(57)【要約】【課題】  目的とする分子の設計とは全く異なる化合物が全く発生せず、目的とする分子の設計通りに、カルボジイミド化合物にポリアクリル側鎖が導入され、且つ顔料を高濃度かつ微細に分散した状態で、良好な流動性と分散安定性とを実現するカルボジイミド系化合物、該化合物を利用した、インクジェット用インク、感光性レジスト組成物等の広い範囲で好適に使用し得る顔料分散組成物、該顔料分散組成物を含有する顔料分散レジスト組成物を提供する。【解決手段】  酸基非含有（メタ）アクリル系単量体の少なくとも１種を含む酸基非含有ラジカル重合性不飽和単量体を酸基含有連鎖移動剤の存在下で重合して分子の片末端に酸基を含有するポリアクリル化合物を得、得られたポリアクリル化合物の分子の片末端にある酸基と、カルボジイミド当量１００〜５００００のカルボジイミド化合物のカルボジイミド基とを反応させることによりポリアクリル鎖を導入することからなるカルボジイミド系化合物の製造方法。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸基非含有（メタ）アクリル系単量体の少なくとも１種を含む酸基非含有ラジカル重合性不飽和単量体を酸基含有連鎖移動剤の存在下で重合して分子の片末端に酸基を含有するポリアクリル化合物を得、
得られたポリアクリル化合物の分子の片末端にある酸基と、カルボジイミド当量１００〜５００００のカルボジイミド化合物のカルボジイミド基とを反応させることによりポリアクリル鎖を導入することからなるカルボジイミド系化合物の製造方法。
【請求項２】
酸基非含有（メタ）アクリル系単量体の少なくとも１種を含む酸基非含有ラジカル重合性不飽和単量体を酸基含有連鎖移動剤の存在下で重合して分子の片末端に酸基を含有するポリアクリル化合物を得、
得られたポリアクリル化合物の分子の片末端にある酸基と、カルボジイミド当量１００〜５００００のカルボジイミド化合物のカルボジイミド基とを反応させることによりポリアクリル鎖を導入してカルボジイミド系化合物を得、
当該カルボジイミド系化合物を用いて顔料を分散させることを特徴とする顔料分散組成物の製造方法。
【請求項３】
前記酸基含有連鎖移動剤が、チオール系の酸基含有連鎖移動剤であることを特徴とする請求項１又は２記載の製造方法。
【請求項４】
更に、カルボジイミド系化合物の分子内に塩基性窒素含有鎖、顔料誘導体鎖、顔料中間体鎖、色素誘導体鎖、及び色素中間体鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖を導入する請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
請求項１、３〜４のいずれか１項に記載の製造方法により得られたカルボジイミド系化合物。
【請求項６】
請求項２〜４のいずれか１項に記載の製造方法により得られた顔料分散組成物。
【請求項７】
請求項６に記載の顔料分散組成物を含有する顔料分散レジスト組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カルボジイミド系化合物及びそれを用いた顔料分散組成物の製造方法に関し、より詳しくは、顔料を高濃度かつ微細に分散した状態で、良好な流動性と分散安定性とを実現するカルボジイミド系化合物の製造方法、中間組成物として、該化合物を含有し感光性レジスト組成物やインクジェット記録等の広い範囲で好適に使用し得る顔料分散組成物の製造方法、さらに最終組成物として、感光性レジスト組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種印刷インキや塗料はもとより、最近ではカラーフィルターやインクジェット用インクといったより鮮明な色相が求められる分野においても、着色剤として顔料が利用されはじめている。
これら顔料の分散技術は、近年著しい進歩を遂げており、さらに製造の合理化の為に顔料濃度を出来るだけ高くして分散する方法が行われているが、顔料の濃度を高くすると、流動性、分散安定性が低下するという基本的な問題を有している。
加えて、カラーフィルターやインクジェット記録の分野では、高堅牢度が要求されるために高級顔料を使用し、鮮明な色相を得る為に粒子径をより微細化することが必要となる。しかしながら、もともと高級顔料は他の顔料と比較して分散安定性が乏しい上に、微細化すればするほど、凝集を起こし易くなり、安定な分散体を得ることが困難となる。
【０００３】
他方、カーボンブラックは、黒色度の高い顔料として広く利用されているが、一次粒子径が微細な上に多孔質で比表面積が大きいという性状のために、やはり高濃度化が困難で分散安定性に欠けるという問題がある。また、最近では、カーボンブラックをブラックマトリックスの遮光材料として利用する試みも行われているが、導電性の高いカーボンブラックから、高絶縁性のブラックマトリックスを得る事は困難であるという問題がある。
そこで、この様な問題を解決するために、本願出願人は、顔料分散剤として用いるカルボジイミド化合物の高機能化を図り、難分散性顔料をより微細に分散でき、更にその状態を安定的に維持できる方法の開発を推し進めた成果として、下記の提案を既に行っている。
顔料表面に存在する官能基と共有結合を利用する方法として、カルボジイミド基を有する化合物を用いる方法（例えば、特許文献１参照）
顔料表面との吸着力を利用する方法としては、カルボジイミド化合物を出発物質として、酸−塩基の親和力を利用する方法（例えば、特許文献２参照）
分子構造の類似性に起因する親和力を利用する方法（例えば、特許文献３参照）
本願出願人が提案するこのような顔料分散剤は、顔料の高濃度化にも対応して、高顔料濃度時においても分散安定性、流動性が非常に良好となる、優れた効果が得られるものである。
これらの顔料表面に対する化学的な結合力や吸着力を得るための、上記（１）〜（３）の方法を利用するカルボジイミド系化合物においては、さらに分散媒体中でドメインを形成して立体障害等の作用をし、顔料を分散媒体中に安定的に分散させることができるように、ポリエステル側鎖、ポリエーテル側鎖及びポリアクリル側鎖からなる群から選択される少なくとも１種の側鎖を導入することを提案している。
【特許文献１】国際公開ＷＯ０３／０７６５２７号パンフレット
【特許文献２】国際公開ＷＯ０４／０００９５０号パンフレット
【特許文献３】国際公開ＷＯ０４／００３０８５号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のカルボジイミド系化合物に側鎖を導入する方法として、カルボジイミド基と反応可能な官能基を利用するが、側鎖のもととなるポリマー化合物の分子内にその様な官能基を有しないものを多く含む場合、未反応のカルボジイミド系化合物とポリマー化合物の量が増加し、一方、官能基を複数有するものを多く含む場合、ゲル化の可能性が高くなるという問題がある。そして、このような問題は、従来、ポリアクリル側鎖の導入において発生しやすいものであった。
【０００５】
通常、ポリアクリル化合物は、アクリル系単量体と必要に応じて他のラジカル重合性不飽和単量体とを重合して得られるが、カルボジイミド系化合物の側鎖として導入する場合、カルボジイミド基と反応可能な官能基を有する単量体を利用する方法、あるいはその様な官能基を後から導入する方法（例えば、分子内に水酸基を有するポリアクリル化合物を合成し、酸無水物を反応させる方法）が一般的である。しかし、全てのポリアクリル化合物の分子において、その様な官能基を一つだけ有するような反応の制御は実質的に不可能であり、実際には分子内に官能基を有しないもの、一つ有するものおよび複数有するものが得られると考えられる。ここで、側鎖を導入する際にゲル化が起こると、顔料分散剤などとして利用できなくなり、本発明で目的とする基本性能が損なわれるという、より大きな問題になる。この問題を回避するには、カルボジイミド基と反応可能な官能基（後から導入する場合にはそのもととなる官能基で、前記の例では水酸基）を有する単量体の利用を極力少なくせねばならず、必然的に分子内に官能基を有しないポリアクリル化合物が多く合成される上に、官能基を複数有するポリアクリル化合物の合成を完全に防止することはできない。
【０００６】
その結果として、カルボジイミド化合物の側鎖にポリアクリル化合物を導入しようとした場合、側鎖のないカルボジイミド系化合物やゲル化したカルボジイミド系化合物といったように、目的とする分子の設計とは全く異なる化合物が多く得られる可能性が高いものであった。
そこで、本発明の課題は、目的とする分子の設計とは全く異なる化合物が全く発生せず、目的とする分子の設計通りに、カルボジイミド化合物にポリアクリル側鎖が導入され、且つ、顔料を高濃度かつ微細に分散した状態で、良好な流動性と分散安定性とを実現するカルボジイミド系化合物の製造方法、該化合物を利用した、インクジェット用インク、感光性レジスト組成物等の広い範囲で好適に使用し得る顔料分散組成物の製造方法、該顔料分散組成物を含有する顔料分散レジスト組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
