(57)【要約】【課題】  非磁性層をより少ない電子線照射量で硬化させることにより向上した生産性を有する、表面平滑性及び電磁変換特性に優れる磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】  非磁性支持体と、非磁性支持体上の下層非磁性層と、下層非磁性層上の上層磁性層とを少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、非磁性支持体上に、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂（Ｒ）と電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、未硬化の下層非磁性層を形成し、未硬化の下層非磁性層に、１．０〜４．０Ｍｒａｄの範囲の照射量で電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させ、硬化した下層非磁性層上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤樹脂とを含む磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することを含む、磁気記録媒体の製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体と、非磁性支持体上の下層非磁性層と、下層非磁性層上の上層磁性層とを少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、
非磁性支持体上に、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂（Ｒ）と電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、未硬化の下層非磁性層を形成し、
未硬化の下層非磁性層に、１．０〜４．０Ｍｒａｄの範囲の照射量で電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させ、
硬化した下層非磁性層上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤樹脂とを含む磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することを含む、磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
非磁性層用塗料は、電子線硬化性結合剤樹脂（Ｒ）と電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）の合計１００重量部に対して、電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）１〜５０重量部を含む、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）は、多官能（メタ）アクリレートである、請求項１又は２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関し、特に表面平滑性及び電磁変換特性に優れる磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、磁気記録媒体は、非磁性支持体の一方の面上に磁性層を有し、前記非磁性支持体の他方の面上に走行耐久性向上等のためにバックコート層を有する。
【０００３】
近年、記録データ量の増大に対応すべく、磁気記録媒体の高密度記録化が求められている。高密度記録化のために記録波長が短波長化され、磁性層が薄膜化されている。磁性層が薄膜化されると、磁性層表面に支持体の表面粗さが反映して磁性層表面の平滑性が損なわれ、電磁変換特性が悪化する。このため、支持体表面に例えば下塗り層としての非磁性層を設け、これを介して磁性層が設けられる。
【０００４】
記録波長の短波長化に伴い、スペーシングロスの観点から、磁性層表面はより平滑であることが要求され、そのために下塗り層としての非磁性層表面もより平滑であることが要求される。前記非磁性層は、通常、非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥することによって形成される。
【０００５】
例えば、特開２０００−１１３５３号公報には、磁気記録媒体の製造について、電子線硬化性結合剤樹脂を含む非磁性層用塗料を非磁性支持体上に塗布、乾燥し、下層非磁性層に電子線照射を行い、その後、下層非磁性層上に磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することが開示されている。同公報第９カラム４行〜１２行には、「ＥＢ照射量は１〜１０Ｍｒａｄが良く、さらに３〜１０Ｍｒａｄが好ましい。３Ｍｒａｄ未満だと上層磁性層の塗布面の安定性に欠き、１０Ｍｒａｄ超照射しても媒体物性に差がでなくなるので必要ない。上層磁性層の塗布性には照射量が多い方が、上層磁性層の加工性には照射量の少ない方が、媒体物性としては照射量の多い方が、それぞれ好ましい。そのため、上層磁性層塗布前後に分けてＥＢを照射するのが最もバランスをとりやすく好ましい。」と記載されている。すなわち、ＥＢ照射量は上記範囲から選択されるが、上層磁性層の加工性は、上層磁性層の塗布性及び媒体物性に対してトレードオフの関係であることが示されている。
