(57)【要約】【課題】ホットプレートを用いガラス基板を三段階の加熱によるプリベーク処理を行っても、そのコンタクト加熱において、ガラス基板の部分が熱膨張によってホットプレートから浮き上がることのないガラス基板の加熱方法を提供すること。【解決手段】１）熱衝撃によるカラーフィルタ基板６０の破壊を防ぐための、ならし加熱、及びプロキシ加熱を行い、２）続く、ホットプレート２１上に吸着させてのコンタクト加熱の途中で、一旦、熱膨張によるガラス基板の部分の浮き上がりを是正するための、再プロキシ加熱を行い、継続して該コンタクト加熱を行うこと。【選択図】図１１
2006301496.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレートを用いたプリベーク処理において、
１）熱衝撃によるガラス基板の破壊を防ぐための、ならし加熱、及びプロキシ加熱を行い、
２）続く、ホットプレート上に吸着させてのコンタクト加熱の途中で、一旦、熱膨張によるガラス基板の部分の浮き上がりを是正する再プロキシ加熱を行い、次に、該コンタクト加熱を継続して行うことを特徴とするガラス基板の加熱方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板上にフォトリソグラフィ法によってパターンを形成する際のプリベーク処理に関するものであり、特に、ガラス基板の浮き上がりによる部分的な熱量の不足を解消し、ムラのないパターンを形成するガラス基板の加熱方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図４は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図５は、図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図４、及び図５に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ（４）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図４、及び図５はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００３】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、このブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００４】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００５】
ガラス基板上へのブラックマトリックスの形成は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX ）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜（４３）の形成は、ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
図４、及び図５に示すカラーフィルタ（４）は、一基の液晶表示装置に対応した１枚のカラーフィルタを表しており、カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したカラーフィルタを大サイズのガラス基板に面付けした状態で製造する。
図６は、例えば、対角１７インチのカラーフィルタ（４）を６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造するカラーフィルタ基板（６０）の一例を示した平面図である。
【０００８】
図４、及び図５に示すカラーフィルタ（４）は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して下記のような、種々な機能が付加されるようになった。
【０００９】
１）高信頼性機能
液晶表示装置として高信頼性が求められる際には、着色画素のもつ耐熱性、耐湿性、及び耐薬品性などの性能を補うために、また、着色画素からの溶出物のバリアとして着色画素上に保護層（オーバーコート層）を形成することがある。
或いは、カラーフィルタとＴＦＴ側基板とのシール強度を向上させるために、保護層（オーバーコート層）を形成することがある。
或いは、液晶分子の配向をより均一なものにして表示品質を向上させる際に、着色画素上に保護層（オーバーコート層）を形成し、平坦性の高いカラーフィルタとすることがある。
【００１０】
２）透過・反射併用機能
