(57)【要約】【課題】本発明は、パネルの軽薄化を可能にすると同時に、電磁波をより効果的に遮蔽し得るプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】本発明に係るプラズマディスプレイパネルにおいて、パネルと、透明電導膜と、該透明電導膜上に形成される金属膜を具備し、前記パネルに結合されるフィルム形態のフィルターと、を含むことを特徴とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
パネルと、
透明電導膜と、該透明電導膜上に形成される金属膜を具備し、前記パネルに結合されるフィルム形態のフィルターと、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記フィルターは、前記パネル上に積層される無反射膜、光の色温度を調節する光特性膜、及び近距離赤外線遮蔽膜の中で少なくとも何れか一つをさらに具備することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記透明電導膜は、金属粉末と透明伝導性粉末とが混合された混合層から成ることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記金属粉末の割合は、前記透明伝導性粉末対比１０%以内であることを特徴とする請求項３記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記透明電導膜は、インジウムスズ酸化物(Indium-Tin-Oxide:ITO)膜と金属膜とが交番的に蒸着されて形成されたことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記金属膜は、前記パネル内に形成された放電空間を区画する隔壁と重畳される形態にパターニングされて形成されることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記金属膜は、前記パネルの非表示領域に形成されることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記金属膜は、前記パネルの非表示領域の少なくとも一方側面にバー形態に形成されることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記金属膜は、前記パネルの非表示領域上の周辺に形成されることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記金属膜は、前記パネルの接地端子と連結されることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
パネルと、
該パネル上に形成されるフィルム形態のフィルターと、を具備し、
該フィルターは、透明電導膜と、該透明電導膜内に塗布された金属粉末と、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記透明電導膜は、金属粉末と透明伝導性粉末とが混合された混合層から成ることを特徴とする請求項１１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
前記透明伝導性粉末は、インジウムスズ酸化物(Indium-Tin-Oxide:ITO)であるのを特徴とする請求項１２記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
前記金属粉末の混合の割合は、前記透明伝導性粉末対比１０%以内であることを特徴とする請求項１２記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】
前記フィルターは、前記パネル上に積層される無反射膜、光の色温度を調節する光特性膜及び近距離赤外線遮蔽膜をさらに具備することを特徴とする請求項１１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１６】
パネルと、
透明伝導性金属粒子及び伝導性金属粒子から成る電磁波遮蔽膜と、を具備し、前記パネルに結合されるフィルム形態のフィルターと、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１７】
前記フィルターは、前記パネル上に積層される無反射膜、光の色温度を調節する光特性膜、及び近距離赤外線遮蔽膜の中で少なくとも何れか一つをさらに具備することを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１８】
