１の上面に反射膜(１２
〜１６)が形成されたものである。反射膜(１２〜１６)は、ガラス基板１１側から順に、
第１の酸化アルミニウム層１２と、銀層１３と、第２の酸化アルミニウム層１４と、フッ化マグネシウム層１５と、複合酸化物層１６とが積層された５層構造である。
【００１３】
反射膜(１２〜１６)のうち、酸化アルミニウム層１２,１４は、基板１１と反射膜(１２〜１６)との密着性を高めるために設けた層である。第１の酸化アルミニウム層１２の膜
厚は２００Åである。第２の酸化アルミニウム層１４の膜厚は４０Åである。
【００１４】
銀層１３は、膜厚が１５００Åである。銀層１３を反射膜(１２〜１６)の中に設けたことにより、可視光域（例えば波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲）における反射率を高めることができる。
【００１５】
フッ化マグネシウム層１５は、低屈折率の蒸着物質（屈折率は１.３８５）であり、膜
厚が６００Åである。
複合酸化物層１６は、二酸化チタンと酸化ランタンとの複合酸化物からなり、高屈折率の蒸着物質（屈折率は約１.９〜２.６）である。また、膜厚は５００Å、代表的な組成はＬａ2Ｔｉ2Ｏ7-X（ただし０.３≦Ｘ≦０.７）である。
【００１６】
本実施形態の表面鏡１０では、銀層１３の上に第２の酸化アルミニウム層１４とフッ化マグネシウム層１５と複合酸化物層１６とを順に積層したことにより、これらの層(１４,１５,１６)が銀層１３の有効な保護膜として機能する。その結果、耐久性が向上し、なおかつ、反射率が向上する。耐久性の試験結果については後で具体的に説明する。
【００１７】
次に、表面鏡１０の製造方法を説明する。
表面鏡１０を製造するに当たっては、図２の真空蒸着装置２０が用いられる。真空蒸着装置２０は、イオンビームアシスト蒸着法（ＩＡＤ法；Ion beam Assisted Deposition method）により成膜を行う装置である。
【００１８】
真空蒸着装置２０の真空チャンバ２１の内部（真空雰囲気中）には、ガラス基板１１を保持する回転機構２２と、蒸発源２３と、イオンアシスト用のＡｒイオン源２４とが配置される。真空チャンバ２１の外部には、膜厚モニタ用の光源２５とセンサ２６とが配置される。また、真空チャンバ２１には、酸素ガス（Ｏ2）の供給に用いられるガス管２７と、真空引き用の排気口２８とが設けられる。
【００１９】
蒸発源２３は、成膜材料を入れるボートと電子銃とで構成される。ボート内の成膜材料に電子銃からの電子ビーム（ｅ-）を照射することで、成膜材料を加熱蒸発させ、ガラス
基板１１に向けて飛散させることができる。
【００２０】
表面鏡１０の製造時には、予め用意されたガラス基板１１の上面に対し、蒸発源２３から成膜材料を飛散させる工程と、Ａｒイオン源２４から引き出されたＡｒイオンのビームを照射する工程とが、並行して行われる。その結果、ガラス基板１１には、第１の酸化アルミニウム層１２と、銀層１３と、第２の酸化アルミニウム層１４と、フッ化マグネシウム層１５と、複合酸化物層１６とが順に積層され、反射膜(１２〜１６)が形成される。
【００２１】
このように、ＩＡＤ法を用い、Ａｒイオンのビームをガラス基板１１に照射することにより、密着性の良い反射膜(１２〜１６)を形成できる。したがって、銀層１３の劣化を確実に防止できる。ちなみに、銀層１３は耐熱温度が低く、出来るだけ低温での成膜が望まれる。銀層１３の耐熱温度を考慮すると、成膜温度は常温から１００℃以下が好ましい。本実施形態では成膜中にガラス基板１１の温度を測定し、その基板温度が１００℃以下となるようにした。
【００２２】
次に、本実施形態の表面鏡１０の反射率分光特性を説明する。ここでは、波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲（可視光域）で測定を行った。入射角の範囲は、０°〜６０°である。入射角０°は、反射膜(１２〜１６)に対して垂直な方向とする。
【００２３】
表面鏡１０の反射率分光特性を測定した結果のうち、入射角１２°と４５°の結果を図３に例示する。図３は、横軸が波長(ｎｍ)、縦軸が反射率(％)である。入射角１２°の結果は実線、入射角４５°の結果は点線で示した。また、比較例として、図４に、ガラス基板に銀層のみを設けた場合（保護膜なし）の反射率分光特性を示す。
【００２４】
