(57)【要約】【課題】撮像素子の受光面に付着したフラックスおよび微小パーティクルを除去し、更に洗浄液内のフラックスおよび微小パーティクルの基板への再付着を低減させ、洗浄後の歩留を向上させる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】本発明の一態様は、撮像基板ユニットを洗浄液に浸漬し、この撮像基板ユニットの開口部に対して、上記第２の面に直交する方向からノズルで外部から供給された洗浄液を噴出し、この噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットと上記ノズルの位置関係を保ちながら上記撮像ユニットと上記ノズルとを上記基板の第１の面と平行する方向において揺動させ、上記噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットに対して超音波振動を印加する、ことを特徴とする基板ユニットの洗浄方法である。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
受光面の周縁部に接続部を設けた撮像素子チップと、上記撮像素子チップを実装するための基板であって、上記撮像素子チップを実装するための第１の面と、上記第１の面に対向する第２の面と、上記撮像素子チップの受光面に対応した開口部と、上記第１の面上であって上記開口部の周縁部に上記撮像素子チップを接続するための接続部と、を有する基板と、からなる撮像基板ユニットの洗浄方法であって、
上記撮像基板ユニットを洗浄液に浸漬し、
上記撮像基板ユニットの開口部に対して、上記第２の面に直交する方向からノズルで外部から供給された洗浄液を噴出し、
上記噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットと上記ノズルの位置関係を保ちながら上記撮像ユニットと上記ノズルとを上記基板の第１の面と平行する方向において揺動させ、
上記噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットに対して超音波振動を印加する、
ことを特徴とする基板ユニットの洗浄方法。
【請求項２】
受光面の周縁部に接続部を設けた撮像素子チップと、上記撮像素子チップを実装するための基板であって、上記撮像素子チップを実装するための第１の面と、上記第１の面に対向する第２の面と、上記撮像素子チップの受光面に対応した開口部と、上記第１の面上であって上記開口部の周縁部に上記撮像素子チップを接続するための接続部と、を有する基板と、からなる撮像基板ユニットの洗浄方法であって、
複数の撮像基板ユニットよりなる集合体を洗浄液に浸漬し、
上記集合体の個々の撮像基板ユニットの各々の開口部に対して設けられた複数のノズルにより、上記第２の面に直交する方向からノズルで外部から供給された洗浄液を噴出し、
上記噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットと上記ノズルの位置関係を保ちながら上記撮像基板ユニットと上記ノズルとを上記基板の第１の面と平行する方向において揺動させ、
上記噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットに対して超音波振動を印加する、
ことを特徴とする基板ユニットの洗浄方法。
【請求項３】
上記洗浄液は純水であり、上記外部から供給される洗浄液はパーティクルが除去された純水であることを更に特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の撮像基板ユニットの洗浄方法。
【請求項４】
上記噴出工程では、上記開口部の大きさより小さい口径を有するノズルを使用して、上記開口部の略中央部に外部から供給された洗浄液を噴出することを更に特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の撮像基板ユニットの洗浄方法。
【請求項５】
上記洗浄工程の終了後に、上記撮像基板ユニットと上記ノズルとの位置関係を保ちながら、さらに上記噴出工程を維持しながら、上記撮像ユニットと上記ノズルを洗浄液の中から引き出す工程を更に有することを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の撮像基板ユニットの洗浄方法。
【請求項６】
上記の引き出す工程の後に、所定時間の間、上記噴出工程を行うことを更に特徴とする請求項５に記載の撮像基板ユニットの洗浄方法。
【請求項７】
上記集合体は、上記複数の撮像基板ユニットを繋ぎ合わせた繋ぎ基板であることを更に特徴とする請求項２に記載の撮像基板ユニットの洗浄方法。
【請求項８】
