(57)【要約】【課題】導電性と共に光透過性確保の為にメッシュ状としたメッシュの細いラインが、断線し難く製造容易なディスプレイ用電磁波シールドフィルタとする。【解決手段】透明基材上１に、少なくとも、平面視形状がメッシュ状のメッシュ部２Ａを有し且つ導電性であるメッシュ層２を設けたディスプレイ用電磁波シールドフィルタ１０について、メッシュ層のメッシュ形状をライン幅Ｗ５０〜１００μｍ、ラインピッチＰ５００μｍ〜１０００μｍ、且つ、メッシュ部の大きさを対角寸法Ｌ８００ｍｍ以上のものとする。ライン幅Ｗが太めだが対角寸法Ｌが８００ｍｍ以上と大きめのディスプレイ用途なので、実際にディスプレイを見る距離からはラインが目立たない。更に、透明基材上のメッシュ層のディスプレイの観察者側を覆う様に着色フィルタ層を設ければより目立たなくなり好ましい。【選択図】図１
2006210763.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に、少なくとも、平面視形状がメッシュ状のメッシュ部を有し且つ導電性であるメッシュ層が形成されたディスプレイ用の電磁波シールドフィルタにおいて、
該メッシュ層のメッシュ形状が、ライン幅Ｗが５０〜１００μｍでラインピッチＰが５００μｍ〜１０００μｍであり、且つ、メッシュ部の大きさが対角寸法Ｌで８００ｍｍ以上である、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタ。
【請求項２】
透明基材上のメッシュ層のディスプレイの観察者側を覆う様に着色フィルタ層を有する、請求項１記載のディスプレイ用電磁波シールドフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等の各種ディスプレイの前面に配置する、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来は、ディスプレイと言うと、ＣＲＴ（ブラウン管）ディスプレイが代表的であったが、最近はこれに代わって、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）が薄型テレビ等として普及が本格化している。ＦＰＤのなかでも、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）とＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）とが先駆的に普及しだしているが、今後は、これら以外にも更に、ＳＥＤ（Ｓｕｒｆａｃｅ−ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｅｍｉｔｔｅｒ  Ｄｉｓｐｌａｙ）等として注目を集めるＦＥＤ（フィールド・エミッション・ディスプレイ）の普及も予想されている。
【０００３】
この様な各種ディスプレイに於いては、画素の駆動信号等から電磁波が発生するので、例えば上記のうちＰＤＰ、ＣＲＴで説明すれば、これらディスプレイから発生する電磁波をシールドする為に、ディスプレイ前面に配置する電磁波シールドフィルタが知られている。この様な用途に用いる電磁波シールドフィルタでは電磁波シールド性能と共に光透過性も要求される。そこで、基材に樹脂フィルムやガラス等の透明基材を用い、この透明基材上に金属箔のエッチングや金属めっきにより、導電性と光透過性を両立させたメッシュ層を設けたディスプレイ用電磁波シールドフィルタが知られている。金属層からなるメッシュ層は、その層自体が光不透明性なので、平面視形状がメッシュ状となるように層をパターン状に形成し多数の小さい穴（開口部）を設けることで、光透過性を確保している。ただし、メッシュがあまりに大きければ、目に付いてディスプレイ画像の邪魔になり、またメッシュの穴の総面積（開口率）が小さければ、やはりディスプレイ画像を邪魔して暗くなる。かと言って、メッシュを構成するラインを細くし過ぎれば、メッシュの面積抵抗が増える上、断線等が生じ、本来の電磁波シールド性能を損ねてしまう。
【０００４】
そこで従来、この様なメッシュ層のメッシュ形状は、その大きさを、例えば、メッシュを構成するラインのライン幅Ｗは４０μｍ以下、そのラインピッチＰは２００μｍ以上等とするのが良いとされ、また、メッシュの開口率は、大よそ８０％〜９０％程度（例えば正方形の開口部が正方格子配列したメッシュで、ラインピッチＰ２５０μｍでライン幅Ｗ２５μｍでは開口率Ｋ８１％）とされてきた（特許文献１）。
【０００５】
また、メッシュ層は、その面が光反射性だと、外光等の不要光を反射し、透視画像の明室コントラストを低下させるので、通常、メッシュ層の層自体の面は黒化処理による黒化層で黒くする事も知られている（特許文献１）。
【０００６】
【特許文献１】特許第３３８８６８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、メッシュ層のメッシュはそのライン幅４０μｍ以下と非常に細い線で構成されている為に、メッシュ状に製造加工時やメッシュ形成後の製造取り扱いを注意しないと断線し易く、断線は製造歩留り低下、ひいては低コスト化の支障となるものであった。
すなわち、本発明の課題は、メッシュが断線し難く製造が容易となる、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決すべく、本発明のディスプレイ用電磁波シールドフィルタは、透明基材上に、少なくとも、平面視形状がメッシュ状のメッシュ部を有し且つ導電性であるメッシュ層が形成されたディスプレイ用の電磁波シールドフィルタにおいて、該メッシュ層のメッシュ形状が、ライン幅Ｗが５０〜１００μｍでラインピッチＰが５００μｍ〜１０００μｍであり、且つ、メッシュ部の大きさが対角寸法Ｌで８００ｍｍ以上である構成とした。
【０００９】
この様な構成とすることで、ライン幅Ｗが従来の４０μｍ以下に比べて５０μｍ以上と太くしてあるので、ラインが断線し難く製造が容易となる。しかも、ライン幅Ｗは５０μｍ以上と太いが、最大でも１００μｍとし、なお且つメッシュによって光透過性を確保したメッシュ部の大きさを、その対角寸法Ｌで８００ｍｍ以上とし、この対角寸法Ｌに対応した大きさ以上のディスプレイに適用するものに限定してあるので、この様な大きなディスプレイを見る距離からは、メッシュのラインは目立たない。従って、メッシュの非視認性も確保しつつ、メッシュの断線を防げる。
【００１０】
また、本発明のディスプレイ用電磁波シールドフィルタは、上記構成に於いて更に、透明基材上のメッシュ層を覆う様に着色フィルタ層を有する構成とした。
この様な構成により、透明基材に対してメッシュ層側を観察者側とするディスプレイへの適用法において、着色フィルタ層によって、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタ内部に侵入した外光が該内部で反射して観察者に届くには、着色フィルタ層を往路及び復路の二回通過する必要があるので、外光反射を抑制することができる。その結果、メッシュ層のライン表面による外光の反射が抑えられ、メッシュ層のライン幅Ｗが５０μｍと従来に比べて太めでも見え難くできる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によるディスプレイ用電磁波シールドフィルタによれば、メッシュが断線し難く製造が容易となり、製造歩留り向上、ひいては低コスト化が図れる。
