(57)【要約】【課題】  基板上に形成された各パターン形成領域を限定させることなく、パターンの膜厚を均一にすることのできる電気光学装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】  ガラス基板２上には長軸と短軸を有する楕円形に形成されたマトリクス状に有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが配置形成されている。各有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂにおいて、短軸側に隣接する有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂとの間隔ａを長軸側に隣接する有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂとの間隔ｂよりも長くなるようにガラス基板２上に配置形成した。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン形成材料を含む機能液滴を基板上に形成した複数のパターン形成領域に吐出して乾燥させ、パターンを形成したパターン形成基板において、
前記基板上に形成した各パターン形成領域は、長軸と短軸を有した形状であって、前記短軸側に隣接するパターン形成領域の間隔が、前記長軸側に隣接するパターン形成領域との間隔よりも長くなるように配置したことを特徴とするパターン形成基板。
【請求項２】
パターン形成材料を含む機能液滴を基板上に形成した複数のパターン形成領域に吐出して乾燥させ、パターンを形成したパターン形成基板において、
前記基板上に形成したパターン形成領域は、横軸と縦軸の長さが等しい形状であって、前記横軸側に隣接するパターン形成領域の間隔と、前記縦軸側に隣接するパターン形成領域との間隔が等しくなるように配置したことを特徴とするパターン形成基板。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載するパターン形成基板において、
前記基板上に形成した各パターン形成領域は、マトリクス状に配列したことを特徴とするパターン形成基板。
【請求項４】
請求項１又は請求項３に記載するパターン形成基板において、
前記基板上に形成したパターン形成領域は楕円形の形状であることを特徴とするパターン形成基板。
【請求項５】
請求項２又は請求項３に記載するパターン形成基板において、
前記基板上に形成したパターン形成領域は、円形の形状であることを特徴とするパターン形成基板。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載するパターン形成基板において、
前記パターン形成材料は発光素子形成材料であることを特徴とするパターン形成基板。
【請求項７】
請求項６に記載するパターン形成基板において、
前記パターン形成材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子形成材料であることを特徴とするパターン形成基板。
【請求項８】
発光素子形成材料を含む機能液滴を表示基板上に形成した複数の発光素子形成領域に吐出して乾燥させ、発光素子を形成した表示基板を備えた電気光学装置の製造方法において、
前記表示基板上に形成した発光素子形成領域は、長軸と短軸を有した形状に形成し、前記短軸側に隣接する発光素子形成領域の間隔が、前記長軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔よりも長くなるように配置させたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
発光素子形成材料を含む機能液滴を表示基板上に形成した複数の発光素子形成領域に吐出して乾燥させ、発光素子を形成した表示基板を備えた電気光学装置の製造方法において、
前記表示基板上に形成した発光素子形成領域は、横軸と縦軸が等しい形状に形成し、前記横軸側に隣接する発光素子形成領域の間隔と、前記縦軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔が等しくなるように配置させたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン形成基板及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに替わる自発発光型ディスプレイとして、有機物を発光材料として用いた有機エレクトロルミネッセンス（以下、単に有機ＥＬと記す）素子の開発が盛んに行われている。その中でも、高分子系材料を使用したカラー化の手段として、インクジェット法を用いた微細パターニングによるカラー化が注目されている。
