(57)【要約】【課題】放射線ビームを調整する照明システムを含むリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】照明システムは、放射線ビーム内に配置構成され、棒ばねによってフレームに装着されたセグメントを使用して、放射線ビームの均一性を調節する放射線ビーム均一性調節器を含む。システムは、遮断される放射線ビームの放射線の量を変更するために、セグメントを回転するアクチュエータも含む。棒ばねによってセグメントに加えられるトルクを補償するように構成された位置依存性トルクを長手方向軸線の周囲で発生させるために、フレームに装着された第二磁性部材と協働する棒ばねに装着された第一磁性部材も含む。【選択図】図１
2006157021.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置であって、
（ａ）放射線ビームを調整するように構成された照明システムを有し、照明システムは、放射線ビームの均一性を調節するように構成された放射線ビーム均一性調節器を含み、放射線ビーム均一性調節器は、
ｉ）前記放射線ビームのある量の放射線を遮断するために、少なくとも部分的に前記放射線ビーム内に配置構成されたセグメントを含み、前記セグメントは棒ばねによってフレームに装着され、さらに、
ｉｉ）前記セグメントを通過する前記放射線ビームの放射線の量を変更するために、前記棒ばねの長手方向軸線にほぼ平行な軸線の周囲で前記セグメントを回転するように構成されたアクチュエータと、
ｉｉｉ）前記棒ばね上に装着された第一磁性部材とを含み、前記第一磁性部材は、前記棒ばねによって前記セグメントに加えられるトルクを少なくとも部分的に補償するように構成された位置依存性トルクを前記長手方向軸線の周囲で生成するために、前記フレーム上に装着された第二磁性部材と協働するように構成され、さらに、
（ｂ）パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造を有し、パターニングデバイスは、所望のパターンに従って放射線ビームにパターンを形成するように構成され、さらに、
（ｃ）基板を保持するように構成された基板テーブルと、
（ｄ）パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムとを有するリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記アクチュエータは、前記放射線ビームの方向に対して直角の面に投影されるセグメントの区域を変更して、遮断される放射線の量を変更するように、セグメントを回転するように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記第一磁性部材が永久磁石を有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記第二磁性部材が強磁性コアおよび永久磁石を有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記第二磁性部材が複数の永久磁石を有する、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記アクチュエータが、前記第一磁性部材と協働して前記セグメントを回転するように構成されたコイルを有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記アクチュエータが、前記第二磁性部材を変位して、位置依存性トルクを変更するように構成された圧電要素を有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記デバイスがさらに、前記セグメントの回転位置を検出するように構成された検出システムを有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
検出システムが光源および光学センサを含む、請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記デバイスが、相互に隣接して配置構成された複数の区画を有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
区画および棒ばねが一体構造である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
区画がほぼチタン、タングステン、モリブデンまたはばね鋼で作成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
デバイスがさらに、セグメントと第一磁性部材を接続するバーを有し、前記バーが、前記棒ばねより高い捩り剛性を有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
デバイス製造方法であって、
ａ）放射線ビームの均一性を調節することを含み、それには、
ｉ）少なくとも部分的に前記放射線ビーム内に配置構成されたセグメントで前記放射線ビームのある量の放射線を遮断し、前記セグメントは棒ばねによってフレームに装着され、さらに、
ｉｉ）前記放射線ビームの放射線の量を変更するために、前記棒ばねの長手方向軸線にほぼ平行な軸線の周囲で前記セグメントを回転し、
ｉｉｉ）前記棒ばねに装着した第一磁性部材および前記フレームに装着した第二磁性部材を使用することによって、前記棒ばねにより前記セグメントに加えられたトルクを少なくとも部分的に補償するように構成された位置依存性トルクを前記長手方向軸線の周囲に生成し、さらに、
ｃ）パターン形成した放射線ビームを基板に投影することを含む方法。
【請求項１５】
さらに、前記放射線ビームを獲得するために、放射線の前記ビームをパターン形成することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
リソグラフィ装置内で放射線ビームの均一性を調節するように構成された放射線ビーム均一性調節器であって、
ａ）棒ばねによってフレームに装着されたセグメントを含み、前記セグメントは、前記放射線ビームのある量の放射線を遮断するために少なくとも部分的に前記放射線ビーム内に配置構成され、さらに、
ｂ）前記セグメントを通過する前記放射線ビームの放射線の量を変更するために、前記棒ばねの長手方向軸線にほぼ平行な軸線の周囲で前記セグメントを回転するように構成されたアクチュエータと、
ｃ）前記棒ばね上に装着された第一磁性部材とを含み、前記第一磁性部材は、前記棒ばねによって前記セグメントに加えられるトルクを少なくとも部分的に補償するように構成された位置依存性トルクを前記長手方向軸線の周囲で生成するために、前記フレーム上に装着された第二磁性部材と協働するように構成される放射線ビーム均一性調節器。
【請求項１７】
前記第一磁性部材が永久磁石を有する、請求項１６に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【請求項１８】
前記第二磁性部材が、強磁性コアおよび永久磁石を有する、請求項１６に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【請求項１９】
前記第二磁性部材が複数の永久磁石を有する、請求項１７に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【請求項２０】
