(57)【要約】 【課題】  設置面積を低減し、かつ基板全面の修正作業を行なうことができる修正装置を提供する。【解決手段】  修正部３０は、基板２をＹ軸方向の直線で２等分した片方の領域に含まれる欠陥を修正することができる位置に設置される。基板２の斜線部が、修正部３０によって欠陥を修正可能な領域であり、かつ撮像部５０によって撮影可能な領域を示している。基板２をＸ軸方向に移動させる移動距離、つまりＸ軸ステージ１３の移動距離は、修正部３０と撮像部５０との距離と、Ｘ軸方向に平行な基板の辺の長さの半分の距離とを加算した距離である。すなわち、Ｘ軸ステージ１３の移動距離は、基板の領域に含まれるすべての欠陥を修正することができる位置に設置されているときの移動距離と比べ、Ｘ軸方向に平行な基板の辺の長さの半分の距離だけ少ない。【選択図】      図３
2006337945.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が載置される第１の移動ステージと、
第１の移動ステージが第１の方向に移動可能に載置される第２の移動ステージと、
第２の移動ステージが第１の方向と直交する第２の方向に移動可能に載置される固定ステージと、
第１の移動ステージを第１の方向におよび第２の移動ステージを第２の方向に移動するための駆動手段と、
第１の移動ステージに載置された基板の欠陥を修正するための修正手段であって、第１の移動ステージに載置された基板の面のうち、欠陥を有する修正面に対向させて、固定ステージに固定された固定部材に設置された修正手段と、
基板の欠陥の位置を表す欠陥位置情報を記憶する記憶手段と、
記憶手段から欠陥位置情報を読み出し、駆動手段を制御して、第１の移動ステージに載置された基板を、欠陥位置情報が示す欠陥位置に移動させて、基板の欠陥を修正手段に修正させる制御手段とを含み、
修正手段は、第１の移動ステージに載置された基板の修正面を含む矩形であって、一辺が第２の方向と平行な最小の矩形の領域のうち、その矩形を第２の方向の直線で２等分した片方の領域に含まれる欠陥を修正することができる位置に設置されることを特徴とする修正装置。
【請求項２】
基板を第１の移動ステージに載置することができる基板搬送手段であって、前記修正面に垂直な方向を回転軸にして、基板の方向を回転させることができる基板搬送手段をさらに含み、  
前記制御手段は、まだ基板の欠陥の修正が行われていない基板を第１の移動ステージに載置する前に、基板の修正面の領域であって、基板が第１の移動ステージに予め定める方向で載置されたときに前記２等分された片方の領域に入る第１の領域に欠陥が存在するか否かを判定し、欠陥が存在するときは、基板搬送手段に、その基板を予め定める方向で第１の移動ステージに載置させ、欠陥が存在しないときは、基板搬送手段に、基板を予め定める方向に対して１８０度回転させた方向で第１の移動ステージに載置させることを特徴とする請求項１に記載の修正装置。
【請求項３】
前記基板搬送手段は、さらに第１の移動ステージに載置されている基板を取り外すことができ、
前記制御手段は、前記第１の領域の欠陥をすべて修正すると、前記基板搬送手段に、第１の移動ステージから基板を取り外させた後、基板の修正面の領域のうち第１の領域を除く第２の領域に欠陥が存在するか否かを判定し、欠陥が存在するときは、前記基板搬送手段に、取り外された基板を１８０度回転させて、第１の移動ステージに載置させ、第２の領域に存在する欠陥を、前記修正手段に修正させることを特徴とする請求項２に記載の修正装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記基板搬送手段に、基板を１８０度回転させたときは、基板を修正位置に位置付ける際、記憶手段から読み出した欠陥位置情報が示す位置を１８０度回転した位置に変換した位置に位置付けることを特徴とする請求項２または３に記載の修正装置。
【請求項５】
予め定める領域を撮影するための撮像手段であって、前記修正手段から第１の方向に予め定める距離離れた位置に、前記修正面に対向させて、前記固定部材に固定された撮像手段をさらに含み、
撮像手段は、第１の方向のうち、前記修正手段に対して撮像手段の方向に最大限移動させた前記矩形を２等分する第２の方向に通る前記直線上の位置に設置されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の修正装置。
【請求項６】
