(57)【要約】    【課題】  音質が優れ且つ信頼性が高い振動板及びその製造方法を提供する。    【解決手段】  Ｃｕ板に半球状の凹部１ａを形成した型１の凹部１ａが形成されている側の面上に、減圧プラズマ溶射によりＢ４Ｃ膜を形成する。そして、この型１を希硝酸中に浸漬して、型１からＢ４Ｃ膜を分離する。その後、分離したＢ４Ｃ膜をＡｒガス雰囲気中で、１０００℃以上の温度条件下で焼成し、Ｂ４Ｃの真密度を２．５２ｇ／ｃｍ３としたときの相対密度が８８％以上である振動板を得る。【選択図】    図１
2006157461.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化硼素からなり、前記炭化硼素の真密度を２．５２ｇ／ｃｍ３としたときの相対密度が８８％以上で、減圧プラズマ溶射により成膜された炭化硼素膜を焼成することにより形成されたことを特徴とする振動板。
【請求項２】
前記炭化硼素膜は、前記減圧プラズマ溶射により、凹部が形成された型の前記凹部が形成されている面上に成膜されたものであることを特徴とする請求項１に記載の振動板。
【請求項３】
炭化硼素からなり、前記炭化硼素の真密度を２．５２ｇ／ｃｍ３としたときの相対密度が８８％以上である振動板を製造する方法であって、減圧プラズマ溶射により型の表面上に炭化硼素膜を形成する工程と、前記型と前記炭化硼素膜とを分離する工程と、分離後の炭化硼素膜を不活性ガス雰囲気中で１０００℃以上の温度条件下で焼成する工程と、を有することを特徴とする振動板の製造方法。
【請求項４】
焼成後の炭化硼素膜に熱間静水圧加圧処理をする工程を有することを特徴とする請求項３に記載の振動板の製造方法。
【請求項５】
炭化硼素からなり、前記炭化硼素の真密度を２．５２ｇ／ｃｍ３としたときの相対密度が８８％以上である振動板を製造する方法であって、減圧プラズマ溶射により型の表面上に炭化硼素膜を形成する工程と、前記型と前記炭化硼素膜とを分離する工程と、分離後の炭化硼素膜に熱間静水圧加圧処理をする工程と、を有することを特徴とする振動板の製造方法。
【請求項６】
前記型は金属又はセラミックスからなることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の振動板の製造方法。
【請求項７】
前記型の表面の少なくとも炭化硼素膜が形成される領域上には、酸に溶解する金属材料からなる離型層が形成されていることを特徴とする請求項６に記載の振動板の製造方法。
【請求項８】
前記離型層をめっきにより形成することを特徴とする請求項７に記載の振動板の製造方法。
【請求項９】
前記型には振動板の形状に相当する凹部が形成されており、この凹部が形成されている面に前記炭化硼素膜を成膜することを特徴とする請求項３乃至８のいずれか１項に記載の振動板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スピーカー用の振動板及びその製造方法に関し、特に、プラズマ溶射により形成された振動板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
スピーカー用の振動板に使用される材料は、ヤング率Ｅ及び密度ρから求められる比弾性率（Ｅ／ρ）が大きいことが望ましく、従来、比弾性率（Ｅ／ρ）が大きい炭化硼素（Ｂ４Ｃ）を、プラズマ溶射することにより形成したドーム形状の振動板が提案されている（例えば、特許文献１及び２並びに非特許文献１参照）。
【０００３】
非特許文献１には、プラズマ溶射により形成したＢ４Ｃ膜からなる振動板を高温焼成することにより、Ｂ４Ｃ粒子間の結合が強化されると共に気泡が減少して比弾性率（Ｅ／ρ）が増加することが開示されている。この方法で製造された振動板の一例として、密度が２．０５ｇ／ｃｍ３、即ち、相対密度が約８１％であり、ヤング率Ｅが１．５４×１０１１Ｐａである振動板が開示されている。また、特許文献１に記載のスピーカー用振動板の製造方法においては、Ｂ４Ｃを溶射用粉体として振動板形状が形成された型に溶射した後、型の表面に堆積したＢ４Ｃ膜を離型して、アルゴンガス雰囲気中で１５００乃至２３００℃の温度条件下で加熱焼成することにより、比弾性率（Ｅ／ρ）を加熱焼成しない場合の約３倍にしている。
