(57)【要約】【課題】  界面活性剤として化学産業の分野で広く用いることのできる新規なホスホリルコリン基含有シロキサン化合物及び、その製造方法を提供すること。【解決手段】  式（１）【化１】2006199749.tif 000027（式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はホスホリルコリン基を有する特定の基であり、ｎは０〜１００の整数である。Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方はホスホリルコリン基を有する特定の基である。）で示されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
【化１】
2006199749.tif 000022
［式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又は式（２）
【化２】
2006199749.tif 000023
（式中、ｍは１〜１０の整数である。）で示される基であり、ｎは０〜１００の整数である。Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方は式（２）で示される基である。］で示されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物。
【請求項２】
式（３）
【化３】
2006199749.tif 000024
［式中、Ｒ3、Ｒ4は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又は−ＣＨ2（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ（ここで、ｍは１〜１０の整数である。）で示される基であり、ｎは０〜１００の整数である。Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方は−ＣＨ2（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨで示される基である。］で示される水酸基を有するシロキサン化合物に、２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホランを非プロトン性溶媒中、塩化水素トラップ剤存在下で反応させることにより、式（４）
【化４】
2006199749.tif 000025
［式中、Ｒ5、Ｒ6は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又は式（５）
【化５】
2006199749.tif 000026
（式中、ｍは１〜１０の整数である。）で示される基であり、ｎは０〜１００の整数である。Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方は式（５）で示される基である。］で示されるジオキサホスホランリン酸エステル基含有シロキサン化合物を得た後、トリメチルアミンにより開環付加反応することを特徴とする請求項１に記載のホスホリルコリン基含有シロキサン化合物の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載のホスホリルコリン基含有シロキサン化合物からなる界面活性剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、界面活性剤、乳化剤として化学産業の分野で広く用いることのできるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物、その製造方法、及びホスホリルコリン基含有シロキサン化合物の用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、界面活性を示す化合物として、カチオン系、アニオン系、ノニオン系あるいは両性イオン系と分類される種々の化合物が提案され、その洗浄力、分散力、可溶化力、湿潤力、殺菌力、気泡力あるいは浸透力を利用して、多様な目的に合わせて広い方面で実用化されている。
【０００３】
中でも、ホスホリルコリン基を有する合成界面活性剤が、これまでに知られている界面活性剤の効果に加えて、リン脂質類似の生体適合性を有すると推察されることから、近年特に注目を集めてきている。例えば、ホスホリルコリン基を有するアルキル化合物として、分岐アルキル化合物（特許文献１）及びパーフルオロアルキル化合物（特許文献２）が知られている。しかし、従来のアルキルホスホリルコリン化合物は、表面張力低下能が十分ではなく、また、パーフルオロアルキルホスホリルコリン化合物についても、シャンプーやリンスなどの毛髪洗浄剤や、化粧品などの乳化剤などに使用するためには、使用感及び乳化能が不十分であった。
【０００４】
