(57)【要約】【課題】  蒸着により形成される薄膜の品質を向上し、装置の稼働率を向上し得る蒸着装置を提供することを目的とする。【解決手段】  ガラス基板１が配置されて蒸着が行われる蒸着用容器３内に、蒸発材料を放出する放出孔１１ｄが形成され、放出孔１１ｄからガラス基板１に向かう蒸発材料の飛翔経路Ｘを遮断または開放するシャッター１２と、シャッター１２に付着した蒸着材料である蒸着物１６を掻き落とすスクレーパー１７を備え、シャッター巻取り部材１４の巻取り回数が所定回数に到達するごとに、蒸着物１６がスクレーパー１７により掻き落とされるため、一連の成膜工程において蒸着物１６が落下することを防止することができ、したがって蒸着により形成される薄膜の品質を向上させることができる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸発された蒸着材料である蒸発材料を被蒸着部材に付着させて蒸着を行う蒸着装置であって、
前記被蒸着部材が配置されて蒸着が行われる蒸着用容器内に、
前記蒸発材料を放出する放出孔が形成され、前記放出孔から前記被蒸着部材に向かう前記蒸発材料の飛翔経路を遮断または開放する遮蔽手段と、
前記遮蔽手段に付着した蒸着材料である蒸着物を掻き落とす除去手段
を備えたこと
を特徴とする蒸着装置。
【請求項２】
前記遮蔽手段は、シート状に形成され、前記蒸発材料の前記飛翔経路を開放する開口部を有すること
を特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記遮蔽手段の巻取りを行う巻取り手段を備え、前記巻取り手段により前記飛翔経路の遮断または開放が行われること
を特徴とする請求項２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記遮蔽手段の張りを均等にする張り調整手段を備え、前記張り調整手段に前記遮蔽手段を冷却する冷却手段を具備したこと
を特徴とする請求項２または請求項３に記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記除去手段は、前記飛翔経路外に配置されていること
を特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被蒸着部材に蒸発させた材料を蒸着させる装置に関し、例えば有機ＥＬディスプレイなどの画像表示部を製造するための蒸着装置などにも適用可能な技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイの薄型化が進み、この種のディスプレイとしては、液晶ディスプレイの実用化が非常に進んでいる。この液晶画面については、バックライトを必要とするもので、視野範囲、消費電力などの点で難点があり、最近、自発光性の有機ＥＬ方式のディスプレイが注目されている。
【０００３】
ところで、有機ＥＬディスプレイの基本構造は、ガラス基板上に、陽極（透明電極）を配置し、この上に、ホール輸送層および発光層が順番に配置され、さらに陰極が配置されたものであり、少なくとも、前記発光層については、有機材料が蒸着により形成されている。
【０００４】
そして、基板上に、蒸着により薄膜を形成する場合、真空容器内に有機材料の蒸発源を配置しておき、真空状態で蒸発源を加熱し、その蒸気（以下、蒸発材料という）を同じく真空容器内に配置された基板の表面に付着させることにより薄膜が形成されていた。
【０００５】
ところで、上記蒸発源からの蒸発材料の飛翔経路を遮って、蒸発材料の供給制御を行うシャッターを備えたものがある。
このようなシャッターを備えた蒸着装置として、特許文献１には、異なる材料で形成された３基のシャッターが設けられており、蒸発材料に対応してシャッターを使い分けて、蒸発源の坩堝穴から被蒸着部材に対して蒸発材料の供給制御を行っている。これにより、一連の成膜工程において、各シャッター板に付着する蒸着物の量が少なくされ、また、各シャッター板の上部に設けられた遮閉壁を蒸着物質と同値または近似する値の熱膨張率を有する材料で形成し、蒸着物の剥離を阻止することにより、成膜時に蒸着物が蒸着源の坩堝内に落ち込み、膜品質（純度）が低下されることが抑制され、さらに、シャッター板のクリーニング間隔が長くなるため、装置の稼働率の向上がはかられていた。
