(57)【要約】【課題】オーブン・グリルやマイクロ波を用いた調理時に開閉扉８を開けることなく、加熱室２内に蒸気を供給或いは発生させ、調理性能を向上させる高周波加熱調理装置１を、専用の電動ポンプなど高価な部品を用いずに提供すること。【解決手段】シリンダーケーシング７ａと、シリンダーケーシング７ａ内に挿入されるピストン７ｂで、外圧によりその容積を可変する密閉型の貯水タンクとを備え、ピストン７ｂを移動させることにより、貯水された水がシリンダーケーシング７ａから送水管７ｃを介して、給水受け皿８ａに供給こととなるので、使用者は開閉扉１１を開けることなく調理動作中の最適なタイミングで、加熱室２内で蒸気を発生させることができる。オーブン・グリル調理など加熱室などが高温になっている際にはやけどなどを防止することができるうえ、加熱室２内の温度が低下するのが防止できることとなる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室に供給する電波を発生する高周波発生手段と、前記加熱室に水を供給する給水手段と、前記給水手段で供給する水を気化する加熱手段と、前記高周波発生手段、前記給水手段及び前記加熱手段の制御手段とを備え、前記給水手段は外圧によりその容積を可変する密閉型の貯水タンクと、前記貯水タンクの水を移送する送水管とを有する高周波加熱調理装置。
【請求項２】
貯水タンクは、装置本体に取り付けられるシリンダーケーシングと、シリンダーケーシング内に挿入されるピストンからなり、ピストンの挿入量に応じて送水量を調節する請求項１記載の高周波加熱調理装置。
【請求項３】
貯水タンクを装置本体から脱着可能にした請求項１または２項記載の高周波加熱調理装置。
【請求項４】
貯水タンクへの給水量が判断できる表示部を前記貯水タンクに備えた請求項１〜３のいずれか１項記載の高周波加熱調理装置。
【請求項５】
加熱室への給水量が判断できる表示部を備えた請求項１〜４のいずれか１項記載の高周波加熱調理装置。
【請求項６】
装置本体の前面側からの操作により貯水タンクの取り付け及び加熱室内への水供給動作ができるようにした請求項１〜５のいずれか１項記載の高周波加熱調理装置。
【請求項７】
貯水タンクと送水管を外気に介さず接合させる請求項１〜６のいずれか１項記載の高周波加熱調理装置。
【請求項８】
ピストンが移動しないようにするロック機構を備えた請求項２〜７のいずれか１項記載の高周波加熱調理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は高周波、蒸気、熱風及び輻射熱などによって被加熱物を加熱調理する高周波加熱調理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段を備えた高周波加熱調理装置は、加熱室内の被加熱物に対して、短時間で効率のよい加熱ができるため、食材等の加熱調理機器である電子レンジとして急速に普及するとともに、高周波加熱による加熱だけでは、加熱調理の幅が限られるなどの不便性を解消するために、加熱室内で発熱する電熱器及び空気の撹拌ファン、蒸気発生機構やミスト発生機構などを追加して、オーブン加熱や蒸気或いはミストの発生を可能にした高周波加熱調理装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平５−５２３４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、前記従来の構成では、上記したように、蒸気生成にマグネトロンを利用したものは、エネルギー効率が悪いうえ、高周波の出力条件や被加熱物の条件により、蒸気発生に至る前に被加熱物に熱が入ることもあり、被加熱物が最適な水分量を保持する調理はできないうえ、高周波を用いないと蒸気を発生させることができないためオーブン調理やグリル調理の際には実質的に蒸気を発生させることができず、加熱室の前面に設けられた開閉扉を開放して被加熱物に霧を均一に吹きかけるなどの作業が必要であった。
【０００４】
