(57)【要約】【課題】組成物として、安全性に問題がなく、感度、解像度、保存安定性等に優れ、良好な現像マージンを有しており、優れた耐溶剤性、耐熱性、光透過率、密着性等を併せ備えた層間絶縁膜を形成でき、また優れた耐溶剤性、耐熱性、光透過率、密着性等を併せ備え、良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物等を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、〔Ａ〕（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、（ａ２）オキセタン環構造を有する不飽和化合物と、（ａ３）前記以外のオレフィン系不飽和化合物とを共重合して得られるアルカリ可溶性共重合体、〔Ｂ〕１，２−キノンジアジド化合物、並びに〔Ｃ〕非アンチモン系感熱性酸発生化合物を含有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
〔Ａ〕（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、（ａ２）下記一般式（１）で表される化合物および／または下記一般式（２）で表される化合物
【化１】
2006301365.tif 000009
〔一般式（１）および一般式（２）において、各Ｒは相互に独立に水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、各Ｒ1 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、各Ｒ2 、各Ｒ3 、各Ｒ4 および各Ｒ5 は相互に独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基または炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を示し、各ｎは相互に独立に１〜６の整数である。〕と、（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物とを共重合して得られるアルカリ可溶性共重合体、〔Ｂ〕１，２−キノンジアジド化合物、並びに〔Ｃ〕非アンチモン系感熱性酸発生化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
【請求項２】
層間絶縁膜形成用である請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
請求項２に記載の感放射線性樹脂組成物から形成してなる層間絶縁膜。
【請求項４】
以下の工程を以下に記載の順序で含むことを特徴とする層間絶縁膜の形成方法。
（イ）請求項２に記載の感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（ロ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（ハ）照射後の塗膜を現像する工程、
（ニ）現像後の塗膜を加熱する工程。
【請求項５】
マイクロレンズ形成用である請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項６】
請求項５に記載の感放射線性樹脂組成物から形成してなるマイクロレンズ。
【請求項７】
以下の工程を以下に記載順で含むことを特徴とするマイクロレンズの形成方法。
（イ）請求項５に記載の感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（ロ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（ハ）照射後の塗膜を現像する工程、
（ニ）現像後の塗膜を加熱する工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成に有用な感放射線性樹脂組成物、当該感放射線性樹脂組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズ、並びに当該層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と記す。）型液晶表示素子、磁気ヘッド素子、集積回路素子、固体撮像素子等の電子部品には、一般に層状に配置される配線の間を絶縁するために層間絶縁膜が設けられている。層間絶縁膜を形成する材料としては、必要とするパターン形状を得るための工程数が少なくしかも十分な平坦性を有するものが好ましいことから、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用されている（例えば、特許文献１および特許文献２参照。）。
前記電子部品のうち、例えばＴＦＴ型液晶表示素子は、層間絶縁膜の上に透明電極膜を形成し、さらにその上に液晶配向膜を形成する工程を経て製造されるため、層間絶縁膜は、透明電極膜の形成工程において高温条件に曝されたり、電極のパターン形成に使用されるレジストの剥離液に曝されることとなるため、これらに対する十分な耐性が必要となる。
また近年、ＴＦＴ型液晶表示素子においては、大画面化、高輝度化、高精細化、高速応答化、薄型化等が進行しており、層間絶縁膜の形成に用いられる感放射線性樹脂組成物としては高感度であることが求められ、また形成される層間絶縁膜には、低誘電率、高光透過率等の面で従来にも増して高性能が要求されている。
【０００３】
一方、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結像光学系あるいは光ファイバコネクタの光学系材料として、３〜１００μｍ程度のレンズ径を有するマイクロレンズやそれを規則的に配列したマイクロレンズアレイが使用されている。
マイクロレンズを形成する方法としては、レンズに対応するレジストパターンを形成したのち、加熱処理してメルトフローさせることによって、そのままレンズとして利用する方法や、メルトフローさせたレンズパターンをマスクにして、ドライエッチングにより下地にレンズ形状を転写させる方法等が知られているが、このようなレンズパターンの形成にも、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用されている（例えば、特許文献３および特許文献４参照。）。
そして、レンズパターンを形成するために用いられる感放射線性樹脂組成物には、高感度であり、それから形成されるマイクロレンズが所望の曲率半径を有し、高耐熱性、高光透過率であることなどが要求される。
【０００４】
また、前記のようなマイクロレンズが形成された素子はその後、配線形成部分であるボンディングパッド上の各種絶縁膜を除去するために、平坦化膜およびエッチング用レジストを塗布し、所望のフォトマスクを介して放射線を照射し、現像して、ボンディングパッド部分のエッチング用レジストを除去したのち、エッチングにより平坦化膜や各種絶縁膜を除去して、ボンディングパッド部分を露出させる工程に供される。そのため、マイクロレンズには、平坦化膜やエッチング用レジストの塗膜形成工程およびエッチング工程において、耐溶剤性、耐熱性等が必要となる。
【０００５】
一方、このようにして得られる層間絶縁膜やマイクロレンズは、それらを形成する際の現像工程において、現像時間が最適時間よりわずかでも過剰となると、パターンと基板との間に現像液が浸透して剥がれが生じやすくなり、またこのような現象を避けるためには現像時間を厳密に制御する必要があり、製品の歩留まりないし生産性の点で問題があった。
さらに、層間絶縁膜やマイクロレンズの形成に用いられる感放射線性樹脂組成物に、フッ化アンチモン類を感熱性酸発生剤として添加することにより、耐熱性や表面硬度を向上させる提案（例えば、特許文献５参照。）もなされているが、この感放射線性樹脂組成物の場合、アンチモン系化合物による毒性の問題が指摘されている。
このように、層間絶縁膜やマイクロレンズの形成に用いられる感放射線性樹脂組成物にあっては、高感度であることが要求され、また現像工程において現像時間が所定時間より過剰となった場合でもパターンの剥がれが生じることがないことが要求され、また形成された層間絶縁膜には、高耐熱性、高耐溶剤性、低誘電率、高光透過率等が要求され、一方マイクロレンズを形成する場合には、マイクロレンズとしての良好なメルト形状（所望の曲率半径）に加えて、高耐熱性、高耐溶剤性、高光透過率等が要求されることとなるが、そのような様々な要求を十分満足でき、かつ安全性にも問題がない感放射線性樹脂組成物は従来知られていなかった。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−３５４８２２号公報
【特許文献２】特開２００１−３４３７４３号公報
【特許文献３】特開平６−１８７０２号公報
【特許文献４】特開平６−１３６２３９号公報
【特許文献５】特開２００１−３３０９５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は以上のような事情に基づいてなされたものであり、本発明の第一の課題は、安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の第二の課題は、優れた耐溶剤性、耐熱性、光透過率、密着性等を併せ備えた層間絶縁膜を形成でき、また優れた耐溶剤性、耐熱性、光透過率、密着性等を併せ備え、良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の第三の課題は、前記優れた特性を併せ備えた層間絶縁膜およびマイクロレンズを簡便なプロセスで形成しうる方法を提供することにある。
本発明のさらに他の課題および利点は、以下の説明から明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によると、前記課題は、第一に、
〔Ａ〕（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、（ａ２）下記一般式（１）で表される化合物および／または下記一般式（２）で表される化合物
【０００９】
【化１】
2006301365.tif 000002
【００１０】
〔一般式（１）および一般式（２）において、各Ｒは相互に独立に水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、各Ｒ1 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、各Ｒ2 、各Ｒ3 、各Ｒ4 および各Ｒ5 は相互に独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基または炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を示し、各ｎは相互に独立に１〜６の整数である。〕と、（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物とを共重合して得られるアルカリ可溶性共重合体、〔Ｂ〕１，２−キノンジアジド化合物、並びに〔Ｃ〕非アンチモン系感熱性酸発生化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物（以下、「感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕」という。）、
により達成される。
【００１１】
本発明によると、前記課題は、第二に、
層間絶縁膜形成用である感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕（以下、「層間絶縁膜形成用組成物」という。）、
により達成される。
【００１２】
本発明によると、前記課題は、第三に、
層間絶縁膜形成用組成物から形成してなる層間絶縁膜、
により達成される。
【００１３】
本発明によると、前記課題は、第四に、
以下の工程を以下に記載の順序で含むことを特徴とする層間絶縁膜の形成方法、
