(57)【要約】【課題】  より簡便な方法でバンク溝部に充分なインクを滞留させて、バンク溝部内での色の濃淡の差が少なく、コントラスト比が大きいカラーフィルタの形成方法を提供することにある。【解決手段】  液滴吐出ヘッド２００（図７参照）によって、インク１１は同図紙面右から左に向かって、例えば赤（Ｒ）のインク１１ａが吐出され親水化バンク溝部２１ａに滞留し、次に例えば緑（Ｇ）のインク１１ｂが吐出され親水化バンク溝部２１ｂに滞留されていく。この場合に、親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂ内は前述したように親水化膜９０によって遮光層９５を含んで親水化されているため、インク１１は親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂ内に容易に滞留することができ、親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂの高さに対して満杯までインク１１ａ，１１ｂを吐出して滞留することができる。【選択図】      図１１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にバンクを形成する工程と、
前記基板と前記バンクの一部又は全部を親水化する工程と、
前記バンクの上面の一部又は全部に撥液剤を塗布する工程と
を含むことを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の前記撥液剤は、前記基板とは別部材の原版部材に付着させ、前記原版部材と前記基板上の前記バンクの上面とが接触することにより、前記撥液剤が前記バンクの上面の一部又は全部に転写することを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の前記バンクの材料は、無機材料又は有機材料であることを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の前記バンクの高さは、１μｍ以上であることを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の前記バンクは、遮光層の上に配設されていることを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
【請求項６】
請求項１に記載の前記基板と前記バンクの一部又は全部を親水化する工程は、オゾン酸化処理、プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、酸処理、アルカリ処理の少なくとも一つの処理を含むことを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
【請求項７】
請求項２に記載の原版部材は、平板状又はロール状であることを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
【請求項８】
請求項２又は７に記載の前記原版部材の材質は、少なくともシロキサン構造を含むエラストマであることを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
【請求項９】
請求項１又は２に記載の前記撥液剤は、シランカップリング剤又は撥液性を呈する高分子であることを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット方式を用いたカラーフィルタの製造プロセスに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット方式によるカラーフィルタ形成では、基板に配設された凸状の隔壁部材（以下、バンクという）によるパターンの微細化が行われている。インクジェット方式によって吐出されたフィルタ材料（以下、インクという）をバンクと基板とで形成された凹部（以下、バンク溝部という）に収納するために、バンクは撥液性を呈し、基板は親水性を呈するようにしてインクがバンクを乗り越えることを防止している（例えば特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−２７２５２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、バンクを撥液性にすると、インクジェットヘッドから吐出されたインクはバンクの撥液性により収縮して丸くなり、バンクの中央部付近では色が濃く、バンク近辺ではインクの厚さが薄いため色が薄くなり、カラーフィルタとしての性能を損ねていた。
【０００５】
そこで本発明の目的は、より簡便な方法でバンク溝部に充分なインクを滞留させて、バンク溝部内での色の濃淡の差が少なく、コントラスト比が大きいカラーフィルタの形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため本発明では、基板上にバンクを形成する工程と、前記基板と前記バンクの一部又は全部を親水化する工程と、前記バンクの上面の一部又は全部に撥液剤を塗布する工程とを含むことを要旨とする。
【０００７】
これによれば、基板と基板上に形成されたバンクの一部又は全部を親水化することによって、バンク溝部内が全て親水性となり、インクを充分に滞留させることができる。また、バンクの上面の一部又は全部に撥液剤を塗布することによって、インクがバンクを超えることを防止すると同時に、インクジェットヘッドから吐出されたインクがバンクの上に着弾した場合に、バンクの上のインクをバンク溝内に引き寄せて隣接するバンクのインクと混濁することを防止することができる。
【０００８】
本発明の撥液剤は、前記基板以外の原版部材に付着させ、前記原版部材と前記基板上の前記バンクとが接触することにより、前記撥液剤が前記バンクの上面の一部又は全部に転写することを要旨とする。
【０００９】
これによれば、撥液剤を基板以外の原版部材に付着させ、原版部材と基板上のバンクとが接触することにより、撥液剤がバンクの上面の一部又は全部に転写することができるため、親水化されているバンク溝部に影響を与えずにバンクの上面の一部又は全部に撥液剤を設けることができる。
【００１０】
本発明のバンクの材質は、無機材料又は有機材料であることを要旨とする。
【００１１】
これによれば、バンクの材質に関係なく本発明を適用することができる。
【００１２】
本発明のバンクの高さは、１μｍ以上であることを要旨とする。
【００１３】
これによれば、バンクの上面の一部又は全部に撥液剤を設ける際に、バンクの高さが１μｍ以上であるとバンク溝部の中に撥液剤が付着することを防ぐことができる。
【００１４】
本発明の前記バンクは、遮光層の上に配設されていることを要旨とする。
【００１５】
これによれば、基板に配設されている遮光層の上にバンクを設け、基板とバンクと遮光層の一部又は全部を親水化することによって、バンク溝部内は全て親水化され、インクをバンク溝部内に一様に滞留させることができる。
【００１６】
本発明の前記基板と前記バンクの一部又は全部を親水化する工程は、オゾン酸化処理、プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、酸処理、アルカリ処理の少なくとも一つの処理を含むことを要旨とする。
【００１７】