前記アクチュエータが、前記セグメントを回転させるために前記第一磁性部材と協働するように構成されたコイルを有する、請求項１６に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【請求項２１】
前記アクチュエータが、前記第二磁性部材を変位して、位置依存性トルクを変更するように構成された圧電要素を有する、請求項１６に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【請求項２２】
さらに、前記セグメントの回転位置を検出するように構成された検出システムを有する、請求項１６に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【請求項２３】
検出システムが光源、および光学センサを含む、請求項２２に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【請求項２４】
さらに、相互に隣接して配置構成された複数のセグメントを有する、請求項１６に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【請求項２５】
セグメントおよび棒ばねが一体構造である、請求項１６に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【請求項２６】
セグメントが、ほぼチタン、タングステン、モリブデンまたはばね鋼で作成される、請求項１６に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【請求項２７】
さらに、区画と第一磁性部材を接続するバーを有し、前記バーが前記棒ばねより高い捩り剛性を有する、請求項１６に記載の放射線ビーム均一性調節器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はリソグラフィ装置およびデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板の目標部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造において使用可能である。このような場合、代替的にマスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスは、ＩＣの個々の層に対応する回路パターンの生成に使用することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェハ）上の目標部分（例えば１つあるいはそれ以上のダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射線感光材料（レジスト）の層への描像を介する。一般的に、１枚の基板は、順次照射される近接目標部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体を目標部分に１回露光することによって各目標部分が照射される、いわゆるステッパと、所定の方向（「走査」方向）にパターンを投影ビームで走査し、これと同時に基板をこの方向と平行に、あるいは反平行に走査することにより、各目標部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板に刻印することによって、パターニングデバイスからのパターンを基板へと転写することも可能である。
【０００３】
リソグラフィ装置は、放射線ビームの均一性を調節するデバイスを含むことができる。このようなデバイスは、放射線ビームの一部を遮断、偏向または減衰するために調節可能である複数の区画（ブレードまたは羽根とも呼ばれる）を含む。このようなデバイスの一例は、欧州特許第１２９１７２１号で開示されている。放射線ビームの調節するために、デバイスにはブレードまたは羽根を調節する複数のアクチュエータを装備することができる。
【０００４】
例えばＵＶ光またはＥＵＶ光のような放射線ビームを使用することは、厳密な要件がビームのクリーンな環境を課せられる。したがって、放射線ビームの付近で作動するデバイスは、例えばガス放出または粒子などによる汚染を回避するために、厳密な要件が課されることがある。これらの要件は、デバイスの構造に、および適用される材料に制限を加える。一例として、粒子汚染の危険があるので、玉軸受けまたはスリーブ軸受けの使用が制限される。エポキシ樹脂のような材料または市販のアクチュエータに使用される絶縁体は、ガス放出の危険性がある。玉軸受けまたはスリーブ軸受けは摩擦力も生じ、望ましくない非線形系の挙動を引き起こす。さらに、このような軸受けは望ましくない遊びを生じ、したがって各部分の位置決めに不正確さを導入する。
【０００５】
それに加えて、デバイスは例えばデバイスの各部分に加わる熱負荷などにより、過酷な運転条件が与えられる。その結果、アクチュエータの使用温度は、市販されているアクチュエータの許容温度と比較して高くなることがある。使用可能なボリューム、および調節可能な区画の寸法に関する要件のために、アクチュエータで使用可能なボリュームも、市販されているアクチュエータの使用を複雑にする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の実施形態は、放射線ビームの均一性を調節するために構成された改良型のデバイスを含む。このようなデバイスは、リソグラフィ装置の照明システムに都合よく適用することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置が提供され、これは、放射線ビームを調整するように構成された照明システムを含み、照明システムは、放射線ビームの均一性を調節するように構成されたデバイスを含み、放射線ビームのある量の放射線を遮断するために、少なくとも部分的に放射線ビーム内に配置構成されたセグメントを含み、セグメントは、棒ばねによってフレームに装着され、さらに遮断される放射線ビームの放射線の量を変更するために、棒ばねの長手方向軸線にほぼ平行な軸線の周囲でセグメントを回転するように構成されたアクチュエータと、棒ばね上に装着された第一磁性部材と使用時に棒ばねによってセグメントに加えられるトルクを少なくとも部分的に補償する位置依存のトルクを長手方向軸線の周囲で生成するために、フレーム上に装着された第一磁性部材と協働するように構成された第二磁性部材と、を含む。
【０００８】
本発明の別の実施形態によると、デバイス製造方法が提供され、方法は、放射線ビームを提供することと、デバイスを使用して放射線の均一性を調節することとを含み、デバイスは、放射線ビームのある量の放射線を遮断するために、少なくとも部分的に放射線ビーム内に配置構成されたセグメントを含み、セグメントは棒ばねによってフレームに装着され、さらに遮断される放射線ビームの放射線の量を変更するために、棒ばねの長手方向軸線にほぼ平行な軸線の周囲でセグメントを回転するように構成されたアクチュエータと、棒ばね上に装着された第一磁性部材と使用時に棒ばねによって区画に加えられるトルクを少なくとも部分的に補償する位置依存のトルクを長手方向軸線の周囲で生成するために第一磁性部材と、フレーム上に装着され、第一磁性部材と協働するように構成された第二磁性部材と、を含み、さらにパターン形成した放射線のビームを基板に投影することを含む。
【０００９】
