(57)【要約】【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、基板表面を腐食することなく、基板表面に付着した酸化鉄系の異物等の基板表面に強固に付着した金属酸化物系の異物自体を速やかに溶解除去し、あるいは異物の付着力を弱め除去し易くして、基板表面を高度に清浄化する基板表面の洗浄液及び洗浄方法を提供する。【解決手段】ガラス基板の洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、  前記洗浄処理は、チオグリコール酸又はチオグリコール酸誘導体などの官能基にチオール基を含む化合物を含有する洗浄液とガラス基板とを接触させる処理を含むことを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記洗浄処理は、官能基にチオール基を含む化合物を含有する洗浄液とガラス基板とを接触させる処理を含むことを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記化合物は、チオグリコール酸又はチオグリコール酸誘導体である、請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記化合物は還元剤作用を有する化合物である、請求項１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記洗浄液のpHは６以上とすることを特徴とする請求項ｌ乃至３の何れか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記洗浄液とガラス基板を接触させることにより、ガラス基板上の金属酸化物を除去することを特徴とする、請求項１乃至４の何れか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
鏡面研磨されたガラス基板を前記洗浄処理する、請求項１乃至５の何れか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
化学強化処理されたガラス基板を前記洗浄処理する、請求項１乃至６の何れか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記洗浄処理されたガラス基板の表面に研磨体を摺接させてテクスチャーを形成する処理を行なう請求項１乃至７の何れか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れか一項に記載の製造方法により製造されたガラス基板上に少なくとも磁性層を成膜する、磁気ディスクの製造方法。
【請求項１０】
磁気抵抗効果型再生素子を備える磁気ヘッドによる情報記録再生に対応した請求項９に記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項１１】
ＬＵＬ（ロード・アンロード〉方式で起動停止動作を行なうハードディスクドライブに搭載される請求項９又は請求項１０に記載の磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等の磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスク用のガラス基板の製造方法等に関し、特に基板表面に強固に付着した微粒子汚染が問題となる磁気記録ディスク用ガラス基板表面の洗浄に使用される洗浄液及び洗浄方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録ディスク用ガラス基板及び磁気記録ディスクの製造工程ではガラス基板表面に数ｎｍレベルで薄膜形成を行ったり記録・再生トラックの形成等が行われている。従って、これらの製造工程においてはガラス基板表面の僅かな汚染も除去し当該基板表面を清浄に保っことが重要な課題となっている。汚染の中でも特に微粒子汚染は、成膜後の表面に凹凸が生じてしまったり、製品の記録・再生等の電気的特性や歩留まりを低下させるため、磁気記録ディスク用ガラス基板の製造工程において除去する必要がある。磁気記録ディスク用ガラス基板の製造工程においては研磨剤残渣や金属粒子による微粒子汚染が発生するため、これらの微粒子汚染を除去するために洗浄液による表面洗浄が用いられている。
一般的に基板表面に比較的弱い力で付着又は吸着している粒子等のパーティクル汚染の除去にはアルカリ性水溶液が有効であることが知られている。具体的には、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ性水溶液や界面活性剤を添加した洗浄液が用いられている。
また、基板表面に比較的強い力で付着又は基板表面に食い込んでいる異物を、主として基板をエッチングすることでリフトオフ（基板表面と共に粒子を根こそぎ脱離させること）させる酸性の洗浄液なども用いられている。リフトオフさせる洗浄液としては、フッ素系の薬液、例えばフッ化水素酸、ケイフッ化水素酸、フッ化アンモニウム、バッファードフッ酸等の希薄溶液が用いられている。
さらに、基板表面に比較的強い力で付着又は基板表面に食い込んでいる異物自体を溶解除去する洗浄液としては、硫酸・硝酸などの無機酸や、シュウ酸・アスコルピン酸等の有機酸、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸塩）やクエン酸等のキレート剤、を用いた洗浄液が用いられている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
