(57)【要約】【課題】  磁気転写によってサーボ信号等を記録する際に高効率に生産できる品質の良い磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。【解決手段】  磁気記録媒体２は、支持体２１と、磁気記録再生用の磁性層２２と、Ｃ−ＨまたはＣ−Ｈ−Ｎからなる保護層２３と、該保護層２３に物理的クリーニングを施した後の表面に塗布された潤滑剤層２４とを備え、磁性層２２にはクリーニング後で潤滑剤層塗布前に、マスター担体３と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写によって磁化パターンが記録されてなる。【選択図】      図２
2006120285.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、磁気記録再生用の磁性層と、Ｃ−Ｈからなる保護層と、該保護層に物理的クリーニングを施した後の表面に塗布された潤滑剤層とを備え、前記磁性層には前記クリーニング後で潤滑剤層塗布前に、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写によって磁化パターンが記録されてなることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
支持体と、磁気記録再生用の磁性層と、Ｃ−Ｈ−Ｎからなる保護層と、該保護層に物理的クリーニングを施した後の表面に塗布された潤滑剤層とを備え、前記磁性層には前記クリーニング後で潤滑剤層塗布前に、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写によって磁化パターンが記録されてなることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項３】
支持体上の少なくとも片面に磁気記録再生用の磁性層を形成し、該磁性層表面にＣ−Ｈからなる保護層を形成し、該保護層に物理的クリーニングを施した後、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写を行って前記磁性層に磁化パターンを記録し、その後に前記保護層の表面に潤滑剤層を塗布することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
支持体上の少なくとも片面に磁気記録再生用の磁性層を形成し、該磁性層表面にＣ−Ｈ−Ｎからなる保護層を形成し、該保護層に物理的クリーニングを施した後、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写を行って前記磁性層に磁化パターンを記録し、その後に前記保護層の表面に潤滑剤層を塗布することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁性層に磁気転写により磁化パターンを記録してなる磁気記録媒体およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体においては高記録密度化が図られ、これらの高密度磁気記録媒体は情報記録領域が狭トラックで構成されており、狭いトラック幅を正確に磁気ヘッドにより走査させて高いＳ／Ｎで信号を再生するためには、いわゆるトラッキングサーボ技術が大きな役割を担っている。
【０００３】
トラック位置決めのためのサーボ信号や、そのトラックのアドレス信号、再生クロック信号等のサーボ情報は、磁気記録媒体の製造時にプリフォーマットとして予め磁気記録媒体に記録する必要があり、現在は専用のサーボ記録装置（サーボトラックライター）を用いてプリフォーマットが行われている。従来のサーボ記録装置によるプリフォーマットは、磁気記録媒体１枚ずつ、磁気ヘッドにより記録する必要があるため、相当の時間がかかり生産効率の点で問題がある。
【０００４】
この点より、磁性体の微細凹凸パターンにより転写情報を担持したパターンドマスター担体と、転写を受ける磁気記録層を有する磁気記録媒体（スレーブ媒体）とを密着させた状態で、転写用磁界を印加してマスター担体に担持した情報に対応する磁化パターンを磁気記録媒体に転写記録する磁気転写方法が知られている。その際、磁気転写前の磁性層に潤滑剤を塗布してからマスター担体と重ね合わせて磁気転写を行い、異物、パーティクルの介在によるダメージの低減を図る技術が開示されている。（例えば特許文献１参照）。
【０００５】
また、磁気転写用のマスター担体の表面に炭素保護膜を形成し、耐久性を高める技術が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００３−８５７４６号公報
