(57)【要約】【課題】転写支持体上のインキ層をに凸版の凸部を密着させて転写支持体から除去し、転写支持体を被印刷体に密着して被印刷体に転写する反転オフセット印刷法に使用する凸版であって、インキを精度良く受け取る凸版とその製造方法を提供し、併せてこの凸版を使用した反転印刷法を用いた有機ＥＬ素子を提供すること。【解決手段】版基材１１上に凸部を有し、この凸部に水溶性粘着剤層１２を形成する。水溶性粘着剤層１２がタック性を有するため、この表面にインキ層が確実に接着して受け取り、転写支持体外表面から確実にインキ層を除去することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写支持体上に剥離容易にインキ層を備える転写体と、非画線部を凸部とし画線部を凹部とする凹凸表面を有する凸版とを、前記インキ層と凸部とが対面するように密着させて、前記凸部に密着した非画線部のインキ層を選択的に凸版に転写させて転写体から除去し、次に、非画線部のインキ層が除去された転写体を被印刷体に密着して、画線部に残存するインキ層を被印刷体に転写する反転オフセット印刷法に適用する前記凸版において、
その表面がタック性を有することを特徴とする反転オフセット印刷用凸版。
【請求項２】
転写支持体上に剥離容易にインキ層を備える転写体と、非画線部を凸部とし画線部を凹部とする凹凸表面を有する凸版とを、前記インキ層と凸部とが対面するように密着させて、前記凸部に密着した非画線部のインキ層を選択的に凸版に転写させて転写体から除去し、次に、非画線部のインキ層が除去された転写体を被印刷体に密着して、画線部に残存するインキ層を被印刷体に転写する反転オフセット印刷法に適用する前記凸版において、
前記凸部の表面がタック性を有することを特徴とする反転オフセット印刷用凸版。
【請求項３】
前記タック性が水溶性粘着剤層によることを特徴とする請求項１又は２記載の凸版。
【請求項４】
前記タック性が膜厚１０ｎｍ〜１ｍｍのタック性材料によることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の凸版。
【請求項５】
転写支持体上に剥離容易にインキ層を備える転写体と、非画線部を凸部とし画線部を凹部とする凹凸表面を有する凸版とを、前記インキ層と凸部とが対面するように密着させて、前記凸部に密着した非画線部のインキ層を選択的に凸版に転写させて転写体から除去し、次に、非画線部のインキ層が除去された転写体を被印刷体に密着して、画線部に残存するインキ層を被印刷体に転写する反転オフセット印刷法に適用する前記凸版に、剥離性支持シート上にタック性材料の被膜を形成して成る転写シートを重ね、タック性材料の被膜を接着し、剥離性支持シートを剥離して、前記被膜を転写することを特徴とする反転オフセット印刷用凸版の製造方法。
【請求項６】
ホール注入電極と、ホール輸送層と、有機発光媒体層と、電子注入電極とをこの順に積層して構成され、ホール注入電極と電子注入電極との間に電圧を加えて発光させる有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記有機発光媒体層が、請求項１〜４のいずれかに記載の凸版を使用した反転オフセット印刷法により設けられていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反転オフセット印刷法に適用される凸版と、この凸版を使用して反転オフセット印刷法によって製造した有機エレクトロミネッセンス素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報機器の多様化に伴なって、従来より使用されているＣＲＴに比べて消費電力や空間占有面積の少ない平面表示素子にニーズが高まり、このような平面表示素子の一つとしてＥＬ素子（エレクトロルミネッセンス素子）が注目されている。
【０００３】
ＥＬ素子は、導電性のルミネッセンス材料に電圧を加えることにより励起し、発光させる素子である。ルミネッセンス材料として無機化合物を使用した無機ＥＬ素子と、有機化合物を使用した有機ＥＬ素子とに分けられる。
【０００４】
無機ＥＬ素子を使用した表示装置（無機ＥＬＤ）は早くから一部実用化されてきたが、駆動電圧が高過ぎるなどの問題で普及が滞っている。