そこで、本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、酸基を有する連鎖移動剤の存在下で、酸基非含有（メタ）アクリル系単量体を重合して得られるポリアクリル化合物を利用することにより、カルボジイミド化合物との反応においてゲル化を起こすことなく、ポリアクリル側鎖を導入できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、（１）酸基非含有（メタ）アクリル系単量体の少なくとも１種を含む酸基非含有ラジカル重合性不飽和単量体を酸基含有連鎖移動剤の存在下で重合して分子の片末端に酸基を含有するポリアクリル化合物を得、得られたポリアクリル化合物の分子の片末端にある酸基と、カルボジイミド当量１００〜５００００のカルボジイミド化合物のカルボジイミド基とを反応させることによりポリアクリル鎖を導入することからなるカルボジイミド系化合物の製造方法に関する。
【０００８】
また、本発明は、（２）酸基非含有（メタ）アクリル系単量体の少なくとも１種を含む酸基非含有ラジカル重合性不飽和単量体を酸基含有連鎖移動剤の存在下で重合して分子の片末端に酸基を含有するポリアクリル化合物を得、得られたポリアクリル化合物の分子の片末端にある酸基と、カルボジイミド当量１００〜５００００のカルボジイミド化合物のカルボジイミド基とを反応させることによりポリアクリル鎖を導入してカルボジイミド系化合物を得、当該カルボジイミド系化合物を用いて顔料を分散させることを特徴とする顔料分散組成物の製造方法に関する。
また、本発明は、（３）上記酸基含有連鎖移動剤が、チオール系の酸基含有連鎖移動剤であることを特徴とする上記（１）又は（２）記載の製造方法に関する。
また、本発明は、（４）更に、カルボジイミド系化合物の分子内に塩基性窒素含有鎖、顔料誘導体鎖、顔料中間体鎖、色素誘導体鎖、及び色素中間体鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖を導入する上記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の製造方法に関する。
また、本発明は、（５）上記（１）、（３）〜（４）のいずれか１項に記載の製造方法により得られたカルボジイミド系化合物に関する。
また、本発明は、（６）上記（２）〜（４）のいずれか１項に記載の製造方法により得られた顔料分散組成物に関する。
また、本発明は、（７）上記（６）に記載の顔料分散組成物を含有する顔料分散レジスト組成物に関する。
【０００９】
以下、本発明について更に詳細に説明する。
＜カルボジイミド系化合物の製造方法について＞
本発明のカルボジイミド系化合物の製造方法は、カルボジイミド当量が１００〜５００００であるカルボジイミド化合物のカルボジイミド基に、酸基含有連鎖移動剤を利用して得られるポリアクリル化合物の片末端の酸基を反応させて、カルボジイミド化合物の分子内にポリアクリル鎖を導入するものである。
そして、上記ポリアクリル化合物は、酸基含有連鎖移動剤以外はカルボジイミド基と反応可能な官能基を有しない材料から合成され、その結果として、カルボジイミド基と反応可能な官能基は、分子の片末端の酸基一つだけとなるため、カルボジイミド化合物との反応においてゲル化物が発生せず、目的とする分子の設計通りに、カルボジイミド化合物にポリアクリル鎖を導入することができる。このような材料から得られたカルボジイミド系化合物は、側鎖にポリアクリル側鎖を有し、顔料分散安定性が求められる各種用途に用いることができる。
【００１０】
なお、ここで「側鎖」とは、カルボジイミド化合物のカルボジイミド基に、カルボジイミド基と反応する基を有する化合物を反応させて形成される、カルボジイミド化合物に由来する部分から枝分れの状態にある鎖をいう。以下、本発明においては、鎖の構造の大きさにかかわらず、カルボジイミド化合物に由来する部分を「主鎖」といい、主鎖から枝分れの状態にある鎖をすべて「側鎖」という。
【００１１】
１）カルボジイミド系化合物を合成するための材料
まず、本発明のカルボジイミド系化合物の製造方法において、必須構成材料であり出発物質であるカルボジイミド化合物と、側鎖として導入するためのポリアクリル化合物について説明する。
１−１）カルボジイミド化合物
本発明の製造方法によってカルボジイミド系化合物を得るために、出発物質として用いられるカルボジイミド化合物は、分子内にカルボジイミド基、即ち、−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−で表される基を少なくとも１つ有する化合物であり、ここでは下記（ａ）〜（ｄ）の好ましい形態の例示でもって、より具体的に説明する。形態に応じて、適宜選択して使用される。
（ａ）ジイソシアネート化合物の脱炭酸反応により得られる、イソシアネート基を有するカルボジイミド化合物。
カルボジイミド化合物は、通常、有機溶媒中で、カルボジイミド化触媒の存在下、イソシアネート化合物を脱炭酸反応によりカルボジイミド化して製造することができ、さらにその材料がジイソシアネート化合物である場合、分子の両末端にイソシアネート基を有するカルボジイミド化合物が得られることになる。
上記製造方法において、脱炭酸反応させるジイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の脂肪族、脂環族、芳香族又は芳香脂肪族ジイソシアネート化合物が挙げられる。
【００１２】
上記有機溶媒としては、沸点が高く、且つイソシアネート化合物や生成するカルボジイミド化合物と反応するような活性水素を持たないものを用いることが好ましく、例えば、トルエン、キシレン、ジエチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；ジエチレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールジブチレート、ヘキシレングリコールジアセテート、グリコールジアセテート、メチルグリコールアセテート、エチルグリコールアセテート、ブチルグリコールアセテート、エチルジグリコールアセテート、ブチルジグリコールアセテート等のグリコールエーテルエステル類；エチルブチルケトン、アセトフェノン、プロピオフェノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸アミル、プロピオン酸プロピル、酪酸エチル等の脂肪酸エステル類等が挙げられる。
【００１３】
上記カルボジイミド化触媒としては、ホスホレン類やホスホレンオキサイド類等を用いることが好ましく、例えば、１−エチル−３−メチル−３−ホスホレンオキサイド、１−フェニル−３−メチル−３−ホスホレンオキサイド、１−フェニル−３−メチル−２−ホスホレンオキサイド等が挙げられる。
【００１４】
これらの材料を用いて、イソシアネート基の脱炭酸反応を行う方法としては、既知の方法が利用でき、例えば、窒素雰囲気下で、１００〜２００℃の反応温度で行うことができる。なお、上記カルボジイミド基を有する化合物を得る他の方法としては、例えば、米国特許第２９４１９５６号、特公昭４７−３３２７９号公報、特開平５−１７８９５４号公報、特開平６−５６９５０号公報等の方法が挙げられる。
【００１５】
このような製造方法を用いて得られる、イソシアネート基を有するカルボジイミド化合物に関し、例えば、Ｋモル（但し、Ｋ≧２の整数）のジイソシアネート化合物を脱炭酸して得られる化合物を下記一般式（１）に示す。
ＯＣＮ−（Ａ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ）Ｋ−１−Ａ−ＮＣＯ                      （１）
上記一般式（１）中、Ａは、イソシアネート基を有するカルボジイミド化合物の合成に用いたジイソシアネート化合物のイソシアネート基を除く残基を表す。
上記一般式（１）で表されるイソシアネート基を有するカルボジイミド化合物の市販品としては、例えば、テトラメチルキシリレンジイソシアネートを原料としたカルボジイミド化合物として、カルボジライトＶ−０３、Ｖ−０５等（いずれも商品名、日清紡社製）等が挙げられる。
【００１６】
（ｂ）上記（ａ）のカルボジイミド化合物を、更に鎖伸長剤で鎖伸長して得られたカルボジイミド化合物。
上記（ａ）のカルボジイミド化合物を、イソシアネート基と反応可能な鎖伸長剤を用いて高分子量化したものであり、分子内にカルボジイミド基をより多く含有する化合物とすることができる。このときに利用できる鎖伸長剤としては、カルボジイミド基と反応性が低くて、先にイソシアネート基と選択的に反応する化合物であることが好ましく、例えば、ジオール化合物、ジアミン化合物、ヒドラジン等が挙げられる。
【００１７】
（ｃ）２モルのモノイソシアネート化合物とＫモル（但し、Ｋ≧１の整数）のジイソシアネート化合物とを脱炭酸して得られる化合物。
上記（ａ）および（ｂ）のカルボジイミド化合物は、分子の両末端にイソシアネート基を有する化合物であり、そのイソシアネート基を利用してさらにいろいろな分子鎖を付加できるという利点がある代わりに、カルボジイミド基と反応させる材料がイソシアネート基とも反応する場合、側鎖として導入し難いという問題がある。それに対して、分子の両末端がモノイソシアネート化合物で反応停止したカルボジイミド化合物では、上記の問題は起こらないといえる。この様な分子の両末端がモノイソシアネート化合物で反応停止したカルボジイミド化合物は下記の一般式（２）で示すことができる。