【０００４】
更に、特許文献２に記載のスピーカー用振動板の製造方法においては、表面が平滑に加工された振動板形状が形成された型にＢ４Ｃ等のセラミックスをプラズマ溶射して形成した膜を、研磨剤を使用して表面を研磨した後離型し、アルゴン等の不活性ガス中で焼成することにより、クラックの発生が少なく信頼性が高い振動板を得ている。
【０００５】
【特許文献１】特許第１７５８７０１号公報
【特許文献２】特公平４−４６５１３号公報
【非特許文献１】奥村、外３名，「プラズマ溶射によるスピーカー用Ｂ４Ｃ振動板」，１９８６年，電子情報通信学会技術研究報告（ＣＰＭ），第８６巻，第１５９号，ｐ．４９−５４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前述の従来の技術には以下に示す問題点がある。非特許文献１に記載の方法で製造された振動板は、共にヤング率Ｅが１．５４×１０１１Ｐａ程度と小さいため、比弾性率（Ｅ／ρ）が低くなる。その結果、音速が小さくなり、再生周波数特性の共振ピークが低周波数側にシフトして可聴域に入るため、音が暴れたり、耳障りな音がしたりする等の音質の劣化が生じるという問題点がある。また、この振動板は、焼成することにより気泡を低減して密度を高めているが、未だ十分ではなく、強度不足のため、組み立て時の歩留まりが低いという問題点もある。
【０００７】
また、特許文献１及び２並びに非特許文献１に記載の振動板の製造方法のように、凸状の型の表面にＢ４Ｃ膜を形成すると、振動板の凸面に表面欠陥が形成され、振動板を動作している際に、この表面欠陥が開く方向に応力が作用して振動板が割れるという問題点がある。なお、特許文献２に記載の方法では、Ｂ４Ｃ膜の凸面を研磨して平滑にしているが、研磨では表面欠陥を完全に除去することはできない。
【０００８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、音質が優れ且つ信頼性が高い振動板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願第１発明に係る振動板は、炭化硼素からなり、前記炭化硼素の真密度を２．５２ｇ／ｃｍ３としたときの相対密度が８８％以上で、減圧プラズマ溶射により成膜された炭化硼素膜を焼成することにより形成されたことを特徴とする。
【００１０】
本発明においては、減圧プラズマ溶射により成膜した後焼成した高密度な炭化硼素膜により形成されているため、ヤング率Ｅが１．７×１０１１Ｐａ以上となり、音質が向上すると共に、従来の振動板よりも表面欠陥が少なくなり、信頼性が向上する。
【００１１】
また、前記炭化硼素膜は、前記減圧プラズマ溶射により、凹部が形成された型の前記凹部が形成されている面上に成膜されたものであってもよい。これにより、振動板の凸面が平滑になり、表面欠陥の発生を抑制することができる。
【００１２】
本願第２発明に係る振動板の製造方法は、炭化硼素からなり、前記炭化硼素の真密度を２．５２ｇ／ｃｍ３としたときの相対密度が８８％以上である振動板を製造する方法であって、減圧プラズマ溶射により型の表面上に炭化硼素膜を形成する工程と、前記型と前記炭化硼素膜とを分離する工程と、分離後の炭化硼素膜を不活性ガス雰囲気中で１０００℃以上の温度条件下で焼成する工程と、を有することを特徴とする。
【００１３】
本発明においては、減圧プラズマ溶射により得られた緻密で比較的高密度な膜を、不活性ガス雰囲気中で１０００℃以上の温度条件下で焼成することにより更に緻密で高密度な膜にしているため、相対密度が８８％以上の炭化硼素膜を形成することができる。これにより、音響特性のパラメータの１つである密度を調整することができ、音質及び信頼性が向上する。
【００１４】
