(57)【要約】【課題】  従来よりも改善された洗浄性、リンス性および防蝕性、さらには環境への負荷の少ないエレクトロニクス用洗浄剤を提供する。【解決手段】  下記（Ａ）〜（Ｆ）を含有することを特徴とするエレクトロニクス用洗浄剤である。（Ａ）；炭素数８〜２４の炭化水素および総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステルからなる群から選ばれる１種以上の疎水性化合物（Ｂ）；融点が２０℃以下で炭素数８〜２６の脂肪族アルコール（Ｃ）；一般式（１）で示されるグリコールエーテル（Ｄ）；防錆剤（Ｅ）；界面活性剤（Ｆ）；水Ｒ1−Ｏ−（ＸＯ）n−Ｒ2          （１）式中、Ｒ1は炭素数４〜８の炭化水素基、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜４の整数を示す。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ａ）〜（Ｆ）を含有することを特徴とするエレクトロニクス用洗浄剤。
（Ａ）；炭素数８〜２４の炭化水素および総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステルからなる群から選ばれる１種以上の疎水性化合物
（Ｂ）；融点が２０℃以下で炭素数８〜２６の脂肪族アルコール
（Ｃ）；一般式（１）で示されるグリコールエーテル
（Ｄ）；防錆剤
（Ｅ）；界面活性剤
（Ｆ）；水
Ｒ1−Ｏ−（ＸＯ）n−Ｒ2          （１）
［式中、Ｒ1は炭素数４〜８の炭化水素基、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜４の整数を示す。］
【請求項２】
防錆剤（Ｄ）が、一般式（２）または一般式（３）で示されるアミド基含有化合物からなる群から選ばれる１種以上の防錆剤であることを特徴とする請求項１記載の洗浄剤。
【化１】
2006199939.tif 000007
［式中、Ｒ3およびＲ5は炭素数３〜２４の炭化水素基、Ｒ4、Ｒ6およびＲ7は水素原子または炭素数１〜１２の炭化水素基、Ｚはカチオン基であり、ｎは１〜２０の整数を示す。］
【請求項３】
防錆剤（Ｄ）の含量が洗浄剤の全重量に基づいて０．０１〜２０重量％である請求項１または請求項２記載の洗浄剤。
【請求項４】
（Ｃ）、（Ｄ）および（Ｅ）のうちの、水１００ｇに対する２５℃での溶解度が５ｇ以上である親水性物質の合計重量が、洗浄剤の全重量に基づいて０．０１〜５０重量％である請求項１〜３いずれか記載の洗浄剤。
【請求項５】
洗浄剤の全重量に基づいて、４０〜８５重量％の（Ａ）、５〜２０重量％の（Ｂ）、１〜３０重量％の（Ｃ）、０．０１〜２０重量％の（Ｄ）、５〜４０重量％の（Ｅ）および５〜４０重量％の（Ｆ）を含有する請求項１〜４いずれか記載の洗浄剤。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか記載の洗浄剤を使用して、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬および浸漬揺動からなる群から選ばれる１種以上の方法で洗浄された後、リンスおよび乾燥することを特徴とする電子部品、治具またはスクリーン版の洗浄方法。
【請求項７】
電子部品が液晶パネルである請求項６記載の洗浄方法。
【請求項８】
請求項６記載の洗浄方法で洗浄されて得られる電子部品、治具またはスクリーン版。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種のエレクトロニクス製品の製造工程で使用される洗浄剤に関し、詳しくは電子部品（液晶パネル、プリント基板、サーマルヘッド、磁気ヘッドおよびシリコンウエハ等）、治具およびスクリーン版等に付着、残存する液晶、レジスト、フラックスおよびインク等を洗浄除去するための洗浄剤並びに洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、エレクトロニクス用洗浄剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルおよびポリオキシエチレンアルキルエーテル等の非イオン性界面活性剤と水から構成される水系洗浄剤（特許文献−１参照）；クメン、テトラデセンおよびジヘキシルエーテルなどの非水溶性溶剤と、アルコール、アルキルエーテルおよびアルキルアミンのアルキレンオキサイド付加物等の非イオン性界面活性剤から構成される非水系洗浄剤（特許文献−２参照）；並びに、アルコールのアルキレンオキサイド付加物等の非イオン性界面活性剤、エチルアルコールおよび水から構成される準水系洗浄剤（特許文献−３参照）などが提案されている。
【０００３】
【特許文献−１】特開平８−３３２３０５号公報
【特許文献−２】特開平４−２９２６９９号公報
【特許文献−３】特開平４−１７０５００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の洗浄剤では洗浄性およびリンス性は十分でなく、残存する各種の不要物を十分に洗浄することができなかった。特に、液晶パネル基板間のギャップが狭いもの（例えば２〜５μｍ）を洗浄する場合には、洗浄性およびリンス性が不十分であり、洗浄・リンス後の液晶パネルの金属部分がその後に腐食されやすいという問題があった。
またリンス液が環境に与える影響も問題となっており、従来の洗浄剤では環境への悪影響が懸念されている。本発明は、特に各種電子部品、治具、スクリーン版等の洗浄性、リンス性に優れ、電極や配線を腐蝕することなく、これらに残存する液晶、レジスト、フラックス、インク等の除去性に優れ、かつ環境への負荷の少ない洗浄剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。
本発明は、下記（Ａ）〜（Ｆ）を含有することを特徴とするエレクトロニクス用洗浄剤；
該洗浄剤を使用して、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬および浸漬揺動からなる群から選ばれる１種以上の方法で洗浄された後、リンスおよび乾燥することを特徴とする電子部品、治具またはスクリーン版の洗浄方法；並びに該洗浄方法で洗浄されて得られる電子部品、治具またはスクリーン版；である。
（Ａ）；炭素数８〜２４の炭化水素および総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステルからなる群から選ばれる１種以上の疎水性化合物
（Ｂ）；融点が２０℃以下で炭素数８〜２６の脂肪族アルコール
（Ｃ）；一般式（１）で示されるグリコールエーテル
（Ｄ）；防錆剤
（Ｅ）；界面活性剤
（Ｆ）；水
Ｒ1−Ｏ−（ＸＯ）n−Ｒ2          （１）
【０００６】
式中、Ｒ1は炭素数４〜８の炭化水素基、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜４の整数を示す。
【発明の効果】
【０００７】
本発明のエレクトロニクス用洗浄剤は、特に液晶パネル用洗浄剤として、従来よりも改善された洗浄性、リンス性および防蝕性を有している。従って、洗浄・リンス後の液晶パネルは腐食を起こすことが少ない。また、リンス排水の環境に与える影響が少ない。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の洗浄剤における疎水性化合物（Ａ）は、炭素数８〜２４の炭化水素（Ａ１）および総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステル（Ａ２）からなる群から選ばれる１種以上である。通常（Ａ）は水１００ｇに対する２５℃での溶解度が５ｇ未満であって、本発明における他の構成成分の一部を溶解するためのものである。
