(57)【要約】【課題】  低コストで容易に反射表示の視角を狭くする原因を取り除き、反射表示の品位向上を可能とする電気光学装置及びその電気光学装置の製造方法を提供すること。【解決手段】    第２基板上に、凹凸２１を有する下地層１５を形成する形成工程と、該形成工程により形成された下地層上に、光を反射する反射膜１６を成膜する成膜工程と、該成膜工程により成膜された反射膜１６の平坦部２３を除去する除去工程とを具備することとしたので、平坦部２３で外部の光が鏡面反射することがなく、純粋な外光による散乱を用いて鮮明な反射表示が可能となる液晶装置１を製造できる。【選択図】    図４
2006201214.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学物質を支持する基板と、
前記基板上に形成され、複数の凸部を有する樹脂層と、
前記樹脂層上に形成され、前記複数の凸部が反映された複数の凸部を有する反射膜とを備え、
前記樹脂層の前記凸部同士の間の領域は、平坦部であり前記反射膜が設けられていないことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
基板上に、凹凸を有する樹脂層を形成する形成工程と、
前記形成工程により形成された樹脂層上に、光を反射する反射膜を成膜する成膜工程と、
前記成膜工程により成膜された反射膜の平坦部を除去する除去工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記樹脂層の凹凸は、複数の凸部を有し、
前記平坦部は、前記凸部同士の間の領域に対応することを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記形成工程は、前記基板上に第１の感光性樹脂を塗布する第１の塗布工程と、
前記第１の塗布工程により塗布された前記第１の感光性樹脂を、遮光部が所定のパターンで形成された第１の露光マスクを用いて露光する第１の露光工程と、
前記第１の露光工程により露光された前記第１の感光性樹脂を現像する第１の現像工程とを有し、
前記除去工程は、前記成膜工程により成膜された前記反射膜上に、前記第１の感光性樹脂がポジ型であるときはポジ型の第２の感光性樹脂を、前記第１の感光性樹脂がネガ型であるときはネガ型の第２の感光性樹脂を塗布する第２の塗布工程と、
前記第２の塗布工程により塗布された前記第２の感光性樹脂を、前記第１の露光マスクと同じパターンの遮光部を備えた露光マスクを用いて露光する第２の露光工程と、
前記第２の露光工程により露光された前記第２の感光性樹脂を現像する第２の現像工程と、
前記第２の現像工程後に露出した前記反射膜の平坦部をエッチングする工程と、
前記第２の感光性樹脂を剥離する工程とを有することを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記形成工程は、前記基板上に第１の感光性樹脂を塗布する第１の塗布工程と、
前記第１の塗布工程により塗布された前記第１の感光性樹脂を、遮光部が所定のパターンで形成された第１の露光マスクを用いて露光する第１の露光工程と、
前記第１の露光工程により露光された前記第１の感光性樹脂を現像する第１の現像工程とを有し、
前記除去工程は、前記成膜工程により成膜された前記反射膜上に、前記第１の感光性樹脂がポジ型であるときはネガ型の第２の感光性樹脂を、前記第１の感光性樹脂がネガ型であるときはポジ型の第２の感光性樹脂を塗布する第２の塗布工程と、
前記第２の塗布工程により塗布された前記第２の感光性樹脂を、前記第１の露光マスクの遮光部のパターンが反転されたパターンで遮光部が形成された第２の露光マスクを用いて露光する第２の露光工程と、
前記第２の露光工程により露光された前記第２の感光性樹脂を現像する第２の現像工程と、
前記第２の現像工程後に露出した前記反射膜の平坦部をエッチングする工程と、
前記第２の感光性樹脂を剥離する工程とを有することを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記第２の感光性樹脂がポジ型であるときは、前記第２の現像工程後に残った前記第２の感光性樹脂が、前記第２の露光工程の遮光領域から前記平坦部側にはみ出すように形成され、
前記第２の感光性樹脂がネガ型であるときは、前記第２の現像工程後に残った前記第２の感光性樹脂が、前記第２の露光工程の露光領域から前記平坦部側にはみ出すように形成されていることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記第２の感光性樹脂の膜厚は、前記第１の感光性樹脂の凸部の膜厚の１．５倍以上で２倍以下であることを特徴とする請求項４から請求項６のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記除去工程は、前記エッチング工程の前に、前記第２の感光性樹脂を焼成する工程を有することを特徴とする請求項４から請求項７のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記平坦部は、該平坦部の表面が前記基板表面に対し０度以上３度以下の角度となることを特徴とする請求項２から請求項８のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パーソナルコンピュータや携帯電話機等に用いられる電気光学装置及びその電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、携帯電話機、携帯情報端末機等といった各種の電子機器において、電気光学装置が広く用いられており、これらの電気光学装置は、該電子機器で各種の情報を視覚的に表示するための表示部位に用いられている。また、電気光学装置において、電気光学物質として液晶を用いている装置、すなわち液晶装置が現在は広く知られている。更に他の電気光学物質を用いた表示装置としてＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置も知られている。
【０００３】
例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶装置は一般的に、それぞれの電極を備えた一対の基板に液晶層を挟持させた構造を有する。すなわち、一対の基板にスペーサーで隔てられた隙間を有し、この隙間に液晶をシール剤を用いて封止することにより形成されている。この液晶装置において、該液晶層に印加する電圧を制御することにより液晶分子の配向状態を変調し、偏光板を通った外光がこの変調された液晶層を通過することにより、その偏光板の観測側には文字、数字、図形といった情報の表示が可能となる。
【０００４】
上記のように外光を液晶に供給し表示を行う方法として、反射型、透過型、および両方を選択できる反射半透過型がよく知られている。反射型の光供給の方法においては、内部に反射機能を有する反射膜を設け、室内光や太陽光といった外部光を反射膜により反射させ、液晶に供給する。この場合、より見やすい表示を得るための凹凸の形成が広く一般に行われている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００５】
また、効率のいい反射板により反射表示の品位を向上させるための技術が広く知られている。（たとえば、特許文献２参照）。
【０００６】
更に反射部と透過部とを有する凹凸構造から成る半透過層が形成された半透過型液晶装置において、該透過部が、その凹凸構造のほぼ平坦な部分を含む領域に形成することが提案されている（たとえば、特許文献３参照）  。
【特許文献１】特開２００３−７５９８７号公報。
【特許文献２】特開２０００−１７１７９４号公報。
【特許文献３】特開２００１−７５０９１号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述の特許文献１の方法により凹凸状の反射面形状をランダムに配置したことで、表示特性の向上は可能となり、更に特許文献２の方法により凹凸面がより滑らかになったが、それでもやはりランダム性を確保しながら当該凹凸面の平坦部を完全に無くすことは難しいため、該平坦部により鏡面反射が生じ、反射の視角を狭くし、反射表示の品位を向上できないという問題があった。
【０００８】
一方、上述の特許文献３の提案によれば半透過層の凹凸構造のほぼ平坦な部分を含む領域に透過部が形成されるので、平坦部による鏡面反射を防ぐことができると考えられるが、正確に平坦部に透過部を形成することはその露光マスクの製造を含め容易ではなく、それが可能であっても高度の技術と大きなコストが掛かるという問題が考えられる。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、低コストで容易に反射表示の視角を狭くする原因を取り除き、反射表示の品位向上を可能とする電気光学装置及びその電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の主たる観点に係る電気光学装置は、電気光学物質を支持する基板と、前記基板上に形成され、複数の凸部を有する樹脂層と、前記樹脂層上に形成され、前記複数の凸部が反映された複数の凸部を有する反射膜とを備え、前記樹脂層の前記凸部同士の間の領域は、平坦部であり前記反射膜が設けられていないことを特徴とする。
