(57)【要約】【課題】  先端アームに繋がる信号線を不要にして、常時、先端アーム上の基板の有無が検出が出来る基板搬送機構を提供する。【解決手段】  回転軸２３に繋がった初段アーム２４の先端に第２アーム３２を、第２アームの先端に基板を載置する先端アーム３３繋いだ多段アーム２２を交換室２０に備え、各アームの回転位置を制御することにより、先端アーム３３を任意の方向に直線移動させるように成した。チャンバー外に光電センサー３０を設け、回転軸２３の延長線上に初段アーム２３と同期して回転する中間反射ミラー２７を設け、先端アーム３３に基板が載っていない時には中間反射ミラー２７からの光が到達し、基板が載っている時に到達しない位置に基板検出用反射ミラー４４を設けた。【選択図】図３
2006120680.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動手段の回転軸に繋がった初段アームの先端に別のアームを回転可能に繋ぐ形で複数のアームを繋ぎ、先端アームに基板を載置させるように成した多段アーム体をチャンバー内に備え、各アームの回転位置を制御することにより、先端アームを任意の方向に直線移動させるように成した基板搬送機構において、チャンバー外に各々の光軸が近接している発光手段及び受光手段を設け、回転軸の延長線上に初段アームと同期して回転可能な中間反射体を設け、先端アーム若しくは先端アーム付属物体に基板検出用反射体を設け、前記発光手段からの光を中間反射体を介して基板検出用反射体方向に向かわせるように成し、基板検出用反射体への光の到達，非到達が先端アーム上の基板載置，非載置と対応するように成し、光が到達した場合の基板検出用反射体からの反射光が受光手段に受光されるように成した基板搬送機構。
【請求項２】
発光手段と受光手段は一体化された直線光回帰型レーザーセンサーである請求項１記載の基板搬送機構。
【請求項３】
中間反射体は、回転軸の中心軸の延長線上に、初段アームと間接的に一体化されている請求項１記載の基板搬送機構。
【請求項４】
初段アームの上に反射体支持台を取り付け、該反射体支持台に中間反射体を取り付けた該請求項１記載の基板搬送機構。
【請求項５】
中間反射体からの反射光を再度反射して基板検出用反射体方向に向かわせるよう成した第２の中間反射体を初段アームと間接的に一体化した請求項１記載の基板搬送機構。
【請求項６】
反射体支持台に第２の中間反射体からの光が通過する孔を開けた請求項４記載の基板搬送機構。
【請求項７】
反射支持台を各アームとの干渉のない位置に設け、支持板を介して該反射支持台を初段アームの上に取り付けた請求項４記載の基板搬送機構。
【請求項８】
先端アームの先端部であって、基板が載っていない時には中間反射体からの光が到達し、基板が載っている時に到達しない位置に基板検出用反射体が取り付けられている請求項１記載の基板搬送機構。
【請求項９】
基板を載置するための基板支持体が別に先端アーム上に載置されるように成っており、その基板支持体の底面に弾性体が設けられて、その基板支持体の回転軸に近い側の側部であって、基板が載っていない時には中間反射体からの光が到達し、基板が載っている時に到達しない位置に基板検出用反射体が取り付けられている請求項１記載の基板搬送機構。
【請求項１０】
基板を載置するための基板支持体が別に先端アーム上に載置されるように成っており、その基板支持体の底面に弾性体が設けられ、その基板支持体の回転軸に近い側の側部であって、基板が載っている時には中間反射体からの光が到達し、基板が載っていない時に到達しない位置に基板検出用反射体が取り付けられている請求項１記載の機構請求項１記載の基板搬送機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の有無検出機構を備えた基板搬送機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体パターン描画装置には、例えば、電子ビーム描画装置があるが、この装置は、ステージ上に載置されたウエハ若しくはマスク等の被描画材料上の所定の箇所に、電子ビームを照射することにより、所定のパターンを描いている。