【０００３】
このインクジェット法は、基板上にマトリクス状に多数形成された素子形成領域に、液体吐出装置の吐出ノズルから発光素子形成材料を含む機能液滴を吐出し、その素子形成領域に着弾された機能液滴を乾燥・硬化させることによって素子形成領域に有機ＥＬ層(有
機ＥＬ素子)を形成する。
【０００４】
このインクジェット法によれば、基板上の各素子形成領域に着弾された機能液滴は、極めて速く乾燥する。特に、素子形成領域の形状が長方形や楕円形のような長軸と短軸を有する形状をしている場合、その素子形成領域の長軸側及び短軸側の端部では、素子形成領域に吐出された機能液から蒸発した溶媒分子分圧に差が生じる。これにより、長軸側の端部では、短軸側の端部と比べて溶媒分子分圧が低くなり、乾燥速度が速くなる。また、素子形成領域が円形や四角形のように横軸と縦軸が等しい形状をしている場合でも、横軸側と縦軸側に隣接しているそれぞれの素子形成領域との間隔が等間隔でない場合には、横軸側と縦軸側の端部で溶媒分子分圧差が生じる。このため、有機薄膜（有機ＥＬ層）に膜厚ムラが生じてしまい、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラの問題を生じていた。
【０００５】
そこで、従来より、こうした有機ＥＬディスプレイ装置の製造においては、有機ＥＬ層の膜厚ムラを解消する提案がなされている（例えば、特許文献１）。特許文献１によれば、素子形成領域の周囲において、新たに機能液滴の吐出領域を設けている。これにより、この吐出領域では機能液滴の溶媒が蒸発するため、素子形成領域の端部において溶媒分子分圧差が抑制され、有機ＥＬ層の膜厚を均一にすることができる。
【特許文献１】特開２００２−２２２６９５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１の方法では、それぞれの素子形成領域の周囲に有機ＥＬ装置として機能しない吐出領域を設ける必要があるため、基板上の素子形成領域の配置位置が限定されてしまい、しいては生産性の低下を招く問題となる。
【０００７】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板上のパターンを形成するパターン形成領域を限定させることなく、パターンの膜厚を均一にすることのできるパターン形成基板を提供することにある。
【０００８】
また、別の目的は、表示基板上の発光素子を形成する発光素子形成領域を限定させることなく、発光素子の膜厚を均一にでき、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを抑制することのできる電気光学装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の電気光学装置は、パターン形成材料を含む機能液滴を基板上に形成した複数の
パターン形成領域に吐出して乾燥させ、パターンを形成したパターン形成基板において、
前記基板上に形成した各パターン形成領域は、長軸と短軸を有した形状であって、前記短軸側に隣接するパターン形成領域の間隔が、前記長軸側に隣接するパターン形成領域との間隔よりも長くなるように配置した。
【００１０】
本発明のパターン形成基板によれば、パターン形成領域を長軸と短軸を有した形状にした。また、各パターン形成領域は、パターン形成領域の短軸側に隣接するパターン形成領域との間隔が、長軸側に隣接するパターン形成領域との間隔よりも長くなるように基板上に配置した。これにより、パターン形成領域の長軸側と短軸側の端部においては、溶媒分子分圧の差が抑制される。即ち、長軸側と短軸側の端部における溶媒の乾燥速度に差が生じ難くなる。その結果、各パターン形成領域においてパターン形成材料で形成されたパターンの膜厚を均一にすることができる。従って、基板上のパターンの形成領域を限定させることなく、パターンを均一にできる。
【００１１】
本発明の電気光学装置は、パターン形成材料を含む機能液滴を基板上に形成した複数のパターン形成領域に吐出して乾燥させ、パターンを形成したパターン形成基板において、
前記基板上に形成したパターン形成領域は、横軸と縦軸の長さが等しい形状であって、前記横軸側に隣接するパターン形成領域の間隔と、前記縦軸側に隣接するパターン形成領域との間隔が等しくなるように配置した。
【００１２】
本発明のパターン形成基板によれば、パターン形成領域を横軸と縦軸の長さが等しい形状にした。また、各パターン形成領域は、パターン形成領域の横軸側に隣接するパターン形成領域との間隔が、縦軸側に隣接するパターン形成領域との間隔と等しくなるように基板上に配置した。これにより、パターン形成領域の端部においては、溶媒分子分圧の差が抑制され、端部における溶媒の乾燥速度に差が生じ難くなる。従って、各パターン形成領域においてパターン形成材料で形成されたパターンの膜厚を均一にすることができ、基板上のパターンの形成領域を限定させることなく、パターンの膜厚を均一にできる。
