(57)【要約】      （修正有）【課題】温度調整対象の判別を自動で行えるようにし、目標流量の設定ミスを無くすこと。【解決手段】圧力損失が大きいプロセスチャンバ２１ａの特性ａと圧力損失が小さいプロセスチャンバ２１ｂの特性ｂのうち、特性ａ上に閾値Ａ（流量値Ｑ3、圧力値Ｐ3）が設定される。閾値Ａはコントローラ９に設定される。管路１、２及びプロセスチャンバ２１の流路を流れる流体の流量が増加したとき、流量計４では流体の流量が測定され、圧力スイッチ５では流体の圧力が測定される。流体の流量が流量値Ｑ3に達したときに圧力が圧力値Ｐ3に達した場合は、圧力スイッチ５が作動する。この場合に、コントローラ９は圧力損失の大きなプロセスチャンバ２１ａが管路１、２に接続されていると判別する。圧力が圧力値Ｐ3に達しない場合は、コントローラ９は圧力損失の小さなプロセスチャンバ２１ｂが管路１、２に接続されていると判別する。【選択図】  図１
2006210732.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体供給源（３）から温度調整対象（２１）に対して流体を供給するに際して、温度調整対象（２１）が、圧力損失が大きな第１の温度調整対象あるいは圧力損失が小さな第２の温度調整対象であるかを判別する温度調整対象判別装置において、
温度調整対象（２１）に供給される流体の流量を調整する流量調整手段（８）と、
流体の流量を測定する流量測定手段（４）と、
流体の圧力を測定する圧力測定手段（５）と、
第１の温度調整対象に供給される流体の流量と圧力との対応関係（ａ）上の所定の流量値（Ｑ3）、圧力値（Ｐ3）が予め定められ、
前記流量調整手段（８）によって流量を調整した場合に、前記流量測定手段（４）の測定値が所定の流量値（Ｑ3）に達し、かつ前記圧力測定手段（５）の測定値が前記所定の圧力値（Ｐ3）に達した場合には、第１の温度調整対象であると判別し、そうでない場合には、第２の温度調整対象であると判別する判別手段（９）と
を備えたことを特徴とする温度調整対象判別装置。
【請求項２】
前記圧力測定手段（５）は、圧力スイッチであること
を特徴とする請求項１記載の温度調整対象判別装置。
【請求項３】
流体供給源（３）から温度調整対象（２１）に対して流体を供給するに際して、温度調整対象（２１）が、圧力損失が異なる各温度調整対象のいずれかであるかを判別する温度調整対象判別装置において、
温度調整対象（２１）に供給される流体の流量を調整する流量調整手段（８）と、
流体の流量を測定する流量測定手段（４）と、
流体の圧力を測定する圧力測定手段（１５）と、
各温度調整対象毎に、温度調整対象に供給される流体の流量と圧力との対応関係（ａ、ｃ、ｂ）が予め定められ、
前記流量調整手段（８）によって流量を調整して得られた前記流量測定手段（４）および前記圧力測定手段（１５）の流量測定値、圧力測定値が、各対応関係（ａ、ｃ、ｂ）のうちのいずれの対応関係に一致しているかを判断することによって、各温度調整対象のうちのいずれの温度調整対象であるかを判別する判別手段（９）と
を備えたことを特徴とする温度調整対象判別装置。
【請求項４】
各温度調整対象毎に、目標流量が設定され、
前記判別手段（９）で判別された温度調整対象について設定された目標流量が得られるように、前記流量調整手段（８）によって流量が調整されること
を特徴とする請求項１または３記載の温度調整対象判別装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体供給源から温度調整対象、例えば半導体ウェーハの製造に用いられるプロセスチャンバなど、に対して流体を供給するに際して、温度調整対象が、圧力損失が異なる各温度調整対象のいずれかであるかを判別する温度調整対象判別装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置にはプロセスチャンバが設けられる。プロセスチャンバ内の温度調整には流体が用いられており、プロセスチャンバには温度調整用の流体を流す流路が設けられている。
