(57)【要約】【課題】  吐出した液滴に対してレーザ光を照射して、効率のよい乾燥・焼結を行なうことができ、更に生産性を向上させることができる液滴吐出装置を提供する。【解決手段】  スカラロボット２９は、主軸に端部が固定されている第１アーム３１と、これの先端に回転可能に連結されている第２アーム３２と、第２アーム３２の先端に支持軸３３を介して連結されているヘッドユニット３４とから構成されている。ヘッドユニット３４には、液滴吐出ヘッド３７及び半導体レーザが搭載されている。制御部は、主軸の回動角度、第２アーム３２の第１アーム３１に対する回動角度及び支持軸３３の回動角度を制御することにより、液滴吐出装置部３５、光源装置部３６の順で移動方向（Ｘ矢印方向）に並ぶような配置で、ヘッドユニット３４を第１速度で移動させながら、吐出及び照射を行なう。【選択図】      図１３
2006272297.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物上を少なくとも２次元方向に移動可能なヘッドユニットを備えた液滴吐出装置であって、
前記ヘッドユニットには、前記対象物に対して液滴を吐出する液滴吐出手段と、前記対象物に着弾した前記液滴にレーザ光を照射する照射手段とが搭載されており、
前記ヘッドユニットの移動方向に対応して、前記液滴吐出手段と前記照射手段との配置を制御する制御手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出装置において、
前記制御手段は、前記ヘッドユニットの進行方向側に前記液滴吐出手段が位置し、前記進行方向側の反対側に前記照射手段が位置するように配置を制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液滴吐出装置において、
前記液滴を吐出する液滴吐出領域が分散して設けられている場合、
前記制御手段は、液滴吐出領域の近傍においては、液滴を吐出させながら前記ヘッドユニットを第１速度で移動させ、次の液滴吐出領域に移動する場合には前記第１速度より速い第２速度にて移動させることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液滴吐出装置において、
前記制御手段は、前記第１速度を、前記液滴吐出手段による前記液滴の吐出速度に基づいて制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項３に記載の液滴吐出装置において、
前記制御手段は、前記第１速度を、前記照射手段による照射により前記液滴を乾燥・焼成可能な時間に基づいて制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記ヘッドユニットは、多関節ロボットの先端に取り付けられていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項７】
請求項６に記載の液滴吐出装置において、
前記液滴を吐出する液滴吐出領域が分散して設けられている場合、より多くの前記液滴吐出領域が直線に乗る移動ルートを選択して前記ヘッドユニットを移動させるように制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ表示装置）等の電気光学装置には、画像を表示するための透明ガラス基板（以下単に、基板という。）が備えられている。この種の基板には、品質管理や製造管理を目的として、その製造元や製品番号等の製造情報をコード化した識別コード（例えば、２次元コード）が形成されている。こうした識別コードは、配列された多数のパターン形成領域（データセル）の一部に、コードパターン（例えば、有色の薄膜や凹部）を備え、そのコードパターンの有無によって製造情報をコード化している。
【０００３】
この識別コードの形成方法には、金属箔にレーザ光を照射してコードパターンをスパッタ成膜するレーザスパッタ法や、研磨材を含んだ水を基板等に噴射してコードパターンを刻印するウォータージェット法が提案されている（特許文献１、特許文献２）。
【０００４】
しかし、レーザスパッタ法では、所望するサイズのコードパターンを得るために、金属箔と基板の間隙を、数〜数十μｍに調整しなければならない。つまり、基板と金属箔の表面に対して非常に高い平坦性が要求され、しかも、これらの間隙をμｍオーダの精度で調整しなければならない。その結果、識別コードを形成できる対象基板が制限されて、その汎用性を損なう問題を招いていた。また、ウォータージェット法では、基板の刻印時に、水や塵埃、研磨剤等が飛散するため、同基板を汚染する問題があった。
【０００５】
近年、こうした生産上の問題を解消する識別コードの形成方法として、インクジェット法が注目されている。インクジェット法は、金属微粒子を含む液滴を液滴吐出ヘッドから吐出し、その液滴を乾燥させることによってコードパターンを形成する。このため、対象基板の範囲を拡大することができ、同基板の汚染等を回避しながら識別コードを形成することができる。
【特許文献１】特開平１１−７７３４０号公報
【特許文献２】特開２００３−１２７５３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、インクジェット法は、基板に着弾させた液滴を乾燥させ、機能材料を焼成させて基板に密着させる。すなわち、乾燥工程により液滴の形状を固定し、焼成工程により機能材料を固める。このような乾燥・焼成工程は、適切な形状を形成するために必要な工程である。そこで、インクジェット法を行なう液滴吐出装置においては、効率よく乾燥・焼成を行なうために、液滴吐出ヘッドの近傍に、乾燥・焼成を行なうレーザ光を照射するための照射手段を設けていた。
【０００７】
このようなインクジェット法を用いる場合にも、今日、多種多様な基板が用いられる。例えば、基板として多様な大きさのパネルを用いる場合がある。また、一枚のパネルにおけるコードパターンの配置も多様である。このため、インクジェット法を利用する場合においても、この多種多様な基板に対応することができる装置が望まれる。この場合、基板に液滴を着弾させて、その液滴の乾燥・焼成を迅速に行なうプロセスにおいて、生産性を向上させることが望まれている。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、吐出した液滴に対してレーザ光を照射して、効率のよい乾燥・焼結を行なうことができ、更に生産性を向上させることができる液滴吐出装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の液滴吐出装置は、対象物上を少なくとも２次元方向に移動可能なヘッドユニットを備えた液滴吐出装置であって、前記ヘッドユニットには、前記対象物に対して液滴を吐出する液滴吐出手段と、前記対象物に着弾した前記液滴にレーザ光を照射する照射手段とが搭載されており、前記ヘッドユニットの移動方向に対応して、前記液滴吐出手段と前記照射手段との配置を制御する制御手段を備えた。
