(57)【要約】【課題】  レチクル／マスクの保管、運搬、移載などに際して、基板の汚染の原因となる接触や摩擦に起因する発塵を防ぐレチクル／マスクの保持機構を提供する。【解決手段】  レチクル／マスク基板２００を保持する保持機構１００であって、載置棚１と支持軸２とを有し、該載置棚１は、断面視Ｌ字形をなす搭載面１１と直立面１２とからなり、該支持軸２は、該搭載面１１と直立面１２との交点で長手方向を支持するものであり、該載置棚１は、対をなして搭載面１１が対面して配置されており、該基板２００が該搭載面１１に架け渡されたとき、該支持軸２を中心にして互いに内側に回動し、該搭載面１１と直立面１２とで該基板２００の端面を挟持するように構成する。【選択図】      図１
2006202782.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルまたはマスクの基板を保持する保持機構であって、載置棚と支持軸とを有し、
該載置棚は、断面視Ｌ字形をなす搭載面と直立面とからなり、
該支持軸は、該搭載面と直立面との交点で長手方向を支持するものであり、
該載置棚は、対をなして搭載面が対面して配置されており、該基板が該搭載面に架け渡されたとき、該支持軸を中心にして互いに内側に回動し、該搭載面と直立面とで該基板の端面を挟持する
ことを特徴とするレチクル／マスクの保持機構。
【請求項２】
該載置棚は、搭載面と直立面とがなす角度が少なくとも９０°よりも大きく、かつ搭載面が内側に下り勾配になっている
ことを特徴とする請求項１記載のレチクル／マスクの保持機構。
【請求項３】
該載置棚は、直立面が支持軸の中心を過る垂直面より外側に回動する付勢手段を有し、
搭載面に該基板が架け渡されたとき、該基板の自重によって該付勢手段が減勢されて内側に回動する
ことを特徴とする請求項１記載のレチクル／マスクの保持機構。
【請求項４】
該付勢手段は、直立面の外側に固着され、該支持軸の中心を過る垂直面より外側に重心を付与する錘からなる
ことを特徴とする請求項３記載のレチクル／マスクの保持機構。
【請求項５】
該搭載面は、先端部の長手方向に塵取り溝を有する
ことを特徴とする請求項１記載のレチクル／マスクの保持機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細パターンに用いるレチクル基板やマスク基板の保持機構に係わり、特に基板を保持する際に、摩擦などに起因した発塵によるマスク基板自体や環境の汚染を防止する保持機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置を製造する設備は、半導体装置の高密度化、高微細化に伴い、益々塵埃による汚染に対する厳しい対応がなされている。特に、半導体装置の製造プロセスが実行されるクリーンルームの室内では、塵埃の侵入や発生を抑え無塵埃化が進められている。
【０００３】
ところが、クリーンルームの室内で行われる半導体装置の製造プロセスの過程で発生する塵埃は、室内に設置された大きな製造装置から細かい治工具に至るまで、クリーンルームの室内の無塵化とは異なった観点から一層の清浄化が重要な課題になっている。
【０００４】
半導体装置の製造に関わる一連のプロセスの中で、パターニングを行うためのリソグラフィ技術で用いるマスクは、半導体装置の加工基準的な働きをなすものであり、製造歩留りを左右する大きな鍵となっている。
【０００５】
半導体装置の製造プロセスにおけるマスクは、設計からの最終的な出力としての位置付けと、製造現場においては、半導体ウェーハ上にパターニングする加工標準工具としての位置付けがある。一般に、前者はレチクル、後者はワーキングマスク（以下、マスクと略称）と呼ばれている。ただし、最近では、パターニングの精度を向上させるために、レチクルを用いて直接ウェーハ上にパターニングすることが主流になっている。ここでは、両者を合わせてレチクル／マスクと称する。
【０００６】
