(57)【要約】【課題】  情報記録時における記録膜内でのトラック横断方向への熱の広がりを抑制するのに適した熱アシスト磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】  本発明の熱アシスト磁気記録媒体Ｘは、基板Ｂおよび記録膜１を含む積層構造を有し、情報記録時に回転動作を伴う。また、熱アシスト磁気記録媒体Ｘは、並列して回転動作の回転中心まわりを延びる複数条の熱伝導部３を備える。熱伝導部３は、基板Ｂよりも高い熱伝導率を有し、基板Ｂにおける記録膜１の側の表面１ａから基板Ｂ内に少なくとも一部が入り込む。【選択図】  図１
2006260620.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板および記録膜を含む積層構造を有し、情報記録時に回転動作を伴う、熱アシスト磁気記録媒体であって、
並列して前記回転動作の回転中心まわりを延びる複数条の熱伝導部を備え、
前記熱伝導部は、前記基板よりも高い熱伝導率を有し、前記基板における前記記録膜の側の表面から当該基板内に少なくとも一部が入り込む、熱アシスト磁気記録媒体。
【請求項２】
前記熱伝導部は前記記録膜を貫通する、請求項１に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
【請求項３】
前記回転中心に近い熱伝導部ほど、高い熱伝導率を有する、請求項１または２に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
【請求項４】
前記回転中心に近い熱伝導部ほど、大きな横断面積を有する、請求項１から３のいずれか一つに記載の熱アシスト磁気記録媒体。
【請求項５】
前記回転中心に近い熱伝導部ほど、前記基板の厚さ方向に長い、請求項４に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
【請求項６】
前記回転中心に近い熱伝導部ほど幅太である、請求項４または５に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
【請求項７】
前記複数条の熱伝導部は、隣り合う複数条の熱伝導部から各群がなる複数の群に区分され、
前記各熱伝導部は、属する群が前記回転中心に近いほど、高い熱伝導率を有する、請求項１または２に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
【請求項８】
前記複数条の熱伝導部は、隣り合う複数条の熱伝導部から各群がなる複数の群に区分され、
前記各熱伝導部は、属する群が前記回転中心に近いほど、大きな横断面積を有する、請求項１、２、および７のいずれか一つに記載の熱アシスト磁気記録媒体。
【請求項９】
前記各熱伝導部は、属する群が前記回転中心に近いほど、前記基板の厚さ方向に長い、請求項８に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
【請求項１０】
前記各熱伝導部は、属する群が前記回転中心に近いほど幅太である、請求項８または９に記載の熱アシスト磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録時に熱アシストを伴う磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクなどの記憶装置を構成するための記録媒体として、磁気ディスク（磁気記録媒体）が知られている。磁気ディスクは、ディスク基板と所定の磁性構造を有する記録膜とを含む積層構造を有する。コンピュータシステムにおける情報処理量の増大に伴い、磁気ディスクについては高記録密度化の要求が高まっている。
【０００３】
