(57)【要約】【課題】磁気転写を行う際の、マスターディスクの反りや歪や板厚偏差による影響を排除し、正確な磁化パターンの転写を行う。【解決手段】外形が円環状であり、その表面に多数の微細な磁性層パターンが形成されている磁気転写用マスターディスク４６において、磁性層パターンが形成されていない領域４６ｃにおいて、内周部４６ｄ近傍より外周部４６ｅ近傍まで達するスリット４５が１以上形成されている。【選択図】  図１
2006216203.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外形が円環状であり、その表面に多数の微細な磁性層パターンが形成されている磁気転写用マスターディスクにおいて、
前記磁性層パターンが形成されていない領域において、内周部近傍より外周部近傍まで達するスリットが１以上形成されていることを特徴とする磁気転写用マスターディスク。
【請求項２】
外形が円環状であり、その表面に多数の微細な磁性層パターンが形成されている磁気転写用マスターディスクにおいて、
前記磁性層パターンが形成されていない領域において、外周縁より内周部に向かう所定長さのスリットが複数個、略等間隔で形成されていることを特徴とする磁気転写用マスターディスク。
【請求項３】
外形が円環状であり、その表面に多数の微細な磁性層パターンが形成されている磁気転写用マスターディスクにおいて、
その裏面が円周方向に沿って所定ピッチの凹凸状に形成されていることを特徴とする磁気転写用マスターディスク。
【請求項４】
前記請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気転写用マスターディスクの表面に被転写用磁気記録媒体を密着させる密着工程と、
磁界生成手段を設け、前記被転写用磁気記録媒体と前記マスターディスクの円周方向に磁界を加え、前記マスターディスクの磁気パターンを前記被転写用磁気記録媒体に転写させる磁気転写工程と、
を経て磁気記録されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項５】
前記請求項４に記載の磁気記録媒体を備えたことを特徴とする磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気転写用マスターディスク、磁気記録媒体、及び磁気記録装置に係り、特に、ハードディスク装置等に用いられる磁気ディスクに、フォーマット情報等の磁気情報パターンを転写するのに好適な磁気転写用マスターディスク、該マスターディスクにより磁気転写された磁気記録媒体、及び該磁気記録媒体を備える磁気記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、急速に普及しているハードディスクドライブに使用される磁気ディスク（ハードディスク）は、磁気ディスクメーカーよりドライブメーカーに納入された後、ドライブに組み込まれる前に、フォーマット情報やアドレス情報が書き込まれるのが一般的である。この書き込みは、磁気ヘッドにより行うこともできるが、これらのフォーマット情報やアドレス情報が書き込まれているマスターディスクより一括転写する方法が効率的であり、好ましい。
【０００３】
この磁気転写技術は、マスターディスクと被転写ディスク（スレーブディスク）とを密着させた状態で、片側又は両側に電磁石装置、永久磁石装置等の磁界生成手段を配設して転写用磁界を印加し、マスターディスクの有する情報（たとえばサーボ信号）に対応する磁化パターンの転写を行うものである。
【０００４】
このような磁気転写を確実に行うためには、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にすることが求められ、このため、従来より各種構成のものが提案されている（たとえば、特許文献１等。）。この特許文献１の提案は、一対のホルダユニットによりマスターディスクを保持し、ロボットハンドにより一対のマスターディスクの間にスレーブディスクを供給した後、スレーブディスクの両面にマスターディスクを圧接させ挟持させながら転写用磁界を印加する装置に関するものである。
【特許文献１】特開２００４−８７０９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記のような磁気転写方法においても、マスターディスクに反りや歪や板厚偏差が存在すると、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にすることができず、良好な磁気転写を行えないという問題がある。
