(57)【要約】【課題】  高密度化のためにヘッド−ディスク間の距離を更に小さくした場合においても、エラーの低減が可能な磁気記録媒体、および該媒体に好適に使用可能なガラス基板を提供する。【解決手段】  磁性層を含む膜を形成するための表面（データ面）と、外周端面（ストレート面）との間に、チャンファー（面取り）面を有するガラス基板。該ガラス基板のデータ面とチャンファー面との間に、曲率が０．０１３〜０．０８０ｍｍのＲ面を設ける。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性層を含む膜を形成するための表面（データ面）と、外周端面（ストレート面）との間に、チャンファー（面取り）面を有するガラス基板であって、
該ガラス基板のデータ面とチャンファー面との間に、曲率が０．０１３〜０．０８０ｍｍのＲ面を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】
請求項１に記載のガラス基板と、該ガラス基板のデータ面上に配置された磁気記録層とを含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、種々の電子機器（コンピュータ等）における記録媒体として広く使用可能な磁気記録媒体、および該磁気記録媒体を形成するための基板として好適に使用可能なガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク（例えば、ハードディスク）を始めとする磁気記録媒体用の基板としては、従来よりアルミニウム基板が広く用いられてきた。他方、近年においては、小型のパーソナルコンピュータ、携帯式の音響・映像の記録／再生装置等を始めとする種々の電化製品の普及に伴い、これらの電化製品における、いわゆる軽薄短小化に伴って、該製品の重要な部品の一つである磁気記録媒体に対しては、薄板化、記録の高密度化、種々の使用環境における要求が益々高まりつつある。
【０００３】
このようなシビアな要求に対応するために、近年では、高い耐衝撃性、剛性／硬度、および高い化学的耐久性とを有するガラス基板が広く用いられるようになって来た。このガラス基板をハードディスク（ＨＤ）形態の磁気記録媒体に用いた場合には、更には、磁気記録面の高密度化に極めて重要な、該磁気記録面上のヘッド低浮上化に好適な平坦度が容易に得られるという一般的な利点もある。
【０００４】
より具体的には、磁気ディスク用基板分野においては、軽量化に伴う薄型化や高速回転時のディスクのうねりに耐えうる高い剛性などの機械的特性が要求されるとともに、高記録密度化への要求が非常に高まっている。高記録密度化を達成する目的で、磁気ヘッドの磁気ディスク基板に対する浮上高さは非常に小さくなりつつあり、それを達成するために、磁気ディスク基板は鏡面のような平坦性や小さい表面粗さが要求され、かつ表面の微小スクラッチ、微小ピットなどの欠陥が極力無いことが要求される。
【０００５】
他方、前記ハードディスクによる記録／再生においては、種々のエラー（例えば、記録再生時の記録／読取りエラーや、ヘッドのクラッシュ）が生じる可能性があることは周知である。
【０００６】
このような種々のエラーを低減する趣旨から、ディスク上に生じる可能性のあるパーティクル（微粒子状物質）等を低減させるために、ガラス基板の形状を種々に規定することが行われて来た（特許文献１および２）。
【０００７】
しかしながら、記録の高密度化のためにヘッド−ディスク間の距離を更に小さくした場合（例えば、１０μｍ以下程度）には、このようなエラーは更に増大する傾向がある。
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−１０００３１号公報
【特許文献２】特開２００２−３４２９１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を解消することが可能な磁気記録媒体、および該媒体に好適に使用可能なガラス基板を提供することにある。
【００１０】
本発明の他の目的は、高密度化のためにヘッド−ディスク間の距離を更に小さくした場合においても、エラーの低減が可能な磁気記録媒体、および該媒体に好適に使用可能なガラス基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は鋭意研究の結果、ガラス基板のデータ面とチャンファー面との間に、特定の曲率を有する「Ｒ面」を設けることが、上記目的の達成のために極めて効果的なことを見出した。
【００１２】
本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は上記知見に基づくものであり、より詳しくは、磁性層を含む膜を形成するための表面（データ面）と、外周端面（ストレート面）との間に、チャンファー（面取り）面を有するガラス基板であって；該ガラス基板のデータ面とチャンファー面との間に、曲率が０．０１３〜０．０８０ｍｍのＲ面を有することを特徴とするものである。
