(57)【要約】【課題】従来存在する、ダイオキシン類等の有害有機化合物類の無害化処理方法は、単一の無害化処理手段を用いたものであり、それぞれの方法に利点と欠点が存在していた。単一の無害化処理手段を用いることによる欠点を補う為に、複数の無害化処理手段を用いた有害有機化合物類の無害化処理方法を提供することが必要となる。又、有害有機化合物類の形状・質は様々であり、無害化対象物に応じた有害有機化合物類の無害化に至るまでの前段階での処理を提供することが必要となる。【解決手段】本発明の有害有機化合物類の無害化処理装置システムは、単一の無害化処理手段を用いずに、３種類の無害化処理手段を備えることで様々な形状・質の有害有機化合物類の無害化を可能とする。【選択図】図４
2006000253.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有害有機化合物類の分解を実施する分解装置で、光触媒の触媒反応を用いることを特徴とした有害有機化合物類の無害化処理装置システム。
【請求項２】
上記の分解装置で、超音波の発生時に起こるキャビテーションの効果を用いることを特徴とした請求項１記載の有害有機化合物類の無害化処理装置システム。
【請求項３】
上記の分解装置で、電極を用いた電気的化学分解を実施することを特徴とした請求項１〜２のいずれか１項に記載の有害有機化合物類の無害化処理装置システム。
【請求項４】
解体装置と、洗浄装置と、乾燥装置と、粉砕装置と、抽出装置と、濃縮装置と、分解装置との７つの装置を備えることを特徴とした請求項１〜３のいずれか１項に記載の有害有機化合物類の無害化処理装置システム。
【請求項５】
上記の７つの装置の全てが、組み立て式であることを特徴とした請求項４記載の有害有機化合物類の無害化処理装置システム。
【請求項６】
上記の７つの装置の全てが、それぞれ当該装置以外の全ての装置に対しての接続機能を備えていることを特徴とした請求項５記載の有害有機化合物類の無害化処理装置システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は廃棄物焼却炉から排出される排ガス、飛灰、焼却灰や産業廃棄油、農薬残渣等の被処理物中に含まれるダイオキシン類等の有害有機化合物類の無害化処理装置システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
除去処理の対象となるダイオキシン類等の有害物質は、廃棄物焼却炉から排出される排ガス、飛灰、焼却灰や産業廃棄油、農薬残渣、土壌、廃水等に含まれている。これらの発生源のうち、廃棄物焼却炉からの排ガス、飛灰、焼却灰や産業廃棄油、農薬残渣中に存在するダイオキシン類による汚染が特に著しい。そのため、例えば、廃棄物焼却炉の焼却過程で生成するダイオキシン類による汚染が特に著しい。そのため、例えば、廃棄物焼却炉の焼却過程で生成するダイオキシン類を分解無害化するための方法がすでにいくつか提案されている。その代表的な例として、（１）焼却炉での焼却時の燃焼ガスを高温雰囲気に保ってダイオキシン類の発生を抑制する完全燃焼法、（２）低酸素雰囲気下で加熱する事によってダイオキシン類を脱塩素化・水素化する低酸素熱分解法、（３）太陽光あるいは紫外線領域の波長の光を照射する事によってダイオキシン類を脱塩素化する光分解法、（４）酢酸エチル等の溶媒を用いることによってダイオキシン類分解微生物の代謝活性を促進させる微生物分解法、（５）オゾン等の酸化剤を用いることによって、ダイオキシン類を分解する酸化分解法、（６）無機粉末中のダイオキシン類を超臨界水または酸化剤を加えた超臨界水中に分散させることによってダイオキシン類を分解する超臨界水分解法等がある。
【特許文献１】特開２０００−７９３７７
【特許文献２】特開２００２−５９１９６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
