(57)【要約】【課題】  液晶カラーフィルタの欠陥をレーザーで除去する際に、透明基板裏面での反射によりレーザー光照射領域以外のカラーフィルタ層が損傷を受けることがあった。【解決手段】  カラーフィルタ基板を構成する透明基板の第１の面側に形成されたカラーフィルタ層の欠陥を、該欠陥を内包するレーザー光照射領域にレーザー光を照射することによって除去する、液晶カラーフィルタの欠陥除去方法において、前記レーザー光照射領域の周囲の領域であって、前記レーザー光照射領域へのレーザー光照射時に前記透明基板の第２の面側で反射したレーザー光が照射される領域のカラーフィルタ層上を樹脂層で被覆した後に、前記レーザー光照射領域にレーザー光を照射して、欠陥を除去する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタ基板を構成する透明基板の第１の面側に形成されたカラーフィルタ層の欠陥を、該欠陥を内包するレーザー光照射領域にレーザー光を照射することによって除去する、液晶カラーフィルタの欠陥除去方法において、
前記レーザー光照射領域の周囲の領域であって、前記レーザー光照射領域へのレーザー光照射時に前記透明基板の第２の面側で反射したレーザー光が照射される領域のカラーフィルタ層上を樹脂層で被覆した後に、前記レーザー光照射領域にレーザー光を照射して、欠陥を除去することを特徴とする液晶カラーフィルタの欠陥除去方法。
【請求項２】
カラーフィルタ基板とアクティブ素子基板とを貼り合せて液晶パネルを製造する液晶パネル製造方法における、液晶カラーフィルタの欠陥除去方法であって、前記カラーフィルタ基板を構成する透明基板の第１の面側に形成されたカラーフィルタ層の欠陥を、該欠陥を内包するレーザー光照射領域にレーザー光を照射することによって除去する液晶カラーフィルタの欠陥除去方法において、
前記レーザー光照射領域の周囲の領域であって、前記レーザー光照射領域へのレーザー光照射時に前記透明基板の第２の面側で反射したレーザー光が照射される領域のカラーフィルタ層上を、前記アクティブ素子基板の絶縁層に用いられる樹脂と同一材料の樹脂から成る樹脂層で被覆した後に、前記レーザー光照射領域にレーザー光を照射して、欠陥を除去することを特徴とする液晶カラーフィルタの欠陥除去方法。
【請求項３】
インクジェット方式を用いて、前記樹脂層を形成することを特徴とする、請求項１または２に記載の液晶カラーフィルタの欠陥除去方法。
【請求項４】
照射レーザー光の波長によって定まる、特定色のカラーフィルタおよび／またはブラックマトリクスの上のみを前記樹脂層で被覆することを特徴とする、請求項１〜３の何れかに記載の液晶カラーフィルタの欠陥除去方法。
【請求項５】
カラーフィルタ基板とアクティブ素子基板とを貼り合せて構成される液晶パネルにおいて、前記カラーフィルタ基板の画素領域に於けるカラーフィルタ層修正箇所の周囲の正常カラーフィルタ層であって、カラーフィルタ層の欠陥除去時のレーザー光照射によって破損が発生しうる箇所のカラーフィルタ層上に、カラーフィルタ層破損防止用樹脂層が形成されていることを特徴とする液晶パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルのカラーフィルタの欠陥除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶の駆動制御をアクティブ素子で行い、カラーフィルタを備えた、アクティブマトリクス方式のカラー液晶パネル（以下、「液晶パネル」と言う）は、発色や応答性がよく、かつ薄型で低消費電力であることから広く一般に表示デバイスとして用いられている。
【０００３】
図７は液晶パネルの断面構造を示した図である。以下、図７に基づいて液晶パネルの構造を説明する。
【０００４】