これによれば、基板とバンクの一部又は全部を親水化する工程の処理方法として、オゾン酸化処理、プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、酸処理、アルカリ処理の少なくとも一つの処理を含むことによって、基板とバンクの一部又は全部を親水化することができる。
【００１８】
本発明の原版部材は、平板状又はロール状であることを要旨とする。
【００１９】
これによれば、基板上に形成されたバンク上面の一部又は全部に対して、平板状又はロール状の原版部材に付着されている撥液剤を容易に転写することができ、バンク上面の一部又は全部が撥液性を備えることができる。
【００２０】
本発明の原版部材の材質は、少なくともシロキサン構造を含むエラストマであることを要旨とする。
【００２１】
これによれば、原版部材の材質が、少なくともシロキサン構造を含むエラストマであるために、弾性体としての原版部材を得ることができ、基板とバンクの一部又は全部との密着性を高めることができる。また、撥液剤との耐性も確保される。
【００２２】
本発明の撥液剤は、シランカップリング剤又は撥液性を呈する高分子であることを要旨とする。
【００２３】
これによれば、撥液剤がシランカップリング剤又は撥液性を呈する高分子であるために、バンクの上面の一部又は全部に強い撥液性が備えられ、インクを安定してバンク溝部に収容することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施例について詳細に説明する。
【実施例１】
【００２５】
カラーフィルタは、基板の上に、マトリクス状に並んだ複数の画素を備え、画素と画素の境目は、凸状の隔壁部材（以下、バンクという）によって区切られている。このバンクで区切られた内側の領域をバンク溝部という。画素の１つ１つには、インクジェット装置（図示せず）から赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのフィルタ材料（以降、インクという）が吐出され、カラーフィルタが形成されている。画素の形状は、円形、楕円、四角、ストライプいずれの形状でも構わないが、インク組成物には表面張力があるため、四角形の角部は丸みを帯びているほうが好ましい。また、赤、緑、青の配置は、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列等があり、本実施例では、その他の配置でも構わない。
【００２６】
本実施例は、カラーフィルタの形成方法としての基板と該基板上にバンクを形成する工程と、基板とバンクの一部又は全部を親水化する工程と、バンクの上面の一部又は全部に撥液剤を塗布する工程について説明する。
【００２７】
＜基板と該基板上にバンクを形成する工程のフローチャート＞
図１は、本実施例の基板と該基板上にバンクを形成する工程のフローチャートである。
本実施例では、基板自体をバンクとして使用するか否かをステップ（以降、Ｓという）１００で選択する。基板自体をバンクとして使用しない場合はＳ１０１へ進み、基板自体をバンクとして使用する場合はＳ１２０へ進む。
【００２８】
ここで、基板の材質としては、ガラス、石英等からなる透明又は半透明の無機質基板材料、ダイアモンド、シリコン系、ゲルマニュウム系等の単結晶又は非単結晶の半導体基板材料、さらにはセラミック等からなる基板材料、又はポリエチレン樹脂系、ポリスチレン樹脂系、ポリエチレンテレフタレート樹脂系、ポリアクリル樹脂系、ポリメタクリル樹脂系などの汎用プラスチックやポリカーボネート樹脂系、ポリエステル樹脂系、ポリアミド樹脂系、ポリアセタール樹脂系、ポリアミドイミド樹脂系、ポリイミド樹脂系、ポリエーテルイミド樹脂系、エポキシ樹脂系（ガラス入りを含む）、ポリサルホン樹脂系、ポリエーテルサルホン樹脂系、ポリエーテル樹脂系、ポリエーテルーテルケトン樹脂系、ポリエーテルニトリル樹脂系、ポリフェニレンエーテル樹脂系、ポリフェニレンサルファイド樹脂系、ポリフェノール樹脂系等のエンジニアリングプラスチックのいずれか一つ又はそれぞれの材料とを組み合わせた材料である。
【００２９】
基板自体をバンクとして使用しない場合について説明する。
Ｓ１０１では、基板１０の上にバンクを多層化するか否かを選択する。多層化せずに一層のバンクを選択した場合（ＮＯ）は、Ｓ１０２〜Ｓ１０５を一回だけ行う。また、「バンクを多層化する」を選択した場合（ＹＥＳ）は、多層化する回数だけＳ１０２〜Ｓ１０５を繰り返して行う。
【００３０】
Ｓ１０２では、基板の一部又は全部にバンクの材料を塗布又は付着させ、熱及び／又は光処理等の成膜処理を施して所望のバンク膜を得る。熱及び／又は光処理とは、加熱、紫外線照射、赤外線照射又は可視光照射等によりバンク膜を構成している物質を活性化して、反応させ、バンク膜としての性能を得るための処理をいう。以降、この処理を成膜処理という。ここで得られた膜のことを以降、バンク膜という。バンクの高さとしてのバンク膜の厚さ（高さ）は、１μｍ以上であることが好ましい。
【００３１】
ここで、バンクの材料は、無機材料としての無機質基板材料、半導体基板材料、セラミック基板材料、又は有機材料としての汎用プラスチックやエンジニアリングプラスチックのいずれか一つ又はそれぞれの材料を組み合わせた材料である。特に、Ｓ１０１で「バンクを多層化する」を選択した場合は、これらの材料を組み合わせてバンクを構成する。
【００３２】
さらに、Ｓ１０２でのバンクの材料を塗布又は付着する方法について説明する。
塗布する方法としては、液状の前述したバンクの材料を回転している基板に供給することによって所望の厚さを有するバンク膜を得ることができるスピンコート法、液状の前述したバンクの材料を気体又は媒体によって霧状にして基板に吹き付けるスプレーコート法、液状の前述したバンクの材料を回転している複数のロールに供給して所望の厚さに調整し、少なくとも１つのロールと基板とを接触させてバンクの材料をロールから基板に転写させるロールコート法、液状の前述したバンクの材料をスキージの内部に供給し、スキージの先端から均一に基板に塗布するダイコート法、液状の前述したバンクの材料を容器に貯留させ、基板を浸漬した後に等速で引き上げて塗布するディップコート法がある。
【００３３】
同図のＳ１０２で得られたバンク膜を所望のパターンに成形する方法として、フォトリソグラフィ法がある。
【００３４】
Ｓ１０３のフォトリソグラフィ法では、バンク形状に合わせたマスクを施し、液状のレジストを塗布・露光・現像し、Ｓ１０４においてバンク膜の不要部をエッチングして除去し、Ｓ１０５においてレジストを剥離して所望のバンク形状を得る。詳細は後述する。
【００３５】
Ｓ１０１で、バンクを多層化する（ＹＥＳ）を選択した場合は、Ｓ１０２へ進み一回目で得られたバンクの上に、一回目と同じ又は異なるバンクの材料を塗布して成膜処理を施し、以降の処理を所望の多層化する回数分だけ繰り返す。
【００３６】
基板自体をバンクとして使用する場合について説明する。
同図Ｓ１００にて基板自体をバンクとして使用する場合が選択され、Ｓ１２０のフォトリソグラフィ法では、バンク形状に合わせたマスクを施し、液状のレジストを塗布・露光・現像し、Ｓ１２１においてフォトリソグラフィ法によって基板の上に造られたレジストによるパターンのレジストがない部分の基板を、リン酸、硫酸、硝酸等の酸性溶剤又はアルカリ溶剤によってエッチングし、Ｓ１２２においてレジストを剥離して基板上に所望の深さの凹部を得る。この凹部をバンク溝部として使用する。
【００３７】
＜フォトリソグラフィ法によって基板上にバンクを形成する工程＞
図２（ａ）〜（ｆ）は、フォトリソグラフィ法によってバンク膜をエッチングしてバンクを形成する工程を説明する基板断面図である。
