(57)【要約】【課題】  ロール状のワークに対し、描画動作を行う直前にフラッシング動作を行うことができ、実描画領域に安定して描画を行うことができるロール・ツー・ロール方式の液滴吐出装置等を提供する。【解決手段】  長手方向に複数の描画領域を配したロール状のワークＷを吸着セットする吸着テーブル３１と、ワークＷを間欠的に繰り出し、ワークＷを撓ませた状態で吸着テーブル３１に導入する繰り出し手段３と、機能液滴吐出ヘッド４２を有し、機能液滴吐出ヘッド４２を相対的に移動させながら、吸着セットされたワークＷに描画領域単位で描画を行う描画手段と１２、描画済みのワークＷを撓ませた状態で巻き取る巻取り手段５と、機能液滴吐出ヘッド４２からの吐出を受けるフラッシングボックス１１１を、ワークＷのたわみ部分の少なくとも一方に収まるように配設したフラッシングユニット１０１と、を備えた【選択図】  図２
2006116436.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向に複数の描画領域を配したワークに対して描画を行う液滴吐出装置であって、
描画スペースに配設され、前記ワークを吸着セットする吸着テーブルと、
前記ワークを間欠的に繰り出し、前記ワークをたわませた状態で前記吸着テーブルに導入する繰り出し手段と、
機能液滴吐出ヘッドを有し、前記描画スペースに対して、前記機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、当該機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動することにより、吸着セットされた前記ワークに描画を行う描画手段と、
描画済みの前記ワークを、前記吸着テーブルからたわませた状態で受け入れるワーク受容手段と、
機能液滴吐出ヘッドからの吐出を受けるフラッシングボックスを、前記ワークのたわみ部分の少なくとも一方に収まるように配設したフラッシングユニットと、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記ワークには、各描画領域に対応して、各描画領域を位置補正するためのアライメントマークが設けられており、
前記アライメントマークを撮像して画像認識する画像認識手段と、
前記吸着テーブルを回動可能に支持し、前記画像認識手段による画像認識に基づいて、前記機能液滴吐出ヘッドに対する前記描画領域の水平面内における位置を補正するθテーブルと、をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記フラッシングボックスは、前記θテーブルに支持されていることを特徴とする請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記フラッシングボックスは、前記たわみ部分の前記吸着テーブル側の傾斜に対応して形成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記ワーク受容手段は、前記ワークを巻き取ることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置により描画されることを特徴とするワーク。
【請求項７】
電子部品が実装されたフレキシブル基板であることを特徴とする請求項６に記載のワーク。
【請求項８】
請求項１ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項９に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能液滴吐出ヘッドを用いて、長尺のワークに描画を行う液滴吐出装置およびこれに適用されるワーク、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液滴吐出装置は、枚葉の基板（ワーク）をセットした吸着テーブル（セットテーブル）をＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドを搭載したヘッドユニットをＹ軸方向に移動させるＹ軸テーブルと、を備えており、ヘッドユニットおよび基板を相対的に移動させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動することにより、セットした基板に所定の描画パターンを描画するようになっている。
【０００３】
また、液滴吐出装置には、機能液滴吐出ヘッド（の全吐出ノズル）からの捨て吐出を受ける一対のフラッシングボックスが設けられている。一対のフラッシングボックスは、Ｘ軸テーブルに移動自在に支持されていると共に、Ｘ軸方向において吸着テーブルを挟むように配設されている。したがって、Ｘ軸テーブルを駆動すると、フラッシングボックス、セットテーブル（ワーク）の順でヘッドユニットがこれらに臨み、フラッシング動作に続いて描画動作を連続して行う。このように、描画動作に先立ち、フラッシング動作を行うことにより、機能液滴吐出ヘッドの機能液吐出状態を安定させることができ、ワークに精度良い描画処理を行うことが可能となっている。
【特許文献１】特開２００３−２６６６７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ワークに対する描画効率を高めるため、描画パターンを描画させる実描画領域を長手方向に複数設けたロール状のワークを液滴吐出装置に導入し、ワークを繰出しながら実描画領域単位で描画処理を行うと共に、処理済みのワークを順次巻き取ってゆくロール・ツー・ロール方式の液滴吐出装置が考えられる。しかしながら、この場合、ワークが連続的に送られてゆくために、従来の液滴吐出装置のようにワークの送り方向であるＸ軸方向にフラッシングボックスを配設することができず、実描画領域に対する描画動作の前にフラッシング動作を行わせることができない。
【０００５】
そこで、本発明は、ロール状のワークに設けられた実描画領域に対し、描画動作を行う直前にフラッシング動作を行うことができ、実描画領域に安定して描画を行うことができるロール・ツー・ロール方式の液滴吐出装置およびこれに適用されるワーク、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、長手方向に複数の描画領域を配したワークに対して描画を行う液滴吐出装置であって、描画スペースに配設され、ワークを吸着セットする吸着テーブルと、ワークを間欠的に繰り出し、ワークをたわませた状態で吸着テーブルに導入する繰り出し手段と、機能液滴吐出ヘッドを有し、描画スペースに対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動することにより、吸着セットされた前記ワークに描画を行う描画手段と、描画済みのワークを、吸着テーブルからたわませた状態で受け入れるワーク受容手段と、機能液滴吐出ヘッドからの吐出を受けるフラッシングボックスを、ワークのたわみ部分の少なくとも一方に収まるように配設したフラッシングユニットと、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、繰出し手段と吸着テーブルとの間のワークのたわみ部分、および吸着テーブルとワーク受容手段との間のワークのたわみ部分の、少なくとも一方にフラッシングボックスが配設される。したがって、描画処理時に、描画スペースに対して機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させることにより、フラッシングボックスに機能液滴吐出ヘッドを臨ませて、フラッシング動作を行わせることができる。この場合、吸着テーブルとフラッシングボックスとは隣接することとなるため、機能液滴吐出ヘッドが、吸着テーブル上のワーク（描画領域）に対して描画動作を行う前にフラッシング動作を行わせることが可能となる。したがって、描画動作では、機能液滴吐出ヘッドから安定して機能液を吐出させることができ、描画領域に対して精度良く描画を行うことが可能である。
