(57)【要約】【課題】  カラーフィルタ基板を有するＴＦＴ基板の配向方法を提供する。【解決手段】  容量記憶領域１１４、１１６はＴＦＴ基板上に設けられ、カラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域中に設計される。ＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板上にラビング工程が行われた後、ＴＦＴ基板上の容量記憶領域のバンプは第１の不良ラビング領域３０４を発生させ、それはバンプの一側に隣接する。カラーフィルタ基板を偏移させることにより、カラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域３０２中のブラックマトリクスで第１の不良ラビング領域３０４を覆い、ＴＦＴ基板をカラーフィルタ基板に配向させる。そのため、液晶表示装置のフレーム中に発生するコーナー画像焼付きを防ぐことができる。【選択図】  図３Ｂ
2006163071.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ基板上に容量記憶領域が設けられ、該容量記憶領域はカラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域中に設置されているＴＦＴ基板の配向方法であって、
前記ＴＦＴ基板および前記カラーフィルタ基板上にラビング工程が行われた後、前記ＴＦＴ基板上の前記容量記憶領域のバンプが第１の不良ラビング領域を発生させる場合において、前記第１の不良ラビング領域が前記バンプの一側でカラーフィルタ基板に隣接しているとき、
前記カラーフィルタ基板を偏移させることにより、前記カラーフィルタ基板の前記ブラックマトリクス領域中のブラックマトリクスによって前記第１の不良ラビング領域を覆うステップと、
前記ＴＦＴ基板を前記カラーフィルタ基板に配向させるステップと、
を含むことを特徴とするカラーフィルタ基板を有するＴＦＴ基板の配向方法。
【請求項２】
前記ラビング工程において、前記ブラックマトリクスに隣接する前記カラーフィルタ基板上に第２の不良ラビング領域が発生したとき、
前記ＴＦＴ基板と前記カラーフィルタ基板とが配向されると、前記第１の不良ラビング領域と前記第２の不良ラビング領域とは重ならなくなることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板を有するＴＦＴ基板の配向方法。
【請求項３】
ＴＦＴ基板上に容量記憶領域が設けられ、該容量記憶領域はカラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域中に設置されているＴＦＴ基板の配向方法であって、
前記ＴＦＴ基板および前記カラーフィルタ基板上にラビング工程が行われるとき、前記ＴＦＴ基板上の前記容量記憶領域のバンプが第１の不良ラビング領域を発生させ、前記ラビング工程が前記ブラックマトリクス領域に隣接する前記カラーフィルタ基板上に第２の不良ラビング領域を発生させる場合において、前記第１の不良ラビング領域が前記バンプの一側に隣接しているとき、
前記カラーフィルタ基板を偏移させることにより、前記カラーフィルタ基板の前記ブラックマトリクス領域中のブラックマトリクスで前記第１の不良ラビング領域を覆い、前記第１の不良ラビング領域と前記第２の不良ラビング領域とを重ならなくするステップと、
前記ＴＦＴ基板を前記カラーフィルタ基板に配向するステップと、
を含むことを特徴とするカラーフィルタ基板を有するＴＦＴ基板の配向方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜トランジスタ液晶表示装置（thin-film transistor liquid-crystal display：ＴＦＴ−ＬＣＤ）のカラーフィルタ基板を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板の配向方法に関し、特にカラーフィルタ基板をＴＦＴ基板に対して偏移配向させることにより、コーナー画像焼付き問題を解決するカラーフィルタ基板を有するＴＦＴ基板の配向方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ液晶表示装置の製造工程においては、先ずＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板が製造されてからＬＣＤが製作され、最後にＬＣＤモジュールが製作される。また、ＴＦＴ基板はアレイ板とも呼ばれる。
【０００３】
ＬＣＤの製作段階では、ＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板上にラビング工程が行われた後に、ＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板が配向される。図１は、ＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板の配向を示す部分断面図である。図１に示すように、カラーフィルタ基板は、基板１０２、基板１０２上に形成されたブラックマトリクス１０４、赤色（Ｒ）カラーレジスト１０６および緑色（Ｇ）カラーレジスト１０８からなるカラーフィルタ層を備える。赤色カラーレジスト１０６および緑色カラーレジスト１０８は、基板１０２上にも形成され、光もれを防ぐために、それらは一部が重なってブラックマトリクス１０４を覆う。カラーフィルタ基板は、電極として作用する導電層（図１には図示せず）を有し、それは赤色カラーレジスト１０６、緑色カラーレジスト１０８およびブラックマトリクス１０４を覆う。