付着粒子の中でもガラスの強化工程前後においては特に表面に付着した微粒子汚染がガラス表面と強く固着又は溶着しているため、一般的にパーティクル汚染の洗浄として用いられているアルカリ洗浄や酸洗浄では除去することができない。このようなガラスの強化工程前後においてガラス表面と特に強く固着又は溶着した粒子であってアルカリ洗浄や酸洗浄では除去することができない微粒子汚染を洗浄する方法としては、フッ化物を含む溶液、例えばフッ化水素酸、フッ化アンモニウム、フッ化珪素酸等を用い、ガラス基板表面を薄くエッテングすることで付着粒子ごと剥ぎ取る方法（リフトオフ法）などが用いられている。
リフトオフ法を用いる場合、基板自体をエッチングするため、エッチング量を増大させると基板自体の表面粗さが大きくなる問題がある。逆に表面粗さを大きくしないようにエッチング量を少なくした場合、対象物をリフトオフすることができず微小突起として残留してしまう問題が残る。
基板表面に強く固着又は溶着している微粒子汚染は、酸化セリウム等の研磨剤成分や、酸化鉄等熱力学的に非常に安定な状態となっている異物（鉄系コンタミ）、であることが多く、酸化セリウム系の粒子に対しては硫酸と過酸化水素水の混合溶液や、特開２００１−２０６７３７号公報（特許文献１）記載の酸とアスコルビン酸等の還元剤を組み合わせた溶液で溶解除去できることが知られているが、遷移金属酸化物特に酸化鉄系粒子に対してそれ自体を速やかに溶解する有効な薬液は、非常に反応性が激しい熱濃硫酸−過酸化水素水以外、見い出されていなかった。
【特許文献１】特開２００１−２０６７３７号公報
【０００４】
本発明は、上記背景の下なされたものであって、磁気ディスク用ガラス基板において、基板表面を腐食することなく、基板表面に付着した酸化鉄系の異物（金属酸化物・遷移金属酸化物系コンタミ）や更には研磨剤残渣（金属酸化物・希土類酸化物系コンタミ）等の基板表面に強固に固着又は溶着した金属酸化物系の異物自体を速やかに溶解除去し、基板表面を高度に清浄化する基板表面の洗浄液及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題及び目的に対し、後述するように多種類の、無機酸、有機酸、還元剤、キレート剤、それらの組み合わせを用いた磁気ディスク用ガラス基板用洗浄液について検討をした。
その結果、チオグリコール酸及びその誘導体などの化合物を含有する洗浄液（水溶液）は、溶液のｐHを５以上にすることで、酸化鉄粒子並びにセリウム研磨剤の成分である酸化ランタン、酸化ネオジム等のランタノイド酸化物等の金属酸化物に対して溶解性を示すことを見出した。
酸化鉄等の溶解のメカニズムの全容は明らかではないが、通常、遷移金属酸化物などの金属酸化物はＭｘＯｙ（Ｍ：金属）の安定な状態を形成している。酸化物を溶解する際には、イオンの形熊をとる必要があり、錯体化や還元反応によるイオン化反応が用いられる。チオグリコール酸及びその誘導体などの化合物は還元作用のあるチオール基（ＳＨ基）を有している。また、ＳＨ基は金属酸化物のM−Ｏ結合に対してより金属に対する親和性が高いことより、錯イオンの形成が行われていると考えられる。鉄イオン水溶液はｐＨ７の中性ではその殆どが２価のイオンであり淡黄色を示しているが、本発明に係る酸化鉄粉末自体の完全溶解によって実際に得られる溶解液の中性領域での色は赤紫色を示していることから、酸化鉄３価が還元され２価の錯イオンとしてチオグリコール酸と錯体を形成していると考えられる。つまり、基本構造として重要なのはチオグリコール酸（分子構造中にチオール基（−ＳＨ）とカルボキシル基（ＣＯＯＨ又はＣＯＯ−））であると考えられる。
【０００６】
上記のように、上記金属酸化物に対する溶解性には、チオグリコール酸及びその誘導体などの化合物を含む溶液のｐＨが大きく関与しており、上記金属酸化物に対する溶解性はｐＨ依存性が大きいことを解明した。
チオグリコール酸及びその誘導体などの化合物を含有する溶液のｐＨが５未満の場合には、上記金属酸化物を溶解性できない。
チオグリコール酸及びその誘導体などの化合物を含有する溶液のｐＨが５未満の場合においては、溶液のｐＨをＮａＯＨ，ＫＯＨ，ＮＨ４ＯＨなどのアルカリ等で調整して、溶液のｐＨ５以上に調整することで、上記金属酸化物に対する溶解性が現れる。なお、前記何れのアルカリを用いても同じｐＨでの溶解性に変化は見受けられなかった。
チオグリコール酸及びその誘導体などの化合物を含有する溶液のｐＨは、上記金属酸化物系の異物自体を速やかに溶解除去する作用の観点から、最適ｐＨは７−９である。なお、チオグリコール酸アンモニウムの溶液等の場合、溶液自体が約ｐＨ８で最適ｐＨ範囲に入っているため、ｐＨ調整は不要であり、好ましい。
【０００７】
なお官能基としてチオール基を含む化合物の還元力は他の部分により影響を受け大きな差が生じる。上記金属酸化物の溶解メカニズムの考察に関し、還元の基本構造はチオール基（−ＳＨ）であり、Ｒ−ＳＨのＲＳ−ＳＲ酸化（ジスルフィド化）に伴う還元作用（電子供与作用）が発揮されると考えられるが、特にチオグリコール酸及びその誘導体などの化合物を含む溶液の場合は特に強い還元作用（電子供与作用）があることが判明し、上記金属酸化物自体を速やかに且つ完全に溶解する作用に大きく寄与しているのではないかと考えられる。
