(57)【要約】【課題】  高い記録磁界感度および高い体積記録密度を共に実現するのに適した光磁気記録媒体、および、その製造方法を提供する。【解決手段】  本発明の光磁気記録媒体Ｘ１は、第１の記録磁性部１１と、軟磁性層１２と、これらの間のプリグルーブ層１３と、軟磁性層１２に対して第１の記録磁性部１１とは反対側に位置する第２の記録磁性部１１と、軟磁性層１１および第２の記録磁性部１１の間のプリグルーブ層１３とを含む積層構造を有する。本発明の製造方法は、プリグルーブ１３ｃが形成された面１３ａとこれとは反対側の面１３ｂとを有する第１の樹脂フィルムにおける面１３ｂ上に軟磁性層１２を形成する工程と、プリグルーブ１３ｃが形成された面１３ａとこれとは反対側の面１３ｂとを有する第２の樹脂フィルムを、その面１３ｂ側で軟磁性層１２と接合する工程と、各樹脂フィルムの上位に記録磁性部１１を形成する工程とを含む。【選択図】  図１
2006190413.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟磁性層と、
第１記録磁性部と、
前記軟磁性層および前記第１記録磁性部の間に位置し且つ当該第１記録磁性部の側の面にプリブルーブを有する第１のプリグルーブ層と、
前記軟磁性層に対して前記第１記録磁性部とは反対の側に位置する第２記録磁性部と、
前記軟磁性層および前記第２記録磁性部の間に位置し且つ当該第２記録磁性部の側の面にプリグルーブを有する第２のプリグルーブ層と、を含む積層構造を有する、フレキシブル光磁気記録媒体。
【請求項２】
軟磁性層と、
記録磁性部と、
前記軟磁性層および前記記録磁性部の間に位置し且つ当該記録磁性部の側の面にプリグルーブを有するプリグルーブ層と、
前記軟磁性層に対して前記記録磁性部とは反対の側に位置する第１のバランス層と、
前記軟磁性層および前記第１のバランス層の間に位置する第２のバランス層と、を含む積層構造を有する、フレキシブル光磁気記録媒体。
【請求項３】
前記軟磁性層の飽和磁束密度と厚さとの積は１.５×１０-6Ｔ・ｍ以上である、請求項１または２に記載のフレキシブル光磁気記録媒体。
【請求項４】
プリグルーブが形成された第１面とこれとは反対の側の第２面とを有する第１樹脂フィルムにおける当該第２面上に、軟磁性材料を成膜することにより軟磁性層を形成するための工程と、
プリグルーブが形成された第１面とこれとは反対の側の第２面とを有する第２樹脂フィルムを、当該第２樹脂フィルムの前記第２面を介して前記軟磁性層と接合するための工程と、
前記第１および／または第２樹脂フィルムの上位に記録磁性部を形成するための工程と、を含む、フレキシブル光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
軟磁性シートと、当該軟磁性シートの側にプリグルーブ形成面を有する第１基板と、当該第１基板および前記軟磁性シートの間に介在する第１硬化性樹脂材料と、前記軟磁性シートに対して当該第１基板とは反対の側に位置し且つ前記軟磁性シートの側にプリグルーブ形成面を有する第２基板と、当該第２基板および前記軟磁性シートの間に介在する第２硬化性樹脂材料と、を含む積層構造体を形成するための工程と、
前記第１硬化性樹脂材料を硬化させることにより第１プリグルーブ層を形成し、第２硬化性樹脂材料を硬化させることにより第２プリグルーブ層を形成するための、工程と、
前記第１および第２基板を除去するための工程と、
前記第１および／または第２プリグルーブ層の上位に記録磁性部を形成するための工程と、を含む、フレキシブル光磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直磁化膜からなる記録層を有する光磁気記録媒体、および、その製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学的に情報が読み取られる光メディアの一形態として、光磁気記録媒体が知られている。光磁気記録媒体は、熱磁気的に記録され且つ磁気光学効果を利用して再生される書き換え可能な媒体である。
【０００３】
図８は、従来の光磁気記録媒体の一例である光磁気ディスクＸ４を表す。光磁気ディスクＸ４は、基板Ｓと、記録磁性部８１と、プリグルーブ層８２と、熱伝導層８３と、誘電体層８４，８５と、保護膜８６とからなる積層構造を有し、フロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして構成されたものである。
【０００４】
基板Ｓは、光磁気ディスクＸ４の剛性を確保するための部位であり、１ｍｍ程度の厚さを有する。記録磁性部８１は、熱磁気的な記録および磁気光学効果を利用した再生という２つの機能を担うことが可能な磁性構造を有し、再生方式に応じた１または２以上の磁性膜よりなる（誘電体層８４に接する記録層を含む）。当該磁性膜は、希土類−遷移金属アモルファス合金垂直磁化膜である。プリグルーブ層８２は、樹脂材料よりなり、その記録磁性部８１の側の面には、プリグルーブ８２ａが形成されている。熱伝導層８３は、レーザ照射時に記録磁性部８１などにて発生する熱を効率よく基板Ｓの側へ伝えるための部位であり、高熱伝導材料よりなる。誘電体層８４，８５は、記録磁性部８１に対する外部からの不当な化学的影響等を回避するための部位である。保護膜８６は、記録磁性部８１を特に塵埃から保護するための部位であり、光透過性の樹脂材料よりなる。
【０００５】
このような構成を有する光磁気ディスクＸ４の製造においては、まず、例えばいわゆる２Ｐ法により、基板Ｓ上にプリグルーブ層８２が形成される。次に、例えばスパッタリング法により、プリグルーブ層８２上に、熱伝導層８３、誘電体層８４、記録磁性部８１（誘電体層８４に接する記録層を含む）、および誘電体層８５が順次形成される。その後、例えばスピンコーティング法により、誘電体層８５上に保護膜８６が形成される。
【０００６】
光磁気ディスクＸ４への情報記録に際しては、例えば、当該ディスクを回転させた状態で、記録用のレーザ（図示せず）を保護膜８６の側から記録磁性部８１に向けて連続的なパルス信号として照射することにより記録磁性部８１を局所的に順次昇温させつつ、保護膜８６の側に配置された磁気記録ヘッド（図示せず）により、所定に変調された記録磁界を当該昇温箇所に印加する。これにより、記録磁性部８１ないしこれに含まれる記録層において、磁化方向が順次反転する複数の磁区（記録マーク）が光磁気ディスクＸ４の周方向ないしトラック延び方向に連なって形成される。このようにして、記録磁性部８１ないしこれに含まれる記録層に、磁化方向の変化として所定の情報ないし信号が記録される。
【０００７】