（１）の完全燃焼法では燃焼温度を８００度以上にしなければならず、しかも燃焼室内のガスを均一にし、できるだけガスの滞留時間を長く保たなければならないので、ダイオキシン類を常に完璧に分解する事は困難であるという問題点がある。（２）の低酸素熱分解法では、低酸素雰囲気下で反応を行わなかった場合、逆にダイオキシン類が生成されてしまうという問題点がある。（３）の光分解法では、最も毒性の高い２，３，７，８−四塩化ジベンソ−ｐ−ダイオキシンに対して光照射による分解を行った場合、トリクロロジベンゾ−ｐ−ダイオキシンやジクロロジベンゾ−ｐ−ダイオキシン等の反応生成物が検出されるなど、毒性を完全に除去できないという問題点がある。（４）の微生物分解法では、分解時間が数日〜数十日と長いことに加え、分解行程が主に開放系で行われるために環境への負荷があること、微生物の代謝活性を高めるために温度、ｐＨ等を調整しなければならないこと、塩素置換体の数が増すにつれてダイオキシン類の分解効率が悪くなることなどの問題点がある。（５）の酸化分解法では、数時間での分解が可能であるが、酸化剤による分解装置の腐食が問題点となる。（６）の超臨界水分解法では、ある程度の高温、高圧を必要とするため装置が特殊になり一般家庭では使用できないこと、焼却灰等の無機粉末中のダイオキシン類のみが対象となることなどの問題点がある。総体的問題点として高コスト、高エネルギーが必要となり、実用化にあたっては現実的ではない。
【０００４】
本発明は、様々な無害化処理対象物質の形状・質に対応可能なダイオキシン類等の有害有機化合物類の無害化処理装置システムを得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係るダイオキシン類等の有害有機化合物を含む焼却灰、排ガス、飛灰、産業廃棄油、農薬残渣、土壌、廃水などを処理する無害化処理装置システムでは、有害有機化合物を分解する分解装置内で、光触媒の分解機能を利用する。
【０００６】
上記の無害化処理装置システムでは、有害有機化合物を分解する分解装置内で、超音波を発生した際に起こる、キャビテーションの効果を利用する。
【０００７】
上記の無害化処理装置システムでは、有害有機化合物を分解する分解装置内で、電極を用いた電気的化学分解を利用する。
【０００８】
上記の無害化処理装置システムは、解体装置と、洗浄装置と、乾燥装置と、粉砕装置と、抽出装置と、濃縮装置と、分解装置との７つの装置から構成される。上記の解体装置は、有害有機化合物による汚染物質を保管している容器が密閉されている場合に、容器内に保管されている有害有機化合物による汚染物質を取り出すことを目的とした装置である。次に、上記の洗浄装置は、有害有機化合物による汚染物質を取り出した後の空の容器を洗浄し、容器内の残留汚染物質を除去することを目的とした装置である。次に、上記の乾燥装置は、有害有機化合物による汚染物質が水分を含んでいる場合に、上記汚染物質を乾燥することを目的とした装置である。次に、上記の粉砕装置は、有害有機化合物による汚染物質が固形であり、かつ粒の大きさが一定でない場合に粒度を一定にすることを目的とした装置である。次に、上記の抽出装置は、有害有機化合物による汚染物質が固形である場合に、固形内から有害有機化合物を抽出し、溶媒に溶け込ませることを目的とした装置である。次に、上記の濃縮装置は、上記の抽出装置を用いて溶媒に溶かし込んだ有害有機化合物を、上記の分解装置内にて実施される有害有機化合物の分解処理に適した溶媒に濃縮することを目的とした装置である。次に、上記の分解装置は、溶媒に溶け込んだ有害有機化合物を分解することを目的とした装置である。又、この上記の分解装置の内部処理工程は、電極を用いた電気化学的分解（以降、電気化学的分解）と、超音波の発生時に起こるキャビテーションの効果を用いた分解（以降、キャビテーション分解）と、光触媒の触媒反応による分解（以降、光触媒分解）との３つによって、有害有機化合物の分解を実施する装置である。
【０００９】
上記の無害化処理装置システムに備えられた、解体装置と、洗浄装置と、乾燥装置と、粉砕装置と、抽出装置と、濃縮装置と、分解装置との７つの装置はそれぞれの装置ごとに組み立て式となっており、必要に応じて、組み立て・解体が出来るようになっているため、あらゆる乗り物に乗せて運搬することが出来る。又、どこにでも設置することが可能である。
【００１０】
