(57)【要約】【課題】光学検出における検出感度を向上できる光学検出用基板を提供する。【解決手段】基板１上に定着させた物質から発せられる特定波長の検出光を検出する方法に用いられる基板１であって、基板１の表面に微細な凸部２が周期的に設けられており、凸部２の周期Ｐ１が検出光の波長の５０％以下である光学検出用基板。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に定着させた物質から発せられる特定波長の検出光を検出する方法に用いられる基板であって、
該基板の表面に微細な凸部が周期的に設けられており、該凸部の周期が前記検出光の波長の５０％以下であることを特徴とする光学検出用基板。
【請求項２】
前記凸部の周期が前記検出光の波長の２０％以下である請求項１に記載の光学検出用基板。
【請求項３】
前記検出光の波長が４５０〜７００ｎｍである請求項１または２に記載の光学検出用基板。
【請求項４】
前記基板の最表面に、前記物質の定着を促進する表面処理が施されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学検出用基板。
【請求項５】
前記凸部の深さが前記検出光の波長の２倍の値以下である請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学検出用基板。
【請求項６】
前記基板の厚さ方向に対して垂直な互いに異なる複数の方向に沿って前記凸部が繰り返し形成されている請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学検出用基板。
【請求項７】
基板上に定着させた物質から発せられる特定波長の検出光を検出する方法において、
前記基板として、基板の表面に微細な凸部が周期的に設けられており、該凸部の周期が前記検出光の波長の５０％以下である基板を用いることを特徴とする光学検出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば蛍光等の光学検出を行うのに好適な光学検出用基板および光学検出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＤＮＡチップに代表されるバイオチップと呼ばれる検出用具またはこれを用いた分析方法の開発が盛んになっている。
バイオチップは、たとえば、ＤＮＡやタンパク質等の生体高分子を基板上の特定の位置に吸着または担持させ、これと相互作用する生体高分子等を反応させて分析を行うのに用いられる。
以下の説明において、バイオチップの代表例としてＤＮＡチップをとりあげるが、ＲＮＡ、タンパクまたは糖鎖等を検出対象とする場合も同様である。
【０００３】
ＤＮＡチップでは、基板上に、多種類のＤＮＡの断片（プローブＤＮＡ）を数百〜数万個の微小なスポットとして固定させ、これに人間や動物のＤＮＡで評価したいもの（検体ＤＮＡ）を作用させる（ハイブリダイゼーション）ことにより一度に多数のＤＮＡの配列を検出評価し、固体間のＤＮＡ配列の違いや、細胞状態の違いによるＤＮＡ発現（この場合、ＤＮＡを遺伝子ともいう。）量の差などを解析できる。
ＤＮＡチップによる分析では、検体ＤＮＡに予め取り付けた蛍光標識に励起光を照射して、蛍光を検出する方法が主流である。
【０００４】
該検出においては、検出光（蛍光標識から発せられるシグナル）と、基板等からくるバックグラウンドノイズとの比（以下、Ｓ／Ｎ比という）を大きくすることが、検出感度を向上させるうえで重要である。
たとえば、下記特許文献１では、プローブＤＮＡを基板上に担持させる微小領域（スポットを形成する領域）を、それ以外の領域よりも一段高く形成する方法が提案されている。この方法によれば、光学検出を行う際に、検出装置の焦点をスポットに合わせた状態で、スポット以外の領域は検出装置の焦点からずれるため、これによりスポット以外の領域から発せられるバックグラウンドノイズの検出強度を低減させることができる。
また、下記特許文献２では、基板表面をエッチング等で粗面化することにより、プローブＤＮＡを吸着または結合させる表面積を増大させる方法が提案されている。この方法によれば、スポット内に存在するプローブＤＮＡの量を増大できるため、これによりスポット内の検出光強度を増大させることができる。
