(57)【要約】 【課題】  本発明は、フォトマスクの端面のレジストを効率良く洗浄するためのマスク端面のブラシ式洗浄装置を提供することを目的とするものである。【解決手段】  本発明は、上記の課題を解決するために、回転軸によりファイバーを回転させてマスクの端面からレジストを除去する円柱状のブラシと、前記マスクの表面に被せ、中心に空けた純水供給口に表面側からホースにより純水を供給し、裏面の前端及び後端に設けたサイドフィン及び前記サイドフィンの間に左右に複数設けた流れ調整フィンにより純水の流れを調整しつつ、前記マスクの表面との間に純水を保持して前記マスクの表面をオゾン水から保護する板状のカバーと、前記マスクの上方に管を通し、前記管の穴から前記マスクの端面とブラシとの間に高濃度のオゾン水を噴射するオゾン水噴射口とからなることを特徴とするマスク端面のブラシ式洗浄装置の構成とした。【選択図】  図１
2006308727.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸によりファイバーを回転させてマスクの端面からレジストを除去する円柱状のブラシと、前記マスクの表面に被せ、中心に空けた純水供給口に表面側からホースにより純水を供給し、裏面の前端及び後端に設けたサイドフィン及び前記サイドフィンの間に左右に複数設けた流れ調整フィンにより純水の流れを調整しつつ、前記マスクの表面との間に純水を保持して前記マスクの表面をオゾン水から保護する板状のカバーと、前記マスクの上方に管を通し、前記管の穴から前記マスクの端面とブラシとの間に高濃度のオゾン水を噴射するオゾン水噴射口とからなることを特徴とするマスク端面のブラシ式洗浄装置。
【請求項２】
ブラシを上下左右に移動させてマスクの端面を洗浄することを特徴とする請求項１に記載のマスク端面のブラシ式洗浄装置。
【請求項３】
マスクを上下左右に移動させてマスクの端面を洗浄することを特徴とする請求項１に記載のマスク端面のブラシ式洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクの端面のレジストを効率良く洗浄するためのマスク端面のブラシ式洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フォトマスクとは、半導体の基板上に形成するパターンを転写するための原版であり、パターンを感光させるために付着させたフォトレジストを、パターンを形成した後に洗浄して除去する。
【０００３】
フォトマスクの洗浄は、フォトマスクを洗浄液に浸す方法が用いられていたが、フォトマスクの表面と端面を同時に洗浄すると、端面のフォトレジストが表面に付着してしまうこともあるため、端面のみを洗浄する方法も採られている。
【０００４】
従来においては、フォトマスクの端面に付着したフォトレジストを除去する際には、アルコール類や有機系剥離液などの薬液を用いてソフトブラシで拭き取る洗浄方法が、主に用いられていた。
【０００５】
特許文献１に記載されているように、洗浄に要する時間を短縮し、フォトマスク等のメインパターン部及び裏面を汚染することが無いような基板端面洗浄装置の発明も公開されている。
【特許文献１】特開２００２−０４９１４４号公報
【０００６】
また、特許文献２に記載されているように、基板表面からレジスト残渣を除去する基板現像処理装置の発明や、特許文献３に記載されているように、半導体素子形成用基板表面処理方法の発明も公開されている。
【特許文献２】実開平５−４５７１２号公報
【特許文献３】特開２００１−１８５５２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来の薬液には有害な物質が含まれている場合もあるため、高濃度のオゾン水を使用することが考えられるが、フォトマスクの端面の洗浄時にオゾン水が洗浄済みの表面に付着して問題となる。
【０００８】
そこで、本発明は、フォトマスクの端面のレジストを効率良く洗浄するためのマスク端面のブラシ式洗浄装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記の課題を解決するために、回転軸３ｂによりファイバー３ａを回転させてマスク２の端面２ａからレジスト７を除去する円柱状のブラシ３と、前記マスク２の表面２ｂに被せ、中心に空けた純水供給口４ｊに表面４ｍ側からホース４ｋにより純水８を供給し、裏面４ｎの前端及び後端に設けたサイドフィン４ｂ、４ｃ及び前記サイドフィン４ｂ、４ｃの間に左右に複数設けた流れ調整フィン４ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４ｉにより純水８の流れ６ｇを調整しつつ、前記マスク２の表面２ｂとの間に純水８を保持して前記マスク２の表面２ｂをオゾン水６ｆから保護する板状のカバー４と、前記マスク２の上方に管５ａを通し、前記管５ａの穴５ｂから前記マスク２の端面２ａとブラシ３との間に高濃度のオゾン水６ｆを噴射するオゾン水噴射口５とからなることを特徴とするマスク端面のブラシ式洗浄装置１の構成とした。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、以上の構成により以下の効果が得られる。第１に、マスクの表面をカバーで覆い、純水で満たして保護することにより、マスクの端面を高濃度のオゾン水で洗浄しても、撥ねたオゾン水がマスクの表面に付着するのを防ぐことができる。