更に、透明基材上のメッシュ層上に着色フィルタ層を設けておけば、メッシュのラインが太めでも目立ちにくくできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００１３】
なお、図１は、本発明によるディスプレイ用電磁波シールドフィルタをその一形態で概念的に例示する説明図で、（Ａ）は層構成の断面図、（Ｂ）はメッシュ形状の部分拡大平面図、（Ｃ）はメッシュ部とその対角寸法を示す全体平面図である。
図２は、ライン幅Ｗ、及びラインピッチＰの望ましい組み合わせ範囲を示す説明図である。
図３は、メッシュ層の層構成の詳細構成として２例を例示する断面図である。
図４は、着色フィルタ層を有する構成例として２例を例示する断面図である。
図５は、着色フィルタ層を除く透明基材とメッシュ層以外の追加的な層構成として３例を例示する断面図である。
【００１４】
〔概要〕
本発明では、図１（Ａ）の断面図、図１（Ｂ）及び図１（Ｃ）の平面図で例示されるディスプレイ用電磁波シールドフィルタ１０の如く、その層構成は、少なくとも透明基材１とメッシュ層２とからなり、且つ該メッシュ層２のメッシュ形状は、メッシュのライン幅Ｗが５０〜１００μｍで、ラインピッチＰが５００μｍ〜１０００μｍとする形状で、なお且つ、この様なメッシュによって光透過性を確保した領域であるメッシュ部２Ａの対角寸法Ｌを８００ｍｍ以上のサイズとする。なお、図１（Ｃ）に例示のメッシュ層２はメッシュ部２Ａの全周囲に非メッシュ部２Ｂを有する場合だが、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタの全面積がメッシュ部２Ａであっても良い。そして、この様な特定のメッシュ層とすることで、メッシュのラインを目立たせること無く、ラインの断線が発生し難くなる。更に、例えば図４の様に透明基材１上のメッシュ層２の観察者側に着色フィルタ層３を設ければ、メッシュを更に目立ち難くできる。
【００１５】
なお、本明細書にて、「表側」、「表面」、「裏側」、「裏面」等の向きを特定した面や方向を表現する用語は、透明基材に対してメッシュ層が形成された側（「表側」とする）と同じ向きとなる面（図面上方の面でもある）を「表面」と言い、「裏側」及び「裏面」とはこの逆で、「表面」乃至は「表側」の面に対して面の向きが逆向きとなる面を「裏面」、逆向きとなる側を「裏側」と言うことにする。
また、ディスプレイに適用時に、観察者側の面が常に本発明で定義する表面では無く裏面の場合もあり得る。ただ、上記の如くメッシュ層上に着色フィルタ層を設けたものは、着色フィルタ層側を観察者側の面とするのが好ましい。それは、該着色フィルタ層によるメッシュ層を目立たなくさせる効果が逆の場合に比べてより多く得られるからである。
【００１６】
以下、本発明によるディスプレイ用電磁波シールドフィルタについて、透明基材から順に説明する。
【００１７】
〔透明基材〕
透明基材１は、一般的に機械的強度が弱いメッシュ層を補強する為の層である。従って、機械的強度と共に光透過性を有すれば、その他、耐熱性、絶縁性等も適宜勘案した上で、用途に応じたものを選択使用すれば良い。透明基材の具体例としては、例えば、樹脂板、樹脂シート（乃至はフィルム、以下同様）、ガラス板等である。
【００１８】
樹脂板、樹脂シート等として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
【００１９】
なお、これら樹脂は、樹脂材料的には、単独、又は複数種類の混合樹脂（ポリマーアロイを含む）として用いられ、また層的には、単層、又は２層以上の積層体として用いられる。また、樹脂シートの場合、１軸延伸や２軸延伸した延伸シートが機械的強度の点でより好ましい。
また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００２０】
また、ガラス板のガラスとしては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラスなどがあり、より好ましくは熱膨脹率が小さく寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラス等が挙げられ、ディスプレイの前面基板等とする電極基板と兼用することもできる。
【００２１】
なお、透明基材の厚さは、用途に応じたものとすれば良く特に制限は無く、透明樹脂から成る場合は、通常１２〜１０００μｍ程度であるが、好ましくは５０〜７００μｍ、より好ましくは１００〜５００μｍが望ましい。一方、透明基材がガラス板である場合には、通常１〜５ｍｍ程度が好適である。いずれの材料に於いても、上記未満の厚さとなると機械的強度が不足して反りや弛み、破断などが起こり、上記を超える厚さとなると過剰性能でコスト高となる上、薄型化が難しくなる。
【００２２】
なお、透明基材としては、これらの無機材料、有機材料等からなる、シート（乃至はフィルム）、板などが適用でき、また、透明基材は、前面基板及び背面基板等からなるディスプレイ本体の一構成要素である前面基板と兼用しても良いが、前面基板の前に配置する前面フィルタとしてディスプレイ用電磁波シールドフィルタを用いる形態では、薄さ、軽さの点で、板よりもシートの方が優れており、また割れない等の点でも、ガラス板よりも樹脂シートが優れていることは言うまでもない。
また、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタを連続的に製造し生産性を向上できる点では、透明基材は、生産性の点で連続帯状のシート（つまりウェブ）の形態で取り扱うのが好ましい。
【００２３】
この様な点で、透明基材としては樹脂シートが好ましい材料であるが、樹脂シートのなかでも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂シート、セルロース系樹脂シートが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくはポリエチレンテレフタレートシートが最適である。なお、透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で８０％以上となる光透過性が良い。
【００２４】
なお、樹脂シート等の透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。
【００２５】
また、透明基材は色素等で着色しても良い。着色により、近赤外線吸収、ネオン光吸収、色調整、外光反射防止等が図れる。例えば、樹脂の透明基材に対しては、近赤外線吸収剤、ネオン光吸収剤、色調整用色素、外光反射防止用色素等の従来公知の各種色素を添加すればよい。
【００２６】
〔メッシュ層〕
メッシュ層２は、平面視がメッシュ形状となる様にパターン状に形成された領域〔この領域をメッシュ部２Ａと呼ぶことにする。図１（Ｃ）参照〕を有し、該メッシュ形状により光透過性を電磁波シールド性と共に確保した層である。本発明では、このメッシュ層２のメッシュ形状とメッシュ部の大きさを特定したものとする。
【００２７】
〔メッシュ層：メッシュ形状〕