Ｂ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−（Ａ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ）ｋ−Ｂ                  （２）
【００１８】
上記一般式（２）中、Ｂは、イソシアネート基を有するカルボジイミド化合物の合成に用いたモノイソシアネート化合物のイソシアネート基を除く残基を表す。Ａは上述の通りである。
ここで、利用可能なジイソシアネート化合物としては、上記（ａ）の合成材料と同じものを挙げる事ができ、また、モノイソシアネート化合物としては、例えば、メチルイソシアネート、エチルイソシアネート、プロピルイソシアネート、ブチルイソシアネート、オクタデシルイソシアネート、フェニルイソシアネート等の脂肪族、脂環族、芳香族又は芳香脂肪族モノイソシアネート化合物等を挙げることができる。
【００１９】
（ｄ）１モルのモノイソシアネート化合物とＫモル（但し、Ｋ≧１の整数）のジイソシアネート化合物とを脱炭酸して得られる化合物。
分子の両末端にイソシアネート基を有するものと、有さないものとの中間的な化合物として、片末端のみモノイソシアネート化合物で反応停止させて、他方の片末端にイソシアネート基を有するカルボジイミド化合物も得ることができる。この様な分子の片末端がモノイソシアネート化合物で反応停止したカルボジイミド化合物は下記の一般式（３）で示すことができる。
ＯＣＮ−（Ａ−Ｎ＝Ｃ−Ｎ）ｋ−Ｂ                              （３）
上記一般式（３）中、Ｂは、イソシアネート基を有するカルボジイミド化合物の合成に用いたモノイソシアネート化合物のイソシアネート基を除く残基を表す。Ａは上述の通りである。
【００２０】
ここで、利用できるジイソシアネート化合物は上記（ａ）の合成材料と同じものを挙げる事ができ、また、モノイソシアネート化合物としては、上記（ｃ）の合成材料と同じものを挙げる事ができる。
【００２１】
以上、上記カルボジイミド化合物（ａ）〜（ｄ）は、カルボジイミド系化合物の出発物質として、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
そして、上記のカルボジイミド化合物においては、カルボジイミド当量が１００〜５００００のものを利用する。ここで、カルボジイミド当量とは、（カルボジイミド化合物の分子量）／（カルボジイミド化合物分子中のカルボジイミド基の数）で表される数を意味するものである。化合物のカルボジイミド当量が高すぎると、得られるカルボジイミド系化合物の分子全体に対するポリアクリル側鎖の重量的な比率が少なくなり、顔料の分散安定性が低下するおそれがある。一方、カルボジイミド当量が低い化合物は、カルボジイミド系化合物の分子全体に対するポリアクリル側鎖や後記する各機能性を有する側鎖の重量的な比率を高くすることが可能であるという点で有利であるが、カルボジイミド化合物自体の合成と、また側鎖を導入するための反応の制御が困難となる。そこで、より好ましいカルボジイミド当量としては、２００以上、また、１００００以下である。
【００２２】
１−２）ポリアクリル化合物
次に、上記カルボジイミド系化合物の側鎖として導入するために利用する、ポリアクリル化合物について説明する。
本発明のカルボジイミド系化合物の製造方法は、カルボジイミド基と、それと反応する酸基との反応によってポリアクリル側鎖を導入する方法が利用される。
そして、本発明の特徴は、カルボジイミド基と反応するポリアクリル化合物として、酸基含有連鎖移動剤の存在下で、酸基非含有（メタ）アクリル系単量体の少なくとも１種を含む酸基非含有ラジカル重合性不飽和単量体を重合して得られる、片末端に酸基を有するポリアクリル化合物を利用することである。
【００２３】
上記酸基含有連鎖移動剤としては、メルカプト酢酸、２−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、Ｏ−メルカプト安息香酸等のカルボキシル基を有する連鎖移動剤；２−クロロエタンスルホン酸、２−クロロエタンスルホン酸ナトリウム、４−クロロフェニルスルホキシド、４−クロロベンゼンスルホンアミド、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸ナトリウム、２−ブロモエタンスルホン酸ナトリウム、４−（ブロモメチル）ベンゼンスルホン酸ナトリウム等のスルホン酸基含有連鎖移動剤等が挙げられる。これら上記酸基含有連鎖移動剤のなかでもチオール系の酸基含有連鎖移動剤が好ましく、メルカプト酢酸、２−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、Ｏ−メルカプト安息香酸がより好ましい。
【００２４】
また、酸基非含有（メタ）アクリル系単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート化合物（例えば、メチルメタクリレート等）、芳香族環を有する（メタ）アクリレート化合物（例えば、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート等）のアクリル酸エステル化合物が挙げられ、アクリル系以外の酸基非含有ラジカル重合性不飽和単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体を挙げる事ができる。
【００２５】
このような単量体成分を用いてポリアクリル化合物を重合するに際して、通常用いられる開始剤、例えば、アゾ−ニトリル化合物：２，２’−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、１，１’−アゾ−ビス−１−シクロブタンニトリル、２，２’−アゾ−ビス−２メチルブチロニトリル等、アゾ化合物：２，３−ジアザ−ビシクロ［２，２，１］ヘプテン、２，２，２’−アゾ−ビス−プロパン、１，１’−アゾ−ビス−１−フェニルエタン等、パーオキサイド化合物：ｔ−ブチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等が使用できる。
【００２６】
上記片末端に酸基を有するポリアクリル化合物は、塊状重合、溶液重合、必要に応じて懸濁重合等の重合法を用いて、全量仕込み法、開始剤滴下法あるいはモノマー滴下法により、開始剤の分解温度以上、通常は７０〜１７０℃の反応温度で、１〜８時間反応せしめることにより合成することができる。この重合において、連鎖移動剤として、酸基含有連鎖移動剤を用いることにより、片末端に酸基を有するポリアクリル化合物を得ることができる。
側鎖として導入するポリアクリル鎖は、分散媒体中での顔料の分散安定性を向上させる作用を有するものであれば特に制限はないが、好ましくは数平均分子量が２００以上であり、また、１００００以下である。より好ましくは３００以上であり、また、６０００以下である。
上記ポリアクリル化合物の合成において、酸基含有連鎖移動剤の配合量は、目的とする数平均分子量となるように、使用する単量体の種類及びその配合量、酸基含有連鎖移動剤の種類から適宜決定される。
【００２７】
１−３）他の機能性鎖を導入するための材料
本発明のカルボジイミド系化合物の製造方法において、更に、得られるカルボジイミド系化合物に要求される性能に応じて、下記の（ア）〜（オ）といった各種機能性を有する分子鎖や官能基の１種又は２種以上を、上記カルボジイミド系化合物の分子内に導入することにより、複数の機能を有する化合物を得ることもできる。そして、これら複数の機能を有するカルボジイミド系化合物は、利用できる分野がより広くなる可能性があるという点で、本発明において好ましい形態である。
（ア）カルボジイミド基
（イ）塩基性窒素含有鎖
（ウ）顔料誘導体鎖、顔料中間体鎖、色素誘導体鎖、及び色素中間体鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖
（エ）ポリエステル鎖及びポリエーテル鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖
（オ）紫外線増感能を有する鎖及び／又はラジカル開始能を有する鎖
【００２８】
本発明のカルボジイミド系化合物としては、分子内にカルボジイミド基、塩基性窒素含有鎖、顔料誘導体鎖、顔料中間体鎖、色素誘導体鎖、及び色素中間体鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖を含むものがより好ましい。
【００２９】
ここで、（ア）のカルボジイミド基を導入するには、カルボジイミド系化合物の製造において、上記ポリアクリル側鎖を導入する際に、上記カルボジイミド化合物の分子内の少なくとも一つのカルボジイミド基を、そのまま未反応で残して利用し、（イ）で記載された機能性鎖の導入については、例えば、国際公開ＷＯ０４／０００９５０号公報に記載された材料、（ウ）で記載された機能性鎖の導入については、例えば、国際公開ＷＯ０４／００３０８５号公報に記載された材料、（エ）で記載された機能性鎖の導入については、例えば、国際公開ＷＯ０３／０７６５２７号公報に記載された材料を利用することができる。
また、（オ）で記載された機能性鎖の導入については、例えば、前記のカルボジイミド基と反応可能な官能基、あるいは、カルボジイミド化合物がイソシアネート基も有する場合は、例えば、水酸基、アミノ基等のイソシアネート基と先に反応しやすい官能基を有し、且つ、紫外線増感能を有する化合物及び／またはラジカル開始能を有する化合物が材料として利用できる。
