(57)【要約】【課題】本発明は、黒表示時の光漏れを抑制し、高いコントラストを得ることができる液晶表示装置を提供する。【解決手段】本発明に係る解決手段は、複数の画素電極が設けられた電極基板と、電極基板に対向して配置された対向電極が設けられ、電極基板の配向処理に対して略反平行方向に配向処理された対向基板と、電極基板と対向基板との間に挟持され、画素電極と対向電極との間の電界により各画素内において少なくとも２つのベンド配向領域に分割されるカイラルネマチック液晶とを備え、各画素内において隣り合うベンド配向領域の境界に位置する電極基板及び対向基板のうち少なくとも一方に、遮光層（補助容量電極２０）が配置されている。【選択図】図６
2006208530.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素電極が設けられた電極基板と、
前記電極基板に対向して配置された対向電極が設けられ、前記電極基板の配向処理に対して略反平行方向に配向処理された対向基板と、
前記電極基板と前記対向基板との間に挟持され、前記画素電極と前記対向電極との間の電界により各画素内において少なくとも２つのベンド配向領域に分割されるカイラルネマチック液晶とを備え、
前記各画素内において隣り合う前記ベンド配向領域の境界に位置する前記電極基板及び前記対向基板のうち少なくとも一方に、遮光層が配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置であって、
前記遮光層は、前記電極基板に設けられ、且つ前記電極基板に形成される配線と同時に形成されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２に記載の液晶表示装置であって、
前記遮光層は、前記電極基板に形成される補助容量電極であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載の液晶表示装置であって、
前記遮光層は、前記対向基板に設けられ、且つ前記対向基板に形成されるブラックマトリクスと同時に形成されることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に係る発明であって、特に、動画表示特性に優れ、且つ視野角の広い液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
テレビやマルチメディアモニターなど、主として動画表示を行う液晶表示装置においては、ＰＣモニターなどの静止画を主に表示する液晶表示装置に比べて、高速な応答特性が求められる。高速な応答特性を実現する液晶モードとして、ベンド配向あるいはベンド配向に類似した配向を用いる液晶モードがいくつか提案されている。なお、本明細書では、ベンド配向に類似した配向も含めてベンド配向と呼ぶ。
【０００３】
ベンド配向について、図１２に示した液晶パネルの断面図を用いて説明する。ベンド配向とは、図１２に示すように液晶層１０１の液晶分子１０２が弓状に曲がったような形状に配向していることである。液晶層１０１は、配向膜１０３、透明電極１０４が積層されたガラス基板１０５に挟持され、両側のガラス基板１０５上に形成された透明電極１０４間に印加される電圧の高低によって液晶分子１０２の配向の曲がり具合が制御される。ベンド配向では、電圧変化に対する応答に際して、液晶層１０１内にバックフローが発生しないため、原理的に高速応答特性が得られる。詳細については、例えば非特許文献１に記載されている。
【０００４】
次に、ベンド配向を用いる液晶モードのうち、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）モードと呼ばれる液晶モードは、高速応答特性と広視野角特性の両方を有している。しかし、ＯＣＢモードは、初期配向状態（電圧非印加時の配向状態）における配向がスプレイ配向であるため、表示時に必要なベンド配向を得るのに、２０Ｖ以上の高電圧の初期化電圧が必要となる問題があった。詳細については、例えば非特許文献２に記載されている。
【０００５】