メッシュ層２が多数の開口部によって光透過性を確保した領域（メッシュ部２Ａ）でのメッシュ形状の代表的形状を図１（Ｂ）の部分拡大平面図に例示する。同図のメッシュ形状は、そのライン幅Ｗが縦横で均一で、開口部ＡOが正方形でこれを縦横に規則配列した正方格子形状となる、代表的なメッシュ形状を示す。メッシュは複数の開口部ＡOを有し、開口部ＡO間は通常幅均一のライン状のライン部ＡLとなり、通常は更に図１（Ｂ）の如く、開口部ＡO、及び開口部ＡO間のライン部ＡLは、全面で同一形状同一サイズである。すなわち、単一形状の開口部ＡOが、所定幅（ライン幅Ｗ）を隔てて縦横に規則配列した形状である。
【００２８】
メッシュの平面視形状を規定する、ライン部ＡLのライン幅Ｗと、ライン部ＡLの繰返し周期であるラインピッチＰの意味は、図１（Ａ）の断面図、及び図１（Ｂ）の平面図に示す如くである。従って、図１（Ｂ）の様に正方形の開口部が正方格子配列したメッシュでは、ラインピッチＰからライン幅Ｗを引いた値が、開口部を成す正方形の一辺の長さ（開口部の幅）となる。
なお、メッシュの開口率Ｋ〔％〕は、（メッシュ部に於ける）全ての開口部が占める面積の（該開口部が設けられたメッシュ部の）全面積に対する割合であるので、ライン幅ＷとラインピッチＰとから、図１（Ｂ）のメッシュ形状の場合は、｛（Ｐ−Ｗ）2／Ｐ2｝×１００、と算出される。
【００２９】
なお、開口部の平面視形状は上記した正方形以外の形状でも良く任意で特に限定されず、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形、等の多角形、或いは、円形、楕円形などでも良い。また、開口部の配列も正方格子配列以外の規則配列或いは不規則配列でも良い。但し、本発明では、この様な正方形の正方格子配列以外のメッシュに於けるライン幅ＷとラインピッチＰは、その対象とするメッシュと開口率Ｋが同一となる、正方形の正方格子配列のメッシュに於けるライン幅ＷとラインピッチＰに、各々置き換えて、そのメッシュ形状を捉えることとする。それは、面全体としての平均的な特性は大よそ類似していると捉えるからである。
【００３０】
そして本発明では、メッシュの平面視形状の特定形状として、メッシュのライン幅Ｗが５０〜１００μｍで、且つラインピッチＰが５００μｍ〜１０００μｍの形状とする。図２は、これら、ライン幅Ｗ、及びラインピッチＰの各特性値について、望ましい組み合わせ領域（領域Ａ）を示した説明図である。なお、図２は横軸がライン幅Ｗ、縦軸がラインピッチＰである。また、同図には、従来は好ましいとされてきた、ライン幅Ｗ≦４０μｍ且つラインピッチＰ≧２００μｍとなる領域（領域Ｂ）も示してある。同図で示す如く、本発明では、従来の領域Ｂから外れる領域Ａの部分にて、断線防止に対して実用可能で好ましい結果が得られる。
【００３１】
ライン幅Ｗを５０μｍ以上とすることで、ラインの断線や変形、傾斜（倒れること）が生じ難くなり、またメッシュ形成時に綺麗なラインの再現もし易くなる。但し、ライン幅Ｗが１００μｍを超えると、メッシュ部の対角寸法で適用するディスプレイのサイズを大きめのものと規定しても、メッシュの非視認性（メッシュが目立たないこと）が低下し実用的でなくなる。
ラインピッチＰは、ライン幅Ｗが太くなった分、開口率Ｋが低下するので、電磁波シールド性能に影響しない範囲内で大きくした方が良い。従って、ラインピッチＰは５００μｍ以上とする。なお、ラインピッチＰが５００μｍでライン幅Ｗが５０μｍのときの開口率Ｋは８１％、ラインピッチＰが５００μｍでライン幅Ｗが１００μｍのときの開口率Ｋは６４％である。ラインピッチＰは大きい程、開口率Ｋの点では有利であるが、但し、ラインピッチＰは１０００μｍ以下とする。ラインピッチＰが１０００μｍを超過すると、電磁波シールド性能が低下するからである。
なお、以上のライン幅Ｗ、及びラインピッチＰによって、開口率Ｋは最小でも６４％を確保できる。
【００３２】
以上の様に、本発明では、従来ならば不適当と考えられてしたメッシュ形状領域に於いて、性能良好となる範囲を見出し、その結果、実用的な電磁波シールド性能や光透過性（開口率Ｋ）を確保しつつ、ラインの断線を防げる。
ここで、ライン幅Ｗ及びラインピッチＰについて、その具体的サイズを例示すれば、ライン幅Ｗ＝５０μｍ及びラインピッチＰ＝５００μｍで開口率Ｋ＝８１％とした、正方形の開口部を正方格子配列したメッシュ形状である。なお、メッシュのラインの伸びる方向は、通常モアレ防止の為に、適用時の垂直方向（或いは水平方向）から傾ける。その際のバイアス角度（メッシュのラインとディスプレイ用電磁波シールドフィルタの外周辺との成す角度）は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。
【００３３】
そして、メッシュ層２に於いて、上記の様にして、メッシュ状の多数の開口部により光透過性を電磁波シールド性と共に確保した部分がメッシュ部２Ａである〔図１（Ｃ）参照〕。メッシュ部２Ａは、面として少なくとも光透過性が必要な領域（面）に設ければ良い。メッシュ層にはメッシュ部が必須であるが、当該部分と共に非メッシュ部２Ｂがあっても良いし非メッシュ部２Ｂは無くメッシュ部２Ａのみであっても良い。非メッシュ部２Ｂは、前記メッシュ部２Ａ以外の部分であり、光透過性が面として必要でない領域となる。通常、メッシュ部２Ａの外周部に非メッシュ部２Ｂを設ける。また、非メッシュ部２Ｂは通常アースを取るのに利用される。その一例が、図１（Ｃ）の平面図で例示の、四角形状のディスプレイ用電磁波シールドフィルタ１０であり、同図では、メッシュ部２Ａの４辺周囲の画像表示に影響しない部分を額縁状の非メッシュ部２Ｂとしてある。この様な額縁状の非メッシュ部２Ｂは、アースを取るのに利用できる。アースに利用する非メッシュ部は通常、四辺全周囲に額縁状とする。また、額縁状の非メッシュ部は、メッシュ部を透して見るディスプレイ画像に対して、その周囲を（例えば黒枠等として）額縁状に囲って該画像を引き立たせ見栄えを良くする外枠としても利用できる。なお、非メッシュ部はアースを取る場合は少なくともその一部を露出させるのが好ましい。
【００３４】
メッシュ部２Ａの大きさは、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタを適用するディスプレイのサイズに応じた大きさとすれば良く、特に本発明では太めのライン幅Ｗでも、それが目立ち難くメッシュの非視認性を確保する意味で、メッシュ部２Ａの大きさをその対角寸法Ｌで８００ｍｍ以上とする〔図１（Ｃ）〕。メッシュ部２Ａはディスプレイの形状に応じて通常四角形となるが、その四角形の対角線での寸法が前記対角寸法Ｌである。対角寸法Ｌが８００ｍｍ以上とは、アスペクト比が横：縦＝１６：９のワイド画面のテレビ用ディスプレイの場合で、有効画面サイズ３２Ｖ（ビジュアル）型がこれに含まれ、該３２Ｖ型以上の大きさのディスプレイが該当する。なお、対象とするディスプレイのアスペクト比はこれに限定されるものではなく、旧来のアスペクト比４：３等でも良い。
なお、対角寸法Ｌの最大値は、適用するディスプレイの画面サイズに応じたものとなり、大画面ディスプレイの製造技術次第であり、ちなみに現在、ＰＤＰでは１０２型（ワイド画面）が市販されようとしている。
【００３５】
なお、非メッシュ部２Ｂはその目的に応じた任意の形とすれば良く、従って、非メッシュ部は全周囲でなくても、対向する二辺或いは一辺のみ等でも良い。