【０００３】
図８は従来の流体の供給経路を示す図である。  
電動モータ８が動作すると、タンク７に貯留する流体はポンプ３に吸入されて、管路１に吐出される。管路１に吐出された流体は熱交換ユニット６で温度調整されて、プロセスチャンバ２１の流路に供給される。さらに流体はプロセスチャンバ２１の流路を流れた後に管路２を介してタンク７に排出される。このように流体はタンク７とプロセスチャンバ２１とを循環する。
【０００４】
プロセスチャンバ２１では半導体ウェーハ（以下、ウェーハという）が処理される。一般にウェーハの径が大きいほど熱容量は大きい。よってプロセスチャンバ２１で任意の目標温度を得るためには、大径のウェーハほど多くの流量が必要となる。このため大径のウェーハを処理するプロセスチャンバ２１ほど流路の径が大きくされており、大径のウェーハに応じた流量の流体が流れるような構造になっている。また小径のウェーハを処理するプロセスチャンバ２１ほど流路の径が小さくされており、小径のウェーハに応じた流量の流体が流れるような構造になっている。このようにプロセスチャンバ２１は処理するウェーハの径毎に構造が異なる。またプロセスチャンバ２１の構造が異なることから、プロセスチャンバ２１に供給すべき流体の流量すなわち目標流量も異なる。よってプロセスチャンバ２１に応じた目標流量に流量制御をしたうえで流体の温度調整を行う必要がある。
【０００５】
従来の流量制御は、大きくは次の二つの方法で行われる。一つはインバータを用いてポンプの回転数を制御する方法であり、もう一つは管路に設けられる手動バルブの絞り量を調整する方法である。これらの流量制御は、作業員がプロセスチャンバ２１を判別し、切換スイッチの操作や手動バルブの操作を行って流体の流量を調整することによって行われる。
【０００６】
下記特許文献１にはコントローラでインバータを制御することによってポンプの回転数を制御し、プロセスチャンバに供給する流体の流量を調整するシステムが開示されている。
【特許文献１】特開２００４−１６９９３３号公報（００１９段落、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来の流量制御では、作業員によるプロセスチャンバの判別や作業員による操作が必要である。このため作業員による作業ミスが発生する可能性が高い。作業員の経験が浅い場合はさらに作業ミスの可能性が高くなる。作業ミスを防止するためには、作業手順を確立したり作業員の教育を徹底する等の必要があり、大変な労力とコストが費やされる。しかしこうした方法を採用しても、作業ミスの発生を低減させることは可能であるものの、完全に無くすことは不可能である。
【０００８】
作業ミスを無くすためには、装置で流量制御を行うようなシステム、例えば特許文献１で開示されるようなシステムを構築し、流量制御を自動で行うようにすればよい。但し流量制御を完全に自動化するためには、流量制御を行う前にプロセスチャンバの判別も自動化する必要がある。しかし従来はプロセスチャンバを判別する技術が存在しなかった。
【０００９】
本発明はこうした実状に鑑みてなされたものであり、温度調整対象の判別を自動で行えるようにし、目標流量の設定ミスを無くすことを解決課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
第１発明は、
流体供給源（３）から温度調整対象（２１）に対して流体を供給するに際して、温度調整対象（２１）が、圧力損失が大きな第１の温度調整対象あるいは圧力損失が小さな第２の温度調整対象であるかを判別する温度調整対象判別装置において、
温度調整対象（２１）に供給される流体の流量を調整する流量調整手段（８）と、
流体の流量を測定する流量測定手段（４）と、
流体の圧力を測定する圧力測定手段（５）と、
第１の温度調整対象に供給される流体の流量と圧力との対応関係（ａ）上の所定の流量値（Ｑ3）、圧力値（Ｐ3）が予め定められ、
