(57)【要約】      （修正有）【課題】エアベアリング面の段差の低減を図ることができ、かつ十分な強度を有する磁気ヘッドスライダ用材料、これを用いた磁気ヘッドスライダ、及び磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法を提供する。【解決手段】磁気ヘッドスライダ１１は、磁気ヘッドスライダ用材料から作られた基板１３と、基板１３上に形成されると共に薄膜磁気ヘッド１０を含む積層体１４とを備えている。磁気ヘッドスライダ用材料は、アルミナ、炭化チタン、及び炭素を含む焼結体からなり、焼結体中の炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、アルミナ結晶粒の平均結晶粒径よりも大きい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミナ、炭化チタン、及び炭素を含む焼結体からなる磁気ヘッドスライダ用材料であって、
前記焼結体中の炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、アルミナ結晶粒の平均結晶粒径よりも大きい磁気ヘッドスライダ用材料。
【請求項２】
前記アルミナ結晶粒の平均結晶粒径が、０．７５μｍ以下である請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ用材料。
【請求項３】
前記炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、１μｍ以下である請求項１又は２に記載の磁気ヘッドスライダ用材料。
【請求項４】
前記焼結体が、炭化珪素をさらに含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダ用材料。
【請求項５】
焼結体から作られた基板と、前記基板上に形成された、薄膜磁気ヘッドを含む積層体と、を備え、
前記焼結体は、アルミナ、炭化チタン、及び炭素を含む共に前記焼結体中の炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、アルミナ結晶粒の平均結晶粒径よりも大きい磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】
前記アルミナ結晶粒の平均結晶粒径が、０．７５μｍ以下である請求項５に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項７】
前記炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、１μｍ以下である請求項５又は６に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項８】
前記焼結体が、炭化珪素をさらに含む請求項５〜７のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項９】
アルミナ、炭化チタン、及び炭素を含む成形体を用意する工程と、
前記成形体を非酸化性雰囲気中、所定の焼結温度で焼結させて焼結体を製造する焼結工程と、を備え、
前記焼結体中のアルミナ結晶粒の平均結晶粒径を炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径よりも小さくすることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法。
【請求項１０】
前記成形体を用意する工程において、前記成形体に含まれる前記アルミナの平均粒径が０．６μｍ以下であり、前記成形体に含まれる前記炭化チタンの平均粒径が１μｍ以下である請求項９に記載の磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法。
【請求項１１】
前記焼結工程において、５００℃から前記焼結温度まで昇温するときの昇温速度を５℃／分以上とする請求項９又は１０に記載の磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法。
【請求項１２】
前記成形体が炭化珪素をさらに含む請求項９〜１１のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ヘッドスライダ用材料、磁気ヘッドスライダ、及び磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜磁気ヘッドを含む磁気ヘッドスライダは、１９７９年に初めてハードディスク装置に使用されたが、このときの磁気ヘッドスライダは一般にミニスライダ（１００％スライダ）と呼ばれている。その後、磁気ヘッドスライダは、ミニスライダの約７０％の大きさのマイクロスライダ（７０％スライダ）を経て、ミニスライダの約５０％の大きさのナノスライダ（５０％スライダ）へと小型化が進められてきている。
【０００３】
この磁気ヘッドスライダは、一般に、基板上に薄膜磁気ヘッドを含む積層体を有してなる。このような磁気ヘッドスライダは、基板上に薄膜磁気ヘッドを含む積層体を積層して積層構造体とした後、この積層構造体を積層方向に平行に切断して薄膜磁気ヘッドの露出面を形成し、この露出面をラッピング（研磨）してエアベアリング面とすることにより得られる。
【０００４】
そして、従来の磁気ヘッドスライダを製造する際においては、例えば下記特許文献１に記載されているように、アルミナと炭化チタンとを主成分とする高強度の焼結体、いわゆる、アルティック焼結体を磁気ヘッドスライダの基板として用いている。また、最近では、加工性の向上を目的とした材料の開発が盛んになされており、例えば、焼結体中のアルミナ結晶粒の平均結晶粒径を炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径より５〜５０％大きくした磁気ヘッド用基板が提案されている（例えば、特許文献２参照）。この磁気ヘッド用基板は、イオン照射による加工における加工速度及び加工後の表面品位の改善を意図したしたものである。
【０００５】
【特許文献１】特開昭５７−８２１７２号公報
【特許文献２】特許３１２１９８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、現在では、ミニスライダの約３０％の大きさのピコスライダ（３０％スライダ）と呼ばれる磁気ヘッドスライダが主流となっており、今後、ハードディスク装置の小型化、低コスト化に伴い磁気ヘッドスライダは更に小型化され、将来的にはミニスライダの約２０％の大きさのフェムトスライダ（２０％スライダ）へと移行することが予想されている。
【０００７】
このような磁気ヘッドスライダの小型化に伴い、エアベアリング面を形成する際のラッピング工程において、基板と、基板上に積層した積層体との研磨量の違いにより生じるエアベアリング面の段差を低減することが求められている。
【０００８】
