(57)【要約】【課題】二色比が高く、さらに表面の平滑性が高い異方性色素膜を提供することを課題とする。光の散乱防止の効果がある偏光素子を提供することを課題とする。【解決手段】少なくとも二色性色素等の色素および溶剤を含有する色素溶液を、ガラスやポリマーフィルム等の基材上に塗布することにより色素膜を形成した後、該色素膜を減圧処理することを特徴とする異方性色素膜の製造方法。また、該異方性色素膜の製造方法により得られた異方性色素膜。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
色素溶液を基材上に塗布し、色素膜を形成した後、該色素膜を減圧処理することを特徴とする異方性色素膜の製造方法。
【請求項２】
減圧処理が５×104Pa以下で行なわれる請求項１に記載の異方性色素膜の製造方法。
【請求項３】
色素溶液に含まれる色素が液晶相を有する色素である、請求項１または２に記載の異方性色素膜の製造方法。
【請求項４】
色素溶液に含まれる色素の配向の緩和時間が10秒以下である請求項１〜３のいずれか一項に記載の異方性色素膜の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法により製造された異方性色素膜。
【請求項６】
請求項５に記載の異方性色素膜を用いた偏光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、異方性色素膜の製造方法に関するもので、詳しくは二色比の高い異方性色素膜を得られる製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ（液晶表示ディスプレイ）では、表示における旋光性や複屈折性を制御するために直線偏光板や円偏光板が用いられている。ＯＬＥＤ（有機ＥＬ素子）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。
従来、これらの偏光板（偏光素子）には、ヨウ素や二色性を有する有機色素を、ポリビニルアルコール等の高分子材料に溶解または吸着させ、その膜を一方向にフィルム状に延伸して、二色性色素を配向させることにより得られる偏光膜が広く使用されてきた。しかしながら、このようにして製造される従来の偏光膜では、用いる色素や高分子材料によっては耐熱性や耐光性が十分でない；液晶装置製造時における偏光膜の貼り合わせの歩留りが悪い；等の問題があった。
【０００３】
そのため、ガラスや透明フィルムなどの基板上に、二色性色素を含む溶液を塗布する湿式成膜法にて二色性色素を含む膜を形成し、分子間相互作用などを利用して二色性色素を配向させることにより偏光膜を製造する方法（例えば、特許文献１、２および非特許文献１、２参照）が検討されている。
偏光素子としての用途においては、より高い偏光性能を得るために、二色性の高い偏光膜が求められているが、特許文献１、２および非特許文献１、２に記載されるような従来の方法で製造された偏光膜は、高い二色比を得ることが出来ず、より優れた偏光性能を得ることはできないという問題点があった。
【特許文献１】米国特許第２，４００，８７７号明細書
【特許文献２】特表平８−５１１１０９号公報
【非特許文献１】Dreyer,J.F.,Phys.And  Colloid Chem.,1948,52,808.,“TheFixing of Molecular  Orientation”
【非特許文献２】Dreyer,J.F.,Journal de Physique,1969,4,114.,“LightPolarization From Films  of  Lyotropic Nematic  Liquid  Crystals”
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、異方性色素膜の製造方法において、二色比の高い異方性色素膜を得る方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らが、鋭意検討した結果、色素溶液を湿式成膜法にて色素を含む膜を形成後、減圧処理することにより、高二色比の異方性色素膜を得られることがわかり、本発明に到達した。
