(57)【要約】【課題】前面側の基板の表示電極対の各配置位置に凹溝を設け、表示電極をその凹溝の内壁面に沿って配置して、表示電極対間での面放電がホローカソード放電となるようにする。【解決手段】複数の表示電極対と複数のアドレス電極との各交差部に形成される発光セル領域において、前面側の基板の表示電極対の各配置位置に、溝幅が溝の深さ方向に応じて徐々に狭くなるような凹溝を設け、表示電極の少なくとも一部をその凹溝の内壁面に沿って配置し、表示電極対間で面放電が発生される際には、表示電極対の一方の表示電極が陰極の場合にホローカソード放電が発生されるようにする。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向して配置された前面側の基板と背面側の基板とを備え、前面側の基板には一定方向に延長された複数の表示電極対が平行に配置され、背面側の基板には表示電極対と交差する方向に延長された複数のアドレス電極が平行に配置されたプラズマディスプレイパネルであって、
複数の表示電極対と複数のアドレス電極との各交差部に形成される発光セル領域において、前面側の基板の表示電極対の各配置位置に、溝幅が溝の深さ方向に応じて徐々に狭くなるような凹溝が設けられ、表示電極の少なくとも一部がその凹溝の内壁面に沿って配置され、表示電極対間で面放電が発生される際には、表示電極対の一方の表示電極が陰極の場合にホローカソード放電が発生されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記表示電極対は、各表示電極が透明電極と金属製のバス電極からなり、透明電極が前記凹溝の内壁面に沿って配置され、バス電極が前記凹溝外の平坦部に配置されてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記凹溝は、その長手方向と垂直な断面が、弧状、ほぼ三角形、あるいはほぼ逆台形状である請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記凹溝の長手方向と垂直な方向の幅をａ（ｍ）とし、プラズマディスプレイパネルに封入されるガスの圧力をｐ（Ｔｏｒｒ）とした場合、０．０２≦ａｐ≦０．０３（Ｔｏｒｒ・ｍ）なる関係が成立するように、幅ａと圧力ｐが設定されてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記凹溝の長手方向と垂直な方向の最大幅をＷとし、最大深さをＤとした場合、Ｗ＞Ｄなる関係が成立するように、最大幅Ｗと最大深さＤが設定されてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記表示電極対が誘電体層で覆われていることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記背面側の基板のアドレス電極とアドレス電極との間に設けられ発光セル領域を区画するための隔壁と、前記凹溝内の隔壁対応箇所に設けられた溝障壁とをさらに備えてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記凹溝が、溝の長手方向に平行に設けられた２本の凹溝からなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記前面側の基板において、表示電極対の一方の電極の凹溝と他方の電極の凹溝との間に空洞が形成されてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」と記す）に関し、さらに詳しくは、高効率の放電を生起する電極構造を有するＰＤＰに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のＰＤＰとして、ＡＣ型３電極面放電形式のＰＤＰが広く知られている。図２６はこのＰＤＰのパネル構造を示す部分分解斜視図である。
このＰＤＰは、前面側（表示面側）の基板１１の内側面に面放電が可能な表示電極対Ｘ，Ｙを水平方向に多数設け、背面側の基板２１の内側面に発光セル選択用のアドレス電極Ａを表示電極対Ｘ，Ｙと交差する方向に多数設け、表示電極対Ｘ，Ｙとアドレス電極Ａとの交差部をセルとするものである。表示電極対Ｘ，Ｙは、それぞれＩＴＯやＳｎＯ2などの透明電極１２と、銅、クロムなどの金属製のバス電極とで形成され、誘電体層１７で覆われている。背面側の基板２１には、アドレス電極Ａとアドレス電極Ａとの間に放電空間を仕切る隔壁２９が形成され、隔壁２９と隔壁２９との間の溝内のアドレス電極Ａ上には蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂが形成されている。
