(57)【要約】      （修正有）【課題】広幅サンプル面内での光散乱性の均一性に優れる光散乱性フィルムないし反射防止フィルムを高い生産性で製造する方法、この方法で製造した光散乱フィルム、反射防止フィルムを用いた偏光板及びディスプレイ装置を提供する。【解決手段】透光性微粒子、透光性樹脂、および溶媒を含有し、透光性樹脂中に分子量１０００以上の透光性ポリマーを塗布組成物に対して０．１質量％以上含有する塗布組成物１４を、バックアップロール１１によって支持されて連続走行する透明支持体の表面にスロットダイ１３の先端リップ１７のランド１８を近接させて先端リップのスロットから塗布することにより、光散乱層を透明支持体上に塗工する方法、この方法で得られた光散乱性フィルムないし反射防止フィルム、これらフィルムを保護フィルムとして用いる偏光板、該偏光板を備えた液晶表示装置。【選択図】図２
2006154791.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に光散乱層を有する光散乱性フィルムの製造方法において、
１）透光性微粒子、分子量が１０００以上の透光性ポリマーを塗布組成物に対して０．１質量％以上の割合で含有する透光性樹脂、および溶媒を含む該光散乱層用の塗布組成物を調整する工程、
２）バックアップロールによって支持された該透明支持体を走行させる工程、
３）該光散乱層用の塗布組成物をエクストルージョン型塗布機のスロットダイ先端から吐出させる工程、
４）走行する該透明支持体のウェブの表面にスロットダイの先端リップのランドを近接させて該先端リップのスロットから吐出された該光散乱層用の塗布組成物を、該透明支持体上に塗工する工程
を含むことを特徴とする光散乱性フィルムの製造方法。
【請求項２】
塗布組成物中において、透光性樹脂中に含有される分子量１０００以上の透光性ポリマーが、セルロース誘導体、ポリ（メタ）アクリレート誘導体、及びポリビニルエステル系重合体から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の光散乱性フィルムの製造方法。
【請求項３】
塗布組成物の２５℃における粘度が、１〜１５ｍＰａ・ｓに制御されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光散乱性フィルムの製造方法。
【請求項４】
透光性微粒子の平均粒子径が０．５〜１０μｍであり、該透光性微粒子と透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．２であり、該透光性微粒子が光散乱層の全固形分中３〜３０質量％含有されていることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光散乱性フィルムの製造方法。
【請求項５】
透光性微粒子が、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、またはそれらの混合物であり、溶媒が、ケトン類、トルエン、キシレン及びエステル類から選ばれる少なくとも１種の溶媒からなることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の光散乱性フィルムの製造方法。
【請求項６】
光散乱層上に直接または他の層を介して支持体よりも屈折率が低い低屈折率層が形成され、反射防止フィルムとしての機能を有していることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の光散乱性フィルムの製造方法。
【請求項７】
該スロットダイが、ウェブ進行方向側の先端リップにおけるランド長さが３０μｍ以上１００μｍ以下であるスロットダイであって、該スロットダイを塗布位置に設置したときに、ウェブ進行方向側の先端リップと該ウェブとの隙間がウェブ進行方向とは逆側の先端リップと該ウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下小さくなるようなオーバーバイト形状のスロットダイを用いて塗布することを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の光散乱性フィルムの製造方法。
【請求項８】
偏光膜と、該偏光膜の表側および裏側の両面を保護する２枚の保護フィルムをそれぞれ貼り合わせてなる偏光板において、請求項１〜７の何れかに記載の製造方法で製造された光散乱性フィルムを片側の保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項９】
偏光板を形成するための２枚の保護フィルムのうちの光散乱性フィルム以外となるフィルムが、偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面に光学異方性層を含んでなる光学補償層を有する偏光板であり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物からな
る層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該保護フィルム面とのなす角度が、該光学異方層の深さ方向において変化していることを特徴とする請求項８に記載の偏光板。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の偏光板を少なくとも１枚有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光散乱性フィルムの製造方法に関し、更に詳細には、透光性微粒子の沈降を制御した塗布組成物をダイコーターを用いて塗布することによって高い生産性が実現され、フィルム面内で均一な散乱性を有する光散乱性フィルムの製造方法に関する。また、本発明は、該光散乱性フィルムを用いた偏光板、及び該偏光板を用いた液晶表示装置にも関する。
【背景技術】
【０００２】
光散乱性フィルムは、大きくは表面散乱性を有する防眩性フィルムと、内部だけに散乱性を有する内部散乱性フィルムとに大別される。防眩性フィルムは一般に、ＣＲＴ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のようなディスプレイ装置において、外光の反射による像の映り込みを防止するために、ディスプレイの最表面に配置される。また、特に近年表示装置の高精細化に伴い、防眩性フィルムによる微小な輝度ムラ（ギラツキと呼称する）の改良手段として、表面散乱に加えて内部散乱性を有する防眩性フィルムに関する技術が開示されている（特許文献１〜４）。
【０００３】
一方、表面散乱性はなく、内部散乱性のみを有することにより、ＬＣＤの視野角特性を向上する散乱性フィルムに関する技術が開示されている（特許文献５）。また、特許文献５、６等で開示されているように、光散乱性フィルムが表示装置の最表面に用いられる場合には、明室にて外光の表面反射を抑制する反射防止機能を併せ持つフィルムが好ましいことが知られている。
【０００４】
以上のような光散乱性フィルムは、従来、バーコート法、グラビア法、マイクログラビア法等を用いて製造されていたが、近年、より高い生産性を達成することができる、比較的ウエット塗布量の少ない領域で好適に用いることができるエクストルージョン型塗布法の一つであるダイコート法に関する技術が特許文献７等に開示されている。
【０００５】
しかしながら、特許文献７で開示されている光散乱層用の塗布組成物では、ダイコート法で塗布する際に、ダイコーター内部のポケットに透光性微粒子が溜まってしまったり、スロットの幅方向で吐出される塗布組成物中の透光性微粒子の密度が不均一になったりすることに起因する光散乱性フィルム面内でのムラが問題となってきた。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３０４６４８号公報
【特許文献２】特許第３５０７７１９号公報
【特許文献３】特許第３５１５４０１号公報
【特許文献４】特許第３５１５４２６号公報
【特許文献５】特開２００３−１２１６０６号公報
【特許文献６】特開２００３−２７０４０９号公報
【特許文献７】特開２００３−２３６４３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
以上要するに、高い生産性を満たすダイコート法によりフィルム面内で均一な散乱性を有する光散乱性フィルムを製造する方法は提案されていないのが現状である。
本発明の目的は、フィルム面内での散乱性が均一な光散乱性フィルム、更には反射防止
機能を兼ね備えた光散乱性フィルムをダイコート方式を用いて高い生産性で製造する方法を提供することにある。
本発明の更なる目的は、上記光散乱性フィルムを備えた偏光板、この偏光板を備えた液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上述の目的を達成すべく鋭意検討した結果、フィルム面内の不均一性の発生が、塗布液を静置経時した後の沈降粒子を攪拌した際の再分散性が良い程、抑制されることを実験的に見出し、塗布液の粘度および塗布組成物における透光性微粒子の再分散性を塗布組成物中に分子量１０００以上の透光性ポリマーを含有することで調整することにより、上記目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記の構成により、前記目的を達成したものである。
１．透明支持体上に光散乱層を有する光散乱性フィルムの製造方法において、
１）透光性微粒子、分子量が１０００以上の透光性ポリマーを塗布組成物に対して０．１質量％以上の割合で含有する透光性樹脂、および溶媒を含む該光散乱層用の塗布組成物を調整する工程、
２）バックアップロールによって支持された該透明支持体を走行させる工程、
３）該光散乱層用の塗布組成物をエクストルージョン型塗布機のスロットダイ先端から吐出させる工程、
４）走行する該透明支持体のウェブの表面にスロットダイの先端リップのランドを近接させて該先端リップのスロットから吐出された該光散乱層用の塗布組成物を、該透明支持体上に塗工する工程
を含むことを特徴とする光散乱性フィルムの製造方法。
２．塗布組成物中において、透光性樹脂中に含有される分子量１０００以上の透光性ポリマーが、セルロース誘導体、ポリ（メタ）アクリレート誘導体、及びポリビニルエステル系重合体から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする上記１に記載の光散乱性フィルムの製造方法。
３．塗布組成物の２５℃における粘度が、１〜１５ｍＰａ・ｓに制御されていることを特徴とする上記１または２に記載の光散乱性フィルムの製造方法。
４．透光性微粒子の平均粒子径が０．５〜１０μｍであり、該透光性微粒子と透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．２であり、該透光性微粒子が光散乱層の全固形分中３〜３０質量％含有されていることを特徴とする上記１〜３の何れかに記載の光散乱性フィルムの製造方法。
５．透光性微粒子が、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、またはそれらの混合物であり、溶媒が、ケトン類、トルエン、キシレン及びエステル類から選ばれる少なくとも１種の溶媒からなることを特徴とする上記１〜４の何れかに記載の光散乱性フィルムの製造方法。
６．光散乱層上に直接または他の層を介して支持体よりも屈折率が低い低屈折率層が形成され、反射防止フィルムとしての機能を有していることを特徴とする上記１〜５の何れかに記載の光散乱性フィルムの製造方法。
７．該スロットダイが、ウェブ進行方向側の先端リップにおけるランド長さが３０μｍ以上１００μｍ以下であるスロットダイであって、該スロットダイを塗布位置に設置したときに、ウェブ進行方向側の先端リップと該ウェブとの隙間がウェブ進行方向とは逆側の先端リップと該ウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下小さくなるようなオーバーバイト形状のスロットダイを用いて塗布することを特徴とする上記１〜６の何れかに記載の光散乱性フィルムの製造方法。
８．偏光膜と、該偏光膜の表側および裏側の両面を保護する２枚の保護フィルムをそれぞれ貼り合わせてなる偏光板において、上記１〜７の何れかに記載の製造方法で製造された光散乱性フィルムを片側の保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板。
９．偏光板を形成するための２枚の保護フィルムのうちの光散乱性フィルム以外となる
フィルムが、偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面に光学異方性層を含んでなる光学補償層を有する偏光板であり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物からなる層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該保護フィルム面とのなす角度が、該光学異方層の深さ方向において変化していることを特徴とする上記８に記載の偏光板。
１０．上記８または９に記載の偏光板を少なくとも１枚有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光散乱性フィルムの製造方法によれば、透明樹脂として分子量１０００以上の透光性ポリマーを塗布液に対して０．１質量％以上添加することにより光散乱層用塗布組成物に含まれる透光性微粒子の沈降後の再分散性を向上させ、再分散性が向上した塗布組成物を透明支持体の表面に高い生産性を有するダイコート法で塗布することにより、光散乱性フィルム面内でのムラがなく、フィルム面内で均一な散乱性を有する光散乱性フィルムを高い生産性で製造することができる。
本発明の上記光散乱性フィルムに低屈折層を設けることにより、反射防止機能を兼ね備えたフィルムとすることができる。
これらフィルムを偏光板の一方の保護フィルムに用いることができ、この偏光板を液晶表示装置に用いることにより、防眩層のレンズ効果による各画素の不均一な拡大／縮小に起因する所謂ギラツキが殆ど感じられない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明について更に詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００１１】
