(57)【要約】      （修正有）【課題】  光透過性及び電磁波シールド性の経時安定性に優れ、耐擦傷性、耐屈曲性及びカール性に優れた光透過性電磁波シールドシートを提供する。【解決手段】  透明基材３の一方の面に少なくとも導電性層７がパターン状に形成され、前記パターン状に形成されたパターン導電層７上に樹脂層９が積層された光透過性電磁波シールドシート１であって、該樹脂層９は、少なくともモノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素を構成成分として含有することを特徴とする光透過性電磁波シールドシートである。【選択図】  図１
2006202815.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に少なくとも導電性層がパターン状に形成され、前記パターン状に形成されたパターン導電層上に樹脂層が積層された光透過性電磁波シールドシートであって、
該樹脂層は、少なくともモノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素を構成成分として含有することを特徴とする光透過性電磁波シールドシート。
【請求項２】
前記樹脂層が、モノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素に加えて、反応性オリゴマー又は／及び（メタ）アクリレートモノマーを含有する放射線硬化型樹脂組成物の硬化物であることを特徴とする請求項１記載の光透過性電磁波シールドシート。
【請求項３】
前記放射線硬化型樹脂組成物が反応性オリゴマーとしてウレタンアクリレートを含有することを特徴とする請求項２記載の光透過性電磁波シールドシート。
【請求項４】
前記ウレタンアクリレートがイソシアヌレート環を有することを特徴とする請求項３記載の光透過性電磁波シールドシート。
【請求項５】
前記透明基材と前記導電性層の間に接着層が形成されていることを特徴とする請求項１記載の光透過性電磁波シールドシート。
【請求項６】
前記樹脂層の厚みが５〜５０μｍであることを特徴とする請求項１記載の光透過性電磁波シールドシート。
【請求項７】
請求項１〜６記載の光透過性電磁波シールドシートを用いたディスプレイ用光学フィルター。
【請求項８】
請求項７記載のディスプレイ用光学フィルターを用いたディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、陰極線管（以下ＣＲＴという）、プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰという）等のディスプレイから発生するＥＭＩ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ；電磁（波）障害）を遮蔽する光透過性電磁波シールドシートに関する。更に詳しくは、光透過性及び電磁波シールド性の経時安定性に優れ、耐擦傷性、耐屈曲性及びカール性に優れた光透過性電磁波シールドシートに関する。
【背景技術】
【０００２】
電磁波シールドシートには大きく分けて、透明基材上にスパッタ法等により透明導電層を設けた透明導電膜タイプと、同じく透明基材上に、印刷、メッキ、導電性繊維、金属箔のエッチング等によりメッシュ状に導電層を形成したタイプとがある。メッシュタイプにおいては、透明基材上にライン幅１０〜３０μｍ、ラインピッチ２００〜４００μｍ程度の導電層が形成される。
【０００３】
しかし、何れの方式においても導電層の耐久性はあまり高くなく、導電層が最表面に設けられた場合の、接触、擦れ等によるラインの断裂・変形、耐湿熱保存による導電層の錆・腐食等の問題が発生することが考えられる。
【０００４】
そのため、ディスプレイの表面に電磁波シールドフィルムを設ける場合は、他のフィルムとラミネートし、導電層が最表面とならないように設計される場合が通常であるが、ラミネートする際には、導電層と透明基材の境目に凹凸が存在するため気泡を抱き込みやすく、ラミネート後に追加工が必要となる場合がある。更に、エッチングタイプにおいては、金属箔を接着剤によりラミネートしたものをエッチングすることによりメッシュ状の導電層を形成するが、メッシュの開口部分である接着剤表面は金属箔の表面形状が賦形されてしまうため表面が荒れてしまい、より気泡を抱き込みやすいという問題がある。
【０００５】
このような問題を解決するため、金属メッシュ上に樹脂を被覆させる方法があるが、膜を高硬度にするには、硬質モノマーの使用や、架橋密度を高める事による硬化収縮時の歪みの増大により基材への密着性が低下したり、クラック、カール発生等の問題が生じる。特開２００４−３９９８１には、金属メッシュ上にアクリル系の樹脂で透明化層を形成した方法があるが、屈曲性、密着性、耐湿熱性、カール特性等において満足するものではなかった。