図３,図４を比較すると分かるように、表面鏡１０の反射率(図３）は、特に低波長域（４５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲）で高く、図４に対して１％以上増加している。また、表面鏡１０の反射率は、波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で、ほぼ一定の値を示している。つまり、表面鏡１０では、反射率が広帯域に優れている。
【００２５】
さらに、波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍにおける平均反射率を比較すると、図３の表面鏡１０は９８.７％、図４の比較例は９７.４％であり、表面鏡１０の平均反射率が非常に高いことが分かる。
【００２６】
また、上記の傾向は、図３に例示した入射角１２°と４５°に限らず、測定した入射角０°〜６０°の全範囲に共通であった。つまり、本実施形態の表面鏡１０では、入射角が０°〜６０°の範囲で変化しても、反射率分光特性を一定に保つことができる。ちなみに、入射角０°〜６０°における波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍの平均反射率は９８％であった。
【００２７】
したがって、本実施形態の表面鏡１０を用いた装置では、表面鏡１０の配置が外乱により微小変動し、表面鏡１０に対する光の入射角が変化した場合でも、表面鏡１０の反射率分光特性は変化しないため、設計通りのスペックを保持することが可能となる。
【００２８】
次に、本実施形態の表面鏡１０の耐久性について説明する。
ここでは、高温耐久試験と低温耐久試験と湿度耐久試験と超高温耐久試験と密着性耐久試験とを行った。何れの場合にも、試験前後の各々で、表面鏡１０の外観検査（目視での変色や剥離やクラックの検査）と、反射率分光特性の測定（波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍ,入射角０°〜６０°）を行い、試験前後での変化を確認した。
【００２９】
まず、表面鏡１０の高温耐久試験と、その結果について説明する。高温耐久試験は、温度７１℃の室内に５時間放置した後、常温に戻し、さらに２時間放置することにより行われる。試験条件はＭＩＬ規格に準じたものである。
【００３０】
この試験の前後における外観検査と反射率分光特性（例えば図５,図６）の結果を比較
したところ、ほとんど変化がみられなかった。図５は入射角１２°での試験前後の測定結果の例、図６は入射角４５°での測定結果の例である。また、図５,図６の実線が試験前、点線が試験後の結果に対応する。これらの結果から、表面鏡１０は高温に対して非常に耐久性があると分かる。
【００３１】
次に、表面鏡１０の低温耐久試験と、その結果について説明する。低温耐久試験は、温度−６２℃の室内に５時間放置した後、常温に戻し、さらに２時間放置することにより行われる。試験条件は、ＭＩＬ規格に準じたものである。
【００３２】
この試験の前後における外観検査と反射率分光特性（例えば図７,図８）の結果を比較したところ、ほとんど変化がみられなかった。図７は入射角１２°での試験前後の測定結果の例、図８は入射角４５°での測定結果の例である。また、図７,図８の実線が試験前、点線が試験後の結果に対応する。これらの結果から、表面鏡１０は低温に対して非常に耐久性があると分かる。
【００３３】
次に、表面鏡１０の湿度耐久試験と、その結果について説明する。湿度耐久試験は、温度４９℃で湿度９５％の室内に２４時間放置した後、常温に戻し、さらに２時間放置することにより行われる。試験条件は、ＭＩＬ規格に準じたものである。
【００３４】
この試験の前後における外観検査と反射率分光特性（例えば図９,図１０）の結果を比較したところ、ほとんど変化がみられなかった。図９は入射角１２°での試験前後の測定結果の例、図１０は入射角４５°での測定結果の例である。また、図９,図１０の実線が試験前、点線が試験後の結果に対応する。これらの結果から、表面鏡１０は湿度に対して非常に耐久性があると分かる。
【００３５】
次に、表面鏡１０の超高温耐久試験と、その結果について説明する。超高温耐久試験は、温度２５０℃の室内に１６８時間放置した後、常温に戻し、さらに２時間放置することにより行われる。
【００３６】