（イ）層間絶縁膜形成用組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（ロ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（ハ）照射後の塗膜を現像する工程、
（ニ）現像後の塗膜を加熱する工程、
により達成される。
【００１４】
本発明によると、前記課題は、第五に、
マイクロレンズ形成用である感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕（以下、「マイクロレンズ形成用組成物」という。）、
により達成される。
【００１５】
本発明によると、前記課題は、第六に、
マイクロレンズ形成用組成物から形成してなるマイクロレンズ、
により達成される。
【００１６】
本発明によると、前記課題は、第七に、
以下の工程を以下に記載順で含むことを特徴とするマイクロレンズの形成方法。
（イ）マイクロレンズ形成用組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（ロ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（ハ）照射後の塗膜を現像する工程、
（ニ）現像後の塗膜を加熱する工程、
により達成される。
【００１７】
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕
−〔Ａ〕共重合体−
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕における〔Ａ〕成分は、（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物（以下、これらをまとめて「不飽和化合物（ａ１）」という。）と、（ａ２）前記一般式（１）で表される化合物（以下、「不飽和化合物（ａ２−１）」という。）および／または一般式（２）で表される化合物（以下、「不飽和化合物（ａ２−２）」という。）（以下、不飽和化合物（ａ２−１）と不飽和化合物（ａ２−２）とをまとめて「不飽和化合物（ａ２）」という。）と、（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物（以下、「不飽和化合物（ａ３）」という。）とを共重合して得られるアルカリ可溶性共重合体（以下、「〔Ａ〕共重合体」という。）からなる。
【００１８】
不飽和化合物（ａ１）としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸類；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸類；前記ジカルボン酸の無水物類；こはく酸モノ（２−アクリロイルオキシエチル）、こはく酸モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）、フタル酸モノ（２−アクリロイルオキシエチル）、フタル酸モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）等の２価以上の多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル類；ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレート等の両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
これらの不飽和化合物（ａ１）のうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が、共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性および入手が容易である点から好ましい。
前記不飽和化合物（ａ１）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００１９】
〔Ａ〕共重合体における不飽和化合物（ａ１）から誘導される構成単位の含有率は、好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３５重量％である。この場合、該構成単位の含有率が５重量％未満であると、得られる共重合体のアルカリ水溶液への溶解性が低下する傾向があり、一方４０重量％を超えると、得られる共重合体のアルカリ水溶液に対する溶解性が大きくなりすぎる傾向がある。
【００２０】
次に、一般式（１）および一般式（２）において、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲの炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
また、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲの炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル基、ヘプタフルオロ−ｉ−プロピル基、ノナフルオロ−ｎ−ブチル基、ノナフルオロ−ｉ−ブチル基、ノナフルオロ−ｓｅｃ−ブチル基、ノナフルオロ−ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
【００２１】
不飽和化合物（ａ２）のうち、不飽和化合物（ａ２−１）としては、例えば、３−（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−メチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−ペンタフルオロエチルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２，２−ジフルオロオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２，２，４−トリフルオロオキセタン、３−（アクリロイルオキシメチル）−２，２，４，４−テトラフルオロオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−２−エチルオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−２−ペンタフルオロエチルオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−２，２−ジフルオロオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−２，２，４−トリフルオロオキセタン、３−（２−アクリロイルオキシエチル）−２，２，４，４−テトラフルオロオキセタン等のアクリル酸エステル類；
【００２２】
３−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−メチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−ペンタフルオロエチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２，２−ジフルオロオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２，２，４−トリフルオロオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２，２，４，４−テトラフルオロオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−エチルオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−ペンタフルオロエチルオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２，２−ジフルオロオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２，２，４−トリフルオロオキセタン、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２，２，４，４−テトラフルオロオキセタン等のメタクリル酸エステル類等を挙げることができる。
これらの不飽和化合物（ａ２−１）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００２３】
また、不飽和化合物（ａ２−２）としては、例えば、２−（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−２−メチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−３−メチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−４−メチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−３−トリフルオロメチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−４−トリフルオロメチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−２−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−３−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−４−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−３−フェニルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−４−フェニルオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−２，３−ジフルオロオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−２，４−ジフルオロオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−３，３−ジフルオロオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−３，４−ジフルオロオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−４，４−ジフルオロオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−３，３，４−トリフルオロオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−３，４，４−トリフルオロオキセタン、２−（アクリロイルオキシメチル）−３，３，４，４−テトラフルオロオキセタン、
【００２４】