【０００３】
ＰＤＰは、このように作製した前面側のパネルアセンブリと背面側のパネルアセンブリとを対向させて周辺を封止した後、内部に放電ガスを封入することにより作製されている。
【０００４】
表示の際には、全てセルの電荷を初期化した後、Ｙ電極に順次走査電圧を印加してゆき、その間に所望のアドレス電極にアドレス電圧を印加して、アドレス電極ＡとＹ電極との間で放電を発生させ、Ｙ電極上に壁電荷を形成することで発光させるべきセルを選択する。次に、Ｙ電極とＸ電極との間に交互に表示電圧を印加して、表示放電を発生させることで表示を行う。
【０００５】
ここで、一般に、高効率な放電を生起する電極構造として、ホローカソード、またはホロー陰極がある（例えば、非特許文献１参照）。
【０００６】
従来のホローカソード型のＰＤＰは、前面基板上に形成された電極と、背面基板上に形成された電極または金属シートとの対向間で、ホローカソード放電を起こしている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
また、直径が約０．０５ｍｍ程度の円筒形状の穴の内壁面に導電体を形成し、これをホローカソードとして放電を起こしているものもある（例えば、特許文献２参照）。
【０００８】
また更に、ロッド状の表示電極を対向させるとともに、表示電極の対向している部分に開口部を持たせて、ホローカソードとして放電させているものもある（例えば、特許文献３参照）。
【０００９】
【特許文献１】特許第３３３７４３０号公報（第９−１０頁、第３−６図）
【特許文献２】国際公開Ｗ００／６８９６６号公報（第３８頁、第８図）
【特許文献３】特開２０００−２４３３０１号公報（第５−６頁、第１−４図）
【非特許文献１】放電ハンドブック出版委員会編、『放電ハンドブック』、電気学会、平成１０年８月２１日、上巻  気体・プラズマ、ｐ．１６２−１６３、第４．１５−４．１７図
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、前面側の基板１１上に形成されたＹ電極と、背面側の基板２１上に形成されたアドレス電極Ａまたは金属シートとの対向間でホローカソード放電を起こす場合、背面基板側のアドレス電極Ａがターゲット電極となる。よって、背面側の基板２１の最表面に形成された蛍光体がイオンスパッタにより劣化する、という問題があった。
【００１１】
また、ロッド状の電極に開口部を形成し、さらにそのロッド状の電極の内表面に誘電体層を被膜する場合、製造工程が増大してしまう、という問題があった。
【００１２】
本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、前面側の基板の表示電極対の各配置位置に、溝幅が溝の深さ方向に応じて徐々に狭くなるような凹溝を設け、表示電極をその凹溝の内壁面に沿って配置して、表示電極対間での面放電がホローカソード放電となるようにすることで、ＰＤＰの放電効率を向上させるものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、対向して配置された前面側の基板と背面側の基板とを備え、前面側の基板には一定方向に延長された複数の表示電極対が平行に配置され、背面側の基板には表示電極対と交差する方向に延長された複数のアドレス電極が平行に配置されたプラズマディスプレイパネルであって、複数の表示電極対と複数のアドレス電極との各交差部に形成される発光セル領域において、前面側の基板の表示電極対の各配置位置に、溝幅が溝の深さ方向に応じて徐々に狭くなるような凹溝が設けられ、表示電極の少なくとも一部がその凹溝の内壁面に沿って配置され、表示電極対間で面放電が発生される際には、表示電極対の一方の表示電極が陰極の場合にホローカソード放電が発生されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、前面側の基板の表示電極対の各配置位置に、溝幅が溝の深さ方向に応じて徐々に狭くなるような凹溝が設けられ、表示電極の少なくとも一部がその凹溝の内壁面に沿って配置されているので、凹溝の徐々に狭くなるいずれかの箇所でホローカソード条件の満たされる部分ができ、これにより表示電極対間で発生される面放電がホローカソード放電となる。したがって、高効率放電を生起させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明において、前面側の基板と背面側の基板としては、ガラス、石英、セラミック等の基板や、これらの基板上に、電極、絶縁膜、誘電体層、保護膜等の所望の構成物を形成した基板が含まれる。
【００１６】
