(57)【要約】【課題】   液晶パネルの欠陥画素を確実かつ安定的に修復できる液晶パネルのリペア方法および装置を提供することを目的とする。【解決手段】   液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射する液晶パネルのリペア方法であって、前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却した状態で前記レーザ光を照射することを特徴とする液晶パネルのリペア方法を提供する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射する液晶パネルのリペア方法であって、
前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却した状態で前記レーザ光を照射することを特徴とする液晶パネルのリペア方法。
【請求項２】
液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射する液晶パネルのリペア方法であって、
前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却することによりその部分の液晶の粘度を上昇させた状態で前記レーザ光を照射することを特徴とする液晶パネルのリペア方法。
【請求項３】
液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射する液晶パネルのリペア方法であって、
前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却しつつ前記レーザ光を照射することにより、前記レーザ光を照射した部分の液晶に気泡を形成し、前記気泡の内部空間に露出した配向膜を飛散させることを特徴とする液晶パネルのリペア方法。
【請求項４】
液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射する液晶パネルのリペア方法であって、
前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却しつつ前記レーザ光を照射することにより、前記レーザ光を照射した部分の液晶に気泡を形成し、前記気泡の内部空間に前記液晶パネルの構成要素を飛散させ周囲に堆積させることを特徴とする液晶パネルのリペア方法。
【請求項５】
前記欠陥画素は、輝点欠陥を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の液晶パネルのリペア方法。
【請求項６】
前記レーザ光の照射により、前記欠陥画素における液晶の配向を乱すことを特徴とする請求項５記載の液晶パネルのリペア方法。
【請求項７】
前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を摂氏１０度以下に冷却した状態で前記レーザ光を照射することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の液晶パネルのリペア方法。
【請求項８】
レーザ光を放出するレーザ発振器と、
液晶パネルを載置するステージと、
前記レーザ発振器から放出された前記レーザ光を、前記ステージに載置された前記液晶パネルに導く光学手段と、
前記ステージの上に載置された前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却する冷却手段と、
を備えたことを特徴とする液晶パネルのリペア装置。
【請求項９】
前記冷却手段は、ペルチェ素子を有することを特徴とする請求項８記載の液晶パネルのリペア装置。
【請求項１０】
前記冷却手段は、冷却媒体ガスを供給する供給源と、前記冷却媒体ガスを前記液晶パネルに噴射するノズル部と、を有することを特徴とする請求項８記載の液晶パネルのリペア装置。
【請求項１１】
前記冷却手段は、前記液晶パネルを冷却媒体液体に浸した状態で保持可能とした冷却媒体液体容器を有することを特徴とする請求項８記載の液晶パネルのリペア装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルのリペア方法及びリペア装置に関し、より詳細には、液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射して修復する液晶パネルのリペア方法及びリペア装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
テレビ、パソコン、携帯電話をはじめとする各種の家電機器や情報端末機器の画面デバイスとして液晶パネルが普及しつつある。さらなる普及を目指すには、大画面化や高精細化を進めるとともに、製造コストを下げることが重要である。  