前記流量調整手段（８）によって流量を調整した場合に、前記流量測定手段（４）の測定値が所定の流量値（Ｑ3）に達し、かつ前記圧力測定手段（５）の測定値が前記所定の圧力値（Ｐ3）に達した場合には、第１の温度調整対象であると判別し、そうでない場合には、第２の温度調整対象であると判別する判別手段（９）と
を備えたことを特徴とする。
【００１１】
また第２発明は、第１発明において、
前記圧力測定手段（５）は、圧力スイッチであること
を特徴とする。
【００１２】
第１、第２発明を図１、図３を用いて説明する。以下の説明では、流体供給源をポンプ３とし、また第１の温度調整対象を圧力損失の大きいプロセスチャンバ２１ａとし、第２の温度調整対象を圧力損失の小さいプロセスチャンバ２１ｂとし、また流量調整手段を電動モータ８とし、また流量測定手段を流量計４とし、また圧力測定手段を圧力スイッチ５とし、また判別手段をコントローラ９として説明している。
【００１３】
第１、第２発明は、プロセスチャンバ２１の圧力損失の差を利用してプロセスチャンバ２１を判別するものであり、圧力損失の大きいプロセスチャンバ２１ａと圧力損失の小さいプロセスチャンバ２１ｂのいずれかを判別するものである。
【００１４】
図３で示されるように、ポンプ３からプロセスチャンバ２１に対して流体を供給するに際して、ポンプ３から吐出される流体の流量と圧力の対応関係は、プロセスチャンバ２１の圧力損失に応じて異なる。そこで圧力損失が大きいプロセスチャンバ２１ａの特性ａ上に閾値Ａ（流量値Ｑ3、圧力値Ｐ3）が設定される。閾値Ａの圧力値Ｐ3は圧力スイッチ５に設定され、閾値Ａの流量値Ｑ3はコントローラ９に設定される。  
電動モータ８によってポンプ３の回転数を増加させると、管路１、２及びプロセスチャンバ２１の流路を流れる流体の流量が増加する。このとき流量計４では流体の流量が測定され、圧力スイッチ５では流体の圧力が測定される。  
流体の流量が流量値Ｑ3に達したときに流体の圧力が圧力値Ｐ3に達した場合は、圧力スイッチ５が作動する。流量値Ｑ3で圧力スイッチ５が作動するということは、管路１、２に圧力損失が大きいプロセスチャンバ２１ａの流路が接続されていることを意味する。したがってコントローラ９は、管路１、２に接続されているのは圧力損失の大きなプロセスチャンバ２１ａであると判別する。  
一方、流体の流量が流量値Ｑ3に達したときに流体の圧力が圧力値Ｐ3に達しない場合は、圧力スイッチ５が作動しない。流量値Ｑ3で圧力スイッチ５が作動しないということは、管路１、２に圧力損失が小さいプロセスチャンバ２１ｂの流路が接続されていることを意味する。したがってコントローラ９は、管路１、２に接続されているのは圧力損失の小さなプロセスチャンバ２１ｂであると判別する。
【００１５】
第３発明は、
流体供給源（３）から温度調整対象（２１）に対して流体を供給するに際して、温度調整対象（２１）が、圧力損失が異なる各温度調整対象のいずれかであるかを判別する温度調整対象判別装置において、
温度調整対象（２１）に供給される流体の流量を調整する流量調整手段（８）と、
流体の流量を測定する流量測定手段（４）と、
流体の圧力を測定する圧力測定手段（１５）と、
各温度調整対象毎に、温度調整対象に供給される流体の流量と圧力との対応関係（ａ、ｃ、ｂ）が予め定められ、
前記流量調整手段（８）によって流量を調整して得られた前記流量測定手段（４）および前記圧力測定手段（１５）の流量測定値、圧力測定値が、各対応関係（ａ、ｃ、ｂ）のうちのいずれの対応関係に一致しているかを判断することによって、各温度調整対象のうちのいずれの温度調整対象であるかを判別する判別手段（９）と
を備えたことを特徴とする。
【００１６】
第３発明を図５、図６を用いて説明する。以下の説明では、流体供給源をポンプ３とし、また温度調整対象をプロセスチャンバ２１ａ、２１ｂ、２１ｃとし、また流量調整手段をポンプ３とし、また流量測定手段を流量計４とし、また圧力測定手段を圧力計５とし、また流量増加手段を電動モータ８とし、また判別手段をコントローラ９として説明している。
【００１７】
第３発明は、プロセスチャンバ２１の圧力損失の差を利用してプロセスチャンバ２１を判別するものであり、複数のプロセスチャンバ２１ａ、２１ｂ、２１ｃのうちのいずれかを判別するものである。