ところで、レチクルは、ＣＡＤデータから光学的露光や電子ビーム露光などによって、例えば、４倍とか５倍画像で製作され、ワーキングマスクは、レチクルを基にレピータを介して製作されるが、両者とも方形のガラス基板の表面にエマルジョンや金属などの薄膜をパターニングしたものである。
【０００７】
レチクルおよびマスクは、保管、運搬、移載などの際に、保管棚、ステッパ用ケース、ステッパ内のライブラリ、ストッカ、運搬箱、移載機、自動搬送装置などによって扱われるので、その都度基板の表裏面や側面が保持具に接触したり摩擦したりする。そのため、保持具との接触、摩擦などの機械的な発塵に起因する汚染を防ぐために、いろいろな提案がなされている。
【０００８】
従来は、断面がＬ字形の保持具を対向させ、基板を架け渡して挟持したり、Ｖ字形の溝を設けた保持具を横にして対向させ、基板の端面を溝に架け渡して挟持したりしていた。しかし、このような構成の保持具の場合には、基板の端面の一部に大きな押圧力が掛かり端面の角が欠けたり、Ｖ溝面に擦れて発塵したりして、クリーンルーム内や装置内を汚染してしまう不具合が間々起こる。
【０００９】
図８は、従来の保持具の一例の説明図で、図８（Ａ）に示したように、レチクル／マスク基板２００の端面２０１を裏面の方に下向きにテーパが付くようにナイフエッジ状に加工し、図示してない保持具の方は上向きに逆テーパが付くように加工する。そして、レチクル／マスク基板２００は保持具の上向きの傾斜面で支持するようにする。そうすると、基板の自重だけで比較的安定に載置が可能である。
【００１０】
また、図８（Ｂ）に示したように、レチクル／マスク基板２００の端面２０１を、裏面と表面の上下両向きにテーパが付くようにナイフエッジ状に加工してもよい。さらに、図８（Ｃ）に示したように、レチクル／マスク基板２００を確実に固定するには、保持具１０４の傾斜面に真空吸気孔１０５を設け、真空吸気孔１０５を減圧してレチクル／マスク基板２００の端面２０１を吸着する（例えば、引用文献１参照。）。
【００１１】
この提案では、レチクル基板やマスク基板を保持する際に発塵しないように、基板と保持具の接触面の形状を工夫して接触面積を極力減らしている。また、擦らないように基板の自重だけで固定されるようにしているが、基板を確実に固定するには、保持具に厄介な加工をして基板を真空吸着して固定している。
【特許文献１】特開平４−２８９８６２号公報（図１、図４参照）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
このように、レチクル／マスク基板を保持する際に、基板と保持具との接触面の形状を工夫して接触面積を極力減らすため、基板の端面をテーパ加工している。レチクル／マスク基板は、例えば、２〜３ｍｍの薄いガラス板なので、端面のテーパ加工は非常に厄介である。また、基板を固定するために、保持具に真空吸着する加工を施している。複数枚を基板を保管する保管棚などではかなり厄介な加工となる。
【００１３】
そこで、本発明は、レチクル／マスク基板を保持する保持機構の載置棚を回動可能に支持し、基板の自重によって載置棚が回動して自発的に基板を挟持して固定できるレチクル／マスクの保持機構を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上で述べた課題は、請求項１において、レチクルまたはマスクの基板を保持する保持機構であって、載置棚と支持軸とを有し、該載置棚は、断面視Ｌ字形をなす搭載面と直立面とからなり、該支持軸は、該搭載面と直立面との交点で長手方向を支持するものであり、該載置棚は、対をなして搭載面が対面して配置されており、該基板が該搭載面に架け渡されたとき、該支持軸を中心にして互いに内側に回動し、該搭載面と直立面とで該基板の端面を挟持するように構成されたレチクル／マスクの保持機構によって解決される。
【００１５】