一基の液晶表示装置において透過型と反射型の両機能を兼ね備えた半透過型液晶表示装置は、屋外の明るい環境下でも、屋内の暗い環境下でも用いることができる。図９は、半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの一例の断面図である。図９に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が形成されたものである。
着色画素（４２）は透過表示の着色画素（４２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）で構成されている。                        
【００１１】
透過表示の着色画素（４２Ｔｒ）、及び反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）の分光特性は、各々が透過表示用として、また反射表示用として適切な分光特性のものである。従って、液晶表示装置を透過型として表示する際には優れた明度、彩度を有するものとなり、また、反射型として表示する際には優れた明度、彩度を有するものとなる。
カラーフィルタとしては、透過表示の着色画素（４２Ｔｒ）のＲＧＢ３色と、反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）のＲＧＢ３色の計６色の着色画素を形成することとなる。すなわち、透過表示の着色画素３色と反射表示の着色画素３色を形成する。
【００１２】
３）分光特性調整機能
図１０は、半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの他の例の断面図である。図１０に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が形成されたものである。
【００１３】
着色画素（４２）は透過表示の着色画素（４２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）で構成されている。反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）は着色部（４５）と透明部（４６）で構成されている。
【００１４】
透過表示の着色画素（４２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）の着色部（４５）は、透過表示用として適切な分光特性のものである。反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）に透明部（４６）を設けることによって、着色部（４５）の色光と透明部（４６）の白色光が混色し、反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）の分光特性は反射表示用として適切な分光特性に調節されたものとなる。この透明部（４６）は透明なフォトレジストによって形成される。
【００１５】
上記、１）高信頼性機能、２）透過・反射併用機能、３）分光特性調整機能は、いずれも図４に示すカラーフィルタ（４）に付加されたものであるが、これらは、透明導電膜（４３）の形成前にガラス基板上に設けられており、これらの上面に透明導電膜（４３）が形成されている。
一方、基本的な機能を備えたカラーフィルタ（４）の透明導電膜（４３）の上面に設けられる機能としては、例えば、下記のものが挙げられる。
【００１６】
４）スペーサー機能
従来の液晶表示装置に於いては、基板間にギャップを形成するために、スペーサーと呼ばれるガラス又は合成樹脂の透明球状体粒子（ビーズ）を散布している。このスペーサーは透明な粒子であることから、画素内に液晶と一諸にスペーサーが入っていると、黒色表示時にスペーサーを介して光がもれてしまい、また、液晶材料が封入されている基板間にスペーサーが存在することによって、スペーサー近傍の液晶分子の配列が乱され、この部分で光もれを生じ、コントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす、などの問題を有していた。
【００１７】
このような問題を解決する技術として、感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により画素間のブラックマトリックスの位置にスペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）を形成する方法が開発、実用された。
図７は、このような液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。図７に示すように、液晶表示装置用カラーフィルタ（７）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成され、ブラックマトリックス（４１）上方の透明導電膜（４３）上にスペーサー機能を有する突起部としてのフォトスペーサー（４４）が形成されている。このような液晶表示装置用カラーフィルタ（７）を用いた液晶表示装置には、フォトスペーサー（４４）が画素内を避けた位置に形成されているので、上記コントラストの改善がみられる。
