(57)【要約】【課題】  複雑な基板の変形に応じて、正確に描画データを補正可能な描画装置を提供する。【解決手段】  パターンを描画する基板が複雑に変形して第２変形基板４６が生じると、本来正方形であるべきパターンの描画領域は、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4を結んだ四角形である第２変形描画領域４７となる。そこで描画すべきパターンの位置と形状を示す描画データに、スケーリング補正と軸傾き補正を施し、平行四辺形の第１変形描画領域４３に対応したデータを生成する。さらに、２次元の座標系のある点を、そのＸ座標、もしくはＹ座標の座標値に、他方の座標値に比例した値を加えた新たな点に変換するグラデュアル・スケーリングによって、第２変形描画領域４７に対応した補正描画データを生成する。描画装置は、補正描画データに基づいて、第２変形描画領域４７内にパターンを描画する。【選択図】        図４
2006301155.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記被描画体に描画するパターンを示す描画データを処理するデータ処理装置であって、
実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形の隣接する二辺を有し、前記四角形よりも本来の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い平行四辺形が、前記パターンが描画される前記描画領域の輪郭となるように、前記描画データを補正して補正描画データとする第１の描画データ補正手段を備えることを特徴とするデータ処理装置。
【請求項２】
前記第１の描画データ補正手段が、前記描画領域の頂点を示すために前記被描画体に設けられた４つのマークの本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記描画データを補正することを特徴とする請求項１に記載のデータ処理装置。
【請求項３】
前記平行四辺形の辺の一部を有し、前記平行四辺形よりも本来の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い長方形が、前記パターンが描画される前記描画領域の輪郭となるように、前記描画データを補正する第２の描画データ補正手段をさらに有することを特徴とする請求項１に記載のデータ処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載のデータ処理装置と、
前記補正描画データに基づいて、前記パターンを描画する描画手段とを備えることを特徴とする描画装置。
【請求項５】
前記第１の描画データ補正手段が、前記描画領域の頂点を示すために前記被描画体に設けられた４つのマークの本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記描画データを補正することを特徴とする請求項４に記載の描画装置。
【請求項６】
前記マークの実際の位置を検出するマーク位置検出手段をさらに有することを特徴とする請求項５に記載の描画装置。
【請求項７】
前記マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成するマーク位置データ生成手段をさらに有し、
前記第１の描画データ補正手段が、前記マーク位置データに基づいて前記描画データを補正することを特徴とする請求項６に記載の描画装置。
【請求項８】
前記マーク位置データ生成手段が、前記マーク位置検出手段の座標系における前記マークの実際の位置に基づいて、前記描画手段の描画座標系における前記マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成することを特徴とする請求項７に記載の描画装置。
【請求項９】
被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記被描画体に描画するパターンを示す描画データを補正するデータ補正方法であって、
実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形の隣接する二辺を有し、前記四角形よりも本来の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い平行四辺形を、前記パターンが描画される前記描画領域の輪郭とするように、前記描画データを補正することを特徴とするデータ補正方法。
【請求項１０】