複数の表示電極対は、前面側の基板に一定方向に延長されて平行に配置されていればよい。したがって、この表示電極対の形状は、平面的に見て、直線状や帯状に限定されず種々の形状であってもよい。たとえば帯状の幹となる電極から枝電極が張り出したような形状であってもよい。また、複数のアドレス電極は、背面側の基板に表示電極対と交差する方向に延長されて平行に配置されていればよく、このアドレス電極についてもこの条件を満たす限り、どのような形状であってもよい。
【００１７】
複数の表示電極対と複数のアドレス電極との各交差部には発光セル領域が形成される。この発光セル領域は、通常は隔壁で仕切られるが、本発明においては、特に隔壁で仕切られている必要はない。
【００１８】
複数の表示電極対と複数のアドレス電極は、平面的に見て交差する方向に配置されていればよく、一方が縦方向であれば他方が横方向に、逆に一方が横方向であれば他方が縦方向に、それぞれ配置されていればよい。交差角度は直交に限定されず任意の角度で交差していればよい。
【００１９】
表示電極およびアドレス電極は、当該分野で公知の各種の材料と方法を用いて形成することができる。電極に用いられる材料としては、例えば、ＩＴＯ、ＳｎＯ２などの透明な導電性材料や、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒなどの金属の導電性材料が挙げられる。電極の形成方法としては、当該分野で公知の各種の方法を適用することができる。
【００２０】
凹溝は、複数の表示電極対と複数のアドレス電極との各交差部に形成される発光セル領域において、前面側の基板の表示電極対の各配置位置に、溝幅が溝の深さ方向に応じて徐々に狭くなるように設けられる。この凹溝は、当該分野で公知の方法の例えばサンドブラスト法などで基板を掘削することで形成することができる。
【００２１】
凹溝は、その長手方向と垂直な断面が、弧状、ほぼ三角形、あるいはほぼ逆台形状など種々の形状を採用することができる。
【００２２】
上記構成においては、凹溝の長手方向と垂直な方向の幅をａ（ｍ）とし、プラズマディスプレイパネルに封入されるガスの圧力をｐ（Ｔｏｒｒ）とした場合、０．０２≦ａｐ≦０．０３（Ｔｏｒｒ・ｍ）なる関係が成立するように、幅ａと圧力ｐを設定することが望ましい。
【００２３】
凹溝は、長手方向と垂直な方向の最大幅をＷとし、最大深さをＤとした場合、Ｗ＞Ｄなる関係が成立するように、最大幅Ｗと最大深さＤを設定することが望ましい。
【００２４】
また、上記構成においては、表示電極対は誘電体層で覆われていることが望ましい。
また、背面側の基板のアドレス電極とアドレス電極との間に設けられ発光セル領域を区画するための隔壁と、凹溝内の隔壁対応箇所に設けられた溝障壁とをさらに備えた構成であることが望ましい。
【００２５】
凹溝は、溝の長手方向に平行に設けられた２本の凹溝であってもよい。
前面側の基板には、表示電極対の一方の電極の凹溝と他方の電極の凹溝との間に空洞が形成されていてもよい。
【００２６】
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を詳述する。なお、本発明はこれによって限定されるものではなく、各種の変形が可能である。
【００２７】
図１は本発明のＰＤＰの構成を示す部分分解斜視図である。このＰＤＰはカラー表示用のＡＣ型３電極面放電形式のＰＤＰである。
【００２８】
本ＰＤＰは、前面側の基板１１を含む前面側のパネルアセンブリと、背面側の基板２１を含む背面側のパネルアセンブリから構成されている。前面側の基板１１と背面側の基板２１としては、ガラス基板、石英基板、セラミック基板等を使用することができる。
【００２９】
前面側の基板１１の内側面には、水平方向に一対の表示電極Ｘ，Ｙが複数形成されている。表示電極Ｘと表示電極Ｙとの間が表示ラインＬとなる。各表示電極Ｘ，Ｙは、前面側の基板１１に掘られた凹溝内に形成されており、ＩＴＯ、ＳｎＯ2などの幅の広い透明電極１２と、例えばＡｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ及びそれらの積層体（例えばＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒの積層構造）等からなる金属製の幅の狭いバス電極１３から構成されている。
【００３０】
表示電極Ｘ，Ｙの上には、表示電極Ｘ，Ｙを覆うように交流（ＡＣ）駆動用の誘電体層１７が形成されている。
【００３１】
誘電体層１７の上には、表示の際の放電により生じるイオンの衝突による損傷から誘電体層を保護するための保護膜（図示していない）が形成されている。この保護膜は、例えば、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等からなる。