つまり、レチクルまたはマスクの基板は、載置棚によって挟持するようにしている。この載置棚は、断面視Ｌ字形の搭載面と直立面からなり、両面の交点長手方向に支持された支持軸によって載置棚が回動するようにしている。載置棚を対向して配置し、対向する搭載面にレチクルまたはマスクの基板が架け渡されると、基板の自重によって直立面が内側に拝むように回動する。そして、基板の端部が搭載面と直立面とに支持されて対向する載置棚に挟まれて保持される。
【００１６】
次いで、請求項２において、該載置棚は、搭載面と直立面とがなす角度が少なくとも９０°よりも大きく、かつ搭載面が内側に下り勾配になっていることを特徴とする請求項１記載のレチクル／マスクの保持機構によって解決される。
【００１７】
つまり、載置棚の搭載面と直立面とのなす角度を９０°より大きな鈍角になるようにしている。そうすると、対向する載置棚の搭載面が例え水平になっているときでも直立面がより外側に開くので、レチクル基板やマスク基板を保持させる際に直立面に触れずに載置させることができる。
【００１８】
また、搭載面が水平よりも内側に下り勾配に傾いている。そうすると、基板との接触部位を基板の端部にすることができるので、接触面積をより小さくすることができる。
【００１９】
次いで、請求項３において、該載置棚は、直立面が支持軸の中心を過る垂直面より外側に回動する付勢手段を有し、搭載面に該基板が架け渡されたとき、該基板の自重によって該付勢手段が減勢されて内側に回動するように構成された請求項１記載のレチクル／マスクの保持機構によって解決される。
【００２０】
つまり、載置棚の直立面を支持軸を中心を過る垂直面より外側に回動するように付勢手段を設けるようにしている。そうすると、レチクル基板やマスク基板の自重によって内側に回動していた載置棚が付勢手段によって自発的に外側に開くように回動する。その結果、引き続くレチクル基板やマスク基板の保持の受入れ準備ができることになる。
【００２１】
次いで、請求項４において、付勢手段は、直立面に該支持軸の中心を過る垂直面より外側に重心を付与する錘からなるように構成された請求項３記載のレチクル／マスクの保持機構によって解決される。
【００２２】
つまり、直立面に支持軸を過る垂直面よりも外側に重心がくるように付勢手段を設けるようにしている。そうすると、載置棚にレチクル基板やマスク基板が載置されていないときには、常に、載置棚が外側に回動しており、直立面が開いて基板の載置を容易にすることができる。
【００２３】
最後に、請求項５において、該搭載面は、先端部の長手方向に塵取り溝を有するように構成された請求項１記載のレチクル／マスクの保持機構によって解決される。
【００２４】
つまり、搭載面にレチクル／マスクが保持された際には、搭載面が内側に傾いて挟持動作が行われる。そこで、搭載面の先端部の長手方向に塵取り溝を設け、内側に傾いた搭載面から塵が落下しないように、塵取り溝が受けるようにしている。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、レチクル基板やマスク基板を保持して、保管、運搬、移載などを行う際に、基板の端部を擦過することなく挟持することができる。その結果、発塵を抑えて基板自体や環境の汚染を防ぐことができるので、例えば、半導体装置の製造工程において重要なレチクル基板やマスク基板の取扱に起因する歩留りの低下を大幅に抑止できる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１は本発明の保持機構の基本構成を示す斜視図、図２は本発明の保持機構による接触摩擦の説明図、図３、４、５および６は本発明の第一の実施例で、図３は本発明の実施例−１の要部の側面図、図４は本発明の実施例−２の要部の側面図、図５は本発明の実施例−３の要部の側面図、図６は本発明の実施例−４の要部の斜視図である。図７は本発明の第二の実施例の模式的な斜視図である。
【００２７】