前記第１の移動ステージの移動距離は、前記修正手段と前記撮像手段との距離と、前記第１の方向に平行な辺の長さの半分の距離とを加算した距離であることを特徴とする請求項５に記載の修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板などの欠陥を修正する修正装置に関し、より詳細には、半導体あるいは液晶ディスプレイなどの製造において、欠陥部分を有するウエハあるいはガラス基板などの基板を載置した移動可能なステージを移動させて、基板の欠陥位置を、修正するための位置に位置づけて、修正を行う修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体あるいは液晶ディスプレイなどの製造においては、歩留まり向上を目標として、欠陥が検出されたウエハあるいはガラス基板などの基板のうち修正可能なものを救済するために、基板の欠陥部分の修正作業を修正装置によって行い、良品率向上に努めている。
【０００３】
基板などの欠陥を修正する従来技術として、液晶表示装置用のカラーフィルタの色抜け欠陥を修正する欠陥修正装置がある。この欠陥修正装置は、ＸＹテーブル上の欠陥修正対象物の欠陥位置をＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラによって検出し、ＸＹテーブルを移動して、検出した欠陥位置にレーザ光を照射することによって欠陥部分を除去し、除去した部分にインクを塗布して、欠陥を修復するものである（たとえば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１６６１２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
液晶の分野では、ガラス基板の大型化が進み、それに伴い装置の大型化が必要となり、工場の敷地面積あるいは建屋のフロアの装置による占有率に大きな影響を与えている。特に、撮像機構あるいは修正機構を装置の上部に固定して、ステージに載せた基板を移動することによって目的位置の観察あるいは修正処理を行う装置構成の場合、装置のフットプリントつまり設置面積は、基板サイズの４倍以上の面積が必要であり、装置自体がかなり大きくなる。
【０００６】
上述した従来技術は、基板を載置したＸＹテーブル、つまりステージを移動して、基板の欠陥部分を、修正機構が修正を行う修正位置に位置付けて修正を行う装置構成であり、基板のサイズが大きくなるに従って、修正装置の大きさも大きくする必要があり、修正装置はより広い設置面積を必要とするという問題がある。このような装置構成に対して、修正装置の設置面積を低減するために、基板の位置を固定して、修正部を移動させる装置構成も考えられるが、基板の上を修正機構が移動すると、移動に伴って発生する塵埃が、不良を発生させる要因になる可能性があり、採用することができる装置構成ではないと考えられる。
【０００７】
本発明の目的は、設置面積を低減し、かつ基板全面の修正作業を行なうことができる修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、基板が載置される第１の移動ステージと、
第１の移動ステージが第１の方向に移動可能に載置される第２の移動ステージと、
第２の移動ステージが第１の方向と直交する第２の方向に移動可能に載置される固定ステージと、
第１の移動ステージを第１の方向におよび第２の移動ステージを第２の方向に移動するための駆動手段と、
第１の移動ステージに載置された基板の欠陥を修正するための修正手段であって、第１の移動ステージに載置された基板の面のうち、欠陥を有する修正面に対向させて、固定ステージに固定された固定部材に設置された修正手段と、
基板の欠陥の位置を表す欠陥位置情報を記憶する記憶手段と、
記憶手段から欠陥位置情報を読み出し、駆動手段を制御して、第１の移動ステージに載置された基板を、欠陥位置情報が示す欠陥位置に移動させて、基板の欠陥を修正手段に修正させる制御手段とを含み、
修正手段は、第１の移動ステージに載置された基板の修正面を含む矩形であって、一辺が第２の方向と平行な最小の矩形の領域のうち、その矩形を第２の方向の直線で２等分した片方の領域に含まれる欠陥を修正することができる位置に設置されることを特徴とする修正装置である。
【０００９】
本発明に従えば、まず、第１の移動ステージによって、基板が載置され、第２の移動ステージによって、第１の移動ステージが第１の方向に移動可能に載置され、固定ステージによって、第２の移動ステージが第１の方向と直交する第２の方向に移動可能に載置され、記憶手段によって、基板の欠陥の位置を表す欠陥位置情報が記憶される。
【００１０】