他方で、ホスホリルコリン基をシロキサンポリマーの主鎖に有するポリマーについても報告されている（特許文献３、特許文献４）。しかし、これらのホスホリルコリン基をポリマー主鎖に有するシロキサン化合物の機能については未知数な部分が多く、化粧品などの生活化学産業における新規市場開発を進める上で、乳化能に優れた新たな構造のホスホリルコリン基含有シロキサン化合物の開発が求められていた。
【０００５】
これに対し、ホスホリルコリン基をシロキサンポリマーの分子末端に有するホスホリルコリン基含有シロキサン化合物については、従来知られていなかった。
【０００６】
【特許文献１】特開昭６２−１２６１９２号公報（第２頁）
【特許文献２】特開２０００−３５５５９４号公報（第２頁）
【特許文献３】特開昭６３−２７７２４６号公報（第２頁）
【特許文献４】特開２００４−１７５８３０号公報（第２頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、化粧品の使用感や乳化能を改善するため化粧品原料などに用いられる、ホスホリルコリン基含有シロキサン化合物と、その製造方法及び、ホスホリルコリン基含有シロキサン化合物からなる界面活性剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、生体適合性を持つホスホリルコリン基を分子内に有する新規なシロキサン化合物を着想し、本発明を完成させるに至った。
【０００９】
即ち、本発明は次の［１］〜［３］である。
［１］、式（１）
【００１０】
【化６】
2006199749.tif 000002
【００１１】
［式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又は式（２）
【００１２】
【化７】
2006199749.tif 000003
【００１３】
（式中、ｍは１〜１０の整数である。）で示される基であり、ｎは０〜１００の整数である。Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方は式（２）で示される基である。］で示されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物。
【００１４】
［２］、式（３）
【００１５】
【化８】
2006199749.tif 000004
【００１６】
［式中、Ｒ3、Ｒ4は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又は−ＣＨ2（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ（ここで、ｍは１〜１０の整数である。）で示される基であり、ｎは０〜１００の整数である。Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方は−ＣＨ2（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨで示される基である。］で示される水酸基を有するシロキサン化合物に、２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホランを非プロトン性溶媒中、塩化水素トラップ剤存在下で反応させることにより、式（４）
【００１７】
【化９】
2006199749.tif 000005
【００１８】
［式中、Ｒ5、Ｒ6は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又は式（５）
【００１９】
【化１０】
2006199749.tif 000006
【００２０】
（式中、ｍは１〜１０の整数である。）で示される基であり、ｎは０〜１００の整数である。Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方は式（５）で示される基である。］で示されるジオキサホスホランリン酸エステル基含有シロキサン化合物を得た後、トリメチルアミンにより開環付加反応することを特徴とする前記［１］項に記載のホスホリルコリン基含有シロキサン化合物の製造方法。
【００２１】
［３］、前記［１］項に記載のホスホリルコリン基含有シロキサン化合物からなる界面活性剤。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、新規な構造のホスホリルコリン基含有シロキサン化合物と、その製造方法が提供される。本発明のホスホリルコリン基含有シロキサン化合物は、天然リン脂質類似の構造を持ち、界面活性剤として有用である。本発明の製造方法により提供されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物は、高効率、高純度であり、優れた工業的価値を有している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明のホスホリルコリン基含有シロキサン化合物は式（１）
【００２４】
【化１１】
2006199749.tif 000007