減圧処理することにより、高二色比の異方性色素膜を得られる理由は、以下の通りであると推測される。減圧処理を行うことにより、色素膜を形成後、急速に色素膜を乾燥することが出来る。この急速な乾燥により、配向の緩和や熱対流等によると考えられる色素膜の配向の乱れを防ぐことができる。これにより、高い配向性を有する色素膜が得ることができ、またこの色素膜は高い二色比を奏するものと推測される。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の製造方法によれば、高い二色比を持つ異方性色素膜を得ることができる。
また、表面の平滑性が高い異方性色素膜を得ることができ、偏光素子として使用したときに光の散乱防止の効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例（代表例）であり、これらの内容に特定はされない。
尚、本発明でいう異方性色素膜とは、色素膜の厚み方向及び任意の直交する面内２方向の立体座標系における合計３方向から選ばれる任意の２方向における電磁気学的性質に異方性を有する色素膜である。電磁気学的性質としては、吸収、屈折などの光学的性質、抵抗、容量などの電気的性質などが挙げられる。吸収、屈折などの光学的異方性を有する膜としては、例えば、直線偏光膜、円偏光膜、位相差膜、導電異方性膜などがある。すなわち、本発明は、偏光膜、位相差膜、導電異方性膜に用いられることが好ましく、偏光膜に用いられることがより好ましい。
【０００８】
本発明の異方性色素膜は通常湿式製膜法により製造される。本発明でいう湿式製膜法とは、色素溶液を塗布液として調製後、基材上に塗布し、色素を配向及び／又は積層して得る方法をいう。本発明でいう色素溶液とは、通常、色素及び溶剤を含むものをいう。
基材としては、ガラスやトリアセテート、アクリル、ポリエステル、トリアセチルセルロース又はウレタン系のフィルム等が挙げられる。また、この基材表面には、色素の配向方向を制御するために、「液晶便覧」（丸善株式会社、平成１２年１０月３０日発行）２２６頁〜２３９頁などに記載の公知の方法により、配向処理層を施しておいてもよい。
(i)色素
本発明の異方性色素膜に用いられる色素としては、通常二色性色素が用いられる。好ましくは、アゾ系色素、スチルベン系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、縮合多環系色素（ペリレン系、オキサジン系）等が挙げられる。これら色素の中でも、異方性色素膜中で高い分子配列をとりうるアゾ系色素が特に好ましい。
【０００９】
アゾ系色素とは、アゾ基を少なくとも１個以上持つ色素をいう。その一分子中のアゾ基の数は、色調および製造面の観点から、１以上が好ましく、さらに好ましくは２以上で、６以下が好ましく、さらに好ましくは４以下である。
アゾ系色素の中でも、下記式（１）で表される色素が好ましい。
【００１０】
【化１】
2006201759.tif 000002
【００１１】
（式中、Ｄ1およびＥ1は、置換基を有していてもよいフェニレン基、または置換基を有していてもよいナフチレン基を表し、
Ｇ1はカルボキシ基、スルホ基、またはリン酸基を表し、
Ｑ1はハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基
を有していてもよい炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３のアルコキシ基、カルボキシ基、或いはスルホ基を表し、
Ｑ2およびＱ3はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜４のアルキル基、或いは置換基を有していてもよいフェニル基を表し、
ｐは０または１を表し、ｔは１または２を表す。）
ここで、上記式（１）で表されるトリスアゾ色素について説明する。
【００１２】
該トリスアゾ色素は水溶性の黒色の二色性色素である。該トリスアゾ色素は、分子長軸の両端の特定位置に他の分子に強い引力を与える置換基を配した分子構造、およびＤ1，
Ｅ1に疎水性を有するため、互いの分子同士が疎水性による相互作用（疎水性相互作用）
を有し、分子同士が会合状態を作りやすくなっている。
上記式（１）において、Ｄ1およびＥ1は、置換基を有していても良いフェニレン基または置換基を有していても良いナフチレン基を表す。フェニレン基としては１，４−フェニレン基が好ましく、ナフチレン基としては１，４−ナフチレン基が、疎水性相互作用を示すために好ましい。このフェニレン基の置換基としては、置換基を有していても良い、炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基等）、置換基を有していても良い、炭素数１〜４のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等）、置換基を有していても良い、炭素数２〜７のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）等の極性の小さい基がリオトロピック液晶を形成する上での疎水性相互作用による会合性向上の点で好ましい。
