(57)【要約】      （修正有）【課題】電極とパリレン膜との密着性が良く、またピンホールの発生もないインクジェットヘッドを提供する。【解決手段】電極の表面に、下記式で示されるトリアジンチオール誘導体による被膜と、被膜の表面にポリパラキシリレン又はその誘導体からなる樹脂被膜とが積層されたインクジェットヘッド。2006159619.tif 000010〔式中、Ｒは−Ｒ１、−ＯＲ１、−ＳＲ１、−ＮＨＲ１、又は−Ｎ（Ｒ１）２  を表し（Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、エポキシ基またはモルホリノ基。）、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２Ｍｇ、１／２Ｃａ、１／２Ｂａ、第１級〜第３級アミン類、第４級アンモニウム塩又はホスホニウム塩を表す。〕【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクチャネル内に電極を有するインクジェットヘッドにおいて、少なくとも前記電極の表面に、下記一般式で示されるトリアジンチオール誘導体による被膜と、該被膜の表面にポリパラキシリレン又はその誘導体からなる樹脂被膜とが積層されてなることを特徴とするインクジェットヘッド。
【化１】
2006159619.tif 000008
〔式中、Ｒは−Ｒ１、−ＯＲ１、−ＳＲ１、−ＮＨＲ１、又は−Ｎ（Ｒ１）２  を表し（ここで、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、置換又は無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、エポキシ基またはモルホリノ基である。）、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２Ｍｇ、１／２Ｃａ、１／２Ｂａ、第１級〜第３級アミン類、第４級アンモニウム塩又はホスホニウム塩を表す。〕
【請求項２】
前記トリアジンチオール誘導体の一般式中、Ｒはアミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、又はクロル基であることを特徴とする請求項１記載のインクジェットヘッド。
【請求項３】
前記インクチャネルの側壁の少なくとも一部が圧電素子からなり、前記電極は、該圧電素子の表面に形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載のインクジェットヘッド。
【請求項４】
前記インクチャネルの側壁は、前記圧電素子に電界が印加されることによりせん断変形することで、該インクチャネル内のインクを吐出するための圧力を発生させることを特徴とする請求項３記載のインクジェットヘッド。
【請求項５】
インクチャネル内に電極を有するインクジェットヘッドの製造方法において、前記インクチャネル内に電極を形成した後、該電極の表面に、下記一般式で示されるトリアジンチオール誘導体による被膜を形成し、次いで、該被膜の表面に、ポリパラキシリレン又はその誘導体からなる樹脂被膜を積層することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
【化２】
2006159619.tif 000009
〔式中、Ｒは−Ｒ１、−ＯＲ１、−ＳＲ１、−ＮＨＲ１、又は−Ｎ（Ｒ１）２  を表し（ここで、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、置換又は無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、エポキシ基またはモルホリノ基である。）、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２Ｍｇ、１／２Ｃａ、１／２Ｂａ、第１級〜第３級アミン類又は第４級アンモニウム塩あるいはホスホニウム塩を表す。〕
【請求項６】
前記トリアジンチオール誘導体の被膜を、電解重合することにより前記電極の表面に形成することを特徴とする請求項５記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記トリアジンチオール誘導体の一般式中、Ｒはアミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、又はクロル基であることを特徴とする請求項５又は６記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記インクチャネルの側壁の少なくとも一部が圧電素子であり、前記電極を、該圧電素子の表面に形成することを特徴とする請求項５、６又は７記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記インクチャネルの側壁は、前記圧電素子に電界が印加されることによりせん断変形することで、該インクチャネル内のインクを吐出するための圧力を発生させることを特徴とする請求項８記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はインクジェットヘッド及びその製造方法に関し、詳しくは、電極の表面にポリパラキシリレン又はその誘導体からなる樹脂被膜を有するインクジェットヘッド及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェットプリンタに使用されるインクジェットヘッドは、インクに圧力を作用させることにより、ノズルから微小なインク滴として吐出させ、紙、フィルム、布等の記録媒体に着弾させる。