(57)【要約】【課題】  ワイピングシートに洗浄液を均一に含浸できると共に、ワイピングシートを無駄に消費することのないワイピング装置を提供することを課題とする。【解決手段】  ワークＷに機能液滴を吐出する機能液滴吐出ヘッド３のノズル面４５を払拭するためのワイピングシート１１１と、ワイピングシート１１１に洗浄液を噴霧する噴霧ヘッド２０２と、汚染領域を払拭位置から先方に送り出すと共に、洗浄液が噴霧された噴霧領域Ａを払拭位置に臨ませるように、ワイピングシート１１１を送るシート送り手段１１５と、ワイピングシート１１１と噴霧ヘッド２０２との間に配設され、ワイピングシート１１１に対し噴霧領域Ａを画定するマスキング手段２０９と、を備えたものである。【選択図】  図１０
2006239620.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに機能液滴を吐出する機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するためのワイピングシートと、
前記払拭に先立ち前記ワイピングシートに洗浄液を噴霧する噴霧ヘッドと、
前記払拭により汚染された汚染領域を払拭位置から先方に送り出すと共に、前記洗浄液が噴霧された噴霧領域を前記払拭位置に臨ませるように、前記ワイピングシートを送るシート送り手段と、
前記ワイピングシートと前記噴霧ヘッドとの間に配設され、前記ワイピングシートに対し前記噴霧領域を画定するマスキング手段と、を備えたことを特徴とするワイピング装置。
【請求項２】
前記マスキング手段は、前記噴霧領域を画定するための方形開口部を形成した遮蔽プレートと、前記方形開口部にスライド自在に臨み前記方形開口部の開口面積を調節するシャッタプレートと、を有していることを特徴とする請求項１に記載のワイピング装置。
【請求項３】
前記方形開口部は、前記ワイピングシートのシート幅方向を長辺方向とし延在方向を短辺方向とする長方形に形成され、
前記シャッタプレートは、前記長辺方向に平行な姿勢で前記方形開口部にスライド自在に臨む短辺長調整プレートを有していることを特徴とする請求項２に記載のワイピング装置。
【請求項４】
前記方形開口部は、前記ワイピングシートのシート幅方向を長辺方向とし延在方向を短辺方向とする長方形に形成され、
前記シャッタプレートは、前記短辺方向に平行な姿勢で前記方形開口部にスライド自在に臨む一対の長辺長調整プレートを有していることを特徴とする請求項２に記載のワイピング装置。
【請求項５】
前記マスキング手段は、前記噴霧領域を画定するための方形開口部を形成した遮蔽プレートと、前記遮蔽プレートを噴霧軸線に対して垂直に配置した状態から傾動させる傾動機構と、を有していることを特徴とする請求項１に記載のワイピング装置。
【請求項６】
前記マスキング手段は、前記噴霧領域を画定するための方形開口領域に、複数のパンチング孔を形成したパンチングプレートで構成されていることを特徴とする請求項１に記載のワイピング装置。
【請求項７】
前記マスキング手段の直下に、前記マスキング手段から液だれした前記洗浄液を受ける受液部を、更に備えたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のワイピング装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載のワイピング装置と、
前記機能液滴吐出ヘッドを有し、ワークに対し前記機能液滴吐出ヘッドを相対移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドを駆動して前記ワークに描画を行う描画手段と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項９】
請求項８に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワークに前記機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワークに前記機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１０に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークに機能液滴を吐出する機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピング装置およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液滴吐出装置に設けられ、インクジェットヘッドである機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭（ワイピング）するワイピング装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。このワイピング装置は、機能液滴吐出ヘッドを払拭するワイピングシートと、ワイピングシートを繰り出す繰り出しリールと、ワイピングシートを巻き取る巻取りリールと、ワイピングシートに洗浄液を噴霧する噴霧ヘッドとを備えている。この場合、ワイピング装置は、噴霧ヘッドにより予めワイピングシートに機能液の溶媒等で構成した洗浄液を楕円状に噴霧し、洗浄液を楕円形に含浸させたワイピングシートでノズル面を払拭し機能液滴吐出ヘッドのワイピングを行うようにしている。
【特許文献１】特開２００４−１６７４８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、ノズル面を良好に払拭するためには、ワイピングシートに洗浄液を均一に吹き付けて、均一に含浸させることが必要となる。また、含浸させる洗浄液において、単位面積あたり洗浄液量が多いと、ノズル口に洗浄液が深く浸透し或いはノズル面に洗浄液が残るなどの不具合が生じ、逆に洗浄液量が少ないと払拭不良となる。このため、単位面積あたり洗浄液量が適切になるように調整する必要がある。
しかし、上記従来のワイピング装置では、任意の１の払拭動作で汚れた部分を次の払拭動作の前にシート送りするようにしているが、その送り量は、ワイピングシートを有効に利用すべく、汚れ部分が重ならない程度としている。このため、前後の払拭動作のための噴霧領域が相互に重なり、ワイピングシートに洗浄液を均一に含浸させることができない問題があった。もっとも、シート送り量を多くすれば、噴霧領域が重なることはないが、このようにすると、ワイピングシートを無駄に消費することになる。
【０００４】
本発明は、ワイピングシートに洗浄液を均一に含浸させることができると共に、ワイピングシートを無駄に消費することのないワイピング装置およびこれを備えた液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のワイピング装置は、ワークに機能液滴を吐出する機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するためのワイピングシートと、払拭に先立ちワイピングシートに洗浄液を噴霧する噴霧ヘッドと、払拭により汚染された汚染領域を払拭位置から先方に送り出すと共に、洗浄液が噴霧された噴霧領域を払拭位置に臨ませるように、ワイピングシートを送るシート送り手段と、ワイピングシートと噴霧ヘッドとの間に配設され、ワイピングシートに対し噴霧領域を画定するマスキング手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、ワイピングシートに対し、噴霧ヘッドにより洗浄液を噴霧すると、マスキング手段によりワイピングシート上における洗浄液の噴霧領域が画定され、所望の噴霧領域に洗浄液を均一に含浸させることができる。このため、ワイピングシート上における払拭ための領域（汚染領域）に対し、噴霧領域が最小限となるように調節することができる。したがって、任意の１の払拭動作と次の払拭動作との間で、含浸した洗浄液の均一性を損なうことなく、噴霧領域を近づけることができ、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を適切に払拭することができると共に、ワイピングシートの無駄な消費を防止することができる。