前記透明伝導性金属は、インジウムスズ酸化物(Indium-Tin-Oxide:ITO)を含んで形成されることを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１９】
前記電磁波遮蔽膜は、インジウムスズ酸化物粒子と伝導性金属粒子とが交番的に塗布されて蒸着されて形成されることを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項２０】
前記電磁波遮蔽膜は、インジウムスズ酸化物粒子と伝導性金属粒子とが所定の割合で混合されて積層されて形成されることを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに係るもので、詳しくは、フィルム形態のフィルターがパネルに結合されたプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマディスプレイパネルは、隔壁が形成された背面基板及びこれと対向される前面基板の間に放電セルが形成され、各放電セルの内部の不活性ガスが高周波電圧によって放電される時に発生する真空紫外線が蛍光体を発光させることで、映像を具現する。
【０００３】
図１は、従来のプラズマディスプレイパネルの構造を示した斜視図である。
【０００４】
従来のプラズマディスプレイパネルは、図１に示したように、上部基板１０上に走査電極(Y)及び維持電極(Z)が形成され、前記上部基板１０と対向される下部基板１８上にアドレス電極(X)が形成される。
【０００５】
また、前記走査電極(Y)と維持電極(Z)のそれぞれは、透明電極(１２Y、１２Z)と、透明電極(１２Y、１２Z)の線幅より小さい線幅を持って透明電極の一方側端に形成される金属バス電極(１３Y、１３Z)と、を含む。
【０００６】
また、前記透明電極(１２Y、１２Y)は、通常、インジウムスズ酸化物(Indium-Tin-Oxide:ITO)で上部基板１０上に形成される。金属バス電極(１３Y、１３Z)は、通常、クロム(Cr)などの金属で透明電極(１２Y、１２Z)上に形成されて該透明電極(１２Y、１２Z)による電圧降下を減らす役割をする。
【０００７】
また、前記上部基板１０には、前記走査電極(Y)と維持電極(Z)を覆うように誘電体層１４と保護膜１６が積層される。また、前記上部誘電体層１４には、プラズマ放電時に発生された壁電荷が蓄積される。前記保護膜１６は、前記上部誘電体層１４の損傷を防止すると同時に、２次電子の放出効率を高めるが、通常、酸化マグネシウム(MgO)が利用される。
【０００８】
また、前記アドレス電極(X)が形成された下部基板１８上には、下部誘電体層２２、隔壁２４が形成され、該下部誘電体層２２と隔壁２４の表面には、蛍光体２６が塗布される。
【０００９】
また、該蛍光体層２６は、プラズマ放電時に発生された紫外線によって励起されて赤色、緑色または青色の中で何れか一つの可視光線を発生させて、前記上部基板１０と前記下部基板１８の隔壁２４の間に備えられた放電空間には不活性混合ガスが注入される。
【００１０】
この時、前記上部基板１０と下部基板１８とが結合されて形成されるパネルは、巨大なキャパシタンスを持つ負荷であって、該パネルキャパシタに高電圧の駆動パルスが印加されると、前面に電磁波が放射されるが、これを遮断するために前記パネルの前面にフィルター３０が結合される。
【００１１】
図２は、従来のプラズマディスプレイパネルの一方側を概略的に示した断面図である。従来のプラズマディスプレイパネルは、図２に示したように、パネル３２と、該パネル３２に結合されるフィルター３０と、放熱板３４と、印刷回路基板３６と、バックカバー３８と、フィルター支持部４０及び支持部材４２と、を含む。
【００１２】
また、前記パネル３２は、前記上部基板１０と下部基板１８とが合着されて形成される。また、前記フィルター３０は、前記パネル３２の前面に設置され、前記放熱板３４は、前記パネル３２の後面に設置され、前記パネル３２及び印刷回路基板３６で発生される熱を放熱させる。また、該印刷回路基板３６は、前記放熱板３４に付着されるように設置され、前記パネル３２の電極に駆動パルスを供給し、前記バックカバー３８は、パネル後面の外観を成し、後面に放出される電磁波を遮断する。
【００１３】
また、前記フィルター支持部４０は、前記フィルター３０とバックカバー３８とを接続させて、前記フィルター３０が接地されるようにし、前記支持部材４２は、前記フィルター支持部４０を覆うように前記フィルター３０とバックカバー３８の間に設置される。
【００１４】
図３は、前記パネルに結合されるフィルターの構造が図示された図面である。
【００１５】
従来のフィルター３０は、図３に示したように、無反射膜５０と、光特性膜５２と、ガラス５４と、EMI遮蔽膜５６及び近赤外線(以下、"NIR"と言う)遮蔽膜５８と、が積層されて形成される。図３に図示されなかったが、前記フィルター３０を成す膜の間には接着層が形成され、各膜を接着させる。
