(57)【要約】【課題】  分散性が安定し、画像形成に適した組成物および導電性パターンの形成方法を提供する。【解決手段】  導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有する組成物。導電性物質を内包するブロック共重合体と、溶媒と、を含有する組成物。導電性物質は、金属微粒子、またはフラーレン、カーボンナノチューブ、Ｐ型半導体有機物質もしくはＮ型半導体有機物質から選択しされる有機導電性物質である。導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成する導電性パターンの形成方法。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有することを特徴とする組成物。
【請求項２】
導電性物質を内包するブロック共重合体と、溶媒とを含有することを特徴とする組成物。
【請求項３】
前記導電性物質は、金属微粒子からなる請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記導電性物質は、有機導電性物質からなる請求項１または２に記載の組成物。
【請求項５】
前記有機導電性物質は、フラーレン、カーボンナノチューブ、またはＰ型半導体有機物質もしくはＮ型半導体有機物質から選択される請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記金属微粒子が貴金属から選択される請求項３に記載の組成物。
【請求項７】
請求項１または２に記載の組成物からなることを特徴とするインク組成物。
【請求項８】
平均粒径２０ｎｍ以下の金属微粒子と、両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有することを特徴とする黒色用インク組成物。
【請求項９】
請求項７または請求項８に記載のインク組成物を媒体に付与し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【請求項１０】
導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成することを特徴とする導電性パターンの形成方法。
【請求項１１】
導電性物質を内包するブロック共重合体と、溶媒とを含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成することを特徴とする導電性パターンの形成方法。
【請求項１２】
前記導電性物質は、金属微粒子からなる請求項１０または１１に記載の導電性パターンの形成方法。
【請求項１３】
前記金属微粒子は、平均粒径が２０ｎｍ以下である請求項１２に記載の導電性パターンの形成方法。
【請求項１４】
前記金属微粒子は、Ａｕ，Ｐｔ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｗ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｇａ，Ｔａ，Ｂｉ，Ｔｉ，Ａｌから選ばれた少なくとも１種類以上の金属あるいは該金属を含有する有機金属化合物からなることを特徴とする請求項１２に記載の導電性パターンの形成方法。
【請求項１５】
前記組成物を前記基板上に付与した後、前記組成物に刺激を与えて前記導電性パターンを定着させる工程を有する請求項１０または１１に記載の導電性パターンの形成方法。
【請求項１６】
前記組成物を前記基板上に付与した後、前記基板を熱もしくは光線により処理し、前記導電性パターンに含まれる前記ブロック共重合体を分解、揮散させる工程を有する請求項１０または１１に記載の導電性パターンの形成方法。
【請求項１７】
前記刺激が温度変化、電磁波照射、ｐＨ変化、濃度変化、カチオン性化合物あるいはアニオン性化合物の添加から選ばれる少なくとも１種類以上であることを特徴とする請求項１５に記載の導電性パターンの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマーを含む組成物、それを用いた画像形成方法、及び導電性パターンの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
機能物質を含有する分散材料には、従来から機能性材料として、除草剤、殺虫剤等の農薬、抗がん剤、抗アレルギー剤、消炎剤等の医薬の他、色材を用いたものが良く知られている。こうした中、特に色材を含有する組成物を利用するデジタル印刷技術は近年非常な勢いで進歩している。このデジタル印刷技術は、電子写真技術、インクジェット技術と言われるものがその代表例であるが、近年オフィス、家庭等における画像形成技術としてその存在感をますます高めてきている。
【０００３】
インクジェット技術には直接記録方法として、コンパクト、低消費電力という大きな特徴がある。インクジェット技術に関しては、ノズルの微細化等により急速に高画質化が進んでいる。インクジェット技術の一例としては、インクタンクから供給されたインクをノズル中のヒーターで加熱することで蒸発発泡させ、インクを吐出させて記録媒体に画像を形成させるものが挙げられる。他の例としてはピエゾ素子を振動させることでノズルからインクを吐出させるものが挙げられる。
【０００４】
こうした中、耐候性や定着性を改善する目的で顔料分散インクを使用することが検討されている。また、一方で金属ナノ粒子をインク化して使用しようとする方法も検討されている。例えば特許文献１においては、カラーの貴金属ナノ粒子を分散させたものを塗料として利用しようとする試みがなされている。
【０００５】
またインクジェット技術を有機導電性薄膜の形成に利用しようとすることも提案されている（例えば特許文献２）。
これらに開示された技術事項に関しては、インクジェット法に適用し得る組成物としてより優れた着色剤を用いることや、特定の組成物を用いてより安定な画像形成を行うこと、更には、より安定なパターン形成をしようとすると、まだ、改善されるべき点がある。
【０００６】
また、近年の情報端末の急速な小型化に伴い、情報端末に搭載されるプリント配線板の配線ピッチの狭小化も進んできている。具体的には、半導体内回路のファイン化に伴い、プリント配線板上に形成される回路パターンの最小線幅は狭くなると共に、膜厚も薄くなってきている。これまで、回路基板の製造方法として、例えば、次のような方法が知られている。
（１）銅張り積層板上に、レジストを被覆し、フォトリソグフィ法により、回路パターンの露光、未露光レジストの溶解除去、レジスト除去部のエッチングにより銅線パターンを形成する方法。
（２）セラミックス基板上にスクリーン印刷により導電ペーストを所望の回路パターンに印刷し、非酸化雰囲気中で熱処理して導電ペースト中の金属微粒子を焼結して導電パターンを形成する方法。
（３）絶縁基板上に、導電金属の蒸着により薄膜の導電層を形成し、この導電層上に、レジストを被覆し、フォトリソグフィ法により、回路パターンの露光、未露光レジストの溶解除去、レジスト除去部のエッチングにより銅線パターンを形成する方法。
【０００７】
銅張り積層板を用いる方法やスクリーン印刷による方法には、ファインパターンの形成ができない、廃液処理の必要がある、設備費や生産コストがかさむという問題があった。また、蒸着薄膜をエッチングする方法には、廃液処理の必要があり、設備費や生産コストがかさむという問題があった。
【０００８】
これらを改善する目的で、インクジェット装置を使用することが検討されている。例えば、基体上に、インクジェット装置を用いて、平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属微粒子を水または有機溶剤中に分散させた金属微粒子インクにより、配線パターンを描画し、次いでその基板を熱もしくは光線により処理して配線パターンに含まれる重合体または界面活性剤を分解揮散させて所望の膜厚の導体パターンを得る方法が提案されている（特許文献３）。この公報に開示された方法には、配線パターンの線幅の一定化や隣接する配線同士を交わることなく高密度な配線パターンを形成可能とするといった点において更なる改善が望まれる。また、配線パターンのエッジをより整ったものとして、ショートをなくすことができれば更に有用である。
【特許文献１】特開平１１−７６８００号公報
【特許文献２】特開２０００−３３７１２号公報
【特許文献３】特開２００２−１３４８７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、特定のブロック共重合体を用いて、分散性が安定し、画像形成に適した組成物を提供するものである。また、特定の平均粒径の金属微粒子を含む発色の良いインク組成物を提供するものである。
【００１０】
更に、本発明は、導電性物質と特定のブロック共重合体を含有する、導電性パターンの形成に適した組成物を提供するものである。
更に、本発明は、特定のブロック共重合体を含む組成物を用いて、エッジの整った導電性パタ−ンを形成することができる導電性パターンの形成方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものである。
本発明により提供される組成物は、導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒と、を含有することを特徴とするものである。また、本発明の別の組成物は、導電性物質を内包するブロック共重合体と、溶媒と、を含有することを特徴とするものである。
【００１２】
本発明においては、導電性物質は、金属微粒子とすることができ、また、有機導電性物質とすることができる。そして、有機導電性物質は、フラーレン、カーボンナノチューブ、またはＰ型半導体有機物質もしくはＮ型半導体有機物質から選択しても良い。
