(57)【要約】【課題】特に波長４５０ｎｍ以下、好ましくは波長４１０ｎｍ以下のレーザ光によって記録再生が可能であって、かつ優れた記録特性を示す光情報記録媒体を提供する。【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表されるシアニン色素を含有する光情報記録媒体。  一般式（Ｉ）：    【化１】2006240136.tif 000013  式中、Q1、Q2は各々５員又は６員のヘテロ環を完成するに必要な非金属原子群を表し、R1、R2は各々炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基又はアリール基を表し、G1、G5は各々水素原子、炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はアシル基を表し、G2、G3、G4は各々炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アルコキシ基、アラルキル基、アルケニル基又はアリール基を表すが、これらは互いに連結して環を形成することはなく、Xn-は電荷を中和するためのｎ価の陰イオンを表し、Q1、Q2、R1、R2、G1、G2、G3、G4、G5上の置換基となって分子内塩を形成しても良い。ｎは１以上の整数を表す。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録層に下記一般式（Ｉ）で表されるシアニン色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
一般式（Ｉ）：
【化１】
2006240136.tif 000012
式中、Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ独立に５員もしくは６員のヘテロ環を完成するに必要な非金属原子群を表し、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、またはアリール基を表し、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、アラルキル基、またはアルケニル基を表すが、これらは互いに連結して環を形成することはない。Ｇ１〜Ｇ５のうち隣接する２つ以上が水素原子以外の置換基である。Ｘn-は電荷を中和するためのｎ価の陰イオンを表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５上の置換基となって分子内塩を形成しても良い。ｎは１以上の整数を表す。
【請求項２】
記録層上にさらに金属製の反射層及び／又は保護層が設けられている請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光情報記録媒体に波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射して情報を記録する情報記録方法。
【請求項４】
上記一般式（Ｉ）で表されるシアニン色素が有機溶剤に溶解していることを特徴とするシアニン色素組成物。
【請求項５】
請求項４において、有機溶剤が２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸メチル、または乳酸エチルのうち少なくとも１種を含有するシアニン色素組成物。
【請求項６】
請求項４ないし５に記載の組成物を、金属製の光反射層を設けた基盤上に塗布することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ光を用いて情報の記録と再生が可能な光情報記録媒体および情報記録方法に関するものである。特に本発明は、波長４５０ｎｍ以下の短波長レーザ光を用いて情報を記録するのに適したヒートモード型の光情報記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザ光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（ＣＤ−Ｒ）とも呼ばれ、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザ光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性が変わることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
近年、記録密度が増加した光情報記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（ＤＶＤ−Ｒ）と呼ばれる光ディスクが実用に供されている。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッキングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒに比べて半分以下（０．７４〜０．８μｍ）と狭い条件で形成された透明な円盤状基板上に、色素記録層、そして通常は該記録層の上に光反射層、そして更に必要により保護層を設けたディスクを二枚、あるいは該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを該記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤ−Ｒへの情報の記録再生は、可視レーザ光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザ光）を照射することにより行なわれ、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。
【０００４】
最近、インターネット等の画像情報の通信を含むネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も予定されており、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。ＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位をある程度までは確保されるものの、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量を有しているとは言えない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長のレーザ光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクも開発されている。
【０００５】
例えば、高密度記録に適した高NAのレンズを通した光による記録を前提とする、基盤上に金属反射層、記録層、基盤よりも薄いカバー層、をこの順で設けた記録媒体が開示されており、また記録層側から光反射層側に向けて波長４５０ｎｍ以下の短波長側のレーザ光を照射することによって、情報の記録再生を行なう記録再生方法が開示されている。そして、そのような短波のレーザ光を利用する情報記録媒体の記録層形成色素として、ポルフィリン化合物、アゾ色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、そしてクマリン化合物等が提案されている（例、特開平４−７４６９０号広報、同７−３０４２５６号広報、同７−３０４２５７号広報、８−１２７１７０５号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、同２０００−１４９３２０号公報、同２０００−１５８８１８号広報、同２０００−２２８０２８号広報、及び同２００１−１４６０７４号広報など）。これら以外の化合物であっても記録に用いるレーザー光を吸収し得る化合物であれば原理的には記録層用色素として用いることができることは当業者にとって容易に想起し得ることである。そして、記録再生用のレーザ光としては、青紫色（波長４０５nmあるいは４１０nm）が用いられる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者の検討では、上記公報に記載の色素を用いた光ディスクは、感度、そして反射率や変調度などの実用上において必要な記録特性においては、なお充分でないことから、更に改良を要することが判明した。特に基板上にグルーブ幅とトラックピッチの狭いレリーフ構造を持つ金属反射層と有機化合物からなる記録層をこの順で担持したディスク構成の場合、読み取りの対象となる記録ビットに隣接トラックや記録ビットからの光学的な干渉が起こりやすく、ノイズやジッタが上昇して良好な信号再生ができなくなる可能性があった。このような好ましくない傾向は特に記録再生に用いる光の波長が短くなるほど顕著になる。