光磁気ディスクＸ４においては、上述のような情報記録時に印加される記録磁界に対する感度を向上することを目的として、図９に示すように軟磁性層８７が設けられる場合がある。軟磁性層８７は、高透磁率を有して大きな飽和磁束密度を有するとともに小さな保磁力を有する軟磁性材料よりなる。このような軟磁性層８７が記録磁性部８１（ないしその内部の記録層）に近接して存在するため、図９に示す光磁気ディスクＸ４では、情報記録時において、保護膜８６の側に配置された磁気記録ヘッドから記録磁性部８１（記録層）に印加される記録磁界の磁束（図示せず）は、軟磁性層８７内を迂回するように記録磁性部８１（記録層）を通過し、これにより記録磁性部８１（記録層）にて集中する。そのため、軟磁性層８７が存在する場合と存在しない場合とを比較すると、磁気記録ヘッドに磁界を発生させるために通電する電流量が同じ場合、記録磁性部８１（記録層）にて形成される記録磁界の強度は、軟磁性層８７が存在する場合の方が大きい。或は、記録磁性部８１（記録層）にて同じ強度の記録磁界を形成するために磁気記録ヘッドに通電すべき電流量は、軟磁性層８７が存在する場合の方が小さい。このように、軟磁性層８７が存在する場合、存在しない場合よりも、光磁気ディスクＸ４の記録磁界感度は向上するのである。光磁気記録媒体の記録磁界感度の向上は、より高周波での記録すなわち高速記録を適切に実現するうえで好ましく、高速記録化は、記録密度の高い光磁気ディスクの実用化を図るうえで重要である。光磁気ディスクＸ４のように軟磁性層を有する光磁気記録媒体については、例えば下記の特許文献１および特許文献２に記載されている。
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−１９１２４７号公報
【特許文献２】特開２００４−１０３１３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
コンピュータシステムにおける情報処理量の増大に伴い、光磁気記録媒体など記録媒体については、より大きな記録密度が要求されるところ、光磁気記録媒体の技術分野においては、光磁気記録媒体の全体厚さを小さく設定して媒体の体積記録密度を増大することに対する要望がある。しかしながら、従来の光磁気ディスクＸ４では、他の層等よりも相当程度に厚い基板Ｓを具備する。そのうえ、図９に示すような軟磁性層８７の採用は、光磁気ディスクＸ４の厚さの増大を招来するので、光磁気記録媒体の薄型化（体積記録密度の増大）とはトレードオフの関係にある。このように、従来の光磁気ディスクＸ４は、記録磁界感度および体積記録密度を共に向上するのに困難性を有するのである。
【００１０】
本発明は、以上のような事情の下で考え出されたものであって、高い記録磁界感度を実現しつつ高い体積記録密度を実現するのに適した光磁気記録媒体、および、そのような光磁気記録媒体を製造するのに適した方法を、提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の側面によると、フレキシブル光磁気記録媒体が提供される。このフレキシブル光磁気記録媒体は、軟磁性層と、第１記録磁性部と、軟磁性層および第１記録磁性部の間に位置し且つ当該第１記録磁性部の側にプリブルーブを有する第１のプリグルーブ層と、軟磁性層に対して第１記録磁性部とは反対の側に位置する第２記録磁性部と、軟磁性層および第２記録磁性部の間に位置し且つ当該第２記録磁性部の側にプリグルーブを有する第２のプリグルーブ層と、を含む積層構造を有する。第１および第２記録磁性部は、各々、少なくとも記録層を含む。
【００１２】
本フレキシブル光磁気記録媒体は、所定の軟磁性材料よりなる軟磁性層を有する。この軟磁性層は、本媒体の積層構造において、第１および第２記録磁性部の間に位置する。そのため、第１記録磁性部に対する情報記録時にも、第２記録磁性部に対する情報記録時にも、本フレキシブル光磁気記録媒体内の軟磁性層は、これら記録磁性部（ないしこれらに含まれる記録層）にて磁束を集中させる機能を発揮し得る。したがって、本フレキシブル光磁気記録媒体では、第１記録磁性部に対する情報記録時にも、第２記録磁性部に対する情報記録時にも、軟磁性層の存在に起因して高い記録磁界感度を得ることが可能なのである。
【００１３】
加えて、本フレキシブル光磁気記録媒体は、基板を有しない。上述の従来の光磁気ディスクＸ４は、媒体の剛性を確保すべく、１ｍｍ程度の分厚い基板Ｓを有する。これに対し、本媒体は、そのような基板を伴わずに構成され、従ってフレキシブルなのである。本フレキシブル光磁気記録媒体では、媒体の形状保持性については、第１および第２のプリグルーブ層の構成材料や厚さ、または、設けられる場合には媒体最表面の保護膜の構成材料や厚さ等を、適宜設定することにより、調節することが可能である。また、本フレキシブル光磁気記録媒体については、いわゆるベルヌーイ効果により面ぶれを抑制しつつ情報記録および情報再生を実行することができる。このようなフレキシブル光磁気記録媒体においては、充分な薄型化を図ることができ、従って高い体積記録密度を得ることが可能なのである。
【００１４】
以上のように、本発明の第１の側面のフレキシブル光磁気記録媒体は、高い記録磁界感度を実現しつつ高い体積記録密度を実現するのに適している。
【００１５】
本発明の第２の側面によると、別のフレキシブル光磁気記録媒体が提供される。このフレキシブル光磁気記録媒体は、軟磁性層と、記録磁性部と、軟磁性層および記録磁性部の間に位置し且つ当該記録磁性部の側にプリグルーブを有するプリグルーブ層と、軟磁性層に対して記録磁性部とは反対の側に位置する第１のバランス層と、軟磁性層および第１のバランス層の間に位置する第２のバランス層と、を含む積層構造を有する。記録磁性部は少なくとも記録層を含む。
【００１６】
本フレキシブル光磁気記録媒体は、所定の軟磁性材料よりなる軟磁性層を有する。この軟磁性層については、本媒体内において記録磁性部に近接して配置することが可能である。そのため、本フレキシブル光磁気記録媒体内の軟磁性層は、情報記録時に記録磁性部（ないしこれらに含まれる記録層）にて磁束を集中させる機能を発揮し得る。したがって、本フレキシブル光磁気記録媒体では、情報記録時において、軟磁性層の存在に起因して高い記録磁界感度を得ることが可能なのである。加えて、本フレキシブル光磁気記録媒体は、第１の側面のフレキシブル光磁気記録媒体と同様に、基板を有しない。このようなフレキシブル光磁気記録媒体は、薄型化を図ることによって高い体積記録密度を得るのに適している。このように、本発明の第２の側面のフレキシブル光磁気記録媒体は、高い記録磁界感度を実現しつつ高い体積記録密度を実現するのに適している。加えて、本フレキシブル光磁気記録媒体では、軟磁性層に対して記録磁性部およびプリグルーブ層とは反対の側に位置する第１および第２バランス層の構成材料や厚さを適宜設定することにより、媒体全体の不当な反りを抑制することができる。
【００１７】
本発明の第１および第２の側面において、好ましくは、プリグルーブ層の厚さは５〜３０μｍである。このような構成は、本発明のフレキシブル光磁気記録媒体において薄型化を図りつつ所定の形状保持性を得るうえで好適である。
【００１８】
好ましくは、軟磁性層の飽和磁束密度と厚さとの積は１.５×１０-6Ｔ・ｍ以上である。このような構成は、本フレキシブル光磁気記録媒体の軟磁性層について良好な磁束集中能を得るうえで好適である。
【００１９】
