(57)【要約】【課題】    ギアポンプを使用して塗布液の送液を行う場合であっても、スロットダイに対して塗布液を安定的に送液し、塗布液の送液脈動を抑制する技術を提供する。【解決手段】  ギアポンプ４２は、スロットダイ１８からウェブ１４に対して１０ｃｃ／ｍ2以下の塗布量で塗布液が塗布されるようにスロットダイ１８に塗布液を供給する。またギアポンプ４２は、Ｖ  ／  Ｎ  ≦  ０．０７ｃｃ、（Ｖ：前記ギアの一回転当たりの前記塗布液の送液容積、Ｎ：前記ギアが有する歯数）を満たすように調整されている。【選択図】 図１
2006272129.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ギアを有するギアポンプによってスロットダイに塗布液を供給し、バックアップローラによって支持された状態で連続走行する支持体の表面に向かって前記スロットダイから塗布液を吐出して前記スロットダイと前記支持体との間に前記塗布液のビードを架設し、当該ビードによって前記支持体の表面に前記塗布液を塗布する塗布液の塗布方法において、
前記ギアポンプは、前記スロットダイから前記支持体に対して１０ｃｃ／ｍ２以下の塗布量で前記塗布液が塗布されるように前記スロットダイに前記塗布液を供給するとともに、
Ｖ  ／  Ｎ  ≦  ０．０７ｃｃ  
Ｖ：前記ギアの一回転当たりの前記塗布液の送液容積
Ｎ：前記ギアが有する歯数
を満たすことを特徴とする塗布液の塗布方法。
【請求項２】
前記スロットダイの塗布液吐出先端部と前記支持体との距離は１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の塗布液の塗布方法。
【請求項３】
前記塗布液の粘度は５ｃｐ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の塗布液の塗布方法。
【請求項４】
前記請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布液の塗布方法によって得られる塗布層を少なくとも１層有することを特徴とする光学フィルム。
【請求項５】
前記光学フィルムは、反射防止フィルムであることを特徴とする請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項６】
ギアを有するギアポンプによってスロットダイに塗布液を供給し、バックアップローラによって支持された状態で連続走行する支持体の表面に向かって前記スロットダイから塗布液を吐出して前記スロットダイと前記支持体との間に前記塗布液のビードを架設し、当該ビードによって前記支持体の表面に前記塗布液を塗布する塗布液の塗布装置において、
前記ギアポンプは、前記スロットダイから前記支持体に対して１０ｃｃ／ｍ２以下の塗布量で前記塗布液が塗布されるように前記スロットダイに前記塗布液を供給するとともに、
Ｖ  ／  Ｎ  ≦  ０．０７ｃｃ  
Ｖ：前記ギアの一回転当たりの前記塗布液の送液容積
Ｎ：前記ギアが有する歯数
を満たすように設定されることを特徴とする塗布液の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布液の塗布方法、塗布液の塗布装置、および光学フィルムに係り、特に塗布液を送液するギヤポンプを利用した技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ウェブ（支持体）の表面に所望の厚さの塗布膜を塗布する塗布装置として、バーコータ方式、リバースロールコータ方式、グラビアロールコータ方式、エクストルージョンコータなどのスロットダイコータ方式、等が知られている。この中でもスロットダイコータ方式の塗布装置は、他の方式と比較して、高速で薄層の塗布が可能であることから多用されている。
【０００３】
近年、塗布膜の膜厚変動が性能に大きな影響を与える光学フィルムなどの分野では、塗布膜（塗布層）の薄膜化が飛躍的に進んでいる。光学フィルムは、乾膜状態における膜厚によって光学特性が変動するため、反射防止フィルムなどでは１００ｎｍ程度の乾膜状態の膜厚が要求される。そのため、スロットダイからウェブに対して吐出された直後の湿潤状態の膜厚も１５μｍ以下に薄層化されることが必要となり、スロットダイコータ方式による塗布手法の更なる改良が望まれている。
【０００４】
エクストルージョンコータに代表されるスロットダイコータ方式では、ウェブとスロットダイとの間にビードが架設されて塗布液の塗布が行われるが、いわゆる段ムラなどの塗布不良を防いで塗布液をウェブに対して均一に塗布するためには、ビードを安定化させることが重要である。ビードの安定化を阻害する要因として、例えば、スロットダイやその周辺機器の振動、ビードを吸引する減圧チャンバーの内部圧力の変動、塗布液の送液脈動、等が挙げられる。特に、塗布液の送液脈動は、スロットダイにおける塗布液の吐出状態を直接的に変動させるため、ビードの形状が不安定になりやすく、「段ムラ」と呼ばれる塗布膜の面状不良を誘発して、製品の品質を悪化させてしまう。
