(57)【要約】【課題】  上記事実を考慮して、ステージ部材へ基板を搬入する際に吸盤を基板に接触させたとき、吸盤の接触圧によって基板がたわむのを防止する。【解決手段】  吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たときローラ６２と重なるように位置する複数の吸盤４８の吸着パッド７０によって、ステージ部材１１０上の基板材料２００が吸着され、この基板材料２００はステージ部材１１０から次工程へ搬送される。すなわち、吸着パッド７０が基板材料２００に接触したとき、基板材料２００はローラ６２と吸着パッド７０とで挟み込まれた状態になる。これにより、吸着パッド７０が基板材料２００に接触したときの接触圧はローラ６２で受けられるので、吸着パッド７０の接触圧によって基板材料２００が薄い場合でもたわむことがない。従って、吸着パッド７０で基板材料２００を吸着する際にエアーがリークすることがなく、基板材料２００は吸着パッド７０によって確実に吸着されて次工程へ搬送される。【選択図】    図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送する複数のローラで構成されたスライド搬送部と、前記スライド搬送部上の基板を複数の吸盤で吸着し次工程へ搬送するリフト搬送部と、を有する基板搬送装置において、
前記複数の吸盤中心は、吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき前記ローラの軸心と重なるように位置することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記吸盤の外径寸法は、前記ローラの半径以下であることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記リフト搬送部は、前記複数の吸盤が選択的に取付可能とされた取付部を有し、前記取付部の中心は吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき前記ローラの軸心と重なる位置に形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記リフト搬送部は、前記複数の吸盤が取り付けられる取付部が形成された取付フレームを有し、前記取付部の中心は吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき前記ローラの軸心と重なる位置に形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記取付部は、前記複数の吸盤が選択的に取付可能とされていることを特徴とする請求項４に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記基板を前記スライド搬送部の所定位置へ位置決めする位置決め手段と、前記複数の吸盤の中心を吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき前記ローラの軸心と重なるように位置させて、前記所定位置と一定の位置関係にある場所へ前記基板を移動させる移動手段と、を有することを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記複数の吸盤は、少なくとも前記基板の四隅に配置することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の基板搬送装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の基板搬送装置を備え、該基板搬送装置で搬送された前記基板に画像形成部で画像を形成することを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
複数のローラからなるスライド搬送部上に位置決めされた基板を、複数の吸盤で吸着して搬送する基板搬送方法において、
前記複数の吸盤で前記基板を吸着する際に、基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき前記複数の吸盤の中心を前記ローラの軸心に重なるように位置させて、前記吸盤と前記ローラとで前記基板を挟み込んで吸着することを特徴とする基板搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線基板等の基板を搬送する基板搬送装置とその方法に関し、更には、この基板搬送装置を備えた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、例えばプリント配線基板（以下、単に「基板」という場合がある）等に配線パターンを形成する画像形成装置としてのレーザー露光装置が知られている。このレーザー露光装置には、画像露光の対象となるプリント配線基板を載置する（ロードする）ステージ部材が備えられ、そのステージ部材を所定の搬送経路に沿って移動させるようになっている（特許文献１参照）。
【０００３】
このような画像形成装置には、ステージ部材上へ搬入される基板が待機する搬入部が設けられており、この搬入部に載置された基板は、吸着ユニットによって吸着された後、リフトアップされてステージ部材へ搬送されるようになっている。
