(57)【要約】【課題】  工業的生産に適した、経済的かつ効率的な２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法を提供すること。【解決手段】  下記式（１）で表される８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物を、溶媒中、塩基存在下にニッケル又はニッケル合金を用いて脱硫反応させる工程を含むことを特徴とする、下記式（２）で表される２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法。【化１】2006199652.tif 000011【化２】2006199652.tif 000012上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立して水素原子又はヒドロキシル基の保護基、Ｒ3及びＲ６は水素原子又はアミノ基の保護基を示す。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物を、溶媒中、塩基存在下にニッケル又はニッケル合金を用いて脱硫反応させる工程を含むことを特徴とする、下記式（２）で表される２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法。
【化１】
2006199652.tif 000008
【化２】
2006199652.tif 000009
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立して水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示し、Ｒ3及びＲ６は水素原子又はアミノ基の保護基を示す。］
【請求項２】
請求項１記載の製造方法にしたがって式（２）で表される２’−デオキシグアノシン化合物を得た後、該化合物のＲ４、Ｒ５及びＲ６の１つ以上が水素原子である場合に、該水素原子の１つ以上を保護基で置換することを特徴とする、下記式（３）で表される２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法。
【化３】
2006199652.tif 000010
［式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示し、Ｒ９は水素原子又はアミノ基の保護基を示す（但し、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が同時に水素原子を示す場合を除く）。］
【請求項３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ3、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が水素原子である請求項１記載の製造方法。
【請求項４】
Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の水素原子を保護基で置換する工程を更に含む、請求項３記載の製造方法。
【請求項５】
溶媒が水である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項６】
塩基及び溶媒を含む溶液のｐＨが１１以上である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項７】
ニッケル又はニッケル合金の添加量が８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物の全質量に対して５０〜１５００質量％である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項８】
脱硫反応を４０〜１００℃の温度で行う、請求項１〜７のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項９】
ニッケル合金がニッケル−アルミニウム合金である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法に関し、詳細にはアンチセンス医薬の製造原料として有用な２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
すべての生物は生体高分子である遺伝子を有しており、この遺伝子はｍＲＮＡに転写された後、タンパク質に翻訳するという流れによって生体に遺伝情報を伝達する。遺伝的素因のある疾患の場合には、その疾患遺伝子の遺伝情報の流れを遮断しタンパク質の発現を制御することで疾患の治療が可能になると考えられる。近年、このような疾患遺伝子の発現を塩基配列特異的に抑制するアンチセンス治療が注目されている。かかる治療に使用されるアンチセンス医薬はオリゴヌクレオチドから構成されており、かかるオリゴヌクレオチドの製造原料としてデオキシヌクレオシドが知られている（非特許文献１）。
【０００３】
かかるデオキシヌクレオシドの製造方法としては、例えば８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルプリン誘導体を原料として用いる以下の方法が報告されている。特許文献１及び非特許文献２には２’−デオキシアデノシンの製造方法が開示されており、７００質量％程度のラネーニッケル存在下、水溶液中で８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルアデニンを脱硫させることで２’−デオキシアデノシンが収率３３〜４０％で得られるとされている。また、非特許文献３には２’−デオキシイノシンの製造方法が開示されており、原料の８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルヒポキサンチン１ｇに対して６．７ｍｌのラネーニッケル存在下、水溶液中で８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルヒポキサンチンを脱硫させることで２’−デオキシイノシンが収率６０％で得られるとされている。さらに、非特許文献４、５には２’−デオキシグアノシンの製造方法が開示されているものの、ラネーニッケル存在下、水溶液中で８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニンを脱硫させ、２’−デオキシグアノシンの存在を薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で確認したと記載されているだけで、ラネーニッケルの使用量や収率について記載はない。
【特許文献１】国際公開第００／３４６１８号パンフレット
【非特許文献１】Follmann H. Chem. Soc. Rev. 2004, 33, 225-233
【非特許文献２】Ikehara M. et al., Chem. Pharm. Bull. 1966, 15(1), 94-100
【非特許文献３】Yamazaki A. et al., Chem. Pharm. Bull. 1973, 21(5), 1143-1146