【０００９】
（Ａ１）は鎖状または環状炭化水素であって、例えば以下の化合物があげられる。鎖状炭化水素としては、飽和炭化水素（オクタン、ノナン、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、イソオクタン、イソノナン、イソデカン、イソウンデカン、イソドデカン、イソトリデカン、イソテトラデカン、イソペンタデカン、イソヘキサデカンなど）；不飽和炭化水素（オクテン、ノネン、デセン、ウンデセン、ドデセン、トリデセン、テトラデセン、ペンタデセン、ヘキサデセンなど）が挙げられる。環状炭化水素としては、脂環式炭化水素（イソプロピルシクロヘキサン、ブチルシクロヘキサン、デシルシクロペンタン、テトラリン、リモネンなど）；芳香族炭化水素［アルキル（炭素数２〜１４）ベンゼン、ジアルキル（炭素数合計２〜１４）ベンゼンなど］が挙げられる。
これらの炭化水素は、２種以上を併用してもよい。これらのうち洗浄性、特に広い温度範囲での洗浄性の観点から好ましいのは鎖状炭化水素であり、さらに好ましいのは飽和鎖状炭化水素であり、特に好ましいのは炭素数８〜１５の鎖状飽和炭化水素（オクタン、ノナン、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカンなど）である。
【００１０】
（Ａ２）は総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステルであって、エステルを構成するカルボン酸成分およびアルコール成分は、エステル体の総炭素数が４〜１６となるような炭素数１〜１５の脂肪族カルボン酸および炭素数１〜１５の脂肪族アルコールであれば特に限定されないが、例えば以下の化合物があげられる。炭素数１〜１５の脂肪族モノカルボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、アクリル酸、酪酸、α−メチル酪酸、２−ブテン酸、吉草酸、α、β−ジメチル吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ヤシ油脂肪酸、ミリスチン酸および脂肪族オキシモノカルボン酸（グリコール酸、乳酸およびグルコン酸など）などがあげられる。炭素数２〜１４の脂肪族ジカルボン酸としてはシュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸およびセバシン酸などの飽和脂肪族ジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸およびイタコン酸などの不飽和脂肪族ジカルボン酸、ならびにグリセリン酸、酒石酸およびリンゴ酸などの脂肪族オキシカルボン酸などがあげられる。
炭素数３〜１３の３価〜４価またはそれ以上の多価カルボン酸としては、１，２，４−ブタントリカルボン酸、１，２，５−ヘキサントリカルボン酸、１，３−ジカルボキシル−２−メチル−２−メチレンカルボキシプロパン、オキシトリカルボン酸（クエン酸など）などがあげられる。
これらの脂肪族カルボン酸成分は２種以上が含まれていてもよい。これらの脂肪族カルボン酸のうち、洗浄性の観点から好ましいのは脂肪族モノカルボン酸および脂肪族ジカルボン酸であり、更に好ましいのは飽和の脂肪族ジカルボン酸、とくに好ましいのはアジピン酸およびセバシン酸である。
【００１１】
（Ａ２）を構成する炭素数１〜１５の脂肪族アルコールのうち脂肪族１価アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、ｎ−デカノール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、イソプロパノール、イソプロパノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、イソペンタノール、活性アミルアルコール、ｔ−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、アリルアルコール、クロチルアルコール、メチルビニルカルビノール、メトキシブタノール、エトキシエタノールおよび３−メトキシ−メチルブタノールなどがあげられ、脂肪族２価アルコールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−または１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，１０−デカンジオールおよび４−ペンテン−２，３−ジオールなどがあげられ、脂肪族３価〜４価またはそれ以上の多価アルコール類としてはグリセリン、１，３，６−ヘキサントリオールおよびペンタエリスリトールなどがあげられる。
これらのアルコールは２種以上が含まれていてもよい。これらのうち、洗浄性の観点から好ましいのは脂肪族１価アルコールであり、更に好ましいのは飽和の脂肪族１価アルコールであり、とくに好ましいのはメタノール、エタノールおよび２−エチルヘキサノールである。
【００１２】
（Ａ２）の具体例としてはメチルシクロヘキシル酢酸、２−エチルヘキシル酢酸、メトキシブチル酢酸，エトキシエチル酢酸，ブトキシエトキシエチル酢酸、３−メトキシ−３−メチルブチル酢酸、１，６−ジアセトキシヘキサン、オクチル酸メチル、ラウリン酸メチル、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、グリセリントリメチルエステルおよびペンタエリスリトールテトラエチルエステルなどがあげられる。
（Ａ２）のうち洗浄性およびリンス性の観点から好ましいのはアジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチルおよびセバシン酸ジ−２−エチルヘキシルであり、さらに好ましいのはアジピン酸ジメチルおよびセバシン酸ジ−２−エチルヘキシルである。
【００１３】
（Ａ）のうち、洗浄性、特に広い温度範囲（例えば２０℃〜６０℃）での洗浄性の観点から好ましいのは（Ａ１）である。  本発明における（Ａ）は、（Ａ１）と（Ａ２）の併用であってもよく、併用の場合の（Ａ１）／（Ａ２）の重量比は、好ましくは１０〜９０／９０〜１０、さらに好ましくは３０〜７０／７０〜３０である。
【００１４】
本発明における（Ｂ）は、融点が２０℃以下で炭素数８〜２６の脂肪族アルコールであれば特に限定されないが、具体的には、直鎖または分岐の脂肪族飽和１価アルコール（オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、２−エチルヘキサノール、２−エチルデカノール、イソステアリルアルコール、トリプロピレングリコールなど）および脂肪族不飽和アルコール（２−オクテン−１−オール、２−ドデセン−１−オール、２−ウンデセン−１−オール、２−テトラデセン−１−オール、２−ペンタデセン−１−オール、５−ヘキセン−１−オール、６−ヘプテン−１−オール、８−ノネン−１−オール、１０−ウンデセン−１−オール、１１−ドデセン−１−オール、１２−トリデセン−１−オール、１５−ヘキサデセン−１−オール、オレイルアルコール、リノレイルアルコールおよびリノレニルアルコールなど）があげられる。