【０００６】
特開２００４−６３０４９号公報には、放射線硬化性結合剤樹脂として特定の放射線硬化性ポリウレタン樹脂を含む非磁性層を有する磁気記録媒体が開示されている。同公報段落番号[0029]には、放射線として電子線が好ましく、電子線照射量は１〜１０Ｍｒａｄが好ましく、３〜７Ｍｒａｄがより好ましいことが開示されている。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−１１３５３号公報
【特許文献２】特開２００４−６３０４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、非磁性層をより少ない電子線照射量で硬化させることにより向上した生産性を有する、表面平滑性及び電磁変換特性に優れる磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明には、以下の発明が含まれる。
（１）  非磁性支持体と、非磁性支持体上の下層非磁性層と、下層非磁性層上の上層磁性層とを少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、
非磁性支持体上に、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂（Ｒ）と電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、未硬化の下層非磁性層を形成し、
未硬化の下層非磁性層に、１．０〜４．０Ｍｒａｄの範囲の照射量で電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させ、
硬化した下層非磁性層上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤樹脂とを含む磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することを含む、磁気記録媒体の製造方法。
【００１０】
（２）  非磁性層用塗料は、電子線硬化性結合剤樹脂（Ｒ）と電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）の合計１００重量部に対して、電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）１〜５０重量部を含む、（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００１１】
（３）  電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）は、多官能（メタ）アクリレートである、（１）又は（２）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、電子線硬化性結合剤樹脂と電子線硬化性多官能モノマーとを含む非磁性層用塗料を用いて下層非磁性層を形成する。架橋剤として電子線硬化性多官能モノマーを用いるので、電子線硬化性結合剤樹脂の架橋が促進され、その結果、下層非磁性層をより少ない電子線照射量で硬化させ平滑な表面の下層非磁性層を形成することができる。その後、平滑な表面の下層非磁性層上に上層磁性層を形成するので、表面平滑性及び電磁変換特性に優れる磁気記録媒体を高い生産性で製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明で製造される磁気記録媒体の例としては、非磁性支持体の一方の面上に厚み０．３〜２．５μｍの下層非磁性層が設けられ、下層非磁性層上に厚み０．０３〜０．３０μｍの上層磁性層が設けられ、必要に応じて非磁性支持体の他方の面上にバックコート層が設けられている。なお、本発明では、上層磁性層上に潤滑剤塗膜や磁性層保護用の各種塗膜などが必要に応じて設けられてもよい。また、非磁性支持体の磁性層が設けられる前記一方の面には、塗膜と非磁性支持体との接着性の向上等を目的として、下塗り層（易接着層）が設けられてもよい。
【００１４】
［下層非磁性層］
下層非磁性層は、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂（Ｒ）と電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）とを含む非磁性層用塗料を用いて形成される。非磁性粉末としては、カーボンブラック、カーボンブラック以外の非磁性無機粉末が挙げられる。
【００１５】