【０００７】
この場合、マスキング手段は、噴霧領域を画定するための方形開口部を形成した遮蔽プレートと、方形開口部にスライド自在に臨み方形開口部の開口面積を調節するシャッタプレートと、を有していることが好ましい。
【０００８】
この構成によれば、一回の払拭動作により払拭される機能液滴吐出ヘッドの個数等に基づく払拭面積により、方形開口部の開口面積を調整することができる。すなわち、機能液滴吐出ヘッドの構成に応じて、最適な噴霧領域を設定するができる。
【０００９】
この場合、方形開口部は、ワイピングシートのシート幅方向を長辺方向とし延在方向を短辺方向とする長方形に形成され、シャッタプレートは、長辺方向に平行な姿勢で方形開口部にスライド自在に臨む短辺長調整プレートを有していることが、好ましい。
【００１０】
この構成によれば、ワイピングシート上における噴霧領域の長さ（ワイピングシートの延在方向の長さ）を簡単に調整することができる。なお、短辺長調整プレートのスライド機構は、自動および手動のいずれであってもよい。
【００１１】
同様に、方形開口部は、ワイピングシートのシート幅方向を長辺方向とし延在方向を短辺方向とする長方形に形成され、シャッタプレートは、短辺方向に平行な姿勢で方形開口部にスライド自在に臨む一対の長辺長調整プレートを有していることが、好ましい。
【００１２】
この構成によれば、ワイピングシート上における噴霧領域の幅（ワイピングシートの幅方向の長さ）を簡単に調整することができる。なお、長辺長調整プレートのスライド機構は、自動および手動のいずれであってもよい。
【００１３】
また、マスキング手段は、噴霧領域を画定するための方形開口部を形成した遮蔽プレートと、遮蔽プレートを噴霧軸線に対して垂直に配置した状態から傾動させる傾動機構と、を有していることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、傾動機構により、遮蔽プレートを噴霧軸線に対して垂直にした状態から傾動させることで、噴霧軸線に対する方形開口部の開口面積を実質的に調整することができる。すなわち、極めて簡単な構造で、方形開口部の開口面積を調整することができる。なお、ワイピングシートのシート幅方向に平行な中心軸により遮蔽プレートを傾動させれば、噴霧領域の長さ（ワイピングシートの延在方向の長さ）を調整することができ、延在方向に平行な中心軸により遮蔽プレートを傾動させれば、噴霧領域の幅（ワイピングシートの幅方向の長さ）を調整することができる。また、遮蔽プレートの縦または横の中間位置、或いは端部位置に設けるようにする。
【００１５】
同様に、マスキング手段は、噴霧領域を画定するための方形開口領域に、複数のパンチング孔を形成したパンチングプレートで構成されていることが、好ましい。
【００１６】
この構成によれば、方形開口領域により、噴霧領域を画定することができるだけでなく、複数のパンチング孔により、噴霧領域における洗浄液の単位面積当りの量（含浸密度）も調整することができる。
【００１７】
これらの場合、マスキング手段の直下に、マスキング手段から液だれした洗浄液を受ける受液部を、更に備えることが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、マスキング手段に直接吹き付けられた洗浄液を受液部に受けて回収するようにしているため、洗浄液が他の構成部品に付着することがなく、且つ回収した洗浄液を再利用することができる。
【００１９】
本発明の液滴吐出装置は、上記したワイピング装置と、機能液滴吐出ヘッドを有し、ワークに対し機能液滴吐出ヘッドを相対移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを駆動してワークに描画を行う描画手段と、を備えたことを特徴とする。
【００２０】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの吐出性能を良好な状態に維持することができるため、ワークに対する描画品質を維持することができる。
【００２１】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワークに機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２２】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワークに機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２３】
これらの構成によれば、高い描画品質を維持可能な液滴吐出装置を用いるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２４】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２５】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、添付の図面を参照して、本発明のワイピング装置を適用した液滴吐出装置について説明する。液滴吐出装置は、いわゆるフラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、インクジェットヘッドである機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法（インクジェット法）により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。
【００２７】
図１および図２に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機能液滴吐出ヘッド３を有し機台２上に十字状に載置された描画装置４と、機能液滴吐出ヘッド３に接続した機能液供給装置５と、描画装置４に添設するように機台２上に載置したヘッド保守装置６と、を備えている。また、液滴吐出装置１には、制御装置が設けられており（図示省略）、液滴吐出装置１では、機能液供給装置５により描画装置４が機能液の供給を受けながら、制御装置による制御に基づいて、描画装置４がワークＷに対する描画動作を行うと共に、機能液滴吐出ヘッド３に対して、ヘッド保守装置６が適宜保守動作（メンテナンス）を行うようにしている。
【００２８】
描画装置４は、ワークＷを主走査（Ｘ軸方向に移動）させるＸ軸テーブル７およびＸ軸テーブル７に直交するＹ軸テーブル８から成るＸ・Ｙ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル８に移動自在に取り付けられたメインキャリッジ１２と、メインキャリッジ１２に垂設され、機能液滴吐出ヘッド３を搭載したヘッドユニット１３と、を有している。
【００２９】
Ｘ軸テーブル７は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するＸ軸モータ（図示省略）駆動のＸ軸スライダ１４を有し、これに吸着テーブル１５およびθテーブル１６等から成るセットテーブル１７を移動自在に搭載して構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル８は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するＹ軸モータ（図示省略）駆動のＹ軸スライダ１８を有し、これにヘッドユニット１３を支持する上記のメインキャリッジ１２をＹ軸方向に移動自在に搭載して構成されている。なお、Ｘ軸テーブル７は、Ｘ軸方向に平行に配設されており、機台２上に直接支持されている。一方、Ｙ軸テーブル８は、機台２上に立設した左右の支柱２１に支持されており、Ｘ軸テーブル７およびヘッド保守装置６を跨ぐようにＹ軸方向に延在している（図１および図２参照）。