【特許文献１】特開２００４−３９９８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本願発明は、光透過性及び電磁波シールド性の経時安定性に優れ、耐擦傷性、耐屈曲性及びカール性に優れた光透過性電磁波シールドシートを提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者が鋭意検討を行った結果、少なくともモノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素を構成成分として含有する樹脂層を、パターン導電層上に積層せることにより、光透過性、耐湿熱性、耐擦傷性に優れ、更に表面平滑性、耐屈曲性、及びカール性が良好で２次加工性に優れた光透過性電磁波シールドシートを提供可能であることを見いだした。
【０００８】
本発明は、透明基材の一方の面に少なくとも導電性層がパターン状に形成され、前記パターン状に形成されたパターン導電層上に樹脂層が積層された光透過性電磁波シールドシートであって、該樹脂層は、少なくともモノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素を構成成分として含有することを特徴とする光透過性電磁波シールドシートである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光透過性電磁波シールドシートは、光透過性、耐湿熱性、耐擦傷性に優れ、更に表面平滑性、耐屈曲性、カール特性が良好であり、２次加工性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
図１〜３は、本発明の光透過性電磁波シールドシートの構造を示す説明図である。図１に本発明の光透過性電磁波シールドシートの一例を示す。光透過性電磁波シールドシート１は、透明基材３上に導電層として金属メッシュ層７がパターン状に形成され、更に金属メッシュ層７を覆うように樹脂層９が積層される。
また、光透過性電磁波シールドシート１の透明基材３と金属メッシュ層７との間に接着剤層を設けることもできる。図２に接着剤層５を設けた本発明の光透過性電磁波シールドシートの他の一例を示す。
また、金属メッシュ層７は、複層とすることもできる。図３に金属メッシュ層７が蒸着層１１の上部にメッキ層１３を設けて複層とした本発明の光透過性電磁波シールドシートの他の一例を示す。
【００１１】
透明基材３は、少なくとも可視光に対して透明性を有するものであることが好ましい。また、水蒸気バリア性を有するものであってもよい。
【００１２】
透明基材３を構成する素材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、もしくはポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂類、ポリ塩化ビニルもしくはポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、アクリル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルホン、もしくはポリエーテルケトン等の樹脂からなるフィルムが好ましい。例えば、これらのうちでも、透明性、耐熱性、および取扱い性の面等から、ＰＥＴフィルムが好ましく選択される。ＰＥＴフィルムは、引張強度等の機械的強度が優れており、また、量産されていて比較的安価でもある。
【００１３】
透明基材３は透明性が高いことが好ましく、透明基材３が単層の場合、可視領域の光線透過率が８０％以上であるものが好ましい。ここで、透明基材３の透明性としては、無色透明であることが好ましいが、必ずしも無色透明でなくてもよく、本発明の目的を妨げない程度であれば、着色された着色透明であってもよい。可視領域の光線透過率は出来る限り高いことが好ましいが、最終製品としては５０％以上の光線透過率が必要なことから、透明基材３が上記のような樹脂のフィルムを２枚を積層する場合でも、各々のフィルムの光線透過率が８０％であれば、目的に適う。もちろん、光線透過率が高ければ高いほど、多数枚のフィルムを積層出来るため、各々のフィルムの光線透過率は、より好ましくは８５％以上であり、最も好ましくは９０％以上である。なお、光線透過率を向上させるには厚みを薄くするのが有効な手段である。
【００１４】
透明基材３の厚みは、透明性が満足されれば特に制限されないが、加工性の面からは、１２μｍ程度〜３００μｍ程度の範囲であることが好ましい。厚みが１２μｍ未満であると、透明基材３が柔軟過ぎて、加工する際の張力により伸張やシワが発生しやすく、また、厚みが３００μｍを超えると、フィルムの可撓性が減少し、各工程での連続巻き取りが困難になる上、透明基材３どうしを複数枚、積層する際の加工性が大幅に劣るといった問題も生じるからである。
【００１５】
透明基材３の表面の金属メッシュ層７を積層する側は、接着性を向上させるための層の積層、もしくは接着性を向上させるための処理を行なったものであってもよい。
【００１６】
金属メッシュ層７は、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものである。このような金属メッシュ層は、透明基材３上に、接着剤層５により金属箔が貼り合わせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。また、金属メッシュ層７は、印刷、メッキ等により形成させることもできる。
