(57)【要約】【課題】  構成が簡略化され、かつ循環ファンに過剰な負担が掛からない除染用ガス投入排気システムを提供することを目的とする。【解決手段】  循環用ガス管９が、触媒７２と迂回ガス管７とを備える第一ガス通路部分Ａ、及び過酸化水素ガス供給装置３、循環ファン８３、ヒータ１０、循環用ＨＥＰＡフィルタ８４を備える第二ガス通路部分Ｂとが直列して接続されてなる構成とした。さらに、不飽和エアー供給装置５により除湿された不飽和エアーを投入する構成とした。さらに、過酸化水素ガスをアイソレータ２から除去するときは、過酸化水素ガス供給装置３の駆動を停止させ、かつ過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３、及び迂回ガス管用バルブ７４を除染用ガス排気態様とし、かつ不飽和エアーを循環用ガス管９内に供給する構成とした。【選択図】図１
2006116095.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス投入口、及びガス排気口が室壁に形成されてなる除染室と、
一端が前記ガス投入口に接続し、かつ他端が前記ガス排気口に接続した循環用ガス通路と、
除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを前記循環用ガス通路に供給する除染用ガス供給装置と、
前記循環用ガス通路内のガスをガス投入口側へ送風して、ガスを一方向に流動させるガス送風装置と、
前記循環用ガス通路内に設けられた、除染用ガスと接触して該除染用ガスを不活性化させる除染用ガス不活性化部と、
前記循環用ガス通路内に設けられた、ガスと接触して該ガスを清浄化させる清浄化部と、
前記循環用ガス通路内のガスを加温する加温装置と
を備えた除染用ガス投入排気システムにおいて、
循環用ガス通路が、
除染用ガス不活性化部、及び該除染用ガス不活性化部の前後を短絡する迂回ガス通路を備えた第一ガス通路部分と、
除染用ガス供給装置、ガス送風装置、加温装置、及び清浄化部が直列して設けられた第二ガス通路部分と
が直列して接続されてなると共に、
迂回ガス通路を不通とし、かつ除染用ガス不活性化部へのガス流通を可能とする除染用ガス排気態様と、迂回ガス通路を開通し、かつ除染用ガス不活性化部へのガス流通を不能とする除染用ガス投入態様のいずれかに選択的に切り替えられるガス通路切替手段と、
除染用ガスを除染室に投入するときは、ガス通路切替手段を除染用ガス投入態様とし、かつ除染用ガス供給装置を駆動制御して除染用ガスを循環用ガス通路に供給し、
除染用ガスを除染室から排気するときは、除染用ガス供給装置の駆動を停止させてガス通路切替手段を除染用ガス排気態様とする制御内容を具備する除染用ガス投入排気制御手段と
を備えてなることを特徴とする除染用ガス投入排気システム。
【請求項２】
所定湿度の湿度調整用気体を発生させ、該湿度調整用気体を循環用ガス通路に供給する湿度調整用気体供給装置を備え、
除染用ガス投入排気制御手段が、
除染用ガスを除染室から排気するときは、除染用ガス供給装置の駆動を停止させてガス通路切替手段を除染用ガス排気態様とし、かつ湿度調整用気体供給装置を駆動制御して湿度調整用気体を循環用ガス通路に供給する制御内容を具備することを特徴とする請求項１記載の除染用ガス投入排気システム。
【請求項３】
ガス投入口、及びガス排気口が室壁に形成されてなる除染室と、
一端が前記ガス投入口に接続し、かつ他端が前記ガス排気口に接続した循環用ガス通路と、
除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを前記循環用ガス通路に供給する除染用ガス供給装置と、
前記循環用ガス通路内のガスをガス投入口側へ送風して、ガスを一方向に流動させるガス送風装置と、
前記循環用ガス通路内に設けられた、ガスと接触して該ガスを清浄化させる清浄化部と、
前記循環用ガス通路内のガスを加温する加温装置と
を備えた除染用ガス投入排気システムにおいて、
除染用ガスを分解して不活性化させる除染用ガス分解用ガスを貯留し、該除染用ガス分解用ガスを循環用ガス通路に供給する除染用ガス分解用ガス供給装置と、
除染用ガスを除染室に投入するときは、除染用ガス供給装置を駆動制御して除染用ガスを循環用ガス通路に供給し、
除染用ガスを除染室から排気するときは、除染用ガス供給装置の駆動を停止させ、かつ除染用ガス分解用ガス供給装置を駆動制御して除染用ガス分解用ガスを循環用ガス通路に供給する制御内容を具備する除染用ガス投入排気制御手段と
を備えてなることを特徴とする除染用ガス投入排気システム。
【請求項４】
ガス投入口、及びガス排気口が室壁に形成されてなる除染室と、
一端が前記ガス投入口に接続し、かつ他端が前記ガス排気口に接続した循環用ガス通路と、
除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを前記循環用ガス通路に供給する除染用ガス供給装置と、
前記循環用ガス通路内のガスをガス投入口側へ送風して、ガスを一方向に流動させるガス送風装置と、
前記循環用ガス通路内に設けられた、ガスと接触して該ガスを清浄化させる清浄化部と、
前記循環用ガス通路内のガスを加温する加温装置と
を備えた除染用ガス投入排気システムにおいて、
所定湿度の湿度調整用気体を発生させる湿度調整用気体発生装置と、一端が湿度調整用気体発生装置に接続し、他端が循環用ガス通路に接続する湿度調整用気体供給管路とからなる、湿度調整用気体を循環用ガス通路に供給する湿度調整用気体供給装置と、
除染用ガスを分解して不活性化させる除染用ガス分解用ガスを貯留し、該除染用ガス分解用ガスを湿度調整用気体供給管路に供給する除染用ガス分解用ガス供給装置と、
除染用ガスを除染室に投入するときは、除染用ガス供給装置を駆動制御して除染用ガスを循環用ガス通路に供給し、
除染用ガスを除染室から排気するときは、除染用ガス供給装置の駆動を停止させ、かつ湿度調整用気体供給装置と除染用ガス分解用ガス供給装置とを駆動制御して湿度調整用気体と除染用ガス分解用ガスとを湿度調整用気体供給管路を介して循環用ガス通路に供給する制御内容を具備する除染用ガス投入排気制御手段と
を備えてなることを特徴とする除染用ガス投入排気システム。
【請求項５】
除染室内で除染用ガスを飽和させることにより、除染室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を形成して当該除染対象物表面を除染する構成であって、
除染用ガス投入排気制御手段が、
除染用ガスを除染室に投入するときに、除染用ガスを投入しながら、湿度調整用気体供給装置を駆動制御して湿度調整用気体を循環用ガス通路に供給する制御内容を具備してなることを特徴とする請求項２又は請求項４記載の除染用ガス投入排気システム。