【０００６】
すなわち、マスターディスクは、表面に微細な凹凸状パターンが形成された原盤の表面形状を電鋳により転写して形成されるのが一般的であるが、電鋳の際に、電流密度分布や膜応力を生じ易く、出来上がったマスターディスクに反りや歪や板厚偏差が存在することが多い。
【０００７】
そのため、これらの欠陥を緩和すべく、マスターディスクの裏面に緩衝材（クッション材）を配したり、マスターディスクの裏面に機械加工を施して、板厚偏差を無くすようにしたり、各種対応策が採られているが、これらの欠陥が完全に解決された訳ではない。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、磁気転写を行う際の、マスターディスクの反りや歪や板厚偏差による影響を排除し、正確な磁化パターンの転写が行えるようにした磁気転写用マスターディスク、該マスターディスクにより磁気転写された磁気記録媒体、及び該磁気記録媒体を備える磁気記録装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するために、本発明は、外形が円環状であり、その表面に多数の微細な磁性層パターンが形成されている磁気転写用マスターディスクにおいて、前記磁性層パターンが形成されていない領域において、内周部近傍より外周部近傍まで達するスリットが１以上形成されていることを特徴とする磁気転写用マスターディスクを提供する。
【００１０】
本発明によれば、磁性層パターンが形成されていない領域において、内周部近傍より外周部近傍まで達するスリットが１以上形成されているので、マスターディスクとスレーブディスクとを密着させる際に生じる、マスターディスクの反りや板厚偏差による歪や変形を、このスリットが吸収し、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にできる。
【００１１】
すなわち、マスターディスクの外形が円環状（ドーナツ状）である限り、マスターディスクがスレーブディスクの形状に倣うような剛性、板厚であっても逃げ部分がなく、極端な場合には、皺状の逃げ部分となってしまう。
【００１２】
これに対して、スリットが１以上形成されていれば、逃げ部分をこのスリットが吸収できる。この点より、スリットの幅は、０．０５〜３０００μｍが好ましく、５０〜５００μｍがより好ましい。
【００１３】
なお、内周部近傍とは、内周縁をも含むものであり、外周部近傍とは、外周縁をも含むものである。
【００１４】
また、本発明は、外形が円環状であり、その表面に多数の微細な磁性層パターンが形成されている磁気転写用マスターディスクにおいて、前記磁性層パターンが形成されていない領域において、外周縁より内周部に向かう所定長さのスリットが複数個、略等間隔で形成されていることを特徴とする磁気転写用マスターディスクを提供する。
【００１５】
本発明によれば、磁性層パターンが形成されていない領域において、外周縁より内周部に向かう所定長さのスリットが複数個、略等間隔で形成されているので、マスターディスクとスレーブディスクとを密着させる際に生じる、マスターディスクの反りや板厚偏差による歪や変形を、このスリットが吸収し、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にできる。
【００１６】
特に、スレーブディスクの外周部分は、スキージャンプやロールオフ等の規格が厳しく規定されており、マスターディスクとスレーブディスクとの良好な密着状態が求められる。したがって、外周部分にこのようなスリットが複数個、略等間隔で形成されていれば、密着状態を良好にできる。
【００１７】
また、本発明は、外形が円環状であり、その表面に多数の微細な磁性層パターンが形成されている磁気転写用マスターディスクにおいて、その裏面が円周方向に沿って所定ピッチの凹凸状に形成されていることを特徴とする磁気転写用マスターディスクを提供する。
【００１８】
本発明によれば、マスターディスクの裏面が円周方向に沿って所定ピッチの凹凸状に形成されているので、マスターディスクとスレーブディスクとを密着させる際に生じる、マスターディスクの反りや板厚偏差による歪や変形を、この裏面の凹凸状が吸収し、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にできる。
【００１９】
また、本発明は、前記の磁気転写用マスターディスクの表面に被転写用磁気記録媒体を密着させる密着工程と、磁界生成手段を設け、前記被転写用磁気記録媒体と前記マスターディスクの円周方向に磁界を加え、前記マスターディスクの磁気パターンを前記被転写用磁気記録媒体に転写させる磁気転写工程と、を経て磁気記録されたことを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