図２（ａ）では、図１のＳ１０１においてバンクを多層化しない場合（ＮＯ）が選択され、基板１０の一部又は全部にバンク膜１２を図１のＳ１０２で説明したように形成する。図２（ｂ）では、図２（ａ）のバンク膜１２一部又は全部の上にレジスト１４を形成する。
【００３８】
図２（ｃ）では、形成されたレジスト１４に密着するように、フォトマスク１６を施し、その密着されたフォトマスク１６の面には、所望のパターンが施されている。本実施例では、ポジレジストが使用されており、フォトマスク１６の上方より照射された平行光は、フォトマスクパターン１６ａがない部分だけに照射される。
【００３９】
図２（ｄ）では、光が照射されたレジスト１４はその光によって化学反応を起こし、現像液に対して可溶となる。現像液にレジスト１４の表面を充分に浸漬すると、不要レジスト１４ｂは現像液に溶ける。また、必要レジスト１４ａは、現像液に溶けない。必要レジスト１４ａは、加熱されてバンク膜１２との密着性を向上させてもよい。
【００４０】
図２（ｅ）では、バンク膜１２を溶かす溶剤（以降、エッチング液という）をバンク膜１２の表面に供給して、必要レジスト１４ａがない部分の不要バンク膜１２ｂを溶かして除去する。必要バンク膜１２ａは、必要レジスト１４ａと基板１０との間に確保されている。
【００４１】
図２（ｆ）では、必要レジスト１４ａが剥離溶剤によって除去され、必要バンク膜１２ａが基板１０上にパターン化されて形成されている。本実施例では、一つの必要バンク膜１２ａのバンク壁側面１２ｃと対向して画素を構成している他の必要バンク膜１２ａのバンク壁側面１２ｄと基板１０の表面１０ａとで形成された凹部をバンク溝部２０という。また、必要バンク膜１２ａの上方の面をバンク上面１２ｅという。
【００４２】
ここで、バンク膜１２の材料に、例えば、黒色、青色、灰色の顔料又は染料を混入させてバンク膜１２を基板１０の上に塗布して成膜処理を施して、本実施例の工程を経た場合に、必要バンク膜１２ａは黒色、青色、灰色を呈する。これにより、必要バンク膜１２ａを本発明のカラーフィルタを通過する光を遮蔽する遮光層として使用することができる。混入する顔料又は染料の色調と色の濃度は前述した色に限らない。また、バンク膜１２の材料は無機材料でも有機材料でもよい。
【００４３】
図３（ａ）〜（ｅ）は、図１のフローチャートにおけるフォトリソグラフィ法によって、基板をエッチングしてバンクを形成する工程（Ｓ１２０，Ｓ１２１，Ｓ１２２）を説明する基板断面図である。
図３（ａ）では、Ｓ１２０において、基板１０上にレジスト１４を形成する工程である。形成する方法、材質はＳ１０３と同様である。Ｓ１２０とＳ１０３との相違点は、基板１０上にバンク膜１２が配設されずに、基板１０上にレジスト１４が形成されることである。
【００４４】
図３（ｂ）では、Ｓ１２０において、フォトマスク１６を施し、フォトマスクパターン１６ａがない部分から平行光が照射され、フォトマスクパターン１６ａがない部分に対向しているレジスト１４だけに平行光が照射される。
【００４５】
図３（ｃ）では、Ｓ１２０において、光が照射されたレジスト１４はその光によって化学反応を起こし、現像液に対して可溶となる。現像液にレジスト１４の表面を充分に浸漬すると、不要レジスト１４ｂは現像液に溶ける。また、必要レジスト１４ａは、現像液に溶けない。必要レジスト１４ａは、加熱されてバンク膜１２との密着性を向上させてもよい。
【００４６】
図３（ｄ）では、Ｓ１２１において、基板１０を溶かす溶剤（以降、基板エッチング液という）を必要レジスト１４ａと基板１０の表面に供給して、必要レジスト１４ａがない部分の基板１０を溶かして所望の深さに除去され凹状の所望のパターン１０ｂを得る。基板エッチング液は、必要レジスト１４ａを溶解せずに基板１０を溶解する液であればよい。
【００４７】
図３（ｅ）では、Ｓ１２２において、必要レジスト１４ａが剥離溶剤によって除去され、エッチングされた基板１０の凹状の所望のパターン１０ｂが得られ、本実施例では、この凹状の所望のパターン１０ｂをバンク溝部２０として使用するものである。また、エッチングされていない基板１０の表面１０ａをバンク上面１２ｅという。
【００４８】
＜基板とバンクの一部又は全部を親水化する工程＞
図４（ａ）は、基板１０の上に必要バンク膜１２ａが形成されている基板１０の断面図であり、図４（ｂ）は、基板とバンクの一部又は全部を親水化する工程によって親水化された基板１０の断面図である。
図４（ａ）は、図１のＳ１０２〜Ｓ１０５の方法で造られた基板１０上のバンク溝部２０を示す。
【００４９】
図４（ａ）では、前述したように基板１０上に必要バンク膜１２ａが形成され、基板１０の表面１０ａと、必要バンク膜１２ａのバンク壁側面１２ｃと、必要バンク膜１２ａのバンク壁側面１２ｄとでバンク溝部２０が構成されている。バンク溝部２０は、カラーフィルタの画素となる所であり、それぞれのバンク溝部２０には、インクジェット装置（図示せず）から赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインクが吐出されてカラーフィルタが形成されるようになる。
【００５０】
図４（ｂ）では、親水化する工程（親水処理）について説明する。
親水化する工程（親水処理）は、水に対して濡れ易くするための処理であり、バンク溝部２０、基板１０及びバンク上面１２ｅの一部又は全部に対して処理されるものであり、処理された表面の親水化された膜を同図に親水化膜９０として示す。この親水化膜９０で覆われたバンク溝部２０を特に、親水化バンク溝部２１という。また、親水化膜９０で覆われたバンク上面１２ｅを特に、親水化バンク上面２２という。ここで、親水化バンク溝部２１は、親水化バンク上面２２を含まない領域をいう。
【００５１】
親水処理の具体例としては、オゾン酸化処理、プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、酸処理、アルカリ処理等を例示することができる。また、バンク溝部２０、基板１０及びバンク上面１２ｅの表面特性に応じて適宜行われる処理であり、例えば有機物であるバンク溝部２０や基板１０の表面にヒドロキシル基、アルデヒド基、ケトン基、アミノ基、イミノ基、カルボキシル基、シラノール基等の極性基が含まれている場合には、親水処理工程は省略することもできる。
【００５２】
親水処理を施された親水化バンク溝部２１及び基板１０は水に対して２０°以下の接触角を示す。
【００５３】
＜バンクの上面の一部又は全部に撥液剤を塗布する工程＞
次に、前述した親水化バンク上面２２の一部又は全部に対して、撥液剤５０を塗布する工程について説明する。この工程は、親水化バンク上面２２の一部又は全部が水に対して濡れ難くする処理である。
撥液剤５０を基板１０とは別部材の原版部材５１に付着させ、この原版部材５１と基板１０上のバンク上面１２ｅとが接触することにより、撥液剤５０が親水化バンク上面２２一部又は全部に転写し、親水化バンク上面２２を撥液化する工程である。
【００５４】
図５（ａ）〜（ｃ）は、平板状の原版部材の製作方法を説明する平断面図と斜視図である。
図５（ａ）は、平板状の原版部材を製作する際の平面図であり、図５（ｂ）は、平板状の原版部材を製作する際の図５（ａ）のＡ−Ａ断面図であり、図５（ｃ）は、完成した平板状の原版部材の斜視図である。
図５（ａ）では、平板状の原版部材５１を製作するために、先ず型枠５２の上方からスタンプ体５３を挿着する。型枠５２の底面には案内孔５２ａが配設され、スタンプ体５３から下方に延在した突出部５３ｂが係合している。また、型枠５２とスタンプ体５３とは係合している。スタンプ体５３の上方には、下方に間隔が縮むように対向した一対の傾斜面５３ａを備えた突出部が配設されている。