液晶パネルはカラーフィルタ基板１０、アクティブ素子基板２０、およびこれらに挟まれたスペーサ３０、液晶４０で構成されている。カラーフィルタ基板１０は透明基板１１の上に、カラーフィルタ層１２、透明電極１４および配向膜１５が積層された構成となっており、配向膜１５が液晶４０と面している。カラーフィルタ層１２は、赤色、緑色、青色の３色のカラーフィルタ１２１およびブラックマトリクス１２２で構成されている。また、アクティブ素子基板２０は透明基板２１、アクティブ素子２３、絶縁層２２、透明電極２４、および配向膜２５が積層された構成となっており、配向膜２５が液晶４０と面している。
【０００５】
次に、液晶パネル、カラーフィルタ基板、およびアクティブ素子基板の作成方法について説明する。
【０００６】
液晶パネルの作成は、カラーフィルタ基板１０、およびアクティブ素子基板２０を各々作成の後、スペーサ３０と液晶４０を挟んで貼り合わせて行う。
【０００７】
カラーフィルタ基板１０の作成では、まず透明基板１１の上に３色のカラーフィルタ１２１およびブラックマトリクス１２２を形成することで、カラーフィルタ層１２を形成する。カラーフィルタやブラックマトリクスの形成方法としては、例えばフォトリソグラフィ方式、印刷方式などがある。その後にカラーフィルタ層１２の上に透明電極１４を形成し、さらにその上に配向膜１５を形成する。
【０００８】
アクティブ素子基板２０の作成では、まず透明基板２１の上に配線（図示せず）およびアクティブ素子２３を形成する。その後に絶縁層２２を形成し、その上に透明電極２４、さらに配向膜２５を形成する。ここで、絶縁層２２は配線やアクティブ素子２３と透明電極２４が短絡するのを防ぐとともに、透明電極２４の下地層としての役割も果たしている。そのため絶縁層を形成する樹脂には、絶縁性だけでなく、透明性、透明電極との密着性、および透明電極および配向膜を形成する際の処理に耐えうる強靭さを備える樹脂が用いられている。なお、透明電極および配向膜を形成する際に行われる処理とは、加熱処理、スパッタリング処理、エッチング処理などである。
【０００９】
ところで、カラーフィルタ層の形成の際には、カラーフィルタ層内にダストが混入したり、カラーフィルタ層の一部が欠けたり、本来形成するべき色とは違う色が形成されてしまうといった欠陥を生じる場合がある。このような欠陥が生じると、黒点や輝点によって液晶パネルの表示品質が低下することや、液晶の駆動が出来なくなるなどの不都合が生じる。そのため、カラーフィルタ層形成工程の後に検査を行い、このような欠陥を発見、除去して、修復することが考えられている。
【００１０】
図８は、カラーフィルタ基板の欠陥検査および欠陥除去を含めたカラーフィルタ基板の作成手順を示したフローチャートである。透明基板の上に、カラーフィルタおよびブラックマトリクスから成るカラーフィルタ層を形成した後に、欠陥の検査を行う。ここで欠陥が無ければ、そのまま透明電極を形成し、配向膜を形成してカラーフィルタ基板の形成は終了する。欠陥検査で欠陥があった場合は、欠陥の除去を行い、その後に除去部を再形成する。再形成後は欠陥が無かった場合と同様に、透明電極を形成し、配向膜を形成して終了となる。
【００１１】
除去部再形成の方法としては、インクジェットによるカラーフィルタ樹脂塗布などが提案されている。
【００１２】
また、欠陥の除去方法としては、欠陥を含む領域にレーザー光を照射することで、周囲のカラーフィルタ層と共に欠陥を除去する手法が提案されている。欠陥を除去するにあたり、周囲のカラーフィルタ層も一緒に除去する理由は、欠陥の大きさが不定であるためにさまざまな欠陥に対応して欠陥のみにレーザー光を照射するのが困難なためである。
【００１３】
