(57)【要約】【課題】  工業的生産に適した、効率的なＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシドの製造方法を提供すること。【解決手段】  下記式（１）で表されるグアニンヌクレオシド化合物と、アリールアセチルクロリドとを有機溶媒及び水の存在下で反応させて下記式（２）で表されるＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得る、Ｎ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法。【化１】2006199653.tif 000023【化２】2006199653.tif 000024上記式中、Ｒ１はヒドロキシル基の保護基、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ｒ４はヒドロキシル基の保護基、Ｒ５及びＲ６は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ａｒはアリール基、をそれぞれ示す。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表されるグアニンヌクレオシド化合物と、アリールアセチルクロリドとを有機溶媒及び水の存在下に反応させて下記式（２）で表されるＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得る、Ｎ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法。
【化１】
2006199653.tif 000014
【化２】
2006199653.tif 000015
［式中、Ｒ１はヒドロキシル基の保護基、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ｒ４はヒドロキシル基の保護基、Ｒ５及びＲ６は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ａｒはアリール基、をそれぞれ示す。］
【請求項２】
前記Ｒ１がアセチル基であり、かつ前記Ｒ２及びＲ３における保護されたヒドロキシル基がアセトキシ基である、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記アリールアセチルクロリドがフェニルアセチルクロリドである、請求項１又は２記載の製造方法。
【請求項４】
前記有機溶媒が非プロトン性溶媒である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記水の添加量が前記アリールアセチルクロリド１当量に対して０．３〜０．７当量である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項６】
下記式（３ａ）又は（３ｂ）で表されるグアニンヌクレオシド化合物のヒドロキシル基を保護して下記式（１）で表されるグアニンヌクレオシド化合物を得、次いで該グアニンヌクレオシド化合物と、アリールアセチルクロリドとを有機溶媒及び水の存在下に反応させて下記式（２）で表されるＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得る、Ｎ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法。
【化３】
2006199653.tif 000016
【化４】
2006199653.tif 000017
【化５】
2006199653.tif 000018
［式中、Ｒ１はヒドロキシル基の保護基、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ｒ４はヒドロキシル基の保護基、Ｒ５及びＲ６は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ｒ７及びＲ８は独立して水素原子又はヒドロキシル基、Ａｒはアリール基、Ｍはアルカリ金属、をそれぞれ示す。］
【請求項７】
前記Ｒ１がアセチル基であり、かつ前記Ｒ２及びＲ３における保護されたヒドロキシル基がアセトキシ基である、請求項６記載の製造方法。
【請求項８】
下記式（１）で表されるグアニンヌクレオシド化合物と、アリールアセチルクロリドとを有機溶媒及び水の存在下に反応させ、更に加水分解して下記式（４）で表されるアリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得る、Ｎ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法。
【化６】
2006199653.tif 000019
【化７】
2006199653.tif 000020
［式中、式中、Ｒ１はヒドロキシル基の保護基、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ｒ７及びＲ８は独立して水素原子又はヒドロキシル基、Ａｒはアリール基、をそれぞれ示す。］
【請求項９】
下記式（３ａ）又は（３ｂ）で表される化合物のヒドロキシル基を保護し、更に有機溶媒及び水の存在下でアリールアセチルクロリドと反応させ、更に加水分解して下記式（４）で表されるアリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得る、Ｎ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法。
【化８】
2006199653.tif 000021
【化９】
2006199653.tif 000022
［式中、Ｒ７及びＲ８は独立して水素原子又はヒドロキシル基、Ａｒはアリール基、Ｍはアルカリ金属、をそれぞれ示す。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法に関し、詳細にはオリゴヌクレオチドの製造原料として有用なＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の免疫学的機序による遺伝子治療と異なり、疾病の原因遺伝子発現を塩基配列特異的に抑制する新しい治療法として核酸医薬療法が注目されている。核酸医薬療法には、例えばオリゴヌクレオチドを細胞に投与し標的ＲＮＡに特異的に結合させるアンチセンス法や、標的ＲＮＡを特異的に切断させるリボザイム法がある。また、核酸医薬療法では原因遺伝子から転写されたｍＲＮＡに対して相補的なオリゴヌクレオチドが用いられており、オリゴヌクレオチドの製造原料として、Ｎ２−フェニルアセチルグアニンヌクレオシド化合物が知られている（特許文献１）。