【００１０】
この液滴吐出装置によれば、液滴吐出手段と照射手段とが搭載したヘッドユニットの移動方向に対して、前記液滴吐出手段と前記照射手段との配置を制御する。このため、ヘッドユニットの移動方向がどのような方向であれ、常に移動方向に対して液滴吐出手段と照射手段とを同じ位置関係にすることができる。このため、液滴吐出手段から吐出した液滴に対して、照射手段からのレーザ光を常に同じ条件で照射することができるので、効率よく液滴を乾燥・焼成することができる。
【００１１】
この液滴吐出装置において、前記制御手段は、前記ヘッドユニットの進行方向側に前記液滴吐出手段が位置し、前記進行方向側の反対側に前記照射手段が位置するように配置を制御する。この液滴吐出装置によれば、進行方向側に対して液滴吐出手段、照射手段の順に配置して、液滴吐出手段を照射手段が追従するようにする。このため、液滴吐出手段から液滴が吐出されて、液滴吐出手段が移動した後、着弾した液滴に照射手段が対向するようになるため、液滴吐出手段から吐出された液滴に対して、効率よく照射手段からレーザ光を照射することができる。
【００１２】
この液滴吐出装置において、前記液滴を吐出する液滴吐出領域が分散して設けられている場合、前記制御手段は、液滴吐出領域の近傍においては、液滴を吐出させながら前記ヘッドユニットを第１速度で移動させ、次の液滴吐出領域に移動する場合には前記第１速度より速い第２速度にて移動させる。
【００１３】
この液滴吐出装置によれば、液滴の吐出時には低速の第１速度でヘッドユニットを移動させるが、液滴吐出領域から隣の液滴吐出領域までヘッドユニットを高速移動することができる。このため、所定以上の間隔をおいた複数の液滴吐出領域に対して、より高速にドットパターンを形成することができる。
【００１４】
この液滴吐出装置において、前記制御手段は、前記第１速度を、前記液滴吐出手段による前記液滴の吐出速度に基づいて制御する。この液滴吐出装置によれば、液滴の吐出速度に基づいて、液滴の吐出速度を制御する。このため、高速で液滴を吐出しても、より確実に液滴を吐出させて、ドットパターンを形成することができる。
【００１５】
この液滴吐出装置において、前記制御手段は、前記第１速度を、前記照射手段による照射により前記液滴を乾燥・焼成可能な時間に基づいて制御する。この液滴吐出装置によれば、液滴を乾燥・焼成可能な時間に基づいて、液滴の吐出速度を制御する。このため、より確実に液滴の乾燥・焼成を行なうことができる。
【００１６】
この液滴吐出装置において、前記ヘッドユニットは、多関節ロボットの先端に取り付けられている。この液滴吐出装置によれば、直動機構を用いた場合よりも、稼動部の負荷を小さくすることができ、ヘッドユニットを高速で移動させることができるので、生産性を向上することができる。
【００１７】
この液滴吐出装置において、前記液滴を吐出する液滴吐出領域が分散して設けられている場合、より多くの前記液滴吐出領域が直線に乗る移動ルートを選択して前記ヘッドユニットを移動させるように制御する。この液滴吐出装置によれば、より多くの液滴吐出領域が直線に乗る移動ルートを選択してヘッドユニットを移動させる。このため、ヘッドユニットの全体の移動距離をより小さくすることができるので、ヘッドユニットを短時間で移動させて、生産性をいっそう向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を図１〜図１６に従って説明する。
（表示モジュール）
まず、本発明の液滴吐出装置を使って形成されるドットパターン１０を有する液晶表示装置の表示モジュールについて説明する。図１は液晶表示装置の液晶表示モジュールの正面図、図２は液晶表示モジュールの裏面に形成されたドットパターン１０の正面図、図３は液晶表示モジュールの裏面に形成されたドットパターン１０の側面図である。
【００１９】
図１において、液晶表示モジュール１は、光透過性の表示用基板としての透明ガラス基板（以下、単に「基板２」という。）を備えている。その基板２の表面２ａの略中央位置には、液晶分子を封入した四角形状の表示部３が形成され、その表示部３の外側には走査線駆動回路４及びデータ線駆動回路５が形成されている。そして、液晶表示モジュール１は、走査線駆動回路４の供給する走査信号とデータ線駆動回路５の供給するデータ信号に基づいて液晶分子の配向状態を制御し、図示しない照明装置から照射された平面光を、液晶分子の配向状態で変調することによって、表示部３に、所望の画像を表示するようになっている。
【００２０】
基板２の裏面２ｂの右隅には、パターンとしてドットＤで構成された液晶表示モジュール１のドットパターン１０が形成されている。ドットパターン１０は、図２に示すように、パターン形成領域Ｚ１内に形成される複数のドットＤにて構成されている。
【００２１】
このパターン形成領域Ｚ１の外周には予め定めた余白領域Ｚ２が形成されている。そして、パターン形成領域Ｚ１に形成されたドットパターン１０は、本実施形態では２次元コードであって、２次元コードリーダで読み取ることができる。また、余白領域Ｚ２は、ドットＤが形成されない領域であって、２次元コードリーダがパターン形成領域Ｚ１を特定し同パターン形成領域Ｚ１内のドットパターン１０の誤検出を防止するための領域である。
【００２２】
パターン形成領域Ｚ１は、１〜２ｍｍ角の正方形の領域であって、図４に示すように、１６行×１６列の２５６個のセルＣに仮想分割されている。そして、１６行×１６列の各セルＣに対して選択的にドットＤが形成され、その各ドットＤで構成する液晶表示モジュール１の製品番号やロット番号を識別するためのドットパターン１０が形成される。
【００２３】