【００２５】
で表される。
前記、式（１）中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又は式（２）
【００２６】
【化１２】
2006199749.tif 000008
【００２７】
で示される基であり、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方は式（２）で示される基であり、ｎは化合物の合成のし易さ、原料の入手性などの点から０〜１００の整数であればいずれでも良いが、好ましくは、５〜８０の整数であるのが良く、最も好ましくは８〜６０の整数である。
【００２８】
前記、式（１）における炭素数１〜１０の飽和炭化水素基としては、エチル基、プロピル基、Ｃ4Ｈ9で表される基などの基が挙げられ、好ましくは化合物の、合成のし易さの理由からＣ4Ｈ9で表される基である。前記、式（２）中、ｍは化合物の合成のし易さ、原料の入手性などの点から１〜１０の整数であればいずれでも良いが、好ましくは２〜５の整数であるのが良く、最も好ましくは２である。尚、前記、Ｒ1、Ｒ2は、合成の容易さの点からは、両方とも式（２）で示される基であるより、片方のみが式（２）で示される基であるのが好ましい。前記、式（１）のホスホリルコリン基含有シロキサン化合物の好ましい具体例としては、例えば下記式［ａ］〜［ｃ］のものが挙げられる。
【００２９】
【化１３】
2006199749.tif 000009
【００３０】
本発明の式（１）で示されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物の製造方法においては、式（３）
【００３１】
【化１４】
2006199749.tif 000010
【００３２】
で示される水酸基を有するシロキサン化合物に、式（６）
【００３３】
【化１５】
2006199749.tif 000011
【００３４】
で示される２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホランを非プロトン性溶媒中、塩化水素トラップ剤存在下で反応させることにより式（４）で示されるジオキサホスホランリン酸エステル基含有シロキサン化合物を得て、これにトリメチルアミンを開環付加反応させることにより式（１）で示されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物を得ることができる。
【００３５】
前記式（３）中、Ｒ3、Ｒ4は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又は−ＣＨ2（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ（ここで、ｍは化合物の合成のし易さ、原料の入手性などの点から１〜１０の整数であればいずれでも良いが、好ましくは２〜５の整数であるのが良く、最も好ましくは２である。）で示される基であり、ｎは化合物の合成のし易さ、原料の入手性などの点から０〜１００の整数であればいずれでも良いが、好ましくは、５〜８０の整数であるのが良く、最も好ましくは８〜６０の整数である。Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方は−ＣＨ2（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨで示される基である。
【００３６】
本発明の製造方法に用いられる、式（３）で示される水酸基を有するシロキサン化合物は、公知の合成方法を屈指することにより既知の原料から合成したものを用いてもよいが、市販品を用いることもできる。このような、水酸基を有するシロキサン化合物の好ましい具体例としては、下記式［Ａ］、［Ｂ］のものが挙げられる。
【００３７】
【化１６】
2006199749.tif 000012
【００３８】
本発明の製造方法に用いられる、前記式（６）で示される２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホランは、Ｒ．Ｓ．Ｅｄｍｕｎｄｓｏｎ．，Ｃｈｅｍ．Ｉｎｄ．，（Ｌｏｎｄｏｎ），１９６２，１８２８（１９６２）などで知られる既知の方法により合成したものを用いても良いが、市販品を用いることもできる。前記式（６）で示される２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホランの使用量は、前記式（３）で示される水酸基を有するシロキサン化合物に対してモル比で０．５〜２倍量であり、好ましくは１〜１．１倍量である。
【００３９】
本発明の製造方法に用いられる非プロトン性溶媒としては、一般に非プロトン性として知られる溶媒であれば特に限定されないが、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、塩化メチレン、アセトニトリル等が好ましく挙げられ、化合物の溶解性の点からはテトラヒドロフランが最も好ましく挙げられる。非プロトン性溶媒の使用量は、前記式（３）で示される水酸基を有するシロキサン化合物に対して重量比で１〜２０倍量であり、好ましくは４〜１０倍量である。