【００１８】
図６で示されるように、ポンプ３からプロセスチャンバ２１に対して流体を供給するに際して、ポンプ３から吐出される流体の流量と圧力の対応関係は、プロセスチャンバ２１の圧力損失に応じて異なる。そこでコントローラ９にはプロセスチャンバ２１毎の流量と圧力の対応関係が設定される。例えば３つのプロセスチャンバ２１a、２１ｂ、２１ｃを判別する場合には、図６で示されるように、対応関係を示す特性ａ、ｂ、ｃが設定される。
【００１９】
電動モータ８によってポンプ３の回転数を増加させると、管路１、２及びプロセスチャンバ２１の流路を流れる流体の流量が増加する。このとき流量計４では流体の流量が測定され、圧力計１５では流体の圧力が測定される。  
流量計４の測定値が流量Ｑa′であり圧力計１５の測定値が圧力Ｐ′である場合、測定された流量値Ｑa′、圧力値Ｐ′は、プロセスチャンバ２１ａの特性ａに一致する。したがってコントローラ９は、管路１、２に接続されているのはプロセスチャンバ２１ａであると判別する。  
流量計４の測定値が流量Ｑb′であり圧力計１５の測定値が圧力Ｐ′である場合、測定された流量値Ｑb′、圧力値Ｐ′は、プロセスチャンバ２１ｂの特性ｂに一致する。したがってコントローラ９は、管路１、２に接続されているのはプロセスチャンバ２１ｂであると判別する。  
流量計４の測定値が流量Ｑc′であり圧力計１５の測定値が圧力Ｐ′である場合、測定された流量値Ｑc′、圧力値Ｐ′は、プロセスチャンバ２１ｃの特性ｃに一致する。したがってコントローラ９は、管路１、２に接続されているのはプロセスチャンバ２１ｃであると判別する。
【００２０】
第４発明は、第１、第３発明において、
各温度調整対象毎に、目標流量が設定され、
前記判別手段（９）で判別された温度調整対象について設定された目標流量が得られるように、前記流量調整手段（８）によって流量が調整されること
を特徴とする。
【００２１】
コントローラ９（判別手段）は判別したプロセスチャンバ２１に対応する目標流量を電動モータ（流量調整手段）８に指示する。電動モータ８は指示された目標流量が得られるようにポンプ３を制御する。こうしてポンプ３から吐出される流体の流量が調整される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、温度調整対象の判別を自動で行うことができる。したがって作業員の作業ミスによる目標流量の設定ミスを無くすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する。
【００２４】
以下の実施例では、半導体製造装置に設けられるプロセスチャンバを「温度調整対象」として説明する。
【００２５】
一般に熱処理するウェーハのサイズに応じてプロセスチャンバの構造は異なる。  
サイズが小さいウェーハの熱容量は小さい。よってサイズが小さいウェーハを所定温度まで上昇させるためには、少量の温度調整用流体が使用される。このためサイズが小さいウェーハを熱処理するプロセスチャンバには小径の流路が設けられ、小さな熱容量に対応して少量の流体が流れるような構造になっている。  
一方、サイズが大きいウェーハの熱容量は大きい。よってサイズが大きいウェーハを所定温度まで上昇させるためには、多量の温度調整用流体が使用される。このためサイズが大きいウェーハを熱処理するプロセスチャンバには大径の流路が設けられ、大きな熱容量に対応して多量の流体が流れるような構造になっている。  
このようにプロセスチャンバ毎に流路の径が異なる。すると配管抵抗が異なり、流体の圧力損失が異なることになる。本実施形態はプロセスチャンバのこうした圧力損失の差を利用してプロセスチャンバを判別し、流体の流量をプロセスチャンバに対応した目標流量に制御したうえで流体の温度調整をするものである。
【実施例１】
【００２６】