インクに圧力を作用させるための方式には各種の方式があり、圧電素子の圧電作用を利用することによりインクを吐出するための圧力を発生させるタイプのインクジェットヘッドも知られている。
【０００３】
圧電素子を使用したインクジェットヘッドでは、吐出用のインクを貯留するインクチャネルの側壁の少なくとも一部が圧電素子によって形成され、その圧電素子からなる側壁部分をくの字状にせん断変形させるものが、高密度のチャネル形成が可能であり、また、インクに対して効率良く圧力を作用させることができるために好ましい。この場合、圧電素子に電界を印加するための電極が圧電素子の表面に密着形成され、インクチャネル内のインクと直接接触するため、電極の表面に電気的絶縁、防湿、耐磨耗性等を目的として有機材料からなる保護被膜を形成することが多い。
【０００４】
このような保護被膜としては、気相合成法により形成されたポリパラキシリレン又はその誘導体からなる樹脂被膜（以下、パリレン膜ともいう。）が、高絶縁性、高防湿性の観点から好ましく用いられている（特許文献１）。
【０００５】
また、一般にパリレン膜は電極との密着性が低いため、シランカップリング剤を用いることでこれを改善する方法（特許文献２）や、電極の表面に電着法によって電気絶縁膜を形成し、その表面にパリレン膜を被覆することにより、パリレン膜の密着性を向上させる方法（特許文献３）が知られている。
【特許文献１】特開平１０−２４２５３９号公報
【特許文献２】特開２００３−１９７９７号公報
【特許文献３】特開２００４−１２２６８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１や特許文献２に記載のように電極の表面に直接パリレン膜だけを被覆するものでは、時々ピンホールが発生する問題がある。
【０００７】
特許文献３に記載のように電極の表面に電気絶縁膜を被覆したものでは、ピンホールの問題は改善傾向にあるが、電気絶縁膜を被覆形成するために高温で加熱処理することにより、電気絶縁膜を硬化、焼き付けする必要がある。このため、電極が圧電素子の表面に形成されるものでは、圧電素子が加熱処理時の熱によって脱分極を起す等の劣化を生じ易いという問題があった。
【０００８】
そこで、本発明は、電極とパリレン膜との密着性が良く、またピンホールの発生もないインクジェットヘッド及びその製造方法を提供することを課題とする。
【０００９】
また、本発明は、圧電素子の表面に形成された電極との密着性が良く、またピンホールの発生もないパリレン膜を、圧電素子を劣化させるおそれなく設けることのできるインクジェットヘッド及びその製造方法を提供することを課題とする。
【００１０】
本発明の他の課題は、以下の記載のより明らかとなる。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題は、以下の各発明によって解決される。
【００１２】
請求項１記載の発明は、インクチャネル内に電極を有するインクジェットヘッドにおいて、少なくとも前記電極の表面に、下記一般式で示されるトリアジンチオール誘導体による被膜と、該被膜の表面にポリパラキシリレン又はその誘導体からなる樹脂被膜とが積層されてなることを特徴とするインクジェットヘッドである。
【００１３】
【化３】
2006159619.tif 000002
【００１４】
〔式中、Ｒは−Ｒ１、−ＯＲ１、−ＳＲ１、−ＮＨＲ１、又は−Ｎ（Ｒ１）２  を表し（ここで、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、置換又は無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、エポキシ基またはモルホリノ基である。）、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２Ｍｇ、１／２Ｃａ、１／２Ｂａ、第１級〜第３級アミン類又は第４級アンモニウム塩あるいはホスホニウム塩を表す。〕
【００１５】
請求項２記載の発明は、前記トリアジンチオール誘導体の一般式中、Ｒはアミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、又はクロル基であることを特徴とする請求項１記載のインクジェットヘッドである。
【００１６】
請求項３記載の発明は、前記インクチャネルの側壁の少なくとも一部が圧電素子からなり、前記電極は、該圧電素子の表面に形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載のインクジェットヘッドである。