【特許文献２】特開２０００−１９５０４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記のような磁気記録媒体、例えばハードディスクにおいては、その完成品は表面に潤滑剤を塗布して記録再生時における磁気ヘッドとの摺接関係における耐久性および耐食性を高めるようにしている。また、前述の特許文献１では、磁気転写前に磁気記録媒体に潤滑剤を塗布して、マスター担体との重畳における異物介在により受けるダメージの軽減を図ることが行われている。
【０００７】
しかし、磁気転写工程においては、平坦な磁気記録媒体の表面にマスター担体の表面を押圧密着させるものであり、その際に密着面に過剰な潤滑剤が塗布されていると、その密着力が高まり、磁気転写後の磁気記録媒体とマスター担体との剥離が困難となり、磁気記録媒体の製造の効率化を図る際の障害となる問題があった。
【０００８】
また、磁気転写は１枚のマスター担体を使用して多数の磁気記録媒体に重畳して磁気転写を行うものであって、この磁気転写の繰り返しによって磁気記録媒体に付着している異物の転移、コスレ等によってマスター担体および磁気記録媒体に傷付き等のダメージが生じる問題があり、保護層、潤滑剤はこれらを防止する上では有効である。
【０００９】
本発明は上記事情に鑑み、高効率に生産できる品質の良い磁気記録媒体およびその製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の磁気記録媒体は、支持体と、磁気記録再生用の磁性層と、Ｃ−Ｈからなる保護層と、該保護層に物理的クリーニングを施した後の表面に塗布された潤滑剤層とを備え、前記磁性層には前記クリーニング後で潤滑剤層塗布前に、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写によって磁化パターンが記録されてなることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明の他の磁気記録媒体は、支持体と、磁気記録再生用の磁性層と、Ｃ−Ｈ−Ｎからなる保護層と、該保護層に物理的クリーニングを施した後の表面に塗布された潤滑剤層とを備え、前記磁性層には前記クリーニング後で潤滑剤層塗布前に、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写によって磁化パターンが記録されてなることを特徴とするものである。
【００１２】
一方、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、支持体上の少なくとも片面に磁気記録再生用の磁性層を形成し、該磁性層表面にＣ−Ｈからなる保護層を形成し、該保護層に物理的クリーニングを施した後、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写を行って前記磁性層に磁化パターンを記録し、その後に前記保護層の表面に潤滑剤層を塗布することを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の他の磁気記録媒体の製造方法は、支持体上の少なくとも片面に磁気記録再生用の磁性層を形成し、該磁性層表面にＣ−Ｈ−Ｎからなる保護層を形成し、該保護層に物理的クリーニングを施した後、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写を行って前記磁性層に磁化パターンを記録し、その後に前記保護層の表面に潤滑剤層を塗布することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１４】
上記のような本発明の磁気記録媒体は、支持体と、磁気記録再生用の磁性層と、Ｃ−ＨまたはＣ−Ｈ−Ｎからなる保護層と、該保護層に物理的クリーニングを施した後の表面に塗布された潤滑剤層とを備え、前記磁性層には前記クリーニング後で潤滑剤層塗布前に、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写によって磁化パターンが記録されてなることにより、磁気転写時には潤滑剤層が形成されていないのでマスター担体との強い密着による剥離困難が生起せず、生産効率の良い磁気転写が実施でき、また、磁性層表面には保護膜が形成されているために、マスター担体との重ね合わせにおける傷付きが防止でき品質の良い磁気記録媒体が得られる。
【００１５】
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、支持体上の少なくとも片面に磁気記録再生用の磁性層を形成し、該磁性層表面にＣ−ＨまたはＣ−Ｈ−Ｎからなる保護層を形成し、該保護層に物理的クリーニングを施した後、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写を行って前記磁性層に磁化パターンを記録し、その後に前記保護層の表面に潤滑剤層を塗布することにより、磁気転写前の保護層の形成およびクリーニングの実施で磁気転写時のマスター担体との重ね合わせに伴うダメージが防止でき、品質保持が図れると共に、磁気転写後の潤滑剤層の形成により、磁気転写時のマスター担体との密着固定による剥離困難に伴う作業性低下が回避でき、効率的に磁気転写および磁気記録媒体の製造が行える。
