(57)【要約】      （修正有）【課題】シャドウマスクの熱膨脹を抑制して有機電界発光素子のパターンの位置正確度を向上させるための放熱及び冷却機能を具備したシャドウマスクフレーム組立体を提供する。【解決手段】パターンが形成されたシャドウマスク２０及び前記シャドウマスク２０が附着して、蒸着源７０に露出された部分には冷却プレートが装着されたマスクフレーム１０からなる。【選択図】図２
2006190950.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンが形成されたシャドウマスクと、
前記シャドウマスクを附着し、蒸着源に露出された部分には冷却プレートが装着されたマスクフレームからなることを特徴とする冷却機能を具備したチャックプレート組立体。
【請求項２】
前記冷却プレートは、マスクフレーム全体をくるんで装着されていることを特徴とする請求項1に記載の冷却機能を具備したチャックプレート組立体。
【請求項３】
前記冷却プレートの成膜領域に向かう内側部は、テーパ型であることを特徴とする請求項1に記載の冷却機能を具備したチャックプレート組立体。
【請求項４】
前記冷却プレートは、放熱材料からなることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の冷却機能を具備したチャックプレート組立体。
【請求項５】
前記蒸着源は、垂直移動型蒸着源であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の冷却機能を具備したチャックプレート組立体。
【請求項６】
パターンが形成されたシャドウマスクと、
前記シャドウマスクを固定するためのシャドウマスクフレームと、
蒸着源から蒸着物質が蒸着されるように前記シャドウマスクに整列された基板と、
前記シャドウマスクに基板を合着するために提供され、基板の背面で密着され、内部に冷媒循環流路を形成して冷媒を循環させるチャックプレートと、を含んでなることを特徴とする基板冷却チャックプレート組立体。
【請求項７】
パターンが形成されたシャドウマスクと、
前記シャドウマスクを固定するためのシャドウマスクフレームと、
蒸着源から蒸着物質が蒸着されるように前記シャドウマスクに整列された基板と、
前記シャドウマスクに基板を合着するために提供され、基板の背面で密着され、基板と密着されない外側部に冷媒循環流路を具備した外部冷却プレートが装着されたチャックプレートと、を含んでなることを特徴とする基板冷却チャックプレート組立体。
【請求項８】
前記冷媒循環流路は、冷媒引入工と冷媒排気孔を一緒に具備することを特徴とする請求項6または7項に記載の基板冷却チャックプレート組立体。
【請求項９】
前記冷媒引入孔と冷媒排気孔は、前記チャックプレートまたは外部冷却プレートの一側及び他側にそれぞれ形成することを特徴とする請求項6に記載の基板冷却チャックプレート組立体。
【請求項１０】
前記冷媒引入工と冷媒排気孔は、前記チャックプレートまたは外部冷却プレートの同一側に形成することを特徴とする請求項6に記載の基板冷却チャックプレート組立体。
【請求項１１】
前記チャックプレートは、Al材質からなることを特徴とする請求項6または7項に記載の基板冷却チャックプレート組立体。
【請求項１２】
前記シャドウマスクフレームの蒸着源に露出された部分にプレーム用冷却プレートが装着されたことを特徴とする請求項6または7項に記載の基板冷却チャックプレート組立体。
【請求項１３】
前記プレーム用冷却プレートの成膜領域に向かう内側部は、テーパ型であることを特徴とする請求項12に記載の基板冷却チャックプレート組立体。
【請求項１４】
前記蒸着源は、垂直移動型蒸着源であることを特徴とする請求項13に記載の基板冷却チャックプレート組立体。
【請求項１５】
前記冷媒循環流路内の循環冷媒の温度をシャドウマスクの温度にしたがって調節するための温度調節部をさらに含むことを特徴とする請求項6または7項に記載の基板冷却チャックプレート組立体。
【請求項１６】
前記シャドウマスクの温度を測定するための温度測定部をさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の基板冷却チャックプレート組立体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機半導体素子等の製作に必要なガラス基板の熱的変形を防止するための手段に関し、より詳細には、シャドウマスクフレームに放熱と冷却機能を具備するかまたはガラス基板とシャドウマスクを合着するためのチャックプレートに冷媒を循環させるようにし、真空環境の下で蒸着源からの放射熱またはシャドウマスクとの接触による熱伝導の影響によるガラス基板の温度が上昇されることを防止し、ガラス基板とシャドウマスクの整列精度が低下することを防止するための冷却手段を具備したチャックプレートに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、有機電界発光素子などを含む有機半導体素子の有機薄膜は、低分子有機物質を真空中で蒸発させ、有機薄膜を形成したり高分子有機物質を溶剤に溶解した後、スピンコーティング、ディップコーティング、ドクターブルレイティング、インクジェットプリンティングなどの方法を利用して有機薄膜を形成する。
