(57)【要約】      （修正有）【課題】  スリット式塗布ノズルへの被塗布物の付着を抑制することのできるスリット式塗布装置を提供する。【解決手段】  基台１１０と、スリット式塗布ノズル１２０とを備える。基台１１０には、基板１３０が載せられ、スリット式塗布ノズル１２０は、基台１１０の上方に設けられる。スリット式塗布ノズルの少なくとも一部の領域には薄膜１２１が形成され、被塗布物を塗布するときに、被塗布物とスリット式塗布ノズル１２０とが、薄膜１２１により隔離され、被塗布物が容易に付着しないようにして、清潔に保つ。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が搭載される基台と、
該基台の上方に設けられ、前記基台上の基板に対して被塗布物を吐出するスリット式塗布ノズルとを有し、
前記スリット式塗布ノズルは、少なくとも一部の領域が薄膜で覆われていることを特徴とするスリット式塗布装置。
【請求項２】
前記薄膜は、膜厚が１００ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載のスリット式塗布装置。
【請求項３】
前記スリット式塗布ノズルは、ノズルダクトをさらに備えており、前記スリット式塗布ノズルの先端または前記ノズルダクト内が、前記薄膜により被覆されていることを特徴とする請求項１に記載のスリット式塗布装置。
【請求項４】
前記薄膜は、金、銀、白金、パラジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、カーボンナノチューブおよびカーボンナノファイバのうち少なくとも１つで構成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載のスリット式塗布装置。
【請求項５】
前記薄膜は、常圧化学気相成長法、減圧化学気相成長法、プラズマ化学気相成長法またはスパッタリング法を用いた塗布処理により形成されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載のスリット式塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スリット式塗布装置に関し、特に一層または複数層のナノメートル薄膜を有するスリット式塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面表示装置は、消費市場において徐々に普及しており、パーソナルコンピュータおよび映像音声装置の標準装備となっている。平面表示装置の応用範囲の拡大とパネルサイズの大型化に伴い、平面表示装置の関連工程は、改良を行ってニーズに合致させる必要がある。
【０００３】
従来技術では、スピンコーティング（spin coating）方式により、ガラス基板上へフォトレジストが塗布されているが、スピンコーティング方式でフォトレジストを塗布する場合、フォトレジスト材料の約９０％が浪費された。一方、表示装置のパネルサイズの大型化に伴い、パネル塗布にはスピンコーティング方式を使用することができず、スリット式塗布装置が採用されている。
【０００４】
図３は、従来のスリット式塗布装置を示す模式図である。図３に示すように、ガラス基板１０２は、基台１００上に置かれる。スリット式塗布ノズル１０３は、基台１００およびガラス基板１０２の上方に設置され、スリット式塗布ノズル１０３は、矢印Ａ’で示す方向に移動する。同時に、フォトレジスト材料は、スリット式塗布ノズル１０３から矢印Ｂ’で示す方向に吐出される。そして、ガラス基板１０２上へフォトレジスト材料を平均的に塗布して、フォトレジスト層１０４を形成する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、フォトレジスト材料は、揮発性有機溶剤および互いに異なる色タイプを含有する高分子物質からなるため、スリット式塗布ノズル１０３から押し出されるときに、フォトレジストの一部が残留して、スリット式塗布ノズル１０３上に堆積される。そして、堆積したフォトレジストの一部がガラス基板１０２上に落ちてしまうことがある。
【０００６】
図３および図４は、従来のスリット式塗布装置を示す。図４は、図３の矢印Ｃ’部分を示す拡大図である。図４は、フォトレジスト材料がスリット式塗布ノズル１０３の周囲に堆積して、フォトレジストの残渣１０５が形成され、ガラス基板に対して、小さい異物により大きい問題が発生するときの状態を示す。
【０００７】
そのため、上述の欠点を防ぐことができるスリット式塗布装置を提供する必要がある。
【０００８】
本発明の目的は、従来技術の欠点を防ぐために、薄膜を備えるスリット式塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上述した目的を達成することのできるスリット式塗布装置を提供する。このスリット式塗布装置は、基台と、スリット式塗布ノズルとを備えている。また、一層または複数層の薄膜により、スリット式塗布ノズルの内部または外部を被覆する。フォトレジスト材料がスリット式塗布ノズルから押し出されて、ガラス基板上へ均一に塗布されると、フォトレジスト材料が、スリット式塗布ノズル上へ容易に付着しなくなる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のスリット式塗布装置は、ノズルの清掃および保護に便利で、ノズルの交換率を減らして、生産コストを効果的に下げることができる。そして、小さい異物により大きい問題が発生することを大幅に減らすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施例について説明する。
【実施例１】
【００１２】
