(57)【要約】【課題】  均一な膜を備えた電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】  基板Ｓ上であって、複数個の有機ＥＬ素子２４の画素電極２７全てを囲むバンク２５を形成した。そして、バンク２５によって形成された基板Ｓ中央に形成された凹状領域２６内全域に液状組成物を塗布して各有機ＥＬ素子２４の発光層２８を同じバンク２５内に形成するようにした。【選択図】    図３
2006310257.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数発光素子が配列してなる発光素子アレイと、
前記発光素子アレイを共通して囲む隔壁と
を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記隔壁は、その形状が前記各発光素子の形状にならうようにして形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記複数の発光素子は、液体プロセスで形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３に記載の電気光学装置において、
前記複数個の発光素子は、複数個の画素電極と前記複数個の画素電極の各々に対向配置される共通電極との間に少なくとも発光層を含む機能層を形成することによって形成され、
前記発光層は、有機材料で構成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記各発光素子は、千鳥格子状に配列されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項４または５のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記機能層の電気抵抗値は、前記複数の画素電極の間に配置された前記機能層の電気抵抗値が前記画素電極と前記共通電極に挟持される領域に配置された前記機能層の電気抵抗値に比べて高いことを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項６に記載の電気光学装置において、
前記機能層は、有機導電性層を備え、
前記複数の画素電極の間に配置された前記有機導電性層の電気抵抗値は、前記複数の画素電極と前記共通電極に挟持される領域に配置された前記有機導電性層の電気抵抗値に比べて高いことを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項７に記載の電気光学装置において、 
前記有機導電性層は、ポリエチレンジオキシチオフェンを含んでいることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項７に記載の電気光学装置において、
前記有機導電性層は、ポリアニリンを含んでいることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記発光素子アレイは、感光体上に選択的に光を照射することを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
電気光学装置の製造方法において、
複数の画素電極を形成する工程と、
前記複数の画素電極全体を共通して囲む隔壁を形成する工程と、
前記隔壁によって囲まれた領域に、機能層を形成する工程と
を備えていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記機能層は、液滴吐出法によって行われるようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記機能層に選択的に光を照射する工程を更に備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１１乃至１３のいずれか一つに電気光学装置の製造方法において、
前記画素電極と画素電極との間の領域に配置された前記機能層に選択的に光を照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記光は、紫外光であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１４または１５に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記光を照射後に、前記機能層に熱処理を行うことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、発光素子として有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という）を使用したディスプレイやプリンタの光書き込みヘッドといった電気光学装置の開発が盛んに行われている。
【０００３】
この種の電気光学装置は、有機ＥＬ素子を構成する発光材料（以下、「有機ＥＬ材料」という）が高分子系有機材料であるか、または低分子系有機材料であるかによってその製造方法が異なる。そして、有機ＥＬ材料が高分子系有機材料である場合は、該有機ＥＬ材料を所定の溶媒に溶解または分散させて液状組成物を形成し、その液状組成物を液滴吐出ヘッドのノズルから吐出して基板の所定の画素電極上に塗布させる、所謂液滴吐出法を使用して製造することが知られている。この場合、画素電極の周囲を隔壁で区画することで、塗布された有機材料液体が他の位置にある画素電極上に塗布された液状組成物と混ざり合うのを抑制することで高精細なパターニングを可能としている。
【０００４】
ところで、上記液滴吐出法では、画素電極上に塗布された液状組成物中の溶媒の蒸発は極めて速い。そして、基板上の端（上端、下端、右端、左端）では、基板中央に塗布された液状組成物より溶媒分子分圧が低いために、速く乾きはじめる。従って、基板の端に塗布された液状組成物と中央に塗布された液状組成物とでは、その乾燥時間に差が生じる。このような液状組成物の乾燥時間の差は、画素内、画素間での有機ＥＬ素子の各層の膜厚ムラを引き起こし、輝度ムラ等の表示ムラの原因となってしまう。そこで、基板上の端の周囲に表示には関係のないダミーの塗布領域を設けることで塗布領域を広げ、基板内の溶媒の蒸気圧均一にすることが提案されている（特許文献１）。
【０００５】
また、この種の電気光学装置や光書き込みヘッドには、有機ＥＬ素子の発光効率を高めるために、発光層と電極との間に正孔注入層や電子注入層を設けたものが知られている。
【特許文献１】特開２００２−２２２６９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、液状組成物の乾燥状態は、各隔壁の表面状態によっても影響を受けてしまう。従って、上記のようにダミーの塗布領域を設けても、各隔壁の表面状態が均一にならない場合、均一な膜を形成することは困難となるという問題があった。
【０００７】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、有機発光素子を構成する各層の膜厚のムラを防ぎ、この膜厚のムラに起因する輝度ムラや信頼性への影響を抑えた電気光学装置及び電気光学装置を製造する方法を提供することにある。更には、輝度ムラを抑えながら高密度に発光素子を配置し、また高精細な画像の描画を可能とする電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の電気光学装置は、複数発光素子が配列してなる発光素子アレイと、前記発光素子アレイを共通して囲む隔壁とを有している。
これによれば、各発光素子は、各発光素子毎に隔壁に囲まれていない。従って、発光素子を構成する層を、たとえば、液滴吐出法によって形成する場合、吐出された液状組成物
の乾燥時間が、隔壁の表面状態によって発光素子毎に異なることはない。この結果、全ての発光素子の層の膜厚を均一に形成することができるので、輝度ムラ等の表示ムラが生じない電気光学装置を提供することができる。
【０００９】
この電気光学装置において、前記隔壁は、その形状が前記各発光素子の形状にならうようにして形成されていてもよい。ここで言う発光素子の形状にならうとは、隔壁に近い側に配列された発光素子の外周から隔壁までの距離がほぼ等しくなるようにすることである。
【００１０】
これによれば、各発光素子から隔壁までの距離、即ち発光素子を囲う液状組成物の量が等しくなるため、各発光素子において、その各位置の層の乾燥条件は等しくなる。この結果、各発光素子内および発光素子間での膜厚にムラが生じない。
【００１１】
この電気光学装置において、前記複数の発光素子は、液体プロセスで形成されていてもよい。
