(57)【要約】【課題】  Ｘ軸テーブルやＹ軸テーブルの機械的精度誤差を加味して、ヘッドユニットの位置補正を簡単且つ精度良く行うことができるヘッド位置補正方法およびヘッド位置補正装置を提供することを課題としている。【解決手段】  ワークＷに機能液による描画を行う液滴吐出装置１のヘッド位置補正方法であって、Ｙ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマーク２０３を画像認識し、ヘッドユニット６１の設計位置データを補正して基準位置データを取得しておき、新たにヘッドユニット６１が装着されたときに、これを画像認識し、基準位置データを補正して最終位置データを取得するものである。【選択図】  図１１
2006159117.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークをセットするセットテーブルを有し、前記セットテーブルを介して前記ワークをＸ軸方向に主走査させるＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドを搭載したヘッドユニットと、前記ヘッドユニットを着脱自在に支持すると共にこれをＹ軸方向に副走査させるＹ軸テーブルと、を備え、
前記ワークに対して、前記ヘッドユニットを前記主走査および前記副走査させながら前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、前記ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置のヘッド位置補正方法において、
前記ワークに代えて前記セットテーブルに、前記副走査における前記ヘッドユニットの絶対基準位置を指標する複数のアライメントマークを前記Ｙ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスクを、セットするマスクセット工程と、
前記ヘッドユニットに取り付けたワーク撮像手段により、前記副走査の走査範囲に亘って前記複数のアライメントマークを画像認識する第１画像認識工程と、
前記第１画像認識工程における認識結果に基づいて、前記ヘッドユニットの設計位置データを補正して基準位置データを取得する基準位置データ取得工程と、
取得した前記基準位置データに基づいて、前記ヘッドユニットの位置補正を行う第１補正工程と、
新たに前記ヘッドユニットが装着されたときに、ヘッド撮像手段により、前記ヘッドユニットの一対の基準マークを画像認識する第２画像認識工程と、
前記第２画像認識工程における認識結果に基づいて、前記基準位置データを補正して最終位置データを取得する最終位置データ取得工程と、
取得した前記最終位置データに基づいて、新たな前記ヘッドユニットの位置補正を行う第２補正工程と、を備えたことを特徴とするヘッド位置補正方法。
【請求項２】
前記複数のアライメントマークから成るマーク列は、相互にＸ軸方向に離間し且つ平行に列設された第１マーク列と第２マーク列とから成り、
前記ワーク撮像手段は、前記第１マーク列を撮像する第１カメラと、第２マーク列を撮像する第２カメラとから成り、
前記第１画像認識工程では、前記副走査の走査範囲に亘って前記第１カメラおよび前記第２カメラにより、前記第１マーク列および前記第２マーク列それぞれ画像認識することを特徴とする請求項１に記載のヘッド位置補正方法。
【請求項３】
ワークをセットするセットテーブルを有し、前記セットテーブルを介して前記ワークをＸ軸方向に主走査させるＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドを搭載すると共に前記Ｙ軸方向に連続した描画ラインを構成する複数のヘッドユニットと、前記複数のヘッドユニットを着脱自在に支持すると共にこれをＹ軸方向に副走査させるＹ軸テーブルと、を備え、
前記ワークに対して、前記複数のヘッドユニットを前記主走査および前記副走査させながら前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、前記ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置のヘッド位置補正方法において、
前記ワークに代えて前記セットテーブルに、前記副走査における前記ヘッドユニットの絶対基準位置を指標する複数のアライメントマークを前記Ｙ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスクを、セットするマスクセット工程と、
前記Ｙ軸テーブルに、前記複数のヘッドユニットに代えて、ワーク撮像手段を組み込んだ複数のダミーユニットを装着するダミー装着工程と、
前記各ダミーユニットに組み込んだ前記ワーク撮像手段により、前記各ヘッドユニットにおける前記副走査の走査範囲に亘って前記アライメントマークを画像認識する第１画像認識工程と、
前記第１画像認識工程における認識結果に基づいて、前記各ヘッドユニットの設計位置データを補正して基準位置データを取得する基準位置データ取得工程と、
取得した前記基準位置データに基づいて、前記各ダミーユニットの位置補正を行う第１補正工程と、
前記複数のダミーユニットに代えて前記複数のヘッドユニットが装着されたときに、ヘッド撮像手段により、前記各ヘッドユニットの一対の基準マークを画像認識する第２画像認識工程と、
前記第２画像認識工程における認識結果に基づいて、前記基準位置データを補正して最終位置データを取得する最終位置データ取得工程と、
取得した前記最終位置データに基づいて、前記各ヘッドユニットの位置補正を行う第２補正工程と、を備えたことを特徴とするヘッド位置補正方法。
【請求項４】
前記複数のアライメントマークから成るマーク列は、相互にＸ軸方向に離間し且つ平行に列設された第１マーク列と第２マーク列とから成り、
前記各ワーク撮像手段は、前記第１マーク列を撮像する第１カメラと、第２マーク列を撮像する第２カメラとから成り、
前記第１画像認識工程では、前記副走査の走査範囲に亘って前記各第１カメラおよび前記各第２カメラにより、前記第１マーク列および前記第２マーク列それぞれ画像認識することを特徴とする請求項３に記載のヘッド位置補正方法。
【請求項５】
前記各ダミーユニットは、重量および重心位置が前記各ヘッドユニットと略同一に形成されていることを特徴とする請求項３または４に記載のヘッド位置補正方法。
【請求項６】
前記複数のヘッドユニットは、前記Ｙ軸テーブルにより個別に移動可能に構成されていることを特徴とする請求項３ないし５のいずれかに記載のヘッド位置補正方法。  
【請求項７】
ワークをセットするセットテーブルを有し、前記セットテーブルを介して前記ワークをＸ軸方向に主走査させるＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載したヘッドユニットと、前記ヘッドユニットを着脱自在に支持すると共にこれをＹ軸方向に副走査させるＹ軸テーブルと、を備え、
前記ワークに対して、前記ヘッドユニットを前記主走査および前記副走査させながら前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、前記ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置のヘッド位置補正装置であって、
前記ワークに代えて前記セットテーブルに、前記副走査における前記ヘッドユニットの絶対基準位置を指標する複数のアライメントマークを前記Ｙ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスクを、セットし、
且つ前記ヘッドユニットにワーク撮像手段を取り付けたものにおいて、
前記ヘッドユニットに取り付けた前記ワーク撮像手段を制御し、前記副走査の走査範囲に亘って前記アライメントマークを画像認識する第１画像認識手段と、
前記第１画像認識手段による認識結果に基づいて、前記ヘッドユニットの設計位置データを補正して基準位置データを取得する基準位置データ取得手段と、
取得した前記基準位置データに基づいて、前記ヘッドユニットの位置補正を行う第１補正手段と、
新たに前記ヘッドユニットが装着されたときに、前記ヘッドユニットの一対の基準マークを画像認識する第２画像認識手段と、
前記第２画像認識手段による認識結果に基づいて、前記基準位置データを補正して最終位置データを取得する最終位置データ取得手段と、
取得した前記最終位置データに基づいて、新たな前記ヘッドユニットの位置補正を行う第２補正手段と、を備えたことを特徴とするヘッド位置補正装置。
【請求項８】
前記複数のアライメントマークから成るマーク列は、相互にＸ軸方向に離間し且つ平行に列設された第１マーク列と第２マーク列とから成り、
前記ワーク撮像手段は、前記第１マーク列を撮像する第１カメラと、第２マーク列を撮像する第２カメラとから成り、
前記第１画像認識手段は、前記副走査の走査範囲に亘って前記第１カメラおよび前記第２カメラにより、前記第１マーク列および前記第２マーク列をそれぞれ画像認識させることを特徴とする請求項７に記載のヘッド位置補正装置。
【請求項９】
ワークをセットするセットテーブルを有し、前記セットテーブルを介して前記ワークをＸ軸方向に主走査させるＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドを搭載すると共に前記Ｙ軸方向に連続した描画ラインを構成する複数のヘッドユニットと、前記複数のヘッドユニットを着脱自在に支持すると共にこれをＹ軸方向に副走査させるＹ軸テーブルと、を備え、
前記ワークに対して、前記複数のヘッドユニットを前記主走査および前記副走査させながら前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、前記ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置のヘッド位置補正装置であって、
前記ワークに代えて前記セットテーブルに、前記副走査における前記ヘッドユニットの絶対基準位置を指標する複数のアライメントマークを前記Ｙ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスクを、セットし、
且つ前記Ｙ軸テーブルに、前記複数のヘッドユニットに代えて、ワーク撮像手段を組み込んだ複数のダミーユニットを装着したものにおいて、
前記各ダミーユニットに組み込んだ前記ワーク撮像手段を制御し、前記各ヘッドユニットにおける前記副走査の走査範囲に亘って前記アライメントマークを画像認識する第１画像認識手段と、
前記第１画像認識手段により認識結果に基づいて、前記各ヘッドユニットの設計位置データを補正して基準位置データを取得する基準位置データ取得手段と、
取得した前記基準位置データに基づいて、前記各ダミーユニットの位置補正を行う第１補正手段と、