現在、プロセスチャンバは大別して、直径２００(mm)のウェーハ用のもの（以下、２００mmチャンバという）と、直径３００(mm)のウェーハ用のもの（以下、３００mmチャンバという）がある。そこで実施例１では圧力損失の異なる２つのプロセスチャンバのうちのいずれかを判別し、プロセスチャンバに供給する流量を、判別したプロセスチャンバに対応する目標流量にするように制御する実施形態について説明する。
【００２７】
図１は第１実施形態に係る流体の供給経路を示す図である。  
管路１、２は、プロセスチャンバ２１とタンク７の間を循環する流体の流路である。管路１はポンプ３の吐出口とプロセスチャンバ２１の流路の供給口を連通する。管路２はプロセスチャンバ２１の流路の排出口とタンク７を連通する。タンク７には温度調整用の流体、例えば水などが貯留される。管路１には流量計４と圧力スイッチ５と熱交換ユニット６が設けられる。ポンプ３は回転軸が電動モータ８の回転軸に接続される。ポンプ３は電動モータ８の駆動に応じてタンク７に貯留する流体を吸入口から吸入し、また吸入した流体を吐出口から管路１に吐出する。流量計４はポンプ７の下流側に設けられる。流量計４は、ポンプ３から吐出される流体の流量を測定し、測定値をパルス信号Ｓpとしてコントローラ９に送信する。熱交換ユニット６は流量計４の下流側に設けられる。熱交換ユニット６は複数の熱電変換素子と電極とで構成された熱電変換素子モジュールを備え、通電方向及び給電電力の変化に応じて吸熱・発熱及び熱量を変化させる。圧力スイッチ５は、管路１を流れる流体の圧力を測定し、流体が圧力閾値を超えた場合に接点信号Ｓcをコントローラ９に送信する。なお圧力スイッチ５の代わりに圧力センサが設けられてもよい。
【００２８】
図２はコントローラ９のブロック図である。  
ＡＣ電源入力部９１に交流電圧が印加されると、過電流保護素子９２を介してＤＣ制御用電源９３に交流電圧が印加される。ＤＣ制御用電源９３は、交流電圧を直流電圧に変換してＣＰＵ制御基板９４に印加する。ＣＰＵ制御基板９４から電磁開閉器９５に通電許可信号Ｓiが送信されると、電磁開閉器９５が閉じる。するとポンプ回転数制御用インバータ９６と熱電変換素子用ＤＣ電源９７に交流電圧が印加される。ポンプ回転数制御用インバータ９６は、交流電圧を一旦直流電圧に変換し、さらにその直流電圧をＣＰＵ制御基板９４から送信される回転数指令信号Ｓrに応じた周波数の交流電圧に変換して電動モータ８に印加する。熱電変換素子用ＤＣ電源９７は、交流電圧を直流電圧に変換し、出力制御用電子回路網９８に印加する。出力制御用電子回路網９８は、ＣＰＵ制御基板９４から送信される出力指令信号Ｓoに応じた直流電圧を熱交換ユニット６に印加する。また出力制御用電子回路網９８は、ＣＰＵ制御基板９４から送信される動作指令信号Ｓmに応じて熱交換ユニット６の運転開始／停止を制御する。
【００２９】
ＣＰＵ制御基板９４には、プロセスチャンバ２１毎の目標流量、すなわち２００mmチャンバ２１ａの目標流量Ｑ1と３００mmチャンバ２１ｂの目標流量Ｑ2が設定され、またプロセスチャンバ２１毎の流体の目標温度が設定される。目標流量や目標温度は、図示しない入力装置、例えばテンキーなど、を介して設定される。  
ＣＰＵ制御基板９４は、流量計４から送信されるパルス信号Ｓpを受信し、また圧力スイッチ５から送信される接点信号Ｓcを受信し、また熱交換ユニット６から送信される流体温度信号Ｓtを受信する。またＣＰＵ制御基板９４は、電動モータ８の回転数を指示する回転数指令信号Ｓrをポンプ回転数制御用インバータ９６に送信し、また熱交換ユニット６の給電電力・通電方向を指示する出力指令信号Ｓoを出力制御用電子回路網９８に送信する。ＣＰＵ制御基板９４は、接点信号Ｓcを受信するか否かでプロセスチャンバ２１の判別を行う。またＣＰＵ制御基板９４は、流量計４から送信されるパルス信号Ｓp（流量値）に基づいて流体の流量がプロセスチャンバ２１に対応した目標流量になるようにフィードバック制御する。またＣＰＵ制御基板９４は、熱交換ユニット６から送信される流体温度信号Ｓt（温度値）に基づいて流体の温度が目標温度になるようにフィードバック制御する。
【００３０】
図３は第１実施形態の目標流量判別処理を説明するための図である。  