【００１１】
本発明は、従来のように下地層の平坦部に反射膜が設けられることで外部の光が鏡面反射することもなく、確実に純粋な外光による散乱を用いて鮮明な反射表示が可能となる。
【００１２】
本発明の他の観点に係る電気光学装置の製造方法は、基板上に、凹凸を有する樹脂層を形成する形成工程と、前記形成工程により形成された樹脂層上に、光を反射する反射膜を成膜する成膜工程と、前記成膜工程により成膜された反射膜の平坦部を除去する除去工程とを具備することを特徴とする。
【００１３】
ここで、「平坦部」とは、例えば凹凸の凹部の底で基板表面に平行な部分をいう。
【００１４】
本発明は、基板上に、凹凸を有する樹脂層を形成する形成工程と、該形成工程により形成された樹脂層上に、光を反射する反射膜を成膜する成膜工程と、該成膜工程により成膜された反射膜の平坦部を除去する除去工程とを具備することとしたので、平坦部で外部の光が鏡面反射することがなく、純粋な外光による散乱を用いて鮮明な反射表示が可能となる電気光学装置を製造できる。
【００１５】
本発明の一の形態によれば、前記樹脂層の凹凸は、複数の凸部を有し、前記平坦部は、前記凸部同士の間の領域に対応することを特徴とする。これにより、除去すべき領域の特定が容易となり、製造コストの低減を図れる。
【００１６】
本発明の一の形態によれば、前記形成工程は、前記基板上に第１の感光性樹脂を塗布する第１の塗布工程と、前記第１の塗布工程により塗布された前記第１の感光性樹脂を、遮光部が所定のパターンで形成された第１の露光マスクを用いて露光する第１の露光工程と、前記第１の露光工程により露光された前記第１の感光性樹脂を現像する第１の現像工程とを有し、前記除去工程は、前記成膜工程により成膜された前記反射膜上に、前記第１の感光性樹脂がポジ型であるときはポジ型の第２の感光性樹脂を、前記第１の感光性樹脂がネガ型であるときはネガ型の第２の感光性樹脂を塗布する第２の塗布工程と、前記第２の塗布工程により塗布された前記第２の感光性樹脂を、前記第１の露光マスクと同じパターンの遮光部を備えた露光マスクを用いて露光する第２の露光工程と、前記第２の露光工程により露光された前記第２の感光性樹脂を現像する第２の現像工程と、前記第２の現像工程後に露出した前記反射膜の平坦部をエッチングする工程と、前記第２の感光性樹脂を剥離する工程とを有することを特徴とする。ここで、「同じパターンの遮光部を備えた露光マスク」とは、第１の露光マスクと同じパターンの遮光部を備えた露光マスクは勿論、第１の露光マスクそのものも含むものとする。これにより、樹脂層表面に容易に凹凸パターンを形成でき、この樹脂層に反射膜を積層して反射膜表面に該凹凸を反映させ、反射光を散乱させることができる。
【００１７】
また、従来、正確に平坦部に透過部を形成することはその露光マスクの製造を含め容易ではなく、それが可能であっても高度の技術と大きなコストが掛かるという問題が考えられていたが、本発明によれば第１の感光性樹脂と同じポジ型、或は同じネガ型の第２の感光性樹脂を用い、更に樹脂層の凹凸形成に用いた第１の露光マスクをそのまま又は同じ遮光部のパターンが形成された露光マスクを用いて露光等して反射膜の平坦部を除去できるので、容易に平坦部を正確にアライメントでき、かつ、別途露光マスクを用意する必要もなく製造コストも低減でき、従来の問題を解決することが可能となる。
【００１８】
本発明の一の形態によれば、前記形成工程は、前記基板上に第１の感光性樹脂を塗布する第１の塗布工程と、前記第１の塗布工程により塗布された前記第１の感光性樹脂を、遮光部が所定のパターンで形成された第１の露光マスクを用いて露光する第１の露光工程と、前記第１の露光工程により露光された前記第１の感光性樹脂を現像する第１の現像工程とを有し、前記除去工程は、前記成膜工程により成膜された前記反射膜上に、前記第１の感光性樹脂がポジ型であるときはネガ型の第２の感光性樹脂を、前記第１の感光性樹脂がネガ型であるときはポジ型の第２の感光性樹脂を塗布する第２の塗布工程と、前記第２の塗布工程により塗布された前記第２の感光性樹脂を、前記第１の露光マスクの遮光部のパターンが反転されたパターンで遮光部が形成された第２の露光マスクを用いて露光する第２の露光工程と、前記第２の露光工程により露光された前記第２の感光性樹脂を現像する第２の現像工程と、前記第２の現像工程後に露出した前記反射膜の平坦部をエッチングする工程と、前記第２の感光性樹脂を剥離する工程とを有することを特徴とする。これにより、第２の感光性樹脂が第１の感光性樹脂と同じネガ型やポジ型でなくても第１の露光マスクを反転させた第２の露光マスクを用いることで、反射膜の平坦部を除去できるので、感光性樹脂選択の自由度を増しながら露光マスクの製造を比較的安価にすることが可能となる。
【００１９】
また、第１の露光マスクの遮光部のパターンが反転されたパターンで遮光部が形成された第２の露光マスクを用いて露光するので、容易に平坦部２３の正確なアライメントができ、製造コストをより軽減可能となる。
【００２０】
本発明の一の形態によれば、前記第２の感光性樹脂がポジ型であるときは、前記第２の現像工程後に残った前記第２の感光性樹脂が、前記第２の露光工程の遮光領域から前記平坦部側にはみ出すように形成され、前記第２の感光性樹脂がネガ型であるときは、前記第２の現像工程後に残った前記第２の感光性樹脂が、前記第２の露光工程の露光領域から前記平坦部側にはみ出すように形成されていることを特徴とする。これにより、第２の感光性樹脂の膜厚、露光量、感光性樹脂の材料又はメルトベークの時間を調整することで第２の現像工程後に残った第２の感光性樹脂が、例えば第２の露光工程の遮光領域から平坦部側にはみ出すように形成することができる。
【００２１】
例えば第２の感光性樹脂のうち反射膜表面に形成されている凹凸の基板平面に対する傾斜面を覆う部分の内、露光マスクの遮光部又は透過部よりはみ出した部分も第２の現像によっても除去されずに残ることとなるので、エッチングによっても反射膜の全面は除去されず、略平坦部等の不要な部分だけが除去されることとなる。
【００２２】
本発明の一の形態によれば、前記第２の感光性樹脂の膜厚は、前記第１の感光性樹脂の凸部の膜厚の１．５倍以上で２倍以下であることを特徴とする。ここで、第１の感光性樹脂の凸部の膜厚とは、例えば図６（ｂ）に示す第１の感光性樹脂２６の表面から凹凸用マスク２７による光の作用する位置を示す凹凸の破線（下地層の凹凸２１）の凸部までの距離をいう。これにより、第２の感光性樹脂のうち反射膜表面に形成されている凹凸の基板平面に対する傾斜面を覆う部分は、第２の現像によっても完全には除去されず残るので、エッチングによっても反射膜の全面は除去されず、略平坦部等の不要な部分だけが除去されることとなる。
【００２３】
本発明の一の形態によれば、前記除去工程は、前記エッチング工程の前に、前記第２の感光性樹脂を焼成する工程を有することを特徴とする。これにより、第２の感光性樹脂が反射膜表面に形成されている凹凸の基板表面に対する傾斜面を覆う部分に、より確実に残るので、平坦部等の不要な部分だけが除去されることとなる。
【００２４】
本発明の一の形態によれば、前記平坦部は、該平坦部の表面が前記基板表面に対し０度以上３度以下の角度となることを特徴とする。これにより、反射膜表面に対し鏡面反射となる領域を確実に除去でき、純粋な外光による散乱を用いて鮮明な反射表示が可能となる。
【００２５】
本発明に係わる電気光学装置用基板の製造方法は、複数の画素を有する基板を備えた電気光学装置用基板の製造方法であって、前記基板に感光性材料を塗布する塗布工程と、前記塗布工程により塗布された感光性材料表面に凹凸を形成するべく、前記感光性材料の膜厚の深さより浅い深さまで光が作用するように露光する凹凸形成用露光工程と、前記電気光学装置用基板となる領域を形成するべく、前記電気光学装置用基板となる領域外に対して、前記塗布工程により塗布された感光性材料の膜厚の深さ以上に光が作用するように露光する基板露光工程と、前記凹凸形成用露光及び基板露光が行われた前記感光性材料を現像し、該凹凸形成用露光及び基板露光時に感光された領域を除去する現像工程と、前記基板を焼成することにより平滑な凹凸面を形成する工程と、該平滑な凹凸面を形成する工程の後に略均一な膜厚でその凹凸上に反射膜を形成する工程と、該反射膜が形成された基板をフォトリソグラフィーとエッチングとにより平坦部分と重なる領域の前記反射膜を除去する工程とを備えることを特徴とする。
【００２６】
この電気光学装置用基板の製造方法によれば、感光性材料に形成される凹凸の凹部の深さが感光性材料の膜厚の深さより浅くなり、凹凸部の凹部が感光性材料の膜厚の深さとならないため、凹部の底に形成される反射層の平坦性が低くなり、良好な散乱特性を得ることができる。
【００２７】
また、電気光学装置用基板となる領域以外の部分の感光性材料が除去されて、電気光学装置用基板の側端面が平坦となるため、この側端面を跨いで設けられる電極が切れてしまうという不具合が解消される。
【００２８】
なお、この電気光学装置用基板の製造方法において、基板露光工程では、光を透過させるための透過領域を電気光学装置用基板となる領域内に形成するべく、該電気光学装置用基板となる領域外に加え、電気光学装置用基板となる領域内であって透過領域に対応する領域を露光するようにしてもよい。