本実施形態では、この分割されたセルＣであって、セルＣ内にドットＤが形成されるセルＣを黒セルＣ１とし、セルＣ内にドットＤが形成されないセルＣを白セルＣ０（非形成領域）とする。黒セルＣ１（ドット領域）に形成されるドットＤは、図２及び図３に示すように、半球状に基板２に密着して形成されている。このドットＤは、本実施形態では、後述する液滴吐出装置２０により形成されている。詳述すると、ドットＤは、後述するノズルＮからパターン形成材料（例えばマンガン微粒子等の金属微粒子）を含む液状体Ｆａ（図９参照）の液滴ＦｂをセルＣ（黒セルＣ１）に吐出させる。そして、この黒セルＣ１に着弾した液滴Ｆｂを乾燥させ、液滴Ｆｂに含まれる金属微粒子を焼成させることによって、基板２に密着した金属よりなる半球状のドットＤが形成される。
【００２４】
（液滴吐出装置の構成）
次に、基板２の裏面２ｂにドットパターン１０を形成するために使用される液滴吐出装置２０について説明する。図５は液滴吐出装置２０の全体を示す斜視図であり、図６は同液滴吐出装置２０の平面図、図７は液滴吐出装置２０の正面図である。本実施形態では、複数の基板２が縦横に整列した状態で一体化されたパネル２１について、液滴Ｆｂを吐出する場合を想定する。なお、基板２のドットパターン１０が液滴吐出領域に相当する。
【００２５】
図５〜図７に示すように、液滴吐出装置２０は、後述する多関節ロボットとしてのスカラロボット２９を中央に設けた直方体形状の基台２２を有している。この基台２２の一側方には、パネルストッカ２３が配置されている。このパネルストッカ２３には、複数のパネル２１が間隔をおいて上下に積層されて収容される。また、パネルストッカ２３は、図示しない昇降機構により昇降可能となっている。
【００２６】
パネルストッカ２３側の基台２２の上面には、基板搬送アーム２４が設けられている。この基板搬送アーム２４は、Ｘ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に往復移動可能となっている。更に、この基板搬送アーム２４は、その先端にパネル２１を載置できるようになっており、回動、伸縮及び昇降を行なうことができる。そして、基板搬送アーム２４は、基台２２上で移動して、回動、伸縮及び昇降を所定のタイミングで行なうことにより、パネルストッカ２３からパネル２１を取り出したり、パネルストッカ２３にパネル２１を収納したりする。
【００２７】
一方、基台２２の上面には、スカラロボット２９を挟むように、２つの載置台２６が並設されている。この載置台２６は、液滴を吐出してマーキングを行なうためにパネル２１を載置するための台である。この載置台２６は、その中央が空洞になっており、基板搬送アーム２４を挿入可能になっている。そして、基板搬送アーム２４は、先端に載置したパネル２１の位置を載置台２６の高さに合わせてアームを下降させることにより、パネル２１を載置台２６に載置し、これとは逆の動作をすることによりパネル２１を載置台２６から取り外して搬送する。なお、基板搬送アーム２４は、パネル２１とスカラロボット２９とが所定の位置関係に配置されるように位置合わせを行ないながら搬送や載置を行なう。
【００２８】
スカラロボット２９は、基台２２に取り付けられた主軸３０と、これに端部が固定されている第１アーム３１と、これの先端に回転可能に連結されている第２アーム３２と、第２アーム３２の先端に支持軸３３を介して連結されているヘッドユニット３４とから構成されている。
【００２９】
詳述すると、主軸３０は、第１モータＭ１（図１０参照）により、両方向に回転可能となっている。第１アーム３１は、その基端部で、主軸３０に回転可能に連結されている。このため、第１アーム３１は、第１モータＭ１の回転により、主軸３０を中心として右回り及び左回りの両方向に回転することができる。
【００３０】
第１アーム３１の先端部には、軸を介して、第２アーム３２の基端部が連結されている。第１アーム３１と第２アームとを連結する軸は、第２モータＭ２（図１０参照）により両方向に回転可能となっている。このため、第２モータＭ２の回転により、第２アーム３２は、第１アーム３１の先端部を中心として両方向に回転可能となっている。従って、第１アーム３１の主軸３０に対する回転角度と、第２アーム３２の第１アーム３１に対する回転角度を制御することにより、第２アーム３２の先端位置、すなわちヘッドユニット３４の位置を、ＸＹ平面における所定の範囲内の任意の位置に移動させることができるようになっている。本実施形態では、第１アーム３１及び第２アーム３２の長さから、ヘッドユニット３４は、図６の二点鎖線で示す領域内における任意の位置に移動させることがで
きるようになっている。
【００３１】
第２アーム３２とヘッドユニット３４とを連結する支持軸３３は、第３モータＭ３（図１０参照）により両方向に回転駆動される。このため、ヘッドユニット３４は、第２アーム３２の先端を中心として両方向に回転可能となっている。すなわち、第１〜第３モータＭ１〜Ｍ３を駆動することにより、ヘッドユニット３４の移動方向に応じて、ヘッドユニット３４の向きを常に同じとなるように制御することができる。
【００３２】
（ヘッドユニット）
ヘッドユニット３４は、図８に示すように、液滴吐出装置部３５と、光源装置部３６とが一体に設けられている。液滴吐出装置部３５は、駆動基板やインクタンクなどを収容している本体部３５ａと、この本体部３５ａからＬ字形状に延びる支持部材３５ｂにより支持されている液滴吐出手段としての液滴吐出ヘッド３７とから構成されている。
【００３３】
液滴吐出ヘッド３７は、図９に示すように、第１基板３８ａ、第２基板３８ｂ及び第３基板３８ｃを重ねて接合した積層構造となっており、第１基板３８ａと第２基板３８ｂとの間にノズルＮが形成されている。
【００３４】
詳述すると、各ノズルＮにそれぞれ連通するキャビティ３７ｃが形成されている。このキャビティ３７ｃは、オリフィス３７ｄ及び液溜部３７ｅ及び接続チューブ３９（図８参照）を介して、液滴吐出装置部３５の本体部３５ａに収容されたインクタンクに連通されている。すなわち、キャビティ３７ｃには、液滴吐出装置部３５のインクタンクから液状体Ｆａが供給可能となっている。
【００３５】
キャビティ３７ｃの側壁は、左右方向に振動してキャビティ３７ｃ内の容積を拡大縮小する振動板３７ｂとなっている。この振動板３７ｂのキャビティ３７ｃと反対側には、振動室３７ｆを介して電極３８ｄを有する静電アクチュエータが配置されている。また、電極３８ｄは、第３基板３８ｃ上に、振動室３７ｆに対向する位置に０．１μｍ程度のＩＴＯにより形成されている。具体的には、電極３８ｄに、後述するヘッド駆動回路５１により、０Ｖから１００Ｖのパルス電圧を印加し、電極３８ｄの表面がプラスに帯電すると、対応する振動板３７ｂはマイナス電位に帯電する。従って、振動板３７ｂは、蓄積電荷による静電気の吸引作用により電極３８ｄ側に撓み、キャビティ３７ｃ内の容積が拡大する。そして、液状体Ｆａが液溜部３７ｅよりオリフィス３７ｄを通じてキャビティ３７ｃ内に補給される。一方、電極３８ｄの蓄積電荷が放電された場合、振動板３７ｂの撓みが解放され、キャビティ３７ｃ内の容積が縮小する。この場合、縮小した容積分の金属微粒子を含む液状体Ｆａが、各ノズルＮから液滴Ｆｂとなってパネル２１の各基板２に吐出される。