上記集合体は、上記複数の撮像基板ユニットをパレット上に位置決め保持したものであることを更に特徴とする請求項２に記載の撮像基板ユニットの洗浄方法。
【請求項９】
受光面の周縁部に接続部を設けた撮像素子チップと、上記撮像素子チップを実装するための基板であって、上記撮像素子チップを実装するための第1の面と、上記第1の面に対向する第２の面と、上記撮像素子チップの受光面に対応した開口部と、上記第１の面上であって上記開口部の周縁部に上記撮像素子チップを接続するための接続部と、を有する基板と、からなる撮像基板ユニットを洗浄する洗浄装置であって、
上記撮像基板ユニットを洗浄するための洗浄液を保持するための洗浄槽と、
上記洗浄槽の内部に設けられていて、上記撮像基板ユニットを上記洗浄液の内部に位置決めして保持するための撮像基板ユニット保持部と、
上記撮像基板ユニット保持部に位置決め保持された撮像基板ユニットの開口部に対して上記第２の面に直交する方向から外部から供給された洗浄液を噴出するためのノズルと、
上記撮像基板ユニット保持部に位置決め保持された撮像基板ユニットと上記ノズルの位置関係を保ちながら、上記撮像基板ユニットと上記ノズルとを上記第１の面と平行する方向において揺動させるための揺動機構と、
上記撮像基板ユニットに対して超音波振動を印加するための超音波発生器と、
を有することを特徴とする撮像基板ユニットの洗浄装置。
【請求項１０】
受光面の周縁部に接続部を設けた撮像素子チップと、上記撮像素子チップを実装するための基板であって、上記撮像素子チップを実装するための第１の面と、上記第１の面に対向する第２の面と、上記撮像素子チップの受光面に対応した開口部と、上記第１の面上であって上記開口部の周縁部に上記撮像素子チップを接続するための接続部と、を有する基板と、からなる撮像基板ユニットを複数集合させた集合体を洗浄する洗浄装置であって、
上記集合体を洗浄するための洗浄液を保持するための洗浄槽と、
上記洗浄槽の内部に設けられていて、上記集合体を上記洗浄液の内部に位置決めして保持するための集合体保持部と、
上記集合体保持部に位置決め保持された集合体の各々の撮像基板ユニットの開口部に対して、上記第２の面に直交する方向から外部から供給された洗浄液を噴出するための複数のノズルと、
上記集合体保持部に位置決め保持された集合体と上記ノズルの位置関係を保ちながら、上記集合体と上記ノズルを上記第１の面と平行する方向において揺動させるための揺動機構と、
上記集合体に対して超音波振動を印加するための超音波発生器と、
を有することを特徴とする撮像基板ユニットの洗浄装置。
【請求項１１】
上記ノズルは、上記開口部の大きさより小さい口径を有し、上記開口部の略中央部に配置されていることを更に特徴とする請求項９又は１０のいずれかに記載の撮像基板ユニットの洗浄装置。
【請求項１２】
上記撮像基板ユニットと上記ノズルを洗浄液の中から上記洗浄液の外部に引き出すための移動機構と、上記撮像基板ユニット保持部に位置決め保持された撮像基板ユニットと上記ノズルの位置関係を保ちながら、かつ上記ノズルからの上記洗浄液の噴流を維持しながら、当該移動機構により上記撮像基板ユニットと上記ノズルを洗浄液の中から上記洗浄液の外部に引き出すように制御する制御コントローラと、を更に有することを特徴とする請求項９記載の撮像基板ユニットの洗浄装置。
【請求項１３】
上記集合体と上記ノズルを上記洗浄液の内部から上記洗浄液の外部に引き出すための移動機構と、上記集合体保持部に位置決め保持された集合体と上記ノズルの位置関係を保ちながら、かつ上記ノズルからの上記洗浄液の噴流を維持しながら、上記移動機構により上記集合体と上記ノズルを上記洗浄液の内部から上記洗浄液の外部に引き出すように制御する制御コントローラと、を更に有することを特徴とする請求項１０に記載の撮像基板ユニットの洗浄装置。
【請求項１４】
上記集合体は、上記複数の撮像基板ユニットを繋ぎ合わせた繋ぎ基板であることを更に特徴とする請求項１０に記載の撮像基板ユニットの洗浄装置。
【請求項１５】
上記集合体は、上記複数の撮像基板ユニットをパレット上に位置決め保持したものであることを更に特徴とする請求項１０に記載の撮像基板ユニットの洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撮像素子等を実装した基板等を洗浄する洗浄方法及び洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電気部品の実装を行った基板を洗浄する場合、超音波洗浄器にて当該電機部品が実装された基板を洗浄液に浸漬させて洗浄するのが一般的である。
【０００３】
