(57)【要約】【課題】防眩性に優れ、塗布面状の良好な反射防止フィルムを安定に提供すると共に、適切な手段により反射防止処理がされている偏光板及び画像表示装置を提供する。【解決手段】透明支持体上に防眩層と少なくとも１層の低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルムであって、該防眩層が防眩層用塗布組成物を塗布して形成された層であり、塗布前の該防眩層用塗布組成物が高分子化合物を含有し、かつ該防眩層用塗布組成物の粘度が該高分子化合物を含有することによって３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ増加したことを特徴とする反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に防眩層と少なくとも１層の低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルムであって、該防眩層が防眩層用塗布組成物を塗布して形成された層であり、塗布前の該防眩層用塗布組成物が高分子化合物を含有し、かつ該防眩層用塗布組成物の粘度が該高分子化合物を含有することによって３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ増加したことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
【請求項２】
高分子化合物を含有し、粘度が６ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓの防眩層用塗布組成物から、防眩層が塗布形成されたことを特徴とする請求項１に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項３】
高分子化合物が質量平均分子量０．５万〜６０万の高分子化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項４】
高分子化合物が質量平均分子量０．５万〜２０万の高分子化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項５】
高分子化合物が共重合体であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項６】
高分子化合物が、該高分子化合物を含有する層の全バインダーの５質量％〜３０質量％の範囲で含有されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項７】
高分子化合物が（メタ）アクリル樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項８】
高分子化合物がセルロースエステル系樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項９】
高分子化合物がビニル系樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項１０】
高分子化合物含有層が、粒径１μｍ〜８μｍの透光性粒子を含有する防眩層であり、該防眩層のバインダーマトリックスの屈折率が１．４５〜１．９０であり、さらに該防眩層のバインダーマトリックスと透光性粒子の屈折率差が０．０２〜０．３０であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項１１】
高分子化合物含有層が、粒径１μｍ〜８μｍの透光性粒子を含有する防眩層であり、該防眩層の膜厚が３μｍ〜１０μｍであり、かつ該防眩層に含有する透光性粒子の平均粒径が該層の膜厚に対して、３０％〜８０％の範囲にあることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項１２】
透明支持体上のいずれかの層に、下記一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかを含有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式（ａ）：（Ｒ10）S−Ｓｉ（Ｚ）4-S
（一般式（ａ）式中、Ｒ10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｚは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｓは１〜３の整数を表す。）
【請求項１３】
低屈折率層が下記一般式（１）で表される含フッ素化合物の架橋または重合反応により形成されたことを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式（１）
【化１】
2006154770.tif 000026
（一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０または１を表す。Ｘは水素原子またはメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一重合単位であっても複数の重合単位で構成されていてもよい。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成重合単位のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。）
【請求項１４】
低屈折率層に中空シリカ微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜１３に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、（１）防眩層形成用塗布組成物を粘度が３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓの塗布組成物として調製する工程、及び（２）上記塗布組成物に高分子化合物を添加して添加前よりも該塗布組成物の粘度を３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ増加させる工程、を含むことを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１６】
請求項１〜１４のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
【請求項１７】
請求項１〜１４のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムまたは請求項１６に記載の偏光板が、画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１８】
画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする請求項１７に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防眩性反射防止フィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は大画面化が進み、光学機能フィルム、例えば反射防止フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。反射防止フィルムに反射防止能を付与するための１手段として防眩層が設置されることもある。この層に透光性粒子を含有することで、効果の一つとして防眩性等が発現される。防眩性は反射防止フィルムの表面形状に大きく依存し、防眩層に含有する透光性粒子が表面凹凸を大きくすることで、反射光を散乱させ、画像の映り込みを減らしている。また、反射防止フィルムには、防眩効果と合わせて反射光量を減らすために低屈折率層を上層に設けることも行われる。ところが透明機能層を複数塗設した光学フィルムでは、密着性が問題となることがあり、このために関係する層にある種の透明高分子化合物を含有することも行われる（特許文献１）。
【０００３】
他方、近年、表面凹凸を大きくする因子のひとつに透光性粒子自身の層内分散性（または凝集性）があげられ、この透光性粒子の層内分散性が該層を形成するための塗布液の物性に依存することが分かってきた（特許文献２）。
発明者らの研究によって、この物性制御のために特許文献１で用いられたような高分子化合物類が有効であることが分かったが、この高分子化合物を単に用いただけでは改良効果が十分ではなく、特定の高分子化合物が有効であること、また特定の物性に制御することが特に有効であることも分かった。また、組み合わせて用いる他の素材においても、層内分散性効果を高めるための素材選定や、使用方法のあることも分かってきた。
【０００４】
一方、液晶表示装置において偏光板は不可欠な光学材料であり、一般に、偏光膜が２枚の保護フィルムによって保護されている構造をしている。
これらの保護フィルムに反射防止機能を付与することができれば、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
偏光板に用いる保護フィルムは、偏光膜と貼り合わせるうえで十分な密着性を有していることが必要である。偏光膜との密着性を改良する手法として、保護フィルムを鹸化処理して保護フィルムの表面を親水化処理することが通常行われている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−８３３２７号公報
【特許文献２】特開２００１−２８１４０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、防眩性に優れ、塗布面状の良好な反射防止フィルムを安定に提供することである。
さらに、本発明の別の目的は、適切な手段により反射防止処理がされている偏光板、画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的は、下記構成の防眩性反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置により達成された。
【０００８】
１．透明支持体上に防眩層と少なくとも１層の低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルムであって、該防眩層が防眩層用塗布組成物を塗布して形成された層であり、塗布前の該防眩層用塗布組成物が高分子化合物を含有し、かつ該防眩層用塗布組成物の粘度が該高分子化合物を含有することによって３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ増加したことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
２．高分子化合物を含有し、粘度が６ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓの防眩層用塗布組成物から、防眩層が塗布形成されたことを特徴とする１．に記載の防眩性反射防止フィルム。
３．高分子化合物が質量平均分子量０．５万〜６０万の高分子化合物であることを特徴とする１．または２．に記載の防眩性反射防止フィルム。
４．高分子化合物が質量平均分子量０．５万〜２０万の高分子化合物であることを特徴とする１．または２．に記載の防眩性反射防止フィルム。
５．高分子化合物が共重合体であることを特徴とする１．〜４．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
６．高分子化合物が、該高分子化合物を含有する層の全バインダーの５質量％〜３０質量％の範囲で含有されていることを特徴とする１．〜５．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
７．高分子化合物が（メタ）アクリル樹脂であることを特徴とする１．〜６．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
８．高分子化合物がセルロースエステル系樹脂であることを特徴とする１．〜６．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
９．高分子化合物がビニル系樹脂であることを特徴とする１．〜６．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
１０．高分子化合物含有層が、粒径１μｍ〜８μｍの透光性粒子を含有する防眩層であり、該防眩層のバインダーマトリックスの屈折率が１．４５〜１．９０であり、さらに該防眩層のバインダーマトリックスと透光性粒子の屈折率差が０．０２〜０．３０であることを特徴とする１．〜９．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
１１．高分子化合物含有層が、粒径１μｍ〜８μｍの透光性粒子を含有する防眩層であり、該防眩層の膜厚が３μｍ〜１０μｍであり、かつ該防眩層に含有する透光性粒子の平均粒径が該層の膜厚に対して、３０％〜８０％の範囲にあることを特徴とする１．〜１０．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
１２．透明支持体上のいずれかの層に、下記一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかを含有することを特徴とする１．〜１１．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式（ａ）：（Ｒ10）S−Ｓｉ（Ｚ）4-S
（一般式（ａ）式中、Ｒ10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｚは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｓは１〜３の整数を表す。）
１３．低屈折率層が下記一般式（１）で表される含フッ素化合物の架橋または重合反応により形成されたことを特徴とする１．〜１２．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式（１）
【０００９】
【化１】
2006154770.tif 000002
【００１０】
（一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０または１を表す。Ｘは水素原子またはメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一重合単位であっても複数の重合単位で構成されていてもよい。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成重合単位のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。）
１４．低屈折率層に中空シリカ微粒子を含有することを特徴とする１．〜１３．に記載の防眩性反射防止フィルム。
１５．１．〜１４．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、（１）防眩層形成用塗布組成物を粘度が３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓの塗布組成物として調製する工程、及び（２）上記塗布組成物に高分子化合物を添加して添加前よりも該塗布組成物の粘度を３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ増加させる工程、を含むことを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
１６．１．〜１４．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
１７．１．〜１４．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムまたは１６．に記載の偏光板が、画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
１８．画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする１７．に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の反射防止フィルムは、防眩性に優れ、塗布面状が良好であり、しかも安定に提供することができる。本発明の偏光板、画像表示装置は、上記反射防止フィルムを用いているので、視認性に優れた高品質の画像が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、「（メタ）アクリロイル」との記載は、「アクリロイル及びメタクリロイルの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
以下に、本発明について更に詳細に説明する。
本発明の反射防止フィルムは、該フィルムを構成する防眩層が、防眩層を形成するための塗布液に高分子化合物を含有することによって含有しない塗布液に対して、塗布液（塗布組成物）の粘度を３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓの範囲で増加させて、塗布、形成された層であることを特徴とする。
【００１３】
まず、上記防眩層について説明する。
（防眩層）
防眩層は、主にモノマー類が電離放射線等で硬化して形成する透光性ポリマーからなる主バインダー、透光性粒子、および高屈折率化または低屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための微細無機フィラー、高分子化合物から形成される。
防眩層の厚さは、通常０．５μｍ〜３０μｍ程度で、好ましくは１μｍ〜１５μｍ、さらに３μｍ〜１０μｍがより好ましい。厚さが上記範囲であると、カール、ヘイズ値、高コスト等の欠点がなく、しかも防眩性と光拡散効果の調整も容易である。
【００１４】
〈主バインダー〉
防眩層を形成する主バインダーとしては、電離放射線等により硬化した後に飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有する透光性ポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、硬化後の主バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
硬化後に飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマー（バインダー前駆体）の重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが好ましい。
【００１５】
防眩層を形成するための、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミド等が挙げられる。
さらに、二個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマーまたはプレポリマー等もあげられる。これらのモノマーは２種以上併用してもよく、また、二個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂はバインダー全量に対して１０〜７０％含有することが好ましい。
【００１６】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【００１７】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラー、その他の添加剤を含有する硬化組成物を調製し、該硬化組成物を透明支持体上に塗布後、電離放射線あるいは熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムを形成する。電離放射線硬化と熱硬化を合わせて行うことも好ましい。