【０００４】
ところで、搬入部が複数のローラで構成されているものがある。このような搬入部を有する画像形成装置の場合、搬入部に載置された基板をステージ部材へ搬送する際に、吸着ユニットの吸盤を基板の表面に接触させたとき、吸盤がローラとローラに跨っている部分に接触することがある。
【０００５】
このとき、吸盤が接触する接触圧によって基板がたわんでしまうことがある。特に、基板の厚さが薄い場合には、吸盤の接触圧によって基板がたわみ易く、吸盤と基板との間に隙間が出来てしまい、エアーがリークして吸着できず、基板を持ち上げることができなかったり、搬入部からステージ部材へ搬送する途中で、基板が吸盤から外れて落下してしまう恐れがある。
【特許文献１】特開２００３−２２９４７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記事実を考慮して、ステージ部材へ基板を搬入する際に吸盤を基板に接触させたとき、吸盤の接触圧によって基板がたわむのを防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明では、基板を搬送する複数のローラで構成されたスライド搬送部と、前記スライド搬送部上の基板を複数の吸盤で吸着し次工程へ搬送するリフト搬送部と、を有する基板搬送装置において、前記複数の吸盤中心は、吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき前記ローラの軸心と重なるように位置することを特徴としている。
【０００８】
請求項１に記載の発明によれば、吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき、中心がローラの軸心と重なるように位置する複数の吸盤によってスライド搬送部上の基板が吸着され、この基板はスライド搬送部から次工程へ搬送される。すなわち、吸着時に、吸盤が基板に接触したとき、基板はローラと吸盤とで挟み込まれた状態になる。これにより、吸盤が基板に接触したときの接触圧は、基板を介してローラで受けられるので、吸盤の接触圧によって基板が薄い場合でも、たわむことがない。従って、吸盤と基板の間に隙間ができない、いわゆる平らな状態で基板が吸盤に吸着され、吸盤で基板を吸着する際にエアーがリークすることがなく、基板は吸盤によって確実に吸着されて次工程へ搬送される。
【０００９】
請求項２に記載の発明では、前記吸盤の外径寸法は、前記ローラの半径以下であることを特徴としている。
【００１０】
請求項２に記載の発明によれば、吸盤の外径寸法をローラの半径以下とすることで、吸盤が基板を介してローラに接触する際に、基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき吸盤は確実にローラに重なる。すなわち、基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき吸盤の端部がローラからはみ出さないので、吸盤が基板に接触した際に、吸盤の接触圧は基板を介してローラで受けられ、基板は吸盤とローラに挟み込まれた状態となる。従って、吸盤の接触圧で基板がたわんで吸盤と基板の間に隙間ができないので、エアーがリークする恐れがない。
【００１１】
また、ローラの半径に対して吸盤の外径を小さくすることで、吸盤がローラに接触したときの、吸盤に対するローラの接触面積が小さくなる。すなわち、吸盤とローラの接触部は平坦に近くなる。これにより、薄板基板（例えば、厚さ０．１ｍｍ以下の特に薄い基板）を吸盤で吸着する際に、基板のたわみ等で吸盤と基板の間に隙間ができることがなく、確実に基板を吸着することができる。
【００１２】
請求項３に記載の発明では、前記リフト搬送部は、前記複数の吸盤が選択的に取付可能とされた取付部を有し、前記取付部の中心は吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき前記ローラの軸心と重なる位置に形成されていることを特徴としている。
【００１３】
請求項３に記載の発明によれば、リフト搬送部は、吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき、ローラの軸心と重なる位置に中心が形成された取付部を有しており、この取付部には複数の吸盤が選択的に取付可能とされている。
【００１４】
これにより、複数の吸盤を選択的に取付部に取り付けるだけで、複数の吸盤の中心は吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たときローラの軸心と重なるように位置するので、基板サイズに応じて複数の吸盤を配置する際に、吸盤の位置合わせがなくなり、作業工程が楽になる。
【００１５】
請求項４に記載の発明では、前記リフト搬送部は、前記複数の吸盤が取り付けられる取付部が形成された取付フレームを有し、前記取付部の中心は吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき前記ローラの軸心と重なる位置に形成されていることを特徴としている。
【００１６】