【００１７】
金属メッシュ層７を構成する金属としては、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、もしくはチタン等を用いることができる。これらのうちでも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に、電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよい金属メッシュ層とすることができ、また、金属メッシュ層の表面に黒化処理が施された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
【００１８】
黒化処理は、金属箔の一方の面または両面に行なわれていることが好ましい。黒化処理は酸化クロム等により金属メッシュ層の表面を黒化する処理であり、電磁波遮蔽層において、この酸化処理面は、観察者側の面となるように配置される。黒化処理により金属メッシュ層表面に形成された酸化クロム等により、外光が吸収されることから、金属メッシュ層表面で光が散乱することを防止することができ、高い映像コントラストが得られる光学機能フィルムとすることができるのである。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行なうことができる。
【００１９】
黒化処理の方法としては、ＣｒＯ2 水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、６価クロムの一部を３価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、透明基材上に、接着剤層または粘着剤層により金属箔が貼り合わせられ、メッシュ状にエッチングされた後、または印刷・メッキ等により金属メッシュ層を得た後に行なわれるものであってもよい。
【００２０】
この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が０．６以上であることが好ましい。これにより、より非視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、ＣＯＬＯＲ  ＣＯＮＴＲＯＬ  ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ  ＳＰＭ１００−１１（（株）ＫＩＭＯＴＯ製）を用いて、観測視野角１０°、観測光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩ  Ｔに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。
【００２１】
また、上記金属箔の膜厚は、１μｍ〜１００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より膜厚が薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。
【００２２】
さらに、上記金属箔は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠する十点平均粗さが０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着剤やレジスト等を塗布することが困難となるからである。
【００２３】
金属箔のエッチングは、透明基材上に、接着剤層または粘着剤層を介して金属箔が貼り合わせられた後に行なわれるものである。このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行なうことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後、レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行なうことにより得ることができる。
【００２４】
上述したような金属メッシュ層は、表面抵抗が１０−６Ω／□〜５Ω／□の範囲内、中でも１０−４Ω／□〜３Ω／□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置ロレスターＧＰ、（株）ダイヤインスツルメンツ製にてＪＩＳ  Ｋ７１９４「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験法」に記載される方法にて測定された値である。
【００２５】
金属メッシュ層は、５０μｍ〜１０００μｍの範囲内、中でも１００μｍ〜４００μｍの範囲内、特に２００μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が５μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細かい場合には、断線が起こる場合があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。
【００２６】
