(57)【要約】【課題】  マルチギャップ段差に起因した表示不良の発生が少ない液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】  反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液晶表示装置において、反射領域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列にまたがってストライプ状に配置され、第１の基板は、反射領域に配置された層厚部と、透過領域に配置された層薄部と、を有し、表示領域内においては、層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、表示領域外においては、所定の緩和部を有する層厚調整層を備え、第１の電極は、層厚調整層の上層に、画素列にまたがって形成してあるとともに、それぞれ表示領域外まで延設してあり、少なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成された第１の電極が緩和部上でつながっている。【選択図】  図５
2006154599.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板
及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それぞれ反射領域及び
透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液晶表示装置におい
て、
前記反射領域及び透過領域は、前記表示領域内において一方向に配列された前記画素か
らなる画素列にまたがってストライプ状に配置され、
前記第１の基板は、前記反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するため
に、前記反射領域に配置された層厚部と、前記透過領域に配置された層薄部と、を有する
層厚調整層であって、前記表示領域内においては、前記層厚部及び層薄部の境界の傾斜面
を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、前記表示領域外においては、前記層厚
部及び層薄部の境界の段差を緩和させるための緩和部を有する層厚調整層を備え、
前記第１の電極は、前記層厚調整層の上層に、前記画素列にまたがって形成してあると
ともに、それぞれ前記表示領域外まで延設してあり、少なくとも同じ前記画素列における
反射領域及び透過領域に形成された第１の電極が前記緩和部上でつながっていることを特
徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記表示領域内における傾斜面を第１の傾斜面としたときに、前記緩和部が、前記第１
の傾斜面と基板面とのなす角度よりも緩やかな第２の傾斜面を含むことを特徴とする請求
項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記緩和部が、前記層厚部及び層薄部をつなぐ複数の段差を含むことを特徴とする請求
項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板
及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それぞれ反射領域及び
透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液晶表示装置におい
て、
前記反射領域及び透過領域は、前記表示領域内において一方向に配列された前記画素か
らなる画素列にまたがってストライプ状に配置され、
前記第１の基板は、前記反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するため
に、前記反射領域に配置された層厚部と、前記透過領域に配置された層薄部と、を有する
層厚調整層であって、前記表示領域内における前記層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂
直方向に形成した段差部分を含む層厚調整層を備え、
前記第１の電極は、前記層厚調整層の上層に、前記画素列にまたがって形成してあると
ともに、それぞれ前記表示領域外まで延設してあり、
少なくとも同じ前記画素列の反射領域及び透過領域に形成された前記第１の電極におけ
る、前記表示領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置してあることを特
徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記表示領域内における、前記傾斜面と基板面とのなす角度を６０〜９０°の範囲内の
値とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記反射領域及び透過領域の第１の電極を、前記表示領域の両側で導通してあることを
特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１の電極において、前記画素内における前記段差部分に相当する箇所にスリット
が設けてあることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第２の基板は、ＴＦＤ素子又はＴＦＴ素子を備えた素子基板であることを特徴とす
る請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板
及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それぞれ反射領域及び
透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液晶表示装置であっ
て、前記反射領域及び透過領域は、前記表示領域内において一方向に配列された前記画素
からなる画素列にまたがってストライプ状に配置された液晶表示装置の製造方法において
、
前記第１の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
前記反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、前記反射領域に
層厚部を配置し、前記透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、前記表示領域内
においては、前記層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有す
るとともに、前記表示領域外においては、前記層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和させ
るための緩和部を有する層厚調整層を形成する工程と、
前記層厚調整層の上層に、前記画素列にまたがらせるとともに、前記表示領域外まで延
設して配置される第１の電極であって、少なくとも同じ前記画素列における反射領域及び
透過領域に形成される当該反射領域及び透過領域における第１の電極が前記緩和部上でつ
ながるように、前記第１の電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板
及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それぞれ反射領域及び
透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液晶表示装置であっ
て、前記反射領域及び透過領域は、前記表示領域内において一方向に配列された前記画素
からなる画素列にまたがってストライプ状に配置された液晶表示装置の製造方法において
、
前記第１の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
前記反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、前記反射領域に
層厚部を配置し、前記透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、前記表示領域内
においては、前記層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有す
る層厚調整層を形成する工程と、
前記層厚調整層の上層に、前記画素列にまたがらせるとともに、前記表示領域外まで延
設して、前記第１の電極を形成する工程と、
少なくとも同じ前記画素列の反射領域及び透過領域に形成された前記第１の電極におけ
る、前記表示領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜８に記載されたいずれかの液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器
。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、及び電子機器に関する。特に、マ
ルチギャップ段差に起因した表示不良を少なくした液晶表示装置、液晶表示装置の製造方
法、及びそのような液晶表示装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像表示装置として、それぞれ電極が形成された一対の基板を対向配置するとと
もに、それぞれの電極の交差領域である複数の画素に印加する電圧を選択的にオン、オフ
させることによって、当該画素領域の液晶材料を通過する光を変調させ、画像や文字等の
像を表示させる、液晶表示装置が多用されている。
かかる液晶表示装置として、反射型表示及び透過型表示が可能な半透過反射型の液晶表
示装置がある。すなわち、透過領域においては、基板の背面側に配置されたバックライト
から照射された光が、液晶パネルに入射するとともに、液晶材料層を通過して外部に視認
される。一方、反射領域においては、外部から液晶パネルに入射した外光が、液晶材料層
を通過した後、光反射膜によって反射され、再度液晶材料層を通過して外部に視認される
。このような透過領域及び反射領域を備えることにより、昼間や明るい場所においては、
太陽光等の外光を利用して画像表示を認識させることができるために、消費電力の削減を
図ることができるとともに、夜間等の比較的暗い場所においても、バックライトによって
画像表示を認識させることができる。
【０００３】
かかる半透過反射型の液晶表示装置において、反射型表示及び透過型表示それぞれにお
ける発色性を向上させ、かつリタデーションの最適化を図るために、いわゆるマルチギャ
ップを設けた液晶表示装置が提案されている。より具体的には、図２３に示すように、画
素６０３には、反射領域６３１及び透過領域６３２を規定する光反射層６０４が形成され
、その上層側には、透過領域６３２に相当する領域が開口となっている層厚調整層６０６
が形成された半透過反射型の液晶表示装置である（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−２７０６２７号公報  （特許請求の範囲、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載されたマルチギャップを設けた液晶表示装置において
、反射領域と透過領域の境界部分に相当する、層厚調整層の段差部分は、反射領域及び透
過領域のいずれにおいてもリタデーションが異なっているために、表示不良が発生する原
因となっていた。
また、当該段差部分の段差壁は、基板面とのなす角度を急峻にするほど、段差部分に形
成される電極等の密着性が低下するために、一般に、傾斜面とされていた。したがって、
基板面を垂直方向から見た場合に、当該段差部分に所定の幅があり、当該段差部分に相当
