(57)【要約】【課題】  ワーク上に機能液滴吐出ヘッドを導入した状態におけるワークギャップの精度を、高めることができるワークギャップ調整方法、ワークギャップ調整装置を提供することを課題とする。【解決手段】  ワークＷの上面にフルライン方式で描画を行う液滴吐出装置１のワークギャップ調整方法において、描画エリア３１に臨んだ各ヘッドユニット６１に対し、機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面８３とワークＷの上面との間隙であるワークギャップＧｗを、それぞれ測定するギャップ測定工程と、ギャップ測定工程による測定結果に基づいて、ワークギャップＧｗが所定距離となるように、ヘッドユニット６１毎にワークギャップＧｗを調整するギャップ調整工程と、を備えたものである。【選択図】  図７
2006159116.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載した複数のヘッドユニットと、ワークに対し前記複数のヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させるＸ軸テーブルと、描画を行うための描画エリアと前記各ヘッドユニットの着脱および／または機能維持を行うための作業エリアとの間で、前記複数のヘッドユニットをＹ軸方向に個別に移動させるＹ軸テーブルと、を備え、
前記描画エリアに臨んだ前記ワークに対して、前記複数のヘッドユニットを前記Ｘ軸方向に相対的に移動させながら前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、前記ワークの上面にフルライン方式で描画を行う液滴吐出装置のワークギャップ調整方法において、
前記描画エリアに臨んだ前記各ヘッドユニットに対し、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面と前記ワークの上面との間隙であるワークギャップを、それぞれ測定するギャップ測定工程と、
前記ギャップ測定工程による測定結果に基づいて、前記ワークギャップが所定距離となるように、前記ヘッドユニット毎に前記ワークギャップを調整するギャップ調整工程と、を備えたことを特徴とするワークギャップ調整方法。
【請求項２】
前記Ｙ軸テーブルの移動軌跡上には、前記描画エリアおよび前記作業エリアに加え、前記各ヘッドユニットの絶対高さ位置を測定するための絶対基準測定エリアが配設されており、
前記ギャップ調整工程の後、前記描画エリアから前記絶対基準測定エリアに臨んだ前記各ヘッドユニットに対し、単一の測定装置を用いて、絶対基準面と前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間隙である基準ギャップをそれぞれ測定する基準ギャップ測定工程と、
前記基準ギャップ測定工程の後、前記作業エリアから前記絶対基準測定エリアに臨んだ前記各ヘッドユニットに対し、前記単一の測定装置を用いて、前記基準ギャップに対応する描画前ギャップをそれぞれ測定する描画前ギャップ測定工程と、
前記ヘッドユニット毎に、前記基準ギャップと前記描画前ギャップとのギャップ差を求め、前記ギャップ差に基づいて、前記ギャップ調整工程で調整した前記ワークギャップを補正するギャップ補正工程と、を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載のワークギャップ調整方法。
【請求項３】
前記描画前ギャップ測定工程および前記ギャップ補正工程は、前記作業エリアにおいて新たに装着した前記ヘッドユニットについてのみ、実行することを特徴とする請求項２に記載のワークギャップ調整方法。
【請求項４】
機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載したヘッドユニットと、ワークに対し前記ヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させるＸ軸テーブルと、描画を行うための描画エリアと前記ヘッドユニットの着脱および／または機能維持を行うための作業エリアと前記ヘッドユニットの絶対高さ位置を測定するための絶対基準測定エリアとの相互間で、前記ヘッドユニットを移動させるＹ軸テーブルと、を備え、
前記描画エリアに臨んだ前記ワークに対して、前記ヘッドユニットを前記Ｘ軸方向に相対的に移動させながら前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、前記ワークの上面に描画を行う液滴吐出装置のワークギャップ調整方法において、
前記描画エリアに臨んだ前記ヘッドユニットに対し、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面と前記ワークの上面との間隙であるワークギャップを測定するギャップ測定工程と、
前記ギャップ測定工程による測定結果に基づいて、前記ワークギャップが所定距離となるように、前記ワークギャップを調整するギャップ調整工程と、
前記ギャップ調整工程の後、前記描画エリアから前記絶対基準測定エリアに臨んだ前記ヘッドユニットに対し、測定装置を用いて、絶対基準面と前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間隙である基準ギャップを測定する基準ギャップ測定工程と、
前記基準ギャップ測定工程の後、前記作業エリアから前記絶対基準測定エリアに臨んだ前記ヘッドユニットに対し、前記測定装置を用いて、前記基準ギャップに対応する描画前ギャップを測定する描画前ギャップ測定工程と、
前記基準ギャップと前記描画前ギャップとのギャップ差を求め、前記ギャップ差に基づいて、前記ギャップ調整工程で調整した前記ワークギャップを補正するギャップ補正工程と、を備えたことを特徴とするワークギャップ調整方法。
【請求項５】
前記描画前ギャップ測定工程および前記ギャップ補正工程は、前記作業エリアにおいて前記ヘッドユニットを新たに装着した場合のみ、実行することを特徴とする請求項４に記載のワークギャップ調整方法。
【請求項６】
前記絶対基準面が、前記ワークの表面と同一であることを特徴とする請求項２ないし５のいずれかに記載のワークギャップ調整方法。
【請求項７】
前記サブキャリッジの下面と前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面とは、予め精度良く位置決めされており、
前記ギャップ測定工程、前記基準ギャップ測定工程および前記描画前ギャップ測定工程において、前記ノズル面に代えて前記サブキャリッジの下面との距離を計測し、この計測結果から前記ノズル面とのギャップをそれぞれ求めることを特徴とする請求項２ないし６のいずれかに記載のワークギャップ調整方法。
【請求項８】
機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載した複数のヘッドユニットと、ワークに対し前記複数のヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させるＸ軸テーブルと、描画を行うための描画エリアと前記各ヘッドユニットの着脱および／または機能維持を行うための作業エリアとの間で、前記複数のヘッドユニットをＹ軸方向に個別に移動させるＹ軸テーブルと、を備え、
前記描画エリアに臨んだ前記ワークに対して、前記複数のヘッドユニットを前記Ｘ軸方向に相対的に移動させながら前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、前記ワークの上面にフルライン方式で描画を行う液滴吐出装置のワークギャップ調整装置において、
前記描画エリアに臨んだ前記各ヘッドユニットに対し、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面と前記ワークの上面との間隙であるワークギャップを、それぞれ測定するギャップ測定手段と、
前記ギャップ測定手段による測定結果に基づいて、前記ワークギャップが所定距離となるように、前記ヘッドユニット毎に前記ワークギャップを調整するギャップ調整手段と、を備えたことを特徴とするワークギャップ調整装置。
【請求項９】
前記Ｙ軸テーブルの移動軌跡上には、前記描画エリアおよび前記作業エリアに加え、前記各ヘッドユニットの絶対高さ位置を測定するための絶対基準測定エリアが配設されており、
前記ギャップ調整手段による調整の後、前記描画エリアから前記絶対基準測定エリアに臨んだ前記各ヘッドユニットに対し、絶対基準面と前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間隙である基準ギャップをそれぞれ測定した後、前記作業エリアから前記絶対基準測定エリアに臨んだ前記各ヘッドユニットに対し、前記基準ギャップに対応する描画前ギャップをそれぞれ測定する基準ギャップ測定手段と、
前記ヘッドユニット毎に、前記基準ギャップと前記描画前ギャップとのギャップ差を求め、前記ギャップ差に基づいて、前記ギャップ調整手段により調整した前記ワークギャップを補正するギャップ補正手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項８に記載のワークギャップ調整装置。
【請求項１０】
前記各ヘッドユニットは、前記Ｙ軸テーブルに対し前記ヘッドユニットを昇降させる昇降手段を介して前記Ｙ軸テーブルに支持されており、
前記昇降手段が、前記ギャップ調整手段および前記ギャップ補正手段を兼ねていることを特徴とする請求項９に記載のワークギャップ調整装置。
【請求項１１】
機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載したヘッドユニットと、ワークに対し前記ヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させるＸ軸テーブルと、描画を行うための描画エリアと前記ヘッドユニットの着脱および／または機能維持を行うための作業エリアと前記ヘッドユニットの絶対高さ位置を測定するための絶対基準測定エリアとの相互間で、前記ヘッドユニットを移動させるＹ軸テーブルと、を備え、
前記描画エリアに臨んだ前記ワークに対して、前記ヘッドユニットを前記Ｘ軸方向に相対的に移動させながら前記機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、前記ワークの上面に描画を行う液滴吐出装置のワークギャップ調整装置において、
前記描画エリアに臨んだ前記ヘッドユニットに対し、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面と前記ワークの上面との間隙であるワークギャップを測定するギャップ測定手段と、
前記ギャップ測定手段による測定結果に基づいて、前記ワークギャップが所定距離となるように、前記ワークギャップを調整するギャップ調整手段と、