なお、官能基としてチオール基を含む化合物は、還元作用（電子供与作用）があるので、一般的に知られている還元作用を利用した洗浄剤又は洗浄剤への添加剤として、利用できると考えられる。官能基としてチオール基を含む化合物は、チオール基以外の他の部分の分子構造により強い還元作用（電子供与作用）を発揮する場合があり、ガラス基板へのダメージも与えないことから、磁気記録ディスク用ガラス基板の製造工程において表面に強固に付着している異物の洗浄剤又は洗浄剤への添加剤として、有効に利用できる（構成１）。
ここで、官能基としてチオール基を含む化合物の洗浄剤又は洗浄剤への添加剤としての有用性の判断は、硬い酸・塩基、軟らかい酸・塩基という概念（ピアソン(Pearson)理論）を導入して考えることができる。硬い酸・塩基は外殻の価電子を固く保持し、簡単には変形、分極しない。軟らかい酸・塩基は、外殻の価電子が容易に分極したり離れたりする。また、硬い酸は硬い塩基と、軟らかい酸は軟らかい塩基と結合しやすい。これらの考え方はHSAB則(Hard and Soft Acids and Bases rule)と呼ばれる。この考えから、錯体の安定性や、化学反応の反応性などがある程度類推できる。ピアソン(Pearson)理論に基づいて、酸化鉄粒子等への作用について考えた場合、硫黄は酸素よりも軟らかく（酸素は強い塩基であり硫黄は軟らかい塩基である）、また電気陰性度が低い。したがって、周期表のｄ−ブロックの右側にある比較的柔らかい金属（Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ）に対して酸素よりも親和性が強く、より広範囲な酸化状態の化合物を作る。硬い酸・塩基、及び軟らかい酸・塩基はそれらが作る錯体の安定度に見られる傾向によって経験的に決まっている。硬い酸は硬い塩基に、軟らかい酸は軟らかい塩基に、それぞれ結合しょうとする。つまり、軟らかい酸又は比較的軟らい酸と硬い塩基との結合物に対して軟らかい塩基が存在した場合、軟らかい塩基と結合しょうとする。酸素は強い塩基であり硫黄は軟らかい塩基であるため、上記のような酸化鉄粒子等の溶解作用や、洗浄剤又は洗浄剤への添加剤としての有用性、が発揮されると考えられる。軟らかい塩基（分子構造中にチオール基（−ＳＨ）を有する化学物質）としては、上記チオグリコール酸及びチオグリコール酸誘導体の他に、メルカプトこはく酸、メルカプトプロピオン酸、及びそれらの誘導体、ドデカンチオール、チオアルコール類・チオエーテル類、アミノエタンチオールなどのアミノチオール類や、アミノエタンチオール塩酸塩、２−アミノエタンチオール塩酸塩、等が挙げられる。
【０００８】
本発明は、以下の構成を有する。
（構成１）ガラス基板の洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記洗浄処理は、官能基にチオール基を含む化合物を含有する洗浄液とガラス基板とを接触させる処理を含むことを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成２）
前記化合物は、チオグリコール酸又はチオグリコール酸誘導体である、構成１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成３）
前記化合物は還元剤作用を有する化合物である、構成１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成４）
前記洗浄液のpHは６以上とすることを特徴とする構成ｌ乃至３の何れか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成５）
前記洗浄液とガラス基板を接触させることにより、ガラス基板上の金属酸化物を除去することを特徴とする、構成１乃至４の何れか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成６）
鏡面研磨されたガラス基板を前記洗浄処理する、構成１乃至５の何れか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成７）
化学強化処理されたガラス基板を前記洗浄処理する、構成１乃至６の何れか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成８）
前記洗浄処理されたガラス基板の表面に研磨体を摺接させてテクスチャーを形成する処理を行なう構成１乃至７の何れか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成９）
構成１乃至８の何れか一項に記載の製造方法により製造されたガラス基板上に少なくとも磁性層を成膜する、磁気ディスクの製造方法。
（構成１０）
磁気抵抗効果型再生素子を備える磁気ヘッドによる情報記録再生に対応した構成９に記載の磁気ディスクの製造方法。
（構成１１）
ＬＵＬ（ロード・アンロード〉方式で起動停止動作を行なうハードディスクドライブに搭載される構成９又は構成１０に記載の磁気ディスクの製造方法。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
本発明は、チオグリコール酸及びチオグリコール酸誘導体などの化学物質を含む水溶液は、酸化鉄粒子等の金属酸化物自体を速やかに完全に溶解することを見出したことに基づくものである。
本発明は、ガラス基板の洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記洗浄処理は、チオグリコール酸及びチオグリコール酸誘導体などの分子構造中にチオール基（−ＳＨ）を有する化学物質（化合物）を含む水溶液（洗浄液）とガラス基板とを接触させる処理を含むことを特徴とする。