【請求項６】
除染室内の湿度を測定する湿度測定手段を備え、
除染用ガス投入排気制御手段が、
除染用ガスを除染室に投入するときに、前記湿度測定手段が測定した測定値に基づいて除染用ガス及び／又は湿度調整用気体の供給量を変更する制御内容を具備してなることを特徴とする請求項５記載の除染用ガス投入排気システム。
【請求項７】
湿度調整用気体供給装置が、湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％の湿度調整用気体を供給するものであることを特徴とする請求項２又は請求項４乃至請求項６のいずれかに記載の除染用ガス投入排気システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、過酸化水素ガス等の除染用ガスを用いて、アイソレータ等の除染室内にある除染対象物を除染する除染用ガス投入排気システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
過酸化水素ガス等の除染用ガスをアイソレータやチャンバ等の除染室内に供給し、かつ除染用ガスをその除染室内で飽和させることにより、当該除染室内にある除染対象物の表面に除染用ガスの凝縮液層を薄膜状に形成して当該除染対象物を除染する方法は公知技術である。
【０００３】
このような除染方法を実現する構成としては、次のような構成が既に提案されている（特許文献１参照。）。この特許文献１に記載された発明は、触媒（殺菌剤を不活性化させるシステム）を具備する回路（第１の平行ブランチ）と、殺菌ガスを発生させる蒸発装置を具備する回路（第２の平行ブランチ）とを備えている。すなわち、このシステムは、二重回路で構成されている。そして、チャンバ内を殺菌するときは、第２の平行ブランチを選択し、液体殺菌剤供給源を駆動させながらチャンバに殺菌ガスを供給する。一方、殺菌が終了すると、今度は第１の平行ブランチを選択し、循環ガスを触媒に通過させて殺菌ガスをチャンバから除去する。
【０００４】
ところで、このような構成の回路にあっては、除湿により冷却されたガスの温度を高めるため、蒸発装置に供給するガスの温度を高めるため、及び、殺菌ガス供給時又は除去時に配管内でガスが凝縮してしまうことを防止するためにヒータを備え付けることが一般的である。
【０００５】
【特許文献１】特表２００３−５０９１６５号公報  （第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１の発明は、上述のように二重回路で構成されているため、回路内のガスの凝縮を防止する目的等を達成するためには、上記ヒータをブランチごとに設ける必要がある。つまり、一つのシステムにヒータが複数設けられることとなるため、システム全体が大型化・複雑化してしまう問題があった。
【０００７】
そこで本発明は、構成が小型化・簡略化される除染用ガス投入排気システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、ガス投入口、及びガス排気口が室壁に形成されてなる除染室と、一端が前記ガス投入口に接続し、かつ他端が前記ガス排気口に接続した循環用ガス通路と、除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを前記循環用ガス通路に供給する除染用ガス供給装置と、前記循環用ガス通路内のガスをガス投入口側へ送風して、ガスを一方向に流動させるガス送風装置と、前記循環用ガス通路内に設けられた、除染用ガスと接触して該除染用ガスを不活性化させる除染用ガス不活性化部と、前記循環用ガス通路内に設けられた、ガスと接触して該ガスを清浄化させる清浄化部と、前記循環用ガス通路内のガスを加温する加温装置とを備えた除染用ガス投入排気システムにおいて、循環用ガス通路が、除染用ガス不活性化部、及び該除染用ガス不活性化部の前後を短絡する迂回ガス通路を備えた第一ガス通路部分と、除染用ガス供給装置、ガス送風装置、加温装置、及び清浄化部が直列して設けられた第二ガス通路部分とが直列して接続されてなると共に、迂回ガス通路を不通とし、かつ除染用ガス不活性化部へのガス流通を可能とする除染用ガス排気態様と、迂回ガス通路を開通し、かつ除染用ガス不活性化部へのガス流通を不能とする除染用ガス投入態様のいずれかに選択的に切り替えられるガス通路切替手段と、除染用ガスを除染室に投入するときは、ガス通路切替手段を除染用ガス投入態様とし、かつ除染用ガス供給装置を駆動制御して除染用ガスを循環用ガス通路に供給し、除染用ガスを除染室から排気するときは、除染用ガス供給装置の駆動を停止させてガス通路切替手段を除染用ガス排気態様とする制御内容を具備する除染用ガス投入排気制御手段とを備えてなることを特徴とする除染用ガス投入排気システムである。
【０００９】
かかる構成にあっては、除染用ガスの投入時も排気時も、一つの加温装置を用いて循環用ガス通路内のガスを加温することが可能となる。また、除染用ガスの投入時も排気時も、一つの清浄化部により循環用ガス通路内のガスを清浄化することが可能となる。したがって、一つのシステムに単一の加温装置、及び単一の清浄化部を配備するだけで済むため、システム全体を小型化・簡略化することができる。なお、第一ガス通路部分と第二ガス通路部分とは、順不同に直列接続可能である。さらに、第二ガス通路部分の除染用ガス供給装置、ガス送風装置、加温装置、及び清浄化部も、順不同に直列接続可能である。
【００１０】
ところで、上記構成を具体的に実施しようとした場合には、除染用ガスを含むガスが、除染用ガスの除去時に除染用ガス供給装置の内部を通過する態様が生じ得る。このような場合には、流動するガスが除染用ガス供給装置から流動抵抗を受けることとなって、ガス送風装置に負荷がかかる場合がある。したがって、性能の低いガス送風装置を用いた場合には、能力不足となり、管路内をガスが円滑に循環せず、適正な循環系を確保できない事が想定され得る。
【００１１】
そこで、上記構成にあって、所定湿度の湿度調整用気体を発生させ、該湿度調整用気体を循環用ガス通路に供給する湿度調整用気体供給装置を備え、除染用ガス投入排気制御手段が、除染用ガスを除染室から排気するときは、除染用ガス供給装置の駆動を停止させてガス通路切替手段を除染用ガス排気態様とし、かつ湿度調整用気体供給装置を駆動制御して湿度調整用気体を循環用ガス通路に供給する制御内容を具備する構成が提案される。
【００１２】