また、非メッシュ部２Ｂは、通常、開口部が全く無い面部分となるが、多少の開口部が在る面部分の場合もある。例えば、額縁状等の形状の非メッシュ部に対して、その領域内部に品番の文字情報等の情報を、複数の開口部の集合で表現する場合等である。例えば、その部分は、スクリーン印刷用のスクリーン版に於ける文字印刷部分の様な感じである。但し、この場合、その部分が面積的にも小さく且つ面として光透過性を確保するのが目的ではないので、集合を構成する複数の開口部をメッシュ状に設けた部分が在ったとしても、それは非メッシュ部となる。
なお、非メッシュ部２Ｂの具体的大きさは使われ方によるが、額縁状でアース部や外枠とする場合、額縁の幅は１５〜１００ｍｍ程度で、なかでも３０〜４０ｍｍとするのが一般的である。
【００３６】
〔メッシュ層：その構成層〕
メッシュ層２の層構成内容を更に詳しく述べれば、その導電性によって電磁波シールド機能を主体的に担うメッシュ状導電体層２１を少なくとも有する。このメッシュ状導電体層２１自体の面が黒い場合には、メッシュ状導電体層のみで構成しても良い。ただ、通常は、表面の黒さ、錆び等に対する耐久性、導電性等がメッシュ状導電体層のみからでは十分な性能が得られない場合には該不十分な性能に応じて、これ以外に、黒化層２２、防錆層２３等もその構成層として設ける。これら、黒化層や防錆層等の追加的な層は、それがメッシュ層の形状的特徴であるメッシュ形状を維持する限り、これらの層はメッシュ層に含まれるメッシュ層の構成層として本発明では捉える（図３参照）。
従って、層構成の内訳は明示せずただ単に層内訳を明示せずに単層的にメッシュ層２として描いてある図面の場合、それは層構成的には、必要に応じ設ける防錆層や黒化層を有する場合のメッシュ層も含めた概念的な図面である。
【００３７】
〔メッシュ層：メッシュ状導電体層〕
メッシュ状導電体層２１は、一般的には金属箔のエッチングで形成した物が代表的であるが、これ以外のものでも、電磁波シールド性能に於いては意義を有する。従って、本発明では、メッシュ状導電体層の材料及び形成方法は特に限定されるものでは無く、従来公知の光透過性の電磁波シールドフィルタに於ける各種メッシュ状導電体層を適宜採用できるものである。例えば、印刷法やめっき法等を利用して透明基材上に最初からメッシュ状の形状でメッシュ状導電体層を形成したもの、或いは、最初は透明基材上に全面に、めっき法で導電体層を形成後、エッチング等でメッシュ状の形状にしてメッシュ状導電体層としたもの等でも構わない。
【００３８】
例えば、メッシュ状導電体層のメッシュ形状をエッチングで形成する場合は、透明基材に積層した金属層をエッチングでパターンニングして開口部を空けてメッシュ状にすることで形成できる。透明基材に金属層を積層するには、金属箔として用意した金属層を接着剤で透明基材にラミネートしたり、或いはラミネート用接着剤は用いずに、金属層を蒸着、スパッタ、めっき等の１或いは２以上の物理的或いは化学的形成手法を用いて透明基材上に積層したりすることもできる。なお、エッチングによるメッシュ状導電体層は、透明基材に積層前の金属箔単体をエッチングでパターンニングしてメッシュ状のメッシュ状導電体層とすることも可能である。この層単体のメッシュ状導電体層は、接着剤等で透明基材に積層する。これらのなかでも、機械的強度が弱いメッシュ状導電体層の取扱が容易で且つ生産性にも優れる等の点で、金属箔を接着剤で透明基材に積層した後、エッチングでメッシュ状に加工して、透明基材上に接着剤を介して積層された形態となる、メッシュ状導電体層が望ましい。
【００３９】
メッシュ状導電体層は、電磁波シールド性能を発現するに足る導電性を有する物質であれば、特に制限は無いが、通常は、導電性が良い点で金属層が好ましく、金属層は上記の如く、蒸着、めっき、金属箔ラミネート等により形成することができる。金属層乃至は金属箔の金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム等が挙げられる。また金属層の金属は合金でも良く、金属層は単層でも多層でも良い。例えば、鉄の場合には、低炭素リムド鋼や低炭素アルミキルド鋼などの低炭素鋼、Ｎｉ−Ｆｅ合金、インバー合金、等が好ましい。一方、金属が銅の場合は、銅や銅合金となるが、銅箔としては圧延銅箔や電解銅箔があるが、薄さ及びその均一性、黒化層との密着性等の点からは、電解銅箔が好ましい。
【００４０】
なお、金属層による導電体層の厚さは、１〜１００μｍ程度、好ましくは５〜２０μｍである。厚さがこれより薄くなり過ぎると電気抵抗上昇により十分な電磁波シールド性能を得難くなり、厚さがこれより厚くなり過ぎると高精細なメッシュ形状が得難くなり、開口率低下により光透過性や、メッシュ側面が邪魔してディスプレイの視野角が低下する。
【００４１】
また、メッシュ状導電体層となる金属層の表面は、透明基材と接着積層させる為の透明接着剤層等の隣接層との密着性向上が必要な場合は粗面である事が好ましい。例えば、銅箔の場合、黒化処理による黒化層の形成と同時にその表面（黒化層の表面）に粗面が得られる。なお、その粗面の程度は、１０点平均粗さＲｚ〔ＪＩＳ−Ｂ０６０１準拠（１９９４年版）〕で、０．１〜１０μｍ程度が良く、より好ましくは１．５μｍ以下、さらに好ましくは０．５〜１．５μｍである。粗さがこれ未満では、粗面化の効果が十分に得られず、またこれより大きくなると、接着剤やレジスト等の塗布時に気泡を抱き込んだりし易くなる。
【００４２】
〔メッシュ層：黒化層〕
黒化層２２により、ディスプレイの明室コントラストを向上できる上、メッシュ層のメッシュのラインの非視認性を向上できる。なお、黒化層の中には、上述した如く該層表面が粗面となり密着強化を図れるものもある。黒化層は明室コントラスト向上の点では、観察者から見えるメッシュ層（メッシュ状導電体層自体、或いは防錆層等形成済みのメッシュ状導電体層）の全ての面に設けることが好ましいが、そのうち、表面、裏面、側面の各面のうち１以上の面に設ければ相応の効果が得られる。従って、設ける面は、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタとディスプレイとの配置関係にもよるが、表面だけ、裏面だけ〔例えば図３（Ａ）参照〕、表裏両面、側面（両側或いは片側）だけ、表面と両側面〔例えば図３（Ｂ）参照〕、裏面と両側面、表裏両面と両側面等である。
【００４３】
いずれにしても、黒化層としては、黒等の暗色を呈する層であれば良く、密着性等の基本的物性を満足するものであれば良く、公知の黒化層を適宜採用し得る。
従って、黒化層としては、金属等の無機材料、黒着色樹脂等の有機材料等を用いることができ、例えば無機材料としては、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物の金属化合物等の金属系の層として形成する。金属系の層の形成法としては、従来公知の各種黒化処理法を適宜採用できる。なかでも、めっき法による黒化処理は密着性、均一性、容易性等で好ましい。めっき法の材料は、例えば、銅、コバルト、ニッケル、亜鉛、モリブデン、スズ、クロム等の金属や金属化合物等を用いる。これらは、密着性、黒さ等の点でカドミウム等による場合よりも優れている。
【００４４】