２−（２−アクリロイルオキシエチル）オキセタン、２−〔２−（２−メチルオキセタニル）〕エチルメタクリレート、２−〔２−（３−メチルオキセタニル）〕エチルメタクリレート、２−（アクリロイルオキシエチル）−２−メチルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−４−メチルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−３−トリフルオロメチルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−４−トリフルオロメチルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−２−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−３−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−４−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−３−フェニルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−４−フェニルオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−２，３−ジフルオロオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−２，４−ジフルオロオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−３，３−ジフルオロオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−３，４−ジフルオロオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−４，４−ジフルオロオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−３，３，４−トリフルオロオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−３，４，４−トリフルオロオキセタン、２−（２−アクリロイルオキシエチル）−３，３，４，４−テトラフルオロオキセタン等のアクリル酸エステル類；
【００２５】
２−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−２−メチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３−メチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−４−メチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３−トリフルオロメチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−４−トリフルオロメチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−２−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−４−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３−フェニルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−４−フェニルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−２，３−ジフルオロオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−２，４−ジフルオロオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３，３−ジフルオロオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３，４−ジフルオロオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−４，４−ジフルオロオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３，３，４−トリフルオロオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３，４，４−トリフルオロオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−３，３，４，４−テトラフルオロオキセタン、
【００２６】
２−（２−メタクリロイルオキシエチル）オキセタン、２−〔２−（２−メチルオキセタニル）〕エチルメタクリレート、２−〔２−（３−メチルオキセタニル）〕エチルメタクリレート、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−メチルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−４−メチルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３−トリフルオロメチルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−４−トリフルオロメチルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−４−ペンタフルオロエチルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３−フェニルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−４−フェニルオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２，３−ジフルオロオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−２，４−ジフルオロオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３，３−ジフルオロオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３，４−ジフルオロオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−４，４−ジフルオロオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３，３，４−トリフルオロオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３，４，４−トリフルオロオキセタン、２−（２−メタクリロイルオキシエチル）−３，３，４，４−テトラフルオロオキセタン等のメタクリル酸エステル類等を挙げることができる。
これらの不飽和化合物（ａ２−２）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００２７】
前記不飽和化合物（ａ２）のうち、３−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）−４−トリフルオロメチルオキセタン等が、得られる感放射線性樹脂組成物のプロセスマージンが広く、かつ得られる層間絶縁膜およびマイクロレンズの耐薬品性を高める点から好ましい。
【００２８】
〔Ａ〕共重合体における不飽和化合物（ａ２）から誘導される構成単位の含有率は、好ましくは５〜６０重量％、特に好ましくは１０〜５０重量％である。この場合、該構成単位の含有率が５重量％未満であると、得られる塗膜の耐熱性が低下する傾向があり、一方６０重量％を超えると、得られる共重合体の保存安定性が低下する傾向がある。
【００２９】
次に、不飽和化合物（ａ３）としては、不飽和化合物（ａ１）および不飽和化合物（ａ２）と共重合可能である限り特に限定されるものではないが、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｉ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート等のアクリル酸アルキルエステル類；メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、ｉ−プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート等のメタクリル酸アルキルエステル類；シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イルアクリレート（以下、「ジシクロペンタニルアクリレート」という。）、２−ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート等のアクリル酸の環状エステル類；シクロヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシルメタクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イルメタクリレート（以下、「ジシクロペンタニルメタクリレート」という。）、２−ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート等のメタクリル酸の環状エステル類；フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等のアクリル酸アリールエステル類；フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等のメタクリル酸アリールエステル類；マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等の不飽和ジカルボン酸ジエステル；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシアルキルアクリレート類；２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシアルキルメタクリレート類；
【００３０】
ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−エチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−カルボキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシメチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−（２−ヒドロキシエチル）ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−メトキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−エトキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５，６−ジヒドロキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５，６−ジカルボキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（２−ヒドロキシエチル）ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５，６−ジメトキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５，６−ジエトキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
【００３１】
５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−カルボキシ−５−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−カルボキシ−５−エチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−カルボキシ−６−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−カルボキシ−６−エチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５，６−ジカルボキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）、