【００１３】
ナフチレン基の置換基としては、置換基を有していても良い、炭素数１〜４のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）等の極性の小さい基がリオトロピック液晶を形成する上での疎水性相互作用による会合性向上の点で好ましい。前記アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基の有し得る置換基としては、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。
【００１４】
Ｇ1としては、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基が上記のように強い引力を与える置
換基であることから好ましく、広いｐＨ範囲で引力を与えるという点で特に好ましくはスルホ基が挙げられる。
Ｑ1は、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、置換基を有していても良いアミノ基（好ま
しくはアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基）、置換基を有していても良い、炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、置換基を有していても良い、炭素数１〜３のアルコキシ基、カルボキシ基およびスルホ基を表し、特に好ましくは水素原子、水酸基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。前記アルキル基、アルコキシ基の有し得る置換基としては、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。
【００１５】
Ｑ2およびＱ3はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良い、炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、置換基を有していても良いフェニル基であり、特に好ましくはＱ2あるいはＱ3のいずれかが水素原子であることが挙げられる。前記アルキル基およびフェニル基の有し得る置換基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。
【００１６】
ｐは０または１を表し、ｔは１または２の数を表す。
前記式（１）で表されるアゾ色素は黒色を示すものであるが、中でも刺激純度０％〜１２％の色素であることが好ましい。即ち、刺激純度０％〜１２％の色素を使用すれば、特に、異なる分子を混合することによる分子配向の乱れがなく、高い二色性を示すことができる。
【００１７】
ここで、刺激純度とは、色度図より標準の光の色度座標Ｎと求めた色素の色度座標Ｃを
直線で結び、その延長のスペクトル軌跡との交点に対応する波長を主波長とし、各点の比率からを算出する。色度座標Ｃは、水に色素を加え色素水溶液とし、この水溶液の可視光透過率を分光光度計で測定し、ＣＩＥ１９６４  ＸＹＺ表色系、Ｄ６５標準光源下での色度ｘｙを算出して得ることができる。色素の刺激純度とは、色素を水に加えて色素水溶液として測定、算出されたものをいう。また、その算出法としては、日本色彩学会編「新編
色彩科学ハンドブック」財団法人東京大学出版会、１９８９年１１月２５日（第２回改訂）発行、１０４ページから１０５ページなどに記載の公知の方法により求めることができる。
【００１８】
前記式（１）で表されるアゾ色素は、刺激純度０％以上１２％以下の色素であれば好ましいが、刺激純度は０％以上、更に好ましくは９％以下、最も好ましくは６％以下である。
また、前記式（１）で表される色素の分子量は、遊離酸の形で、通常５９５以上、通常１５００以下、好ましくは１２００以下である。
【００１９】