しかしながら、上記特許文献１に記載のものをはじめとする従来の磁気ヘッドスライダの基板として用いられるアルティック焼結体は、その研磨速度が、薄膜磁気ヘッドを含む積層体の研磨速度に比べて極めて低く、これによって、ラッピング時に積層体の研磨量が基板の研磨量にくらべて大きくなりすぎて大きな段差が生じるという課題を有していた。
【０００９】
また、本発明者らの検討によると、上記特許文献２に記載の磁気ヘッドスライダ用材料であっても、ラッピング工程等の機械加工において基板の機械的強度を十分確保しつつ研磨速度を十分に上げることは困難であることが判明した。
【００１０】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、エアベアリング面の段差の低減を図ることができかつ十分な強度を有する磁気ヘッドスライダ用材料、これを用いた磁気ヘッドスライダ、及び磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、アルミナ、炭化チタン、及び炭素を少なくとも含む焼結体において、焼結体中の炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径とアルミナ結晶粒の平均結晶粒径とが特定の関係を満たす焼結体が、十分な強度を有するとともに研磨速度が十分に高いことを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明の磁気ヘッドスライダ用材料は、アルミナ、炭化チタン、及び炭素を含む焼結体からなる磁気ヘッドスライダ用材料であって、焼結体中の炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、アルミナ結晶粒の平均結晶粒径よりも大きいことを特徴とする。
【００１３】
本発明の磁気ヘッドスライダ用材料によれば、上記の構成を有することにより、十分な強度を有するとともに、従来の磁気ヘッドスライダ用材料に用いられるアルティック焼結体に比して研磨速度を速くすることが可能となり、この磁気ヘッドスライダ用材料を用いた基板の研磨速度と、薄膜磁気ヘッドを含む積層体の研磨速度と、の差を従来よりも十分に少なくできる。これにより、磁気ヘッドスライダの製造時に、詳しくは、この磁気ヘッドスライダ用材料から作られた基板上に薄膜磁気ヘッドを含む積層体を積層して積層構造体とし、この積層構造体における積層方向に平行な断面をラッピングして磁気ヘッドスライダを製造する時に、ラッピングにより形成されるエアベアリング面において積層体と基板との間に段差が生じにくくなる。
【００１４】
本発明の磁気ヘッドスライダ用材料が十分な強度を有するとともに研磨速度を速くできる理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のとおり推察する。すなわち、焼結体がアルミナ、炭化チタン、及び炭素を含有し、さらには焼結体中のアルミナ結晶粒の平均結晶粒径を炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径よりも小さくすることにより、焼結体は十分な強度を維持しつつ、機械加工におけるミクロオーダーの結晶粒間の剥離がスムーズに進行するものと本発明者らは推察する。
【００１５】
また、本発明の磁気ヘッドスライダ用材料において、上記アルミナ結晶粒の平均結晶粒径が、０．７５μｍ以下であることが好ましい。これにより、磁気ヘッドスライダ用材料の強度を十分確保しつつ研磨速度をさらに上げることが可能となる。
【００１６】
さらに、上記炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、１μｍ以下であることが好ましい。かかる平均結晶粒径が、１μｍを超えると、研磨速度が低下する傾向にある。
【００１７】
また、本発明の磁気ヘッドスライダ用材料において、上記焼結体が、炭化珪素をさらに含むことが好ましい。焼結体が炭化珪素を含有することにより焼結体の熱伝導が向上し、本発明の磁気ヘッドスライダ用材料は十分な放熱性を有することができる。これにより、薄膜磁気ヘッドの薄膜部分の下地を形成している酸化膜（例えば、アルミナなど）の膜厚を薄くすることが可能となり、薄膜磁気ヘッドの生産性を向上させることができる効果や、薄膜磁気ヘッドの製造においては、真空・減圧下での成膜工程での基板材料の温度制御が容易となる効果も得られる。
【００１８】
また、本発明の磁気ヘッドスライダは、焼結体から作られた基板と、基板上に形成された、薄膜磁気ヘッドを含む積層体とを備え、焼結体は、アルミナ、炭化チタン、及び炭素を含む共に焼結体中の炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、アルミナ結晶粒の平均結晶粒径よりも大きいことを特徴とする。
【００１９】
本発明の磁気ヘッドスライダによれば、上記焼結体から作られた基板を備えることにより、磁気ヘッドスライダの製造時に、詳しくは、上記積層体における積層方向に平行な断面をラッピングして磁気ヘッドスライダを製造する時に、ラッピングにより形成されるエアベアリング面において積層体と基板との間に段差が生じにくくなるので、磁気ヘッドスライダの小型化を図ることが容易となる。
【００２０】
また、本発明の磁気ヘッドスライダにおいて、上記アルミナ結晶粒の平均結晶粒径が、０．７５μｍ以下であることが好ましい。これにより、上記基板の強度を十分確保しつつ研磨速度をさらに上げることが可能となるので、上記磁気ヘッドスライダは、より一層小型化に好適なものとなる。
【００２１】
さらに、上記炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、１μｍ以下であることが好ましい。かかる平均結晶粒径が、１μｍを超えると、研磨速度が低下する傾向にある。
【００２２】
また、本発明の磁気ヘッドスライダにおいて、上記焼結体が、炭化珪素をさらに含むことが好ましい。焼結体が炭化珪素を含有することにより基板の熱伝導が向上し、本発明の磁気ヘッドスライダはより優れた放熱性を有することができる。これにより、通電時の熱による影響を低減でき、より高い信頼性の磁気ヘッドスライダが実現可能となる。
【００２３】
また、本発明に係る磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法は、アルミナ、炭化チタン、及び炭素を含む成形体を用意する工程と、成形体を非酸化性雰囲気中、所定の焼結温度で焼結させて焼結体を製造する焼結工程とを備え、焼結体中のアルミナ結晶粒の平均結晶粒径を炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径よりも小さくすることを特徴とする。
【００２４】
かかる製造方法により、上述の本発明の磁気ヘッドスライダ用材料を得ることができる。
【００２５】
ここで、成形体を用意する工程では、アルミナを含む粉末、炭化チタンを含む粉末、及び炭素を含む粉末を混合して混合粉末を得、この混合粉末を成形することができる。
【００２６】
また、成形体を用意する工程では、アルミナを含む粉末、炭化チタンを含む粉末、及び有機物を混合して混合物を得、この混合物を非酸化性雰囲気中で熱処理することにより混合物中の有機物を炭化して混合粉末を得、この混合粉末を成形することもできる。
