(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶表示部材であるカラーフィルターといった細かいパターンの繰り返しを組み合わせてなる部分を有する複合パターンをガラス表面等の基材に凸版反転オフセット印刷法を用いて印刷する際に、転写面であるシリコーンゴム層表面の帯電を抑え、ブランケット上のパターン化されたインキを被印刷基板に正常に転写させる。【解決手段】シリコーンゴム層が転写面となるブランケットにおいて、転写面が導電性粒子が分散した導電性シリコーンゴム層であって、その下に硬度調節シリコーンゴム層が設けられたブランケットを用いてオフセット印刷によるパターン形成を行なう。【選択図】図１
2006240115.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコーンゴム層が転写面となるブランケットにおいて、転写面が導電性粒子が分散した導電性シリコーンゴム層であって、該導電性シリコーンゴム層の下に硬度調節シリコーンゴム層が設けられていることを特徴とするブランケット。
【請求項２】
前記導電性シリコーンゴム層の体積抵抗が１×１０Ω・ｃｍ以上１×１０６Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のブランケット。
【請求項３】
前記シリコーンゴム層のゴム硬度が３０以上７０以下であることを特徴とする請求項１または２記載のブランケット。
【請求項４】
前記導電性粒子の平均粒子径が３μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のブランケット。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載のブランケットを用いてオフセット印刷法により塗布液からなる画像パターンを基板に形成することを特徴とする画像形成方法。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれかに記載のブランケットを用いて凸版反転オフセット印刷法によりインキを基板に転写する工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は印刷機用オフセットブランケットに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、印刷法を用いて電子部品の製造が盛んに行われてきたが、ますます印刷の高精細化の要求が高まってきている。その結果、オフセット印刷用ブランケットへの要求も高まりつつある。
【０００３】
従来より、液晶表示装置に用いられるカラーフィルターや有機ＥＬディスプレイなどの細かいパターンの繰り返しを組み合わせてなる部分を有する複合パターンをガラス表面等の基材表面に形成する手段が各種検討されているが、高精細、高品質の画像パターンが印刷方法により安定して実現できれば、一般に短い工程でコストダウンが図れることが予想される。そこで、高精細の印刷方法による画像パターンの形成に対する期待が大きくなってきている。印刷方法での高精細画像パターンの形成方法としては、凹版方式に代表されるオフセット印刷法が有力な方法として提案されている。
【０００４】
しかし、インキを転写する基板表面が絶縁素材、たとえばガラス、高分子フィルムである場合、基板とシリコーンゴムの接触・剥離による帯電は基板、ブランケットともに大きく、そのため異物の付着が問題となっていた。また、この大きな帯電は静電気発生の原因ともなり、静電気の放電により欠陥が発生する場合があり、特に有機溶剤系インキを使用する印刷の場合には火災防止の安全面でも帯電防止及び除電が大きな問題となっていた。
【０００５】
そこで、このような問題を解決する方法として除電ブロアーや除電ブラシによる除電が検討されてきたが、これらの方式では短時間で除電を十分におこなうことはできなかった。また、除電を十分に行うためには、除電に非常に多くの時間をかけるか大型の除電装置を導入する必要があった。しかし、除電に時間をかけると生産性が悪くなるという問題、大型の設備導入は投資金額やスペースの点で負担が大きいという問題があった。
【０００６】
帯電防止や除電性だけを問題にするのであれば印刷版の表面材質を金属等の導電物質に変更するのが最も効果的であるが、そのような手法では印刷適性が皆無になってしまうため、不具合があってもブランケットの表面にはシリコーンゴムを使う必要があり、シリコーンゴムに金属やカーボンといった導電性物質をフィラーとして含有させる方法が提案されている（例えば特許文献１）。
