(57)【要約】【課題】クロム酸処理や熱処理等の不活性処理を必要とせずに無電解ニッケルメッキ芯金へのゴム層の焼きつきや付着を防ぐことで、後工程での無電解ニッケルメッキ皮膜上に付着したゴムの除去等を必要とせず、外観および寸法精度の優れた状態とし、製造の容易な発泡ゴムローラを提供する。【解決の手段】芯金の外周上に少なくとも一層以上の発泡ゴム層を有し、該芯金が外周面に無電解ニッケルメッキ皮膜が形成されており、かつ該無電解ニッケルメッキ皮膜上でゴム組成物が発泡加硫工程を経て該発泡ゴム層を形成する発泡ゴムローラにおいて、該発泡加硫工程の温度が１７０〜２００℃あり、かつ、該ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が１．０〜３．５分であることを特徴とする発泡ゴムローラ。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
芯金の外周上に少なくとも一層以上の発泡ゴム層を有し、該芯金が外周面に無電解ニッケルメッキ皮膜が形成されており、かつ該無電解ニッケルメッキ皮膜上でゴム組成物が発泡加硫工程を経て該発泡ゴム層を形成する発泡ゴムローラにおいて、該発泡加硫工程の温度が１７０〜２００℃あり、かつ、該ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が１．０〜３．５分であることを特徴とする発泡ゴムローラ。
【請求項２】
該発泡加硫工程の温度が、１８０〜１９５℃であることを特徴とする請求項１に記載の発泡ゴムローラ。
【請求項３】
該ゴム組成物の主ゴム成分がエチレン−プロピレン−非共役ジエン共重合ゴムであることを特徴とする請求項１又は２に記載の発泡ゴムローラ。
【請求項４】
該ゴム組成物のゴム成分にｐ、ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジドを含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の発泡ゴムローラ。
【請求項５】
該ゴム組成物を芯金の外周上に配置せしめる工程が、押出し機を用いて該ゴム組成物を押出すと同時に、連続的に該芯金を押出し機のクロスヘッドダイを通過させて、芯金の外周上に該ゴム組成物を配置せしめる製造工程を用いて得られたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の発泡ゴムローラ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発泡ゴムローラに関し、さらに詳しくは、複写機、レーザープリンタ、ファクシミリなどの電子写真装置や静電記録装置などの画像形成装置用の部材として好適に使用される帯電ローラ、転写ローラ、紙搬送ローラ等の発泡ゴムローラに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真装置には帯電ローラ、転写ローラ等多数のゴムローラが用いられている。この種のゴムローラは、近年の装置の高速化、良画質化に応えるために、感光体との当接により一様なニップ幅を保つことが要求されており、芯金の外周上の弾性体に発泡ゴムが用いられた発泡ゴムローラが使用されている。また、上記発泡ゴムローラは、芯金の外周面にメッキ皮膜を形成され、そのメッキ皮膜上に少なくとも一層以上の発泡ゴム層を形成することにより構成されている。そして上記発泡ゴムローラは、通常、芯金の左右両端に軸芯部を設け、この軸芯部を軸受部に嵌合することにより取付け固定される。特に、この種の発泡ゴムローラでは寸法に高い精度が要求されている。このため、上記メッキ皮膜としては、電気メッキではなく、無電解メッキによって形成されたニッケルメッキ皮膜が用いられている。上記無電解メッキは、化学メッキとも称されるものであって、電気メッキのように電気エネルギーを用いずに金属相互の化学的置換および還元作用を応用して金属をメッキするものであり、均一な膜厚のメッキを施すことができることから、上記のような高い精度が要求される電子写真装置用ゴムローラの芯金のメッキに用いられている。従来このような発泡ゴムローラとしては、例えば以下のようにして製造されている。