(57)【要約】【課題】  少ない工程によって、精度よく光学部品を位置決めでき且つ光学部品とコアとの間の光損失を低減できる光導波路基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】  光導波路基板１は、主面２ａを有する基板２と、主面２ａ上に設けられた光導波路層３と、反射面４ａを有する波長フィルタ４とを備える。光導波路層３は、コア部３２ａ〜３２ｃ、位置決め部３６ａ及び３６ｂ、及びクラッド部３５を有する。位置決め部３６ａ及び３６ｂは、コア部３２ａ〜３２ｃと同じ層に位置するとともに同じ材料からなる部分３２ｅを含み、コア部３２ａにより導波された光を反射面４ａがコア部３２ｂへ反射するように波長フィルタ４を位置決めしている。波長フィルタ４は、クラッド部３５によって覆われている。【選択図】  図１
2006308970.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面を有する基板と、
前記基板の前記主面上に設けられ、第１のコア部、前記第１のコア部の長手方向と交差する方向に延びる第２のコア部、並びに前記第１及び第２のコア部を覆うクラッド部を有する光導波路層と、
光を反射する反射面を有し、前記第１及び第２のコア部のうち一方の前記コア部により導波された光を前記反射面が他方の前記コア部へ反射するように前記基板の前記主面上に設けられた光学部品と
を備え、
前記光導波路層が、前記第１及び第２のコア部と同じ層に位置するとともに同じ材料からなる部分を含み前記反射面の位置を規定する位置決め部を更に有し、
前記光学部品が、前記位置決め部に接するとともに前記クラッド部によって覆われていることを特徴とする、光導波路基板。
【請求項２】
前記光学部品の前記反射面が、前記第１または第２のコア部により導波された光に含まれる波長成分を該波長に応じて選択的に反射することを特徴とする、請求項１に記載の光導波路基板。
【請求項３】
前記位置決め部が、前記光学部品の前記反射面と対向する面、前記光学部品の裏面と対向する面、及び前記光学部品の側面と対向する面を有することを特徴とする、請求項１または２に記載の光導波路基板。
【請求項４】
前記光導波路層が、ポリイミド、シリコーン、エポキシ、アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリベンゾオキサゾール、及びこれらの重水素化物またはフッ素化物のうち少なくとも一種類の材料を主剤とする重合体を含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光導波路基板。
【請求項５】
前記光学部品が、ポリイミド、シリコーン、エポキシ、アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリベンゾオキサゾール、及びこれらの重水素化物またはフッ素化物のうち少なくとも一種類の材料を主剤とする重合体を含むことを特徴とする、請求項４に記載の光導波路基板。
【請求項６】
前記光学部品が、前記光導波路層と同じ種類の材料を含むことを特徴とする、請求項５に記載の光導波路基板。
【請求項７】
主面を有する基板の前記主面上に第１クラッド層を形成する第１クラッド層形成工程と、
前記第１クラッド層上に前記第１クラッド層よりも高屈折率のコア層を形成するコア層形成工程と、
第１のコア部、前記第１のコア部の長手方向と交差する方向に延びる第２のコア部、並びに前記第１及び第２のコア部のうち一方の前記コア部により導波された光を光学部品の反射面が他方の前記コア部へ反射するように前記反射面の位置を規定する位置決め部の平面形状が形成されたマスクを用い、前記コア層及び前記第１クラッド層に対しエッチングを行うことにより、前記第１及び第２のコア部並びに前記位置決め部を形成するエッチング工程と、
前記光学部品が前記位置決め部に接するように前記光学部品を前記主面上に設置する光学部品設置工程と、
前記第１及び第２のコア部、前記位置決め部、及び前記光学部品を覆うように、前記コア層よりも低屈折率の第２クラッド層を形成する第２クラッド層形成工程と
を備えることを特徴とする、光導波路基板の製造方法。
【請求項８】
前記エッチング工程の際に、前記基板が露出するように前記コア層及び前記第１クラッド層をエッチングすることを特徴とする、請求項７に記載の光導波路基板の製造方法。
【請求項９】
前記光学部品設置工程において設置される前記光学部品の前記反射面が、前記第１または第２のコア部により導波された光に含まれる波長成分を該波長に応じて選択的に反射することを特徴とする、請求項７または８に記載の光導波路基板の製造方法。
【請求項１０】
前記エッチング工程の際に、前記光学部品の前記反射面と対向する面、前記光学部品の裏面と対向する面、及び前記光学部品の側面と対向する面を前記位置決め部に形成することを特徴とする、請求項７〜９のいずれか一項に記載の光導波路基板の製造方法。
【請求項１１】
前記第１クラッド層形成工程、前記コア層形成工程、及び前記第２クラッド層形成工程のそれぞれにおいて、前記第１クラッド層、前記コア層、及び前記第２クラッド層を、ポリイミド、シリコーン、エポキシ、アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリベンゾオキサゾール、及びこれらの重水素化物またはフッ素化物のうち少なくとも一種類の材料を主剤とする重合体を塗布することにより形成することを特徴とする、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の光導波路基板の製造方法。
【請求項１２】
前記光学部品設置工程において設置される前記光学部品が、ポリイミド、シリコーン、エポキシ、アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリベンゾオキサゾール、及びこれらの重水素化物またはフッ素化物のうち少なくとも一種類の材料を主剤とする重合体を含むことを特徴とする、請求項１１に記載の光導波路基板の製造方法。
【請求項１３】
前記光学部品設置工程において設置される前記光学部品が、前記第２クラッド層と同じ種類の材料を含むことを特徴とする、請求項１２に記載の光導波路基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路基板及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバなどの光伝送媒体中を進む光を分岐或いは結合するために、光導波路基板が用いられる。例えば埋め込み型の光導波路基板は、Ｓｉ等からなる基板上に、光を導波するコア、及び該コアを覆うクラッドからなるポリマー製の光導波路層を備える。そして、このような光導波路基板においては、コアの長手方向と交差する位置に波長フィルタなどの光学部品が設けられる場合がある。光学部品は、例えば光導波路基板の所定の位置にダイシングにより形成された溝に挿入され、固定される。
【０００３】