ここで、湿度調整用気体供給装置は、循環用ガス通路内に所定の供給圧で湿度調整用気体を供給するものであるため、除染室内の湿度を所定湿度に調整する役割を果たすと共に、ガス通路内のガス供給圧を増加させる役割も果たすこととなる。したがって、湿度調整用気体供給装置による供給圧が加わることとなり、除染用ガス供給装置を通過する際に流動抵抗が発生しても、ガス通路内のガスが円滑に循環することとなる。ここで、湿度調整用気体としては、除染室で凝縮しない不飽和エアーが例示される。この不飽和エアーとは、除染室内で凝縮しない不飽和蒸気、又は乾燥エアーをいう。さらには、不活性ガスであっても良い。ここで、不活性ガスとしては、狭義の不活性ガスであるヘリウム、アルゴンなどの希ガス族元素の他、広義の不活性ガスである化学反応性の低い窒素も含む。
【００１３】
また、本発明は、ガス投入口、及びガス排気口が室壁に形成されてなる除染室と、一端が前記ガス投入口に接続し、かつ他端が前記ガス排気口に接続した循環用ガス通路と、除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを前記循環用ガス通路に供給する除染用ガス供給装置と、前記循環用ガス通路内のガスをガス投入口側へ送風して、ガスを一方向に流動させるガス送風装置と、前記循環用ガス通路内に設けられた、ガスと接触して該ガスを清浄化させる清浄化部と、前記循環用ガス通路内のガスを加温する加温装置とを備えた除染用ガス投入排気システムにおいて、除染用ガスを分解して不活性化させる除染用ガス分解用ガスを貯留し、該除染用ガス分解用ガスを循環用ガス通路に供給する除染用ガス分解用ガス供給装置と、除染用ガスを除染室に投入するときは、除染用ガス供給装置を駆動制御して除染用ガスを循環用ガス通路に供給し、除染用ガスを除染室から排気するときは、除染用ガス供給装置の駆動を停止させ、かつ除染用ガス分解用ガス供給装置を駆動制御して除染用ガス分解用ガスを循環用ガス通路に供給する制御内容を具備する除染用ガス投入排気制御手段とを備えてなることを特徴とする除染用ガス投入排気システムである。
【００１４】
かかる構成は、除染用ガスを排気するときは、除染用ガス分解用ガスを循環用ガス通路に供給するようにする構成である。すなわち、除染用ガス分解用ガスが循環用ガス通路に供給されると、除染用ガス分解用ガスが除染用ガスに作用して、除染用ガスが不活性化されることとなる。したがって、従来から良く知られている触媒を備えた設備を配備する必要がない。
【００１５】
さらに、ガス投入口、及びガス排気口が室壁に形成されてなる除染室と、一端が前記ガス投入口に接続し、かつ他端が前記ガス排気口に接続した循環用ガス通路と、除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを前記循環用ガス通路に供給する除染用ガス供給装置と、前記循環用ガス通路内のガスをガス投入口側へ送風して、ガスを一方向に流動させるガス送風装置と、前記循環用ガス通路内に設けられた、ガスと接触して該ガスを清浄化させる清浄化部と、前記循環用ガス通路内のガスを加温する加温装置とを備えた除染用ガス投入排気システムにおいて、所定湿度の湿度調整用気体を発生させる湿度調整用気体発生装置と、一端が湿度調整用気体発生装置に接続し、他端が循環用ガス通路に接続する湿度調整用気体供給管路とからなる、湿度調整用気体を循環用ガス通路に供給する湿度調整用気体供給装置と、除染用ガスを分解して不活性化させる除染用ガス分解用ガスを貯留し、該除染用ガス分解用ガスを湿度調整用気体供給管路に供給する除染用ガス分解用ガス供給装置と、除染用ガスを除染室に投入するときは、除染用ガス供給装置を駆動制御して除染用ガスを循環用ガス通路に供給し、除染用ガスを除染室から排気するときは、除染用ガス供給装置の駆動を停止させ、かつ湿度調整用気体供給装置と除染用ガス分解用ガス供給装置とを駆動制御して湿度調整用気体と除染用ガス分解用ガスとを湿度調整用気体供給管路を介して循環用ガス通路に供給する制御内容を具備する除染用ガス投入排気制御手段とを備えてなることを特徴とする除染用ガス投入排気システムが提案される。
【００１６】
かかる構成は、除染室から除染用ガスを排気する手段として、除染用ガス分解用ガスを循環系に供給するようにしたものである。また、上記構成は、除染室内の湿度を所定湿度に調整する役割を果たす湿度調整用気体供給装置を備えている。そして、前記除染用ガス分解用ガスを、湿度調整用気体供給装置の湿度調整用気体供給管路を介して循環用ガス通路に供給する構成としている。このように、ガス管路を共用する構成とすることにより、システム全体を小型化・簡略化することが可能となる。なお、除染用ガス分解用ガスとしては、アンモニアガス、又はオゾンガス等が好適である。また、別の例として、３０〜１５０℃（好ましくは６０〜１５０℃）の空気を採用することも可能である。これは、過酸化水素ガスの分解は、周囲の環境温度が、過酸化水素ガス温度以上で有れば促進されることによるものである。
【００１７】
また、除染室内で除染用ガスを飽和させることにより、除染室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を形成して当該除染対象物表面を除染する構成であって、除染用ガス投入排気制御手段が、除染用ガスを除染室に投入するときに、除染用ガスを投入しながら、湿度調整用気体供給装置を駆動制御して湿度調整用気体を循環用ガス通路に供給する制御内容を具備してなる構成が提案される。
【００１８】
ここで、除染用ガスの凝縮液層は、高濃度であるほど除染効果が高いことが良く知られている。しかし、従来構成は、除染用ガス供給時に除染室内の湿度調整（例えば、除湿）が一切行われていないため、高濃度の凝縮液層が安定して形成されにくいという問題があった。一方、本発明は、所定湿度の湿度調整用気体を除染室内に供給することにより、除染室内をその湿度とする。したがって、除染用ガス供給中の室内湿度が不適で高濃度の凝縮液層が安定して形成されない、という問題を解消することができる。
【００１９】
また、除染室内の湿度を測定する湿度測定手段を備え、除染用ガス投入排気制御手段が、除染用ガスを除染室に投入するときに、前記湿度測定手段が測定した測定値に基づいて除染用ガス及び／又は湿度調整用気体の供給量を変更する制御内容を具備してなる構成が提案される。
【００２０】
かかる構成は、それぞれ所定湿度である除染用ガス、及び湿度調整用気体の各供給量が適宜調整されて、凝縮液層を形成するのに、又は一度形成された凝縮液層を保持するのに最適な室内湿度が調整される構成である。例えば、測定された湿度よりも除染室内を低湿度としたい場合は、その測定湿度よりも高い除染用ガス、又は湿度調整用気体の供給量を減ずるようにする。また、測定湿度よりも低い除染用ガス、又は湿度調整用気体の供給量を増やすようにする。そうすると、除染室内を所望の湿度とすることができる。したがって、除染用ガス供給中の室内湿度が不適で高濃度の凝縮液層が安定して形成されない、という問題を確実に解消することができる。
【００２１】