被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記被描画体に描画するパターンを示す描画データを補正するプログラムであって、
実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形の隣接する二辺を有し、前記四角形よりも本来の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い平行四辺形を、前記パターンが描画される前記描画領域の輪郭とするように、前記描画データを補正するデータ補正工程を備えることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画するパターンを示す描画データを補正する機能を備えた描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
回路パターンは、プリント基板上の予め定められた位置に描画される必要があるが、基板には熱処理などにより微細な変形が生じることがあり、パターンの描画位置が本来の位置からずれる場合がある。そこで一般に、基板上の四隅といった所定の位置に予め位置決めマークを設け、基板の変形による位置決めマークの位置ずれを測定し、このずれに基づいて描画データが補正される。
【０００３】
基板の変形に応じた描画データの補正においては、通常、本来の回路パターンを拡大、もしくは縮小させたり、基板に対する描画位置の回転、平行移動等の処理が施される（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−５０４６９号公報（段落［００９１］〜［００９３］参照）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基板の変形が複雑であって、基板上の位置決めマークのずれに基づく描画データの拡大、縮小（スケーリング補正）、描画位置の回転、平行移動等によっては描画データが正確に補正されない場合がある。
【０００５】
そこで本発明は、複雑な基板の変形に応じて正確に描画データを補正可能な描画装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のデータ処理装置は、被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、被描画体に描画するパターンを示す描画データを処理する。そしてデータ処理装置は、実際の位置における描画領域の輪郭を示す四角形の隣接する二辺を有し、その四角形よりも本来の位置における描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い平行四辺形が、パターンが描画される描画領域の輪郭となるように、描画データを補正して補正描画データとする第１の描画データ補正手段を備えることを特徴とする。
【０００７】
第１の描画データ補正手段は、描画領域の頂点を示すために被描画体に設けられた４つのマークの本来の位置と実際の位置とに基づいて、描画データを補正することが好ましい。また、データ処理装置は、平行四辺形の辺の一部を有し、その平行四辺形よりも本来の位置における描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い長方形が、パターンが描画される描画領域の輪郭となるように、描画データを補正する第２の描画データ補正手段をさらに有することが好ましい。
【０００８】
本発明の描画装置は、データ処理装置と、補正描画データに基づいてパターンを描画する描画手段とを備えることを特徴とする。描画装置における第１の描画データ補正手段は、描画領域の頂点を示すために被描画体に設けられた４つのマークの本来の位置と実際の位置とに基づいて、描画データを補正することが好ましい。また描画装置は、マークの実際の位置を検出するマーク位置検出手段をさらに有することがより好ましい。
【０００９】
そして描画装置は、マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成するマーク位置データ生成手段をさらに有し、第１の描画データ補正手段が、マーク位置データに基づいて描画データを補正することがより好ましい。またマーク位置データ生成手段は、マーク位置検出手段の座標系におけるマークの実際の位置に基づいて、描画手段の描画座標系におけるマークの実際の位置を示すマーク位置データを生成することが好ましい。
【００１０】