【特許文献１】米国特許出願公開第２００１／６８０１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は工業的生産に適した、効率的なＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、グアニンヌクレオシド化合物と、アリールアセチルクロリドとを有機溶媒及び水の存在下に反応させ、必要により更に加水分解することで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００５】
すなわち、本発明は以下の特徴を有する。
［１］下記式（１）で表されるグアニンヌクレオシド化合物と、アリールアセチルクロリドとを有機溶媒及び水の存在下に反応させて下記式（２）で表されるＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得る、Ｎ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法。
【０００６】
【化１】
2006199653.tif 000002
【０００７】
【化２】
2006199653.tif 000003
【０００８】
上記式中、Ｒ１はヒドロキシル基の保護基、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ｒ４はヒドロキシル基の保護基、Ｒ５及びＲ６は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ａｒはアリール基、をそれぞれ示す。
［２］上記Ｒ１がアセチル基であり、かつ上記Ｒ２及びＲ３における保護されたヒドロキシル基がアセトキシ基である、上記［１］記載の製造方法。
［３］上記アリールアセチルクロリドがフェニルアセチルクロリドである、上記［１］又は［２］記載の製造方法。
［４］上記有機溶媒が非プロトン性溶媒である、上記［１］〜［３］のいずれか一に記載の製造方法。
［５］上記水の添加量が上記アリールアセチルクロリド１当量に対して０．３〜０．７当量である、上記［１］〜［４］のいずれか一に記載の製造方法。
［６］下記式（３ａ）又は（３ｂ）で表されるグアニンヌクレオシド化合物のヒドロキシル基を保護して下記式（１）で表されるグアニンヌクレオシド化合物を得、次いで該グアニンヌクレオシド化合物と、アリールアセチルクロリドとを有機溶媒及び水の存在下に反応させて下記式（２）で表されるＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得る、Ｎ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法。
【０００９】
【化３】
2006199653.tif 000004
【００１０】
【化４】
2006199653.tif 000005
【００１１】
【化５】
2006199653.tif 000006
【００１２】
上記式中、Ｒ１はヒドロキシル基の保護基、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ｒ４はヒドロキシル基の保護基、Ｒ５及びＲ６は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ｒ７及びＲ８は独立して水素原子又はヒドロキシル基、Ａｒはアリール基、Ｍはアルカリ金属、をそれぞれ示す。
［７］上記Ｒ１がアセチル基であり、かつ上記Ｒ２及びＲ３における保護されたヒドロキシル基がアセトキシ基である、上記［６］記載の製造方法。
［８］下記式（１）で表されるグアニンヌクレオシド化合物と、アリールアセチルクロリドとを有機溶媒及び水の存在下に反応させ、更に加水分解して下記式（４）で表されるアリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得る、Ｎ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法。
【００１３】
【化６】
2006199653.tif 000007
【００１４】
【化７】
2006199653.tif 000008
【００１５】
上記式中、Ｒ１はヒドロキシル基の保護基、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子又は保護されたヒドロキシル基、Ｒ７及びＲ８は独立して水素原子又はヒドロキシル基、Ａｒはアリール基、をそれぞれ示す。
［９］下記式（３ａ）又は（３ｂ）で表される化合物のヒドロキシル基を保護し、更に有機溶媒及び水の存在下でアリールアセチルクロリドと反応させ、更に加水分解して下記式（４）で表されるアリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得る、Ｎ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法。
【００１６】
【化８】
2006199653.tif 000009
【００１７】
【化９】
2006199653.tif 000010
【００１８】
上記式中、Ｒ７及びＲ８は独立して水素原子又はヒドロキシル基、Ａｒはアリール基、Ｍはアルカリ金属、をそれぞれ示す。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、収率よく簡便に純度の高いＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を工業的に生産できる製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明に係るＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法について説明する。
【００２１】
本発明のＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物の製造方法は、下記一般式（１）で表されるグアニンヌクレオシド化合物を出発物質として用い、該グアニンヌクレオシド化合物とアリールアセチルクロリド（ＡｒＣＨ２ＣＯＣｌ）とを有機溶媒及び水の存在下で反応させることにより下記一般式（２）で表されるＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得るものである。かかる製造方法の反応スキームの一例を以下に示す。