なお、湿度調整用気体供給装置が、湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％の湿度調整用気体を供給する構成が提案される。
【００２２】
このような湿度範囲の湿度調整用気体が除染室内に供給されると、通常除染室内が除湿されることとなる。したがって、凝縮液層が希釈化されず、高濃度の凝縮液層が形成することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の除染用ガス投入排気システムは、循環用ガス通路が、迂回ガス通路等を備えた第一ガス通路部分と除染用ガス供給装置等を備えた第二ガス通路部分とが直列して接続されてなる構成としたため、第二ガス通路部分に備えられた加温装置、及び清浄化部を、除染用ガス投入時も除去時も用いることが可能となり、同じ構成の装置が重複して設けられることがないため、システム全体を小型化・簡略化することができる効果がある。
【００２４】
また、かかる構成にあって、湿度調整用気体供給装置と、除染用ガスを除染室から排気するときには、除染用ガス供給装置の駆動を停止させてガス通路切替手段を除染用ガス排気態様とし、かつ湿度調整用気体を循環用ガス通路に供給する制御内容を具備する除染用ガス投入排気制御手段とを備えてなる構成とした場合は、以下の効果がある。
（１）湿度調整用気体供給装置の駆動により、所定湿度の湿度調整用気体が除染室内に投入されるため、除染室内の湿度を所定湿度に調整することができる効果がある。
（２）湿度調整用気体が供給されることにより、ガス通路内のガス供給圧が増加し、除染用ガス供給装置を通過する際に生じる流動抵抗に抗してガス通路内のガスを円滑に循環させることができる効果がある。
【００２５】
また、本発明の除染用ガス投入排気システムは、除染用ガス分解用ガスを循環用ガス通路に供給する除染用ガス分解用ガス供給装置を備えた構成としたため、触媒を備えた設備を配備することなく、除染用ガスを廃棄することが可能となる。
【００２６】
また、本発明の除染用ガス投入排気システムは、湿度調整用気体供給管路を備えた湿度調整用気体供給装置と、除染用ガス分解用ガスを湿度調整用気体供給管路に供給する除染用ガス分解用ガス供給装置とを備えてなる構成としたため、システム内に触媒を設ける必要が無くなり、システム全体を小型化・簡略化することができる効果がある。また、上記構成は、湿度調整用気体と除染用ガス分解用ガスとを、共に湿度調整用気体供給管路を介して循環用ガス通路に供給する構成としたため、ガス管路構造が簡素化され、システム全体を小型化することができる効果がある。
【００２７】
また、除染室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を形成して当該除染対象物表面を除染する構成であって、除染用ガス投入排気制御手段が、除染用ガスを投入しながら湿度調整用気体を循環用ガス通路に供給する構成とした場合は、除染用ガスを投入しながら所望の湿度とすることができ、除染用ガス供給中の室内湿度が不適で高濃度の凝縮液層が安定して形成されない、という問題を解消することができる効果がある。
【００２８】
また、除染用ガス投入排気制御手段が、湿度測定手段が測定した測定値に基づいて除染用ガス及び／又は湿度調整用気体の供給量を変更する構成とした場合は、除染室内を精度良く所望の湿度とすることができ、除染用ガス供給中の室内環境が不適で高濃度の凝縮液層が安定して形成されない、という問題を確実に解消することができる。
【００２９】
また、湿度調整用気体供給装置が、湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％の湿度調整用気体を供給する構成とした場合は、除染室内を除湿することが可能となり、形成された凝縮液層が希釈化されず、高濃度の凝縮液層を除染対象物外表面で形成・保持できる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下に、本発明にかかる除染用ガス投入排気システム１について説明する。
図１に示されるように、除染用ガス投入排気システム１は、アイソレータ２を備えている。そして、このアイソレータ２の内部には、除染対象物αが載置されている。なお、アイソレータ２は、公知品が好適に用いられる。ここで、前記アイソレータ２により、本発明にかかる除染室が構成される。
【００３１】
前記アイソレータ２の室壁には、ガス投入口１１とガス排気口８とが形成されている。そして、ガス投入口１１を介して外部からガスが投入される。一方、ガス排気口８を介してガスが外部へ排気される。
【００３２】
さらに、アイソレータ２には、循環用ガス管９が設けられている。この循環用ガス管９の一端９ａは、前記ガス投入口１１と接続している。また、当該循環用ガス管９の他端９ｂは、前記ガス排気口８と接続している。そして、ガス排気口８から排気されたガスが、循環用ガス管９を通って、ガス投入口１１を介して再びアイソレータ２内に投入される構成となっている。なお、この循環用ガス管９により、本発明にかかる循環用ガス通路が構成される。
【００３３】
また、循環用ガス管９には、除染用ガスとしての過酸化水素ガスを当該循環用ガス管９に供給する過酸化水素ガス供給装置３が接続されている。この過酸化水素ガス供給装置３は、供給器３５と蒸発装置３４とで構成されている。前記供給器３５は、過酸化水素が水に溶解してなる過酸化水素水が入った液体タンク３１、過酸化水素水の流量を測定する流量計３２、液体タンク３１の過酸化水素水を吸引する送液ポンプ３３とで構成されている。また蒸発装置３４は、過酸化水素水を蒸発させて過酸化水素ガスを発生させる加熱面（図示省略）を備えている。かかる構成にあって、前記循環用ガス管９と蒸発装置３４とが連通している。これにより、蒸発装置３４により発生した過酸化水素ガスを、循環用ガス管９内に供給可能となる。そして、循環用ガス管９内に供給された過酸化水素ガスは、循環用ガス管９の案内によりアイソレータ２内に投入される。なお、本実施形態例にかかる過酸化水素ガスにより、本発明にかかる除染用ガスが構成される。また、本実施形態例にかかる過酸化水素ガス供給装置３により、本発明にかかる除染用ガス供給装置が構成される。なお、本発明にかかる過酸化水素ガス供給装置３は、フラッシュ蒸発（いわゆる急速蒸発法）によりガスを発生させる構成であって、公知技術が好適に採用される。
【００３４】
また、循環用ガス管９には、循環ファン８３が配設されている。この循環ファン８３は、循環用ガス管９内のガスをガス投入口１１側に送風して、ガスを一方向に流動させる構成である。これにより、循環用ガス管９内のガスが、図中反時計周りに循環流動することとなり、アイソレータ２、及び循環用ガス管９からなる循環系が構成されることとなる。なお、循環ファン８３は、公知品が好適に採用される。ここで、本実施形態例にかかる循環ファン８３により、本発明にかかるガス送風装置が構成される。
