(57)【要約】      （修正有）【課題】皮膚再生処置具に関わり、無線周波発生器とプラズマ発生器によるイオン化可能ガスの処置エネルギーを制御するための改良された手持ち式処置機器を提供する。【解決手段】皮膚再生の対象となる組織表面に、ガスプラズマを噴射する、熱エネルギーによる皮膚再生処置具であって、ＣＰＵコントローラ２１０の制御に基づき、窒素ガスが窒素ガス供給源２２１から、弁２２０を介して、又無線周波エネルギーがマグネトロン２００から同軸ケーブルを介して、手持ち式処置機器に送られ、内蔵されるコイル内に生じる電界により、窒素ガスがプラズマ化される。プラズマジェットのエネルギーは機器の経年変化、ガス変動等により変化するため、較正デバイス３００を用いて較正し、コントローラ２１０で補正値を生成してマグネトロン２００及び弁２２０を調整して皮膚再生処置を行う。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線周波数（ｒ．ｆ．）発生器と；処置機器であって、該発生器及びイオン化可能ガス供給源に接続可能であり、前記イオン化可能ガスが供給され、前記発生器によって駆動されると、該機器のノズルにおいてプラズマジェットを生成するように動作可能な、処置機器と；較正デバイスとを含む組織処置システムであって；
該較正デバイスは、
ターゲット表面エリアを有するターゲット要素と、
前記ターゲット表面エリア内の前記ターゲット要素の温度変化を示す電気信号を生成するように仕組まれる変換器と、
前記機器の前記ノズルを、前記ターゲット表面エリアに並置するように設置するレセプタクルとを備え、それによって、前記レセプタクル内にある時の前記機器の動作時に、前記プラズマジェットが、前記ターゲット表面エリアに入射して、前記変換器に前記発生器の前記エネルギー出力を調整するための較正信号を生成させる、組織処置システム。
【請求項２】
前記較正デバイスは、前記較正信号を前記発生器に結合するために、出力が前記発生器に接続されており、該発生器は、該発生器の前記ｒ．ｆ．エネルギー出力を調整するためのエネルギー出力調整器を含み、該調整器は、前記較正信号に応答して前記ｒ．ｆ．エネルギー出力を調整するように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記調整器は、コントローラの一部を形成し、該コントローラは、自動較正プロセスを実行するように構成され、前記発生器は、前記機器に所定のｒ．ｆ．エネルギー波形を送るように動作し、それによって、前記較正デバイスの前記ターゲット表面エリアに向けて送られる較正プラズマジェットの生成をもたらし、該較正ジェットが前記ターゲット要素を加熱する結果として生成される前記較正信号は、較正値を生成するように処理され、該較正値は、その後、基準値と比較され、前記調整器は、該基準値からの前記較正値の偏差に応答して自動的に動作して、システムのその後の動作のための、前記ｒ．ｆ．エネルギー出力を設定する、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記所定のｒ．ｆ．エネルギー波形は、ｒ．ｆ．エネルギーの複数のパルスを含む、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記較正値は、前記変換器によって生成され、且つ前記ｒ．ｆ．エネルギーのパルスに対応する連続するパルスのレベルを組み合わせた関数である、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記ターゲット要素は金属板であり、前記変換器は前記板に接触する、先行する請求項のいずれかに記載のシステム。
【請求項７】
前記変換器は、該変換器の第１要素と第２要素との温度差を示す電気信号を生成するように仕組まれる、先行する請求項のいずれかに記載のシステム。
【請求項８】
前記変換器は、離間した測定表面と基準表面とを有し、前記変換器は、前記測定表面で検知された温度と前記基準表面で同時に検知された温度との差にほぼ比例的に関連する電気信号を生成するように動作可能である、請求項１〜６のいずれかに記載のシステム。
【請求項９】
前記ターゲット要素は第１変換器要素を備え、前記較正デバイスは、前記第１変換器要素から離間した第２変換器要素を有し、該システムは、較正プロセスを実施するように仕組まれ、該較正プロセスにおいて、前記第１変換器要素に存在する温度が、前記第２変換器要素に存在する温度と比較され、前記電気信号を生成する、請求項１〜６のいずれかに
記載のシステム。
【請求項１０】
前記較正デバイスは、前記ターゲット要素を形成する金属板を有する熱量計、該金属板の下にあるヒートシンク部分、及び、前記金属板と該ヒートシンク部分との間に設置され、且つ前記金属板と前記ヒートシンク部分との温度差を示す電気出力信号を生成するように仕組まれる温度差センサを備える、請求項１〜５のいずれかに記載のシステム。
【請求項１１】
前記センサはペルチエ素子を備える、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記変換器は、前記機器が、該機器の較正ロケーションで動作する時、前記プラズマジェットの断面エリアより大きいエリアを有する、請求項６、請求項１０、又は請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記変換器は、アレイで分布した複数の温度に敏感な要素を備える、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記発生器は、前記ガスを供給されると、前記機器が、較正プラズマジェットを生成するようにさせるために、ｒ．ｆ．エネルギーのバーストが、所定の波形及び継続時間で前記機器に送出されるようにする較正モードで動作可能であり、前記較正デバイスは、前記較正プラズマジェットが前記ターゲット表面エリアに入射する時に生成される前記電気信号を自動的に評価して、前記発生器の前記エネルギー出力を調整するための調整信号を生成するように仕組まれる、請求項１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記較正デバイスは、前記ｒ．ｆ．エネルギーのバーストの開始後の所定の時間に、前記電気信号のレベルを評価するように仕組まれる、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記発生器は、前記バーストを複数のパルスとして生成するように動作可能であり、前記較正デバイスは、所定数のパルスの印加後に前記電気信号のレベルを評価するように仕組まれる、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１７】