即ち、特許文献１では、実装基板を洗浄後に浸漬させながら超音波洗浄を行う方法が開示されている。さらに、特許文献２では、実装基板を洗浄後に洗浄液に浸漬させ、超音波洗浄を行い、更に洗浄ノズルを使って実装基板の平面に沿って洗浄液を噴出させて洗浄を行う方法が開示されている。
【特許文献１】特開平５−３４７４７１号公報
【特許文献２】特開平１０−３３５２９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、撮像素子（ベアチップ）が実装された基板を洗浄する場合、特許文献１の方法では、超音波洗浄により実装基板の開口部の奥の受光面の汚れは落ちるが、この汚れた洗浄液が開口部の窪みの中に滞留し、外に出ないか外に出難い状況となる。従って、この汚れた洗浄液の滞留により撮像素子の受光面に汚れが再付着してしまい、洗浄後に受光面に汚れが残ってしまうという問題がある。
【０００５】
一方、特許文献２の方法では、基板の平面方向に洗浄液を流しても、開口部に発生する窪みの中から汚れた洗浄液を効率よく掻きだすことができない為、窪みの中に汚れた洗浄液が滞流してしまう。また、洗浄ノズルから噴出された洗浄液は、洗浄槽の中に滞流している汚れた洗浄液と混合されて基板の表面を流れることになり、受光面や基板の表面から剥がれた汚れが受光面に再付着し、洗浄後に受光面に汚れが残ってしまう。
【０００６】
このように、従来技術では、洗浄したい部分が基板に囲われており基板よりも窪んだ場所に存在する場合、洗浄残りが発生し、洗浄後の歩留を向上させることができない。
【０００７】
本発明の目的とするところは、撮像素子の受光面に付着したフラックスおよび微小パーティクルを除去し、更に洗浄液内のフラックスおよび微小パーティクルの洗浄部（受光面）への再付着を低減させ、洗浄後の歩留を向上させることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の第１の態様では、受光面の周縁部に接続部を設けた撮像素子チップと、上記撮像素子チップを実装するための基板であって、上記撮像素子チップを実装するための第１の面と、上記第１の面に対向する第２の面と、上記撮像素子チップの受光面に対応した開口部と、上記第１の面上であって上記開口部の周縁部に上記撮像素子チップを接続するための接続部と、を有する基板と、からなる撮像基板ユニットの洗浄方法であって、上記撮像基板ユニットを洗浄液に浸漬し、上記撮像基板ユニットの開口部に対して、上記第２の面に直交する方向からノズルで外部から供給された洗浄液を噴出し、上記噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットと上記ノズルの位置関係を保ちながら上記撮像基板ユニットと上記ノズルとを上記基板の第１の面と平行する方向において揺動させ、上記噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットに対して超音波振動を印加する、ことを特徴とする基板ユニットの洗浄方法が提供される。
【０００９】
本発明の第２の態様では、受光面の周縁部に接続部を設けた撮像素子チップと、上記撮像素子チップを実装するための基板であって、上記撮像素子チップを実装するための第１の面と、上記第１の面に対向する第２の面と、上記撮像素子チップの受光面に対応した開口部と、上記第１の面上であって上記開口部の周縁部に上記撮像素子チップを接続するための接続部と、を有する基板と、からなる撮像基板ユニットの洗浄方法であって、複数の撮像基板ユニットよりなる集合体を洗浄液に浸漬し、上記集合体の個々の撮像基板ユニットの各々の開口部に対して設けられた複数のノズルにより、上記第２の面に直交する方向からノズルで外部から供給された洗浄液を噴出し、上記噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットと上記ノズルの位置関係を保ちながら上記撮像ユニットと上記ノズルとを上記基板の第１の面と平行する方向において揺動させ、上記噴出工程と同時に、上記撮像基板ユニットに対して超音波振動を印加する、ことを特徴とする基板ユニットの洗浄方法が提供される。
【００１０】
本発明の第３の態様では、上記第１又は第２の態様において、上記洗浄液は純水であり、上記外部から供給される洗浄液はパーティクルが除去された純水であることを更に特徴とする撮像基板ユニットの洗浄方法が提供される。
【００１１】
本発明の第４の態様では、上記第１又は第２の態様において、上記噴出工程では、上記開口部の大きさより小さい口径を有するノズルを使用して、上記開口部の略中央部に外部から供給された洗浄液を噴出することを更に特徴とする撮像基板ユニットの洗浄方法が提供される。
【００１２】
