(57)【要約】【課題】液晶表示器のガラス基板の異方性導電フィルムの貼付領域だけを効率的に洗浄すること。【解決手段】電極１０Ａ及び１０Ｂは、互いに対峙する面に各々一連の溝部１１を有する。電極１０Ａ及び１０Ｂと、プラズマを発生させるガスの流路２０１を有する絶縁物から成る治具２０とを組み合わせて開口部１０１を形成する。こうして電極１０Ａ及び１０Ｂに交流電位を印加すると、陰極側となった電極の溝部１１にホローカソードプラズマが発生し、プラズマを発生させるガスの流れと共に図面上方に位置する被加工物に照射される。電極１０Ａ及び１０Ｂの対峙する領域、即ちの開口部１０１の形状を設計することで、液晶表示装置のガラス基板の任意形状の領域に効率良くプラズマを照射し、この領域のみを効率良く洗浄することが可能となる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体の吸着物を除去する洗浄装置であって、
所望の形状の開口部を形成するように、間隙を挟んで用いられる２つの電極を有し、
少なくとも片方の前記電極の前記間隙に面する部分に、少なくとも１箇所の凹部が形成されており、
前記開口部とは逆側から前記間隙にプラズマを発生させるガスを注入することで、前記凹部においてホローカソード放電によるプラズマを発生可能とし、前記開口部からプラズマを放出可能とし、
前記開口部に対して対向するように配置された前記物体に前記プラズマを照射するようにしたことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
物体の吸着物を除去する洗浄装置であって、
所望の形状の開口部を形成するように、間隙を挟んで用いられる２つの電極を有し、
少なくとも片方の前記電極の前記間隙に面する部分に、前記開口部の形状に対応した一連の溝部が形成されており、
前記開口部とは逆側から前記間隙にプラズマを発生させるガスを注入することで、前記溝部においてホローカソード放電によるプラズマを発生可能とし、前記開口部の形状の範囲にプラズマを放出可能とし、
前記開口部に対して対向するように配置された前記基板に前記プラズマを照射するようにしたことを特徴とする洗浄装置。
【請求項３】
前記吸着物は有機物質であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記物体はガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の洗浄装置。
【請求項５】
液晶表示装置の基板の洗浄装置であって、
所望の形状の開口部を形成するように、間隙を挟んで用いられる２つの電極を有し、
少なくとも片方の前記電極の前記間隙に面する部分に、少なくとも１箇所の凹部が形成されており、
前記開口部とは逆側から前記間隙にプラズマを発生させるガスを注入することで、前記凹部においてホローカソード放電によるプラズマを発生可能とし、前記開口部からプラズマを放出可能とし、
前記基板の端子部に異方性導電フィルムを貼付する前に、前記開口部に対して対向するように配置された前記基板に前記プラズマを照射するようにしたことを特徴とする液晶表示装置の基板洗浄装置。
【請求項６】
液晶表示装置の基板の洗浄装置であって、
所望の形状の開口部を形成するように、間隙を挟んで用いられる２つの電極を有し、
少なくとも片方の前記電極の前記間隙に面する部分に、前記開口部の形状に対応した一連の溝部が形成されており、
前記開口部とは逆側から前記間隙にプラズマを発生させるガスを注入することで、前記溝部においてホローカソード放電によるプラズマを発生可能とし、前記開口部の形状の範囲にプラズマを放出可能とし、
前記基板の端子部に異方性導電フィルムを貼付する前に、前記開口部に対して対向するように配置された前記基板に前記プラズマを照射するようにしたことを特徴とする液晶表示装置の基板洗浄装置。
【請求項７】
前記異方性導電性フィルム上に液晶素子を駆動する半導体素子又はＦＰＣを配設する液晶表示器を組み付ける液晶表示器組付装置において、
請求項５又は請求項６に記載の洗浄装置を設けたことを特徴とする液晶表示器組付装置。
【請求項８】
