(57)【要約】【課題】本発明の目的は、外反母趾等、足の骨格の崩れから生ずる弊害を防止または緩和するために、各個人の偏平足等の程度、左右の足圧の違い、足の形状や状態に合わせて、足裏のアーチをサポートする隆起部の高さと位置を自在に移動・調整し、各個人の矯正箇所であるワンポイント位置に的確に設置することが可能な外反母趾防止体を有する靴の中敷又は中底を提供することにある。【解決手段】本発明に係る外反母趾防止体を有する中敷又は中底は、靴を履く人の偏平足等の症状、程度等により各個人及び左右の足で異なる足裏の矯正箇所であるワンポイント矯正箇所として、内側縦及び又は横アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部が、該ワンポイント矯正箇所に移動し固定出来る様に位置調整固定手段を備え、所定の厚みに調整するために、隆起部の厚みを漸次減少可能な積層パーツで形成したことを特徴とする。【選択図面】  図１
2006000403.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
靴を履く人の偏平足等の症状、程度等により各個人及び左右の足ごとに異なる足裏の矯正箇所であるワンポイント矯正箇所として、内側縦アーチ及び又は横アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部が、該ワンポイント矯正箇所に移動して固定出来るように位置調整固定手段を備えるとともに所定の厚みに調整するために、前記隆起部の厚みを漸次減少可能な積層パーツで形成したことを特徴とする外反母趾防止体を有する中敷又は中底。
【請求項２】
前記外反母趾防止体を有する中敷又は中底は、足裏の内側縦アーチ及び又は横アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部が、該ワンポイント矯正箇所に移動して固定出来るように位置調整固定手段を備えるとともに所定の厚みに調整するために、前記隆起部の厚みを漸次増加可能な積層パーツで形成したことを特徴とする外反母趾防止体を有する中敷又は中底。
【請求項３】
前記積層パーツは粘着性を有する脱着可能な複数枚のシート体を含んでいることを特徴とする請求項１または２記載の外反母趾防止体を有する中敷又は中底。
【請求項４】
前記外反母趾防止体を有する中敷又は中底は、足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体と、前記足裏の横アーチに対応する隆起部を備えた基体とは分離しており、前記足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体に対して、上記足裏の横アーチに対応する隆起部の位置をワンポイント矯正箇所に設置する位置調整固定手段を備えたことを特徴とする請求項１、２又は３記載の外反母趾防止体を有する中敷又は中底。
【請求項５】
上記足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体に、位置調整用の直線状又は曲線状の透孔又は溝を複数設けるとともに、該透孔又は溝にスライド可能に嵌合する突条を上記足裏の横アーチに対応する隆起部を備えた基体に設け、かつ該足裏の横アーチに対応する隆起部の位置をワンポイント矯正箇所に設置する両面テープ、接着剤等の接着手段を設けたことを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の外反母趾防止体を有する中敷又は中底。
【請求項６】
上記足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体及び上記足裏の横アーチに対応する隆起部を備えた基体は、中敷又は靴の中底であることを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載の外反母趾防止体を有する中敷又は中底。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、外反母趾等の疾患の予防もしくは悪化を防ぐための隆起を備えた靴の中敷又は中底に関し、特に足の形状によって隆起部の位置調節の可能で、かつ個人個人の偏平足の程度に応じて隆起の高さ位置の調節が自在な靴の中敷又は中底に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年外反母趾等の足の骨格のくずれ、また足の骨格のくずれから生ずる疾患が注目されている。そこで従来より外反母趾等の足の骨格のくずれ、また足の骨格のくずれから生ずる疾患を予防、もしくは悪化を防ぐための発明は多くなされており、外反母趾の予防、症状の緩和を目的とした靴や靴下、足の骨格を矯正するサポーター等様々な製品が開発されてきた。また、外反母趾の原因としては靴の形状にも問題があるが、大きな要因は偏平足の人が外反母趾になり易いという考えが専門家の見方である。そこで、靴を履いた状態で如何にして偏平足を解消するかが重要なテーマとなる。
【０００３】
上記弊害のうちで、外反母趾等の足の骨格が崩れることによる弊害の予防、もしくは悪化を防ぐために足裏のアーチをサポートする隆起を設けた靴の中敷、また足裏の土踏まずやツボを刺激するための突起を設けた靴の中敷の発明もなされている。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−１４６８０２