【００２９】
本発明に係わる電気光学装置用基板の製造方法では、光照射部が現像で可溶となるポジ型レジストを用いても，光照射部が硬化するネガ型レジストを用いても良い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明に係る実施形態を図面に基づき説明する。尚、以下実施形態を説明するにあたっては電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を、電気光学装置の一例である液晶装置を例に挙げて説明するが、本発明がその実施形態に限定されないことはもちろんである。また、以下の図面においては各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００３１】
（第１の実施形態）
【００３２】
図１は本実施形態に係る液晶装置の概略分解斜視図、図２は第２基板側のカラーフィルタ上から見た部分平面図、図３は図２のＡ−Ａ線の概略部分断面図及び図４は反射膜が平坦部で除去されている状態の説明図である。
【００３３】
（液晶装置の構成）
【００３４】
まず、本発明の実施形態に係わる液晶装置１の構成について説明する。
【００３５】
液晶装置１は、例えば図１および図３に示したように、電気光学物質の一種である液晶２（図１においては図示略）を基板としての第１基板３および第２基板４により狭持する液晶パネル５と、当該液晶パネル５の第２基板側に配設されたバックライトユニット６とを具備している。なお、以下の説明においては、便宜上、図３に示したように、液晶に対して第１基板側を、液晶装置１による表示画像を視認する観察者が位置する側という意味で「観察側」と表記し、液晶２からみて第２基板側を「背面側」と表記する。また、液晶装置１には、バックライトユニット６の他にもその他の付帯機構（図示しない。）が必要に応じ付設される。
【００３６】
液晶パネル５の第１基板３は、ガラスなどの光透過性材料からなる板状部材である。第１基板３の観察側の面には、例えば図１および図３に示すようにコントラストを改善するための位相差板７と、入射光を偏光させるための偏光板８が、第１基板側からこの順で積層されており、第１基板３の液晶側（背面側）の面には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜などの画素電極９がマトリックス状に配置されている。この各画素電極９の間隙には、一方向（図１に示すＹ方向）に延在する複数のデータ電極１０が形成されており、各画素電極９とその各画素電極９とに隣接するデータ電極１０とは、非線形な電流−電圧特性を有する二端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）１１を介して接続されている。そして、図３に示すように、画素電極９、データ電極１０およびＴＦＤ１１が形成された第１基板３の表面は、配向膜１２（図１では図示略）により覆われている。この配向膜１２は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶２の配向状態を規定するためのラビング処理が施されている。
【００３７】
また、液晶装置用基板としての第２基板４は、例えばガラスなどの光透過性材料からなる板状部材であり、その背面側の面には、第１基板３と同様に、位相差板１３および偏光板１４が、第２基板側からこの順で積層されている。一方、第２基板４の液晶側（観察側）の面には、例えば樹脂層としての下地層１５と、反射膜１６と、３色のカラーフィルタ１７（１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂ）と、光を遮光する遮光層１８と、走査電極１９と、配向膜２０（図１では図示略）とが第２基板側からこの順で積層されている。このうち配向膜２０は、配向膜１２と同様の有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。
【００３８】
ここで、下地層１５は例えばポジ型の感光性樹脂を露光・現像処理をすることにより形成されたものであり、表面に微細な凹凸２１を有する。また、下地層１５は例えば図２及び図３に示すように後述する画素毎に内周が略矩形状に形成され、第２基板４を該下地層１５で覆っていない領域（後述する透過領域Ｃ）を有する。
【００３９】
反射膜１６は、例えばアルミニウム、銀、あるいはこれらの合金からなる金属膜であって外光を反射する反射領域Ｂを形成する。また、反射膜１６は下地層１５の表面上の微細な凹凸２１を反映した形で当該反射膜表面上にも凹凸２２が形成されている。これにより、太陽光や室内光といった外光を散乱させ、視角が狭くなったり、液晶表示装置の反射表示が見えにくくなるといった問題を解決することができる。
【００４０】
また、反射膜１６は例えば図２及び図３に示すように、下地層１５の形成された領域にのみ形成されており、下地層１５同様、各画素に略中央に反射膜１６が形成されていない略矩形状の光を透過させる透過領域Ｃが形成されている。
【００４１】
更に反射膜１６は、例えば図４に示すように該反射膜表面の凹凸２２の平坦部２３が透過領域Ｃと同様に反射膜１６が完全に除去されており、光を反射しない非反射領域Ｄとなっている。
【００４２】
平坦部である非反射領域Ｄは、例えば図４に示すように反射膜１６の凹凸２２の丁度凹部で第２基板表面方向（図中のＹ軸方向）との角度が０度以上３度以下になるように形成されている。これにより、反射膜１６での鏡面反射をより少なくさせることができ、反射光の視角を広げることが可能となる。尚、３度より大きくなると鏡面反射ではなく散乱するようになるので、３度以下に限定したものである。
【００４３】
また、例えば下地層１５を無色透明として、この非反射領域Ｄをバックライトユニット６からの光を透過できるようにし、反射領域Ｂでの明度をあげることが可能となる。
【００４４】
カラーフィルタ１７は、たとえば顔料または染料などの着色性の感光性樹脂を反射膜上に塗布し、露光・現像処理することにより透過領域Ｃと反射領域Ｂ（非反射領域Ｄを含む。）を含む表示領域内に形成された原色フィルタであって、例えば１７Ｒ（赤色）、１７Ｇ（緑色）、１７Ｂ（青色）のいずれかで構成されている。
【００４５】
また、カラーフィルタ１７の配列は、図２ではストライプパターンを示しているが、これに限られるものでなく、モザイク配列あるいはペンタイル配列であっても良い。
【００４６】
遮光層１８は、各画素間の境界領域の遮光を行うもので、その境界領域に第２基板４の走査電極１９の長手方向（図１のＸ方向）及びこれに交差する方向（図１のＹ方向）に延在される帯状に形成されており、例えば着色層１７Ｂを一番下層に配置し、その上に着色層１７Ｒ、着色層１７Ｇの順等に形成する。また、遮光層１８はカラーフィルタ１７を２層あるいは３層積層したものや、クロムといった金属膜でも形成が可能である。
【００４７】
更に走査電極１９は所定の方向（図１及び図３のＸ軸方向）に延在する帯状に形成され、複数の走査電極１９が相互に並列してストライプ状に構成されている。更に配向膜２０は、ポリイミド等の有機薄膜であり、液晶２の配向状態を規定するためにラビング処理が施されている。
【００４８】
また、複数の走査電極１９の各々は、例えばＩＴＯなどの光透過性導電材料により形成された帯状の電極である。図１に示すように、走査電極１９は、カラーフィルタ１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂの面上に形成されており、上述したデータ電極１０と交差する方向（図１中Ｘ軸方向）に延在し、第１基板３上に列をなす複数の画素電極９と対向するように位置する。
【００４９】
以上説明した構成の第１基板３および第２基板４は、例えば図示しないシール材２４を介して貼り合わされるとともに、両基板上の構造物と、シール材２４とによって囲まれた領域に、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型などの液晶２が封止される。
【００５０】
かかる構成の下、第１基板３と第２基板４とにより狭持された液晶２は、画素電極９とこれに対向する走査電極１９との間に電圧が印加されることにより、その配向方向が変化する。図２に示すように、この印加電圧に応じて液晶２の配向方向が変化する領域の最小単位はマトリックス状に配列されており、その各々が画素２５（ドット）として機能する。
【００５１】
この液晶パネル５に観察側から外光が入射すると、外光は、例えば電気光学装置用基板である第２基板側により観察側に向けて散乱反射し、これにより反射型表示が実現される。一方、液晶パネル５の背面側からバックライトユニット６の光が入射すると、入射した光は、例えば下地層１５および反射膜１６が設けられていない透過領域Ｃを通過して観察側に出射し、これにより透過型表示が実現される。
【００５２】
尚、例えばカラーフィルタ１７と配向膜２０及び走査電極１９との間に図示しないオーバーコート層を設け、該カラーフィルタ１７を保護すると共に、反射領域Ｂにおける光路長が透過領域Ｃの光路長と略同じになるように形成してもよい。
【００５３】
（液晶表示装置の製造方法）
【００５４】
次に、以上のように構成された液晶装置の製造方法について説明する。
