(57)【要約】【課題】  ドレインコモンリークを有効に改善して液晶ディスプレイの品質と歩留りを向上できる液晶ディスプレイパネルの製造方法の提供。【解決手段】  （ａ）複数の第１電極を具えた下基板、複数の第２電極を具えた上基板、及び下基板と上基板に挟まれた液晶層を提供し、そのうち一部の第１電極の表面に顆粒があるものとするステップ、及び、（ｂ）顆粒と接触した第１電極をレーザー光で切削して第１画素領域と第２画素領域となし、そのうち第１画素領域と顆粒は接触し、第２画素領域と顆粒は不接触で並びに相互に電気的に隔離され、第２画素領域と第１画素領域は電気的に隔離され、且つ第１画素領域の下基板における投影が三角形とされ、三角形の辺縁と顆粒の第１電極における投影の接線が相互に平行或いは重畳するものとするステップ、を包含する。【選択図】        図４
2006209051.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイパネルの製造方法において、
（ａ）複数の第１電極を具えた下基板、複数の第２電極を具えた上基板、及び下基板と上基板に挟まれた液晶層を提供し、該第１電極が下基板の上表面に位置し、一部の第１電極の表面に顆粒があり、第２電極が上基板の下表面に位置するものとするステップ、及び、
（ｂ）顆粒と接触した第１電極をレーザー光で切削して第１画素領域と第２画素領域を形成し、そのうち第１画素領域と顆粒は接触し、第２画素領域と顆粒は不接触で並びに相互に電気的に隔離され、第２画素領域と第１画素領域は電気的に隔離され、且つ第１画素領域の下基板における投影が三角形とされ、三角形の辺縁と顆粒の第１電極における投影の接線が相互に平行或いは重畳するものとするステップ、
を包含することを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、第１画素領域の形状の第１電極における投影が顆粒の第１電極における投影を収容することを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、顆粒が下基板と第１電極の間に挟まれたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、顆粒が第１電極と第２電極の間に挟まれたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、レーザー光がＹＡＧレーザー光とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、レーザー光がルビーレーザー光とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、レーザー光がＣｏ2 レーザー光とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、レーザー光の波長範囲が１μｍから１００μｍとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、下基板が更に複数の走査線と複数の信号線を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
請求項９記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、下基板が更に複数のスイッチ装置を具えて該スイッチ装置が走査線とゲート線に接続されたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】
請求項９記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、スイッチ装置が電界効果トランジスタとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、上基板と下基板がガラス基板とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１３】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、第１電極がＩＴＯ或いはＩＺＯで形成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、第２電極がＩＴＯ或いはＩＺＯで形成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、第１電極がコモン電圧を付帯する電極とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一種の液晶ディスプレイパネルの製造方法に係り、特に、基板上に異物を有する液晶ディスプレイパネルに適用される製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイパネルの製造方法において、歩留りの向上のためには各工程間で検査を行い、不良品をスクリーニングし、後続工程の浪費を低減する必要がある。しかし、工程中に機械内或いは機械外の塵粒子が工程において欠陥を発生させうる。図１に示されるように、液晶ディスプレイ９１内に塵粒子９３０が有る時、下基板９１０のＩＴＯ電極９１１と上基板９２０のコモン電極９２１が短絡を発生し、ドレインコモンリーク（Ｄｒａｉｎ−ｃｏｍｍｏｎ  ｌｅａｋ）を形成し、ディスプレイの画像表示時に輝点或いは暗点（ｐｏｉｎｔ  ｄｅｆｅｃｔ）を出現させる。