上記の無害化処理装置システムに備えられた、解体装置と、洗浄装置と、乾燥装置と、粉砕装置と、抽出装置と、濃縮装置と、分解装置との７つの装置は全ての装置それぞれが、当該装置以外の全ての装置に対しての接続機能を備えているために、有害有機化合物に汚染されている処理対象物の質・形状によって変わる、有害有機化合物の分解に最適な処理工程の順序に応じて配置や並び方を自由に変更し、装置同士を接続させることが可能となる。
【発明の効果】
【００１１】
上記の無害化処理装置システムを用いることで、法規制上移動することすら出来ない有害有機化合物汚染物質に関しても、上記の無害化処理装置システムを運搬かつ設置することで、無害化処理が出来ずに放置されている有害有機化合物汚染物質の無害化を実施することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施例を詳細に説明する。ただし、この実施例に記載されている機器の形状や規模や配置位置等は特に定めたものではなく、特に記載のない限りは、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではなく、単なる説明例にすぎない。
【００１３】
本発明に係るダイオキシン類等の有害有機化合物を含む焼却灰、排ガス、飛灰、産業廃棄油、農薬残渣、土壌、廃水などを処理する無害化処理装置システムは図１のように、解体装置１０と、洗浄装置２０と、乾燥装置３０と、粉砕装置４０と、抽出装置５０と、濃縮装置６０と、分解装置７０とを備える。
【００１４】
上記解体装置１０は、有害有機化合物による汚染物質を保管している容器が密閉されており、容易に開封できない場合に、容器を解体開封することを目的とした装置である。上記解体装置１０では、有害有機化合物による汚染物質を保管している容器を固定した上で、有害有機化合物による汚染物質を保管している容器をチェーンソーなどの切断用器具を用いて切断開封を実施する。容器切断後、容器から取り出された有害有機化合物による汚染物質は、無害化処理装置システムの無害化処理手順に従い、上記乾燥装置３０、上記粉砕装置４０、上記抽出装置５０、上記濃縮装置６０、あるいは上記分解装置７０のいずれかへと送られる。容器切断後、有害有機化合物による汚染物質が取り出されて空になった容器は、上記洗浄装置２０に送られる。但し、切断開封の工程は、機械的に自動で実施すること、人間の手によって実施すること、どちらの方法を採用しても構わない。
【００１５】
上記洗浄装置２０は、有害有機化合物による汚染物質を取り出した後の空の容器を液体によって洗浄し、容器内の残留汚染物質を除去することを目的とした装置である。上記洗浄装置２０内で洗浄処理を実施された容器内の残留汚染物質は、無害化処理装置システムの無害化処理手順に従い、次の無害化工程に該当する、上記乾燥装置３０、上記粉砕装置４０、上記抽出装置５０、上記濃縮装置６０、あるいは上記分解装置７０のいずれかへと送られる。ただし、上記洗浄装置２０で容器洗浄を行う際に使用される液体には、次の無害化工程に該当する装置で使用される溶媒を採用する。又、容器洗浄の工程は、機械的に自動で実施すること、人間の手によって実施すること、どちらの方法を採用しても構わない。
【００１６】
上記乾燥装置３０は、有害有機化合物による汚染物質が水分を含んでいる場合に、上記汚染物質を乾燥することを目的とした装置である。上記乾燥装置３０内で乾燥処理を実施された有害有機化合物による汚染物質は、無害化処理装置システムの無害化処理手順に従い、次の無害化工程に該当する、上記粉砕装置４０、上記抽出装置５０、上記濃縮装置６０、あるいは上記分解装置７０のいずれかへと送られる。
【００１７】
上記粉砕装置４０は、有害有機化合物による汚染物質が固形であり、かつ粒の大きさが一定でない場合に粒度を一定にすることを目的とした装置である。上記粉砕装置４０の内部構造の一例として図２を用いて説明を行う。上記粉砕装置４０は、注入口４１と、排出口４２と、粉砕用羽根４３から構成されている。注入口４１から粉砕対象となる、固形の有害有機化合物による汚染物質を投入する。粉砕用羽根４３を用いて、固形の有害有機化合物による汚染物質の粉砕処理を行い、粒度の一定化を実施する。上記粉砕装置４０内で粉砕処理を実施された有害有機化合物による汚染物質は、無害化処理装置システムの無害化処理手順に従い、次の無害化工程に該当する、上記抽出装置５０、上記濃縮装置６０、あるいは上記分解装置７０のいずれかへと送られる。