【０００７】
本発明の課題は、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒで用いるレーザ光よりも更に短波長のレーザ光、特に波長４５０ｎｍ以下、とりわけ記録密度の増大のために重要な波長４１０ｎｍ以下のレーザ光によって記録再生が可能であって、かつ優れた記録特性を示す光情報記録媒体を提供することである。特にグルーブ幅とトラックピッチの狭いレリーフ構造を持つ金属反射層の表面に主に有機化合物からなる記録層を設置した光情報記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の課題は以下の手段によって解決された。
［１］記録層に下記一般式（Ｉ）で表されるシアニン色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
一般式（Ｉ）：
【０００９】
【化１】
2006240136.tif 000002
【００１０】
式中、Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ独立に５員もしくは６員のヘテロ環を完成するに必要な非金属原子群を表し、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、またはアリール基を表し、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、アラルキル基、またはアルケニル基を表すが、これらは互いに連結して環を形成することはない。Ｇ１〜Ｇ５のうち隣接する２つ以上が水素原子以外の置換基である。Ｘn-は電荷を中和するためのｎ価の陰イオンを表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５上の置換基となって分子内塩を形成しても良い。ｎは１以上の整数を表す。上記式中、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４のうち隣接する２つが水素原子以外の置換基である場合が好ましい。
［２］記録層上にさらに金属からなる反射層及び／又は保護層が設けられている請求項１記載の光情報記録媒体。
［３］上記［１］または［２］の光情報記録媒体に波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射して情報を記録する情報記録方法。
［４］上記一般式（Ｉ）で表されるシアニン色素が有機溶剤に溶解していることを特徴とするシアニン色素組成物。
［５］  ［４］において、有機溶剤が２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸メチル、または乳酸エチルのうち少なくとも１種を含有するシアニン色素組成物。
［６］  ［４］ないし［５］に記載の組成物を、金属製の光反射層を設けた基盤上に塗布することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【００１１】
光ディスクの記録信号は、記録部と非記録部の光学的性質の違いが大きいほど検出しやすくなるが、その光学的変化は記録層を構成する色素の分解に伴う光学的性質の変化の大小に依存する。従来４５０nm以下の波長の記録再生光を用いる場合には、この付近の波長域に吸収帯を有するモノメチンシアニンやトリメチンシアニンを用いることが提案されているが、色素の分解に伴う光学的性質の変化はより長い共役系を有するペンタメチンシアニン色素の方が著しいはずである。しかしペンタメチンシアニンの吸収帯は長波長すぎるので不適当であった。本発明者は鋭意検討の結果、ペンタメチンシアニンであってもモノメチンシアニンやトリメチンシアニンに匹敵する短波長域に吸収帯を有する色素を見出し、本発明をなすに至った。即ち、本発明においては、上記特定の化合物はＧ１〜Ｇ５のうち隣接する２つ以上が水素原子以外の置換基であることから、メチン鎖のねじれが大きくなり、メチン鎖の長さが変化することで光記録媒体用（特に４５０ｎｍ以下）として、好ましいものとなったと推察される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の色素化合物を用いることにより、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒの場合よりも短波長のレーザーを用いて良好な記録特性が得られることから、高密度の情報記録媒体および記録再生法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物について詳しく説明する。
【００１４】
本発明の色素化合物を用いることにより、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒの場合よりも短波長のレーザーを用いて良好な記録特性が得られることから、高密度の情報記録媒体および記録再生法を提供することができる。
一般式（Ｉ）式中、Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ独立に５員もしくは６員のヘテロ環を完成するに必要な非金属原子群を表し、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基を表し、Ｇ１、Ｇ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、またはアシル基を表し、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４はそれぞれ独立に、炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アルコキシ基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基を表すが、これらは互いに連結して環を形成することはなく、Ｘn-は電荷を中和するためのｎ価の陰イオンを表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５上の置換基となって分子内塩を形成しても良い。ｎは１以上の整数を表す。一般式（Ｉ）において、Ｇ２、Ｇ３がアルキル基で、Ｇ４がアルコキシ基である場合が好ましい。
Ｒ１、Ｒ２、Ｇ１ないしＧ５はさらに置換基を有していても良い。
【００１５】
一般式（Ｉ）で表される化合物のうち好ましいものは、下記一般式（II）で表される化合物である。
一般式（II）
【００１６】
【化２】
2006240136.tif 000003
【００１７】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、ｎは一般式（Ｉ）における定義と同じであり、Ｚ１、Ｚ２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、ＣＶ１Ｖ２（Ｖ１、Ｖ２は炭素原子数１ないし６のアルキル基を表す）、ＮＶ３（Ｖ３は炭素原子数１ないし６のアルキル基またはアリール基を表す）を表し、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１ないし８の、アルキル基、アラルキル基、アリール基、またはアルケニル基を表し、Ｔ１とＴ２、Ｔ３とＴ４はそれぞれ互いに連結して環を形成しても良い。Ｘn-は電荷を中和するためのｎ価の陰イオンを表す。