また、開口部にはラミネート用接着剤層が、エッチング前に接していた金属箔の表面を反映した粗面を有して露出している。凹凸および粗面を解消するため、凹凸をならすのに必要な厚みの樹脂層９を平坦化層として被覆する。
【００２７】
樹脂層９の厚みは、特に限定するものではないが、５〜１００μｍであることが好ましい。
【００２８】
本発明の樹脂層９は、少なくとも、モノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素を構成成分として含有する層であり、好ましくは、放射線硬化型樹脂組成物の硬化物で構成され、硬化前の放射線硬化型樹脂組成物は、好ましくは反応性オリゴマー（Ａ）、モノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素（Ｂ）、（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ）、重合開始剤（Ｄ）を構成成分として含有する。なお、（Ａ）と（Ｃ）はいずれか一方でもよい。
【００２９】
本発明の反応性オリゴマー（Ａ）は、１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとアルキル（メタ）アクリレートとを反応させることによって合成されるウレタン（メタ）アクリレートが好適に使用可能である。
【００３０】
本発明の有機イソシアネートは、１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機化合物であるが、有機イソシアネート１分子中に含まれるイソシアネート基の数は３個以上であることが好ましい。
【００３１】
１分子中にイソシアネート基を２個有する有機イソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、メチル−２，６−ジイソシアネートヘキサノエート、ノルボルナンジイソシアネートなどのジイソシアネートモノマーが挙げられる。
【００３２】
１分子中に３個以上のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとしては、ジイソシアネートモノマーをイソシアヌレート変性させた下記一般式（１）で表される化合物、ジイソシアネートモノマーをアダクト変性させた下記一般式（２）で表される化合物、ジイソシアネートモノマーをビウレット変性させた下記一般式（３）で表される化合物、２−イソシアネートエチル−２，６−ジイソシアネートカプロエート、トリアミノノナントリイソシアネートなどのイソシアネートプレポリマーが挙げられる。イソシアヌレート環を有する有機イソシアネートが特に好ましく、これにより、耐熱特性が向上し、耐熱保存時にも表面平滑性が良好であり、光透過性が維持できる。
【００３３】
【化１】
2006202815.tif 000003
【００３４】
【化２】
2006202815.tif 000004
【００３５】
【化３】
2006202815.tif 000005
【００３６】
モノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素（Ｂ）としては、炭素数が４〜１４のもの、もしくはそれらの重合体が好ましく、モノオレフィン系炭化水素としては、α−オレフィンもしくはβ−オレフィンが好ましい。中でもポリブテンを用いることにより、特に樹脂層の硬化収縮の緩和、低酸価、疎水性、接着性において有効である。ポリブテンとしては、特に、イソブテンを主体とし、一部ノルマルブテンが反応した共重合物質であることが好ましい。
【００３７】
本発明の（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ）は、特に限定するものではないが、２−エチルヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−エトキシエトキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート等の単官能性のもの、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート等の二官能性のもの、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパンの３モルプロピレンオキサイド付加物のトリアクリレート、トリメチロールプロパンの６モルエチレンオキサイド付加物のトリアクリレート、グリセリンプロポキシトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールのカプロラクトン付加物のヘキサアクリレート等の多官能性のものが挙げられる。
【００３８】