【００２７】
さらに、成形体を用意する工程では、アルミナを含む粉末、炭化チタンを含む粉末、及び有機物を混合して混合物を得、この混合物を成形し、成形された混合物を非酸化性雰囲気中で熱処理することにより混合物中の有機物を炭化することもできる。
【００２８】
また、本発明の磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法においては、上述の磁気ヘッドスライダ用材料をより容易且つより確実に製造する観点から、上記成形体を用意する工程において、成形体に含まれるアルミナの平均粒径が０．６μｍ以下であり、成形体に含まれる炭化チタンの平均粒径が１μｍ以下であることが好ましい。これにより、焼結体中のアルミナ結晶粒の平均結晶粒径を炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径よりも小さくすることがより容易且つより確実にできる。このような効果が得られるのは、成形体に含まれるアルミナ及び炭化チタンの平均粒径を上記の範囲とすること、並びに、成形体が炭素を含有することによって、上記焼結工程において、炭化チタンがほとんど粒成長せずアルミナのみが粒成長しやすい条件、特には５００℃から焼結温度まで昇温するときの昇温速度が小さい場合（１〜５℃／分）であっても、アルミナの粒成長を十分に抑制できるためと考えられる。
【００２９】
さらに、上記焼結工程において、５００℃から焼結温度まで昇温するときの昇温速度を５℃／分以上とすることが好ましい。このような条件で、アルミナ、炭化チタン、及び炭素を含有する成形体を昇温することによって、焼結工程においてアルミナの粒成長を十分に抑制することが可能となり、焼結体中のアルミナ結晶粒の平均結晶粒径を炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径よりも小さくすることがより容易且つより確実にできる。
【００３０】
さらに、上述の磁気ヘッドスライダ用材料をより容易かつより確実に製造する観点から、上記成形体を用意する工程において、成形体に含まれるアルミナの平均粒径が０．２〜０．６μｍであり、成形体に含まれる炭化チタンの平均粒径が０．２〜１μｍであることが好ましい。
【００３１】
成形体が上記平均粒径のアルミナ、上記平均粒径の炭化チタン、及び炭素を含有することによって、上記焼結工程において、炭化チタンがほとんど粒成長せずアルミナのみが粒成長しやすい条件、特には５００℃から焼結温度まで昇温するときの昇温速度が小さい場合（１〜５℃／分）であっても、焼結体中のアルミナ結晶粒の平均結晶粒径を炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径よりも小さくすることがより確実にできる。
【００３２】
また、本発明の磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法において、上記成形体が炭化珪素をさらに含むことが好ましい。これにより、放熱性に優れる磁気ヘッドスライダ用材料を得ることが容易となる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明よれば、十分な強度を有しつつエアベアリング面の段差が低減された磁気ヘッドスライダを実現することができる。これにより、より小さなサイズの磁気ヘッドスライダを製造でき、さらなる高密度化が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。また、各図面の寸法比率は、必ずしも実際の寸法比率とは一致していない。
【００３５】
（磁気ヘッドスライダ用材料）
まず、本実施形態に係る磁気ヘッドスライダ用材料について説明する。本実施形態に係る第１の磁気ヘッドスライダ用材料は、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化チタン（ＴｉＣ）及び炭素（Ｃ）を含む焼結体である。ここで、焼結体において、アルミナや炭化チタンはそれぞれ結晶粒を形成している。また、焼結体において炭素はアルミナや炭化チタンとは化学的に結合していない遊離成分であり、主として、アルミナや炭化チタンの結晶粒界に存在する。
【００３６】
ここで、上記焼結体中の炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、アルミナ結晶粒の平均結晶粒径よりも大きいことが必要である。これにより、上記磁気ヘッドスライダ用材料は、十分な強度を有するとともに研磨速度を十分に上げることが可能となる。なお、本明細書において、炭化チタン結晶粒及びアルミナ結晶粒の平均結晶粒径は、以下の方法により求めた値を採用する。
【００３７】
炭化チタン及びアルミナの結晶粒の平均結晶粒径は、次のようにして求める。まず、焼結体を破断し、その破断面を鏡面加工し、（焼結温度−１００）℃で熱エッチングする。その表面を、走査型電子顕微鏡にて３万倍に拡大して撮影し、この写真に放射状に直線を引く。具体的には、縦９ｍｍ×横１２ｍｍの矩形状の写真に対して、その中心を通るように、縦、横、及び２本の対角線の直線を引く（直線の合計は３０ｍｍ）。そして、各直線が結晶粒界をよぎる交点を数え、（直線の総延長（ｍｍ））／（交点総数×写真倍率）の演算により、炭化チタン及びアルミナの結晶粒の平均結晶粒径を求める。
【００３８】
本実施形態においては、アルミナ結晶粒の平均結晶粒径が、０．２〜０．７５μｍであることが好ましく、０．２〜０．６μｍであることがより好ましく、０．２〜０．４μｍであることがさらに好ましい。アルミナ結晶粒の平均結晶粒径が、０．７５μｍを超えると、研磨速度が低下する傾向にあり、０．２μｍを下回ると、このような焼結体を得ることが困難となる傾向にある。
【００３９】
また、炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、０．２〜１μｍであることが好ましく、０．２〜０．６μｍであることがより好ましい。炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、１μｍを超えると、研磨速度が低下する傾向にあり、０．２μｍを下回ると、このような焼結体を得ることが困難となる傾向にある。
【００４０】
本実施形態の磁気ヘッドスライダ用材料における炭化チタンの含有割合は、アルミナの重量を１００重量部としたときに、２０〜１２０重量部であることが好ましい。このような範囲にすると、十分な強度の磁気ヘッド用基板が得られやすくなるとともに、材料の電気抵抗が低下し、帯電防止の効果が得られやすい。炭化チタンの濃度が２０重量部を下回ると、剛性が低下して強度が低くなる傾向がある。一方、炭化チタンの濃度が１２０重量部を超えると、焼結性が低下して強度が低下する傾向がある。
【００４１】
