(57)【要約】 【課題】  その目的は、露光処理の際の液晶マスクの温度上昇による液晶マスクの変形を防止した露光装置及び電気光学装置を提供する。【解決手段】  本発明は、液晶マスクを用いて被露光基板１に所定パターンを転写する露光装置７０であって、露光光を出射する光源５と、光源５からの露光光により照射された液晶マスク８を冷却する冷却手段９０と、を備える。【選択図】        図１
2006261163.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶マスクを用いて被露光基板に所定パターンを転写する露光装置であって、
露光光を出射する光源と、
前記光源からの露光光により照射された前記液晶マスクを冷却する冷却手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記冷却手段が、前記液晶マスクに気体を供給して前記液晶マスクを冷却する気体供給手段であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記液晶マスクと前記気体供給手段との間に、液晶マスクが設けられた方向に気体を供給する気体供給補助手段を備えたことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記気体供給補助手段が整流板であり、
前記整流板の少なくとも一方の一面側には、前記液晶マスクが設けられた方向に沿って気体の流路を構成する溝部が設けられたことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記液晶マスクを保持する保持部材が、前記整流板として機能することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記液晶マスクが、液晶装置と前記液晶装置の一面側及び他面側のそれぞれに対向配置された一対の偏光板とを備え、
前記一対の偏光板の少なくとも一方が、前記液晶装置との間に間隙部を有して設けられ、
前記間隙部は、前記気体供給手段から供給された気体が前記液晶装置と前記偏光板との間を通過するための流路であることを特徴とする請求項２乃至請求項５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記光源から出射された露光光を拡大して前記液晶マスクに照射する拡大レンズと、
前記拡大レンズによって拡大された露光光の照射面積に対応するように、前記被露光基板上に実際に形成するパターンを拡大したパターンを形成可能な液晶マスクと、
前記液晶マスクを透過した露光光を縮小して前記被露光基板に照射する縮小レンズと、
を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の露光装置により製造されたパターンを有する基板を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、被露光基板に所定パターンを形成する場合には、所定パターンが描画されたレチクル又はフォトマスク（以下、レチクルと称する）を用いて、露光装置により被露光基板上にパターンを転写する方法が広く利用されている。このレチクルの形成方法は、まず高い平坦度に研磨された低膨張係数ガラス、石英等の透明基板に、クロム（Ｃｒ）、ケイ素等の遮光膜を形成し、この遮光膜の上にフォトレジストを塗布する。そして、電子ビーム露光装置等を用いて露光、現像した後、フォトレジストに覆われない遮光膜の不要部分をエッチングにより除去して形成する。露光時には、このレチクルを用いて、等倍露光又は縮小投影露光により、レチクル上に描画されたパターンをフォトレジストが塗布された被露光基板に転写していた。
【０００３】
しかしながら、上記方法では、被露光基板に形成するパターンごとに、複雑な加工が必要なレチクルを形成しなければならなかった。また、特に複雑な集積回路を形成する場合には、２０枚を超えるレチクルを用意しなければならないため、レチクルの形成に時間を要するとともに、高コストとなるという問題があった。さらには、集積回路に僅かな設計変更が発生した場合でもレチクルを再度形成しなければならなかった。
【０００４】