【００１６】
また、前記無反射膜(Antireflection  Coating)５０は、入射光が反射されることを防止してパネルの明暗比を向上させて、前記光特性膜５２は、前記パネル３２が放射する光の色温度を調節して、PDPの光特性を改善させる。
【００１７】
また、前記ガラス５４は、前記フィルター３０が外部の衝撃から破損されることを防止し、前記EMI遮蔽膜５６は、前記パネル３２の前面にEMIが放出されることを防止する。また、前記NIR遮蔽膜５８は、前記パネル３２からNIRが放出されることを防止する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
このように構成される従来のフィルター３０は、前記ガラス５４を含んで構成されるため、フィルターの重さ及び厚さが上昇し、製造費用が上昇するという問題点があった。
【００１９】
また、前記EMI遮蔽膜５６は、透明伝導性金属を利用して形成されるが、該透明伝導性金属の抵抗特性を補償するための金属膜が具備されなければならないため、前記金属膜によってパネルの光透過率が低下され、金属膜の積層によるパネルの製造単価が上昇するという問題点があった。
【００２０】
本発明は、パネルの軽薄化を可能にすると同時に、電磁波をより効果的に遮蔽し得るプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
前記目的を達成するため、本発明に係るプラズマディスプレイパネルは、パネルと、該パネルと結合されるフィルム形態のフィルターと、を具備し、該フィルターは、透明電導膜と、該透明電導膜上に形成される金属膜と、を具備することを特徴とする。
【００２２】
また、前記フィルターは、フィルム形態のフィルターであって、前記パネル上に積層される無反射膜、光の色温度を調節する光特性膜及び近距離赤外線遮蔽膜をさらに具備して構成されることを特徴とする。
【００２３】
また、前記透明電導膜は、インジウムスズ酸化物(Indium-Tin-Oxide:ITO)を含んで構成され、前記ITO階と金属膜とが交番的に蒸着されて形成可能であることを特徴とする。
【００２４】
また、前記透明電導膜は、金属粉末と透明伝導性粉末とが混合された混合層から成り得るし、該混合層と金属膜とが交番的に蒸着されて形成可能であることを特徴とする。
【００２５】
また、前記混合層を成す金属粉末は、銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)及びアルミニウム(Al)の中の少なくとも何れか一つの金属で、前記透明伝導性粉末は、インジウムスズ酸化物(ITO)である。この時、前記金属粉末の割合は、前記透明伝導性粉末対比１０%以内であることが好ましい。
【００２６】
また、前記金属膜は、銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)及びアルミニウム(Al)の中の少なくとも何れか一つがパターニングされたもので、前記パネル内に形成された放電空間を区画する隔壁と重畳されることを特徴とする。
【００２７】
すなわち、前記金属膜は、前記パネルの非表示領域に形成され、該非表示領域の少なくとも一方側面にバー形態に形成されるか、または非表示領域の周辺に形成され、接地端子と連結されることを特徴とする。
【００２８】
また、本発明のフィルム形態のフィルターは、金属粉末と透明伝導性粉末とが混合された透明電導膜を含んで構成され、金属膜が積層されることなく、無反射膜、光特性膜及び近距離赤外線遮蔽膜をさらに具備して構成されることを特徴とする。
【００２９】
本発明に係るフィルム形態のフィルターが具備されたプラズマディスプレイパネルは、薄膜化が可能で、前記フィルターの光透過率が従来より高くなることで、画質が向上される効果がある。
【発明の効果】
【００３０】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルは、パネルと結合されるフィルターがフィルム形態としてパネルの軽薄化を可能にする。また、電磁波を遮蔽する透明電導膜と、該透明電導膜上に積層されて透明電導膜で発生される電圧降下を防止する金属膜がさらに具備されるから、電磁波をより効果的に遮蔽すると同時に、フィルターの光透過率を向上し得るという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明の実施形態に対し、図面を用いて詳細に説明する。
【００３２】
ただし、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの実施形態としては複数個が存在し得るから、本明細書に記載した実施形態に限定されない。