磁性部材は、強磁性合金のような軟質磁性材料および／または永久磁石のような硬質磁性材料を含んでよいことが分かる。
【００１０】
棒ばねのトルクを少なくとも部分的に補償する位置依存性トルクを生成させることにより、セグメントを回転するために必要なトルクなどのアクチュエータの要件が緩和される。トルクに関する要件が緩和された結果、電磁アクチュエータの場合、電流要件が小さくなる。その結果、アクチュエータへの配線の寸法を小さくすることができ、さらにアクチュエータの電力供給の要件も緩和される。電流要件の軽減の結果、発生する散逸および熱発生が減少する。その結果、冷却要件が緩和され、照明システムの性能が全体的に改善される。電流要件の緩和は、電磁結合によりアクチュエータが周囲に及ぼす影響に対しても有利な影響を及ぼす。
【００１１】
本発明の実施形態では、アクチュエータは、セグメントを回転するために第一磁性部材と協働するように構成されたコイルを含む。それによって、容量要件も緩和される。
【００１２】
本発明の実施形態によるリソグラフィ装置は、（ａ）放射線ビームを調整するように構成された照明システムを含み、照明システムは、放射線ビームの均一性を調節するように構成された放射線ビーム均一性調節器を含み、放射線ビーム均一性調節器は、ｉ）放射線ビームのある量の放射線を遮断するために、少なくとも部分的に放射線ビーム内に配置構成されたセグメントを含み、セグメントは棒ばねによってフレームに装着され、さらにｉｉ）セグメントを通過する放射線ビームの放射線の量を変更するために、棒ばねの長手方向軸線にほぼ平行な軸線の周囲で区画を回転するように構成されたアクチュエータと、ｉｉｉ）棒ばね上に装着された第一磁性部材とを含み、第一磁性部材は、使用時に棒ばねによって区画に加えられるトルクを少なくとも部分的に補償する位置依存性トルクを長手方向軸線の周囲で生成するために、フレーム上に装着された第二磁性部材と協働するように構成され、さらに（ｂ）パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造を含み、パターニングデバイスは、所望のパターンに従って放射線ビームにパターンを形成するように構成され、さらに（ｃ）基板を保持するように構成された基板テーブルと、（ｄ）パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムとを含む。
【００１３】
本発明の実施形態によるデバイス製造方法は、放射線ビームの均一性を調節することを含み、それにはｉ）少なくとも部分的に放射線ビーム内に配置構成されたセグメントで放射線ビームのある量の放射線を遮断し、セグメントは棒ばねによってフレームに装着され、さらにｉｉ）放射線ビームの放射線の量を変更するために、棒ばねの長手方向軸線にほぼ平行な軸線の周囲でセグメントを回転し、ｉｉｉ）棒ばねに装着した第一磁性部材およびフレームに装着した第二磁性部材を使用することによって、棒ばねにより前記セグメントに加えられたトルクを少なくとも部分的に補償するように構成された位置依存性トルクを長手方向軸線の周囲に生成し、ｃ）パターン形成した放射線ビームを基板に投影する。
【００１４】
本発明の実施形態によりリソグラフィ装置内で放射線ビームの均一性を調節するように構成された放射線ビーム均一性調節器は、棒ばねによってフレームに装着されたセグメントを含み、セグメントは、前記セグメントを通過した放射線ビームのある量の放射線を遮断するために少なくとも部分的に放射線ビーム内に配置構成され、さらに放射線ビームの放射線の量を変更するために、棒ばねの長手方向軸線にほぼ平行な軸線の周囲でセグメントを回転するように構成されたアクチュエータと、棒ばね上に装着された第一磁性部材とを含み、第一磁性部材は、棒ばねによってセグメントに加えられるトルクを少なくとも部分的に補償するように構成された位置依存性トルクを長手方向軸線の周囲で生成するために、フレーム上に装着された第二磁性部材と協働するように構成される。
【００１５】
次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照に、例示の方法においてのみ説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示すものとする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１は、本発明の１つの実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、放射線ビームＢ（例えばＵＶ放射線またはＥＵＶ放射線）を調整するように構成された照明システム（照明装置）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持し、かつ、特定のパラメータに従って正確にパターニングデバイスの位置決めを行うように構成された第一位置決め装置ＰＭに連結を行った支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴを含む。装置は、基板（例えばレジスト塗布したウェハ）Ｗを支持し、かつ、特定のパラメータに従って正確に基板の位置決めを行うように構成された第二位置決め装置ＰＷに連結を行った基板テーブル（例えばウェハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射線ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、１つあるいはそれ以上のダイから成る）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折性投影レンズシステム）ＰＳも含む。
【００１７】
照明システムは、放射線の誘導、成形、あるいは制御を行うために、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気、または他のタイプの光学構成要素、またはその組み合わせなどの様々なタイプの光学構成要素を含むことができる。
【００１８】
支持構造は、パターニングデバイスを支持、つまりその重量を担持する。これは、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計、および他の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気、または他の締め付け技術を使用することができる。支持構造は、例えばフレームもしくはテーブルでよく、これは必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して所望の位置にあることを保証することができる。本明細書において使用する「レチクル」または「マスク」なる用語は、より一般的な「パターニングデバイス」なる用途と同義と見なすことができる。
【００１９】
本明細書において使用する「パターニングデバイス」なる用語は、基板の目標部分にパターンを生成するように、放射線ビームの断面にパターンを与えるために使用し得るデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。放射線ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが移相形態またはいわゆるアシスト形態を含む場合、基板の目標部分における所望のパターンに正確に対応しないことがあることに留意されたい。一般的に、放射線ビームに与えられるパターンは、集積回路などの目標部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。
