(57)【要約】      （修正有）【課題】低屈折率フィラーである多孔質シリカを用いることにより、ヘイズが低く、１．５％以下の視感度反射率を有し、しかも耐擦傷性に優れた低反射膜と低反射膜形成用塗料及び低反射膜付き基材を提供する。【解決手段】空孔５が形成された多孔質シリカ４を、この空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物３中に分散させるか、または、この空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物を含有し、多孔質シリカを前記高分子量ケイ素化合物より分子量の小さい低分子量ケイ素化合物中に分散させることとすれば、低反射膜のヘイズが低く、１．５％以下の視感度反射率を有し、しかも耐擦傷性に優れた効果を得ることができる。【選択図】図２
2006308898.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空孔が形成された多孔質シリカと、前記空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物とを含有してなることを特徴とする低反射膜。
【請求項２】
前記多孔質シリカは、前記高分子量ケイ素化合物中に分散してなることを特徴とする請求項１記載の低反射膜。
【請求項３】
前記多孔質シリカは、前記高分子量ケイ素化合物より分子量の小さい低分子量ケイ素化合物中に分散してなることを特徴とする請求項１記載の低反射膜。
【請求項４】
前記多孔質シリカの粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１、２または３記載の低反射膜。
【請求項５】
前記多孔質シリカを１０重量％以上かつ５０重量％以下含有してなることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載の低反射膜。
【請求項６】
前記高分子量ケイ素化合物を、前記多孔質シリカに対して３重量％以上含有してなることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項記載の低反射膜。
【請求項７】
前記高分子量ケイ素化合物は、高分子量シリケートの加水分解物であることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項記載の低反射膜。
【請求項８】
空孔が形成された多孔質シリカと、高分子量シリケートとを含有してなることを特徴とする低反射膜形成用塗料。
【請求項９】
前記高分子量シリケートの数平均分子量は、２０００以上であることを特徴とする請求項８記載の低反射膜形成用塗料。
【請求項１０】
板状またはフィルム状の基材に、請求項１ないし７のいずれか１項記載の低反射膜が形成されてなることを特徴とする低反射膜付き基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低反射膜と低反射膜形成用塗料及び低反射膜付き基材に関し、更に詳しくは、低屈折率フィラーである多孔質シリカを用いることにより、ヘイズが低く、１．５％以下の視感度反射率を有し、しかも耐擦傷性に優れた低反射膜と低反射膜形成用塗料及び低反射膜付き基材に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像表示装置の表示部に用いられる基材としては、例えば、ブラウン管では、ガラス基板が用いられ、近年の発展著しい液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等の薄型ディスプレイでは、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のプラスチックフィルムが用いられている。
しかしながら、これらの基材は、可視光の反射率が４％以上もあることから、表示部への外光映り込みによって画像の視認性が大幅に低下するという問題があり、これを防ぐため、基材上に高屈折率層と低屈折率層を積層させた低反射膜を形成することにより、低反射機能を付与することが一般的に行われている。
【０００３】
通常、視感度反射率が１．５％以下であれば、良好な視認性を得ることができる。しかし、高屈折率層上に低屈折率層を積層させると、基材との間に屈折率差が生じるために、反射率の波長依存性が増大し、結果として基材表面に虹ムラ等が生じ、画像の視認性を悪化させることとなる。そこで、高屈折率層の屈折率を低く抑制するとともに、低屈折率層の屈折率をより小さくすることにより、基材の表示面に視認性に優れた低反射膜を付与することが行われている。
この低屈折率層としては、高強度を有するシリカ系樹脂が用いられているが、一般にシリカ系樹脂の屈折率は１．４５程度であるから、十分な低反射能を得るのは困難である。
【０００４】