【００１３】
本発明において、金属微粒子は、貴金属から選択しても良い。
更に、本発明は、本発明の組成物をインクに適用したインク組成物を包含する。
本発明のインク組成物は、平均粒径２０ｎｍ以下の金属微粒子と、両親媒性ブロック共重合体と、溶媒と、を含有するものを包含する。
【００１４】
本発明は、更に、本発明のインク組成物を媒体に付与し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法を包含する。
本発明の導電性パターンの形成方法は、導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒と、を含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成することを特徴とする。本発明の導電性パターンの形成方法の別の態様は、導電性物質を内包するブロック共重合体と、溶媒と、を含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成することを特徴とする。
【００１５】
ここで、導電性物質は、金属微粒子を用いても良い。
更に、本発明の導電性パターンの形成方法は、前記組成物を前記基板上に付与した後、前記組成物に刺激を与えて前記導電性パターンを定着させる工程を有するものを包含する。また、本発明の導電性パターンの形成方法は、前記組成物を前記基板上に付与した後、前記基板を熱もしくは光線により処理し、前記導電性パターンに含まれる前記ブロック共重合体を分解、揮散させる工程を有するものを包含する。
【００１６】
本発明の導電性パターンの形成方法においては、前記刺激を、温度変化、電磁波照射、ｐＨ変化、濃度変化、カチオン性化合物あるいはアニオン性化合物の添加から選ばれる少なくとも１種類以上とすることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の組成物は、特定のブロック共重合体を用いたことで、分散の安定した組成物が得られ、画像形成に適したものとなる。特に特定の平均粒径の金属微粒子を含むインク組成物においては、発色の良い組成物となる。更に本発明の組成物は、導電性物質と特定のブロック共重合体を含有するもので、導電性パターンの形成に適したものとなる。そして本発明の導電性パターンの形成方法によれば、特定のブロック共重合体を含む組成物を用いていることから導電性パターンのエッジの整ったものを形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の組成物は、導電性物質と特定のブロック共重合体と、溶媒と、を含有するものである。導電性物質としては、金属微粒子を構成する金属の他、有機導電性物質を用いることができる。
【００１９】
まず、導電性物質として金属微粒子を用いる態様について説明する。
本発明の組成物は、金属微粒子と、両親媒性ブロック共重合体と、溶媒を含有する着色組成物を含む。また、本発明の組成物は、金属微粒子とポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒と、含有する着色組成物を含む。また、平均粒径２０ｎｍ以下の金属微粒子と、両親媒性ブロック共重合体と、溶媒と、を含有する黒色インク組成物を含む。また、本発明の組成物は、金属微粒子がミクロスフィアとなってブロック共重合体に内包されている組成物を含む。これら組成物の金属は貴金属であることが好ましい。金属としては周期律表にある全ての金属が使用可能である。貴金属は、金、銀、銅、プラチナ、パラジウム、ルテニウム、ロジウム等が挙げられ、好ましくは着色性、発色性の点で一次粒子径の平均粒径が１００ｎｍ以下のものを使用するのがよい。さらに好ましくは５０ｎｍ以下がよく、より好ましくは３０ｎｍ以下である。また表示、記録を行う上で最も基本となる黒色の、しかも発色の良い組成物を得るために平均粒径は２０ｎｍ以下とするのが良い。
【００２０】
このような金属微粒子を作成する方法は、オーム社刊行の超微粒子技術入門等（発行日：１９８８年７月）に記載されている方法等がある。たとえば、ガス中蒸発法と言われる方法はヒーター加熱、プラズマジェット加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱、レーザービーム加熱等により金属を気化し、例えば不活性ガスをフローすることにより物理的に微粒子を作成する。また、スパッタリング法によるものも有り、流動油面上に吹き付ける方法などもある。さらには金属化合物をアミンなどで還元すると並行してチオール化合物などの界面活性化合物によりコロイドとし、ナノサイズの金属微粒子として分散安定化する化学的方法もある（例えば色材７５巻２号  ６６頁、２００２年）。
【００２１】
本発明のポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と溶媒を含有する着色組成物を製造するには、例えば、以下の方法が挙げられる。
１）前記した物理的方法により作成した微粒子をポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と溶媒または分散媒中に直接分散する。
【００２２】
２）前記した物理的方法により作成した微粒子を、溶媒及びポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と混合するあるいは一旦溶媒中に分散したものをポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体が形成するミセルあるいは逆ミセル中に投入分散処理する。
【００２３】
３）前記した化学的方法により作成するプロセス中にポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体を一つの界面活性化合物として使用し分散組成物を作成する。
【００２４】
４）前記した化学的方法により作成した溶媒分散物をポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体が形成するミセルあるいは逆ミセル中に投入分散処理する。
【００２５】
本発明の組成物の製造は、以上の方法に限定されるものではない。
次に平均粒径２０ｎｍ以下の金属微粒子と両親媒性ブロック共重合体と溶媒を含有する黒色インク組成物の製造方法について説明する。これについても上述したものと同様の方法が用い得る。その際金属微粒子を平均粒径２０ｎｍ以下にする必要があるが、作成工程において、生成する微粒子径を制御することも可能であるし、一旦微粒子を作成した後遠心分離等の分球処理行うことにより平均粒径２０ｎｍ以下にすることも可能である。
【００２６】
本発明に特徴的に使用されるブロック共重合体は、ブロック共重合体またはブロックコポリマー、ブロックポリマーと呼ばれ、異なるセグメント構造の共重合体が一つの鎖状に共有結合で結合した共重合体である。このときブロック共重合体としては、具体的な例をあげると、アクリル、メタクリル系ブロック共重合体、ポリスチレンと他の付加重合系または縮合重合系のブロック共重合体、ポリオキシエチレン、ポリオキシアルキレンのブロックを有するブロック共重合体等、従来から知られているブロック共重合体を用いることもできる。本発明において、ブロック共重合体はＡＢ、ＡＢＡ、ＡＢＤ等のブロック形態がより好ましい。Ａ、Ｂ、Ｄはそれぞれ異なるブロックセグメントを示す。また、本発明では、ブロック共重合体がある共重合体鎖にＴ字状に結合してグラフト共重合体となっていてもよい。また、ブロック共重合体の各セグメントは共重合セグメントであってもよいし、その共重合の形態は限定されず、例えばランダムセグメントであってもグラジュエーションセグメントであってもよい。
【００２７】
次に金属微粒子がミクロスフィアとなってブロック共重合体に内包されていることを特徴とする溶媒含有組成物の製造方法について説明する。これについても上述した１）乃至４）と同様の方法が用い得る。
【００２８】
しかし、金属微粒子をブロック共重合体で被覆し、ミクロスフィアとする（即ち、金属微粒子がブロック共重合体に内包されている）という観点からすれば、２）または４）の方法が良好にミクロスフィアを形成できることから望ましい。即ち、２）前記した物理的方法により作成した微粒子を、溶媒及び両親媒性ブロック共重合体と混合するあるいは一旦溶媒中に分散したものを両親媒性ブロック共重合体が形成するミセルあるいは逆ミセル中に投入分散処理する方法。４）前記した化学的方法により作成した溶媒分散物を両親媒性ブロック共重合体が形成するミセルあるいは逆ミセル中に投入分散処理する方法である。
【００２９】
なお、本発明におけるミクロスフィアとは、金属微粒子等の少なくとも１種類以上の粒子状の芯物質が内部に分散し、外側を別の物質で覆い尽くした構造を有する粒子のことを示す。
【００３０】
次に導電性物質として、有機導電性物質を用いる本発明の組成物について説明する。
このような本発明の組成物は、有機導電性物質とポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有するブロック共重合体と溶媒とを含有する組成物であり、有機導電性物質がミクロスフィアとなってブロック共重合体に内包されているものを包含する。有機導電性物質とは主に炭素原子からなる導電性物質であり、フラーレン、カーボンナノチューブや共鳴する芳香族あるいは不飽和炭素結合を有するポリアセチレン、ポリビニレンフェニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ペンタセン、ヘキサセン、ヘプタセン、オクタセン、トリフェニレン、テトラセンあるいはそれらの置換体化合物などが挙げられる。これらはｐ型半導体特性あるいはｎ型半導体特性を持つものであり、半導体としても活用可能である。