【０００３】
このような欠陥のあるパネルを、直接廃棄すると、製造コストが大幅にアップする。このため、現在、多くの場合、工程上で改善を行い、例えば環境を定期的にクリーニングし、工場内の環境のクリーンレベルをモニタリングし、機械内部の定期クリーニングメンテナンスを標準化し、或いはクリーニングメンテナンスサイクルを最適化する等の方法が採られている。このような欠陥に対して、工程技術の改善のみに依存して完全に無欠陥を達成することは非常に困難である。このためこれらの欠陥パネルを修理して良好なパネルとすることができれば、大幅に歩留りを向上し、並びに製造コストを低減することができる。
【０００４】
周知の補修技術は、上基板９２０と下基板９１０の間に挟まれ並びにＩＴＯ電極９１１とコモン電極９２１の短絡を形成する塵粒子９３０（図１）に対して、外力９６０で軽く押圧するか或いは９３０の上方の上基板９２０を叩く（図２）、というものである。これによりディスプレイ１内部の塵粒子９３０を扁平とするか破裂させて補修の効果を達成する（図３）。しかし、実際にこのような補修により得られる歩留りは高くなく、且つ信頼性が良好でなく、後続工程で再度欠陥が発生しやすい。
【０００５】
このほか、生産技術の向上により、工程中のその他の各種欠陥の出現率を加工させることもできる。ドレインコモンリークの形成する輝点或いは暗点（ｐｏｉｎｔ  ｄｅｆｅｃｔ）は現在、液晶ディスプレイの主要な欠陥となっている。このため、現在、液晶ディスプレイの品質と歩留りを向上できるドレインコモンリークを有効に改善できる方法が必要とされている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明はドレインコモンリークを有効に改善して液晶ディスプレイの品質と歩留りを向上できる液晶ディスプレイパネルの製造方法を提供する目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１の発明は、液晶ディスプレイパネルの製造方法において、
（ａ）複数の第１電極を具えた下基板、複数の第２電極を具えた上基板、及び下基板と上基板に挟まれた液晶層を提供し、該第１電極が下基板の上表面に位置し、一部の第１電極の表面に顆粒があり、第２電極が上基板の下表面に位置するものとするステップ、及び、
（ｂ）顆粒と接触した第１電極をレーザー光で切削して第１画素領域と第２画素領域を形成し、そのうち第１画素領域と顆粒は接触し、第２画素領域と顆粒は不接触で並びに相互に電気的に隔離され、第２画素領域と第１画素領域は電気的に隔離され、且つ第１画素領域の下基板における投影が三角形とされ、三角形の辺縁と顆粒の第１電極における投影の接線が相互に平行或いは重畳するものとするステップ、
を包含することを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項２の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、第１画素領域の形状の第１電極における投影が顆粒の第１電極における投影を収容することを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項３の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、顆粒が下基板と第１電極の間に挟まれたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項４の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、顆粒が第１電極と第２電極の間に挟まれたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項５の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、レーザー光がＹＡＧレーザー光とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項６の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、レーザー光がルビーレーザー光とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項７の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、レーザー光がＣｏ2 レーザー光とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項８の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、レーザー光の波長範囲が１μｍから１００μｍとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項９の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、下基板が更に複数の走査線と複数の信号線を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項１０の発明は、請求項９記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、下基板