【非特許文献４】Ogilvie K. K. et al., Can. J. Chem.,1972, 50, 1100-1104
【非特許文献５】Kaneko M. et al., Chem.Pharm. Bull. 1972, 20(3), 635-637
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者らは上記文献の記載を参考に２’−デオキシグアノシンの製造を検討したところ、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニンの、ラネーニッケルによる脱硫反応がほとんど進行しないという問題が生じた。
【０００５】
そこで、本発明は、工業的生産に適した、経済的かつ効率的な２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、従来の２’−デオキシグアノシンの製造方法において収率が不十分となる要因の一つは、反応系中における８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニンの溶解性にあることを見出した。そして、かかる知見に基づき更に研究を重ねた結果、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物を、溶媒中、塩基存在下にニッケル又はニッケル合金を用いて脱硫反応させることにより、収率良く２’−デオキシグアノシン化合物を合成できることを見出した。特にニッケル−アルミニウム合金を反応に使用することで、ラネーニッケルを使用する場合と比べ、ニッケル試薬の使用量を大きく削減できることを見出した。これらの知見に基づき、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明は以下の特徴を有する。
［１］下記式（１）で表される８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物を、溶媒中、塩基存在下にニッケル又はニッケル合金を用いて脱硫反応させる工程を含むことを特徴とする、下記式（２）で表される２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法。
【０００８】
【化１】
2006199652.tif 000002
【０００９】
【化２】
2006199652.tif 000003
【００１０】
上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立して水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示し、Ｒ3及びＲ６は水素原子又はアミノ基の保護基を示す。
［２］上記［１］記載の製造方法にしたがって式（２）で表される２’−デオキシグアノシン化合物を得た後、該化合物のＲ４、Ｒ５及びＲ６の１つ以上が水素原子である場合に、該水素原子の１つ以上を保護基で置換することを特徴とする、下記式（３）で表される２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法。
【００１１】
【化３】
2006199652.tif 000004
【００１２】
上記式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示し、Ｒ９は水素原子又はアミノ基の保護基を示す。但し、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が同時に水素原子を示す場合を除く。
［３］Ｒ１、Ｒ２、Ｒ3、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が水素原子である、上記［１］記載の製造方法。
［４］Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の水素原子を保護基で置換する工程を更に含む、上記［３］記載の製造方法。
［５］溶媒が水である、上記［１］〜［４］のいずれか一に記載の製造方法。
［６］塩基及び溶媒を含む溶液のｐＨが１１以上である、上記［１］〜［５］のいずれか一に記載の製造方法。
［７］ニッケル又はニッケル合金の添加量が８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物の全質量に対して５０〜１５００質量％である、上記［１］〜［６］のいずれか一に記載の製造方法。
［８］脱硫反応を４０〜１００℃の温度で行う、上記［１］〜［７］のいずれか一に記載の製造方法。
［９］ニッケル合金がニッケル−アルミニウム合金である、上記［１］〜［８］のいずれか一に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物から、２’−デオキシグアノシン化合物を収率よく得ることができる。さらに、ニッケル−アルミニウム合金を用いて反応を行うことにより、ラネーニッケル等のニッケルを使用する場合に比べ、ニッケル試薬の使用量を大幅に削減することができる。また、脱硫反応前に活性の高いラネーニッケルの調製が不要になるため、２’−デオキシグアノシン化合物を安全に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明に係る２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法について説明する。
本発明の２’−デオキシグアノシン化合物の製造方法は、下記反応スキームに示すように、下記式（１）で表される８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物を、溶媒中、塩基存在下にニッケル又はニッケル合金を用いて脱硫反応を行い、下記式（２）で表される２’−デオキシグアノシン化合物を得るものである。
【００１５】
【化４】
2006199652.tif 000005
【００１６】
上記製造方法においては、ニッケル試薬としてニッケル−アルミニウム合金（Ｎｉ−Ａｌ合金）を用いた場合、脱硫反応を溶媒中、塩基存在下で行うことにより、Ｎｉ−Ａｌ合金がラネーニッケルに展開される。そして、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物がラネーニッケルの還元作用により脱硫されて２’‐デオキシグアノシン化合物が生成する。この場合、ニッケル試薬の使用量を大幅に低減することができ、製造コストを軽減することができる。さらに、脱硫反応前にラネーニッケルの調製が不要になるため、２’−デオキシグアノシン化合物を安全に製造することができる。なお、本発明者らは、脱硫反応前に調製したラネーニッケルを用いて、塩基存在下、水溶液中で脱硫反応を行った場合、Ｎｉ−Ａｌ合金を用いた場合と同等の収率を得るためには、ラネーニッケルを８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物に対して１５００質量％以上添加する必要があるとの知見を得ている。
【００１７】