【００３２】
背面側の基板２１の内側面には、平面的にみて表示電極Ｘ，Ｙと交差する方向に複数のアドレス電極Ａが形成され、そのアドレス電極Ａを覆って誘電体層（図示していない）が形成されている。アドレス電極Ａは、Ｙ電極との交差部で発光セルを選択するためのアドレス放電を発生させるものであり、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層構造で形成されている。このアドレス電極Ａは、その他に、例えばＡｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ等で形成することもできる。
【００３３】
隣接するアドレス電極Ａとアドレス電極Ａとの間の誘電体層上には、複数の隔壁２９が形成されている。隔壁２９は、サンドブラスト法、印刷法、フォトエッチング法等により形成することができる。
【００３４】
隔壁２９の側面及び隔壁間の誘電体層上には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂが形成されている。蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは、蛍光体粉末とバインダー樹脂と溶媒とを含む蛍光体ペーストを隔壁２９間の凹溝状の放電空間内にスクリーン印刷、又はディスペンサーを用いた方法などで塗布し、これを各色毎に繰り返した後、焼成することにより形成している。この蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは、蛍光体粉末と感光性材料とバインダー樹脂とを含むシート状の蛍光体層材料（いわゆるグリーンシート）を使用し、フォトリソグラフィー技術で形成することもできる。この場合、所望の色のシートを基板上の表示領域全面に貼り付けて、露光、現像を行い、これを各色毎に繰り返すことで、対応する隔壁間に各色の蛍光体層を形成することができる。
【００３５】
ＰＤＰは、上記した前面側のパネルアセンブリと背面側のパネルアセンブリとを、表示電極Ｘ，Ｙとアドレス電極Ａとが交差するように対向配置し、周囲を封止し、隔壁２９で囲まれた放電空間に放電ガスを充填することにより作製されている。このＰＤＰでは、表示電極Ｘ，Ｙとアドレス電極Ａとの交差部の放電空間が表示の最小単位である１つのセル領域（単位発光領域）となる。１画素はＲ、Ｇ、Ｂの３つのセルで構成される。
【００３６】
図２はＰＤＰを平面的に見た状態を示す説明図である。
このＰＤＰでは、表示電極Ｘの透明電極１２と表示電極Ｙの透明電極１２との間の放電スリットが表示ラインＬ1,2,…,nとなる。
【００３７】
図３はＰＤＰの駆動回路構成を示す説明図である。
表示電極Ｘ1,2,…,nは共通ドライバ３１ａを備えたＸ側ドライバ３１に接続されている。表示電極Ｙ1,2,…,nは共通ドライバ３２ａとスキャンドライバ３２ｂを備えたＹ側ドライバ３２に接続されている。アドレス電極Ａ1,2,…,nはアドレス側ドライバ３３に接続されている。Ｘ側ドライバ３１、Ｙ側ドライバ３２、およびアドレス側ドライバ３３は制御回路３４によって制御される。
【００３８】
図４はＰＤＰのフィールド構成及び駆動電圧波形の一例を示す説明図、図５は１フィールドの構成を示す説明図である。
ＰＤＰでは、階調を表示するために１つのフィールドｆを、重み付けをした例えば８つのサブフィールドｓｆに分けて表示する。サブフィールドごとに表示放電の回数が異なっており、サブフィールドの組み合わせにより階調を表現する。駆動はこのサブフィールドが単位となる。各サブフィールドｓｆの期間Ｔｓｆは、初期化過程ＴＲ、アドレス過程ＴＡ、表示過程ＴＳで構成される。
【００３９】
図６は駆動電圧波形の詳細な一例を示す説明図である。
１サブフィールドでは、初期化過程ＴＲのパルスＰｒ１において、先ずセルに壁電荷を書き込む。次に、パルスＰｒ２において、壁電荷を消去しながら壁電圧を調整する。
【００４０】
続くアドレス過程ＴＡにおいて、Ｙ電極に順次にスキャンパルスＰｙを印加し、同時に表示データに基づいて点灯させるべきセルに対してアドレスパルスＰａを印加し、アドレス放電を起こしてセル内に壁電荷を蓄積する。
【００４１】
更に続く表示過程ＴＳにおいて、Ｘ電極およびＹ電極に表示放電パルスＰｓを印加し、アドレス放電により壁電荷が蓄積されていたセルのみ点灯させる。この表示放電の回数により、セルの輝度が制御される。
【００４２】
実施形態１
図７〜図９は実施形態１のＰＤＰを示す説明図である。
図７（ａ）および図７（ｂ）は前面側の基板と背面側の基板を開いた状態を示す図である。図８はＰＤＰを表示面側から見た図、図９（ａ）および図９（ｂ）は図８のＩＸ−ＩＸ断面を示す図である。図８および図９（ａ），図９（ｂ）は１セルの拡大図を示している。