非磁性層に含まれるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネスブラック、ゴム用サーマルブラック、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。比表面積は５〜６００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は３０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は１０〜１００ｎｍが好ましい。使用できるカーボンブラックは具体的には「カーボンブラック便覧」、カーボンブラック協会編を参考にすることができる。
【００１６】
カーボンブラックの配合量は、下層非磁性層において５〜３０重量％、好ましくは１０〜２５重量％である。
【００１７】
非磁性層にはカーボンブラック以外の各種非磁性無機粉末を用いることができ、例えば、針状の非磁性酸化鉄（α−Ｆｅ2 Ｏ3 ）、ＣａＣＯ3 、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Ａｌ2 Ｏ3 等の無機粉末が挙げられる。
【００１８】
カーボンブラックと前記カーボンブラック以外の無機粉末の配合比率は、重量比（カーボンブラック／無機粉末）で１００／０〜５／９５が好ましい。カーボンブラックの配合比率が５重量部を下回ると、表面電気抵抗に問題が生じる。
【００１９】
本発明において、下層非磁性層用の結合剤として電子線硬化性樹脂（Ｒ）を用いる。好ましく用いられるものとしては、以下に示すような塩化ビニル系共重合体及びポリウレタン樹脂の組み合わせである。
【００２０】
塩化ビニル系共重合体としては、塩化ビニル含有量５０〜９５重量％、特に５５〜９０重量％のものが好ましく、その平均重合度は１００〜５００程度であることが好ましい。特に塩化ビニルとエポキシ（グリシジル）基を含有する単量体との共重合体が好ましい。塩化ビニル系共重合体は、公知の手法により（メタ）アクリル系二重結合等を導入して電子線感応変性を行ったものである。
【００２１】
上記塩化ビニル系樹脂と併用するポリウレタン樹脂とは、ポリエステルポリオール及び／又はポリエーテルポリオール等のヒドロキシ基含有樹脂とポリイソシアネート含有化合物との反応により得られる樹脂の総称であって、数平均分子量5,000 〜200,000 程度で、Ｑ値（重量平均分子量／数平均分子量）１．５〜４程度のものである。ポリウレタン樹脂は、公知の手法により（メタ）アクリル系二重結合を導入して電子線感応変性を行ったものである。
【００２２】
塩化ビニル系共重合体及びポリウレタン樹脂に加えて、非磁性層において全結合剤の２０重量％以下の範囲で、公知の各種樹脂が含有されてもよい。
【００２３】
本発明においては、電子線硬化性結合剤樹脂（Ｒ）の架橋率を向上させるために、架橋剤として電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）、好ましくは多官能（メタ）アクリレートを用いる。
【００２４】
多官能（メタ）アクリル系モノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、1,6-ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２５】
また、多官能（メタ）アクリル系モノマーとして、次のようなジアクリレートアダクト体が好ましく用いられる。
イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の２つのイソシアネート基に、ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）がヒドロキシ基を介してそれぞれ付加した構造のジアクリレートアダクト体（ＩＰＤＩ−２ＨＰＡ）、
イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の２つのイソシアネート基に、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）がヒドロキシ基を介してそれぞれ付加した構造のジアクリレートアダクト体（ＩＰＤＩ−２ＨＥＡ）、
トリレン  ２，４−ジイソシアネート（ＴＤＩ）の２つのイソシアネート基に、ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）がヒドロキシ基を介してそれぞれ付加した構造のジアクリレートアダクト体（ＴＤＩ−２ＨＰＡ）。
【００２６】
電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）は、電子線硬化性結合剤樹脂（Ｒ）と電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）の合計１００重量部に対して、１〜５０重量部、好ましくは５〜４０重量部使用するとよい。このような多官能モノマー（Ａ）の使用量によって、１．０〜４．０Ｍｒａｄという比較的少ない電子線照射量で、結合剤樹脂（Ｒ）が十分に架橋し硬化する。多官能モノマー（Ａ）が１重量部未満であると、架橋率の向上効果は得られにくい。多官能モノマー（Ａ）が５０重量部を超えても、更なる架橋率の向上効果は得られにくい。