この試験の前後における外観検査と反射率分光特性（例えば図１１,図１２）の結果を比較したところ、ほとんど変化がみられなかった。図１１は入射角１２°での試験前後の測定結果の例、図１２は入射角４５°での測定結果の例である。また、図１１,図１２の実線が試験前、点線が試験後の結果に対応する。これらの結果から、表面鏡１０は超高温に対して非常に耐久性があると分かる。
【００３７】
次に、表面鏡１０の密着性耐久試験と、その結果（例えば図１３）について説明する。密着性耐久試験は、約２５ｍｍの長さの無色透明なテープ（幅は１２〜１３ｍｍ，密着力は９.８Ｎ(２５ｍｍ当たり)）を使用し、これを表面鏡１０に貼り付けた後、剥離することにより行われる。テープ剥離の早さは、図１３に示す３通りである。試験条件は、ＩＳＯ国際規格（ＩＳＯ９２１１）に準じたものである。
【００３８】
この試験における結果（図１３）を比較したところ、変化が観られなかった。つまり、テープ剥離の早さに拘わらず、表面鏡１０の反射膜(１２〜１６)に剥離や割れや膨れなどの痕跡が現れることはなかった。この結果から、表面鏡１０は密着性に対して耐久性があると分かる。
【００３９】
ここで、比較例として、ガラス基板に銀層のみを設けた場合（保護膜なし）の耐久試験を行い、試験後に反射率分光特性を測定した結果（図１４）について簡単に説明する。この耐久試験は、常温で大気中に放置することにより行われた。銀層のみの構成（保護膜なし）では、試験前後の反射率分光特性を比較して、耐久試験後に大きく劣化することが分かる。反射率の減少分は、２％以上と非常に大きい。
【００４０】
上記のことから、本実施形態の表面鏡１０は、高温・低温・湿度・超高温・密着性の何れに対しても非常に耐久性があると分かった。つまり、本実施形態の表面鏡１０は、可視光域（例えば波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲）における反射率分光特性が高いだけでなく、耐久性に優れた（反射率の低下を防ぐことができる）ものである。
（変形例）
なお、上記した実施形態では、ガラス基板１１に５層構造の反射膜(１２〜１６)が形成された表面鏡１０を例に説明したが、図１５に示す表面鏡３０のように、複合酸化物層１６の上に、第３の酸化アルミニウム層１７を積層し、６層構造の反射膜(１２〜１７)とすることもできる。この場合、第３の酸化アルミニウム層１７は、中間屈折率の蒸着物質（屈折率は１.６１５）であり、膜厚が１００Åである。第３の酸化アルミニウム層１７の成膜もイオンビームアシスト蒸着法により行われる。このため、密着性の良い反射膜(１２〜１７)を形成できる。
【００４１】
さらに、各層の膜厚は次のように設定できる。第１の酸化アルミニウム層１２の膜厚は、２００Å〜１０００Åの範囲内で任意の値に設定することができる。銀層１３の膜厚は、１０００Å〜２０００Åの範囲内で任意の値に設定することができる。第２の酸化アルミニウム層１４の膜厚は、１０Å〜２００Åの範囲内で任意の値に設定することができる。フッ化マグネシウム層１５の膜厚は、４００Å〜１０００Åの範囲内で値の任意に設定することができる。複合酸化物層１６の膜厚は、３００Å〜１０００Åの範囲内で任意の値に設定することができる。
【００４２】
なお、第１の酸化アルミニウム層１２の膜厚が２００Åより薄く、第２の酸化アルミニウム層１４の膜厚が１０Åより薄いと、ガラス基板１１との密着力が低下してしまう。銀層１３の膜厚が１０００Åより薄いと、反射率が低下してしまう。フッ化マグネシウム層１５の膜厚が４００Åより薄く、複合酸化物層１６の膜厚が３００Åより薄いと、所望の光学特性を得ることができない。
【００４３】
また、図１５の表面鏡３０の第３の酸化アルミニウム層１７の膜厚は、１０Å〜２００Åの範囲内で任意の値に設定することができる。なお、第３の酸化アルミニウム層１７の膜厚が２００Åより厚くなると、所望の光学特性を得ることができない。
【００４４】
さらに、銀層１３に代えて、銀合金層を用いても良い。銀合金層の膜厚は、１０００Å〜２０００Åの範囲内で任意の値に設定することができ、１５００Åが好ましい。
また、複合酸化物層１６に代えて、チタン酸化物層またはタンタル酸化物層を用いても良い。チタン酸化物層またはタンタル酸化物層の膜厚は、３００Å〜１０００Åの範囲内で任意の値に設定することができ、５００Åが好ましい。
【００４５】