ゴム組成物としてエチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム（ＥＰＤＭ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、アクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、スチレン−ブタジエン共重合ゴム（ＳＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、天然ゴム（ＮＲ）等に、カーボンブラック等のフィラー類、加硫促進剤、加硫剤、軟化剤、発泡剤等の添加剤を加えたものを混練りしたものをチューブ状に押出した後、加硫缶やマイクロ波加硫装置（ＵＨＦ）、熱風炉（ＨＡＶ）等を用い発泡加硫させた発泡ゴムチューブを作成し、外周面に無電解ニッケルメッキ皮膜を形成した芯金（以後、無電解ニッケルメッキ芯金と記す場合がある）にあらかじめ必要部分（ゴム層と芯金を接着させる部分）に接着剤を塗布した芯金を圧入し、さらに接着・加硫を行い所定のゴム長になるように芯金両端部のゴムを切り取る工程を経て製造される発泡ゴムローラが知られている。また、工程を簡略化するために上記ゴム組成物をあらかじめ必要部分に接着剤を塗布した無電解ニッケルメッキ芯金上に配置し芯金上で発泡加硫と接着を同時に行い、所定のゴム長になるように芯金両端部のゴムを切り取る工程を経て製造される発泡ゴムローラも知られている。
【０００３】
しかしながら、上記のようなゴム組成物をあらかじめ必要部分に接着剤を塗布した無電解ニッケルメッキ芯金上に配置し芯金上で発泡加硫したものは、接着剤を塗布していない部分にもゴム層がニッケルメッキ皮膜に焼きつき、芯金両端部のゴムを切り取ることができなかったり、切り取ることができても芯金上にゴムかすが付着したりするため、この付着したゴムかすを除去するため後加工が必要になるという問題を有している。このような問題に対応するため、芯金上のゴムを切り取る部分に離型剤等を塗布し、上記ゴム組成物をあらかじめ必要部分に接着剤を塗布した芯金上に配置し芯金上で発泡加硫することが行われている。ところが、このようにする場合には、離型剤を塗布した部分は芯金とゴム層が接着しないために極めて精度良く離型剤を塗布する必要があり、接着が必要な部分に離型剤が入り込んだ場合には接着不良が生じるという問題がある。
【０００４】
また、これらの問題に対する解決方法として、芯金の外周面に無電解ニッケルメッキを施した後、クロム酸溶液にこのニッケルメッキ芯金を浸漬し無電解ニッケルメッキを不活性化処理することによりゴムの焼きつきを防止する方法や１００〜３００℃で熱処理（表面酸化）を施し無電解ニッケルメッキを不活性化処理する方法も知られている（特許文献１参照）。
【０００５】
しかしながら、これらの方法は、加工工程を増加させるためコストアップにつながる上、近年、環境問題が非常に重要視され、有害なクロム酸の使用を廃止することが望まれておりクロム酸処理による不活性化処理をなくす必要が生じている。また、１００〜３００℃で熱処理を行い表面酸化する方法においては、表面を酸化させるためには、無電解ニッケルメッキ芯金の１本１本を十分に空気（酸素）に触れさせる必要が生じるために多数の処理を行うことが難しいという問題を有している。
【特許文献１】特公平７−７４０５６号報（請求項１及び２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、クロム酸処理や熱処理等の不活性処理を必要とせずに無電解ニッケルメッキ芯金へのゴム層の焼きつきや付着を防ぐことで、後工程での無電解ニッケルメッキ皮膜上に付着したゴムの除去等を必要とせず、外観および寸法精度の優れた状態とし、製造の容易な発泡ゴムローラを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するため、鋭意検討し、本発明に至った。