【０００５】
塗布量が少ない状態で塗布液の塗布を行う場合には、ビードの架橋限界を考慮し、リップクリアランスを小さくしてビードを小さくする必要がある。同様に、ウェブの搬送速度（塗布速度）を高速化する場合にも、リップクリアランスを小さくしてビードを小さくする必要がある。しかしながら、リップクリアランスを小さくしてビードを小さくする場合には、ビードは外乱の影響を受けて形状を崩しやすい。さらに、光学フィルムなどに用いられる５ｃｐ程度の低粘度の塗布液を使用する場合にも、ビードは外乱の影響を受けて形状を崩しやすい。したがって、特に低リップクリアランス、低塗布速度、および塗布液が低粘度の場合には、塗布液の送液脈動を可能な限り抑えて、塗布膜への影響を最小限に抑えることが大切である。
【０００６】
上述の塗布液の送液脈動は、塗布液の送液の駆動源であるポンプの性能に強く依存する。ポンプに起因するこのような塗布液の送液脈動を抑えるために、例えば特許文献１では、回転駆動部にフライホイールが設けられた容積回転式または容積往復運動式のポンプが開示されている。このポンプは、可撓性支持体に塗布する塗布膜の薄層化および厚み変動規格の厳格化に対応可能な送液精度の実現を図っている。
【特許文献１】特開２００３−１３８４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１に開示されているポンプは、ポンプの回転精度を上げることによって塗布液の送液脈動を低減させることができるが、ポンプの性能に起因する送液脈動の問題を根本的に解決するものではない。
【０００８】
ところで、塗布液の送液に使用される一般的なポンプとして、例えば、ギアポンプ、ダイヤフラムポンプ、プランジャーポンプ、等が挙げられる。特に塗布液の塗布量が少ない低塗布量時には、ギアによる塗布液の押しのけ容積（送液容積）に基づいて送液量を決定することができ、低塗布量であっても塗布量の制御が可能なギアポンプが適している。ギアポンプは、構造が比較的単純であり、種類も用途に応じて数多く存在する。したがって、ギアポンプを使用して、塗布液をスロットダイに対し安定的に送液することができる技術の提案が望まれている。
【０００９】
その一方で、反射防止フィルムなどの光学フィルムでは、塗布膜における段ムラが１ｎｍ程度の変動に基づくわずかなものであっても、光の干渉によってその段ムラが目視可能となることがある。そのため、光学フィルムの分野では、非常に高いレベルの塗布精度が要求されている。
【００１０】
本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ギアポンプを使用して塗布液の送液を行う場合であっても、スロットダイに対して塗布液を安定的に送液し、塗布液の送液脈動を抑制する塗布液の塗布方法および塗布装置と、そのような塗布装置や塗布方法によって得られる塗布層を含む光学フィルムおよび反射防止フィルムと、を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記目的を達成するために請求項１に記載の発明は、ギアを有するギアポンプによってスロットダイに塗布液を供給し、バックアップローラによって支持された状態で連続走行する支持体の表面に向かって前記スロットダイから塗布液を吐出して前記スロットダイと前記支持体との間に前記塗布液のビードを架設し、当該ビードによって前記支持体の表面に前記塗布液を塗布する塗布液の塗布方法に関する。この塗布液の塗布方法では、前記ギアポンプは、前記スロットダイから前記支持体に対して１０ｃｃ／ｍ２以下の塗布量で前記塗布液が塗布されるように前記スロットダイに前記塗布液を供給するとともに、
Ｖ  ／  Ｎ  ≦  ０．０７ｃｃ  
Ｖ：前記ギアの一回転当たりの前記塗布液の送液容積、Ｎ：前記ギアが有する歯数
を満たすことを特徴とする。
【００１２】
本発明のように、ギアの一回転当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）Ｖとギアが有する歯数Ｎとが上記の式を満たすことで、ギアポンプによる送液変動を効果的に防ぐことができる。これにより、塗布液の送液脈動が抑制され、高品質な塗布膜が得られる。
【００１３】
また、請求項２に記載のように、前記スロットダイの塗布液吐出先端部と前記支持体との距離は１００μｍ以下であってもよい。
【００１４】
一般に、塗布膜の膜厚を薄くする場合には、スロットダイの塗布液吐出先端部と前記支持体との距離（リップクリアランス）を狭くする必要があり、塗布液の送液脈動が塗布膜の品質に大きく影響する。そのような事情を背景に、本発明は、特にスロットダイの塗布液吐出先端部と支持体との距離を１００μｍ以下にした場合に、上述の効果を発揮する。
