(57)【要約】【課題】  槽内の圧力上昇による貯液槽の形状変化を規制して、秤量精度の低下を来たしたり貯液槽の設置状態が不安定となったり貯液槽が損傷したりすることを防止できる装置を提供する。【解決手段】  可撓性材料で密閉容器状に形成され液供給口部５２ａおよび液排出口部５２ｂを有する貯液槽２０を、剛性材料で形成され一面が開口し貯液槽２０の外形と同等の内部形状を有する外装容器３８内に収納し、貯液槽２０の液供給口部５２ａおよび液排出口部５２ｂに対応する配管用穴５４ａ、５４ｂが形成された蓋部材４４で外装容器３８の開口を閉塞し、外装容器３８に蓋部材４４を固着部材４８、５０によって固着する。貯液槽２０内に貯留された処理液を、処理液による基板の処理が行われる処理部へ供給配管を通して供給する。【選択図】  図１
2006255636.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して処理を行う基板処理装置において、
処理液により基板の処理を行う処理部と、
可撓性材料で密閉容器状に形成され、液供給口部および液排出口部を有し、処理液を貯留する貯液槽と、
前記貯液槽の前記液排出口部を通して排出される処理液を前記処理部へ供給する供給配管と、
剛性材料で形成され、一面が開口するとともに前記貯液槽の外形と同等の内部形状を有し、前記貯液槽を収納する外装容器と、
前記貯液槽の前記液供給口部および前記液排出口部にそれぞれ対応する複数の配管用穴が形成され、前記外装容器の開口に対して開閉可能な蓋部材と、
前記外装容器に前記蓋部材を着脱可能に固着させる固着部材と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記外装容器の側面には、前記貯液槽内の処理液の液面を確認する目視用穴が形成され、前記蓋部材には、前記外装容器の内方へ明かりを取り入れるための明かり穴が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記外装容器の側面には、前記貯液槽内の処理液の液面を光電式または静電容量式に検知する複数のレベルセンサ用のセンサ穴が形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記外装容器の少なくとも内側表面はフッ素系樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、光ディスク用基板、電子部品等の基板に対して処理液により処理を行う基板処理装置に関し、特に、基板の処理が行われる処理部へ供給される処理液を貯留する処理液貯留部に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
処理槽内に処理液を収容し、その処理槽内の処理液中に基板、例えば半導体ウエハを浸漬させて基板の処理を行う基板処理装置は、処理槽内へ供給配管を通して処理液を供給する処理液貯留部を備えている。処理液貯留部には、処理液を貯留する貯液槽が設けられ、この貯液槽内から排出される処理液がポンプにより供給配管を通して処理槽へ送られる。貯液槽には、処理液の液面を検知するレベルセンサが付設されており、処理液供給源から貯液槽内へ処理液が随時補充され、貯液槽内には、常に所定量以上の処理液が貯留されている（例えば、特許文献１参照。）。貯液槽は、耐薬品性に優れた素材、例えばＰＦＡ（Perfluoroalkoxy fluoroplastics）等のフッ素系樹脂などにより回転成形方法などで形成されている。
【特許文献１】特開２０００−２８６２２５号公報（第３頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
処理槽へ供給される処理液を貯留する貯液槽は、樹脂材料で形成されているため、処理槽への処理液の供給を繰り返し行っているうちに、槽内の圧力の上昇などで膨張等の形状変化を生じることがある。この結果、秤量槽として使用している場合には秤量精度の低下を来たし、また、貯液槽の設置状態が不安定となったり、貯液槽に亀裂、破裂などの損傷が発生したりする、といった問題点がある。
【０００４】