図９は、従来の欠陥除去手法における除去手順を示した図である。以下、図９に沿って説明する。検査にて欠陥１が発見されると、図９（ａ）に示すように欠陥１を内包するようにレーザー光照射領域２を定める。次に、レーザー光照射領域２にレーザー光を照射し、欠陥周囲のカラーフィルタ層と一緒に欠陥１を除去して、図９（ｂ）に示すようなトリミング穴５とする。その際使用されるレーザー光としては、波長が１μｍ以下のものが特に有効として知られている（例えば、特許文献１、特許文献２を参照）。なお、図９において７はブラックマトリクスである。
【００１４】
【特許文献１】特公平６−１００６８３号公報
【特許文献２】特開平４−３６９６０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
欠陥の原因となっている異物の種類によっては、レーザー光による除去がカラーフィルタ層に比べて困難な物質もある。そのような異物を除去する際には強い強度のレーザー光を複数回照射する処理作業が有効である。
【００１６】
ところが、そのような処理作業の場合、異物の周囲のカラーフィルタ層は異物に比べて除去されやすいため、処理作業の早い段階で周囲のカラーフィルタ層は除去される。その結果、処理作業の途中からは、異物の周囲でレーザー光は、何ら他の物体にさえぎられず、強い強度と直進性を維持したままで、直接に透明基板に入射する。また、そのように透明基板に直接に入射したレーザー光の一部は、透明基板の裏面で反射してカラーフィルタ層に戻ってくる。
【００１７】
カラーフィルタ層の欠陥の大きさは１０μｍ〜５００μｍ程度と微小であるため、レーザー光についても光束を縮小したものが用いられる。透明基板に直接に入射したレーザー光が透明基板の裏面で反射した場合、斜めに入射したレーザー光が反射したレーザー光は、レーザー光照射領域とは別の箇所に戻ってくる。
【００１８】
図１０は、レーザー光で欠陥を除去する状況を示した図である。シャッター６１を通過したレーザー光６０は縮小されてカラーフィルタ基板に入射する。欠陥やカラーフィルタ層が除去された箇所では、レーザー光が、何ら他の物体にさえぎられず、強い強度と直進性を維持したままで、直接に透明基板１１に入射する。直接に入射したレーザー光は、透明基板１１の裏面で反射して、レーザー光照射領域の周囲の箇所に照射される。その結果、異物の除去のために強い強度のレーザー光を複数回照射すると、レーザー光照射領域の周囲の箇所でもカラーフィルタ層１２に損傷が生じる。
【００１９】
図１１は、レーザーによる除去の困難な欠陥を除去した際の結果を示した図である。図９（ａ）で示したように、検査にて発見された欠陥１を内包するようにレーザー光照射領域２を定め、レーザー光照射領域２にレーザー光を照射する。欠陥周囲のカラーフィルタ層と共に欠陥１を除去した結果、トリミング穴５が形成される（図９（ｂ））。それと共に、レーザー光照射領域２の周囲の箇所に、図１１に示すように、正常なカラーフィルタ層でも損傷箇所６が生じた。
【００２０】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタ層の欠陥をレーザー光で除去する方法であって、レーザー光照射領域とは異なる箇所が損傷を受けない液晶カラーフィルタの欠陥除去方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上記目的を達成するために本発明では、カラーフィルタ基板を構成する透明基板の第１の面側に形成されたカラーフィルタ層の欠陥を、該欠陥を内包するレーザー光照射領域にレーザー光を照射することによって除去する、液晶カラーフィルタの欠陥除去方法において、前記レーザー光照射領域の周囲の領域であって、前記レーザー光照射領域へのレーザー光照射時に前記透明基板の第２の面側で反射したレーザー光が照射される領域のカラーフィルタ層上を樹脂層で被覆した後に、前記レーザー光照射領域にレーザー光を照射して、欠陥を除去することを特徴とする。