次に、第１の移動ステージに載置された基板の欠陥を修正するための修正手段であって、第１の移動ステージに載置された基板の面のうち、欠陥を有する修正面に対向させて、固定ステージに固定された固定部材に設置された修正手段が、第１の移動ステージに載置された基板の修正面を含む矩形であって、一辺が第２の方向と平行な最小の矩形の領域のうち、その矩形を第２の方向の直線で２等分した片方の領域に含まれる欠陥を修正することができる位置に設置される。
【００１１】
さらに、制御手段によって、記憶手段から欠陥位置情報が読み出され、第１の移動ステージを第１の方向におよび第２の移動ステージを第２の方向に移動するための駆動手段が制御されて、第１の移動ステージに載置された基板が、欠陥位置情報が示す欠陥位置に移動されて、基板の欠陥を修正手段に修正させる。
【００１２】
このように、修正手段は、基板の修正面を含む矩形であって、一辺が第２の方向と平行な最小の矩形の領域のうち、その矩形を第２の方向の直線で２等分した片方の領域に含まれる欠陥を修正することができる位置に設置されるので、基板の移動距離は基板の片方の領域の欠陥を修正するための移動距離でよく、かつ基板を１８０度回転することによって、矩形を２等分した他方の領域に含まれる欠陥も修正することができる。
【００１３】
また本発明は、基板を第１の移動ステージに載置することができる基板搬送手段であって、前記修正面に垂直な方向を回転軸にして、基板の方向を回転させることができる基板搬送手段をさらに含み、  
前記制御手段は、まだ基板の欠陥の修正が行われていない基板を第１の移動ステージに載置する前に、基板の修正面の領域であって、基板が第１の移動ステージに予め定める方向で載置されたときに前記２等分された片方の領域に入る第１の領域に欠陥が存在するか否かを判定し、欠陥が存在するときは、基板搬送手段に、その基板を予め定める方向で第１の移動ステージに載置させ、欠陥が存在しないときは、基板搬送手段に、基板を予め定める方向に対して１８０度回転させた方向で第１の移動ステージに載置させることを特徴とする。
【００１４】
本発明に従えば、まだ基板の欠陥の修正が行われていない基板を第１の移動ステージに載置する前に、基板の修正面の領域であって、基板が第１の移動ステージに予め定める方向で載置されたときに２等分された片方の領域に入る第１の領域に欠陥が存在するか否かを判定し、欠陥が存在しないときは、基板搬送手段に、基板を予め定める方向に対して１８０度回転させて第１の移動ステージに載置させるので、修正すべき欠陥のない方向での基板の載置および取り外しを省略することができる。
【００１５】
また本発明は、前記基板搬送手段は、さらに第１の移動ステージに載置されている基板を取り外すことができ、
前記制御手段は、前記第１の領域の欠陥をすべて修正すると、前記基板搬送手段に、第１の移動ステージから基板を取り外させた後、基板の修正面の領域のうち第１の領域を除く第２の領域に欠陥が存在するか否かを判定し、欠陥が存在するときは、前記基板搬送手段に、取り外された基板を１８０度回転させて、第１の移動ステージに載置させ、第２の領域に存在する欠陥を、前記修正手段に修正させることを特徴とする。
【００１６】
本発明に従えば、修正手段が第１の領域の欠陥をすべて修正した後、基板の修正面の領域のうち第１の領域を除く第２の領域に欠陥が存在するときは、基板搬送手段に、基板を１８０度回転させて、第１の移動ステージに載置し直させ、第２の領域に存在する欠陥を、修正手段に修正させるので、基板搬送手段に基板の方向を回転させて、修正を行っていない領域の欠陥を修正することができる。
【００１７】
また本発明は、前記制御手段は、前記基板搬送手段に、基板を１８０度回転させたときは、基板を修正位置に位置付ける際、記憶手段から読み出した欠陥位置情報が示す位置を１８０度回転した位置に変換した位置に位置付けることを特徴とする。
【００１８】
本発明に従えば、基板を１８０度回転させたときは、基板を修正位置に位置付ける際、欠陥位置情報が示す位置を１８０度回転した位置に変換した位置に位置付けるので、基板の位置を正しく修正位置に位置付けることができる。
【００１９】
また本発明は、予め定める領域を撮影するための撮像手段であって、前記修正手段から第１の方向に予め定める距離離れた位置に、前記修正面に対向させて、前記固定部材に固定された撮像手段をさらに含み、
撮像手段は、第１の方向のうち、前記修正手段に対して撮像手段の方向に最大限移動させた前記矩形を２等分する第２の方向に通る前記直線上の位置に設置されることを特徴とする。
【００２０】
