(57)【要約】【課題】内周端面または内外周端面に水分やウエットな汚れが付着し難い高品質の磁気ディスク用ガラス基板を提供する。【解決手段】中央に切欠き孔を有するドーナツ状ガラス基板の内周端面または内外周端面を研削し、さらに必要に応じて該内周端面または内外周端面をエッチング処理した後、該内周端面または内外周端面をシリコーン系樹脂被膜のような接触角３０度以上の被膜で被覆する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
中央に切欠き孔を有するドーナツ状ガラス基板であって、該切欠き孔の内周端面がシリコーン系樹脂を硬化してなる、接触角３０度以上の被膜により被覆されていることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項２】
前記被膜の接触角が３２度以上である請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項３】
前記被膜の厚さが０．５μｍ以上である請求項１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項４】
前記シリコーン系樹脂がメチルフェニルシリコーン樹脂である請求項１〜３のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項５】
前記被膜が、ドーナツ状ガラス基板の外周端面に形成されている請求項１〜４のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高強度で汚れ難い磁気ディスク用ガラス基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク記憶装置等に使用される磁気ディスク用の基板としては、従来、主としてアルミニウム合金基板が使用されてきたが、高密度記録化の要請に伴い、アルミニウム合金基板に比較して素材そのものが硬く、かつ平坦性、平滑性に優れたガラス基板が使用されている。しかし、脆性材料であるガラスからなる磁気ディスク用基板は、取り扱い時または使用時に破損する場合があり、問題の一つとされている。
【０００３】
ドーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板の機械的強度を支配する因子の一つは、磁気ディスク使用中にその高速回転により最大引張応力が発生するガラス基板内周端面に存在する傷である。しかし、磁気ディスク用ガラス基板においては、内周端面および外周端面（以下、これらを合わせて内外周端面ともいう）の面粗さは、きわめて高い平坦度と平滑度が要求される主表面（内外周端面を除く面）と比べて、粗いのが一般的である。その理由は、内外周端面は、そもそもガラス板からドーナツ状に切り出した切断面であること、磁気記録に関与しない面であること、および曲面であり仕上げ加工コストがきわめて高くなるため仕上げ加工を十分に行いえないこと等である。
【０００４】
内外周端面の傷の深さを低減し機械的強度をより大きくするために、＃５００メッシュよりも細かい砥粒による内外周端面の仕上げ加工も行われているが、それでも内外周端面にかなり傷が残存している。内外周端面の仕上げをより向上させるためには、すなわち粗さをより低減するためには、段階的に粒度の細かい砥粒を用いた多段階加工が必要となる。しかし、この多段階加工には、更に大幅に生産性およびコストを著しく悪化させる問題がある。
【０００５】
このような問題を解決するガラス基板として、例えば特許文献１には、内周側面または内周側面および内周に沿った表面部に、厚さ０．２〜５０μmの酸化物の連続膜または酸化物を主成分とする連続膜が形成されている情報記録ディスク用ガラス基板が開示されている。
【０００６】
前記酸化物の連続膜または酸化物を主成分とする連続膜は、Ｓｉ、Ｔｉ、ＡｌおよびＺｒのうちの少なくとも１種を含むことが好ましいとされている。また、円形加工された磁気ディスク用ガラス基板をフッ酸またはバッファードフッ酸によってエッチングしたり、硫酸、硝酸等でリーチングした後に前記連続膜を設けることは、傷自体の除去の点で一層有効である、と記載されている。