本発明のデータ補正方法は、被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、被描画体に描画するパターンを示す描画データを補正するデータ補正方法である。そしてデータ補正方法は、実際の位置における描画領域の輪郭を示す四角形の隣接する二辺を有し、その四角形よりも本来の位置における描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い平行四辺形を、パターンが描画される描画領域の輪郭とするように、描画データを補正することを特徴とする。
【００１１】
本発明のプログラムは、被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、被描画体に描画するパターンを示す描画データを補正するためのプログラムである。そしてプログラムは、実際の位置における描画領域の輪郭を示す四角形の隣接する二辺を有し、その四角形よりも本来の位置における描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い平行四辺形を、パターンが描画される描画領域の輪郭とするように、描画データを補正するデータ補正工程を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、複雑な基板の変形に応じて正確に描画データを補正可能な描画装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。図１は、本実施形態の描画装置を概略的に示す斜視図である。図２は、描画装置の外観を示す斜視図である。
【００１４】
描画装置２０は、感光性を有する基板４０に、レーザビームによって回路パターンを直接描画するレーザ描画装置２１を含む。レーザ描画装置２１は、光学ユニット２２と、基板４０が載置される描画テーブル２４とを有する。描画装置２０には、基板４０を描画テーブル２４上に搬入するための搬入用ベルト６２と、描画が終了した基板４０を次の処理装置（図示せず）に送り出すための送出用ベルト６４とを有する運搬装置６０が設けられている。
【００１５】
光学ユニット２２は、レーザ光源と光学系（図示せず）とを備え、描画テーブル２４上の基板４０に向かってレーザビームを主走査方向に沿って照射する。以下では、光学ユニット２２の主走査方向をＹ軸方向、副走査方向をＸ軸方向とし、描画テーブル２４上の所定の位置を原点とする２次元の描画座標系を規定する。
【００１６】
描画装置２０は、レーザ描画装置２１、描画テーブル２４等の動作全般を制御する制御装置５０を含む。制御装置５０は、ＲＯＭやＲＡＭ等のメモリ（図示せず）を備えたマイクロコンピュータであり、ＣＡＤシステム５２に接続されている。ＣＡＤシステム５２により作成された回路パターンの位置、形状を示すデータである描画データは、制御装置５０に送られ、制御装置５０のメモリに格納された後に、所定の処理を施されて光学ユニット２２に送られる。
【００１７】
基板４０の表面には、回路パターンが描画される領域（描画領域）の輪郭を定めるための第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4が設けられている。ここでは、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4によって囲まれる描画領域は正方形である。描画データには、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の基板４０における本来の位置、すなわち、基板４０に全く変形が生じなかった場合の位置を示すデータが含まれている。制御装置５０は、後述するように、描画データが示す第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の本来の位置と、微細な変形が生じた基板４０における第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の実施の位置とに基づいて、回路パターンの位置、形状を修正すべく、描画データを補正する。
【００１８】
描画テーブル２４は、基板４０を置くときの位置である準備位置（実線で示す）と、光学ユニット２２による描画のための描画位置（破線で示す）との間で、制御装置５０に制御されたモータ（図示せず）によってＸ軸方向に移動可能である。基板４０が、準備位置にある描画テーブル２４上に置かれると、描画テーブル２４は描画位置まで移動する。そして、基板４０は、描画テーブル２４上で描画位置から準備位置に向かってＸ軸の負の方向に微少量ずつ移動しながら、光学ユニット２２によって描画される。このとき基板４０に照射されるレーザビームは、Ｙ軸方向に走査されるように光学ユニット２２によって変調され、回路パターンが順次描画される。
【００１９】