【００２２】
この構成によれば、透明基板の裏面（第２の面）で反射したレーザー光が当たる箇所が樹脂層で覆われているため、反射したレーザー光によりカラーフィルタ層が損傷を受けるのを防ぐことができ、レーザー光照射領域とは異なる箇所でカラーフィルタ層が損傷を受けるのを防ぐことが出来る。また、欠陥箇所は樹脂層で覆われておらず、欠陥自体の除去に関してなんら影響を与えることが無い。
【００２３】
また、本発明では、カラーフィルタ基板とアクティブ素子基板とを貼り合せて液晶パネルを製造する液晶パネル製造方法における、液晶カラーフィルタの欠陥除去方法であって、前記カラーフィルタ基板を構成する透明基板の第１の面側に形成されたカラーフィルタ層の欠陥を、該欠陥を内包するレーザー光照射領域にレーザー光を照射することによって除去する液晶カラーフィルタの欠陥除去方法において、前記レーザー光照射領域の周囲の領域であって、前記レーザー光照射領域へのレーザー光照射時に前記透明基板の第２の面側で反射したレーザー光が照射される領域のカラーフィルタ層上を、前記アクティブ素子基板の絶縁層に用いられる樹脂と同一材料の樹脂から成る樹脂層で被覆した後に、前記レーザー光照射領域にレーザー光を照射して、欠陥を除去することを特徴とする。
【００２４】
この構成によれば、使用する樹脂がアクティブ素子基板の絶縁層に用いられる樹脂と同一材料の樹脂であるため、強靭かつ透明であり、また、修正後に形成する透明電極との密着性が良好であり、液晶分子などその他の液晶パネル構成物質に悪影響を及ぼさないため、樹脂層の除去を行わずとも欠陥除去による液晶パネルの画像品質低下を防ぐことが出来る。
【００２５】
また、本発明では、上記各液晶カラーフィルタの欠陥除去方法において、インクジェット方式を用いてカラーフィルタ層上に樹脂層を形成することを特徴とする。
【００２６】
この構成によれば、形成したい箇所に迅速かつ正確に樹脂層の形成が可能となるため、高速かつ安価に、カラーフィルタ層が損傷を受けるのを防ぐことが出来る。
【００２７】
また、本発明では、上記各液晶カラーフィルタの欠陥除去方法において、照射レーザー光の波長によって定まる、特定色のカラーフィルタおよび／またはブラックマトリクスの上のみを樹脂層で被覆することを特徴とする。
【００２８】
この構成によれば、レーザー光照射領域へのレーザー光照射時に透明基板の第２の面側で反射したレーザー光が照射される領域のうち、照射レーザー光の波長によって定まる、特定色のカラーフィルタあるいはブラックマトリクスの上のみを樹脂層で被覆するため、樹脂層被覆面積が小さくなり、被覆に用いる樹脂量を減らし、コストの削減および被覆する時間の短縮を図ることが可能となる。
【００２９】
また、本発明に係わる液晶パネルは、カラーフィルタ基板の画素領域に於けるカラーフィルタ層修正箇所の周囲の正常カラーフィルタ層であって、カラーフィルタ層の欠陥除去時のレーザー光照射によって破損が発生しうる箇所のカラーフィルタ層上に、カラーフィルタ層破損防止用樹脂層が形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の液晶カラーフィルタの欠陥除去方法によれば、レーザー光照射時に透明基板の裏面で反射したレーザー光が照射される領域のカラーフィルタ層上を樹脂層で被覆することにより、欠陥を除去するためのレーザー光照射によって、欠陥の周囲の正常なカラーフィルタ層が損傷を受けるのを良好に防ぐことが出来る。
【００３１】
また、上記樹脂層を形成する樹脂として、アクティブ素子基板の絶縁層に用いられる樹脂と同一材料の樹脂を用いることにより、樹脂層の除去を行わずとも欠陥除去による画像品質低下を防ぐことが出来る。
【００３２】