【００３５】
また、循環用ガス管９には、ヒータ１０が設けられている。このヒータ１０は、循環用ガス管９内の過酸化水素ガスを加温（約８０℃）するものであって、循環用ガス管９内で過酸化水素ガスが凝縮してしまうことを防止するものである。なお、ヒータ１０は、公知品が好適に採用される。ここで、本実施形態例にかかるヒータ１０により、本発明にかかる加温装置が構成される。なお、加温装置としては、その他にも、循環用ガス管９（特に、循環用ガス管９の他端９ｂから第一ガス通路部分Ａまでの範囲、及び第二ガス通路部分Ｂから循環用ガス管９の一端９ａまでの範囲）を保温、又は加温（外気環境温度以上）する構成でも良い。
【００３６】
また、循環用ガス管９内には、循環用ＨＥＰＡフィルタ８４で構成される清浄化部１３が設けられている。この循環用ＨＥＰＡフィルタ８４は、循環用ガス管９内のガスと接触することによりガス内の異物を除去し、当該ガスを清浄化するものである。なお、この循環用ＨＥＰＡフィルタ８４は、公知品が好適に採用される。ここで、本実施形態例にかかる循環用ＨＥＰＡフィルタ８４で構成された清浄化部１３により、本発明にかかる清浄化部が構成される。
【００３７】
また、循環用ガス管９内には、触媒７２により構成される循環用過酸化水素ガス不活性化部１２が設けられている。この触媒７２は、循環用ガス管９内の過酸化水素ガスと接触してこの過酸化水素ガスを不活性化させるものである。具体的には、白金を採用している。なお、その他の触媒を採用しても勿論良い。ここで、本実施形態例にかかる触媒７２により構成される循環用過酸化水素ガス不活性化部１２により、本発明にかかる除染用ガス不活性化部が構成される。
【００３８】
ここで、循環用ガス管９における各装置等の配設位置を説明すると、反時計周り（図１中）に、触媒７２、循環ファン８３、ヒータ１０、循環用ＨＥＰＡフィルタ８４、蒸発装置３４が直列に配設されている。すなわち、ガス排気口８から排気されたガスは、原則、順次触媒７２を通過し、循環ファン８３内を通過し、ヒータ１０内を通過し、循環用ＨＥＰＡフィルタ８４を通過し、蒸発装置３４内を通過し、ガス投入口１１を通過して、アイソレータ２内に戻ってくることとなる。
【００３９】
また、アイソレータ２には、給気ファン４１を備えた給気回路４が接続されている。この給気回路４は、一端が外界に開口し、他端がアイソレータ２内に開口してなり、給気ファン４１が駆動することにより、アイソレータ２と給気ファン４１との間に介装された給気回路用ＨＥＰＡフィルタ４３を介して外気がアイソレータ２内に給気される構成となっている。
【００４０】
さらに、アイソレータ２には、排気ファン６２、排気回路用ＨＥＰＡフィルタ６１、及び触媒６３を備えた排気回路６が接続されている。この排気回路６も、一端が外界に開口し、他端がアイソレータ２内に開口している。そして、アイソレータ２側から順に触媒６３、排気回路用ＨＥＰＡフィルタ６１、及び排気ファン６２と配設され、排気ファン６２が駆動することにより、アイソレータ２内のガスが触媒６３、排気回路用ＨＥＰＡフィルタ６１により分解、及び清浄化されて外界に排気される。なお、この排気回路６には、排気するガスの排気量を調整する排気バルブ６４が配設されており、ガス排気量を調整可能としている。
【００４１】
また、除染用ガス投入排気システム１は、アイソレータ２内の温度及び湿度を測定する温湿度計８２を備えている。この温湿度計８２は、アイソレータ２内の温度及び湿度を測定し、温度データ及び湿度データを後述の制御装置２０に出力する。なお、温湿度計８２は、公知品が好適に用いられる。また、除染用ガス投入排気システム１は、アイソレータ２の内圧を測定する内圧計８１を備えている。この内圧計８１は、内圧を測定すると、制御装置２０に内圧データを出力する。なお、内圧計も、公知品が好適に用いられる。ところで、温湿度計８２と内圧計８１は、具体的には、アイソレータ２に直接、配設されている。
【００４２】
さらに、除染用ガス投入排気システム１は、図２に示されるように、所定のプログラムを実行する中央制御装置ＣＰＵを備えた制御装置２０を備えている。この中央制御装置ＣＰＵには、データを随時読み書きできる記憶装置ＲＡＭと、演算処理に用いる動作プログラムやデータが格納される記憶装置ＲＯＭとが備えられている。この記憶装置ＲＡＭには前記温度データ等が随時記憶される。一方、記憶装置ＲＯＭには固定データが記憶されている。かかる制御装置２０は、温湿度計８２、内圧計８１、過酸化水素ガス供給装置３の送液ポンプ３３と流量計３２、排気バルブ６４、ヒータ１０、及び各ファン４１，６２，８３と電気的にそれぞれ接続している。そして、制御装置２０には、温湿度計８２の温度データ及び湿度データ、内圧計８１の内圧データ、並びに過酸化水素ガス供給装置３に備えられた流量計３２の流量データが入力される。これに対し、送液ポンプ３３、排気バルブ６４、ヒータ１０、及び各ファン４１，６２，８３には、各装置を所定態様で駆動させるための制御指令信号が出力される。
【００４３】
次に本発明の要部を説明する。
本発明にかかる除染用ガス投入排気システム１は、循環用ガス管９に迂回ガス管７を備えていることを特徴としている。さらに詳述すると、この迂回ガス管７は、触媒７２の前後を短絡する配管構造である。すなわち、循環用ガス管９内を流動するガスが、第一分岐点７１ａから迂回ガス管７内に移入し、第二分岐点７１ｂで迂回ガス管７内から戻ってくる構成となっている。
【００４４】
さらに、触媒７２の直前（ガス排気口８側）位置、すなわち、第一分岐点７１ａと触媒７２との間には、過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３が設けられている。一方、迂回ガス管７には、迂回ガス管用バルブ７４が設けられている。前記過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３は、開放状態とすると触媒７２にガスが流入し、閉鎖状態とするとガスが流入しない。また、迂回ガス管用バルブ７４は、開放状態とすると迂回ガス管７が開通し、閉鎖状態とすると不通となる。また、両バルブ７３，７４は、上述の制御装置２０にそれぞれ電気的に接続されている。そして、所定時に制御装置２０から各バルブ７３，７４へ、開放・閉鎖に関する制御指令信号が出力される。なお、本実施形態例にかかる迂回ガス管７により、本発明にかかる迂回ガス通路が構成される。また、本実施形態例にかかる過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３、及び迂回ガス管用バルブ７４により、本発明にかかるガス通路切替手段が構成される。