本発明に従えば、撮像手段を有する場合、撮像手段は、第１の方向のうち、修正手段に対して撮像手段の方向に最大限移動させた矩形を２等分する第２の方向の直線上の位置に設置されるので、基板の移動距離を半分にすることができる。
【００２１】
また本発明は、前記第１の移動ステージの移動距離は、前記修正手段と前記撮像手段との距離と、前記第１の方向に平行な辺の長さの半分の距離とを加算した距離であることを特徴とする。
【００２２】
本発明に従えば、第１の移動ステージの移動距離は、修正手段と撮像手段との距離と、第１の方向に平行な辺の長さの半分の距離とを加算した距離であるので、固定ステージの第１の方向の長さを、基板を含む矩形の第１の方向の長さの半分の長さだけ短くすることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、基板の移動距離は基板の片方の領域の欠陥を修正するための移動距離でよく、かつ基板を１８０度回転することによって、矩形を２等分した他方の領域に含まれる欠陥も修正することができるので、設置面積を低減し、かつ基板全面の修正作業を行なうことができる。
【００２４】
また本発明によれば、修正すべき欠陥のない方向での基板の載置および取り外しを省略することができるので、作業時間を短縮することができる。
【００２５】
また本発明によれば、基板搬送手段に基板の方向を回転させて、修正を行っていない領域の欠陥を修正することができるので、基板全面の修正作業を自動化することができる。
【００２６】
また本発明によれば、基板の位置を正しく修正位置に位置付けるので、基板を回転して修正を行うことを可能とすることができる。
【００２７】
また本発明によれば、基板の移動距離を半分にすることができるので、装置の幅を、最大で、基板の移動距離の半分少なくすることができる。
【００２８】
また本発明によれば、固定ステージの第１の方向の長さを、基板を含む矩形の第１の方向の長さの半分の長さだけ短くすることができるので、設置面積を、基板を含む矩形の第１の方向の長さの半分の幅だけ少なくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
図１は、本発明の実施の一形態である修正装置１の構成を示す図である。修正装置１は、基板の欠陥を修正するための装置であり、図１には、欠陥検査装置３が接続された修正装置１を示している。欠陥検査装置３は、基板の欠陥を検出して、基板の欠陥の位置を表す欠陥位置情報を生成し、生成した欠陥位置情報を、欠陥検査装置３に接続されている修正装置１の記憶部８０に記憶させる。
【００３０】
修正装置１は、後述するステージ部１０、後述する制御部２０、基板の欠陥箇所を修正する修正部３０、基板の搬送、基板の方向の回転、ステージ部１０への基板の載置、およびステージ部１０から基板の取り出しなどを行う基板搬送ロボットなどによって構成される基板搬送部４０、基板の欠陥状態などを観察するために基板の画像を撮影する撮像部５０、撮像部５０によって撮影された画像に対して画像処理を行い表示部７０に表示させる画像処理部６０、画像処理部６０から送られた画像を表示する表示部７０、および欠陥検査装置３に接続され、欠陥検査装置３が生成した欠陥位置情報を記憶する磁気ディスク装置などの記憶装置によって構成される記憶部８０を含む。修正部３０、基板搬送部４０、撮像部５０、画像処理部６０、表示部７０、および記憶部８０は、従来技術によるものであり、詳細な説明は省略する。
【００３１】
ステージ部１０は、修正部３０によって基板の欠陥を修正するために、基板の欠陥位置を修正部３０の修正位置に位置付くように、基板を移動させるものであり、詳細は後述する。制御部２０は、たとえばＣＰＵ（Central Processing Unit）および半導体メモリなどのメモリ部によって構成され、メモリ部に記憶されたプログラムをＣＰＵに実行させることによって、ステージ部１０、修正部３０、基板搬送部４０、および画像処理部６０を制御し、さらに記憶部８０から欠陥位置情報を読み出すなどの処理を行う。制御部１０は、修正部３０を制御する修正部制御手段２１と、ステージ部１０を制御するステージ移動制御手段２２と、記憶部８０から欠陥位置情報を読み出す欠陥情報読出し手段２３とを含む。修正部制御手段２１、ステージ移動制御手段２２、および欠陥情報読出し手段２３は、メモリ部に記憶されたプログラムをＣＰＵに実行させることによって実現される機能である。
【００３２】
図２は、従来技術によるステージ部１１０の構成を示す図である。ステージ部１１０は、ステージ部１１０の基盤となる固定ステージ１１１と、固定ステージ１１１に、図２に示したＹ軸方向に移動可能に載置されたＹ軸ステージ１１２と、Ｙ軸ステージ１１２に、図２に示したＸ軸方向に移動可能に載置されたＸ軸ステージ１１３と、固定ステージ１１１に固定された固定部材１１４と、Ｙ軸ステージ１１２およびＸ軸ステージ１１３を移動させる図示しないモータなどを含む駆動部とを含む。