そこで、ポリシロキサン樹脂中にフルオロアルキル基を導入することにより、高強度を維持したまま屈折率を１．４０程度まで低下させた低反射膜が提案されている（特許文献１参照）。また、多孔質構造や中空構造を有するシリカ微粒子を添加することにより、さらに低屈折率の低反射膜を得る方法が提案されている（特許文献２、３参照）。
【特許文献１】特開２００２−６９４２６号公報
【特許文献２】特開２００４−１８２９２９号公報
【特許文献３】特開２００４−２０３６８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、従来のポリシロキサン樹脂中にフルオロアルキル基を導入した低反射膜では、屈折率が最低でも１．４０程度であるから、高屈折率層を組み合わせない限り、良好な低反射性能を得ることが困難であるという問題点があった。
また、従来の低屈折率の低反射膜では、中空構造を有するシリカ微粒子の様な内部に空孔が保持されている微粒子を添加することにより、膜中に空気層を導入し、屈折率を低下させているが、添加される微粒子には、塗布液の配合あるいは塗布、乾燥時に、空孔内にバインダー等の不揮発成分が滲入するのを防ぐための外殻が形成されているために、微粒子としての空孔率が減少し、屈折率をさらに低下させることが難しいという問題点があった。
この外殻の厚さは、なるべく薄い方が粒子の屈折率の上昇を抑制することができるが、薄くしすぎると脆くなり、膜の機械的強度が低下する虞がある。
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、低屈折率フィラーである多孔質シリカを用いることにより、ヘイズが低く、１．５％以下の視感度反射率を有し、しかも耐擦傷性に優れた低反射膜と低反射膜形成用塗料及び低反射膜付き基材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、鋭意検討を行った結果、空孔が形成された多孔質シリカを、この空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物中に分散させるか、または、この空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物を含有し、多孔質シリカを前記高分子量ケイ素化合物より分子量の小さい低分子量ケイ素化合物中に分散させることとすれば、低反射膜のヘイズが低く、１．５％以下の視感度反射率を有し、しかも耐擦傷性に優れていることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の低反射膜は、空孔が形成された多孔質シリカと、前記空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物とを含有してなることを特徴とする。
前記多孔質シリカは、前記高分子量ケイ素化合物中に分散してなることが好ましい。
前記多孔質シリカは、前記高分子量ケイ素化合物より分子量の小さい低分子量ケイ素化合物中に分散してなることが好ましい。
前記多孔質シリカの粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。
前記多孔質シリカを１０重量％以上かつ５０重量％以下含有してなることが好ましい。
【０００９】
前記高分子量ケイ素化合物を、前記多孔質シリカに対して３重量％以上含有してなることが好ましい。
前記高分子量ケイ素化合物は、高分子量シリケートの加水分解物であることが好ましい。
【００１０】
本発明の低反射膜形成用塗料は、空孔が形成された多孔質シリカと、高分子量シリケートとを含有してなることを特徴とする。
前記高分子量シリケートの数平均分子量は、２０００以上であることが好ましい。
【００１１】
本発明の低反射膜付き基材は、板状またはフィルム状の基材に、本発明の低反射膜が形成されてなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の低反射膜によれば、表面に空孔が形成された多孔質シリカと、前記空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物とを含有したので、多孔質シリカの表面の空孔の開口端を、高分子量ケイ素化合物にて覆うことにより、多孔質シリカ自体の空孔率が減少する虞が無く、屈折率をさらに低下させることができる。
したがって、低反射膜のヘイズを低くすることができ、１．５％以下の視感度反射率とすることができる。また、膜成分が多孔質シリカ及びケイ素化合物により構成されているので、耐擦傷性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の低反射膜と低反射膜形成用塗料及び低反射膜付き基材を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１４】
