(57)【要約】 【課題】  塗布液の吐出圧力のリニアリティが十分で、メンテナンスが容易である塗布液供給装置を提供する。【解決手段】  塗布液供給装置の一形態であるレジスト供給装置１１は、レジスト液が充填される可撓性のチューブ３３の外周に作動油２５を充填するための作動油充填スペース３４が形成されてなるチューブフラム３１と、作動油充填スペース３４に作動油２５を送液することによりチューブ３３を収縮させ、その内部に充填されたレジスト液を押し出すためのポンプ３２を具備する。ポンプ３２を、その上面が開口するようにその長手方向を略鉛直にして配置され、その内部に作動油が充填されるシリンダ３６と、シリンダ３６に嵌挿されるピストン３７と、ピストン３７をその長さ方向に往復運動させるピストン駆動機構３８から構成した。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定量の塗布液を送液するための塗布液供給装置であって、
塗布液が充填される可撓性のチューブと、
作動液を充填するための作動液充填スペースが前記チューブの外周に形成されるように、前記チューブの外周を囲繞する筒状部材と、
前記作動液充填スペースに作動液を送液することにより前記チューブが収縮してその内部に充填された塗布液が押し出され、前記作動液充填スペースから作動液を回収することにより前記チューブが復元してその内部に新たな塗布液が補充されるように、前記作動液充填スペースに対する作動液の送液および回収を行うためのポンプと、
を具備し、
前記ポンプは、
その上面が開口するようにその長手方向を略鉛直にして配置され、その内部に作動液が充填されるシリンダと、
前記シリンダに嵌挿されるピストンと、
前記ピストンをその長さ方向に往復運動させるピストン駆動機構と、
を具備することを特徴とする塗布液供給装置。
【請求項２】
前記ピストンは、前記シリンダ内への作動液の充填および前記シリンダ内からの気泡抜きのためにその長手方向において中心を貫通するように形成された貫通孔と、大気露出側の端面に前記貫通孔を閉塞するために脱着自在に設けられたシールキャップと、前記シリンダに嵌挿される側の端面に形成された略円錐形の凹部と、を有することを特徴とする請求項１に記載の塗布液供給装置。
【請求項３】
前記筒状部材はその上端部に前記作動液充填スペースからの気泡抜きのための脱気泡穴を有し、前記脱気泡穴に開閉バルブを備えた気泡抜き用配管が取り付けられていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の塗布液供給装置。
【請求項４】
前記シリンダは、その開放端近傍に前記ピストンをシールするためのシール部材と、前記ピストンを前記シリンダから取り外した際に前記作動液充填スペースから流れ込む作動液を排出するために前記シール部材の配設位置よりも下側に形成されたドレイン穴と、を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の塗布液供給装置。
【請求項５】
基板に所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布処理装置であって、
基板に塗布液を吐出する塗布ノズルと、
前記塗布ノズルと前記基板とを相対的に移動させるための移動機構と、
前記塗布ノズルに一定量の塗布液を送液するための塗布液供給装置と、
前記塗布液供給装置に塗布液を供給するための塗布液供給源と、を備え、
前記塗布液供給装置は、
塗布液が充填される可撓性のチューブと、当該チューブの外周に作動液を充填するための作動液充填スペースが形成されるように前記チューブの外周を囲繞する筒状部材とを有し、前記作動液充填スペースに作動液が送液されることにより前記チューブが収縮してその内部に充填された塗布液が押し出され、前記作動液充填スペースから作動液が回収されることにより前記チューブが復元してその内部に前記塗布液供給源から新たな塗布液が補充されるチューブフラムと、
その上面が開口するようにその長手方向を略鉛直にして配置され、その内部に作動液が充填されるシリンダと、前記シリンダに嵌挿されるピストンと、前記ピストンをその長さ方向に往復運動させるピストン駆動機構とを有し、前記作動液充填スペースに対して作動液の送液および回収を行うポンプと、