ベンド配向を用いる液晶モードのうち、ＯＣＢモード以外としてＤＤＢ（Dual-Domain Bend）モードと呼ばれる液晶モードがある。このＤＤＢモードは、１つの画素内に少なくとも２つのベンド配向領域を有する液晶モードであり、高速応答特性に加え、ベンド配向を得るための高電圧が不要である。これは、ＤＤＢモードの初期配向が略１８０度のツイスト配向であるため、電圧印加により連続的にベンド配向に変化するからである。また、ＤＤＢモードは、少なくとも２つの対称的な配向状態の領域を有するため、対称性の良好な視野角特性が得られる特長を有している。詳細については、特許文献１に記載されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−６６４９１号公報
【非特許文献１】SHINYA ONDA、外２名,"Mechanism of Fast Response and Recover in Bend Alignment Cell",Mol. Cryst. Liq. Cryst., 1999, Vol. 331, p.383-389
【非特許文献２】K.Sueoka、外２名,"Initialization of Optically Compensated Bend-Mode LCDs",AM-LCD / IDW '96 予稿集, p.133-136
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ＤＤＢモードを用いた液晶表示装置は、背景技術で述べたように応答特性の高速性や視野角の対称性については良好である。しかし、ＤＤＢモードを用いた液晶表示装置は、黒表示をさせた際に光漏れが生じ、充分に低い黒輝度（黒透過率）が得られず、白／黒のコントラストが低いという課題があった。
【０００８】
そこで、本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、黒表示時の光漏れを抑制し、高いコントラストを得ることができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る解決手段は、複数の画素電極が設けられた電極基板と、電極基板に対向して配置された対向電極が設けられ、電極基板の配向処理に対して略反平行方向に配向処理された対向基板と、電極基板と対向基板との間に挟持され、画素電極と対向電極との間の電界により各画素内において少なくとも２つのベンド配向領域に分割されるカイラルネマチック液晶とを備え、各画素内において隣り合うベンド配向領域の境界に位置する電極基板及び対向基板のうち少なくとも一方に、遮光層が配置されている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に記載の液晶表示装置は、各画素内において隣り合うベンド配向領域の境界に位置する電極基板及び対向基板のうち少なくとも一方に、遮光層が配置されているので、表示時の光漏れを抑制し、高いコントラストを得ることができる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
（実施の形態１）
まず、本実施の形態に係る液晶表示装置を説明する前に、ＤＤＢモードの液晶配向について説明する。図１（ａ）は、初期配向状態におけるＤＤＢモードの液晶パネル１２の断面を模式的に示した斜視図である。図１（ｂ）は、表示時の配向状態におけるＤＤＢモードの液晶パネル１２の断面を模式的に示した斜視図である。図１（ａ）に示す液晶パネル１２では、配向膜３、透明電極４が積層されたガラス基板５に液晶層１が挟持され、両側のガラス基板５上に形成された透明電極４間に印加される電圧の高低によって液晶分子２の配向が制御される構成が示されている。ＤＤＢモードでは、両ガラス基板５上の配向膜３表面が反平行方向（反対方向）に配向処理され、且つ液晶層１にカイラル性を有するネマチック液晶材料（以下、カイラルネマチック液晶ともいう）を用いる。
【００１２】