前記複数のダミーユニットに代えて前記複数のヘッドユニットが装着されたときに、前記各ヘッドユニットの一対の基準マークを画像認識する第２画像認識手段と、
前記第２画像認識手段による認識結果に基づいて、前記基準位置データを補正して最終位置データを取得する最終位置データ取得手段と、
取得した前記最終位置データに基づいて、前記各ヘッドユニットの位置補正を行う第２補正手段と、を備えたことを特徴とするヘッド位置補正装置。
【請求項１０】
前記複数のアライメントマークから成るマーク列は、相互にＸ軸方向に離間し且つ平行に列設された第１マーク列と第２マーク列とから成り、
前記各ワーク撮像手段は、前記第１マーク列を撮像する第１カメラと、第２マーク列を撮像する第２カメラとから成り、
前記第１画像認識手段は、前記副走査の走査範囲に亘って前記各第１カメラおよび前記各第２カメラにより、前記第１マーク列および前記第２マーク列をそれぞれ画像認識させることを特徴とする請求項９に記載のヘッド位置補正装置。
【請求項１１】
前記各ダミーユニットは、重量および重心位置が前記各ヘッドユニットと略同一に形成されていることを特徴とする請求項９または１０に記載のヘッド位置補正装置。
【請求項１２】
前記複数のヘッドユニットは、前記Ｙ軸テーブルにより個別に移動可能に構成されていることを特徴とする請求項９ないし１１のいずれかに記載のヘッド位置補正装置。  
【請求項１３】
請求項７ないし１２のいずれかに記載のヘッド位置補正装置を、備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１６】
請求項１４に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１５に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能液滴吐出ヘッドを搭載したヘッドユニットを移動させながら、ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置のヘッドユニットの位置を補正するヘッド位置補正方法およびヘッド位置補正装置、並びに液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、複数の機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載したヘッドユニットをＹ軸テーブルに支持し、ワークを、セットテーブルを介してＸ軸テーブルに支持して、Ｘ軸テーブルおよびＹ軸テーブルにより、ヘッドユニットに対しワークをＸ軸方向（主走査方向）およびＹ軸方向（副走査方向）に相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを選択的に吐出駆動することにより、ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置（描画装置）が知られている。
【０００３】
このような液滴吐出装置では、ヘッドユニットのサブキャリッジに相互に離間して一対の基準ピンが設けられており、ヘッドユニットの交換時等において、この一対の基準ピンを、セットテーブルをＸ軸方向に移動させながら、これに搭載したヘッド認識カメラで撮像・画像認識するようにしている。そして、その認識結果に基づいて、ヘッドユニットの設計位置データを補正し、この補正データに基づいてヘッドユニットの位置補正を行うようにしている。
【特許文献１】特開２００３−１２７３４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、この種の液滴吐出装置を大型のカラーフィルタを製造する製造装置等に適用する場合、これに合わせてワークが大型化すると共に、Ｘ軸テーブルおよびＹ軸テーブルも移動ストロークの長いものを用いる必要がある。このため、Ｘ軸テーブルおよびＹ軸テーブルを機械的に精度良く形成することが難しくなる。
このような液滴吐出装置において、上記従来のヘッド位置補正方法では、Ｘ軸テーブルおよびＹ軸テーブルの歪み対し、対応させることができない問題があった。特に、ヘッドユニットを支持しているＹ軸テーブルがＸ軸方向に歪んでいると、副走査においてヘッドユニットが水平面内で角度変化（θ回転）し、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に位置ずれする問題がある。もちろん、副走査の範囲において、ヘッドユニットの位置を測定しデータ補正を行うようにすれば、上記問題は解消する。しかし、液滴吐出装置のような工業応用の装置では、ヘッドユニットを定期的に交換する必要があり、かかる場合に、交換時に毎回、ヘッドユニットの位置測定を行うことになり、作業が煩雑になる問題がある。
【０００５】
そこで、本発明は、ヘッドユニットの交換時において、Ｘ軸テーブルやＹ軸テーブルの機械的精度誤差を加味して、ヘッドユニットの位置補正を簡単且つ精度良く行うことができるヘッド位置補正方法およびヘッド位置補正装置、並びに液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のヘッド位置補正方法は、ワークをセットするセットテーブルを有し、セットテーブルを介してワークをＸ軸方向に主走査させるＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドを搭載したヘッドユニットと、ヘッドユニットを着脱自在に支持すると共にこれをＹ軸方向に副走査させるＹ軸テーブルと、を備え、ワークに対して、ヘッドユニットを主走査および副走査させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置のヘッド位置補正方法において、ワークに代えてセットテーブルに、副走査におけるヘッドユニットの絶対基準位置を指標する複数のアライメントマークをＹ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスクを、セットするマスクセット工程と、ヘッドユニットに取り付けたワーク撮像手段により、副走査の走査範囲に亘って複数のアライメントマークを画像認識する第１画像認識工程と、第１画像認識工程における認識結果に基づいて、ヘッドユニットの設計位置データを補正して基準位置データを取得する基準位置データ取得工程と、取得した基準位置データに基づいて、ヘッドユニットの位置補正を行う第１補正工程と、新たにヘッドユニットが装着されたときに、ヘッド撮像手段により、ヘッドユニットの一対の基準マークを画像認識する第２画像認識工程と、第２画像認識工程における認識結果に基づいて、基準位置データを補正して最終位置データを取得する最終位置データ取得工程と、取得した最終位置データに基づいて、新たな前記ヘッドユニットの位置補正を行う第２補正工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
本発明のヘッド位置補正装置は、ワークをセットするセットテーブルを有し、セットテーブルを介して前記ワークをＸ軸方向に主走査させるＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載したヘッドユニットと、ヘッドユニットを着脱自在に支持すると共にこれをＹ軸方向に副走査させるＹ軸テーブルと、を備え、ワークに対して、ヘッドユニットを主走査および副走査させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置のヘッド位置補正装置であって、ワークに代えてセットテーブルに、副走査におけるヘッドユニットの絶対基準位置を指標する複数のアライメントマークをＹ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスクを、セットし、且つヘッドユニットにワーク撮像手段を取り付けたものにおいて、ヘッドユニットに取り付けたワーク撮像手段を制御し、副走査の走査範囲に亘ってアライメントマークを画像認識する第１画像認識手段と、第１画像認識手段による認識結果に基づいて、ヘッドユニットの設計位置データを補正して基準位置データを取得する基準位置データ取得手段と、取得した基準位置データに基づいて、ヘッドユニットの位置補正を行う第１補正手段と、新たにヘッドユニットが装着されたときに、ヘッドユニットの一対の基準マークを画像認識する第２画像認識手段と、第２画像認識手段による認識結果に基づいて、基準位置データを補正して最終位置データを取得する最終位置データ取得手段と、取得した最終位置データに基づいて、新たなヘッドユニットの位置補正を行う第２補正手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、複数のアライメントマークをＹ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスクにより、副走査の走査範囲に亘ってヘッドユニットの位置補正を行うため、Ｙ軸テーブルにおけるＸ軸方向の歪みやＹ軸方向への送り誤差に基づく、ヘッドユニットのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置ずれを補正することができる。一方、この状態で、ヘッドユニットを交換した場合に、新たなヘッドユニットの一対の基準マークに基づいて、位置補正を行うようにしているため、新たに搭載したヘッドユニットの位置補正を簡単に、且つＹ軸テーブルの歪みや送り誤差を加味したものとすることができる。したがって、頻繁にヘッドユニットを交換しても、位置補正を含む交換作業を円滑且つ短時間で行うことができる。なお、複数のアライメントマークの配設ピッチは、描画対象となるワークに対する描画精度を考慮して定めることが好ましい。
【０００９】
また、上記方法において、複数のアライメントマークから成るマーク列は、相互にＸ軸方向に離間し且つ平行に列設された第１マーク列と第２マーク列とから成り、ワーク撮像手段は、第１マーク列を撮像する第１カメラと、第２マーク列を撮像する第２カメラとから成り、第１画像認識工程では、副走査の走査範囲に亘って第１カメラおよび第２カメラにより、第１マーク列および第２マーク列それぞれ画像認識することが、好ましい。
【００１０】
同様に、上記装置において、複数のアライメントマークから成るマーク列は、相互にＸ軸方向に離間し且つ平行に列設された第１マーク列と第２マーク列とから成り、ワーク撮像手段は、第１マーク列を撮像する第１カメラと、第２マーク列を撮像する第２カメラとから成り、第１画像認識手段は、副走査の走査範囲に亘って第１カメラおよび第２カメラにより、第１マーク列および第２マーク列をそれぞれ画像認識させることが、好ましい。
【００１１】
