(57)【要約】【課題】  処理液の液流をコントロールすることにより、洗浄，エッチング処理の均一性の向上を図れるようにし、また、周辺部の洗浄，エッチング量の向上を図れるようにすること。【解決手段】  半導体ウエハＷを起立状態に保持するウエハ保持体３０と、ウエハ保持体によって保持されたウエハを収容する処理容器１０と、処理容器内に処理液を供給する処理液供給ノズル４０とを具備し、処理液供給ノズルを、水平方向を軸に回転及び又は揺動可能に形成する。これにより、処理容器内に供給される処理液の液流をコントロールすることができる。【選択図】    図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を起立状態に保持する保持手段と、
上記保持手段によって保持された被処理体を収容する処理容器と、
上記処理容器内に処理液を供給する処理液供給手段と、を具備し、
上記処理液供給手段を、水平方向を軸に回転及び又は揺動可能に形成してなる、ことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の液処理装置において、
上記処理液供給手段を、処理容器に対して非接触な状態で水平方向を軸に回転及び又は揺動可能に形成してなる、ことを特徴とする液処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の液処理装置において、
上記処理液供給手段は、中心部に処理液供給路を有する円筒状のノズル本体と、このノズル本体の一側に設けられ、軸方向に沿設される吐出口と、を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の液処理装置において、
上記保持手段は、１又は互いに適宜間隔をおいて配列される複数の被処理体を垂直又は略垂直状態に保持すると共に、被処理体の略中心を軸に回転可能に形成されることを特徴とする液処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の液処理装置において、
上記処理容器は、側方に開口する有底筒状の処理容器本体と、この処理容器本体の開口部を気水密に開閉する蓋体と、を具備する密閉容器にて形成してなる、ことを特徴とする液処理装置。
【請求項６】
請求項５記載の液処理装置において、
上記蓋体に、保持手段が設けられていることを特徴とする液処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の液処理装置において、
上記処理液供給手段を、処理容器内に連通する収容部内に収容してなる、ことを特徴とする液処理装置。
【請求項８】
請求項７記載の液処理装置において、
上記収容部に排液口を設けたことを特徴とする液処理装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の液処理装置において、
上記処理液供給手段を、処理容器の側部又は下部側に１又は複数配設し、処理容器における１つの処理液供給手段と対向する部位及び処理容器の下部に排液部を形成してなる、ことを特徴とする液処理装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の液処理装置において、
上記処理容器の上部側に空気抜き口を形成してなる、ことを特徴とする液処理装置。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の液処理装置において、
上記処理容器に、乾燥用気体の供給源に接続する供給口を形成してなる、ことを特徴とする液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理体に処理液を供給して処理を施す液処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体製造装置の製造工程においては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理体を薬液やリンス液等の処理液が貯留された処理槽に浸漬すると共に処理液を供給して処理を施す液処理方法が広く採用されている。
【０００３】
このような液処理方法を実施する液処理の一例として、複数枚の被処理体を互いに等ピッチで平行かつ垂直な姿勢で支持する支持手段と、この支持手段によって支持された複数の被処理体を収容する処理槽と、この処理槽の下部側の対向する部位に配置された一対の処理液供給部（ノズル）から処理液例えば薬液とリンス液（純水）を順次供給して処理を施す液処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００１−２７１１８８（特許請求の範囲、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特開２００１−２７１１８８に記載の技術は、一対の処理液供給ノズルが固定のため、処理液供給ノズルから処理槽内に供給される処理液を被処理体に対して均一な流れを形成することが難しかった。