前記変換器は温度差センサであり、前記較正デバイスは、前記電気信号のレベルが最大レベルに達する時に前記電気信号のレベルを評価するように仕組まれる、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１８】
前記発生器は、前記バーストをパルスの連続物として生成するように動作可能であり、前記変換器は温度差センサであり、前記較正デバイスは、前記電気信号のレベルが前記パルスの連続物において起こるｎ番目のパルスに関連するピークレベルに達する時に前記電気信号のレベルを評価するように仕組まれ、ｎは所定の整数である、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１９】
前記発生器は、該発生器から前記機器へｒ．ｆ．エネルギーを伝達するケーブルによって、前記処置機器が結合される発生器ハウジング内に収容され、
前記較正デバイスは、前記発生器ハウジング内にあり、前記機器を受け入れるために、前記ハウジングの前部セクション上で開き、且つ、前記機器を、前記ターゲット要素に対して長手方向及び横方向に設置するように形成される関連する機器ホルダを有する、先行する請求項のいずれかに記載のシステム。
【請求項２０】
無線周波数（ｒ．ｆ．）発生器と、該発生器及びイオン化可能ガス供給源に接続される処置機器と、ターゲット要素及び温度検知変換器を備える較正デバイスとを含むシステムを較正する方法であって、
前記処置機器を、前記ターゲット要素に対して予め決めたロケーションに配置すること、
前記ターゲット要素に入射するプラズマジェットを生成するために、ガスが前記機器に供給されるようにし、同時に、ｒ．ｆ．エネルギーのバーストが、所定の波形及び継続時間で前記機器に送出されるようにすること、
前記較正デバイスによって生成され、前記プラズマジェットによる前記ターゲット要素の加熱によって生じる前記変換器の出力を表す較正信号を自動的に評価すること、及び、
前記較正信号の前記評価に従って、前記発生器の前記ｒ．ｆ．エネルギーレベルを設定することを含む、組織処置システムを較正する方法。
【請求項２１】
ガスプラズマ組織処置システム用の較正デバイスであって、
ターゲット表面エリアを有するターゲット要素と、
前記ターゲット要素の温度変化を示す電気信号を生成するように仕組まれる変換器と、
手持ち式ガスプラズマ発生処置の前記ノズルを設置するレセプタクルとを備え、該レセプタクル内にある時に、前記プラズマジェットが、前記ターゲット要素に入射して、前記変換器に前記プラズマジェットによる前記ターゲット要素の加熱を示す較正信号を生成させる、ガスプラズマ組織処置システム用の較正デバイス。
【請求項２２】
前記ターゲット要素は金属板であり、前記変換器は前記板に接触する、請求項２１に記載のデバイス。
【請求項２３】
前記較正デバイスは、金属板の下にあるヒートシンク部分を形成する前記金属板を有する熱量計、及び、前記金属板と前記ヒートシンク部分との間に設置され、且つ前記金属板と前記ヒートシンク部分との温度差を示す電気出力信号を生成するように仕組まれる温度差センサ、たとえば、ペルチエ素子を備える、請求項２１に記載のデバイス。
【請求項２４】
前記センサはペルチエ素子である、請求項２３に記載のデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無線周波数（ｒ．ｆ．）発生器と、プラズマジェットを生成するための発生器と、該発生器及びイオン化可能ガス供給源に接続可能な処置機器とを含む組織処置システムに関する。システムの主要な用途は、スキンリサーフェシングである。本発明はまた真皮の網状構造を再生させる方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
組織処置システムは、２００１年２月２２日に出願された米国特許第６，７２３，０９１号、２００２年２月１３日に出願された米国特許第６，６２９，９７４号及び２００４年３月５日に出願された米国特許出願第１０／７２７，７６５号に開示される。
【０００３】
これらの特許及び出願のそれぞれの完全な開示は、参照により本出願に援用される。この知られているシステムでは、手持ち式処置機器は、プラズマ出口ノズルで終わるガス管路を有する。管路に関連する電極が存在し、この電極は、別個のｒ．ｆ．電力発生器に結合され、電力発生器は、管路を通して供給されたガスからプラズマを生成するために、電極にｒ．ｆ．電力を送出するように仕組まれる。送出された無線周波数電力は、通常、２．４５ＧＨｚの領域のＵＨＦ周波数にあり、機器は、出口ノズルの上流側でプラズマを始動するために、管路内で電界集中を可能にするように、その周波数領域で共振する構造を含み、プラズマは、ノズルから出て、組織表面の局所加熱を行うのに使用することができるジェットを形成する。
【０００４】
患者の組織にパルスエネルギーを送出するシステムの臨床効果は、送出されるエネルギー量、より詳細には、作動期間にわたって積分された瞬時電力に依存する。したがって、システムによって送出されるエネルギーが、発生器の設定（ユーザによって設定されてもよい）に対応し、システムの仕様内にあることを確認できることが重要である。
【０００５】
通常、生成される電力は、１箇所又は複数箇所で監視され、予想される値又は値の範囲と比較される。閉ループ制御システムでは、電力の生成を調整するのに、フィードバックが使用される。開ループ制御システムでは、発生器出力に関連する１つ又は複数の電気的パラメータの、それぞれの予想値からの一定程度を超える偏差によって、誤差か、故障表示か、又は、発生器の一部を形成する制御システムによる処置の停止がもたらされる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
処置エネルギーを制御する改良された手段を提供することが、本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様によれば、組織処置システムは、無線周波数（ｒ．ｆ．）発生器と、処置機器であって、発生器及びイオン化可能ガス供給源に接続可能であり、イオン化可能ガスが供給され、発生器によって駆動されると、機器のノズルにおいてプラズマジェットを生成するように動作可能な、処置機器と、較正デバイスとを含み、較正デバイスは、ターゲット表面エリアを有するターゲット要素と、ターゲット表面エリア内のターゲット要素の温度変化を示す電気信号を生成するように仕組まれる変換器と、機器のノズルを、ターゲット表面エリアに並置するように設置する設置機構とを備え、それによって、レセプタクル内にある時の機器の動作時に、プラズマジェットが、ターゲット表面エリアに入射して、変換器に発生器のエネルギー出力を調整するための較正信号を生成させる。