【００３０】
液滴吐出装置１では、Ｘ軸テーブル７およびＹ軸テーブル８が交わるエリアがワークＷの描画を行う描画エリア２２、Ｙ軸テーブル８およびヘッド保守装置６が交わるエリアが機能液滴吐出ヘッド３に対する機能回復処理を行う保守エリア２３となっており、ワークＷに描画を行う場合には描画エリア２２に、機能回復処理を行う場合には保守エリア２３に、それぞれヘッドユニット１３を臨ませるようになっている。
【００３１】
メインキャリッジ１２は、図２に示すように、Ｙ軸テーブル８のＹ軸スライダ１８に下側から固定される外観「Ｉ」形の吊設部材２４と、吊設部材２４の下面に取り付けられ、ヘッドユニット１３のθ方向に対する位置補正を行うためのθ回転機構２５と、θ回転機構２５の下方に吊設するよう取り付けたキャリッジ本体２６（キャリッジ）と、で構成されている。キャリッジ本体２６は、位置決め機構を有する枠状フレーム（図示省略）を有し、これに後述の支持フレーム２７（図３参照）を介してヘッドユニット１３を位置決め状態で固定している。
【００３２】
支持フレーム２７は、略方形の枠状に形成されており、図３に示すようにヘッドユニット１３、バルブユニット２８、タンクユニット３１の順でこれらを位置決め状態で搭載している。なお、支持フレーム２７には、一対のハンドル（図示省略）が取り付けられており、この一対のハンドルを手持ち部位として、支持フレーム２７をメインキャリッジ１２に運び込めるようになっている。
【００３３】
図３に示すように、ヘッドユニット１３は、１個（少数）の機能液滴吐出ヘッド３と、ヘッド保持部材（図示省略）を介して機能液滴吐出ヘッド３を搭載するヘッドプレート３２と、を備えている。ヘッドプレート３２は、支持フレーム２７に着脱自在に支持されており、ヘッドユニット１３は、支持フレーム２７を介してキャリッジ本体２６に位置決めして搭載される。なお、支持フレーム２７には、ヘッドユニット１３に並んで、バルブユニット２８およびタンクユニット３１が支持されている。
【００３４】
図３に示すように、機能液供給装置５は、支持フレーム２７に搭載されており、機能液を貯留する機能液タンク３３を有するタンクユニット３１と、機能液タンク３３および機能液滴吐出ヘッド３を接続する機能液供給チューブ３４と、機能液供給チューブ３４を機能液タンク３３および機能液滴吐出ヘッド３に接続するための接続具３５と、複数の機能液供給チューブ３４に介設した圧力調整弁３６を有するバルブユニット２８と、を有している。機能液タンク３３から圧力調整弁３６に流入した機能液は、圧力調整弁３６により、所望の作動圧まで減圧されて機能液滴吐出ヘッド３に供給される。
【００３５】
図４に示すように、機能液滴吐出ヘッド３は、いわゆる２連のインクジェットヘッドであり、２連の接続針４１を有する機能液導入部４２と、機能液導入部４２に連なる２連のヘッド基板４３と、ヘッド基板４３の下方に連なり機能液で満たされるヘッド内流路が内部に形成されたヘッド本体４４と、を備えている。ヘッド本体４４の下面（図示では上面）には、ノズル面４５を有するノズルプレート４６が設けられている。ノズルプレート４６のノズル面４５には、ノズルピッチを相互に半ピッチずらした多数の吐出ノズル４７から成る２列のノズル列４８，４８が形成されている。
【００３６】
一方、図１に示すように、ヘッド保守装置６は、機台２上に載置され、Ｘ軸方向に延在する移動テーブル５１と、移動テーブル５１上に載置した吸引装置５２と、吸引装置５２に並んで移動テーブル５１上に配設されたワイピング装置５３と、を備えている。移動テーブル５１は、Ｘ軸方向に移動可能に構成されており、機能液滴吐出ヘッド３の保守時には、吸引装置５２およびワイピング装置５３を適宜保守エリア２３に移動させる。なお、上記の各装置に加え、機能液滴吐出ヘッド３から吐出された機能液滴の飛行状態を検査する吐出検査装置や、機能液滴吐出ヘッド３から吐出された機能液滴の重量を測定する重量測定装置等を、ヘッド保守装置６に加えるようにしてもよい。
【００３７】
吸引装置５２では、キャップユニット５４を介して機能液滴吐出ヘッド３に吸引力を作用させ、機能液滴吐出ヘッド３から機能液が強制的に排出される。この機能液の吸引は、機能液滴吐出ヘッド３の目詰まりを解消／防止するために行われる他、機能液滴吐出ヘッド３のヘッド交換場合などに、機能液タンク３３から機能液滴吐出ヘッド３に至る機能液流路に機能液を充填するために行われる。また、キャップユニット５４は、機能液滴吐出ヘッド３の捨て吐出（予備吐出）により吐出された機能液を受けるフラッシングボックスを兼ねると共に、液滴吐出装置１の非稼動時に、機能液滴吐出ヘッド３を保管するためにも用いられる。
【００３８】
次に、ワイピング装置について説明する。ワイピング装置５３は、機能液滴吐出ヘッド３の吸引（クリーニング）等により機能液が付着して汚れた各機能液滴吐出ヘッド３のノズル面４５を、ロール状のワイピングシート１１１を繰り出しながら、これを用いて拭き取る（ワイピングする）ものである。
【００３９】
図５ないし図８に示すように、ワイピング装置５３は、略方形の厚板で構成された装置ベース１１２と、装置ベース１１２上に立設され、主構成装置を支持するテーブル様の装置フレーム１１３と、装置フレーム１１３と左右（Ｙ軸方向）に並んで装置ベース１１２上に立設され、後述する洗浄液噴霧ユニット１１８を支持するユニットスタンド１１４と、を備えている。装置フレーム１１３には、その内側に位置して、ワイピングシート１１１を供給するシート供給ユニット１１５が支持され、その上側に位置してワイピングシート１１１を介して機能液滴吐出ヘッド３のノズル面４５を払拭する拭取りユニット１１６が支持されている。また、主構成装置であるこれらのユニット１１５、１１６は、箱状のカバーボックス１１７で覆われている。
【００４０】
装置フレーム１１３は、装置ベース１１２上に直接固定され、シート供給ユニット１１５を支持する下部ワイピングフレーム１２１と、下部ワイピングフレーム１２１上に載置され、拭取りユニット１１６を支持する上部ワイピングフレーム１２２と、で構成されている。なお、説明の便宜のため、ここでは、Ｘ軸方向を前後方向、Ｙ軸方向を左右方向としている。
【００４１】
図８に示すように、シート供給ユニット１１５は、ロール状のワイピングシート１１１を装填し、ワイピングシート１１１を繰り出す図示右側の繰出しリール１３１と、繰り出されたワイピングシート１１１を巻き取る図示左側の巻取りリール１３２と、巻取りリール１３２を巻取り回転させる巻取りモータ１３３と、巻取りモータ１３３の動力を巻取りリール１３２に伝達する動力伝達機構（図示省略）と、ワイピングシート１１１の巻取り速度（送り速度）を検出する速度検出ローラ１３５と、繰出しリール１３１からのワイピングシート１１１を速度検出ローラ１３５に送る第１中間ローラ１３６と、速度検出ローラ１３５からのワイピングシート１１１を拭取りユニット１１６に送る第２中間ローラ１３７と、を有している。そして、繰出しリール１３１の軸端には、巻取りモータ１３３に抗するように制動回転するトルクリミッタ（図示省略）が設けられており、繰出されたワイピングシート１１１に一定の張力を付与できるようになっている。
【００４２】
第１中間ローラ１３６は、ワイピングシート１１１の送り経路が速度検出ローラ１３５の位置で略直角になるように、速度検出ローラ１３５の略直下に配設され、第２中間ローラ１３７は、拭取りユニット１１６に向かうワイピングシート１１１の送り経路が鉛直方向となるように、速度検出ローラ１３５の斜め上側に配設されている。すなわち、第１中間ローラ１３６は、速度検出ローラ１３５に対するワイピングシート１１１のスリップを抑制（転接面積大）するように、また第２中間ローラ１３７は、噴霧ヘッド２０２に対し、ワイピングシート１１１が鉛直に対峙するように、ワイピングシート１１１の送り経路を変更している。
【００４３】