第１および第２の側面のフレキシブル光磁気記録媒体のヤング率と厚さとの積は、好ましくは０.４ｍｍ・ＧＰａ以下である。このような構成は、本発明のフレキシブル光磁気記録媒体において薄型化を図りつつ所定の形状保持性を得るうえで好適である。
【００２０】
本発明の第３の側面によると、フレキシブル光磁気記録媒体の製造方法が提供される。この方法は、プリグルーブが形成された第１面とこれとは反対の側の第２面とを有する第１樹脂フィルムにおける当該第２面上に、軟磁性材料を成膜することにより軟磁性層を形成するための工程と、プリグルーブが形成された第１面とこれとは反対の側の第２面とを有する第２樹脂フィルムを、当該第２樹脂フィルムの第２面を介して軟磁性層と接合するための工程と、第１および／または第２樹脂フィルムの上位に記録磁性部を形成するための工程と、を含む。このような方法によると、本発明の第１および第２の側面のフレキシブル光磁気記録媒体を適切に製造することができる。
【００２１】
本発明の第４の側面によると、別のフレキシブル光磁気記録媒体の製造方法が提供される。この方法は、軟磁性シートと、当該軟磁性シートの側にプリグルーブ形成面を有する第１基板と、当該第１基板および軟磁性シートの間に介在する第１硬化性樹脂材料と、軟磁性シートに対して当該第１基板とは反対の側に位置し且つ軟磁性シートの側にプリグルーブ形成面を有する第２基板と、当該第２基板および軟磁性シートの間に介在する第２硬化性樹脂材料と、を含む積層構造体を形成するための工程と、第１硬化性樹脂材料を硬化させることにより第１プリグルーブ層を形成し、第２硬化性樹脂材料を硬化させることにより第２プリグルーブ層を形成するための、工程と、第１および第２基板を除去するための工程と、第１および／または第２プリグルーブ層の上位に記録磁性部を形成するための工程と、を含む。このような方法によっても、本発明の第１および第２の側面のフレキシブル光磁気記録媒体を適切に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る光磁気ディスクＸ１の部分断面図である。光磁気ディスクＸ１は、２つの記録磁性部１１と、軟磁性層１２と、２つのプリグルーブ層１３と、接着層１４と、２つの熱伝導層１５と、２つの誘電体層１６と、２つの誘電体層１７と、２つの保護膜１８とを備え、両側に記録面（記録磁性部１１により構成される）を有するフレキシブル光磁気記録媒体として構成されたものである。
【００２３】
記録磁性部１１は、記録層１１ａ、中間層１１ｂ、および再生層１１ｃよりなる積層構造を有し、再生層１１ｃ内での磁壁移動ないし磁区拡大を伴う磁区拡大系再生方式（例えばＤＷＤＤやＭＡＭＭＯＳなど）に基づいて再生可能に構成されている。
【００２４】
記録層１１ａは、光磁気ディスクＸ１において記録機能を担う部位であって、希土類元素と遷移金属とを含むアモルファス合金よりなり、且つ、垂直磁気異方性を有して垂直方向に磁化された垂直磁化膜である。垂直方向とは、層を構成する磁性膜の膜面に対して垂直な方向をいう。このような記録層１１ａは、具体的には、所定の組成比の例えばＴｂＦｅＣоやＴｂＤｙＦｅＣоなどよりなる。また、記録層１１ａの厚さは例えば４０〜１００ｎｍである。
【００２５】
中間層１１ｂは、記録層１１ａおよび再生層１１ｃの交換結合状態を変化させるための部位であって、昇温によりそのキュリー温度にて垂直磁化状態から自発磁化消失状態に転移し且つ降温によりキュリー温度にて自発磁化消失状態から垂直磁化状態に転移する希土類−遷移金属アモルファス合金よりなる。本実施形態では、中間層１１ｂのキュリー温度は例えば１００〜１７０℃であり、従って、室温において中間層１１ｂは垂直磁化膜である。このような中間層１１ｂは、具体的には、所定の組成比の例えばＴｂＦｅやＴｂＦｅＣоなどよりなる。また、中間層１１ｂの厚さは例えば１０〜３０ｎｍである。
【００２６】
再生層１１ｃは、磁壁移動ないし磁区拡大を伴う再生機能を担う部位であり、希土類−遷移金属アモルファス合金よりなる垂直磁化膜である。このような再生層１１ｃは、具体的には、所定の組成比の例えばＧｄＦｅＣｏやＧｄＤｙＦｅＣｏよりなる。また、再生層１１ｃの厚さは例えば１０〜５０ｎｍである。
【００２７】
軟磁性層１２は、高透磁率を有して大きな飽和磁化を有するとともに小さな保磁力を有する軟磁性材料よりなる。軟磁性層１２を構成するための軟磁性材料としては、例えば、ＦｅＣ、ＦｅＮｉ、ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＣ、ＦｅＣｏ−ＡｌＯが挙げられる。軟磁性層１２について良好な磁束集中能を得るうえでは、軟磁性層１２の厚さは１μｍ以上であるのが好ましく、また、軟磁性層１２の飽和磁束密度（Ｂｓ）と厚さ（ｔ）との積（Ｂｓ・ｔ）は１.５×１０-6Ｔ・ｍ以上であるのが好ましい。
【００２８】
プリグルーブ層１３は、熱伝導層１５と接する第１面１３ａおよびその反対の側の第２面１３ｂを有し、第１面１３ａにプリグルーブ１３ｃが形成されている。プリグルーブ１３ｃは渦巻き状または同心円状のパターン形状を有し、このプリグルーブ１３ｃを基に、光磁気ディスクＸ１におけるランドグルーブ形状が実現される。また、プリグルーブ層１３は樹脂材料よりなる。プリグルーブ層１３を構成するための樹脂材料としては、例えばポリカーボネート樹脂が挙げられる。このようなプリグルーブ層１３の厚さは例えば２０〜３０μｍである。
【００２９】
接着層１４は、一方のプリグルーブ層１３と軟磁性層１２とを後述のように接合するための層であり、例えば、アクリル酸エステルを主成分とする光硬化型樹脂よりなる。
【００３０】
熱伝導層１５は、光磁気ディスクＸ１に対して記録用または再生用のレーザビームが照射されるときに記録磁性部１１などにて発生する熱を効率よくプリグルーブ層１３の側へ伝えるための部位であり、例えば、Ａｌ合金（ＡｌＮ，ＡｌＳｉ，ＡｌＴｉ，ＡｌＣｒなど）、Ａｇ、Ａｇ合金（ＡｇＰｄＣｕＳｉ，ＡｇＰｄＣｕなど）、Ａｕ、またはＰｔなどの、高熱伝導材料よりなる。熱伝導層１５の厚さは、例えば１０〜５０ｎｍである。
【００３１】
誘電体層１６，１７は、記録磁性部１１に対する外部からの不当な化学的影響等を回避ないし抑制するための部位であり、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ2、ＹＳｉＯ2、ＺｎＳｉＯ2、ＡｌＯ、またはＡｌＮよりなる。誘電体層１６，１７の厚さは、例えば３０〜１００ｎｍである。
【００３２】
保護膜１８は、記録磁性部１１を特に塵埃などから保護すべく記録磁性部１１を覆い、光磁気ディスクＸ１の記録用レーザビームおよび再生用レーザビームに対して充分な透過性を有する樹脂材料よりなる。保護膜１８を構成するための樹脂としては、例えば、紫外線硬化性の透明樹脂が採用される。保護膜１８の厚さは例えば５〜５０μｍである。
【００３３】