【０００８】
こうして、発生器の構成部品とプロセス、電源、並びに伝導及び接続経路の総合した変動が考慮されるように、印加箇所での送出に関して、エネルギー送出が較正される。別の見方をすれば、エネルギーは、処置機器をｒ．ｆ．発生器と接続するケーブルの遠位端で、又は、遠位端を越えたところで送出されるエネルギーに関して較正される。発生器によって生成されるｒ．ｆ．電力は、発生器自体の中で監視されてもよいが、上述した手段を使用して、かなりの電力が加熱によって失われる場合がある、接続ケーブルの不完全度を許容することが可能である。ケーブルの劣化は、損失を導入する、経年変化又は他の故障によって起こる可能性がある。
【０００９】
ｒ．ｆ．電力が、ケーブルの遠位端でたとえ測定されるとしても、印加箇所において送出されるエネルギーを較正することは、たとえば、ガス供給部からのタイミングドリフト、ガス供給部の漏れ、処置機器内の電極の劣化、及び機器ノズルの劣化、又は、劣悪な保管若しくは取り扱いの結果としてのノズルに対する損傷を補正するための調整を可能にする。
【００１０】
代替の一態様では、本発明は、ガスプラズマによって、シミュレートされたターゲットに送出されるエネルギーを較正する手段と見なしてもよい。
【００１１】
さらなる一態様では、測定デバイス、たとえば、熱量計を使用して、パルス化されたガスプラズマによって送出されるエネルギーを決定する手段が提供される。熱量計は、プラズマ生成システムと一体にされ、プラズマ生成プロセスを決定し、指示し、且つ／又は、制御するのに、発生器が使用されるように、電気的に又はその他の方法で発生器に接続されてもよい。
【００１２】
好ましいシステムは、患者の皮膚の、表面層の損傷及び改質(modification)を制御するプラズマスキンリサーフェシングシステムである。こうした臨床効果は、窒素ガスをイオン化することにより貯蔵されたエネルギーの印加によって、皮膚の外層を急速に加熱することによって達成される。プラズマは、通常、処置される組織表面上の数ミリメートルのところで保持される処置機器のノズルから出る。
【００１３】
本発明による好ましいシステムでは、較正デバイスは、較正信号を発生器に結合するために、出力が発生器に接続されており、発生器は、較正信号に応答して発生器のｒ．ｆ．エネルギー出力の調整を可能にするためのエネルギー出力調整器を含む。
【００１４】
調整器は、自動較正プロセスを実施するように構成される、発生器内のコントローラの一部を形成してもよい。このプロセスは、所定の継続時間の間続くｒ．ｆ．エネルギーの一連のバーストなどの、所定のｒ．ｆ．エネルギー波形を機器に供給して、較正プラズマジェットの生成をもたらすように発生器を動作させることを含んでもよい。このジェットは、較正デバイスのターゲット表面エリアに向けて送られ、較正ジェットがターゲット要素を加熱する結果として生成される較正信号は、基準値と比較される較正値を得るために処理され、それによって、調整器は、システムのその後の動作のためのｒ．ｆ．エネルギー出力を患者の組織を処置する時に設定するために、所定の程度を超えた基準値からの較正値の任意の偏差に応答して自動的に動作することができる。好ましくは、較正値は、変換器によって生成され、且つプラズマパルスに対応する連続する信号パルスのレベルを組み合わせた関数である。
【００１５】
有利には、較正デバイスは、金属板などのターゲット要素、金属板の下にある本体部分、及び金属板と熱量計の本体部分の間に設置された、温度差センサ、たとえば、ペルチエ素子を組み込む熱量計の形態である。センサは、金属板と本体部分との温度差を示す電気出力信号を生成するように仕組まれる。
【００１６】
好ましい実施の形態では、発生器は、床置き発生器ハウジング内に収容され、処置機器は、発生器から機器へｒ．ｆ．エネルギーを伝達するケーブルによって、発生器ハウジングに結合される。較正デバイスは、発生器ハウジング内か、又は、その上に取り付けられてもよく、また、不使用時に処置機器を保持するのに使用することができる、より詳細には、較正用機器を受け入れる関連する機器ホルダを有し、機器ホルダは、機器を、ターゲット要素に対して長手方向及び横方向に設置するように形成される。実際に、機器及び機器ホルダは、較正デバイスに対する機器の回転位置も画定されるように、対応する非対称断面を有してもよい。
【００１７】
本発明の別の一態様によれば、組織処置システムを較正する方法は、処置機器を、ターゲット要素に対して予め決めたロケーションに配置すること、ターゲット要素に入射するプラズマジェットを生成するために、ガスが機器に供給されるようにし、同時に、ｒ．ｆ．エネルギーのバーストが、所定の波形及び継続時間で機器に送出されるようにすること、較正デバイスによって生成され、プラズマジェットによるターゲット要素の加熱によって生じる変換器の出力を表す較正信号を自動的に評価すること、及び、較正信号の評価に従って、発生器のｒ．ｆ．エネルギー出力レベルを設定することを含む。
【００１８】
本発明のさらなる一態様は、ガスプラズマ組織処置システム用の較正デバイスであって、このデバイスは、ターゲット表面エリアを有するターゲット要素と、ターゲット要素の温度変化を示す電気信号を生成するように仕組まれる変換器と、手持ち式ガスプラズマ発生機器のノズルを、ターゲット要素に並置するように設置するレセプタクルとを備え、それによって、レセプタク内にある時の機器の動作時に、プラズマジェットが、ターゲット要素に入射して、変換器にプラズマジェットによるターゲット要素の加熱を示す較正信号を生成させる。
人の皮膚は、２つの主要な層を有する。すなわち、外層であり、通常、顔面領域で約１２０μの厚みを有する表皮、並びに、通常、表皮より２０〜３０倍厚く、毛包、皮脂腺、神経終末及び毛細血管を含む真皮である。容積で、真皮は主に蛋白質コラーゲンでできている。
【００１９】
加齢及び紫外（ＵＶ）光に対する暴露によって、皮膚構造に対する変化がもたらされ、これらの変化は、弾性の喪失、たるみ、しわ、及び血管分布の減少に伴う皮膚の蒼白又は黄変を含む。これらの作用の背景は、本願と同日に出願された「Method of Regenerating
the Reticular Architecture of the Dermis」という名称の本出願人の同時係属中の特許出願に説明されており、その開示は、参照により本明細書に援用される。
【００２０】
