(57)【要約】【課題】  透明電極における光の反射を低下させることにより、透明電極のパターンが見えてしまうのを防止する。【解決手段】  一対の透明基板３を対向して配置し、両透明基板３の相互に対向する内面にＩＴＯからなる透明電極７を設け、両透明基板３における内面と透明電極７との間に、光の屈折率が１．３５の二酸化ケイ素からなる第１低屈折率層４、光の屈折率が１．９５のＩＴＯからなる高屈折率層５、第１低屈折率層４と同一の材料からなる第２低屈折率層６を順次積層する。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一面に、透明電極が形成され、
前記基板における前記一面と前記透明電極との間に、光の屈折率が１．９〜２．１の材料からなる高屈折率層と、光の屈折率が１．３〜１．４の材料からなる低屈折率層とが、３層以上交互に積層されていることを特徴とする表示パネル用基板。
【請求項２】
前記高屈折率層がインジウムスズ酸化物からなり、前記低屈折率層が二酸化ケイ素からなる請求項１に記載の表示パネル用基板。
【請求項３】
前記低屈折率層として第１低屈折率層および第２低屈折率層を有し、前記基板の前記一面側から、前記第１低屈折率層、前記高屈折率層、前記第２低屈折率層の順番により３層に積層されていることを特徴とする請求項１または２に記載の表示パネル用基板。
【請求項４】
一対の基板が対向して配置され、
前記両基板の相互に対向する内面に透明電極が設けられ、
前記両基板における内面と前記透明電極との間に、光の屈折率が１．９〜２．１の材料からなる高屈折率層と、光の屈折率が１．３〜１．４の材料からなる低屈折率層とが、３層以上交互に積層されていることを特徴とする表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル用基板および表示パネルに係り、特に、基板に透明電極が設けられている表示パネル用基板およびこの表示パネル用基板を用いた表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、携帯電話やパーソナルコンピュータ等の表示手段として、例えば、一対の基板の間隙に封入された液晶を駆動させて文字等の画像を表示する液晶表示パネル等の表示手段が多用されている。
【０００３】
図２は、従来の液晶表示パネルを示す模式的断面図であり、図２に示すように、従来の液晶表示パネル２１は、対向して配置された一対の表示パネル用基板２２を有している。両表示パネル用基板２２は、ガラス等からなる一対の透明基板２３を有しており、両透明基板２３の相互に対向する内面には、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）膜２４が形成されている。また、両透明基板２３の内面には、二酸化ケイ素膜２４に積層してＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウムスズ酸化物）等からなる透明電極２７が所定のパターン形状によって設けられている。そして、両透明基板２３の内面には、透明電極２７に積層して絶縁膜２８および配向膜２９が積層形成されている。これら透明電極２７等が配設された両表示パネル用基板２２は、両表示パネル用基板２２の内面における周縁部に配設されたシール材３０によって一体に形成され、両表示パネル用基板２２およびシール材３０に囲まれた内部には、液晶３１が封入されている。
【０００４】
ここで、前記二酸化ケイ素膜２４は、前記透明基板２３のガラス成分に含まれるナトリウム成分やカリウム成分等のアルカリ金属イオンが液晶に溶出してしまうのを防止する機能を有している。
【０００５】
このような液晶表示パネル２１は、所定の透明電極２７に電圧を印加して液晶３１を駆動させることにより、所望の図形や文字等の画像の表示を行うようになっている。
【０００６】
しかし、前述のような従来の液晶表示パネル２１においては、ガラスを材料とする透明基板２３における光の反射率と比較して、ＩＴＯを材料とする透明電極２７における光の反射率が高く、透明基板２３と透明電極２７との反射率が大きく異なる。このため、両表示パネル用基板２２を貼着した液晶表示パネル２１の状態において、透明電極２７のパターンが見えてしまう、いわゆる骨見え現象が発生してしまうという問題を有していた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、透明電極における光の反射を低下させることにより、透明電極のパターンが見えてしまうのを防止することができる表示パネル用基板および表示パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するため、本発明に係る表示パネル用基板の特徴は、基板の一面に、透明電極が形成され、前記基板における前記一面と前記透明電極との間に、光の屈折率が１．９〜２．１の材料からなる高屈折率層と、光の屈折率が１．３〜１．４の材料からなる低屈折率層とが、３層以上交互に積層されている点にある。
