(57)【要約】【課題】収納したフォトマスクブランクのガス汚染によるレジスト膜の感度変化と粉塵による汚染の両方を抑制することができるとともに、保管、輸送が容易なフォトマスクブランク収納容器を提供する。【解決手段】レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納する容器であって、少なくとも、容器本体と、蓋体と、基板押さえと、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤とを具備するものであり、前記基板押さえは、前記容器本体の開口部が前記蓋体で閉じられたときに、収納されたフォトマスクブランクを蓋体からの圧力で力学的に押さえて固定するものであり、かつ前記有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定するものであることを特徴とするフォトマスクブランク収納容器。【選択図】図１
2006154018.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納する容器であって、少なくとも、容器本体と、蓋体と、基板押さえと、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤とを具備するものであり、前記基板押さえは、前記容器本体の開口部が前記蓋体で閉じられたときに、収納されたフォトマスクブランクを蓋体からの圧力で力学的に押さえて固定するものであり、かつ前記有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定するものであることを特徴とするフォトマスクブランク収納容器。
【請求項２】
前記フォトマスクブランクに成膜されたレジスト膜が、化学増幅型レジスト膜であることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスクブランク収納容器。
【請求項３】
前記収納容器は、フォトマスクブランクを１枚収納できるものであり、前記基板押さえは、収納されたフォトマスクブランクを該フォトマスクブランクの主面側から押さえるものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のフォトマスクブランク収納容器。
【請求項４】
前記収納容器は、フォトマスクブランクを１枚以上収納できるものであり、前記基板押さえは、収納されたフォトマスクブランクを該フォトマスクブランクの側面側から押さえるものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のフォトマスクブランク収納容器。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のフォトマスクブランク収納容器であって、前記収納されたフォトマスクブランクと、前記有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤との間にＵＬＰＡフィルターを配置したものであることを特徴とするフォトマスクブランク収納容器。
【請求項６】
少なくとも、フォトマスクブランク上にレジスト膜材料を塗布して、レジスト膜を成膜するレジスト膜成膜工程と、該レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の収納容器に収納する収納工程とを含むことを特徴とするフォトマスクブランクの収納方法。
【請求項７】
前記レジスト膜成膜工程から前記収納工程までを、塩基性ガス濃度がアンモニア換算で５ｐｐｂ以下の雰囲気で行うことを特徴とする請求項６に記載のフォトマスクブランクの収納方法。
【請求項８】
請求項６又は請求項７に記載の方法で収納したフォトマスクブランクを保管することを特徴とするフォトマスクブランクの保管方法。
【請求項９】
請求項６又は請求項７に記載の方法で収納したフォトマスクブランクを輸送することを特徴とするフォトマスクブランクの輸送方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の方法で保管したフォトマスクブランクを使用して、これにリソグラフィーによりパターンを形成し、フォトマスクを製造することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の方法で輸送したフォトマスクブランクを使用して、これにリソグラフィーによりパターンを形成し、フォトマスクを製造することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体集積回路、ＣＣＤ（電荷結合素子）、ＬＣＤ（液晶表示素子）用カラーフィルター、及び磁気ヘッド等の微細加工に用いられるフォトマスクを製造するためのフォトマスクブランクの収納容器に関する。また、本発明は、フォトマスクブランクの収納方法、輸送方法、保管方法、さらには、フォトマスクの製造方法にも関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体加工、特に大規模集積回路の高集積化により、回路パターンの微細化がますます必要になってきている。その結果、回路を構成する配線パターンの細線化や、セルを構成する層間の配線のためのコンタクトホールパターンの微細化を達成するための技術の要求はますます高まってきている。また、このような配線パターンやコンタクトホールパターンを形成する光リソグラフィーでは、パターンが書き込まれたフォトマスクを用いるが、このフォトマスクの製造においても、配線パターンやコンタクトホールパターンの微細化に伴い、より微細且つ正確なパターンをフォトマスクに書き込める技術が求められている。