本発明は、熱エネルギービームを放出する手持ち式組織処置機器を有する組織処置システムを使用して、組織の網状構造を再生する美容方法に用途を有し、この方法は、処置機器を温度検知ターゲットデバイスと位置合わせして配置し、熱エネルギービームをターゲットデバイスに向けて送るようにシステムを動作させ、ターゲットデバイスの出力に応答してシステムの少なくとも１つのエネルギー設定を調整して、エネルギー出力についてシステムを較正し、処置される組織エリアの上の処置位置に処置機器を移動させ、較正システムを使用して、熱エネルギーが組織表面に送出されるように、システムを動作させることによって、システムのエネルギー送出を較正することを含む。
【００２１】
本発明はまた、熱エネルギー供給源を使用して組織の網状構造を再生する美容方法に用途を有し、この方法は、送出されたエネルギーを検知するターゲットデバイスと連携して供給源を動作させるとともに、デバイスの出力に応答して供給源を調整することによって供給源を較正するステップと、調整された供給源を動作させるステップであって、それによって、ＤＥ結合部の領域で熱的に改質した組織の第１隣接領域及び第２隣接領域を形成
する、動作させるステップとを含み、上記第１領域は、上記第２領域を覆い、且つ、上記第２領域に比べて著しく熱的に改質される。
【００２２】
本発明の別の応用形態では、熱エネルギー供給源を使用して真皮の網状構造を再生する美容方法は、送出されたエネルギーを検知するターゲットデバイスと連携して供給源を動作させるとともに、デバイスの出力に応答して供給源を調整することによって供給源を較正するステップと、調整された供給源を動作させるとともに皮膚の表面に向けるステップであって、それによって、皮膚の表皮及び真皮の領域で熱的に改質した組織の第１隣接領域及び第２隣接領域を形成する、動作させるとともに皮膚の表面に向けるステップとを含み、上記第１領域は、上記第２領域を覆い、且つ、熱エネルギーの送出後数日して上記第２領域から分離する程度に熱的に改質され、上記分離の深さは、送出されるエネルギー量及び皮膚の熱容量に依存する。
【００２３】
好ましい一実施の形態では、熱エネルギー供給源は、皮膚表面上の単一パスについて動作し、熱エネルギー供給源は、所望の効果深さに依存したエネルギー設定を有するように仕組まれる。別法として、熱エネルギー供給源は、皮膚表面上の少なくとも２つのパスにわたって動作し、パスのエネルギーレベルは、所望の効果深さに依存して選択される。
【００２４】
いずれの場合も、熱エネルギー供給源のエネルギー設定は、第１パスで空胞化を生じるようなものであってもよい。後者の場合、熱エネルギー供給源のエネルギー設定は、第１パスで空胞化を生じないようなものであってもよく、それによって、処置された皮膚を除去することなしに第２パスを可能にする。
【００２５】
好ましくは、熱エネルギー供給源のエネルギー設定は、生体包帯としての表皮の完全性を保存するようなものである。
【００２６】
好ましい一実施の形態では、熱エネルギー供給源は、処置後２〜５日で皮膚内に割線が生じるように動作し、割線は、上記第１領域と第２領域の間で生じる。或る特定の場合、熱エネルギー供給源の動作は、表在性表皮及び上部真皮の角質層内で２〜３の細胞の深さの割線を形成するようなものであってもよい。
【００２７】
有利には、熱エネルギー供給源の動作は、第１領域の組織が脱落組織になるようなものである。この場合、脱落組織は、割線の領域に新しい表皮が実質的に生成すると、除去される。
【００２８】
好ましくは、上記第２領域の割線の下の組織は、下部表皮、基底膜、及びＤＥ結合部を含む。より好ましくは、少なくとも、熱的に改質した基底膜及びＤＥ結合部が再生される。
【００２９】
或る特定の場合、割線は、日光弾力線維症で且つ障害を受けた線維芽細胞が脱落するように、日光弾力線維症のエリアの下に形成する。
【００３０】
好ましくは、熱エネルギー供給源の動作は、第２領域で皮膚のコラーゲンを変性させるようなものである。
【００３１】
好ましい一実施の形態では、上記第２領域内の組織は、表皮の再生に続いて再生プロセスを受ける。
【００３２】
この場合、真皮の網状構造は、ＵＶ放射の作用にあまりさらされていない線維芽細胞によって、完全に、又は、部分的に再生する。
【００３３】
真皮のコラーゲン構造及び／又はエラスチン構造及び／又はＧＡＧＳは、ＵＶ放射の作用にあまりさらされていない線維芽細胞によって、完全に、又は、部分的に再生する。
【００３４】
好ましくは、治癒プロセスは、瘢痕及び色素脱失のリスクが実質的になくなるようなものである。
【００３５】
有利には、加齢及び光障害に伴う皮膚変化の徐々の改善は、処置後６〜１２ヶ月の期間にわたって起こる。
【００３６】
好ましい一実施の形態では、熱エネルギー供給源は、電力出力デバイスに接続される電極を有する機器であり、電力出力デバイスは、電極の領域に電界を生成するように動作し、ガス流は、電界を通して送られて、電界とガスの相互作用によって、プラズマが生成し、プラズマは、所定期間の間、組織上に向けて送られ、電界からプラズマに移動した電力は、真皮細胞内に形成される蒸気ポケットによって、真皮の少なくとも或る部分を乾燥させるように制御される。
【００３７】
好ましくは、電力出力デバイスは、ミリ秒の継続時間の個別の熱パルスを送出するように動作する。
【００３８】
有利には、パルスは、約０．５ミリ秒又は２ミリ秒〜約１００ミリ秒の範囲の継続時間、好ましくは、約４．５〜約１５．４ミリ秒の範囲の継続時間を有する。
【００３９】
便宜上、電力出力デバイスは、第１の所定のノズル径を有する機器について、約１ジュール〜約４ジュールの範囲のエネルギーを送出し、第１の所定の径より小さい第２の所定の径を有する機器について、０．５ジュール未満〜約２．０ジュールの範囲のエネルギーを送出するように動作する。
【００４０】
好ましくは、第１の所定の径はほぼ５ｍｍであり、第２の所定の径はほぼ１．５ｍｍである。
【００４１】
熱エネルギーは、熱エネルギー供給源から組織に、組織表面における熱エネルギーを蓄えた流体ジェットとして送出されてもよく、流体ジェットは、通常、イオン化された２原子ガスのジェットを含む。
【００４２】
本発明は、ここで、図面を参照して例として述べられるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
図１を参照すると、本発明による組織処置システムは、床置き発生器ハウジング１２内に取り付けられ、発生器を異なるエネルギーレベル設定に設定するユーザインタフェース１４を有する発生器１０を有する。手持ち式組織処置機器１６は、コード１８によって発生器１０に接続される。機器１６は、再利用可能ハンドピース部１６Ａ及び使い捨てノーズアセンブリ１６Ｂを備える。
【００４４】
発生器ハウジング１２は、不使用時に機器を格納する機器ホルダ２０を有する。
【００４５】
コード１８は、ｒ．ｆ．エネルギーを発生器１０から機器１６へ伝達する同軸ケーブル及び窒素ガスをガス貯蔵器又は供給源（図示せず）から発生器ハウジング１２内部に供給するガス供給パイプを含む。遠位端で、コード１８は、再利用可能ハンドピース部１６Ａのケーシング２２内を通る。
