(57)【要約】【課題】  ガラス基板を研磨後、洗浄液中に浸漬して洗浄するに当たり、基板キャリアとそれを保持するためのラックとの接触による発埃を防止することのできる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および装置を提供する。【解決手段】  ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、洗浄液中に浸漬して洗浄するに当たり、洗浄用の基板キャリアとこのキャリアを保持するためのラックのいずれか一方または両方のキャリアとラックとの接触部にフッ素樹脂またはアセタール樹脂の部材を取り付けて洗浄処理操作を行う、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および装置。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、洗浄液中に浸漬して洗浄するに当たり、洗浄用の基板キャリアとこのキャリアを保持するためのラックのいずれか一方または両方のキャリアとラックとの接触部にフッ素樹脂またはアセタール樹脂からなる部材を取り付けて洗浄処理操作を行うことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、洗浄液中に浸漬して洗浄する際に用いる、洗浄用の基板キャリアとこのキャリアを保持するためのラックのいずれか一方または両方のキャリアとラックとの接触部にフッ素樹脂またはアセタール樹脂からなる部材を取り付けたことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および装置に関する。より詳しくは、本発明は、ガラス基板を研磨後、テクスチャー処理前に、洗浄を行うことからなる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法およびその装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク等の磁気記録媒体に用いるためのガラス基板には、高度の平坦性や平滑性が求められる。そのため、ガラス基板は、その表面の研磨のための工程とそれに続く洗浄工程に付される。そして、これによって得られた磁気記録媒体用ガラス基板は、表面処理のためのテクスチャー工程に付される。
【０００３】
ガラス基板表面を効率よく研磨するためには、研磨剤として、酸化セリウムを酸化ジルコニウム等の研磨砥粒が用いられるが、これらの研磨砥粒はガラス表面に付着するという問題がある。そのため、研磨工程で付着した研磨砥粒やガラスの削り屑等を、テクスチャー処理の前に、洗浄により除去することが必要になる。
【０００４】
磁気記録媒体用ガラス基板の製造において、ガラス基板を蓚酸等の有機酸やフッ酸、硫酸、硝酸、燐酸、塩酸等の無機酸の水溶液または強アルカリ水溶液を用いて洗浄することは知られている（例えば、特許文献１〜３参照）。かかる洗浄は、一般に、ステンレススチール等の金属からなる基板キャリアとそれを保持するためのラックとを組み合わせて用い、多数枚（通常は約５０〜１００枚）の基板を基板キャリアに装填し、このキャリアをそれを保持するためのラックにより吊り下げ保持して洗浄液を含む洗浄槽中に浸漬し、一定時間経過後に洗浄槽から引き上げることにより行われる。
【０００５】
しかるに、この場合、キャリアとラックとが接触する部分において、それらの接触により金属が擦られる結果発埃を生じ、それに起因して洗浄後に得られる基板に新たな表面欠陥が生じる恐れがある。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−２１６３号公報
【特許文献２】特開２０００−３１１３３６号公報
【特許文献３】特開２０００−３０２４８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、ガラス基板を研磨後、洗浄液中に浸漬して洗浄するに当たり、基板キャリアとそれを保持するためのラックとの接触による発埃を防止することのできる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討の結果、ガラス基板の研磨後の洗浄液による浸漬洗浄に用いる基板キャリアとそれを保持するためのラックとの接触部にフッ素樹脂またはアセタール樹脂からなる部材を取り付けて、それらの接触部が直接的に接触して擦られることによる発埃を無くし、これによって基板表面に新たに欠陥が生じるのを防止することができることを見出し、この知見に基づき本発明を完成させるに至ったものである。
【０００９】
よって、本発明は、例えば、下記の事項からなる。
【００１０】
〔１〕  ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、洗浄液中に浸漬して洗浄するに当たり、洗浄用の基板キャリアとこのキャリアを保持するためのラックのいずれか一方または両方のキャリアとラックとの接触部にフッ素樹脂またはアセタール樹脂からなる部材を取り付けて洗浄処理操作を行うことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１１】
〔２〕  ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、洗浄液中に浸漬して洗浄する際に用いる、洗浄用の基板キャリアとこのキャリアを保持するためのラックのいずれか一方または両方のキャリアとラックとの接触部にフッ素樹脂またはアセタール樹脂からなる部材を取り付けたことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、研磨後のガラス基板を洗浄するに当たり、基板キャリアとそれを保持するためのラックとの接触による発埃を防止し、基板表面に新たな欠陥が生じさせることなく磁気記録媒体用ガラス基板を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の好ましい実施の形態につき説明する。ただし、これらの説明は本発明を実施する場合の好ましい例を具体的に説明することを主眼とするものであって、これによって本発明に何らの限定を加えようとするものではないことを理解されたい。