前記ギャップ調整手段による調整の後、前記描画エリアから前記絶対基準測定エリアに臨んだ前記ヘッドユニットに対し、絶対基準面と前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間隙である基準ギャップを測定した後、前記作業エリアから前記絶対基準測定エリアに臨んだ前記ヘッドユニットに対し、前記基準ギャップに対応する描画前ギャップを測定する基準ギャップ測定手段と、
前記基準ギャップと前記描画前ギャップとのギャップ差を求め、前記ギャップ差に基づいて、前記ギャップ調整手段により調整した前記ワークギャップを補正するギャップ補正手段と、を備えたことを特徴とするワークギャップ調整装置。
【請求項１２】
前記ヘッドユニットは、前記Ｙ軸テーブルに対し前記ヘッドユニットを昇降させる昇降手段を介して前記Ｙ軸テーブルに支持されており、
前記昇降手段が、前記ギャップ調整手段および前記ギャップ補正手段を兼ねていることを特徴とする請求項１１に記載のワークギャップ調整装置。
【請求項１３】
前記絶対基準面が前記ワークの表面と同一であることを特徴とする請求項９ないし１２のいずれかに記載のワークギャップ調整装置。
【請求項１４】
前記サブキャリッジの下面と前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面とは、予め精度良く位置決めされており、
前記ギャップ測定手段および前記基準ギャップ測定手段は、前記ノズル面に代えて前記サブキャリッジの下面との距離を計測し、この計測結果から前記ノズル面とのギャップをそれぞれ求めることを特徴とする請求項９ないし１３のいずれかに記載のワークギャップ調整装置。
【請求項１５】
請求項８ないし１４のいずれかに記載のワークギャップ調整装置を、備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１５に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１８】
請求項１６に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１７に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能液滴吐出ヘッドのノズル面とワークの上面との間隙であるワークギャップを調整するワークギャップ調整方法、ワークギャップ調整装置、液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板等のワークをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドを搭載したヘッドユニットをＹ軸方向に移動させるＹ軸テーブルと、備え、ワークをＸ軸方向に移動させる主走査と、機能液滴吐出ヘッドをＹ軸方向に移動させる副走査とを繰り返しながら、機能液滴吐出ヘッドから機能液を吐出して、前記ワークの上面に描画を行う液滴吐出装置において、機能液滴吐出ヘッドのノズル面とワークの上面とのワークギャップを調整するワークギャップ調整方法が知られている（特許文献１）。
このワークギャップ調整方法は、Ｙ軸テーブルにヘッドユニットを組み込んだときに、Ｙ軸テーブルの移動軌跡上であってＸ軸テーブルから外れた位置に配設した距離測定装置において、ワークの上面を基準としてこれ臨んだ機能液滴吐出ヘッドのノズル面（実際にはサブキャリッジの下面）までの距離を測定し、この測定結果に基づいて、マイクロヘッドによりヘッドユニットの高さを所望のワークギャップとなるように調整している。
【特許文献１】特開２００４−１２２１１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、この種の液滴吐出装置を大型のカラーフィルタを製造する製造装置等に適用する場合、これに合わせてワークが大型化すると共に、Ｘ軸テーブルおよびＹ軸テーブルも移動ストロークの長いものを用いる必要がある。しかし、上記従来のワークギャップ調整方法では、ワークから外れた位置での測定結果によりワークギャップを精度良く調整しても、Ｙ軸テーブルの撓み等により、描画時に実際にワーク上に導入した機能液滴吐出ヘッドとワークとの間のワークギャップに狂いが生ずる問題がある。
【０００４】
本発明は、ワーク上に機能液滴吐出ヘッドを導入した状態におけるワークギャップの精度を、高めることができるワークギャップ調整方法、ワークギャップ調整装置、液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のワークギャップ調整方法は、機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載した複数のヘッドユニットと、ワークに対し複数のヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させるＸ軸テーブルと、描画を行うための描画エリアと各ヘッドユニットの着脱および／または機能維持を行うための作業エリアとの間で、複数のヘッドユニットをＹ軸方向に個別に移動させるＹ軸テーブルと、を備え、描画エリアに臨んだワークに対して、複数のヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、ワークの上面にフルライン方式で描画を行う液滴吐出装置のワークギャップ調整方法において、描画エリアに臨んだ各ヘッドユニットに対し、機能液滴吐出ヘッドのノズル面とワークの上面との間隙であるワークギャップを、それぞれ測定するギャップ測定工程と、ギャップ測定工程による測定結果に基づいて、ワークギャップが所定距離となるように、ヘッドユニット毎にワークギャップを調整するギャップ調整工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、描画エリアに臨んだ複数のヘッドユニットに対し、それぞれワークギャップを測定し、これに基づいてワークギャップを調整するようにしているため、フルライン方式の描画を行う各ヘッドユニットの実描画位置での、ワークギャップを精度良く調整することができる。すなわち、複数のヘッドユニットを支持するＹ軸テーブルやワークを支持するＸ軸テーブルに、微妙な撓みがあっても、各ヘッドユニットにおいてこれと対峙するワークの一部（描画部位）との間で、ワークギャップを精度良く調整することができる。また、ワークの上面に微妙な凹凸があったり、ワークの厚さが一様でなかったりする場合にも、有効である。
【０００７】
この場合、Ｙ軸テーブルの移動軌跡上には、描画エリアおよび作業エリアに加え、各ヘッドユニットの絶対高さ位置を測定するための絶対基準測定エリアが配設されており、ギャップ調整工程の後、描画エリアから絶対基準測定エリアに臨んだ各ヘッドユニットに対し、単一の測定装置を用いて、絶対基準面と機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間隙である基準ギャップをそれぞれ測定する基準ギャップ測定工程と、基準ギャップ測定工程の後、作業エリアから絶対基準測定エリアに臨んだ各ヘッドユニットに対し、単一の測定装置を用いて、基準ギャップに対応する描画前ギャップをそれぞれ測定する描画前ギャップ測定工程と、ヘッドユニット毎に、基準ギャップと描画前ギャップとのギャップ差を求め、ギャップ差に基づいて、ギャップ調整工程で調整したワークギャップを補正するギャップ補正工程と、を更に備えたことが好ましい。
【０００８】
この構成によれば、ワークギャップを調整済みの各ヘッドユニットが、例えば描画エリアから作業エリアに移動するときに、これを絶対基準測定エリアに臨ませて絶対基準面とノズル面との基準ギャップを測定する一方、各ヘッドユニットが、作業エリアから描画エリアに移動するときに、これを絶対基準測定エリアに臨ませて基準ギャップに対応する描画前ギャップを測定する。この場合、基準ギャップと描画前ギャップとのギャップ差は、作業エリアにおけるヘッドユニットの着脱（付替え）やメンテナンスの結果生じた狂いであると判断できる。したがって、このギャップ差を既に調整済みのワークギャップ値に反映（補正）させることで、上記の狂いが生じても、描画エリアに戻った各ヘッドユニットのワークギャップを高精度に維持することができる。
【０００９】
この場合、描画前ギャップ測定工程およびギャップ補正工程は、作業エリアにおいて新たに装着したヘッドユニットについてのみ、実行することが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、作業エリアにおいて生ずる上記の狂いは、ヘッドユニットの着脱（付替え）が主な原因となる。よって、新たに装着したヘッドユニットについてのみ、描画前ギャップ測定工程およびギャップ補正工程を実行するようにしているため、ワークギャップの補正を効率良く行うことができる。
【００１１】
本発明の他のワークギャップ調整方法は、機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載したヘッドユニットと、ワークに対しヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させるＸ軸テーブルと、描画を行うための描画エリアとヘッドユニットの着脱および／または機能維持を行うための作業エリアとヘッドユニットの絶対高さ位置を測定するための絶対基準測定エリアとの相互間で、ヘッドユニットを移動させるＹ軸テーブルと、を備え、描画エリアに臨んだワークに対して、ヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、ワークの上面に描画を行う液滴吐出装置のワークギャップ調整方法において、描画エリアに臨んだヘッドユニットに対し、機能液滴吐出ヘッドのノズル面とワークの上面との間隙であるワークギャップを測定するギャップ測定工程と、ギャップ測定工程による測定結果に基づいて、ワークギャップが所定距離となるように、ワークギャップを調整するギャップ調整工程と、ギャップ調整工程の後、描画エリアから絶対基準測定エリアに臨んだヘッドユニットに対し、測定装置を用いて、絶対基準面と機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間隙である基準ギャップを測定する基準ギャップ測定工程と、基準ギャップ測定工程の後、作業エリアから絶対基準測定エリアに臨んだヘッドユニットに対し、測定装置を用いて、基準ギャップに対応する描画前ギャップを測定する描画前ギャップ測定工程と、基準ギャップと描画前ギャップとのギャップ差を求め、ギャップ差に基づいて、ギャップ調整工程で調整したワークギャップを補正するギャップ補正工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