図中、１は載置棚、１１は搭載面、１２は直立面、２は支持軸、３は付勢手段、３１は錘、３２は引っ張りばね、３３は押しばね、３４はばね支持部材、３５はコイルばね、４は塵取り溝、５１、５２、５３は矢印、１００は保持機構、２００はレチクル／マスク基板、３００は保管箱、３０１は内壁である。
〔第一の実施の形態〕
図１において、保持機構１００は載置棚１と支持軸２とからなる。載置棚１は、側面視Ｌ字形の搭載面１１と直立面１２とからなり、両面１１、１２の交点で長手方向に支持軸２が通った構成になっている。
【００２８】
図１（Ａ）は、保持機構１００がレチクル／マスク基板２００を挟持しておらず、対向して配設された載置棚１が支持軸２を回転中心として矢印５１の外側の方向に回動して開いている。この状態は、何時でもレチクル／マスク基板２００を挟持して保持できる待機状態である。
【００２９】
図１（Ｂ）において、図示してない搬送ロボットなどによってレチクル／マスク基板２００が運ばれ、載置棚１の対向する搭載面１１に架け渡すように置かれる。そうすると、載置棚１に矢印５２に示したようにレチクル／マスク基板２００の自重が掛かり、載置棚１は、支持軸２を回転中心として矢印５３に示したように内側に回動する。引き続いて、レチクル／マスク基板２００は、両側の端部２０１が搭載面１１と直立面１２とに抑えられながら挟まれ、保持される。
【００３０】
さらに、レチクル／マスク基板２００が保持機構１００に保持された状態では、図２（Ｂ）に示したように、載置棚１が内側に傾いて搭載面１１が下り勾配に傾斜する。そのため、搭載面１１の上に捕獲された塵が舞い降りることを防ぐために、搭載面１１の先端部の長手方向に塵取り溝４を設けて、積もった塵の散逸を防ぐようにする。
【００３１】
図２は本発明の保持機構の諸元と接触摩擦の説明図である。図２は対をなして載置棚１が対向配置している保持機構１００の一方のみを示したもので、図２（Ａ）は、載置棚１が待機状態、図２（Ｂ）はレチクル／マスク基板２００を保持している保持状態を模式的に示している。
【００３２】
載置棚１の素材は、表面が比較的滑りが良好で強靱で発塵し難く、低発ガス性で、耐候性や耐化学性に優れた高分子材料が好ましく、例えば、デルリンなどのアセタール系樹脂やＰＥＥＫなどのケトン系樹脂、フレオンなどのフロン系樹脂などを用いる。載置棚１の厚さ：Ａは、例えば、Ａ＝１〜３ｍｍである。支持軸２は、例えば、１〜２ｍｍφの金属製の丸棒である。支持軸２は載置棚１に固定して図示してない支持部材に軸止しても、あるいは図示してない支持部材に支持軸２を固定して載置棚１の孔に支持軸２が回動自在に挿通した構成でもよい。
【００３３】
レチクル／マスク基板２００は、例えば、厚さ：Ｄがレチクルの板厚の場合にはＤ＝６．３５±０．２ｍｍで、幅：Ｗ＝１５２±０．２ｍｍである。従って、搭載面１１と直立面１２との交点：Ｐの距離：Ｃと支持軸２の間隔：Ｂとの関係が、Ｂ＞Ｃ＋Ｒ＞Ｗになっていればよい。ここで、Ｒは図２（Ａ）から分かるように、支持軸２の中心と交点：Ｐとの余弦距離：Ｒで、交点：Ｐは支持軸２の中心を中心として旋回動作する。その結果、レチクル／マスク基板２００が搭載面１１に載せられて自重が載置棚１が矢印：５３の方向に回動し始めると、レチクル／マスク基板２００の端面が搭載面１１においては矢印：５４の方向へ、直立面１２においては矢印５５の方向に擦過することになる。
【００３４】
ただし、図示してない搬送ロボットなどで、精度よくレチクル／マスク基板２００を搬入し、Ｂ≒Ｃ≒ＷとしＲ→０にすれば、矢印５３の回動は極くわずかで済み、矢印５４や５５の擦過量も極く小さくすることができる。
【００３５】
さらに、図２（Ｂ）において、載置棚１を構成する搭載面１１と直立面１２は側面視Ｌ字形であるが、搭載面１１と直立面１２のなす角度：θ＞９０°、つまり、少なくとも９０°以上の鈍角になっており、好ましくは角度：θ＝９２〜１０５°である。
【００３６】
