(57)【要約】【課題】  マスクを介してＵＶ加熱硬化型樹脂が塗布された液晶パネルにＵＶ照射を行う際に、マスクに蓄積された熱によってＵＶ加熱硬化型樹脂が熱硬化することを抑制する、液晶表示装置の製造装置及び製造方法を提供する。【解決手段】  液晶表示装置の製造装置１００は、光源２０と、液晶パネル１０を載置するステージ３０と、光源２０とステージ３０との間に配設されたマスク部４０とを備える。液晶パネル１０がステージ３０から除去されている際に、マスク部４０をステージ３０に対して近接又は接触させることによって、マスク４２を冷却する。【選択図】  図１
2006064791.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネルを載置するステージと、
前記液晶パネルに紫外線を照射するための紫外線（ＵＶ）光源と、
前記ＵＶ光源と前記ステージとの間に配設され、前記液晶パネルの一部の領域以外の領域へのＵＶ光を遮光するための遮光マスクとを備える液晶表示装置の製造装置であって、
前記液晶パネルが前記ステージから除去されている際に、前記遮光マスクと前記ステージとを近接又は接触させる昇降装置を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造装置。
【請求項２】
前記ステージを冷却する冷却装置を更に備える、請求項１に記載の液晶表示装置の製造装置。
【請求項３】
前記昇降装置は、前記遮光マスクと前記ステージとの間の距離が０〜１ｍｍの距離となるように、近接又は接触させる、請求項１に記載の液晶表示装置の製造装置。
【請求項４】
前記遮光マスクの温度を検知する温度センサと、前記昇降装置の駆動を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記遮光マスクの温度が、設定温度以下になるまで前記近接又は接触の状態を保持するように前記昇降装置を制御する、請求項１に記載の液晶表示装置の製造装置。
【請求項５】
２枚のガラス基板間に液晶材料が挟持されＵＶ加熱硬化型樹脂が塗布された第１の液晶パネルをステージ上に載置する第１ステップと、
遮光マスクを介してＵＶ光を前記第１の液晶パネルに照射することによって、前記ＵＶ加熱硬化型樹脂を硬化させる第２ステップと、
前記第１の液晶パネルをステージ上から除去する第３ステップと、
前記遮光マスクと前記ステージとを近接又は接触させる第４ステップと、
２枚のガラス基板間に液晶材料が挟持されＵＶ加熱硬化型樹脂が塗布された第２の液晶パネルをステージ上に載置する第５ステップと、
前記遮光マスクを介してＵＶ光を前記第２の液晶パネルに照射することによって、前記ＵＶ加熱硬化型樹脂を硬化させる第６ステップとを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記第４ステップでは、前記遮光マスクと前記ステージとの間の距離が０〜１ｍｍの距離となるように、近接又は接触させる、請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記第４ステップでは、前記遮光マスクの温度を検知し、前記遮光マスクの温度が、設定温度以下になるまで前記近接又は接触の状態を保持する、請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置の製造装置及び製造方法に関し、更に詳細には、マスクを介してＵＶ加熱硬化型樹脂が塗布された液晶パネルにＵＶ照射を行う、液晶表示装置の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、光源と、光源からの光のスイッチングを行うライトバルブとして構成される液晶パネルとを備える。液晶パネルは、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）及び画素電極が形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して配置され、カラーフィルタ及び共通電極が形成されたカラーフィルタ基板（ＣＦ基板）と、これら２つの基板間に挟まれた液晶層とを備える。ＴＦＴの駆動によって、画素電極と共通電極との間に電圧が印加され、液晶がその配向を変化させることによって光スイッチングが行われる。