前記洗浄装置の前記開口部に対向する前記基板は、前記開口部に対して移動されており、前記基板の搬送過程において、プラズマによる洗浄が行われることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示器組付装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄装置、液晶表示器の基板洗浄装置及び液晶表示器組付装置に関する。特に、液晶表示器の基板において、異方性導電フィルム（以下、「ＡＣＦ」という）を貼付する部分を、ＡＣＦを貼付する前に、洗浄することで、ＡＣＦの基板に対する接着度を向上させた装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記の特許文献１、２に開示されているように、  液晶表示器のガラス基板上の端子部と外部機器などの接続にＡＣＦが用いられている。ＡＣＦをガラス基板に貼付する前に、このＡＣＦのガラス基板に対する接合力を向上させるために、ガラス基板をプラズマで洗浄することが行われている。
【０００３】
【特許文献１】特開平３−２２８０２９号公報
【特許文献２】特開２００４−１０２２７１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、この装置で用いられているプラズマ発生装置は、プラズマ発生密度が低く、プラズマの温度も高いために、洗浄力が必ずしも高いとは言えなかった。また、液晶表示器には偏光フィルムが用いられているものもあるが、プラズマの温度が高いとこのフィルムが損傷してしまうという問題があった。このため、携帯電話などの小型の液晶表示器の基板には用いることが困難であった。
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するために成されたものであり、液晶表示器の基板において、ＡＣＦを貼付する領域だけを効果的に洗浄し、他の領域には熱的影響やプラズマの照射による影響がない局所的に低温高密度のプラズマの照射が可能な小型の液晶表示装置の基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため請求項１の発明は、物体の吸着物を除去する洗浄装置であって、所望の形状の開口部を形成するように、間隙を挟んで用いられる２つの電極を有し、少なくとも片方の電極の間隙に面する部分に、少なくとも１箇所の凹部が形成されており、開口部とは逆側から間隙にプラズマを発生させるガスを注入することで、凹部においてホローカソード放電によるプラズマを発生可能とし、開口部からプラズマを放出可能とし、開口部に対して対向するように配置された物体にプラズマを照射するようにしたことを特徴とする洗浄装置である。
また、請求項２の発明は、物体の吸着物を除去する洗浄装置であって、所望の形状の開口部を形成するように、間隙を挟んで用いられる２つの電極を有し、少なくとも片方の電極の間隙に面する部分に、開口部の形状に対応した一連の溝部が形成されており、開口部とは逆側から間隙にプラズマを発生させるガスを注入することで、溝部においてホローカソード放電によるプラズマを発生可能とし、開口部の形状の範囲にプラズマを放出可能とし、開口部に対して対向するように配置された基板にプラズマを照射するようにしたことを特徴とする洗浄装置である。
また、請求項３の発明は、吸着物は有機物質であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の洗浄装置であり、請求項４の発明は、物体はガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の洗浄装置である。
以上の発明の装置は、物体に付着した有機物質などの不純物を除去するのに用いることができる。
請求項５の発明は、液晶表示装置の基板の洗浄装置であって、所望の形状の開口部を形成するように、間隙を挟んで用いられる２つの電極を有し、少なくとも片方の電極の間隙に面する部分に、少なくとも１箇所の凹部が形成されており、開口部とは逆側から間隙にプラズマを発生させるガスを注入することで、凹部においてホローカソード放電によるプラズマを発生可能とし、開口部からプラズマを放出可能とし、基板の端子部に異方性導電フィルムを貼付する前に、開口部に対して対向するように配置された基板にプラズマを照射するようにしたことを特徴とする液晶表示装置の基板洗浄装置である。