【００１５】
また、請求項３に記載のように、前記塗布液の粘度は５ｃｐ以下であってもよい。
【００１６】
一般に、粘度の小さな塗布液が用いられる場合には、スロットダイの塗布液吐出先端部と前記支持体との距離（リップクリアランス）が狭くする必要があり、生成される塗布膜に対して塗布液の送液脈動が大きく影響する。そのような事情を背景に、本発明は、特に塗布液の粘度が５ｃｐ以下の場合に、上述の効果を発揮する。
【００１７】
また、前記目的を達成するために請求項４に記載の発明は、上述の塗布液の塗布方法によって得られる塗布層を少なくとも１層有することを特徴とする光学フィルムに関する。
【００１８】
本発明によれば、高品質な塗布膜が用いられた良好な光学フィルムが提供される。
【００１９】
また、請求項５に記載のように、前記光学フィルムは、反射防止フィルムであってもよい。
【００２０】
この場合には、高品質な塗布膜が用いられた良好な反射防止フィルムが提供される。
【００２１】
また、前記目的を達成するために請求項６に記載の発明は、ギアを有するギアポンプによってスロットダイに塗布液を供給し、バックアップローラによって支持された状態で連続走行する支持体の表面に向かって前記スロットダイから塗布液を吐出して前記スロットダイと前記支持体との間に前記塗布液のビードを架設し、当該ビードによって前記支持体の表面に前記塗布液を塗布する塗布液の塗布装置に関する。この塗布液の塗布装置では、前記ギアポンプは、前記スロットダイから前記支持体に対して１０ｃｃ／ｍ２以下の塗布量で前記塗布液が塗布されるように前記スロットダイに前記塗布液を供給するとともに、
Ｖ  ／  Ｎ  ≦  ０．０７ｃｃ  
Ｖ：前記ギアの一回転当たりの前記塗布液の送液容積、Ｎ：前記ギアが有する歯数
を満たすように設定されることを特徴とする。
【００２２】
本発明によれば、ギアポンプによる送液変動を防いで、塗布液の送液脈動を効果的に抑制し、高品質な塗布膜を得ることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の塗布液の塗布装置および塗布方法によれば、ギアの一回転当たりの塗布液の送液容積Ｖとギアが有する歯数Ｎとが適切に設定され、ギアポンプによる送液変動を防ぎ、塗布膜に対する塗布液の送液脈動の影響を低減させることができる。
【００２４】
また、本発明の光学フィルムは、塗布液の送液脈動に起因する段ムラ等の塗布不良が防がれた状態で生成された塗布層を含むので、良好な品質を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下添付図面を参照して本発明の好ましい実施の形態について説明する。
【００２６】
図１は、本発明の一実施の形態におけるスロットダイコータ式塗布システム１０の構成図である。なお、図中のバックアップローラ１２およびウェブ１４の近傍の矢印は、本実施の形態の「バックアップローラ１２によるウェブ１４の搬送方向」、すなわち「ウェブ１４の走行方向」を示す。
【００２７】
本実施の形態のスロットダイコータ式塗布システム１０では、ギアを有するギアポンプ４２によってスロットダイ１８に塗布液を供給し、バックアップローラ１２によって支持された状態で連続走行するウェブ１４の表面に向かってスロットダイ１８から塗布液を吐出してスロットダイ１８とウェブ１４との間に塗布液のビード２０を架設する。そして、ビード２０のウェブ上流側が減圧チャンバー２６によって減圧された状態で、ウェブ１４の表面にビード２０の塗布液が塗布され、ウェブ１４上に塗布膜が生成される。
【００２８】
なお、スロットダイ１８によって塗布液が塗布される位置（以下、「塗布位置」とも称する）を基準にして、ウェブの走行方向に関し塗布位置よりも前段の部分を「ウェブ上流」と称し、後段の部分を「ウェブ下流」と称する。したがって、図１に示す横型のスロットダイ１８では、ビード２０の下側は「ウェブ上流側」となり、ビード２０の上側は「ウェブ下流側」となる。また、ウェブの搬送方向と垂直を成すウェブの幅方向を「ウェブ幅方向」と称する。
【００２９】
スロットダイ１８は、内部に設けられたマニホールド２２と、マニホールド２２からスロットダイ１８の先端部に延在するスロット２４と、マニホールド２２からスロットダイ１８の外部に向かって延びる塗布液供給路２５と、を有する。また、スロットダイ１８は、上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂの二つのブロックによって構成されており、マニホールド２２およびスロット２４が上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂの境界の一部となっている。このように、スロットダイ１８を多ブロック構造とすることで、スロットダイ１８の製造精度を高め、洗浄などの後処理を容易にすることができる。なお、スロットダイ１８の具体的な形状やサイズは、自重、使用時の環境や塗布液の温度、製作仕様限界、等に基づいて決定される。