【０００３】
一方、半導体パターン検査装置には、例えば、電子ビーム検査装置があるが、この装置は、ステージ上に載置されたパターン描画済みウエハ若しくはマスク等の被検査試料上の所定領域を電子ビームで走査し、該走査領域から得られた二次電子信号等に基づいて、所定領域の観察，分析等を行っている。
【０００４】
さて、この様な描画装置や検査装置においては、描画室若しくは検査室の如き処理室と外部との間で、被描画材料若しくは被検査試料の如き基板のやり取りを行っている。即ち、基板搬送機構を使用して、処理室で所定の処理の終わった基板を外部へ搬送し、外部に貯蔵されている新しい基板を処理室に搬送している。
【０００５】
例えば、図１はマスク描画用電子ビーム描画装置の全体を上方から見た構成の概略を示したものである。
【０００６】
図中１は描画室で、この描画室のほぼ中央部にはＸ，Ｙ方向に移動可能なステージ２が備えられており、このステージ上にマスクが載置されるように成っている。この描画室の上方には、電子ビームを発生する電子銃，電子ビームを基板上に集束するための集束レンズ，基板上を電子ビームで走査させるための偏向器等を備えた電子光学系鏡筒（図示せず）が搭載されている。又、描画室１や鏡筒（図示せず）には各々の内部を真空状態にするための排気装置（図示せず）が備えられている。
【０００７】
図中３は、マスクを載置するための棚が上下方向に平行に多数備えられた基板保管容器で、エレベータ（図示せず）の上に載置されており、エレベータ（図示せず）により上下方向に移動可能に成っている。
【０００８】
図中４は、前記描画室１と基板保管容器３との間に配置された交換室で、描画室１とはゲートバルブ５を介して繋がっており、基板保管容器３とはゲートバルブ６及び大気空間を介して繋がっている。
【０００９】
図中７は交換室４に直接繋がったアライメント室で、基板保管容器３から交換室４に運ばれてきたマスクの位置と方向を調節するためのアライメント機構（図示せず）を備えている。  
前記交換室４内及び、ゲートバルブ６と基板保管容器３との間には、それぞれ、基板搬送機構８，９が配設されている。
【００１０】
図２は基板搬送機構の一概略例を示したもので、図に示す様に、駆動機構本体１０，制御装置１１及び多段アーム１２とから成る。
【００１１】
駆動機構本体１０は、内部に、回転用駆動機構１３と上下移動用駆動機構１４とを備え、制御装置１１からの駆動信号により、回転用駆動機構１３は回転軸１５を回転させ、上下移動用駆動機構１４は軸１６を通じて回転用駆動機構１３そのものを上下移動させるように働く。
【００１２】
多段アーム１２は、前記回転軸１５に回転可能に取り付けられた第１アーム（初段アーム）１７と、該第１アームの先端の回転軸に回転可能に取り付けられた第２アーム１８と、該第２アームの先端の回転軸に回転可能に取り付けられた第３アーム１９とを備えている。前記第３アームは先端アームと称し、この先端アームの上面にマクスが載せられる様に成っている。尚、以後の説明においては、基板搬送機構９の各構成要素には数字の後にＡを付け、基板搬送機構８の各構成要素には数字の後にＢを付けて説明する。
【００１３】
前記制御装置１１は、各アームが取り付けられている回転軸の回転角を制御することにより、前記先端アーム１９が任意の距離だけ直線移動するように制御する。  
この様な構成のマスク描画用電子ビーム描画装置において、エレベータ（図示せず）の作動により任意の棚が所定の位置に来るように基板保管容器３が上下方向に移動する。この時、ゲートバルブ５は閉じており、ゲートバルブ６は開いている。  