バインダーの屈折率は、好ましくは１．４０〜２．００であり、より好ましくは１．４５〜１．９０であり、更に好ましくは１．４８〜１．８５であり、特に好ましくは１．５１〜１．８０である。なお、バインダーの屈折率は、光拡散層の成分から透光性粒子を除いて測定した値である。
防眩層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して２０〜９５質量％の範囲で添加することが好ましい。
屈折率は（株）アタゴ社製アッベ屈折計（光源５９０ｎｍ、２０℃）等により測定できる。
【００１８】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−アルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−エトキシアセトフェノン、ｐ−メチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−クロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（P．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンが挙げられる。
【００１９】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【００２０】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性粒子および無機フィラーを含有する塗布液を調製し、該塗布液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムを形成することができる。
【００２１】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。また、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００２２】
〈高分子化合物〉
本発明に係る防眩層は、高分子化合物を含有する。高分子化合物は塗布組成物に添加する時点で既に重合体を形成しており、主として透光性粒子の分散安定性（凝集性）に関わる塗布組成物の粘度調整や、乾燥過程での固化物の極性を制御して透光性粒子の凝集挙動を変えたり、乾燥過程での乾燥ムラを減じたりする目的で含有される。
本発明に係る高分子化合物としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、エーテル系樹脂等が挙げられる。
本発明に係る（メタ）アクリル系樹脂の単量体化合物について具体的に示すと、アクリル酸エステル類としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート，２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、５−ヒドロキシベンジルアクリレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ｉｓｏ−プロポキシアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（付加モル数ｎ＝９）、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート等があげられる。
【００２３】
メタクリル酸エステル類の例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、スルホプロピルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミニエチルメタクリレート、２−（３−フェニルプロピルオキシ）エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、トリチエレングリコールモノメタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−アセトアセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ｉｓｏ−プロポキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（付加モル数ｎ＝６）、アリルメタクリレート、メタクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩、などをあげることができる。
【００２４】
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル等があげられる。
オレフィン類の例としては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン等をあげることができる。
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、トリフルオロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル等があげられる。
クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル等があげられる。
また、イタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル等があげられる。
マレイン酸ジエステル類としては、例えばマレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル等があげられる。
フマル酸ジエステル類としては、例えばフマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチル等があげられる。
アクリルアミド類としては、例えばアクリルアミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド等があげられる。
【００２５】
メタクリルアミド類としては、例えばメタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド等があげられる。
アリル化合物、例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、ラウリン酸アリル、安息香酸アリル等もあげられる。
ビニルエーテル類としては、例えばメチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテルなどがあげられる。
ビニルケトン類としては、例えばメチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトンなどがあげられる。
ビニル異節環化合物としては、例えばビニルピリジン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビニルトリアゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなどがあげられる。
グリシジルエステル類としては、例えばグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどがあげられる。
不飽和ニトリル類としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどがあげられる。
多官能モノマー類として、例えばジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタクリレートなどがあげられる。
多官能モノマーとしては、例えばジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタクリレートなどがあげられる。
【００２６】
さらに、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル、例えばイタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノブチルなど：マレイン酸モノアルキル、例えばマレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノブチルなど：シトラコン酸、スチレンスルホン酸、ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸、例えばアクリロイルオキシメチルスルホン酸など：メタクロロイルオキシアルキルスルホン酸、例えばメタクリロイルオキシエチルスルホン酸など：アクリルアミドアルキルスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、メタクリルアミドアルキルスルホン酸、例えば２−メタクリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸など：アクリロイルオキシアルキルホスフェート、例えばアクリロイルオキシエチルホスフェートなど：これらの酸はアルカリ金属またはアンモニウム塩であってもよい。
さらにその他の単量体化合物としては米国特許第３４５９７９０号、同第３４３８７０８号、同第３５５４９８７号、同第４２１５１９５号、同第４２４７６７３号、特開昭５７−２０５７３５号公報明細書等に記載の単量体を用いることもできる。
【００２７】
このような単量体化合物よりなる高分子化合物は単独で重合した高分子化合物でもよいし、複数が重合した共重合体よりなる高分子化合物でもよいが、共重合体のほうが重合しやすさ、溶解性等の点で好ましい。
これらからなる高分子化合物のうち、メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル共重合体、メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル共重合体、メタクリル酸メチル／メタアクリル酸ブチル共重合体、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体、メタクリル酸メチル／メタクリル酸共重合体、ポリメタクリル酸メチル等の（メタ）アクリル樹脂が好ましい。
【００２８】
高分子化合物の具体例としては例えば以下のものがあげられる。
Ｋ１：  ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０）  Ｍｗ＝１．６万
Ｋ２：  ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０）  Ｍｗ＝５．４万
Ｋ３：  ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０）  Ｍｗ＝１７万
Ｋ４：  ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０）  Ｍｗ＝３５万
Ｋ５：  ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０）  Ｍｗ＝６８万
Ｋ６：  ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９５／５）    Ｍｗ＝１７．３万
Ｋ７：  ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝８０／２０）  Ｍｗ＝１７万
Ｋ８：  ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝６０／４０）  Ｍｗ＝１７．２万
Ｋ９：  ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝９０／１０）  Ｍｗ＝１７．４万
Ｋ１０：  ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル＝８０／２０）  Ｍｗ＝１６．７万
Ｋ１１：  ポリ（メタクリル酸メチル／メタアクリル酸ブチル＝８０／２０）  Ｍｗ＝１７．８万
Ｋ１２：  ポリ（メタクリル酸メチル／スチレン＝８０／２０）      Ｍｗ＝１７．４万
Ｋ１３：  ポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸＝９０／１０    Ｍｗ＝１７万
Ｋ１４：  ポリメタクリル酸メチル                                Ｍｗ＝１２．４万
Ｋ１５：  ポリメタクリル酸メチル                                Ｍｗ＝４．６万
これらの具体例の中で、Ｋ２、Ｋ３、Ｋ９、Ｋ１０が特に好ましい。
【００２９】
これらのポリマーの合成法は、特開平５−２９５２１５号、同５−１５５９０７号、同１０−８７７３９号、同１−２６６１０４号、同１−１４６９１０号、英国特許第１，２１１，０３９号、および「合成高分子」１  ２４６〜２９０、同３  １〜１０８等に記載の方法を参考にして行うことができる。
たとえば、少量の親水性ポリマー等の縣濁安定剤を含有する水相へ、重合開始剤を含有したモノマーを単独または２種以上加え、数時間撹拌しながら加温して重合させたあと、重合物を洗浄、分離、乾燥する方法がある。
または水相のない系でモノマー類に直に重合開始剤濃度を制御しながら滴下して一定の温度、時間で重合させたあと、一部ずつ分取して未反応のモノマー類を脱揮させて固形物を得る方法等もある。
重合温度としては２０℃〜１８０℃、好ましくは４０〜１２０℃であり、重合開始剤は重合するべきモノマーに対して０．０５質量％〜５質量％加えるのが好ましい。重合開始剤としては、アゾビス化合物、パーオキサイド類、ハイドロパーオキサイド類、レドックス触媒など、例えば、過硫酸カリウム、ｔ−ブチルパーオクトエート、ベンゾイルパーオキサイド、イソプロピルパーカーボネート、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリルなどがある。
縣濁安定剤としての水性ポリマーとしては、ポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリル酸類、またはその金属塩類、水性変性セルロース類などが挙げられる。
【００３０】
（メタ）アクリル系樹脂の質量平均分子量は０．３万〜４０万が好ましく、０．５万〜３０万がより好ましく、０．５万〜２０万がさらに好ましい。分子量がこの範囲であると、塗布組成物の粘度増加効果が十分発現し、溶解時間が短時間であり、しかも不溶解物も少ない。
（メタ）アクリル系樹脂の高分子化合物の製品としては、例えばポリメタクリル酸エステル系として、ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル）分子量１０．１万、ポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル）分子量７．５万、ポリメタクリル酸メチル分子量１２万、１．５万、３５万、９９．６万（いずれもシグマアルドリッチジャパン（株）製）、ポリメタクリル酸イソブチル（分子量３０万、関東化学（株）製）、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン（株）製）、スミペックスＬＧ２１、ＬＧ、ＥＸ、ＭＨ（住友化学工業（株）製）、パラペットＧＦ、Ｇ、ＧＨ−Ｓ、ＨＲ−Ｌ、ＧＲ（（株）クラレ製）等があげられる。
【００３１】
高分子化合物はセルロース系樹脂から選ばれる少なくとも１種類であることも好ましい。このような樹脂はエステル体が好ましく、具体例としては、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースナイトレート等である。セルロース系樹脂の質量平均分子量は０．５万以上１００万以下であることが好ましく、０．５万以上６０万以下がより好ましく、０．５万以上４０万以下が更に好ましく、０．５万以上２０万以下が特に好ましい。
【００３２】
さらに、高分子化合物はビニル系樹脂から選ばれる少なくとも１種類であることも好ましい。このような樹脂の具体例としては、スチレン樹脂、スチレン共重合樹脂、ビニルエステル系としては、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ化ビニル樹脂、プロピオン酸ビニル樹脂等である。ビニル系樹脂の質量平均分子量は０．５万以上２００万以下であることが好ましく、０．５万以上６０万以下がより好ましく、０．５万以上４０万以下が更に好ましく、０．５万以上２０万以下が特に好ましい。
【００３３】
高分子化合物は必要に応じて、前記樹脂を２種類以上使用することもできる。
高分子化合物は、塗布組成物の粘度増加効果の発現及び含有層の膜強度維持の観点から、高分子化合物を含有する層に含む全バインダーに対して、好ましくは３質量％〜４０質量％、より好ましくは５質量％〜３０質量％、さらに好ましくは８質量％〜２５質量％の範囲で含有することが好ましい。
また、高分子化合物を含有することによって、含有しない場合の塗布組成物の粘度を含有前の粘度に対して、好ましくは２ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓ、よりこのましくは３ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ、特に好ましくは３ｍＰａ・ｓ〜７ｍＰａ・ｓの範囲で増加して塗布形成することが好ましい。これによって粘度増加により防眩性が強くなりすぎるのを抑制することができる。塗布面状故障、防眩性、ディスプレイ表面に適用した場合の黒しまりの見え方、などの観点から粘度増加を上記範囲にすることは好ましい。
また、高分子化合物を含有する塗布組成物の粘度は、主として防眩性制御と塗布面状の観点から、４ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、６ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓがより好ましく、７ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓが最も好ましい。
粘度は振動式粘度計ＣＪＶ−５０００（［株］エー・アンド・デイ社製）（２５℃で）等により測定できる。
高分子化合物を含有しない場合の塗布組成物の粘度は、１ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓが好ましく、３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓがより好ましい。
防眩層の調液方法において、高分子化合物はあらかじめ良溶媒（芳香族系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒等）で溶解してから添加するほうが工程時間短縮の観点から好ましい。また、高分子化合物を添加する工程順番は強く限定されないが、添加する試薬類の中の一番最後に添加するほうが溶解性の点で好ましい。
【００３４】
〈透光性粒子〉
防眩層には、後記の微細無機フィラー粒子より粒径が大きく、平均粒径が０．５μｍ〜１０μｍ、好ましくは１μｍ〜８μｍの透光性粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。これは、ディスプレイ表面で反射する外光を散らして弱めたり、液晶表示装置の視野角（特に下方向視野角）を拡大し、観察方向の視角が変化してもコントラスト低下、黒白反転または色相変化を起こりにくくする目的で用いられる。平均粒径が上記範囲であれば、防眩効果が発現し、しかもザラツキ感が起こらない。