【００３０】
スロットダイ１８の先端部分は先細り状に形成されており、その先端はリップランド１６と呼ばれる。スロット２４のウェブ上流側（図１の下側）のリップランド１６を上流側リップランド１６Ａと称し、ウェブ下流側（図１の上側）のリップランド１６を下流側リップランド１６Ｂと称する。本実施の形態のスロットダイ１８はオーバーバイト構造を有し、上流側リップランド１６Ａよりも下流側リップランド１６Ｂのほうが、バックアップローラ１２に巻き掛けられたウェブ１４に近い位置に配置されている。このようなオーバーバイト構造は、スロットダイ１８のウェブ幅方向の全長に亘って略均一に形成されている。
【００３１】
なお、スロットダイ１８の塗布液吐出先端部であるリップランド１６とウェブ１４との距離を「リップクリアランス」と称する。特に本実施の形態のようなオーバーバイト構造の場合、「リップクリアランス」とは、ウェブ１４により近接する下流側リップランド１６Ｂとウェブ１４との距離を意味する。
【００３２】
スロットダイ１８の塗布液供給路２５には、塗布液供給管４６を介して塗布液タンク４４が接続されており、塗布液供給管４６にはギアポンプ４２が設けられている。塗布液タンク４４は、スロットダイ１８からウェブ１４に向かって吐出される塗布液を貯留しておくタンクである。ギアポンプ４２は、塗布液タンク４４内の塗布液を、塗布液供給管４６および塗布液供給路２５を介してマニホールド２２に送る。
【００３３】
マニホールド２２は、塗布液タンク４４からスロットダイ１８に供給された塗布液を、塗布幅方向（ウェブ幅方向）へ拡流する液溜め部である。なお、マニホールド２２の断面形状は、図１に示す略円形に限定されるものではなく、例えば半円形、台形などの矩形、あるいはそれらに類似する形状であってもよい。
【００３４】
スロット２４は、マニホールド２２からスロット先端に至る狭隘な塗布液の流路を構成し、スロット２４のウェブ幅方向の両端部には、塗布幅を規制する塗布幅規制板（図示省略）が挿入される。このスロット２４は、スロットダイ１８の先端部分における開口部２４Ａから塗布液を吐出させて、スロットダイ１８とウェブ１４との間にビード２０を架設する。
【００３５】
上述のような構成を有するスロットダイ１８の先端部分の下方には、ビード２０のウェブ上流側を減圧するための減圧チャンバー２６が設けられている。減圧チャンバー２６は、内部に空間形成するバックプレート２６Ａ、サイドプレート２６Ｂ、リアプレート２６Ｃ、およびボトムプレート２６Ｄを有し、減圧に関する作動効率を保持するための箱形形状となっている。
【００３６】
バックプレート２６Ａは、減圧チャンバー２６のうちウェブ搬送方向の最も上流側に位置し、ウェブ１４の幅方向に沿って配置される。サイドプレート２６Ｂは、バックプレート２６Ａと垂直を成すように配置されて減圧チャンバー２６の両側壁を構成し、バックアップローラ１２と近接する縁部分（図示省略）がバックアップローラ１２とほぼ同じ曲率を有する。リアプレート２６Ｃは、スロットダイ１８の下方において、バックプレート２６Ａとほぼ平行に配置されている。ボトムプレート２６Ｄは、減圧チャンバー２６の底部分を構成し、バックプレート２６Ａ、サイドプレート２６Ｂ、およびリアプレート２６Ｃと縁部分において接合する。そして、「バックプレート２６Ａとウェブ１４の間」および「サイドプレート２６Ｂとウェブ１４の間」の各々には、所定の大きさの隙間が存在する。
【００３７】
バックプレート２６Ａには吸引口４０が形成されており、吸引口４０にはエア配管２８が接続されている。減圧チャンバー２６には、吸引口４０およびエア配管２８を介してブロア３０が接続されており、エア配管２８の途中には、バルブ３２およびバッファ装置３４が設けられている。ブロア３０は、吸引口４０およびエア配管２８を介して減圧チャンバー２６内を吸引し、減圧チャンバー２６内を負圧にする。バルブ３２は、その開度に応じて減圧チャンバー２６内の減圧度を調整する。バッファ装置３４は、減圧チャンバー２６内の圧力変動を小さくするための緩衝部としての役割を果たす。
【００３８】
減圧チャンバー２６内には、減圧チャンバー２６内の圧力を測定する圧力計３６が設けられており、圧力計３６の測定結果はコントローラ３８に送られる。コントローラ３８は、圧力計３６の測定結果に基づいてバルブ３２の開度を調節し、減圧チャンバー２６内の圧力を所定の圧力に保つ。なお、本実施の形態において「減圧チャンバー２６内の圧力」は「ビード２０のウェブ上流側の圧力」に対応する。
【００３９】
次に、塗布液を精度良く吐出させるためのスロットダイ１８の製作例、組み立て例、等に関して説明する。
【００４０】