ＤＤＢモードの初期配向状態は、図１（ａ）に示すように、スプレイ配向成分を含む１８０度のツイスト配向である。図中、配向膜３表面の配向処理方向６が矢印で示されている。当該初期配向状態の特徴は、液晶層１中央付近の液晶分子２がガラス基板５面に対して水平であることが挙げられる。なお、ＤＤＢモードで用いられる液晶材料は誘電率異方性が正のｐ形液晶である。
【００１３】
ＤＤＢモードの表示時の配向状態は、図１（ｂ）に示すように、ベンド配向の曲がる方向が領域Ａと領域Ｂとで反対となる２つのベンド配向領域で構成されている。これは、液晶層１中央付近の液晶分子２が水平であるため、液晶分子２が図１（ｂ）の左側から立ち上がれば領域Ａのようなベント配向が形成され、逆に液晶分子２が図１（ｂ）の右側が立ち上がれば領域Ｂのようなベント配向が形成される。なお、ＤＤＢモードでは、ＯＣＢモードで用いられるベンド配向とは異なり、カイラルネマチック液晶（図１（ｂ）の場合、上から下に左回り）の影響で、各領域Ａ、Ｂの液晶層１中央付近の液晶分子２が、電圧印加時にガラス基板５面に垂直にはならず、それぞれ矢印で示された傾き方向７に傾いている。
【００１４】
領域Ａ，Ｂのように配向領域を分割するには、透明電極４に開けられた長尺状スリットや透明電極４上に設けられた突起構造などにより生じる斜め電界を利用する方法、あるいは配向膜３の表面に粗さの差を設け、この差により生じるプレチルト角（界面での立ち上がり角）の差を利用する方法などがある。
【００１５】
次に、透明電極４にスリットを設けて斜め電界を生じさせるＤＤＢモードについて説明する。図２は、透明電極４にスリット８を設けた液晶パネルの断面図である。図２に示す断面図では配向膜３は図示しされていないが、各ガラス基板５の内側最表面に配向膜３が形成されている。図２の液晶パネルにおいて、上側の透明電極４にはスリット８が、下側の透明電極４にはスリット９が交互に設けられている。各スリット８，９は紙面に垂直な方向に長い長尺状である。このような液晶パネルの両透明電極４間に電圧を印加すると、スリット８，９で斜め電界１０が発生する。この斜め電界１０によって、液晶層１中央付近に位置する液晶分子２の立ち上がり方向を制御し、１つの画素に少なくとも２つのベント配向領域を形成する。
【００１６】
次に、透明電極４に突起構造を設けて斜め電界を生じさせるＤＤＢモードについて説明する。図３は、図２で示した上側の透明電極４に設けたスリット８の代わりに、誘電体材料で突起構造１１を設けた液晶パネルの断面図である。図３の液晶パネルにおいて、突起構造１１は紙面に垂直な方向に長い畝状である。なお、突起構造１１には、液晶材料よりも比誘電率が小さい誘電体材料が用いられる。具体的に、液晶材料の誘電率は４〜１５程度なので、例えば、シリコン酸化膜（比誘電率３程度）などで突起構造１１が形成される。図３に示す液晶パネルであっても、電圧印加時には突起構造１１で斜め電界１０が発生する。
【００１７】
次に、ＤＤＢモードの液晶表示装置における光学フィルムの構成と表示原理について説明する。ＤＤＢモードにおいて、低電圧側で白表示、高電圧側で黒表示させるノーマリーホワイト動作を行う場合、黒表示電圧（以下、単に黒電圧ともいう）ので液晶層１の残留位相差を補償するために、ガラス基板５の外側に位相差フィルムを配置する必要がある。さらに位相差フィルムの外側には、偏光板を配置する必要がある。図４に、ＤＤＢモードの液晶表示装置における光学フィルム構成の一例を示す。図４では、図１に示した液晶パネル１２の外側に、位相差フィルムの１種で、フィルム面内に位相差を有する一軸フィルム（以下、ａプレート１３という）が設けられている。
【００１８】
ａプレート１３は、その遅相軸ａを液晶の配向処理方向６と略直交する方向に配置することで、配向処理方向６に生じる液晶層１の残留位相差をキャンセルする。図４に示す液晶装置では、ａプレート１３が液晶パネル１２の上下に配置され、ａプレート１３の位相差の和が液晶層１の残留位相差と等しくなるように設定されている。さらに、ａプレート１３の外側には、フィルムの厚さ方向に負の位相差を有する一軸フィルム（以下、ｃプレート１４という）が配置されている。ｃプレート１４は、フィルム面内に位相差を有しないので、フィルム正面の透過率はほとんど影響を受けないが、斜め方向からの光漏れを抑制する働きがある。さらに、ｃプレート１４の外側には、偏光板１５が配置されている。ここで、偏光板１５は直線偏光板であり、その透過軸方向ｂは図４の矢印で示す。偏光板１５の透過軸方向ｂは、偏光板１５の上下で直交し、且つ液晶層１の配向処理方向６と４５度の角度をなすように配置されている。
