(57)【要約】【課題】加熱や光照射による電力効率の低下が抑制される有機ＥＬ素子を提供する。【解決手段】有機ＥＬ素子１０は、導電性の金属酸化物系材料で形成された陽極１２と、陰極１３と、有機発光層１４と、アミン系材料で形成された正孔注入輸送層１５とを備えている。陽極１２と陰極１３との間に有機発光層１４が設けられており、陽極１２はアルゴンの混合量を３０〜５９ｖｏｌ％とした酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を受けている。プラズマ処理後の陽極１２上に正孔注入輸送層１５が形成される。有機ＥＬ素子１０は、温度８５℃の熱を１５０時間加えた後の電力効率の保持率が８０％以上であり、照度３０００ルクスの光を１００時間照射した後の電力効率の保持率が８０％以上である。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と陰極との間に有機発光層が設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記陽極は導電性の金属酸化物系材料で形成され、
前記陽極と前記有機発光層との間にフタロシアニン金属錯体以外の材料で形成された正孔注入輸送層が設けられ、
温度８５℃の熱を１５０時間加えた後の電力効率の保持率が８０％以上である有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
陽極と陰極との間に有機発光層が設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記陽極は導電性の金属酸化物系材料で形成され、
前記陽極と前記有機発光層との間にフタロシアニン金属錯体以外の材料で形成された正孔注入輸送層が設けられ、
照度３０００ルクスの光を１００時間照射した後の電力効率の保持率が８０％以上である有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
陽極と陰極との間に有機発光層が設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記陽極は導電性の金属酸化物系材料で形成され、
前記陽極と前記有機発光層との間にフタロシアニン金属錯体以外の材料で形成された正孔注入輸送層が設けられ、
温度８５℃の熱を１５０時間加えた後の電力効率の保持率が８０％以上であり、
照度３０００ルクスの光を１００時間照射した後の電力効率の保持率が８０％以上である有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記正孔注入輸送層はアミン系材料で形成されている請求項１から３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる陽極に対して、アルゴンの混合量を１０〜５９ｖｏｌ％として酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、
前記プラズマ処理工程の後に前記陽極上にフタロシアニン金属錯体以外の材料を用いて正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程と
を備えている有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項６】
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる陽極に対して、アルゴンの混合量を３０〜８９ｖｏｌ％として酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、
前記プラズマ処理工程の後に前記陽極上にフタロシアニン金属錯体以外の材料を用いて正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程と
を備えている有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項７】
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる陽極に対して、アルゴンの混合量を３０〜５９ｖｏｌ％として酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、
前記プラズマ処理工程の後に前記陽極上にフタロシアニン金属錯体以外の材料を用いて正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程と
を備えている有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項８】