【００５５】
図５は液晶装置用基板である第２基板側の製造工程を示す工程図、図６は同製造工程における下地層形成の説明図、図７は下地層の凹凸形成用の露光マスクの平面図、図８は下地層の透過領域などの形成用の露光マスクの平面図、図９は反射膜上への感光性樹脂の形成の説明図、図１０は第２の感光性樹脂の露光の説明図及び図１１は反射膜のエッチング工程の説明図である。
【００５６】
まず、液晶装置用基板である第２基板側の製造方法について説明する。
【００５７】
例えば第２基板４を洗浄した後，該基板を乾燥させる（図５中のＳＴ１０１）。
【００５８】
次に該基板の観察面となる面に、例えば図６（ａ）に示すようにスピンコート法などにより第１の感光性樹脂２６を第１の塗布工程として塗布する（図５中のＳＴ１０２）。
【００５９】
その後、第２基板４に塗布した第１の感光性樹脂２６を減圧乾燥させ（図５中のＳＴ１０３）、８０℃から１１０℃の温度範囲で１分から３分プリベークする（図５中のＳＴ１０４）。なお、該感光性樹脂の第２基板４への密着性向上のために該感光性樹脂を塗布する前にヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）などのシランカップリング剤などによる表面処理を行ってもよい。
【００６０】
次に、プリベークした第１の感光性樹脂２６を、露光機により、例えば図６（ｂ）に示すように図７に示したパターンの第１の露光マスクである凹凸用マスク２７を用いて第１の露光工程としての第１の露光（１）をする（図５中のＳＴ１０５）。
【００６１】
ここで、凹凸用マスク２７は、ガラスなどの光透過性を有する基板に、クロムなどの遮光部としての凹凸用遮光部２８（図６（ｂ）中黒色で塗りつぶして示す）が設けられたものである。図７の拡大図に示されるように、凹凸用マスク２７には、下地層１５の凹凸２１を形成するための微小な遮光領域である、凹凸用遮光部２８が複数設けられている。なお、第１の感光性樹脂２６はポジ型であるため、光が照射されると、その部分は、後述の現像工程において現像液に溶解し除去される。
【００６２】
このような凹凸用マスク２７にて、例えば、露光時間を１，５００〜２，５００ｍｓｅｃの範囲で露光すると、凹凸用マスク２７を透過した光は、図６（ｂ）に示すように、第１の感光性樹脂２６のうち図中破線で示される面まで作用する。なお、第１の感光性樹脂２６において、凹凸用マスク２７を透過した光が作用する深さは、第１の感光性樹脂２６の材質や、露光時の光の強度に応じて異なるので、露光時間を変えることにより制御することができる。
【００６３】
次に、露光機を用いて上述のような凹凸用マスク２７を順次ずらし、繰り返し露光処理を行って第２基板４全体の第１の露光（１）である露光処理を行った後、透過用マスク２９を用いて図６（ｃ）に示すように第１の露光工程としての第１の露光（２）を行う（図５中のＳＴ１０６）。図８は、この二回目の露光に用いられる透過用マスク２９のパターンを示す図である。この図に示されるように、透過用マスク２９には、ガラスなどの光透過性を有する基板に、透過領域用遮光部３０（図８中斜線で示す）が設けられている。
【００６４】
この透過用マスク２９においては、パネル表示領域内に相当する部分が透過領域Ｃを除き遮光されており、液晶パネル５における画素２５の各々に対応して、同一のパターンがマトリックス状に設けられている。そして、図８の拡大図に示されるように、透過用マスク２９のうち１つの画素２５に対応する領域には、透過領域Ｃを形成するための透光部３１が設けられている。このような透過用マスク２９にて、第１の露光（１）である一回目の露光時間と露光時間を異ならせ、例えば、露光時間を４，０００ｍｓｅｃとして第１の露光（２）として二回目の露光を行うと、透過用マスク２９の遮光されていない部分を透過した光、即ち、透光部３１と、パネル表示領域外に相当する部分を透過した光は、第１の感光性樹脂２６の最下部にまで作用する。
【００６５】
露光機により、以上のように透過用マスク２９を順次ずらし、繰り返し露光処理を行って第２基板４全体の露光処理を行った後、第１の感光性樹脂２６に第１の現像工程としての現像処理を施すと（図５中のＳＴ１０７）、図６（ｄ）に示したように、露光工程において光が作用した深さの分、凹凸２１の凹部分と、透過領域Ｃの部分と、パネル表示領域外となる部分の感光性樹脂が除去され、表面に凹凸２１を有し、側端面３２が平坦な第１の感光性樹脂２６が形成される。なお、上述の露光は、図７及び図８のような小さいマスクを用いてもよいし、一括露光用の大板マスクを用いても良い。
【００６６】
以上で第１の感光性樹脂２６の現像工程が終了すると、次いで、第１の感光性樹脂２６に、例えば、ｉ線などの紫外線（ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  ｒａｙｓ：以下、ＵＶと称する）を照射し、ブリーチ露光する（図５中のＳＴ１０８）。本実施形態で用いた第１の感光性樹脂２６は、現像直後は黄色味を帯びており、ＵＶを照射することにより黄色味が除去され光透過性が向上する。これは、もし仮に第１の感光性樹脂２６により下地層１５が着色されていたとすると、反射膜１６が除去された非反射領域Ｄを透過する光に反映されてしまうため、その改善を目的としている。なお、この工程は、本実施形態で用いたポジ型感光性樹脂についての特有の工程であり、液晶装置用基板である第２基板の製造において必須の工程ではない。この後、第１の感光性樹脂２６を、例えば「２２０℃」にて３０分から５０分間焼成する（図５中のＳＴ１０９）。このようにして図６（ｄ）に示すように凹凸を有する下地層１５が形成される（図５中のＳＴ１１０）。
【００６７】
次に、例えば図９（ａ）に示すように凹凸を有する下地層１５上にアルミニウム等の金属膜を蒸着法などにより薄膜状に製膜し（図５中のＳＴ１１１）アルミニウム膜を形成する。そして、アルミニウム膜のついた第２基板４を洗浄した後、該基板を乾燥させる。
【００６８】
そして、該第２基板の観察面となる面に、例えばスピンコート法などにより図９（ｂ）に示すように第２の塗布工程としての第２の感光性樹脂３３を塗布する（図５中のＳＴ１１２）。
【００６９】
このとき、当該第２の感光性樹脂３３は、後述する第２の現像工程としての第２の現像の後に残った第２の感光性樹脂３３が、第２の露光（１）としての一回目の露光の遮光領域から平坦部側にはみ出すように形成されるものとする。例えば、第２の感光性樹脂３３の膜厚、露光量、感光性樹脂の材料又はメルトベークの時間を調整することで第２の現像後に残った第２の感光性樹脂３３が、第２の露光（１）の遮光領域から平坦部側にはみ出すように形成することができる。
【００７０】
これにより、第２の感光性樹脂３３のうち反射膜表面に形成されている凹凸２２の第２基板表面に対する傾斜面を覆う部分の内、凹凸用マスク２７の遮光部よりはみ出した部分も第２の現像によっても除去されずに残ることとなるので、エッチングによっても反射膜１６の全面は除去されず、略平坦部等の不要な部分だけが除去されることとなる。
【００７１】
具体的には、例えば第２の感光性樹脂３３の膜厚を第１の感光性樹脂２６の凸部の膜厚の１．５倍以上で２倍以下の膜厚にする。ここで、第１の感光性樹脂２６の凸部の膜厚とは、例えば図６（ｂ）に示す第１の感光性樹脂２６の表面から凹凸用マスク２７による光の作用する位置を示す凹凸の破線（下地層の凹凸２１）の凸部までの距離をいい、膜厚が１．５倍より小さいと平坦部２３以外の反射膜上の第２の感光性樹脂３３も全て光が作用してしまうおそれがあり、逆に２倍より大きいと平坦部２３の反射膜上の第２の感光性樹脂３３も除去されなくなるおそれがある。これにより、後述する露光現像後の焼成による第２の感光性樹脂３３の液だれがより広い範囲、例えば通常であれば平坦部以外の凹凸２２の傾斜面の一部しか覆わない第２の感光性樹脂３３が、傾斜面の略全部を覆うこととなり結局、反射膜１６の平坦部２３のみが露出した状態にできることとなる。
【００７２】
その後、第２基板に塗布した第２の感光性樹脂３３を減圧乾燥させ（図５中のＳＴ１１３）、８０℃から１１０℃の温度範囲で１分から３分プリベークする（図５中のＳＴ１１４）。
【００７３】
そして、例えば図９（ｃ）に示すようにプリベークした第２の感光性樹脂３３を、露光機により、第１の感光性樹脂の第１の露光（１）に用いた凹凸用マスク２７をそのまま用いて第２の露光工程である第２の露光（１）を行なう（図５中のＳＴ１１５）。
【００７４】
これにより、例えば図１０に示すように反射膜１６の凹凸２２の平坦部２３上の第２の感光性樹脂３３の膜厚は、Ｚ軸方向で見ると略Ｆであり、当該第２の感光性樹脂３３で丁度Ｆの深度まで光が作用できるように露光量を調整すると、少なくとも図１０中の平坦部２３（非反射領域Ｄ）では感光性樹脂に完全に光が作用する。
【００７５】
これに対し、凹凸用マスク２７の凹凸用透過部３４の両端、例えば図１０で端部３５に対応する第２の感光性樹脂３３の図中Ｚ軸方向の厚さＧは、図より明らかなように端部３５の真下の反射膜面との交点３６から第２の感光性樹脂３３の外面への法線の長さである厚さＦより、大きくなる。すなわち、Ｇ>Ｆとなり平坦部２３で丁度光が作用できる距離であっても、それ以外の第２の感光性樹脂３３では反射膜１６表面まで光が作用できないこととなる。これにより、平坦部２３で光が丁度全部作用できる程度の露光量であるとすると、それ以外の第２の感光性樹脂３３に光が作用する最大深度は例えば図１０の太線（図中のＨ）で示すようになり、結局平坦部２３以外の反射膜面上には第２の感光性樹脂３３が残ることとなる。