【００２２】
【化１０】
2006199653.tif 000011
【００２３】
上記製造方法においては、アリールアセチルクロリドとグアニンヌクレオシド化合物とを有機溶媒及び水の共存下で反応させることにより、高収率で簡便にＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得ることができる。
【００２４】
本発明における式中、Ｒ1及びＲ４はヒドロキシル基の保護基を示す。ヒドロキシル基の保護基は特に限定されず、プロテクティング・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（第３版、ウィリー・インターサイエンス社、１９９９年（Protecting Groups in Organic Synthesis 3rd edition (Wiley-Interscience, Inc. 1999)）に記載の置換基を用いることができる。具体的には、アシル基、アルキル基、アラルキル基、シリル基等が挙げられる。アシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等の炭素数１〜７のアシル基が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜７のアルキル基が挙げられる。アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、トリチル基、４−モノメトキシトリチル基、４，４’−ジメトキシトリチル基等の炭素数７〜２２のアラルキル基が挙げられる。シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等の３置換シリル基が挙げられる。その他、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、ベンジルオキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシカルボニル基、９−フルオレニルメトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等をヒドロキシル基の保護基として使用することができる。好適なヒドロキシル基の保護基としては、アセチル基、イソブチロイル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ベンジル基、トリチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基が挙げられ、アセチル基が特に好ましい。
【００２５】
本発明における式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は保護されたヒドロキシル基を示す。保護されたヒドロキシル基としては、ヒドロキシル基の活性水素が前述した保護基で置換されたものが挙げられる。その保護基としては、アセチル基、イソブチロイル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ベンジル基が挙げられ、アセチル基が特に好ましい。
【００２６】
本発明における式中、Ａｒはアリール基を示す。アリール基としては特に限定されず、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラシル基が挙げられる。なお、アリール基は、その芳香環が炭素数１〜５のアルキル基やアルコキシ基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。
【００２７】
グアニンヌクレオシド化合物とアリールアセチルクロリドとの反応は、以下（i）〜（iii）の方法で行うことができる。
（i）アリールアセチルクロリド、有機溶媒及び水を含有する溶液に、グアニンヌクレオシド化合物を加える方法。
（ii）グアニンヌクレオシド化合物、有機溶媒及び水を含有する溶液に、アリールアセチルクロリドを加える方法。
（iii）グアニンヌクレオシド化合物、アリールアセチルクロリド及び有機溶媒を含有する溶液に、水を加える方法。
これらの製造方法の中では、副生成物の抑制及び収率向上の観点から、（i）又は（ii）が好ましく、（i）がより好ましい。
【００２８】
グアニンヌクレオシド化合物にはエナンチオマーが存在するが、Ｄ体、Ｌ体又はこれらの混合物のいずれを使用してもよい。
【００２９】
アリールアセチルクロリドとしては前述したＡｒ基を与えることが可能なものであれば特に限定されるものではないが、例えば、フェニルアセチルクロリド、１−ナフチルアセチルクロリド、２−ナフチルアセチルクロリド、１−アントラセニルアセチルクロリド、２−アントラセニルアセチルクロリド、９−アントラセニルアセチルクロリドが挙げられる。
【００３０】
グアニンヌクレオシド化合物とアリールアセチルクロリドとの反応は塩基存在下で行うことが望ましく、塩基としては無機塩基及び有機塩基の何れを用いてもよいが、有機塩基が好ましい。有機塩基としては、例えば、ピリジン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルモルフォリン等が挙げられる。これらの中では、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンが好ましい。
【００３１】
有機溶媒としては出発物質を溶解し得るものであれば、特に限定されるものではないが、収率向上の観点から非プロトン性溶媒が好ましい。非プロトン性溶媒としては、例えば、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘキサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭＰＡ）、クロロホルム、ジクロロメタン、ピリジン等が挙げられる。これらの中では、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、ピリジンが好ましく、より好ましくはアセトニトリルである。
【００３２】