この状態で、基板搬送機構９の先端アーム１９Ａは制御装置１１Ａからの指令に基づいて、基板保管容器３方向に移動し、所定の位置に来た棚に載置されたマスクを先端アーム１９Ａの上面に載せ、一旦引っ込む。次に、多段アーム１２Ａは１８０度回転し、先端アーム１９Ａはゲートバルブ６の方向に移動する。この時、基板搬送機構８の先端アーム１９Ｂは制御装置１１Ｂからの指令に基づいて、ゲートバルブ６の方向に移動し、ゲートバルブ６の配設位置に近い交換室内で、基板搬送機構９の先端アーム１９Ａから基板搬送機構８の先端アーム１９Ｂへとマスクの受け渡しが行われる。この受け渡しの後、先端アーム１９Ａは引っ込み、ゲートバルブ６は閉じられ、交換室４内は排気される。尚、交換室４が充分低圧に排気された後、ゲートバルブ５が開けられる。
【００１４】
次に、基板搬送機構８の先端アーム１９Ｂは一旦引っ込んでから、多段アーム１２Ｂは反時計方向に９０度回転し、先端アーム１９Ｂはアライメント室７の方向に移動する。  
アライメント室７においては、先端アーム１９Ｂの上面に載せられたマスクが一旦アライメント機構（図示せず）のマスク載置台（図示せず）に載せられ、ここで、アライメントされる。該アライメントが終わったマスクは、再び、先端アーム１９Ｂの上面に載せられ、その状態において、先端アーム１９Ｂは一旦引っ込む。
【００１５】
次に、多段アーム１２Ｂは反時計方向に９０度回転し、先端アーム１９Ｂは描画室１の方向に移動し、先端アーム１９Ｂの上面に載せられたマスクはステージ２の所定の位置に載せられる。その後、先端アーム１９Ｂは一旦交換室４内に引っ込み、ゲートバルブ５は閉じられる。
【００１６】
この状態において、電子ビーム照射により、マスクに所定のパターンが描かれる。所定のパターン描画が終了すると、ゲートバルブ５が開けられ、先端アーム１９Ｂが移動してきてマスクを上面に載置して、一旦交換室内に戻り、ゲートバルブ５は閉じられ、ゲートバルブ６は開けられる。  
次に、多段アーム１２Ｂは１８０度回転し、先端アーム１９Ｂはゲートバルブ６方向に移動する。この時、基板搬送装置９Ａの先端アーム１９Ａはゲートバルブ６の方向に移動し、ゲートバルブ６の配設位置に近い交換室内で、基板搬送機構８の先端アーム１９Ｂから基板搬送機構９の先端アーム１９Ａへとマスクの受け渡しが行われる。
【００１７】
次に、該先端アーム１９Ａは一旦引っ込んでから、多段アーム１２Ａは１８０度回転し、先端アーム１９Ａは基板保管容器３方向に移動する。この時、エレベータ（図示せず）の作動により任意の空棚が所定の位置に来るように基板保管容器３が上下方向に移動する。そして、先端アーム１９Ａの上面に載せられたマスクは所定の位置に来ている空棚に戻される。
【００１８】
次に、新しいマスクにパターンを描く時も、前記と同様なステップで行われる。
【００１９】
さて、この様なマスク描画用電子ビーム描画装置においては、描画室，アライメント室，交換室の内部に検出センサーが取り付けられており、該各位置でマクス有無の検出を行い、それに基づいて、マスク描画用電子ビーム描画装置を成す各ユニットの動作を予め定められたプログラムに沿って行う様にしている。
【００２０】
しかし、先端アームが前記特定位置に来るまでマスク有無の確認が出来ないので、結果的に、スループット向上の妨げとなっていた。
【００２１】
又、特定位置でマスクが無いことが検出されたことにより搬送が停止した場合、先端アーム上のマスクの有無の確認のために、描画室，アライメント室若しくは交換室の覗き窓から先端アームが見える位置まで、多段アームを手動で動かさねばならず、操作が面倒であった。
【００２２】
そこで、特開平１０−１７５７３４号公報に示されている様に、交換室４内に配設された基板搬送機構の先端アーム自体に、発光部と受光部を備えた反射型光センサと、反射ミラーを取り付け、反射光の有無で先端アーム上の基板の有無を常時検出する基板搬送機構が考えられている。    
【特許文献１】特開平１０−１７５７３４号公報
【特許文献２】特開２００１−００７１８１号公報
【特許文献３】特開２００３−０６５７１１号公報
【特許文献４】特開２００３−３０３７５４号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