拭取りユニット１１６（押圧機構）は、機能液滴吐出ヘッド３のノズル面４５にワイピングシート１１１を当接させるゴム製の拭取りローラ１５１と、拭取りローラ１５１を支持するローラ支持フレーム１５２と、上部ワイピングフレーム１２２に固定され、ローラ支持フレーム１５２を介して拭取りローラ１５１を昇降させるローラ昇降機構１５３と、ローラ支持フレーム１５２およびローラ昇降機構１５３の間に介設され、ノズル面５８に対する拭取りローラ１５１の拭取り圧力（押圧力）を一定に維持する緩衝機構１５４と、を備えている。なお、図中の符号２０４は、洗浄液噴霧ユニット１１８のシート受け部材（後述する）である。
【００４４】
ローラ支持フレーム１５２は、拭取りローラ１５１を両持ちで、回転自在に軸支する前後一対の軸受スタンド１６１と、前後一対の軸受スタンド１６１を支持する水平フレーム１６３と、を有している。軸受スタンド１６１は、その上端面から拭取りローラ１５１の上端が僅かに突出するよう拭取りローラ１５１を支持しており、ワイピング動作時に軸受スタンド１６１が機能液滴吐出ヘッド３のノズル面４５を損傷しないように配慮されている。
【００４５】
水平フレーム１６３は、ワイピングシート１１１のシート送り経路を逃げるように、長辺部分の一部を切り欠いた略方形の厚板状に形成され、両端部に設けた一対のリニアブシュ１６４，１６４を介して、後述するローラ昇降プレート１７１の一対のガイドシャフト１７５，１７５に対し昇降自在にガイドされている。この場合、ローラ支持フレーム１５２は、緩衝機構１５４に支持されており、緩衝機構１５４による衝撃の吸収に際し、一対のリニアブシュ１６４，１６４が拭取りローラ１５１およびローラ支持フレーム１５２の微小な上下動を許容する。
【００４６】
ローラ昇降機構１５３は、緩衝機構１５４を介してローラ支持フレーム１５２を支持するローラ昇降プレート１７１と、ローラ昇降プレート１７１を支持すると共に、これを昇降させるローラ昇降シリンダ１７２と、ローラ昇降プレート１７１の昇降を案内する一対のローラ昇降ガイド１７３と、ローラ昇降プレート１７１の昇降端位置を規制する昇降位置規制機構１７４と、を有している。
【００４７】
ローラ昇降シリンダ１７２は、上記の上部ワイピングフレーム１２２上に上向きに固定され、そのピストンロッド１７２ａの先端部は、ローラ昇降プレート１７１に固定されている。ローラ昇降ガイド１７３は、ローラ昇降シリンダ１７２を挟むように、上部ワイピングフレーム１２２に立設された一対のガイドレール１７８と、ローラ昇降プレート１７１に固定され、各ガイドレール１７８にスライド自在に係合する一対のリニアガイド１７９と、で構成されている。これにより、ローラ昇降シリンダ１７２が駆動すると、一対のガイドレール１７８に案内されて、ローラ昇降プレート１７１が水平姿勢を維持しつつ昇降する。
【００４８】
昇降位置規制機構１７４は、ローラ昇降プレート１７１を位置規制するための側面視略「Ｌ」字状の一対の規制板１８１と、一対の規制板１８１を介して、ローラ昇降プレート１７１の上昇端位置を規制する一対の上昇端規制部材１８２と、一対の規制板１８１を介して、ローラ昇降プレート１７１に下側から当接（度当たり）して、下降端位置を規制する一対の下降端規制部材１８３と、を有している。
【００４９】
規制板１８１は、ローラ昇降プレート１７１の両端部に垂設されており、その下部には、外側に水平に延びる規制部１８１ａが形成されている。各上昇端規制部材１８２は、規制板１８１の規制部１８１ａに臨むように、上部ワイピングフレーム１２２の立設フレーム１２８に固定されたマイクロヘッドで構成されており、規制部１８１ａの上端面にスピンドル１８２ａが度当たりして、ローラ昇降プレート１７１の上昇端位置、すなわち拭取りローラ１５１の上昇端位置（接触端位置）を規制する。上部ワイピングフレーム１２２に設けた各下降端規制部材１８３も、規制部１８１ａの下端面に度当たりすることにより、ローラ昇降プレート１７１の下降端位置を規制する。なお、拭取りローラ１５１の上昇端位置は、機能液滴吐出ヘッド３のノズル面５８の高さ位置を基準にして（ノズル面よりも僅かに高い位置に）予め設定されており、マイクロヘッドにより、拭取りローラ１５１の上昇端が所定の高さとなるように調整される。
【００５０】
ローラ昇降シリンダ１７２を駆動し、ピストンロッド１７２ａを往動させると、ローラ昇降ガイド１７３に案内されながら、ローラ昇降プレート１７１が上昇してゆく。これにより、緩衝機構１５４およびローラ支持フレーム１５２を介して、拭取りローラ１５１が機能液滴吐出ヘッド３のノズル面５８に向かって上昇する。そして、ローラ昇降プレート１７１が上昇端位置に達すると、上昇端規制部材１８２によりローラ昇降プレート１７１の移動が規制され、拭取りローラ１５１の上昇が停止する。同様に、ピストンロッド１７２ａを復動させると、ローラ昇降プレート１７１は、下降端規制部材１８３に規制されるまでローラ昇降ガイド１７３に案内されながら下降してゆき、これに伴って拭取りローラ１５１が下降する。
【００５１】
緩衝機構１５４は、サスペンションシリンダ１９１と、ピストンロッド１９１ａと、から成るエアーサスペンションで構成されている。図９に示すように、サスペンションシリンダ１９１は、ローラ昇降プレート１７１の下面に取り付けられ、その先端部が水平フレーム１６３の下面に連結されている。機能液滴吐出ヘッド３のワイピング動作において、拭取りローラ１５１に加わる微少な衝撃は、ローラ支持フレーム１５２を介して緩衝機構１５４に伝達し、この緩衝機構１５４により吸収される。
【００５２】
図６および図８に示すように、洗浄液噴霧ユニット１１８は、洗浄液を供給する洗浄液タンク２０１と、ワイピングシート１１１に洗浄液タンク２０１からの洗浄液を供給する単一の噴霧ヘッド２０２と、噴霧ヘッド２０２および洗浄液タンク２０１を接続する洗浄液供給チューブ２０３と、ワイピングシート１１１の送りを鉛直方向にガイドすると共に、噴霧ヘッド２０２とワイピングシート１１１との距離を一定に保つシート受け部材２０４と、噴霧ヘッド２０２を支持するヘッドキャリッジ２０５と、ヘッドキャリッジ２０５を介して、噴霧ヘッド２０２をワイピングシート１１１の幅方向に水平に移動させるヘッド移動機構２０６と、を備えている。また、詳細は後述するが、ワイピングシート１１１と噴霧ヘッド２０２との間には、ワイピングシート１１１への洗浄液の噴霧領域Ａを画定するマスキング機構２０９が、介設されている（図１０参照）。
【００５３】
図８に示すように、ワイピングシート１１１は、繰出しリール１３１から、第１中間ローラ１３６、速度検出ローラ１３５を経て、第２中間ローラ１３７に送られる。そして、第２中間ローラ１３７から鉛直方向上方に送られ、拭取りローラ１５１を周回した後、第３中間ローラ１８５を経て、巻取りリール１３２に巻き取られる。これに対し、洗浄液噴霧ユニット１１８は、第２中間ローラ１３７から鉛直に送られるワイピングシート１１１に噴霧ヘッド２０２を臨ませ、これに洗浄液を散布する。
【００５４】
洗浄液タンク２０１には、図外のエアー供給設備から一定圧の圧縮エアーが導入され、タンク内の洗浄液が加圧送液される。なお、洗浄液は、機能液を溶解するもの、例えば機能液の溶剤等が用いられる。洗浄液タンク２０１に接続した洗浄液供給チューブ２０３には、流量調整弁２０７が介設されており、噴霧ヘッド２０２に供給する洗浄液量をコントロール可能に構成されている。但し、実施形態のものでは、噴霧ヘッド２０２が適切に機能する最低限の洗浄液量に調整されている。
【００５５】
噴霧ヘッド２０２は、先端側に組み込んだ噴霧ノズル２１１と、これを保持するノズルホルダ２１２と、尾端側に設けた継手２１３と、で構成されており、この継手２１３に洗浄液供給チューブ２０３が接続されている。そして、噴霧ヘッド２０２に洗浄液が圧送されることにより、ワイピングシート１１１には微細な洗浄液滴が噴霧・塗着される。噴霧ヘッド２０２に適用する噴霧ノズルの噴霧形態は、実情に応じ任意に設定可能であるが、上方に送られるワイピングシート１１１に効率よく洗浄液を散布するため、本実施形態では、縦長の長円形（楕円形）に洗浄液を噴霧する噴霧ノズル２１１を用いている。但し、上記のマスキング機構２０９により、ワイピングシート１１１に実際に噴霧される洗浄液は横長長方形の領域（噴霧領域Ａ）となる（詳細は後述する。）。