【００１９】
図４に示した光学フィルム構成を取るＤＤＢモードの液晶表示装置では、白透過率分布が図５のようになる。なお、図中の数字は、位相差フィルム（ａプレート１３，ｃプレート１４）及び偏光板１５を貼り付けていない液晶表示装置の画素開口部における透過率を用いて規格化した透過率（％）である。一般的に液晶表示装置では左右方向で対称的な視野角特性が求められるが、ＤＤＢモードは、図５に示すように左右方向のみならず上下方向においても優れた対称性を有している。これは、図１（ｂ）に示したようにＤＤＢモードが２つのベント配向領域を備えることで、ベンド配向の曲がりの方向やツイスト成分による液晶層１中央付近での液晶分子２の傾きの方向７などが、互いに補償するような液晶分子２の配向状態になっているためである。
【００２０】
しかし、ＤＤＢモードの液晶表示装置は、黒表示時において、黒透過率（黒輝度）が増し、白／黒のコントラストが悪化する問題があった。この問題についてＤＤＢモードの液晶表示装置を分析することで、隣り合うベント配向領域の境界部、すなわちスリット８あるいは突起構造１１が配置されている部分で、ＤＤＢモードの液晶表示装置が光漏れを発生する現象を見出した。この現象によりＤＤＢモードの液晶表示装置では、黒透過率（黒輝度）が増し、白／黒のコントラストが悪化することが判明した。これは、スリット８や突起構造１１を設けた位置で、液晶層１に所定の縦電界（液晶層１厚さ方向に印加される電界）が印加されないことが原因である。加えて突起構造１１の場合は、突起の側壁面での配向状態が所定の配向状態とは異なることも影響している。
【００２１】
本実施の形態に係る液晶表示装置では、上記の問題点を解決するために、光漏れが生じる部分に遮光層を設けている。例えば、両ガラス基板５に設けられたスリット８，９により配向分割を行う液晶表示装置の場合、スリット８の部分での光漏れを、補助容量電極を用いて遮っている。
【００２２】
図６（ａ）は、本実施の形態に係る液晶表示装置の電極基板の透視図である。図６（ｂ）は、本実施の形態に係る液晶表示装置の対向基板の透視図である。図６（ｃ）は、本実施の形態に係る液晶表示装置の断面図である。図６（ｃ）の断面図は、図６（ａ），（ｂ）に示すＣ−Ｄでの断面である。図６（ａ）乃至（ｃ）は、液晶表示装置の１つの画素に対応する単位構造を示しており、実際の液晶表示装置では、縦方向及び横方向に同様の構造がマトリクス状に並んでいる。
【００２３】
図２で示した液晶パネルの下側の基板が、図６（ａ）に示す電極基板に該当する。電極基板は、ガラスなどの透明基板１６上の一方向（図６（ａ）の場合、横方向）にゲート配線１７が配置されている。このゲート配線１７にはゲート電極１８が接続されている。ゲート配線１７と同一方向に補助容量配線１９が配置され、補助容量電極２０が接続されている。ゲート配線１７や補助容量配線１９は、第１の絶縁膜２１で被覆され、絶縁膜２１上には信号配線２２がゲート配線１７や補助容量配線１９の方向とは異なる方向（図６（ａ）の場合は縦方向）に配置されている。
【００２４】
信号配線２２は、ソース電極２３が接続されている。なお、ゲート配線１７及び補助容量配線１９と信号配線２２とは、絶縁層２１を挟んで異なる層に形成されているため、電気的に絶縁されている。ゲート電極１７、ソース電極２３、ドレイン電極２４、絶縁膜２１、半導体層（図示せず）などからスイッチィング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）部２５が構成される。信号配線２２などの上層は、第２の絶縁膜２６で被覆されている。
【００２５】