本発明の光散乱性フィルムについて好適な一実施形態の基本的な構成を図面を参照しながら説明する。
ここで、図１は、本発明の防眩性を有する光散乱性フィルムの好ましい１実施形態を模式的に示す断面図である。
図１に示す本実施形態の光散乱性フィルム１は、透明支持体２と、透明支持体２上に形成された光散乱層３と、そして光散乱層３上に形成された低屈折率層４とからなる。光散乱層の上に低屈折率層を光の波長の１／４前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができるため、より好ましい。
光散乱層３は、透光性樹脂と透光性樹脂中に分散された透光性微粒子５とからなる。
本発明における反射防止層を有する光散乱性フィルムを構成する各層の屈折率は以下の関係を満たすことが好ましい。
光散乱層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
本発明において、光散乱層は防眩性を有しても良いし、防眩性を実質上有さず内部散乱性のみを有する層であっても良いし、また防眩性及び内部散乱性の両者を有していても良い。防眩層を有する光散乱層は、好ましくは防眩性とハードコート性を兼ね備えており、本実施形態を示す図１においては、１層で形成されたものを例示しているが、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。また、本実施形態のように透明支持体上に直接設けてもよいが、帯電防止層や防湿層等の他の層を介して設けてもよい。
【００１２】
本発明の防眩性を有する光散乱性フィルムは、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心
線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計するのが、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成されるので、好ましい。
また、Ｃ光源下でのＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間における反射光の色味がａ*値−２〜２、ｂ*値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比０．５〜０．９９とするのが、反射光の色味がニュートラルとなるので、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ*値を０〜３とすると、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。また、面光源上と本発明の反射防止フィルムの間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差を２０以下とすると、高精細パネルに本発明のフィルムを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。
【００１３】
一方、本発明の内部散乱性のみを有する光散乱性フィルムは、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．１０以下であることが好ましく、実質上、防眩性は有さない。光散乱層の内部に屈折率の異なる領域が多数存在することにより、内部散乱性を有しており、液晶表示装置の最表面に適用した際の視野角特性の改良効果が得られるように、散乱特性を最適化するのが好ましい。
【００１４】
また、本発明の反射防止層を有する光散乱性フィルムは、その光学特性を、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上とするのが、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため、好ましい。また、ヘイズ２０％〜６０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度１０％〜７０％、垂直透過光／垂直から２度傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とするのが、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成されるので、好ましい。
【００１５】
次に、光散乱層について以下に説明する。
＜光散乱層＞
光散乱層は、表面散乱および内部散乱の少なくともいずれかによる光拡散性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに付与する目的で形成される。従って、透光性樹脂（好ましくはハードコート性を付与することのできる透光性樹脂）、光拡散性を付与するための透光性微粒子、および溶媒を必須成分として含有する。更に、分子量１０００以上の透光性ポリマーを塗布液に対して０．１質量％以上、透光性樹脂成分として添加することにより透光性微粒子の沈降後の再分散性を向上することによって、高い生産性を有するダイコート法によって透明支持体上に、高い面内均一性をもって塗工することが可能となる。分子量１０００以上の透光性ポリマーは、透光性微粒子が沈降した際に粒子間に入り込むことにより粒子間距離を大きく保ち、（１）粒子間距離が非常に小さく、相互作用の強い、かさ密度の高い沈降物が形成されるのを防止する、（２）攪拌、送液等による再分散時にすばやく溶媒を取り込み、沈降物の粘度を低減する、といった効果によって、再分散性を向上させていると考えられる。
また、沈降物の再分散性が向上することによって、ダイコート法のように塗布時の送液量が低流量である場合において、透光性微粒子が沈降しかけた時点でタンクから送液されてきた液による攪拌効果により、ダイコーター内部のポケットに透光性微粒子が溜まりにくくなり、スロットの幅方向で吐出される塗布組成物中の透光性微粒子の密度が均一になると考えられる。
透光性微粒子の沈降速度を制御する因子としては下式（１）に示すように塗布組成物と透光性微粒子の比重差、塗布組成物の粘度、透光性微粒子の粒子径が挙げられるが、本発明の透光性微粒子の沈降後の再分散性は、必ずしも下式（１）で示される沈降速度とは相関がなく、沈降速度は速くても、再分散性が良好な場合もある。
光散乱層用塗布組成物の２５℃における粘度を１〜１５ｍＰａ・ｓに調整することによ
り、ダイコート法での塗布速度を高く維持することができ、好ましい。
【００１６】
式（１）：沈降速度Ｖｓ＝（１／１８）×（σ−ρ）×（ｇ／μ）×ｄ2
式（１）中、σは透光性微粒子の密度（ｇ／ｃｍ2）、ρは塗布組成物の密度（ｇ／ｃｍ2）、ｇは重力加速度、ｄは透光性微粒子の平均粒径（μｍ）、μは塗布組成物の粘度（Ｐａ・ｓ）を表す。
【００１７】
本発明の光散乱フィルムを形成するための塗布組成物中において、透光性微粒子が溶媒によってある程度膨潤すると、透光性微粒子が沈降した際、沈降物のかさ密度が高くなり、粒子間に多くの溶媒等を含むため、再分散性が向上し、好ましい。透光性微粒子が溶媒によって膨潤しやすい組み合わせとして、透光性微粒子が架橋ポリスチレン、または架橋ポリ（アクリル−スチレン）、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）、またはそれらの混合物であり、溶媒がケトン類、トルエン、キシレン、エステル類から選ばれる少なくとも１種類の溶媒からなることが好ましい。透光性微粒子の膨潤は、粒子の架橋密度によっても制御可能であり、用いる溶媒との組み合わせで調整することもできる。
【００１８】
＜透光性微粒子＞
透光性微粒子の平均粒径は０．５〜１０μｍが好ましく、特に好ましくは１．０〜５．０μｍである。
透光性微粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子、及びこれら粒子の混合物が好ましい。
透光性微粒子の形状は、球状が好ましい。不定形のものでも使用できるが、光散乱フィルムの散乱特性が球状のものと異なるため、調整が必要である。
【００１９】
また、粒子径の異なる２種以上の透光性微粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性微粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性微粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止フィルムを貼り付けた場合に、上述したようなギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸（防眩性に寄与）により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する透光性微粒子より小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なる透光性微粒子を併用することにより大きく改善することができる。
【００２０】
前記透光性微粒子は、光散乱効果、像の解像度、表面の白濁やギラツキの発生の無いことなどを考慮して、形成された光散乱層中に光散乱層の全固形分換算で、３〜３０質量％含有されるように配合される。より好ましくは５〜２０質量％である。
また、透光性微粒子の密度は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ2である。
透光性微粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【００２１】
本発明における透光性樹脂と透光性微粒子との混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を前記範囲とするには、透光性樹脂及び透光性微粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
また、本発明においては、透光性樹脂と透光性微粒子との屈折率の差（透光性微粒子の
屈折率−透光性樹脂の屈折率）は、好ましくは０．０２〜０．２であり、より好ましくは０．０５〜０．１５である。この差が上記範囲であると、内部散乱の効果が十分であり、ギラツキが少なく、しかもフィルム表面の白濁の発生がない。
また、前記透光性樹脂の屈折率は、１．４５〜２．００であるのが好ましく、１．４８〜１．６０であるのが更に好ましい。
また、前記透光性微粒子の屈折率は、１．４０〜１．８０であるのが好ましく、１．５０〜１．７０であるのが更に好ましい。
ここで、前記透光性樹脂の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。
【００２２】
光散乱層の膜厚は、１〜３０μｍが好ましく、１〜１０μｍが特に好ましい。膜厚が上記範囲であると、ハード性を有し、しかもカールや脆性が良化して加工適性に優れる。
【００２３】
＜透光性樹脂＞
透光性樹脂は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体を主成分とすることが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
更に、本発明の光散乱層の製造方法においては、塗布組成物の粘度を調整し、透光性微粒子の沈降物の再分散性の向上のために、透光性樹脂中に分子量１０００以上の透光性ポリマーが塗布組成物（塗布液）に対して０．１質量％以上、好ましくは０．１〜２０質量％、より好ましくは０．２〜１０質量％、更に好ましくは０．３〜５質量％の割合で含有されていることが必須である。
【００２４】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、前記のエステルのエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。前記モノマーは２種以上併用してもよい。
【００２５】
分子量１０００以上の透光性ポリマーとしては、（１）透光性微粒子の再分散性の向上、（２）上記モノマーとの充分な相溶性、（３）後述する塗布溶媒に対する溶解性、の観点から、セルロース誘導体、ポリ（メタ）アクリレート誘導体から選ばれる少なくとも１種類であることが好ましい。具体例としては、セルロース誘導体としてはセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネート等、ポリ（メタ）アクリレート誘導体としてはポリメチル（メタ）アクリレート、ポリブチル（メタ）アクリレート、これらの共重合体、これらの少なく
とも一つとヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のモノマーとの共重合体等を用いることができる。必要に応じて、これらを２種類以上使用することもできる。
【００２６】
また、分子量１０００以上の透光性ポリマーとしては上記の他にポリビニルエステル系重合体が好ましい。ポリビニルエステル系重合体にはビニルエステルの単独重合体、２種以上のビニルエステルの共重合体、およびビニルエステルと他のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体との共重合体が含まれる。ビニルエステルとしては、例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ステアリン酸ビニル、等のビニルエステルが挙げられる。ポリビニルエステル系重合体の具体例としては、特にポリ酢酸ビニル、ポリプロピオン酸ビニルが好ましい。
【００２７】
分子量１０００以上の透光性ポリマーにおいて、分子量とは重量平均分子量を指し、１０００以上２００万以下が好ましく、１万以上２００万以下がより好ましく、５万〜１００万であることが特に好ましい。
ここでいう分子量及び重量平均分子量は、ＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。
【００２８】
上記エチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、前記光散乱層は、上述のエチレン性不飽和モノマー等の透光性樹脂形成用のモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、透光性微粒子および必要に応じて後述するような無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化させることにより形成することができる。