【特許文献１】実公平６−９０１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記した従来の構成によると、複数種の蒸発材料全てに対応するシャッター板を備えてないため、シャッター板を異なる蒸発物質で共用することになり、各シャッター板に付着する蒸着物が坩堝穴に落下し、剥離された蒸着物の混ざった蒸発材料が蒸発されると、純度の低下した蒸発材料が被蒸着部材へ向かうことになり、蒸着後の膜厚分布を所定の範囲内に抑えることができず、したがって蒸着により形成される薄膜の品質が低下するという問題がある。
【０００７】
また、上記坩堝穴から蒸発材料を被蒸着部材に直接飛翔させるのではなく、蒸発材料を移送する移送管やその先端に設けられ放出孔が複数形成されている放出用容器などを介して蒸発材料を被蒸着部材に飛翔させる際、移送管や放出用容器は内部で蒸発材料が蒸着しないように加熱されており、このような構成に特許文献１のシャッター板を設けた場合、シャッター板から放出用容器の上面に落下した蒸着物は、加熱されて蒸発され、放出用容器の放出孔から放出される蒸発材料と混ざることとなるため、被蒸着部材において所望の膜厚分布が得られなくなるという問題がある。
【０００８】
さらに、シャッター板のクリーニング作業は、所定期間ごとに、真空容器の開放により容器外に取り出して行わなければならないため、装置の稼働率が低下するという問題がある。
【０００９】
そこで本発明は、蒸着により形成される薄膜の品質を向上し、装置の稼働率を向上し得る蒸着装置を提供することを目的としたものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記した目的を達成するために、本発明の請求項１に記載の発明は、蒸発された蒸着材料である蒸発材料を被蒸着部材に付着させて蒸着を行う蒸着装置であって、前記被蒸着部材が配置されて蒸着が行われる蒸着用容器内に、前記蒸発材料を放出する放出孔が形成され、前記放出孔から前記被蒸着部材に向かう前記蒸発材料の飛翔経路を遮断または開放する遮蔽手段と、前記遮蔽手段に付着した蒸着材料である蒸着物を掻き落とす除去手段を備えたことを特徴としたものである。
【００１１】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明であって、前記遮蔽手段は、シート状に形成され、前記蒸発材料の前記飛翔経路を開放する開口部を有することを特徴としたものである。
【００１２】
そして、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明であって、前記遮蔽手段の巻取りを行う巻取り手段を備え、前記巻取り手段により前記飛翔経路の遮断または開放が行われることを特徴としたものである。
【００１３】
さらに、請求項４に記載の発明は、請求項２または請求項３に記載の発明であって、前記遮蔽手段の張りを均等にする張り調整手段を備え、前記張り調整手段に前記遮蔽手段を冷却する冷却手段を具備したことを特徴としたものである。
【００１４】
しかも、請求項５に記載の発明は、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の発明であって、前記除去手段は、前記飛翔経路外に配置されていることを特徴としたものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の蒸着装置は、遮蔽手段が所定回数蒸発材料の飛翔経路を遮蔽および開放するごとに、遮蔽手段の下面に付着している蒸着物が除去手段により掻き落とされるため、一連の成膜工程において蒸着物が落下することを防止することができ、したがって蒸着により形成される薄膜の品質を向上させることができる。