【特許文献１】米国特許第６７２０１５７号明細書
【特許文献２】特開２００３−１４７４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前記特許文献１に記載の方法では、スポット内の基板（一段高い部分）に起因するバックグラウンドノイズは低減されない。また基板表面の微小領域を一段高くする加工を行った結果、基板表面において検出光の回折や干渉が生じ易くなり、バックグラウンドノイズの増大を招く。したがって、この方法でＳ／Ｎ比を改善することは難しい。また、一段高く形成された微小領域上に正確に物質を付与することは容易ではない、という問題もある。
また前記特許文献２に記載の方法では、基板表面を粗面化したことにより、検出光の回折や干渉が生じてバックグラウンドノイズが増大するため、結果的にＳ／Ｎ比を改善することはできない。
【０００６】
本発明は、光学検出における検出感度を向上できる光学検出用基板および光学検出方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の光学検出用基板は、基板上に定着させた物質から発せられる特定波長の検出光を検出する方法に用いられる基板であって、該基板の表面に微細な凸部が周期的に設けられており、該凸部の周期が前記検出光の波長の５０％以下であることを特徴とする。
【０００８】
本発明の光学検出方法は、基板上に定着させた物質から発せられる特定波長の検出光を検出する方法において、前記基板として、基板の表面に微細な凸部が周期的に設けられており、該凸部の周期が前記検出光の波長の５０％以下である基板を用いることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、光学検出における検出感度を向上できる光学検出用基板および光学検出方法が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
図１は、本発明の光学検出用基板（以下、単に基板ということもある。）の第１の実施形態を示した斜視図である。なお、図面は基板１の表面の一部を拡大して模式的に示している。基板１の厚さ方向をＺ方向、Ｚ方向に垂直な面内において互いに垂直な２方向をそれぞれＸ方向、Ｙ方向とする。
本実施形態において、基板１の表面には、Ｙ方向に沿って帯状に延びる凸部２が、Ｘ方向において一定の間隔Ｓで周期的に設けられている。すなわち、本実施形態において凸部２はＸ方向（繰り返し方向）に沿って繰り返し形成されている。
なお本明細書において、凸部２は、その頂面２１と側壁２２を含む構造を指し、隣り合う凸部２の間の部分を凹部３と言う。
本実施形態において、凸部２の、Ｙ方向に垂直な断面形状は矩形であり、Ｘ方向における凸部２の幅Ｗと、Ｘ方向における頂面２１の幅Ｗ’とは等しい。また、全部の凸部２において、Ｘ方向における幅Ｗは均一であり、凸部２の頂面２１から凹部３までの深さＤも均一である。
【００１１】
本発明において、基板１の表面に形成されている凸部２の側壁２２上の任意の点Ａから、基板の厚さ方向（Ｚ方向）に対して垂直な方向に進み、隣接する凸部２の対応する側壁上の対応する点Ｂ（一方向への平行移動により重なり合う側壁２２上の同じ位置の点）に至るまでの距離Ｐ１を周期という。本実施形態では、Ｘ方向における凸部２の幅Ｗと凸部２の間隔Ｓとの和の値（Ｗ＋Ｓ）＝Ｐ１が周期となる。
なお後述する第２の実施形態のように、点Ｂを決める際に、隣接する凸部２の対応する側壁として複数の側壁が存在する場合は、まず点Ａからの距離が最も近い側壁上の点Ｂを選び、該点Ａから点Ｂに向かう方向を第１の繰り返し方向とする。該点Ａから点Ｂに至るまでの距離Ｐ１が第１の周期となる。次いで、該第１の繰り返し方向上にある側壁を除いて、前記点Ａからの距離が最も近い側壁上の点Ｂ’を選び、該点Ａから点Ｂ’に向かう方向を第２の繰り返し方向とする。該点Ａから点Ｂ’に至るまでの距離Ｐ２が第２の周期となる。
【００１２】
図１の例では、凸部２のＹ方向に垂直な断面形状断面形状が矩形であるが、これに限らず適宜変更できる。たとえばＸ方向における頂面２１の幅Ｗ’が、Ｘ方向における凸部２の幅Ｗよりも小さい台形でもよい。または頂面の幅Ｗ’がゼロの三角形であってもよい。また凸部２のＹ方向に垂直な断面形状が台形または三角形であり、凸部２の間隔Ｓがゼロで、隣り合う凸部２どうしがＶ溝を介して接している形状でもよい。いずれの形状の場合も、凸部の周期は上記と同様にして決められる。
