(57)【要約】【課題】  光照射工程による積層体の屈折率及び膜厚のむらを低減させることを可能とする光メモリの製造方法を提供する。【解決手段】  コア層及びクラッド層を積層し、コア層とクラッド層との界面に情報再生用の凹凸部を形成してなる光メモリは、ガラス基板２０上に、塗布工程、第１光照射工程、塗布工程、スタンパ貼着工程、第２光照射工程、スタンパ剥離工程の順に各工程を繰り返し実施することにより製造される。第１及び第２光照射工程は、塗布工程で塗布された紫外線硬化樹脂材を硬化するために紫外線を照射する工程であり、第１光照射工程又は第２光照射工程が実施されるたびに、ベルトコンベア３３により搬送されて紫外線照射装置３０へ進入するガラス基板２０の進入角度を一定角度ずつ変更する。【選択図】        図１２
2006260636.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア層及びクラッド層を積層し、前記コア層と前記クラッド層との界面に情報再生用の凹凸部を形成してなる光メモリの製造方法であって、
基板上に形成された層の最上層に光硬化性樹脂材を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程によって塗布された前記光硬化性樹脂材の表面に前記凹凸部を形成するための光透過性スタンパを貼着するスタンパ貼着工程と、
前記塗布工程の後に光を照射し、前記光硬化性樹脂材を硬化させて前記コア層又は前記クラッド層の一方を形成する第１光照射工程と、
前記スタンパ貼着工程の後に光を照射し、前記光硬化性樹脂材を硬化させて前記コア層又は前記クラッド層の他方を形成する第２光照射工程と、
前記第２光照射工程の後に前記光透過性スタンパを剥離するスタンパ剥離工程とを含み、
塗布工程、第１光照射工程、塗布工程、スタンパ貼着工程、第２光照射工程、スタンパ剥離工程の順に前記各工程を繰り返し実施するとともに、前記第１光照射工程又は前記第２光照射工程が実施されるたびに、前記基板の方向を一定角度ずつ変更することを特徴とする光メモリの製造方法。
【請求項２】
前記第１光照射工程及び前記第２光照射工程において、前記基板を一定速度で搬送しながら光の照射を行うことを特徴とする請求項１記載の光メモリの製造方法。
【請求項３】
前記光硬化性樹脂材を、紫外線によって硬化される樹脂材とすることを特徴とする請求項１又は２記載の光メモリの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層導波路型の光メモリの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、樹脂製のコア層と樹脂製のクラッド層とからなり、コア層とクラッド層との界面に再生像を得るための情報を含む情報用凹凸パターンを形成した平面型の光導波路を、１個又は複数個積層させてなる光メモリ（情報記録媒体）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
例えば、図１３に示すように、コア層１０１とクラッド層１０２とが積層されてなる光メモリ１００に記録された情報を読み出す際には、光メモリ１００の側部に形成された光導入面１０３にレンズ１０４を介して光（例えばレーザ光）を照射し、所望のコア層１０１に光を導入する。コア層１０１に導入された光は、界面に形成された凹凸パターンで散乱しながら伝播する。このとき凹凸パターンで散乱された散乱光（再生光）は導入光に対して交差する方向（上下方向）に光メモリ１００内を透過し、最終的に光メモリ１００の上面及び下面から外部へ放出される。この例では、光メモリ１００の上面から放出された散乱光が結像された画像（再生像）をイメージセンサ１０５で受光するようにしており、再生像をデジタル信号化し画像処理を行うことで、凹凸パターンによって光メモリ１００に記録された元の情報が復元される。
【０００４】