本発明は凹部において生じるマイクロホローカソード放電によって、開口部に供給されたガスをプラズマ化する装置である。
【０００７】
請求項６の発明は、液晶表示装置の基板の洗浄装置であって、所望の形状の開口部を形成するように、間隙を挟んで用いられる２つの電極を有し、少なくとも片方の電極の間隙に面する部分に、開口部の形状に対応した一連の溝部が形成されており、開口部とは逆側から間隙にプラズマを発生させるガスを注入することで、溝部においてホローカソード放電によるプラズマを発生可能とし、開口部の形状の範囲にプラズマを放出可能とし、基板の端子部に異方性導電フィルムを貼付する前に、開口部に対して対向するように配置された基板にプラズマを照射するようにしたことを特徴とする液晶表示装置の基板洗浄装置である。
本発明は、プラズマを照射する形状を任意にすることができ、一連の溝部において生じるマイクロホローカソード放電によって、開口部に供給されたガスをプラズマ化する装置である。
【０００８】
請求項７の発明は、異方性導電性フィルム上に液晶素子を駆動する半導体素子又はＦＰＣを配設する液晶表示器を組み付ける液晶表示器組付装置において、請求項５又は請求項６に記載の洗浄装置を設けたことを特徴とする液晶表示器組付装置である。
本発明は、上記の基板洗浄装置を有することに特徴を有する液晶表示器組付装置である。
【０００９】
請求項８の発明は、洗浄装置の開口部に対向する基板は、開口部に対して移動されており、基板の搬送過程において、プラズマによる洗浄が行われることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示器組付装置である。
本発明は、ＡＣＦを貼付する工程に液晶表示器の基板を搬送する過程において、基板を洗浄することを特徴とした液晶表示器組付装置である。
以上の全ての発明において、大気圧が望ましいが、減圧でも、加圧でも良く、大気圧には、０．５〜２気圧程度も大気圧とする。
【発明の効果】
【００１０】
電極を直流電源または交流電源に接続すると、負電位の印加された電極側の凹部又は溝部にホローカソード放電が生じ、当該凹部又は溝部に高密度のプラズマが発生する。このプラズマがガス流に沿って放出され、開口部の形状にしたがったパターンで照射される。２つの電極の間隙を所望の形状とすることで、微小な又は特殊な形状の領域でも、プラズマを特に効率良く照射することが容易に達成できる。この際、直流電源を用いる場合は陰極側に、交流電源を用いる場合は少なくとも一方に、望ましくは両方に、凹部又は一連の溝部を形成すると良い。このようにして、プラズマ流を大気圧の外部に出力させることができる。また、本装置では、電圧を印加する方向と、ガス流の方向とは直交しており、凹部や溝において放電を発生させるものであるので、ガス流の方向に沿っては電極を長くすることができる。したがって、狭い間隙間においてプラズマを生成し、ガスの流れる方向に沿ったプラズマ生成領域の長さを長くとることができる。この結果として、ガスの流速を高くすることで、プラズマの生成密度を高くでき、プラズマの温度を低くすることが可能となる。したがって、有機物などの不純物の付着したガラス基板などの物体の洗浄を高い精度及び高効率で行うことができる（請求項１、２、３、４）。また、液晶表示器の基板においてＡＣＦを貼付する領域にのみ、他の領域に影響を与えることなく、プラズマを照射することができる（請求項５、６）。
【００１１】
請求項７、８の発明では、液晶表示器組付装置に、請求項５又は６の洗浄装置を設けたものである。ＡＣＦを基板に貼付する直前に、基板のＡＣＦの貼付領域のみ高度に洗浄することが可能となり、ＡＣＦを基板に強固に接合できるので、製品の信頼性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