が更に複数のスイッチ装置を具えて該スイッチ装置が走査線とゲート線に接続されたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項１１の発明は、請求項９記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、スイッチ装置が電界効果トランジスタとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項１２の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、上基板と下基板がガラス基板とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項１３の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、第１電極がＩＴＯ或いはＩＺＯで形成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項１４の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、第２電極がＩＴＯ或いはＩＺＯで形成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
請求項１５の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイパネルの製造方法において、第１電極がコモン電圧を付帯する電極とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの製造方法としている。
【発明の効果】
【０００８】
これまでドレインコモンリークの形成する点欠陥（輝点或いは暗点）は、製造工程で解決できず、且つ製品の品質と歩留りを低下させたが、本発明はレーザー光をパネル内のＩＴＯ層にフォーカスさせて、異物の形成するドレインコモンリークの位置付近のＩＴＯを切除し、これにより異物の存在するＩＴＯと全体の画素ユニットのＩＴＯを隔離し、補修の効果を達成する。実際に補修後に得られる歩留りは高く、信頼性は増し、後続工程で再度欠陥を発生することがなく、大幅に歩留りを高めることができ、製造コストを減らせ、良好な産業上の利用性を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は一種の液晶ディスプレイパネルの製造方法を提供し、それは、
（ａ）複数の第１電極を具えた下基板、複数の第２電極を具えた上基板、及び下基板と上基板に挟まれた液晶層を提供し、そのうち一部の第１電極の表面に顆粒があるものとするステップ、及び、
（ｂ）顆粒と接触した第１電極をレーザー光で切削して第１画素領域と第２画素領域となし、そのうち第１画素領域と顆粒は接触し、第２画素領域と顆粒は不接触で並びに相互に電気的に隔離され、第２画素領域と第１画素領域は電気的に隔離され、且つ第１画素領域の下基板における投影が三角形とされ、三角形の辺縁と顆粒の第１電極における投影の接線が相互に平行或いは重畳するものとするステップ、
を包含する。
【００１０】
言い換えると、本発明はレーザーを基板表面の第１表面にフォーカスさせ、塵粒子の形成するドレインコモンリーク位置の電極を切除し、塵粒子の存在する第１電極と全体の画素ユニットの第１電極を隔離し、これにより補修の効果を達成する。ゆえに、本発明の方法は塵粒子の形成する輝点或いは暗点を補修し、欠陥パネルを補修して良好なパネルとなし、大幅に歩留りを高めることができる。このほか、切除する電極面積を最小とし且つ切削の便利性のため、第１電極の切除される部分は塵粒子の第１電極における投影の接線が構成する三角形となし、並びにレーザーエネルギーと抵抗面積を最少とし、補修の切削量を最少となす。
【００１１】
このほか、本発明中、レーザーを下基板表面の第１電極にフォーカスさせる時、上基板に位置する第２電極もまた同時にレーザーで切削される。レーザーエネルギーが十分である時、上基板の第２電極の、下基板の第１電極のレーザー光により切削される部分に対応する部分にも、同じ三角形隔離領域が切削され、これにより第２電極と塵粒子の接触部分にも電気的隔離が形成される。レーザーエネルギーが不十分である時、第２電極は第１電極と同じようには完全には切削されず、第１電極のみが完全に切除されて塵粒子の形成する輝点或いは暗点を補修することができる。
【００１２】
本発明の方法中、第１画素領域の形状は任意の形状とされるが、但しこの形状は顆粒の第１電極における投影を収容できるものとされ、好ましくはこの顆粒の第１電極における投影の接線が構成する三角形とされる。本発明の方法中、この顆粒は任意のコモン電圧を有する電極上に位置し、好ましくは下基板と第１電極の間に挟まれるか、或いは第１電極と第２電極の間に挟まれる。本発明の方法中、レーザー光は任意のレーザー光とされうるが、好ましくは、ＹＡＧレーザー光、ルビーレーザー光、或いはＣｏ2 レーザー光とされる。本発明の方法中、このレーザー光の波長範囲は第１電極が吸収可能なレーザー波長範囲とされるが、好ましくはＩＴＯ或いはＩＺＯが吸収可能なレーザー波長範囲とされ、更に好ましくは１μｍから１００μｍの間とされる。本発明の方法中、下基板は更に複数の走査線と複数の信号線を具えている。本発明の方法中、下基板は更に複数のスイッチ装置を具えてこの走査線とゲート線に接続される。本発明の方法中、このスイッチ装置は電界効果トランジスタ或いはその他の等価のスイッチ装置とされ。本発明の方法中、上基板と下基板はガラス基板或いはその他の周知の材質とされる。本発明の方法中、この第１電極は任意の周知の導電物質とされうるが、好ましくはＩＴＯ或いはＩＺＯとされる。本発明の方法中、第２電極は任意の周知の導電物質とされるが、好ましくはＩＴＯ或いはＩＺＯとされる。本発明の方法中、第１電極はコモン電圧を付帯する電極とされうる。