５−ｔ−ブトキシカルボニルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−フェノキシカルボニルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（ｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、
５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン等のビシクロ不飽和化合物；
【００３２】
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等の不飽和ジカルボニルイミド誘導体類；
【００３３】
スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸３，４−エポキシブチル、メタクリル酸３，４−エポキシブチル、α−エチルアクリル酸３，４−エポキシブチル、アクリル酸６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等を挙げることができる。
【００３４】
これらの不飽和化合物（ａ３）のうち、ｔ−ブチルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、スチレン、ｐ−メトキシスチレン、１，３−ブタジエン、メタクリル酸グリシジル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等が、共重合反応性および得られる〔Ａ〕共重合体のアルカリ水溶液への溶解性の点から好ましい。
前記不飽和化合物（ａ３）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００３５】
〔Ａ〕共重合体における不飽和化合物（ａ３）から誘導される構成単位の含有率は、好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは２０〜７０重量％である。この場合、該構成単位の含有率が１０重量％未満であると、得られる共重合体の保存安定性が低下する傾向があり、一方８０重量％を超えると、得られる共重合体のアルカリ水溶液への溶解性が低下する傾向がある。
【００３６】
本発明における好ましい〔Ａ〕共重合体としては、より具体的には、アクリル酸、メタクリル酸および無水マレイン酸の群から選ばれる少なくとも１種の不飽和化合物（ａ１）と、３−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、２−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタンおよび２−（メタクリロイルオキシメチル）−４−トリフルオロメチルオキセタンの群から選ばれる少なくとも１種の不飽和化合物（ａ２）と、ｔ−ブチルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、スチレン、ｐ−メトキシスチレン、１，３−ブタジエン、メタクリル酸グリシジル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテルおよびｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルの群から選ばれる少なくとも１種の不飽和化合物（ａ３）との共重合体を挙げることができる。
【００３７】
〔Ａ〕共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、通常、２×１０3 〜５×１０5 、好ましくは５×１０3 〜１×１０5 である。この場合、〔Ａ〕共重合体のＭｗが２×１０3 未満であると、現像時の残膜率が低下する傾向があり、一方５×１０5 を超えると、現像時に現像残りが生じるおそれがある。
また、〔Ａ〕共重合体のＭｗとポリスチレン換算数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という。）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）で定義される分子量分布は、通常、５．０以下、好ましくは３．０以下である。この場合、Ｍｗ／Ｍｎが５．０を越えると、得られる層間絶縁膜やマイクロレンズのパターン形状が低下する傾向がある。
このようなＭｗおよびＭｗ／Ｍｎを有する〔Ａ〕共重合体を含有する感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕は、現像時に現像残りや膜減りを生じることがなく、容易に所定形状のパターンを形成することができる。
【００３８】
〔Ａ〕共重合体は、カルボキシル基および／またはカルボン酸無水物基とオキセタン環構造とを有しており、アルカリ水溶液に対して適度の溶解性を有するとともに、特別な硬化剤を併用しなくても加熱により容易に硬化することができ、また〔Ａ〕共重合体を含有する感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕は、現像時に現像残りや膜減りを生じることがなく、所定パターンの塗膜を容易に形成することができる。
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕において、〔Ａ〕共重合体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００３９】
〔Ａ〕共重合体は、例えば、不飽和化合物（ａ１）、不飽和化合物（ａ２）および不飽和化合物（ａ３）を、適当な溶媒中、ラジカル重合開始剤の存在下で重合することによって合成することができる。
前記重合に用いられる溶媒としては、例えば、アルコール類、エーテル類、エチレングリコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコール類、プロピレングリコールエーテル類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類等を挙げることができる。
【００４０】
これらの溶媒の具体例としては、アルコール類として、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール、２−フェニルエタノール、３−フェニル−１−プロパノール等；エーテル類として、テトラヒドロフラン等；エチレングリコールエーテル類として、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等；エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールｎ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールｎ−ブチルエーテルアセテート等；ジエチレングリコール類として、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等；
【００４１】
プロピレングリコールエーテル類として、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル等；プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテルアセテート等；プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類として、プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテルプロピオネート等；芳香族炭化水素類として、トルエン、キシレン等；ケトン類として、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等；
【００４２】
エステル類として、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ｎ−プロピル、ヒドロキシ酢酸ｎ−ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸ｎ−ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ｎ−プロピル、メトキシ酢酸ｎ−ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸ｎ−プロピル、エトキシ酢酸ｎ−ブチル、ｎ−プロポキシ酢酸メチル、ｎ−プロポキシ酢酸エチル、ｎ−プロポキシ酢酸ｎ−プロピル、ｎ−プロポキシ酢酸ｎ−ブチル、ｎ−ブトキシ酢酸メチル、ｎ−ブトキシ酢酸エチル、ｎ−ブトキシ酢酸ｎ−プロピル、ｎ−ブトキシ酢酸ｎ−ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−メトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−エトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸メチル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸エチル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−メトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−エトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸メチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸エチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−ブチル等をそれぞれ挙げることができる。
【００４３】
これらの溶媒のうち、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコール類、プロピレングリコールエーテル類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類等が好ましく、特に、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートが好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００４４】
また、前記重合に用いられるラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；過酸化水素等を挙げることができる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、それを還元剤と共に用いてレドックス型開始剤としてもよい。
これらのラジカル重合開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００４５】
さらに、前記重合に際しては、〔Ａ〕共重合体の分子量を調整するために分子量調整剤を使用することができる。
分子量調整剤の具体例としては、クロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ｎ−ヘキシルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類；ジメチルキサントゲンスルフィド、ジ−ｉ−プロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類や、ターピノーレン、α−メチルスチレンダイマー等を挙げることができる。
これらの分子量調整剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００４６】