また、本発明における色素は、前記湿式製膜法に供するためには水溶性であることが好ましい。従って、水溶性を与える置換基として、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基等の酸性基、アミノ酸基等の塩基性基、水酸基等の可溶性基を有する色素が好ましく、水溶性の高さから、特にスルホ基、カルボキシ基を有することが好ましい。
本発明における色素の分子量は、塩型をとらない遊離の状態で通常２００以上、特に３５０以上で、通常５０００以下、特に３５００以下であることが、色調および製造面の観点から好ましい。
【００２０】
また、本発明における色素は、液晶相を有する色素であることが好ましい。ここで、液晶相を有する色素とは、色素と混和性のある溶剤との混合物がリオトロピック液晶性を示すものを意味する。
また、色素は、その配向の緩和時間が１０秒以下であることが好ましい。本発明において、配向の緩和時間は粟屋裕著「高分子素材の偏光顕微鏡入門」（株式会社アグネ技術センター出版、２００１年１０月１５日発行）などに記載の、クロスニコル下での偏光顕微鏡で観察したときに色素溶液に1000[1/s]のずりを10秒かけた後の光線透過率がずりをか
える前の光線透過率に戻る時間を表す。
【００２１】
本発明において、上述したような色素は単独で使用することができるが、これらの２種以上を併用してもよく、また、配向を低下させない程度に上記例示色素以外の色素を配合して用いることもでき、これにより各種の色相を有する異方性色素膜を製造することができる。
他の色素を配合する場合の配合用色素の例としては、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ３４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ
Ｙｅｌｌｏｗ  １３２、Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ７２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ７９，、Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ  Ｏｒａｎｇｅ  ２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ７９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ
Ｒｅｄ  ８１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ
８９、Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ  Ｒｅｄ  ３７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ３５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ４８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ５７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ６７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ９０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  ４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  ５１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  ５９等が挙げられる。
【００２２】
(ii)溶剤
溶剤としては、水、水混和性のある有機溶剤、或いはこれらの混合物が適している。有機溶剤の具体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類などの単独又は２種以上の混合溶剤が挙げられる。
【００２３】
(iii)濃度
色素溶液中の色素の濃度としては、製膜条件によるが、通常０．０１重量％以上、特に０．１重量％以上であることが好ましく、通常５０重量％以下、特に３０重量％以下であることが好ましい。色素濃度が低過ぎると得られる異方性色素膜において十分な光透過性や二色性を得ることができず、高すぎると色素溶液中で色素が析出する恐れがある。
【００２４】