そこで、上記問題を解決する技術としてレチクルに代替する液晶マスクを用いた露光装置により、被露光基板に所定パターンを形成する方法が開示されている。この液晶マスクを用いた露光方法によれば、液晶マスクの各画素に印加する電圧を制御することにより、自由にパターンを変更することが可能である。つまり、上記レチクルのように、パターンを変更するごとにレチクルを新たに形成する必要がないという利点がある。
【特許文献１】特開平１１−１１９４３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に開示の露光装置では以下の問題があった。つまり、光源から出射される露光光が、液晶マスクに例えば１００ｍＪの照射エネルギーで照射されると、液晶マスクの温度が１℃上昇することが知られている。この液晶マスクの温度上昇により、熱膨張による撓みが液晶マスクに発生する。従って、この液晶マスクを介して被露光基板上の感光性樹脂に露光光が照射された場合、液晶マスクの撓みにより、感光性樹脂に照射される露光光の光量が各領域によって異なるため、高精度のパターンを形成することが困難であった。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、露光処理の際の液晶マスクの温度上昇による液晶マスクの変形を防止した露光装置及び電気光学装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために、液晶マスクを用いて被露光基板に所定パターンを転写する露光装置であって、露光光を出射する光源と、前記光源からの露光光により照射された前記液晶マスクを冷却する冷却手段と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、露光装置には液晶マスクを冷却する冷却手段が設けられているため、露光光の照射による液晶マスクの温度上昇を防止することができる。これにより、温度上昇による液晶マスクの熱膨張を回避し、液晶マスクの撓み等の変形を防止することができる。従って、被露光基板に液晶マスクを介して均一な露光光を照射させて、高精度なパターンを転写することが可能となる。
【０００９】
また本発明の露光装置は、前記冷却手段が、前記液晶マスクに気体を供給して前記液晶マスクを冷却する気体供給手段であることも好ましい。
【００１０】
この構成によれば、気体供給手段、例えばファン等を用いて液晶マスクに気体を供給することができる。これにより、露光光の照射により温度上昇した液晶マスクの温度を気体により低下させることができる。従って、液晶マスクの温度上昇による熱膨張を回避し、液晶マスクの撓み等の変形を防止することができる。
【００１１】
また本発明の露光装置は、前記液晶マスクと前記気体供給手段との間に、液晶マスクが設けられた方向に気体を供給する気体供給補助手段を備えたことも好ましい。
【００１２】
この構成によれば、液晶マスク方向に気体を供給する気体供給補助手段が設けられているため、気体供給手段から供給された気体は液晶マスク方向に誘導される。これにより、効率的に液晶マスクに気体を供給することができる。
【００１３】
また本発明の露光装置は、前記気体供給補助手段が整流板であり、前記整流板の少なくとも一方の一面側には、前記液晶マスクが設けられた方向に沿って気体の流路を構成する溝部が設けられたことも好ましい。
【００１４】
この構成によれば、気体供給手段から供給された気体が、整流板に設けられた溝部に流入する。この溝部は液晶マスクが設けられた方向に沿って設けられているため、溝部に流入した気体は、液晶マスク方向に誘導される。これにより、効率的に液晶マスクに気体を供給することができる。
【００１５】
また本発明の露光装置は、前記液晶マスクを保持する保持部材が、前記整流板として機能することも好ましい。
【００１６】
この構成によれば、別途整流板を設けることなく、保持部材により整流板の機能を果たすことができる。これにより、低コスト化を図ることができるとともに、効率的に液晶マスクに気体を供給することができる。
【００１７】
また本発明の露光装置は、前記液晶マスクが、液晶装置と前記液晶装置の一面側及び他面側のそれぞれに対向配置された一対の偏光板とを備え、前記一対の偏光板の少なくとも一方が、前記液晶装置との間に間隙部を有して設けられ、前記間隙部は、前記気体供給手段から供給された気体が前記液晶装置と前記偏光板との間を通過するための流路であることも好ましい。
【００１８】