【００１８】
但し、上記乾燥装置３０における乾燥工程と、上記粉砕装置４０における粉砕工程は、特に互いに独立した装置である必要はない。有害有機化合物に汚染されている処理対象物の質・形状に応じて、乾燥工程のみ、粉砕工程のみ、あるいは乾燥工程、粉砕工程の両方を選択実施できる構造であれば、一体型の装置にしても構わない。
【００１９】
上記抽出装置５０は、有害有機化合物による汚染物質が固形である場合に、固形内から有害有機化合物を抽出し、溶媒に溶け込ませることを目的とした装置である。上記抽出装置５０の内部構造は、注入口５１と、排出口５２と、溶媒注入口５３と、溶媒排出口５４と、攪拌羽根５５から構成されている。固形である有害有機化合物による汚染物質を注入口５１から抽出装置５０内に投入する。溶媒は、溶媒注入口５３から注入する。抽出装置５０内で、固形である有害有機化合物による汚染物質と、溶媒を攪拌羽根５５を用いる攪拌処理によって、有害有機化合物の抽出処理を行う。上記抽出装置５０内で抽出処理を実施された有害有機化合物による汚染物質は、無害化処理装置システムの無害化処理手順に従い、次の無害化工程に該当する、上記濃縮装置６０、あるいは上記分解装置７０のいずれかへと送られる。
【００２０】
ただし、上記抽出装置５０での抽出処理時に、加熱あるいは加圧、もしくは加熱加圧の両方を実施することで、より効率良く有害有機化合物の抽出を実施することが可能になる。攪拌を行うための構造は、攪拌羽根式、ドラム式、超音波発生装置式、その他攪拌機能を有するいかなる装置を用いても良い。又、上記抽出装置５０での抽出処理において使用する、有害有機化合物の抽出に適した溶媒（以降、抽出用溶媒）には、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、アルコール類、ジアルキルエーテル、エステル、ケトン等を挙げることができるが、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、アセトン、ジクロロメタン、メタノール、シクロヘキサン、キシレン、トルエン、ベンゼン、ジイソプロピルエーテル、酢酸エチル、エチルメチルケトンなどの有機溶媒、水、有機溶媒と水の混合溶媒のいずれを用いても良い。又、溶媒の水には、重金属類の抽出を容易にするため、酸性水又はアルカリ水から成ることが望ましい。アルカリ水としては、一般的なアルカリ剤を使用することができ、たとえば、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等を用いることができる。使用する酸性水のＰＨは、１〜３が好ましい。使用するアルカリ水のｐＨは、９〜１１が好ましい。
【００２１】
上記濃縮装置６０は、上記の抽出装置５０での抽出処理によって、有害有機化合物を溶かし込んだ抽出後溶媒から、上記の分解装置７０内にて実施される有害有機化合物の分解に適した溶媒（以降、濃縮用溶媒）に濃縮することを目的とした装置である。上記濃縮装置６０内で濃縮処理を実施された有害有機化合物による汚染物質は、無害化処理装置システムの無害化処理手順に従い、次の無害化工程に該当する、上記分解装置７０へと送られる。
【００２２】
ただし、抽出後溶媒から上記濃縮装置６０内での濃縮処理において使用する濃縮用溶媒には、電気的化学分解が行うのに適した、アセトニトリル、プロピレンカーボネート、ニトロメタン、スルホラン、ジクロロメタン、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、エチレンカーボネート、プロピオニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などの有機溶媒を一種又は複数種混合したものを用いれば良い。
【００２３】