【００５５】
型枠５２の上方からスタンプ体５３を挿着した後に、液状のスタンプ剤５４を型枠５２とスタンプ体５３とで構成された凹状の領域に流し込む。流し込まれた液状のスタンプ剤５４は、スタンプ体５３の面５３ｃと傾斜面５３ａ及び型枠５２の内壁面５２ｂとを含む領域に充填するまで流し込む。
【００５６】
液状のスタンプ剤５４の挿填後に、少なくとも一面が平滑な面５５ａを備えている、例えば、シリコンウエハ又はガラス等の平板５５を型枠５２の上方から挿着し、液状のスタンプ剤５４を挟み込む。この場合に、平板５５の平滑な面５５ａと液状のスタンプ剤５４との間に空気が入らないように、予め平板５５の平滑な面５５ａに液状のスタンプ剤５４を塗り付けてから挿着する。平板５５は、平坦な面をもつものであればなんでも良く、特に限定されない。
【００５７】
平板５５を型枠５２に挿着した後に、付勢部材５６を挿着する。本実施例では、付勢部材５６の重量を利用して、平板５５と液状のスタンプ剤５４とを付勢しているが、上方からエアシリンダ、ばねによって付勢してもよいし、型枠５２と付勢部材５６とを螺着してもよい。
【００５８】
このようにしてそれぞれの部材が装着された一式を室温で２４時間放置する。また、加熱してもよい。この処理により液状のスタンプ剤５４が弾力性を備えた状態で硬化する。
【００５９】
ここで、原版部材の材質としてのスタンプ剤５４の材料について説明する。
スタンプ剤５４の材料としてはポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）（信越化学工業製  ＫＥ１３１０ＳＴ）を用いて、付加型の反応機構により硬化する樹脂材料と硬化剤を混合した後、室温で２４時間放置又は加熱放置によって弾力性を備えた状態で硬化する。
【００６０】
例えば、液状のスタンプ剤５４を反応させエラストマを成型する場合の反応は、縮合型あるいは付加型いずれによってもよいが、０．５％程度の線収縮率を示す縮合型は高分子が反応する過程にガスを発生することから、線収縮率０．１％程度の付加型反応機構による弾性体材料を使用することがより好ましい。
【００６１】
また、スタンプ剤５４としては、基板１０及び親水化バンク上面２２との密着性を高めるためにシロキサン構造を含むエラストマを用いるのが好ましい。例えば、シラン化合物であるポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）系のエラストマを挙げることができる。この高分子の構造式はＳｉ（ＣＨ3）3−Ｏ−（Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｏ）n−Ｓｉ（ＣＨ3）3で表される。ｎは正の整数である。この材料を用いることによって、成型された原版面５４ａの表面に、後述する親水化バンク上面２２に塗布する表面処理剤を吸収又は付着させることができる。
【００６２】
図５（ｃ）は、スタンプ剤５４が弾力性を備え硬化された状態で、型枠５２より取り外した原版部材５１の斜視図である。
スタンプ体５３の複数の傾斜面５３ａと面５３ｃとを含んでスタンプ剤５４が固着されている。スタンプ体５３に配設されている突出部５３ｂは、後述する工程で原版部材５１を他の装置に装着するために使われる。また、スタンプ剤５４の原版面５４ａは、平板５５の平滑な面５５ａによって平滑な面となっている。
【００６３】
原版部材５１の原版面５４ａの上に、表面処理剤７０として撥液性高分子溶液（ダイキン工業製  ユニダインＴＧ−６５６）を、スピナーにより、３０００ｒｐｍで３０秒間の回転により原版面５４ａに表面処理剤７０を塗布する。この表面処理剤７０の塗布により、原版面５４ａは撥液性を備える。
【００６４】
＜バンクの上面の一部又は全部に撥液剤を塗布する工程＞
図６（ａ）〜（ｃ）は、基板１０に形成された親水化バンク上面２２の一部又は全部に撥液剤８０を塗布する工程を説明する基板１０及び原版部材５１の断面図である。
図６（ａ）は、撥液剤８０が塗布されている原版部材５１の断面図である。
原版部材５１が備えているスタンプ剤５４の原版面５４ａの一部又は全部に撥液剤８０が塗布されている。撥液剤８０としては、例えば、分子の末端官能基が基板構成原子に選択的に化学的吸着することを特徴とするシランカップリング剤（有機ケイ素化合物）や界面活性剤を使用することができる。
【００６５】
ここで、シランカップリング剤とは、Ｒ1ＳｉＸ1ｍＸ2（３−ｍ）で表される化合物であり、Ｒ1は有機基を表し、Ｘ1及びＸ2は−ＯＲ2、−Ｒ2、−Ｃｌを表し、Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｍは１から３の整数である。
【００６６】
また、界面活性剤とはＲ1Ｙ1で表される化合物であり、Ｙ1は親水性の極性基、−ＯＨ、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＫ、−ＣＯＯＮａ、−ＣＯＮＨ2、−ＳＯ3Ｈ、−ＳＯ3Ｎａ、−ＯＳＯ3Ｈ、−ＯＳＯ3Ｎａ、−ＰＯ3Ｈ2、−ＰＯ3Ｎａ2、−ＰＯ3Ｋ2、−ＮＯ2、−ＮＨ2、−ＮＨ3Ｃｌ（アンモニウム塩）、−ＮＨ3Ｂｒ（アンモニウム塩）、≡ＮＨＣｌ（ピリジニウム塩）、≡ＮＨＢｒ（ピリジニウム塩）等である。
【００６７】
シランカップリング剤は基板表面における水酸基に対して化学的に吸着することを特徴とし、金属や絶縁体などの幅広い材料の酸化物表面に反応性を示すため、撥液剤８０として好適に用いることができる。これらシランカップリング剤や界面活性剤の中で、特にＲ1がパーフルオロアルキル構造ＣnＦ2n+1やパーフルオロアルキルエーテル構造ＣpＦ2p+1Ｏ（ＣpＦ2pＯ）rを有するようなフッ素原子含有化合物によって修飾され、固体表面の表面自由エネルギーは２５ｍＪ／ｍ2よりも低くなり、極性を持った材料との親和性が小さくなるため、好適に用いられる。
【００６８】
より具体的には、シランカップリング剤としてはＣＦ3−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）3−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）11−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）3−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）8−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3（ＣＦ2）8−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（Ｃ2Ｈ5）（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3Ｏ（ＣＦ2Ｏ）6−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3Ｏ（Ｃ3Ｆ6Ｏ）4−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3Ｏ（Ｃ3Ｆ6Ｏ）2（ＣＦ2Ｏ）3−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3Ｏ（Ｃ3Ｆ6Ｏ）8−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3Ｏ（Ｃ4Ｆ9Ｏ）5−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3Ｏ（Ｃ4Ｆ9Ｏ）5−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3Ｏ（Ｃ3Ｆ6Ｏ）4−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（Ｃ2Ｈ5）（ＯＣＨ3）2等が挙げられる。ただし、これらの構造に限定されるものではない。
