(57)【要約】【課題】  熱劣化し難い有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供すること。【解決手段】  上部電極７を、電子注入を受け持つ電極（電子注入電極５）と熱伝導が良好な電極（放熱電極６）との積層構造とし、さらに放熱電極６上には、放熱部材８を形成する。この放熱電極６および放熱部材８は、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｎｉ等の１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導率を有する材料を含む。また、放熱部材８の表面にドライエッチングを施して凸凹表面形状として放熱効率を向上させている。これにより、接着剤を用いることなく上部電極７の放熱性を向上させ、かつ、電子注入効率の低下を招くことがないという効果が得られ、デバイスの発熱による熱劣化を抑制し有機ＥＬ素子の列劣化を抑制することが可能となる。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に設けられた第１の電極と、該第１の電極上に設けられた有機ＥＬ発光層と、該有機ＥＬ発光層上に設けられた第２の電極とを備える有機ＥＬ素子であって、
前記第２の電極は、前記有機ＥＬ発光層上に設けられた電子注入電極と放熱部材とを直接積層させた積層構造を有し、
前記放熱部材は、該放熱部材と前記電子注入電極とが接する第１の面に対向する第２の面であって、前記第１の面よりも面積が大きい第２の面を有し、１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導率を有する材料を含むことを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項２】
前記放熱部材の材料は、Ｃｒ、ＭｏまたはＮｉのいずれかであることを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ素子。
【請求項３】
前記放熱部材は、放熱電極であることを特徴とする請求項１または２記載の有機ＥＬ素子。
【請求項４】
前記第２の電極は、前記放熱部材と前記電子注入電極との間に設けられた放熱電極をさらに有することを特徴とする請求項１または２記載の有機ＥＬ素子。
【請求項５】
前記第２の面には、少なくとも１つの凸部が形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の有機ＥＬ素子。
【請求項６】
前記第２の面には、少なくとも１つの溝部が形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の有機ＥＬ素子。
【請求項７】
前記第２の面の形状は、凸凹形状であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の有機ＥＬ素子。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法であって、
電子注入層上に放熱部材を形成した後に、ドライエッチングにより前記放熱部材の表面に凸凹を設けるステップを有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子およびその製造方法に関し、より詳細には、熱劣化し難い有機ＥＬ素子およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に替わるフラットパネルディスプレイとして、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を画素部に用いた有機ＥＬディスプレイが注目を集めている。有機ＥＬディスプレイは、自己発光型素子であるため視認性が高く、低電圧で駆動できるという特徴をもつため実用化の研究が積極的になされている。
【０００３】
有機ＥＬディスプレイにおける電極構成には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリクス方式や、パッシブマトリクス方式がある。パッシブマトリクス方式は電極構成が単純であるため安価に製造できる利点を有しており、この方式により高画素数、高精細のパネルを形成するためにはＸＹマトリクス電極構造を構成する電極数を増加させることが必要となる。このパッシブマトリクス駆動方式を採用する有機ＥＬディスプレイの発光素子は、一定フレーム周波数内で一本の走査電極に割り当てられる期間（デューティ：１／走査電極数）に相当する時間だけ発光する。デューティは走査電極数が多くなるに従い小さくなり、例えばデューティ１／１００の場合、要求される面輝度を１００ｃｄ／ｍ２とすると、画素に必要な輝度は１００００ｃｄ／ｍ２となる。
【０００４】
有機ＥＬディスプレイの発光寿命については１００ｃｄ／ｍ２程度の輝度で数万時間であるとの報告もあるが、パッシブマトリクス駆動方式でディスプレイを作製する場合には必要とされる輝度が上記値の数十倍となるため、実用レベルの発光寿命を有するパッシブマトリクス駆動方式の有機ＥＬディスプレイは得られていないのが現状である。