ドレイン電極２４上の第２の絶縁膜２６にはコンタクトホール２７が設けられており、ドレイン電極２４と第２の絶縁膜２６の上層に形成される画素電極２８とが電気的に接続されている。画素電極２８はＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明な導電材料からなる。以上の構成の電極基板上には、さらにポリイミド、ポリアミドなどの配向膜（図示せず）が形成され、その表面は特定の配向処理方向２９にラビング処理などが施される。なお、電極基板側は、画素電極２８の周辺が図２で示したスリット９として働くため、画素電極２８内には特にスリット９を配置する必要がない。
【００２６】
次に、図２で示した液晶パネルの上側の基板５が、図６（ｂ）に示す対向基板に該当する。対向基板は、ガラスなどの透明基板３０上に遮光のためのブラックマトリクス（以下、ＢＭともいう）３１が配置され、各画素に区切られている。画素内には赤、緑、青などの色材層３２が形成されている。色材層３２の上層には透明な有機膜によるオーバーコート層３３が設けられ、さらにその上層に透明な導電材料からなる対向電極３４が設けられる。但し、モノクロ液晶表示装置などの場合には、色材層３２やオーバーコート層３３が設けられないこともある。
【００２７】
対向電極３４には画素の中央に縦方向にスリット３５が開けられる。スリット３５が、図２で示したスリット８に該当する。以上の構成の対向基板には、電極基板と同様に、さらにポリイミド、ポリアミドなどの配向膜（図示せず）が形成され、その表面は電極基板の配向処理方向２９と逆方向の配向処理方向３６に配向処理が施される。
【００２８】
本実施の形態では、図６（ａ）に示すように、対向基板に設けられたスリット３５と対向する電極基板上の位置に補助容量電極２０が配置されている。そのため、黒表示時に発生するスリット３５での光漏れを、補助容量電極２０で遮ることが可能となる。したがって、本実施の形態に係る液晶表示装置では、高いコントラストの表示特性が実現することができる。なお、補助容量電極２０は、透明電極ではない。
【００２９】
次に、本実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。まず、電極基板の作製方法について説明する。ガラスの透明基板１６上に金属クロム膜を３００ｎｍ成膜し、写真製版によって、ゲート配線１７、ゲート電極１８、補助容量配線１９、補助容量電極２０を形成する。次に、ゲート配線１７等の上層に、第１の絶縁膜２１としてシリコン窒化膜を４００ｎｍ成膜する。続いて、アモルファスシリコン膜を１００ｎｍ、ドープドアモルファスシリコン膜を１００ｎｍ、連続して第１の絶縁膜２１上に成膜し、写真製版によってＴＦＴ部２５を形成する。
【００３０】
再び、金属クロム膜３００ｎｍをドープドアモルファスシリコン膜上や第１の絶縁膜２１上に成膜し、写真製版によって、信号配線２２、ソース電極２３、ドレイン電極２４を形成する。次に、第２の絶縁膜２６としてシリコン窒化膜４００ｎｍを信号配線２２等の上に成膜し、写真製版によってコンタクトホール２７を形成する。続いて、第２の絶縁膜２６上に、ＩＴＯ膜を１００ｎｍ成膜し、写真製版によって画素電極２８を形成する。
【００３１】
次に、対向基板の作製方法について説明する。ガラスの透明基板３０上に金属クロム膜を３００ｎｍ成膜し、写真製版によって、ＢＭ３１を形成する。ＢＭ３１形成後の透明基板３０上に、赤、緑、青の色材層３２を、成膜、写真製版を繰り返して作製する。その後、色材層３２上にオーバーコート層３３を形成する。さらに、オーバーコート層３３上にＩＴＯ膜を１００ｎｍ成膜し、写真製版によって、画素中央部にスリット３５を形成する。
【００３２】
上記のようにして作製した電極基板と対向基板を用いて、液晶パネルを作製する方法を説明する。電極基板及び対向基板に、配向膜（ＪＳＲ社製のオプトマー（登録商標）ＡＬ３０４６）をおよそ８０ｎｍ成膜し、ローラーラビング装置を用いて図６（ａ），（ｂ）で示した配向処理方向２９，３６にラビング処理を行う。次に、対向基板側に樹脂製スペーサ（積水化学工業社製のミクロパール（登録商標））を散布する。
【００３３】
一方、電極基板側には、透明基板１６の周辺部にシール剤を塗布する。続いて、電極基板と対向基板を所定の方向に重ね合わせて、熱圧着して貼り合わせる。電極基板と対向基板の間隙（以下、パネルギャップとする）は７μｍになるように調整する。その後、シール剤の開口部から、液晶材料を注入する。