【００３３】
まず、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの第１実施形態及び第２実施形態に対し、図４ないし図７を用いて説明する。
【００３４】
第１実施形態及び第２実施形態で使われるフィルター１００、２００は、無反射膜１１０、２１０と、光特性膜１２０、２２０と、透明電導膜１３０、２３０と、近赤外線遮蔽膜１４０、２４０から構成され、ガラスなしにフィルム形態で構成される点が特徴である。
【００３５】
図４は、本発明の第１実施形態によるプラズマディスプレイパネルにおいて、パネル及び該パネルに結合されるフィルターが図示された斜視図で、図５は、フィルターの断面図である。
【００３６】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルは、図４及び図５に示したように、上部基板７０と下部基板７２とが合着されて形成されるパネル８０と、該パネル８０の前面に設置されるフィルム形態のフィルター１００と、を具備する。
【００３７】
また、前記パネル８０は、印刷回路基板(図示せず)から供給される駆動パルスによって所定の画像を表示するための光を放出する。
【００３８】
また、前記フィルター１００は、無反射膜１１０と、光特性膜１２０と、透明電導膜１３０と、近赤外線遮蔽膜(１４０、以下、NIR遮蔽膜と言う)を具備する。前記膜(１１０、１２０、１３０、１４０)の間には、図示されなかったが、接着層が形成されて各膜が接着される。そして、前記光特性膜１２０は、接着層に特定物質が挿入されて形成される。
【００３９】
また、前記無反射膜１１０は、外部からの入射光が反射されることを防止し、前記フィルター１００の表面に形成される。また、前記無反射膜１１０は、前記フィルター１００の背面にも追加的に形成可能である。また、前記光特性膜１２０は、前記パネル８０から放出される光の色温度を調節し、プラズマディスプレイパネルの光特性を改善させる。
【００４０】
また、前記透明電導膜１３０は、透明伝導性金属、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)のような金属で形成され、前記パネル８０から電磁波が外部に放出されることを防止する。
【００４１】
この時、前記透明電導膜１３０は、透明伝導性金属粉末と、該透明伝導性金属の抵抗を補償する伝導性金属粉末と、が交番的に塗布されて蒸着されることができる。すなわち、前記透明伝導性金属粉末から成る膜と前記金属粉末から成る膜とが交番的に積層され、複数個の膜で形成可能である。
【００４２】
この時、前記伝導性金属粉末は、銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)の中の少なくとも何れか一つ以上が利用される。このような金属粉末の割合は、前記透明伝導性粉末対比１０%以内であり、これは、パネルのコントラストを確保するためである。
【００４３】
このように形成される透明電導膜１３０は、前記パネル８０から放出される光の透過率を向上させて、前記伝導性金属粉末が混合されることで、電磁波を遮蔽する。
【００４４】
また、前記NIR遮蔽膜１４０は、前記パネル８０から放出される近赤外線を遮蔽する。また、前記透明電導膜１３０及びNIR遮蔽膜１４０は、単一膜で構成可能である。この時、前記透明電導膜１３０及びNIR遮蔽膜１４０の中の少なくとも何れか一つは、バックカバーと接続されて接地されて電磁波を遮蔽する。
【００４５】
図６は、本発明の第２実施形態によるプラズマディスプレイパネルにおいて、パネル及び該パネルに結合されるフィルターが図示された斜視図で、図７は、フィルターの断面図である。
【００４６】
第２実施形態によるプラズマディスプレイパネルにおいて、パネル及び該パネルに結合されるフィルター２００は、第１実施形態と類似で、重複される部分は、前記第１実施形態の説明に代わる。
【００４７】
ただし、第２実施形態のフィルターは、前記第１実施形態の透明電導膜１３０の代わりに混合金属膜２３０を含んで構成され、該混合金属膜２３０は、透明伝導性金属粉末と前記透明伝導性金属の抵抗を補償する伝導性金属粉末とが混合されて単一膜に形成される。すなわち、前記パネル８０から入射される電磁波を遮蔽するための膜と、発生する電圧降下を防止するための膜を一つの膜で形成するから、プラズマディスプレイパネルを軽薄化することができる。
【００４８】
この時、前記透明伝導性金属粉末は、インジウムスズ酸化物(ITO)が利用され、前記伝導性金属粉末は、銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)アルミニウム(Al)の中で少なくとも何れか一つが利用される。