【０００７】
また、高精細画像パターンの形成する印刷方法として凸版反転オフセット印刷法が提案されている（特許文献２）。この凸版反転オフセット印刷法は上記オフセット印刷法と同様にブランケットを用いるものであるが、インキをパターン化する工程が凹版オフセット印刷法と異なる。この反転オフセット印刷法では、最初にブランケットの有効面全面にインキを塗工するインキ供給工程と、凸部を被印刷基板に形成するパターンのネガパターンにした除去版に前記ブランケットを押圧して分離することで、ブランケットからネガパターンでインキを除去しブランケット上に所望のパターンを形成する転写除去工程と、ブランケットを被印刷基板に押圧し分離してブランケットから非印刷機板にパターンを転写する転写工程からなるものである。
【０００８】
この凸版反転オフセット印刷法は、インキの塗布状態とインキの転移状態とを独立して制御できるため、インキ膜厚の均一性がよいこと、糸引き現象が発生しない良好な転移を低印圧で実現できることから、高精細で歪みの少ない画像を形成する上で有利な方法である。
【特許文献１】特開平７−１７１９４２号公報
【特許文献２】特開平１１−５８９２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、凸版反転オフセット印刷法ではインキを除去版によってパターン化する工程とインキを基板に転写する工程ではインキパターン形状を維持するためにインキが半乾燥状態であるため、除去版、被印刷基板がガラス・高分子フィルム等の絶縁性基板であった場合、ブランケットの転写面であるシリコーンゴム層の帯電を抑えることは非常に重要である。反転オフセット印刷法においてシリコーンゴム層表面に導電性粒子を加えることによって十分な帯電防止、除電性を得ようとする場合、相当量の導電性粒子をシリコーンゴム層中に混合する必要があり、導電性粒子によってシリコーンゴム硬度が上昇し、基板へのインキの転写するために適正なゴム硬度をシリコーンゴム層に持たせることができなかった。本発明の目的は、液晶表示部材であるカラーフィルターといった細かいパターンの繰り返しを組み合わせてなる部分を有する複合パターンをガラス表面等の基材に凸版反転オフセット印刷法を用いて印刷する際に、転写面であるシリコーンゴム層表面の帯電を抑えることと、ブランケット上のパターン化されたインキが被印刷基板に正常に転写されることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明では上記課題を解決するために、請求項１に係る発明としては、シリコーンゴム層が転写面となるブランケットにおいて、転写面が導電性粒子が分散した導電性シリコーンゴム層であって、該導電性シリコーンゴム層の下に硬度調節シリコーンゴム層が設けられていることを特徴とするブランケットとした。
【００１１】
請求項２に係る発明としては、前記導電性シリコーンゴム層の体積抵抗が１×１０Ω・ｃｍ以上１×１０６Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のブランケットとした。
【００１２】
請求項３に係る発明としては、前記シリコーンゴム層のゴム硬度が４０以上９０以下であることを特徴とする請求項１または２記載のブランケットとした。
【００１３】
請求項４に係る発明としては、前記導電性粒子の平均粒子径が３μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のブランケットとした。
【００１４】
請求項５に係る発明としては、請求項１乃至４のいずれかに記載のブランケットを用いてオフセット印刷法により塗布液からなる画像パターンを基板に形成することを特徴とする画像形成方法とした。
【００１５】
請求項６に係る発明としては、請求項１乃至４のいずれかに記載のブランケットを用いて凸版反転オフセット印刷法によりインキを基板に転写する工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法とした。
【００１６】
請求項７に係る発明としては、請求項６記載の製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタとした。
【発明の効果】
【００１７】