本発明の第５の態様では、上記第１又は第２の態様において、上記洗浄工程の終了後に、上記撮像基板ユニットと上記ノズルとの位置関係を保ちながら、さらに上記噴出工程を維持しながら、上記撮像ユニットと上記ノズルを洗浄液の中から引き出す工程を更に有することを特徴とする撮像基板ユニットの洗浄方法が提供される。
【００１３】
本発明の第６の態様では、上記第５の態様において、上記の引き出す工程の後に、所定時間の間、上記噴出工程を行うことを更に特徴とする撮像基板ユニットの洗浄方法が提供される。
【００１４】
本発明の第７の態様では、上記第２の態様において、上記集合体は、上記複数の撮像基板ユニットを繋ぎ合わせた繋ぎ基板であることを更に特徴とする撮像基板ユニットの洗浄方法が提供される。
【００１５】
本発明の第８の態様では、上記第２の態様において、上記集合体は、上記複数の撮像基板ユニットをパレット上に位置決め保持したものであることを更に特徴とする撮像基板ユニットの洗浄方法が提供される。
【００１６】
本発明の第９の態様では、受光面の周縁部に接続部を設けた撮像素子チップと、上記撮像素子チップを実装するための基板であって、上記撮像素子チップを実装するための第1の面と、上記第1の面に対向する第２の面と、上記撮像素子チップの受光面に対応した開口部と、上記第１の面上であって上記開口部の周縁部に上記撮像素子チップを接続するための接続部と、を有する基板と、からなる撮像基板ユニットを洗浄する洗浄装置であって、上記撮像基板ユニットを洗浄するための洗浄液を保持するための洗浄槽と、上記洗浄槽の内部に設けられていて、上記撮像基板ユニットを上記洗浄液の内部に位置決めして保持するための撮像基板ユニット保持部と、上記撮像基板ユニット保持部に位置決め保持された撮像基板ユニットの開口部に対して上記第２の面に直交する方向から外部から供給された洗浄液を噴出するためのノズルと、上記撮像基板ユニット保持部に位置決め保持された撮像基板ユニットと上記ノズルの位置関係を保ちながら、上記撮像基板ユニットと上記ノズルとを上記第１の面と平行する方向において揺動させるための揺動機構と、上記撮像基板ユニットに対して超音波振動を印加するための超音波発生器と、を有することを特徴とする撮像基板ユニットの洗浄装置が提供される。
【００１７】
本発明の第１０の態様では、受光面の周縁部に接続部を設けた撮像素子チップと、上記撮像素子チップを実装するための基板であって、上記撮像素子チップを実装するための第１の面と、上記第１の面に対向する第２の面と、上記撮像素子チップの受光面に対応した開口部と、上記第１の面上であって上記開口部の周縁部に上記撮像素子チップを接続するための接続部と、を有する基板と、からなる撮像基板ユニットを複数集合させた集合体を洗浄する洗浄装置であって、上記集合体を洗浄するための洗浄液を保持するための洗浄槽と、上記洗浄槽の内部に設けられていて、上記集合体を上記洗浄液の内部に位置決めして保持するための集合体保持部と、上記集合体保持部に位置決め保持された集合体の各々の撮像基板ユニットの開口部に対して、上記第２の面に直交する方向から外部から供給された洗浄液を噴出するための複数のノズルと、上記集合体保持部に位置決め保持された集合体と上記ノズルの位置関係を保ちながら、上記集合体と上記ノズルを上記第１の面と平行する方向において揺動させるための揺動機構と、上記集合体に対して超音波振動を印加するための超音波発生器と、を有することを特徴とする撮像基板ユニットの洗浄装置が提供される。
【００１８】
本発明の第１１の態様では、上記第９又は第１０の態様において、上記ノズルは、上記開口部の大きさより小さい口径を有し、上記開口部の略中央部に配置されていることを更に特徴とする撮像基板ユニットの洗浄装置が提供される。
【００１９】
本発明の第１２の態様では、上記第９の態様において、上記撮像基板ユニットと上記ノズルを洗浄液の中から上記洗浄液の外部に引き出すための移動機構と、上記撮像基板ユニット保持部に位置決め保持された撮像基板ユニットと上記ノズルの位置関係を保ちながら、かつ上記ノズルからの上記洗浄液の噴流を維持しながら、当該移動機構により上記撮像基板ユニットと上記ノズルを洗浄液の中から上記洗浄液の外部に引き出すように制御する制御コントローラと、を更に有することを特徴とする撮像基板ユニットの洗浄装置が提供される。
【００２０】
本発明の第１３の態様では、上記第１０の態様において、上記集合体と上記ノズルを上記洗浄液の内部から上記洗浄液の外部に引き出すための移動機構と、上記集合体保持部に位置決め保持された集合体と上記ノズルの位置関係を保ちながら、かつ上記ノズルからの上記洗浄液の噴流を維持しながら、上記移動機構により上記集合体と上記ノズルを上記洗浄液の内部から上記洗浄液の外部に引き出すように制御する制御コントローラと、を更に有することを特徴とする撮像基板ユニットの洗浄装置が提供される。
【００２１】