光導波路基板に光学部品を固定する際、この光学部品を介したコア同士の光結合効率を高めるために、光学部品をコアに対して精度よく位置決めすることが望ましい。一般的に、光学部品挿入用の溝をダイシングにより形成する場合、コアとクラッドとの屈折率差が小さいと光導波路層におけるコアの位置を視認しにくいので、基板上に予め金属、ＳｉＯ２膜、ＳｉＮ膜等からなるマーキングを施しておき、このマーキングを基準としてコアの成形及びダイシングを行う。しかしながら、この方法では、マーキング位置に対するコア位置の誤差と、マーキング位置に対するダイシング位置の誤差とが加算されてしまい、光学部品挿入用の溝を精度よく形成し難いという問題があった。
【０００４】
この問題点に鑑み、例えば特許文献１に開示された光導波路の製造方法では、フォトリソグラフィによってコア層を形成する際にフィルタ位置決めガイドを同時に形成し、フィルタ位置決めガイド上のマスクを残してコア層上及びフィルタ位置決めガイド上にクラッド層を形成し、その後にフィルタ挿入用の溝をエッチングにより形成している。そして、フィルタ挿入用の溝を形成する際に、マスクされているフィルタ位置決めガイドを溝側面から突出するように残し、このフィルタ位置決めガイドにフィルタを押し当てることによりフィルタの位置決めを行っている。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−３８２４０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示された方法には、以下の課題がある。すなわち、この方法では、フィルタ挿入用の溝の側面とフィルタとの間に隙間が生じるので、その隙間へ塵や埃が侵入し易い。そして、この塵や埃がコアの端面に付着すると、フィルタとコアとの間の光損失が増大する。また、特許文献１には、コアとフィルタとの間に生じた隙間を接着剤或いはマッチングオイル等で埋めることにより屈折率の整合を図る旨が記載されているが、製造工程が増加してしまうので、好ましい方法ではない。
【０００７】
本発明は、上記した問題点を鑑みてなされたものであり、少ない工程によって、精度よく光学部品を位置決めでき且つ光学部品とコアとの間の光損失を低減できる光導波路基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記した課題を解決するために、本発明による光導波路基板は、主面を有する基板と、基板の主面上に設けられ、第１のコア部、第１のコア部の長手方向と交差する方向に延びる第２のコア部、並びに第１及び第２のコア部を覆うクラッド部を有する光導波路層と、光を反射する反射面を有し、第１及び第２のコア部のうち一方のコア部により導波された光を反射面が他方のコア部へ反射するように基板の主面上に設けられた光学部品とを備え、光導波路層が、第１及び第２のコア部と同じ層に位置するとともに同じ材料からなる部分を含み反射面の位置を規定する位置決め部を更に有し、光学部品が、位置決め部に接するとともにクラッド部によって覆われていることを特徴とする。
【０００９】
上記した光導波路基板では、反射面の位置を規定する位置決め部が、第１及び第２のコア部と同じ層に位置するとともに同じ材料からなる部分を含むので、第１及び第２のコア部を形成する際のマスクを利用して位置決め部を同時に形成することにより、第１及び第２のコア部に対して位置決め部を精度よく形成できる。また、第１及び第２のコア部を覆うクラッド部によって光学部品も覆われているので、第１及び第２のコア部と光学部品の反射面との隙間への塵や埃の侵入を防止でき、また、クラッド部を形成する工程によって該隙間を埋めることができる。従って、上記した光導波路基板によれば、少ない工程によって精度よく光学部品を位置決めできるとともに、第１及び第２のコア部と光学部品との間の光損失を、工程を増加することなく低減できる。
【００１０】
なお、ここでいう光を反射する反射面とは、全反射に限られるものではなく、少なくとも光の一部を反射する面を含む意味である。このような面を有する光学部品としては、例えば光に含まれる波長成分を該波長に応じて選択的に反射または透過する波長フィルタや、光量の一部を反射し、残りを透過するハーフミラー等を例示することができる。
【００１１】
また、光導波路基板は、光学部品の反射面が、第１または第２のコア部により導波された光に含まれる波長成分を該波長に応じて選択的に反射することを特徴としてもよい。これにより、波長に応じて光を分岐または結合する、光損失の少ない光合分波器（光カプラ）を実現できる。
【００１２】
また、光導波路基板は、位置決め部が、光学部品の反射面と対向する面、光学部品の裏面と対向する面、及び光学部品の側面と対向する面を有することを特徴としてもよい。これにより、光学部品の設置時に光学部品の周囲を位置決め部により支持することができるので、光学部品の設置が容易になる。
【００１３】
また、光導波路基板は、光導波路層が、ポリイミド、シリコーン、エポキシ、アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリベンゾオキサゾール、及びこれらの重水素化物またはフッ素化物のうち少なくとも一種類の材料を主剤とする重合体を含むことを特徴としてもよい。これにより、光導波路層を好適に形成できる。また、この場合、光学部品も同様に、ポリイミド、シリコーン、エポキシ、アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリベンゾオキサゾール、及びこれらの重水素化物またはフッ素化物のうち少なくとも一種類の材料を主剤とする重合体を含むことが好ましい。このように光導波路層と光学部品とが共に重合体（ポリマー）を含むことにより、光導波路層を硬化させる際に光導波路層が収縮（例えば熱硬化時の熱収縮）することによる第１及び第２のコア部と光学部品との位置ずれを抑えることができる。また、熱収縮による光学部品の歪みや破損を抑えることができる。この場合、更に好ましくは、光学部品が光導波路層と同じ種類の材料を含むとよい。
【００１４】
また、本発明による光導波路基板の製造方法は、主面を有する基板の主面上に第１クラッド層を形成する第１クラッド層形成工程と、第１クラッド層上に第１クラッド層よりも高屈折率のコア層を形成するコア層形成工程と、第１のコア部、第１のコア部の長手方向と交差する方向に延びる第２のコア部、並びに第１及び第２のコア部のうち一方のコア部により導波された光を光学部品の反射面が他方のコア部へ反射するように反射面の位置を規定する位置決め部の平面形状が形成されたマスクを用い、コア層及び第１クラッド層に対しエッチングを行うことにより、第１及び第２のコア部並びに位置決め部を形成するエッチング工程と、光学部品が位置決め部に接するように光学部品を主面上に設置する光学部品設置工程と、第１及び第２のコア部、位置決め部、及び光学部品を覆うように、コア層よりも低屈折率の第２クラッド層を形成する第２クラッド層形成工程とを備えることを特徴とする。
【００１５】