磁気ヘッドスライダ用材料における炭素の含有割合は、アルミナの重量を１００重量部とした時に０．２〜９重量部であることが好ましく、より好ましくは０．３〜２．０重量部であり、さらにより好ましくは０．５〜１．５である。炭素の含有割合が９重量部よりも高くなると、材料の強度が弱くなりすぎる傾向があり好ましくない。一方、炭素の含有割合が０．２重量部よりも低くなると、研磨速度を十分に高くすることが困難となる傾向にある。
【００４２】
本実施形態に係る第２の磁気ヘッドスライダ用材料は、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化珪素（ＳｉＣ）及び炭素（Ｃ）を含む焼結体である。ここで、焼結体において、アルミナ、炭化チタン、及び炭化珪素はそれぞれ結晶粒を形成している。また、焼結体において炭素はアルミナ、炭化チタン、及び炭化珪素とは化学的に結合していない遊離成分であり、主として、アルミナ、炭化チタン、炭化珪素の結晶粒界に存在する。
【００４３】
第２の磁気ヘッドスライダ用材料は、焼結体が炭化珪素をさらに含む点で上記第１の磁気ヘッドスライダ用材料と異なる。第２の磁気ヘッドスライダ用材料においても、焼結体中の炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、アルミナ結晶粒の平均結晶粒径よりも大きいことが必要である。これにより、磁気ヘッドスライダ用材料は、十分な強度を有するとともに研磨速度を十分に上げることが可能となる。
【００４４】
ところで、薄膜磁気ヘッドの動作時には、書き込み過程では書き込み用電流が通電され、読み出し過程では読み出し用電流が通電され、薄膜磁気ヘッドの薄膜部分が加熱される。書き込み過程においては、書き込み用電流により発生する熱が薄膜部分を膨張させ薄膜部分の媒体対向面を凸状にする。このような変形は、媒体とのクリアランスを減少させすぎてクラッシュの発生につながる場合がある。また、読み出し用電流により発生する熱は、ヘッド機能の寿命に影響を及ぼす場合がある。これに対して、第２の磁気ヘッドスライダ用材料は、炭化珪素をさらに含有することにより高い熱伝導性を有することが可能となるので、磁気ヘッドスライダに適用された場合、上記のような通電時の熱による影響を低減し高い信頼性を付与することが可能となる。
【００４５】
第２の磁気ヘッドスライダ用材料における炭化チタン及び炭化珪素の含有割合の合計は、アルミナの重量を１００重量部としたときに、２０〜１５０重量部であることが好ましい。このような範囲にすると、十分な強度の磁気ヘッド用基板を得ることが容易となる。炭化チタンの濃度が２０重量部を下回ると、剛性が低下して強度が低くなる傾向がある。一方、炭化チタンの濃度が１５０重量部を超えると、焼結性が低下して強度が低下する傾向がある。
【００４６】
また、第２の磁気ヘッドスライダ用材料における炭化珪素の含有割合は、アルミナの重量を１００重量部としたときに、１０〜９０重量部であることが好ましく、２５〜４５重量部であることがより好ましい。炭化珪素の含有割合が、１０重量部未満であると、材料の熱伝導率が十分に得られなくなる傾向にあり、磁気ヘッドスライダの放熱性が不十分となる傾向にある。他方、炭化珪素の含有割合が、９０重量部を超えると、材料の熱膨張率が低下する傾向にあり、薄膜部分との熱膨張率の差が顕著となると、磁気ヘッドの使用時に基板とアルミナ下地膜との間に段差が生じやすくなる。
【００４７】
また、第２の磁気ヘッドスライダ用材料における炭化チタンの含有割合は、アルミナの重量を１００重量部とした時に、３５重量部以上であることが好ましい。この場合、材料の電気抵抗が低下し、帯電防止の効果が得られやすい。
【００４８】
さらに、第２の磁気ヘッドスライダ用材料における炭素の含有割合は、アルミナの重量を１００重量部とした時に０．２〜９重量部であることが好ましく、より好ましくは０．３〜６重量部であり、さらにより好ましくは０．５〜３である。
【００４９】
ここで、炭素の濃度が９重量部よりも高くなると、材料の強度が弱くなりすぎる傾向があり好ましくない。一方、炭素の濃度が０．２重量部よりも低くなると、研磨速度を十分に高くすることが困難となる傾向にある。
【００５０】
また、上記第１及び第２の磁気ヘッドスライダ用材料は、さらにチタニアを含むことが好適である。チタニアの好適な濃度は、アルミナの重量を１００重量部としたときに、０．５〜１０重量部である。磁気ヘッドスライド用材料がチタニアを含むと、焼結性が高くなって高強度化が容易となる。
【００５１】
なお、本実施形態の磁気ヘッドスライダ用材料は、特性に影響を与えない程度に他の成分を含んでもよい。
【００５２】
（磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法）
続いて、本発明に係る磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法について説明する。まず、磁気ヘッドスライダ用材料の第１の製造方法として、上記した第１の磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法について説明する。
【００５３】
まず、アルミナ粉末、炭化チタン粉末、及び炭素粉末、さらに、必要に応じて添加物としてのチタニア粉末を用意する。
【００５４】
ここで、原料のアルミナ粉末の平均粒子径は、焼結体中のアルミナ結晶粒の粒径をより小さくする観点から、０．１〜０．６μｍであることが好ましく、０．２〜０．４μｍであることがより好ましい。
【００５５】
また、炭化チタン粉末の平均粒子径は、０．１〜１μｍであることが好ましく、０．２〜０．６μｍであることがより好ましい。炭化チタン粉末は、炭素を含んでいてもよい。
【００５６】
さらに、原料のアルミナ粉末の平均粒子径は、炭化チタン粉末の平均粒子径に対して１／２〜１／１．５であることが好ましい。
【００５７】
また、炭素粉末の平均粒子径は２０〜１００ｎｍであることが好ましい。炭素粉末としては、例えば、カーボンブラック、エチレンブラック等の炭素からなる粉末を使用することができる。
【００５８】
また、チタニア粉末の平均粒子径は０．１〜３μｍであることが好ましく、０．５〜１μｍであることがより好ましい。
【００５９】
そして、これらの粉末を、例えば、エタノール、ＩＰＡ、９５％変性エタノール等の有機溶剤中で混合し、混合粉末を得る。なお、水を溶媒として使用すると、溶媒と炭化チタンとが化学反応を起こして炭化チタン粉末が酸化してしまうため、水は使用できない。
【００６０】
ここでは、混合粉末において、アルミナの全重量を１００重量部としたときに、炭化チタン粉末、炭素、チタニアの重量が、それぞれ上述の好ましい条件を満たすようにアルミナ粉末、炭化チタン粉末、炭素粉末、チタニア粉末を配合する。
【００６１】
ここで、粉末の混合は、ボールミルやアトライター中で行うことが好ましい。また、粉末の混合は、１０〜１００時間程度行うことが好ましい。なお、ボールミルやアトライター中の混合メディアとしては、例えば、直径１〜２０ｍｍ程度の、アルミナボール等を使用することが好ましい。
【００６２】