コア層及びクラッド層を形成する方法として、光によって硬化する光硬化型の樹脂材（光硬化性樹脂材）を用いる方法や、熱によって硬化する熱硬化型の樹脂材（熱硬化性樹脂材）を用いる方法が知られている。実際にコア層やクラッド層を形成するには、瞬間硬化や低温硬化などの特徴を有する光硬化性樹脂材を用いる方法が好適であり、光硬化性樹脂材としては、特に、紫外線（ＵＶ光）によって硬化する紫外線硬化樹脂材が好適とされている。液状の紫外線硬化樹脂材をスピンコータなどで膜厚を均一に塗布した状態で、この上方から紫外線を照射して硬化させることで、コア層又はクラッド層を形成することができる。コア層に用いる紫外線硬化樹脂材は、クラッド層に用いる紫外線硬化樹脂材と硬化後の屈折率が異なり、コア層の屈折率はクラッド層の屈折率より僅かに（０．０１程度）大きく設定される。
【０００５】
なお、コア層とクラッド層との界面に凹凸パターンを形成するには、コア層又はクラッド層をする際に塗布した紫外線硬化樹脂材の表面上に、記録すべき情報に応じた凹凸パターンが表面に刻まれた光透過性スタンパを貼着し、この状態で、光透過性スタンパの上方から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂材を硬化させた後、光透過性スタンパを剥離することで、硬化した樹脂材の表面に凹凸パターンを転写することができる。
【０００６】
コア層やクラッド層を光硬化性樹脂材で形成する場合には、光照射工程において、塗布された液状の光硬化性樹脂材を硬化させるための特定波長域の光を発するランプが要される。光硬化性樹脂材として紫外線硬化樹脂材を用いる場合には、紫外線を発するランプとして、水銀ランプやメタルハライドランプなどが用いられる。
【特許文献１】特開２００３−２３３９９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、光照射工程において、ランプから射出した光を未硬化の光硬化性樹脂材に照射する際、光を光硬化性樹脂材の表面全体に均一に入射させることが好ましく、このために、ランプから射出した光を反射して平行光とする反射板が用いられるが、実際には、反射板を用いても照射光は完全な平行光とはならない。また、ランプの部位によって射出される光の強度（光量）が変化する（特にランプの両端で強度が低下する）ため、塗布された光硬化性樹脂材の各部分において、入射する光の角度（方向性）や強度が若干異なる。
【０００８】
未硬化の光硬化性樹脂材へ入射する光の角度や強度が異なると、硬化後の光硬化性樹脂材は、屈折率や膜厚にむら（偏り分布）が生じることとなる。従って、ランプによって同一の照射が行われた光硬化性樹脂材を多数（例えば２００層程度）積層して積層体を形成すると、各層において屈折率及び膜厚のむらがほぼ等しい分布で現れ、積層体全体として、この分布が層ごとに積重されるので、無視することのできない問題となる。
【０００９】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、光照射工程による積層体の屈折率及び膜厚のむら（性能分布）を低減させることを可能とする光メモリの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の光メモリの製造方法は、コア層及びクラッド層を積層し、前記コア層と前記クラッド層との界面に情報再生用の凹凸部を形成してなる光メモリの製造方法であって、基板上に形成された層の最上層に光硬化性樹脂材を塗布する塗布工程と、前記塗布工程によって塗布された前記光硬化性樹脂材の表面に前記凹凸部を形成するための光透過性スタンパを貼着するスタンパ貼着工程と、前記塗布工程の後に光を照射し、前記光硬化性樹脂材を硬化させて前記コア層又は前記クラッド層の一方を形成する第１光照射工程と、前記スタンパ貼着工程の後に光を照射し、前記光硬化性樹脂材を硬化させて前記コア層又は前記クラッド層の他方を形成する第２光照射工程と、前記第２光照射工程の後に前記光透過性スタンパを剥離するスタンパ剥離工程とを含み、塗布工程、第１光照射工程、塗布工程、スタンパ貼着工程、第２光照射工程、スタンパ剥離工程の順に前記各工程を繰り返し実施するとともに、前記第１光照射工程又は前記第２光照射工程が実施されるたびに、前記基板の方向を一定角度ずつ変更することを特徴とする光メモリの製造方法。