を具備することを特徴とする塗布処理装置。
【請求項６】
前記ピストンは、前記シリンダ内への作動液の充填および前記シリンダ内からの気泡抜きのためにその長手方向において中心を貫通するように形成された貫通孔と、大気露出側の端面に前記貫通孔を閉塞するために脱着自在に設けられたシールキャップと、前記シリンダに嵌挿される側の端面に形成された略円錐形の凹部と、を有することを特徴とする請求項５に記載の塗布処理装置。
【請求項７】
前記塗布ノズルは略帯状に塗布液を吐出する構造を有し、
前記移動機構は、基板を前記略水平姿勢で水平方向に直線的に搬送することを特徴とする請求項５または請求項６に記載の塗布処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）に用いられるガラス基板等にレジスト液等の所定の塗布液を塗布するために用いられる塗布液供給装置およびこの塗布液供給装置を備えた塗布処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造工程においては、フォトリソグラフィー技術を用いて、ガラス基板に所定の回路パターンを形成している。すなわち、ガラス基板にレジスト液を供給して塗布膜を形成し、これを乾燥、熱処理した後に、露光処理、現像処理を逐次行っている。
【０００３】
ここで、ガラス基板にレジスト液を供給して塗布膜を形成する装置としては、ガラス基板を水平に真空吸着する載置台と、この載置台に保持された基板にレジスト液を供給するレジスト塗布ノズルと、載置台とレジスト塗布ノズルとを水平方向で相対的に移動させる移動機構と、を有する塗布処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
このような塗布処理装置では、形成される塗布膜の厚さが一定となるように、レジスト塗布ノズルからのレジスト吐出量を高い精度で維持することが求められる。そこで、レジスト塗布ノズルへ塗布液を送るためのポンプとしては、可撓性のチューブ内に塗布液を蓄え、チューブに作動油を介して圧力が加えられてチューブが締め付けられることにより、チューブ内の塗布液が送り出される構造のものが用いられている。ここで、作動油に圧力を生じさせる機構としては、ベローズ内に作動油を蓄え、このベローズを収縮させて作動油をベローズ内から押し出す構造のものや、シリンダ内に作動油を蓄え、ピストンを嵌挿させて作動油をシリンダから押し出す構造のものが知られている（例えば、特許文献２）。
【０００５】
ここで、ベローズを用いたポンプでは、ベローズの膨張によって作動油の圧力上昇のリニアリティが十分でなく、これにより塗布液の吐出圧力の立ち上がりのリニアリティも十分ではないという問題がある。一方、シリンダとピストンを用いたポンプでは、ベローズを用いたポンプよりも作動油の圧力上昇のリニアリティは高いという特徴があるが、作動油内に気泡が存在すると圧力が正確に伝わらなくなるので、作動油からの気泡抜きを容易とするために、シリンダを縦置き配置し、ピストンを下側から嵌挿させて（つまり、ピストンを挿入するための開口端が下側に位置する）、上側から気泡抜きを行う構造となっている。
【０００６】
しかし、シリンダの開口端にはピストンを嵌挿させるためにシール部が設けられ、このシール部が摩耗により劣化するために、定期的に交換（メンテナンス）する必要がある。前述の通り、シリンダは開口端が下側となるように配置されるので、シール部を交換する際には作動油を抜き取ることが必要となるために、塗布処理装置からポンプを取り外さなくてはならない。このような取り外し作業や、シール交換後の組み付けには長い時間が必要となり、塗布処理装置が作動油により汚染されるおそれがある。
【特許文献１】特開平１０−１５６２５５号公報
【特許文献２】特開平１０−３０５２５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、塗布液の吐出圧力のリニアリティが十分で、しかもメンテナンスが容易であり、作動油による雰囲気汚染の発生のおそれも極めて小さい塗布液供給装置を提供することを目的とする。また、本発明はこのような塗布液供給装置を備えた塗布処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、一定量の塗布液を送液するための塗布液供給装置であって、