この様な基板搬送機構においては、先端アームに取り付けられた反射型光センサの信号を、該センサに繋がった信号線を通じて外部（交換室等のチャンバーの外）に設けられている制御装置に送り、該制御装置が基板の有無を判定している。
【００２４】
しかし、先端アームの直線移動距離は極めて大きいために極めて長い信号線が必要となり、アームにとって大きな負担となる。又、先端アームは向きを９０度及び１８０度変えるための回転が必要となり、信号線が絡まってしまう恐れがあり、操作が厄介となる。
【００２５】
本発明は、この様な問題を解決する新規な基板搬送機構を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
本発明の基板搬送機構は、回転駆動手段の回転軸に繋がった初段アームの先端に別のアームを回転可能に繋ぐ形で複数のアームを繋ぎ、先端アームに基板を載置させるように成した多段アーム体をチャンバー内に備え、各アームの回転位置を制御することにより、先端アームを任意の方向に直線移動させるように成した基板搬送機構において、チャンバー外に各々の光軸が近接している発光手段及び受光手段を設け、回転軸の延長線上に初段アームと同期して回転可能な中間反射体を設け、先端アーム若しくは先端アーム付属物体に基板検出用反射体を設け、前記発光手段からの光を中間反射体を介して基板検出用反射体方向に向かわせるように成し、基板検出用反射体への光の到達，非到達が先端アーム上の基板載置，非載置と対応するように成し、光が到達した場合の基板検出用反射体からの反射光が受光手段に受光されるように成したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の基板搬送機構は、チャンバーの外に発光手段及び受光手段を設け、チャンバー内に多段アーム体、中間反射体を設け、多段アーム体の先端アーム若しくは先端アーム付属物体に基板検出用反射体を設け、発光手段から基板検出用反射体への光の照射及び受光手段の基板検出用反射体から受光を可能に成したので、チャンバー内に先端アームに繋がる信号線が不要な構成にて、常時、先端アーム上の基板の有無が検出が出来る。従って、先端アームの直線移動距離は極めて大きくても、何らアームに信号線に基づく負担がかからない。又、先端アームが向きを９０度及び１８０度変えるための回転を行っても、信号線が絡まるという危険性が無く、操作上の問題もない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２９】
図３は本発明の基板搬送機構の一概略例を示したもので、交換室２０内及び、交換室２０内を中継して、描画室（図示せず）と外部との間等で基板の搬送を行っている基板搬送機構を示している。
【００３０】
基板搬送機構は前述した様に、駆動機構本体２１と制御装置及び多段アーム２２とから成るが、図３では制御装置は省略している。又、駆動機構本体２１は前述したものと同一構成なので、図３では、回転軸２３以外の他の内部構成要素は省略した。
【００３１】
図３に示す様に、基板搬送機構の配設は、駆動機構本体２１の上部を交換室２０の底壁に真空シールして取り付けることにより行われている。
【００３２】
多段アーム２２を成す第１アーム（初段アーム）２４の回転軸２３が嵌入されている端部を挟んでその上面と下面には、それぞれ、反射ミラー支持台２５，２６が固定されている。
【００３３】
反射ミラー支持台２５は、例えば、柱状に形成されており、その上端部には中間反射ミラー２７が取り付けられている。一方、反射ミラー支持台２６は断面がＬ字状の板状に形成されており、第１アーム２４の下面に取り付けられている一方の板に対して直角を成す方の板の先端部に第２中間反射ミラー２８が取り付けられている。尚、第１アーム２４の回転軸２３の回転中心と中間反射ミラー２７の中心が一致するように中間反射ミラー２７は反射ミラー支持台２５に取り付けられる。