【００１７】
請求項４記載の発明は、前記インクチャネルの側壁は、前記圧電素子に電界が印加されることによりせん断変形することで、該インクチャネル内のインクを吐出するための圧力を発生させることを特徴とする請求項３記載のインクジェットヘッドである。
【００１８】
請求項５記載の発明は、インクチャネル内に電極を有するインクジェットヘッドの製造方法において、前記インクチャネル内に電極を形成した後、該電極の表面に、下記一般式で示されるトリアジンチオール誘導体による被膜を形成し、次いで、該被膜の表面に、ポリパラキシリレン又はその誘導体からなる樹脂被膜を積層することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法である。
【００１９】
【化４】
2006159619.tif 000003
【００２０】
〔式中、Ｒは−Ｒ１、−ＯＲ１、−ＳＲ１、−ＮＨＲ１、又は−Ｎ（Ｒ１）２  を表し（ここで、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、置換又は無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、エポキシ基またはモルホリノ基である。）、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２Ｍｇ、１／２Ｃａ、１／２Ｂａ、第１級〜第３級アミン類又は第４級アンモニウム塩あるいはホスホニウム塩を表す。〕
【００２１】
請求項６記載の発明は、前記トリアジンチオール誘導体の被膜を、電解重合することにより前記電極の表面に形成することを特徴とする請求項５記載のインクジェットヘッドの製造方法である。
【００２２】
請求項７記載の発明は、前記トリアジンチオール誘導体の一般式中、Ｒはアミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、又はクロル基であることを特徴とする請求項５又は６記載のインクジェットヘッドの製造方法である。
【００２３】
請求項８記載の発明は、前記インクチャネルの側壁の少なくとも一部が圧電素子であり、前記電極を、該圧電素子の表面に形成することを特徴とする請求項５、６又は７記載のインクジェットヘッドの製造方法である。
【００２４】
請求項９記載の発明は、前記インクチャネルの側壁は、前記圧電素子に電界が印加されることによりせん断変形することで、該インクチャネル内のインクを吐出するための圧力を発生させることを特徴とする請求項８記載のインクジェットヘッドの製造方法である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、電極とパリレン膜との密着性が良く、またピンホールの発生もないインクジェットヘッド及びその製造方法を提供することができる。
【００２６】
また、本発明によれば、圧電素子の表面に形成された電極との密着性が良く、またピンホールの発生もないパリレン膜を、圧電素子を劣化させるおそれなく設けることのできるインクジェットヘッド及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００２８】
図１はインクジェットヘッドの部分を示す外観斜視図、図２はこのインクジェットヘッドにおける１つのインクチャネルの断面を拡大して示す図である。
【００２９】
インクジェットヘッド１は、圧電性基板２と、例えばガラス、セラミックス、合成樹脂等からなるカバー基板３からなり、圧電性基板２には、溝状のチャネルが互いに平行となるように所定のピッチで溝状に研削加工されることで、インクチャネル４と側壁５とが交互に並設されている。
【００３０】
インクチャネル４の一端は、図示しないインク供給部（インクマニホールド）に連結され、該インク供給部から内部にインクが供給される。インクチャネル４の他端は、ノズルプレート６に形成されたノズル孔７と連通している。
【００３１】
ノズルプレート６は、圧電性基板２と基板３とに亘ってその前面に接着され、ノズル孔７は、インクチャネル４に対応するように開設されている。ノズルプレート６としては、例えば、ステンレス等の金属、ポリアルキレン、エチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネイト、酢酸セルロース等のプラスチックが好適である。
【００３２】
圧電性基板２には、電界を印加することにより変形を生じる公知の圧電材料を使用することができ、例えば、ＰＺＴ、ＢａＴｉＯ３、ＰｂＴｉＯ３等の基板が挙げられる。中でも、ＰＺＴ[チタン酸ジルコン酸鉛（Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３）]を含有し、圧電特性を有する圧電性セラミックス基板であるＰＺＴ基板が、圧電定数やその高周波応答性等の圧電特性に優れるので好ましい。
【００３３】