【００４０】
本発明の製造方法に用いられる塩化水素トラップ剤としては、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミン等が用いられ、より好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルアミンが用いられる。前記、塩化水素トラップ剤は、反応溶媒に溶解させ反応系中に存在させて用いられる。前記、塩化水素トラップ剤の使用量は、前記、式（６）で示される２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホランに対してモル比で１〜１０倍量であり、好ましくは１〜２倍量である。このとき塩化水素トラップ剤の使用量が、式（６）で示される２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホランに対してモル比で１倍量より少ないと、塩化水素を十分にトラップすることができず、またモル比で１０倍量より多くても、塩化水素のトラップについて、トラップ効率の向上が鈍化する。
【００４１】
本発明の製造方法における反応の温度は、通常−５０〜５０℃、好ましくは−３０〜３０℃、最も好ましくは−２０〜２０℃の範囲である。一方、反応の時間は、反応温度、濃度などの条件により異なるが、通常１〜１２時間程度が好ましい。
【００４２】
以上の反応により、式（４）で示されるジオキサホスホランリン酸エステルシロキサン化合物を得ることが出来る。前記、式（４）で示されるジオキサホスホランリン酸エステルシロキサン化合物は、そのまま未精製でも、あるいは蒸留、再結晶、再沈殿、カラム処理、イオン交換、ゲル濾過などの方法により単離・精製して本発明の製造方法に用いてもよい。尚、前記の反応においては、反応の副生成物として、有機塩基であるハロゲン化水素塩が反応系中に生じるが、これは濾過や抽出操作により除去してもよい。
【００４３】
前記、ジオキサホスホランリン酸エステル基含有シロキサン化合物は、式（４）
【００４４】
【化１７】
2006199749.tif 000013
【００４５】
で表される。
前記、式（４）中、Ｒ5、Ｒ6は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又は式（５）
【００４６】
【化１８】
2006199749.tif 000014
【００４７】
で示される基であり、Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、少なくともいずれか一方は式（５）で示される基である。式（４）中、ｎは化合物の合成のし易さ、原料の入手性などの点から０〜１００の整数であればいずれでも良いが、好ましくは、５〜８０の整数であるのが良く、最も好ましくは８〜６０の整数である。
【００４８】
前記、式（４）における炭素数１〜１０の飽和炭化水素基としては、エチル基、プロピル基、Ｃ4Ｈ9で表される基などの基が挙げられ、好ましくは化合物の、合成のし易さの理由からＣ4Ｈ9で表される基である。
前記、式（５）中、ｍは化合物の合成のし易さ、原料の入手性などの点から１〜１０の整数であればいずれでも良いが、好ましくは２〜５の整数であるのが良く、最も好ましくは２である。
前記、式（４）のジオキサホスホランリン酸エステル基含有シロキサン化合物の好ましい具体例としては、例えば下記式［ d ］〜［ f ］のものが挙げられる。
【００４９】
【化１９】
2006199749.tif 000015
【００５０】
本発明の製造方法において、式（４）のジオキサホスホランリン酸エステル基含有シロキサン化合物にトリメチルアミンを開環付加反応させるにあたっては、開環付加反応を非プロトン性溶媒中で行えばよいが、極性が高い溶媒を用いるのが開環付加反応に良い点からは、溶媒としてアセトニトリルが最も好ましい。開環付加反応における溶媒の使用量としては、ジオキサホスホランリン酸エステル基含有シロキサンに対して重量比で１〜２０倍量であり、好ましくは４〜１０倍量である。
【００５１】
本発明の製造方法に用いられるトリメチルアミンは、通常N，N−ジメチルメタンアミンとして知られており、一般に市販されているトリメチルアミンを好ましく使用することができる。前記、トリメチルアミンの使用量は、式（４）のジオキサホスホランリン酸エステル基含有シロキサンに対してモル比で１〜１０倍量であり、好ましくは２〜５倍量である。
【００５２】
本発明の製造方法において、開環付加反応の反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃、最も好ましくは６０〜８０℃の範囲である。一方、反応時間は、反応温度、トリメチルアミンの使用量などの条件により異なるが、通常１〜２４時間程度が好ましい。