【００３６】
一方、図８に示すように、光源装置部３６には、その上部にレーザ照射装置３６ａが設けられている。このレーザ照射装置３６ａは、１６個の照射手段としての半導体レーザＬの出射部が一列となって等間隔に並設されている。これら１６個の半導体レーザＬは、上述した１６個のノズルＮに対向するように配設されている。また、各半導体レーザＬは、その出射部から下方に向かってレーザ光を照射する。
【００３７】
光源装置部３６の下部には、光学系収容部３６ｂが設けられている。この光学系収容部３６ｂには、レンズやミラーなどが収容されている。これらレンズやミラーの角度などにより、図９に示すように、レーザ照射装置３６ａの半導体レーザＬからのレーザ光をノズルＮの近傍、すなわちノズルＮから吐出された液滴Ｆｂが着弾した位置に照射するようにしている。
【００３８】
なお、図５〜図７に示すように、液滴吐出装置２０には、吐出のメンテナンスを行なう吐出保持装置２７，２８が設けられている。具体的には、この吐出保持装置２７，２８は、液滴吐出ヘッド３７における液状体Ｆａの詰まりによる吸引、液滴吐出ヘッド３７のワイピング及び液滴吐出ヘッド３７からの吐出される液滴Ｆｂの飛行観察を行なう。
【００３９】
（電気的構成）
次に、上記のように構成した液滴吐出装置２０の電気的構成を図１０に従って説明する。
【００４０】
図１０において、制御装置４０には、外部コンピュータ等の入力装置４１から各種データを受信するＩ／Ｆ部４２と、ＣＰＵ等からなる制御部４３、ＤＲＡＭ及びＳＲＡＭからなり各種データを格納するＲＡＭ４４、各種制御プログラムを格納するＲＯＭ４５が備えられている。また、制御装置４０には、駆動波形生成回路４６、各種駆動信号を同期するためのクロック信号ＣＬＫを生成する発振回路４７、半導体レーザＬを駆動するためのレーザ駆動電圧ＶＤＬを生成する電源回路４８、各種駆動信号を送信するＩ／Ｆ部４９が備えられている。そして、制御装置４０では、これらＩ／Ｆ部４２、制御部４３、ＲＡＭ４４、ＲＯＭ４５、駆動波形生成回路４６、発振回路４７、電源回路４８及びＩ／Ｆ部４９が、バス５０を介して接続されている。
【００４１】
詳述すると、Ｉ／Ｆ部４２は、入力装置４１から、パネル２１の製品番号やロット番号等の識別データを公知の方法で２次元コード化したドットパターン１０の画像を、既定形式の描画データＩａとして受信する。制御部４３は、Ｉ／Ｆ部４２の受信した描画データＩａに基づいて、ドットパターン形成処理動作を実行する。すなわち、制御部４３は、ＲＡＭ４４等を処理領域として、ＲＯＭ４５等に格納された制御プログラム（例えば、ドットパターン形成プログラム）に従って、パネル２１の搬送処理動作を行ない、液滴吐出ヘッド３７の各静電アクチュエータを駆動させて液滴吐出処理動作を行なう。また、制御部４３は、ドットパターン形成プログラムに従って、各半導体レーザＬを駆動させて液滴Ｆｂを乾燥させる乾燥処理動作を行なう。
【００４２】
詳述すると、制御部４３は、Ｉ／Ｆ部４２の受信した描画データＩａに所定の展開処理を施し、２次元描画平面（パターン形成領域Ｚ１）上における各セルＣに、液滴Ｆｂを吐出するか否かを示すビットマップデータＢＭＤを生成してＲＡＭ４４に格納する。このビットマップデータＢＭＤは、前記静電アクチュエータに対応して１６×１６ビットのビット長を有したシリアルデータであり、各ビットの値（０あるいは１）に応じて、振動板３７ｂと電極３８ｄとからなる静電アクチュエータのオンあるいはオフを規定するものである。
【００４３】
また、制御部４３は、描画データＩａにビットマップデータＢＭＤの展開処理と異なる展開処理を施し、静電アクチュエータに印加する静電駆動電圧ＶＤＣの波形データを生成して、駆動波形生成回路４６に出力する。駆動波形生成回路４６は、制御部４３の生成した波形データを格納する波形メモリ４６ａと、同波形データをデジタル／アナログ変換してアナログ信号として出力するＤ／Ａ変換部４６ｂと、Ｄ／Ａ変換部から出力されるアナログの波形信号を増幅する信号増幅部４６ｃとを備えている。そして、駆動波形生成回路４６は、波形メモリ４６ａに格納した波形データをＤ／Ａ変換部４６ｂによりデジタル／アナログ変換し、アナログ信号の波形信号を信号増幅部４６ｃにより増幅して静電駆動電圧ＶＤＣを生成する。
【００４４】
そして、制御部４３は、Ｉ／Ｆ部４９を介して、ビットマップデータＢＭＤを、発振回路４７の生成するクロック信号ＣＬＫに同期させた吐出制御信号ＳＩとして、後述するヘッド駆動回路５１（シフトレジスタ５６）に順次シリアル転送する。また、制御部４３は
、転送した吐出制御信号ＳＩをラッチするためのラッチ信号ＬＡＴをヘッド駆動回路５１に出力する。更に、制御部４３は、発振回路４７の生成するクロック信号ＣＬＫに同期させて、静電駆動電圧ＶＤＣをヘッド駆動回路５１（スイッチ素子Ｓ１）に出力する。
【００４５】
この制御装置４０には、Ｉ／Ｆ部４９を介して、ヘッド駆動回路５１、レーザ駆動回路５２、第１モータ駆動回路５３、第２モータ駆動回路５４及び第３モータ駆動回路５５が接続されている。
【００４６】
ヘッド駆動回路５１は、シフトレジスタ５６、ラッチ回路５７、レベルシフタ５８及びスイッチ回路５９を備えている。シフトレジスタ５６は、クロック信号ＣＬＫに同期して制御装置４０（制御部４３）から転送された吐出制御信号ＳＩを、１６個の静電アクチュエータの電極３８ｄに対応させてシリアル／パラレル変換する。ラッチ回路５７は、シフトレジスタ５６のパラレル変換した１６ビットの吐出制御信号ＳＩを、制御装置４０（制御部４３）からのラッチ信号ＬＡＴに同期してラッチし、ラッチした吐出制御信号ＳＩをレベルシフタ５８及びレーザ駆動回路５２に出力する。レベルシフタ５８は、ラッチ回路５７のラッチした吐出制御信号ＳＩに基づいて、スイッチ回路５９が駆動する電圧まで昇圧して、１６個の各静電アクチュエータの電極３８ｄに対応する開閉信号ＧＳ１をそれぞれ生成する。
【００４７】