【００１３】
このパターン形成基板は、前記基板上に形成した各パターン形成領域は、マトリクス状に配列した。このパターン形成基板によれば、基板上にマトリクス状に配列されたパターン形成領域の端部において、溶媒分子分圧の差が抑制される。従って、基板上のパターンの形成領域を限定させることなく、パターンの膜厚を均一にできる。
【００１４】
このパターン形成基板は、前記基板上に形成したパターン形成領域は楕円形の形状である。このパターン形成基板によれば、パターン形成領域は楕円形の形状であり、その長軸側と短軸側の端部において、溶媒分子分圧の差が抑制される。従って、基板上のパターンの形成領域を限定させることなく、パターンの膜厚を均一にできる。
【００１５】
このパターン形成基板は、前記パターン形成領域は円形の形状である。このパターン形成基板によれば、パターン形成領域は円形の形状であり、その端部における溶媒分子分圧の差が抑制される。従って、基板上の有機ＥＬ素子の形成領域を限定させることなく、パターンの膜厚を均一にできる。
【００１６】
このパターン形成基板は、前記パターン形成材料は発光素子形成材料である。このパターン形成基板によれば、基板上の発光素子の形成領域を限定させることなく、パターンの膜厚を均一にでき、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを抑制することができる。
【００１７】
このパターン形成基板は、前記パターン形成材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子形成材料である。このパターン形成基板によれば、基板上の有機エレクトロルミネッセンス素子の形成領域を限定させることなく、パターンの膜厚を均一にでき輝度ムラ、発光
色ムラ等の表示ムラを抑制することができる。
【００１８】
本発明の電気光学装置の製造方法は、発光素子形成材料を含む機能液滴を表示基板上に形成した複数の発光素子形成領域に吐出して乾燥させ、発光素子を形成した表示基板を備えた電気光学装置の製造方法において、前記表示基板上に形成した発光素子形成領域は、長軸と短軸を有した形状に形成し、前記短軸側に隣接する発光素子形成領域の間隔が、前記長軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔よりも長くなるように配置させた。
【００１９】
この電気光学装置の製造方法によれば、発光素子形成領域を長軸と短軸を有した形状に形成した。また、各発光素子形成領域において、発光素子形成領域の短軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔が、長軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔よりも長くなるように表示基板上に配置されている。これにより、発光素子形成領域の長軸側と短軸側の端部においては、溶媒分子分圧の差が抑制される。即ち、長軸側と短軸側の端部における機能液滴の溶媒の乾燥速度に差が生じ難くなるため、発光素子形成材料で形成される発光素子の膜厚を均一にすることができる。従って、基板上の発光素子の形成領域を限定させることなく、発光素子の輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを抑制することができる。
【００２０】
本発明の電気光学装置の製造方法は、発光素子形成材料を含む機能液滴を表示基板上に形成した複数の発光素子形成領域に吐出して乾燥させ、発光素子を形成した表示基板を備えた電気光学装置の製造方法において、前記表示基板上に形成した発光素子形成領域は、横軸と縦軸が等しい形状に形成し、前記横軸側に隣接する発光素子形成領域の間隔と、前記縦軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔が等しくなるように配置させた。
【００２１】
この電気光学装置の製造方法によれば、発光素子形成領域は横軸と縦軸を等しい形状に形成した。また、各発光素子形成領域において、発光素子形成領域の横軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔が、縦軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔と等しくなるように表示形成基板上に配置されている。これにより、発光素子形成領域の端部においては、溶媒分子分圧の差が抑制され、端部における溶媒の乾燥速度に差が生じ難くなる。従って、発光素子形成材料で形成される発光素子の膜厚を均一にすることができ、表示基板上の発光素子の形成領域を限定させることなく、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した電気光学装置の第１実施形態を図１〜図２に従って説明する。図1は電気光学装置の正面図、図２はその電気光学装置の図１中のＡ−Ａ線での要部断