本発明に係る洗浄液は、基板表面を腐食することなく、基板表面に付着した酸化鉄系の異物（金属酸化物・遷移金属酸化物系コンタミ）や更には研磨剤残渣（金属酸化物・希土類酸化物系コンタミ）等の基板表面に強固に付着した金属酸化物系の異物自体を速やかに且つ選択的に且つ完全に溶解除去することが可能な洗浄液である。
【００１０】
本発明において、チオグリコール酸及びチオグリコール酸誘導体としては、
・チオグリコール酸（Thioglycolic acid）（HSCH2COOH）、
・チオグリコール酸アンモニウム(ATG)（Ammonium thioglycolate）（HSCH2COONH4）（別名：メルカプト酢酸アンモニウム）、
・チオグリコール酸ナトリウム（Sodium thioglycolate）（HSCH2COONa）、
・チオグリコール酸カリウム（Potassium thioglycolate）（HSCH2COOK）、
・チオグリコール酸モノエタノールアミン(TG−MEA）（Monoethanolamine thioglycolate）（HSCH2COONH3C2H4OH）、
・チオグリコール酸メチル（Methyl thioglycolate）（HSCH2COOCH3）、
・チオグリコール酸オクチル(OTG)（2-Ethylhexyl thioglycolate）（HSCH2COOC8H17）、
・チオグリコール酸メトキシブチル(MTG)（3-Methoxybutyl thioglycolate）（HSCH2COOCH2CH2CHCH3）、
・エチレングリコールビスチオグリコレート(EGTG)（Ethyleneglycol bis (thioglycolate)）（HSCH2COOC2H4OCOCH2SH）、
・ブタンジオール ビスチオグリコレート(BDTG)（1,4-Butanediol bis(thioglycolate)）（HSCH2COOC4H8OCOCH2SH）、
・トリメチロールプロパントリスチオグリコレート(TMTG)（Trimethylolpropane tris(thioglycolate)）（(HSCH2COOCH2)3CC2H5）、
・ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート(PETG）（Pentaerythritol tetrakis(thioglycolate)）（(HSCH2COOCH2)4C）、
などが挙げられる。
これらのなかでも、特に、チオグリコール酸アンモニウム(ATG)が好ましく、次いで、・チオグリコール酸、
・チオグリコール酸ナトリウム（Sodium thioglycolate）（HSCH2COONa）、
・チオグリコール酸カリウム（Potassium thioglycolate）（HSCH2COOK）、
などが好ましい。
【００１１】
本発明に使用されるチオグリコール酸及びチオグリコール酸誘導体などの分子構造中にチオール基（−ＳＨ）を有する化学物質の使用量（濃度）は１−６０ｗｔ％で、好ましくは５−２０％とするのが適当である。溶液中の濃度が０．５ｗｔ％以下になると溶解速度が極めて遅くなり、洗浄液としての実用面での使用が困難になる。
本発明においては、上記本発明の洗浄液に、更に、無機酸、有機酸、錯化剤（キレート剤）、還元剤、界面活性剤、ハロゲン化物イオンのうち少なくとも１種以上を混合した洗浄液を用いることができる。洗浄効果を更に高める観点からである。ただし、これらの混合成分を添加する場合、添加するとかえって溶解速度が遅くなるなどの溶解性を阻害する成分があることが判明したので、そのような成分は添加しないか、あるいは、溶解力を妨げない程度に添加することが望ましい。
本発明においては、上記本発明の洗浄液で洗浄後、更に、無機酸、有機酸、錯化剤、還元剤、界面活性剤、ハロゲン化物イオンのうち少なくとも１種以上を混合した洗浄液を用いて洗浄を行うことができる。
本発明において、上記本発明の洗浄液を構成する前記化合物は還元剤作用を有する化合物であることが好ましい。洗浄効果を更に高める観点からである。
本発明で使用される無機酸としては、特に限定されるものは無いが、硫酸・硝酸・塩酸・過酸化水素水などが挙げられる。
本発明で使用される有機酸としては、特に限定されるものは無いが、通常有機酸は錯化剤としても働く。スルホン酸基、カルボキシル基、アミノ基等を有する有機酸でクエン酸、シュウ酸、フマル酸、りんご酸、酒石酸、マロン酸、マレイン酸、サリチル酸、アスコルビン酸、エチレンジアミン四酢酸、アミノエタンスルホン酸、グリオキシル酸、などが挙げられる。また、添加量としては１−２０ｗｔ％が好ましい。
本発明で使用される界面活性剤としては特に限定されるものは無いが、イオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、両性系界面活性剤が挙げられ、ラウリン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、硫酸ドデシルナトリウム、ステアリルアミン塩酸塩、ポリエチレングリコール、ステアリルアミン塩酸塩等が挙げられ、添加量は０．００１−５ｗｔ％が好ましい。
なお、チオグリコール酸及びチオグリコール酸誘導体などの分子構造中にチオール基（−ＳＨ）を有する化学物質を含む水溶液は、常温、中性で処理できるというメリットがあり、安全面でも国内法令非該当で使用上の制約がなく、ステンレス等の薬液層を構成する材料への腐食性もない。
【００１２】