上記した光導波路基板の製造方法では、第１及び第２のコア部を形成するためのマスクに位置決め部の平面形状が形成されているので、第１及び第２のコア部に対して位置決め部を精度よく形成できる。従って、第１及び第２のコア部に対して光学部品を精度よく位置決めできる。また、第２クラッド層形成工程において、第１及び第２のコア部だけでなく光学部品も覆うように第２クラッド層を形成するので、第１及び第２のコア部と光学部品の反射面との隙間への塵や埃の侵入を防止できるとともに、工程を増加することなく該隙間を埋めることができる。従って、上記した光導波路基板の製造方法によれば、少ない工程によって精度よく光学部品を位置決めできるとともに、第１及び第２のコア部と光学部品との間の光損失を、工程を増加することなく低減できる。
【００１６】
また、光導波路基板の製造方法は、エッチング工程の際に、基板が露出するようにコア層及び第１クラッド層をエッチングすることを特徴としてもよい。これにより、位置決め部を高く形成できるので、光学部品を安定して設置できる。
【００１７】
また、光導波路基板の製造方法は、光学部品設置工程において設置される光学部品の反射面が、第１または第２のコア部により導波された光に含まれる波長成分を該波長に応じて選択的に反射することを特徴としてもよい。これにより、波長に応じて光を分岐または結合する、光損失の少ない光合分波器（光カプラ）を製造できる。
【００１８】
また、光導波路基板の製造方法は、エッチング工程の際に、光学部品の反射面と対向する面、光学部品の裏面と対向する面、及び光学部品の側面と対向する面を位置決め部に形成することを特徴としてもよい。これにより、光学部品設置工程において光学部品の周囲を位置決め部により支持することができるので、光学部品の設置が容易になる。
【００１９】
また、光導波路基板の製造方法は、第１クラッド層形成工程、コア層形成工程、及び第２クラッド層形成工程のそれぞれにおいて、第１クラッド層、コア層、及び第２クラッド層を、ポリイミド、シリコーン、エポキシ、アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリベンゾオキサゾール、及びこれらの重水素化物またはフッ素化物のうち少なくとも一種類の材料を主剤とする重合体を塗布することにより形成することを特徴としてもよい。これにより、光導波路層を好適に形成できる。また、この場合、光学部品設置工程において設置される光学部品も同様に、ポリイミド、シリコーン、エポキシ、アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリベンゾオキサゾール、及びこれらの重水素化物またはフッ素化物のうち少なくとも一種類の材料を主剤とする重合体を含むことが好ましい。このように光導波路層と光学部品とが共に重合体（ポリマー）を含むことにより、第２クラッド層形成工程において第２クラッド層を硬化させる際に第２クラッド層が収縮（例えば熱硬化時の熱収縮）することによる第１及び第２のコア部と光学部品との位置ずれを抑えることができる。また、熱収縮による光学部品の歪みや破損を抑えることができる。この場合、更に好ましくは、光学部品が第２クラッド層と同じ種類の材料を含むとよい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明による光導波路基板及びその製造方法によれば、少ない工程によって、精度よく光学部品を位置決めでき且つ光学部品とコアとの間の光損失を低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付図面を参照しながら本発明による光導波路基板及びその製造方法の実施の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２２】
（第１の実施の形態）
まず、本発明による光導波路基板及びその製造方法の第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態による光導波路基板１の構成を示す斜視図である。図２は、図１に示した光導波路基板１の構成の一部を示す平面図である。図３（ａ）は、図２に示した光導波路基板１のＩ−Ｉ線、II−II線、及びIII−III線に沿った断面を示す側面断面図である。図３（ｂ）は、図２に示した光導波路基板１のIV−IV線、及びＶ−Ｖ線に沿った断面を示す側面断面図である。なお、本実施形態の光導波路基板１は、いわゆる埋込み型の光導波路基板である。
【００２３】
図１〜図３を参照すると、本実施形態の光導波路基板１は、基板２、光導波路層３、及び波長フィルタ４を備える。基板２は、その平面形状が矩形状であり、主面２ａを有する。基板２は、例えばシリコン、ポリイミド、ガラス、石英、ガラスエポキシ、セラミックなどの材料によって構成される。光導波路層３が重合体（ポリマー）からなる場合、光導波路層３を熱硬化させる際に光導波路層３が収縮するため、熱膨張率を整合させるために基板２も光導波路層３と同種の材料からなることが好ましい。また、基板２が光導波路層３とは異種の材料によって構成される場合（例えばポリイミド製の光導波路層３に対してシリコン基板やガラス基板を用いる場合など）には、光導波路層３の収縮による光導波路基板１の反りを抑えるために、基板２の厚さを比較的厚く（例えば厚さ３００μｍ以上１ｍｍ以下）することが好ましい。
【００２４】
光導波路層３は、光を導波するコア部３２ａ〜３２ｃを含む層であり、基板２の主面２ａ上に設けられている。光導波路層３は、例えばポリイミド、シリコーン、エポキシ、アクリレート、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリベンゾオキサゾールといった有機系材料のうち少なくとも一種類の材料を主剤とする重合体を含んで構成される。或いは、光導波路層３は、導波される光の波長に応じた最適な透過特性を得るために、これら有機系材料のＣ−Ｈ基におけるＨが重水素に置換された重水素化物（例：重水素化シリコーン）や、Ｃ−Ｈ基におけるＨがフッ素に置換されたフッ素化物（例：フッ素化ポリイミド）を主剤とする重合体を含んで構成されてもよい。（なお、以下の説明において、これらの有機系材料或いはその重水素化物、フッ素化物を主剤とする重合体を単に「ポリイミド等の重合体」という。）また、光導波路層３は、これら有機系材料の中でも、ガラス転位温度が高く耐熱性に優れたポリイミドを含んで構成されることが好ましい。光導波路層３がポリイミドを含むことにより、光導波路層３の信頼性を長期にわたって維持できるとともに、ハンダ付けにも耐えることができる。なお、更に好適には、光導波路層３は、光透過率、屈折率特性などを考慮してフッ素化ポリイミドを含んで構成されるとよい。
【００２５】
光導波路層３は、クラッド部３５、クラッド部３５よりも屈折率が大きいコア部３２ａ〜３２ｃを有する。クラッド部３５は基板２の主面２ａ上に層状に形成されており、コア部３２ａ〜３２ｃはクラッド部３５に覆われている。コア部３２ａは、本実施形態における第１のコア部であり、所定の光軸Ａ（図２参照）に沿った方向に延びている。また、コア部３２ｂは、本実施形態における第２のコア部であり、コア部３２ａの長手方向（すなわち光軸Ａに沿った方向）と交差する所定の光軸Ｂ（図２参照）に沿った方向に延びている。コア部３２ａの一端はコア部３２ｂの一端と繋がっており、端面３２ｆ（図２参照）がコア部３２ａ及び３２ｂの共通の端面となっている。コア部３２ａ及び３２ｂの他端はそれぞれ光導波路基板１の側面においてクラッド部３５から露出しており光入出射端５ａ及び５ｂとなっている。また、コア部３２ｃは、コア部３２ａに対し所定の光軸Ａに沿った方向に並んで設けれており、所定の光軸Ａに沿った方向に延びている。コア部３２ｃの一端は、所定の間隔をあけてコア部３２ａの一端と対向しており端面３２ｇ（図２参照）となっている。コア部３２ｃの他端は、光導波路基板１の側面においてクラッド部３５から露出しており光入出射端５ｃとなっている。