本発明の第１４の態様では、上記第１０の態様において、上記集合体は、上記複数の撮像基板ユニットを繋ぎ合わせた繋ぎ基板であることを更に特徴とする撮像基板ユニットの洗浄装置が提供される。
【００２２】
本発明の第１５の態様では、上記第１０の態様において、上記集合体は、上記複数の撮像基板ユニットをパレット上に位置決め保持したものであることを更に特徴とする撮像基板ユニットの洗浄装置が提供される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、撮像素子に受光面に付着したフラックスおよび微小パーティクルを除去し、更に洗浄液内のフラックスおよび微小パーティクルの基板への再付着を低減させ、洗浄後の歩留を向上させる洗浄方法及び洗浄装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。
【００２５】
図１には本発明の一実施の形態に係る洗浄装置の一部断面図を示し説明する。
【００２６】
この図１に示されるように、箱型の洗浄槽１の上面は開口されており、その内部には例えば純水からなる洗浄液９が満たされている。この洗浄槽１の底面には集合基板ユニット６に対して超音波振動を印加するための超音波発生器４が配設されている。
【００２７】
更に、この洗浄装置は、アーム部材２を図中Ａ方向に引き上げ／引き下げし、更には図中Ｂ（Ｃ方向）に揺動するための駆動機構１２を有している。請求項に記載の移動機構、揺動機構とは、例えばこの駆動機構１２に相当するものである。
【００２８】
そして、アーム部材２における集合基板ユニット６の搭載位置には、ガイドプレート５ａ，５ｂ…を保持するための側面ガイド３が形成されている。アーム部材２の先端部にはガイドプレート５ａ，５ｂ…の長手方向と平行に、つまり当該ガイドプレート５ａ，５ｂ…に装着される集合基板ユニット６の平面と平行にノズル取付板８が配設され、当該ノズル取付板８には集合基板ユニット６を構成する撮像素子基板の単位数（この例では３×３）に合致した数のノズル７ａ，７ｂ，７ｃ…が配設されている。
【００２９】
このノズル７ａ，７ｂ，７ｃ…は、配管１４を介して純水製造ユニット（ヒータ機能付き）１０に連結されており、更に当該配管１４の一部には開閉バルブ１１が設けられている。この純粋製造ユニット１０は、パーティクルが除去されたクリーン度の高い純水を所定温度に加熱して供給するものである。尚、この図１では洗浄装置の断面図を示しているので、全てのガイドプレートとノズルを図示していないが、実際には、集合基板ユニット６の両端を挟持する各２つ計４つのガイドプレートと、集合基板ユニット６に含まれる撮像素子基板の数である３×３に対応する９つのノズルを有している。但し、これらの数は一例にすぎない。以下、これらガイドプレート５ａ，５ｂ…、ノズル７ａ，７ｂ，７ｃ…を総称する場合においては、符号５，７を用いることとする。
【００３０】
駆動機構１２は、上記アーム部材２上の側面ガイド３とガイドプレート５とからなる集合体保持部（単体の撮像基板ユニットを保持する場合には撮像基板ユニット保持部）に位置決め保持された集合基板ユニット６とノズル７との位置関係を保ちながら、上記集合基板ユニット６と上記ノズル７を図中Ｂ（Ｃ方向）方向に揺動させる為の機構である。この他、この洗浄装置は、駆動機構１２と超音波発生器４、開閉バルブ１１の駆動を統括制御するための制御コントローラ１３を備えている。
【００３１】
ここで、図２は、集合基板ユニット６とノズル７との関係を更に詳細に示している。
【００３２】
詳細については後述するが、図２の中で、４５は集合基板ユニット６（又は撮像素子基板４４）に実装された撮像素子チップである。また４４ａは集合基板ユニット６（又は撮像素子基板４４）に設けられた開口部である。
【００３３】
この洗浄装置では、アーム部材２上の側面ガイド３とガイドプレート５とからなる集合体保持部に位置決め保持された集合基板ユニット６を構成する各撮像基板ユニットの開口部４４ａに向けて、純水製造ユニット１０より配管１４、開閉バルブ１１を介して供給されるパーティクルの混在していないクリーン度の高い純水がノズル７から図中矢印で示したような噴流を作りながら噴出されるように、両者の位置関係が確保される。
【００３４】
さらに、ノズル７は、上記開口部の大きさより小さい口径を有しており、このノズル７の長手方向の軸が開口部の略中央部に合うように配置されている。従って、ノズル７からの純水により、集合基板ユニット６の開口部の内部に回流を発生させて、この回流により撮像素子の受光面の汚れを落として開口部の窪みの外部に掻き出すことができるので、撮像領域に付着した汚れを効率的に除去することができる。
【００３５】