この構成によれば、複数のアライメントマークから成るマーク列を、相互にＸ軸方向に離間し且つ平行に列設された第１マーク列および第２マーク列とし、これを撮像することで、アライメントマークの配設ピッチ単位で、ヘッドユニットの水平面内における角度補正（θ補正）を精度良く行うことができる。この補正により、Ｙ軸テーブルが歪んでいても、副走査におけるヘッドユニットを精度良く位置決めすることができる。なお、マーク列が一列であっても、アライメントマークの配設ピッチが粗ければ、角度ずれを一定の精度で検出することができるが、かかる場合には、Ｙ軸方向の位置ずれ検出が粗くなることは、言うまでもない。また、第１マーク列と第２マーク列との離間寸法は、最終的なヘッドユニットの位置精度を考慮すると、ヘッドユニットの一対の基準マークの離間寸法と同一かそれ以上とすることが、好ましい。
【００１２】
本発明の他のヘッド位置補正方法は、ワークをセットするセットテーブルを有し、セットテーブルを介してワークをＸ軸方向に主走査させるＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドを搭載すると共にＹ軸方向に連続した描画ラインを構成する複数のヘッドユニットと、複数のヘッドユニットを着脱自在に支持すると共にこれをＹ軸方向に副走査させるＹ軸テーブルと、を備え、ワークに対して、複数のヘッドユニットを主走査および副走査させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置のヘッド位置補正方法において、ワークに代えてセットテーブルに、副走査におけるヘッドユニットの絶対基準位置を指標する複数のアライメントマークをＹ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスクを、セットするマスクセット工程と、Ｙ軸テーブルに、複数のヘッドユニットに代えて、ワーク撮像手段を組み込んだ複数のダミーユニットを装着するダミー装着工程と、各ダミーユニットに組み込んだワーク撮像手段により、各ヘッドユニットにおける副走査の走査範囲に亘ってアライメントマークを画像認識する第１画像認識工程と、第１画像認識工程における認識結果に基づいて、各ヘッドユニットの設計位置データを補正して基準位置データを取得する基準位置データ取得工程と、取得した基準位置データに基づいて、各ダミーユニットの位置補正を行う第１補正工程と、複数のダミーユニットに代えて複数のヘッドユニットが装着されたときに、ヘッド撮像手段により、各ヘッドユニットの一対の基準マークを画像認識する第２画像認識工程と、第２画像認識工程における認識結果に基づいて、基準位置データを補正して最終位置データを取得する最終位置データ取得工程と、取得した最終位置データに基づいて、各ヘッドユニットの位置補正を行う第２補正工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１３】
本発明の他のヘッド位置補正装置は、ワークをセットするセットテーブルを有し、セットテーブルを介してワークをＸ軸方向に主走査させるＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドを搭載すると共にＹ軸方向に連続した描画ラインを構成する複数のヘッドユニットと、複数のヘッドユニットを着脱自在に支持すると共にこれをＹ軸方向に副走査させるＹ軸テーブルと、を備え、ワークに対して、複数のヘッドユニットを主走査および副走査させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、ワークに機能液による描画を行う液滴吐出装置のヘッド位置補正装置であって、ワークに代えてセットテーブルに、副走査におけるヘッドユニットの絶対基準位置を指標する複数のアライメントマークをＹ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスクを、セットし、且つＹ軸テーブルに、複数のヘッドユニットに代えて、ワーク撮像手段を組み込んだ複数のダミーユニットを装着したものにおいて、各ダミーユニットに組み込んだワーク撮像手段を制御し、各ヘッドユニットにおける副走査の走査範囲に亘ってアライメントマークを画像認識する第１画像認識手段と、第１画像認識手段により認識結果に基づいて、各ヘッドユニットの設計位置データを補正して基準位置データを取得する基準位置データ取得手段と、取得した基準位置データに基づいて、各ダミーユニットの位置補正を行う第１補正手段と、複数のダミーユニットに代えて複数のヘッドユニットが装着されたときに、各ヘッドユニットの一対の基準マークを画像認識する第２画像認識手段と、第２画像認識手段による認識結果に基づいて、基準位置データを補正して最終位置データを取得する最終位置データ取得手段と、取得した最終位置データに基づいて、各ヘッドユニットの位置補正を行う第２補正手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１４】
この構成によれば、複数のアライメントマークをＹ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスクにより、副走査の走査範囲に亘ってダミーユニットの位置補正を行うため、結果的にＹ軸テーブルにおけるＸ軸方向の歪みやＹ軸方向への送り誤差に基づく、各ヘッドユニットのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置ずれを補正することができる。これにより、描画ラインを精度良く維持することができる。一方、この状態で、ダミーユニットをヘッドユニットを交換した場合に、ヘッドユニットの一対の基準マークに基づいて、位置補正を行うようにしているため、搭載したヘッドユニットの位置補正を簡単に、且つＹ軸テーブルの歪みや送り誤差を加味したものとすることができる。したがって、頻繁にヘッドユニットを交換しても、位置補正を含む交換作業を円滑且つ短時間で行うことができる。また、アライメントマークを画像認識において、ヘッドユニットに代えて、ワーク撮像手段を組み込んだダミーユニットを用いることにより、スペース的に、ヘッドユニットにワーク撮像手段を取り付け得ない場合に、特に有用となる。なお、複数のアライメントマークを配設ピッチは、描画対象となるワークに対する描画精度を考慮して定めることが好ましい。
【００１５】
また、上記方法において、複数のアライメントマークから成るマーク列は、相互にＸ軸方向に離間し且つ平行に列設された第１マーク列と第２マーク列とから成り、各ワーク撮像手段は、第１マーク列を撮像する第１カメラと、第２マーク列を撮像する第２カメラとから成り、第１画像認識工程では、副走査の走査範囲に亘って各第１カメラおよび各第２カメラにより、第１マーク列および第２マーク列それぞれ画像認識することが、好ましい。
【００１６】
同様に、上記装置において、複数のアライメントマークから成るマーク列は、相互にＸ軸方向に離間し且つ平行に列設された第１マーク列と第２マーク列とから成り、各ワーク撮像手段は、第１マーク列を撮像する第１カメラと、第２マーク列を撮像する第２カメラとから成り、第１画像認識手段は、副走査の走査範囲に亘って各第１カメラおよび各第２カメラにより、第１マーク列および第２マーク列をそれぞれ画像認識させることが、好ましい。
【００１７】
この構成によれば、複数のアライメントマークから成るマーク列を、相互にＸ軸方向に離間し且つ平行に列設された第１マーク列および第２マーク列とし、これを撮像することで、アライメントマークの配設ピッチ単位で、ヘッドユニットの水平面内における角度補正（θ補正）を精度良く行うことができる。この補正により、Ｙ軸テーブルが歪んでいても、副走査におけるヘッドユニットを精度良く位置決めすることができる。なお、マーク列が一列であっても、アライメントマークの配設ピッチが粗ければ、角度ずれを一定の精度で検出することができるが、かかる場合には、Ｙ軸方向の位置ずれ検出が粗くなることは、言うまでもない。また、第１マーク列と第２マーク列との離間寸法は、最終的なヘッドユニットの位置精度を考慮すると、ヘッドユニットの一対の基準マークの離間寸法と同一かそれ以上とすることが、好ましい。
【００１８】
また、上記方法において、各ダミーユニットは、重量および重心位置が各ヘッドユニットと略同一に形成されていることが、好ましい。
【００１９】
同様に、上記装置において、各ダミーユニットは、重量および重心位置が各ヘッドユニットと略同一に形成されていることが、好ましい。
【００２０】
この構成によれば、ヘッドユニットと重量および重量バランスが略同一のダミーユニットを用いることにより、ヘッドユニットの重み等に基づくＹ軸テーブルの捩れ等も、位置補正の結果に取り込むことができる。したがって、各ヘッドユニットを精度良く位置あわせすることができる。
【００２１】
また、上記方法において、複数のヘッドユニットは、Ｙ軸テーブルにより個別に移動可能に構成されていることが、好ましい。
【００２２】
同様に、上記装置において、複数のヘッドユニットは、Ｙ軸テーブルにより個別に移動可能に構成されていることが、好ましい。  
【００２３】
この構成によれば、ヘッドユニットの交換やメンテナンス等を効率よく行うことができると共に、ワークの大きさに応じて複数のヘッドユニットを使い分けることができる。
【００２４】
本発明の液滴吐出装置は、上記したヘッド位置補正装置を、備えたことを特徴とする。
【００２５】
この構成によれば、副走査を考慮したヘッドユニットの位置精度を高めることができるため、描画精度の高い液滴吐出装置を提供することができる。
【００２６】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２７】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２８】
これらの構成によれば、高精度の描画を行うことができる液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。
【００２９】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００３０】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、液晶表示装置等のＦＰＤの製造ラインに組み込まれた描画システムに設置されており、特殊なインクや発光性の樹脂液等の機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入して、カラーフィルタ等の基板上にＲ・Ｇ・Ｂ３色の機能液滴による成膜部を形成するものである。そこで、まず、液滴吐出装置による機能液滴の吐出対象（描画対象）となる基板（ワーク）について簡単に説明する。なお、以下に挙げる基板のサイズ等の値は概数である。
【００３２】