洗浄する物体としては任意であり、例えばガラス基板である。また、物体に吸着した不純物は、任意であり、例えば、有機物質である。特に、本発明は、液晶表示器の基板（例えば、ガラス基板）の洗浄に有効である。
本発明は開口部付近においてプラズマを発生させ、開口部間近に配置された液晶表示器の基板に当該プラズマを照射させるので、他の大きなプラズマ発生領域は必要ではない。開口部を形成するためには、２つの電極と、それを固定するための絶縁体から成る治具が必要である。当該絶縁体にガス流路を設け、当該ガス流路の終端に２つの電極を配設することが最も簡単な構成となる。例えば矩形形状（ストライプ状）の開口部を形成するためには、２つの電極の互いに対峙する面と、絶縁体から成る治具により４辺（面）を形成すると良い。ガス流路を有する絶縁体から成る治具は、１個で構成しても、複数個の部品を組み合わせて構成しても良い。
【００１３】
電極の材料としては、ステンレス、モリブデン、タンタル、ニッケル、銅、タングステン、又は、これらの合金などを使用することができる。ホローカソード放電を生じせしめる凹部を形成する面は、ガスの流路方向に１〜３０ｍｍ程度の厚さとするのが望ましい。厚くすることで、凹部を多段に形成することができ、ガスの流速を向上させてプラズマの生成密度を向上させることができる。ホローカソード放電を生じせしめる凹部は、例えば幅及び深さを１ｍｍ以下、０．５ｍｍ程度とすると良い。凹部はドット状に不連続に形成されても、溝状に連続して形成されても良いが、連続していた方が望ましい。凹部の形状は、円柱面状、半球面状、角柱面状、角錐状、その他任意に形成できる。
【００１４】
プラズマを発生させるためのガスは、大気圧で、空気、酸素、例えばＨｅ、Ｎｅ、Ａｒその他の希ガス、窒素、水素などを用いることができる。空気や酸素を用いることにより、活性な酸素ラジカルが得られ、有機汚染物質の効果的な洗浄が可能となる。また、空気を用いれば経済的である。たとえば、希ガスであるＡｒを用いた場合には、Ａｒプラズマが基板に照射される時、周囲の酸素分子がＡｒプラズマにより酸素ラジカルになる。この酸素ラジカルにより液晶表示器の基板に付着している有機汚染物質を効果的に除去することができる。また、ガスとしてＡｒガス以外に使用しないので、経済的でもある。以上の理由か、空気とＡｒとの混合ガスを用いても良い。同様に酸素ラジカルが発生することから、基板に付着している有機汚染物質を効果的に除去することができる。ガスの流速、供給量、或いは真空度は任意に設定できる。また、本発明は高周波によりプラズマを発生させるものではなく、電極に接続する電源は、直流、交流、その他任意であって、周波数に制限はない。
【００１５】
また、開口部と基板との距離は、ガスの流速とも関係するが、２ｍｍ〜２０ｍｍの範囲が望ましい。さらに望ましくは、３ｍｍ〜１２ｍｍであり、最も望ましくは、４ｍｍ〜８ｍｍである。要するに、基板の表面において酸素ラジカルの密度が最も高く、電子密度が最も低くなるような距離に設定するのが良い。これにより、基板の対するチャージアップ損傷を防止でき、最も、効率の良い洗浄が可能となる。さらに、基板に対して斜め方向からプラズマを照射するのが良い。斜め方向からプラズマを照射することで、偏光フィルムや液晶封止剤にプラズマが照射されて製品に対する悪影響を防止することができる。また、基板上のプラズマを照射したくないところには、照射したくないところに空気などのガスを吹き付けて、プラズマが拡散しないようにすることで、基板のＡＣＦを貼付する部分のみプラズマを照射して、この部分のみの洗浄をすることができる。
【００１６】
また、電極の酸化防止には、窒素やＡｒ、又は、還元作用のある水素を含むガスを用いると良い。また、複数種類のプラズマを発生させることで、有機汚染物質のみ除去し、他の領域には反応しないようにすることも可能である。また、基板へのプラズマの照射部分から反応後のガスを吸引しておくのが望ましい。これにより有機汚染物質と反応した分子が他の領域に付着することが防止される。さらに、プラズマの温度と密度をレーザ光の吸収分光分析などを用いて測定し、所定の温度と密度になるように、印加電圧の大きさ、パルス印加であれば、デューティ比、照射時間、ガス流速などをフィードバック制御することが望ましい。