磁気ディスクへの情報記録に際しては、磁気ディスクの記録面（記録膜により構成される）に対して記録用の磁気ヘッドが近接配置され、当該磁気ヘッドにより、記録膜に対し、その保磁力より強い記録磁界が印加される。磁気ディスクに対して磁気ヘッドを相対移動させつつ磁気ヘッドからの記録磁界の向きを順次反転させることにより、記録膜において、磁化方向が順次反転する複数の記録マーク（磁区）が磁気ディスクの周方向ないしトラック延び方向に連なって形成される。このとき、記録磁界方向を反転させるタイミングが制御されることにより、各々に所定の長さで記録マークが形成される。このようにして、記録膜において、磁化方向の変化として所定の信号ないし情報が記録される。
【０００４】
磁気ディスクの技術分野においては、記録膜の保磁力が高いほど、記録膜に形成される磁区の熱安定性が高く、微小ないし幅狭で安定した磁区を形成しやすいことが、知られている。記録膜にて安定に形成され得る最小の磁区が微小であるほど、磁気ディスクにおいて、より大きな記録密度を得ることが可能である。
【０００５】
磁気ディスクへの情報記録においては、上述のように、記録膜の保磁力より強い記録磁界を印加しなければ適切に記録マークを形成することができない。そのため、記録膜について設定される保磁力の増大に伴い、磁気ヘッドにより印加すべき記録磁界の強度を増大することが考えられる。しかしながら、磁気ヘッドにより印加できる記録磁界の強度については、例えば磁気ヘッドの構造や消費電力の観点から、制約を受ける。
【０００６】
そこで、磁気ディスクへの情報記録においては、いわゆる熱アシスト磁気記録方式が採用される場合がある。熱アシスト磁気記録方式で磁気ディスクに情報記録が実行される場合、例えば、回転する磁気ディスクの記録面に近接配置される所定の光学ヘッドからのレーザ照射により、磁気ディスクの記録膜が局所的に順次加熱される。記録膜において加熱により昇温した領域では、その周囲の非昇温領域よりも保磁力が低下する。そして、磁気ディスクの記録面に近接配置される磁気ヘッドにより、記録膜の昇温領域の保磁力より強い記録磁界が当該昇温領域に印加され、当該昇温領域の一部が所定方向に磁化される。この磁化は、当該磁化箇所の冷却の過程で定着することとなる。熱アシスト磁気記録方式では、このようにして、磁化方向が順次反転し且つ記録信号に応じた所定の長さを各々が有する複数の記録マーク（磁区）が、ディスク周方向に延びるトラックに沿って形成される。熱アシスト磁気記録方式の磁気ディスクにおいては、記録膜にて加熱により保磁力が低下された箇所に対する記録磁界印加により情報記録が実行されるため、情報保持時や情報再生時の常温での記録膜の保磁力を高く設定する場合であっても、磁気ヘッドにより印加すべき記録磁界の強度を過度に増大する必要はない。このような熱アシスト磁気ディスクについては、例えば下記の特許文献１や特許文献２に記載されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平６−２４３５２７号公報
【特許文献２】特開２００３−１５７５０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
熱アシスト磁気ディスクの情報記録時に記録膜における記録予定箇所を加熱すると、当該記録予定箇所とともにその周囲も有意に昇温する。一方、熱アシスト磁気ディスクにおいては、高記録密度化の観点からは記録膜の保磁力は高い方が好ましく、記録膜の保磁力が高いほど、情報記録時に際し、記録膜に対する加熱の程度を強くする必要がある。しかしながら、従来の熱アシスト磁気ディスクでは、情報記録時に、加熱の程度が強すぎて記録膜における所定温度以上の昇温範囲が広すぎると、記録マークが順次形成されているトラックの隣りのトラックまで記録マーク幅が不当に広がることなどにより、当該隣りのトラックの記録マークが消失ないし劣化するという、クロスライト現象が生じる場合がある。クロスライト現象は、トラックの狭ピッチ化を阻害するので、磁気ディスクの高記録密度化の観点からは好ましくない。このように、従来の熱アシスト磁気ディスク（熱アシスト磁気記録媒体）は、記録密度を高めるうえで困難性を有する。