【０００５】
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、処理液の液流をコントロールすることにより被処理体と処理液との接触を均一にして、洗浄，エッチング処理の均一性の向上を図れるようにし、また、処理液の液流方向を被処理体の周辺部に多く向けることにより、周辺部の洗浄，エッチング量の向上を図れるようにした液処理装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、この発明の液処理装置は、被処理体を起立状態に保持する保持手段と、  上記保持手段によって保持された被処理体を収容する処理容器と、  上記処理容器内に処理液を供給する処理液供給手段と、を具備し、  上記処理液供給手段を、水平方向を軸に回転及び又は揺動可能に形成してなる、ことを特徴とする（請求項１）。
【０００７】
この発明において、上記処理液供給手段は、水平方向を軸に回転及び又は揺動可能に形成されるものであれば、その形態は任意のものであっても差し支えないが、好ましくは、上記処理液供給手段を、処理容器に対して非接触な状態で回転及び又は揺動可能に形成する方がよい（請求項２）。
【０００８】
また、上記処理液供給手段の構造は任意のものであっても差し支えないが、好ましくは、上記処理液供給手段を、中心部に処理液供給路を有する円筒状のノズル本体と、このノズル本体の一側に設けられ、軸方向に沿設される吐出口と、を具備する構造とする方がよい（請求項３）。この場合、吐出口は、スリット状あるいは適宜間隔をおいた複数の孔であってもよい。
【０００９】
また、上記保持手段は、被処理体を起立状態に保持するものであれば、その形態は任意でよいが、好ましくは、保持手段は、１又は互いに適宜間隔をおいて配列される複数の被処理体を垂直又は略垂直状態に保持すると共に、被処理体の略中心を軸に回転可能に形成される方がよい（請求項４）。
【００１０】
また、上記処理容器を、側方に開口する有底筒状の処理容器本体と、この処理容器本体の開口部を気水密に開閉する蓋体とを具備する密閉容器にて形成する方が好ましい（請求項５）。この場合、上記蓋体に保持手段を設けることができる（請求項６）。
【００１１】
また、上記処理液供給手段は、処理容器内に処理液を供給するものであれば、処理容器内に配設されていても差し支えないが、好ましくは、処理液供給手段を、処理容器内に連通する収容部内に収容する方がよい（請求項７）。この場合、収容部に排液口を形成する方が好ましい（請求項８）。
【００１２】
また、上記処理液供給手段を、処理容器の側部又は下部側に１又は複数配設し、処理容器における１つの処理液供給手段と対向する部位及び処理容器の下部に排液部を形成する方が好ましい（請求項９）。
【００１３】
また、上記処理容器の上部側に空気抜き口を形成する方が好ましい（請求項１０）。
【００１４】
加えて、上記処理容器に、乾燥用気体の供給源に接続する供給口を形成する方が好ましい（請求項１１）。
【発明の効果】
【００１５】
この発明の液処理装置は、上記のように構成されているので、以下のような効果が得られる。
【００１６】
（１）請求項１記載の発明によれば、保持手段によって起立状態に保持された被処理体を収容する処理容器内に処理液を供給する処理液供給手段を、水平方向を軸に回転及び又は揺動可能に形成することにより、処理容器内の処理液の液流を被処理体の周辺から中心方向まで任意にコントロールし、かつ、回転又は揺動動作のスピードや範囲を制御することができるので、被処理体の全面を均一に処理（洗浄，エッチング）することができる。また、処理液の液流方向を被処理体の周辺部をより多く、処理することにより、周辺部の洗浄，エッチング量の向上を図ることができる。
【００１７】
（２）請求項２記載の発明によれば、処理液供給手段を、処理容器に対して非接触な状態で水平方向を軸に回転及び又は揺動可能に形成することにより、処理液供給手段からのパーティクルの発生を抑制することができるので、上記（１）に加えて、更に処理精度の向上を図ることができると共に、装置の信頼性の向上を図ることができる。
【００１８】
（３）請求項３記載の発明によれば、処理液供給手段は、中心部に処理液供給路を有する円筒状のノズル本体と、このノズル本体の一側に設けられ、軸方向に沿設される吐出口と、を具備することにより、処理液供給手段の回転又は揺動と共に吐出口から吐出される処理液の液流によって、処理液供給手段の収容部内の処理液を処理容器内に流すことができるので、処理液の供給を円滑にすることができると共に、処理効率の向上を図ることができる。
