(57)【要約】【課題】  減圧チャンバーによるビードの吸引を支持体（ウェブ）の幅方向へ略均一に行う技術を提供する。【解決手段】  ウェブ１４の幅方向に沿って配置される減圧チャンバー２６のバックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ、およびウェブ１４の走行方向に関するバックプレート２６Ａの厚さＴを、以下の式を満たすように設定する。［（ＣＬｍａｘ−ＣＬｍｉｎ）／｛（ＣＬｍａｘ＋ＣＬｍｉｎ）／２｝］≦１．６、［（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）／｛（Ｔｍａｘ＋Ｔｍｉｎ）／２｝］≦１．６【選択図】 図１
2006272130.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックアップローラにより支持された状態で連続走行する支持体の表面に向かってスロットダイから塗布液を吐出するとともに、前記スロットダイと前記支持体との間に架設される塗布液のビードの支持体上流側を減圧チャンバーによって減圧し、当該ビードによって前記支持体の表面に前記塗布液を塗布する塗布液の塗布方法において、
前記支持体の幅方向に沿って配置される前記減圧チャンバーのバックプレートと前記バックアップローラとの間隔、および前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さが、
【数１】
2006272130.tif 000015
【数２】
2006272130.tif 000016
ＣＬｍａｘ：前記バックプレートと前記バックアップローラとの間隔の最大値
ＣＬｍｉｎ：前記バックプレートと前記バックアップローラとの間隔の最小値
Ｔｍａｘ  ：前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さの最大値
Ｔｍｉｎ  ：前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さの最小値
を満たすことを特徴とする塗布液の塗布方法。
【請求項２】
前記支持体のうち前記ビードが接触する部分と前記バックプレートが最も近接する部分との間の前記走行方向に関する長さが、５０ｍｍ〜７００ｍｍの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の塗布液の塗布方法。
【請求項３】
前記支持体の表面に対する前記塗布液の塗布量は１０ｃｃ／ｍ２以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の塗布液の塗布方法。
【請求項４】
前記スロットダイは、オーバーバイト構造を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗布液の塗布方法。
【請求項５】
前記請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布液の塗布方法によって得られる塗布層を少なくとも１層有することを特徴とする光学フィルム。
【請求項６】
前記請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布液の塗布方法によって得られる塗布層を少なくとも１層有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項７】
バックアップローラにより支持された状態で連続走行する支持体の表面に向かってスロットダイから塗布液を吐出するとともに、前記スロットダイと前記支持体との間に架設される塗布液のビードの支持体上流側を減圧チャンバーによって減圧し、当該ビードによって前記支持体の表面に前記塗布液を塗布する塗布液の塗布装置において、
前記支持体の幅方向に沿って配置される前記減圧チャンバーのバックプレートと前記バックアップローラとの間隔、および前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さが、
【数３】
2006272130.tif 000017
【数４】
2006272130.tif 000018
ＣＬｍａｘ：前記バックプレートと前記バックアップローラとの間隔の最大値
ＣＬｍｉｎ：前記バックプレートと前記バックアップローラとの間隔の最小値
Ｔｍａｘ  ：前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さの最大値
Ｔｍｉｎ  ：前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さの最小値
を満たすことを特徴とする塗布液の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布液の塗布方法、塗布液の塗布装置、光学フィルム、および反射防止フィルムに係り、特に減圧チャンバーのバックプレートの配置条件に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ウェブ（支持体）の表面に所望の厚さの塗布膜を塗布する塗布装置として、バーコータ方式、リバースロールコータ方式、グラビアロールコータ方式、エクストルージョンコータなどのスロットダイコータ方式、等が知られている。この中でもスロットダイコータ方式の塗布装置は、他の方式と比較して、高速で薄層の塗布が可能であることから多用されている。
【０００３】
エクストルージョンコータに代表されるスロットダイコータ方式では、ウェブとスロットダイとの間にビードを架設して塗布液の塗布を行うが、いわゆる段ムラなどの塗布不良を防いで塗布液をウェブに対して均一に塗布するためには、ビードを安定化させることが重要である。ビードは、ウェブの走行方向の下流側に引かれる力と減圧チャンバーなどによって上流側に引かれる力とのバランスにより、その位置や性状が決定される。そのため、ビードが減圧チャンバー等によって上流側へ適切に吸引されないと、ビード振動や塗布液の送液脈動などが生じてしまい、塗布液をウェブに対して均一に塗布することが難しくなる。
【０００４】
このような事情から、例えば特許文献１では、減圧チャンバーにつながる減圧用スリットが塗工用スリットと平行に設けられた塗工装置が開示されている。この塗工装置は、ダイヘッド先端部のビード近傍部の減圧度を高めて、ビードがダイヘッドによって安定的に保持されるようにすることを目的としている。