図２は、光磁気ディスクＸ１の製造方法の一部の工程を表す。本方法においては、まず、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように、所定のＮｉスタンパ２１を使用して、樹脂フィルム１３’に対してプリグルーブパターンを転写する。Ｎｉスタンパ２１は、その表面に、上述のプリグルーブ１３ｃを形成するための凹凸形状すなわちプリグルーブパターンを有する。本工程では、このＮｉスタンパ２１と樹脂フィルム１３’とを積層した後、所定の加熱条件の下でこれらを所定圧力で加圧することにより、樹脂フィルム１３’に対してプリグルーブパターンを転写する。このようにして、プリグルーブ１３ｃが形成された第１面１３ａとこれとは反対の側の第２面１３ｂとを有する樹脂フィルム１３’を２枚作製する。
【００３４】
次に、図２（ｃ）に示すように、一方の樹脂フィルム１３’の第２面１３ｂ上に軟磁性層１２を形成する。例えば、所定の軟磁性材料よりなるターゲットを用いて行うスパッタリング法により第２面１３ｂ上に当該軟磁性材料を成膜することによって、軟磁性層１２を形成する。このような成膜手法は、薄い軟磁性層１２を形成するうえで好適である。
【００３５】
次に、図２（ｄ）に示すように、他方の樹脂フィルム１３’と軟磁性層１２とを接合する。具体的には、他方の樹脂フィルム１３’の第２面１３ｂと軟磁性層１２の露出面との間に所定の接着剤１４’を介させ、当該他方の樹脂フィルム１３’と軟磁性層１２とを接合する。このようにして、軟磁性層１２と、各々が樹脂フィルム１３’に由来する２つのプリグルーブ層１３と、接着剤１４’に由来する接着層１４とからなる積層構造体を形成する。
【００３６】
この後、各プリグルーブ層１３の第１面１３ａ上に、熱伝導層１５、誘電体層１６、記録層１１ａ、中間層１１ｂ、再生層１１ｃ、誘電体層１７、および保護膜１８を順次形成する。熱伝導層１５から誘電体層１７までの各層については、例えば、所定のターゲットを用いて所定材料の成膜を行うスパッタリング法により形成することができる。保護膜１８については、例えば、透明な紫外線硬化性樹脂材料をスピンコート法により誘電体層１７上に成膜した後、当該樹脂材料に紫外線を照射することにより、形成することができる。以上のようにして、図１に示す光磁気ディスクＸ１を製造することができる。
【００３７】
光磁気ディスクＸ１への情報記録に際しては、例えば、当該ディスクを所定の回転速度で回転させた状態で、光磁気ディスクＸ１に対して位置決め制御された所定の光ピックアップまたは光学ヘッドから記録用のレーザを記録磁性部１１に向けて連続的なパルス信号として照射することにより記録磁性部１１内の記録層１１ａを局所的に順次昇温させる。これとともに、磁気記録ヘッドにより、所定に変調された記録磁界を当該昇温箇所に対して印加する。
【００３８】
このとき、光磁気ディスクＸ１において情報記録が実行されている箇所に対し、例えば図３に示すように、レーザＬが照射されている側とは反対の側からスタビライザ３を近接して配置する。スタビライザ３は、有意な面積の先端面３ａを有し、この先端面３ａを、光磁気ディスクＸ１において情報記録が実行されている記録面とは反対の側の面に対して対向させる。このように、光磁気ディスクＸ１に対してスタビライザ３を近接配置することにより、いわゆるベルヌーイ効果により、フレキシブルな光磁気ディスクＸ１の面ぶれが抑制される。スピンドルモータＭの駆動により所定の回転速度で回転する光磁気ディスクＸ１に対してスタビライザ３を近接配置することにより、光磁気ディスクＸ１の表面近傍に存在する例えば空気の当該光磁気ディスクＸ１に対する相対速度は、光磁気ディスクＸ１とスタビライザ３の間の方が、レーザ照射側よりも、速くなる。そのため、ベルヌーイの法則に従って、光磁気ディスクＸ１の表面近傍における圧力は、光磁気ディスクＸ１とスタビライザ３の間の方が、レーザ照射側よりも、小さくなる。この圧力差に起因して、光磁気ディスクＸ１とスタビライザ３の間には見かけ上の吸引力が生じ、当該吸引力が作用することにより、光磁気ディスクＸ１においてスタビライザ３が対向する箇所の面ぶれが抑制されることとなる。スタビライザ３は、情報記録時に作動する上述の磁気記録ヘッドの一部を構成してもよい。例えば、スタビライザ３は、磁気記録ヘッドが円柱状磁石を具備する場合における当該円柱状磁石であってもよい。
【００３９】
フレキシブルな光磁気ディスクＸ１においては、以上のようにして、ベルヌーイ効果により面ぶれを抑制しつつ、記録層１１ａに対し磁化方向の変化として所定の情報ないし信号を記録することができる。
【００４０】
一方、光磁気ディスクＸ１の情報再生に際しては、例えば、当該ディスクを所定の回転速度で回転させた状態で、所定の光ピックアップまたは光学ヘッドから再生用のレーザを記録磁性部１１に向けて照射し、記録磁性部１１（再生層１１ｃ）の表面にて反射された光の偏光方向の変化を検知する。このとき、光磁気ディスクＸ１において情報再生が実行されている箇所に対し、例えば図３に示すように、レーザＬが照射されている側とは反対の側からスタビライザ３を近接して配置する。フレキシブルな光磁気ディスクＸ１においては、このようにして、ベルヌーイ効果により面ぶれを抑制しつつ、記録磁性部１１内の記録信号を読み取ることができる。
【００４１】
光磁気ディスクＸ１は、上述のように、所定の軟磁性材料よりなる軟磁性層１２を有する。この軟磁性層１２は、本媒体の積層構造において、図１に示すように２つの記録磁性部１１の間に位置する。そのため、一方の記録磁性部１１内の記録層１１ａに対する情報記録時にも、他方の記録磁性部１１内の記録層１１ａに対する情報記録時にも、軟磁性層１２は、記録層１１ａにて磁束を集中させる機能を発揮し得る。したがって、光磁気ディスクＸ１では、一方の記録磁性部１１内の記録層１１ａに対する情報記録時にも、他方の記録磁性部１１内の記録層１１ａに対する情報記録時にも、軟磁性層１２の存在に起因して高い記録磁界感度を得ることが可能である。
【００４２】
加えて、光磁気ディスクＸ１は、基板を有しない。上述の従来の光磁気ディスクＸ４は、媒体の剛性を確保すべく、１ｍｍ程度の分厚い基板Ｓを有する。これに対し、光磁気ディスクＸ１は、そのような基板を伴わずに構成され、従ってフレキシブルなのである。光磁気ディスクＸ１では、その形状保持性については、各プリグルーブ層１３の構成材料や厚さ、または、保護膜１８の構成材料や厚さ等を、適宜設定することにより、調節することが可能である。上述のような情報記録時および情報再生時にて充分なベルヌーイ効果を享受できる程度に良好な形状保持性を得るうえでは、光磁気ディスクＸ１におけるヤング率と厚さとの積は、０.４ｍｍ・ＧＰａ以下であるのが好ましい。このようなフレキシブルな光磁気ディスクＸ１においては、充分な薄型化を図ることができ、従って高い体積記録密度を得ることが可能なのである。
【００４３】
以上のように、軟磁性層１２を内部に具備してフレキシブルな光磁気ディスクＸ１においては、高い記録磁界感度を実現しつつ高い体積記録密度を実現することが可能である。
【００４４】
図４は、本発明の第２の実施形態に係る光磁気ディスクＸ２の部分断面図である。光磁気ディスクＸ２は、記録磁性部１１と、軟磁性層１２と、プリグルーブ層１３と、接着層１４と、熱伝導層１５と、誘電体層１６と、誘電体層１７と、保護膜１８と、バランス層２１，２２，２３とを備え、フレキシブル光磁気記録媒体として構成されたものである。