【００３０】
このような化合物としては、具体的には、例えば、ベンゾイル安息香酸、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、ジメチルアミノ安息香酸、ジエチルアミノ安息香酸やＮ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン等のＮ−アルキルジアルカノールアミン等を挙げる事ができる。
【００３１】
２）カルボジイミド系化合物の分子構造と効果について
本発明の製造方法で得られるカルボジイミド系化合物は、上記の材料を利用して得られるものであり、そのために、出発化合物であるカルボジイミド化合物に、上記の片末端に酸基を有するポリアクリル化合物を、カルジイミド基との反応を介して導入する。
このようなカルボジイミド系化合物としては、例えば、出発化合物であるカルボジイミド化合物に上記の式（１）の構造を有する化合物を利用した場合、以下の一般式（４）のように模式的に表現できる。
ＯＣＮ−Ｘ（Ｌ）−（Ｎ＝Ｃ＝Ｎ）（Ｎ−Ｌ）−ＯＣＮ            （４）
〔ここで、Ｘは、それぞれ独立して、カルボジイミド基と、それと反応可能な官能基との反応による連結基を介して結合したポリアクリル側鎖を含む構成単位、また、Ｌは分子内のＸの構成単位の個数を表し、１以上の整数である。Ｎは、出発物質であるカルボジイミド化合物中のカルボジイミド基の個数を表し、１以上の整数である。そして、（Ｎ−Ｌ）は、０以上の整数を表す。〕
【００３２】
また、任意に利用される、その他の機能を有する鎖（イ）〜（オ）については、カルボジイミド基またはイソシアネート基の、どちらかとの反応を介して導入する方法が利用できる。このようなカルボジイミド系化合物としては、例えば、出発化合物であるカルボジイミド化合物に上記の式（１）の構造を有する化合物を利用した場合、以下の一般式（５）のように模式的に表現できる。
Ｙ−Ｘ（Ｌ）−Ｚ（Ｍ）−（Ｎ＝Ｃ＝Ｎ）（Ｎ−Ｌ−Ｍ）−Ｙ            （５）
〔ここで、Ｘ、Ｌ及びＮは上記と同じ定義であり、Ｙは、それぞれ独立して、未反応のイソシアネート基、あるいはイソシアネート基と、それと反応可能な官能基との反応による連結基を介して結合した上記（イ）〜（オ）の機能性鎖を含む構成単位であり、Ｚは、それぞれ独立して、カルボジイミド基と、それと反応可能な官能基との反応による連結基を介して結合した（イ）〜（オ）の機能性鎖を含む構成単位である。また、Ｍは分子内のＺの構成単位の個数を表し、０以上の整数を表す。また、（Ｎ−Ｌ−Ｍ）についても、０以上の整数を表す。〕
【００３３】
なお、上記の一般式（４）および（５）は、主要な部位のみを抽象化して表示したものであり、また、ＸとＺの構成単位がそれぞれ連なった構造を代表的に表示したが、ＸとＺと−（Ｎ＝Ｃ＝Ｎ）−とがランダムに結合している構造も含む。そして、一般式（４）は本発明のカルボジイミド系化合物の基本構成ということができ、一方、一般式（５）については多機能性を図った好ましい構成であるといえる。
【００３４】
さらには、上記式（５）のＹの部位は、（イ）〜（オ）以外であって、イソシアネート基と反応可能な化合物が、同様の反応による連結基を開して結合した構成単位であっても良い。その様なイソシアネート基と反応可能な官能基を有する化合物としては、カルボジイミド基と反応性が低くて、先にイソシアネート基と選択的に反応する化合物が好ましく、例えば、メタノール、エタノール等の低分子モノアルコール化合物；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の二級アミン化合物を挙げる事ができる。
【００３５】
なお、カルボジイミド基に、上記のポリアクリル化合物の片末端にある酸基を反応させることにより、ポリアクリル側鎖を導入する際に形成される連結基は、通常、カルボジイミド基と、カルボキシル基、スルホン酸基等の酸基との反応により形成されるものであり、カルボジイミド基に、反応可能な官能基を反応させることによって上記の（イ）〜（オ）の側鎖を導入する際に形成される連結基は、通常、カルボジイミド基と、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、あるいはアミノ基等との反応により形成されるものであり、以下のような構造となる。
【００３６】
例えば、カルボジイミド基とカルボキシル基との反応から形成される連結基としては、下記一般式（６）、（７）で表され、カルボジイミド基と水酸基との反応から形成される連結基は、下記一般式（８）、（９）で表され、カルボジイミド基とアミノ基との反応から形成される連結基は、下記一般式（１０）され、カルボジイミド基とスルホン酸基との反応から形成される連結基は、下記一般式（１１）で表され、カルボジイミド基とリン酸基との反応から形成される連結基は、下記一般式（１２）で表される。
【００３７】
また、イソシアネート基に、反応可能な官能基を反応させて形成される連結基としては、通常、イソシアネート基と、水酸基、一級又は二級アミノ基等との反応により形成されるものであり、以下のような構造となる。
例えば、イソシアネート基と水酸基との反応から形成される連結基としては、下記一般式（１３）で表され、イソシアネート基とアミノ基との反応から形成される連結基は、下記一般式（１４）で表される。
【００３８】
【化１】
2006225431.tif 000002
【００３９】
上記式中、Ｒは、水素原子又は炭素数１以上の炭化水素基を表す。
以上のように、本発明のカルボジイミド系化合物は、出発物質として例えば一般式（１）のカルボジイミド化合物のカルボジイミド基であった部位に、一般式（６）、（７）、（１１）、（１２）のいずれか一つの連結基を介して、ポリアクリル側鎖が少なくとも１つ導入されることにより、一般式（４）のＸの構成単位を有する化合物が形成されものである。さらには、同様にして他の機能性側鎖が導入された、一般式（５）のＺの構成単位を有する化合物、分子の両末端あるいは片末端に、一般式（１３）、（１４）のどちらか一つの連結基を介して、機能性鎖等が導入された化合物、分子内にカルボジイミド基が残存する化合物であることが好ましい。
【００４０】
そして、本発明では、カルボジイミド化合物と反応させるポリアクリル化合物として、酸基含有連鎖移動剤の存在下で、酸基非含有（メタ）アクリル系単量体等を重合して得られたものを利用するため、分子の片末端にのみ一つの酸基を有し、酸基を全く有しないあるいは複数有するポリアクリル化合物が含まれない。その結果、未反応のポリアクリル化合物が残ることもなく、カルボジイミド化合物との反応において発生するゲル化物もなく、分子設計のとおりのカルボジイミド系化合物が得られる。
【００４１】
また、得られたカルボジイミド系化合物は側鎖にポリアクリル側鎖を有しているので、該側鎖が、分散媒体中にドメインを形成して立体障害等の作用をすることから、顔料を分散媒体中に安定的に分散できるようになる。
さらに本発明のカルボジイミド系化合物は、他の機能性側鎖を導入することにより多機能化を図ることができ、例えば、基本的な性能である顔料分散機能については、使用する顔料の種類に応じて、顔料表面との共有結合や吸着による分散安定化作用を有する官能基や側鎖を導入することにより、更に充分な効果を発揮させることが可能となる。すなわち、後記するような表面にカルボジイミド基と反応する官能基を有する顔料を利用する場合は、カルボジイミド系化合物の分子内にカルボジイミド基を１つ以上有するようにし、当該官能基同士の共有結合を利用することにより、さらなる顔料分散の効果を発揮させることが可能となる。また、表面に酸性部位を有する顔料を利用する場合は、カルボジイミド系化合物として、分子内に塩基性窒素含有鎖を有するようにすると、酸−塩基の親和力による吸着を利用することができる。なお、上記「塩基性窒素含有鎖」とは、塩基性窒素含有基を少なくとも一つ有するものであり、上記「塩基性窒素含有基」とは、水中で４級アンモニウムイオンを形成する窒素を含有する基はもとより、ルイス塩基として作用する窒素を含むものであり、その代表的なものとしてはアミノ基や含窒素複素環基等である。更に、顔料の分子構造の類似性に起因する親和力による吸着を利用する場合は、カルボジイミド系化合物としては、分子内に顔料誘導体鎖、顔料中間体鎖、色素誘導体鎖、及び色素中間体鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖を有するようにする。
【００４２】
一方、顔料を分散媒体中に安定的に分散させるという観点から、上記カルボジイミド系化合物は、更に、分子内にポリエステル鎖及びポリエーテル鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖を有していてもよい。カルボジイミド系化合物において、ポリエステル鎖及びポリエーテル鎖は、主鎖として有していてもよいし側鎖として有していてもよいが、その中でも、側鎖として有するものがより好ましい。
その他、本発明のカルボジイミド系化合物を活性エネルギー線で硬化する用途に使用する場合は、活性エネルギー線による硬化性を向上させる点から、ラジカル開始能鎖及び／又は紫外線増感能鎖を有するものであることがより好ましい。
【００４３】
３）カルボジイミド系化合物の製造方法