【００１８】
５）配向分割機能
従来の液晶表示装置に於いては、液晶分子を一様に配向させるために、液晶を挟持する両基板に設けられた透明導電膜上に、予めポリイミドを塗布し、その表面に一様なラビング処理をしておく。
しかし、多くの液晶表示装置に用いられているＴＮ型液晶においては、原理的に広い視野角を得ることは困難であり、中間調表示状態では斜め視角において光がもれ、コントラストが低下し表示品質が悪化する。すなわち、コントラストが良好な視野角は狭いといった問題を有していた。
【００１９】
このような問題を解決する一技術として、一画素内での液晶分子の配向方向が一方向でなく、複数の方向になるように制御し、複数の方向で均一な中間調表示をするようにした、すなわち視野角の広い、配向分割垂直配向型液晶表示装置（ＭＶＡ、Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ−ＬＣＤ）が開発された。
【００２０】
図８は、このようなＭＶＡ−ＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。図８に示す
ように、ＭＶＡ−ＬＣＤ（８０）は、液晶分子（１）を介して配向制御突起（２ａ）、（２ｂ）が設けられたＴＦＴ側基板（９）と、配向制御突起（３）が設けられたカラーフィルタ（８）とを配置した構造であるが、配向制御突起（２ａ）、（２ｂ）及び配向制御突起（３）は一画素内で互い違いの位置に設けられている。
【００２１】
図８に白太矢印で示すように、電圧印加時の状態では、一画素内で配向制御突起（２ａ）〜配向制御突起（３）間の液晶分子は、図中左斜めに傾斜し、配向制御突起（３）〜配向制御突起（２ｂ）間の液晶分子は、右斜めに傾斜する。すなわち、ラビング処理に代わり、突起を設けることにより液晶分子の配向を制御するものである。
図８に示す例では、一画素が２分割されたものとなり、一画素内で液晶分子の傾斜方向が２方向になり視野角特性の優れた液晶表示装置となる。
【００２２】
上記諸機能の内、そのカラーフィルタの用途、仕様にもとづき１機能或いは複数の機能が図４に示すカラーフィルタ（４）に追加される。
これらの機能は、基本となるカラーフィルタ上に付随する層として、各々対応して、透明導電膜（４３）の形成前に保護層（オーバーコート層）、反射表示の着色画素、分光特性調整用の透明部などを形成し具備させる。或いは透明導電膜（４３）の形成後にフォトスペーサー、配向制御用突起などを形成し具備させる。
従って、例えば、図４に示すカラーフィルタ（４）にスペーサー機能及び配向分割機能が追加された仕様のカラーフィルタを製造する際には、図４に示すカラーフィルタ（４）を作製した後に、例えば、配向制御用突起を形成し、続いてフォトスペーサーを形成する。
【００２３】
上記、基本となるカラーフィルタ上に付随する層を形成する際には、パターンとして形成されない保護層（オーバーコート層）を除き、いずれの層も前記ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）と同様に、フォトレジストを用いてのフォトリソグラフィ法によってパターンに形成される。
【００２４】
上記ブラックマトリックス、着色画素、及び付随する各層をフォトリソグラフィ法によりパターンとして形成する際には、例えば、先ずガラス基板に対して必要に応じた洗浄処理を施し、続いて塗布装置によるフォトレジストの塗布、減圧乾燥装置による予備乾燥処理、プリベーク装置によるプリベーク処理、露光装置によるパターン露光、現像処理ユニットによる現像処理、加熱ユニットによるポストベーク処理が順次に施され、ガラス基板に所定のパターンを形成する。
【００２５】
上記フォトレジストの塗布直後は、フォトレジストの塗膜は乾燥していないために流動性があり、次工程へガラス基板を搬送した場合には、搬送中に塗膜の膜厚が変化し易く膜厚にムラを発生させることがある。予備乾燥処理は、この搬送に伴う塗膜の膜厚の変化を防止するために、塗膜中の溶剤を減圧下で半ば蒸発させる予備的な乾燥処理である。
【００２６】
次工程のプリベーク処理は、塗膜中の溶剤を加熱によって蒸発させる本格的な乾燥処理である。塗膜中の溶剤が残留していると、フォトレジストの感度は著しく低下し、加えてガラス基板への接着力が弱まるので、塗膜中に溶剤が残留することは好ましいことではない。
【００２７】
図１（ａ）は、プリベーク装置の一例の概略を示す断面図である。図１（ａ）に示すように、プリベーク装置（１０）は、加熱チャンバー（２０）と冷却チャンバー（３０）で構成されている。加熱チャンバー（２０）内には、ホットプレート（２１）を上部に備えたバキューム・テーブル（２２）が設けられており、また、冷却チャンバー（３０）内には、クールプレート（３１）を上部に備えたバキューム・テーブル（３２）が設けられている。