塗布液が充填される可撓性のチューブと、
作動液を充填するための作動液充填スペースが前記チューブの外周に形成されるように、前記チューブの外周を囲繞する筒状部材と、
前記作動液充填スペースに作動液を送液することにより前記チューブが収縮してその内部に充填された塗布液が押し出され、前記作動液充填スペースから作動液を回収することにより前記チューブが復元してその内部に新たな塗布液が補充されるように、前記作動液充填スペースに対する作動液の送液および回収を行うためのポンプと、
を具備し、
前記ポンプは、
その上面が開口するようにその長手方向を略鉛直にして配置され、その内部に作動液が充填されるシリンダと、
前記シリンダに嵌挿されるピストンと、
前記ピストンをその長さ方向に往復運動させるピストン駆動機構と、
を具備することを特徴とする塗布液供給装置、が提供される。
【０００９】
この塗布液供給装置に用いられるピストンとしては、シリンダ内への作動液の充填およびシリンダ内からの気泡抜きのためにその長手方向において中心を貫通するように形成された貫通孔と、大気露出側の端面にこの貫通孔を閉塞するために脱着自在に設けられたシールキャップと、シリンダに嵌挿される側の端面に形成された略円錐形の凹部と、を有するものが好適に用いられる。また、筒状部材は、その上端部に作動液充填スペースからの気泡抜きのための脱気泡穴を有しており、この脱気泡穴に開閉バルブを備えた気泡抜き用配管が取り付けられた構造となっていることが好ましい。これにより容易に作動油からの気泡抜きを行うことができ、また、作動油がＵ字管状のスペースに充填されることとなるために、その水面が一定となるようにシリンダへ作動油を補充することにより、作動油量を一定に管理することが容易となる。
【００１０】
シリンダは、その開放端近傍に前記ピストンをシールするためのシール部材と、ピストンをシリンダから取り外した際に作動液充填スペースから流れ込む作動液を排出するためにシール部材の配設位置よりも下側に形成されたドレイン穴と、を有する構造とすることが好ましい。
【００１１】
本発明によれば、上記塗布液供給装置を備えた塗布処理装置、すなわち、基板に所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布処理装置であって、
基板に塗布液を吐出する塗布ノズルと、
前記塗布ノズルと前記基板とを相対的に移動させるための移動機構と、
前記塗布ノズルに一定量の塗布液を送液するための塗布液供給装置と、
前記塗布液供給装置に塗布液を供給するための塗布液供給源と、を備え、
前記塗布液供給装置は、
塗布液が充填される可撓性のチューブと、当該チューブの外周に作動液を充填するための作動液充填スペースが形成されるように前記チューブの外周を囲繞する筒状部材とを有し、前記作動液充填スペースに作動液が送液されることにより前記チューブが収縮してその内部に充填された塗布液が押し出され、前記作動液充填スペースから作動液が回収されることにより前記チューブが復元してその内部に前記塗布液供給源から新たな塗布液が補充されるチューブフラムと、
その上面が開口するようにその長手方向を略鉛直にして配置され、その内部に作動液が充填されるシリンダと、前記シリンダに嵌挿されるピストンと、前記ピストンをその長さ方向に往復運動させるピストン駆動機構とを有し、前記作動液充填スペースに対して作動液の送液および回収を行うポンプと、
を具備することを特徴とする塗布処理装置、が提供される。
【００１２】