また、超音波発生手段でミストを発生させながら高周波を発生させるものはミストに高周波が作用しにくいため、被加熱物に付着した水分を高周波で加熱する様になっており、高周波が水分の多い被加熱物表面に集中し、加熱ムラも生じやすく、高周波利用による内側から加熱と、スチームによる外側から加熱による「しっとり」、「ふっくら」というイメージの最適な調理方法にはなっていなかった。また、グリルやオーブン調理時に超音波発生手段でミストを発生させると被加熱物表面への水分が均一に付着されず、結果として調理ムラが生じる、或いは調理時間が長くなるということもあった。
【０００５】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、その目的は、高周波発生手段と、オーブン・グリルに用いられる加熱ヒータと、蒸気を発生させる加熱ヒータを、それぞれ独立して制御させることにより、調理メニューの幅が広がることは勿論のこと、調理中に水が不足しても、加熱室の被加熱物を出し入れする前面扉を開放することなく給水することが可能となるコンパクトな貯水手段を備えた加熱調理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記従来の課題を解決するために、本発明の高周波加熱調理装置は、被加熱物を収納する加熱室に高周波を出力する高周波発生手段と、加熱室に水を供給する給水手段と、給水手段で供給する水を蒸気にする加熱手段と、高周波発生手段、給水手段及び加熱手段の制御手段とを備え、給水手段は外圧によりその容積を可変する密閉型の貯水タンクと、貯水タンクの水を移送する送水管とを備えたものである。
【０００７】
これによって、調理中に蒸気生成に必要な水が不足しても、加熱室の開閉扉を開けることなく補給することができる。また貯液タンクそのものに送水機構を備えることでコンパクトにすることができることとなる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の高周波加熱調理装置は、給水手段にその容積を可変する密閉型の貯液タンクと、タンク内の水を移送する送水管と備えることで、調理中に蒸気生成に必要な水が不足しても、外圧により貯液タンクの容積が小さくなるようにすることで、電動ポンプなどの給水手段を用いることなく、加熱室内に水を補給することができる。また加熱室の外部に給水手段を備えていることで、加熱室の開閉扉を開けることなく加熱室へ給水できるうえ、貯水タンクそのものに送水機構を備えることで、貯水タンクを取り外し可能な形態とすることで送水機構のほぼ全体の丸洗いが実現し、衛生的に保つことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
第１の発明は、給水手段に外圧によりその容積を可変する密閉型の貯水タンクと、送水管を備えることにより、調理中に蒸気生成に必要な水が不足しても、外圧により貯液タンクの容積が小さくなるようにすることになり、加熱室の開閉扉を開けることなく加熱室内に水を補給することができる。
【００１０】
第２の発明は、特に、第１の発明の貯水タンクを、装置本体に取り付けられるシリンダーケーシングと、シリンダーケーシング内に挿入されるピストンで構成することにより、ピストンの挿入量に応じて送水量を調節することができる。また使用者は調理動作中の最適なタイミングで加熱室内に水を供給し、蒸気を発生させることができる。
【００１１】
第３の発明は、特に、第１または第２の発明の貯水タンクを、装置本体から脱着可能にすることにより、貯水タンクの水を出し入れする際に、貯水タンクを流しなどの給排水設備のある場所に持ち出しできる。また、貯水タンクに送水機構を備えたことで送水機構をも衛生的に保つことができる。
【００１２】
第４の発明は、特に、第１〜３のいずれか１つの発明の高周波加熱調理装置を、タンクへの給液量が判断できる表示部を貯液タンクに備えるとすることにより、表示部を見ながら、必要水量だけをあらかじめ貯液タンクに入れることになり、はじめに準備した水量以上に加熱室へ水を供給することが防ぐことができる。
【００１３】
第５の発明は、特に、第１〜４のいずれか１つの発明の高周波加熱調理装置を、加熱室への液体の供給量が判断できる表示部を備えるとすることにより、調理中に必要な水量を表示部で確認しがら供給することができる。