圧電性基板２の上面に接着されるカバー基板３には、機械的強度が高く、耐インク性を備えたものであれば、上述した種々の材質のものを用いることができるが、中でもセラミックス基板を用いることが好ましく、更に、圧電性基板２として圧電性セラミックス基板を使用した場合には、非圧電性のセラミックス基板を用いることが好ましい。圧電性セラミックスの側壁の変位を強固に支えることができ、且つ、自身の変形が少ないために、効率的な駆動により低電圧化が可能となるので好ましい。
【００３４】
具体的には、シリコン、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、窒化アルミニウム、窒化シリコン、シリコンカーバイト、石英の少なくとも１つを主成分とした基板を挙げることができ、特に、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウム等を主成分とするセラミックス基板は、板厚が薄くても優れた基板特性を有し、駆動時の発熱や環境温度の変化に伴う基板の膨張による反りやストレスでの破壊を低下できるので好ましく、中でも酸化アルミニウムを主成分とする基板が安価で高絶縁性であるため特に好ましい。
【００３５】
このようなインクジェットヘッド１は、インクチャネル４の両側壁５を変形させることにより、インクチャネル４の容積を変化させ、インクチャネル４内のインクに吐出のための圧力を付与する。圧電素子からなる側壁５を変形させるために、インクチャネル４内に臨む壁面には電極８が密着形成されている。この電極８に電圧を掛けると、圧電素子からなる側壁５に分極方向と直角方向に電界が印加され、圧電滑り効果によって側壁５がせん断変形し、インクチャネル４内のインクに吐出のための圧力を作用させる。
【００３６】
電極８は、蒸着、スパッタリング、めっき等により形成されるが、特に無電解めっきにより形成されるものが好ましい。電極用金属としては、金、銀、銅、アルミニウム、パラジウム、コバルト、ニッケル、タンタル、チタン等が好ましく、特に、電気的特性、耐食性及び加工性の点からアルミニウム、ニッケル、タンタル又はチタニウムを用いることが好ましい。電極８の膜厚は、０．５〜５．０μｍ程度とすることが好ましい。
【００３７】
電極８の耐食性及び安定性を向上するため、電極８に陽極酸化処理を施すことが有効である。陽極酸化処理の一例を示すと、電解液として、３００ｍｌのエチレングリコール及び３０ｍｌの３％酒石酸からなるｐＨ７．０±０．５（アンモニア水で調整）の液を用い、厚さ２．０μｍのアルミニウム電極を形成した圧電性基板を浸漬し、電極をプラスにして電流密度１ｍＡ／ｃｍ２で、電極が１００Ｖに達するまでは定電流で、電圧１００Ｖに達した後は１００Ｖの定電圧で陽極酸化を行い、電流密度が０．１Ａ／ｃｍ２以下となったとき処理を終了させる。
【００３８】
図２に示すように、電極８は、側壁５の両壁面とインクチャネル４内の底面とに亘って形成されているが、圧電性基板により構成される側壁５を駆動させるため、少なくともインクチャネル４内に臨む側壁５の両壁面に形成されていればよい。
【００３９】
電極８の形成後又は電極８の陽極酸化処理後、基板３を圧電性基板２の上面に接着し、各インクチャネル４の上部を閉塞する。この接着工程では、接着剤を塗布する前に、圧電性基板２のインクチャネル４が設けられた加工面（側壁５の上面）及び基板３の接着面は、その状態に応じて洗浄や研磨等の前処理を行うことが好ましい。接着面の前処理により良好な接着を行うことができる。
【００４０】
圧電性基板２と基板３とは、例えばエポキシ系接着剤を塗布した後、加熱加圧することにより接着剤を硬化させて接着され、両者が一体化される。
【００４１】
電極８が形成された圧電性基板２に基板３を接着した後、少なくとも各インクチャネル４内の電極８の表面に、下記一般式で示されるトリアジンチオール誘導体による被膜９を形成する。
【００４２】
このトリアジンチオール誘導体によって被膜９を形成するには、トリアジンチオール誘導体を含む溶液中にインクジェットヘッド１を浸漬する方法の他、トリアジンチオール誘導体を含む電解液中で電界を掛け、トリアジンチオール誘導体を電解重合することにより被膜９とする方法等があるが、特に電界重合することにより被膜９を形成することが好ましい。
【００４３】
電解重合は、電解液に陽極及び陰極を挿入し、電流を流すことにより行われ、陰極を電気化学的に不活性な、例えばステンレス、白金、カーボン等の導電体とすることで、陽極上に電解重合による被膜を形成する。従って、インクジェットヘッド１の電極８を陽極とすれば、この電極８の表面に被膜９を形成することができる。
【００４４】
電解重合の場合の電解液は、トリアジンチオール誘導体、電解質、重合促進剤等の添加剤と溶剤からなる。
【００４５】
ここで、トリアジンチオール誘導体は、下記一般式で示される。
【００４６】
【化５】
2006159619.tif 000004
上記一般式中、Ｒは−Ｒ１、−ＯＲ１、−ＳＲ１、−ＮＨＲ１、又は−Ｎ（Ｒ１）２  を表す。
【００４７】