【００２０】
パターニングデバイスは透過性または反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、様々なハイブリッドマスクタイプのみならず、バイナリマスク、レベンソンマスク、減衰位相シフトマスクといったようなマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例は小さなミラーのマトリクス配列を用いる。そのミラーの各々は、異なる方向に入射の放射線ビームを反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射線ビームにパターンを与える。
【００２１】
本明細書において使用する「投影システム」なる用語は、例えば使用する露光放射線、または浸漬流体の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システムおよび静電気光学システムを含むさまざまなタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」なる用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」なる用語と同義と見なされる。
【００２２】
本装置は反射タイプで説明する（例えば反射性マスクを使用する）が、装置は透過タイプとしてもよい（例えば透過性マスクを使用する）。
【００２３】
リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）あるいはそれ以上の基板テーブル（および／または２つもしくはそれ以上のマスクテーブル）を有するタイプのものである。このような「多段」機械においては、追加のテーブルが並列して使用される。もしくは、１つ以上の他のテーブルが露光に使用されている間に予備工程が１つ以上のテーブルにて実行される。
【００２４】
リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するよう、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆うタイプでもよい。浸漬液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用してもよい。浸漬技術は、投影システムの開口数を増加させるために使用可能である。本明細書で使用する「浸漬」なる用語は、基板などの構造を液体に浸さなければいけないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体を配置するというだけの意味である。
【００２５】
図１を参照すると、照明装置ＩＬは放射線ソースＳＯから放射線ビームを受け取る。ソースとリソグラフィ装置とは、例えばソースがエキシマレーザである場合に、別個の存在でよい。このような場合、ソースはリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射線ビームは、例えば適切な集光ミラーおよび／またはビーム拡大器などを含むビーム送出システムＢＤの助けにより、ソースＳＯから照明装置ＩＬへと渡される。他の場合、例えばソースが水銀ランプの場合は、ソースが装置の一体部品でもよい。ソースＳＯおよび照明装置ＩＬは、必要に応じてビーム送出システムＢＤとともに放射線システムと呼ぶことができる。
【００２６】
照明装置は、その断面に亘り所望する均一性と強度分布とを有するように、放射線ビームの調整に使用することができる。
【００２７】
放射線ビームＢは、支持構造（例えばマスクテーブルＭＴ）上に保持されているパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン形成される。放射線ビームＢはマスクＭＡで反射した後、基板Ｗの目標部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第二位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ２（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量性センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴは、例えば放射線ビームＢの経路における異なる目標部分Ｃに位置を合わせるために正確に運動可能である。同様に、第一位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサＩＦ１を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、あるいは走査運動の間に、放射線ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般的に、マスクテーブルＭＴの運動は、第一位置決め装置ＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）にて行われる。同様に、基板テーブルＷＴの運動は、第二位置決め装置ＰＷの部分を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴはショートストロークアクチュエータに連結されるだけであるか、あるいは固定される。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用の目標位置を占有するが、目標部分の間の空間に配置してもよい（スクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる）。同様に、マスクＭＡに複数のダイを設ける状況では、マスクアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００２８】
ここに表した装置は以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
１．ステップモード。マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に保たれている。そして、放射線ビームに与えたパターン全体が１回で目標部分Ｃに投影される（すなわち１回の静止露光）。次に基板テーブルＷＴがＸ方向および／あるいはＹ方向にシフトされ、異なる目標部分Ｃが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、１回の静止露光で描像される目標部分Ｃのサイズを制限する。
２．走査モード。マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを同期走査する一方、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Ｃに投影する（つまり１回の動的露光）。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＬの拡大（縮小）および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、１回の動的露光で目標部分の（非走査方向における）幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の（走査方向における）高さを決定する。