【００３３】
基板２は、基板搬送部４０によってＸ軸ステージ１１３に載置される。基板２の欠陥箇所を修正する修正部１１５および基板２の欠陥状態などを観察するために基板２の画像を撮影する撮像部１１６は、Ｘ軸ステージ１１３に載置された基板２の面のうち、欠陥を有する修正面に対向させて、固定部材１１４に設置される。修正部１１５および撮像部１１６は、Ｘ軸方向の同一線上に設置される。
【００３４】
Ｘ軸ステージ１１３への基板２の載置方向は、常に同じ方向であり、修正部１１５が基板のすべての欠陥を修正するためには、図２に示したＸ軸方向については、Ｘ軸ステージ１１３を、修正部１１５の位置を中心に両側に、少なくとも基板のＸ軸方向の長さの範囲で移動させる必要がある。同様に、図２に示したＹ軸方向については、Ｙ軸ステージ１１２を、修正部１１５の位置を中心に両側に、少なくとも基板のＹ軸方向の長さの範囲で移動させる必要がある。さらに、修正部１１５に対して、Ｘ軸方向に離して設置されている撮像部１１６を考慮すると、Ｘ軸方向は、修正部１１５と撮像部１１６との距離分だけ、さらに移動させる移動範囲を大きくする必要がある。図２に示した二点鎖線の４つの矩形、つまり修正部１１５の右上および右下と、撮像部１１６の左上および左下との４つの矩形は、基板２を最低限移動させなければならない４つの位置を示している。
【００３５】
具体的には、たとえば基板２のＸ軸方向の長さをＢ、修正部１１５と撮像部１１６との距離をＡとすると、基板２がＸ軸方向に移動する移動距離は、つまりＸ軸ステージ１１３の移動距離は、Ａ＋Ｂであり、Ｘ軸ステージ１１３の移動範囲は、Ａ＋２Ｂである。ステージ部１１０を構成するために、Ｘ軸ステージ１１３の移動範囲以外に最低限必要な長さをＣとすると、ステージ部１１０は、Ｘ軸方向に少なくともＡ＋２Ｂ＋Ｃの長さが必要である。
【００３６】
図３は、図１に示したステージ部１０の構成を示す図である。ステージ部１０は、ステージ部１０の基盤となる固定ステージ１１と、固定ステージ１１に、図３に示したＹ軸方向に移動可能に載置されたＹ軸ステージ１２と、Ｙ軸ステージ１２に、図３に示したＸ軸方向に移動可能に載置されたＸ軸ステージ１３と、固定ステージ１１に固定された固定部材１４と、Ｙ軸ステージ１２およびＸ軸ステージ１３を移動させる駆動手段である図示しないモータなどを含む駆動部とを含む。
【００３７】
基板２は、基板搬送部４０によってＸ軸ステージ１３に載置される。修正部３０および撮像部５０は、Ｘ軸ステージ１３に載置された基板２の面のうち、欠陥を有する修正面に対向させて、固定部材１４に設置される。修正部３０および撮像部５０は、Ｘ軸方向の同一線上に設置される。
【００３８】
ステージ部１０は、Ｘ軸方向の長さと、修正部１１５および撮像部１１６の設置位置とが、図２に示したステージ部１１０と異なる。修正部３０は、基板２をＹ軸方向の直線で２等分した片方の領域に含まれる欠陥を修正することができる位置に設置される。たとえば図３に示した修正部３０および撮像部５０は、基板２の左半分に存在する欠陥を撮影し、かつ修正することができる位置に設置される。すなわち、撮像部５０は、Ｘ軸方向のうち、修正部３０に対して撮像部５０の方向に最大限移動させた位置の基板２を２等分するＹ軸方向の直線上の位置に設置される。図３に示した基板２の斜線部が、修正部３０によって、欠陥を修正可能な領域であり、かつ撮像部６０によって撮影可能な領域を示している。以下斜線部分を修正可能領域という。
【００３９】
基板２をＸ軸方向に移動させる移動距離、つまりＸ軸ステージ１３の移動距離は、修正部３０と撮像部５０との距離と、Ｘ軸方向に平行な基板の辺の長さの半分の距離とを加算した距離である。すなわち、Ｘ軸ステージ１３の移動距離は、基板の領域に含まれるすべての欠陥を修正することができる位置に設置されているときの移動距離と比べ、Ｘ軸方向に平行な基板の辺の長さの半分の距離だけ少ない。
【００４０】
具体的には、たとえば基板２のＸ軸方向の長さをＢ、修正部３０と撮像部５０との距離をＡとすると、Ｘ軸ステージ１３の移動距離は、Ａ＋０．５Ｂであり、Ｘ軸ステージ１３の移動範囲は、Ａ＋１．５Ｂである。ステージ部１０を構成するために、Ｘ軸ステージ１３の移動範囲以外に最低限必要な長さをＣとすると、ステージ部１０は、Ｘ軸方向に少なくともＡ＋１．５Ｂ＋Ｃの長さが必要である。したがって、ステージ部１０のＸ軸方向の長さは、図２に示したステージ部１１０のＸ軸方向の長さに比べて、基板２のＸ軸方向の長さの半分、つまり長さ０．５Ｂ短くすることができ、図３に示した左端の二点鎖線部分の領域を削減することができる。