【０００９】
本発明は、以上のような事情の下で考え出されたものであって、情報記録時における記録膜内でのトラック横断方向への熱の広がりを抑制するのに適した熱アシスト磁気記録媒体を提供することを、目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明により提供される熱アシスト磁気記録媒体は、基板および記録膜を含む積層構造を有し、情報記録時に回転動作を伴い、並列して回転動作の回転中心まわりを延びる複数条の熱伝導部を備える。熱伝導部は、基板よりも高い熱伝導率を有し、基板における記録膜の側の表面から当該基板内に少なくとも一部が入り込む。また、熱伝導部は記録膜を貫通してもよい。このような構成の熱アシスト磁気記録媒体において、基板や記録膜の面内方向における熱伝導部間域ごとに記録膜内に一のトラックを設定して当該トラックに熱アシスト磁気記録方式で記録マークを形成する際には、記録膜内でのトラック横断方向への熱の広がりを適切に抑制することができる。
【００１１】
本磁気記録媒体において、基板や記録膜の面内方向における熱伝導部間域ごとに記録膜内に一のトラックを設定して熱アシスト磁気記録方式で情報記録を実行する場合、例えばレーザ照射により、所定のトラックに沿って記録膜を局所的に順次加熱するとともに、当該トラックに沿って記録膜に対して所定の記録磁界を順次印加する。このようにして、トラックに沿って連続して磁化方向が順次反転し且つ記録信号に応じた所定の長さを各々が有する複数の記録マーク（磁区）を記録膜に形成することができる。本磁気記録媒体では、記録膜における、情報記録進行中であって局所的に順次加熱されているトラック（第１トラック）と、これと隣り合う別のトラック（第２トラック）との間の領域は、基板よりも高い熱伝導率を有する熱伝導部と接する箇所を有する。そのため、第１トラックの昇温を目的として例えばレーザ照射により記録膜に供給された熱は、第１トラックから第２トラックに向って記録膜内を伝搬する途中、熱伝導部へと、更には熱伝導部から基板へと、拡散しやすい。したがって、本磁気記録媒体によると、基板や記録膜の面内方向における熱伝導部間域ごとに記録膜内に一のトラックを設定して当該トラックに熱アシスト磁気記録方式で記録マークを形成する際には、記録膜内でのトラック横断方向への熱の広がりを適切に抑制することができるのである。このような磁気記録媒体は、クロスライト現象の発生を防止または抑制してトラックの狭ピッチ化ないし高記録密度化を図るうえで、好適である。
【００１２】
好ましくは、回転中心に近い熱伝導部ほど、高い熱伝導率を有する。このような構成は、熱伝導部の上述の熱伝搬抑制能（隣りのトラックへの熱伝搬を抑制する機能）について、回転中心に近い熱伝導部ほど高く設定するうえで、好適である。熱アシスト磁気記録媒体の情報記録においては、記録が実行されるトラックが媒体回転中心に近いほど、当該トラックないし記録膜に対して単位時間あたりに供給される熱エネルギが大きい場合がある。このような場合には、上述の熱伝搬抑制能について、回転中心に近い熱伝導部ほど高く設定するのが好ましい。
【００１３】
好ましくは、回転中心に近い熱伝導部ほど、大きな横断面積を有する。例えば、回転中心に近い熱伝導部ほど、基板の厚さ方向に長い。或は、回転中心に近い熱伝導部ほど幅太である。このような構成は、回転中心に近い熱伝導部ほど熱伝搬抑制能を高く設定するうえで、好適である。
【００１４】
好ましくは、複数条の熱伝導部は、隣り合う複数条の熱伝導部から各群がなる複数の群に区分され、各熱伝導部は、属する群が回転中心に近いほど、高い熱伝導率を有する。このような構成は、回転中心に近い群に属する熱伝導部ほど熱伝搬抑制能を高く設定するうえで、好適である。