する領域が表示不良領域となって、結果的に、コントラスト等の表示特性が低下するとい
う問題が見られた。
【０００５】
そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、マルチギャップタイプの液晶表示装置におい
て、反射領域及び透過領域における液晶材料層の層厚を異ならせるための層厚調整層を、
表示領域内で所定方向にストライプ状に形成し、当該層厚調整層の上層に形成される電極
を表示領域内で確実に導通性を確保することにより、このような問題を解決できることを
見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、表示領域内において、反射領域と透過領域の境界の段差を急峻に
形成するとともに、表示領域外において、電極の電気的導通性を確保することにより、一
画素における反射領域及び透過領域に形成された電極の導通性を確保しつつ、表示不良領
域の面積を小さくして、表示特性を向上させた液晶表示装置を提供することを目的とする
。また、本発明の別の目的は、そのような液晶表示装置の製造方法、さらに、そのような
液晶表示装置を備えた電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と
、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それ
ぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液
晶表示装置であって、
反射領域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列
にまたがってストライプ状に配置され、
第１の基板は、反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射
領域に配置された層厚部と、透過領域に配置された層薄部と、を有する層厚調整層であっ
て、表示領域内においては、層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差
部分を有するとともに、表示領域外においては、層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和さ
せるための緩和部を有する層厚調整層を備え、
第１の電極は、層厚調整層の上層に、画素列にまたがって形成してあるとともに、それ
ぞれ表示領域外まで延設してあり、少なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領域
に形成された第１の電極が緩和部上でつながっていることを特徴とする液晶表示装置が提
供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、表示領域内においては、層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を急峻に形成して
、基板面に垂直に見た場合の層厚部及び層薄部の境界の段差の幅を小さくすることにより
、表示不良領域の面積を小さくすることができる。また、表示領域外においては、層厚部
及び層薄部の境界の段差に起因した第１の電極の断線を防止して、同じ画素列における反
射領域及び透過領域に形成された第１の電極の電気的導通性を確保することができる。し
たがって、表示領域内における、段差部分に起因した第１の電極の断線等の有無に拘わら
ず、一つの画素に存在する第１の電極の導通性を確保しつつ、表示不良領域の面積を小さ
くして、表示特性を向上させた液晶表示装置を効率的に提供することができる。
【０００７】
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、表示領域内における傾斜面を第１の
傾斜面としたときに、緩和部が、第１の傾斜面と基板面とのなす角度よりも緩やかな第２
の傾斜面を含むことが好ましい。
このように構成することにより、表示領域内においては、基板面に垂直に見た場合の層
厚部及び層薄部の境界の段差の幅を小さくして、表示不良領域の面積を小さくすることが
できるとともに、表示領域外においては、緩和部における傾斜面上に形成される第１の電
極の断線を有効に防止して、電気的導通性を確保することができる。
なお、傾斜面と基板面とのなす角度とは、図８に示す傾斜面と基板面とのなす二つの角
度θＡ、θＢのうち、０〜９０°の範囲内で定められる角度をいう。したがって、図８（
ａ）においては、θＢを意味し、図８（ｂ）においては、θＡを意味する。
【０００８】
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、緩和部が、層厚部及び層薄部をつな
ぐ複数の段差を含むことが好ましい。
このように構成することにより、緩和部に含まれるそれぞれの段差の高さを低くするこ
とができ、緩和部上に形成される第１の電極の断線を有効に防止することができる。
【０００９】
また、本発明の別の態様は、第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第
２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとと
もに、それぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過
反射型の液晶表示装置であって、
反射領域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列
にまたがってストライプ状に配置され、
第１の基板は、反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射
領域に配置された層厚部と、透過領域に配置された層薄部と、を有する層厚調整層であっ
て、表示領域内における層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分
を含む層厚調整層を備え、
第１の電極は、層厚調整層の上層に、画素列にまたがって形成してあるとともに、それ
ぞれ表示領域外まで延設してあり、
少なくとも同じ画素列の反射領域及び透過領域に形成された第１の電極における、表示
領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置してあることを特徴とする液晶
表示装置である。
すなわち、表示領域内においては、基板面に垂直に見た場合の層厚部及び層薄部の境界
の段差の幅を小さくすることにより、表示不良領域の面積を小さくすることができる。ま
た、表示領域外においては、延設された第１の電極上にまたがって配置された所定の導通
部材によって、同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成された第１の電極の電気
的導通性を確保することができる。したがって、表示領域内における、段差部分に起因し
た第１の電極の断線の有無に拘わらず、一画素における第１の電極の導通性を確保しつつ
、表示不良領域の面積を小さくした液晶表示装置を効率的に提供することができる。
【００１０】
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、表示領域内における、傾斜面と基板
面とのなす角度を６０〜９０°の範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、表示領域内において、基板面に垂直に見た場合の層厚
部及び層薄部の境界の段差の幅を小さくすることができ、表示不良領域の面積を小さくす
ることができる。
【００１１】
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、反射領域及び透過領域の第１の電極
を、表示領域の両側で導通してあることが好ましい。
このように構成することにより、表示領域内において、一方向に配列された画素からな
る画素列にまたがって形成される、反射領域及び透過領域の第１の電極の電気的導通性を
より確実に確保することができる。
【００１２】
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、第１の電極において、画素内におけ
る段差部分に相当する箇所にスリットが設けてあることが好ましい。
このように構成することにより、表示領域内における層厚部及び層薄部の境界の段差部
分を非電界領域にして、表示不良の発生をより確実に防止することができる。
【００１３】
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、第２の基板は、ＴＦＤ素子又はＴＦ
Ｔ素子を備えた素子基板であることが好ましい。
このように構成することにより、いずれのスイッチング素子を備えた液晶表示装置であ
っても、表示領域内の一画素における反射領域及び透過領域に形成された第１の電極の導
通性を確保しつつ、対向基板に形成したマルチギャップによる表示不良領域の面積を小さ
くした液晶表示装置とすることができる。
【００１４】
また、本発明の別の態様は、第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第
２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとと
もに、それぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備え、反射領
域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列にまたが
ってストライプ状に配置された液晶表示装置の製造方法であって、
第１の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射領域に層厚部を
配置し、透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、表示領域内においては、層厚
部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、表示領域
外においては、層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和させるための緩和部を有する層厚調
整層を形成する工程と、
層厚調整層の上層に、画素列にまたがらせるとともに、表示領域外まで延設して配置さ
れる第１の電極であって、少なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成さ
れる当該反射領域及び透過領域における第１の電極が緩和部上でつながるように、第１の
電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
すなわち、マルチギャップを形成するための層厚部及び層薄部を備えた層厚調整層を形
成する際に、表示領域内においては、層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成
することにより、表示不良領域の面積を小さくすることができる。また、かかる層厚調整
層を形成する際に、表示領域外においては、層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和させる
緩和部を形成することにより、層厚部上の電極と層薄部上の電極との電気的導通性を確保
することができる。したがって、断線等による動作不良を防止しつつ、表示特性に優れた
液晶表示装置を効率的に製造することができる。
【００１５】
また、本発明の別の態様は、第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第
２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとと
もに、それぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備え、反射領
域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列にまたが
ってストライプ状に配置された液晶表示装置の製造方法であって、
第１の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射領域に層厚部を
配置し、透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、表示領域内においては、層厚
部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有する層厚調整層を形成す
る工程と、
層厚調整層の上層に、画素列にまたがらせるとともに、表示領域外まで延設して、第１
の電極を形成する工程と、
少なくとも同じ画素列の反射領域及び透過領域に形成された第１の電極における、表示
領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
すなわち、マルチギャップを形成するための層厚部及び層薄部を備えた層厚調整層を形
成する際に、表示領域内において、層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成す
ることにより、表示不良領域の面積を小さくすることができる。また、表示領域外におい
て、所定の導通部材を配置することにより、それらの電極の電気的導通性を確保すること
ができる。したがって、断線等による動作不良を防止しつつ、表示特性に優れた液晶表示
装置を効率的に製造することができる。
【００１６】
また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかの液晶表示装置を備えた電子機器
である。
すなわち、一画素における反射領域及び透過領域に形成された第１の電極の導通性を確
保しつつ、表示不良領域を小さくした液晶表示装置を備えるために、表示特性の向上を図
った電子機器を効率的に提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して、本発明の液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、及び液晶表
示装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施
形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の
範囲内で任意に変更することが可能である。
【００１８】
［第１実施形態］
第１実施形態は、第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と
、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それ
ぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液
晶表示装置である。
そして、反射領域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からな
る画素列にまたがってストライプ状に配置され、第１の基板は、反射領域及び透過領域に
おけるリタデーションを調整するために、反射領域に配置された層厚部と、透過領域に配
置された層薄部と、を有する層厚調整層であって、表示領域内においては、層厚部及び層
薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、表示領域外におい
ては、層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和させるための緩和部を有する層厚調整層を備
え、第１の電極は、層厚調整層の上層に、画素列にまたがって形成してあるとともに、そ
れぞれ表示領域外まで延設してあり、少なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領
域に形成された第１の電極が緩和部上でつながっていることを特徴とする。
以下、図１〜図１４を適宜参照しながら、本発明の第１実施形態の液晶表示装置につい
て、所定の層厚調整層を備えたカラーフィルタ基板、及びスイッチング素子としてのＴＦ
Ｄ素子（Thin Film Diode）を備えた素子基板を含む液晶表示装置を例に採って説明する
。なお、それぞれの図において、同じ符号を付したものは同一の部材を示しており、適宜
説明を省略する。
【００１９】
１．液晶表示装置の基本構造
まず、図１及び図２を参照して、本発明に係る第１実施形態の液晶表示装置としての液
晶表示装置１０の基本構造、すなわち、セル構造や配線等について具体的に説明する。こ
こで、図１は、本実施形態に係る液晶表示装置１０の概略斜視図であり、図２は、図１中
のＥＥ断面を矢印方向に見た概略断面図である。
かかる液晶表示装置１０は、スイッチング素子として、二端子型非線形素子であるＴＦ
Ｄ素子６９を用いたアクティブマトリクス型構造を有する素子基板６０を備えた液晶表示
装置１０であって、図示しないものの、バックライトやフロントライト等の照明装置やケ
ース体などを、必要に応じて適宜取付けられて使用される。
また、液晶表示装置１０は、ガラス基板等を基体６１とする素子基板６０と、同様にガ
ラス基板等を基体３１とするカラーフィルタ基板３０と、が対向配置されるとともに接着
剤等のシール材２３を介して貼り合わせられている。また、素子基板６０と、カラーフィ
ルタ基板３０とが形成する空間であって、シール材２３の内側部分に対して、開口部２３
ａを介して液晶材料２１を注入した後、封止材２５にて封止されてなるセル構造を備えて
いる。すなわち、素子基板６０と、カラーフィルタ基板３０との間に液晶材料２１が充填
されている。
【００２０】
また、素子基板６０における基体６１の内面、すなわち、カラーフィルタ基板３０に対
向する表面上に、マトリクス状に配置された複数の画素電極６３が形成され、カラーフィ
ルタ基板３０における基体３１の内面、すなわち、素子基板６０に対向する表面上には、
ストライプ状に配置された複数の走査電極３３が形成されている。また、画素電極６３は
、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子６９を介してデータ線６５に対して電気的に接続
されるとともに、もう一方の走査電極３３は、導電性粒子を含むシール材２３を介して素
子基板６０上の引回し配線６６に対して電気的に接続されている。このように構成された
画素電極６３と走査電極３３との交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素（以下
、画素領域と称する場合がある。）を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として表
示領域を構成することになる。したがって、所望の画素に対して電圧を印加することによ
り、当該画素の液晶材料２１に電界を発生させ、表示領域全体として文字、図形等の画像
を表示させることができる。
【００２１】
また、素子基板６０は、カラーフィルタ基板３０の外形よりも外側に張り出してなる基
板張出部６０Ｔを有し、この基板張出部６０Ｔ上には、データ線６５の一部、引回し配線
６６の一部及び、独立して形成された複数の配線からなる外部接続用端子６７が形成され
ている。
そして、データ線６５又は引回し配線６６の端部には、液晶駆動回路等を内蔵した駆動
用半導体素子（駆動用ＩＣ）９１が実装されている。さらに、外部接続用端子６７のうち
の表示領域側の端部にも、駆動用半導体素子（駆動用ＩＣ）９１が実装されているととも
に、他方の端部には、フレキシブル回路基板９３が実装されている。
【００２２】
２．反射領域及び透過領域
また、本発明に係る液晶表示装置は半透過反射型の液晶表示装置であって、反射領域及
び透過領域が、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列にまたがって
、ストライプ状に配置されている。すなわち、本実施形態に係るＴＦＤ素子を備えた液晶
表示装置の場合、図３（ａ）〜（ｂ）に示すように、素子基板上のデータ線と直交する方
向（Ｘ方向）に沿って配列された画素Ｇからなる複数の画素列ごとに、それぞれ反射領域
Ｒ及び透過領域Ｔが交互にストライプ状に配置されている。なお、図３及び図４は、液晶
表示装置を表示面に対して垂直方向に眺めた場合の部分拡大図である。
ここで、図３（ａ）は、それぞれの画素Ｇにおいて、上半分に透過領域Ｔを配置し、下
半分に反射領域Ｒを配置して、全体として、透過領域Ｔ及び反射領域Ｒがストライプ状に
配置されている。また、図３（ｂ）は、それぞれの画素Ｇにおいて、上部及び下部に反射
領域Ｒを配置し、当該反射領域Ｒに挟まれるように中央部に透過領域Ｔを配置して、全体
として、透過領域Ｔ及び反射領域Ｒがストライプ状に配置されている。
かかる反射領域Ｒ及び透過領域Ｔの配置は、カラーフィルタ基板又は素子基板のいずれ
かにおいて、透過領域Ｔに対応させて開口部を形成した光反射膜を備えることにより、所
望の領域に配置することができる。なお、本実施形態で説明する液晶表示装置は、カラー
フィルタ基板側に光反射膜を形成した液晶表示装置である。
【００２３】
また、反射領域及び透過領域を配置するにあたり、図４に示すように、隣接する画素Ｇ
における互いに対向する辺側に反射領域Ｒを配置することが好ましい。例えば、図４（ａ
）においては、上半分に透過領域Ｔを配置し、下半分に反射領域Ｒを配置した画素Ｇと、
上半分に反射領域Ｒを配置し、下半分に透過領域Ｔを配置した画素Ｇと、が一行毎に交互
に配列されている。
この理由は、マルチギャップを形成した場合であっても、一つの画素内における、表示
不良の原因となる段差を少なくすることができるためである。
【００２４】
３．カラーフィルタ基板
（１）基本構成
次に、図５〜図１３を適宜参照しつつ、本実施形態の液晶表示装置１０に使用されるカ
ラーフィルタ基板３０について、さらに詳細に説明する。
まず、図５（ａ）にカラーフィルタ基板３０の平面図を、図５（ｂ）に図５（ａ）中の
ＰＰ断面を矢印方向に見た断面図を、図５（ｃ）に図５（ａ）中のＯＯ断面を矢印方向に
見た断面図を示す。かかるカラーフィルタ基板３０は、基本的に、図５（ｂ）に示すよう
に、ガラス基板等からなる基体３１上に、光反射膜３５と、遮光膜３９と、着色層３７と
、層厚調整層４０と、走査電極３３と、が順次積層されて構成されている。また、走査電
極３３上には、液晶材料の配向性を制御するための配向膜４５を備えるとともに、走査電
極３３等が形成されている面とは反対側の面に、鮮明な画像表示が認識できるように、位
相差板（１／４波長板）４７及び偏光板４９が配置されている。
【００２５】
（２）光反射膜
また、カラーフィルタ基板３０に形成された光反射膜３５は、例えば、アルミニウム等
の金属材料からなり、透過領域Ｔに対応した開口部３５ａが形成されている一方で、反射
領域Ｒにおいては、太陽光等の外光を反射させて、反射型表示を可能にするための部材で
ある。本発明の液晶表示装置においては、表示領域内で一方向に配列された画素からなる
画素列にまたがって反射領域Ｒが配置されていることから、光反射膜３５は、例えば、図
６（ａ）〜（ｃ）に示すようにパターニングされている。
なお、図６（ａ）は、図３（ａ）に示すように反射領域Ｒ及び透過領域Ｔが配置された
カラーフィルタ基板における光反射膜３５を、図６（ｂ）は、図３（ｂ）に示すように反
射領域Ｒ及び透過領域Ｔが配置されたカラーフィルタ基板における光反射膜３５を、図６
（ｃ）は、図４に示すように反射領域Ｒ及び透過領域Ｔが配置されたカラーフィルタ基板