そうすると、図２（Ａ）のレチクル／マスク基板２００を保持する前の載置棚１が待機状態になっているときには、図３（Ａ）に示したように、待機状態で搭載面１１が水平方向になっているとき、直立面１２は支持軸２を過る垂直面よりも外側に倒れている。つまり、上方から見ると対をなして対向している直立面１２が互いに開いた状態になり、レチクル／マスク基板２００を載置棚１に保持する際に、基板の端面が直立面１２に触れることも無く、保持／解持が容易となる。
【００３７】
また、搭載面１１は、水平から僅かに内側に傾いている方が、載置されるレチクル／マスク基板２００の端部の角が接触するのみとなる。つまり、搭載面１１が水平面となす角度：γ＝１〜２°となっていることが好ましい。その結果、レチクル／マスク基板２００と搭載面１１との接触面積を極小にすることができる。
【００３８】
図３には対をなして載置棚１が対向配置している保持機構１００の一方のみを示す。搭載面１１と直立面１２のなす角度は、角度：θ＞９０°になっているので、図３（Ａ）の示したように、載置棚１がレチクル／マスク基板２００を保持する待機状態のとき、直立面１２が支持軸２の中心を過る垂直面よりも外側に倒れた状態になっている。このような待機状態においては、常時、自発的に直立面１２が外側に倒れた状態を維持するために、付勢手段３を設ける。
【００３９】
ここでは、付勢手段３に錘３１を用いる。直立面１２の外壁面に錘３１を固着し、載置棚１の重心が支持軸２の中心の垂直面よりも外側に存在するようにする。そして、常時、矢印５１の方向に付勢させるようにする。しかも、レチクル／マスク基板２００が搭載面１１に架け渡されて載っかり矢印５２の方向に加重が掛かった際には、載置棚１が、図３（Ｂ）に示したように、支持軸２を回転中心として内側に回動する。このような載置棚１の動作は、直立面１２の外壁面に固着する錘３１の位置と重量を選択することによって実現できる。
【００４０】
図４には対をなして載置棚１が対向配置している保持機構１００の一方のみを示す。載置棚１がレチクル／マスク基板２００を保持する前の待機状態のときには、図４（Ａ）の示したように、常時、直立面１２が支持軸２の中心を過る垂直面よりも自発的に矢印５１の方向に回動して外側に倒れた待機状態を維持するために、付勢手段３として引っ張りばね３２を設ける。
【００４１】
引っ張りばね３２は、一端を直立面１２の外壁面に固着し、他端をばね支持部材３４に固着する。そして、載置棚１の直立面１２が支持軸２の中心の垂直面よりも外側になるように矢印５１の方向へ直立面１２を引っ張るように付勢する。しかも、レチクル／マスク基板２００が載置棚１に保持された際には、搭載面１１に矢印５２の方向に加重が掛かると、図４（Ｂ）に示したように、引っ張りばね３２の引っ張り力が減勢し、載置棚１が支持軸２を回転中心として矢印５３の内側の方向に回動し、レチクル／マスク基板２００を保持する。
【００４２】
直立面１２の外壁面に固着する引っ張りばね３２の引っ張り強度は、待機状態では載置棚１を矢印５１の方向に付勢し、搭載面１１に矢印５２の方向にレチクル／マスク基板２００の加重が掛かったときには、減勢して矢印５３の方向に回動するように選択する。
【００４３】
図５には対をなして載置棚１が対向配置している保持機構１００の一方のみを示す。載置棚１がレチクル／マスク基板２００を保持する前の待機状態のときには、図５（Ａ）の示したように、常時、直立面１２が支持軸２の中心を過る垂直面よりも自発的に矢印５１の方向に回動して外側に倒れた待機状態を維持するために、付勢手段３として押しばね３３を設ける。
【００４４】
押しばね３３は、一端を搭載面１１の下壁面に固着し、他端をばね支持部材３４に固着する。そして、載置棚１の直立面１２が支持軸２の中心の垂直面よりも外側になるように矢印５１の方向へ搭載面１１を押し上げるように付勢する。しかも、レチクル／マスク基板２００が載置棚１に保持された際には、図５（Ｂ）に示したように、搭載面１１に矢印５２の方向に加重が掛かると、押しばね３３の押し上げ力が減勢し、載置棚１が支持軸２を回転中心として矢印５３の内側の方向に回動する。その結果、レチクル／マスク基板２００が保持される。