アクティブマトリックス型の液晶パネルの欠陥画素を修復する方法として、レーザ光を照射するリペア方法がある。例えば、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）の動作不良や、画素電極あるいは配向膜の不良などにより透過光を遮断できないと「輝点欠陥」が生ずる。輝点欠陥が生じた画素を修復する方法として、その欠陥画素の配向膜にレーザ光を照射し、配向を乱すことで透過率を低下させ、輝点欠陥コントラストを低下させるリペア方法がある（例えば、特許文献１および２）。
【特許文献１】特開平５−３１３１６７号公報
【特許文献２】特開平８−１５６６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、本発明者の検討の結果、レーザ光を照射してもうまく修復できない場合があることが判明した。また、特に「平坦化処理」などを施した液晶パネルなどの場合に、レーザ光の修復がうまくいかない傾向が強いことも判明した。これらの観点から独自の検討を実施した結果、本発明者は、レーザ光による液晶パネルのリペアについて、新たな知見を得るに至った。
【０００４】
本発明は、かかる新たな知見に基づいてなされたものであり、その目的は、液晶パネルの欠陥画素を確実かつ安定的に修復できる液晶パネルのリペア方法および装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一態様によれば、
液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射する液晶パネルのリペア方法であって、
前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却した状態で前記レーザ光を照射することを特徴とする液晶パネルのリペア方法が提供される。
【０００６】
また、本発明の他の一態様によれば、
液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射する液晶パネルのリペア方法であって、
前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却することによりその部分の液晶の粘度を上昇させた状態で前記レーザ光を照射することを特徴とする液晶パネルのリペア方法が提供される。
【０００７】
また、本発明のさらに他の一態様によれば、
液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射する液晶パネルのリペア方法であって、
前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却しつつ前記レーザ光を照射することにより、前記レーザ光を照射した部分の液晶に気泡を形成し、前記気泡の内部空間に露出した配向膜を飛散させることを特徴とする液晶パネルのリペア方法が提供される。
【０００８】
また、本発明のさらに他の一態様によれば、
液晶パネルの欠陥画素にレーザ光を照射する液晶パネルのリペア方法であって、
前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却しつつ前記レーザ光を照射することにより、前記レーザ光を照射した部分の液晶に気泡を形成し、前記気泡の内部空間に前記液晶パネルの構成要素を飛散させ周囲に堆積させることを特徴とする液晶パネルのリペア方法が提供される。
【０００９】
また、本発明のさらに他の一態様によれば、
レーザ光を放出するレーザ発振器と、
液晶パネルを載置するステージと、
前記レーザ発振器から放出された前記レーザ光を、前記ステージに載置された前記液晶パネルに導く光学手段と、
前記ステージの上に載置された前記液晶パネルの少なくとも前記レーザ光を照射する部分を冷却する冷却手段と、
を備えたことを特徴とする液晶パネルのリペア装置が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、液晶パネルの欠陥画素を冷却しつつレーザ光を照射することにより、欠陥画素を再現よく安定的にリペアする液晶パネルのリペア方法および装置を提供することができ、産業上のメリットは多大である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。  
図１は、本発明の実施の形態にかかる液晶パネルのリペア方法の手順を例示するフローチャートである。  
すなわち、本実施形態においては、まず、液晶パネルを冷却しつつ、欠陥画素にレーザ光を照射する（ステップＳ１００）。すると、レーザ光のエネルギーにより液晶層の一部が蒸発し、欠陥画素において空洞が形成する（ステップＳ１１０）。そして、空洞に露出された配向膜が空洞のスペースに向けて飛散し、配向が乱れて、欠陥画素を暗化させることができる（ステップＳ１２０）。  
図２は、本実施形態のリペア方法を適用可能な液晶パネルの積層構造を例示する概念図である。  