これによれば、発光素子の形成時においては、発光素子を構成する材料（たとえば、発光素子の発光層を構成する発光材料）を含んだ液状体が、隔壁で囲まれた領域内に塗布される。このとき、領域内には、隔壁が設けられていないので、領域内に塗布された液状体は、隔壁の表面状態の影響を受けることない。この結果、領域内の位置に関係なく、該領域内全域に渡って均一な量の液状体が塗布されるため、得られる発光素子を構成する層（たとえば、発光層）は、その膜厚が均一である。従って、画素内、画素間での各層の膜厚ムラがないので、輝度ムラ等の表示ムラの発生が抑制される。
【００１２】
この電気光学装置において、前記複数個の発光素子は、複数個の画素電極と前記複数個の画素電極の各々に対向配置される共通電極との間に少なくとも発光層を含む機能層を形成することによって形成され、前記発光層は、有機材料で構成されていてもよい。
【００１３】
これによれば、均一な膜厚を有する発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子を構成することが可能である。従って、輝度ムラ等の表示ムラを生じない電気光学装置を容易に実現することができる。
【００１４】
この電気光学装置において、前記各発光素子は、千鳥格子状に配列されていてもよい。
これによれば、発光素子を高密度に形成することができる。この結果、輝度ムラ等の表示ムラが生じない高解像度の電気光学装置を提供することができる。
【００１５】
この電気光学装置において、前記機能層の電気抵抗値は、前記複数の画素電極の間に配置された前記機能層の電気抵抗値が前記画素電極と前記共通電極に挟持される領域に配置された前記機能層の電気抵抗値に比べて高くてもよい。
【００１６】
これによれば、複数の画素電極の各々の周囲に配置に配置された機能層の電気抵抗値は画素電極と共通電極との間に配置された機能層より高いので、各画素電極から供給されたキャリアは、隣接する他の画素電極に相対向した機能層に流れ込まず、各画素電極に相対向した領域内にある機能層に集中して流れ込む。従って、ある画素電極に供給されたキャリアがその画素電極の周囲の機能層に流れ込み同時に発光してしまう、所謂発光のクロストークは生じない。この結果、高精細な表示を可能とする発光部ユニットを備えた電気光学装置を実現することができる。
【００１７】
この電気光学装置において、前記機能層は、有機導電性層を備え、前記複数の画素電極の間に配置された前記有機導電性層の電気抵抗値は、前記複数の画素電極と前記共通電極に挟持される領域に配置された前記有機導電性層の電気抵抗値に比べて高くてもよい。
【００１８】
これによれば、有機導電性層を設けることで、有機導電性層が導電性の高い材料（低電気抵抗材料）であっても、各画素電極の周囲に配置形成された有機導電性層にはキャリアが流れ込まず、画素電極に相対向する領域内に配置形成された有機導電性層に集中して流れ込ませることができる。この結果、高精細な表示を可能とする電気光学装置を実現することができる。
【００１９】
この電気光学装置において、前記有機導電性層は、ポリエチレンジオキシチオフェンを含んでいてもよい。
これによれば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）を含んだ有機導電性層は、高い導電性と発光層に対する高い正孔の注入効率を得ることができる。従って、低い駆動電圧で、高い発光効率を有する発光部ユニットが実現される。この結果、高効率で、かつ、高精細な描画を可能とする発光部ユニットを備えた電気光学装置を実現することができる。
【００２０】
この電気光学装置において、前記有機導電性層は、ポリアニリンを含んでいてもよい。
これによれば、ポリアニリンを含んだ有機導電性層は、導電性の高い材料（低電気抵抗材料）であり、正孔注入層としても作用する。従って、ポリアニリンを含んだ有機導電性層を設けることで、高い発光効率を有する発光部ユニットが実現される。この結果、高効率で、かつ、高精細な表示を可能とする発光部ユニットを備えた電気光学装置を実現することができる。
【００２１】
この電気光学装置において、前記発光素子アレイは、感光体上に選択的に光を照射してもよい。
これによれば、感光体上に輝度ムラの少ない高解像で高強度の光書き込みを行うことができる。
【００２２】
本発明の電気光学装置の製造方法は、複数の画素電極を形成する工程と、前記複数の画素電極全体を共通して囲む隔壁を形成する工程と、前記隔壁によって囲まれた領域に、機能層を形成する工程とを備えている。
【００２３】
これによれば、各発光素子は、各発光素子毎に隔壁に囲まれていない。従って、発光素子を構成する層を、たとえば、液滴吐出法によって形成する場合、吐出された液状組成物の乾燥時間が、画素の位置や隔壁の表面状態によって発光素子毎に異なることはない。この結果、１つの隔壁内に形成される全ての発光素子の層の膜厚を均一に形成することができるので、輝度ムラ等の表示ムラが生じない電気光学装置を製造することができる。
【００２４】
この電気光学装置の製造方法において、前記機能層は、液滴吐出法によって行われるようにしてもよい。
これによれば、真空装置等を使用すること無く所望の膜厚の層を形成することができる。
【００２５】
この電気光学装置の製造方法において、前記機能層に選択的に光を照射する工程を更に備えてもよい。
これによれば、ある画素電極に供給されたキャリアが周囲の機能層に流れ込むことで、その画素電極の周囲の機能層が同時に発光してしまう、所謂発光のクロストークの発生を防ぐことができる。
【００２６】
この電気光学装置の製造方法において、前記画素電極と画素電極との間の領域に配置された前記機能層に選択的に光を照射してもよい。  これによれば、ある画素電極に供給さ
れたキャリアが周囲の機能層に流れ込むことで、その画素電極の周囲の機能層が同時に発光してしまう、所謂発光のクロストークの発生を防ぐことができる。
【００２７】
この電気光学装置の製造方法において、前記光は、紫外光であってもよい。
これによれば、容易に、複数の画素電極の各々の周囲に配置形成された機能層の電気抵抗値を高くすることができる。
【００２８】
この電気光学装置の製造方法において、前記光を照射後に、前記機能層に熱処理を行ってもよい。
これによれば、機能層に光を照射した後、熱処理を行うことで光を照射した領域の電気抵抗を再現性良く高くすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
（第１実施形態）
以下、本発明の一実施形態としての光書き込みヘッドを備えた電気光学装置としての光プリンタについて各図に従って説明する。尚、以下に説明する光プリンタは、フルカラー表示が可能なタンデム方式の光プリンタである。
【００３０】
図１は、光プリンタの主要断面図である。
図１に示すように、光プリンタ１は、光書き込みヘッド及び発光部ユニットとしてのブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ、シアン用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ、マゼンダ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｍ、及びイエロ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｙを備えている。また、光プリンタ１は、各露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙの下方に、ブラック用感光ドラム３Ｋ、シアン用感光ドラム３Ｃ、マゼンダ用感光ドラム３Ｍ、イエロ用感光ドラム３Ｙをそれぞれ備えている。
【００３１】
さらに、光プリンタ１は、駆動ローラ４、従動ローラ５、テンションローラ６、及び該テンションローラ６によりテンションを加えられて張架されながら図１において反時計周り方向へ循環駆動される中間転写ベルト７を備える。そして、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙは、中間転写ベルト７に対して所定間隔に配置されている。
【００３２】
各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙは、中間転写ベルト７の駆動と同期して図１において時計周り方向へ回転駆動されるようになっている。そして、各露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙは、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの外周面を各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの回転に同期して順次ライン走査することで、描画データに応じた静電潜像を対応する感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に形成する。