ここで、塗布ノズルとしては、略帯状に塗布液を吐出する構造を有するものが好適に用いられ、移動機構としては、基板を略水平姿勢で水平方向に直線的に搬送するものが好適である。塗布ノズルを動かすと塗布ノズルの振動等が塗布液供給装置にフィードバックされて吐出圧力が変動するおそれがあるが、塗布ノズルを固定することで、このような吐出圧力変動の発生を抑制することができるため、塗布液の吐出状態を一定に保持して、均一な膜厚の塗布膜を形成することができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る塗布液供給装置および塗布処理装置は、塗布液の吐出圧力のリニアリティが十分であるので、均一な膜厚の塗布膜を形成することができるようになる。また、メンテナンスが容易であるので、生産性の向上に寄与する。また、作動油による雰囲気汚染の発生のおそれが極めて小さいので、基板（製品）の品質を高く維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。ここでは、本発明をＬＣＤ用のガラス基板（以下「ＬＣＤ基板」という）の表面にレジスト膜を形成する装置に適用した場合について説明することとする。
【００１５】
図１にレジスト塗布装置１０の概略構造を示す平面図を示す。レジスト塗布装置１０は、ＬＣＤ基板Ｇに塗布液を塗布してレジスト膜を形成するための塗布処理部（ＣＴ）１０ａと、形成されたレジスト膜を減圧乾燥するための減圧乾燥部（ＶＤ）１０ｂと、から構成される。レジスト塗布装置１０の制御は制御部２４によって行われる。
【００１６】
塗布処理部１０ａは、ＬＣＤ基板Ｇを略水平姿勢で浮上保持するために、表面の所定位置に所定のガスを噴射するための複数のガス噴射口１６が設けられたステージ１２と、ステージ１２上でＬＣＤ基板ＧをＸ方向に搬送するための基板搬送機構１３と、ステージ１２上を移動するＬＣＤ基板Ｇの表面にレジスト液を塗布するためのレジストノズル１４と、レジストノズル１４を洗浄等するためのノズル洗浄ユニット１５と、レジストノズル１４にレジスト液を供給するためのレジスト供給装置１１と、を備えている。
【００１７】
減圧乾燥部（ＶＤ）１０ｂは、ＬＣＤ基板Ｇを載置するための載置台１７と、載置台１７および載置台１７に載置されたＬＣＤ基板Ｇを収容するチャンバ１８と、を備えている。また、レジスト塗布装置１０には、塗布処理部１０ａから減圧乾燥部１０ｂへＬＣＤ基板Ｇを搬送するための基板搬送アーム１９が設けられている。
【００１８】
ステージ１２は、ＬＣＤ基板Ｇの搬送方向の上流から下流に向けて、大略的に、導入ステージ部１２ａ、塗布ステージ部１２ｂ、搬出ステージ部１２ｃに分けられる。導入ステージ部１２ａには図示しない基板搬送機構によってＬＣＤ基板Ｇが搬入され、ここからＬＣＤ基板Ｇは塗布ステージ部１２ｂへ搬送される。この導入ステージ部１２ａには、外部から搬入されるＬＣＤ基板Ｇを受け取るためのリフトピン６４ａが設けられている。塗布ステージ部１２ｂにはレジストノズル１４が配置されており、ここでＬＣＤ基板Ｇにレジスト液が供給されてレジスト膜が形成される。搬出ステージ部１２ｃは、レジスト膜が形成されたＬＣＤ基板Ｇを減圧乾燥部１０ｂへ搬出するためのエリアである。この搬出ステージ部１２ｃには、搬出ステージ部１２ｃへ搬送されてきたＬＣＤ基板Ｇを基板搬送アーム１９に受け渡すために、ＬＣＤ基板Ｇを持ち上げるリフトピン６４ｂが設けられている。
【００１９】
ステージ１２上でＬＣＤ基板Ｇの平面度（平坦度）を高めるためには、ガス噴射口１６の配置数を多くすることが好ましい。また、ステージ１２にその表面からガスを吸引するための吸気口を設け、ガス噴射口１６からのガス噴射量と吸気口からのガス吸引量とをバランスさせると、ＬＣＤ基板Ｇの浮上精度を高めることができ、好ましい。
【００２０】
基板搬送機構１３は、ステージ１２のＹ方向側においてＸ方向に延在するように配置された２本の直線ガイド６１と、ＬＣＤ基板Ｇの下面（裏面）のＹ方向端部を吸着保持するための真空パッド（図示せず）等を具備し、直線ガイド６１にＸ方向に移動自在に嵌め合わせされた基板保持部材６２と、基板保持部材６２をＸ方向で往復移動させるためのベルト駆動機構やボールねじ、エアースライダ等の水平搬送機構６３と、を備えている。基板保持部材６２に保持されたＬＣＤ基板Ｇは、ガス噴射口１６から噴射されるガスによって略水平姿勢でステージ１２表面から所定高さ浮上した状態で、ステージ１２上をＸ方向に搬送される。
【００２１】