【００６９】
また、界面活性剤としては、ＣＦ3−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯＮａ、ＣＦ3（ＣＦ2）3−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯＮａ、ＣＦ3（ＣＦ2）3−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ3Ｂｒ、ＣＦ3（ＣＦ2）5−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ3Ｂｒ、ＣＦ3（ＣＦ2）7−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ3Ｂｒ、ＣＦ3（ＣＦ2）7−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＳＯ3Ｎａ、ＣＦ3（ＣＦ2）11−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ3Ｂｒ、ＣＦ3（ＣＦ2）8−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＳＯ3Ｎａ、ＣＦ3Ｏ（ＣＦ2Ｏ）6−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＳＯ3Ｎａ、ＣＦ3Ｏ（Ｃ3Ｆ6Ｏ）2（ＣＦ2Ｏ）3−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＳＯ3Ｎａ、ＣＦ3Ｏ（Ｃ3Ｆ6Ｏ）4−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＳＯ3Ｎａ、ＣＦ3Ｏ（Ｃ4Ｆ9Ｏ）5−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＳＯ3Ｎａ、ＣＦ3Ｏ（Ｃ3Ｆ6Ｏ）8−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＳＯ3Ｎａ等が挙げられる。ただし、これらの構造に限定されるものではない。
【００７０】
さらに、撥液剤８０としては、撥液性の高分子化合物を用いることもできる。例えば、撥液性高分子化合物としては、分子内にフッ素原子を含有するオリゴマー又はポリマーを用いることができ、具体例を挙げるならば、ポリ４フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）、エチレン−４フッ化エチレン共重合体、６フッ化プロピレン−４フッ化エチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶｄＦ）、ポリ（ペンタデカフルオロヘプチルエチルメタクリレート）（ＰＰＦＭＡ）、ポリ（パーフルオロオクチルエチルアクリレート）等の長鎖パーフルオロアルキル構造を有するエチレン、エステル、アクリレート、メタクリレート、ビニル、ウレタン、シリコン、イミド、カーボネート系ポリマーである。
【００７１】
転写された撥液剤８０の膜（以降、撥液化膜８１という）は親水化バンク上面２２に影響を与えないように、厚みは１０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以下の膜厚である。
【００７２】
また、スタンプ剤５４の原版面５４ａへの撥液剤８０の塗布方法としては一般的なコーティング方法、例えば、押出コーティング方法、スピンコーティング方法、グラビアコーティング方法、リバースロールコーティング方法、ロッドコーティング方法、スリットコーティング方法、マイクログラビアコーティング方法、ディップコーティング方法、インクジェットコーティング方法等を採用することができる。
【００７３】
図６（ｂ）は、撥液剤８０が塗布されている原版面５４ａと基板１０の親水化バンク上面２２とを接触させて、原版面５４ａの撥液剤８０を基板１０の親水化バンク上面２２へ転写することを説明する基板１０及び原版部材５１の断面図である。
先ず、原版面５４ａと基板１０の親水化膜９０の一部である親水化バンク上面２２との平行度が調整される。次に、弾力性を備えたスタンプ剤５４が多少変形する程度に、原版面５４ａと基板１０の親水化バンク上面２２との間で付勢する。従って、親水化バンク溝部２１には撥液剤８０が塗布されず、親水化バンク溝部２１の親水性はそのまま確保されている。スタンプ剤５４が多少変形することによって、撥液剤８０が親水化バンク溝部２１に付着することがあるために、必要バンク膜１２ａの高さ（厚さ）は、１μｍ以上であることが好ましい。
【００７４】
図６（ｃ）は、原版部材５１が基板１０の親水化バンク上面２２から離脱し、撥液剤８０が基板１０の親水化バンク上面２２上に転写された状態を説明する基板１０の断面図である。
原版面５４ａと基板１０の親水化バンク上面２２とが接触した部分だけに撥液剤８０が転写され、接触していない部分には撥液剤８０が転写されていない。このことは、親水化バンク上面２２の一部に転写できる方法である。親水化バンク上面２２の全てに撥液剤８０を転写してもよい。
【００７５】
転写された親水化バンク上面２２の撥液剤８０の撥液性を高めるために、転写の工程の後に、撥液剤８０を基板１０に対して固定して撥液化膜８１を得るための工程、具体的には加熱処理や反応性の蒸気にさらすなどの処理を用いることが好ましい。例えば、シランカップリング剤の場合、基板を高温に加熱する、あるいは室温で高湿度の環境下にさらすことにより反応が進行する。具体例として、撥液剤８０としての撥液性高分子を基板１０の親水化バンク上面２２に反応定着させるために、１５０℃に加熱したオーブンで１分間加熱処理する方法である。
【００７６】
このように、塗布された撥液剤８０が基板１０に固定されて撥液性高分子の薄膜としての撥液化膜８１になることにより、基板１０上の親水化バンク上面２２だけが撥液性を呈するようになる。転写された撥液剤８０によって生成された撥液化膜８１の撥液性高分子により表面が撥液性に処理され、撥液化膜８１は水に対して９０°以上の高い接触角を有するようになる。
【００７７】
図７（ａ）は、液滴吐出ヘッド２００の全体の断面斜視図、（ｂ）は、吐出部の詳細断面図である。それぞれの液滴吐出ヘッド２００は、インクジェット液滴吐出ヘッドである。それぞれの液滴吐出ヘッド２００は、振動板２２６と、ノズルプレート２２８とを備えている。振動板２２６と、ノズルプレート２２８との間には、タンク（図示せず）からチューブ（図示せず）を介して、孔２３２へ供給される赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインクが常に充填される液溜り２２９が位置している。
【００７８】