この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、槽内の圧力上昇などによる貯液槽の形状変化を規制して、秤量精度の低下を来たしたり貯液槽の設置状態が不安定となったり貯液槽が損傷したりする、といったことを防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に係る発明は、基板に対して処理を行う基板処理装置において、処理液により基板の処理を行う処理部と、可撓性材料で密閉容器状に形成され、液供給口部および液排出口部を有し、処理液を貯留する貯液槽と、前記貯液槽の前記液排出口部を通して排出される処理液を前記処理部へ供給する供給配管と、剛性材料で形成され、一面が開口するとともに前記貯液槽の外形と同等の内部形状を有し、前記貯液槽を収納する外装容器と、前記貯液槽の前記液供給口部および前記液排出口部にそれぞれ対応する複数の配管用穴が形成され、前記外装容器の開口に対して開閉可能な蓋部材と、前記外装容器に前記蓋部材を着脱可能に固着させる固着部材とを備えることを特徴とする。
【０００６】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記外装容器の側面には、前記貯液槽内の処理液の液面を確認する目視用穴が形成され、前記蓋部材には、前記外装容器の内方へ明かりを取り入れるための明かり穴が形成されていることを特徴とする。
【０００７】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載の基板処理装置において、前記外装容器の側面には、前記貯液槽内の処理液の液面を光電式または静電容量式に検知する複数のレベルセンサ用のセンサ穴が形成されていることを特徴とする。
【０００８】
請求項４に係る発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記外装容器の少なくとも内側表面はフッ素系樹脂で形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１に係る発明の基板処理装置においては、貯液槽内の圧力上昇などにより、可撓性材料で形成された貯液槽の形状が変化、例えば膨張しようとしても、貯液槽は、剛性材料で形成され貯液槽の外形と同等の内部形状を有する外装容器内に収納されるとともに、外装容器の開口が蓋部材によって閉塞され、かつ、固着部材によって外装容器に蓋部材が固着されているので、貯液槽の形状変化は、外装容器の内壁面および蓋部材の内側面によって規制される。
したがって、請求項１に係る発明の基板処理装置を使用すると、貯液槽が秤量槽としての機能を有している場合においても秤量精度の低下を来たすことがなく、また、貯液槽の設置状態が不安定となったり貯液槽が損傷したりすることもない。
【００１０】
請求項２に係る発明の基板処理装置では、蓋部材に形成された明かり穴を通して外装容器の内方へ明かりが取り入れられ、外装容器の側面に形成された目視用穴を通して外装容器内部を観察することができるので、外装容器内に収納された貯液槽内の処理液の液面を目で確認することができる。
【００１１】
請求項３に係る発明の基板処理装置では、外装容器の側面に形成されたセンサ穴にレベルセンサを取り付けることにより、レベルセンサによって貯液槽内の処理液の液面を光電式または静電容量式に検知することができる。
【００１２】
請求項４に係る発明の基板処理装置では、外装容器の内側表面がフッ素系樹脂で形成されているので、外装容器内に収納された貯液槽から液漏れや液の滲み出しを生じたとしても、外装容器の内側表面が処理液によって腐食される心配が無い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、この発明の最良の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図４は、基板処理装置の全体構成の１例を示す概略図である。この基板処理装置は、処理液により半導体ウエハ等の基板Ｗの処理が行われる処理部１０、処理液を貯留する処理液貯留部１２、処理液貯留部１２から処理部１０へ処理液を供給する供給配管１４などを備えている。処理部１０の構成については、詳しい説明を省略するが、処理部１０には、処理液１６を収容する処理槽１８が設けられ、処理槽１８内の処理液１６中に複数枚の基板Ｗを浸漬させて基板Ｗに対する処理が行われる。