【０００７】
さらに、前記連続膜の形成に当たっては、溶液またはスラリー状態で塗付し、その後乾燥、熱処理して硬化膜とする、いわゆるウエットプロセスを用いる必要があると記載されている。また、エタノールに分散させたコロイド状シリカと、ケイ酸エチルを硝酸水溶液で加水分解したゾル液とを用いて厚さ２μｍのＳｉＯ２連続膜をガラスディスク表面に形成した実施例や、モノメチルトリメトキシシランと水ガラス系コロイダルシリカと硝酸とを用いて厚さ５μｍの有機膜を一部含有したＳｉＯ２連続膜をガラスディスク表面に形成した実施例が記載されている。
【０００８】
しかし、特許文献１に開示された連続膜には水分や有機物が残りやすい。そのためこのような連続膜が表面に形成されているガラス基板を磁気ディスク製造工程の真空プロセスに投入すると、連続膜に残存している水分や有機物に起因するガス発生が起こり、磁性膜の性能を低下させるおそれがある。また、前記連続膜を形成するには、塗布液のｐＨおよび粘度の高精度の調整が必要であり、作業性の点でも問題がある。
【０００９】
前記酸化物の連続膜におけるこのような問題を解決するガラス基板として、例えば特許文献２には、エッチング処理されたドーナツ状ガラス基板の内周端面にポリシラザンを含む被覆組成物を塗布し、硬化させて、鉛筆引っかき値５Ｈ以上の硬さを有する保護膜を形成し、次にドーナツ状ガラス基板の主表面を研磨する磁気ディスク用ガラス基板が開示されている。
【００１０】
しかし、前記した従来の酸化物の連続膜およびポリシラザンから形成したシリカ層の被膜は、ドーナツ状ガラス基板の内周端面の保護膜や補強膜として機能するものの、いずれも磁気ディスク用ガラス基板の取り扱い時または使用時に、水分やウエットな汚れが付着し汚染されやすい性質を持っている。このため、しばしば磁気ディスクの品質や性能を低下させるという問題があった。
【００１１】
【特許文献１】特開平２−３０１０１７号公報
【特許文献２】特開平１１−３２８６６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、ドーナツ状ガラス基板の内周端面を被膜で被覆する磁気ディスク用ガラス基板における、上記したような問題を解決する高品質で汚れ難い磁気ディスク用ガラス基板の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者等は、上記課題を解決するために、内周端面を被膜で被覆する磁気ディスク用ガラス基板の汚染防止について検討した結果、ドーナツ状ガラス基板の内周端面を接触角が大きい被膜、つまり濡れ性の悪い被膜で被覆することにより、汚染防止が得られることを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は以下の磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
（１）中央に切欠き孔を有するドーナツ状ガラス基板であって、該切欠き孔の内周端面がシリコーン系樹脂を硬化してなる、接触角３０度以上の被膜により被覆されていることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
（２）前記被膜の接触角が３２度以上である上記（１）の磁気ディスク用ガラス基板。
（３）前記被膜の厚さが０．５μｍ以上である上記（１）または（２）の磁気ディスク用ガラス基板。
（４）前記シリコーン系樹脂がメチルフェニルシリコーン樹脂である（１）〜（３）のいずれかの磁気ディスク用ガラス基板。
（５）前記被膜が、ドーナツ状ガラス基板の外周端面に形成されている上記（１）〜（４）のいずれかの磁気ディスク用ガラス基板。
なお、前記した従来の酸化物の連続膜およびポリシラザンから形成したシリカ層の被膜はいずれもその濡れ性の接触角が通常約２０度以下と小さいため、磁気ディスク用ガラス基板の取り扱い時または使用時に、水分やウエットな汚れが付着し汚染されやすい性質を持っていると考えられる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、ドーナツ状磁気ディスク用ガラス基板の内周端面を接触角の大きい被膜で被覆することにより、水分やウエットな汚れが付着し難い磁気ディスク用ガラス基板が得られる。
