(57)【要約】【課題】  マルチモードの光導波路として十分な厚み１０μｍ以上、特には３０μｍ以上程度の厚膜のコア層を、容易かつ効率的に形成することができる光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】  下部クラッド層１とコア層２とを含む光導波路の製造方法である。下部クラッド層１上に、所定の溶媒に可溶な材料を用いてマスク部１１を形成するマスク部形成工程と、マスク部１１の形成された下部クラッド層１上を、溶媒に不溶なコア層材料１２により被覆する被覆工程と、下部クラッド層１上のマスク部１１に溶媒を接触させて、マスク部１１と、マスク部１１上のコア層材料１２とを除去する除去工程と、を含む。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層とコア層とを含む光導波路の製造方法において、
前記下部クラッド層上に、所定の溶媒に可溶な材料を用いてマスク部を形成するマスク部形成工程と、該マスク部の形成された下部クラッド層上を、該溶媒に不溶なコア層材料により被覆する被覆工程と、該下部クラッド層上のマスク部に前記溶媒を接触させて、該マスク部と、該マスク部上のコア層材料とを除去する除去工程と、を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項２】
前記マスク部を印刷により形成する請求項１記載の光導波路の製造方法。
【請求項３】
前記溶媒が水である請求項１または２記載の光導波路の製造方法。
【請求項４】
前記溶媒に可溶な材料が水溶性高分子材料である請求項３記載の光導波路の製造方法。
【請求項５】
前記水溶性高分子材料がポリビニルアルコールである請求項４記載の光導波路の製造方法。
【請求項６】
前記コア層を１０μｍ以上の厚みで形成する請求項１〜５のうちいずれか一項記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光導波路の製造方法に関し、詳しくは、簡易な工程によりマルチモードの光導波路を製造することが可能な光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の光通信技術の発展に伴い、光スイッチや光合分波器などの光通信用部品を構成する基本素子として、高性能の光導波路の開発が望まれている。光導波路は一般に、基板上に、直接または下部クラッド層を介して、コア層および上部クラッド層を順次形成してなる構造を基本構造とする。そのコア層の材料としては、従来より、光伝播損失が小さいなどの利点から、光ファイバと同様に主として石英ガラス等の無機材料が用いられているが、最近では、加工性やコスト性に優れる合成樹脂などの有機材料を用いたポリマー光導波路について、検討が進められてきている。
【０００３】
このような光導波路の製造方法としては、フォトリソグラフィーや反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）等を用いてコア層をパターン形成する方法が一般的である（例えば、特許文献１、２等に記載）。即ち、図２に示すように、まず、（ａ）基板１０１上にクラッド層１０２およびコア層１０３を塗布形成した後、（ｂ）その上にマスク層１０４を形成し、（ｃ）フォトリソグラフィーにより所望のコア層形状にパターニングする。さらに、（ｄ）このマスク層１０４を用いてコア層１０３をＲＩＥ等により加工し、最後に（ｅ）マスク層１０４を除去することで、所望の形状のコア層１０３を得ることができる。
【０００４】
ところで、光導波路には、単一のモードを有するシングルモードのものと、複数の異なるモードを有するマルチモードのものとがあるが、このうちマルチモードの光導波路においては、通常、コア層の厚みを１０μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上とすることが、接続損失を低減する観点から必要となる。しかし、従来の製造方法では膜厚１０〜２０μｍ程度までの厚膜化が限度で、より厚膜のコア層を簡易に、かつ効率的に形成することは困難であり、より優れた製造技術を実現することが求められていた。
【０００５】
これに対し、例えば、特許文献３には、有機重合体材料の厚膜積層に際してのソルベントストレスクラッキングや再溶解の発生をなくして均一の塗膜でかつ散乱損失の少ない平面状光導波路を実現することを目的として、基板表面にクラッド層およびコア層を順次積層するにあたり、まずクラッド層用の原料溶液に基板を浸漬、乾燥する第１積層工程を行い、次いでコア層用の原料溶液に浸漬、乾燥する第２積層工程を行い、両工程はそれぞれ浸漬を複数回行うとともに少なくとも１回は基板の上下方向の反転を行い、かつ乾燥時には基板における原料溶液の塗膜が鉛直方向に平行な状態にあって、塗膜からの溶媒蒸発量を抑制しながら乾燥を行うこととした平面状光導波路の製造方法が記載されている。
【特許文献１】特開平６−３４７６５８号公報（段落［００１０］〜［００１２］等）
【特許文献２】特開平８−３０４６５０号公報（段落［０００９］等）
【特許文献３】特開平６−３３１８４５号公報（特許請求の範囲等）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のように、厚膜のコア層を形成するための技術については、これまで種々検討されてきているが、いずれも十分なものではなく、より効率的、かつ容易に製造を行うことが可能な技術が求められていた。
【０００７】
そこで本発明の目的は、マルチモードの光導波路として十分な厚み１０μｍ以上、さらには３０μｍ以上程度の厚膜のコア層を、効率良く、かつ容易に形成することができる、生産性に優れた光導波路の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは鋭意検討した結果、下記構成とすることにより、上述の問題を解決できることを見出して、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明の光導波路は、下部クラッド層とコア層とを含む光導波路の製造方法において、
