(57)【要約】【課題】液晶層に混入した不純物を簡便に検査することができる、液晶層の検査装置、液晶層の検査方法、及び液晶装置の製造方法を提供する。【解決手段】照明手段２の光路上に、第１の偏光手段３と第２の偏光手段４とを設け、第１の偏光手段３と第２の変更手段４との間に１つ以上の液晶装置が搭載されたマザーボード基板１が設置されており、第２の偏光手段４の偏光軸が、液晶層における光の透過軸に対して所定の角度を有している。【選択図】図１
2006201672.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間の液晶層に混入した不純物を検査する検査装置であって、
前記液晶層に照明光を照射する照明手段と、
前記照明光の光路上に、前記一対の基板の一方の基板と対向して配置される第１の偏光手段と、
前記一対の基板の他方の基板と対向して配置される第２の偏光手段と、
前記照明手段から照射されて前記第１の偏光手段と前記液晶層と前記第２の偏光手段とを透過した光を検出して検出信号に変換する光検出手段と、
前記光検出手段で変換された前記検出信号を信号処理する検出信号処理手段とを備えており、
前記第１の偏光手段の偏光軸と前記第２の偏光手段の偏光軸とのいずれか一方が、前記液晶層における光の透過軸に対して所定の角度を有していることを特徴とする、液晶層の検査装置。
【請求項２】
前記検出信号処理手段が、前記検出信号を基に前記液晶層の品質を判定する品質判定手段を更に備えたことを特徴とする、請求項１に記載の液晶層の検査装置。
【請求項３】
前記品質判定手段が、前記液晶層が良か否かの良否判定を行うことを特徴とする、請求項２に記載の液晶層の検査装置。
【請求項４】
一対の基板間の液晶層に混入した不純物を検査する検査方法であって、
前記液晶層に直線偏光を照射する照射工程と、
前記液晶層を透過した光を、前記液晶層における光の透過軸に対して所定の角度を有する偏向軸をもった偏光手段を通して検出し、検出信号に変換する光検出工程と、
前記検出信号を信号処理する検出信号処理工程とを有することを特徴とする、液晶層の検査方法。
【請求項５】
前記一対の基板は、複数の液晶装置のためのパターンが形成されたマザーガラス基板であり、前記一対のマザーガラス基板の間に前記液晶層が設けられていることを特徴とする、請求項４に記載の液晶層の検査方法。
【請求項６】
前記検出信号処理工程において、前記検出信号に基づき不良箇所の色と良箇所の色とを判別することにより、前記液晶層の品質を判定する工程を有することを特徴とする、請求項４に記載の液晶層の検査方法。
【請求項７】
請求項５又は請求項６に記載の液晶層の検査方法を用いることを特徴とする、液晶装置の製造方法。
【請求項８】
前記液晶層の検査方法は、前記複数の液晶装置のそれぞれへの半導体装置の接続前に行われることを特徴とする、請求項７に記載の液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶層の検査装置、液晶層の検査方法、及び液晶装置の製造方法に関し、特に、液晶層を透過した光を検出することによって、液晶層に混入した不純物を検出する液晶層の検査装置、液晶層の検査方法、及び液晶装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等の液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の２枚の基板間に液晶を封入して構成される。液晶ディスプレイでは、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ。以下、ＴＦＴという）等の能動素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置する。両基板間に封入された液晶の光学特性に応じて画像信号を変化させることによって、画像表示が行われる。
【０００３】
ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して配置される対向基板とは、別々に製造され、パネル組み立て工程において、高精度に貼り合わされる。その後、ＴＦＴ基板と対向基板との間に液晶が封入される。
【０００４】
パネル組み立て工程においては、まず、各基板工程において、夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板との対向面上、すなわち対向基板及びＴＦＴ基板において液晶と接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が行われる。次に、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部が形成される。ＴＦＴ基板と対向基板とをシール部を用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させる。シール部の一部には切り欠きが設けられており、この切り欠きを介して液晶が封入される。
