(57)【要約】【課題】  基板の熱処理によって発生するセグメント表示部の陽極電極の亀裂断線を防止した有機ＥＬ表示素子を提供する。【解決手段】  ガラス基板上に形成したカラーフィルター層３上に、陽極電極２６、絶縁層７、有機発光層、及び陰極電極を形成した有機ＥＬ表示素子であって、陽極電極２６が、発光領域１０，１０・・・に対応するセグメント表示部６と、このセグメント表示部６に接続した引き回し配線部１６とからなり、セグメント表示部６にスリット３０，３０・・・を形成し、このスリット３０，３０・・・が絶縁層７をなす絶縁材料によって充填されている有機ＥＬ表示素子を用いる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に形成したカラーフィルター層上に、陽極電極、絶縁層、有機発光層、及び陰極電極を形成した有機ＥＬ表示素子であって、
前記陽極電極が、発光領域に対応するセグメント表示部と、このセグメント表示部に接続した引き回し配線部とからなり、
前記セグメント表示部にスリットを形成し、このスリットが前記絶縁層をなす絶縁材料によって充填されていることを特徴とする有機ＥＬ表示素子。
【請求項２】
前記スリットの幅が、８〜５０μｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示素子。
【請求項３】
前記引き回し配線部をなす陽極電極上に、金属を積層してなる補助電極を形成した請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示素子。
【請求項４】
前記セグメント表示部をなす陽極電極の周囲に、金属を積層してなる補助電極を形成した請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示素子。
【請求項５】
前記補助電極の幅が、１０〜５０μｍである請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示素子に関するものであり、特に陽極電極の亀裂断線を防止した有機ＥＬ表示素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示素子とは、ガラス基板上に形成したカラーフィルター層の上に、陽極電極、有機発光性化合物を含む有機発光層、絶縁層、隔壁、陰極電極などを積層したものである。
【０００３】
この有機ＥＬ表示素子は、陽極電極と陰極電極との間に電圧を印加すると、これらの間に挟まれた有機発光層が発光し、その発光を、カラーフィルター層とその下のガラス基板とを通過させて下部側より視認するものである。発光領域は、陽極電極と陰極電極との間に挟まれた有機発光層の存在する領域に該当し、発光領域の形状はおおむね陽極電極の形状（パターン）によって定まるのが一般的である（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
例えば、図８は、カラーフィルター層上に形成した従来の陽極電極のパターン２０の一例を示した概略平面図である。この陽極電極のパターン２０の一例では、ガラス基板上に形成したカラーフィルター層上に、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）などの透光性導電材料からなる陽極電極が、いわゆる数字の８の字を示すような形状で積層されている。
【０００５】
この陽極電極パターン２０は、発光領域に対応する縦長の六角形状のセグメント表示部６，６・・・と、このセグメント表示部６に接続した長方形状の引き回し配線部１６，１６・・・とから構成されている。
【０００６】
また、図９は、陽極電極パターン２０のセグメント表示部６を長方形状とした従来の有機ＥＬ表示素子の分解斜視図である。また、図１０は、図９に示した従来の有機ＥＬ表示素子１のＡ−Ａ断面図である。
【０００７】
この有機ＥＬ表示素子１では、ガラス基板２上に形成したカラーフィルター層３上に、平坦化膜４、ＳｉＯ２膜５、陽極電極２６、絶縁層７、有機発光層８、陰極電極９が形成されている。図９に示したように、陽極電極２６の上には、セグメント表示部６に対応した発光領域１０と、発光領域以外に対応した絶縁層７が設けられている。