【０００３】
より精度の高いフォトマスクパターンをフォトマスク基板上に形成するためには、まず、フォトマスクブランク上に高精度のレジストパターンを形成することが必要になる。ここで、実際に半導体基板を加工する際の光リソグラフィーは縮小投影を行うため、フォトマスクパターンは実際に必要なパターンサイズの４倍程度の大きさである。しかし、それだけ精度が緩くなるというわけではなく、原版であるフォトマスクには露光後のパターン精度に求められるものよりも高い精度が求められる。更に、すでに現在行われているリソグラフィーでは、描画しようとしている回路パターンは使用する光の波長をかなり下回るサイズになっている。そのため、回路の形状をそのまま４倍にしたフォトマスクパターンを使用すると、実際の光リソグラフィーを行う際に生じる光の干渉等の影響で、フォトマスクパターン通りの形状はレジスト膜に転写されない。そこでこれらの影響を減じるため、フォトマスクパターンを実際の回路パターンより複雑な形状（いわゆるＯＰＣ）に加工する技術等が用いられ、フォトマスクブランク加工の際に必要なレジストパターンにもより微細かつ高精度なリソグラフィー技術が求められてきている。
【０００４】
このため、使用されるレジスト膜も、高感度、高解像度を与える化学増幅型が使用されるようになってきている。しかし、化学増幅型レジスト膜は酸を触媒としてレジスト膜の溶解性を変化させるため、微量の塩基性物質の吸着によってパターン形状が大きく変化してしまう。また、酸性物質の混入によっても感度変化を起こす場合がある。このため、すでに塩基性物質等の影響を受けにくい化学増幅型も多数提案されているが、より微細なレジストパターンを解像しようとした場合、塩基性物質等の影響を全く受けないという化学増幅型レジスト膜は実現されていない。このように、化学増幅型レジスト膜は、環境による汚染に弱く、容易に感度が変化するため、保管、輸送が困難であるという問題がある。
【０００５】
フォトマスクのマスクパターン形成は、フォトマスクブランク上に成膜されたレジスト膜をエッチングマスクとして遮光性膜をエッチングし、遮光性膜を遮光パターンに加工するが、レジスト膜の成膜は、リソグラフィーの直前に行われる場合と、フォトマスクブランクへのレジスト膜材料の塗布、レジスト膜の成膜を行った後に一旦保管あるいは輸送される場合がある。
後者の場合、従来よりフォトマスクブランク上に微細な粉塵が吸着されることを如何に避けるかという方策が種々採られてきた。
【０００６】
一方、ガス等による汚染を防止するものとしては、化学増幅型レジスト膜材料を塗布した基板ではないが、レチクル等の基板に対する汚染を防ぐ保管容器として、洗浄後の基板を減圧乾燥し、そのまま保管することのできる容器が提案されている（特許文献１参照）。しかし、容器に付着していた塩基性物質が汚染の原因となることも有り、化学増幅型レジスト膜の解像性変化を抑制するという目的では、この保管容器は必ずしも目的に添うものではない。
【０００７】
また、ウエーハ等の基板を収納する基板収納容器に関する技術として、ケミカルフィルターを通して、容器中の気体を循環させるという方法が提案されている（特許文献２参照）。この基板収納容器はモーターを用いて容器内の気体を循環させ、ケミカルフィルターを通して異物ガスを除去することができるものであり、塩基性ガス等の除去に有効であるとされている。しかし、この容器を用いた場合、循環用装置のバッテリーを含め装置が大型化してしまい、輸送上のみならず保管上も不利である。しかも、この容器を長期間使用した場合には、モーターの振動の影響が避けられず、容器とフォトマスクブランクとがこすれること等によって発塵の問題が生じる可能性が高い。
このように、従来、レジスト膜、特に、化学増幅型レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを保管、輸送しようとする場合に、ガスによる汚染と粉塵による汚染の両方を抑制することのできるフォトマスクブランク収納容器が望まれていた。
【０００８】
【特許文献１】特開平４−２２１２４号公報
【特許文献２】特開２０００−１７４１０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、収納したフォトマスクブランクのガス汚染によるレジスト膜の感度変化と粉塵による汚染の両方を抑制することができるとともに、保管、輸送が容易なフォトマスクブランク収納容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記課題を解決されるためになされたもので、レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納する容器であって、少なくとも、容器本体と、蓋体と、基板押さえと、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤とを具備するものであり、前記基板押さえは、前記容器本体の開口部が前記蓋体で閉じられたときに、収納されたフォトマスクブランクを蓋体からの圧力で力学的に押さえて固定するものであり、かつ前記有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定するものであることを特徴とするフォトマスクブランク収納容器を提供する（請求項１）。