【０００５】
上述のような、液晶装置の製造工程においては、ＴＦＴ基板と対向基板との間に封入された液晶の層（以下、液晶層と示す）にシール部などから不純物が溶出して液晶層に混入することがある。すると、不純物が混入した部分の液晶層の配向性が局所的に崩れ、液晶装置を表示させた場合にその部分がシミになったり、焼き付き現象を生じさせてしまったりして、製品の品質や歩留まりが低下してしまう。このような液晶装置の製造工程を管理するには、工程作業からの不純物の混入を防ぐことはもちろん重要であるが、不純物が混入した不良品を検出して速やかに取り除くことも要望されている。しかし、従来は簡便な検査手段がなく、最終製品に至る前に不純物が混入した不良品を取り除くことは困難であった。このため、製品が完成した後に加速試験を行ない、比抵抗値などの物性値を測定したり画面の焼き付き度合いを調べたりして、良・不良を判定している。したがって、不良品と判定された製品は多数の工程を経て製造されたにもかかわらず廃棄しなければならないため無駄が多く、製造コストが増加してしまっていた。
【０００６】
そこで、製品完成前に不純物混入による不良品を検出する液晶装置の検査装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載された提案によれば、被検査対象物である液晶装置に、電場応答性を示す物質を含んだ高分子膜を介して電極を密着させ、電極と被検査対象物との間に極性が経時的に反転する交流パルス電場を印加しながら高分子膜に光を照射し、高分子膜を透過した光を解析することで、液晶層に混入した不純物を検出する。
【特許文献１】特開平９−１４５６１２号公報（図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載された提案においては、不純物を検出するために、液晶装置に高分子膜を密着させたり電極を取り付けたりしなければならず、検査の手間がかかってしまうという問題があった。更に、複数の液晶装置がマザーガラス基板に搭載された状態では検査できないという問題があった。
【０００８】
そこで、本発明においては、液晶層に混入した不純物を簡便に検査することができる、液晶層の検査装置、液晶層の検査方法、及び液晶装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の液晶層の検査装置は、一対の基板間の液晶層に混入した不純物を検査する検査装置であって、前記液晶層に照明光を照射する照明手段と、照明光の光路上に前記一対の基板の一方の基板と対向して配置される第１の偏光手段と、前記一対の基板の他方の基板と対向して配置される第２の偏光手段と、照明手段から照射されて第１の偏光手段と液晶装置と第２の偏光手段とを透過した光を検出して検出信号に変換する光検出手段と、光検出手段で変換され前記検出信号を信号処理する検出信号処理手段とを備えており、第１の偏光手段の偏光軸と第２の偏光手段の偏光軸とのいずれか一方が、液晶層における光の透過軸に対して所定の角度を有している。
【００１０】
このような構成によれば、液晶層に混入した不純物を簡便に検査することができる。
【００１１】
本発明の液晶層の検査装置は、さらに、検出信号処理手段が、検出信号を基に液晶層の品質を判定する品質判定手段を備えることが望ましい。
【００１２】
このような構成によれば、液晶層に混入した不純物による液晶層の品質を自動的に判定することができ、検査の効率が向上する。
【００１３】
本発明の液晶層の検査装置は、さらに、品質判定手段が、液晶層が良か否かの良否判定を行うことが望ましい。
【００１４】
このような構成によれば、液晶層が良であるか否かを自動的に判定することができ、検査の効率が向上する。
【００１５】
本発明の液晶層の検査方法は、一対の基板間の液晶層に混入した不純物を検査する検査方法であって、液晶層に直線偏光を照射する照明工程と、液晶層を透過した光を、液晶層における光の透過軸に対して所定の角度を有する偏向軸をもった偏光手段を通して検出し、検出信号に変換する光検出工程と、検出信号を信号処理する検出信号処理工程とを有する。
【００１６】
このような方法によれば、液晶層に混入した不純物を簡便に検査することができる。
【００１７】
本発明の液晶層の検査方法において、一対の基板は、複数の液晶装置のためのパターンが形成されたマザーガラス基板であり、一対のマザーガラス基板の間に液晶層が設けられているが望ましい。
【００１８】