【０００８】
この場合、ワークには、各描画領域に対応して、各描画領域を位置補正するためのアライメントマークが設けられており、アライメントマークを撮像して画像認識する画像認識手段と、吸着テーブルを回動可能に支持し、画像認識手段による画像認識に基づいて、機能液滴吐出ヘッドに対する描画領域の水平面内における位置を補正するθテーブルと、をさらに備えることが好ましい。
【０００９】
この構成によれば、各描画領域に対応したアライメントマークが設けられているので、その画像認識に基づいて描画領域をθ補正（位置補正）することができ、ワークに対して精度良い描画を行うことが可能である。
【００１０】
この場合、フラッシングボックスは、θテーブルに支持されていることが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、吸着テーブルをθ補正したときに、吸着テーブルと一緒にフラッシングボックスもθ回転する。これにより、位置補正された実描画領域に対応させて、フラッシングボックスを適切に臨ませることができる。
【００１２】
この場合、フラッシングボックスは、たわみ部分の吸着テーブル側の傾斜に対応して形成されていることが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、フラッシングボックスの底部をワークに干渉させることがなく、吸着テーブルと極力近接した位置にフラッシングボックスを配置することができる。また、たわみが比較的小さい場合であっても、たわみ部分にフラッシングボックスを配設することが可能である。
【００１４】
この場合、ワーク受容手段は、ワークを巻き取ることが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、描画処理後のワークはロール状に巻回されるため、描画処理後のワークの扱いを容易なものとすることができる。
【００１６】
本発明のワークは、上記のいずれかの液滴吐出装置により描画されることを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、上記のいずれかの液滴吐出装置により描画されるため、ワークには精度のよい描画が行われる。
【００１８】
この場合、ワークは、電子部品が実装されたフレキシブル基板であることが好ましい。
【００１９】
この構成によれば、ロール状のワークを液滴吐出装置に導入して描画処理を行うことにより、フレキシブル基板を効率よく製造することができる。
【００２０】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。また、本発明の電気光学装置は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２１】
これらの構成によれば、上記の液滴吐出装置を用いているため、実描画領域に対して安定的に機能液を吐出させることができる。したがって、精度良く成膜部を形成して、高精度な電気光学装置を効率よく製造することができる。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置またはＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２２】
本発明の電子機器は、上記に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置、または上記に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２３】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、小型のカメラや携帯電話等に組み込まれるフレキシブル基板を製造するためのものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、可撓性のベースフィルム（ワーク）上に機能材料を溶解させた機能液を吐出させて、抵抗、コイル、コンデンサ等の素子（チップ部品：面実装部品）や金属配線等を形成するためのものである。
【００２５】
図１および図２に示すように、液滴吐出装置１は、機能液滴吐出ヘッド４２を有し、ワークＷ上に機能液滴による描画を行う描画装置２と、ロール状に巻回された長尺のワークＷを繰出す繰出し装置３と、繰出されたワークＷを所定の送り経路に沿って送るための送り装置４と、ワークＷを巻き取る巻取り装置５と、を備えている。すなわち、この液滴吐出装置１は、ロール・ツー・ロール方式で処理を行うものであり、先ず、繰出し装置３により繰出されたワークＷを、送り装置４が送り経路に沿って描画装置２に送ってゆく。そして、描画装置２によりワークＷに描画処理を行った後、送り装置４により描画装置２からワークＷの処理済みの部分を送り出すと共に、送り出された処理済みのワークＷを巻取り装置５で順次巻き取るようになっている。このとき、繰出し装置３から送り装置４の間、および送り装置４から巻取り装置５の間において、ワークＷは、たるみを持たせた状態で送られる。なお、図示省略したが、液滴吐出装置１には、各装置を統括制御する制御装置６が設けられており、上記一連の動作は、制御装置６による制御に基づいて行われる。
【００２６】
一方、図１（ｂ）に示すように、液滴吐出装置１に導入されるワークＷには、描画処理により所定の描画パターン（単位描画パターン）が描画される実描画領域ａが長手方向に所定の間隙を有して複数連続的に設けられている。そして、実描画領域ａと実描画領域ａとの間には、各実描画領域ａに対応する一対（２個）のワークアライメントマークｂが設けられている。この一対のワークアライメントマークｂは、後述の吸着テーブル３１に吸着セットした実描画領域ａをθ補正すると共に、Ｘ・Ｙ軸方向のデータ補正を行うために用いられる。なお、ワークＷは、最終的には、ワークアライメントマークｂが形成された各実描画領域ａ間の領域で切除される。そして、実描画領域ａ毎に切り離されたワークＷに対して所定の工程を行うことにより、複数のフレキシブル基板が製造される。
【００２７】
なお、本実施形態に用いられるワークＷには、チップ部品（または金属配線）の一部が既に作り込まれている。そして、ワークＷを巻回させたときに、作り込まれたチップ部品が損傷することがないように、ワークＷの上には、エンボス加工が施された長尺のスペーサシートＳを重ね合わされており、ワークＷはスペーサシートを積層させた状態でロール状に巻回され、搬入・搬出される。