前記正孔注入輸送層形成工程において前記正孔注入輸送層はアミン系材料で形成される請求項５から７のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、適宜有機エレクトロルミネッセンス素子を有機ＥＬ素子と表記する。）は、面発光素子として、例えば、ディスプレイや照明装置等の分野で用いられている。基本的な有機ＥＬ素子の構造は、ガラス基板等の透明基板上に、透明陽極層、有機発光層及び陰極層が順に積層された構造である。また、有機ＥＬ素子の構造には、透明陽極層と有機発光層との間に正孔注入輸送層が設けられた構造や、陰極層と有機発光層との間に電子注入輸送層が設けられた構造等もある。
【０００３】
正孔注入輸送層及び電子注入輸送層が設けられた有機ＥＬ素子は、透明陽極層と陰極層との間に直流駆動電圧を印加すると、透明陽極層より正孔が正孔注入輸送層を介して有機発光層に注入され、陰極層より電子が電子注入輸送層を介して有機発光層に注入される。有機発光層に注入された正孔と電子とが有機発光層の中で再結合することにより有機ＥＬ素子は発光する。有機発光層が発した光は、例えば、透明陽極層側より透明基板を介して外部に取り出される（ボトムエミッション型）。透明陽極層に用いられる材料には、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）やＺｎＯ（酸化亜鉛）等がある。また、正孔注入輸送層に用いられる材料には、銅フタロシアニン等がある。
【０００４】
有機ＥＬ素子において、透明陽極層から正孔注入輸送層への正孔注入効率を上げることで、有機ＥＬ素子の発光効率は高くなる。前記の正孔注入効率を上げるためには、透明陽極層表面の仕事関数を高め、正孔注入輸送層との注入障壁を低くすることが望ましい。透明陽極層（ＩＴＯ）の表面の仕事関数を高める方法として、透明陽極層に酸素又はアルゴンのプラズマを照射する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１に記載の発明では、ＩＴＯ膜に対して酸素のみ又はアルゴンのみのプラズマを照射することでＩＴＯ膜表面の仕事関数を４．６〜４．８ｅＶから５．１〜６．０ｅＶに高めている。
【特許文献１】特開平８−１６７４７９号公報（明細書の段落［００１３］）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本願発明者は、有機ＥＬ素子の発光効率を向上させるために、材料自体が着色しているフタロシアニン金属錯体に代えて、透明性に優れる材料、例えば、アミン系材料を正孔注入輸送層に用いて有機ＥＬ素子を作成した。また、この有機ＥＬ素子に用いる陽極、例えば金属酸化物系材料であるＩＴＯに対して、特許文献１に記載のプラズマ処理を行う場合と、酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行う場合とでは、後者の方が有機ＥＬ素子の初期の発光特性が向上する。しかし、この有機ＥＬ素子は、一定時間の加熱又は光照射により電力効率の保持率が低下することを見いだし、この問題を解決すべく本発明に至った。ここで、「電力効率の保持率」とは、有機ＥＬ素子の作成直後の電力効率に対する、一定時間経過後の電力効率の割合である。すなわち、「有機ＥＬ素子の電力効率の保持率の低下」とは、有機ＥＬ素子の電力効率の低下を意味する。
【０００６】
本発明の目的は、加熱や光照射による電力効率の低下が抑制される有機ＥＬ素子及びその有機ＥＬ素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、陽極と陰極との間に有機発光層が設けられた有機ＥＬ素子である。前記陽極は導電性の金属酸化物系材料で形成され、前記陽極と前記有機発光層との間にフタロシアニン金属錯体以外の材料で形成された正孔注入輸送層が設けられ、温度８５℃の熱を１５０時間加えた後の電力効率の保持率が８０％以上である。ここで、「正孔注入輸送層」とは、正孔注入性（作用）と正孔輸送性（作用）とを備えている層を意味し、一般に「正孔注入層」又は「正孔輸送層」と称されるものを含む。
【０００８】
この発明では、加熱による電力効率の低下が抑制される有機ＥＬ素子を提供することができる。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、陽極と陰極との間に有機発光層が設けられた有機ＥＬ素子である。前記陽極は導電性の金属酸化物系材料で形成され、前記陽極と前記有機発光層との間にフタロシアニン金属錯体以外の材料で形成された正孔注入輸送層が設けられ、照度３０００ルクスの光を１００時間照射した後の電力効率の保持率が８０％以上である。
【００１０】
この発明では、光照射による電力効率の低下が抑制される有機ＥＬ素子を提供することができる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、陽極と陰極との間に有機発光層が設けられた有機ＥＬ素子である。前記陽極は導電性の金属酸化物系材料で形成され、前記陽極と前記有機発光層との間にフタロシアニン金属錯体以外の材料で形成された正孔注入輸送層が設けられ、温度８５℃の熱を１５０時間加えた後の電力効率の保持率が８０％以上であり、照度３０００ルクスの光を１００時間照射した後の電力効率の保持率が８０％以上である。