また、焼成後の炭化硼素膜に熱間静水圧加圧処理を行ってもよい。これにより、膜がより緻密になり、ヤング率を大きくすることができるため、従来の振動板に比べて音質を大幅に改善することができる。
【００１５】
本願第３発明に係る振動板の製造方法は、炭化硼素からなり、前記炭化硼素の真密度を２．５２ｇ／ｃｍ３としたときの相対密度が８８％以上である振動板を製造する方法であって、減圧プラズマ溶射により型の表面上に炭化硼素膜を形成する工程と、前記型と前記炭化硼素膜とを分離する工程と、分離後の炭化硼素膜に熱間静水圧加圧処理をする工程と、を有することを特徴とする。
【００１６】
本発明においては、減圧プラズマ溶射により得られた緻密で比較的高密度な膜を、熱間静水圧加圧処理することにより更に緻密で高密度な膜にしているため、相対密度が８８％以上の炭化硼素膜を形成することができる。これにより、音質及び信頼性が向上する。
【００１７】
また、前記型は、例えば、金属又はセラミックスにより形成することができる。更に、前記型の表面の少なくとも炭化硼素膜が形成される領域上に、酸に溶解する金属材料からなる離型層が形成されていてもよい。これにより、炭化硼素膜を容易に離型することができる。更にまた、前記離型層は、めっきにより形成することができる。
【００１８】
更にまた、前記型には振動板の形状に相当する凹部が形成されていてもよく、その場合、凹部が形成されている面に前記炭化硼素膜を成膜することが好ましい。これにより、
振動板の凸面を平滑にすることができるため、表面欠陥の発生を抑制することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、減圧プラズマ溶射した後焼成することにより、高密度な膜を形成することができるため、ヤング率が増大して音質が向上すると共に、割れの起点となる表面欠陥が減少して信頼性が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態に係る振動板について添付の図面を参照して具体的に説明する。先ず、本発明の第１の実施形態に係る振動板について説明する。本実施形態の振動板は、減圧プラズマ溶射により成膜されたＢ４Ｃ膜を焼成することにより形成されたものであり、厚さが例えば２０乃至４０μｍ、相対密度が８８％以上であり、好ましくは相対密度が９０％以上である。なお、本実施形態の振動板における相対密度は、Ｂ４Ｃの真密度を２．５２ｇ／ｃｍ３として計算した値である。
【００２１】
本実施形態の振動板においては、減圧プラズマ溶射により成膜されたＢ４Ｃ膜を焼成することにより形成されたものであるため、膜質が緻密で高密度である。このため、ヤング率が大きく、比弾性率が大きくなるため、従来の振動板に比べて音質を向上させることができる。また、本実施形態の振動板は、前述のように緻密であるため、割れの起点となる表面欠陥が少ない。その結果、動作中に振動板が割れる危険性が低減し、信頼性が向上する。
【００２２】
次に、本実施形態の振動板の製造方法について説明する。図１（ａ）は本実施形態の振動板の製造方法を模式的に示す断面図であり、図１（ｂ）はその平面図である。先ず、図１（ａ）に示すように、減圧プラズマ溶射装置内に、振動板の形状に相当する凹部１ａが形成された型１を、凹部１ａが形成されている面を溶射ガン２側にして、溶射ガン２と型１との距離、即ち、照射距離Ｌが、例えば２５乃至３０ｃｍになるように配置する。この型１の材質は、例えば、鋼材及び銅等の金属材料、又はアルミナ等のセラミックスを使用することができるが、特にセラミックス等の熱膨張率が低い材料を使用することが好ましい。但し、セラミックス上にＢ４Ｃ膜を形成した場合、型１とＢ４Ｃ膜とが分離しにくいため、型１をセラミックス、Ｔｉ、Ｗ、ＷＣ−Ｃｏ及びＭｏ等の酸溶液に溶解しない材料で形成する場合は、型１の表面における少なくともＢ４Ｃ膜が形成される領域上に、めっき等によりＣｕ、Ｓｎ及びＮｉ等の酸溶液に溶解する金属材料からなる離型層を形成しておくことが望ましい。
【００２３】