【００３４】
前記反射ミラー支持台２５の先端面に対向する交換室２０の上壁には、透明体（例えば、ガラス板）２９が真空シールを施してはめ込まれている。
【００３５】
この透明ガラス板２９を挟んで中間反射ミラー２７と反対側、即ち、交換室外には、例えば、各々の光軸が近接している発光部と受光部を備えた直線光回帰型光電センサー３０（直線光回帰型レーザーセンサー）が取り付けられている。
【００３６】
前記中間反射ミラー２７と２８は、光電センサー３０の発光部からの光ビームが中間反射ミラー２７のほぼ中央部に入射し、その反射光が第２中間反射ミラー２８のほぼ中央部に入射し、その反射光が反射ミラー支持台２５の中央部に向かうように、それぞれ、反射支持台２５，２６に傾斜を付けて取り付けられている。
【００３７】
この第２中間反射ミラー２８からの反射光が向かってくる反射ミラー支持台２５の中央部には、この反射光が通過可能な孔３１が開けられている。
【００３８】
前記回転軸２３に回転可能に取り付けられた第１アーム２４には、前述したと同様、その先端の回転軸に回転可能に第２アーム３２が取り付けられており、該第２アームの先端にはその先端の回転軸に回転可能に第３アーム、即ち先端アーム３３が取り付けられている。この先端アーム３３の上面にマスクが載せられるのであるが、その上面上には、図３の紙面に垂直な方向に伸びる帯状のマスク載置台３４Ａ，３４Ｂが取り付けられている。
【００３９】
これらマスク載置台３４Ａ，３４Ｂは、図４に示す様に、紙面に平行な上方向から見て正方形状のマスク載置台支持体３５に、それぞれ、マスク載置面が内側に傾くように、支柱３６Ａ，３６Ｂを介して一体化して取り付けられている。
【００４０】
マスク載置台支持体３５の中央には、例えば、スプリングの様な弾性体３７が設けられている。
【００４１】
この様な構造のマスク載置台支持体３５は前記第１アーム２４の上面上に載せられるのであるが、この第１アーム２４のマスク載置台支持体３５の載置部には、マスク載置台支持体３５が上下動出来るように、マスク載置台支持体３５より一回り大きい正方形状の穴３８が、両端部には、前記支柱３６Ａ，３６Ｂを上下方向にガイド出来る孔３９Ａ，３９Ｂが、中央部には、弾性体３７が取り付けられる穴４０が、それぞれ、設けられている。
【００４２】
さて、マスク載置台支持体３５の反射ミラー支持台２５側に、底面に対して直角に折り返した部分を設け、その部分に基板検出用反射ミラー４１を取り付け、マスク載置台３４Ａ，３４Ｂにマスクが載っていない時に、前記反射ミラー台２５の孔３１を通過した光ビームがこの基板検出用反射ミラー４１に当たり、マスクが載ることにより、弾性体３７が縮んでマスク載置台支持体３５が下降し、孔３１を通過した光ビームがこの基板検出用反射ミラー４１に当たらない様に、前記回帰反射型光電センサー３０，中間反射ミラー２７，２８及び反射ミラー台の孔３１が位置調節されて設けられている。
【００４３】
この様な構成の基板搬送機構において、反射ミラー台２５，２６は第１アーム２４に固定されており、第１アーム２４は回転軸２３に固定されているので、回転軸２３の回転と全く同一に第アーム２４、反射ミラー台２５，２６、及び反射ミラー２７，２８は回転する。即ち、回転軸２３の回転により、先端アーム３３が、基板保管容器側に向いていようが、アライメント室側に向いていようが、描画室側に向いていようが、或いはこれらの間の何処に向いていようが、或いは、先端アーム３３が向いている方向にどの程度に伸びていようと、光電センサー３０、中間反射ミラー２７，第２中間反射ミラー２８及び反射ミラー支持台の孔３１間における光の軌跡は変わらない。従って、先端アーム３３が何処に位置しようと、下記の如く、先端アーム上のマスク有無の検査が、常時、可能となる。
【００４４】
今、図４の（ａ）の様に、マスクＭが先端アーム２４の上面に載っていない場合、即ち、マスク載置台支持体３５のマスク載置台３４Ａ，３４ＢがマスクＭを載置していない場合、マスク載置台支持体３５にマスクＭの重量に基づく荷重が掛からないため、弾性体３７は充分伸びたままの状態になっている。