【００１２】
この発明では、加熱及び光照射による電力効率の低下が抑制される有機ＥＬ素子を提供することができる。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項１から３のいずれか１項に記載の発明において、前記正孔注入輸送層はアミン系材料で形成されている。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、有機ＥＬ素子を製造する製造方法である。基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる陽極に対して、アルゴンの混合量を１０〜５９ｖｏｌ％として酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程の後に前記陽極上にフタロシアニン金属錯体以外の材料を用いて正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とを備えている。
【００１５】
この発明では、有機ＥＬ素子に温度８５℃の熱を１５０時間加えた後の有機ＥＬ素子の電力効率の保持率が８０％以上である有機ＥＬ素子を製造できる。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、有機ＥＬ素子を製造する製造方法である。基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる陽極に対して、アルゴンの混合量を３０〜８９ｖｏｌ％として酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程の後に前記陽極上にフタロシアニン金属錯体以外の材料を用いて正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とを備えている。
【００１７】
この発明では、有機ＥＬ素子に照度３０００ルクスの光を１００時間照射した後の有機ＥＬ素子の電力効率の保持率が８０％以上である有機ＥＬ素子を製造できる。
【００１８】
請求項７に記載の発明は、有機ＥＬ素子を製造する製造方法である。基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる陽極に対して、アルゴンの混合量を３０〜５９ｖｏｌ％として酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程の後に前記陽極上にフタロシアニン金属錯体以外の材料を用いて正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とを備えている。
【００１９】
この発明では、温度８５℃の熱を１５０時間加えた後の有機ＥＬ素子の電力効率の保持率及び照度３０００ルクスの光を１００時間照射した後の有機ＥＬ素子の電力効率の保持率が８０％以上である有機ＥＬ素子を製造できる。
【００２０】
請求項８に記載の発明は、請求項５から７のいずれか１項に記載の発明において、前記正孔注入輸送層形成工程における前記正孔注入輸送層はアミン系材料で形成される。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、加熱や光照射による電力効率の低下が抑制される有機ＥＬ素子及びその有機ＥＬ素子の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明を具体化した有機ＥＬ素子の一実施形態を図１にしたがって説明する。図１は有機ＥＬ素子の構成を示した模式図である。
【００２３】
図１に示すように、有機ＥＬ素子１０は、基板１１、陽極１２、陰極１３、有機発光層１４、正孔注入輸送層１５及び電子注入層１６を備えている。基板１１の上に陽極１２が形成され、その陽極１２の上に正孔注入輸送層１５、有機発光層１４、電子注入層１６、陰極１３が順に積層されている。即ち、有機ＥＬ素子１０は、陽極１２と陰極１３との間に有機発光層１４が設けられており、陽極１２と有機発光層１４との間に正孔注入輸送層１５が設けられ、有機発光層１４と陰極１３との間に電子注入層１６が設けられている。
【００２４】
有機ＥＬ素子１０は、有機発光層１４からの発光を基板１１側から取り出すボトムエミッション型の有機ＥＬ素子、又は、有機発光層１４の発光を基板１１と反対側から取り出すトップエミッション型の有機ＥＬ素子を採用することができる。
【００２５】
基板１１は有機ＥＬ素子を支えるための板状の部材であり、取り出す光に対して高い透過率を示す透明基板が用いられる。例えば、可視光領域で高い透過率を示すガラス基板や、透明なアクリル樹脂等を用いることができる。また、有機ＥＬ素子１０がトップエミッション型の場合には、上記の材料に加えて、シリコン基板、金属基板等の不透明な基板を用いることもできる。
【００２６】