【００２０】
このようなマスターディスクであれば、スレーブディスクとの密着状態を良好にでき、欠陥がなく、良好な精度で磁気転写が行え、Ｃ／Ｎ比の良好な磁気記録媒体（スレーブディスク）が得られる。
【００２１】
また、本発明は、前記の磁気記録媒体を備えたことを特徴とする磁気記録装置を提供する。このような磁気記録媒体を使用すれば、Ｃ／Ｎ比の良好な磁気記録装置（ハードディスクドライブ等）が得られる。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、本発明によれば、マスターディスクとスレーブディスクとを密着させる際に生じる、マスターディスクの反りや板厚偏差による歪や変形を吸収し、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にできる。
【００２３】
その結果、欠陥がなく、良好な精度で磁気転写が行え、Ｃ／Ｎ比の良好な磁気記録媒体（スレーブディスク）が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付図面に従って、本発明に係る磁気転写用マスターディスク、磁気記録媒体、及び磁気記録装置の好ましい実施の形態（第１実施形態）について詳説する。図１は、本発明に係るマスターディスクの平面図である。図２は、マスターディスク４６の表面の微細な突起状パターンを示す部分拡大斜視図である。
【００２５】
図１に示されるように、マスターディスク４６は円盤状に形成されており、マスターディスク４６の径方向中周部分（マスターディスク４６の内周部分４６ｄと外周部分４６ｅを除いた部分）には、円周方向に、ハッチングで示されるサーボ領域４６ｂと非サーボ領域４６ｃ（非ハッチング部分）とが交互に形成されている。
【００２６】
サーボ領域４６ｂは、磁気パターン（サーボ情報パターン）が形成されている領域であり、非サーボ領域４６ｃは、磁気パターン（サーボ情報パターン）が形成されていない領域である。
【００２７】
そして、１箇所の非サーボ領域４６ｃには、内周部分４６ｄ近傍より外周部分４６ｅ近傍まで達するスリットである長スリット４５が形成されている。この長スリット４５の構成及び作用については後述する。
【００２８】
図２は、サーボ領域４６ｂの部分拡大図であり、基板４７の片面に磁性層４８による微細な突起状パターンが形成された転写情報担持面が形成されており、基板４７の反対側の面が不図示の密着手段に保持されるようになっている。この微細な突起状パターンの形成は、後述するフォトファブリケーション法等によりなされる。このマスターディスク４６の片面（転写情報担持面）は、スレーブディスク４０と密着される面である。
【００２９】
微細な突起状パターンは、平面視で長方形であり、厚さｔの磁性層４８が形成された状態で、トラック方向（図中の太矢印方向）の長さｂと、半径方向の長さｌとよりなる。この長さｂとｌの最適値は、記録密度や記録信号波形等により異なるが、たとえば、長さｂを８０ｎｍに、長さｌを２００ｎｍにできる。
【００３０】
この微細な突起状パターンはサーボ信号の場合は、半径方向に長く形成される。この場合、たとえば、半径方向の長さｌが０．０５〜２０μｍ、トラック方向（円周方向）の長さが０．０５〜５μｍであることが好ましい。この範囲で半径方向の方が長いパターンを選ぶことが、サーボ信号の情報を担持するパターンとしては好ましい。
【００３１】
基板２７表面の微細な突起状パターンの深さ（突起の高さ）は、８０〜８００ｎｍの範囲が好ましく、１００〜６００ｎｍの範囲がより好ましい。
【００３２】
マスターディスク４６において、基板４７がＮｉ等を主体とした強磁性体の場合には、この基板４７のみで磁気転写が可能であり、磁性層４８は被覆しなくてもよいが、転写特性のよい磁性層４８を設けることにより、より良好な磁気転写が行える。基板４７が非磁性体の場合には、磁性層４８を設けることが必要である。マスターディスク４６の磁性層４８は、保磁力Ｈｃが４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下の軟磁性層であることが好ましい。
【００３３】
マスターディスク４６の基板４７としては、ニッケル、シリコン、石英ガラス等各種組成のガラス、アルミニウム、合金、各種組成のセラミックス、合成樹脂等が使用できる。この基板４７表面の凹凸パターンの形成は、フォトファブリケーション法や、フォトファブリケーション法等で形成した原盤によるスタンパー法、等によって行える。