本発明において液晶マスクは、液晶装置と液晶装置の一面側及び他面側のそれぞれに配置された一対の偏光板とから構成されている。
この構成によれば、液晶マスクと偏光板との間に気体流路である間隙部が設けられている。そのため、液晶マスクと偏光板とが一体となっている場合と比較して、気体供給手段によって供給された冷却気体と液晶マスク及び偏光板との接触面積が大きくなる。これにより、間隙部を冷却気体が通過することにより、液晶マスクと偏光板との対向面が冷却気体により冷却され、液晶マスクの温度上昇による熱膨張を回避し、液晶マスクの撓み等の変形を防止することができる。
【００１９】
また本発明の露光装置は、上記冷却手段に加え、前記光源から出射された露光光を拡大して前記液晶マスクに照射する拡大レンズと、前記拡大レンズによって拡大された露光光の照射面積に対応するように、前記被露光基板上に実際に形成するパターンを拡大したパターンを形成可能な液晶マスクと、前記液晶マスクを透過した露光光を縮小して前記被露光基板に照射する縮小レンズと、を備えることを特徴とする。
【００２０】
この構成によれば、拡大レンズにより光源から出射された露光光が拡大されるため、光源から出射された露光光の単位面積当たりの光量（光束）が少なくなる。そして、拡大された露光光は、拡大された液晶マスクに照射される。これにより、拡大された液晶マスクの単位面積あたりに照射される露光光の光量（照度）は少なくなり、液晶マスクの温度上昇を防止することができる。従って、上記冷却手段と組み合わせることにより、より効率的に液晶マスクの温度上昇による熱膨張を回避し、液晶マスクの撓み等の変形を防止することができる。
【００２１】
本発明の電気光学装置は、上記露光装置により製造されたパターンを有する基板を備えたことを特徴とする。
本発明の電気光学装置では、上記露光装置により電気光学装置を製造するため、高精度な電気光学装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
［第１の実施の形態］
以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００２３】
（露光装置）
次に、本実施形態の露光装置の概略構成について図面を参照して説明する。図１は、本実施形態の露光装置の概略構成を示す。
図１に示すように、露光装置７０は、露光光を出射する光源５と、露光光を所定パターンにして透過させる液晶マスク８と、液晶マスク８を支持するマスクステージ７２と、液晶マスク８を透過した露光光を被露光基板１に結像させる縮小レンズ９と、被露光基板１を支持するステージ２とを備えている。また本実施形態の露光装置７０は、チャンバー８０内部に収容され、空調管理を行うことができるようになっている。
【００２４】
光源５は、露光光を液晶マスク８に照射するものである。光源５としては、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）、ＫｒＦエキシマレーザ光等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光又はＦ２レーザ光等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等を用いることができる。
【００２５】
光源５から射出された露光光は、例えばライトガイド等により一旦集合され均等分配された後、均一に照度分布されて射出される。コンデンサレンズは、均一に照度分布された露光光を液晶マスク８に結像させる。そして、液晶マスク８を透過した露光光は、縮小レンズ９を介して被露光基板１上の感光材に照射され、液晶マスク８を透過した所定パターンの露光光が転写される。
【００２６】
ステージ２は、駆動モータに接続され、制御装置６によって駆動モータが制御されることにより所定方向に移動及び回転可能となっている。具体的には、駆動モータの駆動により、ステージ２は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向に移動可能であるとともに、Ｘ軸回り、Ｙ軸回り、及びＺ軸回りに回転可能となっている。また、ステージ２上には、パターンを露光するための被露光基板１が載置され、ステージ２に設けられた真空吸着（又は静電吸着）によりステージ２に固定される。
【００２７】
（液晶マスク）