このような構成によれば、一対のマザーガラス基板が複数の液晶装置に分断される前の、マザーガラス基板の状態であっても、液晶層に混入した不純物を簡便に検査することができる。
【００１９】
本発明の液晶層の検査方法は、検出信号処理工程において、検出信号に基づき不良箇所の色と良箇所の色とを判別することにより、液晶層の品質を判定する工程を有するが望ましい。
【００２０】
このような構成によれば、色の違いを利用して、液晶層に混入した不純物を簡便に検査することができる。
【００２１】
本発明の液晶装置の製造方法は、本発明の液晶層の検査方法を用いることを特徴とする。
【００２２】
このような方法によれば、液晶層に混入した不純物を簡便に検査することができ、液晶装置の製造コストを抑制することができる。
【００２３】
本発明の液晶装置の製造方法は、本発明の液晶層の検査方法を、複数の液晶装置のそれぞれへの半導体装置の接続前に行うことが望ましい。
【００２４】
このような方法によれば、液晶層の検査結果において不良とされた液晶装置に実装される半導体装置を処分しなくてもよい。
【発明の効果】
【００２５】
液晶層に混入した不純物を簡便に検査することができる、液晶層の検査装置、液晶層の検査方法、及び液晶装置の製造方法を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００２７】
まず、図１に基づき、本発明の実施の形態に係わる液晶層の検査装置の全体構成について説明する。図１は、本実施の形態に係わる検査装置の全体構成を説明する構成図である。図１に示すように、本実施の形態の液晶層の検査装置は、一対のマザーガラス基板１の間に、スイッチング素子、シール材、配線等の複数の液晶装置のためのパターンが形成されており、上記一対のマザーガラス基板１の間の液晶層に挟持されている液晶に照明光を照射する照明手段としての照明装置２と、マザーガラス基板１と照明装置２との間に配置され、照明光を直線偏光に偏光する第１の偏光手段としての第１の偏光板３と、液晶層を透過した光の光路上に配置された、第２の偏光手段としての第２の偏光板４と、第２の偏光板を透過した光を撮像して検出信号としての画像信号に変換する、光検出手段としてのＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）５と、ＣＣＤ５から出力された画像信号を処理する画像処理手段としての画像処理装置６とから構成されている。
【００２８】
なお、検出信号としての画像信号の代わりに、光検出手段が、座標信号と、その座標位置に応じた明又は暗の信号とを、検出信号として変換して出力するようにしてもよい。
【００２９】
上記一対のマザーガラス基板を分断して製造される液晶装置１ａは、図２及び図３に示すように、ＴＦＴ基板などの液晶装置用基板１０と対向基板２０との間の液晶層に液晶５０を封入して構成される。図２は、液晶装置用基板１０をその上に形成された各構成要素と共に対向基板２０側から見た平面図であり、図３は、対向基板２０を含めて示す図２のＨ−Ｈ´断面図である。対向基板２０には、ＴＦＴ等の形成領域に対向する領域、すなわち各画素の非表示領域に第１遮光膜２３が設けられている。さらに、対向基板２０には、表示領域を区画する遮光膜（額縁）としての第２遮光膜４２が設けられている。第２遮光膜４２は、例えば、図示しないＴＦＴのチャネル領域、ソース領域、及びドレイン領域に対向基板２０側から光が入射されるのを防止するための第１遮光膜２３と、同一又は異なる遮光性材料によって形成されている。
【００３０】
液晶装置用基板１０と対向基板２０は、一対のマザーガラス基板１のそれぞれに対応し、貼り合わされた一対のマザーガラス基板１は、分断されることによって、それぞれが液晶装置１ａの液晶装置用基板１０と対向基板２０となる。
【００３１】
第２遮光膜４２の外側の領域に液晶５０を封入するシール材４１が、液晶装置用基板１０と対向基板２０との間に形成されている。シール材４１は、対向基板２０の輪郭形状に略一致するように配置され、液晶装置用基板１０と対向基板２０とを相互に固着する。シール材４１は、液晶装置用基板１０の１辺の一部において欠落しており、貼り合わされた液晶装置用基板１０及び対向基板２０の相互の間隙には、液晶５０を封入するための液晶封入口７８が形成される。液晶封入口７８より液晶５０が封入された後、液晶封入口７８を封止材７９で封止するようになっている。
【００３２】
液晶装置用基板１０の一表面上には、画素を構成する画素電極９ａ等がマトリクス状に配置され、対向基板２０の一表面上には、全面に対向電極２４が設けられている。さらに、画素電極９ａ上及び対向基板２０の対向電極２４上には、ラビング処理が施された配向膜１６，２２がそれぞれ形成されている。各配向膜１６，２２は、ポリイミド膜等の透明な有機膜で構成されている。