本発明は、芯金の外周上に少なくとも一層以上の発泡ゴム層を有し、該芯金が外周面に無電解ニッケルメッキ皮膜が形成されており、かつ該無電解ニッケルメッキ皮膜上でゴム組成物が発泡加硫工程を経て該発泡ゴム層を形成する発泡ゴムローラにおいて、該発泡加硫工程の温度が１７０〜２００℃あり、かつ、該ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０（加硫速度ｔｃ１０：ＪＩＳ−Ｋ６３００）が１．０〜３．５分であることを特徴とする発泡ゴムローラである。さらに、該発泡加硫工程の温度が１８０〜１９５℃であることが好ましく、該ゴム組成物の主ゴム成分がエチレン−プロピレン−非共役ジエン共重合ゴムであることが好ましく、そして、発泡剤として、ｐ、ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジドを含有することが好ましい。また、該ゴム組成物を芯金の外周上に配置せしめる工程が、押出し機を用いて該ゴム組成物を押出すと同時に、連続的に該芯金を押出し機のクロスヘッドダイを通過させて、芯金の外周上に該ゴム組成物を配置せしめる方法であることを特徴とする発泡ゴムローラである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の発泡ゴムローラは、無電解ニッケルメッキ皮膜上でゴム組成物が発泡加硫工程を経て発泡ゴム層を形成するにも関わらず、不必要な芯金両端部にゴム層が焼きつかない。したがって、後工程で無電解ニッケルメッキ皮膜上に付着したゴムの除去等を必要とせず、外観および寸法精度の優れた状態となる。また、無電解ニッケルメッキ皮膜上の必要部分に接着剤を塗布することにより、ゴム層を強固に芯金に接着することも可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【００１０】
芯金の外周上に少なくとも一層以上の発泡ゴム層を有し、該芯金が外周面に無電解ニッケルメッキ皮膜が形成されており、かつ該無電解ニッケルメッキ皮膜上でゴム組成物が発泡加硫工程を経て該発泡ゴム層を形成する発泡ゴムローラにおいて、該発泡加硫工程の温度が１７０〜２００℃あり、かつ、該ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が１．０〜３．５分であることを特徴とする以外、特に限定するものではない。
【００１１】
本発明者等は鋭意研究の結果、発泡加硫工程の温度が２００℃を超えて高温であるほど、ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が３．５分を超えて遅いほど、無電解ニッケルメッキ皮膜上でゴム組成物が発泡加硫工程を経て発泡ゴム層を形成する際に、ニッケルメッキ芯金へのゴム層の焼きつきが生じやすい現象を見出した。しかしながら、無電解ニッケルメッキ芯金へのゴム層の焼きつきを回避するため、単に発泡加硫工程を低温度にするあるいは、ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０を速くすると、発泡加硫工程を低温度にする弊害としては、発泡剤の分解が不十分になり易く、高発泡ゴムローラを得ることが困難であるばかりか、発泡剤の分解が不十分な所と十分な所の発泡状態の差による発泡ムラの品質問題が生じやすくなる。また、ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０を速くすることの弊害としては、加硫速度が速いためスコーチを起こしやすくなるなどの問題があり現実的でない。本発明者等は、発泡ゴムローラの品質安定性や生産性を考慮して、さらなる実験を重ねた結果、加硫発泡工程の温度が１７０〜２００℃あり、かつ、ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が１．０〜３．５分であることにより、無電解ニッケルメッキ皮膜上でゴム組成物が発泡加硫工程を経て発泡ゴム層を形成しても、ニッケルメッキ芯金へのゴム層の焼きつきが生じず、かつ、品質安定性に優れる発泡ゴムローラを得られることを見出し本発明を完成するに至った。
【００１２】