【００１４】
第６の発明は、特に、第１〜５のいずれか１つの発明の高周波加熱調理装置を、装置本体の前面側からの操作により貯液タンクの取り付け及び液体供給動作ができるようにすることにより、本体を設置する際の自由度が広がる。
【００１５】
第７の発明は、特に、第１〜６のいずれか１つの発明の高周波加熱調理装置を、貯水タンクと送液管を外気に介さず接合させるようにすることにより、貯水タンクの容積を小さくすれば加熱室への給水が可能となり、タンクの容積を大きくすれば、送水管内の水を逆に貯水タンク内に戻すこともできる。よって、送水管内の残水をなくすことができる。
【００１６】
第８の発明は、特に、第２〜７のいずれか１つの発明の高周波加熱調理装置を、ピストンが移動しないようにするロック機構を備えるとすることにより、水が入ったままの貯水タンクのシリンダの水を誤って加熱室内に供給することを防ぐことができる。
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。尚、実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００１８】
（実施の形態１）
図１は、本発明の第１の実施の形態における高周波加熱調理装置の概略構成図、図２は同装置の給水手段の概略構成図を示すものである。
【００１９】
図１において、高周波加熱調理装置１は、被加熱物（食材）の加熱調理に高周波、蒸気及び熱風・熱輻射による加熱が可能なスチームオーブンレンジとして使用されるもので、食材等の被加熱物を収容する加熱室２内に高周波を出力する高周波発生手段３と、熱輻射を発生する平面ヒータ４及びコンベクション用ヒータ（シーズヒータ）５と、加熱室３内の雰囲気を撹拌する循環ファン６と、加熱室２に水を供給する給水手段７と、給水手段７から供給する水を気化する加熱手段８と、高周波発生手段３、平面ヒータ４、コンベクション用ヒータ５、循環ファン６、給水手段７及び加熱手段８のそれぞれの動作などを制御する制御手段（図示せず）が備えられており、高周波、熱輻射、熱風、蒸気の少なくともいずれか１つ以上を用いて加熱室２内の被加熱物を加熱処理する。
【００２０】
加熱室２は、前面開放の箱型の本体ケース９内部に形成されており、本体ケース９の前面に、加熱室２の被加熱物取出口を開閉する透視窓付きの開閉扉１１が設けられている。
【００２１】
加熱室２と本体ケース９との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。
【００２２】
特に加熱室２の背後の空間は、加熱室２内の雰囲気を攪拌する循環ファン６及びその駆動モータ（図示略）を収容した循環ファン室（図示略）となっており、加熱室２の後面の壁が、加熱室２と循環ファン室とを画成する仕切壁１２なっている。
【００２３】
加熱室２の後面壁である仕切壁１２には、加熱室２側から循環ファン室側への吸気を行う吸気用通風孔と、循環ファン室側から加熱室２側への送風を行う送風用通風孔とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔は、多数のパンチング孔１２ａとして形成されている。
【００２４】
また、加熱室２の上面にはマイカで絶縁された発熱体で形成される平面ヒータ４が備えられているとともに、加熱室２の上面隅には加熱室２内の雰囲気温度を検知するための庫内サーミスタ１３がその先端を加熱室２内に突出するように、赤外線センサ（図示略）が仕切壁１２の上方中央の貫通穴１２ｂから被加熱物の表面温度を検知可能なように備え付けられている。
【００２５】
この庫内サーミスタ１３の検出信号は、図示せぬ制御回路によって監視され、平面ヒータ４、コンペクションヒータ５、循環ファン６のそれぞれ動作制御（温度過昇防止制御、発熱量制御、回転数制御など）などに用いられる。
【００２６】