【００３３】
また、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの周囲には、該感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの各外周面を一様に帯電させるコロナ帯電器８Ｋ，８Ｃ，８Ｍ，８Ｙが設けられている。
【００３４】
また、光プリンタ１は、ブラック用感光ドラム３Ｋの周囲にブラック用現像装置９Ｋを、シアン用感光ドラム３Ｃの周囲にシアン用現像装置９Ｃを、マゼンダ用感光ドラム３Ｍの周囲にマゼンダ用現像装置９Ｍを、イエロ用感光ドラム３Ｙの周囲にイエロ用現像装置９Ｙをそれぞれ備えている。この各現像装置９Ｋ，９Ｃ，９Ｍ，９Ｙは、対応する有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙによって各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に形成された静電潜像に対応する色の現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）を形成するものである。例えば、シアン用現像装置９Ｃは、シアン用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃによってシアン用感光ドラム３Ｃ上に形成された静電潜像にシアン色のトナーを付与して可視像（トナー像）を形成する。
【００３５】
詳しくは、各現像装置９Ｋ，９Ｃ，９Ｍ，９Ｙは、例えば、トナーとして非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を、例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着したトナーの膜厚を規制ブレードで規制する。この規制により、現像ローラを各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙに接触或いは押圧させることにより、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に形成された静電潜像の電位レベルに応じて現像剤を付着させて可視像（トナー像）として現像する。
【００３６】
さらに、光プリンタ１は、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの周囲に、各現像装置９Ｋ，９Ｃ，９Ｍ，９Ｙで現像された可視像（トナー像）を一次転写対象である中間転写ベルト７に順次転写する一次転写ローラ１０Ｋ，１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙを備えている。さらにまた、光プリンタ１は、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの周囲に、クリーニング装置１１Ｋ，１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙを備えている。クリーニング装置１１Ｋ，１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙは、一次転写の後に、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの表面に残留しているトナーを除去するためのものである。
【００３７】
このような各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に形成されたブラック，シアン，マゼンタ，イエロの各可視像（トナー像）は、一次転写ローラ１０Ｋ，１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙによって中間転写ベルト７上に順次一次転写される。この一次転写により中間転写ベルト７上で順次重ね合わされてフルカラーとなった可視像（トナー像）は、二次転写ローラによって用紙等の記録媒体Ｐ上に二次転写され、一対の定着ローラ１２を通ることで記録媒体Ｐ上に定着される。可視像（トナー像）が定着した記録媒体Ｐは、排紙ローラ１３によって案内されて光プリンタ１の上部に形成された排紙トレイ１４上へ排出される。
【００３８】
また、光プリンタ１は、多数枚の記録媒体Ｐを保持する給紙カセット１５、該給紙カセット１５から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラ１６、二次転写ローラ６６の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ１７を備えている。さらに、光プリンタ１は、中間転写ベルト７とで二次転写部を形成する二次転写ローラ１８、及び二次転写後に中間転写ベルト７の表面に残留しているトナーを除去するクリーニングブレード１９を備えている。
【００３９】
次に、有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙの詳細について説明する。尚、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ、シアン用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ、マゼンダ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｍ、及びイエロ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｙは、全て同じ構造をしているので、説明の便宜上、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋについて説明し、他の有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ，２Ｍ，２Ｙについては、その詳細な説明を省略する。
【００４０】
図２は、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋの斜視図である。ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋは、一方向、即ち中間転写ベルト７の搬送方向に対して直交する方向に配設された箱体２１と、箱体２１とブラック用感光ドラム３Ｋとの間に位置するように箱体２１に支持固定された光学部材２３とを備えている。箱体２１は、ブラック用感光ドラム３Ｋ側に開口部を有しており、その開口部に向かって光が出射するように発光素子アレイ２２を固定している。
【００４１】
図３（ａ）は、発光素子アレイ２２の上面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）中ａ−ａ線断面図であり、図３（ｃ）は、図３（ａ）中ｂ−ｂ線断面図である。
図３（ａ）に示すように、発光素子アレイ２２は、基板Ｓ上に発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という）２４を複数個配列している。本実施形態の発光素子アレイ２２は、縦一列に等ピッチに配列された複数個（本実施形態では、１０個）の有機ＥＬ素子２４が２列配列されている。そして、各有機ＥＬ素子
２４は、隣接する他の列の有機ＥＬ素子２４と縦方向に半ピッチだけずれるようにして配置されている。つまり、各有機ＥＬ素子２４は、千鳥格子状に配列されている。
【００４２】
また、複数の有機ＥＬ素子２４の周囲には、その複数の有機ＥＬ素子２４全体を囲むように隔壁としてのバンク２５が形成されている。本実施形態におけるバンク２５は、図３（ａ）に示すように、複数の有機ＥＬ素子２４全体を囲むように略四角形状を成している。
【００４３】
図３（ｂ），（ｃ）に示すように、バンク２５は、基板Ｓ上に形成された親液性バンク２５ａと、該親液性バンク２５ａ上に形成された撥液性バンク２５ｂとから構成されている。親液性バンク２５ａの一部は、撥液性バンク２５ｂより基板Ｓ中央側に張り出すようにして形成されている。親液性バンク２５ａは、元来、親液性を備えた材料であって、例えば、酸化珪素（ＳｉＯ２）で構成されたものである。また、親液性を備えていないものであっても、通常用いられる公知の親液化処理を施すことで表面を親液化したものであってもよい。一方、撥液性バンク２５ｂは、元来、撥液性を備えた材料、例えば、フッ素系樹脂で構成されたものであってもよい。また、撥液性を備えていないものであっても、通常用いられるアクリル樹脂やポリイミド樹脂等の有機樹脂をパターン形成し、ＣＦ4プラ