発泡加硫工程の温度が高温であるほど、ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が遅いほど、無電解ニッケルメッキ皮膜上でゴム組成物が発泡加硫工程を経て発泡ゴム層を形成する際に、ニッケルメッキ芯金へのゴム層の焼きつきが生じやすい理由はさだかでないが、発泡加硫工程の温度が高温度であるほど、ゴム組成物と無電解ニッケルメッキ芯金との反応が促進するためではないかと考えられる。発泡加硫工程の温度が高温度であるほど、ゴム組成物がゴム間の加硫進行と同時に、無電解ニッケルメッキ芯金との反応も進行し焼きつきが生じやすくなるの対し、発泡加硫工程の温度が低温度であるほど、ゴム組成物と無電解ニッケルメッキ芯金は反応し難くなり、無電解ニッケルメッキ芯金と反応する以前に、ゴム間の加硫を完了させるため焼きつきが生じないと考えられる。そして、ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０（初期の加硫速度の目安である）が遅くなるほど低温度では加硫が進行し難く、高温度になってから加硫が進行するため、上記理由と同様に、ゴム組成物がゴム間の加硫進行と同時に、無電解ニッケルメッキ芯金との反応も進行し焼きつきが生じやすくなると考えられる。
【００１３】
さらに詳しく説明すると、加硫発泡工程の温度が１７０℃未満であると、発泡加硫工程の温度が低いため、発泡剤の分解が不十分になり易く、高発泡ゴムローラを得ることが困難であるばかりか、発泡ムラによる品質面の悪化も懸念される。また、発泡加硫時間もより長く必要となるためコスト面でも不利であり、現実的ではない。発泡加硫工程の温度が２００℃より高くなると、無電解ニッケルメッキ芯金へのゴム層の焼きつきが生じやすくなり好ましくない。より好ましい発泡加硫工程の温度は、１７０℃未満で急激に発泡ムラや発泡が不十分になることから１８０℃以上にすること、そして、２００℃を超えると、無電解ニッケルメッキ芯金への焼きつきが生じやすくなることから、１９５℃以下にすることがより好ましい。
【００１４】
ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が１．０分未満であると、加硫速度が速いためスコーチを起こしやすくなるなどの問題がある。また、レオメータの加硫速度ｔｃ１０が３．５分を超えると、上記発泡加硫工程の温度１７０〜２００℃においても、ニッケルメッキ芯金へのゴム層の焼きつきが生じやすくなり好ましくない。より好ましくは、１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が１．５〜３．０分である。
【００１５】
本発明で使用するゴム組成物用の原料ゴムとしては、特に限定するもではなく、エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム（ＮＢＲ）、天然ゴム（ＮＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、スチレン−ブタジエン共重合ゴム（ＳＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、エピクロルヒドリン系ゴム（ＣＯ、ＥＣＯ）等の各種原料ゴムが使用できるが、中でも耐オゾン性が優れる、耐熱性が優れる、安価であるという観点からエチレン−プロピレン−非共役ジエン共重合ゴムが好ましい。また、本発明で使用するゴム組成物用には、導電性、補強性あるいは加工性等や増量充填の目的から、ケッチェンブラック等の導電性カーボンブラック、ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＨＡＦ、ＭＡＦ、ＦＥＦ、ＧＰＦ、ＳＲＦ、ＦＴ、ＭＴ等のゴム用カーボンブラック、各種重質炭酸カルシウム、各種軽質炭酸カルシウム、クレー類、炭酸マグネシウム、シリカ、珪酸マグネシウム、タルク等の各種フィラー類が添加できる。フィラー類の添加量は、原料ゴム１００質量部に対して１０〜１００質量部が好ましく、２０〜７０質量部が特に好ましい。また、加硫剤としては、種々ものを用いることができるが、ゴム組成物の発泡及び加硫の制御を容易に行うことができる点から、硫黄加硫系が好ましい。ここで、硫黄加硫系とは、硫黄と加硫促進剤との組み合わせ、あるいは含硫黄有機化合物をいう。