本実施の形態のスロットダイ１８を構成する上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂは、本体部分がステンレス鋼で製作され、リップランド１６を含む先端部分が超硬材質で製作されている。上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂは、本体部分同士および先端部分同士が相互に対応するように接合されて、熱等による変形の影響を防いでいる。
【００４１】
スロットダイ１８の組み立て時には、マイクロスコープなどの計測器によってオーバーバイト量Ｌを監視しながら、上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂを組み合わせる。なお、この組み立て時には、３μｍ以上の精度をもつ定盤を使用し、リップランド１６を上方に向けた状態で、上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂを定盤に載せて組み立てることが好ましい。
【００４２】
なお、スロットダイ１８を架台に載せて保持する場合には、上流側ダイブロック１８Ａを架台によって保持するとともに、下流側ダイブロック１８Ｂの少なくとも１箇所以上を架台によって挟み込んで保持することが好ましい。
【００４３】
また、スロットダイ１８から塗布液を吐出させる際には、スロットダイ１８が設置される塗布室の温度を常温に保って、スロットダイ１８の温度がほぼ常温に保たれることを、接触型デジタル温度計などの計測器で確認することが好ましい。また、塗布液タンク４４からマニホールド２２に供給される塗布液の温度を常温に保持することで、スロットダイ１８の温度変化を防ぐことができる。その際には、流量計や温度計を使用して塗布液タンク４４からマニホールド２２に供給される塗布液の流量や温度を測定し、その測定値を塗布液タンク４４の保温装置（図示省略）にフィードバックさせてもよい。
【００４４】
次に、本実施の形態のギアポンプ４２のギアと、ギアポンプ４２による塗布液の送液容積（ギアによる塗布液の押しのけ容積）と、の関係について説明する。図２は、ギアポンプ４２の概略を示す側方断面図であり、主に複数の歯５０を有するギア４８を示す。
【００４５】
ギアポンプ４２は、相互に噛み合う一組のギア４８を有する。この一組のギア４８がギアポンプ４２内で回転することによって、塗布液供給管４６内の塗布液は塗布液タンク４４からマニホールド２２に向かって送られる。なお、ギア４８が有する歯５０の形状や数などは図２に示すものに限定されず、各種の形状、数が用いられうる。
【００４６】
一般に、ギアポンプによってもたらされる送液脈動は、ギアの回転時における押しのけ量（送液量）の変動に起因するケースが多く、ウェブ１４上の塗布膜に対してギアマークと呼ばれる段ムラが付与されてしまうことがある。この塗布液の送液脈動によって塗布膜に付与される段ムラの周波数は、ギアの刻み数にほぼ対応する。したがって、送液脈動を低減させて塗布液を精密に送る観点からは、ギアの回転時における押しのけ量（送液量）を少なくして、塗布液の流量当たりの変動量を小さくすることが効果的である。
【００４７】
本件発明者は、鋭意研究した結果、下述する[実施例]で示唆されているように、以下の知見を得た。すなわち、ギアポンプ４２を、以下の式（１）を満たすように設定することによって、塗布液の送液脈動を効果的に抑制して、塗布膜に付与される段ムラを防ぐことができる。
【００４８】
Ｖ  ／  Ｎ  ≦  ０．０７ｃｃ      （１）
Ｖ：ギア４８の一回転当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）
Ｎ：ギア４８が有する歯５０の数
上記の式（１）において、「Ｖ／Ｎ」は、ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）を示す。したがって、式（１）は、「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積」が０．０７ｃｃ以下となるように、ギアポンプ４２の特性を規定する。このように、「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積」を０．０７ｃｃ以下に設定することによって、隣接する歯５０の相互間における塗布液の送液容積の変動量を抑制することができる。特に、ギアポンプ４２が所定量の塗布液をスロットダイ１８のマニホールド２２に対して送り、ウェブ１４に対して１０ｃｃ／ｍ２以下の塗布液が塗布されるようにする場合には、上記式（１）を満たすギアポンプ４２を用いることで塗布液の送液脈動を効果的に低減させることができる（下述する［実施例］参照）。
【００４９】