アリールアセチルクロリドの使用量は、特に限定されるものではないが、グアニンヌクレオシド化合物に対して当量以上、好ましくは１．５〜８．５当量、より好ましくは２．５〜７．５当量である。当量未満であると、反応が不十分となる傾向にある。また、水の使用量は、アリールアセチルクロリド１当量に対して０．３〜０．７当量、好ましくは０．４５〜０．５５当量である。０．３当量未満であると、副生成物が生成する傾向にあり、他方０．７当量を超えると、反応が不十分となる傾向にある。さらに、塩基の使用量は、アリールアセチルクロリドに対して当量以上、好ましくは１．０〜１０．０当量、より好ましくは２．０〜５．０当量である。当量未満であると、反応が不十分となる傾向にある。また、有機溶媒の使用量は、出発物質に応じて適宜調整することができる。さらに、反応温度は通常−１０〜８０℃であり、好ましくは０〜５０℃である。
【００３３】
また、上記反応後、更に加水分解することにより下式（４）で表されるＮ２−アリールアセチルグアニンヌクレオシド化合物を得ることができる。なお、加水分解反応は、保護基の種類に応じて酸性又は塩基性条件下で従来公知の方法により行うことができる。
【００３４】
【化１１】
2006199653.tif 000012
【００３５】
上記式中、Ｒ７及びＲ８は独立して水素原子又はヒドロキシル基を示す。
【００３６】
得られたＮ２−アリールグアニンヌクレオシド化合物は晶析等の公知の方法により容易に精製することができる。
【００３７】
上記式（１）で表されるグアニンヌクレオシド化合物は、例えば、下記式（３ａ）又は（３ｂ）で表されるグアニンヌクレオシド化合物（以下、「グアニンヌクレオシド化合物（３）」という）のヒドロキシル基を保護して製造することができる。
【００３８】
【化１２】
2006199653.tif 000013
【００３９】
グアニンヌクレオシド化合物（３）としては、反応性の点から下記一般式（３ｂ）で表されるグアニンヌクレオシド化合物の塩が好ましい。上記式中、Ｍはアルカリ金属を示し、アルカリ金属としてはリチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。なお、グアニンヌクレオシド化合物（３）は、公知技術に基づいてグアニンヌクレオシドから容易に製造することができる。
【００４０】
グアニンヌクレオシド化合物のヒドロキシル基の保護に使用する試薬としては、Ｒ1で表される保護基を与えることの可能な化合物であれば特に限定されるものではない。かかる化合物としては、例えば、無水酢酸等の酸無水物、酢酸クロリド等の酸塩化物、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド等のシラン化合物が挙げられるが、脱離防止の観点から酸無水物が好ましく、無水酢酸がより好ましい。なお、かかる化合物とグアニンヌクレオシド化合物との反応は、従来公知の方法で行うことができる。
【実施例】
【００４１】
以下、本発明の実施例について更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００４２】
（実施例１）
１）2’,3’,5’−トリ−O−アセチルグアノシンの製造
1000mLのナスフラスコにグアノシンソーダ（62.65g，200mmol）、酢酸エチル（400mL）、無水酢酸（79.3mL，840mmol）を加え、60℃にまで昇温し、3時間攪拌した。懸濁液が徐々に溶解し、薄黄色の溶液になった。この溶液に水（200mL）を加え、さらに30分間攪拌した。分層した層のうち、有機層を取り出した。この有機層にさらに水（50mL）を加え、抽出操作を行った。有機層をロータリーエバポレーターで濃縮した。有機層に水（1000mL）を加え、1M水酸化ナトリウム水溶液で中和晶析を行った(pH3.42からpH5.02)。一晩放置した後、桐山漏斗で減圧濾過を行い、結晶を水で洗った。結晶を乾燥し、2’,3’,5’−トリ−O−アセチルグアノシンを得た(66.77g, 163.1mmol, 81%)。
【００４３】
２）Ｎ２−フェニルアセチルグアノシン化合物の製造
500mLのナスフラスコにピリジン（72mL，930mmol）とアセトニトリル（300mL）と水（2.7mL，150mmol）を加えた後、0℃に冷却し、フェニルアセチルクロリド（39mL，300mmol）を5分間掛けて滴下した。0℃で30分間攪拌した後、2’,3’,5’−トリ−O−アセチルグアノシン（24.57g，60mmol）を加え、室温で1時間攪拌した後、さらに60℃で一晩攪拌した。次いで、0℃に冷却し水（12mL）を加えた。30℃で30分間放置した後に、有機溶媒をロータリーエバポレーターで留去した。得られた残渣に酢酸エチル（225mL）、トルエン（225mL）、水（300mL）を加え抽出操作を行った。得られた有機層を5%炭酸水素ナトリウム溶液（225mL）で洗い、さらに水（225mL）で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過により硫酸マグネシウムを除き、有機溶媒をロータリーエバポレーターで留去した。このようにして得た有機物をエタノール（150mL）に溶かし留去した後、メタノール（300mL）に再び溶かし、0℃に冷却した。この溶液に0℃に冷却した2M水酸化ナトリウム水溶液（180mL）を3分間で加え、0℃で10分間攪拌した。その後、反応液を0℃に冷却した2M塩酸でpH6まで中和した後、反応溶液にクロロホルム（150mL）、水（100mL）を加えた。この溶液を分液ロートに移し、クロロホルム（150mL）で二回洗浄した。水層を抽出後、ロータリーエバポレーターで溶媒（110mL）を留去し、室温で一昼夜放置した。析出した結晶を濾取し、冷水（100mL）で洗った。結晶を減圧下乾燥し、Ｎ２−フェニルアセチルグアノシン（12.84g，31.2mmol，純度 99.6area%）を得た。有機層に関しては室温で一昼夜放置することにより、結晶を析出させた。析出した結晶を濾取した後、クロロホルム（5mL）、水（5mL）、メタノール（5mL）で洗浄した。減圧下乾燥し、Ｎ２−フェニルアセチルグアノシン（2.57g，6.4mmol，純度 99.4area%）を得た。このようにして、Ｎ２−フェニルアセチルグアノシンを合計15.41g（38.4mmol，64%（2’,3’,5’−トリ−O−アセチルグアノシン基準））得た。
１H-NMR (DMSO-d6)：δ 3.51−3.68 (ｍ, 2H), 3.82 (ｄ, 2H), 3.89−3.93 (m, 1H), 4.13 (d-d, 1H J=8.4, 4.5 Hz), 4.43 (d-d, 1H, J=10.8, 5.4 Hz), 5.05 (ｔ, 1H J=5.4 Hz), 5.18 (d, 1H, J=4.2 Hz), 5.48 (ｄ, 1H J=5.7 Hz), 5.82 (ｄ, 1H J=6.0 Hz), 7.24−7.35 (m, 5H), 8.27 (s, 1H), 11.95 (bs, 2H). 