における光反射膜３５をそれぞれ示している。
【００２６】
（３）遮光膜
また、遮光膜３９は、隣接する画素Ｇ間において色材が混色することを防止して、コン
トラストに優れた画像表示を得るための膜である。このような遮光膜３９としては、例え
ば、クロム（Ｃｒ）やモリブテン（Ｍｏ）等の金属膜を遮光膜３９として使用したり、あ
るいは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散
させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなど
を用いたりすることができる。さらに、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を
重ね合わせることにより、遮光膜を形成することもできる。
【００２７】
（４）着色層
また、着色層３７は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色
調を呈するものとされている。着色層３７の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるも
のではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種
々の色調で形成することができる。
また、着色層３７の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、
このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を
採用することができる。
【００２８】
（５）層厚調整層
また、本実施形態に係る液晶表示装置１０においては、カラーフィルタ基板３０上に、
アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機性の感光性樹脂材料や、ＳｉＮやＳｉＯ2などの
無機材料からなる層厚調整層４０が形成されている。そして、図５（ｂ）〜（ｃ）に示す
ように、かかる層厚調整層４０が、反射領域Ｒに配置された層厚部４０ａと、透過領域Ｔ
に配置された層薄部４０ｂと、を有する層厚調整層４０であって、表示領域Ａ内において
は、層厚部４０ａ及び層薄部４０ｂの境界の段差における傾斜面４０ｃを垂直方向に形成
した段差部分を有するとともに、表示領域外においては、層厚部４０ａ及び層薄部４０ｂ
の境界の段差を緩和させる緩和部１１を有すること特徴とする。
すなわち、反射領域及び透過領域におけるリタデーションを最適化するために、液晶材
料層における反射領域の層厚を相対的に薄くし、透過領域の層厚を厚くしたマルチギャッ
プ構造の液晶表示装置において、表示領域内では、基板面に垂直方向から見た、層厚調整
層の層厚部と層薄部との境界の段差の幅を小さくするように構成されている。一方、表示
領域外では、層厚調整層の層厚部と層薄部との境界の段差上に形成される走査電極の断線
を防止するための緩和部を形成して、一つの画素における反射領域及び透過領域に形成さ
れた走査電極の電気的導通性を確保するように構成されている。
したがって、走査電極の断線による動作不良を防止するとともに、段差に起因する表示
不良領域の面積を小さくしつつ、反射領域及び透過領域それぞれにおけるリタデーション
を最適化でき、表示特性に優れた液晶表示装置とすることができる。
【００２９】
より具体的には、マルチギャップを構成するための従来の層厚調整層は、図２３（ｂ）
に示すように、表示領域内における、反射領域Ｒに配置された層厚部と、透過領域Ｔに配
置された層薄部との境界の段差６６０における傾斜角を比較的緩やかにして形成される。
これは、かかる段差における傾斜面が垂直に形成されていると、当該段差部分上に形成さ
れる走査電極の形成不良が生じ、断線のおそれがあるためである。ただし、段差部分は反
射領域及び透過領域のいずれにおいてもリタデーションが適合しないために、この場合に
は、図７（ａ）に示すように、基板面に垂直方向から見て視認される傾斜面に相当する領
域の面積が相対的に大きく、表示不良領域１３の面積が大きくなる。
一方、本発明に係る液晶表示装置においては、表示領域内における、層厚部及び層薄部
の境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成してあるために、図７（ｂ）に示すように
、基板面に垂直方向から見て視認される傾斜面に相当する領域の面積が相対的に小さくな
り、表示不良領域１３の面積を小さくすることができる。
【００３０】
このように基板面に垂直方向から見た、層厚部及び層薄部の境界の段差の幅を小さくす
るためには、当該段差における傾斜面と基板面とのなす角度を６０〜９０°の範囲内の値
とすることが好ましい。
この理由は、かかる角度が６０°未満の値となると、層厚調整層の膜厚にもよるが、基
板面に垂直方向から見た際の傾斜面の幅が相対的に大きくなり、表示不良領域の面積が大
きくなってしまう場合があるからである。一方、かかる角度が垂直（９０°）であれば、
基板面に垂直方向から見た傾斜面の幅を０とすることができるため、表示不良領域の面積
を最も小さくすることができるためである。ただし、かかる段差は、一般的に、感光性樹
脂材料に対する多重露光あるいはハーフトーン露光により形成され、フォトマスクを通過
する光の多少の回り込みがあることから、再現性に乏しい場合がある。
したがって、層厚部及び層薄部の境界の段差における傾斜面と、基板面とのなす角度を
７０〜８８°の範囲内の値とすることがより好ましく、８０〜８５°の範囲内の値とする
ことがさらに好ましい。
なお、傾斜面と基板面とのなす角度とは、図８に示す傾斜面と基板面とのなす二つの角
度θＡ、θＢのうち、０〜９０°の範囲内で定められる角度をいう。したがって、図８（
ａ）においては、θＢを意味し、図８（ｂ）においては、θＡを意味する。
【００３１】
ただし、層厚部及び層薄部の境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成した場合には
、製造段階において、層厚調整層の上層に走査電極を形成した場合に、かかる段差部分に
電極が均一に形成されない場合がある。この場合には、例えば、一つの画素における反射
領域の走査電極と透過領域の走査電極とが非連続状態となって、電気的導通性が確保でき
ず、動作不良の原因となってしまう。
そこで、図５（ａ）に示すように、表示領域Ａ外において、層厚部４０ａ及び層薄部４
０ｂの境界の段差を緩和させる緩和部１１を形成することにより、一つの画素における反
射領域の走査電極３３ａと透過領域の走査電極３３ｂとの電気的導通性を当該緩和部１１
で確保することができ、走査電極３３の断線による動作不良を防止することができる。す
なわち、一つの画素内において、例えば、反射領域の走査電極と透過領域の走査電極とが
全くつながっていない場合であっても、表示領域外では当該反射領域と透過領域の走査電
極の電気的導通性が確保されているために、一つの画素内の反射領域及び透過領域それぞ
れにおいて電圧を印加することができる。
【００３２】
かかる緩和部としては、例えば、図９（ａ）に示すように、表示領域Ａ内における傾斜
面を第１の傾斜面１７としたときに、第１の傾斜面１７と基板面とのなす角度θ２よりも
緩やかな第２の傾斜面１８を含む緩和部１１とすることができる。すなわち、層厚部と層
薄部との境界の段差における傾斜面が急峻になるにしたがって、当該段差部分に形成する
透明電極が形成不良を生じ、断線が生じやすくなる。そこで、表示領域外における層厚部
と層薄部との境界の段差における傾斜面を、表示領域内の段差よりも緩やかに形成するこ
とにより、一つの画素における反射領域及び透過領域に形成された電極の電気的導通性を
、表示領域外で確保することができる。
ただし、かかる傾斜面が過度に緩やかになると、表示領域外のいわゆる額縁領域の面積
がおおきくなってしまう場合がある。したがって、表示領域外の層厚部及び層薄部の境界
の段差における傾斜面と、基板面とのなす角度を、３０〜６０°未満の範囲内の値とする
ことが好ましく、４０〜５０°の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３３】
また、かかる緩和部の別の例としては、例えば、図９（ｂ）に示すように、層厚部４０
ａ及び層薄部４０ｂをつなぐ複数の段差１２を含む緩和部１１とすることができる。すな
わち、表示領域外の層厚部及び層薄部の境界の段差の高低差が、電極の膜厚の値よりも大
きい場合には、当該段差部分に電極を形成した場合に形成不良を生じて、断線する可能性
が高くなる。そこで、表示領域外の層厚部及び層薄部の境界の段差を、複数の段差を含む
ように構成することにより、一つ一つの段差の高低差を小さくして、電極の断線を防止す
ることができる。
したがって、例えば、走査電極の膜厚が約５０ｎｍである場合に、表示領域外の層厚部
及び層薄部の境界の段差を緩和させる緩和部に含まれる複数の段差のそれぞれの高低差を
、３０〜６０ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００３４】
また、図１０（ａ）に示すように、緩和部１１を表示領域Ａのいずれか一方の外側に、
例えば、素子基板上の引回し配線と導通をとる側に形成して、層厚調整層４０の層厚部４
０ａ上の走査電極３３ａ及び層薄部４０ｂ上の走査電極３３ｂの電気的導通性をとってあ
ることにより、一応の電気的導通性を確保することができる。ただし、より確実に走査電
極３３ａ、３３ｂの電気的導通性を確保できることから、図１０（ｂ）に示すように、表
示領域Ａの両側に、かかる緩和部１１を形成してあることが好ましい。
【００３５】
なお、リタデーションを最適化するために、液晶材料層において反射領域を透過領域よ
りも薄く構成するためには、上述のように、反射領域に対応する層厚部と透過領域に対応
する層薄部とから構成する場合に限られず、図１２に示すように、反射領域Ｒにのみ対応
させて層厚調整層４０を形成することによっても構成することができる。この場合には、
層厚調整層４０の端部に相当する段差における傾斜面１５に関して、表示領域Ａ内におい
ては垂直方向に形成するとともに、例えば、表示領域Ａ外においては表示領域Ａ内の傾斜
面１５と基板面とのなす角度よりも緩やかな傾斜面１８を含む緩和部１１を設けることと
なる。
また、緩和部の例としては、上述した態様に限られることなく、層厚部上の走査電極と
、層薄部上の走査電極との電気的導通性を確保できる手段であれば、他の態様であっても
構わない。
【００３６】
（６）走査電極
また、層厚調整層４０の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体から
なる走査電極３３が形成されている。かかる走査電極３３は、一方向に配列された画素か
らなる画素列毎に、複数の透明電極３３が並列したストライプ状に構成されている。
ここで、本実施形態の液晶表示装置においては、表示領域Ａ内において、反射領域Ｒと
透過領域Ｔに対応して形成された層厚調整層４０の層厚部４０ａ及び層厚部４０ｂの境界
の段差における傾斜面が垂直方向に形成されている。したがって、一つの画素内における
反射領域Ｒの走査電極３３ａと透過領域Ｔの走査電極３３ｂとが、連続して形成されない
場合がある。
ただし、表示領域外においては、同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成され
る走査電極を延設させて、層厚部及び層薄部の境界の段差の緩和部上で、反射領域及び透
過領域の走査電極をつなげてあるために、一つの画素内で走査電極が非連続状態となる場
合であっても、電気的導通性は確保されている。
したがって、表示領域内での垂直方向に形成された傾斜面を含む段差上に走査電極を形
成する場合であっても、断線等による動作不良の発生を防止することができる。
【００３７】