【０００３】
この中で、特に真空状態で低分子有機物質からなる薄膜を製作する場合においては、有機物質を適正な位置に積層させるために所定のパターンが形成されているシャドウマスクが必要であり、前記シャドウマスクはシャドウマスクフレームに固定設置されるようになる。また、ガラス基板が提供されて前記ガラス基板とシャドウマスクは整列及び合着動作を遂行した後、最終的に成膜プロセスが進行されるようになる。そして、成膜プロセスの過程中、低分子有機物質は点型または線形の有機物蒸着源を利用し、パターンによって前記基板に蒸着される。
【０００４】
図1は、有機電界発光素子の製造の際、垂直移動型線形蒸着源70が低分子有機物質を、パターンが形成されているマスクの方に蒸着する工程を概略的に示している。このような蒸着工程は、シャドウマスクフレーム10にパターンが形成されたシャドウマスク20が装着され、チャックプレート40とラバーマグネット50によってガラス基板30が整列された後、垂直移動型線形蒸着源70によって蒸着物質がシャドウマスク20を介してガラス基板30に蒸着されるようになる。そしてこのような蒸着工程は真空環境下でなされるようになる。
【０００５】
しかし、このような真空環境下での蒸着工程においては、蒸着源からの放射熱Rがシャドウマスクに伝達されて温度が上昇するようになり、この時、シャドウマスクの熱膨脹によって有機電界発光素子のパターンの位置正確度が低くなる。そして、R、G、Bの色相を表現するためのパターンの位置正確度が低くなると、一部ピクセルで R、G、Bの色相がまじってしまういわゆる“変色不良”が発生するという問題がある。
【０００６】
また、ガラス基板の場合、蒸着源からの放射熱伝逹による影響のみならず、シャドウマスクとの直接接触による熱伝導の影響によって持続的に温度が上昇するようになる。特にガラス基板の場合、連続された工程プロセスを経ながら蓄積された熱エネルギーが外部に発散されることがさらに難しいから、シャドウマスクフレーム自体のみを冷却する場合には、ガラス基板とシャドウマスクの間の熱変形量の差をより深化させるという問題がある。
【０００７】
なお、従来のガラス基板の熱的変形を防止するための手段に関する技術を記載した文献としては、冷媒供給ホールと冷媒除去ホールを有するチャックを開示した下記特許文献１、半導体製造のためのフレーと冷却装置及び冷却ラインを有するフレーと製造方法を開示した下記特許文献２等がある。
【０００８】
【特許文献１】韓国特許開第２００４−００２６２６６号明細書
【特許文献２】韓国特許開第２００２−００２４６１８号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、本発明は、前記問題点を解決するために案出されたものであり、その目的は、シャドウマスクの熱膨脹を抑制して有機電界発光素子のパターンの位置正確度を向上させ、かつ蒸着源からの放射熱伝逹を源泉的に防止するための放熱技法と、シャドウマスクに熱が蓄積されないようにする冷却技法を同時に適用できるようにする放熱及び冷却機能を具備したシャドウマスクフレーム組立体を提供することを目的とする。
【００１０】
また、本発明はシャドウマスクの熱膨脹を抑制することに加え、基板自体の温度上昇を抑制して基板とシャドウマスク間の熱変形量の差を減少させるための基板の冷却チャックプレート組立体を提供することを目的とする。
【００１１】
また、本発明は基板の冷却に利用される循環冷媒の温度を調節してガラス基板の温度をシャドウマスクの温度を考慮して最適化することができるようにするガラス基板の冷却チャックプレート組立体を提供することを目的にする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を果たすために、本発明はパターンが形成されたシャドウマスク及び前記シャドウマスクが附着して、蒸着源に露出された部分には冷却プレートが装着されたマスクフレームからなるマスクフレーム組立体を提供することを特徴とする。
【００１３】
また、本発明では前記冷却プレートはマスクフレーム全体をくるんで装着されることが望ましい。
【００１４】