なお、上記式（１）の条件が長期間保持されるようにするために、ギアポンプ４２のギア４８を、有機溶剤等による腐食に対して強く変形しにくい材質で形成することが好ましい。したがって、例えばステンレス鋼やステライトなどの強固な部材によって、ギアポンプ４２（ギア４８）を形成することが可能である。
【００５０】
上述の事項は本発明の一態様を例示したものであり、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形が加えられたり、公知の要素を応用したりすることも可能であり、そのような各種態様も本発明の範囲に含まれうる。
【００５１】
例えば、ウェブ１４や塗布液は、目的に応じた各種成分を含むものが使用されうる。一例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィルム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたもの、あるいはこれらを積層した各種複合材料を、ウェブ１４の材質として使用可能である。
【００５２】
また、塗布液の溶媒として、水、各種のハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、エステル、ケトンなどを単独あるいは複数混合したものを使用可能である。
【００５３】
また、塗布液として、光学補償シート塗布液、反射防止フィルム塗布液、防眩性付与液磁性塗布液、写真感光性塗布液、磁性塗布液、視野角拡大塗布液、表面保護液、帯電防止液、滑性用塗布液、カラーフィルタ用顔料液、あるいはその他の光学フィルム用塗布液を使用可能である。
【００５４】
また、スロットダイコータ式塗布システム１０におけるバックアップローラ１２、スロットダイ１８、および減圧チャンバー２６は、ウェブ１４上に塗布液を適切に塗布することができれば、どのような配置および構成であってもよい。
【００５５】
また、マニホールド２２への塗布液の供給方式は、ギアポンプ４２によってマニホールド２２に対し塗布液を適切に供給することができればどのような手法であってもよい。例えば、マニホールド２２の一端側から塗布液を供給する方式、マニホールド２２の中央部から塗布液を供給する方式、マニホールド２２の両端部に塗布液が漏れ出ることを防止する栓を設けて、マニホールド２２の一方端から新規な塗布液を供給するとともに、他方端から抜き取られた一部の塗布液を再び一方端に循環させる方式、等が用いられうる。
【実施例】
【００５６】
以下に上述のスロットダイコータ式塗布システム１０を用いた実施例について記述するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００５７】
（塗布液の調製）
以下の各実施例で用いられた塗布液は、以下のようにして調整された。すなわち、「熱架橋性含フッ素ポリマーの６重量％のメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）９３ｇ」に対し、「ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０ｎｍ〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を８ｇ」、「メチルエチルケトン９４ｇ」、および「シクロヘキサノン６ｇ」を添加して、攪拌する。そして、その攪拌された溶液を孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ（ＰＰＥ−０１）によって濾過することで調製される溶液を塗布液として準備した。なお、この塗布液は、光学フィルムのうち反射防止膜用の塗液として使用され、屈折率が１．４２、粘度が０．５ｃｐ、表面張力が０．０２４Ｎ／ｍに調整されている。また、この塗布液に増粘剤を加えて、粘度を０．５〜７．５ｃｐの範囲に調整した溶液を塗布液として準備した。
【００５８】
（塗布条件等）
以下の各実施例では、下記の塗布条件の範囲で、ウェブ１４に対する塗布液の塗布を行って得られたデータに基づいて、ウェブ１４上の塗布膜の幅方向（ウェブ幅方向）の膜厚分布が評価されている。
【００５９】
塗布液の塗布量      ２．５〜１５  ｃｃ／ｍ２
塗布液の塗布速度    １０〜５０  ｍ／ｍｉｎ
リップクリアランス  ４０〜１２０  μｍ
塗布液の粘度        ０．５〜７．５  ｃｐ
ウェブ上の塗布幅    ０．５〜１．３  ｍ
また、ウェブ１４上に形成された塗布膜の塗布面状の評価は、光干渉型膜厚測定器（大塚電子社製瞬間マルチ測光システムＭＣＰＤ）を使用し、塗布膜の長手方向に関し２ｍｍ間隔で３００点および幅方向に関し２ｍｍ間隔で６５０点測定して、行った。そして、膜厚分布が１．５％以下の塗布膜を、製品としての品質水準を満たすと判断した。
【００６０】
（ギアポンプ）
ギアポンプ４２には、川崎重工業株式会社製のＫＡ−１のギアポンプを用いた。このギアポンプは、ギア４８による塗布液の送液容積（押しのけ容積）を適宜調節することが可能となっている。