図１に示すように、基板Ｗは、石英ガラスやポリイミド樹脂等で構成された透明基板である。基板Ｗには、複数の画素領域５０７ａが行方向（基板の長辺方向）および列方向（基板の短辺方向）に配列されている。また、基板Ｗの周縁部の前後２箇所には、導入された液滴吐出装置により位置認識される一対の基板アライメントマークＷｍ、Ｗｍがそれぞれ形成されており、その長辺（行方向）がＹ軸方向と平行になるようにして（横置きで）、セットされる。なお、基板Ｗには、大小様々なサイズのものが用意されているが、本実施形態では、液滴吐出装置に搭載可能な最大規格（１５００ｍｍ×１８００ｍｍ）の基板Ｗを用いるものとする。
【００３３】
各画素領域５０７ａは、区画壁部５０７ｂ（バンク５０３、図１４参照）で囲まれた平面視長方形の凹部となっており、後述する機能液滴吐出ヘッド６２によりＲ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）３色の成膜部（着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂ）を形成する際に、機能液滴の着弾領域となる（図１４参照）。基板の行方向における各画素領域の寸法Ｄａは、例えば３００μｍ、基板の列方向における各画素領域の寸法Ｄｂは、例えば１００μｍである。また、基板の行方向における区画壁部５０７ｂの寸法Ｌａは、例えば１００μｍ、基板の列方向における区画壁部５０７ｂの寸法Ｌｂは、例えば３０μｍである。そして、着弾させた機能液滴の溶媒が揮発した後、所定の膜厚の着色層５０８が形成されるように、所定量の機能液滴を着弾させる。
【００３４】
また、後述するように、区画壁部５０７ｂは疎水（疎液）性の樹脂材料で構成されているため、区画壁部５０７ｂに機能液滴が着弾しても、その機能液滴は隣接する画素領域５０７ａ内へ流れ込むようになっている。一方、基板Ｗの表面は、表面処理により親水（親液）性となっており、着弾した機能液滴は、画素領域５０７ａ内に濡れ拡がるようになっている。
【００３５】
なお、本実施形態における多数の画素領域５０７ａの配色パターンは、基板Ｗの行方向においてすべて同色となるストライプ配列であるが、基板Ｗの列方向においてすべて同色となるストライプ配列であってもよい。さらに、マトリクスの縦列・横列に並んだ任意の３つの画素が、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色となるモザイク配列であってもよく、複数の画素領域５０７ａが千鳥をなすデルタ配列であってもよい。そして、機能液滴が着弾した３個の画素領域、すなわち、Ｒの機能液滴が着弾した画素領域と、Ｇの機能液滴が着弾した画素領域と、Ｂの機能液滴が着弾した画素領域とにより、いわゆる画素が構成される。
【００３６】
続いて、本発明に係る液滴吐出装置について説明する。図２ないし図４に示すように、液滴吐出装置１は、機能液滴吐出ヘッド６２を搭載した描画装置１１と、描画装置１１に添設され、定期フラッシングボックス１１４等を有するメンテナンス手段１２とを備え、メンテナンス手段１２により機能液滴吐出ヘッド６２の機能維持・回復を行うと共に、描画装置１１により基板Ｗ上に機能液を吐出する描画処理を行うようにしている。さらに、この液滴吐出装置１には、描画システム全体を統括制御する上位コンピュータ２に接続され液滴吐出装置１の各部を制御するコントローラ１３（制御部１２２、図８参照）等が組み込まれている。
【００３７】
また、図示しないが、液滴吐出装置１には、ロボットアームで構成されたワーク搬出入装置が添設されており、このワーク搬出入装置を介して、液滴吐出装置１に基板Ｗが導入される。
【００３８】
まず、液滴吐出装置１における描画装置１１について説明する。描画装置１１は、それぞれ複数（１２個）の機能液滴吐出ヘッド６２を搭載したヘッドユニット６１およびメインキャリッジ６３から成る複数（７個）のキャリッジユニット２１と、床上に設置され、基板Ｗを載置する吸着テーブル４１を有し、基板ＷをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブル２２と、Ｘ軸テーブル２２を跨ぐようにして配設され、７個のキャリッジユニット２１を個々にＹ軸方向に移動させるＹ軸テーブル２３と、基板Ｗやキャリッジユニット２１等を画像認識する各種カメラを有する画像認識手段２６とを備えている。また、各機能液滴吐出ヘッド６２は、圧力調整弁２５（図５参照）を介して、機能液を貯留する機能液タンク（図示省略）に接続されており、水頭圧が調整された機能液が供給されるようになっている。
【００３９】
そして、Ｘ軸テーブル２２による基板Ｗの移動軌跡と、Ｙ軸テーブル２３によるキャリッジユニット２１の移動軌跡とが交わる領域が、描画処理を行う描画エリア３１となっており、また、Ｙ軸テーブル２３によるキャリッジユニット２１の移動軌跡上のＸ軸テーブル２２から外側に外れた領域が、メンテナンスエリア３２となっており、上記のメンテナンス手段の各ユニットが設置されている。なお、メンテナンスエリア３２は、ヘッドユニット６１の着脱（付替え）のための作業領域を兼ねている。
【００４０】
一方、Ｘ軸テーブル２２の手前側の領域は、上記のワーク搬出入装置により、液滴吐出装置１に対する基板Ｗの搬出入を行うワーク搬出入エリア３４となっている。
【００４１】
Ｘ軸テーブル２２は、導入された基板Ｗを吸着（エアー吸引）セットする吸着テーブル４１（セットテーブル）と、吸着テーブル４１の下部に接続され、吸着テーブル４１を介して基板Ｗのθ位置を微調整（θ補正）するワークθ軸テーブル４２と、ワークθ軸テーブル４２を支持するテーブル支持部４３と、テーブル支持部４３をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ４４と、Ｘ軸方向に延在し、吸着テーブル４１を介して基板ＷをＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｘ軸リニアモータに並設され、Ｘ軸エアースライダ４４の移動を案内する一対のＸ軸ガイドレール４５，４５と、吸着テーブル４１の位置を把握するためのＸ軸リニアスケール（図示省略）とを備えている。そして、一対のＸ軸リニアモータを駆動すると、一対のＸ軸ガイドレール４５，４５をガイドにしながら、Ｘ軸エアースライダ４４をＸ軸方向に移動し、吸着テーブル４１にセットされた基板ＷがＸ軸方向に移動する。
【００４２】
また、このＸ軸テーブル２２は、大型の基板Ｗに対応して、Ｘ軸方向の寸法が長く（約４．０ｍ）なっている。なお、本実施形態では、基板Ｗ（吸着テーブル４１）がワーク搬出入エリア３４側から描画エリア３１側（図３の下側から上側）に移動するときを往動とし、描画エリア３１側からワーク搬出入エリア３４側（同図の上側から下側）に移動するときを復動とする。
【００４３】
吸着テーブル４１は、平面視略正方形に形成され、その一辺の長さは、最大規格の基板Ｗの長辺の長さに合わせて１８００ｍｍに設定されており、基板Ｗを縦置き（基板Ｗの長辺をＸ軸方向と平行にする）および横置き（基板Ｗの長辺をＹ軸方向と平行にする）のいずれか任意の向きで、且つセンター中心でセット可能になっている。もっとも、本実施形態では、上記のように基板Ｗを横置きでセットするものとする。
【００４４】
また、吸着テーブル４２には、図示しないが、Ｘ軸方向に一対のＸ軸幅寄せ機構が、Ｙ軸方向に一対のＹ軸幅寄せ機構が設けられており、セットしたワークＷを位置決め（プリアライメント）できるようになっている。そして、プリアライメントされたワークＷは、さらに上記のワーク認識カメラ１０１により画像認識され、基板θ軸テーブル４２による角度補正（θ補正）と、Ｘ軸方向およびＹ軸方向の位置データの補正とを行うことにより、最終的にアライメントされる。
【００４５】
なお、テーブル支持部４３上には、吸着テーブル４１に対し基板Ｗの往動側（図４の左側）に隣接して、ドット抜け検査台１１６が配設されている。このドット抜け検査台１１６には、上面に巻取り自在な検査紙が張設されており、この検査紙に対して全機能液滴吐出ヘッド６２から検査用に機能液滴を吐出させ、その描画結果を後述するドット認識カメラ１０２で画像認識することで、ドット抜け、飛行曲がり等の不良吐出の有無が検査（ドット抜け検査）される。さらに、テーブル支持部４３上には、ドット抜け検査台１１６に対し基板Ｗの往動側に隣接して、後述する定期フラッシングボックス１１４が設けられている。
【００４６】
一方、Ｙ軸テーブル２３は、描画エリア３１およびメンテナンスエリア３２間を架け渡すと共に、描画エリア３１と、メンテナンス手段１２の各ユニットの直上部との相互間で、個々に移動させるものであって、Ｙ軸方向に延在する前後一対の支持スタンド５６，５６上に支持されている。この各支持スタンド５６は、４本の支柱５７と、４本の支柱５７間を架渡した柱状支持部材（図示省略）と、を有している。
【００４７】
Ｙ軸テーブル２３は、７個のキャリッジユニット２１をそれぞれ垂設する７個のブリッジプレート５１がＹ軸方向に整列するよう、これを両持ちで支持する７組のＹ軸スライドテーブル（図示省略）と、Ｙ軸方向に延在し、各組のＹ軸スライドテーブルを介して各ブリッジプレート５１をＹ軸方向に移動させる前後一対のＹ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｙ軸方向に延在し、７個のブリッジプレート５１の移動を案内する前後各２本（計４本）のＹ軸ガイドレール（図示省略）と、各キャリッジユニット２１の移動位置を検出するＹ軸リニアスケール（図示省略）とを備えている。
【００４８】
そして、一対のＹ軸リニアモータを駆動すると、７組のＹ軸スライドテーブルをそれぞれ独立して移動させ、７個のキャリッジユニット２１を個別にＹ軸方向へ移動させることができる。これにより、ヘッドユニット６１の交換やメンテナンス等を効率良く行うことができると共に、基板Ｗの大きさに応じて複数のヘッドユニット６１を使い分けることができる。もちろん、７組のＹ軸スライドテーブルを同時にＹ軸方向に移動させることにより、７個のキャリッジユニット２１を一体としてＹ軸方向に移動させることも可能である。
【００４９】
また、このＹ軸テーブル２３は、大型の基板Ｗに対応して、移動ストロークが長くなっている。すなわち、後述するように、基板ＷのＹ軸方向の寸法（１８００ｍｍ）に対応して、７個のキャリッジユニット２１が搭載される共に、７個のキャリッジユニット２１に対応して、メンテナンス手段１２の各ユニットが設けられているため、その移動ストロークは、約５．５ｍである。
【００５０】
７個のキャリッジユニット２１は、Ｙ軸テーブル２３の７個のブリッジプレート５１によりそれぞれ垂設されてＹ軸方向に並んでおり、各キャリッジユニット２１は、サブキャリッジ６４（キャリッジ）を介して１２個の機能液滴吐出ヘッド６２を搭載したヘッドユニット６１と、ヘッドユニット６１を着脱自在に支持（吊設）するメインキャリッジ６３とから構成されている。すなわち、ヘッドユニット６１は、メインキャリッジ６３を介して、Ｙ軸テーブル２３に着脱自在に支持されている。なお、詳細は後述するが、各メインキャリッジ６３は、ヘッドユニット６１に代えて、ダミー認識カメラ１０４（ワーク撮像手段）を組み込んだダミーユニット１６１を装着可能に構成されている（図１０参照）。