上記抽出装置５０における抽出工程で使用される溶媒は、上記濃縮装置６０における濃縮工程終了後に、不純物のない溶媒となるため、再利用することが可能である。
【００２４】
上記分解装置７０は、溶媒に溶け込んだ有害有機化合物を分解することを目的とした装置である。又、この上記の分解装置７０の内部処理工程は、電極を用いる電気化学的分解（以降、電気化学的分解）と、超音波の発生時に起こるキャビテーションの効果を用いた分解（以降、キャビテーション分解）と、光触媒の触媒反応による分解（以降、光触媒分解）との３つによって、有害有機化合物の分解を実施する装置である。上記分解装置７０の内部構造は、注入口７８と、分解槽７７と、排出用の管（光触媒加工）７３と、循環用の循環管（光触媒加工）７４と、モーター（循環用）７５と、光源７６から構成されている。分解槽７７での有害有機化合物の分解は、濃縮用溶媒に濃縮させた被処理液の電気的化学分解と、キャビテーション分解とを行う。
【００２５】
上記電気的化学分解は、濃縮後溶媒に支持電解質を混合させた上で、電極を用いた電気的化学分解を行うことである。上記電気的化学分解を実施する際の支持電解質には、過塩素酸リチウムや過塩素酸ナトリウム、過塩素酸テトラエチルアンモニウム等の過塩素酸塩を用いることが出来る。上記電気的化学分解を実施する際の電極には、炭素電極、白金電極、フェライト、金電極、チタン電極、酸化チタン電極、銀電極、銅電極、ダイヤモンド電極、グラッシーカーボン電極およびこれらの修飾電極など種々の材質を用いることができる。また、上記電気的化学分解を実施する際の電極には、板状、棒状、メッシュ状、多孔質状、繊維状、容器状、筒状など種々の形状のものを用いることができる。
【００２６】
上記電気的化学分解終了後、分解槽７７内に設けられた振動することで周波数約０〜２０００ＫＨｚの超音波を発生させる装置である、超音波振動板７２を用いて、キャビテーションを起こす。これにより生成される超微細気泡は一瞬にして破裂するのだが、破裂する際に瞬間的に５０００度を超える熱と１０００気圧を超える強い圧力が発生し、この熱と圧力によって有害有機化合物の分解が起こる。又、水自身もＨ（水素）ラジカルとＯＨラジカルに分かれるのだが、このＯＨラジカルが有害有機化合物を分解する。但し、超音波振動板７２は必ずしも必要ではない。上記電気的化学分解で使った電極を振動させることで、超音波を発生させることができる場合は、超音波振動板７２は取り外しても構わない。
【００２７】
上記の電気化学的分解と、キャビテーション分解とを経た被処理液を分解槽から排出する際に、光触媒もしくは光触媒を含侵させた超微細な粒子をコーティングした上記管（光触媒加工）７３を通過させることで有害有機化合物を完全に無害化する。特に、分解効率を高めるために、循環管（光触媒加工）７４を利用して分解槽７７を何度も循環させながら分解することも出来る。上記管（光触媒加工）７３、上記循環管（光触媒加工）７４で使用する超微細な粒子には、マイクロカプセル、カーボンナノチューブ、ポーラス状シリカなどの多孔質構造を持つ超微細名粒子で光触媒を含侵させることが出来るものであれば、いかなるものをも利用することができる。また、この処理で被処理液が通過する管（光触媒加工）７３、循環管（光触媒加工）７４は光を通す素材でなければならない。管（光触媒加工）７３、循環管管（光触媒加工）７４の形状・大きさについては特に限定するものではない。ただし、被処理液が通過する管は細い方が好ましい。被処理液が通過する管が細ければ、光触媒もしくは光触媒を含侵させた多孔質構造を持つ超微細な粒子をコーティングされた管（光触媒加工）７３、循環管（光触媒加工）７４の内壁に接触する被処理液の総面積が大きくなるために、より効率的に有害有機化合物の分解を可能とする。又、この管（光触媒加工）７３、循環管（光触媒加工）７４を螺旋構造とし、光照射用の光源７６をこの管（光触媒加工）７３、循環管（光触媒加工）７４が成す螺旋構造の中心に設置すると、無駄のない光照射と、光源７６の交換とが容易となる。特に光源７４の設置箇所に指定はないのだが、管状物７３を外側から照射する構造にしても、光源７４の交換は容易となる。又、この管状物７３の内壁をひだ状、もしくは微細な突起が一面に張り巡らせてある構造にすることで、光触媒の有害有機化合物の分解作用に必須となる、被処理液と光触媒の接触面積を大きくすることで、有害有機化合物の分解効率を更に高めることが可能となり、有害有機化合物の完全な無害化を実施する。