【００２７】
下層非磁性層に用いる結合剤樹脂（Ｒ）の含有量は、下層非磁性層中のカーボンブラックとカーボンブラック以外の前記非磁性無機粉末の合計１００重量部に対し、好ましくは１０〜１００重量部、より好ましくは１２〜３０重量部である。結合剤の含有量が少なすぎると、下層非磁性層における結合剤樹脂の比率が低下し、十分な塗膜強度が得られない。結合剤の含有量が多すぎると、テープ媒体の場合にテープ幅方向の湾曲が強く起きやすく、ヘッドとの接触が悪くなる傾向にある。
【００２８】
下層非磁性層には必要に応じて潤滑剤を含有することが好ましい。潤滑剤としては、飽和、不飽和に関わらず、ステアリン酸、ミリスチン酸等の脂肪酸、ブチルステアレート、ブチルパルミテート等の脂肪酸エステル、糖類など公知のものを、単独であるいは２種以上混合して用いることができ、融点の異なる脂肪酸を２種以上混合し用いることや、融点の異なる脂肪酸エステルを２種以上混合し用いることも好ましい。これは、磁気記録媒体の使用される、あらゆる温度環境に応じた潤滑剤を、媒体表面に持続して供給する必要があるからである。
【００２９】
下層非磁性層の潤滑剤の含有量は、目的に応じ適宜調整すればよいが、下層非磁性層中のカーボンブラックとカーボンブラック以外の前記非磁性無機粉末の合計重量に対し、１〜２０重量％が好ましい。
【００３０】
下層非磁性層形成用の塗料は、公知の方法で、上記各成分に有機溶剤を加えて、混合、攪拌、混練、分散等を行い調製する。用いる有機溶剤は特に制限はなく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤や、トルエン等の芳香族系溶剤などの各種溶媒の１種又は２種以上を、適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量は、カーボンブラック、カーボンブラック以外の各種無機粉末等、結合剤樹脂及び多官能モノマーの合計量１００重量部に対し１００〜９００重量部程度とすればよい。
【００３１】
下層非磁性層の厚さは、通常０．３〜２．５μｍ、好ましくは０．３〜２．３μｍである。非磁性層が薄すぎると、非磁性支持体の表面粗さの影響を受けやすくなり、その結果、非磁性層の表面平滑性が悪化して磁性層の表面平滑性も悪化しやすくなり、電磁変換特性が低下する傾向にある。また、光透過率が高くなるので、媒体端を光透過率の変化により検出する場合に問題となる。一方、非磁性層をある程度以上厚くしても性能は向上しない。
【００３２】
［上層磁性層］
上層磁性層は、少なくとも強磁性粉末及び結合剤樹脂を含有する。
【００３３】
本発明において、強磁性粉末としては、金属磁性粉末又は六方晶形板状微粉末を用いることが好ましい。金属磁性粉末としては、保磁力Ｈｃが１１８．５〜２３７ｋＡ／ｍ（１５００〜３０００Ｏｅ）、飽和磁化σｓが１２０〜１６０Ａｍ2/ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）、平均長軸長が０．０３〜０．１μｍ、平均短軸長が１０〜２０ｎｍ、アスペクト比が１．２〜２０であることが好ましい。また、金属磁性粉末を用いて作製した媒体のＨｃは１１８．５〜２３７ｋＡ／ｍ（１５００〜３０００Ｏｅ）が好ましい。六方晶形板状微粉末としては、保磁力Ｈｃが７９〜２３７ｋＡ／ｍ（１０００〜３０００Ｏｅ）、飽和磁化σｓが５０〜７０Ａｍ2/ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）、平均板粒径が３０〜８０ｎｍ、板比が３〜７であることが好ましい。また、六方晶形板状微粉末を用いて作製した媒体のＨｃは９４．８〜２３８．７ｋＡ／ｍ（１２００〜３０００Ｏｅ）が好ましい。
【００３４】
ここで、強磁性粉末の平均長軸長は、テープ片から磁性粉末を分別、採取して、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により撮影した写真から、粉末の長軸長を計ることにより求めることができる。その手順の一例を以下に示す。(1) テープ片からバックコート層を溶剤で拭き取り、除去する。(2) 非磁性支持体上に下層非磁性層と上層磁性層が残ったテープ片試料を、５％ＮａＯＨ水溶液に浸漬し、加熱、攪拌する。(3) 非磁性支持体から脱落させた塗膜を水洗し、乾燥する。(4) 乾燥された塗膜をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）中で超音波処理し、マグネットスターラーを用いて磁性粉末を吸着させて集める。(5) 残渣から磁性粉末を分離、乾燥する。(6) 専用のメッシュに(4) 及び(5) で得られた磁性粉末を採取し、ＴＥＭ用試料を作製し、ＴＥＭにて写真撮影する。(7) 写真の磁性粉末の長軸長を計って平均する（測定回数：ｎ＝１００）。