これらのうち、好ましいのは脂肪族飽和１価アルコールであり、さらに好ましいのは２−エチルヘキサノール、２−エチルデカノールおよびイソステアリルアルコールである。
【００１５】
本発明における（Ｃ）は、下記一般式（１）で示されるグリコールエーテルである。
Ｒ1−Ｏ−（ＸＯ）n−Ｒ2          （１）
式中、Ｒ1は炭素数４〜８の炭化水素基、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜４の整数を示す。
【００１６】
Ｒ1としては、以下の炭化水素基があげられる。
炭化水素基としては脂肪族炭化水素基および芳香族炭化水素基が含まれる。
【００１７】
脂肪族炭化水素基としては飽和脂肪族炭化水素基［アルキル基（ｎ−ブチル基、ｉ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル基、２−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、３−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基並びにｎ−オクチル基など）、およびシクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロメチルヘキシル基およびシクロオクチル基など）］および不飽和脂肪族炭化水素基［アルケニル基（１−ブテニル基、２−メチル−１−プロペニル基、３−メチル−１−ブテニル基、２−ヘキセニル基、２−エチル−１−ヘキセニル基および３−オクテニル基）およびクロアルケニル基（シクロヘキセニル基およびシクロオクテニル基など）］があげられる。
芳香族炭化水素基としてはアリール基（フェニル基など）、アラルキル基（ベンジル基およびフェネチル基など）およびアルキルアリール基（メチルフェニル基、エチルフェニル基およびジメチルフェニル基など）があげられる。
Ｒ1のうち、好ましいのは脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましいのは飽和脂肪族炭化水素基、特にｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基およびｎ−オクチル基である。
Ｒ2は、水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基であって、炭化水素基としては、前記Ｒ1として例示したもののうち炭素数４のものの他に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基およびシクロブチル基があげられる。Ｒ2のうち好ましいのは、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基および分岐の脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましいのは水素原子、メチル基、エチル基およびｎ−ブチル基であり、特に好ましいのは水素原子、メチル基およびｎ−ブチル基であり、最も好ましいのは水素原子である。
【００１８】
Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基であって、エチレン基、ｎ−および１，２−プロピレン基およびｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−およびｔ−ブチレン基などがあげられる。これらのうち好ましいのはエチレン基および１，２−プロピレン基であり、さらに好ましいのはエチレン基である。
ｎは１〜４の整数であり、好ましくは１〜３、特に１または２である。
【００１９】
（Ｃ）の具体例としては以下のカルビトール類、セロソルブ類およびその他のグリコールエーテルがあげられる。
カルビトール類としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノペンチルエーテル、ジエチレングリコール−２，２−ジメチルプロピルエーテル、ジエチレングリコール−モノ−２−メチルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−３−メチルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−オクチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールオクチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−２−ブテニルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、フェニルカルビトールおよびフェニルカルビトールエチルエーテルなどがあげられる。
セロソルブ類としては、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノオクチルエーテル、エチレングリコールモノ−２−ヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルおよびエチレングリコールジブチルエーテルなどがあげられる。
その他のグリコールエーテルとしては、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコール−ｎ−オクチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−２−メチルブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−２，２−ジメチルプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−２，２−ジメチルブチルエーテル、トリエチレングリコールモノオクチルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテルおよびテトラエチレングリコールモノブチルエーテルなどがあげられる。
これらのグリコールエーテル類は２種以上を併用してもよい。これらのうち好ましいのは洗浄性、特に比較的高温（例えば４０℃〜６０℃）における洗浄性の観点からカルビトール類およびセロソルブ類であり、さらに好ましいのはカルビトール類であり、特に好ましいのは、飽和のカルビトール類であり、最も好ましいのは、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノオクチルエーテル、およびこれら２種以上の混合物である。
【００２０】
本発明における防錆剤（Ｄ）としては、一般式（２）または一般式（３）で示されるアミド基含有化合物、並びにその他の防錆剤が挙げられる。
【００２１】
【化２】
2006199939.tif 000002
【００２２】
式中、Ｒ3およびＲ5は炭素数３〜２４の炭化水素基、Ｒ4、Ｒ6およびＲ7は水素原子または炭素数１〜１２の炭化水素基、Ｚはカチオン基であり、ｎは１〜２０の整数を示す。
【００２３】
Ｒ3およびＲ5の炭化水素基としては、炭素数３〜２４の脂肪族および芳香族炭化水素基が挙げられる。