本発明においては、上記本発明に係る洗浄液で洗浄する際、周波数２８ｋＨｚ以上の超音波を照射（印加）しながら基板を洗浄することが好ましい。洗浄効果を更に高める観点からである。
本発明においては、上記本発明に係る洗浄液で洗浄する際、洗浄液を２０℃〜８０℃の温度に温調して基板を洗浄することが好ましい。洗浄効果を更に高める観点からである。
本発明においては、被洗浄基板を上記洗浄液中に浸漬させる方法もしくは被洗浄基板に上記洗浄液を吐出する方法等によって、洗浄液とガラス基板とを接触させる処理を行うことができる。
【００１３】
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、上記本発明に係る洗浄液とガラス基板を接触させることにより、ガラス基板上の金属酸化物を除去することを特徴とする（構成６）。
ここで、前記金属酸化物は、酸化鉄などの遷移金属酸化物である場合に上述した作用が総合的に発揮されると考えられるので好ましい（構成６’）。
特に、前記金属酸化物が、特殊な工程を経て得られる遷移金属酸化物である場合、例えば、化学強化工程等で付着した強固なＦｅ系コンタミ（酸化鉄を主成分とする強固且つ安定的で容易に除去できないコンタミ）（構成６’）や、セリウム研磨剤の成分である酸化ランタン、酸化ネオジム等のランタノイド酸化物等の金属酸化物（構成６’’）、などの磁気記録ディスク用ガラス基板の製造工程において表面に強固に付着している異物（粒子、コンタミ）である場合においても、異物（粒子、コンタミ）自体を速やか且つ完全に溶解除去する作用が実際の製品プロセスにおいて好適に発揮されるので好ましい。
【００１４】
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、鏡面研磨されたガラス基板について、上記本発明の洗浄液による洗浄処理をすることが好ましい（構成６）。鏡面研磨された磁気ディスク用ガラス基板に特有の研磨剤残渣の問題を解消又は低減するためである。
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、化学強化処理されたガラス基板について、上記本発明の洗浄液による洗浄処理をすることが好ましい（構成７）。化学強化工程で基板表面に強固な付着したＦｅ系コンタミ（酸化鉄を主成分とする強固且つ安定的で容易に除去できないコンタミ）などの磁気記録ディスク用ガラス基板表面に強固に付着している異物（粒子、コンタミ）の問題を解消又は低減するためである。
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、上記本発明の洗浄液による洗浄処理を行った磁気ディスク用ガラス基板について、ガラス基板の表面に研磨体を摺接させてテクスチャーを形成する処理を行なうことが好ましい（構成８）。これは、基板表面に金属粒子等の異物がある状態でテクスチャー加工（研磨）を行うと、異物による擦れ傷（流星の尾のような傷跡：コメット欠陥）が発生することがあるという問題を解消又は低減するためである。
【００１５】
本発明の磁気ディスクの製造方法においては、上記本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板上に少なくとも磁性層を成膜する（構成９）。
本発明の磁気ディスクの製造方法は、磁気抵抗効果型再生素子を備える磁気ヘッドによる情報記録再生に対応した磁気ディスクの製造方法に特に適する（構成１０）。上述した異物（粒子、コンタミ）によって、磁気抵抗効果型再生素子による再生誤動作の問題であるサーマルアスペリティや、異物起因の記録エラーや誤再生等の発生の原因となるからである。
本発明の磁気ディスクの製造方法は、ＬＵＬ（ロード・アンロード〉方式で起動停止動作を行なうハードディスクドライブに搭載される磁気ディスクの製造方法に特に適する（構成１１）。ＬＵＬ（ロード・アンロード〉方式では、上述した異物（粒子、コンタミ）によって、ヘッドー媒体間の距離低下が妨げられ、ヘッドクラッシュ等の発生の原因となるからである。
【００１６】
（実験例１）（酸化鉄自体の完全溶解性確認試験）
酸化鉄の溶解性を確認するために、表１に示す各種試験液を所定の濃度条件及びｐＨ条件に調整後、酸化鉄（III）（Ｆｅ２Ｏ３）の粉末及び酸化鉄（II）（Ｆｅ３Ｏ４）の粉末（いずれも関東化学製特級品）を０．０１％になるように添加し、その溶解性を目視にて確認を行った。
溶解性の指標は１５分以内に全て完全に溶解したものが◎、３０分以内に全て完全に溶解したものが○、１時間以内に全て完全に溶解したものが△、２４時間後全く溶解性が確認されなかったものを×とした。結果を表１に示す。
【００１７】
【表１】
2006268969.tif 000002
【００１８】
表１に示すように、チオグリコール酸及びチオグリコール酸誘導体などの化学物質を含む水溶液（試験液１〜４）及び前記試験液に添加成分を加えた水溶液（試験液５〜６）は、酸化鉄粒子自体を速やかに完全に溶解する作用があることがわかる。
また、各種無機酸と各種キレート剤とを含む水溶液（試験液２１〜２６）、混酸（試験液７’）、還元剤とキレート剤とを含む水溶液（試験液２８〜２９）、研磨剤成分である酸化セリウム系粒子の溶解除去に使用される洗浄剤（試験液３０）、基板のエッチング作用を利用した洗浄剤（試験液３１）、はいずれも、２４時間経過後において全く溶解性が確認されなかった。
なお、上記各濃度条件及び上記各温度条件をそれぞれ広い範囲で数多く振って同様の試験を行ったが、変化は認められず、結果は同様であった。
【００１９】
（実験例２）（ガラス基板表面への影響の確認試験）