【００３３】
液晶装置用基板１０のシール材４１の外側の領域には、データ線駆動回路６１及び実装端子６２が液晶装置用基板１０の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接する二辺に沿って、走査線駆動回路６３が設けられている。液晶装置用基板１０の残る一辺には、画面表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路６３間を接続するための複数の配線６４が設けられている。また、対向基板２０のコーナー部の少なくとも１箇所においては、液晶装置用基板１０と対向基板２０との間を電気的に導通させるための導通材６５が設けられている。
【００３４】
図１において照明装置２は、第１の偏光板３を保持するテーブルとしての機能も備えており、照明装置２の照明光が照射される面は、第１の偏光板３を搭載できる程度の面積を有する略平面である。第２の偏光板４は、その偏光軸が、一対のマザーガラス基板１に規定された複数の液晶装置１ａにおける光の透過軸と所定の角度、例えば９０度の角度をもってずらされて配置されている。また、画像処理装置６では、ＣＣＤ５から出力された画像信号を基に、一対のマザーガラス基板１に規定された複数の液晶装置１ａの液晶層に不純物が溶け込んでいるか否かが判断され、更には一対のマザーガラス基板１に規定された複数の液晶装置１ａの液晶層の品質、ここでは具体的には良否が判定される。画像処理装置６は、後述するように、一対のマザーガラス基板１に規定された複数の液晶装置１ａの液晶層の品質を判定する品質判定手段を有する。
【００３５】
上述のように構成された一対のマザーガラス基板１に規定された複数の液晶装置１ａの液晶層の検査装置を用い、一対のマザーガラス基板１に規定された複数の液晶装置１ａの液晶層を検査する方法について、図４を用いて説明する。図４は、本実施の形態における一対のマザーガラス基板１に規定された複数の液晶装置１ａの液晶層の検査方法のフローチャートである。まず、ステップＳ１において、間に液晶５０を挟持している一対のマザーガラス基板１が、第１の偏光板３と第２の偏光板４との間に配置され、照明装置２から照明光が液晶層に照射される。なお、本実施の形態では、分断により複数の液晶装置１ａが取り出される前のマザーガラス基板の例が説明されるが、本発明の実施の形態は、１つの液晶装置に対しても適用できる。１つの液晶装置に対して適用する場合、一対のマザーガラス基板１に代えて１つの液晶装置１ａを第１の偏光板３と第２の偏光板４との間に配置すればよい。次に、ステップＳ２において、第１の偏光板３と、液晶装置と、第２の偏光板４とを透過した光をＣＣＤ５により検出、撮像して検出信号として画像信号を生成し、画像処理装置６へ出力する。
【００３６】
ここで、ステップＳ２において、ＣＣＤ５で検出される光について図５を用いて説明する。図５は、照明光及び透過光の状態を説明する概略図である。なお、説明の便宜上、一対のマザーガラス基板１に規定された複数の液晶装置１ａの個々の液晶装置１ａに注目して説明する。照明装置２から照射された照明光８１は、第１の偏光板３によって偏光される。第１の偏光板３に入射される前の照明光８１の振動軸は、矢印９１で示すようにあらゆる方向を向いている。第１の偏光板３を透過することによって偏光された光８２は、矢印９２で示すように一つの振動軸を持つ直線偏光になされる。第１の偏光板３によって偏光された光８２は、液晶層へ入射される。電圧が印加されていない状態において、一対のマザーガラス基板１に規定された複数の液晶装置１ａの液晶装置用基板１０と対向基板２０との間に封入された液晶５０の層（以下、液晶層と示す）に不純物が混入しておらず液晶の配向が保たれている部位は、マザーガラス基板１の表面に垂直な方向を軸にして、第１の偏光板３側から第２の偏光板４側へ向かって液晶５０の向きが螺旋状に、例えば９０度回転するように配向されている。このため、液晶層に入射された光８２は、液晶層中を透過することによって、液晶５０の配向の向きに沿って直線偏光の振動軸の向きが回転される。従って、液晶層から出射された光８３は、矢印９３で示すような振動軸を持つ直線偏光となり、液晶層へ入射された光８２の偏光の振動軸に対して例えば９０度の角度を有している。
【００３７】
一方、液晶層中に不純物が混入しており液晶の配向が崩れている部位は、液晶５０は不純物が混入していない部位のようには配向されていない。このため、液晶層から出射された光８３の振動軸は、一定の方向ではなく、例えば矢印９４で示すように、あらゆる方向を向いている。
【００３８】