本発明の低反射膜は、空孔が形成された多孔質シリカと、この空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物とを含有してなる膜である。
この多孔質シリカは、前記高分子量ケイ素化合物中に分散しているか、あるいは、前記高分子量ケイ素化合物より分子量の小さい低分子量ケイ素化合物中に分散していることが好ましい。
多孔質シリカは、表面に空孔が露出しており、しかも外殻を有さないので、その屈折率は１．３以下である。
【００１５】
多孔質シリカの粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒子径を上記の様に限定した理由は、粒子径が５ｎｍ未満であると、十分な空孔率を有する多孔質シリカを合成することが困難になるからであり、一方、粒子径が１００ｎｍを越えると、膜の表面に多孔質シリカの一部が露出し、ヘーズが高くなるからである。この現象は、特に、低屈折率層の膜厚が１００ｎｍ程度の場合に顕著となる。
【００１６】
多孔質シリカの含有量は、低反射膜全量の１０重量％以上かつ５０重量％以下が好ましい。含有量を上記の様に限定した理由は、含有量が１０重量％未満であると、十分な低反射性能を得ることができないからであり、一方、含有量が５０重量％を越えると、膜の機械的強度が低下する虞があるからである。
【００１７】
高分子量ケイ素化合物は、多孔質シリカの空孔内へ滲入しないだけの十分な分子量を有する硬化性樹脂であり、その含有量は、多孔質シリカ全重量に対して３重量％以上含有してなることが好ましい。ここで、含有量を３重量％以上と限定した理由は、含有量が３重量％未満であると、マトリックス成分として低分子量ケイ素化合物を用いた際に、多孔質シリカの空孔へのケイ素化合物の滲入の抑止が不十分となるからである。
【００１８】
高分子量ケイ素化合物は、高分子量シリケートの加水分解物であることが好ましい。この高分子量シリケートの数平均分子量は、２０００以上であることが好ましい。ここで、高分子量シリケートの数平均分子量を２０００以上と限定した理由は、数平均分子量が２０００より小さいと、この高分子量シリケートを硬化して得られた高分子量ケイ素化合物の直鎖部分の長さが多孔質シリカの空孔の径より短くなり、この硬化した高分子量ケイ素化合物が多孔質シリカの空孔内へ滲入し、多孔質シリカの屈折率の低下を阻害する虞があるからである。
【００１９】
高分子量シリケートとしては、下記の式（１）で示されるフルオロアルキル基含有シリケートが好ましい。
【化１】
2006308898.tif 000003
（ただし、Ｒはフルオロアルキル基、ｎ及びｍは正の整数である）
【００２０】
このフルオロアルキル基含有シリケートは、式（１）で示される直鎖状の他、一部に環状構造が含まれたものであってもよい。
このフルオロアルキル基含有シリケートは、多孔質シリカの空孔に滲入しないだけの十分な分子量を有することが好ましく、その数平均分子量は、２０００以上である必要がある。
【００２１】
このフルオロアルキル基含有シリケートは、式（１）中ｎとｍの比ｎ／ｍが１〜５０の範囲であることが好ましい。その理由は、比ｎ／ｍが１未満であると非反応性基であるフルオロアルキル基の含有量が多くなり、バインダーとしての強度が不十分なものとなるからであり、一方、比ｎ／ｍが５０を越えると、フルオロアルキル基による屈折率の低下効果が十分に得られないからである。
【００２２】
多孔質シリカは、高分子量ケイ素化合物より分子量の小さい低分子量ケイ素化合物中に分散してなることが好ましい。
低分子量ケイ素化合物としては、低分子量シリケートが好ましく、低分子量シリケートとしては、数平均分子量が２０００未満、好ましくは５００〜１０００の範囲のフルオロアルキル基含有シリケートが好ましい。
【００２３】
本発明の低反射膜は、次のいずれかの製造方法により作製することができる。
（１）  空孔が形成された多孔質シリカと、数平均分子量が２０００以上のフルオロアルキル基含有シリケート等の高分子量シリケートを加水分解してなる高分子量ケイ素化合物と、溶媒とを含有した低反射膜形成用塗料を基材上に塗布し、乾燥・硬化させる方法。
【００２４】
（２）  空孔が形成された多孔質シリカと、数平均分子量が２０００以上のフルオロアルキル基含有シリケート等の高分子量シリケートと、溶媒とを所定の温度条件下にて攪拌させ、数平均分子量が２０００以上のフルオロアルキル基含有シリケート等を加水分解してなる高分子量ケイ素化合物により空孔の開口端が覆われた多孔質シリカを作製し、次いで、この多孔質シリカと、数平均分子量が２０００未満のフルオロアルキル基含有シリケート等を加水分解してなる低分子量ケイ素化合物と、溶媒とを含有した低反射膜形成用塗料を作製し、基材上に塗布し、乾燥・硬化させる方法。
【００２５】
溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、β−オキシエチルメチルエーテル（メチルセロソルブ）、β−オキシエチルエーテル（エチルセロソルブ）、ブチル−β−オキシエチルエーテル（ブチルセロソルブ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエチレングリコールのモノエーテル類（セロソルブ類）が好適に用いられる。
【００２６】
基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ：アクリル）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム等の透明なフィルムが好適に用いられる。
【００２７】
本発明の低反射膜付き基材の一例として、帯電防止機能付きハードコート層の上に低屈折率層を備えた積層構造の低反射膜付き基材がある。
この低反射膜付き基材は、まず、バーコート法、スピンコート法、ディップ法、グラビアコート法等の塗布方法により、透明基材の一面に帯電防止機能付きハードコート層形成用塗料を塗布し、その後、乾燥・硬化させ、帯電防止機能付きハードコート層を形成する。
【００２８】
この帯電防止機能付きハードコート層形成用塗料の樹脂成分が紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂であれば、紫外線（ＵＶ）を照射させて硬化させ、樹脂成分が熱硬化性樹脂であれば、加熱して硬化させる。
その後、このハードコート層上に、空孔が形成された多孔質シリカと、数平均分子量が２０００以上のフルオロアルキル基含有シリケート等の高分子量シリケートを加水分解してなる高分子量ケイ素化合物と、溶媒とを含有した低反射膜形成用塗料を塗布し、乾燥・硬化させ、低屈折率層を形成する。
【００２９】
この低屈折率層は、数平均分子量が２０００以上のフルオロアルキル基含有シリケート等の加水分解物である高分子量ケイ素化合物により空孔の開口端が覆われた多孔質シリカと、数平均分子量が２０００未満のフルオロアルキル基含有シリケート等の加水分解物である低分子量ケイ素化合物と、溶媒とを含有した低反射膜形成用塗料を塗布し、乾燥・硬化させることによっても形成することができる。
以上により、低反射膜付き基材を得ることができる。
【実施例】
【００３０】
以下、実施例１、２及び比較例１、２により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
なお、これら実施例１、２及び比較例１、２においては、膜中における多孔質シリカの含有量を全て等しくした。
【００３１】
「多孔質シリカ分散液の調製」
多孔質シリカ微粒子                １０重量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）  ９０重量部
を秤量し、ボールミルにて４時間、混合・分散させて多孔質シリカ分散液とした。
【００３２】
「アンチモンドープ酸化錫分散液の調製」
アンチモンドープ酸化錫            ２０重量部
界面活性剤                          ２重量部
メチルエチルケトン                ７８重量部
を秤量し、ボールミルにて２４時間、混合・分散させてアンチモンドープ酸化錫分散液とした。
【００３３】
「帯電防止機能付きハードコート層形成用塗料の調製」
アンチモンドープ酸化錫            ２０重量部
紫外線硬化型バインダー            ３０重量部
光開始剤                            ３重量部
メチルエチルケトン                ４７重量部
を秤量し、その後攪拌・混合し、帯電防止機能付きハードコート層形成用塗料とした。
ここでは、紫外線硬化型バインダーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製）を、また、光開始剤としては、イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカルズ社製）を、それぞれ用いた。
【００３４】
「実施例１」
テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）５６重量部、オクタフルオロエチルトリメトキシシラン２３重量部、メタノール１４重量部を、ナス型フラスコにて氷冷攪拌しつつ、１規定の塩酸０．２重量部と水７重量部との混合物を滴下した。
滴下終了後、このナス型フラスコに還流管を取り付け、６０℃に加温したウオーターバス中にて１２時間攪拌することにより、フルオロアルキル基含有線状シリケートを得た。
【００３５】
この線状シリケートを無蓋のフラスコに移し、１７５℃に加温したオイルバス中にてさらに４時間攪拌し、単量体等を除去したフルオロアルキル基含有高分子量線状シリケートを得た。