また、本発明では、前記冷却プレートの成膜領域に向かう内側部はテーパ型であることが基板の成膜領域が減る現象を防止するために好ましい。
【００１５】
また、本発明では、前記冷却プレートは放熱材料からなることが好ましい。
【００１６】
また、本発明のまた他の実施形態によれば、パターンが形成されたシャドウマスク、前記シャドウマスクを固定するためのシャドウマスクフレーム、蒸着源からパターンによって蒸着物質が蒸着されるように、前記シャドウマスクに整列された基板、前記シャドウマスクに基板を合着するために提供され、内部に冷媒循環流路を形成して冷媒を循環させるチャックプレートを含んでなる基板冷却チャックプレート組立体を提供することを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の他の実施形態によれば、パターンが形成されたシャドウマスク、前記シャドウマスクを固定するためのシャドウマスクフレーム、蒸着源からパターンによって蒸着物質が蒸着されるように前記シャドウマスクに整列された基板、前記シャドウマスクに基板を合着するために提供されるチャックプレート、前記チャックプレートの外側部に積層され、冷媒流路を具備した外部冷却プレートを含んでなる基板冷却チャックプレート組立体を提供することを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の前記チャックプレートは、側部に冷媒引入孔と冷媒排気孔を具備することが好ましい。
【００１９】
また、本発明の前記チャックプレートは、Al材質からなることが好ましい。
【００２０】
また、本発明の前記シャドウマスクフレームの蒸着源に露出された部分にプレーム用冷却プレートが装着されるが、前記プレーム用冷却プレートの成膜領域に向かう内側部をテーパ型で加工することが好ましい。
【００２１】
また、本発明の前記チャックプレイタ内の冷媒循環流路内の循環冷媒の温度をシャドウマスクの温度にしたがって調節して最適化することが好ましい。
【発明の効果】
【００２２】
上述したように、本発明のシャドウマスクフレームの蒸着源に露出された部位に冷却プレートを装着する場合、蒸着源からの放射熱の遮断は勿論、シャドウマスク自体の温度上昇を防止することができ、かつマスクの熱膨脹による変形を最小化することができ、シャドウマスクの熱膨脹によるパターンの位置正確度が下がるような問題を解決することができる效果がある。
【００２３】
また、本発明によれば、冷却プレートをテーパ型に形成することで、蒸着源から放射される物質が選り分けられて基板の成膜領域が減る現象も防止することができる。
【００２４】
また、本発明のチャックプレートに内蔵した冷媒循環流路またはチャックプレートに外装された外部冷却プレートの冷媒循環流路を通じて循環する冷媒を利用して基板の温度上昇を抑制し、基板自体の熱膨脹による変形を防止することができるという效果がある。
【００２５】
また、本発明によれば、前記冷媒循環流路を通じて循環する冷媒の温度を調節し、基板の温度をシャドウマスクの温度を考慮して最適化することができるようにし、両者の熱膨脹による熱変形の差を最小化することができるという效果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下添付された図面を参照して本発明の実施形態を説明する。
図2は、本発明の一実施形態に関するマスクフレーム組立体を具備した状態での蒸着工程を説明するための概路図であり、図3は、図2のA部の詳細拡大図である。
【００２７】
図2から分かるように、パターンが形成されたシャドウマスク20がシャドウマスクフレーム10に装着される。一般的な蒸着工程で蒸着源70からマスク20 及び基板30の間の距離は、概略的に300mm以上で、蒸着源のノズル温度は約200℃である。したがって、蒸着工程の際、蒸着源70から発生する放射熱Rが必然的にシャドウマスク20の熱膨脹を引き起こすことになる。この時、シャドウマスク20の熱膨脹においてはシャドウマスク20を構成するシャドウマスクフレーム10の温度上昇による熱膨脹が一番重要な因子として知られている。
【００２８】
そして、シャドウマスク20の熱膨脹を抑制するための方法としては、蒸着源70からの放射熱R伝達を遮断するための放熱技法と、シャドウマスク20に熱が蓄積されないようにする冷却技法を考慮することができる。
【００２９】
本発明は、図2のように、前記放熱と冷却機能を同時に具現できるようにシャドウマスクフレーム10からの放射熱R伝達を遮断し、シャドウマスクフレーム10に蓄積される熱を除去するようにシャドウマスクフレーム10の蒸着源70に露出された部分に冷却プレート60を装着する。
【００３０】