図２にレジストノズル１４の概略構造を示す斜視図を示す。レジストノズル１４は、一方向に長い長尺状の箱体１４ａに、レジスト液を略帯状に吐出するスリット状のレジスト吐出口１４ｂが設けられた構造を有しており、図１に示されるように、箱体１４ａの長手方向がＹ方向と一致するように配置される。レジストノズル１４の長さはＬＣＤ基板Ｇの幅（Ｙ方向長さ）よりも短くなっており、ＬＣＤ基板Ｇの周縁の一定領域にはレジスト膜が形成されないようになっている。
【００２２】
図３にレジストノズル１４にレジスト液を送るレジスト供給装置１１の概略構造を示す側面図を示す。また、図４（ａ）〜（ｃ）にそれぞれ、レジスト供給装置１１の概略断面図を（ａ）メンテナンスポジション、（ｂ）ホームポジション、（ｃ）加圧ポジションで示す。さらに図５（ａ）に図４（ａ）に示す範囲Ａの部分拡大図を、図５（ｂ）に図４（ｂ）に示す範囲Ｂの部分拡大図を、それぞれ示す。
【００２３】
レジスト供給装置１１は、チューブフラム３１と、ポンプ３２とを有している。チューブフラム３１は、レジスト液がその内部に充填される可撓性のチューブ３３と、チューブ３３の外周に作動油２５を充填するための作動油充填スペース３４が形成されるようにチューブ３３の外周を囲繞する筒状部材３５と、を有しており、このチューブ３３には、レジスト液を貯留等するレジスト液供給源６５が接続されている。
【００２４】
ポンプ３２は、作動油充填スペース３４に対して作動油２５の送液および回収を行うものであり、その上面が開口するようにその長手方向を略鉛直にして配置され、その内部に作動油２５が充填されるシリンダ３６と、シリンダ３６に嵌挿されるピストン３７と、ピストン３７をその長さ方向で往復運動させるための（つまり、昇降させるための）ピストン駆動機構３８と、を有している。ピストン駆動機構３８としては、例えば、エアーシリンダや電磁式リニアモータが好適に用いられ、ピストン３７はこのようなリニアモータ等のスライダ３９に取り付けられている。
【００２５】
シリンダ３６の内部とチューブフラム３１に形成された作動油充填スペース３４とは連絡管４０により連通しており、作動油２５の圧力を検出するための圧力センサ５１がシリンダ３６の下端に取り付けられている。シリンダ３６の内面は、気泡が付着し難いように、フッ素コーティングされていることが好ましい。制御部２４は、ピストン駆動機構３８の昇降動作を圧力センサ５１による測定圧力に基づいてフィードバック制御する。
【００２６】
レジスト供給装置１１では、図４（ｂ）に示される状態から図４（ｃ）に示す状態に移行させると、つまり、シリンダ３６内および作動油充填スペース３４に作動油２５が充填され、かつ、チューブ３３内にレジスト液が充填された状態で、ピストン３７がシリンダ３６内に押し込まれると、チューブフラム３１に形成された作動油充填スペース３４に作動油２５が送液されてチューブ３３が収縮し、チューブ３３の内部に充填されたレジスト液がレジストノズル１４に向けて押し出される。その後、図４（ｃ）に示された状態から図４（ｂ）に示す状態に戻すと、作動油充填スペース３４から作動油２５がシリンダ３６内に回収され、チューブ３３が復元する際に、レジスト液供給源６５から新たなレジスト液がチューブ３３の内部に補充される
【００２７】
ピストン３７には、その長手方向において中心を貫通するように貫通孔４１が形成されている。ピストン３７のシリンダ３６に嵌挿される側の端面（下側端面）に略円錐形の凹部４２が形成されており、ピストン３７の大気露出側の端面（上側端面）には、貫通孔４１を閉塞するためにシールキャップ４３が脱着自在に設けられている。なお、シールキャップ４３を取り付けるために、貫通孔４１の上側部分はその径が長くなっている。なお、貫通孔４１の内面と凹部４２の面は、気泡が付着し難いように、フッ素コーティングされていることが好ましい。
【００２８】
シリンダ３６の開放端（上端）近傍には、ピストン３７をシールするためのシール部材４４と、シール部材４４を固定するための脱着自在な止め金具４４ａが設けられている。また、シリンダ３６には、さらにピストン３７をシリンダ３６から取り外した際に作動油充填スペース３４から流れ込む作動油２５を排出するためのドレイン穴４５（図３と図４では理解のために異なる位置に示している）が、シール部材４４の配設位置よりも下側に、形成されている。このドレイン穴４５にはドレイン管４６が取り付けられており、このドレイン管４６の他端はドレインタンク４７に挿入されている。ドレイン穴４５は、図４（ｂ）および図４（ｃ）に示すポジションでは、ピストン３７によって閉塞された状態に維持される。
