(57)【要約】【課題】描画データを効率的に送受信して所望の二次元画像を迅速に描画することができる描画処理装置及び方法を提供する。【解決手段】ＲＩＰ８の差分データ算出部において、先に画像処理部７０に送信した第１描画データと、次に送信する第２描画データとの差分データを算出し、この差分データを符号化して画像処理部７０に送信する。画像処理部７０では、復号された第１描画データと送信された差分データとを用いて、第２描画データを復元する。【選択図】図１
2006337576.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画データを供給する描画データ供給部と、前記描画データ供給部から送信された前記描画データに対して所定の画像処理を行う画像処理部と、前記画像処理部から送信された前記描画データに基づき、記録媒体に二次元画像を描画する描画部とを備える描画処理装置において、
前記描画データ供給部は、前記画像処理部に送信される第１描画データ及び第２描画データの差分データを算出する差分データ算出部を有し、
前記画像処理部は、前記描画データ供給部から送信された前記第１描画データ及び前記差分データを用いて、前記第２描画データを復元するデータ復元部を有することを特徴とする描画処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置において、
前記差分データが最小となる前記第１描画データ及び前記第２描画データを選択する描画データ選択部を有し、
前記描画データ供給部は、前記第１描画データ及び前記差分データを前記画像処理部に送信し、前記描画部は、前記第１描画データ及び前記第２描画データに基づく前記二次元画像を連続的に描画することを特徴とする描画処理装置。
【請求項３】
請求項１記載の装置において、
前記画像処理部は、前記第１描画データ及び前記前記第２描画データを記憶するメモリを有することを特徴とする描画処理装置。
【請求項４】
請求項１記載の装置において、
前記描画データ供給部は、前記第１描画データ及び前記差分データを符号化データに変換して前記画像処理部に送信する符号化処理部を有することを特徴とする描画処理装置。
【請求項５】
請求項１記載の装置において、
前記描画部は、複数の前記描画データに従って駆動され、前記記録媒体に複数の描画点を形成する複数の描画素子を有することを特徴とする描画処理装置。
【請求項６】
描画データを描画データ供給部から画像処理部に送信し、送信された前記描画データに対して所定の画像処理を行った後、前記画像処理部から描画部に送信された前記描画データに基づき、記録媒体に二次元画像を描画する描画処理方法において、
第１描画データ及び第２描画データの差分データを算出するステップと、
前記第１描画データ及び前記差分データを前記描画データ供給部から前記画像処理部に送信するステップと、
前記第１描画データ及び前記差分データから前記第２描画データを復元するステップと、
からなり、前記第１描画データ及び復元された前記第２描画データに基づいて前記記録媒体に前記二次元画像を描画することを特徴とする描画処理方法。
【請求項７】
請求項６記載の方法において、
前記差分データが最小となる前記第１描画データ及び前記第２描画データを選択して前記差分データを算出することを特徴とする描画処理方法。
【請求項８】
請求項６記載の方法において、
前記第１描画データ及び前記差分データを符号化データに変換して前記画像処理部に送信することを特徴とする描画処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画データに基づき、記録媒体に対して二次元画像を描画する描画処理装置及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、描画データに基づき、所望の二次元画像を描画面上に形成する描画処理装置が種々知られている。
【０００３】
このような描画処理装置として、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）等の空間光変調素子を利用し、描画データに応じて光ビームを変調して露光を行う装置が提案されている（特許文献１、２参照）。ここで、ＤＭＤは、シリコン等の半導体基板上のメモリセル（ＳＲＡＭアレイ）に微小なマイクロミラーを二次元状に多数配置して構成したものであり、メモリセルに蓄積される電荷による静電気力を描画データに従って制御することにより、マイクロミラーを傾斜させて反射面の角度を変化させ、この反射面の角度変化により所望の位置に描画点を形成して画像を形成することができる。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−５０４６９号公報