【００４６】
再利用可能ハンドピース１６Ａでは、同軸ケーブル１８Ａは、図２に示すように、内部電極２６及び外部電極２７に接続され、それによって、電極を発生器に結合して、ｒ．ｆ．電力を受け取る。内部電極２６は、外部電極２７内で長手方向に延びる。電極の間には、使い捨て機器ノーズアセンブリ１６Ｂ内に収容される耐熱管２９（好ましくは石英から成る）の形態のガス管路がある。ノーズアセンブリ１６Ｂが、再利用可能ハンドピース部１６Ａに固定されると、管２９の内部は、ガス供給パイプの内部と連通し、ノーズアセンブリは、再利用部内に受け入れられ、その結果、内部電極２６及び外部電極２７は、管と連結し、内部電極２６は管２１内を軸方向に延び、外部電極２７は管２９の外側の周りに延びる。
【００４７】
螺旋状に巻かれたタングステンコイル３１の形態の共振器は、石英管２９内に設置され、使い捨てノーズ１６Ｂがハンドピースの再利用可能部分の所定位置に固定されると、コイルの近位端が、内部電極２６の遠位端に隣接するように、コイルが位置決めされる。コイルは、石英管２９の内面に隣接し、且つ、密着するように巻かれる。
【００４８】
使用時、窒素ガスは、供給パイプによって管２９の内部に供給され、内部電極２６の遠位端に隣接するロケーションに達する。ｒ．ｆ．電圧が、同軸ケーブルを介して電極２６及び２７に供給されると、内部電極の遠位端の領域の管２９の内部に、強力なｒ．ｆ．電界が生じる。電界強度は、発生器の動作周波数で共振する螺旋コイルによって増大され、こうして、窒素ガスのプラズマへの変換が促進され、プラズマは、石英管２９のノズル２９Ａでジェットとして出る。プラズマジェットは、処置される組織上に送られ、ノズル２９Ａは、通常、組織の表面から数ミリメートルのところに保持される。
【００４９】
機器を繰り返して使用する結果、石英管２９及びその共振コイル３１は交換を必要とする。これらの要素を収容する使い捨てノーズアセンブリ１６Ｂは、機器の再利用部１６Ａから容易に脱着され、機器の２つの構成部品１６Ａ、１６Ｂの間のインタフェースは、電極２６、２７に対して石英管２９及びコイル３１の正確なロケーションを提供する。
【００５０】
図３を参照すると、ｒ．ｆ．エネルギーは、マグネトロン２００において生成される。マグネトロン２００用の電力は、２つの方法で、すなわち、第１に、電源ユニット２０４から供給を受けるインバータ２０２によって生成される、カソード用の高ＤＣ電圧として、第２に、ヒータ電源ユニット２０６からのカソードヒータ用のフィラメント電源として供給される。インバータ２０２及びフィラメント電源２０６で表される高電圧電源は、マグネトロンの電力出力を制御するＣＰＵコントローラ２１０に結合する。ユーザインタフェース２１２は、他の機能の中でもとりわけ、電力出力モードを設定するために、コントローラ２１０に結合する。
【００５１】
マグネトロン２００は、高ＵＨＦ帯域、通常、２．４７５ＧＨｚで動作し、出力ライン上に出力を生成し、出力ラインは、マグネトロン出力を同軸５０オームフィーダに変換する給電移行段２１３に給電し、低周波ＡＣ分離もまた、この段によって提供される。その後、サーキュレータ２１４は、給電移行段２１３の出力用の一定５０オーム負荷インピーダンスを提供する。移行段２１３に結合する第１ポート以外に、サーキュレータ２１４は、手持ち式機器１６（図１）にＲＦ電力を送出するために、ＵＨＦ分離段２１５、したがって、発生器の出力端子２１６に結合する第２ポート２１４Ａを有する。反射電力は、サーキュレータ２１４から抵抗性電力ダンプ２１５に給電される。順方向電力検知接続部２１６及び反射電力検知接続部２１８は、コントローラ２１０用の検知信号を提供する。
【００５２】
コントローラ２１０はまた、ガス供給弁２２０を開閉するための制御信号を、ライン２１９を介して印加するため、窒素ガスは、供給源２２１からガス供給出口２２２へ供給さ
れ、必要な時に、コード１８内のガス供給パイプを通して機器１６（図１）に送られる。
【００５３】
コントローラ２１０は、マグネトロン２００をパルス駆動するようにプログラムされるため、ユーザがフットスイッチ（図面には示さず）を押すと、ｒ．ｆ．エネルギーが、通常、約１Ｈｚ〜約４Ｈｚのパルス繰り返しレートで、ＵＨＦ出力２１６へパルス波形として送出される。単一パルスモードもまた設けられる。パルスは、好ましくは、２ｍｓ〜１００ｍｓの範囲の継続時間を有する。コントローラ２１０はまた、ｒ．ｆ．エネルギーの供給と同時に、窒素ガスが手持ち式機器に供給されるように弁２２０を動作させる。ｒ．ｆ．エネルギーの送出モードのさらなる詳細は、上述の米国特許第６，７２３，０９１号に記載される。
【００５４】
発生器内のｒ．ｆ．電力レベルは、コントローラ２１０によって監視されるが、機器１６（図１）から出るプラズマジェットによって、処置される組織に送出される実際のエネルギー又は電力に、種々の因子が影響を与える可能性がある。そのため、送出されるエネルギー又は電力は、コントローラ２１０にプログラム入力される内部設定によろうが、ユーザインタフェース２１２を使用した、ユーザによって実施される設定によろうが、コントローラ２１０によって設定された値に正確には対応しない。
【００５５】
エネルギー送出に影響を与える外部因子は、たとえば、経年変化又は物理的損傷による接続ケーブルの不完全度、ガス供給の変動、ハンドピースの内部電極２６（図２）の劣化、及び石英管２９の劣化又は損傷を含む。
【００５６】
これらの因子を考慮するために、発生器は、図３の発生器ブロック図のブロック形態で示すように、且つ、図４、図５、及び図６の図において示すように、較正デバイス３００を含む。
【００５７】
較正デバイス３００は、円筒本体部３０２及び本体３０２の端面に取り付けた薄いアルミニウム板３０４の形態の平坦ターゲット要素を有する円筒熱量計で構成される。この熱量計デバイス３００は、図４に示すように、機器ホルダ２０の下で発生器ハウジング内に取り付けられる。機器ホルダ２０の内部形状は、手持ち式機器又はハンドピース１６の遠位部分の外部形状に対応する。特に、機器ホルダ２０の内面は、較正デバイス３００のターゲット板３０４に対して長手方向にハンドピース１６のノーズを設置するために、テーパが付けられるか、又は、階段状になっている。機器ホルダ２０はまた、ハンドピース１６を横方向に、また、回転して設置するよう形作られ、ハンドピース遠位部分は、ハンドピースがホルダに挿入されると、機器ホルダ２０の内部の対応する機構と協働する非対称断面を有する。こうして、ノズル２９Ａの位置及び向き、特に、ターゲット板３０４からの間隔が正確に画定される。
【００５８】