次に、混合粉末をスプレー造粒する。ここでは、例えば、酸素をほとんど含まない窒素やアルゴン等の不活性ガスの、６０〜２００℃程度の温風中で噴霧乾燥すればよく、これによって、上記の組成の混合粉末の造粒物が得られる。ここで、例えば、造粒物の粒径は、５０μｍ〜２００μｍ程度が好ましい。
【００６３】
次に、必要に応じて上述の有機溶剤を添加して造粒物の液体含有量の調節を行い、０．１〜１０重量％程度、造粒物中に有機溶剤が含まれるようにする。液体含有量の調節に用いる有機溶剤としては、例えば、エタノール、ＩＰＡ、９５％変性エタノール等の有機溶剤が挙げられ、通常、粉末の混合の際に用いた有機溶剤が使用される。なおここでも、水を溶媒として使用すると、溶媒と炭化チタンとが化学反応を起こして炭化チタン粉末が酸化してしまうため、水は使用できない。
【００６４】
次に、この造粒物を所定の型内に充填し、冷間プレスにより一次成形を行って成形体を得る。ここでは、例えば、内径１５０ｍｍの円板形成用の金属製あるいはカーボン製の型内に造粒物を充填し、例えば、５〜１５ＭＰａ（約５０〜１５０ｋｇｆ／ｃｍ２）程度の圧力で冷間プレスすればよい。
【００６５】
続いて、得られた成形体をホットプレスし焼結体を得る。
【００６６】
ここで、ホットプレスの条件としては、例えば、焼結温度を１２００〜１７００℃、圧力を１０〜５０ＭＰａ（約１００〜５００ｋｇｆ／ｃｍ２）、雰囲気を真空、窒素、アルゴン等の非酸化雰囲気中が挙げられる。なお、非酸化性雰囲気とするのは、炭化チタンの酸化を抑制するためである。また、混合粉体の成形にはカーボン製の型を用いることが好ましい。また、成形体の焼結時間は１〜３時間程度とすることが好ましい。
【００６７】
さらに、本実施形態では、焼結温度を１６００〜１７００℃とすることが好ましい。かかる温度で焼結することにより、高密度の焼結体を得ることができる。
【００６８】
また、本実施形態では、成形体に含まれるアルミナの平均粒径を０．６μｍ以下とし、成形体に含まれる炭化チタンの平均粒径を１μｍ以下とすることが好ましい。さらに、焼結温度に到達するまでの昇温過程において、５００℃から焼結温度まで昇温するときの昇温速度を５℃／分以上とすることが好ましい。
【００６９】
焼結が終了すると、炉内で放冷し、磁気ヘッドスライダ用材料が完成する。ここでは、磁気ヘッドスライダ用材料の形状は特に限定されず、例えば、直径６インチ、厚み２．５ｍｍの円板状の基板や、矩形基板とすることができる。
【００７０】
続いて、このような磁気ヘッドスライダ用材料の第２の製造方法について説明する。
【００７１】
上述の第１の製造方法では炭素粉末を用いたが、第２の製造方法ではこれに代えて有機物を用いる。具体的には、まず、アルミナ粉末、炭化チタン粉末、及び、有機物を混合して混合物を得る。ここで、有機物は特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、ブチラール樹脂等を例示できる。また、混合物には、必要に応じて、チタニア粉末等の添加物を添加してもよい。
【００７２】
続いて、この混合物を、真空雰囲気、窒素雰囲気等の非酸化性雰囲気下で熱処理することにより、混合物中の有機物を炭化させる。ここで、炭化条件は、有機物の種類等によって任意好適に設定できるが、例えば、真空乾燥炉等において、６００℃、５時間程度熱処理をすることにより、アルミナ、炭化チタン、及び、炭素を含み、必要に応じてチタニア等を含む混合粉末を得ることができる。
【００７３】
その後、この混合粉末を第１の製造方法と同様にして成形し、焼結させればよい。
【００７４】
このようにして有機物を用いて製造すると、炭素の均一分散が可能となり、炭素の分散に要する時間を短縮できる。
【００７５】
緻密な磁気ヘッドスライダ用材料を得るためには、上述のように有機物を炭化した後に成形をすることが好ましいが、成形した後に有機物を炭化することもできる。
【００７６】
具体的には、アルミナ粉末、炭化チタン粉末、及び有機物等を含む混合物を得た後、炭化させる前にこの混合物を第１の製造方法と同様にして成形する。そして、この有機物を含む混合物の成形体に対して、上述のような熱処理を施して有機物を炭化し、アルミナ、炭化チタン、及び、炭素等を含む成形体を得ることができる。
【００７７】
ここで、第２の製造方法において、アルミナ粉末、炭化チタン粉末、及び有機物、さらに、必要に応じてチタニア粉末等を混合して混合物とする際における各粉末の濃度は、これらの混合物を炭化した後の混合粉末又は成形体における、アルミナ、炭化チタン、炭素、チタニアの量が、第１の製造方法に規定される濃度となるようにあらかじめ定めればよい。これによって、第１の製造方法と同様の組成の成形体が得られる。
【００７８】
次に、磁気ヘッドスライダ用材料の第３の製造方法として、上記した第２の磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法について説明する。
【００７９】
まず、アルミナ粉末、炭化チタン粉末、炭化珪素粉末及び炭素粉末、さらに、必要に応じて添加物としてのチタニア粉末を用意する。
【００８０】
炭化珪素粉末以外の材料については、上述した第１の磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法と同様である。
【００８１】
炭化珪素粉末については、炭化珪素粉末の平均粒子径が０．０３〜１μｍであることが好ましく、０．０５〜０．５μｍであることがより好ましい。炭化珪素粉末は、炭素を含んでいてもよい。
【００８２】
そして、これらの粉末を、例えば、エタノール、ＩＰＡ、９５％変性エタノール等の有機溶剤中で混合し、混合粉末を得る。なお、水を溶媒として使用すると、溶媒と炭化チタンとが化学反応を起こして炭化チタン粉末が酸化してしまうため、水は使用できない。
【００８３】
ここでは、混合粉末において、アルミナの全重量を１００重量部としたときに、炭化チタン粉末、炭化珪素、炭素、チタニアの重量が、それぞれ上述の好ましい条件を満たすようにアルミナ粉末、炭化チタン粉末、炭化珪素粉末、炭素粉末、チタニア粉末を配合する。
【００８４】
これ以降は、第１の磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法と同様にして、磁気ヘッドスライダ用材料が完成する。また、第３の製造方法においても、上述した第２の製造方法にように、炭素粉末に代えて有機物を用いることができる。
【００８５】
（磁気ヘッドスライダ）
次に、この磁気ヘッドスライダ用材料を用いた磁気ヘッドスライダについて図１を参照して説明する。
【００８６】
本実施形態の磁気ヘッドスライダ１１は薄膜磁気ヘッド１０を有するものであり、ハードディスクを備えたハードディスク装置（不図示）に搭載されるものである。このハードディスク装置は、高速回転するハードディスクの記録面に、薄膜磁気ヘッド１０によって磁気情報を記録及び再生するようになっている。
【００８７】
本発明の実施形態に係る磁気ヘッドスライダ１１は略直方体形状をなしている。図１において、磁気ヘッドスライダ１１における手前側の面は、ハードディスクの記録面に対向配置される記録媒体対向面であり、エアベアリング面（ＡＢＳ：Air Bearing Surface）Ｓと称される。また、エアベアリング面には、トラック幅方向と直交する方向に１１ａ溝が形成されている。