【特許文献１】特開２００２−２３１４５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、従来の陽極電極パターン２０のように、セグメント表示部６の陽極電極を広い面積で形成すると、基板を加熱処理した際に、カラーフィルター層３が熱収縮して陽極電極２６に亀裂５０が入り、図１０に示したように陽極電極２６が亀裂５０により断線して、陰極電極９と短絡を起こすという問題があった。
【０００９】
特に、セグメント表示部６の形状の縦横比が１：１に近く、セグメント表示部６を幅が５００μｍを超える大面積で形成すると、この問題が顕著に起る場合があった。この原因としては、ＩＴＯは熱膨張率が小さいことから、大面積の陽極電極は、カラーフィルター層３の熱収縮に追従することができないためと考えられる。
【００１０】
本発明は、上記背景技術の問題点に鑑みてなされたもので、基板の熱処理によって発生するセグメント表示部の陽極電極の亀裂断線を防止した有機ＥＬ表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
かかる課題を解決するため、
請求項１にかかる発明は、ガラス基板上に形成したカラーフィルター層上に、陽極電極、絶縁層、有機発光層、及び陰極電極を形成した有機ＥＬ表示素子であって、前記陽極電極が、発光領域に対応するセグメント表示部と、このセグメント表示部に接続した引き回し配線部とからなり、前記セグメント表示部にスリットを形成し、このスリットが前記絶縁層をなす絶縁材料によって充填されていることを特徴とする有機ＥＬ表示素子である。
【００１２】
請求項２にかかる発明は、前記スリットの幅が、８〜５０μｍである請求項１に記載の有機ＥＬ表示素子である。
【００１３】
請求項３にかかる発明は、前記引き回し配線部をなす陽極電極上に、金属を積層してなる補助電極を形成した請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示素子である。
【００１４】
請求項４にかかる発明は、前記セグメント表示部をなす陽極電極の周囲に、金属を積層してなる補助電極を形成した請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示素子である。
【００１５】
請求項５にかかる発明は、前記補助電極の幅が、１０〜５０μｍである請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示素子である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の有機ＥＬ表示素子によれば、セグメント表示部に、絶縁層をなす絶縁材料によって充填したスリットを形成して、セグメント表示部の陽極電極を小面積に分割することにより、基板の熱処理によって発生するセグメント表示部の陽極電極の亀裂断線を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ表示素子の一例を図面に示して、詳細に説明する。
【００１８】
［第１の実施形態］
図１は、本実施形態に用いられる陽極電極パターン２０を有する有機ＥＬ表示素子の分解斜視図である。この陽極電極パターン２０では、カラーフィルター層３上に形成した陽極電極２６は、セグメント表示部６と、このセグメント表示部６に接続した長方形状の引き回し配線部１６とから概略構成されている。この陽極電極２６の上には、セグメント表示部６に対応した発光領域１０，１０・・・と、発光領域以外に対応した絶縁層７が設けられている。
【００１９】
また、図２は、図１に示した本実施形態に係る有機ＥＬ表示素子１のＡ−Ａ断面図である。この有機ＥＬ表示素子１は、ガラス基板２上に形成したカラーフィルター層３と、その上に形成した陽極電極２６、絶縁層７、有機発光層８、陰極電極９とから概略構成されている。
【００２０】
図１では、わかりやすいように陽極電極パターン２０と絶縁層７とを分解して示しているが、実際の有機ＥＬ表示素子１では、図１のような複数のシートが重なっているのではなく、図２に示したように、カラーフィルター層３上に、陽極電極２６と絶縁層７とが積層されていて、これらの形状に沿って、陽極電極２６と絶縁層７の表面を覆うように有機発光層８と陰極電極９とが、この順に積層されている。
【００２１】
ガラス基板２の下部側は、いわゆる視認側に当たる。ガラス基板２上には、赤、緑、青色を表示するための顔料あるいは染料を含有するカラーフィルター層３が設けられている。
【００２２】