図５では、機器設置用機構は、較正デバイス３００と同様に線図で示される。機器１６が較正ルーチンで動作する時で、且つ、機器ホルダ２０に収容される時、プラズマジェットは、ターゲット板３０４の所定のターゲット表面部分上に入射するように、ノズル２９Ａから送られる。排ガスは、ノズル２９Ａと位置合わせされているターゲット板のターゲット表面部分から半径方向外側に流れて、ターゲット板３０４の縁部と発生器ハウジングの構成要素３０５の間の周囲ベント４００を通って出る。
【００５９】
図５において線図で示すように、また、図６の分解図において示すように、熱量計は、ペルチエ素子３０６の形態の温度変換器がその上に取り付けられる内部ヒートシンク壁３０２Ａを有するアルミニウム円筒本体部３０２を有する。凹部３０２ＡＲ（図６）は、この目的のために、熱量計ヒートシンク壁３０２Ａ内に形成される。変換器３０６は、ヒートシンク壁３０２Ａとターゲット板３０４の間に挟まれ、両者と密着する。ペルチエ素子
３０６とペルチエ素子３０６が接触する２つの表面の間の熱伝導性を改善するために、熱伝導性化合物が塗布される。
【００６０】
機器ホルダ２０は、耐熱管２９の軸を、円形ターゲット板３０４に対して中心に、且つ、円形ターゲット板３０４の表面に対して垂直に位置決めする。
【００６１】
ペルチエ素子３０６は、２つの面の間に温度差が存在すると、デバイスの両端に電圧が生成される特性（ゼーベック効果）を有する。電圧は、温度差に比例的に関連する。較正デバイス３００は、その本体部内に、ペルチエ素子からの信号を調節し、増幅して、較正信号を生成する電子回路３０８を含む。回路からの出力は、較正信号を評価することができるように、発生器のコントローラ２１０（図３を参照されたい）に接続される。好ましくは、ターゲット板３０４は、発生器ハウジングのグラウンドに接地される。
【００６２】
較正デバイスの動作は、図７を参照して、ここで述べられるであろう。プラズマジェットがターゲット板３０４に衝当すると、ターゲット板が加熱される。熱は、ペルチエ素子３０６の隣接面に伝導される。ペルチエ素子３０６の反対面は、周囲温度か、又は、ほぼ周囲温度にある熱量計本体部３０２と熱的に接触しているため、ペルチエ素子３０６の２つの表面間に温度差が生じる。これによって、ペルチエ素子の出力に、或る電圧が生じる。アルミニウム板の温度上昇は、送出されるエネルギーにほぼ比例するため、ペルチエ素子の電圧出力は、送出されるエネルギーにほぼ比例する。
【００６３】
原理上、機器によって送出されるエネルギーを特徴付けるのに、単一プラズマパルス（窒素ガス供給機器１６を作動し、同時に、ｒ．ｆ．エネルギーの単一パルスを機器に送ることによって生じる）を使用することができる。実際に、より高い精度のために、一連のプラズマパルスの作用を記録し、対応する複数のペルチエ素子出力信号のサンプルを含む較正信号を生成することが有利である。コントローラ２１０では、たとえば、ノイズの影響を軽減するために平均することによって、これらの較正信号サンプルの関数である較正値が計算される。しかしながら、これらの状況下では、或る期間にわたって（たとえば、０．５〜２秒の間）放出されたプラズマパルスの連続によって、熱量計本体部３０２による熱の不完全な消費のために、熱量計本体部の壁３０２Ａのヒートシンクとしての有効性が減少する。例として、ペルチエ素子を熱量計本体部のヒートシンク壁３０２Ａから熱的に絶縁する効果を考える場合、ペルチエ素子のこの基準表面、すなわち、ターゲット板３０４に接触する表面と反対の表面は、急速に加熱され、最終的に、２つの表面の間の温度差が実質的にゼロになるほどに十分に熱くなることが理解されるであろう。これは、各プラズマパルスによる電圧上昇が、徐々に減少するという効果を有することになる。ペルチエ素子３０６がたとえ熱量計本体部壁３０２Ａと熱的に密着していても、この効果は、或る程度観測され、実際に、図７のオシロスコープのトレースに見ることができる。
【００６４】
図７を参照すると、ペルチエ素子からの例示的な電圧信号が示される。電圧信号は、機器ホルダ２０（図４）内で、機器１６からターゲット板３０４に、５つのプラズマパルスが発射される時に観測される出力である。この例におけるパルスの繰り返しレートは約４Ｈｚである。パルス列の第１パルスから生じるペルチエ素子出力信号は、図７のオシロスコープ表示の左側に現れる。各プラズマパルスは、同じ公称エネルギー量を送出するが、熱量計本体部壁３０２Ａ（図６）が徐々に加熱される結果として、各パルスについての対応する信号ピークは異なることが分かる。
【００６５】
この実施の形態では、調節及び増幅回路３０８は、４ジュールのエネルギーパルスに等価なプラズマパルスが、１〜１０ボルトの領域の出力電圧変化をもたらすように調整される。この範囲内の電圧は、できる限り電気的干渉問題を回避するために選択される。エネルギーに対する電圧のスケーリングは、普通なら全く任意であり、発生器のコントローラ
１１０のＣＰＵにインタフェースするという要件に合うように選択される。
【００６６】
図７に見られるように、５つのプラズマパルスのそれぞれについての電圧レベルの差は、熱量計の熱特性の関数であり、また、所与の熱量計設計について、これらの熱特性は一定であるため、既知のエネルギーのプラズマパルスに対する熱量計の応答が規定されると、熱量計は、処置機器によって送出されるエネルギーを測定するのに使用することができる。
【００６７】
好ましい一実施の形態では、コントローラ２１０（図３）は、第２、第３、及び第４のペルチエ素子出力パルスのピークをサンプリングし、ピークレベルを平均することによってこれらを処理し、得られた値を記憶した予想値と比較する。代替の好ましい一実施の形態では、第３出力パルスに関連するピークレベルがサンプリングされる。
【００６８】
図４に示す機器ホルダ２０は、ターゲット板３０４に対する機器１６のミスアライメントを回避するため、結果の一貫性が達成される。任意のミスアライメントは、プラズマ出口ノズル２９Ａからターゲット板３０４までの「スタンドオフ」距離の変動、ペルチエ素子の中心に対するプラズマ軸の半径方向オフセット、及び軸がターゲット板に垂直でないという結果をもたらす。
【００６９】
機器ホルダ２０が適切に形作られていると仮定すると、較正デバイスは、異なる出口ノズル径を有する異なる機器で使用される時に、必要とされる性能を持ち、ミスアライメントがない状態で動作することができる。
【００７０】
製造公差、又は機器が機器ホルダに挿入され位置決めされる仕方の変動の結果であり得る任意のミスアライメントの作用を軽減する１つの機構は、ペルチエ素子が、較正される機器からのプラズマジェットの公称幅より大きな検知エリアを有することである。さらに、ペルチエ素子は、個々の温度検知素子の分散アレイを有して、半径方向のミスアライメントに対する感度を減少させる。