【０００３】
２つの基板間に液晶を注入して液晶パネルに形成する方法として、従来、真空注入法が用いられていた。真空注入法では、先ず、２つの基板を用意する。次いで、一方の基板上に、液晶注入口を除いて環状のパターンとなるように、熱硬化型樹脂をシール材として塗布する。引き続き、何れかの基板上にスペーサを散布し、両基板を重ね合わせ、加熱によって熱硬化型樹脂を硬化させて両基板を固着させる。次いで、液晶注入口から毛細管現象を利用して液晶を注入した後、液晶注入口を封孔する。
【０００４】
近年、液晶パネルの大型化や高性能化に伴って、表示画面が大きく、基板間の距離（セルギャップ）が狭い液晶パネルが採用されている。このような液晶パネルでは、真空注入法を用いると液晶注入工程に多くの時間が必要となり、生産性の低下を招く問題があった。そこで、液晶の注入時間を短縮する方法として、下記に説明する液晶滴下法が用いられている。図４（ａ）〜（ｃ）、及び、図５（ｄ）〜（ｆ）に、液晶滴下法を用いた液晶パネルの製造方法について示す。
【０００５】
液晶滴下法では、先ず、図示しない配向膜を形成し、ラビング処理を施した２つの基板１１，１２を用意する（図４（ａ））。次いで、図４（ｂ）に示すように、一方の基板、例えばＴＦＴ基板１１上に、液晶注入口を有しない、閉鎖した環状のパターンとなるようにシール材１３を塗布する。また、他方の基板、例えばＣＦ基板１２上の中央近傍に液晶１４を滴下する。シール材１３には、ＵＶ硬化型樹脂、又は、ＵＶ硬化及び熱硬化の両特性を兼ね備えるＵＶ加熱硬化型樹脂を用いることが出来る。液晶滴下法でこのようなＵＶ硬化型樹脂又はＵＶ加熱硬化型樹脂が用いられるのは、両基板１１，１２の固着の際にシール材１３を素早く硬化させることによって、シール材１３による液晶１４の汚染を防止する必要があるためである。
【０００６】
以下、特にＵＶ加熱硬化型樹脂を用いる場合について説明する。図４（ｂ）図では、ＣＦ基板１２上には、液晶１４は１滴のみが示されているが、実際には例えば数滴が滴下される。引き続き、図４（ｃ）に示すように、何れかの基板上に、セルギャップを規定するためのスペーサ１５を散布した後、真空下で両基板１１，１２を重ね合わせる。この工程では、液晶１４は、シール材１３の変質を防ぐため、シール材１３と接触させない。
【０００７】
次いで、圧力を大気圧の状態に戻す。この際に、両基板１１，１２間の空間は真空の状態にあるため、図５（ｄ）の符号Ａに示すように、双方の基板１１，１２は大気圧によって外側から押し付けられる。この圧力によって、滴下された液晶１４が、シール材１３で囲まれる基板１１，１２間の空間の全体に均等に拡散すると共に、２つの基板１１，１２間のセルギャップがスペーサ１５の厚みで規定される値に維持される。セルギャップは、例えば３〜７μｍ程度である。なお、本工程では、双方の基板１１，１２を加圧板等を用いて補助的に押し付けることもある。
【０００８】
次いで、図５（ｅ）に示すように、マスク４２を介して、液晶パネルのＴＦＴ基板１１側からＵＶ光４５を照射する。マスク４２は、ガラス等から成る透明基板４３と、透明基板４３上に形成されたアルミニウム薄膜等から成る遮光膜４４とを備える。遮光膜４４は、ＴＦＴ基板１１上の環状のシール材１３の塗布位置に対応した環状の開口部４４ａを有する。
【０００９】