【００４３】
本実施形態では、前面側の基板１１に、横方向に断面がＵ字状の凹溝４１を設け、その凹溝４１内に表示電極Ｘ，Ｙの透明電極１２を形成している。したがって、透明電極１２も断面がＵ字状である。表示電極Ｘ，Ｙのバス電極１３は、凹溝４１外の基板平坦面に形成している。
【００４４】
凹溝４１内の、平面的にみて隔壁２９に対応する位置には、障壁４２が設けられている。障壁４２の側面４２ａには透明電極１２を形成している。障壁４２の頂部４２ｂには透明電極１２を形成していない。要するに、この障壁４２は透明電極１２の連続性を断つものであり、透明電極１２はセル毎に独立した電極形態となっている。したがって、表示電極Ｘ，Ｙの各形状は、前面側の基板１１を平面的にみた場合、直線状のバス電極１３から透明電極１２がセル毎に突出した、いわゆるくし歯状の電極となっている。
【００４５】
前面側の基板１１の内表面は、図示してはいないが、図１で示したような誘電体層および保護膜で表示電極Ｘ，Ｙが覆われている。
【００４６】
ホローカソード放電を発生させるためには、陰極側の電極を２枚にするか、Ｕ形にするか、円筒状にすることで、２つの陰極を向かい合わせて配置した構造とする。このような陰極構造をホローカソード（ホロー陰極）と呼んでいる。本実施形態では、表示電極Ｘ，Ｙの透明電極１２の断面がＵ字状であるので、２つの陰極を向かい合わせて配置した構造となり、Ｘ電極とＹ電極とがそれぞれホローカソードとなる。つまり、ＰＤＰでは、表示放電の際、Ｘ電極とＹ電極に交互に維持電圧を印加して透明電極１２の部分で放電を発生させる。このため、Ｘ電極とＹ電極が交互に陰極となり、したがって、Ｘ電極とＹ電極がそれぞれ交互にホローカソードとなる。
【００４７】
ここで、ホローカソード放電による効果（ホローカソード効果）は、向かい合った陰極の距離をａ（ｍ）、ガス圧をｐ（Ｔｏｒｒ）とおいた場合、
ａｐ＝０．０２〜０．０３  Ｔｏｒｒ・ｍ      ……（１）
程度となったときに現れる。通常、ＰＤＰでは、パネル内のガス圧ｐ＝５００Ｔｏｒｒ前後であるから、向かい合った陰極の電極間距離ａ（図９（ａ）参照）は５０μｍ前後にする必要がある。
【００４８】
一方、表示電極Ｘ，Ｙが平坦である場合、通常、表示電極幅は数百μｍであるから、本実施形態においても、表示電極Ｘ，Ｙを断面でみた場合、電極の最も幅広な部分、すなわち最表面における電極幅Ｓ（図９（ａ）参照）は数百μｍとなる。
【００４９】
ここで、図９（ａ）に示すように、凹溝４１の幅は、深さ方向に対して徐々に狭まるようにしている。このような形状にすると、深さ方向に対して、電極間距離ａが、数百μｍからゼロまで連続的に変化するので、必ずホローカソード効果が発生する条件式（１）が含まれる。
【００５０】
電極を凹溝４１の内壁表面に沿って断線することなく形成するには、凹溝４１の最大幅をＷ（ｍ）とし、最大深さをＤ（ｍ）とすると、Ｗ＞Ｄとなるように凹溝４１を形成することが望ましい。
【００５１】
図９（ａ）では、対角４２インチサイズのＨＤＴＶの場合を一例として、凹溝４１の開口部における最大の電極間距離ａは１５０μｍ程度となっている。
図９（ｂ）に示す背面側のパネルアセンブリは、隔壁２９を形成し、隔壁および背面側の基板２１に沿って蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂを形成した、従来と同様の構造である。
【００５２】
凹溝４１は、サンドブラスト法により、直接前面側の基板１１を掘削することで形成することができる。あるいは、当該分野で公知のＰＤＰの製造工程で使われているリブ形成プロセスと同様に、押型を用いて形成することもできる。
【００５３】
表示電極Ｘ，Ｙについては、本発明が表示電極の材料構成には依らない発明であるので、従来公知の金属製のバス電極とＩＴＯなどの透明電極との組み合わせをそのまま使うことができる。すなわち、表示電極Ｘ，Ｙの成膜には、印刷、メッキ、インクジェット法、プラズマＣＶＤ法などの通常のＰＤＰプロセス工程が流用できる。例えば、印刷の場合、蛍光体印刷ペーストと同様の電極ペーストをスクリーン印刷する。このとき、セルフアラインで電極形成すれば、露光回数を低減でき、コストダウンが可能である。また、電極焼成プロセスは、仮焼成にとどめておいて、誘電体層１７と同時に焼成することもできる。
【００５４】
前面側の基板１１の内表面を覆う誘電体層１７は、凹溝４１を塞いでしまっては、ホローカソード放電を生起できない。よって、誘電体層１７は、必ずしも膜厚を均一に形成する必要はないが、凹溝４１の内壁面に沿って凹面形状に形成する必要がある。
【００５５】