【００７１】
ペルチエ素子３０６の比較的大きな面積はまた、プラズマジェット全体がペルチエ素子の検知エリア内のターゲット板に衝当する可能性を増加させる。したがって、プラズマジェットが、一般に、十分にコリメーションされず、ノズル２９Ａからの出口上で発散しないと仮定すると、較正デバイスは、ターゲット板３０４からのノズル２９Ａのスタンドオフ距離の変動に比較的感度が低い。
【００７２】
同様に、ペルチエ素子３０６の比較的大きな面積はまた、ターゲット板３０４に対するプラズマジェット軸のアライメントの変動がないことに寄与する。
【００７３】
本発明によるシステムの好ましい実施の形態は、半自動較正手順を規定するように構成される。
【００７４】
処置前に、ユーザは、処置機器１６を機器ホルダ２０（図４）内に嵌合することを要求される。ホルダ２０内への機器の正確な嵌合を電気的に検知することに応答して、又は、たとえば、キー押下による確認の形態での、ユーザからの指示に応答して、機器を作動させるためにフットスイッチの操作を要求する信号がユーザに提供される。機器が使い捨て部分を有する場合、システムはまた、この部分が嵌合したことの確認を要求してもよい。
【００７５】
フットスイッチが作動すると、発生器及びコントローラ２１０（図３）内のＣＰＵの自動制御によって、それぞれの連続するパルス間の指定した間隔で所定数（５つ）のプラズマパルスが生成される。好ましい実施の形態では、パルス繰り返し間隔は２５０ｍｓであ
る。較正デバイスからの較正信号は、その後、コントローラ２１０によって処理され、結果として得られる較正値が、問題の特定の機器（又は２つ以上のタイプのノズルが嵌合し得る特定のノズル）についての予想値と比較される。
【００７６】
予想値からの任意の偏差のサイズ及び性質に応じて、発生器は、
ａ）ｒ．ｆ．電力レベルに対してわずかな調整−「自動較正」又は自己較正−を行い、公称エネルギー設定からの（たとえば、１０％以下の、又は、そうでなければ、医療デバイスの安全及び効率要求を全体として満たすシステムに適合する）わずかの偏差を補償する。これは、システム及び使い捨てノズルの性能の変動が、自動的に補償されることを可能にし、普通ならそうなるのに比べて、エネルギー送出のより大きな精度を与える。過剰の出力電力調整によって、ソフトウェア制御システムと独立に動作する過剰投与又は臨界制限回路要素が、故障状態を検出し、さらなる動作を防止することに留意されたい。
ｂ）整備又は別のサービス機能が要求される可能性があるほどに、経年変化又は他の作用が、発生器及び／又はその付属品を劣化させたが、それ以外では、エネルギー送出精度が、所望されるように、且つ、システムの安全性及び効率と適合するように、出力レベルを十分に補償することができると判断する。これは、メッセージ又は他の指示器を通してユーザに伝達されてもよい。
ｃ）ユーザが容易に変えることができるノズル又は他のシステム部分が故障していると判断し、交換が確認されると、試験を繰り返すようにさせる。
ｄ）たとえば、発生器とハンドピースの間のｒ．ｆ．ケーブルに対する損傷によって生じた故障が存在し、不正確な動作及び患者に対する不正確なエネルギーの送出をもたらすことになると判断する。この場合、発生器は、さらなる動作を停止させることになる（リセットしなければ、この場合、試験が処置前に実施されなければならない）。その後、故障状態をユーザに示すために、適切なメッセージが表示される。
【００７７】
システムの較正及び調整に関して、較正デバイス３００と組み合わせてコントローラ２１０によって実施される主要なステップは、較正測定値に応答して発生器を調整し、予想されるエネルギー測定値の偏差を補償し、それによって、較正手順で始まる処置セッションのための新しいエネルギー送出設定を確立することを含む。好ましいシステムでは、エネルギーレベルは、予想値からの測定値の偏差にほぼ比例するように調整される。これは、所定の調整範囲、たとえば、予想値より１０％高い、且つ／又は、予想値より１０％低い、１つ又は複数の限界まで実施されてもよい。特に、好ましいシステムは、図８のフロー図に示すステップのシーケンスを実施する。
【００７８】
図８を参照すると、初期自己チェックステップ８００は、ハンドピースが、取り付けられたノズルを有すること、及び、ハンドピースとノズルが、機器ホルダ２０（図１）内に配置されていることをユーザが確認することを含む。ウォームアップ期間８０２の後に、コントローラは、少なくとも所定の最小期間の間、フットスイッチの操作を検出する（ステップ８０４）。その後、較正エネルギーバーストが送出され、プラズマジェットが、ターゲット要素上に衝当し、ペルチエ素子出力信号が、１０ｍｓごとにサンプリングされる（ステップ８０６）。パルス出力信号が検出される（ステップ８０８）と仮定すると、所定の出力信号パルス、この場合、第３パルスのピークレベルが測定され（ステップ８１０）、予想値又は基準値と比較される（ステップ８１２）。
【００７９】
比較が、予想値から２０％より大きい出力信号レベルの偏差を示す場合（ステップ８１４）、発生器出力は、部分的補償として１０％だけ調整され（ステップ８１６）、エラー表示が提供される（ステップ８１８）。
【００８０】
予想値からの偏差が、２０％以下である（ステップ８２０）が、１０％より大きい場合、発生器出力は、１０％だけ調整される（ステップ８２２）が、エラー信号は提供されな
い。
【００８１】
偏差が１０％より小さい場合、発生器のエネルギーレベル設定は、偏差に比例して、且つ、偏差を補償するような方向で調整される（ステップ８２４）（すなわち、測定値が予想値より小さい場合には発生器出力を増加させることによって、又は、測定値が予想値より大きい場合には発生器出力を減少させることによって）。
【００８２】
したがって、好ましい実施の形態では、エネルギーレベル補償は、所定の最大調整値、この場合、エネルギーの点で１０％まで比例的に実施されることが理解されるであろう。予想値からの測定値のより大きな偏差は、所定の最大調整値、すなわち、１０％に等しい最大エネルギーレベル調整値をもたらし、それによって、偏差が部分的に補償される。
【００８３】
先に述べたように、患者処置の前にエネルギー送出がチェックされることがシステム要件である。好ましい実施の形態によって、ユーザが、後で、較正チェックを実施する。
【００８４】
さらに、ノズルの変更によって（ユーザか、他の手段のいずれかによって始動される）、ユーザは、機器の性能をチェックするように発生器から要求される。
【００８５】
好ましい実施の形態では、半導体素子（ペルチエ素子）のアレイを有するデバイスは、温度検知変換器として使用される。一代替形態として、熱電対又は熱電対のアレイ或いは１つ又は複数のサーミスタを使用することも可能である。