【００１１】
前述のようにフォトマスクブランク収納容器内の雰囲気中の有機ガス、塩基性ガスは、レジスト膜の感度を変化させる。そのため、レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納する場合、収納容器雰囲気中の有機ガス、塩基性ガス濃度が極力低いものである必要がある。そこで、本発明のフォトマスクブランク収納容器では、基板押さえが、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定するものとして、収納容器内の雰囲気中の有機ガス、塩基性ガスを、これら吸着剤に吸着させ、収納容器内の雰囲気から除去し、収納容器雰囲気中の有機ガス、塩基性ガス濃度を低減させている。したがって、本発明のフォトマスクブランク収納容器に、レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納すれば、保管、輸送中に、有機ガス、塩基性ガスで汚染される恐れが少なく、保管、輸送中に、レジスト膜の感度が変化するのを防ぐことができる。しかも、有機ガス吸着剤、塩基性ガス吸着剤を基板押さえで固定することで、有機ガス吸着剤、塩基性ガス吸着剤を極めて省スペースで収納容器内に配置することができ、収納容器を小型化することもできる。そのため、保管、輸送が容易になる。
尚、「基板押さえが、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定する」とは、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を基板押さえで挟持するなどして固定することの他、基板押さえ自体に有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を封入、分散、被覆、担持等させることによって、保持あるいは含有させることも含む意味である。
【００１２】
また、従来の収納容器には、収納容器内の雰囲気中の有機ガス、塩基性ガスを除去するのに、モーターを用いて、雰囲気を循環させるものもあるが、モーター自体やその振動などが原因で、微細な粉塵発生の問題が避けられない。しかし、本発明のフォトマスクブランク収納容器では、モーターを使用しないので、振動せず、このような、輸送、保管中に微細な粉塵が発生する恐れも少ない。また、モーター設置のためのスペースを容器内の設ける必要もなく、収納容器を大幅に小型化することもできる。
【００１３】
そして、本発明のフォトマスクブランク収納容器では、前記フォトマスクブランクに成膜されたレジスト膜が、化学増幅型レジスト膜であるのものとすることができる（請求項２）。
【００１４】
化学増幅型レジスト膜は、高感度、高解像度を実現できる反面、たとえ微量であっても塩基性物質等の吸着によって容易に感度が変化するので、レジスト膜を成膜した後のフォトマスクブランクを、保管、輸送するのが極めて困難であるという問題がある。しかし、本発明のフォトマスクブランク収納容器では、収納容器内の雰囲気中の塩基性物質等の濃度が極めて低いので、感度変化を生じやすい化学増幅型レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納し、保管、輸送するのに好適である。
【００１５】
また本発明では、前記収納容器は、フォトマスクブランクを１枚収納できるものであり、前記基板押さえは、収納されたフォトマスクブランクを該フォトマスクブランクの主面側から押さえるものであるものとすることができる（請求項３）。さらに、本発明では、前記収納容器は、フォトマスクブランクを１枚以上収納できるものであり、前記基板押さえは、収納されたフォトマスクブランクを該フォトマスクブランクの側面側から押さえるものとすることもできる（請求項４）。
【００１６】
本発明の収納容器は、基板押さえが、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定するものであり、したがって、このようにフォトマスクブランクを１枚のみ収納できる収納容器、及びフォトマスクブランクを１枚以上収納できる収納容器のいずれにも適用することができる。
【００１７】
また、本発明の収納容器は、前記収納されたフォトマスクブランクと、前記有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤との間にＵＬＰＡフィルターを配置したものであるのが好ましい（請求項５）。
【００１８】
このように収納されたフォトマスクブランクと、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤との間にＵＬＰＡフィルターを配置することで、かりに有機ガス吸着剤、塩基性ガス吸着剤から粉塵が発生したとしても、ＵＬＰＡフィルターで除去し、粉塵がフォトマスクブランク上に吸着されるのを防ぐことができる。