【００７６】
例えば図９（ｃ）の破線で示すように、第２の感光性樹脂３３は第２の露光（１）（図５中のＳＴ１１５）で反射膜１６の凹凸２２の平坦部２３のみ完全に反射膜面上まで光が作用する。
【００７７】
次に、反射膜１６の成形用に用いた第１の露光マスクである透過用マスク２９にて、第２の露光（１）である一回目の露光時間と露光時間を異ならせ、例えば、露光時間を４，０００〜６，０００ｍｓｅｃとして第２の露光工程としての第２の露光（２）として二回目の露光を行う（図５中のＳＴ１１６）と、透過用マスク２９の遮光されていない部分を透過した光、即ち、透光部３１と、パネル表示領域外に相当する部分を透過した光は、図９（ｄ）に示すように第２の感光性樹脂３３の最下部にまで作用する。
【００７８】
また、第２の感光性樹脂３３もポジ型であるため、光が作用した部分は、例えば図１１（ａ）に示すように第２の現像工程としての第２の現像において現像液に溶解し除去される（図５中のＳＴ１１７）。
【００７９】
この後、第２の感光性樹脂３３を、例えば１００℃以上１２０℃以下好ましくは「１１０℃」にて３０分から２０分間焼成する（図５中のＳＴ１１８）。このとき、例えば第２の感光性樹脂３３の膜厚を第１の感光性樹脂２６の凸部の膜厚の１．５倍以上で２倍以下の膜厚としたので、当該焼成温度で液だれする範囲が広がり丁度反射膜１６の平坦部２３以外の凹凸２２の傾斜面を覆うことができることとなる。
【００８０】
更にエッチング・レジスト剥離処理により、例えば図１１（ｂ）に示すように反射膜１６の平坦部２３など不要な部分の除去を行い（図５中のＳＴ１１９）、図１１（ｃ）に示すように、非反射領域Ｄ及び透過領域Ｃなどが形成された反射膜１６が完成する（図５中のＳＴ１２０）。
【００８１】
続いて、第２基板側における反射膜１６上に赤色、緑色および青色のカラーフィルタ１７Ｒ、１７Ｇおよび１７Ｂの各々を、マトリックス状に形成する。これらのカラーフィルタ１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂの形成方法としては、例えば、顔料により着色された感光性樹脂により形成することができる。
【００８２】
次に、カラーフィルタ１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂおよび遮光層１８を覆うようにＩＴＯからなる薄膜を形成し、これをパターニングすることによって走査電極１９を形成する。
【００８３】
そして、走査電極１９を形成した後、これらの走査電極１９を覆うように配向膜２０を形成し、配向膜２０の表面にラビング処理を施す。
【００８４】
以上が第２基板４上に設けられる各構造物の製造方法である。この製造方法により得られた第２基板側と、画素電極９、データ電極１０、ＴＦＤ１１および配向膜１２が形成された第１基板側とを、互いの配向膜１２と配向膜２０とを対向させた状態でシール材２４を介して貼り合わせる。
【００８５】
次いで、第１基板側と第２基板側とシール材２４とによって囲まれた空間に液晶２を注入し、その後、図示せぬ封止材により液晶２が注入された空間を封止する。
【００８６】
そして、一体化された第１基板３および第２基板４の各々の外側の面に、位相差板７，１３と偏光板８，１４とを貼着することによって、液晶パネル５が完成する。
【００８７】
最後に液晶パネル５に必要な回路基板やバックライトユニット６及びケース等を取り付けて、液晶装置１が完成する。
【００８８】
（液晶装置の動作）
【００８９】
次に、以上のように構成された液晶装置１の動作について簡単に説明する。
【００９０】
まず、外部から入射した光は液晶２を介して反射膜１６に届く。入射光は、反射膜１６で反射され観察者に届く。このとき鏡面反射の領域（図４中の非反射領域Ｄ）には反射膜１６が存在しないため、外光は透過し、観察者には届かない。このため、視角を狭くする原因の鏡面反射光がとりのぞかれ、視角が広くなり、反射品位が向上する。
【００９１】
以上で液晶装置１の動作の説明を終了する。
【００９２】
このように本実施形態によれば、第２基板上に、凹凸２１を有する下地層１５を形成する形成工程と、該形成工程により形成された下地層上に、光を反射する反射膜１６を成膜する成膜工程と、該成膜工程により成膜された反射膜１６の平坦部２３を除去する除去工程とを具備することとしたので、平坦部２３で外部の光が鏡面反射することがなく、純粋な外光による散乱を用いて鮮明な反射表示が可能となる液晶装置１を製造できる。
【００９３】
また、下地層１５の凹凸２１は複数の凸部を有し、平坦部２３は該凸部同士の間の領域に対応することとしたので、除去すべき領域の特定が容易となり、製造コストの低減を図れる。
【００９４】
更に第１の感光性樹脂２６と同じポジ型の第２の感光性樹脂３３を用い、下地層１５の凹凸形成に用いた第１の露光マスクである凹凸用マスク２７をそのまま又は同じ遮光部のパターンが形成された露光マスクを用いて露光等して反射膜１６の平坦部２３を除去することとしたので、容易に平坦部２３を正確にアライメントでき、かつ、別途露光マスクを用意する必要もなく製造コストも低減できる。
【００９５】
また、第２の現像後に残った第２の感光性樹脂３３が、第２の露光（１）の遮光領域から平坦部側にはみ出すように形成することとしたので、例えば第２の感光性樹脂３３の膜厚、露光量、感光性樹脂の材料又はメルトベークの時間を調整することで第２の感光性樹脂３３のうち反射膜表面に形成されている凹凸２２の基板平面に対する傾斜面を覆う部分の内、露光マスクの遮光部よりはみ出した部分も第２の現像によっても除去されずに残ることとなり、エッチングによっても反射膜１６の全面は除去されず、略平坦部等の不要な部分だけが除去されることとなる。
【００９６】
更に第２の感光性樹脂３３の膜厚を第１の感光性樹脂２６の凸部の膜厚の１．５倍以上で２倍以下であることとしたので、第２の感光性樹脂３３のうち反射膜表面に形成されている凹凸２２の基板平面に対する傾斜面を覆う部分は、第２の現像によっても完全には除去されず残り、エッチングによっても反射膜１６の全面は除去されず、略平坦部等の不要な部分だけが除去されることとなる。また、感光性樹脂の膜厚を厚くした分だけ焼成により広く広がり、平坦部２３等の不要な部分以外の必要な部分をより確実に覆うことができる。
【００９７】
また、平坦部２３の除去工程はエッチングの前に、第２の感光性樹脂３３を焼成することとしたので、第２の感光性樹脂３３が反射膜表面に形成されている凹凸２２の基板表面に対する傾斜面を覆う部分に、より確実に残るので、平坦部等の不要な部分だけが除去されることとなる。これにより、鏡面反射が少なく、高い表示品質を持つ液晶装置１の製造が可能となる。
【００９８】
例えば第２の感光性樹脂３３を１００℃以上１２０℃以下より好ましくは１１０℃の温度で焼成する。
【００９９】
更に平坦部２３は、該平坦部の表面が第２基板表面に対し０度以上３度以下の角度としたので、反射膜表面に対し鏡面反射となる領域を確実に除去でき、純粋な外光による散乱を用いて鮮明な反射表示が可能となる。
【０１００】
尚、上述した実施形態では、露光の時間により、光が感光性樹脂に作用する深さを制御しているが、これに限られるものではなく例えば光の強度を変えて光が感光性樹脂に作用する深さを制御するようにしてもよい。
【０１０１】
また、上述した実施形態においてはポジ型の感光性樹脂を用いて下地層１５に凹凸２１を形成し、その上に反射膜１６を成膜し該下地層１５の凹凸２１を反映させ該反射膜１６に凹凸２２を形成し、該凹凸２２の凹部の平坦部２３を除去することとしたが、例えば下地層に複数凸部を形成し、その上に反射膜１６を成膜し該下地層の凸部を反映させ該反射膜１６に複数の凸部を形成する際に、樹脂層の凸部同士の間の領域を平坦部として該平坦部には反射膜を設けないようにしてもよい。これにより、従来のように下地層の平坦部に反射膜が設けられることで外部の光が鏡面反射することもなく、確実に純粋な外光による散乱を用いて鮮明な反射表示が可能となる。
【０１０２】
更に逆に、凹部を複数有する反射膜の製造も可能である。凹形状を形成するためには上述した凸部形成用のマスクパターンを透過部に変えるだけで同等のプロセスで製造が可能である。
【０１０３】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されることなく、他の様々な形態で実施可能である。例えば、上述の実施形態を以下のように変形して本発明を実施してもよい。
【０１０４】
（変形例１）
【０１０５】
本発明に係る液晶装置１の変形例１について説明する。本変形例１においては、第１の露光マスクとしての下地層１５の凹凸形成用の凹凸用マスクのパターンが第１の実施形態と異なるのと、反射膜１６の除去工程でネガ型の第２の感光性樹脂を用い、更に第１の露光マスクを用いないで該第１の露光マスクの遮光部のパターンが反転された第２の露光マスクが用いられる点等が第１の実施形態と異なるのでその点を中心に説明する。尚、第１の実施形態の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態の構成要素と同一の符号を付しその説明を省略する。