液晶層から出射された光８３は、第２の偏光板４によって偏光される。ここで、第２の偏光板４の偏光軸は、液晶層における不純物が混入していない部位を透過する光の透過軸に対して所定の角度、例えば９０度の角度をもってずらされて配置されている。この場合、不純物が混入していない部位から出射された光８４の振動軸は、第２の偏光板４の偏光軸と直交するため、不純物が混入していない部位から出射された光８４は第２の偏光板４によって遮光される。矢印９５で示した黒い点は、光が透過しないことを示す。一方、不純物が混入している部位から出射された光８４は、第２の偏光板４の偏光軸成分が透過される。
【００３９】
以上のように、液晶層に不純物が混入していない場合、液晶層から出射された光８３は第２の偏光板４によって遮断されるが、液晶層に不純物が混入している場合、不純物が混入している部位を透過して液晶層から出射された光８３は第２の偏光板４を透過する。従って、ＣＣＤ５では、液晶層に不純物が混入している部位からのみ光が検出される。
【００４０】
尚、第２の偏光板４の偏光軸は、液晶層における不純物が混入していない部位を透過する光の透過軸に対して、所定の角度でずらされて、すなわち所定の角度を有していればよく、９０度である必要はない。例えば、８５度程度の角度でずらされている場合、不純物が混入していない部位から出射された光の振動軸が第２の偏光板４の偏光軸と直交しないため、不純物が混入してない部位から出射された光も、不純物が混入している部位から出射された光と同じように、第２の偏光板４の偏光軸成分が透過される。但し、それぞれの光における第２の偏光板４の偏光軸成分が異なるため、ＣＣＤ５では、不純物が混入している部位を透過した光は白色光として検出され、不純物が混入していない部位を透過した光は偏向板４の角度により赤茶色〜紫色の光の濃淡として検出される。
【００４１】
次に、ＣＣＤ５からの画像信号に基づいて、不良箇所の色と良箇所の色とを判別することにより、液晶層の品質の判定が行われる。具体的には、ステップＳ３において、画像処理装置６で受信された画像信号が信号処理されて、液晶層に不純物が溶け込んでいるか否かが判断され、液晶層の良否判定が行われる。ステップＳ３における処理について、図６を用いて詳しく説明する。図６は、画像処理装置６における液晶層の良否判定処理のフローチャートである。画像処理装置６における図６の処理が、品質判定手段を構成する。まず、ステップＳ１１において、画像処理装置６に受信された画像信号から輝度信号を分離する。次に、ステップＳ１２において、各画素の輝度値が任意の閾値に対して比較され、二値化処理が行われる。すなわち、任意の閾値より輝度値が高い画素は明（１）、任意の閾値より輝度値が低い画素は暗（０）と判別される。ステップＳ１２における任意の閾値とは、当該画素に不純物が混入されているか否かを判定するための閾値であり、明（１）と判別された画素は不純物が混入された画素、暗（０）と判別された画素は不純物が混入していない画素と判断される。引き続き、ステップＳ１３において、ステップＳ１２において明（１）と判別された画素の、各液晶装置１ａの液晶領域に対応する総画素数に対する割合を算出する。続いて、ステップＳ１４において、ステップＳ１３で算出された割合が、良否判定に関する閾値に対して比較される。ステップＳ１３で算出された割合が閾値よりも小さい場合は、ステップＳ１５へ進んで液晶層を良と判定し、そうでない場合はステップＳ１６へ進んで液晶層を不良と判定する。良否判定に関する閾値は、液晶領域の大きさによって異なるが、例えば３％程度の値が用いられる。
【００４２】
尚、ＣＣＤ５から出力された画像信号を用い、画像処理装置６によって液晶層に不純物が混入しているか否かを判断するのではなく、第１の偏光板３と、一対のマザーガラス基板１に規定された複数の液晶装置１ａと、第２の偏光板４とを透過した光を目視して判断してもよい。
【００４３】
このように、本実施の形態の液晶層の検査装置及び検査方法では、液晶層に直線偏光を照射し、液晶層からの透過光を更に偏光して検出する構成を用いているため、一対のマザーガラス基板１から複数の液晶装置１ａに分断されていない状態でも、液晶層に混入した不純物を簡便に検査することができる。更に、検出した光から生成した画像信号を信号処理し、自動的に液晶層に不純物が混入しているか否かを判断し、液晶層の良否を判定することができるため、検査の効率が向上する。
【００４４】
上述した検査方法を用いて液晶装置を製造する方法について、図７を用いて説明する。図７は、本実施の形態における液晶装置の製造方法を説明するフローチャートである。ここでは、別々に製造された液晶装置用基板１０（ＴＦＴ基板）用のマザーガラス基板１と対向基板２０用のマザーガラス基板１を用い、これらを組み立てる工程について説明する。
【００４５】