【００１５】
好ましくは、複数条の熱伝導部は、隣り合う複数条の熱伝導部から各群がなる複数の群に区分され、各熱伝導部は、属する群が回転中心に近いほど、大きな横断面積を有する。例えば、各熱伝導部は、属する群が回転中心に近いほど、基板の厚さ方向に長い。各熱伝導部は、属する群が回転中心に近いほど幅太である。このような構成は、回転中心に近い群に属する熱伝導部ほど熱伝搬抑制能を高く設定するうえで、好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る磁気ディスクＸの径方向の部分断面図である。磁気ディスクＸは、ディスク基板Ｂと、記録膜１と、保護膜２と、複数条の熱伝導部３とを有し、熱アシスト磁気記録方式による情報記録と情報再生とを実行可能な磁気記録媒体として構成されている。
【００１７】
ディスク基板Ｂは、主に、磁気ディスクＸの剛性を確保するための部位であり、例えば、アルミニウム合金、ガラス、または樹脂よりなる。記録膜１は、例えば垂直磁化膜や面内磁化膜よりなり、磁気ディスクＸにおいて情報が記録される記録面を構成する。このような記録膜１は、例えば、Ｃｏ合金、Ｆｅ合金、または希土類遷移金属アモルファス合金よりなる。保護膜２は、記録膜１を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ2、またはダイアモンドライクカーボンよりなる。これらディスク基板Ｂ、記録膜１、および保護膜２を含む磁気ディスクＸの積層構造中には、必要に応じて他の膜が含まれてもよい。
【００１８】
複数条の熱伝導部３は、ディスク基板Ｂよりも高い熱伝導率を有し、ディスク基板Ｂの厚さ以内に設けられている。各熱伝導部３における記録膜１の側の端面３ａと、ディスク基板Ｂにおける記録膜１の側の面１ａとは、面一である。また、複数条の熱伝導部３は、一部を省略して図２に示すように、磁気ディスクＸの回転中心Ａを共通中心として同心円状に配されている。すなわち、複数条の熱伝導部３は、並列して磁気ディスクＸの周方向に延びる。磁気ディスクＸの径方向における複数条の熱伝導部３の配設ピッチは、記録膜１内に設定されるべきトラックのピッチに対応して例えば１００〜２００ｎｍである。熱伝導部３について図１に示す長さＬ１（磁気ディスクＸの径方向における長さ）は例えば５〜８０ｎｍでり、熱伝導部３について図１に示す長さＬ２（磁気ディスクＸの厚さ方向における長さ）は例えば２０〜１００ｎｍである。本実施形態では、各熱伝導部３の長さＬ１は全て同一に設定されており、且つ、各熱伝導部３の長さＬ２は全て同一に設定されている。したがって、本実施形態では、各熱伝導部３の横断面積（磁気ディスクＸの径方向の断面の面積）は全て同一である。
【００１９】
このような熱伝導部３は、例えば、Ａｇ、Ａｇ合金（例えばＡｇＳｉ）、Ａl、Ａl合金、Ａｕ、Ｃｕなど、高熱伝導材料よりなる。本実施形態では、各熱伝導部３の熱伝導率を全て同一に設定してもよい。或は、回転中心Ａに近い内周側の熱伝導部３ほど高い熱伝導率を設定してもよい（例えば、熱伝導部３を構成する材料としてＡｇＳｉを採用する場合、相対的に熱伝導率の高いＡｇの含有率を内周側の熱伝導部３ほど大きく設定することにより、内周側の熱伝導部３ほど高い熱伝導率を設定することができる）。或は、磁気ディスクＸの全ての熱伝導部３を、隣り合う複数条の熱伝導部３から各群がなる複数の群に区分したうえで、各熱伝導部３について、属する群が回転中心Ａに近いほど高い熱伝導率を設定してもよい。
【００２０】
図３は、磁気ディスクＸの製造方法を表す。図３においては、磁気ディスクＸの製造過程をその径方向の部分断面の変化として表す。
【００２１】