また、一つの画素における反射領域及び透過領域の走査電極を、表示領域外で電気的導
通性を確保するにあたり、表示領域のいずれか一方の側、例えば、素子基板上の引回し配
線と導通をとる側において、層厚調整層の層厚部上及び層薄部上の走査電極の電気的導通
性をとってあることにより、一応の電気的導通性を確保することができる。ただし、より
確実に走査電極の電気的導通性を確保できることから、表示領域の両側で、層厚調整層の
層厚部上及び層薄部上の走査電極の電気的導通性をとってあることが好ましい。
【００３８】
また、図１３に示すように、走査電極３３において、表示領域Ａ内のそれぞれの画素に
おける、層厚調整層４０の層厚部４０ａ及び層薄部４０ｂの境界の段差（第１の傾斜面１
７）に相当する箇所に、スリット３４を設けてあることが好ましい。
この理由は、表示不良の原因となる傾斜面に走査電極を形成せず、非電界領域とするこ
とにより、当該部分に光を透過させないで、表示不良の発生をより少なくすることができ
るためである。
そして、本実施形態の液晶表示装置であれば、一つの画素における反射領域及び透過領
域の走査電極が、表示領域外で電気的導通性を確保してあるために、このようなスリット
を設けた場合であっても動作不良を生じることがない。
【００３９】
（７）配向膜
また、走査電極３３の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜４５が全面的に形成さ
れている。かかる配向膜は、ラビング処理をする等して、液晶材料の配向性を制御するた
めの部材である。
【００４０】
４．素子基板
（１）基本構成
また、素子基板６０は、図１４（ａ）〜（ｂ）に示すように、基本的に、ガラス基板等
からなる基体６１と、データ線６５と、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子６９と、画
素電極６３と、から構成されている。また、画素電極６３上には、ポリイミド樹脂等から
なる配向膜７５が形成されている。さらに、基体６１の外面には、位相差板（１／４波長
板）７７及び偏光板７９が配置されている。
なお、図１４（ａ）は、素子基板６０の概略平面図であり、図１４（ｂ）は、素子基板
６０の概略断面図である。また、配向膜や偏光板等についてはそれぞれ適宜省略されてい
る。
【００４１】
（２）データ線及び引回し配線
素子基板６０上のデータ線６５は、複数の配線が並列したストライプ状に構成されてい
る。また、図示しないが、ドライバ等の実装領域側の辺に対して垂直方向に延びる辺側に
は、導電性粒子を含むシール材を介してカラーフィルタ基板３０上の走査電極３３と電気
的に接続される引回し配線が設けられている。
かかるデータ線６５や引回し配線は、製造工程の簡略化及び電気抵抗の低下の観点から
、後述する二端子型非線型素子の形成と同時に形成されるため、例えば、タンタル層、酸
化タンタル層、及びクロム層が順次形成されて構成されている。
【００４２】
（３）画素電極
また、それぞれのデータ線６５には、スイッチング素子６９を介して画素電極６３が電
気的に接続されている。また、画素電極６３は、それぞれのデータ線６５の間にマトリク
ス状に配置されている。
かかる画素電極６３は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）やＩＺＯ（インジウム亜鉛酸
化物）等の透明導電材料を用いて形成することができる。
【００４３】
（４）スイッチング素子
また、素子基板６０上には、データ線６５と画素電極６３とを電気的に接続するスイッ
チング素子６９としてのＴＦＤ素子６９が形成されている。かかるＴＦＤ素子６９は、一
般的に、タンタル（Ｔａ）合金からなる素子第１電極７１、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）か
らなる絶縁膜７２、及びクロム（Ｃｒ）からなる素子第２電極７３、７４が順次積層され
たサンドイッチ構造を有している。そして、正負方向のダイオードスイッチング特性を示
し、しきい値以上の電圧が、素子第１電極７１及び素子第２電極７３、７４の両端子間に
印加されると導通状態となるアクティブ素子である。
【００４４】
また、二個のＴＦＤ素子６９ａ、６９ｂは、データ線６５と、画素電極６３との間に介
在するように形成され、反対のダイオード特性を有する第１のＴＦＤ素子６９ａ及び第２
のＴＦＤ素子６９ｂから構成してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、印加する電圧波形として、正負対称なパ
ルス波形を使用することができ、液晶表示装置等における液晶材料の劣化を防止すること
ができるためである。すなわち、液晶材料の劣化を防止するために、ダイオードスイッチ
ング特性が、正負方向において対称的であることが望まれ、二個のＴＦＤ素子６９ａ、６
９ｂを逆向きに直列接続することにより、正負対称なパルス波形を使用することができる
ためである。
【００４５】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態は、第１実施形態の液晶表示装置の製造方法であって、
第１の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射領域に層厚部を
配置し、透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、表示領域内においては、層厚
部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、表示領域
外においては、層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和させるための緩和部を有する層厚調
整層を形成する工程と、
層厚調整層の上層に、画素列にまたがらせるとともに、表示領域外まで延設して配置さ
れる第１の電極であって、少なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成さ
れる当該反射領域及び透過領域における第１の電極が緩和部上でつながるように、第１の
電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする。
以下、第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の一例として、第１実施形態の液晶
表示装置を製造する方法を例に採って、図１５〜図１７を適宜参照しながら説明する。
【００４６】
１．カラーフィルタ基板の製造工程
（１）光反射膜の形成
まず、図１５（ａ）に示すように、第１の基板の基材としてのガラス基板３１上に、反
射領域を形成するための反射膜３５を形成する。かかる反射膜は、蒸着法やスパッタリン
グ法にてアルミニウム等の金属材料を母基板上に被着させた後、フォトリソグラフィ方を
用いてパターニングすることにより形成することができる。
また、半透過反射型のカラーフィルタ基板を製造する場合には、それぞれの画素に対応
させて、透過領域を形成する開口部３５ａを備えた反射膜３５を形成する。
【００４７】
（２）着色層の形成
次いで、図１５（ｂ）に示すように、それぞれの画素に対応して、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの
いずれか一色の着色層３７を形成する。かかる着色層は、顔料や染料等の着色材を分散さ
せた透明樹脂等からなる感光性樹脂を母基板上に塗布し、当該感光性樹脂に対してパター
ン露光及び現像処理を順次施すことにより形成することができる。なお、かかる露光及び
現像処理は、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれの色毎に繰り返すことになる。
【００４８】
（３）遮光膜の形成
次いで、図１５（ｃ）に示すように、それぞれの画素間領域に遮光膜３９を形成する。
かかる遮光膜としては、例えば、クロム（Ｃｒ）やモリブテン（Ｍｏ）等の金属膜を遮光
膜として使用したり、あるいは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹
脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材
中に分散させたものなどを用いたりすることができる。
例えば、金属膜を用いて遮光膜を形成する場合には、クロム（Ｃｒ）等の金属材料を蒸
着法等によりガラス基板上に積層した後、所定のパターンに合わせてエッチング処理する
ことにより形成することができる。
【００４９】
（４）層厚調整層の形成
次いで、図１５（ｄ）に示すように、感光性樹脂材料を、例えば、スピンコーター等の
塗布装置を用いて基板上に均一に塗布して、感光性樹脂材料層４０´を形成する。このと
き、例えば、スピンコーターを用いた場合、６００〜２，０００ｒｐｍの回転数で、５〜
２０秒の塗布時間として、厚さ１〜１０μｍの層厚調整層を形成することができる。
ここで、層厚調整層を構成する感光性樹脂材料の種類は特に制限されるものではないが
、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オ
キセタン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、精度良く凹
凸パターンが形成できるように、感光性樹脂材料中に、シリカ粒子、酸化チタン、酸化ジ
ルコニア、酸化アルミニウム等の無機フィラーを添加しておくこともできる。
また、感光性樹脂材料としては、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して
、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所が硬化し
、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用することができる。
なお、本実施形態においては、ポジ型の感光性樹脂材料を使用した場合を例に採って説
明する。
【００５０】
次いで、図１６（ａ）〜（ｃ）に示すように、反射領域及び透過領域におけるリタデー
ションを調整するために、反射領域に層厚部４０ａを配置し、透過領域に層薄部４０ｂを
配置した層厚調整層４０であって、表示領域Ａ内においては、層厚部４０ａ及び層薄部４
０ｂの境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、表示
領域Ａ外においては、層厚部４０ａ及び層薄部４０ｂの境界の段差を緩和させる緩和部１
１を有する層厚調整層を形成する。
より具体的には、例えば、ステッパーステージ上に基板を載置するとともに、図１６（
ａ）に示すように、第１のフォトマスク１１１を配置した後、記号Ｌで示されるｉ線等の
エネルギー線を照射して、均一に塗布された感光性樹脂材料層４０´に対してパターン露
光（第１の露光）を実施する。
次いで、基板を、例えば、ステッパーステージ上から一括露光用の露光装置上に移動し
た後、第２のフォトマスク１２１を配置し、図１６（ｂ）に示すように、同様にエネルギ
ー線を照射して、層厚調整層に対してパターン露光（第２の露光）を実施する。
次いで、例えば、図１６（ｃ）に示すように、基板３１上の感光性樹脂材料層４０´を
、現像液を用いて現像することにより、第１及び第２のフォトマスクの光透過部を透過し
た光が照射された部分が現像され、反射領域に対応した層厚部４０ａと、透過領域に対応
した層薄部４０ｂとを含む層厚調整層４０を形成することができる。
【００５１】
このとき、表示領域外においては、第１のフォトマスク１１１と第２のフォトマスク１
１３とのマスクパターンを異ならせることにより、所望の傾斜面を備えた段差部分を形成
することができる。一方、表示領域内においては、第１の露光又は第２の露光のいずれか