【００３５】
強磁性粉末は、磁性層を基準として７０〜９０重量％程度含まれていればよい。強磁性粉末の含有量が多すぎると、結合剤の含有量が減少するためカレンダー加工による表面平滑性が悪化しやすくなり、一方、強磁性粉末の含有量が少なすぎると、高い再生出力を得られない。
【００３６】
磁性層用の結合剤として、特に制限なく、熱可塑性樹脂、熱硬化性ないし反応型樹脂、放射線（電子線又は紫外線）硬化性樹脂等が、媒体の特性、工程条件に合わせて適宜組み合わせて選択されて使用される。
【００３７】
磁性層に用いる結合剤樹脂の含有量は、強磁性粉末１００重量部に対し、好ましくは５〜４０重量部、特に好ましくは１０〜３０重量部である。結合剤の含有量が少なすぎると、磁性層の強度が低下し、走行耐久性が悪化しやすくなる。一方、結合剤の含有量が多すぎると、強磁性粉末の含有量が低下するため、電磁変換特性が低下する傾向にある。
【００３８】
さらに磁性層中には、磁性層の機械的強度を高めるためと、磁気ヘッドの目詰まりを防ぐために、例えばα−アルミナ（モース硬度９）等のモース硬度６以上の研磨材を含有させる。このような研磨材は通常、不定形状であり、磁気ヘッドの目詰まりを防ぎ、塗膜の強度を向上させる。
【００３９】
研磨材の平均粒径は、例えば０．０１〜０．２μｍであり、０．０５〜０．２μｍであることが好ましい。平均粒径が大きすぎると、磁性層表面からの突出量が大きくなって、電磁変換特性の低下、ドロップアウトの増加、ヘッド摩耗量の増大等を招く。平均粒径が小さすぎると、磁性層表面からの突出量が小さくなって、ヘッド目詰まりの防止効果が不十分となる。
【００４０】
平均粒径は、通常、透過型電子顕微鏡により測定する。研磨材の含有量は、強磁性粉末１００重量部に対し、３〜２５重量部、好ましくは５〜２０重量部含有すればよい。
また、磁性層中には、必要に応じ、界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコンオイル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
【００４１】
磁性層形成用の塗料は、公知の方法で、上記各成分に有機溶剤を加えて、混合、攪拌、混練、分散等を行い調製する。用いる有機溶剤は特に制限はなく、下層非磁性層に使用するものと同様のものが使用可能である。
【００４２】
磁性層の厚さは０．０３〜０．３０μｍ、更に好ましくは０．１０〜０．２５μｍとする。磁性層が厚すぎると、自己減磁損失や厚み損失が大きくなる。
【００４３】
磁性層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、好ましくは１．０〜５．０ｎｍ、より好ましくは１．０〜４．０ｎｍとする。Ｒａが１．０ｎｍ未満では表面が平滑すぎて、走行安定性が悪化して走行中のトラブルが生じやすくなる。一方、５．０ｎｍを越えると、磁性層表面が粗くなり、ＭＲ型ヘッドを用いた再生システムでは、再生出力等の電磁変換特性が劣化する。
【００４４】
［バックコート層］
バックコート層は、走行安定性の改善や磁性層の帯電防止等のために必要に応じて設けられ、特に構造や組成は限定されないが、例えば、カーボンブラック、カーボンブラック以外の非磁性無機粉末、及び結合剤樹脂を含むものを用いることができる。
【００４５】
バックコート層は、バックコート層を基準として３０〜８０重量％のカーボンブラックを含有することが好ましい。
【００４６】
バックコート層には、前記カーボンブラック以外に、機械的強度をコントロールするために、各種非磁性無機粉末を用いることができ、無機粉末として例えば、α−Ｆｅ2 Ｏ3 、ＣａＣＯ3 、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Ａｌ2 Ｏ3 等を挙げることができる。
【００４７】
バックコート層形成用の塗料は、公知の方法で、上記各成分に有機溶剤を加えて、混合、攪拌、混練、分散等を行い調製する。用いる有機溶剤は特に制限はなく、下層非磁性層に使用するものと同様のものが使用可能である。
【００４８】
バックコート層の厚さ（カレンダー加工後）は、１．０μｍ以下、好ましくは０．１〜１．０μｍ、より好ましくは０．２〜０．８μｍである。
【００４９】
［非磁性支持体］
非磁性支持体として用いる材料には特に制限はなく、目的に応じて各種可撓性材料、各種剛性材料から選択し、各種規格に応じて媒体状などの所定形状及び寸法とすればよい。例えば、可撓性材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネートなどの各種樹脂が挙げられる。
【００５０】
これら非磁性支持体の厚さは３．０〜１５．０μｍであることが好ましい。非磁性支持体の形態については特に制限はなく、テープ状、シート状、カード状、ディスク状等のいずれであっても良く、形態に応じて、また必要に応じて種々の材料を選択して使用することができる。
【００５１】
［磁気記録媒体の製造］