透光性粒子と透光性樹脂（防眩層のバインダーマトリックス）との間の屈折率差は、フィルムの白濁が生じないこと及び十分な光拡散効果を得る観点から、０．０２〜０．３０であることが好ましく、０．０４〜０．２０であることが特に好ましい。
透光性粒子の透光性樹脂に対する添加量も、同様な観点から、好ましい範囲が決められる。透光性粒子の好ましい層内含有率は、防眩層全固形分中３質量％〜４０質量％であり、５質量％〜２５質量％であることが特に好ましい。
透光性粒子の塗布量は、形成された防眩層中の粒子量において好ましくは１０ｍｇ／ｍ2〜１００００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは５０ｍｇ／ｍ2〜４０００ｍｇ／ｍ2、最も好ましくは１００ｍｇ／ｍ2〜１５００ｍｇ／ｍ2となるように防眩層に含有される。
透光性粒子の粒径と含有する層の膜厚との関係は、透光性粒子の平均粒径が含有する層の膜厚の２０％〜１００％であることが好ましく、３０％〜８０％がより好ましく、３５％〜７０％が最も好ましい。平均粒径がこの範囲であると画面の黒しまりに優れ、かつ防眩性にも優れる。
粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。平均粒径は得られた粒子分布から算出する。
【００３５】
透光性粒子は、異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。２種類以上の透光性粒子を用いる場合には、複数種類の粒子の混合による屈折率制御を効果的に発揮するために、最も屈折率の高い透光性粒子と最も屈折率の低い透光性粒子との間の屈折率の差が０．０２以上、０．１０以下であることが好ましく、０．０３以上、０．０７以下であることが特に好ましい。またより大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で別の光学特性を付与することも可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止フィルムを貼り付けた場合に、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸（防眩性に寄与）により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する透光性粒子より小さな粒子径で、透光性樹脂の屈折率と異なる透光性粒子を併用することにより大きく改善することができる。
上記透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、中空シリカ粒子、アルミナ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子、ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、ポリカーボネート粒子、ポリ塩化ビニル粒子等の樹脂粒子などが好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、シリカ粒子が好ましい。
透光性粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できるが、ヘイズ値と拡散性の制御性、塗布面状の均質性から単分散粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つ粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布の粒子を得ることができる。
【００３６】
＜微細無機フィラー＞
防眩層には、層の屈折率を高めるため、上記の透光性粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、及びアンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、一次粒子の平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である微細な無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、高屈折率の透光性粒子を用いた防眩層では、透光性粒子との屈折率差を大きくするためにバインダーの屈折率を低くしなければならない。このためにシリカ微粒子、中空シリカ微粒子を用いることも好ましい。好ましい粒径は前記の高屈折率化微細無機フィラーと同じである。
防眩層に用いられる微細無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯとＳｉＯ2等が挙げられる。ＴｉＯ2およびＺｒＯ2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの微細無機フィラーの添加量は、防眩層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、微細無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分短いために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質の性質を有する。
【００３７】
（低屈折率層）
本発明の低屈折率層は、含フッ素化合物を含有することが好ましい。特に、含フッ素化合物を主体とする低屈折率層を構築することが好ましい。含フッ素化合物を主体とする低屈折率層は、通常反射防止フィルムの最外層として位置し、防汚層としての機能も有する。ここで、「含フッ素化合物を主体とする」とは、低屈折率層の中に含まれる構成成分のうち、含フッ素化合物の質量比が最も大きいことを意味し、含フッ素化合物の含有率が低屈折率層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上含まれることがより好ましい。
【００３８】
低屈折率層の含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物の架橋又は重合反応により形成することが好ましく、該架橋又は重合性の官能基は電離放射線硬化性の官能基であることが好ましい。以下、低屈折率層に含まれる含フッ素化合物について記載する。
【００３９】
〈含フッ素化合物〉
低屈折率層に含まれる含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７、さらに好ましくは１．３８〜１．４５である。
含フッ素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素シラン化合物、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテルなどが挙げられる。
含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの架橋又は重合反応により合成されたものが挙げられる。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレフィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが含まれる。
【００４０】
含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰り返し構造単位とフッ素原子を含まない繰り返し構造単位からなる共重合体も用いることができる。
上記共重合体は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーとフッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることができる。
フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーとしては、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル等）、メタクリル酸エステル（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレンおよびその誘導体（例、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド（例、Ｎ−tert−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。
【００４１】
含フッ素シラン化合物としては、パーフルオロアルキル基を含むシラン化合物などが挙げられる。
【００４２】
含フッ素界面活性剤は、疎水性部分を構成する炭化水素の水素原子の一部または全部が、フッ素原子により置換されているもので、その親水性部分はアニオン性、カチオン性、ノニオン性および両性のいずれであってもよい。
【００４３】
含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使用されている化合物である。含フッ素エーテルとしては、パーフルオロポリエーテル等が挙げられる。
【００４４】
低屈折率層の含フッ素化合物としては、架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーが特に好ましい。架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーは、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物を架橋又は重合させることにより得られる。
【００４５】
架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有さない含フッ素化合物に、架橋又は重合性の官能基を側鎖として導入することにより得ることができる。架橋又は重合性の官能基としては、光（好ましくは紫外線照射）、電子ビーム（ＥＢ）照射あるいは加熱などにより反応して含フッ素ポリマーが架橋又は重合構造を有するようになる官能基であることが好ましい。架橋又は重合性の官能基としては、（メタ）アクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロールおよび活性メチレン等の基が挙げられる。架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物として、市販品を用いてもよい。
【００４６】
低屈折率層の含フッ素化合物は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位をからなる共重合体を主成分として含有することが好ましい。該共重合体由来の成分は最外層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。以下に、低屈折率層に用いられるのに好ましい上記共重合体について説明する。
【００４７】
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学工業（株）製）やＭ−２０２０（商品名、ダイキン工業（株）製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％であり、特に好ましくは３０〜５０質量％である。
【００４８】
上記共重合体は（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を有する。（メタ）アクリロイル基の導入法は特に限定されるものではないが、例えば、(i)水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、（メタ）アクリル酸クロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法、(ii)上記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、（メタ）アクリル酸を作用させる方法、(iii)上記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(iv)エポキシ基を有するポリマーを合成した後に（メタ）アクリル酸を作用させる方法、(v)カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(vi)３−クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法などが挙げられる。これらの中で本発明では特に水酸基を含有するポリマーに対して(i)または(ii)の手法によって（メタ）アクリロイル基を導入することが好ましい。
【００４９】
側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位は、上記共重合体中に５〜９０質量％を占めることが好ましく、３０〜７０質量％を占めることがより好ましく、４０〜６０質量％を占めることが特に好ましい。
【００５０】
上記共重合体には、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合させることもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、より好ましくは０〜４０モル％、特に好ましくは０〜３０モル％である。
【００５１】
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２-ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ,Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。
【００５２】
本発明に用いられる含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体の好ましい形態として、下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。
一般式（１）
【００５３】
【化２】
2006154770.tif 000003
【００５４】
一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは炭素数２〜４の連結基であり、直鎖、分岐、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
好ましい例としては、＊−（ＣＨ2）2−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）2−ＮＨ−＊＊、＊−（ＣＨ2）4−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）6−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−＊＊、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）3−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＮＨ（ＣＨ2）3−Ｏ−＊＊（＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表す。
【００５５】
一般式（１）中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【００５６】
一般式（１）中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。
【００５７】
好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【００５８】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０である。
【００５９】
さらに上記共重合体の特に好ましい形態として一般式（２）で表されるものが挙げられる。
一般式（２）
【００６０】
【化３】
2006154770.tif 000004
【００６１】
一般式（２）中、Ｘ、ｘ、ｙはそれぞれ一般式（１）と同義であり、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表し、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数組成によって構成されていてもよい。例としては、前記一般式（１）におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のモル％を表し、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。
一般式（２）で表される共重合体としては、４０≦ｘ≦６０、３０≦ｙ≦６０、ｚ２＝０を満たすものが特に好ましい。
【００６２】
一般式（１）又は一般式（２）で表される共重合体の好ましい具体例として、特開２００４−４５４６２号公報の段落［００４３］〜［００４７］に記載されたものが挙げられる。また、一般式（１）又は一般式（２）で表される共重合体の合成法も該公報に詳しく記載されている。
【００６３】
本発明において、低屈折率層を作製するのに用いる組成物は、塗料の形態をとることが好ましく、含フッ素化合物を必須の構成成分とし、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤を適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが０．０１質量％〜６０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。
【００６４】
低屈折率層は、目的に応じて充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）、オルガノシラン化合物及びその誘導体、バインダー、界面活性剤等の添加剤を含有することができる。特に、充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）を添加することは好ましい。
以下に、低屈折率層に用いる好ましい充填剤、滑り剤等について記載する。
【００６５】
〈低屈折率層の好ましい充填剤〉
充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）は、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）を改良する点で、添加することが好ましい。低屈折率層に添加する充填剤としては無機微粒子が好ましく、中でも屈折率が低い二酸化珪素（シリカ）、中空のシリカ、細孔を有するシリカ、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）などが好ましい。特に好ましいのは二酸化珪素（シリカ）、中空シリカである。
【００６６】
充填剤の一次粒子の質量平均粒径は、１ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１ｎｍ〜８０ｎｍであることが最も好ましい。低屈折率層において充填剤は、より微細に分散されていることが好ましい。充填剤の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状、リング状、不定形状であることが好ましく、また、粒子構造として中空、細孔または微細空隙を有する構造であることがさらに好ましい。特に好ましい形状は、球形状、不定形状である。充填剤は、結晶質、非晶質のいずれでも良い。
【００６７】
充填剤は、分散液中あるいは塗料中で、分散安定化を図るために、あるいは低屈折率層の構成成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。カップリング剤による表面処理が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシ化合物（例、チタネートカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。特に、シランカップリング剤処理が有効である。