請求項４に記載の発明によれば、リフト搬送部は、吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき、ローラの軸心と重なる位置に取付部の中心が形成された取付フレームを有している。
【００１７】
これにより、複数の吸盤を取付フレームに形成された取付部に取り付けるだけで、複数の吸盤の中心は吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たときローラの軸心と重なるように位置するので、基板サイズに応じて複数の吸盤を配置する際に、吸盤の位置合わせがなくなり、作業工程が楽になる。
【００１８】
請求項５に記載の発明では、前記取付部は、前記複数の吸盤が選択的に取付可能とされていることを特徴としている。
【００１９】
請求項５に記載の発明によれば、複数の吸盤を選択的に取付部に取り付けるだけで、複数の吸盤の中心は吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たときローラの軸心と重なるように位置する。
【００２０】
請求項６に記載の発明では、前記基板を前記スライド搬送部の所定位置へ位置決めする位置決め手段と、前記複数の吸盤の中心を吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき前記ローラの軸心と重なるように位置させて、前記所定位置と一定の位置関係にある場所へ前記基板を移動させる移動手段と、を有することを特徴としている。
【００２１】
請求項６に記載の発明によれば、位置決め手段によってスライド搬送部の所定位置へ位置決めされた基板は、移動手段によって吸着時に基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき、中心がローラの軸心と重なるように位置させた吸盤で、所定位置と一定の位置関係にある場所へ移動される。
【００２２】
これにより、スライド搬送部上の基板は、吸着時に吸盤が基板に接触したとき、ローラと吸盤とで挟み込まれた状態になり、たわむことがないので、吸盤と基板の間に隙間ができない。従って、吸盤で基板を吸着する際にエアーがリークすることがなく、基板は吸盤によって確実に吸着されて次工程へ搬送される。
【００２３】
請求項７に記載の発明では、前記複数の吸盤は、少なくとも前記基板の四隅に配置することを特徴としている。
【００２４】
請求項７に記載の発明によれば、少なくとも基板の四隅に吸盤を配置することで、基板の全ての角部が吸盤で吸着される。これにより、基板は安定した状態で吸盤に吸着されて、スライド搬送部から次工程へ搬送される。
【００２５】
請求項８に記載の発明では、請求項１〜７のいずれか１項に記載の搬送装置を備え、該基板搬送装置で搬送された前記基板に画像形成部で画像を形成することを特徴としている。
【００２６】
請求項８に記載の発明によれば、上記のような基板搬送装置を備えているので、吸着時に吸盤が基板に接触したとき、基板はローラと吸盤とで挟み込まれた状態になるので、吸盤の接触圧は基板を介してローラで受けられる。これにより、吸盤の接触圧によって基板がたわむことがないので、吸盤と基板の間に隙間ができない、いわゆる平らな状態で基板が吸盤に吸着される。従って、吸盤で基板を吸着する際にエアーがリークすることがなく、基板は吸盤によって確実に吸着されて次工程へ搬送される。
【００２７】
請求項９に記載の発明では、複数のローラからなるスライド搬送部上に位置決めされた基板を、複数の吸盤で吸着して搬送する基板搬送方法において、前記複数の吸盤で前記基板を吸着する際に、基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき前記複数の吸盤の中心を前記ローラの軸心に重なるように位置させて、前記吸盤と前記ローラとで前記基板を挟み込んで吸着することを特徴としている。
【００２８】
請求項９に記載の発明によれば、複数の吸盤で基板を吸着する際に、基板搬送面に対して垂直方向上方から見たとき複数の吸盤の中心をローラの軸心に重なるように位置させることにより、基板は吸盤とローラとで挟み込まれると同時に吸着されて、搬送される。これにより、基板に吸盤が接触した際の接触圧はローラによって受けられるので、接触圧によって基板がたわむことがなく搬送される。
【発明の効果】
【００２９】
本発明は上記構成としたので、ステージ部材へ基板を搬入する際に吸盤を基板に接触させたとき、吸盤の接触圧によって基板がたわむのを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の最良な実施の形態を図面に示す実施例を基に詳細に説明する。図１は本発明に係る基板搬送装置と、画像形成装置としてのレーザー露光装置が収容されたハウジングを示す一部破断概略斜視図であり、図２はハウジングを取り除いた状態の基板搬送装置とレーザー露光装置を示す概略斜視図、図３は同じく概略平面図である。そして、図４はレーザー露光装置の概略斜視図である。
【００３１】
［レーザー露光装置の構成］
まず、最初にレーザー露光装置１００について説明する。このレーザー露光装置１００は、プリント配線基板の材料となる薄板状の基板材料２００を、画像情報により変調されたレーザービームにより露光し、その基板材料２００における描画領域に、プリント配線基板の配線パターンに対応する画像（潜像）を形成するものである。