ここで、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素など）、置換又は無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基、エポキシ基またはモルホリノ基である。
【００４８】
アルキル基としては、炭素数１から３０までのアルキル基が好ましく、シクロアルキル基としては、３乃至１２のシクロアルキル基が好ましく、シクロヘキシル基などを例示できる。
【００４９】
アルケニル基としては、ビニル基、アリル基などを例示でき、アラルキル基としては、ベンジル、および２−フェネチルを例示できる。
【００５０】
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを例示できる。
【００５１】
Ｒ１  を表すアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基、エポキシ基またはモルホリノ基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素など）、アルキル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルコキシ基、カルボキシル基、スルホン酸基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、メルカプト基などが挙げられる。
【００５２】
次に、上記一般式において、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２Ｍｇ、１／２Ｃａ、１／２Ｂａ、第１級〜第３級アミン類又は第４級アンモニウム塩あるいはホスホニウム塩を表す。
【００５３】
本発明において、前記トリアジンチオール誘導体の一般式中、Ｒはアミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、又はクロル基であることが好ましい。
【００５４】
上記一般式で示されるトリアジンチオール誘導体の例示化合物を以下に挙げるが、これらに限定されない。
【００５５】
１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール
１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール・モノナトリウム
１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール・ジナトリウム
６−メチル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−アリル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−メトキシ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ブトキシ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−フェノキシ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ブチルチオ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ベンジルチオ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−アリルチオ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ドデシルチオ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−メチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ブチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−オクチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ステアリルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−シクロヘキシルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ベンジルアミノ−１，３，５−リアジン−２，４−ジチオール
６−モルホリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−オレインアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−アニリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ブチルアニリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ジメチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ジエチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノナトリウム
６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノリチウム
６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノカリウム
６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノセシウム
６−ジブチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ジブチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノナトリウム
６−ジブチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノトリエタノールアミン
６−ジブチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・ジエタノールアミン
６−ジブチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノエタノールアミン
６−ジブチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・テトラブチルアンモニウム
６−ジブチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・テトラブチルホスホニウム
６−ジオクチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
６−ジオクチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノナトリウム
６−ジドデシルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール、
６−γ−クロロプロピル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノナトリウム
６−γ−メルカプトプロピル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノナトリウム
６−ビニル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノナトリウム
６−（１，２−エポキシ）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール・モノナトリウム
【００５６】
中でも、トリアジンチオール誘導体の６置換基に、アミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、クロル基を含むものが好ましい。これらは、後述する被膜９の更に表面に形成されるポリパラキシリレン又はその誘導体からなる樹脂被膜１０との親和性が高いため、この樹脂被膜１０の電極８の表面に対する密着性をより向上させることができるためである。
【００５７】
これらのトリアジンチオール誘導体は溶剤に溶解して電解質とする。その濃度は１０-5モル／Ｌ〜１０-1モル／Ｌが好ましい。濃度が１０-5モル／Ｌを下回ると重合性が低く、被膜の生成に時間がかかるようになる。また、１０-1モル／Ｌを越えると溶剤に溶解し難く、溶解しても電解液の粘度が高く実用的でない。
【００５８】
電解質には、一般に、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、塩化ナトリウム、硫酸ナトリウム、硝酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、トリフルオロ酢酸ナトリウム、ホウ酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、次亜リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、珪酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム、シュウ酸ナトリウム、メタンスルホン酸ナトリウム、塩化カリウム、硫酸カリウム、硝酸カリウム、亜硝酸カリウム、酢酸カリウム、トリフルオロ酢酸カリウム、ホウ酸カリウム、メタリン酸カリウム、次亜リン酸カリウム、炭酸カリウム、モリブデン酸カリウム、珪酸カリウム、酒石酸カリウム、シュウ酸カリウム、メタンスルホン酸カリウム、過塩素酸ナトリウム等を挙げることができる。
【００５９】
これらは溶剤やトリアジンチオール誘導体の種類や量で異なるが、通常、１０-4モル／Ｌ〜１０-1モル／Ｌとすることが好ましい。一般に、１０-4モル／Ｌよりも少ないと電解質としての作用が不十分となり、また、１０-1モル／Ｌを越えると粘度が高くなり、電極８を汚染したり、トリアジンチオール誘導体の溶剤への溶解性を妨げたりするので好ましくない。
【００６０】