【００１４】
処理液貯留部１２には、処理液を貯留する貯液槽２０が設置されている。貯液槽２０は、可撓性材料、例えばＰＦＡにより回転成形されて、密閉容器状に形成されている（図１参照）。貯液槽２０には、液供給口２２ａ、液排出口２２ｂ、ガス導入口２２ｃおよび排気口２２ｄが設けられている。貯液槽２０の液供給口２２ａには、処理液供給源に流路接続された処理液供給管２４が連通接続されている。処理液供給管２４には開閉制御弁２６が介挿されており、貯液槽２０に付設されたレベルセンサ（図示せず）からの信号に基づいて開閉制御弁２６が開閉動作することにより、処理液供給源から貯液槽２０内へ処理液が随時補充され、貯液槽２０内には所定量以上の処理液が貯留されている。貯液槽２０の液排出口２２ｂには、処理部１０に流路接続された供給配管１４の先端部が挿通されており、供給配管１４の先端は、貯液槽２０内の処理液中に差し入れられて内底付近に配置されている。供給配管１４には開閉制御弁２８が介挿されており、貯液槽２０の液排出口２２ｂから排出される処理液が供給配管１４を通して処理部１０へ適宜供給される。貯液槽２０のガス導入口２２ｃには、不活性ガス、例えば窒素ガスの供給源に流路接続されたガス供給管３０が連通接続されている。ガス供給管３０には開閉制御弁３２が介挿されており、開閉制御弁３２を開いて、貯液槽２０内の処理液の液面に対しガス圧を作用させることにより、貯液槽２０内から液排出口２２ｂを通して処理液が排出される。貯液槽２０の排気口２２ｄには、末端が大気に開放されたリリース管３４が連通接続されており、リリース管３４に開閉弁３６が介挿して設けられている。開閉弁３６は、常時は開かれており、貯液槽２０内から処理部１０へ処理液を供給するときに閉じられる。
【００１５】
図１および図２は、この発明の実施形態の１例を示し、図１は、基板処理装置の構成要素である貯液槽と外装容器とを分離した状態で示す斜視図であり、図２は、貯液槽を外装容器内に収納した状態を示す斜視図である。これらの図に示すように、処理液貯留部１２の貯液槽２０は、外装容器３８内に収納された状態で設置される。
【００１６】
外装容器３８は、上面が開口した筐体であり、上端部に左・右フランジ部４０が一体形成されている。フランジ部４０には、複数個のボルト用穴４２が一列に配置されて形成されている。外装容器３８は、貯液槽２０の外形と同等の内部形状を有し、その内部に貯液槽２０がほぼ密接する状態で嵌挿される形状に形成されている。この外装容器３８は、剛性材料、例えばステンレス鋼で形成されており、内側表面あるいは内・外全表面が、処理液に対する耐食性を有する材料、例えばフッ素系樹脂でコーティングされている。
【００１７】
また、外装容器３８は、その上面開口を開閉可能に閉塞する平板状の蓋部材４４を備えている。蓋部材４４は、外装容器３８と同様に剛性材料、例えばステンレス鋼で形成されており、下面（内側表面）あるいは全表面が、処理液に対する耐食性を有する材料、例えばフッ素系樹脂でコーティングされている。蓋部材４４の左・右端縁部には、外装容器３８のフランジ部４０に設けられた各ボルト用穴４２にそれぞれ対応するように複数個のボルト用穴４６がそれぞれ一列に配置されて形成されている。そして、外装容器３８の上面に蓋部材４４を接合し、チタンなどで形成されたボルト４８のねじ部を蓋部材４４のボルト用穴４６および外装容器３８のフランジ部４０のボルト用穴４２に挿通して、ボルト４８のねじ部をナット５０に螺着することにより、外装容器３８に蓋部材４４が固着される。
【００１８】