【００１１】
第２に、ブラシを上下左右に移動させる、又はマスクを上下左右に移動させることにより、マスクの端面の一部にレジストの残渣を残すことなく、完全に除去することができるようになる。
【００１２】
第３に、高濃度のオゾン水による有機物分解能力とブラシによる研磨を組み合わせることにより、有機物系又は無機物系のレジストを効率良く洗浄することができ、アルコール類や有機系剥離液等の薬液の削減となり、環境対策に貢献することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明は、フォトマスクの端面のレジストを効率良く洗浄するという目的を、回転軸によりファイバーを回転させてマスクの端面からレジストを除去する円柱状のブラシと、前記マスクの表面に被せ、中心に空けた純水供給口に表面側からホースにより純水を供給し、裏面の前端及び後端に設けたサイドフィン及び前記サイドフィンの間に左右に複数設けた流れ調整フィンにより純水の流れを調整しつつ、前記マスクの表面との間に純水を保持して前記マスクの表面をオゾン水から保護する板状のカバーと、前記マスクの上方に管を通し、前記管の穴から前記マスクの端面とブラシとの間に高濃度のオゾン水を噴射するオゾン水噴射口とからなる構成とすることで実現した。
【実施例１】
【００１４】
以下に、添付図面に基づいて、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置について詳細に説明する。図１は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置の斜視図である。
【００１５】
マスク端面のブラシ式洗浄装置１は、回転軸３ｂによりファイバー３ａを回転させてマスク２の端面２ａからレジスト７を除去する円柱状のブラシ３と、前記マスク２の表面２ｂに被せ、中心に空けた純水供給口４ｊに表面４ｍ側からホース４ｋにより純水８を供給し、裏面４ｎの前端及び後端に設けたサイドフィン４ｂ、４ｃ及び前記サイドフィン４ｂ、４ｃの間に左右に複数設けた流れ調整フィン４ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４ｉにより純水８の流れ６ｇを調整しつつ、前記マスク２の表面２ｂとの間に純水８を保持して前記マスク２の表面２ｂをオゾン水６ｆから保護する板状のカバー４と、前記マスク２の上方に管５ａを通し、前記管５ａの穴５ｂから前記マスク２の端面２ａとブラシ３との間に高濃度のオゾン水６ｆを噴射するオゾン水噴射口５とからなることを特徴とする。
【００１６】
マスク端面のブラシ式洗浄装置１は、ブラシ３、カバー４及びオゾン水噴射口５からなり、マスク２の表面２ｂを保護しつつ、マスク２の端面２ａを高濃度のオゾン水６ｆで洗浄する装置である。
【００１７】
マスク２は、半導体の基板上に形成するパターンの原版となるフォトマスクであり、表面２ｂにパターンを形成した後、表面２ｂに付着しているレジスト７を洗浄して除去した状態のものである。
【００１８】
尚、レジスト７とは、光を受けると化学変化を起こす感光性樹脂であるフォトレジストのことで、マスク２を通して基板にパターンを形成するために基板上に塗布しておくものである。
【００１９】
ブラシ３は、棒状の回転軸３ｂの周囲に繊維状のファイバー３ａを植え込んだ略円柱状の洗浄器具であり、回転軸３ｂにより回転させながらファイバー３ａを擦りつけることで洗浄を行う。
【００２０】
カバー４は、マスク２の表面２ｂに被せ、マスク２とカバー４の間の僅かな隙間に純水８を満たすことにより、マスク２の表面２ｂにオゾン水６ｆ等により汚染されないように保護する。
【００２１】
純水供給口４ｊから純水８を供給しながら、本体４ａの裏面４ｎに設けたサイドフィン４ｂ、４ｃ及び流れ調整フィン４ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４ｉにより流れが一定となるようにする。
【００２２】