【００２６】
クラッド部３５は、第１クラッド部３１ａ〜３１ｃ及び第２クラッド部３３を含んで構成されている。第１クラッド部３１ａ〜３１ｃは、コア部３２ａ〜３２ｃと基板２との間に設けられている。第１クラッド部３１ａ〜３１ｃは、後述する製造工程に示すように、コア部３２ａ〜３２ｃがエッチングにより形成される際に同時に形成される。従って、第１クラッド部３１ａ〜３１ｃの平面形状は、それぞれコア部３２ａ〜３２ｃの平面形状と同じ形状となっている。また、第２クラッド部３３は、コア部３２ａ〜３２ｃ及び第１クラッド部３１ａ〜３１ｃを覆うように主面２ａ上の全面にわたって形成されている。なお、図１においては、光導波路層３の内部構成を説明するために第２クラッド部３３を仮想線（一点鎖線）で示している。また、図２においては、第２クラッド部３３の図示を省略している。
【００２７】
波長フィルタ４は、光に含まれる波長成分を該波長に応じて選択的に反射する部品であり、本発明における光学部品の一例である。図２及び図３（ｂ）を参照すると、波長フィルタ４は、波長に応じて選択的に光を反射する反射面４ａ、及び反射面４ａとは反対側の裏面４ｂを有する。波長フィルタ４は、コア部３２ａにより導波された光をコア部３２ｂへ反射面４ａが反射するように（逆にいえば、コア部３２ｂにより導波された光をコア部３２ａへ反射面４ａが反射するように）、基板２の主面２ａ上に設置されている。具体的には、波長フィルタ４は、所定の光軸Ａと光軸Ｂとのなす角を反射面４ａの法線が二等分するように設置されている。反射面４ａは、コア部３２ａ（３２ｂ）の端面３２ｆと対向しており、裏面４ｂは、コア部３２ｃの端面３２ｇと対向している。波長フィルタ４は、反射面４ａ、裏面４ｂ、側面４ｃ、及び上面を第２クラッド部３３によって覆われている。
【００２８】
波長フィルタ４は、基部４１及び基部４１の反射面４ａ側に設けられた誘電体多層膜４２によって構成される。誘電体多層膜４２は、所定の厚さ及び屈折率を有する複数の誘電体層が積層されてなり、波長に応じて選択的に光を反射できる。また、基部４１は多層膜４２の機械的強度を維持するための部分であり、例えばコア部３２ａ〜３２ｃに導波される光の波長に対して透明な材料からなる。なお、波長フィルタ４は、本実施形態のように基板２の主面２ａ上に直接設置されることが好ましいが、例えばクラッド部３５を主面２ａとの間に介して設置されてもよい。また、図示していないが、波長フィルタ４として誘電体多層膜を用いていることで、波長フィルタ４で反射されないで透過する光の光軸は、波長フィルタ４に入る前の光の光軸と少しずれることになる。
【００２９】
光導波路層３がポリイミド等の重合体（ポリマー）からなる場合、光導波路層３を熱硬化させる際に光導波路層３（特に第２クラッド部３３）が収縮するため、熱膨張率を整合させるために波長フィルタ４も光導波路層３と同じくポリイミド等の重合体を含んで構成されることが好ましい。また、更に好ましくは、波長フィルタ４と光導波路層３とが同種の材料を含むとよい。例えば、光導波路層３がフッ素化ポリイミドを主剤とする重合体により構成されている場合、波長フィルタ４もフッ素化ポリイミドを主剤とする重合体により構成されることが好ましい。
【００３０】
ここで、光導波路層３は、更に位置決め部３６ａ及び３６ｂを有する。位置決め部３６ａ及び３６ｂは、波長フィルタ４の反射面４ａの位置を規定するための部分である。位置決め部３６ａ及び３６ｂは、後述する製造工程に示すように、コア部３２ａ〜３２ｃと同時に（同じマスクを用いて）形成される。位置決め部３６ａ及び３６ｂは、波長フィルタ４の長手方向に沿って互いに並んで形成されている。また、位置決め部３６ａ及び３６ｂは、互いに対向する側面３６ｃ及び３６ｅ、及び側面３６ｄからなる凹部を有しており、位置決め部３６ａ及び３６ｂそれぞれの凹部が互いに対向配置されている。そして、波長フィルタ４が設置された状態においては、側面３６ｃが波長フィルタ４の反射面４ａと対向し、側面３６ｄが波長フィルタ４の側面４ｃと対向し、側面３６ｅが波長フィルタ４の裏面４ｂと対向する。このうち、側面３６ｃは、波長フィルタ４の反射面４ａと接しており、波長フィルタ４の反射面４ａの位置及び角度を規定している。なお、本実施形態では側面３６ｃが波長フィルタ４と接しているが、側面３６ｄまたは側面３６ｅが波長フィルタ４と接することにより反射面４ａの位置及び角度を規定してもよい。
【００３１】
位置決め部３６ａは、第１の部分３１ｄと、第１の部分３１ｄ上に設けられた第２の部分３２ｄとを有する。また、位置決め部３６ｂは、第１の部分３１ｅと、第１の部分３１ｅ上に設けられた第２の部分３２ｅとを有する。第１の部分３１ｄ及び３１ｅは、第１クラッド部３１ａ〜３１ｃと同じ層に位置するとともに同じ材料によって構成されており、第２の部分３２ｄ及び３２ｅは、コア部３２ａ〜３２ｃと同じ層に位置するとともに同じ材料によって構成されている。位置決め部３６ａ及び３６ｂは波長フィルタ４と共に第２クラッド部３３によって覆われており、第２クラッド部３３によって位置決め部３６ａ及び３６ｂと波長フィルタ４との隙間が埋められている。なお、第２の部分３２ｄ及び３２ｅは、コア部３２ａ〜３２ｃと同じ層に位置し、且つ同じ材料によって構成されているため、コア部３２ａ〜３２ｃから近すぎる位置に形成されるとコア部３２ａ〜３２ｃに導波される光の一部を吸収するおそれがある。従って、第２の部分３２ｄ及び３２ｅとコア部３２ａ〜３２ｃとの間には、充分な間隔（例えばコア部３２ａ〜３２ｃの幅や高さが５〜８μｍで形成される場合、位置決め部３６ａ及び３６ｂとの間隔は５０μｍ）を設けることが好ましい。
【００３２】
以上の構成を備える光導波路基板１の製造方法について説明する。図４〜図１０は、本実施形態による光導波路基板１の製造工程を順に示す斜視図である。
【００３３】
まず、図４に示すように、主面２ａを有する基板２を用意する。なお、理解を容易にするために図４には一つの光導波路基板１に用いられる矩形の基板２が示されているが、基板２よりも大きなウェハを用意し、以下に説明する工程により該ウェハ上に光導波路層３を形成し、その後に該ウェハをチップ状に切断することにより、複数の光導波路基板１を同時に製造することもできる。
【００３４】
続いて、図５（ａ）及びその一部を拡大した図５（ｂ）に示すように、基板２の主面２ａ上に第１クラッド層５１を形成する（第１クラッド層形成工程）。このとき、第１クラッド層５１をポリイミド等の重合体により形成する場合には、第１クラッド層５１を主面２ａ上に塗布（好ましくはスピンコーティング）により形成するとよい。
【００３５】
続いて、図６（ａ）及びその一部を拡大した図６（ｂ）に示すように、第１クラッド層５１上にコア層５２を形成する（コア層形成工程）。このとき、コア層５２を、第１クラッド層５１よりも高屈折率の材料により形成する。また、コア層５２をポリイミド等の重合体により形成する場合には、第１クラッド層５１と同様に、コア層５２を第１クラッド層５１上に塗布（好ましくはスピンコーティング）により形成するとよい。