なお、メッシュ状導電体層が銅箔等、銅による場合、黒化層形成の為の黒化処理として好ましいめっき法には、銅からなるメッシュ状導電体層（メッシュ状とする前に行うのであればその前の導電体層）を、硫酸、硫酸銅及び硫酸コバルト等からなる電解液中で、陰極電解処理を行いカチオン性粒子を付着させるカソーディック電着めっき法がある。この方法によれば、カチオン性粒子の付着で黒色と同時に粗面も得られる。カチオン性粒子としては、銅粒子、銅合金粒子を採用できる。銅合金粒子としては、銅−コバルト合金粒子が好ましく、更にその平均粒子径は０．１〜１μｍが好ましい。銅−コバルト合金粒子により、銅−コバルト合金粒子層からなる黒化層が得られる。カソーディック電着法では、付着させるカチオン性粒子の平均粒子径０．１〜１μｍに揃えられる点でも好ましい。平均粒子径が上記範囲超過では、付着粒子の緻密さが低下し黒さの低下やムラが起こり、粒子脱落（粉落ち）が発生し易くなる。一方、平均粒子径が上記範囲未満でも、黒さが低下する。なお、カソーディック電着法は処理を高電流密度で行うことで、処理面がカソーディックとなり、還元性水素発生で活性化し、銅面とカチオン性粒子との密着性が著しく向上する。
【００４５】
また、黒化層として、黒色クロム、黒色ニッケル、ニッケル合金等も好ましく、該ニッケル合金としては、ニッケル−亜鉛合金、ニッケル−スズ合金、ニッケル−スズ−銅合金である。特に、ニッケル合金は黒色度合いと導電性が良い上、黒化層に防錆機能も付与でき（黒化層兼防錆層となる）、防錆層を省略することもできる。しかも、通常、黒化層の粒子は針状のために、外力で変形して外観が変化しやすいが、ニッケル合金による黒化層では粒子が変形し難く、後加工工程で外観が変化し難くい利点も得られる。なお、黒化層として、ニッケル合金の形成方法は、公知の電解または無電解メッキ法でよく、ニッケルメッキを行った後に、ニッケル合金を形成してもよい。
【００４６】
〔メッシュ層：防錆層〕
メッシュ層２として、金属層からなるメッシュ状導電体層２１は製造時、取扱時等に錆びて変質し電磁波シールド性能の低下を来す懸念があり、錆びを防ぐ必要がある場合には、防錆層２３でメッシュ状導電体層の露出する面を被覆すると良い。また、前述した黒化層が錆び易い場合には、黒化層も含めて被覆するのが好ましい。防錆層の被覆は、メッシュ状導電体層の表面、裏面、側面の各面のうち必要な１以上の面の中から製造コスト等を勘案して選んだ面について行えば良い。従って、防錆層の被覆は、表面だけ、裏面だけ、表裏両面〔例えば図３（Ａ）参照〕、側面（両側或いは片側）だけ、表面と両側面、裏面と両側面、表裏両面と両側面等である。
【００４７】
防錆層は、それで被覆するメッシュ状導電体層よりも錆び難いものであれば、金属等の無機材料、樹脂等の有機材料、或いはこれらの組合せ等、特に限定されるものではない。また場合によっては、黒化層をも防錆層で被覆することで、黒化層の粒子の脱落や変形を防止し、黒化層の黒さを高めることもできる。この点では、メッシュ状導電体層を金属箔で形成する場合、透明基材上の金属箔に黒化処理で黒化層を設けておく場合には、該黒化層の脱落や変質防止の意味で、透明基材と金属箔との積層前に設けておくのが好ましい。
【００４８】
防錆層２３は、従来公知のものを適宜採用すれば良く、例えば、クロム、亜鉛、ニッケル、スズ、銅等の金属乃至は合金、或いは金属酸化物の金属化合物の層等である。これらは、公知のめっき法等で形成できる。ここで、防錆効果及び密着性等の点で好ましい防錆層の一例を示せば、亜鉛めっきした後、クロメート処理して得られるクロム化合物層が、挙げられる。また、このクロム化合物層による防錆層は、後述する銅−コバルト合金粒子層からなる黒化層、及び、透明基材１とメッシュ層２とを接着積層する際の透明接着剤層５（特に２液硬化型ウレタン樹脂系の接着剤）との密着性にも優れる。
【００４９】
なお、クロムの場合はクロメート（クロム酸塩）処理等でもよい。なお、クロメート処理は、処理面にクロメート処理液を接触させて行うが、該接触は、ロールコート、カーテンコート、スクイズコート、かけ流し法（以上片面接触）等の塗布法の他、静電霧化法、浸漬法等によれば両面接触も可能である。また、接触後は水洗せずに乾燥すればよい。なお、クロメート処理液にはクロム酸を含む水溶液を通常使用し、具体的には、「アルサーフ（登録商標）１０００」（日本ペイント株式会社製）、「ＰＭ−２８４」（日本パ−カライジング株式会社製）等の処理液を利用できる。
また、クロメート処理は、該処理前に亜鉛めっきするのが、密着性、防錆効果の点で好ましい。また、防錆層中には、エッチングや酸洗浄時の耐酸性向上の為に、シランカップリング剤等のケイ素化合物を含有させることもできる。
なお、防錆層の厚さは通常０．００１〜１０μｍ程度、好ましくは０．０１〜１μｍである。
【００５０】
〔着色フィルタ層〕
着色フィルタ層３は、可視光を吸収する無彩色乃至は有彩色の透明層であり、この様な着色フィルタ層自体はネオン光吸収フィルタ、色調整用フィルタ、外光反射防止フィルタ等として電磁波シールドフィルタに於いて既に公知である。特に本発明では、この様な着色フィルタ層を、透明基材上のメッシュ層のディスプレイの観察者側を覆う様な着色フィルタ層３として設けることで、メッシュのラインをより目立ち難くして更に非視認性を向上できる。なお、メッシュ層のディスプレイの観察者側を覆う様に設けるとは、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタをディスプレイ前面に設置した状態でディスプレイ画像の観察者側から見た場合に、メッシュ層が着色フィルタ層を通してしか見えない様に設ける事を意味する。ディスプレイ用電磁波シールドフィルタ１０のメッシュ層２側が観察者側を向く様に、該ディスプレイ用電磁波シールドフィルタ１０が設置される場合は、図４の如く、メッシュ層の表側に着色フィルタ層を形成する。また、透明基材１側が観察者側を向く様にディスプレイ用電磁波シールドフィルタ１０が設置される場合は、図示は省くが、透明基材１の裏側（メッシュ層とは反対側）に着色フィルタ層を形成する。もちろん、この様な着色フィルタ層３無しでも、既にメッシュのラインが目立ち難く更なる非視認性向上が不要ならば、該着色フィルタ層３は省略しても良い。ただ、上記非視認性向上とは別の目的で、例えば、ネオン光吸収、色調整、外光反射防止等の目的で、本発明の着色フィルタ層と同じ層的位置関係の着色フィルタ層があっても良い。また、これら別の目的も兼用する着色フィルタ層３としても良い。
【００５１】
ところで、本発明に於いて、図４の如くメッシュ層の表側を覆う様に設ける着色フィルタ層３には、メッシュ層との層的位置関係で大別して２形態がある。すなわち、図４（Ａ）の断面図で例示の着色フィルタ層３の如く、メッシュ層２による表面凹凸を埋める様に、メッシュ層２を直接的に覆う様に設ける形態と、図４（Ｂ）の断面図で例示の着色フィルタ層３の如く、メッシュ層２による表面凹凸は少なくともその開口部での凹部を埋める無色透明な平坦化樹脂層４で一旦平坦化した後、この平坦化樹脂層４上に間接的にメッシュ層２を覆う様に設ける形態である。
なお、図４（Ａ）の形態での着色フィルタ層３は、メッシュ層２による表面凹凸を平坦化する機能も有する点で図４（Ｂ）で説明した平坦化樹脂層４を兼用する層となる。
また、図４（Ｂ）に於いて、平坦化樹脂層４による平坦化は完全平坦がより好ましいが、完全平坦でなくても平坦により近くなれば良く、また開口部のみを埋めてライン部直上には無くても良い。従って、後者のライン部直上には無い場合は、間接的にメッシュ層２を覆うとは言っても、ライン部直上ではメッシュ層と着色フィルタ層が接するので直接的である。