【特許文献２】特開２００１−３５３００５
【特許文献３】特開２００３−２１０２０６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記従来技術の靴の中敷は隆起部もしくは突起部の位置が固定されており、個々の足の形状や状態に合わせて隆起部を設けるためには製作段階で隆起部もしくは突起部の位置を調節しなければならず、製品化した後で足の形状や状態に合わせて隆起部の位置の変更することは不可能であった。
【０００６】
外反母趾等、足の骨格が崩れることから生ずる弊害を防止または緩和するために足のアーチをサポートする隆起部の位置を足の形状、状態に合わせて自在に位置変更をすることが可能な靴底または靴の中敷は存在していなかった。
また、偏平足等の症例の患者を対象に靴底を矯正する場合においても、人それぞれ足のサイズ、ワイズ、偏平足等の程度、左右の足等により各個人の矯正箇所は様々であるが、その矯正箇所は各アーチ共、各個人にとってはワンポイント矯正箇所に設置することが肝要である。このように、足裏を矯正する場合、足裏を矯正する場所が各個人により異なり、また隆起部の高さも異なる上に、左足と右足にかかる足圧が異なり、左右別々に矯正する必要がある。専門医によれば、足裏の矯正箇所はワンポイントであり、その矯正箇所に適切に所望する隆起部を形成することが重要となる。
【０００７】
本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、足裏の矯正箇所がワンポイントであることから、如何にしてその矯正箇所に適切に所望する隆起部を形成するかを重点考慮したものであり、足裏のアーチをサポートする隆起部を備えた中敷又は中底において、個人個人の偏平足等の程度及び左右の足圧の違いに応じて個人個人の矯正箇所であるワンポイント位置に設置すべく、隆起の高さ位置の調節と、該隆起の高さ調整に加えて個人個人の足の形状や状態に合わせて二次元的移動若しくは平面的移動が自在にできワンポイント位置に的確に設置できる外反母趾防止体を有する靴の中敷又は中底を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る外反母趾防止体を有する中敷又は中底は、靴を履く人の偏平足等の症状、程度等により各個人及び左右の足ごとに異なる足裏の矯正箇所であるワンポイント矯正箇所として、内側縦アーチ及び又は横アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部が、該ワンポイント矯正箇所に移動して固定出来るように位置調整固定手段を備えるとともに所定の厚みに調整するために、前記隆起部の厚みを漸次減少可能な積層パーツで形成したことを特徴とする。
【０００９】
前記外反母趾防止体を有する中敷又は中底は、足裏の内側縦アーチ及び又は横アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部が、該ワンポイント矯正箇所に移動して固定出来るように位置調整固定手段を備えるとともに所定の厚みに調整するために、前記隆起部の厚みを漸次増加可能な積層パーツで形成したことを特徴とする。
【００１０】
前記積層パーツは粘着性を有する脱着可能な複数枚のシート体を含んでいることを特徴とする。
【００１１】
前記外反母趾防止体を有する中敷又は中底は、足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体と、前記足裏の横アーチに対応する隆起部を備えた基体とは分離しており、前記足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体に対して、上記足裏の横アーチに対応する隆起部の位置をワンポイント矯正箇所に設置する位置調整固定手段を備えたことを特徴とする。
【００１２】
上記足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体に、位置調整用の直線状又は曲線状の透孔又は溝を複数設けるとともに、該透孔又は溝にスライド可能に嵌合する突条を上記足裏の横アーチに対応する隆起部を備えた基体に設け、かつ該足裏の横アーチに対応する隆起部の位置をワンポイント矯正箇所に設置する両面テープ、接着剤等の接着手段を設けたことを特徴とする。
【００１３】
上記足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体及び上記足裏の横アーチに対応する隆起部を備えた基体は、中敷又は靴の中底であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る中敷又は中底は、足のアーチをサポートする隆起部を備えた中敷又は中底において、個人個人の偏平足の程度及び左右の足圧の違い等に応じて足裏の矯正箇所であるワンポイント矯正箇所に的確に個人個人に合った高さの隆起部の設置が出来る。また、隆起部の高さ位置の調節が自在に調節できる。また、該隆起の高さ調整に加えて個人個人の足の形状、状態に合わせて二次元的移動若しくは平面的移動を自在に行いワンポイント矯正箇所への位置合わせが容易である。特に、偏平足の人は本発明に係る中敷又は中底を使用することにより、偏平足のワンポイント矯正箇所に適切に設置できる。  
【００１５】