陽極１２は公知の導電性の金属酸化物系材料で形成されており、例えば、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）や、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、ＳｎＯ２（酸化錫）等を用いることができる。
【００２７】
正孔注入輸送層１５は、少なくとも正孔注入性又は正孔輸送性のいずれか一つの特性を有するフタロシアニン金属錯体以外の材料で形成される。例えば、低分子のアミン系材料であるＴＰＴＥ（トリフェニルアミンの４量体）、ＴＰＤ（トリフェニルアミンの２量体）、α−ＮＰＤ（ジフェニルナフチルジアミン）等を用いることができる。また、高分子のアミン系材料であるＰＣ−ＴＰＤ等や、アミン系材料以外の材料としては、ＰＥＤＯＴ（ポリチオフェン）等を用いてもよい。なお、正孔注入輸送層１５は、１層で構成される場合に限らず、正孔注入層と正孔輸送層の２層からなる構成であってもよい。
【００２８】
有機発光層１４には、Ａｌｑ３等の公知の発光材料を用いることで、赤色、緑色、青色、黄色等の単色光を示す構成のものや、それらの組み合わせによる発光色、例えば、白色発光を示す構成のもの等を用いることができる。白色発光を示す構成としては、発光層を２層や３層に積層させる積層型や、１層の中に異なる発光層を塗り分ける塗り分け型、１層の発光層に異なる発光材料を混合させる混合型等が挙げられる。
【００２９】
電子注入層１６は、電子注入性を有する材料が用いられ、例えば、無機物であるＬｉＦ（フッ化リチウム）や、アルカリ金属及びアルカリ土類金属等を用いることができる。なお、図示しないが、有機ＥＬ素子１０は、有機発光層１４と電子注入層１６との間に電子輸送層を設けることもできる。電子輸送層を形成する材料として、例えば、オキサジアゾールやトリアゾール構造を含む化合物あるいはＴＮＦ（トリニトロフルオレノン）等を用いることができる。さらに、有機ＥＬ素子１０を構成する電子注入層１６や電子輸送層は省略することもできる。
【００３０】
陰極１３は、従来用いられている公知の陰極材料で形成され、例えば、アルミニウム、金、銀、銅、クロム等の金属やこれらの合金、ＩＴＯ等の導電性の金属酸化物系材料を用いることができる。また、有機ＥＬ素子１０がトップエミッション型の場合には、陰極１３はＩＴＯ等の導電性の金属酸化物系材料又は、極薄い（５０ｎｍ以下）金属層等で透明に形成される。ここで「透明」とは取り出す光の透過率が１０％以上であることを意味する。
【００３１】
陰極１３より外側には、有機発光層１４を酸素及び水分から保護するための保護部（図示せず）を設けることができる。保護部は、公知のパッシベーション膜や封止缶、又はそれらの組み合わせ等で構成される。
【００３２】
次に上記のように構成された有機ＥＬ素子１０の作成方法を説明する。
【００３３】
先ず、導電性の金属酸化物系材料として、例えば、ＩＴＯ膜で陽極１２が形成された基板１１を準備する。この基板１１及び基板１１上に形成された陽極１２は、基板洗浄工程において、ＵＶ洗浄等により洗浄される。基板洗浄工程では、陽極１２の表面に付着している有機物や塵埃等が除去される。
【００３４】
基板洗浄工程の後のプラズマ処理工程において、基板１１上に形成された陽極１２に対して、酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理が行われる。プラズマ処理は、例えば、平行平板型プラズマ発生装置等の公知のプラズマ発生装置を用いて行われる。処理条件としては、加熱による有機ＥＬ素子の電力効率の低下を抑制することを目的とする場合は、混合ガス中のアルゴンの混合量は１０〜５９ｖｏｌ％であり、好ましくは１０〜４９ｖｏｌ％とする。また、光照射による有機ＥＬ素子の電力効率の低下を抑制することを目的とする場合は、混合ガス中のアルゴンの混合量は３０〜８９ｖｏｌ％であり、好ましくは４９〜８９Ｖｏｌ％とする。さらに、加熱及び光照射による有機ＥＬ素子の電力効率の低下を抑制することを目的とする場合は、混合ガス中のアルゴンの混合量を３０〜５９ｖｏｌ％とする。なお、これらのプラズマ処理は、１〜１００Ｐａの圧力の下で数分間行われる。
【００３５】
プラズマ処理工程の後の正孔注入輸送層形成工程において、陽極１２上に、フタロシアニン金属錯体以外の材料で形成される正孔注入輸送層１５として、例えば、低分子のアミン系材料であるＴＰＴＥ層が形成される。正孔注入輸送層１５は蒸着法等の公知の薄膜形成方法により形成される。
【００３６】
正孔注入輸送層１５の上に有機発光層１４が形成され、その有機発光層１４の上に電子注入層１６が形成され、さらに電子注入層１６の上に陰極１３が形成される。これらの各層は、蒸着法等の公知の薄膜形成方法によって形成される。そして最後に陰極１３の外側に缶封止等により保護部を形成する。
【００３７】
加熱や光照射による電力効率の低下が抑制される有機ＥＬ素子の製造方法として、金属酸化物系材料で形成された陽極１２に対して、上記に示すようにアルゴンの混合量を所定の割合とした酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うプラズマ処理工程を設ける以外は、従来の有機ＥＬ素子の製造方法を適用することができる。従って、簡単な製造工程の変更で、加熱や光照射による電力効率の低下が抑制される有機ＥＬ素子の製造方法を提供することができる。
