(57)【要約】【課題】  液滴を乾燥することによって形成するパターンの組成プロファイルを所望の組成プロファイルに制御する液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。【解決手段】  着色層領域２３の反Ｙ矢印方向にのみ鋭いピークを有し、その照射強度の最大値が、着色層形成材料と分散媒の蒸発を十分に抑制し、かつ、対応する液滴内で、着色層形成材料と分散媒の熱対流を誘起させる強度で、第１攪拌プロファイルＢＰ１を成形した。そして、第１攪拌プロファイルＢＰ１から連続して、着色層領域のＹ矢印方向にのみ鋭いピークを有し、その照射強度の最大値が、着色層形成材料と分散媒の蒸発を十分に抑制し、かつ、対応する液滴内で、着色層形成材料と分散媒の熱対流を誘起させる強度で、第２攪拌プロファイルＢＰ２を連続して成形した。【選択図】      図８
2006272294.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン形成材料を含む液滴を基板に吐出する液滴吐出手段と、前記基板に着弾した液滴を乾燥することによってパターンを形成する乾燥手段とを備えた液滴吐出装置において、
前記乾燥手段は、
前記液滴内のパターン形成材料を流動可能にするエネルギーを出力するエネルギー出力手段と、
前記液滴内のパターン形成材料の分布を、前記パターンの組成プロファイルに対応させるためのエネルギープロファイル情報に基づいて、前記エネルギープロファイルを制御するエネルギープロファイル制御手段と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出装置において、
前記組成プロファイルに関する組成プロファイル情報に基づいて、前記エネルギープロファイル情報を決定するエネルギープロファイル情報決定手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項３】
請求項２に記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギープロファイル情報は、異なるエネルギープロファイルを連続して再現させるシーケンスであることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギープロファイル制御手段は、前記エネルギー出力手段からのエネルギーを回折して前記エネルギープロファイルを制御する複数の回折素子を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギープロファイル制御手段は、前記エネルギー出力手段からのエネルギーを変調して前記エネルギーのエネルギープロファイルを制御する空間光変調器を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギープロファイル制御手段は、前記エネルギーの照射位置を、前記液滴に対して、相対的に、静止可能にするエネルギー走査手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギーは、光ビームであることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギーは、コヒーレント光であることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記パターンは、薄膜パターンであって、前記組成プロファイルは、前記薄膜パターンの膜厚分布であることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１０】
パターン形成材料を含む液滴を基板に吐出し、前記基板に着弾した前記液滴を乾燥することによってパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、
前記パターンの組成プロファイルに関する組成プロファイル情報に基づいたエネルギープロファイルのエネルギーを前記液滴に照射し、前記組成プロファイルに対応するように
、前記液滴のパターン形成材料を流動するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１１】
請求項８に記載のパターン形成方法において、
前記エネルギープロファイルを連続して変更し、前記組成プロファイルに対応するように、前記液滴のパターン形成材料を流動するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１２】
請求項８又は９に記載のパターン形成方法において、
前記液滴のパターン形成材料を流動させた後に、前記液滴にエネルギーを照射して、前記液滴を乾燥するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか１つに記載のパターン形成方法において、
前記エネルギーは、光ビームであることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１４】
請求項１０〜１２のいずれか１つに記載のパターン形成方法において、
前記エネルギーは、コヒーレント光であることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１５】
基板の着色層領域に着色層形成材料を含む液滴を吐出し、前記着色層領域に着弾した液滴を乾燥することによって着色層を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
前記着色層を、請求項１０〜１４のいずれか１つに記載のパターン形成方法によって形成するようにしたこと特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１６】
基板の発光素子形成領域に発光素子形成材料を含む液滴を吐出し、前記発光素子形成領域内に着弾した液滴を乾燥することによって発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
前記発光素子を、請求項１０〜１４のいずれか１つに記載のパターン形成方法によって形成するようにしたこと特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１５又は１６に記載の電気光学装置の製造方法によって製造した電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置等に備えられるカラーフィルタの製造工程には、各色の着色層形成材料を含む液体を、隔壁で囲まれた着色層領域に吐出し、吐出した液体を乾燥することによって着色層を形成する、いわゆる液相プロセスが利用されている。
【０００３】
なかでも、液相プロセスにおけるインクジェット法は、前記着色層領域に、前記液体を微小液滴として吐出し、その微小液滴を乾燥することによって着色層を形成している（例えば、特許文献１）。そのため、インクジェット法は、使用する液体の容量を他の液相プロセス（例えば、スピンコート法やディスペンサ法）に比べて低減することができ、しかも、着色層の形成位置を、より高い精度で制御できる。
【特許文献１】特開２００４−３４１１１４  号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記するインクジェット法では、前記微小液滴の乾燥過程において、その微小液滴内の着色層形成材料の濃度分布が、微小液滴の粘度や着色層領域に対する接触角、さらには着色層形成材料の濃度等に応じて変動する。その結果、乾燥後の着色層の膜厚を、所望の膜厚分布に制御できない問題があった。
【０００５】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、液滴を乾燥することによって形成するパターンの組成プロファイルを所望の組成プロファイルに制御する液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の液滴吐出装置は、パターン形成材料を含む液滴を基板に吐出する液滴吐出手段と、前記基板に着弾した液滴を乾燥することによってパターンを形成する乾燥手段とを備えた液滴吐出装置において、前記乾燥手段は、前記液滴内のパターン形成材料を流動可能にするエネルギーを出力するエネルギー出力手段と、前記液滴内のパターン形成材料の分布を、前記パターンの組成プロファイルに対応させるためのエネルギープロファイル情報に基づいて、前記エネルギープロファイルを制御するエネルギープロファイル制御手段と、を備えた。
【０００７】
本発明の液滴吐出装置によれば、組成プロファイル（例えば、膜厚分布、濃度分布、形状分布）に対応したエネルギープロファイル（例えば、照射形状や強度分布等）のエネルギーを照射することによって、液滴のパターン形成材料を、所望の組成プロファイルに対応して流動させることができる。その結果、パターンの組成プロファイルを所望の組成プロファイルに制御することができる。
【０００８】
この液滴吐出装置において、前記組成プロファイルに関する組成プロファイル情報に基づいて、前記エネルギープロファイル情報を決定するエネルギープロファイル情報決定手段を備えてもよい。
【０００９】
この液滴吐出装置によれば、エネルギープロファイル情報決定手段の決定したエネルギープロファイル情報に基づいてエネルギープロファイルを制御するため、所望する組成プロファイルの再現性を向上することができる。
【００１０】
この液滴吐出装置において、前記エネルギープロファイル情報は、異なるエネルギープロファイルを連続して再現させるシーケンスであってもよい。
この液滴吐出装置によれば、異なるエネルギープロファイルのエネルギーをシーケンスで再現する分だけ、流動するパターン形成材料の方向や量を拡大することができる。その結果、制御可能な組成プロファイルの範囲を拡大することができる。
【００１１】
この液滴吐出装置において、前記エネルギープロファイル制御手段は、前記エネルギー出力手段からのエネルギーを回折して前記エネルギープロファイルを制御する複数の回折素子を備えるようにしてもよい。
【００１２】
この液滴吐出装置によれば、複数の回折素子によってエネルギープロファイルを形成する分だけ、より詳細なエネルギープロファイルを再現することができる。その結果、パターンの組成プロファイルを、より高い精度で、所望の組成プロファイルに制御することができる。