この構成によれば、ワークギャップ調整済みの各ヘッドユニットが、例えば描画エリアから作業エリアに移動するときに、その基準ギャップを測定する一方、作業エリアから描画エリアに移動するときに、その描画前ギャップを測定し、これらのギャップ差に基づいて調整済みのワークギャップを補正するようにしているため、ヘッドユニットを支持するＹ軸テーブルやワークを支持するＸ軸テーブルに、微妙な撓みがあっても、また作業エリアにおけるヘッドユニットの着脱（付替え）等により狂いが生じても、ワーク上におけるヘッドユニットのワークギャップを精度良く且つ極めて簡単に調整することができる。
【００１３】
この場合、描画前ギャップ測定工程およびギャップ補正工程は、作業エリアにおいてヘッドユニットを新たに装着した場合のみ、実行することが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、作業エリアにおいて生ずる上記の狂いは、ヘッドユニットの着脱（付替え）が主な原因となる。よって、新たに装着したヘッドユニットについてのみ、描画前ギャップ測定工程およびギャップ補正工程を実行するようにしているため、ワークギャップの補正を効率良く行うことができる。
【００１５】
これらの場合、絶対基準面が、ワークの表面と同一であることが、好ましい。
【００１６】
この構成によれば、ヘッドユニットの基準ギャップの値が、Ｙ軸テーブルやＸ軸テーブルの各部における微妙な撓み等を表す値となるため、これらテーブルの機械的な精度を把握することができる。
【００１７】
これらの場合、サブキャリッジの下面と機能液滴吐出ヘッドのノズル面とは、予め精度良く位置決めされており、ギャップ測定工程、基準ギャップ測定工程および描画前ギャップ測定工程において、ノズル面に代えてサブキャリッジの下面との距離を計測し、この計測結果からノズル面とのギャップをそれぞれ求めることが、好ましい。
【００１８】
この構成によれば、計測位置の自由度を高めることができると共に、機能液滴吐出ヘッドの並び等により、計測位置を替える必要がなくなる。したがって、各種ギャップの測定を簡単に行うことができる。
【００１９】
本発明のワークギャップ調整装置は、機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載した複数のヘッドユニットと、ワークに対し複数のヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させるＸ軸テーブルと、描画を行うための描画エリアと各ヘッドユニットの着脱および／または機能維持を行うための作業エリアとの間で、複数のヘッドユニットをＹ軸方向に個別に移動させるＹ軸テーブルと、を備え、描画エリアに臨んだワークに対して、複数のヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、ワークの上面にフルライン方式で描画を行う液滴吐出装置のワークギャップ調整装置において、描画エリアに臨んだ各ヘッドユニットに対し、機能液滴吐出ヘッドのノズル面とワークの上面との間隙であるワークギャップを、それぞれ測定するギャップ測定手段と、ギャップ測定手段による測定結果に基づいて、ワークギャップが所定距離となるように、ヘッドユニット毎にワークギャップを調整するギャップ調整手段と、を備えたことを特徴とする。
【００２０】
この構成によれば、描画エリアに臨んだ複数のヘッドユニットに対し、それぞれワークギャップを測定し、これに基づいてワークギャップを調整するようにしているため、フルライン方式の描画を行う各ヘッドユニットの実描画位置での、ワークギャップを精度良く調整することができる。すなわち、複数のヘッドユニットを支持するＹ軸テーブルやワークを支持するＸ軸テーブルに、微妙な撓みがあっても、各ヘッドユニットにおいてこれと対峙するワークの一部との間で、ワークギャップを精度良く調整することができる。
【００２１】
この場合、Ｙ軸テーブルの移動軌跡上には、描画エリアおよび作業エリアに加え、各ヘッドユニットの絶対高さ位置を測定するための絶対基準測定エリアが配設されており、ギャップ調整手段による調整の後、描画エリアから絶対基準測定エリアに臨んだ各ヘッドユニットに対し、絶対基準面と機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間隙である基準ギャップをそれぞれ測定した後、作業エリアから絶対基準測定エリアに臨んだ各ヘッドユニットに対し、基準ギャップに対応する描画前ギャップをそれぞれ測定する基準ギャップ測定手段と、ヘッドユニット毎に、基準ギャップと描画前ギャップとのギャップ差を求め、ギャップ差に基づいて、ギャップ調整手段により調整したワークギャップを補正するギャップ補正手段と、を更に備えたことが好ましい。
【００２２】
この構成によれば、ワークギャップを調整済みの各ヘッドユニットが、例えば描画エリアから作業エリアに移動するときに、これを絶対基準測定エリアに臨ませて絶対基準面とノズル面との基準ギャップを測定する一方、各ヘッドユニットが、作業エリアから描画エリアに移動するときに、これを絶対基準測定エリアに臨ませて基準ギャップに対応する描画前ギャップを測定する。この場合、基準ギャップと描画前ギャップとのギャップ差は、作業エリアにおけるヘッドユニットの着脱（付替え）やメンテナンスの結果生じた狂いであると判断できる。したがって、このギャップ差を既に調整済みのワークギャップ値に反映（補正）させることで、上記の狂いが生じても、描画エリアに戻った各ヘッドユニットのワークギャップを高精度に維持することができる。なお、着脱されたヘッドユニットのみ、ワークギャップの補正を行うようにして、作業の効率化を図るようにしてもよい。
【００２３】
この場合、各ヘッドユニットは、Ｙ軸テーブルに対しヘッドユニットを昇降させる昇降手段を介してＹ軸テーブルに支持されており、昇降手段が、ギャップ調整手段およびギャップ補正手段を兼ねていることが、好ましい。
【００２４】
この構成によれば、ワークギャップの調整や補正に支障を生ずることなく、装置構造の単純化を図ることができる。
【００２５】
本発明の他のワークギャップ調整装置は、機能液滴吐出ヘッドをサブキャリッジに搭載したヘッドユニットと、ワークに対しヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させるＸ軸テーブルと、描画を行うための描画エリアとヘッドユニットの着脱および／または機能維持を行うための作業エリアとヘッドユニットの絶対高さ位置を測定するための絶対基準測定エリアとの相互間で、ヘッドユニットを移動させるＹ軸テーブルと、を備え、描画エリアに臨んだワークに対して、ヘッドユニットをＸ軸方向に相対的に移動させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、ワークの上面に描画を行う液滴吐出装置のワークギャップ調整装置において、描画エリアに臨んだヘッドユニットに対し、機能液滴吐出ヘッドのノズル面とワークの上面との間隙であるワークギャップを測定するギャップ測定手段と、ギャップ測定手段による測定結果に基づいて、ワークギャップが所定距離となるように、ワークギャップを調整するギャップ調整手段と、ギャップ調整手段による調整の後、描画エリアから絶対基準測定エリアに臨んだヘッドユニットに対し、絶対基準面と機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間隙である基準ギャップを測定した後、作業エリアから絶対基準測定エリアに臨んだヘッドユニットに対し、基準ギャップに対応する描画前ギャップを測定する基準ギャップ測定手段と、基準ギャップと描画前ギャップとのギャップ差を求め、ギャップ差に基づいて、ギャップ調整手段により調整したワークギャップを補正するギャップ補正手段と、を備えたことを特徴とする。
【００２６】
この構成によれば、ワークギャップ調整済みの各ヘッドユニットが、例えば描画エリアから作業エリアに移動するときに、その基準ギャップを測定する一方、作業エリアから描画エリアに移動するときに、その描画前ギャップを測定し、これらのギャップ差に基づいて調整済みのワークギャップを補正するようにしているため、ヘッドユニットを支持するＹ軸テーブルやワークを支持するＸ軸テーブルに、微妙な撓みがあっても、また作業エリアにおけるヘッドユニットの着脱（付替え）等により狂いが生じても、ワーク上におけるヘッドユニットのワークギャップを精度良く且つ極めて簡単に調整することができる。なお、ヘッドユニットが着脱された場合のみ、ワークギャップの補正を行うようにして、作業の効率化を図るようにしてもよい。
【００２７】
この場合、ヘッドユニットは、Ｙ軸テーブルに対しヘッドユニットを昇降させる昇降手段を介してＹ軸テーブルに支持されており、昇降手段が、ギャップ調整手段およびギャップ補正手段を兼ねていることが、好ましい。
【００２８】
この構成によれば、ワークギャップの調整や補正に支障を生ずることなく、装置構造の単純化を図ることができる。
【００２９】
これらの場合、絶対基準面がワークの表面と同一であることが、好ましい。
【００３０】
この構成によれば、ヘッドユニットの基準ギャップの値が、Ｙ軸テーブルやＸ軸テーブルの各部における微妙な撓み等を表す値となるため、これらテーブルの機械的な精度を把握することができる。
【００３１】
これらの場合、サブキャリッジの下面と機能液滴吐出ヘッドのノズル面とは、予め精度良く位置決めされており、ギャップ測定手段および基準ギャップ測定手段は、ノズル面に代えてサブキャリッジの下面との距離を計測し、この計測結果からノズル面とのギャップをそれぞれ求めることが、好ましい。
【００３２】
この構成によれば、計測位置の自由度を高めることができると共に、機能液滴吐出ヘッドの並び等により、計測位置を替える必要がなくなる。したがって、各種ギャップの測定を簡単に行うことができる。
【００３３】
本発明の液滴吐出装置は、上記したワークギャップ調整装置を、備えたことを特徴とする。
【００３４】
この構成によれば、ヘッドユニットを支持するＹ軸テーブルやワークを支持するＸ軸テーブルにおける機械的な精度を加味して、ワークギャップを調整することができるため、描画精度の極めて高い液滴吐出装置を提供することができる。
【００３５】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００３６】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００３７】
これらの構成によれば、ワークギャップを精度良く調整することができ、描画精度の極めて高い液滴吐出装置液滴吐出装置を用いて描画処理を行うことで、高品質な電気光学装置を効率良く製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００３８】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００３９】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、液晶表示装置等のＦＰＤの製造ラインに組み込まれた描画システムに設置されており、特殊なインクや発光性の樹脂液等の機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入して、カラーフィルタ等のワーク上に機能液滴による成膜部を形成するものである。なお、以下に挙げる基板のサイズ等の値は概数である。