また、振動板２２６と、ノズルプレート２２８との間には、複数の隔壁２２２が位置している。そして、振動板２２６と、ノズルプレート２２８と、１対の隔壁２２２と、によって囲まれた部分がキャビティ２２０である。キャビティ２２０はノズル２５２に対応して設けられているため、キャビティ２２０の数とノズル２５２の数とは同じである。キャビティ２２０には、一対の隔壁２２２間に位置する供給口２３０を介して、液溜り２２９から赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインク１１が供給される。
【００７９】
図７（ｂ）では、振動板２２６上には、それぞれのキャビティ２２０に対応して、振動子２２４が位置する。振動子２２４は、ピエゾ素子２２４ｃと、ピエゾ素子２２４ｃを挟む一対の電極２２４ａ，２２４ｂとを含む。この一対の電極２２４ａ，２２４ｂとの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル２５２から赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインク１１が吐出される。なお、ノズル２５２からＺ軸方向にインク１１が吐出されるように、ノズル２５２の形状が調整されている。
【００８０】
ここで、本実施例において「インク１１」とは、ノズルから吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であること油性であることを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。
【００８１】
インク１１の粘度は１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であるのが好ましい。粘度が１ｍＰａ・ｓより小さい場合には、インク１１の液滴を吐出する際にノズル２５２の周辺部がインク１１の流出により汚染されやすい。一方、粘度が５０ｍＰａ・ｓより大きい場合は、ノズル２５２における目詰まり頻度が高くなり、このため円滑な液滴の吐出が困難となり得る。
【００８２】
本実施例では、ひとつのノズル２５２と、ノズル２５２に対応するキャビティ２２０と、キャビティ２２０に対応する振動子２２４と、を含んだ部分を「吐出部２２７」と表記することもある。この表記によれば、１つの液滴吐出ヘッド２００は、ノズル２５２の数と同じ数の吐出部２２７を有する。吐出部２２７は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部２２７は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。
【００８３】
ここでインク１１の材質について説明する。
インク１１は、例えばポリウレタン樹脂オリゴマーに顔料として無機顔料又は有機顔料を分散させた後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノン及び酢酸ブチルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトールアセテートを加え、さらに非イオン系界面活性剤０．０１重量％を分散剤として添加し、粘度６〜８ｍＰａ・ｓとしたものを用いる。従って、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の無機顔料をそれぞれ別々に分散させることによって赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のインク１１ができる。
【００８４】
図８は、液滴吐出ヘッド２００から吐出された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインク１１と基板１０との関係を説明する断面図である。
液滴吐出ヘッド２００から吐出されたインク１１は、砲弾型の形状で基板１０に達する。液滴吐出装置（図示せず）によって、親水化バンク溝部２１に対して、吐出するための位置が制御されて適量のインク１１が吐出される。同図に図示してあるインク１１は、液滴吐出装置が備えている液滴吐出ヘッド２００から吐出されたものである。
【００８５】
液滴吐出ヘッド２００（図７参照）によって、インク１１は同図紙面右から左に向かって、例えば赤（Ｒ）のインク１１ａが吐出され親水化バンク溝部２１ａに滞留し、次に例えば緑（Ｇ）のインク１１ｂが吐出され親水化バンク溝部２１ｂに滞留されていく。この場合に、親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂ内は前述したように親水化膜９０によって親水化されているため、インク１１は親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂ内に容易に滞留することができ、親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂの高さに対して満杯までインク１１ａ，１１ｂを吐出して滞留することができる。
【００８６】
このため、液滴吐出ヘッド２００から吐出するインク１１ａの量を多くして、親水化バンク溝部２１ａに吐出され滞留されたインク１１の液面１１ｃが略水平な状態を容易に得ることができる。親水化バンク溝部２１ａ内でのインク１１ａの厚さが略均等な状態であれば、インク１１ａに分散されている顔料の濃度は略均一であることから、後述する乾燥処理が施されてインク１１ａの溶剤が蒸発した場合に画素としての親水化バンク溝部２１ａ内の色の濃度は均一でしかも濃くすることができる。
【００８７】
さらに、液滴吐出ヘッド２００から吐出されたインク１１ａの基板１０への到達位置（以降、着弾位置という）が少しずれ、インク１１ａが撥液化膜８１の上に掛かった場合に、撥液化膜８１の撥液性によりインク１１ａは弾かれて親水化バンク溝部２１ａ内に引き込まれ、隣り合う他の色のインク１１ｂと混ざり合うことを防止することができる。
【００８８】
次に、液滴吐出ヘッド２００から吐出され画素としての各親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂに滞留されているインク１１を乾燥させる。
先ず、自然雰囲気中で３時間放置した後に、８０℃のホットプレート上で４０分間加熱し、最後にオーブン中において２００℃で３０分間加熱してインク１１の乾燥処理を施すことによって基板１０の上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタを形成することができる。
【００８９】
親水化バンク溝部２１ｂにおいて、インク１１ｂの量が多い場合は、インク１１ｂの液面１１ｅは撥液化膜８１よりも高い位置まで盛り上がる。この場合でも、本実施例によれば撥液化膜８１の撥液性により、隣り合う画素としての親水化バンク溝部２１ａに流出することを防止することができる。
【００９０】
以下、本実施例の効果を記載する。
（１）バンク溝部２０（図４参照）に親水化処理が施されていない場合は、インク１１とバンク溝部２０との濡れ性が悪く、同図に二点鎖線で示す液面１１ｄのようになり、バンク溝部２０の中心部では厚さが大きく、バンク溝部２０の周辺部では厚さが殆どない状態となる。従って、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各画素中の色の均一性及び色の濃さに課題があったが本実施例によって解決される。
（２）バンク膜１２の中に、顔料又は染料を混入することによって必要バンク膜１２ａは遮光層としての働きをすることができるため、本実施例の方法で形成されたカラーフィルタを使用することによってコントラスト比が大きい表示装置を提供することができる。