本発明の重合開始剤（Ｄ）としては、例えば、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ｏ−ベンゾイルメチルベンゾエート、アセトフェノン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、エチルアントラキノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（例えば、チバガイギー株式会社製のイルガキュア１８４）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（例えば、チバガイギー株式会社製のダロキュア１１７３）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（例えば、チバガイギー株式会社製のイルガキュア６５１）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、メチルベンジルホルメートなどがある。
【００３９】
放射線硬化型組成物を硬化させるには、紫外線又は電子線を照射する。紫外線を照射する場合の照射条件としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ等を用い、硬化エネルギーが１００〜１０００ｍｊ／ｃｍ２であるのが好ましい。また、電子線を照射する場合の照射条件としては、加速電圧１５０〜２５０ｋｅＶで１〜５Ｍｒａｄの照射量であるのが好ましい。
【００４０】
上記放射線硬化型樹脂組成物の配合割合は、反応性オリゴマー（Ａ）、モノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素（Ｂ）、（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）の配合割合では、固形分比（重量）で１０〜９０：１０〜９０：１０〜９０：０．１〜１０であるのが好ましく、特に２０〜６０：１０〜５０：１０〜５０：３〜５である。
【００４１】
本発明の電磁波シールドシートは、一層で、又は、赤外線吸収機能、電磁波遮蔽機能、色調調整機能、ネオン光遮蔽機能、反射防止機能、もしくは防眩機能のいずれか一種もしくは二種以上の機能を有する層を積層して光学機能フィルターを提供することができる。
また、本発明の電磁波シールドシートにおいて、樹脂層に赤外線吸収機能、色調調整機能、ネオン光遮蔽機能を付加させることもできる。
【００４２】
本発明の光学機能フィルターは種々のディスプレイ、とりわけプラズマディスプレイに適用すると価値が高いが、この適用の際には例えば粘着剤を用いる。粘着剤は、光学機能フィルターを適用対象に貼り付けるため、予め、光学機能フィルターに適用しておくことが好ましく、適宜な粘着剤を用いて構成するほか、市販の両面粘着テープを用いて構成することもできる。なお、プラズマディスプレイに適用する際、プラズマディスプレイの前面ガラスに直接に貼り付けてもよいが、ディスプレイパネルとは別体のガラス等に貼り付け、貼り付けたものをプラズマディスプレイの前面に配置してもよい。また、光学機能フィルターが粘着剤層を有する場合、光学機能フィルターを保管する際には、粘着剤層を保護する剥離性フィルムを粘着剤層の露出面に積層しておくことが好ましい。
【実施例１】
【００４３】
（導電性パターン形成フィルムの作製）
まず、導電層として、一方の面に銅―コバルト合金粒子から成る黒化層を有する厚さ１０μｍの電解銅箔を用意した。また、透明基材として厚さ１００μｍの両面易接着ＰＥＴフィルム（商品名；コスモシャインＡ４３００、東洋紡績社製）を用意した。該透明基材と該導電層の黒化層面側とを、ウレタン系接着剤でドライラミネートした後に、５０℃で３日間エージングして、積層体を得た。接着剤としては、ポリオールからなる主剤とイソシアネート硬化剤（商品名  主剤：タケラックＡ−３１０、硬化剤：Ａ−１０  三井武田ケミカル社製）を用い、塗布量は乾燥後の厚さ７μｍとした。
次に、該積層体の導電層をエッチング処理することにより、ライン幅１０μｍ、ライン間隔（ピッチ）３００μｍの格子状パターンの導電層を形成し、導電性パターン形成フィルムを得た。
【００４４】
（ウレタンアクリレートオリゴマー（ａ）の合成例)
２個のイソシアネート基を有するジイソシアネートモノマーとして、イソホロンジイソシアネートを用い、これをイソシアヌレート変性し、イソシアネートプレポリマーを得た。このイソシアネートプレポリマーとＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートとを反応させ、ウレンアクリレートオリゴマー（ａ）を得た。
【００４５】
（ウレタンアクリレートオリゴマー（ｂ）の合成例）
２個のイソシアネート基を有するジイソシアネートモノマーとして、イソホロンジイソシアネートを、少なくとも２個のヒドロキシル基を有するポリオール化合物として、ヘキサメチレングリコールで変性し、イソシアネートプレポリマーを得た。このイソシアネートプレポリマーと２−ヒドロキシエチルメタクリレートとを反応させ、ウレンアクリレートオリゴマー（ｂ）を得た。
【００４６】
（樹脂層の形成）
前記導電性パターン形成フィルム上に下記組成の紫外線硬化型樹脂（ｄ）を、ドクターブレードを用いて、塗布量約２０ｇ／ｍ２になるように塗布した。
【００４７】
（紫外線硬化型樹脂（ｄ））
ウレタンアクリレートオリゴマー（ａ）：３０重量部、  ポリブテン（商品名：日石ポリブテン  ＨＶ１００、新日本石油化学社製）：４０重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート（ビスコート＃１５０、大阪有機化学社製）：２５重量部、  Ｉｎｇａｃｕｒｅ１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ）：５重量部