【０１０６】
（液晶装置の構成）
【０１０７】
本発明の変形例１に係る液晶装置１０１の構成は、第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１０８】
（液晶装置の製造方法）
【０１０９】
図１２は本変形例１の下地層形成の説明図、図１３は反転パターンのマスクを用いて露光する工程の説明図、図１４は下地層の凹凸形成用の露光マスクの平面図及び図１５は反転パターンの露光マスクの平面図である。
【０１１０】
液晶装置用基板である第２基板側の製造方法は、図５に示すＳＴ１０４までの工程により第１の感光性樹脂２６をプリベークするまでは第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１１１】
次に、プリベークした第１の感光性樹脂２６を、露光機により、例えば図１２（ｂ）に示すように図１４に示したパターンの第１の露光マスクである凹凸用マスク１２７を用いて第１の露光工程としての第１の露光（１）をする（図５中のＳＴ１０５）。
【０１１２】
ここで、凹凸用マスク１２７は、ガラスなどの光透過性を有する基板に、クロムなどの遮光部としての凹凸用遮光部１２８（図１２（ｂ）中黒色で塗りつぶして示す）が設けられたものである。
【０１１３】
また、図１４の拡大図に示されるように凹凸用マスク１２７は下地層１５の凹凸２１を形成するための微小な遮光領域である、凹凸用遮光部１２８が複数設けられている。更に凹凸用マスク１２７は、図１２（ｂ）及び図１４の拡大図に示すように１つの画素２５に対応する領域において、略矩形の透過領域Ｃとなる領域に凹凸用遮光部１２８が形成されておらず、凹凸用遮光部同士の間等を含め光を透過させる凹凸用透過部１３４となっている。
【０１１４】
なお、第１の感光性樹脂２６はポジ型であるため、光が照射されると、その部分は、後述の現像工程において現像液に溶解し除去される。
【０１１５】
このような凹凸用マスク１２７にて、例えば、露光時間を１，５００〜２，５００ｍｓｅｃの範囲で露光すると、凹凸用マスク１２７を透過した光は、図１２（ｂ）に示すように、第１の感光性樹脂２６のうち図中破線で示される面まで作用する。なお、第１の感光性樹脂２６において、凹凸用マスク１２７を透過した光が作用する深さは、第１の感光性樹脂２６の材質や、露光時の光の強度に応じて異なるので、露光時間を変えることにより制御することができる。
【０１１６】
次に、露光機を用いて上述のような凹凸用マスク１２７を順次ずらし、繰り返し露光処理を行って第２基板４全体の第１の露光（１）である露光処理を行った後、透過用マスク２９を用いて図１２（ｃ）に示すように第１の露光工程としての第１の露光（２）を行う（図５中のＳＴ１０６）。
【０１１７】
すなわち、第１の露光（１）である一回目の露光時間と露光時間を異ならせ、例えば、露光時間を４，０００ｍｓｅｃとして第１の露光（２）として二回目の露光を行うと、透過用マスク２９の遮光されていない部分を透過した光、即ち、透光部３１と、パネル表示領域外に相当する部分を透過した光は、第１の感光性樹脂２６の最下部にまで作用する。
【０１１８】
露光機により、以上のように透過用マスク２９を順次ずらし、繰り返し露光処理を行って第２基板４全体の露光処理を行った後、第１の感光性樹脂２６に第１の現像工程としての現像処理を施すと（図５中のＳＴ１０７）、図１２（ｄ）に示したように、露光工程において光が作用した深さの分、凹凸２１の凹部分と、透過領域Ｃの部分と、パネル表示領域外となる部分等の感光性樹脂が除去され、表面に凹凸２１を有し、側端面３２が平坦な第１の感光性樹脂２６が形成される。なお、上述の露光は、図１４及び図８のような小さいマスクを用いてもよいし、一括露光用の大板マスクを用いても良い。
【０１１９】
以上で第１の感光性樹脂２６の現像工程が終了すると、次いで、第１の感光性樹脂２６に、例えば、ｉ線などのＵＶを照射し、ブリーチ露光する（図５中のＳＴ１０８）。
【０１２０】
この後、第１の感光性樹脂２６を、例えば「２２０℃」にて３０分から５０分間焼成する（図５中のＳＴ１０９）。このようにして図１２（ｄ）に示すように凹凸を有する下地層１５が形成される（図５中のＳＴ１１０）。
【０１２１】
次に、例えば図１３（ａ）に示すように凹凸２１を有する下地層１５上にアルミニウム等の金属膜を蒸着法などにより薄膜状に製膜し（図５中のＳＴ１１１）アルミニウム膜を形成する。そして、アルミニウム膜のついた第２基板４を洗浄した後、該基板を乾燥させる。
【０１２２】
そして、該第２基板の観察面となる面に、例えばスピンコート法などにより図１３（ｂ）に示すように第２の塗布工程としての第２の感光性樹脂１３３を塗布する（図５中のＳＴ１１２）。
【０１２３】
このとき、当該第２の感光性樹脂１３３は、ネガ型であり後述する第２の現像工程としての第２の現像の後に残った第２の感光性樹脂１３３が、第２の露光（１）としての露光の露光領域から平坦部側にはみ出すように形成されるものとする。例えば、第２の感光性樹脂１３３の膜厚、露光量、感光性樹脂の材料又はメルトベークの時間を調整することで第２の現像後に残った第２の感光性樹脂１３３が、第２の露光（１）の露光領域から平坦部側にはみ出すように形成することができる。
【０１２４】
これにより、第２の感光性樹脂１３３のうち反射膜表面に形成されている凹凸２２の第２基板表面に対する傾斜面を覆う部分の内、後述する凹凸用反転マスク１４０の凹凸用反転透過部１４２よりはみ出した部分も第２の現像によっても除去されずに残ることとなるので、エッチングによっても反射膜１６の全面は除去されず、略平坦部等の不要な部分だけが除去されることとなる。
【０１２５】
具体的には、例えば第２の感光性樹脂１３３の膜厚を第１の感光性樹脂２６の凸部の膜厚の１．５倍以上で２倍以下の膜厚にする。これにより、後述する露光現像後の焼成による第２の感光性樹脂１３３の液だれがより広い範囲、例えば通常であれば平坦部以外の凹凸２２の傾斜面の一部しか覆わない第２の感光性樹脂１３３が、傾斜面の略全部を覆うこととなり結局、反射膜１６の平坦部のみが露出した状態にすることができることとなる。
【０１２６】
ここで、第１の感光性樹脂２６の凸部の膜厚とは、例えば図１２（ｂ）に示す第１の感光性樹脂２６の表面から凹凸用マスク１２７による光の作用する位置を示す凹凸の破線（下地層の凹凸２１）の凸部までの距離をいう。
【０１２７】
尚、膜厚が１．５倍より小さいと後述する露光現像後の焼成による第２の感光性樹脂１３３の液だれが不十分となり、第２の感光性樹脂１３３が平坦部以外の凹凸２２の傾斜面の一部しか覆わない状態となるおそれがあり、逆に２倍より大きいと平坦部上にも第２の感光性樹脂１３３が残るおそれがある。
【０１２８】
次に、第２基板に塗布した第２の感光性樹脂１３３を減圧乾燥させ（図５中のＳＴ１１３）、８０℃から１１０℃の温度範囲で１分から３分プリベークする（図５中のＳＴ１１４）。
【０１２９】
そして、プリベークした第２の感光性樹脂１３３を、例えば図１３（ｃ）に示すように露光機により、第１の感光性樹脂２６の第１の露光（１）に用いた凹凸用マスク１２７の遮光部である凹凸用遮光部１２８のパターンが反転された第２の露光マスクである凹凸用反転マスク１４０を用いて第２の露光工程である第２の露光（１）を行なう（図５中のＳＴ１１５）。
【０１３０】
図１５は、この露光に用いられる凹凸用反転マスク１４０のパターンを示す図である。ネガ型の感光性樹脂においては、露光された部分がパターンとして残るため、図１５の拡大図に示すように、反射膜１６の平坦部以外を残すように、即ち、平坦部及び透過領域となる領域以外に光が当たるように、凹凸用反転透過部１４２を設け、反射膜を除去したい部分（平坦部２３と透過領域Ｃ）を凹凸用反転遮光部１４１で遮光する。
【０１３１】
これにより、例えば図１３（ｃ）の破線で示すように、第２の感光性樹脂１３３は第２の露光（１）（図５中のＳＴ１１５）で反射膜１６の凹凸２２の平坦部２３及び透過領域となる領域以外のみ完全に反射膜面上まで光が作用する。
【０１３２】
この場合、第２の感光性樹脂１３３はネガ型であるため、光が作用しなかった部分は、例えば図１３（ｄ）に示すように第２の現像工程としての現像工程において現像液に溶解し除去される（図５中のＳＴ１１７）。また、ネガ型の感光性樹脂においては、不要な樹脂の除去は遮光をすればよいため、ポジ型の感光性樹脂の場合と異なり、露光工程は第２の露光（１）の一回で終了する。
【０１３３】
以下の製造工程は第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１３４】
最後に液晶パネル５に必要な回路基板やバックライトユニット６及びケース等を取り付けて、液晶装置１０１が完成する。
【０１３５】
（液晶装置の動作）
【０１３６】
次に、以上のように構成された液晶装置１０１の動作については第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１３７】