【００３１】
本発明のポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有するブロック共重合体と溶媒または分散媒を含有する組成物を製造するには、例えば前記有機導電性物質と前記ブロック共重合体を溶媒中混合し分散機を用いて分散することにより得られる。分散機としてはホモジナイザー、ビーズミル、ペイントシェーカー等が例として挙げられる。また前記有機導電性物質と前記ブロック共重合体を溶媒中混合し、該溶媒と不溶の溶媒へ転相することにより分散することもできる。この場合、後者あるいは前者の溶媒を水系溶媒とし、ブロック共重合体として両親媒性のポリマーを用いることで良好に分散することができ、有機導電性物質を内包することも可能である。また両親媒性ブロック共重合体を溶媒中にミセルあるいは逆ミセル状態で分散しておき、この中に有機導電性物質を混合することでも良好な分散あるいは内包分散状態を形成することができる。このとき有機導電性物質は溶媒に分散あるいは溶解していた方が良い場合もある。以上説明した方法が例として挙げられるが本発明は以上の方法に限定されるものではない。
【００３２】
次に有機導電性物質がミクロスフィアとなってブロック共重合体に内包されていることを特徴とする溶媒含有組成物の製造方法について説明する。これについても前述と同様の方法が用い得る。このとき有機導電性物質は溶媒に分散あるいは溶解していた方がミクロスフィアを得やすい。
【００３３】
本態様で用いることができるブロック共重合体は、前述したものと同様である。
次に本発明の導電性パターンの形成方法について説明する。
本発明の導電性パターンの形成方法は、導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒と、を含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成することを特徴とする。
【００３４】
本発明の方法は、基板上の所定箇所に配線パターンを形成する配線パターンの形成方法において、（Ａ）金属微粒子とポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と溶媒または分散媒を含有する着色組成物を、吐出のためのエネルギーを作用させて液体を吐出するための液体吐出手段と、前記液体吐出手段を駆動するための駆動手段とを備える液体吐出装置を用いて塗布し、配線パターンを描画する工程と、（Ｂ）外部刺激を与え、配線パターンを定着させる工程と、（Ｃ）該基板を熱もしくは光線により処理して前記配線パターンに含まれる前記ブロックポリマーを分解揮散する工程、とを有するものを包含する。
【００３５】
また、別に本発明の導電性パターンの形成方法は、基板上の所定箇所に配線パターンを形成する配線パターンの形成方法において、（Ａ）平均粒径２０ｎｍ以下の金属微粒子と両親媒性ブロック共重合体と溶媒を含有する黒色インク組成物を、吐出のためのエネルギーを作用させて液体を吐出するための液体吐出手段と、前記液体吐出手段を駆動するための駆動手段とを備える液体吐出装置で塗布し、配線パターンを描画する工程と、（Ｂ）外部刺激を与え、配線パターンを定着させる工程と、（Ｃ）該基板を熱もしくは光線により処理して前記配線パターンに含まれる前記ブロックポリマーを分解揮散する工程、とを有する配線パターンの形成方法を包含する。
【００３６】
更に、本発明の方法は、基板上の所定箇所に配線パターンを形成する配線パターンの形成方法において、（Ａ）金属微粒子がミクロスフィアとなってブロック共重合体に内包されていることを特徴とする溶媒含有組成物を、吐出のためのエネルギーを作用させて液体を吐出するための液体吐出手段と、前記液体吐出手段を駆動するための駆動手段とを備える液体吐出装置で塗布し、配線パターンを描画する工程と、（Ｂ）外部刺激を与え、配線パターンを定着させる工程と、（Ｃ）該基板を熱もしくは光線により処理して前記配線パターンに含まれる前記ブロックポリマーを分解揮散する工程、とを有する配線パターンの形成方法を包含する。
【００３７】
組成物中の前記金属微粒子はＡｕ，Ｐｔ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｗ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｇａ，Ｔａ，Ｂｉ，Ｔｉ，Ａｌから選ばれた少なくとも１種類以上からなる金属、あるいは当該金属を少なくとも１種類以上含有する有機金属化合物からなるのが好ましい。有機金属化合物とは、例えば、有機銅錯体Ｃｕ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ3 ）2 、有機ニッケル錯体Ｎｉ（ＯＯＣＣ7 Ｈ15）（ＯＣ3 Ｈ7 ）及び有機白金錯体Ｐｔ（ＣＨ3 ＣＯＣＨＣＯＣＨ3 ）2 が挙げられるが、これらに制限されるものではない。
【００３８】
また、回路のファイン化に伴い、回路パターンの最小線幅は狭くなると共に、膜厚も薄くなる。よって、金属粒子が一定以上の大きさになると、線幅や膜厚に対して粒子が数個しか存在しなくなり、導通性のバラツキが顕著となったり、部分的に粒子同士の接触に不良が生じ、導通性が大きくそこなわれる要因ともなる。そこで一次粒子径の平均粒径が１００ｎｍ以下のものを使用するのが好ましい。さらに好ましくは５０ｎｍ以下がよく、もっと好ましくは３０ｎｍ以下である。またさらに好ましくは平均粒径は２０ｎｍ以下である黒色を呈する金属粒子が好ましい。
【００３９】
以上いずれの場合においてもブロック共重合体が用いられるが、好ましいブロック共重合体は、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有するブロック共重合体であり、両親媒性をもつものである。
【００４０】
本発明に好ましく用いられるポリアルケニルエーテル構造を含むブロック共重合体の合成法は多数報告されているが（例えば特開平１１−０８０２２１号公報）、青島らによるカチオンリビング重合による方法（ポリマーブレタン誌  １５巻、１９８６年  ４１７頁、特開平１１−３２２９４２号公報、特開平１１−３２２８６６号公報）が代表的である。カチオンリビング重合で共重合体合成を行うことにより、ホモ共重合体や２成分以上のモノマーからなる共重合体、さらにはブロック共重合体、グラフト共重合体、グラジュエーション共重合体等の様々な共重合体を、長さ（分子量）を正確に揃えて合成することができる。また、ポリアルケニルエーテルは、その側鎖に様々な官能基を導入することができる。カチオン重合法は、他にＨＩ／Ｉ2 系、ＨＣｌ／ＳｎＣｌ4 系等で行うこともできる。
【００４１】
ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有するブロック共重合体は、５０ｍｏｌ％以上がポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造からなるものが好ましく用いられ、さらに好ましくは８０ｍｏｌ％以上、もっと好ましくは９０ｍｏｌ％以上の実質的にポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造からなるブロック共重合体である。本発明では、ポリアルケニルエーテル構造を含むブロック共重合体が好ましく用いられるが、特に好ましくはポリビニルエーテル構造を含むブロック共重合体である。
【００４２】
好ましく用いられるポリビニルエーテル構造を含むブロック共重合体は、以下の一般式（１）で表される繰り返し単位構造が持つことが好ましい。
【００４３】
【化１】
2006249399.tif 000002
【００４４】
［ただし、Ｒ1 は炭素数１から１８までの直鎖、分岐または環状のアルキル基、または−（ＣＨ（Ｒ2 ）−ＣＨ（Ｒ3 ）−Ｏ）l −Ｒ4 もしくは−（ＣＨ2 ）m −（Ｏ）n −Ｒ4 から選ばれる。ｌ、ｍはそれぞれ独立に１から１２の整数から選ばれ、ｎは０または１である。またＲ2 、Ｒ3 はそれぞれ独立にＨ、もしくはＣＨ3 である。Ｒ4 はＨ、炭素数１から６までの直鎖、分岐または環状のアルキル基、Ｐｈ、Ｐｙｒ、Ｐｈ−Ｐｈ、Ｐｈ−Ｐｙｒ、−ＣＨＯ、−ＣＨ2 ＣＨＯ、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 、−ＣＯ−Ｃ（ＣＨ3 ）＝ＣＨ2 、ＣＨ2 ＣＯＯＲ5 からなり、Ｒ4 が水素以外である場合、炭素原子上の水素は、炭素数１から４の直鎖または分岐のアルキル基またはＦ、Ｃｌ、Ｂｒと、また芳香環中の炭素は窒素とそれぞれ置換することができる。Ｒ5 はＨ、または炭素数１から５のアルキル基である。］
本発明で、−Ｐｈはフェニル基、−Ｐｙｒはピリジル基、−Ｐｈ−Ｐｈはビフェニル基、および−Ｐｈ−Ｐｙｒはピリジルフェニル基を表す。ピリジル基、ビフェニル基およびピリジルフェニル基については、可能な位置異性体のいずれのものであってもよい。
【００４５】
本発明では好ましく両親媒性のブロック共重合体が使用される。例えば、上記一般式（１）の繰り返し単位構造から、疎水性のブロックセグメントと親水性のブロックセグメントを選択、合成することにより得ることができる。
【００４６】
次に、ブロック共重合体のポリビニルエーテル構造の繰り返し単位構造として、ビニルエーテルモノマーの構造の例をあげるが、本発明に用いられるポリビニルエーテル構造は、これらに限定されない。
【００４７】
【化２】
2006249399.tif 000003
【００４８】
なお、式中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基を表す。