【００４５】
光磁気ディスクＸ２は、軟磁性層１２に対して片側に位置するプリグルーブ層１３から保護膜１８までに代えてバランス層２１，２２，２３を備える点において、光磁気ディスクＸ１と異なり、片側にのみ記録面（記録磁性部１１により構成される）を有する。バランス層２１，２２，２３は、軟磁性層１２の一方の側において、他方の側のプリグルーブ層１３から保護膜１８までの構造と対称的な構造を確保するための部位である。バランス層２１は、主にプリグルーブ層１３に対応して設けられる部位であり、プリグルーブ層１３と同じ樹脂材料からなるのが好ましい。バランス層２２は、熱伝導層１５から誘電体層１７までの積層構造に主に対応して設けられる部位であり、これらのいずれかと同じ又は近似する例えば金属材料からなるのが好ましい。バランス層２３は、主に保護膜１８に対応して設けられる部位であり、保護膜１８と同じ樹脂材料からなるのが好ましい。このようなバランス層２１，２２，２３は、光磁気ディスクＸ２において反りなどが生ずるのを防止するのに資する。
【００４６】
光磁気ディスクＸ２については、光磁気ディスクＸ１に関して上述したのと同様にして、ベルヌーイ効果により面ぶれを抑制しつつ情報記録および情報再生を実行することができる。また、軟磁性層１２を内部に具備してフレキシブルな光磁気ディスクＸ２においては、光磁気ディスクＸ１に関して上述したのと同様に、高い記録磁界感度を実現しつつ高い体積記録密度を実現することが可能である。
【００４７】
図５は、本発明の第３の実施形態に係る光磁気ディスクＸ３の部分断面図である。光磁気ディスクＸ３は、２つの記録磁性部１１と、軟磁性層３１と、２つのプリグルーブ層３２と、２つの熱伝導層１５と、２つの誘電体層１６と、２つの誘電体層１７と、２つの保護膜１８とを備えてフレキシブル光磁気記録媒体として構成されたものであり、軟磁性層１２、２つのプリグルーブ層１３、および接着層１４に代えて軟磁性層３１および２つのプリグルーブ層３２を備える点において、光磁気ディスクＸ１と異なる。
【００４８】
軟磁性層３１は、高透磁率を有して大きな飽和磁化を有するとともに小さな保磁力を有する軟磁性材料よりなる。軟磁性層３１を構成するための軟磁性材料としては、例えば、ＦｅＣ、ＦｅＮｉ、ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＣ、ＦｅＣｏ−ＡｌＯが挙げられる。軟磁性層３１について良好な磁束集中能を得るうえでは、軟磁性層３１の飽和磁束密度（Ｂｓ）と厚さ（ｔ）との積（Ｂｓ・ｔ）は１.５×１０-6Ｔ・ｍ以上であるのが好ましい。また、本実施形態の軟磁性層３１の厚さは例えば２０〜５０μｍである。
【００４９】
プリグルーブ層３２は、熱伝導層１５と接する第１面３２ａおよびその反対の側の第２面３２ｂを有し、第１面３２ａにプリグルーブ３２ｃが形成されている。プリグルーブ３２ｃは渦巻き状または同心円状のパターン形状を有し、このプリグルーブ３２ｃを基に、光磁気ディスクＸ３におけるランドグルーブ形状が実現される。また、プリグルーブ層３２は、本実施形態では紫外線硬化性樹脂よりなる。本発明では、プリグルーブ層３２の構成材料として、紫外線硬化性樹脂に代えて熱硬化性樹脂や触媒硬化性樹脂を採用してもよい。このようなプリグルーブ層３２の厚さは例えば５〜１５μｍである。
【００５０】
本実施形態における記録磁性部１１、熱伝導層１５、誘電体層１６，１７、および保護膜１８については、第１の実施形態における記録磁性部１１、熱伝導層１５、誘電体層１６，１７、および保護膜１８について上述したのと同様である。
【００５１】
図６は、光磁気ディスクＸ３の製造方法の一部の工程を表す。本方法においては、まず、図６（ａ）に示すように、軟磁性シート３１’と、基板６１Ａ，６１Ｂと、樹脂材料３２Ａ，３２Ｂとを、スピンドルテーブル（図示せず）上にて積層する。軟磁性シート３１’は、所定の軟磁性材料よりなり、その厚さは例えば２０〜５０μｍである。基板６１Ａ，６１Ｂの各々は、透明基板であり、その表面に、上述のプリグルーブ３２ｃを形成するための凹凸形状すなわちプリグルーブパターンを伴うプリグルーブ形成面６１ａを有する。基板６１Ｂはスピンドルテーブルに固定されている。樹脂材料３２Ａ，３２Ｂは、各々、本実施形態では紫外線硬化性樹脂である。本発明では、樹脂材料３２Ａ，３２Ｂの構成材料として、紫外線硬化性樹脂に代えて熱硬化性樹脂や触媒硬化性樹脂を採用してもよい。
【００５２】
次に、スピンドルテーブルを駆動して上述の積層体を所定の回転速度で回転させることにより、図６（ｂ）に示すように、樹脂材料３２Ａ，３２Ｂを、各々、軟磁性シート３１’と基板６１Ａの間、および、軟磁性シート３１’と基板６１Ｂの間にて、展延させる。このようにして、軟磁性シート３１’と、基板６１Ａ，６１Ｂと、樹脂材料３２Ａ，３２Ｂとからなる積層構造体を形成する。
【００５３】
次に、図６（ｃ）に示すように、透明な基板６１Ａ，６１Ｂを介して樹脂材料３２Ａ，３２Ｂに対して紫外線を照射し、これらを硬化させて２つのプリグルーブ層３２を形成する。樹脂材料３２Ａ，３２Ｂとして熱硬化性樹脂を採用する場合には、本工程では、紫外線照射に代えて所定温度での加熱を実行する。また、樹脂材料３２Ａ，３２Ｂとして触媒硬化性樹脂を採用する場合には、本工程では、紫外線照射に代えて、樹脂材料３２Ａ，３２Ｂへの所定の触媒添加を実行する。このようにして、軟磁性シート３１’に由来する軟磁性層３１と、各々が樹脂材料３２Ａ，３２Ｂに由来する２つのプリグルーブ層３２とからなる積層構造体を形成する。
【００５４】
次に、積層構造体から基板６１Ａ，６１Ｂを剥がした後、各プリグルーブ層３２の第１面３２ａ上に、熱伝導層１５、誘電体層１６、記録層１１ａ、中間層１１ｂ、再生層１１ｃ、誘電体層１７、および保護膜１８を順次形成する。これらの形成手法は、第１の実施形態において上述したのと同様である。以上のようにして、図５に示す光磁気ディスクＸ３を製造することができる。
【００５５】
このような光磁気ディスクＸ３については、光磁気ディスクＸ１に関して上述したのと同様にして、ベルヌーイ効果により面ぶれを抑制しつつ情報記録および情報再生を実行することができる。
【００５６】
光磁気ディスクＸ３は、上述のように、所定の軟磁性材料よりなる軟磁性層３１を有する。この軟磁性層３１は、本媒体の積層構造において、図５に示すように２つの記録磁性部１１の間に位置する。そのため、一方の記録磁性部１１内の記録層１１ａに対する情報記録時にも、他方の記録磁性部１１内の記録層１１ａに対する情報記録時にも、軟磁性層３１は、記録層１１ａにて磁束を集中させる機能を発揮し得る。したがって、光磁気ディスクＸ３では、一方の記録磁性部１１内の記録層１１ａに対する情報記録時にも、他方の記録磁性部１１内の記録層１１ａに対する情報記録時にも、軟磁性層３１の存在に起因して高い記録磁界感度を得ることが可能である。
【００５７】