【００２９】
光ラジカル（重合）開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル（重合）開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光ラジカル（重合）開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光ラジカル（重合）開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
【００３０】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【００３１】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性微粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して光拡散層を形成することができる。
【００３２】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００３３】
光散乱層には、層の屈折率を高めるために、前記の透光性微粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーを含有してもよい。
また逆に、透光性微粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率透光性微粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることもできる。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。これらの無機フィラーは、一般的に比重が有機物よりも高く、塗布組成物の密度を高くできるため、透光性微粒子の沈降速度を遅くする効果もある。
光散乱層に用いられる無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーを用いる場合、その添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このような無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
また、光散乱層にオルガノシラン化合物を用いることができる。オルガノシラン化合物の添加量は、含有層（添加層）の全固形分の０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０
１〜２０質量％がより好ましく、０．０５〜１０質量％が更に好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。
【００３４】
＜光散乱層用界面活性剤＞
本発明の光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を光拡散層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。
【００３５】
フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体（「フッ素系ポリマー」と略記することもある）が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とする、あるいは下記（ii）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。
【００３６】
（ｉ）下記一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
【００３７】
一般式イ
【００３８】
【化１】
2006154791.tif 000003
【００３９】
一般式イにおいてＲ11は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ12）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは２〜４の整数を表す。Ｒ12は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。
【００４０】
（ii）前記（ｉ）と共重合可能な下記一般式ロで示されるモノマー
【００４１】
一般式ロ
【００４２】
【化２】
2006154791.tif 000004
【００４３】
一般式ロにおいて、Ｒ13は水素原子またはメチル基を表し、Ｙは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ15）−を表し、Ｒ15は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｙは酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−、および−Ｎ（ＣＨ3）−が好ましい。
Ｒ14は置換基を有しても良い炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。Ｒ14のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
【００４４】
本発明で用いられるフッ素系ポリマー中に用いられるこれらの一般式イで示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて１０モル％以上であり、好ましくは１５〜７０モル％であり、より好ましくは２０〜６０モル％の範囲である。
【００４５】
本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜８０，０００がより好ましい。
更に、本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。フッ素系ポリマーの添加量が上記範囲であれば、添加効果が十分であり、しかも塗膜の乾燥が十分に行われ、塗膜としての性能（例えば反射率、耐擦傷性）も優れる。
【００４６】
以下、一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーからなるフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【００４７】
【化３】
2006154791.tif 000005
【００４８】
【化４】
2006154791.tif 000006
【００４９】
しかしながら、前記のようなフッ素系ポリマーを使用することにより、光散乱層表面にＦ原子を含有する官能基が偏析することにより光散乱層の表面エネルギーが低下し、前記光散乱層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射防止性能が悪化する問題が生じる。これは低屈折率層を形成するために用いられる硬化性組成物の濡れ性が悪化するために低屈折率層に目視では検知できない微小なムラが悪化するためと推定される。このような問題を解決するためには、フッ素系ポリマーの構造と添加量を調整することにより、光散乱層の表面エネルギーを好ましくは２０ｍＮ・ｍ-1〜５０ｍＮ・ｍ-1に、より好ましくは３０ｍＮ・ｍ-1〜４０ｍＮ・ｍ-1に制御することが効果的であることを見出した。前記のような表面エネルギーを実現するためには、Ｘ線光電子分光法で測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピークの比であるＦ／Ｃが０．１〜１．５であることが必要である。
【００５０】
或いは、上層を塗布する時には上層を形成する溶媒に抽出されるようなフッ素系ポリマーを選択することで、下層表面（＝界面）に偏在することがなくなり上層と下層の密着性を持たせることで、高速塗布においても面状の均一性を保ち、かつ耐擦傷性の強い反射防止フィルムを提供できる表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の光散乱層の表面エネルギーを前記範囲に制御することでも目的を達成することができる。そのような素材の例は下記一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体である。
【００５１】
（iii）下記一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
【００５２】
一般式ハ
【００５３】
【化５】
2006154791.tif 000007
【００５４】
一般式ハにおいてＲ21は水素原子またはハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘ2は酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ22）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ22）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。ｍは１以上６以下の整数（１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい。）、ｎは１以上１８以下の整数（４〜１２がより好ましく、６〜８が更に好ましい。）を表す。Ｒ22は水素原子または置換基を有しても良い炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。Ｘ2は酸素原子が好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが２種類以上構成成分として含まれていても良い。
【００５５】
（iv）前記（iii）と共重合可能な下記一般式ニで示されるモノマー
【００５６】
一般式ニ
【００５７】
【化６】
2006154791.tif 000008
【００５８】
一般式ニにおいて、Ｒ23は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙ2は酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ25）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ25）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ25は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
Ｒ24は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、または総炭素数６〜１８の芳香族がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖、分岐、または環状のアルキル基が更に好ましい。
【００５９】
以下、一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含むフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【００６０】
【化７】
2006154791.tif 000009
【００６１】
【化８】
2006154791.tif 000010
【００６２】
【化９】
2006154791.tif 000011
【００６３】
【化１０】
2006154791.tif 000012
【００６４】
【化１１】
2006154791.tif 000013
【００６５】
また光散乱層上に低屈折率層をオーバーコートする時点で表面エネルギーの低下を防げば、反射防止性能の悪化が防げる。光散乱層塗布時にはフッ素系ポリマーを用いて塗布液の表面張力を下げて面状均一性を高め、高速塗布による高生産性を維持し、光散乱層塗布後にコロナ処理、ＵＶ処理、熱処理、鹸化処理、溶剤処理といった表面処理手法を用いて、特に好ましいのはコロナ処理であるが、表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の光散乱層の表面エネルギーを前記範囲に制御することでも目的を達成することができる。
【００６６】
また、本発明者等は、ゴニオフォトメーターで測定される散乱光の強度分布が視野角改良効果に相関することを確認した。すなわち、バックライトから出射された光が視認側の偏光板表面に設置された光拡散フィルムで拡散されればされるほど視野角特性がよくなる。しかし、あまり拡散されすぎると、後方散乱が大きくなり、正面輝度が減少する、あるいは、散乱が大きすぎて画像鮮明性が劣化する等の問題が生じる。従って、散乱光強度分布をある範囲に制御することが必要となる。そこで、鋭意検討の結果、所望の視認特性を達成するには、散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対して、特に視認角改良効果
と相関ある３０°の散乱光強度が０．０１％〜０．２％であることが好ましく、０．０２％〜０．１５％が更に好ましい。
散乱光プロファイルは、作成した光散乱フィルムについて、（株）村上色彩技術研究所製の自動変角光度計ＧＰ−５型を用いて測定できる。
【００６７】
また、本発明の光散乱層を形成する為の塗布組成物中に、チクソトロピー剤を添加しても良い。チクソトロピー剤としては、０．１μｍ以下のシリカ、マイカ等があげられる。
これら添加剤の含有量は、通常、紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部程度とするのが好適である。
【００６８】
次に、前記低屈折率層について以下に説明する。
＜低屈折率層＞
本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率層の屈折率は、１．３０〜１．５５であり、好ましくは１．３５〜１．４５の範囲である。
屈折率が１．３０未満であると、反射防止性能は向上するが、膜の機械強度が低下し、１．５５を超えると、反射防止性能が著しく悪化してしまう。