【００１３】
この液滴吐出装置において、前記エネルギープロファイル制御手段は、前記エネルギー出力手段からのエネルギーを変調して前記エネルギーのエネルギープロファイルを制御する空間光変調器を備えるようにしてもよい。
【００１４】
この液滴吐出装置によれば、空間光変調器によってエネルギープロファイルを形成する分だけ、より詳細なエネルギープロファイルを再現することができる。その結果、パターンの組成プロファイルを、より高い精度で、所望の組成プロファイルに制御することができる。
【００１５】
この液滴吐出装置において、前記エネルギープロファイル制御手段は、前記エネルギーの照射位置を、前記液滴に対して、相対的に、静止可能にするエネルギー走査手段を備えるようにしてもよい。
【００１６】
この液滴吐出装置によれば、エネルギーの照射位置を、液滴に相対させて維持することができる。その結果、液滴の移動方向等に制約されることなく、動的なエネルギープロファイルのエネルギーを照射することができる。従って、制御可能な組成プロファイルの範囲を拡大することができる。
【００１７】
この液滴吐出装置において、前記エネルギーは、光ビームであってもよい。
この液滴吐出装置によれば、エネルギーを光で構成することにより、液滴の構成材料（例えば、溶媒や分散媒等）に対応させて、その選択範囲を拡大することができる。
【００１８】
この液滴吐出装置において、前記エネルギーは、コヒーレント光であってもよい。
この液滴吐出装置によれば、エネルギーをコヒーレント光で構成することにより、所望の照射形状や照射強度等を、より高い精度で制御することができる。
【００１９】
この液滴吐出装置において、前記パターンは、薄膜パターンであって、前記組成プロファイルは、前記薄膜パターンの膜厚分布であってもよい。
この液滴吐出装置によれば、液滴を乾燥することによって形成する薄膜パターンの膜厚分布の制御性を向上することができる。
【００２０】
本実施形態のパターン形成方法は、パターン形成材料を含む液滴を基板に吐出し、前記基板に着弾した前記液滴を乾燥することによってパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、前記パターンの組成プロファイルに関する組成プロファイル情報に基づいたエネルギープロファイルのエネルギーを前記液滴に照射し、前記組成プロファイルに対応するように、前記液滴のパターン形成材料を流動するようにした。
【００２１】
本実施形態のパターン形成方法によれば、エネルギーの照射によって、組成プロファイルに対応するようにパターン形成材料を流動させることができる。その結果、パターンの組成プロファイルを、所望の組成プロファイルに制御することができる。
【００２２】
このパターン形成方法において、前記エネルギープロファイルを連続して変更し、前記組成プロファイルに対応するように、前記液滴のパターン形成材料を流動するようにした。
【００２３】
このパターン形成方法によれば、エネルギープロファイルを連続して変更する分だけ、流動するパターン形成材料の方向や量を拡大することができる。その結果、制御可能な組成プロファイルの範囲を拡大することができる。
【００２４】
このパターン形成方法において、前記液滴のパターン形成材料を流動させた後に、前記液滴にエネルギーを照射して、前記液滴を乾燥するようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、エネルギーの照射によって液滴を乾燥するため、パターン形成材料を流動させた直後に、液滴を乾燥することができる。その結果、所望の組成プロファイルを、より確実に制御することができる。
【００２５】
このパターン形成方法において、前記エネルギーは、光ビームであってもよい。
このパターン形成方法によれば、エネルギーを光で構成することにより、液滴の構成材料（例えば、溶媒や分散媒等）に対応させて、その選択範囲を拡大することができる。
【００２６】
このパターン形成方法において、前記エネルギーは、コヒーレント光であってもよい。
このパターン形成方法によれば、エネルギーをコヒーレント光で構成することにより、所望の照射形状や照射強度等を、より高い精度で制御することができる。
【００２７】
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板の着色層領域に着色層形成材料を含む液滴を吐出し、前記着色層領域に着弾した液滴を乾燥することによって着色層を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記着色層を、上記のパターン形成方法によって形成するようにした。
【００２８】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、着色層の組成プロファイルを、所望の組成プロファイルに制御することができる。
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板の発光素子形成領域に発光素子形成材料を含む液滴を吐出し、前記発光素子形成領域内に着弾した液滴を乾燥することによって発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記発光素子を、上記のパターン形成方法によって形成するようにした。
【００２９】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、発光素子の組成プロファイルを、所望の組成プロファイルに制御することができる。
本発明の電気光学装置は、上記の電気光学装置の製造方法によって製造するようにした。
【００３０】
本発明の電気光学装置によれば、着色層あるいは発光素子の組成プロファイルを、所望の組成プロファイルに制御することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図１０従って説明する。
まず、本発明の電気光学装置としての液晶表示装置について説明する。図１は液晶表示装置の斜視図、図２は液晶表示装置に備えられたカラーフィルタ基板の斜視図、図３は、図２のＡ−Ａに沿う要部断面図である。
【００３２】
図１において、液晶表示装置１は、液晶パネル２と、前記液晶パネル２に平面状の光Ｌ１を照明する照明装置３を備えている。
照明装置３は、ＬＥＤ等の光源４と、前記光源４から出射された光を透過して平面状の光として前記液晶パネル２に照射する導光体５を備えている。一方、液晶パネル２は、前記照明装置３側に備えられたカラーフィルタ基板１０と前記カラーフィルタ基板１０と相対向する素子基板１１を備え、これらカラーフィルタ基板１０と素子基板１１を貼り合せて、その間隙に、図示しない液晶分子を封入することによって形成されている。
【００３３】
素子基板１１は、四角板状の無アルカリガラス基板であって、その照明装置３側（カラーフィルタ基板１０）側の側面（素子形成面１１ａ）には、Ｘ矢印方向に延びる複数の走査線１２が所定の間隔をおいて形成されている。各走査線１２は、それぞれ素子基板１１の一側端に配設される走査線駆動回路１３に電気的に接続されている。走査線駆動回路１３は、図示しない制御回路からの走査制御信号に基づいて、複数の走査線１２の中から所定の走査線１２を所定のタイミングで選択駆動し、その走査線１２に走査信号を出力するようになっている。
【００３４】
また、素子形成面１１ａには、前記走査線１２と直交するＹ矢印方向に延びる複数のデータ線１４が所定の間隔をおいて形成されている。各データ線１４は、それぞれ素子基板１１の一側端に配設されるデータ線駆動回路１５に電気的に接続されている。データ線駆動回路１５は、図示しない外部装置からの表示データに基づいてデータ信号を生成し、そのデータ信号を対応するデータ線１４に所定のタイミングで出力するようになっている。
【００３５】
前記走査線１２と前記データ線１４の交差する位置には、対応する走査線１２及びデータ線１４に接続されて、ｉ行×ｊ列のマトリックス状に配列される複数の画素領域１６が形成されている。各画素領域１６内には、それぞれＴＦＴ等からなる図示しない制御素子とＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極が形成されている。すなわち、本実施形態の液晶表示装置１は、制御素子であるＴＦＴを備えた、いわゆるアクティブマトリックス方式の液晶表示装置である。
【００３６】
尚、前記走査線１２、データ線１４及び画素領域１６の下側（カラーフィルタ基板１０側）には、素子形成面１１ａの全体にわたり、ラビング処理等による配向処理が施され、液晶分子の配向を設定可能にする図示しない配向膜が形成されている。
【００３７】
図２に示すように、カラーフィルタ基板１０には、無アルカリガラスからなる四角形状の透明ガラス基板２１が備えられている。
図３に示すように、カラーフィルタ基板１０（透明ガラス基板２１）の一側面であって前記素子基板１１と相対向する側面（吐出面２１ａ）には、遮光層２２ａが形成されている。遮光層２２ａは、クロムやカーボンブラック等の遮光性材料を含有する樹脂によって形成され、前記走査線１２及び前記データ線１４と相対する格子状に形成されている。遮光層２２ａの上側には、撥液層２２ｂが形成されている。撥液層２２ｂは、後述する液滴ＦＤ（図６参照）を撥液する撥液性を有したフッ素系樹脂からなる樹脂層であって、液滴
ＦＤ（図６参照）を、後述する着色層領域２３内に収容するためのものである。
【００３８】
そして、これら遮光層２２ａ及び撥液層２２ｂによって、図２に示すように、吐出面２１ａの略全面に格子状の隔壁２２が形成され、この隔壁２２で囲まれる領域（着色層領域２３）が、前記画素領域１６と対峙するように、ｉ行×ｊ列のマトリックス状に配列される。その着色層領域２３は、Ｙ矢印方向の長さが、画素幅ＷＰからなる略正方形状に形成されている。
【００３９】
本実施形態では、最もＹ矢印方向の着色層領域２３から順に、１行目の着色層領域２３、２行目の着色層領域２３、・・・、ｉ行目の着色層領域２３という。
図３に示すように、各着色層領域２３内には、前記照明装置３からの光Ｌ１を透過して有色の光に変換するパターンとしての着色層２４が形成されている。詳述すると、着色層２４は、図２における反Ｘ矢印方向側から順に、赤色の光に変換する赤色着色層２４Ｒ、緑色の光に変換する緑色着色層２４Ｇ、青色の光に変換する青色着色層２４Ｂの順序で繰り返し形成されている。