また、溶解性の確認された薬液条件にて従来ガラス基板洗浄に用いられている洗浄液とのガラス基板表面への影響を調べるためにハードディスク用ガラス基板表面粗さＲａ：０．４０ｎｍの基板を下記薬液に所定の時間浸け、水洗・乾燥後表面粗さを測定した。その結果を表２に示す。
【００２０】
【表２】
2006268969.tif 000003
【００２１】
（実験例３）
化学強化工程等で付着した強固なＦｅ系コンタミなどの磁気ディスク用ガラス基板の製造工程において表面に強固に付着している異物（粒子、コンタミ）不良となった複数の磁気記録ディスク用ガラス基板（Ｆｅ系コンタミ不良であること、コンタミの数・位置を確認済み）を複数用意した。
この磁気ディスク用ガラス基板について、表３に示す本発明に係る水溶液による洗浄を実施し、その後通常の洗浄工程を実施した実施例の試料を得た。
また、本発明に係る水溶液による洗浄を実施せず、通常の洗浄工程のみを実施した比較例の試料を得た。
通常の洗浄工程は、ガラスディスクを、約４０°Ｃに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄後、さらに、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させて、行った。
その結果、表３に示すように、本発明に係る水溶液のうちｐＨ５以上のものはＦｅ系コンタミを速やかに完全に溶解し、この結果洗浄後にＦｅ系コンタミは検出査されなかった。
これに対し、本発明に係る水溶液のうちｐＨ５未満のものや、試料液６１〜６４については、Ｆｅ系コンタミの溶解は認められなかった。但し、試料液６１〜６４については、Ｆｅ系コンタミの数の減少及びＦｅ系コンタミサイズの減少が認められた。
更に、表３に示す各種試験液による処理を行わず通常の洗浄工程のみを実施した試料では、Ｆｅ系コンタミの溶解は認められず、またＦｅ系コンタミの数の減少及びＦｅ系コンタミサイズの減少は認められなかった。
なお、上記各濃度条件及び上記各温度条件をそれぞれ広い範囲で数多く振って同様の試験を行ったが、変化は認められず、結果は同様であった。
表３における溶解性の指標は１５分以内に全て完全に溶解したものが◎、３０分以内に全て完全に溶解したものが○、１時間以内に全て完全に溶解したものが△、２４時間後全く溶解性が確認されなかったものを×とした。
【００２２】
【表３】
2006268969.tif 000004
【００２３】
〔実施例１（磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の実施例）〕
以下に述べる本実施例における磁気ディスク用ガラス基板は、以下の（１）乃至（８）の工程により作成される。
【００２４】
（１）粗研削工程
（２）形状加工工程
（３）精研削工程
（４）端面鏡面加工工程
（５）第１研磨工程
（６）第２研磨工程
（７）化学強化工程
（８）テクスチャ加工
まず、アモルファスのアルミノシリケートガラスからなるディスク状のガラス母材を用意した。このアルミノシリケートガラスは、リチウムを含有している。このアルミノシリケートガラスの組成は、ＳｉＯ２を、６３．６重量％、Ａｌ２Ｏ３を、１４．２重量％、Ｎａ２Ｏを、１０．４重量％、Ｌｉ２Ｏを、５．４重量％、ＺｎＯ２を、６．０重量％、Ｓｂ２Ｏ３を、０．４重量％含むものである。
【００２５】
（１）粗研削工程
溶融させたアルミノシリケートガラスから形成した厚さ０．６ｍｍのシートガラスをガラス母材として用いて、このシートガラスから、研削砥石により、直径２８．７ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状のガラスディスクを得た。
シートガラスを形成する方法としては、一般に、ダウンドロー法やフロート法が用いられるが、これ以外に、ダイレクトプレスによって、円盤状のガラス母材を得てもよい。このシートガラスの材料であるアルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２を、５８乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３を、５乃至２３重量％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１３重量％、Ｌｉ２Ｏを、３乃至１０重量％、含有するものであればよい。
次に、ガラスディスクに対し、寸法精度及び形状精度の向上のために、粗研削工程を施した。この粗研削工程は、両面研削装置を用いて、粒度＃４００の砥粒を用いて行なった。
具体的には、始めに粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、荷量を１００ｋｇ程度に設定して、サンギアとインターナルギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラスディスクの両面を、面精度０乃至１μｍ、表面粗さ（Ｒmax）６μｍ程度に研削した。
【００２６】
（２）形状加工工程
次に、円筒状の砥石を用いて、ガラスディスクの中央部分に直径６．１ｍｍの円孔を形成するとともに、外周端面の研削をして、直径を２７．４３ｍｍとした後、外周端面及び内周端面に所定の面取り加工を施した。このときのガラスディスクの端面の表面粗さは、Ｒmaxで４μｍ程度であった。
なお、一般に、「２．５インチ型ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）」では、外径が６５ｍｍの磁気ディスクを用いている。