【００１３】
本発明によれば、更に、前記ガラス基板と、該ガラス基板のデータ面上に配置された磁気記録層とを含むことを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
本発明は、例えば、以下の態様を含む。
（１）磁性層を含む膜を形成するための表面（データ面）と、外周端面（ストレート面）との間に、チャンファー（面取り）面を有するガラス基板であって、該ガラス基板のデータ面とチャンファー面との間に、曲率が０．０１３〜０．０８０ｍｍのＲ面を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。
（２）前項１に記載のガラス基板と、該ガラス基板のデータ面上に配置された磁気記録層とを含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【００１４】
上記構成を有する本発明の磁気記録媒体用ガラス基板ないし磁気記録媒体を用いた場合にエラーの低減効果が得られる理由は、本発明者の知見によれば、以下のように推定される。
【００１５】
すなわち、磁気記録媒体用ガラス基板を作製すべき種々の製造段階においては、該基板材料の多数枚を、所定のカセット（通常は樹脂製）に入れて、運搬・貯蔵等を行う場合が多くあるが、このようなカセットから基板材料を出し入れする際に、該基板材料の「データ面→チャンファー面」の間に鋭角的な形状が残存していると、該カセットとの間の擦れによりパーティクルが生じることとなり、このパーティクルが該基板から形成されたＨＤに付着して、種々のエラーを引き起こすものと推定される。
【００１６】
これに対して、本発明者の実験によれば、本発明において、ガラス基板のデータ面とチャンファー面との間に、上記したような特定の曲率を有する「Ｒ面」を設けた場合には、このような「擦れ」が低減ないし除去されて、ＨＤにおける種々のエラーも低減されるものと推定される。
【発明の効果】
【００１７】
上述したように本発明によれば、高密度化のためにヘッド−ディスク間の距離を更に小さくした場合においても、エラーの低減が可能な磁気記録媒体、および該媒体に好適に使用可能なガラス基板が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ本発明を更に具体的に説明する。以下の記載において量比を表す「部」および「％」は、特に断らない限り質量基準とする。
【００１９】
（ガラス基板）
本発明のガラス基板は、磁性層を含む膜を形成するための表面（データ面）と、外周端面（ストレート面）との間に、チャンファー（面取り）面を有し、且つ、該ガラス基板のデータ面とチャンファー面との間に、曲率が０．０１３〜０．０８０ｍｍのＲ面を有する。
【００２０】
（基本的な一態様）
図１は、本発明のガラス基板の基本的な一態様を示す模式斜視図（ａ）および模式断面図（ｂ）である。図２は、このような態様の拡大式断面図である。
【００２１】
図１および２を参照して、この態様の本発明のガラス基板においては、データ面１０と、チャンファー面１１との間に、特定の曲率を有するＲ面１２が設けられている。図２においては、外周面および内周面の双方にＲ面１２および２２が設けられているが、本発明者の実験によれば外周面のＲ面１２の方の効果が大である。したがって、本発明においては、少なくとも外周面のＲ面１２が設けられていれば足りる（もちろん、Ｒ面１２および２２の両方が設けられていることが好ましい）。
【００２２】
（Ｒ面）
本発明において、「Ｒ面」とは、データ（記録）面とチャンファー面との境界の面を言う。このＲ面の大きさ（断面に沿った長さ）は、０．０６〜０．１００ｍｍ程度であることが好ましい。
【００２３】
（曲率）
本発明において、上記したＲ面１２の曲率は０．０１３〜０．０８０ｍｍ（更に好ましくは０．０３〜０．０７ｍｍ）である。この曲率は、後述する試験例１に示す方法により好適に測定することができる。
【００２４】
上記曲率が０．０１３ｍｍ未満では「Ｒ面」にしたことの効果が不充分であり、他方、該曲率が０．０８０ｍｍを越えると、ダブオフ（Dub Off）等の端部形状が悪くなる（ここに、「ダブオフ」とは、縁ダレとも言い、例えば、文献ＷＯ  ０１／２３４８５を参照することができる）。
【００２５】
（ガラス材料）
磁気ディスク用ガラス基板は、高剛性で薄型化に対応できる上に、耐衝撃性が高いなどのメリットを生かした基板として注目されており、その基板のガラス材料は、化学強化ガラスと結晶化ガラスに大別されている。これらの材料はいずれもガラス本来の脆いという欠点を克服するために強化処理若しくは結晶化処理を施したものである。
【００２６】