スイッチ回路５９には、各電極３８ｄに対応するスイッチ素子Ｓ１がそれぞれ接続される。各スイッチ素子Ｓ１の入力側には、共通する静電駆動電圧ＶＤＣが入力され、出力側には、それぞれ対応する電極３８ｄが接続されている。そして、各スイッチ素子Ｓ１には、レベルシフタ５８から、対応する開閉信号ＧＳ１が入力され、この開閉信号ＧＳ１に応じて静電駆動電圧ＶＤＣを静電アクチュエータに供給するか否かを制御する。
【００４８】
すなわち、本実施形態の制御装置４０の制御部４３は、駆動波形生成回路４６の生成した静電駆動電圧ＶＤＣを、各スイッチ素子Ｓ１を介して対応する各静電アクチュエータに供給する。更に、制御部４３は、各スイッチ素子Ｓ１の開閉が制御するための吐出制御信号ＳＩ（開閉信号ＧＳ１）を供給し、静電駆動電圧ＶＤＣの印加を制御する。すなわち、スイッチ素子Ｓ１が閉じることにより、このスイッチ素子Ｓ１に対応する電極３８ｄに静電駆動電圧ＶＤＣを供給し、この静電アクチュエータに対応するノズルＮから液滴Ｆｂを吐出する。この場合、ラッチ信号ＬＡＴは、１６個のノズルＮの直下を基板２のパターン形成領域Ｚ１の各横一列が通過する毎に出力される。そして、このラッチ信号ＬＡＴに応答して、静電アクチュエータが駆動され、ノズルＮから液滴Ｆｂが吐出されることにより、パターン形成領域Ｚ１の各セルＣ（黒セルＣ１）にドットＤが形成される。
【００４９】
制御部４３からヘッド駆動回路５１に出力されたラッチ信号ＬＡＴが立ち下がると、１６ビット分の吐出制御信号ＳＩに基づいて開閉信号ＧＳ１が生成される。そして、１６個の開閉信号ＧＳ１のうち立ち上がった開閉信号ＧＳ１に対応する静電アクチュエータに静電駆動電圧ＶＤＣが供給される。この場合、振動板３７ｂとの間でキャパシタを構成する電極３８ｄの電圧は、静電駆動電圧ＶＤＣの電圧に伴い上昇する。この場合、静電気力により静電アクチュエータが収縮してキャビティ３７ｃ内に液状体Ｆａが引き込まれる。次に、静電駆動電圧ＶＤＣの電圧値の下降とともに静電アクチュエータによりキャビティ３７ｃ内の液状体Ｆａが押し出され、液滴Ｆｂが吐出される。液滴Ｆｂを吐出すると、静電駆動電圧ＶＤＣの電圧値は初期電圧まで戻り、静電アクチュエータの駆動による液滴Ｆｂの吐出動作が終了する。
【００５０】
図１０に示すように、レーザ駆動回路５２には、遅延パルス生成回路６１とスイッチ回路６２が備えられている。遅延パルス生成回路６１は、ラッチ回路５７がラッチ信号ＬＡＴの立ち下がりに応答してラッチした吐出制御信号ＳＩを、所定の待機時間だけ遅延させ
たパルス信号（開閉信号ＧＳ２）を生成し、この開閉信号ＧＳ２をスイッチ回路６２に出力する。ここで、所定の待機時間とは、静電アクチュエータ駆動タイミング（ラッチ信号ＬＡＴの立ち下がりタイミング）を基準として、ノズルＮに対応する半導体レーザＬのレーザ光が着弾した液滴Ｆｂを照射するために要する時間であり、予め試験等に基づいて設定される時間である。そして、遅延パルス生成回路６１は、ラッチ回路５７がラッチ信号ＬＡＴの立下りに応答してラッチした吐出制御信号ＳＩを、所定の待機時間を経過した後、すなわち、着弾した液滴Ｆｂがレーザ光の照射位置に到達したとき、開閉信号ＧＳ２をスイッチ回路６２に出力する。
【００５１】
スイッチ回路６２には、１６個の各半導体レーザＬに対応するスイッチ素子Ｓ２が備えられている。各スイッチ素子Ｓ２の入力側には、電源回路４８の生成した共通のレーザ駆動電圧ＶＤＬが入力され、出力側には対応する各半導体レーザＬが接続されている。そして、各スイッチ素子Ｓ２には、遅延パルス生成回路６１から対応する開閉信号ＧＳ２が入力され、開閉信号ＧＳ２に応じてレーザ駆動電圧ＶＤＬを半導体レーザＬに供給するか否かを制御する。すなわち、本実施形態の液滴吐出装置２０においては、電源回路４８の生成したレーザ駆動電圧ＶＤＬを、各スイッチ素子Ｓ２を介して対応する各半導体レーザＬに共通に印加するとともに、そのスイッチ素子Ｓ２の開閉を、制御装置４０（制御部４３）の供給する吐出制御信号ＳＩ（開閉信号ＧＳ２）によって制御するようにしている。そして、スイッチ素子Ｓ２が閉じると、同スイッチ素子Ｓ２に対応する半導体レーザＬにレーザ駆動電圧ＶＤＬが供給され、対応する半導体レーザＬからレーザ光が出射される。
【００５２】
つまり、ラッチ信号ＬＡＴがヘッド駆動回路５１に入力されると、待機時間が経過した後に開閉信号ＧＳ２が生成される。そして、開閉信号ＧＳ２が立ち上がったときに、対応する半導体レーザＬにレーザ駆動電圧ＶＤＬが印加され、丁度、半導体レーザＬの照射位置を通過する基板２（黒セルＣ１）に着弾した液滴Ｆｂに、同半導体レーザＬからレーザ光が出射される。そして、開閉信号ＧＳ２が立ち下がり、レーザ駆動電圧ＶＤＬの供給が遮断されて半導体レーザＬによる乾燥処理動作が終了する。
【００５３】
制御装置４０には、Ｉ／Ｆ部４９を介して第１〜第３モータ駆動回路５３〜５５が接続されており、各第１〜第３モータ駆動回路５３〜５５に第１〜第３モータ駆動制御信号を出力するようになっている。第１〜第３モータ駆動回路５３〜５５は、制御装置４０からの第１〜第３モータ駆動制御信号のそれぞれに応答して、第１〜第３モータＭ１〜Ｍ３を正転又は逆転させる。ここでは、第１モータＭ１を正転させると、主軸３０に固着された第１アーム３１が右回りに回転し、逆転させると左回りに回転するように構成する。また、第２モータＭ２を正転させると、第２アーム３２が第１アーム３１の先端部を中心として右回りに回転し、逆転させると左回りに回転するように構成する。更に、第３モータＭ３を正転させると、支持軸３３が回転し、これによりヘッドユニット３４は、第２アーム３２の先端部を中心として右回りに回転し、逆転させると左回りに回転するように構成する。
【００５４】
制御装置４０には、第１〜第３モータ駆動回路５３〜５５のそれぞれを介して、第１〜第３モータ回転検出器５３ａ，５４ａ，５５ａが接続され、第１〜第３モータ回転検出器５３ａ〜５５ａからの検出信号が入力される。制御装置４０は、この検出信号に基づいて、第１〜第３モータＭ１〜Ｍ３の回転方向及び回転量を検出し、ヘッドユニット３４のＸＹ平面における位置と、その向きとを演算する。
【００５５】
本実施形態では、制御装置４０の制御部４３は、図１１に示すように、ヘッドユニット３４の移動方向と同じ向きで、液滴吐出装置部３５及び光源装置部３６がこの順番で並ぶように、支持軸３３上で回転させる。すなわち、制御装置４０の制御部４３は、第３モータ駆動回路５５を制御して、液滴吐出装置部３５のノズルＮから吐出される液滴Ｆｂがパ
ネル２１に着弾した後に、半導体レーザＬのレーザ光が照射するように第３モータＭ３を駆動する。
【００５６】