【００６８】
充填剤の表面処理は、低屈折率層の塗料の調製前にあらかじめ表面処理を実施しておくことが好ましいが、カップリング剤による表面処理の場合、塗料の調製時に塗料中にカップリング剤を添加して実施することも好ましい。
充填剤は、媒体（溶媒など）中に予め分散されていることが好ましい。
【００６９】
充填剤の添加量は、物理強度（耐擦傷性など）の改良効果及び低屈折率層に白濁を起こさないこと等の観点から、低屈折率層の全質量に対し５質量％〜７０質量％であることが好ましく、より好ましくは１０質量％〜５０質量％、特に好ましくは２０質量％〜４０質量％である。
【００７０】
充填剤の平均粒径は、低屈折率層の膜厚に対し２０％〜１００％が好ましく、より好ましくは３０％〜８０％、特に好ましくは３０％〜５０％である。
【００７１】
低屈折率層に添加する充填剤が二酸化珪素微粒子の場合、中空の二酸化珪素微粒子を用いることが特に好ましい。中空の二酸化珪素微粒子は、屈折率が１．１７〜１．４５であることが好ましく、より好ましくは１．１７〜１．４０、さらに好ましくは１．１７〜１．３７である。ここで、中空の二酸化珪素微粒子の屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空の二酸化珪素微粒子を形成している外殻の二酸化珪素のみの屈折率を表すものではない。中空の二酸化珪素微粒子を用いることで低屈折率層の屈折率を下げることができる。
【００７２】
この時、粒子内の空洞の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、空隙率ｘは下記数式（１）で表される。
【００７３】
数式（１）  ｘ＝(４πａ3／３)／（４πｂ3／３）×１００
【００７４】
空隙率ｘは１０〜６０％が好ましく、２０〜６０％がさらに好ましく、３０〜６０％であることが最も好ましい。
【００７５】
充填剤は、２種類以上を併用して用いることも好ましい。また、平均粒子径が異なる粒子も併用して用いることができる。
【００７６】
〈低屈折率層の好ましい滑り剤〉
滑り剤は、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、防汚性を改良する点で添加することが好ましい。
滑り剤としては、含フッ素エーテル化合物（パーフルオロポリエーテル、及び、その誘導体など）、ポリシロキサン化合物（ジメチルポリシロキサン、及び、その誘導体など）などが挙げられる。ポリシロキサン化合物が好ましい。
【００７７】
ポリシロキサン化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物の末端及び側鎖の少なくともいずれかに置換基を有するものが挙げられる。
ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として含む化合物中にはジメチルシリルオキシ単位以外の構造単位（置換基）を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。
【００７８】
好ましい置換基の例としては（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。
【００７９】
滑り剤の分子量には特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シロキサン化合物のＳｉ原子含有量には特に制限はないが５質量％以上であることが好ましく、１０〜６０質量％であることが特に好ましく、１５〜５０質量％であることが最も好ましい。
【００８０】
特に好ましい滑り剤は、下記一般式（Ａ）で表される架橋又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及びその誘導体（誘導体とは、例えば、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物の架橋又は重合体、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物とポリシロキサン化合物以外の架橋又は重合可能な官能基を有する化合物との反応生成物など）である。
一般式（Ａ）
【００８１】
【化４】
2006154770.tif 000005
【００８２】
一般式（Ａ）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に炭素数１〜２０の置換基を表し、それぞれの基が複数ある場合それらは互いに同じであっても異なっていてもよく、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4のうち少なくとも一つの基が架橋又は重合性の官能基を表す。
ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、｛  ｝で囲われているポリシロキサン部分はランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。
【００８３】
本発明に用いられる低屈折率層は、一般式（Ａ）で表される架橋又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかと含フッ素化合物とを含む硬化物を含有することが好ましい。
【００８４】
ポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかの含有量は、含フッ素化合物に対し、０．１〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。
【００８５】
ポリシロキサン化合物及びその誘導体の好ましい架橋又は重合性の官能基は、最外層の他の構成成分（含フッ素化合物、バインダー、など）と架橋又は重合反応して結合を形成することができる官能基であればよく、例えば、活性水素原子を有する基（たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β−ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、カチオン重合可能な基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニル基、ビニルオキシ基等）、ラジカル種による架橋または重合が可能な不飽和二重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基等）、加水分解性シリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、酸無水物、イソシアネート基、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）等が挙げられる。
【００８６】
これらの架橋又は重合性官能基は低屈折率層の構成成分に合わせて適宜選択される。好ましくは、電離放射線硬化性の官能基である。
【００８７】
また、一般式（Ａ）の架橋又は重合性の官能基は、含フッ素化合物が有する架橋又は重合性の官能基と架橋又は重合反応することが好ましく、特に好ましい官能基はカチオン開環重合反応性基（特に、エポキシ基、オキセタニル基など）、ラジカル重合反応性基（特に、（メタ）アクリロイル基）である。
【００８８】
一般式（Ａ）のＲ2が表す置換基は、炭素数１〜２０の置換又は無置換の有機基であり、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等）、フッ素化アルキル基（トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等）または炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）であり、より好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、フッ素化アルキル基またはフェニル基であり、特に好ましくはメチル基である。これらはさらにこれらの基で置換されていてもよい。
一般式（Ａ）のＲ1、Ｒ3、Ｒ4が架橋又は重合性の官能基でない場合、上記有機基であることができる。
【００８９】
ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、好ましくは５０≦ｑ≦４００であり、特に好ましくは１００≦ｑ≦３００である。ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、好ましくは０≦ｒ≦ｑであり、特に好ましくは０≦ｒ≦０．５ｑである。
【００９０】
一般式（Ａ）で表される化合物のポリシロキサン構造は、その繰り返し単位（−ＯＳｉ（Ｒ2）2−）が単一の置換基（Ｒ2）のみで構成された単独重合体であっても、異なる置換基を有する繰り返し単位の組み合わせによって構成されたランダム共重合体であっても、ブロック共重合体であってもよい。
【００９１】
一般式（Ａ）で表される化合物の質量平均分子量は、１０3〜１０6であることが好ましく、より好ましくは５×１０3〜５×１０5であり、特に好ましくは１０4〜１０5である。
【００９２】
一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物は市販されているもの、例えば、KF-100T、X-22-169AS、KF-102、X-22-3701IE、X-22-164B、X-22-164C、X-22-5002、X-22-173B、X-22-174D、X-22-167B、X-22-161AS、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(信越化学工業（株）製)、AK-5、AK-30、AK-32（東亜合成化学（株）製）、サイラプレーンFM-0275、FM-0721、FM-0725、FM-7725、DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182(チッソ（株）製)等を用いることもできる。また、市販のポリシロキサン化合物が含有する水酸基、アミノ基、メルカプト基等に架橋、又は、重合性官能基を導入することで作製することもできる。
【００９３】
一般式（Ａ）で表される好ましいポリシロキサン化合物の好ましい具体例として特開２００３−３２９８０４号公報の［００４１］〜［００４５］に記載されたものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９４】
一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかの添加量は、最外層の全固形分に対し、０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜２０質量％、更に好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。
【００９５】
〈低屈折率層及びその形成法〉
低屈折率層は、上記含フッ素化合物、さらに必要に応じて、上記充填剤、上記ポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかを溶媒に溶解、又は、分散した塗料を塗布することにより作製することが好ましい。
好ましい溶媒としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、水などを挙げることができる。
特に好ましい溶媒としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、エステル類であり、最も好ましい溶媒としては、ケトン類である。ケトン類の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。溶媒には、ケトン系溶媒の含有量が塗料に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
２種類以上の溶剤を併用することもできる。
【００９６】
架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物であれば、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、含フッ素化合物を架橋又は重合反応させ、低屈折率層を作製することが好ましい。
含フッ素化合物が、ラジカルで架橋又は重合する官能基を有していれば、ラジカル重合開始剤、特に光ラジカル重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。また、カチオンで架橋又は重合する官能基を有していれば、カチオン重合開始剤、特に光カチオン重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。
【００９７】
ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、あるいは光の作用によりラジカルを発生するものが好ましい。特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
【００９８】
熱の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【００９９】
光の作用によりラジカル重合を開始する化合物を使用する場合は、例えば紫外線など用いる化合物に応じた光の照射によって硬化させ、低屈折率層を作製することができる。
光ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、高薄一弘著「最新ＵＶ硬化技術」（（株）技術情報協会、１５９頁、１９９１年）に記載されている。
市販の光ラジカル重合開始剤も好ましく用いることができ、防眩層の項で記載した開始剤等が挙げられる。
【０１００】
光重合開始剤は、含フッ素化合物１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。さらには、これらの光重合開始剤と併用して光増感剤も好ましく用いることができ、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。市販の光増感剤も好ましく用いることができ、防眩層の項で記載した増感剤等が挙げられる。
【０１０１】
バインダーは、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、最外層と隣接する層との密着性を改良する点で、添加することが好ましい。
含フッ素化合物が、架橋又は重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーは含フッ素化合物と架橋又は重合する官能基を有するバインダーであることが好ましい。
特に、含フッ素化合物が、光架橋又は光重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーとして光架橋又は光重合性の官能基を有する多官能モノマーであることが好ましい。光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、後述の帯電防止層で記載したものが挙げられる。多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
本発明の低屈折率層に用いる含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物であることが好ましい。該含フッ素化合物と組み合わせて用いることのできる化合物としては、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及びその誘導体、該架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と架橋又は重合するバインダー等をあげることができる。該含フッ素化合物とを組み合わせて用いる化合物は複数種を併用してもよい。
【０１０２】
低屈折率層は、含フッ素化合物、その他最外層の構成成分を溶解あるいは分散させた塗料を、塗布と同時又は塗布後に、光照射、電子線ビーム照射、加熱処理などを実施して、架橋又は重合反応させ、作製することが好ましい。
紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【０１０３】
低屈折率層の作製は、特に最外層を電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成する場合には、酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。
低屈折率層を酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で作製することにより、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、耐薬品性、耐候性、更には、最外層と最外層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が３体積％以下の雰囲気で、電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下である。
酸素濃度を４体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０１０４】
低屈折率層の膜厚は３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１２０ｎｍである。低屈折率層を防汚層として用いる場合、膜厚は３〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３５ｎｍ、特に好ましくは７〜２５ｎｍである。
【０１０５】
低屈折率層は反射防止フィルムの物理強度を改良するために、表面の動摩擦係数が０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
【０１０６】
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
また、低屈折率層の表面の水に対する接触角は後述する鹸化処理の前後で変わらないことが望ましく、鹸化処理の前後で変化量が１０°以内であることが好ましく、特に好ましくは５°以内である。
【０１０７】
低屈折率層のヘイズは、低いほど好ましい。３％以下であることが好ましく、さらに好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。
【０１０８】
低屈折率層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１０９】
低屈折率層には、前記の成分（含フッ素化合物、重合開始剤、光増感剤、充填剤、滑り剤、バインダーなど）以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
【０１１０】
低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましい。より好ましくは１．３０〜１．５０、更に好ましくは１．３５〜１．４８、特に好ましくは１．３７〜１．４５である。
低屈折率層には、後述の一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物、及び、その誘導体（加水分解物、および該加水分解物が縮合して生成した架橋ケイ素化合物など）からなる群から選ばれた化合物を含有することも好ましい。
【０１１１】
（帯電防止層）