脂肪族炭化水素基としては前記Ｒ1として挙げた炭素数４〜８の基以外に、飽和脂肪族炭化水素基［アルキル基（ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基およびエイコシル基など）およびシクロアルキル基（シクロヘキシルデシル基およびメチルシクロヘキシルドデシル基など）］および不飽和脂肪族炭化水素基［アルケニル基（１−ウンデセニル基、１−ドデセニル基、オクタデセニル基およびオレイル基など）およびクロアルケニル基（ブチルシクロヘキセニル基およびメチルシクロオクテニル基など）］があげられる。
芳香族炭化水素基としては前記Ｒ1として挙げた基以外に、アラルキル基（ノニルフェニル基など）があげられる。
Ｒ3のうち、好ましいのは炭素数６〜１８の炭化水素基であり、さらに好ましいのは芳香族炭化水素基である。
Ｒ5のうち好ましいのは炭素数１０〜２０、特に炭素数１０〜１８の脂肪族炭化水素基である。
Ｒ4、Ｒ6およびＲ7は水素原子または炭素数１〜１２、好ましくは炭素数１〜７の炭化水素基である。炭素数１〜１２の炭化水素基としては、前記Ｒ2およびＲ1で挙げた基以外に、前記Ｒ3およびＲ5で挙げた基のうちの炭素数９〜１２のものが挙げられる。
Ｒ4のうち好ましいのは水素原子、メチル基およびエチル基、特に水素原子である。
Ｒ6およびＲ7のうち好ましいのは水素原子および炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましいのは、Ｒ6とＲ7のうちの少なくとも一方がメチル基もしくはエチル基である場合、とりわけ好ましいのはいずれもがメチル基もしくはエチル基の場合である。
【００２４】
ｎは１〜２０、好ましくは１〜１０、さらに好ましくは１〜６である。
【００２５】
Ｚで表されるカチオン基としては、アルカリ金属（ナトリウム、カリウムおよびリチウムなど）カチオン、アルカリ土類金属（カルシウム、マグネシウムなど）カチオン、アンモニウムカチオン、アミンカチオン（１級アミンカチオン、２級アミンカチオンおよび３級アミンカチオン）、４級アンモニウムカチオンまたは塩基性アミノ酸カチオンなどが挙げられる。
１級アミンカチオンを構成する１級アミンとしては、炭素数１〜１８のモノアルキルもしくはシクロアルキルアミンカチオン（例えばメチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、シクロヘキシルアミンおよびドデシルアミンなど）およびモノアルカノールアミン（例えばモノエタノールアミンなど）が挙げられる。
２級アミンカチオンを構成する２級アミンとしては、アルキル基の炭素数１〜１８のジアルキルもしくはモノアルキルモノシクロアルキルアミンカチオン（例えばジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、メチルシクロアルキルアミンおよびメチルドデシルアミンなど）およびジアルカノールアミン（例えばジエタノールアミンなど）が挙げられる。
３級アミンカチオンを構成する３級アミンとしては、アルキル基の炭素数１〜１８のトリアルキルアミンカチオン（例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミンおよびジメチルドデシルアミンなど）、トリアルカノールアミン（例えばトリエタノールアミンなど）およびモノアルキルアミンのエチレンオキサイド（１〜２０モル）付加物（例えばシクロヘキシルアミンのエチレンオキサイド２モル付加物など）が挙げられる。
４級アンモニウムカチオンとしては、アルキル基の炭素数１〜１８のテトラアルキルアンモニウムカチオンおよびトリアルキルベンジルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。
Ｚのうち防蝕性の観点から好ましいのはアルカリ金属カチオンおよび３級アミンカチオン、特に３級アミンカチオンである。
【００２６】
一般式（２）で表される化合物の具体例としては、芳香族カルボン酸（例えば安息香酸、サリチル酸およびｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸など）のカプロラクタムによるアミド化物の塩、並びに脂肪族カルボン酸のアミノ酸によるアミド化物の塩（ラウリル−α−アミノプロピオン酸塩、ラウリル・ザルコシンおよびオレイル・ザルコシンなど）が挙げられる。
一般式（２）で表される化合物の具体例としては、Ｎ−ベンゾイルアミドカプロン酸トリエタノールアミン塩などが挙げられる。
【００２７】
一般式（３）で表される化合物としては、アルケニルコハク酸のハーフアミドの塩があげられる。
アルケニルコハク酸としては、ペンテニルコハク酸、ヘキセニルコハク酸、ヘプテニルコハク酸、オクテニルコハク酸、ノネニルコハク酸、デセニルコハク酸、ウンデセニルコハク酸、ドデセニルコハク酸、トリデセニルコハク酸、テトラデセニルコハク酸、ペンタデセニルコハク酸およびヘキサデセニルコハク酸等が挙げられる。
これらのハーフアミドを構成するアミンとしては、炭素数１〜１２の１級アミン［モノアルキルもしくはシクロアルキルアミン（例えばメチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、シクロヘキシルアミンおよびドデシルアミンなど）］および２級アミン［アルキル基の炭素数１〜１２のジアルキルもしくはモノアルキルモノシクロアルキルアミン（例えばジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、メチルシクロアルキルアミンおよびメチルドデシルアミンなど）］が挙げられる。
一般式（３）で表される化合物の具体例としては、ドデセニルコハク酸ジエチルアミンハーフアミドトリエタノールアミン塩などが挙げられる。
【００２８】
本発明において使用できるその他の防錆剤としては、例えば、炭素数２〜３６の有機アミン（脂肪族アミン、例えばブチルアミン、オクチルアミン、ラウリルアミン、オレイルアミン；脂環式アミン、例えばシクロヘキシルアミン；複素環式アミン、例えばモルホリン；炭素数２〜１０のアルカノールアミン、例えばモノエタノールアミン、トリエタノールアミン、イソプロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン等）；有機アミンのアルキレン（炭素数２〜４）オキサイド付加物（上記アミンのプロピレンオキサイドおよび／またはエチレンオキサイド１〜１０モル付加物等）；炭素数６〜３６の脂肪族モノカルボン酸アミド（カプリル酸、ラウリル酸、ノナン酸、デカン酸、オレイン酸のアミド等）；ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、炭素数２〜１０の炭化水素基を有するベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール、炭素数２〜２０炭化水素基を有するイミダゾール誘導体、炭素数２〜２０炭化水素基を有するチアゾール誘導体、２−メルカプトベンゾチアゾール等の含窒素有機防錆剤や、ソルビタンモノオレエート、グリセリンモノオレエート、ペンタエリスリトールモノオレエートなどの多価アルコール部分エステルなどが挙げられる。
【００２９】
（Ｄ）のうち、防蝕性およびリンス性の観点から好ましいのは一般式（２）または一般式（３）で表されるアミド基含有化合物であり、より好ましいのは一般式（２）で表されるアミド基含有化合物であり、特に好ましいのは一般式（２）におけるＲ3が芳香族炭化水素基である化合物である。