【特許文献２】特開２００３−５７８３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このような描画処理装置では、描画データをラスタデータに変換して画像処理部に送信した後、画像処理部においてラスタデータに所望の画像処理を施し、次いで、そのラスタデータを多数のマイクロミラーからなる空間光変調素子を備えた描画部に送信して描画処理が行われる。
【０００６】
この場合、描画面積が大きいか、あるいは、描画密度が高いと、描画データの量も多くなるため、画像処理部に対してラスタデータを送信する処理に長時間を要してしまう。
【０００７】
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、描画データを効率的に送受信して所望の二次元画像を迅速に描画することができる描画処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の課題を解決するため、本発明は、描画データを供給する描画データ供給部と、前記描画データ供給部から送信された前記描画データに対して所定の画像処理を行う画像処理部と、前記画像処理部から送信された前記描画データに基づき、記録媒体に二次元画像を描画する描画部とを備える描画処理装置において、
前記描画データ供給部は、前記画像処理部に送信される第１描画データ及び第２描画データの差分データを算出する差分データ算出部を有し、
前記画像処理部は、前記描画データ供給部から送信された前記第１描画データ及び前記差分データを用いて、前記第２描画データを復元するデータ復元部を有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明は、描画データを描画データ供給部から画像処理部に送信し、送信された前記描画データに対して所定の画像処理を行った後、前記画像処理部から描画部に送信された前記描画データに基づき、記録媒体に二次元画像を描画する描画処理方法において、
第１描画データ及び第２描画データの差分データを算出するステップと、
前記第１描画データ及び前記差分データを前記描画データ供給部から前記画像処理部に送信するステップと、
前記第１描画データ及び前記差分データから前記第２描画データを復元するステップと、
からなり、前記第１描画データ及び復元された前記第２描画データに基づいて前記記録媒体に前記二次元画像を描画することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の描画処理装置及び方法では、描画データ供給部から画像処理部に複数組の描画データを送信する際、第１描画データを送信するとともに、第１描画データと第２描画データの差分データとを送信し、画像処理部において、第１描画データと差分データとから第２描画データを復元することにより、描画データ供給部から画像処理部へのデータ送信量を必要最小限にすることができる。この結果、描画データを効率的に送受信して所望の二次元画像を迅速に描画することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１は、本発明の描画処理装置及び方法が適用される実施形態である露光記録システム４を示す。
【００１２】
露光記録システム４は、描画データを作成し、ベクトルデータとして出力するＣＡＤ装置６と、ＣＡＤ装置６から送信されたベクトルデータをラスタイメージデータであるビットマップデータに変換し、複数組の描画データとして描画データメモリ３に記憶した後、差分データ算出部５で描画データ同士の差分データを算出し、符号化処理部７で描画データ又は差分データをランレングス符号化処理し、圧縮されたランレングスデータとして出力するラスタイメージプロセッサ（ＲＩＰ）８（描画データ供給部）と、ＲＩＰ８から送信されたランレングスデータに対してアラインメント処理を含む画像処理を施した後、ランレングスデータをビットマップデータに展開し、このビットマップデータに基づき、記録媒体に二次元画像を露光記録する露光記録装置１０と、ＣＡＤ装置６、ＲＩＰ８及び露光記録装置１０の管理制御を行うシステム管理サーバ１１（描画データ選択部）とから基本的に構成される。
【００１３】
ここで、露光記録装置１０は、ビットマップデータに基づいて積層プリント配線基板等の露光処理を行う装置であり、図２に示すように構成される。
【００１４】
すなわち、露光記録装置１０は、複数の脚部１２によって支持された変形の極めて小さい定盤１４を備え、この定盤１４上には、２本のガイドレール１６を介して露光ステージ１８が矢印Ｙ方向に往復移動可能に設置される。露光ステージ１８には、感光材料が塗布された矩形状の基板Ｆが吸着保持される。
【００１５】