面図である。
【００２３】
図１において、電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（以下、単に有機ＥＬディスプレイという。）1は、本実施形態ではトップエミッション型の
ディスプレイであって、平面板状の形状をしたパターン形成基板としての光透過性のガラス基板２を備えている。そのガラス基板２の表面（画素形成面２ａ）の略中央位置には、四角形状の表示領域Ｒが形成されている。表示領域Ｒ内には、図１に示すようにｍ×ｍ個の画素３がマトリックス状に形成されている。また、ガラス基板２上であって、表示領域Ｒ以外の領域（非表示領域）には、走査線駆動回路５が形成されている。
【００２４】
表示領域Ｒには、１行当たりｍ個の画素３がｎ行、また、１列当たりｎ個の画素３がｍ列、形成されている。各画素３は、パターン形成領域としての赤色の光を出射する発光素子としての有機ＥＬ素子４Ｒ、緑色の光を出射する発光素子としての有機ＥＬ素子４Ｇ及び青色の光を出射する発光素子としての有機ＥＬ素子４Ｂとから構成されている。そして
、各画素３は、図１中Ｘ方向（行方向）に沿って、赤色の有機ＥＬ素子４Ｒ、緑色の有機ＥＬ素子４Ｇ、青色の有機ＥＬ素子４Ｂの順で配置されている。
【００２５】
即ち、図１中Ｘ方向（行方向）においては、赤色の有機ＥＬ素子４Ｒ、緑色の有機ＥＬ素子４Ｇ、青色の有機ＥＬ素子４Ｂの順が繰り返されて配置される。また、図１Ｙ方向（列方向）においては、同色の有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂがそれぞれに配置される。
【００２６】
そして、本実施形態においては、各有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの形状は、即ち、発光素子形成領域の形状は、それぞれ長軸と短軸を有する楕円形に形成されている。そして、各有機ＥＬ素子（素子形成領域）は、短軸側に隣接する有機ＥＬ素子（発光素子形成領域）との間隔ａが、長軸側に隣接する有機ＥＬ素子（発光素子形成領域）との間隔ｂよりも長くなるようにガラス基板２上に配置される。
【００２７】
図２に示すように、各有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、ガラス基板２上の回路形成層６の上面に形成される。回路形成層６は、表示領域Ｒに形成される各画素３の有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを駆動させるための薄膜トランジスタ８等といった回路素子や、非表示領域に形成される走査線駆動回路５を構成する回路素子の一部又は全部が形成される層である。そして、回路形成層６の表示領域Ｒの上側であって表示領域Ｒに対応した領域には各有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを区画するバンクＢが形成されている。即ち、長軸と短軸を有する楕円形の発光素子形成領域を形成するためのバンクＢが形成されている。
【００２８】
バンクＢは、二酸化珪素よりなる第１バンクＢ１の上に有機樹脂よりなる第２バンクＢ２が積層されて形成されている。本実施形態においては、有機樹脂にポリイミド樹脂を使用したが、素材はこれに限定されるものではなく、アクリル樹脂や撥液性のあるフッ素系樹脂を使用してもよい。ただし、第２バンクＢ２をアクリル樹脂やポリイミド樹脂等の撥液性のない樹脂で形成する際には、有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成することになる後工程のために、ＣＦ４プラズマ処理により表面を撥液化する必要がある。
【００２９】
各バンクＢによって区画された凹部１０（発光素子形成領域）の底面には陽極１１が形成されている。各陽極１１は、対応する薄膜トランジスタ８とコンタクトホール１２を介して電気的に接続されている。また、各凹部１０において、その陽極１１上には、パターン形成材料、発光素子形成材料又は有機エレクトロルミネッセンス素子形成材料としての有機材料からなる有機エレクトロルミネッセンス層（有機ＥＬ層）１３が形成されている。有機ＥＬ層１３は、本実施形態においては、正孔輸送層１４、そして、正孔輸送層１４の上に赤色発光層１５、緑色発光層１６又は青色発光層１７の２層からなる有機化合物層である。赤色発光層１５は、赤色の光を出射する有機発光材料で構成された発光層である。また、緑色発光層１６は、緑色の光を出射する有機発光材料で構成された発光層であり、青色発光層１７は、青色の光を出射する有機発光材料で構成された発光層である。