【００１８】
Ｒ１、Ｒ２で表される基として特に好ましいものは炭素原子数１ないし４の、無置換アルキル基またはフッ素原子もしくはアルコキシ基で置換されたアルキル基である。Ｇ２として特に好ましいものはメチル基、エチル基、プロピル基、またはベンジル基であり、Ｇ３として特に好ましいものはメチル基、エチル基、またはフェニル基である。Ｇ４として特に好ましいものはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、またはベンジルオキシ基である。Ｖ１、Ｖ２として特に好ましいものはメチル基である。Ｖ３として特に好ましいものはメチル基、エチル基、２−メトキシエチル基、または２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基である。Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４として特に好ましいものは、水素原子、メチル基、エチル基、またはフェニル基である。Ｔ１とＴ２、Ｔ３とＴ４がそれぞれ互いに連結して形成される環として好ましいものは、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、またはベンゼン環であり、それぞれの環はさらに置換基を有していてもよく、好ましい置換基としては、炭素原子数１ないし６のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アシル基、フッ素原子、または塩素原子が挙げられる。Ｘで表される陰イオンとして好ましいものはメタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、パラトルエンスルホン酸イオン、パラクロロベンゼンスルホン酸イオン、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、１−ヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオン、２，７−ジヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオンなどのスルホン酸イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、過塩素酸イオンなどが挙げられるが、特に粉ましくは、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、パラトルエンスルホン酸イオン、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、１−ヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオン、２，７−ジヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオンである。
【００１９】
以下に、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明の範囲はこれらのみに限定されるものではない。
【００２０】
【化３】
2006240136.tif 000004
【００２１】
【化４】
2006240136.tif 000005
【００２２】
【化５】
2006240136.tif 000006
【００２３】
【化６】
2006240136.tif 000007
【００２４】
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法について説明する。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（III）で表される化合物と過剰量の下記一般式（IV)で表されるオルトエステルとを塩基の存在しない溶液中で加熱することにより得られる。陰イオンＸは一般式（ＩＩＩ）で表される化合物に含まれるＸと同一であっても良いが、一般式（Ｉ）で表される化合物の合成後に他の陰イオンに交換しても良い。
一般式（III）：
【００２５】
【化７】
2006240136.tif 000008
【００２６】
式中、Ｑ１、Ｑ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｇ１、Ｇ５、Ｘ、およびｎは一般式（Ｉ）における定義と同義である。
【００２７】
一般式（IV）：
Ｒ3−Ｃ（ＯＲ4）3
式中、Ｒ３は炭素原子数２ないし８の、アルキル基、アラルキル基、またはアルケニル基を表し、Ｒ４は炭素原子数１ないし８のアルキル基またはアラルキル基を表す。
【００２８】
この合成反応に用いる溶媒およびその量は、反応中に一般式（III）、一般式（IV）で表される化合物、あるいは反応の途中で生成する化合物が析出しないように選択することが好ましい。溶媒として好ましいものの例としては、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホランなどが挙げられる。溶媒の量あるいは反応溶液中の溶質濃度は、反応中に析出しないように選択すべきであるが、当業者なら小数回の予備実験を行うことにより、溶質にあわせてその選択を容易に行うことができる。
【００２９】
次に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の合成法について、具体例を挙げて説明する。
合成例：化合物Ｓ−５の合成
【００３０】
【化８】
2006240136.tif 000009
【００３１】
上記ベンゾオキサゾール４級塩１  ２９．４３ｇ（８０ｍｍｏｌ）をアセトニトリル８０ｍｌに溶かした溶液にオルトプロピオン酸トリエチル５６．４０ｇ（３２０ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下で１時間加熱還流した。放冷後、溶媒を減圧留去し、得られた混合物に酢酸エチル１０ｍｌ、ヘキサン５０ｍｌを加えて上澄みを除く操作を３回繰り返した。これに酢酸エチル１０ｍｌを加え得られた結晶をろ別して乾燥し、黄色結晶として１３．９５ｇ（２０．３ｍｍｏｌ、５０．８％）の本発明のペンタメチンシアニンＳ−５を得た。
融点：193-196 ℃（分解）.
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) d 1.03 (t, J = 7 Hz, 3H), 1.15 (t,  J = 7 Hz, 3H), 1.25 (t, J = 7 Hz, 3H), 1.45 (t, J = 7 Hz, 3H), 2.09-2.21 (m, 1H), 2.16 (s, 3H), 2.29 (s, 3H), 2.54-2.63 (m, 1H), 3.41-3.50 (m,1H), 3.74-3.83 (m, 1H), 4.20-4.36 (m, 3H), 4.67-4.76 (m, 1H), 6.21 (d, J = 10 Hz, 1H), 6.62-6.64 (m, 2H), 6.89 (s, 1H), 7.11 (d, J = 8 Hz, 2H),7.47 (d, J=8 Hz, 2H), 7.81 (dd, J = 9, 2 Hz, 1H), 7.89 (d, J = 9 Hz, 1H), 8.53 (d, J = 2 Hz, 1H), 9.89 (s, 1H).