本発明のカルボジイミド系化合物の製造方法において、全ての反応、すなわち、側鎖を導入するための反応として、カルボジイミド基とカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、アミノ基等との反応、また、イソシアネート基と水酸基、アミノ基等との反応などには、常法が利用できる。さらに、ポリアクリル鎖や各種機能性鎖を導入する順序は、特に限定されるものではなく、例えば、カルボジイミド基と反応する官能基を有する化合物を２種以上使用する場合は、別々あるいは同時に加えて反応させることができ、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物を２種以上使用する場合にも、別々あるいは同時に加えて反応させることもできる。また、カルボジイミド基と反応する官能基を有する化合物、および、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物を利用する場合、最終的に同じ化合物が得られれば、先にカルボジイミド基と反応させても、イソシアネート基と反応させてもどちらでもよい。
【００４４】
なお、カルボジイミド化合物の分子内に導入するポリアクリル側鎖、および各機能性鎖の種類およびその比率、さらには残存するカルボジイミド基の量等は、例えば、顔料分散剤として利用する際の顔料や分散媒体等の種類、また、その他の利用分野で要求される性能に応じて適宜設定して、最終的に良好な性能バランスを有する化合物となるように各材料を配合することが好ましい。
【００４５】
本発明の製造方法から得られるカルボジイミド系化合物の数平均分子量としては、１０００以上、また、１０００００以下であることが好ましい。数平均分子量が高くなりすぎると、本発明のカルボジイミド系化合物を用いて分散媒体中に顔料を分散させた際や、顔料分散組成物とした際に、適切な粘度のものが得られにくくなり、特に高濃度の顔料分散組成物が必要なときは好ましくない。一方、数平均分子量が低くなりすぎると、分散媒体中での顔料の分散安定性が低下して好ましくない。より好ましくは、１０００以上、また、５００００以下である。
上記製造方法により得られるカルボジイミド系化合物も、本発明のひとつである。
【００４６】
＜顔料分散組成物の製造方法について＞
次に、上記カルボジイミド系化合物を用いて顔料を分散させることを特徴とする顔料分散組成物の製造方法について説明する。
すなわち、本発明の顔料分散組成物の製造方法は、酸基非含有（メタ）アクリル系単量体の少なくとも１種を含む酸基非含有ラジカル重合性不飽和単量体を酸基含有連鎖移動剤の存在下で重合して分子の片末端に酸基を含有するポリアクリル化合物を得、得られたポリアクリル化合物の分子の片末端にある酸基と、カルボジイミド当量１００〜５００００のカルボジイミド化合物のカルボジイミド基とを反応させることによりポリアクリル鎖を導入してカルボジイミド系化合物を得、当該カルボジイミド系化合物を用いて顔料を分散させることを特徴とするものである。
本発明の顔料分散組成物の製造方法に用いられるカルボジイミド系化合物としては、顔料表面の官能基や吸着点の有無、分散媒体の種類、得られた顔料分散組成物の用途等に応じて、上述した（ア）〜（オ）の官能基や機能鎖を有するカルボジイミド系化合物を適宜調製して用いることができる。
また、本発明の顔料分散組成物の製造方法において、顔料としては、カルボジイミド系化合物と、少なくとも、共有結合するもの、酸−塩基の親和力により吸着するもの又は分子構造の類似性に起因する親和力により吸着するものであることが好ましく、例えば、印刷インキ、塗料、インクジェット用インク組成物、カラーフィルター用レジスト組成物等に一般的に用いられる有機顔料や無機顔料を使用することができる。
【００４７】
まず、カルボジイミド基を有するカルボジイミド系化合物と共有結合性を有する顔料としては、顔料表面にカルボジイミド基と反応する官能基を有するものが好適であり、その中でもカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基及びアミノ基からなる群より選択される少なくとも１種の官能基を有する有機顔料や無機顔料であることが好ましい。
上記有機顔料としては、例えば、染料レーキ顔料、アゾ系、ベンズイミダゾロン系、フタロシアニン系、キナクリドン系、アントラキノン系、ジオキサジン系、インジゴ系、チオインジコ系、ペリレン系、ペリノン系、ジケトピロロピロール系、イソインドリノン系、ニトロ系、ニトロソ系、アンスラキノン系、フラバンスロン系、キノフタロン系、ピランスロン系、インダンスロン系等が、無機顔料としては、カーボンブラック（好ましくは、ｐＨ７以下でカルボキシル基を有するもの）、酸化チタン、ベンガラ、黒鉛、鉄黒、酸化クロムグリーン、水酸化アルミニウム等が挙げられる。
【００４８】
また、顔料表面にカルボジイミド基と反応する官能基を有さない場合は、表面処理により官能基を導入することができ、例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第１刷、技術情報協会（出版）、２００１年１２月２５日、ｐ．７６〜８５に記載のプラズマ処理や酸素／紫外線処理、特開昭５８−２１７５５９号公報に記載の低温プラズマ法によって、上記カルボジイミド基と反応可能な官能基が導入できる。また、顔料を絶縁性化合物（シリカ、シラン化合物、チタン化合物等）で被覆し、カルボジイミド基と反応する官能基が導入できる。
【００４９】
次に、塩基性含窒素鎖を有するカルボジイミド系化合物に対して、酸−塩基の親和力による吸着部を有する顔料としては、顔料表面に塩基性窒素含有基との吸着部を有する有機顔料や無機顔料であることが好ましい。
上記塩基性窒素含有基との吸着部としては、代表的には酸基であって、好ましくは、カルボキシル基、スルホン酸基及びリン酸基等の塩基性窒素含有基と吸着可能な官能基である。
これら塩基性窒素含有基との吸着部を有する有機顔料としては、例えば、染料レーキ顔料、アゾ系、ベンズイミダゾロン系、フタロシアニン系、キナクリドン系、アントラキノン系、ジオキサジン系、インジゴ系、チオインジコ系、ペリレン系、ペリノン系、ジケトピロロピロール系、イソインドリノン系、ニトロ系、ニトロソ系、アンスラキノン系、フラバンスロン系、キノフタロン系、ピランスロン系、インダンスロン系等が、無機顔料としては、カーボンブラック（好ましくは、ｐＨ７以下でカルボキシル基を有するもの）等が挙げられる。
【００５０】
尚、塩基性窒素含有基との吸着部がない顔料でも、顔料表面の誘導体処理やスルホン化処理等、通常の官能基導入方法で処理することにより、カルボキシル基やスルホン酸基等を導入することができる。
次に、分子内に顔料誘導体鎖、顔料中間体鎖、色素誘導体鎖、及び色素中間体鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖を有するカルボジイミド系化合物に対して、分子構造の類似性に起因する親和力による吸着部を有する顔料としては、顔料誘導体鎖、顔料中間体鎖、色素誘導体鎖、及び色素中間体鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖と同一又は類似の構造である有機顔料や無機顔料；顔料誘導体鎖、顔料中間体鎖、色素誘導体鎖、及び色素中間体鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖と同一又は類似の構造でなくても顔料誘導体鎖、顔料中間体鎖、色素誘導体鎖、及び色素中間体鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖と充分な吸着力を有する有機顔料や無機顔料であることが好ましい。
【００５１】
このような分子構造の類似性に起因する親和力による吸着は、例えば、カルボジイミド基及び／又はイソシアネート基と反応可能な官能基を有さない顔料（共有結合が利用できない場合）；カルボジイミド基と反応可能な官能基を有する顔料であっても、該顔料が有するカルボジイミド基と反応可能な官能基が、例えば、アミノ基、水酸基等で、カルボジイミド基と反応する温度が１００℃以上である顔料（共有結合の利用が条件的に困難な場合）に、より有効である。
【００５２】
このような顔料誘導体鎖、顔料中間体鎖、色素誘導体鎖、及び色素中間体鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖と顔料との好適な組合せとしては、例えば、（１）顔料誘導体鎖としてのフタロシアニン系顔料誘導体鎖については、顔料としてのフタロシアニン系顔料以外にもピグメントブラック７との組合せがあり、（２）色素誘導体鎖としてのβ−ナフトールオレンジ染料誘導体鎖については、顔料としてのナフトール系顔料以外にも、縮合アゾ顔料との組合せがあり、（３）色素中間体鎖としてのアントラキノン誘導体鎖については、顔料としてのジアントラキノニル系顔料以外にも、ジケトピロロピロール系顔料、縮合アゾ顔料、イソインドリ系顔料、ペリノン系顔料、ヘテロ環を有するアゾ系顔料、キナクリドン系顔料、ジブロモアンタントロン系顔料及び／又はベンズイミダゾロン系顔料との組合せが挙げられる。
【００５３】