オゾン水噴射口５は、マスク２の上方に設けた高濃度のオゾン水６ｆが流れる管５ａであり、管５ａの下側に空けた穴５ｂからマスク２の端面２ａとブラシ３の間にオゾン水６ｆを噴射する。
【００２３】
尚、オゾン水６ｆは、酸素から生成したオゾンを水中に吹き込んだもので、殺菌、洗浄、漂白、脱臭及び酸化作用を有する機能水の一つである。オゾン水６ｆは、濃度が高くなるほど反応が速くなり、有機物分解能力が増すため、５０ｐｐｍ以上とする。
【００２４】
図２は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のカバー裏側の斜視図である。カバー４は、本体４ａ及びホース４ｋからなり、本体４ａとホース４ｋとは、接続部材４ｌにより接続される。
【００２５】
本体４ａは、プラスチック等の長方形の板状の部材で、中心には純水供給口４ｊが空けられる。本体４ａは、マスク２に被せる側が裏面４ｎで、反対側のホース４ｋを接続する側が表面４ｍである。
【００２６】
本体４ａの裏面４ｎには、前端に左端から右端にかけて三角形状に突起した前サイドフィン４ｂ、及び後端に左端から右端にかけて三角形状に突起した後サイドフィン４ｃが設けられる。
【００２７】
更に、前サイドフィン４ｂと後サイドフィン４ｃの間の中央から左寄りの箇所において、三角形状に突起した左第１流れ調整フィン４ｄ、左第２流れ調整フィン４ｅ及び左第３流れ調整フィン４ｆが等間隔で配置される。
【００２８】
同様に、前サイドフィン４ｂと後サイドフィン４ｃの間の中央から右寄りの箇所において、三角形状に突起した右第１流れ調整フィン４ｇ、右第２流れ調整フィン４ｈ、右第３流れ調整フィン４ｉが等間隔で配置される。
【００２９】
尚、流れ調整フィン４ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４ｉは、図２においては左側に３本、右側に３本の計６本配置しているが、機能が最適となるように、長さや本数を変更することもできる。
【００３０】
純水供給口４ｊは、本体４ａの中心を貫通する円状の孔で、表面４ｍの側には接続部材４ｌが取り付けられる。ホース４ｋにより表面４ｍの側から送られてきた純水８は、裏面４ｎの側へと流れていく。
【００３１】
ホース４ｋは、純水８を供給するための長さのある管状の部材であり、先端が接続部材４ｌを介して本体４ａに取り付けられる。ホース４ｋからは常に純水８が流れており、マスク２とカバー４の間に送られる。
【００３２】
接続部材４ｌは、ホース４ｋを本体４ａに固定するための、ホース４ｋよりも径を太くした円筒状の部材であり、接続部材４ｌの中心を貫通する孔は、純水供給口４ｊの位置に合わせる。
【００３３】
図３は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のマスクの洗浄条件を示す表である。図３の表に示す条件でマスク２の端面２ａの洗浄を行い、端面２ａに付着したレジスト７の除去する。
【００３４】
オゾン水噴射口５からマスク２の端面２ａとブラシ３の間に噴射するオゾン水６ｆは、濃度を８０ｐｐｍ、液温を２５℃とし、液量は１分間あたり１リットルの割合で、３分間洗浄を行う。
【００３５】
マスク２の端面２ａを洗浄するブラシ３は、外径が４０ミリメートル又は５０ミリメートルとし、回転軸３ｂの回転数を６０ｒｐｍ、１２０ｒｐｍ又は１８０ｒｐｍにして研磨する。
【００３６】
また、ブラシ３に植え込まれた無数のファイバー３ａは、材質がポリフェニレンサルファイドで、各ファイバー３ａの径が０．１５ミリメートル又は０．３０ミリメートルのものを使用する。
【００３７】
図４は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のブラシとマスクの接触状況を示す側面の断面図であり、図５は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のマスク端面の洗浄状況を示す正面図である。
【００３８】
マスク２の端面２ａをブラシ３で研磨する際に、ブラシ３をマスク２に対してどの程度の深さまで押し付けるかにより、端面２ａのレジスト７がどれくらい除去できるかが変わってくる。
【００３９】
ブラシ３は回転軸３ｂを中心に回転するが、端面２ａは平面であり、中央部と上部又は下部とではファイバー３ａの接触具体が異なるため、ブラシ３の押付け６の具合が重要となる。
【００４０】
ブラシ３の押付け６が浅過ぎるとマスク２の端面２ａに磨ききれない箇所が増えてしまい、逆に押付け６が深過ぎるとファイバー３ａがマスク２の表面２ｂに当たって威力が弱まり、レジスト７の残渣が増えてしまう。
【００４１】
図４に示すように、ブラシ３の押付け６を約０．５ミリメートルにすると、押付け６の深さが浅過ぎることもなく、また、深過ぎることもなく、端面２ａのレジスト７の除去率が高くなる。