定盤１４の中央部には、ガイドレール１６を跨ぐようにして門型のコラム２０が設置される。このコラム２０の一方の側部には、基板Ｆの所定位置に形成されたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを含む画像を撮像するＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂが固定され、コラム２０の他方の側部には、基板Ｆに対して画像を露光記録する複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊが位置決め保持されたスキャナ２６が固定される。ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂには、ロッドレンズ６２ａ、６２ｂを介してストロボ６４ａ、６４ｂが装着される。ストロボ６４ａ、６４ｂは、基板Ｆを感光することのない赤外光からなる照明光をＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂの撮像域に照射する。
【００１６】
アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄは、露光ステージ１８に対する基板Ｆの装着位置のずれ、基板Ｆの変形等を検出するためのもので、画像が描画される基板Ｆと明確に区別することのできるスルーホール、あるいは、基板Ｆに露光記録されたマークからなり、露光ステージ１８によって搬送される基板Ｆの隅角部近傍に形成されている。なお、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄは、露光記録される画像に影響を与えることのない部位であれば、基板Ｆの隅角部近傍以外の部位に形成されていてもよい。また、基板Ｆの変形等に対する補正精度に応じた所望の数からなるマークを形成することもできる。
【００１７】
露光ヘッド２４ａ〜２４ｊは、基板Ｆの移動方向（矢印Ｙ方向）と直交する方向に２列で千鳥状に配列される。図３は、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの構成を示す。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊには、例えば、光源ユニット２８を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビームＬが合波され光ファイバ３０を介して導入される。レーザビームＬが導入された光ファイバ３０の出射端には、ロッドレンズ３２、反射ミラー３４及びデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が順に配列される。
【００１８】
ここで、ＤＭＤ３６は、図４に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）３８の上に格子状に配列された多数のマイクロミラー４０（描画素子）を揺動可能な状態で配置したものであり、各マイクロミラー４０の表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。ＳＲＡＭセル３８にＤＭＤコントローラ４２から描画データに従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号に応じて各マイクロミラー４０が所定方向に傾斜し、その傾斜状態に従ってレーザビームＬのオンオフ状態が実現される。
【００１９】
オンオフ状態が制御されたＤＭＤ３６によって反射されたレーザビームＬの射出方向には、拡大光学系である第１結像光学レンズ４４、４６、ＤＭＤ３６の各マイクロミラー４０に対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー４８、ズーム光学系である第２結像光学レンズ５０、５２が順に配列される。なお、マイクロレンズアレー４８の前後には、迷光を除去するとともに、レーザビームＬを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー５４、５６が配設される。
【００２０】
各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに組み込まれるＤＭＤ３６は、図５及び図６に示すように、高い解像度を実現すべく、基板Ｆの移動方向（矢印Ｙ方向）に対して所定角度傾斜した状態に設定される。すなわち、ＤＭＤ３６を基板Ｆの移動方向に対して傾斜させることにより、ＤＭＤ３６を構成するマイクロミラー４０の矢印Ｙ方向と直交する方向（矢印Ｘ方向）に対する間隔を狭くし、これによって、矢印Ｘ方向に記録される画像の解像度を高くすることができる。矢印Ｙ方向の解像度は、基板Ｆの移動速度によって調整することができる。なお、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊにより一度に露光される範囲である露光エリア５８ａ〜５８ｊは、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊ間の継ぎ目が生じることのないよう、矢印Ｘ方向に重畳するように設定される。
【００２１】