図３の横軸は１分当たりにポンプ３から吐出される流体の流量(l/min)を示し、縦軸は管路１を流れる流体の圧力(psi)を示す。図３で示されるように、２００mmチャンバ２１ａでウェーハ処理が行われる際には、流量が目標流量Ｑ1(l/min)とされる。この時の圧力はＰ1(psi)となる。また３００mmチャンバ２１ｂでウェーハ処理が行われる際には、流量が目標流量Ｑ2（＞Ｑ1）(l/min)とされる。この時の圧力はＰ2（＜Ｐ1）(psi)となる。
【００３１】
ポンプ３から吐出される流体の流量と圧力は比例関係にある。管路１、２と２００mmチャンバ２１ａの流路が接続された場合に電動モータ８の回転数が上げられると、流量と圧力は図３で示される特性ａに沿って上昇する。管路１、２と３００mmチャンバ２１ｂの流路が接続された場合に電動モータ８の回転数が上げられると、流量と圧力は図３で示される特性ｂに沿って上昇する。図３で示されるような特性ａ、ｂの相違はプロセスチャンバ２１の流路の圧力損失が異なることによって生じる。
【００３２】
図３で示される特性ａ、ｂから分かるように、２００mmチャンバ２１ａと３００mmチャンバ２１ｂとでは、２００mmチャンバ２１ａの方が圧力損失が大きい。そこで圧力損失が大きい２００mmチャンバ２１ａの特性ａ上に閾値Ａ（＝圧力値Ｐ3＞Ｐ1＞Ｐ2）を設定する。本実施形態では、流体の圧力が圧力値Ｐ3に達した時に圧力スイッチ５が作動し接点信号Ｓcが送信されるようにする。また圧力値Ｐ3に対応する流量値Ｑ3を設定しておく。
【００３３】
第１実施形態のプロセスチャンバの判別と流量制御は次のようにして行われる。  
図４は第１実施形態で行われるプロセスチャンバの判別と流量制御のフローチャートである。  
各機器の電源を投入し、電動モータ８を駆動してポンプ３の運転を開始する（ステップＳ３１）。電動モータ８の回転数を徐々に上げていき、ポンプ３の吐出流量を大きくする（ステップＳ３２）。
【００３４】
流量ＱがＱ3に達した時に圧力ＰがＰ3に達すると、圧力スイッチ５が作動し、接点信号Ｓcがコントローラ９のＣＰＵ制御基板９４に送信される（ステップＳ３３：ＹＥＳ）。ＣＰＵ制御基板９４は、接点信号Ｓcを受信することによってプロセスチャンバ２１が２００mmチャンバ２１ａであると判別し、目標流量がＱ1であると判別する（ステップＳ３４）。目標流量Ｑ1は流量値Ｑ3よりも小さいため、ポンプ３の回転数は下げられる（ステップＳ３５）。ＣＰＵ制御基板９４は、２００mmチャンバ２１ａの目標流量Ｑ1と流量計４の測定値Ｑを比較し、その差をゼロにすべく回転数指令信号Ｓrをポンプ回転数制御用インバータ９６に送信する。ポンプ回転数制御用インバータ９６は回転数指令信号Ｓrに基づいて、電動モータ８の回転制御をする。このようにして２００mmチャンバ２１ａに対応した目標流量のフィードバック制御が行われる（ステップＳ３６）。また目標温度のフィードバック制御も行われる。
【００３５】
一方、流量ＱがＱ3に達した時に圧力ＰがＰ3に達しないと、圧力スイッチ５が作動せず、接点信号Ｓcはコントローラ９のＣＰＵ制御基板９４に送信されない（ステップＳ３３：ＮＯ）。ＣＰＵ制御基板９４は、接点信号Ｓcを受信しないことによってプロセスチャンバ２１が３００mmチャンバ２１ｂであると判別し、目標流量がＱ2であると判別する（ステップＳ３７）。目標流量Ｑ2は流量値Ｑ3よりも大きいため、ポンプ３の回転数は上げられる（ステップＳ３８）。ＣＰＵ制御基板９４は、３００mmチャンバ２１ｂの目標流量Ｑ2と流量計４の測定値Ｑを比較し、その差をゼロにすべく回転数指令信号Ｓrをポンプ回転数制御用インバータ９６に送信する。ポンプ回転数制御用インバータ９６は回転数指令信号Ｓrに基づいて、電動モータ８の回転制御をする。このようにして３００mmチャンバ２１ｂに対応した目標流量のフィードバック制御が行われる（ステップＳ３９）。また目標温度のフィードバック制御も行われる。
【００３６】
本実施形態では圧力スイッチ５が用いられているが、圧力計で圧力を測定し、コントローラ９で閾値Ａの圧力値Ｐ3に達したか否かが判別されるようにしてもよい。