【００２７】
（３）精研削工程
次に、砥粒の粒度を＃１０００に替え、ガラスディスクの主表面を研削することにより、主表面の表面粗さを、Ｒmaxで２μｍ程度、Ｒａで０．２μｍ程度とした。
この精研削工程を行うことにより、前工程である粗研削工程や形状加工工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を除去することができる。
このような精研削工程を終えたガラスディスクを、超音波を印加した中性洗剤及び水の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄を行なった。
【００２８】
（４）端面鏡面加工工程
次いで、ガラスディスクの端面について、従来より用いられているブラシ研磨により、ガラスディスクを回転させながら、ガラスディスクの端面（内周端面及び外周端面）の表面の粗さを、Ｒmaxで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。
そして、端面鏡面加工を終えたガラスディスクの主表面を水洗浄した。
なお、この端面鏡面加工工程においては、ガラスディスクを重ね合わせて端面を研磨するが、この際に、ガラスディスクの主表面にキズ等が付くことを避けるため、後述する第１研磨工程よりも前、あるいは、第２研磨工程の前後に行うことが好ましい。
この端面鏡面加工工程により、ガラスディスクの端面は、パーティクル等の発塵を防止できる鏡面状態に加工された。端面鏡面加工工程後にガラスディスクの直径を測定したところ、２７．４ｍｍであった。
【００２９】
（５）第１研磨工程
次に、前述した精研削工程において残留した傷や歪みを除去するため、両面研磨装置を用いて、第１研磨工程を行なった。
画面研磨装置においては、研磨パッドが貼り付けられた上下定盤の間に、キャリアにより保持させたガラスディスクを密着させ、このキャリアを、サンギア及びインターナルギアに噛合させるとともに、ガラスディスクを上下定盤によって挟圧する。その後、研磨パッドとガラスディスクの研磨面（主表面）との間に研磨液を供給しながら、サンギアを回転させることによって、ガラスディスクは、定盤上で自転しながらインターナルギアの回りを公転して、両主表面を同時に研磨加工される。
以下の実施例で使用する両面研磨装置としては、同一の装置を用いている。具体的には、ポリッシャとして硬質ポリシヤ（硬質発泡ウレタン）を用いて、第１研磨工程を実施した。研磨条件は、酸化セリウム（平均粒径１．３μｍ）及びＲＯ水からなる研磨液を用い、荷重を１００ｇ／ｃｍ２、研磨時間を１５分とした。そして、この第１研磨工程を終えたガラスディスクを、中性洗剤、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。
【００３０】
（６）第２研磨工程
次に、第１研磨工程で使用した両面研磨装置と同様の両面研磨装置を用いて、ポリッシャを軟質ポリッシャ（スウェードパット）に替えて、主表面の鏡面研磨工程として、第２研磨工程を実施した。
次いで、この第２研磨工程を終えたガラスディスクを、中性洗剤、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。
【００３１】
（７）化学強化工程
次に、洗浄を終えたガラスディスクに対し、化学強化処理を施した。化学強化処理は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとを混合させた化学強化液を用いて行った。
この化学強化溶液を、３４０°Ｃ乃至３８０°Ｃに加熱し、洗浄及び乾燥を終えたガラスディスクを、約２時間乃至４時間浸漬して、化学強化処理を行なった。この浸漬の際には、ガラスディスクの表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラスディスクが端面で保持されるように、ホルダーに収納した状態で行った。
【００３２】
化学強化処理を終えたガラスディスクを、２０°Ｃの水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した（ヒートショック工程）。
【００３３】
次に、ヒートショック工程を終えたガラスディスクについて、次工程である「（８）テクスチャ加工」の前に、本発明に係る洗浄液であるチオグリコール酸アンモニウム水溶液（濃度１０ｗｔ％、温度：４０℃）に４分間浸漬して洗浄を行った。次いで、ガラスディスクを、約５０°Ｃに加熱したアルカリ洗浄剤に浸漬して洗浄を行った。さらに、アルカリ洗浄を終えた磁気ディスク用ガラス基板を、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させて、本発明の試料を得た。
また、比較のために、次工程である「（８）テクスチャ加工」の前に、ヒートショック工程を終えたガラスディスクを、約５０°Ｃに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えた磁気ディスク用ガラス基板を、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させて、比較例の試料を得た。
【００３４】