【０００５】
それに対して、有機ＥＬ素子４は、図３に示すように、ガラス基板４１と、このガラス基板４１上に成膜され、錫をドーピングした酸化インジウムなどの透明なホール（正孔）注入電極４２と、ホール注入電極上に成膜されたトリフェニルジアミンなどを含むホール（正孔）輸送層４３と、ホール輸送層上に積層されたアルミキノリノール錯体（ＡｌＰ3）などのルミネッセンス材料を含む有機発光媒体層４４と、マゲネシウムなど仕事関数の小さな金属電極（電子注入電極）４５とを基本の構成要素として有する。そして、ホール注入電極４２と電子注入電極４５との間に、１０ボルト前後の電圧を加えることによって、数百ないし数万ｃｄ／ｍ2というきわめて高い輝度が得られるという特徴を有しており、今後実用化が盛んに行われると期待されている。
【０００６】
このような有機ＥＬ素子４は、とりわけ、カラー表示装置への応用が期待されている。
【０００７】
有機ＥＬ材料は大きく分けて、低分子系材料と高分子系材料の２種類に分けられ、低分子系材料は一般に蒸着法によって積層されるが、大型基板に対応した蒸着装置やアライメント精度の点から、大型化は困難である。
【０００８】
一方、高分子系材料は、湿式プロセスが使えるために大型基板に積層するのに有利と考えられる。高分子系材料を積層する湿式プロセスのうち、一般的に知られている方式はスピン塗布方式、インクジェット方式及び印刷方式である。
【０００９】
スピン塗布方式は、基板中央に材料を滴下し、基板を回転させ、その遠心力を利用して材料を基板上に延展させて塗布する方式である。この方式では、塗布効率が約１０％と低く、基板の端部の塗布膜厚が厚くなるという欠点がある上、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の三原色を塗り分けることが困難である。
【００１０】
ノズルから材料の液滴を吐出させて基板上に付着させるインクジェット方式では、微小な液滴の集合体を薄膜とするため、均一な層膜厚を得るのは難しいと言われている。また、大型基板に対する位置精度の問題も残っている。
【００１１】
印刷方式には、凹版印刷方式やオフセット印刷方式などがあるが、膜厚均一性が安定し
ている反転オフセット印刷法が注目を集めている。この反転オフセット印刷法は、まず、図２Ａに示すように、円筒状又は円柱状の転写支持体２の外表面をシリコーンゴムなどの弾性材料で構成し、その外表面に均一な膜厚のインキ層４を付着させる。そして、表面凹凸の凸版１を密着させ、前記凸部に密着した非画線部のインキ層３を選択的に凸版に転写させて転写体から除去する。次に、図２Ｂに示すように、転写体を被印刷体に密着して、画線部に残存するインキ層を被印刷体に転写して印刷する。そして、転写支持体２に残存するインキ及び凸版１表面に残存するインキを溶剤で洗浄除去して再利用する。なお、図２Ｂでは、インキ層３として有機ルミネッセンス材料を含むＥＬインキを使用し、被印刷体として、ガラス基板４１上にホール注入電極４２とホール輸送層４３とを積層したものを使用した例を示した。
【００１２】
しかしながら、この方式において、凸版の凸部が、転写支持体から精度良くインキを受け取らない場合、印刷抜けが生じるという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記従来の問題点を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、前記インキを精度良く受け取る凸版と、その製造方法を提供し、併せてこの凸版を使用した反転印刷法を用いた有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
すなわち、請求項１に記載の発明は、転写支持体上に剥離容易にインキ層を備える転写体と、非画線部を凸部とし画線部を凹部とする凹凸表面を有する凸版とを、前記インキ層と凸部とが対面するように密着させて、前記凸部に密着した非画線部のインキ層を選択的に凸版に転写させて転写体から除去し、次に、非画線部のインキ層が除去された転写体を被印刷体に密着して、画線部に残存するインキ層を被印刷体に転写する反転オフセット印刷法に適用する前記凸版において、
その表面がタック性を有することを特徴とする反転オフセット印刷用凸版である。