このように、垂直移動型蒸着源 70に露出されて放射熱にそのまま露出されたマスクフレーム10に冷却プレート60を装着する場合、前記冷却プレート60によって、シャドウマスクフレーム10に温度上昇が抑制され、結局これはシャドウマスク20自体の熱膨脹による変形を防止することができ、したがって、これはパターンの位置正確度まで向上させることができる。
【００３１】
一方、冷却プレート60をシャドウマスクフレーム10の垂直移動型蒸着源70に露出された部分に装着する場合、前記冷却プレート60によって垂直移動型蒸着源70から放射される蒸着物質が選り分けられて基板の成膜領域が減る現象が発生することがあり得る。
【００３２】
これを解決するための手段として本発明は、図3及び図4で示されたように冷却プレート60を蒸着源70に平行に露出された部分60aと、成膜領域に向かう内側部60bを区分し、成膜領域に向かう内側部60bに対してはテーパ形態で加工する。このように内側部60bがテーパ形態になる場合、図4のように垂直移動型蒸着源70の上下蒸着位置に関係なく冷却プレート60による基板の成膜領域が減る現象をあらかじめ防止することができる。
【００３３】
また、前記冷却プレートは、マスクフレーム全体をくるんで装着したほうがマスクフレームの放熱及び冷却效果を大きくすることができる。一方、本発明での前記冷却プレート60は、多様な放熱材料を利用することができる。
【００３４】
図5は、本発明の他の実施形態において蒸着工程を遂行するためにガラス基板とシャドウマスクの整列及び合着状態の詳細拡大断面図を示す。
【００３５】
図から分かるように、ガラス基板30とシャドウマスク20がチャックプレート及びラバーマグネット50によって整列及び合着されており、シャドウマスクフレーム10にテーパ型のプレーム用冷却プレート60が装着されている。前記プレーム用冷却プレート60は、蒸着源からの放射熱伝逹を防止したり、またはシャドウマスクに熱が蓄積されないようにする。
【００３６】
しかし、前記プレーム用冷却プレート60だけではガラス基板の放射熱伝逹による温度上昇及びシャドウマスクの直接接触による熱伝導の影響を完全に遮断しにくくなる。したがって、シャドウマスクフレーム自体のみを冷却する場合、ガラス基板とシャドウマスクの間の熱変形量の差を一層深化させるようになる。
【００３７】
これを解決するための手段として図6には本発明の一実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレートの概略平面図及び側断面図を示している。一方図 7は、このようなガラス基板冷却チャックプレートの概略斜視図を示し、図8は、ガラス基板冷却チャックプレートが装着された状態での蒸着工程を説明するための概路図を示している。
【００３８】
図6及び図7から分かるように、本発明ではパターンが形成されたシャドウマスク20及び前記シャドウマスクを固定するためのシャドウマスクフレーム10、 前記シャドウマスクフレーム10の蒸着源に露出された部分にシャドウマスクフレーム10の熱変形を防止するためのプレーム用冷却プレート60が具備され、蒸着源からパターンによって蒸着物質が蒸着されるように前記シャドウマスク20に整列されたガラス基板30が、前記シャドウマスク20にガラス基板30を合着するために提供されるチャックプレート40の内部冷媒循環流路41を形成する。
【００３９】
前記チャックプレート40は、ガラス基板30の背面でガラス基板30を密着し、 ガラス基板30とシャドウマスク20の整列及び合着がなされるようにするためのものであり、本発明に関するガラス基板冷却チャックプレート組立体は、冷媒循環流路41をチャックプレート40内部に直接形成して冷媒を前記冷媒循環流路41を通じて循環させてガラス基板の冷却效果を達成する。
【００４０】
また、前記Al材質からなるチャックプレート40は、蒸着工程中ガラス基板との合着状態が非常に良好なので冷却效果を一番確実に期待することができる。
【００４１】
さらに、前記冷媒循環流路41は、チャックプレート40内部で多様な方法で形成することができるが、冷却效果を増大するためには、冷媒循環流路41のチャックプレート40内での循環路を長く形成すればするほど冷却效果が増大される。
【００４２】
このような冷媒循環流路41は、チャックプレート40の大きさ及び冷却效果を考慮して設計することができる。図ではこのような冷媒循環流路41で冷媒の引入孔42をチャックプレート40の一側に形成し、冷媒の排気孔43をチャックプレート40の他側に形成しておくことを提案しているが、前記引入孔42と排気孔43の位置は同一側に形成することももちろん可能である。
【００４３】