また、インクジェット方式を用いてカラーフィルタ層上に上記樹脂層を形成することにより、高速かつ安価に、カラーフィルタ層が損傷を受けるのを防ぐことが出来る。
【００３３】
また、照射レーザー光の波長によって定まる、特定色のカラーフィルタおよび／またはブラックマトリクスの上のみを樹脂層で被覆することにより、樹脂層被覆面積が小さくなり、被覆に用いる樹脂量を減らし、コストの削減および被覆する時間の短縮を図ることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、本発明の実施の形態について、図面に基づいて説明する。
（実施の形態１）
図１は、本発明におけるカラーフィルタ基板の作成手順を示したフローチャートである。また、図２は、本発明の実施手順の一例を示した図である。以下、上記両図に従って説明する。
【００３５】
まず、透明基板の上に、カラーフィルタおよびブラックマトリクスからなるカラーフィルタ層を形成し、続いてカラーフィルタ層の欠陥の検査を行う。検査にて、図２（ａ）で示すように大きさが縦横約１００μｍの不定形を成す欠陥１を発見したため、除去を行う。なお、図２において、７はブラックマトリクスである。
【００３６】
欠陥１を内包するように、図２（ｂ）に示すように、レーザー光照射領域２を定める。ここでは縦横１５０μｍの矩形形状とする。この作業は、カラーフィルタ層で生じる欠陥の形状は通常不定形であるが、レーザー光照射領域は特定の形状しか取りえないために行う。
【００３７】
次に、図２（ｃ）に示すように、レーザー光照射領域２の周囲の領域に樹脂層を形成する液３を塗布する。予備実験にて縦横１５０μｍの矩形領域にレーザー光を照射した場合、裏面で反射したレーザー光はレーザー光照射領域の周囲２００μｍの領域に戻ってくることが確認された。そのため、樹脂層を形成する液３はレーザー光照射領域２の周囲２００μｍの範囲に塗布する。
【００３８】
液の塗布は、インクジェット方式にて行う。インクジェット方式を用いることにより、高速かつ正確で安価に樹脂液の塗布を行うことが出来る。例えば、本実施の形態に示す領域への塗布に要する時間は１分以下である。また、塗布時に使用する液量は、ほぼ塗布する量のみであり、材料の無駄を生じないため安価となる。
【００３９】
樹脂層を形成する液としては、当該カラーフィルタ基板の対となるアクティブ素子基板の絶縁層２２に用いられるアクリル系樹脂を、有機溶剤に溶かしたものを用いる。アクティブ素子基板は、当該カラーフィルタ基板と同様の工程を経るため、アクティブ素子基板の絶縁層に用いられるアクリル系樹脂は、透明電極形成や配向膜形成といった、欠陥除去後の工程で実施される、加熱処理、スパッタリング処理、エッチング処理など耐えるだけの性能・強靭さを備えている。また、当該カラーフィルタ基板を用いた液晶パネルを構成する材料の１つであるため、液晶分子など他の液晶パネル構成物質に悪影響を与えない。
【００４０】
次に、塗布された液に処理を行って樹脂層とする。ここでは、カラーフィルタ基板を約８０℃に加熱することで、塗布された液に含まれる有機溶剤を揮発させて樹脂層４とする。形成された樹脂層４の厚さは約０．５μｍである。樹脂層４の厚さが０．５μｍ程度と薄いため、樹脂層を残存させても、本実施形態に係わるカラーフィルタ基板を用いた液晶パネルにおいて、画像品質低下は生じない。
【００４１】