足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体と、前記足裏の横アーチに対応する隆起部を備えた基体とを分離し、前記足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体に対して、上記足裏の横アーチに対応する隆起部の位置をワンポイント矯正箇所に設置するため、靴を履いた状態で外反母趾の防止が適切に行われ、外反母趾等の足の骨格の崩れの防止、緩和に役立つ。
【００１６】
足裏の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体に、位置調整用の直線状又は曲線状の透孔又は溝を複数設けるとともに、該透孔又は溝にスライド可能に嵌合する突条を上記足裏の横アーチに対応する隆起部を備えた基体に設けたことで、足裏の横アーチを前後左右或いは斜め方向その他の任意の所望するワンポイント矯正箇所に設置することが可能となり、足裏の内側縦アーチ及び横アーチのサポートをより的確に行うことができる。
【００１７】
また足裏の横アーチに対応する隆起部の位置をワンポイント矯正箇所に設置する両面テープ、接着剤等の接着手段を設けたことで、分離した内側縦アーチに対応する隆起部と、前記足裏の横アーチに対応する隆起部を足裏の内側縦アーチ及び横アーチの位置に対応させてしっかりと固定することが可能となり足裏の内側縦アーチ及び横アーチのサポートをより的確に行うことができる。
【００１８】
上記隆起部の高さ調整は、隆起部の厚みを漸次減少又は漸次増加可能な積層パーツで形成したので、履く人の足裏形状に合わせて積層パーツを剥すか、積層するかのいずれかを選択するか、或いはこれらを組み合わせて調整するだけでよく、個人個人に合った高さ調整の選択が出来、作業が簡単となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。本発明の実施例では中敷を例にとり、説明するが中敷に限る事無く例えば靴の中底そのものに適用してもよい。
図１は靴用外反母趾防止体において横アーチに対応する隆起部を備えた基体の表面図である。図２は靴用外反母趾防止体において横アーチに対応する隆起部を備えた基体の裏面図である。図３は靴用外反母趾防止体において内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体の平面図である。図４(ａ)は靴用外反母趾防止体において横アーチに対応する隆起部を備えた基体のＡ−Ａ線断面図、(ｂ)は隆起部の断面図である。図５は靴用外反母趾防止体において内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体のＢ−Ｂ線断面図である。図６は靴用外反母趾防止体において内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体のＣ−Ｃ線断面図である。
【００２０】
図１から図６において、１は足裏の横アーチに対応する隆起部である。該足裏の横アーチに対応する隆起部１を設けることで足裏の横アーチをサポートすることが可能である。前記足裏の横アーチに対応する隆起部１は、例えばラバー、ＥＶＡ、ポリウレタンを始めとするスポンジゴム等、ある程度腰があり弾性を有する素材で作成する。２は足裏の横アーチに対応する基体である。足裏の横アーチに対応する基体２上に前記横アーチに対応する位置に隆起部１を後付けで貼付するか、足裏の横アーチに対応する基体２と前記足裏の横アーチに対応する隆起部１を一体に形成しても良い。ただし、隆起部１はその厚みを漸次増加又は漸次減少可能な積層パーツ８で形成する。積層パーツ８は隆起部１の形状に沿ってシート状のもの、或いは表面が湾曲した厚みの異なるものを適宜組み合わせて使用する。各積層パーツ８は相互に粘着剤あるいは粘着テープ等により剥離可能又は積層可能に形成される。シートの厚みが薄ければ薄い程、隆起部１における厚みの微調整が可能となる。
【００２１】
上記足裏の横アーチに対応する基体２の裏面には、図２及び図４に示す様に突条３を設ける。また、図３及び図５に示すように足裏の内側縦アーチに対応する隆起部７を備えた足裏の内側縦アーチに対応する基体５上に細長い形状、或いは円弧状の形状その他の形状をした透孔又は溝４を設ける(本例では細長い矩形状の場合を示す)。突条３は透孔又は溝４にスライド可能に嵌合する形状とする。該透孔又は溝４は突条３より横幅の長い直線状又は曲線状に設け、突条３を嵌合した際に上記足裏の横アーチに対応する隆起部１を備えた上記足裏の横アーチに対応する基体２が左右に動くようにする。前記透孔又は溝４は、例えば所定間隔をおいて上下方向に複数個設け、上記足裏の横アーチに対応する隆起部１を備えた上記足裏の横アーチに対応する基体２の上下の位置調整を行う。基体２の移動調整は上下左右に限定されること無く、湾曲線上に移動する等の各種方向すなわち二次元方向に移動可能に形成する。
【００２２】
上記足裏の横アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部１を備えた上記足裏の横アーチに対応する基体２と上記足裏の内側縦アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部７を備えた上記足裏の内側縦アーチに対応する基体５を嵌合した時の段差を無くす為、上記靴の中敷下部には図３及び図５に示すように段差６を設ける。