【００１６】
また、蒸着物の回収作業は、被蒸着部材の交換中や、蒸着装置稼動中、すなわち被蒸着部材に対して薄膜を形成しつつ行うことができるため、蒸着装置の稼働率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
[実施の形態１]
以下に、本発明の実施の形態１に係る蒸着装置について、図面を参照しながら説明する。
【００１８】
図１に示すように、上記蒸着装置は、ガラス基板（被蒸着部材の一例）１が、その蒸着面が下方となるように、水平方向で挿入されるとともに保持具２により保持されている蒸着用容器（蒸着室または蒸着チャンバーともいう）３と、この蒸着用容器３の下方に配置されて有機材料の蒸発（以下、有機材料を蒸着材料といい、蒸発した有機材料を蒸発材料という）が行われる蒸発用容器（蒸発室ともいう）４と、蒸着用容器３と蒸発用容器４とを接続する連通穴部５ａが形成されるとともに、ニードルバルブ（流量調整弁の一例）６および蒸気用ゲートバルブ（仕切弁の一例）７が介装された接続部材５とを有している。
【００１９】
図１および図２に示すように、上記蒸着用容器３は、平面視が矩形状の箱体（直方体状）に形成され、この箱体の内部を蒸発材料の拡散空間とし、下面１１ａの中央に形成されている蒸気導入口１１ｂが接続部材５の連通穴部５ａと連通された状態で接続され、上面１１ｃに複数の放出孔１１ｄが形成され、加熱手段（例えばシースヒータ、図示せず）により全体が所定温度に保たれている放出用容器１１と、薄板金属シートによりシート状に形成され、放出孔１１ｄより放出される蒸発材料がガラス基板１に向かう飛翔経路Ｘを遮断または開放し、蒸発材料の供給制限を行うシャッター（遮蔽手段の一例）１２と、飛翔経路Ｘ外である放出用容器１１の長手方向（シャッター１２の移動方向）における両側外方の上方に、放出用容器１１の短手方向（シャッター１２の移動方向と直交した方向）と平行に配置され、シャッター１２のテンションを均等にする円筒状のテンションローラ（張り調整手段の一例）１３と、飛翔経路Ｘ外である各テンションローラ１３の上方に、放出用容器１１の短手方向と平行に配置され、シャッター１２の巻取りを行う円筒状のシャッター巻取り部材（巻取り手段の一例）１４と、冷却水を供給する冷却水供給部（図示せず）から各テンションローラ１３の円筒内を介して再度冷却水供給部へ接続されるよう配設され、シャッター１２の冷却を行う冷却水用配管（冷却手段の一例）１５と、飛翔経路Ｘ外である一方のテンションローラ１３の外方かつ一方のシャッター巻取り部材１４の下方に、放出用容器１１の短手方向と平行に配置され、シャッター１２の下面に付着している固化した蒸発材料である蒸着物１６を掻き落とす断面が三角柱状のスクレーパー（除去手段の一例）１７と、スクレーパー１７の下方に設けられ、スクレーパー１７により掻き落とされた蒸着物１６を回収する回収容器１８を備えている。なお、上記放出孔１１ｄは、放出用容器１１の上面１１ｃにおける長手方向の両側において短手方向に３つずつ形成されているとともに、上面１１ｃの中央付近において短手方向に２つずつ２列形成されている。
【００２０】
また、蒸着用容器３には、ゲートバルブ（仕切弁）１９ａが介装され、真空ユニット（図示せず）により蒸発用容器３内を真空雰囲気にする真空用ポート１９と、ゲートバルブ（仕切弁）２０ａが介装され、ガラス基板１の搬入および搬出を行う搬入出用ポート２０を備えている。
【００２１】
上記シャッター１２は、図３に示すように、矩形状に形成され、両側から所定の長さ形成されている巻取り部１２ａと、一方の巻取り部１２ａと隣接して形成され、蒸発材料の飛翔経路Ｘを遮断するシャッター閉部１２ｂと、他方の巻取り部１２ａおよびシャッター閉部１２ｂにそれぞれ隣接して形成されているテンション部１２ｃと、両テンション部１２ｃの間に形成され、蒸発材料の飛翔経路Ｘを開放する矩形状の開口部１２ｅが形成されているシャッター開部１２ｄにより形成されている。
【００２２】