蓋部材４４には、貯液槽２０の上面に設けられた液供給口部５２ａ、液排出口部５２ｂ、ガス導入口部５２ｃおよび排気口部５２ｄにそれぞれ対応する位置に４個の配管用穴５４ａ、５４ｂ、５４ｃ、５４ｄが形成されている。また、蓋部材４４の強度が低下しない限度内で、蓋部材４４には、外装容器３８の内方へ明かりを取り入れるための複数個の明かり穴５６が形成されている。一方、外装容器３８の側面には、外装容器３８内に収納された貯液槽２０内の処理液の液面を確認する目視用穴５８が形成されている。また、外装容器３８の側面には、外装容器３８内に収納された貯液槽２０内の処理液の液面を光電式または静電容量式に検知する複数のレベルセンサ（図示せず）を取り付けるための複数個のセンサ穴６０が形成されている。なお、図３に示すように、外装容器６２の、センサ穴６４が形成された側面とは異なる側面に、一組をなす複数個、図示例では３個の目視用穴６６を形成するようにしてもよい。
【００１９】
上記したように外装容器３８内に貯液槽２０が収納され、外装容器３８の開口が蓋部材４４によって閉塞され、外装容器３８に蓋部材４４がボルト４８とナット５０で固着されているので、貯液槽２０内の圧力上昇などにより、ＰＦＡで形成された貯液槽２０の形状が変化、例えば膨張しようとしても、貯液槽２０の形状変化は、外装容器３８の内壁面および蓋部材４４の内側面によって規制される。したがって、貯液槽２０の内容量が変化したり貯液槽２０の設置状態が不安定となったり貯液槽２０に亀裂、破裂などの損傷が発生したりする、といったことが防止される。また、外装容器３８の表面および蓋部材４４の表面は、フッ素系樹脂でコーティングされているので、外装容器３８内に収納された貯液槽２０の継ぎ手部分などから液漏れや液の滲み出しが発生したとしても、外装容器３８の表面や蓋部材４４の表面が処理液、例えば酸性薬液によって腐食される心配が無い。
【００２０】
そして、外装容器の内方へは、蓋部材４４に形成された明かり穴５６を通して明かりが取り入れられるので、外装容器３８の側面に形成された目視用穴５８を通して外装容器３８の内部を明瞭に観察することができ、外装容器３８内に収納された貯液槽２０内の処理液の液面を目で確認することができる。また、外装容器３８の側面には複数個のセンサ穴６０が形成されているので、取付用金具などを用意しなくても外装容器３８にレベルセンサを取り付けることができる。そして、外装容器３８の複数個のセンサ穴６０に複数のレベルセンサを取り付けることにより、それらのレベルセンサによって貯液槽２０内の処理液の液面を光電式または静電容量式に検知することができる。
【００２１】
なお、上記した実施形態では、処理槽１８内に収容された処理液１６中に複数枚の基板Ｗを浸漬させて基板Ｗの処理を行う処理部１０へ処理液貯留部１２から処理液を供給する基板処理装置について説明したが、この発明は、基板を水平姿勢でスピンチャックに保持して、基板を鉛直軸回りに回転させながら１枚ずつ基板の処理を行う処理部へ処理液貯留部から処理液を供給する枚葉式の基板処理装置についても、同様に適用し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】この発明の実施形態の１例を示し、基板処理装置の構成要素である貯液槽と外装容器とを分離した状態で示す斜視図である。
【図２】図１に示した貯液槽を外装容器内に収納した状態を示す斜視図である。
【図３】この発明の別の実施形態を示し、基板処理装置の構成要素である貯液槽を外装容器内に収納した状態を示す斜視図である。
【図４】基板処理装置の全体構成の１例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００２３】
１０  処理部
１２  処理液貯留部
１４  供給配管
１６  処理液
１８  処理槽
２０  貯液槽
２４  処理液供給管
３０  ガス供給管
３４  リリース管
３８、６２  外装容器
４２、４６  ボルト用穴
４４  蓋部材
４８  ボルト
５０  ナット
５２ａ  液供給口部
５２ｂ  液排出口部
５２ｃ  ガス導入口部
５２ｄ  排気口部
５４ａ、５４ｂ、５４ｃ、５４ｄ  配管用穴
５６  明かり穴
５８、６６  目視用穴
６０、６４  センサ穴
【図１】
2006255636.tif 000003
【図２】
2006255636.tif 000004
【図３】
2006255636.tif 000005
【図４】
2006255636.tif 000006