【００３４】
本実施の形態に係る液晶表示装置に用いられるＤＤＢモードでは、液晶分子が基板面に水平に配向している状態と、電圧印加時に立ち上がった状態との液晶層の位相差変化を利用する液晶表示モード（例えば、Twisted Nematicモード）や、液晶分子が基板面に垂直に配向している状態と、電圧印加時に寝させた状態との液晶層の位相差変化を利用する液晶表示モード（例えば、Vertical Alignmentモード）と異なり、白表示時と黒表示時との液晶配向状態の変化が小さいため、充分な透過率変化を得るためには複屈折性の大きな液晶材料を用いることが望ましい。また、ＤＤＢモードでは、初期配向をツイスト配向させるために、液晶材料のカイラルピッチｐは、（４ｄ）／３＜ｐ＜４ｄの関係を満たす必要がある。ここで、ｄは、パネルギャップを示す。
【００３５】
次に、本実施の形態に係る液晶表示装置に用いられる液晶材料の特性を表１に示す。
【００３６】
【表１】
2006208530.tif 000003
【００３７】
液晶パネルに、表１に示した液晶材料を注入後、紫外線硬化性樹脂を用いて、シール剤の開口部（液晶注入口）を封止する。液晶パネルを作製した後、ゲート配線１７、信号配線２２、対向電極３４などに駆動回路を実装し、各電極に所定の電圧が印加できるようにする。
【００３８】
駆動回路を実装した後、表２に示した特性を有する位相差フィルムや偏光板を、粘着フィルムなどを用いて液晶パネルに貼り付ける。なお、表２で示されている透過軸、遅相軸などの方向は、液晶表示装置を正面から見て右手を０度とし、反時計回りの角度を示す。つまり、図６（ａ），（ｂ）で示した配向処理方向２９，３６は、９０度，２７０度にそれぞれ相当する。また、表２で示す位相差は、波長５５０ｎｍでの値である。
【００３９】
【表２】
2006208530.tif 000004
【００４０】
上記のようにして製造された液晶パネル１２（位相差フィルム等が貼り付けられている）に、バックライトなどの面光源上に配置することで、液晶表示装置を作製している。
【００４１】
本実施の形態に係る液晶表示装置での電気光学特性を図７に示す。図７は、液晶表示装置の正面での印加電圧−透過率特性であり、横軸が印加電圧［Ｖ］、縦軸が透過率［％］である。ここで、印加電圧は、画素電極２８と対向電極３４との間に印加される電圧を示す。また、透過率は、位相差フィルム等を貼り付けていない液晶パネルの開口部における透過率で規格化している。本実施の形態に係る液晶表示装置では、黒電圧を６．３Ｖ、白電圧を２．５Ｖに設定してある。図７に示すように、本実施の形態に係る液晶表示装置では、黒表示時の透過率が低く抑えられていることが分かる。そのため、白／黒のコントラストは、およそ５００である。
【００４２】
本実施の形態に係る液晶表示装置において、黒表示時、画素内のミクロの輝度分布を顕微鏡により観察したところ、対向基板２８上のスリット３５がある位置は補助容量電極２０で覆われており、光漏れは観察されなかった。なお、補助容量電極２０及び補助容量配線１９の形状は、図６（ａ）に示した形状に限定されない。本発明に係る液晶表示装置では、対向基板２８のスリット３５と重なる位置であればよく、例えば、図８に示す補助容量電極２０及び補助容量配線１９のような形状であってもよい。
【００４３】
以上のように、本実施の形態に係る液晶表示装置では、各画素内において隣り合うベンド配向領域の境界に位置する電極基板及び対向基板のうち少なくとも一方に、遮光層である補助容量電極２０が配置されているので、黒表示時の光漏れを抑制し、高いコントラストを得ることができる。また、本実施の形態に係る液晶表示装置では、遮光層が補助容量電極２０であるので、遮光層と補助容量電極２０とを両方設ける場合に比べて、画素の開校率を低下させることがなく、高いコントラストを得ることができる。
【００４４】
（実施の形態２）
実施の形態１では、補助容量電極２０により、スリット３５での光漏れを遮ったが、本実施の形態では、補助容量電極２０に代えて別に遮光層を設ける構成について説明する。