一般式（２）または一般式（３）で表されるアミド基含有化合物からなる防錆剤は、特にアルミ配線などの腐食されやすい表面に吸着されやすく、かつ、その後のリンス工程でリンスされやすい。従って、洗浄剤中に微量の腐食性成分（例えば、微量の酸性成分など）が存在していても、洗浄中はそれらの腐食性成分のアルミ表面への吸着を上記のアミド基含有化合物が阻害するので、腐食性成分の吸着・残存が少なく、更に、アミド基含有化合物はリンス性が良いのでリンスした後に残存しにくいので好ましい。
【００３０】
本発明における界面活性剤（Ｅ）としては、両性界面活性剤（Ｅ１）、後述の一般式（５）で示されるイオン性界面活性剤（Ｅ２）、非イオン性界面活性剤（Ｅ３）、アニオン性界面活性剤（Ｅ４）およびカチオン性界面活性剤（Ｅ５）のうちの少なくとも１種以上である。
なお、本発明では前述の防錆剤（Ｄ）として挙げた範囲の化合物を防錆剤（Ｄ）とし、それ以外の化合物で界面活性と防錆性を有する化合物は界面活性剤（Ｅ）に含める。
【００３１】
両性界面活性剤（Ｅ１）としては、カルボン酸塩型両性界面活性剤（Ｅ１１）、およびリン酸エステル型両性界面活性剤（Ｅ１２）があげられる。さらにカルボン酸塩型両性界面活性剤としては、ベタイン型両性界面活性剤（Ｅ１１１）とアミノ酸型両性界面活性剤（Ｅ１１２）があげられる。（Ｅ１１１）としては一般式（４）で表される界面活性剤があげられる。
【００３２】
【化３】
2006199939.tif 000003
【００３３】
式中、Ｒ8は炭素数１〜２４の炭化水素基、Ｒ9およびＲ10はメチル基、エチル基およびヒドロキシエチル基を表す。
【００３４】
Ｒ8の炭化水素基としては脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基が挙げられ、例えば前述のＲ1〜Ｒ7で例示された基が挙げられる。
Ｒ8のうち好ましいのは脂肪族炭化水素基である。
【００３５】
ベタイン型両性界面活性剤（Ｅ１１１）の具体例としては、オクチルジメチルベタイン、ノニルジメチルベタイン、デシルジメチルベタイン、オクチルジヒドロキシエチルベタイン、ノニルジヒドロキシエチルベタイン、ラウリルジメチルベタイン、デシルジヒドロキシエチルベタイン、ラウリルジヒドロキシエチルベタイン、ステアリルジメチルベタインおよびステアリルジヒドロキシエチルベタインが挙げられ、好ましいのはラウリルジメチルベタイン、ラウリルジヒドロキシエチルベタイン、ステアリルジメチルベタインおよびステアリルジヒドロキシエチルベタインである。
【００３６】
アミノ酸型両性界面活性剤（Ｅ１１２）としては、炭素数１〜２４の炭化水素基を持つアミノ酸型両性界面活性剤があげられる。具体的にはヘキシルアミノプロピオン酸ナトリウム、ヘキシルアミノプロピオン酸カリウム、ヘプチルアミノプロピオン酸ナトリウム、ヘプチルアミノプロピオン酸カリウム、オクチルアミノプロピオン酸ナトリウム、オクチルアミノプロピオン酸カリウム、ノニルアミノプロピオン酸ナトリウム、ノニルアミノプロピオン酸カリウム、デシルアミノプロピオン酸ナトリウム、デシルアミノプロピオン酸カリウム、ラウリルアミノプロピオン酸ナトリウム、ラウリルアミノプロピオン酸カリウム、ステアリルアミノプロピオン酸ナトリウムおよびステアリルアミノプロピオン酸カリウムなどが挙げられる。
【００３７】
リン酸エステル塩型界面活性剤（Ｅ１２）としては、レシチンなどがあげられる。
【００３８】
両性界面活性剤（Ｅ１）のうち、洗浄性およびリンス性、特にリンス性の観点から好ましいのはベタイン型両性界面活性剤（Ｅ１１１）である。
【００３９】
イオン性界面活性剤（Ｅ２）は下記一般式（５）で示される界面活性剤である。
【００４０】
【化４】
2006199939.tif 000004
【００４１】
式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２４の炭化水素基、総炭素数３〜２４のアルキルアミドアルキル基または─（Ｒ15Ｏ）p─Ｈ であり、Ｒ11〜Ｒ14のうち少なくとも１つは炭素数６〜２４の炭化水素基または総炭素数８〜２４のアルキルアミドアルキル基であり、Ｒ11〜Ｒ14のうち少なくとも２つが互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ15は炭素数２〜４のアルキレン基、ｐは１〜６の整数を示し、Ｑn-は有機酸アニオン、ｎは１〜４の整数を示す。
Ｒ15は、具体的にはエチレン基、ｎ−および１，２−プロピレン基およびｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−およびｔ−ブチレン基などがあげられる。これらのうち好ましいのはエチレン基および１，２−プロピレン基であり、さらに好ましいのはエチレン基である。
【００４２】
Ｒ11〜Ｒ14のうち、炭素数１〜２４の炭化水素基としては、前述と同様の基が挙げられ、好ましいのは炭素数６〜２０の脂肪族炭化水素基、特にオクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基およびオクタデシル基である。
Ｒ11〜Ｒ14のうち、総炭素数３〜２４のアルキルアミドアルキル基としては、アセトアミドメチル基、プロピオンアミドメチル基、ペンタンアミドメチル基、ヘキサンアミドメチル基、ヘプタンアミドメチル基、オクタンアミドメチル基、ドデシルアミドメチル基およびオクタデシルアミドメチル基など、並びにこれらのメチル基をエチル基、プロピル基もしくはブチル基に置き換えたものなどが挙げられる。
これらのうち好ましいのは、リンス性の観点からヘプタンアミドメチル基、オクタンアミドメチル基、ノナンアミドメチル基、デカンアミドメチル基、ウンデシレンアミドメチル基、ドデカンアミドメチル基、トリデカンアミドメチル基、テトラデカンアミドメチル基、ペンタデカンアミドメチル基、ヘキサデカンアミドメチル基、ヘプタデカンアミドメチル基およびオクタデカンアミドメチル基である。
Ｒ9〜Ｒ14のうちの─（Ｒ15Ｏ）p─Ｈとしては、例えば、Ｒ15がエチレン基でｐが１〜６、好ましくは１〜２である基（ヒドロキシエチル基およびヒドロキシエチルオキシエチル基など）が挙げられる。
【００４３】
（Ｅ２）は、Ｒ9〜Ｒ14のうちの少なくとも１つは炭素数６〜２４の炭化水素基または総炭素数８〜２４のアルキルアミドアルキル基であることが必要であり、これらの基を１つも有しない場合は洗浄性およびリンス性の点で不十分である。
（Ｅ２）は、Ｒ9〜Ｒ14のうち少なくとも２つが互いに結合して環を形成していてもよい。
【００４４】
一般式（５）におけるアンモニウムカチオン部分として具体的には以下のものがあげられる。
（１）Ｒ9〜Ｒ14のうちの１個のみが６〜２４の炭化水素基であるカチオン；
トリメチルアルキルアンモニウム［トリメチルヘキシルアンモニウム、トリメチルオクチルアンモニウム、トリメチルデシルアンモニウム、トリメチルココナットアルキル（炭素数８〜２５、以下同様）アンモニウム、トリメチルテトラデシルアンモニウムおよびトリメチルオクタデシルアンモニウムなど］、
（２）Ｒ9〜Ｒ14のうちの２個のみが６〜２４の炭化水素基であるカチオン；
ジメチルジアルキルアンモニウム［ジメチルジヘキシルアンモニウム、ジメチルジオクチルアンモニウムおよびジメチルジドデシルアンモニウムなど］、およびジメチルアルキルベンジルアンモニウム［ジメチルデシルベンジルアンモニウム、ジメチルドデシルベンジルアンモニウム、ジメチルココナットアルキルベンジルアンモニウムなど］、