【００１９】
また、本発明は、少なくとも、フォトマスクブランク上にレジスト膜材料を塗布して、レジスト膜を成膜するレジスト膜成膜工程と、該レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを前記本発明の収納容器に収納する収納工程とを含むことを特徴とするフォトマスクブランクの収納方法を提供する（請求項６）。
【００２０】
このような本発明の方法で、フォトマスクブランクを収納することで、レジスト膜のガスによる汚染と粉塵による汚染の両方を抑制することができる。
【００２１】
そして、本発明のフォトマスクブランクの収納方法では、前記レジスト膜成膜工程から前記収納工程までを、塩基性ガス濃度がアンモニア換算で５ｐｐｂ以下の雰囲気で行うのが好ましい（請求項７）。
【００２２】
このように、レジスト膜成膜工程から収納工程までを、塩基性ガス濃度がアンモニア換算で５ｐｐｂ以下の雰囲気で行うことで、収納容器に収納したフォトマスクブランクのレジスト膜の感度変化をより確実に防ぐことができる。
【００２３】
また、本発明は、前記本発明の収納方法で収納したフォトマスクブランクを保管することを特徴とするフォトマスクブランクの保管方法を提供する（請求項８）。さらに、本発明は、前記本発明の収納方法で収納したフォトマスクブランクを輸送することを特徴とするフォトマスクブランクの輸送方法を提供する（請求項９）。
【００２４】
このように、本発明の収納方法で収納したフォトマスクブランクを保管、輸送すれば、保管、輸送中のレジスト膜のガス汚染及び粉塵汚染の両方を抑制することができる。また、本発明のフォトマスクブランク収納容器は、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を省スペースで収納容器内に配置することができ、またモーターを設置するスペースを設ける必要がなく、小型化できので、保管、輸送が容易である。
【００２５】
また、本発明は、前記本発明の保管方法で保管したフォトマスクブランクを使用して、これにリソグラフィーによりパターンを形成し、フォトマスクを製造することを特徴とするフォトマスクの製造方法を提供する（請求項１０）。さらに、本発明は、本発明の方法で輸送したフォトマスクブランクを使用して、これにリソグラフィーによりパターンを形成し、フォトマスクを製造することを特徴とするフォトマスクの製造方法を提供する（請求項１１）。
【００２６】
本発明の保管又は輸送方法で、保管あるいは輸送したフォトマスクブランクは、感度変化及び粉塵汚染が非常に少ない。そのため、このレジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを使用して、リソグラフィーによりパターンを形成すれば、微細かつ高精度でレジストパターンを形成でき、従って、高精度なマスクパターンが形成された高品質なフォトマスクを製造することができる。
【発明の効果】
【００２７】
以上説明したように、本発明のフォトマスクブランク収納容器は、基板押さえが、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定するものであるので、収納容器内の雰囲気中の有機ガス、塩基性ガスが、基板押さえに固定された吸着剤に吸着され、除去される。そのため、収納容器内の雰囲気中の有機ガス、塩基性ガス濃度が極めて低い。したがって、本発明のフォトマスクブランク収納容器に、レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納すれば、レジスト膜成膜後、長時間、保管、輸送した場合でも、有機ガス、塩基性ガスで汚染される恐れが少なく、保管、輸送中に、レジスト膜の感度が変化するのを防ぐことができる。そして、フォトマスクブランクを加工する際のリソグラフィー工程において、安定した感度および解像度を得ることができる。
しかも、有機ガス吸着剤、塩基性ガス吸着剤を基板押さえで固定することで、有機ガス吸着剤、塩基性ガス吸着剤を極めて省スペースで収納容器内に配置することができ、収納容器を小型化することもできる。そのため、フォトマスクブランクを、容易に保管、輸送することが可能である。
また、本発明のフォトマスクブランク収納容器は、モーターが不要であるので、モーター自身からの発塵やモーターの振動が原因で、容器内から微細な粉塵が発生するという問題が生じることもない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
レジストを塗布したフォトマスクブランクの収納容器は、上述した通りコンパクトであるとともにレジストの感度変動等を抑制できることが望ましい。
ここで、感度変動の原因は微量の塩基性ガス成分が強く疑われ、その抑制にはガス吸着剤等の使用が有効であると考えられる。
【００２９】
また、フォトマスクブランクは、容器内でフォトマスクブランクが動かないように固定される。すなわち、フォトマスクブランクはシリコンウエーハなどに比べ重量が重いことから、輸送の際、振動等により容器内でフォトマスクブランクと容器の間でのこすれあいによる発塵等を防止するため、容器内でフォトマスクブランクが動かないように固定される。この時、モーターを使用して容器内の気体を循環させる従来の容器を用いると、モーター自体から発塵する恐れや、あるいはモーターの振動によるこすれ、容器内での気体の攪拌によりむしろ微細な粉塵が発生する恐れがある。