なお、前述のような工程を経たガラスディスクの主表面の表面粗さは、原子間カ顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定したところ、Ｒmaxで５．０ｎｍ、Ｒａで０．４０５ｎｍと、超平滑な表面となっていることが確認された。なお、表面粗さの数値は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）によって測定した表面形状について、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１にしたがって算出したものである。
【００３５】
（８）テクスチャ加工
次に、化学強化処理を終えたガラスディスクに対し、テクスチャ加工を行った。このテクスチャ加工は、テクスチャ加工装置を用いて、ガラスディスクと、このガラスディスクの両主表面を挟持する研磨テープとを所定の状態で相対的に摺接移動させることによって行った。これらガラスディスクと各研磨テープとの相対的摺動は、ガラスディスクの円周方向（接線方向）の移動を基本としつつ、この円周方向に対して、サインカーブを描いて揺動する移動として行った。
【００３６】
また、このとき、ガラスディスクと各研磨テープとの間に、研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒をを含有する液体状の研磨剤を供給した。
【００３７】
このテクスチャ加工の条件は、この実施例１において、研磨テープとして織布テープを使用し、研磨剤（スラリー）として多結晶型ダイヤモンドスラリーを使用し、ガラスディスクの回転数を毎分５９７回転とし、ガラスディスクの揺動（オシレーション）の周波数を７．８Ｈｚとし、ガラスディスクの揺動（オシレーション）の振幅を１ｍｍとし、加圧ローラによる加工加重を３．６７５ｋｇ（１．５pound）とした。
【００３８】
このテクスチャ加工が終了した後、ガラスディスクを、約４５°Ｃに加熱したアルカリ洗浄剤に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えた磁気ディスク用ガラス基板を、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させて、磁気ディスク用ガラス基板を得た。
【００３９】
次に、洗浄を終えたガラスディスクの主表面及び端面について、目視検査を行い、さらに、光の反射、散乱及び透過を利用した精密検査を実施した。
その結果、「（８）テクスチャ加工」の前に、本発明に係る洗浄液であるチオグリコール酸アンモニウム水溶液による洗浄を施したガラスディスクの主表面及び端面には、基板表面に付着した酸化鉄系の異物（粒子）や更には研磨剤残渣（粒子）は発見されず、これらの粒子に起因してテクスチャ加工で発生する研磨傷（粒子によるひっかき傷）も発見されなかった。
これに対し、「（８）テクスチャ加工」の前に、本発明に係る洗浄液であるチオグリコール酸アンモニウム水溶液による洗浄を実施しなかった比較例のガラスディスクの主表面及び端面には、基板表面に付着した酸化鉄系の異物（粒子）や更には研磨剤残渣（粒子）が発見されるものがあり、これらの粒子に起因してテクスチャ加工で発生する研磨傷（粒子によるひっかき傷）も同時に発見された。
【００４０】
〔実施例２（磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の実施例）〕
実施例１における「（８）テクスチャ加工」工程を実施せず、実施例１におけるヒートショック工程を終えたガラスディスクについて、通常の洗浄工程の前に、本発明に係る洗浄液であるチオグリコール酸アンモニウム水溶液（濃度１６．６ｗｔ％、温度：室温）に１５分間浸漬して洗浄を行った。次いで、ガラスディスクを、約４０°Ｃに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えた磁気ディスク用ガラス基板を、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させて、本発明の試料を得た。
また、比較のために、ヒートショック工程を終えたガラスディスクについて、通常の洗浄工程を実施した。具体的には、ガラスディスクを、約４０°Ｃに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えた磁気ディスク用ガラス基板を、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させて、比較例の試料を得た。
【００４１】
次に、洗浄を終えたガラスディスクの主表面及び端面について、目視検査を行い、さらに、光の反射、散乱及び透過を利用した精密検査を実施した。
その結果、本発明に係る洗浄液であるチオグリコール酸アンモニウム水溶液による洗浄を施したガラスディスクの主表面及び端面には、基板表面に付着した酸化鉄系の異物（粒子）や更には研磨剤残渣（粒子）は発見されなかった。
これに対し、本発明に係る洗浄液であるチオグリコール酸アンモニウム水溶液による洗浄を実施しなかった比較例のガラスディスクの主表面及び端面には、基板表面に付着した酸化鉄系の異物（粒子）や更には研磨剤残渣（粒子）が発見されるものがあった。
【００４２】
（発明の効果）
本発明によると、磁気ディスク用ガラス基板において、その製造工程に由来して磁気ガラスディスク基板の表面に付着している酸化鉄系の異物（金属酸化物・遷移金属酸化物系コンタミ）や更には研磨剤残渣（金属酸化物・希土類酸化物系コンタミ）等の基板表面に強固に付着した金属酸化物系の異物自体を基板材料を腐食することなく速やか且つ完全に溶解除去することが可能となり、前記微粒子による製品歩留まりの低下の問題を解消し、製品歩留まりを向上させる事が可能となる。