すなわち、本具体例の液晶パネルの場合、背後からバックライト１０を当て、その透過光２０を制御して所定の画像を表示する。ただし、本発明はこれには限定されず、例えば、表面側から入射した光を反射させて画像を表示する形式のものでもよい。  
この液晶パネルは、一対のガラス基板３５、７０を有する。これらガラス基板３５、７０の外側の主面上には、偏光板３０、７５がそれぞれ貼り付けられている。また、ガラス基板３５の内側の主面上には、アレイ領域４０が形成され、その上に配向膜４５が形成されている。アレイ領域４０は、液晶に対して画素毎に電圧を印加するために設けられ、例えば、図示しない配線層、ＴＦＴなどのスイッチング素子、層間絶縁膜、樹脂などからなる平坦化領域、画素電極などを含む。
【００１２】
一方、これに対向するガラス基板７０の内側の主面上には、カラーフィルタ６５、対向電極６０、配向膜５５がこの順に積層されている。なお、カラーフィルタ６５は、アレイ領域４０に設けても良い。  
そして、これら配向膜４５、５５の間に、液晶５０が充填されている。
【００１３】
このような液晶パネルは、その製造工程において不良が発生することがある。例えば、アレイ領域４０に設けているＴＦＴなどのスイッチング素子が動作不良を起こしたり、画素電極あるいは配向膜などが正常に形成されていないと、画素において透過光を遮断することができなくなり、その部分が常に明るい「輝点欠陥」となることがある。
【００１４】
このような輝点欠陥は、液晶パネルの画質を低下させるため、液晶パネルの製造工程においては不良を発生させないように注意を要する。しかし、輝点欠陥などの不良が全くない液晶パネルを１００パーセントの歩留まりで製造することは容易でない。一方、わずかひとつでも輝点欠陥などの不良がある液晶パネルを不良品として廃棄することは、製造コストを引き上げ、資源やエネルギーの有効活用の点からも改良すべきである。
【００１５】
これに対して、欠陥画素にレーザ光を照射することにより液晶の配向を乱して修復するリペア方法がある。すなわち、レーザ光を照射することにより、欠陥画素の配向膜４５、５５を加熱除去したり、その下層のアレイ領域４０、対向電極６０、カラーフィルタ６５などを飛散させ、配向膜４５、５５の上に堆積させることによって欠陥画素の液晶の配向を乱すことができる。その結果として、画素駆動電圧の印加の有無に拘わらず光透過率を低下させ、輝点欠陥を修復することができる。
【００１６】
そして本実施形態においては、液晶パネルを冷却することにより、レーザ光によるリペアをより確実に実施することができる。
【００１７】
図３乃至図５は、本発明の実施形態にかかる液晶パネルのリペア方法を例示する工程断面図である。  
また、図６及び図７は、本実施形態の比較例としての液晶パネルのリペア方法を例示する工程断面図である。  
まず、図６及び図７に表した比較例について説明する。
【００１８】
図６（ａ）は、液晶５０を挟む配向膜４５、５５が設けられた液晶パネルの画素Ｐｎ−１、Ｐｎ、Ｐｎ＋１の部分を表す模式断面図である。  
ここで、マトリックス状に配置された画素Ｐｎ−１、Ｐｎ，Ｐｎ＋１・・・の中で、画素Ｐｎが輝点欠陥を有するものとする。本比較例においては、液晶パネルを冷却することなく、この欠陥画素Ｐｎの主面に対して略垂直方向からレーザ光１２０を照射する。  
レーザ光１２０を照射すると、図６（ｂ）に表したように、そのエネルギーにより照射部分の液晶５０の温度が局所的に上昇し、気化することによって、画素Ｐｎに気泡１３０が形成される。さらに、その気泡１３０の周辺には、液晶５０の温度が上昇して粘度が低下した低粘度化領域２００が形成される。  
ところが、このように低粘度化領域２００が形成されると、図７（ａ）に表したように、気泡１３０は、その周囲の低粘度化領域２００へと移動しやすくなる。このように気泡１３０が移動してしまうと、レーザ光１２０の照射部分Ｐは再び液体状の液晶５０により覆われる。すると、レーザ光１２０のエネルギーは液晶５０に吸収されやすくなる。また、レーザ光１２０の照射部分Ｐにおいて配向膜４５、５５に発生した熱は液晶５０に吸収されやすくなり、効率的に加熱されにくくなる。その結果として、配向膜４５、５５が除去されにくくなる。また、仮に、レーザ光１２０の照射部分Ｐにおいて、配向膜４５、５５や、その下層のアレイ領域４０、対向電極６０、カラーフィルタ６５などが十分に加熱されたとしても、液晶５０により覆われているために、周囲に飛散しにくく、欠陥画素Ｐｎの配向膜４５、５５の上に堆積物を形成することができない。つまり、図７（ｂ）に表したように、欠陥画素Ｐｎの液晶の配向を効率的に乱すことができず、輝点欠陥を修復することが困難となる。
【００１９】
これに対して、本実施形態によれば、液晶パネルを冷却することにより気泡１３０の移動を抑制し、欠陥画素Ｐｎを確実に修復できる。  
以下、図３乃至図５を参照しつつ、本実施形態の液晶パネルのリペア方法について説明する。  