【００４５】
搭載面１１の下壁面に固着する押しばね３３の押し上げ強度は、待機状態では矢印５１の方向に付勢し、矢印５２の方向にレチクル／マスク基板２００の荷重が掛かったときには、減勢して矢印５３の方向に回動するように選択する。
【００４６】
図６には対をなして載置棚１が対向配置している保持機構１００の一方のみを示している。ここでは、付勢手段３にコイルばね３５を用い、載置棚１がレチクル／マスク基板２００を保持する前の待機状態のときには、図６（Ａ）の示したように、常時、直立面１２が支持軸２の中心を過る垂直面よりも自発的に矢印５１の方向に回動して外側に倒れた待機状態を維持するようにする。
【００４７】
つまり、支持軸２は、両端を図示してない軸受けに回動自在に軸止しておき、中央部分を載置棚１に固着する。さらに、コイルばね３５は、一端を回動不能に固定し、他端を載置棚１または支持軸２に固着する。
【００４８】
コイルばね３５の支持軸２に対する巻き込み方向を、載置棚１の直立面１２が支持軸２の中心の垂直面よりも外側になる矢印５１の方向にすれば、載置棚１が、常時、矢印５１の方向に付勢される。そして、レチクル／マスク基板２００が載置棚１に保持された際には、搭載面１１に矢印５２の方向に加重が掛かったら、図６（Ｂ）に示したように、コイルばね３５の巻き込み力が減勢するようにする。そうすると、支持軸２がコイルばね３５の巻き込み偶力に抗して矢印５３の内側の方向に回動して載置棚１が連動し、レチクル／マスク基板２００を保持する。
【００４９】
支持軸２に固着するコイルばね３５の巻き込み偶力は、待機状態では載置棚１を矢印５１の方向に付勢し、搭載面１１に矢印５２の方向にレチクル／マスク基板２００の加重が掛かったときには、減勢して載置棚１を矢印５３の方向に回動するように選択する。
〔第二の実施の形態〕
図７において、本発明の保持機構１００を用いて保管箱３００を構成する。つまり、保管箱３００の両側の内壁３０１に対向して複数の軸支持部材２１を設ける。そして、その軸支持部材２１に支持軸２を支持して保持機構１００を複数段架設する。レチクル／マスク基板２００を保持するには、図示してない搬送ロボットなどによって保管箱３００の前面から保持機構１００の上に挿入して、載置棚１の上に静置する。そうすると、レチクル／マスク基板２００の自重によって、保持機構１００が自発的に挟持動作を行う。
【００５０】
この記事動作は、レチクル／マスク基板２００の中心を対向する支持軸２の中心に移動させる力を発生させるので、保持機構１００に記事されたレチクル／マスク基板２００の搬送位置ずれを修正する機能も有する。
【００５１】
最下段の保持機構１０１は、内側に倒れた載置棚１によってレチクル／マスク基板２００が挟まれて保持されている状態を示す。上段の保持機構１０２は、載置棚１が外側に開いており待機している状態を示す。
【００５２】
ここでは、本発明になる保持機構を用いた保管箱を例示したが、ステッパ用ケースやステッパ内のライブラリ、運搬箱、移載機など、レチクル／マスク基板を扱う全ての装置に適用することができ、種々の変形が可能である。
【００５３】
また、載置棚における搭載面と直立面とのなす角度；θや、搭載面が水平から下り勾配する角度：γなどの例示した数値は、例示範囲に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
【００５４】
さらに、載置棚と支持軸と軸支持部材との相互の固着・枢支・軸支関係は、付勢手段との関係で種々の変形が可能である。
【００５５】
（付記１）  レチクルまたはマスクの基板を保持する保持機構であって、載置棚と支持軸とを有し、
該載置棚は、断面視Ｌ字形をなす搭載面と直立面とからなり、
該支持軸は、該搭載面と直立面との交点で長手方向を支持する物であり、
該載置棚は、対をなして搭載面が対面して配置されており、該基板が該搭載面に架け渡されたとき、該支持軸を中心にして互いに内側に回動し、該搭載面と直立面とで該基板の端面を挟持する