しかも、循環用装置のモーター、バッテリー等を含め、装置が大型化してしまい、輸送上不利であるばかりでなく、保管においても不利である。
【００３０】
そこで、本発明者らは検討を重ねた結果、収納容器の基板押さえが、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定するものであれば、収納容器内の雰囲気中の有機ガス、塩基性ガスが、これらのガス吸着剤に吸着され、収納容器内の雰囲気から十分に除去できること、これらのガス吸着剤を極めて省スペースで収納容器内に配置することができ、収納容器を小型化できること、モーターを設けないので、振動が少なく、輸送、保管中に、微細な粉塵が発生する恐れも少ないこと、に想到し本発明を完成させた。
【００３１】
すなわち、本発明のフォトマスクブランク収納容器は、レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納する容器であって、少なくとも、容器本体と、蓋体と、基板押さえと、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤とを具備するものであり、前記基板押さえは、前記容器本体の開口部が前記蓋体で閉じられたときに、収納されたフォトマスクブランクを蓋体からの圧力で力学的に押さえて固定するものであり、かつ前記有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定するものであることを特徴とする。
【００３２】
以下、図面を参照して説明する。
図１は、フォトマスクブランクを１枚収納できる本発明のフォトマスクブランク収納容器の一例を示す概略断面図である。図１（ａ）は、基板押さえに固定された吸着剤とＵＬＰＡフィルターの固定状態を示す拡大図であり、図１（ｂ）は、フォトマスクブランク収納容器の全体図である。
このフォトマスクブランク収納容器１８は、容器本体１５と、蓋体１４と、基板押さえ１２と、支持体１７と、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤１０とを具備する。そして、この収納容器では、図１（ｂ）に示されているように、一枚のフォトマスクブランク１６を水平にして収納することができる。
【００３３】
基板押さえ１２は、固定枠１２ａと足部１２ｂからなる。そして、ガス吸着剤１０は、ＵＬＰＡフィルター１１で包まれており、これを、基板押さえ１２の固定枠１２ａに挟み、クリップ１３で留めることで、ガス吸着剤１０を基板押さえ１２で固定している。そして、容器本体１５の開口部が蓋体１４で閉じられた状態では、基板押さえ１２及び支持体１７が、フォトマスクブランク１６を蓋体１４からの圧力で主面側から力学的に押さえて固定している。すなわち、基板押さえ１２は、足部１２ｂで、支持体１７上のフォトマスクブランク１６を上側の主面側から押さえて固定している。
【００３４】
一方、図２は、フォトマスクブランクを１枚以上収納できる本発明のフォトマスクブランク収納容器の例を示す概略断面図である。図２（ａ）は、蓋体及び基板押さえを蓋体の裏側から見た断面図であり、図２（ｂ）は、フォトマスクブランク収納容器を側面から見た断面図である。
このフォトマスクブランク収納容器２８は、容器本体２５と、蓋体２４と、基板押さえ２２と、支持体２７と、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤（不図示）を具備する。さらに、このフォトマスクブランク収納容器２８は、内容器支持体３０と、内容器３１を具備するもので、５枚のフォトマスクブランク２６を内容器３１内に立てて収納できるものである。
【００３５】
基板押さえ２２は、枠部２２ａと、足部２２ｂと、基板押さえ部２２ｃからなる。基板押さえ部２２ｃは、基板押さえ２２の中央に設けられた穴に挿入されて貫通するように設けられたものである。
そして、ガス吸着剤（不図示）は、図１（ａ）と同様に、ＵＬＰＡフィルター２１で包まれており、これを、基板押さえ２２の枠部２２ａで挟み、クリップ２３で留めることで、ガス吸着剤を基板押さえ２２で固定している。図２（ａ）に示すようにＵＬＰＡフィルター２１を枠部２２ａで囲うように固定すれば、ＵＬＰＡフィルター２１と他の部材とがこすれる恐れが少ない。そして、容器本体２５の開口部が蓋体２４で閉じられた状態では、基板押さえ部２２ｃが、支持体２７上のフォトマスクブランク２６を、蓋体２４からの圧力で側面側から力学的に押さえて固定している。すなわち、基板押さえ部２２ｃと支持体２７で、フォトマスクブランク２６を側面側から押さえている。また、同時に、基板押さえ２２の足部２２ｂと、内容器支持体３０とで、内容器３１も押さえて固定している。
【００３６】
本発明のフォトマスクブランク収納容器は、このように１枚のフォトマスクブランクを収納するもの、複数枚を収納するもののいずれにも適用することができる。また、図１、２に示すように、１枚のフォトマスクを収納する容器の場合、フォトマスクブランクを横向きに入れるものが一般的であり、また、１枚以上のフォトマスクブランクを収納する容器の場合、フォトマスクブランクを縦向きに入れるものが一般的であるが、本発明はこれに限定されず、入れる向きの縦横が変わった場合にも適用できる。