図３（ａ）は、液晶５０を挟む配向膜４５、５５が設けられた液晶パネルの画素Ｐｎ−１、Ｐｎ、Ｐｎ＋１の部分を表す模式断面図である。そして、画素Ｐｎが輝点欠陥を有するものとする。  
本実施形態においては、まず、レーザ照射に際して液晶パネルを冷却する。この際に、液晶パネルの全体を冷却してもよく、またはレーザ光の照射部分のみを部分的に冷却してもよい。
【００２０】
図３（ｂ）は、液晶パネルに冷却媒体ガスなどを吹き付けることにより、欠陥画素Ｐｎおよびその周囲に、温度が低下した冷却領域１００が形成された状態を表す。冷却領域１００においては、液晶５０の粘度が増加した高粘度化領域１１０が形成される。
【００２１】
そして、図４（ａ）に表すように、欠陥画素Ｐｎにレーザ光１２０を照射する。ここで、画素Ｐｎは、例えば、一辺が数１０〜数１００マイクロメータ程度の矩形状である。そして、レーザ光１２０のスポット径は、例えば１〜１０マイクロメータ程度とし、そのエネルギーは０．１〜１０マイクロジュール程度とするとよい。その波形は、パルス状あるいは連続状のいずれもよい。また、その繰り返し周波数は１００〜５０，０００ヘルツ程度で、走査速度は０．１ｍｍ／秒から１０ｍｍ／分程度とすることができる。レーザ光の光源としては、例えば、波長１０６４ナノメータのＹＡＧレーザを用い、その出力は、例えば１マイクロジュール程度とすることができる。
【００２２】
このような条件でレーザ光１２０を照射すると、前述した比較例の場合と同様に、局所的に液晶５０の温度が上昇し、図４（ａ）に表したように、気泡１３０が形成される。そして、本実施形態においては、画素Ｐｎの付近が冷却されて高粘度化領域１１０が予め形成されているので、気泡１３０の移動が抑制される。すなわち、比較例に関して前述したような低粘度化領域２００は形成されにくく、形成されてもその範囲は小さい。つまり、液量パネルを冷却することによって、レーザ光１２０の照射により発生した気泡１３０をレーザ光１２０の照射部分Ｐに固定することができる。
【００２３】
図８は、液晶パネルに用いられる液晶の粘度の温度依存性を例示するグラフ図である。  同図に表したように、液晶の粘度は温度の上昇に伴い、対数的に低下する。液晶の温度が１０℃よりも低下すると、高粘度化が著しくなる。従って、レーザ光の照射により生ずる気泡の移動を抑制するには、液晶の温度が１０℃以下となるように冷却するとよい。  
多くの液晶材料は、マイナス４０度程度まで冷却しても変質することは少ない。従って、摂氏零度あるいはそれ以下の温度に冷却すると、液晶の粘度を大幅に増加させ、レーザ光の照射により形成される気泡をより確実に固定することが可能となる。
【００２４】
なお、液晶の温度が１０℃以上であっても、冷却することにより、低粘度化領域の拡大を抑制できるので、気泡１３０の移動を抑制する効果は得られる。
【００２５】
再び図４に戻って説明を続けると、このようにして気泡１３０が固定された状態でレーザ光１２０が照射されると、そのエネルギーが液晶５０に吸収されることがなく、配向膜４５、５５やその下層の各要素にレーザ光１２０のエネルギーが吸収される。つまり、配向膜４５、５５などを効率的に加熱できる。その結果として、図４（ｂ）に表したように、配向膜４５、５５が急速に加熱され飛散する。また、この時、気泡１３０により空間が形成されているので、加熱された配向膜４５、５５を気泡１３０の空間内に飛散させ、確実に除去することができる。また、同様に、配向膜４５、５５の下層のアレイ領域４０、対向電極６０、カラーフィルタ６５なども効率的に加熱され、飛散させることができる。この時にも、気泡１３０により空間が形成されているので、加熱されたこれら各要素を気泡１３０の空間内に飛散させ、周囲の配向膜４５、５５の上に確実に堆積させることができる。その結果として、配向膜４５、５５の配向作用を抑制し、欠陥画素Ｐｎにおいて液晶の配向を乱して、図５に表したように、光透過率を確実に低下させることができる。つまり、輝点欠陥を確実に暗化させ修復できる。
【００２６】
本発明者の実験の結果、輝点欠陥にレーザ光１２０を照射してうまく暗化できた画素を詳細に観察すると、０．１マイクロメータ程度あるいはそれ以下のサイズの微細粒子がアレイ基板及び対向基板の表面（液晶に接触する面）に一様に堆積している場合が多かった。これに対して、図６及び図７に関して前述した比較例の場合、レーザ光１２０を照射しても暗化できない画素を観察すると、このような微細粒子の堆積物は確認できなかった。
【００２７】
なお、レーザ光１２０の照射により生じた気泡１３０は、その後、レーザ光１２０の照射を停止し液晶の温度が低下すると消失する。
【００２８】
以上説明したように、本実施形態によれば、レーザ光の照射に際して液晶パネルを冷却することにより、液晶に生ずる気泡をレーザ光の照射部分に固定させ、配向膜やその他の要素の加熱・飛散を確実に生じさせることができる。その結果として、輝点欠陥などの不良を確実に修復し、高精細の液晶パネルを高い歩留まりで製造することが可能となる。
【００２９】