以下に、これらのビニルエーテルモノマーからなる、ポリビニルエーテルの構造を例示するが、本発明に用いられる共重合体は、これらに限定されない。
【００４９】
【化３】
2006249399.tif 000004
【００５０】
以上のポリビニルエーテルにおいて、繰り返し単位数におけるｕ、ｖ、ｗがそれぞれ独立に１以上１０，０００以下であることが好ましく、またその合計（ｕ＋ｖ＋ｗ）が１０以上２０，０００以下であることがより好ましい。
【００５１】
本発明で用いられるブロック共重合体の分子量分布Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は２．０以下であることが好ましい。更に好ましくは１．６以下であり、更に好ましくは１．３以下である。さらに好ましくは１．２以下である。本発明で用いられるブロック共重合体の数平均分子量Ｍｎは１０００〜３０万であるが好ましい。１０００未満あるは３０万を超えると所定の機能を奏する物質を溶媒中において良好に分散できない場合がある。
【００５２】
また、分散安定性向上、包接性向上のためにはブロック共重合体の分子運動性がよりフレキシブルであることが機能性物質表面と物理的に絡まり親和しやすい点を有しているため好ましい。さらには後に詳述するように被記録媒体上で被覆層を形成しやすい点でもフレキシブルであることが好ましい。このためにはブロック共重合体の主鎖のガラス転移温度Ｔｇは、好ましくは２０℃以下であり、より好ましくは０℃以下であり、さらに好ましくは−２０℃以下である。この点でもポリビニルエーテル構造を有する共重合体は、ガラス転移点が低く、フレキシブルな特性を有するため、好ましく用いられる。本発明の組成物中に含有される前記ブロック共重合体の含有量は、０．１〜９０ｗｔ％、好ましくは０．５〜５０ｗｔ％が望ましい。ブロック共重合体の量が０．１ｗｔ％未満となると、本発明のインク組成物中に含まれる色材を十分に分散したり、包接したりすることができない場合があり、９０ｗｔ％を超えると粘性が大きくなりすぎる場合がある。
【００５３】
本発明に用いられる金属微粒子は、組成物の重量に対して、トータルで０．０１〜９９．５重量％が好ましい。金属微粒子の量が、０．０１重量％未満となると、十分な機能が得られなくなる場合が有り、９９．５重量％を超えると分散性が悪化したりする場合がある。好ましい範囲としては１ｗｔ％から９０ｗｔ％の範囲である。さらに好ましくは２ｗｔ％から７０ｗｔ％である。
【００５４】
本発明に用いられる有機導電性物質は、組成物の重量に対して、トータルで０．０１〜９９．５重量％が好ましい。その量が、０．０１重量％未満となると、十分な機能が得られなくなる場合が有り、９９．５重量％を超えると分散性が悪化したりする場合がある。好ましい範囲としては１ｗｔ％から９０ｗｔ％の範囲である。さらに好ましくは２ｗｔ％から７０ｗｔ％である。
【００５５】
また、本発明においては好ましく金属微粒子あるいは有機導電性物質がブロック共重合体に内包される。両親媒性のブロック共重合体に内包されることにより、分散の安定性が格段に向上するという点、金属微粒子あるいは有機導電性物質が外的環境により化学変化を起こすことから回避できるという点で際立った特徴がある。さらには複数の金属一次粒子を内包した形のミクロスフィアになったものは、金属微粒子の一次粒子に比べ非常に粒子径は大きいため、好ましく用いられる一次粒子の径、すなわち１００ｎｍ以下あるいは５０ｎｍ以下、あるいは３０ｎｍ以下あるいは２０ｎｍ以下という径において、発色性や着色性をほとんど損なうことなく一次粒子で分散するよりはるかに分散の安定化がはかれると言う意味においてきわめて優れた特性を有する。特に後述するように本発明の組成物中には溶媒としてよく複数種の溶媒が用いられ、また添加物などもよく用いられる。その際一次粒子の状態で分散しているものはミクロスフィアに比べ分散の安定性が優れているとは言いがたい。
【００５６】
前述した内包状態を確認するためには、各種電子顕微鏡、Ｘ線回折等の機器分析により実施することが可能である。また、ミセル状態で内包する場合などは、ミセル崩壊条件で金属微粒子あるいは有機導電性物質が溶媒から共重合体と別々に分離することで内包状態を間接的に確認することが出来る。
【００５７】
また前記本発明の組成物中の平均粒径は特に色材として用いるとき、４００ｎｍより大きい場合、可視光の波長領域と重なるため、散乱が強く場合があり、散乱を抑制し濁度を抑制するために４００ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは２００ｎｍ以下である。
【００５８】
また本発明の前記有機導電性物質を含む組成物中の平均粒径は分散の安定性を考えたとき、４００ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは２００ｎｍ以下である。平均粒径は様々な方法で測定することが可能である。例えば、電子顕微鏡による直接観察、小角中性子線回折、小角Ｘ線回折、光散乱法、レーザー回折法などの方法がある。２００ｎｍレベルの粒子の粒径を測定するのに好ましくは動的光散乱法により測定することができる。粒子の粒径分布は、光子相関法である動的光散乱法によって測定可能である。粒径の均一さの指標としては一般的に、Ｇｕｌａｒｉらが示した分散度指数が用いられる（Ｔｈｅ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｐｈｙｓｉｃｓ、７０巻、３９６５頁、１９７９年）。分散度指数は好ましくは、０．３以下、より好ましくは０．２以下、さらに好ましくは０．１以下である。分散度指数は小さいほど粒径分布が狭くなる。動的光散乱法による粒径測定装置としては、大塚電子（株）のＤＬＳ７０００等の装置がある。
【００５９】
また、本発明の組成物は溶媒を含有する。本発明の組成物に含まれる溶媒は、特に限定されないが、組成物に含まれる成分を溶解、懸濁、分散できる媒体を意味する。本発明では、直鎖、分岐鎖、環状の各種脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、複素芳香族炭化水素などの有機溶媒、水性溶媒、水などが溶媒として使用でき、もちろんそれらの混合溶媒を使用することも可能である。特に、本発明の組成物では水および水性溶媒を好適に使用することができる。
【００６０】
水性溶媒の例としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロビレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールエーテル類、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、置換ピロリドン、トリエタノールアミン等の含窒素溶媒等を挙げることができる。また、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の一価アルコール類を用いることもできる。
【００６１】
水のｐＨに関しても全ての範囲で使用可能であるが、好ましくはｐＨは１から１４の間である。本発明の組成物において、上記有機溶剤あるいは水および水性溶媒の含有量は、組成物の全重量に対して、２０〜９９重量％の範囲で用いるのが好ましい。さらに好ましくは３０〜９８重量％の範囲である。
【００６２】
本発明の組成物には、必要に応じて、種々の添加剤、助剤等を添加することができる。添加剤の一つとして、顔料を溶媒中で安定に分散させる分散安定剤がある。分散が不十分である場合には、他の分散安定剤を添加してもよい。
【００６３】
他の分散安定剤として、親水性疎水性両部を持つ樹脂あるいは界面活性剤を使用することが可能である。親水性疎水性両部を持つ樹脂としては、例えば、親水性モノマーと疎水性モノマーの共重合体が挙げられる。
【００６４】
親水性モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、または前記カルボン酸モノエステル類、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルアルコール、アクリルアミド、メタクリロキシエチルホスフェート等、疎水性モノマーとしては、スチレン、痾−メチルスチレン等のスチレン誘導体、ビニルシクロヘキサン、ビニルナフタレン誘導体、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類等が挙げられる。共重合体は、ランダム、ブロック、およびグラフト共重合体等の様々な構成のものが使用できる。もちろん、親水性、疎水性モノマーとも、前記に示したものに限定されない。
【００６５】
界面活性剤としては、アニオン性、非イオン性、カチオン性、両イオン性活性剤を用いることができる。
アニオン性界面活性剤としては、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルジアリールエーテルジスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルリン酸塩、ナフタレンスルホン酸フォルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル塩、グリセロールボレイト脂肪酸エステル等が挙げられる。
【００６６】
非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンオキシプロピレンブロックコ共重合体、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、フッ素系、シリコン系等が挙げられる。
【００６７】