【００４１】
図１ないし図３に示すように、液滴吐出装置１は、機能液滴吐出ヘッド６２を搭載した描画装置１１と、描画装置１１に添設され、定期フラッシングボックス１１４等を有するメンテナンス手段１２とを備え、メンテナンス手段１２により機能液滴吐出ヘッド６２の機能維持・回復を行うと共に、描画装置１１によりワークＷ上に機能液を吐出する描画処理を行うようにしている。さらに、この液滴吐出装置１には、描画システム全体を統括制御する上位コンピュータ２に接続され液滴吐出装置１の各部を制御するコントローラ１３（制御部１２２、図６参照）等が組み込まれている。
【００４２】
また、図示しないが、液滴吐出装置１には、ロボットアームで構成されたワーク搬出入装置が添設されており、このワーク搬出入装置を介して、液滴吐出装置１にワークＷが導入される。このワークＷは、石英ガラスやポリイミド等の樹脂で構成された透明基板である。なお、この液滴吐出装置１は、大小様々なサイズのワークＷに対して描画処理を行うことができるが、本実施形態では、搭載可能な最大規格（１５００ｍｍ×１８００ｍｍ、厚さ５．０００ｍｍ）のワークＷに対する描画処理について説明する。
【００４３】
まず、液滴吐出装置１における描画装置１１について説明する。描画装置１１は、それぞれ複数（１２個）の機能液滴吐出ヘッド６２を搭載したヘッドユニット６１およびメインキャリッジ６３から成る複数（７個）のキャリッジユニット２１と、床上に設置され、ワークＷを載置する吸着テーブル４１を有し、ワークＷをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブル２２と、Ｘ軸テーブル２２を跨ぐようにして配設され、７個のキャリッジユニット２１を個々にＹ軸方向に移動させるＹ軸テーブル２３と、ワークＷやキャリッジユニット２１等を画像認識する各種カメラを有する画像認識手段２６と、後述するワークギャップＧｗ（図７参照）を調整するワークギャップ調整装置２７とを備えている。また、図示しないが、各機能液滴吐出ヘッド６２は、圧力調整弁を介して、機能液を貯留する機能液タンクに接続されており、水頭圧が調整された機能液が供給されるようになっている。
【００４４】
そして、Ｘ軸テーブル２２によるワークＷの移動軌跡と、Ｙ軸テーブル２３によるキャリッジユニット２１の移動軌跡とが交わる領域が、描画処理を行う描画エリア３１となっており、また、Ｙ軸テーブル２３によるキャリッジユニット２１の移動軌跡上のＸ軸テーブル２２から外側に外れた領域が、ヘッドユニット６１を着脱（付替え）するための作業エリア３２となっている。なお、本実施形態では、作業エリア３２は、ヘッドユニット６１の機能維持（機能回復）のための領域を兼ねており、上記のメンテナンス手段１２が設置されているが、ヘッドユニット６１の着脱のための作業エリア３２とは別に、ヘッドユニット６１の機能維持のためのメンテナンスエリアを設けてもよい。
【００４５】
さらに、描画エリア３１および作業エリア３２の間は、絶対基準測定エリア３３となっており、ワークギャップ調整装置２７の基準ギャップ測定装置１５２（後述する）が設置されている。すなわち、Ｙ軸テーブル２３によるキャリッジユニット２１の移動軌跡上には、描画エリア３１、絶対基準測定エリア３３および作業エリア３２が、この順で並んでいる。一方、Ｘ軸テーブル２２の手前側の領域は、上記のワーク搬出入装置により、液滴吐出装置１に対するワークＷの搬出入を行うワーク搬出入エリア３４となっている。
【００４６】
Ｘ軸テーブル２２は、導入されたワークＷを吸着セットする吸着テーブル４１と、吸着テーブル４１の下部に接続され、吸着テーブル４１を介してワークＷのθ位置を微調整（θ補正）するワークθ軸テーブル４２と、ワークθ軸テーブル４２を支持するセットテーブル４３と、セットテーブル４３をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ４４と、Ｘ軸方向に延在し、吸着テーブル４１を介してワークＷをＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｘ軸リニアモータに並設され、Ｘ軸エアースライダ４４の移動を案内する一対のＸ軸ガイドレール４５，４５と、吸着テーブル４１の位置を把握するためのＸ軸リニアスケール（図示省略）とを備えている。そして、一対のＸ軸リニアモータを駆動すると、一対のＸ軸ガイドレール４５，４５をガイドにしながら、Ｘ軸エアースライダ４４をＸ軸方向に移動し、吸着テーブル４１にセットされたワークＷがＸ軸方向に移動する。
【００４７】
なお、本実施形態では、ワークＷ（吸着テーブル４１）がワーク搬出入エリア３４側から描画エリア３１側（図２の下側から上側）に移動するときを往動とし、描画エリア３１側からワーク搬出入エリア３４側（同図の上側から下側）に移動するときを復動とする。
【００４８】
吸着テーブル４１は、平面視略正方形に形成され、その一辺の長さは、最大規格のワークＷの長辺の長さに合わせて１８００ｍｍに設定されており、ワークＷを縦置き（ワークＷの長辺をＸ軸方向と平行にする）および横置き（ワークＷの長辺をＹ軸方向と平行にする）のいずれか任意の向きで、且つセンター中心でセット可能になっている。もっとも、本実施形態では、ワークＷを横置きでセットするものとする。
【００４９】
なお、セットテーブル４３上には、吸着テーブル４１に対しワークＷの往動側（図３の左側）に隣接して、ドット抜け検査台１１６が配設されている。このドット抜け検査台１１６には、上面に巻取り自在な検査紙が張設されており、この検査紙に対して全機能液滴吐出ヘッド６２から検査用に機能液滴を吐出させ、その描画結果を後述するドット認識カメラ１０２で画像認識することで、ドット抜け、飛行曲がり等の不良吐出の有無が検査（ドット抜け検査）される。さらに、セットテーブル４３上には、ドット抜け検査台１１６に対しワークＷの往動側に隣接して、後述する定期フラッシングボックス１１４が設けられている。
【００５０】
一方、Ｙ軸テーブル２３は、描画エリア３１および作業エリア３２間を架け渡すと共に、描画エリア３１と、基準ギャップ測定装置１５２の直上部やメンテナンス手段１２の各ユニットの直上部との相互間で、個々に移動させるものであって、Ｙ軸方向に延在する前後一対の支持スタンド５６，５６上に支持されている。この各支持スタンド５６は、４本の支柱５７と、４本の支柱５７間を架渡した柱状支持部材（図示省略）と、を有している。
【００５１】
Ｙ軸テーブル２３は、７個のキャリッジユニット２１をそれぞれ垂設する７個のブリッジプレート５１がＹ軸方向に整列するよう、これを両持ちで支持する７組のＹ軸スライドテーブル（図示省略）と、Ｙ軸方向に延在し、各組のＹ軸スライドテーブルを介して各ブリッジプレート５１をＹ軸方向に移動させる前後一対のＹ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｙ軸方向に延在し、７個のブリッジプレート５１の移動を案内する前後各２本（計４本）のＹ軸ガイドレール（図示省略）と、各キャリッジユニット２１の移動位置を検出するＹ軸リニアスケール（図示省略）とを備えている。
【００５２】
そして、一対のＹ軸リニアモータを駆動すると、７組のＹ軸スライドテーブルをそれぞれ独立して移動させ、７個のキャリッジユニット２１を個別にＹ軸方向へ移動させることができる。もちろん、７組のＹ軸スライドテーブルを同時にＹ軸方向に移動させることにより、７個のキャリッジユニット２１を一体としてＹ軸方向に移動させることも可能である。
【００５３】
また、このＹ軸テーブル２３は、大型の基板Ｗに対応して、移動ストロークが長くなっている。すなわち、後述するように、基板ＷのＹ軸方向の寸法（１８００ｍｍ）に対応して、７個のキャリッジユニット２１が搭載される共に、７個のキャリッジユニット２１に対応して、メンテナンス手段１２の各ユニットが設けられているため、その移動ストロークは、約５．５ｍである。
【００５４】
７個のキャリッジユニット２１は、Ｙ軸テーブル２３の７個のブリッジプレート５１によりそれぞれ垂設されてＹ軸方向に並んでおり、各キャリッジユニット２１は、サブキャリッジ６４（キャリッジ）を介して１２個の機能液滴吐出ヘッド６２を搭載したヘッドユニット６１と、ヘッドユニット６１を吊設するメインキャリッジ６３とから構成されている。
【００５５】
図５に示すように、ヘッドユニット６１は、サブキャリッジ６４と、サブキャリッジ６４に搭載した複数（１２個）の機能液滴吐出ヘッド６２と、対応する機能液滴吐出ヘッド６２に併設するようにしてサブキャリッジ６４に搭載した圧力調整弁２５とを備えている。さらに、各機能液滴吐出ヘッド６２は、ヘッド保持部材（図示省略）を介して、サブキャリッジ６４に個々に取り付けられており、サブキャリッジ６４の下面６４ａ（後述する支持プレート６５の下面）と機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面８３（後述する）とは、予め精度良く上下方向に位置決めされている。すなわち、サブキャリッジ６４の下面６４ａとノズル面８３との距離（ヘッド突出距離Ｄｈ）は、所定の値に精度良く管理されており、例えば１０．０００ｍｍである（図７参照）。
【００５６】
各サブキャリッジ６４は、１２個の機能液滴吐出ヘッド６２および１２個の圧力調整弁２５をそれぞれ位置決め固定する平面視略平行四辺形の支持プレート６５と、画像認識を前提として、各キャリッジユニット２１（ヘッドユニット６１）をＸ軸、Ｙ軸およびθ軸方向に位置決め（位置認識）するための基準となる一対の基準ピン（図示省略）とを有している。
なお、図示しないが、各サブキャリッジ６４には、機能液滴吐出ヘッド６２および圧力調整弁２５に加えて、ワークギャップＧｗを測定するワークギャップ測定装置１５１（後述する）が着脱自在に搭載されている。
【００５７】
各メインキャリッジ６３は、サブキャリッジ６４（支持プレート６５）を支持するキャリッジ本体６６と、キャリッジ本体６６を吊設すると共に、キャリッジ本体６６の上部に連結され、キャリッジ本体６６を介して、ヘッドユニット６１のθ位置をモータ駆動で微調整（θ軸補正）可能なヘッドθ軸テーブル６７と、ヘッドθ軸テーブル６７の上部に連結され、ヘッドθ軸テーブル６７およびキャリッジ本体６６を介して、ヘッドユニット６１のＺ位置をモータ駆動で微調整（Ｚ軸補正）可能なヘッドＺ軸テーブル６８とを有している。
【００５８】