【００２３】
上記足裏の横アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部１を備えた上記足裏の横アーチに対応する基体２と上記足裏の内側縦アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部７を備えた上記足裏の内側縦アーチに対応する基体５を嵌合し、足裏の横アーチ及び内側縦アーチに合わせてワンポイント矯正箇所に位置調整を行った後固定するため、前記足裏の横アーチの裏面に両面テープを貼付、もしくは粘着剤又は接着剤を塗布する。
【００２４】
上記足裏の内側縦アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部７を備えた上記足裏の内側縦アーチに対応する基体５の表面の踵に対応する部分に窪み９を設ける。
【００２５】
図１〜図６において１０は靴の形状及び二次元方向若しくは平面方向への移動調整にあわせて設けた切り取り線である。上記足裏の横アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部１を備えた上記足裏の横アーチに対応する基体２と上記足裏の内側縦アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部７を備えた上記足裏の内側縦アーチに対応する基体５を嵌合した時、段差６からはみ出た部位を切り取り線１０で切り取る。また、嵌合した前記足裏の横アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部１を備えた前記足裏の横アーチに対応する基体２の形状に合わせ、前記足裏の内側縦アーチに対応するワンポイント矯正箇所に設置する隆起部７を備えた前記足裏の内側縦アーチに対応する基体５の周囲を切り取り線１０で切り取る。
【実施例】
【００２６】
実施例１
図７は大人の男性Ａが靴を履いて歩行するときの左右の足裏に掛かる足圧分布測定写真である。この写真から、同一人でありながら左右の足の圧が異なることが判る。図８は大人の男性Ａが靴を履いて歩行するときの足裏に掛かる荷重対時間の関係を示す関係図である。上記左右の足裏に掛かる足圧分布測定写真に基づいてワンポイント矯正箇所を特定し、その箇所に左右の足裏に当たる隆起部の高さ調整が行われた。
【００２７】
実施例２
図９は大人の男性Ｂが靴を履いて歩行するときの左右の足裏に掛かる足圧分布測定写真である。この写真から、同一人でありながら左右の足の圧が異なることが判り、踵部分の圧か不足しており偏平足気味であることが判る。上記左右の足裏に掛かる足圧分布測定写真に基づいてワンポイント矯正箇所を特定し、その箇所に左右の足裏に当たる隆起部の高さ調整が行われた。
実施例３
【００２８】
図１０は大人の女性Ｃが靴を履いて歩行するときの左右の足裏に掛かる足圧分布測定写真である。この写真から、同一人でありながら左右の足の圧が異なることが判り、踵部分の圧か不足しており偏平足気味であることが判る。上記左右の足裏に掛かる足圧分布測定写真に基づいてワンポイント矯正箇所を特定し、その箇所に左右の足裏に当たる隆起部の高さ調整が行われた。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の一例を示す靴用外反母趾防止体の横アーチに対応する隆起部を備えた基体の平面図である。
【図２】本発明の一例を示す靴用外反母趾防止体の横アーチに対応する隆起部を備えた基体の底面図である。
【図３】本発明の一例を示す靴用外反母趾防止体の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体の平面図である。
【図４】(ａ)は本発明の一例を示す靴用外反母趾防止体の横アーチに対応する隆起部を備えた基体のＡ−Ａ線断面図、(ｂ)は隆起部の断面図である。
【図５】本発明の一例を示す靴用外反母趾防止体の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体のＢ−Ｂ線断面図である。
【図６】本発明の一例を示す靴用外反母趾防止体の内側縦アーチに対応する隆起部を備えた基体のＣ−Ｃ線断面図である。
【図７】足圧分布測定写真である。
【図８】荷重対時間の関係を示す関係図である。
【図９】足圧分布測定写真である。
【図１０】足圧分布測定写真である。
【符号の説明】
【００３０】
１  足裏の横アーチに対応する隆起部
２  足裏の横アーチに対応する基体
３  突条
４  透孔又は溝
５  足裏の内側縦アーチに対応する基体
６  段差
７  足裏の内側縦アーチに対応する隆起部
８  積層パーツ
９  窪み
１０  切り取り線
【図１】
2006000403.tif 000003
【図２】
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【図３】
2006000403.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2006000403.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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