また、図４（Ｂ）の場合、平坦化樹脂層は接着剤層として機能させても良い。もちろん、該平坦化樹脂層とは別に間に接着剤層（不図示）を設けても良い。
【００５２】
以上の如く、本発明に於ける着色フィルタ層３をメッシュ層の表側に形成する場合は、平坦化樹脂層を兼用する形態〔図４（Ａ）〕でも、兼用しない形態〔図４（Ｂ）〕でも、いずれでも良い。兼用する形態では、その分、層構成が少なくなり製造工程を簡略化できる利点が得られる。また、図４（Ｂ）の様に兼用しない形態では、着色フィルタ層の厚み均一性（フィルタ性能の面均一性）が出し易いという利点が得られ、更にメッシュ層を完全に覆う平坦化樹脂層面上に設け場合には着色フィルタ層に添加する色素がメッシュ層の金属で経時劣化する等の懸念を回避できる利点も得られる。
【００５３】
着色フィルタ層３によって、ラインの非視認性が向上する理由を説明すれば、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタを、その着色フィルタ層側を観察者側とする使用法にて、観察者側からディスプレイ用電磁波シールドフィルタに入射する外光は、メッシュ層で反射されても、着色フィルタ層を往路と復路の少なくとも二回通る。従って、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタを透明基材側からメッシュ層側に通過するディスプレイの画像光が着色フィルタ層を１回しか通過しない場合に比べて、メッシュ層が反射した外光は着色フィルタ層での光吸収が大きい。その結果、ディスプレイの明るさへの悪影響は軽微にしつつ、メッシュ層のメッシュの非視認性が向上することになる。
【００５４】
上述の如き着色フィルタ層３としては、着色ガラスや蒸着薄膜等の無機材料、或いは着色樹脂等の有機材料からなる公知の着色フィルタ材を適宜採用すれば良い。例えば、着色樹脂の場合は、透明な樹脂バインダー中に色素を含有させた層として形成される。また、この様な色素と樹脂バインダーから形成する着色フィルタ層は、塗工法や印刷法等の低コストな形成法が利用できる利点がある。
【００５５】
上記樹脂バインダーの樹脂としては、透明な樹脂であれば特に限定は無く、公知の樹脂を適宜採用すれば良い。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等である。例えば、熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、酢酸ビニル系樹脂等であり、熱硬化性樹脂としては、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、硬化性アクリル樹脂等であり、電離放射線硬化性樹脂としては紫外線や電子線で硬化するアクリレート系樹脂等である。
なお、平坦化樹脂層を兼用させる場合には、平坦化樹脂層としの機能、つまりメッシュ層による凹凸を埋め易い点では、無溶剤或いは無溶剤に近い状態で塗工形成したりできる、電離放射線硬化性樹脂はより好ましい樹脂である。
【００５６】
なお、色素を含む樹脂バインダーで着色フィルタ層を形成するには、上記の如き樹脂と色素と、通常は更に溶剤と、その他必要に応じ各種添加剤等とを含む組成物を、塗液乃至はインキとして用いて、塗工法や印刷法等の公知の層形成法で形成することが出来る。具体的には、メッシュ層積層済みのディスプレイ用電磁波シールドフィルタのディスプレイ観察者側の面、例えば図４の形態であれば、透明基材の該メッシュ層側の面、或いは更に平坦化樹脂層もメッシュ層の面に形成した場合には該平坦化樹脂層の面、に対して、ロールコート、コンマコート、グラビアコート等の塗工法、或いは、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法を適宜採用して形成すれば良い。印刷法は任意形状での部分形成が容易であるが、塗工法でも間欠塗工で部分形成可能である。
【００５７】
また、樹脂バインダー中に含有させる色素としては、非視認性だけを狙うのであれば、可視光領域での光吸収の波長依存性が平坦（乃至は略平坦）な、無彩色のＮＤ（Ｎｅｕｔｒａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ  Ｆｉｌｔｅｒｓ）フィルタが好ましい。しかし、着色フィルタ層３に別の光学フィルタ機能を兼用させても良く、その場合、例えば、ネオン光吸収、色調整等では、意識的に有彩色としても良い。
【００５８】
なお、樹脂バインダー中に含有させる色素としては、上記フィルタ目的に応じた色素とすれば良く、例えば、無彩色のＮＤフィルタでよければ、公知の有機色素や顔料などを適宜使用すれば良い。また、色素は１種単独使用の他、２種以上を併用しても良い。例えば、色素添加で望まずして色彩を呈するならば、これを打ち消し無彩色に近づける別の色素を併用しても良い。
【００５９】
着色フィルタ層は、上記の如き樹脂と、通常は更に溶剤と、その他必要に応じ各種添加剤、色素等とを含む組成物を、塗液乃至はインキとして用いて、塗工法や印刷法等の公知の層形成法で形成することが出来る。具体的には、メッシュ層積層済みの透明基材の該メッシュ層側の面、或いは透明基材側の面に対して、ロールコート、コンマコート、グラビアコート等の塗工法、或いは、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法を適宜採用して形成すれば良い。印刷法は任意形状での部分形成が容易であるが、塗工法でも間欠塗工で部分形成可能である。
【００６０】
〔平坦化樹脂層〕
平坦化樹脂層４は、既に上記着色フィルタ層のところで一部述べたが、図４（Ｂ）の断面図で例示の如く、メッシュ層による表面凹凸を埋めて平坦化し、本発明による着色フィルタ層３を設ける場合は、該着色フィルタ層３の下地層として着色フィルタ層の形成面を平坦化しておくことで着色フィルタ層の厚み均一性を出し易くしたり、該着色フィルタ層３を設けない場合はメッシュ層側で被着体と接着剤等で積層する場合に気泡抱き込み等を防いだり、メッシュ層を外力から保護したりする層である。なお、該保護の点では、この平坦化樹脂層は表面保護層でもある。
この様な平坦化樹脂層４は、透明基材１上に積層したメッシュ層２で生じる凹凸表面に対して、樹脂を含む液状組成物を塗布等で施すことで形成できる。該液状組成物としては、透明な樹脂を含むものであれば特に限定は無く、公知の樹脂を適宜採用すれば良い。例えば、上述着色フィルタ層で列記した熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等である。
【００６１】
なお、平坦化樹脂層の表面を所望の平坦面とするには、賦形シートを利用しても良い。賦形シートの利用方法は、例えば、透明基材上に積層されたメッシュ層の上から、平坦化樹脂層を形成する為の塗液を施して塗膜が液状であるうちに、塗膜表面に賦形シートを被せて、該表面に賦形シートの平坦面を賦形し、塗膜が固化する等、塗膜表面に賦形された表面形状が維持される状態になった後、賦形シートを剥がすことで、平坦化樹脂層の表面を所望の平坦面とする。或いは、塗膜が固化後でも加熱により塑性変形する状態が発現するならば、固化後でも賦形シートを被せて加熱加圧して賦形した後、賦形シートを剥がしても良い。