本実施形態では、このカラーフィルター層３の上に、異なる色間に生じる段差や隙間を埋めてこれらを保護し平坦化するための透明なアクリル樹脂等からなる平坦化膜４と、陽極電極２６の密着性向上のためのＳｉＯ２膜５が形成されており、その上に陽極電極２６と絶縁層７が設けられている。
【００２３】
この陽極電極２６は、セグメント表示部６にスリット３０，３０・・・を形成し、このスリット３０，３０・・・が絶縁層７をなす絶縁材料によって充填されているものである。陽極電極２６の材料としては、透光性導電材料であるＩＴＯが挙げられる。また、絶縁層７の材料としては、ポリイミド系、アクリル系、フェノール系等の合成樹脂の絶縁材料が挙げられる。
【００２４】
本実施形態では、長方形状のセグメント表示部６の長手方向と垂直方向に沿って、細長い長方形状のスリット３０，３０・・・を形成して陽極電極２６を小面積に分割し、スリット３０，３０・・・の一端を開口して、陽極電極パターン２０を櫛型形状としている。
【００２５】
スリット３０の幅Ｗは、８〜５０μｍであるのが好ましく、８〜２０μｍであるのがより好ましい。また、スリット３０，３０に挟まれた陽極電極の幅Ｌは、５００μｍ以下であるのが好ましい。また、セグメント表示部６に接続した長方形状の引き回し配線部１６の幅は２０〜２００μｍであるのが好ましい。
【００２６】
この陽極電極２６と絶縁層７との上には、自発光源となる有機発光層８と、アルミニウムなどの金属からなる陰極電極９が、この順に形成されている。陽極電極２６と陰極電極９との間に挟まれた有機発光層８の存在する領域に該当する発光領域１０，１０・・・は、スリット３０，３０・・・に挟まれたセグメント表示部６に対応した長方形状となっている。
【００２７】
本実施形態に係る有機ＥＬ表示素子では、セグメント表示部６に、絶縁材料を充填したスリット３０，３０・・・を形成して、陽極電極２６を幅が５００μｍ以下の小面積に分割することにより、基板の熱処理によって発生する熱応力が分散して陽極電極２６にかかるため、陽極電極２６がカラーフィルター層３の熱収縮に追従して変形できるようになり、陽極電極２６内での亀裂の発生とそれによる断線を防止することができる。
【００２８】
本実施形態に係る有機ＥＬ表示素子は、以下のように製造することができる。まず、ガラス基板２上に塗布等によりカラーフィルター層３を形成した後、平坦化膜４を塗布形成し、スパッタや蒸着によりＳｉＯ２膜５を形成する。次いで、ＩＴＯをスパッタや蒸着により成膜し、エッチングによりパターニングして、セグメント表示部６が小面積に分割された陽極電極２６を形成する。
【００２９】
次いで、感光性の絶縁材料をスピンコートやロールコート等の適宜手段により塗布し、フォトリソグラフィーでパターニングして、スリット３０，３０・・・を被覆する絶縁層７を形成する。
【００３０】
この絶縁層７の形成工程のなかに、基板全体を２００℃を超える高温でベークして加熱乾燥する工程があり、この加熱処理により、カラーフィルター層３の熱収縮が起る。
【００３１】
次いで、陽極電極２６及び絶縁層７上に、スプレー塗布、蒸着等により有機発光層８を形成し、蒸着により陰極電極９を形成して、有機ＥＬ表示素子１とする。
【００３２】
［第２の実施形態］
図３は、本実施形態に用いられる陽極電極パターン２０を示した概略平面図である。本実施形態に用いられる陽極電極パターン２０では、長方形状のセグメント表示部６の長手方向と垂直方向に沿って、細長い長方形状のスリット３０，３０・・・を形成して陽極電極２６を小面積に分割し、スリット３０，３０・・・の両端を開口しない以外は、第１の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【００３３】
本実施形態では、スリット３０を長方形状としているが、複数の小さな円形としてもよい。
【００３４】
［第３の実施形態］
図４は、本実施形態に用いられる陽極電極パターン２０を示した概略平面図である。本実施形態に用いられる陽極電極パターン２０では、長方形状の引き回し配線部１６をなす陽極電極上の中央部に、金属を積層してなる補助電極４０を形成した以外は、第２の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【００３５】
補助電極４０の材料となる金属は、低抵抗値を有するものが好ましい。例えば、クロム、アルミニウム、アルミニウムとネオジウムの合金などが挙げられる。また、補助電極４０の幅は、引き回し配線部１６の幅以上としてもよいが、引き回し配線部１６の幅２０〜２００μｍよりもやや狭い、１０〜５０μｍとすることが好ましい。