【００１９】
（４）請求項４記載の発明によれば、保持手段を、１又は互いに適宜間隔をおいて配列される複数の被処理体を垂直又は略垂直状態に保持すると共に、被処理体の略中心を軸に回転可能に形成することにより、被処理体を任意の回転数で処理液中に回転することができるので、上記（１）〜（３）に加えて、更に被処理体の全面を均一に処理することができる。
【００２０】
（５）請求項５，６記載の発明によれば、処理容器を密閉容器とすることにより、処理中に外部の雰囲気例えば、気流や温度等による悪影響を受ける虞がないので、上記（１）〜（４）に加えて、更に処理の向上を図ることができる。
【００２１】
（６）請求項７記載の発明によれば、処理液供給手段を、処理容器内に連通する収容部内に収容することにより、処理液の供給に支障をきたすことなく、処理容器内の空間を可及的に小さくすることができるので、上記（１）〜（５）に加えて、更に処理効率の向上が図れると共に、装置の小型化を図ることができる。この場合、収容部に排液口を設けることにより、収容部に残留する処理液を排出することができる（請求項８）。
【００２２】
（７）請求項９記載の発明によれば、処理液供給手段を、処理容器の側部又は下部側に１又は複数配設し、処理容器における１つの処理液供給手段と対向する部位及び処理容器の下部に排液部を形成することにより、処理に供された処理液を排液部から排出して常時新規な処理液を被処理体に接触させて処理を施すことができるので、上記（１）〜（６）に加えて、更に処理効率の向上を図ることができる。
【００２３】
（８）請求項１０記載の発明によれば、処理容器の上部側に空気抜き口を形成することにより、処理液供給手段から処理容器内に供給される処理液の液流を円滑にすることができるので、上記（１）〜（７）に加えて、更に処理効率の向上及び処理精度の向上を図ることができる。
【００２４】
（９）請求項１１記載の発明によれば、処理容器に、乾燥用気体の供給源に接続する供給口を形成することにより、処理液の供給により処理が施された被処理体に乾燥用気体を供給して乾燥処理を施すことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下に、この発明の最良の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
【００２６】
図１は、この発明に係る液処理装置を具備する処理システムの一例を示す概略平面図、図２は、上記処理システムの要部の概略縦断面図、図３は、この発明における処理容器を構成する処理容器本体と蓋体を示す斜視図、図４は、この発明に係る液処理装置の配管状態を示す概略構成図、図５は、上記液処理装置の第１実施形態を示す概略断面図である。
【００２７】
上記処理システムは、図１及び図２に示すように、複数枚例えば２５枚の被処理体である半導体ウエハＷ（以下にウエハＷという）を所定の間隔例えば１０ｍｍピッチをおいて水平状態に保持するキャリアＣの搬入・搬出部１と、複数枚例えば２５枚のウエハＷを所定の間隔例えば３ｍｍピッチで保持する２台のピッチ変換機能を有するウエハホルダ２ａ，２ｂを配設するピッチ変換・搬送部３と、キャリア搬入・搬出部１とピッチ変換・搬送部３との間に位置して、搬入・搬出部１のキャリアＣとピッチ変換・搬送部３のウエハホルダ２ａ，２ｂに対してそれぞれウエハＷを受け渡しする水平のＸ，Ｙ方向と回転（θ）及び垂直のＺ方向に移動自在なウエハ搬送アーム４を配設するウエハ搬送部５と、ピッチ変換・搬送部３に配設される蓋体１１と共働して密閉の処理容器１０を構成する処理容器本体１２とを具備する処理部すなわちこの発明に係る液処理装置６とで主に構成されている。
【００２８】
上記ピッチ変換・搬送部３に配設される蓋体１１は、Ｙ方向に対峙して配設された２台のウエハホルダ２ａ，２ｂの中間部に位置しており、姿勢変換及び移動機構６０によって複数枚例えば２５枚のウエハＷを等間隔例えば３ｍｍピッチの垂直状態にした状態で処理容器本体１２の開口部１３に密接されるように構成されている（図３参照）。
【００２９】
上記液処理装置６は、上記蓋体１１と処理容器本体１２とで構成される密閉式の処理容器１０と、蓋体１１を気水密に貫通して、後述するウエハ回転モータ２０によって垂直方向に回転される保持手段であるウエハ保持体３０と、処理容器１０内の下部側に連通する断面略円形状の収容部１４と、この収容部１４内に隙間１５をおいて回転自在に配設（収容）される処理液供給手段である処理液供給ノズル４０と、この処理液供給ノズル４０を正逆回転する後述するノズル回転モータ５０とを具備している。