13C NMR (100 MHz, DMSO-d6) d 9.3, 11.3, 12.1, 13.2, 13.4, 19. 5, 23.0, 42.9, 44.6, 62.8, 99.7, 100.1, 112.9, 114.6, 115.9, 116.7, 121.2, 124.3, 124.4, 125.6, 126.8, 128.3, 128.7, 131.6, 133.9, 136.5, 143.8, 144.2, 146.0, 147.9, 150.0, 160.8, 164.2.
MALDI-TOFMS (pos) m/z 513 ([2 - OTs-]+).
UV (MeOH) lmax 400, 271 nm.
【００３２】
次に、本発明の光情報記録媒体のその他の構成要素について説明する。
本発明の光情報記録媒体は、態様［１］：厚さ０．７〜２ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．０１〜０．５ｍｍのカバー層と、をこの順に有する光情報記録媒体または態様［２］：厚さ０．１〜１．０ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．１〜１．０ｍｍの保護基板と、をこの順に有する光情報記録媒体であることが好ましい。態様［１］においては前記基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチが５０〜５００ｎｍ、溝幅が２５〜２５０ｎｍ、溝深さが５〜１５０ｎｍであることが好ましく、態様［２］においては前記基板に形成されるのプリグルーブのトラックピッチが２００〜６００ｎｍ、溝幅が５０〜３００ｎｍ、溝深さが３０〜２００ｎｍであり、ウォブル振幅が１０〜５０ｎｍであることが好ましい。
態様［１］の光情報記録媒体は、少なくとも、基板と、追記型記録層と、カバー層を有する態様であり、まずこれらに必須の部材について順に説明する。
【００３３】
〔態様［１］の基板〕
好ましい態様［１］の基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されていることが必須である。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【００３４】
プリグルーブのトラックピッチは、５０〜５００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が４２０ｎｍ以下であることが好ましく、３７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以上であることがより好ましく、２６０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
トラックピッチが５０ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、５００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【００３５】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２５〜２５０ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２００ｎｍ以下であることが好ましく、１７０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝幅が２５ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、２５０ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【００３６】
プリグルーブの溝深さは、５〜１５０ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２８ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝深さが５ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、１５０ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【００３７】
また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることが更に好ましく、５０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝傾斜角度が２０°未満では、十分なトラッキングエラー信号振幅が得られないことがあり、８０°を超えると、成型が困難となる。
【００３８】
本発明において用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であることを要し、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
【００３９】
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００４０】
〔態様［１］の追記型記録層〕
好ましい態様［１］の追記型記録層は、色素を、必要に応じて結合剤等と共に、適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板上又は後述する光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。ここで、追記型記録層は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行われることになる。
塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００４１】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、結合剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００４２】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は２０〜５０℃の範囲であることが好ましく、２３〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３〜３７℃の範囲であることが特に好ましい。
【００４３】
このようにして形成された追記型記録層の厚さは、グルーブ（前記基板において凸部）上で、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることが更に好ましく、１８０ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限値としては３０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、７０ｎｍ以上であることが更に好ましく、９０ｎｍ以上であることが特に好ましい。
また、追記型記録層の厚さは、ランド上（前記基板において凹部）で、４００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限値としては、７０ｎｍ以上であることが好ましく、９０ｎｍ以上であることがより好ましく、１１０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
更に、グルーブ上の追記型記録層の厚さ／ランド上の追記型記録層の厚さの比は、０．４以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましく、０．６以上であることが更に好ましく、０．７以上であることが特に好ましい。上限値としては、１未満であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることが更に好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【００４４】