硫黄の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して１．０〜３．０質量部が好ましい。この理由は、前記のゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が１．０〜３．５分の調整が容易に行えるためである。加硫促進剤としては、チアゾール類、スルフェンアミド類、チオウレア類、チウラム類、ジチオカルバミン酸塩類、グアニジン類、アルデヒドアミン類、アルデヒドアンモニア類が挙げられ、これらの一種を単独で又は二種以上を混合して用いることができる。含硫黄有機化合物としては、例えば、テトラアルキルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等が挙げられる。加硫剤の添加量は、原料ゴム１００質量部に対して０．５〜５質量部が好ましい。本発明に係る発泡ゴムには、上記の添加剤以外に、亜鉛華、ステアリン酸等の加硫促進助剤、パラフィン系プロセスオイル等の軟化剤、スコーチ防止剤、粘着付与剤、その他ゴム用添加剤を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜添加することができる。
【００１６】
次に、使用される発泡剤としては、アゾジカルボンアミド、ｐ、ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド（以下ＯＢＳＨと略する場合がある）、Ｎ，Ｎ’−ジニトロソペンタメチレンヒドラジド等の有機発泡剤や、無機発泡剤類を用いることができる。その中でも、ＯＢＳＨは、発泡分解温度が低く、１７０〜２００℃で安定した発泡倍率が得られることから含有することがより好ましい。
【００１７】
本発明の発泡ゴムローラの加工法は、各種加工方法が採用可能であるが、押出し機を用いてゴム組成物を押出すと同時に、連続的に該芯金を押出し機のクロスヘッドダイを通過させて、芯金の外周上にゴム組成物を配置せしめローラ形状にした後、発泡加硫工程を経て製造されるため、低コストの観点からより好ましい。また、発泡加硫方法は、特に限定するものではないが、連続式の熱風炉を用いてなされることが好ましい。連続式の熱風炉は、押出し機と連結して生産することが可能であり、金型等を用いて生産する場合に比べて装置及び金型コスト上有利になる。
【００１８】
なお、本発明の発泡ゴムローラは、さらなる表面平滑性の向上や抵抗調整や保護を目的として発泡ゴム層の外周上に１層以上の機能層を設けてもかまわなく、例えば、発泡ゴム層の外周面に抵抗調整層として、ゴムや樹脂等によるチューブ層、塗装による導電層等を形成しても差し支えない。
【実施例】
【００１９】
次に、本発明を実施例にもとづいて詳しく説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
【００２０】
実施例及び比較例に用いたゴム組成物の配合内容及び芯金へのゴム層の焼きつきの評価結果を表１に示す、また、実施例及び比較例のゴムローラの製造方法と芯金へのゴム層の焼きつきの評価は下記の通り実施した。なお、表１中の配合量の単位は質量部である。
【００２１】
表１に記載の配合からなる各材料を密閉型混練機及びロール機を用いて混練を行いゴム組成物を得た。
【００２２】
また、芯金はＳＵＳ材で直径６ｍｍ、長さ２４０ｍｍ、外周面を膜厚２〜１０μｍの電解ニッケルメッキ皮膜を形成したものを用い、両端から１０ｍｍを除く芯金外周面にホットメルト接着剤を塗布し、上記ゴム組成物及び接着剤塗布無電解ニッケルメッキ芯金を用い、押出し機を用いて該ゴム組成物を押出すと同時に、連続的に該接着剤塗布無電解ニッケルメッキ芯金を押出し機のクロスヘッドダイを通過させて、無電解ニッケルメッキ芯金の外周上に厚み１５〜２０ｍｍのゴム組成物を配置せしめローラ形状にした後、各所定の発泡加硫工程の温度で２０分間熱風炉に投入して発泡加硫を行い芯金上に厚み２０〜３０ｍｍの発泡ゴム層を形成した。
【００２３】