本実施形態によれば、例えば、アレイ領域４０などが平坦化された場合などに顕著な効果が得られる。すなわち、近年の液晶パネルの高性能化手法のひとつに、平坦化樹脂を用いて画素領域を拡大化する手法がある。これは、配線層やスイッチング素子などの上に平坦化樹脂を塗布することにより、その表面を平坦化させ、その上に画素電極を大面積に形成することにより、有効開口領域を拡大する方法である。
【００３０】
ところが、この手法により作製した液晶パネルにおいては、アレイ領域４０の表面が平坦であるため、レーザ光の照射により形成される気泡１３０が移動しやすくなる。つまり、気泡１３０の移動を妨げる「段差」や「突起」などがないために、気泡１３０が容易に移動してしまう。このため、図７に関して前述したように、気泡１３０がレーザ光の照射部分から逃げてしまい、配向膜やその他の要素をうまく加熱、飛散、堆積できない。その結果として、欠陥画素をうまく修復できないという問題が顕著となる。
【００３１】
これに対して、本実施形態によれば、液晶パネルを冷却することにより液晶５０の粘性を増加させ高粘度化領域を形成することによって、気泡１３０の移動を抑制できる。その結果として、平坦化処理を施した高精細液晶パネルなどの場合でも、確実に輝点欠陥を補修することが可能となる。
【００３２】
以上、本実施形態の液晶パネルのリペア方法について説明した。  
次に、本実施形態にかかる液晶パネルのリペア装置の基本構成について説明する。  
図９は、本実施形態に係る液晶パネルのリペア装置の第１の具体例を表す模式図である。
【００３３】
本具体例のリペア装置は、レーザ発振器２０５と、液晶パネルＷを載置するペルチェ素子２５０と、それを載置するＸＹステージ２６０と、コントローラ２７０と、を有する。これら各要素の動作は、コントローラ２７０からの制御信号２０４により制御される。
【００３４】
レーザ発振器２０５から出力されたレーザ光１２０は、アッテネータ２１０によって調整され、パワーモニタ２２０でその出力がモニタされ、反射ミラー２３０で光路が変更され、集光レンズ２４０によって収束され、ＸＹステージ２６０の上に載置された液晶パネルＷに照射される。この時、ＸＹステージ２６０を動作させることにより、レーザ光１２０を液晶パネルＷの上で走査させることができる。また、レーザ光１２０を連続的に照射させずに、間接的に照射しながら照射スポットを順次ずらす方法によってレーザ光１２０を照射することもできる。  
そして、液晶パネルＷは、ペルチェ素子２５０により冷却される。液晶パネルＷをペルチェ素子２５０で冷却することにより、レーザ光１２０の照射によって発生した気泡の移動を抑制し、レーザ光の照射部に固定して確実にリペアすることが可能となる。
【００３５】
なお、大気中で液晶パネルＷを冷却すると、その表面に結露する場合がある。このような結露を防止するためには、ドライ窒素などの低湿度ガスにより液晶パネルＷの周囲の空間Ｓをパージするとよい。
【００３６】
図１０は、図９のリペア装置に用いることができる冷却治具を例示する模式斜視図である。
【００３７】
すなわち、ＸＹステージ２６０の上にペルチェ素子２５０が載置され、液晶パネルＷは、このペルチェ素子２５０の上に載置される。ここで、ペルチェ素子２５０の液晶パネル側が吸熱面３００であり、ＸＹステージ側が放熱面３１０である。そして、このペルチェ素子の吸熱面３００から液晶パネルの熱を奪い、裏面にある放熱面３１０から排出し、液晶パネルを冷却しながら、レーザ光１２０を照射することが可能となる。
【００３８】
図１１は、本実施形態に係る液晶パネルのリペア装置の第２の具体例を表す模式図である。  
また、図１２は、その冷却治具を例示する模式斜視図である。
【００３９】
これらの図面については、図１乃至図１０に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４０】
本具体例においては、冷却媒体ガス供給源３３０と、冷却ノズル３４０と、が設けられている。冷却ノズル３４０は、レーザ光１２０の照射部に向けて、適宜向きを変更させることができる。冷却媒体ガス供給源３３０から供給される冷却媒体ガス１５０を冷却ノズル３４０から噴射させることにより、レーザ光１２０の照射部を冷却し、照射によって発生した気泡の移動を抑制して欠陥画素を確実に補修することが可能となる。なお、本具体例においても、第１具体例に関して前述したように、結露を防止するためには、ドライ窒素などの低湿度ガスにより液晶パネルＷの周囲の空間Ｓをパージするとよい。
【００４１】
図１３は、本実施形態に係る液晶パネルのリペア装置の第３の具体例を表す模式図である。  
また、図１４は、その冷却治具を例示する模式図である。すなわち、図１４（ａ）は冷却治具を上方から眺めた平面図であり、図１４（ｂ）は冷却治具の使用状態を表す斜視図である。
【００４２】
これらの図面についても、図１乃至図１２に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４３】