【００４２】
ただし、図５に示すように、端面２ａの中央部のレジスト７は除去されるが、上部又は下部にレジスト７が残る場合がある。尚、ブラシ３の外径やファイバー３ａの径を変えても大差はない。
【００４３】
図６は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のブラシを移動させる状況を示す側面図である。マスク端面のブラシ式洗浄装置１ａは、ブラシを上下左右に移動させてマスクの端面を洗浄することを特徴とする。
【００４４】
マスク２及びブラシ３の位置を固定したままであると、端面２ａの上部又は下部にレジストが残る場合があるので、上部又は下部の取りきれていないレジスト７の残渣まで完全に除去する必要がある。
【００４５】
マスク端面のブラシ式洗浄装置１ａでは、ブラシ３を上下に移動６ａさせることで、上部又は下部に残ったレジスト７も除去することができる。また、ブラシ３を左右に移動６ａさせれば、より精度良く除去することが可能となる。
【００４６】
図７は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のマスクを移動させる状況を示す側面図である。マスク端面のブラシ式洗浄装置１ｂは、マスクを上下左右に移動させてマスクの端面を洗浄することを特徴とする。
【００４７】
マスク端面のブラシ式洗浄装置１ｂでは、ブラシ３ではなく、マスク２を上下に移動６ｂさせても、上部又は下部に残ったレジスト７を除去することができる。同様に、マスク２を左右に移動６ｂさせれば、より精度良く除去することが可能となる。
【００４８】
図８は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のカバーをした状態を示す側面の断面図であり、図９は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のカバーをした状態を示す平面図である。
【００４９】
マスク２の表面２ｂにカバー４を被せた状態で、オゾン水噴射口５からオゾン水６ｆを端面２ａに掛けながら、ブラシ３を回転させて端面２ａを研磨する。尚、カバー４は、マスク２の表面２ｂのパターンが形成された範囲を覆うように被せる。
【００５０】
カバー４の本体厚さ６ｃは、２ミリメートルで、裏面４ｎに設けられた前サイドフィン４ｂ及び後サイドフィン４ｃのサイドフィン高さ６ｄは、１ミリメートル、２ミリメートル又は３ミリメートルとする。
【００５１】
尚、前サイドフィン４ｂと後サイドフィン４ｃの間に設けられた流れ調整フィン４ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４ｉの高さも、それぞれサイドフィン高さ６ｄと同一にして高さを統一しておく。
【００５２】
また、マスク２とカバー４の間であるクリアランス６ｅの間隔は、マスク２の表面２ｂの状態により調整するが、１ミリメートル、２ミリメートル、３ミリメートル、４ミリメートル又は５ミリメートルである。
【００５３】
オゾン水６ｆは、オゾン水噴射口５の管５ａを通って、穴５ｂから噴射されるが、オゾン水６ｆの噴射又はブラシ３での研磨の際に、撥ねたオゾン水６ｆがマスク２の表面２ｂに付着しないように、マスク２とカバー４との間には純水８を張っておく。
【００５４】
図１０は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のマスクとカバーの間に純水を満たした状態を示す平面図である。マスク２の表面２ｂとカバー４の裏面４ｎとの間に流す純水８は、液温が２５℃で、流量が１分間あたり１リットルとする。
【００５５】
純水８は、純水供給口４ｊから供給され、マスク２の表面２ｂ上で、かつ、カバー４の前サイドフィン４ｂと後サイドフィン４ｃに挟まれた範囲内の、マスク２とカバー４との間に存在する空間に満たされる。
【００５６】
図１１は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置の純水の流れを示す正面図である。マスク２の端面２ａをブラシ３の方から見た図であり、カバー４の前サイドフィン４ｂが手前に来る。
【００５７】
純水８は、マスク２とカバー４の間に満たされるが、ホース４ｋから純水供給口４ｊを通じて常に供給されるので、溢れた純水８は、流れ６ｇに示すように、カバー４の左右から流出する。
【００５８】
前サイドフィン４ｂと後サイドフィン４ｃの間に、左流れ調整フィン４ｄ、４ｅ、４ｆを設けることで純水８の左方への流れ６ｇは効率良くなり、右流れ調整フィン４ｇ、４ｈ、４ｉを設けることで純水８の右方への流れ６ｇは効率良くなる。
【００５９】