上記スクレーパー１７は、放出用容器１１の短手方向と平行に配置されている回転軸１７ａを有しており、この回転軸１７ａを回転駆動させることにより、スクレーパー１７の先端部をシャッター１２の下面に当接または離間させることができる。
【００２３】
また、図４に示すように、蒸着装置は駆動装置３１と制御装置４１と指令部（図示せず）を備えており、上記駆動装置３１は、シャッター巻取り部材１４と接続され、指令部から開閉指令を入力することによりシャッター巻取り部材１４を回転駆動させる第１回転駆動部３２と、スクレーパー１７の回転軸１７ａと接続され、回転軸１７ａを回転駆動させる第２回転駆動部３３を有している。また、上記制御装置４１は、上記開閉指令が入力され、シャッター巻取り部材１４によるシャッター１２の巻取り回数、すなわち開閉指令の入力回数をカウントするカウンタ４２と、カウンタ４２から入力されたシャッター巻取り部材１４の巻取り回数が所定回数（例えば２０回、任意に設定変更可能）となった場合、第２回転駆動部３２に回転指令を出力する制御部４３を有している。
【００２４】
上記蒸発用容器４は、加熱用電熱線（加熱手段）２１ａを有し、この加熱用電熱線２１ａにより蒸着材料を加熱して蒸発させる材料収納容器（蒸発源または蒸発ポットともいう）２１と、ゲートバルブ（仕切弁）２２ａが介装され、真空ユニット（図示せず）により蒸発用容器４内を真空雰囲気にする真空用ポート２２と、ゲートバルブ（仕切弁）２３ａが介装され、材料収納容器２１の搬入および搬出を行う搬入出用ポート２３などを備えている。
【００２５】
以下に、上記した実施の形態１における作用を説明する。
蒸発用容器４の加熱用電熱線２１ａにより材料収納容器２１内の蒸着材料が加熱され蒸発されると、蒸発した蒸着材料である蒸発材料は、連通穴部５ａを介して放出用容器１１へ導かれ、各放出孔１１ｄよりガラス基板１へ放出される。
【００２６】
ガラス基板１交換後の蒸着開始時や、材料収納容器２１交換後において安定的に蒸発材料が得られるようになってから、蒸発材料を各放出孔１１ｄからガラス基板１へ放出する際、放出用容器１１の上方に位置するシャッター１２を開動し、すなわち第１回転駆動部３２によりシャッター巻取り部材１４を回転駆動させて放出用容器１１の上方に位置するシャッター１２をシャッター開部１２ｄとし、蒸発材料の放出を開始する。また、蒸着終了後のガラス基板１交換前や、材料収納容器２１交換前などには、開動時とは異なる方向へシャッター巻取り部材１４を回転させて、放出用容器１１の上方に位置するシャッター１２を閉動し、すなわち第１回転駆動部３２によりシャッター巻取り部材１４を回転駆動させて放出用容器１１の上方に位置するシャッター１２をシャッター閉部１２ｂとし、蒸発材料の飛翔経路Ｘを遮断する。なお、放出用容器１１の上方に位置するシャッター１２がシャッター閉部１２ｂであるとき、冷却された冷却水用配管１５によりシャッター１２の下面に固化された蒸発材料である蒸着物１６が付着することとなる。
【００２７】
ここで、シャッター巻取り部材１４の巻取り回数（開閉指令の入力回数）はカウンタ４２によりカウントされており、制御部４３は、カウンタ４２から入力されたシャッター巻取り部材１４の巻取り回数を入力して、その巻取り回数が所定回数に到達したことを検知すると、第２回転駆動部３２に回転指令を出力し、回転軸１７ａを回転駆動させ、スクレーパー１７の先端をシャッター１２の下面と接触させる。そして、シャッター１２の下面に付着している蒸着物１６は、次のシャッター巻取り部材１４によるシャッター１２の巻取り時にスクレーパー１７により掻き落とされ、収納容器１８に収納される。
【００２８】
このように、シャッター巻取り部材１４の巻取り回数が所定回数に到達するごとに、シャッター１２の下面に付着している蒸着物１６がスクレーパー１７により掻き落とされるため、一連の成膜工程において蒸着物１６が放出用容器１１等の加熱された部分へ落下することが防止される。また、シャッター１２のメンテナンスの回数が低減されるため、蒸着用容器３の開放やシャッター１２のクリーニング等を行う作業員の手間が軽減される。