本具体例においては、冷却媒体ガス供給源３３０と、中空２重円錐管３５０と、が設けられている。冷却媒体ガス供給源３３０から供給された冷却媒体ガス１５０は、冷却ガス導入管３６０を介して、中空２重円錐管３５０の下面に設けられた開口から液晶パネルＷへ噴射される。中空２重円錐管３５０の中心に孔３９０が形成されているため、レーザ光１２０の光路を妨げることなく、液晶パネルＷへ照射することができる。すなわち、本具体例においては、中空２重円錐管３５０から冷却媒体ガス１５０を噴射しながら、中空２重円錐管３５０の中心に設けられた孔３９０を介してレーザ光１２０を照射することで、液晶５０に気泡１３０を形成させ固定することが可能となる。なお、本具体例においても、第１具体例に関して前述したように、結露を防止するためには、ドライ窒素などの低湿度ガスにより液晶パネルＷの周囲の空間Ｓをパージするとよい。
【００４４】
図１５は、本実施形態に係る液晶パネルのリペア装置の第４の具体例を表す模式図である。  
また、図１６は、その冷却治具を例示する模式斜視図である。
【００４５】
これらの図面についても、図１乃至図１４に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４６】
本具体例においては、冷却液体容器３７０と、チラー装置３８０と、が設けられている。液晶パネルＷは、冷却液体を含んだ冷却液体容器３７０に浸されており、冷却液体の温度は、冷却液体容器３７０に接続された冷却ホース４００を介してチラー装置３８０により制御されている。このような冷却システムを用いることで、液晶パネルＷを冷却しつつ、レーザ光を照射すると、液晶５０に発生した気泡の移動を抑制できる。
【００４７】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施形態について説明した。しかし、本発明のリペア方法およびリペア装置は、これら具体例には限定されない。例えば、リペアに用いるレーザ光の照射条件、照射領域及び非照射領域の決定方法、レーザ光の走査方法、リペア装置を構成する各要素などについて、当業者が適宜変更したものであっても、本発明の要旨を有する限りにおいて、本発明の範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の実施の形態にかかる液晶パネルのリペア方法の手順を例示するフローチャートである。
【図２】本発明の実施形態のリペア方法を適用可能な液晶パネルの積層構造を例示する概念図である。
【図３】本発明の実施形態にかかる液晶パネルのリペア方法を例示する工程断面図である。
【図４】本発明の実施形態にかかる液晶パネルのリペア方法を例示する工程断面図である。
【図５】本発明の実施形態にかかる液晶パネルのリペア方法を例示する工程断面図である。
【図６】本発明の実施形態の比較例としての液晶パネルのリペア方法を例示する工程断面図である。
【図７】本発明の実施形態の比較例としての液晶パネルのリペア方法を例示する工程断面図である。
【図８】液晶パネルに用いられる液晶の粘度の温度依存性を例示するグラフ図である。
【図９】本発明の実施形態に係る液晶パネルのリペア装置の第１の具体例を表す模式図である。
【図１０】図７のリペア装置に用いることができる冷却治具を例示する模式斜視図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る液晶パネルのリペア装置の第２の具体例を表す模式図である。
【図１２】第２の具体例の冷却治具を例示する模式斜視図である。
【図１３】本発明の実施形態に係る液晶パネルのリペア装置の第３の具体例を表す模式図である。
【図１４】第３の具体例の冷却治具を例示する模式斜視図である。
【図１５】本発明の実施形態に係る液晶パネルのリペア装置の第４の具体例を表す模式図である。
【図１６】第４の具体例の冷却治具を例示する模式斜視図である。
【符号の説明】
【００４９】
１０ バックライト
３０ 偏光板
３５ ガラス基板
４０ アレイ領域
４５ 配向膜
５０ 液晶
５５ 配向膜
６０ 対向電極
６５ カラーフィルタ
７０ ガラス基板
１００ 冷却領域
１１０ 高粘度化領域
１２０ レーザ光
１３０ 気泡
２００ 低粘度化領域
２０４ 制御信号
２０５ レーザ発振器
２１０ アッテネータ
２２０ パワーモニタ
２３０ 反射ミラー
２４０ 集光レンズ
２５０ ペルチェ素子
２６０ ステージ
２７０ コントローラ
３００ 吸熱面
３１０ 放熱面
３３０ 冷却媒体ガス供給源
３４０ 冷却ノズル
３５０ 重円錐管
３６０ 冷却ガス導入管
３７０ 冷却液体容器
３８０ チラー装置
３９０ 孔
４００ 冷却ホース
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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