【００２８】
次に、液滴吐出装置１の各装置について説明する。図１および図２に示すように、描画装置２は、機台１１と、機台１１上の全域に広く載置され、機能液滴吐出ヘッド４２を有する描画手段１２と、描画手段１２に添設するように機台１１上に載置したヘッド保守手段１３と、を備えている。
【００２９】
描画手段１２は、送り装置４によって描画スペースに導入されたワークＷをセットするセットテーブル２１と、複数の機能液滴吐出ヘッド４２を搭載したヘッドユニット２２と、ヘッドユニット２２を垂設するキャリッジ２３と、キャリッジ２３を介し、描画スペース内においてヘッドユニット２２をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させるＸ・Ｙ移動機構２４と、を有している。なお、ここでは、ワークＷの送り方向（ワークＷの長手方向）をＸ軸方向とし、Ｘ軸方向に水平に直交する方向をＹ軸方向として説明を行うものとする。
【００３０】
セットテーブル２１は、ワークＷの送り経路に臨んで設けられた描画スペースに配置されており、ワークＷを吸着セットする吸着テーブル３１と、吸着テーブル３１をθ回転可能に支持し、機台１１に支持されたθテーブル３２と、を有している。吸着テーブル３１の表面（セット面）には、ワークＷを吸着するための吸着孔（図示省略）が複数形成されている。詳細は後述するが、本実施形態では、実描画領域単位で描画処理が行われるようになっており、吸着テーブル３１は、１つの実描画領域ａを吸着セットできる大きさに構成されている。
【００３１】
図３に示すように、ヘッドユニット２２は、ヘッドプレート４１に複数の機能液滴吐出ヘッド４２を搭載して構成されている。図４に示すように、機能液滴吐出ヘッド４２は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針５２を有する機能液導入部５１と、機能液導入部５１に連なる２連のヘッド基板５３と、機能液導入部５１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体５４と、を備えている。接続針５２は、図外の機能液タンクに接続され、機能液導入部５１に機能液を供給する。ヘッド本体５４は、キャビティ５５（ピエゾ圧電素子）と、多数の吐出ノズル５８が開口したノズル面５７を有するノズルプレート５６と、で構成されている。機能液滴吐出ヘッド４２を吐出駆動すると、（ピエゾ圧電素子に電圧が印加され）キャビティ５５のポンプ作用により、吐出ノズル５８から機能液滴が吐出される。
【００３２】
なお、多数の吐出ノズル５８は、等ピッチ（２ドットピッチ間隔）に整列して、２列の分割ノズル列が形成されていると共に、２列の分割ノズル列同士は、相互に１ドットピッチ分位置ずれしている。すなわち、機能液滴吐出ヘッド４２には、２列の分割ノズル列により１ドットピッチ間隔のノズル列が形成され、１ドットピッチ（高解像度）の描画が可能となっている。
【００３３】
ヘッドプレート４１には、複数の機能液滴吐出ヘッド４２の各ノズル列がＹ軸方向に連続（一部が重複）するように配置され、全機能液滴吐出ヘッド４２のノズル列により１描画ラインが形成されている。１描画ラインの長さは、上記したワークＷの実描画領域ａの幅長に対応しており、ワークＷに対して効率よく描画を行うことができるようになっている。
【００３４】
キャリッジ２３は、ヘッドユニット２２を支持するキャリッジ本体６１と、キャリッジ本体６１を介して、ヘッドユニット２２のθ方向に対する（水平面内の）位置補正を行うためのθ回転機構６２と、θ回転機構６２を介して、キャリッジ本体６１（ヘッドユニット２２）をＸ・Ｙ移動機構２４に支持させる略Ｉ字状の吊設部材６３と、を有している。
【００３５】
なお、キャリッジ本体６１には、ワークＷ（実描画領域a）を位置補正するためにこれを撮像する一対（２個）のワークアライメントカメラ７１がカメラ支持アーム７２を介して搭載されている。本実施形態では、吸着テーブル３１に吸着セットされた実描画領域aに隣接する一方の側（本実施形態では繰出し装置３側）に位置する一対のワークアライメントマークｂがアライメントの基準として用いられている。そして、ワークアライメントカメラ７１による撮像結果に基づいて、基準となる一対のワークアライメントマークｂが所定位置となるように、ワークＷの位置補正が為される。
【００３６】
Ｘ・Ｙ移動機構２４は、Ｘ軸方向に延在したＸ軸テーブル８１と、キャリッジ２３を介してヘッドユニット２２をＹ軸方向にスライド自在に支持すると共に、Ｘ軸テーブル８１に支持され、Ｘ軸方向にスライド自在に構成されたＹ軸テーブル８２と、を備えている。
【００３７】
Ｘ軸テーブル８１は、一対のＸ軸移動機構９１から構成されており、各Ｘ軸移動機構９１は、機台１１に立設された複数本の支柱９２上に架け渡され、かつワークＷの送り経路を挟むように配設された一対の支持ベース（図示省略）上にそれぞれ設置されている。図示省略したが、各Ｘ軸移動機構９１は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するＸ軸モータ駆動のＸ軸スライダを有しており、各Ｘ軸スライダには、Ｙ軸テーブル８２の端がスライド自在に支持されている。
【００３８】
Ｙ軸テーブル８２は、Ｘ軸テーブル８１の一対のＸ軸スライダに両端を支持されたＹ軸支持プレート９３に、Ｙ軸方向の駆動系を構成するＹ軸モータ（図示省略）と、Ｙ軸モータ駆動のＹ軸スライダ（図示省略）と、を搭載して構成されており、Ｙ軸スライダには、キャリッジ２３（吊設部材６３）がＹ軸方向に移動自在に支持されている。
【００３９】
ここで、描画処理時における一連の動作について説明する。先ず、Ｘ軸テーブル８１を駆動して、キャリッジ２３（ヘッドユニット２２）を所定位置に臨ませ、ワークアライメントカメラ７１によりワークＷを撮像する。そして、その撮像結果に基づいて、θテーブル３２を駆動し実描画領域ａのθ補正を行うと共に、Ｘ軸方向およびＹ軸方向のデータ補正を行う。
【００４０】
続いて、Ｘ軸テーブル８１を駆動して、ヘッドユニット２２をＸ軸方向に往動させると共に、これと同期して機能液滴吐出ヘッド４２を吐出駆動させ、機能液滴の選択的な吐出を行わせる。ヘッドユニット２２の往動が終了すると、Ｙ軸テーブル８２が駆動され、ヘッドユニット２２を所定距離だけＹ軸方向に移動させる。そして、再度、Ｘ軸テーブル８１の駆動と、これに同期した機能液滴吐出ヘッド４２の吐出駆動とが為され、ヘッドユニット２２のＸ軸方向の復動とワークＷに対する機能液滴の選択的な吐出とが行われる。描画処理では、このようなヘッドユニット２２のＸ軸方向への移動およびこれに同期した機能液滴吐出ヘッド４２の吐出駆動（主走査）と、ヘッドユニット２２のＹ軸方向への移動（副走査）と、を交互に繰り返すことにより、描画スペース内を機能液滴吐出ヘッド４２が移動して、吸着テーブル３１上にセットされたワークＷの実描画領域ａに単位描画パターンが描画されてゆく。なお、１個の実描画領域ａに対して、描画処理が開始されてから単位描画パターンの描画が終了するまでの動作を１タクトとする。
【００４１】