前記下部クラッド層上に、所定の溶媒に可溶な材料を用いてマスク部を形成するマスク部形成工程と、該マスク部の形成された下部クラッド層上を、該溶媒に不溶なコア層材料により被覆する被覆工程と、該下部クラッド層上のマスク部に前記溶媒を接触させて、該マスク部と、該マスク部上のコア層材料とを除去する除去工程と、を含むことを特徴とするものである。
【００１０】
本発明において、前記マスク部は、印刷により好適に形成することができる。また、例えば、前記溶媒としては水を、前記溶媒に可溶な材料としては水溶性高分子材料、特にはポリビニルアルコールを、それぞれ好適に用いることができる。本発明によれば、前記コア層を１０μｍ以上、特には３０μｍ以上の厚みで形成することが可能である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、上記構成としたことにより、下部クラッド層上に厚膜のコア層を簡易な工程で効率的に製造することが可能となった。従って例えば、コア層を厚み１０μｍ以上、特には３０μｍ以上にて形成することで、マルチモードの光導波路として十分な厚膜のコア層を有する光導波路を、容易かつ確実に得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の具体的な実施の形態につき詳細に説明する。
図１に、本発明の一好適例の光導波路の製造方法に係る工程図を示す。図示するように、本発明は、下部クラッド層１とコア層２とを含み、コア層２を介して信号光を入射−伝播−出射する光導波路の製造工程の改良に係る技術であり、（ａ）マスク部形成工程と、（ｂ）被覆工程と、（ｃ）除去工程と、を含むものである。
【００１３】
図示するように、本発明においてはまず、（ａ）マスク部形成工程として、下部クラッド層１上に、所定の溶媒に可溶な材料を用いてマスク部１１を形成する。かかるマスク部１１は、下部クラッド層１上の、コア層形成部分以外の部分に形成することが必要であり、これにより、最終的に得られる光導波路において、所望のコア層形状を得ることができる。
【００１４】
本発明に係る所定の溶媒とは、特に制限されるものではなく、例えば、水や、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル、酢酸セロソルブ、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ベンゼン、シクロヘキサノン等の慣用の有機溶剤などから、使用するマスク部材料との関係で適宜選択することができるが、低コストであって、かつ環境への影響が少ない観点から、好ましくは水を用いる。水としては、通常の蒸留水のほか、酸やアルカリ、界面活性剤等を含有する水溶液であってもよい。
【００１５】
また、マスク部１１を形成するための材料としては、上記溶媒に可溶なものであればよく、低粘度のものであって、好ましくは上記水とともに使用可能な水溶性高分子材料が好適である。具体的には例えば、天然系または半合成水溶性高分子として、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、メチルセルロース（ＭＣ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ゼラチン、プルラン、アルギン酸、グアガム、ローカストビーンガム、キタンサンガム、ペクチン、カラギーナン、その他植物系、微生物系、動物系の多糖類、合成水溶性高分子として、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸系ポリマー、エチレンイミン系ポリマー、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリルアミド、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアミジン、ポリイソプレンスルホン酸、その他無機系、有機系非イオン性、有機系アニオン性、カチオン性水溶性高分子などが挙げられ（日本科学技術情報（株）発行「水溶性、水分散型高分子材料の最新技術動向と工業応用」等参照）、中でも、ポリビニルアルコールが好適に用いられる。マスク部１１の材料には、印刷の仕上り状況を確認しやすくするために、本発明の効果を阻害しない範囲内で、顔料や染料などを混合してもよい。
【００１６】
マスク部１１の形成方法としては、特に制限されるものではないが、例えば、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、ディスペンサー塗布、静電印刷等の各種印刷法を好適に用いることができる。これら印刷法により、例えば、厚み０．１〜３０μｍ程度のマスク部１１を形成することができ、この程度の厚みのマスク部１１を用いることで、厚み１０μｍ以上、特には３０μｍ以上、さらには３０〜２００μｍ程度のコア層２を、容易かつ効率的に形成することが可能となる。また、マスク部１１の線幅には特に制限はないが、例えば、３０〜５００μｍ程度の範囲とすることができ、マスク部１１間の間隔としては、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは３０〜２００μｍの範囲である。
【００１７】