本発明の防眩性反射防止フィルムは表面に塵埃（埃など）が付着するのを防止するために帯電防止層を用いることも好ましい。防塵性は、表面の表面抵抗値を下げることで発現される。表面抵抗値は、１×１０13Ω／□以下であることが好ましく、１×１０12Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０10Ω／□以下であることが更に好ましい。
帯電防止層は、防眩層と低屈折率層の間、または透明支持体と防眩層の間に設けることが好ましい。
【０１１２】
帯電防止層を塗布で形成する場合、導電材（電子伝導型の導電性粒子、イオン伝導型の有機化合物など）を結着剤（バインダーなど）に含有させて、帯電防止層を形成することが好ましい。特に、電子伝導型の導電材が、環境の変化を受け難く導電性能が安定するので低湿環境下でも良好な導電性能を発現する点で好ましい。
【０１１３】
帯電防止層に用いられる好ましい導電材としては、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、などが挙げられる。
導電材の一次粒子の質量平均粒径は１〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜１００ｎｍである。導電材の比表面積は、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることがさらに好ましい。
【０１１４】
導電材の分散においては、分散剤の存在下で、分散媒体中に分散することが好ましい。分散は、例えばカルボキシル基、スルホン酸基（スルホ基）、リン酸基（ホスホノ基）、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有するアニオン性基を有する分散剤を用いることができる。アニオン性の極性基を有する分散剤としては、ホスファノール（ＰＥ−５１０、ＰＥ−６１０、ＬＢ−４００、ＥＣ−６１０３、ＲＥ−４１０など；東邦化学工業（株）製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（−１１０、−１１１、−１１６、−１４０、−１６１、−１６２、−１６３、−１６４、−１６４、−１７０、−１７１など；ビックケミー・ジャパン社製）などが挙げられる。分散剤は、さらに架橋又は重合性の官能基を含有することが好ましい。
【０１１５】
分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。
中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノール、プロパノ−ル、セロソルブ類（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）が好ましく、特に好ましくは、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。
【０１１６】
導電材は、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、ダイノミル、高速インペラーミル、アイガーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミル、ペイントシェーカーなどのメディア型分散機を用いて分散することが好ましい。
導電材は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均粒径は１〜２００ｎｍが好ましい。
【０１１７】
本発明の帯電防止層のバインダー前駆体としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなどが好ましい。
帯電防止層の形成は、４体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成することが好ましい。
【０１１８】
帯電防止層の膜厚は用途により適切に設計することができ、透明性を優先して帯電防止層を形成する場合、膜厚は１μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下、更に好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下である。
また、帯電防止層がハードコート処理されハードコート層を兼ねる場合、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。
【０１１９】
帯電防止層には、前記の成分（導電材、重合開始剤、光増感剤、バインダーなど）以外に、樹脂、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
【０１２０】
（その他の塗布層について）
本発明の防眩性反射防止フィルムには、物理強度を付与するために透明支持体と最外層の間にハードコート層を設けることも好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗料を透明支持体上に塗布し、架橋又は重合反応させることにより形成することができる。
【０１２１】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、防眩層で例示したものが挙げられ、光重合開始剤、光増感剤を用いて重合することが好ましい。光重合反応は、ハードコート層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
【０１２２】
ハードコート層の膜厚は、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１２３】
ハードコート層には樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。また、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御するなどの目的で、後述する一次粒子の平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を添加することができる。
さらには、防眩機能、液晶表示装置の視野角拡大機能を付与する目的で前記平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有して、防眩性または散乱性ハードコート層にすることもできる。
【０１２４】
(透明支持体）
透明支持体としては、プラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムとしてはセルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましく、特に、液晶表示装置に用いる場合、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
【０１２５】
透明支持体がトリアセチルセルロースフィルムの場合、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解することで調整したトリアセチルセルロースドープを単層流延、複数層共流延の何れかの流延方法により作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。
【０１２６】
特に、環境保全の観点から、トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することで調整したトリアセチルセルロースドープを用いて作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。
本発明に好ましく用いられるトリアセチルセルロースフィルムについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）に例示されている。
【０１２７】
上記の透明支持体の膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚は１〜３００μｍがよく、好ましくは３０〜１５０μｍ、特に好ましくは４０〜１２０μｍ、最も好ましくは４０〜１００μｍである。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
透明支持体のヘイズは低い方が好ましい。２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
透明支持体の屈折率は、１．４０〜１．７０であることが好ましい。
【０１２８】
透明支持体には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。
また、透明支持体には、滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＢａＳＯ4、ＣａＣＯ3、タルクおよびカオリンが含まれる。
【０１２９】
透明支持体に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理とコロナ放電処理が特に好ましい。
【０１３０】
（オルガノシラン化合物）
本発明に係る防眩性反射防止フィルムの各層に特に好ましく用いることができるオルガノシラン化合物について記載する。
皮膜の物理強度（耐擦傷性など）、皮膜と皮膜に隣接する層の密着性を改良する点でオルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物を透明支持体上のいずれかの層に添加することが好ましい。
【０１３１】
オルガノシラン化合物及びその誘導体としては、下記一般式（ａ）で表される化合物及びその誘導体を用いることができる。好ましいのは、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するオルガノシラン化合物であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイルなど）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノなど）、アルキル基、を含有するオルガノシラン化合物である。
【０１３２】
一般式（ａ）：（Ｒ10）S−Ｓｉ（Ｚ）4-S
【０１３３】
上記一般式（ａ）において、
Ｒ10は置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基か好ましく、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アルキル基の具体例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｚは、水酸基または加水分解可能な基を表す。Ｚとしては、アルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられる。）、またはＲ２ＣＯＯ（Ｒ２は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ３ＣＯＯ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ等が挙げられる。）等が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｓは１〜３の整数を表し、好ましくは１または２である。
【０１３４】
Ｒ10およびＺは複数存在するときは、複数のＲ10およびＺはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、シクロアルキル基、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【０１３５】
オルガノシラン化合物としては、以下に記載する一般式（ｂ）で表されるオルガノシラン化合物が好ましい。
一般式（ｂ）
【０１３６】
【化５】
2006154770.tif 000006
【０１３７】
上記一般式（ｂ）において、
Ｒ２は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくは＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊、または＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊、または＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合または＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊は＝Ｃ（Ｒ２）−に結合する位置を、＊＊はＬに結合する位置を表す。
【０１３８】
Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【０１３９】
ｌはｌ＝１００−ｍを満たす数を表し、ｍは０〜５０の数を表す。ｍは０〜４０の数がより好ましく、０〜３０の数が特に好ましい。
Ｒ３〜Ｒ５は一価の基を表し、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基、または無置換のアルキル基が好ましい。Ｒ３〜Ｒ５は、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基であることがより好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基であることが更に好ましく、水酸基またはメトキシ基であることが特に好ましい。
Ｒ６は水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基としてはメチル基、エチル基が好ましい。Ｒ６は、水素原子またはメチル基であることが特に好ましい。
Ｒ７は置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基か好ましく、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アルキル基の具体例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｒ４、Ｒ５、およびＲ７は複数存在するときは、複数のＲ４、Ｒ５、およびＲ７はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
【０１４０】
一般式（ａ）の化合物は２種類以上を併用しても良い。特に一般式（ｂ）の化合物は一般式（ａ）の化合物２種類を出発原料として合成される。以下に一般式（ａ）および一般式（ｂ）で表される化合物の出発原料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４１】
【化６】
2006154770.tif 000007
【０１４２】
【化７】
2006154770.tif 000008
【０１４３】
【化８】
2006154770.tif 000009
【０１４４】
【化９】
2006154770.tif 000010
【０１４５】
【化１０】
2006154770.tif 000011
【０１４６】
【化１１】
2006154770.tif 000012
【０１４７】
【化１２】
2006154770.tif 000013
【０１４８】
Ｍ−４８：  ＣＨ3−Ｓｉ(ＯＣＨ3)3
Ｍ−４９：  Ｃ2Ｈ5−Ｓｉ(ＯＣＨ3)3
Ｍ−５０：  ｔ−Ｃ4Ｈ9-Ｓｉ(ＯＣＨ3)3
【０１４９】
これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、（Ｍ−２５）、（Ｍ−４８）、（Ｍ−４９）が特に好ましい。
【０１５０】
本発明の効果を得るためには、オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量は、３０質量％〜１００質量％が好ましく、５０質量％〜１００質量％がより好ましく、７０質量％〜１００質量％が更に好ましく、９０質量％〜１００質量％が特に好ましい。固形分の生成、液の濁り、ポットライフの悪化、分子量の制御、などの観点から、また重合性基の含有量が少ないために重合処理を行った場合の性能（例えば反射防止膜の耐傷性）の向上が得られやすいため、前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量が３０質量％以上にすることが好ましい。
【０１５１】
本発明のオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかは塗布品性能の安定化のためには揮発性を抑えることが好ましく、具体的には、１０５℃における１時間当たりの揮発量が５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることが特に好ましい。
【０１５２】
本発明に用いられるゾル成分は上記オルガノシランを加水分解および／または部分縮合することにより調製される。
加水分解縮合反応は加水分解性基（Ｘ）１モルに対して０．０５〜２．０モル、好ましくは０．１〜１．０モルの水を添加し、本発明に用いられる触媒の存在下、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
【０１５３】
本発明のオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかにおいて、ビニル重合性基を含有するオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物いずれかの質量平均分子量は、分子量が３００未満の成分を除いた場合に、４５０〜２００００が好ましく、５００〜１００００がより好ましく、５５０〜５０００が更に好ましく、６００〜３０００が更に好ましい。
オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における分子量が３００以上の成分のうち、分子量が２００００より大きい成分は１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以下であることが特に好ましい。このように１０質量％以下とすることは、そのようなオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する硬化性組成物を硬化させて得られる硬化皮膜の透明性や基板との密着性の観点から好ましい。
【０１５４】
ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。
分散度（質量平均分子／数平均分子量）は３．０〜１．１が好ましく、２．５〜１．１がより好ましく、２．０〜１．１が更に好ましく、１．５〜１．１が特に好ましい。
【０１５５】
本発明のオルガノシランの加水分解物および部分縮合物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析により一般式（ａ）のＺが−ＯＳｉの形で縮合している状態を確認できる。
この時、Ｓｉの３つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ３）、Ｓｉの２つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ２）、Ｓｉの１つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ１）、Ｓｉが全く縮合していない場合を（Ｔ０）とした場合に縮合率αは
α＝（Ｔ３×３＋Ｔ２×２＋Ｔ１×１）／３／（Ｔ３＋Ｔ２＋Ｔ１＋Ｔ０）
で表され、縮合率は０．２〜０．９５が好ましく、０．３〜０．９３がより好ましく、０．４〜０．９が特に好ましい。
適切な加水分解・縮合の進行度合い、適切なモノマー成分数による硬化の度合い、および加水分解可能な基がの消費によるバインダーポリマー、樹脂基板、無機微粒子などの相互作用の低下防止などの観点から縮合率は上記範囲が好ましい。
【０１５６】