【００４１】
図３に示した基板２は、基板２の一辺がＸ軸方向に平行な矩形である場合について説明したが、基板２が矩形でない場合についても、適用可能である。この場合、基板２の修正面を含む矩形であって、矩形の一辺がＸ軸方向に平行な最小の矩形を想定し、想定した矩形が、図２に示した二点鎖線部の矩形であると考えればよい。たとえば基板２のＸ軸方向の長さは、想定した矩形のＸ軸方向の長さに置き換えればよく、基板２の一辺がＸ軸と平行である場合については、想定した矩形の一辺がＸ軸と平行であると考えればよい。
【００４２】
このように、基板２の修正面を含む最小の矩形を考えれば、修正手段である修正部３０は、基板の修正面を含む矩形であって、一辺が第２の方向であるＹ軸方向と平行な最小の矩形の領域のうち、その矩形を第２の方向の直線で２等分した片方の領域に含まれる欠陥を修正することができる位置に設置されるので、基板の移動距離は基板の片方の領域の欠陥を修正するための移動距離でよく、かつ基板を１８０度回転することによって、矩形を２等分した他方の領域に含まれる欠陥も修正することができる。したがって、設置面積を低減し、かつ基板全面の修正作業を行なうことができる。
【００４３】
さらに、撮像手段である撮像部５０は、第１の方向であるＸ軸方向のうち、修正手段である修正部３０に対して、撮像手段の方向に最大限移動させた矩形を２等分する第２の方向であるＹ軸方向に通る直線上の位置に設置されるので、基板の移動距離を半分にすることができる。したがって、装置の幅を、最大で、基板の移動距離の半分少なくすることができる。
【００４４】
さらにまた、第１の移動ステージであるＸ軸ステージ１３の移動距離は、修正手段である修正部３０と撮像手段である撮像部５０との距離と、第１の方向であるＸ軸方向に平行な辺の長さの半分の距離とを加算した距離であるので、固定ステージの第１の方向の長さを、基板を含む矩形の第１の方向の長さの半分の長さだけ短くすることができる。したがって、設置面積を、基板を含む矩形の第１の方向の長さの半分の幅だけ少なくすることができる。
【００４５】
図４は、図１に示した制御部２０が処理する処理手順を示すフローチャートである。基板の欠陥位置情報が記憶部８０に記憶され、基板搬送部４０に基板２がセットされると、ステップＳ１に移る。
【００４６】
ステップＳ１では、欠陥情報読出し手段２３は記憶部８０から欠陥位置情報を読み出す。制御部２０は、基板２の修正面の領域のうち、基板２が予め定める方向（以下、正方向という）でＸ軸ステージ１３に載置された場合、修正可能領域に入る領域に欠陥が存在するか否かを、読み出された欠陥位置情報に基づいて確認して、基板２の載置方向を決定する。欠陥が存在するときは、正方向とし、欠陥が存在しないときは、基板２の方向を正方向に対して１８０度回転した方向（以下、逆方向という）とする。
【００４７】
図５は、図１に示した記憶部８０から読み出した欠陥位置情報の一例を示す図である。欠陥位置情報は、基板毎に作成され、基板を識別するための「基板ＩＤ（Identification）」、各欠陥に付けられた番号を示す「Ｎｏ．」、欠陥のサイズをランクで表す「サイズ」、および欠陥の位置を表す「座標」などの情報を含む。図５には、欠陥位置情報と、各欠陥を修正するときに、基板２をＸ軸ステージ１３に載置すべき方向を示す「基板向き」情報が示されている。欠陥のサイズのランクは、小さいものから、たとえばＳ、Ｍ、Ｌ、およびＯで表す。座標は、欠陥検査装置３が検出した基板上の欠陥の位置を、基板座標系におけるＸＹ座標で表し、たとえば「４０、５０」は、Ｘ座標が４０で、Ｙ座標が５０であることを示している。
【００４８】
図５に示された位置欠陥情報には、基板ＩＤがＡＢＣ０１２３４５６であることを示す「基板ＩＤ：ＡＢＣ０１２３４５６」が示され、その下に、「Ｎｏ．」欄、「サイズ」欄、および「座標」欄が示され、６つの欠陥について、具体例が示されている。各Ｎｏ．に対するサイズおよび座標は、Ｎｏ．１の欠陥は、サイズ「Ｓ」および座標「１０、１０」、Ｎｏ．２の欠陥は、サイズ「Ｓ」および座標「４０、５０」、Ｎｏ．３の欠陥は、サイズ「Ｌ」および座標「９０、８０」、Ｎｏ．４の欠陥は、サイズ「Ｏ」および座標「１００、９０」、Ｎｏ．５の欠陥は、サイズ「Ｍ」および座標「２００、２５０」、Ｎｏ．６の欠陥は、サイズ「Ｌ」および座標「２２０、４０」である。
【００４９】