本発明において、調製された各非磁性層形成用塗料、磁性層形成用塗料、バックコート層形成用塗料を用いて、塗布、乾燥、カレンダー、硬化等により、それぞれの塗膜（塗層）を形成し、磁気記録媒体を製造する。
【００５２】
本発明において、下層非磁性層及び上層磁性層は、いわゆるウェット・オン・ドライ塗布方式によって形成する。すなわち、まず、非磁性支持体の一方の面上に、非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、必要に応じてカレンダー処理を行い、未硬化の下層非磁性層を得る。その後、未硬化の下層非磁性層に、１．０〜４．０Ｍｒａｄの範囲の照射量で電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させる。次に、硬化された下層非磁性層上に磁性層用塗料を塗布、配向、乾燥して、上層磁性層を形成する。バックコート層は必要に応じて設けられ、バックコート層の形成の順序は任意であり、すなわち、下層非磁性層の形成前、下層非磁性層の形成後であり上層磁性層の形成前、上層磁性層の形成後のいずれであってもよい。
【００５３】
下層非磁性層の硬化の際の電子線照射量は、１．０〜４．０Ｍｒａｄの範囲から選択する。照射量が１．０Ｍｒａｄ未満であると、下層非磁性層の硬化が不十分であり、磁性層表面の平滑性に悪影響がある。一方、照射量が４．０Ｍｒａｄを超えると、硬化の点では問題はないが、照射量に応じた照射時間が必要となり、その結果、媒体の生産性の向上が望めない。より好ましくは、２．０〜３．５Ｍｒａｄの範囲の照射量とするとよい。
【００５４】
本発明においては、下層非磁性層形成に前記電子線硬化性多官能モノマー（Ａ）を用いるので、１．０〜４．０Ｍｒａｄの範囲の小さい電子線照射量で、結合剤樹脂（Ｒ）が十分に架橋し硬化し、硬化された下層非磁性層が得られる。そして、硬化された下層非磁性層上に上層磁性層用塗料を塗布するので、下層非磁性層と上層磁性層との界面の乱れがない。そのため、表面平滑性に優れた磁性層が得られ、媒体の電磁変換特性も向上する。上層磁性層の塗布前に下層非磁性層のカレンダー処理を行うことにより、より表面平滑性に優れた磁性層が得られ、電磁変換特性もより向上するので好ましい。例えば、上層磁性層の塗布時において、下層非磁性層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、好ましくは１．５〜４．５ｎｍ、より好ましくは２．０〜４．０ｎｍとする。Ｒａが４．５ｎｍを越えると、その粗さの影響で上層磁性層表面が粗くなりやすい。一方、１．５ｎｍ未満のＲａとする必要性はあまりない。
【００５５】
塗布方法としては、グラビアコート、リバースロールコート、ダイノズルコート、バーコート等の公知の種々の塗布手段を用いることができる。
【実施例】
【００５６】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００５７】
［非磁性塗料に用いるＨＰＡ−ＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体の合成例］
１リットルの三つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）４２４重量部、ジブチルスズジラウレート０．４重量部、及び２，６−tert−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）０．２４重量部を仕込み、反応混合物を６０℃に制御しながら、２−ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）４９７重量部を滴下した。滴下終了後、反応混合物を６０℃で２時間攪拌し、ＨＰＡ−ＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体を得た。得られたＨＰＡ−ＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体（Ａ１）を非磁性塗料における架橋剤モノマーとして用いた。
【００５８】
［実施例１］
（非磁性塗料の調製）
顔料  針状α−ＦｅＯＯＨ                                  ８０．０重量部
（平均長軸長：０．１μｍ、結晶子径：１２ｎｍ）
カーボンブラック                                          ２０．０重量部
（三菱化学（株）製  商品名：＃９５０Ｂ、平均粒径：１７ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：２５０ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量：７０ｍｌ／１００ｇ、ｐＨ：８）
電子線硬化性塩化ビニル樹脂（Ｒ１）                          ９．０重量部