−〔Ｂ〕１，２−キノンジアジド化合物−
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕における〔Ｂ〕成分は、放射線の照射により酸を発生する１，２−キノンジアジド化合物であり、例えば、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド等を挙げることができる。
【００４７】
このような１，２−キノンジアジド化合物の具体例としては、
２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル等のトリヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類；  
【００４８】
２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、
２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、
【００４９】
２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル等のテトラヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類；
【００５０】
２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，
６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル等のペンタヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類；
【００５１】
２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル等のヘキサヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類；
【００５２】
ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、
【００５３】
１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、
【００５４】
１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、４，４’−〔１−｛４−（１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル）フェニル｝エチリデン〕ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、４，４’−〔１−｛４−（１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル）フェニル｝エチリデン〕ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、４，４’−〔１−｛４−（１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル）フェニル｝エチリデン〕ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、４，４’−〔１−｛４−（１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル）フェニル｝エチリデン〕ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、
【００５５】
ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル等の（ポリヒドロキシフェニル）アルカンの１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルや、
前記各１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルにおける１，２−ナフトキノンを１，２−ベンゾキノンに代えた化合物等を挙げることができる。
【００５６】
これらの１，２−キノンジアジド化合物のうち、特に、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル等が好ましい。
前記１，２−キノンジアジド化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００５７】
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕における１，２−キノンジアジド化合物の使用割合は、〔Ａ〕共重合体１００重量部に対して、好ましくは５〜１００重量部、特に好ましくは１０〜５０重量部である。この場合、１，２−キノンジアジド化合物の使用割合が５重量部未満であると、アルカリ水溶液に対する放射線の照射部分と未照射部分との溶解性の差が小さくなり、パターン形成が困難となったり、〔Ａ〕共重合体との反応に関与する酸の発生量が少なくなって、得られる層間絶縁膜やマイクロレンズに十分な耐熱性や耐溶剤性を付与することが困難となるおそれがあり、一方１００重量部を超えると、短時間の放射線の照射では、未反応の１，２−キノンジアジド化合物の残存量が多くなり、アルカリ水溶液への不溶化効果が高くなりすぎて、現像が困難となるおそれがある。
【００５８】
−〔Ｃ〕酸発生化合物−
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕における〔Ｃ〕成分は、非アンチモン系感熱性酸発生化合物（以下、「〔Ｃ〕酸発生化合物」という。）からなり、得られる層間絶縁膜およびマイクロレンズの耐熱性や表面硬度を向上させる作用を有する成分である。
〔Ｃ〕酸発生化合物としては、例えば、スルホニウム塩類、ベンゾチアゾニウム塩類、ジアリールヨードニウム塩類、ホスホニウム塩類、アンモニウム塩類等を挙げることができ、特に、スルホニウム塩類、ベンゾチアゾニウム塩類が好ましい。これらの〔Ｃ〕酸発生化合物は、安全性に優れるという面から望ましい化合物である。
【００５９】
〔Ｃ〕酸発生化合物のうち、スルホニウム塩類としては、例えば、トリアリールスルホニウム塩として、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルヘキサフルオロアルセネート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルトリフルオロメタンスルホネート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルｐ−トルエンスルホネート等を；
【００６０】
他のスルホニウム塩として、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−（ベンゾイルオキシ）フェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート等のアルキルスルホニウム塩；ベンジル（４−ヒドロキシフェニル）（メチル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンジル（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）（メチル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベンジル（４−ヒドロキシフェニル）（メチル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート等のベンジルスルホニウム塩；ジベンジル（４−ヒドロキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジベンジル（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ベンジル（４−メトキシベンジル）（４−ヒドロキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート等のジベンジルスルホニウム塩；４−クロロベンジル（４−ヒドロキシフェニル）（メチル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート等の置換ベンジルスルホニウム塩等をそれぞれ挙げることができる。
【００６１】
これらのスルホニウム塩類のうち、特に、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート等が好ましい。
【００６２】
また、前記ベンゾチアゾニウム塩類としては、例えば、３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムテトラフルオロボレート等のベンジルベンゾチアゾニウム塩等を挙げることができる。
【００６３】
また、前記ジアリールヨードニウム塩類としては、例えば、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、４−メトキシフェニル（フェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニル（フェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニル（フェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニル（フェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシフェニル（フェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニル（フェニル）ヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムｐ−トルエンスルホネート等を挙げることができる。
【００６４】
また、前記ホスホニウム塩類としては、例えば、（１−６−η−クメン）（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスホネート等を挙げることができる。
【００６５】
〔Ｃ〕酸発生化合物の市販品としては、例えば、トリアリールスルホニウム塩として、例えば、アデカオプトマーＳＰ−１５０、同ＳＰ−１５１、同ＳＰ−１７０、同ＳＰ−１７１（以上、旭電化工業（株）製）；ＣＩ−２０６４、ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９（以上、日本曹達（株）製）；ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０３（以上、みどり化学（株）製）；ＣＤ−１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２（以上、サートマー社製）等を、ジアリールヨードニウム塩として、ＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０（以上、ユニオンカーバイド社製）；ＭＰＩ−１０３、ＢＢＩ−１０３（以上、みどり化学（株）製）等を、ジアリールホスホニウム塩として、イルガキュアー２６１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）；ＰＣＩ−０６１Ｔ、ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０Ｔ、ＰＣＩ−０２２Ｔ（以上、日本化薬（株）製）等をそれぞれ挙げることができる。
これらの市販品のうち、アデカオプトマーＳＰ−１７０、同ＳＰ−１７１、ＣＤ−１０１２、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０、ＭＰＩ−１０３等が、得られる層間絶縁膜およびマイクロレンズが高い表面硬度を有する点で好ましい。