上記カルボジイミド系化合物を用いて、顔料分散組成物を得る方法としては、例えば、（Ｉ）カルボジイミド系化合物のみで顔料の処理を行った後、顔料を安定的に分散できる分散媒体、必要に応じて各種バインダー樹脂、光重合性化合物、溶剤、界面活性剤、その他の添加剤を加え攪拌し顔料組成物を得る方法、（ＩＩ）カルボジイミド系化合物を溶解させた、顔料を安定的に分散できる分散媒体で顔料を分散させながら処理し顔料分散組成物を得る方法、特に光重合性材料を利用する用途では、（ＩＩＩ）カルボジイミド系化合物を溶解させた、顔料を安定的に分散できる光重合性化合物中で顔料を分散させながら処理し顔料分散組成物を得る方法等が挙げられる。
尚、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）においては、顔料分散時、顔料分散後に、必要に応じて各種バインダー樹脂、光重合性化合物、溶剤、界面活性剤、その他の添加剤を含有させることもできる。
【００５４】
本発明でいう「処理」とは、顔料の分散粒子表面の全面又は一部を、カルボジイミド系化合物で処理することを意味する。具体的には、上記顔料、上記カルボジイミド系化合物、及び、必要に応じて分散媒体、その他の添加剤等の混合物を、ロールミル、ニーダー、高速攪拌装置、ビーズミル、ボールミル、サンドミル、超音波分散機、高圧分散装置等を用いて混練し、分散・処理する方法が挙げられる。
【００５５】
上記（Ｉ）の顔料分散組成物を得る方法は、カルボジイミド系化合物の融点以上の温度で顔料の処理を行い、後から任意の用途で好適な分散媒体中に分散する方法を利用することができる。尚、カルボジイミド基と反応可能な官能基を有する顔料を処理する場合、該官能基の間で反応を促進できる温度、概ね１００℃以下であって、好ましくは、４０〜８０℃まで加温することが好ましい。
【００５６】
一方、上記（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の顔料分散組成物を得る方法では、比較的低温でも処理が可能であるが、分子内にカルボジイミド基を有するカルボジイミド系化合物で、カルボジイミド基と反応可能な官能基を有する顔料を処理する場合、更に上記反応を促進する温度まで加温することがより好ましい。
【００５７】
また、上記顔料分散組成物を得る方法において使用可能な分散媒体としては、有機系分散媒体として、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、アセト酢酸メチル、蟻酸ｎ−アミル、ピルビン酸エチル等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール等のアルコール類が挙げられる。なお、これらの分散媒体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
また、水性媒体としては、水のみであってもよく、水混和性の有機系分散媒体との併用であってもよい。
【００５８】
上記顔料分散組成物における顔料の使用量は、顔料分散組成物中の全固形分に対して質量分率で、５〜９７質量％であることが好ましい。
上記顔料分散組成物におけるカルボジイミド系化合物の質量割合としては、顔料（使用顔料の合計）１００質量部に対して、３質量部以上、また、１００質量部以下が好ましく、より好ましくは、５質量部以上、また、５０質量部以下であるが、顔料表面に存在するカルボジイミド系化合物と反応、吸着する官能基の多少や、分散性能、流動性、要求性能等によって調整することが好ましい。
上記製造方法により得られる顔料分散組成物も、本発明の一つである。
【００５９】
次に、本発明の最終組成物としての用途である、活性エネルギー線硬化性組成物について説明する。
＜活性エネルギー線硬化性組成物＞
上記顔料分散組成物は、必要に応じて各種バインダー樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤、増感剤、溶剤、界面活性剤等を更に加えることにより、例えば、活性エネルギー線硬化型印刷インキ、活性エネルギー線硬化型塗料、活性エネルギー線硬化型インクジェット用インク組成物、ブラックマトリックス用及びカラーフィルター用顔料分散レジスト組成物等の活性エネルギー線硬化性組成物として利用されることになる。
【００６０】
本発明では、活性エネルギー線硬化性組成物の好ましい用途の一例として、ブラックマトリックス用及びカラーフィルター用の顔料分散レジスト組成物について更に詳細に説明する。
上記顔料分散レジスト組成物は、活性エネルギー線硬化性を有し、アルカリ現像可能なレジスト組成物であり、顔料、カルボジイミド系化合物、皮膜形成樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤、溶剤から主として構成され、必要に応じて増感剤、重合禁止剤等の各種添加剤を適宜含有されているものである。本発明の顔料分散レジスト組成物は、上記顔料分散組成物に、目的に応じ、皮膜形成樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤、溶剤、増感剤及び重合禁止剤等の各種添加剤を加えて得られるものである。
【００６１】
まず、本発明のブラックマトリックス用及びカラーフィルター用の顔料分散レジスト組成物に使用する顔料について説明する。  
上記ブラックマトリックス用の顔料分散レジスト組成物を構成する代表的な顔料としては、カーボンブラックが挙げられる。カーボンブラックとしては、平均一次粒径が０．１５μｍ以下であるカーボンブラックを用いることが好まく、このようなカーボンブラックを分散させた場合は、必要に応じて補色用顔料を混合させ、色相をニュートラルブラックにすることが好ましい。
またカラーフィルター用の顔料分散レジスト組成物を構成する有機顔料としては、鮮明な色相を有する皮膜を形成するために、高級有機顔料を利用することが好ましい。
上記高級有機顔料の具体例としては、赤色系顔料としてＣ．Ｉ．ピグメントレッド（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ）９、１９、３８、４３、８８、１２２、１２３、１４４、１４９、１５５、１６６、１６８、１７７、１７８、１７９、１８０、１８８、１９０、２０２、２０７、２０８、２０９、２１６、２１７、２２０、２２４、２２６、２４２、２５４、２６４等；青色系顔料としてＣ．Ｉ．ピグメントブルー（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ）１５、１５：１、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、２９、６０、６４等；緑色系顔料としてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ）７、１０、３６、３７、全ブロム化したＣ．Ｉ．ピグメントグリーン（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ）３６（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン  ３６のベンゼン環には、塩素原子と臭素原子が結合しているが、これらのうちの塩素原子をすべて臭素原子で置換した化学構造のものをいう）；黄色系顔料としてＣ．Ｉ．ピグメントイエロー（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ）１７、２０、２４、８１、８３、９３、９５、９７、１０８、１０９、１１０、１１７、１２３、１２５、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１５０、１５３、１５４、１６６、１６８、１８０、１８５等；紫色系顔料としてＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ）１９、２３、２９、３０、３１、３７、５０、８８等；橙色系顔料として、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ）３１、３８、４０、４３、４８、６１、６４、７１等が挙げられる。
これらの顔料の使用量は、顔料分散レジスト組成物中の全固形分に対して質量分率で、５〜８０％であることが好ましい。
また、上記カルボジイミド系化合物の質量割合は、顔料（使用顔料の合計）１００重量部に対して、３重量部以上、また、１００重量部以下が好ましく、より好ましくは、５重量部以上、また、５０質量部以下であることが好ましい。
【００６２】
上記顔料分散レジスト組成物を構成する皮膜形成樹脂としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、シトラコン酸、無水シトラコン酸、シトラコン酸モノアルキルエステル等のカルボキシル基含有不飽和単量体と、スチレン、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、グリセロールモノアクリレート、グリセロールメタクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマー及びポリメチルメタクリレートマクロモノマーからなる群より選択される少なくとも１種とを反応させて得られる共重合体である、カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が例示でき、これらは単独又は２種以上を併用して用いることができる。