ESIMS m/z: 402 (M+H).
【００４４】
（参考例１）
１）2’,3’,5’−トリ−O−アセチルグアノシンの製造
1000mLのナスフラスコにグアノシンソーダ（62.65g，200mmol）、酢酸エチル（400mL）、無水酢酸（79.3mL，840mmol）を加え、60℃にまで昇温し、3時間攪拌した。懸濁液が徐々に溶解し、薄黄色の溶液になった。この溶液に水（200mL）を加え、さらに30分間攪拌した。分層した層のうち、有機層を取り出した。この有機層にさらに水（50mL）を加え、抽出操作を行った。有機層をロータリーエバポレーターで濃縮した。有機層に水（1000mL）を加え、1M水酸化ナトリウム水溶液で中和晶析を行った(pH3.42からpH5.02)。一晩放置した後、桐山漏斗で減圧濾過を行い、結晶を水で洗った。結晶を乾燥し、2’,3’,5’−トリ−O−アセチルグアノシンを得た(66.77g, 163.1mmol, 81%)。
【００４５】
２）Ｎ２−フェニルアセチルグアノシン化合物の製造
50mLのナスフラスコにピリジン（3.6mL，44.2mmol）とアセトニトリル（14.25mL）の混合溶液を加えた後、0℃に冷却し、フェニルアセチルクロリド（1.88mL，14.3 mmol）を5分間掛けて滴下した。0℃で30分間攪拌した後、2’,3’,5’−トリ−O−アセチルグアノシン（1g，2.9mmol）を加え、室温で1時間攪拌した後、さらに60℃で一晩攪拌した。次いで、0℃に冷却し水（0.5mL）を加えた後、30℃で30分間放置した後に、有機溶媒をロータリーエバポレーターで留去した。得られた残渣を酢酸エチル（11mL）、トルエン（11mL）、水（15mL）に溶かし抽出操作を行った。得られた有機層を5%炭酸水素ナトリウム溶液（11mL）で洗い、さらに水（15mL）で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過により硫酸マグネシウムを除き、有機溶媒をロータリーエバポレーターで留去した。このようにして得た有機物をエタノール（6mL）に溶かし留去した後、メタノール（14.3mL）に溶かし、0℃に冷却した。この溶液に0℃に冷却した2M水酸化ナトリウム水溶液（8.6mL）を3分間で加え、0℃で10分間攪拌した。その後、反応液を0℃に冷却した2M塩酸でpH6まで中和した後、反応溶液にクロロホルム（7.5mL）、水（5mL）を加えた。この溶液を分液ロートに移し、クロロホルム（7.5mL）で二回洗浄した。有機層を抽出後、室温で1昼夜放置した。析出した結晶を濾取し、クロロホルム（7.5mL）で洗った。減圧下乾燥し、Ｎ２−フェニルアセチルグアノシン（497.4mg，1.24mmol，純度 94.4area%）を得た。一方、水層に関しては室温で1昼夜放置することにより、結晶を析出させた。析出した結晶を濾取した後、水（7.5mL）で洗浄した。減圧下乾燥し、Ｎ２−フェニルアセチルグアノシン（86.5mg，0.22mmol，純度 95.4area%）を得た。このようにして、Ｎ２−フェニルアセチルグアノシンを合計583.9mg（1.45mmol，５９％（2’,3’,5’−トリ−O−アセチルグアノシン基準））得た。