ヘッドＺ軸テーブル６８は、図示しないが、ヘッドθ軸テーブル６７を支持する左右一対の支持ブロックと、左右一対の支持ブロックを上下方向にスライド自在に支持する昇降ブロックと、支持ブロックの移動を案内する左右一対のヘッド昇降ガイドと、昇降ブロックに螺合したヘッド昇降ボールねじと、ヘッド昇降ボールねじの一端に連結したヘッド昇降モータ（ブレーキ付サーボモータ）と、で構成されている。そして、ヘッド昇降モータが正逆回転すると、昇降ブロックを介して支持ブロックが昇降し、ヘッドユニット６１が上下方向に移動するようになっている。これにより、厚みの異なるワークＷに対し簡単にギャップ調整を行うことができる。なお、ヘッドＺ軸テーブル６８は、ワークギャップ調整装置２７のギャップ調整手段およびギャップ補正手段としても機能している（詳細は後述する）。
【００５９】
図４に示すように、機能液滴吐出ヘッド６２は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針７２を有する機能液導入部７１と、機能液導入部７１に連なる２連のヘッド基板７３と、機能液導入部７１の下方（同図では上方）に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体７４とを備えている。接続針７２は、圧力調整弁２５を介して機能液タンクに接続され、機能液滴吐出ヘッド６２のヘッド内流路に機能液を供給する。また、ヘッド本体７４は、ピエゾ素子等で構成されたキャビティ８１と、２本のノズル列８４，８４を相互に平行に形成したノズル面８３を有するノズルプレート８２とを有している。また、ヘッド基板７３には、２連のコネクタ７５，７５が設けられており、各コネクタ７５は、フレキシブルフラットケーブルを介してヘッドドライバ１３１（図６参照）に接続されている。
【００６０】
各ノズル列８４の長さは、例えば１インチ（略２５．４ｍｍ）であって、各ノズル列８４は１８０個のノズル８５が等ピッチ（略１４０μｍ）で並べられて構成されている。なお、一方のノズル列８４は、他方のノズル列８４に対して、ノズル列方向に半ピッチ（７０μｍ）分ずれており、ドット密度（解像度）は３６０ｄｐｉである。
【００６１】
図５に示すように、各機能液滴吐出ヘッド６２は、サブキャリッジ６４に搭載された状態では、２本のノズル列８４，８４がＹ軸方向と平行になるように支持プレート６５に固定されている。そして、各サブキャリッジ６４の１２個の機能液滴吐出ヘッド６２は、その幅方向（Ｘ軸方向）に密に重ね合わせると共に、全吐出ノズル８５（１６０×１２個）がＹ軸方向に連続するようにして、階段状に配設されている。
【００６２】
そして、各キャリッジユニット２１の全（１２個）機能液滴吐出ヘッド６２のそれぞれ全（１６０個）吐出ノズルにより、部分描画ラインが構成され、さらに、７個の部分描画ラインがＹ軸方向に連続して、１の描画ラインが構成される。この描画ラインの長さ（１８９７ｍｍ：２５．４ｍｍ／１８０×１６０×１２×７）は、ワークＷのＹ軸方向の描画幅（１８００ｍｍ）に対応しているため、１回の吐出走査でワークＷの全域に描画処理（フルライン方式）を行うことができる。
【００６３】
図１ないし図３に示すように、画像認識手段２６は、ワーク搬出入エリア３４の前後両側に臨むように配設され、ワークＷの両長辺部分にそれぞれ形成された２つのワークアライメントマーク（図示省略）をそれぞれ画像認識する２台のワーク認識カメラ１０１と、Ｘ軸テーブル２２のＸ軸エアースライダ４４に連結され、各サブキャリッジ６４の２つの基準ピンを画像認識するヘッド認識カメラ（図示省略）と、上記のＹ軸テーブル２３に添設されたカメラ移動機構（図示省略）によりＹ軸方向に移動可能にそれぞれ搭載され、ドット抜け検査台１１６上に吐出された機能液滴（ドット）を画像認識する２台のドット認識カメラ１０２とを有している。これらの各種カメラの画像認識結果に基づいて、上述したワークＷやヘッドユニット６１の位置補正が行われる。
【００６４】
次に、図１ないし図３を参照して、液滴吐出装置１におけるメンテナンス手段１２について説明する。メンテナンス手段１２は、作業エリア３２に配設され、機能液滴吐出ヘッド６２内で増粘した機能液を除去するための吸引（クリーニング）を行う７個の吸引ユニット１１１と、機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面８３を払拭するワイピングユニット１１２と、７個の吸引ユニット１１１およびワイピングユニット１１２をそれぞれ個別に昇降可能に支持する８個のユニット昇降機構（図示省略）と、これらを支持するアングル架台１１８とを備えている。さらに、メンテナンス手段１２は、上記のセットテーブル４３上に配設された定期フラッシングボックス１１４と、吸着テーブル４１の前後両側に配設された一対の描画前フラッシングボックス１１５，１１５とを備えている。
【００６５】
７個の吸引ユニット１１１は、７個のキャリッジユニット２１にそれぞれ対応しており、各吸引ユニット１１１は、各キャリッジユニット２１に対して下方から臨み、１２個の機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面８３にそれぞれ封止させる１２個のキャップ（図示省略）を備えている。これにより、非稼動時等に、各機能液滴吐出ヘッド６２のノズル８５の機能液が乾燥して吐出機能が低下することを防止できる。さらに、各キャップをノズル面８３に封止させた状態でノズル８５から機能液を吸引し、機能液滴吐出ヘッド６２内で増粘した機能液を排出する。
【００６６】
ワイピングユニット１１２は、吸引ユニット１１１の描画エリア３１側に配置されており、機能液滴吐出ヘッド６２の吸引等により、機能液が付着して汚れたノズル面８３を、ワイピングシート１１２ａを押し当てて拭き取るものである。そして、上記の吸引処理と、このワイピングとにより、ノズル詰まりの生じた機能液滴吐出ヘッド６２の吐出機能を回復させることができる。
【００６７】
定期フラッシングボックス１１４は、ワークＷの交換時等に行う定期フラッシングを受けるためのものである。上記のセットテーブル４３上に設けられており、ワークＷの交換のために吸着テーブル４１がワーク搬出入エリア３４に臨むとき、定期フラッシングボックス１１４が描画エリア３１に臨み、機能液滴吐出ヘッド６２の全ノズル８５からの捨て吐出を受けるようになっている。この定期フラッシングにより、待機中の機能液滴吐出ヘッド６２のノズル詰まりを防止できる。
【００６８】
一対の描画前フラッシングボックス１１５，１１５は、ワークＷに機能液を吐出させる直前（一連の描画動作中）に行う描画前フラッシングを受けるためのものである。吸着テーブル４１をＸ軸方向に挟むように配設されており、ワークＷの往復動に伴う機能液滴吐出ヘッド６２の吐出駆動の直前に行われる全ノズル８５（吐出ノズル）からの捨て吐出を受けるようになっている。この描画前フラッシングにより、機能液滴吐出ヘッド６２からの機能液滴の吐出が安定した状態で、ワークＷに機能液滴を吐出することができる。
【００６９】
次に、図６を参照して、液滴吐出装置１全体の制御系について説明する。液滴吐出装置１の制御系は、基本的に、上記の上位コンピュータ２と、機能液滴吐出ヘッド６２、Ｘ軸テーブル２２、Ｙ軸テーブル２３、メンテナンス手段１２等を駆動する各種ドライバを有する駆動部１２１と、駆動部１２１を含め液滴吐出装置１全体を統括制御する制御部１２２（コントローラ１３）とを備えている。
【００７０】
上位コンピュータ２は、コントローラ１３に接続されたコンピュータ本体１２６に、キーボード１２７や、キーボード１２７による入力結果等を画像表示するディスプレイ１２８等が接続されて構成されている。
【００７１】
駆動部１２１は、機能液滴吐出ヘッド６２を吐出駆動制御するヘッドドライバ１３１と、Ｘ軸テーブル２２およびＹ軸テーブル２３の各モータをそれぞれ駆動制御する移動用ドライバ１３２と、メンテナンス手段１２の吸引ユニット１１１、ワイピングユニット１１２およびユニット昇降機構を駆動制御するメンテナンス用ドライバ１３３とを備えている。
【００７２】
制御部１２２は、ＣＰＵ１４１と、ＲＯＭ１４２と、ＲＡＭ１４３と、Ｐ−ＣＯＮ１４４とを備え、これらは互いにバス１４５を介して接続されている。ＲＯＭ１４２は、ＣＰＵ１４１で処理する制御プログラム等を記憶する制御プログラム領域と、描画動作や画像認識を行うための制御データ等を記憶する制御データ領域を有している。
【００７３】
ＲＡＭ１４３は、各種レジスタ群のほか、ワークＷに機能液の吐出を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部、ワークＷおよび機能液滴吐出ヘッド６２の位置データを記憶する位置データ記憶部等の各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。
【００７４】
Ｐ−ＣＯＮ１４４には、駆動部１２１の各種ドライバのほか、画像認識手段２６の各種カメラ、ワークギャップ調整装置２７の各種測定装置が接続されており、ＣＰＵ１４１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ１４４は、上位コンピュータ２からの各種指令等をそのままあるいは加工してバス１４５に取り込むと共に、ＣＰＵ１４１と連動して、ＣＰＵ１４１等からバス１４５に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部１２１に出力する。
【００７５】
そして、ＣＰＵ１４１は、ＲＯＭ１４２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ１４４を介して各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ１４３内の各種データ等を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ１４４を介して駆動部１２１等に各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１全体を制御している。例えば、ＣＰＵ１４１は、機能液滴吐出ヘッド６２、Ｘ軸テーブル２２およびＹ軸テーブル２３を制御して、所定の液滴吐出条件および所定の移動条件でワークＷに描画を行う。
【００７６】
次に、図１ないし図３を参照して、描画装置１１によるワークＷへの一連の描画動作およびその間に行われるメンテナンス処理について説明する。まず、上記のワーク認識カメラ１０１により、セットされたワークＷのワークアライメントマークを撮像し、その画像認識結果に基づいて、ワークθ軸テーブル４２によるθ軸方向の位置補正と、ワークＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置データ補正とを行う。
【００７７】
なお、各キャリッジユニット２１のヘッドユニット６１については、ヘッド認識カメラの画像認識結果に基づいて、予め位置補正されていると共に、後述するワークギャップ調整処理により、機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面８３とワークＷの上面Ｗａとの間隙であるワークギャップＧｗが、所定距離（例えば０．１５ｍｍ）に調整されており、所定のワークギャップＧｗで、吐出処理が可能となっている。