【００３０】
有機ＥＬ層１３及びバンクＢの上面には、透明の陰極１９が形成されている。また、陰極１９は非表示領域を覆うように形成されている。そして、陽極１１、正孔輸送層１４、赤色発光層１５、緑色発光層１６、青色発光層１７及び陰極１９で、各有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが形成される。さらに、陰極１９の上側には、各種金属膜や有機ＥＬ層１３の酸化等を防止するためのエポキシ樹脂からなる封止部２０が形成されている。
【００３１】
そして、データ信号に応じた駆動電流が陽極１１に供給されると、有機ＥＬ層１３は、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層１３から陰極１９側（図２における上側）に向かって発光された光は、陰極１９、封止部２０を通過する（以下、透過光という）。また、有機ＥＬ層１３から陽極１１側に向かって発光された光は、陽極１１によって反射され（以下、反射光という）、有機ＥＬ層１３、陰極１９、封止部２０を通
過する。そして、透過光と反射光とが干渉した光が図示しない保護ガラス基板側に出射される。
【００３２】
次に、本発明の有機ＥＬディスプレイ１の製造方法について、図３〜図４に従って説明する。図３（ａ）〜（ｄ）は、本発明の有機ＥＬディスプレイ１の製造方法を順を追って示す断面図である。
【００３３】
図３（ａ）に示すように、ガラス基板２上には、回路形成層６が形成される。回路形成層６上には、陽極１１が形成され、この陽極１１を区画する領域に第１バンクＢ１及び第２バンクＢ２の２層からなるバンクＢが形成される。第１バンクＢ１は、プラズマＣＶＤ法によって形成され、フォットエッチングでパターン形成がなされる。さらに、第１バンクＢ１の上面には、感光性ポリイミドが塗布され、露光後に現像することにより、第２バンクＢ２が形成される。これによって、陽極１１を底部とし、バンクＢを側壁部としたパターン形成領域（発光素子形成領域）としての凹部１０が形成される。
【００３４】
このとき、本実施形態では、凹部１０の形状（発光素子形成領域の形状）は、長軸と短軸を有する楕円形に形成される。さらに、凹部１０は、短軸側に隣接する凹部１０との間隔ａが、長軸側に隣接する凹部１０との間隔ｂよりも長くなるようにガラス基板２上に配置形成される（図１参照）。
【００３５】
次に、大気圧プラズマ処理により、第２バンクＢ２を撥液処理する。これによって、第２バンクＢ２に有機材料を含む機能液滴が滞留するのが抑制され、凹部１０への機能液滴の流入が促進される。そして、図３（ｂ）に示すように、インクジェット法を利用して、液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)の液滴吐出ノズルから、各バンクＢによって区画された凹部１０に有機材料を含む機能液滴２１を吐出させる。
【００３６】
そして、凹部１０に機能液滴２１が吐出された後、各凹部１０に着弾させた機能液滴２１を乾燥させ、正孔輸送層１４を形成する。本実施形態では、真空中にて溶媒を除去し、熱処理を行うことによって正孔輸送層１４を形成させている。
【００３７】
また、このとき、凹部１０の形状は、長軸と短軸を有する楕円形に形成されているので、通常、短軸側の端部と比べて長軸側の端部の溶媒分子分圧は低くなり、乾燥速度に差が生じる。ところが、本実施形態では、短軸側に隣接する凹部１０との間隔ａが、長軸側に隣接する凹部１０との間隔ｂよりも長くなるようにガラス基板２上に配置されているので、短軸側の溶媒分子分圧は低くなり、長軸側の溶媒分子分圧は上昇する。これにより、長軸側と短軸側の端部における溶媒分子分圧の差が抑制される。従って、長軸側と短軸側の端部では、溶媒の乾燥速度に差が生じ難くなるため、膜厚の均一な正孔輸送層１４が得られる。
【００３８】
次に、図３（ｃ）に示すように、インクジェット法を利用して、液滴吐出ヘッド(イン
クジェットヘッド)の各液滴吐出ノズルから、Ｘ方向（行方向）において隣接した３つの
凹部１０に対し、機能液滴２２，２３，２４を吐出させる。そして、凹部１０に対して吐出された機能液滴２２，２３，２４を乾燥させ、赤色発光層１５、緑色発光層１６、青色発光層１７を形成する。本実施形態では、熱処理により溶媒を除去して発光層を形成させている。
【００３９】
また、このとき、凹部１０の形状は、短軸側に隣接する凹部１０との間隔ａが、長軸側に隣接する凹部１０との間隔ｂよりも長くなるようにガラス基板２上に配置されているので、長軸側と短軸側の端部における溶媒分子分圧の差が抑制される。これにより、長軸側と短軸側の端部では、溶媒の乾燥速度に差が生じ難くなるため、膜厚の均一な赤色発光層