次に、真空ポンプ（図示せず）等により減圧プラズマ溶射装置内を排気した後、Ａｒ等の不活性ガスを導入して、装置内を、例えば１８乃至２０ｋＰａとし、溶射ガン２からプラズマ３を発生させる。その際の印加電圧は、例えば６０Ｖであり、印加電流は、例えば６００Ａである。そして、原料供給口４からプラズマ３中に、平均粒径が８μｍのＢ４Ｃ粉末を供給しながら減圧プラズマ溶射を行って型１の表面にＢ４Ｃ膜を形成する。このとき、図１（ｂ）に示すように、溶射ガン２を型１上で、例えば４乃至１２ｍｍのピッチｐで、２００乃至３００ｍｍ／秒の速度で掃引して型１の全面に溶射する。そして、複数回重ねて溶射することにより、所定の厚さのＢ４Ｃ膜を得る。
【００２４】
次に、減圧プラズマ溶射装置内から、表面にＢ４Ｃ膜が形成された型１を取り出し、希硝酸等の酸溶液中に浸漬して型１又はその表面に形成された離型層を溶解除去し、型１からＢ４Ｃ膜を分離する。そして、Ｂ４Ｃ膜を熱処理炉内に配置し、不活性ガス雰囲気中で１０００℃以上の温度条件下で０．５乃至２．０時間焼成する。本実施形態の振動板の製造方法においては、この焼成温度を変えることにより、Ｂ４Ｃ膜の相対密度が変化するため、音響特性を調節することができる。但し、焼成温度が１０００℃未満の場合、Ｂ４Ｃ膜の相対密度は変化しない。従って、Ｂ４Ｃ膜の焼成する場合は、焼成温度を１０００℃以上にすることが好ましい。
【００２５】
本実施形態の振動板の製造方法においては、減圧プラズマ溶射した後、不活性ガス雰囲気中で１０００℃以上の温度条件下で焼成しているため、相対密度が８８％以上のＢ４Ｃ膜を形成することができる。このＢ４Ｃ膜は、ヤング率が大きく、比弾性率が大きいため、従来の振動板に比べて音質を向上させることができる。また、本実施形態の振動板の製造方法においては、型１を酸溶液に溶解する金属材料により形成するか、又は型１におけるＢ４Ｃ膜が形成される領域上に酸溶液に溶解する金属材料からなる離型層が形成されているため、型１からＢ４Ｃ膜を容易に分離することができる。また、従来の振動板の製造方法のように、振動板の形状に相当する凸部が形成された型の表面に溶射するのではなく、振動板の形状に相当する凹部１ａが形成された型１の表面にＢ４Ｃ膜を成膜しているため、振動板の凸面を平滑にすることができ、表面欠陥の発生を抑制することができる。その結果、動作中に割れにくい振動板を得ることができる。
【００２６】
次に、本発明の第２の実施形態に係る振動板の製造方法について説明する。本実施形態の振動板の製造方法においては、前述の第１の実施形態の振動板の製造方法と同様の方法及び条件で、型１の表面に減圧プラズマ溶射によりＢ４Ｃ膜を成膜し、更に、このＢ４Ｃ膜を型１から分離した後、熱間静水圧加圧処理を行う。具体的には、熱間静水圧加圧装置のチャンバーに型１から分離したＢ４Ｃ膜を配置する。そして、チャンバー内を例えば１．３３×１０−３Ｐａ（１×１０−５Ｔｏｒｒ）以下になるまで排気した後、チャンバー内にアルゴン等の不活性ガスを導入する。その際の導入圧力は、最終到達圧力と最高到達圧力から決定される。例えば、処理温度を１９００℃とし、圧力を１４７ＭＰａ（１５００ｋｇｆ／ｃｍ２）として熱間静水圧加圧処理を行いたい場合は、１９．６ＭＰａ（２００ｋｇｆ／ｃｍ２）のアルゴンガスを室温にて導入し、更に、必要に応じてコンプレサーにより加圧する。次に、プログラム昇温により所定の温度まで加熱し、炉冷した後、チャンバー内からＢ４Ｃ膜を取り出す。
【００２７】
この熱間静水圧加圧処理の温度は、１５００℃以上２３００℃未満であることが好ましく、より好ましくは１９００℃以上２３００℃未満である。また、圧力は、４９ＭＰａ（５００ｋｇｆ／ｃｍ２）以上であることが好ましく、より好ましくは９８ＭＰａ（１０００ｋｇｆ／ｃｍ２）である。
【００２８】
本実施形態の振動板の製造方法においては、減圧プラズマ溶射した後に熱間静水圧加圧処理しているため、高密度な振動板を製造することができる。この振動板は、ヤング率が大きく、比弾性率が大きいため、従来の振動板に比べて音質が優れている。また、割れの起点となる表面欠陥が少ないため、動作中に振動板が割れる危険性が低減し、信頼性が高い。