【００３２】
なお、基板材料２００としては、プリント配線基板以外にも、液晶表示装置等のパターンを形成（画像露光）するパネルや基板も用いられる。
【００３３】
基板材料２００には、その露光面（上面）２００Ａに、予め配線パターンに対応する潜像が形成される複数の描画領域（図示省略）が設定されており、これら複数の描画領域にそれぞれ対応する複数組のアライメントマーク（図示省略）が形成されている。なお、以下において、ステージ部材１１０の移動方向を副走査方向（図４において矢印Ｓで示す）とし、それと直交する方向を主走査方向（図４において矢印Ｍで示す）とする。
【００３４】
図２乃至図４で示すように、レーザー露光装置１００には、所定の厚さに形成された支持基台１０２が設けられている。支持基台１０２は、その上面形状が基板材料２００に対する副走査方向を長手方向とする略長方形状とされており、振動が遮断されるように防振ゴム１０４等を介してフロア上に水平に設置されている。
【００３５】
また、支持基台１０２の上面部には、一対のガイドレール１０６が副走査方向と平行に配設されており、そのガイドレール１０６上には、基板載置用のステージ部材１１０が移動可能に配置されている。ステージ部材１１０は、その上面形状が基板材料２００に対する副走査方向を長手方向とする略長方形状とされており、その下面で、かつ四隅には、それぞれ副走査方向に沿って直線的に延伸する断面視略逆「凹」字状のガイド部材１０８が取り付けられている。そして、これらガイド部材１０８がガイドレール１０６に摺動可能に嵌合されている。
【００３６】
また、一対のガイドレール１０６の間には、支持基台１０２上に固定されたベアリング等の軸受け（図示省略）を介して、ボールねじ１１２が副走査方向に沿って（ガイドレール１０６と平行に）設けられている。ボールねじ１１２の一端には、ボールねじ１１２を回転駆動する駆動モーター１１４が設けられている。そして、ステージ部材１１０の下面中央には、そのボールねじ１１２が螺合する筒状部材（図示省略）が、副走査方向に沿って配設されている。したがって、ステージ部材１１０は、駆動モーター１１４によってボールねじ１１２が正逆方向に回転することにより、筒状部材を介して、一対のガイドレール１０６に沿って進退（往復）移動可能となる構成である。
【００３７】
また、支持基台１０２上の副走査方向略中央には、ステージ部材１１０を跨ぐようにして、正面視略逆「凹」字状の支持ゲート１１６が立設されている。この支持ゲート１１６の所定位置には、基板材料２００上に設けられた複数組のアライメントマークを読み取るための複数（例えば４基）のＣＣＤカメラ１１８が配設されている。各ＣＣＤカメラ１１８は、撮像時の光源として１回の発光時間が極めて短いストロボを内蔵しており、このストロボの発光時のみ撮像が可能となるように、その感度が調整されている。
【００３８】
したがって、各ＣＣＤカメラ１１８は、その光軸上に位置する撮像位置をステージ部材１１０が通過する際に、所定のタイミングでストロボを発光させることにより、基板材料２００におけるアライメントマークを含む撮像範囲をそれぞれ撮像することが可能となっている。なお、各ＣＣＤカメラ１１８は、基板材料２００の幅方向（主走査方向）に沿って、それぞれ異なる領域を撮像範囲としており、撮像対象となる基板材料２００に形成された複数組のアライメントマークの位置に応じて、予め所定の位置に配設されている。
【００３９】
また、そのＣＣＤカメラ１１８が取り付けられた支持ゲート１１６の副走査方向下流側には、複数の露光ヘッド１２０を支持する露光部１２４が配設されている。露光ヘッド１２０は、その真下の露光位置を基板材料２００が通過するときに、画像情報に基づいて変調された複数本のレーザービームを基板材料２００の露光面２００Ａへ照射し、その露光面２００Ａに、プリント配線基板の配線パターンに対応する画像（潜像）を形成するようになっている。
【００４０】
各露光ヘッド１２０は、支持基台１０２の幅方向（主走査方向）に沿って、ｍ行ｎ列（例えば２行４列）の略マトリックス状に配列されており、図５（Ｂ）で示すように、１つの露光ヘッド１２０よる露光エリア１２２は、副走査方向を短辺とする矩形状で、かつ副走査方向に対して所定の傾斜角で傾斜している。
【００４１】
また、このレーザー露光装置１００には、ステージ部材１１０の移動を妨げない場所（例えば図１において、ドア９２から最も遠い奥側）に、光源ユニット（図示省略）が配設されている。この光源ユニットはレーザー発生装置を収容しており、このレーザー発生装置から出射するレーザー光を光ファイバー（図示省略）を介して、各露光ヘッド１２０へ案内している。
【００４２】
各露光ヘッド１２０は、光ファイバーによって案内されて入射されたレーザー光を空間光変調素子である図示しないデジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、「ＤＭＤ」という）によって、ドット単位で制御し、基板材料２００に対してドットパターンを露光するようになっている。この複数のドットパターンを用いて１画素の濃度を表現するようになっている。
【００４３】