さらに、低屈折率層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（Ｉ）：（ｍλ／４）×０．７＜ｎ１×ｄ１＜（ｍλ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、前記数式（Ｉ）を満たすとは、前記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【００６９】
低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、例えば含フッ素ポリマーを主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜である。
【００７０】
＜低屈折率層用含フッ素ポリマー＞
前記含フッ素ポリマーは、硬化被膜にした場合の被膜の動摩擦係数が０．０３〜０．２０、水に対する接触角が９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下であり、熱または電離放射線により架橋するポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。
また、本発明の反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。
また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。
【００７１】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含有し、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであり、例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭素原子のみからなるのが好ましい。すなわち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有しないのが好ましい。
【００７２】
前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−
ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【００７３】
前記架橋反応性単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位；カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー〔例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等〕の重合によって得られる構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【００７４】
また、前記含フッ素モノマー単位及び前記架橋反応性単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合させて、他の重合単位を導入することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類〔エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等〕、アクリル酸エステル類〔アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル〕、メタクリル酸エステル類〔メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等〕、スチレン誘導体〔スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等〕、ビニルエーテル類〔メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等〕、ビニルエステル類〔酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等〕、アクリルアミド類〔Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等〕、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【００７５】
前記含フッ素ポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
【００７６】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類とのランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基〔（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等〕を有していることが好ましい。
これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％を占めていることである。
【００７７】
本発明に用いられる低屈折率層用含フッ素ポリマーの好ましい形態として一般式１で表される共重合体が挙げられる。
【００７８】
【化１２】
2006154791.tif 000014
【００７９】
一般式１中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ及びＳから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、*−（ＣＨ2）2−Ｏ−**， *−（ＣＨ2）2−ＮＨ−**， *−（ＣＨ2）4−Ｏ−**， *−（ＣＨ2）6−Ｏ−**， *−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−**，*−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）3−Ｏ−**， *−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−Ｏ−**， *−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＮＨ（ＣＨ2）3−Ｏ−**（* はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表す。
【００８０】
一般式１中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【００８１】
一般式１中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の重合成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーの繰り返し単位によって構成されていても良い。
【００８２】
好ましい単量体の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【００８３】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５が好ましく、更に好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合
である。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式２が挙げられる。
【００８４】
【化１３】
2006154791.tif 000015
【００８５】
一般式２においてＸは一般式１と同じ意味を表し、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表し、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表し、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式１におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｘ、ｙ、ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表し、ｘ及びｙは、それぞれ３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０を満たすのが好ましく、更に好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５の場合である。ｚ１及びｚ２については、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たすのが好ましく、更に好ましくは０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ１＋ｚ２＝１００である。
一般式１又は２で表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式１又は２で表される共重合体の好ましい具体例としては、特開２００４−４５４６２号公報の段落［００３５］〜［００４７］に記載されたものを挙げることができ、該公報に記載の方法により合成することができる。
【００８６】
低屈折率層形成するための前記硬化性組成物は、（Ａ）前記含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機微粒子、（Ｃ）後述するオルガノシラン化合物の加水分解物またはその部分縮合物、あるいはこれら両者の混合物を含有してなるのが好ましい。
【００８７】
＜低屈折率層用無機微粒子＞
無機微粒子の配合量は、１ｍｇ／ｍ2〜１００ｍｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ2〜８０ｍｇ／ｍ2、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ2〜６０ｍｇ／ｍ2である。無機微粒子の配合量が上述の範囲内であれば、耐擦傷性の改良効果に優れ、しかも低屈折率層表面に微細な凹凸が発生せず、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化することもない。
該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。
例えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下が好ましく、よ
り好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
前記無機微粒子の粒径を上述の範囲内とすると、耐擦傷性の改良効果に優れ、しかも低屈折率層表面に微細な凹凸ができて黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化することもない。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【００８８】
低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、前記無機微粒子は、中空構造であるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は１．１７〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、さらに好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空構造の無機微粒子の場合に外殻の無機質のみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、下記数式（II）で表される空隙率ｘは、好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
（数式II）：ｘ＝（４πａ3／３）／（４πｂ3／３）×１００
中空の無機微粒子の屈折率をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点からは屈折率１．１７未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定を行い測定した。
【００８９】
また、これまで述べてきた無機微粒子（以下「大サイズ無機微粒子」と称す）よりも更に小さい平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満である無機微粒子（以下「小サイズ無機微粒子」と称す）の少なくとも１種を前記の好ましい範囲内の粒径の大サイズ無機微粒子と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
上述のように前記大サイズ無機微粒子としては、平均粒径が上述のように低屈折率層の厚みの３０〜１００％であり、中空構造からなり、屈折率が上述のように１．１７〜１．４０であるものが特に好ましく用いられる。
【００９０】
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
前記カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【００９１】
＜低屈折率層用オルガノシラン化合物＞
本発明のフィルムを構成する層のうちの少なくとも１層は、その層を形成する塗布液中に、オルガノシラン化合物の加水分解物および／またはその部分縮合物の少なくとも一種の成分、いわゆるゾル成分（以降このように称する場合もある）を含有することが耐擦傷性の点で好ましい。
とくに反射防止フィルムにおいては反射防止能と耐擦傷性を両立させるために、低屈折率層と機能層の共にゾル成分を含有することが特に好ましい。このゾル成分は、塗布液を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成し上記層のバインダーの一部となる。また、該硬化物が重合性不飽和結合を有する場合、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成される。
【００９２】
オルガノシラン化合物は、下記一般式１で表されるものが好ましい。