本発明における式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す。ヒドロキシル基の保護基としては特に限定されず、プロテクティング・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（第３版、ウィリー・インターサイエンス社、１９９９年（Protecting Groups in Organic Synthesis 3rd edition (Wiley-Interscience, Inc. 1999)）に記載の置換基を用いることができる。具体的には、例えば、アシル基、アルキル基、アラルキル基、シリル基等が挙げられる。アシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、イソブチロイル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等の炭素数１〜７のアシル基が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜７のアルキル基が挙げられる。アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、４−モノメトキシベンジル基、トリチル基、４−モノメトキシトリチル基、４，４’−ジメトキシトリチル基等の炭素数７〜２２のアラルキル基が挙げられる。シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等の３置換シリル基が挙げられる。その他、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、ベンジルオキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシカルボニル基、９−フルオレニルメトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等のヒドロキシル基の保護基を使用することができる。塩基性条件下で反応を行う観点からＲ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５としては、トリチル基、４−モノメトキシトリチル基、４，４’−ジメトキシトリチル基、水素原子が好ましく、特に水素原子が好ましい。
【００１８】
本発明における式中、Ｒ３及びＲ６は水素原子、又はアミノ基の保護基を示す。アミノ基の保護基としては特に限定されず、プロテクティング・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（第３版、ウィリー・インターサイエンス社、１９９９年（Protecting Groups in Organic Synthesis 3rd edition (Wiley-Interscience, Inc. 1999)）に記載の置換基を用いることができる。具体的には、アルキル基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキリデン基等が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられる。アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、４−モノメトキシベンジル基、トリチル基、４−モノメトキシトリチル基、４，４’−ジメトキシトリチル基等の炭素数７〜２２のアラルキル基が挙げられる。アシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、イソブチロイル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、フェナシル基等の炭素数１〜１０のアシル基が挙げられる。アルコキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基が挙げられる。アルキリデン基としては、ベンジリデン基、ジフェニルメチリデン基、ビス（メチルチオ）メチリデン基、ジメチルアミノメチリデン基等が挙げられる。塩基性条件下で反応を行う観点から、Ｒ３及びＲ６としては、トリチル基、４−モノメトキシトリチル基、４，４’−ジメトキシトリチル基、水素原子が好ましく、特に水素原子が好ましい。
【００１９】
８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物にはエナンチオマーが存在するが、Ｄ体、Ｌ体又はこれらの混合物のいずれを使用してもよい。なお、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物は、Chem. Pharm. Bull. 1972, 20(3), 635-637に記載の方法に準じて製造することができる。具体的には、まずグアノシン（I）に臭素を反応させ、８−ブロモグアノシン（II）を合成する。次に、８−ブロモグアノシン（II）にチオ尿素を反応させることにより、８−メルカプトグアノシン（III）を合成する。次に、８−メルカプトグアノシン（III）とジフェニルカルボナートとの反応により、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン（IV）を得る。そして、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン（IV）のヒドロキシル基及びアミノ基に保護基を導入して、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物（１）としてもよい。なお、保護基を導入する試薬としては、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される保護基を与えることの可能な化合物であれば特に限定されることなく使用できるが、例えば、無水酢酸等の酸無水物、酢酸クロリド等の酸塩化物、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド等のシラン化合物が挙げられるが、脱離防止の観点から酸無水物が好ましく、無水酢酸がより好ましい。
【００２０】
【化５】
2006199652.tif 000006
【００２１】
上記式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記と同義である。
【００２２】
また、式（２）で表される２’−デオキシグアノシン化合物は、該化合物のＲ４、Ｒ５及びＲ６の１つ以上が水素原子である場合に、該水素原子の１つ以上を保護基で置換し（すなわちヒドロキシル基及びアミノ基の一つ以上を保護基で保護し）、下記式（３）で表される２’−デオキシグアノシン化合物に誘導してもよい。
【００２３】
【化６】
2006199652.tif 000007
【００２４】
上記式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示し、Ｒ９は水素原子又はアミノ基の保護基を示す。但し、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が同時に水素原子を示す場合を除く。この場合のヒドロキシル基の保護基及びアミノ基の保護基は、上記と同様のものを挙げることができる。特にヒドロキシル基及びアミノ基の保護基ともに、アシル基が好ましく、なかでもイソブチロイル基が好ましい。