したがって、図５（Ａ）で示すように、ステージ部材１１０の移動に伴い、基板材料２００には露光ヘッド１２０毎に帯状の露光済み領域２０４が形成されるが、二次元配列のドットパターンは、副走査方向に対して傾斜されていることで、副走査方向に並ぶ各ドットが、副走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっている。このため、実質的なドット間ピッチを狭めることができ、高解像度化を実現することができる。
【００４４】
［レーザー露光装置の作用］
ここで、このレーザー露光装置１００の作用を説明する。まず、ステージ部材１１０に基板材料２００が載置されると、駆動モーター１１４の駆動によりボールねじ１１２が回転し、ステージ部材１１０が副走査方向に移動する。そして、ＣＣＤカメラ１１８によってアライメントマークが撮像される。撮像されたアライメントマークの位置情報に基づき、１つの描画領域に対応して設けられた複数個のアライメントマークの位置をそれぞれ判断し、これらのアライメントマークの位置から描画領域の副走査方向及び主走査方向（幅方向）に沿った位置及び描画領域の副走査方向に対する傾き量をそれぞれ判断する。
【００４５】
そして、基板材料２００における描画領域の主走査方向（幅方向）に沿った位置及び副走査方向に対する傾き量に基づいて、画像情報（配線パターン）に対する変換処理を実行し、変換処理した画像情報をフレームメモリー内に格納する。この画像情報は、画像を構成する各画素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータである。
【００４６】
なお、変換処理の内容としては、座標原点を中心として画像情報を回転させる座標変換処理、副走査方向に沿った画像の回転処理、主走査方向（幅方向）に対応する座標軸に沿って画像情報を平行移動させる座標変換処理が含まれる。更に、必要に応じて、描画領域の主走査方向（幅方向）及び副走査方向に沿った伸長量及び縮長量に対応させて、画像情報を伸長又は縮長させる歪み補正処理を実行する。
【００４７】
その後、ステージ部材１１０が移動し、基板材料２００における描画領域の先端が露光ヘッド１２０真下の露光位置に達するタイミングに同期して、フレームメモリーに記憶された画像情報を複数ライン分ずつ順次読み出し、その画像情報に基づいて各ＤＭＤがオン・オフ制御される。そして、そのＤＭＤにレーザー光が照射されると、ＤＭＤがオン状態のときに反射されたレーザー光が、図示しないレンズ系により基板材料２００の露光面２００Ａ上に結像される。
【００４８】
このようにして、光源ユニットから出射されたレーザー光が画素毎にオン・オフされることにより、基板材料２００の描画領域が、ＤＭＤの使用画素数と略同数の画素単位（露光エリア１２２）で露光される。つまり、ステージ部材１１０が一定の走査速度で移動されることにより、基板材料２００は、そのステージ部材１１０の移動方向と反対方向に複数のレーザービームで走査・露光され、各露光ヘッド１２０毎に帯状の露光済み領域２０４が形成される（図５（Ａ）参照）。
【００４９】
［基板搬送装置の構成］
次に、以上のようなレーザー露光装置１００へ基板材料２００を搬入し、かつレーザー露光装置１００から露光済みの基板材料２００を排出する基板搬送装置１０について説明する。
【００５０】
図１乃至図３で示すように、レーザー露光装置１００のステージ部材１１０が移動する副走査方向と直交する左右両側で、かつステージ部材１１０の移動方向始端側（ロード・アンロード位置）には、それぞれ搬入部１２と排出部１４が隣接して配置されている。今、図２、図３において、基板材料２００が右（矢印Ｒで示す）から搬入され、左（矢印Ｌで示す）から排出されると仮定すると、右側が搬入部１２となり、左側が排出部１４となる。
【００５１】
搬入部１２には、フレーム２０１に両端が回転可能に支持された複数のローラ６２（ここでは９本）が並設されている。図８に示すように、機外から搬送されて来た基板材料２００は、ローラ６２上に搬入される。この基板材料２００は、図示しない駆動装置で回転するローラ６２によって、ローラ６２の送り方向の下流側に立設された位置決め部材６６に突き当てられて、ローラ６２上で１枚ずつ位置決めされる構成となっている。
【００５２】
また、排出部１４にも、複数のローラ６４が並設されており、このローラ６４上にステージ部材１１０から露光済みの基板材料２００が搬出され、ローラ６４の送り方向の下流側に設けられた搬送コンベア（図示省略）へ搬送されるようになっている。
【００５３】
搬入部１２、ステージ部材１１０、排出部１４の上方には、そのステージ部材１１０の移動方向（副走査方向）と直交する方向（主走査方向）に、一対のガイドレール２６がフレーム２４を介して架設されており、そのガイドレール２６に第１走行体３０及び第２走行体３２が移動可能に支持されている。
【００５４】
また、ガイドレール２６の隣には、ボールねじ２８が、そのガイドレール２６と平行に架設されている。すなわち、ボールねじ２８の一端には、そのボールねじ２８を正逆方向に回転駆動するステッピングモータ３８が取り付けられており、このステッピングモータ３８がフレーム２４に支持されている。そして、ボールねじ２８の他端が、ベアリング等の軸受け（図示省略）を備えた支持ステー３４に支持されている。
【００５５】