一般式１：（Ｒ１）ｍ−Ｓｉ（Ｘ）４−ｍ
上記一般式１において、Ｒ1は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基か好ましく、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アルキル基の具体例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｘは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ２ＣＯＯ（Ｒ２は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ３ＣＯＯ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｍは１〜３の整数を表し、好ましくは１〜２である。
【００９３】
Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ1に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
Ｒ1は置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましく、中でも、下記一般式２で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
【００９４】
一般式２
【００９５】
【化１４】
2006154791.tif 000016
【００９６】
上記一般式２において、Ｒ２は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくは＊−ＣＯＯ−**、*−ＣＯＮＨ−**または*−Ｏ−**を表し、単結合、*−ＣＯＯ−**および*−ＣＯＮＨ−**が好ましく、単結合および*−ＣＯＯ−**が更に好ましく、*−ＣＯＯ−**が特に好ましい。*は＝Ｃ（Ｒ１）−に結合する位置を、**はＬに結合する位置を表す。
【００９７】
Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【００９８】
一般式２において、ｌ（スモールエル）、及びｍはモル分率を表し、ｌはｌ＝１００−ｍの数式を満たす数を表し、ｍは０〜５０の数を表す。ｍは０〜４０の数がより好ましく、０〜３０の数が特に好ましい。
Ｒ３〜Ｒ5は、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基、もしくは無置換のアルキル基が好ましい。Ｒ３〜Ｒ５は塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基がより好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基もしくはメトキシ基が特に好ましい。
Ｒ６は水素原子、アルキル基を表す。アルキル基はメチル基、エチル基が好ましい。
Ｒ７は、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００９９】
一般式１の化合物は２種類以上を併用しても良い。特に一般式２の化合物は一般式１の化合物２種類を出発原料として合成される。以下に一般式１の化合物および一般式２で表される化合物の出発原料の具体例を示すが、限定されるものではない。
【０１００】
【化１５】
2006154791.tif 000017
【０１０１】
【化１６】
2006154791.tif 000018
【０１０２】
【化１７】
2006154791.tif 000019
【０１０３】
【化１８】
2006154791.tif 000020
【０１０４】
【化１９】
2006154791.tif 000021
【０１０５】
【化２０】
2006154791.tif 000022
【０１０６】
【化２１】
2006154791.tif 000023
【０１０７】
M-48  メチルトリメトキシシラン
M-49  トリメチルメトキシシラン
M-50  トリエチルメトキシシラン
【０１０８】
これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、（Ｍ−１９）、（Ｍ−２０）、（Ｍ−２１）、（Ｍ−２４）、（Ｍ−３０）、（Ｍ−４８）、及び（Ｍ−４９）が好ましい。重合性基を含有するオルガノシランとしては（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、及び（Ｍ−２５）が好ましい。これらの重合性基を含有する化合物と、重合性基を持たない化合物を組み合わせて用いても良い。
【０１０９】
オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が最も好ましい。
【０１１０】
［低屈折率層用硬化性組成物に含有するその他の物質］
前記硬化性組成物は、前述の（Ａ）含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機微粒子及び（Ｃ）オルガノシラン化合物の加水分解物またはその部分縮合物、あるいはこれら両者の混合物に、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には０．０１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。
【０１１１】
低屈折率層と直接接する下層との界面密着性等の観点からは、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物等の硬化剤を少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して３０質量％以下の範囲とすることが好ましく、２０質量％以下の範囲とすることがより好ましく、１０質量％以下の範囲とすることが特に好
ましい。
【０１１２】
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。
【０１１３】
シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および側鎖の少なくともいずれかに置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７.８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）やチッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−５５２１、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１１４】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖（例えば−ＣＦ2ＣＦ3，−ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ，−ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＦ3，−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ等）であっても、分岐構造（例えば−ＣＨ（ＣＦ3）2，−ＣＨ2ＣＦ（ＣＦ3）2，−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＦ2ＣＦ3，−ＣＨ（ＣＨ3）（ＣＦ2）5ＣＦ2Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等）であっても良く、エーテル結合を有していても良い（例えば−ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ3，−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ4Ｆ8Ｈ，−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ17，−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＦ2ＣＦ2ＯＣＦ2ＣＦ2Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業（株）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３(以上商品名)、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１１５】
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低ｎ層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１５０(商品名)、東レダウコーニング（株）製、ＳＨ−３７４８(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【０１１６】
＜透明支持体＞
本発明の光散乱性フィルムないし反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースアシレート（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、代表的には富士写真フイルム社製ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＬなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ノルボルネン系樹脂、非晶質ポリオレフィンが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
セルロースアシレートは、単層または複数の層からなる。単層のセルロースアシレートは、特開平７−１１０５５号公報等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるセルロースアシレートは、公開特許公報の特開昭６１−９４７２５号、特公昭６２−４３８４６号等の公報で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
【０１１７】
前記のような、セルロースアシレートを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。
【０１１８】
前記のような種々のセルロースアシレートフィルム（トリアセチルセルロースなどからなるフィルム）およびその製造法については発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行）に記載されている。
【０１１９】
セルロースアシレートフィルムの厚みとしては４０μｍ〜１２０μｍが好ましい。ハンドリング適性、塗布適性等を考慮すると８０μｍ前後が好ましいが、近年の表示装置の薄手化の傾向から、偏光板の薄手化のニーズが大きく、偏光板薄手化の観点では４０μｍ〜
６０μｍ前後が好ましい。このような薄手のセルロースアシレートフィルムを本発明の光散乱性フィルムないし反射防止フィルムの透明支持体として用いる場合には、セルロースアシレートフィルムに直接塗布する層の溶媒、膜厚、架橋収縮率等を最適化することにより前記のハンドリング、塗布適性等の問題を回避することが好ましい。
【０１２０】
＜他の層について＞
透明支持体と本発明の光散乱層の間に設けても良い他の層として、帯電防止層（ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合）、ハードコート層（光散乱層だけで硬度が不足する場合）、防湿層、密着改良層、虹ムラ（干渉ムラ）防止層等が挙げられる。
これらの層は、公知の方法にて形成することができる。
【０１２１】
本発明の光散乱性フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
【０１２２】
［塗布液の調製］
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
【０１２３】
光散乱層を形成する塗布液中には、直接その上に形成される低屈折率層の乾燥膜厚（５０ｎｍ〜１２０ｎｍ程度）に相当する異物を概ね全て（９０％以上を指す）除去できるろ過をすることが好ましい。光拡散性を付与する為の透光性微粒子が低屈折率層の膜厚と同等以上であるため、前記ろ過は、透光性微粒子以外の全ての素材を添加した中間液に対して行うことが好ましい。また、前記のような粒径の小さな異物を除去可能なフィルターが入手できない場合には、少なくとも直接その上に形成される層のウエット膜厚（１〜１０μｍ程度）に相当する異物を概ね全て除去できるろ過をすることが好ましい。このような手段により、直接その上に形成される層の点欠陥を減少することができる。
【０１２４】
［塗布］
次に、光散乱層、および必要に応じて低屈折率層を形成するための塗布液をエクストルージョン法（ダイコート法）により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。その後、光照射および加熱の少なくともいずれかの手段により、光散乱層ないし低屈折率層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これにより光散乱層、低屈折率層が形成される。
【０１２５】
一般に高い生産速度の観点で、エクストルージョン法（ダイコート法）が好ましく用いられる。特に、本発明の光散乱層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域（２０ｃｃ／ｍ2以下）で好ましく用いることができるダイコーターについて、以下に説明する。
【０１２６】
＜ダイコーターの構成＞
図２は本発明を実施したスロットダイを用いたコーターの断面図である。コーター１０はバックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブ（支持体）Ｗに対して、スロットダイ１３の先端リップ１７から塗布液１４をビード１４ａにして吐出、塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂを形成する。