尚、カバー４の前へは、マスク２と前サイドフィン４ｂとの間の表面張力により、カバー４の後ろへは、マスク２と後サイドフィン４ｃとの間の表面張力により、純水８は流出しない。
【００６０】
調整フィン４ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４ｉの有無にかかわらず、表面張力により純水８は保持されるが、水量又は流速が増すとサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が染み出す可能性があるので、調整フィン４ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４ｉを設けて流れを調整する。
【００６１】
純水８は、中心から左方又は右方への流れ６ｇが出来ており、前方と後方には表面張力による膜が生じているため、外部からマスク２とカバー４の間に異物やオゾン水６ｆが侵入しようとしても防ぐことができ、マスク２の表面２ｂを保護することができる。
【００６２】
図１２は、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置の純水の流出状況を示す表である。純水８は、カバー４の左右から流出するようにし、カバー４の前後からは流出しないようにする。
【００６３】
カバー４のサイドフィン高さ６ｄが１ミリメートルで、マスク２の表面２ｂが親和性の場合、クリアランス６ｅが１ミリメートルであればサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出しないが、２〜５ミリメートルであるとサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出してしまう。
【００６４】
カバー４のサイドフィン高さ６ｄが１ミリメートルで、マスク２の表面２ｂが疎水性の場合、クリアランス６ｅが１〜３ミリメートルであればサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出しないが、４〜５ミリメートルであるとサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出してしまう。
【００６５】
カバー４のサイドフィン高さ６ｄが２ミリメートルで、マスク２の表面２ｂが親和性の場合、クリアランス６ｅが１ミリメートルであればサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出しないが、２〜５ミリメートルであるとサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出してしまう。
【００６６】
カバー４のサイドフィン高さ６ｄが２ミリメートルで、マスク２の表面２ｂが疎水性の場合、クリアランス６ｅが１〜３ミリメートルであればサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出しないが、４〜５ミリメートルであるとサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出してしまう。
【００６７】
カバー４のサイドフィン高さ６ｄが３ミリメートルで、マスク２の表面２ｂが親和性の場合、クリアランス６ｅが１ミリメートルであればサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出しないが、２〜５ミリメートルであるとサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出してしまう。
【００６８】
カバー４のサイドフィン高さ６ｄが３ミリメートルで、マスク２の表面２ｂが疎水性の場合、クリアランス６ｅが１〜３ミリメートルであればサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出しないが、４〜５ミリメートルであるとサイドフィン４ｂ、４ｃから純水８が流出してしまう。
【００６９】
マスク２の表面２ｂが疎水性の場合は、クリアランス６ｅが１〜３ミリメートルで良いが、マスク２の表面２ｂが親和性の場合は、クリアランス６ｅを１ミリメートルにする必要がある。
【００７０】
ただし、図１０に示すように、カバー４の前サイドフィン４ｂとマスク２の端面２ａとの間は保護されておらず、撥ねたオゾン水６ｆが付着してしまうので、クリアランス６ｅを調整して、少量の純水８を流出させるようにすれば、マスク２の表面２ｂ全体を保護することもできる。
【００７１】
以上のように、本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置１、１ａ、１ｂは、マスク２の表面２ｂをカバー４で覆い、純水８で満たして保護することにより、マスク２の端面２ａを高濃度のオゾン水６ｆで洗浄しても、撥ねたオゾン水６ｆがマスク２の表面２ｂに付着するのを防ぐことができる。