【００３４】
スタンパー法における原盤の形成は、たとえば、以下のように行える。表面が平滑なガラス板（又は石英ガラス板）の上にスピンコート法等によりフォトレジストの層を形成し、プレベーク後に、このガラス板を回転させながら、サーボ信号に対応して変調したレーザー光（又は電子ビーム）を照射し、フォトレジスト層の略全面に所定のパターン、たとえば各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応する部分に露光する。
【００３５】
その後、フォトレジストの層を現像処理し、露光部分が除去されたフォトレジストの層により形成された凹凸形状を有するガラス原盤を得る。次いで、ガラス原盤の表面の凹凸パターンを基に、この表面にメッキ（電鋳）を施し所定厚さまで形成することにより、表面にポジ状の凹凸パターンを有するＮｉ基板を作成する。そして、この基板をガラス原盤から剥離する。
【００３６】
この基板をそのままプレス原盤とするか、凹凸パターン上に必要に応じて軟磁性層、保護膜等を被覆してプレス原盤とする。
【００３７】
また、ガラス原盤にメッキを施して、電鋳により第２の原盤を作成し、この第２の原盤に更にメッキを施して、電鋳によりネガ状凹凸パターンを有する反転原盤を作成してもよい。更に、第２の原盤にメッキを施して電鋳を行うか、低粘度の樹脂を押し付けて硬化させるかした、第３の原盤を作成し、第３の原盤にメッキを施して電鋳を行い、ポジ状凹凸パターンを有する基板を作成してもよい。
【００３８】
基板の材料としては、金属ではＮｉ又はＮｉ合金を使用することができる。この基板を作成するメッキ法としては、無電解メッキ、電鋳、スパッタリング、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法等が適用できる。
【００３９】
磁性層４８（軟磁性層）の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜する。磁性層４８の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）を用いることができる。特に、ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉが好ましく用いることができる。磁性層４８の厚さｔは、５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲が好ましく、１００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲が更に好ましい。
【００４０】
なお、磁性層４８の上にダイヤモンドライクカーボン等の保護膜を設けることが好ましく、保護膜の上に更に潤滑剤層を設けてもよい。この場合、保護膜として厚さが５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜と潤滑剤層とする構成が好ましい。また、磁性層４８と保護膜との間に、Ｓｉ等の密着強化層を設けてもよい。潤滑剤は、スレーブディスク４０との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などの耐久性の劣化を改善する効果を有する。
【００４１】
マスターディスク４６として、前記のプレス原盤を用いて樹脂基板を作製し、その表面に磁性層を設けて形成してもよい。樹脂基板の樹脂材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどが使用できる。
【００４２】
このうち、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネートが好ましい。成形品にバリがある場合は、これをバーニシュ又は研磨加工により除去する。また、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用して、プレス原盤にスピンコート、バーコート等の塗布によりマスターディスク４６を形成してもよい。樹脂基板のパターン突起の高さは、５０〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、１００〜５００ｎｍの範囲が更に好ましい。
【００４３】
この樹脂基板の表面の微細パターンの上に磁性層４８を被覆しマスターディスク４６を得る。磁性層４８の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜方法、メッキ法などによる成膜方法で行える。