【００４５】
これまでに述べた循環用ガス管９について再度説明する。
本除染用ガス投入排気システム１に係る循環用ガス管９は、第一ガス通路部分Ａと第二ガス通路部分Ｂとが直列に接続されている。前記第一ガス通路部分Ａは、触媒７２、及び迂回ガス管７を備えている。一方、第二ガス通路部分Ｂは、循環ファン８３、ヒータ１０、ＨＥＰＡフィルタ８４、及び過酸化水素ガス供給装置３が直列して設けられている。このような構成とすると、後述するように、過酸化水素ガスをアイソレータ２に投入する時も逆に除去する時も、同じヒータ１０、及びＨＥＰＡフィルタ８４を用いることとなる。したがって、同じ構成の装置が重複することがないため、システム全体を小型化・簡略化することが可能となる。
【００４６】
さらに、本発明にかかる除染用ガス投入排気システム１は、不飽和エアー供給装置５を備えていることを特徴としている。この不飽和エアー供給装置５は、圧縮空気を発生させる圧縮機５１、圧縮空気用フィルタ５４、圧縮空気を除湿する除湿機５６、及び流量計５２を具備し、低湿度（例えば、湿度Ｗが０％＜Ｗ≦４０％）で、かつアイソレータ２内で凝縮しない不飽和エアー（湿度調整用気体）をアイソレータ２に供給するものである。ここで、不飽和エアーを供給する不飽和エアー供給回路５５は、循環ファン８３の直前（ガス排気口８側）のガス管位置、すなわち、第二分岐点７１ｂと循環ファン８３との間に接続されており、かかる位置から所定の供給圧で不飽和エアーが循環用ガス管９内に供給される。
【００４７】
かかる構成にあって、前記圧縮機５１により発生された圧縮空気は、図１に示されるように、圧縮空気用フィルタ５４を介して除湿機５６に送り込まれる。そして、除湿機５６からは、除湿された圧縮空気、すなわち不飽和エアーが流量計５２により管理されながら放出される。そして、不飽和エアーは、前記接続位置から循環用ガス管９内に供給される。そしてさらに、不飽和エアーは、循環用ガス管９の案内に従ってアイソレータ２内に投入される。なお、このように、所定湿度まで除湿された不飽和エアーが循環用ガス管９を介してアイソレータ２へ供給されると、アイソレータ２内がその湿度に調整され、除湿されることとなる。
【００４８】
ところで、前記流量計５２は、流量の調整機能も備えている。また、この流量計５２は、制御装置２０と電気的に接続されており、制御装置２０には流量計５２の流量データが入力される。一方、流量計５２には流量を調整するための制御指令信号が制御装置２０から出力される。なお、本実施形態例にかかる温湿度計８２により、本発明にかかる湿度測定手段が構成される。また、本実施形態例にかかる不飽和エアーにより、本発明にかかる湿度調整用気体が構成される。また、本実施形態例にかかる不飽和エアー供給装置５により、本発明にかかる湿度調整用気体供給装置が構成される。
【００４９】
次に、上記除染用ガス投入排気システム１を用いた除染態様を説明する。
まず、未だ除染されていない状態のアイソレータ２について、アイソレータ２の漏れテストを実行する。具体的には、不飽和エアー供給装置５を駆動制御して不飽和エアーを供給し、アイソレータ２を陽圧状態とした後、流量計５２でアイソレータ２への流量変化を測定し、漏れの有無を判定する。なお、制御装置２０には、適正に漏れテストを実行するリークテスト回路が内蔵されている。
【００５０】
次に、湿度調整を実行する。これは、過酸化水素ガスを供給する前に予めアイソレータ２内を可及的に除湿（０％＜Ｗ≦４０％）しておき、除染環境を良好とするものである。なお、アイソレータ２内が除湿されると、後で過酸化水素ガスを供給した際に、過酸化水素ガス濃度を高くすることができる。
【００５１】
具体的には、制御装置２０が、過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３、及び迂回ガス管用バルブ７４に制御指令信号を出力し、過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３を閉鎖状態、迂回ガス管用バルブ７４を開放状態とする。また、流量計５２に制御指令信号を出力し、流量データを管理しつつ、アイソレータ２内にほぼ湿度Ｗが０％の不飽和エアーを供給する。また、循環ファン８３に制御指令信号を出力し、循環用ガス管９内のガスを送風させる。かかる制御内容を実行すると、不飽和エアーを含むガスが、迂回ガス管７を通りつつ、アイソレータ２、及び循環用ガス管９を循環し、アイソレータ２内が除湿されることとなる。
【００５２】
所定時間経過し、除湿が完了すると、次にアイソレータ２内に載置された除染対象物αを除染すべく、過酸化水素ガスを投入する。本発明にあっては、アイソレータ２内で過酸化水素ガスを飽和させて除染対象物αの表面に凝縮液層を形成することにより、除染対象物αの表面を除染する。
【００５３】
具体的には、制御装置２０が、過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３、及び迂回ガス管用バルブ７４に制御指令信号を出力し、過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３を閉鎖状態、迂回ガス管用バルブ７４を開放状態とする。このような、両バルブ７３，７４の態様を、以下除染用ガス投入態様という。また、流量計５２には不飽和エアーの供給を継続させる。また、循環ファン８３にはガスの送風を継続させる。さらに、過酸化水素ガス供給装置３の送液ポンプ３３に制御指令信号を出力し、所定量の過酸化水素水を蒸発装置３４に供給し得るように駆動させる。かかる制御内容を実行すると、過酸化水素ガス、及び不飽和エアーを含むガスが、迂回ガス管７を通りつつ、アイソレータ２、及び循環用ガス管９を循環し、アイソレータ２内を除湿しつつ過酸化水素ガスがアイソレータ２内に供給されることとなる。そして、供給した過酸化水素ガスをアイソレータ２内で飽和させることにより除染対象物αの表面に凝縮液層を形成し、除染対象物α表面を除染する。なお、不飽和エアーを供給する間は、温湿度計８２によりアイソレータ２内の湿度を管理し、その湿度データに基づいて、凝縮液層を形成するのに最適な湿度となるように、不飽和エアー及び／又は過酸化水素ガスの供給量を適宜変更するようにしている。
【００５４】
このように、本発明にあっては、過酸化水素ガス投入中においても不飽和エアーを継続して供給することを特徴としている。そしてさらに、温湿度計８２により室内湿度を管理しながら、不飽和エアー及び／又は過酸化水素ガスの供給量を適宜変更するようにしている。例えば、測定された湿度よりもアイソレータ２内を低湿度としたい場合は、湿度の高い過酸化水素ガスの供給量を減ずるように過酸化水素ガス供給装置３を駆動制御する。または、湿度の低い不飽和エアーの供給量を増やすように不飽和エアー供給装置５を駆動制御する例も挙げられる。