【００５１】
図５に示すように、ヘッドユニット６１は、サブキャリッジ６４と、サブキャリッジ６４に搭載した複数（１２個）の機能液滴吐出ヘッド６２と、各機能液滴吐出ヘッド６２をサブキャリッジ６４に個々に精度良く取り付けるためのヘッド保持部材９１とを備えている。また、サブキャリッジ６４には、１２個の機能液滴吐出ヘッド６２にそれぞれ併設するようにして、１２個の圧力調整弁２５が搭載されている。
【００５２】
各サブキャリッジ６４は、１２個の機能液滴吐出ヘッド６２および１２個の圧力調整弁２５をそれぞれ位置決め固定する平面視略平行四辺形のヘッドプレート６５と、画像認識を前提として、各キャリッジユニット２１（ヘッドユニット６１）をＸ軸、Ｙ軸およびθ軸方向に位置決め（位置認識）するための基準となる一対の基準ピン６９，６９とを有している（詳細は後述する）。なお、ヘッドプレート６５に対する１２個の機能液滴吐出ヘッド６２を位置決めは、別装置で行われ、メインキャリッジ６３に装着した状態では、上記の一対の基準ピン６９，６９と各機能液滴吐出ヘッド６２の位置精度は確立されている。
【００５３】
各メインキャリッジ６３は、サブキャリッジ６４（ヘッドプレート６５）を支持するキャリッジ本体６６と、キャリッジ本体６６を吊設すると共に、キャリッジ本体６６の上部に連結され、キャリッジ本体６６を介して、ヘッドユニット６１のθ位置をモータ駆動で微調整（θ軸補正）可能なヘッドθ軸テーブル６７（第１補正手段、第２補正手段）と、ヘッドθ軸テーブル６７の上部に連結され、ヘッドθ軸テーブル６７およびキャリッジ本体６６を介して、ヘッドユニット６１のＺ位置をモータ駆動で微調整（Ｚ軸補正）可能なヘッドＺ軸テーブル６８とを有している。
【００５４】
図６に示すように、機能液滴吐出ヘッド６２は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針７２を有する機能液導入部７１と、機能液導入部７１に連なる２連のヘッド基板７３と、機能液導入部７１の下方（同図では上方）に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体７４とを備えている。接続針７２は、圧力調整弁２５を介して機能液タンクに接続され、機能液滴吐出ヘッド６２のヘッド内流路に機能液を供給する。また、ヘッド本体７４は、ピエゾ素子等で構成されたキャビティ８１と、２本のノズル列８４，８４を相互に平行に形成したノズル面８３を有するノズルプレート８２とを有している。また、ヘッド基板７３には、２連のコネクタ７５，７５が設けられており、各コネクタ７５は、フレキシブルフラットケーブルを介してヘッドドライバ１３１（図８参照）に接続されている。なお、図中の符号８６は、上述した別装置により機能液滴吐出ヘッド６２をヘッドプレート６５に位置決めするときの一対のマークである。
【００５５】
各ノズル列８４の長さは、例えば１インチ（略２５．４ｍｍ）であって、各ノズル列８４は１８０個のノズル８５が等ピッチ（略１４０μｍ）で並べられて構成されている。なお、一方のノズル列８４は、他方のノズル列８４に対して、ノズル列方向に半ピッチ（７０μｍ）分ずれており、ドット密度（解像度）は３６０ｄｐｉである。
【００５６】
図５および図７に示すように、各機能液滴吐出ヘッド６２は、サブキャリッジ６４に搭載された状態では、２本のノズル列８４，８４がＹ軸方向と平行になるようにヘッドプレート６５に固定されている。そして、各サブキャリッジ６４の１２個の機能液滴吐出ヘッド６２は、その幅方向（Ｘ軸方向）に密に重ね合わせると共に、全吐出ノズル８５（１６０×１２個）がＹ軸方向に連続するようにして、階段状に配設されている。そして、図７の左側から１個単位で順に、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色の機能液をそれぞれ導入したＲ系機能液滴吐出ヘッド６２Ｒ、Ｇ系機能液滴吐出ヘッド６２Ｇ、Ｂ系機能液滴吐出ヘッド６２Ｂとなっている。
【００５７】
すなわち、各ヘッドユニット６１の１２個の機能液滴吐出ヘッド６２は、各色の４個の機能液滴吐出ヘッド６２の複数のノズル８５により各色の部分描画ラインを４本構成し、３色の部分描画ラインがＹ軸方向に４回繰り返し連なって、１の分割描画ラインを構成するように配置されている。さらに、７個の分割描画ラインがＹ軸方向に連続して、１の描画ラインが構成される。この部分描画ラインの長さは、２２．６ｍｍ（２５．４ｍｍ／１８０×１６０）であって、描画ラインの長さは、１８９７ｍｍ（２５．４ｍｍ／１８０×１６０×１２×７）である。すなわち、７個のヘッドユニット６１が、基板ＷのＹ軸方向の描画幅（１８００ｍｍ）に対応しているため、１回の吐出走査で基板Ｗの全域に描画処理（フルライン方式）を行うことができる。
【００５８】
そして、上述したように、基板の行方向（Ｙ軸方向）における各画素領域の寸法Ｄａは、例えば３００μｍで、基板の行方向における区画壁部５０７ｂの寸法Ｌａは、例えば１００μｍであるから、この場合、１の部分描画ラインには、５６列の画素領域５０７ａが対応している。そして、この５６列の画素領域５０７ａにより、部分描画領域Ｄｐ（図７参照）が構成されている。すなわち、基板Ｗ全体の画素領域５０７ａは、基板の行方向（Ｙ軸方向）に８４個の部分描画領域Ｄｐに仮想分割されている。なお、図７では、１行×５６列の画素領域５０７ａを、１個の長方形で表している。
【００５９】
図２ないし図４に示すように、画像認識手段２６は、ワーク搬出入エリア３４の前後両側に臨むように配設され、基板Ｗの両長辺部分にそれぞれ形成された２つの基板アライメントマークＷｍ、Ｗｍをそれぞれ画像認識する２台のワーク認識カメラ１０１と、上記のＹ軸テーブル２３に添設されたカメラ移動機構（図示省略）によりＹ軸方向に移動可能にそれぞれ搭載され、ドット抜け検査台１１６上に吐出された機能液滴（ドット）を画像認識する２台のドット認識カメラ１０２と、Ｘ軸テーブル２２のＸ軸エアースライダ４４に連結され、各ヘッドユニット６１（サブキャリッジ６４）の２つの基準ピンを画像認識するヘッド認識カメラ１０３（図９参照）とを有している。これらの各種カメラの画像認識結果に基づいて、上述した基板Ｗやヘッドユニット６１の位置補正が行われる。さらに、詳細は後述するが、画像認識手段２６は、ヘッドユニット６１に代えて各メインキャリッジ６３に搭載されるダミーユニット１６１に組み込まれたダミー認識カメラ１０４を有している。
【００６０】
次に、図２ないし図４を参照して、液滴吐出装置１におけるメンテナンス手段１２について説明する。メンテナンス手段１２は、メンテナンスエリア３２に配設され、機能液滴吐出ヘッド６２内で増粘した機能液を除去するための吸引（クリーニング）を行う７個の吸引ユニット１１１と、機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面８３を払拭するワイピングユニット１１２と、７個の吸引ユニット１１１およびワイピングユニット１１２をそれぞれ個別に昇降可能に支持する８個のユニット昇降機構（図示省略）と、これらを支持するアングル架台１１８とを備えている。さらに、メンテナンス手段１２は、上記のテーブル支持部４３上に配設された定期フラッシングボックス１１４と、吸着テーブル４１の前後両側に配設された一対の描画前フラッシングボックス１１５，１１５とを備えている。
【００６１】
７個の吸引ユニット１１１は、７個のキャリッジユニット２１にそれぞれ対応しており、各吸引ユニット１１１は、各キャリッジユニット２１に対して下方から臨み、１２個の機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面８３にそれぞれ封止させる１２個のキャップ（図示省略）を備えている。これにより、非稼動時等に、各機能液滴吐出ヘッド６２のノズル８５の機能液が乾燥して吐出機能が低下することを防止できる。さらに、各キャップをノズル面８３に封止させた状態でノズル８５から機能液を吸引し、機能液滴吐出ヘッド６２内で増粘した機能液を排出する。
【００６２】
ワイピングユニット１１２は、吸引ユニット１１１の描画エリア３１側に配置されており、機能液滴吐出ヘッド６２の吸引等により、機能液が付着して汚れたノズル面８３を、ワイピングシート１１２ａを押し当てて拭き取るものである。そして、上記の吸引処理と、このワイピングとにより、ノズル詰まりの生じた機能液滴吐出ヘッド６２の吐出機能を回復させることができる。
【００６３】
定期フラッシングボックス１１４は、基板Ｗの交換時等に行う定期フラッシングを受けるためのものである。上記のテーブル支持部４３上に設けられており、基板Ｗの交換のために吸着テーブル４１がワーク搬出入エリア３４に臨むとき、定期フラッシングボックス１１４が描画エリア３１に臨み、機能液滴吐出ヘッド６２の全ノズル８５からの捨て吐出を受けるようになっている。この定期フラッシングにより、待機中の機能液滴吐出ヘッド６２のノズル詰まりを防止できる。
【００６４】
一対の描画前フラッシングボックス１１５，１１５は、基板Ｗに機能液を吐出させる直前（一連の描画動作中）に行う描画前フラッシングを受けるためのものである。吸着テーブル４１をＸ軸方向に挟むように配設されており、基板Ｗの往復動に伴う機能液滴吐出ヘッド６２の吐出駆動の直前に行われる全ノズル８５（吐出ノズル）からの捨て吐出を受けるようになっている。この描画前フラッシングにより、機能液滴吐出ヘッド６２からの機能液滴の吐出が安定した状態で、基板Ｗに機能液滴を吐出することができる。
【００６５】
次に、図８を参照して、液滴吐出装置１全体の制御系について説明する。液滴吐出装置１の制御系は、基本的に、上記の上位コンピュータ２と、機能液滴吐出ヘッド６２、Ｘ軸テーブル２２、Ｙ軸テーブル２３、メンテナンス手段１２等を駆動する各種ドライバを有する駆動部１２１と、駆動部１２１を含め液滴吐出装置１全体を統括制御する制御部１２２（コントローラ１３）とを備えている。
【００６６】
上位コンピュータ２は、コントローラ１３に接続されたコンピュータ本体１２６に、キーボード１２７や、キーボード１２７による入力結果等を画像表示するディスプレイ１２８等が接続されて構成されている。
【００６７】
駆動部１２１は、機能液滴吐出ヘッド６２を吐出駆動制御するヘッドドライバ１３１と、Ｘ軸テーブル２２およびＹ軸テーブル２３の各モータをそれぞれ駆動制御する移動用ドライバ１３２と、メンテナンス手段１２の吸引ユニット１１１、ワイピングユニット１１２およびユニット昇降機構を駆動制御するメンテナンス用ドライバ１３３とを備えている。
【００６８】