【００３６】
続いて、図７に示すように、コア層５２上にマスク６１を形成する（マスク形成工程）。このマスク６１は、コア部３２ａ〜３２ｃ（図１及び図２参照）それぞれの平面形状（コアパターン）に応じた形状を有するマスク部分６１ａ〜６１ｃと、位置決め部３６ａ及び３６ｂ（図１及び図２参照）それぞれの平面形状（位置決めパターン）に応じた形状を有するマスク部分６１ｄ及び６１ｅとを含むように形成される。また、マスク部分６１ｄ及び６１ｅは、位置決め部３６ａ及び３６ｂにおける側面３６ｃ〜３６ｅに対応する辺６１ｆ〜６１ｈを含むように形成される。本工程では、このマスク６１を例えば通常のフォトリソグラフィ技術を用いて形成するとよい。また、マスク６１のマスク材としては、例えばレジストや金属薄膜（Ａｌ，Ｔｉ，Ｃｒ，ＷＳｉ等）を用いることができる。
【００３７】
続いて、マスク６１を用いてコア層５２及び第１クラッド層５１をエッチングすることにより、図８に示すようにコア部３２ａ〜３２ｃ、第１クラッド部３１ａ〜３１ｃ、位置決め部３６ａ（第１の部分３１ｄ及び第２の部分３２ｄ）、並びに位置決め部３６ｂ（第１の部分３１ｅ及び第２の部分３２ｅ）を形成する（エッチング工程）。また、このとき、位置決め部３６ａ及び３６ｂのそれぞれに側面３６ｃ〜３６ｅを形成する。本工程では、コア層５２及び第１クラッド層５１をドライエッチングによりエッチングすることが好ましい。また、コア層５２及び第１クラッド層５１をエッチングする際のエッチング深さを、コア層５２の厚さよりも深くする。なお、位置決め部３６ａ及び３６ｂの高さを確保するために、このエッチング深さをより深くする（例えば基板２の主面２ａが露出するようにエッチングを行う）ことが好ましい。
【００３８】
続いて、図９に示すように、基板２の主面２ａ上に波長フィルタ４を設置する（光学部品設置工程）。このとき、波長フィルタ４の反射面４ａを位置決め部３６ａ及び３６ｂの側面３６ｃに押し付けるようにして波長フィルタ４を設置する。なお、次の工程で形成される第２クラッド部３３がポリイミド等の重合体を含む場合には、同様にポリイミド等の重合体を含む波長フィルタ４を設置するとよい。また、更に好ましくは、第２クラッド部３３と同種の材料を含む波長フィルタ４を設置するとよい。
【００３９】
続いて、図１０に示すように、コア部３２ａ〜３２ｃよりも低屈折率の第２クラッド部（第２クラッド層）３３を形成する（第２クラッド層形成工程）。このとき、第２クラッド部３３を、主面２ａ、第１クラッド部３１ａ〜３１ｃ、コア部３２ａ〜３２ｃ、位置決め部３６ａ及び３６ｂ、並びに波長フィルタ４を全て覆うように形成する。これにより、第１クラッド部３１ａ〜３１ｃ及び第２クラッド部３３からなるクラッド部３５が形成される。第２クラッド部３３をポリイミド等の重合体により形成する場合には、第２クラッド部３３を塗布（好ましくはスピンコーティング）により形成するとよい。その際、第２クラッド部３３は、その上に電気配線を形成したり、光素子を搭載するために、平面で形成される方が好ましい。スピンコーティングにより第２クラッド部３３を形成すると他の方法より平面を形成しやすい。また、波長フィルタ４と位置決め部３６ａ及び３６ｂを構成する材料は、硬いけれども弾力を有していてＳｉ等と異なり、割れたり欠けたりすることなく位置決め部３６ａ及び３６ｂが波長フィルタ４を保持することができる。
【００４０】
こうして、基板２、光導波路層３、及び波長フィルタ４を備える光導波路基板１が完成する。
【００４１】
なお、光をシングルモードで導波する場合、上述した第１クラッド層形成工程（図５）において形成される第１クラッド層５１の厚さは、例えば１０μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。特に、光導波路層３をフッ素化ポリイミドにより形成する場合には、第１クラッド層５１の好適な厚さは例えば１５μｍである。また、コア層形成工程（図６）において形成されるコア層５２の厚さは、例えば５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。特に、光導波路層３をフッ素化ポリイミドにより形成する場合には、コア層５２の好適な厚さは例えば９μｍである。また、第２クラッド層形成工程（図１０）において形成される第２クラッド部３３の厚さは、例えばコア部３２ａ〜３２ｃの上面から１０μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。特に、第２クラッド部３３をフッ素化ポリイミドにより形成する場合には、第２クラッド部３３の好適な厚さは例えばコア部３２ａ〜３２ｃの上面から２０μｍである。
【００４２】
また、光をマルチモードで導波する場合、第１クラッド層５１、コア層５２、及び第２クラッド部３３の厚さは、例えば１０μｍ〜数百μｍの広い範囲にわたって自由に設定でき、用途に応じて決定される。
【００４３】
また、光学部品設置工程において設置される波長フィルタ４の厚さは、例えば波長フィルタ４がポリイミドにより構成される場合、３０μｍ〜１００μｍ程度が好ましい。ただし、波長フィルタ４を透過する光の損失を抑えるためには、波長フィルタ４の厚さは薄いほどよい（例えば３０μｍ〜４０μｍ）。また、波長フィルタ４は第２クラッド部３３により覆われる必要があるので、波長フィルタ４の高さ（すなわち主面２ａの法線方向における波長フィルタ４の幅）は、例えば３０μｍ〜５０μｍ程度であることが好ましい。また、主面２ａと平行な方向における波長フィルタ４の幅は、波長フィルタ４の設置安定性や設置スペースの広さに応じて適宜決定でき、例えば２００μｍ〜４００μｍ程度が妥当である。
【００４４】
以上に説明した本実施形態による光導波路基板１及びその製造方法が有する効果について説明する。本実施形態の光導波路基板１では、コア部３２ａ〜３２ｃと同じ層（すなわち図６に示したコア層５２）に位置するとともにコア部３２ａ〜３２ｃと同じ材料からなる第２の部分３２ｄ及び３２ｅを位置決め部３６ａ及び３６ｂが含んでいる。従って、図７に示したように、コア部３２ａ〜３２ｃを形成する際のマスク６１を利用して位置決め部３６ａ及び３６ｂをコア部３２ａ〜３２ｃと共に形成できる。このように、本実施形態の光導波路基板１によれば、コア部３２ａ〜３２ｃに対する位置決め部３６ａ及び３６ｂの位置精度をマスク６１形成時の寸法精度と同等に高めることができるので、波長フィルタ４の反射面４ａをコア部３２ａ〜３２ｃに対し極めて精度よく配置することが可能となる。また、本実施形態による光導波路基板１の製造方法においても、コア部３２ａ〜３２ｃ及び位置決め部３６ａ及び３６ｂの平面形状が形成されたマスク６１を用いてコア部３２ａ〜３２ｃと位置決め部３６ａ及び３６ｂとを同時に形成するので、コア部３２ａ〜３２ｃに対して位置決め部３６ａ及び３６ｂを精度よく形成でき、波長フィルタ４の反射面４ａをコア部３２ａ〜３２ｃに対し極めて精度よく配置できる。
【００４５】