【００３８】
次に上記のように構成された有機ＥＬ素子１０の作用を説明する。
【００３９】
有機ＥＬ素子１０の陽極１２及び陰極１３間に直流駆動電圧が印加されると、陽極１２であるＩＴＯ膜より、正孔注入輸送層１５であるＴＰＴＥ層へ正孔が注入される。正孔注入輸送層１５に注入された正孔は、正孔注入輸送層１５により有機発光層１４まで輸送される。一方、陰極１３からは、電子注入層１６を介して有機発光層１４に電子が注入される。そして、有機発光層１４において正孔と電子が再結合することにより、有機ＥＬ素子１０は発光する。
【００４０】
着色しているフタロシアニン金属錯体に対して、低分子のアミン系材料は、一般に透明性に優れているため、発光層からの光が正孔注入輸送層を通って外部に射出される場合には、発光色の変化や輝度の低下が少なく好ましい。また、フタロシアニン金属錯体は正孔注入性に優れているのに対し、アミン系材料は正孔注入性と正孔輸送性の両特性に優れているため、有機ＥＬ素子作成時において層構造を簡単にできるという利点もある。
【００４１】
また、陽極１２に用いられるＩＴＯ膜は、プラズマ処理工程において、酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を受けており、ＩＴＯ膜の表面の仕事関数が４．６〜４．８ｅＶから５．７〜５．９ｅＶに高められている。このため、作成直後の有機ＥＬ素子１０の発光効率はプラズマ処理を行わない場合に比較して高くなる。なお、プラズマ処理に用いる混合ガス中のアルゴンの混合量が９０ｖｏｌ％以上である場合は、ＩＴＯ膜表面の仕事関数がそれほど高くならず、有機ＥＬ素子の初期の発光効率もそれほど高くならない。一方、プラズマ処理に用いる混合ガス中のアルゴンの混合量が１０ｖｏｌ％より少ない場合は、プラズマ処理後のＩＴＯ膜表面の仕事関数が時間の経過と共に急激に低下してしまい、有機ＥＬ素子の初期の発光効率がそれほど高くならない。これらの結果を考慮して、本発明では、有機ＥＬ素子の初期の発光効率が高くなる範囲で酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行っている。
【００４２】
また、前記のプラズマ処理は、加熱や光照射による有機ＥＬ素子の電力効率の低下が抑制される条件の下で行なわれる。
【実施例】
【００４３】
以下、実施例により図１を用いて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、それらは例示であって、本発明を限定するものではない。
【００４４】
＜実施例１＞
一方の面上に、陽極１２（膜厚１５０ｎｍのＩＴＯの層）が形成された透明なガラス製の基板１１を用意し、洗浄工程において基板洗浄を行った。洗浄工程では、アルカリ洗浄、純水洗浄を順次行い、乾燥させた後に、紫外線オゾン洗浄を行った。
【００４５】
その後、陽極１２に対して、アルゴンの混合量を１０ｖｏｌ％とした酸素及びアルゴンの混合ガスを用いて、圧力２Ｐａ、高周波電力２００Ｗで２分間のプラズマ処理を行った。プラズマ処理前の陽極１２表面の仕事関数は４．６ｅＶであったが、処理後の陽極１２表面の仕事関数は約５．７ｅＶであった。
【００４６】
プラズマ処理を行った基板１１上の陽極１２上に、真空蒸着装置（カーボンるつぼ、蒸着蒸着速度０．１ｎｍ／ｓ、真空度約５．０×１０−５Ｐａ）により、低分子のアミン系材料であるＴＰＴＥを蒸着して膜厚２０ｎｍの層を形成し、正孔注入輸送層１５とした。
【００４７】
この正孔注入輸送層１５上に、赤色発光層としての第１発光層１４ａと、青色発光層としての第２発光層１４ｂと、緑色発光層としての第３発光層１４ｃとを順次積層し、有機発光層１４を形成した。
【００４８】
赤色発光層としての第１発光層１４ａは、真空蒸着装置（カーボンるつぼ、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓ、真空度約５．０×１０−５Ｐａ）により、ＴＰＴＥをホストとし、ＤＣＪＴをドーパントとし膜厚５ｎｍに形成した。ＤＣＪＴはＴＰＴＥに対して０．５ｗｔ％になるように含有されている。
【００４９】
第１発光層１４ａ上に、真空蒸着装置（カーボンるつぼ、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓ、真空度約５．０×１０−５Ｐａ）により、ＤＰＶＢｉをホストとし、ＢＣｚＶＢｉをドーパントとした青色発光層としての第２発光層１４ｂを膜厚３０ｎｍに形成した。ＢＣｚＶＢｉはＤＰＶＢｉに対して５．０ｗｔ％になるように含有されている。
【００５０】