【００３７】
第１実施形態によれば、圧力スイッチから送信される接点信号Ｓcの有無のみでプロセスチャンバを判別でき、判別したプロセスチャンバに対応する目標流量を用いて流体の流量を制御できる。このように作業員を介さず自動的にプロセスチャンバが判別されるので、作業員の作業ミスによる目標流量値の設定ミスを無くすことができる。また本実施形態の装置構成や制御内容は非常に簡素であり、装置自体の管理が容易である。
【実施例２】
【００３８】
実施例１は２つのプロセスチャンバを判別し、流量制御をする形態であるが、場合によっては３つ以上のプロセスチャンバを判別する必要もある。そこで実施例２では圧力損失の異なる３つのプロセスチャンバ２１ａ、２１ｂ、２１ｃのうちのいずれであるかを判別し、判別したプロセスチャンバに対応する目標流量に制御する実施形態について説明する。
【００３９】
図５は第２実施形態に係る流体の供給経路を示す図である。  
図５で示される第２実施形態の構成は、図１で示される第１実施形態の構成とほぼ同じである。相違点は、圧力スイッチ５ではなく圧力計１５が用いられているところである。コントローラ９の内部構成も図２で示される構成と同じとするが、ＣＰＵ制御基板９４で行われる処理内容は異なる。
【００４０】
ＣＰＵ制御基板９４には、流量と圧力との対応関係がプロセスチャンバ２１毎に設定される。またプロセスチャンバ２１毎に対応する目標流量が設定される。例えば図６で示されるプロセスチャンバ２１ａの特性ａと、プロセスチャンバ２１ｂの特性ｂと、プロセスチャンバ２１ｃの特性ｃがテーブルとして設定され、また各プロセスチャンバ２１ａ、２１ｂ、２１ｃに対応する目標流量が設定される。ＣＰＵ制御基板９４は、実際に測定された流量と圧力がいずれの特性と一致するかによってプロセスチャンバ２１を判別し、判別したプロセスチャンバに対応する目標流量を判別する。
【００４１】
第２実施形態のプロセスチャンバの判別と流量制御は次のようにして行われる。  
図７は第２実施形態で行われるプロセスチャンバの判別と流量制御のフローチャートである。  
各機器の電源を投入し、電動モータ８を駆動してポンプ３の運転を開始する（ステップＳ７１）。電動モータ８の回転数を徐々に上げていき、ポンプ３の吐出流量を大きくする（ステップＳ７２）。
【００４２】
流量計４から送信されるパルス信号Ｓpと圧力計１５から送信される圧力信号Ｓaはコントローラ９のＣＰＵ制御基板９４に受信される。ＣＰＵ制御基板９４では、任意のタイミングで測定された流量値Ｑ及び圧力値Ｐが、設定された特性ａ、特性ｂ、特性ｃのいずれに一致するかを判別する（ステップＳ７３）。
【００４３】
流量値Ｑ及び圧力値ＰがＱa′、Ｐ′である場合、図６で示されるように流量値Ｑa′、圧力値Ｐ′は、プロセスチャンバ２１ａの特性ａ上にある。この場合にＣＰＵ制御基板９４は、プロセスチャンバ２１がプロセスチャンバ２１ａであると判別し、目標流量がＱaであると判別する（ステップＳ７４：ａ、ステップＳ７４）。ＣＰＵ制御基板９４は、プロセスチャンバ２１ａの目標流量Ｑaと流量計４の測定値Ｑを比較し、その差をゼロにすべく回転数指令信号Ｓrをポンプ回転数制御用インバータ９６に送信する。ポンプ回転数制御用インバータ９６は回転数指令信号Ｓrに基づいて、電動モータ８の回転制御をする。このようにしてプロセスチャンバ２１ａに対応した目標流量のフィードバック制御が行われる（ステップＳ７５）。また目標温度のフィードバック制御も行われる。
【００４４】
流量値Ｑ及び圧力値ＰがＱb′、Ｐ′である場合、図６で示されるように流量値Ｑb′、圧力値Ｐ′は、プロセスチャンバ２１ｂの特性ｂ上にある。この場合にＣＰＵ制御基板９４は、プロセスチャンバ２１がプロセスチャンバ２１ｂであると判別し、目標流量がＱbであると判別する（ステップＳ７４：ｂ、ステップＳ７６）。ＣＰＵ制御基板９４は、プロセスチャンバ２１ｂの目標流量Ｑbと流量計４の測定値Ｑを比較し、その差をゼロにすべく回転数指令信号Ｓrをポンプ回転数制御用インバータ９６に送信する。ポンプ回転数制御用インバータ９６は回転数指令信号Ｓrに基づいて、電動モータ８の回転制御をする。このようにしてプロセスチャンバ２１ｂに対応した目標流量のフィードバック制御が行われる（ステップＳ７７）。また目標温度のフィードバック制御も行われる。