【００６３】
上記顔料分散レジスト組成物を構成する光重合性化合物としては、光重合性不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー等が挙げられる。
具体的には、光重合性不飽和結合を分子内に１個有するモノマーとしては、例えば、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等のアルキルメタクリレート又はアクリレート；ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート等のアラルキルメタクリレート又はアクリレート；ブトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート等のアルコキシアルキルメタクリレート又はアクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等のアミノアルキルメタクリレート又はアクリレート；ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルのメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル；ヘキサエチレングリコールモノフェニルエーテル等のポリアルキレングリコールモノアリールエーテルのメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル；イソボニルメタクリレート又はアクリレート；グリセロールメタクリレート又はアクリレート；２−ヒドロキシエチルメタクリレート又はアクリレート等が例示できる。
【００６４】
光重合性不飽和結合を分子内に２個以上有するモノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が例示できる。
上記光重合性不飽和結合を有するオリゴマーとしては、上記モノマーを適宜重合させて得られたものを用いることができる。
これらの光重合性化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６５】
上記顔料分散レジスト組成物を構成する光重合開始剤としては特に限定されないが、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２，３−ジクロロアントラキノン、３−クロル−２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、１，２−ベンゾアントラキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、トリアジン系光重合開始剤等が挙げられる。これらは単独又は２種以上を併用して用いることができる。
【００６６】
上記顔料分散レジスト組成物を構成する溶剤としては、上記に挙げた分散媒体と同様のものを用いることができるが、好ましくは、常圧（１．０１３×１０２ｋＰａ）における沸点が１００〜２２０℃のエステル系有機溶剤、エーテル系有機溶剤、エーテルエステル系有機溶剤、ケトン系有機溶剤、含窒素系有機溶剤等である。沸点が２２０℃を超える溶剤を多量に含有していると、塗布形成された塗膜をプレベークする際に溶剤が充分に蒸発せずに乾燥塗膜内に残存し、乾燥塗膜の耐熱性が低下するおそれがある。また、沸点１００℃未満の溶剤を多量に含有していると、ムラなく均一に塗布することが困難になり、表面平滑性に優れた塗膜が得られなくなるおそれがある。
【００６７】
このような溶剤としては、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のエーテル系有機溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエーテルエステル系有機溶剤；メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、δ−ブチロラクトン等のケトン系有機溶剤；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、蟻酸ｎ−アミル等のエステル系有機溶剤；；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の含窒素系有機溶剤等を例示でき、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００６８】
これらの溶剤の中でも、上記アルカリ可溶性樹脂の溶解性、分散性、塗布性等の点で、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、ギ酸ｎ−アミル等が好ましく、より好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである。
【００６９】
更に、これらの溶剤は、２種以上用いる場合、上記アルカリ可溶性樹脂の溶解性、顔料分散性、塗布性等の点から、上記顔料分散レジスト組成物に使用される全溶剤中、上記好ましい溶剤が５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上含有させることがより好ましい。
上記顔料分散レジスト組成物としてはまた、必要に応じて、上述したもの以外のその他の光重合性化合物、熱重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の各種添加剤を適宜使用することができる。
【００７０】
以上の材料を用いて本発明の顔料分散レジスト組成物を製造する方法としては、例えば、顔料分散組成物に、目的に応じて、光重合性化合物、光重合開始剤、皮膜形成樹脂、有機溶剤、その他添加剤を加え、攪拌装置等を用いて攪拌混合する方法が利用できるが、この製造方法は、本発明の好ましい形態の一例であり、本発明はこれに限定されるものではない。
上述の顔料分散組成物を含有する顔料分散レジスト組成物も、本発明の一つである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００７１】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」は「質量％」を意味し、「部」は「重量部」を意味するものとする。
［カルボジイミド化合物のカルボジイミド基と反応させる片末端に酸基を有するポリアクリル化合物の合成］
調製例１（数平均分子量３０００のポリアクリル化合物）
窒素ガス導入管、攪拌棒、滴下漏斗、温度計を備えた四つ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部を仕込み、８５℃に昇温した。内温を約８５℃に保持して撹拌しながら、ベンジルメタクリレート１５０部、３−メルカプトプロピオン酸５．５部、アゾビスイソブチロニトリル１．５部の混合物を２時間かけて滴下した。その後、内温を約８５℃に保持しつつ２時間撹拌し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８０．２５部を仕込んで、片末端にカルボキシル基を有する、数平均分子量３０００のポリアクリル化合物１（固形分４０％溶液）を得た。
【００７２】
調製例２（数平均分子量４０００のポリアクリル化合物）
窒素ガス導入管、攪拌棒、滴下漏斗、温度計を備えた四つ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部を仕込み、８５℃に昇温した。内温を約８５℃に保持して撹拌しながら、ベンジルメタクリレート１５０部、３−メルカプトプロピオン酸４．１部、アゾビスイソブチロニトリル１．５部の混合物を２時間かけて滴下した。その後、内温を約８５℃に保持しつつ２時間撹拌し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７８．１５部を仕込んで、片末端にカルボキシル基を有する、数平均分子量４０００のポリアクリル化合物２（固形分４０％溶液）を得た。
【００７３】
調製例３（数平均分子量５０００のポリアクリル化合物）
窒素ガス導入管、攪拌棒、滴下漏斗、温度計を備えた四つ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部を仕込み、８５℃に昇温した。内温を約８５℃に保持して撹拌しながら、ベンジルメタクリレート１５０部、３−メルカプトプロピオン酸３．２部、アゾビスイソブチロニトリル１．５部の混合物を２時間かけて滴下した。その後、内温を約８５℃に保持しつつ２時間撹拌し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７６．８部を仕込んで、片末端にカルボキシル基を有する、数平均分子量５０００のポリアクリル化合物３（固形分４０％溶液）を得た。
【００７４】
［側鎖にポリアクリル鎖を有するカルボジイミド系化合物の合成］
実施例１（カルボジイミド化合物のカルボジイミド基の反応率５０％、数平均分子量３０００のポリアクリル化合物を側鎖として導入）