【００５６】
ヘッドキャリッジ２０５は、ヘッド移動機構２０６のスライダ２５１（後述する）に固定されたベース部２３１と、ベース部２３１からＹ軸方向の拭取りユニット１１６側に「Ｌ」字状に延在するアーム部２３２と、アーム部２３２の先端に固定され、噴霧ヘッド２０２を水平に支持するヘッド支持部２３３と、を有している。ヘッド支持部２３３は、噴霧ヘッド２０２を水平に支持しており、噴霧ヘッド２０２は、鉛直方向に送られるワイピングシート１１１に対し、水平方向から洗浄液を噴霧する（図８参照）。ベース部２３１は、アーム部２３２を支持する上ベース部２３４と、上ベース部２３４を支持する下ベース部２３５と、から成り、上ベース部２３４と下ベース部２３５との間には、Ｙ軸方向における噴霧ヘッド２０２の前後位置、すなわち、ワイピングシート１１１に対する噴霧ヘッド２０２の離間距離を調整する距離調整機構２４１が組み込まれている。
【００５７】
図６に示すように、ヘッド移動機構２０６は、ヘッドキャリッジ２０５のベース部２３１が固定され、ヘッドキャリッジ２０５をＸ軸方向（すなわち、ワイピングシート１１１の幅方向）にスライド自在に支持するスライダ２５１と、スライダ２５１を移動させるためのボールねじ（図示省略）と、スライダ２５１の移動をガイドするスライドガイド（図示省略）と、ボールねじを正逆回転させる移動モータ（図示省略）と、を備えている。移動モータが駆動すると、ボールねじが正逆回転し、スライダ２５１を介してヘッドキャリッジ２０５（噴霧ヘッド２０２）がＸ軸方向に移動する。
【００５８】
このように、本実施形態の洗浄液噴霧ユニット１１８では、噴霧ヘッド２０２をワイピングシート１１１の幅方向に移動（走査）させながら、ワイピングシート１１１上に洗浄液を噴霧するようにし、ワイピングシート１１１の一定の領域（噴霧領域）に洗浄液を均一に塗着・含浸させる。この洗浄液の噴霧は、ワイピングシート１１１の送りを停止した状態で、１回の往動或いは１回の往復動により行う（微小量の噴霧）。そして、噴霧後に、後述するワイピングシート１１１の噴霧領域Ａを拭取りローラ１５１の位置まで送って、機能液滴吐出ヘッド３のノズル面４５を拭取るようになっている。また、拭取り動作は、保守エリア２３に移動してきた機能液滴吐出ヘッド３に対し、移動テーブル５１によりワイピング装置５３全体を移動（拭取りローラ１５１は停止状態）させて行う場合と、保守エリア２３に移動したワイピング装置５３に対し、機能液滴吐出ヘッド３を移動させて行う場合と、がある。
【００５９】
次に、図１０および図１１の模式図を参照して、洗浄液噴霧ユニット１１８廻りの構造について詳細に説明する。両図に示すように、噴霧ヘッド２０２は、その噴霧軸線Ｌが水平になるようにワイピングシート１１１に対峙し、またワイピングシート１１１は、鉛直に張った状態で噴霧ヘッド２０２に対峙している。そして、このワイピングシート１１１と噴霧ヘッド２０２との間にはマスキング機構２０９が介設されている。マスキング機構２０９は、噴霧ヘッド２０２から横長長円形に噴霧される霧状の洗浄液を、部分的に遮蔽して横長長方形に絞り込んで通過させるものであり、洗浄液を部分的に遮蔽する遮蔽部２６１と、遮蔽されて遮蔽部から液垂れした洗浄液を遮蔽部２６１の下側で受ける受液部２６２と、で構成されている。
【００６０】
遮蔽部２６１は、略中央部に噴霧洗浄液が通過する方形開口部２６５を形成した遮蔽プレート２６４と、遮蔽プレート２６４に噴霧ヘッド２０２側から添設したシャッタプレート２６６と、を備えており、シャッタプレート２６６は、方形開口部２６５に上側からスライド自在に臨む縦調整プレート（短辺長調整プレート）２６７と、方形開口部２６５に左右からそれぞれスライド自在に臨む一対の横調整プレート（長辺長調整プレート）２６８，２６８と、で構成されている。遮蔽プレート２６４は、ステンレスや樹脂等から成る長方形の平板で構成されおり、噴霧ヘッド２０２から噴霧される洗浄液の横長長円形の吹付け領域を包含すると共に、吹付け領域の中心位置が方形開口部２６５の中心位置と合致するように配設されている。また、その方形開口部２６５は、噴霧ヘッド２０２から噴霧された洗浄液のうち、ワイピングシート１１１に達する洗浄液の量および噴霧形状の最大を画定する。言い換えれば、方形開口部２６５は、ワイピングシート１１１に付着・含浸される洗浄液の最大となる噴霧領域を画定するようになっている。これに対し、縦調整プレート２６７および一対の横調整プレート２６８，２６８は、それぞれ縦方向および横方向から方形開口部２６５に臨んでその開口面積を調節すると共にワイピングシート１１１への噴霧領域Ａを調節する。
【００６１】
縦調整プレート２６７は、ステンレスや樹脂等で方形に形成した平板であり、その左右両側には上下方向に長い一対の長孔２７１，２７１が形成されている。両長孔２７１，２７１には、遮蔽プレート２６４に螺合する一対の固定ねじ２７２，２７２がそれぞれ挿通している。各固定ねじ２７２は、例えばユリアねじ等で構成され、これを緩めることで、縦調整プレート２６７が一対の固定ねじ２７２，２７２を案内にして、上下方向にスライド自在となり、遮蔽プレート２６４の方形開口部２６５の縦寸法を調節できるようになっている。すなわち、方形開口部２６５の縦寸法を調節することで開口部領域Ｂを画定し、ひいてはワイピングシート１１１への洗浄液の噴霧領域Ａを画定するようになっている。
【００６２】
同様に、左右の各横調整プレート２６８は、ステンレスや樹脂等で正面視方形に形成されており、縦調整プレート２６７とオーバーラップする閉塞板部２７４と、遮蔽プレート２６４に取り付けられる取付け板部２７５とで、断面クランク状に形成されている。閉塞板部２７４は、縦調整プレート２６７に重なるように幾分手前に張り出しており、この閉塞板部２７４が方形開口部２６５に左右から臨むようになっている。取付け板部２７５には、その上下は水平方向に長い一対の長孔２７６，２７６が形成されており、両長孔２７６，２７６には、遮蔽プレート２６４に螺合する一対の固定ねじ２７７，２７７がそれぞれ挿通している。この場合も各固定ねじ２７７は、例えばユリアねじ等で構成され、これを緩めることで、横調整プレート２６８が一対の固定ねじ２７７，２７７を案内にして、左右方向にスライド自在となり、遮蔽プレート２６４の方形開口部２６５の横寸法を調節できるようになっている。すなわち、方形開口部２６５の横寸法を調節することで開口部領域Ｂを画定し、ひいてはワイピングシート１１１への洗浄液の噴霧領域Ａを画定するようになっている。
【００６３】
ところで、実施形態のヘッドユニット１３には、単一の機能液滴吐出ヘッド３が搭載されているが、ワークＷ（大きさ）によっては、複数の機能液滴吐出ヘッド３が搭載可能である。かかる場合、ワイピングシート１１１の拭取り領域（汚染領域）が異なることになり、これに対応してワイピングシート１１１に対する洗浄液の噴霧領域Ａも変更する必要がある。噴霧領域Ｂの縦寸法を調節する場合には、上記の縦調整プレート２６７を操作し、横寸法を調節する場合には、上記の左右の両横調整プレート２６８，２６８を操作する。左右の各横調整プレート２６８は、別個に操作可能に構成されているので、噴霧領域の大きさと位置とを調節可能である。
【００６４】
一方、受液部２６２は、遮蔽プレート２６４の下端に連なると共に手前に傾斜した導液部２７８と、導液部２７８の下端に連なる断面「Ｕ」字状の溝部２７９と、溝部２７９から手前に延在し溝部２７９に向かってわずかに下り勾配となるパン部２８０と、で一体に形成されている。溝部２７９の溝底には、ドレン抜きの排水口２８１が形成されており、図示しないが、この排水口２８１には回収した洗浄液を装置外に導く排水チューブが接続されている。なお、回収した洗浄液は、処理した後再利用することが好ましい。
【００６５】