【実施例１】
【００１３】
図４、５に示されるのは液晶ディスプレイパネルの表示図及びその断面図である。それは上基板２０、下基板１０、上基板２０と下基板１０に挟まれた液晶層７０を包含する。上基板２０は第２電極２１、下基板１０は第１電極１１、データ線１３、走査線１４、誘電層１２、及び補助コンデンサ用の第１補助電極線１５と第２補助電極線１６を包含する。本実施例中の第２電極２１はコモン電極とされ、第１電極１１はアレイ式画素電極とされる。これにより、データ線１３がデータ電圧を薄膜トランジスタ８０のソースに伝送し、走査線１４が走査信号を薄膜トランジスタ８０のゲートに伝送する時、薄膜トランジスタ８０は任意の一つの画素のオンとオフを選択できる。第１電極１１上に導電性の塵粒子３０が落ちた時、第１電極１１は導電塵粒子３０を通して上基板２０の第２電極２１と電気的に接続され短絡を形成し、これによりディスプレイ画面に点欠陥が出現する。本実施例の第１電極１１はＩＺＯで形成され、これにより本実施例は１０６４ｎｍ波長のＹＡＧレーザー光で、第１電極１１（ＩＺＯ）に対して切削を行い、且つきれいに切削する必要がある。図４に示されるように、レーザー光は塵粒子３０の第１電極１１における投影の接線に沿って切削し、三角形の第１画素領域１００を形成する。こうして、下基板１０上の第１電極１１は第２画素領域２００に不接触となり且つそれと電気的に隔離される。ゆえに、導電塵粒子３０により短絡が形成される恐れがなくなる。こうして本実施例中、導電塵粒子３０の形成するドレインコモンリークは、補修されて正常な画素ユニットが形成される。
【００１４】
このほか、塵粒子の投影の接線に沿って第１電極が切削するため、レーザーエネルギー及び抵抗面積が最少となり、且つ補修のための切削量が最少となり、最良の補修効果が達成される。
【実施例２】
【００１５】
図６、７は本発明の別の実施例の液晶ディスプレイの表示図及びその断面図である。この液晶ディスプレイは上基板２０、下基板１０、及び上基板２０と下基板１０に挟まれた液晶層７０を包含する。上基板２０は複数の第２電極２１を包含し、下基板１０は複数の第１電極１１を包含する。第１電極１１と第２電極２１は相互に垂直に交叉する。本実施例中、塵粒子３０が下基板１０に第１電極１１をスパッタする前に基板上に落ちると、第１電極１１をスパッタした後、塵粒子３０上にスパッタされた第１電極１１は隆起して上基板２０と接触し、並びにドレインコモンリークを発生する。これにより、ディスプレイが画像表示する時に欠陥が出現しうる。
【００１６】
本実施例では、ＩＴＯで第１電極１１と第２電極２１を形成し、並びに５３２ｎｍ波長のＹＡＧレーザー光で、第１電極１１と第２電極２１に対して切削を行なう。図６、７に示されるように、本実施例の第１画素領域１００は三角形とされ、この三角形は塵粒子３０の第１電極１１における投影の接線に沿って切削され、こうして抵抗面積が最少で、且つ切削量が最少の隔離領域が形成される。これにより、塵粒子３０が形成するドレインコモンリークは補修されて正常な画素ユニットが形成される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】周知の液晶ディスプレイの表示図である。
【図２】周知の液晶ディスプレイの外力で基板内の塵粒子を押圧する表示図である。
【図３】周知の液晶ディスプレイの外力で基板内の塵粒子を押圧した後の表示図である。
【図４】本発明の第１実施例の液晶ディスプレイの表示図である（切削後）。
【図５】本発明の第１実施例の液晶ディスプレイの断面図である（切削後）。
【図６】本発明の第２実施例の液晶ディスプレイの表示図である（切削前）。
【図７】本発明の第２実施例の液晶ディスプレイの断面図である（切削前）。
【図８】本発明の第２実施例の液晶ディスプレイの表示図である（切削後）。
【図９】本発明の第２実施例の液晶ディスプレイの断面図である（切削後）。
【符号の説明】
【００１８】
１０  下基板            １１  第１電極          １２  誘電層
１３  データ線          １４  走査線            １５  第１補助電極線
１６  第２補助電極線    ２０  上基板            ２１  第２電極
３０  塵粒子            ７０  液晶層            ８０  薄膜トランジスタ
９１  液晶ディスプレイ  １００  第１画素領域    ２００  第２画素領域
９１０  下基板          ９１１  ＩＴＯ電極      ９２０  上基板
９２１  コモン電極      ９３０  塵粒子          ９６０  外力
【図１】
2006209051.tif 000003
【図２】
2006209051.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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