【００７８】
一方、このワークＷのセットおよびワークＷの位置補正が行われている間、定期フラッシングボックス１１４上に臨んだ全機能液滴吐出ヘッド６２の各ノズル８５から、定期フラッシングを行い、ノズル８５の乾燥を防いでいる。ここで、前回のワークＷに対する描画処理時に得られたドット認識カメラ１０２の認識結果に基づいて、あるキャリッジユニット２１の機能液滴吐出ヘッド６２について、ドット抜け（不吐出）等の吐出不良が確認された場合は、上記の定期フラッシングを一時中止し、Ｙ軸テーブル２３を駆動して、そのキャリッジユニット２１を作業エリア３２に移動させ、吸引ユニット１１１およびワイピングユニット１１２により吐出機能を回復させた後、そのキャリッジユニット２１を描画エリア３１に戻すようにし、あるいは、そのキャリッジユニット２１のヘッドユニット６１を付替えするようにする。
【００７９】
このようにして、ワークＷに対する吐出動作の準備が整うと、描画装置１１は、ワークＷをＸ軸テーブル２２によりＸ軸方向に往動させると共に、これに同期して７個のキャリッジユニット２１の各機能液滴吐出ヘッド６２を選択的に吐出駆動させて、描画エリア３１に臨んだワークＷの上面Ｗａにフルライン方式で機能液の吐出（描画）を行う。続いて、ワークＷを復動させながら、再度ワークＷに対する機能液の吐出を行う。このようにワークＷのＸ軸方向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７２の駆動とを複数回（例えば往動２回、復動２回）繰り返すことで、各画素領域５０７ａに所定量の機能液が吐出・着弾し、ワークＷに対する描画が完了する。
【００８０】
次に、図７を参照して、本発明の主要部であるワークギャップ調整装置２７について詳細に説明する。ワークギャップ調整装置２７は、各キャリッジユニット２１のサブキャリッジ６４に搭載されると共に、描画エリア３１に臨んだ各キャリッジユニット２１に対し、ワークギャップＧｗをそれぞれ測定するワークギャップ測定装置１５１と、絶対基準測定エリア３３に配設されると共に、絶対基準測定エリア３３に臨んだ各キャリッジユニット２１に対し、機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面８３までの距離を測定する基準ギャップ測定装置１５２とを備えている。
【００８１】
さらに、ワークギャップ調整装置２７は、ワークギャップ測定装置１５１による測定結果に基づいて、ワークギャップＧｗが所定の距離となるように、キャリッジユニット２１毎にワークギャップＧｗを調整するギャップ調整手段と、基準ギャップ測定装置１５２の測定結果に基づいて、ワークギャップ調整装置２７により調整したワークギャップＧｗを補正するギャップ補正手段とを備えているが、本実施形態では、各キャリッジユニット２１のヘッドＺ軸テーブル６８を、制御系を含んでこのギャップ調整手段およびギャップ補正手段として機能させている。
【００８２】
ワークギャップ測定装置１５１は、マイクロメータで構成されており、モータ駆動で伸縮する測定子１５１ａを有している。ワークギャップ測定装置１５１は、サブキャリッジ６４の下面６４ａの上下方向の位置がゼロ点となるように、サブキャリッジ６４に精度良く搭載されており、測定子１５１ａをワークＷの上面Ｗａに突き当てることで、サブキャリッジ６４の下面６４ａとワークＷの上面Ｗａとの上下方向の距離（キャリッジギャップＧｃ）を計測することができる。また、上述したように、サブキャリッジ６４の下面６４ａと機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面８３との距離であるヘッド突出距離Ｄｈは、精度良く管理されている。したがって、各ワークギャップ測定装置１５１によるキャリッジギャップＧｃの計測結果と、所定のヘッド突出距離Ｄｈとから、各キャリッジユニット２１についてワークギャップＧｗを測定することができる。求められたワークギャップＧｗは、上記のコントローラ１３に出力される。
なお、ワークギャップ測定装置１５１として、マイクロメータのほか、レーザ距離計等の非接触式の距離測定装置を用いてもよい。
【００８３】
基準ギャップ測定装置１５２は、単一のレーザ距離計で構成されており、ワークＷの上面Ｗａを絶対基準面Ａｆとし、絶対基準測定エリア３３に臨んだキャリッジユニット２１のヘッドユニット６１の絶対高さ位置を測定するものであって、絶対基準面Ａｆからサブキャリッジ６４の下面６４ａまでの上下方向の距離（絶対キャリッジギャップＣａ）を計測するものである。そして、絶対キャリッジギャップＣａの計測結果と、所定のヘッド突出距離Ｄｈとから、絶対基準面Ａｆと機能液滴吐出ヘッド６２のノズル面８３との間隙である基準ギャップＧｓを測定することができる。求められた基準ギャップＧｓは、コントローラ１３に出力される。
なお、本実施形態の基準ギャップ測定装置１５２は、レーザ光の反射を利用して上記位置を精度良く測定するものであるが、画像認識によるセンサ、受発光素子から成るフォトセンサ等、各種の測定装置を用いることができる。
【００８４】
また、基準ギャップ測定装置１５２は、吸着テーブル４１の上面４１ａの上下方向の位置を基準として、ゼロ点補正されており、これに、予めコントローラ１３に入力されたワークＷの厚さＷｄ（規格値：５．０００ｍｍ）を加味して、ワークＷの上面Ｗａを絶対基準面としている。ここで、基準ギャップ測定装置１５２のゼロ点補正は、例えば、上記のセットテーブル４３の絶対基準測定エリア３３側に、吸着テーブル４１の上面４１ａとの間で位置管理された補正基準面を有するキャリブレーション治具を設け、補正基準面との上下方向の距離を測定することで行うようにする。また、ワークＷの厚さＷｄは、規格値に代えて、吸着テーブル４１の移動軌跡上に、セットされたワークＷの上面Ｗａの上下方向の位置と吸着テーブル４１の上面４１ａの上下方向の位置とを測定するワーク厚さ測定装置（レーザ距離計）を設け、この測定値に基づいて算出されたワークＷの厚さＷｄを用いてもよい。
【００８５】
以上のように、ワークギャップ測定装置１５１および基準ギャップ測定装置１５２は、ノズル面８３に代えてサブキャリッジ６４の下面６４ａとの距離（キャリッジギャップＧｃ、絶対キャリッジギャップＣａ）を計測し、この計測結果からノズル面８３とのギャップをそれぞれ求めるようにしている。これによれば、計測位置の自由度を高めることができると共に、機能液滴吐出ヘッド６２の並び等により、計測位置を変える必要がなくなる。したがって、各種ギャップの測定を簡単に行うことができる。
【００８６】
以下、図８ないし図１７を参照して、本実施形態の液滴吐出装置１のワークギャップ調整処理における一連の動作について説明する。このワークギャップ調整処理は、ヘッドユニット６１の新規導入時や、上記の描画処理の準備段階におけるメンテナンス処理やヘッドユニット６１の交換時等に行われるものである。
【００８７】
図９は、吸着テーブル４１にセットされ、描画エリア３１に臨んだワークＷに対し、７個のキャリッジユニット２１がそれぞれ実描画位置に臨んだ状態を示している。この場合、本実施形態では、７個のキャリッジユニット２１を支持するＹ軸テーブル２３の微妙な撓みにより、図示左側から１番目のキャリッジユニット２１（以下、図示左側からｎ番目のキャリッジユニット２１をｎ番キャリッジユニット２１という。）のヘッドユニット６１の高さ位置が、設定値よりも０．０２ｍｍ（図では＋＋で示す）高くなっており、２番キャリッジユニット２１のヘッドユニット６１の高さ位置が、設定値よりも０．０１ｍｍ（図では＋で示す）高くなっている。一方、ワークＷを支持する吸着テーブル４１の撓みにより、６番キャリッジユニット２１に対応する描画部位の高さ位置が、設定値よりも０．０１ｍｍ（図では−で示す）低くなっている。
【００８８】
まず、ギャップ測定工程（図８のＳ１１）として、描画エリア３１に臨んだ各キャリッジユニット２１（ヘッドユニット６１）に対し、ワークギャップＧｗをそれぞれ測定する。この場合、３番・４番・５番および７番キャリッジユニット２１については、ワークギャップＧｗはそれぞれ０．１５ｍｍであるが、１番・２番および６番キャリッジユニット２１については、上記のようにＹ軸テーブル２３および吸着テーブル４１の撓みにより、ワークギャップＧｗはそれぞれ０．１７ｍｍ、０．１６ｍｍ、０．１６ｍｍであり、これらの測定結果が、コントローラ１３に出力される。なお、図１０は、ワークギャップ測定装置１５１の測定子１５１ａを、０．１５ｍｍ分だけ伸ばした状態を示している。
【００８９】
なお、このギャップ測定工程（Ｓ１１）においては、描画対象となるワークＷに代えて、当該ワークＷと同一の厚さに形成された測定基準治具（ガラス板等）を吸着テーブル４１上にセットし、この測定基準治具とのギャップを測定してもよい。
【００９０】
続いて、ギャップ調整工程（Ｓ１２）として、ギャップ測定工程（Ｓ１１）によるワークギャップＧｗの測定結果に基づいて、ワークギャップＧｗが所定距離（０．１５ｍｍ）となるように、キャリッジユニット２１毎に、ヘッドＺ軸テーブル６８を制御してヘッドユニット６１を昇降させ、ワークギャップＧｗを調整する。具体的には、１番キャリッジユニット２１については、０．０２ｍｍ分ヘッドユニット６１を下降させ、２番キャリッジユニット２１については、０．０１ｍｍ分ヘッドユニット６１を下降させ、６番キャリッジユニット２１については、０．０１ｍｍ分ヘッドユニット６１を下降させる（図１１参照）。
【００９１】
これによれば、フルライン方式の描画を行う各ヘッドユニット６１の実描画位置でのワークギャップＧｗを精度良く調整することができる。すなわち、７個のヘッドユニット６１を支持するＹ軸テーブル２３やワークＷを支持するＸ軸テーブル２２に、微妙な撓みがあっても、各ヘッドユニット６１においてこれと対峙するワークＷの一部（描画部位）との間で、ワークギャップＧｗを精度良く調整することができる。
【００９２】
そして、各ヘッドユニット６１においてワークギャップＧｗが精度良く調整された状態で、描画処理を行っていく。ところが、描画処理を行っていくうちに、あるキャリッジユニット２１（例えば６番キャリッジユニット２１）の機能液滴吐出ヘッド６２に（致命的な）吐出不良が生ずるおそれがある（図１２参照）。この場合、６番キャリッジユニット２１（およびそれよりも作業エリア３２側の７番キャリッジユニット２１）を、作業エリア３２に臨ませ、６番キャリッジユニット２１に搭載されたヘッドユニット６１を付替え（交換）することになる。
【００９３】