露光記録装置１０の制御回路は、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂを用いて取得したアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの位置データに基づき、ランレングスデータに対して所望の画像処理を行う画像処理部７０と、画像処理されたランレングスデータを解凍してビットマップデータに展開し、ＤＭＤ３６を駆動して基板Ｆに二次元画像を露光記録する露光部７２（描画部）とを備える。
【００２２】
画像処理部７０は、ＲＩＰ８から送信された描画データ又は差分データの復元化処理を行うとともに、復元された描画データに対する画像処理を行うＣＰＵ７４（データ復元部）を有する。ＣＰＵ７４には、ＲＩＰ８から送信された描画データ又は差分データであるランレングスデータを受信するインタフェース（Ｉ／Ｆ）７６と、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂによって撮像したアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを含む画像データを受信するインタフェース（Ｉ／Ｆ）７８と、受信したランレングスデータをハードディスクドライブ（ＨＤＤ）８０を介して記憶するハードディスク（ＨＤ）８２と、ランレングスデータ及びアラインメント情報をＨＤ８２から読み出して記憶するとともに、ＣＰＵ７４によって画像処理されたランレングスデータを記憶するメモリ８４と、画像処理されたランレングスデータを露光部７２に送信するインタフェース（Ｉ／Ｆ）８６とがバス８８を介して接続される。
【００２３】
なお、ＨＤ８２は、基板Ｆに記録される現在の二次元画像に係るランレングスデータからなる第１描画データと、第１描画データに続いて基板Ｆに記録される次の二次元画像に係るランレングスデータからなる第２描画データとを記憶するのに必要な容量を有しているものとする。
【００２４】
露光部７２は、画像処理部７０のＩ／Ｆ８６から送信されたランレングスデータを一旦記憶するバッファ９０と、バッファ９０に記憶されたランレングスデータを解凍してビットマップデータに展開した後、ＤＭＤ３６を構成する複数のマイクロミラー４０の配列に従ったフレームデータに変換する解凍変換処理部９２と、フレームデータを一時記憶するバッファ９４と、バッファ９４に記憶されたフレームデータに基づき、ＤＭＤ３６を構成するマイクロミラー４０を制御し、基板Ｆに二次元画像を露光記録するＤＭＤコントローラ４２とを備える。
【００２５】
本実施形態の露光記録システム４は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その動作及び作用効果について、図７及び図８に示すフローチャートに基づいて説明する。なお、図７は、ＣＡＤ装置６、ＲＩＰ８及び画像処理部７０間での処理に係るフローチャートであり、図８は、画像処理部７０及び露光部７２間での処理に係るフローチャートである。
【００２６】
先ず、ＣＡＤ装置６を用いて、基板Ｆに露光記録する二次元画像の全描画データを作成する（ステップＳ３１）。なお、露光記録システム４では、複数の基板Ｆに対して同一の描画データを用いて二次元画像であるプリント配線パターンを記録するとともに、異なる描画データを用いて各基板Ｆにプリント配線パターンを積層記録する処理が行われるものとする。従って、全描画データとは、異なる複数のプリント配線パターンを基板Ｆに記録するための全ての描画データである。
【００２７】
ＣＡＤ装置６で作成された全描画データは、ベクトルデータ形式でＲＩＰ８に送信され、描画データメモリ３に記憶される。ＲＩＰ８は、ベクトルデータをラスタイメージデータ形式の描画データに変換する（ステップＳ３２）。次いで、ＲＩＰ８は、基板Ｆに最初に記録するラスタイメージデータである描画データＲ（Ｋ）を符号化処理部７においてランレングス符号化処理し、圧縮されたランレングスデータ形式の描画データＲ（Ｋ）に変換する（ステップＳ３３）。この場合、ランレングスデータは、例えば、描画データを構成する０の画素が二次元画像のライン方向に連続する数と、描画データを構成する１の画素がライン方向に連続する数とを用いて表すことができる。
【００２８】
ＲＩＰ８で生成された最初のプリント配線パターンに係るランレングスデータ形式の描画データＲ（Ｋ）は、Ｉ／Ｆ７６を介して画像処理部７０に送信され（ステップＳ３４）、ＣＰＵ７４の制御に基づき、バス８８を介してＨＤＤ８０によりＨＤ８２に記憶される（ステップＳ３５）。この場合、描画データＲ（Ｋ）がランレングスデータ形式で圧縮されているため、画像処理部７０に対して大量のデータを迅速に送信することができる。なお、描画データＲ（Ｋ）が大量のデータからなる場合には、描画データＲ（Ｋ）を露光記録システム４を構成するハードウエアにより決まる所定のブロックデータに分割し、各ブロックデータを単位として送信処理を行うようにしてもよい。