【００３６】
引き回し配線部１６をなす陽極電極上の中央部に、低抵抗値を有する補助電極４０を積層することにより、セグメント表示部６の陽極電極に流れる電流値を一定とすることができるため、陽極電極が小面積に分割されたセグメント表示部６の発光を均一にすることができる。
【００３７】
［第４の実施形態］
図５は、本実施形態に用いられる陽極電極パターン２０を有する有機ＥＬ表示素子の分解斜視図である。また、図６は、図５に示した本実施形態に係る有機ＥＬ表示素子１のＡ−Ａ断面図である。本実施形態に用いられる陽極電極パターン２０では、セグメント表示部６をなす陽極電極の周囲に、さらに金属を積層してなる補助電極４０を形成した以外は、第３の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【００３８】
セグメント表示部６をなす陽極電極の周囲に設けた補助電極４０の幅Ｘは、１０〜５０μｍであるのが好ましい。セグメント表示部６をなす陽極電極の周囲に、さらに補助電極４０を形成することにより、補助電極４０で囲まれたセグメント表示部６をなす陽極電極に流れる電流値を一定とすることができ、陽極電極が小面積に分割されたセグメント表示部６の発光を均一にすることができると共に、万が一、セグメント表示部６の陽極電極に亀裂が発生したとしても、周囲の補助電極４０から電流を供給できるため、セグメント表示部６の一部のセグメントが未点灯となるのを防止することができる。
【００３９】
図７は、カラーフィルター層上に形成した本実施形態に用いられる陽極電極２０のパターンの一例を示した概略平面図である。この陽極電極のパターン２０の一例では、いわゆる数字の８の字を示す形状のうち、発光領域に対応する縦長の六角形状のセグメント表示部６，６・・・には、スリット３０，３０・・・が形成されており、セグメント表示部６に接続した長方形状の引き回し配線部１６，１６・・・をなす陽極電極の中央部と、セグメント表示部６，６・・・をなす陽極電極の周囲には補助電極４０が形成されている。
【００４０】
この陽極電極のパターン２０では、セグメント表示部６，６・・・の発光を均一にすることができると共に、万が一、セグメント表示部６，６・・・の陽極電極に亀裂が発生したとしても、セグメント表示部６，６・・・の一部のセグメントが未点灯となるのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】第１の実施形態に用いられる陽極電極パターンを有する有機ＥＬ表示素子の分解斜視図である。
【図２】図１に示した第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示素子のＡ−Ａ断面図である。
【図３】第２の実施形態に用いられる陽極電極パターンを示した概略平面図である。
【図４】第３の実施形態に用いられる陽極電極パターンを示した概略平面図である。
【図５】第４の実施形態に用いられる陽極電極パターンを有する有機ＥＬ表示素子の分解斜視図である。
【図６】図５に示した第４の実施形態に係る有機ＥＬ表示素子のＡ−Ａ断面図である。
【図７】カラーフィルター層上に形成した第４の実施形態に用いられる陽極電極のパターンの一例を示した概略平面図である。
【図８】カラーフィルター層上に形成した従来の陽極電極のパターンの一例を示した概略平面図である。
【図９】陽極電極パターンのセグメント表示部を長方形状とした従来の有機ＥＬ表示素子の分解斜視図である。
【図１０】図９に示した従来の有機ＥＬ表示素子のＡ−Ａ断面図である。
【符号の説明】
【００４２】
１  有機ＥＬ表示素子
２  ガラス基板
３  カラーフィルター層
６  セグメント表示部
７  絶縁層
８  有機発光層
９  陰極電極
１０  発光領域
１６  引き回し配線部
２６  陽極電極
３０  スリット
４０  補助電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2006310019.tif 000009
【図８】
2006310019.tif 000010
【図９】
2006310019.tif 000011
【図１０】
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