通常、ガラス表面の傷の存在は機械的強度を大きく損なうため、ディスク信頼性向上の点からイオン交換による化学強化処理が施されている。すなわち、ガラス基板（原板）をアルカリ溶融塩中に浸し、ガラス表面のアルカリイオンと溶融塩中のより大きなイオンとを交換することで、ガラスの表面層に圧縮応力歪み層を形成して、破壊強度を大幅に増加させたものである。このように化学強化されたガラス基板はガラス内部からのアルカリ溶出が抑えられている。好ましく使用されるＨＤ用ガラス基板としては、Ｌｉ+とＮａ+とを含むアルミノシリケートガラス基板、Ｋ+とＮａ+とを含むソーダライムガラス基板や、結晶化ガラスが挙げられる。
【００２７】
（好適なガラス材料）
本発明において好適に使用可能なガラス材料は、上記した特定の曲率を有するＲ面を形成することが可能である限り特に制限されない。
【００２８】
本発明は、ガラスの種類によらず結晶化ガラス、強化ガラスどちらにも好適に使用可能である。例えば、ガラス材料としては、いわゆる「ガラスセラミックス」と称される一連の材料が挙げられ、市販品では、例えばＯＨＡＲＡ社製のガラスセラミックス（商品名：ＴＳ−１０Ｘ）が挙げられる。
【００２９】
（ガラス基板の製造方法）
本発明において使用可能なガラス基板の製造方法は、上記した特定の曲率を有するＲ面を形成することが可能である限り特に制限されない。
【００３０】
（磁気記録媒体）
本発明の磁気記録媒体は、上記した本発明のガラス基板のデータ面上に、磁気記録層を配置したものである。上記した特定曲率のＲ面を有する本発明のガラス基板の効果を実質的に阻害しない限り、該磁気記録層の形成方法は特に制限されない。
【００３１】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
【実施例】
【００３２】
試験例１
（曲率の測定）
市販の測定装置「コントレーサー」（ミツトヨ社製、商品名：コントレーサーＣＰ４００）を用いて、曲率を測定した。この際に用いた測定条件は、以下の通りであった。
【００３３】
＜測定条件＞
速度：０．０６ｍｍ／ｓ
ピッチ：０．００１０ｎｍ
モード：Ｘ軸固定
【００３４】
＜測定方法＞
図３の模式断面図に示すように、ガラス基板の記録面（データ面）の延長線を引き、ガラス基板のＲ面に基づく曲率により、該Ｒ面の形状曲線が上記延長線と離れる位置をＡ点とする。そのＡ点から１０μｍ離れた位置を、それぞれＢ点およびＣ点として、これらの点Ａ、ＢおよびＣを通る円を求め、その円の半径を「曲率」とする。
【００３５】
実施例１
データ面とチャンファー面との間を研磨して、曲率が、０．０３８ｍｍのＲ面を持つガラス基板を得た。それぞれのガラス基板の特性を、以下のようにして測定した。
試験方法１：図４（ａ）に示すように、試験に供すべきガラス基板サンプルを手に持って、市販のカセット（樹脂製、フロロウエア社製の商品名：Ｓ８００−６５ＴＳＪ）の上面カバーに軽く押しつけた。
【００３６】
試験方法２：図４（ｂ）に示すように、該カセットに基板を入れ、上下のふたをし、上下方向に沿って、ガラス基板サンプルを１０回往復させて、該ガラス基板サンプルをカセットに擦り付けた。
【００３７】
試験方法３：図４（ｃ）に示すように、該ガラス基板サンプルをカセットの収容溝に配置した。
【００３８】
上記によりテストした各サンプルのコンタミネーションを、以下の方法で測定した。
＜コンタミネーションの測定方法＞
チャンファー部およびデータ面の最外周部を光学顕微鏡４００倍で観察し、パーティクルの実際の個数をカウントした。
【００３９】
実施例１の研磨をしていないガラス基板を比較例とした。
実施例２
ガラス基板（データ面−チャンファー面間が４５度ストレート）と、実施例１のガラス基板（データ面−チャンファー面間が曲率０．０３８ｍｍのＲ面）とを、ＳＥＭ（日立社製の走査電子顕微鏡商品名：Ｓ４７００、倍率５００倍）で断面観察し、且つ、上記実施例１で得られたコンタミネーションの測定結果と纏めた。
【００４０】
図５の比較結果から、特定のＲ面を有する本発明のガラス基板には、ほとんどコンタミネーションが発生しない。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明のガラス基板の基本的な態様を示す模式斜視図および模式断面図である。
【図２】図１のガラス基板の基本的な態様の拡大模式断面図である。
【図３】本発明におけるコーナーＲの曲率の測定方法を示す模式断面図である。
【図４】実施例で用いたテスト方法を示すＳＥＭ写真である。
【図５】実施例で得られたテスト結果を示すＳＥＭ写真およびデータである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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