また、高周波発生手段３は、マグネトロン３ａが加熱室２の下側の設けられたセラミックなどで形成された載置台１４で仕切られた空間に配置されており、マグネトロン３ａから発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根３ｂが設けられている。そして、アンテナ（図示せず）からの高周波を、回転するスタラー羽根３ｂに照射することにより、スタラー羽根３ｂによって高周波を加熱室２内に攪拌しながら供給するようになっている。
【００２７】
なお、高周波発生手段３は、加熱室２の底部に限らず、加熱室２の上面や側面側に設けることもできる。
【００２８】
給水手段７は、装置１の前面側から着脱可能に装着するシリンダーケーシング７ａと、シリンダーケーシング７ａに挿入されるピストン７ｂと備え、シリンダーケーシング７ａは送水管７ｃにその先端が挿入することでその内部が連通する様になっている。また、ピストン７ｂの挿入量に応じて送水量を調節するため、ピストン部７ｂをシリンダーケーシング７ａに対して時計回りにねじ込むようにすれば、シリンダーケーシング７ａ及びピストンで７ｂで形成される貯水タンクの容積が減少し、反時計回りに回転させれば、シリンダーケーシング７ａ及びピストン７ｂで形成される貯水タンクの容積が減少するようになっている。尚、７ｄはピストン７ｂの固定手段であり、ピストン７ｂが回転しないようにするものである。また７ｅは貯水タンクへ給水する際に使用する給水量表示部、７ｆは加熱室へ給水する際に使用する供給量表示部である。
【００２９】
加熱手段８は、加熱室２内に装備される１つの給水受け皿８ａと、この給水受け皿８ａの下方側に熱伝導グリスなどを介して密着して取り付けられ、給水受け皿８ａ上の水に伝熱することで水を蒸発させ加熱室に供給するアルミダイキャストヒータ８ｂが備えられている。なお、送水管７ｃは、シリンダーケーシング７ａから給水受け皿８ａにかけては、下り勾配となっている。
【００３０】
以上のように構成された高周波加熱調理装置１について、以下その動作、作用を説明する。
【００３１】
まず、給水手段７の使用方法について図２を用いて説明する。
【００３２】
まず、図２に示すように、使用者はシリンダーケーシング７ａの先端開口部７ｄを水につけ、ピストン７ｂを反時計周りに回転（矢印１５）させると、ネジ部７ｅによりピストン７ｂはシリンダーケーシング７ａに対してその容積を大きくする方向（矢印１６）に移動し、シリンダーケーシング７ａ内に水が吸引される。この際、シリンダーケーシング７ａに給水量表示部７ｅである目盛りにより、シリンダーケーシング内の給水量が判断できるようになっている。所定量が給水できれば、ピストン７ｂのロック機構であるナット７ｇを回転移動（矢印１８）して、ピストン７ｂを固定する。
【００３３】
次に、図１に示すようにシリンダーケーシング７ａへの給水動作が終了すれば、シリンダーケーシング７ａを、装置１の前面側から加熱室２へ給水操作が可能なように配置された操作パネル１０にシリンダーケーシング７ａを挿入する。これによりシリンダーケーシング７ａと送水管７ｃが連通し、給水受け皿８ａに給水できるようになる。給水動作は、ロック機構であるナット７ｇを回転移動させ、ロックを解除し、供給量表示部７ｆを見ながらピストン７ｂを時計周りに回転させる。このようにすれば、シリンダーケーシング７ａ内部の水が押し出され、送水管７ｃから加熱室２にある給水受け皿８ａに送られる。尚、給水受け皿８ａの下方側に接続されたアルミダイキャストヒータ８ｂは、操作パネル１０で選択された各種調理モードにより動作が制御されている。
【００３４】
以上のように構成された高周波発生手段３について、以下その動作、作用を説明する。
【００３５】
まず、使用者は給水手段７をセットした状態で、開閉扉１１を開け、被加熱物を加熱室３に入れ、開閉扉１１を閉める。この動作により、自動的に電源が投入される。
【００３６】
そして、給水手段７で給水受け皿８ａに給水した後、操作パネル１０を操作、スタートボタン１０ａを動作させると、自動的に加熱手段８であるアルミダイキャストヒータ８ｂ、に通電され、蒸気が加熱室内を充満する。その後、マグネトロン３ａとスタラー羽根３ｂが動作し、被加熱物を加熱し始める。高周波加熱動作は、赤外線センサ１５の被加熱物の検知温度が、所定温度（ｔ１）に達した時点で、高周波加熱手段２が停止することで終了する。尚、マグネトロン３ａ、アルミダイキャストヒータ８ｂの動作は画一でなく、非加熱物により様々なシーケンスが設定される。