次に、本実施形態の上記露光装置に設置する液晶マスクについて図面を参照して説明する。図２は液晶マスク８の概略構成を示した斜視図であり、図３は図２の液晶マスク８のＡ−Ａ’線に沿った断面図である。本実施形態において、液晶マスク８は、液晶装置５０と液晶装置５０の一面側及び他面側のそれぞれに対向配置された一対の第１偏光板２８及び第２偏光板３０とを備えている。なお、本実施形態の液晶マスク８は、画素の駆動方式としてパッシブマトリクス方式を採用している。また、液晶マスク８を構成する第１偏光板２８及び第２偏光板３０については後述において説明する。また、図２において、配向膜１４，２２は省略している。
（液晶装置）
【００２８】
液晶装置５０は、第１基板１０と、この第１基板１０に対向配置される第２基板１６と、第１基板１０と第２基板１６とに挟持される液晶層２６とを備えている。なお、本実施形態において、液晶層２６が配置された側の第１基板１０及び第２基板１６面を内面と呼び、これと反対側の第１基板１０及び第２基板１６の面を外面と呼ぶ。また、光源５は、第１基板１０の外面側の上方に設置されているものとし、光源５から出射された露光光は、第１基板１０の外面側から入射することとする。
【００２９】
第１基板１０は、ガラス、石英、又はプラスティック等の光透過性を有する透明材料から形成され、光源５から出射される露光光が透過されるようになっている。なお、第１基板１０を半透明材料からなる材料により形成することもできる。
【００３０】
複数の第１電極１２は、図２に示すように、第１基板１０の内面側のＹ軸方向に延在してストライプ状に形成されている。第１電極１２は、例えば透明材料であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料として蒸着法等により形成される。
【００３１】
配向膜１４は、図３に示すように、上記複数の第１電極１２の全面を覆うようにして、第１基板１０の内面側に形成されている。この配向膜１４はポリイミド等の有機薄膜から形成され、配向膜１４表面には電圧が印加されていないときの液晶層２６の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。
【００３２】
液晶層２６は、図３に示すように、第１基板１０とこの第１基板１０に対向配置される第２基板１６との間に挟持されて配置されている。液晶層２６は、例えばＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モード、ＶＡＮ（Vertical Aligned Nematic）モード等の動作モードの種々の液晶を採用することが可能である。
【００３３】
第２基板１６は、第１基板１０と同様に、ガラス、石英、又はプラスティック等の光透過性を有する透明材料から形成され、液晶層２６を通過した露光光を透過させて、第２基板１６の外面側に透過した露光光が出射されるようになっている。
【００３４】
複数の第２電極１８は、図２に示すように、第２基板１６の内面側のＸ軸方向に延在してストライプ状に形成されている。つまり、複数の第２電極１８のそれぞれは、第１基板１０の内面側に形成される第１電極１２のそれぞれと互いに交差するように配置され、第１電極１２と第２電極１８とが交差してなる領域は画素となっている。また、第２電極１８は、例えば透明材料であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料として蒸着法等により形成される。
【００３５】
配向膜２２は、図３に示すように、上記複数の第２電極１８の全面を覆うようにして、第２基板１６の内面側に形成されている。この配向膜２２はポリイミド等の有機薄膜から形成され、配向膜２２表面には電圧が印加されていないときの液晶層２６の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。
【００３６】
次に、露光装置に設置される冷却手段について説明する。
図４は、図１に示す冷却手段９０を概略構成を拡大した図である。図４に示すように、冷却手段９０は、液晶マスク８に気体を送風する冷却ファン７６（気体供給手段）と、冷却された気体の流れ方向を一定方向に整えて液晶マスク８に送風する整流板７４（気体供給補助手段）とを備えている。
【００３７】