制御部１２２は、ＣＰＵ１４１と、ＲＯＭ１４２と、ＲＡＭ１４３と、Ｐ−ＣＯＮ１４４とを備え、これらは互いにバス１４５を介して接続されている。ＲＯＭ１４２は、ＣＰＵ１４１で処理する制御プログラム等を記憶する制御プログラム領域と、描画動作や画像認識を行うための制御データ等を記憶する制御データ領域を有している。
【００６９】
ＲＡＭ１４３は、各種レジスタ群のほか、基板Ｗに機能液の吐出を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部、基板Ｗおよびヘッドユニット６１の設計位置データを記憶する位置データ記憶部等の各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。なお、ヘッドユニット６１の設計位置データとは、描画処理の直前に記憶されている位置データのことであり、液滴吐出装置１の設計時（新設時）における位置データのほか、更新後の位置データをも含む概念である。
【００７０】
Ｐ−ＣＯＮ１４４には、駆動部１２１の各種ドライバのほか、画像認識手段２６の各種カメラが接続されており、ＣＰＵ１４１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ１４４は、上位コンピュータ２からの各種指令等をそのままあるいは加工してバス１４５に取り込むと共に、ＣＰＵ１４１と連動して、ＣＰＵ１４１等からバス１４５に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部１２１に出力する。
【００７１】
そして、ＣＰＵ１４１は、ＲＯＭ１４２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ１４４を介して各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ１４３内の各種データ等を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ１４４を介して駆動部１２１等に各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１全体を制御している。例えば、ＣＰＵ１４１は、機能液滴吐出ヘッド６２、Ｘ軸テーブル２２およびＹ軸テーブル２３を制御して、所定の液滴吐出条件および所定の移動条件で基板Ｗに描画を行う。また、ＣＰＵ１４１は、画像認識手段２６の各種カメラを制御し、その撮像対象を画像認識し、その認識結果に基づいて、位置補正データを取得し、さらに、データ補正を行っている（詳細は後述する）。
【００７２】
次に、描画装置１１による基板Ｗへの一連の描画動作について説明する。まず、描画対象となる基板Ｗを吸着テーブル４１上に載置し、上記のプリアライメント後、ワーク認識カメラ１０１により、セットされた基板Ｗの基板アライメントマークＷｍ、Ｗｍを撮像し、その画像認識結果に基づいて、ワークθ軸テーブル４２によるθ軸方向の位置補正と、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置データ補正とを行う。
【００７３】
なお、後述するヘッド位置補正処理により、予め、Ｘ軸テーブル２２やＹ軸テーブル２３の機械的精度誤差に基づく、各ヘッドユニット６１のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置ずれが補正されていると共に、新たに投入された各ヘッドユニット６１に対して、ヘッド認識カメラ１０３の撮像結果に基づいて、位置補正が為されている。
【００７４】
このようにして、基板Ｗに対する吐出動作の準備が整うと、描画装置１１は、基板ＷをＸ軸テーブル２２によりＸ軸方向に往復動させると共に、これに同期して７個のキャリッジユニット２１の各機能液滴吐出ヘッド６２を選択的に吐出駆動させて、描画エリア３１に臨んだ基板Ｗの上面Ｗａにフルライン方式で機能液の吐出（描画）を行う。
【００７５】
ここで、本実施形態では、基板Ｗの縦列（Ｘ軸方向）には、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色に対応した画素領域５０７ａが並んでいるため、ヘッドユニット６１をＹ軸方向に移動させる副走査を２回行って、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色の画素領域５０７ａのそれぞれに３色の機能液滴を吐出・着弾させている。
【００７６】
具体的には、図７に示すように、まず、第１回目の主走査として、図示右側から１、４、・・・、（３ｎ−２）、・・・、８２番目の部分描画領域Ｄｐ（のＢに対応する各画素領域５０７ａ）に対し、Ｂの機能液滴を着弾させ、２、５、・・・、（３ｎ−１）、・・・、８３番目の部分描画領域Ｄｐ（のＲに対応する各画素領域５０７ａ）に対し、Ｒの機能液滴を着弾させ、３、６、・・・、（３ｎ）、・・・、８４番目の部分描画領域Ｄｐ（のＧに対応する各画素領域５０７ａ）に対し、Ｇの機能液滴を着弾させる（図７（ａ）参照）。
【００７７】
続いて、各ヘッドユニット６１を部分描画ライン分Ｙ軸方向に移動（１回目の副走査）させた後、第２回目の主走査として、（３ｎ−２）番目の部分描画領域Ｄｐに対し、Ｇの機能液滴を着弾させ、（３ｎ−１）番目の部分描画領域Ｄｐに対し、Ｂの機能液滴を着弾させ、（３ｎ）番目の部分描画領域Ｄｐに対し、Ｒの機能液滴を着弾させる（同図（ｂ）参照）。
【００７８】
さらに、各ヘッドユニット６１を部分描画ライン分Ｙ軸方向に移動（２回目の副走査）させた後、第３回目の主走査として、（３ｎ−２）番目の部分描画領域Ｄｐに対し、Ｒの機能液滴を着弾させ、（３ｎ−１）番目の部分描画領域Ｄｐに対し、Ｇの機能液滴を着弾させ、（３ｎ）番目の部分描画領域Ｄｐに対し、Ｂの機能液滴を着弾させ、基板Ｗに対する描画が完了する（同図（ｃ）参照）。
【００７９】
このようにすることで、（３ｎ−２）番目、（３ｎ−１）番目および（３ｎ）番目の部分描画領域Ｄｐに対し、すなわち全部分描画領域Ｄｐに対し、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色の機能液滴を着弾させることができる。この一連の描画処理では、各ヘッドユニット６１に対し、部分描画ライン分の副走査を２回行っているため、各ヘッドユニット６１の副走査の走査範囲（副走査範囲）は、部分描画ラインの２倍の長さ（４５．２ｍｍ）に略相当する。
【００８０】
次に、基板Ｗに対するヘッドユニット６１の位置決め（位置補正）方法について説明する。図９の模式図に示すように、Ｘ軸テーブル２２のセットテーブル４１上には、基板Ｗに代えてアライメントマスク２００がセットされる一方、Ｙ軸テーブル２３の７個のメインキャリッジ６３には、それぞれヘッドユニット６１に代えてダミーユニット１６１が搭載されている。そして、上述したように、Ｘ軸エアースライダ４４には、ヘッド認識カメラ１０３（ヘッド認識手段）が上向きに配設されており、Ｘ軸テーブル２３を駆動させることで、Ｙ軸テーブル２３によるヘッドユニット６１の移動軌跡上に、ヘッド認識カメラ１０３を位置させることができる。
【００８１】
アライメントマスク２００は、基板Ｗと同様に石英ガラス等から成るガラスマスクであり、基板Ｗと同一の厚みを有している。アライメントマスク２００の表面には、Ｘ軸方向に相互に離間すると共に平行に位置する第１マーク列２０１および第２マーク列２０２が形成されている。第１マーク列２０１および第２マーク列２０２は、全く同一に形成され、Ｙ軸方向において、後述するダミー認識カメラ１０４の第１カメラ１０４ａおよび第２カメラ１０４ｂの相互の離間寸法と同一の離間寸法で、且つＸ軸方向において同位置に配設されている。各マーク列２０１，２０２は、副走査におけるヘッドユニット６１の絶対基準位置を指標する複数のアライメントマーク２０３で構成されており、７個のヘッドユニット６１（ダミーユニット１６１）の副走査における移動範囲を網羅する長さを有している。
【００８２】
各マーク列２０１，２０１の複数のアライメントマーク２０３は、１本の基準線２０４とこれに直交する複数の交差線２０５とにより構成されている。複数の交差線２０５が、Ｙ軸方向において所定の配設ピッチで列設されている。詳細は後述するが、このアライメントマーク２０３の配設ピッチは、ヘッドユニット６１の各位置補正ポイントとなるものであり、実施形態のものは、基板Ｗの画素ピッチやＹ軸テーブルの直線性精度を考慮して、１０ｍｍピッチとなっている。
【００８３】
図１０に示すように、ダミーユニット１６１は、図５示すヘッドユニット６１のヘッドプレート６５と略同一の基本形態を有するダミープレート１６５、ダミープレート１６５に搭載した第１カメラ１０４ａおよび第２カメラ１０４ｂから成るダミー認識カメラ１０４を有している。第１カメラ１０４ａおよび第２カメラ１０４ｂは、それぞれＣＣＤカメラで構成されており、それぞれカメラヘッド１０６を下向きにした状態で、Ｘ軸方向に相互に離間すると共に背合わせに配設されている。この場合、第１カメラ１０４ａおよび第２カメラ１０４ｂの位置は、ヘッドユニット６１における一対の基準ピン６９，６９の位置に対応している。各カメラヘッド１０６の直下には、ダミープレート１６５に一対のカメラ開口１６７，１６７が形成されおり、第１カメラ１０４ａおよび第２カメラ１０４ｂは、このカメラ開口１６７から上記のアライメントマーク２０３を撮像する。
【００８４】
図中の符号１６８は、一対のバランスウェイトであり、符号１６９は、バランス開口である。これらバランスウェイト１６８およびバランス開口１６９により、ダミープレート１６５の重量および重心位置が、ヘッドユニット６１と略同一になるように調整されている。これにより、ヘッドユニット６１の重み等に基づくＹ軸テーブル２３の捩れ等も、後述する位置補正の結果に取り込むことができる。なお、ダミープレート１６５の重量および重心位置は、ヘッドユニット６１に上記の機能液滴吐出ヘッド６２や圧力調整弁２５を搭載した状態に加え、これらに機能液を充填した状態であることが、好ましい。
【００８５】
次に、本発明の主要部であるヘッド位置補正処置の一連の動作とについて詳細に説明する。まず、７個のメインキャリッジ６３に、７個のダミーユニット１６１をそれぞれ装着する（図１１のＳ１１）。続いて、吸着テーブル４１にアライメントマスク２００をセットすると共に、アライメントマスク２００の位置補正を行う（Ｓ１２）。このアライメントマスク２００のセットおよび位置補正は、上述した基板Ｗのセットおよび位置補正と同様にして行われる。このアライメントマスク２００が吸着テーブル４１にセット・位置補正されることで、複数のアライメントマーク２０３が、ヘッドユニット６１の絶対基準位置を指標するものとして機能する。
【００８６】