更に、本実施形態の光導波路基板１及びその製造方法によれば、コア部３２ａ〜３２ｃを覆うクラッド部３５（第２クラッド部３３）によって波長フィルタ４が覆われるので、コア部３２ａ〜３２ｃと波長フィルタ４の反射面４ａとの隙間への塵や埃の侵入を防止し、光損失を低減できる。また、クラッド部３５を形成する工程（第２クラッド形成工程）によって該隙間を埋めることができるので、該隙間を埋めるための別工程を必要としない。
【００４６】
このように、本実施形態の光導波路基板１及びその製造方法によれば、少ない工程によって精度よく波長フィルタ４を位置決めできるとともに、コア部３２ａ〜３２ｃと波長フィルタ４との間の光損失を少ない工程によって低減できる。
【００４７】
また、本実施形態のように、光導波路基板１が、コア部３２ａ〜３２ｃにより導波された光に含まれる波長成分を該波長に応じて選択的に反射する波長フィルタ４を備えることにより、波長に応じて光を分岐または結合する、光損失の少ない光合分波器（光カプラ）を実現できる。
【００４８】
また、本実施形態のように、位置決め部３６ａ及び３６ｂは、波長フィルタ４の反射面４ａと対向する側面３６ｃ、波長フィルタ４の裏面４ｂと対向する側面３６ｅ、及び波長フィルタ４の側面４ｃと対向する側面３６ｄを有することが好ましい。これにより、波長フィルタ４の設置時に波長フィルタ４の周囲を位置決め部３６ａ及び３６ｂにより支持することができるので、波長フィルタ４の設置が容易になる。また、この場合、側面３６ｃと側面３６ｅとの幅が、波長フィルタ４の厚さにできるだけ近いことが好ましい。これにより、波長フィルタ４を主面２ａ上に設置する際に、波長フィルタ４の水平方向位置を位置決め部３６ａ及び３６ｂにより固定できるので、波長フィルタ４の設置が更に容易になる。
【００４９】
また、本実施形態のように、光導波路層３（特に第２クラッド部３３）がポリイミド等の重合体を含んで構成される場合、波長フィルタ４も同様に、ポリイミド等の重合体を含んで構成されることが好ましい。このように光導波路層３と波長フィルタ４とが共に重合体を含むことにより、光導波路層３（第２クラッド部３３）を硬化させる際に光導波路層３（第２クラッド部３３）が収縮（例えば熱硬化時の熱収縮）することによるコア部３２ａ〜３２ｃと波長フィルタ４との位置ずれを抑えることができる。なお、波長フィルタ４が光導波路層３（第２クラッド部３３）と同じ種類の材料を含むことにより、コア部３２ａ〜３２ｃと波長フィルタ４との位置ずれを更に抑制できる。
【００５０】
また、本実施形態のように、エッチング工程の際には、基板２の主面２ａが露出するようにコア層５２及び第１クラッド層５１をエッチングすることが好ましい。これにより、位置決め部３６ａ及び３６ｂを高く形成できるので、波長フィルタ４を安定して設置できる。
【００５１】
（第２の実施の形態）
次に、本発明による光導波路基板の製造方法の第２実施形態について説明する。図１１〜図１５は、本実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【００５２】
まず、上記第１実施形態における製造方法と同様に、主面２ａを有する基板２を用意し、主面２ａ上に第１クラッド層５１及びコア層５２を形成する（第１クラッド層形成工程及びコア層形成工程）。なお、本実施形態においても、基板２よりも大きなウェハを用意し、該ウェハ上に光導波路層を形成し、その後に該ウェハをチップ状に切断することにより、複数の光導波路基板を同時に製造することができる。
【００５３】
続いて、図１１（ａ）及びその一部を拡大した図１１（ｂ）に示すように、コア層５２上に第３クラッド層５３を形成する。このとき、第３クラッド層５３を、コア層５２よりも低屈折率の材料により形成する。また、第３クラッド層５３をポリイミド等の重合体により形成する場合には、第３クラッド層５３をコア層５２上に塗布（好ましくはスピンコーティング）により形成するとよい。
【００５４】
続いて、図１２に示すように、第３クラッド層５３上にマスク６１を形成する（マスク形成工程）。このマスク６１は、上記第１実施形態におけるマスク６１（図７参照）と同様の形状、材料、及び方法で形成されるので、ここでは詳細な説明を省略する。
【００５５】
続いて、マスク６１を用いて第３クラッド層５３、コア層５２、及び第１クラッド層５１をエッチングすることにより、図１３に示すように第１クラッド部３１ａ〜３１ｃ、コア部３２ａ〜３２ｃ、及び第２クラッド部の一部分３３ａ〜３３ｃを形成するとともに、順に積層された第１の部分３１ｄ、第２の部分３２ｄ、及び第３の部分３３ｄからなる位置決め部３７ａと、順に積層された第１の部分３１ｅ、第２の部分３２ｅ、及び第３の部分３３ｅからなる位置決め部３７ｂとを形成する（エッチング工程）。また、このとき、上記第１実施形態における側面３６ｃ〜３６ｅ（図２参照）と同様の側面３７ｃ〜３７ｅを、位置決め部３７ａ及び３７ｂのそれぞれに形成する。
【００５６】
続いて、図１４に示すように、基板２の主面２ａ上に波長フィルタ４を設置する（光学部品設置工程）。このとき、波長フィルタ４の反射面４ａを位置決め部３７ａ及び３７ｂの側面３７ｃに押し付けるようにして波長フィルタ４を設置する。
【００５７】
続いて、図１５に示すように、コア部３２ａ〜３２ｃよりも低屈折率の第２クラッド部の残りの部分３３ｆを形成することにより、各部分３３ａ〜３３ｃ及び３３ｆからなる第２クラッド部（第２クラッド層）３３を形成する（第２クラッド層形成工程）。このとき、第２クラッド部３３の部分３３ｆを、主面２ａ、第１クラッド部３１ａ〜３１ｃ、コア部３２ａ〜３２ｃ、位置決め部３７ａ及び３７ｂ、並びに波長フィルタ４を全て覆うように形成する。これにより、第１クラッド部３１ａ〜３１ｃ及び第２クラッド部３３からなるクラッド部３５が形成される。なお、クラッド部３３の残りの部分３３ｆをポリイミド等の重合体により形成する場合には、該部分３３ｆを塗布（好ましくはスピンコーティング）により形成するとよい。
【００５８】
以上に述べたように、本実施形態のような製造方法によっても、上記第１実施形態と同様の光導波路基板１を製造できる。
【００５９】
（第３の実施の形態）
次に、本発明による光導波路基板の第３実施形態について説明する。図１６は、本実施形態による光導波路基板１ａの構成を概略的に示す平面図である。図１６を参照すると、光導波路基板１ａにおいては、所定の光軸Ａと、該光軸Ａから分岐されるとともに互いに平行に延びる複数の光軸Ｂ１〜Ｂ４が設定されている。そして、光導波路基板１ａは、光軸Ａに沿ったコア部３８ａ（第１のコア部）と、光軸Ｂ１〜Ｂ４のそれぞれに沿った複数のコア部３８ｂ〜３８ｅ（第２のコア部）と、コア部３８ｂ〜３８ｅのそれぞれとコア部３８ａとの結合位置に配置された複数の波長フィルタ７１〜７４とを備える。なお、コア部３８ａ〜３８ｅ及び波長フィルタ７１〜７４は、図示しないクラッド部によって覆われている。
【００６０】
波長フィルタ７１〜７４は、コア部３８ａを導波される光の波長成分λ１〜λ５のうち、それぞれ波長成分λ１〜λ４を選択的に反射する反射面７１ａ〜７４ａを有する。波長フィルタ７１の反射面７１ａは、導波光の波長成分λ１をコア部３８ａからコア部３８ｂへ反射するように設けられている。波長フィルタ７２の反射面７２ａは、導波光の波長成分λ２をコア部３８ａからコア部３８ｃへ反射するように設けられている。波長フィルタ７３の反射面７３ａは、導波光の波長成分λ３をコア部３８ａからコア部３８ｄへ反射するように設けられている。波長フィルタ７４の反射面７４ａは、導波光の波長成分λ４をコア部３８ａからコア部３８ｅへ反射するように設けられている。