【００１１】
なお、前記第１光照射工程及び前記第２光照射工程において、前記基板を一定速度で搬送しながら光の照射を行うことが好ましい。また、前記光硬化性樹脂材を、紫外線によって硬化される樹脂材とすることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光メモリの製造方法によれば、塗布工程、第１光照射工程、塗布工程、スタンパ貼着工程、第２光照射工程、スタンパ剥離工程の順に各工程を繰り返し実施するとともに、第１光照射工程又は第２光照射工程が実施されるたびに、基板の方向を一定角度ずつ変更するようにしたので、第１光照射工程又は第２光照射工程において、各層に生じる屈折率や膜厚のむらは、各層を積層した積層体全体において相殺される。これにより、光照射工程による積層体の屈折率及び膜厚のむらが低減する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１において、光メモリ２は、屈折率の異なるコア層３とクラッド層４とを交互に積層し、その上下を樹脂基体（樹脂フイルム）５ａ，５ｂで挟み込んでなるユニット６を接着層７を介して上下に貼り合わせて一体化した構成となっている。
【００１４】
コア層３及びクラッド層４は、紫外線を照射することにより硬化された紫外線硬化樹脂材（コア材及びクラッド材）によって形成されており、コア層３の屈折率（硬化後の屈折率）は、クラッド層４より屈折率（硬化後の屈折率）が僅かに高く設定されている。例えば、コア層３の屈折率は“１．５２”、クラッド層４の屈折率は“１．５１”に設定される。コア層３の厚さは、１．０〜１．５μｍ程度が適切であり、例えば１．４μｍと設定される。クラッド層４の厚さは、８〜９μｍ程度が適切であり、例えば８μｍと設定される。紫外線硬化樹脂材としては、アクリル系、エポキシ系、チオール系などの樹脂材が適切である。
【００１５】
樹脂基体５ａ，５ｂは、アートン（登録商標）等の非晶質ポリオレフィン、ポリカーボネート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）などによって形成されており、屈折率はクラッド層４と同一である。樹脂基体５ａ，５ｂの厚さは１５０μｍ程度である。
【００１６】
クラッド層４の上面でかつコア層３の下面となる界面には、再生像を得るための情報を含む情報用凹凸部８が形成されている。本実施形態では、後述するスタンパ２３によって、クラッド層４を形成する紫外線硬化樹脂材の上面に凹部を形成することで、情報用凹凸部８が形成される。情報用凹凸部８は、光メモリ２に記録すべき情報（デジタル情報）を２次元符号化し、その符号化された情報を元に計算機によって合成されたパターン（計算機ホログラムと称される）が転写されたものである。
【００１７】
このように、コア層３の上下には、相対的に屈折率の低いクラッド層４が積層されている。１つのコア層３と、この上下の２つのクラッド層４とにより、１つの情報再生用の光導波路９が構成される。ただし、各ユニット６の最下層のコア層３ａは、情報用凹凸部８を有していないため、コア層３ａに関しては情報再生用の光導波路９が構成されない（情報再生用の光導波路としては機能しない）。一方、各ユニット６の最上層のコア層３ｂは、情報用凹凸部８を有しており、その上にはクラッド層４ではなく樹脂基体５ｂが形成されている。樹脂基体５ｂはクラッド層４と同一の屈折率で形成されているため、コア層３ｂに関しては情報再生用の光導波路９が構成される（情報再生用の光導波路として機能する）。
【００１８】