本発明はシリコーンゴムを配置したブランケットにおいてシリコーンゴム層中に導電性粒子を分散させ導電性シリコーンゴム層を設け、その下に硬度を調節するためののシリコーンゴム層を設けることによって印刷適性を損なうことなくシリコーンゴムの帯電を押さえ、さらには除電を容易にすることが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に本発明を実施するための最良の形態について示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１９】
本発明のブランケットの断面の一例を模式図として図１に示した。シリコーンゴム層１０はベース基材１２上に形成され、ブランケットとなる。シリコーンゴム層１０は硬度調節シリコーンゴム層１４の上に導電性粒子を分散した導電性シリコーンゴム層１５が設けられた構造となっている。ベース基材とシリコーンゴム層の間には必要に応じてプライマー層１３が設けられる。また、ベース基材１２の下には必要に応じてクッション層１１が設けられる。クッション層１１としてはスポンジ状の材料を用いることができる。
【００２０】
本発明の導電性シリコーンゴム層、ゴム硬度調節シリコーンゴム層を構成するシリコーンゴム層材料としては主にゴム加工時の熱収縮を抑えるためにＲＴＶ型の付加重合型シリコーンゴムが用いられる。一般的にブランケットに用いられるシリコーンゴムは上記シリコーンゴムの中でも型取り用グレードが使われることが多いが印刷適性のあるものであればとくに限定するものではない。導電性シリコーンゴム層材料としては上記シリコーンゴムに導電性粒子を混練することによって得ることができる。また、硬度調節シリコーンゴム層材料はシリコーン生ゴムを用いても良い。
【００２１】
導電性シリコーンゴム層の体積固有抵抗は１×１０Ω・ｃｍ以上１×１０６Ω・ｃｍ以下であることが必要である。体積抵抗が１×１０６を超えた場合、十分な除電性帯電防止機能を得ることができない。また、１×１０Ω・ｃｍで十分な除電性能を得ることができ、１×１０Ω・ｃｍ未満であってもこれ以上の除電効果を得ることはできない。さらに、１×１０Ω・ｃｍ未満の導電性シリコーンゴム層を得ようとした場合には、導電性粒子のシリコーンゴムに対する割合が大きくなってしまい、導電性粒子がシリコーンゴム層から剥落しやすくなる。また、ゴム硬度も大きくなり、導電性シリコーンゴム層の下にゴム硬度調節シリコーンゴム層を設けたとしても所望のシリコーンゴム層のゴム硬度を得ることはできなくなってしまう。
【００２２】
また、導電性シリコーンゴムの導電性粒子の平均粒子径は３μｍ以下であることが好ましい。導電性粒子の平均粒子径が３μｍを超えた場合、ブランケット表面の表面粗さが大きくなり、カラーフィルタのような高精細な画像パターンを得ようとする場合、インクの膜厚が不均一となり、画素内で色ムラが発生してしまう。
【００２３】
前記導電性粒子としては、Ｎｉ、Ｃｕなどの金属粉、ファーネスブラック、ランプブラック、サーマルブラック、アセチレンブラック、チャンネルブラックなどのカーボンブラック、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化アンチモン、チタン酸カリなどの導電性酸化物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２４】
導電性シリコーンゴム層と硬度調節シリコーンゴム層をあわせた形でのシリコーンゴム層のゴム硬度は３０以上７０以下の範囲にあればよい。あわせたシリコーンゴム層のゴム硬度が３０未満の場合、版や基板と接触するときにゴムの変形量が大きくなりバルジ等が発生しやすい。このことは精密な位置精度を要求されるような高精細印刷をするときには位置ずれのような不具合を誘引するため好ましくない。またゴム硬度が７０を超える場合、ゴムが硬すぎるため、少しの凹凸にも追従ができなくなり印刷不良が発生しやすいという問題が発生してしまう。
【００２５】
なお、ゴム硬度３０以上７０以下のシリコーンゴム層を得るためには、導電性シリコーンゴム層はゴム硬度４０以上９０以下であることが好ましく、硬度調節シリコーンゴム層はゴム硬度２０以上７０以下であることが好ましい。導電性シリコーンゴム層と硬度調節シリコーンゴム層のゴム硬度がそれぞれこの範囲にあるとき、シリコーンゴム層のゴム硬度を３０以上７０以下に調整するのが容易である。
【００２６】