また、図３は、集合体保持部に実際に集合基板ユニット６が設置されている様子を示している。この図３に示されるように、この集合体保持部は、アーム部材２上で４本のガイドプレート５と２つの側面ガイド３により集合基板ユニット６とノズル７との間の位置決め保持を行う役割を担っている。
【００３６】
次に、図４には本発明の実施の形態の洗浄装置により洗浄する部品を実装した撮像用機器の一例としてのデジタルカメラ２１を示し、図５にはその内部を示し説明する。
【００３７】
図４に示されるように、デジタルカメラ２１のハウジング２２に、レリーズボタン２３やフラッシュ２４、ファインダ光学系２５、撮像光学系のカバーガラス２６等が設けられている。図５に示すように、ハウジング２２の内部に、撮像装置３０と、画像処理回路３１と、記録部３２などが収容されている。画像処理回路３１は、撮像装置３０によって得られる電気信号に所定の電気的処理を施すことにより、画像データを得るものである。記録部３２は、画像処理回路３１からの画像データを記録媒体に記録するものである。
【００３８】
ハウジング２２の背面には画像モニタ３３が設けられている。撮像装置３０は、筐体４０と、筐体４０の内部に収容された偏心光学系を構成するプリズム光学系４１と、プリズム光学系４１を保持する枠部材（固定枠）４２と、プリズム光学系４１の結像面に配置されたＣＣＤ等の撮像素子４５と、枠部材４２に固定された撮像素子基板４４、撮像素子４５の受光面を保護する保護ガラス４３等を含んでいる。
【００３９】
プリズム光学系４１の入射光軸λ１と射出光軸λ２とは互いに略平行である。筐体４０の入射側の開口部（入射窓）４６にはカバーガラス２６が装着されている。プリズム光学系４１は第１プリズム５１と第２プリズム５２を含む。この第１及び第２のプリズム５１，５２の間には絞り部材６０が介在している。
【００４０】
ここで、図６，７を参照して、上記撮像素子基板４４周辺の構成を更に詳細に説明すると、撮像素子基板４４には撮像素子（ベアチップ）４５を装着するための開口部が設けられており、当該開口部には一方の面（第１の面）１０１から撮像素子４５がバンプにより接合され、更に外側から接着剤により封止される。この開口部は、撮像素子４５の受光面に対応した大きさとなっている。さらに、他方の面（第２の面）１０２より撮像素子４５の受光面を保護するための保護ガラス４３を接着材等により固着する。
【００４１】
図７は、撮像素子基板４４周辺の構成を示す側面図であり、撮像素子４５の配設領域の近傍には、その他の部品（例えばＩＣやディスクリート部品、コネクタ等）６１が実装されている。尚、撮像素子基板４４の第１の面１０１上、上記開口部４４ａの周縁部には、撮像素子４５の接続部１０３を接続するための接続部１０４が設けられている。尚、この撮像素子基板４４に撮像素子（ベアチップ）４５を実装したものを撮像基板ユニットと称する。
【００４２】
本洗浄装置により洗浄する際には、上記撮像基板ユニット単位でも洗浄することができるが、図８に示されるように、上記撮像基板ユニットを複数繋ぎ合せた集合基板ユニット６の単位で洗浄を実施する。この場合、構成単位である各撮像基板ユニットの開口部４４ａの受光面４５ａの位置の各々にノズル７が位置合わせされることは前述したとおりである。
【００４３】
尚、請求項に記載の集合体とは、例えば、この複数の撮像基板ユニットを繋ぎ合わせた繋ぎ基板、つまり集合基板ユニット６を意味する。このように、複数の撮像基板ユニットを繋ぎ合わせた繋ぎ基板、つまり集合基板ユニット６により集合体を形成するようにすれば、実装や洗浄に係る各工程の取り扱いがし易くなることは勿論である。
【００４４】
或いは、図９，１０に示されるように、パレット７２のボス７０に撮像基板ユニット７１を当該ユニット７１の開口部を圧入することにより固定し、集合基板ユニット６として構成して洗浄装置による洗浄の単位とすることも可能である。この場合、請求項に記載の集合体とは、上記撮像基板ユニット７１をパレット７２上に複数位置決め保持したものに相当する。このように、集合体を形成し、洗浄装置による洗浄の単位を定義すれば、洗浄の更なる効率化が図れるようになる。
【００４５】
以下、図１１のフローチャートを参照して、本実施の形態に係る洗浄装置を一部工程において採用しつつ、先に図６，７に示したような撮像素子基板４４に撮像素子４５等を実装する処理の流れを詳細に説明する。撮像素子基板４４にその他の部品（ＩＣ、ディスクリート部品、コネクタ等）６１を実装した後（ステップＳ１）、撮像素子４５のベアチップを前述したようにバンプにより接合し、更に外側から接着剤により封止することで実装する（ステップＳ２）。この両ステップＳ１，Ｓ２は、いずれを先に行ってもよい。続いて、本実施の形態に係る洗浄装置による洗浄（図１２を参照して後に詳述する）を行い（ステップＳ３）、乾燥させた後、保護ガラス４３を接着剤等により撮像素子基板４４に接合する（ステップＳ５）。こうして集合基板ユニット６を撮像基板ユニットの単位で分割し（ステップＳ６）、本処理を終了することになる。