【００２５】
ニッケル合金としては、Ｎｉ−Ａｌ合金が好ましい。Ｎｉ−Ａｌ合金としては、塩基性条件で容易に展開させるために、ニッケルとアルミニウムとの質量比が５０〜４０：５０〜６０であるものが好ましい。なお、Ｎｉ−Ａｌ合金は、必要に応じて他の金属元素（例えば、鉄、モリブデン）を含んでいてもよい。また、ニッケルとしては、好ましくは、Ｎｉ−Ａｌ合金等のニッケル合金を水酸化ナトリウムで処理し、水で洗浄して得られるラネーニッケルが挙げられる。
【００２６】
本発明において、脱硫反応は、塩基存在下に行われる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、アンモニア、水酸化アンモニウム等が挙げられ、特に水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムが好ましい。また、本発明における脱硫反応は溶媒中で行われる。溶媒としては、水、メタノール、エタノール、ジメチルスルホキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、２−メトキシエタノール、エチレングリコール又はこれらの混合溶媒を用いることができる。好適な溶媒としては、水、メタノール、エタノールが挙げられ、特に水が好ましい。脱硫反応を水溶媒中で行う場合、Ｎｉ−Ａｌ合金からラネーニッケルを効率的に生成させる観点から、脱硫反応前の水溶液のｐＨを１１以上とするのが好ましく、さらにｐＨ１２以上とするのがより好ましい。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の強塩基を溶媒である水中に存在させることにより、ｐＨを上記のように設定して、脱硫反応に使用する水溶液を調製することが望ましい。本発明の製造方法においては、このような条件により、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物を水溶液中に溶解し、Ｎｉ−Ａｌ合金を反応系中でラネーニッケルに展開し、同時に脱硫反応を行うことが好ましい。
【００２７】
脱硫反応は、大気雰囲気でも行うことができる。しかし、ニッケルが酸素により酸化されやすいという観点から、ヘリウムガス、アルゴンガス、窒素ガス等の不活性ガスの雰囲気下で行うことが望ましい。また、脱硫反応の好適な反応条件は以下の通りである。反応温度は４０〜１００℃が好ましく、６０〜１００℃がより好ましい。４０℃未満であると反応性や反応速度が低下する傾向にある。また、反応時間は１〜６０時間が好ましく、１〜２０時間がより好ましい。１時間未満であると脱硫反応が不十分となる傾向にある。
【００２８】
ニッケル試薬としてラネーニッケル等のニッケルを用いた場合の使用量は、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物の全質量に対して５０〜１５００質量％が好ましく、５００〜１５００質量％がより好ましい。５００質量％未満であると反応性や反応速度が低下する傾向にあり、他方１５００質量％を超えて使用しても添加量に見合う効果が得られないことがある。一方、Ｎｉ−Ａｌ合金を用いた場合の使用量は、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物の全質量に対して５０〜５００質量％が好ましく、１５０〜５００質量％がより好ましい。１５０質量％未満であると反応性や反応速度が低下する傾向にあり、他方５００質量％を超えて使用しても添加量に見合う効果が得られないことがある。なお、質量％表示は、８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン化合物の質量を基準（１００質量％）とした表示である。また、ラネーニッケルの質量表示は原料であるＮｉ−Ａｌ合金の質量、すなわちラネーニッケルの原料であるＮｉ−Ａｌ合金からラネーニッケルへの展開操作を行う前のＮｉ−Ａｌ合金の質量を示している。
【００２９】
得られた粗２’−デオキシグアノシン化合物は晶析等の公知の方法により精製することができるが、上記のように分離精製することなく、２’−デオキシグアノシンをトリアシル化、ジトリチル化した後、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）分析することで２’−デオキシグアノシン化合物の純度や収率を確認することができる。
高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）の分析条件
カラム：Inertsil ODS-AQ(GL Science Inc.), ４．６×２５０nm, room temp.
移動相：A)０．０２M AcOH-AcONH4(pH３．５)
B)０．０２M AcOH-AcONH4(pH３．５) / MeOH (６０/４０)
８%(０-５min), 8-100%(５-４７min)
流速  ：０．７ｍL/min
検出器：UV  260nm
注入量：１０μL (サンプル/０．０１M 水酸化ナトリウム水溶液) 
なお、２’−デオキシグアノシン化合物の保持時間は１７．５分である。
【実施例】
【００３０】
以下、本発明の実施例について更に詳細な説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３１】
（１）２’−デオキシグアノシンの製造
（実施例１）
５０ｍＬのナスフラスコに８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン（５００ｍｇ，１．６８ｍｍｏｌ）、水（８．３２ｍＬ）、２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１．６８ｍＬ）、ラネーニッケル（７．５ｇ，川研ファインケミカル（株）製，NDHT-M0）を加え、その反応液（ｐＨ１３．５）を９５℃で１５時間攪拌した。反応液を桐山ロートで減圧濾過した。得られた溶液を２Ｍ塩酸水溶液でｐＨ７に調整し、中和した溶液を減圧濃縮した。濃縮中に析出した結晶を桐山ロートで減圧濾過し、得られた結晶を一昼夜減圧乾燥し、２’−デオキシグアノシンを収率５２％（０．８７ｍｍｏｌ）で得た。減圧濾過後の母液にも２’−デオキシグアノシン（０．２６ｍｍｏｌ）が含まれていることを高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で確認した。単離したものと母液に含まれたものを合わせて、２’−デオキシグアノシンが収率６７％で得られた。
１H-NMR (DMSO-d6)：δ 2.15―2.20 (m, 1H), 2.45−2.55 (m, 1H), 3.45−3.60 (m, 2H), 3.80 (br, 1H), 4.43 (br, 1H), 4.95 (br, 1H), 5.25 (d, 1H, J=3.8 Hz), 6.11 (m, 1H), 6.47 (br, 1H), 7.90 (s, 1H).