更に、電解重合反応を促進する目的で、二酸化マンガン、亜硝酸ナトリウム、過酸化ナトリウム、ベルオキソ二硫酸ナトリウム等を１０-6モル／Ｌ〜１０-1モル／Ｌの範囲で添加することもできる。
【００６１】
溶剤としては、水、メチルアルコール、エチルアルコール、１，２ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチレンテトラミン、アセトニトリル、プロピレンカーボネート、テトラヒドロフラン等を挙げることができる。
【００６２】
このようにしてトリアジンチオール誘導体を含む電解液中に、電極８を陽極としてインクジェットヘッド１を浸漬させ、定電流法や定電位法等により電気分解して電解重合を行う。
【００６３】
例えば、定電位法では金属の種類、酸化物の種類及び電解液の組成等により異なるが、一般には、０．１Ｖ ｖｓ．ＳＣＥ（飽和甘コウ電極）から５Ｖ ｖｓ．ＳＣＥの電位範囲内で１秒〜６０分間電解する。この範囲を外れると、いずれも重合が起こらないか、重合速度が著しく遅くなり実用的でない。
【００６４】
また、定電流法では０．０１ｍＡ／ｃｍ２〜１００ｍＡ／ｃｍ２の電流密度で電解重合する。０．０１ｍＡ／ｃｍ２よりも低い電流密度では電流効率は高いが重合時間が長すぎて実用的でない。また、１００ｍＡ／ｃｍ２を越える電流密度では電流効率が低く、水の電気分解等の副反応が起こり重合膜の緻密性等の問題が生じ、実用的でない。
【００６５】
電解重合反応は、電解液の凝固点以上沸点以下で行うことができる。一般には温度が高いほど重合反応は生じ易いが、１０℃〜７０℃の温度範囲で十分であり、この程度の温度であればインクジェットヘッド１の劣化が生じることもなく、実用上好ましい。
【００６６】
このようにして、インクジェットヘッド１の電極８の表面に、トリアジンチオール誘導体による被膜９を形成する。
【００６７】
被膜９の膜厚は、０．１μｍ以上とすることが好ましい。
【００６８】
被膜９の形成後、この被膜９の更に表面に、ポリパラキシリレン又はその誘導体（以下、パリレン膜という。）からなる樹脂被膜１０を形成する。
【００６９】
パリレン膜は、ポリパラキシリレン樹脂及び／又はその誘導体樹脂からなる樹脂被膜であり、固体のジパラキシリレンダイマー又はその誘導体を蒸着源とする気相合成法（Chemical Vaper Deposition：ＣＶＤ法）により形成する。すなわち、ジパラキシリレンダイマーが気化、熱分解して発生したジラジカルパラキシリレンモノマーが、電極８上に吸着して重合反応し、被膜を形成するものである。
【００７０】
特に、パラキシレンの２量体であるジパラキシリレンダイマーを用いて膜形成したものをパリレンＮと称し、その構造式は以下の通りである。
【００７１】
【化６】
2006159619.tif 000005
【００７２】
また、パラキシレンのモノクロロ置換体の２量体であるジパラキシリレンダイマー（従って、ダイマー中には二つの塩素原子を持つ）を用いて膜形成したポリクロロパラキシリレンをパリレンＣと称し、その構造式は以下の通りである。
【００７３】
【化７】
2006159619.tif 000006
【００７４】
その他、種々の置換したジパラキシリレンダイマー又はその誘導体を用いた種々のパリレン膜があり、必要な性能等に応じて、各種のパリレン膜やそれら種々のパリレン膜を複数積層したような多層構成のパリレン膜等を所望のパリレン膜として適用することもできる。
【００７５】
中でも、最初にパリレンＮを供給し、その後、パリレンＣを供給することにより形成したパリレン膜であることが好ましい。これをインクジェットヘッド１の電極８を保護する樹脂被膜１０とすることで、よりピンホールがなく、且つ、耐熱性に優れ、充分に耐久性を有する樹脂被膜１０を簡易に得ることができる。
【００７６】
また、パリレン膜中、パリレンＮの成分を５０モル％以下とすることが好ましく、これにより、より耐熱性に優れたパリレン膜を得ることができる。また更に、パリレン膜を下層（電極８側）と上層とに膜厚で２分したとき、下層はパリレンＮの成分を７０モル％以上含有し、上層はパリレンＣの成分を７０モル％以上含有するようにすることが好ましく、これにより、よりピンホールがなく、且つ、耐熱性に優れ、充分に耐久性を有するパリレン膜を得ることができる。
【００７７】
パリレン膜による樹脂被膜１０の膜厚としては、１μｍ〜１０μｍであることが好ましい。これにより、パリレン膜の膜性能を生かしつつ、電極８との密着性に極めて優れ、実用性に富むパリレン膜を、短時間に簡易且つ低コストで得ることができる。特に、パリレン膜の膜厚を１μｍ〜１０μｍとすることで、インク吐出性能に優れたインクジェットヘッドとすることができる。
【００７８】
本発明においては、このパリレン膜からなる樹脂被膜１０を電極８上に形成する前に、上記のように、トリアジンチオール誘導体による被膜９を形成しているため、樹脂被膜１０の電極８表面に対する密着性に極めて優れるようになり、また、ピンホールの発生もなく、電極８の表面に確実に樹脂被膜１０を形成することができる。更に、被膜９の形成に際して、圧電素子の脱分極を招くような高温処理の必要もないため、圧電素子の劣化のおそれもなく、インクジェットヘッド１の性能が低下するような問題は生じない。