【００２９】
なお、本実施形態の振動板の製造方法においては、型１からＢ４Ｃ膜を分離した後で、熱間静水圧加圧処理を行っているが、本発明はこれに限定されるものではなく、熱間静水圧加圧処理の前に、１０００℃以上の温度条件下でＢ４Ｃ膜を熱処理してもよい。これにより、膜をより高密度化することができる。
【実施例】
【００３０】
以下、本発明の実施例の効果について、本発明の範囲から外れる比較例と比較して説明する。先ず、厚さが０．３ｍｍのＣｕ板に直径が３０ｍｍの半球状の凹部を形成した型の表面に、下記表１に示す条件で減圧プラズマ溶射を行い、厚さが３０μｍのＢ４Ｃ膜を形成した。その後、型を３０質量％の希硝酸中に浸漬することにより離型したＢ４Ｃ膜を、アルゴンガス雰囲気中で１０００℃の温度条件下で１時間焼成して実施例１の振動板を作製した。なお、下記表１における溶射距離Ｌは、図１（ａ）に示す溶射ガン２と型１との距離であり、掃引速度は溶射ガンを動かす速度であり、溶射パス数は重ね塗り回数であり、ピッチｐは図１（ｂ）に示す掃引時の間隔である。
【００３１】
【表１】
2006157461.tif 000003
【００３２】
また、厚さが０．５ｍｍのＴｉ板に直径が３０ｍｍの半球状の凹部を形成し、更に凹部が形成された面に厚さ３μｍのＣｕめっき層を設けた型の表面に、実施例１と同様の条件で減圧プラズマ溶射を行い、厚さが３０μｍのＢ４Ｃ膜を形成した。その後、型を３０質量％の希硝酸中に浸漬することにより、Ｂ４Ｃ膜を離型し、更にアルゴンガス雰囲気中で１４００℃の温度条件下で１時間焼成して実施例２の振動板を作製した。
【００３３】
更に、直径が３０ｍｍの半球状の凹部が形成されたＪＩＳ規格Ｇ３１４１に規定されている冷間圧延鋼板ＳＰＣＣの表面に、溶射により厚さが２００μｍになるようにアルミナ膜を形成した後、冷間圧延鋼板ＳＰＣＣを溶解して得たアルミナ基材にＣｕめっきを施した型の表面に、実施例１と同様の条件で減圧プラズマ溶射を行い、厚さが３０μｍのＢ４Ｃ膜を形成した。その後、型を３０質量％の希硝酸中に浸漬することにより離型したＢ４Ｃ膜を、アルゴンガス雰囲気中で１８００℃の温度条件下で１時間焼成して実施例３の振動板を作製した。
【００３４】
更にまた、厚さが０．５ｍｍのＴｉ板に直径が３０ｍｍの半球状の凹部を形成し、更に凹部が形成された面に厚さ３μｍのＣｕめっき層を設けた型の表面に、実施例１と同様の条件で減圧プラズマ溶射を行い、厚さが３０μｍのＢ４Ｃ膜を形成した。その後、型を３０質量％の希硝酸中に浸漬することにより離型したＢ４Ｃ膜を、温度が１５００℃、圧力が４９ＭＰａの条件で熱間静水圧加圧処理して、実施例４の振動板を作製した。
【００３５】
更にまた、厚さが０．５ｍｍのＴｉ板に直径が３０ｍｍの半球状の凹部を形成し、更に凹部が形成された面に厚さ３μｍのＣｕめっき層を設けた型の表面に、実施例１と同様の条件で減圧プラズマ溶射を行い、厚さが３０μｍのＢ４Ｃ膜を形成した。そして、型を３０質量％の希硝酸中に浸漬することにより離型したＢ４Ｃ膜を、アルゴンガス雰囲気中で１９５０℃の温度条件下で１時間焼成した後、更に温度が１９５０℃、圧力が１４７ＭＰａの条件で熱間静水圧加圧処理して、実施例５の振動板を作製した。
【００３６】
更にまた、厚さが０．５ｍｍのＴｉ板に直径が３０ｍｍの半球状の凹部を形成し、更に凹部が形成された面に厚さ３μｍのＣｕめっき層を設けた型の表面に、実施例１と同様の条件で減圧プラズマ溶射を行い、厚さが３０μｍのＢ４Ｃ膜を形成した。そして、型を３０質量％の希硝酸中に浸漬することにより離型したＢ４Ｃ膜を、アルゴンガス雰囲気中で１０００℃の温度条件下で１時間焼成した後、更に温度が１９５０℃、圧力が１４７ＭＰａの条件で熱間静水圧加圧処理して、実施例６の振動板を作製した。
【００３７】