【００８８】
ハードディスクが回転する際、この回転に伴う空気流によって磁気ヘッドスライダ１１が浮上し、エアベアリング面Ｓはハードディスクの記録面から離隔する。エアベアリング面Ｓには、ＤＬＣ（Diamond Like Carbon）等のコーティングを施してもよい。
【００８９】
この磁気ヘッドスライダ１１は、上述した磁気ヘッドスライド用材料から作られた基板１３と、この基板１３上に形成されると共に薄膜磁気ヘッド１０を含む積層体１４とを備えている。より詳しくは、本実施形態では、基板１３は直方体形状を有し、基板１３の側面上に積層体１４が形成されている。
【００９０】
積層体１４の上面１４ａは、磁気ヘッドスライダ１１の端面を形成しており、この積層体１４の上面１４ａには薄膜磁気ヘッド１０に接続された記録用パッド１８ａ，１８ｂ及び再生用パッド１９ａ，１９ｂが取り付けられている。また、薄膜磁気ヘッド１０は、積層体１４内に設けられており、その一部がエアベアリング面Ｓから外部に露出している。なお、図１において、積層体１４内に埋設されている薄膜磁気ヘッド１０を、認識しやすさを考慮して実線で示している。
【００９１】
このような磁気ヘッドスライダ１１は、ジンバル１２に搭載され、図示しないサスペンションアームに接続されることによりヘッドジンバルアセンブリを構成する。
【００９２】
図２は、磁気ヘッドスライダ１１におけるエアベアリング面Ｓに対して垂直かつトラック幅方向に垂直な方向の概略断面図（図１のＩＩ−ＩＩ概略断面図）である。上述のように、磁気ヘッドスライダ１１は、概略矩形板状の基板１３と、この基板１３の側面上に積層された積層体１４とを有している。積層体１４は、薄膜磁気ヘッド１０と、この薄膜磁気ヘッド１０を取り囲むコート層５０と、を有している。
【００９３】
薄膜磁気ヘッド１０は、基板１３に近い側から順に、ハードディスクの磁気情報を読取る読取素子としてのＧＭＲ（巨大磁気抵抗効果；Giant Magneto Resistive ）素子４０と、ハードディスクに磁気情報を書込む書込素子としての誘導型の電磁変換素子６０と、を有しており、いわゆる、複合型薄膜磁気ヘッドとなっている。
【００９４】
電磁変換素子６０は、いわゆる面内記録方式を採用したものであり、基板１３側から順に下部磁極６１及び上部磁極６４を備えると共に、さらに薄膜コイル７０を備えている。
【００９５】
下部磁極６１及び上部磁極６４のエアベアリング面Ｓ側の端部は、エアベアリング面Ｓに露出しており、下部磁極６１及び上部磁極６４の各露出部は所定距離離間されていて記録ギャップＧを形成している。一方、上部磁極６４におけるエアベアリング面Ｓとは離れた側の端部６４Ｂは下部磁極６１に向かって折り曲げられており、この端部６４Ｂは下部磁極６１におけるエアベアリング面Ｓとは離れた側の端部と磁気的に連結している。これにより、上部磁極６４と下部磁極６１とによってギャップＧをはさむ磁気回路が形成される。
【００９６】
薄膜コイル７０は、上部磁極６４の端部６４Ｂを取り囲むように配置されており、電磁誘導により記録ギャップＧ間に磁界を発生させ、これによりハードディスクの記録面に磁気情報を記録させる。
【００９７】
ＧＭＲ素子４０は、図示は省略するが多層構造を有してエアベアリング面Ｓに露出しており、磁気抵抗効果を利用してハードディスクからの磁界の変化を検出し、磁気情報を読み出す。
【００９８】
ＧＭＲ素子４０と電磁変換素子６０との間、上部磁極６４と下部磁極６１との間はそれぞれ絶縁性のコート層５０により離間されている。また、薄膜磁気ヘッド１０自体もエアベアリング面Ｓを除いてコート層５０に覆われている。コート層５０は、主として、アルミナ等の絶縁材料により形成されている。具体的には、通常、スパッタリング等により形成されたアルミナ層が用いられる。このようなアルミナ層は、通常アモルファス構造を有する。
【００９９】
なお、薄膜磁気ヘッド１０を面内記録方式ではなく、垂直記録方式としてもよい。また、ＧＭＲ素子４０の代わりに、異方性磁気抵抗効果を利用するＡＭＲ（Anisotropic Magneto Resistive）素子、トンネル接合で生じる磁気抵抗効果を利用するＴＭＲ（Tunnel-type Magneto Resistive）素子等を利用してもよい。
【０１００】
さらに、コート層５０内には、さらに、ＧＭＲ素子４０と電磁変換素子６０との間を磁気的に絶縁する磁性層等を含んでもよい。
【０１０１】
続いて、以上のような磁気ヘッドスライダ１１の製造方法について説明する。
【０１０２】
まず、前述のようにして、図３に示すように、上述の磁気ヘッドスライダ用材料を円板ウェハ状に形成した基板１３を用意する。次に、図４(ａ)に示すように、この基板１３上に、薄膜磁気ヘッド１０及びコート層５０を含む積層体１４を周知の手法によって積層する。ここでは、積層体１４中に、薄膜磁気ヘッド１０が行列状に多数並ぶように積層体１４を形成する。
【０１０３】
続いて、積層体１４が積層された基板１３を所定の形状・大きさに切断する。ここでは、例えば、図４（ａ）中の点線で示したように切断することにより、図４（ｂ）に示すように、複数の薄膜磁気ヘッド１０が一列に並びかつこれらの薄膜磁気ヘッド１０が側面１００ＢＳにそれぞれ露出するように配置されたバー１００Ｂを形成する。
【０１０４】
そして、このバー１００Ｂの側面１００ＢＳを研磨してエアベアリング面Ｓを形成する、いわゆる、ラッピング工程を行う。このラッピング工程では、基板１３とその上に積層された積層体１４とを、同時にかつ積層方向と交差する方向（図２の矢印Ｘの方向）に研磨する。
【０１０５】
ここで、本実施形態では、基板１３が、前述の磁気ヘッドスライダ用材料、すなわち、アルミナ、炭化チタン、及び炭素を少なくとも含み、かつ、焼結体中の炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径が、アルミナ結晶粒の平均結晶粒径よりも大きい焼結体から作られている。したがって、この基板１３の研磨速度は、従来のアルティック焼結体からつくられた基板の研磨速度よりも十分に高くなり、この基板１３の研磨速度は薄膜磁気ヘッド１０を含む積層体１４の研磨速度と同程度となる。
【０１０６】
したがって、ラッピングをした場合に、積層体１４と、基板１３との間での研磨量の差が極めて小さくなり、積層体１４と基板１３との間の段差Ｄ（図５参照）が、従来よりも著しく小さくなる。これにより、例えば、エアベアリング面Ｓをほぼ平坦な状態にすることができる。具体的には、例えば、段差Ｄを１．２ｎｍ以下にすることができる。
【０１０７】
したがって、フェムトスライダやそれ以下の大きさのスライダを好適に作成することができ、更なる高密度記録化が容易となる。さらに、本実施形態の基板１３は、十分な強度も有するので信頼性も十分である。また、基板１３が、炭化珪素をさらに含む前述の磁気ヘッドスライダ用材料から作られている場合には、優れた放熱性も有する。
【実施例】
【０１０８】
以下、実施例及び比較例を挙げ、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１０９】