さらに、上記した実施形態では、イオンビームアシスト蒸着法により成膜する例を説明したが、イオンプレーティング法などのイオンの効果を利用した蒸着法により成膜する場合でも、密着性の良い反射膜を形成できる。
【実施例２】
【００４６】
本実施形態は、第１実施形態の表面鏡を投射型表示装置の表面鏡として使用した例である。図１６は反射型ライトバルブを用いた投射型表示装置の構成図である。光源３１から発した白色光は、クロスダイクロイックミラー３２に入射する。クロスダイクロイックミラー３２は、赤と緑の光を反射し青の光を透過する特性を有するダイクロイックミラー面と、赤と緑の光を透過し青の光を反射する特性を有するダイクロイックミラー面とが直交するように配置され、入射した白色光は、入射光に垂直で、互いに反対方向に進行する青光と、赤光と緑光の混合光に色分解される。
【００４７】
赤光と緑光の混合光は表面鏡３３で反射し、赤光を透過し緑光を反射するダイクロイックミラー３５に入射し、赤光と緑光に色分解される。表面鏡３３は第１実施形態１の表面鏡１０と同じ構成を持つものであり、表面鏡に対して４５°の角度で入射した赤光と緑光の混合光を９８％以上反射する。また、クロスダイクロイックミラー３２から出射した青光は表面鏡３４に４５°の入射角で入射し、９８％以上の反射率で偏光ビームスプリッタ４０に入射する。
【００４８】
このように赤、緑、青の３つに色分解され光はそれぞれ、各色ごとに設けられた偏光ビームスプリッタ（３６、３８、４０）の偏光分離面で反射してそれぞれの色ごとに設けられた反射型ライトバルブ（３７、３９、４１）に入射する。それぞれの反射型ライトバルブで反射された赤、緑、青の３つ光は反射型ライトバルブの画像情報を持つ光として再度偏光ビームスプリッタ（３６、３８、４０）に入射して検光される。検光された各色光は、クロスダイクロイックプリズム４２に入射する。クロスダイクロイックプリズム４２は、緑光を透過し赤光を反射するダイクロイックミラー面と、緑光を透過し青光を反射するダイクロイックミラー面とが直交するように配置された4つの直角プリズムから構成されており、赤光と青光が反射され、緑光が透過することによって３色の光が色合成される。色合成された光は投影レンズ４３によって図示しないスクリーン上に画像を表示する。
【００４９】
本実施形態では、表面鏡３３と表面鏡３４を使用し98％以上の高い反射率で反射することにより、明るい画像を投影させ、光源の光利用効率を向上させる。さらに、３色の波長範囲で98％以上の反射率となっているため、色による輝度の差がなく、色の再現性が良い。
【実施例３】
【００５０】
図１７はライトバルブとして液晶パネルを用いた投射型表示装置である。本実施形態では、第１実施形態の表面鏡を表面鏡５４、５５、５６として３枚使用した例である。
光源５１から発した白色光は、青光を反射し赤と緑の光を透過するダイクロイックミラー５２に入射し、青光と赤と緑の混合光とに色分解される。赤と緑の混合光は、緑光を反射し赤光を透過するダイクロイックミラー５３により、赤光と緑光とに色分解される。
【００５１】
青光は表面鏡５４で反射され液晶パネル５９を透過し、画像情報を持つ青光としてクロスダイクロイックプリズム６０に入射する。緑光は液晶パネル５８を透過し、画像情報を持つ緑光としてクロスダイクロイックプリズム６０に入射する。また、赤光は表面鏡５５、５６で順次反射された後に液晶パネル５７を透過し、画像情報を持つ赤光としてクロスダイクロイックプリズム６０に入射する。クロスダイクロイックプリズム６０に入射した赤、青、緑の光は色合成され投影レンズ６１を介して、図示しないスクリーン上に画像を表示する。
【００５２】
本実施形態では、表面鏡５４、５５、５６を使用し98％以上の高い反射率で反射することにより、明るい画像を投影させ、光源の光利用効率を向上させる。さらに、３色の波長範囲で98％以上の反射率となっているため、色による輝度の差がなく、色の再現性が良い
【実施例４】
【００５３】
本実施形態はデジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）を用いた投射型表示装置である。パイプ状の表面鏡の内面と、光路を折り曲げる表面鏡に第１実施形態の表面鏡が使用された例である。光源７１から発した白色光は集光レンズ７２により集光され、回転するカラーホイール７３により、パイプ状表面鏡７４に導かれる光の波長が赤、青、緑の順に経時変化する。カラーホイールを透過した各色の光はパイプ状表面鏡７４に入射する。光軸に対して角度を持ってパイプ状表面鏡７４に入射した光は、内面に設けられた表面鏡で反射を繰り返すことにより、光束の断面内での光強度が均一化され、パイプ状表面鏡７４から出射される。さらに表面鏡７５により折り曲げられＤＭＤ７６に導かれる。ＤＭＤ７６で反射された赤、青、緑の光は画像情報を持つ光として投影レンズ７７により図示しないスクリーン上に画像を表示する。