次に、装着された各ダミーユニット１６１に組み込まれたダミー認識カメラ１０４の原点調整を行う（Ｓ１３）。ここで、後述するように、各ダミーユニット１６１は、対応する各ヘッドユニット６１の副走査範囲に亘って複数のアライメントマーク２０３を画像認識することから、この原点調整においても、各ダミー認識カメラ１０４の第１カメラ１０４ａおよび第２カメラ１０４ｂは、対応する副走査範囲における第１マーク列２０１の任意のアライメントマーク２０３および第２マーク列２０２の任意のアライメントマーク２０３をそれぞれ撮像することにより行われる。
【００８７】
次に、各ダミーユニット１６１により、対応する各ヘッドユニット６１の副走査範囲に亘って複数のアライメントマーク２０３を撮像し、その画像認識結果に基づいて、位置ずれを測定する（Ｓ１４）。具体的には、Ｙ軸テーブル２３により、各ダミーユニット１６１をＹ軸方向にアライメントマーク２０３の１ピッチ分（１０ｍｍ）ずつ移動させ、第１カメラ１０４ａおよび第２カメラ１０４ｂにより、それぞれ第１マーク列２０１および第２マーク列２０２のアライメントマーク２０３を個々に撮像していく。
【００８８】
図１２は、第１カメラ１０４ａによる第１マーク列２０１のアライメントマーク（第１アライメントマーク２０３）の画像認識結果と、第２カメラ１０４ｂによる第２マーク列２０２のアライメントマーク（第２アライメントマーク２０３）の画像認識結果とを示している。第１アライメントマーク２０３は、第１カメラ１０４ａの撮像中心ＣＣは、＋ΔＸ１、＋ΔＹ１だけ原点０からずれた位置にある。また、第２アライメントマーク２０３は、第２カメラ１０４ｂの撮像中心ＣＣは、−ΔＸ２、−ΔＹ２だけ原点０からずれた位置にある。
【００８９】
このように、第１カメラ１０４ａおよび第２カメラ１０４ｂによる認識結果に基づいて、位置ずれデータ（＋ΔＸ１、＋ΔＹ１−ΔＸ２、−ΔＹ２）が取得され、この位置ずれデータに基づいて、ヘッドユニット６１の設計位置データを補正（Ｘ軸方向およびＹ軸方向におけるデータ補正）し、基準位置データを取得する（Ｓ１５）。
【００９０】
この第１カメラ１０４ａおよび第２カメラ１０４ｂによる画像認識と、それに基づいた設計位置データの補正とを、対応する各ヘッドユニット６１の副走査範囲における全アライメントマーク２０３について行うことで、アライメントマーク２０３の配設ピッチ単位で、ヘッドユニット６１の設計位置データを補正し、その配設ピッチ単位で、基準位置データを取得することができる。
【００９１】
そして、得られた基準位置データに基づいて、ヘッドθ軸テーブル６７を制御し、各ダミーユニット１６１を回転させることで、各ダミーユニット１６１のθ補正を行う（Ｓ１６）。この状態で、ダミーユニット１６１をヘッドユニット６１に交換しない場合には（Ｓ１７；Ｎｏ）、位置補正処理が完了する。
【００９２】
以上のように、複数のアライメントマーク２０３をＹ軸方向に所定のピッチで列設させたアライメントマスク２００により、対応する各ヘッドユニット６１による副走査範囲に亘ってダミーユニット１６１の位置補正を行うため、結果的にＹ軸テーブル２３におけるＸ軸方向の歪みやＹ軸方向の位置ずれを補正することができる。これにより、描画ラインを精度良く維持することができる。
【００９３】
さらに、各第１カメラ１０４ａおよび各第２カメラ１０４ｂにより、第１マーク列２０１および第２マーク列２０２をそれぞれ画像認識することで、アライメントマーク２０３の配設ピッチ単位で、ヘッドユニット６１のθ補正を精度良く行うことができる。なお、各アライメントマーク２０３の撮像結果に基づいて、各アライメントマーク２０３間における位置ずれデータを補完することにより、アライメントマーク２０３の配設ピッチよりも微細なピッチの基準位置データを取得することも可能であり、ヘッドユニット６１の副走査位置に対応させた基準位置データを得ることも可能である。
【００９４】
一方、各ダミーユニット１６１のθ補正（Ｓ１６）の後、ダミーユニット１６１をヘッドユニット６１に交換した場合（Ｓ１７；Ｙｅｓ）には、ヘッド認識カメラ１０３による各ヘッドユニット６１の一対の基準ピン６９，６９の画像認識結果に基づいて、各ヘッドユニット６１のθ補正を行うようにする（Ｓ２１〜Ｓ２３）。
具体的には、まず、Ｘ軸テーブル２２を駆動して、ヘッド認識カメラ１０３をＹ軸テーブル２３の移動軌跡上に位置させると共に、Ｙ軸テーブル２３を駆動して、そのヘッド認識カメラ１０３の直上部に各ヘッドユニット６１を臨ませ、一対の基準ピン６９，６９を撮像し、その画像認識結果に基づいて、位置ずれを測定する（Ｓ２１）。なお、ヘッド認識カメラ１０３は、一対の基準ピン６９，６９に対応して、２台のカメラにより構成してもよく、Ｘ軸テーブル２２により１台のカメラを移動させることで、一対の基準ピン６９，６９をそれぞれ撮像してもよい。もちろん、７個のヘッドユニット６１に対応して、７個のヘッド認識カメラ１０３を設置してもよい。
【００９５】
次に、得られた画像認識結果（位置ずれデータ）に基づいて、上記の基準位置データを補正し、最終位置データを取得する（Ｓ２２）。
【００９６】
最後に、得られた最終位置データに基づいて、各ヘッドθ軸テーブル６７を制御して、各ヘッドユニット６１を回転し、各ヘッドユニット６１のθ補正を行う（Ｓ２３）。このようにして、一連のヘッド位置補正処理が完了する。
【００９７】
以上のように、ダミーユニット１６１をヘッドユニット６１に交換した場合に、各ヘッドユニット６１のθ補正を行うようにしているため、上記のようにＹ軸テーブルの歪みや送り誤差を加味した位置補正ができると共に、搭載した各ヘッドユニット６１の位置補正を簡単に行うことができる。したがって、頻繁にヘッドユニット６１を交換しても、位置補正を含む交換作業を円滑且つ短時間で行うことができる。
【００９８】
なお、本実施形態では、ダミーユニット１６１を用いて、設計位置データを補正したが、ダミーユニット１６１を用いることなく、ヘッドユニット６１にアライメントマーク２０３を撮像するカメラ（ワーク撮像手段）を取り付け、そのカメラによるアライメントマーク２０３の画像認識に基づいて、設計位置データを補正するようにしてもよい。もっとも、ヘッドユニット６１にカメラを取り付ける代わりに、本実施形態のダミーユニット１６１を用いることにより、スペース的に特に有用である。
【００９９】
以上のように、本実施形態のヘッド位置補正処理によれば、ヘッドユニット６１の交換時において、Ｘ軸テーブルやＹ軸テーブルの機械的精度誤差を加味して、ヘッドユニット６１の位置補正を簡単且つ精度良く行うことができる。したがって、液滴吐出装置１において、副走査を考慮したヘッドユニット６１の位置精度を高めることができる。
【０１００】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【０１０１】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１３は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１４は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１４（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【０１０２】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１４（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１４（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド６２により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【０１０３】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【０１０４】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１４（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド６２によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド６２を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１０５】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１４（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【０１０６】
図１５は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１４に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１０７】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【０１０８】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１５において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１０９】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１１０】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１１１】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド６２で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド６２で行うことも可能である。
【０１１２】
図１６は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１１３】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【０１１４】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１１５】
図１７は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１１６】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【０１１７】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１１８】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１１９】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１２０】