本実施例では、構成材料の異なる磁気ヘッドスライダ用材料の基板を複数製造し、それぞれについて抗折強度、研磨速度、及び電気抵抗を測定した。
【０１１０】
（実施例１）
まず、アルミナ粉末（平均粒径０．３μｍ）、炭化チタン粉末（平均粒径１．０μｍ、炭素を０．１重量％含む）、炭化珪素粉末（平均粒径０．４μｍ、炭素を０．１重量％含む）、チタニア粉末（平均粒径０．１μｍ）、及び炭素粉末（カーボンブラック、平均粒径３５ｎｍ）を、表１に示す配合割合となるよう所定量秤量し、ボールミル中でＩＰＡ（イソプロピルアルコール；沸点８２．４℃）と共に３０分粉砕して混合し、その後窒素中で１５０℃でスプレー造粒し造粒物を得た。なお、表１に示される遊離炭素の量は、炭素粉末由来のものと、炭化チタン粉末由来のものと、炭化珪素粉末由来のものとの合計値である。
【０１１１】
続いて、得られた造粒物を約０．５ＭＰａ（５０ｋｇｆ／ｃｍ２）で一次成形した。この成形体を、ホットプレス法によって真空雰囲気で、２時間、焼結温度１６００℃、プレス圧力約３０ＭＰａ（約３００ｋｇｆ／ｃｍ２）で焼成し、実施例１の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。なお、焼結温度までの昇温条件は、常温から５００℃までの昇温速度を５．６℃／分、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を２０℃／分とした。
【０１１２】
＜アルミナ結晶粒及び炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径の測定＞
得られた磁気ヘッドスライダ用材料を２０×１．８×２ｍｍ程度の切片に切り出し、その切出面を鏡面加工し、（焼結温度−１００）℃で熱エッチングした。その表面を、走査型電子顕微鏡にて３万倍に拡大して撮影し、この写真に放射状に直線を引いた。具体的には、縦９ｍｍ×横１２ｍｍの矩形状の写真に対して、その中心を通るように、縦、横、及び２本の対角線の直線を引いた（直線の合計は３０ｍｍ）。そして、各直線が結晶粒界をよぎる交点を数え、（直線の総延長（ｍｍ））／（交点総数×写真倍率）の演算により、炭化チタン及びアルミナの結晶粒の平均結晶粒径を求めた。このようにして得られた、アルミナ結晶粒及び炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径（μｍ）を表１に示す。
【０１１３】
＜研磨速度の測定＞
得られた磁気ヘッドスライダ用材料を２０×２０×１．８ｍｍ程度の切片に切り出し試験片を作製した。そして、０．１μｍ径のダイアモンド粒子を含むスラリーを用い、片面研磨機を用いてこの試験片を研磨した。ここで、研磨条件は、スズ皿の回転数３７．５回／ｍｉｎ、荷重２５５０ｇ、オスカーモータ回転数５５回／ｍｉｎ、研磨時間１０分とした。そして、研磨前後の厚みを測定し、厚みの変化を研磨時間で除することにより試験片の研磨速度を取得した。なお、研磨速度は、下記実施例１４の値を１００とする規格化を行い、下記の判定基準に基づいて表１に記号で示した。
○：実施例１４の値に対して１２０％以上
△：１００％以上１２０％未満
×：１００％未満
【０１１４】
＜抗折強度の測定＞
島津製作所製の試験機を用い、ＪＩＳ  Ｒ１６０１（１９９５）の条件で上記試験片の抗折強度を測定した。抗折強度が４００ＭＰａ以上の場合を、強度が十分であるとして記号「○」で表１に示し、抗折強度が４００ＭＰａ未満の場合を、強度が不十分であるとして記号「×」で表１に示した。
【０１１５】
＜電気抵抗の測定＞
上記試験片の電気抵抗をＪＩＳ  Ｒ１６３７（１９９８）に基づいて測定した。電気抵抗が１０６Ω・ｃｍ以下の場合を、十分に低い電気抵抗を有しているとして記号「○」で表１に示し、電気抵抗が１０６Ω・ｃｍを超える場合を、電気抵抗が高すぎるとして記号「×」で表１に示した。
【０１１６】
【表１】
2006190398.tif 000003
【０１１７】
（実施例２）
炭化チタン粉末（平均粒径１．０μｍ、炭素を０．１重量％含む）の代わりに、炭化チタン粉末（平均粒径０．６μｍ、炭素を０．１重量％含む）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、実施例２の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。なお、実施例２の磁気ヘッドスライダ用材料の研磨速度は、実施例１４の研磨速度に対して２２０％であった。
【０１１８】
（実施例３）
炭化チタン粉末（平均粒径１．０μｍ、炭素を０．１重量％含む）の代わりに、炭化チタン粉末（平均粒径０．４μｍ、炭素を０．１重量％含む）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１１９】
（実施例４）
炭化珪素粉末を用いず、遊離炭素の配合量を表１としたこと以外は実施例２と同様にして、実施例４の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１２０】
（実施例５）
実施例１において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を１０℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例５の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１２１】
（実施例６）
実施例２において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を１０℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例６の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。なお、実施例６の磁気ヘッドスライダ用材料の研磨速度は、実施例１４の研磨速度に対して２００％であった。
【０１２２】
（実施例７）
実施例３において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を１０℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例７の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１２３】
（実施例８）
実施例４において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を１０℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例８の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１２４】
（実施例９）