【００４９】
例えば、前記混合金属膜２３０は、微細なITO金属粉末、銀金属粉末、有機溶媒及び有機結合体が均一に混合されるように撹拌してペースト(paste)に形成され、これを前記パネル８０の上部基板７０上に塗布する。
【００５０】
また、前記ペーストが前記上部基板７０上に均一な厚さに塗布されると、塑性温度環境で塑性工程過程を通して有機溶媒及び有機結合剤が除去され、前記混合金属膜２３０が上部基板７０上に形成される。
【００５１】
したがって、前記混合金属膜２３０は、透明伝導性金属が前記混合金属膜２３０の大部分を形成するから、光透過率が向上され、伝導性金属が混合されているから、透明伝導性金属の電気的特性によって発生される電圧降下を防止し得るし、電磁波を遮蔽する。
【００５２】
一般的なプラズマディスプレイパネルの光透過率である'９５%'を満足するために、前記混合金属膜２３０は、９０%の透明伝導性金属の粉末と１０%の伝導性金属の粉末とを混合して蒸着形成することが好ましい。
【００５３】
また、前記伝導性金属粉末は、銀金属粉末の以外の他の金属粉末が使用され得る。この時にも、前記'９５%'の光透過率を満足し得る混合割合で透明伝導性金属粉末と伝導性金属粉末とを撹拌してペーストを形成することが好ましい。
【００５４】
図８は、本発明の第３実施形態によるプラズマディスプレイパネルにおいて、パネル及び該パネルに結合されるフィルターが図示された斜視図で、図９は、フィルターの断面図である。
【００５５】
第３実施形態で使われるフィルター３００は、無反射膜３１０と、光特性膜３２０と、透明電導膜３３０と、金属膜３４０と、NIR遮蔽膜３５０と、から構成され、前記第１及び第２実施形態に比べて前記金属膜３４０が追加された点が特徴である。
【００５６】
第３実施形態によるフィルター３００に具備される無反射膜３１０は、外部からの入射光が反射することを防止し、前記フィルター３００の表面に形成される。また、前記無反射膜３１０は、前記フィルター３００の背面にも追加的に形成可能である。
【００５７】
また、前記光特性膜３２０は、前記パネル８０から放出される光の色温度を調節して、プラズマディスプレイパネルの光特性を改善させる。
【００５８】
前記透明電導膜３３０は、透明伝導性金属、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)のような金属で形成され、前記パネル８０から電磁波が外部に放出されることを防止する。
【００５９】
この時、前記透明電導膜３３０は、第１実施形態のように、透明伝導性金属粉末と、該透明伝導性金属の抵抗を補償する伝導性金属粉末とが交番的に塗布されて蒸着されることができる。すなわち、前記透明伝導性金属粉末から成る膜と前記金属粉末から成る膜とが交番的に積層され、多数個の膜で形成可能である。
【００６０】
また、前記透明電導膜３３０は、第２実施形態のように、前記透明伝導性金属粉末と、該透明伝導性金属の抵抗を補償する伝導性金属粉末と、が混合されて単一膜で形成可能である。
【００６１】
この時、前記透明伝導性金属粉末は、インジウムスズ酸化物(ITO)が利用され、前記伝導性金属粉末は、銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)アルミニウム(Al)の中で少なくとも何れか一つが利用される。
【００６２】
このような金属粉末の割合は、前記透明伝導性粉末対比１０%以内であり、これは、パネルのコントラストを確保するためである。
【００６３】
このように形成される透明電導膜３３０の電圧降下を減らすために、該透明電導膜３３０上に金属膜３４０が積層される。
【００６４】
該金属膜３４０は、銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)アルミニウム(Al)などの伝導性金属で形成され、前記パネル８０の光透過率が向上されるように、図１０（a）ないし図１０（d）に図示されたようにパターニングされる。前記NIR遮蔽膜３５０は、前記パネル８０から入射されるNIRを遮蔽する。この時、前記透明電導膜３３０、金属膜３４０及びNIR遮蔽膜３４０の中で少なくとも何れか一つは、バックカバーと接続されて接地されて、電磁波を遮蔽する。
【００６５】
図１０（a）ないし図１０（d）は、本発明の第３実施形態によるプラズマディスプレイパネルに使われるフィルターに含まれる金属膜のパターニングを説明するための図面である。
【００６６】
前記透明電導膜３３０は、前記フィルター３００の全体領域に均一に形成され、金属膜(３４０ないし３４４)は透明電導膜３３０上に、図１０（a）ないし１０（d）に図示したように、パターニングされて形成される。