「基板向き」情報は、制御部２０が、欠陥位置情報に基づいて、基板２をＸ軸ステージ１３に載置すべき方向を、欠陥毎に判断して、生成した情報である。図５に示された基板向き情報には、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４の欠陥は「正」、Ｎｏ．５およびＮｏ．６の欠陥は「逆」と示されている。「正」は正方向、「逆」は逆方向を示す。「基板向き」情報は、図４に示したフローチャートのステップＳ１で、生成される。
【００５０】
図４を参照して、ステップＳ２では、制御部２０は、正方向で載置して修正すべき欠陥があるか否かを判断する。正方向で載置して修正すべき欠陥があるときは、基板搬送ロボットなどで構成される基板搬送部４０に、基板２を、正方向でＸ軸ステージ１３に搬入、つまり搬送して載置するように指示する。正方向で修正すべき欠陥がないときは、逆方向で基板２をＸ軸ステージ１３に載置するように指示する。さらに後述するステップＳ９で基板２の向きを逆方向にした場合も、逆方向で基板２をＸ軸ステージ１３に載置するように指示する。基板搬送部４０は、基板２を搬送し、指示された方向で、Ｘ軸ステージ１３に載置する。
【００５１】
このように、正方向で載置して修正すべき欠陥があるか否かを判断し、正方向で修正すべき欠陥がないときは、逆方向で基板２をＸ軸ステージ１３に載置するので、正方向での載置および取り外しを省略することができる。
【００５２】
すなわち、まだ基板の欠陥の修正が行われていない基板を第１の移動ステージであるＸ軸ステージ１３に載置する前に、基板の修正面の領域であって、基板が第１の移動ステージに予め定める方向である正方向で載置されたときに２等分された片方の領域に入る第１の領域に欠陥が存在するか否かを判定し、欠陥が存在しないときは、基板搬送手段である基盤搬送部４０に、基板を予め定める方向に対して１８０度回転させて第１の移動ステージに載置させるので、修正すべき欠陥のない方向での基板の載置および取り外しを省略することができる。したがって、作業時間を短縮することができる。
【００５３】
図５に示した基板は、正方向で載置して修正を行う欠陥と、逆方向で載置して修正を行う欠陥とを有するので、制御部２０は、基板２を正方向でＸ軸ステージ１３に載置するように、基板搬送部４０に指示する。もしも、正方向で載置して修正を行う欠陥も、逆方向で載置して修正を行う欠陥もないときは、その基板に対する修正作業は行わずに、処理を終了する。このように、修正が必要でない基板は分別されるので、修正の必要のない基板が含まれているときも、修正装置１を用いることができる。
【００５４】
ステップＳ３では、ステージ移動制御手段２２は、修正対象の欠陥の欠陥位置を、修正部３０の修正位置に位置付ける。作業者が修正する欠陥を選択する場合は、作業者が指示した欠陥の位置に位置付ける。ステージ移動制御手段２２は、基板２の修正面での座標位置であって、欠陥位置情報の座標が示す座標位置が、修正部３０の修正位置に一致するように、駆動部を制御して、Ｙ軸ステージ１２およびＸ軸ステージ１３を移動する。基板２がＸ軸ステージ１３に逆方向に載置されているときは、ステージ移動制御手段２２は、欠陥位置情報が示す座標位置を、基板２の修正面を１８０度回転した位置に変換し、変換した座標位置を、修正部３０の修正位置に位置付ける。撮像部５０を用いる場合は、作業者は、撮像部５０が撮影し、表示部７０に表示された画像によって、欠陥位置を確認し、位置がずれているときは、作業者が位置補正を行うことができる。
【００５５】
このように、基板２がＸ軸ステージ１３に逆方向に載置されているときは、つまり基板を１８０度回転させたときは、基板を修正位置に位置付ける際、欠陥位置情報が示す位置を１８０度回転した位置に変換した位置に位置付けるので、基板の位置を正しく修正位置に位置付けることができる。したがって、基板を回転して修正を行うことを可能とすることができる。
【００５６】
ステップＳ４では、修正部制御手段２１は、修正部３０に欠陥個所の修正を指示する。修正部３０は、修正の指示を受けると、修正位置に位置付いている欠陥個所を修正する。修正部３０は、修正対象となる基板の種類および修正対象となる欠陥の種類にもよるが、たとえばカラーフィルタの画素欠陥に対して、レーザ加工を施して、加工部分に対してインクジェット塗布装置などによって欠陥修正を行う装置、あるいは配線の欠陥部分を修正するために、レーザカットを行う装置などである。
【００５７】