磁気ディスクＸの製造においては、まず、図３（ａ）に示すように、複数条の溝１１をディスク基板Ｂに形成する。具体的には、ディスク基板Ｂ上にパターン形成された、所定の開口部を有するマスク（図示略）を介し、図中上方側からディスク基板Ｂに対してエッチング処理を施すことにより、溝１１を形成することができる。各溝１１は、熱伝導部３を配設するためのスペースである。
【００２２】
次に、図３（ｂ）に示すように複数条の熱伝導部３を形成する。各溝１１に対応して開口するの上述のマスクの上方から、各溝１１に所定の高熱伝導材料をスパッタリング法により堆積させることによって、各熱伝導部３を形成することができる。材料の堆積を終了した後に上述のマスクを除去する。各熱伝導部３の熱伝導率を全て同一に設定する場合には、例えば、単一のターゲットを用いて行うスパッタリング法により、各溝１１に高熱伝導材料を堆積させる。内周側の熱伝導部３ほど高い熱伝導率を設定する場合には、例えば、相互に熱伝導率の異なる材料よりなる複数のターゲットを用いて行うスパッタリング法（コスパッタリング）により、溝１１ごとに各材料の堆積速度を異ならしめつつ、溝１１ごとに異なる組成比で高熱伝導材料を堆積させる。磁気ディスクＸの全ての熱伝導部３を、隣り合う複数条の熱伝導部３から各群がなる複数の群に区分したうえで、各熱伝導部３について、属する群が内周側であるほど高い熱伝導率を設定する場合には、例えば、単一のターゲットを用いて行うスパッタリング法により、各群に対応する複数条の溝１１ごとに高熱伝導材料を堆積させ、群ごとに、堆積させる高熱伝導材料の組成比を異ならしめる。
【００２３】
次に、図３（ｃ）に示すように、ディスク基板Ｂ上に記録膜１を形成する。ディスク基板Ｂにおいて熱伝導部３が埋め込み形成された側に例えばスパッタリング法により所定の磁性材料を成膜することによって、記録膜１を形成することができる。次に、例えばスパッタリング法により所定材料を記録膜１上に成膜することによって、図３（ｄ）に示すように保護膜２を形成する。以上のようにして、磁気ディスクＸを製造することができる。
【００２４】
図４は、熱アシスト磁気記録方式による磁気ディスクＸに対する情報記録の態様を表す。図４において、磁気ディスクＸについては部分断面で表す。磁気ディスクＸに対する情報記録時には、磁気ディスクＸを所定の速度で回転させた状態で、磁気ディスクＸの保護膜２の側にスライダ４１を対向配置させる。
【００２５】
スライダ４１には、集光レンズ（図示せず）と、記録用磁気ヘッド（図示せず）と、再生用磁気ヘッド（図示せず）とが設けられている。集光レンズは、図外の光源から発せられたレーザＬを記録膜１にて集束させるためのものである。記録用磁気ヘッドは、記録膜１に対して所定の記録磁界Ｈを印加するためのものであり、磁界発生用の電流を流すためのコイルと、発生磁界を強い磁界に変換するための磁極とからなる。再生用磁気ヘッドは、記録膜１の磁化状態に由来する磁気信号を検知して電気信号に変換するためのものであり、例えばＧＭＲ素子やＭＲ素子よりなる。このようなスライダ４１は、板バネ状のサスペンションアーム４２を介して図外のアクチュエータに連結されている。アクチュエータは、磁気ディスクＸに対するスライダ４１の径方向位置を制御する機能を有し、例えばボイスコイルモータにより構成されている。
【００２６】
磁気ディスクＸでは、その面内方向における各熱伝導部間域Ｒにて記録膜１に一のトラックを設定する。したがって、磁気ディスクＸに対する情報記録時には、スライダ４１が所定の熱伝導部間域Ｒの目的トラックに対向するように、アクチュエータによりスライダ４１を位置決め制御する。このようにスライダ４１を磁気ディスクＸに対して位置決め制御しつつ対向配置させたうえで、レーザＬの照射により目的トラックに沿って記録膜１を局所的に順次加熱するとともに、当該トラックに沿って記録膜１に対して所定の記録磁界Ｈを順次印加する。以上のようにして、目的トラックに沿って連続して磁化方向が順次反転し且つ記録信号に応じた所定の長さを各々が有する複数の記録マーク（磁区）を記録膜１に形成することができる。