ＵＶ照射に際してマスク４２を用いるのは、ＵＶ光が表示領域に入射すると、ＴＦＴの素子特性や液晶の初期配向が悪い影響を受けるので、これらの影響を防止するためである。ＵＶ光の表示領域への入射を防止するためには、マスク４２を用いなくても、ＵＶ光の照射に際して、ＣＦ基板１２側が上側で、ＴＦＴ基板１１が下側になるように配置することによって、カラーフィルタでＵＶ光を吸収させることも出来る。しかし、この方法では、ＵＶ光を吸収するカラーフィルタの外側にシール材１３を塗布する必要があるため、液晶パネルの寸法を小さく出来ないという欠点がある。
【００１０】
ＵＶ照射は、例えば照射強度が１００ｍＷ／ｃｍ2の光源２０を用いて、１２０秒間程度で行われる。ＵＶ照射によって、シール材１３は、先ず、その表面部分のみが硬化し、両基板１１，１２は仮止めされる。なお、シール材１３にＵＶ硬化型樹脂を用いる場合には、本工程でシール材１３を完全に硬化させる。ＵＶ照射の際の、液晶パネルとマスク４２との間の間隔は通常１ｍｍ以下であり、或いは接触して行われる場合もある。
【００１１】
次いで、シール材１３をＵＶ加熱硬化型樹脂の熱硬化温度以上の温度に加熱する加熱工程を行い、シール材１３を完全に硬化させる。ＵＶ加熱硬化型樹脂の熱硬化温度は、例えば４０℃以上であって、本工程は、例えば１２０℃で６０分程度の加熱条件で行われる。本工程を経ることによって、図５（ｆ）に示す液晶パネル１０を完成することが出来る。
【００１２】
上記のように、液晶滴下法では、真空注入法で必要であった液晶注入工程や封孔工程が不要であるため、液晶パネル製造のＴＡＴを短縮することが出来る。また、ＵＶ加熱硬化型樹脂を用いた液晶滴下法では、セルギャップが適切に保たれた状態で、シール材１３を完全に硬化させるので、ＵＶ硬化型樹脂を用いた液晶滴下法に比して、セルギャップの精度を高めることが出来る。従って、横電界方式（ＩＰＳ）方式の液晶パネルなど、セルギャップについて高い精度が要求される場合に、特に好適に用いることができる。
【００１３】
図６に、図５（ｄ）のＵＶ照射工程に用いられる液晶表示装置の製造装置について示す。液晶表示装置の製造装置２００は、ＵＶ光を発生する光源２０と、液晶パネル１０を載置するステージ３０と、光源２０と液晶パネル１０との間に配設されたマスク部４０とを備える。光源２０は、ＵＶ光を発生するＵＶランプ２１と、発生したＵＶ光を反射させて平行光線とし、ステージ３０に向けて照射するＵＶランプハウス２２とを備える。マスク部４０は、枠状のマスクホルダ４１と、図示しないリブを介してマスクホルダ４１に固定されたマスク４２とを備える。
【００１４】
液晶表示装置の製造装置２００を用いてＵＶ加熱硬化型樹脂が塗布された液晶パネルにＵＶ照射を行う、液晶表示装置の製造方法を図７のフローチャートに示す。先ず、図４（ｃ）に示した、未硬化のシール材１３が塗布された液晶パネル１０をステージ３０上に載置する（ステップＡ１）。次いで、マスク部４０と液晶パネル１０との間をＵＶ照射を行う距離に保ちつつ、マスク部４０の液晶パネル１０に対する位置合せを行う（ステップＡ２）。位置合せは、例えば、模様を認識できる撮像装置を用いて、基板上に形成されたアライメント・マークと、マスク部４０に形成されたアライメント・マークとが水平方向に一致するように制御して行われ、２０〜３０秒程度の時間を要する。
【００１５】
次いで、マスク４２を介して、図５（ｄ）に示したＵＶ照射を行う（ステップＡ３）。引き続き、液晶パネル１０をステージ３０上から除去する（ステップＡ４）。引き続き、ステップＡ１に戻り、未硬化のシール材１３が塗布された別の液晶パネル１０について、ステップＡ１〜Ａ４を同様に行う。このような液晶滴下法を用いた液晶表示装置の製造方法については、例えば特許文献１に記載されている。