本発明で用いるオルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物について詳細に説明する。
オルガノシランの加水分解反応、それに引き続く縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、酪酸、マレイン酸、クエン酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブチルチタネート、ジブチル錫ジラウレート等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等；ＫＦ、ＮＨ４Ｆなどの含Ｆ化合物等が挙げられる。
上記触媒は単独で使用しても良く、或いは複数種を併用しても良い。
【０１５７】
オルガノシランの加水分解・縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いられることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
【０１５８】
このうち、アルコール類としては、例えば１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることができ、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。
これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。
【０１５９】
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、１種単独であるいは２種以上を混合して使用することもできる。該反応における固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常１％〜１００％の範囲である。
【０１６０】
加水分解・縮合反応は、オルガノシランの加水分解性基１モルに対して０．０５〜２モル、好ましくは０．１〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
本発明においては、一般式Ｒ３ＯＨ（式中、Ｒ３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式Ｒ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５ (式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物の存在下で、２５〜１００℃で撹拌することにより加水分解を行うことが好ましい。
もしくは触媒に含Ｆ化合物を使用する場合、含Ｆ化合物が完全に加水分解・縮合を進行させる能力が有るため、添加する水量を選択することにより重合度が決定でき、任意の分子量の設定が可能となるので好ましい。すなわち、平均重合度Ｍのオルガノシラン加水分解物／部分縮合物を調整するためには、Ｍモルの加水分解性オルガノシランに対して（Ｍ−１）モルの水を使用すれば良い。
【０１６１】
金属キレート化合物は、一般式Ｒ３ ＯＨ（式中、Ｒ３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５（式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ３）ｐ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｐ２、Ｔｉ（ＯＲ３）ｑ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｑ２、およびＡｌ（ＯＲ３）ｒ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｒ２で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の縮合反応を促進する作用を持つ。
金属キレート化合物中のＲ３およびＲ４は、複数存在するときは、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。
Ｒ５は、複数存在するときは、同一または異なってもよく、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。
また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、およびｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。
【０１６２】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【０１６３】
金属キレート化合物は、前記オルガノシラン化合物に対し、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％の割合で用いられる。金属キレート化合物が上記範囲で用いられることによりオルガノシラン化合物の縮合反応が早く、塗膜の耐久性が良好であり、オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物と金属キレート化合物を含有してなる組成物の保存安定性が良好である。
【０１６４】
本発明に用いられる機能層および低屈折率層の塗布液には、上記ゾル成分および金属キレート化合物を含む組成物に加えて、β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかが添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。
【０１６５】
本発明で使用されるのは、一般式Ｒ４ ＣＯＣＨ2 ＣＯＲ５で表されるβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかであり、本発明に用いられる組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウムおよびアルミニウム化合物の少なくともいずれかの化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物を構成するＲ４およびＲ５は、前記金属キレート化合物を構成するＲ４およびＲ５と同様である。
【０１６６】
このβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物は、得られる組成物の保存安定性の観点から、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。
【０１６７】
上記オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の含有量は、比較的薄膜である低屈折率層の場合は少なく、厚膜である機能層の場合は多いことが好ましい。含有量は効果の発現、屈折率、膜の形状・面状等を考慮すると、含有層（添加層）の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜１５質量％が最も好ましい。
【０１６８】
オルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物は、これらを含有する層の他の成分と架橋又は重合反応することが、皮膜の物理強度（耐擦傷性など）を向上させるために好ましい。このため、オルガノシラン化合物が架橋又は重合する官能基を有したり、無機微粒子やバインダーなどにオルガノシラン化合物と架橋又は重合する官能基を有する化合物を用いることが好ましい。
【０１６９】
オルガノシラン化合物を添加するのに好ましい層は、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、光拡散層、高屈折率層、低屈折率層、及び最外層であり、より好ましくはハードコート層、防眩層、光拡散層、低屈折率層、及び最外層であり、特に好ましくは最外層及び該最外層の隣接層である。
【０１７０】
（反射防止フィルムの形成法等）
本発明において反射防止フィルムを構成する各層は、塗布法により作製したものが好ましい。塗布で形成する場合、各層はディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２，６８１，２９４号明細書記載）またはダイコート法（特開２００３−２００９７号、同２００３−２１１０５２号、２００３−２３６４３４号、同２００３−２６０４００号、同２００３−２６０４０２号公報等に記載）により作製することができる。２層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２，７６１，７９１号、同２，９４１，８９８号、同３，５０８，９４７号、同３，５２６，５２８号の各明細書および原崎勇次著、「コーティング工学」、２５３頁、朝倉書店（１９７３年）に記載がある。ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ダイコートが好ましい。特に、マイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
【０１７１】
マイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を支持体に転写させて塗工することを特徴とする塗布法である。
マイクログラビアコート法では、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、より好ましくは１００〜３００本／インチである。グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、より好ましくは５〜２００μｍである。グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、より好ましくは５〜２００ｒｐｍである。支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、より好ましくは１〜５０ｍ／分である。
【０１７２】
また、ダイコート法はバックアップローラに支持されて連続走行するウェブに対して、内部にポケットが形成されているスロットダイから塗布液をビードにして塗布することにより、ウェブ上に塗膜を形成する。スロットダイの先端とウェブとの距離を、ウェブ進行方向に対するスロット部材の上流側と下流側で適度に調節することによって湿潤膜厚が数十μｍ以下の塗布を精度よく行うことができる。
【０１７３】
反射防止フィルムの各層を塗布法で作製する上で、層を作製するのに用いる塗料には、面状改良剤を添加することが好ましい。以下に、面状改良剤について説明する。
【０１７４】
（面状改良剤）
透明支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗料には、面状故障（塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など）を改良するために、フッ素系及びシリコーン系の少なくともいずれかの面状改良剤を添加することが好ましい。
【０１７５】
面状改良剤は、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上変化させることが好ましい。ここで、塗料の表面張力が１ｍＮ／ｍ以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗料の表面張力が、塗布／乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加していない塗料の表面張力と比較して、１ｍＮ／ｍ以上変化することを意味する。
好ましくは、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げる効果がある面状改良剤であり、更に好ましく２ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤、特に好ましくは３ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤である。
【０１７６】
フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物（「フッ素系面状改良剤」と略記する）が挙げられる。特に、下記一般式（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位、及び、下記一般式（ii）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が好ましい。
このような単量体としては、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２，Ｐａｇｅ １〜４８３記載のものを用いることが好ましい。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
一般式（ｉ）
【０１７７】
【化１３】
2006154770.tif 000014
【０１７８】
一般式（ｉ）においてＲ21は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘ2は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ22）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ22）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ22は水素原子又は、炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。ａは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが特に好ましい。ｂは１〜１８の整数を表し、４〜１２がより好ましく、６〜８が特に好ましい。
フッ素系面状改良剤中に一般式（ｉ）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが２種類以上構成成分として含まれていてもよい。
【０１７９】
一般式（ii）
【化１４】
2006154770.tif 000015
【０１８０】
一般式（ii）において、Ｒ23は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙ2は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ25）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ25）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ25は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒ24は水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜２０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、又は置換もしくは無置換の芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は総炭素数６〜１８の芳香族がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基が更に好ましい。以下でポリ（アルキレンオキシ）基について説明する。
【０１８１】
ポリ（アルキレンオキシ）基は、−（ＯＲ）−を繰り返し単位とした基であり、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）−が挙げられる。
前記のポリ（オキシアルキレン）基中のオキシアルキレン単位（前記−ＯＲ−）は、ポリ（オキシプロピレン）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであってもよく、直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレンもしくはオキシエチレン単位であったり、または直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレン単位のブロックもしくはオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであってもよい。
【０１８２】
このポリ（オキシアルキレン）鎖は１つまたはそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など：Ｐｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が３つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。またこの共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（オキシアルキレン）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名“プルロニック”［Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”［Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス）］、“トリトン”［Ｔｏｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ製））およびＰ．Ｅ．Ｇ（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。
【０１８３】
本発明で用いられるフッ素系面状改良剤において、フッ素系面状改良剤の形成に用いられる全モノマー量に対する一般式（i）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量が５０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは７０〜１００モル％であり、特に好ましくは８０〜１００モル％の範囲である。
【０１８４】
本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、６，０００〜８０，０００がより好ましく、８，０００〜６０，０００が更に好ましい。
ここで、質量平均分子量は、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。
【０１８５】
更に、本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい添加量は、添加する層の塗料に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。
【０１８６】
以下、本発明によるフッ素系面状改良剤の具体的な構造の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０１８７】
【化１５】
2006154770.tif 000016
【０１８８】
【化１６】
2006154770.tif 000017
【０１８９】
【化１７】
2006154770.tif 000018
【０１９０】
【化１８】
2006154770.tif 000019
【０１９１】
【化１９】
2006154770.tif 000020
【０１９２】
【化２０】
2006154770.tif 000021
【０１９３】
【化２１】
2006154770.tif 000022
【０１９４】