【００２７】
磁気ディスクＸでは、記録膜１における、情報記録進行中であって局所的に順次加熱されているトラックＴ１と、これと隣り合う別のトラックＴ２との間の領域は、ディスク基板Ｂよりも高い熱伝導率を有する熱伝導部３と接する箇所を有する。そのため、トラックＴ１の局所的昇温を目的としてレーザ照射により記録膜１に供給された熱は、トラックＴ１からトラックＴ２に向って記録膜１内を伝搬する途中、図４において太線矢印で示すように、熱伝導部３へと、更には熱伝導部３からディスク基板Ｂへと、拡散しやすい。したがって、磁気ディスクＸによると、その面内方向における熱伝導部間域Ｒごとに記録膜１内に一のトラックを設定して当該トラックに熱アシスト磁気記録方式で記録マークを形成する際には、記録膜１内でのトラック横断方向への熱の広がりを適切に抑制することができるのである。このような磁気ディスクＸは、クロスライト現象の発生を防止または抑制してトラックの狭ピッチ化ないし高記録密度化を図るうえで、好適である。
【００２８】
磁気ディスクＸにおいて、上述のように内周側の熱伝導部３ほど高い熱伝導率を設定する場合には、情報記録時に、内周側の熱伝導部３ほど高い熱伝搬抑制能を発揮することとなる。磁気ディスクＸの情報記録においては、記録が実行されるトラックが内周側に位置するほど、当該トラックないし記録膜１に対して単位時間あたりに供給される熱エネルギが大きい場合がある（例えば、記録面において情報記録が実行される箇所のディスク径方向位置によらず、ディスク回転速度が一定であり且つ照射レーザのパワーが一定である場合）。このような場合には、内周側の熱伝導部３ほど高い熱伝搬抑制能を有することが好ましいのである。内周側の熱伝導部３ほど高い熱伝搬抑制能を有するように設定することにより、情報記録時の目的トラック近傍での熱分布について、目的トラックのディスク径方向位置にかかわらず、一様化することができる。
【００２９】
一方、磁気ディスクＸの全ての熱伝導部３を、隣り合う複数条の熱伝導部３から各群がなる複数の群に区分したうえで、各熱伝導部３について、属する群が内周側であるほど高い熱伝導率を設定する場合には、情報記録時に、属する群が内周側であるほど、各熱伝導部３は高い熱伝搬抑制能を発揮することとなる。したがって、各熱伝導部３について、属する群が内周側であるほど高い熱伝導率が設定される構成は、情報記録時の目的トラック近傍での熱分布について目的トラックのディスク径方向位置にかかわらず一様化を図るうえで、好適である。
【００３０】
また、記録膜１におけるトラック間のスペースＳ（図４に示す）の幅については、情報記録進行中の例えばトラックＴ１に供給された熱エネルギが隣りの例えばトラックＴ２に至るのを阻止または抑制するという観点からは、より広い方が好ましく、トラックＴ１，Ｔ２に沿って記録される記録マークの幅を確保すべくトラック幅を確保するという観点からは、広すぎない必要がある。記録マーク幅ないしトラック幅が狭すぎると、情報再生時に充分な信号強度を得ることができない場合がある。これらの観点から、トラック幅／スペース幅については、例えば１.５〜１５に設定するのが好ましい。
【００３１】
図５は、磁気ディスクＸの第１変形例の径方向の部分断面図である。本変形例では、熱伝導部３が記録膜１を貫通する。本変形例に対する情報記録時には、記録膜１における、情報記録進行中であって局所的に順次加熱されているトラックＴ１と、これと隣り合う別のトラックＴ２との間の領域は、ディスク基板Ｂよりも高い熱伝導率を有する熱伝導部３に貫通される箇所を有する。そのため、トラックＴ１の局所的昇温を目的としてレーザ照射により記録膜１に供給された熱は、トラックＴ１からトラックＴ２に向って伝搬する途中、熱伝導部３内に進入する。したがって、当該伝搬熱は、太線矢印で示すように、熱伝導部３の図中下方へと、更には熱伝導部３からディスク基板Ｂへと、拡散しやすい。