【００１５】
請求項１記載の発明によれば、その表面がタック性を有するため、この表面にインキ層が確実に接着して受け取り、転写支持体外表面から確実にインキ層を除去することができる。このため、被印刷体上に、精度良く印刷画像を形成することが可能となる。
【００１６】
次に、請求項２に記載の発明は、インキ層を受け取る凸部がタック性を有することを明確にしたもので、すなわち、請求項２に記載の発明は、転写支持体上に剥離容易にインキ層を備える転写体と、非画線部を凸部とし画線部を凹部とする凹凸表面を有する凸版とを、前記インキ層と凸部とが対面するように密着させて、前記凸部に密着した非画線部のインキ層を選択的に凸版に転写させて転写体から除去し、次に、非画線部のインキ層が除去された転写体を被印刷体に密着して、画線部に残存するインキ層を被印刷体に転写する反転オフセット印刷法に適用する前記凸版において、
前記凸部の表面がタック性を有することを特徴とする反転オフセット印刷用凸版である。
【００１７】
また、請求項３に記載の発明は、前記タック性が水溶性粘着剤層によることを特徴とする請求項１又は２記載の凸版である。
【００１８】
一般に、有機ＥＬ素子を印刷する際に利用される溶剤は有機溶剤であり、凸版上に残存するインキ層を洗浄する洗浄液も有機溶剤である。請求項３に記載の発明においては、タック性が水溶性粘着剤層によって発揮されているため、インキ中の有機溶剤や洗浄剤の有機溶剤に侵されることがなく、このため、繰り返して版として使用できる。
【００１９】
なお、タック性材料の膜厚は１０ｎｍ〜１ｍｍの範囲にあることが望ましい。請求項４に記載の発明はこの点を限定したもので、すなわち、請求項４に記載の発明は、前記タック性が膜厚１０ｎｍ〜１ｍｍのタック性材料によることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の凸版である。
【００２０】
これら凸版は、表面に離型処理を施したフィルムなどの支持シート上にタック性材料の被膜を形成し、この被膜を版基材の凸部に転写することによって製造することができる。
【００２１】
請求項５に記載の発明は、このような理由に基づいてなされたもので、転写支持体上に剥離容易にインキ層を備える転写体と、非画線部を凸部とし画線部を凹部とする凹凸表面を有する凸版とを、前記インキ層と凸部とが対面するように密着させて、前記凸部に密着した非画線部のインキ層を選択的に凸版に転写させて転写体から除去し、次に、非画線部のインキ層が除去された転写体を被印刷体に密着して、画線部に残存するインキ層を被印刷体に転写する反転オフセット印刷法に適用する前記凸版の版基材に、剥離性支持シート上にタック性材料の被膜を形成して成る転写シートを重ね、タック性材料の被膜を接着し、剥離性支持シートを剥離して、前記被膜を転写することを特徴とする反転オフセット印刷用凸版の製造方法である。
【００２２】
次に、請求項６に記載の発明は、請求項１〜４に記載の凸版を使用した反転オフセット印刷法で製造した有機ＥＬ素子に関するもので、すなわち、請求項４に記載の発明は、ホール注入電極と、ホール輸送層と、有機発光媒体層と、電子注入電極とをこの順に積層して構成され、ホール注入電極と電子注入電極との間に電圧を加えて発光させる有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記有機発光媒体層が、請求項１〜４のいずれかに記載の凸版を使用した反転オフセット印刷法により設けられていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、その表面がタック性を有するため、この表面にインキ層が確実に接着して受け取り、転写支持体外表面から確実にインキ層を除去することができる。このため、被印刷体上に、精度良く印刷画像を形成することが可能となるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照にして詳細に説明する。図１は本発明に係る凸版１の断面図を示している。
【００２５】
この凸版１は、転写支持体の表面に均一な膜厚に塗布されたインキ層に密着させて、そのインキ層を転写させる凸部と、転写させることなく転写支持体上にインキ層を残存させる凹部とを有するもので、凸部は非画部、凹部が画線部に対応する。