【００４４】
一方、マスターディスク４６の形成方法の１種であるフォトファブリケーション法は、以下の手順で行う。先ず、たとえば、平板状の基板の平滑な表面にフォトレジストを塗布し、サーボ信号のパターンに応じたフォトマスクを用いた露光、現像処理により、情報に応じたパターンを形成させる。
【００４５】
次いで、エッチング工程により、パターンに応じて基板のエッチングを行い、磁性層４８の厚さに相当する深さの穴を形成する。次いで、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜方法、メッキ法等により、形成した穴に対応した厚さで基板の表面まで磁性材料を成膜する。
【００４６】
次いで、フォトレジストをリフトオフ法で除去し、表面を研磨して、バリがある場合には、これを取り除くとともに、表面を平滑化する。
【００４７】
次に、本発明の特徴部分であるマスターディスク４６に形成された長スリット４５について説明する。既述の図１に示されるように、マスターディスク４６の非サーボ領域４６ｃの１箇所には、内周部分４６ｄ近傍より外周部分４６ｅ近傍まで達する長スリット４５が形成されている。
【００４８】
この長スリット４５のスリットの幅は、マスターディスク４６の形状（外径、厚さ等）や材質によって最適範囲が異なるが、一般的には、０．０５〜３０００μｍが好ましく、５０〜５００μｍがより好ましい。スリットの幅が０．０５μｍ未満では、マスターディスク４６の歪や変形を、この長スリット４５が吸収しきれず、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にできない。一方、スリットの幅が３０００μｍ超では、マスターディスク４６の変形が大きくなり過ぎ、ディスク歪によるＲＲＯが増加発生するため、サーボとして機能できないために好ましくない。
【００４９】
なお、図１では長スリット４５が１箇所に形成されているが、２箇所以上に形成されている構成も採用できる。
【００５０】
マスターディスク４６における長スリット４５の形成方法は、基板４７の材質によって最適な加工方法が異なる。基板４７の材質がＮｉやＮｉ合金等の金属材料の場合には、放電加工（ワイヤーカット）やレーザ加工が好ましく、基板４７の材質がガラスやセラミックス等の脆性材料の場合には、超音波加工、ブラスト加工、フォトエッチングが好ましく、基板４７の材質が樹脂材料の場合には、機械加工（ブレード等による）が好ましい。
【００５１】
次に、マスターディスク４６の磁性層パターンを被転写用ディスク（スレーブディスク）に転写する磁気転写方法について説明する。図３は、本発明に係るマスターディスク４６を使用して磁気転写を実施するための磁気転写装置１０の要部斜視図である。
【００５２】
磁気転写装置１０において、磁気転写時には、図５（ａ）に示される後述する初期直流磁化を行った後の、スレーブディスク（被転写用ディスク）４０のスレーブ面（磁気記録面）を、マスターディスク４６の情報担持面に接触させ、所定の押圧力で密着させることができるようになっている。そして、このスレーブディスク４０とマスターディスク４６との密着状態で、磁界生成手段３０により転写用磁界を印加してサーボ信号等の磁化パターンを転写記録することができるようになっている。
【００５３】
次に、スレーブディスク４０について説明する。スレーブディスク４０は、両面又は片面に磁気記録層が形成されたハードディスク、フレキシブルディスク等の円盤状磁気記録媒体であり、マスターディスク４６に密着させる以前に、グライドヘッド、研磨体などにより表面の微小突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理（バーニッシィング等）が必要に応じて施される。また、スレーブディスク４０には予め初期磁化が施される。この詳細は後述する。
【００５４】
スレーブディスク４０としては、ハードディスク、高密度フレキシブルディスク等の円盤状磁気記録媒体が使用できる。スレーブディスク４０の磁気記録層には、塗布型磁気記録層、メッキ型磁気記録層、又は金属薄膜型磁気記録層が採用できる。
【００５５】
金属薄膜型磁気記録層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。これらは、磁束密度が大きいこと、磁界印加方向と同じ方向（面内記録なら面内方向）の磁気異方性を有していることより、明瞭な転写が行えるため好ましい。
【００５６】