【００１３】
本発明において凸部２の周期（本実施形態では（Ｗ＋Ｓ））は、光学検出において検出される検出光の波長の５０％以下とされる。該検出光波長の２０％以下が好ましい。凸部２の周期を前記の範囲とすることにより、検出光が、凸部２が周期的に設けられている基板１の表面に達したときに散乱、屈折、回折、干渉等が生じるのを抑えることができ、その結果、光学検出におけるバックグラウンドノイズを低減させることができる。
検出光の波長とは、検出対象物質を定性的にまたは定量的に検出するために、光学的に検出する光の波長であり、たとえば蛍光物質を標識として用いた光学検出においては、所定の波長の励起光を照射したときに該蛍光物質が放つ蛍光の波長である。
なお、凸部の形状や配列によって、前記繰り返し方向が複数存在する場合、すなわち凸部の周期が複数存在する場合は、該複数の周期の値のうちの少なくとも１つが前記の範囲であればよいが、全ての周期の値が前記の範囲であることが好ましい。
【００１４】
蛍光の波長、すなわち検出光の波長は、検出に使用される蛍光物質によって異なるが、４５０〜７００ｎｍが好ましい。たとえばＤＮＡチップの検出においては、励起波長として４７５ｎｍ、５３２ｎｍ、６３５ｎｍが多用され、対応する蛍光の波長としては、それぞれ５１０〜６４０ｎｍ、５５０〜６６５ｎｍ、６４５〜６８０ｎｍが用いられる。具体例としては、波長４７５ｎｍの励起光を照射したときに波長５０５ｎｍの蛍光を放つ蛍光物質が標識として用いられる。したがって、たとえば凸部２の周期を２５０ｎｍ以下とすれば、蛍光の波長が５０５ｎｍ以上の範囲である光学検出に用いて、前記バックグラウンドノイズを低減させる効果を得ることができる。該凸部２の周期の上限は２００ｎｍ以下がより好ましい。
【００１５】
凸部２の周期の下限値は特に制限されないが、成形の容易性の点で、１０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましい。１００ｎｍ以上であれば十分である。
【００１６】
凸部２の深さＤは、凸部２の倒れを防止するうえで、また光学検出における悪影響を防止するうえで、検出光の波長の２倍の値以下であることが好ましく、具体的には５００ｎｍ以下がより好ましい。凸部２の深さＤの下限値は、成形の容易性の点で、１０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましい。
【００１７】
また図１の例のように、凸部２のＹ方向に垂直な断面形状が矩形である場合、凸部２のＸ方向における幅Ｗは成形の容易性の点から１０ｎｍ以上が好ましく、２５ｎｍ以上がより好ましい。また凸部２のＸ方向における間隔Ｓは成形の容易性の点から１０ｎｍ以上が好ましく、２５ｎｍ以上がより好ましい。
【００１８】
基板１を構成する材料は、特に制限されず、表面に所望の微細な凹凸パターンを形成できるものであればよい。基板１は、バイオチップに代表的に用いられる蛍光標識の蛍光波長の領域である４５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で透明であってもよく、不透明であってもよい。
透明な材料の具体例としては、石英ガラス、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス等のガラス材料；フッ素樹脂；含ケイ素樹脂等が挙げられる。
不透明な材料の例としては、ステンレス鋼等の金属が挙げられる。
これらのうちでも、特に蛍光バックグラウンドの低さ、平坦性、入手のしやすさの点でホウケイ酸ガラスまたはソーダライムガラスが、より好ましい。
【００１９】
基板１の表面に凸部２を形成する方法は、微細な凹凸パターンを形成するための既知の方法を適宜用いることができる。
たとえば、基板表面に直接ＥＢ（電子線）を照射して加工するリソグラフィー法；基板上にリソグラフィー法によりエッチングマスクを形成した後、該エッチングマスクを介してエッチングを行う方法；マスクを介した塗布法によりエッチングマスクを形成した後、該エッチングマスクを介してエッチングを行う方法；射出成型、切削加工等の機械的な加工を行う方法；光硬化性樹脂の成形により母型を作製した後、この母型を用いて光硬化性樹脂を成形し光照射により硬化する方法（２Ｐ成型法）；ポリマーを溶剤に溶かした溶液を型に流し込んだ後に溶媒を留去して乾固させる方法；インプリント−リソグラフィー法；インクジェット法等が挙げられる。