ズマ処理等により表面を撥液化したものであってもよい。
【００４４】
また、図３（ｂ），（ｃ）に示すように、バンク２５によって基板Ｓ中央には素子形成領域としての凹状領域２６が形成されている。凹状領域２６の底部には、陽極としての画素電極２７が形成されている。本実施形態の画素電極２７は、円形形状である。また、本実施形態の画素電極２７は、縦一列に等ピッチに配列された複数個（本実施形態では、１０個）形成されるとともに、横方向に２列配列されている。そして、各画素電極２７は、隣接する他の列の画素電極２７と縦方向に半ピッチだけずれるようにして配置されている。各画素電極２７は、それぞれに独立した配線を介して図示しないデータ信号出力駆動回路に接続されている。そして、このデータ信号出力駆動回路から出力された描画データ信号が画素電極２７に供給されるようになっている。
【００４５】
また、凹状領域２６の底部には、その全面を覆うようにして発光層２８が形成されている。これにより、各画素電極２７上にも発光層２８が積層される。また、撥液性バンク２５ｂ及び発光層２８上全面に渡って共通電極としての陰極２９が形成されている。この陰極２９は、前記データ信号出力駆動回路に接続されている。さらに、陰極２９上全体に、封止部材３０が形成されている。そして、前記した画素電極２７と、前記画素電極２７と相対して形成した陰極２９と、前記画素電極２７と前記陰極２９との間に形成した発光層２８とで有機ＥＬ素子２４が構成される。
【００４６】
このような構成を有する有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋは、図３（ｂ），（ｃ）に示すように、発光層２８の膜厚が凹状領域２６内全域に渡って均一になっている。従って、各画素電極２７上には均一な膜厚の発光層２８が形成される。また、所定の画素電極２７上に形成される発光層２８の膜厚と、他の画素電極２７上に形成される発光層２８の膜厚とは均一である。
【００４７】
図４に示すように、光学部材２３は、発光素子アレイ２２と対向する位置に備えられている。この光学部材２３は、内部に複数のレンズ３１を備えており、有機ＥＬ素子２４から出射した光を集光し、その後、その他端側から出射してブラック用感光ドラム３Ｋに照射（描画）する。
【００４８】
他の有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ，２Ｍ，２Ｙも同様に、その各発光素子アレイに設けられた有機ＥＬ素子の発光層の膜厚は、均一になっている。また、他の有機ＥＬ露光ヘッド２
Ｃ，２Ｍ，２Ｙは、その光学部材２３の他端から対応する各感光ドラム３Ｃ，３Ｍ，３Ｙに向かって出射される。そして、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上の電位レベルが出射された光に応じて変化することでトナーの付着力が制御されて各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に前記描画データ信号に基づいた可視像（トナー像）が現像される。このとき、各有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙに設けられた各有機ＥＬ素子２４の発光層の膜厚は、均一になっているので、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に現像される可視像（トナー像）は、輝度ムラ等の表示ムラの無い可視像（トナー像）である。
【００４９】
次に、有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙの製造方法を図５に従って説明する。尚、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ、シアン用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ、マゼンダ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｍ、及びイエロ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｙは、全て同じ方法によって製造される。従って、説明の便宜上、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋの製造方法のみを説明し、他の有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ，２Ｍ，２Ｙについては、その詳細な説明を省略する。
【００５０】
先ず、基板Ｓ上の略中央に、公知の方法によって千鳥格子状に配置されるように複数の画素電極２７をパターニングする。続いて、図５（ａ）に示すように、基板Ｓ上であって、複数個の画素電極２７の周囲に、複数の画素電極２７全体を囲むように酸化珪素（ＳｉＯ２をパターニングして親液性バンク２５ａを形成する。その後、形成した親液性バンク２５ａ上に、親液性バンク２５ａの一部が基板Ｓ中央側に張り出すようにフッ素系樹脂を、例えば高さが１〜２μｍになるようにパターニングして撥液性バンク２５ｂを形成する。これにより、基板Ｓ上には、複数個の画素電極２７の周囲に複数の画素電極２７全体を囲むようにバンク２５が形成される（バンク形成工程）。この結果、画素電極２７が形成された基板Ｓ中央には凹状領域２６が形成される。
【００５１】
続いて、凹状領域２６内に発光層２８を液体プロセスとしての液滴吐出法によって形成する（素子形成工程）。即ち、図５（ｂ）に示すように、発光層２８を構成する組成物としての発光材料をキシレンといった所定の溶媒に溶解または分散させて形成された液状組成物Ｌを吐出ヘッド４０のノズルＮから吐出させる。このとき、吐出ヘッド４０に設けられた、紙面手前及び奥に沿って延設されるガイドレール４１に沿って吐出ヘッド４０を基板Ｓに対して相対移動させながら液状組成物Ｌを順次吐出することで凹状領域２６内に複数回液状組成物Ｌを吐出する。これにより、凹状領域２６内全面に液状組成物Ｌを塗布させる。
【００５２】
次に、基板Ｓを、例えばホットプレート上に載置することによって加熱して液状組成物Ｌ中の溶媒を蒸発させ、凹状領域２６の全面に発光層２８を形成する（図５（ｃ）参照）。
【００５３】
このとき、各画素電極２７の間にはバンクが無いので、従来のように、各画素電極２７の間に形成されたバンクの表面状態によって吐出された液状組成物Ｌの乾燥時間が各画素電極２７毎に異なることはない。従って、乾燥後においては、凹状領域２６上全面に渡って発光層２８が形成されるが、この発光層２８は、凹状領域２６の全面に渡って均一な膜厚となる。
【００５４】
その後、バンク２５及び発光層２８上に、ＬｉＦ層、Ｃａ層、Ａｌ層等を蒸着方法等により積層し、陰極２９を形成する。続いて、陰極２９全面に光透過性を有する、例えば樹脂等で構成された封止部材３０を形成する（図５（ｄ）参照）。
【００５５】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、基板Ｓ上であって、複数個の有機ＥＬ素子２４の画素電極２７全てを囲むバンク２５を形成した。そして、バンク２５によって形成された基板Ｓ中央に形成された凹状領域２６内全域に液状組成物Ｌを塗布して発光層２８を形成するようにした。
【００５６】
従って、各画素電極２７（有機ＥＬ素子２４）毎にバンクが無いので、従来のように、各画素電極２７（有機ＥＬ素子２４）毎にバンクの表面状態によって吐出された液状組成物Ｌの乾燥時間が各画素電極２７内で異なるということはない。従って、発光層２８は、凹状領域２６上全面に渡って均一な膜厚となる。この結果、バンク２５内で形成された各有機ＥＬ素子２４は、互いに輝度ムラ等の表示ムラの無い可視像（トナー像）を形成することができる。
（２）本実施形態によれば、各有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙは、有機ＥＬ素子２４を複数個備えた発光素子アレイ２２と、発光素子アレイ２２とに対向する位置に備えられた光学部材２３とを備えている。そして、各有機ＥＬ素子２４から出射した光は、光学部材２３によって集光され、対応する各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に照射される。このとき、各有機ＥＬ素子２４の発光層２８は、均一な膜厚であるので、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に現像されるトナー像は、輝度ムラ等の表示ムラの無い像となる。この結果、表示品位の優れた画像を印刷することのできる光プリンタ１を提供することができる。