アンモニウムカチオンのうち、洗浄性とリンス性の観点から好ましいのはトリメチルアルキルアンモニウムカチオンおよびジメチルアルキルアンモニウムカチオンがあげられ、さらに好ましいのはトリメチルオクチルアンモニウムおよびジメチルジオクチルアンモニウムである。
【００４５】
一般式（５）における有機酸アニオン（Ｑn-）を構成するアニオン基は、カルボキシレート基、スルホネート基、スルフィネート基およびフェノキシレート基からなる群から選ばれる１種以上であり、これらのアニオン基を構成する有機酸として具体的には以下のものがあげられる。
【００４６】
カルボキシレート基を構成する有機酸としては、飽和もしくは不飽和の脂肪族、脂環式および芳香族カルボン酸、並びに天然油脂脂肪酸が挙げられる。
飽和もしくは不飽和の脂肪族カルボン酸（炭素数２〜３２）としては、脂肪族モノカルボン酸［ヘプタン酸、オクタン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、モンタン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、エルカ酸、オキシカルボン酸（グリコール酸、乳酸、グルコン酸など）など］、並びに脂肪族ポリカルボン酸［ジカルボン酸｛コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、イタコン酸、デセニルコハク酸、オクチルコハク酸、ドデセニルコハク酸、オクタデシルコハク酸、オキシカルボン酸（グリセリン酸、酒石酸、リンゴ酸など）など｝、３価〜４価またはそれ以上のポリカルボン酸｛１，２，４−ブタントリカルボン酸、１，２，５−ヘキサントリカルボン酸、１，３−ジカルボキシル−２−メチル−２−メチレンカルボキシプロパン、オキシカルボン酸（クエン酸など）など｝］が挙げられる。
飽和もしくは不飽和の脂環式カルボン酸（炭素数６〜５０）としては、脂環式モノカルボン酸（シクロヘキサンカルボン酸など）、並びに脂環式ポリカルボン酸［脂環式ジカルボン酸（１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、ダイマー酸など）、３価〜４価またはそれ以上の脂環式ポリカルボン酸（１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸など）］が挙げられる。
芳香族カルボン酸（炭素数７〜１６）としては、芳香族モノカルボン酸（安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、サリチル酸、２−ナフタレンカルボン酸など）、並びに芳香族ポリカルボン酸［ジカルボン酸（フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸など）、３価〜４価またはそれ以上のポリカルボン酸（１，２，４−ベンゼントリカルボン酸、ピロメリット酸など）］が挙げられる。
天然油脂脂肪酸としては、ヤシ油脂肪酸、パーム油脂肪酸およびコーン油脂肪酸などがあげられる。
これらのカルボン酸は、１種または２種以上の併用の何れでもよい。
上記のカルボン酸のうち、洗浄性とリンス性の観点から好ましいのは脂肪族飽和ジカルボン酸であり、特に好ましいのはアジピン酸およびセバシン酸である。
【００４７】
スルホネート基を構成する有機酸としては、脂肪族直鎖または分岐のスルホン酸［炭素数１〜４（メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸など）、炭素数５〜２０（ヘキサンスルホン酸、オクタンスルホン酸など）］；芳香族スルホン酸［炭素数６〜１０（ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、トルエンジスルホン酸など）、炭素数１１〜２６（ヘキシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンジスルホン酸など）］などがあげられる。
【００４８】
スルフィネート基を構成する有機酸としては、直鎖または分岐脂肪族スルフィン酸［炭素数１〜４（メタンスルフィン酸、エタンスルフィン酸、プロパンスルフィン酸など）、炭素数５〜２０（ヘキサンスルフィン酸、オクタンスルフィン酸、ドデシルスルフィン酸など）］；芳香族スルフィン酸［炭素数６〜１０（ベンゼンスルフィン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、キシレンスルフィン酸など）、炭素数１１〜２６（ヘキシルベンゼンスルフィン酸、ドデシルベンゼンスルフィン酸など）］などがあげられる。
【００４９】
フェノキシレート基を構成する有機酸としては、１価フェノール〔単環フェノール（炭素数６〜２０、例えばフェノール、クレゾール、ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール）、多環フェノール（炭素数１０〜２０、例えばフェニルフェノール、ナフトール）など〕；２価フェノール〔単環フェノール（炭素数６〜１６、例えばハイドロキノン、レゾルシン）、多環フェノール（炭素数１３〜２０、例えばビスフェノールＦ、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ）など〕；３価〜４価またはそれ以上のフェノール〔単環フェノール（炭素数６〜１６、例えば１，３，５−トリヒドロキシベンゼン）、多環フェノール（炭素数１３〜２０、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン）など〕があげられる。
Ｑn-は、上記の有機酸のアニオンの１種または２種以上の併用の何れでもよく、上記有機酸のアニオンのうち、洗浄性とリンス性の観点から好ましいのはカルボキシレート基およびスルホネート基、特にスルホネート基である。
【００５０】
（Ｅ２）の製造は、例えば、先ず、３級アミンと炭酸ジエステルとの反応で４級アンモニウム炭酸塩を製造し、該４級アンモニウム炭酸塩とカルボン酸等の有機酸とのアニオン交換反応により行うことができる。その際発生する炭酸ガスは系外に除去せしめられる。具体的には、特開２０００−３１３８９９号公報に示す方法等により製造することができる。
【００５１】
非イオン性界面活性剤（Ｅ３）としては、例えば、アルキレンオキシド（炭素数２〜４）付加型非イオン界面活性剤〔高級アルコール（炭素数８〜１８）、アルキルフェノール（炭素数１０〜２４）、高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）または高級アルキルアミン（炭素数８〜２４）等に直接アルキレンオキシドを付加させたもの［数平均分子量（以下Ｍｎと略記）１５８〜２００，０００］；グリコールにアルキレンオキシドを付加させて得られるポリオキシアルキレングリコール（Ｍｎ１５０〜６，０００）に高級脂肪酸などを反応させたもの；多価（２価〜８価またはそれ以上）アルコール（エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビタンなど）に高級脂肪酸を反応させて得られたエステルにアルキレンオキシドを付加させたもの（Ｍｎ２５０〜３０，０００）、多価（２価〜８価またはそれ以上）アルコールアルキル（炭素数３〜６０）エーテルにアルキレンオキシドを付加させたもの（Ｍｎ１２０〜Ｍｎ３０，０００）など〕、および多価（２価〜８価またはそれ以上）アルコールアルキル（炭素数３〜６０）エーテルなどが挙げられる。界面活性剤のＨＬＢ（グリフィン）は通常１．５〜１８、好ましくは３〜１６である。これらのうち、洗浄性の観点から好ましいのはアルキレンオキシド付加型非イオン界面活性剤、更に好ましいのは高級アルコール、アルキルフェノールなどのＥＯ付加型非イオン界面活性剤、とくに高級アルコールのＥＯ（３〜２０モル）付加型非イオン界面活性剤である。