【００２９】
次いで、ＲＩＰ８は、描画データＲ（Ｋ）の次に基板Ｆに記録する描画データＲ（Ｌ）を描画データメモリ３から選択する（ステップＳ３６）。なお、描画データＲ（Ｌ）の選択処理は、システム管理サーバ１１からの指示に基づいて行われる。この場合、基板Ｆに対する描画データの描画順序に制約がない場合、描画データＲ（Ｋ）に最も類似する描画データＲ（Ｌ）を選択することが望ましい。
【００３０】
ＲＩＰ８は、先に画像処理部７０に送信されている描画データＲ（Ｋ）と、次に送信される描画データＲ（Ｌ）との差である差分データΔＲを算出するか否かを判断する（ステップＳ３７）。差分データΔＲの算出の要否は、描画データＲ（Ｋ）と描画データＲ（Ｌ）との類似度によってオペレータが判断し、あるいは、予め設定した類似度に基づいて自動的に判断することができる。
【００３１】
差分データΔＲを算出する場合、ＲＩＰ８の差分データ算出部５は、描画データメモリ３からラスタイメージデータである描画データＲ（Ｋ）及び描画データＲ（Ｌ）を読み出し、差分データΔＲ＝Ｒ（Ｌ）−Ｒ（Ｋ）を算出する（ステップＳ３８）。
【００３２】
算出された差分データΔＲは、符号化処理部７において、ランレングスデータに符号化される（ステップＳ３９）。次いで、画像処理部７０及び露光部７２間でデータ送信中でなければ、差分データΔＲが画像処理部７０に送信され、送信中であれば、差分データΔＲの送信を待機状態とする（ステップＳ４０、Ｓ４１）。なお、ＲＩＰ８、画像処理部７０及び露光部７２間でのデータの送受信は、システム管理サーバ１１によって管理制御される。
【００３３】
ＲＩＰ８から画像処理部７０に差分データΔＲが送信されると、ＣＰＵ７４は、ランレングスデータからなる差分データΔＲをラスタイメージデータに復号するとともに（ステップＳ４２）、先に送信されてＨＤ８２に記憶されているランレングスデータからなる描画データＲ（Ｋ）をラスタイメージデータに復号する（ステップＳ４３）。
【００３４】
次いで、復号された差分データΔＲ及び描画データＲ（Ｋ）を用いて、描画データＲ（Ｌ）を、
Ｒ（Ｌ）＝描画データＲ（Ｋ）＋ΔＲ
として復元する（ステップＳ４４）。復元された描画データＲ（Ｌ）は、ランレングスデータに符号化された後（ステップＳ４５）、描画データＲ（Ｋ）とともにＨＤ８２に記憶される（ステップＳ４６）。
【００３５】
このように、描画データＲ（Ｌ）が描画データＲ（Ｋ）に類似する場合、少ないデータ量からなる差分データΔＲのみを画像処理部７０に高速で送信して描画データＲ（Ｌ）を復元することができる。
【００３６】
一方、ステップＳ３７において、描画データＲ（Ｋ）及び描画データＲ（Ｌ）の類似度が小さく、差分データΔＲを算出しないものと判断された場合には、描画データＲ（Ｌ）をランレングスデータに符号化し（ステップＳ４７）、画像処理部７０及び露光部７２間でデータ送信中でない期間に描画データＲ（Ｌ）を画像処理部７０に送信し（ステップＳ４８、Ｓ４９）、そのままＨＤ８２に記憶させる（ステップＳ４６）。
【００３７】
ステップＳ３６〜Ｓ４９までの処理は、全描画データの画像処理部７０への送信が終了するまで繰り返される（ステップＳ５０）。
【００３８】
画像処理部７０では、露光部７２において最初の基板Ｆ（Ｍ）に最初のプリント配線パターンの描画データＲ（Ｎ）を記録する場合、Ｎ＝１、Ｍ＝１とする（ステップＳ１１、Ｓ１２）。次いで、ＣＰＵ７４は、ＨＤ８２から描画データＲ（１）（＝Ｒ（Ｋ））を読み出し、バス８８を介してメモリ８４に描画データＲ（１）を記憶させる（ステップＳ１３）。
【００３９】
一方、露光記録装置１０は、露光ステージ１８に基板Ｆ（１）を吸着保持させた後（ステップＳ１４）、露光ステージ１８をスキャナ２６側に移動させ、基板Ｆ（１）に形成されたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを含む画像をＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂにより撮像する（ステップＳ１５）。撮像されたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを含む画像データは、Ｉ／Ｆ７８及びバス８８を介してメモリ８４に記憶される。
【００４０】
ＣＰＵ７４は、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの画像データから、露光ステージ１８に対する各アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの位置データを算出し、その位置データに基づき、露光ステージ１８に対する基板Ｆ（１）の装着位置ずれ、基板Ｆ（１）の変形等を調整するためのアラインメントデータを算出し、このアラインメントデータを用いて、メモリ８４に記憶されている描画データＲ（１）に対するアラインメント処理を行う（ステップＳ１６）。