【００３７】
基板押さえは、ガス吸着剤を固定するものであるとともに、容器本体の開口部が蓋体で閉じられたときに、収納されたフォトマスクブランクを蓋体からの圧力で力学的に押さえて固定するものである。これにより、輸送中にがたつきにより収納したフォトマスクブランクと収納容器がこすれることがないようにしている。
このような基板押さえは、図１に示すように１枚のフォトマスクブランクを水平にして収納する容器の場合、蓋体と収納したフォトマスクブランクとの間（上側）に配置することができるが、容器本体の底面と収納したフォトマスクブランクとの間（下側）に配置することもできる。さらに、上側と下側の両方に配置することもできる。また、図２に示すように１枚以上のフォトマスクブランクを内容器に立てて収納する容器の場合にも、蓋体と収納したフォトマスクブランクとの間（上側）に配置することができるが、容器本体の底面と収納したフォトマスクブランクとの間（下側）に配置することもできる。さらに、上側と下側の両方に配置することもできる。
尚、上側あるいは下側の一方にのみ基板押さえを配置する場合、基板押さえの配置した側とは反対側に、ガス吸着剤を固定しない支持部材を配置し、この支持部材と基板押さえとでフォトマスクブランクを固定するようにする。
また、図２に示すフォトマスクブランク収納容器の内容器には、底面にスリットが入っているために、内容器支持体３０に加え、支持体２７を設けている。しかし、内容器の底面にスリットが入っていない場合には、内容器支持体３０があれば十分である。
【００３８】
本発明で使用する有機ガス吸着剤は、比表面積が高く、疎水性の表面を持つタイプの吸着剤であればいずれも使用可能であるが、特に容易に入手可能で、高い有機ガス捕集効果が期待できるのは活性炭である。
【００３９】
また、塩基性ガス吸着剤も多数のものが公知かつ市販されているが、一般的には無機材料、特に珪酸や硫酸等の不揮発性酸のアルミニウム塩が好ましく使われる。また、強酸性イオン交換樹脂等に使用される強酸性側鎖を持った樹脂類もこの目的に使用しうる材料である。
【００４０】
図１、２のフォトマスクブランク収納容器では、このような有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を、基板押さえに挟んで固定し、蓋体と収納したフォトマスクブランクの間に配置している。これにより、ガス吸着剤のセットの際、ガス吸着剤をフォトマスクブランクが収容される空間を経由せずにセットできるので、収納したフォトマスクブランクをより清浄に保つことができる。
この他、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を、基板押さえに挟んで固定し、容器本体の底面と収納したフォトマスクブランクの間などに配置することも可能である。また、基板押さえの材質は、通常樹脂であることから、これに有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を封入、分散、被覆、担持等させることによって、基板押さえに保持あるいは含有させることによって固定することもできる。
【００４１】
中でも、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を、基板押さえに挟んで固定するのがより好ましい。この場合、ガス吸着剤は、不織布等によるパッケージあるいは気体の通過が自由である面を持つ容器に入れるなどして使用することになるが、このようにガス吸着剤を、パッケージあるいは容器に入れて使用すれば、吸着面積が大きく採れて有利である。尚、パッケージが不織布である場合、固定するための部分はプラスチックの枠を付けておく等の処理がされていると、固定時の発塵の恐れを下げることができる。
一方、ガス吸着剤を基板押さえに含有させる場合、発塵等の危険性をより低くできる。
【００４２】
このように、収納容器の基板押さえが、有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤を固定するものであれば、収納容器内の雰囲気中の有機ガス、塩基性ガスが、これらのガス吸着剤に吸着され、収納容器内の雰囲気から十分に除去することができる。また、これらのガス吸着剤を極めて省スペースで収納容器内に配置することができ、収納容器を小型化できる。さらに、モーターを設けないので、振動が少なく、輸送、保管中に、微細な粉塵が発生する恐れも少ない。
【００４３】
ここで、ガス吸着剤にも発塵の恐れがある。そのため、収納されたフォトマスクブランクと、固定された有機ガス吸着剤及び／又は塩基性ガス吸着剤との間にＵＬＰＡフィルターを配置するのが好ましい。ＵＬＰＡフィルターは、微小な粉塵が問題となる半導体加工工程の多方面で使用されており、市販の公知のものが使用できる。
図１、２のフォトマスクブランク収納容器では、ＵＬＰＡフィルターは、ガス吸着剤のパッケージを包むように配置されている。この他、ＵＬＰＡフィルターの配置方法としては、吸着剤のパッケージ又は容器の気体が出入りする部分自体をＵＬＰＡフィルターとする方法、ガス吸着剤を包む等するのではなく独立して配置する方法などが挙げられる。
【００４４】