加えて、光磁気ディスクＸ３は、基板を有しない。上述の従来の光磁気ディスクＸ４は、媒体の剛性を確保すべく、１ｍｍ程度の分厚い基板Ｓを有する。これに対し、光磁気ディスクＸ３は、そのような基板を伴わずに構成され、従ってフレキシブルなのである。光磁気ディスクＸ３では、その形状保持性については、各プリグルーブ層３２の構成材料や厚さ、または、保護膜１８の構成材料や厚さ等を適宜設定することにより、調節することが可能である。上述のような情報記録時および情報再生時にて充分なベルヌーイ効果を享受できる程度に良好な形状保持性を得るうえでは、光磁気ディスクＸ３におけるヤング率と厚さとの積は、０.４ｍｍ・ＧＰａ以下であるのが好ましい。このようなフレキシブルな光磁気ディスクＸ３においては、充分な薄型化を図ることができ、従って高い体積記録密度を得ることが可能なのである。
【００５８】
以上のように、軟磁性層３１を内部に具備してフレキシブルな光磁気ディスクＸ３においては、高い記録磁界感度を実現しつつ高い体積記録密度を実現することが可能である。
【００５９】
光磁気ディスクＸ３においては、軟磁性層３１に対して片側に位置するプリグルーブ層３２から保護膜１８までに代えて、他方の側のプリグルーブ層３２から保護膜１８までの構造と対称的な構造を確保するための部位を設け、片側にのみ記録面（記録磁性部１１により構成される）を有する構成を採用してもよい。軟磁性層３１に対して片側に位置するプリグルーブ層３２から保護膜１８までの構造と対称的な構造を確保するための部位は、例えば、第２の実施形態において上述したバランス層２１，２２，２３からなる。
【実施例１】
【００６０】
〔光磁気ディスクの作製〕
図１を参照して上述した第１の実施形態の積層構造を有するフレキシブル光磁気記録媒体として、本実施例の光磁気ディスクを作製した。本実施例における下記の媒体作製過程は、主に図２を参照して上述した光磁気ディスクＸ１の製造過程に相当するものである。
【００６１】
本実施例の光磁気ディスクの作製においては、まず、所定のプリグルーブパターンが形成されたプリグルーブ形成面を有するＮｉスタンパを使用して、厚さ３０μｍのポリカーボネートフィルムに対して当該プリグルーブパターンを転写した。具体的には、Ｎｉスタンパを、そのプリグルーブ形成面を介してポリカーボネートフィルムと重ね合わせた後、これらを１８０℃に加熱しながら１００ｋｇ/ｃｍ2の圧力で加圧することにより、Ｎｉスタンパのプリグルーブパターンをポリカーボネートフィルムの片面に転写した。このようにして、プリグルーブパターン（グルーブピッチ５５０ｎｍ，グルーブ深さ５０ｎｍ，グルーブ幅２７５ｎｍ）が形成された第１面とこれとは反対の側の第２面とを有するポリカーボネートフィルムを２枚作製した。
【００６２】
次に、上述のようにしてプリグルーブパターンが形成された一方のポリカーボネートフィルムの第２面上に、スパッタリング法によりＦｅＣを成膜することによって、厚さ１μｍの軟磁性層を形成した。本スパッタリングでは、ＦｅＣターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒを使用し（反応性スパッタリングを除く以下のスパッタリングにおいても同様）、スパッタガス圧力を１.０Ｐａとし、スパッタ電力を１.０ｋＷとした。
【００６３】
次に、上述のようにしてプリグルーブパターンが形成された他方のポリカーボネートフィルムと軟磁性層とを接合した。具体的には、他方のポリカーボネートフィルムの第２面と軟磁性層の露出面との間を接着剤により接合した。接着剤としては、光硬化性樹脂（商品名：３１１５，スリーボンド製）を使用した。このようにして、軟磁性層と、各々がポリカーボネートフィルムに由来する２つのプリグルーブ層と、接着剤に由来する接着層とからなる、図２（ｄ）に示すような積層構造体を形成した。
【００６４】
次に、当該積層構造体の一方のプリグルーブ層上にスパッタリング法によりＡｌＳｉを成膜することによって、厚さ３０ｎｍの熱伝導層を形成した。本スパッタリングでは、ＡｌターゲットおよびＳｉターゲットを用い、スパッタガス圧力を０.６Ｐａとし、スパッタ電力を０.３ｋＷ（Ａｌターゲット）および０.２ｋＷ（Ｓｉターゲット）とした。
【００６５】
次に、スパッタリング法により熱伝導層上にＳｉＮを成膜することによって、厚さ１５ｎｍの誘電体層を形成した。具体的には、Ｓｉターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒガスおよびＮ2ガスを使用して行う反応性スパッタリングにより、基板上にＳｉＮを成膜した。本スパッタリングでは、ＡｒガスおよびＮ2ガスの流量比を７：３とし、スパッタガス圧力を０.５Ｐａとし、スパッタ電力を０.８ｋＷとした。
【００６６】
次に、スパッタリング法により熱伝導層上にＴｂ24Ｆｅ56Ｃｏ20を成膜することによって、厚さ６０ｎｍの記録層を形成した。具体的には、ＴｂターゲットおよびＦｅＣｏ合金ターゲットを用いて行うコスパッタリングにより、熱伝導層上にＴｂ24Ｆｅ56Ｃｏ20を成膜した。本スパッタリングでは、スパッタガス圧力を１.５Ｐａとし、スパッタ電力を０.５ｋＷ（Ｔｂターゲット）および１.５ｋＷ（ＦｅＣｏ合金ターゲット）とした。
【００６７】
次に、スパッタリング法により記録層上にＴｂ22Ｆｅ78を成膜することによって、厚さ１５ｎｍの中間層を形成した。具体的には、ＴｂターゲットおよびＦｅターゲットを用いて行うコスパッタリングにより、記録層上にＴｂ22Ｆｅ78を成膜した。本スパッタリングでは、スパッタガス圧力を１.０Ｐａとし、スパッタ電力を０.３ｋＷ（Ｔｂターゲット）および０.９ｋＷ（Ｆｅターゲット）とした。
【００６８】
次に、スパッタリング法により中間層上にＧｄ25Ｆｅ70Ｃｏ5を成膜することによって、厚さ２５ｎｍの再生層を形成した。具体的には、ＧｄターゲットおよびＦｅＣｏ合金ターゲットを用いて行うコスパッタリングにより、中間層上にＧｄ25Ｆｅ70Ｃｏ5を成膜した。本スパッタリングでは、スパッタガス圧力を０.４Ｐａとし、スパッタ電力を０.４ｋＷ（Ｇｄターゲット）および０.８ｋＷ（ＦｅＣｏ合金ターゲット）とした。
【００６９】
次に、スパッタリング法により再生層上にＳｉＮを成膜することによって、厚さ６０ｎｍの誘電体層を形成した。具体的には、Ｓｉターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒガスおよびＮ2ガスを使用して行う反応性スパッタリングにより、再生層上にＳｉＮを成膜した。本スパッタリングでは、ＡｒガスおよびＮ2ガスの流量比を７：３とし、スパッタガス圧力を０.５Ｐａとし、スパッタ電力を０.８ｋＷとした。
【００７０】
次に、このようにして形成した誘電体層上に厚さ１５μｍの保護膜を形成した。具体的には、まず、スピンコート法により、紫外線硬化性の透明樹脂（商品名：ＥＸ７３３，大日本インキ製）を誘電体層上に塗布した。次に、紫外線照射により、当該樹脂膜を硬化させた。
【００７１】