（東洋紡績（株）  商品名：ＴＢ−０２４６、（固形分）塩化ビニル−エポキシ含有モノマー共重合体、平均重合度：３１０、過硫酸カリ使用Ｓ含有量：０．６％（重量百分率）、２−イソシアネートエチルメタクリレート（ＭＯＩ）を使用して日本ゼオン（株）製  ＭＲ１１０をアクリル変性したもの、アクリル含有量：６モル／１モル）
電子線硬化性ポリウレタン樹脂（Ｒ２）                        ９．０重量部
（東洋紡績（株）  商品名：ＴＢ−０２１６、（固形分）ヒドロキシ含有アクリル化合物−ホスホン酸基含有リン化合物−ヒドロキシ含有ポリエステルポリオール、平均分子量：１３，０００、Ｐ含有量：０．２％（重量百分率）、アクリル含有量：８モル／１モル）前記ＨＰＡ−ＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体（Ａ１）              ７．０重量部
分散剤  リン酸系界面活性剤                                  ３．２重量部
（東邦化学工業（株）製  商品名：ＲＥ６１０）
研磨材  α−アルミナ                                        ５．０重量部
（住友化学（株）製  商品名：ＨＩＴ６０Ａ、平均粒径：０．１８μｍ）
ＮＶ（固形分濃度）＝３３％（質量百分率）
溶剤比率  ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝２／２／１（質量比）
【００５９】
上記の材料をニーダーで混練した後、０．８ｍｍのジルコニアビーズが充填率８０％（空隙率５０ｖｏｌ％）にて充填された横型のピンミルにて分散した。その後、さらに、下記潤滑剤材料：
潤滑剤  脂肪酸                                              ０．５重量部
（日本油脂（株）製  商品名：ＮＡＡ１８０）
潤滑剤  脂肪酸アマイド                                      ０．５重量部
（花王（株）製  商品名：脂肪酸アマイドＳ）
潤滑剤  脂肪酸エステル                                      １．０重量部
（日光ケミカルズ（株）製  商品名：ＮＩＫＫＯＬＢＳ）
を添加して、
ＮＶ（固形分濃度）＝２５％（質量百分率）
溶剤比率  ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２／２／１（質量百分率）
となるように希釈した後、分散を行った。得られた塗料をさらに絶対濾過精度３．０μｍのフィルターで濾過して、非磁性塗料を作製した。
【００６０】
（磁性塗料の調製）
磁性粉末  Ｆｅ系針状強磁性粉末                          １００．０重量部
（Ｆｅ／Ｃｏ／Ａｌ／Ｙ＝１００／２４／５／８（原子比）、Ｈｃ：１８８ｋＡ／ｍ、σｓ：１４０Ａｍ2 ／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積値：５０ｍ2 ／ｇ、平均長軸長：０．１０μｍ）
バインダ樹脂  塩化ビニル共重合体                          １０．０重量部
（日本ゼオン（株）製  商品名：ＭＲ１１０）
バインダ樹脂  ポリエステルポリウレタン                      ６．０重量部
（東洋紡績（株）製  商品名：ＵＲ８３００）
分散剤  リン酸系界面活性剤                                  ３．０重量部
（東邦化学工業（株）製、商品名：ＲＥ６１０）
研磨材  α−アルミナ                                      １０．０重量部
（住友化学（株）製  商品名：ＨＩＴ６０Ａ、平均粒径：０．１８μｍ）
ＮＶ（固形分濃度）＝３０％（質量百分率）
溶剤比率  ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝４／４／２（質量比）
【００６１】
上記の材料をニーダーで混練した後、前分散として、０．８ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％（空隙率５０ｖｏｌ％）にて充填した横型のピンミルにて分散した。その後、さらに、
ＮＶ（固形分濃度）＝１５％（質量百分率）
溶剤比率  ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２２．５／２２．５／５５（質量比）
となるように希釈してから、仕上げ分散を行った。
【００６２】
得られた塗料に硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製  コロネートＬ）１０重量部を添加混合した後、さらに絶対濾過精度１．０μｍのフィルターで濾過して、磁性塗料を作製した。
【００６３】
（非磁性層形成工程）