【００２８】
前記予備乾燥処理によって、塗膜中の溶剤を半ば蒸発させたガラス基板は、加熱チャンバー（２０）内のホットプレート（２１）上に載置され、加熱による乾燥処理が施される。続いて、ガラス基板は、冷却チャンバー（３０）に搬送され、クールプレート（３１）上に載置され冷却されて常温に戻される。
図１（ｂ）は、ホットプレート（２１）を上部に備えたバキューム・テーブル（２２）の一例の概略を示す断面図である。図１（ｂ）は、移載用のロボット（図示せず）によって、ガラス基板（６０）がリフトピン（２３）上に受け渡された段階を示したものである。
【００２９】
ガラス基板（６０）は、前工程から移載用のロボットによって、底面を２本のアーム（図示せず）で支えられた状態でホットプレート（２１）上に載置されるが、そのままではホットプレート（２１）上に載置後、アームを退避することができないので、一旦、ホットプレート（２１）の上面から突出した状態でアームと干渉しない位置に設けられた複数のリフトピン（２３）上に受け渡され、その後にアームが退避する。
【００３０】
リフトピン（２３）は、ホットプレート（２１）に対し垂直方向に昇降自在であり、ガラス基板（６０）が受け渡された後に下降し、ホットプレート（２１）上に載置される。リフトピン（２３）が昇降するホットプレート（２１）に設けられた開口（２４）は、リフトピン（２３）が中空部（２５）内まで下降した後に、ガラス基板（６０）とホットプレート（２１）の間の空気を吸引する開口と兼ねている。
ホットプレート（２１）には、ヒーターが内蔵されている。また、バキューム・テーブル（２２）は、中空部（２５）を有し、上部にホットプレート（２１）を備え、下部には排気口（２６）が設けられている。ホットプレート（２１）上のガラス基板（６０）を真空吸着する際には、排気口からの排気により行う。
【００３１】
図２（ａ）〜（ｃ）は、上記加熱チャンバー（２０）を用いたプリベーク処理の動作を説明する断面図である。図２は、図１（ｂ）におけるホットプレート（２１）、リフトピン（２３）、ガラス基板（６０）の一部分を拡大して示したものである。
図２に示すように、ガラス基板（６０）へのプリベーク処理の動作は、温度の急激な変化に伴うガラス基板の破壊を回避するために、前工程から搬送されたガラス基板（６０）を直ちにホットプレート（２１）に吸着させての加熱は行わず、（ａ）ならし加熱、（ｂ）プロキシ加熱、（ｃ）コンタクト加熱の三段階で加熱する動作から成っている。
【００３２】
先ず、図２（ａ）に示すように、ならし加熱を行う。例えば、厚さ０．７〜１．０ｍｍ程度のコーニング社製：無アルカリガラス♯１７３７（品番）を用いたガラス基板（６０）がリフトピン（２３）上に受け渡された状態で、ホットプレート（２１）上面とガラス基板（６０）の距離（Ｄ１）を、例えば、４５〜５０ｍｍ程度に離し、５秒程度の加熱を行う。
ホットプレート（２１）上面からの距離（Ｄ１）を４５〜５０ｍｍ程度に離すことによって、高温で一定に保たれているホットプレート（２１）からは、ゆるやかな第一段階の加熱がなされる。ホットプレート（２１）の温度は８０〜１５０℃程度であり、また、リフトピン（２３）間の距離（Ｌ）は、１００〜３００ｍｍ程度のものである。
【００３３】
次に、図２（ｂ）に示すように、ガラス基板（６０）がリフトピン（２３）上に受け渡された状態で、リフトピン（２３）を下降させ、ホットプレート（２１）上面とガラス基板（６０）の距離（Ｄ２）を、例えば、２ｍｍ程度に縮め、１５〜６０秒程度のプロキシ加熱を行う。
ホットプレート（２１）上面からの距離（Ｄ２）を１〜１０ｍｍ程度に縮めることによって、高温で一定に保たれているホットプレート（２１）からは、ホットプレート上と略同等の温度での第二段階の加熱がなされる。
【００３４】
次に、図２（ｃ）に示すように、リフトピン（２３）を更に下降させ、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）上に載置し、効果的に均一な加熱をするために、ガラス基板（６０）とホットプレート（２１）の間の空気を吸引し、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）に吸着させながら第三段階のコンタクト加熱を、例えば、５０〜１５０秒程度行うといった三段階で加熱を行う動作である。
【００３５】
しかしながら、上記のような三段階の加熱動作によってプリベーク処理を行うと、温度の急激な変化、すなわち、熱衝撃によるガラス基板（６０）の破壊は確かに回避されるものの、加熱中に、複数の開口（２４）に対応したガラス基板の部分と部分の間は、熱膨張によってホットプレート（２１）から浮き上がり、露光、現像処理後のガラス基板（６０）のパターンにはムラが発生するといった問題がある。