カチオン性活性剤としては、アルキルアミン塩、第４級アンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩、アルキルイミダゾリウム塩等が挙げられる。
両イオン性界面活性剤としては、アルキルベタイン、アルキルアミンオキサイド、ホスファジルコリン等が挙げられる。
【００６８】
なお、界面活性剤についても同様、前記に限定されるものではない。
その他の添加剤としては、例えばインクとしての用途の場合、インクの安定化と記録装置中のインクの配管との安定性を得るためのｐＨ調整剤、記録媒体へのインクの浸透を早め、見掛けの乾燥を早くする浸透剤、インク内での黴の発生を防止する防黴剤、インク中の金属イオンを封鎖し、ノズル部での金属の析出やインク中で不溶解性物の析出等を防止するキレート化剤、記録液の循環、移動、あるいは記録液製造時の泡の発生を防止する消泡剤、酸化防止剤、防カビ剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等も添加することができる。
【００６９】
本発明の組成物には、上記以外の成分を含有することを妨げない。
また、前記組成物はインクジェットインク組成物として好ましく用いられる。本発明の組成物の好ましい一実施形態はインクジェットインクであるが、さらに好ましくはオンデマンド型のインクジェットに対応したインクである。オンデマンド型インクジェットの例としては、サーマル方式、ピエゾ方式があるがいずれの場合もインクの粘度は非常に低いものが求められる。典型的には１０ｃｐｓ以下である。本発明の好ましい実施形態であるインクによれば、両親媒性ブロック共重合体に色材を内包して分散しているため、低粘度の分散状態を実現することが可能である。また、ブロック共重合体の分子量分散を小さくすることによっても、粘度の点で好ましい。また、記録媒体への定着性やインクジェット描画特性の点で、ブロック共重合体は３つ以上のブロックセグメントを有する化合物が好ましく、特に疎水セグメント、非イオン性親水セグメント、イオン性親水セグメントの順に並んだブロック共重合体を好ましく用いることができる。
【００７０】
本発明の画像形成方法は、前記組成物を用いてインクジェット法により画像を形成する方法である。本発明の組成物は、各種インクジェット法による画像形成装置に使用でき、この装置を用いた画像形成方法により描画することができる。用いられるインクジェット法は、圧電素子を用いたピエゾインクジェット方式や、熱エネルギーを作用させて発泡し記録を行う熱インクジェット方式のような周知の方法であってもよい。また、コンティニュアス型またはオンデマンド型のいずれの方法を用いてもよい。また、本発明のインク組成物は、中間転写体にインクを印字した後、紙等の最終被記録媒体に転写する記録方式に用いることもできる。
【００７１】
また、本発明においてに用いられる液体吐出手段の一実施形態はインクジェット方式であるが、これは、吐出する微小な液滴を用いて直接描画を行うので、描画可能な最小線幅、ならびに、回路間の最小間隔は、その液滴量に大きく依存する。本発明に用いられるインクジェット方式は近年、数ピコリットルの液適量で吐出可能となっており、例えば、回路間の間隔が０．３ｍｍ以下の高密度な配線パターンの作成も可能となっている。
【００７２】
また、本発明に用いられるインクジェット方式としてさらに好ましいのは、オンデマンド型のインクジェットである。オンデマンド型インクジェットの例としては、サーマル方式、ピエゾ方式があるがいずれの場合もインクの粘度は非常に低いものが求められる。典型的には１０ｃｐｓ以下である。本発明の好ましい実施形態であるインクによれば、両親媒性ブロック共重合体に色材を内包して分散しているため、低粘度の分散状態を実現することが可能である。
【００７３】
また、ブロック共重合体の分子量分散を小さくすることによっても、粘度の点で好ましい。また、記録媒体への定着性やインクジェット描画特性の点で、ブロック共重合体は３つ以上のブロックセグメントを有する化合物が好ましく、特に疎水セグメント、非イオン性親水セグメント、イオン性親水セグメントの順に並んだブロック共重合体を好ましく用いることができる。
【００７４】
本発明における液体吐出装置の好ましい一実施形態はインクジェット記録装置である。用いられるインクジェット法は、圧電素子を用いたピエゾインクジェット方式や、熱エネルギーを作用させて発泡し記録を行う熱インクジェット方式のような周知の方法であってもよい。また、コンティニュアス型またはオンデマンド型のいずれの方法を用いてもよい。
【００７５】
図１に、インクジェット記録装置の概略的機能図を示す。５０はインクジェット記録装置２０の中央処理ユニット（ＣＰＵ）である。ＣＰＵ５０を制御するためのプログラムは、プログラムメモリ６６に記憶されていてもよいし、あるいはいわゆるファームウェアとしてＥＥＰＲＯＭ（不図示）等の記憶手段に記憶されていてもよい。インクジェット記録装置は、記録データ作成手段（不図示、コンピュータなど）から、プログラムメモリ６６に記録データを受容する。記録データは、記録すべき画像あるいは文字の情報そのものでもよいし、それら情報の圧縮されたものでもよいし、または符号化された情報であってもよい。圧縮または符号化された情報を処理する場合には、ＣＰＵ５０に伸長または展開を行わせて記録すべき画像あるいは文字の情報を得ることができる。Ｘエンコーダ６２（例えば、Ｘ方向または主走査方向に関する）およびＹエンコーダ６４（例えば、Ｙ方向または副走査方向に関する）を設けて、被記録媒体に対するヘッドの相対位置をＣＰＵ５０に通知することができる。
【００７６】
ＣＰＵ５０は、プログラムメモリ６６、Ｘエンコーダ６２およびＹエンコーダ６４の情報に基づいて、画像を記録するための信号をＸモータ駆動回路５２、Ｙモータ駆動回路５４およびヘッド駆動回路６０に送信する。Ｘモータ駆動回路５２はＸ方向駆動モータ５６を、Ｙモータ駆動回路５４はＹ方向駆動モータ５８をそれぞれ駆動し、ヘッド７０を被記録媒体に対して相対的に移動させ、記録位置に移動させる。ヘッド駆動回路６０は、ヘッド７０が記録位置に移動した時点で、各種インク組成物（Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋ）の吐出を行わせるための信号をヘッド７０に送信し、記録を行う。ヘッド７０は、単色のインク組成物を吐出するためのものであってもよいし、複数種のインク組成物を吐出するためのものであってもよい。
【００７７】
本発明は、前記組成物を用いてインクジェット法によりパターンを形成する方法を包含する。本発明の組成物は、各種インクジェット法によるパターン形成装置に使用でき、この装置を用いた画像形成方法により描画することができる。用いられるインクジェット法は、圧電素子を用いたピエゾインクジェット方式や、熱エネルギーを作用させて発泡し記録を行う熱インクジェット方式のような周知の方法であってもよい。また、コンティニュアス型またはオンデマンド型のいずれの方法を用いてもよい。また、本発明の組成物は、中間転写体に組成物を印字した後、紙等の最終被記録媒体に転写する記録方式に用いることもできる。
【００７８】
本発明の組成物は、インクジェット方式においてパターンを記録する上で、有機導電性物質とポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有するブロック共重合体と溶媒または分散媒を含有する組成物あるいは有機導電性物質がミクロスフィアとなってブロック共重合体に内包されていることを特徴とする溶媒含有組成物である点で比較的低粘度である点そして良好にパターン記録できる点で優れて好ましいものである。特に有機導電性物質を内包しているために有機導電性物質の性質に比較的左右されず良好にパターン記録することが可能である。
【００７９】
また両親媒性ブロック共重合体で内包された分散インクは各種外的刺激に対して様々な形態へと応答変化することが可能であり、組成物の液滴着弾後のパターンの２次形成にも有用である。例えば基板上に本発明の組成物を直線状のパターンを記録した後、ミクロスフィア型の組成物の内包状態を刺激応答変化により解除し内包されていていた有機導電性物質を接触させた上で残ったブロック共重合体がパターン形成された有機導電性物質を直線状に被覆していくことも可能である。また、有機導電性物質との熱的性質の違いを利用し焼成することにより、より堅牢な有機導電性物質のパターンを形成することも可能である。尚、本発明にいうパターンに形成方法には、図１を用いて前述した装置を適宜使用することができる。
【００８０】
本発明の導電性パターンの形成方法は、導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成する。また、本発明の導電性パターンの形成方法は、導電性物質を内包するブロック共重合体と、溶媒と、を含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成するものを包含する。ここで、導電性物質は、金属微粒子を用いても良い。
【００８１】
以下、本発明の導電性パターンの形成方法の好適な例について説明する。
本発明の方法について採用される基板は、後述する熱処理（工程Ｃ）に耐え得る材質の基体とするのが望ましい。このような基板としては、例えば、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエステルフィルム、ガラス−エポキシ基板、紙−フェノール基板、シリコン基板、セラミックス基板、ガラス基板等が挙げられる。
【００８２】
本発明の配線パターン形成方法においては、まず、金属微粒子の分散組成物を、液体吐出装置を用いて、基板上に配線パターンを描画する（工程Ａ）。次いで、描画した配線パターンに外部刺激を与えることによって、画像の基板への定着性を高め、配線パターンの線幅の一定化や隣接する配線同士を交わることなく高密度な配線パターンの形成が可能となる（工程Ｂ）。