【００４１】
アラインメント処理された描画データＲ（１）は、バス８８及びＩ／Ｆ８６を介して露光部７２に送信され（ステップＳ１７）、一旦バッファ９０に格納される。
【００４２】
露光部７２の解凍変換処理部９２は、バッファ９０に格納されたランレングスデータ形式の描画データＲ（１）を解凍してビットマップデータに展開する。次いで、解凍変換処理部９２は、このビットマップデータをＤＭＤ３６を構成する複数のマイクロミラー４０に設定したアドレス連続方向の配列からなるフレームデータに変換し、バッファ９４に格納する。
【００４３】
そして、露光記録装置１０は、露光ステージ１８をスキャナ２６側からＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂ側に移動させ、ＤＭＤコントローラ４２は、バッファ９４に記憶された描画データＲ（１）に係るフレームデータをＤＭＤ３６に供給し、基板Ｆ（１）に所望の画像を露光記録する（ステップＳ１８）。
【００４４】
すなわち、光源ユニット２８から出力されたレーザビームＬは、光ファイバ３０を介して各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに導入される。導入されたレーザビームＬは、ロッドレンズ３２から反射ミラー３４を介してＤＭＤ３６に入射する。
【００４５】
ＤＭＤコントローラ４２は、バッファ９４からフレームデータを読み出し、ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０をオンオフ制御する。ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０により所望の方向に選択的に反射されたレーザビームＬは、第１結像光学レンズ４４、４６によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー５４、マイクロレンズアレー４８及びマイクロアパーチャアレー５６を介して所定の径に調整され、次いで、第２結像光学レンズ５０、５２により所定の倍率に調整されて基板Ｆ（１）に導かれる。露光ステージ１８は、定盤１４に沿って移動し、基板Ｆ（１）には、露光ステージ１８の移動方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊにより所望の二次元画像が露光記録される。この場合、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを基準とする目標位置に所望の二次元画像が露光記録される。
【００４６】
基板Ｆ（１）に対する描画データＲ（１）による露光記録が終了すると（ステップＳ１９）、基板Ｆ（１）を露光ステージ１８から取り外し（ステップＳ２０）、次の基板Ｆ（Ｍ）がある場合（ステップＳ２１）、Ｍ＝Ｍ＋１とし（ステップＳ２２）、ステップＳ１４〜Ｓ２１の処理を繰り返す。なお、二次元画像が露光記録された基板Ｆ（１）には、現像処理、エッチング処理を経て、所望のプリント配線パターンが形成される。
【００４７】
全ての基板Ｆ（Ｍ）に対して描画データＲ（１）に基づく二次元画像が露光記録された後（ステップＳ２１）、次の描画データＲ（Ｎ）がある場合（ステップＳ２３）、Ｎ＝Ｎ＋１とし（ステップＳ２４）、ステップＳ１２〜Ｓ２３の処理を繰り返す。この場合、描画データＲ（Ｎ）によるプリント配線パターンが記録された基板Ｆ（Ｍ）に対して描画データＲ（Ｎ＋１）（＝Ｒ（Ｌ））が重ねて露光記録される。
【００４８】
なお、描画データＲ（Ｎ）が大量のデータからなる場合、描画データＲ（Ｎ）を露光記録システム４を構成するハードウエアにより決まる所定のブロックデータに分割し、各ブロックデータを単位としてステップＳ１７〜Ｓ１９の処理を繰り返すようにしてもよい。
【００４９】
ここで、ＲＩＰ８から画像処理部７０への差分データΔＲ又は描画データＲ（Ｌ）の送信処理（ステップＳ４１、Ｓ４９）と、画像処理部７０から露光部７２への描画データＲ（Ｎ）の送信処理（ステップＳ１７）とにつき、図９及び図１０を用いて説明する。なお、図９及び図１０において、処理が中断されているブロック間の部分を点線で示し、処理が継続されているブロック間の部分を実線で示している。
【００５０】
先ず、図９に示すように、画像処理部７０から露光部７２へ描画データＲ（Ｎ）を送信して露光記録を行う場合、画像処理部７０のＣＰＵ７４は、メモリ８４に記憶された描画データＲ（Ｎ）に対するアラインメント処理を行い、処理された描画データＲ（Ｎ）をバス８８及びＩ／Ｆ８６を介して露光部７２に送信する。このとき、ＣＰＵ７４は、バス８８を占有してメモリ８４及びバス８８に対する処理に専念し、ＨＤ８２に対する制御を中断する。従って、システム管理サーバ１１は、ＲＩＰ８から画像処理部７０への差分データΔＲ又は描画データＲ（Ｌ）の送信処理を行わない（ステップＳ４０、Ｓ４８）。露光部７２に送信された描画データＲ（Ｎ）は、解凍変換処理部９２によって処理され、ＤＭＤコントローラ４２を介してＤＭＤ３６を駆動することで、基板Ｆ（Ｍ）に対する露光記録が行われる。この間、システム管理サーバ１１は、露光記録に並行して、描画データＲ（Ｎ）を画像処理部７０から露光部７２に順次送信する。