【００４８】
（電磁波シールドシートの作製）
賦型フィルムとして厚さ１００μｍの片面易接着ＰＥＴフィルム（商品名；コスモシャインＡ４１００、東洋紡績社製）を用い、易接着処理面と反対の面と該紫外線硬化型樹脂の塗布面が対向するように積層し、１ｋＰａ（１０ｇｆ／ｃｍ２）の圧力でロールプレスした。次に賦型フィルム側からＤバルブＦ６００Ｖ−１０（フュージョン社製、ＵＶ照射装置商品名）を用いて、３６５ｎｍの紫外線を積算光量１．５Ｊ／ｃｍ２照射して、該紫外線硬化型樹脂を硬化せしめた。次いで、賦型フィルムを剥離し、本発明の電磁波シールドシートを得た。
【実施例２】
【００４９】
実施例１における紫外線硬化樹脂（ｄ）を下記組成の紫外線硬化樹脂（ｅ）に変更した以外は実施例１と同様にして本発明の電磁波シールドシートを得た。
【００５０】
（紫外線硬化型樹脂（ｅ））
ウレタンアクリレートオリゴマー（ｂ）：３０重量部、  ポリブテン（商品名：日石ポリブテン  ＨＶ１００、新日本石油化学社製）：４０重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート（ビスコート＃１５０、大阪有機化学社製）：２５重量部、  Ｉｎｇａｃｕｒｅ１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ）：５重量部
（比較例１）
【００５１】
実施例１における紫外線硬化樹脂（ｄ）を下記組成の紫外線硬化樹脂（ｆ）に変更した以外は実施例１と同様にして本発明の電磁波シールドシートを得た。
【００５２】
（紫外線硬化型樹脂（ｆ））
ウレタンアクリレートオリゴマー（ａ）：５０重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート（ビスコート＃１５０、大阪有機化学社製）：４５重量部、  Ｉｎｇａｃｕｒｅ１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ）：５重量部
（比較例２）
【００５３】
実施例１における紫外線硬化樹脂（ｄ）を下記組成の紫外線硬化樹脂（ｇ）に変更した以外は実施例１と同様にして本発明の電磁波シールドシートを得た。
【００５４】
（紫外線硬化型樹脂（ｇ））
アクリル樹脂アクリレート（商品名：ヒタロイド７９７０、日立化成製）：３７重量部、イソブチルメタクリレート（商品名：ブレンマーＩＢＭＡ、日本油脂製）：６０重量部、  Ｉｎｇａｃｕｒｅ１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ）：５重量部
【００５５】
［評価結果］
実施例１、２及び比較例１、２の評価結果を図４に示す。
実施例１、２の電磁波シールドシートでは、光透過性、耐擦傷性、屈曲性、密着性、カール性及び耐湿熱性において良好な性能であるという結果が得られた。比較例１、２では、密着性、カール性や耐湿熱性において満足できるものではなかった。
（評価方法）
（ａ）光透過性：ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５（１９８１）「プラスチックの光学的特性試験方法」に従って、光線透過率、像鮮明度を評価した。
（ｂ）耐擦傷性：＃０００のスチールウールを使用し、２５０ｇの荷重で２０回ラビングし目視評価を行った。
（ｃ）耐屈曲性：ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１（１９９９）に従って評価。硬化塗膜にクラック又は浮きが発生する円筒形マンドレルの最大直径を調べた。円筒形マンドレルの最大直径を１０ｍｍ以下とすることが好ましく、より好ましくは３ｍｍ以下である。
（ｄ）密着性：碁盤目セロテープ(登録商標)剥離試験により評価。
（ｅ）カール性：カールの発生度合いを目視評価した。
（ｆ）耐湿熱性：６０℃／９５％ＲＨおよび、８０℃／Ｆｒｅｅの雰囲気中に１０００時間放置して耐久試験を行った後（試験後）での光透過性を評価した。
ポリブテンを用いることにより、接着性に優れ、金属箔との密着性が良く、低酸化、疎水性のため導電層のサビを防止することができ、更に硬化収縮が緩和されている。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の電磁波シールドシートの説明図である。
【図２】本発明の電磁波シールドシートの説明図である。
【図３】本発明の電磁波シールドシートの説明図である。
【図４】実施例及び比較例についての評価結果である。
【符号の説明】
【００５７】
１………電磁波シールドシート
３………透明基材
５………接着剤層
７………金属メッシュ層
９………樹脂層
１１………蒸着層
１３………メッキ層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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