【００５４】
本実施形態ではパイプ状表面鏡７４の反射率が98％と高いために、反射による強度の低下が少なく効率よくＤＭＤに導かれる。このように、本発明の表面鏡は広い波長範囲に渡り高い反射率を有しているため、色の再現性と効率が要求される投射型表示装置の光学系の一部として使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本実施形態の表面鏡１０の構成を示す断面図である。
【図２】真空蒸着装置２０の構成を示す概略図である。
【図３】表面鏡１０の反射率分光特性を示す図である。
【図４】比較例の反射率分光特性を示す図である。
【図５】表面鏡１０の高温耐久試験前後の反射率分光特性（入射角１２°）を示す図である。
【図６】表面鏡１０の高温耐久試験前後の反射率分光特性（入射角４５°）を示す図である。
【図７】表面鏡１０の低温耐久試験前後の反射率分光特性（入射角１２°）を示す図である。
【図８】表面鏡１０の低温耐久試験前後の反射率分光特性（入射角４５°）を示す図である。
【図９】表面鏡１０の湿度耐久試験前後の反射率分光特性（入射角１２°）を示す図である。
【図１０】表面鏡１０の湿度耐久試験前後の反射率分光特性（入射角４５°）を示す図である。
【図１１】表面鏡１０の超高温耐久試験前後の反射率分光特性（入射角１２°）を示す図である。
【図１２】表面鏡１０の超高温耐久試験前後の反射率分光特性（入射角４５°）を示す図である。
【図１３】表面鏡１０の密着性耐久試験の結果を示す図である。
【図１４】比較例の反射率分光特性を示す図である。
【図１５】変形例の表面鏡３０の構成を示す断面図である。
【図１６】第２実施形態の投射型表示装置の構成を示す概略図である。
【図１７】第３実施形態の投射型表示装置の構成を示す概略図である。
【図１８】第４実施形態の投射型表示装置の構成を示す概略図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０，３０，４０，５０  表面鏡
１１  ガラス基板
１２  第１の酸化アルミニウム層
１３  銀層
１４  第２の酸化アルミニウム層
１５  フッ化マグネシウム層
１６  複合酸化物層
１７  第３の酸化アルミニウム層
３０投射型表示装置
３１光源
３２、３５  クロスダイクロイックミラー
３３、３４  表面鏡
３５ダイクロイックミラー
３６、３８、４０  偏光ビームスプリッタ
３７、３９、４１  反射型ライトバルブ
４２クロスダイクロイックプリズム
４３投影レンズ
５１光源
５２、５３  ダイクロイックミラー
５４、５５、５６  表面鏡
５７、５８、５９液晶パネル
６０  クロスダイクロイックプリズム
６１  投影レンズ
７１  光源
７２  集光レンズ
７３  カラーホイール
７４  パイプ状表面鏡
７５  表面鏡
７６ＤＭＤ
７７投射レンズ
【図１】
2006208775.tif 000003
【図２】
2006208775.tif 000004
【図３】
2006208775.tif 000005
【図４】
2006208775.tif 000006
【図５】
2006208775.tif 000007
【図６】
2006208775.tif 000008
【図７】
2006208775.tif 000009
【図８】
2006208775.tif 000010
【図９】
2006208775.tif 000011
【図１０】
2006208775.tif 000012
【図１１】
2006208775.tif 000013
【図１２】
2006208775.tif 000014
【図１３】
2006208775.tif 000015
【図１４】
2006208775.tif 000016
【図１５】
2006208775.tif 000017
【図１６】
2006208775.tif 000018
【図１７】
2006208775.tif 000019
【図１８】
2006208775.tif 000020