【００２９】
筒状部材３５の上端部には、作動油充填スペース３４からの気泡抜きのための脱気泡穴４８が形成されており、この脱気泡穴４８（図３と図４では理解のために異なる位置に示している）には開閉バルブ４９を備えた気泡抜き用配管５０が取り付けられている。気泡抜き用配管５０の他端は、ドレインタンク４７に挿入されている。筒状部材３５の内面は、気泡が付着し難いように、フッ素コーティングされていることが好ましい。
【００３０】
このような構成を有するレジスト供給装置１１におけるシール部材４４の交換は、図４（ａ）に示すメンテナンスポジションで行われる。ピストン３７をシリンダ３６から抜き出した状態とすると、作動油充填スペース３４の上端がシリンダ３６の上端よりも高い位置にあるために、作動油充填スペース３４から作動油２５がシリンダ３６内へ流れ込むが、シリンダ３６にはドレイン穴４５が形成されているために、作動油２５はこのドレイン穴４５を通してドレインタンク４７に排出される。シリンダ３６の上端から作動油２５がこぼれ出ることはなく、シール部材４４を容易に交換することができる。
【００３１】
レジスト供給装置１１における作動油２５の補充は、図４（ｂ）に示すホームポジションにおいて行われる。このホームポジションでは、貫通孔４１の上端と作動油充填スペース３４の上端が同じ高さに位置しており、ドレイン穴４５はピストン３７により閉塞された状態に維持されている。作動油２５の補充手順は、概略、（ａ）ホームポジションへのピストン３７のセット、（ｂ）貫通孔４１を閉塞しているシールキャップ４３の取り外し、（ｃ）開閉バルブ４９の開弁（脱気泡穴４８の開放）、（ｄ）貫通孔４１の上端からの貫通孔４１を通した作動油２５の補充、（ｄ）開閉バルブ４９の閉弁およびシールキャップ４３の取り付け、の順序で行われる。作動油２５を補充する際には、前述の通り、ドレイン穴４５はピストン３７で閉塞されているので、作動油２５がドレイン穴４５から流出することはない。
【００３２】
ポンプ３２では、ピストン３７に形成された貫通孔４１と、シリンダ３６の内部と、作動油充填スペース３４とが連通するために、これらの空間に気泡が存在すると作動油２５の油圧が正確にチューブ３３に伝わらなくなるので、この空間から気泡を排除して作動油２５を補充する必要がある。図４（ｂ）に示すホームポジションでは、この作動液補充のための空間はＵ字管構造となるために、貫通孔４１を通して作動油２５をシリンダ３６内に補充すると、自然に、チューブフラム３１内の作動油充填スペース３４に作動油２５が流れ出し、作動油２５の上面の高さが、ポンプ３２側とチューブフラム３１側とで同じとなる。
【００３３】
そのため、脱気泡穴４８が形成されている高さ（つまり、作動油充填スペース３４の上端）と貫通孔４１の上端の高さを予め合わせておけば、脱気泡穴４８から作動油２５がオーバーフローするのを見計らって、作動油２５の補充を停止し、開閉バルブ４９の閉弁およびシールキャップ４３の取り付けを行えば、作動液補充のための空間へ気泡が入り込むことを防止することができる。
【００３４】
なお、作動油２５の補充時にシリンダ３６内で気泡が生じるおそれがあるが、作動油２５の補充時に一時的に作動油２５の補充を停止して所定時間待機する工程を設ければ、その間に気泡が上昇してピストン３７の下端に形成された凹部４２によって集められ、貫通孔４１から排出される。また、シールキャップ４３を取り付ける際に、作動油２５がシールキャップ４３の側面から溢れる程度に作動油２５を充填しておけば、シールキャップ４３を取り付ける際に貫通孔４１内に気泡が入ることもない。こうして溢れた作動油２５は吸引等の手段により除去すればよい。
【００３５】
さらに、チューブフラム３１側の作動油充填スペース３４の上端における気泡を完全に排出する方法として、予めホームポジションから僅かに下側にチューブ３３を収縮させるための加圧開始ポジションに設定し（逆に、加圧開始ポジションから僅かに上側にホームポジションを設定する）、ピストン３７をホームポジションから加圧開始ポジジョンへ押し込み、脱気泡穴４８を通して作動油充填スペース３４から気泡および余剰の作動油２５を排出する方法、を用いてもよい。