【００４５】
流量値Ｑ及び圧力値ＰがＱc′、Ｐ′である場合、図６で示されるように流量値Ｑc′、圧力値Ｐ′は、プロセスチャンバ２１ｃの特性ｃ上にある。この場合にＣＰＵ制御基板９４は、プロセスチャンバ２１がプロセスチャンバ２１ｃであると判別し、目標流量がＱcであると判別する（ステップＳ７４：ｃ、ステップＳ７８）。ＣＰＵ制御基板９４は、プロセスチャンバ２１ｃの目標流量Ｑcと流量計４の測定値Ｑを比較し、その差をゼロにすべく回転数指令信号Ｓrをポンプ回転数制御用インバータ９６に送信する。ポンプ回転数制御用インバータ９６は回転数指令信号Ｓrに基づいて、電動モータ８の回転制御をする。このようにしてプロセスチャンバ２１ｃに対応した目標流量のフィードバック制御が行われる（ステップＳ７９）。また目標温度のフィードバック制御も行われる。
【００４６】
第２実施形態は、ＣＰＵ制御基板９４に任意の圧力値Ｐ′とその圧力値Ｐ′に対応するプロセスチャンバ２１ａの流量値Ｑa′、プロセスチャンバ２１ｂの流量値Ｑb′、プロセスチャンバ２１ｃの流量値Ｑc′のみが設定される形態も含む。この形態の場合は、流体の圧力がＰ′となった時点で流量がＱa′、Ｑb′、Ｑc′のいずれであるかを判別し、その判別結果次第でプロセスチャンバ２１が判別され、目標流量が判別される。この形態では圧力計１５の代わりに圧力スイッチを設けてもよい。
【００４７】
同様に第２実施形態は、ＣＰＵ制御基板９４に任意の流量値Ｑ′とその流量値Ｑ′に対応するプロセスチャンバ２１ａの圧力値Ｐa′、プロセスチャンバ２１ｂの圧力値Ｐb′、プロセスチャンバ２１ｃの圧力値Ｐc′のみが設定される形態も含む。この形態の場合は、流体の流量がＱ′となった時点で圧力がＰa′、Ｐb′、Ｐc′のいずれであるかを判別し、その判別結果次第でプロセスチャンバ２１が判別され、目標流量が判別される。
【００４８】
なお第２実施形態は２つのプロセスチャンバを判別する場合や４つ以上のプロセスチャンバを判別する場合にも適用可能である。
【００４９】
第２実施形態によれば、予め設定される流量と圧力の対応関係を用いることでプロセスチャンバを判別でき、判別したプロセスチャンバに対応する目標流量を用いて流体の流量を制御できる。このように作業員を介さず自動的にプロセスチャンバが判別されるので、作業員の作業ミスによる目標流量値の設定ミスを無くすことができる。
【００５０】
第１、第２実施形態では、温度調整対象がプロセスチャンバであるものとして説明した。しかし本発明はこれに限るものではない。例えばサセプタなどにも本発明を適用することは可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】図１は第１実施形態に係る流体の供給経路を示す図である。
【図２】図２はコントローラのブロック図である。
【図３】図３は第１実施形態の目標流量判別処理を説明するための図である。
【図４】図４は第１実施形態で行われる目標流量の判別と流量制御のフローチャートである。
【図５】図５は第２実施形態に係る流体の供給経路を示す図である。
【図６】図６は第２実施形態の流量制御処理を説明するための図である。
【図７】図７は第２実施形態で行われる目標流量の判別と流量制御のフローチャートである。
【図８】図８は従来の流体の供給経路を示す図である。
【符号の説明】
【００５２】
１、２…管路  ３…ポンプ  ４…流量計  ５…圧力スイッチ  ６…熱交換ユニット
７…タンク  ８…電動モータ  ９…コントローラ  ２１…プロセスチャンバ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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