【００４５】
図９（ａ）に、本実施の形態に係る液晶表示装置の電極基板の構成を示す透視図を示す。また、図９（ｂ）に、本実施の形態に係る液晶表示装置の電極基板のＣ−Ｄでの断面図を示す。なお、対向基板上の構成は、実施の形態１で示した図６（ｂ）と同じであるため、本実施の形態では、詳細な説明は省略する。また、図９（ａ），（ｂ）において、図６（ａ），（ｃ）と同じ構成要素については同じ符号を付して、詳細な説明は省略する。
【００４６】
本実施の形態に係る液晶表示装置では、図９（ａ）に示すように縦長の遮光層３７が対向基板側のスリット３５と対向する位置に配置され、スリット３５での光漏れを遮っている。一方、補助容量電極２０は、実施の形態１とは異なり、図９（ａ）に示すように画素電極２８の周辺に配置され、補助容量配線１９と接続されている。なお、遮光層３７は、図９（ｂ）に示すように透明基板１６上に形成される。補助容量電極２０や補助容量配線１９も同じ透明基板１６上に形成されるが、遮光層３７とは電気的に接続されていない。
【００４７】
電極基板の製造方法は、基本的に実施の形態１の場合と同じであるため、本実施の形態では詳細な説明は省略する。但し、遮光層３７は、ゲート配線１７、補助容量電極２０や補助容量配線１９などと同時に形成される。なお、遮光層３７は、遮光する必要性から透明材料ではなく、遮光できる材料、例えば金属クロムなどで形成する。
【００４８】
以上のように、本実施の形態に係る液晶表示装置では、遮光層３７が電極基板に設けられ、且つ電極基板に形成されるゲート配線１７等と同時に形成されるので、遮光層３７を設けるために新たに工程を追加する必要がなく、製造コストを抑えると共に高いコントラストを得ることができる。
【００４９】
なお、本実施の形態では、遮光層３７がゲート配線１７等と同時に形成される場合を説明したが、本発明はこれに限られず、例えば、信号配線２２などと同時に形成してもよい。この場合においても、当該液晶表示装置は、製造コストを抑えると共に高いコントラストを得ることができる。
【００５０】
（実施の形態３）
実施の形態１及び実施の形態２に係る液晶表示装置では、電極基板側に遮光層を配置する構成であった。しかし、本実施の形態に係る液晶表示装置３では、電極基板側に遮光層を配置する代わりに、対向基板側に遮光層を配置する構成について説明する。
【００５１】
図１０（ａ）は、本実施の形態に係る液晶表示装置の電極基板の構成を示す透視図である。図１０（ｂ）は、本実施の形態に係る液晶表示装置の対向基板の構成を示す透視図である。また、図１０（ｃ）は、本実施の形態に係る液晶表示装置のＣ−Ｄでの断面図である。なお、図１０（ａ）乃至（ｃ）において、図６（ａ）乃至（ｃ）と同じ構成要素については同じ符号を付して、詳細な説明は省略する。
【００５２】
本実施の形態に係る液晶表示装置では、図１０（ｂ）に示すように対向基板のスリット３５と重なるように、画素中央に遮光層３８が配置されている。一方、電極基板側の画素中央には、補助容量電極２０や遮光層３７を設ける必要がない。図１０（ｂ），（ｃ）に示すように、遮光層３８は、画素周辺に形成されるＢＭ３１の形状を変更し、一体として形成されている。そのため、遮光層３８は、画素周辺に形成されるＢＭ３１と同一層で、同一工程で形成することができる。
【００５３】
以上のように、本実施の形態に係る液晶表示装置では、遮光層３８が対向基板に設けられ、且つ対向基板に形成されるブラックマトリクスと同時に形成されるので、遮光層３８を設けるために新たに工程を追加する必要がなく、製造コストを抑えると共に高いコントラストを得ることができる。また、本実施の形態に係る液晶表示装置では、遮光層３８とスリット３５とが同じ対向基板上に形成されるので、電極基板と対向基板を重ね合わせる際に発生する位置ずれの影響を受けることがなく、精度良く光漏れ抑制することができる。さらに、遮光層３８とスリット３５の位置ずれが生じないことから、遮光層３８の形状に位置ずれによるマージンを考慮する必要がなくなり、遮光層３８をより小さくすることができる。そのため、本実施の形態に係る液晶表示装置では、他の実施の形態に比べて画素の開口率を高くすることができる。