１５、緑色発光層１６及び青色発光層１７が得られる。
【００４０】
そして、図３（ｄ）に示すように、ガラス基板２上にある凹部１０において赤色発光層１５、緑色発光層１６、青色発光層１７が形成された後、バンクＢと発光層の上面においては、ＩＴＯよりなる陰極１９を積層形成する。さらに、陰極１９の上面には、エポキシ樹脂からなる封止部２０を形成し、封止を行う。以上により、輝度ムラ、発光色ムラのない均一な表示の有機ＥＬディスプレイ１を得ることができる。
【００４１】
次に、上記実施形態の効果を記載する。
本実施形態によれば、凹部１０は長軸と短軸を有した楕円形に形成されており、その短軸側に隣接する凹部１０との間隔ａが、長軸側に隣接する凹部１０との間隔ｂよりも長くなるようにガラス基板２上に配置した。これにより、凹部１０の長軸側と短軸側の端部においては、溶媒分子分圧の差が抑制され、長軸側と短軸側の端部での溶媒の乾燥速度に差が生じ難くなる。従って、ガラス基板２上の各有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの発光素子形成領域を限定させることなく、有機ＥＬ層１３の膜厚を均一にすることができ、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを抑制することができる。
（第２実施形態）
以下、本発明を具体化した第２実施形態を図４に従って説明する。なお、第１実施形態では、各凹部１０(発光素子形成領域)は長軸と短軸を有した楕円形に形成し、短軸側に隣接する凹部１０との間隔ａが、長軸側に隣接する凹部１０の間隔ｂよりも長くなるようにガラス基板２上に配置した。
【００４２】
これに対して、第２実施形態では、各発光素子形成領域は横軸と縦軸の長さが等しい形状に形成され、横軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔が、縦軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔と等しくなるようにガラス基板２上に配置した点が相違する。従って、説明の便宜上、その相違する点のみを説明する。
【００４３】
図４に示すように、表示領域Ｒには、１行当たりｍ個の画素がｎ行、また、１列当たりｎ個の画素がｍ列、形成されている。各画素３は、パターン形成領域としての赤色の光を出射する有機ＥＬ素子３１Ｒ、緑色の光を出射する有機ＥＬ素子３１Ｇ及び青色の光を出射する有機ＥＬ素子３１Ｂとから構成されている。そして、各画素３は、図１中Ｘ方向（行方向）に沿って、赤色の有機ＥＬ素子３１Ｒ、緑色の有機ＥＬ素子３１Ｇ、青色の有機ＥＬ素子３１Ｂの順で配置されている。
【００４４】
即ち、図１中Ｘ方向（行方向）においては、赤色の有機ＥＬ素子３１Ｒ、緑色の有機ＥＬ素子３１Ｇ、青色の有機ＥＬ素子３１Ｂの順が繰り返されて配置される。また、図１Ｙ方向（列方向）においては、同色の有機ＥＬ素子３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂがそれぞれに配置される。
【００４５】
そして、本実施形態においては、各有機ＥＬ素子３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂの形状は、横軸と縦軸の長さが等しい正四角形に形成される。さらに、横軸方向に隣接する有機ＥＬ素子との間隔ｃが、縦軸方向に隣接する有機ＥＬ素子との間隔ｄと等しくなるようにガラス基板２上に配置されている。つまり、本実施形態においては、各有機ＥＬ素子３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂの形状は、即ち、発光素子形成領域の形状は、それぞれ正四角形に形成されている。そして、各有機ＥＬ素子(発光素子形成領域)は、横軸側に隣接する有機ＥＬ素子（発光素子形成領域）との間隔ｃが、縦軸側に隣接する有機ＥＬ素子（発光素子形成領域）との間隔ｄと等しくなるようにガラス基板２上に配置される。
【００４６】
そして、第１実施形態と同様に、インクジェット法を利用して、液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）の液滴吐出ノズルから、各発光素子形成領域（各バンクによって区画
された凹部）に機能液滴が吐出される。
【００４７】
このとき、各発光素子形成領域の形状は、横軸と縦軸の長さが等しい正四角形に形成されており、横軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔ｃが、縦軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔ｄと等しくなるようにガラス基板２上に配置されている。これにより、各発光素子形成領域の横軸及び縦軸方向の端部においては、溶媒分子分圧の差が生じ難くなる。従って、横軸側と縦軸側の端部では、溶媒の乾燥速度に差が生じ難くなるため、膜圧の均一な有機ＥＬ層（正孔輸送層及び発光層）が得られる。