描画装置２０には、光学ユニット２２を収容するハウジング１８が設けられている（図２参照）。ハウジング１８の側面１８ａには開口３０が形成され、この開口３０を通って描画テーブル２４がハウジング１８内を進退する。側面１８ａにはＹ軸に沿って延びる第１および第２レール３６、３８が設けられており、第１および第２レール３６、３８には、それぞれ第１および第２ＣＣＤカメラ３２、３４が取付けられている。第１および第２ＣＣＤカメラ３２、３４は、制御装置５０の指示に基づいて駆動するリニアモータ（図示せず）によって第１および第２レール３６、３８上を移動させられ、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の実際の位置を検出するために、描画に先立ってこれらを撮影する。
【００２０】
第１および第２ＣＣＤカメラ３２、３４により検出された第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の位置情報は、制御装置５０に送られる。制御装置５０は、後述するように、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の位置情報から、描画座標系における第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の位置を示すマーク位置データを生成する。さらに制御装置５０は、メモリに格納されていた描画データをマーク位置データに基づいて補正し、補正描画データとする。そして光学ユニット２２は、制御装置５０の制御に従い、補正描画データに基づいて基板４０の表面に所定の回路パターンを描画する。
【００２１】
図３は、基板４０の変形に応じて描画領域を修正するための、従来手法による描画データの補正を概略的に示す図である。図４は、本実施形態における、描画データ補正の一工程を示す図である。図５は、基板４０の変形に応じて描画領域を修正するための、本実施形態における描画データの補正を概略的に示す図である。なお基板４０の変形量は、実際にはわずかであるものの、説明の便宜上、図３以下では変形量が誇張されている。
【００２２】
第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4を結ぶ線分によって囲まれる描画領域４１は、基板４０に何ら変形が生じていない場合、正方形である。しかしながら、基板４０には熱処理などにより微細な変形を生じることがあり、処理後の基板である第１変形基板４２においては、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の位置がずれ、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4によって囲まれる第１変形描画領域４３は平行四辺形となっている。
【００２３】
ここで、描画領域４１に描画される回路パターンの位置、形状を示す描画データは、従来の手法によって補正され、第１変形描画領域４３に対応した補正描画データが生成される。すなわち、まず、描画データが示す描画領域４１の辺の長さを拡大、もしくは縮小するスケーリング補正を施した場合に得られる長方形の変倍描画領域４５に対応したデータとする。さらにこのデータを、変倍描画領域４５の輪郭を形成する一組の対辺を、他の対辺に対して傾ける軸傾き補正によって形成される第１変形描画領域４３に対応した補正描画データに補正する。そして補正描画データに基づいて、位置と形状とが補正された回路パターンが、第１変形描画領域４３内に描画される。
【００２４】
しかしながら、基板４０の複雑な変形により、例えば第３アライメントマークＭ3の位置が第１変形基板４２とは異なる第２変形基板４６が生じた場合、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4を結んで得られる第２変形描画領域４７は平行四辺形ではない単なる四角形である（図４参照）。この場合、従来の手法であるスケーリング補正と軸傾き補正とによっては、平行四辺形の第１変形描画領域４３に対応したデータをさらに補正して、単なる四角形である第２変形描画領域４７に対応した補正描画データを生成することはできない。
【００２５】
本実施形態においては、後述するグラデュアル・スケーリング補正によって、平行四辺形の第１変形描画領域４３に対応したデータを生成し、さらに図４に示された単なる四角形である第２変形描画領域４７に対応した補正描画データを生成する。すなわち、まず、制御装置５０におけるスケーリング補正と軸傾き補正とによって、描画領域４１内に回路パターンを描画するための描画データは、第１変形描画領域４３に対応したデータに変換される（図５参照）。
【００２６】