【００３６】
レジストノズル１４は、ノズル移動機構２０によって、ＬＣＤ基板Ｇにレジスト液を供給する位置とノズル洗浄ユニット１５において洗浄処理等される各位置との間で移動することができるようになっている。このノズル移動機構２０は、レジストノズル１４をＺ方向に昇降させるＺ軸駆動機構２１と、Ｚ軸駆動機構２１を保持するための支柱部材２２と、支柱部材２２をＸ方向で移動させるボールネジ等のＸ軸駆動機構２３と、を備えている。
【００３７】
レジストノズル１４にはレジスト吐出口１４ｂとＬＣＤ基板Ｇとの間隔を測定するための図示しないセンサが取り付けられており、Ｚ軸駆動機構２１は、このセンサの測定値に基づいてＬＣＤ基板Ｇにレジスト液を供給する際のレジストノズル１４を昇降させる。なお、このセンサは、ノズル洗浄ユニット１５の各部にアクセスする際のレジストノズル１４の位置調整にも用いられる。
【００３８】
ノズル洗浄ユニット１５は、支柱部材２６に取り付けられて、塗布ステージ部１２ｂの上方に設けられている。ノズル洗浄ユニット１５は、ＬＣＤ基板Ｇへのレジスト液供給前に予備的にレジストノズル１４からレジスト液を吐出させる、所謂、ダミーディスペンスを行うためのダミーディスペンス部２７と、レジストノズル１４のレジスト吐出口が乾燥しないようにレジスト吐出口を溶剤（例えば、シンナー）の蒸気雰囲気で保持するためのノズルバス２８と、レジストノズル１４のレジスト吐出口近傍に付着したレジストを除去するためのノズル洗浄機構２９と、を備えている。
【００３９】
減圧乾燥部１０ｂに設けられた載置台１７の表面には、ＬＣＤ基板Ｇを支持するプロキシミティピン（図示せず）が所定位置に設けられている。チャンバ１８は固定された下部容器と昇降自在な上部蓋体からなる上下２分割構造を有している。基板搬送アーム１９は、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向（鉛直方向）に移動可能である。
【００４０】
次に、上述のように構成されたレジスト塗布装置２３におけるＬＣＤ基板Ｇの処理工程について説明する。まず、基板保持部材６２を導入ステージ部１２ａの所定位置（例えば、図１の左端近傍）に待機させ、ステージ１２では各部において所定の高さにＬＣＤ基板Ｇを浮上させることができる状態とする。次いで、図示しない基板搬送機構等によってＬＣＤ基板Ｇが導入ステージ部１２ａに搬入されたら、リフトピン６４ａを上昇させてＬＣＤ基板Ｇを支持する。基板搬送装置等を導入ステージ部１２ａから退避させた後に、リフトピン６４ａを降下させ、基板保持部材６２に受け渡す。これにより、ＬＣＤ基板Ｇはステージ１２上において略水平姿勢で浮上保持される。
【００４１】
そして、基板保持部材６２を搬出ステージ部１２ｃ側に所定の速度でスライドさせると、ＬＣＤ基板Ｇが塗布ステージ部１２ｂに配置されたレジストノズル１４の下を通過する際に、レジストノズル１４からレジスト液がＬＣＤ基板Ｇの表面に供給され、レジスト膜が形成される。レジストノズル１４からのレジスト液の吐出は、前述したように、レジスト供給装置１１を用いて、作動油２５をシリンダ３６内から作動油充填スペース３４へ送液することにより行われる。その際のピストン３７の昇降動作は、例えば、圧力センサ５１が示す値が一定の勾配で直線的に上昇し、その後に一定となるように、制御される。このようなレジスト液の吐出制御を行うことにより、膜厚の均一なレジスト膜を形成することができる。
【００４２】
なお、レジストノズル１４を配置する高さは、通常は複数のＬＣＤ基板Ｇの搬送状態は実質的に同じとなるから、最初に処理するＬＣＤ基板Ｇまたはダミー基板でレジストノズル１４の高さを調節し、その位置を制御部２４に記憶させておけばよい。また、レジストノズル１４からのレジスト液の吐出開始／吐出終了のタイミングは、レジストノズル１４に取り付けられたセンサの測定信号を利用して定めてもよいし、ＬＣＤ基板Ｇの位置を検出するためのセンサを別途設けて、このセンサからの信号に基づいて定めることもできる。