そして磁性材料の下（支持体側）に必要な磁気異方性を付与するために、非磁性の下地層を設けることが好ましい。この下地層には、結晶構造と格子定数を磁性層４８に合わすことが必要である。そのためには、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を用いることが好ましい。
【００５７】
マスターディスク４６による磁気転写は、図３に示されるように、スレーブディスク４０の片面にマスターディスク４６を密着させて片面に逐次転写を行う場合と、スレーブディスク４０の両面にそれぞれマスターディスク４６、４６を密着させて両面で同時転写を行う場合とがある。なお、マスターディスク４６には、スレーブディスク４０と密着させる前に、付着した塵埃を除去するクリーニング処理が必要に応じて施される。
【００５８】
転写用磁界を印加する磁界生成手段３０は、密着手段に保持されたスレーブディスク４０及びマスターディスク４６の半径方向に延びるギャップ３１を有するコア３２にコイル３３が巻き付けられた電磁石装置３４、３４が上下両側に配設されてなり、上下で同じ方向にトラック方向と平行な磁力線Ｇ（図４参照）を有する転写用磁界を印加できるようになっている。この図４は、転写用磁界の印加方法を示す平面図であり、円周トラック４０Ａ、４０Ａ…と磁力線Ｇ、Ｇ…との関係を示す。
【００５９】
磁界印加時には、スレーブディスク４０及びマスターディスク４６を一体に回転させつつ磁界生成手段３０によって転写用磁界を印加し、マスターディスク４６の転写情報をスレーブディスク４０のスレーブ面に磁気的に転写記録できるように回転手段が設けられている。なお、この構成以外に、磁界生成手段３０を回転移動させるように設ける構成も採用できる。
【００６０】
転写用磁界は、最適転写磁界強度範囲（スレーブディスク４０の保磁力Ｈｃの０．６〜１．３倍）の最大値を越える磁界強度がトラック方向のいずれにも存在せず、最適転写磁界強度範囲内の磁界強度となる部分が１つのトラック方向で少なくとも１カ所以上存在し、これと逆向きのトラック方向の磁界強度がいずれのトラック方向位置においても最適転写磁界強度範囲の最小値未満である磁界強度分布の磁界をトラック方向の一部分で発生させている。
【００６１】
次に、上記のように構成された磁気転写装置１０による磁気転写方法について説明する。
【００６２】
図５は、磁気転写方法の基本工程を示す図である。図５のうち（ａ）は、磁場を一方向に印加してスレーブディスク４０を初期直流磁化する工程を、（ｂ）は、マスターディスク４６とスレーブディスク４０とを密着して反対方向に磁界を印加する工程を、（ｃ）は、は磁気転写後の状態をそれぞれ示す。また、図６は、図５（ｂ）における磁気転写の状態を説明する斜視図である。なお、各図は模式図であり各部の寸法は実際とは異なる比率で示している。
【００６３】
先ず、図５（ａ）に示されるように、スレーブディスク４０に初期磁界Ｈｉをトラック方向（円周方向）の一方向に印加して予め初期磁化（直流消磁）を行う。この初期磁化は、スレーブディスク４０の保磁力Ｈｃ以上の磁界強度部分をトラック方向位置で少なくとも１カ所以上有する磁界、好ましくは、スレーブディスク４０の保磁力Ｈｃ以上の磁界強度部分をトラック方向位置で一方向のみで有しており、逆方向の磁界強度はいずれのトラック方向位置でのスレーブディスク４０の保磁力未満である磁界強度分布の磁界を使用する。この磁界を、トラック方向の一部分で発生させ、スレーブディスク４０又は磁界をトラック方向に回転させることにより、全トラックの初期磁化（直流消磁）を行う。
【００６４】
次いで、図５（ｂ）及び図６に示されるように、このスレーブディスク４０のスレーブ面（磁気記録面）とマスターディスク４６の基板４７の微細凹凸パターンに磁性層４８が被覆されてなる情報担持面とを密着させ、スレーブディスク４０のトラック方向に初期磁界Ｈｉとは逆方向に転写用磁界Ｈｄを印加して磁気転写を行う。
【００６５】
スレーブディスク４０とマスターディスク４６とを密着させる際、従来のドーナツ状のマスターディスクでは、マスターディスクに反りや板厚偏差による歪や変形を生じていると、スレーブディスク４０とマスターディスクとの密着性を確保するのが困難である。
【００６６】
すなわち、マスターディスクの外形が円環状（ドーナツ状）である限り、マスターディスクがスレーブディスクの形状に倣うような剛性、板厚であっても逃げ部分がなく、極端な場合には、皺状の逃げ部分となってしまう。この逃げ部分では、局所的にスレーブディスク４０とマスターディスクとの密着性が確保されておらず、その結果、転写不良による信号抜けや、ＰＥＳ（Positive Error Signal ）劣化が発生する。