このように本変形例によれば、反射膜１６の平坦部２３の除去工程は、成膜工程により成膜された反射膜上にネガ型の第２の感光性樹脂１３３を塗布する第２の塗布工程と、第２の塗布工程により塗布された第２の感光性樹脂１３３を第１の露光マスクである凹凸用マスク１２７の遮光部のパターンが反転された第２の露光マスクである凹凸用反転マスク１４０を用いて露光する第２の露光工程と、該第２の露光工程により露光された第２の感光性樹脂１３３を現像する第２の現像工程と、該第２の現像工程により露出した反射膜１６をエッチングする工程と該第２の感光性樹脂１３３を剥離する工程とを有することとしたので、第２の感光性樹脂１３３に第１の感光性樹脂２６と同じポジ型でなくても第１の露光マスクである凹凸用マスク１２７の遮光部のパターンを反転させた第２の露光マスクである凹凸用反転マスク１４０を用いることで、反射膜１６の平坦部２３を除去でき、感光性樹脂選択の自由度を増しながら露光マスクの製造コストを比較的安価にすることが可能となる。
【０１３８】
また、第１の露光マスクである凹凸用マスク１２７の遮光部のパターンが反転された第２の露光マスクである凹凸用反転マスク１４０を用いて露光等して反射膜１６の平坦部２３を除去することとしたので、容易に平坦部２３の正確なアライメントができ、製造コストの低減が可能となる。
【０１３９】
更に平坦部２３の除去工程では感光性樹脂としてネガ型を用いたので、一回の露光工程で反射膜１６の凹凸２２の平坦部２３及び透過領域となる領域以外のみ完全に反射膜面上まで光が作用させることができ、一回の露光工程で反射膜１６の凹凸２２の平坦部等を除去できる。これにより、製造工程の削減が可能となり製造コストを低減できる。
【０１４０】
（変形例２）
【０１４１】
本発明に係る液晶装置の変形例２について説明する。本変形例２においては、第１及び第２の露光に用いる露光マスクとして同じ遮光パターンの所謂ハーフトーンマスクを用いる点と第１及び第２の感光性樹脂に露光により不溶化するネガ型の感光性樹脂を用いる点等が第１の実施形態と異なるのでその点を中心に説明する。尚、第１の実施形態の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態の構成要素と同一の符号を付しその説明を省略する。
【０１４２】
（液晶装置の構成）
【０１４３】
本発明の変形例２に係る液晶装置２０１の構成は下地層１５の材料及び第２の感光性樹脂としてネガ型の感光性樹脂を用いる点を除けば第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１４４】
（液晶装置の製造方法）
【０１４５】
次に、液晶装置２０１の製造方法を以下に説明する。
【０１４６】
図１６はネガ型の感光性樹脂を用いた場合の液晶装置用基板の製造工程における第２の基板側の説明図及び図１７は第１及び第２の露光工程で用いられるネガ用マスクの説明図である。
【０１４７】
まず、図１６（ａ）に示すように、感光性材料の一種であるネガ型の第１の感光性樹脂２２６をスピンコートなどにより第２基板４の上に第１の塗布工程として塗布する（図５中のＳＴ１０２）。
【０１４８】
その後で当該ネガ型の第１の感光性樹脂２２６が塗布された第２基板４を、減圧乾燥、プリベークし、例えば図１６（ｂ）に示すように露光機により第１の露光マスクであるネガ用マスク２２７を用いて第１の露光工程として第１の露光（１）をする。
【０１４９】
この露光に用いられるネガ用マスク２２７は、ネガ型の感光性樹脂においては、露光された部分がパターンとして残るため、図１７の拡大図に示すように、下地層１５の凹凸２１の凸部が残るように、即ち、凸部に相当する部分に光が当たるように、ネガ用透光部２３１を設け、下地層１５を除去したい部分を遮光する。
【０１５０】
この際、例えば図１６（ｂ）及び図１７の拡大図に示すように凹凸２１の凹部に対応する部分は、透過領域Ｃとなる領域及びパネル表示領域外に対応する部分より遮光量が小さい半透光部２３７として形成されており、当該ネガ用マスク２２７は異なる遮光量の領域を有する所謂ハーフトーンマスクである。
【０１５１】
このネガ用マスク２２７を用いて一回目の露光を行うと、図１６（ｂ）に示すように、ネガ用透光部２３１及び半透光部２３７を透過した光は、第１の感光性樹脂２２６のうち図１６（ｂ）中破線で示される面まで作用する。なお、ネガ型の感光性樹脂において、不要な樹脂の除去は遮光をすればよいため、ポジ型の感光性樹脂の場合と異なり、露光工程はハーフトーンマスクであるネガ用マスク２２７を用いて一回で終了する。
【０１５２】
以上のようなネガ用マスク２２７を用いた第１の露光工程としての露光処理の後、第１の感光性樹脂２２６に第１の現像としての現像処理を施す（図５中のＳＴ１０７）と、図１６（ｃ）に示すような透過領域Ｃとなる領域と、凹凸２１を表面に有し、側端面３２が平坦である下地層１５が形成される。
【０１５３】
以上の第１の感光性樹脂２２６の第１の現像工程の後、第１の実施形態のブリーチ露光はせずに当該第１の感光性樹脂２２６を焼成する（図５中のＳＴ１０９）が、該焼成以下のアルミニウム膜の成膜、第２の感光性樹脂の塗布、第２の露光、第２の現像、焼成及びアルミニウム膜のエッチング・第２の感光性樹脂の剥離工程は第２の感光性樹脂がネガ型である点及び第２の露光が二回の露光ではなく第１の露光と同様、一回の露光で済ませることができる点が異なるがその他の点は略第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１５４】
このようにネガ型の感光性樹脂を用いた態様でも、ポジ型感光性樹脂の場合と同様の反射膜の製造が可能である。
【０１５５】
以下の製造工程は第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１５６】
最後に液晶パネル５に必要な回路基板やバックライトユニット６及びケース等を取り付けて、液晶装置２０１が完成する。
【０１５７】
（液晶装置の動作）
【０１５８】
次に、以上のように構成された液晶装置２０１の動作については第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１５９】
このように本変形例によれば、第１及び第２の感光性樹脂としてネガ型の感光性樹脂を用い、所謂ハーフトーンマスクを用い露光することとしたので、下地層１５に凹凸２１及び透過領域となる領域を形成する際や反射膜１６の平坦部２３及び透過領域Ｃの除去の際に、同じネガ用マスク２２７を用いて第１及び第２の露光を夫々一回で済ますことができ、製造工程の削減により、製造コストの軽減を図ることができる。
【０１６０】
また、下地層１５の凹凸形成に用いた第１の露光マスクであるネガ用マスク２２７をそのまま又は同じ遮光部のパターンが形成された露光マスクを用いて露光等して反射膜１６の平坦部２３を除去できるので、平坦部２３を正確にアライメントでき、かつ、別途露光マスクを用意する必要もなく製造コストも低減できる。
【０１６１】
更にネガ型の感光性樹脂を用いた場合でもポジ型感光性樹脂の場合と同様、第２基板上に、凹凸２１を有する下地層１５を形成する形成工程と、該形成工程により形成された下地層上に、光を反射する反射膜１６を成膜する成膜工程と、該成膜工程により成膜された反射膜１６の平坦部２３を除去する除去工程とを具備することとしたので、平坦部２３で外部の光が鏡面反射することがなく、純粋な外光による散乱を用いて鮮明な反射表示が低コストで容易に可能となる。
【０１６２】
また、パネル表示領域外となる部分の第１の感光性樹脂２２６が除去され、液晶装置用基板の側端面３２が平坦となるため、走査電極１９が切れてしまうという問題が生じなくなる。
【０１６３】
（変形例３）
【０１６４】
本発明に係る液晶装置の変形例３について説明する。本変形例３においては、第１の感光製樹脂及び第１の露光に用いる露光マスクは変形例２と同様ネガ型の感光性樹脂とハーフトーンマスクを用いるが、第２の感光性樹脂及び第２の露光に用いる露光マスクは変形例２と異なるのでその点を中心に説明する。尚、第１の実施形態等の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態等の構成要素と同一の符号を付しその説明を省略する。
【０１６５】
（液晶装置の構成）
【０１６６】
本発明の変形例３に係る液晶装置４０１の構成は下地層１５の材料としてネガ型の感光性樹脂を用いる点を除けば第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１６７】
（液晶装置の製造方法）
【０１６８】
次に、液晶装置４０１の製造方法は第２の感光性樹脂としてポジ型の第２の感光性樹脂４３３を用い、第２の露光に用いる露光マスクとしてネガ用マスク２２７の遮光パターンを反転させた凹凸用反転マスク４４０を用いる点が変形例２と異なるのでその点を中心に説明する。
【０１６９】
まず、感光性材料の一種であるネガ型の第１の感光性樹脂２２６をスピンコートなどにより第２基板４の上に第１の塗布工程として塗布する（図５中のＳＴ１０２）する。
【０１７０】
以下、アルミニウム膜の成膜工程（図５中のＳＴ１１１）までは変形例２と同様であるのでその説明を省略する。
【０１７１】
アルミニウム膜の成膜工程によりアルミニウム膜が成膜された後、第２基板の観察面となる面に、例えばスピンコート法などにより第２の塗布工程としての第２の感光性樹脂４３３を塗布する（図５中のＳＴ１１２）。
【０１７２】