本発明のフォトマスクブランク収納容器の材質としては、すでにフォトマスクブランク収納容器や半導体ウエーハ収納容器に使用されているものが多数公知であり、それらの何れも使用可能である。但し、本発明のフォトマスクブランク収納容器は、レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納する容器であるため、半導体ウエーハの収納容器の場合と異なり、レジスト膜が光を受けて感光しないように、短波長の光を通さない材質であるのが好ましい。例としては、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ＰＥＥＫ等に色素を分散させたもの等が挙げられる。
【００４５】
次に、上記のような本発明の収納容器を用いたレジスト膜を成膜したフォトマスクブランクの収納方法、保管方法、輸送方法、並びに、フォトマスクの製造方法について説明する。
図３は、フォトマスクブランクの収納、保管、輸送を経てフォトマスクを製造するまでの工程を示すフロ−図である。
まず、フォトマスクブランク基板は、石英硝子、フッ化カルシウム等公知のものが使用されるが、一般的には長方形の石英硝子が用いられる。そして、この基板を洗浄後（工程（Ａ））、基板上に、例えばスパッターにより、バイナリーマスクであれば遮光膜、反射防止膜等が、ハーフトーンマスクであれば、半透明膜、場合によりさらに遮光膜、反射防止膜が成膜される（工程（Ｂ））。しかし、本発明は、これらに限定されず、すべての公知の被加工フォトマスクブランクに適用可能である。
【００４６】
このフォトマスクブランクを再び洗浄後、フォトマスブランク上に、更にレジスト膜材料をスピン塗布、スキャン塗布等公知の何れかの方法により塗布し、加熱によりレジスト膜材料中の溶剤を揮発除去してレジスト膜を成膜する（工程（Ｃ））。
ここで使用されるレジスト膜材料としては、例えば、化学増幅型が挙げられ、ネガ型でもポジ型でも良い。
【００４７】
化学増幅型ネガ型レジスト膜材料は公知のものが何れも使用可能であるが、一般的にはアルカリ水溶液で溶解可能な樹脂、電子線あるいは光のようなエネルギー線の照射により強酸を発生する酸発生剤、酸が存在すると酸を触媒としてアルカリ可溶性樹脂間を架橋して、樹脂をアルカリ不溶性とする架橋剤等が含有される。
【００４８】
また化学増幅型ポジ型レジスト膜材料も公知のものが何れも使用可能であるが、一般的には、アルカリ可溶性樹脂の酸性側鎖の一部が酸で脱保護される保護基によって置換され、アルカリ不溶性である樹脂と酸発生剤等が含有される。
これらが更に含有する成分についても公知のものが多数知られており、本発明では特に制限されるものではない。
【００４９】
また、フォトマスクブランク加工用には高いエッチング耐性が求められるため、上記何れのタイプのレジスト膜材料に使用される樹脂の基本骨格には芳香族含有樹脂が含まれることが好ましい。これらのレジスト膜材料は、成膜後のレジスト膜中でエネルギー線の照射を受けると酸発生剤より強酸が発生し、発生酸は周囲の複数の反応点で、ネガ型であれば架橋反応を、ポジ型であれば脱保護反応を起こすため、高感度と高解像度が得られる。逆にそれが故に外部から酸性を有するものが混入したり、酸を失活させる物質が混入したりすると、反応性が容易に変化する。
【００５０】
レジスト膜材料を塗布してレジスト膜を成膜したフォトマスクブランクは、成膜状態を確認した後、移載装置にて前述の本発明のフォトマスクブランク収納容器に収納される（工程（Ｄ））。そして、その後、輸送及び／又は保管される（工程（Ｅ））。さらに、輸送及び／又は保管されたフォトマスクブランクを使用して、これにリソグラフィー、エッチング加工によりパターンを形成し、フォトマスクを製造する（工程（Ｆ））。
【００５１】
ここで、レジスト膜成膜工程（工程（Ｃ））からフォトマスクブランクの収納工程（工程（Ｄ））までの一連の工程を、塩基性ガス濃度がアンモニア換算で５ｐｐｂ以下の雰囲気で行うのが好ましい。この場合、より好ましくは３ｐｐｂ以下、さらに好ましくは２ｐｐｂ以下である。
このように作業環境を管理することで、収納されるフォトマスクブランクに成膜されたレジスト膜の感度を安定させることができる。また、容器に収納後、輸送、保管の際に塩基性ガスの環境が管理されていない場所に収納容器が置かれても、再び開封する際の環境が管理されていれば、レジスト膜の感度変化をかなり抑制することができる。また、バッチ間の感度差も非常に小さい。
【実施例】
【００５２】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（一枚用フォトマスクブランク収納容器）
先ず、１枚のフォトマスクブランクを収納する容器として、図１に示すようなフォトマスクブランク収納容器を準備した。
有機ガス吸着剤及び塩基性ガス吸着剤１０として、不織布に包まれた活性炭（日本ピュアテック社製ＰｕｒｅＰＵＴ−Ｋ）及び不織布に包まれた塩基性ガス吸着剤（日本ピュアテック社製ＰｕｒｅＰＵＴ−Ｎ）を用いた。そして、この有機ガス吸着剤及び塩基性ガス吸着剤１０を０．１５μｍの粒子を９９％以上捕集するＵＬＰＡフィルタ−１１で包んだ。これを、４辺４角に足部１２ｂを出したプラスチック製の固定枠１２ａで挟み、クリップ１３で留め、基板押さえ１２で固定した。
【００５３】
（複数枚用フォトマスクブランク収納容器）