また、本発明では、前記冷媒循環流路41に循環する冷媒の温度を調節するための温度調節部(図示せず)をまた追加することができ、この温度調節部でガラス基板とシャドウマスクの温度を考慮して循環する冷媒の温度を最適化することも可能である。また、この時シャドウマスクの温度を測定する温度測定部(図示せず)を追加することができる。
【００４４】
図8は、本発明の他の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレートが装着された状態での蒸着工程を説明するためのものであり、蒸着源70によって放射熱Rがこのシャドウマスク20とガラス基板30の方へ伝達される場合、ます、シャドウマスクフレーム10に装着されたプレーム用冷却プレート60によってシャドウマスクフレーム10の温度上昇が抑制され、これによって、シャドウマスク20自体の熱膨脹による変形を防止することができる。
【００４５】
また、ガラス基板30とシャドウマスク20を整列及び合着するように提供されたチャックプレート40内に冷媒循環流路41を通じて循環する冷媒によってガラス基板30の冷却がなされることにより、ガラス基板30とシャドウマスク20の間の熱変形量の差が最小化するようになる。
【００４６】
この時、冷媒循環流路41を通じて循環する冷媒の温度をシャドウマスク20の温度を考慮して最適化して調節する場合、ガラス基板30とシャドウマスク20 の間の温度差を極小化することが可能となり、結局ガラス基板30とシャドウマスク20の熱膨脹に起因した整列誤差が最小化され、これはガラス基板30とシャドウマスク20の整列精度をさらに向上させることができる。
【００４７】
一方、図9は、本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレート組立体の概略平面図及び側断面図を示し、図10は本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレート組立体の斜視図であり、図11は本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレートが装着された状態での蒸着工程を説明するための概路図である。
【００４８】
図から分かるように、本発明のまた別の実施形態によれば、パターンが形成されたシャドウマスク20、前記シャドウマスク20を固定するためのシャドウマスクフレーム10、前記シャドウマスクフレーム10の蒸着源に露出された部分にシャドウマスクフレーム10の熱変形を防止するためのプレーム用冷却プレート60が具備され、蒸着源からパターンによって蒸着物質が蒸着されるように前記シャドウマスク20に整列されたガラス基板30が、前記シャドウマスク20にガラス基板30を合着するために提供されるチャックプレート40及び前記チャックプレート40の外側部に積層され、冷媒循環流路46を具備した外部冷却プレート45を具備している。
【００４９】
前記チャックプレート40は、ガラス基板30の背面でガラス基板30を密着し、 ガラス基板30とシャドウマスク20の整列及び合着がなされるようにするためのもので、本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレート組立体は、チャックプレート40の外側に別途の外部冷却プレート45を具備するようにし、前記外部冷却プレート45の内部に冷媒循環流路46を形成して冷媒を前記冷媒循環流路46を通じて循環させてチャックプレート40に整列及び合着されたガラス基板30の冷却效果を達成する。
【００５０】
前記Al材質からなるチャックプレート40は蒸着工程中ガラス基板30との合着状態が非常に良好なので冷却效果を一番確実に期待することができる。
【００５１】
また、本発明において、前記冷媒循環流路46は、冷却效果を増大するためには冷媒循環流路46のチャックプレート40 内での循環路を長く形成すればするほど冷却效果が増大される。このような冷媒循環流路46は、チャックプレート40大きさ及び冷却效果を考慮して設計することができる。
【００５２】
図では、このような冷媒循環流路46で冷媒の引入孔47をチャックプレート40に装着された外部冷却プレート45の一側に形成し、冷媒の排気孔48を他側に形成しておくことを提案しているが、前記引入孔47と排気孔48の位置は同一側に形成することももちろん可能である。
【００５３】
また、本発明において、前記冷媒循環流路46に循環する冷媒の温度を調節するための温度調節部(図示せず)をまた追加することができ、この温度調節部でガラス基板とシャドウマスクの温度を考慮して循環する冷媒の温度を最適化することも可能である。また、この時シャドウマスクの温度を測定する温度測定部(図示せず)を追加することができる。
【００５４】