【０１２７】
スロットダイ１３の内部にはポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット
１５は、その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば図２に示すような略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロット開口部１６ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。
【０１２８】
スロット１６は、ポケット１５からウェブＷへの塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。
【０１２９】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブＷの進行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。
【０１３０】
図３は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明のスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。従来のスロットダイ３０では、上流側リップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂのウェブとの距離は等しい。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩLOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度良くおこなうことができる。
【０１３１】
上流側リップランド１８ａのランド長さＩUPは特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩLOは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。下流側リップのランド長さＩLOが３０μｍよりも短い場合は、先端リップのエッジあるいはランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さＩLOが１００μｍよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。
【０１３２】
さらに、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブＷに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、もっとも好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブＷの隙間ＧLとは、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間を示す。
【０１３３】
図４は、本発明を実施した塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。
ウェブＷの進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バッ
クプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間にはそれぞれ隙間ＧB、ＧSが存在する。図５及び図６は、近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図である。サイドプレートとバックプレートは図５のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図６のように適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間ＧB、ＧSと定義する。減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧBとは、減圧チャンバー４０を図４のようにウェブＷ及びスロットダイ１３の下方に設置した場合、バックプレート４０ａの最上端からウェブＷまでの隙間を示す。
【０１３４】
バックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧBをスロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間ＧLよりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール１１の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間ＧLが３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間ＧBは１００μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。
【０１３５】
＜材質、精度＞
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が２０μｍ以内とすることが好ましい。
また、スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップのウェブ走行方向における長さを３０〜１００μｍの範囲にしても、先端リップの精度を満足できない。したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第２８１７０５３号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップを、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド（以下、ＷＣと称す）などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることも出来る。ＷＣ結晶の平均粒径としては、粒径３μｍ以下がさらに好ましい。
高精度な塗布を実現するためには、先端リップのウェブ進行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、つまり隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以下になるように先端リップとバックアップロールの真直度を出す。
【０１３６】
＜塗布速度＞
上記の様なバックアップロール及び先端リップの精度を達成することにより、本発明で好ましく用いられる塗布方式は高速塗布時における膜厚の安定性が高い。さらに、本発明の塗布方式は前計量方式であるために高速塗布時でも安定した膜厚の確保が容易である。
本発明の反射防止フィルムの様な低塗布量の塗布液に対して、本発明の塗布方式は高速で膜厚安定性良く塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。本発明の製造方法を用いることで２５ｍ／分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。
【０１３７】
＜ウエット塗布量＞
光散乱層を形成する際には、基材フィルム上に直接又は他の層を介してウエット塗布膜厚として６〜３０μｍの範囲で前記塗液を塗布するのが好ましく、乾燥ムラ防止の観点からさらに３〜２０μｍの範囲がより好ましい。また、低屈折率層を形成する際には、光散乱層上に直接、或いは他の層を介してウエット塗布膜厚として１〜１０μｍの範囲で塗布組成物を塗布するのが好ましく、２〜５μｍの範囲で塗布されるのがより好ましい。
【０１３８】
［乾燥］
光散乱層および低屈折率層は、基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布した後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送される。その際の乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには１２０℃の温風中で数分以内にその数１０％前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、２官能のアクリレートモノマー等は１００℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
【０１３９】
また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が１〜５０％の間は塗膜表面の風速が０．１〜２ｍ／秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後、乾燥ゾーン内で基材フィルムの塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと基材フィルムとの温度差が０℃〜２０℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
【０１４０】
［硬化］
溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで電離放射線および加熱の少なくともいずれかの手段により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化する。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ2〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下する必要がある際には、酸素濃度０．０１％〜５％が好ましく、幅方向の分布は酸素濃度で２％以下が好ましい。
【０１４１】
また、光散乱層の硬化率（１００−残存官能基含率）が１００％未満のある値となった場合、その上に本発明の低屈折率層を設けて電離放射線および加熱の少なくともいずれか手段により低屈折率層を硬化した際に下層の光散乱層の硬化率が低屈折率層を設ける前よりも高くなると、光散乱層と低屈折率層との間の密着性が改良され、好ましい。
【０１４２】
前記のようにして製造された本発明の光散乱フィルム、反射防止フィルムは、これを用いて偏光板を作成することにより液晶表示装置に用いることができる。この場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。本発明の反射防止フィルムは、偏光板における偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
【０１４３】
本発明の光散乱フィルムや反射防止フィルムを２枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の
一方として用いて偏光板を作成する際には、前記の反射防止フィルムを、反射防止構造を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。以下、親水化処理である鹸化処理について説明する。
【０１４４】
［鹸化処理］
（１）アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中に光散乱フィルムや反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／Ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
前記の鹸化条件の組み合せは比較的穏和な条件同士の組み合せであることが好ましいが、光散乱フィルムや反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【０１４５】
鹸化処理することにより、透明支持体の光散乱層や反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。 偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、光散乱層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に光散乱層や低屈折率層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは１０度〜５０度、より好ましくは３０度〜５０度、さらに好ましくは４０度〜５０度となる。５０度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、１０度未満では、反射防止膜の受けるダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。
【０１４６】
（２）アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を光散乱層や反射防止膜を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（１）の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
【０１４７】
前記（１）、（２）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の光散乱フィルムや反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏
光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。
【０１４８】
（３）光散乱層や反射防止層をラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記（２）と同様に、光散乱層および低屈折率層の両方の層あるいはいずれかの層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、光散乱層、低屈折率層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記（２）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