【００５５】
また、その上で、不飽和エアーの放出速度を適宜変更する構成としても良い。すなわち、不飽和エアーの単位時間当りの供給量を変更するものである。本実施形態例では、除湿時、及び後述のエアレーション時には０．４５ｍ／ｓとし、過酸化水素ガス投入時は０．２ｍ／ｓとした。このように過酸化水素ガス投入時に不飽和エアーの供給速度を下げたのは、凝縮を促進させるためである。
【００５６】
このように、過酸化水素ガスを供給しながらアイソレータ２内の湿度を調整すると、高濃度の凝縮液層を安定して形成することが可能となり、従来構成のように過酸化水素ガス供給中に凝縮液層が希釈化されて高濃度の凝縮液層が安定して形成されない、という問題が解消される。また、従来のような冷媒システムからなる除湿機であると、除湿して集めた水の処理が必要となり、手間・管理負担が増大する問題があるが、本発明の構成であるとそのような問題がない。また、除湿機の種類によっては除湿材の定期的な保守・交換が必要となるが、本発明の構成であるとそのような問題がない。また、不飽和エアーは、一般的な工場施設に備えられている設備を利用することができるため、コストの点で有利である。また、従来構成のように、除湿機として、直接、循環用ガス管９に組み込む必要がないので、システム全体をコンパクト化することができる。
【００５７】
なお、過酸化水素ガスを投入する過程にあっては、凝縮液層を形成するための前期工程と、形成された凝縮液層を除染対象物α表面上に保持するための後期工程とに大別され、各期工程ごとに両供給装置３，５を駆動制御して所定量のガスの供給量を調整するようにしている。なお、調整の際には、室内湿度が高いほど過酸化水素ガスは凝縮しやすく、室内湿度が低いほど過酸化水素ガス濃度が高まることが考慮される。
【００５８】
その他、制御装置２０は、流量計３２により過酸化水素ガスの供給時間を管理したりする。また、上述の排気バルブ６４や各ファン４１，６２，８３を適宜駆動制御して、適正にアイソレータ２を除染管理する。
【００５９】
除染が完了すると、次にエアレーションを実行する。具体的には、制御装置２０が、過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３、及び迂回ガス管用バルブ７４に制御指令信号を出力し、過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３を開放状態、迂回ガス管用バルブ７４を閉鎖状態とする。このような、両バルブ７３，７４の態様を、以下除染用ガス排気態様という。また、エアレーション時にも、流量計５２に不飽和エアーの供給を継続させる。また、循環ファン８３にガスの送風を継続させる。一方、過酸化水素ガス供給装置３の送液ポンプ３３には、駆動を停止する制御指令信号を出力する。また、上述の排気バルブ６４や各ファン４１，６２，８３を適宜駆動制御して、適正にアイソレータ２を除染管理する。かかる制御内容を実行すると、過酸化水素ガス、及び不飽和エアーを含むガスが、触媒７２を通りつつ、アイソレータ２、及び循環用ガス管９を循環する。したがって、徐々にアイソレータ２から過酸化水素ガスが除去されることとなる。なお、過酸化水素ガス濃度を概ね１ｐｐｍ以下とするのが好適である。
【００６０】
ここで、過酸化水素ガスをアイソレータ２から除去するときに、過酸化水素ガスを含むガスが、本来通過する必要のない蒸発装置３４内を通過することになる。したがって、従来構成にはなかった流動抵抗が発生することとなって、循環ファン８３に大きな負荷が作用することとなる。しかしながら、不飽和エアー供給装置５により不飽和エアーを供給することによってアイソレータ２内の除湿を実行する構成とすることにより、循環用ガス管９内のガス供給圧が増加されることとなる。したがって、蒸発装置３４による流動抵抗に抗して循環用ガス管９内のガスが円滑に循環することとなる。なお、上述のように、過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３、及び迂回ガス管用バルブ７４を除染用ガス投入態様、又は除染用ガス排気態様に選択的に切り替える等の制御内容を実行する制御装置２０により、本発明にかかる除染用ガス投入排気制御手段が構成される。
【００６１】
なお、エアレーション時の除染用ガス排気態様とした際に、不飽和エアーを投入しない構成も、本発明（請求項１）に含まれる。例えば、過酸化水素ガスの濃度が下がった時点で、単に室外空気との換気で湿度を下げることが考えらる。
【００６２】
これまでに述べた構成にあって、除染用ガスとしては、ホルムアルデヒド、エチレンオキサイド、過酢酸水溶液、オゾン水等の除染剤をガス化したものが例示される。また、湿度調整用気体として、不飽和エアーに代えて、不活性ガスを用いた構成としても良い。不活性ガスとしては、窒素、又はアルゴンガス等が例示される。かかる構成とすることにより、アイソレータ２内を除湿することが可能となる。また、循環用過酸化水素ガス不活性化部１２としては、触媒７２と紫外線照射設備とを直列に配設してなる構成としても良いし、触媒７２に代えて紫外線照射設備を単独で配設してなる構成としても良い。この紫外線照射設備は、循環用ガス管９内の過酸化水素ガスを照射対象として紫外線を照射し、過酸化水素ガスを分解して不活性化させるものである。なお、紫外線としては、１８０〜４００nmのものが好適である。
【００６３】
さらに、別構成の除染用ガス投入排気システム１ａを図３に従って説明する。
なお、上記した除染用ガス投入排気システム１と同じ構成については、図中に同じ符号を付して示すと共に、説明を簡略、又は省略する。
【００６４】
除染用ガス投入排気システム１ａは、ガス投入口１１、及びガス排気口８が室壁に形成されてなるアイソレータ２を備えている。また、循環用ガス通路９の両端９ａ，９ｂが、それぞれガス投入口１１とガス排気口８とに接続されている。さらに、過酸化水素ガス供給装置３、循環ファン８３、清浄化部１３、及びヒータ１０を備えている。一方、本除染用ガス投入排気システム１ａは、循環用過酸化水素ガス不活性化部１２（触媒７２）、迂回ガス管７、過酸化水素ガス不活性化部用バルブ７３、及び迂回ガス管用バルブ７４は備えていない。
【００６５】
また、除染用ガス投入排気システム１ａは、不飽和エアー供給装置５を備えている。この不飽和エアー供給装置５は、圧縮機５１、圧縮空気用フィルタ５４、除湿機５６、及び流量計５２を具備している。そして、除湿された不飽和エアーは、湿度調整用気体供給管路８８を介して循環用ガス管９に供給される。ここで、前記湿度調整用気体供給管路８８は、一端が流量計５２に接続し、他端が循環ファン８３の直前（ガス排気口８側）のガス管位置に接続している。なお、前記の圧縮機５１、及び除湿機５６により、本発明にかかる湿度調整用気体（不飽和エアー）を発生させる湿度調整用気体発生装置が構成される。また、この湿度調整用気体発生装置と、湿度調整用気体供給管路８８とにより、本発明にかかる湿度調整用気体供給装置が構成される。