一回の露光をするか、あるいは、第１のフォトマスク１１１と第２のフォトマスク１１３
とのマスクパターンを同一のパターンとすることにより、段差部分に極力テーパーができ
ないように、傾斜面を垂直方向に形成することができる。したがって、表示領域Ａ内では
、層厚部４０ａと層薄部４０ｂとの境界の段差における傾斜面（第１の傾斜面１７）を垂
直方向に形成し、表示領域Ａ外では、層厚部４０ａと層薄部４０ｂとの境界の段差におけ
る傾斜面（第２の傾斜面１８）を、表示領域Ａ内の第１の傾斜面１７と基板面とのなす角
度よりも緩やかにした層厚調整層４０が形成される。
【００５２】
なお、上述した層厚調整層の層厚部や層薄部、傾斜面等の形成方法は、いわゆる異なる
パターンの複数のフォトマスクを用いた多重露光によるものである。ただし、これ以外に
も、部分的に光の透過率を異ならせたハーフトーンマスクを用いたハーフトーン露光によ
っても層厚部や層薄部、傾斜面等を備えた層厚調整層を形成することができる。
【００５３】
（５）走査電極及び配向膜の形成
次いで、図１６（ｄ）に示すように、層厚部及び層薄部を含む層厚調整層上に、全面的
にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電材料からなる透明導電層を、例えば、ス
パッタリング法により形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを施し、
所定のパターン形状の電極３３を形成する。
例えば、製造するカラーフィルタ基板が、パッシブマトリクス型の液晶表示装置や、Ｔ
ＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置に使用さ
れるカラーフィルタ基板である場合には、複数の透明電極が並列したストライプ状にパタ
ーニングされる。また、製造するカラーフィルタ基板が、ＴＦＴ素子（Thin Film Transi
stor）を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板
である場合には、それぞれのセル領域に対応した面状電極としてパターニングされる。
このとき、表示領域内においては、層厚調整層の層厚部及び層薄部の境界の段差が垂直
方向に形成されているために、当該段差部分の走査電極は形成不良を生じやすいが、表示
領域外における層厚調整層には緩和部が形成されており、一つの画素内における反射領域
及び透過領域の走査電極が緩和部で確実につながるように形成できるために、電気的導通
性を確保することができる。したがって、断線等による動作不良の発生を防止しつつ、表
示不良領域の面積を小さくした液晶表示装置を製造することができる。
【００５４】
次いで、図１６（ｅ）に示すように、透明電極３３が形成された基板上において、それ
ぞれのセル領域毎に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜４５を形成することにより、カラ
ーフィルタ基板３０を製造することができる。
【００５５】
２．素子基板の製造工程
（１）素子第１電極の形成
素子基板６０は、まず、図１７（ａ）に示すように、ガラス基板からなる基体６１上に
、素子第１電極７１を形成する。この素子第１電極７１は、例えば、タンタル合金から構
成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。こ
のとき、素子第１電極７１の形成前に、第２のガラス基板６１に対する素子第１電極７１
の密着力を著しく向上させることができるとともに、第２のガラス基板６１から素子第１
電極７１への不純物の拡散を効率的に抑制することができることから、基体６１上に酸化
タンタル（Ｔａ2Ｏ5）等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。
このとき、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法においては、素子第１電極７１を
、データ線６５に沿って隣接するか、又はデータ線６５に沿って斜め方向に隣接する、二
つの画素電極６３に対応したＴＦＤ素子６９に共有させるために、隣接する二つの画素Ｇ
にまたがって形成することが好ましい。この理由は、ＴＦＤ素子６９の形成領域を小さく
する一方、画素電極６３を大きくすることができるため、それぞれの画素面積を拡大して
、コントラスト等の表示特性を向上させた液晶表示装置を効率的に製造することができる
ためである。
【００５６】
次いで、図１７（ｂ）に示すように、素子第１電極７１の表面を陽極酸化法によって酸
化させることにより、酸化膜７２を形成する。より具体的には、素子第１電極７１が形成
された基板を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、素子第１電極
７１との間に所定電圧を印加して、素子第１電極７１の表面を酸化させることができる。
【００５７】
（２）素子第２電極及びデータ線の形成
次いで、再び、スパッタリング法等により、素子第１電極７１を含む基板上に、全面的
に金属膜を形成し、それをフォトリソグラフィ法によって、パターニングすることにより
、図１７（ｃ）に示すように、素子第２電極７３、７４及びデータ線６５を形成する。こ
のようにして、ＴＦＤ素子６９及びデータ線６５を形成することができる。
【００５８】
（３）画素電極の形成
次いで、図１７（ｄ）に示すように、スパッタリング法等により、ＩＴＯ（インジウム
スズ酸化物等）等の透明導電体材料からなる透明導電層を形成した後、フォトリソグラフ
ィ法を用いてパターニングすることにより、ＴＦＤ素子６９と電気的に接続された画素電
極６３を形成する。
【００５９】
（４）配向膜の形成
次いで、図１７（ｅ）に示すように、画素電極６３等が形成された素子基板６０上に、
ポリイミド樹脂等からなる配向膜７５を形成することにより、素子基板６０を製造するこ
とができる。
【００６０】
３．貼り合わせ工程
次いで、図示しないものの、カラーフィルタ基板３０又は素子基板６０のいずれか一方
において、表示領域を囲むようにしてシール材２３を積層した後、他方の基板を重ね合わ
せて、加熱圧着することにより、カラーフィルタ基板３０及び素子基板６０を貼り合わせ
て、セル構造を形成する。
【００６１】
４．組立工程等
次いで、セル内に、シール材の一部に設けられた注入口から液晶材料を注入した後、封
止材等により封止する。
さらに、カラーフィルタ基板３０及び素子基板６０それぞれの外面に、位相差板（１／
４λ板）及び偏光板を配置したり、ドライバを実装したりするとともに、バックライト等
とともに筐体に組み込むことにより、液晶表示装置を製造することができる。
【００６２】
［第３実施形態］
第３実施形態は、第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と
、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それ
ぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液
晶表示装置である。
そして、反射領域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からな
る画素列にまたがってストライプ状に配置され、
第１の基板は、反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射
領域に配置された層厚部と、透過領域に配置された層薄部と、を有する層厚調整層であっ
て、表示領域内における層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分
を含む層厚調整層を備え、
第１の電極は、層厚調整層の上層に、画素列にまたがって形成してあるとともに、それ
ぞれ表示領域外まで延設してあり、
少なくとも同じ画素列の反射領域及び透過領域に形成された第１の電極における、表示
領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置してあることを特徴とする。
以下、図１８〜図１９を適宜参照しながら、本発明の第３実施形態の液晶表示装置につ
いて、第１実施形態の液晶表示装置と異なるカラーフィルタ基板の構成を中心に説明し、
共通する点については適宜説明を省略する。
【００６３】
１．カラーフィルタ基板
（１）基本構成
本実施形態の液晶表示装置１０に使用されるカラーフィルタ基板３０は、基本的には、
図１８に示すように、第１実施形態のカラーフィルタ基板と同様に、ガラス基板等からな
る基体３１上に、光反射膜３５と、遮光膜３９と、着色層３７と、層厚調整層４０と、走
査電極３３と、が順次積層されて構成されている。また、走査電極３３上には、液晶材料
の配向性を制御するための配向膜４５を備えるとともに、走査電極３３等が形成されてい
る面とは反対側の面に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板（１／４波長板）
４７及び偏光板４９が配置されている。
また、光反射膜３５、遮光膜３９、着色層３７、配向膜４５等については、第１実施形
態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板と同様とすることができるために、こ
こでの説明は省略する。
【００６４】
（２）層厚調整層
また、本実施形態に係る液晶表示装置１０においては、カラーフィルタ基板３０上に、
アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの感光性樹脂材料からなる層厚調整層４０が形成されて
いる。そして、かかる層厚調整層４０が、反射領域に配置された層厚部４０ａと、透過領
域に配置された層薄部４０ｂと、を有する層厚調整層４０であって、表示領域Ａ内におい
ては、層厚部４０ａ及び層薄部４０ｂの境界の段差における傾斜面１７を垂直方向に形成
した段差部分を備えること特徴とする。
すなわち、反射領域及び透過領域におけるリタデーションを最適化するために、液晶材
料層における反射領域の層厚を相対的に薄くし、透過領域の層厚を厚くしたマルチギャッ
プ構造の液晶表示装置において、表示領域内では、基板面に垂直方向から見た、層厚調整
層の層厚部と層薄部との境界の段差の幅を小さくするように構成されている。
したがって、第１実施形態で説明したとおり、段差に起因する表示不良領域の面積を小
さくして、反射領域及び透過領域それぞれにおけるリタデーションを最適化でき、表示特
性に優れた液晶表示装置とすることができる。
【００６５】
ただし、層厚部及び層薄部の境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成した場合には
、製造段階において、当該層厚調整層上に走査電極を形成した場合に、当該段差部分に電
極が均一に形成されない場合がある。この場合には、一つの画素における反射領域の走査
電極と、透過領域の走査電極との電気的導通性が低下し、動作不良の原因となってしまう
。
したがって、本実施形態の液晶表示装置においては、第１実施形態における緩和部と異
なり、後述するように、表示領域外で、導通部材を用いて、一つの画素における反射領域
及び透過領域の走査電極の電気的導通性を確保してある。
【００６６】
（３）走査電極及び導通部材
また、層厚調整層４０の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体から
なる走査電極３３が形成されている。かかる走査電極３３は、一方向に配列された画素か
らなる画素列毎に、複数の透明電極が並列したストライプ状に構成されている。
ここで、本実施形態の液晶表示装置においては、表示領域内において、反射領域と透過
領域に対応して形成された層厚調整層の層厚部及び層厚部の境界の段差における傾斜面が