【００８６】
述べ、示した較正デバイスは、発生器の一部を形成し、発生器ハウジングに取り付けられる。しかしながら、デバイスは、外部で使用されることができ、発生器に接続されてもよいし、されなくてもよい。後者の場合、自己較正は可能ではないが、発生器の機構に応じて、ユーザは、較正デバイスからの信号又は表示に応答して、発生器出力を手動で調整してもよい。
【００８７】
本発明のより広い範囲内のシステムは、加熱エネルギーが、低い熱時定数を有する供給源から組織に送出されるシステムを含んでもよい。通常、処置エネルギーは、非常に短い継続時間（通常、０．５〜１００ｍｓ）のパルスで、レーザエネルギーの発色団及び無線周波数エネルギーの組織抵抗性などの、１つの種類のエネルギーから別の種類のエネルギーへの中間変換に頼ることなく送出することができる。
【００８８】
使用時、機器１６は、美容的に処置される組織表面上を進み、ノズル２９ａは、通常、組織表面から数ミリメートルのところで保持される。パルス継続時間及びエネルギーレベルは、ＤＥ結合部の領域において熱的に改質した組織の第１隣接領域及び第２隣接領域を形成するように選択される。第１の上部領域は、熱損傷ゾーンと呼ばれ、第２の下部領域の熱的改質より大きい熱的改質を有する。熱的に損傷を受けたゾーンは、熱エネルギーの送出後数日して第２領域から分離する程度まで熱的に改質される。第１の損傷領域の分離に続いて、表皮及び真皮の上部領域が、自然に再生する。
【００８９】
２原子プラズマを使用する利益は、短時間で加熱を引き起こす比較的大量のエネルギーを送出することが可能であることである。これは、ミリ秒の継続時間の個別のパルスでの送出を可能にし、単に熱いガスからの熱伝導とは対照的である。好ましい実施の形態では、５ミリメートルの出口径を有するノズルについて、１ジュール〜４ジュールのエネルギーが、それぞれ、４．５〜１５．４ミリ秒の期間で送出され、１．５ミリメートル未満の出口径を有するノズルについて、同じ期間に０．５ジュール未満から２ジュールまでのエネルギーが送出される。５０ミリ秒まで延びるさらに長いパルスによって、有益な臨床効果が達成されることを、実験が示しており、さらなる分析は、１００ミリ秒以上への伸張
が有益な効果を提供することになることを示す。さらに、パルス幅は、同じか、そうでなければ同様な、有益な加熱エネルギーを送出するために短縮されてもよい。０．５ミリ秒ほどの短いプラズマパルスは、上述したシステムによって生成された。
【００９０】
別の利益は、酸素が、プラズマ及びプラズマパルスの直後に続く不活性ガス流によって皮膚表面からパージされることである。結果として、熱エネルギーの印加によって皮膚表面で起こることが多い酸化的炭化が回避され、構造的変化が小さい状態で乾燥した無傷の上皮が残る。
【００９１】
それでも、この小さな構造的変化は、高いエネルギー設定において表皮の熱特性を変えるため、本発明のさらに別の利益を提供する時に重要である。２ジュールより大きなエネルギー設定での皮膚表面上の単一プラズマパスに続いて、基底膜の表皮細胞は、細胞内容物の空胞化を生じる程度に加熱される。空胞化は、後続のパスからのエネルギーの吸収及び侵入深さを制限する自然の断熱物を作成する。これは、皮膚表面上の同じ部位に対して、不注意によって複数パスを印加することによる、過剰な損傷のリスクを回避する有利な安全機構である。
【００９２】
別法として、２ジュール以下のエネルギーパルスを使用すると、空胞化は観測されず、処置される皮膚は、第２パスの熱エネルギーを吸収することが依然として可能であり、プラズマを収束させるための狭いノズルか、より高いエネルギー設定を使用して、第２パスのエネルギーを変えることは、相加効果を有するであろう。狭いノズルの一実施の形態を使用する利益は、収束したエネルギーを、より深いしわなどの皮膚表面の特定エリア上に送ることができることである。
【００９３】
たとえば、皮膚が、４ジュールの２つのパスを受ける場合、熱的効果の深さは、４ジュールの単一パスの場合より１０〜２０％だけ大きい。別法として、皮膚が、最初に、２ジュールで処置される場合、４ジュールの第２パスによって、効果は、６ジュールの単一パスと一致するであろう。この利益の一部はまた、局所的麻酔薬による前処置の後の、皮膚、特に、表皮の上部層の含水量に関連する。
【００９４】
本発明に関する実験によって、効果深さは、局所的麻酔薬の適用後の表皮の上部層の水和作用に応じて、５０％まで変わることが明らかになった。局所的麻酔薬は、皮膚を通して麻酔薬剤が侵入するために、表在性表皮の水和作用に依存することから、水和作用成分を含む。これは、純然たる熱エネルギーの吸収を変化させ、それによって、エネルギーの大部分は、表在性表皮内で消費され、真皮内への侵入が減少する。麻酔又は腫脹性表皮下麻酔が使用されない場合、所与のエネルギー設定についての真皮侵入深さは、２倍になる可能性がある。２ジュールでの前処置は、局所的麻酔薬の使用後の、表在性表皮の十分な乾燥を生じるため、麻酔又は腫脹性表皮下麻酔が無い状態で達成される効果深さに対して、第２パスによって、等価的な効果深さを生成することができる。
【００９５】
短時間で、比較的大量のエネルギーを送出する２原子プラズマを使用する理由は、任意の望ましくない臨床効果を回避しながら、望ましい臨床効果をもたらす、非可逆的臨床効果（組織の熱的改質及び熱的損傷）が、所定の組織深さにわたって起こるためである。加熱エネルギーが、あまりに長時間送出される場合、皮膚表面からの対流及び下にある組織への伝導効果は、著しい温度上昇が生じないようなものである。一方、時間が短か過ぎる場合、皮膚表面で、又は、皮膚表面又は皮膚表面の近くでの非可逆的効果（水の蒸発など）は、普通なら有益な加熱エネルギーを運び去ることになる。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】本発明による組織処置システムの線図である。
【図２】機器ホルダに収容された、図１のシステムの一部を形成する組織処置機器の長手方向断面図である。
【図３】図１のシステムで使用するための、無線周波数発生器のブロック図である。
【図４】図１のシステムの組織処置機器及び較正デバイスの切り取り図であり、機器は機器ホルダ内に設置される。
【図５】組織処置機器及び較正デバイスの線図である。
【図６】較正デバイスの分解図である。
【図７】変換器出力信号のオシロスコープのトレースを示す図である。
【図８】エネルギーレベル補償方法の原理を示すフロー図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【外国語明細書】
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