また、第１走行体３０の副走査方向側には、ねじ孔（図示省略）を有するガイド部材３６が延設されており、このガイド部材３６のねじ孔（図示省略）にボールねじ２８が螺合している。したがって、第１走行体３０は、ステッピングモータ３８によってボールねじ２８が正逆方向に回転することにより、ガイド部材３６を介してガイドレール２６に沿って主走査方向に往復移動可能となる構成である。
【００５６】
なお、ボールねじ２８は、ステージ部材１１０上まで延設されていれば充分である。すなわち、第２走行体３２は、連結部材６０によって第１走行体３０と連結することにより一体で移動するため、第１走行体３０を移動させる距離だけ、ボールねじ２８が延伸されていれば足りる。
【００５７】
また、この第１走行体３０には、第１吸着ユニット４０が昇降自在に取り付けられており、第２走行体３２には、第２吸着ユニット４２が昇降自在に取り付けられている。各吸着ユニット４０、４２は、それぞれの取付板４４、４６に複数の吸盤４８、５０が垂設されて構成されており、各吸盤４８、５０には、エア吸引用のチューブ５２、５４が接続されている（図６、図８参照）。なお、取付板４４、４６及び吸盤４８、５０については、詳細は後述する。
【００５８】
各吸盤４８、５０は、その先端中央にチューブ５２、５４と連通する開口（図示省略）が穿設されており、チューブ５２、５４を介して吸盤４８、５０の先端からエアが吸引されることにより、吸盤４８、５０による吸着が可能となる構成である。そして、その取付板４４、４６が、図示しないＬＭガイドと駆動モーターからなる昇降機構５６、５８によって昇降移動可能となっている。
【００５９】
［基板搬送装置の作用］
以上のような構成の基板搬送装置１０において、次にその作用を図１、図８乃至図１１を基に説明する。
【００６０】
搬入部１２のローラ６２上に最初の基板材料２００が搬入され、基板材料２００のステージ部材１１０側の端部が位置決め部材６６に当接して位置決めされると、第１吸着ユニット４０の取付板４４が昇降機構５６によって下降し、その取付板４４に設けられている複数の吸盤４８が、先端開口からエアが吸引されることにより基板材料２００を吸着する。吸盤４８が基板材料２００を吸着保持したら、取付板４４が昇降機構５６によって上昇し、ステッピングモータ３８によってボールねじ２８が回転することにより、第１走行体３０がガイドレール２６に沿ってステージ部材１１０側へ移動する。このとき、ステッピングモータ３８のパルス数をカウントすることで、取付板４４は搬入部１２上の基板材料２００を吸着することができる位置に位置決めされる。
【００６１】
第１吸着ユニット４０がステージ部材１１０上に移動して停止すると（ボールねじ２８の回転が停止すると）、その取付板４４が昇降機構５６によって下降し、ステージ部材１１０上に基板材料２００を載置する。そして、エアの吸引を停止し、基板材料２００に対する吸盤４８の吸着を解除する。
【００６２】
こうして、ステージ部材１１０上に基板材料２００が載置されたら、第１吸着ユニット４０の取付板４４は所定の高さに昇降機構５６によって上昇し、第１走行体３０が搬入部１２側へ（初期位置へ）復帰移動する。なお、このとき第２吸着ユニット４２は、ステージ部材１１０上に露光済みの基板材料２００がまだ無いことから、何も吸着することなく、ガイドレール２６に沿って移動するだけとなる。
【００６３】
ステージ部材１１０上に載置された基板材料２００は、そのステージ部材１１０が副走査方向へ移動することにより、ＣＣＤカメラ１１８によるアライメント検出工程及び露光ヘッド１２０による露光工程へと搬送される。すなわち、上記したように、基板材料２００のアライメントマークがＣＣＤカメラ１１８によって検出され、画像情報に基づく画像が露光ヘッド１２０によって露光され、プリント配線基板の配線パターン等の潜像（画像）が形成される。基板材料２００に対する露光処理が完了すると、ステージ部材１１０は基板材料２００が載置された初期位置（ロード・アンロード位置）へ復帰移動する。
【００６４】
ステージ部材１１０が初期位置（ロード・アンロード位置）へ復帰移動すると、ステージ部材１１０上の基板材料２００が第２吸着ユニット４２の吸盤５０によって吸着される。すなわち、第２吸着ユニット４２の取付板４６が昇降機構５８によって下降し、それに設けられている吸盤５０が、先端開口からエアが吸引されることにより、ステージ部材１１０上の露光済みの基板材料２００を吸着し、所定高さ上昇する。なお、このとき、第１吸着ユニット４０は、搬入部１２において、新しい未露光の基板材料２００を上記の如く吸着して所定高さ上昇している。この状態を図６、図７で示す。
【００６５】
第２吸着ユニット４２が露光済みの基板材料２００を吸着保持し、第１吸着ユニット４０が新しい未露光の基板材料２００を吸着保持すると、第１走行体３０が、ステッピングモータ３８によってボールねじ２８が回転することにより、ステージ部材１１０側へ移動する。このとき、第２走行体３２は第１走行体３０と連結部材６０によって連結されているので、第２走行体３２も第１走行体３０と一体になって排出部１４側へ移動する。この状態を図８、図９で示す。
【００６６】
第１走行体３０がステージ部材１１０上に移動して停止すると、上記したように、第１吸着ユニット４０の取付板４４が昇降機構５６によって下降し、基板材料２００をステージ部材１１０上に載置する。そして、エアの吸引を停止して、基板材料２００に対する吸盤４８の吸着を解除し、再度所定高さ上昇する。