このような構成では、噴霧ヘッド２０２から噴霧された洗浄液を方形開口部２６５の範囲内で調節し、ワイピングシート１１１に吹き付けることができる。このため、ワイピングシート１１１の噴霧領域Ａには、均一且つ適量の洗浄液を含浸させることができる。また、噴霧領域Ａ同士を近づけてもこれらが重なることがなくなく、均一且つ適量の洗浄液を含浸させたワイピングシート１１１により、機能液滴吐出ヘッド３のノズル面４５を払拭することができる。したがって、ノズル面４５が適切に払拭されると共に、ワイピングシート１１１が無駄に消費されることがない。
【００６６】
次に、図１２を参照して、マスキング機構２０９の第２実施形態について説明する。この実施形態（同図（ａ））では、上記のシャッタプレート２６６が省略され、鉛直姿勢の遮蔽プレート２６４が後方に傾斜するようになっている。遮蔽プレート２６４の下端部と上記導液部２７８の上端部との間には、ヒンジ（傾動機構）２８３が介設されており、このヒンジ２８３を中心に遮蔽プレート２６４が後方に倒れ込むように所定の角度に亘って傾斜する。ヒンジ２８３は、例えばその支軸に巻締めばねを組み込んだものであり、傾動させた遮蔽プレート２６４が任意の位置で停止（姿勢維持）するように構成されている。このように、噴霧ヘッド２０２の噴霧軸線Ｌに対し、遮蔽プレート２６４を傾斜させるようにしているため、その方形開口部２６５の噴霧軸線Ｌに対する縦寸法を実質的に調節することができる。
【００６７】
同様に、（同図（ｂ））の変形例では、遮蔽プレート２６４が、その上下中間位置に設けた枢軸２８４を中心に傾斜可能に構成されている。枢軸２８４は、遮蔽プレート２６４の側端から外方に延在し、図示しないが、受液部２６２に立設した一対の支持部材に傾動自在に支持されている。すなわち、枢軸２８４と一対の支持部材により、遮蔽プレート２６４を傾かせる傾動機構が構成されている。そして、この場合も、傾動させた遮蔽プレート２６４が任意の位置で停止（姿勢維持）するように構成されている。したがって、傾いた方形開口部２６５により、噴霧軸線Ｌを中心として広狭縦寸法を調節することができる。
【００６８】
このように、遮蔽プレート２６４を傾斜させることで、方形開口部２６５の実質的な縦寸法を調節することができるので、単純な構造でワイピングシート１１１への噴霧領域Ａを調節することができる。
【００６９】
次に、図１３を参照して、マスキング機構２０９の第３実施形態について説明する。ノズル面４５へのワイピングに際し、機能液滴吐出ヘッド３に導入する機能液によっては、ワイピングシート１１１に洗浄液を微量噴霧することが有効な場合かある。一方、噴霧ヘッド２０２は、その噴霧性能を発揮するための最低限の洗浄液流量が定められている。そこで、噴霧ヘッド２０２には最低限の洗浄液流量を導入し且つ１回の走査で噴霧を完了すると共に、マスキング機構２０９により上記の方形開口部２６５に対応する方形開口領域２８５内で、更に噴霧洗浄液をフィルタリングするようにしている。
【００７０】
同図に示すように、第３実施形態におけるマスキング機構２０９は、上記と同様に形成された遮蔽プレート２６４に、多数の小孔（パンチング孔）２８７を形成したパンチングメタル２８６を添設して、構成されている。パンチングメタル２８６は、遮蔽プレート２６４の方形開口部２６５よりひと回り大きく形成されており、ビス等により、その周縁部において遮蔽プレート２６４に固定されている。このような構成では、方形開口部２６５の開口面積が、パンチングメタル２８６により多数の小孔２８７の面積の総和として、調節される。このため、方形開口部２６５に対応する噴霧領域Ａでは、その大きさを維持しつつ洗浄液の単位面積当りの噴霧量を微量となるように調整することができる。
【００７１】
このように構成することで、ワイピングシート１１１への噴霧領域Ａを画定することができるだけでなく、噴霧領域Ａ内における単位面積当りの洗浄液量を調整することができる。したがって、噴霧ヘッド２０２の交換等を必要とすることがなく、ノズル面４５の適切な払拭が可能になる。なお、上記実施形態では、マスキング機構２０９を、遮蔽プレート２６４とパンチングメタル２８６との２部材で構成したが、これを方形開口領域２０５にのみパンチング孔（小孔）２８７を形成した単一のパンチングプレートで構成することも可能である。また、この第３実施形態に、第１実施形態のシャッタプレート２６６や第２実施形態の遮蔽プレート２６４を組み込むことも可能である。
【００７２】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【００７３】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１４は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１５は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１５（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００７４】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１５（ｂ）に示すように、基板５０１及びブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１５（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド３により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００７５】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【００７６】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１５（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド３によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド３を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００７７】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１５（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００７８】
図１６は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１５に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００７９】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００８０】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１６において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００８１】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８２】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００８３】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド３で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド３で行うことも可能である。
【００８４】
図１７は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００８５】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００８６】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８７】