【００３２】
図６は、磁気ディスクＸの第１変形例の製造方法を表す。図６においては、第１変形例の製造過程をその径方向の部分断面の変化として表す。
【００３３】
第１変形例の製造においては、まず、図６（ａ）に示すように、例えばスパッタリング法によりディスク基板Ｂ上に記録膜１を形成する。次に、図６（ｂ）に示すように複数条の溝１２を形成する。各溝１２は、熱伝導部３を配設するためのスペースを確保するためのものである。具体的には、記録膜１上にパターン形成された、所定の開口部を有するマスク（図示略）を介し、図中上方側から記録膜１およびディスク基板Ｂに対してエッチング処理を施すことにより、溝１２を形成することができる。
【００３４】
次に、図６（ｃ）に示すように複数条の熱伝導部３を形成する。各溝１２に対応して開口するの上述のマスクの上方から、各溝１２に所定の高熱伝導材料をスパッタリング法により堆積させることによって、各熱伝導部３を形成することができる。材料の堆積を終了した後に上述のマスクを除去する。各熱伝導部３の熱伝導率を全て同一に設定する場合には、例えば、単一のターゲットを用いて行うスパッタリング法により、各溝１２に高熱伝導材料を堆積させる。内周側の熱伝導部３ほど高い熱伝導率を設定する場合には、例えば、相互に熱伝導率の異なる材料よりなる複数のターゲットを用いて行うスパッタリング法（コスパッタリング）により、溝１２ごとに各材料の堆積速度を異ならしめつつ、溝１２ごとに異なる組成比で高熱伝導材料を堆積させる。全ての熱伝導部３を、隣り合う複数条の熱伝導部３から各群がなる複数の群に区分したうえで、各熱伝導部３について、属する群が内周側であるほど高い熱伝導率を設定する場合には、例えば、単一のターゲットを用いて行うスパッタリング法により、各群に対応する複数条の溝１２ごとに高熱伝導材料を堆積させ、群ごとに、堆積させる高熱伝導材料の組成比を異ならしめる。
【００３５】
次に、例えばスパッタリング法により所定材料を記録膜１上および熱伝導部３上にわたって成膜することによって、図６（ｄ）に示すように保護膜２を形成する。以上のようにして、磁気ディスクＸの第１変形例を製造することができる。
【００３６】
図７は、磁気ディスクＸの第２変形例の径方向の部分断面図である。図７においては、図中左側が、図２に示す回転中心Ａに近い側（内周側）である。本変形例では、内周側の熱伝導部３ほど基板厚さ方向に長い。本変形例は、例えば、図３（ａ）を参照して上述した工程において内周側の溝１１ほど深く形成すること、および、図３（ｂ）を参照して上述した工程において内周側の溝１１ほど高熱伝導材料を多く堆積させること以外は、図１の磁気ディスクＸと同様に製造することができる。
【００３７】
本変形例では、情報記録時において、内周側の熱伝導部３ほど高い熱伝搬抑制能を発揮する。内周側の熱伝導部３ほど、上述のように基板厚さ方向に長く、記録膜１から熱を遠ざけるように図中下方に熱を拡散させやすいからである。
【００３８】
図８は、磁気ディスクＸの第３変形例の径方向の部分断面図である。図８においては、図中左側が、図２に示す回転中心Ａに近い側（内周側）である。本変形例では、全ての熱伝導部３は、隣り合う複数条の熱伝導部３から各群がなる複数の群に区分される。図８には、群Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３を示す。各熱伝導部３は、属する群が内周側であるほど、基板厚さ方向に長い。本変形例は、例えば、図３（ａ）を参照して上述した工程において、複数の群に区分された複数条の熱伝導部３に対応して形成すべき複数条の溝１１について、内周側の群に属する溝１１ほど深く形成すること、および、図３（ｂ）を参照して上述した工程において内周側の群の溝１１ほど高熱伝導材料を多く堆積させること以外は、図１の磁気ディスクＸと同様に製造することができる。