【００７２】
また、ブラシ３を上下左右に移動させる、又はマスク２を上下左右に移動させることにより、マスク２の端面２ａの一部にレジスト７の残渣を残すことなく、完全に除去することができるようになる。
【００７３】
更に、高濃度のオゾン水６ｆによる有機物分解能力とブラシ３による研磨を組み合わせることにより、有機物系又は無機物系のレジストを効率良く洗浄することができ、アルコール類や有機系剥離液等の薬液の削減となり、環境対策に貢献することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置の斜視図である。
【図２】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のカバー裏側の斜視図である。
【図３】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のマスクの洗浄条件を示す表である。
【図４】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のブラシとマスクの接触状況を示す側面の断面図である。
【図５】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のマスク端面の洗浄状況を示す正面図である。
【図６】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のブラシを移動させる状況を示す側面図である。
【図７】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のマスクを移動させる状況を示す側面図である。
【図８】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のカバーをした状態を示す側面の断面図である。
【図９】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のカバーをした状態を示す平面図である。
【図１０】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置のマスクとカバーの間に純水を満たした状態を示す平面図である。
【図１１】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置の純水の流れを示す正面図である。
【図１２】本発明であるマスク端面のブラシ式洗浄装置の純水の流出状況を示す表である。
【符号の説明】
【００７５】
１        マスク端面のブラシ式洗浄装置
１ａ      マスク端面のブラシ式洗浄装置
１ｂ      マスク端面のブラシ式洗浄装置
２        マスク
２ａ      端面
２ｂ      表面
３        ブラシ
３ａ      ファイバー
３ｂ      回転軸
４        カバー
４ａ      本体
４ｂ      前サイドフィン
４ｃ      後サイドフィン
４ｄ      左第１流れ調整フィン
４ｅ      左第２流れ調整フィン
４ｆ      左第３流れ調整フィン
４ｇ      右第１流れ調整フィン
４ｈ      右第２流れ調整フィン
４ｉ      右第３流れ調整フィン
４ｊ      純水供給口
４ｋ      ホース
４ｌ      接続部材
４ｍ      表面
４ｎ      裏面
５        オゾン水噴射口
５ａ      管
５ｂ      穴
６        押付け
６ａ      移動
６ｂ      移動
６ｃ      本体厚さ
６ｄ      サイドフィン高さ
６ｅ      クリアランス
６ｆ      オゾン水
６ｇ      流れ
７        レジスト
８        純水
【図１】
2006308727.tif 000003
【図２】
2006308727.tif 000004
【図３】
2006308727.tif 000005
【図４】
2006308727.tif 000006
【図５】
2006308727.tif 000007
【図６】
2006308727.tif 000008
【図７】
2006308727.tif 000009
【図８】
2006308727.tif 000010
【図９】
2006308727.tif 000011
【図１０】
2006308727.tif 000012
【図１１】
2006308727.tif 000013
【図１２】
2006308727.tif 000014