まず、ステップＳ２１、Ｓ２６において夫々用意された液晶装置用基板１０用及び対向基板２０用のマザーガラス基板１に対して、続くステップＳ２２、Ｓ２７おいてポリイミド（ＰＩ）を塗布などして配向膜１６、２２が形成される。次に、ステップＳ２３、Ｓ２８において、液晶装置用基板１０用のマザーガラス基板１の表面に形成された配向膜１６、及び対向基板２０用のマザーガラス基板１の表面に形成された配向膜２２に対して、ラビング処理が施される。次に、ステップＳ２４、Ｓ２９において、液晶装置用基板１０用及び対向基板２０用のそれぞれのマザーガラス基板１に対して洗浄処理が施される。この洗浄処理は、ステップＳ２３、Ｓ２８におけるラビング処理によって生じた塵埃を除去するための処理である。
【００４６】
ステップＳ２４、Ｓ２９の洗浄処理が終了すると、ステップＳ２５において、シール材４１、及び導通材６５が形成される。次に、ステップＳ３０において、液晶装置用基板１０用と対向基板２０用のマザーガラス基板１とが貼り合わされ、続くステップＳ３１において、アライメントを施しながら圧着することで、シール材４１が硬化させられる。次に、ステップＳ３２において、シール材４１の一部に設けられた切り欠きから液晶５０が封入され、切り欠きを塞いで液晶５０が封止される。
【００４７】
次に、ステップＳ３３において、複数の液晶装置１ａが取り出される一対のマザーガラス基板１の状態で、前述の検査方法によって、液晶層に不純物が混入しているか否かが判断され、各液晶装置１ａの液晶層の良否が判定される。最後に、ステップＳ３４において、マザーガラス基板１が分断されて、個々の液晶装置１ａに分割される。
【００４８】
ステップＳ３４の後のステップＳ３５において、各液晶装置１ａに外部回路としての各種半導体装置の接続、すなわちいわゆるＩＣチップの実装が行われる。半導体装置の接続には、ＣＯＧによる接続、ＴＡＢを介する接続等も含まれる。ステップＳ３３の前にＩＣチップの実装を行うと、液晶層の検査結果において不良とされた液晶装置１ａに実装されたＩＣチップも処分しなければならなくなるが、上述したように、個々の液晶装置１ａに分断された（ステップＳ３４）後にＩＣチップの実装を行うようにした（ステップＳ３５）ので、ＩＣチップの無駄がなくなる。
【００４９】
尚、ステップＳ３３における各液晶装置１ａの液晶層の検査は、一対のマザーガラス基板１の状態で行わなくともよく、ステップＳ３４において液晶装置１ａごとに分断された後に行ってもよい。また、ステップＳ２６において、対向基板２０用のマザーガラス基板１は、液晶装置用基板１０用のマザーガラス基板１と同じ大きさのものを１枚用意してもよいし、個々の液晶装置１ａの対向基板２０と同じ大きさのものをマザーガラス基板１上に、取り出される複数の液晶装置１ａと同じ数だけ用意してもよい。すなわち、本実施の形態の液晶装置の製造方法においては、ステップＳ３３において、複数の液晶装置を取り出す一対のマザーガラス基板１に個々の液晶装置１ａに対応した複数の対向基板２０を貼り合わせた状態で前述の検査方法を適用してもよいし、液晶装置用基板１０用のマザーガラス基板１と同じ大きさの１枚の対向基板２０用のマザーガラス基板に貼り合わせた状態で前述の検査方法を適用してもよい。
【００５０】
このように、本実施の形態の液晶装置の製造方法では、マザーガラス基板が複数の液晶装置の個々に分断されていない状態でも、液晶層に混入した不純物を簡便に検査することができ、製造コストを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本実施の形態に係わる検査層の全体構成を説明する構成図である。
【図２】液晶装置用基板１０を各構成要素と共に対向基板２０側から見た平面図である。
【図３】対向基板２０を含めて示す図２のＨ−Ｈ´断面図である。
【図４】本実施の形態における液晶層の検査方法のフローチャートである。
【図５】照明光及び透過光の状態を説明する概略図である。
【図６】画像処理装置６における液晶層の良否判定処理のフローチャートである。
【図７】本実施の形態における液晶装置の製造方法を説明するフローチャートである。
【符号の説明】
【００５２】
１  マザーガラス基板、２  照明装置、３  第１の偏光手段、４  第２の偏光手段、５  ＣＣＤ、６  画像処理手段、１０  液晶装置用基板、２０  対向基板、５０  液晶、
【図１】
2006201672.tif 000003
【図２】
2006201672.tif 000004
【図３】
2006201672.tif 000005
【図４】
2006201672.tif 000006
【図５】
2006201672.tif 000007
【図６】
2006201672.tif 000008
【図７】
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