次に本発明のブランケットを用いた凸版反転オフセット印刷法によるカラーフィルターの製造方法について説明する。図２に凸版反転オフセット印刷法による印刷装置の一例を模式図として示した。この印刷装置は架台２にブランケット胴３が印刷方向に沿って移動可能にして支持されているとともに、架台２には除去版４と被印刷基板５とが配置されていて、ブランケット胴３が回転移動して除去版４、被印刷基板５の順に対応するように設けられているものである。この印刷装置では、ブランケット銅３が架台２の一端側に設定されている待機位置６にあるときに、インキ供給手段７からブランケット胴３の周面にあるブランケット８にインキの供給が行われてブランケット８の全面に膜厚均一にしてインクの塗工が行われる。
【００２７】
供給したインキを半乾燥状態にした後、前記ブランケット胴３のブランケット８が、被印刷物基板５に形成するパターンのネガパターンとした凸部を有する凹版の前記除去版４に押圧し、ブランケット胴３の回転移動でブランケット８上のインキが分離することで除去版４の凸部にインキを前記ネガパターンで転移させて、そのブランケット８上に残されたインキからなるパターンを形成する。そして、ブランケット胴３が被印刷基板５に達してブランケット８をその被印刷基板に押圧し、ブランケット胴３の回転移動でブランケット８上に残されたインキが剥離することで被印刷基板５にインキを転写してパターンが形成されるようにしている。また、除去版４の凸部に転移したインキは図示しない清浄機構にて取り除かれる。
【００２８】
上述したように反転印刷法の印刷装置は最初にブランケットの有効面全面にインキを塗工するインキ供給工程と、インキ供給工程の後に、凸部を被印刷基板に形成するパターンのネガパターンにした除去版に前記ブランケットを押圧して分離することで、ブランケットからネガパターンでインキを除去する転写除去工程と、転写除去工程の後に、ブランケットを被印刷基板に押圧し分離してブランケットから非印刷機板にパターンを転写する転写工程を一サイクルとするものである。
【００２９】
液晶表示装置用カラーフィルターは黒（ブラックマトリックス）、赤、緑、青の４色のパターンからなるものである。黒、赤、緑、青それぞれのインキについては公知のを用いることができ、凸版反転オフセット印刷法によりいずれか１色以上のパターンについて形成することができる。
【実施例１】
【００３０】
まずシリコーンゴム層のゴムとしてＧＥ東芝シリコーン製ＴＳＥ３４５７Ｔ：１００重量部にＴＳＥ３４５７（Ｃ）：１０重量部を硬化剤として添加し、攪拌後、脱泡を行いシリコーンゴムの調合を行った。
【００３１】
次にベース基材としてＰＥＴフィルムであるメリネックス７４６（帝人製）２５０μｍ品の片方の表面にシリコーンゴム用プライマーとしてＧＥ東芝シリコーン製ＭＥ１５３を膜厚が約１μｍになるようにワイヤーバーコーターを用い塗布した後１時間放置して自然乾燥を行った。
【００３２】
上記プライマー処理をしたＰＥＴフィルムに厚さが０．３ｍｍとなるように上記で調合したシリコーンゴムをアプリケーターを用いて塗布し、２４時間そのまま放置して硬化させ硬度調節シリコーンゴム層を形成した。
【００３３】
次に、ＧＥ東芝シリコーン製ＴＳＥ３４５７Ｔ：１００重量部、カーボンブラック：３０重量部（平均粒径１μｍ）を２本ロールで均一に分散するまで混練し、その後硬化剤としてＧＥ東芝シリコーン製  ＴＳＥ３４５７（Ｃ）：１０重量部を添加し攪拌した。次に上記導電性シリコーンゴムを厚さが０．３ｍｍとなるようにシリコーンゴム上にアプリケーターを用いて塗布し、２４時間そのまま放置して硬化させ導電性シリコーンゴム層を形成した。
【００３４】
得られたブランケットをインキ塗布工程、除去版による転写除去工程、転写工程からなる凸版反転オフセット印刷装置のシリンダーに装着し、ガラス基板に対し黒インキ（ブラックマトリックス）、赤インキ、緑インキ、青インキをパターニングし、カラーフィルター基板を作成した。カラーフィルター作成後、シリコンブランケット表面について帯電量の測定および付着異物の観察を行った。また、得られたカラーフィルター基板について、印刷品位の観察を行った。尚、作製したブランケットについてはゴム部分の硬度を測定するために薄膜用ゴム硬度計ＭＥ−１（高分子計器製）を用いて測定した。
【００３５】
（比較例１）
まずシリコーンゴム層のゴムとしてＧＥ東芝シリコーン製ＴＳＥ３４５７Ｔ：１００重量部及びＴＳＥ３４５７（Ｃ）：１０重量部を混ぜ合わせ、攪拌後、脱泡を行いシリコーンゴムの調合を行った。
【００３６】