この高分子量フルオロアルキル基含有線状シリケート２０重量部と、メタノール５９重量部とを、フラスコ中にて氷冷攪拌しつつ、１規定硝酸０．８重量部と水２０重量部の混合物を滴下した。
滴下終了後、この混合物を６０℃にて３時間攪拌し、加水分解を行うことにより、高分子量バインダーを得た。
【００３６】
ＧＰＣ測定により、上記の高分子量フルオロアルキル基含有線状シリケートの加水分解物の分子量を測定した。但し、分子量の測定には、フルオロアルキル基を含有させずにＴＭＯＳのみを用いる以外は、実施例と同様の条件で合成して得られる高分子量シリケートを用いた。なお、このＧＰＣ測定で得られる分子量はポリスチレンサイズに換算した値である。
【００３７】
ＧＰＣ測定の測定条件は下記の通りとした。
カラム  ：「ＧＰＣ」ＫＦ−８０２．５（Shodex社製）
流出液  ：テトラヒドロロフラン
流出速度：１ｍｌ／分
流出温度：３５℃
以上の測定条件にて測定した数平均分子量は２４４６であった。
【００３８】
上記の高分子量バインダー９重量部、多孔質シリカをイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）中に分散させた多孔質シリカ分散液１４重量部（多孔質シリカとして０．７重量部）、溶媒としてブチル−β−オキシエチルエーテル（ブチルセロソルブ）１０重量部、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）６４重量部を混合し、多孔質シリカ含有低屈折率層形成用塗料を調製した。
【００３９】
次いで、厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムの一面に、バーコート法により上記の帯電防止機能付きハードコート層形成用塗料を塗布し、この塗料を７０℃にて３分間乾燥させた後、３００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーを有する紫外線を照射して硬化させ、厚さ７μｍの透明な帯電防止機能付きハードコート層を形成した。
次いで、この帯電防止機能付きハードコート層上に、バーコート法にて上記の多孔質シリカ含有低屈折率層形成用塗料を塗布し、１００℃にて３分間、乾燥させて実施例１の低反射膜付き基材を得た。
【００４０】
図１は、この低反射膜付き基材を示す模式図、図２は図１のＡ領域を示す模式図である。この低反射膜付き基材は、帯電防止機能付きハードコート層１上に多孔質シリカ含有低屈折率層２が形成され、この多孔質シリカ含有低屈折率層２は、数平均分子量が２０００以上のフルオロアルキル基含有シリケートが加水分解してなる紐状の高分子量ケイ素化合物３中に多孔質シリカ４が均一に分散している。
【００４１】
この多孔質シリカ４の表面には空孔５が形成され、この空孔５の開口端６には、これを覆うように紐状の高分子量ケイ素化合物３が集合している。
このように、紐状の高分子量ケイ素化合物３は、空孔５内に滲入することなくその開口端６の周辺部を含む膜全体に存在しているので、空孔５内の体積が減少することがなく、したがって、多孔質シリカ４の屈折率が大きく変わるおそれもない。
【００４２】
「比較例１」
実施例１における操作中、６０℃に加温したウオーターバス中にて１２時間攪拌、及びその後の１７５℃に加温したオイルバス中にてさらに４時間攪拌という操作を行わないこととして、フルオロアルキル基含有線状シリケートを得た。
【００４３】
すなわち、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）５６重量部、オクタフルオロエチルトリメトキシシラン２３重量部の混合物に、１規定硝酸０．８重量部と水２０重量部を滴下、加温することからなる低分子量の加水分解物をバインダーとして多孔質シリカ含有低屈折率層形成用塗料を調整し、実施例１と同様にしてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に形成された帯電防止機能付きハードコート層上に、この塗料を塗布し、比較例１の低反射膜付き基材を得た。
上記により得られた低分子量の加水分解物の数平均分子量を、実施例１と同様の方法に準じて測定したところ、８９４であった。
【００４４】
「実施例２」
実施例１にて得られたフルオロアルキル基含有高分子量線状シリケート１重量部、多孔質シリカ分散液８０重量部及びイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）１９重量部を、６０℃にて３時間攪拌し、フルオロアルキル基含有高分子量線状シリケートで表面処理した多孔質シリカ分散液を得た。
【００４５】