（３）本実施形態によれば、液滴吐出法によって、凹状領域２６内に発光層２８を形成するようにした。従って、真空装置等を使用することなく、所望の膜厚の発光層２８を形成することができる。また、液滴吐出法では、発光層２８を構成する組成物としての発光材料を所定の溶媒（例えば、キシレン）に溶解または分散させて形成された液状組成物Ｌを凹状領域２６に吐出して、その後、乾燥することで発光層２８を形成するので、凹状領域２６の形状に関係なく、高精細なパターニングが可能となる。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を図６に従って説明する。この第２実施形態においては、前記第１実施形態と同じ構成部材についてはその符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。
【００５７】
図６は、第２実施形態に係る発光素子アレイ２２Ａの上面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）中ａ−ａ線断面図であり、図６（ｃ）は、図６（ａ）中ｂ−ｂ線断面図である。
図６（ａ）に示すように、発光素子アレイ２２Ａは、上記第１実施形態と同様に、基板Ｓ上に有機ＥＬ素子２４を複数個配列された構造を有しており、撥液性バンク２５ｂは、発光素子アレイ２２Ａを共通して囲むようにして配置されている。一方、親液性バンク４５は、本実施形態においては、各画素電極２７を区画するようにして配置されている。
【００５８】
この親液性バンク４５は、例えば、膜厚が５０〜１５０ｎｍであって、酸化珪素（ＳｉＯ２）で構成されたものである。また、親液性バンク４５は、親液性を備えていないものであっても、通常用いられる公知の親液化処理を施すことで表面を親液化したものであってもよい。
【００５９】
このようにすることで、画素電極２７の端部での電界の集中が避けられる。この結果、有機ＥＬ素子２４の寿命を延ばすことができる。
（第３実施形態）
次に、本発明を具体化した第３実施形態を図７に従って説明する。この第３実施形態においては、前記第１及び第２実施形態と同じ構成部材についてはその符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。
【００６０】
図７は、第３実施形態の発光素子アレイ２２Ｂの上面図である。図７に示すように、発
光素子アレイ２２Ｂは、上記第１実施形態と同様に、１つのバンク５０で複数の有機ＥＬ素子２４全体を囲むようにして形成されている。そして、本実施形態の発光素子アレイ２２Ａは、基板Ｓ上に形成されるバンク５０の形状のみが上記第１実施形態のバンク２５と異なっている。即ち、図７に示すように、本実施形態のバンク５０は、凹状領域２６の基板中央側の形状が有機ＥＬ素子２４の画素電極２７の形状にならうようにして形成されている。本実施形態では、画素電極２７は、円形形状であるので、バンク５０の凹状領域２６の内側の形状が画素電極２７の形状にならうように円形形状に形成されている。従って、各画素電極２７の中心位置からバンク５０までの距離が等しくなる。すると、液滴吐出法によって液状組成物Ｌを凹状領域２６内に塗布した後、基板Ｓを、例えばホットプレートを使用することで乾燥させるが、その際、基板Ｓ上の端（上端、下端、右端、左端）では、基板Ｓ中央に塗布された液状組成物Ｌより溶媒分子分圧が低いために、基板Ｓ上の端側から乾きはじめる。このとき、各画素電極２７の中心位置からバンク５０までの距離が等しいので、画素電極２７上での乾燥ムラを低減させることができる。
【００６１】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、バンク５０の凹状領域２６の内側の形状を、有機ＥＬ素子２４の画素電極２７の形状にならうようにして形成した。従って、各画素電極２７の中心位置からバンク５０までの距離が等しい。この結果、画素電極２７上での乾燥ムラを低減させることができるので、より膜厚の均一な発光層２８を有する有機ＥＬ素子２４を形成することができる。
（第４実施形態）
次に、本発明を具体化した第４実施形態を図８〜図１１に従って説明する。この第４実施形態においては、前記第１実施形態と同じ構成部材についてはその符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。
【００６２】
図８（ａ）は、発光素子アレイ２２Ｃの上面図であり、図８（ｂ）は、図８（ａ）中ａ−ａ線断面図である。
発光素子アレイ２２Ｃの有機ＥＬ素子２４は、その機能層に発光層２８以外に正孔注入層６１及び電子注入層６２を備えている。
【００６３】
詳しくは、図８（ｂ）に示すように、凹状領域２６の底部には、各画素電極２７上を被覆するように、正孔注入層６１が形成されている。この正孔注入層６１は、ポリエチレンジオキシチオフェン（以下、「ＰＥＤＯＴ」と書く）及びポリスチレンスルフォン酸（以下、「ＰＳＳ」と記載）の混合物で構成されている。尚、説明の便宜上、正孔注入層６１のうち、画素電極２７と陰極２９に挟持される領域Ｑ１に配置された（画素電極２７上の領域Ｑ１に形成された）正孔注入層６１を符号「６１Ｌ」とし、複数の画素電極２７の間の領域Ｑ２に配置された正孔注入層６１を符号「６１Ｈ」とする。
【００６４】
各領域Ｑ１に形成された正孔注入層６１Ｌは、数十Ω／□〜数千Ω／□程度のシート抵抗値を有している。一方、領域Ｑ２に形成された正孔注入層６１Ｈは、通常の正孔注入層材料に比べて高い数ＭΩ／□〜数百ＭΩ／□のシート抵抗値を有している。従って、画素電極２７から供給されたキャリア（正孔）は、正孔注入層６１Ｈにはほとんど流れ込まずに各正孔注入層６１Ｌに集中的に流れ込む。
【００６５】
正孔注入層６１上には、発光層２８が形成されている。発光層２８上には、電子注入層６２が形成されている。また、電子注入層６２上には、各画素電極２７と撥液性バンク２５ｂを共通して覆うように陰極２９が形成されている。
【００６６】
この電子注入層６２は、有機導電性層であって、ポリフェニレンビニレン系のポリマーで構成された公知の電子注入層材料である。尚、説明の便宜上、電子注入層６２のうち、
画素電極２７と陰極２９に挟持される領域Ｑ１に配置された（画素電極２７上の領域Ｑ１に形成された）電子注入層６２を符号「６２Ｌ」とし、複数の画素電極２７の間の領域Ｑ２に配置された電子注入層６２を符号「６２Ｈ」とする。
【００６７】
各領域Ｑ１に形成された電子注入層６２Ｌは、本来のポリフェニレンビニレン系のポリマーを含んだ電子注入材料の電気抵抗値を有している。一方、領域Ｑ２に形成された電子注入層６２Ｈは、本来のポリフェニレンビニレン系のポリマーを含んだ電子注入層６２に比べて高い電気抵抗値を有している。従って、陰極２９から供給されたキャリア（電子）は、電子注入層６２Ｈにはほとんど流れ込まずに各電子注入層６２Ｌに集中的に流れ込む。
【００６８】
陰極２９の上面全体に、前記封止部材３０が形成されている。そして、正孔注入層６１Ｌ、発光層２８及び電子注入層６２Ｌで、機能層が構成される。また、画素電極２７および陰極２９と、これらの間に挟持される機能層により発光素子である有機ＥＬ素子２４が構成される。
【００６９】
このような構成を有する有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋは、図８（ｂ）に示すように、正孔注入層６１、発光層２８、電子注入層６２の各膜厚が凹状領域２６内全域に渡って均一になっている。従って、各画素電極２７上には均一な膜厚の発光層２８が形成される。
【００７０】
次に、有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙの製造方法を図９〜図１１に従って説明する。尚、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ、シアン用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ、マゼンダ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｍ、及びイエロ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｙは、全て同じ方法によって製造される。従って、説明の便宜上、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋの製造方法のみを説明し、他の有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ，２Ｍ，２Ｙについては、その詳細な説明を省略する。
【００７１】