次にベース基材としてＰＥＴフィルムであるメリネックス７４６（帝人製）２５０μｍ品の片方の表面にシリコーンゴム用プライマーとして  ＧＥ東芝シリコーン製  ＭＥ１５３を膜厚が約１μｍになるようにワイヤーバーコーターを用い塗布した後１時間放置して自然乾燥を行なった。
【００３７】
上記プライマー処理をしたＰＥＴフィルムに厚さが０．６ｍｍとなるように上記で調合したシリコーンゴムをアプリケーターを用いて塗布し、２４時間そのまま放置して硬化させシリコーンゴム層を形成した。得られたブランケットを用いて凸版反転印刷法によりカラーフィルター基板を作成し、実施例と同様の評価をおこなった。
【００３８】
（比較例２）
ＧＥ東芝シリコーン製ＴＳＥ３４５７Ｔ：１００重量部、カーボンブラック：３０重量部（平均粒径１μｍ）を２本ロールで均一に分散するまで混練し、その後、ＧＥ東芝シリコーン製ＴＳＥ３４５７（Ｃ）：１０重量部を硬化剤として添加し攪拌した。次にベース基材としてＰＥＴフィルムであるメリネックス７４６（帝人製）２５０μｍ品の片方の表面にシリコーンゴム用プライマーとして  ＧＥ東芝シリコーン製ＭＥ１５３を膜厚が約１μｍになるようにワイヤーバーコーターを用い塗布した後１時間放置して自然乾燥を行った。
【００３９】
上記プライマー処理をしたＰＥＴフィルムに厚さが０．６ｍｍとなるように上記で調合したシリコーンゴムをアプリケーターを用いて塗布し、２４時間そのまま放置して硬化させシリコーンゴム層を形成し、ブランケットとした。得られたブランケットを用いて凸版反転印刷法によりカラーフィルター基板を作成し、実施例と同様の評価をおこなった。
【００４０】
（比較例３）
まずシリコーンゴム層のゴムとしてＧＥ東芝シリコーン製ＴＳＥ３４５７Ｔ  １００重量部に  ＴＳＥ３４５７（Ｃ）  １０重量部を硬化剤として添加し、攪拌後、脱泡を行いシリコーンゴムの調合を行った。
【００４１】
次にベース基材としてＰＥＴフィルムであるリネックス７４６（帝人製）２５０μｍ品の片方の表面にシリコーンゴム用プライマーとしてＧＥ東芝シリコーン製ＭＥ１５３を膜厚が約１μｍになるようにワイヤーバーコーターを用い塗布した後１時間放置して自然乾燥を行った。
【００４２】
上記プライマー処理をしたＰＥＴフィルムに厚さが０．３ｍｍとなるように上記で調合したシリコーンゴムをアプリケーターを用いて塗布し、２４時間そのまま放置して硬化させ硬度調節シリコーンゴム層を形成した。
【００４３】
次に、ＧＥ東芝シリコーン製  ＴＳＥ３４５７Ｔ：１００重量部、カーボンブラック：３０重量部（平均粒径２０μｍ）を２本ロールで均一に分散するまで混練し、その後硬化剤としてＧＥ東芝シリコーン製  ＴＳＥ３４５７（Ｃ）  １０重量部を添加し攪拌した。
次に上記導電性シリコーンゴムを厚さが０．３ｍｍとなるようにのシリコーンゴム上にアプリケーターを用いて塗布し、２４時間そのまま放置して硬化させ導電性シリコーンゴム層を形成し、ブランケットとした。得られたブランケットを用いて凸版反転印刷法によりカラーフィルター基板を作成し、実施例と同様の評価をおこなった。
【００４４】
表１に実施例、比較例１、比較例２、比較例３の評価結果を示した。
【００４５】
【表１】
2006240115.tif 000003
【００４６】
表１に示したように実施例では帯電量が比較例１より大幅に減少し、ブランケットの帯電による異物付着数が大幅に減り、印刷品位が向上した。比較例１はブランケットへの異物付着量が多くなり結果として印刷品位の低下につながった。比較例２では、ブランケット表面のゴム硬度が高く、一部で印刷のヌケが確認された。また、比較例３は帯電量も少なく異物付着も少ないが、導電性粒子の平均粒径が大きく赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）全てにおいて色ムラが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明のブランケットの断面図
【図２】反転印刷法による印刷装置の模式図
【符号の説明】
【００４８】
１…印刷装置
２…架台
３…ブランケット胴
４…除去版
５…被印刷基板
６…待機位置
７…インキ供給手段
８…ブランケット
１０…シリコーンゴム層
１１…クッション材
１２…ベース基材
１３…プライマー層
１４…硬度調節シリコーンゴム層
１５…導電性シリコーンゴム層
【図１】
2006240115.tif 000004
【図２】
2006240115.tif 000005