【特許文献１】特開２００３−５３２３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述のように、ウェブに対する塗布液の塗布を均一に行うためには、ビードが上流側へ適切に吸引されることが大切である。特に、塗布液の塗布をウェブの幅方向へ均一に行うためには、ビードの吸引がウェブ幅方向に関して均一に行われることが重要である。
【０００６】
しかしながら、例えば特許文献１に開示されている塗工装置では、減圧チャンバー内の減圧度を一様に保つことが難しく、ビード近傍部の減圧度をウェブ幅方向に亘って均一に保つことは極めて困難である。特に光学フィルムなどの製造に要求される「低粘度の塗布液」や「塗布液の低塗布量」という条件下では、減圧チャンバー内の減圧変動がビードに対して大きく影響し、ウェブに対する塗布液の塗布を高精度に行うことが難しくなる。
【０００７】
本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、減圧チャンバーによるビードの吸引を支持体（ウェブ）の幅方向へ略均一に行うことができる塗布液の塗布方法および塗布装置と、そのような塗布方法や塗布装置によって得られる塗布層を含む光学フィルムおよび反射防止フィルムと、を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するために請求項１に記載の発明は、バックアップローラにより支持された状態で連続走行する支持体の表面に向かってスロットダイから塗布液を吐出するとともに、前記スロットダイと前記支持体との間に架設される塗布液のビードの支持体上流側を減圧チャンバーによって減圧し、当該ビードによって前記支持体の表面に前記塗布液を塗布する塗布液の塗布方法に関する。この塗布液の塗布方法では、前記支持体の幅方向に沿って配置される前記減圧チャンバーのバックプレートと前記バックアップローラとの間隔、および前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さが、
【０００９】
【数５】
2006272130.tif 000003
【００１０】
【数６】
2006272130.tif 000004
【００１１】
（ＣＬｍａｘ：前記バックプレートと前記バックアップローラとの間隔の最大値、ＣＬｍｉｎ：前記バックプレートと前記バックアップローラとの間隔の最小値、Ｔｍａｘ  ：前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さの最大値、Ｔｍｉｎ  ：前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さの最小値）を満たす。
【００１２】
本発明によれば、減圧チャンバーのバックプレートと前記支持体との間隔およびバックプレートの厚さが調整されて、支持体とバックプレートとの間に形成される空間であって減圧チャンバーの外部から内部への空気の流入を許容する空間（以下、「空気流入空間」とも表記する）の大きさが調節される。特に、上記各式が満たされるように空気流入空間の大きさを調整することによって、減圧チャンバーによるビードの吸引を支持体幅方向へ略均一に行うことが可能となる。
【００１３】
また、請求項２に記載のように、前記支持体のうち前記ビードが接触する部分と前記バックプレートが最も近接する部分との間の前記走行方向に関する長さが、５０ｍｍ〜７００ｍｍの範囲にあってもよい。この場合、支持体幅方向へのビードの吸引の均一性を効果的に向上させることができる。
【００１４】
また、請求項３に記載のように、前記支持体の表面に対する前記塗布液の塗布量は１０ｃｃ／ｍ２以下であってもよい。この場合、支持体幅方向へのビードの吸引の均一性を効果的に向上させることができる。
【００１５】
また、請求項４に記載のように、前記スロットダイは、オーバーバイト構造を有していてもよい。上記の塗布液の塗布方法は、オーバーバイト構造を有するスロットダイが用いられる場合に、より効果を発揮し、支持体幅方向へのビードの吸引の均一性を向上させることができる。なお、ここでいう「オーバーバイト構造」とは、広義には、バックアップローラにより支持された支持体の表面に対する、「スロットダイにおける塗布液の吐出口の上流側の端部からの距離」と「当該吐出口の下流側の端部からの距離」とが異なる構造を指し、狭義には、「スロットダイにおける塗布液の吐出口の上流側の端部からの距離」が「当該吐出口の下流側の端部からの距離」よりも長い構造を指す。
【００１６】
また、前記目的を達成するために請求項５に記載の発明は、上述の塗布液の塗布方法によって得られる塗布層を少なくとも１層有することを特徴とする光学フィルムに関する。
【００１７】
本発明によれば、減圧チャンバーによるビードの吸引が支持体幅方向へ略均一に行われた状態で得られる塗布層が用いられるので、高品質の光学フィルムが提供される。
【００１８】
また、前記目的を達成するために請求項６に記載の発明は、上述の塗布液の塗布方法によって得られる塗布層を少なくとも１層有することを特徴とする反射防止フィルムに関する。
【００１９】
本発明によれば、減圧チャンバーによるビードの吸引が支持体幅方向へ略均一に行われた状態で得られる塗布層が用いられるので、高品質の反射防止フィルムが提供される。
【００２０】
また、前記目的を達成するために請求項７に記載の発明は、バックアップローラにより支持された状態で連続走行する支持体の表面に向かってスロットダイから塗布液を吐出し、前記スロットダイと前記支持体との間に架設される塗布液のビードの支持体上流側を減圧チャンバーによって減圧し、当該ビードによって前記支持体の表面に前記塗布液を塗布する塗布液の塗布装置に関する。この塗布液の塗布装置では、前記支持体の幅方向に沿って配置される前記減圧チャンバーのバックプレートと前記バックアップローラとの間隔、および前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さが、
【００２１】
【数７】
2006272130.tif 000005
【００２２】
【数８】
2006272130.tif 000006
【００２３】
（ＣＬｍａｘ：前記バックプレートと前記バックアップローラとの間隔の最大値、ＣＬｍｉｎ：前記バックプレートと前記バックアップローラとの間隔の最小値、Ｔｍａｘ  ：前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さの最大値、Ｔｍｉｎ  ：前記支持体の走行方向に関する前記バックプレートの厚さの最小値）を満たす。
【００２４】