先ず、基板Ｓ上の略中央に、上記第１実施形態と同様に、公知の方法によって千鳥格子状に２０個の画素電極２７をパターニングする。続いて、図９（ａ）に示すように、基板Ｓ上であって、各画素電極２７全体を囲むように酸化珪素（ＳｉＯ２）をパターニングして親液性バンク２５ａを形成する。その後、形成した親液性バンク２５ａ上に、親液性バンク２５ａの一部が基板Ｓ中央側に張り出すようにフッ素系樹脂を、例えば高さが１〜２μｍ程度になるようにパターニングして撥液性バンク２５ｂを形成する。これにより、基板Ｓ上には、各画素電極２７全体を囲むようにバンク２５が形成される（バンク形成工程）。この結果、各画素電極２７が形成された基板Ｓ中央には凹状領域２６が形成される。
【００７２】
続いて、凹状領域２６内に正孔注入層６１を、液体プロセスの１種である液滴吐出法によって形成する。即ち、図９（ｂ）に示すように、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを主体とした正孔注入層材料をエチレングリコールといった所定の溶媒に溶解または分散させて形成された液状組成物ＬＡを吐出ヘッド６５のノズルＮから吐出させる。このとき、吐出ヘッド６５に設けられた、紙面手前及び奥に沿って延設されるガイドレール６５Ａに沿って吐出ヘッド６５を基板Ｓに対して紙面手前及び奥方向に移動させながら液状組成物ＬＡを凹状領域２６内に複数回吐出する。これにより、液状組成物ＬＡが凹状領域２６内全面に塗布される（機能層形成工程）。
【００７３】
本実施形態では、正孔注入材料であるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを混合する比率としてＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ＝１：５〜１：１０のものを使用している。この様にＰＥＤＯＴの比率を高くすると、電気抵抗が低下すると共に、形成した発光素子の発光電圧の低電圧化や高効率化、長寿命化を図ることができる。ただし、正孔注入材料の抵抗を低くすると、正孔注入層の一部が電極としても作用する様になるため、発光させる発光素子の周辺部が発光した
り、複数の発発光素子を発光させた場合にその間に配置された発光素子が発光する所謂発光のクロストークが発生し易くなる。このため、通常はＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ＝１：２０程度のものが使用されていることが多い。本実施形態では、この正孔注入層６１の一部を高抵抗化する工程を有しているため、この様に電気抵抗の低い正孔注入材料を使用することができる。
【００７４】
次に、基板Ｓを密閉容器内に搬送し、容器内を減圧することにより基板Ｓ上に配置した液状組成物ＬＡから溶媒を除去し、膜化する。減圧は、大気圧から１Ｔｏｒｒまでを３０秒から数分程度の時間で行うと、より平坦性の高い正孔注入層６１を形成することができる。また、複数の種類の溶媒を使用する場合は、使用する各溶媒の蒸気圧に合わせて、その溶媒の蒸気圧付近で圧力を保持する様に複数のステップで減圧を行っても良い。この様にすることで、配置した液状組成物ＬＡ全面での乾燥の速度をより均一にすることが可能となり、より平坦性の高い膜を形成することができる。本発明では、各画素電極２７がバンク２５からある程度離れた領域に配置されているため、その上に配置された液状組成物ＬＡの乾燥状態に対するバンク２５の影響が低減され、全ての画素電極２７上に平坦で、膜厚の均一性の高い正孔注入層６１を形成することができる。
【００７５】
また、第１の実施形態と同様に基板Ｓを、例えばホットプレート上に載置することによって加熱して液状組成物ＬＡ中の溶媒を蒸発させ、凹状領域２６上全面に正孔注入層６１を形成しても良い（図９（ｃ）参照）。
【００７６】
続いて、図１０（ａ）に示すように、正孔注入層６１上にマスクＭ１を載置する。マスクＭ１は、正孔注入層６１の全面を覆う大きさのものであって、紫外光に対して透過性を有する透過領域Ｔａと、紫外光の透過を遮断する非透過領域Ｔｂとを備えている。マスクＭ１は、縦一列に等ピッチに１０箇所配列された円形形状の非透過領域Ｔｂが２列配列されている。そして、各非透過領域Ｔｂは、隣接する他の列の非透過領域Ｔｂと縦方向に半ピッチだけずれるようにして配置されている。つまり、マスクＭ１の各非透過領域Ｔｂは、画素電極２７上の領域Ｑ１に相対向する位置に配置され、透過領域Ｔａは、画素電極２７以外の領域Ｑ２に相対向する位置に配置されている。従って、各画素電極２７上の領域Ｑ１に形成された正孔注入層６１には非透過領域Ｔｂが、また、各画素電極２７上の領域Ｑ２に形成された正孔注入層６１には透過領域Ｔａが配置される。
【００７７】
そして、図６（ａ）に示すように、マスクＭ１を介して正孔注入層６１全面に対して紫外光Ｒを照射する（光照射工程）。照射する紫外光は、３５０nm以下、好ましくは２５０〜３００ｎｍの波長のものがのぞまし。この結果、領域Ｑ１に位置する正孔注入層６１には紫外光Ｒが照射されず、領域Ｑ２に位置する正孔注入層６１にのみ紫外光Ｒが照射される。紫外光Ｒが照射された領域Ｑ２に位置する正孔注入層６１は、その結晶性が変性し、電気抵抗値が高くなる。一方、紫外光Ｒが照射されなかった領域Ｑ１に位置する正孔注入層６１は、その結晶性は変性せず、電気抵抗値は低い。このようにして、低い電気抵抗値を有する正孔注入層６１Ｌと、高い電気抵抗値を有する正孔注入層６１Ｈとを備えた正孔注入層６１が形成される。
【００７８】
更には、１００℃〜１５０℃で１分〜数分の加熱処理を実施する。加熱処理を行うことで、紫外光で露光された領域の反応がより安定して進行し、再現性良く紫外光を照射した領域の電気抵抗を高くすることができる。
【００７９】
本実施形態では、紫外光を選択的に照射する方法として、直接基板Ｓに密着或いは近接させるマスク使用する方式を記載したが、投影型の露光装置を用いて、ガラスマスク上に形成したマスクを用いて選択的に紫外光を照射する様にしても良い。
【００８０】
続いて、発光層２８を上記第１実施形態と同様に、液滴吐出法によって形成する。即ち、図１０（ｃ）に示すように、発光層２８を構成する組成物としての発光材料をキシレンといった所定の溶媒に溶解または分散させて形成された液状組成物Ｌを吐出ヘッド４０のノズルＮから吐出させる。このとき、吐出ヘッド４０に設けられた前記ガイドレール４１に沿って吐出ヘッド４０を基板Ｓに対して紙面手前及び奥方向に移動させながら液状組成物Ｌを順次吐出することで正孔注入層６１の全面に液状組成物Ｌを吐出する。これにより、正孔注入層６１の上全面に液状組成物Ｌが塗布される。
【００８１】
次に、正孔注入層６１を形成する工程と同様に、基板Ｓを密閉容器内に搬送し、容器内を減圧することにより基板Ｓ上に配置した液状組成物Ｌから溶媒を除去し、膜化する。各画素電極２７がバンク２５からある程度離れた領域に配置されているため、全ての画素電極２７上に平坦で、膜厚の均一性の高い発光層２８を形成することができる。
【００８２】
また、基板Ｓを、例えばホットプレート上に載置することによって加熱して液状組成物Ｌ中の溶媒を蒸発させ、発光層２８を形成しても良い。このとき、正孔注入層６１は、凹状領域２６の全面に渡って均一な膜厚となっているので、蒸発後においては、この発光層２８は凹状領域２６の全面に渡って均一な膜厚となる。
【００８３】
続いて、発光層２８上に電子注入層６２を液滴吐出法によって形成する。即ち、電子注入層６２を構成する組成物としてのポリフェニレンビニレン系のポリマーを含んだ電子注入層材料をキシレンといった所定の溶媒に溶解または分散させて形成された液状組成物を吐出ヘッドのノズルから吐出させ発光層２８の全面に電子注入層材料を所定の溶媒に溶解又は分散した液状組成物を吐出する。その後、基板Ｓを、密閉容器中に搬送し、容器内を減圧することで、液状組成物中の溶媒を蒸発させ、基板Ｓ上に配置した液状組成物を膜化する。また、例えばホットプレート上に載置することによって加熱して前記電子注入層材料の液状組成物中の溶媒を蒸発させても良い。このとき、図１１（ａ）に示すように、発光層２８は全面に渡って均一な膜厚であるので、電子注入層６２は、凹状領域２６の全面に渡って均一な膜厚となる。
【００８４】
次に、図１１（ａ）に示すように、電子注入層６２上にマスクＭ２を載置する。マスクＭ２は、電子注入層６２上全面を覆う大きさのものであって、前記したマスクＭ１と同じ形状をしている。即ち、紫外光に対して透過性を有する透過領域Ｔａと、紫外光の透過を遮断する非透過領域Ｔｂとを備え、非透過領域Ｔｂは、各画素電極２７上の領域Ｑ１に相対向する位置に配置され、透過領域Ｔａは、画素電極２７以外の領域Ｑ２に相対向する位置に配置されている。従って、各画素電極２７上の領域Ｑ１に形成された電子注入層６２には非透過領域Ｔｂが、また、各画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２に形成された電子注入層６２には透過領域Ｔａが配置される。