さらにこのデータから、グラデュアル・スケーリング補正により、第２変形描画領域４７内にパターンを描画するための補正描画データが生成される。なお第２変形描画領域４７は、マーク位置データが示す第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の実際の位置を結ぶ線分によって形成される四角形であり、第１および第２ＣＣＤカメラ３２、３４の撮影画像が示す第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4を結ぶ四角形４９と同一の形状を有する。
【００２７】
本実施形態では、描画データを補正して補正描画データを生成するための処理を容易に説明するため、まず、変形した第２変形基板４６（図４参照）における第２変形描画領域４７を、本来の描画領域４１に一致させる場合の演算処理を以下に説明する。制御装置５０は、実際には、以下に説明する第２変形描画領域４７から描画領域４１への変換の演算を逆算することにより、本来の描画領域４１内に描画すべきパターンを示す描画データを補正して、ほぼ同一形状のパターンを第２変形描画領域４７に描画するための補正描画データを生成する。
【００２８】
図６は、第１および第２ＣＣＤカメラ３２、３４の座標系（以下、撮影座標系という）における第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の位置情報に基づくマーク位置データの生成を概略的に示す図である。
【００２９】
撮影座標系における、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の位置を示す点Ｐ1、Ｑ1、Ｒ1およびＳ1の各座標の座標変換により、描画座標系における第２変形描画領域４７の頂点を示す点Ｐ2、Ｑ2、Ｒ2およびＳ2の座標が算出される。この座標変換により、撮影座標系での第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4によって囲まれる四角形４９に含まれる各点は、描画座標系のＸ軸と撮影座標系のＸ’軸とが成す角θ分の回転と平行移動によって、描画座標系での第２変形描画領域４７に含まれる点に移動される。四角形４９から第２変形描画領域４７への平行移動においては、撮影光学系における四角形４９の頂点のいずれかが描画座標系の原点Ｏに一致するように、移動量が定められており、ここでは撮影座標系における第２アライメントマークＭ2の位置を示す点Ｑ1が移動後に描画座標系の原点Ｏに一致する。従って、第２変形描画領域４７の頂点のうち点Ｑ2は原点Ｏと一致する。
【００３０】
ここで、撮影座標系の原点Ｏ’の描画座標系における座標を（Ｘ0，Ｙ0）とすると、回転処理後の平行移動の移動量は（−Ｘ0，−Ｙ0）である。以上のことから、撮影座標系における第１アライメントマークＭ1の位置を示す点Ｐ1（Ｘ11，Ｙ11）は、以下の（１）式及び（２）式に示すように、描画座標系における点Ｐ2（Ｘ12，Ｙ12）に移動される。この（１）式及び（２）式に準じた演算処理により、撮影座標系の四角形４９に含まれる全ての点が、描画座標系における第２変形描画領域４７に移動され、四角形４９は第２変形描画領域４７に変換される。
Ｘ12＝（Ｘ11×cosθ―Ｙ11×sinθ）−Ｘ0      ・・・（１）
Ｙ12＝（Ｘ11×sinθ＋Ｙ11×cosθ）−Ｙ0      ・・・（２）
このように、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の撮影座標系における位置情報から、描画座標系における第２変形描画領域４７の頂点を示す座標が算出され、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の実際の位置を示すマーク位置データが生成される。
【００３１】
図７は、グラデュアル・スケーリングの概略を示す図である。図８は、Ｘ軸に対してグラデュアル・スケーリングを実施した場合における、任意の点の移動量を示す図である。図９は、Ｙ軸に対してグラデュアル・スケーリングを実施した場合における、任意の点の移動量を示す図である。
【００３２】
グラデュアル・スケーリングとは、２次元の座標系のある点を、そのＸ座標、もしくはＹ座標の座標値に、他方の座標値に比例した値を加えた新たな点に変換することをいう。図７は、Ｘ軸に対するグラデュアル・スケーリングの一例を示しており、頂点の１つが原点Ｏに一致する図形Ａ’に含まれる任意の点Ｐ’（Ｘa’，Ｙa’）は、（３）式と（４）式とが示す座標値を有する点Ｐ（Ｘa，Ｙa）に変換される。このグラデュアル・スケーリングを施すことにより、図形Ａ’は図形Ａに変換される。なお、（３）式におけるαは、Ｘ軸方向のグラデュアル・スケーリングにおける比例係数である。