【００１５】
また、磁気ディスク用ガラス基板の内周端面が被膜で覆われているため、内周端面からの微小なガラス異物（パーティクル）の発生を抑えることができ、さらに該被膜をエッチング処理した内周端面に形成することにより、高強度の磁気ディスク用ガラス基板を得ることができる。
【００１６】
また、本発明のシリコーン系樹脂は、塗布液の温度、ｐＨ等の塗布条件に関する制約が少ないので、作業性に優れかつ作業上の制約も少ない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明におけるドーナツ状ガラス基板は、ドーナツ状、すなわち所定の半径の円盤の中心部に円盤の中心と同じ中心を有する円形の穿孔を有する形状のガラス基板で、内周端面、外周端面および表裏の主表面を有する円盤状のガラス基板である。
【００１８】
このドーナツ状ガラス基板は寸法に特に限定はないが、例えばその寸法はｍｍ表示で、（ａ）内径７．０、外径２１．４、板厚０．３８、（ｂ）内径１２．０、外径４８．０、板厚０．５５、（ｃ）内径２５．０、外径８４．０、板厚１．０、（ｄ）内径１２．０、外径４８．０、板厚０．５、または（ｅ）内径２５．０、外径９５．０、板厚０．８、等である。
【００１９】
本発明の磁気ディスク用ガラス基板においては、ドーナツ状ガラス板の内周端面を、シリコーン系樹脂を硬化してなる、接触角の大きい被膜により被覆することを特徴とする。つまり、前記した従来の酸化物やシリカ層等からなる被膜より大きい接触角を有している被膜で内周端面を被覆する。本発明において該接触角は、図１に示すように大気中にある被膜１上に液滴２があるとき、被膜、液滴、大気の接触点Ａで液滴２に引いた接線３と被膜面のなす角のうち、液滴２を含む方の角θをいう。この接触角は液滴の種類によって変わるほかに、被膜の種類すなわち被膜面の性質によって変わる。本発明の接触角は液滴が純水のときの接触角であり、この接触角が大きいほど被膜の撥水性が強いことを示し、水分が付着し難くなる。
【００２０】
本発明において、液滴２の接触角θは次の方法で測定する。液滴２の断面を図１に示すように真円の一部と仮定する。図１では上側のＡＢＣが液滴の断面を示す円弧であり、点Ｃは液滴２の頂点を示す。この図において、求める接触角θは、上側の円弧ＡＣＢの円周角に等しい。二等辺三角形ＯＡＣの頂角∠ＡＯＣ＝θであり、∠ＡＣＯ＝９０°−θ／２となるので、直角三角形ＣＡＨにおいて、∠ＣＡＨ＝θ／２となる。
【００２１】
したがって、被膜１上の液滴２を写真撮影して図１のＡＣに相当する直線を引き、この直線と水平線との角度を２倍にすることにより、接触角θを求めることができる。しかし、角度の直接測定は誤差を生じやすいので、図１のａ、ｈを測定し、θ＝２・ａｒｃｔａｎ（ｈ／ａ）から求めるのが好ましい。本発明の接触角θはこの式によって求めたものである。
【００２２】
一方、上記液滴２の写真は次のようにして撮影する。マイクロシリンジに純水を注入し、マイクロシリジンの針先端に４マイクロリットル以下（重力の影響を受けない量）の水滴を作成する。この水滴が被膜１の上に接触したら、マイクロシリジンを浮上させて被膜上に液滴（水滴）２を形成する。次いで、この液滴２を例えばファイバースコープで横方向から撮影してプリントし、水滴の写真を作成する。この写真から、水滴の半径（ａ）と高さ（ｈ）を測定し、接触角を算出する。
【００２３】
本発明においてこの接触角は、３０度以上であり、好ましくは３２度以上、より好ましくは３５度以上、特に好ましくは４０度以上である。磁気ディスク用ガラス基板の特に内周端面が、接触角３０度以上の被膜で被覆されていると、磁気ディスク用ガラス基板の取り扱い時、加工時または使用時に、水分やウエットな汚れが内周端面につき難くなる。ここで、ウエットな汚れとは、磁気ディスク用ガラス基板の品質低下を招くおそれがある、例えば研磨砥粒などが水分中に分散または溶解している汚れや不純物を指している。
【００２４】