次に、ヘッド保守手段について説明する。ヘッド保守手段１３は、機能液滴吐出ヘッド４２の機能維持・回復を図るためのものであり、フラッシングユニット１０１、吸引ユニット１０２、ワイピングユニット１０３、および吐出不良検査ユニット１０４を備えている。そして、これらユニットは、ヘッドユニット２２の移動軌跡上に臨んで配置されており、ヘッドユニット２２に搭載された機能液滴吐出ヘッド４２に対して下側から臨んで、保守動作を行うようになっている。
【００４２】
なお、図２に示すように、吸引ユニット１０２、ワイピングユニット１０３、および吐出不良検査ユニット１０４は、機台１１上に立設した共通支持スタンド１０５上に設置されている。共通支持スタンド１０５は、吸引ユニット１０２、ワイピングユニット１０３および吐出不良検査ユニット１０４を支持する共通支持プレート１０５ａと、Ｙ軸方向に並んで配設され、共通支持プレート１０５ａの両端を支持する支柱部材（図示省略）と、で構成されている。機台１１および共通支持プレート１０５ａの間には間隙が生じており、ワークＷは、この間隙を潜って吸着テーブル３１に送られる（図２（ａ）参照）。
【００４３】
フラッシングユニット１０１は、機能液滴吐出ヘッド４２の全吐出ノズル５８からの捨て吐出（フラッシング）により吐出された機能液滴を受けるためのものであり、上記した描画スペースに配置され、機能液を受ける一対のフラッシングボックス１１１と、一対の各フラッシングボックス１１１を吸着テーブル３１（またはθテーブル３２）に支持させる一対のボックス支持部材１１２と、で構成されている。
【００４４】
各フラッシングボックス１１１は、平面視長方形の細長い箱状に形成されており、その底部には、機能液を吸収させる吸収材（図示省略）が敷設されている。詳細は後述するが、送り装置４により送られるワークＷは、吸着テーブル３１の前後を挟んで下側に撓ませた状態で送られるようになっており、各フラッシングボックス１１１は、吸着テーブル３１に近接したこの撓み部分に位置して配設されている（図２参照）。そして、各フラッシングボックス１１１の側面視形状は、配置されるワークＷの吸着テーブル３１側に置ける撓み形状に倣って形成されている。したがって、各フラッシングボックス１１１の底部がワークＷに干渉することがなく、各フラッシングボックス１１１は、吸着テーブル３１の近傍に配置されている。また、吸着テーブル３１よりも巻取り装置５側位置するワークＷは、描画済みの機能液が液垂れすることを防止するため、大きく撓ませることができないが、本実施形態のフラッシングボックス１１１のように、その側面視形状をワークＷの撓み形状に対応させて形成することにより、比較的小さなスペース（たわみ部分）にもフラッシングボックス１１１を配設することが可能である。なお、吸着テーブル３１の繰出し装置３側のワークＷの撓み形状と巻取り装置５側のワークＷの撓みの形状とは、それぞれ異なっており、各フラッシングボックス１１１の側面視形状もそれぞれ異なっている（図２参照）。
【００４５】
各ボックス支持部材１１２は、各フラッシングボックス１１１がワークＷの撓み部分に位置し、かつその上端面が吸着テーブル３１のセット面と面一になるように、また、各フラッシングボックス１１１が吸着テーブル３１のＹ軸に延在する一対の辺（周縁）に沿うように（ワークＷの外側）、吸着テーブル３１から張り出すようにフラッシングボックス１１１を支持している（図１および図２参照）。各ボックス支持部材１１２は、各フラッシングボックス１１１をθテーブル３２に支持しているため、吸着テーブル３１をθ補正して回転させると、これと共に各フラッシングボックスがθ回転する。
【００４６】
本実施形態では、吸着テーブル３１と、これを挟むように配設された一対のフラッシングボックス１１１と、を包括した領域が描画スペースとして設定されており、描画処理のためにワークＷを描画スペース内においてＸ軸方向に往復動すると、ヘッドユニット２２の機能液滴吐出ヘッド４２が、ワークＷに臨む直前にフラッシングボックス１１１に順次臨んで、フラッシングを行うようになっている（描画前フラッシング）。
【００４７】
なお、本実施形態では、吸着テーブル３１を挟むように、一対のフラッシングボックス１１１を設けているが、どちらか一方のみを設けるようにすることも可能である。そして、繰出し装置３側の撓み部分にフラッシングボックスを設ける場合には、上記した共通支持フレーム１０５上にこれを設置するようにしてもよい。
【００４８】
図１および図２に示すように、吸引ユニット１０２は、機能液滴吐出ヘッド４２（吐出ノズル５８）を吸引することにより、吐出ノズル５８から機能液を強制的に排出させるためのものであり、機能液滴吐出ヘッド４２のノズル面５７に密着させる複数のキャップ（図示省略）と、機能液滴吐出ヘッド４２（ノズル面５７）に対してキャップを離接させるキャップ離接機構（図示省略）と、キャップを介して機能液滴吐出ヘッド４２を吸引可能な単一の吸引手段（エゼクタまたは吸引ポンプ）と、を有している。機能液の吸引は、機能液滴吐出ヘッド４２の目詰まりを解消／防止するために行われる他、液滴吐出装置１を新設した場合や、機能液滴吐出ヘッド４２のヘッド交換を行う場合などに、機能液供給機構から機能液滴吐出ヘッド４２に至る機能液流路に機能液を充填するために行われる。
【００４９】
なお、キャップは、ワークＷの送り時のように、ワークＷに対する描画処理を一時的に停止するときに行われる機能液滴吐出ヘッド４２の捨て吐出（定期フラッシング）により吐出された機能液を受ける（定期）フラッシングボックスの機能を有している。そして、１タクトの描画処理が終了すると、ヘッドユニット２２が吸引ユニット１０２上に移動して、定期フラッシングが行われるようになっている。これにより、ワーク送り時における機能液滴吐出ヘッド４２の目詰まりを有効に防止することができる。この場合、キャップ離接機構により、キャップは、その上面が機能液滴吐出ヘッド４２のノズル面５７から僅かに離間する位置まで移動している。
【００５０】
また、キャップは、液滴吐出装置１の非稼動時に、機能液滴吐出ヘッド４２を保管するためにも用いられる。この場合、吸引ユニット１０２にヘッドユニット２２を臨ませ、機能液滴吐出ヘッド４２のノズル面５７にキャップを密着させることにより、ノズル面５７を封止し、機能液滴吐出ヘッド４２（吐出ノズル５８）の乾燥を防止する。
【００５１】
ワイピングユニット１０３は、洗浄液を噴霧したワイピングシート１２１で機能液滴吐出ヘッド４２のノズル面５７を拭き取る（ワイピングを行う）ものであり、ロール状に巻回したワイピングシート１２１を繰り出しながら巻き取ってゆく巻取りユニット１２２と、繰り出したワイピングシート１２１に洗浄液を散布する洗浄液供給ユニット（図示省略）と、洗浄液が散布されたワイピングシート１２１でノズル面５７を拭取る拭取りユニット１２４と、を備えている。
【００５２】
機能液滴吐出ヘッド４２に対するワイピング動作は、吸引ユニット１０２による機能液滴吐出ヘッド４２の吸引後等に行われ、ノズル面５７に付着した汚れを払拭するようになっている。そして、ワイピングユニット１０３は、Ｘ軸方向において吸着テーブル３１と吸引ユニット１０２との間に設置されており、吸引ユニット１０２による吸引後、描画処理のために描画スペースに移動する機能液滴吐出ヘッド４２に臨んで、効率よくワイピング動作を行うことができるようになっている（図１および図２参照）。