本発明のように、上記各式を満たすように空気流入空間の大きさが調整されることによって、減圧チャンバーによるビードの吸引を支持体幅方向へ略均一に行うことができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の塗布液の塗布方法および塗布装置によれば、減圧チャンバーの外部から内部への空気の流入を許容する空間の大きさが適切な範囲に設定されて、減圧チャンバーによるビードの吸引を支持体の幅方向へ略均一に行うことができる。
【００２６】
また、本発明の光学フィルムおよび反射防止フィルムは、支持体の幅方向に関して高度な均一性を有する塗布層を含み、良好な品質を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施の形態について説明する。
【００２８】
図１は、本発明の一実施の形態におけるスロットダイコータ式塗布システム１０の構成図である。なお、図中のバックアップローラ１２およびウェブ１４の近傍の矢印は、本実施の形態の「バックアップローラ１２によるウェブ１４の搬送方向」、すなわち「ウェブ１４の走行方向」を示す。
【００２９】
本実施の形態のスロットダイコータ式塗布システム１０では、バックアップローラ１２により支持された状態で連続走行するウェブ１４の表面に向かってスロットダイ１８の先端から塗布液が吐出され、スロットダイ１８とウェブ１４との間に塗布液のビード２０が液架橋される。そして、ビード２０のウェブ上流側が減圧チャンバー２６によって減圧された状態で、ウェブ１４の表面にビード２０の塗布液が塗布され、ウェブ１４上に塗布膜が生成される。
【００３０】
なお、スロットダイ１８によって塗布液が塗布される位置（以下、「塗布位置」とも称する）を基準にして、ウェブ１４の走行方向に関し塗布位置よりも前段の部分を「ウェブ上流」と称し、後段の部分を「ウェブ下流」と称する。したがって、図１に示す横型のスロットダイ１８では、ビード２０の下側は「ウェブ上流側」となり、ビード２０の上側は「ウェブ下流側」となる。また、ウェブの搬送方向と垂直を成すウェブの幅方向を「ウェブ幅方向」と称する。
【００３１】
図２は、スロットダイ１８の周辺の拡大図である。スロットダイ１８は、内部に設けられたマニホールド２２と、マニホールド２２からスロットダイ１８の先端部に延在するスロット２４と、を有する。また、スロットダイ１８は、上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂの二つのブロックによって構成されており、マニホールド２２およびスロット２４が上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂの境界の一部となっている。このように、スロットダイ１８を多ブロック構造とすることで、スロットダイ１８の製造精度を高め、洗浄などの後処理が容易なものになる。なお、スロットダイ１８の具体的な形状やサイズは、自重、使用時の環境や塗布液の温度、製作仕様限界、等に基づいて決定される。
【００３２】
スロットダイ１８の先端部分は先細り状に形成され、その先端はリップランド１６と呼ばれる。スロット２４のウェブ上流側（図１の下側）のリップランド１６を上流側リップランド１６Ａと称し、ウェブ下流側（図１の上側）のリップランド１６を下流側リップランド１６Ｂと称する。
【００３３】
スロットダイ１８のリップランド１６の材質については、ステンレス鋼等のような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、リップランド１６のウェブ走行方向における長さ（以下、「ランド長さ」とも称する）ＤＡ、ＤＢを３０μｍ〜１００μｍの範囲に設定しても、十分な塗布精度を確保することが難しい。そのため、高い塗布精度を維持するためには、特許第２８１７０５３号公報に記載されているような超硬材質のものによって、リップランド１６を含むスロット２４の先端部分を形成することが好ましい。これによりスロット２４の先端部分の強度や表面状態を向上させることができる。例えば、スロットダイ１８のうち少なくとも先端部分を、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金で形成することが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド（以下、ＷＣと称す）等の炭化物結晶粒子をＣｏ（コバルト）等の結合金属によって結合したもの等があり、結合金属としてはＣｏの他にＴｉ（チタン）、Ｔａ（タンタル）、Ｎｂ（ニオブ) 、或いはこれらの混合金属が用いられうる。なお、ＷＣ結晶の平均粒径は３μｍ以下であることがより好ましい。このような超硬材質が用いられることにより、表面形状の均質性や先端リップの耐摩耗性を向上させることもでき、特に研磨材を含む磁性液等が塗布液として用いられる場合には有効である。
【００３４】
本実施の形態のスロットダイ１８はオーバーバイト構造を有し、上流側リップランド１６Ａよりも下流側リップランド１６Ｂのほうが、バックアップローラ１２に巻き掛けられたウェブ１４に近い位置に配置されている。このようなオーバーバイト構造は、スロットダイ１８のウェブ幅方向の全長に亘って略均一に形成されている。なお、スロット２４の延在方向に関する上流側リップランド１６Ａと下流側リップランド１６Ｂとの距離Ｌを「オーバーバイト量」と称する。このオーバーバイト量Ｌは、ビード２０を安定的に保持する観点からは、３０μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、３０μｍ以上８０μｍ以下がより好ましい。
【００３５】
一般に、オーバーバイト構造、下流側リップランド１６Ｂが狭いシャープエッジ構造、およびリップランド１６とウェブ１４の間隔が狭い低リップクリアランス構造を採用する場合、ビード２０の下流側塗布液の圧損を小さくして、減圧チャンバー２６における減圧値を小さくすることができる。そのため、これらの構造を採用する場合には、ビード２０の変動が抑えられ、塗布液をウェブ１４上に安定塗布することが可能となって、高精度な面状を有する塗布膜を提供することができる。
【００３６】
マニホールド２２は、スロットダイ１８に供給された塗布液を、塗布幅方向に対応するウェブ幅方向へ拡流する液溜め部である。マニホールド２２への塗布液の供給方式は、マニホールド２２に塗布液を適切に供給することができればどのような手法であってもよい。例えば、マニホールド２２の一端側から塗布液を供給する方式、マニホールド２２の中央部から塗布液を供給する方式、マニホールド２２の両端部に塗布液が漏れ出ることを防止する栓を設けて、マニホールド２２の一方端から新規な塗布液を供給するとともに、他方端から抜き取られた一部の塗布液を再び一方端に循環させる方式、等が用いられうる。また、マニホールド２２の断面形状は、図１および図２に示す略円形に限定されるものではなく、例えば半円形、台形などの矩形、あるいはそれらに類似する形状であってもよい。