更に、このローラを回転させながら芯金の両端部から１０ｍｍの位置でゴム層の表面から芯金表面までカッター刃を入れた後、芯金両端部上のゴム層を切り取った。このゴム層を切り取った部分のニッケルメッキ芯金を観察し、ゴム層の焼きつき及びゴム層の付着が全くないものを○、ゴム層の焼きつきはないがゴムがやや固着しているもの（容易に取り除けるもの）を△とし、芯金へゴム層が焼きつき取り除くことが困難なものを×評価とした。
【００２４】
また、１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０については、発泡圧測定機能付き加硫試験機ＭＤＲ−２００Ｐ（アルファーテクノロジーズ社製）を用いＪＩＳ−Ｋ６３００に準じ、１４０℃、３０分間測定した。発泡倍率は、発泡加硫前のゴム密度÷発泡加硫後のゴム密度で算術した。なお、密度測定はＪＩＳ  Ｋ６２６８に準じて測定した。
【００２５】
なお、実施例及び比較例に用いた資材は以下の通りである。
【００２６】
エチレン−プロピレン−非共役ジエン共重合ゴム［ＥＰＤＭ；商品名  ＥＰＴ４０７０  三井化学（株）製］
酸化亜鉛［商品名  亜鉛華２種  白水テック（株）製］
ステアリン酸［商品名  ステアリン酸Ｓ  花王（株）製］
ＦＴ級カーボンブラック［商品名  旭＃１５  旭カーボン（株）製］
導電性カーボンブラック［商品名  ケッチェンブラック６００ＪＤ  ケッチェンブラックインターナショナル（株）製］
パラフィンオイル［商品名  ダイアナプロセスオイルＰＷ−３８０  出光興産（株）製］
加硫促進剤テトラメチルチウラムジスルフィド（ＴＭＴＤ）［商品名  ノクセラーＴＴ  大内振興化学工業（株）製］
加硫促進剤ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）［商品名  ノクセラーＴＲＡ  大内振興化学工業（株）製］
加硫祖促進剤テトラエチルチウラムジスルフィド（ＴＥＴＤ）［商品名  ノクセラーＴＥＴ  大内振興化学工業（株）製］
加硫祖促進剤ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛（ＺＤＢＣ）［商品名  ノクセラーＢＺ  大内振興化学工業（株）製］
硫黄［商品名  サルファックスＰＭＣ  鶴見化学工業（株）製］
発泡剤ｐ、ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド（ＯＢＳＨ）［商品名  ネオセルボン１０００Ｓ  永和化成工業（株）製］
発泡剤アゾジカルボンアミド（ＡＤＣＡ）［商品名  ビニホールＡＣ＃ＬＱ  永和化成工業（株）製］
尿素系発泡助剤［商品名  セルペースト１０１  永和化成工業（株）製］
ホットメルト接着剤［商品名  スリーボンド３３１５Ｅ  スリーボンド（株社製］
【００２７】
このように得られた実施例１〜７の発泡ゴムローラは、該加硫発泡工程の温度が１７０〜２００℃あり、かつ、該ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が１．０〜３．５分であることにより、無電解ニッケルメッキ皮膜上で該ゴム組成物が発泡加硫工程を経て発泡ゴム層を形成してもニッケルメッキ芯金へのゴム層の焼きつきが生じることはなく、製造が容易であった。
【００２８】
一方、発泡加硫工程の温度が２１０℃で形成した比較例１、３の発泡ゴムローラは、無電解ニッケルメッキ芯金へのゴムの焼きつきが生じた。また、発泡加硫工程の温度が１６５℃で形成した比較例２の発泡ゴムローラは、発泡加硫工程の温度が低いため、発泡が不十分で発泡倍率が低くなり、硬い発泡ゴムローラとなってしまい良品の発泡ゴムローラを得られなかった。ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が４．２である比較例４の発泡ゴムローラも、無電解ニッケルメッキ芯金へのゴムの焼きつきを生じた。ゴム組成物の１４０℃でのレオメータの加硫速度ｔｃ１０が０．９である比較例５は、押出し機でスコーチを起こしてしまい発泡ゴムローラが製造できなかった。
【００２９】
比較例１、３、４では、無電解ニッケルメッキ皮膜上に焼きついたゴムを除去することが非常に難しく、製造がより困難なものとなった。
【００３０】
【表１】
2006163270.tif 000002