【００５３】
吐出不良検査ユニット１０４は、ヘッドユニット２２に搭載された全機能液滴吐出ヘッド４２（の吐出ノズル５８）から機能液が適切に吐出されているか否かを検査するためのものであり、ヘッドユニット２２の全機能液滴吐出ヘッド４２の全吐出ノズル５８から検査吐出された機能液を受け、所定の検査パターンを描画させるための被描画ユニット１３１と、被描画ユニット１３１に描画された検査パターンを撮像して検査する撮像ユニット（図示省略）と、を備えている。撮像ユニットで撮像した検査パターンの撮像結果は、制御装置６に送信されて画像認識され、この画像認識に基づいて、各機能液滴吐出ヘッド４２の各吐出ノズル５８が正常に機能液を吐出しているか（ノズル詰まりがないか）否かが制御装置６によって判断される。
【００５４】
なお、吐出不良検査ユニット１０４も吸着テーブル３１と吸引ユニット１０２との間に設置されている（図１および図２参照）。このため、定期フラッシングのために、吸着テーブル３１まで移動中のヘッドユニット２２に吐出不良検査ユニット１０４が臨んで吐出不良検査を行うことでき、（敢えてヘッドユニット２２を移動させることなく）効率的に機能液滴吐出ヘッド４２の吐出不良を検査することができる。
【００５５】
次に、繰出し装置３、送り装置４、および巻取り装置５について順に説明する。図１および図２に示すように、繰出し装置３は、機台１１の上流側に添設された繰出し機台１４１に設置されており、図外の繰出し支持フレームに回転自在に軸支され、ロール状のワークＷを装着した繰出しリール１４２と、繰出しリール１４２を正逆回転させる繰出しモータ１４３と、を備えている。そして、繰出しモータ１４３を正駆動して繰出しリール１４２を正回転させると、繰出しリール１４２から送り装置４にワークＷが繰出されるようになっている。
【００５６】
なお、繰出しリール１４２の上方に位置して、繰出し機台１４１には、ワークＷと共に繰出しリール１４２に巻回されたスペーサシートＳを巻き取るスペーサ巻取りリール１５１が設けられている。スペーサ巻取りリール１５１は、繰出しリール１４２からのワークＷの繰出しと同期してスペーサシートＳを巻取り、送り装置４には、ワークＷのみが供給されるようになっている。なお、繰出しモータ１４３をスペーサ巻取りリール１５１の駆動源として兼用してもよい。
【００５７】
ワークＷの繰出しは、上記した描画処理と並行して行われ、描画処理時に、少なくとも実描画領域ａのＸ軸方向の長さ分、すなわち次の描画処理のために送られるワークＷの送り量分（１タクト分）が繰出されるようになっている。この場合、繰り出されたワークＷは、繰出しリール１４２と送り装置４（繰出し側送りローラ１７１：後述する）との間でたるむこととなる。すなわち、繰出しリール１４２と繰出し側送りローラ１７１との間は、ワークＷのバッファ領域（空間）となる。そして、本実施形態では、このバッファ領域において、繰出し側たるみの下端位置を検出することにより、ワークＷの繰出し量を検出する繰出し量検出センサ１６１が設けられており、繰出し量検出センサ１６１の検出結果に基づいて繰出しモータ１４３の駆動が制御される。具体的には、繰出し量検出センサ１６１は、１タクト分のワークＷを繰出したときに生じる繰出し側たるみの下端位置に対応した位置に配置されており、繰出し量検出センサ１６１が繰出し側たるみの下端位置を検出すると、繰出しモータ１４３の駆動が停止されるようになっている。このように、本実施形態では、ワークＷの繰出し側たるみのたるみ量に基づいて繰出しモータ１４３を制御しているため、繰出しリール１４２のロール径に影響されることなく、（所定量の）ワークＷの繰出しを行うことが可能である。
【００５８】
なお、ワークＷをたるませた場合、ワークＷに既に作りこまれたチップ部品等が破壊されることがあるため、繰出し側たるみが所定の曲率Ｒ１を超えることがないように、繰出しリール１４２と繰出し側送りローラ１７１との距離が設定されていると共に、繰出し側たるみの下端位置の下限位置を検出する繰出し側下限センサ１６２が設けられている。
【００５９】
図１および図２に示すように、送り装置４は、繰出し機台１４１上に配設され、繰出しリール１４２から繰出されたワークＷを受け取る繰出し側送りローラ１７１と、機台１１上に配設され、繰出し側送りローラ１７１から送られたワークＷが上記の共通支持スタンド１０５（共通支持プレート１０５ａの下）を潜るように経路変更する第１経路変更ローラ１７２と、第１経路変更ローラ１７２により経路変更されたワークＷが吸着テーブル３１に水平に送られるように再度これを経路変更する第２経路変更ローラ１７３と、巻取り装置５が設置された巻取り機台１８１（後述する）上に配設され、描画済みのワークＷを巻取り装置５（巻取りリール１８２：後述する）に送る巻取り側送りローラ１７４と、巻取り側送りローラ１７４を正逆回転させる巻取り側送りモータ（図示省略）と、を備えている。巻取り側送りモータは、エンコーダ付のサーボモータまたはステッピングモータで構成されており、その回転量からワークＷの送り量が制御装置６で把握される。
【００６０】
上記した一対のフラッシングボックス１１１のうち、一方は、第２経路変更ローラ１７３により経路変更されて送られるワークＷの上り傾斜部分に配設され、他方は、吸着テーブル３１から下り傾斜に送られるワークＷの傾斜部分に配設されている。なお、吸着テーブル３１から下り傾斜に送られるワークＷには、描画処理により機能液滴による描画が為されているため、その傾斜角度は、既にワークＷに描画した機能液が傾斜により液垂れしない角度に設定されている。巻取り側送りモータは、エンコーダ付のサーボモータまたはステッピングモータで構成されており、その回転量からワークＷの送り量が制御装置６で把握される。
【００６１】
送り装置４によるワークＷの送りは、上記した１タクトの描画処理が終了した後行われ、１タクトの描画処理が終了すると、巻取り送りモータが駆動される。これにより、駆動ローラである巻取り側送りローラ１７４が回転すると共に、従動ローラである繰出し側送りローラ１７１、第１経路変更ローラ１７２、および第２経路変更ローラ１７３が従動回転する。そして、１タクト分のワーク送りが為され、セットテーブル２１から、描画済みのワークＷが送り出されると共に、セットテーブル２１に新たな部分（実描画領域ａ）が送り込まれる。上述したように、本実施形態では、ワークＷの送りを開始する前に、１タクト分のワークＷが予め繰り出されているため、繰出し装置３によるワークＷの繰出しに影響されることがなく、迅速かつ精度よくワーク送りを行うことができるようになっている。
【００６２】
図１および図２に示すように、巻取り装置５は、機台１１の下流側に添設された巻取り機台１８１に設置されており、図外の巻取り支持フレームに回転自在に軸支され、送り装置４から送られてきた描画済みのワークＷを巻き取る巻取りリール１８２と、巻取りリール１８２を正逆回転させる巻取りモータ１８３と、を備えている。そして、巻取りモータ１８３を正駆動して巻取りリール１８２を正回転させると、巻取り側送りローラ１７４からのワークＷが巻取りリール１８２に巻き取られるようになっている。
【００６３】