【００２６】
凸版１は、版基材１１と、その凸部に選択的に塗布された水溶性粘着剤層１２とで構成されている。
【００２７】
版基材１１としては、例えば、ガラス板が利用できる。そして、周知のエッチング法を利用して表面に凹凸を設けることができる。その凸部がそのまま凸版１の凸部となり、凹部がそのまま凸版の凹部となる。
【００２８】
次に、水溶性粘着剤層１２は、そのタック性によって前記転写支持体の表面のインキ層に接着し、凸版１の凸部にインキ層を転写させる役割を果たすと共に、こうして凸版１に
転写されたインキを洗浄剤で洗浄除去する際に、この洗浄剤によるタック性の劣化を防ぐ機能を有する。このような水溶性粘着剤としては、タック性のあるアクリル系粘着剤が適用できる。
【００２９】
この水溶性粘着剤層１２は、版基材１の凸部１１にそのまま塗布しても良いが、凸部に選択的に形成するため、平滑な剥離性支持シート表面に均一な膜厚の水溶性粘着剤層１２を一旦塗布乾燥して転写シートを作成し、次に、この転写シートを版基材１１の凸部に重ねて水溶性粘着剤層１２を前記凸部に選択的に接着し、剥離性支持シートを剥離することにより、水溶性粘着剤層１２を前記凸部に転写する方法によって形成することが望ましい。なお、水溶性粘着剤層１２の膜厚は１０ｎｍ〜１ｍｍの範囲にあることが望ましい。
【００３０】
この凸版１は、従来の版と同様に反転オフセット印刷法に適用できる。例えば、図２Ａ及びＢに示すように、転写支持体２の外表面の外表面に均一な膜厚のインキ層３を付着させ、凸版１を密着させ、凸部に密着した非画線部のインキ層３を選択的に凸版１に転写させて転写体から除去する。次に、転写体を被印刷体に密着して、画線部に残存するインキ層を被印刷体に転写して印刷する。そして、転写支持体３に残存するインキ及び凸版１表面に残存するインキを溶剤で洗浄除去して再利用する。インキ中の溶剤及び洗浄液は一般に疎水性の有機溶剤が用いられるから、これらによって水溶性粘着剤層１２が損傷を受けることがなく、繰り返して印刷を行うことができる。
【００３１】
この反転オフセット印刷法を用いて有機ＥＬ素子を製造する場合には、被印刷体として、ガラス基板４１上の画素部位にホール注入電極４２とホール輸送層４３とを積層したものを使用することが望ましい。ホール注入電極４２としては、透明で導電性の薄膜が利用でき、例えばＩＴＯ薄膜が利用できる。この薄膜は周知の成膜手段で成膜することができ、また、画素パターンにパターニングする方法も周知である。ホール輸送層４３としては、ポリ（３，４）−エチレンジオキシチオフェンなどが使用でき、例えば、インキジェット法や反転オフセット印刷法で前記ホール注入電極４２上に印刷した後、焼成して形成することができる。
【００３２】
インキとしては、有機ルミネッセンス材料を含むＥＬインキを使用する必要がある。有機ルミネッセンス材料としてはポリ（２−メトキシー５−（２’エチルヘキシロキシ）−１，４−フェニレンビニレン）を使用でき、この有機ルミネッセンス材料にシクロヘキサノンなどの溶剤及び適当なバインダーを加えてインキとすることができる。なお、このインキを印刷した後、焼成してバインダーなど不要成分を除去することで、有機発光媒体層４４を形成することができる。
【００３３】
そして、この有機発光媒体層４４上に電子注入電極６５を形成して有機ＥＬ素子を製造することができる。電子注入電極４５は、マグネシウムなど仕事関数の小さな金属を真空成膜し、周知の方法でパターニングして形成することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明に係る凸版の断面説明図である。
【図２】反転オフセット印刷法を示す説明図である。
【図３】有機エレクトロルミネッセンス素子の断面説明図である。
【符号の説明】
【００３５】
１…凸版
１１…版基材
１２…水溶性粘着剤層
２…転写支持体
３…インキ層
４…有機ＥＬ素子
４１…ガラス基板
４２…ホール注入電極
４３…ホール輸送層
４４…有機発光媒体層
４５…電子注入電極
【図１】
2006272609.tif 000003
【図２】
2006272609.tif 000004
【図３】
2006272609.tif 000005