Ｘa＝（１＋α×Ｙa’）×Ｘa’              ・・・（３）
Ｙa＝Ｙa’                                 ・・・（４）
【００３３】
次に、描画座標系のＸ軸とＹ軸とのいずれに対してもグラデュアル・スケーリングを施す場合について説明する。Ｘ軸に対してグラデュアル・スケーリングを実施した場合（図８参照）、任意の点Ｐ’（Ｘa’，Ｙa’）は（３）式に示すＸ座標Ｘaを有する点に移動することから、このときのＸ軸方向の移動量ｄXは（５）式に示される。
ｄX＝Ｘa−Ｘa’＝（１＋α×Ｙa’）×Ｘa’―Ｘa’＝α×Ｘa’×Ｙa’
・・・（５）
【００３４】
さらにＹ軸に対してグラデュアル・スケーリングを実施すると（図９参照）、任意の点Ｐ’（Ｘa’，Ｙa’）の移動後の点Ｐ（Ｘa，Ｙa）のＹ座標Ｙaは、（６）式に示す値となる。そしてＹ軸方向の移動量ｄｙは、Ｘ軸方向と同様に（７）式に示すように算出される。ここで（７）式におけるβは、Ｙ軸方向に対するグラデュアル・スケーリングの比例係数である。
Ｙa＝（１＋β×Ｘa’）×Ｙa’                      ・・・（６）
ｄｙ＝Ｙa−Ｙa’＝（１＋β×Ｘa’）×Ｙa’―Ｙa’＝β×Ｘa’×Ｙa’
・・・（７）
【００３５】
図１０は、グラデュアル・スケーリング補正による、第２変形描画領域４７から第１変形描画領域４３への変換を概略的に示す図である。
【００３６】
本実施形態では、このグラデュアル・スケーリングを描画座標系で用いる補正により、単なる四角形である第２変形描画領域４７は、第２変形描画領域４７の二辺を有し、本来の描画領域４１により近い形状を有する平行四辺形の第１変形描画領域４３に変換される。すなわち、点Ｐ2（Ｘ12，Ｙ12）、原点Ｏ（０，０）、点Ｒ2（Ｘ32，Ｙ32）、点Ｓ2（Ｘ42，０）を頂点とした第２変形描画領域４７は、点Ｒ2（Ｘ32，Ｙ32）の代わりに点Ｒ3（Ｘ33，Ｙ33）を頂点とした第１変形描画領域４３に変換される。
【００３７】
この変換においては、グラデュアル・スケーリング補正の係数α、βを算出することが必要となる。このグラデュアル・スケーリング補正は、点Ｒ2（Ｘ32，Ｙ32）を点Ｒ3（Ｘ33，Ｙ33）に移動させるためのものであることから、ここでの係数α1、β1は、（５）式、および（７）式に準じ、第２変形描画領域４７の頂点の座標を用いた（８）式、および（９）式に示される。
α1＝ｄｘ／（Ｘ42×Ｙ12）＝（Ｘ33―Ｘ32）／（Ｘ42×Ｙ12）     ・・・（８）
β1＝ｄｙ／（Ｘ42×Ｙ12）＝（Ｙ33―Ｙ32）／（Ｘ42×Ｙ12）     ・・・（９）
こうして算出された係数α1、β1を用いたグラデュアル・スケーリング補正によって、第２変形描画領域４７に含まれる全ての点が第１変形描画領域４３に移動され、第２変形描画領域４７が第１変形描画領域４３に変換される。
【００３８】
図１１は、第１変形描画領域４３から変倍描画領域４５への変換を概略的に示す図である。
【００３９】
平行四辺形である第１変形描画領域４３は、第１変形描画領域４３の辺の一部を有し、本来の描画領域４１により近い形状を有する長方形の変倍描画領域４５に変換される。すなわち、点Ｐ2（Ｘ12，Ｙ12）、原点Ｏ（０，０）、点Ｒ3（Ｘ33，Ｙ33）、点Ｓ2（Ｘ42，０）を頂点とした第１変形描画領域４３は、軸傾き補正によって、点Ｐ4（０，Ｙ14）、原点Ｏ（０，０）、点Ｒ4（Ｘ34，Ｙ34）、及び点Ｓ4（Ｘ44，０）を頂点とした変倍描画領域４５に変換される。なお点Ｓ2から点Ｓ4への変換は、単なる表記の変更であり、座標値Ｘ42と座標値Ｘ44とは同じ値である。
【００４０】
この変換においては、（１０）式に示す、原点Ｏと点Ｐ2とを結ぶ第１変形描画領域４３の辺の傾きγを用いる。すなわち、第１変形描画領域４３内の全ての点を、その点のＹ座標に比例した移動量だけＸ軸に平行に移動させる。このとき、第１変形描画領域４３内の任意の点Ｐb’（Ｘb’，Ｙb’）の移動後のＸ座標Ｘb及びＹ座標Ｙb、（１１）式、（１２）式に示される。
γ＝Ｙ12／Ｘ12                ・・・（１０）
Ｘb＝Ｘb’＋γ×Ｙb’        ・・・（１１）
Ｙb＝Ｙb’                   ・・・（１２）
このように、（１０）式〜（１２）式に示す演算により、例えば点Ｐ2（Ｘ12，Ｙ12）が点Ｐ4（０，Ｙ14）に、点Ｒ3（Ｘ33，Ｙ33）が点Ｒ4（Ｘ34，Ｙ34）に移動されるように、第１変形描画領域４３に含まれる全ての点が、変倍描画領域４５に含まれるように移動される。そして、第１変形描画領域４３は変倍描画領域４５に変換される。