一方、２枚以上のフォトマスクブランクを収納する容器として、図２に示すようなフォトマスクブランク収納容器を準備した。
有機ガス吸着剤及び塩基性ガス吸着剤、ＵＬＰＡフィルター２１として、上記一枚用の収納容器で用いるのと同じものを用いた。そして、ガス吸着剤を包んだＵＬＰＡフィルター２１をプラスチック製の枠部２２ａで挟み、クリップ２３で留め、基板押さえ２２で固定した。
【００５４】
（実施例１，２、比較例１，２）
本発明の容器に収納するフォトマスクブランクとして、石英ガラス基板上にクロム膜を主成分とした遮光膜を持つフォトマスクブランクを使用した。
このクロム膜基板の上に電子線描画露光用の化学増幅型ポジ型レジスト膜材料をレジスト塗布機により４０００Åの厚さで塗布し、加熱によりレジスト膜材料の溶剤を揮発除去してレジスト膜を成膜した。このとき、レジスト塗布機上部などには酸性ガス及び塩基性ガスを除去するケミカルフィルター及びＵＬＰＡフィルターを配置し、アンモニアガス換算の塩基性ガス濃度が２ｐｐｂ以下の雰囲気を維持した。
【００５５】
つづいて、レジスト膜を成膜したフォトマスクブランクをアンモニアガス換算の塩基性ガス濃度が２ｐｐｂ以下に制御されたクリーンルーム内で、上記一枚用（実施例１）と複数枚用（実施例２）の２種の容器にそれぞれ収納した。
また、比較例として、上記一枚用（比較例１）と複数枚用（比較例２）の容器に、基板押さえに吸着剤とＵＬＰＡフィルターをセットしていないものを使用し、同様にレジスト膜を成膜したフォトマスクブランクを収納した。
そして、これら計４種の容器に収納したフォトマスクブランクをそれぞれクリーンルームから外部環境に持ち出して保管した。
【００５６】
次に、１５日経過後と、３０日経過後のそれぞれに、再び収納容器をクリーンエアによる洗浄を経て、雰囲気の塩基性ガス濃度が２ｐｐｂ以下にコントロールされている環境に持ち込んだ。
さらに、各容器に保管されたフォトマスクブランクを開封後すぐに電子線描画露光機に装着し、パターン照射して１ミクロンのラインアンドパターンを形成した。照射された基板を定法に従い、照射後加熱、アルカリ性現像液による現像を経ることにより、レジストパターンを得た。
【００５７】
そして、走査型電子顕微鏡を用いて上方より、１ミクロンのパターンの線幅を精密に測定し、経過時間０の標品との比較を行った。その結果を図４に示す。
ガス吸着剤を装着した収納容器を用いた実施例１，２の方法で保管した場合、フォトマスクブランク上に描画されたレジストパターンの線幅は、１５日後に平均で１．００５ミクロン、３０日後には１．００７ミクロンであった。
一方、ガス吸着剤を装着しなかった収納容器を用いた比較例１，２の方法で保管した場合、得られたレジストパターンの線幅は、15日後に１．０３０ミクロン、３０日後には１．０３６ミクロンであった。
この結果より、本発明のフォトマスクブランク収納容器に収納し、保管した場合、得られるレジストパターンは、経過時間に対する線幅変化が非常に小さいことが確認された。すなわち、本発明のフォトマスクブランク収納容器を用いて、保管、輸送することで、高感度でかつ高精度な経時変化のない電子線描画レジスト塗布のフォトマスクブランクが得られる。これによりフォトマスクの経時変化による電子線露光描画の不良発生が少なく効率よく高精度マスクの製造が可能となる。
【００５８】
一方、レジスト表面のパーティクルによる汚染は、レーザー散乱を用いたパーティクル測定法により検査を行った。日立電子エンジニアリング製ＧＭ１０００Ａを用い、３０日後にクリーンルームに持ち込まれた実施例１，２及び比較例１，２のフォトマスクブランクのレジスト上、全面のパーティクル数を測定したところ、０．５μｍ以上のパーティクルは何れからも検出されなかった。また、０．２μｍ以上のパーティクルは全て３〜５個であり、両者に差異は見られなかった。従って、本発明の収納容器では、塩基性ガス等をガス吸着剤に吸着してレジスト膜の感度変化を防止できると共に、発塵の原因とならないことが分かった。しかも、容器を比較的コンパクトに構成することができる。
【００５９】
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明のフォトマスクブランク収納容器の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のフォトマスクブランク収納容器の別の例を示す概略断面図である。
【図３】フォトマスクブランクの収納、保管、輸送を経てフォトマスクを製造するまでの工程を示すフロ−図である。
【図４】経過時間とレジストパターンの線幅変化の関係を示すグラフである（実施例１，２、比較例１，２）。
【符号の説明】
【００６１】
１０…ガス吸着剤、  １１、２１…ＵＬＰＡフィルター、
１２、２２…基板押さえ、  １２ａ…固定枠、  １２ｂ…足部、
１３、２３…クリップ、  １４、２４…蓋体、  １５、２５…容器本体、
１６、２６…フォトマスクブランク、  １７、２７…支持体、
１８、２８…フォトマスクブランク収納容器、
２２ａ…枠部、  ２２ｂ…足部、  ２２ｃ…基板押さえ部、
３０…内容器支持体、  ３１…内容器。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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