本発明において上記被膜は、前記したようにシリコーン系樹脂の硬化膜として形成できる。具体的にはシリコーン系樹脂と溶媒を用いて所定濃度の塗布液を調製し、該塗布液を磁気ディスク用ガラス基板の内周端面に塗布し、塗布した塗布液を乾燥した後、焼成等により硬化させることにより形成できる。塗布液の塗布方法としては、例えば次のような方法が挙げられる。しかし、これに限定されない。
（１）刷毛を用いて塗布する刷毛塗り法。
（２）発泡プラスチック等からなるローラブラシの多孔質表面に塗布液を供給し、該ローラブラシを１０〜６０ｒｐｍで回転させながら、ドーナツ状ガラス基板の内周端面、または内外周端面に接触させて塗布液を転写塗布するローラ塗り法。
（３）ドーナツ状ガラス基板を真空吸着して１０〜２００ｒｐｍで回転させながらその内周端面、または内外周端面にディスペンサにより所定量の塗布液を供給して塗布する直接塗り法。
【００２５】
上記方法で形成された被膜は、シリコーン樹脂層からなり、３０度以上の接触角を有している。また、シリコーン系樹脂の分子構造において、主骨格を形成するシロキサン結合は結合エネルギーが大きく、熱分解温度が高いため、被膜は非常に耐熱性にすぐれている。その結果、磁気ディスク製造工程でガラス基板を加熱する工程があっても、加熱によるガス発生の恐れが少なく、磁性膜の性能を低下させる恐れがすくない。さらに、該被膜はガラス基板の内周端面を被覆しているので、当然に内周端面の保護膜としても機能し、パーティクルの発生を抑制する効果を有している。
【００２６】
シリコーン系樹脂には大別して、シリコーン本来の性質を利用したストレートシリコーン樹脂と他の樹脂の多様な特徴を変性することによって加えられた変性シリコーン樹脂がある。さらに、ストレートシリコーン樹脂はメチルシリコーン樹脂とメチルフェニルシリコーン樹脂に分けられ、変性シリコーン樹脂には、代表的なものにアルキッド変性、エポキシ変性、アクリル変性、ポリエステル変性などがあり、これらを本発明におけるシリコーン系樹脂として使用できる。
【００２７】
前記シリコーン系樹脂のなかで、ストレートシリコーン樹脂は難燃性に優れている点で好ましく、さらにストレートシリコーン樹脂のなかでもメチルフェニルシリコーン樹脂は特に難燃性に優れることから、本発明において特に好ましい。シリコーン系樹脂で被膜を形成する場合に、その塗布液は通常シリコーン樹脂以外に溶剤も含む。また、溶剤以外に触媒やその他の添加剤を含んでもよい。
【００２８】
本発明の被膜の厚さは、０．５μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以上である。被膜の厚さが０．５μｍ未満では、内周端面が研削面のとき、被膜が薄いためにその表面粗さの影響を強く受け接触角が大きい良好な被膜が得られ難くなるおそれがある。また、被膜の厚さの上限は特に限定されないが、膜厚を一定以上に大きくしても接触角は実質的に変わらないうえに、被膜の形成に負担が増大するので、通常は５μｍ程度である。
【００２９】
本発明において上記被膜は、ドーナツ状ガラス基板の内周端面を研削し、この研削面に形成することができる。該研削面は、例えば＃２００〜＃１０００メッシュ程度の砥粒を用いて、更に必要に応じて段階的に粒度の細かい砥粒を用いて、内周端面を仕上げ加工することにより、所定の表面粗さ（Ｒａ）を有する面として得ることができる。通常は＃３００〜＃５００メッシュ程度の砥粒で内周端面を研削することにより、好ましい表面粗さを得ることができる。この研削面の表面粗さ（Ｒａ）としては、１．０μｍ以下が好ましく、０．７μｍであればより好ましい。内周端面の表面粗さ（Ｒａ）が１．０μｍより大きくなると、研削面における傷の深さがこれに伴って大きくなり、磁気ディスクの機械的強度が低下する、パーティクルの発生量が増加する、または平滑で良好な被膜を形成し難くなるので好ましくない。このように研削した内周端面に被膜を形成することにより、生産性の大幅な向上およびコストの低減を図ることができる。
【００３０】
しかし、被膜は研削面を更に精細に鏡面仕上げした内周端面や該研削面を後述する方法によりエッチング処理した内周端面に形成してもよい。鏡面仕上げおよびエッチング処理のためにコスト高となるが、被膜をこのように加工処理された内周端面に形成することにより、高強度の磁気ディスクガラス基板を得ることができる。また、必要に応じてドーナツ状ガラス基板の内周端面または内外周端面に面取り加工を施してもよい。