６．２μｍ厚のＰＥＮ支持体の片面上に、カレンダー加工後の厚みが２．０μｍになるように、非磁性塗料をノズルにより押し出し塗布法で塗布して、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍ、速度１５０ｍ／分で加工を行い、さらに、４．０Ｍｒａｄ、加速電圧２００ｋＶにて電子線照射を行い、下層非磁性層を形成した。
【００６４】
（磁性層形成工程）
上記のようにして形成した非磁性層上に、磁性塗料を、加工後の厚みが０．１μｍになるようにノズルで塗布して、配向を行い、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍ、速度１５０ｍ／分で加工を行い、上層磁性層を形成した。
【００６５】
以上のようにして得られた磁気記録テープ原反を、６０℃で４８時間熱硬化させて、１／２ｉｎｃｈ（＝１２．６５０ｍｍ）幅にスリット（裁断）し、実施例１の磁気記録テープサンプルとしてのデータ用テープを作製した。
【００６６】
［実施例２〜６、及び比較例１〜３］
表１に示すように、非磁性塗料におけるＨＰＡ−ＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体（Ａ１）の使用量及び電子線照射量の各条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気記録テープサンプルをそれぞれ作製した。なお、表１には、非磁性塗料における電子線硬化性結合剤樹脂（塩化ビニル樹脂（Ｒ１）＋ポリウレタン樹脂（Ｒ２））とアダクト体（Ａ１）との合計重量に対するアダクト体（Ａ１）の重量％（＝［Ａ１／（Ｒ１＋Ｒ２＋Ａ１）］×１００）も示されている。
【００６７】
［磁気テープの評価］
各磁気記録テープサンプルについて、次の評価を行った。
【００６８】
（テープ表面の観察）
テープの磁性層表面を、微分干渉光学顕微鏡を用いて、倍率１００倍及び倍率２００倍でそれぞれ観察した。表１に、観察面にディンプル状の面粗れが認められなかったものを○とし、ディンプル状の面粗れが認められたものを×として示した。
ディンプル状の面粗れは、下層非磁性層の硬化が不十分な場合に、その上に磁性塗料を塗布することにより発生する現象である。
【００６９】
（表面粗さ（中心線表面粗さ）：Ｒａ）
「ＴＡＬＹＳＴＥＰシステム」（テーラーホブソン社製）を用い、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２に基づいて、下層非磁性層及び上層磁性層表面のＲａの測定を行った。
測定の条件は、フィルター０．１８〜９Ｈｚ、触針０．１×２．５μｍスタイラス、触針圧２ｍｇ、測定スピード０．０３ｍｍ／ｓｅｃ、測定長さ５００μｍとした。
なお、下層非磁性層表面のＲａの測定は、カレンダー処理及び電子線照射後、磁性層形成前に行った。上層磁性層表面のＲａの測定は、最終的なカレンダー処理及び硬化処理後に行った。
【００７０】
（センダスト摩耗量の測定）
ドライブのヘッド部分に、長さ５０ｍｍ、断面正方形４．５ｍｍ×４．５ｍｍのセンダストバー（トーキン（株）製センダストバー、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金、商品名：ブロック、材質：ＳＤ−５）が、センダストバーの陵がテープの走行方向に垂直になるように固定具により固定されているＤＬＴ−４０００ドライブを用いて測定を行った。センダストバーは、陵に摩耗がなく、１μｍ以上のチップや欠けがないものを用いた。センダストバーとテープの抱き角は１２°に設定した。
【００７１】
２３℃、４５％ＲＨの測定環境の恒温槽内で、テープ磁性層面がセンダストバーと接するように、下記条件にてテープを走行させた。
走行回数：テープの２１ｍから５２１ｍまでの５００ｍ長さを５０往復（１００パス）
走行テンション：１Ｎ
走行速度：３．０ｍ／ｓｅｃ
【００７２】
テープ走行後に、摩耗されたセンダストバーについて、テープ幅方向にて１０点測定を行い、それらの平均値を求め、得られた平均値を各テープサンプルのセンダスト摩耗量（μｍ）とした。センダスト摩耗量の判定は、以下のとおりとした。
×：１５μｍ以下の値
○：１５μｍより大きく２５μｍ以下の値
◎：２５μｍより大きく３５μｍ以下の値
○：３５μｍより大きく４５μｍ以下の値
×：４５μｍより大きい値
【００７３】
以上の結果を表１に示す。
表１から、実施例１〜６のテープサンプルはいずれも、テープの磁性層表面にディンプル状面粗れが認められず、優れたセンダスト摩耗量を示した。
【００７４】
比較例１のテープサンプルは、４．５Ｍｒａｄという大きすぎる電子線照射量のために、下層非磁性層の硬化が十分でありディンプル状の面粗れは認められなかった。しかしながら、下層非磁性層のＲａが大きく、上層磁性層のＲａが大きくなった。センダスト摩耗量も劣っていた。
【００７５】
比較例２のテープサンプルは、０．５Ｍｒａｄという小さすぎる電子線照射量のために、下層非磁性層の硬化が不十分でありディンプル状の面粗れが認められ、上層磁性層のＲａが大きくなった。
【００７６】
【表１】
2006202414.tif 000002