第２発光層１４ｂ上に、真空蒸着装置（カーボンるつぼ、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓ、真空度約５．０×１０−５Ｐａ）により、Ａｌｑ３をホストとし、Ｃ５４５Ｔ（イーストマン―コダック社の商品名）をドーパントとした緑色発光層としての第３発光層１４ｃを膜厚２０ｎｍに形成した。Ｃ５４５ＴはＡｌｑ３に対して１．０ｗｔ％になるように含有されている。
【００５１】
第３発光層１４ｃ上に、真空蒸着装置（カーボンるつぼ、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓ、真空度約５．０×１０−５Ｐａ）により、膜厚０．５ｎｍのフッ化リチウム（ＬｉＦ）層からなる電子注入層１６を形成した。
【００５２】
電子注入層１６上に、タングステンボート（蒸着速度１ｎｍ／ｓ、真空度約５．０×１０−５Ｐａ）により、膜厚１５０ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）層からなる陰極１３を形成した。
【００５３】
陰極１３より外側には、缶封止による保護部を形成した。
【００５４】
このように構成した有機ＥＬ素子の電力効率の加熱や光照射による影響を調べるために、加熱試験及び光照射試験を行った。加熱試験では、先ず、作成直後の有機ＥＬ素子１０の電力効率を測定し、その有機ＥＬ素子１０に対して温度８５℃で１５０時間の加熱を行い、加熱後の電力効率を測定した。また、光照射試験では、作成直後の有機ＥＬ素子１０の電力効率を測定し、その有機ＥＬ素子１０に対して照度３０００ルクスの光を１００時間照射し、光照射後の電力効率を測定した。加熱試験では、「恒温槽  ＴＡＤＡＩ ＥＳＰＥＣ ＴＬ−１ＫＰ」を用い、光照射試験では、セリック株式会社製の「人口太陽照明灯  ＸＣ−１００形」を用いた。加熱試験及び光照射試験における、有機ＥＬ素子の電力効率の保持率の結果を表１に示す。
【００５５】
これらの試験はいずれも実際の使用条件よりも厳しい環境での試験であるため、有機ＥＬ素子１０の電力効率の保持率が８０％以上であれば、有機ＥＬ素子１０は通常の使用環境下において十分に電力効率が保持されると考えられる。
【００５６】
＜実施例２〜９＞
実施例２〜９では、酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理における混合ガス中のアルゴンの混合量をそれぞれ、３０ｖｏｌ％、４３ｖｏｌ％、４９ｖｏｌ％、５５ｖｏｌ％、５９ｖｏｌ％、６９ｖｏｌ％、８２ｖｏｌ％、８９ｖｏｌ％とした以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ素子１０を作成した。プラズマ処理後の陽極１２の仕事関数は約５．７〜５．９ｅＶであった。作成した実施例２〜９の有機ＥＬ素子１０について、実施例１と同様にして、作成直後の電力効率を測定し、加熱試験及び光照射試験後の電力効率を測定した。電力効率の保持率の結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
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【００５８】
表１から明らかなように、温度８５℃の熱を１５０時間加えた後の、有機ＥＬ素子１０の電力効率の保持率は、混合ガス中のアルゴンの混合量が１０〜５９ｖｏｌ％においては８０％以上であり、アルゴンの混合量が１０〜４９ｖｏｌ％においては９０％以上である。従って、この範囲の条件でプラズマ処理を受けたＩＴＯ膜を陽極に用いた有機ＥＬ素子は、加熱を受けても電力効率の低下を抑制することができる。
【００５９】
また、照度３０００ルクスの光を１００時間照射した後の、有機ＥＬ素子１０の電力効率の保持率は、混合ガス中のアルゴンの混合量が３０〜８９ｖｏｌ％においては８０％以上であり、アルゴンの混合量が４９〜８９ｖｏｌ％においては９０％以上である。従って、この範囲の条件でプラズマ処理を受けたＩＴＯ膜を陽極に用いた有機ＥＬ素子は、光照射を受けても電力効率の低下を抑制することができる。
【００６０】
さらに、温度８５℃の熱を１５０時間加えた後の、有機ＥＬ素子１０の電力効率の保持率、及び、照度３０００ルクスの光を１００時間照射した後の、有機ＥＬ素子１０の電力効率の保持率は、混合ガス中のアルゴンの混合量が３０〜５９ｖｏｌ％においては、８０％以上であり、アルゴンの混合量が４９ｖｏｌ％においては９０％以上である。従って、この範囲の条件でプラズマ処理を受けたＩＴＯ膜を陽極に用いた有機ＥＬ素子は、加熱や光照射を受けても電力効率の低下を抑制することができる。
【００６１】
上記の結果から、プラズマ処理工程における、陽極１２のプラズマ処理条件は、加熱による有機ＥＬ素子の電力効率の低下を抑制することを目的とする場合は、混合ガス中のアルゴンの混合量は１０〜５９ｖｏｌ％であり、好ましくは１０〜４９ｖｏｌ％である。また、光照射による有機ＥＬ素子の電力効率の低下を抑制することを目的とする場合は、混合ガス中のアルゴンの混合量は３０〜８９ｖｏｌ％であり、好ましくは、４９〜８９ｖｏｌ％である。さらに、加熱及び光照射による有機ＥＬ素子の電力効率の低下を抑制することを目的とする場合は、混合ガス中のアルゴンの混合量は３０〜５９ｖｏｌ％であり、好ましくは４９ｖｏｌ％である。