【００６１】
また、波長フィルタ７１〜７４は、各波長フィルタ７１〜７４に一対ずつ設けられた位置決め部３９ａ及び３９ｂによって位置決めされている。すなわち、波長フィルタ７１〜７４の反射面７１ａ〜７４ａのそれぞれが位置決め部３９ａ及び３９ｂの双方に接することにより、反射面７１ａ〜７４ａの位置及び角度が決められている。なお、本実施形態における位置決め部３９ａ及び３９ｂの形状及び構成は、上記第１実施形態の位置決め部３６ａ及び３６ｂ、或いは上記第２実施形態の位置決め部３７ａ及び３７ｂの形状及び構成と同様とすることが好ましい。
【００６２】
本実施形態による光導波路基板１ａでは、波長成分λ１〜λ５を含む光がコア部３８ａの光入出射端５ｄから入射すると、この光はコア部３８ａを光軸Ａに沿って導波される。そして、波長成分λ１〜λ４は、それぞれ反射面７１ａ〜７４ａにおいて反射される。その後、波長成分λ１〜λ４は、それぞれコア部３８ｂ〜３８ｅを光軸Ｂ１〜Ｂ４に沿って導波され、コア部３８ｂ〜３８ｅの光入出射端５ｅ〜５ｈから出射される。また、波長成分λ５は、波長フィルタ７１〜７４を透過し、コア部３８ａの光入出射端５ｉから出射される。なお、光入出射端５ｅ〜５ｈには、例えばフォトダイオードといった光検出素子が取り付けられるとよい。
【００６３】
本実施形態の光導波路基板１ａによれば、上記第１実施形態の光導波路基板１と同様に、コア部３８ａ〜３８ｅに対して波長フィルタ７１〜７４を精度よく位置決めできるとともに、波長フィルタ７１〜７４とコア部３８ａ〜３８ｅとの間の光損失を低減できる。従って、例えば波長多重（ＷＤＭ：Wavelength Division Multiplexing）通信に用いられる、より低損失な合分波モジュールを実現できる。また、波長フィルタ７１〜７４を比較的狭い間隔で設置することにより、例えばマッハツェンダー型と比較して、小型の合分波モジュールを実現できる。例えば、光軸Ａに沿った方向における光導波路基板１ａの好適な長さＷ１は、例えば４ｍｍ〜１０ｍｍである。また、光軸Ｂ１〜Ｂ４に沿った方向における光導波路基板１ａの好適な幅Ｗ２は、例えば４ｍｍである。
【００６４】
また、本実施形態による光導波路基板１ａは、双方向通信に用いることもできる。図１７は、本実施形態による光導波路基板１ａの双方向通信における動作を示す平面図である。すなわち、光導波路基板１ａでは、波長成分λ１，λ２，λ５を含む光が例えば通信用光ファイバからコア部３８ａの光入出射端５ｄに入射すると、この光はコア部３８ａを光軸Ａに沿って導波される。そして、波長成分λ１及びλ２は、それぞれ反射面７１ａ及び７２ａにおいて反射される。その後、波長成分λ１及びλ２は、それぞれコア部３８ｂ及び３８ｃを光軸Ｂ１及びＢ２に沿って導波され、光入出射端５ｅ及び５ｆから出射される。波長成分λ５は、波長フィルタ７１〜７４を透過し、光入出射端５ｉから出射される。なお、光入出射端５ｅ及び５ｆには、例えばフォトダイオードといった光検出素子が取り付けられるとよい。
【００６５】
また、光入出射端５ｇに波長λ３の光が入射すると、この光はコア部３８ｄを光軸Ｂ３に沿って導波され、反射面７３ａにおいて反射される。同様に、光入出射端５ｈに波長λ４の光が入射すると、この光はコア部３８ｅを光軸Ｂ４に沿って導波され、反射面７４ａにおいて反射される。こうして、反射面７３ａ及び７４ａのそれぞれにおいて反射された波長λ３及びλ４の光は、光軸Ａに沿ってコア部３８ａを導波され、光入出射端５ｄから例えば通信用光ファイバへ出射される。なお、光入出射端５ｇ及び５ｈには、例えばレーザダイオードといった発光素子が取り付けられるとよい。
【００６６】
本実施形態の光導波路基板１ａによれば、このような双方向通信モジュールを、低損失且つ小型に構成できる。
【００６７】
（変形例）
図１８は、本実施形態の変形例による光導波路基板１ｂの構成を概略的に示す平面図である。本変形例の光導波路基板１ｂと第３実施形態の光導波路基板１ａとの相違点は、光軸Ａと光軸Ｂ１〜Ｂ４とのなす角度（コア部３８ａの長手方向とコア部３８ｂ〜３８ｅの長手方向とのなす角度）である。すなわち、本変形例の光導波路基板１ｂでは、光軸Ａと光軸Ｂ１〜Ｂ４とが直角よりも小さい所定の角度θをなすように設定されている。そして、コア部３８ａとコア部３８ｂ〜３８ｅとが該所定の角度θで結合され、反射面７１ａ〜７４ａの法線が該所定の角度θを２等分するように波長フィルタ７１〜７４が設置されている。本変形例のように、光軸Ａと光軸Ｂ１〜Ｂ４とのなす角は、直角に限らず様々な角度に設定できる。
【００６８】
また、本変形例の光導波路基板１ｂと第３実施形態の光導波路基板１ａとの別の相違点は、光軸Ｂ１〜Ｂ４と光入出射端５ｅ〜５ｈとのなす角度（コア部３８ｂ〜３８ｅの長手方向と光入出射端５ｅ〜５ｈとのなす角度）である。すなわち、本変形例の光導波路基板１ｂでは、光軸Ｂ１〜Ｂ４（コア部３８ｂ〜３８ｅの長手方向）と光入出射端５ｅ〜５ｈとが垂直ではない所定の角度θで交差している。これにより、光入出射端５ｅ〜５ｈにおけるフレネル反射を効果的に防止できる。なお、角度θは任意であるが、例えば８２°（すなわち光入出射端５ｅ〜５ｈの垂線と光軸Ｂ１〜Ｂ４とのなす角が８°）程度に設定するとよい。
【００６９】
（第４の実施の形態）
次に、本発明による光導波路基板の第４実施形態について説明する。図１９は、本実施形態による光導波路基板１ｃの構成を概略的に示す平面図である。図１９を参照すると、光導波路基板１ｃにおいては、所定の光軸Ａ１及びＡ２と、光軸Ａ１から分岐されるとともに互いに平行に延びる複数の光軸Ｂ１〜Ｂ４と、光軸Ａ２から分岐されるとともに互いに平行に延びる複数の光軸Ｂ５〜Ｂ８とが設定されている。そして、光導波路基板１ｃは、光軸Ａ１及びＡ２のそれぞれに沿ったコア部３８ｉ及び３８ｊ（第１のコア部）と、光軸Ｂ１〜Ｂ８のそれぞれに沿ったコア部３８ｋ〜３８ｓ（第２のコア部）と、コア部３８ｋ〜３８ｎのそれぞれとコア部３８ｉとの結合位置に配置された波長フィルタ８１〜８４と、コア部３８ｐ〜３８ｓのそれぞれとコア部３８ｊとの結合位置に配置された波長フィルタ８５〜８８とを備える。コア部３８ｊの一端は、コア部３８ｉと結合されている。なお、コア部３８ｉ〜３８ｓ及び波長フィルタ８１〜８８は、図示しないクラッド部によって覆われている。
【００７０】
波長フィルタ８１〜８４は、波長成分λ１〜λ４をそれぞれ選択的に反射する反射面８１ａ〜８４ａを有する。また、波長フィルタ８５〜８８は、波長成分λ６〜λ９をそれぞれ選択的に反射する反射面８５ａ〜８８ａを有する。反射面８１ａ〜８４ａのそれぞれは、導波光の波長成分λ１〜λ４をコア部３８ｉからコア部３８ｋ〜３８ｎへそれぞれ反射するように設けられている。反射面８５ａ〜８８ａは、それぞれ波長λ６〜λ９の光をコア部３８ｐ〜３８ｓからコア部３８ｊへ反射するように設けられている。
【００７１】