【００４０】
この着色層２４は、パターン形成材料としての着色層形成材料（例えば、有機顔料）によって形成されている。詳述すると、着色層２４は、後述する液滴吐出装置３０（図４参照）の吐出ノズルＮ（図５参照）から、各色に対応する各色用の着色層形成材料を分散させた微小液滴Ｆｂを、前記着色層領域２３に吐出させ、吐出面２１ａに着弾した微小液滴Ｆｂ（液滴ＦＤ：図６参照）を、後述するエネルギーとしてのレーザビームＢの照射によって攪拌・乾燥させることにより形成されている。
【００４１】
そして、各着色層２４の組成プロファイルとしての膜厚分布は、後述する平坦化シーケンスによって、対応する着色層領域２３内において均一であり、かつ各着色層領域２３間において均一に形成されている。
【００４２】
図３に示すように、各着色層２４の上側には、素子基板１１の前記画素電極に相対向して所定の共通電位の供給される対向電極２５が形成され、その対向電極２５の上側には、対向電極２５近傍の液晶分子の配向を設定可能にする配向膜２６が形成されている。
【００４３】
そして、前記走査線駆動回路１３が、走査線１２を線順次走査に基づき１本ずつ順次選択すると、画素領域１６の制御素子が順次、選択期間中だけオン状態になる。制御素子がオン状態となると、データ線駆動回路１５から出力されるデータ信号が、データ線１４及び制御素子を介して前記画素電極に出力される。すると、素子基板１１の画素電極とカラーフィルタ基板１０の対向電極２５の電位差に応じて、液晶分子の配向状態が、前記照明装置３からの光Ｌ１を変調するように維持される。そして、変調された光が図示しない偏光板を通過するか否かによって、液晶パネル２に、カラーフィルタ基板１０を介した所望するフルカラーの画像が表示される。
【００４４】
次に、前記着色層２４を形成するために使用する液滴吐出装置３０について説明する。図４は、液滴吐出装置３０の構成を示す斜視図である。
図４において、液滴吐出装置３０には、直方体形状に形成される基台３１が備えられている。基台３１は、後述する基板ステージ３３に前記カラーフィルタ基板１０を載置する状態で、その長手方向が、前記Ｙ矢印方向に沿うように形成されている。その基台３１の上面には、Ｙ矢印方向に延びる１対の案内凹溝３２が、Ｙ矢印方向全幅にわたり形成され、前記案内凹溝３２に対応する図示しない直動機構を備えた基板ステージ３３が取付けられている。基板ステージ３３の直動機構は、例えば案内凹溝３２に沿ってＹ矢印方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸がステッピングモータよりなるＹ軸モータＭＹ（図９参照）に連結され
ている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号がＹ軸モータＭＹに入力されると、Ｙ軸モータＭＹが正転又は逆転して、基板ステージ３３が同ステップ数に相当する分だけ、Ｙ矢印方向に沿って所定の速度（搬送速度Ｖｙ）で往動又は復動する（Ｙ矢印方向に移動する）ようになっている。
【００４５】
本実施形態では、図４に示すように、最も反Ｙ矢印方向に位置する基台３１の配置位置を往動位置とし、最もＹ矢印方向の配置位置（図４に示す２点鎖線）を復動位置という。
基板ステージ３３の上面（載置面３４）には、図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、カラーフィルタ基板１０が、前記着色層領域２３を上側にして載置面３４に載置されると、カラーフィルタ基板１０が載置面３４に対して位置決めされるようになっている。この状態から基板ステージ３３を搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に往動すると、基板ステージ３３は、前記着色層領域２３を、搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に移動させるようになっている。
【００４６】
基台３１のＸ矢印方向両側には、一対の支持台３５ａ、３５ｂが立設され、その一対の支持台３５ａ、３５ｂには、Ｘ矢印方向に延びる案内部材３６が架設されている。案内部材３６は、その長手方向の幅が基板ステージ３３のＹ矢印方向の幅よりも長く形成され、その一端が支持台３５ａ側に張り出すように配置されている。この支持台３５ａの張り出した部分の直下には、後述する吐出ヘッドＦＨのノズル形成面４１ａ（図５参照）を払拭して、そのノズル形成面４１ａを洗浄する図示しないメンテナンスユニットが配設されている。
【００４７】
案内部材３６の上側には、収容タンク３７が配設されている。収容タンク３７内には、各色用の着色層形成材料を分散媒（例えば、テトラデカン）に分散させた各色用の着色層形成液Ｆ（図６参照）が、それぞれ対応する各色用の後述する液滴吐出ヘッドＦＨに導出可能に収容されている。
【００４８】
図４に示すように、案内部材３６の下側には、Ｘ矢印方向に延びる上下一対の案内レール３８に対応する図示しない直動機構を備えたキャリッジ３９が取付けられている。キャリッジ３９の直動機構は、例えば案内レール３８に沿ってＹ矢印方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、ステッピングモータよりなるＸ軸モータＭＸ（図９参照）に連結されている。そして、所定のステップ数に相当する駆動信号をＸ軸モータＭＸに入力すると、Ｘ軸モータが正転又は逆転して、キャリッジ３９が同ステップ数に相当する分だけＸ矢印方向に沿って往動又は復動する（Ｘ矢印方向に移動する）ようになっている。
【００４９】
本実施形態では、図４に示すように、最も支持台３５ａ側（反Ｘ矢印方向側）に位置するキャリッジ３９の配置位置を往動位置とし、最も支持台３５ｂ側（Ｘ矢印方向側）に位置する配置位置（図４に示す２点鎖線）を復動位置という。
【００５０】
図４に示すように、そのキャリッジ３９の下側には、前記各着色層２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂに対応する各色用（赤色用、緑色用、青色用）の液滴吐出手段としての複数の液滴吐出ヘッド（以下単に、吐出ヘッドＦＨという。）がＸ矢印方向に沿って配設されている。図５は、その吐出ヘッドＦＨの下面（基板ステージ３３側の面）を上方に向けた場合の斜視図を示す。図６は、その吐出ヘッドＦＨの内部構造を説明するための要部断面図である。
【００５１】
図５において、吐出ヘッドＦＨには、その下側にノズルプレート４１が備えられ、そのノズルプレート４１の下面（ノズル形成面４１ａ）には、後述する微小液滴Ｆｂを吐出するための１８０個のノズルＮが、Ｘ矢印方向に一列となって等間隔に貫通形成されている
。そのノズルＮの形成ピッチの幅は、前記着色層領域２３の形成ピッチと同じ大きさで形成されて、カラーフィルタ基板１０（着色層領域２３）がＹ矢印方向に沿って往復直線移動するときに、各ノズルＮが、着色層領域２３と対峙するようになっている。各ノズルＮの形成方向は、ノズル形成面４１ａに対して垂直であって、カラーフィルタ基板１０の法線方向（Ｚ矢印方向）に沿って形成されて、吐出する微小液滴Ｆｂ（図６参照）を反Ｚ矢印方向に沿って飛行させるようになっている。
【００５２】
図６において、各ノズルＮのＺ矢印方向には、それぞれ圧力室としてのキャビティ４２が形成されている。キャビティ４２は、対応する連通孔４３及び各連通孔４３に共通する供給路４４を介して、前記収容タンク３７に連通し、収容タンク３７の導出する対応した色用の着色層形成液Ｆが、導入されるようになっている。そして、キャビティ４２は、導入された着色層形成液Ｆを、それぞれ対応するノズルＮに供給するようになっている。
【００５３】
キャビティ４２のＺ矢印方向には、振動板４５が備えられている。振動板４５は、Ｚ矢印方向及び反Ｚ矢印方向に振動可能に貼り付けられ、キャビティ４２内の容積を拡大・縮小するようになっている。振動板４５のＺ矢印方向には、各ノズルＮに対応する１８０個の圧電素子ＰＺが配設されている。圧電素子ＰＺは、その圧電素子ＰＺを駆動制御するための信号（圧電素子駆動信号ＣＯＭ１：図９参照）を受けて収縮・伸張し、前記振動板４５を、Ｚ矢印方向及び反Ｚ矢印方向に振動させるようになっている。
【００５４】
そして、圧電素子ＰＺが収縮・伸張すると、キャビティ４２内の容積が拡大・縮小し、縮小した容積に対応する着色層形成液Ｆが、ノズルＮから微小液滴Ｆｂとして吐出される。吐出された微小液滴Ｆｂは、ノズルＮの直下に位置する吐出面２１ａに着弾する。
【００５５】
本実施形態では、各着色層領域２３内であって、前記微小液滴Ｆｂの着弾する位置を、目標吐出位置Ｐａという。尚、本実施形態では、各目標吐出位置Ｐａに、複数の微小液滴Ｆｂを吐出させ、各着色層領域２３内に、前記微小液滴Ｆｂの合一した液滴ＦＤを形成するようにしている。
【００５６】
図４において、キャリッジ３９の下側であって、各吐出ヘッドＦＨのＹ矢印方向側には、それぞれ乾燥手段を構成するレーザヘッドＬＨが併設されている。図５に示すように、レーザヘッドＬＨの下面であって、各ノズルＮのＸ矢印方向には、各ノズルＮに対応する１８０個の出射口４７が形成されている。
【００５７】
図６に示すように、レーザヘッドＬＨの内部には、前記出射口４７に対応する半導体レーザアレイＬＤが備えられている。半導体レーザアレイＬＤは、その半導体レーザアレイＬＤを駆動制御するための信号（レーザ駆動信号ＣＯＭ２：図９参照）を受けて、前記着色層形成液Ｆ（液滴ＦＤ）を攪拌・乾燥可能にする波長領域のレーザビームＢを出力する。
【００５８】
レーザヘッドＬＨの内部であって、前記半導体レーザアレイＬＤの出射口４７側には、前記半導体レーザアレイＬＤ側から順に、エネルギープロファイル制御手段を構成する位相変調部４８、シリンドリカルレンズＬｚ１、エネルギー走査手段を構成するポリゴンミラー４９及び走査レンズＬｚ２が配設されている。
【００５９】
位相変調部４８は、機械的あるいは電気的に駆動する複数の回折素子、あるいは液晶等の空間光変調器によって構成され、位相変調部４８を駆動制御するための信号（位相変調部駆動信号ＣＯＭ３：図９参照）を受けて、半導体レーザアレイＬＤからのレーザビームＢに、予め設定された所定の位相変調を施すようになっている。詳述すると、位相変調部４８は、後述する複数のビームプロファイル成形情報ＢＰＩ（図９参照）（第１攪拌プロ