次いで、（ｂ）被覆工程として、マスク部１１の形成された下部クラッド層１上を、コア層材料１２により被覆する。このコア層材料１２としては、上記マスク部１１に係る所定の溶媒に不溶な材料を用いることが必要であり、これにより、最終的に得られる光導波路において、所望のコア層形状を得ることができる。コア層材料１２による被覆方法としては、特に制限されるものではないが、例えば、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷等の各種印刷法や、スピンコート塗布、インクジェット塗布、ディスペンサー塗布などの手法を適宜用いることができる。
【００１８】
次いで、（ｃ）除去工程として、下部クラッド層１上のマスク部１１に対し上記所定の溶媒を接触させて、マスク部１１を除去する。図示するように、この場合、溶媒に可溶なマスク層１１が溶解されることによって、その上に被覆形成された溶媒に不溶なコア層材料１２についても同時に剥離して、マスク層１１とともに除去されることになる。その結果、下部クラッド層１上のマスク部１１が形成されていなかった部分のみのコア層材料１２が残ることとなり、下部クラッド層１上に所望の形状のコア層２が形成されたリッジ型の光導波路が形成される。また、所望に応じ、さらに上部クラッド層で被覆することで、埋め込み型の光導波路とすることもできる（図示せず）。なお、この際得られるコア層２の側面の表面性（粗れの程度）はＲＩＥにより得られるコア層と同程度である。
【００１９】
なお、上記（ｃ）除去工程においては、下部クラッド層１やコア層２を傷めない範囲内で、必要に応じ、超音波を照射したり、ブラシやスポンジ等で擦るなどのマスク部１１の溶解促進手段を併用してもよい。また、マスク部１１およびコア層材料１２の除去後、必要に応じ仕上げ洗浄を行うこともできる。
【００２０】
本発明において、下部クラッド層１、および、所望に応じ設けられる上部クラッド層の形成は、慣用の塗工方法により行えばよく、特に制限されるものではない。例えば、コンマバー塗工法、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷等の各種印刷法や、スピンコート塗布法等を用いることができる。
【００２１】
また、本発明に係る下部クラッド層１の材料としては、特に制限されるものではなく、慣用の各種有機材料および無機材料のうちから適宜選択して用いることができ、プラスチックやエラストマーなどのように可撓性を有し、所望の形状に成形可能であって、屈折率の低い材料を好ましく用いることができる。具体的には例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエチレン−ポリビニルアルコール共重合体、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリシラン系樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、ブチルゴム、ハロゲン化ブチルゴム、クロロプレンゴム、アクリルゴム、エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合体（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、フッ素ゴム、シリコーンゴムなどが挙げられる。
【００２２】
この中でも、屈折率が低いシリコーン系ポリマーやフッ素系ポリマーが特に好ましく、具体的にはポリジメチルシロキサンポリマー、ポリメチルフェニルシロキサンポリマー、フルオロシリコーンポリマー等のシリコーン系ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、四フッ化エチレン−パーフロロアルコキシエチレン共重合体（ＰＦＥ）、ポリクロルトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、四フッ化エチレン−エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオライド、ポリビニルフルオライド、フッ化ビニリデン−三フッ化塩化エチレン共重合体、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン−四フッ化エチレン三元共重合体、四フッ化エチレンプロピレンゴム、フッ素系熱可塑性エラストマーなどが挙げられる。これらの材料は単独または２種以上を適宜混合して用いることができる。なお、上部クラッド層を設ける場合も、同様の材料を用いればよく、伝送損失の低減の観点からは、同一の材料を用いて形成することが好ましい。
【００２３】
また、コア層２の材料としては、前述したように、前記所定の溶媒に不溶な材料を用いることが必要であるが、それ以外の点では特に制限されるものではなく、光硬化材料、熱硬化性材料、熱可塑性材料等の各種モノマー（溶液も含む）、オリゴマー（溶液も含む）、ポリマー溶液のうちから、透明性や耐熱性等のコア層としての要求特性等の観点から、適宜選択して用いることができる。但し、上下クラッド層よりも高屈折率にて形成することが必要となるので、クラッド層の材料との関連で選択することを要する。
【００２４】
このうちモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸およびこれらの低級アルコールエステル、下記一般式（１）、
2006023523.tif 000003
（式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は炭素数８〜２０のアルキル基を表す）で表される化合物、ジ（メタ）アクリルエステル、トリ（メタ）アクリルエステル、さらには、スチレン、ジビニルベンゼン等のスチレン系モノマーなどを挙げることができる。
【００２５】
アクリル酸およびメタクリル酸の低級アルコールエステルの低級アルコールとしては、炭素数１〜５、好ましくは１〜３の１価アルコール、より好ましくはメタノールが挙げられる。
【００２６】