(iv)その他
色素溶液には、さらに必要に応じて、界面活性剤、ｐＨ調整剤等の添加剤が配合されていてもよい。添加剤により、濡れ性、塗布性を向上させることができる。
界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性およびノニオン性のいずれも使用可能である。その添加濃度は、目的の効果を得るために十分であって、かつ色素分子の配向を阻害しない量として、色素溶液中の濃度として通常０．０５重量％以上、０．５重量％以下が好ましい。
また、色素溶液中での色素の造塩や凝集などの不安定性を抑制する等の目的のために、通常公知の酸、アルカリ等のｐＨ調整剤などを、色素溶液の構成成分の混合の前後或いは混合中のいずれかで添加してｐＨ調整を行ってもよい。
さらに、上記以外の添加剤として、“Additive  for Coating”,Editedby J.Bieleman,Willey-VCH(2000)記載の公知の添加剤を用いることもできる。
【００２５】
(v)異方性色素膜の形成方法
本発明の異方性色素膜を湿式成膜法で形成する場合には、通常、色素溶液を基材に塗布する。
色素溶液を基材に塗布する方法としては、原崎勇次著「コーティング工学」（株式会社朝倉書店、１９７１年３月２０日発行）２５３頁〜２７７頁や市村國宏監修「分子協調材料の創製と応用」（株式会社シーエムシー出版、１９９８年３月３日発行）１１８頁〜１４９頁などに記載の公知の方法や、例えば、予め配向処理を施した基材上に、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ロールコート法、ブレードコート法などで塗布する方法が挙げられる。
【００２６】
色素溶液の基材上への塗布時の温度は、通常０℃以上、８０℃以下、好ましくは４０℃以下である。また、湿度は、通常１０％ＲＨ以上、好ましくは３０％ＲＨ以上で、通常８０ＲＨ％以下である。
【００２７】
(vi)減圧処理
本発明の異方性色素膜の製造方法は、色素溶液を基材上に塗布後、色素膜を減圧処理することを特徴とする。減圧処理することにより、通常色素膜を乾燥させることが出来る。
【００２８】
従来の異方性色素膜の製造方法では、色素溶液を基材上に塗布後、自然乾燥させていた。すなわち、従来は常圧下で乾燥させていたが、この乾燥方法では高い二色性を有する異方性色素膜を得ることが困難であった。この原因は、色素溶液を基材上に塗布し、色素膜が形成された後に色素の配向の乱れが起こるためと推測される。本発明によれば、減圧処理することにより、色素膜を形成後、急速に色素膜を乾燥することが出来る。この急速な乾燥により、配向の緩和や熱対流等によると考えられる色素膜の配向の乱れを防ぐことができる。これにより、高い配向性を有する色素膜が得ることができ、またこの色素膜は高い二色比を奏するものと推測される。
【００２９】
本発明でいう減圧処理とは、色素膜を減圧条件下におくことを言う。このとき、色素膜を有する基材は高部から底部に流れないよう、水平にしておくことが好ましい。
塗布後、色素膜の減圧処理を始めるまでの時間は、短ければ短いほどよく、好ましくは１秒以上30秒以内である。
減圧処理の方法としては、例えば以下の様な方法が挙げられる。色素溶液を基材上に塗布し得られた色素膜を、減圧処理装置に入れて減圧処理する。例えば図９や図１０のような減圧処理装置を使用することができる。減圧処理装置の詳細については、特開２００４−１６９９７５号公報に記載されている。
【００３０】
減圧処理の条件としては、色素膜の存在する系内の圧力が、好ましくは2×104Pa以下、さらに好ましくは1×104Pa以下、特に好ましくは1×103Pa以下である。また、好ましくは1Pa以上、更に好ましくは1×101Pa以上である。通常、系内が最終的に到達する圧力が前
記の通りであることが好ましい。上限を上回ると乾燥できず配向が乱れる恐れがあり、下限を下回ると乾燥が急速過ぎて欠陥が発生する恐れがある。
また、減圧処理時間は、好ましくは5秒以上180秒以内である。上限を上回ると配向緩和前に急速に色素膜を乾燥できず配向が乱れる恐れがあり、下限を下回ると乾燥できず配向が乱れる恐れがある。
【００３１】
また、減圧処理する際の系内の温度は、好ましくは10℃以上60℃以下である。上限を上回ると乾燥時に対流が起こり塗布膜に不均一性の発生の恐れがあり、下限を下回ると乾燥できず配向が乱れる恐れがある。