なお、前記インプリント−リソグラフィー法は、モールド（転写型）を基板表面にプレスして、モールドの形状を基板表面に転写した後に紫外線照射するタイプのインプリント−リソグラフィー法、プレス後に加熱するタイプのインプリント−リソグラフィー法、プレス前に加熱するタイプのインプリント−リソグラフィー法、およびソフトリソグラフィー法を含む。
これらの方法のうちでも、生産性の点からは、インプリント−リソグラフィー法が好ましい。
【００２０】
また、図示していないが、基板１の表面に凸部２を形成した後に、基板１の表面上にバイオチップに代表的に用いられる蛍光標識の蛍光波長の領域である４５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で透明な材料からなる被覆層を設けてもよい。
被覆層は、凸部２の表面および凹部３の表面を含む全面上に設けることが好ましい。該被覆層を設けることにより、基板１上に定着する検出対象物質の量を増大できる。
被覆層の材料の具体例としては、たとえばフッ素を１０質量％以上含むフッ素樹脂（スルホン酸基、カルボン酸基、水酸基等を含む親水性のフッ素樹脂、およびエステル基やアルキル基等を含む疎水性のフッ素樹脂を含む。）；シリコーン樹脂、ケイ素系低誘電率材料（略称ＳＯＧ、ＨＳＱ等）等の含ケイ素樹脂；ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリル樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリ乳酸等の生分解性プラスチック；等が挙げられる。これらの材料からなる被覆層は、たとえば塗布液を塗布して乾燥、硬化させることにより形成できる。
またＩＴＯ（酸化インジウム−スズ）等の無機化合物からなる被覆層を、スパッタ法やＣＶＤ法で形成してもよい。
被覆層の膜厚は、特に限定されるものではないが、スピンコートを適用できる点からは、１ｎｍ〜５００μｍ程度が好ましく、３０ｎｍ〜１００μｍ程度がより好ましい。また該被覆層は、複数の被膜が積層されたものであってもよい。
【００２１】
基板１上に定着される物質の種類に応じて、基板１の最表面に対して、該物質の定着を促進する表面処理を施してもよい。なお「基板の最表面」とは、基板１上に前記被覆層が形成されている場合は、該被覆層の表面を指す。
【００２２】
該表面処理に用いられる表面処理剤は、検出に使用される物質の基板１への定着を促進する機能を有するものが好ましく、具体例としてはシランカップリング剤が挙げられる。
シランカップリング剤は、有機性官能基をＲ、無機材料と反応する加水分解性基をＸとすると、ＲＳｉＸ３で表される化学構造を有するもので、有機性官能基Ｒとしては、ビニル、グリシドキシ、メタクリル、アミノ、メルカプト、アルデヒド、エポキシ、カルボキシル、水酸基等の基が挙げられる。一方、Ｘは塩素、アルコキシ基等が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、等が挙げられる。
シランカップリング剤の一例としては、γ―アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
また、基板１の最表面にシランカップリング剤を結合させる表面処理方法は、既知の手法を用いることができる。一般的には、前記のシランカップリング剤を、その加水分解性基と同じ構造のアルコール類で希釈し、加水分解性基を活性化させるために、適当量の水分を加えたシランカップリング溶液が用いられる。
【００２３】
たとえば、基板上に生体高分子を定着させる場合に、基板１の最表面にアミノシラン等のシランカップリング剤を結合させる表面処理、または基板１の最表面にシランカップリング剤を結合させ、さらに該シランカップリング剤に反応性を有する有機物を１種または１つ以上結合させる表面処理を施すことにより、基板１と生体高分子（たとえばＤＮＡチップにおいてはプローブＤＮＡ）との親和性および／または結合特異性が向上し、基板１への生体高分子の定着性が促進される。