この後、上述の熱伝導層の形成から保護膜の形成までを、上述の積層構造体の他方のプリグルーブ層上においても行った。以上のようにして、本実施例の光磁気ディスクを作製した。本実施例の光磁気ディスクにおいては、ヤング率は４.０ＧＰａであり、厚さは９５μｍであり、従ってこれらの積は０.３８ｍｍ・ＧＰａであった。また、本実施例における軟磁性層の飽和磁束密度は１.５テスラ（Ｔ）であり、その厚さは上述のように１μｍであり、従って、飽和磁束密度と厚さの積は１.５×１０-6Ｔ・ｍであった。また、本実施例における軟磁性層の保磁力は約１Ｏｅであった。
【００７２】
〔記録再生特性〕
本実施例の光磁気ディスクについて、記録再生特性を調べた。具体的には、まず、本実施例の光磁気ディスクをスピンドルモータにより１８００ｒｐｍで回転させた状態で、所定のスタビライザを使用してベルヌーイ効果により当該光磁気ディスクの面ぶれを抑制しつつ、当該光磁気ディスクの所定の情報トラックに対し、記録マークと同じ長さのスペースを介して所定のマーク長の記録マークを繰り返し記録した。この記録処理は、所定の光ピックアップを搭載した装置を使用してレーザパルス磁界変調記録方式により行った。この装置の光ピックアップにおける対物レンズの開口数ＮＡは０.８５であり、レーザ波長は４０５ｎｍである。当該光ピックアップは、情報トラックに対するフォーカスサーボ機能およびトラッキングサーボ機能を有し、且つ、光出射部の周縁を延びる記録磁界発生用の磁気コイルを有する。本記録処理では、所定の記録磁界と、当該記録磁界条件の下で予め最適化された記録用レーザパワーとを採用した。また、本記録処理では、光磁気ディスクにおいて記録が実行されている箇所に対し、レーザ照射側とは反対の側からスタビライザを近接して配置した。スタビライザは、直径１５ｍｍの円柱形状を有する。記録処理の後、光磁気ディスクをスピンドルモータにより１８００ｒｐｍで回転させた状態で、スタビライザを使用してベルヌーイ効果により当該光磁気ディスクの面ぶれを抑制しつつ、光磁気ディスクを再生して再生信号におけるＣＮＲを測定した。この再生処理は、記録時と同一の装置を使用して行い、再生用レーザパワーを２.０ｍＷとした。
【００７３】
以上のような記録処理およびその後の再生処理を、記録処理における記録磁界の強度を変化させて各記録磁界強度ごとに行った。その結果を図７のグラフに表す。図７のグラフにおいては、上述の記録磁界発生用の磁気コイルに通電した電流の相対値を横軸にて表し（この相対値は、軟磁性層が存在しない場合に記録層に生ずる記録磁界の強度（Ｏｅ）に対応する）、ＣＮＲ（ｄＢ）を縦軸にて表し、実施例１の光磁気ディスクについての測定結果のプロットを線７１で結ぶ。
【００７４】
〔面ぶれ測定〕
本実施例の光磁気ディスクについて面ぶれの程度を調べた。具体的には、本実施例の光磁気ディスクをスピンドルモータにより１８００ｒｐｍで回転させ、且つ、上述の記録処理および再生処理と同様に当該光磁気ディスクの所定箇所にスタビライザを対向させた状態で、当該スタビライザとは反対の側に配置したレーザ変位計により、光磁気ディスクの記録面のぶれを測定した。その結果、面ぶれ幅は５μｍ程度であった。また、スタビライザを対向させない以外は同一の条件で面ぶれを測定したところ、面ぶれ幅は１ｍｍ程度であった。そして、スタビライザを利用しない以外は上述したのと同様の記録処理を試みたところ、光磁気ディスクに対して光ピックアップによるフォーカスサーボがかからず、記録処理を遂行することができなかった。
【実施例２】
【００７５】
〔光磁気ディスクの作製〕
図５を参照して上述した第３の実施形態の積層構造を有するフレキシブル光磁気記録媒体として、本実施例の光磁気ディスクを作製した。本実施例における下記の媒体作製過程は、主に図６を参照して上述した光磁気ディスクＸ３の製造過程に相当するものである。
【００７６】
本実施例の光磁気ディスクの作製においては、まず、第１樹脂基板（外径８６ｍｍ，内径１５ｍｍ，厚さ０.６ｍｍ）と、紫外線硬化性樹脂（商品名：ＳＤ６０６６，大日本インキ製）と、パーマロイフィルム（外径８６ｍｍ，内径１５ｍｍ，厚さ２０μｍ）と、紫外線硬化性樹脂（商品名：ＳＤ６０６６，大日本インキ製）と、第２樹脂基板（外径８６ｍｍ，内径１５ｍｍ，厚さ０.６ｍｍ）とを、この順でスピンドルテーブル上にて積層した。第１および第２樹脂基板は、各々、透明であり、プリグルーブパターン（グルーブピッチ５５０ｎｍ，グルーブ深さ５０ｎｍ，グルーブ幅２７５ｎｍ）を形成するための凹凸形状をパーマロイフィルムに対向する表面に有する。パーマロイフィルムは、本発明における軟磁性シートであり、Ｆｅ55Ｎｉ45よりなる。また、使用した紫外線硬化性樹脂の粘度は３４０ｍＰａ/ｓであった。
【００７７】
次に、スピンドルテーブルを２５００ｒｐｍで５秒間回転させることにより、紫外線硬化性樹脂を、パーマロイフィルムと第１樹脂基板との間、および、パーマロイフィルムと第１樹脂基板との間にて、展延させ、各々が厚さ２０μｍの樹脂層を形成した。
【００７８】
次に、透明な第１および第２樹脂基板を介して両樹脂層に対して紫外線を照射してこれらを硬化させ、プリグルーブパターン（グルーブピッチ５５０ｎｍ，グルーブ深さ５０ｎｍ，グルーブ幅２７５ｎｍ）を有する２つのプリグルーブ層（厚さ２０μｍ）を形成した。このようにして、パーマロイフィルムに由来する軟磁性層と、各々が紫外線硬化性樹脂に由来する２つのプリグルーブ層とからなる、図６（ｃ）に示すような積層構造体を形成した。
【００７９】
次に、積層構造体から第１および第２樹脂基板を剥がした後、一方のプリグルーブ層上に、実施例１と同様にして、熱伝導層、誘電体層、記録層、中間層、再生層、誘電体層、および保護膜を順次形成した。
【００８０】
この後、熱伝導層の形成から保護膜の形成までを、上述の積層構造体の他方のプリグルーブ層上においても行った。以上のようにして、本実施例の光磁気ディスクを作製した。本実施例の光磁気ディスクでは、ヤング率は４.０ＧＰａであり、厚さは９５μｍであり、従ってこれらの積は０.３８ｍｍ・ＧＰａであった。また、本実施例における軟磁性層の飽和磁束密度は１.３テスラ（Ｔ）であり、その厚さは上述のように２０μｍであり、従って、飽和磁束密度と厚さの積は２.６×１０-5Ｔ・ｍであった。また、本実施例における軟磁性層の保磁力は約１０Ｏｅであった。
【００８１】
〔記録再生特性〕
本実施例の光磁気ディスクについて、実施例１と同様にして記録再生特性を調べた。その結果を図７のグラフに表す。図７のグラフでは、本実施例の光磁気ディスクについての測定結果のプロットを線７２で結ぶ。
【実施例３】
【００８２】
軟磁性層を挟む２つの厚さ２０μｍのプリグルーブ層に代えて、軟磁性層を挟む２つの厚さ５μｍのプリグルーブ層を形成した以外は、実施例２と同様にして、本実施例の光磁気ディスクを作製した。また、本実施例の光磁気ディスクについて、実施例１と同様にして記録再生特性を調べた。その結果を図７のグラフに表す。図７のグラフでは、本実施例の光磁気ディスクについての測定結果のプロットを線７３で結ぶ。
【比較例】
【００８３】