以下に説明する本発明の実施例は、平面表示装置のカラーフィルタの製造工程に関するものである。そして、本発明は、スリットノズルコーティング工程装置、スピンコーティング工程装置、スリットノズルとスピンコーティングとを組合せた工程装置、インクジェット印刷工程装置など、ノズルまたはインクジェット印刷ヘッド構造装置などを含む平面表示装置の製造工程および装置全てに適用することもできる。しかし、適用範囲はこれだけに限定されるわけではない。
【００１３】
図１は、本発明の実施例１であるスリット式塗布装置を示す模式図であり、図２は、スリット式塗布装置の一部を示す拡大図である。
【００１４】
図１に示すように、本実施例は、基台１１０およびスリット式塗布ノズル１２０を備えている。ガラス基板１３０は、基台１１０上に設置され、一層または複数層のナノメートル薄膜１２１により、スリット式塗布ノズル１２０上を被覆する。スリット式塗布ノズル１２０は、矢印Ａで示す方向に移動すると同時に、スリット式塗布ノズル１２０から、矢印Ｂで示す方向において、フォトレジスト材料がノズルダクト１２２から吐出される。そして、フォトレジスト材料を、ガラス基板１３０上へ平均的に塗布して、均一なフォトレジスト層１４０を形成する。
【００１５】
図２は、図１のスリット式塗布ノズル１２０のＣ部分を示す拡大図である。図２に示すように、スリット式塗布ノズル１２０は、単層または複数層の薄膜であるナノメートル薄膜１２１を有する。１つの層の薄膜の厚さは、約１００ｎｍ（１０−９ｍ）である。なお、薄膜の厚みは、約１００ｎｍ以上であることが好ましい。
【００１６】
ここで、薄膜の厚みを約１００ｎｍに設定すれば、薄膜を形成するためのコストを低減することができる。すなわち、薄膜を形成する材料が少なくなり、コストアップを抑制することができる。
【００１７】
また、図２に示すように、スリット式塗布ノズル１２０を用いてフォトレジスト材料を塗布する工程において、フォトレジストの一部１５０がスリット式塗布ノズル１２０上に付着しないために、従来技術において発生していた問題は発生しない。
【００１８】
スリット式塗布ノズル１２０を被覆するナノメートル薄膜１２１は、フォトレジストの一部１５０とスリット式塗布ノズル１２０とが直接に接触することを防ぎ、フォトレジストの一部１５０が堆積してスリット式塗布ノズル１２０上に付着することとを防ぐことができる。これにより、スリット式塗布ノズル１２０およびノズルダクト１２２を清潔に保つことができる。また、スリット式塗布ノズル１２０等に堆積したフォトレジストの一部がガラス基板の表面に落ちて、この小さい異物により大きな問題が発生するのを抑制することができる。
【００１９】
また、ナノメートル薄膜１２１は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）またはパラジウム（Ｐｄ）などの金属または酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバなどの材料からなる。ただし、ナノメートル薄膜１２１の材料は、これらの材料だけに限定されるわけではない。
【００２０】
ここで、ナノメートル薄膜１２１の材料として、上述した材料を用いることにより、スリット式塗布ノズル１２０に対するフォトレジスト材料の付着を効果的に抑制することができる。すなわち、フォトレジスト材料を塗布するときに、フォトレジスト材料とスリット式塗布ノズル１２０とがナノメートル薄膜１２１により隔離され、フォトレジスト材料がスリット式塗布ノズル１２０に容易に付着しないようにして清潔に保つことができる。
【００２１】
図１や図２に示すように、スリット式塗布ノズル１２０を被覆するナノメートル薄膜１２１は、一層または複数層の薄膜を有する。ナノメートル薄膜１２１は、常圧化学気相成長（atmospheric pressure chemical vapor deposition：ＡＰＣＶＤ）、減圧化学気相成長（low pressure chemical vapor deposition：ＬＰＣＶＤ）、プラズマ化学気相成長（plasma enhanced chemical vapor deposition：ＰＥＣＶＤ）またはスパッタリング（sputtering）などの工程により形成される。ただし、ナノメートル薄膜１２１の形成は、これらの工程だけに限定されるわけではない。
【００２２】
上述した本発明の実施例から分かるように、本実施例のスリット式塗布装置において、スリット式塗布ノズル１２０のノズルダクト１２２が、一層または複数層のナノメートル薄膜により被覆されている。そのため、スリット式塗布ノズル１２０には、フォトレジストの一部１５０またはその他の異物が付着しにくくなる。また、本実施例は、従来の薄膜形成工程を使用することができるため、新しい工程を探すコストを節減することができる。
【００２３】
本発明では実施例１を前述の通り開示したが、これらは決して本発明を限定するものではなく、当該技術に熟知するものなら誰でも、本発明の主旨と領域を脱しない範囲内で各種の変更や修正を加えることができる。従って、本発明の保護の範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施例１であるスリット式塗布装置を示す模式図である。
【図２】実施例１のスリット式塗布装置の一部を示す拡大図である。
【図３】従来のスリット式塗布装置を示す模式図である。
【図４】従来のスリット式塗布装置の一部を示す拡大図である。
【符号の説明】
【００２５】
１１０：基台、１２０：スリット式塗布ノズル、１２１：ナノメートル薄膜、１２２：ノズルダクト、１３０：ガラス基板、１４０：フォトレジスト層、１５０：フォトレジストの残渣
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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