【００４６】
次に、図１２のフローチャートを参照して、図１１のステップＳ３における洗浄の処理について更に詳細に説明する。これは、本実施の形態に係る洗浄方法にも相当する。
【００４７】
集合基板ユニット６を集合基板ユニット保持部に取り付ける（ステップＳ１１)。より具体的には、アーム部材２上で４本のガイドプレート５と２つの側面ガイド３により集合基板ユニット６を保持すると共に、当該集合基板ユニット６を構成する各撮像基板ユニットの撮像素子受光面に対応する各開口部とノズル７との間の位置決めを行う。
【００４８】
続いて、制御コントローラ１３は駆動機構１２を駆動制御してアーム部材２を図１のＡ方向に駆動し、上記集合基板ユニット保持部に保持された集合基板ユニット６を洗浄槽１の洗浄液９の中に引き下げ、浸漬する（ステップＳ１２）。そして、制御コントローラ１３は、超音波発生器４による超音波振動を開始して集合基板ユニット６にキャビテーションを発生させることにより、表面に付着したフラックスおよび微小パーティクルを洗浄液９内へ遊離させて洗浄をする（ステップＳ１３）。
【００４９】
さらに、ノズル７から純水製造ユニット１０より配管１４及び開閉バルブ１１を介して供給された加熱された洗浄液の噴出を開始し、集合基板ユニット６を構成する各撮像基板ユニットの撮像素子受光面に対応した各開口部にできた窪みの中のフラックスおよび微小パーティクルを除去する（ステップＳ１４）。さらに、制御コントローラ１３は、アーム部材２を駆動機構１２により図１のＢ，Ｃ方向に揺動させ、上記除去を推進させる（ステップＳ１５）。
【００５０】
即ち、集合基板ユニット６とノズル７の位置関係を保ち、各撮像基板ユニットの各開口部の奥にある受光面に対してノズル７からパーティクルを除去した新しい洗浄液を噴出し  ているため、効率良く開口部の中の液体が新しい洗浄液に入れ替わる。この時汚れた洗浄液は開口部の外にはきだされる。また集合基板ユニット６を揺動させることにより、受光面の汚れは取りやすくなる。さらに、各撮像基板ユニットの開口部の奥にある受光面に汚れた洗浄液が当たることが無く、汚れが再付着することがない。従って、実装時に撮像素子の撮像領域に付着した汚れを効率的に除去することができる上に汚れの再付着も防止できる。
【００５１】
続いて、タイマ１を計時して、所定時間が経過すると（ステップＳ１６）、上記駆動機構１２によるアーム部材２の揺動を停止し（ステップＳ１７）、さらに超音波振動を停止し（ステップＳ１８）、洗浄液９の外部に集合基板ユニット６を装着した集合基板ユニット保持部を引き上げる（ステップＳ１９）。このとき、駆動機構１２は、集合基板ユニット保持部に位置決め保持された集合基板ユニット６と上記ノズル７の位置関係を保ちながら、かつ上記ノズル７からの上記洗浄液の噴流を維持しながら、上記集合基板ユニット６と上記ノズル７を洗浄液の中から上記洗浄液９の外部に引き出す。従って、集合基板ユニット６を洗浄液の中から引き出すに際して、ノズル７からの噴流を維持した状態で引き出すので、クリーン度の低い洗浄液が撮像素子の受光面に再付着することがない。
【００５２】
そして、タイマ２を計時して、所定時間が経過すると（ステップＳ２０）、制御コントローラ１３はノズル７からの洗浄液の噴出を停止し（ステップＳ２１）、集合基板ユニット保持部から集合基板ユニット６を取り外し（ステップＳ２２）、こうして一連の洗浄工程の処理を終了し、リターンすることになる。
【００５３】
尚、上記ステップＳ１３，Ｓ１４，Ｓ１５の各工程は、それらの開始タイミングを同時としてもよいし、いずれを先に開始させてもよい。さらに、ステップＳ１７，Ｓ１８の工程についても、それらの停止タイミングを同時としてもよいし、いずれを先に停止させてもよい。さらに、超音波発生器４による超音波振動は、図１２の処理中に常時ＯＮさせておいてもよいが、前述したように１ユニットの洗浄の度にＯＮ／ＯＦＦ制御した方が当該超音波発生器４の製品寿命が延びる。また、ノズル７からの洗浄液の噴出は、１ユニットの洗浄の度にＯＮ／ＯＦＦ制御するようにしたが、常時噴出したままであってもよい。
【００５４】
このほか、上記洗浄槽１での洗浄が終了した後、更に別の洗浄槽で洗浄するようにしてもよい。この場合には、例えば超音波発生器４の周波数や揺動の周波数を変えて、より入念に洗浄するようにしてもよいことは勿論である。
【００５５】