更に、制御装置４０の制御部４３は、ヘッドユニット３４の移動速度を、図１２に示すように制御する。ここで、図１２は、ヘッドユニット３４のＸ方向及び反Ｘ方向の移動速度を示している。詳述すると、制御部４３は、基板２のドットパターン１０の形成位置に到るまで高速で移動する。そして、ドットパターン１０の吐出を行なう場合には、ヘッドユニット３４の移動速度を、第１速度となるように制御する。ここで、第１速度とは、液滴吐出ヘッド３７から吐出した液滴Ｆｂを隣り合うセルＣに液滴Ｆｂを吐出できる吐出速度に基づく速度や、レーザ光の照射により液滴Ｆｂの乾燥・焼成時間を確保できる速度である。また、一つのドットパターン１０が形成し終わると、再びヘッドユニット３４の移動速度を上げて第２速度にし、次のドットパターン１０に向けて移動する。そして、次のドットパターン１０近傍に達した場合、再び移動速度を下げる。ただし、制御部４３は、ドットパターン１０間におけるヘッドユニット３４の移動速度（第２速度）として、ヘッドユニット３４に加わる加速により液滴ＦｂがノズルＮから漏洩しない程度に抑制する。
【００５７】
（ドットパターンの形成）
次に、上述した液滴吐出装置２０を用いて、パネル２１のそれぞれの基板２に、ドットパターン１０を形成する方法について説明する。
【００５８】
まず、基板搬送アーム２４により、ドットパターン１０をまだ形成するパネル２１をパネルストッカ２３から取り出し、搬送して載置台２６に載置する。本実施形態のパネル２１は、複数の基板２がＸ方向及びＹ方向に整列して一体的に並んでいる。また、ドットパターン１０は、各基板２において同じ位置に設けられている。そこで、ドットパターン１０を通るＸ方向に並ぶ基板２の列を「基板列」と呼ぶことにする。また、図１３〜図１６において下側から順に、一列目の基板列、二列目の基板列、三列目の基板列・・・という。
【００５９】
そして、制御装置４０の制御部４３は、図１３の実線の矢印で示すような折り返しパターンで、スカラロボット２９のヘッドユニット３４をＸ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に移動させる。すなわち、奇数の基板列では、ヘッドユニット３４をＸ矢印方向に移動させ、偶数の基板列では、ヘッドユニット３４を反Ｘ矢印方向に移動させる。また、このとき、制御部４３は、図１１で示すようにＸ矢印方向に液滴吐出装置部３５及び光源装置部３６が、この順番に並ぶように、ヘッドユニット３４の向きを制御する。
【００６０】
詳述すると、制御装置４０の制御部４３は、第１〜第３モータ駆動回路５３〜５５を駆動して、まず、図１３に示すように、パネル２１の端の基板２のドットパターン１０を形成する位置にヘッドユニット３４を移動させる。このとき、制御部４３は、図１２に示すように、ドットパターン１０の近傍となるまで高速でヘッドユニット３４を移動させる。そして、制御部４３は、ドットパターン１０の手前（例えば余白領域Ｚ２）で減速させて、ドットパターン１０に至るときには、所定の速度となるように制御する。
【００６１】
なお、制御装置４０は、ヘッドユニット３４の移動中に、ドットパターン形成プログラムに従って、ＲＡＭ４４に格納したビットマップデータＢＭＤに基づく吐出制御信号ＳＩと、駆動波形生成回路４６で生成した静電駆動電圧ＶＤＣをヘッド駆動回路５１に出力する。また、制御装置４０は、電源回路４８で生成したレーザ駆動電圧ＶＤＬをレーザ駆動回路５２に出力する。そして、制御装置４０は、ラッチ信号ＬＡＴを出力するタイミングを待つ。
【００６２】
そして、ヘッドユニット３４がドットパターン１０に至ると、制御装置４０の制御部４
３は、第１〜第３モータ駆動回路５３〜５５を駆動して、ヘッドユニット３４をＸ矢印方向に移動させながら、液滴吐出ヘッド３７から液滴Ｆｂを吐出させ、この液滴Ｆｂに半導体レーザＬのレーザ光を照射する。このとき、制御部４３は、第１〜第３モータＭ１〜Ｍ３を駆動して、図１３に示すように、液滴吐出装置部３５、光源装置部３６の順でＸ方向（移動方向）に並ぶ配置を維持しながら、ヘッドユニット３４をＸ方向に所定の速度で移動させる。
【００６３】
具体的には、制御装置４０は、ラッチ信号ＬＡＴをヘッド駆動回路５１に出力し、このラッチ信号ＬＡＴに応答する吐出制御信号ＳＩに基づく開閉信号ＧＳ１を生成させて、スイッチ回路５９に出力する。そして、閉じた状態のスイッチ素子Ｓ１に対応する静電アクチュエータに、静電駆動電圧ＶＤＣを供給し、対応するノズルＮから、静電駆動電圧ＶＤＣに相対する液滴Ｆｂを、一斉に吐出する。
【００６４】
更に、レーザ駆動回路５２の遅延パルス生成回路６１は、吐出制御信号ＳＩを受けて開閉信号ＧＳ２の生成を開始する。そして、遅延パルス生成回路６１は、上述した待機時間を経過した後、生成した開閉信号ＧＳ２をスイッチ回路６２に出力し、閉じた状態のスイッチ素子Ｓ２に対応する半導体レーザＬに、レーザ駆動電圧ＶＤＬを供給して、レーザ光を照射する。レーザ光は、光学系収容部３６ｂに収容されたレンズやミラーによって、基板２に着弾した直後の液滴Ｆｂに照射される。これにより、液滴Ｆｂの分散媒を蒸発させて乾燥を行ない、更に、液滴Ｆｂの金属微粒子を焼成して、金属微粒子を基板２に密着させる。
【００６５】
以後、同様に、各ノズルＮから吐出された液滴Ｆｂは、基板２に着弾するたびに、対応する半導体レーザＬのレーザ光の照射を受けて、乾燥され焼成される。そして、ドットパターン１０を構成する半球状のドットＤが横一列毎に形成されてくる。
【００６６】
このようにして、基板２のドットパターン１０が形成されると、次に、制御装置４０の制御部４３は、第１〜第３モータ駆動回路５３〜５５を駆動し続けて、ヘッドユニット３４を、Ｘ方向の隣の基板２のドットパターン１０の形成位置に移動させる。このとき、制御部４３は、ヘッドユニット３４を、図１２に示すように、高速の第２速度でＸ方向に移動させ、ドットパターン１０の近傍となったときに減速させて、低速の第１速度で液滴吐出を行なうように制御する。
【００６７】
その後、パネル２１の最初の基板列のすべてのドットパターン１０を形成すると、図１４に示すように、ヘッドユニット３４は、パネル２１のＸ矢印方向の端部に到ることになる。この場合、制御装置４０の制御部４３は、ヘッドユニット３４を次の基板列に移動させる。このとき、制御装置４０の制御部４３は、図１４に示すヘッドユニット３４の配置状態から図１５に示す配置状態に変更する。具体的には、制御部４３は、ヘッドユニット３４のＸ方向の位置を維持しながら、そのＹ方向に移動させる。更に、ヘッドユニット３４を回転させ、その向きを反転させる。
【００６８】