これにより、品質の高い洗浄と洗浄時間の短縮を実現することができる。また、開口部を直線状に形成したとして、開口部の幅と長さを適正に設定することにより、基板においてＡＣＦを貼付する部分にのみプラズマを照射することが可能となる。また、基板上にＡＣＦを貼付する装置に基板を搬送する過程において、搬送中に基板にプラズマを照射することで、製造時間を短縮することが可能となる。さらに、ガスを冷却しておいて、本装置に供給してプラズマ化するのが望ましい。これにより、プラズマの温度が上昇することが防止され、液晶表示装置に対する影響、たとえば、偏光フィルムへの損傷を防止することが可能となる。この基板洗浄装置は、ガスを通過させる筒状の胴体部分とその先端に設けられた対向電極を形成する開口部とから成るので、非常に小型にすることができると共に、ガスの供給方向とプラズマの吹き出し方向や、吹き出しプラズマの形状などを任意に自由に設計することができる。よって、これらのプラズマを吹き出す開口部を複数設け、それぞに、任意の方向からガスを供給させることも可能となる。したがって、基板においてＡＣＦの貼付部分にのみプラズマを高密度で照射することが可能となると共に、液晶表示器組付装置の空いている狭い空間であっても、有効に本洗浄装置を有効に取り付けることが可能となる。
【実施例１】
【００１７】
本実施例では、洗浄する物体として液晶表示器の基板（例えば、ガラス基板）の洗浄に用いた例である。吸着物質としては、任意であるが、例えば、有機物質である。
図１は本発明の具体的な一実施例に係る基板洗浄装置の特徴ある要部の構成を示す図であり、図１．Ａは開口部１０１付近を示す外観図、図１．Ｂはガス流路２０１に沿った断面図、図１．Ｃは電極１０Ａ及び１０Ｂの溝部１１の詳細を示す断面図である。
【００１８】
図１．Ｂのように、ガス流路２０１を中心に有する筒状の絶縁体から成る治具２０と、２つの先端で屈曲した板状の電極１０Ａ及び１０Ｂを組み合わせる。この際、図１．Ａのように、２つの電極１０Ａ及び１０Ｂと治具２０と囲まれた、４辺（面）を有する開口部１０１が形成される。電極１０Ａ及び１０Ｂには、図１．Ｃのように互いに対峙する面において、幅及び深さが共に0.5mmの凹部１１が電極１０Ａ、１０Ｂの厚さ方向に沿って２箇所形成されている。当該凹部１１は開口部１０１の長辺方向に沿って形成されており、その開口部１０１と同一の長さを有した溝部となっている。凹部１１の長辺に垂直な断面は１辺が除かれた矩形状（コの字形状）である。尚、ガス流路２０１の形状は、ガスを導入する接続部２０３付近においては円筒状でありテーパ部２０１ｔを経由して先端部２０２においては断面が矩形状である。また、電極１０Ａ及び１０Ｂはボルト３０Ａ及び３０Ｂで各々治具２０に固定されている。
【００１９】
電極１０Ａ及び１０Ｂを交流電源に接続して電圧を印加し、治具２０のガス流路２０１を通して開口部１０１へプラズマを発生させるためのガスを大気圧で流すと、電極１０Ａ及び１０Ｂのうち負電位が印加された側の凹部１１において、ホローカソード放電により放出された電子がガスに衝突してプラズマが高密度に発生する。このホローカソード放電によって発生したプラズマはガス流に乗って開口部１０１から照射される。これにより、液晶表示器の洗浄対象の基板の開口部１０１に面した狭い領域に効率良くプラズマが照射される。
【００２０】
図２は、電極１０Ａ及び１０Ｂ及び治具２０の形状を説明するための斜視図であり、図２．Ａは組み立て前の斜視図、図２．Ｂは組み立て後の斜視図である。図２．Ａのように、電極１０Ｂの溝部１１は、開口部１０１の長手方向に対応して一連（連続した）の溝となっている。電極１０Ａの溝部１１も同様に形成される。治具２０のガス流路２０１の先端部２０２は図２．Ａに示す通り矩形状である。治具２０はガス流路２０１の先端部２０２よりも上部に、突出部２１１を有し、また、電極１０Ａを組み付けるための凹部２１０Ａを有している。また、電極１０Ｂを組み付けるための凹部２１０Ｂも同様に有している。図２．Ｂの如く、治具２０の突出部２１１の内面と、電極１０Ａ及び１０Ｂとで矩形状（スリット状）の開口部１０１が形成される。
【００２１】