また、湿式製膜法で色素膜を塗布するときには、基材を加温してもよいし冷却してもよい。このときの基材の温度は、好ましくは10℃以上60℃以下である。上限を上回ると減圧乾燥を行う前に配向が乱れて乾燥する恐れがあり、下限を下回ると基材表面に水滴が付き塗布の障害になる恐れがある。湿式製膜法により塗布した色素膜を減圧乾燥するときに基材の加温を行ってもよい。このときの基材の温度は、好ましくは60℃以下である。上限を上回ると減圧乾燥を行う前に配向が乱れて乾燥する恐れがある。
【００３２】
(vii)異方性色素膜
本発明の異方性色素膜の膜厚は、通常乾燥後の膜厚で、好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは５０ｎｍ以上で、好ましくは３０μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以下である。異方性色素膜の膜厚が３０μｍを超えると、膜内で色素分子の均一な配向を得ることが難しくなるおそれがあり、１０ｎｍを下回ると均一な膜厚とすることが難しくなるおそれがあるため、好ましくない。
【００３３】
本発明の異方性色素膜は、必要に応じ、保護層を設けて使用する。この保護層は、例えば、トリアセテート、アクリル、ポリエステル、ポリイミド、トリアセチルセルロース又はウレタン系のフィルム等の透明な高分子膜によりラミネーションして形成され、実用に供される。
【００３４】
(viii)素子
また、本発明の異方性色素膜をＬＣＤやＯＬＥＤなどの各種の表示素子に偏光フィルター等として用いる場合には、これらの表示素子を構成する電極基板などに直接、該異方性色素膜を形成したり、該異方性色素膜を形成した基材をこれら表示素子の構成部材として用いればよい。
【００３５】
本発明の異方性色素膜は、光吸収の異方性を利用し直線偏光、円偏光、楕円偏光等を得る偏光膜として機能する他、膜形成プロセスと基材や色素を含有する組成物の選択により、屈折異方性や伝導異方性などの各種異方性膜として機能化が可能となり、様々な種類の、多様な用途に使用可能な偏光素子とすることができる。
【００３６】
本発明の偏光素子は、上述した本発明の異方性色素膜を用いたものであるが、異方性色素膜のみからなる偏光素子であってもよいし、基板上に異方性色素膜を有する偏光素子であってもよい。基板上に異方性色素膜を有する偏光素子は、基板も含めて偏光素子とよぶ。
本発明の異方性色素膜を基板上に形成して偏光素子として使用する場合、形成された異方性色素膜そのものを使用してもよく、また上記の様な保護層のほか、粘着層或いは反射防止層、配向膜、位相差フィルムとしての機能、輝度向上フィルムとしての機能、反射フィルムとしての機能、半透過反射フィルムとしての機能、拡散フィルムとしての機能などの光学機能をもつ層など、様々な機能をもつ層を湿式成膜法などにより積層形成し、積層体として使用してもよい。
これら光学機能を有する層は、例えば以下の様な方法により形成することが出来る。
位相差フィルムとしての機能を有する層は、例えば特許第2841377号公報、特許第3094113号公報などに記載の延伸処理を施したり、特許第3168850号公報などに記載された処理を施したりすることにより形成することができる。
また、輝度向上フィルムとしての機能を有する層は、例えば特開 2002-169025号公報や特開 2003-29030 号公報に記載されるような方法で微細孔を形成すること、或いは、選択反射の中心波長が異なる２層以上のコレステリック液晶層を重畳することにより形成することができる。
反射フィルム又は半透過反射フィルムとしての機能を有する層は、蒸着やスパッタリングなどで得られた金属薄膜を用いて形成することができる。
拡散フィルムとしての機能を有する層は、上記の保護層に微粒子を含む樹脂溶液をコーティングすることにより、形成することができる。
また、位相差フィルムや光学補償フィルムとしての機能を有する層は、ディスコティック液晶性化合物、ネマティック液晶性化合物などの液晶性化合物を塗布して配向させることにより形成することができる。
本発明の色素を用いた異方性色素膜は、ガラスなどの高耐熱性基材上に直接形成することが可能であり、高耐熱性の偏光素子を得ることができるという点から、液晶ディスプレーや有機ＥＬディスプレーだけでなく液晶プロジェクタや車載用表示パネル等、高耐熱性が求められる用途に好適に使用することができる。
【実施例】
【００３７】
次に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