【００３９】
本変形例では、情報記録時において、内周側の群に属する熱伝導部３ほど高い熱伝搬抑制能を発揮する。内周側の群に属する熱伝導部３ほど、上述のように基板厚さ方向に長く、記録膜１から熱を遠ざけるように図中下方に熱を拡散させやすいからである。
【００４０】
図９は、磁気ディスクＸの第４変形例の径方向の部分断面図である。図９においては、図中左側が、図２に示す回転中心Ａに近い側（内周側）である。本変形例では、内周側の熱伝導部３ほど幅太である。本変形例は、例えば、図３（ａ）を参照して上述した工程において内周側の溝１１ほど幅太に形成すること以外は、図１の磁気ディスクＸと同様に製造することができる。
【００４１】
本変形例では、情報記録時において、内周側の熱伝導部３ほど高い熱伝搬抑制能を発揮する。内周側の熱伝導部３ほど、記録膜１と接触する面積が大きいので、記録膜１から熱が拡散しやすいからである。
【００４２】
図１０は、磁気ディスクＸの第５変形例の径方向の部分断面図である。図１０においては、図中左側が、図２に示す回転中心Ａに近い側（内周側）である。本変形例では、全ての熱伝導部３は、隣り合う複数条の熱伝導部３から各群がなる複数の群に区分される。図１０には、群Ｇ１’，Ｇ２’，Ｇ３’を示す。各熱伝導部３は、属する群が内周側であるほど、幅太である。本変形例は、例えば、図３（ａ）を参照して上述した工程において、複数の群に区分された複数条の熱伝導部３に対応して形成すべき複数条の溝１１について、内周側の群に属する溝１１ほど幅太に形成すること以外は、図１の磁気ディスクＸと同様に製造することができる。
【００４３】
本変形例では、情報記録時において、内周側の群に属する熱伝導部３ほど高い熱伝搬抑制能を発揮する。内周側の群に属する熱伝導部３ほど、記録膜１と接触する面積が大きいので、記録膜１から熱が拡散しやすいからである。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明に係る磁気ディスクの径方向の部分断面図である。
【図２】図１に示す磁気ディスクのディスク基板および熱伝導部を表す平面図である。
【図３】図１に示す磁気ディスクの製造方法を表す。
【図４】図１に示す磁気ディスクに対する情報記録の態様を表す。
【図５】図１に示す磁気ディスクの第１変形例の径方向の部分断面図である。
【図６】第１変形例の製造方法を表す。
【図７】図１に示す磁気ディスクの第２変形例の径方向の部分断面図である。
【図８】図１に示す磁気ディスクの第３変形例の径方向の部分断面図である。
【図９】図１に示す磁気ディスクの第４変形例の径方向の部分断面図である。
【図１０】図１に示す磁気ディスクの第５変形例の径方向の部分断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
Ｂ      ディスク基板
１      記録膜
２      保護膜
３      熱伝導部
１１，１２      溝
Ａ      回転中心
Ｌ      レーザ
Ｈ      記録磁界
Ｔ１，Ｔ２      トラック
Ｒ      熱伝導部間域
Ｓ      スペース
【図１】
2006260620.tif 000003
【図２】
2006260620.tif 000004
【図３】
2006260620.tif 000005
【図４】
2006260620.tif 000006
【図５】
2006260620.tif 000007
【図６】
2006260620.tif 000008
【図７】
2006260620.tif 000009
【図８】
2006260620.tif 000010
【図９】
2006260620.tif 000011
【図１０】
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