【００６１】
（実施例１）
以下の表１〜表５は、「塗布液の塗布量」、「塗布液の塗布速度」、および「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）（Ｖ／Ｎ）」を適宜変えた場合の、ウェブ１４上の塗布膜の幅方向膜厚分布を示す。なお、各表における具体的な塗布条件は、表１は「塗布量が１５ｃｃ／ｍ２、塗布速度が１０ｍ／ｍｉｎ」、表２は「塗布量が５ｃｃ／ｍ２、塗布速度が１０ｍ／ｍｉｎ」、表３は「塗布量が１０ｃｃ／ｍ２、塗布速度が１０ｍ／ｍｉｎ」、表４は「塗布量が１５ｃｃ／ｍ２、塗布速度が１０ｍ／ｍｉｎ」、表５は「塗布量が１０ｃｃ／ｍ２、塗布速度が１０〜５０ｍ／ｍｉｎ」となっている。また、表１〜表５において、ウェブ１４上の塗布幅は１．３ｍであり、塗布液の粘度は０．８ｃｐであり、リップクリアランスは６０μｍである。また、各表の「Ｘ」は、「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）（Ｖ／Ｎ）」を示し、各表の「無し」は、スロットダイ１８による塗布液の塗布が十分に行われず、信頼性のあるデータを取得できなかったことを示す。
【００６２】
【表１】
2006272129.tif 000003
【００６３】
【表２】
2006272129.tif 000004
【００６４】
【表３】
2006272129.tif 000005
【００６５】
【表４】
2006272129.tif 000006
【００６６】
【表５】
2006272129.tif 000007
【００６７】
上記の各表によって示唆されているように、塗布液の塗布量が１０ｃｃ／ｍ２以下の場合には、「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）（＝Ｘ）」を０．０７ｃｃ以下に設定することで、塗布膜の幅方向の膜厚分布を良好にすることができることが確認された。これは、塗布液の塗布量が１０ｃｃ／ｍ２よりも大きい範囲（例えば１５ｃｃ／ｍ２）では、リップクリアランスを１００μｍ以上にセッティングすることができ、ビード２０の大きさを大きく設定することができるので、ギアポンプ４２による塗布液の送液変動が多少あったとしても、ビードに対する相対的な変動値が小さくなり、段ムラなどの不良を招きにくいからであると考えられる。また、特に薄層領域における塗布膜を生成する場合には、ギアポンプ４２による塗布液の送液変動に対して塗布膜の面状態が敏感に変化するため、「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）（＝Ｖ／Ｎ）」を０．０７ｃｃ以下に設定して、塗布液の送液変動を限りなく低減させることが非常に効果的であると考えられる。
【００６８】
また、表５に示されているように、塗布液の塗布速度を５０ｍ／ｍｉｎ以下の範囲で変動させても、「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）（＝Ｖ／Ｎ）」を０．０７ｃｃ以下に設定した場合には、塗布膜の膜厚分布を良好にすることができることが確認された。
【００６９】
なお、ギアポンプ４２による塗布液の送液変動を低減させた場合であっても塗布膜の膜厚分布の値が０％にならない原因は、ウェブ１４やスロットダイ１８などの機器類の振動、減圧チャンバー２６内の減圧変動、送りムラ、あるいは他の外乱によるものと考えられる。
【００７０】
（実施例２）
以下の表６および表７は、「塗布液の塗布速度」、「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）（＝Ｖ／Ｎ）」、および「リップクリアランス」を適宜変えた場合の、ウェブ１４上の塗布膜の幅方向膜厚分布を示す。なお、各表における具体的な塗布条件は、表６は「塗布量が１０ｃｃ／ｍ２、塗布速度が１０ｍ／ｍｉｎ」、表７は「塗布量が１０ｃｃ／ｍ２、塗布速度が５０ｍ／ｍｉｎ」となっている。また、表６および表７において、ウェブ１４上の塗布幅は１．３ｍであり、塗布液の粘度は０．８ｃｐである。
【００７１】
【表６】
2006272129.tif 000008
【００７２】
【表７】
2006272129.tif 000009
【００７３】
上記の表６および表７によって示唆されているように、リップクリアランスを１００μｍ以下に設定した場合に、塗布膜の幅方向の膜厚分布を良好にすることができることが確認された。これは、１００μｍ以下にリップクリアランスを設定することで、ビード２０が流量変動や送液脈動の影響を非常に受けやすくなるので、ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（＝Ｖ／Ｎ）を小さくした場合の効果が非常に大きいためであると考えられる。なお、表７の条件（塗布量が１０ｃｃ／ｍ２、塗布速度が５０ｍ／ｍｉｎ）において、リップクリアランスを１２０μｍに設定した場合には、いわゆる塗り付き限界を超えてしまい、十分な塗布液の塗布を実施することができなかった。