【００４５】
従って、光電センサー３０からの光ビームは中間反射ミラー２７で反射され、この中間反射ミラー２７からの反射光ビームは第２中間反射ミラー２８により反射され、この反射光ビームは反射ミラー支持台２５の孔３１を通過して、マスク載置台支持体３５の側面に取り付けられた基板検出用反射ミラー４１に当たる。
【００４６】
この基板検出用反射ミラー４１に当たって反射した光ビームは、前記光ビームの進路とは全く逆に、反射ミラー支持台２５の孔３１，中間反射ミラー２８，第２中間反射ミラー２７を介して光電センサー３０に受光される。この光電センサー３０の受光信号は制御装置（図示せず）に送られ、ここで、マスクＭが先端アーム２３の上面に載っていないことが検知される。
【００４７】
一方、図４の（ｂ）の様に、マスクＭが先端アーム２４の上面に載っている場合、即ち、マスク載置台支持体３５のマスク載置台３４Ａ，３４ＢがマスクＭを載置している場合、マスク載置台支持体３５にマスクＭの重量に基づく荷重が掛かため、弾性体３７は下方（重力方向）に縮んだ状態となる。そのため、基板検出用反射ミラー４１が取り付けられているマスク載置台支持体３５の側面は反射ミラー支持台２５の孔３１を通過する光ビームの通過線上より下がってしまう。
【００４８】
すると、光電センサー３０からの光ビームは中間反射ミラー２７で反射され、この反射ミラー２７からの反射光ビームは第２中間反射ミラー２８により反射され、この反射光ビームは反射ミラー支持台２５の孔３１を通過して来るが、マスク載置台支持体３５の側面に取り付けられた基板検出用反射ミラー４１に当たらない。
【００４９】
従って、光電センサー３０には光ビームの受光がなく、制御装置（図示せず）では、マスクＭが先端アーム２３の上面に載っていないことが検知される。
【００５０】
前記図３及び図４に示す例は一例に過ぎず、いろいろな変形が可能である。
【００５１】
例えば、前記例では、第１アーム２４の上面、下面それぞれに、各々中間反射ミラー２７，２８を備えた反射ミラー支持台２５，２６を取り付け、光電センサー３０からの光ビームを２つの中間反射ミラー２７，２８及び反射ミラー支持台２５の孔３１を介して先端アーム３３方向に向けるように成したが、図６に示す様に、第１アーム２４の上面だけに中間反射ミラー５０を備えた反射ミラー支持台５１を設け、光電センサー３０からの光ビームを中間反射ミラー５０を介して先端アーム３３方向に向けるようにしても良い。尚、図６中、図３で使用した番号と同一番号の付されたものは同一構成要素を示す。又、中間反射ミラー５０は、その中心が、第１アーム２４の回転軸２３の回転中心と一致するように反射ミラー支持台５１に取り付けられる。
【００５２】
又、図４の例では、マスク載置台支持体３５の側面に基板検出用反射ミラー４１を取り付け、マスクＭを載置していない場合に光電センサー３０からの光ビームがこの基板検出用反射ミラー４１に当たるように成したが、反射ミラー支持台２５に近い方のマスク支持台３４Ｂの側面に基板検出用反射ミラーを取り付け、マスクＭが載置されている場合に光電センサー３０からの光ビームがこの基板検出用反射ミラーに当たるように成しても良い。  
又、前記例では、先端アーム３３の上面にマスク載置台支持体３５を設け、このマスク載置台支持体３５の側面に基板検出用反射ミラー４１を取り付けるように成したが、図５に示す様に、マスク載置台支持体３５等を設けずに、直接、先端アーム３３上にマスク載置台４２Ａ，４２Ｂを設け、更に、先端アーム３３の先端に側壁４３を設け、ここに、反射ミラー支持台２５の孔３１を通過した反射光ビームが当たる位置に基板検出用反射ミラー４４を取り付けても良い。この様な構成にすれば、図５の（ａ）の様に、マスクＭが先端アーム３３の上面に載っていない場合、即ち、マスク載置台４２Ａ，４２ＢがマスクＭを載置していない場合、反射ミラー支持台２５の孔３１を通過した第２中間反射ミラー２８からの反射光ビームは、先端アーム３３の先端の側壁４３に取り付けられた基板検出用反射ミラー４４に当たり、その反射光に基づいて、マスクＭが先端アーム３３の上面に載っていないことが検知される。