【００６７】
これに対し、本発明のマスターディスク４６によれば、磁性層パターンが形成されていない領域（非サーボ領域４６ｃ）において、内周部分４６ｄ近傍より外周部分４６ｅ近傍まで達する長スリット４５が形成されているので、マスターディスク４６とスレーブディスク４０とを密着させる際に生じる、マスターディスク４６の反りや板厚偏差による歪や変形を、この長スリット４５が吸収し、マスターディスク４６とスレーブディスク４０との密着状態を良好にできる。
【００６８】
磁気転写の結果、図５（ｃ）に示されるように、スレーブディスク４０のスレーブ面（トラック）にはマスターディスク４６の情報担持面の磁性層４８の密着凸部と凹部空間との形成パターンに応じた磁化パターンが転写記録される。
【００６９】
なお、マスターディスク４６の基板４７の凹凸パターンが、図５のポジパターンと逆の凹凸形状のネガパターンの場合であっても、初期磁界Ｈｉの方向及び転写用磁界Ｈｄの方向をこれと逆方向にすることによって、同様の磁化パターンが転写記録できる。
【００７０】
磁気転写されたスレーブディスク４０は、磁気記録装置（ハードディスクドライブ）に組み込んで好適に使用できる。これに使用されるハードディスクドライブとしては、各ドライブメーカーより販売されている公知の各種装置を使用すればよい。
【００７１】
次に、本発明に係る磁気転写用マスターディスクの他の実施の形態（第２実施形態）について説明する。図７は、本発明に係るマスターディスクの平面図である。図７に示されるように、マスターディスク４６の非サーボ領域４６ｃには、外周縁４６ｆより内周部４６ｄに向かう所定長さのスリットである短スリット４９が４個、等間隔で形成されている。
【００７２】
この短スリット４９の所定長さは、マスターディスク４６の形状（外径、厚さ等）や材質によって最適範囲が異なるが、０．５〜１０ｍｍが好ましく、１〜６ｍｍがより好ましい。スリットの長さが０．５ｍｍ未満では、マスターディスク４６の歪や変形を、この短スリット４９が吸収しきれず、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にできない。一方、スリットの長さが１０ｍｍ超では、マスターディスク４６の変形が大きくなり過ぎ、ディスク歪によるＲＲＯが増加発生するため、サーボとして機能できないために好ましくない。
【００７３】
なお、図７では短スリット４９が４箇所に形成されているが、２箇所や６箇所、８箇所に形成されている構成も採用できる。
【００７４】
また、短スリット４９のスリットの幅は、マスターディスク４６の形状（外径、厚さ等）や材質によって最適範囲が異なるが、一般的には、０．０５〜３０００μｍが好ましく、５０〜５００μｍがより好ましい。スリットの幅が０．０５μｍ未満では、マスターディスク４６の歪や変形を、この短スリット４９が吸収しきれず、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にできない。一方、スリットの幅が３０００μｍ超では、マスターディスク４６の変形が大きくなり過ぎ、ディスク歪によるＲＲＯが増加発生するため、サーボとして機能できないために好ましくない。
【００７５】
マスターディスク４６における短スリット４９の形成方法は、第１実施形態の長スリット４５の形成方法と同様にできる。
【００７６】
短スリット４９が形成された本発明のマスターディスク４６の効果は、第１実施形態の長スリット４５が形成されたマスターディスク４６と略同様であることより、説明は省略する。
【００７７】
特に、スレーブディスク４０の外周部分は、スキージャンプやロールオフ等の規格が厳しく規定されており、マスターディスク４６とスレーブディスク４０との良好な密着状態が求められる。したがって、外周部分にこのような短スリット４９が複数個、略等間隔で形成されていれば、密着状態を良好にできる。
【００７８】
次に、本発明に係る磁気転写用マスターディスクの他の実施の形態（第３実施形態）について説明する。図８は、本発明に係るマスターディスクの構成図であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は（ａ）の想像線４６ｈで切断した状態の断面図である。（ｂ）の符号Ａ及びＢは切断箇所を示す。
【００７９】
図８に示されるように、マスターディスク４６の裏面が円周方向に沿って所定ピッチの凹凸状（鋸刃状）に形成されている。この鋸刃状のピッチは、サーボ領域４６ｂ（及び非サーボ領域４６ｃ）のピッチに対応する。そして、サーボ領域４６ｂの部分の基板４７が肉厚になっており、非サーボ領域４６ｃの部分の基板４７が肉薄になっている。