【実施例２】
【００９１】
次に実施例２について図面を用いて説明する。
本実施例は、実施例１と異なる部分について記載し、記載されていない部分は実施例１と同様である。
図９（ａ）〜（ｃ）は、ロール状の原版部材６１の製作方法を示す平断面図及び斜視図である。
図９（ａ）は、原版部材６１を製作する工程を説明する平断面図である。型枠６２の内壁６２ａは、円筒研削加工で真円度、円筒度が精度良く仕上げられている。型枠６２の下方には段孔６２ｂが内壁６２ａと同心度が確保されて設けられ、中心に孔６４ａを備えた底板６４と底板６３とが係合している。ここに実施例１に記載の液状のスタンプ剤５４を流し込む。
【００９２】
中心軸６５を型枠６２の上方から差し入れ、中心軸６５の一端を底板６４の中心の孔６４ａに挿入する。型枠６２の上方に設けられている段孔６２ｃと係合する蓋６６を型枠６２の上方から挿入し、蓋６６に備えられている孔６６ａと中心軸６５の他端とを係合させながら挿入する。蓋６６に備えられている逃げ孔６６ｂ，６６ｃからは、余分な液状のスタンプ剤５４が型枠６２の外部に流出するようになっている。これらの部材を実施例１と同様に処理することによって、液状のスタンプ剤５４が固化する。固化されたスタンプ剤５４と一部がスタンプ剤５４に内包されている中心軸６５を型枠６２から取り出す。
【００９３】
図９（ｃ）は、型枠６２から取り出されたロール状の原版部材６１の斜視図である。
スタンプ剤５４から突出している中心軸６５の突出部６５ａ，６５ｂと、スタンプ剤５４の原版面５４ａとの同軸度を計測する。計測された同軸度が好ましくない場合又はスタンプ剤５４の原版面５４ａに気泡が存在している場合は、中心軸６５の突出部６５ａ，６５ｂを基準にして原版面５４ａを旋削する。この場合に、スタンプ剤５４は弾力性を有しているため、加熱された鋭利な刃物で旋削するとよい。
【００９４】
原版部材６１のスタンプ剤５４の原版面５４ａは実施例１と同様に表面処理剤７０によって処理される。こうして製作された原版部材６１をロールコートする装置等に装着して、スタンプ剤５４の原版面５４ａに実施例１に記載の撥液剤８０を均一な厚さに塗布し、親水化バンク溝部２１が備えられている基板１０の親水化バンク上面２２に転写し撥液剤８０を成膜処理して撥液化膜８１を形成する。
【００９５】
以下、本実施例の効果を記載する。
（３）原版部材６１に備えられているスタンプ剤５４をロール状にすることによって、ロールコートする装置等に装着して、基板１０の親水化バンク上面２２に撥液剤８０を連続して効率良く転写することができる。
【実施例３】
【００９６】
次に実施例３について図面を用いて説明する。
本実施例は、実施例１又は実施例２と異なる部分について記載し、記載されていない部分は実施例１又は実施例２と同様である。
図１０（ａ）〜（ｄ）は、基板１０の上に遮光層９５を設け、該遮光層９５を含めたカラーフィルタの形成方法を説明する基板１０の断面図である。
図１０（ａ）では、基板１０上の遮光層９５について説明する。
基板１０の表面に、スパッタ法又は蒸着法によりクロム膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、フォトリソグラフィ法により、このクロム膜を画素のマトリックスパターン形状にする。この遮光層９５はブラックマトリックスとも呼ばれ、カラーフィルタの遮光層９５によって、光制御素子の配線等をマスクして見えなくする。黒色の遮光層９５にするとカラーフィルタで使用する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のインクを通過する光とのコントラストを良くすることができる。遮光層９５は、金属薄膜、不透明又は半透明な有機材料であればよい。
【００９７】
遮光層９５が不透明又は半透明な有機材料の場合について説明する。基板１０の上にバンク膜１２を形成する際に、バンク膜１２となる液状のバンク膜の材料に顔料又は染料を適宜混合する。こうすることで、成膜処理されたバンク膜１２は、光を通さない遮光層９５としての働きをする。また、遮光層９５が例えば、一対の偏光板の間に配設されている場合は、偏光された光を散乱させることによって一方の偏光板から出てくる光を減少させて遮光層９５の働きをさせることもできる。この場合の光散乱剤は、バンク膜１２となる液状のバンク膜の材料と異なる屈折率を有する材料であればよい。
【００９８】
図１０（ｂ）では、基板１０上に配設された遮光層９５の上に、前記実施例を使用して必要バンク膜１２ａを形成する。
【００９９】
図１０（ｃ）では、基板１０と遮光層９５及び必要バンク膜１２ａに対して親水処理を施し、親水化膜９０を形成する。遮光層９５は必要バンク膜１２ａより幅が広いため、親水化膜９０を施さないとインク１１と遮光層９５とが直接に接触してしまう。遮光層９５の物質によってはインク１１を弾くものもあるため、親水化膜９０は遮光層９５も含めて親水化している。
【０１００】
必要バンク膜１２ａのバンク壁側面１２ｃ、バンク壁側面１２ｄ、遮光層９５の一部及び基板１０の表面１０ａとの領域で構成された凹部をバンク溝部２０という。このバンク溝部２０に親水化膜９０が配設された領域を親水化バンク溝部２１という。また、バンク上面１２ｅに親水化膜９０を形成した部位を親水化バンク上面２２という。
【０１０１】
図１０（ｄ）では、前記実施例と同様に、親水化バンク上面２２に撥液剤８０を本発明の転写方法を使用して塗布し、撥液化膜８１を得る。
【０１０２】
図１１は、液滴吐出ヘッド２００から吐出された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインク１１と基板１０との関係を説明する断面図である。
液滴吐出ヘッド２００から吐出されたインク１１は、砲弾型の形状で基板１０に達する。液滴吐出装置（図示せず）によって、遮光層９５を含む親水化バンク溝部２１に対して、吐出するための位置が制御されて適量のインク１１が吐出される。同図に図示してあるインク１１は、液滴吐出装置が備えている液滴吐出ヘッド２００から吐出されたものである。
【０１０３】
液滴吐出ヘッド２００（図７参照）によって、インク１１は同図紙面右から左に向かって、例えば赤（Ｒ）のインク１１ａが吐出され親水化バンク溝部２１ａに滞留し、次に例えば緑（Ｇ）のインク１１ｂが吐出され親水化バンク溝部２１ｂに滞留されていく。この場合に、親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂ内は前述したように親水化膜９０によって遮光層９５を含んで親水化されているため、インク１１は親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂ内に容易に滞留することができ、親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂの高さに対して満杯までインク１１ａ，１１ｂを吐出して滞留することができる。
【０１０４】
このため、液滴吐出ヘッド２００から吐出するインク１１ａの量を多くして、親水化バンク溝部２１ａに吐出され滞留されたインク１１の液面１１ｃが略水平な状態を容易に得ることができる。親水化バンク溝部２１ａ内でのインク１１ａの厚さが略均等な状態であれば、インク１１ａに分散されている顔料の濃度は略均一であることから、後述する乾燥処理が施されてインク１１ａの溶剤が蒸発した場合に画素としての親水化バンク溝部２１ａ内の色の濃度は均一でしかも濃くすることができる。