更にまた、厚さが０．３ｍｍのＣｕに直径が３０ｍｍの半球状の凹部を形成した型の表面に、大気中でＡｒを吹き付け、それ以外は前述の実施例１と同様の条件でプラズマ溶射を行い、厚さが３０μｍのＢ４Ｃ膜を形成した。その後、型を３０質量％の希硝酸中に浸漬することにより離型したＢ４Ｃ膜を、アルゴンガス雰囲気中で１８００℃の温度条件下で１時間焼成して比較例１の振動板を作製した。
【００３８】
更にまた、厚さが０．３ｍｍの冷間圧延板ＳＰＣＣに直径が３０ｍｍの半球状の凹部を形成した型の表面に、実施例１と同様の条件で減圧プラズマ溶射を行い、厚さが３０μｍのＢ４Ｃ膜を形成した。その後、型を３０質量％の希硝酸中に浸漬することにより、Ｂ４Ｃ膜を離型して比較例２の振動板を作製した。
【００３９】
次に、実施例１乃至６及び比較例１及び２の振動板について、相対密度、ヤング率Ｅ及び内部損失（ｔａｎδ）を測定し、その音響特性を評価した。相対密度（％）は、Ｂ４Ｃの真密度ρを２．５２ｇ／ｃｍ３とし、下記数式１により求めた。
【００４０】
【数１】
2006157461.tif 000004
【００４１】
また、ヤング率Ｅ及び内部損失（ｔａｎδ）は、日本テクノプラス社製  真空対応型曲げ共振法弾性率測定装置ＪＥ−ＲＴにより測定した。なお、評価は対数減衰率で実施した。その際、測定は０．１３３Ｐａ（１×１０−３Ｔｏｒｒ）未満の真空中で行い、試料サイズは縦１０ｍｍ、横４０ｍｍ、厚さ０．２ｍｍとした。更に、実施例１乃至４及び比較例１の振動板をスピーカーシステムに組み上げて試聴し、その音質について評価した。音質の評価は、高音域の伸びが特に優れていた場合を◎、高音域の伸びが相対的に良好であった場合を○、そうでなかった場合を×とした。以上の結果を下記表２にまとめて示す。
【００４２】
【表２】
2006157461.tif 000005
【００４３】
上記表２に示すように、相対密度が８８％以上である実施例１乃至６の振動板は、優れた音質が得られた。特に、相対密度が高い実施例４乃至６の振動板は、内部損失（ｔａｎδ）が低く且つヤング率が大きいため、高音域の伸びが優れていた。一方、相対密度が８８％未満である比較例１及び２の振動板は、ヤング率が小さいため音質が劣っていた。図２（ａ）は横軸に相対密度をとり、縦軸に比弾性率の平方根（√（Ｅ／ρ））をとって熱処理条件と音響特性との関係を示すグラフ図であり、図２（ｂ）は横軸に相対密度をとり、縦軸に内部損失（ｔａｎδ）をとって、熱処理条件と音響特性との関係を示すグラフ図である。また、図３は横軸にｔａｎδをとり、縦軸に比弾性率の平方根（√（Ｅ／ρ））をとって、熱処理条件と音響特性との関係を示すグラフ図である。図２に示すように、相対密度が増加するに従い、比弾性率の平方根（√（Ｅ／ρ））が大きくなっていた。即ち、相対密度が増加するに従い、音響特性のパラメータの１つである比弾性率が高くなっていた。また、図３に示すように、実施例２乃至６の振動板は、特に高音域用スピーカであるツィータ用として好適な特性を示した。また、実施例１の振動板は、内部損失（ｔａｎδ）と√（Ｅ／ρ）とのバランスがよいため、中音域用のスピーカであるスコーカ用として好適である。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】（ａ）は本発明の実施形態の振動板の製造方法を模式的に示す断面図であり、（ｂ）はその平面図である。
【図２】（ａ）は横軸に相対密度をとり、縦軸に比弾性率の平方根（√（Ｅ／ρ））をとって熱処理条件と音響特性との関係を示すグラフ図であり、（ｂ）は横軸に相対密度をとり、縦軸に内部損失（ｔａｎδ）をとって、熱処理条件と音響特性との関係を示すグラフ図である。
【図３】横軸に内部損失（ｔａｎδ）をとり、縦軸に比弾性率の平方根（√（Ｅ／ρ））をとって、熱処理条件と音響特性との関係を示すグラフ図である。
【符号の説明】
【００４５】
１；型
１ａ；凹部
２；溶射ガン
３；プラズマ
４；原料供給口
【図１】
2006157461.tif 000006
【図２】
2006157461.tif 000007
【図３】
2006157461.tif 000008