前記〔Ｃ〕酸発生化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。  
【００６６】
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕における〔Ｃ〕酸発生化合物の使用割合は、〔Ａ〕共重合体１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜２０重量部、特に好ましくは０．１〜５重量部である。この場合、〔Ｃ〕酸発生化合物の使用割合が０．０１重量部未満であると、加熱下での硬化時の硬化速度が遅くなり、解像度が低下する傾向があり、一方２０重量部を超えると、析出物が発生してパターン形成が困難となるおそれがある。
【００６７】
−その他の成分−
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕には、前記〔Ａ〕、〔Ｂ〕および〔Ｃ〕成分以外に、必要に応じて、少なくとも１個のオレフィン系不飽和結合を有する重合性化合物（以下、「オレフィン系重合性化合物」という。）、熱硬化性樹脂、界面活性剤、接着助剤等を配合することもできる。
【００６８】
オレフィン系重合性化合物は、得られる層間絶縁膜およびマイクロレンズの耐熱性、強度等をさらに向上させる作用を有する成分であり、その好ましい例としては、単官能（メタ）アクリレート類、２官能（メタ）アクリレート類または３官能以上の（メタ）アクリレート類を挙げることができる。
前記単官能（メタ）アクリレート類としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル（２−ヒドロキシプロピル）フタレート等を挙げることができ、その市販品として、アロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＣ−１１０Ｓ、同  ＴＣ−１２０Ｓ（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート１５８、同２３１１（以上、大阪有機化学工業（株）製）を挙げることができる。
【００６９】
前記２官能（メタ）アクリレート類としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレートト等を挙げることができ、その市販品として、アロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ、同  ＨＸ−２２０、同  Ｒ−６０４（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００７０】
前記３官能以上の（メタ）アクリレート類としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕フォスフェート等を挙げることができ、その市販品として、アロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、同  ＤＰＨＡ、同  ＤＰＣＡ−２０、同  ＤＰＣＡ−３０、同  ＤＰＣＡ−６０、同  ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）等を挙げることができる。
前記オレフィン系重合性化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００７１】
オレフィン系重合性化合物の配合量は、〔Ａ〕共重合体１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下、さらに好ましくは３０重量部以下である。この場合、オレフィン系重合性化合物の配合量が５０重量部を超えると、〔Ａ〕共重合体との相溶性が不十分となり、塗布時に膜荒れを生じるおそれがある。
【００７２】
前記熱硬化性樹脂は、得られる層間絶縁膜およびマイクロレンズの耐熱性、強度等をさらに向上させる作用を有する成分であり、その例としては、感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕を構成する他の成分との相溶性に問題がないかぎり限定されるものではないが、例えば、エポキシ樹脂、アミノ樹脂等を挙げることができる。
前記エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルメタアクリレートを（共）重合した樹脂等を挙げることができ、これらのうち、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂等が好ましい。
【００７３】
エポキシ樹脂の配合量は、〔Ａ〕共重合体１００重量部に対して、好ましくは３０重量部以下である。この場合、エポキシ樹脂の配合量が３０重量部を超えると、〔Ａ〕共重合体との相溶性が不十分となり、塗膜形成に支障をきたすおそれがある。
なお、〔Ａ〕共重合体を合成する際の不飽和化合物（ａ３）としてエポキシ基含有化合物を用いた場合、当該〔Ａ〕共重合体も「エポキシ樹脂」といいうるが、〔Ａ〕共重合体は、アルカリ可溶性を有し、また比較的高分子量である点で、エポキシ樹脂とは異なるものである。
前記アミノ樹脂としては、例えば、下記式（３）
【００７４】
【化２】
2006301365.tif 000003
〔式（３）において、Ｒ6 は水素原子または炭素数が１〜６、好ましくは１〜４のアルキル基を示す。〕
【００７５】
で表される１価の有機基を、１分子中に好ましくは２個以上有する化合物、さらに好ましくは該１価の有機基が窒素原子に結合した化合物を挙げることができる。該１価の有機基が１分子中に２個以上存在するときは、各１価の有機基は同一でも異なってもよい。
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕に前記１価の有機基を有するアミノ樹脂を配合した場合は、該１価の有機基が、〔Ａ〕共重合体が有するカルボキシル基および／またはカルボン酸無水物基と反応して、架橋構造を形成する。
好ましいアミノ樹脂としては、より具体的には、下記式（４）
【００７６】
【化３】
2006301365.tif 000004
〔式（４）において、各Ｒ7 、各Ｒ8 および各Ｒ9 は相互に独立に炭素数１〜４のアルキル基を示す。〕
【００７７】
で表されるＮ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサ（アルコキシメチル）メラミン等のアルコキシメチル化メラミン類、下記式（５）
【００７８】
【化４】
2006301365.tif 000005
〔式（５）において、各Ｒ10、各Ｒ11、各Ｒ12および各Ｒ13は相互に独立に炭素数１〜４のアルキル基を示す。〕
【００７９】
で示されるＮ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラ（アルコキシメチル）グリコールウリル等のアルコキシメチル化グリコールウリル等を挙げることができる。
【００８０】
また、アミノ樹脂として、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、チオ尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、グアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂等を使用することができ、前記エポキシ樹脂およびアミノ樹脂以外の熱硬化性樹脂として、ポリビニルフェノール類に前記式（３）で表される１価の有機基を導入した化合物等を使用することもできる。
【００８１】
熱硬化性樹脂の配合量は、〔Ａ〕共重合体１００重量部に対して、好ましくは１０重量部以下、さらに好ましくは７重量部以下である。
【００８２】
前記界面活性剤は、塗布性を向上させる作用を有する成分である。
このような界面活性剤としては、フッ素系ないしシリコーン系の界面活性剤として、例えば、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ  ＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（以上、新秋田化成（株）製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）等の市販品を挙げることができる。
【００８３】
また、フッ素系ないしシリコーン系の界面活性剤以外にも、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート等のポリオキシエチレンジアルキルエステル類等のノニオン系界面活性剤や、市販品として、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７、同Ｎｏ．９５（以上、共栄社化学（株）製）等を挙げることができる。
【００８４】
界面活性剤の配合量は、〔Ａ〕共重合体１００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、さらに好ましくは２重量部以下である。この場合、界面活性剤の配合量が５重量部を超えると、塗布時に膜あれを生じやすくなる傾向がある。
【００８５】
前記接着助剤は、基板との密着性をさらに向上させる作用を有する成分であり、その例としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、エポキシ基等の反応性置換基を有する官能性シランカップリング剤を挙げることができる。
前記官能性シランカップリング剤としては、例えば、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
【００８６】
接着助剤の配合量は、〔Ａ〕共重合体１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、さらに好ましくは１０重量部以下である。この場合、接着助剤の配合量が２０重量部を超えると、現像時に現像残りを生じやすくなる傾向がある。
【００８７】
−感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕の調製−
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕は、前記〔Ａ〕、〔Ｂ〕および〔Ｃ〕成分並びに前記任意的に添加されるその他の成分を均一に混合することによって調製することができるが、好ましくは、適当な溶媒に溶解した組成物溶液として使用される。
【００８８】
前記組成物溶液の調製に用いられる溶媒としては、感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕を構成する各成分を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。
このような溶媒としては、前述した〔Ａ〕共重合体を合成するために使用される溶媒として例示したものと同様のものを挙げることができる。
これらの溶媒のうち、各成分の溶解性、各成分との反応性、塗膜形成の容易性等の点から、例えば、アルコール類、エチレングリコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコール類、エステル類等が好ましく、特に、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノール、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールｎ−ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル等が好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００８９】
さらに、前記溶媒と共に、膜厚の面内均一性を高めるため、高沸点溶媒を併用することもできる。