【００１６】
特に、Ｃ−Ｈ−Ｎ保護層は、潤滑性の面でも良好な特性を有し、マスター担体の耐久性を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。図１は本発明による磁気記録媒体の層構成の一例を示す部分断面図、図２は製造方法の工程図である。
【００１８】
磁気記録媒体２は、アルミニウム、ガラスなどのディスク基板による支持体２１の表面に、磁気記録再生用の磁性層２２、Ｃ−ＨまたはＣ−Ｈ−Ｎからなる保護層２３、潤滑剤層２４を順に積層した構成となっている。潤滑剤層２４は保護層２３に物理的クリーニングを施した後の表面に塗布されてなり、磁性層２２にはクリーニング後で潤滑剤層２４の塗布前に、後述のマスター担体３（図３，４参照）と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写によって磁化パターンが記録されてなる。
【００１９】
なお図１は支持体２１の片面のみを示したものであり、実際に形成される磁気記録媒体２は、支持体２１の両面に上記層が対称に積層されている。
【００２０】
次に、図１の構成を例にとりながら磁気記録媒体の製造方法について説明する。図２の工程図に示すように、まず、支持体２１上に磁気記録再生用の磁性層２２を形成し、この磁性層２２の表面にＣ−ＨまたはＣ−Ｈ−Ｎからなる保護層２３を形成する。次に、保護層２３にバーニッシュなどの物理的クリーニングを施した後、マスター担体と重畳状態で転写用磁界を印加する磁気転写を行って磁性層２２に磁化パターンを記録し、その後に保護層２３の表面に潤滑剤層２４を塗布する。
【００２１】
磁気記録媒体２は、ハードディスクなどの硬質円盤状磁気記録媒体であり、その磁性層２２の組成としては、高保磁力を有するＦｅＰｔ超微粒子やバリウムフェライト微粒子等を用いた塗布型磁性層、あるいはＴｂＦｅＣｏ系磁性層を有するスパッタ型磁性層が挙げられる。
【００２２】
ここで、支持体２１に磁性層２２を形成する工程については、従来よりの製造工程で知られている技術をそのまま利用することができる。例えば、アルミニウム製の支持体２１上に蒸着やスパッタ手段のような成膜手段により磁性層２２を設ける方法がある。
【００２３】
なお、金属薄膜型磁性層を備えた磁気記録媒体の場合、その他磁性材料として、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＢ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ、Ｃｏ／Ｐｄ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。磁性層としては、磁束密度が大きいこと、面内記録なら面内方向、垂直記録なら垂直方向の磁気異方性を有することが、明瞭な転写を行えるため好ましい。好ましい磁性層厚は10ｎｍ以上、500ｎｍ以下であり、さらに好ましくは10ｎｍ以上、50ｎｍ以下である。
【００２４】
また、磁性層の下（支持体側）には、該磁性層に必要な磁気異方性を持たせるために非磁性の下地層を設けることが好ましい。下地層としては、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｒＶ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ、Ｐｄ等を用いることができる。好ましい非磁性層の厚みは、５ｎｍ以上、150ｎｍ以下であり、さらに好ましくは20ｎｍ以上、80ｎｍ以下である。
【００２５】
さらに、垂直磁気記録媒体の場合には、磁性層の垂直磁化状態を安定化させ、記録再生時の感度を向上させるために非磁性の下地層の下に軟磁性の裏打ち層を設けてもよい。この裏打ち層としては、ＮｉＦｅ、ＣｏＣｒ、ＦｅＴａＣ、ＦｅＡｌＳｉ等を用いることができる。好ましい裏打ち層の厚みは、20ｎｍ以上、2000ｎｍ以下であり、さらに好ましくは60ｎｍ以上、400ｎｍ以下である。
【００２６】
前記保護層２３の材質としては、グラファイト、無定型カーボンなどの炭素が挙げられるが、Ｃ−Ｈからなる、またはＣ−Ｈ−Ｎからなる硬質炭素膜が好ましい。硬質炭素膜は、グラファイト、ダイヤモンド構造、もしくはこれらの混合物からなるカーボン膜であり、特に、一般にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ膜）と呼ばれるものが好ましい。ＤＬＣ膜は、プラズマＣＶＤ法、スパッタリング法等で作成したアモルファス炭素膜で、非導電性である。なお、Ｃ−Ｈからなる保護層の場合、Ｈは全原子数に対して１０〜３０ａｔ％であることが好ましい。また、Ｃ−Ｈ−Ｎからなる保護層の場合、Ｈは全原子数に対して１０〜３０ａｔ％、Ｎは２〜１０ａｔ％であることが好ましい。
【００２７】