まず、基準ギャップ測定工程（Ｓ１３）として、７番キャリッジユニット２１および６番キャリッジユニット２１を作業エリア３２に臨ませる前に、絶対基準測定エリア３３に順に臨ませる。そして、６番・７番キャリッジユニット２１のヘッドユニット６１に対し、基準ギャップ測定装置１５２により、基準ギャップＧｓを測定する。この場合、上記のギャップ調整工程（Ｓ１２）により、各ヘッドユニット６１のワークギャップＧｗが調整されているため、７番キャリッジユニット２１については、基準ギャップＧｓは０．１５ｍｍであるが、６番キャリッジユニット２１については、基準ギャップＧｓは０．１４ｍｍとなる（図１３参照）。なお、全てのキャリッジユニット２１ついて基準ギャップ測定を行い、その測定値を記憶しておいてもよい。
【００９４】
なお、上述したように、基準ギャップ測定装置１５２の絶対基準面がワークＷの表面Ｗａと同一であることから、ヘッドユニット６１の基準ギャップＧｓの値が、Ｘ軸テーブル２２やＹ軸テーブル２３の各部における微妙な撓み等を直接的に表す値となるため、これらテーブルの機械的な精度を把握することができる。
【００９５】
この基準ギャップ測定工程（Ｓ１３）の後、６番キャリッジユニット２１に対し、ヘッドユニット６１の付替えを行う（図１４参照）。
【００９６】
ヘッドユニット６１の付替えの後、描画前ギャップ測定工程（Ｓ１４）として、６番・７番キャリッジユニット２１を描画エリア３１に戻す前に、絶対基準測定エリア３３に順に臨ませる。そして、上記の基準ギャップＧｓの測定と同様にして、基準ギャップＧｓに対応する描画前ギャップＧｄを測定する。この場合、７番キャリッジユニット２１については、描画前ギャップＧｄは０．１５ｍｍであり、基準ギャップＧｓと変わらないが、６番キャリッジユニット２１については、描画前ギャップＧｄは０．１５ｍｍであり、基準ギャップＧｓと比較して０．０１ｍｍ増えている（図１５参照）。この基準ギャップＧｓと描画前ギャップＧｄとのギャップ差は、作業エリア３２におけるヘッドユニット６１の付替えの結果生じた狂いであると判断できる。
【００９７】
そこで、ギャップ補正工程（Ｓ１５）として、描画前ギャップ測定工程（Ｓ１４）で求められたギャップ差に基づいて、ギャップ調整工程（Ｓ１２）で調整したワークギャップＧｗを補正する。具体的には、６番キャリッジユニットについて、ヘッドＺ軸テーブル６８を制御してヘッドユニット６１を０．０１ｍｍ下降させる（図１６参照）。その後、６番・７番キャリッジユニット２１を描画エリア３１に戻す。
【００９８】
このようにすることで、上記の狂いが生じても、描画エリア３１に戻った各ヘッドユニット６１のワークギャップＧｗを高精度に維持することができる（図１７参照）。なお、本実施形態では、７番キャリッジユニット２１についても、基準ギャップＧｓおよび描画前ギャップＧｄの測定を行ったが、作業エリアにおいて生ずる上記の狂いは、ヘッドユニット６１の付替えが主な原因であるから、新たにヘッドユニット６１を装着した６番キャリッジユニット２１についてのみ、基準ギャップＧｓ、描画前ギャップＧｄの測定およびギャップ補正を行ってもよい。これにより、作業の効率化を図ることができる。
【００９９】
なお、本実施形態では、複数のキャリッジユニット２１を搭載したフルライン形式の液滴吐出装置１について説明したが、単一のキャリッジユニット２１を搭載し、ワークＷをＸ軸方向に相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッド６２を吐出駆動させる主走査と、機能液滴吐出ヘッド６２をＹ軸方向に移動させる副走査とを繰り返し行って描画処理を行う液滴吐出装置についても、上記のワークギャップ調整処理を行うことが有効である。すなわち、Ｙ軸テーブルやＸ軸テーブルに微妙な撓みがあっても、また作業エリアにおけるヘッドユニットの付替え等により狂いが生じても、ワークＷ上におけるヘッドユニットのワークギャップを精度良く且つ極めて簡単に調整することができる。この場合、機能液滴吐出ヘッド６２の副走査位置に対応して、各キャリッジユニット２１につき、Ｙ軸方向の複数箇所においてワークギャップＧｗの測定を行うようにしてもよい。
【０１００】
さらに、本実施形態では、基準ギャップ測定工程（Ｓ１３）以下の工程を、作業エリア３２においてヘッドユニット６１の付替えを行う場合について説明したが、作業エリア３２においてメンテナンス手段１２により吸引処理やワイピング処理を行う場合にも、これらのメンテナンスにより狂いが生ずるおそれがあるため、この場合も、基準ギャップ測定工程（Ｓ１３）以下の工程を行うことが有効である。
【０１０１】
また、ギャップ調整工程（Ｓ１２）において、ヘッドＺ軸テーブル６８によりワークギャップＧｗの調整を行うことで、上記のように厚みの異なるワークＷに対し簡単にギャップ調整ができると共に、ワークギャップＧｗの微調整も簡単に行うことができる。同様に、ギャップ補正工程（Ｓ１５）において、ヘッドＺ軸テーブル６８によりワークギャップＧｗの補正を行うことで、ワークギャップＧｗの補正に支障を生ずることなく、装置構造の単純化を図ることができる。
【０１０２】
以上のように、本実施形態の液滴吐出装置１のワークギャップ調整処理によれば、Ｘ軸テーブル２２やＹ軸テーブル２３に微妙な撓みがあっても、各ヘッドユニット６１においてこれと対峙するワークＷの一部との間で、ワークギャップＧｗを精度良く調整することができる。
【０１０３】
なお、本実施形態では、７つ（複数）のキャリッジユニット２１を有する液滴吐出装置１に本発明を適用した場合について説明したが、１つのキャリッジユニットを有する液滴吐出装置に対しても本発明を適用できることはいうまでもない。
【０１０４】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【０１０５】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１８は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１９は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１９（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【０１０６】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１９（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１９（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド６２により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【０１０７】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【０１０８】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１９（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド６２によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド６２を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１０９】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１９（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【０１１０】
図２０は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１９に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１１１】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【０１１２】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図２０において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１１３】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１１４】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１１５】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド６２で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド６２で行うことも可能である。
【０１１６】
図２１は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１１７】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【０１１８】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１１９】
図２２は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１２０】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【０１２１】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１２２】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１２３】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１２４】
次に、図２３は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【０１２５】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１２６】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【０１２７】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【０１２８】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【０１２９】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【０１３０】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【０１３１】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【０１３２】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１３３】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【０１３４】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１３５】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１３６】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図２４〜図３２を参照して説明する。