【００３６】
図３は、図２（ｃ）に示す状態で加熱を行った際のガラス基板（６０）の浮き上がりを説明する断面図である。図３に示すように、複数の開口（２４）に対応したガラス基板の複数の部分は、ホットプレート（２１）に吸着されているが、開口（２４）と開口（２４）の間の部分は、熱膨張によってホットプレート（２１）から浮き上がっている。このホットプレート（２１）から浮き上がったガラス基板（６０）の部分は、プリベーク処理の熱量が不足気味になり、塗膜中の溶剤の蒸発が不充分となる。
すなわち、この浮き上がった部分のフォトレジストの感度は不足気味になり、露光、現像処理後のパターン寸法に差が生じ、ガラス基板（６０）のパターンは不均一となりムラが現れる。
【特許文献１】特開平１１−１１２１９８号公報
【特許文献２】特願２０００−２６８１７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３７】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、ホットプレートを用いガラス基板を、ならし加熱、プロキシ加熱、コンタクト加熱の三段階の加熱によるプリベーク処理を行っても、そのコンタクト加熱において、ガラス基板の部分が熱膨張によってホットプレートから浮き上がることのない、ガラス基板の加熱方法を提供することを課題とする。
これにより、開口と開口の間に対応したガラス基板の部分は、プリベーク処理の熱量が不足気味になることはなく、露光、現像処理後のガラス基板は、そのパターンにムラのないものが得られる。
【課題を解決するための手段】
【００３８】
本発明は、ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレートを用いたプリベーク処理において、
１）熱衝撃によるガラス基板の破壊を防ぐための、ならし加熱、及びプロキシ加熱を行い、
２）続く、ホットプレート上に吸着させてのコンタクト加熱の途中で、一旦、熱膨張によるガラス基板の部分の浮き上がりを是正する再プロキシ加熱を行い、次に、該コンタクト加熱を継続して行うことを特徴とするガラス基板の加熱方法である。
【発明の効果】
【００３９】
本発明は、プリベーク処理において、熱衝撃によるガラス基板の破壊を防ぐための、ならし加熱及びプロキシ加熱を行い、続く、ホットプレート上に吸着させてのコンタクト加熱の途中で、一旦、熱膨張によるガラス基板の部分の浮き上がりを是正するための、再プロキシ加熱を行い、継続して該コンタクト加熱を行うガラス基板の加熱方法であるので、ホットプレートを用いてガラス基板を、ならし加熱、プロキシ加熱、コンタクト加熱の三段階の加熱によるプリベーク処理を行っても、ガラス基板の部分が熱膨張によってホットプレートから浮き上がることのない、ガラス基板の加熱方法となる。
【００４０】
従って、開口と開口の間に対応したガラス基板の部分は、プリベーク処理の熱量が不足気味になることはなく、露光、現像処理後のガラス基板は、そのパターンにムラのないものが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１１（ａ）〜（ｆ）は、本発明のガラス基板の加熱方法におけるプリベーク処理の動作を説明する断面図である。図１１は、ホットプレート（２１）、リフトピン（２３）、ガラス基板（６０）の一部分を拡大して示したものである。
【００４２】
図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、先ず、ならし加熱、次に、プロキシ加熱を行うが、これらの動作は、前記図２（ａ）、（ｂ）に示す加熱処理の動作と同一である。
次に、図１１（ｃ）に示すように、リフトピン（２３）を更に下降させ、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）上に載置し、ガラス基板（６０）とホットプレート（２１）の間の空気を吸引し、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）に吸着させながら第三段階のコンタクト加熱を行う。
【００４３】
ホットプレート（２１）上に吸着させながらのコンタクト加熱によって、前記図３に示す状態と同様に、複数の開口（２４）に対応したガラス基板の複数の部分は、ホットプレート（２１）に吸着されているが、開口（２４）と開口（２４）の間の部分は、熱膨張によってホットプレート（２１）から浮き上がる（図１１（ｄ））。
このガラス基板の複数の部分が浮き上がった段階で、ガラス基板（６０）とホットプレート（２１）の間の空気の吸引を中断し、ホットプレート（２１）へのガラス基板（６０）の吸着を解除する。