そして、液滴吐出装置２０は、二列目の基板列のドットパターン１０を形成するために、反Ｘ方向に移動させながら、静電アクチュエータに静電駆動電圧ＶＤＣを供給し、対応するノズルＮから液滴Ｆｂを吐出しながら、半導体レーザＬからのレーザ光を照射する。このときも、制御装置４０の制御部４３は、ドットパターン１０を形成後、隣のドットパターン１０を形成するための移動時には、高速の第２速度でヘッドユニット３４を動かす。また、制御部４３は、これから形成するドットパターン１０の近傍になると、ヘッドユニット３４の移動速度を低速の第１速度に減速させる。更に、このとき、制御部４３は、図１５に示すように、液滴吐出装置部３５、光源装置部３６の順で反Ｘ矢印方向（移動方向）に並ぶような配置で、ヘッドユニット３４を反Ｘ矢印方向に所定の速度で移動させる
。
【００６９】
そして、図１６に示すように、二列目のドットパターン１０をすべて形成すると、制御装置４０の制御部４３は、三列目のドットパターン１０を形成するために、ヘッドユニット３４の位置及び向きを変更する。この場合は、ヘッドユニット３４を回転させながら、Ｘ方向の位置を維持したまま、Ｙ方向に移動させる。そして、制御部４３は、再び、液滴吐出装置部３５、光源装置部３６の順でＸ矢印方向（移動方向）に並ぶような配置で、ヘッドユニット３４をＸ矢印方向に所定の速度で移動させながら、液滴Ｆｂの吐出とレーザ光の照射を行ない、パネル２１におけるドットパターン１０の形成を行なう。
【００７０】
その後、パネル２１の各基板２にドットパターン１０がすべて形成されると、制御装置４０は、スカラロボット２９を基板２の上方から退避させる。そして、制御装置４０は、基板搬送アーム２４を用いて、液滴吐出が完了したパネル２１をパネルストッカ２３に収容する。そして、このパネルストッカ２３から未処理のパネル２１を取り出して、上記処理を繰り返して行なう。
【００７１】
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
（１）本実施形態によれば、制御部４３は、折り返しパターンで、スカラロボット２９のヘッドユニット３４をＸ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に移動させる。すなわち、奇数の基板列では、ヘッドユニット３４をＸ矢印方向に移動させ、偶数の基板列では、ヘッドユニット３４を反Ｘ矢印方向に移動させる。また、このとき、制御部４３は、図１１で示すようにＸ矢印方向に液滴吐出装置部３５及び光源装置部３６が、この順番に並ぶように、ヘッドユニット３４の向きを制御する。このため、制御部４３は、進行方向側に対して液滴吐出装置部３５、光源装置部３６の順に常に配置した状態で、すなわち液滴吐出装置部３５の後を光源装置部３６が追従するようにする。従って、液滴吐出装置部３５の液滴吐出ヘッド３７から液滴Ｆｂが吐出され、そして液滴吐出ヘッド３７が着弾した液滴Ｆｂの上方から移動した後、この液滴に光源装置部３６からのレーザ光が照射される。よって、液滴吐出ヘッド３７の移動方向がＸ方向又は反Ｘ方向のいずれであっても、吐出された液滴に対して、同じようなタイミングでレーザ光が照射されるので、効率よく液滴を乾燥・焼成することができる。
【００７２】
（２）本実施形態によれば、制御部４３は、ヘッドユニット３４を、基板２のドットパターン１０の形成位置に到るまで高速（第２速度）で移動する。そして、ドットパターン１０の吐出を行なう場合には、低速の第１速度となるように制御する。また、制御部４３は、ドットパターン１０が形成し終わると、再びヘッドユニット３４の移動速度を速くし、次のドットパターン１０の近傍に至ると、再び移動速度を遅くする。すなわち、制御部４３は、液滴Ｆｂの吐出時には低速でヘッドユニット３４を移動させるが、ドットパターン１０間の移動時にはヘッドユニット３４を高速で移動させる。このため、Ｘ矢印方向に並んだ複数のドットパターン１０を高速で形成することができるので、パネル２１のドットパターン１０をより高速で行なうことができる。
【００７３】
（３）本実施形態によれば、そして、ドットパターン１０の吐出を行なう場合には、ヘッドユニット３４の移動速度を、第１速度となるように制御する。ここで、第１速度とは、液滴吐出ヘッド３７から吐出した液滴Ｆｂを隣り合うセルＣに液滴Ｆｂを吐出できる吐出速度に基づく速度や、レーザ光の照射により液滴Ｆｂの乾燥・焼成時間を確保できる速度である。また、ドットパターン１０が形成し終わると、再びヘッドユニット３４の移動速度を速くし、次のドットパターン１０の近傍に至ると、再び移動速度を遅くする。このため、より確実に液滴を吐出させて、かつより確実に液滴の乾燥・焼成を行なって、ドットパターンを形成することができるとともに、パネル２１のドットパターン１０の形成を高速で行なうことができる。
【００７４】
（４）本実施形態によれば、スカラロボット２９は、第２アーム３２の先端に液滴吐出ヘッド３７が設けられた多関節ロボットである。このため、直動機構よりも稼動部の負荷を小さくできるので、液滴吐出ヘッド３７をより高速で移動することができる。また、スカラロボット２９は、第１〜第３モータＭ１〜Ｍ３の回転運動の合成により、液滴吐出ヘッド３７を所定の配置で所定の位置に移動させる。回転運動は直線運動よりも高速に行なうことができるので、より高速に液滴吐出ヘッド３７を移動させることができる。
【００７５】
（５）本実施形態によれば、制御部４３は、奇数の基板列ではヘッドユニット３４をＸ矢印方向に移動させ、偶数の基板列ではヘッドユニット３４を反Ｘ矢印方向に移動させる。すなわち、制御部４３は、より多くのドットパターン１０が直線に乗る移動ルートを選択してヘッドユニット３４を移動させる。このため、ヘッドユニット３４の全体の移動距離をより小さくすることができるので、ヘッドユニット３４を短時間で移動させて、生産性をいっそう向上することができる。
【００７６】
（６）本実施形態によれば、スカラロボット２９を挟んで２つの載置台２６を設ける。このため、一方の載置台２６において、液滴吐出ヘッド３７から液滴を吐出させているときに、他方の載置台２６に載置するパネル２１を基板搬送アーム２４を用いて入れ替えることができる。このため、スカラロボット２９は、液滴Ｆｂの吐出を、パネル２１の入れ替え作業を待つことなく、連続して行なうことができる。従って、複数のパネル２１に対する液滴吐出の処理を効率よく行なうことができる。
【００７７】
また、上記実施形態は、以下のように変更してもよい。