【００８３】
本発明で加えることができる外部刺激としては、温度変化、電磁波変化、ｐＨ変化、濃度変化、が挙げられる。これら外部刺激を与えることによって、描画された組成物は凝集やゾル・ゲル転移による増粘によって、基板上において、配線の幅方向にたいして滲み出しがなく、均一な線幅をえることが可能となり、また、隣接する回路間においても互いに滲み出し交わることなく、高密度な配線パターンを形成することが可能となる。
【００８４】
本発明に用いる外部刺激は、一種類でも良いし複数種の外部刺激を用いてもよい。
以下に上記の外部刺激についてそれぞれ説明する。
（ａ）温度刺激の場合
インクタンク内のインクの温度と、吐出により付着した記録媒体上でのインクの温度との差による温度刺激により、本発明のインクジェット用インク組成物が相変化を起こし、急激に増粘あるいは不溶成分の凝集が起こる。
【００８５】
（ｂ）電磁波刺激の場合
インクタンク内を暗室とし、吐出により可視光にさらす方法、またはインクジェット記録装置内に設けた電磁波照射部から電磁波を照射する方法により電磁波刺激を与えることができる。その電磁波刺激により、本発明のインクジェット用インク組成物に含まれる重合官能基が重合し、増粘あるいは不溶成分の凝集が起こる。
【００８６】
（ｃ）ｐＨ変化による刺激の場合
インク組成物が記録媒体に付着することにより、記録媒体の影響を受けてインク組成物のｐＨが変化し、そのｐＨ変化により、本発明のインクジェット用インク組成物が相変化を起こし、増粘あるいは不溶成分の凝集が起こる。
【００８７】
（ｄ）濃度変化による刺激の場合
インクタンク内のインク組成物の濃度と、吐出されたインク組成物に含まれる水および水性溶剤が蒸発または被記録媒体に吸収された後の濃度との差によるインク組成物の濃度変化により、本発明のインクジェット用インク組成物が相変化を起こし、増粘あるいは不溶成分の凝集が起こる。
【００８８】
（ｅ）カチオン性化合物またはアニオン性化合物の添加の場合
カチオン性化合物またはアニオン性化合物をインク組成物が記録媒体に付着する前あるいは後に添加することにより、またはカチオン性化合物またはアニオン性化合物を予め塗布した記録媒体にインク組成物が記録媒体に付着することにより、本発明のインクジェット用インク組成物が相変化を起こし、増粘あるいは不溶成分の凝集が起こる。
【００８９】
これらのインクの特性の変性により、優れた定着性を発現させることが可能である。なおインクの変性は上述した増粘あるいは不溶成分の凝集に限定されるものではない。
また、刺激を与える方法については、様々な方法が適用し得る。好ましい一つの方法としては、刺激となる刺激付与物質を前述してきた刺激応答性のインクと混合または接触させる方法がある。例えば前記（ｃ）のｐＨ応答性インクに対して、相当するｐＨの組成物を混合する方法として、インクジェット法を適用することが可能である。特開昭６４−６３１８５号公報に記載されているように、インクジェットヘッドにより画像を形成する領域全面にわたって刺激となる刺激付与物質を打ち込むようにすることもできるし、特開平８−２１６３９２号公報に記載の方法のように刺激となる刺激付与物質の量を制御して、より優れた画像を形成することもできる。
【００９０】
また本発明の配線パターン形成方法において、工程Ａおよび工程Ｂに次いで、回路パターンが定着した基板に、熱もしくは光線の処理を行うことによって配線パターンに含まれるブロックポリマーを分解揮散し、基板上に配線パターンを形成する（工程Ｃ）。
【００９１】
一般に平均粒子径数ｎｍ〜数１０ｎｍ程度の金属微粒子はその融点よりも格段に低い温度（例えば、銀であれば２００ｎｍ）で焼結することが知られている。基板に熱もしくは光線の処理を行うことにより、ブロックポリマーを分解揮散させるとともに金属微粒子を焼結させて配線パターンを形成することが可能となる。
【００９２】
本発明における工程Ｃにおいて、上記熱もしくは光線の処理を行う際、それら一方のみを用いてもよいし、組み合わせてもよいし、あるいは同時に用いてもよい。
また、本発明のパターン形成方法は特に制限されないが、マトリックス配線の形成に用いることも可能である。例えば表面伝導型電子放出素子を本発明のパターン形成方法によってマトリックス上に配置したマトリックス配線が外囲器（気密容器）内に配置することによって、この電子放出素子を電子源として用いた画像表示装置が形成される。ここで表面伝導型電子放出素子とは、基板上に形成された微粒子からなる導電性薄膜に、素子電極と呼ばれる一対の電極から上記導電性薄膜に電圧を印加することにより、導電性薄膜の一部に形成された電子放出部から電子が真空中に放出される。上記表面伝導型電子放出素子を用いた画像表示装置の原理は、上記表面伝導型電子放出素子から放出された電子を蛍光体に照射することで発光を得るものである。
【００９３】
本発明のパターン形成方法を用いてのマトリックス配線の形成方法は、以下のように行われる。すなわち（ａ）行列配線の一方の配線について、金属微粒子の分散組成物を、上記で述べた液体吐出装置にて、基板上に配線パターンを描画する（工程Ａ）。次いで、描画した配線パターンに外部刺激を与えることによって、画像の基板への定着性を高め、配線パターンの線幅の一定化や隣接する配線同士を交わることなく高密度な配線パターンを形成する（工程Ｂ）。ついで工程Ａおよび工程Ｂに次いで、配線パターンが定着した基板に、熱もしくは光線の処理を行うことによって配線パターンに含まれるブロックポリマーを分解揮散し、基板上に配線パターンを形成する（工程Ｃ）（ｂ）絶縁層の配線のパターニング・焼成する。（ｃ）行列配線の他方の配線について、（ａ）と同様に配線パターンを形成する、といった順番で順次形成していく。
【００９４】
以上、本発明のマトリックス配線は、表示パネル、画像形成装置に用いることが可能である。
【実施例】
【００９５】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
実施例１
＜ブロックポリマー１の合成＞
イソブチルビニルエーテル（ＩＢＶＥ：Ａブロック）と４−（２−ビニルオキシ）エトキシ安息香酸エチル（ＶＥＯＥｔＰｈＣＯＯＥｔ：Ｂブロック）からなるブロックポリマーの合成。
【００９６】
三方活栓を取り付けたガラス容器内を窒素置換した後、窒素ガス雰囲気下２５０℃に加熱し吸着水を除去した。系を室温に戻した後、ＩＢＶＥ１２ｍｍｏｌ（ミリモル）、酢酸エチル１６ｍｍｏｌ、１−イソブトキシエチルアセテート０．０５ｍｍｏｌ、及びトルエン１１ｍｌを加え、反応系を冷却した。系内温度が０℃に達したところでエチルアルミニウムセスキクロリド（ジエチルアルミニウムクロリドとエチルアルミニウムジクロリドとの等モル混合物）を０．２ｍｍｏｌ加え重合を開始した。分子量を時分割に分子ふるいカラムクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いてモニタリングし、Ａブロックの重合の完了を確認した。
【００９７】
次いで、ＶＥＯＥｔＰｈＣＯＯＥｔ：Ｂブロックの１０ｍｍｏｌの１３ｍｌトルエン溶液を添加して、重合を続行した。２０時間後、重合反応を停止した。重合反応の停止は、系内に０．３質量％のアンモニア／メタノール水溶液を加えて行った。反応混合物溶液をジクロロメタンにて希釈し、０．６Ｍ塩酸で３回、次いで蒸留水で３回洗浄した。得られた有機相をエバポレーターで濃縮・乾固したものを真空乾燥させたものを、セルロースの半透膜を用いてメタノール溶媒中透析を繰り返し行い、モノマー性化合物を除去し、目的物であるトリブロックポリマーを得た。化合物の同定は、ＮＭＲおよびＧＰＣを用いて行った。Ｍｎ＝２１５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３８であった。重合比はＡ：Ｂ＝２００：２８であった。
【００９８】
さらにここで得られたブロックポリマーをメタノールと水酸化ナトリウム水混合溶液中で１０時間、加水分解し、１００ｌ％加水分解されたナトリウム塩化されたトリブロックポリマーを得た。化合物の同定は、ＮＭＲおよびＧＰＣを用いて行った。
【００９９】
＜ブロックポリマー２の合成＞
イソブチルビニルエーテルとＣＨ2＝ＣＨＯＣＨ2ＣＨ2ＯＰｈＰｈ：（ＩＢＶＥ−ｒ−ＶＥＥｔＰｈＰＨ：Ａブロック）と２−メトキシエチルビニルエーテル（ＭＯＶＥ：Ｂブロック）と４−（２−ビニルオキシ）エトキシ安息香酸エチル（Ｃブロック）からなるトリブロックポリマーの合成。
【０１００】
三方活栓を取り付けたガラス容器内を窒素置換した後、窒素ガス雰囲気下２５０℃に加熱し吸着水を除去した。系を室温に戻した後、ＩＢＶＥ６ｍｍｏｌ（ミリモル）、ＶＥＥｔＰｈＰｈを６ｍｍｏｌ、酢酸エチル１６ｍｍｏｌ、１−イソブトキシエチルアセテート０．１ｍｍｏｌ、及びトルエン１１ｍｌを加え、反応系を冷却した。系内温度が０℃に達したところでエチルアルミニウムセスキクロリド（ジエチルアルミニウムクロリドとエチルアルミニウムジクロリドとの等モル混合物）を０．２ｍｍｏｌ加え重合を開始した。分子量を時分割に分子ふるいカラムクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いてモニタリングし、Ａブロックの重合の完了を確認した。
【０１０１】