前記高沸点溶媒としては、例えば、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等を挙げることができる。
これらの高沸点溶媒のうち、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン等が好ましい。
前記高沸点溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００９０】
組成物溶液の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その使用量は、溶媒全量に対して、好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは４０重量％以下、特に好ましくは３０重量％以下である。この場合、高沸点溶媒の使用量が５０重量％を超えると、感度、塗膜の膜厚均一性や残膜率が低下するおそれがある。
【００９１】
組成物溶液の全固形分は、使用目的や所望の膜厚等に応じて任意に設定することができ、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましくは１５〜３５重量％である。
また、このようにして調製された組成物溶液は、孔径０．２μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いてろ過して使用に供することもできる。
【００９２】
−感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕の用途−
感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕は、特に、層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成に極めて好適に使用することができる。
【００９３】
層間絶縁膜およびマイクロレンズ
本発明の層間絶縁膜およびマイクロレンズはそれぞれ、感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕から形成される。
本発明の層間絶縁膜は、ＴＦＴ型液晶表示素子、磁気ヘッド素子、集積回路素子、固体撮像素子等の電子部品に極めて好適に使用することができ、また本発明のマイクロレンズおよびそれを規則的に配列したマイクロレンズアレイは、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結像光学系あるいは光ファイバコネクタの光学系材料として極めて好適に使用することができる。
【００９４】
層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成方法
本発明の層間絶縁膜の形成方法およびマイクロレンズの形成方法は、以下の工程を以下に記載順で含むものである。
（イ）感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕の塗膜を基板上に形成する工程、
（ロ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射（以下、「露光」という。）する工程、  （ハ）露光後の該塗膜を現像する工程、
（ニ）現像後の該塗膜を加熱する工程。
【００９５】
以下、これらの工程について順次説明する。
−（イ）工程−
この工程においては、感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕を好ましくは組成物溶液として、基板表面に塗布したのち、プレベークして溶媒を除去することにより、感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕の塗膜を形成する。
使用できる基板としては、例えば、ガラス基板、シリコンウエハーや、これらの表面に各種金属膜を形成した基板等を挙げることができる。
塗布方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法を採用することができ、特に、スピンコート法、スリットダイ塗布法が好ましい。
プレベークの条件としては、各成分の種類や使用割合等によって異なるが、例えば、６０〜１１０℃で３０秒〜１５分間程度とすることができる。
形成される塗膜の膜厚は、プレベーク後の値として、層間絶縁膜を形成する場合にあっては、例えば３〜６μｍ程度、マイクロレンズを形成する場合にあっては、例えば０．５〜３μｍ程度が好ましい。
【００９６】
−（ロ）工程−
この工程においては、形成された塗膜の少なくとも一部に露光する。該塗膜の一部のみに露光する際には、通常、所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。
露光に用いられる放射線としては、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線等を挙げることができ、これらのうち、紫外線が好ましく、特にｇ線および／またはｉ線を含む放射線が好ましい。
露光量としては、層間絶縁膜を形成する場合にあっては、例えば５０〜１，５００Ｊ／ｍ2 程度、マイクロレンズを形成する場合にあっては、例えば５０〜２，０００Ｊ／ｍ2 程度が好ましい。
【００９７】
−（ハ）工程−
この工程においては、露光後の塗膜を現像して、露光部分を除去することにより、所定のパターンを形成する。
現像に用いられる現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕−５−ノネン等のアルカリ（塩基性化合物）の水溶液が好ましいが、場合により、感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕の塗膜を溶解しうる各種有機溶媒を使用することもできる。
また、前記アルカリの水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加することもできる。
現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を採用することができる。
現像時間は、各成分の種類や使用割合等によって異なるが、例えば３０〜１２０秒間程度とすることができる。
【００９８】
従来知られている感放射線性樹脂組成物では、現像時間が最適値から２０〜２５秒程度超過すると、形成されたパターンに剥がれが生じるため、現像時間を厳密に制御する必要があったが、本発明の感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕の場合、最適現像時間からの超過時間が３０秒以上となっても、良好なパターン形成が可能であり、製品歩留まりないし生産性の点で有利である。
【００９９】
−（ニ）工程−
この工程においては、所定のパターンが形成された塗膜に対して、好ましくは例えば流水による洗浄処理を行い、さらに、好ましくは高圧水銀灯などの放射線を全面に露光（後露光）することにより、当該塗膜中に残存する１，２−キノンジアジト化合物の分解処理を行ったのち、この塗膜を、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により加熱処理（ポストベーク）することにより、硬化させる。また、マイクロレンズを形成する場合には、形成されたパターンをポストベークによりメルトフローさせて所定形状にする。
後露光における露光量は、好ましくは２，０００〜５，０００Ｊ／ｍ2 程度である。
また、ポストベークにおける加熱温度は、例えば１２０〜２５０℃程度である。加熱時間は、加熱機器の種類により異なるが、ホットプレート上では例えば５〜３０分間程度、オーブン中では例えば３０〜９０分間程度とすることができる。この際に、２回以上の加熱処理を行うステップベーク法等を採用してもよい。
このようにして、目的とする層間絶縁膜またはマイクロレンズに対応する、パターン状薄膜を基板表面上に形成することができ、本発明のマイクロレンズの形状は、図１のａに示すように、良好な半凸レンズ形状となる。
【発明の効果】
【０１００】
本発明の感放射線性樹脂組成物〔Ｉ〕は、優れた感度および解像度を有し、組成物溶液としての保存安定性に優れ、また現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有するものであり、特に、各種電子部品の層間絶縁膜および固体撮像素子等のマイクロレンズとして極めて好適に使用することができる。
また、本発明の層間絶縁膜は、優れた耐溶剤性、耐熱性、光透過率、密着性等を併せ備え、かつ低誘電率である。
また、本発明のマイクロレンズは、優れた耐溶剤性、耐熱性、光透過率、密着性等を併せ備え、かつ良好なメルト形状を有する。
また、本発明の層間絶縁膜の形成方法およびマイクロレンズの形成方法は、現像時間が最適現像時間を越えても、良好なパターン形成が可能であり、前記優れた特性を併せ備えた層間絶縁膜およびマイクロレンズを簡便に形成することができる。
【実施例】
【０１０１】
以下に実施例および比較例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
共重合体の合成
合成例１
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート２２０重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸２２重量部、ジシクロペンタニルメタクリレート３８重量部、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン４０重量部、α−メチルスチレンダイマー１．５部を仕込んだのち、窒素置換しながら緩やかに撹拌を始め、溶液の温度を７０℃に上昇させて、この温度を４時間保持して重合することにより、〔Ａ〕共重合体の溶液（固形分濃度３１．８重量％）を得た。
得られた〔Ａ〕共重合体のＭｗは１７，９００、Ｍｗ／Ｍｎは１．８であった。なお、ＭｗおよびＭｎは、ＧＰＣ（ゲルパーミエイションクロマトグラフィ）（東ソー（株）製ＨＬＣ−８０２０）を用いて測定したポリスチレン換算平均分子量である。この〔Ａ〕共重合体を「共重合体（Ａ−１）」とする。
【０１０２】
合成例２
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート２２０重量部を仕込んだ。引き続きスチレン５重量部、メタクリル酸２２重量部、３−（メタクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン４５重量部、スチレン５重量部を仕込んだのち、窒素置換しながら緩やかに撹拌を始め、溶液の温度を７０℃に上昇させて、この温度を４時間保持して重合することにより、〔Ａ〕共重合体の溶液（固形分濃度３１．９重量％）を得た。
得られた〔Ａ〕共重合体のＭｗは２０，２００、Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。この〔Ａ〕共重合体を「共重合体（Ａ−２）」とする。
【０１０３】
合成例３
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート１５０重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２０重量部、メタクリル酸２５重量部、Ｎ−シクロヘキシルマレイイミド２０重量部、３−（メタクリロイルオキシメチル）−２−トリフルオロメチルオキセタン３５重量部、α−メチルスチレンダイマー１．５重量部を仕込んだのち、窒素置換しながら緩やかに撹拌を始め、溶液の温度を７０℃に上昇させて、この温度を４時間保持して重合することにより、〔Ａ〕共重合体の溶液（固形分濃度３８．７重量％）を得た。
得られた〔Ａ〕共重合体のＭｗは２１，５００、Ｍｗ／Ｍｎは２．２であった。この〔Ａ〕共重合体を「共重合体（Ａ−３）」とする。
【０１０４】
合成例４