この誘電体層１７は、プラズマＣＶＤ法、あるいは、蒸着法を用いることで、前面側の基板１１の内表面に沿った形状（コンフォーマル）に形成することができる。また、誘電体シート材料を用いても、前面側の基板１１の内表面に沿った形状に形成することができる。誘電体層１７には、軟化点の高い誘電体材料を使っても良い。
【００５６】
誘電体層１７を覆う保護膜は、当該分野で公知の蒸着法、プラズマＣＶＤ法等を用いて成膜することができる。
【００５７】
実施形態２
図１０（ａ）および図１０（ｂ）は実施形態２のＰＤＰを示す説明図である。これらの図は図９（ａ）および図９（ｂ）に対応している。
本実施形態は、凹溝４１の開口部における最大の電極間距離ａを５０μｍとした場合を示している。実施形態１と比較して、Ｘ電極とＹ電極の各平坦部の幅が広くなり、Ｘ電極とＹ電極との間隔が狭くなっている。図１０（ｂ）に示す背面側のパネルアセンブリは実施形態１と同じである。
【００５８】
実施形態３
図１１（ａ）および図１１（ｂ）は実施形態３のＰＤＰを示す説明図である。これらの図は図９（ａ）および図９（ｂ）に対応している。
本実施形態では、Ｘ電極側の凹溝とＹ電極側の凹溝とを、それぞれ第１凹溝４１ａと第２凹溝４１ｂとの２本の凹溝で構成している。凹溝は３本以上設けてもよい。図１１（ｂ）に示す背面側のパネルアセンブリは実施形態１と同じである。
【００５９】
実施形態４
図１２（ａ）および図１２（ｂ）は実施形態４のＰＤＰを示す説明図である。  本実施形態は、凹溝４１の断面が三角形状の場合を示している。本実施形態では、実施形態１の図７と比較した場合、障壁４２の側面４２ａに透明電極１２を形成していない。この場合も図７と同様に、透明電極１２はセル毎に独立した電極形態となる。このように、障壁４２の側面４２ａに透明電極１２を形成しない構成であってもよい。
【００６０】
実施形態５
図１３（ａ）および図１３（ｂ）は実施形態５のＰＤＰを示す説明図である。  本実施形態は、凹溝４１の断面が台形状の場合を示している。本実施形態では、実施形態１の図７と比較した場合、障壁４２の頂部４２ｂに透明電極１２を形成している。このため、透明電極１２は連続的につながった形状となっている。したがって、表示電極Ｘ，Ｙの各形状は、前面側の基板１１を平面的にみた場合、直線状のバス電極１３から透明電極１２が連続的に突出した、いわゆる帯状（ストライプ状）の電極となっている。このように、障壁４２の頂部４２ｂに透明電極１２を形成した構成であってもよい。
【００６１】
上記の実施形態１〜５では、凹溝４１の断面がＵ字状、三角形状、台形状の場合を示したが、凹溝４１の断面形状は、表示電極Ｘ，Ｙがホローカソード構造となる形状であれば、上記のＵ字状、三角形状、台形状以外の形状であってもよい。
【００６２】
実施形態６
図１４（ａ）および図１４（ｂ）は実施形態６のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態は、凹溝４１の断面がＵ字状であり、凹溝４１内に障壁４２を設けない構成となっている。障壁４２がないため、透明電極１２は連続的につながった形状となっている。したがって、表示電極Ｘ，Ｙの各形状は、前面側の基板１１を平面的にみた場合、直線状のバス電極１３から透明電極１２が連続的に突出した、いわゆる帯状（ストライプ状）の電極となっている。その他の点については実施形態１と同じである。
【００６３】
実施形態７
図１５（ａ）および図１５（ｂ）は実施形態７のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態は、凹溝４１の断面が三角形状であり、凹溝４１内に障壁４２を設けない構成となっている。その他の点については実施形態４と同じである。
【００６４】
実施形態８
図１６（ａ）および図１６（ｂ）は実施形態８のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態は、凹溝４１の断面が台形状であり、凹溝４１内に障壁４２を設けない構成となっている。その他の点については実施形態５と同じである。
【００６５】
以上述べたように、前面側の基板１１にホローカソードを形成するにあたり、実施形態１，４，５では、凹溝４１内に障壁４２を設ける（凹溝４１をサブピクセルごとに形成する）例を示したが、凹溝４１は、実施形態６，７，８に示したように、障壁４２を設けない構造であってもよい。
【００６６】
凹溝４１に障壁４２を設けなければ、サンドブラスト法や押型を用いて凹溝４１を形成しやすく、また、表示電極Ｘ，Ｙのスクリーン印刷がしやすい、等のメリットがある。一方、凹溝４１に障壁４２を設けた場合には、隣接セルのクロストークが無い、というメリットがある。これらは、製造設備やパネル特性等の諸事情を勘案して、選択すれば良い。