【００３０】
上記処理容器本体１２は、側方に開口部１３を有する有底筒状に形成されており、側壁における下部側の一部に連通口１６を介して収容部１４が連通し、この収容部１４と対向する部位に排液口１７が設けられている。また、側壁における下端側には、急速排液口１７Ａが設けられ、上端側には、空気抜き口１８と乾燥用気体供給口１９が設けられている（図５参照）。
【００３１】
上記蓋体１１は、処理容器本体１２の開口部１３を閉塞すべく円板状に形成されており、開口部１３に対向する面にＯリング１１ａが装着されている。このように構成される蓋体１１は、上記姿勢変換及び移動機構６０によって処理容器本体１２の開口部１３を気水密に閉塞及び開放することができるようになっている（図８参照）。
【００３２】
上記ウエハ保持体３０は、図８及び図９に示すように、蓋体１１を貫通する回転軸２１に直交状に連結される略長方形状の回転基体３１と、該回転基体３１の両端部に可撓性を有する伸縮部材例えば蛇腹部材３４を介して半径方向に伸縮移動可能な可動部材３５と、各可動部材３５の先端部から回転軸２１と平行方向に起立する互いに対峙する一対の保持棒３２を具備しており、各保持棒３２の対向する内周側面に刻設された複数の保持溝３３にウエハＷの外周縁部を保持し得るように構成されている。なお、回転基体３１側には、可動部材３５及び保持棒３２を半径方向に伸縮移動する伸縮機構（図示せず）が設けられている。
【００３３】
このように構成されるウエハ保持体３０によれば、図示しない伸縮機構によって保持棒３２を外方に移動した状態で、ウエハＷを保持したウエハホルダ２を保持棒３２の内方側に向かい入れ、その後、伸縮機構によって保持棒３２を内方側に移動してウエハＷを受け取ることができる。そして、姿勢変換及び移動機構６０によってウエハＷを起立状態すなわち垂直又は略垂直状態の垂直姿勢に変換した後、処理容器本体１２内に収容することができる。また、処理が施されたウエハＷを保持した状態で処理容器本体１２から離反され、水平状態に姿勢変換された状態で、保持棒３２の内方側にウエハホルダ２が挿入されると、伸縮機構によって保持棒３２が外方側に移動してウエハＷをウエハホルダ２に受け渡すことができる。
【００３４】
上記ウエハ回転モータ２０は、図８に示すように、ウエハ保持体３０の回転軸２１との間に隙間をおいて回転軸２１を包囲する有底筒状のモータ本体２３を具備しており、モータ本体２３には浮上用電磁コイル２４が埋設され、回転軸２１には磁性部材２５が埋設されている。このように構成されるウエハ回転モータ２０は、図示しないコントローラからの制御信号に基づいて回転方向や所定の回転数例えば１〜６０ｒｐｍが制御されるようになっている。なお、モータ本体２３と回転軸２１は、共に耐薬品性，耐食性に富む材質例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等の合成樹脂にて形成されている。
【００３５】
このように構成されるウエハ回転モータ２０によれば、浮上用電磁コイル２４を通電して励磁することにより、回転軸２１がモータ本体２３との間に隙間をおいた非接触の状態で回転することができる。したがって、ウエハ回転モータ２０の駆動によるパーティクルの発生を抑制することができる。なお、モータ本体２３の中間部には位置決め用電磁コイル２６が埋設されており、この位置決め用電磁コイル２６の励磁によって回転軸２１の軸方向に位置が規制されるようになっている。また、モータ本体２３の左右両端部の上下位置には、グリップ・シリンダ２７が配設されており、ウエハ回転モータ２０の通電が停止された際、あるいは、例えば停電等の予期しない通電の遮断時にグリップ・シリンダ２７が作動すなわちピストンロッド２７ａを伸長して回転軸２１の下方への移動を防止し得るように構成されている。また、モータ本体２３の先端側には供給口２８が設けられており、この供給口２８に例えば薬液，リンス液（純水）あるいは乾燥用ガス例えば窒素（Ｎ2）ガス等の供給管（図示せず）が接続されるようになっている。
【００３６】
一方、処理液供給ノズル４０（以下に単にノズル４０という）は、図５ないし図７に示すように、中心部に処理液供給路４１を有する略円筒状のノズル本体４２と、このノズル本体４２の一側に設けられ、軸方向に沿設される例えばスリット状あるいは軸方向に適宜間隔をおいて沿設される複数の孔からなる吐出口４３とを具備している。このように形成されるノズル４０は、収容部１４内に隙間１５をおいて配設（収容）され、ノズル４０の一側面の中心部に突設されたノズル回転軸５３が収容部１４を構成するケース４４に一体に設けられた案内筒４５内に隙間をおいて挿入されており、ノズル回転モータ５０の駆動によってノズル４０が処理容器本体１２｛具体的には、収容部１４を構成するケース４４｝に対して非接触に回転及び又は揺動可能に形成されている。なお、図５に二点鎖線で示すように、ノズル本体４２における吐出口４３の背部側の１又は複数箇所（図面では３箇所の場合を示す）に液溜り防止用孔４６を設けるようにしてもよい。このように液溜り防止用孔４６を設けることにより、液溜り防止用孔４６から処理液を隙間１５内に流すことができるので、隙間１５内に処理液が淀むのを防止することができる。