【００４４】
次に、図１１（ｅ）に示すように、リフトピン（２３）を上昇させて再プロキシ加熱を行う。この再プロキシ加熱を行う際の、ホットプレート（２１）上面とガラス基板（６０）との距離（Ｄ３）は、図１１（ｂ）に示す距離（Ｄ２）と略同一の、例えば、１〜１０ｍｍ程度であり、時間は１〜１０秒程度の加熱である。
リフトピン（２３）を上昇させることによって、カラーフィルタ基板（６０）は、ホットプレート（２１）から開放され、浮き上がった部分は、矢印で示すように、ガラス基板（６０）の水平方向の膨張へと転化し、ガラス基板（６０）はリフトピン（２３）上で平坦な状態になる。
【００４５】
次に、図１１（ｆ）に示すように、再び、リフトピン（２３）を下降させてガラス基板（６０）をホットプレート（２１）上に載置し、ガラス基板（６０）とホットプレート（２１）の間の空気の吸引を再開し、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）に吸着させながら、中断した、前記第三段階のコンタクト加熱を継続して行う。
【００４６】
この継続して行う第三段階のコンタクト加熱においては、ガラス基板（６０）の温度は既にホットプレート（２１）の温度と同一になっているために、温度の上昇に伴う熱膨張は最早起こらず、以降は開口（２４）と開口（２４）の間でガラス基板の複数の部分が浮
き上がることはなく、ガラス基板（６０）は平坦に吸着された状態を保ち、ガラス基板（６０）への均一な第三段階のコンタクト加熱が終了する。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】（ａ）は、プリベーク装置の一例の概略を示す断面図である。（ｂ）は、ホットプレートを上部に備えたバキューム・テーブルの一例の概略を示す断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、加熱チャンバーを用いたプリベーク処理の動作を説明する断面図である。
【図３】図２（ｃ）に示す状態で加熱を行った際のガラス基板の浮き上がりを説明する断面図である。
【図４】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図５】図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図６】対角１７インチのカラーフィルタを大サイズのガラス基板に４面付けして製造する一例を示した平面図である。
【図７】フォトスペーサー（突起部）を形成した液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。
【図８】配向制御突起が設けられたＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。
【図９】半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの一例の断面図である。
【図１０】半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの他の例の断面図である。
【図１１】（ａ）〜（ｆ）は、本発明のガラス基板の加熱方法によるプリベーク処理の動作を説明する断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１・・・液晶分子
２ａ、２ｂ、３・・・配向制御突起
４、７、８・・・カラーフィルタ
９・・・ＴＦＴ側基板
１０・・・プリベーク装置
２０・・・加熱チャンバー
２１・・・ホットプレート
２２・・・加熱チャンバーのバキューム・テーブル
２３・・・リフトピン
２４・・・開口
２５・・・中空部
２６・・・排気口
３０・・・冷却チャンバー
３１・・・クールプレート
３２・・・冷却チャンバーのバキューム・テーブル
４０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４１Ａ・・・ブラックマトリックスのマトリックス部
４１Ｂ・・・ブラックマトリックスの額縁部
４２・・・着色画素
４２Ｔｒ・・・透過表示の着色画素
４２Ｒｅ・・・反射表示の着色画素
４３・・・透明導電膜
４４・・・フォトスペーサー
４５・・・着色部
４６・・・透明部
６０・・・ガラス基板
８０・・・ＭＶＡ−ＬＣＤ
Ｄ１・・・ならし加熱でのホットプレートとガラス基板の距離
Ｄ２・・・プロキシ加熱でのホットプレートとガラス基板の距離
Ｄ３・・・再プロキシ加熱でのホットプレートとガラス基板の距離
Ｌ・・・リフトピン間の距離
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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