各ユニット６の端部に形成された光導入面１０からコア層３（コア層３ｂも含む）に導入された光は、クラッド層４との界面で反射されながらコア層３を伝播するとともに、一部が情報用凹凸部８によって散乱される。同図において、各ユニット６には、３層の光導波路９が積層されているが、これは図示の簡単化のためであって、光導波路９の積層数は適宜の数でよい。実際には、２０層程度の光導波路９を各ユニット６内に積層するのが好適である。２０層の光導波路９を積層してなるユニット６の厚さは、０．４ｍｍ程度である。
【００１９】
各ユニット６を接着する接着層７としては、コア層３やクラッド層４に用いられている紫外線硬化樹脂材が共通に用いられる。接着層７の屈折率が、樹脂基体５ａ，５ｂの屈折率と大きく異なると、接着層７と樹脂基体５ａ，５ｂとの界面で再生光が反射して、光量やＳ／Ｎ比が低下してしまうことがあるため、接着層７と樹脂基体５ａ，５ｂとの屈折率は等しく設定される。
【００２０】
また、光メモリ２を構成するコア層３（コア層３ａ，３ｂを含む）、クラッド層４、樹脂基体５ａ，５ｂ、及び接着層７は、１つの端面（光導入面）１０から光導波路９に入射され、情報用凹凸部８での散乱により生じる散乱光（再生光）の波長に対して透明である。よって、各光導波路９から上下に放出された再生光は、光メモリ２内の各層を透過し、光メモリ２の上面及び下面から外部へ放出される。なお、光導波路９から上下に放出された再生光は、別の光導波路９を横切ることになるが、コア層３とクラッド層４との屈折率の差が極めて小さいので、この再生光が別の光導波路９に形成された情報用凹凸部８で再度散乱されることは殆どなく、外部に結像される再生像には乱れは殆ど発生しない。
【００２１】
同図では２つのユニット６が上下に積重され貼り合わされているが、これは図示の簡単化のためであって、ユニット６の積重数は適宜の数でよい。実際には、４個程度のユニット６を積重するのが好適である。複数のユニット６を積重して光メモリ２を構成することの目的は、光導波路９が一定数積層されてなる積層体の上下を高剛性の樹脂基体５ａ，５ｂで支持することによって、光導波路９の反りや撓みを抑えるためである。
【００２２】
次に、図２に示すステップＳＴ１〜ＳＴ１８を有するフローチャートとともに、図３〜図８に示す断面図を参照しながら光メモリ２の製造プロセスを説明する。ステップＳＴ１において、図３（Ａ）に示すように、まず、ベース基体として厚さ数ｍｍの硬質のガラス基板２０を用意し、ガラス基板２０の表面上にスピンコート法によって液状の紫外線硬化樹脂材を塗布して接着層２１を形成する。ステップＳＴ２において、接着層２１の表面上にフイルム状の樹脂基体５ａを、間に気泡が入らないようにローラ２２で加圧しながら貼着（ラミネート）する。ステップＳＴ３において、樹脂基体５ａを接着層２１に貼着した後、図３（Ｂ）に示すように、樹脂基体５ａの上から紫外線を照射して接着層２１を完全に硬化させる。これにより、接着層２１を介して樹脂基体５ａがガラス基板２０に接着される。
【００２３】
ステップＳＴ４おいて、樹脂基体５ａの表面上に、スピンコート法によって液状の紫外線硬化樹脂材（コア材）を塗布する。ステップＳＴ５において、図３（Ｃ）に示すように、紫外線を照射し、塗布した紫外線硬化樹脂材を完全に硬化させることで、最下層のコア層３ａを形成する。コア層３ａは、前述のように情報再生用の光導波路９を構成するものではない。
【００２４】
ステップＳＴ６において、コア層３ａの表面上に、スピンコート法によって液状の紫外線硬化樹脂材（クラッド材）を塗布する。ステップＳＴ７において、図４（Ａ）に示すように、塗布された紫外線硬化樹脂材の表面上に、記録すべき情報に応じた凹凸パターンが表面に刻まれた光透過性スタンパ２３をローラ２２で加圧しながら貼着（ラミネート）する。光透過性スタンパ２３は、紫外線に対する透過性を有し、かつ可撓性のあるフイルム状の樹脂材で形成されている。なお、光透過性スタンパ２３は、光メモリ２の製造に用いられる樹脂材と同じ樹脂材を用いて形成することができ、材料の共通化を図ることができる。
【００２５】