【００５３】
以上、本発明の製造方法により、本発明の式（１）で示されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物を得ることができる。得られた式（１）で示されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物は、減圧乾燥、再沈殿、再結晶、カラム、イオン交換、ゲル濾過等の処理により単離精製した後に、固体状、粉末状、液状など種々の形状にして、界面活性剤、毛髪洗浄剤、乳化剤、繊維処理剤などに用いることができ、好ましくは界面活性剤として化粧品などに含有して使用することができる。
【実施例】
【００５４】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
【００５５】
［実施例１］
５００ｍＬ四つ口フラスコに下記平均組成式［Ｃ］
【００５６】
【化２０】
2006199749.tif 000016
【００５７】
を有するシロキサン化合物（チッソ株式会社、商品名：「ＦＭ−０４１１」）５０ｇ（０．０５モル）、トリエチルアミン５．０６ｇ（０．０５モル）及びテトラヒドロフラン２００ｍＬを加えて撹拌しながら０℃に冷却した。２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラン７．１４ｇ（０．０５モル）をテトラヒドロフラン３０ｍＬに溶解し、得られた溶液を前記フラスコに滴下ロートを用いて滴下した。滴下終了後、反応混合物を昇温して室温で２時間反応を継続させた。副生成物として析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾別した。さらにジエチルエーテル２００ｍＬを加えて冷却し、溶液内の溶存アミン塩酸塩を析出させた。この後、減圧濾過、エバポレートを繰り返して下記平均組成式［Ｄ］
【００５８】
【化２１】
2006199749.tif 000017
【００５９】
で表されるジオキサホスホランリン酸エステルシロキサン化合物５３．４ｇを得た。収率は９３．５％であった。分析値を以下に示す。
【００６０】
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯD）：０．０７９（ｓ、７２Ｈ、−ＳiＣＨ3）、０．５５（ｍ、４Ｈ、−ＳiＣＨ2−）、０．８９（ｔ、３Ｈ、−ＣＨ3）、１．３０（ｍ、４Ｈ、−ＣＨ2−）、３．５２（ｂ、４Ｈ, −ＣＨ2ＯＣＨ2−）、３．８０−４．６８（ｍ, ４Ｈ,−ＣＨ2ＯＰ）
31Ｐ  ＮＭＲ（ＣＤ3ＯD、外部標準Ｈ3ＰＯ4）：１９．６（ｍ）
IＲ（ＫＢｒ）：２９２４、２８５４、１４６８ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ）、１２６０ｃｍ-1（Ｓi−ＣＨ3）、１２３０ｃｍ-1（Ｐ＝Ｏ）、１０８９ｃｍ-1（Ｃ−Ｏ−Ｐ）、１０６０ｃｍ-1（Ｓi−Ｏ−Ｓi）
【００６１】
このようにして得られた平均組成式［Ｄ］で表されるジオキサホスホランリン酸エステルシロキサン化合物５３．４ｇにアセトニトリル２００ｍＬを投入して溶解した後、この溶液を耐圧びんに移し替え、トリメチルアミン１１．８ｇ（０．２モル）を加えて密栓し、７０℃で一晩反応させ、反応を終了させた。過剰のトリメチルアミンを留去後、上澄みの溶媒をデカンテーションで除去後、アセトンを投入し洗浄し、分液ロートで分離した。生成物液をエバポレーターに移し、溶媒を留去した後、さらに真空乾燥して目的とする生成物を得た。収率は５１．４％であった。
【００６２】
得られた生成物の核磁気共鳴スペクトル及び赤外吸収スペクトルを測定し、解析した結果、目的とする下記平均組成式［Ｅ］
【００６３】
【化２２】
2006199749.tif 000018
【００６４】
で表されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物が得られたことが判った。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯD）：０．０７９（ｓ、７２Ｈ、−ＳiＣＨ3）、０．５５（ｍ、４Ｈ、−ＳiＣＨ2−）、０．８９（ｔ、３Ｈ、−ＣＨ3）、１．３０（ｍ、４Ｈ、−ＣＨ2−）、３．１２（ｓ、９Ｈ、−Ｎ+（ＣＨ3）3）、３．３６（ｔ、２Ｈ、−ＣＨ2Ｎ+）、３．５２（ｂ、４Ｈ, −ＣＨ2ＯＣＨ2−）、３．８９（ｔ, ２Ｈ,−ＣＨ2ＯＰ）、４．１８（ｂ, ２Ｈ, −ＰＯＣＨ2）
31Ｐ  ＮＭＲ（ＣＤ3ＯD、外部標準Ｈ3ＰＯ4）：０．６０（ｍ）
IＲ（ＫＢｒ）：２９２４、２８５４、１４６８ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ）、１２６０ｃｍ-1（Ｓi−ＣＨ3）、１２３０ｃｍ-1（Ｐ＝Ｏ）、１０８９ｃｍ-1（Ｃ−Ｏ−Ｐ）、１０６０ｃｍ-1（Ｓi−Ｏ−Ｓi）、９７０ｃｍ-1（−Ｎ+（ＣＨ3）3）
【００６５】
［実施例２］