ステップＳ５では、制御部２０は、Ｘ軸ステージ１３に載置されている基板２に対する修正可能領域に、まだ修正されていない欠陥が存在するか否かを、欠陥位置情報に基づいて、判断する。修正可能領域にまだ修正されていない欠陥が存在するときは、ステップＳ３に戻る。修正可能領域に存在する欠陥をすべて修正したときは、ステップＳ６に進む。図５に示した基板は、Ｎｏ．２〜Ｎｏ．４の欠陥が正方向に載置された状態で修正すべき欠陥であるので、ステップＳ３に戻る。Ｎｏ．４の欠陥まで、修正したときに、ステップＳ６に進む。基板２が逆方向に載置された後、このステップＳ５では、Ｎｏ．６の欠陥まで修正されたか否かを判断する。Ｎｏ．６の欠陥まで修正されていないときは、ステップＳ３に戻り、Ｎｏ．６まで修正されたときは、ステップＳ６に進む。
【００５８】
ステップＳ６では、制御部２０は、基板２が載置されている方向を確認する。基板２が正方向で載置されていれば、ステップＳ７に進み、逆方向で載置されていれば、ステップＳ１０に進む。ステップＳ７では、制御部２０は、基板２を逆方向で載置して修正すべき欠陥があるか否かを、欠陥位置情報に基づいて判断する。逆方向で載置して修正すべき欠陥があるとき、ステップＳ８に進み、逆方向で載置して修正すべき欠陥がないとき、ステップＳ１０に進む。
【００５９】
ステップＳ８では、制御部２０は、基板搬送部４０に、ステージ部１０に載置された基板２を搬出、つまり取り出すように指示する。基板搬送部４０は、基板２をＸ軸ステージ１３から取り外す。ステップＳ９では、制御部２０は、基板搬送部４０に、正方向の基板２を、逆方向にするように指示する。基板搬送部４０は、基板２を正方向から１８０度回転して、逆方向にして、ステップＳ２に戻る。ステップＳ１０では、制御部２０は、基板搬送部４０に、Ｘ軸ステージ１３に載置されている基板２を搬出、つまり取り外すように指示する。基板搬送部４０は、Ｘ軸ステージ１３から基板を取り外し、処理を終了する。
【００６０】
図４に示したフローチャートでは、ステップＳ６で、基板が載置されている方向を確認し、基板２が正方向で載置されている場合のみ、ステップＳ７で、逆方向で載置して修正すべき欠陥があるか否かを、欠陥位置情報に基づいて判断しているが、ステップＳ６およびステップＳ７を１つにまとめて、載置されている基板の方向を１８０度回転した方向で載置して修正すべき欠陥があるか否かを、欠陥位置情報に基づいて判断し、修正すべき欠陥があるとき、ステップＳ８に進み、修正すべき欠陥がないとき、ステップＳ１０に進めてもよい。
【００６１】
このように、修正手段である修正部３０が、基板が載置されている状態で修正可能な欠陥つまり第１の領域の欠陥をすべて修正した後、基板の修正面の領域のうち第１の領域を除く第２の領域に欠陥が存在するときは、基板搬送手段に、基板を１８０度回転させて、第１の移動ステージに載置し直させ、第２の領域に存在する欠陥を、修正手段に修正させるので、基板搬送手段に基板の方向を回転させて、修正を行っていない領域の欠陥を修正することができる。したがって、基板全面の修正作業を自動化することができる。
【００６２】
上述した実施の形態では、基板２の搬送、載置、回転、および取り出しを、基板搬送ロボットなどで構成される基板搬送部４０によって行っているが、基板搬送部４０を用いずに、作業者が行うようにしてもよい。この場合、修正装置１は、基板を載置する方向を、たとえば表示部７０に表示し、作業者が、表示部７０に表示された方向で、基板をＸ軸ステージ１３に載置する。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の実施の一形態である修正装置１の構成を示す図である。
【図２】従来技術によるステージ部１１０の構成を示す図である。
【図３】図１に示したステージ部１０の構成を示す図である。
【図４】図１に示した制御部２０が処理する処理手順を示すフローチャートである。
【図５】図１に示した記憶部８０から読み出した欠陥位置情報の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００６４】
１  修正装置
２  基板
３  欠陥検査装置
１０，１１０  ステージ部
１１，１１１  固定ステージ
１２，１１２  Ｙ軸ステージ
１３，１１３  Ｘ軸ステージ
１４，１１４  固定部材
２０  制御部
２１  修正部制御手段
２２  ステージ移動制御手段
２３  欠陥情報読出し手段
３０，１１５  修正部
４０  基板搬送部
５０，１１６  撮像部
６０  画像処理部
７０  表示部
８０  記憶部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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