【０００５】
特に、有機ＥＬディスプレイは、発光部が低分子の有機化合物で構成されているために熱に弱く、連続的に発光させると発光部の有機層が発熱して発光寿命を縮めてしまう。この熱劣化現象は繰り返して大きな電圧を印加する必要があるパッシブマトリクス駆動方式の有機ＥＬディスプレイにおいて顕著であり、この問題を解決するため、有機ＥＬディスプレイの上部電極（カソード）の上方に接着剤を介して熱拡散性の高い金属からなる放熱部材を設け、さらに、この放熱部材に凹凸を設けることで効率的に熱を逃がす工夫が試みられている（特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−３４３５５９号公報
【特許文献２】特開平７−１１１１９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、このような接着剤を介して放熱部材を設ける構成では、接着剤の熱伝導率が金属に比べ非常に小さいことに加え、発光素子の温度が上昇した際に生じる接着剤からの脱ガスなどにより有機層そのものを劣化させてしまうという問題に加え、真空中で一貫してパネル形成を行うことが困難であるために製造工程が煩雑になってしまうという問題がある。
【０００８】
一方、放熱部材によらず、有機ＥＬディスプレイの上部電極に熱拡散性が良好な銅や銀などの金属を用いて高い放熱性を得ようとした場合には、高熱拡散性の電極金属と有機層との仕事関数が一致せず、その結果、充分な電子注入が得られないという問題も生じる。
【０００９】
特許文献２では、陰極の、有機化合物層と接しない側に、銀、銅、金、アルミニウムなどの熱伝導度が０．４５ｃａｌ／ｃｍ・ｓｅｃ℃以上の物質よりなる放熱層を積層する有機薄膜型電界発光素子が開示されている。この素子では、放熱層の積層により、電極からの電子注入性を確保しつつ、熱拡散性を得る工夫が試みられている。
【００１０】
しかしながら、放熱層として貴金属類を用いることは、製造コストを上昇させることになる。また、アルミニウムや銅などは耐食性が充分ではなく、電極の長期安定性の面で問題があった。
【００１１】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、熱劣化し難い有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、このような目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、基板上に設けられた第１の電極と、該第１の電極上に設けられた有機ＥＬ発光層と、該有機ＥＬ発光層上に設けられた第２の電極とを備える有機ＥＬ素子であって、前記第２の電極は、前記有機ＥＬ発光層上に設けられた電子注入電極と放熱部材とを直接積層させた積層構造を有し、前記放熱部材は、該放熱部材と前記電子注入電極とが接する第１の面に対向する第２の面であって、前記第１の面よりも面積が大きい第２の面を有し、１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導率を有する材料を含むことを特徴とする。
【００１３】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記放熱部材の材料は、Ｃｒ、ＭｏまたはＮｉのいずれかであることを特徴とする。
【００１４】
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の発明において、前記放熱部材は、放熱電極であることを特徴とする。
【００１５】
請求項４記載の発明は、請求項１または２記載の発明において、前記第２の電極は、前記放熱部材と前記電子注入電極との間に設けられた放熱電極をさらに有することを特徴とする。
【００１６】
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明において、前記第２の面には、少なくとも１つの凸部が形成されていることを特徴とする。
【００１７】
請求項６記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明において、前記第２の面には、少なくとも１つの溝部が形成されていることを特徴とする。
【００１８】
請求項７記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明において、前記第２の面の形状は、凸凹形状であることを特徴とする。
【００１９】
請求項８記載の発明は、請求項１乃至７のいずれかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法であって、電子注入層上に放熱部材を形成した後に、ドライエッチングにより前記放熱部材の表面に凸凹を設けるステップを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、第２の電極（例えば、上部電極）を、電子注入を受け持つ電極と熱伝導が良好な部材との積層構造としたので、接着剤を用いることなく第２の電極の放熱性を向上させ、かつ電子注入効果の低下を招くことがないという効果が得られ、デバイスに発熱による熱劣化を抑制し有機ＥＬ素子の熱劣化を抑制することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。  