ステップＳＴ８において、図４（Ｂ）に示すように、コア層３ａの表面上に塗布された未硬化の紫外線硬化樹脂材（クラッド材）の上に光透過性スタンパ２３を貼着した状態で、光透過性スタンパ２３の上方から紫外線を照射する。光透過性スタンパ２３を透過した紫外線によって紫外線硬化樹脂材が硬化された後、ステップＳＴ９において、図４（Ｃ）に示すように、光透過性スタンパ２３を剥離することで、表面に上記凹凸パターンが転写され、情報用凹凸部８を有するクラッド層４が形成される。なお、このとき、紫外線硬化樹脂材を完全に硬化させると光透過性スタンパ２３が剥がしにくくなるため、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂材を不完全に硬化させた状態で光透過性スタンパ２３を剥離し、その後再び紫外線を照射して紫外線硬化樹脂材を完全に硬化させるようにしてもよい。
【００２６】
ステップＳＴ１０では、上記ステップＳＴ４〜ＳＴ９によってコア層及びクラッド層を所定数（例えば２０層）積層したか否かを判断し、積層数が所定数に達していないときは、ステップＳＴ４に戻り、図５（Ａ）に示すように、クラッド層４の表面上に、液状の紫外線硬化樹脂材（コア材）をスピンコート法によって塗布する。続くステップＳＴ５において、紫外線を照射し、塗布した紫外線硬化樹脂材を完全に硬化させることでコア層３を形成する。以後、ステップＳＴ４〜ＳＴ９を繰り返し実施し、樹脂基体５ａの上に、コア層及びクラッド層を所定の積層数になるまで積層する。
【００２７】
ステップＳＴ１０において、コア層及びクラッド層を所定数積層したと判断されると、ステップＳＴ１１に移行し、最上層のクラッド層４の表面上にコア層３ｂを形成するための液状の紫外線硬化樹脂材（コア材）をスピンコート法によって塗布する。ステップＳＴ１２において、図５（Ｂ）に示すように、塗布した未硬化の紫外線硬化樹脂材の表面上に、樹脂基体５ａと同様な樹脂基体５ｂをローラ２２で加圧しながら貼着（ラミネート）する。ステップＳＴ１３において、図６（Ａ）に示すように、樹脂基体５ｂを貼着した状態で上方から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂材を完全に硬化させると、コア層３ｂが形成されるとともに、コア層３ｂと樹脂基体５ｂとが接着される。
【００２８】
次いで、ステップＳＴ１４において、樹脂基体５ｂの表面上にスピンコート法によって液状の紫外線硬化樹脂材を塗布する。ステップＳＴ１６において、図６（Ｂ）に示すように、紫外線を照射し、塗布した紫外線硬化樹脂材を完全に硬化させることで接着層２４を形成する。
【００２９】
ステップＳＴ１６において、ガラス基板２０上に製造された積層体２５を、図７（Ａ）に示すように、樹脂基体５ａ，５ｂを支持しながらガラス基板２０から剥離（分離）する。このとき、樹脂基体５ａの下に形成された接着層２１は、樹脂基体５ａに被着したままガラス基板２０から剥離される。この後、ステップＳＴ１７において、ダイシング装置を用いて積層体２５の外形を切断加工し、図７（Ｂ）に示すように、積層体２５からユニット６を切り出す。このとき、ユニット６の少なくとも一面に、面精度の高い（表面粗さの少ない）高品質な光導入面１０を形成する。
【００３０】
以上の工程を繰り返し、ユニット６を複数個作製した後、ステップＳＴ１８において、図８に示すように、複数のユニット６（同図では２つのユニット６を示し、ユニット６ａ，６ｂとしている）を上下に積み重ね、その積層方向に圧力しながら加熱を行う。これにより、接着層２１と接着層２４とが熱圧着されてユニット６ａ及びユニット６ｂが一体化し、光メモリ２が形成される。
【００３１】