○上記実施形態では、制御部４３は、ヘッドユニット３４をＸ矢印方向及び反Ｘ方向に移動させながら、液滴吐出ヘッド３７から液滴を吐出させた。これに限らず、制御部４３は、ヘッドユニット３４をＹ矢印方向及び反Ｙ方向に移動させながら、液滴吐出ヘッド３７から液滴を吐出させてもよいし、斜め方向に移動させながら液滴を吐出させてもよい。
【００７８】
○上記実施形態では、制御部４３は、ヘッドユニット３４のドットパターン１０間の移動速度を、ヘッドユニット３４に加わる加速により液滴ＦｂがノズルＮから吐出されない速度にしている。これに代えて、制御部４３は、ドットパターン１０間を移動するときに、キャビティ３７ｃの液状体Ｆａに負圧を加えるようにしてもよい。この場合には、ノズルＮから液滴Ｆｂが吐出せずに、ヘッドユニット３４をより高速に移動させることができる。
【００７９】
○上記実施形態では、制御部４３は、進行方向側に液滴吐出ヘッド３７が位置し、これと反対側に半導体レーザＬが位置するように、ヘッドユニット３４の配置を制御した。液滴吐出ヘッド３７及び半導体レーザＬの配置は、これに限らず、移動方向に対応して、常に同じ配置となるように制御できればよい。
【００８０】
○上記実施形態では、スカラロボット２９を用いて、液滴吐出ヘッド３７及び半導体レーザＬが搭載されているヘッドユニット３４の配置を制御した。これに限らず、他の機構、例えば直動機構を用いて、液滴吐出ヘッド３７及び半導体レーザＬが搭載されているヘッドユニット３４の配置を制御してもよい。
【００８１】
○上記実施形態では、スカラロボット２９は、第１〜第３モータＭ１〜Ｍ３の回転角度を調整することにより、ＸＹ平面の図６の二点鎖線で示す領域内に任意の位置に、任意の配置で移動させることができるように構成されている。これに限らず、スカラロボット２９のヘッドユニット３４をＸＹ平面に垂直な方向にも移動可能な機構としてもよい。この場合には、またドットパターン１０を形成する高さが異なっていても、液滴Ｆｂの吐出及
びレーザ光の照射を同一の条件で行なうようにできる。
【００８２】
○上記実施形態では、同じ基板２を縦横に整列させたパネル２１に対して液滴を吐出させるようにした。これに限らず、異なる大きさの基板２を一体化させたパネル２１に対して液滴を吐出させるようにしてもよい。
【００８３】
○上記実施形態では、半球状のドットＤで具体化したが、その形状は限定されるものではなく、例えば、その平面形状が楕円形のドットであったり、バーコードを構成するバーのように線状であったりしてもよい。
【００８４】
○上記実施形態では、パターンは２次元コードの識別コードであったが、これに限定されるものではなく、例えばバーコードであってもよい。更に、パターンは、文字、数字、記号等であってもよい。
【００８５】
○上記実施形態では、ドットパターン１０を表示用基板として基板２に形成したが、これをシリコンウェハ、樹脂フィルム、金属板等でもよい。
○上記実施形態では、静電アクチュエータを使って液滴Ｆｂを吐出したが、静電アクチュエータ以外の方法で、圧力室（キャビティ３７ｃ）を加圧する加圧手段を用いた構成の液滴吐出ヘッドであってもよい。例えば、静電アクチュエータ以外の方法（例えば、ピエゾ素子を用いる方法や気泡を用いる方法等）を用いてキャビティ３７ｃ内を加圧し、液滴Ｆｂを吐出するようにしてもよい。例えば、ピエゾ素子を用いる場合には、キャビティ３７ｃを構成する振動板３７ｂにピエゾ素子を接触させ、駆動信号によりキャビティ３７ｃの体積を変更して液滴Ｆｂを吐出させる。また、気泡を用いる場合には、キャビティ３７ｃ内に気泡を生成して破裂させて液滴Ｆｂを吐出させる。これらの場合にも、上述したように制御部４３が、液滴吐出ヘッド３７を搭載したスカラロボット２９の制御を行なうことにより、上記実施形態で述べた効果を得ることができる。
【００８６】
○上記実施形態では、ドットパターン１０を構成するドットＤを形成するための液滴吐出装置２０に具体化した。これに限らず、例えば、機能性材料として配線材料を含む液滴を基板に吐出させて基板上に金属配線を形成したり、絶縁膜を形成したりする液滴吐出装置に応用してもよい。この場合にも、効率よく乾燥・焼成を液滴吐出装置で行なうことができる。
【００８７】
○上記実施形態では、液晶表示モジュール１に具体化した。これに限らず、例えば有機エレクトロルミネッセンス表示装置の表示モジュールであってもよく、あるいは平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型装置（ＦＥＤやＳＥＤ等）を備えた表示モジュールであってもよい。また、ドットパターン１０が形成された基板２等は、これらの表示装置のみでなく、他の電子機器に使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】液晶表示装置の液晶表示モジュールの正面図。
【図２】液晶表示モジュールの裏面に形成されたドットパターンの正面図。
【図３】液晶表示モジュールの裏面に形成されたドットパターンの側面図。
【図４】ドットパターンの構成を説明するための説明図。
【図５】本実施形態のスカラロボットを用いた液滴吐出装置の斜視図。
【図６】本実施形態のスカラロボットを用いた液滴吐出装置の平面図。
【図７】本実施形態のスカラロボットを用いた液滴吐出装置の正面図。
【図８】本実施形態のスカラロボットのヘッドユニットの要部拡大図。
【図９】本実施形態のヘッドユニットの液滴吐出ヘッドの要部拡大断面図。
【図１０】液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック回路図。
【図１１】ヘッドユニットの動作を説明するための概略説明図。
【図１２】ヘッドユニットの移動速度を説明するための速度−時間グラフ。
【図１３】スカラロボットの動作を説明するための説明図。
【図１４】スカラロボットの動作を説明するための説明図。
【図１５】スカラロボットの動作を説明するための説明図。
【図１６】スカラロボットの動作を説明するための説明図。
【符号の説明】
【００８９】
Ｆｂ…液滴、Ｌ…照射手段としての半導体レーザ、１０…液滴吐出領域としてのドットパターン、２０…液滴吐出装置、２１…対象物としてのパネル、２９…多関節ロボットとしてのスカラロボット、３４…ヘッドユニット、３７…液滴吐出手段としての液滴吐出ヘッド、４０…制御装置としての制御装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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