図３は治具２０の形状を詳細に説明するための図であり、図３．Ａはガス流路２０１の先端部２０２側から見た平面図、図３．Ｂは正面図、図３．Ｃは図３．ＡのＣ矢視方向の断面図、図３．Ｄ及び図３．Ｅは各々図３．ＢでＤ、Ｅ矢視方向の断面図である。図２でも示した通り、ガス流路２０１を有する外観が直方体形状の治具２０には、その先端部にガス流路２０１の矩形状の先端部２０２よりも突出している突出部２１１が設けられ、電極１０Ａ及び１０Ｂを組み付けるための凹部２１０Ａ及び２１０Ｂが設けられ、根元部にガスを導入する接続部２０３が設けられている。図３．Ｃ、３．Ｄ及び３．Ｅに示す通り、ガス流路２０１の形状は、ガスを導入する接続部２０３付近においては円筒状でありテーパ部２０１ｔを経由して、先端部２０２では矩形形状になっている。
【００２２】
尚、図３の各図においては、ボルト３０Ａ及び３０Ｂを組み付けるための穴や、ガスを導入する接続部２０３のネジ山は省略した。また、電極１０Ａ及び１０Ｂの組み付けは、各々１個のボルト３０Ａ及び３０Ｂによるものに限定されない。例えばガス流路２０１の矩形状の先端部２０２付近に更に開口部１０１の空隙幅調整用のワッシャ及びボルトを設ける等の任意の公知の技術を追加又は置換することができる。また、図１乃至図３は基板洗浄装置の要部である「プラズマ発生部分」を示したものであるが、これをガスの供給装置や電源装置を有する装置に組み込むことで、基板洗浄装置を構成することができる。この際、図１乃至３に示した、電極１０Ａ及び１０Ｂを固定した治具２０を、任意の手段で固定し、電源を接続し、接続部２０３にガス供給系を接続することは、全て本願発明の実施に当たる。尚、説明の都合上「開口部が上向き」の図を掲載しているが、プラズマを下向きに放出するダウンフロープラズマを発生させる構成が本願発明に包含されることは当然である。
【００２３】
図１の構成は、ガス流路を有する絶縁物から成る治具２０に２つの電極を組み合わせて開口部を形成するものであったが、例えば図４のように、２つの電極１０Ｃ及び１０Ｄのみで開口部１０１を形成する構成としても良い。図４の構成においては、開口部１０１を形成する電極１０Ｃ及び１０Ｄの互いに対峙する面に、凹部を形成する。凹部を連続した溝とする場合は、開口部１０１の星型形状に対応するように、当該溝部（凹部）が星型様に形成される。尚、ガス流路を有する治具の形状及び治具と電極との固定方法、並びに電極と電源との接続方法については任意である。
【００２４】
その他、開口部の形状は、図５．Ａのように鉤型でも、また図５．Ｂのように幅広の部分を有するストライプ状でも良い。図５．Ｂのように開口部の幅が場所によって異なる場合は、必要に応じ、幅広部分において電極の対峙する面に形成する凹部を多くする。
【００２５】
図１では、下方からプラズマ発生ガスを導入し、洗浄対象の基板を開口部１０１の上方向に配設することを想定して記載したが、開口部の向き、即ちプラズマの放出方向は上方向に限られない。図１は本発明の要部を説明するための一実施例であり、開口部を横方向、下方向として基板洗浄装置を構成しても良い。
【００２６】
図６に示すように、上記した基板洗浄装置１の直線状の開口部１０１が被洗浄物である液晶表示器のガラス基板４０に対向するように、洗浄装置１を配置する。この時、ガラス基板４０をｘ軸方向に移動すれば、ガラス基板４０の表面において、開口部１０１の幅にほぼ等しい幅Ｗで、−ｘ軸方向に沿ってガラス基板４０の表面が洗浄される。開口部１０１とガラス基板４０の表面との距離Ｈは、プラズマ流がガラス基板４０の表面に照射される距離に設定すれば良く、洗浄可能な最大距離は、ガスの供給量速度によっても変化する。
【００２７】