【特許文献１】特開２００３−２４１２０６号（図２Ｂ〜２Ｅ）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
ところで、特許文献１に記載の液晶表示装置の製造方法では、ＵＶ加熱硬化型樹脂のＵＶ硬化に際して、熱硬化が一部進行するという問題がある。この問題は、以下のようにして発生する。ステップＡ３のＵＶ照射工程において、マスク４２の遮光層４３が光源２０からの光の一部を吸収することによって、マスク４２が熱せられる。ここで、マスク４２の温度上昇が大きいと、次のＵＶ照射を行うまでにマスク４２の温度が十分には下がらず、ステップＡ１〜Ａ４の１サイクルを重ねるごとにマスク４２の温度が上昇する。マスク４２がＵＶ加熱硬化型樹脂の熱硬化温度以上に加熱されると、ステップＡ２のマスクの位置合せ工程などにおいて、マスク４２に蓄えられた熱の熱輻射又は熱伝導によって、ＵＶ加熱硬化型樹脂が熱硬化温度以上に加熱され、部分的な熱硬化が生じるものである。
【００１７】
上記のように、ＵＶ照射工程の際に、ＵＶ加熱硬化型樹脂に部分的な熱硬化が生じると、ＵＶ照射が終了した段階でＵＶ加熱硬化型樹脂の硬度や粘度にばらつきが生じる。この場合、ＵＶ加熱硬化型樹脂を熱硬化させる加熱工程の後に、ＵＶ加熱硬化型樹脂が、塗布された位置によって異なる応力を持ち、セルギャップの不均一性、即ちセルギャップむらを発生させる。セルギャップむらは、液晶パネル１０の表示品質を低下させる。
【００１８】
シール材１３にＵＶ加熱硬化型樹脂を使用した際には、マスク４２の温度上昇を抑制するために、従来より、液晶表示装置の製造装置２００内に空冷装置を配設してマスク４２を冷却している。また、光源２０には、熱線をカットする熱線カットフィルタが取り付けられ、マスク４２の温度上昇が抑制されている。しかしながら、ＴＦＴ基板１１側からＵＶ照射を行う場合には、ＴＦＴ基板１１内に配設されたゲート線やデータ線等の配線によってＵＶ光の一部が遮られるため、大きな照射エネルギーが必要となり、マスク４２の温度上昇もその分大きくなる。
【００１９】
例えば、ＣＦ基板１２側からＵＶ照射を行う場合に、ＵＶ硬化型樹脂の硬化に必要な照射エネルギーは３Ｊ／ｃｍ2程度であるのに対して、ＴＦＴ基板１１側からＵＶ照射を行う場合に、ＵＶ加熱硬化型樹脂の表面部分の硬化に必要な照射エネルギーは１２Ｊ／ｃｍ2程度で、約４倍である。ステップＡ３の１回のＵＶ照射工程におけるマスク４２の温度上昇について本発明者が測定を行ったところ、温度上昇は５℃程度もあった。
【００２０】
従って、シール材１３にＵＶ加熱硬化型樹脂を用いる場合には、従来の対策ではステップＡ１〜Ａ４のサイクルを繰り返すことによって、マスク４２の温度は容易にＵＶ加熱硬化型樹脂の熱硬化温度以上に達し得るものである。このため、ＵＶ照射時のＵＶ加熱硬化型樹脂の熱硬化を抑制するためには、マスク４２の冷却が不可欠である。
【００２１】
本発明は、上記に鑑み、マスクを介してＵＶ加熱硬化型樹脂が塗布された液晶パネルにＵＶ照射を行う液晶表示装置の製造装置及び製造方法であって、マスクに蓄積された熱によってＵＶ加熱硬化型樹脂が熱硬化することを抑制する、液晶表示装置の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
上記目的を達成するために、本発明に係る液晶表示装置の製造装置は、液晶パネルを載置するステージと、前記液晶パネルに紫外線を照射するための紫外線（ＵＶ）光源と、前記ＵＶ光源と前記ステージとの間に配設され、前記液晶パネルの一部の領域以外の領域へのＵＶ光を遮光するための遮光マスクとを備える液晶表示装置の製造装置であって、前記液晶パネルが前記ステージから除去されている際に、前記遮光マスクと前記ステージとを近接又は接触させる昇降装置を備えることを特徴とする。
【００２３】