【００３２】
（実施例２）
５０ｍＬのナスフラスコに８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）、水（５．０ｍＬ）、２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．３４ｍＬ）、ラネーニッケル（５００ｍｇ，川研ファインケミカル（株）製，NDHT-M0）を加え、その反応液（ｐＨ１３．１）を９５℃で１５時間攪拌した。反応液を桐山ロートで減圧濾過した。得られた溶液をＨＰＬＣで解析して、２’−デオキシグアノシンが収率２４％（０．０８ｍｍｏｌ）で得られたことを確認した。また、原料である８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン（０．１５ｍｍｏｌ，４５％）を回収したことを確認した。
【００３３】
（実施例３）
２００ｍＬの二口ナスフラスコにＮｉ−Ａｌ合金粉末（１０ｇ，川研ファインケミカル（株）製，NDH）を加え、フラスコ内をアルゴンガスに置換した。８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン（５ｇ，１６．８ｍｍｏｌ）を２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１１０ｍＬ）に溶解し、溶解液（ｐＨ１４．３）を反応系中に徐々に滴下した。反応液を６０℃で、１５時間攪拌した。桐山ロートで減圧濾過した後、水（３５ｍＬ）で洗浄した。得られた溶液をＨＰＬＣで解析して、２’−デオキシグアノシンが収率５３％（８．９３ｍｍｏｌ）で得られたことを確認した。
【００３４】
（実施例４）
５０ｍＬの二口ナスフラスコにＮｉ−Ａｌ合金粉末（２００ｍｇ，川研ファインケミカル（株）製，NDH）を加え、フラスコ内をアルゴンガスに置換した。８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）を２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（２．２ｍＬ）に溶解し、溶解液（ｐＨ１４．３）を反応系中に徐々に滴下した。反応液を６０℃で、４時間攪拌した。桐山ロートで減圧濾過した後、水（２０ｍＬ）で洗浄した。得られた溶液をＨＰＬＣで解析して、２’‐デオキシグアノシンが収率４４％（０．１５ｍｍｏｌ）で得られたことを確認した。なお、原料である８，２’−アンヒドロ−８−メルカプト−９−β−アラビノフラノシルグアニン（０．０２ｍｍｏｌ，５％）を回収したことを確認した。
【００３５】
（２）２’−デオキシグアノシンからＮ２，３’，５’−トリイソブチロイル−２’−デオキシグアノシンへの変換反応
（実施例５）
１００ｍＬの広口ナスフラスコに実施例１で得た２’−デオキシグアノシン（４４３．６ｍｇ，１．６６ｍｍｏｌ）を含む水酸化ナトリウム水溶液を加えた。２Ｍ塩酸を用いて、０℃でｐＨ７に調整した。得られた白色の懸濁液をロータリーエバポレーターで減圧濃縮した。トルエン（５ｍＬ）による共沸操作を２回行った。さらに、ピリジン（５ｍＬ）による共沸操作を２回行った。ピリジン（８ｍＬ）、クロロホルム（１２ｍＬ）を加え、０℃に冷却した。イソブチロイルクロリド（１．８ｍＬ，１６．８ｍｍｏｌ）を加え、０℃で３０分間、室温で１５時間攪拌した。反応系中に水を加え、反応を停止した。クロロホルム（４０ｍＬ）で抽出操作を３回行った。有機層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、更に水で洗った。有機層を桐山ロートで濾過し、白色固体を取り除いた。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムを桐山ロートで濾過した。有機層を減圧濃縮し、その後カラムクロマトグラフィーで精製した。フラクションを減圧濃縮して、Ｎ２，３’，５’−トリイソブチロイル−２’−デオキシグアノシンを得た（５１７．６ｍｇ，１．０８ｍｍｏｌ，６５％（２’−デオキシグアノシン基準））。