プリグルーブパターンが形成された第１面とこれとは反対の側の第２面とを有する２枚のポリカーボネートフィルムの当該第２面どうしを、軟磁性層を介さずに光硬化性樹脂（商品名：３１１５，スリーボンド製）により直接接合した以外は、実施例１と同様にして、本比較例の光磁気ディスクを作製した。本比較例の光磁気ディスクは、図１に示す光磁気ディスクＸ１から軟磁性層１２を除いたものに相当する積層構造を有する。また、本比較例の光磁気ディスクについて、実施例１と同様にして記録再生特性を調べた。その結果を図７のグラフに表す。図７のグラフでは、本比較例の光磁気ディスクについての測定結果のプロットを線７４で結ぶ。
【評価】
【００８４】
図７のグラフからは、本発明に係る実施例１〜３の光磁気ディスクは、比較例の光磁気ディスクよりも記録磁界感度が高いことが判る。図７のグラフに表れているように、軟磁性層を有しない比較例の光磁気ディスクでは、情報記録時の記録磁界が３００Ｏｅ程度以上でないと再生信号におけるＣＮＲが飽和しない。これに対し、軟磁性層を有する実施例１の光磁気ディスクでは記録磁界が２３０Ｏｅ程度以上でＣＮＲが飽和し、軟磁性層を有する実施例２の光磁気ディスクでは記録磁界が２２０Ｏｅ程度以上でＣＮＲが飽和し、軟磁性層を有する実施例３の光磁気ディスクでは記録磁界が２００Ｏｅ程度以上でＣＮＲが飽和する。このように、実施例１〜３の光磁気ディスクでは、比較例の光磁気ディスクよりも、低い記録磁界で飽和ＣＮＲ（即ち高いＣＮＲ）が得られる。したがって、実施例１〜３の光磁気ディスクは、比較例の光磁気ディスクよりも記録磁界感度が高いのである。
【００８５】
また、実施例１〜３の光磁気ディスクを比較すると、軟磁性層と記録層との間に位置するプリブルーブ層が薄いほど記録磁界感度が高いことが、図７のグラフから判る。各プリグルーブ層の厚さが３０μｍである実施例１の光磁気ディスクでは、上述のように、記録磁界が２３０Ｏｅ程度以上でＣＮＲが飽和する。これに対し、各プリグルーブ層の厚さが２０μｍである実施例２の光磁気ディスクでは、記録磁界が２２０Ｏｅ程度以上でＣＮＲが飽和し、各プリグルーブ層の厚さが５μｍである実施例３の光磁気ディスクでは、記録磁界が２００Ｏｅ程度以上でＣＮＲが飽和する。このように、実施例１〜３の光磁気ディスクでは、軟磁性層と記録層との間に位置するプリブルーブ層が薄いほど、より低い記録磁界で飽和ＣＮＲ（即ち高いＣＮＲ）が得られ、記録磁界感度が高いのである。
【００８６】
以上のまとめとして、本発明の構成およびそのバリエーションを以下に付記として列挙する。
【００８７】
（付記１）軟磁性層と、
第１記録磁性部と、
前記軟磁性層および前記第１記録磁性部の間に位置し且つ当該第１記録磁性部の側の面にプリブルーブを有する第１のプリグルーブ層と、
前記軟磁性層に対して前記第１記録磁性部とは反対の側に位置する第２記録磁性部と、
前記軟磁性層および前記第２記録磁性部の間に位置し且つ当該第２記録磁性部の側の面にプリグルーブを有する第２のプリグルーブ層と、を含む積層構造を有する、フレキシブル光磁気記録媒体。
（付記２）軟磁性層と、
記録磁性部と、
前記軟磁性層および前記記録磁性部の間に位置し且つ当該記録磁性部の側の面にプリグルーブを有するプリグルーブ層と、
前記軟磁性層に対して前記記録磁性部とは反対の側に位置する第１のバランス層と、
前記軟磁性層および前記第１のバランス層の間に位置する第２のバランス層と、を含む積層構造を有する、フレキシブル光磁気記録媒体。
（付記３）前記プリグルーブ層の厚さは５〜３０μｍである、付記１または２に記載のフレキシブル光磁気記録媒体。
（付記４）前記軟磁性層の飽和磁束密度と厚さとの積は１.５×１０-6Ｔ・ｍ以上である、付記１から３のいずれか一つに記載のフレキシブル光磁気記録媒体。
（付記５）ヤング率と厚さとの積は０.４ｍｍ・ＧＰａ以下である、付記１から４のいずれか一つに記載のフレキシブル光磁気記録媒体。
（付記６）プリグルーブが形成された第１面とこれとは反対の側の第２面とを有する第１樹脂フィルムにおける当該第２面上に、軟磁性材料を成膜することにより軟磁性層を形成するための工程と、
プリグルーブが形成された第１面とこれとは反対の側の第２面とを有する第２樹脂フィルムを、当該第２樹脂フィルムの前記第２面を介して前記軟磁性層と接合するための工程と、
前記第１および／または第２樹脂フィルムの上位に記録磁性部を形成するための工程と、を含む、フレキシブル光磁気記録媒体の製造方法。
（付記７）軟磁性シートと、当該軟磁性シートの側にプリグルーブ形成面を有する第１基板と、当該第１基板および前記軟磁性シートの間に介在する第１硬化性樹脂材料と、前記軟磁性シートに対して当該第１基板とは反対の側に位置し且つ前記軟磁性シートの側にプリグルーブ形成面を有する第２基板と、当該第２基板および前記軟磁性シートの間に介在する第２硬化性樹脂材料と、を含む積層構造体を形成するための工程と、
前記第１硬化性樹脂材料を硬化させることにより第１プリグルーブ層を形成し、第２硬化性樹脂材料を硬化させることにより第２プリグルーブ層を形成するための、工程と、
前記第１および第２基板を除去するための工程と、
前記第１および／または第２プリグルーブ層の上位に記録磁性部を形成するための工程と、を含む、フレキシブル光磁気記録媒体の製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光磁気ディスクの部分断面図である。
【図２】図１に示す光磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図３】本発明に係る光磁気ディスクの情報記録または情報再生の態様を表す模式図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る光磁気ディスクの部分断面図である。
【図５】本発明の第３の実施形態に係る光磁気ディスクの部分断面図である。
【図６】図５に示す光磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図７】実施例１〜３および比較例の光磁気ディスクについて、ＣＮＲの記録磁界強度依存性を表す。
【図８】従来の光磁気ディスクの部分断面図である。
【図９】軟磁性層を有する従来の光磁気ディスクの部分断面図である。
【符号の説明】
【００８９】
Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４      光磁気ディスク
１１      記録磁性部
１１ａ      記録層
１１ｂ      中間層
１１ｃ      再生層
１２，３１      軟磁性層
１３，３２      プリグルーブ層
１３ａ，３２ａ      第１面
１３ｂ，３２ｂ      第２面
１３ｃ，３２ｃ      プリグルーブ
１４      接着層
１５      熱伝導層
１６，１７      誘電体層
１８      保護膜
２１，２２，２３      バランス層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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