ことを特徴とするレチクル／マスクの保持機構。
【００５６】
（付記２）  該載置棚は、搭載面と直立面とがなす角度が少なくとも９０°よりも大きく、かつ、搭載面が内側に下り勾配になっている
ことを特徴とする付記１記載のレチクル／マスクの保持機構。
【００５７】
（付記３）  該載置棚は、直立面が支持軸の中心を過る垂直面より外側に回動する付勢手段を有し、
搭載面に該基板が架け渡されたとき、該基板の自重によって該付勢手段が減勢されて内側に回動する
ことを特徴とする付記１記載のレチクル／マスクの保持機構。
【００５８】
（付記４）  該付勢手段は、直立面の外側に固着され、該支持軸の中心を過る垂直面より外側に重心を付与する錘からなる
ことを特徴とする付記３記載のレチクル／マスクの保持機構。
【００５９】
（付記５）  該付勢手段は、直立面または搭載面に付設され、直立面を該支持軸の中心を過る垂直面より外側に回動させて付勢する引っ張りばねまたは押しばねからなる
ことを特徴とする付記３記載のレチクル／マスクの保持機構。
【００６０】
（付記６）  該付勢手段は、該支持軸に付設され、該直立面を該支持軸の中心を過る垂直面より外側に回動させて付勢するコイルばねからなる
ことを特徴とする付記３記載のレチクル／マスクの保持機構。
【００６１】
（付記７）  該搭載面は、先端部の長手方向に塵取り溝を有する
ことを特徴とする付記１記載のレチクル／マスクの保持機構。
【００６２】
（付記８）  対向する内壁に付記１記載のレチクル／マスクの保持機構の複数段が並設されている
ことを特徴とするレチクル／マスクの保管箱。
【産業上の利用の可能性】
【００６３】
本発明のレチクル／マスクの保持機構によれば、レチクル基板やマスク基板の自重によって載置棚が回動し、レチクル／マスクを摩擦することなく挟持することができる。その結果、特に半導体装置の製造工程におけるレチクル基板やマスク基板の保管、運搬、移載などに際して発塵を極力抑えることができる。
【００６４】
従って、本発明は、レチクル／マスクの汚染やクリーンルームの汚染、製造装置の汚染に起因する半導体製造工程における歩留りの向上に対して、大きく寄与する。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の保持機構の基本構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の保持機構による接触摩擦の説明図である。
【図３】本発明の実施例−１の要部の側面図である。
【図４】本発明の実施例−２の要部の側面図である。
【図５】本発明の実施例−３の要部の側面図である。
【図６】本発明の実施例−４の要部の斜視図である。
【図７】本発明の第二の実施例の模式的な斜視図である。
【図８】従来の保持具の一例の説明図である。
【符号の説明】
【００６６】
１  載置棚            １１  搭載面            １２  直立面
２  支持軸  
３  付勢手段          ３１  錘                ３２  引っ張りばね
３３  押しばね        ３４  ばね支持部材      ３５  コイルばね
４  塵取り溝  
５１、５２、５３  矢印
１００、１０１、１０２  保持機構  
２００  レチクル／マスク基板
３００  保管箱        ３０１  内壁
【図１】
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【図２】
2006202782.tif 000004
【図３】
2006202782.tif 000005
【図４】
2006202782.tif 000006
【図５】
2006202782.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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