【実施例１】
【００２８】
有害有機化合物に汚染された焼却灰を無害化するための実施例をあげる。焼却灰を無害化する場合、洗浄装置２０と、乾燥装置３０と、粉砕装置４０と、抽出装置５０と、濃縮装置６０と、分解装置７０の、以上６つの装置を使用する。
【００２９】
まず有害有機化合物により汚染された焼却灰を、保管容器から乾燥装置３０に投入する。続いて、洗浄装置２０で焼却灰の保管容器を水で洗い流す。この時、洗浄後の廃液は、乾燥装置３０に流し込ませる。次に、焼却灰に含まれた水分を取り除くべく、保管容器と、洗浄装置２０での洗浄処理とを経た乾燥装置３０内に存在する焼却灰を乾燥して、焼却灰中に含まれた水分を除去する。そして、乾燥済みの焼却灰を粉砕装置４０に移す。上記粉砕装置４０内で、焼却灰の粉砕処理を行い、焼却灰の粒度を一定にする。続いて、粉砕装置４０内で粒度を一定にされた焼却灰を抽出装置５０に移す。そして、抽出用溶媒を抽出装置５０内に投入し、焼却灰中の有害有機化合物を抽出溶媒に溶かし込む。更に、抽出装置５０内での抽出処理を経た後の有害有機化合物が溶け込んだ溶媒（以降、抽出後溶媒）を濃縮装置６０に移し、濃縮用溶媒に濃縮する。最後に、上記濃縮装置６０での濃縮処理を経た後の有害有機化合物が溶け込んだ有害有機化合物が溶け込んだ溶媒（以降、濃縮後溶媒）を分解装置７０に注入し、有害有機化合物の分解を行う。
【実施例２】
【００３０】
次に、トランスに密封されたＰＣＢオイルを無害化するための実施例をあげる。トランスに密封されたＰＣＢオイルを無害化する場合、解体装置１０と、洗浄装置２０と、濃縮装置６０と、分解装置７０の、以上４つの装置を使用する。
【００３１】
第一に、ＰＣＢオイルをトランスから排出するために、解体装置１０に投入し、トランスを切断開封する。次に、開封されたトランスからＰＣＢオイルを排出し、濃縮装置６０に注入する。ＰＣＢオイルを排出したトランスは、洗浄装置２０に投入し、濃縮装置６０で使用する溶媒を用いて、トランスに付着したＰＣＢオイルを完全に洗い流す。又、ＰＣＢオイルに汚染されたトランス内の構造物についても同様に、濃縮装置６０で使用する溶媒を用いて付着したＰＣＢオイルを完全に洗い流す。上記洗浄装置２０でトランスと、トランス内構造物を洗い流した後の廃液は、ホッパーや管状物を用いて、濃縮装置６０に流し込む。続いて、濃縮装置６０にて、有害有機化合物を溶け込ませた有機溶媒を濃縮用溶媒に濃縮させる。次に、濃縮装置６０にて、濃縮用溶媒に濃縮した後の被処理液を、分解装置７０に注入し、有害有機化合物の分解を行う。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】有害有機化合物無害化処理システムの備える装置一覧
【図２】粉砕装置の図例
【図３】抽出装置の図例
【図４】分解装置の図例
【図５】焼却灰の無害化処理装置システムの簡易フロー図
【図６】トランス内ＰＣＢオイルの無害化処理装置システムの簡易フロー図
【符号の説明】
【００３３】
１０  解体装置
２０  洗浄装置
３０  乾燥装置
４０  粉砕装置
４１  注入口
４２  排出口
４３  粉砕用羽根
５０  抽出装置
５１  注入口
５２  排出口
５３  溶媒注入口
５４  溶媒排出口
５５  攪拌羽根
６０  濃縮装置
７０  分解装置
７１  電極
７２  超音波振動板
７３  管（光触媒加工）
７４  循環管（光触媒加工）
７５  モーター（循環用）
７６  光源
７７  分解槽
７８  注入口
【図１】
2006000253.tif 000003
【図２】
2006000253.tif 000004
【図３】
2006000253.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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