本発明の面状改良剤は、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン等）を含有する塗料に用いることが好ましくい。特に、ケトン系溶媒が好ましい。ケトン系溶媒の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが好ましい。
また、特にケトン系溶媒を全溶媒の１０質量％以上含有する塗料であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
【０１９５】
塗料の溶媒は、ケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。例えば、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）などがあげられる。
【０１９６】
面状改良剤は、層と層の界面の密着性を悪化させることがある。従って、層の表面に存在する面状改良剤を、該層の隣接層を形成する塗料中に溶出させて、層と層の界面近傍に面状改良剤が残らないようにすることが好ましい。そのため、隣接層の塗料中に面状改良剤を溶解する溶媒を含有させることが好ましい。そのような溶媒としては、上記ケトン系溶媒が好ましい。
【０１９７】
透明支持体上に形成する層の塗料において、面状改良剤を添加するのが特に好ましいのは、ハードコート層、防眩層、帯電防止層、高屈折率層、低屈折率層を形成するための塗料であり、特に好ましいのはハードコート層、防眩層、を形成するための塗料である。
【０１９８】
（防眩性反射防止フィルムの物理性能）
本発明に係る反射防止フィルムは、物理強度（耐擦傷性など）を改良するために、塗布した最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で最外層を有する側の表面を移動させたときの、最外層を有する側の表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
さらに反射防止フィルムは、防汚性能を改良するために、最外層を有する側の表面の水に対する接触角が８０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９０゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
さらに、本発明に係る反射防止フィルムのヘイズは、０．５〜６０％であることが好ましく、１〜５０％であることがさらに好ましく、１〜４０％であることが最も好ましい。
さらに、本発明に係る反射防止フィルムの反射率は、低いほど好ましく、好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．５％以下、更に好ましくは２．０％以下、特に好ましくは１．５％以下である。
【０１９９】
（偏光板用保護フィルム）
本発明の反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いることができる。この場合、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。さらに好ましくは３０°以下であり、特に好ましくは２５°以下である。接触角を４０°以下にすることは、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。この接触角は下記の鹸化処理の処理条件により調整することができる。
【０２００】
偏光板用保護フィルムとして用いる反射防止フィルムの透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。
【０２０１】
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、下記２つの手法が挙げられる。
（１）鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層（例、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、低屈折率層、高屈折率層、最外層など）を塗設する手法。
（２）透明支持体の一方の面に上記の各層（例、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、低屈折率層、最外層など）を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法。
【０２０２】
上記（１）の手法において、透明支持体の一方の面のみが鹸化処理されている場合、各層は鹸化処理されていない側に塗設する。透明支持体の両方の面が鹸化処理されている場合、各層を塗設する側の鹸化処理した透明支持体の表面をコロナ放電処理、グロー放電処理、火焔処理などの手法により表面処理し、その後、各層を塗設することが好ましい。
上記（２）において、反射防止フィルム全体を鹸化液に浸漬することが好ましい。この場合、反射防止フィルムは各層を有する側の表面を保護フィルムで保護して鹸化液に浸せきし、偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面を鹸化処理することもできる。
さらにまた、反射防止フィルムの偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面に鹸化処理液を塗布して、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理することもできる。
鹸化処理は、保護フィルムの上に反射防止性能を付与した後に実施することで、よりコストを削減でき、特に（２）の手法が、偏光板用保護フィルムを安価に製造できる点で好ましい。
【０２０３】
偏光板用保護フィルムは、光学性能（低反射性能、防眩性能など）、物理性能（耐擦傷性など）、耐薬品性、防汚性能（耐汚染性など）、耐候性（耐湿熱性、耐光性）、防塵性能において、本発明の反射防止フィルムで記載した性能を満足することが好ましい。
従って、最外層を有する側の表面の表面抵抗値が１×１０13Ω／□以下であることが好ましく、１×１０12Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０10Ω／□以下であることが更に好ましい。
最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
また、最外層を有する側の表面の水に対する接触角は９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
【０２０４】
（鹸化処理）
上記の鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に透明支持体、又は、反射防止フィルムを適切な時間浸漬して実施するのが好ましい。
アルカリ液は、水酸化カリウム水溶液、及び／又は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７０℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【０２０５】
鹸化処理することにより、透明支持体の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２５゜以下である。
【０２０６】
（偏光板）
本発明の偏光板は、偏向膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方に、本発明の反射防止フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、上記のように、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。
【０２０７】
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の反射防止フィルムを２枚の保護フィルムの一方に用い、後述する光学異方性のある光学補償フィルムをもう一方に用いた偏光板は、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右の視野角を非常に広げることができるので、好ましい。
【０２０８】
（光学補償フィルム）
光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されているディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性層を有し、該ディスコティック化合物とフィルム面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向で変化していることを特徴とする光学補償フィルムが好ましい。すなわち、ディスコティック構造単位を有する化合物の配向状態としては、例えば、ハイブリッド配向、ベント配向、ツイスト配向、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向等であることが好ましく、ハイブリッド配向であることが特に好ましい。該角度は、光学異方性層中で光学補償フィルムの支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
【０２０９】
また、光学異方性層が更にセルロースエステルを含んでいる態様、光学異方性層と光学補償フィルムの透明支持体との間に配向層が形成されている態様、該光学異方性層を有する光学補償フィルムの透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に光軸を有する態様、更に下記の条件を満足する態様も好ましい。
【０２１０】
２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦４００
【０２１１】
式中、ｎｘは面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率、ｎｚは面に垂直方向の屈折率である。また、ｄは光学異方性層の厚さ（ｎｍ）である。
【０２１２】
（画像表示装置）
防眩性反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。反射防止フィルムは、反射防止フィルムの透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。
本発明に用いる反射防止フィルム及び偏光板は、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１−１０００４３号公報等に記載されているように、上記の光学補償フィルムと反射防止フィルムを保護フィルムとして有する偏光板を用いることで、視野角特性と反射防止特性を大幅に改良できる。
また、さらに市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、透過型または半透過型の液晶表示装置において、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。
【実施例】
【０２１３】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（高分子化合物の合成例）
水３００ｍｌにポリビニルアルコール０．６ｇを溶解し、これにアゾビスイソブチロニトリル２ｇを溶解したメタクリル酸メチル８１．６ｇとアクリル酸メチル１５．９ｇの混合液を加えた。この混合液をディスパーで５分間攪拌したあと、窒素の雰囲気下で７５℃で４時間、弱い攪拌を行いながら反応させた。
反応後遠心分離器で弱く脱水し、生成物を水で洗浄したあと乾燥させて高分子化合物Ｋ３を得た。
（パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の合成）
【０２１４】
【化２２】
2006154770.tif 000023
【０２１５】
ステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０質量部、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７質量部、及び過酸化ジラウロイル０．５５質量部を仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５質量部をオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ2（５２９ｋＰａ）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２ｋｇ／ｃｍ2（３１４ｋＰａ）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。
得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー生成物２８質量部を得た。
次に該ポリマー生成物の２０質量部をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００質量部に溶解、氷冷下で、アクリル酸クロライド１１．４質量部を滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加えて水洗し、有機層を抽出後、濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１を１９質量部を得た。得られたパーフルオロオレフィン共重合体の屈折率は１．４２１であった。
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１をメチルエチルケトンに溶解し、固形分濃度３０％の溶液を得た。
【０２１６】
（オルガノシラン化合物Ａ溶液の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加えて混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させた。室温まで冷却し、オルガノシラン化合物Ａの溶液を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィーによって分析したところから、原料の３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランは殆ど残存していなかった。
【０２１７】
（防眩層用塗料Ｂ−１の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、日本化薬（株）製）４７．０質量部に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）２．０質量部、フッ素系面状改良剤（ＦＰ−７−１２）０．７５質量部、オルガノシラン化合物（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１０．０質量部、高分子化合物Ｋ３の３０％トルエン溶液１６．０質量部、トルエン２２．５質量部を添加して撹拌した。この溶液を塗布したのち、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液１２．６質量部、及び、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液１０．０質量部を添加して撹拌した。
孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩散層用塗料Ｂ−１を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．５１であった。
この防眩層用塗料Ｂ−１の粘度は９．８ｍＰａ・ｓで、表面張力は２７ｍＮ／ｍであった。
尚、高分子溶液を添加しない後述の比較塗料ＢＲ−３の粘度は４．７ｍＰａ・ｓであり、高分子溶液の添加による粘度の上昇は５．１ｍＰａ・ｓであった。
【０２１８】
（防眩層用塗料Ｂ−２の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をＫ１に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−２を調製した。この塗料の粘度は、８．０ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−３の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をＫ４に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−３を調製した。この塗料の粘度は、１４．６ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−４の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル）共重合体（シグマアルドリッチジャパン（株）製。分子量１０．１万）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−４を調製した。この塗料の粘度は、９．２ｍＰａ・ｓであった。
【０２１９】
（防眩層用塗料Ｂ−５の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をポリ（メタクリル酸メチル／メタアクリル酸ブチル）共重合体（シグマアルドリッチジャパン（株）製。分子量７．５万）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−５を調製した。この塗料の粘度は、８．９ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−６の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をポリメタクリル酸イソブチル（関東化学（株）製。分子量３０万）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−６を調製した。この塗料の粘度は、１１．７ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−７の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をポリメタクリル酸メチル（シグマアルドリッチジャパン（株）製。分子量１２万）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−７を調製した。この塗料の粘度は、９．５ｍＰａ・ｓであった。
【０２２０】
（防眩層用塗料Ｂ−８の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をスミペックスＬＧ２１（住友化学工業（株）製）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−８を調製した。この塗料の粘度は、９．８ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−９の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をスミペックスＬＧ（住友化学工業（株）製）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−９を調製した。この塗料の粘度は、１０．１ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−１０の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をアクリペットＭＤ（三菱レーヨン（株）製）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−１０を調製した。この塗料の粘度は、１０．３ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−１１の調製）