ファイル成形情報ＢＰＩ１及び第２攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ２）に基づいて、各ビームプロファイル成形情報ＢＰＩに対応する位相変調を施す。そして、位相変調部４８は、後述するエネルギープロファイル情報としてのビームプロファイルシーケンスＢＰＳ（図９参照）に基づくタイミングで、前記位相変調を切り替える。
【００６０】
シリンドリカルレンズＬｚ１は、Ｚ矢印方向にのみ曲率を有するレンズであって、ポリゴンミラー４９の面倒れを補正して、レーザビームＢをポリゴンミラー４９に導入するようになっている。ポリゴンミラー４９は、正三十六角形を構成する位置に配置された３６枚の反射面Ｍを有し、これらの反射面Ｍを、ポリゴンモータ（図９参照）によって、図６に示す矢印Ｒ方向に回転させるようになっている。すなわち、本実施形態のポリゴンミラー４９は、その回転角θｐが矢印Ｒ方向に１０°回転する毎に、レーザビームＢの導入される反射面Ｍが、後続する反射面Ｍに切り替わるようになっている。走査レンズＬｚ２は、ポリゴンミラー４９によって反射偏向されたレーザビームＢの吐出面２１ａでの走査速度を一定に制御する、いわゆるｆθレンズである。
【００６１】
本実施形態では、図６に示すように、シリンドリカルレンズＬｚ１からのレーザビームＢが、ポリゴンミラー４９の反射面Ｍ（反射面Ｍａ）の矢印Ｒ方向側端部に導入される状態であって、反射偏向されたレーザビームＢの偏向角が、走査レンズＬｚ２の光軸ＬｚＡを基準として、偏向角θ１（本実施形態では５°）だけ偏向されるときを、ポリゴンミラー４９の回転角θｐが０°であるという。
【００６２】
そして、ポリゴンミラー４９の回転角θｐが０°のときに、前記半導体レーザアレイＬＤ及び前記位相変調部４８に、それぞれレーザ駆動信号ＣＯＭ２及び位相変調部駆動信号ＣＯＭ３が供給されると、半導体レーザアレイＬＤからのレーザビームＢが、位相変調部４８によって位相変調される。そして、位相変調されたレーザビームＢが、シリンドリカルレンズＬｚ１に導入されると、シリンドリカルレンズＬｚ１は、紙面に直交する方向に対するレーザビームＢの光軸を調整して、レーザビームＢをポリゴンミラー４９に導く。レーザビームＢの導入されたポリゴンミラー４９は、反射面Ｍａによって、レーザビームＢを、光軸ＬｚＡに対する偏向角θ１の方向に反射偏向し、走査レンズＬｚ２を介して、吐出面２１ａ上に導く。吐出面２１ａに導かれたレーザビームＢは、位相変調部４８の位相変調に対応して、所定の強度分布（エネルギープロファイルとしてのビームプロファイル）を有したレーザビーム断面（ビームスポット）を吐出面２１ａ上に形成する。そして、目標吐出位置Ｐａに着弾した液滴ＦＤが、搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に搬送されて、前記ビームスポット内に侵入すると、液滴ＦＤには、反射面Ｍａの偏向反射した所定のビームプロファイルのレーザビームＢが照射される。
【００６３】
本実施形態では、回転角θｐが０°のときに、前記ビームスポットの形成される位置を照射開始位置Ｐｅ１という。また、本実施形態では、図６に示すように、前記照射開始位置Ｐｅ１と前記目標吐出位置Ｐａとの間の距離を照射待機距離Ｌｙ１とし、前記微小液滴Ｆｂの吐出開始時から、その微小液滴Ｆｂ（液滴ＦＤ）が前記照射開始位置Ｐｅ１に到達するまでの時間を、待機時間Ｔという。
【００６４】
続いて、ポリゴンミラー４９が矢印Ｒ方向に回転して、その回転角θｐが略１０°になると、図７に示すように、ポリゴンミラー４９は、前記反射面Ｍａの反矢印Ｒ方向側の端部によって、レーザビームＢを、光軸ＬｚＡに対する偏向角θ２（本実施形態では−５°）の方向に偏向反射し、走査レンズＬｚ２を介して、吐出面２１ａ上に導く。吐出面２１ａに導かれたレーザビームＢは、位相変調部４８の位相変調に対応して、所定のビームプロファイルのビームスポットを吐出面２１ａ上に形成する。
【００６５】
本実施形態では、回転角θｐが略１０°のときに、前記ビームスポットの形成される位
置を照射終了位置Ｐｅ２とし、この照射終了位置Ｐｅ２と前記照射開始位置Ｐｅ１との間の領域を走査領域Ｌｓという。この走査領域ＬｓのＹ矢印方向の幅（走査幅Ｌｙ２）は、着色層領域２３のＹ矢印方向に沿う形成ピッチと同じ幅に設定されている。
【００６６】
つまり、レーザヘッドＬＨは、ポリゴンミラー４９の偏向反射によって、レーザビームＢを、着色層領域２３の単位で、Ｙ矢印方向に沿って、所定の周期（走査周期＝走査幅Ｌｙ２／搬送速度Ｖｙ）で走査する（照射開始位置Ｐｅ１から照射終了位置Ｐｅ２までの移動を繰り返す）ように構成されている。
【００６７】
また、ポリゴンモータＭＰ（図９参照）の回転速度は、各着色層領域２３が、照射開始位置Ｐｅ１から照射終了位置Ｐｅ２まで搬送される間に、レーザビームＢを、一回だけ走査する速度に設定されている。つまり、走査領域Ｌｓを通過する各液滴ＦＤには、レーザビームＢの走査によって、相対的に、その照射位置を静止させたレーザビームＢが照射されるように構成されている。
【００６８】
そして、レーザヘッドＬＨ（半導体レーザアレイＬＤ及び位相変調部４８）は、それぞれ前記レーザ駆動信号ＣＯＭ２及び位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を受けて、前記レーザビームＢの走査周期に同期した周期内に、位相変調部駆動信号ＣＯＭ３に対応したビームプロファイルを成形するようになっている。
【００６９】
次に、本実施形態におけるエネルギープロファイルとしてのビームプロファイルについて以下に説明する。図８及び図９は、ビームプロファイルを説明する説明図である。尚、図８（ａ）において、横軸は、ビームスポットの反Ｙ矢印方向側の端部を基点（ゼロ点）としたＹ矢印方向に沿う相対位置であり、縦軸は、レーザビームＢの照射強度である。図８（ｂ）は、図８（ａ）の実線で示すビームプロファイルに対応した液滴ＦＤの状態を説明する説明図である。図８（ｃ）は、図８（ａ）のビームプロファイルに対応した着色層２４の膜厚分布を示す。
【００７０】
レーザヘッドＬＨは、前記ビームプロファイル成形情報ＢＰＩ（第１攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ１）基づいて、図８（ａ）の実線に示すように、着色層領域２３の反Ｙ矢印方向側にのみ、照射強度の鋭いピークを有したビームプロファイル（第１攪拌プロファイルＢＰ１）を成形する。
【００７１】
第１攪拌プロファイルＢＰ１は、その照射強度の最大値が、前記着色層形成材料と前記分散媒の蒸発を十分に抑制し、かつ、対応する液滴ＦＤ内で、前記着色層形成材料と前記分散媒の熱対流を誘起させる強度に設定されている。尚、第１攪拌プロファイルＢＰ１は、図８（ａ）の紙面に垂直な方向、すなわちＸ矢印方向に沿って、着色層領域２３のＸ矢印方向の全幅にわたり、略同じ照射強度で成形されている。
【００７２】
そして、着色層領域２３に形成した液滴ＦＤに、第１攪拌プロファイルＢＰ１のレーザビームＢが照射されると、図８（ｂ）の矢印で示すように、液滴ＦＤのＹ矢印方向側と反Ｙ矢印方向側に、着色層形成材料と分散媒の熱対流が誘起されようになる。各熱対流の範囲は、光エネルギーの供給される側、すなわち第１攪拌プロファイルＢＰ１のピーク位置側（反Ｙ矢印方向側）で大きくなり、反対に、Ｙ矢印方向側で小さくなる。そのため、レーザビームＢの照射される着色層領域２３内では、前記着色層形成材料が、反Ｙ矢印方向側に偏倚するように流動する（攪拌される）。
【００７３】
尚、この間、第１攪拌プロファイルＢＰ１が、前記着色層形成材料と前記分散媒の蒸発を十分に抑制する強度のレーザビームＢで成形されるため、液滴ＦＤは、その着色層形成材料の硬化が抑制され、その流動性が維持される。
【００７４】
そして、第１攪拌プロファイルＢＰ１のレーザビームＢを照射した後に、前記分散媒を均一に蒸発させるビームプロファイル（乾燥プロファイル）を成形し、乾燥プロファイルのレーザビームＢを、液滴ＦＤに照射する。すると、図８（ｃ）の実線で示すように、前記着色層形成材料が偏倚する側、すなわち着色層領域２３の反Ｙ矢印方向側で、略均一な膜厚を有し、着色層領域２３の中心位置からＹ矢印方向に向かうに連れて、その膜厚を徐々に薄くする組成プロファイル（膜厚分布）の着色層（第１着色層２４ａ）が形成される。
【００７５】
一方、レーザヘッドＬＨは、前記ビームプロファイル成形情報ＢＰＩ（第２攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ２）基づいて、図８（ａ）の破線に示すように、着色層領域２３のＹ矢印方向側にのみ、照射強度の鋭いピークを有したビームプロファイル（第２攪拌プロファイルＢＰ２）を成形する。すなわち、レーザヘッドＬＨは、第２攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ２に基づいて、前記第１攪拌プロファイルＢＰ１を、着色層領域２３の中心位置で、ミラー反転させたビームプロファイルを成形する。
【００７６】
第２攪拌プロファイルＢＰ２は、その照射強度の最大値が、前記着色層形成材料と前記分散媒の蒸発を十分に抑制し、かつ、対応する液滴ＦＤ内で、前記着色層形成材料と前記分散媒の熱対流を誘起させる強度に設定されている。尚、第２攪拌プロファイルＢＰ２は、図８（ａ）の紙面に垂直な方向、すなわちＸ矢印方向に沿って、着色層領域２３のＸ矢印方向の全幅にわたり、略同じ照射強度で成形されている。
【００７７】
そして、第２攪拌プロファイルＢＰ２のレーザビームＢを照射した後に、前記分散媒を均一に蒸発させるビームプロファイル（乾燥プロファイル）を成形し、乾燥プロファイルのレーザビームＢを、液滴ＦＤに照射する。すると、図８（ｃ）の破線で示すように、着色層領域２３のＹ矢印方向側で、略均一な膜厚を有し、着色層領域２３の中心位置から反Ｙ矢印方向に向かうに連れて、その膜厚を徐々に薄くする膜厚分布の着色層（第２着色層２４ｂ）が形成される。
【００７８】