塗布液が結合剤を含有する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。追記型記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。
【００４５】
また、追記型記録層には、該追記型記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
一重項酸素クエンチャー以外の光褪色防止剤の例は、特開平10-235999号広報、Japanese Journal of Applied Physics 誌、３８巻、Part 1、1634-1637ページ（1999年発行）などに記載されている。
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００４６】
〔態様［１］のカバー層〕
好ましい態様［１］のカバー層は、上述した追記型記録層又は後述するバリア層上に、接着剤や粘着材を介して貼り合わされる。
本発明において用いられるカバー層としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
【００４７】
また、カバー層は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤及び／又は５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバー層の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４８】
カバー層の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長やＮＡにより、適宜、規定されるが、本発明においては、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内であり、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
また、カバー層と、接着剤又は粘着剤からなる層と、を合わせた総厚は、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。
なお、カバー層の光入射面には、光情報記録媒体の製造時に、光入射面が傷つくことを防止するための保護層（ハードコート層）が設けられていてもよい。
【００４９】
カバー層を貼り合せるために用いられる接着剤は、例えばＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。
接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、若しくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層表面に供給してもよい。また、作製される光情報記録媒体の反りを防止するため、接着層を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。
【００５０】
接着剤は、例えば、バリア層からなる被貼り合わせ面上に、所定量塗布し、その上に、カバー層を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。
このような接着剤からなる接着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【００５１】
また、カバー層を貼り合せるために用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。
【００５２】
上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。
【００５３】
粘着剤は、バリア層からなる被貼り合わせ面上に、所定量、均一に塗布し、その上に、カバー層を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層の片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。
また、カバー層に、予め、粘着剤層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。  このような粘着剤からなる粘着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【００５４】
〔態様［１］におけるその他の層〕
好ましい態様［１］の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層としては、例えば、基板の裏面（追記型記録層形成面側に対する裏面）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、基板と追記型記録層との間に設けられる光反射層（後述）、追記型記録層とカバー層との間に設けられるバリア層（後述）、該光反射層と追記型記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。ここで、かかるレーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂などを用いて形成される。
なお、これら必須及び任意の層は、いずれも単層でもよいし、多層構造を有してもよい。
【００５５】
〔態様［１］における光反射層〕
好ましい態様［１］の光情報記録媒体において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、基板と追記型記録層との間に、光反射層を形成することが好ましい。
光反射層は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【００５６】
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼（以上、金属製のもの）を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
【００５７】
〔態様［１］におけるバリア層（中間層）の形成工程〕
好ましい態様［１］の光情報記録媒体においては、追記型記録層とカバー層との間にバリア層を形成することが好ましい。
該バリア層は、追記型記録層の保存性を高める、追記型記録層とカバー層との接着性を向上させる、反射率を調整する、熱伝導率を調整する、等のために設けられる。
バリア層に用いられる材料としては、記録及び再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に、制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。
具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ＺｎＳ、ＭｏＯ2、ＧｅＯ2、ＴｅＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｕＯ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3が好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3がより好ましい。
【００５８】
また、バリア層は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましく、ＲＦスパッタリングを用いることが更に好ましい。
本発明におけるバリア層の厚さは、１〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、２〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、３〜５０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【００５９】