【００６２】
賦形シートとしては、平坦化樹脂層の塗膜との離型性及び平坦面を有するものであれば特に制限は無く、適宜な材料を選択使用すれば良い。この様な材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂等からなる、各種樹脂シートからなるものが挙げられる。具体例を挙げれば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートシートは好適である。
なお、賦形シートの賦形面（つまり結果的に平坦化樹脂層の表面）は、平坦面とは言っても、鏡面の他、賦形面の接着性向上等を目的とし微凹凸面等としても良い。なお、賦形シートとして樹脂シート単体では、その賦形面の離型性が不足する場合には、賦形面に、シリコーン等の離型性物質からなる離型層を形成すると良い。
【００６３】
なお、上記賦形シートの利用は、着色フィルタ層を平坦化樹脂層と兼用する形態で形成する場合についても、同様に利用しても良い。
【００６４】
また、平坦化樹脂層乃至は平坦化樹脂層を兼用する着色フィルタ層は、平坦化目的の点ではメッシュ層の少なくとも開口部に設ければ平坦化が図れる関係上、メッシュ層が透明基材に該透明基材上の全面の透明接着剤層によって積層され、前記開口部で露出する該透明接着剤層の面が粗面である為に光透過性が低下する場合には、それを防ぐ透明化樹脂層として機能させることもできる。従って、平坦化と透明化を兼用する、平坦化樹脂層乃至は平坦化樹脂層を兼用する着色フィルタ層としても良い。
【００６５】
〔その他の層〕
本発明によるディスプレイ用電磁波シールドフィルタは、更に上述した層以外の層を、適宜必要に応じて積層した構成としても良い。例えば、透明接着剤層、平坦化樹脂層（一部上述した）、上記着色フィルタ層以外のその他の光学フィルタ層、表面保護層、粘着剤層、被着体等である。なおこれらは、従来の電磁波シールドフィルタに於いて公知のものでも良い。
【００６６】
〔その他の層:透明接着剤層〕
透明接着剤層は、図５（Ａ）の断面図で例示の透明接着剤層５の如く、透明基材１とメッシュ層２間に介在させ、これら両層を接着積層させるのに利用される。同図は、メッシュ層２を銅箔等の金属箔から形成した場合のものであり、その結果、メッシュ層２の開口部も含めて透明基材１の全面に透明接着剤層５が存在する形態である。透明接着剤層に用いる透明な接着剤は、特に限定されるものでは無く公知の接着剤を適宜採用すれば良い。例えば、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤等が挙げられる。
【００６７】
〔その他の層:被着体、その他の光学フィルタ層、表面保護層等〕
上記被着体とは、例えば上記着色フィルタ層３以外のその他の光学フィルタ層（フィルム、シート、板）、表面保護層（フィルム、シート、板）等であり、図５（Ｂ）の断面図で例示の被着体６は、着色フィルタ層３を接着層と兼用させる形態或いは兼用しない形態で、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタ１０の表面側に組み込んだ例を示す。なお、ここでの光学フィルタ層の光学フィルタ機能としては、近赤外線吸収、反射防止（含む防眩）、色調調整（ネオン光吸収、色再現性向上）、紫外線吸収等である。また、表面保護層の機能としては、防汚染、ハードコート等である。これらは、従来公知のものを適宜採用すれば良い。また、その他の光学フィルタ層、表面保護層は被着体としてではなく、塗布等によって、適宜な層間や最表面に形成しても良い（但し、表面保護層は最表面に形成）。
【００６８】
また、被着体６は、逆に、図５（Ｃ）の断面図に例示の如く、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタの裏側に積層しても良い。同図では、該被着体６の裏面をディスプレイ側露出面となる。また、同図では、透明基材１と被着体６間には特に明示は無いが、これら同士に接着性がない場合には適宜透明な接着層を間に介して積層する。なお、上記平坦化樹脂層を接着層と兼用する場合も含めて、接着層としては、粘着性の無い接着剤、或いは粘着剤（粘着剤層）等の公知の接着剤を採用すれば良い。また、被着体はディスプレイ用電磁波シールドフィルタの表裏裏面に積層しても良い。その場合、表裏で被着体の種類（機能）を使い分けることができる。
なお、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタの表面側を観察者側とする場合、該フィルタの裏側に積層する被着体としては、ディスプレイ自体の前面板等も挙げられる。
【００６９】
〔その他〕
なお、透明基材、平坦化樹脂層、透明接着剤層、表面保護層、接着層、粘着剤層、被着体等を構成する樹脂中には、外光反射防止用色素、ネオン光吸収剤、色調整用色素、等の電磁波シールドフィルタに於いて公知の色素を適宜添加しても良い。
【００７０】
また、メッシュ層詳細を説明する図３、その他の層を説明する図４及び図５等は、各一例ずつを例示したものであるが、これらは適宜組み合わせた構成としても良いことは、もちろんである。また、本発明は、これら図面、乃至は以下の実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００７１】
以下、実施例及び比較例にて、本発明を更に具体的に説明する。
【００７２】
〔実施例１〕
メッシュの形状が図１（Ｂ）及び（Ｃ）、メッシュ層層構成は図３（Ａ）のような、所望のディスプレイ用電磁波シールドフィルタ１０を次の様にして作製した。先ず、メッシュ状導電体層２１とする金属箔として、一方の面に銅−コバルト合金粒子から成る黒化層２２が形成された厚さ１０μｍの連続帯状の電解銅箔を用意した。また、透明基材１として厚さ１００μｍで連続帯状のウェブである無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
【００７３】
そして、前記銅箔の両面に対して、亜鉛めっき後、ディッピング法にて公知のクロメート処理を行い、表裏両面に防錆層２３を形成した。次いで、この銅箔をその黒化層面側で上記透明基材に、透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤でドライラミネートした後、５０℃３日間養生して、銅箔（防錆層）と透明基材間に厚さ７μｍの透明接着剤層５を有する連続帯状のウェブとして銅貼積層シートを得た〔透明接着剤層は図５（Ａ）参照〕。
【００７４】
次いで、上記銅貼積層シートに対して、その銅箔（全面の、導電体層、黒化層及び防錆層）をフォトリソグラフィ法を利用したエッチングにより、防錆層２３、メッシュ状導電体層２１及び黒化層２２からなるメッシュ層２が透明基材１上に形成されたメッシュ積層シートを得た。
エッチングは、具体的には、カラーＴＶシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記銅貼積層シートに対してマスキングからエッチングまでを行った。すなわち、上記銅貼積層シートの導電体層面全面にエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキング後、塩化第二鉄溶液で黒化層、防錆層を含めて銅箔をエッチングしてメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