【０００４】
図１に示すように、ＴＦＴ基板は、基板１１０および基板１１０上に形成された画素電極層１１２を備える。画素電極層１１２は、カラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域であるブラックマトリクス１０４中に設計された容量記憶領域１１４、１１６を備える。バンプ１１８、１２０は、一般に容量記憶領域１１４、１１６に存在する。図１に示すように、ＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板のラビング方向は左から右である。ラビング工程の前に、樹脂被覆はＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板上に形成される。樹脂には、ＬＣＤ産業においてＰＩと略称されるポリイミドが含まれる。ラビング工程は、立毛布帛で覆われた金属ローラにより樹脂被覆を擦るか、樹脂被覆の表面に沿ってローラを前後に回転させることにより、後で設けられる液晶分子が特定方向へ向くようにしておく。
【０００５】
図１に示すように、カラーフィルタ層とブラックマトリクス１０４とが重ねられた部分には高低差が発生し、ＴＦＴ基板上のバンプ１１８、１２０にも高低差が発生した。ラビング方向が左から右のとき、カラーレジスト１０８による高低差ｘおよびバンプ１２０による高低差ｙは、例えば不良ラビング領域１２４、１２２などのように、樹脂被覆がよく擦られなかった領域に発生した。また、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とが配向されるとき、不良ラビング領域１２４、１２２は重ねられて配向される。ラビング方向が右から左のときには、赤色カラーレジスト１０６およびバンプ１１８に隣接する画素電極層１１２上に、それぞれ不良ラビング領域が発生した。
【０００６】
上述した不良ラビング領域は、液晶表示装置に表示されるフレーム中にコーナー画像焼付きを発生させた。ブラックマトリクス領域中の不良ラビング領域は、ブラックマトリクス１０４により遮られるため光もれが発生しない一方、表示領域中の不良ラビング領域１２４、１２２には、光もれが発生してコーナー画像焼付きが発生した。図２は、コーナー画像焼付きが発生している状態を示す。ＬＣＤ基板のランプが点灯すると、コーナー画像焼付き検査フレーム２００の四辺縁上には白ストライプ領域２０２、２０４が発生する。コーナー画像焼付き検査フレーム２００が全面黒フレーム２０６に切り換えられると、白ストライプ領域２０２、２０４の一部のスポットは暗くならずにコーナー画像焼付き２０８の現象が発生した。これはパネルの四辺縁のＰＩ樹脂被覆が比較的厚く、擦ることができない不良ラビング領域上の樹脂被覆の程度が甚だしく、コーナー画像焼付きが容易に発生することが原因であった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、コーナー画像焼付きが発生する問題を解決するカラーフィルタ基板を有するＴＦＴ基板の配向方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の目的を達成するために、本発明はカラーフィルタ基板を有するＴＦＴ基板の配向方法を提供する。容量記憶領域はＴＦＴ基板上に設けられ、カラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域中に設計される。ＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板上にラビング工程が行われた後、ＴＦＴ基板上の容量記憶領域中のバンプは第１の不良ラビング領域を発生させ、それはバンプの一側に隣接する。本発明は、カラーフィルタ基板を偏移させることにより、カラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域中のブラックマトリクスで第１の不良ラビング領域を覆い、ＴＦＴ基板をカラーフィルタ基板に配向させる。
【発明の効果】
【０００９】
上述した本発明の好適な実施形態から明らかなように、本発明は以下の長所を有する。カラーフィルタ基板が偏移されると、ＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板が配向されるため、不良ラビング領域がブラックマトリクスにより覆われて光もれは発生しない。そのため、コーナー画像焼付きが発生するという問題を防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明は、コーナー画像焼付きが発生する問題を解決するカラーフィルタ基板を有するＴＦＴ基板の配向方法を提供する。
図１に示すように、容量記憶領域１１４、１１６はＴＦＴ基板上に設けられ、カラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域であるブラックマトリクス１０４中に設計される。バンプ１１８、１２０は、一般に容量記憶領域１１４、１１６に存在する。ラビング方向が左から右のラビング工程をＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板上に行った後、ＴＦＴ基板上の容量記憶領域１１６のバンプ１２０は、バンプ１２０の一側に隣接する第１の不良ラビング領域１２２を発生させる。そして、緑色カラーレジスト１０８による高低差ｘにより、ブラックマトリクス領域に隣接するカラーフィルタ基板上に第２の不良ラビング領域１２４が発生する。