次いで、この多孔質シリカ分散液と、比較例１にて得られた低分子量の加水分解物をバインダーとして、実施例１と同様にして多孔質シリカ含有低屈折率層形成用塗料を調製し、この多孔質シリカ含有低屈折率層形成用塗料を、実施例１と同様、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に形成された帯電防止機能付きハードコート層上に塗布し、実施例２の低反射膜付き基材を得た。
【００４６】
図３は、この低反射膜付き基材を示す模式図、図４は図３のＢ領域を示す模式図である。この低反射膜付き基材は、帯電防止機能付きハードコート層１上に多孔質シリカ含有低屈折率層１１が形成され、この多孔質シリカ含有低屈折率層１１は、数平均分子量が２０００未満のフルオロアルキル基含有シリケートが加水分解してなる低分子量ケイ素化合物１２中に多孔質シリカ４が均一に分散している。
【００４７】
この多孔質シリカ４の表面には空孔５が形成され、この空孔５の開口端６には、これを覆うように紐状の高分子量ケイ素化合物１３が集合し、紐状の高分子量ケイ素化合物１３の外側には低分子量ケイ素化合物１２が存在している。
このように、紐状の高分子量ケイ素化合物１３は、空孔５内に滲入することなくその開口端６の周辺部に集合しているので、空孔５内の体積が減少することがなく、したがって、多孔質シリカ４の屈折率が大きく変わるおそれもない。
【００４８】
「比較例２」
実施例２での表面処理を、比較例１で得た低分子量の加水分解物を用いて行う以外は、実施例２と同様にして、比較例２の低反射膜付き基材を得た。
【００４９】
「評価」
以上により得られた実施例１、２及び比較例１，２それぞれの低反射膜付き基材の全光線透過率、ヘイズ、最低反射率、視感度反射率、表面抵抗、耐スチールウール試験の各評価項目について、次の方法または装置を用いて評価した。
【００５０】
（１）全光線透過率
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５「プラスチックの光学的特性試験方法」に準拠して、低反射膜付き基材の全光線透過率を測定した。
（２）ヘイズ（曇価）
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５「プラスチックの光学的特性試験方法」に準拠して、低反射膜付き基材のヘイズ値を測定した。
（３）視感度反射率
分光光度計（Ｕ−３５００：日立製作所製）を用いて、低反射膜付き基材の５°正反射率を測定し、この測定値に比視感度値を掛けて、低反射膜付き基材の視感度反射率を算出した。
【００５１】
（４）表面抵抗
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ６９１１「熱硬化性プラスチック一般試験方法」に準拠して、低反射膜付き基材の表面抵抗を測定した。
（５）スチールウール強度
＃００００のスチールウールに５００ｍｇ／ｃｍ２の荷重を付加しつつ、低反射膜付き基材の低屈折率膜の表面上を１０回往復させ、その後、低屈折率層の表面に発生した傷の本数を測定した。評価は、傷の本数が１０本以下を「Ａ」、１１本以上かつ３０本以下を「Ｂ」、３０本以上を「Ｃ」とした。
評価結果を表１に示す。
【００５２】
【表１】
2006308898.tif 000004
【００５３】
以上の評価結果によれば、実施例１、２の低反射膜付き基材は、比較例１、２の低反射膜付き基材と比べて、表面抵抗は差が無いものの、全光線透過率、ヘイズ、最低反射率、視感度反射率共に優れていることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明の低反射膜は、表面に空孔が形成された多孔質シリカと、この空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物とを含有したものであるから、この高分子量ケイ素化合物は、空孔への造膜成分滲入を抑止するバインダーとして特に有用なものであり、例えば、空孔へ造膜成分が滲入する割合をバインダーの分子量により制御することで屈折率調整塗料としての展開も期待され、その効果は大である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施例１の低反射膜付き基材を示す模式図である。
【図２】本発明の実施例１の低反射膜付き基材のＡ領域を示す模式図である。
【図３】本発明の実施例２の低反射膜付き基材を示す模式図である。
【図４】本発明の実施例２の低反射膜付き基材のＢ領域を示す模式図である。
【符号の説明】
【００５６】
１  帯電防止機能付きハードコート層
２  多孔質シリカ含有低屈折率層
３  紐状の高分子量ケイ素化合物
４  多孔質シリカ
５  空孔
６  開口端
１１  多孔質シリカ含有低屈折率層
１２  低分子量ケイ素化合物
１３  紐状の高分子量ケイ素化合物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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