また、二色比（Ｄ）はヨウ素系偏光素子を入射光学系に配した分光光度計（大塚電子社製「瞬間マルチ測光システムＭＣＰＤ２０００」）で異方性色素膜の透過率を測定した後、次式により計算した。
【００３８】
二色比（Ｄ）＝Ａｚ／Ａｙ
Ａｚ＝−ｌｏｇ（Ｔｚ）
Ａｙ＝−ｌｏｇ（Ｔｙ）
Ｔｚ：色素膜の吸収軸方向の偏光に対する透過率
Ｔｙ：色素膜の偏光軸方向の偏光に対する透過率
また、配向の緩和時間はクロスニコル下で観察したときに色素溶液に1000[1/s]のずり
を10秒かけた後の光線透過率がずりをかえる前の光線透過率に戻る時間を表す。
【００３９】
以下において「部」は「重量部」を示す。
（実施例１）
水７９．８部に下記例示色素（Ｉ）１５部とガラクトース５部とノニオン系界面活性剤エマルゲン１０９Ｐ（花王社製）０．２部を撹拌溶解させて色素溶液を得た。
【００４０】
【化２】
2006201759.tif 000003
【００４１】
ガラス製基材（７５ｍｍ×２５ｍｍ、厚さ１ｍｍ）上にシルク印刷法によりポリイミドの配向膜が形成された基板（ポリイミド膜厚  約８００Å）を、予め布でラビング処理を施したものを用意した。これに前記色素溶液をバーコータ（テスター産業社製「Ｎｏ．２」使用）で塗布した後、減圧処理することにより膜厚約０．４μｍの異方性色素膜を得た。
【００４２】
減圧処理条件は、以下の条件で実施した。
・減圧開始から約５秒で約２×１０4 Pa かつ減圧開始から約３０秒で約１×１０2Pa 、
・減圧開始から約５秒で約２×１０4 Pa かつ減圧開始から約２０秒で約１×１０2Pa 、
・減圧開始から約５秒で約２×１０4 Pa かつ減圧開始から約１０秒で約１×１０2Pa 、
・減圧開始から約１０秒で約１×１０2 Pa 、
・減圧開始から約５秒で約５×１０4 Pa かつ減圧開始から約１０秒で約１×１０2Pa
また、減圧処理を始めるまでの時間は約５〜１０秒であった。また、減圧処理装置は次のものを使用した。
【００４３】
減圧処理装置：約150cm3の減圧室を持ち、その減圧室には二つの減圧部と一つの復圧部を有する。二つの減圧部のうち一つには約200l/分の油回転真空ポンプ（例：アルバック
機工GLD-201）をつなぎ、他方には約800l/minのメカニカルブースータポンプ（例：アル
バック機工MBS-050）をつないだ。二つの減圧部及び一つの復圧部には減圧速度及び復圧
速度の調整機構を備えている。減圧室には熱伝導による乾燥ムラを防ぐために基材の接触面積を小さく保持する機構を有する。
【００４４】
尚、塗布条件は２５℃、５０％ＲＨ及び２５℃、１０％ＲＨの何れかで作製した。得られた異方性色素膜の二色比を測定したところ図１のような結果を得た。図１の結果から、二色比は平均１５．２であり、減圧処理を行うことにより異方性色素膜の二色比が向上することが確認された。
【００４５】
（比較例１）
色素溶液を塗布後、減圧処理を行わず、色素膜を自然乾燥させたこと以外は、実施例１と同様にして異方性色素膜を得た。尚、自然乾燥条件は、各膜の塗布条件にあわせ２５℃、５０％ＲＨ及び２５℃、１０％ＲＨの何れかとした。
得られた異方性色素膜の二色比を測定したところ図１のような結果を得た。図１の結果から、二色比は平均６．３であり、減圧処理を行ったものに比較して、二色比が低かった。
【００４６】
（実施例２）
水８４．７部に前記例示色素（Ｉ）１５部とポリエチレングリコール０．１部とノニオン系界面活性剤エマルゲン１０９Ｐ（花王社製）０．２部を撹拌溶解させて色素溶液を得た。
ガラス製基材（７５ｍｍ×２５ｍｍ、厚さ１ｍｍ）上にシルク印刷法によりポリイミドの配向膜が形成された基板（ポリイミド膜厚  約８００Å）を、予め布でラビング処理を施したものを用意しておき、これに前記色素溶液をバーコータ（テスター産業社製「Ｎｏ．２」使用）で塗布した後、減圧処理することにより膜厚約０．４μｍの異方性色素膜を得た。
【００４７】
減圧処理条件は、減圧開始から約５秒で約２×１０4 Pa かつ減圧開始から約３０秒で
約１×１０2 Paとした。塗布条件は、２２℃、３６％ＲＨであった。
図２に、減圧処理により得られた異方性色素膜の表面性状を示す。表面性状は、レーザ顕微鏡（Lasertec、LaserMicroscope 1LM11）により、対物レンズ80倍で観察した。尚、
図中に示される縦２本の白色点線間の長さが１０μｍである。
図２の結果から明らかなように、表面の平滑性が高い異方性色素膜を得ることができた。よって、表面での光散乱防止に効果があると考えられる。