次いで、ＢブロックのＭＯＶＥを２４ｍｍｏｌ添加し、重合を続行した。ＧＰＣを用いるモニタリングによって、Ｂブロックの重合の完了を確認した後、１０ｍｍｏｌのＣブロック成分のトルエン溶液を添加して、重合を続行した。２０時間後、重合反応を停止した。重合反応の停止は、系内に０．３質量％のアンモニア／メタノール水溶液を加えて行った。反応混合物溶液をジクロロメタンにて希釈し、０．６Ｍ塩酸で３回、次いで蒸留水で３回洗浄した。得られた有機相をエバポレーターで濃縮・乾固したものを真空乾燥させたものを、セルロースの半透膜を用いてメタノール溶媒中透析を繰り返し行い、モノマー性化合物を除去し、目的物であるトリブロックポリマーを得た。化合物の同定は、ＮＭＲおよびＧＰＣを用いて行った。Ｍｎ＝３６５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３１であった。重合比はＡ：Ｂ：Ｃ＝１００：２００：２３であった。Ａブロック内の２種のモノマーの重合比は１：１であった。さらにここで得られたブロックポリマーをジメチルフォルムアミドと水酸化ナトリウム水混合溶液中で加水分解し、Ｃブロック成分が１００％加水分解され、ナトリウム塩化されたトリブロックポリマーを得た。化合物の同定は、ＮＭＲおよびＧＰＣを用いて行った。
【０１０２】
＜ブロックポリマー３の合成＞
２で用いたＢブロックのモノマーを２−（２−メトキシエチル）エチルビニルエーテルに変え２と同様にトリブロックポリマーを合成した。Ｍｎ＝３７５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３８であった。重合比はＡ：Ｂ：Ｃ＝１０５：１９０：２２であった。Ａブロック内の２種のモノマーの重合比は１：１であった。
【０１０３】
＜ブロックポリマー４の合成＞
２で用いたＡブロックを２−エトキシエトキシビニルエーテルに変え、Ｂブロックのモノマーを２−（２−メトキシエチル）エチルビニルエーテルに変え２と同様にトリブロックポリマーを合成した。Ｍｎ＝３３５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３３であった。重合比はＡ：Ｂ：Ｃ＝１０５：１７０：２０であった。
【０１０４】
＜ブロックポリマー５の合成＞
＜２−（４−メチルベンゼンオキシ）エチルビニルエーテル（ＴｏｌＯＶＥ：Ａブロック）とジエチレングリコールメチルビニルエーテル（ＭＯＥＯＶＥ：Ｂブロック）と４−（２−ビニルオキシ）エトキシ安息香酸エチル（ＶＥＥｔＰｈＣＯＯＥｔ：Ｃブロック）からなるトリブロックポリマー・ポリ［ＴｏｌＯＶＥ−ｂ−ＭＯＥＯＶＥ−ｂ−ＶＥＥｔＰｈＣＯＯＥｔ］］の合成１＞（ここで、ｂはブロックポリマーであることを示す記号である）
三方活栓を取り付けたガラス容器内を窒素置換した後、窒素ガス雰囲気下２５０℃に加熱し吸着水を除去した。系を室温に戻した後、２−（４−メチルベンゼンオキシ）エチルビニルエーテル（ＴｏｌＯＶＥ）を５．０ｍｍｏｌ、ジオキサン１６ｍｍｏｌ、１−イソブトキシエチルアセテート０．０５ｍｍｏｌ、及びトルエン１１ｍｌを加え、反応系を冷却した。系内温度が０℃に達したところでエチルアルミニウムセスキクロリド（ジエチルアルミニウムクロリドとエチルアルミニウムジクロリドとの等モル混合物）を０．２ｍｍｏｌ加え重合を開始した。分子量を時分割に分子ふるいカラムクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いてモニタリングし、Ａブロックの重合の完了を確認した。
【０１０５】
次いで、Ｂブロック成分としてＭＯＥＯＶＥ４．４ｍｍｏｌ（ミリモル）を添加し、重合を続行した。ＧＰＣを用いるモニタリングによって、Ｂブロックの重合の完了を確認した後、５．０ｍｍｏｌの４−（２−ビニルオキシ）エトキシ安息香酸エチルをＣブロック成分として添加して、重合を続行した。３時間後、重合反応を停止した。重合反応の停止は、系内に０．３質量％のアンモニア／メタノール水溶液を加えて行った。反応混合物溶液をジクロロメタンにて希釈し、０．６ｍｏｌ／Ｌ塩酸で３回、次いで蒸留水で３回洗浄した。得られた有機相をエバポレーターで濃縮・乾固したものを真空乾燥させたものを、セルロースの半透膜を用いてメタノール溶媒中透析を繰り返し行い、モノマー性化合物を除去し、目的物であるトリブロックポリマーを得た。化合物の同定は、ＮＭＲおよびＧＰＣを用いて行った。Ｍｎ＝２６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１７であった。重合比はＡ：Ｂ：Ｃ＝１００：９０：１０であった。
【０１０６】
さらにここで得られたトリブロックポリマーをジメチルフォルムアミドと水酸化ナトリウム水混合溶液中で加水分解することで、Ｃブロック成分中の４−（２−ビニルオキシ）エトキシ安息香酸エチルが加水分解され、ナトリウム塩化されたトリブロックポリマーを得た。化合物の同定は、ＮＭＲおよびＧＰＣを用いて行った。
【０１０７】
以上合成したブロックポリマー１，ブロックポリマー２，ブロックポリマー３、ブロックポリマー５をそれぞれ２８重量部を純水４００重量部に分散したものに、金粒子のトルエン分散物（商品名  パーフェクトゴールド  アルバックイーエス株式会社製  金重量は３０ｗｔ％、平均粒径６ｎｍ）４８重量部を超音波分散機中で混合した。２ミクロンのメンブランフィルターで粗大粒子を除去し金粒子分散物（１、２、３および５のポリマーに対して分散物を分散物（１）、分散物（２）、分散物（３）、分散物（４）と呼ぶこととする。）を調整した。分散物（１）、分散物（２）、分散物（３）、分散物（４）はいずれも濃黄色を呈しており、粒径を大塚電子製ＤＬＳ７０００で粒径を測定したところ、平均粒径はそれぞれ１２９ｎｍ、１３４ｎｍ、１５４ｎｍ、１１０ｎｍであった。分散度指数はそれぞれ０．０８９、０．１２１、０．０７８、０．０７０であった。
【０１０８】
またこのものをシリコン基板上へ塗布し走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの場合も平均粒径１８ｎｍの金粒子が観察され、分散物（１）、分散物（２）、分散物（３）、分散物（４）が共に複数の金一次粒子からなるミクロスフィアであることがわかった。分散物（１）、分散物（２）、分散物（３）、分散物（４）をそれぞれクライオトランスファーＴＥＭで観察したところ、実際にミクロスフィア状態が観察できた。
【０１０９】
また上記分散物（１）、分散物（２）、分散物（３）、分散物（４）をそれぞれ６５質量部にグリセリン６質量部、エチレングリコール１２質量部を加えインク組成物を調整した。得られたインク組成物をテフロン（登録商標）容器に密閉し、６０℃で２ヶ月間保存した、分離物や沈降物の有無を目視することにより分散安定性について評価した。分散物（１）、分散物（２）、分散物（３）、分散物（４）のいずれも、２ヶ月後において分離物や沈殿物は確認できなかった。
【０１１０】
また以上合成したブロックポリマー１，ブロックポリマー２，ブロックポリマー４，ブロックポリマー５を２８重量部、純水４００重量部に分散したものに、Ｃ６０フラーレンのトルエン分散物１４重量部を超音波分散機中で混合した。２ミクロンのメンブランフィルターで粗大粒子を除去し分散物（１、２、４および５のポリマーに対して分散物を分散物（５）、分散物（６）、分散物（７）、分散物（８）と呼ぶこととする。）を調整した。分散物（５）、分散物（６）、分散物（７）、分散物（８）の粒径を大塚電子製ＤＬＳ７０００で粒径を測定したところ、平均粒径はそれぞれ１４５ｎｍ、１６７ｎｍ、１３９ｎｍ、１２９ｎｍであった。分散度指数はそれぞれ０．０９９、０．１３１、０．０７１、０．０６５であった。
【０１１１】
またフラーレンを用いずにブロック共重合体のみでミセルを形成させた粒子が同様な測定でそれぞれ４６ｎｍ、５５ｎｍ、４５ｎｍ、４２ｎｍであり、分散度指数はそれぞれ０．１０９、０．０８９、０．０８６、０．０７０であった。また、ブロック共重合体４からなる分散組成物（７）を０℃に冷却したとき（Ａブロックは２０℃以下で親水性に相変化しミセルが崩壊する）フラーレンが分離してきたこと、フレーレンの直径が数ｎｍであることからこれら分散組成物はフラーレンがブロックポリマーにミクロスフィア状態で内包されていることがわかった。
【０１１２】
実施例２
実施例１で作成した分散物（１）、分散物（２）、分散物（３）をそれぞれ６５重量部にグリセリン６重量部、エチレングリコール１２重量部を加えインク組成物を調整した。これらをキヤノン社製ＢＪプリンターＰＩＸＵＳ９９０ｉのインクタンクに充填し、普通紙に記録を行なった。濃黄色の文字がきれいに印字できた。また、水をかけたがにじみは一切なかった。
【０１１３】
実施例３
ガス中蒸発法で作成した平均粒径１５ｎｍの銀微粒子トルエン分散物を用いて、実施例１と同様にブロックポリマー３、ブロックポリマー５を用いて、黒色液体組成物調整した。これを用いて実施例１と同様にインクジェットインク組成物を調整し、キヤノン社製ＢＪプリンターＰＩＸＵＳ９９０ｉのインクタンクに充填し、普通紙に記録を行なった。黒色の文字がきれいに印字できた。また、水をかけたがにじみは一切なかった。
【０１１４】
比較例１
実施例１で使用したブロック共重合体をセチルアンモニウムブロミドとドデシルテトラエチレングリコールエーテルの１対１混合物に変え、金微粒子トルエン分散物を分散した組成物を調整した。これを６５重量部にグリセンリン６重量部とエチレングリコール１２重量部を加えたところ、濃黄色沈殿が生成した。
【０１１５】
比較例２
実施例１のブロック共重合体をスチレンアクリル酸ナトリウム１：１ランダム共重合体（Ｍｎ＝１４０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７８）に変え、実施例１と同様にインクジェットインクを調整した。これおをキヤノン社製ＢＪプリンターＰＩＸＵＳ９９０ｉのインクタンクに充填し、普通紙に記録を行なったところ、かすれた文字がわずかに印字されたのみでほとんど印字することが出来なかった。
【０１１６】
実施例４