【００５３】
一方、図５の（ｂ）の様に、マスクＭが先端アーム３３の上面に載っている場合、即ち、マスク載置台４２Ａ，４２ＢがマスクＭを載置している場合、反射ミラー支持台２５の孔３１を通過した第２中間反射ミラー２８からの反射光ビームは、マスクＭの側面に当たり、先端アーム３３の先端の側壁４３に取り付けられた基板検出用反射ミラー４４に当たらず、マスクＭが先端アーム３３の上面に載っていることが検知される。
【００５４】
尚、上記例においては、反射ミラー支持台２５（５１）を、回転軸２３と光電センサー３０を結ぶ線上に位置する様に、第１アーム２４の上に直接取り付けた。この様に取り付けることが出来るのは、第２アーム３２や先端アーム３３の移動範囲が、反射ミラー支持台２５に衝突しない範囲にあることを前提としている。しかし、第２アーム３２や先端アーム３３の移動範囲が、反射ミラー支持台２５（５０）に衝突する範囲にある場合には、図７に示す様に、反射ミラー支持台を２５´に図示するように、衝突しない範囲外にまで離し、反射ミラー支持台２５´を支持板６０の端部に載せ、該支持板６０の他端部を第１アーム２４の上に取り付ける様にする。この場合、反射支持台２５´に取り付けられる中間反射ミラーは２７´に図示する様に、その一部が、回転軸２３の回転中心軸の延長線上に来るように、支持板６０に平行な帯状に形成する。又、この様な場合には、反射ミラー支持台２５´には光ビームを通過させるための孔は、当然、不要となる。
【００５５】
尚、交換室２０内及び、交換室２０内を中継して、描画室（図示せず）と外部との間等で基板の搬送を行っている基板搬送機構を例に上げて説明したが、他のチャンバー（描画室等）に設けられた基板搬送機構にも、本願発明が応用できることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】マスク描画装置用電子ビーム描画装置の全体を上方から見た構成の概略を示したものである。
【図２】基板搬送機構の一概略例を示したものである。
【図３】本発明の基板搬送機構の一概略例を示したものである。
【図４】本発明の基板搬送機構の主要部の概略例を示したものである。
【図５】本発明の基板搬送機構の主要部の他の概略例を示したものである。
【図６】本発明の基板搬送機構の主要部の他の概略例を示したものである。
【図７】本発明の基板搬送機構の主要部の他の概略例を示したものである。
【符号の説明】
【００５７】
１…描画室
２…ステージ
３…基板保管容器
４…交換室
５…ゲートバルブ
６…ゲートバルブ
７…アライメント室
８…基板搬送機構
９…基板搬送機構
１０…駆動機構本体
１１…制御装置
１２…多段アーム
１３…回転用駆動機構
１４…上下用駆動機構
１５…回転軸
１６…軸
１７…第１アーム
１８…第２アーム
１９…第３アーム
２０…交換室
２１…駆動機構本体
２２…多段アーム
２３…回転軸
２４…第１アーム
２５，２５´…反射ミラー支持台
２６…反射ミラー支持台
２７，２７´…反射ミラー
２８…反射ミラー
２９…透明ガラス板
３０…回帰反射型光電センサー          
３１…孔
３２…第２アーム
３３…第３アーム（先端アーム）
３４Ａ，３４Ｂ…マスク載置台
３５…マスク載置台支持体
３６Ａ，３６Ｂ…支柱
３７…弾性体
３８…穴
３９Ａ，３９Ｂ…孔
４０…穴
４１…反射ミラー
Ｍ…マスク
４２Ａ，４２Ｂ…マスク載置台
４３…側壁
４４…反射ミラー
５０…反射ミラー
５１…反射ミラー支持台
６０…支持板    
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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