【００３７】
次に、平面ヒータ４及びコンベクションヒータ５を用いて、被加熱物を加熱する際の動作について説明する。
【００３８】
まず、使用者は給水手段７をセットした状態で、開閉扉１１を開け、被加熱物を載置したオーブン皿（図示略）を庫内側壁面に設けられたレール部（図示略）に入れ、開閉扉１１を閉める。この動作により、自動的に電源が投入される。
【００３９】
そして、操作パネル１０を操作、調理温度と調理時間を設定し、スタートボタン１０ａを動作させると、自動的に平面ヒータ４及びコンベクションヒータ５、循環ファン６が制御手段（図示せず）にプログラムされたシーケンスに基づき動作する。グリル及びオーブン加熱動作は使用時に設定された所定温度で所定時間が経過すれば、平面ヒータ４、コンベクションヒータ５が停止するが、使用者は上記したような、動作を、調理中に行うことで、給水手段７を操作し、加熱室２内に蒸気を供給するようにすることで、表面がパリッと、中がふっくらとしたフランスパンや、シューなどの皮などを作ることができる。
【００４０】
また、調理中に最適なタイミングで蒸気を供給するためにも、ブザーなどにより、給水のタイミングを知らせることも考えられる。
【００４１】
次に、給水手段７の片付け方法について図３を用いて説明する。
【００４２】
まず、操作パネル１０にシリンダーケーシング７ａが挿入された状態で、図３に示すように、ピストン７ｂを反時計周りに回転（矢印１９）させる。このようにすれば、ピストン７ｂが移動（矢印２０）し、送水管７ｃ内部の水がケーシング７ａ内部に吸込（矢印２１）まれ、送水管７ｃ内部が空になる。このようなればシリンダーケーシング７ａを操作パネルから取り外し、ピストン７ｂを時計回りに回転させて内部の水を排出する。
【００４３】
以上のように、本実施の形態では、高周波発生手段、給水手段及び加熱手段の制御手段と給水手段は外圧によりその容積を可変する密閉型の貯水タンクと、貯水タンクの水を移送する送水管とを備えることにより、貯水タンクの水を移送することとなり、調理中に蒸気生成に必要な水が不足しても、加熱室の開閉扉を開けることなく補給することができ、かつ、貯液タンクそのものに送水機構を備えることでコンパクトにすることができる。
【００４４】
以上、本実施の形態では、給水手段７をシリンダーケーシング７ａとピストン７ｂにより貯水タンクを形成したが、貯水タンクはベローズを用いて構成することも考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
以上のように、本発明に関わる高周波加熱調理装置は、その容積を可変できる密閉型の貯水タンクにより電動ポンプなどの専用の送水手段を用いずに加熱室への送水ができ、コンパクト性と低コストを両立した蒸気発生機能付きの高周波加熱装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の第１の実施の形態における高周波加熱調理装置の概略構成図
【図２】同装置の給水手段であるシリンダーケーシングへの給水動作を示す概略構成図
【図３】同装置の同装置の送水管の排水動作を示す概略構成図
【符号の説明】
【００４７】
２  加熱室
３  高周波発生手段
４  平面ヒータ
５  コンベクション用ヒータ
６  循環ファン
７  給水手段
７ａ  シリンダーケーシング
７ｂ  ピストン
７ｃ  送水管
７ｄ  固定手段
７ｅ  給水量表示部
７ｆ  供給量表示部
８  加熱手段
８ａ  給水受け皿
８ｂ  アルミダイキャストヒータ
９  制御手段
１１  開閉扉
【図１】
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【図２】
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【図３】
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