本実施形態において、前記平坦化シーケンスは、上記した３種類のビームプロファイル（第１攪拌プロファイルＢＰ１、第２攪拌プロファイルＢＰ２及び乾燥プロファイル）に基づいて形成されている。すなわち、平坦化シーケンスは、前記第１攪拌プロファイルＢＰ１を所定の時間（第１攪拌時間）成形した後に、連続して、前記第２攪拌プロファイルＢＰ２を所定の時間（第２攪拌時間）だけ成形し、最後に乾燥プロファイルを所定の時間（乾燥時間）だけ成形するようになっている。尚、これら第１攪拌時間、第２攪拌時間及び乾燥時間の合計時間は、レーザビームＢの走査周期（前記走査時間＝走査幅Ｌｙ２／搬送時間Ｖｙ）よりも短い時間に設定されている。
【００７９】
そして、着色層領域２３に形成した液滴ＦＤに、前記平坦化シーケンスに基づくレーザビームＢを照射すると、着色層形成材料が、液滴ＦＤ内で、反Ｙ矢印方向の端部からＹ矢印方向の端部にまで略均一に分散される。そして、着色層領域２３に、均一な膜厚分布の着色層２４が形成される。
【００８０】
次に、上記のように構成した液滴吐出装置３０の電気的構成を図９に従って説明する。
図９において、制御装置５０には、ＣＰＵ等からなる制御部５１、ＤＲＡＭ及びＳＲＡＭからなるＲＡＭ５２、各種制御プログラム及び各種データを格納するＲＯＭ５３が備えられている。また、制御装置５０には、前記圧電素子駆動信号ＣＯＭ１及び前記位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を生成する駆動信号生成回路５４、前記レーザ駆動信号ＣＯＭ２を生成する電源回路５５、各種信号を同期するためのクロック信号ＣＬＫを生成する発振回路５６等が備えられている。そして、制御装置５０には、これら制御部５１、ＲＡＭ５２、
ＲＯＭ５３、駆動信号生成回路５４、電源回路５５、発振回路５６が、図示しないバスを介して接続されている。
【００８１】
詳述すると、ＲＯＭ５３には、複数の前記ビームプロファイル成形情報ＢＰＩ（例えば、本実施形態における第１及び第２攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ１，ＢＰＩ２）と、複数の前記ビームプロファイルシーケンスＢＰＳ（例えば、本実施形態における平坦化シーケンス）が格納されている。
【００８２】
各ビームプロファイル成形情報ＢＰＩは、対応するビームプロファイルを成形するために、前記位相変調部４８を駆動制御させる情報であって、前記位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を生成するための情報である。
【００８３】
各ビームプロファイルシーケンスＢＰＳは、異なる前記ビームプロファイル成形情報ＢＰＩに基づいて、異なるビームプロファイルを連続して成形するための情報であって、前記位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を生成するための情報である。
【００８４】
また、各ビームプロファイルシーケンスＢＰＳは、対応するシーケンスのレーザビームＢによって形成される着色層２４の膜厚分布に関するデータ（膜厚分布データＩｂ）を有している。また、各ビームプロファイルシーケンスＢＰＳは、各シーケンスに使用する複数のビームプロファイル成形情報ＢＰＩを、それぞれ識別可能にする情報（プロファイル識別情報）を有している。また、各ビームプロファイルシーケンスＢＰＳは、各ビームプロファイルを成形する時間（位相変調部４８を駆動制御させる時間）に関するデータ（成形時間データ）と、各ビームプロファイルを成形する順序に関するデータ（成形順序データ）が、それぞれ前記プロファイル識別情報に対応して設定されている。
【００８５】
例えば、本実施形態における平坦化シーケンスは、膜厚分布データＩｂとして、着色層２４の膜厚のバラツキが、所定の数値以下となる数値データを有している。また、平坦化シーケンスは、前記第１攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ１、前記第２攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ２及び乾燥プロファイルに対応するプロファイル識別情報を有している。また、平坦化シーケンスは、第１攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ１、第２攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ２及び乾燥プロファイルの識別情報に対応して、それぞれ第１攪拌時間、第２攪拌時間及び乾燥時間の成形時間データが設定されている。また、平坦化シーケンスは、第１攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ１、第２攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ２及び乾燥プロファイルの各識別情報に対応して、それぞれ第１攪拌プロファイルＢＰ１、第２攪拌プロファイルＢＰ２、乾燥プロファイルの順序でビームプロファイルを成形するための成形順序データが設定されている。
【００８６】
制御装置５０には、入力装置６１が接続されている。
入力装置６１は、起動スイッチ、停止スイッチ等の操作スイッチを有し、各スイッチの操作による操作信号を制御装置５０（制御部５１）に出力する。また、入力装置６１は、前記着色層２４に対応した液滴ＦＤを形成する情報を、描画データＩａとして、制御装置４０に出力する。また、入力装置６１は、前記着色層２４の膜厚分布に関する情報を、膜厚分布データＩｂとして、制御装置５０に出力する。
【００８７】
制御装置５０は、入力装置６１からの描画データＩａと膜厚分布データＩｂとＲＯＭ５３等に格納された制御プログラム（例えば、カラーフィルタ製造プログラム）に従って、基板ステージ３３を移動させてカラーフィルタ基板１０の搬送処理動作を行い、吐出ヘッドＦＨの各圧電素子ＰＺを駆動させて液滴吐出処理動作を行う。また、制御装置５０は、制御プログラムに従って、レーザヘッドＬＨを駆動させて液滴ＦＤを攪拌・乾燥させる攪拌・乾燥処理動作を行う。
【００８８】
詳述すると、制御部５１は、入力装置６１からの描画データＩａに所定の展開処理を施し、二次元描画平面（吐出面２１ａ）上における位置に、液滴ＦＤを吐出するか否かを示すビットマップデータＢＭＤを生成し、生成したビットマップデータＢＭＤをＲＡＭに格納するようになっている。このビットマップデータＢＭＤは、各ビットの値（０あるいは１）に応じて、前記圧電素子ＰＺのオンあるいはオフ（液滴ＦＤを吐出するか否か）を規定するものである。
【００８９】
また、制御部５１は、入力装置６１からの描画データＩａに前記ビットマップデータＢＭＤの展開処理と異なる展開処理を施し、描画条件に応じた圧電素子駆動信号ＣＯＭ１の波形データを生成して駆動信号生成回路５４に出力するようになっている。駆動信号生成回路５４は、制御部５１からの波形データを図示しない波形メモリに格納する。そして、駆動信号生成回路５４は、格納した波形データをデジタル／アナログ変換して、アナログ信号の波形信号を増幅することにより、対応する圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を生成するようになっている。
【００９０】
そして、制御部５１は、前記ビットマップデータＢＭＤを、発振回路５６の生成するクロック信号ＣＬＫに同期させて、各スキャン（基板ステージ２３の１回の往動もしくは復動分）毎のデータを、吐出制御データＳＩとして、後述する吐出ヘッド駆動回路６７（シフトレジスタ６７ａ）に逐次シリアル転送する。そして、制御部５１は、シリアル転送した１スキャン分の吐出制御データＳＩをラッチするためのラッチ信号ＬＡＴを出力する。
【００９１】
また、制御部５１は、前記圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を、発振回路５６の生成するクロック信号ＣＬＫに同期させて、後述する吐出ヘッド駆動回路６７（スイッチ回路６７ｄ）に出力する。また、制御部５１は、圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を選択するための選択信号ＳＥＬを、吐出ヘッド駆動回路６７（スイッチ回路６７ｄ）に出力し、選択信号ＳＥＬに対応する圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を、各圧電素子ＰＺに印加させるように構成されている。
【００９２】
一方、制御部５１は、入力装置６１からの膜厚分布データＩｂを参照して、ＲＯＭ５３に格納されるビームプロファイルシーケンスＢＰＳの膜厚分布データＩｂを検索し、入力装置６１からの膜厚分布データＩｂに対応する膜厚分布データＩｂのビームプロファイルシーケンスＢＰＳを決定する。制御部５１は、決定したビームプロファイルシーケンスＢＰＳの有するプロファイル識別情報に基づいて、各プロファイル識別情報に対応するビームプロファイル成形情報ＢＰＩをＲＯＭ５３から抽出する。また、制御部５１は、抽出した各ビームプロファイル成形情報ＢＰＩと、決定したビームプロファイルシーケンスＢＰＳの成形時間データ及び成形順序データに基づいて、対応する位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を生成する。
【００９３】
そして、制御部５１は、生成した位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を、発振回路５６の生成するクロック信号ＣＬＫに同期させて、後述するレーザヘッド駆動回路６８（スイッチ回路６８ｂ）に出力する。
【００９４】
また、制御部５１は、前記レーザ駆動信号ＣＯＭ２を、後述するレーザヘッド駆動回路６８（スイッチ回路６８ｂ）に出力する。
図９に示すように、制御装置５０には、Ｘ軸モータ駆動回路６２が接続され、Ｘ軸モータ駆動回路６２にＸ軸モータ駆動制御信号を出力するようになっている。Ｘ軸モータ駆動回路６２は、制御装置５０からのＸ軸モータ駆動制御信号に応答して、前記キャリッジ３９を往復移動させるＸ軸モータＭＸを正転又は逆転させるようになっている。そして、例えば、Ｘ軸モータＭＸを正転させると、キャリッジ３９はＸ矢印方向に移動し、逆転させ
ると、キャリッジ３９は反Ｘ矢印方向に移動するようになっている。
【００９５】