次に、図９は、上記製造プロセス中の紫外線照射工程（ステップＳＴ３，ＳＴ５，ＳＴ８，ＳＴ１３，ＳＴ１５）において用いられる紫外線照射装置を示す。紫外線照射装置３０は、柱状のランプ３１と反射板３２とを備えている。ランプ３１としては、石英ガラス製の発光管に中に高純度の水銀と少量の希ガスが封入した水銀ランプや、発光管の中に水銀を加えて金属をハロゲン化物の形で封入したメタルハライドランプなどを用いることができる。ランプ３１は、およそ２００ｎｍ〜４００ｎｍの波長スペクトルを有する紫外線を発する。反射板３２は、断面形状が放物線状であり、ランプ３１から発せられた紫外線を反射するとともに、ほぼ平行光として下方へ向けて射出する。
【００３２】
紫外線照射装置３０は、ガラス基板２０の搬送を行うベルトコンベア（搬送手段）３３の搬送路上に設置されており、ガラス基板２０はベルトコンベア３３に搬送されて紫外線照射装置３０に進入し、ランプ３１及び反射板３２の下方を通過する際に、紫外線が照射される。紫外線照射装置３０へ進入するガラス基板２０は、その上に、各紫外線照射工程の直前までの工程（ステップ）により形成された層及び部材を積載している。
【００３３】
図１０（Ａ）〜（Ｃ）は順に、ガラス基板２０が紫外線照射装置３０へ進入し、紫外線照射装置３０内で紫外線が照射され、紫外線照射装置３０から排出される様子を示す。ガラス基板２０はベルトコンベア３３によって一定速度で搬送されながら紫外線の照射が行われる。このとき、ガラス基板２０は一方の端部から他方の端部へ順に照射され、未硬化の紫外線硬化樹脂材が硬化される。なお、搬送手段としては、ベルトコンベア３３に限られず、ローラコンベアなどの各種搬送装置を用いることができる。
【００３４】
図１１に示すように、紫外線照射装置３０へガラス基板２０を搬送するベルトコンベア３３の経路上に、ガラス基板２０を所望の方向へ向けるための回転ステージ（方向設定手段）３４が設けられている。回転ステージ３４は、ベルトコンベア３３によって回転ステージ３４上へ搬送されたガラス基板２０を、搬送方向に対して所定の角度だけ回転させ、紫外線照射装置３０への進入角度θ（ガラス基板２０の長手方向と搬送方向とのなす角度）を設定する。ガラス基板２０は、この進入角度θを維持しながら紫外線照射装置３０へ進入し、紫外線照射された後、紫外線照射装置３０から排出される。なお、方向設定手段としては、回転ステージ３４に限られず、ロボットアームなどでガラス基板２０を把持して方向を変えるようにしてもよく、この他の各種方法を用いることができる。
【００３５】
上記各紫外線照射工程において用いられる各紫外線照射装置３０へガラス基板２０を搬送するベルトコンベア３３の経路上には、回転ステージ３４が設けられており、各回転ステージ３４は、各紫外線照射装置３０に対するガラス基板２０の進入角度θは順次に設定変更される。本実施形態では、図１２（Ａ）〜（Ｃ）に順に示すように、紫外線照射工程ごとに進入角度θを、０°→３０°→６０°→・・・、と３０°単位で変更する。なお、この進入角度θの変更角度は適宜の値でよく、４５°単位で変更したり、９０°単位で変更したりしてもよい。
【００３６】
また、紫外線照射工程（ステップＳＴ３，ＳＴ５，ＳＴ８，ＳＴ１３，ＳＴ１５）の全ての工程において角度変更を行うのではなく、特定の工程においてのみ角度変更を行うようにしてもよい。光メモリ２は、コア層３及びクラッド層４が層全体の大半を占めるため、コア層３を形成する際に実施するステップＳＴ５の紫外線照射工程、及びクラッド層４を形成する際に実施するステップＳＴ８の紫外線照射工程において各紫外線照射装置３０への進入角度θを変更するのが好適である。つまり、ステップＳＴ４〜ＳＴ９を繰り返し実施してコア層３及びクラッド層４を形成する際に、第１回目のステップＳＴ５ではθ＝０°、第１回目のステップＳＴ８ではθ＝３０°、第２回目のステップＳＴ５ではθ＝６０°、第２回目のステップＳＴ８ではθ＝９０°、・・・、と進入角度θを変更する。
【００３７】