【００６７】
なお、凹溝を、アドレス電極Ａの長手方向に対して平行に形成することも考え得るが、ホローカソード放電を得ることはできない。なぜなら、この場合には、放電ギャップ部分をも削ることになり、従って、全ての放電領域が凹溝の内部に完全に収まってしまい、凹溝の側壁方向へ放電が広がらず、従来と同様な面放電しか生起しないからである。
【００６８】
実施形態９
図１７（ａ）および図１７（ｂ）は実施形態９のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態は実施形態１の変形例であり、障壁４２の側面４２ａに電極を形成していない例である。その他の点については実施形態１と同じである。このように、凹溝４１を長手方向に区切っている障壁４２の側面４２ａには電極が形成されてなくてもよい。
【００６９】
実施形態１０
図１８（ａ）および図１８（ｂ）は実施形態１０のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態も実施形態１の変形例であり、表示電極Ｘ，Ｙを、透明電極１２を使わずに全てを金属製のバス電極１３で構成した例である。この場合、バス電極１３をメッシュ状に形成するのが光透過性の面で望ましい。その他の点については実施形態１と同じである。
【００７０】
実施形態１１
図１９（ａ）および図１９（ｂ）は実施形態１１のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態も実施形態１の変形例であり、表示電極Ｘ，Ｙを、透明電極１２を使わずに全てを金属製のバス電極１３で構成し、かつ、障壁４２の側面４２ａに電極を形成していない例である。その他の点については実施形態１と同じである。
【００７１】
実施形態１２
図２０（ａ）および図２９（ｂ）は実施形態１２のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態も実施形態１の変形例であり、表示電極Ｘ，Ｙを、金属製のバス電極１３を、基板平坦面に設けず、凹溝４１内だけに設け、かつ、障壁４２の頂部４２ｂにもバス電極１３を形成した例である。その他の点については実施形態１と同じである。
【００７２】
実施形態１３
図２１（ａ）および図２１（ｂ）は実施形態１３のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態は、前面側の基板１１に放電空間４３を設けた例である。この場合、背面側の基板２１には、空間を設けても設けなくてもよい。さらに、背面側の基板２１には、隔壁２９がなくてもよいし、蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは背面側の基板２１上に盛り上げて形成されていてもよい。また、アドレス電極Ａが蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂや誘電体層１７で覆われていると、表面に不要な帯電を起こし、予期せぬ動作を起こす場合がある。よって、アドレス電極Ａを露出させて、望まない帯電を防ぐことも可能である。
【００７３】
実施形態１４
図２２は実施形態１４のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態は、隔壁２９の対向箇所以外に部分的に凹溝４１を設け、凹溝４１の内側表面に沿わせて部分的に透明電極４１を形成し、さらに凹溝４１の内側表面に沿わせてバス電極１３を形成した例である。
本発明は、上述したように、表示電極Ｘ，Ｙの材料構成には依らない発明であるので、従来の金属電極であるバス電極、および、ＩＴＯなどの透明電極との組み合わせをそのまま使うことができる。したがって、表示電極Ｘ，Ｙの電極形状は、従来の形状にとらわれずに、任意に設計することが可能である。
【００７４】
実施形態１５
図２３は実施形態１５のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態は、隔壁２９の対向箇所以外に部分的に凹溝４１を設けている。そして、金属製のバス電極１３を２本設け、その間に透明電極１２を形成した例である。透明電極１２は、凹溝４１の内側表面に沿わせて部分的に形成し、バス電極１３も凹溝４１の内側表面に沿わせて形成している。
る。
【００７５】
実施形態１６
図２４は実施形態１６のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態は、実施形態１５よりも透明電極１２の幅（バス電極１３の延長方向の幅）を広くした例である。
【００７６】
実施形態１７
図２５は実施形態１７のＰＤＰを示す説明図である。