このとき、当該第２の感光性樹脂４３３は、ポジ型であり第２の現像工程としての第２の現像の後に残った第２の感光性樹脂４３３が、第２の露光（１）としての露光の遮光領域から平坦部側にはみ出すように形成されるものする。例えば、第２の感光性樹脂４３３の膜厚、露光量、感光性樹脂の材料又はメルトベークの時間を調整することで第２の現像後に残った第２の感光性樹脂４３３が、第２の露光（１）の遮光領域から平坦部側にはみ出すように形成することができる。
【０１７３】
次に、第２基板に塗布した第２の感光性樹脂４３３を減圧乾燥させ（図５中のＳＴ１１３）、８０℃から１１０℃の温度範囲で１分から３分プリベークする（図５中のＳＴ１１４）。
【０１７４】
そして、プリベークした第２の感光性樹脂４３３を露光機により、第１の感光性樹脂２２６の第１の露光（１）に用いたネガ用マスク２２７の遮光部のパターンが反転された第２の露光マスクである凹凸用反転マスク４４０を用いて第２の露光工程である第２の露光（１）を行なう（図５中のＳＴ１１５）。
【０１７５】
ここで、例えば凹凸用反転マスク４４０は透過領域Ｃとなる領域に透光部が対応し、反射膜１６の平坦部２３に半透光部が対応するように形成されているので、第２の露光（１）により反射膜１６の平坦部２３と透過領域Ｃとなる領域とで第２の感光性樹脂４３３が除去される。これにより、第１の実施形態と異なり第２の露光工程は一回の露光で終了することとなる。
【０１７６】
以下の第２の現像工程としての第２の現像（図５中のＳＴ１１７）から非反射領域のある反射膜の完成（図５中のＳＴ１２０）までは第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１７７】
最後に液晶パネル５に必要な回路基板やバックライトユニット６及びケース等を取り付けて、液晶装置４０１が完成する。
【０１７８】
（液晶装置の動作）
【０１７９】
次に、以上のように構成された液晶装置４０１の動作については第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。
【０１８０】
このように本変形例によれば、反射膜１６の平坦部２３の除去工程は、成膜工程により成膜された反射膜上にポジ型の第２の感光性樹脂４３３を塗布する第２の塗布工程と、第２の塗布工程により塗布された第２の感光性樹脂４３３を第１の露光マスクであるネガ用マスク２２７の遮光部のパターンが反転された第２の露光マスクである凹凸用反転マスク４４０を用いて露光する第２の露光工程と、該第２の露光工程により露光された第２の感光性樹脂４３３を現像する第２の現像工程と、該第２の現像工程後に露出した反射膜１６の平坦部２３をエッチングする工程と該第２の感光性樹脂４３３を剥離する工程とを有することとしたので、第２の感光性樹脂４３３に第１の感光性樹脂２２６と同じネガ型でなくても第１の露光マスクであるネガ用マスク２２７の遮光部のパターンを反転させた第２の露光マスクである凹凸用反転マスク４４０を用いることで、反射膜１６の平坦部２３を正確にアライメントして除去でき、感光性樹脂選択の自由度を増しながら露光マスクの製造コストを安価にすることが可能となる。
【０１８１】
また、平坦部２３の除去工程では第２の感光性樹脂としてポジ型を用い、第２の露光マスクとして、ハーフトーンマスクである第１の露光マスクの遮光部のパターンを反転させた露光マスクを用いることとしたので、一回の露光工程で反射膜１６の凹凸２２の平坦部２３及び透過領域Ｃとなる領域を完全に反射膜面上まで光を作用させることができ、一回の露光工程で反射膜１６の凹凸２２の平坦部等を除去可能となり、製造コストの低減を図ることができる。
【０１８２】
（第２の実施形態・電子機器）
【０１８３】
次に、以上説明した液晶装置１，１０１，２０１，４０１を搭載した本発明の第２の実施形態に係る電子機器について説明する。尚、第１の実施形態の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態の構成要素と同一の符号を付しその説明を省略する。
【０１８４】
図１８は、液晶装置１を表示部として有する携帯電話機３００の外観図である。この図において、携帯電話機３００は、複数の操作ボタン３１０の他、受話口３２０、送話口３３０とともに、電話番号などの各種情報を表示する表示部として、上記液晶装置１を備えている。また、携帯電話機３００以外にも、液晶装置１，１０１，２０１，４０１（電気光学装置）は、コンピュータや、プロジェクタ、デジタルカメラ、ムービーカメラ、車載機器、複写機、オーディオ機器などの各種電子機器の表示部として用いることができる。
【０１８５】
このように本実施形態によれば、低コストで容易に反射表示の視角を狭くする原因を取り除き、反射表示の品位向上を可能とする液晶装置１を備えることとしたので、反射光による表示でも明るさ等が不十分となることがない表示品位の高い携帯電話機３００を提供できる。
【０１８６】
なお、本発明の電気光学装置及び電子機器は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、上述した各実施形態や変形例を組み合わせても良い。
【０１８７】
以上、好ましい実施形態を上げて本発明を説明したが、本発明は上述したいずれの実施形態にも限定されず、本発明の技術思想の範囲内で適宜変更して実施できる。
【０１８８】
例えば、上述の実施形態や変形例では薄膜ダイオード素子アクティブマトリクス型の液晶装置について説明したがこれに限られるものではなく、例えば薄膜トランジスタ素子アクティブマトリクス型、パッシブマトリクス型の液晶装置であってもよい。更には反射半透過型に限らず例えば反射型であってもよい。これにより、多種多様な液晶装置についても、低コストで容易に反射表示の視角を狭くする原因を取り除き、反射表示の品位向上を可能とすることができる。
【０１８９】
また、上述の実施形態や変形例において反射膜の平坦部で鏡面反射による反射表示の視角を狭くする中で比較的影響の大きい平坦部を選択的に除去するようにしてもよい。これにより、反射膜の除去による反射表示への影響を極力抑えながら鏡面反射による反射表示の品位低下を改善できる。
【図面の簡単な説明】
【０１９０】
【図１】第１の実施形態に係る液晶装置の概略分解斜視図である。
【図２】第２基板側のカラーフィルタ上から見た部分平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線の概略部分断面図である。
【図４】反射膜が平坦部で除去されている状態の説明図である。
【図５】液晶装置用基板である第２基板側の製造工程を示す工程図である。
【図６】第２基板側の製造工程における下地層形成の説明図である。
【図７】下地層の凹凸形成用の露光マスクの平面図である。
【図８】下地層の透過領域などの形成用の露光マスクの平面図である。
【図９】反射膜上への第２の感光性樹脂の形成の説明図である。
【図１０】第１の実施形態に係る第２の感光性樹脂の露光の説明図である。
【図１１】第１の実施形態に係る反射膜のエッチング工程の説明図である。
【図１２】変形例１に係る下地層形成の説明図である。
【図１３】反転パターンのマスクを用いて露光する工程の説明図である。
【図１４】変形例１に係る下地層の凹凸形成用の露光マスクの平面図である。
【図１５】変形例１に係る反転パターンの露光マスクの平面図である。
【図１６】変形例２に係る製造工程における第２の基板側の説明図である。
【図１７】第１及び第２の露光工程で用いられるネガ用マスクの説明図である。
【図１８】液晶装置１を表示部として有する携帯電話機３００の外観図である。
【符号の説明】
【０１９１】
１，１０１，２０１，４０１  液晶装置、  ２  液晶、  ３  第１基板、  ４  第２基板、  ５  液晶パネル、  ６  バックライトユニット、  ７，１３  位相差板、  ８，１４  偏光板、  ９  画素電極、  １０  データ電極、  １１  ＴＦＤ、  １２，２０  配向膜、  １５  下地層、  １６  反射膜、  １７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂ  カラーフィルタ、  １８  遮光層、  １９  走査線、  ２１，２２  凹凸、  ２３  平坦部、  ２４  シール材、  ２５  画素、  ２６，２２６  第１の感光樹脂、  ２７，１２７  凹凸用マスク、  ２８，１２８  凹凸用遮光部、  ２９  透過用マスク、  ３０  透過領域用遮光部、  ３１  透光部、  ３２  側端面、  ３３，１３３，２３３，４３３  第２の感光性樹脂、  ３４，１３４  凹凸用透過部、  ３５  端部、  ３６  交点、  １４０，４４０  凹凸用反転マスク、  １４１  凹凸用反転遮光部、  １４２  凹凸用反転透過部、  ２２７  ネガ用マスク、  ２３１  ネガ用透光部、  ２３７  半透光部、  ３００  携帯電話機、  ３１０  操作ボタン、  ３２０  受話口、  ３３０  送話口、  Ｂ  反射領域、  Ｃ  透過領域、  Ｄ  非反射領域
【図１】
2006201214.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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