これらの硬質炭素膜はスパッタリング法によって作成することもできるが、生産性、品質の安定性、厚み１０ｎｍ以下の超薄膜でも良好な耐摩耗性を確保できること及びピンホールの発生を少なくすることができること等からＣＶＤ法によって作成することが好ましく、特にプラズマＣＶＤ法によって、Ｃ−Ｈからなるものでは、メタン、エタン、プロパン、ブタン等のアルカン、あるいはエチレン、プロピレン等のアルケン、またはアセチレン等のアルキンをはじめとした炭素含有化合物を分解して生成した化学種を基板に負バイアス電圧を印加し加速して堆積する手法が好ましい。また、Ｃ−Ｈ−Ｎからなる保護層としては、上記反応ガス中に窒素ガスを導入して、成膜される膜中に窒素を含有させることによって膜の摩擦係数を減少させることができる。
【００２８】
保護膜２３の膜厚が厚いと電磁変換特性の悪化や磁性層２２に対する密着性の低下が生じ、膜厚が薄いと耐磨耗性が不足するため、膜厚は２．５〜２０ｎｍが好ましく、とくに５〜１０ｎｍがより好ましい。
【００２９】
上記保護層２３上の潤滑剤層２４としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などを使用することができる。炭化水素系潤滑剤としてはステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン酸ブチル等のエステル類、オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類、ステアリルアミン等のアミン類などが挙げられる。フッ素系潤滑剤としては上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。パーフルオロポリエーテル基としてはパーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピレンオキシド重合体 、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体 またはこれらの共重合体等が好ましい。また、フォスファゼン環にフッ素またはフッ化アルキル基を導入した化合物も熱的、化学的に安定であり使用することができる。極圧添加剤としてはリン酸トリラウリル等のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類、トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤などが挙げられる。
【００３０】
上記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用することができる。これらの潤滑剤を保護層上に付与する方法としては、潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させればよい。潤滑剤の塗布量としては１〜３０ｍｇ／ｍ2 が好ましく、２〜２０ｍｇ／ｍ2 がより好ましい。
【００３１】
磁気転写を行う前に保護層２３に施す物理的クリーニング工程は、表面の微小突起をそぎ落とし平滑にするバーニッシュなどであり、このバーニッシュは、研磨テープを用いたテープバーニッシュ、バーニッシュヘッド（グライドヘッド）を用いたヘッドバーニッシュなどがあり、その後不織布等により表面の汚れを除去する。
【００３２】
次に、磁気転写工程の詳細を図３および図４により説明する。図３は磁気転写を実施する装置の要部概略斜視図、図４は磁気転写の基本工程を示す図である。
【００３３】
磁気転写装置１０において、磁気転写時には、磁気記録媒体２の磁気記録面を、少なくとも一部分にパターン化された軟磁性層を有する転写パターン面（情報担持面）を備えたパターンドマスター担体３の該転写パターン面に接触させ、所定の押圧力で密着させる。この磁気記録媒体２とマスター担体３とを密着させた状態で、磁界生成手段５により転写用磁界を印加してサーボ信号等の磁化パターンを転写記録する。
【００３４】
なお、磁気記録媒体２にはマスター担体３に密着させる以前に、予め初期磁化を行っておく。この初期磁化は、磁気記録媒体２のトラック方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行う。初期直流磁界の印加は、転写用磁界を印加するための磁界生成手段５と略同一の構成の初期磁化手段により行う。
【００３５】
そして、上記磁気記録媒体２には、上記マスター担体３との密着状態で前記初期磁化の直流磁界とは逆方向となるように転写用磁界を印加して磁気転写が行われた結果、パターンに応じた磁化反転により磁化パターンが形成されてなる。
【００３６】
パターンドマスター担体３はディスク状に形成され、図４に示すように、基板３１の表面に磁性層３２（軟磁性層）による凹凸パターン（転写パターン面）を有するものである。ここでは、基板３１の微細凹凸パターン上に磁性層３２が被覆形成されてなる。そのパターン形成については後述する。
【００３７】