図12は、本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレートが装着された状態での蒸着工程を説明するためのもので、蒸着源70によって放射熱Rがこのシャドウマスク20とガラス基板30の方へ伝達される場合、まず、 シャドウマスクフレーム10に装着されたプレーム用冷却プレート60によってシャドウマスクフレーム10の温度上昇が抑制され、これによって、シャドウマスク20自体の熱膨脹による変形を防止することができる。
【００５５】
また、ガラス基板30とシャドウマスク20を整列及び合着するように提供されたチャックプレート40の外側部に装着された外部冷却プレート45内に形成された冷媒循環流路46を通じて循環する冷媒によってガラス基板30の冷却が間接的になされることにより、ガラス基板30とシャドウマスク20の間の熱変形量の差が最小化されるように。
【００５６】
この時、冷媒循環流路46を通じて循環する冷媒の温度をシャドウマスク20の温度を考慮して最適化して調節する場合、ガラス基板30とシャドウマスク20 の間の温度差を極小化することが可能となり、結局ガラス基板30とシャドウマスク20の熱膨脹に起因した整列誤差が最小化され、これはガラス基板30とシャドウマスク20の整列精度をさらに向上させることができる。
【００５７】
一方、本発明において前記外部冷却プレート45は多様な放熱材料を利用することができる。
【００５８】
以上、添付の図面を参照しながら本発明の好適な実施例について説明したが、前記説明は単に本発明を説明するための目的であり、意味限定や請求の範囲に記載された本発明の範囲を制限するためのものではない。したがって、前記説明によって当業者であれば、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で各種の変更および修正が可能であることはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】垂直移動型蒸着源による蒸着工程を説明するための概路図である。
【図２】本発明の一実施形態に関するマスクフレームを具備した状態での蒸着工程を説明するための概路図である。
【図３】図 2のA部の詳細拡大図である。
【図４】本発明の一実施形態に関するマスクフレームを具備した状態での冷却プレートによるシャドウ現象を防止するのを説明するための概路図である。
【図５】蒸着工程を遂行するためにガラス基板とシャドウマスクの整列及び合着状態の詳細拡大断面図である。
【図６】本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレートの概略平面図及び側断面図である。
【図７】本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレートの斜視図である。
【図８】本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレートが装着された状態での蒸着工程を説明するための概路図である。
【図９】本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレートの概略平面図及び側断面図である。
【図１０】本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレートの斜視図である。
【図１１】本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板とシャドウマスクの整列及び合着状態の詳細拡大断面図である。
【図１２】本発明のまた別の実施形態に関するガラス基板冷却チャックプレートが装着された状態での蒸着工程を説明するための概路図である。
【符号の説明】
【００６０】
10    マスクフレーム
20    マスク
30    基板
40    チャックプレート
41    内部冷媒流路
45    外部冷却プレート
50    ラバーマグネット
60    フレーム冷却プレート
70    蒸着源
80    支持台
R     放射熱
【図５】
2006190950.tif 000003
【図６】
2006190950.tif 000004
【図７】
2006190950.tif 000005
【図９】
2006190950.tif 000006
【図１０】
2006190950.tif 000007
【図１１】
2006190950.tif 000008
【図１】
2006190950.tif 000009
【図２】
2006190950.tif 000010
【図３】
2006190950.tif 000011
【図４】
2006190950.tif 000012
【図８】
2006190950.tif 000013
【図１２】
2006190950.tif 000014