また、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、２枚のガラス基板間に液晶材料が挟持されＵＶ加熱硬化型樹脂が塗布された第１の液晶パネルをステージ上に載置する第１ステップと、遮光マスクを介してＵＶ光を前記第１の液晶パネルに照射することによって、前記ＵＶ加熱硬化型樹脂を硬化させる第２ステップと、前記第１の液晶パネルをステージ上から除去する第３ステップと、前記遮光マスクと前記ステージとを近接又は接触させる第４ステップと、２枚のガラス基板間に液晶材料が挟持されＵＶ加熱硬化型樹脂が塗布された第２の液晶パネルをステージ上に載置する第５ステップと、前記遮光マスクを介してＵＶ光を前記第２の液晶パネルに照射することによって、前記ＵＶ加熱硬化型樹脂を硬化させる第６ステップとを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の液晶表示装置の製造装置によれば、液晶パネルがステージから除去されている際に、昇降装置が、遮光マスクとステージとを近接又は接触させるので、遮光マスクを効率的に冷却することが出来る。従って、ＵＶ照射時における液晶パネルに塗布されたＵＶ加熱硬化型樹脂の熱硬化を抑制することが出来る。ＵＶ照射時におけるＵＶ加熱硬化型樹脂の熱硬化の抑制によって、その後の熱硬化の際におけるＵＶ加熱硬化型樹脂の応力むらを防止できるので、セルギャップむらを抑制し、良好な表示品質を得ることが出来る。
【００２５】
本発明の液晶表示装置の製造装置では、前記ステージを冷却する冷却装置を更に備えることによって、液晶パネルを更に効率的に冷却することが出来る。また、本発明の液晶表示装置の製造装置では、前記昇降装置は、前記遮光マスクと前記ステージとの間の距離が０〜１ｍｍの距離となるように、近接又は接触させることによって、液晶パネルを更に効率的に冷却することが出来る。
【００２６】
本発明の液晶表示装置の製造装置の好適な実施態様では、前記遮光マスクの温度を検知する温度センサと、前記昇降装置の駆動を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記遮光マスクの温度が、設定温度以下になるまで前記近接又は接触の状態を保持するように前記昇降装置を制御する。
【００２７】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、液晶パネルがステージ上から除去されている際に、遮光マスクとステージとを近接又は接触させることによって、遮光マスクを効率的に冷却することが出来る。これによって、本発明の液晶表示装置の製造装置と同様の効果を得ることが出来る。
【００２８】
本発明の液晶表示装置の製造方法の好適な実施態様では、前記第４ステップでは、前記遮光マスクと前記ステージとを０〜１ｍｍの距離で近接させる。また、前記第４ステップでは、前記遮光マスクの温度を検知し、前記遮光マスクの温度が設定された温度以下になるまで保持する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明者は、本発明に先立って下記の検討を行った。熱せられたマスク４２を冷却するためには、例えばＵＶ照射を行うまでの待機時間を長くしてマスク４２が冷えるまで待つ方法、或いはＵＶ照射を行った後に、マスク４２を液晶表示装置の製造装置２００の外側に一旦出してマスク４２を冷却する方法等が考えられる。しかし、これらの方法では、１回のＵＶ照射を行うためのＴＡＴが長くなり、製造コストの増大を招く。
【００３０】