【００２９】
また、シャッター巻取り部材１４の巻取り回数が所定回数に到達するごとに、シャッター１２の下面に付着している蒸着物１６がスクレーパー１７により掻き落とされ、蒸着物１６が放出用容器１１の上面へ落下することが防止されるため、放出用容器１１の各放出孔１１ｄから放出される蒸発材料に他の蒸発材料が混ざることが無くなり、したがってガラス基板１は所望の膜厚分布とされる。
【００３０】
また、上述した蒸着物１６の回収作業は、ガラス基板１の交換中や、蒸着装置稼動中、すなわちガラス基板１に対して薄膜を形成しつつ行われるため、蒸着装置の稼働率が向上される。
【００３１】
さらに、各テンションローラ１３の円筒内に冷却水用配管１５が配設され、冷却水供給部から冷却水用配管１５へ約２０℃の冷却水を循環させることにより、各テンションローラ１３を介してシャッター１２が冷却され、材料収納容器２１からガラス基板１への熱（輻射熱）の移動が抑制されるため、ガラス基板１での温度上昇が抑制され、したがってガラス基板１に配置されているマスクの熱膨張が阻止されて成膜精度が向上され、蒸着サイズが変化することを防止される。具体的に、放出用容器１１とガラス基板１との温度差ΔＴは、冷却水用配管１５に冷却水を循環させることなく、放出用容器１１を３３０℃で運転させた場合、ΔＴ＝４０℃前後となったが、冷却水用配管１５へ約２０℃の冷却水を循環させて、放出用容器１１を３３０℃で運転させた場合、ΔＴ＝５℃前後となるため、ガラス基板１側での温度上昇が抑制される。
【００３２】
加えて、シャッター１２は金属シートのみにより形成されているため、複数の材料により複数のシャッターを構成する場合と比較して、シャッター１２を製造するコストが低減される。
【００３３】
以上のように実施の形態１によれば、シャッター巻取り部材１４の巻取り回数が所定回数に到達するごとに、シャッター１２の下面に付着している蒸着物１６がスクレーパー１７により掻き落とされるため、一連の成膜工程において蒸着物１６が落下することを防止することができ、したがって蒸着により形成される薄膜の品質を向上させることができる。
【００３４】
また、実施の形態１によれば、シャッター巻取り部材１４の巻取り回数が所定回数に到達するごとに、シャッター１２の下面に付着している蒸着物１６がスクレーパー１７により掻き落とされ、蒸着物１６が放出用容器１１の上面へ落下することが防止されるため、放出用容器１１の各放出孔１１ｄから放出される蒸発材料に他の蒸発材料が混ざることが無くなり、したがってガラス基板１を所望の膜厚分布とすることができる。
【００３５】
また、実施の形態１によれば、上述した蒸着物１６の回収作業は、ガラス基板１の交換中や、蒸着装置稼動中、すなわちガラス基板１に対して薄膜を形成しつつ行われるため、蒸着装置の稼働率を向上させることができる。
【００３６】
なお、実施の形態１では、放出用容器１１の放出孔１１ｄは、放出用容器１１の上面１１ｃにおける長手方向の両側において短手方向に３つずつ形成されているとともに、上面１１ｃの中央付近において短手方向に２つずつ２列形成されていたが、他の配置パターンでもよい。
【００３７】
また、実施の形態１では、放出用容器１１は、平面視が矩形状の箱体（直方体状）に形成されていたが、平面視で円状の箱体など他の形状であってもよい。
また、実施の形態１では、シャッター１２が、放出用容器１１と放出用容器１１の上方に位置するガラス基板１との間に配置されるアップデポ方式の蒸着方法であったが、各部材および容器がそれぞれ逆方向に配置されるダウンデポ方式、もしくはアップデポ方式の状態で配置されている各部材および容器を９０°回転させた状態の配置となるサイドデポ方式であってもよい。
【００３８】