次に、図１８は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【０１２１】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１２２】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【０１２３】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【０１２４】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【０１２５】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【０１２６】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【０１２７】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【０１２８】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１２９】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【０１３０】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１３１】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１３２】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１９〜図２７を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１９に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１３３】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図２０に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図２１に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１３４】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド６２を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１３５】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１の吸着テーブル４１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１３６】
図２２に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド６２から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図２３に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１３７】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１３８】
そして次に、図２４に示すように、各色のうちのいずれか（図２４の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１３９】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２５に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１４０】
同様に、機能液滴吐出ヘッド６２を用い、図２６に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１４１】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１４２】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２７に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１４３】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１４４】
次に、図２８は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１４５】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１４６】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１４７】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１４８】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１の吸着テーブル４１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド６２により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１４９】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１５０】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド６２から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１５１】
次に、図２９は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１５２】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１５３】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１５４】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１５５】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１５６】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図３０（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図３０（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１５７】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１５８】
【図１】基板の模式的な平面図である。
【図２】液滴吐出装置の外観斜視図である。
【図３】液滴吐出装置の平面図である。
【図４】液滴吐出装置の側面図である。
【図５】ヘッドユニットの模式的な平面図である。
【図６】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図７】液滴吐出装置による一連の描画処理を説明する模式図である。
【図８】液滴吐出装置の制御系について説明したブロック図である。
【図９】ヘッドユニットの位置補正方法について説明する模式図である。
【図１０】（ａ）はダミーヘッドの平面図、（ｂ）はダミーヘッドの外観斜視図である。
【図１１】ヘッドユニットの位置補正処理を示すフローチャートである。
【図１２】ダミー認識カメラによるアライメントマークの画像認識結果を示す図である。
【図１３】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１４】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１５】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１６】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１７】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１８】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１９】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図２０】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２１】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２２】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２３】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２４】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２５】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２６】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２７】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２８】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２９】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図３０】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１５９】
１…液滴吐出装置  １３…コントローラ  ２２…Ｘ軸テーブル  ２３…Ｙ軸テーブル  ４１…吸着テーブル  ６１…ヘッドユニット  ６２…機能液滴吐出ヘッド  ６９…基準ピン  １０３…ヘッド認識カメラ  １０４…ダミー認識カメラ  １６１…ダミーユニット  ２００…アライメントマスク  ２０３…アライメントマーク  Ｗ…基板
【図１】
2006159117.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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