【００４８】
これにより、第２の実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。
本実施形態によれば、各発光素子形成領域は横軸と縦軸の長さが等しい正四角形に形成されており、その横軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔ｃが、縦軸側に隣接する発光素子形成領域との間隔ｄと等しくなるようにガラス基板２上に配列した。これにより、各発光素子形成領域の端部における溶媒分子分圧の差が抑制され、溶媒の乾燥速度に差が生じ難くなる。従って、ガラス基板２上の有機ＥＬ素子３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂの形成領域を限定させることなく、有機ＥＬ層の膜厚を均一にすることができ、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを抑制することができる。
【００４９】
なお、本実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記第１実施形態では、凹部１０（発光素子形成領域）の形状は楕円形であった。これに代えて、凹部１０（発光素子形成領域）は長方形などの形状をしたものであってもよく、長軸と短軸を有する形状であれば、特に限定されない。
【００５０】
・上記第２実施形態では、発光素子形成領域の形状は正四角形であった。これに代えて、発光素子形成領域は円形などの形状をしたものであってもよく、横軸と縦軸の長さが等しい形状であれば、特に限定されない。
【００５１】
・上記実施形態では、発光素子形成領域を形成するバンクＢは二酸化珪素からなる第１バンクＢ１とポリイミド樹脂からなる第２バンクＢ２の２層から形成されている。これに代えて、バンクＢは第２バンクＢ２のみから形成されていてもよい。
【００５２】
・上記実施形態では、第１バンクＢ１の上面に感光性ポリイミドを塗布し、第２バンクＢ２を形成させた。これに代えて、非感光性ポリイミドを使用してもよい。
・上記実施形態では、第１バンクＢ１の上面にポリイミド樹脂からなる第２バンクＢ２を積層させてバンクＢを形成し、大気圧プラズマ法によって撥インク処理を行った。これに代えて、第１バンクＢ１の上面にフッ素系樹脂を積層させてバンクＢを形成し、予めバンクＢに撥液性を持たせていてもよい。
【００５３】
・上記実施形態では、二酸化珪素からなる第１バンクＢ１の上面にポリイミド樹脂からなる第２バンクＢ２を積層させてバンクＢを形成した。これに代えて、バンクＢの材料は、耐熱性、撥液性、インク溶剤耐性、下地基板との密着性に優れたものであれば、特に限定されない。
【００５４】
・上記実施形態では、パターン形成基板又は表示基板としてガラス基板２を使用した。これに代えて、樹脂材料からなる基板や半導体基板を使用してもよい。
・上記実施形態では、パターン形成材料又は発光素子形成材料として有機ＥＬ形成材料を使用した。これに代えて、パターン形成材料又は発光素子形成材料は、無機ＥＬ形成材料又はカラーフィルタ形成材料であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る電気光学装置の正面図。
【図２】本発明の第１実施形態に係る電気光学装置の要部断面図。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は本発明の第１実施形態に係る電気光学装置の製造方法を説明する工程図。
【図４】本発明の第２実施形態に係る電気光学装置の正面図。
【符号の説明】
【００５６】
１…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、２…パターン形成基板としてのガラス基板、４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ，３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂ…有機ＥＬ素子、１０…パターン形成領域としての凹部、１１…陽極、１３…有機ＥＬ層、１４…正孔輸送層、１５…赤色発光層、１６…緑色発光層、１７…青色発光層、１９…陰極、２０…封止部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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