【００２４】
図２は、本発明の基板の第２の実施形態を示した斜視図である。なお、図面は基板１１の表面の一部を拡大して模式的に示している。
本実施形態が第１の実施形態と異なる点は、第１の実施形態では凸部２の繰り返し方向がＸ方向のみであるのに対し、本実施形態では、Ｘ方向とＹ方向の２つの繰り返し方向に沿って凸部１２が繰り返し形成されている点である。
本実施形態において凸部１２のＸ方向に垂直な断面形状、およびＹ方向に垂直な断面形状はいずれも矩形である。全部の凸部１２において、Ｘ方向における幅Ｗｘ、Ｙ方向における幅Ｗｙ、Ｘ方向における凸部１２の間隔Ｓｘ、Ｙ方向における凸部１２の間隔Ｓｙは、それぞれ均一である。また、凸部１２における頂面から凹部１３までの深さＤも均一である。
凸部１２におけるＸ方向の幅ＷｘとＹ方向の幅Ｗｙとは同じでもよく、異なっていてもよい。またＸ方向における凸部１２の間隔ＳｘとＹ方向における凸部１２の間隔Ｓｙとは同じでもよく、異なっていてもよい。
本実施形態における凸部１２の周期は、（Ｗｘ＋Ｓｘ）の値Ｐ１と、（Ｗｙ＋Ｓｙ）の値Ｐ２の二通り存在する。該Ｐ１とＰ２が互いに異なる場合は、少なくとも一方が光学検出において検出される検出光の波長の５０％以下であり、２０％以下が好ましい。Ｐ１とＰ２の両方が前記範囲であることが好ましい。
【００２５】
図２の例では凸部１２の断面形状は矩形であるが、前記第１の実施形態と同様に適宜変更できる。たとえば、凸部１２のＸ方向に垂直な断面形状およびＹ方向に垂直な断面形状の一方または両方が台形であってもよく、三角形であってもよい。また凸部１２の間隔Ｓｘおよび／またはＳｙがゼロであってもよい。
さらに、図２の例では凸部１２をＺ方向から見たときの形状が矩形であるが、これに限らず適宜変更できる。たとえば三角形であってもよく、円形であってもよい。
本実施形態における凸部２の寸法および周期の好ましい数値範囲は、第１の実施形態と同様である。
【００２６】
なお、前記第１および第２の実施形態では、基板表面の所定深さＤの一層において凸部が周期的に設けられている例を示したが、凸部が周期的に設けられている層が複数層積層された表面構造であってもよい。
すなわち、基板の最表層として、凸部の深さがＤ１である第１の凸部が周期的に形成された第１の層が設けられており、その下層として、第１の凸部の底面（第１の凸部の頂面から深さＤ１の面）からの深さがＤ２である第２の凸部が周期的に形成された第２の層が設けられていてもよい。Ｄ１とＤ２は同じであってもよく、異なっていてもよい。第１の凸部の周期構造と、第２の凸部の周期構造とは、Ｚ方向からみたときに重なり合わない構造である。両者の周期は互いに同じでもよく、異なっていてもよい。
【００２７】
本発明の光学検出用基板は、基板上に定着させた物質から発せられる特定波長の検出光を検出する方法に用いられる。検出として定性分析、定量分析等を行うことができる。
たとえば検出対象物質が生体高分子であり、これを光学検出する基板の例としてＤＮＡチップがあるが、本発明の基板はタンパクチップや細胞チップ等に用いてもよい。
【００２８】
基板上に定着させる物質は、特に制限されず、たとえば細胞、ＤＮＡ、ＲＮＡ、蛋白質、有機化合物、無機化合物等が挙げられる。
細胞の具体例としては、ヒトや動植物由来の細胞、ウィルス、カビ等の細菌・古細菌類等が挙げられる。
蛋白質の具体例としては、水溶性蛋白質、ケラチン、コラーゲン、フィブロイン、セリシン、糖蛋白質、バクテリオロドプシン等の膜蛋白質、コート蛋白質、アルブミン、血清等が挙げられる。
ＤＮＡやＲＮＡの具体例としては、生体物質から抽出増幅したｃＤＮＡ、人工合成されたオリゴＤＮＡ等が挙げられる。
有機化合物の具体例としては、アミノ基を含む含ケイ素化合物、アルコキシ基を含む含ケイ素化合物、フッ素を含む含ケイ素化合物等の含ケイ素化合物；スルホン酸基、カルボン酸基、水酸基、エステル基やアルキル基等を含むフッ素化合物；蛍光色素；フラーレンやフラーレン誘導体；遷移金属を含む有機金属化合物（特に希土類元素を含む有機金属化合物）；クラウンエーテル、フェナントロリンやポルフィリン等の大環式化合物；等が挙げられる。
無機化合物の具体例としては、酸化チタン、二酸化ケイ素等の金属酸化物微粒子；窒化チタン等の窒化金属；白金、金、銀、銅、ゲルマニウム等の金属微粒子；炭素化合物等が挙げられる。