制御装置５０には、Ｙ軸モータ駆動回路６３が接続され、Ｙ軸モータ駆動回路６３にＹ軸モータ駆動制御信号を出力するようになっている。Ｙ軸モータ駆動回路６３は、制御装置５０からのＹ軸モータ駆動制御信号に応答して、前記基板ステージ３３を往復移動させるＹ軸モータＭＹを正転又は逆転させるようになっている。例えば、Ｙ軸モータＭＹを正転させると、基板ステージ３３はＹ矢印方向に移動し、逆転させると、基板ステージ３３は反Ｙ矢印方向に移動する。
【００９６】
制御装置５０には、基板検出装置６４が接続されている。基板検出装置６４は、カラーフィルタ基板１０の端縁を検出し、制御装置５０によって吐出ヘッドＦＨ（ノズルＮ）の直下を通過するカラーフィルタ基板１０（着色層領域２３）の位置を算出する際に利用される。
【００９７】
制御装置５０には、Ｘ軸モータ回転検出器６５が接続され、Ｘ軸モータ回転検出器６５からの検出信号が入力される。制御装置５０は、Ｘ軸モータ回転検出器６５からの検出信号に基づいて、Ｘ軸モータＭＸの回転方向及び回転量を検出し、キャリッジ３９のＸ矢印方向の移動量と、移動方向とを演算するようになっている。
【００９８】
制御装置５０には、Ｙ軸モータ回転検出器６６が接続され、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号が入力される。制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、Ｙ軸モータＭＹの回転方向及び回転量を検出し、基板ステージ３３（着色層領域２３）のＹ矢印方向の移動方向及び移動量を演算する。
【００９９】
制御装置５０には、吐出ヘッド駆動回路６７及びレーザヘッド駆動回路６８が接続されている。
吐出ヘッド駆動回路６７には、シフトレジスタ６７ａ、ラッチ回路６７ｂ、レベルシフタ６７ｃ及びスイッチ回路６７ｄが備えられている。シフトレジスタ６７ａは、クロック信号ＣＬＫに同期した制御装置５０からの吐出制御データＳＩを、各圧電素子ＰＺに対応させたシリアル／パラレル変換を行う。ラッチ回路６７ｂは、シフトレジスタ６７ａのパラレル変換した吐出制御データＳＩを、制御装置５０からのラッチ信号ＬＡＴに同期してラッチし、ラッチした吐出制御データＳＩを、レベルシフタ６７ｃと後述するレーザヘッド駆動回路６８の遅延回路６８ａに、クロック信号ＣＬＫに同期した所定の周期で、順次出力する。レベルシフタ６７ｃは、ラッチ回路６７ｂのラッチした吐出制御データＳＩを、スイッチ回路６７ｄの駆動する電圧まで昇圧して、各圧電素子ＰＺに対応する第１開閉信号ＧＳ１を生成する。
【０１００】
スイッチ回路６７ｄには、各圧電素子ＰＺに対応する図示しないスイッチ素子が備えられている。各スイッチ素子の入力側には、前記選択信号ＳＥＬに対応した圧電素子駆動信号ＣＯＭ１が入力され、出力側には、それぞれ対応する圧電素子ＰＺが接続されている。そして、スイッチ回路６７ｄの各スイッチ素子には、レベルシフタ６７ｃからの対応する第１開閉信号ＧＳ１がそれぞれ入力され、各第１開閉信号ＧＳ１に応じて、圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を、対応する圧電素子ＰＺに供給するか否かを制御するようになっている。
【０１０１】
すなわち、本実施形態の液滴吐出装置３０は、駆動信号生成回路５４の生成した圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を、対応する各圧電素子ＰＺに印加するとともに、その圧電素子駆動信号ＣＯＭ１の印加を、制御装置５０からの吐出制御データＳＩ（第１開閉信号ＧＳ１）で制御するようになっている。そして、吐出制御データＳＩに基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応する圧電素子ＰＺに、圧電素子駆動信号ＣＯＭ１が印加されると、その圧電素子ＰＺに対応するノズルＮから微小液滴Ｆｂ（液滴ＦＤ）が吐出される。
【０１０２】
図１０は、上記するラッチ信号ＬＡＴ、第１開閉信号ＧＳ１及び後述する第２開閉信号ＧＳ２のパルス波形と、ポリゴンモータＭＰの回転角θｐを示すタイミングチャートである。
【０１０３】
図１０に示すように、吐出ヘッド駆動回路６７に入力されるラッチ信号ＬＡＴが立ち下がると、ラッチした吐出制御データＳＩに基づいて第１開閉信号ＧＳ１が生成され、第１開閉信号ＧＳ１が立ち上がった時に、対応する圧電素子ＰＺに圧電素子駆動信号ＣＯＭ１が供給される。そして、圧電素子駆動信号ＣＯＭ１に基づいた圧電素子ＰＺの伸縮動によって、対応するノズルＮから、微小液滴Ｆｂ（液滴ＦＤ）が吐出される。そして、第１開閉信号ＧＳ１が立ち下がると、圧電素子ＰＺの駆動による液滴ＦＤの吐出動作が終了する。
【０１０４】
レーザヘッド駆動回路６８には、遅延回路６８ａ、スイッチ回路６８ｂ及びポリゴンモータ駆動回路６８ｃが備えられている。
遅延回路６８ａは、ラッチ回路６７ｂのラッチした吐出制御データＳＩを、それぞれ所定の時間（前記待機時間Ｔ）だけ遅延させた所定の時間幅のパルス信号（第２開閉信号ＧＳ２）を生成し、生成した第２開閉信号ＧＳ２を、スイッチ回路６８ｂ（レーザスイッチ回路及び変調部スイッチ回路）に出力する。
【０１０５】
スイッチ回路６８ｂには、レーザスイッチ回路及び変調部スイッチ回路が備えられている。レーザスイッチ回路には、各半導体レーザアレイＬＤに対応する図示しないスイッチ素子が備えられている。各スイッチ素子の入力側には、電源回路５５の生成したレーザ駆動信号ＣＯＭ２が入力され、出力側には、対応する各半導体レーザアレイＬＤが接続されている。そして、レーザスイッチ回路の各スイッチ素子に、遅延回路６８ａからの第２開閉信号ＧＳ２が入力されると、各スイッチ素子は、レーザ駆動信号ＣＯＭ２を、対応する半導体レーザアレイＬＤに供給するようになっている。
【０１０６】
すなわち、本実施形態の液滴吐出装置３０は、電源回路５５の生成したレーザ駆動信号ＣＯＭ２を、対応する各半導体レーザアレイＬＤに共通に印加するとともに、そのレーザ駆動信号ＣＯＭ２の印加を、制御装置５０（吐出ヘッド駆動回路６７）からの吐出制御データＳＩ（第２開閉信号ＧＳ２）によって制御するようにしている。そして、吐出制御データＳＩに基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応する半導体レーザアレイＬＤに、レーザ駆動信号ＣＯＭ２が供給されると、対応する半導体レーザアレイＬＤからレーザビームＢが出射される。
【０１０７】
変調部スイッチ回路には、各位相変調部４８に対応する図示しないスイッチ素子が備えられている。各スイッチ素子の入力側には、制御部５１の生成した位相変調部駆動信号ＣＯＭ３が入力され、出力側には、対応する各位相変調部４８が接続されている。そして、変調部スイッチ回路の各スイッチ素子に、遅延回路６８ａからの第２開閉信号ＧＳ２が入力されると、各スイッチ素子は、位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を、対応する位相変調部４８に供給するようになっている。
【０１０８】
すなわち、本実施形態の液滴吐出装置３０は、制御装置５０（駆動信号生成回路５４）の生成した位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を、対応する各位相変調部４８に共通に印加するとともに、その位相変調部駆動信号ＣＯＭ３の印加を、制御装置５０（吐出ヘッド駆動回路６７）からの吐出制御データＳＩ（第２開閉信号ＧＳ２）によって制御するようにしている。そして、吐出制御データＳＩに基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応する位相変調部４８に、位相変調部駆動信号ＣＯＭ３が供給されると、対応する位相変調部４８が、レーザビームＢに対して、ビームプロファイルシーケンスＢＰＳに基づく位相変調を
施す。
【０１０９】
ポリゴンモータ駆動回路６８ｃは、制御装置５０からのポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを受けてポリゴンモータ駆動制御信号ＳＰＭを生成し、そのポリゴンモータ駆動制御信号ＳＰＭをポリゴンモータＭＰに出力してポリゴンモータＭＰを回転駆動する。制御装置５０は、基板検出装置６４からの検出信号に基づいて、ポリゴンモータＭＰの回転駆動を開始させるポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを出力する。詳述すると、制御装置５０は、１行目の着色層領域２３のＹ矢印方向側の端部が、前記照射開始位置Ｐｅ１に位置するときに、ポリゴンミラー４９の回転角θｐを０°にする所定のタイミングで、ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを前記レーザヘッド駆動回路６８に出力する。
【０１１０】
そして、図１０に示すように、第１開閉信号ＧＳ１が立ち上がった時（吐出動作開始時）から、待機時間Ｔだけ経過すると、遅延回路６８ａによって、第２開閉信号ＧＳ２が生成され、その第２開閉信号ＧＳ２が、スイッチ回路６８ｂ（レーザスイッチ回路及び変調部スイッチ回路）に供給される。そして、第２開閉信号ＧＳ２が立ち上がった時に、対応する半導体レーザアレイＬＤにレーザ駆動信号ＣＯＭ２が供給され、対応する半導体レーザアレイＬＤから、レーザビームＢが出射される。同時に、第２開閉信号ＧＳ２が立ち上がった時に、対応する位相変調部４８に位相変調部駆動信号ＣＯＭ３が供給され、対応する位相変調部４８が、前記レーザビームＢに対して、制御部５１の決定したビームプロファイルシーケンスＢＰＳに基づく位相変調を開始する。すなわち、第１攪拌プロファイルＢＰ１、第２攪拌プロファイルＢＰ２及び乾燥プロファイルが、走査時間内に、順次成形される。
【０１１１】
一方、図１０に示すように、第２開閉信号ＧＳ２が立ち上がった時に、回転駆動するポリゴンミラー４９の回転角θｐは０°である。そのため、前記第１攪拌プロファイルＢＰ１のレーザビームＢは、照射開始位置Ｐｅ１に位置する液滴ＦＤに照射される。そして、液滴ＦＤが走査領域Ｌｓ内に搬送され続けると、レーザビームＢの走査によって、対応する着色層領域２３の液滴ＦＤに対して、相対的に、照射位置を静止させた第１攪拌プロファイルＢＰ１、第２攪拌プロファイルＢＰ２及び乾燥プロファイルのレーザビームＢが、走査時間（＝走査幅Ｌｙ２／搬送時間Ｖｙ）以内に順次照射される。