図１８は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００８８】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００８９】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１及び信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００９０】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００９１】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００９２】
次に、図１９は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【００９３】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３及び陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２及び基板６０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２及び基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００９４】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａ及びドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【００９５】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６及び半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９及びゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【００９６】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【００９７】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【００９８】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３及び機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、及び、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【００９９】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【０１００】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１０１】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【０１０２】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１０３】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１０４】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図２０〜図２８を参照して説明する。
この表示装置６００は、図２０に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、及び対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１０５】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図２１に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図２２に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１０６】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａ及び画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓ及び有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド３を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１０７】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１の吸着テーブル１６に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）及び発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１０８】
図２３に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド３から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図２４に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１０９】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１１０】
そして次に、図２５に示すように、各色のうちの何れか（図２５の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１１１】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２６に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１１２】
同様に、機能液滴吐出ヘッド３を用い、図２７に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１１３】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａ及び発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１１４】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２８に示すように、発光層６１７ｂ及び有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１１５】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１１６】
次に、図２９は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、及びこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１１７】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１１８】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１１９】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１２０】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、及び蛍光体７０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１の吸着テーブル１６に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド３により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１２１】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１２２】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１及び蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド３から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１２３】
次に、図３０は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１２４】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１２５】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１２６】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１２７】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１２８】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図３１（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図３１（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１２９】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１３０】
【図１】本発明の実施形態に係る描画装置の平面模式図である。
【図２】本発明の実施形態に係る描画装置の正面模式図である。
【図３】実施形態に係るヘッドユニットの構成を説明する図である。
【図４】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図５】ワイピング装置の外観斜視図である。
【図６】ワイピング装置の説明図であり、カバーボックスの一部を外したときの外観斜視図である。
【図７】ワイピング装置の説明図であり、カバーボックスの一部を外したときに、左側からみた外観斜視図である。
【図８】ワイピング装置の正面図である。
【図９】拭取りユニット廻りの左側面図である。
【図１０】第１実施形態に係るマスキング機構廻りを模式的に表した断面図である。
【図１１】第１実施形態に係るマスキング機構の遮蔽部の構造図である。
【図１２】第２実施形態に係るマスキング機構の遮蔽部の模式図である。
【図１３】第３実施形態に係るマスキング機構の遮蔽部の構造図である。
【図１４】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１５】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１６】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１７】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１８】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１９】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図２０】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図２１】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２２】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２３】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２４】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２５】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２６】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２７】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２８】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２９】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図３０】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図３１】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１３１】
１  液滴吐出装置                      ３  機能液滴吐出ヘッド
４  描画装置                          ６  ヘッド保守装置
１１  Ｘ・Ｙ移動機構                  １３  ヘッドユニット
４４  ヘッド本体                      ４５  ノズル面
４７  吐出ノズル                      ５３  ワイピング装置
１１１  ワイピングシート              １１８  洗浄液噴霧ユニット
１１５  シート供給ユニット            １３３  巻取りモータ
２０２  噴霧ヘッド                    ２０９  マスキング機構
２６１  遮蔽部                        ２６２  受液部
２６４  遮蔽プレート                  ２６５  方形開口部
２６６  シャッタプレート              ２６７  縦調節プレート
２６８  横調節プレート                ２７９  溝部
２８３  ヒンジ                        ２８５  方形開口領域
２８６  パンチングメタル              ２８７  小孔
Ａ  噴霧領域                          Ｗ  ワーク
【図１】
2006239620.tif 000003
【図２】
2006239620.tif 000004
【図３】
2006239620.tif 000005
【図４】
2006239620.tif 000006
【図５】
2006239620.tif 000007
【図６】
2006239620.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
2006239620.tif 000011
【図１０】
2006239620.tif 000012
【図１１】
2006239620.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
2006239620.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2006239620.tif 000018
【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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