【００７５】
メッシュ層のメッシュ形状は、図１（Ｂ）のような、開口部ＡOが正方形でこれを縦横に規則配列した正方格子形状で、メッシュのライン幅Ｗが５０μｍ、ラインピッチＰが５００μｍで（開口率Ｋは８１％となる）、メッシュ部２Ａの長方形領域の長辺〔図１（Ｃ）参照〕に対する劣角として定義されるバイアス角度４９度である。また、メッシュ層のメッシュ部２Ａの大きさは、対角寸法Ｌで８２０ｍｍ（３２Ｖ型相当）でアスペクト比が横：縦＝１６：９のワイド画面に対応したメッシュ部形状である。また、メッシュ層のメッシュは、連続帯状のウェブを所望の大きさの枚葉の四角形のシートに切断した時に、その四辺外周に開口部が無い幅４０ｍｍの額縁状の非メッシュ部２Ｂを残す様にエッチングした。
【００７６】
次いで、一旦巻き取られた上記メッシュ積層シートを、巻き出してそのメッシュ層２の面に対して、平坦化樹脂層４を形成する為に、アクリル樹脂系塗液を非メッシュ部２Ｂは部分的に露出させる様に間欠ダイコート法による間欠塗工によって、メッシュ層上に塗布した。塗工は、メッシュ部からその外周の非メッシュ部に向かって２．５ｍｍだけ非メッシュ部に進入した位置まで塗工し、その外側の非メッシュ部は塗工せずに露出部として残す様にした。また、平坦化樹脂層４は、メッシュ部に於いてその開口部と共にライン部直上も含めてメッシュ層上に連続層として形成した（ライン部直上での厚み８μｍ）。
【００７７】
そして、上記塗布後、溶剤を乾燥後の塗膜に対して、平坦面を賦形する賦形シートとして、厚さ５０μｍで連続帯状の市販の２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムをその易接着処理未処理面で塗膜にラミネートした後、剥離し、表面が平坦でメッシュ層のメッシュ部（及び非メッシュ部の一部）を覆う透明な平坦化樹脂層４を形成した。
【００７８】
次いで、アクリル樹脂のバインダー中に黒色系有機色素を添加した透明黒色塗料を、上記部分形成された平坦化樹脂層４上に非メッシュ部の露出部は残す様に間欠塗工し、厚さ１０μｍで（着色フィルタ層単体での）可視光線透過率が７０％の着色フィルタ層３を形成した後、図１（Ｃ）のような四角形の枚葉のシートに切断して、所望のディスプレイ用電磁波シールドフィルタ１０を作製した〔図４（Ｂ）参照、但し、透明接着剤層５は不図示〕。
【００７９】
〔実施例２〕
実施例１において、ライン幅Ｗを１００μｍ、ラインピッチＰを１０００μｍ（開口率Ｋは８１％で同じ）に変更した他は、実施例１と同様にして、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタを作成した。
【００８０】
〔実施例３〕
実施例１において、着色フィルタ層の形成を省略した他は、実施例１と同様にして、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタを作成した。
【００８１】
〔比較例１〕
実施例１において、ライン幅Ｗを４０μｍ、ラインピッチＰを４００μｍ（開口率Ｋは８１％で同じ）に変更し、且つ着色フィルタ層の形成を省略した他は、実施例１と同様にして、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタを作成した。
【００８２】
〔比較例２〕
実施例１において、ライン幅Ｗを１０μｍ、ラインピッチＰを２００μｍ（開口率Ｋは９０．３％になる）に変更し、且つ着色フィルタ層の形成を省略した他は、実施例１と同様にして、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタを作成した。
【００８３】
〔比較例３〕
実施例１において、ライン幅Ｗを２００μｍ、ラインピッチＰを１０００μｍ（開口率Ｋは６４％になる）に変更した他は、実施例１と同様にして、ディスプレイ用電磁波シールドフィルタを作成した。
【００８４】
〔性能評価〕
実施例及び比較例の各ディスプレイ用電磁波シールドフィルタについて、メッシュのラインの非視認性と、製造時の該ラインの断線の発生具合を評価した。結果は表１に示す。
【００８５】
（１）ラインの非視認性：ディスプレイ用電磁波シールドフィルタをそのメッシュ層側を観察者側に向けてＰＤＰの前面に配置し、明視距離１００ｃｍの位置からラインが目立つか否か、目視で観察して比較評価した。ラインが目立たないものは良好（○）、やや目立つが良好レベル内であるものはほぼ良好（△）、目立つものは不可（×）と評価した。
（２）ラインの断線：同条件にて加工した各実施例及び比較例の電磁波シールドフィルタについて、メッシュ層のライン部ＡLを顕微鏡にて拡大観察した。メッシュ部内に於いて、ライン部ＡLに断線、或いは傾斜（エッチング時点で透明基材上に垂直に立ち上がっているライン部ＡL側面が、傾斜している状態。ライン部側面と透明基材表面との成す角度が９０°未満或いは９０°超過となった状態）の何れも認められ無かったものを良好（○）とした。又ライン部ＡL断線、或は傾斜の何れか認められたものは不可（×）と評価した。
【００８６】
【表１】
2006210763.tif 000003
【００８７】
表１の如く、非視認性は、着色フィルタ層が無い実施例３こそほぼ良好となったが、着色フィルタ層が有る実施例１と実施例２は、着色フィルタ層によってラインが目立たなくなり、実施例３に対してライン幅Ｗが１００μｍと太い実施例２も含めて、良好となった。また、これら実施例１〜３は全て断線も良好となった。しかし、比較例１と比較例２は、非視認性は良好であったが、断線が不可となった。また、ライン幅を太く２００μｍとした比較例３は、断線は良好だが非視認性が不可となった。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明によるディスプレイ用電磁波シールドフィルタをその一形態で概念的に例示する説明図であり、（Ａ）は層構成の断面図、（Ｂ）はメッシュ形状の部分拡大平面図、（Ｃ）はメッシュ部とその対角寸法を示す全体平面図。
【図２】ライン幅Ｗ、及びラインピッチＰの望ましい組み合わせ範囲を示す説明図。
【図３】メッシュ層の層構成の詳細構成として２例を例示する断面図。
【図４】着色フィルタ層を有する構成例として２例を例示する断面図。
【図５】着色フィルタ層を除く透明基材とメッシュ層以外の追加的な層構成として３例を例示する断面図。
【符号の説明】
【００８９】
１    透明基材
２    メッシュ層
２Ａ  メッシュ部
２Ｂ  非メッシュ部
２１  メッシュ状導電体層
２２  黒化層
２３  防錆層
３    着色フィルタ層
４    平坦化樹脂層
５    透明接着剤層
６    被着体
１０    ディスプレイ用電磁波シールドフィルタ
ＡL  ライン部（非開口部）
ＡO  開口部
Ｌ    対角寸法
Ｐ  ラインピッチ
Ｗ  ライン幅
【図１】
2006210763.tif 000004
【図２】
2006210763.tif 000005
【図３】
2006210763.tif 000006
【図４】
2006210763.tif 000007
【図５】
2006210763.tif 000008