【００３７】
スロット２４は、マニホールド２２からスロット先端に至る狭隘な塗布液の流路を構成し、スロット２４のウェブ幅方向の両端部には、通常、塗布幅を規制する塗布幅規制板（図示省略）が挿入される。このスロット２４は、スロットダイ１８の先端部分における開口部２４Ａから塗布液を吐出させて、スロットダイ１８とウェブ１４との間にビード２０を架設する。塗布幅規制板によって規制されるスロット２４のウェブ幅方向の大きさは、例えば１００ｍｍ以上１４００ｍｍ以下に設定され、ウェブ１４の走行方向に関するスロット２０の間隔（以下「スリットクリアランス」とも称する）ＤＳは、例えば５０μｍ以上５００μｍ以下に設定される。
【００３８】
上述のような構成を有するスロットダイ１８の先端部分の下方には、図１に示されているように、ビード２０のウェブ上流側を減圧するための減圧チャンバー２６が設けられている。減圧チャンバー２６は、内部に空間形成するバックプレート２６Ａ、サイドプレート２６Ｂ、リアプレート２６Ｃ、およびボトムプレート２６Ｄを有し、減圧に関する作動効率を保持する箱形形状となっている。
【００３９】
バックプレート２６Ａは、減圧チャンバー２６のうちウェブ搬送方向の最も上流側に位置し、ウェブ１４の幅方向に沿って配置される。サイドプレート２６Ｂは、バックプレート２６Ａと垂直を成すように配置されて減圧チャンバー２６の両側壁を構成し、バックアップローラ１２と近接する縁部分（図示省略）がバックアップローラ１２とほぼ同じ曲率を有する。リアプレート２６Ｃは、スロットダイ１８の下方において、バックプレート２６Ａとほぼ平行に配置されている。ボトムプレート２６Ｄは、減圧チャンバー２６の底部分を構成し、バックプレート２６Ａ、サイドプレート２６Ｂ、およびリアプレート２６Ｃと縁部分において接合する。そして、「バックプレート２６Ａとウェブ１４の間」および「サイドプレート２６Ｂとウェブ１４の間」の各々には、所定の大きさの隙間が存在する。
【００４０】
図３は、バックアップローラ１２および減圧チャンバー２６をバックプレート２６Ａ側から見た図である。バックプレート２６Ａには二つの吸引口４０が形成されており、吸引口４０の各々にはエア配管２８（図１参照）が接続されている。
【００４１】
図１に示すように、減圧チャンバー２６は、吸引口４０およびエア配管２８を介してブロア３０に接続されており、エア配管２８の途中には、バルブ３２およびバッファ装置３４が設けられている。ブロア３０は、吸引口４０およびエア配管２８を介して減圧チャンバー２６内を吸引し、減圧チャンバー２６内を負圧にする。バルブ３２は、その開度に応じて減圧チャンバー２６内の減圧度を調整する。バッファ装置３４は、減圧チャンバー２６内の圧力変動を小さくするための緩衝部としての役割を果たす。
【００４２】
減圧チャンバー２６内には、減圧チャンバー２６内の圧力を測定する圧力計３６が設けられており、圧力計３６の測定結果はコントローラ３８に送られる。コントローラ３８は、圧力計３６の測定結果に基づいてバルブ３２の開度を調節し、減圧チャンバー２６内の圧力を所定の圧力に保つ。なお、本実施の形態において「減圧チャンバー２６内の圧力」は「ビード２０のウェブ上流側の圧力」に対応する。
【００４３】
なお、バックアップローラ１２は、例えば鉄等の金属で構成され、１００ｍｍ以上４００ｍｍ以下の直径とすることができる。また、バックアップローラ１２の表面にＨＣｒ等のメッキを施して、その表面粗さを０．８Ｓ以下にすることが好ましい。
【００４４】
次に、塗布液を精度良く吐出させるためのスロットダイ１８の製作例、組み立て例、等に関して説明する。
【００４５】
本実施の形態のスロットダイ１８を構成する上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂは、本体部分がステンレス鋼で製作され、リップランド１６を含む先端部分が超硬材質で製作されている。上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂは、本体部分同士および先端部分同士が相互に対応するように接合されて、熱等による変形の影響を防いでいる。
【００４６】
スロットダイ１８の組み立て時には、マイクロスコープなどの計測器によってオーバーバイト量Ｌを監視しながら、上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂを組み合わせる。なお、この組み立て時には、３μｍ以上の精度をもつ定盤を使用し、リップランド１６を上方に向けた状態で、上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂを定盤に載せて組み立てることが好ましい。
【００４７】
なお、スロットダイ１８を架台に載せて保持する場合には、上流側ダイブロック１８Ａを架台によって保持するとともに、下流側ダイブロック１８Ｂの少なくとも１箇所以上を架台によって挟み込んで保持することが好ましい。
【００４８】
また、スロットダイ１８から塗布液を吐出させる際には、スロットダイ１８が設置される塗布室の温度を常温に保って、スロットダイ１８の温度がほぼ常温に保たれることを、接触型デジタル温度計などの計測器で確認することが好ましい。また、送液タンク（図示省略）からマニホールド２２に供給される塗布液の温度を常温に保持することで、スロットダイ１８の温度変化を防ぐことができる。その際には、流量計や温度計を使用して送液タンクからマニホールド２２に供給される塗布液の流量や温度を測定し、その測定値を送液タンクの保温装置にフィードバックさせてもよい。
【００４９】
次に、減圧チャンバー２６のバックプレート２６Ａのサイズや配置に関して詳しく説明する。
【００５０】
図４は、図１に示す符号５０部分のバックアップローラ１２およびバックプレート２６Ａを拡大して示す断面図である。図４において、「ＣＬ」はバックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔（以下、「セッティング」とも称する）を示し、「Ｔ」はウェブ１４の走行方向に関するバックプレート２６Ａの厚さを示す。なお、本実施の形態の「ＣＬ」は、バックプレート２６Ａの厚さ方向の中央部分における、バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔を示す。