また、前記一般式（１）で表される化合物において、炭素数８〜２０の高級アルキル基を示すＲ2の好ましい炭素数は１０〜１６、より好ましくは１２〜１４である。この高級アルキル基Ｒ2は、単独アルキル基であっても混合アルキル基であってもよいが、最も好ましくは炭素数１２と１３との混合アルキル基である。この場合、炭素数１２のアルキル基のものと炭素数１３のアルキル基のものとの割合、即ち、ドデシル（メタ）アクリレートとトリデシル（メタ）アクリレートとの割合は、重量比として通常２０：８０〜８０：２０であり、特に４０：６０〜６０：４０であることが好ましい。
【００２７】
ジ（メタ）アクリルエステルとしては、エチレングリコールと（メタ）アクリル酸とのジエステル、ポリエチレングリコールと（メタ）アクリル酸とのジエステル、アルキル鎖の炭素数が３〜６のジオールと（メタ）アクリル酸とのジエステルが挙げられる。また、トリ（メタ）アクリルエステルとしては、アルキル鎖の炭素数が３〜６のトリオールと（メタ）アクリル酸とのトリエステルが挙げられる。なお、ポリエチレングリコールと（メタ）アクリル酸とのジエステルを構成するポリエチレングリコールとしては、下記一般式（２）、
2006023523.tif 000004
において、ｎが１〜１５、特に１〜１０のものが好ましい。
【００２８】
上記モノマーを重合あるいは共重合させて層を形成するための方法としては、熱や光による硬化方法が一般的であるが、特に制限されるものではない。一般的には、熱硬化の場合には、ｔ−ブチルヒドロパーオキサイド、ジーｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジミリスチルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）、クミルパーオキシオクトエートなどの有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンニトリルなどのアゾ化合物等の重合開始剤を添加し、５０〜１２０℃で１〜２０時間重合させる方法を採用することができる。また、光硬化の場合の重合開始剤としては、ベンジルメチルケタール、アセトフェノンジエチルケタールなどのケタール系化合物、α−ヒドロキシケトン、ミヒラーズケトン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのケトン系化合物、ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物、メタロセンなどのメタロセン系化合物、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン化合物などが好適に用いられる。
【００２９】
なお、上記モノマーとともに、リン酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボン酸エステル、グリコール類及びグリコール（メタ）アクリレート類の１種または２種以上をブレンドして用いることが、高温高湿下に長期間放置した場合の白濁を防止する点から好ましい。
【００３０】
また、ポリマーとしては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂（（メタ）アクリル酸のエステル）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル系樹脂（結晶、非結晶）、ポリシラン系、ポリエーテルスルホン、ポリノルボルネン、エポキシ系樹脂、例えば、ビスフェノールＡ型、ノボラック型のエポキシ樹脂とポリアミノアミド、変性ポリアミノアミド、変性芳香族ポリアミン、変性脂肪族ポリアミン、変性脂環族ポリアミン，フェノールなどの活性水素を持つ硬化剤との混合硬化物、ポリアリール、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカルボジイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリアミド（ＰＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ）、メチルメタクリレート−スチレン共重合体（ＭＳ、ＭＭＡ−Ｓｔ）、スチレン−ブタジエンブロック共重合体（ＳＢＳ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ）等のスチレン系樹脂（中でも、ＳＢＳ、ＡＢＳは耐衝撃性に優れる利点を備える）、ポリフェニレンエーテル等のポリアリーレンエーテル、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリアセタール、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルケトンケトン等のポリエーテルケトン類、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンブロックポリマー（ＳＥＢＳ）、フッ化ビニリデン系樹脂、ヘキサフルオロプロピレン系樹脂、ヘキサフルオロアセトン系樹脂等のフッ素系樹脂などを挙げることができ、中でも、（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。
【００３１】
透明樹脂としては、他に、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、シクロオレフィンポリマー（商品名：アートン（ＪＳＲ（株））、ゼオネックス（日本ゼオン（株）等）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、フェノール樹脂、ポリサルフォン（ＰＳＦ）樹脂等が挙げられる。上記のうち、モノマーあるいは低分子材料から出発できるものとしては、スチレン系樹脂、特にはＭＳ樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂がある。
【００３２】
さらに、アクリル酸、メタクリル酸およびこれらの低級アルコールエステルとスチレン系モノマーとの共重合体の他、前述したモノマー類の一部または全ての水素原子をフッ素原子または重水素に置き換えたモノマーを用いた透明樹脂などを用いることもできる。かかるコア層２の材料についても、単独または２種以上を適宜混合して使用することが可能である。
【００３３】
なお、図示はしないが、製造時においては、基板上に下部クラッド層１およびコア層２を順次設けて光導波路を形成する手法を用いることができ、この場合の基板としては、従来より知られているものから適宜選択して用いることができ、特に制限されるものではない。例えば、シリコン基板や石英基板、金属箔、ガラス板などの他、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの高分子フィルム等を用いることができる。
【実施例】
【００３４】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例
（下部クラッド層１および上部クラッド層の配合）
バインダー樹脂：
アクリル樹脂（綜研化学（株）製、商品名フォレットＭ−８０）    １００重量部
ＵＶプレポリマー：
ノボラック樹脂（日本化薬（株）製、商品名ＥＡＭ−２１６０）    １００重量部
ＵＶモノマー：
フルオロアルキルアクリレート（大阪有機化学工業（株）製、商品名ビスコート４Ｆ）
３０重量部
エチルカルビトールテトラアクリレート                            ２０重量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート                          １５重量部
光重合開始剤：
アシルフォスフィンオキサイド                                      １重量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン                    ０．８重量部
【００３５】
上記配合材料をよく混合して適宜溶媒を加え、下部クラッド層印刷用塗料を調製した。この塗料を、基材１０Ａとしての厚さ１８８μｍのＰＥＴフィルム（三菱ポリエステル（株）製、商品名Ｏ３１０）上にコンマバー塗工法により塗工し、１００℃で２分間乾燥後、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ2にてＵＶ照射を行って、屈折率１．５０２の下部クラッド層１を形成した。
【００３６】
上記下部クラッド層１上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液を用いて、マスク部１１を形成した。マスク部１１は、幅５０μｍ、高さ（厚み）２０μｍの矩形断面を有しており、直線状に、マスク部１１間距離１２０μｍで、スクリーン印刷にて形成した。
【００３７】
（コア層２の配合）
ＵＶプレポリマー：
ビスフェノールＡ型アクリレート（日本化薬（株）製：ＥＸ−２３２０）
１００重量部
ＵＶモノマー：
アクリロイルモルホリン                                          ２０重量部
１−アダマンチルメタクリレート                                  ３０重量部
エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日本化薬（株）製、商品名ＳＲ−６０２）
２０重量部
光重合開始剤：
アシルフォスフィンオキサイド                                      １重量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン                    ０．８重量部
【００３８】
次いで、上記配合材料をよく混合して、粘度５００ｍＰａ・ｓ、硬化収縮率６％（積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2の光を照射した場合）のコア層材料を調製し、上記マスク部１１の形成された下部クラッド層１上を、このコア層材料を用いてコンマバー塗工法にて厚み５０μｍにて被覆し、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ2にてＵＶ照射を行った。その後、常温の水に浸漬して、スポンジで擦ることによりマスク部１１を溶解除去し、それとともにマスク部１１上に形成されたコア層材料を除去した。更に水でリンスした後、乾燥することで、屈折率１．５２９のコア層２を得た。
【００３９】
さらに、上記コア層２上に、下部クラッド層の場合と同様にして、上部クラッド層印刷用塗料を塗工、乾燥して、上部クラッド層３を形成し、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ2にてＵＶ照射を行って、屈折率１．５０２の上部クラッド層３を形成した。以上のようにして、厚み５０μｍのコア層２を有する光導波路を得た。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の一好適例の光導波路の製造方法を示す工程図である。
【図２】（ａ）〜（ｅ）は、従来の光導波路の製造方法の一例を示す製造工程図である。
【符号の説明】
【００４１】
１  下部クラッド層
２  コア層
１１  マスク部
１２  コア層材料
【図１】
2006023523.tif 000005
【図２】
2006023523.tif 000006