【００４８】
（実施例３）
ガラス製基材として、１５０ｍｍ×７５ｍｍ、厚さ１ｍｍのものを使用し、色素溶液をスロットダイコータで塗布したこと以外は、実施例２と同様にして異方性色素膜を得た。
図３に、異方性色素膜の表面性状を示す。表面性状の観察条件等は、実施例２と同様である。図３の結果から明らかな様に、表面の平滑性が高い異方性色素膜を得ることが出来た。よって、光散乱防止に効果があると考えられる。また、この異方性色素膜の二色比を測定した結果を図４に示す。二色比は１２であった。  
【００４９】
（比較例２）
色素溶液を塗布後、減圧処理を行わず、色素膜を自然乾燥させたこと以外は、実施例２と同様にして異方性色素膜を得た。
尚、自然乾燥条件は、２２℃、３６％ＲＨとした。
図５に、自然乾燥により得られた異方性色素膜の表面性状を示す。表面の平滑性が高い異方性色素膜とは言えなかった。
【００５０】
（比較例３）
ガラス製基材として、１５０ｍｍ×７５ｍｍ、厚さ１ｍｍのものを使用し、色素溶液をスロットダイコータで塗布したこと以外は、比較例２と同様にして異方性色素膜を得た。
図６に、異方性色素膜の表面性状を示す。表面の平滑性が高い異方性色素膜とは言えなかった。    
この異方性色素膜の二色比を測定した結果を図７に示す。二色比は約７であった。減圧処理により得られた異方性色素膜に比べ、二色比が低かった。減圧処理により異方性色素膜の二色比が向上することが確認された。
（実施例４）
実施例１と同様に水７９．８部に下記例示色素（Ｉ）１５部とガラクトース５部とノニオン系界面活性剤エマルゲン１０９Ｐ（花王社製）０．２部を撹拌溶解させて色素溶液を得た。 
ガラス製基材（７５ｍｍ×２５ｍｍ、厚さ１ｍｍ）上にシルク印刷法によりポリイミドの配向膜が形成された基板（ポリイミド膜厚  約８００Å）を、予め布でラビング処理を施したものを用意した。これに前記色素溶液をバーコータ（テスター産業社製「Ｎｏ．２
」使用）で塗布した後、減圧処理することにより膜厚約０．４μｍの異方性色素膜を得た。 
減圧処理条件は、以下の条件で実施した。 
・減圧開始から約５秒で約２×１０4 Pa かつ減圧開始から約１０秒で約１×１０2 Pa 
また、減圧処理を始めるまでの時間は約５秒で、減圧処理装置は実施例１と同様のものを使用した。 
尚、塗布条件は２５℃、５０％ＲＨ及で作製した。得られた異方性色素膜の反射率（Reflection）を測定（測定装置：日立製作所Ｕ３５００形自記分光光度計、測定条件：３８０〜７８０ｎｍ、Ｒ％モード）したところ図８の（１）のような結果を得た。この結果から、減圧処理をした表面の反射率は平均９．５％であり、減圧処理を行うことにより表面の光の散乱が少なくなることがわかった。 
（比較例４）
減圧処理を行わないで自然乾燥を行う以外は実施例４と同様にして、得られた異方性色素膜の反射率を測定したところ図８の（２）のような結果を得た。この結果から、減圧処理をした表面の反射率は平均２．３％であり、減圧処理を行わないと表面の光の散乱が多くなることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】単体透過率と二色比の関係について、減圧処理した場合と自然乾燥した場合で比較したグラフ（実施例１、比較例１）。
【図２】減圧処理をしたときの異方性色素膜の表面性状の図（実施例２）
【図３】減圧処理をしたときの異方性色素膜の表面性状の図（実施例３）
【図４】減圧処理をしたときの異方性色素膜の二色比の図（実施例３）
【図５】自然乾燥をしたときの異方性色素膜の表面性状の図（比較例２）
【図６】自然乾燥をしたときの異方性色素膜の表面性状の図（比較例３）
【図７】自然乾燥をしたときの異方性色素膜の二色比の図（比較例３）
【図８】波長と反射率の関係について、減圧処理と自然乾燥をした場合で比較した図（実施例４、比較例４）
【図９】減圧処理装置の例を示す図
【図１０】減圧処理装置の例を示す図
【符号の説明】
【００５２】
１  上部チャンバー
２ 下部チャンバー
３ ステージ
４ 塗布基板
５ 昇降シャフト
６ 真空シール部材
７ 排気ポート
８ 真空シール部材
９ 気体導入ポート
１ ０ 気流制御板
１ １ 副減圧室
１ ２ 開閉弁
１ ３ 減圧室
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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