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート２２０重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２０重量部、メタクリル酸３０重量部、２−（メタクリロイルオキシメチル）−４−トリフルオロメチルオキセタン５０重量部、α−メチルスチレンダイマー２．０重量部を仕込んだのち、窒素置換しながら緩やかに撹拌を始め、溶液の温度を７０℃に上昇させて、この温度を５時間保持して重合することにより、〔Ａ〕共重合体の溶液（固形分濃度３１．０重量％）を得た。
得られた〔Ａ〕共重合体のＭｗは１９，０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．７であった。この〔Ａ〕共重合体を「共重合体（Ａ−４）」とする。
【０１０５】
比較合成例１
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸２３重量部、ジシクロペンタニルメタクリレート４７重量部、メタクリル酸グリシジル２０重量部、α−メチルスチレンダイマー２．０重量部を仕込んだのち、窒素置換しながら緩やかに撹拌を始め、溶液の温度を７０℃に上昇させて、この温度を５時間保持して重合することにより、共重合体の溶液（固形分濃度３２．８重量％）を得た。
得られた共重合体のＭｗは２４，０００、Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。この共重合体を「共重合体（ａ−１）」とする。
【０１０６】
比較合成例２
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸２５重量部、ジシクロペンタニルメタクリレート３５重量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート４０重量部、α−メチルスチレンダイマー２．０重量部を仕込んだのち、窒素置換しながら緩やかに撹拌を始め、溶液の温度を７０℃に上昇させて、この温度を５時間保持して重合することにより、共重合体の溶液（固形分濃度３２．８重量％）を得た。
得られた共重合体のＭｗは２５，０００、Ｍｗ／Ｍｎは２．４であった。この共重合体を「共重合体（ａ−２）」とする。
【０１０７】
組成物溶液の調製と評価
実施例１
〔Ａ〕成分として、合成例１で得た共重合体（Ａ−１）の溶液を共重合体（Ａ−１）として１００重量部（固形分）、〔Ｂ〕成分として、４，４’−〔１−｛４−（１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル）フェニル｝エチリデン〕ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル３０重量部、〔Ｃ〕成分として、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート１重量部、その他の成分として、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン５重量部を混合し、固形分濃度が３０重量％になるようにプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに溶解したのち、孔径０．５μｍのミリポアフィルタでろ過して、組成物溶液（Ｓ−１）を調製した。
【０１０８】
保存安定性の評価
組成物溶液（Ｓ−１）を４０℃のオーブン中で１週間加熱して、加熱前後における粘度変化率により評価した。このとき、粘度変化率が５％未満である場合に保存安定性が良好、５％以上の場合に保存安定性が不良といえる。評価結果を表１に示す。
【０１０９】
層間絶縁膜としての評価
−パターン状薄膜の形成−
組成物溶液（Ｓ−１）をガラス基板上にスピンナーを用いて塗布したのち、８０℃のホットプレート上で３分間プレベークして、塗膜を形成した。
次いで、得られた塗膜に所定パターンのフォトマスクを介して、波長３６５ｎｍにおける強度が１０0 Ｗ／ｍ2 の紫外線を１５秒間露光した。その後、０．５重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により２５℃で１分間現像したのち、純水で１分間洗浄することにより、不要な部分を除去して、パターンを形成した。
次いで、形成されたパターンに、波長３６５ｎｍにおける強度が１００Ｗ／ｍ2 の紫外線を３０秒間後露光したのち、２２０℃のオーブン中で６０分間加熱して硬化させることにより、膜厚３μｍのパターン状薄膜を得た。また、プレベーク温度を９０℃または１００℃としたほかは、前記と同様の操作を行って、プレベーク温度の異なる計３種類のパターン状薄膜を得た。
【０１１０】
−解像度の評価−
得られたパターン状薄膜について、抜きパターン（５μｍ×５μｍホール）が解像できている場合を○、解像できていない時を×として評価した。評価結果を表２に示す。
【０１１１】
−耐熱寸法安定性の評価−
プレベーク温度８０℃にて形成したパターン状薄膜を、２２０℃のオーブン中で６０分加熱して、加熱前後での膜厚変化率を測定して評価した。このとき、膜厚変化率が５％以内の場合に耐熱寸法安定性が良好、５％を超える場合に耐熱寸法安定性が不良といえる。評価結果を表２に示す。
【０１１２】
−透明性の評価−
プレベーク温度８０℃にて形成したパターン状薄膜の波長４００ｎｍにおける透過率を、分光光度計（１５０−２０型ダブルビーム（日立製作所（株）製））を用いて測定して評価した。このとき、透過率が９０％以上の場合に透明性が良好、９０％未満の場合に透明性が不良といえる。評価結果を表２に示す。
【０１１３】
−耐熱変色性の評価−
プレベーク温度８０℃にて形成したパターン状薄膜を有する基板を、２５０℃のオーブン中で１時間加熱して、加熱前後でのパターン状薄膜の波長４００ｎｍにおける透過率を前記「透明性の評価」と同様にして測定して、加熱前後での透過率の変化率により評価した。このとき、透過率の変化率が５％未満である場合に耐熱変色性が良好、５％を超える場合に耐熱変色性が不良といえる。評価結果を表２に示す。
【０１１４】
−密着性の評価−
プレベーク温度８０℃にて形成したパターン状薄膜の基板に対する密着性を、プレッシャークッカー試験（１２０℃、湿度１００％、４時間）後の碁盤目剥離試験により評価した。このときの碁盤目１００個中で残った碁盤目の数を表２に示す。
【０１１５】
マイクロレンズとしての評価
−マイクロレンズの形成−
組成物溶液（Ｓ−１）を６インチシリコン基板に、乾燥後の膜厚が２．５μｍになるようにスピンナーを用いて塗布したのち、７０℃のホットプレート上で３分間プレベークして、塗膜を形成した。
次いで、得られた塗膜に所定パターンのフォトマスクを介して、波長４３６ｎｍにおける強度が１００Ｗ／ｍ2 の紫外線を露光量を変えて露光した。その後、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により２５℃で１分間現像したのち、純水で１分間洗浄することにより、不要な部分を除去して、パターン状薄膜を得た。
次いで、得られたパターン状薄膜に、波長４３６ｎｍにおける強度が１００Ｗ／ｍ2 の紫外線を３０秒間後露光したのち、１６０℃のオーブン中で６０分間加熱し、さらに２３０℃のオーブン中で１０分間加熱して硬化させるとともに、パターンをメルトフローさせて、マイクロレンズを形成した。
【０１１６】
−感度の評価−
得られたマイクロレンズについて、ライン線幅０．８μｍライン・アンド・スペ−スパタ−ン（１０対１）のスペース線幅（０．０８μｍ）を解像できる最低露光量により評価した。この値が１，０００Ｊ／ｍ2 以下の場合に感度が良好、１，０００Ｊ／ｍ2 を超える場合に感度が不良といえる。評価結果を表３に示す。
【０１１７】
−透明性の評価−
シリコン基板に代えてガラス基板を用いた以外は、前記「マイクロレンズの形成」と同様にして、マイクロレンズを形成した。
次いで、マイクロレンズを有するガラス基板について、波長４００ｎｍにおける透過率を分光光度計（１５０−２０型ダブルビーム（日立製作所（株）製））を用いて測定して評価した。このとき、透過率が９０％以上の場合に透明性が良好、９０％未満の場合に透明性が不良といえる。評価結果を表３に示す。
【０１１８】
−耐熱変色性の評価−
シリコン基板に代えてガラス基板を用いた以外は、前記「マイクロレンズの形成」と同様にしてパターン状薄膜を得た。
次いで、てパターン状薄膜を有するガラス基板を、２５０℃のオーブン中で１時間加熱し、加熱前後での波長４００ｎｍにおける透過率の変化率により評価した。このとき、透過率の変化率が５％未満である場合に耐熱変色性が良好、５％を超える場合に耐熱変色性が不良といえる。評価結果を表３に示す。
【０１１９】
−密着性の評価−
前記「マイクロレンズの形成」と同様にしてパターン状薄膜を得た。
次いで、パターン状薄膜を有するシリコン基板について、パターン状薄膜の基板に対する密着性を、プレッシャークッカー試験（１２０℃、湿度１００％、４時間）後の碁盤目剥離試験により評価した。このときの碁盤目１００個中で残った碁盤目の数を表３に示す。
【０１２０】
−耐溶剤性の評価−
シリコン基板に代えてガラス基板を用いた以外は、前記「マイクロレンズの形成」と同様にしてパターン状薄膜を得た。
次いで、パターン状薄膜を有するガラス基板を、５０℃のｉ−プロパノール中に１０分間浸漬し、浸漬前後での膜厚変化率を測定して評価した。このとき、膜厚変化率が５％以下の場合に耐溶剤性が良好、５％を超える場合や薄膜が溶解して膜厚が低下した場合に耐溶剤性が不良といえる。評価結果を表３に示す。
【０１２１】
実施例２
共重合体（Ａ−１）の溶液の代わりに共重合体（Ａ−２）の溶液を使用した以外は、実施例１と同様にして、組成物溶液を調製して評価した。評価結果を表１〜３に示す。
【０１２２】
実施例３
共重合体（Ａ−１）の溶液の代わりに共重合体（Ａ−３）の溶液を使用した以外は、実施例１と同様にして、組成物溶液を調製して評価した。評価結果を表１〜３に示す。
【０１２３】
実施例４
共重合体（Ａ−１）の溶液の代わりに共重合体（Ａ−４）の溶液を使用した以外は、実施例１と同様にして、組成物溶液を調製して評価した。評価結果を表１〜３に示す。
【０１２４】
比較例１
共重合体（Ａ−１）の溶液の代わりに共重合体（ａ−１）の溶液を使用した以外は、実施例１と同様にして、組成物溶液を調製して評価した。評価結果を表１〜３に示す。
【０１２５】
比較例２
比較合成例２で得た共重合体（ａ−２）の溶液を共重合体（ａ−２）として１００重量部（固形分）、（Ｂ）成分として、４，４’−〔１−｛４−（１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル）フェニル｝エチリデン〕ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル３０重量部、その他の成分として、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン５重量部を混合し、固形分濃度が３０重量％になるようにプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに溶解したのち、孔径０．５μｍのミリポアフィルタでろ過して、組成物溶液を調製した。
次いで、組成物溶液（Ｓ−１）の代わりに前記組成物溶液を使用した以外は、実施例１と同様にして評価した。評価結果を表１〜３に示す。
【０１２６】
【表１】
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【０１２７】
【表２】
2006301365.tif 000007
【０１２８】
【表３】
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【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１】マイクロレンズの断面形状を示す模式図である。
【図１】
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