次に、図２（ｄ）に示すように、レーザー光照射領域２にレーザー光を照射して、周囲のカラーフィルタ層と一緒に欠陥１を除去してトリミング穴５を形成する。なお、４は樹脂層である。レーザー光の波長は２６６ｎｍ、照射強度は、弱強度の場合は約２Ｊ／ｃｍ２、強強度の場合は約４Ｊ／ｃｍ２である。照射は、まず、弱強度にて１０回実施し、それでも、なお、欠陥１を除去しきれない場合は、強強度で２０回実施する。照射強度約４Ｊ／ｃｍ２で２０回の照射を行うと、すべての欠陥について除去可能である。一方で、照射強度約４Ｊ／ｃｍ２で２０回の照射を繰り返し２回行った場合においても、レーザー照射領域２以外領域のカラーフィルタ層は損傷を受けない。これは、レーザー光照射による損傷は主にカラーフィルタ層の材料が飛散していくことにより生じているが、樹脂層で覆われることで飛散が生じにくくなり、その結果として損傷を生じないものと考えられる。すなわち、樹脂層で被覆することにより、損傷させるためにはより強大なエネルギーを必要とするようになるためと考えられる。
【００４２】
形成された樹脂層４はレーザー光の透明基板裏面反射によるカラーフィルタ層の損傷を防ぐ目的に使用されるものであるが、欠陥除去後の工程、あるいは欠陥除去を行ったカラーフィルタ基板を用いた液晶パネルの表示品質になんら影響を及ぼさないため、欠陥除去後も樹脂層を除去する必要は無い。
【００４３】
欠陥を除去した後、必要に応じて除去部再形成を行う。除去部再形成の方法としては、インクジェットによるカラーフィルタ樹脂塗布などが提案されている。
【００４４】
その後に、透明電極を形成し、配向膜を形成してカラーフィルタ基板の作成は終了となる。
【００４５】
欠陥除去されたカラーフィルタ基板５０と、別に作成されたアクティブ素子基板２０とを、スペーサ３０および液晶４０を挟み込んで貼り合わせることで、液晶パネルが作成される。図３は、本発明による欠陥の除去を行ったカラーフィルタ基板を用いた液晶パネルの断面構造を示した図である。図７と同一部分については説明を省略する。図３において、１２３は修復したカラーフィルタであり、１２４は樹脂層である。
【００４６】
（実施の形態２）
図４は、本発明の実施手順の別の例を示した図である。実施の形態１と同様に、カラーフィルタ層形成工程の後の検査にて図４（ａ）に示すように大きさが縦横約１００μｍの不定形を成す欠陥１を発見したため、除去を行う。なお、同図において、７はブラックマトリクスである。
【００４７】
まず、欠陥１を内包するように、図４（ｂ）に示すようにレーザー光照射領域２を定める。ここでは直径１５０μｍの円形形状とする。
【００４８】
次に、図４（ｃ）に示すように、レーザー光照射領域２の周囲の領域に、インクジェット方式で樹脂層を形成する液３を塗布する。
【００４９】
図５は、本実施の形態で使用するレーザー光照射装置を用いて、欠陥を除去するカラーフィルタ基板と同等な別の基板を加工した予備実験の結果である。予備実験の結果、レーザー光照射領域の周囲５０〜２００μｍの領域のみが損傷を受けることが判明した。６はカラーフィルタ層損傷箇所である。レーザー光照射領域の周囲０〜５０μｍの領域が損傷を受けないのは、レーザー光の光学系と透明基板の厚みの関係により、透明基板の裏面で反射して当該領域に戻ってくるレーザー光の強度が弱いためと考えられる。なお、損傷が生じる位置は、レーザー光の波長、透明基板１１の厚さ、透明基板１１の反射面（裏面）の形態等によって変わる。
【００５０】
予備実験の結果により、レーザー光照射領域２の周囲に樹脂を形成する際に、図４（ｃ）で示すようにレーザー光照射領域の周囲５０〜２００μｍの領域のみに、樹脂層を形成する液３を塗布する。これは、レーザー光照射領域の周囲０〜５０μｍではカラーフィルタ層の損傷が生じないため、樹脂層を形成する液の塗布範囲を減らして、液の使用量を減少させるために行う。樹脂層を形成する液としては、耐久性に優れたポリイミド系の樹脂を含有した液を用いる。
【００５１】
液の塗布はディスペンス方式にて行う。ディスペンス方式の機構は単純であるため、ディスペンス方式を用いることで安価に、本発明を実施するカラーフィルタ修正装置を作成できる。
【００５２】