３．別のモード。マスクテーブルＭＴが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターニングデバイスを保持し、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Ｃに投影する間に、基板テーブルＷＴが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルＷＴを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
【００２９】
上述した使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードも使用することができる。
【００３０】
図２ａは、放射線ビーム１０と、少なくとも部分的にビーム内に配置構成される４つのセグメント１５を概略的に示す。セグメントを放射線ビーム内に配置構成することによって、セグメントは放射線ビームのある量の放射線を遮断することができる。Ｙ軸に平行な軸線の周囲でセグメントを回転することにより、遮断される放射線の量を変更することができる。（図２ｂ参照）。それによって、区画の下流の放射線強度を変更し、例えばビームの放射線強度の非均一性を補正するために調節することができる。適用するセグメントの数およびそのサイズは、デバイスの目的、スリットの寸法、および照明システムにおけるデバイスの位置によって決定される。典型的には、約２ｍｍの幅、約１０ｍｍの長さ、および約０．２ｍｍの厚さを有する２０個から５０個のセグメントが設けられる。図３ａは、フレーム１７に対して位置決めされた３６個のセグメント１６を有する、可能な配置構成を概略的に示したものである。各セグメント１６は、一方側がフレームに、他方側がアクチュエータ（図示せず）に接続される。セグメントは、棒ばねを使用してフレームに接続することができ、アクチュエータを使用して回転することができる。棒ばねは、鋼または必要な特性を有する他の合金または材料で作成した線で構成することができる。この点で関連する特性は、高温での高い引っ張り強さ、高い射出係数、高温伝導率でよい。セグメントおよび棒ばねは、デバイスを組み立てた場合に接続される様々な部品で作成することができる。様々な部品を組み立てる方法は、溶接または接着を含む。実施形態では、セグメントおよび棒ばねは１つの部片から作成する。区画または棒ばねまたは両方に適切な材料は、チタン、タングステン、モリブデンまたはばね鋼である。汚染の危険があるので、１つまたは複数の棒ばねを使用する方が、軸受け（玉軸受けまたはスリーブ軸受けなど）を使用するより望ましい。さらに、リソグラフィ装置のような精密機械にこのような軸受けを使用すると、望ましくない摩擦力を引き起こし、駆動力および熱の消費を増加させることがある。このような摩擦力は、予測が困難であり、望ましくない非線形系の挙動を引き起こすことがある。軸受けを使用すると、区画の正確な位置決めを妨げる遊びも導入する。
【００３１】
棒ばねを使用した結果、棒ばねの長手方向軸線の周囲で回転すると、（捩り剛性による）トルクがセグメントに加えられる。図３ｂは、棒ばね２５を使用してフレーム２４に接続したセグメント２２の配置構成を概略的に示す。セグメントを（角度ψで示すように）棒ばねの長手方向軸線２６の周囲で回転すると、捩り剛性トルクＴtが発生する。図３ｃは、角度ψの関数として捩り剛性トルクＴtを概略的に示す。ψ＝０°の場合は、棒ばねが中立位置にある、つまり長手方向軸線の周囲の捩りがほぼないと仮定する。棒ばねが円形の断面を有する場合、捩り剛性トルクは棒ばねの剛性および回転角度ψにほぼ比例して変化することが分かる。さらに、捩り剛性トルクは、中立位置からのセグメントの回転変位に対向するように配向される。つまり、トルクは、棒ばねを中立位置に戻そうとする。慣例として、セグメントをプラスの角度ψにわたって回転する場合、この回転に対向するように配向されたトルクはマイナスで示す。プラスの角度変位を増加させるように配向された（つまりプラスの角度変位するように配向された）トルクは、プラスで示す。したがって、マイナスの角度変位に対向するトルクはプラスで示し、マイナスの角度変位を増大するように配向されたトルクはマイナスで示す。
【００３２】
セグメントまたはブレードを回転するアクチュエータは、一例として、セグメントに装着した第一部分、およびフレームに装着した第二部分を含んでよい。図４は、フレーム、セグメントおよびアクチュエータの可能な配置構成を概略的に示す。図４は、棒ばね３５を使用してフレーム３０の一方側に接続したセグメント３１を示す。セグメントの他方側は、接続部４３を使用してアクチュエータ４０の第一部分４１に接続される。アクチュエータ４０の第一部分４１はさらに、棒ばね３７を使用してフレーム３０に接続される。アクチュエータ４０はさらに、フレーム３０に装着した第二部分４２を含む。セグメントは、アクチュエータ４０を使用して（矢印３２で示すように）その長手方向軸線の周囲で回転することができる。第一アクチュエータ部分４１とセグメント３１との間の接続部４３（例えば棒またはバー）は、棒ばねの捩り剛性より高い捩り剛性を有してよいことに留意されたい。それによって、第一アクチュエータ部分と区画との相対的位置は、セグメントの回転時にほぼ一定のままである。第一アクチュエータ部分４１は、セグメントにも直接結合される。
【００３３】
セグメントを回転するアクチュエータ４０は、一例として電磁アクチュエータでよい。このようなアクチュエータは、コイルおよび永久磁石を含んでよい。図５ａは、可能な配置構成を概略的に示す。図５ａで示す電磁アクチュエータは、永久磁石５１およびコイル５２を含む。コイルに電流を供給すると、力が永久磁石に作用し、力は永久磁石を、電流が通じているコイルによって発生した磁界と位置合わせするように配向される。永久磁石が、磁石の中心を通って配向され、Ｚ軸およびＸ軸に対して直角の軸線の周囲で自由に回転する場合、永久磁石は、コイルの通電時に図５ｂで示すような位置まで回転することができる。
【００３４】
このようなアクチュエータを図４で示すような配置構成で使用する（つまり図５の永久磁石５１が図４の第一アクチュエータ部分４１に対応する）場合、アクチュエータは、棒ばね３５および３７によって発生した捩り剛性トルクを克服しなければならない。この捩り剛性のために、棒ばねが中立位置（つまり棒が長手方向軸線の周囲でほぼ捩れていない位置）にない場合は、棒ばねによって永久磁石にトルクが加えられる。したがって、棒ばねを使用して装着したセグメントを回転するために、アクチュエータを使用すると、捩り剛性が、アクチュエータによって発生したトルクを打ち消すトルクを発生する。したがって、アクチュエータコイルに電流が供給されていない場合、永久磁石は棒ばねの中立位置に戻るか、そこに留まる。その結果、セグメントを中立位置とは異なる位置に維持すべき場合、アクチュエータに連続的に通電しなければならず、その結果、アクチュエータコイルに連続的消費が生じる。
【００３５】