【００８０】
第３実施形態のマスターディスク４６によれば、マスターディスク４６の裏面が円周方向に沿って所定ピッチの凹凸状に形成されているので、マスターディスク４６とスレーブディスク４０とを密着させる際に生じる、マスターディスク４６の反りや板厚偏差による歪や変形を、この裏面の凹凸状が吸収し、マスターディスク４６とスレーブディスク４０との密着状態を良好にできる。
【００８１】
すなわち、磁気転写に必要なサーボ領域４６ｂの部分の基板４７が肉厚になっているので、この部分は変形しにくく、磁気転写に不要な非サーボ領域４６ｃの部分の基板４７が肉薄になっているので、この部分は変形し易く、マスターディスク４６の反りや板厚偏差による歪や変形を、この裏面の肉薄部分で吸収できる。
【００８２】
この基板４７の凹凸状による肉厚差（凹凸の段差）は、マスターディスク４６の形状（外径、厚さ等）や材質によって最適範囲が異なるが、０．５〜５μｍが好ましく、１〜２μｍがより好ましい。肉厚差が０．５μｍ未満では、マスターディスク４６の歪や変形を、この基板４７の変形で吸収しきれず、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にできない。一方、肉厚差が５μｍ超では、マスターディスク４６の変形が大きくなり過ぎ、ディスク歪によるＲＲＯが増加発生するため、サーボとして機能できないために好ましくない。
【００８３】
なお、図８では裏面の凹凸状が鋸刃状に形成されているが、これ以外の断面形状、たとえば正弦波状、矩形波状等も採用できる。
【００８４】
マスターディスク４６における裏面の凹凸状の形成方法は、基板４７の材質によって最適な形成方法が異なる。基板４７の材質がＮｉやＮｉ合金等の金属材料の場合には、たとえば、電鋳の際の電極形状を工夫したり、電鋳の際に遮蔽板を設けたりして、肉厚差を生じさせる方法が採用できる。
【００８５】
基板４７の材質がガラスやセラミックス等の脆性材料の場合には、超音波加工、ブラスト加工、フォトエッチングが採用でき、基板４７の材質が樹脂材料の場合には、たとえば、プレス成型する際の金型をこのような形状にしておけばよい。
【００８６】
以上、本発明に係る磁気転写用マスターディスク、磁気記録媒体、及び磁気記録装置の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００８７】
たとえば、マスターディスク４６の長スリット４５の形状、短スリット４９の個数、図８（ｂ）に示される基板４７の断面形状等は１例であり、他の各種態様も採り得る。
【００８８】
また、上記実施形態においては、スレーブディスク４０（密着したマスターディスク４６も）を連続回転させながら、磁界生成手段３０によりスレーブディスク４０に磁気転写を行っているが、スレーブディスク４０及びマスターディスク４６への磁界印加を円周方向に１周以上行った後に、磁界強度を所定値まで減少させ、その後にスレーブディスク４０及びマスターディスク４６の回転を停止させる構成も採用できる。
【００８９】
このように、円周方向に１周分の転写後に、磁界強度を所定値まで漸減させ、しかる後に回転を停止させるのであれば、転写精度が受ける影響は非常に少なくなり、再生信号のＣ／Ｎ比は良好になる。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明に係る磁気転写用マスターディスクの平面図
【図２】マスターディスクの表面の微細凹凸パターンを示す部分拡大斜視図
【図３】磁気転写方法を実施するための磁気転写装置の要部斜視図
【図４】転写用磁界の印加方法を示す平面図
【図５】磁気転写方法の基本工程を示す図
【図６】図５（ｂ）における磁気転写の状態を説明する斜視図
【図７】本発明に係る磁気転写用マスターディスクの他の構成を示す平面図
【図８】本発明に係る磁気転写用マスターディスクの更に他の構成を示す平面図等
【符号の説明】
【００９１】
１０…磁気転写装置、２２、２４、２６…磁界生成手段、３０…磁界生成手段、３１…ギャップ、３２…コア、３３…コイル、３４…電磁石装置、４０…スレーブディスク（被転写用ディスク）、４５…長スリット、４６…マスターディスク、４６ｂ…サーボ領域、４６ｃ…非サーボ領域、４７…基板、４８…磁性層、４９…短スリット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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