基板上に定着されている物質は、１種でもよく２種以上でもよい。また検出対象物質そのものであってもよく、検出対象物質とそれ以外の物質とが結合したものであってもよい。
【００２９】
基板上に物質を定着させる方法は、検出中に基板上の物質が流動しない程度に固定化できる方法であればよく、既知の手法を用いることができる。
例えば、定着させる物質を含む液体を基板上の特定の面積の領域に、特定の容積で、かつ特定のスポット形状でドット状に点着させることが好ましい。基板上に液滴を点着させる場合、光学検出における画像処理が容易であることから、液滴の平面形状（スポット形状）が真円に近いほど好ましい。また該液滴を上方から平面視したときの大きさは、最も大きい径が５０〜５００μｍの範囲が好ましく、８０〜２００μｍの範囲がより好ましい。基板上に定着されている物質は、溶剤が除去された乾燥物であってもよい。
【００３０】
基板上に物質を定着させる具体的方法の一例としては、まず所定の物質を含有する液体を調製する。該液体は、溶液、コロイド溶液、懸濁液、分散液等のいずれでもよい。溶剤は任意のものを用いることができ、緩衝液に溶解または分散させてもよい。
次いで、該液体を塗布または点着して、基板上に定着させる。点着方法としては、たとえばステンレス製のピンの先端に該液体を液滴状に付着させ、該液滴を基板表面に接触させることにより、該液滴を基板表面に移動させる方法を用いることができる。
この後、必要であれば、乾燥させて液滴中の溶剤を留去してもよい。
また、基板上に定着させた物質に対して、ブロッキングと呼ばれる、基板上の不要になった化学的活性点を不活性化する処理等を施してもよい。
【００３１】
基板上に物質を定着させる具体的方法の他の例としては、該物質を基板材料内に、または基板表面上に設けられる被覆層内に埋め込む方法または練り込む方法を用いることもできる。また、インクジェット等の一定量の液滴を吐出させる方法によって、基板上に定着させる物質を含んだ溶液を基板上の特定位置に付着させてもよい。
また、凸部を形成する方法として、モールド（転写型）を基板表面にプレスする工程を有する方法を用いる場合には、モールドの転写面（基板と接触する面）上に所定の物質を予め存在させておき、プレスによってモールドの形状を転写すると同時に、該物質をモールド上から基板上に移動させる方法を用いることもできる。
また、予め基板の表面上に所定の物質を存在させた状態で、モールドをプレスすることによって、凸部を形成すると同時に、該物質を基板表面に固定化する方法でもよい。
【００３２】
基板上に定着された物質から発せられる特定波長の検出光を検出する方法は、特に制限されず、既知の各種の手法を用いることができる。例えば、共焦点顕微鏡の光学系を備えた測定装置内で基板を平面方向に動かして基板上をスキャンする方法、またはＣＣＤ等の撮像素子によって基板平面の一部または全部を一度に測定装置に取り入れる方法、等が挙げられる。
【００３３】
本発明の基板は、表面に微細な凸部が周期的に設けられており、該微細な凸部の周期が検出光の波長の５０％以下であるため、基板表面に達した検出光が、回折や干渉を生じるのを防止することができ、バックグラウンドノイズを低レベルに抑えることができる。
また基板表面に微細な凸部を設けたことにより基板の表面積が増大するため、基板表面に定着される物質の量が増え、その結果、検出光強度を増大できる。
したがって本発明の基板を用いることにより、光学検出におけるＳ／Ｎ比を改善して、検出感度を向上させることができる。
【００３４】
また本発明の基板は、表面に微細な凸部が周期的に設けられているため、物質の良好な定着性が得られる。すなわち、基板上の多数の微小領域に物質を精度良く、かつスポット形状が均一となるように安定して定着させることができる。これにより、光学検出における精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明に係る一実施形態を示す斜視図である。
【図２】本発明に係る他の実施形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００３６】
１、１１  基板
２、１２  凸部
【図１】
2006337109.tif 000003
【図２】
2006337109.tif 000004