【００７４】
一方、表６および表７においてリップクリアランスを１２０μｍに設定した場合、ギアポンプ４２の性能に関わらず塗布膜の幅方向膜厚分布があまり変動しなかった。これは、実施例１において述べたように、ギアポンプ４２による塗布液の送液変動が多少あったとしても、ビードに対する相対的な変動値が小さくなり、段ムラなどの不良を招きにくいからであると考えられる。なお、塗布液の塗布量が１０ｃｃ／ｍ２以下である薄層領域では、ビード２０を安定的に架橋させるためにリップクリアランスを十分に狭くする必要があるため、塗布量分布の悪化を招きやすい。
【００７５】
（実施例３）
以下の表８は、「塗布液の粘度」および「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）（＝Ｖ／Ｎ）」を適宜変えた場合の、ウェブ１４上の塗布膜の幅方向膜厚分布を示す。なお、表８における具体的な塗布条件は、「塗布液の塗布量が５ｃｃ／ｍ２、塗布液の塗布速度が１０ｍ／ｍｉｎ、ウェブ上の塗布幅が１．３ｍ、リップクリアランスが６０μｍ」となっている。
【００７６】
【表８】
2006272129.tif 000010
【００７７】
上記の表８によって示唆されているように、塗布液の粘度が５ｃｐ以下の低粘度の場合に、ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（＝Ｖ／Ｎ）を０．０７ｃｃとすることで、塗布膜の幅方向の膜厚分布を良好にすることができることが確認された。なお、７．５ｃｐ以上の高粘度の塗布液を使用する場合には、ビード２０の液架橋の安定性を向上させるためにリップクリアランスを狭くする必要があるが、ビード２０を形成する塗布液の粘度を上昇させるとビード形状が変化しにくくなり、結果として塗布液の高粘度化に起因する段ムラなどの不良を招きにくくなる。
【００７８】
（実施例４）
以下の表９は、「ウェブ１４上の塗布幅」を０．５ｍに設定して、「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）（＝Ｖ／Ｎ）」を適宜変えた場合の、ウェブ１４上の塗布膜の幅方向膜厚分布を示す。なお、表９における具体的な塗布条件は、「塗布液の塗布量が３．５ｃｃ／ｍ２、塗布液の塗布速度が１０ｍ／ｍｉｎ、塗布液の粘度が０．８ｃｐ、リップクリアランスが６０μｍ」となっている。
【００７９】
【表９】
2006272129.tif 000011
【００８０】
上記の表９によって示唆されているように、塗布幅を０．５ｍに設定した場合であっても、塗布幅が１．３ｍである上述の実施例１と同様に、ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（＝Ｖ／Ｎ）を０．０７ｃｃに設定することで、塗布膜の幅方向の膜厚分布を良好にすることができることが確認された。
【００８１】
上述の実施例１〜４で示唆されているように、塗布液の塗布量が１０ｃｃ／ｍ２以下、リップクリアランスが１００μｍ以下、塗布液の粘度が５ｃｐ以下の塗布条件の場合には、ギアポンプ４２による送液変動、送液脈動がスロットダイ１８の塗布性能に影響を与えやすく、上記式（１）を満たすような「ギア４８の歯５０の一つ当たりの塗布液の送液容積（押しのけ容積）（＝Ｖ／Ｎ）」が非常に有効であることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明の一実施の形態におけるスロットダイコータの構成図である。
【図２】ギアポンプの内部構成の概略を示す図であり、主に複数の歯を有するギアを示す図である。
【符号の説明】
【００８３】
１０・・・スロットダイコータ、１２・・・バックアップローラ、１４・・・ウェブ、１６・・・リップランド、１６Ａ・・・上流側リップランド、１６Ｂ・・・下流側リップランド、１８・・・スロットダイ、１８Ａ・・・上流側ダイブロック、１８Ｂ・・・下流側ダイブロック、２０・・・ビード、２２・・・マニホールド、２４・・・スロット、２４Ａ・・・開口部、２５・・・塗布液供給路、２６・・・減圧チャンバー、２６Ａ・・・バックプレート、２６Ｂ・・・サイドプレート、２６Ｃ・・・リアプレート、２６Ｄ・・・ボトムプレート、２８・・・エア配管、３０・・・ブロア、３２・・・バルブ、３４・・・バッファ装置、３６・・・圧力計、３８・・・コントローラ、４０・・・吸引口、４２・・・ギアポンプ、４４・・・塗布液タンク、４６・・・塗布液供給管、４８・・・ギア、５０・・・歯
【図１】
2006272129.tif 000012
【図２】
2006272129.tif 000013