【００６７】
一方、第２走行体３２、即ち第２吸着ユニット４２が排出部１４上に移動すると、昇降機構５８によって取付板４６が下降し、基板材料２００を排出部１４のローラ６４上に載置する。そして、エアの吸引を停止して、基板材料２００に対する吸盤５０の吸着を解除した後、取付板４６が所定高さ上昇する。排出部１４のローラ６４上に載置された基板材料２００は、図示しない機外の搬送コンベアへ搬送され、次工程へ搬送される。
【００６８】
［吸着ユニットの構成］
ここで、取付板４４と複数の吸盤４８で構成された第１吸着ユニット４０及び取付板４６と複数の吸盤５０で構成された第２吸着ユニット４２について説明する。なお、第１吸着ユニット４０と第２吸着ユニット４２はほぼ同じ構成とされているので、ここでは、第１吸着ユニット４０を例にとって説明する。
【００６９】
図１０（Ａ）に示すように、第１吸着ユニット４０に設けられた取付板４４には、取付孔６８が複数形成されている。取付孔６８は、５０ｍｍの間隔で９本並設されたローラ６２に対して、平面視（基板材料２００の搬送面に対して、垂直方向上方から見たとき）で１本置きにローラ６２に重なるように、また、ローラ６２の軸方向に沿って、それぞれ５箇所ずつ合計２５個形成されている。そして、取付孔６８は、図１０（Ｂ）に示すように、ローラ６２の軸方向から見たときに、取付孔６８の中心がローラ６２の軸上に位置するように形成されている。
【００７０】
一方、図１１に示すように、吸盤４８は、基板材料２００の露光面２００Ａに接触して吸着する吸着パッド７０と、吸着パッド７０に連結されたパイプ７２とで構成されている。パイプ７２の先端部にはねじ部７２Ａが形成されており、このねじ部７２Ａを取付孔６８から突出させ、チューブ５２に接続された継手７３をねじ込み、リング７１と継手７３で、取付孔６８の周辺を支持することで、吸盤４８は取付板４４に取り付けられるようになっている。このような構成で吸盤４８を取付孔６８に取り付けることで、吸盤４８は取付孔６８に対して着脱可能となっている。
【００７１】
また、図１２（Ａ）に示すように、吸着パッド７０の外径Ｍは、ローラ６２の半径Ｌ１と同じサイズかそれ以下のサイズとされている。これにより、吸着パッド７０は、吸着時に平面視で吸着パッド７０は確実にローラ６２に重なって、ローラ６２からはみだすことがない。また、吸着パッド７０がローラ６２に接触したときの、吸着パッド７０に対するローラ６２の接触面積が小さくなる。すなわち、吸着パッド７０とローラ６２の接触部は平坦に近くなる。従って、吸着パッド７０で基板材料２００を吸着する際に、吸着パッド７０と基板材料２００の間に隙間ができることがなく、確実に基板材料２００を吸着することができる。
【００７２】
なお、吸着パッド７０の外径Ｍは必ずしもローラ６２の半径Ｌ１以下のサイズとする必要はなく、図１３に示すように、ローラ６２の直径Ｌ２以下のサイズとしてもよい。これにより、平面視で吸着パッド７０がローラ６２に重なり、吸着パッド７０が基板材料２００に接触した際に、吸着パッド７０の接触圧は基板材料２００を介してローラ６２で受けられ、基板材料２００は吸着パッド７０とローラ６２に挟み込まれた状態となる。従って、吸着パッド７０の接触圧で基板材料２００がたわんで吸着パッド７０と基板材料２００の間に隙間ができないので、エアーがリークすることがない。
【００７３】
なお、本実施形態では、図１０（B）に示すように、取付孔６８の中心をローラ６２の軸上に位置させる構成としたが、取付孔６８に吸盤４８を取り付けたとき、吸着時に平面視で吸盤４８の吸着パッド７０がローラ６２と重なれば、必ずしもローラ６２の軸方向から見たときに、取付孔６８の中心がローラ６２の軸上に位置するように形成する必要はない。
【００７４】
また、吸盤４８を取付板４４に取付ける構成は、上記構成に限定されるものではなく、種々の取り付け方法が考えられる。
【００７５】
［吸着ユニットの作用］
ここで、吸着ユニット４０の作用について説明する。
【００７６】
搬入部１２のローラ６２上に、位置決め部材６６によって基板材料２００が搬入されて位置決めされる。そして、第１吸着ユニット４０が下降して、取付板４４に取り付けられている複数の吸盤４８の吸着パッド７０が、基板材料２００に接触する。
【００７７】
このとき、複数の吸盤４８が、吸着時に平面視でローラ６２と重なるように、取付孔６８に取り付けられており、この吸盤４８で搬入部１２上の基板材料２００を吸着し、基板材料２００は搬入部１２からステージ部材１１０へ搬送される。すなわち、吸着時に、吸盤４８の吸着パッド７０が基板材料２００の露光面２００Ａに接触したとき、基板材料２００はローラ６２と吸着パッド７０とで挟み込まれた状態になる。
【００７８】
これにより、吸着パッド７０が接触したときの接触圧はローラ６２で受けられるので、吸着パッド７０の接触圧によって基板材料２００が薄い場合でもたわむことがない。従って、吸着パッド７０と基板材料２００の間に隙間ができない、いわゆる平らな状態で基板材料２００が吸着パッド７０に吸着されるので、吸着パッド７０で基板材料２００を吸着する際にエアーのリークがなく、基板材料２００は吸着パッド７０で確実に吸着されて吸盤４８でステージ部材１１０へ搬送される。