【００５１】
本件発明者は、鋭意研究した結果、下述する[実施例]で示唆されているように、以下の知見を得た。すなわち、減圧チャンバー２６の外部から内部への空気の流入を許容する空間（空気流入空間）の開口面積などのサイズは、バックプレート２６Ａおよびバックアップローラ１２によって規定される。そのため、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」および「バックプレート２６Ａの厚さＴ」は、減圧チャンバー２６内の減圧状態に大きな影響を与え、この間隔ＣＬや厚さＴの精度によって減圧チャンバー２６内のウェブ幅方向に関する圧力分布が変化する。
【００５２】
従来の減圧チャンバーでは、バックプレートがステンレス鋼で形成され、バックプレートとバックアップローラとの間隙が、０μｍ〜３０μｍ程度の製造誤差を含んだ状態で通常２００μｍ程度に設定されることが多かった。また、ウェブの走行方向に関するバックプレーンの厚さは、数十μｍの製造誤差を含んだ状態で通常８ｍｍ程度に設定されることが多かった。
【００５３】
このような事情を背景に、本件発明者は、図１に示すスロットダイコータ式塗布システム１０において、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」および「ウェブ１４の走行方向に関するバックプレート２６Ａの厚さＴ」が以下の式（１）および式（２）を満たすように、バックプレート２６Ａを設定することで、減圧チャンバー２６による「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性が向上することを突き止めた。
【００５４】
なお、以下の各式において、「ＣＬｍａｘ」はバックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔の最大値を示し、「ＣＬｍｉｎ」はバックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔の最小値を示し、「Ｔｍａｘ」はウェブ１４の走行方向に関するバックプレート２６Ａの厚さの最大値を示し、「Ｔｍｉｎ」ウェブ１４の走行方向に関するバックプレート２６Ａの厚さの最小値を示す。
【００５５】
【数９】
2006272130.tif 000007
【００５６】
【数１０】
2006272130.tif 000008
【００５７】
上記各式において「（ＣＬｍａｘ＋ＣＬｍｉｎ）／２」は、バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬの平均値を示し、「（Ｔｍａｘ＋Ｔｍｉｎ）／２」はバックプレート２６Ａの厚さＴの平均値を示す。このように、本実施の形態では、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」の最大値および最小値の差を平均値で除することによって、この間隔ＣＬの精度（均一性）が評価されている。また、「ウェブ１４の走行方向に関するバックプレート２６Ａの厚さＴ」の最大値および最小値を平均値で除することによって、この間隔Ｔの精度（均一性）が評価されている。
【００５８】
そして、「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性は、スロットダイコータ式塗布システム１０によってウェブ１４上に塗布される塗布層の膜厚の分布（精度）をウェブ幅方向に亘って計測することにより、評価されている。例えば、このウェブ幅方向に亘る「塗布層の膜圧の幅方向分布」が１．５％以下である場合には、「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性が高いと評価することができる。
【００５９】
なお、上記式に用いられるＣＬｍａｘ、ＣＬｍｉｎ、Ｔｍａｘ、Ｔｍｉｎは、バックプレート２６Ａおよびバックアップローラ１２のウェブ幅方向の全長に亘り、可能な限り多くの箇所においてサンプル値を取得し、そのサンプル値の中から最大値および最小値を選択することによって、決定されることが好ましく、例えば１００箇所以上でサンプル値を取得することが好ましい。
【００６０】
また、上記の式（１）および式（２）だけではなく「バックプレート２６Ａとビード２０との位置関係」も、減圧チャンバー２６による「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性に大きな影響を及ぼす。一般に、「ウェブ１４の走行方向に関する長さのうち、ビード２０と接触するウェブ部分１４Ａとバックプレート２６Ａが最も近接するウェブ部分１４Ｂとの間の長さ（図１の「ＬＷ」参照）」が長くなると、減圧チャンバー２６が大きくなるとともに、減圧チャンバー２６とバックアップローラ１２の間に形成される隙間も大きくなる。そのため、ブロア３０は多量の空気吸引を行う必要があり、その結果、減圧チャンバー２６内の圧力分布を一様に保つことが難しくなる。一方、「ウェブ１４の走行方向に関する長さのうち、ビード２０と接触するウェブ部分１４Ａとバックプレート２６Ａが最も近接するウェブ部分１４Ｂとの間の長さＬＷ」を短くして減圧チャンバー２６内の空間を過度に小さくすると、減圧チャンバー２６内の局所的な圧力変化が全体に大きな影響を及ぼしてしまう。そのため、減圧チャンバー２６内は、ブロア３０の吸引変動に左右されやすくなって、圧力分布の均一性が損なわれ易い。
【００６１】
そこで、本件発明者は、下述する[実施例]で示唆されているように、「ウェブ１４の走行方向に関する長さのうち、ビード２０と接触するウェブ部分１４Ａとバックプレート２６Ａが最も近接するウェブ部分１４Ｂとの間の長さＬＷ」が５０ｍｍ〜７００ｍｍの範囲に含まれる場合に、減圧チャンバー２６による「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性が向上することを突き止めた。
【００６２】
なお、「ウェブ１４の走行方向に関する長さのうち、ビード２０と接触するウェブ部分１４Ａとバックプレート２６Ａが最も近接するウェブ部分１４Ｂとの間の長さＬＷ」は、任意の手法で調整可能であり、例えば、減圧チャンバー２６の形状やバックアップローラ１２の径を変えることによって調整可能である。
【００６３】