【００５１】
一方、露光記録装置１０では、基板Ｆ（Ｍ）を露光ステージ１８にロードしている間（ステップＳ１４）、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂを用いて基板Ｆ（Ｍ）のアラインメント測定処理を行っている間（ステップＳ１５）、基板Ｆ（Ｍ）を露光ステージ１８からアンロードしている間（ステップＳ２０）は、画像処理部７０から露光部７２に描画データＲ（Ｎ）を送信して露光処理を行うことができないため、画像処理部７０のバス８８が空いた状態となっている。
【００５２】
そこで、システム管理サーバ１１は、ＲＩＰ８及び画像処理部７０を制御し、図１０に示すように、次の露光処理に必要な差分データΔＲ又は描画データＲ（Ｌ）をＲＩＰ８から画像処理部７０のＩ／Ｆ７６及びバス８８を介して送信し、ＨＤ８２に記憶させる。また、ＨＤ８２に記憶された描画データＲ（Ｌ）は、バス８８を介してメモリ８４に記憶させ、次の露光記録のための準備をさせることができる。
【００５３】
この場合、露光記録システム４では、複数の基板Ｆ（Ｍ）のロード、アンロードを繰り返して描画データＲ（Ｎ）を露光記録した後、複数の基板Ｆ（Ｍ）のロード、アンロードを再度繰り返して次の描画データＲ（Ｎ＋１）を露光記録している。従って、描画データＲ（Ｎ）による露光記録を行う際の基板Ｆ（Ｍ）のロード、アラインメント計測処理、アンロードの各時間を利用して、次の描画データＲ（Ｎ＋１）を画像処理部７０に送信しておくことができる。この結果、基板Ｆ（Ｍ）に対する描画データＲ（Ｎ）の露光記録が終了した後、次の描画データＲ（Ｎ＋１）による露光記録を速やかに開始することができる。
【００５４】
なお、上述した露光記録装置１０は、例えば、多層プリント配線基板（ＰＷＢ：Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｗｉｒｉｎｇ  Ｂｏａｒｄ）の製造工程におけるドライ・フィルム・レジスト（ＤＦＲ：Ｄｒｙ  Ｆｉｌｍ  Ｒｅｓｉｓｔ）の露光、液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造工程におけるカラーフィルタの形成、ＴＦＴの製造工程におけるＤＦＲの露光、プラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）の製造工程におけるＤＦＲの露光等の用途に好適に用いることができる。また、本発明は、インクジェット記録ヘッドを備えた描画装置にも同様して適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本実施形態の露光記録システムのブロック図である。
【図２】本実施形態の露光記録装置の構成図である。
【図３】本実施形態の露光記録装置における露光ヘッドの概略構成図である。
【図４】本実施形態の露光ヘッドを構成するＤＭＤの説明図である。
【図５】本実施形態の露光記録装置における露光ヘッドと、露光ステージに位置決めされた基板との関係説明図である。
【図６】本実施形態の露光記録装置における露光ヘッドと、基板上の露光エリアとの関係説明図である。
【図７】本実施形態の露光記録システムを構成するＣＡＤ装置、ＲＩＰ及び画像処理部間での処理のフローチャートである。
【図８】本実施形態の露光記録システムを構成する画像処理部及び露光部間での処理のフローチャートである。
【図９】本実施形態の露光記録システムを構成するＲＩＰ及び露光記録装置における処理の説明図である。
【図１０】本実施形態の露光記録システムを構成するＲＩＰ及び露光記録装置における処理の説明図である。
【符号の説明】
【００５６】
３…描画データメモリ                ４…露光記録システム
５…差分データ算出部                ６…ＣＡＤ装置
７…符号化処理部                    ８…ＲＩＰ
１０…露光記録装置                  １１…システム管理サーバ
１８…露光ステージ                  ２４ａ〜２４ｊ…露光ヘッド
３６…ＤＭＤ                        ７０…画像処理部
７２…露光部                        ７４…ＣＰＵ
８２…ＨＤ                          ８４…メモリ
９２…解凍変換処理部                Ｆ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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