冷却ファン７６は、複数の羽根部材８２を駆動する駆動モータと、駆動モータの回転軸に軸支される複数の長円形状からなる羽根部材８２と、これらを収納する円柱状の筐体８４とを備えている。また、この冷却ファン７６は、送風する気体を液晶マスク８の側面側に供給することができるように液晶マスク８の側方に配設されている。このような冷却ファン７６の構成により、駆動モータが駆動されると複数の羽根部材８２が回転し、液晶マスク８の側面方向に気体が送風されるようになっている。なお、送風する気体は、冷却ファン７６によって冷却された気体を送風しても良いし、チャンバー内部の気体を循環させてそのまま送風しても良い。
【００３８】
整流板７４は、供給された冷却気体の流れ方向を一定方向に整えて効率的に液晶マスク８に冷却気体を供給するものであり、液晶マスク８と冷却ファン７６との間に配置されている。この整流板７４は、複数の長細の円柱の長手方向の面を互いに当接させて形成され、整流板７４の断面は、略円形状が反復された形状となっている。これにより、整流板７４の反復された円形状間には、略Ｖ字状の溝部７４ａが形成される。そして、整流板７４を平面的に視認した場合には、溝部７４ａはストライプ状に複数形成され、溝部７４ａの形成方向が液晶マスク８の側面８ａに対して略垂直となるように形成される。これにより、溝部７４ａは液晶マスク８方向に沿って設けられているため、溝部７４ａに流入した気体は、液晶マスク８方向に誘導され、効率的に液晶マスク８に冷却気体が供給される。なお、整流板７４に形成する溝部７４ａは、整流板７４の一面側に形成しても良いし、両面側に形成しても良い。
【００３９】
また、整流板７４の厚さ（円柱のＺ軸方向）は、液晶装置５０の厚みと略等しくなるように形成され、整流板７４のＹ軸方向の長さは、液晶装置５０の側面８ａの長手方向と略等しくなるように形成される。また、整流板７４を配置する高さは、整流板７４の上面の高さが液晶装置５０の上面の高さと略等しくなるように配置する。なお、整流板７４の配置する高さを変えたり、整流板７４をＸ軸方向又はＺ軸方向に回転させることにより、液晶マスク８に送風する気体の流量を制御することもできる。また、整流板７４に形成する溝部７４ａの断面形状は、Ｖ字状に限定されることなく、種々の形状を採用することができる。
【００４０】
図２及び図３に戻り、第１偏光板２８は、液晶装置５０の第１基板１０の外面側に配置されるとともに、第２偏光板３０は第２基板１６の外面側に配置されている。そして、第１偏光板２８は第１基板１０に対して所定間隔をあけて略平行に配置され、第１偏光板２８と第１基板１０との間には間隙部８６が設けられている。同様にして、第２偏光板３０と第２基板１６との間には間隙部８６が設けられている。本実施形態において、間隙部８６は、冷却ファン７６から供給された気体が、液晶マスクの一側面８ａから他側面８ｂに通過するための冷却気体流路となっている。この間隙部８６により、冷却ファン７６によって供給された冷却気体と、液晶装置５０、第１偏光板２８及び第２偏光板３０との接触面積が大きくなり、間隙部８６を通過する冷却気体により、液晶装置５０と第１偏光板２８及び第２偏光板３０のそれぞれの対向面が冷却される。なお、第１偏光板２８及び第２偏光板３０のいずれか一方を液晶装置５０に接触させ、他方を液晶装置５０から離反させて配置しても良い。この場合には、光源５から出射される露光光が最初に到達する第１偏光板２８を離反させることが好ましい。
【００４１】
排気部７８は、図１及び図４に示すように、冷却ファン７６が配設された液晶マスク８の側方側とは反対側に設けられ、チャンバー８０の側面に取り付けられている。また、排気部７８には、チャンバー８０内部と外部とを連通させる排気口７９が設けられ、液晶マスク８の冷却により温度上昇した気体を排気口７９を介して外部に排出し、チャンバー８０内部の空調を制御できるようになっている。なお、排気部７８にフィルタを設けることによりチャンバー８０内部のチャンバー８０内部のパーティクルを除去することも可能である。
【００４２】
本実施形態によれば、露光装置７０には液晶マスク８を冷却する冷却ファン７６が設けられているため、露光光の照射による液晶マスク８の温度上昇を防止することができる。これにより、温度上昇による液晶マスク８の熱膨張を回避し、液晶マスク８の撓み等の変形を防止することができる。従って、被露光基板１に液晶マスク８を介して均一な露光光を照射させて、高精度なパターンを転写することが可能となる。
【００４３】
[第２の実施の形態]
以下に本実施形態について図面を参照して説明する。