以上説明したように、本発明の一実施の形態に係る洗浄方法及び洗浄装置によれば、集合基板ユニット（或いは撮像基板ユニット）６とノズル７の位置関係を保ち、集合基板ユニット６の開口部の奥にある受光面に対して新しい洗浄液を噴出しながら、集合基板ユニット（或いは撮像基板ユニット）６を揺動するようにしたので、受光面の汚れを取ることができる上に効率良く開口部の中から汚れを含んだ液体を掻きだすことができる。また、集合基板ユニット（或いは撮像基板ユニット）６の開口部の奥にある受光面に汚れた洗浄液が当たることが無く、汚れが再付着することがない。従って、実装時に撮像素子の撮像領域(受光面)に付着した汚れを効率的に除去し、洗浄後の歩留りを向上させることができる。
【００５６】
さらに、この作用効果に加えて、複数の撮像基板ユニットの集合体に対して同時に洗浄を行うことができるので、生産性を向上することができる。また、複数の撮像基板ユニットに対してこれより少ないノズル数で洗浄液の噴出を行い、時分割でノズルをスキャンして洗浄する場合、開口部の奥の受光面に汚れた洗浄液が当たる時間が発生し、汚れが再付着する可能性があるが、本発明の洗浄方法によれば、この問題を回避できる。
【００５７】
また、外部から供給される洗浄液がパーティクルを除去した純水であるので、常にクリーン度の高い純水を開口部の奥の受光面に当て続けることができ、撮像領域に付着した汚れを効率的に除去することができる。さらに、開口部の内部に回流を発生させて、この回流により受光面の汚れを落として開口部の外部に掻きだすことができるので、撮像素子の撮像領域（受光面）に付着した汚れを効率的に除去することができる。
【００５８】
また、集合基板ユニット（或いは撮像基板ユニット）６を洗浄液９の中から引き出すに際して、ノズル７からの噴流を維持した状態で引き出すこととする場合には、クリーン度の高くない洗浄液が撮像素子の受光面に新たに付着することが無いので、洗浄後の受光面に汚れが再付着することがない。さらに、集合基板ユニット（或いは撮像基板ユニット）６を洗浄槽１の洗浄液９の中から引き出した後に、所定時間の間、ノズル７からの噴流を維持するようにした場合には、クリーン度の高くない洗浄液が受光面に新たに付着することがないので、洗浄後の受光面に汚れが再付着することがない。
【００５９】
そして、複数の撮像基板ユニットを繋ぎ合わせた繋ぎ基板により集合体を形成するようにした場合、実装や洗浄に係る各工程の取り扱いがしやすくなる。さらに、複数の撮像基板ユニットをパレット上に位置決め保持することにより集合体を形成するようにした場合、撮像基板ユニットを効率よく複数の集合体にまとめることができる。
【００６０】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明はこれに限定されることなくその趣旨を逸脱しない範囲で種々の改良・変更が可能であることは勿論である。
【００６１】
例えば、上記ノズルは、集合基板ユニットにおける撮像基板ユニットの配列に応じて適宜交換自在に構成することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の一実施の形態に係る洗浄装置の一部断面図である。
【図２】集合基板ユニット６とノズル７との関係を更に詳細に示す図である。
【図３】撮像基板ユニット保持部に実際に集合基板ユニット６が設置されている様子を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態の洗浄装置により洗浄する基板を実装した撮像用機器の一例としてのデジタルカメラ２１の構成を示す図である。
【図５】図４のデジタルカメラ２１の内部を示す図である。
【図６】撮像素子基板４４に撮像素子チップ４５と保護ガラス４３が接合される様子を示す図である。
【図７】撮像素子基板４４に撮像素子チップ４５と保護ガラス４３が接合された状態を示す断面図である。
【図８】集合基板ユニット６の一の例の構成を示す図である。
【図９】集合基板ユニット６の他の例の構成を示す図である。
【図１０】図９のＡＡにおける一部断面図である。
【図１１】本実施の形態に係る洗浄装置を一部工程において採用しつつ、先に図６，７に示したような撮像素子基板４４に撮像素子４５等を実装する処理の流れを詳細に説明するフローチャートである。
【図１２】図１１のステップＳ３における洗浄の処理について更に詳細に説明するフローチャートである。
【符号の説明】
【００６３】
１・・・洗浄槽、２・・・アーム部材、３・・・側面ガイド、４・・・超音波発生器、５・・・ガイドプレート、６・・・集合基板ユニット、７・・・ノズル、８・・・ノズル取付板、９・・・洗浄液、１０・・・純水製造ユニット、１１・・・開閉バルブ、１２・・・駆動機構、１３・・・制御コントローラ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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