これを回避するか、最小限に抑えるために、本発明の実施形態によるデバイスまたは放射線ビーム均一性調節器を構築して、位置依存性のトルクを提供し、これはほぼアクチュエータに通電する必要なく、棒ばねの捩り剛性によるトルクを少なくとも部分的に補償する。この位置依存性トルクは、一例として、磁気システムの２つの磁性部材の相互作用によって発生することができる。磁性部材は、強磁性合金のような軟質磁性材料および／または永久磁石のような硬質磁性材料を含む。
【００３６】
図６ａは、位置依存性トルクを提供するこのような磁性システムの第一の例を示す。図６ａは、２つの強磁性部分６２、６３によって部分的に囲まれた永久磁石６１の配置構成を概略的に示す。図示のような配置構成では、永久磁石６１と強磁性部分との相互作用の結果、永久磁石を強磁性部分６２、６３と位置合わせするために永久磁石に作用するトルクが生じる（この位置で、角度ψ＝９０°に対応し、磁気抵抗またはリラクタンスが最小になる）。図６ｂは、位置依存性トルクを提供する配置構成の第二例を示す。図６ｂは、強磁性部分６５の穴に挿入した磁石６４の断面図を概略的に示し、穴は楕円形状を有する。この配置構成でも、永久磁石は、最小磁気抵抗（またはリラクタンス）を有する位置へと磁石を変位させるように配向された力を経験する。この位置は、図６ｃで示す位置に対応する。この位置で、永久磁石と強磁性部分との間の空気ギャップが（磁石の中心の任意のＸＹ位置で）最小である。図６ｄは、図６ｂで示した角度ψの関数として永久磁石に加えられるトルク（リラクタンストルクＴr）を概略的に示す。この図から分かるように、柄角度ψ＝０°で永久磁石に作用するリラクタンストルクは、ほぼゼロである。この位置で、永久磁石は不安定平衡状態にある。磁石が時計回り方向または反時計回り方向でこの位置から回転する場合、磁石に加えられるトルクは同じ方向で配向される。磁石が自由に回転する場合は、角度ψ＝＋９０°またはψ＝−９０°で平衡（安定平衡）が見られる（図６ｄ参照）。棒ばねによって与えられる捩り剛性トルクＴtをリラクタンストルクＴr（図６ｄ）と比較すると、角度−９０°＜ψ＜＋９０°について互に反対方向に作用することが分かる。したがって、永久磁石に作用するその結果のトルクＴ＝Ｔt＋Ｔrは、捩り合成トルクＴtまたはリラクタンストルクＴrより小さい。図６ｅは、両方のトルク成分およびその結果のトルクＴを概略的に示す。図６ｅの曲線１は位置依存性トルク（つまりリラクタンストルク）に対応し、曲線２は捩り剛性トルクに対応し、曲線３は結果のトルクに対応する。その結果、永久磁石を中立位置とは異なる位置に維持するために必要な電流が少なくなるので、アクチュエータの効率を改善することができる。
【００３７】
棒ばねが中立位置にある（つまり棒ばねの長手方向軸線の周囲でほぼ回転していない）場合、永久磁石は角度ψ＝０°に位置決めすることが望ましい。それによって、永久磁石に加えられる結果のトルクは、中立位置でほぼゼロになる。
【００３８】
予め画定された作動範囲にわたって捩り剛性トルクを少なくとも部分的に補償するために、境界要素法または有限要素法などの計算技術を使用して、永久磁石および強磁性部分の適切なレイアウトを計算することができる。作動範囲は、放射線ビームの強度に対して実行すべき必要な調節によって決定される。セグメントを回転する典型的な範囲は、−１５°＜ψ＜＋１５°である。捩り剛性によるトルクが、ほぼ線形に変動することが判明した場合、強磁性部分の存在によって永久磁石に加えられるトルクもほぼ線形に変動するが、反対の傾斜であり、したがって永久磁石の結果のトルクは作動範囲にわたってほぼゼロのままである。
【００３９】
リラクタンストルクＴrは、作動範囲にわたって捩り合成トルクＴtよりわずかに小さくすることが望ましいことに留意されたい。これによって、アクチュエータにもう通電されていない場合、セグメントが中立位置に戻ることを保証することができる。
【００４０】
図６ｆは、永久磁石および強磁性部分を含むさらなる磁気システムを概略的に示す。この配置構成では、強磁性部分は、長方形ヨーク６６で構成される。強磁性部分には、永久磁石を挿入する穴を設ける。穴は、点線で示すように２つの円筒形のボリュームを切り取ることによって製造することができる。あるいは、（図６ｇ参照）穴は、強磁性部分（１）に円筒形の穴を切断し、円筒（２）の対角線に沿って部分を切断して、必要な位置依存性トルクが獲得されるように、両方の部分を予め画定した距離ｈ（３）だけ離して配置することによって製造することができる。
【００４１】
図６ｆで示すような配置構成は、−３０°から＋３０°まで変動する角度ψにわたってほぼ線形に変動する位置依存性トルクを提供することに留意されたい。両部分の間の距離ｈを変更することによって、捩り剛性トルクを適切に補償するために、位置依存性トルクの傾斜を変更することができる。したがって、配置構成を適切にスケール変更し、強磁性部分および永久磁石の材料を適切に選択することによって、このような配置構成を適用して、予め画定した作動範囲にわたって（図３ｃで示すような）捩り剛性トルクを少なくとも部分的に補償することができる。
【００４２】
適切なリラクタンストルクは、図６ｈで示すような配置構成でも獲得することができる。この配置構成では、棒ばねの中立位置に対応する不安定平衡が、角度ψ＝９°で見られる。永久磁石６９を囲む強磁性部分６８を適切にモデリングすることによって、図６ｄで示したものと同様のトルク特徴を獲得することができる。
【００４３】
リラクタンストルクは、永久磁石を強磁性部分に組み込むことによっても生成できることに留意されたい。このような配置構成（図６ｉ、図６ｊ参照）では、図６ｆまたは図６ｈで示すような永久磁石を強磁性部材７０で置換することができる。図６ｉは、強磁性ヨーク７４内に配置構成された永久磁石７１、および前記ヨークに挿入された強磁性部材７０を概略的に示す。この配置構成では、永久磁石の磁界のせいで位置依存性トルクが強磁性部材に加えられる。同様の配置構成が図６ｊに図示されている。この配置構成では、２つの永久磁石７２および７３が強磁性ヨーク７５内に配置構成される。これらの配置構成は、図６ｆで示した配置構成と同様の特性を有する。これらの配置構成にも、従来のシミュレーション技術を適用して、必要なリラクタンストルクを獲得するための様々な部品の適切な寸法および特性を求めることができる。
【００４４】
図６ｋは、例えば棒ばねなどの捩り剛性によるトルクを少なくとも部分的に補償することができるトルクを永久磁石に発生させる代替方法を示す。
【００４５】
図６ｋの配置構成は、内部磁石７７を囲む４個の永久磁石７６のセットを含む。４個の永久磁石と内部磁石との相互作用の結果、内部磁石にトルクが加えられる。そのトルクは、−３０°＜ψ＜＋３０°にわたってほぼ線形状に変動することが判明している。
【００４６】
図６ａ、図６ｂ、図６ｆ、図６ｈ、図６ｉ、図６ｊまたは図６ｋで記載したような磁気システムを、アクチュエータと組み合わせることができ、その結果、棒ばねの捩り剛性トルクが少なくとも部分的に磁性システムの位置依存性トルクによって補償されるので、トルクに対するアクチュエータの要件を大幅に緩和することができる配置構成になる。したがって、本発明の実施形態は、位置依存性トルクを発生させる磁性システムを、棒ばねに装着したセグメントを回転するアクチュエータと組み合わせることによって実現することができる。図６ｌは、このようなデバイスを概略的に示す。図６ｌは、フレーム（図示せず）に装着した第一部分８１を含む磁性システム８０、およびセグメント８３に接続された第二部分８２を概略的に示す。配置構成はさらに、アクチュエータ８５を含む。アクチュエータは、軸線８７の周囲でセグメント８３を回転するように配置構成される。セグメントは、棒ばね９０を介してフレーム８６に接続され、棒ばねは、回転時に区画に捩り剛性トルクを加える。捩り剛性トルクを少なくとも部分的に補償するために、磁性システムは、第一部分８１および第二部分８２との相互作用によって位置依存性トルクを発生する。磁性システムの第二部分８２とセグメント８３とアクチュエータ部分８８との幾何学的関係を維持するために、これらの品目（例えばバーまたは棒）の関係は、棒ばね９０の捩り剛性より大きい捩り剛性を有することができる。磁性システムは、セグメントとアクチュエータの間など、他の位置に配置してもよいことをさらに留意されたい。