【実施例】
【００７９】
以下、本発明の効果を実施例に基づいて例証するが、本発明は以下の実施例によって限定されない。
【００８０】
（実施例１〜４）
圧電性基板の作製
厚さ１ｍｍのＰＺＴ板の上面にドライフィルムを貼り付け、その上面から深さ３６０μｍ、幅７０μｍ、長さ３０ｍｍ、１４０μｍのピッチで２５６本のインクチャネルをダイシングブレードを用いて研削した後、アルミの真空蒸着により、ＰＺＴ板の上面及び各チャネルの内壁面にアルミの金属膜を形成した。その後、アセトンでドライフィルムを剥離することにより、ＰＺＴ板の上面に蒸着されたアルミの金属膜を除去し、各チャネルの内壁面にアルミ電極を形成した。
【００８１】
このＰＺＴ板の上面に、アルミナからなるカバー基板を各チャネルを覆うように接着して圧電性基板を作製した。
【００８２】
トリアジンチオール誘導体による被膜の形成
圧電性基板の各電極を陽極、ステンレス板を陰極として、５×１０-4モル／Ｌのトリアジンチオール誘導体と電解質及び重合促進剤として１０-3モル／Ｌの亜硝酸ナトリウムを含有する水溶液中に浸漬し、電流密度０．２ｍＡ／ｃｍ２で３０分間電解し、その後取り出して水洗し、乾燥させ、表中に示す各膜厚の樹脂被膜を形成した。それぞれ使用したトリアジンチオール誘導体は表中に示す通りである。
【００８３】
パリレン膜の形成
原料のジパラキシリレン５０ｇを１９０℃の昇華炉で気化させ、気化したジパラキシリレンを６８０℃の熱分解炉内で熱分解してパラキシリレンラジカルを発生させ、発生したパラキシリレンラジカルを０．７Ｔｏｒｒに減圧された成膜槽内に導入し、この成膜槽内で時間をコントロールすることにより、圧電性基板の各電極の表面に、表中に示す各膜厚のパリレン膜を形成した。それぞれ使用したパリレンの種類は表中に示す通りである。
【００８４】
（比較例１〜３）  
実施例１〜４と同様に作製した圧電性基板の各電極表面に、直接パリレン膜を形成した。パリレン膜の形成方法は実施例１〜４と同様であり、それぞれの膜厚及び使用したパリレンの種類は表中に示す通りである。
【００８５】
（比較例４）
実施例１〜４と同様に作製した圧電性基板を、アニオン型電着塗料（株式会社シミズ製「エレコートＩＮＳ」）に浸漬させ、圧電性基板の電極を陽極、ステンレス板を陰極とし、２０Ｖの直流電圧を印加することにより、２μｍ厚の電気絶縁膜を成膜し、その電気絶縁膜に１３０℃、２時間の硬化及び焼き付け処理を施した。
【００８６】
その後、この電気絶縁膜の表面に、実施例１〜４と同様の方法で６μｍのパリレンＣからなるパリレン膜を形成した。
【００８７】
（比較例５）
実施例１〜４と同様に作製した圧電性基板を、アニオン型電着塗料（株式会社シミズ製「エレコートＡＭ−１」）に浸漬させ、圧電性基板の電極を陽極、ステンレス板を陰極とし、２０Ｖの直流電圧を印加することにより、２μｍ厚の電気絶縁膜を成膜し、その電気絶縁膜に１８０℃、２時間の硬化及び焼き付け処理を施した。
【００８８】
その後、この電気絶縁膜の表面に、実施例１〜４と同様の方法で６μｍのパリレンＮからなるパリレン膜を形成した。
【００８９】
＜評価試験＞
ピンホール検査
実施例１〜４、比較例１〜５の各々の圧電性基板の電極上のパリレン膜表面に、以下の方法によって電気銅めっきを施した。
【００９０】
各圧電性基板の電極を陰極、含リン銅を陽極とし、硫酸銅の１０％水溶液に各圧電性基板を浸漬し、１０Ｖの電圧を印加した。
【００９１】
パリレン膜にピンホールが発生していると、ピンホール発生箇所の電極に銅が析出し、ピンホールの発生が可視化される。従って、各圧電性基板の銅の析出の有無を観察することによりピンホールの発生を検査した。その結果を表１に示す。
【００９２】
圧電性基板の劣化検査
圧電性基板の劣化は、吐出される液滴速度の低下となって現れる。従って、実施例１〜４、比較例１〜５の各々の圧電性基板に、全インクチャネルの一方の開口を覆うように、ポリイミドからなるノズルプレートを接着し、全インクチャネルの他方の開口には、インク導入孔を有するインク供給プレートを介してマニホールドを接着してインクジェットヘッドを作製し、その各インクジェットヘッドについて、２０Ｖの駆動電圧を用いて液滴を吐出させ、そのときの液滴速度を高速カメラを用いて測定した。その結果を表１に示す。
【００９３】
【表１】
2006159619.tif 000007
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】インクジェットヘッドの部分を示す外観斜視図
【図２】インクジェットヘッドの１つのインクチャネルの断面を拡大して示す図
【符号の説明】
【００９５】
１：インクジェットヘッド
２：圧電性基板
３：カバー基板
４：インクチャネル
５：駆動壁
６：ノズルプレート
７：ノズル孔
８：電極
９：被膜
１０：樹脂被膜
【図１】
2006159619.tif 000011
【図２】
2006159619.tif 000012