従来の減圧チャンバー２６では、バックプレート２６Ａの上方においてバックアップローラ１２との間に大きな間隙が形成され、その間隙を介して空気が減圧チャンバー２６の外部から内部へ吸引されてしまい、減圧チャンバー２６内の圧力分布の均一性を乱すことがあった。しかしながら、上述した本実施の形態のスロットダイコータ式塗布システム１０によれば、バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間に形成される間隙の大きさが上記各式に示されているように調整されるので、減圧チャンバー２６内の圧力分布の均一性を向上させ、安定したビード２０によってウェブ１４上に塗布液を塗布することができる。
【００６４】
上述の事項は本発明の一態様を例示したものであり、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形が加えられたり、公知の要素を応用したりすることも可能であり、そのような各種態様も本発明の範囲に含まれうる。
【００６５】
例えば、ウェブ１４や塗布液は、目的に応じた各種成分を含むものが使用される。一例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィルム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたもの、あるいはこれらを積層した各種複合材料を、ウェブ１４の材質として使用することができる。
【００６６】
また、塗布液の溶媒として、水、各種のハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、エステル、ケトンなどを単独あるいは複数混合したものを使用することができる。
【００６７】
また、塗布液として、光学補償シート塗布液、反射防止フィルム塗布液、防眩性付与液磁性塗布液、写真感光性塗布液、磁性塗布液、視野角拡大塗布液、表面保護液、帯電防止液、滑性用塗布液、カラーフィルタ用顔料液、あるいはその他の光学フィルム用塗布液を使用することができる。
【００６８】
また、塗布液は、例えば、粘度が０．５〜１００ｍＰａ・ｓ、表面張力が２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲の液体を使用することができる。また、塗布速度は、例えば１００ｍ／分以下の範囲に設定することができる。
【００６９】
また、薄層の塗布膜の膜厚を高精度に均一に維持するためには、下流側リップランド１６Ｂのランド長さＤＢの塗布幅方向における寸法精度を維持するほかに、スロットダイ１８の先端部分（以下「先端リップ」とも称する）およびバックアップローラ１２の両者の真直度も重要である。これはスロットダイ１０の先端部とバックアップロール１３の真直度の２つの組み合わせにより達成されるので、どちらか一方のみの精度を向上させても効果がうすい。そこで、下記の式（３）を利用することで、実用レベルでは十分な精度の真直度を求めることができる。但し、式（３）に限定されない。式（３）において、Ｐ0 はウェブ１４の進行方向側におけるビードメニスカス外の圧力、Ｐｐ はマニホールド２２内の塗布液の圧力、σは塗布液の表面張力、μは塗布液の粘度、Ｕは塗布速度、ｈは膜厚、ｄは下流側リップランド１６Ｂとウェブ１４の間の隙間の長さ、Ｌはスロット１６の長さ、Ｄはスロットダイ１８のスロット間隙である。そして、スロットダイ１８のマニホールド２２内の塗布液の圧力Ｐｐとウエブ進行方向側のビードメニスカス外の圧力Ｐ0の差圧「Ｐ0−Ｐｐ」がスロットダイ１８の幅方向に関して一定であるとすると、下記式（３）に基づいて、必要な真直度を求めることができる。
【００７０】
Ｐ0−Ｐｐ＝１．３４σ／ｈ ・（μＵ／σ）２／３ ＋１２μＵＤＢ（ｄ／２−ｈ）／ｄ３−１２μｈＵＬ／Ｄ３      （３）
条件によって厳密には異なるが、上記式（３）を用いる場合、一般の工業的生産に用いられる塗布系では、５μｍ程度のダイブロック幅方向の真直度で、塗布膜厚分布が２％程度発生することになる。そのため、高精度の薄膜塗布を実施する際の限界はこの数字であると考えることができる。したがって、スロットダイ１８を塗布位置にセットしたときに，先端リップとウェブ１４との隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以内となるように、先端リップとバックアップローラ１２の真直度を調整することが好ましい。
【００７１】
また、スロットダイコータ式塗布システム１０におけるバックアップローラ１２、スロットダイ１８、および減圧チャンバー２６は、ウェブ１４上に塗布液を適切に塗布することができれば、どのような配置関係であってもよい。図５は、スロットダイコータ式塗布システム１０の一変形例を示す構成図である。例えば図５に示すように、ウェブ１４に対するスロットダイ１８の塗布液の吐出角度、マニホールド２２の断面形状、バックアップローラ１２に対するウェブ１４の巻き掛け状態、バックアップローラ１２に対するウェブ１４の巻き掛け部とスロットダイ１８や減圧チャンバー２６との相対位置関係、オーバーバイト量、等は、目的に応じて適宜調整可能である。
【００７２】
また、バックアップローラ１２に巻きかけ支持されたウェブ１４と下流側リップランド１６Ｂとの距離（以下「リップクリアランス」とも称する）ＤＬを、３０μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは３０μｍ以上２００μｍ以下に設定することができる。また、上流側リップランド１６Ａのランド長さＤＡを、３００μｍ以上１５００μｍ以下に設定することができる。また、下流側リップランド１６Ｂのランド長さＤＢを３０μｍ以上２００μｍ以下に設定することができ、下流側リップランド１６Ｂのランド長さＤＢのスロットダイ１８の下流方向における変動幅を２０μｍ以内にすることが好ましい。下流側リップランド１６Ｂのランド長さＤＢが上記の範囲よりも小さい場合には、下流側ダイブロック１８Ｂが欠けやすくなり、塗布膜にスジなどの不良が発生しやすくなる。また、下流側リップランド１６Ｂのランド長さＤＢが上記の範囲を超えると、ビードそのものが形成されにくくなり、薄膜塗布を行うことが困難になる。
【００７３】
また、バックプレート２６Ａとウェブ１４との隙間がスロットダイ１８の先端リップとウェブ１４との隙間（リップクリアランス）よりも大きくなるように、バックプレート２６Ａを設置することが好ましい。これにより、バックアップローラ１２の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。また、スロット２４のスロット先端における、バックアップローラ１２のウェブ走行方向の接線と成す角は、３０°以上９０°以下が好ましい。
【実施例】
【００７４】