本実施形態は、隔壁２９の対向箇所以外に部分的に凹溝４１を設けている。凹溝４１全体と隔壁２９の対向箇所に透明電極１２を設け、平坦部に金属製のバス電極１３を設けた例である。本実施形態では、補助電極４４を設けている。このように、各種の電極を形成するようにしてもよい。
【００７７】
以上述べたように、本発明では、前面側の基板に凹溝を設け、その凹溝の内壁表面に沿って表示電極が形成されているため、表示電極であるＸ電極およびＹ電極がホローカソード電極として動作する。従って、背面側の基板上に形成されている蛍光体層がイオンスパッタされるのを防ぐことができ、パネルの長寿命化を図ることができる。
【００７８】
また、ホローカソードの条件である、向かい合った陰極構造として円筒形状を用いる場合、内壁面に導電体の薄膜を形成するのは困難であったが、本発明では、凹溝の幅を深さ方向に対して徐々に狭まるように形成するので、表示電極の成膜が容易になる。更に、円筒形状の場合のような寸法精度の高いプロセスは不要となるため、歩留りが向上し、延いては製造コストを削減できる。
【００７９】
さらにまた、本発明のＰＤＰは、凹溝の幅を深さ方向に対して徐々に狭める構造であるため、必ずホローカソード効果が発生する条件が含まれ、高発光効率特性を得ることができる。
【００８０】
他方、前面側の基板の内表面を覆う誘電体層をプラズマＣＶＤ法や蒸着法を用いて形成すると、コンフォーマルな誘電体層を形成でき、ホローカソード放電をより安定に生起できる効果がある。また、誘電体シート材料を用いても、同様な効果が得られる。
【００８１】
以上のように、本発明のＰＤＰは、製造コストを低減できるとともに、パネルの長寿命化および高発光効率化が達成できる。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明のＰＤＰの構成を示す部分分解斜視図である。
【図２】本発明のＰＤＰを平面的に見た状態を示す説明図である。
【図３】本発明のＰＤＰの駆動回路構成を示す説明図である。
【図４】ＰＤＰのフィールド構成及び駆動電圧波形を示す説明図である。
【図５】１フィールドの構成を示す説明図である。
【図６】駆動電圧波形の詳細な一例を示す説明図である。
【図７】実施形態１のＰＤＰを示す説明図である。
【図８】実施形態１のＰＤＰを示す説明図である。
【図９】実施形態１のＰＤＰを示す説明図である。
【図１０】実施形態２のＰＤＰを示す説明図である。
【図１１】実施形態３のＰＤＰを示す説明図である。
【図１２】実施形態４のＰＤＰを示す説明図である。
【図１３】実施形態５のＰＤＰを示す説明図である。
【図１４】実施形態６のＰＤＰを示す説明図である。
【図１５】実施形態７のＰＤＰを示す説明図である。
【図１６】実施形態８のＰＤＰを示す説明図である。
【図１７】実施形態９のＰＤＰを示す説明図である。
【図１８】実施形態１０のＰＤＰを示す説明図である。
【図１９】実施形態１１のＰＤＰを示す説明図である。
【図２０】実施形態１２のＰＤＰを示す説明図である。
【図２１】実施形態１３のＰＤＰを示す説明図である。
【図２２】実施形態１４のＰＤＰを示す説明図である。
【図２３】実施形態１５のＰＤＰを示す説明図である。
【図２４】実施形態１６のＰＤＰを示す説明図である。
【図２５】実施形態１７のＰＤＰを示す説明図である。
【図２６】従来のＰＤＰのパネル構造を示す部分分解斜視図である。
【符号の説明】
【００８３】
１１  前面側の基板
１２  透明電極
１３  バス電極
１７  誘電体層
２１  背面側の基板
２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂ  蛍光体層
２９  隔壁
３１  Ｘ側ドライバ
３１ａ，３２ａ  共通ドライバ
３２  Ｙ側ドライバ
３２ｂ  スキャンドライバ
３３  アドレス側ドライバ
３４  制御回路
４１  凹溝
４１ａ  第１凹溝
４１ｂ  第２凹溝
４２  障壁
４２ａ  障壁の側面
４２ｂ  障壁の頂部
４３  放電空間
４４  補助電極
Ａ  アドレス電極
Ｌ  表示ライン
Ｘ，Ｙ  表示電極
【図１】
2006196228.tif 000003
【図２】
2006196228.tif 000004
【図３】
2006196228.tif 000005
【図４】
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【図５】
2006196228.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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