また、実施の形態１では、シャッター巻取り部材１４の巻取り回数が所定回数に到達するごとに、スクレーパー１７によりシャッター１２の下面に付着している蒸着物１６が掻き落とされていたが、ガラス基板１交換時や材料収納容器２１交換時等の蒸着作業中断時に、巻取り回数に関係なくスクレーパー１７により蒸着物１６を掻き落としてもよい。この場合、回転指令が第２回転駆動部３３に入力されて、スクレーパー１７がシャッター１２と接し、続いて第１回転駆動部３２に開閉指令が入力されて、蒸着物１６の掻き落としが実施され、そしてカウンタ４２に入力された開閉指令はクリアされる。
[実施の形態２]
以下に、本発明の実施の形態２に係る蒸着装置について、図面を参照しながら説明する。
【００３９】
なお、実施の形態１と実施の形態２の異なる箇所は、材料収納容器２１の位置、シャッター１２および放出用容器１１などの構成であるため、本実施の形態２においては、これら異なる部分に着目して説明するとともに、他の構成部材については、実施の形態１と同一の番号を付して説明を行うものとする。また、実施の形態１では、図４に示すように、第１回転駆動部３２はシャッター巻取り部材１４を回転駆動させていたが、実施の形態２では、第１回転駆動部３２はシャッター用回転軸５２（後述する）を回転駆動させている。
【００４０】
図５（ａ）に示すように、蒸着用容器３は、平面視が円形状の円筒型に形成され、材料収納容器２１により蒸発された蒸発材料がガラス基板１に向かう飛翔経路Ｘを遮断または開放し、蒸発材料の供給制限を行うシャッター（遮蔽手段の一例）５１と、このシャッター５１の下面における偏心した位置に鉛直方向に接続され、第１回転駆動部３２によって回転駆動されることにより、シャッター５１を回転させるシャッター用回転軸５２と、シャッター５１の下方における飛翔経路Ｘを遮断しない位置に、シャッター用回転軸５２を回転させることによりシャッター５１により描かれる円の軌跡における半径方向に配置され、シャッター５１の下面に付着している蒸着物１６を掻き落とす断面が三角柱状のスクレーパー（除去手段）５３と、スクレーパー５３の下方に設けられ、スクレーパー５３により掻き落とされた蒸着物１６を回収する回収容器５４などを備えている。
【００４１】
図５（ｂ）に示すように、シャッター用回転軸５２およびシャッター５１内には、冷却水を供給する冷却水供給部（図示せず）と接続された冷却水用配管（冷却手段の一例）５５が設けらており、この冷却水用配管５５は、シャッター用回転軸５２内に設けられ、鉛直方向に直線状に形成されている配管５５Ａと、シャッター５１内に設けられ、シャッター５１の外周部に沿って円形状に形成されている配管５５Ｂとから構成されている。なお、上記冷却水用配管５５は、シャッター用回転軸５２を支持する支持体内に設けられている配管（図示せず）と、回転継手（図示せず）を介して接続されている。
【００４２】
以下に、上記した実施の形態２における作用を説明する。
蒸発材料を材料収納容器２１からガラス基板１へ放出する際、蒸発材料をガラス基板１の表面へ均一に蒸着させるため、放出用容器１１の上方に位置するシャッター５１を回転させ、蒸発材料の放出量を調整する。なお、放出用容器１１の上方にシャッター５１が位置したとき、シャッター５１の下面に複数の蒸着物１６が付着することとなる。
【００４３】
ここで、シャッター用回転軸５２の回転数はカウンタ４２によりカウントされており、制御部４３は、カウンタ４２から入力されたシャッター用回転軸５２の回転数を入力して、その回転数が所定回数に到達したことを検知すると、第２回転駆動部３２に回転指令を出力し、回転軸５３ａを回転駆動させ、スクレーパー５３の先端をシャッター５１の下面と接触させる。そして、スクレーパー５３によりシャッター５１の下面に付着している複数の蒸着物１６が掻き落とされると、蒸着物１６は落下し、収納容器５４に収納される。
【００４４】
このように、シャッター用回転軸５２が所定回数回転するごとに、シャッター５１の下面に付着している蒸着物１６がスクレーパー１７により掻き落とされるため、一連の成膜工程において蒸着物１６が落下することが防止される。また、シャッター５１のメンテナンスの回数が低減されるため、蒸着用容器３の開放やシャッター５１のクリーニング等を行う作業員の手間が軽減される。