【００４７】
実施形態では、位置依存性トルクは、アクチュエータに磁性システムを組み込むことによって発生させることができる。このような配置構成は、相互にほぼ独立して作動するアクチュエータおよび磁性システムを有するデバイスと比較して、容量要件が低下する。このような配置構成は、例えば図６ａ、図６ｆ、図６ｈ、図６ｉまたは図６ｊで示すような磁性システムを図４で示すような配置構成のアクチュエータと組み合わせることによって達成することができる。このような配置構成の結果、本発明によるデバイスすなわち放射線ビーム均一性調節器の実施形態になる。図７ａは、このような実施形態を概略的に示す。図７ａは、強磁性ヨーク９１を含むアクチュエータ、永久磁石９２およびコイル９３を概略的に示す。コイル９３と永久磁石９２の相対的位置は、図５ａで示したようなアクチュエータの配置構成と同様である。したがって、コイル９３に電流を供給すると、永久磁石９２が、磁石を回転しようとする力に遭遇する。アングルψがゼロ以外の値であると、磁石は、磁石と強磁性ヨークの相互作用によるリラクタンストルクも経験する。このようなアクチュエータを、セグメントを回転するデバイスに統合すると、図７ｂで示すような配置構成を獲得することができる。図７ｂは、棒ばねに取り付けたセグメントを回転するように配置構成された図７ａによるアクチュエータの部分を概略的に示す。図７ｂは、セグメント１００、棒ばね１０１および永久磁石１０２を概略的に示す。磁石は強磁性ヨーク１０３に挿入され、ヨークは、コイル（図示せずを受けるように構築される。図７ｃは、アクチュエータアセンブリおよび回転すべきセグメントの別の図を示す。この配置構成では、アクチュエータコイル１１０が図示され、デバイスにはさらに、セグメントの回転位置を検出する検出システムを装備する。このような検出システムの例として、このようなシステムはＬＥＤ１１２のような光源、センサ１１４および追加のセグメント１１５を含むことができる。この追加のセグメントを回転することによって、センサが受け取る光（ＬＥＤが放射する光）の量が変化する。したがって、測定される強度は、追加のセグメントの回転変位およびセグメント測定に相当すると見なすことができる。
【００４８】
図８は、本発明の別の実施形態によるデバイスすなわち放射線ビーム均一性調節器を概略的に示す。この配置構成では、棒ばねの捩り剛性によるトルクを少なくとも部分的に補償するリラクタンストルクが、図６ｊで示すような配置構成を使用して発生する。このような配置構成の利点は、永久磁石にかかる熱負荷を、セグメントに接続した永久磁石を有する配置構成と比較して削減できることである。図８は、強磁性部材１２５を部分的に囲む２つの永久磁石１２３および１２４を含む強磁性ヨーク１２０を概略的に示す。この配置構成はさらに、コイル１２２を含む。コイルに電流を供給すると、部材を回転させるために配置構成された強磁性部材１２５に力を加えることができる。部材はさらに、セグメントまたはブレードを回転するために、これに接続することができる。
【００４９】
図９は、本発明の実施形態によるデバイスすなわち放射線ビーム均一性調節器を概略的に示す。この実施形態では、図６ｈで示すような配置構成を使用してリラクタンストルクを発生させる。配置構成は強磁性ヨーク１３０、永久磁石１３１および永久磁石付近に配置構成されたコイル１３３を含む。棒ばねの中立位置に対応する永久磁石の方向が異なるので、コイルの位置もこの配置構成では異なることに留意されたい。棒ばねが中立位置にある（つまり、長手方向軸線の周囲でほぼ捩りがない）場合、永久磁石は不安定平衡状態で位置決めされる。この位置は、ψ＝９０°に対応する。磁石を回転するために永久磁石に力を加えるには、図９で示すような磁石に対してコイルを配置構成することができる。コイルに電流を供給すると、永久磁石は、電流が通じているコイルによって発生した磁界に磁石を位置合わせしようとする力を経験する。この実施形態によるアクチュエータは、図７ｂおよび図７ｃで示したような配置構成にも適用することができる。このような配置構成では、永久磁石は角度ψが９０°とは異なる場合に、リラクタンストルクと捩り剛性トルクの両方を経験する。
【００５０】
代替実施形態では、アクチュエータコイル１３４も強磁性ヨーク上に位置決めすることができる（図１０参照）。それによって、コイルを永久磁石１３１および／またはセグメントからさらに離して位置決めすることができる。これは、コイルまたは永久磁石に対する熱の問題を回避するために有利である。空間が得られるために、強磁性ヨーク上にコイルを適用しても有利である。一例として、コイルは、絶縁して強磁性ヨークの周囲に巻き付けた銅線で構成することができる。
【００５１】
図１１は、本発明の実施形態によるデバイスすなわち放射線ビーム均一性調節器を概略的に示す。この実施形態では、４個の永久磁石１４０に囲まれた内部永久磁石１４５を含む図６ｋによる磁石配置構成によって、位置依存性トルクを発生させる。コイル１４６は、図１１で示すように内部磁石に対して位置決めされる。コイルに電流を供給することによって、内部磁石は、電流が通じているコイルの磁界との相互作用による力を経験する。内部磁石は、図４で示したような棒ばね配置構成を使用して外部磁石およびコイルに対して位置決めすることができる。外部磁石およびコイルは、共通フレーム１４７に装着することができ、これは非磁性材料で作成することができる。
【００５２】
図１２は、本発明の実施形態によるデバイスを概略的に示す。同様に内部磁石を囲む４個の永久磁石を含むこの実施形態では、内部磁石に加えられる力が、内部磁石に対して外部磁石を変位させることによって変化する。これは、屈曲部および圧電アクチュエータを含む構造を使用して達成することができる。図１２は、幾つかの屈曲部１５２を使用してフレーム１５０に接続された４個の外部磁石を示す。この配置構成はさらに、圧電アクチュエータ１５４を含む。アクチュエータに電圧を加えることによって、アクチュエータは、矢印１５６によって示すような方向に変形し、それによって屈曲部および屈曲部に接続した磁石を変位する。これによって、外部磁石と内部磁石の間の相互作用を変更することができる。これは、例えばフレームに回転自在に接続されている場合、内部磁石の回転を引き起こす。外部磁石の変位は、幾つかの他の方法で実現可能であることが、当業者には明白である。外部磁石はそれぞれ、例えば圧電アクチュエータを使用してフレームに装着することができ、したがって各磁石の位置を独立して制御することができる。
【００５３】