【００４１】
図１２は、変倍描画領域４５から描画領域４１への変換を概略的に示す図である。
【００４２】
長方形である変倍描画領域４５は、スケーリング補正により、変倍描画領域４５の辺の一部を有する本来の描画領域４１に変換される。すなわち、点Ｐ4（０，Ｙ14）、原点Ｏ（０，０）、点Ｒ4（Ｘ34，Ｙ34）、点Ｓ4（Ｘ44，０）を頂点とした変倍描画領域４５は、点Ｐ、原点Ｏ（０，０）、点Ｒ、及び点Ｓを頂点とし、変倍描画領域４５のＸ軸上の辺とＹ軸上の辺のそれぞれ一部を有する正方形の描画領域４１に変換される。このとき、描画領域４１の一辺の長さは、描画データが示す、基板４０に変形が全く生じなかった場合の本来の位置にある第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4のうち互いに隣接するもの、例えば第１アライメントマークＭ1と第２アライメントマークＭ2間の距離に等しく、ここではＬである。
【００４３】
変倍描画領域４５に含まれる任意の点ＰC’（ＸC’，ＹC’）のスケーリング補正による移動後の点ＰC（ＸC，ＹC）の座標は、（１３）式および（１４）式に示される。
ＸC＝ＸC’×（Ｌ／Ｘ44）         ・・・（１３）
ＹC＝ＹC’×（Ｌ／Ｙ14）         ・・・（１４）
（１３）式、及び（１４）式に示す演算により、例えば点Ｐ4（０，Ｙ14）が点Ｐ（０，Ｌ）に、点Ｓ4（Ｘ44，０）が点Ｓ（Ｌ，０）に移動されるように、変倍描画領域４５に含まれる全ての点が、描画領域４１に含まれるように移動され、変倍描画領域４５は描画領域４１に変換される。
【００４４】
第２変形描画領域４７から描画領域４１までの一連の変換処理に基づいて、描画データは補正される。すなわち、上述の（３）式〜（７）式を除く全ての式の演算を逆算することにより、描画データは、第２変形描画領域４７に対応した補正描画データに変換される。
【００４５】
以上のように本実施形態によれば、基板４０の複雑な変形により、描画領域が、平行四辺形、台形でない単なる四角形になった場合にあっても、制御装置５０は、基板の変形に応じて描画データを正確に補正できる。
【００４６】
描画領域の形状は本実施形態に限定されず、例えば長方形、もしくは任意の四角形であっても良い。基板４０の変形、すなわち描画領域４１の変形に応じて、描画データを補正可能だからである。また、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4の代わりに、基板４０に位置決め穴が設けられていても良い。
【００４７】
また、例えば基板の全面を描画領域とする場合などにおいては、第１〜第４アライメントマークＭ1〜Ｍ4を設けることなしに描画領域の輪郭、外形サイズを測定しても良い。その場合、第１および第２ＣＣＤカメラ３２、３４は、基板の四隅の位置などを検出する。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】描画装置を概略的に示す斜視図である。
【図２】描画装置の外観を示す斜視図である。
【図３】従来手法による描画データの補正を概略的に示す図である。
【図４】本実施形態における描画データ補正の一工程を示す図である。
【図５】本実施形態における描画データの補正を概略的に示す図である。
【図６】アライメントマークの位置情報に基づくマーク位置データの生成を示す図である。
【図７】グラデュアル・スケーリングの概略を示す図である。
【図８】Ｘ軸に対してグラデュアル・スケーリングを実施した場合における任意の点の移動量を示す図である。
【図９】Ｙ軸に対してグラデュアル・スケーリングを実施した場合における任意の点の移動量を示す図である。
【図１０】グラデュアル・スケーリング補正による、描画領域の変換を概略的に示す図である。
【図１１】第１変形描画領域から変倍描画領域への変換を概略的に示す図である。
【図１２】変倍描画領域から描画領域への変換を概略的に示す図である。
【符号の説明】
【００４９】
２０  描画装置
２１  レーザ描画装置（描画手段）
２２  光学ユニット（描画手段）
３２  第１ＣＣＤカメラ（マーク位置検出手段）
３４  第２ＣＣＤカメラ（マーク位置検出手段）
４０  基板（被描画体）
５０  制御装置（データ処理装置・第１〜第３の描画データ補正手段・マーク位置データ生成手段）
Ｍ1〜Ｍ4  第１〜第４アライメントマーク（マーク）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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