【００５４】
なお、上記で述べた実施の形態１乃至３では、対向基板側にスリットを配置して配向分割を行う場合について記したが、本発明はこれに限られず、対向基板側に突起構造を配置して配向分割を行う場合であっても、同様に電極基板あるいは対向基板に遮光層を配置することで、高いコントラストを得ることができる。
【００５５】
また、上記で述べた実施の形態１乃至３では、図６（ａ），（ｂ）に示すように配向処理方向２９，３６が図中の上下方向であり、左右に２つのベント配向領域が形成される場合について説明した。しかし、本発明はこれに限られず、図１１（ａ），（ｂ）に示すように配向処理方向２９，３６が図中の左右方向で、上下に２つのベント配向領域が形成される場合であっても、横方向に遮光層である補助容量電極２０を設けることで高いコントラストが得られる。
【００５６】
なお、図１１（ａ）は、横方向に補助容量電極２０を配置した電極基板の構成を示す透視図である。また、図１１（ｂ）は、横方向にスリット３５を設けた対向基板の構成を示す透視図である。図１１（ａ），（ｂ）において、図６（ａ），（ｂ）と同じ構成要素については同じ符号を付して、詳細な説明は省略する。
【００５７】
（比較例）
比較例として、遮光層を電極基板側にも対向基板側にも配置しない液晶表示装置について説明する。当該液晶表示装置は、図１０（ａ）に示す構成の電極基板と、図６（ｂ）に示す構成の対向基板を貼り合わせることで形成することができる。当該液晶表示装置について、黒表示時の画素の様子を顕微鏡で観察したところ、対向基板側のスリット３５の部分で光漏れが観察された。また、当該液晶表示装置のコントラストを測定すると５０程度であった。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の前提となる液晶表示装置の構成を説明する図である。
【図２】本発明の前提となる液晶表示装置の断面図である。
【図３】本発明の前提となる液晶表示装置の断面図である。
【図４】本発明の前提となる液晶表示装置の構成を説明する図である。
【図５】本発明の前提となる液晶表示装置の光学特性を説明する図である。
【図６】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の構成を説明する図である。
【図７】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の光学特性を説明する図である。
【図８】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の構成を説明する図である。
【図９】本発明の実施の形態２に係る液晶表示装置の構成を説明する図である。
【図１０】本発明の実施の形態３に係る液晶表示装置の構成を説明する図である。
【図１１】本発明の変形例に係る液晶表示装置の構成を説明する図である。
【図１２】ベント配向の液晶表示装置の構成を説明する断面図である。
【符号の説明】
【００５９】
１  液晶層、２  液晶分子、３  配向膜、４  透明電極、５  ガラス基板、６，２９，３６  配向処理方向、７  傾き方向、８，９，３５  スリット、１０  斜め電界、１１  突起構造、１２  液晶パネル、１３  ａプレート、１４  ｃプレート、１５  偏光板、１６，３０  透明基板、１７  ゲート配線、１８  ゲート電極、１９  補助容量配線、２０  補助容量電極、２１，２６  絶縁膜、２２  信号配線、２３  ソース電極、２４  ドレイン電極、２５  ＴＦＴ部、２７  コンタクトホール、２８  画素電極、３１  ブラックマトリクス、３２  色材層、３３  オーバーコート層、３４  対向電極、３７，３８  遮光層、１０１  液晶層、１０２  液晶分子、１０３  配向膜、１０４  透明電極、１０５  ガラス基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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