本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置が他の多くの用途においても使用可能であることは明確に理解されるべきである。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用ガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造に使用され得る。こうした代替的な用途の状況においては、本文にて使用した「ウェハ」または「ダイ」といった用語は、それぞれ「基板」または「目標部分」といった、より一般的な用語に置き換えて使用され得ることが当業者には理解される。本明細書で言及する基板は、露光前または露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）または計測または検査ツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指す。
【００５４】
以上では光学リソグラフィの状況における本発明の実施形態の使用に特に言及しているが、本発明は、刻印リソグラフィなどの他の用途においても使用可能であり、状況が許せば、光学リソグラフィに制限されないことが分かる。刻印リソグラフィでは、パターニングデバイスの構造が、基板上に生成されるパターンを画定する。パターニングデバイスの構造を、基板に供給されたレジストの層に押しつけ、その後に電磁放射線、熱、圧力またはその組み合わせを適用して、レジストを硬化する。パターニングデバイスをレジストから離し、レジストを硬化した後にパターンを残す。
【００５５】
本明細書では、「放射線」および「ビーム」という用語は、イオンビームあるいは電子ビームといったような粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射線（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、あるいは１２６ｎｍの波長を有する）および超紫外線（ＥＵＶ）放射線（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射線を網羅するものとして使用される。
【００５６】
「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気および静電気光学構成要素を含む様々なタイプの光学構成要素のいずれか、またはその組み合わせを指す。
【００５７】
以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。
【００５８】
上記の説明は例示的であり、制限的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示したものである。
【図２ａ】少なくとも部分的に放射線ビーム内に配置構成されたセグメントのアレイを概略的に示したものである。
【図２ｂ】幾つかのセグメントを回転した状態でセグメントのアレイを概略的に示したものである。
【図３ａ】フレームに対する３６のセグメントの配置構成を概略的に示したものである。
【図３ｂ】棒ばねによってフレームに接続されたセグメントの配置構成を概略的に示したものである。
【図３ｃ】捩り角度の関数として捩り剛性トルクを概略的に示したものである。
【図４】フレーム、セグメントおよびアクチュエータの配置構成を概略的に示したものである。
【図５ａ】コイルおよび永久磁石を有する電磁アクチュエータを概略的に示したものである。
【図５ｂ】コイルによって発生した磁界と永久磁石を位置合わせした電磁アクチュエータを概略的に示したものである。
【図６ａ】位置依存性トルクを提供する配置構成の第一例を示したものである。
【図６ｂ】強磁性部分の楕円形穴に挿入した磁石の断面図を概略的に示したものである。
【図６ｃ】最小磁気抵抗を有する位置にある図６ｂの永久磁石を概略的に示したものである。
【図６ｄ】図６ｂの配置構成の永久磁石に加えるリラクタンストルクＴrを概略的に示したものである。
【図６ｅ】捩り剛性トルク、リラクタンストルクおよびその結果のトルクを概略的に示したものである。
【図６ｆ】永久磁石および強磁性部分のさらなる配置構成を概略的に示したものである。
【図６ｇ】位置依存性トルクを提供する配置構成の部分を製造することを概略的に示したものである。
【図６ｈ】位置依存性トルクを提供する永久磁石および強磁性部分の別の配置構成を概略的に示したものである。
【図６ｉ】強磁性部分に永久磁石を組み込むことによってリラクタンストルクが生成される配置構成を概略的に示したものである。
【図６ｊ】強磁性部分に永久磁石を組み込むことによってリラクタンストルクが生成される配置構成を概略的に示したものである。
【図６ｋ】位置依存性トルクを生成するために内部磁石を囲む永久磁石４個のセットを有する配置構成を概略的に示したものである。
【図６ｌ】本発明の実施形態によるデバイスを概略的に示したものである。
【図７ａ】本発明の実施形態によるデバイスを概略的に示したものである。
【図７ｂ】棒ばねに取り付けた区画を回転するための配置構成内にある図７ａによるデバイスを概略的に示したものである。
【図７ｃ】配置構成、およびアクチュエータコイルを含んで回転すべき区画の別の図を示したものである。
【図８】本発明の実施形態によるデバイスを概略的に示したものである。
【図９】本発明の実施形態によるデバイスを概略的に示したものである。
【図１０】アクチュエータコイルを強磁性ヨーク上に位置決めすることができる、図１０で示した実施形態の代替配置構成を概略的に示したものである。
【図１１】本発明の実施形態によるデバイスを概略的に示したものである。
【図１２】本発明の実施形態によるデバイスを概略的に示したものである。
【図１】
2006157021.tif 000003
【図２ａ】
2006157021.tif 000004
【図２ｂ】
2006157021.tif 000005
【図３ａ】
2006157021.tif 000006
【図３ｂ】
2006157021.tif 000007
【図３ｃ】
2006157021.tif 000008
【図４】
2006157021.tif 000009
【図５ａ】
2006157021.tif 000010
【図５ｂ】
2006157021.tif 000011
【図６ａ】
2006157021.tif 000012
【図６ｂ】
2006157021.tif 000013
【図６ｃ】
2006157021.tif 000014
【図６ｄ】
2006157021.tif 000015
【図６ｅ】
2006157021.tif 000016
【図６ｆ】
2006157021.tif 000017
【図６ｇ】
2006157021.tif 000018
【図６ｈ】
2006157021.tif 000019
【図６ｉ】
2006157021.tif 000020
【図６ｊ】
2006157021.tif 000021
【図６ｋ】
2006157021.tif 000022
【図６ｌ】
2006157021.tif 000023
【図７ａ】
2006157021.tif 000024
【図７ｂ】
2006157021.tif 000025
【図７ｃ】
2006157021.tif 000026
【図８】
2006157021.tif 000027
【図９】
2006157021.tif 000028
【図１０】
2006157021.tif 000029
【図１１】
2006157021.tif 000030
【図１２】
2006157021.tif 000031