また、波長フィルタ８１〜８８は、各波長フィルタ８１〜８８に一対ずつ設けられた位置決め部３９ｃ及び３９ｄによって位置決めされている。すなわち、波長フィルタ８１〜８８の反射面８１ａ〜８８ａのそれぞれが位置決め部３９ｃ及び３９ｄの双方に接することにより、反射面８１ａ〜８８ａの位置及び角度が決められている。なお、本実施形態における位置決め部３９ｃ及び３９ｄの形状及び構成もまた、上記第１実施形態の位置決め部３６ａ及び３６ｂ、或いは上記第２実施形態の位置決め部３７ａ及び３７ｂの形状及び構成と同様とすることが好ましい。
【００７２】
本実施形態による光導波路基板１ｃでは、波長成分λ１〜λ５を含む光がコア部３８ｉの光入出射端５ｊから入射すると、この光はコア部３８ｉを光軸Ａに沿って導波される。そして、波長成分λ１〜λ４は、それぞれ反射面８１ａ〜８４ａにおいて反射される。その後、波長成分λ１〜λ４は、それぞれコア部３８ｋ〜３８ｎを光軸Ｂ１〜Ｂ４に沿って導波され、コア部３８ｋ〜３８ｎの光入出射端５ｋ〜５ｎから出射される。また、波長成分λ５は、波長フィルタ８１〜８４を透過し、コア部３８ｉの光入出射端５ｔから出射される。なお、各光入出射端５ｋ〜５ｎには、例えばフォトダイオードといった光検出素子が取り付けられるとよい。
【００７３】
また、コア部３８ｐ〜３８ｓにおける光入出射端５ｐ〜５ｓに波長λ６〜λ９の光がそれぞれ入射されると、これらの光はそれぞれコア部３８ｐ〜３８ｓを光軸Ｂ５〜Ｂ８に沿って導波され、それぞれ反射面８５ａ〜８８ａにおいて反射する。こうして、反射面８５ａ〜８８ａのそれぞれにおいて反射した波長λ６〜λ９の光は、光軸Ａ２に沿ってコア部３８ｊを導波された後、光軸Ａ１に沿ってコア部３８ｉを導波する波長λ５の光と結合される。そして、この結合された光は、光入出射端５ｔから出射される。なお、光入出射端５ｐ〜５ｓには、例えばレーザダイオードといった発光素子が取り付けられるとよい。
【００７４】
本実施形態の光導波路基板１ｃによれば、コア部３８ｉ〜３８ｓに対して波長フィルタ８１〜８８を精度よく位置決めできるとともに、波長フィルタ８１〜８８とコア部３８ｉ〜３８ｓとの間の光損失を低減できる。従って、例えばＷＤＭ通信において異なる波長の光信号を抽出及び付加するための、より低損失なＷＤＭモジュールを実現できる。なお、光軸Ａ１及びＡ２に沿った方向における光導波路基板１ｃの好適な長さＷ３は、例えば１０ｍｍ〜３０ｍｍである。また、光軸Ｂ１〜Ｂ８に沿った方向における光導波路基板１ｃの好適な幅Ｗ４は、例えば４ｍｍである。
【００７５】
本発明による光導波路基板及びその製造方法は、上記した各実施形態に限られるものではなく、他に様々な変形が可能である。例えば、上記各実施形態では光学部品として波長フィルタを例示しているが、本発明の光学部品としては他にも反射面を有する様々な部品（例えばハーフミラー）を適用できる。また、上記各実施形態では、位置決め部の形状として、光学部品の反射面、裏面、及び側面のそれぞれと対向する三面を有する形状が例示されているが、位置決め部は、反射面または裏面と対向する一面を少なくとも有することにより、光学部品の反射面を精度よく位置決めすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】第１実施形態による光導波路基板の構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示した光導波路基板の構成の一部を示す平面図である。
【図３】（ａ）図２に示した光導波路基板のＩ−Ｉ線、II−II線、及びIII−III線に沿った断面を示す側面断面図である。（ｂ）図２に示した光導波路基板のIV−IV線及びＶ−Ｖ線に沿った断面を示す側面断面図である。
【図４】第１実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図５】第１実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図６】第１実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図７】第１実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図８】第１実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図９】第１実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図１０】第１実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図１１】第２実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図１２】第２実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図１３】第２実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図１４】第２実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図１５】第２実施形態による光導波路基板の製造工程を順に示す斜視図である。
【図１６】第３実施形態による光導波路基板の構成を概略的に示す平面図である。
【図１７】第３実施形態による光導波路基板の双方向通信における動作を示す平面図である。
【図１８】第３実施形態の変形例による光導波路基板の構成を概略的に示す平面図である。
【図１９】第４実施形態による光導波路基板の構成を概略的に示す平面図である。
【符号の説明】
【００７７】
１，１ａ〜１ｃ…光導波路基板、２…基板、３…光導波路層、４…波長フィルタ、４ａ…反射面、５ａ〜５ｔ…光入出射端、３１ａ〜３１ｃ…第１クラッド部、３１ｄ，３１ｅ…第１の部分、３２ａ〜３２ｃ…コア部、３２ｄ，３２ｅ…第２の部分、３２ｆ，３２ｇ…端面、３３…第２クラッド部、３５…クラッド部、３６ａ，３６ｂ…位置決め部、３６ｃ〜３６ｅ…側面、４１…基部、４２…誘電体多層膜。
【図１】
2006308970.tif 000003
【図２】
2006308970.tif 000004
【図３】
2006308970.tif 000005
【図４】
2006308970.tif 000006
【図５】
2006308970.tif 000007
【図６】
2006308970.tif 000008
【図７】
2006308970.tif 000009
【図８】
2006308970.tif 000010
【図９】
2006308970.tif 000011
【図１０】
2006308970.tif 000012
【図１１】
2006308970.tif 000013
【図１２】
2006308970.tif 000014
【図１３】
2006308970.tif 000015
【図１４】
2006308970.tif 000016
【図１５】
2006308970.tif 000017
【図１６】
2006308970.tif 000018
【図１７】
2006308970.tif 000019
【図１８】
2006308970.tif 000020
【図１９】
2006308970.tif 000021