【００６６】
ここで、除染用ガス投入排気システム１ａは、過酸化水素ガスを分解して不活性化させるアンモニアガス（除染用ガス分解用ガス）を循環用ガス管９に投入して、過酸化水素ガスを排気することを特徴としている。具体的には、アンモニアガスタンク８５、アンモニアガス流量計８６、アンモニアガス用ファン８７、及びアンモニアガス供給管８９により構成される過酸化水素ガス分解用ガス供給装置９０を備えている。なお、本実施形態例にかかる過酸化水素ガス分解用ガス供給装置９０により、本発明にかかる除染用ガス分解用ガス供給装置が構成される。
【００６７】
ここで、アンモニアガスタンク８５には、内部にアンモニアガスが貯留されている。また、アンモニアガス供給管８９は、一端がアンモニアガス用ファン８７に接続され、他端が前記湿度調整用気体供給管路８８に接続されている。そして、アンモニアガス用ファン８７が駆動すると、アンモニアガスタンク８５内のアンモニアガスが、アンモニアガス供給管８９を介して湿度調整用気体供給管路８８に供給されることとなる。なお、湿度調整用気体供給管路８８に供給されるアンモニアガス量は、アンモニアガス流量計８６により管理される。
【００６８】
さらに、除染用ガス投入排気システム１ａは、図４に示されるように、所定のプログラムを実行する中央制御装置ＣＰＵを備えた制御装置２０ａを備えている。この制御装置２０ａは、温湿度計８２、内圧計８１、過酸化水素ガス供給装置３の送液ポンプ３３と流量計３２、排気バルブ６４、ヒータ１０、及び各ファン４１，６２，８３と電気的にそれぞれ接続している。さらに、本システム１ａにあっては、アンモニアガス用ファン８７、及びアンモニアガス流量計８６が接続されている。そして、アンモニアガス用ファン８７に対して、装置を所定態様で駆動させるための制御指令信号が出力される。一方、アンモニアガス流量計８６からは、測定データが入力される。
【００６９】
次に、上記除染用ガス投入排気システム１ａを用いた除染態様を説明する。
まず、アイソレータ２の漏れテストを実行する。次に、湿度調整を実行する。具体的には、制御装置２０ａが、流量計５２により流量データを管理しつつ、アイソレータ２内に不飽和エアーを供給する。また、循環ファン８３を駆動させてガスを送風させる。
【００７０】
所定時間経過し、除湿が完了すると、次にアイソレータ２内に載置された除染対象物αを除染すべく、過酸化水素ガスを投入し、除染対象物αの表面に凝縮液層を形成する。具体的には、流量計５２に不飽和エアーの供給を継続させ、循環ファン８３にはガスの送風を継続させる。さらに、所定量の過酸化水素水を蒸発装置３４に供給させる。そして、供給した過酸化水素ガスをアイソレータ２内で飽和させることにより除染対象物αの表面に凝縮液層を形成し、除染対象物α表面を除染する。その他、制御装置２０ａは、流量計３２により過酸化水素ガスの供給時間を管理したりする。また、上述の排気バルブ６４や各ファン４１，６２，８３を適宜駆動制御して、適正にアイソレータ２を除染管理する。
【００７１】
除染が完了すると、次にエアレーションを実行する。具体的には、制御装置２０ａが、流量計５２に不飽和エアーの供給を継続させる。これにより、不飽和エアーは、湿度調整用気体供給管路８８を通って循環用ガス管９内に供給される。また、循環ファン８３にガスの送風を継続させる。これにより、不飽和エアーを含むガスが循環系を循環することとなる。一方、過酸化水素ガス供給装置３の送液ポンプ３３には、駆動を停止する制御指令信号を出力する。
【００７２】
さらに、アンモニアガス用ファン８７を駆動させ、アンモニアガス供給管８９を介してアンモニアガスを湿度調整用気体供給管路８８に供給する。そして、湿度調整用気体供給管路８８に供給されたアンモニアガスは、不飽和エアーと共に循環用ガス管９に供給されることとなる。循環用ガス管９に供給されたアンモニアガスは、過酸化水素ガスと接触し、過酸化水素ガスを分解するため、エアレーションを進行させることが可能となる。
【００７３】
なお、過酸化水素ガスをアイソレータ２に投入するときに、送液ポンプ３３を駆動制御して過酸化水素ガスを循環用ガス管９に供給し、一方、排気するときに、送液ポンプ３３の駆動を停止させ、かつ流量計５２とアンモニアガス用ファン８７とを駆動制御して不飽和エアーとアンモニアガスとを湿度調整用気体供給管路８８を介して循環用ガス管９に供給する制御内容を具備する制御装置２０ａにより、本発明にかかる除染用ガス投入排気制御手段が構成される。
【００７４】
なお、本システム１ａを用いた除染にあっても、勿論、過酸化水素ガスを供給しながらアイソレータ２内の湿度を調整しても良い。さらに、不飽和エアーの放出速度を適宜変更する構成としても勿論良い。
【００７５】
なお、アンモニアガスを、湿度調整用気体供給管路８８を介さずに、直接循環用ガス管９に供給する構成も、本発明（請求項３）に含まれる。さらに詳述すると、上記過酸化水素ガス分解用ガス供給装置９０のアンモニアガス供給管８９が、一端がアンモニアガス用ファン８７に接続され、他端が循環用ガス管９に接続されている構成が提案される。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】除染用ガス投入排気システム１の概略図である。
【図２】除染用ガス投入排気システム１のブロック回路図である。
【図３】別構成の除染用ガス投入排気システム１ａの概略図である。
【図４】除染用ガス投入排気システム１ａのブロック回路図である。
【符号の説明】
【００７７】
１  除染用ガス投入排気システム
２  アイソレータ
３  過酸化水素ガス供給装置
５  不飽和エアー供給装置
７  迂回ガス管
８  ガス排気口
９  循環用ガス管
９ａ  循環用ガス管の一端
９ｂ  循環用ガス管の他端
１０  ヒータ
１１  ガス投入口
１２  循環用過酸化水素ガス不活性化部
１３  清浄化部
２０  制御装置
７３  過酸化水素ガス不活性化部用バルブ
７４  迂回ガス管用バルブ
８２  温湿度計
８３  循環ファン
８８  湿度調整用気体供給管路
９０  過酸化水素ガス分解用ガス供給装置
Ａ  第一ガス通路部分
Ｂ  第二ガス通路部分
α  除染対象物
【図１】
2006116095.tif 000003
【図２】
2006116095.tif 000004
【図３】
2006116095.tif 000005
【図４】
2006116095.tif 000006