【００４５】
また、上述した蒸着物１６の回収作業は、ガラス基板１の交換中や、蒸着装置稼動中、すなわちガラス基板１に対して薄膜を形成しつつ行われるため、蒸着装置の稼働率が向上される。
【００４６】
さらに、シャッター用回転軸５２およびシャッター５１内には冷却水用配管５５を配設しており、冷却水供給部から冷却水用配管１５へ約２０℃の冷却水を循環させることにより、シャッター５１が冷却され、材料収納容器２１からガラス基板１への熱（輻射熱）の移動が抑制されるため、ガラス基板１での温度上昇が抑制され、したがってガラス基板１に配置されているマスクの熱膨張が阻止されて成膜精度が向上され、蒸着サイズが変化することを防止される。
【００４７】
加えて、シャッター５１は金属のみ（１つの材料）により形成されているため、複数の材料により複数のシャッターを構成する場合と比較して、シャッター５１を製造するコストが低減される。
【００４８】
以上のように実施の形態２によれば、シャッター用回転軸５２が所定回数回転するごとに、シャッター５１の下面に付着している蒸着物１６がスクレーパー５３により掻き落とされるため、一連の成膜工程において蒸着物１６が落下することを防止することができ、したがって蒸着により形成される薄膜の品質を向上させることができる。
【００４９】
また、実施の形態２によれば、上述した蒸着物１６の回収作業は、ガラス基板１の交換中や、蒸着装置稼動中、すなわちガラス基板１に対して薄膜を形成しつつ行われるため、蒸着装置の稼働率を向上させることができる。
【００５０】
なお、実施の形態２では、シャッター用回転軸５２がシャッター５１の下面における偏心した位置に鉛直方向に接続され、平面視が円形状の円筒型に形成されたシャッター５１が使用されていたが、図６（ａ）に示すように、シャッター用回転軸５２がシャッター６１の円心に位置して鉛直方向に接続され、平面視が円形状の円筒型を扇形状に切り欠いたシャッター６１を使用してもよい。
【００５１】
このとき、シャッター用回転軸５２およびシャッター６１内に設けられている冷却水用配管６２は、図６（ｂ）に示すように、シャッター用回転軸５２内に設けられ、鉛直方向に直線状に形成されている配管６２Ａと、シャッター６１の外周部に沿って形成されている６２Ｂとから構成される。この構成にについても、上記実施の形態２と同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の実施の形態１における蒸着装置の縦断面図である。
【図２】同蒸着装置の要部の斜視図である。
【図３】同シャッターの平面図である。
【図４】同蒸着装置の制御ブロック図である。
【図５】本発明の実施の形態２における蒸着装置であり、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は斜視図である。
【図６】本発明の実施の形態２における他の蒸着装置であり、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は斜視図である。
【符号の説明】
【００５３】
１            ガラス基板（被蒸着部材）
３            蒸着用容器
１１ｄ        放出孔
１２          シャッター（遮蔽手段）
１２ｅ        開口部
１３          テンションローラ（張り調整手段）
１４          シャッター巻取り部材（巻取り手段）
１５          冷却水用配管（冷却手段）
１６          蒸着物
１７          スクレーパー（除去手段）
Ｘ            飛翔経路
【図１】
2006104497.tif 000003
【図２】
2006104497.tif 000004
【図３】
2006104497.tif 000005
【図４】
2006104497.tif 000006
【図５】
2006104497.tif 000007
【図６】
2006104497.tif 000008