窒素ガス導入管、攪拌棒、温度計を備えた四つ口フラスコに、イソシアネート基を有するカルボジイミド当量３１６のカルボジイミド化合物１９．０部、メチルジエタノールアミン５．２部を仕込み、約１００℃で２時間保持してイソシアネート基と水酸基とを反応させ、次いでプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを３５．４部、ポリアクリル化合物１（固形分４０％溶液）を２２８．１部仕込み、約８０℃で２時間保持してカルボジイミド基とカルボキシル基とを反応させ、数平均分子量約５２００、カルボジイミド当量３７９９のカルボジイミド系化合物１（固形分４０％溶液）を得た。
【００７５】
実施例２（カルボジイミド化合物のカルボジイミド基の反応率５０％、数平均分子量４０００のポリアクリル化合物を側鎖として導入）
窒素ガス導入管、攪拌棒、温度計を備えた四つ口フラスコに、イソシアネート基を有するカルボジイミド当量３１６のカルボジイミド化合物１９．０部、メチルジエタノールアミン５．２部を仕込み、約１００℃で２時間保持してイソシアネート基と水酸基とを反応させ、次いでプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを３５．４部、ポリアクリル化合物２（固形分４０％溶液）を３０３．２部仕込み、約８０℃で２時間保持してカルボジイミド基とカルボキシル基とを反応させ、数平均分子量約６６００、カルボジイミド当量４７８７のカルボジイミド系化合物２（固形分４０％溶液）を得た。
【００７６】
実施例３（カルボジイミド化合物のカルボジイミド基の反応率５０％、数平均分子量５０００のポリアクリル化合物を側鎖として導入）
窒素ガス導入管、攪拌棒、温度計を備えた四つ口フラスコに、イソシアネート基を有するカルボジイミド当量３１６のカルボジイミド化合物１９．０部、メチルジエタノールアミン５．２部を仕込み、約１００℃で２時間保持してイソシアネート基と水酸基とを反応させ、次いでプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを３５．４部、ポリアクリル化合物３（固形分４０％溶液）を３８６．２部仕込み、約８０℃で２時間保持してカルボジイミド基とカルボキシル基とを反応させ、数平均分子量約８１００、カルボジイミド当量５８７９のカルボジイミド系化合物３（固形分４０％溶液）を得た。
【００７７】
実施例４（カルボジイミド化合物のカルボジイミド基の反応率６０％、数平均分子量４０００のポリアクリル化合物を側鎖として導入）
窒素ガス導入管、攪拌棒、温度計を備えた四つ口フラスコに、イソシアネート基を有するカルボジイミド当量３１６のカルボジイミド化合物１９．０部、メチルジエタノールアミン５．２部を仕込み、約１００℃で２時間保持してイソシアネート基と水酸基とを反応させ、次いでプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを３５．４部、ポリアクリル化合物２（固形分４０％溶液）を３６３．８部仕込み、約８０℃で２時間保持してカルボジイミド基とカルボキシル基とを反応させ、数平均分子量約７７００、カルボジイミド当量６９８０のカルボジイミド系化合物４（固形分４０％溶液）を得た。
【００７８】
［比較例に使用する顔料分散剤について］
比較顔料分散剤Ａ
ＰＢ８２１（商品名、味の素社製）を、比較顔料分散剤Ａとして用いた。
比較顔料分散剤Ｂ
Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１（商品名、ビックケミー社製）を、比較顔料分散剤Ｂとして用いた。
【００７９】
実施例５〜８、比較例１〜２
［カーボンブラックの顔料分散組成物の調製］
表１の組成でカーボンブラックをビーズミルで一昼夜、６０℃の温度で混練し、実施例５〜８、比較例１〜２の処理カーボンブラックの顔料分散組成物を調製した。
表１において、カーボンブラックとは、平均一次粒子径５６ｎｍ、ｐＨ＝３．１のカーボンブラックを表す。なお、組成を表す数値の単位は、「質量部」である。
【００８０】
［ブラックマトリックス用の顔料分散レジスト組成物の調製］
上記実施例５〜８、比較例１〜２の処理カーボンブラックの顔料分散組成物と他の材料とを表２の組成になるように高速攪拌機を用いて均一に混合した後、孔径３μｍのフィルターでろ過し、実施例５〜８、比較例１〜２のブラックマトリックス用の顔料分散レジスト組成液を得た。なお、組成を表す数値の単位は、「質量部」である。
【００８１】
［評価試験］
１．分散安定性
実施例５〜８、比較例１〜２の処理カーボンブラックの顔料分散組成物及び実施例５〜８、比較例１〜２のブラックマトリックス用の顔料分散レジスト組成物をそれぞれガラス瓶に採り、密栓して室温で７日間保存した後の状態を下記評価基準に従って評価した。評価結果は、表１、表２に示す。
評価基準
Ａ：増粘、沈降物が共に認められない。
Ｂ：軽く振とうすると元に戻る程度の増粘や沈降物が認められる。
Ｃ：強く振とうしても元に戻らない程度の増粘や沈降物が認められる。
【００８２】
２．レジストパターンの光学濃度（ＯＤ値）
上記分散安定性でＡ又はＢの評価が得られた、ブラックマトリックス用の顔料分散レジスト組成物をスピンコーターにて膜厚１μｍになるようにガラス基板上に塗布し、１００℃で３分間プレベークした後、高圧水銀灯で露光し、更に２３０℃で３０分間ポストベークを行い、ベタ部のみで形成されたレジストパターンを得た。得られたベタ部のレジストパターンの光学濃度（ＯＤ値）をマクベス濃度計（商品名：ＴＤ−９３１、グレタグマクベス社製）で測定した。測定結果を表２に示す。
３．レジストパターンの抵抗値
上記の方法で得られたレジストパターンの表面抵抗値を抵抗測定器（商品名：Ｒ８３４０／８３４０Ａ、アドバンテスト社製）で測定した。評価結果を表２に示す。
【００８３】
４．レジストパターンの現像性
上記分散安定性でＡ又はＢの評価が得られたブラックマトリックス用の顔料分散レジスト組成物をスピンコーターにて膜厚１μｍになるようにガラス基板上に塗布し、１００℃で３分間プレベークした。得られた塗膜を、０．１５％Ｎａ２ＣＯ３水溶液を使用して現像し、未硬化部分のレジスト組成物が完全に除去できるまでの時間から、下記評価基準に従って現像性を評価した。評価結果を表２に示す。
Ａ：３０秒以内に完全に除去できる。
Ｂ：３０秒を越えて６０秒以内に完全に除去できる。
Ｃ：６０秒を越えても完全に除去できない。
【００８４】
【表１】
2006225431.tif 000003
【００８５】
【表２】
2006225431.tif 000004
【００８６】
実施例９〜１６、比較例３〜４
［有機顔料の顔料分散組成物の調製］
表３の組成でプラズマ処理されたＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、プラズマ処理されたＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３をビーズミルで一昼夜、温度６０℃の温度で混練し、実施例９〜１６、比較例３〜４の処理有機顔料の顔料分散組成物を調製した。なお、組成を表す数値の単位は、「質量部」である。
【００８７】
［カラーフィルター用の顔料分散レジスト組成物の調製］
上記実施例９〜１６、比較例３〜４の処理有機顔料の顔料分散組成物と他の材料とを表４の組成になるように高速攪拌機を用いて均一に混合した後、孔径３μｍのフィルターでろ過し、実施例９〜１６、比較例３〜４のカラーフィルター用の顔料分散レジスト組成液を得た。なお、組成を表す数値の単位は、「質量部」である。
【００８８】
［評価試験］
１．分散安定性
実施例９〜１６、比較例３〜４の処理有機顔料の顔料分散組成物及び実施例９〜１６、比較例３〜４のカラーフィルター用の顔料分散レジスト組成物をそれぞれガラス瓶に採り、密栓して室温で７日間保存した後の状態を下記評価基準に従って評価した。評価結果は、表３、表４に示す。
評価基準
Ａ：増粘、沈降物が共に認められない。
Ｂ：軽く振とうすると元に戻る程度の増粘や沈降物が認められる。
Ｃ：強く振とうしても元に戻らない程度の増粘や沈降物が認められる。
【００８９】
２．レジストパターンの現像性
上記分散安定性でＡ又はＢの評価が得られたカラーフィルター用の顔料分散レジスト組成物をスピンコーターにて膜厚１μｍになるようにガラス基板上に塗布し、１００℃で３分間プレベークした。得られた塗膜を、０．１５％Ｎａ２ＣＯ３水溶液を使用して現像し、未硬化部分のレジスト組成物が完全に除去できるまでの時間から、下記評価基準に従って現像性を評価した。評価結果を表４に示す。
Ａ：３０秒以内に完全に除去できる。
Ｂ：３０秒を越えて６０秒以内に完全に除去できる。
Ｃ：６０秒を越えても完全に除去できない。
【００９０】
【表３】
2006225431.tif 000005
【００９１】
【表４】
2006225431.tif 000006
【００９２】
上記表１〜表４において、「ＰＧＭＥＡ」は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを表し、表２、表４において、「ＢＭＡ／ＭＡＡ共重合体」とは、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体を表し、「ＤＰＥＨＡ」は、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを表し、「イルガキュア９０７」は、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンの商品名を表す。