図１は、本発明の有機ＥＬ素子の基本構造を説明するための図である。図１において、１は絶縁性基板、２は下部電極、３は正孔注入層、４は発光層、５は電子注入電極、６は放熱電極であり、上部電極７は、電子注入電極５と放熱電極６との積層構造である。
【００２２】
絶縁性基板１は有機薄膜発光素子の支持体であり、例えば、ガラス、セラミクスあるいはポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリカーボネート等を材料とする基板が用いられる。
【００２３】
陽極としての下部電極２は、絶縁性基板１上に形成されており、金やニッケル等の金属やインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）や酸化スズ（ＳｎＯ２）等の透明導電膜からなる。また、抵抗加熱蒸着法や電子ビーム蒸着法あるいはスパッタリング法等により絶縁性基板１上に膜形成される。
【００２４】
正孔注入層３は発光層４に効率良く正孔を輸送・注入するための層で、下部電極２上に形成されている。また、正孔注入層３は、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、スチルベン化合物、アミン系化合物などの材料で構成され、抵抗加熱蒸着法により成膜されるのが一般的であるが、スピンコート法、キャスティング法、ＬＢ法、電子ビーム蒸着法等の手法により成膜することも可能である。
【００２５】
発光層４は正孔注入層３より注入された正孔と電子注入電極５から注入された電子により効率良く発光を行うための層、すなわち有機ＥＬ発光層であり、正孔注入層３上に形成されている。また、発光層４は、金属キレート化合物、ペリノン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体などの材料で構成され、例えば、青色から青緑色の発光を得るためには、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好ましく使用される。また、この層は抵抗加熱蒸着法により成膜されるのが一般的であるが、スピンコート法、キャスティング法、ＬＢ法、電子ビーム蒸着法等の手法により成膜することも可能である。
【００２６】
また、本実施形態では、発光層４は、電子輸送を効率的に行うために、例えば、Ａｌｑ３等からなる有機電子輸送層を含んでいる。すなわち、発光層４に含まれる有機電子輸送層上に、電子注入層５が形成される。該輸送層は、発光層とは別個の層であっても良く、また、設けなくても良いが、陰極から発光層の発光領域に電子を効率よく輸送することを考慮すると、設けることが好ましい。
【００２７】
電子注入電極５と放熱電極６とは、真空中にて抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、または、スパッタ法により一貫形成されて積層構造の上部電極７（陰極）を構成する。すなわち、発光層４上に、電子注入電極５を形成し該電子注入電極５上に放熱電極６を積層形成して上部電極７を形成している。
【００２８】
電子注入電極５は、有機電子輸送層であるＡｌｑ３に対して効率良く電子注入を行うために、有機電子輸送層Ａｌｑ３の電子親和力３．０ｅＶに近い仕事関数を有する、ＡｌＬｉ、ＭｇＡｇ、ＭｇＩｎが好ましく、また、ＬｉＦをバッファ層としたＬｉＦ／Ａｌ、ＬｉＦ／Ａｇ、ＬｉＦ／Ａｕ等であっても良い。
【００２９】
本実施形態では、効率良く電子を電子注入電極５から電子を発光領域に注入することが重要であって、発光層（発光層上に電子輸送層が形成されている場合は該輸送層）の電子親和力に近い仕事関数を有する材料を、電子注入電極として選択すれば良いのである。こうすることで、電子注入効率の低下を抑制することが可能となる。
【００３０】
なお、本明細書において、記号／がある場合、記号／の右側に記載される材料は、該記号／の左側に記載される材料の上に形成されることを示す。よって、上述ように、ＬｉＦ／Ａｌとある場合は、ＬｉＦ上にＡｌが形成されることを示す。
【００３１】
放熱電極６の材料としては熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の材料を用いることが好ましく、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｎｉ等が好ましい。Ｃｒ、Ｍｏ、Ｎｉ等は、耐腐食性に優れた金属であるので、長期安定性を向上させることができる。
【００３２】
なお、有機ＥＬ素子構成によっては、正孔輸送層あるいは電子輸送層などを設けることができる。本実施形態において、素子構成は図１に限定されることはなく、有機ＥＬ素子の層構成を、（１）陽極／有機発光層／陰極、（２）陽極／正孔注入層／有機発光層／陰極、（３）陽極／有機発光層／電子輸送層／陰極、（４）陽極／正孔注入層／有機発光層／電子輸送層／陰極、（５）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／陰極、などとすることが可能である。