そこで、本発明者は、大きな熱容量を有するステージ３０をマスク４２の冷却装置として兼用できるのではないかと考えた。つまり、ステップＡ４で液晶パネル１０が除去された後に、マスク４２をステージ３０表面に近接させれば、マスク４２表面からの熱輻射をステージ３０が効率的に吸収することによって、マスク４２を効率的に冷却させることが出来る。或いは、マスク４２をステージ３０表面に接触させれば、マスク４２とステージ３０との間の熱伝導によって、マスク４２を効率的に冷却させることが出来る。
【００３１】
実験によれば、ステージ３０に対してマスク４２を近接させる場合には、これらの間の距離を１ｍｍ以下にすることによって、マスク４２を特に効率的に冷却できることが分かった。また、ステージ３０を水冷装置などを用いて冷却すれば、マスク４２の冷却効果を更に高めることが出来る。
【００３２】
以下、図面を参照し、本発明に係る実施形態に基づいて本発明を更に詳細に説明する。図１に本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の製造装置を示す。液晶表示装置の製造装置１００は、ＵＶ光を発生する光源２０と、液晶パネル１０を載置するステージ３０と、光源２０と液晶パネル１０との間に配設されたマスク部４０とを備える。液晶表示装置の製造装置１００は、また、マスク部４０を固定しマスク部４０をステージ３０に対して昇降させる昇降装置５０と、ステージ３０を冷却する水冷装置６０とを備える。
【００３３】
光源２０は、ＵＶ光を発生するＵＶランプ２１と、発生したＵＶ光を反射させて平行光線とし、ステージ３０に向けて照射するＵＶランプハウス２２と、ＵＶ光から熱線を除去する熱線カットフィルタ２３と、ＵＶ光の通過を制御し、露光時にのみＵＶ光を通過させるシャッター装置２４とを備える。ステージ３０は、例えばアルミニウム、鉄などの金属から成り、平坦な表面を有する。水冷装置６０は、ステージ３０内部に配設された導水パイプ６１を備え、導水パイプ６１内の冷却水によって、ステージ３０を冷却することが出来る。
【００３４】
マスク部４０は、枠状のマスクホルダ４１と、図示しないリブを介してマスクホルダ４１に固定されたマスク４２とを備える。マスク４２は、ガラス等から成る透明基板４３と、透明基板４３上に形成されたアルミニウム薄膜等から成る遮光膜４４とを備え、例えば０．７ｍｍ程度の厚みを有する。遮光膜４４は、ＴＦＴ基板１１上の環状のシール材１３の塗布位置に対応した環状の開口部４４ａを有する。
【００３５】
昇降装置５０は、マスクホルダ４２上に配設されて、マスク部４０の温度を検知する温度センサ５１と、マスク部４０をステージ３０に対して接近させ、或いは離隔させる機構を有する昇降部５２と、温度センサ５１及び昇降部５２にそれぞれ信号線５３，５４を介して接続された制御部５５とを備える。制御部５５は、ＰＣ端末又はマイクロコンピュータ等で構成され、予め設定されたプログラムに従って、ステージ３０上に液晶パネル１０が載置されていない期間に、図２に示すようにマスク部４０をステージ３０に対して近接させ、或いは接触させる。同図中で、符号４６はＵＶ照射を行う際のマスク部４０の位置を示している。
【００３６】
制御部５５は、温度センサ５１を介してマスク部４０の温度を監視し、マスク部４０をステージ３０に対して近接又は接触させた際に、予め設定された温度以下になった場合に、マスク部４０を上昇させるように駆動させる。なお、これに代えて、又は、これに加えて、マスク部４０の温度が予め設定された温度以上になった際に、マスク部４０をステージ３０に対して近接又は接触させることも出来る。
【００３７】
液晶表示装置の製造装置１００を用いて製造される液晶パネル１０は、図５（ｆ）に示したように、ＴＦＴ基板１１と、ＣＦ基板１２と、ＴＦＴ基板１１とＣＦ基板１２との間に塗布され、ＵＶ加熱硬化型樹脂から成るシール材１３とを備える。シール材１３は、閉鎖した環状のパターンとなるように塗布されている。液晶パネル１０は、また、ＴＦＴ基板１１とＣＦ基板１２との間であって、シール材１３に囲まれた空間に挟まれた液晶１４と、液晶１４中に含まれ、ＴＦＴ基板１１とＣＦ基板１２との間のセルギャップを規定するスペーサ１５とを備える。液晶パネル１０は、図４（ａ）〜（ｃ）、及び、図５（ｄ）〜（ｆ）に示した工程に従って製造することが出来る。