垂直方向に形成されている。したがって、一つの画素内における反射領域の走査電極と透
過領域の走査電極が、非連続状態となる場合がある。
そこで、本実施形態の液晶表示装置においては、一つの画素における層厚部４０ａ上の
走査電極３３ａ及び層薄部４０ｂ上の走査電極３３ｂは、表示領域Ａ外まで延設され、少
なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成された走査電極３３を、表示領
域Ａ外まで延設された箇所の走査電極３３にまたがって配置された導通部材１４０を用い
て導通している。したがって、一つの画素内で反射領域の走査電極３３ａと透過領域の走
査電極３３ｂとが連続していない場合であっても、電気的導通性は確保され、一つの画素
内の反射領域及び透過領域それぞれにおいて電圧を印加することができる。
よって、表示領域内の層厚調整層において、垂直方向に形成された傾斜面を含む段差部
分上に走査電極が形成されているにもかかわらず、断線等による動作不良の発生を防止す
ることができる。
【００６７】
このような導通部材の例としては、図１８に示すように、層厚部４０ａ及び層薄部４０
ｂの境界の段差の高低差以上の膜厚の導電性材料１４０を用いることができる。すなわち
、層厚調整層４０の層厚部４０ａ上の走査電極３３ａ及び層薄部４０ｂ上の走査電極３３
ｂが表示領域外まで延設された箇所にまたがるように、所定の膜厚の導電性材料１４０を
配置若しくは形成することにより、当該段差部分における断線や形成不良を考慮すること
なく、層厚部４０ａ上の走査電極と層薄部４０ｂ上の走査電極３３ｂとを電気的導通性を
確保することができる。
かかる導電性材料としては、例えば、Ａｌ（アルミニウム）、Ｔａ（タンタル）、Ｃｒ
（クロム）、Ａｇ（銀）、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸
化物）等が挙げられる。ただし、これらに制限されることはなく、液晶パネルのセルギャ
ップに影響を与えない程度に膜厚や厚さを制御して基板上に配置又は形成することができ
るものであれば、好適に使用することができる。
【００６８】
その他、表示領域の両側で、走査電極の両端部の導通をとる点や、表示領域内における
層厚部及び層薄部の境界の段差（第１の傾斜面）に相当する箇所に、スリットを設ける点
については、第１実施形態と同様とすることができる。
【００６９】
［第４実施形態］
本発明の第４実施形態は、第３実施形態の液晶表示装置の製造方法であって、
第１の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射領域に層厚部を
配置し、透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、表示領域内においては、層厚
部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有する層厚調整層を形成す
る工程と、
層厚調整層の上層に、画素列にまたがらせるとともに、表示領域外まで延設して、第１
の電極を形成する工程と、
少なくとも同じ画素列の反射領域及び透過領域に形成された第１の電極における、表示
領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置する工程と、
を含むことを特徴とする。
以下、第４実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の一例について、第２実施形態と異
なるカラーフィルタ基板の製造工程を中心に、図１９を適宜参照しながら説明し、共通す
る点については適宜説明を省略する。
【００７０】
１．カラーフィルタ基板の製造工程
（１）光反射膜、着色層、及び遮光膜の形成
まず、図１９（ａ）に示すように、第２次実施形態と同様の方法により、ガラス基板３
１上に、光反射膜３５、着色層３７、及び遮光膜３９を形成する。
【００７１】
（２）層厚調整層の形成
次いで、図１９（ｂ）に示すように、第２実施形態と同様に、異なるパターンの複数の
フォトマスクを用いた多重露光、あるいは、部分的に光の透過率の異なるハーフトーンマ
スクを用いたハーフトーン露光をした後、現像液を用いて現像することにより、反射領域
に対応した層厚部４０ａ及び透過領域に対応した層薄部４０ｂを含む層厚調整層４０を形
成する。
そして、層厚部と層薄部との境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成しているため
に、基板面に垂直方向から見た、当該段差部分の幅を小さくし、表示不良領域の面積を小
さくすることができる。したがって、製造される液晶表示装置において、コントラスト等
の表示特性を向上させることができる。
【００７２】
（３）走査電極及び導通部材の形成
次いで、図１９（ｃ）に示すように、第２実施形態と同様に、層厚調整層の層厚部４０
ａ上及び層薄部４０ｂ上に走査電極３３を形成する。
その後、図１９（ｄ）に示すように、表示領域Ａ外において、層厚部４０ａ上の走査電
極３３ａと層薄部４０ｂ上の走査電極３３ｂとを、表示領域外で電気的に導通させるため
の導通部材としての導電性材料１４０を配置する。例えば、導通部材として、アルミニウ
ム膜を使用する場合には、上述の反射膜の形成方法と同様にして形成することができる。
【００７３】
２．その他の工程
その他の素子基板の製造工程、貼り合わせ工程、液晶材料注入工程等については、第２
実施形態と同様とすることができるために、ここでの説明を省略する。
【００７４】
［第５実施形態］
第５実施形態は、第１実施形態の半透過反射型の液晶表示装置を、スイッチング素子と
して三端子型の能動素子であるＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）を用いたアクティブ
マトリクス方式の液晶表示装置に適用したものである。
【００７５】
図２０（ａ）に第５実施形態に係る液晶表示装置２１０の断面図を示し、図２０（ｂ）
に液晶表示装置２１０の平面図を示す。かかる図２０（ａ）に示すように、液晶表示装置
２１０は、対向基板２３０と素子基板２６０とが、それらの周辺部においてシール材によ
って貼り合わせられ、さらに、対向基板２３０、素子基板２６０及びシール材によって囲
まれる間隙内に液晶材料を封入して形成されている。
【００７６】
また、対向基板２３０は、ガラス、プラスチック等によって形成され、当該対向基板２
３０上には、カラーフィルタすなわち着色層２３７と、その着色層２３７の上に形成され
た対向電極２３３と、その対向電極２３３の上に形成された配向膜２４５とを備えている
。また、反射領域Ｒにおける着色層２３７と対向電極２３３との間には、リタデーション
を最適化するための層厚調整層２４０を備えている。
ここで、対向電極２３３は、ＩＴＯ等によって対向基板２３０の表面全域に形成された
面状電極である。また、着色層２３７は、素子基板２６０側の画素電極２６３に対向する
位置にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）又はＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー
）等といった各色のいずれかの色フィルタエレメントを備えている。そして、着色層２３
７の隣であって、画素電極２６３に対向しない位置にブラックマスク又はブラックマトリ
クスすなわち遮光膜２３９が設けられている。
【００７７】
また、対向基板２３０に対向する素子基板２６０は、ガラス、プラスチック等によって
形成され、当該素子基板２６０上には、スイッチング素子として機能するアクティブ素子
としてのＴＦＴ素子２６９と、透明な絶縁膜２８０を挟んでＴＦＴ素子２６９の上層に形
成された画素電極２６３と、を備えている。
ここで、画素電極２６３は、反射領域Ｒにおいては反射表示を行うための光反射膜２９
５（２６３ａ）を兼ねて形成されるとともに、透過領域Ｔにおいては、ＩＴＯなどにより
透明電極２６３ｂとして形成される。また、画素電極２６３ａとしての光反射膜２９５は
、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）等といった光反射性材料によって形成される
。そして、画素電極２６３の上には配向膜２８５が形成されるとともに、この配向膜２８
５に対して、配向処理としてのラビング処理が施される。
【００７８】
また、対向基板２３０の外側（すなわち、図２１の上側）表面には、位相差板２４７が
形成され、さらにその上に偏光板２４９が形成されている。同様に、素子基板２６０の外
側（すなわち、図２１の下側）表面には、位相差板２８７が形成され、さらにその下に偏
光板２８９が形成されている。さらに、素子基板２６０の下方にはバックライトユニット
（図示せず）が配置される。
【００７９】
また、ＴＦＴ素子２６９は、素子基板２６０上に形成されたゲート電極２７１と、この
ゲート電極２７１の上で素子基板２６０の全域に形成されたゲート絶縁膜２７２と、この
ゲート絶縁膜２７２を挟んでゲート電極２７１の上方位置に形成された半導体層２９１と
、その半導体層２９１の一方の側にコンタクト電極２７７を介して形成されたソース電極
２７３と、さらに半導体層２９１の他方の側にコンタクト電極２７７を介して形成された
ドレイン電極２６６とを有する。
また、ゲート電極２７１はゲートバス配線（図示せず）から延びており、ソース電極２
７３はソースバス配線（図示せず）から延びている。また、ゲートバス配線は第２の基板
２６０の横方向に延びていて縦方向へ等間隔で平行に複数本形成されるとともに、ソース
バス配線はゲート絶縁膜２７２を挟んでゲートバス配線と交差するように縦方向へ延びて
いて横方向へ等間隔で平行に複数本形成される。
かかるゲートバス配線は液晶駆動用ＩＣ（図示せず）に接続されて例えば走査線として
作用し、他方、ソースバス配線は他の駆動用ＩＣ（図示せず）に接続されて例えば信号線
として作用する。
また、画素電極２６３は、互いに交差するゲートバス配線とソースバス配線とによって
区画される方形領域のうちＴＦＴ素子２６９に対応する部分を除いた領域に形成されてい
る。
【００８０】
ここで、ゲートバス配線及びゲート電極は、例えばクロム、タンタル等によって形成す
ることができる。また、ゲート絶縁膜２７２は、例えば窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化
シリコン（ＳｉＯｘ）等によって形成される。半導体層２９１は、例えばドープトａ−Ｓ
ｉ、多結晶シリコン、ＣｄＳｅ等によって形成することができる。さらに、コンタクト電
極２７７は、例えばａ−Ｓｉ等によって形成することができ、ソース電極２７３及びそれ
と一体なソースバス配線並びにドレイン電極２６６は、例えばチタン、モリブデン、アル
ミニウム等によって形成することができる。
【００８１】
また、有機絶縁膜２８０は、ゲートバス配線、ソースバス配線及びＴＦＴ素子２６９を
覆って第２の基板２６０上の全域に形成されている。但し、有機絶縁膜２８０のドレイン
電極２６６に対応する部分にはコンタクトホール２８３が形成され、このコンタクトホー
ル２８３の所で画素電極２６３とＴＦＴ素子２６９のドレイン電極２６６との導通がなさ
れている。
また、かかる有機絶縁膜２８０には、反射領域Ｒに対応する領域に、散乱形状として、
山部と谷部との規則的な又は不規則的な繰り返しパターンから成る凹凸パターンを有する
層厚調整層が形成されている。この結果、有機絶縁膜２８０の上に積層される光反射膜２
９５（２６３ａ）も同様にして凹凸パターンから成る光反射パターンを有することになる
。但し、この凹凸パターンは、透過領域Ｔには形成されていない。
【００８２】
以上のような構造を有する液晶表示装置２１０において、反射表示の際には、太陽光や
室内照明光などの外光が、第１の基板２３０側から液晶表示装置２１０に入射するととも