【００７９】
また、取付板４４には、吸着時に平面視でローラ６２と重なる位置に取付孔６８が形成されており、吸盤４８はこの取付孔６８に着脱可能とされている。これにより、吸盤４８を取付孔６８に取り付けるだけで、吸着時に平面視で吸盤４８はローラ６２と重なるように位置するので、基板材料２００のサイズに応じて複数の吸盤４８を取付孔６８に取り付けたとき、それぞれの吸盤４８を位置合わせする必要がないので、作業工程が楽になる。
【００８０】
例えば、図１４（Ａ）に示すように、搬入部１２とほぼ同じサイズ（９本のローラ６２に跨る大きさ）、いわゆる大きなサイズの基板材料２００の場合には、基板材料２００の四隅と長手方向の端部の中央部を吸引するように、取付板４４の四隅の取付孔６８と主走査方向の中央部の取付孔６８に吸盤４８を取り付ける。
【００８１】
また、図１４（Ｂ）に示すように、小さなサイズの基板材料２００Ｂの場合には、基板材料２００Ｂの四隅を吸引するように、基板材料２００Ｂの四隅に対応する位置の取付孔６８に吸盤４８を取り付ける。
【００８２】
このように、少なくとも基板材料２００の四隅に吸盤４８を配置することで、基板材料２００の全ての角部が吸盤４８の吸着パッド７０で吸着されるので、基板材料２００は安定した状態で吸着パッド７０に吸着されてリフトアップされ、搬入部１２からステージ部材１１０へ搬送される。
【００８３】
また、図１５（Ａ）に示すように、取付板４４の中央、すなわち、中央のローラ６２の軸方向の中央部と対応する部分には、取付孔は形成しない構成でもよい。
【００８４】
このような構成では、図１５（Ｂ）に示すように、基板材料２００Ｃの四隅と、それぞれの端部の四隅よりも少し内側に入った部分の取付孔７６に吸盤４８を取り付けて、基板材料２００Ｃを吸引すればよい。
【００８５】
なお、本実施形態では、平面視で１本置きにローラ６２に重なるように取付孔６８を形成したが、全てのローラ６２に対して重なるように設けたり、２本置きにローラ６２に重なるように設けてもよい。また、この取付孔６８は、必ずしもローラ６２の軸方向に５箇所形成する必要はなく、５箇所以上でも５箇所以下でもよい。すなわち、取付孔６８は、平面視でローラ６２と重なっていれば、数や配置方法は特に限定されない。さらに、本実施形態では、９本のローラ６２が並設されている構成としたが、ローラ６２の数も特に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明の実施形態に係る基板搬送装置とレーザー露光装置が収容されたハウジングを示す一部破断概略斜視図である。
【図２】本発明の実施形態に係るハウジングを取り除いた状態の基板搬送装置とレーザー露光装置を示す概略斜視図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板搬送装置の概略平面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る基板搬送装置が搭載された画像形成装置のレーザー露光装置の概略斜視図である。
【図５】（Ａ）露光ヘッドによる露光領域を示す平面図であり、（Ｂ）露光ヘッドの配列パターンを示す平面図である。
【図６】本発明の実施形態に係る基板搬送装置の搬入部上の基板とステージ部材上の基板を吸着した状態を示す概略側面図である。
【図７】本発明の実施形態に係る基板搬送装置の搬入部上の基板とステージ部材上の基板を吸着した状態を示す概略平面図である。
【図８】本発明の実施形態に係る基板搬送装置のステージ部材上と排出部上に各基板を搬送した状態を示す概略側面図である。
【図９】本発明の実施形態に係る基板搬送装置のステージ部材上と排出部上に各基板を搬送した状態を示す概略平面図である。
【図１０】（Ａ）本発明の実施形態に係る基板搬送装置の取付フレームとローラの位置関係を示す概略平面図であり、（Ｂ）概略側面図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る基板搬送装置の取付フレームと吸盤を示す概略断面図である。
【図１２】本発明の実施形態に係る基板搬送装置の吸盤とローラを示す概略図である。
【図１３】本発明の他の実施形態に係る基板搬送装置の吸盤とローラを示す概略図である。
【図１４】本発明の実施形態に係る基板搬送装置の取付フレームと基板を示す概略正面図である。
【図１５】本発明の他の実施形態に係る基板搬送装置の取付フレームと基板を示す概略正面図である。
【符号の説明】
【００８７】
１０  基板搬送装置
１２  搬入部（スライド搬送部）
４０  吸着ユニット（リフト搬送部）
４２  吸着ユニット（リフト搬送部）
４４  取付板（取付フレーム）
４６  取付板（取付フレーム）
４８  吸盤
５０  吸盤
６２  ローラ
６４  ローラ
６６  位置決め部材（位置決め手段）
６８  取付孔（取付部）
７０  吸着パッド（吸盤）
７４  取付板（取付フレーム）
７６  取付孔（取付部）
２００  基板材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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