次に、基板洗浄装置１の開口部１０１とガラス基板４０の表面との距離を５．５ｍｍに設定して、ガラス基板４０へのプラズマの照射時間と表面洗浄の効果との関係を測定した。表面洗浄の効果は、ガラス基板４０の表面に一定量の水を滴下して、表面に水滴を形成して、その水滴の接触角（基板との接触点における水滴表面の接平面と基板表面との成す角）で評価した。その結果を図７の表と、図８のグラフに示す。照射時間０時間は、プラズマによる洗浄をしない時の値であり、照射時間０．０７８４ｓｅｃは、ガラス基板４０を３８．２６５ｍｍ／ｓｅｃの速度でｘ軸方向に移動させながら、プラズマを照射した場合における開口部１０１の幅３ｍｍ当たりの照射時間に相当する。このグラフから明らかなように、ガラス基板４０を３８．２６５ｍｍ／ｓｅｃで搬送しながら、洗浄したとしても、接触角は２４度であり、洗浄しない場合の１／３程度まで低下し、高い洗浄効果が得られていることが理解される。プラズマの照射時間を３０ｓｅｃとすると、水滴の接触角は５度となり、極めて高い洗浄効果が得られていることが分かる。
【００２８】
ガラス基板４０を３８．２６５ｍｍ／ｓｅｃで搬送しながら洗浄する場合の洗浄効果を高めるには、ガラス基板の搬送ラインに沿って、１０箇所にこの基板洗浄装置１を設ければ、プラズマの照射時間は、約０．８ｓｅｃとなり、水滴の接触角１８度の洗浄度が得られる。
【００２９】
図９は、ガラス基板４０の洗浄も含めた液晶表示器組付装置の構成を示している。ガラス基板４０はガラス基板供給装置５０により搬送装置５１に供給される。搬送装置５１に供給されたガラス基板４０は基板洗浄装置１の直下を通過して、ＡＣＦ貼付装置５２に供給され、さらに、部品接合装置５３によってＩＣチップがＡＣＦに圧着される。その後、他の部品もガラス基板４０上に組み付けられ、液晶表示器となる。液晶表示器組付装置は、このような構成となっている。
【００３０】
また、図６に示すように、プラズマを照射しない領域Ｓには、偏光フィルムや基板間の接合剤（図示略）など、プラズマが照射されたくない部品が存在する。この領域Ｓに、確実に、プラズマを照射しないようにするためには、基板洗浄装置１を領域Ｓ側に傾斜させて、開口部１０１とガラス基板４０の表面との成す角を、たとえば、４５度位とする。このようにすれば、プラズマはガラス基板４０に対して、領域Ｓ側に４５度だけ傾斜した方向から照射されることになり、領域Ｓへのプラズマの照射を排除することができる。さらに、領域Ｓ上に窒素ガスを別の装置により吹き付けておくと、領域Ｓにプラズマが照射されることが防止される。また、プラズマとガラス基板４０上に付着している有機汚染物質と反応して得られるガスを吸入するために、別の吸引装置をプラズマの吹付位置付近に設け置くのが良い。
【産業上の利用可能性】
【００３１】
本発明は、物体に付着した不純物を除去するための洗浄装置に用いることができる。特に、液晶表示器のガラス基板の異方性導電フィルムを貼付する領域の洗浄に用いると有効である。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の具体的な一実施例に係る基板洗浄装置の要部の構成図。
【図２】電極１０Ａ及び１０Ｂ及び治具２０の形状を説明するための、組み立て前の斜視図（２．Ａ）、組み立て後の斜視図（２．Ｂ）。
【図３】治具２０の、ガス流路２０１の先端部２０２側から見た平面図（３．Ａ）、正面図（３．Ｂ）、３．ＡのＣ矢視方向の断面図（３．Ｃ）、３．ＢでＤ、Ｅ矢視方向の断面図（３．Ｄ及び３．Ｅ）。
【図４】他の電極形状（開口部形状）を示す図。
【図５】他の電極形状（開口部形状）を示す図。
【図６】本発明の具体的な一実施例に係る洗浄装置による洗浄方法を示した説明図。
【図７】本洗浄装置により洗浄されたガラス基板の洗浄効果を示す洗浄時間と水滴の接触角との関係を示した表図。
【図８】本洗浄装置により洗浄されたガラス基板の洗浄効果を示す洗浄時間と水滴の接触角との関係をグラフで示した図。
【図９】本発明の一実施例に係る液晶表示器組付装置の構成を示したブロック図。
【符号の説明】
【００３３】
１０Ａ、１０Ｂ：電極
１１：凹部または溝部
２０：絶縁体から成る治具
３０Ａ、３０Ｂ：ボルト
４０：ガラス基板
１０１：開口部
２０１：ガス流路
２０１ｔ：ガス流路のテーパ部
２０２：ガス流路の先端部
２０３：接続部
２１０Ａ、２１０Ｂ：電極１０Ａ、１０Ｂを組付けるための凹部
２１１：突出部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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