次に好ましい態様［２］の光情報記録媒体について説明する。
ここで、態様［２］の光情報記録媒体は、貼り合わせ型の層構成を有する光情報記録媒体であり、その代表的な層構成としては、下記の通りである。
（１）第１の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設ける構成である。
（２）第２の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設ける構成である。
（３）第３の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板を設ける構成である。
（４）第４の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設ける構成である。
（５）第５の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設ける構成である。
なお、上記（１）〜（５）の層構成は単なる例示であり、当該層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもかまわない。また、追記型記録層は、保護基板側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光情報記録媒体となる。更に、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。
本発明の光情報記録媒体として、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、保護基板をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその説明をする。
【００６０】
〔態様［２］の基板〕
好ましい態様［２］における基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されていることが必須である。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【００６１】
プリグルーブのトラックピッチは、２００〜６００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が５００ｎｍ以下であることが好ましく、４５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、３００ｎｍ以上であることが好ましく、３３０ｎｍ以上であることがより好ましく、３７０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
トラックピッチが２００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、６００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【００６２】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、５０〜３００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１８０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１２０ｎｍ以上であることがより好ましく、１４０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝幅が５０ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、３００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【００６３】
プリグルーブの溝深さは、３０〜２００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１７０ｎｍ以下であることが好ましく、１４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、６０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝深さが３０ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、２００ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【００６４】
好ましい態様［２］において用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができ、具体例及び好ましい例は態様［１］の基板と同様である。
また、基板の厚さは、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【００６５】
なお、後述する追記型記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましく、該下塗層の材料、塗布法及び層厚の具体例及び好ましい例は態様［１］の下塗層と同様である。
【００６６】
〔態様［２］の追記型記録層〕
好ましい態様［２］の追記型記録層に関する詳細な説明は、態様［１］の追記型記録層に関するものと同様である。
【００６７】
〔態様［２］の光反射層〕
好ましい態様［２］において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、追記型記録層上に光反射層を形成することがある。態様［２］の光反射層に関する詳細は態様［１］の光反射層と同様である。
【００６８】
〔態様［２］の接着層〕
好ましい態様［２］における接着層は、上記光反射層と、保護基板との密着性を向上させるために形成される任意の層である。
接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【００６９】
〔態様［２］の保護基板〕
好ましい態様［２］における保護基板（ダミー基板）は、上述した基板と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板の厚さとしては、厚さ０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【００７０】
〔態様［２］の保護層〕
好ましい態様［２］の光情報記録媒体は、その層構成によっては、光反射層や追記型記録層などを物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられることある。
保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
【００７１】
また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
【００７２】
〔態様［２］のその他の層〕
好ましい態様［２］の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層の詳細な説明は態様［１］のその他の層と同様である。
【００７３】
＜光情報記録方法＞