ワークＷの巻取り動作は、ワークＷの繰出し動作と同様、描画処理と並行して行われる。送り装置４（巻取り側送りローラ１７４）からの送られてきた（１タクト分の）ワークＷは、一旦たるんだ状態で巻取り装置５側に送られる。そして、ワークＷの送りが終了して描画処理が開始すると、巻取りモータ１８３が駆動され、たるんだワークＷが巻取りリール１８２に巻き取られてゆく。この場合、巻取りモータ１８３の制御もたるみ（巻取り側たるみ）を検出することによって行っている。具体的には、１タクト分のワークＷを巻き取ったときの巻取り側たるみの下端位置に対応して巻取り量検出センサ１９１を配置し、巻取り量検出センサ１９１が巻取り側たるみの下端位置を検出すると、巻取りモータ１８３の駆動が停止されるようになっている。また、送り装置４には、ワークＷの巻取り過ぎを検出するために、巻取り側たるみの下端位置の上限位置を検出する巻取り側上限センサ１９２が設けられている。
【００６４】
なお、同図に示す符号２０１は、スペーサシートＳを供給するスペーサ供給リールであり、巻き取られる描画済みのワークＷ上にスペーサシートＳを供給する。供給されたスペーサシートＳは、ワークＷと共に巻取りリール１８２に巻き取られ、描画処理によってワークＷに形成されたチップ部品や既に形成済みの素子等が破壊されることを防止する。
【００６５】
なお、請求項にいうワーク受容手段は、送り装置４の一部（巻取り側送りローラ１７４、巻取り側送りモータ）と、巻取り装置５とにより構成されている。また、本実施形態では、巻取り側送りローラ１７４によって吸着テーブル３１から受け渡された描画済みのワークＷを巻取り装置によりロール状に巻き取る構成としているが、描画装置２による描画処理に引き続き、他の装置を用いた処理を連続して行う場合には、描画済みのワークＷの巻取りを行わず、巻取り側送りローラ１７４から他の装置にそのままワークＷを送り出すようにする。
【００６６】
次に、図５を参照しながら液滴吐出装置１の主制御系について説明する。液滴吐出装置１は、描画手段１２を有する描画部２１１と、ヘッド保守手段１３を有するヘッド保守部２１２と、繰出し装置３を有するワーク繰出し部２１３と、送り装置４を有するワーク送り部２１４と、巻取り装置５を有するワーク巻取り部２１５と、各装置の各種センサ類（繰出し量検出センサ１６１、繰出し側下限センサ１６２、巻取り量検出センサ１９１、巻取り側上限センサ１９２等）を有し、各種検出を行う検出部２１６と、各部を駆動する各種ドライバを有する駆動部２１７と、各部に接続され、液滴吐出装置１全体の制御を行う制御部２１８（制御装置６）と、を備えている。
【００６７】
制御部２１８は、各装置を接続するためのインタフェース２２１と、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ２２２と、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ２２３と、ワークＷに描画を行うための描画データや、各装置からの各種データ等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク２２４と、ＲＯＭ２２３やハードディスク２２４に記憶されたプログラム等に従い、各種データを演算処理するＣＰＵ２２５と、これらを互いに接続するバス２２６と、を備えている。
【００６８】
そして、制御部２１８は、各装置から送られてきた各種データを、インタフェース２２１を介して入力すると共に、ハードディスク２２４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等の外部入力装置から順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ２２５に演算処理させ、その処理結果を、インタフェース２２１を介して各装置に出力する。これにより、各装置が統括制御され、上記したワークＷに対する一連の処理が行われるようになっている。
【００６９】
以上に述べたように、本実施形態の液滴吐出装置１では、ワークＷの送り方向であるＸ軸方向において、吸着テーブル３１の前後でワークＷを撓ませ、この撓み部分にフラッシングボックス１１１を配設したので、描画処理時にヘッドユニット２２に搭載した全機能液滴吐出ヘッド４２に描画前フラッシングを行わせることができ、ワークＷの実描画領域aに安定して描画を行うことが可能である。
【００７０】
なお、本実施形態の液滴吐出装置は、抵抗、コイル、コンデンサ等の素子や金属配線等を形成するために用いることができるが、これらを形成するための工程はそれぞれ別個のものである。そして、各工程に対応する複数の液滴吐出装置に、それぞれの目的に合わせた専用の機能液を導入すると共に、所定の順番で各工程に対応する液滴吐出装置にワークを順次導入し描画処理を行わせることにより、これら素子や配線がワークＷ上に順に形成されてゆく。
【００７１】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【００７２】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１２は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図７は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図７（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００７３】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図７（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図７（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド４２により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００７４】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【００７５】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図７（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド４２によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド４２を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００７６】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図７（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００７７】
図８は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図７に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００７８】