【００６２】
以下の技術的思想（発明）は前記実施形態又は実施例から把握できる。
【００６３】
（１）陽極と陰極との間に有機発光層が設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる前記陽極に対して、アルゴンの混合量を１０〜５９ｖｏｌ％とした酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行い、前記陽極の上にフタロシアニン金属錯体以外の材料で正孔注入輸送層を形成し、正孔注入輸送層の上に前記有機発光層、前記陰極とを順に積層してなる有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００６４】
（２）陽極と陰極との間に有機発光層が設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる前記陽極に対して、アルゴンの混合量を３０〜８９ｖｏｌ％とした酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行い、前記陽極の上にフタロシアニン金属錯体以外の材料で正孔注入輸送層を形成し、正孔注入輸送層の上に前記有機発光層、前記陰極とを順に積層してなる有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００６５】
（３）陽極と陰極との間に有機発光層が設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる前記陽極に対して、アルゴンの混合量を３０〜５９ｖｏｌ％とした酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行い、前記陽極の上にフタロシアニン金属錯体以外の材料で正孔注入輸送層を形成し、正孔注入輸送層の上に前記有機発光層、前記陰極とを順に積層してなる有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００６６】
（４）前記技術的思想（１）から（３）のいずれか１項に記載の発明において、前記正孔注入輸送層はアミン系材料で形成されている。  
【００６７】
（５）有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる陽極に対して、アルゴンの混合量を１０〜４９ｖｏｌ％として酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程の後に前記陽極上にフタロシアニン金属錯体以外の材料を用いて正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とを備えている有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【００６８】
（６）有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる陽極に対して、アルゴンの混合量を４９〜８９ｖｏｌ％として酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、  前記プラズマ処理工程の後に前記陽極上にフタロシアニン金属錯体以外の材料を用いて正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とを備えている有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【００６９】
（７）有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、基板上に形成された導電性の金属酸化物系材料からなる陽極に対して、アルゴンの混合量を４９ｖｏｌ％として酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程の後に前記陽極上にフタロシアニン金属錯体以外の材料を用いて正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とを備えている有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【００７０】
（８）前記技術的思想（５）から（７）のいずれか１に記載の発明において、前記正孔注入輸送層形成工程における前記正孔注入輸送層はアミン系材料で形成される。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】一実施形態における有機ＥＬ素子の模式図。
【符号の説明】
【００７２】
１０…有機ＥＬ素子、１１…基板、１２…陽極、１３…陰極、１４…有機発光層、１５…正孔注入輸送層。
【図１】
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