上記第１実施形態では、液晶マスクの温度上昇を回避する手段として、露光装置に冷却手段を設けることにより液晶マスクを冷却させていた。本実施形態では、上記冷却手段に加えて、さらに照射面積が拡大された液晶マスクを組み合わせることによって、液晶マスク８の温度上昇を抑制している点において異なる。
【００４４】
図５は、本実施形態の露光装置７０の概略構成を示す図である。
上記第１実施形態では、液晶マスク８の第１偏光板又は第１基板の外面側に照射される露光光の単位面積当たりの照度は、約１００ｍＪ／ｃｍ２あり、液晶マスク８全体としての温度が１℃上昇する。これにより、液晶マスク８が熱膨張し、撓みが発生する。本実施形態では、露光光による液晶マスク８の温度上昇を０．１℃〜０．２℃の範囲内に抑える。つまり、第１偏光板又は第１基板の外面側に照射される露光光の単位面積当たりの光量を２０ｍＪ／ｃｍ２以内に抑えることで、液晶マスク８全体としての温度上昇を０．１℃〜０．２℃の範囲内に抑える。
【００４５】
本実施形態の露光装置７０は、光源５と液晶マスク８との間に、光源５から出射された露光光を拡大する拡大レンズ系７（拡大レンズ）が設けられている。本実施形態では、後述するように液晶マスク８の平面面積が、上記第１実施形態と比較して約５倍の液晶マスク８を用いている。そのため、拡大レンズ系７は、液晶マスク８の平面の全体に露光光を照射することができるような倍率の拡大レンズが用いられ、光源５から出射された露光光を拡大する。これにより、光源５から出射された露光光が拡大レンズ系７により拡大され、第１実施形態と比較して液晶マスク８の平面面積が約５倍の液晶マスク８の平面全体に照射される。従って、拡大レンズ系７により拡大された露光光の単位面積当たりの光量は、第１実施形態と同じ光源５を用いた場合には、第１実施形態の場合と比較して約１／５倍となる。このように、光源５から出射された露光光を拡大することにより、液晶マスク８に照射される露光光の単位面積当たりの光量を低下させることができる。なお、拡大レンズ系７を用いずに、光源５から出射される露光光を調節することによって、拡大された液晶マスク８の平面に露光光を照射することも可能である。
【００４６】
本実施形態の液晶マスク８の平面の面積は、上記第１実施形態で用いた液晶マスク８の平面の面積（一般的に市場において用いられる液晶マスク８の平面の面積）の約５倍となるように形成されている。この液晶マスク８に、上記拡大レンズ系７によって拡大された露光光が照射される。このとき、上述したように、液晶マスク８に照射される露光光は、拡大レンズ系７によって、液晶マスク８の平面面積の全体に照射されるように拡大されている。これにより、液晶マスク８に照射される露光光の単位面積当たりの光量は、約２０ｍＪ／ｃｍ２となる。従って、液晶マスク８の温度上昇を約０．２度に抑えることができる。
【００４７】
液晶マスク８を通過した露光光は、縮小レンズ９によって縮小され、ステージに載置されている被露光基板１上の感光材に所定パターンが照射される。この縮小レンズ９には、露光光を約１／５に縮小するものが用いられる。これにより、拡大レンズ系７によって拡大する前の倍率で、被露光基板１上の感光材に所定パターンを形成することができる。つまり、最終的に被露光基板１の感光材に形成されるパターンは、上記第１実施形態と同様の大きさとなる。
【００４８】
本実施形態によれば、拡大レンズ系７により光源５から出射された露光光が拡大されるため、光源５から出射された露光光の単位面積当たりの光量（光束）が少なくなる。そして、拡大された露光光は、拡大された液晶マスク８に照射される。これにより、拡大された液晶マスク８の単位面積あたりに照射される露光光の光量（照度）は少なくなり、液晶マスク８の温度上昇を防止することができる。従って、第１実施形態で説明した冷却手段９０と本実施形態とを組み合わせることにより、より効率的に液晶マスク８の温度上昇による熱膨張を回避し、液晶マスク８の撓み等の変形を防止することができる。
【００４９】
（電気光学装置）
次に、上記露光装置により形成された配線、電極が形成された基板を備える液晶表示装置（電気光学装置）について図面を参照して説明する。図６（ａ）は液晶表示装置１００を各構成要素とともに対向基板側からみた平面構成図、図６（ｂ）は液晶表示装置１００のＢ−Ｂ’線に沿った側断面構成図である。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