紫外線照射装置３０は、紫外線照射の方向性や光量（強度）に多少の偏りを有しており、この偏りに起因し、塗布された紫外線硬化樹脂材が硬化する際に屈折率や膜厚に僅かなむらが生じてしまう。本実施形態では、コア層３及びクラッド層４の各層を形成するごとに紫外線照射装置３０への進入角度θを変更するので、各層に生じる屈折率や膜厚のむらの分布はそれぞれ異なる。よって、各層において生じる屈折率や膜厚のむらは、各層を積層した積層体全体において相殺され、積層体全体における屈折率や膜厚のむらは、進入角度θを一切変更しない場合より低減する。また、ステップＳＴ８が行われるたびに、光透過性スタンパ２３は繰り返し紫外線照射を受けるが、光透過性スタンパ２３の紫外線照射装置３０への進入角度θも順次変更されるので、紫外線照射による光透過性スタンパ２３の劣化部分が一箇所に集中することはなく、光透過性スタンパ２３の寿命が伸びる。
【００３８】
また、ステップＳＴ５とステップＳＴ８との各々において進入角度θを変更するのではなく、ステップＳＴ５又はステップＳＴ８のいずれか一方において進入角度θを変更するようにしてもよい。
【００３９】
なお、上記実施形態で用いた紫外線硬化樹材は、酸素に触れた状態であると紫外線が照射されても硬化しづらいといった性質を有する。ステップＳＴ３、ＳＴ８、ＳＴ１３では、塗布された紫外線硬化樹脂材の表面は樹脂基体５ａ，５ｂ又は光透過性スタンパ２３によって覆われ、外部に露呈せず大気に触れていないため、大気中で紫外線照射を行って問題はない。一方、ステップＳＴ５，ＳＴ１５では、塗布された紫外線硬化樹脂材の表面は外部に露呈しているため、紫外線照射装置３０内から大気を排気し、窒素パージ（窒素を充填）した状態で紫外線照射を行うことが好ましい。
【００４０】
また、上記実施形態では、コア層３，３ａ，３ｂ、クラッド層４、接着層７を形成する樹脂材として紫外線硬化樹脂材を用いたが、本発明はこれに限られるものではなく、紫外線以外の波長の光で硬化する光硬化性樹脂材であってもよい。この場合には、紫外線照射装置３０に換えて、その光硬化性樹脂材を硬化させる光を照射する照射装置を用いればよい。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】光メモリの構成を示す断面図である。
【図２】光メモリの製造プロセスを示すフローチャートである。
【図３】光メモリの製造方法を示す断面図（その１）である。
【図４】光メモリの製造方法を示す断面図（その２）である。
【図５】光メモリの製造方法を示す断面図（その３）である。
【図６】光メモリの製造方法を示す断面図（その４）である。
【図７】光メモリの製造方法を示す断面図（その５）である。
【図８】光メモリの製造方法を示す断面図（その６）である。
【図９】紫外線照射装置及びベルトコンベアを示す断面図である。
【図１０】ガラス基板が搬送されながら紫外線照射される様子を示す平面図である。
【図１１】ガラス基板の方向が回転ステージによって変更される様子を示す平面図である。
【図１２】ガラス基板の紫外線照射装置への進入方向が３０°単位で変更される様子を示す平面図である。
【図１３】従来の光メモリとその動作原理を説明するための斜視図である。
【符号の説明】
【００４２】
２  光メモリ
３  コア層
４  クラッド層
５ａ，５ｂ  樹脂基体
６  ユニット
６ａ，６ｂ  ユニット
７  接着層
８  情報用凹凸部
９  光導波路
１０  光導入面
２０  ガラス基板
２１，２４  接着層
２３  光透過性スタンパ
２５  積層体
３０  紫外線照射装置
３１  ランプ
３２  反射板
３３  ベルトコンベア
３４  回転ステージ
【図１】
2006260636.tif 000003
【図２】
2006260636.tif 000004
【図３】
2006260636.tif 000005
【図４】
2006260636.tif 000006
【図５】
2006260636.tif 000007
【図６】
2006260636.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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