【００５２】
アニオン性界面活性剤（Ｅ４）は、対イオンが一般式（５）のアンモニウムカチオンではない（例えば、アルカリ金属など）アニオン性界面活性剤である。
（Ｅ４）としては、カルボン酸（炭素数８〜２２の飽和または不飽和脂肪酸）またはその塩、カルボキシメチル化物の塩［炭素数８〜１６の脂肪族アルコールおよび／またはそのＥＯ（１〜１０モル）付加物などのカルボキシメチル化物の塩など］、硫酸エステル塩［高級アルコール硫酸エステル塩（炭素数８〜１８の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩など）など］、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩［炭素数８〜１８の脂肪族アルコールのＥＯ（１〜１０モル）付加物の硫酸エステル塩］、硫酸化油（天然の不飽和油脂または不飽和のロウをそのまま硫酸化して中和した塩）、硫酸化脂肪酸エステル（不飽和脂肪酸の低級アルコールエステルを硫酸化して中和した塩）、硫酸化オレフィン（炭素数１２〜１８のオレフィンを硫酸化して中和した塩）、スルホン酸塩［アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジエステル型、α−オレフィン（炭素数１２〜１８）スルホン酸塩、イゲポンＴ型など］およびリン酸エステル塩［高級アルコール（炭素数８〜６０）リン酸エステル塩、高級アルコール（炭素数８〜６０）ＥＯ付加物リン酸エステル塩、アルキル（炭素数４〜６０）フェノールＥＯ付加物リン酸エステル塩など］が挙げられる。
上記の塩としては、アルカリ金属（ナトリウム、カリウムなど）塩、アルカリ土類金属（カルシウム、マグネシウムなど）塩、アンモニウム塩、アルカノールアミン（炭素数２〜１２、例えばモノ−、ジ−およびトリエタノールアミン）塩などが挙げられる。
（Ｅ４）のうち好ましいのはジカルボン酸塩であり、特に一般式（６）で表される界面活性剤が好ましい。
【００５３】
【化５】
2006199939.tif 000005
【００５４】
式中、Ｒ16は炭素数６〜２４の炭化水素基、Ｍのうち少なくとも１つは、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムカチオン、モノ、ジもしくはトリエタノールアミンカチオンおよび塩基性アミノ酸基からなる群から選ばれる１種以上であり、残りのＭは水素原子を示す。
一般式（６）で示される界面活性剤としては、例えば、デセニルコハク酸ジナトリウム塩、ドデセニルコハク酸モノ（モノエタノールアミン）塩およびオクタデシルコハク酸ジナトリウム塩などが挙げられる。
【００５５】
カチオン性界面活性剤（Ｅ５）は、対イオンが一般式（５）のＱn-ではない（例えば、ハロゲンアニオンなど）カチオン性界面活性剤である。
【００５６】
（Ｅ５）としては、第４級アンモニウムのハロゲン塩型［テトラアルキル（炭素数４〜１００）アンモニウムクロライド、例えばオクチルトリメチルアンモニウムクロライド、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド；トリアルキル（炭素数３〜８０）ベンジルアンモニウムクロライド、例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド（塩化ベンザルコニウム）；アルキル（炭素数２〜６０）ピリジニウム塩、例えばセチルピリジニウムクロライド；ポリオキシアルキレン（炭素数２〜４）トリアルキルアンモニウムクロライド、例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド；サパミン型第４級アンモニウム塩］、アミン塩型［脂肪族高級アミン（炭素数１２〜６０、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミン、ロジンアミンなど）の無機酸（塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸など）塩；脂肪族アミン（炭素数１〜３０）のＥＯ付加物などの無機酸（前記のもの）塩；３級アミン類（トリエタノールアミンモノステアレート、ステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミンなど）の無機酸（前記のもの）塩］などが挙げられる。
【００５７】
（Ｅ３）〜（Ｅ５）のうち、好ましいのは（Ｅ４）、特に（Ｅ４）のうちの一般式（６）で表される界面活性剤である。
【００５８】
本発明における界面活性剤（Ｅ）としては、洗浄性とリンス性の観点、特にリンス性の観点から（Ｅ１）、（Ｅ１）と（Ｅ２）の併用、または（Ｅ１）と（Ｅ４）の併用が好ましい。
併用の場合の（Ｅ１）／（Ｅ２）の重量比、および（Ｅ１）／（Ｅ４）の重量比は、いずれの場合も、好ましくは９５／５〜１０／９０、さらに好ましくは９０／１０〜２０／８０であり、最も好ましいのは８０／２０〜３０／７０である。
（Ｅ３）〜（Ｅ５）を使用する場合の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、好ましくは０〜１０重量％、さらに好ましくは１〜８％（以下において特に限定しない限りは、％は重量％を表す）であり、（Ｅ３）は洗浄剤の全重量に基づいて好ましくは１〜８％、（Ｅ４）は洗浄剤の全重量に基づいて好ましくは１〜８％である。
【００５９】
本発明の洗浄剤は上記の（Ａ）〜（Ｅ）と水（Ｆ）を含有し、（Ａ）〜（Ｆ）の含有量は、洗浄性、リンス性および防錆性の観点から、洗浄剤の全重量に基づいて（Ａ）は好ましくは４０〜８５％、さらに好ましくは４５〜８０％、特に好ましくは５０〜７５％、（Ｂ）は好ましくは５〜２０％、さらに好ましくは６〜１８％、特に好ましくは７〜１５％、（Ｃ）は好ましくは１〜３０％、さらに好ましくは５〜２５％、特に好ましくは７〜２０％、（Ｄ）は好ましくは０．５〜２０％、さらに好ましくは１〜１５％、特に好ましくは１〜１０％、（Ｅ）は好ましくは０．５〜２０％、さらに好ましくは１〜１５％、特に好ましくは１〜１０％、（Ｆ）は好ましくは５〜４０％、さらに好ましくは６〜３５％、特に好ましくは８〜３０％である。
【００６０】
本発明の洗浄剤は上記の（Ａ）〜（Ｆ）の他に、さらに、酸化防止剤（Ｈ）、金属イオン封鎖剤（Ｉ）および／またはビルダー（Ｊ）などを含有してもよい。
【００６１】
酸化防止剤（Ｈ）としては、フェノール化合物（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールなど）、含硫化合物（ジラウリルチオジプロピオネートなど）、アミン化合物（オクチル化ジフェニルアミンなど）、リン化合物（トリフェニルホスファイトなど）が挙げられる。
【００６２】
金属イオン封鎖剤（Ｉ）としては、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウムなどが挙げられる。
ビルダー（Ｊ）としては、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどが挙げられる。
【００６３】