転写用磁界を印加する磁界生成手段５は、密着手段に保持された磁気記録媒体２およびマスター担体３の半径方向に延びるギャップ５１を有するコア５２にコイル５３が巻き付けられた電磁石装置５０，５０が両側に配設されてなる。磁界印加時には、磁気記録媒体２およびマスター担体３を一体に回転させつつ磁界生成手段５によって転写用磁界を印加し、マスター担体３の転写情報を磁気記録媒体２の磁気記録面に磁気的に転写記録する。磁界生成手段５を回転移動させるように設けてもよい。
【００３８】
なお、前記磁界生成手段５は、片側にのみ配設するようにしてもよい。また、磁界生成手段５としては、電磁石装置のほか、永久磁石装置を用いてもよい。
【００３９】
図４は水平（面内）磁気記録方式の磁気記録媒体に対する磁気転写の基本態様を示す図である。(ａ)は磁場を一方向に印加して磁気記録媒体２を初期直流磁化する工程、(ｂ)はマスター担体３と磁気記録媒体２とを密着して初期直流磁化とは反対方向に磁界を印加する工程、(ｃ)は磁気転写後の状態をそれぞれ示す図である。
【００４０】
まず図４(ａ)に示すように、支持体２１に形成した磁性層２２の表面にＣ−ＨまたはＣ−Ｈ−Ｎからなる保護層２３を設けクリーニングした磁気記録媒体２に、初期直流磁界Ｈinをトラック方向の一方向に印加して予め初期磁化(直流消磁)を行う。その後、図４(ｂ)に示すように、この磁気記録媒体２の磁性層２２（保護層２３）とマスター担体３の基板３１の微細凹凸パターンに磁性層３２が被覆されてなる転写パターン面とを密着させ、磁気記録媒体２のトラック方向に前記初期直流磁界Ｈinとは逆方向に転写用磁界Ｈduを印加して磁気転写を行う。その結果、図４(ｃ)に示すように、磁気記録媒体２の磁性層２２においては、磁性層３２の磁気吸い込みにより、マスター担体３の転写パターン面の凸部３ａに対応する非反転部２ａの初期磁化は反転せず、凸部３ａ間の凹部３ｂ（空間）に対応する磁化反転部２ｂの初期磁化が反転し、マスター担体３の転写パターン面の形成パターンに応じた磁化パターンが転写記録される。その後、表面に潤滑剤層２４が塗布される。
【００４１】
なお、上記マスター担体３の基板３１の凹凸パターンが図４(ｂ)のポジパターンと逆の凹凸形状のネガパターンの場合であっても、初期磁界Ｈinの方向および転写用磁界Ｈduの方向を上記と逆方向にすることによって同様の磁化パターンが転写記録できる。
【００４２】
なお、磁気記録媒体２が両面に磁性層２２を有するものの場合には、片面ずつ逐次転写を行ってもよいし、両面にそれぞれマスター担体３を密着させて両面同時転写を行ってもよい。
【００４３】
磁気転写で使用するマスター担体３について説明する。マスター担体３の基板３１としては、Ｎｉ、シリコン、石英板、ガラス、アルミニウム、セラミックス、合成樹脂等からなるものを用いることができるが、Ｎｉからなるもの、もしくはＮｉを主成分とする合金からなるものが特に好ましい。また、磁性層３２の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）を用いることができ、特に好ましいのはＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。特にＦｅ70Ｃｏ30が好ましい。なお、基板３１上に配される磁性層３２としては、軟磁性もしくは半硬質磁性等の保磁力の小さい磁性層を用いることにより、より良好な転写を行うことができる。さらに、磁性層は、基板の飽和磁化よりも高い飽和磁化値を有するものであることが好ましい。
【００４４】
パターンドマスター担体３は、まず、信号パターンに応じた凹凸パターン（凹凸パターンの凹部と凸部が反転したものを含む）を表面に有する第１の原盤を作製し、この第１の原盤を用いて電鋳により上記凹凸パターンを表面に有する金属板を作製する方法により得ることができる。
【００４５】
表面に凹凸パターンを有する第１の原盤は、フォトリソグラフィー法等を用いて製造することができる。以下、シリコンウエハーを用いて原盤を作製する方法を説明するが、シリコンウエハーの代わりに、石英板またはガラス板を使用することもできる。
【００４６】
まず、表面が平滑なディスク状のシリコンウエハー上にポジ型電子線レジスト層をスピンコート等で設ける。これを回転させながら上記の信号パターンに対応して変調した電子ビームでレジスト層に照射を与え、レジスト層全面を上記信号パターン状に照射する。例えば、この信号パターンが磁気ディスクに使用されるサーボ信号の場合には、一定の間隔をおいて同心円状に形成される多数（例えば、数万）のトラックの各トラック上に、一定間隔で複数（例えば、200）設けられるセクターの各セクターの一部に、円周方向に延びるサーボ信号に相当するパターンの照射を与える。このようにして、レジスト全面にパターンの照射を与えた後、レジストを現像処理して電子ビームで照射された部分のレジストをシリコンウエハー上から除去し、凸部がレジストで構成され、照射部のレジストが除去されてシリコンウエハー表面が露出した部分が凹部を構成する凹凸形状をその表面に有するシリコンウエハー、すなわち第１の原盤が得られる。