５００ｍＬ四つ口フラスコに下記平均組成式［Ｆ］
【００６６】
【化２３】
2006199749.tif 000019
【００６７】
を有するシロキサン化合物（信越化学工業株式会社、商品名：「Ｘ−２２−１７０ＤＸ」）４７ｇ（０．０１モル）、トリエチルアミン１．０１ｇ（０．０１モル）及びテトラヒドロフラン２００ｍＬを加えて撹拌しながら０℃に冷却した。２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラン１．４３ｇ（０．０１モル）をテトラヒドロフラン１０ｍＬに溶解し、得られた溶液を前記フラスコに滴下ロートを用いて滴下した。滴下終了後、反応混合物を昇温して室温で２時間反応を継続させた。副生成物として析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾別した。副生成物として析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾別した。さらにジエチルエーテル２００ｍＬを加えて冷却し、溶液内の溶存アミン塩酸塩を析出させた。この後、減圧濾過、エバポレートを繰り返して下記平均組成式［Ｇ］
【００６８】
【化２４】
2006199749.tif 000020
【００６９】
で表されるジオキサホスホランリン酸エステルシロキサン化合物４４．５ｇを得た。収率は９１．９％であった。分析値を以下に示す。
【００７０】
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯD）：０．０７９（ｓ、３７２Ｈ、−ＳiＣＨ3）、０．５５（ｍ、４Ｈ、−ＳiＣＨ2−）、０．８９（ｔ、３Ｈ、−ＣＨ3）、１．３０（ｍ、４Ｈ、−ＣＨ2−）、３．５２（ｂ、４Ｈ, −ＣＨ2ＯＣＨ2−）、３．８０−４．６８（ｍ, ４Ｈ,−ＣＨ2ＯＰ）
31Ｐ  ＮＭＲ（ＣＤ3ＯD、外部標準Ｈ3ＰＯ4）：１９．５（ｍ）
IＲ（ＫＢｒ）：２９２４、２８５４、１４６８ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ）、１２６０ｃｍ-1（Ｓi−ＣＨ3）、１２３０ｃｍ-1（Ｐ＝Ｏ）、１０９０ｃｍ-1（Ｃ−Ｏ−Ｐ）、１０６０ｃｍ-1（Ｓi−Ｏ−Ｓi）
【００７１】
このようにして得られた平均組成式［Ｇ］で表されるジオキサホスホランリン酸エステルシロキサン化合物４４．５ｇにアセトニトリル２００ｍＬを投入して溶解した後、この溶液を耐圧びんに移し替え、トリメチルアミン２．４ｇ（０．０４モル）を加えて密栓し、７０℃で一晩反応させ、反応を終了させた。過剰のトリメチルアミンを留去後、上澄みの溶媒をデカンテーションで除去後、アセトンを投入し洗浄し、分液ロートで分離した。生成物液をエバポレーターに移し、溶媒を留去した後、さらに真空乾燥して目的とする生成物を得た。収率は４８．７％であった。
【００７２】
得られた生成物の核磁気共鳴スペクトル及び赤外吸収スペクトルを測定し、解析した結果、目的とする下記平均組成式［Ｈ］
【００７３】
【化２５】
2006199749.tif 000021
【００７４】
で表されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物が得られたことが判った。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯD）：０．０７９（ｓ、３７２Ｈ、−ＳiＣＨ3）、０．５５（ｍ、４Ｈ、−ＳiＣＨ2−）、０．８９（ｔ、３Ｈ、−ＣＨ3）、１．３０（ｍ、４Ｈ、−ＣＨ2−）、３．１２（ｓ、９Ｈ、−Ｎ+（ＣＨ3）3）、３．３５（ｔ、２Ｈ、−ＣＨ2Ｎ+）、３．５２（ｂ、４Ｈ, −ＣＨ2ＯＣＨ2−）、３．８８（ｔ, ２Ｈ,−ＣＨ2ＯＰ）、４．１９（ｂ, ２Ｈ, −ＰＯＣＨ2）
31Ｐ  ＮＭＲ（ＣＤ3ＯD、外部標準Ｈ3ＰＯ4）：０．６１（ｍ）
IＲ（ＫＢｒ）：２９２４、２８５４、１４６８ｃｍ-1（Ｃ−Ｈ）、１２６０ｃｍ-1（Ｓi−ＣＨ3）、１２２９ｃｍ-1（Ｐ＝Ｏ）、１０８８ｃｍ-1（Ｃ−Ｏ−Ｐ）、１０６１ｃｍ-1（Ｓi−Ｏ−Ｓi）、９６９ｃｍ-1（−Ｎ+（ＣＨ3）3）
【００７５】
［実施例３］
実施例１と２で得られたホスホリルコリン基含有シロキサン化合物を水に溶解させ、常温常圧で表面張力を測定した。実施例２で得られた平均組成式［Ｅ］で表されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物の１．０重量％の水溶液は、常温常圧で２２．５ｄｙｎ・ｃｍ-1、実施例４で得られた平均組成式［Ｈ］で表されるホスホリルコリン基含有シロキサン化合物の０．１重量％の水溶液は、常温常圧で２８．３ｄｙｎ・ｃｍ-1という低い表面張力を示した。
また、この水溶液を空隙ができるよう容器に入れて密封し、両手でシェイキングしたところ、激しく起泡した。
【００７６】
このことから実施例１と２で得られたホスホリルコリン基含有シロキサン化合物は、界面活性化能を持ち、界面活性剤として有用であることがわかった。