（Ｈ）は洗浄剤の重量に基づいて通常５％以下、好ましくは０．０１〜１％；（Ｉ）は通常２０％以下、好ましくは０．５〜１０％；（Ｊ）は通常２０％以下、好ましくは０．５〜１０％である。
【００６４】
洗浄剤を構成する成分（Ｃ）、（Ｄ）および（Ｅ）のうちの、水１００ｇに対する２５℃での溶解度が５ｇ以上である親水性物質の合計含量は、洗浄剤の全重量に基づいて０．０１〜５０重量％であり、好ましくは０．１〜２０重量％であり、特に好ましくは１〜１０重量％である。０．０１％以下の場合、十分な洗浄性が得られず、５０％以上の場合、リンス液の環境負荷が大きくなるといった問題が発生する。
【００６５】
本発明の洗浄剤の２５℃における粘度は、通常２〜３０ｍｍ2／ｓ、好ましくは３〜１５ｍｍ2／ｓ、更に好ましくは４〜１０ｍｍ2／ｓである。粘度はオストワルド、ウベローデなどの粘度計にて測定できる。
【００６６】
本発明の洗浄剤は、（Ａ）〜（Ｆ）、および必要によりさらに（Ｈ）〜（Ｊ）の各成分を配合することによって得られ、その配合方法、順序等は特に制限されず、通常の配合槽などで配合できる。配合時の温度は通常１０〜５０℃であり、各成分を添加し、均一透明、乳化状態または分散状態とすることで得られる。
【００６７】
本発明の洗浄剤を用いての洗浄方法に特に制限はないが、例えば液晶パネルの液晶残渣を洗浄する方法としては、超音波洗浄、シャワー洗浄、揺動による洗浄方法が適用でき、複数の方法を組み合わせることもできる。洗浄温度は、通常１０〜７０℃、好ましくは１５〜６０℃程度である。洗浄時間は通常３〜６０分、好ましくは５〜３０分である。その後、洗浄剤のリンス、乾燥等を行う。リンスは通常水により行い、リンス温度は、通常１０〜９０℃、好ましくは１５〜７０℃である。乾燥は、風乾または加熱乾燥等が適用でき、加熱乾燥される場合の条件は６０〜１５０℃で５〜１２０分間程度である。
【００６８】
本発明の洗浄剤が適用できる対象は特に限定はないが、各種のエレクトロニクス製品およびエレクトロニクス製品の部品に対して良好な洗浄性とリンス性を与える。
特に液晶パネル、プリント基板、サーマルヘッド、磁気ヘッドおよびシリコンウエハ等、さらには治具またはスクリーン版の洗浄用として好適に用いられる。
また、除去の対象となる無機物および有機物等についても特に限定はないが、電子部品、治具またはスクリーン版に残存した液晶（ＴＦＴ液晶、ＳＴＮ液晶、ＴＮ液晶等）、レジスト、フラックスおよび／またはインクの除去洗浄用として好適に用いられる。
本発明の洗浄剤は、低温および高温（例えば２０〜６０℃）での洗浄安定性に優れているので、幅広い温度での洗浄が可能である。また、リンス排水の環境への影響も極めて少ないので、排水処理性が容易である。
本発明の洗浄剤によって洗浄・リンスされた各種のエレクトロニクス製品およびエレクトロニクス製品の部品は、液晶残渣や洗浄後の洗浄剤残渣物が少ないので、その後、高湿度条件下に置かれても腐食の発生が少ない。従って、極めて信頼性が高いエレクトロニクス製品および部品を低コストで効率よく製造できる。
【００６９】
［実施例］
以下、実施例により本発明を詳細にするが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部および％は重量部および重量％を示す。
【００７０】
下記の各配合成分を表１記載の部数配合して、実施例１〜５および比較例１〜３の洗浄剤を作製した。
＜配合成分＞
（Ａ）成分
（Ａ１−１）  ：デカン
（Ａ１−２）  ：ドデカン
（Ａ１−３）  ：テトラデカン
（Ａ２−１）  ：アジピン酸ジメチル
（Ａ２−２）  ：セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル
（Ｂ）成分
（Ｂ−１）  ：２−エチルヘキサノール
（Ｂ−２）  ：２−エチルデカノール
（Ｂ−３）  ：イソステアリルアルコール
（Ｃ）成分
（Ｃ−１）  ：ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル
（Ｃ−２）  ：ジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル
（Ｃ−３）  ：トリプロピレングリコール−ｎ−オクチルメチルエーテル
（Ｄ）成分
（Ｄ−１）  ：Ｎ−ベンゾイルアミドカプロン酸トリエタノールアミン塩
（Ｄ−２）  ：ドデセニルコハク酸ジエチルアミンハーフアミドトリエタノールアミ                  ン塩
（Ｅ）成分
（Ｅ１−１）  ：ラウリルジメチルベタイン
（Ｅ１−２）  ：ラウリルジヒドロキシエチルベタイン
（Ｅ１−３）  ：ステアリルジメチルベタイン
（Ｅ２−１）  ：ドデシルベンゼンスルホン酸トリメチルオクチルアンモニウム塩
（Ｅ２−３）  ：オクタデシルコハク酸ジメチルジオクチルアンモニウム塩
（Ｅ３−１）  ：ラウリルアルコールエチレンオキサイド７モル付加物
（Ｅ４−１）  ：デセニルコハク酸ジナトリウム塩
（Ｅ４−２）  ：ドデセニルコハク酸モノ（モノエタノールアミン）塩
（Ｅ４−３）  ：ドデシル硫酸ナトリウム塩
（Ｆ）成分      ：水
【００７１】
性能評価
下記の方法で実施例および比較例１〜６の洗浄剤を評価した。結果を表１に示す。
＜評価の方法＞
（ｉ）洗浄試験
液晶パネル（ギャップ４μｍ）５枚を１組としてギャップに液晶（ＴＦＴ液晶）を封入し、室温で３０分静置する。調製した各々の洗浄剤にて、２０℃または５０℃で１０分間超音波洗浄を行い、それぞれを５０℃の純水で３分間リンスし、さらに同条件にてリンスを２回繰り返した。次いで、１２０℃の循風乾燥機中で１０分間乾燥した。洗浄後と、リンス後の液晶パネルを偏光顕微鏡で観察し、洗浄性、リンス性を次の４段階で評価した。
＜洗浄性＞
評価基準
４：ギャップ部が完全に洗浄された
３：ギャップ部に僅かに液晶残りがある
２：ギャップ部に液晶残りが多い
１：ギャップ部が殆ど洗浄されていない
＜リンス性＞
評価基準
４：リンス性が極めて良好
３：リンス性が良好
２：リンス出来ない洗浄液がややある
１：リンス出来ない洗浄液が多量にある
【００７２】
(ii)腐蝕試験
洗浄、リンス後乾燥させた液晶パネルを５０℃で９５％RHの環境下に３０日間保存した後、液晶パネルの配線部分を顕微鏡で観察し、次の４段階で評価した。
＜防蝕性＞
評価基準
４：腐蝕なし
３：腐蝕わずかに有り
２：腐蝕やや多い
１：腐蝕多い
【００７３】
(iii)環境への負荷
１００ｍｌのメスシリンダーに各洗浄液を２ｍｌと、イオン交換水５８ｍｌを加え、激しく上下に１０回振って６０℃の恒温槽に２時間静置した。上澄みを除去し、下層１ｍｌを静かに２００ｍｌビーカーに取り出して、イオン交換水９９ｍｌで希釈しＣＯＤ測定用サンプルを作製した。セントラル科学株式会社製ＣＯＤメーター「ＨＣ−５０７」型を用いて、酸性法により各サンプルのＣＯＤを測定した。
＜環境性（ＣＯＤ）＞
評価基準
４：ＣＯＤ：＜１０ｍｇ／Ｌ
３：ＣＯＤ：１０〜２０ｍｇ／Ｌ
２：ＣＯＤ：２０〜３０ｍｇ／Ｌ
１：ＣＯＤ：＞３０ｍｇ／Ｌ
【００７４】
【表１】
2006199939.tif 000006
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明の洗浄剤は、各種の対象物に対して良好な洗浄性、リンス性および防蝕性を与えるので、特に電子部品（液晶パネル、プリント基板、サーマルヘッド、磁気ヘッドおよびシリコンウエハ等）、治具またはスクリーン版の洗浄剤として利用できる。