【００３１】
さらに、内周端面を被膜で被覆したドーナツ状ガラス基板の外周端部にも被膜を同様に形成することにより、外周端面における汚染防止やパーティクルの発生抑制を図ることが可能となる。
【００３２】
本発明の磁気ディスク用ガラス基板に用いることができるガラスの種類としては、特に限定されないが、耐候性向上のためには以下のような特性を有するガラスが好ましい。
耐水性：８０℃の水にガラスを２４時間浸漬したときの、ガラスからの成分溶出に伴うガラスの減量（溶出量）が０．０２ｍｇ／ｃｍ２以下のもの。
耐酸性：８０℃の０．１規定塩酸水溶液にガラスを２４時間浸漬したときの、ガラスからの成分溶出に伴うガラスの減量（溶出量）が０．０６ｍｇ／ｃｍ２以下のもの。
耐アルカリ性：８０℃の０．１規定水酸化ナトリウム水溶液にガラスを２４時間浸漬したときの、ガラスからの成分溶出に伴うガラスの減量（溶出量）が１ｍｇ／ｃｍ２以下、より好ましくは０．１８ｍｇ／ｃｍ２以下のもの。
【００３３】
また、本発明においては化学強化法の使用は必須ではないので、ガラスの組成として化学強化を可能にするという観点からのＮａやＬｉ等のアルカリ金属の含有量下限値は存在しない。本発明の磁気ディスク用ガラス基板に用いることができるガラスとして、アルカリ金属酸化物含有量が１〜２０質量％のガラス、例えばソーダライムシリカガラス、アルミナシリケートガラス、無アルカリガラス、結晶化ガラス等が例示される。
【００３４】
本発明の一つの実施形態として、前記したように被膜はエッチング処理したドーナツ状ガラス基板の内周端面または内外周端面に形成することができる。このエッチング処理には、一般的なガラスのエッチング方法であるエッチング液を用いたウェットエッチング方法、エッチングガスを用いたドライエッチング方法、等が使用できる。なかでも、フッ酸液、フツ硫酸液、ケイフッ化水素酸などのエッチング液を用いたウェットエッチング方法が好適に使用できるが、フツ硫酸液を用いた方法が特に好適に使用できる。なお、このエッチング処理は、ガラス基板表面に高い突起を形成しない範囲で行うのが好ましい。
【００３５】
エッチング処理により、ドーナツ状ガラス板の曲げ強度を支配する内外周端面に存在する深い傷、特に曲げ強度をより強く支配する内周端面の深い傷を除去できる。エッチング処理のエッチング深さは、好ましくは３〜４０μｍである。３μｍ未満では、特に内周端面に存在する深い傷の除去が不充分となり、機械的強度が低下するおそれがある。４０μｍ超では、ガラス基板表面に高い突起を形成するおそれがある。
【実施例】
【００３６】
酸化物換算の質量％で表示した組成が、ＳｉＯ2：５６％、Ｂ2Ｏ3：６％、Ａｌ2Ｏ3：１１％、Ｆｅ2Ｏ3：０．０５％、Ｎａ2Ｏ：０．１％、ＭｇＯ：２％、ＣａＯ：３％、ＢａＯ：１５％、ＳｒＯ：６．５％であるガラスからなる、外径６５ｍｍ、厚さ０．９ｍｍの円形ガラス基板を１５枚作製した。このガラスの耐水性、耐酸性、耐アルカリ性の各試験における溶出量（単位：ｍｇ／ｃｍ2）は、それぞれ０．０１、０．０３、０．６７であった。
【００３７】
前記円形ガラス基板の外周端面を＃５００メッシュアンダーのダイヤモンド砥粒を用いて仕上げ研磨を行い、次いで、平均粒径９μｍのアルミナ砥粒を用いてラップ研磨を行い、厚さが約０．７ｍｍになるまで研削した。このガラス基板をさらにフッ酸と硫酸をそれぞれ５％含むフツ硫酸液中に１５分間浸漬し、エッチング深さ約２０μｍのエッチング処理を行った。
【００３８】
上記ガラス基板を用いて以下方法により実験用サンプルを３枚づつ作製し、各サンプルについて前記した方法により接触角（単位：度）の測定を行うとともに、そのうちの２枚のサンプルについてそれぞれ次の試験方法１および２により汚れ評価の測定を行った。また、各試験方法の測定結果の評価を、〇：良い、△：普通、×：悪い、の３段階により行い、さらに試験方法１および２の測定結果に基づく汚れの総合評価を、〇：汚れにくい、△：普通、×：汚れやすい、の３段階により評価した。
（汚れ評価方法）