この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００７９】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図８において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００８０】
液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。
そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８１】
通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００８２】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド４２で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド４２で行うことも可能である。
【００８３】
図９は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００８４】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。
【００８５】
液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８６】
図１０は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００８７】
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。
【００８８】
対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００８９】
また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００９０】
なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００９１】
次に、図１１は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。
【００９２】
この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００９３】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【００９４】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【００９５】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第1層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。
【００９６】
このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【００９７】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【００９８】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【００９９】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１００】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。
【０１０１】
そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１０２】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１０３】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図１２〜図２０を参照して説明する。
この表示装置７００は、図１２に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、及び対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１０４】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１３に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図１４に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【０１０５】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド４２を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１０６】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）及び発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１０７】
図１５に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド４２から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図１６に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。
【０１０８】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【０１０９】
そして次に、図１７に示すように、各色のうちの何れか（図１７の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【０１１０】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図１８に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【０１１１】
同様に、機能液滴吐出ヘッド４２を用い、図１９に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１１２】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１１３】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２０に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１１４】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【０１１５】
次に、図２１は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１１６】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【０１１７】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【０１１８】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１９】
本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド４２により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１２０】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【０１２１】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド４２から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【０１２２】
次に、図２２は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【０１２３】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１２４】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１２５】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１２６】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１２７】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図２３（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２３（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１２８】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の説明図であり、（a）は液滴吐出装置の平面図、（ｂ）はワークの拡大平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の説明図であり、（a）は液滴吐出装置の側面図、（ｂ）はワークのセットテーブル廻りの拡大側面図である。
【図３】ヘッドプレート廻りの平面図である。
【図４】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図５】液滴吐出装置の主制御系について説明したブロック図である。
【図６】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図７】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図８】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図９】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１１】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１２】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１３】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１４】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１５】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１６】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１７】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１８】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１９】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２０】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２１】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２２】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２３】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１３０】
１  液滴吐出装置                  ２  描画装置
３  繰出し装置                    ４  送り装置
５  巻取り装置                    ６  制御装置
２１  セットテーブル              ３１  吸着テーブル
３２  θテーブル                  ４２  機能液滴吐出ヘッド
７１  ワークアライメントカメラ  １０１  フラッシングユニット
１１１  フラッシングボックス      １４２  繰出しリール
１８２  巻取りリール
Ｗ  ワーク                        ａ  実描画領域
ｂ  アライメントマーク
【図１】
2006116436.tif 000003
【図２】
2006116436.tif 000004
【図３】
2006116436.tif 000005
【図４】
2006116436.tif 000006
【図５】
2006116436.tif 000007
【図６】
2006116436.tif 000008
【図７】
2006116436.tif 000009
【図８】
2006116436.tif 000010
【図９】
2006116436.tif 000011
【図１０】
2006116436.tif 000012
【図１１】
2006116436.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
2006116436.tif 000015
【図１４】
2006116436.tif 000016
【図１５】
2006116436.tif 000017
【図１６】
2006116436.tif 000018
【図１７】
2006116436.tif 000019
【図１８】
2006116436.tif 000020
【図１９】
2006116436.tif 000021
【図２０】
2006116436.tif 000022
【図２１】
2006116436.tif 000023
【図２２】
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【図２３】
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