【００８５】
そして、図１１（ａ）に示すように、マスクＭ２を介して電子注入層６２全面に対して紫外光Ｒを照射する（光照射工程）。照射する紫外光は、前記と同様に、３５０nm以下、好ましくは２５０〜３００ｎｍの波長のものがのぞまし。この結果、領域Ｑ１に位置する電子注入層６２には紫外光Ｒが照射されず、領域Ｑ２に位置する電子注入層６２にのみ紫外光Ｒが照射される。この結果、紫外光Ｒが照射された領域Ｑ２に位置する電子注入層６２は、その結晶性が変性し、電気抵抗値が高くなる。一方、紫外光Ｒが照射されなかった領域Ｑ１に位置する電子注入層６２は、その結晶性は変性せず、電気抵抗値は低い。このようにして、低い電気抵抗値を有する電子注入層６２Ｌと、高い電気抵抗値を有する電子注入層６２Ｈとを備えた電子注入層６２が形成される。
【００８６】
更には、１００℃〜１５０℃で１分〜数分の加熱処理を実施する。加熱処理を行うことで、紫外光で露光された領域の反応がより安定して進行し、再現性良く紫外光を照射した
領域の電気抵抗を高くすることができる。
【００８７】
本実施形態では、紫外光を選択的に照射する方法として、直接基板Ｓに密着或いは近接させるマスク使用する方式を記載したが、投影型の露光装置を用いて、ガラスマスク上に形成したマスクを用いて選択的に紫外光を照射する様にしても良い。
【００８８】
続いて、図１１（ｂ）に示すように、正孔注入層６１からマスクＭ２を除去する。その後、バンク２５及び電子注入層６２上に、ＬｉＦ層、Ｃａ層、Ａｌ層等を公知の蒸着方法等により積層し、陰極２９を形成する。続いて、上記第１実施形態と同様にして、陰極２９全面に光透過性を有する、例えば樹脂等で構成された封止部材３０を形成する（図１１（ｃ）参照）。
【００８９】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、液滴吐出法によって、凹状領域２６内に、正孔注入層６１、発光層２８、電子注入層６２を形成した。従って、真空装置等を使用することなく、所望の膜厚の正孔注入層６１、発光層２８、電子注入層６２を形成することができる。また、凹状領域２６内に複数の画素電極２７を配置することで、各画素電極上に形成する正孔注入層６１、発光層２８、電子注入層６２の膜厚を各画素電極に渡って均一にすることができる。
（２）本実施形態によれば、各画素電極２７から供給された正孔、及び、陰極２９から供給された電子は、各画素電極２７と陰極２９に挟持された領域Ｑ１以外の領域Ｑ２に流れ込まない。この結果、所定の画素電極２７上の発光層２８に対して正孔、及び、電子を供給した際に、その周辺の発光層や、隣接する他の画素電極２７上の発光層２８が同時に発光してしまう、所謂発光のクロストークの発生を抑制することができる。このため、より高精細な描画を可能とする有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙを実現することができる。この結果、高精細な画像を印刷することのできる光プリンタ１を実現することができる。
【００９０】
特に電子写真プリンター用の光書き込みヘッドにおいては、各画素の発光光の周辺部への広がりが、感光体上に結像された場合のコントラストの低下につながる。画素周辺に遮光層を設けることで、この画素周辺部の光を防ぐ方法が提案されているが、発光光が有効に使用されないため、光の利用効率が低下する。本発明の場合、画素電極２７上の発光層２８に電荷を集中させることで発光領域を絞り込むため、高い光の利用効率と、結像させた場合の高い解像度を両立することができる。
（３）本実施形態によれば、選択的に紫外光を照射することで、正孔注入層６１或いは電子注入層６２に電気抵抗の高い領域と、電気抵抗の低い領域を作り分けることができる。このため、製造工程を複雑化することなく発光素子の発光効率の向上と、高精細化を達成することができる。
（４）本実施形態によれば、シート抵抗値の低い正孔注入材料や、電子注入材料を用いた場合でも、発光のクロストークを抑制することができる。シート抵抗の低い正孔注入材料や電子注入材料を用いることは、発光電圧の低電圧化や発光効率の向上、発光素子の寿命の向上を期待することできる。従って、本発明を用いることにより、これらのシート抵抗値の低い正孔注入材料や、電子注入材料を用いて、発光装置の解像度や光の利用効率を低下させること無く、低電圧化や、発光効率の向上、素子寿命の向上を図ることができる。尚、本実施形態では、画素電極２７を陽極として用いる構造を紹介したが、画素電極２７を陰極として用いる構造においても、本発明は有効である。その場合、電子注入／輸送層に選択的に紫外光を照射することにより、各画素電極２７の電子注入／輸送層を高抵抗化することで高い効果を発揮させることができる。
（第５実施形態）
次に、本発明を具体化した第５実施形態を図１２に従って説明する。この第５実施形態
においては、そのバンクの構造以外は、前記第４実施形態と同じである。従って、上記第４実施形態と同じ構成部材についてはその符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。
【００９１】
図１２は、第５実施形態に係る発光素子アレイ２２Ｄの上面図であり、図１２（ｂ）は、図１２（ａ）中ａ−ａ線断面図である。
図１２（ａ）に示すように、発光素子アレイ２２Ｄは、上記第４実施形態と同様に、基板Ｓ上に発光層２８以外に正孔注入層６１及び電子注入層６２を備えた有機ＥＬ素子２４を複数個配列された構造を有しており、撥液性バンク２５ｂは、発光素子アレイ２２Ｄを共通して囲むようにして配置されている。そして、画素電極２７の上方の領域Ｑ１に位置する正孔注入層６１Ｌ及び電子注入層６２Ｌは、画素電極２７の上方以外の領域Ｑ２に位置する正孔注入層６１Ｈ及び電子注入層６２Ｈに比べて、それぞれ電気抵抗が低い層である。
【００９２】
一方、親液性バンク４５は、本実施形態においては、各画素電極２７を区画するようにして配置されている。この親液性バンク４５は、例えば、膜厚が５０〜１５０ｎｍであって、酸化珪素（ＳｉＯ２）で構成されたものである。また、親液性バンク４５は、親液性を備えていないものであっても、通常用いられる公知の親液化処理を施すことで表面を親液化したものであってもよい。
【００９３】
このようにすることで、画素電極２７の端部での電界の集中が避けられる。この結果、有機ＥＬ素子２４の寿命を延ばすことができる。
尚、発明の実施形態は、上記第１〜第５実施形態に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。
【００９４】
上述した実施形態では、主に電子写真プリンター用の光書き込みヘッドに適用する場合について説明したが、連続した正孔注入層、電子注入層を有する構造のものであれば本発明は有効に適用することができる。例えば、マトリックス状の白色の発光素子にカラーフィルターを組み合わせることによりカラー化を行う表示装置等にも使用することが可能である。
【００９５】
○上記各実施形態では、液滴吐出法を使用して正孔注入層６１、電子注入層６２及び発光層２８を形成するようにしたが、これに限定されるものではない。例えば、正孔注入層材料、電子注入層材料及び発光層材料を含んだ各液状組成物をディスペンサーを使用して塗布するようにしてもよい。このようにすることで、上記実施形態と同様な効果を得ることができる。
【００９６】
○上記各実施形態では、画素電極２７は、円形形状を成していたが、そうではなく、例えば略四角形状であってもよい。この場合、上記実施形態のような四角形状を成したバンク２５を使用することで、より膜厚の均一な正孔注入層６１、電子注入層６２及び発光層２８を有する有機ＥＬ素子２４を形成することができる。
【００９７】
○上記各実施形態では、正孔注入層６１はＰＥＤＯＴを含んだ有機導電性層であったが、ＰＥＤＯＴを含んでいない有機導電性層であっても適用できる。また、電子注入層６２はポリフェニレンビニレン系のポリマーを含んだ有機導電性層であったが、ポリアニリンを含んでいない有機導電性層であっても適用できる。
【００９８】
○上記各実施形態では、発光素子として有機ＥＬ素子を使用したが、これに限定されるものではない。要は、少なくとも一部の層が液状組成物によって形成される発光素子であればどんな発光素子であってもよい。
【００９９】
○上記第４及び第５実施形態では、有機ＥＬ素子２４を、画素電極２７、正孔注入層６１、発光層２８、電子注入層６２及び陰極２９で構成したが、本発明はこれに限定されない。たとえば、有機ＥＬ素子２４を、画素電極２７、正孔注入層６１、発光層２８、電子注入層６２及び陰極２９以外に、正孔注入層６１と発光層２８との間に正孔輸送層を、また、電子注入層６２と陰極２９との間に電子輸送層を設けてもよい。