実施例１において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を５℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例９の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１２５】
（実施例１０）
実施例２において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を１０℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例１０の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。なお、実施例１０の磁気ヘッドスライダ用材料の研磨速度は、実施例１４の研磨速度に対して１８０％であった。
【０１２６】
（実施例１１）
実施例３において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を１０℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例１１の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１２７】
（実施例１２）
実施例４において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を１０℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例１２の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１２８】
（実施例１３）
実施例１において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を２℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例１３の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１２９】
（実施例１４）
実施例１において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を１℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例１４の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１３０】
（比較例１）
実施例２において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を２℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。なお、比較例１の磁気ヘッドスライダ用材料の研磨速度は、実施例１４の研磨速度に対して７０％であった。
【０１３１】
（比較例２）
実施例３において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を２℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例２の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１３２】
（比較例３）
実施例４において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を２℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例３の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１３３】
（比較例４）
実施例２において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を２℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例４の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。なお、比較例４の磁気ヘッドスライダ用材料の研磨速度は、実施例１４の研磨速度に対して５０％であった。
【０１３４】
（比較例５）
実施例３において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を２℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例５の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１３５】
（比較例６）
実施例４において、５００℃から焼結温度（１６００℃）までの昇温速度を２℃／分としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例６の磁気ヘッドスライダ用材料を得た。得られた磁気ヘッドスライダ用材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１３６】
表１に示されるように、実施例１〜１４の磁気ヘッドスライダ用材料は、十分に高い抗折強度を有するとともに、十分に高い研磨速度が得られることが確認された。また、実施例１〜１４の磁気ヘッドスライダ用材料の基板は、電気抵抗が１０６Ω・ｃｍ（１０９ｍΩ・ｃｍ）を下回ることが確認された。一方、磁気ヘッドスライダ用材料中のアルミナ結晶粒の平均結晶粒径が炭化チタン結晶粒の平均結晶粒径以上である比較例１〜６の磁気ヘッドスライダ用材料では、十分に高い研磨速度を得ることができなかった。

【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】図１は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッドスライダの斜視図である。
【図２】図２は、図１の磁気ヘッドスライダにおけるＩＩ−ＩＩ矢視図である。
【図３】図３は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッドスライダの製造方法を説明するための斜視図である。
【図４】図４（ａ）、図４（ｂ）は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッドスライダの製造方法を説明するための図３に続く斜視図である。
【図５】図５は、図４（ｂ）のバーを研磨した状態を示す断面概念図である。
【符号の説明】
【０１３８】
１０…薄膜磁気ヘッド、１１…磁気ヘッドスライダ、１３…基板、１４…積層体、５０…コート層、Ｄ…段差、Ｓ…エアベアリング面。
【図１】
2006190398.tif 000004
【図２】
2006190398.tif 000005
【図３】
2006190398.tif 000006
【図４】
2006190398.tif 000007
【図５】
2006190398.tif 000008