試験方法１：サンプル面上に酸化セリウム砥粒含有スラリー（平均粒径１．２μｍ、固形分１２質量％）を３ｍｇ滴下し、その後スピンコーターにて７００ｒｐｍの回転数で５秒間回転させる。回転終了後１００℃の電気炉で１０分間乾燥させ、サンプル面上の酸化セリウムの固形分の残量を重量にて評価する。（単位：１０−４ｇ）
試験方法２：サンプル面上に同上のスラリーを３ｍｇ滴下し、１００℃の電気炉で１０分間乾燥させ、その後このサンプルを超音波洗浄器（超音波洗浄条件：１００ｋＨｚ、３分間）の中に入れ、残存する酸化セリウムの落ち具合を重量にて次式により評価する。
【００３９】
【数１】
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【００４０】
（実施例１）
上記ガラス基板（３枚）の表面（上面）に、ストレートシリコーンレジン（信越シリコーン社製、商品名「ＫＲ２８２」）のキシレン溶液（固形分濃度７質量％）を刷毛塗りし、次いで１００〜１５０℃で１０〜３０分間電気炉で乾燥させた後、３５０℃で３０分間電気炉で加熱し硬化させてシリコーン系樹脂の被膜を形成しサンプルを作製した。形成された被膜の厚さは、平均２〜３μｍであった。
上記各サンプルの被膜の任意の箇所における接触角の測定と汚れ評価を行った。その結果を表１に示す。
【００４１】
（実施例２）
上記ガラス基板（３枚）の表面（上面）に、シリコーンレジン（東レダウコーニング社製、「ＳＥ９１８６」）のキシレン溶液（固形分濃度７質量％）を用いて、実施例１と同様にして平均膜厚２〜３μｍの被膜を形成した。
上記各サンプルの被膜の任意の箇所における接触角の測定と汚れ評価を行った。その結果を表１に示す。
【００４２】
（実施例３）
上記ガラス基板（３枚）の表面（上面）に、ストレートシリコーンレジン（信越シリコーン社製、商品名「ＫＲ３１１」）のキシレン溶液（固形分濃度７質量％）を用いて、実施例１と同様にして平均膜厚２〜３μｍの被膜を形成した。
上記各サンプルの被膜の任意の箇所における接触角の測定と汚れ評価を行った。その結果を表１に示す。
【００４３】
（比較例１）
被膜を形成しないガラス基板（３枚）のエッチングした表面（上面）の接触角、および該エッチング面の汚れ評価を同様の方法によって行った。その結果を表１に示す。
【００４４】
（比較例２）
上記ガラス基板（３枚）の表面（上面）に、有機タイプポリシラザン（東燃社製、商品名「Ｌ７１０１」）のキシレン溶液（固形分濃度２０質量％）を塗付し、その後５０〜６０℃で１０〜２０分間電気炉で乾燥させ、次いで４００℃で１時間電気炉に保持して硬化させてポリシラザンの被膜を形成した。この被膜の厚さは平均２〜３μｍのあった。
上記各サンプルの被膜の任意の箇所における接触角の測定と汚れ評価を行った。その結果を表１に示す。
【００４５】
【表１】
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表１から明らかのように本発明に係る実施例１、２および３の被膜は、比較例１および２に較べて接触角が大きく、かつ汚れ評価も優れており、汚れ難いことが分かる。
【００４６】
なお、ドーナツ状ガラス基板の内周端面に形成した被膜の接触角および汚れ評価の測定が困難であるため、実験は円形ガラス基板の表面に被膜を形成して行ったが、この結果はドーナツ状ガラス基板の内周端面に同じ被膜を形成した場合も実質的に同じである。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明は、ドーナツ状磁気ディスク用ガラス基板の内周端面または内外周端面を接触角の大きい被膜で被覆することにより、内周端面または内外周端面に水分やウエットな汚れが付着し難く、さらに該内周端面または内外周端面からのパーティクルの発生が少ない磁気ディスク用ガラス基板を得ることができるので、高品質の磁気ディスク用ガラス基板に有効である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明における被膜の接触角の説明図。
【符号の説明】
【００４９】
１：被膜
２：液滴
３：接線
【図１】
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