に、着色層２３７や液晶材料２２１などを通過して光反射膜２９５に至り、そこで反射さ
れて再度液晶材料２２１や着色層２３７などを通過して、液晶表示装置２１０から外部へ
出ることにより、反射表示が行われる。
一方、透過表示の際にはバックライトユニット（図示せず）が点灯されるとともに、バ
ックライトユニットから出射された光が、透光性の透明電極２６３ｂ部分を通過し、着色
層２３７、液晶材料２２１などを通過して液晶表示パネル２２０の外部へ出ることにより
、透過表示が行われる。
【００８３】
また、本実施形態の液晶表示装置２１０は、図２０（ａ）に示すように、反射領域Ｒ及
び透過領域Ｔが、表示領域内において一方向において配列された画素からなる画素列にま
たがってストライプ状に配置され、対向基板には、反射領域及び透過領域におけるリタデ
ーションを調整するために、反射領域に配置された層厚部２４０ａと、透過領域に配置さ
れた層薄部２４０ａと、を有する層厚調整層２４０を有している。
そして、層厚調整層２４０は、表示領域内においては、層厚部２４０ａと層薄部２４０
ｂとの境界の段差における傾斜面２１７を垂直方向に形成した段差部分を有していること
により、基板面に垂直方向から見た場合の当該段差部分の幅を小さくして、表示不良領域
の面積を小さくすることができる。
また、表示領域外においては、図２１（ａ）〜（ｂ）に示すように、層厚部２４０ａ及
び層薄部２４０ｂの境界の段差を緩和させる緩和部２１１を有し、当該緩和部２１１上に
おいて層厚部２４０ａ上の電極２３３ａと層薄部２４０ｂ上の電極２３０ｂとがつながっ
ているために、電気的導通性が確保されているか、あるいは、層厚部上の電極と層薄部上
の電極とを表示領域外まで延設し、それらの電極にまたがるように導通部材を配置して、
電気的導通性を確保している。したがって、表示領域内で、層厚部及び層薄部の境界の段
差を急峻にして、電極の形成不良が発生するおそれがあっても、表示領域外では、電極の
電気的導通性を確保できるために、断線等による動作不良の発生を防止することができる
。
よって、表示不良領域の面積を小さくしつつ、リタデーションの最適化を図った、表示
特性に優れた液晶表示装置とすることができる。
【００８４】
以上のように構成した対向基板の平面図及び断面図を図２１（ａ）〜（ｂ）に示す。本
実施形態の液晶表示装置における対向基板２３０は、面状電極２３３が、上述した層厚調
整層２４０上に配置されており、表示領域内においては、層厚調整層２４０の層厚部２４
０ａと層薄部２４０ｂとの境界の段差において、断線等の形成不良が生じる場合がある。
しかし、表示領域外においては、上述の緩和部２１１や、導通部材によって、面状電極２
３３全体としての電気的導通性が確保されているために、断線等による動作不良の発生を
防止しつつ、層厚部及び層薄部の境界の段差に起因する表示不良領域の面積を小さくする
ことができる。
したがって、ＴＦＴ素子を備えた液晶表示装置においても、表示特性を向上させること
ができる。
【００８５】
［第６実施形態］
本発明に係る第６実施形態として、第１、第３、及び第５実施形態のうちのいずれかの
液晶表示装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
【００８６】
図２２は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は
、液晶表示装置に備えられた液晶パネル２０と、これを制御するための制御手段２００と
を有している。また、図２２中では、液晶パネル２０を、パネル構造体２０ａと、半導体
素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２０ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制
御手段２００は、表示情報出力源２０１と、表示処理回路２０２と、電源回路２０３と、
タイミングジェネレータ２０４とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源２０１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Acces
s Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレー
ジユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレ
ータ２０４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像
信号等の形で表示情報を表示処理回路２０２に供給するように構成されていることが好ま
しい。
【００８７】
また、表示処理回路２０２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテ
ーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示
情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２０ｂへ供給
することが好ましい。さらに、駆動回路２０ｂは、第１の電極駆動回路、第２の電極駆動
回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路２０３は、上述の各構成要素に
それぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、表示領域内においてはマルチギャップを構成
するための層厚部及び層薄部の境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成するとともに
、表示領域外において、層厚部及び層薄部上の電極の電気的導通性を確保してある液晶表
示装置を備えるために、表示特性に優れた画像表示を実現できる電子機器とすることがで
きる。
【産業上の利用可能性】
【００８８】
本発明によれば、表示領域内においてはマルチギャップを構成するための層厚部及び層
薄部の境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成するとともに、表示領域外において、
層厚部及び層薄部上の電極の電気的導通性を確保してあることにより、動作不良を少なく
しつつ、表示不良領域の面積を小さくて、表示特性を向上させた液晶表示装置とすること
ができる。したがって、液晶表示装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコン
ピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテ
ープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ
、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器などに
適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】第１実施形態の液晶表示装置の概略斜視図である。
【図２】第１実施形態の液晶表示装置の概略断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ反射領域の配置について説明するために供する図である。
【図４】反射領域の配置の変形例を示す図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ第１実施形態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の平面図及び断面図である。
【図６】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ光反射膜の平面形状について説明するために供する図である。
【図７】（ａ）は、従来の液晶表示装置における表示不良領域を示す図であり、（ｂ）は、第１実施形態の液晶表示装置における表示不良領域を示す図である。
【図８】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ傾斜面と基板面とのなす角度について説明するために供する図である。
【図９】所定の傾斜面を含む緩和部を説明するために供する図である。
【図１０】複数の段差を含む緩和部を説明するために供する図である。
【図１１】（ａ）は、表示領域の一方の外側に緩和部を設けたカラーフィルタ基板を示す図であり、（ｂ）は、表示領域の両側に緩和部を設けたカラーフィルタ基板を示す図である。
【図１２】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ反射領域にのみ層厚調整層を設けたカラーフィルタ基板を示す平面図及び断面図である。
【図１３】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ電極にスリットを形成したカラーフィルタ基板を示す平面図及び断面図である。
【図１４】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ素子基板を説明するために供する平面図及び断面図である。
【図１５】（ａ）〜（ｄ）は、第１実施形態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するために供する図である（その１）。
【図１６】（ａ）〜（ｅ）は、第１実施形態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するために供する図である（その２）。
【図１７】（ａ）〜（ｅ）は、素子基板の製造方法を説明するために供する図である。
【図１８】第３実施形態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板における導通部材を説明するために供する図である。
【図１９】第３実施形態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するために供する図である。
【図２０】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ第５実施形態の液晶表示装置を示す断面図及び平面図である。
【図２１】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ第５実施形態の液晶表示装置に使用される対抗基板の平面図及び断面図である。
【図２２】第６実施形態の電子機器の概略構成を示すブロック図である。
【図２３】（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ従来のマルチギャップ構造の液晶表示装置の構成を説明する図である。
【符号の説明】
【００９０】
１０：液晶表示装置、１１：緩和部、１２：段差、１３：表示不良領域、１５：傾斜面、
１７：第１の傾斜面、１８：第２の傾斜面、２３：シール材、３０：カラーフィルタ基板
、３１：ガラス基板、３３：走査電極、３３ａ：層厚部の走査電極、３３ｂ：層薄部の走
査電極、３５：光反射膜、３５ａ：開口部、４０：層厚調整層、４０ａ：厚肉部、４０ｂ
：薄肉部、４０´：感光性樹脂材料層、４５：配向膜、６０：素子基板、６１：ガラス基
板、６３：画素電極、６５：データ線、６９：ＴＦＤ素子、７５：配向膜、１４０：導通
部材、２１０：液晶表示装置、２３３：面状電極、２３３ａ：層厚部上の面状電極、２３
３ｂ：層薄部上の面状電極、２４０：層厚調整層、２４０ａ：層厚部、２４０ｂ：層薄部
、２６９：ＴＦＴ素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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