【０１１２】
そして、第２開閉信号ＧＳ２が立ち下がると、半導体レーザアレイＬＤからのレーザビームＢの出射が停止されて、１行目の液滴ＦＤの処理動作が終了する。
続いて、２行目の吐出動作の開始時から待機時間Ｔだけ経過すると、１行目の着色層領域２３が、走査領域Ｌｓから離脱し、後続する２行目の着色層領域２３のＹ矢印方向の端部が、走査領域Ｌｓに侵入する。そして、レーザヘッド駆動回路６８（遅延回路６８ａ）で、再び第２開閉信号ＧＳ２が生成されて、第２開閉信号ＧＳ２が立ち上がった時に、対応する出射口４７から、一斉に第１攪拌プロファイルＢＰ１のレーザビームＢが照射され始める。
【０１１３】
この時、図１０に示すように、回転駆動するポリゴンミラー４９の回転角θｐは１０°である。従って、反射面Ｍに反射偏向された第１攪拌プロファイルＢＰ１のレーザビームＢは、照射開始位置Ｐｅ１に位置する２行目の液滴ＦＤに照射される。
【０１１４】
以後、同様に、後続する着色層領域２３が、着弾した液滴ＦＤを有して、走査領域Ｌｓ内を通過する度に、液滴ＦＤに対して、相対的に、照射位置を静止させた第１攪拌プロファイルＢＰ１、第２攪拌プロファイルＢＰ２及び乾燥プロファイルのレーザビームＢが、順次、対応する液滴ＦＤに対して照射される。
【０１１５】
次に、液滴吐出装置３０を使ってカラーフィルタ基板１０（着色層２４）を製造する方
法について説明する。
まず、図４に示すように、往動位置に位置する基板ステージ３３上に、カラーフィルタ基板１０を配置固定する。このとき、カラーフィルタ基板１０のＹ矢印方向側の辺は、案内部材３６より反Ｙ矢印方向側に配置されている。また、キャリッジ３９（吐出ヘッドＦＨ）は、カラーフィルタ基板１０がＹ矢印方向に移動したとき、各ノズルＮの直下を、対応する着色層領域２３が通過する位置にセットされている。
【０１１６】
この状態から、制御装置５０は、Ｙ軸モータＭＹを駆動制御し、基板ステージ３３を介してカラーフィルタ基板１０を搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に搬送させる。やがて、基板検出装置６４がカラーフィルタ基板１０のＹ矢印方向側の端縁を検出すると、上記する所定のタイミングで、制御装置５０が、ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを生成する。そして、ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰが立ち上がった時に、ポリゴンモータ駆動回路６８ｃによってポリゴンモータ駆動制御信号ＳＰＭが生成され、ポリゴンミラー４９が矢印Ｒ方向に回転駆動する。
【０１１７】
これによって、１行目の着色層領域２３のＹ矢印方向側の端部が、前記照射開始位置Ｐｅ１に位置するときに、ポリゴンミラー４９の回転角θｐが０°となる。
そして、制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、１行目の着色層領域２３の目標吐出位置Ｐａが、対応するノズルＮの直下まで搬送されたかどうか演算する。
【０１１８】
また、この間、制御装置５０は、カラーフィルタ製造プログラムに従って、ＲＯＭ５３に格納されるビームプロファイルシーケンスＢＰＳの膜厚分布データＩｂを検索する。そして、入力装置６１からの膜厚分布データＩｂ（着色層２４の膜厚の均一性が、十分に高いことを示すデータ）と対応する膜厚分布データＩｂのビームプロファイルシーケンスＢＰＳ（平坦化シーケンス）を決定する。そして、制御装置５０は、決定した平坦化シーケンスの有するプロファイル識別情報に基づいて、各プロファイル識別情報に対応する各ビームプロファイル成形情報ＢＰＩ（第１攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ１、第２攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ２及び乾燥プロファイル）を読み出す。続いて、平坦化シーケンスの成形時間データ（第１攪拌時間、第２攪拌時間及び乾燥時間）と成形順序データに基づいて、対応する位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を生成する。そして、制御装置５０は、生成した位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を、レーザヘッド駆動回路６８に出力する。
【０１１９】
また、この間、制御装置５０は、電源回路５５で生成したレーザ駆動信号ＣＯＭ２をレーザヘッド駆動回路６８に出力する。
また、この間、制御装置５０は、カラーフィルタ製造プログラムに従って、ＲＡＭ５２に格納したビットマップデータＢＭＤに基づく吐出制御データＳＩと、駆動信号生成回路５４で生成した圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を吐出ヘッド駆動回路６７に出力する。
【０１２０】
そして、制御装置５０は、吐出ヘッド駆動回路６７に、ラッチ信号ＬＡＴを出力するタイミングを待つ。
そして、１行目の着色層領域２３の目標吐出位置Ｐａが、対応するノズルＮの直下まで搬送されると、制御装置５０は、ラッチ信号ＬＡＴを吐出ヘッド駆動回路６７に出力する。吐出ヘッド駆動回路６７は、制御装置５０からのラッチ信号ＬＡＴを受けると、吐出制御データＳＩに基づいて第１開閉信号ＧＳ１を生成し、その第１開閉信号ＧＳ１をスイッチ回路６７ｄに出力する。そして、閉じた状態のスイッチ素子に対応する圧電素子ＰＺに、選択信号ＳＥＬに対応した圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を供給し、対応するノズルＮから、圧電素子駆動信号ＣＯＭ１に相対する微小液滴Ｆｂを一斉に吐出する。吐出された微小液滴Ｆｂは、対応する１行目の着色層領域２３内に一斉に着弾して、液滴ＦＤを形成する。
【０１２１】
一方、ラッチ信号ＬＡＴが吐出ヘッド駆動回路６７に入力されると、レーザヘッド駆動回路６８（遅延回路６８ａ）は、ラッチ回路６７ｂからの吐出制御データＳＩを受けて第２開閉信号ＧＳ２の生成を開始する。
【０１２２】
そして、レーザヘッド駆動回路６８は、第２開閉信号ＧＳ２を、スイッチ回路６８ｂ（レーザスイッチ回路及び変調部スイッチ回路）に出力するタイミングを待つ。
そして、圧電素子ＰＺが吐出動作を開始した時から、すなわち吐出ヘッド駆動回路６７が第１開閉信号ＧＳ１を出力した時から、待機時間Ｔだけ経過すると、１行目の着色層領域２３の液滴ＦＤが、走査領域Ｌｓ内への侵入を開始するとともに、レーザヘッド駆動回路６８が、第２開閉信号ＧＳ２を、レーザスイッチ回路及び変調部スイッチ回路に出力する。
【０１２３】
すると、レーザスイッチ回路は、対応する半導体レーザアレイＬＤに、共通するレーザ駆動信号ＣＯＭ２を供給し、対応する半導体レーザアレイＬＤから、一斉にレーザビームＢを出射する。同時に、変調部スイッチ回路は、対応する位相変調部４８に、共通する位相変調部駆動信号ＣＯＭ３を出力し、その位相変調部駆動信号ＣＯＭ３に基づく位相変調部４８の駆動制御を行う。
【０１２４】
これによって、走査領域Ｌｓ内に侵入する液滴ＦＤに対して、相対的に、照射位置の静止した第１攪拌プロファイルＢＰ１、第２攪拌プロファイルＢＰ２及び乾燥プロファイルのレーザビームＢが、順次連続して照射される。そして、第２開閉信号ＧＳ２が立ち下がると、半導体レーザアレイＬＤからのレーザビームＢの出射が停止され、１行目の液滴ＦＤの攪拌・乾燥処理動作が終了する。
【０１２５】
これによって、対応する着色層領域２３内で、その膜厚を均一にした着色層２４が形成される。
以後、同様に、後続する各行の着色層領域２３が、着弾した液滴ＦＤを有して、走査領域Ｌｓ内を通過する度に、対応する液滴ＦＤに対して、相対的に、照射位置を静止した第１攪拌プロファイルＢＰ１、第２攪拌プロファイルＢＰ２及び乾燥プロファイルのレーザビームＢが、順次連続して照射され、膜厚を均一にした着色層２４が形成される。
【０１２６】
そして、全ての着色層領域２３に着色層２４が形成されると、制御装置５０は、Ｙ軸モータＭＹを制御して、基板ステージ３３（カラーフィルタ基板１０）を往動位置に配置させる。
【０１２７】
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、照射強度の最大値が、着色層形成材料と分散媒の蒸発を十分に抑制し、かつ、対応する液滴ＦＤ内で、着色層形成材料と分散媒の熱対流を誘起させる強度で、第１及び第２攪拌プロファイルＢＰ１，ＢＰ２を成形するようにした。その結果、第１及び第２攪拌プロファイルＢＰ１，ＢＰ２のピーク位置に対応した領域に、液滴ＦＤ内の着色層形成材料を流動させることができ、着色層２４を、第１及び第２攪拌プロファイルＢＰ１，ＢＰ２に対応した膜厚分布に制御することができる。
【０１２８】
（２）上記実施形態によれば、着色層領域２３の反Ｙ矢印方向にのみ鋭いピークを有した第１攪拌プロファイルＢＰ１と、着色層領域２３のＹ矢印方向にのみ鋭いピークを有した第２攪拌プロファイルＢＰ２を連続して成形した。そして、第１攪拌プロファイルＢＰ１のレーザビームＢと第２攪拌プロファイルＢＰ２のレーザビームＢを、連続して照射するようにした。その結果、液滴ＦＤ内の着色層形成材料を流動させて（攪拌して）、着色層形成材料を、着色層領域２３内に均一に分散させることができる。従って、着色層領域
２３内に、均一な膜厚の着色層２４を形成することができる。
【０１２９】
（３）上記実施形態によれば、ビームプロファイルシーケンスＢＰＳに膜厚分布データを備え、制御装置５０が、所望する均一な膜厚分布に対応するビームプロファイルシーケンスＢＰＳ（平坦化シーケンス）を決定するようにした。その結果、所望する膜厚分布に対応したビームプロファイルを、確実に成形することができ、着色層２４の膜厚を、より確実に均一にすることができる。
【０１３０】
（４）上記実施形態によれば、液滴ＦＤに対して、相対的に、照射位置の静止した第１攪拌プロファイルＢＰ１及び第２攪拌プロファイルＢＰ２のレーザビームＢを照射するようにした。その結果、液滴ＦＤの搬送方向等に制約されることなく、所望のタイミングで、第１攪拌プロファイルＢＰ１と第２攪拌プロファイルＢＰ２を切り替えることができる。