【００５０】
図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、本実施形態の液晶表示装置１００は、ＴＦＴアレイ基板（アクティブマトリクス基板）３４と、対向基板３６とが、平面視略矩形枠状のシール材５２を介して貼り合わされ、このシール材５２に囲まれた領域内に液晶層５１が封入された構成を具備した液晶パネル１１０と、その背面側（（ｂ）図下側）に配設されたバックライト（照明手段）１２０とを備えて構成されている。
【００５１】
液晶パネル１１０には、シール材５２の内周側に沿って平面視矩形枠状の周辺見切り５３が形成され、この周辺見切りの内側の領域に表示領域（画素部）３８が形成されている。シール材５２の外側の領域には、データ線駆動回路２０１及び外部回路実装端子２０２がＴＦＴアレイ基板３４の１辺（図示下辺）に沿って形成されており、この１辺に隣接する２辺に沿ってそれぞれ走査線駆動回路２０４，２０４が形成されている。ＴＦＴアレイ基板３４の残る１辺（図示上辺）には、表示領域１１の両側の走査線駆動回路２０４，２０４間を接続する複数の配線２０５が設けられている。
【００５２】
また、対向基板３６の各角部にはＴＦＴアレイ基板３４と対向基板３６との間の電気的導通をとるための基板間導通材２０６が配設されている。本実施形態の液晶表示装置１００は、半透過反射型の液晶表示装置として構成され、透過表示モードでは、背面側に配設されたバックライト１２０からの照明光を液晶パネル１１０にて変調して対向基板３６側から表示光として射出し、反射表示モードでは、液晶パネル１１０に設けられた反射層（図示略）により対向基板３６側から入射した光を反射させるとともに液晶層５１にて変調し、表示光として射出するようになっている。
【００５３】
なお、液晶表示装置１００においては、使用する液晶の種類、すなわち、ＴＮ（Twisted Nem
atic）モード、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モード、垂直配向モード等の動作モード
や、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、位相差板、偏光板
等が所定の向きに配置されるが、ここでは図示を省略する。
【００５４】
なお、本願発明は、上述した例に限定されるものではなく、本願発明の要旨を逸脱しな
い範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。また、本願発明の要旨を逸脱しな
い範囲において上述した各例を組み合わせても良い。
上記実施形態では気体供給補助手段として整流板を用いたがこれに限定されることはない。例えば、液晶マスクを保持するマスクステージ（保持部材）に溝部を形成することにより、冷却ファンから供給された冷却気体の流れ方向を一定方向に整えて効率的に液晶マスクに冷却気体を供給することも可能である。また、整流板とマスクステージと組み合わせることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】同、パッシブマトリクス方式の液晶マスクの概略構成を示す斜視図である。
【図３】図２に示す液晶マスクのＡ−Ａ’線に沿った断面図である。
【図４】同、露光装置の冷却手段の概略構成を示す斜視図である。
【図５】第２実施形態に係る露光装置の概略構成を示す斜視図である。
【図６】（ａ）は電気光学装置の概略構成を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示す電気光学装置のＢ−Ｂ’線に沿った断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１…被露光基板、  ５…光源、  ７…拡大レンズ系（拡大レンズ）、  ８…液晶マスク、  ９…縮小レンズ、  ５０…液晶装置、  ７４…整流板（気体供給補助手段）、  ７４ａ…溝部、  ７６…冷却ファン（気体供給手段）、  ９０…冷却手段、  １００…液晶表示装置（電気光学装置）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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