【００３３】
また、放熱効率をさらに向上させるために、図２に示すように放熱電極６の上に凸状の放熱部材８を設けたり、図３に示すように放熱電極６の上に設けた放熱部材８の表面に凹凸を設けて放熱表面積を広くするようにする。また、図示しないが、放熱部材８は、表面に溝部が形成されたものであっても良い。放熱部材８は、放熱電極６と同一の材料であっても別個の材料であっても良いが、熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の材料であることが好ましく、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｎｉ等であることが好ましい。また、その膜厚は、０．５〜１．０μｍであることが望ましい。
【００３４】
すなわち、本実施形態では、効率良く放熱するために、放熱部材８の表面について大気と接する領域をより大きくすることが重要であって、そのために、放熱部材８の表面積をより大きくしている。すなわち、放熱部材８の、放熱電極６と接する面に対向する面の表面積が、放熱電極６と放熱部材８とが接する面の面積よりも大きければ良く、その表面の形状や、形状としての、凸部や溝部、あるいは凹凸等の個数はいずれであっても良い。
【００３５】
なお、放熱電極６と放熱部材８とを別個に設けるのではなく、放熱電極６の形状そのものに凸部や溝部を設けたり、その表面に所望の凹凸を設けるようにして、放熱表面積を、電子注入電極５と放熱電極６とが接する面の面積よりも広くするようにしてもよいことはいうまでもない。この場合、放熱電極６の膜厚は、好ましくは、０．５〜１．０μｍである。
【００３６】
また、本実施形態では、放熱を効率良く行うことを本質としているので、放熱電極６を設けずに、電子注入電極５上に直接放熱部材８を設けるようにしても良い。この場合は、上部電極７の構成は、電子注入電極５と放熱部材８とを直接積層した構造となる。
【００３７】
本発明の有機ＥＬ素子の特徴の一つは、上部電極７を、電子注入を受けもつ電極（電子注入電極５）と熱伝導が良好な電極（放熱電極６）との積層構造とした点にある。このような積層構造とすることにより、接着剤を用いることなく上部電極の放熱性を向上させ、かつ、電子注入効率の低下を招くことがないという利点を有することになる。
【００３８】
また、本発明の有機ＥＬ素子の他の特徴は、熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上である放熱部材８（放熱電極６）の表面積を、放熱電極６（電子注入電極５）と放熱部材８（放熱電極６）とが接する面の面積よりも大きくしている点である。例えば、本発明の放熱部材（放熱電極）として好適に用いられるＣｒ、Ｍｏ、Ｎｉの熱伝導率については、０℃において、Ｃｒが９４Ｗ／ｍ・Ｋ、Ｍｏが１３９Ｗ／ｍ・Ｋ、Ｎｉが９４Ｗ／ｍ・Ｋであり、特許文献２において放熱部材として好適に用いられるＡｇの熱伝導率（０℃において４２８Ｗ／ｍ・Ｋ）の約１／４〜１／３である。
【００３９】
しかしながら、放熱部材（放熱電極）の表面積を上記のように大きくするので、特許文献２の放熱部材と同等の大きさの、本発明の放熱部材（放熱電極）の表面積を、特許文献２の放熱部材の表面積よりも３倍〜４倍、形状によっては４倍以上にすることができ、特許文献２のＡｇからなる放熱部材と同等以上の放熱効果を得ることができる。
【００４０】
また、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｎｉの電気伝導率については、Ｃｒが０．０７７×１０６／ｃｍΩ、Ｍｏが０．１８７×１０６／ｃｍΩ、Ｎｉが０．１４３×１０６／ｃｍΩであり、特許文献２の放熱部材として好適に用いられる材料のうち、一番電気伝導率が小さい材料であるＡｌの電気伝導率（０．３７７×１０６／ｃｍΩ）の約１／５〜１／２であるが、本発明の放熱部材（放熱電極）の膜厚を０．５〜１．０μｍとすることにより、抵抗損失を低減することができる。
【００４１】
このように、本発明において放熱部材（放熱電極）として、特許文献２に示されている熱伝導率よりも低い範囲の金属を用いても、放熱部材（放熱電極）の表面に凸凹を形成する等して表面積を拡大することにより、実質的に特許文献２に記載の素子と同等以上の放熱を実現できる。すなわち、熱伝導率が低い材料でも放熱部材（放熱電極）に適用することができ、本発明の放熱部材（放熱電極）に適用可能な材料の自由度を増加することができる。
【００４２】
さらに、本発明では、放熱部材（放熱電極）に貴金属類を用いなくても良いので、コストダウンを図ることができる。
【００４３】
図４および図５は、このような基本構成の有機ＥＬ素子を用いて表示装置を構成する際のパネルの構成例を説明するための図である。絶縁性基板１上には、赤、緑、青の染料または顔料からなる色変換層（蛍光変換フィルタ）９とブラックマトリクス（ＢＭ）１０とが設けられこれらの表面上にはパッシベーション層１１が形成されている。そして、このパッシベーション層１１の上に、下部電極２、正孔注入層３、発光層４、電子注入電極５、放熱電極６、および、放熱部材８が順次積層され、全体が封止部材１２により封止されている。