【０１３１】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
○上記実施形態では、エネルギーをレーザビームＢとして具体化したが、これに限らず、例えば電子線やイオンビームであってもよく、液滴ＦＤの着色層形成材料（パターン形成材料）を流動させるエネルギーであればよい。
【０１３２】
○上記実施形態では、組成プロファイルを、着色層２４の膜厚分布として具体化した。これに限らず、例えば着色層２４を複数の構成材料によって構成し、組成プロファイルを、各構成材料の濃度分布や形状分布として具体化してもよい。
【０１３３】
○上記実施形態では、エネルギープロファイルを照射強度の分布として具体化した。これに限らず、例えばビームスポットの形状の分布や波長の分布であってもよい。
○上記実施形態では、着色層領域２３の反Ｙ矢印方向側にのみ、照射強度の鋭いピークを有した第１攪拌プロファイルＢＰ１と、着色層領域２３のＹ矢印方向側にのみ、照射強度の鋭いピークを有した第２攪拌プロファイルＢＰ２によって、液滴ＦＤ内の着色層形成材料の分布を均一にさせるようにした。
【０１３４】
これに限らず、例えば、図１１（ａ）の実線に示すように、着色層領域２３のＹ矢印方向側と反Ｙ矢印方向側に、分割した一対の鋭いピークを有する第３攪拌プロファイルＢＰ３を成形し、図１１（ｂ）及び図１１（ｃ）の実線に示すように、まず、液滴ＦＤ内の着色層形成材料を、Ｙ矢印方向側と反Ｙ矢印方向側に分割させる。続いて、図１１（ａ）の破線に示すように、着色層領域２３のＹ矢印方向の中心位置に、鋭いピークを有する第４攪拌プロファイルＢＰ４を成形し、図１１（ｃ）の破線に示すように、液滴ＦＤ内の着色層形成材料を、着色層領域２３の中心位置側に流動させるようにしてもよい。
【０１３５】
○上記実施形態では、ビームプロファイルシーケンスを、着色層２４の膜厚を均一にする平坦化シーケンスとして構成した。これに限らず、ビームプロファイルシーケンスは、着色層２４の膜厚を、着色層領域２３の一端で厚くするシーケンスであってもよく、所望の組成プロファイルに対応したシーケンスであればよい。
【０１３６】
○上記実施形態では、ビームプロファイルシーケンスを、ビームプロファイル成形情報ＢＰＩと、各ビームプロファイルを成形する時間と、各ビームプロファイルを成形する順序によって構成した。これに限らず、例えば、ビームプロファイルシーケンスに、各ビームプロファイルを、所定の方向に走査させるための走査情報を設定し、所定の周期で、ビームプロファイルを所望の方向に走査させる構成にしてもよい。これによれば、ビームプロファイルを、より高い精度で制御することができ、制御可能な組成プロファイルの範囲を、さらに拡大することができる。
【０１３７】
○上記実施形態では、エネルギープロファイル情報をビームプロファイルシーケンスとして具体化した。これに限らず、例えばエネルギープロファイル情報をビームプロファイル成形情報ＢＰＩ（第１攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ１及び第２攪拌プロファイル成形情報ＢＰＩ２）として具体化し、単一のビームプロファイルによって、パターンを、所望の組成プロファイルに制御するようにしてもよい。
【０１３８】
○上記実施形態では、エネルギープロファイル情報決定手段を制御部５１に具体化し、各ビームプロファイルシーケンスＢＰＳの有する膜厚分布データＩｂと、所望の膜厚分布データＩｂを対応させることによって、ビームプロファイルシーケンスＢＰＳを決定する構成にした。
【０１３９】
これに限らず、例えば、予め試験等に基づいて、膜厚分布データＩｂ（組成プロファイル）からビームプロファイルシーケンスＢＰＳ（ビームプロファイル情報）を生成する所定の演算を設定し、制御部５１が、所望の膜厚分布データＩｂ（組成プロファイル）に対して、前記所定の演算を施すことによって、ビームプロファイルシーケンスＢＰＳ（エネルギープロファイル情報）を生成する構成にしてもよい。
【０１４０】
これによれば、所望の組成プロファイルに対応したエネルギーファイル情報を、確実に取得することができる。
○上記実施形態では、エネルギービーム走査手段によって、レーザビームＢの照射位置を、液滴ＦＤに対して、相対的に、静止させる構成にした。これに限らず、例えばレーザビームＢの照射位置を固定し、各液滴ＦＤを、レーザビームＢの照射位置に搬送し、その照射位置に停止させた状態で、対応するビームプロファイルのレーザビームＢを照射する構成であってもよい。これによれば、走査時間に制約されることなく、長時間、レーザビームＢを照射することができる。
【０１４１】
○上記実施形態では、液滴吐出手段を吐出ヘッドＦＨに具体化したが、これに限らず、例えばディスペンサ等の液滴吐出手段によって吐出するように構成してもよい。
○上記実施形態では、エネルギービーム走査手段を、ポリゴンミラー４９を有した光学系に具体化した。これに限らず、例えば、ガルバノミラー等によって構成するようにしてもよく、レーザビームＢの照射位置を、液滴ＦＤに対して、相対的に、静止させる走査手段であればよい。
【０１４２】
○上記実施形態では、エネルギー出力手段を半導体レーザアレイＬＤに具体化したが、これに限らず、炭酸ガスレーザやＹＡＧレーザ、さらにはＬＥＤや電子線源等であってもよい。
【０１４３】
○上記実施形態では、電気的あるいは機械的に駆動する位相変調部４８を利用してビームプロファイルを成形するようにした。これに限らず、例えば、回折格子やマスク、分岐素子等を利用して、ビームプロファイル（エネルギープロファイル）を成形するようにしてもよく、着色層領域２３内に、所望のエネルギープロファイルを成形可能なものであればよい。
【０１４４】
○上記実施形態では、着色層領域２３を略正方形として具体化したが、この形状に限定されるものではなく、例えば、楕円形や多角形の着色層領域２３であってもよい。
○上記実施形態では、ノズルＮの数量分だけ半導体レーザアレイＬＤを設ける構成にしたが、これに限らず、レーザビーム源から出射された単一のレーザビームＢを、回折素子等の分岐素子によって分割する光学系によって構成してもよい。
【０１４５】
○上記実施形態では、パターンをカラーフィルタ基板１０の着色層２４に具体化した。これに限らず、例えば、吐出した液滴ＦＤによって形成する絶縁膜や金属配線のパターンに具体化してもよい。この場合にも、上記実施形態と同様に、パターンの組成プロファイルの制御性を向上することができる。
【０１４６】
○上記実施形態では、電気光学装置を液晶表示装置として具体化し、パターンを着色層２４に具体化した。これに限らず、例えば、電気光学装置をエレクトロルミネッセンス表示装置として具体化し、発光素子形成材料を含む液滴ＦＤを、対応する発光素子形成領域に吐出して、パターンとしての発光素子を形成する構成にしてもよい。この構成においても、発光素子の組成プロファイルの制御性を向上することができる。
【０１４７】
○上記実施形態では、電気光学装置を液晶表示装置として具体化し、パターンを着色層２４に具体化した。これに限らず、平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型装置（ＦＥＤやＳＥＤ等）を備えた表示装置の絶縁膜や金属配線のパターンに具体化してもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１４８】
【図１】第１実施形態における液晶表示装置の斜視図。
【図２】同じく、カラーフィルタ基板の斜視図。
【図３】同じく、カラーフィルタ基板の概略側断面図。
【図４】同じく、液滴吐出装置の概略斜視図。
【図５】同じく、液滴吐出ヘッドの概略斜視図。
【図６】同じく、液滴吐出ヘッドを説明するための要部概略断面図。
【図７】同じく、液滴吐出ヘッドを説明するための要部概略断面図。
【図８】同じく、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、着色層領域に対するビームプロファイルを説明するための説明図。
【図９】同じく、液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック回路図。
【図１０】同じく、圧電素子と半導体レーザの駆動タイミングを説明するためのタイミングチャート。
【図１１】変更例におけるビームプロファイルを説明するための説明図であって、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、着色層領域に対するビームプロファイルを説明する説明図。
【符号の説明】
【０１４９】
１…電気光学装置としての液晶表示装置、２３…着色層領域、２４，２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂ…パターンとしての着色層、３０…液滴吐出装置、４８…エネルギープロファイル制御手段を構成する回折素子あるいは空間光変調器としての位相変調部、４９…エネルギー走査手段を構成するポリゴンミラー、５１…エネルギープロファイル情報決定手段としての制御部、Ｂ…エネルギーとしてのレーザビーム、ＦＤ…液滴、ＦＨ…液滴吐出手段を構成する液滴吐出ヘッド、ＬＤ…エネルギー出力手段としての半導体レーザアレイ、ＬＨ…乾燥手段を構成するレーザヘッド、ＢＰ１…エネルギープロファイルを構成する第１攪拌プロファイル、ＢＰ２…エネルギープロファイルを構成する第２攪拌プロファイル、ＢＰＩ…ビームプロファイル成形情報、ＢＰＳ…エネルギープロファイル情報としてのビームプロファイルシーケンス。
【図１】
2006272294.tif 000003
【図２】
2006272294.tif 000004
【図３】
2006272294.tif 000005
【図４】
2006272294.tif 000006
【図５】
2006272294.tif 000007
【図６】
2006272294.tif 000008
【図７】
2006272294.tif 000009
【図８】
2006272294.tif 000010
【図９】
2006272294.tif 000011
【図１０】
2006272294.tif 000012
【図１１】
2006272294.tif 000013