次に、液に処理を行って樹脂層とする。ここでは、カラーフィルタ基板を約２００℃に加熱することで樹脂層４とする。形成された樹脂層４の厚さは約０．３μｍである。樹脂層の厚さが０．３μｍ程度と薄いため、樹脂層を残存させても液晶パネルとした後の画像品質低下は生じない。
【００５３】
次に、レーザー光照射領域２にレーザー光を照射して、図４（ｄ）に示すように周囲のカラーフィルタ層と一緒に欠陥１を除去して、トリミング穴５を形成する。なお、４は樹脂層である。レーザー光の波長は３５５ｎｍ、照射強度は、弱強度の場合は約４Ｊ／ｃｍ２、強強度の場合は約８Ｊ／ｃｍ２である。照射は、まず、弱強度にて１０回実施し、それで、なお、欠陥１を除去しきれない場合は強強度で２０回実施する。照射強度約８Ｊ／ｃｍ２で２０回の照射を行うとすべての欠陥について除去可能である。一方で、照射強度約８Ｊ／ｃｍ２で２０回の照射を繰り返し２回行った場合においても、レーザー照射領域２以外領域のカラーフィルタ層は損傷を受けない。
【００５４】
（実施の形態３）
実施の形態１と同じ欠陥を同じ手法にて除去する。その際、レーザー光照射装置として波長が５３２ｎｍのものを用いる。
【００５５】
実施の形態１と同様に予備実験を行った結果、図６に示すように、波長５３２ｎｍのレーザー光では、レーザー光照射領域の周囲２００μｍの領域において緑色のフィルタ８以外の箇所（カラーフィルタおよびブラックマトリクス）が損傷を受けた。６は損傷箇所である。
【００５６】
そこで、樹脂層を形成する液３を塗布する領域を、レーザー光照射領域の周囲２００μｍの領域において緑色のフィルタ以外の箇所とする。こうすることで、液の使用量が減り、安価となる。
【００５７】
その後、実施の形態１と同様に欠陥の除去を行う。欠陥の除去は、照射強度が２０Ｊ／ｃｍ２で５回以下の照射で可能である。
以上で、実施の形態３についての説明を終わる。
【００５８】
本発明による樹脂層被覆構成によれば、透明基板の裏面で反射したレーザー光が当たる箇所が樹脂層で覆われているため、レーザー光によるカラーフィルタ層の飛散が防止される。これは、当該箇所を損傷させるには、より強大なエネルギーを必要とするようになるために、反射したレーザー光によりカラーフィルタ層が損傷を受けるのが防止されるものと考えられる。
【００５９】
レーザー光照射領域２は、欠陥１を内包していればどのような形状でもよいが、欠陥除去後の修正工程における作業性や、レーザー光照射装置のレーザー光照射可能領域により定める。例えば、欠陥除去後の修正工程にて、縦横２００μｍ以上の矩形領域のみ修正が可能であれば、レーザー光照射領域２を縦横２００μｍ以上の矩形領域とすればよい。また、例えば、レーザー光照射装置のレーザー光照射可能領域がひし形形状のみの場合は、レーザー光照射領域２をひし形とすればよい。
【００６０】
樹脂層を形成する方法は、インクジェット方式やディスペンス方式に限らない。例えば、蒸着方式、フィルム転写方式などを用いることも可能である。
【００６１】
また、インクジェット方式やディスペンス方式で樹脂層を形成する場合は、樹脂層を形成する液は、当該方式による塗布が可能であり、塗布後の何らかの処理で樹脂層となるものであればよい。例えば樹脂を溶解した有機溶剤を用い、塗布後に加熱処理を行うことにより有機溶剤を蒸発させる手法を用いることが出来る。また、例えば、熱硬化性エポキシ樹脂のような、液体状態の熱硬化性の樹脂を用い、塗布後に加熱処理を行うことにより樹脂を硬化させる手法を用いることが出来る。また、例えば、紫外線硬化性アクリル樹脂のような、液体状態の紫外線硬化樹脂を用い、塗布後に紫外線を照射することにより樹脂を硬化させる手法を用いることが出来る。
【００６２】