【０１４９】
（４）光散乱層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
光散乱層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、光散乱層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に光散乱層上に低屈折率層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、特に低屈折率層がフッ素含有ゾル−ゲル膜等、親水基を有する場合には光散乱層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
【０１５０】
（５）予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに光散乱層や反射防止層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して光散乱層、低屈折率層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、光散乱層または他の層と鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、光散乱層または他の層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから光散乱層または他の層を形成することで対処できる。また、光散乱層または他の層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
【０１５１】
以下に、本発明の光散乱フィルムまたは反射防止フィルムを用いた偏光板及び該偏光板を用いた液晶表示装置について説明する。
【０１５２】
［偏光板］
本発明の好ましい偏光板は、偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方として、本発明の光散乱フィルムまたは反射防止フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、前記のように、光散乱層や反射防止層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が１０度〜５０度の範囲にあることが好ましい。
本発明の光散乱フィルムや反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた光散乱機能、あるいは反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の光散乱フィルムや反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性層を有する光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室での視認性やコントラストを改良し、上下左右の視野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。
【０１５３】
［光学補償層］
偏光板には光学補償層（位相差層）を設けることにより、液晶表示画面の視野角特性を
改良することができる。
光学補償層としては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有する層（光学異方性層）を有し、該ディスコティック化合物の構造単位の円盤面と透明支持体とのなす角度が透明支持体からの距離に伴って変化していることを特徴とする光学補償層が好ましい。
該角度は該ディスコティック化合物からなる光学異方性層の透明支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償層を偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
【０１５４】
［偏光膜］
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
【０１５５】
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落００２０〜００３０に詳しい記載がある。
【０１５６】
＜液晶表示装置＞
本発明の光散乱フィルムや反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。本発明の反射防止フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
【０１５７】
本発明の光散乱フィルムや反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
【０１５８】
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０１５９】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の
方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically
Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１６０】
ＥＣＢモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ」東レリサーチセンター発行（２００１）などに記載されている。
【０１６１】
特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１−１０００４３号公報等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表２枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。
【実施例】
【０１６２】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０１６３】
【化２２】
2006154791.tif 000024
【０１６４】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇおよび過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は０．５３Ｍｐａ（５．４ｋｇ／ｃｍ2）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ2）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィ
ン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。
【０１６５】
（ゾル液ａの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１６６】
（ゾル液ｂの調製）
反応後室温まで冷却した後、アセチルアセトン６部を添加したこと以外は前記ゾル液ａと同様にしてゾル液ｂを得た。
【０１６７】
（光散乱層用塗布液Ａの調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＰＥＴ−３０、日本化薬（株）製）３０ｇをメチルイソブチルケトン３６ｇとシクロヘキサノン２．４ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を１５ｇ添加し、混合攪拌し、溶解した後に、ＣＡＢ−５３１−１（セルロースアセテートブチレート、重量平均分子量２６０，０００、イーストマンケミカル（株）製）０．６ｇ（塗布組成物に対して０．６３質量％）を攪拌しながら添加し、５時間攪拌して完全に溶解させた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％シクロヘキサノン分散液を２１ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１４９）の２％メチルエチルケトン溶液２．３ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を６．２ｇを加え、完成液とした。
前記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光散乱層の塗布液Ａを調製した。２５℃における粘度は７ｍＰａ・ｓであった。
【０１６８】
（光散乱層用塗布液Ｂの調製）
上記光散乱層用塗布液ＡにおけるＣＡＢ−５３１−１（セルロースアセテートブチレート、重量平均分子量２６０，０００、イーストマンケミカル（株）製）０．６ｇを、ポリメタクリル酸メチル（重量平均分子量１２０，０００、シグマ−アルドリッチ（株）製）１．２ｇ（塗布組成物に対して１．３質量％）に置き換えた以外は同様にして、光散乱層用塗布液Ｂを調製した。透光性微粒子を添加する前の溶液の塗布、硬化物の屈折率は１．５１、完成液の２５℃における粘度は１０ｍＰａ・ｓであった。
【０１６９】
（光散乱層用塗布液Ｃの調製）
上記光散乱層用塗布液ＡにおけるＣＡＢ−５３１−１（セルロースアセテートブチレート、重量平均分子量２６０，０００、イーストマンケミカル（株）製）０．６ｇを添加しない以外は同様にして、光散乱層用塗布液Ｃを作成した。透光性微粒子を添加する前の溶液の塗布、硬化物の屈折率は１．５１、完成液の２５℃における粘度は４ｍＰａ・ｓであった。
【０１７０】
（低屈折率層用塗布液Ａの調製）
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１５ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥ
Ｋ−ＳＴ、平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）０．６ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）０．８ｇ、ゾル液ａ ０．４ｇおよびメチルエチルケトン３ｇ、シクロヘキサノ０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ａを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４３であった。
【０１７１】
（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）
前記低屈折率層用塗布液Ａにおいて、シリカゾルの代わりに中空シリカゾル（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）を１．９５ｇ用いた以外は添加量も含め前記塗布液Ａと同様にして、低屈折率層用塗布液Ｂを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３８であった。
【０１７２】
（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の１５．２ｇ、シリカゾル（シリカ、MEK−STの粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）１．４ｇ、反応性シリコーンＸ−２２−１６４Ｂ（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、ゾル液ａ ７．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．７６ｇ、メチルエチルケトン３０１ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｃを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４４であった。
【０１７３】
（低屈折率層用塗布液Ｄの調製）
前記低屈折率層用塗布液Ｃにおいて、シリカゾルの代わりに中空シリカゾル（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）を１．９５ｇ用いた以外は添加量も含め前記塗布液Ｃと同様にして、低屈折率層用塗布液Ｄを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４０であった。
【０１７４】
（低屈折率層用塗布液Ｅの調製）
前記低屈折率層用塗布液Ａにおいて、熱架橋性含フッ素ポリマーの代わりに、ＪＮ７２２８Ａより更に耐擦傷性を改良した屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＴＡ１１３、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）を使用した以外は添加量も含め前記塗布液Ａと同様にして、低屈折率層用塗布液Ｅを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４５であった。
【０１７５】
［実施例１］
（１）光散乱層の塗設
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、下記の装置構成および塗布条件（基本条件Ａ）で示されるダイコート法によって図２に記載の塗布装置を使用して光散乱層用塗布液Ａを塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量９０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防眩性を有する光散乱層を形成し、巻き取った。これを実施例１−１とする。
光散乱層用塗布液Ａを光散乱層用塗布液Ｂ，Ｃに変更する以外は、同様にして光散乱層を形成し、巻き取った。光散乱層用塗布液Ｂを塗布したものを実施例１−２とし、光散乱層用塗布液Ｃを塗布したものを比較例１−１とする。
【０１７６】
基本条件Ａ：スロットダイ１３は、上流側リップランド長ＩUPが１．０ｍｍ、下流側リップランド長ＩLOが５０μｍで，スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが
５００μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランド１８ａとウェブＷの隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間よりも７５μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ７５μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧLを１００μｍに設定した。また、減圧チャンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブＷとの隙間ＧS、及びバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧBはともに２００μｍとした。また、塗布速度＝４０ｍ／分、ウエット塗布量＝１７ｍｌ／ｍ2、塗布幅：１３００ｍｍ、有効幅：１２８０ｍｍとした。
【０１７７】
（２）低屈折率層の塗設
上記光散乱層用塗布液Ａ，Ｂ，Ｃを塗布して光散乱層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、前記低屈折率層用塗布液Ａを下記の基本条件Ｂで塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取った。
基本条件Ｂ：スロットダイ１３は、上流側リップランド長ＩUPが０．５ｍｍ、下流側リップランド長ＩLOが５０μｍで，スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランド１８ａとウェブＷの隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧLを５０μｍに設定した。また、減圧チャンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブＷとの隙間ＧS、及びバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧBはともに２００μｍとした。また、塗布速度＝４０ｍ／分、ウエット塗布量＝５ｍｌ／ｍ2で塗布を行った。なお、塗布幅：１３００ｍｍ、有効幅：１２８０ｍｍとした。
【０１７８】
（３）反射防止フィルムの鹸化処理
製膜後、前記試料について、以下の処理を行った。
１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した反射防止フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを作製した。これらを実施例１−３、実施例１−４、比較例１−２とする。
【０１７９】
（４）光散乱性フィルムの評価
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１８０】
（ｉ）平均反射率
フィルムの裏面を祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの鏡面反射率の算術平均値を用いた。
【０１８１】
（ii）光散乱性バラツキ
１３４０ｍｍ幅フィルムの長手方向に５００ｍｍを切り取り、透過モードで光散乱性の幅方向のバラツキを目視面検し、以下の基準で評価した。
バラツキが極めて小さく、目視ではムラが判らない：      ◎
バラツキが小さく、目視で殆どムラが判らない：          ○
ややバラツキが大きく、目視でムラが判る：              △
バラツキが大きく、一目でムラが判る：                  ×
【０１８２】
表１の記載の通り、実施例１−３（光散乱層用塗布液Ａ、低屈折率層用塗布液Ａを塗布した反射防止フィルム）、実施例１−４（光散乱層用塗布液Ｂ、低屈折率層用塗布液Ａを塗布した反射防止フィルム）において、低屈折率層用塗布液ＡをＢ〜Ｅに変える以外は、実施例１−３、実施例１−４と同様にして作製、評価を行った。これらを実施例１−５〜実施例１−１２とする。結果を表１に示す。
また、光散乱層用塗布液を６時間連続で送液した後に、ダイコーター内部のポケットや送液系（マニホールド等）内での透光性微粒子の沈降物の有無を確認した結果を表１に示す。
【０１８３】
【表１】
2006154791.tif 000025
【０１８４】
※ＣＡＢ：セルロースアセテートブチレート、ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレート
【０１８５】
表１に示された結果より、以下のことが明らかである。
本発明の光散乱フィルムの製造方法は、光散乱層用塗布組成物中に分子量１０００以上の透光性ポリマーを塗布組成物に対して０．１質量％以上含有することによって、ダイコート法で塗布する際に問題となるポケット内等への透光性微粒子の沈降がなく、得られたフィルムは広幅サンプル面内での光散乱性の均一性に優れる。また、本発明のダイコート法は、特に２０ｃｃ／ｃｍ2以下のウエット塗布量での高速塗布適性に優れた構成であるため、生産性が高い。
【０１８６】
実施例１−１〜１−１２において、低屈折率層塗布液に使用しているオルガノシランのゾル液ａの代わりにゾル液ｂを使用したところ、塗布液の経時安定性が良くなり、連続塗布に対する適性が高くなった。
また低屈折率層塗布液Ｃ、Ｄにジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１０ｇを添加して、同様に塗布したところ、耐擦傷性が著しく向上した。
【０１８７】
［実施例２］
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）と、実施例１で作製した光散乱フィルム（実施例１−１、実施例１−２）および反射防止フィルム（鹸化処理済み：実施例１−３〜実施例１−１２）とを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護して偏光板を作製した。これらの偏光板を用いて光散乱層または反射防止層を最表層に配置した透過型ＴＮ液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために視認性に優れ、特に反射防止フィルムを用いたものは外光の反射光量が低減するためにコントラストが向上し、より優れた視認性を有していた。
【０１８８】
［実施例３］
実施例２の透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムとして、視野角拡大フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ  １２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）を用いたところ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
また、自動変角光度計ＧＰ−５型（（株）村上色彩技術研究所製）を用いて、入射光に対してフィルムを垂直に配置し、全方位に渡って散乱光プロファイルを測定した。このプロファイルより、出射角０°に対する３０°の散乱光強度を求めた。実施例１−２、１−４、１−９〜１−１２（光散乱層用塗布液Ｃを用いた試料）は、出射角０°に対する３０°の散乱光強度が０．０６％であり、この光拡散性により、特に下方向の視野角アップ、左右方向の黄色味が改善され、非常に良好な液晶表示装置であった。
また、実施例２の透過型ＴＮ液晶セルに１１０ｐｐｉの高精細セルを用いた所、特に実施例１−１、１−３、１−５〜１−８の試料を用いたものは防眩層のレンズ効果による各画素の不均一な拡大／縮小に起因する所謂ギラツキの発生が殆ど確認できないほど、高精細適性の高いものであった。
【０１８９】
［実施例４］
（ゾル液ｃの調製）
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた１，０００ｍｌの反応容器に、アクリロキシオキシプロピルトリメトキシシラン１８７ｇ（０．８０ｍｏｌ）、メチルトリメトキシシラン２７．２ｇ（０．２０ｍｏｌ）、メタノール３２０ｇ（１０ｍｏｌ）とＫＦ０．０６ｇ（０．００１ｍｏｌ）を仕込み、攪拌下室温で水１５．１ｇ（０．８６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で３時間攪拌した後、メタノール還溜下２時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液ｃを１２０ｇ得た。このようにして得た物質をＧＰＣ測定した結果、質量平均分子量は１５００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は３０％であった。
また１Ｈ−ＮＭＲの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の一般式で表される構造であった。
【０１９０】
【化２３】
2006154791.tif 000026
【０１９１】
式中、８０：２０はモル比
【０１９２】
更に、２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定による縮合率αは０．５６であった。この分析結果から、本シランカップリング剤ゾルは直鎖状構造部分が大部分であることが分かった。
また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは５％以下の残存率であった。
【０１９３】
（光散乱層用塗布液Ｄの調製）
光散乱層用塗布液Ｂにおけるシランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を上記ゾル液ｃに同量置き換えて添加した以外は同様にして光散乱層用塗布液Ｄを調製した。光散乱層用塗布液Ｄの２５℃における粘度は９．５ｍＰａ・ｓであった。
【０１９４】
（反射防止フィルムの作製）
実施例１−４、１−９〜１−１２の反射防止フィルムの作製方法において、光散乱層用塗布液Ｂの代わりに光散乱層用塗布液Ｄに置き換えた以外は同様にして反射防止フィルム４−１（低屈折率層Ａ）、４−２（低屈折率層Ｂ）、４−３（低屈折率層Ｃ）、４−４（低屈折率層Ｄ）、４−５（低屈折率層Ｅ）を作製した。
【０１９５】
（評価結果）
反射防止フィルム４−１〜４−５について、実施例１−１と同様に光散乱性バラツキを評価したところ、評価◎で、良好であった。
また、光散乱層用塗布液Ｄを６時間連続で送液した後に、ダイコーター内部のポケットや送液系（マニホールド等）内での透光性微粒子の沈降物もなかった。
【０１９６】
［実施例５］
（光散乱層用塗布液Ｅの調製）
光散乱層用塗布液ＡにおけるＣＡＢ−５３１−１（セルロースアセテートブチレート、重量平均分子量２６０，０００、イーストマンケミカル（株）製）をポリ酢酸ビニル（重量平均分子量５００，０００、アルドリッチ（株）製）に同量置き換えて添加した以外は同様にして光散乱層用塗布液Ｅを調製した。光散乱層用塗布液Ｅの２５℃における粘度は９．０ｍＰａ・ｓであった。
【０１９７】
（光散乱性フィルムの作製）
実施例１−２の光散乱性フィルムの作製方法において、光散乱層用塗布液Ｂの代わりに光散乱層用塗布液Ｅに置き換えた以外は同様にして光散乱性フィルム５−１（低屈折率層なし）を作製した。
【０１９８】
（評価結果）
光散乱性フィルム５−１について、実施例１−１と同様に光散乱性バラツキを評価したところ、評価◎で、良好であった。
また、光散乱層用塗布液Ｅを６時間連続で送液した後に、ダイコーター内部のポケットや送液系（マニホールド等）内での透光性微粒子の沈降物もなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１９９】
【図１】本発明の防眩性を有する光散乱性フィルムの好ましい一実施形態（反射防止フィルムの層構成）を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明を実施したスロットダイ１３を用いたコーター１０の断面図である。
【図３】（Ａ）は本発明のスロットダイ１３の断面形状を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０の断面形状を示す。
【図４】本発明を実施した塗布工程のスロットダイ１３及びその周辺を示す斜視図である。
【図５】近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図である。
【図６】近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図である。
【符号の説明】
【０２００】
ＧL  先端リップ１７とウェブＷの隙間（下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間）
ＧB  バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間
ＧS  サイドプレート４０ｂとウェブＷの間の隙間
ＩUP  上流側リップランド１８ａのランド長さ
ＩLO  下流側リップランド１８ｂのランド長さ
ＬＯ  オーバーバイト長さ（下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差）
Ｗ   ウェブ
１   光散乱性フィルム（反射防止フィルム）
２   透明支持体
３   光散乱層
４   低屈折率層
５   透光性微粒子
１０   コーター
１１   バックアップロール
１３   スロットダイ
１４   塗布液
１４ａ  ビード
１４ｂ  塗膜
１５    ポケット
１６    スロット
１７    先端リップ
１８    ランド
１８ａ  上流側リップランド
１８ｂ  下流側リップランド
３０    従来のスロットダイ
３１ａ  上流側リップランド
３１ｂ  下流側リップランド
３２    ポケット
３３    スロット
４０    減圧チャンバー
４０ａ  バックプレート
４０ｂ  サイドプレート
４０ｃ  ネジ
【図１】
2006154791.tif 000027
【図２】
2006154791.tif 000028
【図３】
2006154791.tif 000029
【図４】
2006154791.tif 000030
【図５】
2006154791.tif 000031
【図６】
2006154791.tif 000032