以下に上述のスロットダイコータ式塗布システム１０を用いた実施例について記述するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。以下の各例では、既存の光学補償シート製造工程に本発明を応用した。この既存の光学補償シート製造工程において、ウェブ１４は、送出機により送り出され、ガイドロールによって支持されながらラビング処理ロールを通過して、バックアップローラ１２およびスロットダイ１８による塗布処理が施される。その後、乾燥ゾーン、加熱ゾーン、および紫外線ランプを通過したウェブ１４を巻き取り機によって巻き取るのが、既存の光学補償シート製造工程の基本工程である。
【００７５】
（共通の塗布条件）
以下の各実施例で用いられた塗布液は、以下のようにして調整された。すなわち、「熱架橋性含フッ素ポリマーの６重量％のメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）９３ｇ」に対し、「ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０ｎｍ〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を８ｇ」、「メチルエチルケトン９４ｇ」、および「シクロヘキサノン６ｇ」を添加して、攪拌する。そして、その攪拌された溶液を孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ（ＰＰＥ−０１）によって濾過したものを、塗布液として使用した。なお、この塗布液は、光学フィルムのうち反射防止膜用の塗液として使用され、屈折率が１．４２、粘度が０．００１Ｎ・ｓ／ｍ２、表面張力が０．０２４Ｎ／ｍに調整されている。
【００７６】
また、ウェブ１４として、膜厚が８０μｍで幅方向の長さが１４００ｍｍのセルローストリアセテート基材（ＴＡＣ、商品名；フジタック、富士写真フイルム（株）製）を使用した。また、バックアップローラ１２は、直径３００ｍｍで、表面にＨＣｒのメッキを施して表面粗さを０．３Ｓとした。また、下流側リップランド１６Ｂとウェブ１４との距離であるリップクリアランスＤＬを６０μｍ、上流側リップランド１６Ａのランド長さＤＡを１０００μｍ、下流側リップランド１６Ｂのランド長さＤＢを５０μｍ、下流側リップランド１６Ｂの表面粗さを０．３Ｓ、オーバーバイト量Ｌを１００μｍ、スロットダイ１８からウェブ１４に塗布される塗布液の塗布幅を１．３ｍ、減圧チャンバー２６内の減圧度を０．５ｋＰａ、スロット２４のスリットクリアランスＤＳを１５０μｍ、バックアップローラ１２に巻き掛けられたウェブ１４のテンション（張力）を４７０Ｎとした。
【００７７】
ウェブ１４上に形成された塗布膜の塗布面状の評価は、塗布膜のウェブ幅方向の膜厚の分布状態に基づいて行った。具体的には、光干渉型膜厚測定器（大塚電子社製瞬間マルチ測光システムＭＣＰＤ）を使用して、塗布膜においてウェブ幅方向へ２ｍｍ間隔で６５０点の膜厚を測定し、塗布膜の膜厚分布値を「膜厚分布値＝（膜厚の最大値−膜厚の最小値）／測定した膜厚の平均値」によって算出した。そして、このようにして導き出された膜厚分布値が１．５％以下を示す塗布膜を、製品としての品質水準を満たすと判断した。
【００７８】
（実施例１）
本例では、スロットダイ１８からウェブ１４に対する塗布液の塗布量を３．５ｃｃ／ｍ２、ウェブ１４の搬送速度（塗布速度）を１０ｍ／ｍｉｎ、バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ（セッティング）を２００μｍ、バックプレート２６Ａの厚さＴの均一性（式（２）参照）を１．６、バックプレート２６Ａの製作厚さを８ｍｍに設定したものを使用した。また、ウェブ１４の走行方向に関する長さのうち、ビード２０と接触するウェブ部分１４Ａとバックプレート２６Ａが最も近接するウェブ部分１４Ｂとの間の長さ（図１の「ＬＷ」参照）を１１６ｍｍとした。
【００７９】
以下の表１は、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」の均一性（式（１）参照）を適宜調整した場合に得られる、ウェブ幅方向に亘る「塗布層の膜圧の幅方向分布」を示す。なお、以下の各表において、「ＣＬａｖｅ」は、（ＣＬｍａｘ＋ＣＬｍｉｎ）／２を示し（上記式（１）参照）、「幅方向分布」は、ウェブ幅方向に亘る「塗布層の膜圧の幅方向分布」を示す。
【００８０】
【表１】
2006272130.tif 000009
【００８１】
表１に示されているように、塗布液の塗布量が１０ｃｃ／ｍ２であって、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」の均一性が１．６以下の場合、すなわち上記式（１）を満たす場合に、「塗布層の膜圧の幅方向分布」が１．５％以下となり、「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性が良好となる。
【００８２】
以下の表２は、上記表１に関する条件において、塗布速度を１０ｍ／ｍｉｎ〜５０ｍ／ｍｉｎの範囲で変え、塗布液の塗布量を３．５ｃｃ／ｍ２〜１５ｃｃ／ｍ２の範囲で変え、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」の均一性を０．０３〜１．８の範囲で変えた場合に得られる、ウェブ幅方向に亘る「塗布層の膜圧の幅方向分布」を示す。
【００８３】
【表２】
2006272130.tif 000010
【００８４】
表２に示されているように、塗布液の塗布量が１０ｃｃ／ｍ２以下の範囲では、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」の均一性が１．６以下の場合に、「塗布層の膜圧の幅方向分布」が１．５％以下となり、「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性が良好に保たれる。一方、塗布液の塗布量が１５ｃｃ／ｍ２の場合には、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」の均一性が１．８であっても、「塗布層の膜圧の幅方向分布」が１．５％以下となり、「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性が良好に保たれる。これは、塗布液の塗布量が１５ｃｃ／ｍ２以上の場合には、リップクリアランスＤＬを広くとることができ、いわゆるレベリングの効果等のために湿潤時の膜圧変動の影響を受け難いことによるものと考えられる。したがって、特に塗布液の塗布量が低塗布量時に、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」の均一性が、「塗布層の膜圧の幅方向分布」および「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」に大きな影響を及ぼすと考えられる。