【００４７】
このようにして作製された第１の原盤を用いて、電鋳が行われる。すなわち、上記第１の原盤の凹凸表面上に、必要により、ニッケルまたは銀などの金属をスパッタリング、蒸着または無電解メッキして、薄い導電性膜を形成してから、Ｎｉを前記凸部の高さよりも十分に厚くなるように電気メッキする。その後、電気メッキされたＮｉと第１の原盤とを剥離することにより、表面に前記サーボ信号に相当する、前記電子ビームで照射された部分が凸部を構成する凹凸のパターンを有するＮｉ板（以下、第１の鋳型という）が得られる。このようにして得られた第１の鋳型をそのままで、または更にその凹凸表面に軟磁性層および保護層をこの順に設けたものを、パターンドマスター担体として使用する。
【００４８】
また、前記第１の鋳型を第２の原盤として更に電鋳を行って表面に凹凸を有するＮｉ板（以下、第２の鋳型という）を作製し、これをそのままで、または更にその凹凸表面上に軟磁性層および保護層をこの順に設けた上で、パターンドマスター担体として使用することもできる。この場合、第１の原盤を作製する際に、(１)電子線レジストとしてネガ型のものを使用し、かつサーボ信号に相当する信号パターン状に電子線を照射するか、または(２)電子線レジストとしてポジ型のものを使用し、かつサーボ信号に相当する信号パターンの反転パターン状に電子線を照射することが好ましい。この態様においては、第２の原盤から複数のパターンドマスター担体を作製することができる利点がある。
【００４９】
また、第２の原盤をスタンパーとして使用して、スタンパー法で凹凸の表面を有する樹脂製のディスクを成形し、その凹凸表面上に軟磁性層および保護層をこの順に設けたものをマスター担体とすることも可能である。
【００５０】
一方、前記と同様にして、第１の原盤を作製した後、その表面をエッチング処理すると、凸部を形成しているレジストがエッチングレジストとして機能するので、凹部に相当する部分のシリコンウエハーの表面を選択的にエッチングすることができる。このようにエッチング処理してから、凸部を構成するレジストを除去することによって、シリコンウエハー自体の表面に凹凸のパターンを有する第３の原盤が得られる。この第３の原盤を用いて、上記と同様にして電鋳を行うことにより、表面に凹凸を有するＮｉ板（第３の鋳型）を作製することができる。この第３の鋳型をそのままで、または更にその凹凸表面上に軟磁性層および保護層をこの順に設けて、マスター担体とすることもできる。この態様の場合も、第３の原盤から複数のマスター担体を作製することができる。
【００５１】
マスター担体３の凸部高さ（凹凸パターンの深さ）は、50〜800ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは80〜600ｎｍである。この凹凸パターンがサンプルサーボ信号である場合は、トラック方向となる円周方向よりも半径方向に長い矩形状の凸部が形成される。
【００５２】
基板の凹凸パターン上への軟磁性層の形成は、軟磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、電気メッキ、無電解メッキのようなメッキ法などを用いて行う。軟磁性層の厚み（凸部上面の磁性層の厚み）は、50〜500ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは80〜300ｎｍである。
【００５３】
なお、この凸部表面の磁性層の上に３〜30ｎｍのカーボンまたはダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層を設けることが好ましく、さらに潤滑剤層を設けても良い。また、軟磁性層と保護層の間に、Ｓｉ等の密着強化層を設けてもよい。潤滑剤を設けることにより、スレーブ媒体との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などを抑制し、耐久性をより向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の一つの実施形態にかかる磁気記録媒体の層構成を示す部分断面図
【図２】一つの実施形態にかかる磁気記録媒体の製造方法の工程図
【図３】本発明の一つの実施の形態に係る磁気転写を実施する磁気転写装置の要部概略斜視図
【図４】磁気記録媒体への磁気転写の基本工程を示す図
【符号の説明】
【００５５】
２    スレーブ媒体
３    マスター担体
５    磁界生成手段
10    磁気転写装置
21    支持体
22    磁性層
23    保護層
24    潤滑剤層
31    マスター担体の基板
32    磁性層
50    電磁石装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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