本発明の光情報記録方法は、好ましい態様［１］または［２］の光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。まず光情報記録媒体を定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）または定角速度にて回転させながら、基板側あるいは保護層側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。本発明においては、記録光として３９０〜４５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が用いられる。好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に記録密度の点で３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光を基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００７４】
［実施例］
以下本発明の実施例を示す。
【実施例１】
【００７５】
［本発明１〜３］
＜光情報記録媒体の製造＞
（基板の作製）
厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：３２０ｎｍ、溝幅：オングルーブ幅１２０ｎｍ、溝深さ：３５ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行なわれた。
【００７６】
（光反射層の形成）
基板上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍの真空成膜層としてのＡＰＣ光反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１．０質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
【００７７】
（追記型記録層の形成）
表１に示す本発明の化合物各２ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、それぞれの色素含有塗布液を調製した。そして、光反射層上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、追記型記録層（グルーブ上の厚さ１２０ｎｍ、ランド上の厚さ１７０ｎｍ）を形成した。
【００７８】
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【００７９】
（バリア層の形成）
その後、追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＲＦスパッタリングによりＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3（ＺｎＯ：Ｇａ2Ｏ3＝７：３（質量比））からなる、厚さ５ｎｍのバリア層を形成した。
【００８０】
（カバー層の貼り合わせ）
カバー層としては、内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍで、片面に粘着剤が塗設してあるポリカーボネート製フィルム（帝人ピュアエース、厚さ：８０μｍ）を用い、該粘着剤層とポリカーボネート製フィルムとの厚さの合計が１００μｍとなるように設定した。
そして、バリア層上に、該バリア層と粘着剤層とが当接するようにカバー層を載置した後、そのカバー層を押し当て部材にて圧接して、貼り合わせた。
【００８１】
（比較例１〜３）
本発明の化合物の代わりに下記に示す比較化合物（Ａ）（Ｂ）、（Ｃ）を用いた以外は、本発明１〜３と全く同様な方法でディスクを作成した。
【００８２】
【化９】
2006240136.tif 000010
【００８３】
これにより、本発明１〜３、比較例１〜３の光情報記録媒体が作製された。
【００８４】
＜光情報記録媒体の評価＞
Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）評価
作製した光情報記録媒体を、４０３ｎｍレーザ、ＮＡ０．８５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６６ＭＨｚ、線速５．２８ｍ／ｓにて、０．１６μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生しスペクトルアナライザー（パルステックＭＳＧ２）にて（記録後の）Ｃ／Ｎを測定した。なお、本評価は、本発明の光情報記録方法を用いたものであり、記録はグルーブ上に行った。また、記録パワー５．２ｍＷ、再生パワー０．３ｍＷであった。結果を表１に示す。ここで、（記録後の）Ｃ／Ｎが２５ｄＢ以上であると、再生信号強度が十分であり、実用上好ましいことを指す。
【実施例２】
【００８５】
［本発明４〜６］
＜光情報記録媒体の製造＞
（基板の作製）
厚さ０．６ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：４００ｎｍ、溝幅：１７０ｎｍ、溝深さ：１００ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行なわれた。
【００８６】
（追記型記録層の形成）
表１に示す本発明の化合物各２ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、それぞれの色素含有塗布液を調製した。そして、基板上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、追記型記録層（グルーブ上の厚さ１７０ｎｍ、ランド上の厚さ１２０ｎｍ）を形成した。
【００８７】
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【００８８】
（光反射層の形成）
追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍの真空成膜層としてのＡＰＣ光反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１．０質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
【００８９】
（保護基板の貼り合わせ）
光反射層上に、スピンコートにより、紫外線硬化樹脂（ＳＤ６６１、大日本インキ製）を塗布し、ポリカーボネート製の保護基板（プリグルーブを形成していない以外は上記基板と同様のもの）を貼り合わせ、紫外線を照射して、硬化させた。
作製した光情報記録媒体における紫外線硬化樹脂からなる接着層の厚さは、２５μｍであった。
（比較例４〜６）
表１に示す本発明の化合物の代わりに前記比較化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を用いた以外は、本発明４〜６と全く同様な方法でディスクを作成した。
【００９０】
これにより、本発明４〜６、比較例４〜６の光情報記録媒体が作製された。
【００９１】
＜光情報記録媒体の評価＞
（１）Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）評価
作製した光情報記録媒体を、４０５ｎｍレーザ、ＮＡ０．６５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６４．８ＭＨｚ、線速６．６ｍ／ｓにて、０．２μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生しスペクトルアナライザー（パルステックＭＳＧ２）にて（記録後の）Ｃ／Ｎを測定した。なお、本評価は、本発明の光情報記録方法を用いたものであり、記録はグルーブ上に行った。また、記録パワー１２ｍＷ、再生パワー０．５ｍＷであった。結果を表１に示す。ここで、（記録後の）Ｃ／Ｎが２５ｄＢ以上であると、再生信号強度が十分であり、記録特性が好ましいことを指す。また温度60℃、湿度80%の環境下で２４時間保存した後のＣ／Ｎが２５ｄＢ以上であると、保存性が十分であり、実用上好ましいことを指す。
【００９２】
【表１】
2006240136.tif 000011
【００９３】
上記表１の結果から、本発明の化合物を含有する記録層からなる記録媒体１〜６は、比較例１〜６に比べて高い再生信号強度が得られることがわかる。