【００８５】
なお、上述のスロットダイコータ式塗布システム１０によって、低塗布量による薄層の塗布膜を製造する場合には、リップクリアランスＤＬを１００μｍ以下に設定する必要がある。そのため、低塗布量の場合にスロットダイ１８から吐出される塗布液の塗布量の変動量が、高塗布量の場合と同じ程度であっても、塗布量全体に対する変動量の割合（変動率）が大きくなり、段ムラなどの吐出不良を招きやすい。そのため、リップクリアランスＤＬが１００μｍ以下の場合には、「バックプレート２６Ａの厚さＴ」および「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」は高度な均一性が要求される。
【００８６】
（実施例２）
本例では、スロットダイ１８からウェブ１４に対する塗布液の塗布量を３．５ｃｃ／ｍ２、塗布速度を１０ｍ／ｍｉｎ、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」の均一性（式（１）参照）を１．６、セッティングＣＬを２００μｍに設定したものを使用した。また、ウェブ１４の走行方向に関する長さのうち、ビード２０と接触するウェブ部分１４Ａとバックプレート２６Ａが最も近接するウェブ部分１４Ｂとの間の長さ（図１の「ＬＷ」参照）を１１６ｍｍとした。
【００８７】
以下の表３は、「ウェブ１４の走行方向に関するバックプレート２６Ａの厚さＴ」の均一性（式（２）参照）を適宜調整した場合に得られる、ウェブ幅方向に亘る「塗布層の膜圧の幅方向分布」を示す。なお、以下の表において「Ｔａｖｅ」は、（Ｔｍａｘ＋Ｔｍｉｎ）／２を示す（上記式（２）参照）。
【００８８】
【表３】
2006272130.tif 000011
【００８９】
また、以下の表４は、上記の表３に関する条件において、セッティングを３００μｍに設定した場合に得られる、ウェブ幅方向に亘る「塗布層の膜圧の幅方向分布」を示す。
【００９０】
【表４】
2006272130.tif 000012
【００９１】
表３および表４に示されているように、「ウェブ１４の走行方向に関するバックプレート２６Ａの厚さＴ」の均一性が１．６以下の場合、すなわち上記式（２）を満たす場合に、「塗布層の膜圧の幅方向分布」が１．５％以下となり、「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性が良好となる。以下の表５は、上記表３および表４に関する条件において、塗布速度を１０ｍ／ｍｉｎ〜５０ｍ／ｍｉｎの範囲で変え、塗布液の塗布量を３．５ｃｃ／ｍ２〜１５ｃｃ／ｍ２の範囲で変え、「ウェブ１４の走行方向に関するバックプレート２６Ａの厚さＴ」の均一性を０．０３〜１．８の範囲で変えた場合に得られる、ウェブ幅方向に亘る「塗布層の膜圧の幅方向分布」を示す。
【００９２】
【表５】
2006272130.tif 000013
【００９３】
表５に示されているように、塗布液の塗布量が３．５ｃｃ／ｍ２〜１５ｃｃ／ｍ２のいずれの範囲においても、「バックプレート２６Ａの厚さＴ」の均一性が１．６以下の場合に、「塗布層の膜圧の幅方向分布」が１．５％以下となり、「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性が良好に保たれる。
【００９４】
（実施例３）
本例では、スロットダイ１８からウェブ１４に対する塗布液の塗布量を３．５ｃｃ／ｍ２、塗布速度を１０ｍ／ｍｉｎ、「バックプレート２６Ａとバックアップローラ１２との間隔ＣＬ」の均一性（式（１）参照）を０．０３、「ウェブ１４の走行方向に関するバックプレート２６Ａの厚さＴ」の均一性（式（２）参照）を０．０３、セッティングを２００μｍに設定したものを使用した。以下の表６は、減圧チャンバー２６の大きさを変えて、ウェブ１４の走行方向に関する長さのうち、「ビード２０と接触するウェブ部分１４Ａ」と「バックプレート２６Ａが最も近接するウェブ部分１４Ｂ」との間の長さ（図１の「ＬＷ」参照）を変えた場合に得られる、ウェブ幅方向に亘る「塗布層の膜圧の幅方向分布」を示す。なお、表６中の「ビード−バックプレート間のウェブ距離」は、ビード２０と接触するウェブ部分１４Ａとバックプレート２６Ａが最も近接するウェブ部分１４Ｂとの間のウェブ走行方向の長さ（距離）を示す。
【００９５】
【表６】
2006272130.tif 000014
【００９６】
表６に示されているように、ビード２０と接触するウェブ部分１４Ａとバックプレート２６Ａが最も近接するウェブ部分１４Ｂとの間のウェブ走行方向の長さが５０ｍｍ〜７００ｍｍの範囲に含まれる場合に、「塗布層の膜圧の幅方向分布」が１．５％以下となり、「ビード２０のウェブ幅方向への吸引」の均一性が良好となる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の一実施の形態におけるスロットダイコータの構成図である。
【図２】スロットダイの周辺の拡大図である。
【図３】バックアップローラおよび減圧チャンバーをバックプレート側から見た図である。
【図４】図１に示す符号５０部分のバックアップローラおよびバックプレートを拡大して示す断面図である。
【図５】スロットダイコータの一変形例を示す構成図である。
【符号の説明】
【００９８】
１０・・・スロットダイコータ、１２・・・バックアップローラ、１４・・・ウェブ、１６・・・リップランド、１６Ａ・・・上流側リップランド、１６Ｂ・・・下流側リップランド、１８・・・スロットダイ、１８Ａ・・・上流側ダイブロック、１８Ｂ・・・下流側ダイブロック、２０・・・ビード、２２・・・マニホールド、２４・・・スロット、２４Ａ・・・開口部、２６・・・減圧チャンバー、２６Ａ・・・バックプレート、２６Ｂ・・・サイドプレート、２６Ｃ・・・リアプレート、２６Ｄ・・・ボトムプレート、２８・・・エア配管、３０・・・ブロア、３２・・・バルブ、３４・・・バッファ装置、３６・・・圧力計、３８・・・コントローラ、４０・・・吸引口
【図１】
2006272130.tif 000019
【図２】
2006272130.tif 000020
【図３】
2006272130.tif 000021
【図４】
2006272130.tif 000022
【図５】
2006272130.tif 000023