樹脂層を形成する領域は、カラーフィルタ層の損傷を防止したい領域であれば良いため、必要に応じて適宜変化させることが可能である。例えば、予備検討にて予め反射光による損傷の生じる領域が、レーザー光照射領域の上下方向の周囲０〜１００μｍのみであると判明した場合は、樹脂層を形成する領域はレーザー光照射領域の上下方向の周囲０〜１００μｍのみに限定してもよい。
【００６３】
樹脂層を成す樹脂の種類としては、透明基板の裏面で反射したレーザー光によるカラーフィルタ層の損傷を防止する効果があり、液晶素子とした場合に視認上問題なく、また透明電極形成や配向膜形成といった欠陥除去後の工程になんら影響を及ぼさないものであればよい。例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂のほかに、ポリエチレン系樹脂や、フッ素系樹脂などを用いることも可能である。
【００６４】
レーザー光の波長、照射強度、照射回数は、カラーフィルタ層の欠陥を除去できるものであれば任意に設定可能である。
【００６５】
樹脂層は、欠陥除去後の工程、あるいは欠陥除去を行ったカラーフィルタ基板を用いた液晶パネルの表示品質になんら影響を及ぼさないため、欠陥除去後も樹脂層を除去する必要は無いが、欠陥除去後に修復作業を行う時など、他の要因によっては樹脂層の除去を行ってもよい。例えば欠陥除去部位に、カラーフィルタ層を構成する液を塗布することで再度カラーフィルタ層を形成する場合に、塗布を容易にするために液の塗布前に樹脂層を除去することも可能である。樹脂層を除去する方法としては、例えば研磨が適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６６】
液晶用カラーフィルタの欠陥修正装置に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明におけるカラーフィルタ基板の作成手順を示したフローチャートである。
【図２】本発明の第一の実施の形態における欠陥除去の手順を示す図である。
【図３】本発明による欠陥の除去を行ったカラーフィルタ基板を用いた液晶パネルの断面構造を示した図である。
【図４】本発明の第二の実施の形態における欠陥除去の手順を示す図である。
【図５】本発明の第二の実施の形態にて用いるレーザー光照射装置にて、予備実験を行った結果を示す図である。
【図６】本発明の第三の実施の形態にて用いるレーザー光照射装置にて、予備実験を行った結果を示す図である。
【図７】液晶パネルの断面構造を示した図である。
【図８】従来のカラーフィルタ基板の作成手順を示したフローチャートである。
【図９】レーザー光による除去が容易な欠陥をレーザー光で除去した場合の状況を示す図である。
【図１０】レーザー光で欠陥を除去する状況を示した図である。
【図１１】レーザー光による除去が困難な欠陥をレーザー光で除去した場合の状況を示す図である。
【符号の説明】
【００６８】
１  カラーフィルタ層の欠陥
２  レーザー光照射領域
３  樹脂層を形成する液
４  樹脂層
５  トリミング穴
６  カラーフィルタ層損傷箇所
７  ブラックマトリクス
８  緑色フィルタ
１０  カラーフィルタ基板
１１  透明基板
１２  カラーフィルタ層
１２１  カラーフィルタ
１２２  ブラックマトリクス
１２３  修復したカラーフィルタ
１２４  樹脂層
１４  透明電極
１５  配向膜
２０  アクティブ素子基板
２１  透明基板
２２  絶縁層
２３  アクティブ素子
２４  透明電極
２５  配向膜
３０  スペーサ
４０  液晶
５０  欠陥除去したカラーフィルタ基板
６０  レーザー光
６１  レーザー光シャッター
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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