【０１０５】
さらに、液滴吐出ヘッド２００から吐出されたインク１１ａの基板１０への到達位置（以降、着弾位置という）が少しずれ、インク１１ａが撥液化膜８１の上に掛かった場合に、撥液化膜８１の撥液性によりインク１１ａは弾かれて親水化バンク溝部２１ａ内に引き込まれ、隣り合う他の色のインク１１ｂと混ざり合うことを防止することができる。
【０１０６】
次に、液滴吐出ヘッド２００から吐出され画素としての各親水化バンク溝部２１ａ，２１ｂに滞留されているインク１１を乾燥させる。
先ず、自然雰囲気中で３時間放置した後に、８０℃のホットプレート上で４０分間加熱し、最後にオーブン中において２００℃で３０分間加熱してインク１１の乾燥処理を施すことによって基板１０の上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタを形成することができる。
【０１０７】
親水化バンク溝部２１ｂにおいて、インク１１ｂの量が多い場合は、インク１１ｂの液面１１ｅは撥液化膜８１よりも高い位置まで盛り上がる。この場合でも、本実施例によれば撥液化膜８１の撥液性により、隣り合う画素としての親水化バンク溝部２１ａに流出することを防止することができる。
【０１０８】
以下、本実施例の効果を記載する。
（４）バンク溝部２０（図１０参照）に親水化処理が施されていない場合は、インク１１とバンク溝部２０との濡れ性が悪く、同図に二点鎖線で示す液面１１ｄのようになり、バンク溝部２０の中心部では厚さが大きく、バンク溝部２０の周辺部では厚さが殆どない状態となる。従って、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各画素中の色の均一性及び色の濃さに課題があったが本実施例によって解決される。
【０１０９】
本発明の各実施例は、上記に限定されず以下のように変更できる。
【０１１０】
（変形例１）前記実施例では、原版面５４ａは平滑な平面を備えているとしたが、基板１０の親水化バンク溝部２１の形状に合わせて凸凹に成形して、親水化バンク上面２２の一部又は全部に撥液剤８０を塗布して撥液化膜８１を形成してもよい。
【０１１１】
（変形例２）前記実施例では、原版部材６１に備えられているスタンプ剤５４をロール状としているが、基板１０の親水化バンク溝部２１の形状に合わせて凸凹に成形して、親水化バンク上面２２の一部又は全部に撥液剤８０を塗布して撥液化膜８１を形成してもよい。
【０１１２】
（変形例３）前記実施例では、必要バンク膜１２ａを遮光層９５の上に配設するとしているが、基板１０の上に遮光層９５となる金属薄膜又は不透明な有機材料をスパッタ法、蒸着法、各種コート法により全面に配設され、フォトリソグラフィ法により、バンク溝部２０に対応したマトリックスパターン形状にレジストを形成して、基板１０をエッチングする。基板１０がエッチングされない表面１０ａには遮光層９５が残り、エッチングされた凹部はバンク溝部２０又は親水化バンク溝部２１として赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のインクを滞留して乾燥処理することによって簡易なカラーフィルタとして使用することができる。
【０１１３】
これによれば、遮光層９５とバンク溝部２０又は親水化バンク溝部２１とが同時に出来上がるため工程が短縮され、尚且つ遮光層９５とバンク溝部２０又は親水化バンク溝部２１との位置的な誤差は皆無である。
【０１１４】
（変形例４）前記実施例では、基板１０の上にバンク膜１２を塗布して成膜処理するとしているが、レジストの中に顔料又は染料を適宜混合してフォトリソグラフィ法により、所望のパターンを形成し、このレジストを必要バンク膜１２ａとして使用してもよい。
【０１１５】
（変形例５）前記実施例では、撥液剤８０によって撥液性を得るとしているが、この撥液剤８０の中に顔料、染料又は光拡散剤を入れて、遮光層９５としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】基板と該基板上にバンクを形成する工程のフローチャート。
【図２】（ａ）〜（ｆ）は、フォトリソグラフィ法によってバンク膜をエッチングしてバンクを形成する工程を説明する基板断面図。
【図３】図３（ａ）〜（ｅ）は、図１のフローチャートにおけるフォトリソグラフィ法によって、基板をエッチングしてバンクを形成する工程（Ｓ１２０，Ｓ１２１，Ｓ１２２）を説明する基板断面図。
【図４】図４（ａ）は、基板１０の上に必要バンク膜１２ａが形成されている基板１０の断面図、（ｂ）は、基板とバンクの一部又は全部を親水化する工程によって親水化された基板１０の断面図。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、平板状の原版部材の製作方法を説明する平断面図と斜視図。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、基板１０に形成された親水化バンク上面２２の一部又は全部に撥液剤８０を塗布する工程を説明する基板１０及び原版部材５１の断面図。
【図７】（ａ）は、液滴吐出ヘッド２００の全体の断面斜視図、（ｂ）は、吐出部の詳細断面図。
【図８】液滴吐出ヘッド２００から吐出された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインク１１と基板１０との関係を説明する断面図。
【図９】（ａ）〜（ｃ）は、ロール状の原版部材６１の製作方法を示す平断面図及び斜視図。
【図１０】（ａ）〜（ｄ）は、基板１０の上に遮光層９５を設け、該遮光層９５を含めたカラーフィルタの形成方法を説明する基板１０の断面図。
【図１１】液滴吐出ヘッド２００から吐出された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインク１１と基板１０との関係を説明する断面図。
【符号の説明】
【０１１７】
１０…基板、１０ａ…表面、１０ｂ…パターン、１１，１１ａ，１１ｂ…インク、１１ｃ…液面、１１ｄ，１１ｅ…液面、１２…バンク膜、１２ａ…必要バンク膜、１２ｂ…不要バンク膜、１２ｃ，１２ｄ…バンク壁側面、１２ｅ…バンク上面、１４…レジスト、１４ａ…必要レジスト、１４ｂ…不要レジスト、１６…フォトマスク、１６ａ…フォトマスクパターン、２０…バンク溝部、２１，２１ａ，２１ｂ…親水化バンク溝部、２２…親水化バンク上面、５０…撥液剤、５１…基板とは別部材の平板状の原版部材、５２…型枠、５２ａ…案内孔、５２ｂ…壁面、５３…スタンプ体、５３ａ…傾斜面、５３ｂ…突出部、５３ｃ…面、５４…スタンプ剤、５４ａ…原版面、５５…平板、５５ａ…面、５６…付勢部材、６１…基板とは別部材のロール状の原版部材、６２…型枠、６２ａ…壁、６２ｂ，６２ｃ…段孔、６３，６４…底板、６４ａ…孔、６５…中心軸、６５ａ，６５ｂ…突出部、６６…蓋、６６ａ…孔、６６ｂ，６６ｃ…逃げ孔、７０…表面処理剤、８０…撥液剤、８１…撥液化膜、９０…親水化膜、９５…遮光層、２００…液滴吐出ヘッド、２２０…キャビティ、２２２…隔壁、２２４…振動子、２２４ａ，２２４ｂ…電極、２２４ｃ…ピエゾ素子、２２６…振動板、２２７…吐出部、２２８…ノズルプレート、２２９…液溜り、２３０…供給口、２３２…孔、２５２…ノズル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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