実施例１で作成した分散物（５）、分散物（６）、分散物（７）、分散物（８）をそれぞれ６５重量部にグリセリン６重量部、エチレングリコール１２重量部を加えインク組成物を調整した。これらをキヤノン社製ＢＪプリンターＰＩＸＵＳ９９０ｉのインクタンクに充填し、シリコン基板上に０．３ｍｍ幅、１ｃｍ長の直線記録を行なったところいずれの組成物においてもきれいにパターン記録できた。またＰＥＴフィルム上に同様に分散物（５）、分散物（６）、分散物（７）、分散物（８）を記録したところこの場合もきれいにパターン記録できた。
【０１１７】
実施例５
実施例４中、分散物（７）でＰＥＴフィルム上に記録したものを記録直後、基板を５℃に冷却することによりＡブロックを親水性に相変化させ内包状態を解除し、５時間そのまま放置し、さらに室温で６０時間放置した。このものをミクロトームでカッティングし走査型電子顕微鏡で観察したところ、フラーレンが最大高さ３６０ｎｍで堆積し、それをポリマーが外部被覆していた。
【０１１８】
実施例６
ｐ型半導性を有するよく知られているオリゴチオフェンであるテトラチオフェンを用いて、実施例１と同様にブロックポリマー４、ブロックポリマー５を用いて分散組成物を調整した。これを用いて実施例４と同様にＰＥＴフィルム上に記録したところこの場合もきれいにパターン記録することが出来た。
【０１１９】
比較例３
実施例１で使用したブロック共重合体をセチルアンモニウムブロミドとドデシルテトラエチレングリコールエーテルの１対１混合物に変え、実施例１で用いたフラーレンを分散し組成物を調整した。これを６５重量部にグリセンリン６重量部とエチレングリコール１２重量部を加えたところ、沈殿物が生成した。
【０１２０】
比較例４
実施例１のブロック共重合体をスチレンアクリル酸ナトリウム１：１ランダム共重合体（Ｍｎ＝１２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９１）に変え、実施例６と同様にインクジェットインクを調整した。これを実施例６と同様に直線記録を行おうとしたが、直線を描くことが出来なかった。
【０１２１】
実施例７
＜配線パターンの形成＞
上記分散物（２）、（３）、（４）を用いて得られたインク組成物を、キヤノン社製、ＢＪプリンター、ＰＩＸＵＳ  ９９０ｉ（サーマル方式）のインクタンクに充填し、ポリイミドフィルム上に、膜厚５μｍ、線幅１２０μｍの直線パターンを所定の間隔で上記プリンターを用いて印刷した（工程Ａ）。ここで基板のポリイミドフィルムはあらかじめｐＨ２のポリアクリル酸の５質量％水溶液を噴霧した後乾燥させたものであり、刺激を与えることができる基板である（工程Ｂ）。ついで１５０℃で３０分、更に２１０℃で６０分の二段階の熱処理を施し、含まれるブロックポリマーを分解揮散した。
【０１２２】
以上で得られた配線パターンに関して、（１）線幅の変異、（２）ライン間隔、（３）比抵抗、についてそれぞれ評価を行った。評価基準はそれぞれ以下に示す。
（１）線幅の変異
○：線幅の変異が直線パターン１２０μｍに対して、５％未満であった。
△：線幅の変異が直線パターン１２０μｍに対して、２０％未満であった。
×：線幅の変異が直線パターン１２０μｍに対して、２０％以上であった。
【０１２３】
（２）ライン間隔
○：ライン間隔が６０μｍ以上において隣接する配線が滲んで交わることは無かった。
△：ライン間隔が８０μｍ以上において隣接する配線が滲んで交わることは無かった。
×：ライン間隔が１２０μｍ以上においても隣接する配線が滲んで一部交わるところが観測された。
【０１２４】
（３）比抵抗
回路の抵抗値と膜厚を測定して比抵抗を求めた。
【０１２５】
＜評価＞
（ａ）線幅の変異については分散物（２）、（３）、（４）に関して、いずれも評価結果は○であった。
（ｂ）ライン間隔については分散物（２）、（３）、（４）に関して、いずれも評価結果は○であった。
（ｃ）比抵抗は、分散物（２）、（３）、（４）に関して得られる配線パターンを測定したところ、いずれも３×１０-4Ωｃｍであった。
【０１２６】
実施例８
ガス中蒸発法で作成した平均粒径１５ｎｍの銀微粒子トルエン分散物を用いて、実施例７と同様に実施例７で合成したブロックポリマー３及びブロックポリマー４を用いて、黒色液体組成物（７）、（８）を調整した。これを用いて実施例１と同様にインクジェットインク組成物を調整し、キヤノン社製ＢＪプリンターＰＩＸＵＳ  ９９０ｉのインクタンクに充填し、ポリイミドフィルム上に、膜厚５μｍ、１２０μｍの線幅の直線パターンを所定の間隔で上記プリンターを用いて印刷した。配線パターンの形成方法の他の条件は実施例７と同様に行った。
【０１２７】
以上で得られた配線パターンに関して、（１）線幅の変異、（２）ライン間隔、（３）比抵抗についてそれぞれ評価を行った。評価基準は実施例７と同様である。
＜評価＞
（ａ）線幅の変異については、黒色液体組成物（７）、（８）に関して、評価結果は○であった。
（ｂ）ライン間隔については、黒色液体組成物（７）、（８）に関して、評価結果は○であった。
（ｃ）比抵抗は、黒色液体組成物（７）、（８）に関して得られる配線パターンを測定したところ、２．６×１０-5Ωｃｍであった。
【０１２８】
比較例５
実施例７のブロック共重合体をスチレン：アクリル酸ナトリウム（１：１）のランダム共重合体（Ｍｎ＝１４０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７８）に変え、実施例７と同様にインクジェットインクを調整した。これをキヤノン社製ＢＪプリンターＰＩＸＵＳ  ９９０ｉのインクタンクに充填し、ポリイミドフィルム上に、膜厚５μｍ、１２０μｍの線幅の直線パターンを所定の間隔で上記プリンターを用いて印刷した。配線パターンの形成方法の他の条件は実施例７と同様に行った。その結果、描画された画像は、かすれた部分が多く、十分な配線パターンが得られなかった。
【０１２９】
実施例９
ガス中蒸発法で作成した平均粒径１５ｎｍの銀微粒子トルエン分散物を用いて、実施例１と同様にブロックポリマー５を用いて、黒色液体組成物調整した。２ミクロンのメンブランフィルターで粗大粒子を除去し銀微粒子分散物（分散物（１０）と呼ぶこととする。）を調整した。分散物（１０）を粒径を大塚電子製ＤＬＳ７０００で粒径を測定したところ、平均粒径はそれぞれ１２５ｎｍ、分散度指数は０．０８７であった。
【０１３０】
次いで分散物（１０）を６５重量部にグリセリン６重量部、エチレングリコール１２重量部を加えインク組成物を調整した。
ついで本発明のパターン形成方法を用いてガラス基板上にマトリックス配線を形成した例を、図２を使って説明する。図２（ａ）〜（ｃ）は、マトリックス状配線を形成したプロセスを示す平面図である。
【０１３１】
図２において、１は基板、２は真空枠を設置する場所を示している。３は列配線、４は絶縁層、５は行配線を示している。ここで、列配線の一部は外枠接着部と交差する。
次に、本実施の形態の手順を示す。なお、本実施の形態の焼成はベルト炉にて行った。
【０１３２】
まず、図２（ａ）のようにガラス基板上に列配線３を形成する。すなわち、上記分散物（１０）を用いて得られたインク組成物を、キヤノン社製、ＢＪプリンター、ＰＩＸＵＳ  ９９０ｉ（サーマル方式）のインクタンクに充填し、列配線３は幅９０μｍとして、液滴を付与した。（工程Ａ、図２（ｂ））。ここで予め素子電極２，３間にはｐＨ２のポリアクリル酸の５質量％水溶液を噴霧した後乾燥させたものであり、刺激を与えることができる基板である（工程Ｂ）。
【０１３３】
次に、１５０℃で３０分、更に２１０℃で６０分の二段階の熱処理を施し、含まれるブロックポリマーを分解揮散し、列配線３を得た（工程Ｃ）
次に、図２（ｂ）のようにスクリーン印刷で絶縁層４を形成した。ペ一スト材料は酸化鉛を主成分としてガラスバインダー及び樹脂を混合したガラスペーストを用いた。焼成は、４００℃にて１０分保つ条件で行った。本実施の形態では、このガラスペーストの印刷、焼成を４回繰り返し行い絶縁層を積層した。
【０１３４】
最後に、列配線３と同様に行配線５を絶縁層４上に銀ペーストで形成した。以上により、絶縁膜を介しストライプ状の列配線とストライプ状の行配線とが直交したマトリクス配線が形成される。本実施の形態では、以上のようにマトリックス配線が形成された基板を更に４８０℃で１０分に保つ焼成を３回行った。
以上のように形成したマトリックス配線は、断線や隣接配線ショートが無い良好な特性であった。
【０１３５】
比較例６
実施例９のブロック共重合体をスチレン：アクリル酸ナトリウム（１：１）のランダム共重合体（Ｍｎ＝１４０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７８）に変え、実施例９と同様にインクジェットインクを調整した。これを実施例９と同様にマトリックス配線を作成した。
以上のように形成したマトリックス配線は、一部に断線や隣接配線ショートが見られた。
【産業上の利用可能性】
【０１３６】
本発明の組成物は、特定のブロック共重合体を用いているので、分散性が安定し、エッジの整った導電性パターンの形成に利用することができる。特に、インクジェット記録装置に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】本発明の組成物を付与する装置の概略の機構を示す模式図である。
【図２】本発明の導電性パターンの形成方法をマトリックス配線の形成に適用する場合の模式図である。
【符号の説明】
【０１３８】
１  基板
２  真空枠を設置する位置
３  列配線
４  絶縁層
５  行配線
２０  インクジェット記録装置
５０  ＣＰＵ
５２  Ｘモータ駆動回路
５４  Ｙモータ駆動回路
５６  Ｘ方向駆動モータ
５８  Ｙ方向駆動モータ
６０  ヘッド駆動回路
６２  Ｘエンコーダ
６４  Ｙエンコーダ
６６  プログラムメモリ
７０  ヘッド
【図１】
2006249399.tif 000005
【図２】
2006249399.tif 000006