【００４３】
レジスト膜が形成されたＬＣＤ基板Ｇは搬出ステージ部１２ｃに搬送され、そこで、基板保持部材６２による保持を解除し、リフトピン６４ｂを上昇させる。次いで、基板搬送アーム１９をリフトピン６４ｂによって持ち上げられたＬＣＤ基板Ｇにアクセスさせ、基板搬送アーム１９がＬＣＤ基板ＧのＹ方向端でＬＣＤ基板Ｇを把持したら、リフトピン６４ｂを降下させる。
【００４４】
基板搬送アーム１９ｂは、把持したＬＣＤ基板Ｇを減圧乾燥部１０ｂの載置台１７上に載置する。その後、チャンバ１８を密閉してその内部を減圧することにより、レジスト膜を減圧乾燥する。一方、ＬＣＤ基板Ｇをリフトピン６４ｂに受け渡した後の基板保持部材６２は、次に処理するＬＣＤ基板Ｇを搬送するために、導入ステージ部１２ａ側に戻される。
【００４５】
ＬＣＤ基板Ｇの減圧乾燥部１０ｂにおける処理が終了したら、チャンバ１８を開き、基板搬送アーム１９を載置台１７に載置されたＬＣＤ基板ＧにアクセスさせてＬＣＤ基板Ｇを把持し、その後、レジスト膜をプリベーク処理するための熱処理装置（図１に示さず）へ搬送される。
【００４６】
以降、上述したようにＬＣＤ基板Ｇの搬送が繰り返されて、ＬＣＤ基板Ｇに塗布膜が形成されるが、その間に、レジストノズル１４の洗浄処理が、例えば、ダミーディスペンス部２７でのダミーディスペンス、ＬＣＤ基板Ｇへのレジスト膜形成、ノズル洗浄機構２９によるレジストノズル１４の洗浄処理、ノズルバス２８でのレジスト吐出口の乾燥抑制を１セットとして、適宜、行われる。
【００４７】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明はこのような形態に限定されるものではない。例えば、上記説明においては、作動油の補充を図４（ｂ）に示すホームポジションにおいて行うこととしたが、チューブフラム３１およびポンプ３２を、ピストン３７に形成された貫通孔４１の上端が作動油充填スペース３４の上端よりも高い位置となるようにピストン３７を配置することができ、かつ、ドレイン穴４５がピストン３７によって閉塞されるように構成すれば、このような状態において作動油の補充を行うこともできる。
【００４８】
また、上記説明においては、塗布膜としてレジスト膜を取り上げたが、塗布膜はこれに限定されるものではなく、反射防止膜や感光性を有さない絶縁膜等であってもよい。また、基板はＬＣＤ基板に限定されるものではなく、半導体ウエハ、レチクル基板等であってもよい。さらに、基板を水平方向に搬送しながらレジスト膜を形成したが、所謂スピンコート法により塗布膜を形成してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明は、塗布液の吐出量を精密に制御することが望まれる各種の塗布処理装置に適用することができるが、特に、ＬＣＤガラス基板等の大型基板にレジスト膜や反射防止膜等のレジスト膜を形成するためのレジスト膜形成装置に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】レジスト塗布装置の概略構成を示す平面図。
【図２】レジストノズルの概略構造を示す斜視図。
【図３】レジスト供給装置の概略構成を示す側面図。
【図４】レジスト供給装置の概略構造を、（ａ）メンテナンスポジション、（ｂ）ホームポジション、（ｃ）加圧ポジションに分けて示す断面図。
【図５】図４に示す範囲Ａおよび範囲Ｂのそれぞれの拡大図。
【符号の説明】
【００５１】
１０；レジスト塗布装置
１０ａ；塗布処理部
１０ｂ；減圧乾燥部
１１；レジスト供給装置
１２；ステージ
１３；基板搬送機構
１４；レジストノズル
２５；作動油
３１；チューブフラム
３２；ポンプ
３３；可撓性のチューブ
３４；作動油充填スペース
３５；筒状部材
３６；シリンダ
３７；ピストン
３８；ピストン駆動機構
４１；貫通孔
４２；凹部
４３；シールキャップ
４４；シール部材
４５；ドレイン穴
４８；脱気泡穴
６５；レジスト液供給源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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