【０００９】
また、前記高屈折率層はインジウムスズ酸化物からなり、前記低屈折率層は二酸化ケイ素からなることが好ましい。
【００１０】
さらに、前記低屈折率層として第１低屈折率層および第２低屈折率層を有し、前記基板の前記一面側から、前記第１低屈折率層、前記高屈折率層、前記第２低屈折率層の順番により３層に積層されているとよい。
【００１１】
これら本発明に記載の表示パネル用基板によれば、基板と透明電極との間に、光の屈折率が低い低屈折率層と光の屈折率が高い高屈折率層とが３層以上交互に積層して配設されており、これにより、透明電極における光の反射を低減させることができる。
【００１２】
また、本発明に係る表示パネルの特徴は、一対の基板が対向して配置され、前記両基板の相互に対向する内面に透明電極が設けられ、前記両基板における内面と前記透明電極との間に、光の屈折率が１．９〜２．１の材料からなる高屈折率層と、光の屈折率が１．３〜１．４の材料からなる低屈折率層とが、３層以上交互に積層されている点にある。
【００１３】
これら本発明に記載の表示パネルによれば、基板と透明電極との間に、光の屈折率が低い低屈折率層と光の屈折率が高い高屈折率層が３層以上交互に積層して配設されており、これにより、透明電極における光の反射を低減させることができる。
【発明の効果】
【００１４】
以上述べたように、本発明に係る表示パネル用基板および表示パネルによれば、透明電極における光の反射を低下させることができ、これにより、液晶表示パネルにおいて透明電極のパターンが見えてしまうのを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明に係る表示パネルの一実施形態を図１を参照して説明する。ここで、本実施形態においては、表示パネルとして、液晶表示パネルを用いて説明する。
【００１６】
図１は、本実施形態に係る液晶表示パネルを示す模式的断面図であり、図１に示すように、本実施形態に係る液晶表示パネル１は、対向して配置された一対の表示パネル用基板２を有している。
【００１７】
両表示パネル用基板２は、それぞれガラスからなる透明基板３を有し、両透明基板３における相互に対向する内面には、光の屈折率が１．３〜１．４の材料からなる第１低屈折率層４が設けられている。本実施形態においては、第１低屈折率層４は、前記屈折率が１．３５である二酸化ケイ素により構成されている。なお、第１低屈折率層４を構成する材料としては、光の屈折率が低く可視光領域において透明な材料であれば本実施形態に限定されるものではなく、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）およびフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等を例示することができる。
【００１８】
また、両透明基板３の内面には、第１低屈折率層４に積層して、光の屈折率が１．９〜２．１の材料からなる高屈折率層５が設けられており、本実施形態においては、高屈折率層５は、前記屈折率が１．９５であるＩＴＯにより構成されている。なお、高屈折率層５を構成する材料としては、光の屈折率が高く可視光領域において透明な材料であれば本実施形態に限定されるものではなく、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）やＩＣＯ（Indium Cerium Oxide：インジウムセリウム酸化物）を用いることもできる。
【００１９】
さらに、両透明基板３の内面には、前記高屈折率層５に積層して、光の屈折率が１．３〜１．４の材料からなる第２低屈折率層６が設けられており、本実施形態においては、第１低屈折率層４と同一の材料である二酸化ケイ素により構成されている。
【００２０】
さらにまた、両透明基板３の内面には、前記第２低屈折率層６に積層して、ＩＴＯからなる透明電極７が所定のパターン形状によって設けられている。
【００２１】
これら第１低屈折率層４、高屈折率層５、第２低屈折率層６および透明電極７は、同一のスパッタ装置を用いて所定の真空状態において連続して成膜されるとよい。
【００２２】
また、両透明基板３の内面には、透明電極７に積層して、シリカ等により構成されている絶縁膜８、および所定方向にラビング処理が施された配向膜９が順次積層して配設されている。
【００２３】
両表示パネル用基板２の内面における周縁部にはシール材１０が配設され、このシール材１０により両表示パネル用基板２は一体に形成されており、両表示パネル用基板２およびシール材１０に囲まれた内部には、液晶１１およびスペーサが封入されている。
【００２４】
このような液晶表示パネル１は、所定の透明電極７に電圧を印加して液晶１１を駆動させることにより、所望の図形や文字等の画像の表示を行うようになっている。
【００２５】
次に、本実施形態の作用について説明する。