【００１１】
本発明の一実施形態によるカラーフィルタ基板を有するＴＦＴ基板の配向方法を次に示す。先ず、カラーフィルタ基板が偏移されることにより、第１の不良ラビング領域はカラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域中のブラックマトリクスにより覆われ、次にＴＦＴ基板はカラーフィルタ基板に配向される。或いは、先ずカラーフィルタ基板が偏移されることにより、第１の不良ラビング領域はカラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域中のブラックマトリクスにより覆われ、第１の不良ラビング領域と第２の不良ラビング領域とは重なったり配向したりせずに、ＴＦＴ基板はカラーフィルタ基板に配向される。
【００１２】
図３Ａおよび図３Ｂにおいて、本発明の好適な一実施形態を次に説明する。図３Ａは、図１が示すＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板が配向された状態を示す上面図である。図３Ａに示すように、符号ＣＳで記された容量記憶領域１１４、１１６は、カラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域３０２中に設計される。第１の不良ラビング領域１２２と第２の不良ラビング領域１２４とが重なることにより発生する不良ラビング領域３０４は、ブラックマトリクス領域３０２で覆われないため、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とが配向されると、光もれが発生してコーナー画像焼付き現象が発生した。図３Ａは、元の配向状態を示す。
【００１３】
図３Ｂは、本発明の好適な一実施形態によりカラーフィルタ基板が偏移された後の図１が示すカラーフィルタ基板を有するＴＦＴ基板の配向方法を示す上面図である。図３Ｂに示すように、カラーフィルタ基板が右へ偏移されることにより、不良ラビング領域３０４はカラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域３０２中のブラックマトリクスで覆われ、続いてＴＦＴ基板はカラーフィルタ基板に配向する。カラーフィルタ基板が右へ偏移した後、図１の第１の不良ラビング領域１２２と第２の不良ラビング領域１２４とは重なったり配向したりしない。一方、ラビング方向が右から左のとき、不良ラビング領域はバンプ１１８の一側に隣接してブラックマトリクス領域３０２により覆われないため、カラーフィルタ基板は左へ偏移しなければならない。このように、不良ラビング領域は、カラーフィルタ基板のブラックマトリクス領域３０２中のブラックマトリクスにより覆うことができる。
【００１４】
上述した本発明の好適な実施形態から明らかなように、本発明は以下の長所を有する。カラーフィルタ基板を偏移させて、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とを配向させることにより、不良ラビング領域はブラックマトリクスにより覆われて光もれが発生しない。そのため、コーナー画像焼付きが発生するという問題を防ぐことができる。
【００１５】
本発明では好適な実施形態を前述の通り開示したが、これらは決して本発明を限定するものではなく、当該技術に熟知するものなら誰でも、本発明の主旨と領域を脱しない範囲内で各種の変更や修正を加えることができる。従って本発明の保護の範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態によるＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板との配向を示す部分断面図である。
【図２】コーナー画像焼付きが発生している状態を示す模式図である。
【図３Ａ】図１に示すＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板を示す上面図である。
【図３Ｂ】本発明の一実施形態によりカラーフィルタ基板が偏移させられた後の図１に示すＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板との配向を示す上面図である。
【符号の説明】
【００１７】
１０２  基板、１０４  ブラックマトリクス、１０６  赤色カラーレジスト、１０８  緑色カラーレジスト、１１０  基板、１１２  画素電極層、１１４、１１６  容量記憶領域、１１８、１２０  バンプ、１２２  第１の不良ラビング領域、１２４  第２の不良ラビング領域、２００  コーナー画像焼付き検査フレーム、２０２、２０４  白ストライプ領域、２０６  全面黒フレーム、２０８  コーナー画像焼付き、３０２  ブラックマトリクス領域、３０４  不良ラビング領域
【図１】
2006163071.tif 000003
【図２】
2006163071.tif 000004
【図３Ａ】
2006163071.tif 000005
【図３Ｂ】
2006163071.tif 000006