【００１４】
本発明においては、好ましくは、ガラス基板として通常の板状ガラスが用いられる。
【００１５】
ガラス基板表面の研磨には、研磨剤として、酸化セリウムや酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化珪素などの研磨砥粒を用いることができる。なかでも、研磨効率等の観点から、酸化セリウムからなる研磨砥粒を用いるのが好ましい。研磨剤は、これらの砥粒を水に懸濁させて懸濁液として用いられるのがよい。
【００１６】
研磨されたガラス基板は、次いで、洗浄工程に付される。洗浄は、一般に、ステンレススチール等の金属からなる基板キャリアとそれを保持するためのラックとを組み合わせて用い、多数枚（通常は約５０〜１００枚）の基板を基板キャリアに装填し、このキャリアをそれを保持するためのラックにより吊り下げ保持して洗浄液を含む洗浄槽中に浸漬し、一定時間経過後に洗浄槽から引き上げることにより行われる。
【００１７】
図１は、基板キャリアとラックとを組み合わせ使用する状態を示す模式平面図である。図２は、それらの基板キャリアとラックとを組み合わせて用い、基板が装填されたキャリアを洗浄槽中に浸漬した状態を示す模式断面図である。図に示すように、基板１を多数枚まとめて基板キャリア２に装填し、これをラック３により吊り下げ保持して、洗浄液４が充填された洗浄槽５中に浸漬させ、次いで一定時間後に洗浄槽から引き上げて洗浄を行うのである。そして、本発明においては、例えば、キャリアとラックとが直接接触する部分をフッ素樹脂またはアセタール樹脂、例えば、ポリテトラフルオロエチレンまたはそれに類似の材料からなるチューブで覆い、またはこの接触部をフッ素樹脂またはアセタール樹脂、例えば、ポリテトラフルオロエチレンまたはそれに類似の材料を用いて構成することにより、キャリアやラックを構成している金属部分が直接接触することを妨げ、これによって金属が擦れて発埃が生じるのを防止するのである。この場合、このポリテトラフルオロエチレン系の材料からなる部材を取り付ける接触部分は、特に限定されるものではなく、基板キャリア側もしくはラック側のいずれか一方であってもよく、あるいはその両方であってもよい。
【実施例】
【００１８】
以下、実施例により、本発明をさらに説明する。
【００１９】
９０質量％の骨格成分組成がＢ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3＋ＳｉＯ2であり、７質量％の残部成分組成がＬｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏであるアモルファスガラスを用いて磁気記録媒体用基板を作成した。
【００２０】
先ず、上記組成の原料ガラスを溶融し、プレス成形して、円盤状の板状ガラスを得た。この板状ガラスにドリルを用いて内径孔を形成した。次いで、基板の主面に粗ラップ加工および精密ラップ加工の２段ラップ加工を施し、基板の厚さを調整した。次に、この基板の内径孔に面する内周側端面と外周側の端面とにそれぞれ面取り加工を施して面取り部を形成した。
【００２１】
以上のように処理したガラス基板の内周側端面と外周側の端面を鏡面に研磨加工した後、さらに基板の主面を最終的に鏡面に研磨加工した。研磨剤として、酸化セリウム粉末を含む研磨剤（三井金属鉱業社製のミレーク）を用いた。
【００２２】
得られた基板に対して、引き続いて、ブラシスクラブ洗浄を行い、次いで硫酸、フッ酸、ケイフッ酸、蓚酸または硝酸等の酸の水溶液による浸漬洗浄を行い、表面の付着物を除去して、磁気記録媒体用ガラス基板を得た。
【００２３】
このとき、浸漬洗浄を、図２に示すように、基板を装填したステンレススチール製の基板キャリアとラックとを組み合わせて用い、ラックにより基板キャリアを吊り下げ保持し、前記洗浄液を充填した洗浄槽中に浸漬し、次いで所定時間（約２分）後に引き上げることにより行い、基板キャリア側とラック側の両方において、基板キャリアとラックとの接触部をポリテトラフルオロエチレンのチューブで覆った場合とそのような覆いを用いなかった場合とにおいて、得られた基板の表面欠陥を発生の程度を比較した。この場合、表面欠陥の評価は、日立ハイテクノロジー社製のＯＤＴ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｆｅｃｔｔｅｓｔｅｒ）  ＲＺ３５００を用いて、ｓｌｉｃｅ１０ｎｍで行った。
【００２４】
結果を下記に示す。
【００２５】
ポリテトラフルオロエチレンの覆いなし：ＯＤＴ  Ｐ／Ｎ＝１０．３／８．６
ポリテトラフルオロエチレンの覆いあり：ＯＤＴ  Ｐ／Ｎ＝５．２／４．８
【産業上の利用可能性】
【００２６】
本発明は、基板の研磨後の洗浄液による浸漬洗浄において発埃を防止し、基板表面に新たな欠陥を生じさせることなく磁気記録媒体用ガラス基板を製造することを可能にするので、産業上極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】基板キャリアとラックとを組み合わせ使用する状態を示す模式平面図。
【図２】基板キャリアとラックとを組み合わせて用い、基板が装填されたキャリアを洗浄槽中に浸漬した状態を示す模式断面図。
【符号の説明】
【００２８】
１    基板
２    基板キャリア
３    ラック
４    洗浄液
５    洗浄槽
【図１】
2006099942.tif 000003
【図２】
2006099942.tif 000004