この表示装置６００は、図２４に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１３７】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図２５に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図２６に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１３８】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド６２を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１３９】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１の吸着テーブル４１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１４０】
図２７に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド６２から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図２８に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１４１】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１４２】
そして次に、図２９に示すように、各色のうちのいずれか（図２９の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１４３】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図３０に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１４４】
同様に、機能液滴吐出ヘッド６２を用い、図３１に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１４５】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１４６】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図３２に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１４７】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１４８】
次に、図３３は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１４９】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１５０】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１５１】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１５２】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１の吸着テーブル４１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド６２により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１５３】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１５４】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド６２から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１５５】
次に、図３４は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１５６】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１５７】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１５８】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１５９】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１６０】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図３５（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図３５（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１６１】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１６２】
【図１】液滴吐出装置の外観斜視図である。
【図２】液滴吐出装置の平面図である。
【図３】液滴吐出装置の側面図である。
【図４】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図５】複数のヘッドユニットの平面図である。
【図６】液滴吐出装置の制御系について説明したブロック図である。
【図７】液滴吐出装置のワークギャップ調整装置を説明する模式図である。
【図８】液滴吐出装置のワークギャップ調整処理における一連の動作を示すフローチャートである。
【図９】描画エリアに臨んだワークに対し、複数のキャリッジユニットがそれぞれ実描画位置に臨んだ状態を示す模式図である。
【図１０】図９に示す複数のキャリッジユニットに対するワークギャップ調整処理を説明する模式図である。
【図１１】図１０に続く、複数のキャリッジユニットに対するワークギャップ調整処理を説明する模式図である。
【図１２】図１１に続く、複数のキャリッジユニットに対するワークギャップ調整処理を説明する模式図である。
【図１３】図１２に続く、複数のキャリッジユニットに対するワークギャップ調整処理を説明する模式図である。
【図１４】図１３に続く、複数のキャリッジユニットに対するワークギャップ調整処理を説明する模式図である。
【図１５】図１４に続く、複数のキャリッジユニットに対するワークギャップ調整処理を説明する模式図である。
【図１６】図１５に続く、複数のキャリッジユニットに対するワークギャップ調整処理を説明する模式図である。
【図１７】図１６に続く、複数のキャリッジユニットに対するワークギャップ調整処理を説明する模式図である。
【図１８】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１９】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図２０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２２】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２３】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図２４】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図２５】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２６】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２７】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２８】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２９】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図３０】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３１】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３２】陰極の形成を説明する工程図である。
【図３３】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図３４】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図３５】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１６３】
１  液滴吐出ヘッド              １１  描画装置
１３  コントローラ                ２１  キャリッジユニット
２２  Ｘ軸テーブル                ２３  Ｙ軸テーブル
２６  画像認識手段                ２７  ワークギャップ調整手段
３１  描画エリア                  ３２  作業エリア
３３  絶対基準測定エリア          ４３  セットテーブル
６１  ヘッドユニット              ６２  機能液滴吐出ヘッド
６４  サブキャリッジ              ６８  ヘッドＺ軸テーブル
８３  ノズル面                  １２２  制御部
１５１  ワークギャップ測定装置    １５２  基準ギャップ測定装置
Ａｆ  絶対基準面                  Ｇｓ  基準ギャップ
Ｇｄ  描画前ギャップ              Ｇｗ  ワークギャップ
Ｗ  ワーク                      Ｗａ  上面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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