防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物Ｋ３の３０％トルエン溶液１６．０質量部を試薬添加順のうちの一番最後に添加した以外は防眩層用塗料Ｂ−１と全く同様に行った。この塗料において高分子化合物Ｋ３溶液を添加する前の塗料の粘度は４．７ｍＰａ・ｓであった。また、高分子化合物溶液を添加し、撹拌した後の完成した塗料液の粘度は９．８ｍＰａ・ｓであった。
【０２２１】
（防眩層用塗料Ｂ−１２の調製）
防眩層用塗料Ｂ−１の高分子化合物Ｋ３の３０％トルエン溶液１６．０質量部を、セルロースアセテーチブチレート（質量平均分子量約２６０，０００、イーストマンケミカル（株）製）の１０％メチルイソブチルケトン溶液７．０質量に変更し、その後に添加するトルエンの量を３１．５質量部に変更した以外は防眩層用塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−１２を調製した。この塗料の粘度は１０．２ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−１３の調製）
防眩層用塗料Ｂ−１の高分子化合物Ｋ３の３０％トルエン溶液１６．０質量部を、ポリビニルアセテート（質量平均分子量５００，０００、アルドリッチ（株）製）の１０％メチルイソブチルケトン溶液５．６質量部に変更し、その後に添加するトルエンの量を３２．９質量部に変更した以外は防眩層用塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−１３を調製した。この塗料の粘度は９．５ｍＰａ・ｓであった。
【０２２２】
（防眩層用塗料比較例ＢＲ−１の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物の添加をゼロにして、代わりにトルエンを１６．０質量部に変更した以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料比較例ＢＲ−１を調製した。この塗料の粘度は、４．２ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料比較例ＢＲ−２の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０、分子量９５万）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料比較例ＢＲ−２を調製した。この塗料の粘度は、１９．６ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料比較例ＢＲ−３の調製）
防眩層用塗料Ｂ−１１に対して高分子化合物Ｋ３の３０％トルエン溶液を添加しない塗料を調製した。塗料の粘度は４．７ｍＰａ・ｓであった。
【０２２３】
（帯電防止層用塗料ＡＳ−１）
市販の透明帯電防止層用塗料「ペルトロンＣ−４４５６Ｓ−７」（固形分濃度４５％、日本ペルノックス（株）製）を帯電防止層用塗料Ａとして用いた。Ｃ−４４５６Ｓ−７は、分散剤を用いて分散された導電性微粒子ＡＴＯを含有する透明帯電防止層用塗料である。この塗料による塗膜の屈折率は１．５５であった。
【０２２４】
（低屈折率層用塗料Ｌ−１の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）１．３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、およびメチルエチルケトン５．０質量部および、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−１を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であった。
【０２２５】
（低屈折率層用塗料Ｌ−２の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１５．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．６質量部、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．８質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．４質量部、およびメチルエチルケトン３．０質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−２を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であった。
【０２２６】
（中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液の調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６号公報の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート（商品名：ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにメチルエチルケトンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をメチルエチルケトンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａ−１のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０２２７】
（低屈折率層用塗料Ｌ−３の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、上記中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）１．９５質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、およびメチルエチルケトン４．３５質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−３を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４０であった。
【０２２８】
（低屈折率層用塗料Ｌ−４の調製）
イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）の混合溶媒に、テトラメトキシシラン１モル、０．１モル／リットルの塩酸２モルを添加した。室温で２時間撹拌して加水分解反応を行い、テトラメトキシシランの加水分解物の溶液を調製した。
イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）に、テトラメトキシシランの加水分解物９．０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．０質量部、重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．５質量部、固形分濃度が４．５質量％になるように添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−４を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４５であった。
【０２２９】
（低屈折率層用塗料Ｌ−５の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１５．０質量部に、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ、信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、及び、メチルエチルケトン８１．８質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−６を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４３であった。
【０２３０】
（低屈折率層用塗料Ｌ−６の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）４．５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−６を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。
【０２３１】
（低屈折率層用塗料Ｌ−７の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）６．７５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−７を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４１であった。
【０２３２】
（低屈折率層用塗料Ｌ−８の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１３．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．４５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ、信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して、撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−８を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。
【０２３３】
［実施例１］
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）上に、帯電防止層用塗料（ＡＳ−１）を、スロットダイ塗布方式で、搬送速度２５ｍ／分の条件で塗布した。
１００℃で１５０秒乾燥した後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、帯電防止層を有するフィルムを作製した。
【０２３４】
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）上に、または、前記で作製した帯電防止層の上に、防眩層用塗料（Ｂ−１〜Ｂ−１３）および防眩層用比較塗料（ＢＲ−１〜ＢＲ−３）をスロットダイ塗布方式で、搬送速度２５ｍ／分の条件で塗布した。
６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、防眩層つきフィルムを作製した。
【０２３５】
上記防眩層の上に、低屈折率層用塗料（Ｌ−１〜Ｌ−８）をスロットダイ塗布方式で、搬送速度２５ｍ／分の条件で塗布した。
その後、Ｌ−１〜Ｌ−３についての乾燥、硬化条件は、以下で行った。
１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（最外層）を形成した。
Ｌ−４についての乾燥、硬化条件は、以下で行った。
１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で２０分熱処理して塗布層を硬化させ低屈折率層（最外層）を形成した。
また、Ｌ−５〜Ｌ−８についての乾燥、硬化条件は、以下でのように行った。
９０℃で３０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ低屈折率層（最外層）を形成した。
【０２３６】
本発明に掛かる反射防止フィルム試料の前記帯電防止層、前記防眩層および前記低屈折率層の塗設組み合わせを、表１に記載したとおりに行った。
【０２３７】
【表１】
2006154770.tif 000024
【０２３８】
膜厚：各塗設層の乾燥、ＵＶ照射後または熱処理後の膜厚を示す。
【０２３９】
（反射防止フィルムの評価）
得られた反射防止フィルム試料について、以下の項目の評価を行った。結果を表２に示す。
【０２４０】
（１）表面抵抗の評価
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面の表面抵抗を、超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１（（株）アドバンテスト製）を用いて、２５℃、相対湿度６０％の条件下で測定した。
【０２４１】
（２）塵埃除去性の評価
反射防止フィルムをモニターに張り付け、モニター表面に塵埃（布団、衣服の繊維屑）を振りかけた。クリーニングクロスで塵埃を拭き取り、塵埃の除去性を調べ、下記３段階で評価した。
○；塵埃が完全に取り除けたもの。
△；塵埃が若干残ったもの（許容範囲内）。
×；塵埃がかなり残ったもの。
【０２４２】
（３）防眩性の評価
作製した反射防止フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｃｍ2）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
◎  ：蛍光灯の輪郭がほとんどわからない。
○  ：蛍光灯の輪郭がわずかにわかる。
△  ：蛍光灯の周囲が白っぽく見えるが、輪郭は識別できる（許容範囲内）。
×(1)：蛍光灯がほとんどボケない。
×(2)：蛍光灯の輪郭が全く分からず、かつ全体がかなり白っぽく見える。
（４）平均反射率の評価
分光光度計（日本分光（株）製；Ｖ−５５０）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、積分球を用いて、入射角５°における分光反射率を測定した。分光反射率の評価において、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。
【０２４３】
（５）塗布面状の評価
反射防止フィルム試料を全塗布幅のまま塗布方向に３０ｃｍ切り取って黒布の上に塗布層側を上向きにして置き、白熱灯下で面状を目視で観察して以下の基準で評価した。
◎  ：塗布方向のスジ状の塗布ムラが全くない。
○  ：注意深く見ると、上記スジ状のごく弱い塗布ムラが一部で見られる。
△  ：上記スジ状の弱い塗布ムラが一部で見られる。
△×：上記スジ状の弱い塗布ムラが全幅で見られる。
×  ：上記スジ状の強い塗布ムラが全幅で見られる。
【０２４４】
【表２】
2006154770.tif 000025
【０２４５】
表１と表２に示した結果より、防眩層に高分子化合物を含有しない比較例の塗布組成物（試料Ｎｏ．１２３、１２５）に対して、高分子化合物を含有して塗布組成物の粘度を所定範囲で上げた本発明の組成物（試料Ｎｏ．１０１〜１２２）は、防眩性が強すぎて全体が白っぽく見えるのを防いで丁度適切な防眩性を発現していることがわかる。また、塗布組成物の粘度を必要以上に上げた比較の塗布組成物（試料No.１２４）は蛍光灯の輪郭が見えて防眩性が不十分であり、かつ塗布面状も悪いことがわかる。これらの結果から、本発明は防眩性および塗布面状などにおいて優れた効果を発揮することは明らかである。
【０２４６】
［実施例２］
（画像表示装置の評価）
実施例１の試料１０１〜１２２の反射防止フィルムを、画像表示装置（ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、又はＯＣＢのモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置、及び、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ））のディスプレイ面に装着した。本発明の反射防止フィルムを用いた画像表示装置は、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
さらにまた、切断面の面積が１００μｍ2以上の凹は存在せず、画素サイズが１００ｐｐｉ（１００ピクセル／インチ：長さ１インチ当たり１インチ角に１００画素がある）における画像表示装置におけるギラツキ故障の発生が無かった。
【０２４７】
［実施例３］
（偏光板用保護フィルムの作製）
１．５モル／リットルの水酸化ナトリウム水溶液を５０℃に保温した鹸化液を調整した。さらに、０．０１モル／リットルの希硫酸水溶液を調製した。
実施例１の試料１０１〜１２２の反射防止フィルムにおいて、低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の透明支持体の表面を、上記鹸化液を用いて鹸化処理した。
鹸化処理した透明支持体表面の水酸化ナトリウム水溶液を、水で十分に洗浄した後、上記の希硫酸水溶液で洗浄し、さらに希硫酸水溶液を水で十分に洗浄して、１００℃で十分に乾燥させた。
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の、鹸化処理した透明支持体の表面の水に対する接触角を評価したところ、４０°以下であった。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。
【０２４８】
（偏光板の作製）
特開２００２−８６５５４号公報に記載の偏向膜の一方の面に、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて、本発明の反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルム（富士写真フィルム（株）製フジタック、レターデーション値３．０ｎｍ）を同じ接着剤を用いて貼り合わせた。このようにして、本発明の偏光板を作製した。
【０２４９】
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。
【０２５０】
［実施例４］
（偏光板の作製）
光学補償フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ  １２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）の、光学異方性層を有する側とは反対側の表面を実施例３と同様の条件で鹸化処理した。
【０２５１】
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、光学補償フィルムを用いていない偏光板を装着した液晶表示装置よりも明室でのコントラストに優れ、上下左右の視野角が広く、さらに、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
特に、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリル−ポリスチレン粒子、架橋ＰＭＭＡ粒子、シリカ粒子による透過光の光散乱効果により、下方向の視野角が顕著に広がり、左右方向の黄色味が改善されていた。
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。
【０２５２】
［実施例５］
（画像表示装置の評価）
実施例１の試料１０１〜１２２の反射防止フィルムを、有機ＥＬ表示装置に装着したところ、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
また、偏光膜の一方の面に実施例３で作製した偏光板用保護フィルム、もう一方の面にλ／４板を有する偏光板を実施例３と同様にして作製した。上記の偏光板を有機ＥＬ表示装置に装着したところ、偏光板を貼ったガラス表面からの光の反射もカットされ、極めて視認性の高い表示装置が得られた。