【００４４】
（実施例１）  
５０ｍｍ×５０ｍｍのガラス基板上に下部電極を形成した後に、該下部電極上に１ｍｍ四方の正孔注入層および発光層をこの順番で形成した。さらに、発光層上に、ＬｉＦとＡｌをマスク蒸着して、電子注入電極であるＬｉＦ／Ａｌを形成した。この電子注入電極の上に、Ｎｉをマスク蒸着して表面積が２ｍｍ２でかつ表面に凸を有する放熱電極を形成し、図２に示した構成の有機ＥＬ素子を作製した。
【００４５】
このようにして作製した有機ＥＬ素子を、周波数６０Ｈｚ、デューティ１／６０、輝度１００００ｃｄ／ｍ２で発光させて１００時間後の輝度を比較したところ、放熱電極層を設けない構成の有機ＥＬ素子と比較して１８％程度の輝度向上が確認された。
【００４６】
（実施例２）  
５０ｍｍ×５０ｍｍのガラス基板上に下部電極を形成した後に、該下部電極上に１ｍｍ四方の正孔注入層および発光層をこの順番で形成した。さらに、発光層上に、ＡｌＬｉをマスク蒸着して、電子注入電極であるＡｌＬｉを形成した。
【００４７】
この電子注入電極の上に、Ｎｉを蒸着法により１μｍの厚みで形成した。その後、形成されたＮｉ上に線幅０．１μｍピッチのアルミマスクをセットし、アルゴンガスにクロロカーボン系のエッチングガスを添加し、ＥＣＲプラズマによりＮｉ層を０．１μｍの深さまでエッチングすることにより、Ｎｉ層の表面に凸凹を形成した。このとき、Ｎｉ層上の凸凹面の表面積は２ｍｍ２であった。
【００４８】
このようにして作製した有機ＥＬ素子を、周波数６０Ｈｚ、デューティ１／６０、輝度１００００ｃｄ／ｍ２で発光させて１００時間後の輝度を比較したところ、放熱電極層を設けない構成の有機ＥＬ素子と比較して２２％程度の輝度向上が確認された。
【００４９】
（実施例３）  
５０ｍｍ×５０ｍｍのガラス基板上に下部電極を形成した後に、該下部電極上に１ｍｍ四方の正孔注入層および発光層をこの順番で形成した。さらに、発光層上に、ＭｇＡｇをマスク蒸着して、電子注入電極でＭｇＡｇを形成した。この電子注入電極の上に、Ｃｒをマスク蒸着して表面積が２ｍｍ２でかつ表面に凸を有する放熱電極を形成し、図２に示した構成の有機ＥＬ素子を作製した。
【００５０】
このようにして作製した有機ＥＬ素子を、周波数６０Ｈｚ、デューティ１／６０、輝度１００００ｃｄ／ｍ２で発光させて１００時間後の輝度を比較したところ、放熱電極層を設けない構成の有機ＥＬ素子と比較して１７％程度の輝度向上が確認された。
【００５１】
（実施例４）  
５０ｍｍ×５０ｍｍのガラス基板上に下部電極を形成した後に、該下部電極上に１ｍｍ四方の正孔注入層および発光層をこの順番で形成した。さらに、発光層上に、ＬｉＦとＡｌをマスク蒸着して、電子注入電極であるＬｉＦ／Ａｌを形成した。この電子注入電極の上に、Ｍｏをマスク蒸着して表面積が２ｍｍ２でかつ表面に凸を有する放熱電極を形成し、図２に示した構成の有機ＥＬ素子を作製した。
【００５２】
このようにして作製した有機ＥＬ素子を、周波数６０Ｈｚ、デューティ１／６０、輝度１００００ｃｄ／ｍ２で発光させて１００時間後の輝度を比較したところ、放熱電極層を設けない構成の有機ＥＬ素子と比較して２３％程度の輝度向上が確認された。
【００５３】
（実施例５）  
５０ｍｍ×５０ｍｍのガラス基板上に下部電極を形成した後に、該下部電極上に１ｍｍ四方の正孔注入層および発光層をこの順番で形成した。さらに、発光層上に、ＭｇＩｎをマスク蒸着して、電子注入電極でＭｇＩｎを形成した。この電子注入電極の上に、Ｃｒをマスク蒸着して表面積が２ｍｍ２でかつ表面に凸を有する放熱電極を形成し、図２に示した構成の有機ＥＬ素子を作製した。
【００５４】
このようにして作製した有機ＥＬ素子を、周波数６０Ｈｚ、デューティ１／６０、輝度１００００ｃｄ／ｍ２で発光させて１００時間後の輝度を比較したところ、放熱電極層を設けない構成の有機ＥＬ素子と比較して１９％程度の輝度向上が確認された。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の有機ＥＬ素子の基本構造を説明するための図である。
【図２】本発明の有機ＥＬ素子の構造例を説明するための図である。
【図３】本発明の有機ＥＬ素子の構造例を説明するための図である。
【図４】本発明の有機ＥＬ素子を用いて表示装置を構成する際の第1の構成例を説明するための図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ素子を用いて表示装置を構成する際の第２の構成例を説明するための図である。
【符号の説明】
【００５６】
１  絶縁性基板
２  下部電極
３  正孔輸送層
４  発光層
５  電子注入電極
６  放熱電極
７  上部電極
８  放熱部材
９  色変換層
１０  ブラックマトリクス
１１  パッシベーション層
１２  封止部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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