【００２６】
本実施形態によれば、透明基板３と透明電極７との間に、光の屈折率が低い第１低屈折率層４および第２低屈折率層６と、光の屈折率が高い高屈折率層５とが交互に積層して配設されており、これにより、透明電極７における光の反射を低減させることができる。
【００２７】
したがって、 透明電極７における光の反射を低下させることにより、液晶表示パネル１において透明電極７のパターンが見えてしまうのを防止することができる。
【００２８】
一般的に、透明な膜は白色光に対して光干渉による透過と反射とによって波長依存性が発現することが知られている。また、この波長依存性は、光の屈折率が高い膜ほど強くなることが知られている。ＩＴＯからなる透明電極２７は、光の屈折率が高い膜であるので、波長依存性が強くなり、透明電極２７が形成されていない透明基板２３の部分との透過・反射の差が大きくなり、透明電極２７のパターンが視認されると推測される。
【００２９】
本実施形態においては、第１低屈折率層４、高屈折率層５および第２低屈折率層６の積層体は、干渉を組み合わせて前記透明電極２７の波長依存性と逆の波長依存性を有している。したがって、透明電極２７と前記積層体を積み重ねることにより、相互の波長依存性をキャンセルするように働き、透明電極２７のパターンが視認されるのを解消することができる。すなわち、透明電極２７が形成されている部分と形成されていない部分との透過・反射の差が小さくなるので、透明電極２７のパターンが見えにくくなったものと考えられる。
【００３０】
また、第１低屈折率層４の材料として二酸化ケイ素を用いることにより、第１低屈折率層４に、透明電極７における光の反射を低減させるための機能の他、透明基板３のガラス成分に含まれるナトリウム成分やカリウム成分等のアルカリ金属イオンが液晶１１に溶出してしまうのを防止する機能を兼用させることができる。
【００３１】
さらに、第１低屈折率層４、高屈折率層５、第２低屈折率層６および透明電極７を、同一のスパッタ装置を用いて所定の真空状態において連続して成膜することにより、第１低屈折率層４、高屈折率層５、第２低屈折率層６および透明電極７をそれぞれ形成する工程毎に真空状態を解除することなく、効率よく成膜を行うことができる。
【００３２】
さらにまた、高屈折率層５に透明電極７と同じ材料を用い、第１低屈折率層４および第２低屈折率層６に、従来の液晶表示パネル１において設けられていた二酸化ケイ素膜と同一の材料を用いることにより、第１低屈折率層４、高屈折率層５、第２低屈折率層６および透明電極７のスパッタリング工程において、スパッタのターゲット数を増加することなく効率よく成膜することができる。
【００３３】
なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、必要に応じて種々変更することが可能である。
【００３４】
例えば、本実施形態においては、低屈折率層および高屈折率層５が３層に形成されているが、低屈折率層および高屈折率層５の層数は本実施形態に限定されるものではなく、３層以上であればよい。
【００３５】
以下、透明基板３と透明電極７との間に３層以上の低屈折率層および高屈折率層５が配設されている本実施形態の液晶表示パネル１と、従来の液晶表示パネル１の一例として透明基板３と透明電極７との間に二酸化ケイ素膜のみが配設されている液晶表示パネル１とを比較して説明する。
【００３６】
本実施形態に係る液晶表示パネル１として、二酸化ケイ素からなる第１低屈折率層４を１００Å（１０ｎｍ）、ＩＴＯからなる高屈折率層５を５５０Å（５５ｎｍ）、二酸化ケイ素からなる第２低屈折率層６を２００Å（２０ｎｍ）の膜厚にそれぞれ設け、第２低屈折率層６に積層して１０００Å（１００ｎｍ）の膜厚の透明電極７を設けた表示パネル用基板２を用いて液晶表示パネル１を形成した。
【００３７】
一方、従来の液晶表示パネル１の一例として、２００Åの膜厚の二酸化ケイ素膜に積層して、１０００Åの膜厚の透明電極７を設けた表示パネル用基板２を用いて液晶表示パネル１を形成した。
【００３８】
そして、本実施形態に係る液晶表示パネル１の透明電極７における光の反射と、従来の液晶表示パネル１の透明電極７における光の反射とを比較すると、本実施形態の液晶表示パネル１の透明電極７における光の反射は、従来の約７０％となり、反射の低減効果が確認された。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明に係る表示パネルの一実施形態を示す模式的断面図
【図２】従来の表示パネルの一例を示す模式的断面図
【符号の説明】
【００４０】
１  液晶表示パネル
２  表示パネル用基板
３  透明基板
４  第１低屈折率層
５  高屈折率層
６  第２低屈折率層
７  透明電極
８  絶縁膜
９  配向膜
１０  シール材
１１  液晶
【図１】
2006301510.tif 000003
【図２】
2006301510.tif 000004