【０１００】
また、各正孔輸送層及び電子輸送層を設けた場合、その画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２にある各正孔輸送層及び電子輸送層の電気抵抗値を高くすることで、各画素電極２７から供給された正孔を、各画素電極２７上の領域Ｑ１に形成された正孔注入層６１Ｌに集中して供給させることができる。従って、所謂発光のクロストークの発生を抑制することができる。
【０１０１】
○上記第４及び第５実施形態では、画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２の全てにある正孔注入層６１Ｈ及び電子注入層６２Ｈの各電気抵抗値を高くした。これを、画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２の全てではなく、各画素電極２７上の領域Ｑ１の周囲近傍の領域Ｑ２にある正孔注入層６１及び電子注入層６２のみの電気抵抗値を高くするようにしてもよい。このようにすることで、上記実施形態と同様な効果を得ることができる。
【０１０２】
○上記第４及び第５実施形態では、基板Ｓ上に、画素電極２７、正孔注入層６１、発光層２８、電子注入層６２及び陰極２９を積層し、画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２にある正孔注入層６１及び電子注入層６２の電気抵抗値を高くしたが、高い電気抵抗値を形成する層は、正孔注入層６１及び電子注入層６２に限定されない。たとえば、基板Ｓ上に、画素電極２７、発光層２８及び陰極２９を積層し、画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２にある発光層２８の電気抵抗値を高くしてもよい。このようにすることで、各画素電極２７から供給された正孔を、各画素電極２７上の領域Ｑ１に形成された発光層２８に集中して供給させることができるので、所謂発光のクロストークの発生を抑制することができる。
【０１０３】
また、有機ＥＬ素子２４を、画素電極２７、正孔注入層６１、発光層２８、電子注入層６２及び陰極２９以外に、正孔注入層６１と発光層２８との間に正孔輸送層を、また、電子注入層６２と陰極２９との間に電子輸送層を設け、その画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２にある各正孔輸送層及び電子輸送層の電気抵抗値を高くしてもよい。要は、画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２にある各層の電気抵抗値が、画素電極２７上の領域Ｑ１にある各層の電気抵抗値よりも高ければよい。
【０１０４】
○上記各実施形態では、正孔注入層６１はＰＥＤＯＴを含んだ有機導電性層であったが、ポリアニリンを含んだ有機導電性層であっても上記実施形態と同様な効果を得ることができる。
【０１０５】
○上記第４及び第５実施形態では、光として紫外光Ｒを使用した化学反応により電気抵抗値を高くするようにしているが、紫外光Ｒ以外の光を使用して電気抵抗値を高くするようにしてもよい。例えば、炭酸レーザ、エキシマーレーザ、ＹＡＧレーザ等を利用して照射した領域を熱的に変性させて高抵抗する様にしても良い。また、更に高いエネルギーでレーザ照射を行うことで、レーザアブレーションにより照射した領域の膜を除去する様にしてもよい。更には、高抵抗化させたい領域に予め照射するレーザ光の吸収率の高い材料を選択的に配置しておき、適当な値で膜を形成した面全面にレーザを照射する様な工程を使用しても良い。この様なレーザによる加工は、現圧雰囲気中或いは不活性気体の雰囲気中で行うことが、汚染や機能層の劣化を防止する上で望ましい。特にレーザによる加工は、発光層の形成前の工程で行うことが、発光層の劣化を防止するために望ましい。例えば
、正孔注入層上に発光層を形成する構成の場合、正孔注入層に対してレーザによる加工を行うことが有効である。
【０１０６】
○上記第４及び第５実施形態では、基板Ｓ上に、画素電極２７、正孔注入層６１、発光層２８、電子注入層６２及び陰極２９を積層し、画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２にある正孔注入層６１及び電子注入層６２に紫外光Ｒを照射することで、領域Ｑ２内の正孔注入層６１及び電子注入層６２の電気抵抗値を高くした。これを、画素電極２７が形成された区画領域を除いた正孔注入層６１の直下にある基板Ｓ上に紫外光Ｒを吸収する所定の材料からなる層を設ける。また、同様に、電子注入層６２の直下にある画素電極２７上の領域Ｑ１以外の全領域Ｑ２の発光層２８上に基板Ｓ上に紫外光Ｒを吸収する所定の材料からなる層を設ける。そして、マスクＭ１，Ｍ２を使用して紫外光Ｒを照射するようにしてもよい。このようにすることで、画素電極２７上の領域Ｑ１以外の全領域Ｑ２にある正孔注入層６１及び電子注入層６２に紫外光Ｒを効率良く吸収させることができるので、確実に前記領域Ｑ２内の正孔注入層６１及び電子注入層６２の電気抵抗値を高くすることができる。
【０１０７】
○上記第４及び第５実施形態では、画素電極２７上に正孔注入層６１を設けるとともに、陰極２９の直下に電子注入層６２を設けたが、本発明はこれに限定されない。画素電極２７上に電子注入層が形成され、陰極２９の直下に正孔注入層が形成された構造をしたものに対しても適用可能である。つまり、画素電極２７を陰極とし、陰極２９を陽極とした場合であっても、その画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２にある電子注入層の電気抵抗値を領域Ｑ１に比べて高くする。また、画素電極２７上の領域Ｑ１以外の領域Ｑ２にある正孔注入層の電気抵抗値を領域Ｑ１に比べて高くする。このようにすることでも、上記実施形態と同様な効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】光プリンタの主要断面図。
【図２】ブラック用有機ＥＬ露光ヘッドの斜視図。
【図３】（ａ）は、第１実施形態の発光素子アレイの上面図、（ｂ）は、（ａ）中ａ−ａ線断面図、（ｃ）は、（ａ）中ｂ−ｂ線断面図である。
【図４】光学部材の構成を説明するための図。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ、有機ＥＬ露光ヘッドの製造方法を説明するための図。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、第２実施形態の発光素子アレイの上面図。
【図７】第３実施形態の発光素子アレイの上面図。
【図８】（ａ）は、第４実施形態の発光素子アレイの上面図、（ｂ）は、（ａ）中ａ−ａ線断面図。
【図９】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、第４実施形態に係る有機ＥＬプリンタヘッドの製造方法を説明するための図。
【図１０】同じく、（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、第４実施形態に係る有機ＥＬプリンタヘッドの製造方法を説明するための図。
【図１１】同じく、（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、第４実施形態に係る有機ＥＬプリンタヘッドの製造方法を説明するための図。
【図１２】（ａ）は、第５実施形態の発光素子アレイの上面図、（ｂ）は、（ａ）中ａ−ａ線断面図。
【符号の説明】
【０１０９】
Ｓ…基板、１…電気光学装置としての光プリンタ、２Ｃ，２Ｋ，２Ｍ，２Ｙ…光書き込みヘッド及び発光部ユニットとしてシアン用有機ＥＬ露光ヘッド、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド、マゼンダ用有機ＥＬ露光ヘッド、及びイエロ用有機ＥＬ露光ヘッド、２２，２
２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｄ…発光素子アレイ、２３…光学部材、２４…発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子、２５…バンク、２７…画素電極、２８…発光層、２９…共通電極としての陰極、６１…有機導電性層としての正孔注入層、６２…有機導電性層としての電子注入層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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