【００３８】
本実施形態で液晶パネル１０の固着に用いるＵＶ加熱硬化型樹脂は、エポキシ系樹脂及びアクリル系樹脂を主成分として含むＵＶ加熱硬化型樹脂である。ＵＶ照射工程で樹脂の表面部分の硬化に必要な照射エネルギーは、３〜１２Ｊ／ｃｍ2程度であり、例えば、照射強度が１００ｍＷ／ｃｍ2となる光源２０を用いて、時間が１２０秒程度の照射を行う。熱硬化工程で樹脂を完全に硬化させるのに必要な条件は、例えば、温度が１２０℃で６０分程度である。熱硬化が始まる温度は４０℃程度である。
【００３９】
本実施形態の液晶表示装置の製造装置１００によれば、マスク４２をステージ３０に対して近接又は接触させる昇降部５２を備えることによって、マスク４２を効率的に冷却することが出来る。ステージ３０が持つ大きな熱容量によって、マスク４２の熱によるＵＶ加熱硬化型樹脂の硬化を抑制し、且つ短期間のインターバルでＵＶ照射によるＵＶ加熱硬化型樹脂の硬化を行うことが出来るので、液晶パネル１０製造の短ＴＡＴ化を実現することが出来る。また、水冷装置６０がステージ３０を水冷することによって、マスク４２をより効率的に冷却することが出来る。
【００４０】
ＵＶ照射時におけるＵＶ加熱硬化型樹脂の熱硬化が抑制されるため、ＵＶ硬化された液晶パネルのＵＶ加熱硬化型樹脂は、均等な硬度及び粘度を有する。従って、ＵＶ加熱硬化型樹脂を熱硬化させる加熱工程において、このＵＶ加熱硬化型樹脂が均等な応力を有するように形成される。これによって、セルギャップむらの発生を抑制し、良好な表示品質を有する液晶パネル１０を製造することが出来る。
【００４１】
なお、上記実施形態では、マスク部４０をステージ３０に対して昇降させる構成としたが、ステージ３０をマスク部４０に対して昇降させる構成としてもよい。マスク部４０の温度を検知する方法について、上記以外にもマスク４２の近傍に空気を通過させ、通過した空気の温度を測定する方法などを用いることも出来る。マスク４２は、１回のＵＶ照射によって１枚〜複数枚の液晶パネルを同時に露光できるものを用いることが出来る。透明基板４３には、ガラス以外にも例えば強化プラスチックを用いることも出来る。
【００４２】
マスク４２の熱は、マスク４２と液晶パネル１０との間の距離が、１ｍｍ以下である場合に特に伝わり易い。従って、本実施形態の液晶表示装置の製造装置１００は、液晶パネル１０にＵＶ光を照射する際に、昇降装置５０が、マスク４２と液晶パネル１０との間の距離が０〜１ｍｍの距離となるように、近接又は接触させる液晶表示装置の製造装置に適用することによって、特に好ましい効果を得ることが出来る。
【００４３】
図３に、液晶表示装置の製造装置１００を用いた液晶表示装置の製造方法の手順の一例を示す。先ず、未硬化のシール材１３が塗布された液晶パネル１０をステージ３０上に載置する（ステップＳ１）。次いで、マスク部４０の液晶パネル１０に対する水平方向の位置合せを、公知の方法を用いて行う（ステップＳ２）。位置合せには、例えば２０〜３０秒程度の時間を要する。引き続き、マスク４２を介して、液晶パネル１０に対するＵＶ光の照射を行う（ステップＳ３）。ＵＶ照射によって、ＵＶ加熱硬化型樹脂の表面部分のみが硬化し、両基板１１，１２は仮止めされる。引き続き、液晶パネル１０をステージ３０上から除去する（ステップＳ４）。
【００４４】