【００６７】
図１０（a）に図示された金属膜３４０は、各放電セルを区画する横隔壁及び縦隔壁と重畳されるようにパターニングされる。このように前記金属膜３４０が格子形態にパターニングされて前記隔壁に重畳されるように形成されると、前記放電セルの放電空間を遮ることなく、前記透明電導膜３３０で発生される電圧降下を最小化することができる。そして、前記金属膜３４０は両端が接地される。
【００６８】
この時、該金属膜３４０を形成する横配線と縦配線は、各放電セルを区画する横隔壁及び縦隔壁と重畳されるように形成するか、または所定の倍数に相応する各放電セルの横隔壁及び縦隔壁のみに重畳されるように形成される。
【００６９】
図１０（b）に図示された金属膜３４１は、‘□'字形態にパターニングされ、前記パネル８０の角領域が連結される所定の領域に形成される。この時、前記金属膜３４１は、映像が表示されないパネルの非表示領域上に形成されることが好ましく、図１０（a）に図示された実施形態に比べて光透過率を向上させることができる。
【００７０】
これも、前記金属膜３４１の両端が接地される。
【００７１】
図１０（c）に図示された金属膜３４２は、‘匚字形態にパターニングされ、前記パネル８０の各角領域が‘匚'字形態で連結される所定の領域に形成される。この時、前記金属膜３４２は、映像が表示されないパネルの非表示領域上に形成されることが好ましく、図１０（a）に図示された実施形態に比べて光透過率を向上させることができる。
【００７２】
また、前記金属膜３４２の両端が接地され、この時、該金属膜３４２が形成されない前記パネル８０の一辺は、上側、下側、左側及び右側の中で何れか一つである。
【００７３】
図１０（d）に図示された金属膜３４３は、‘L’字形態にパターニングされ、前記パネル８０の三つの角領域を選択し、各角領域が‘L'字形態で連結される所定の領域に形成される。この時、前記金属膜３４３は、映像が表示されないパネルの非表示領域上に形成されることが好ましく、図１０（a）に図示された実施形態に比べて光透過率が高い。
【００７４】
そして、前記金属膜３４３は、一番大きい隔離距離を持つ両端が接地され、該金属膜３４３が形成されない前記パネル８０の二辺は、左/上側、右/下側の中で何れか一つである。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】一般的なプラズマディスプレイパネルの構造を示した斜視図である。
【図２】従来のプラズマディスプレイパネルの一方側を概略的に示した断面図である。
【図３】従来のプラズマディスプレイパネルのフィルター構造が図示された断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態によるプラズマディスプレイパネルを説明するために参照される図である。
【図５】図４に図示されたフィルターの断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態によるプラズマディスプレイパネルを説明するために参照される図である。
【図７】図６に図示されたフィルターの断面図である。
【図８】本発明の第３実施形態によるプラズマディスプレイパネルを説明するために参照される図である。
【図９】図８に図示されたフィルターの断面図である。
【図１０Ａ】本発明の好ましい実施形態による金属膜のパターニングを説明するための図面である。
【図１０Ｂ】本発明の好ましい実施形態による金属膜のパターニングを説明するための図面である。
【図１０Ｃ】本発明の好ましい実施形態による金属膜のパターニングを説明するための図面である。
【図１０Ｄ】本発明の好ましい実施形態による金属膜のパターニングを説明するための図面である。
【符号の説明】
【００７６】
１００、２００：フィルターは、
１１０、２１０：無反射膜
１２０、２２０：光特性膜
１３０、２３０：透明電導膜
１４０、２４０：近赤外線遮蔽膜
【図１】
2006154829.tif 000003
【図２】
2006154829.tif 000004
【図３】
2006154829.tif 000005
【図４】
2006154829.tif 000006
【図５】
2006154829.tif 000007
【図６】
2006154829.tif 000008
【図７】
2006154829.tif 000009
【図８】
2006154829.tif 000010
【図９】
2006154829.tif 000011
【図１０Ａ】
2006154829.tif 000012
【図１０Ｂ】
2006154829.tif 000013
【図１０Ｃ】
2006154829.tif 000014
【図１０Ｄ】
2006154829.tif 000015