次いで、図２に示したように、昇降部５２の駆動によってマスク部４０をステージ３０に対して１ｍｍ以下、例えば０．５ｍｍの距離で近接させ、この状態で例えば２０秒程度維持する（ステップＳ５）。この際に、大きな熱容量を持つステージ３０でマスク４２が冷却されることによって、マスク４２を効率的に冷却することが出来る。マスク４２は、ＵＶ加熱硬化型樹脂の熱硬化温度以下の温度、例えば２０℃以下に冷却する。引き続き、昇降部５２の駆動によってマスク部４０を上昇させる（ステップＳ６）。その後、ステップＳ１に戻り、未硬化のシール材１３が塗布された別の液晶パネル１０について、ステップＳ１〜Ｓ６を同様に行う。
【００４５】
本実施形態の液晶表示装置の製造方法によれば、ステージ３０上から液晶パネル１０が除去された際に、マスク４２をステージ３０に対して１ｍｍ以下の距離で近接させることによって、マスク４２を効率的に冷却することが出来る。また、ＵＶ照射に先立って、マスク４２をＵＶ加熱硬化型樹脂の熱硬化温度以下に冷却することによって、マスク４２の熱によるＵＶ加熱硬化型樹脂の硬化を抑制することが出来る。
【００４６】
なお、ステップＳ５において、昇降部５２の駆動によってマスク４２をステージ３０に接触させることが出来る。この場合、マスク４２とステージ３０との接触による熱伝導によって、マスク４２をより効率的に冷却することが出来る。なお、上記実施形態では、液晶パネル１０を製造する例について示したが、ＵＶ加熱硬化型樹脂を硬化させる工程を有するプラズマディスプレイパネル等の製造にも、本実施形態の液晶表示装置の製造装置１００及び液晶表示装置の製造方法を同様に適用することが出来る。
【００４７】
以上、本発明をその好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明に係る液晶表示装置の製造装置及び製造方法は、上記実施形態の構成にのみ限定されるものではなく、上記実施形態の構成から種々の修正及び変更を施した液晶表示装置の製造装置及び製造方法も、本発明の範囲に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】一実施形態に係る液晶表示装置の製造装置の構成を示す断面図である。
【図２】図１の液晶表示装置の製造装置について、マスク部がステージに対して近接した状態を示す断面図である。
【図３】一実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の手順を示すフローチャートである。
【図４】図４（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ、液晶滴下法を用いた液晶パネルの各製造段階を示す断面図である。
【図５】図５（ｄ）〜（ｆ）はそれぞれ、液晶滴下法を用いた液晶パネルの、図４に後続する各製造段階を示す断面図である。
【図６】従来の液晶表示装置の製造装置の一例の構成を示す断面図である。
【図７】従来の液晶表示装置の製造方法の手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００４９】
１０：液晶パネル
１１：ＴＦＴ基板（薄膜トランジスタ基板）
１２：ＣＦ基板（カラーフィルタ基板）
１３：ＵＶ加熱硬化型樹脂（シール材）
１３ａ：硬化したＵＶ加熱硬化型樹脂
１４：液晶
１５：スペーサ
２０：光源
２１：ＵＶランプ
２２：ＵＶランプハウス
２３：熱線カットフィルタ
２４：シャッター装置
３０：ステージ
４０：マスク部
４１：マスクホルダ
４２：マスク
４３：透明基板
４４：遮光膜
４４ａ：開口部
４５：ＵＶ光
４６：ＵＶ照射を行う際のマスク部の位置
５０：昇降装置
５１：温度センサ
５２：昇降部
５３，５４：信号線
５５：制御部
６０：水冷装置
６１：導水パイプ
１００：液晶表示装置の製造装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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