【００３７】
この場合、ノズル回転モータ５０は、案内筒４５の外周面に嵌装される有底筒状のノズルモータ本体５０ａを具備しており、このノズルモータ本体５０ａの先端側と基端側の２箇所には浮上用電磁コイル５１が埋設され、両浮上用電磁コイル５１間の中間部には位置決め用電磁コイル５２が埋設されている。また、ノズル回転軸５３には磁性部材５４が埋設されている。このように構成されるノズル回転モータ５０によれば、浮上用電磁コイル５１と位置決め用電磁コイル５２を通電して励磁することにより、ノズル回転軸５３がモータ本体５０ａとの間に隙間をおいて非接触の状態で回転することができる。したがって、ノズル回転モータ５０の駆動によるパーティクルの発生を抑制することができる。なお、ノズルモータ本体５０ａとノズル回転軸５３は、共に耐薬品性，耐食性に富む材質例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等の合成樹脂にて形成されている。上記のように構成されるノズル回転モータ５０は、図示しないコントローラからの制御信号に基づいて正逆回転又は揺動動作が制御されるようになっている。
【００３８】
上記のように構成されるノズル４０の処理液供給路４１には、第１の開閉バルブＶ1を介して主供給管路７０の一端が接続されている。この場合、第１の開閉バルブＶ1と後述する切換供給バルブＶａ，Ｖｂ，Ｖｃ，Ｖｄ等を収容したバルブケース５５が、ガスケット５６を介してケース４４に連結されている（図６参照）。
【００３９】
上記主供給管路７０の他端には純水供給源７１が接続されている。この場合、主供給管路７０の純水供給源側には分岐管路７２が並列に接続されており、並列部において主供給管路７０には純水供給源側から順に、第２の開閉バルブＶ2，フィルタＦ1，流量計ＦＭ1及び処理液を処理温度に調整する加熱機構Ｈが介設され、分岐管路７２には純水供給源側から順に、第３の開閉バルブＶ3，フィルタＦ2，流量計ＦＭ2が介設されている。
【００４０】
また、主供給管路７０の途中には、それぞれ切換供給バルブＶａ，Ｖｂ，Ｖｃ，Ｖｄを介設した薬液供給管路７３ａ，７３ｂ，７３ｃ，７３ｄを介して薬液タンク７４ａ，７４ｂ，７４ｃ，７４ｄが接続されている。なお、薬液タンク７４ａ，７４ｂ，７４ｃ，７４ｄ内には、種類の異なる薬液、例えばアンモニア（ＮＨ4ＯＨ），塩酸（ＨＣｌ），フッ酸（ＨＦ）等が貯留されており、処理の目的に応じて切換供給バルブＶａ，Ｖｂ，Ｖｃ，Ｖｄのいずれかを開放して主供給管路７０内を流れる純水と混合してノズル４０から処理容器１０内に供給されるようになっている。
【００４１】
また、収容部１４を構成するケース４４には、排液口７６が設けられており、開閉バルブＶ4を介設した排出管路７５が接続されている。この排出管路７５は、排液管路７８Ａに接続されている。
【００４２】
上記排液口１７には、開閉バルブＶ5を介設した排液管路７８が接続されている。この排液管路７８の下流側には、純水用の１つのドレーンバルブＤＶ1と３つの薬液用ドレーンバルブＤＶ2，ＤＶ3，ＤＶ4をそれぞれ介設したドレーン管路７９が並列に接続されている。
【００４３】
上記空気抜き口１８には、開土調整可能な開閉バルブＶ6を介設した排気管路８０が接続されており、開閉バルブＶ6の開放によって処理容器１０内の泡が溜まるのを防止している。なお、排気管路８０は、上記排液管路７８に接続されている。
【００４４】
上記乾燥用気体供給口１９には、開閉バルブＶ７を介して乾燥用気体（媒体）の供給管路、例えばクールＮ2ガス供給管路８１，ホットＮ2ガス供給管路８２及びイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）供給管路８３が接続されており、必要に応じて図示しないＮ2ガス供給源やＩＰＡ供給源からクール又はホットのＮ2ガスやＩＰＡ蒸気が処理容器１０内に供給されるように構成されている。
【００４５】
また、急速排液口１７Ａには、開閉バルブＶ8を介設した大口径の排液管路７８Ａが接続されており、処理容器１０内でのウエハＷの処理が終了した後に、開閉バルブＶ8を開放することによって処理容器１０内の処理に供された処理液（薬液，純水）を短時間内に排液管路７８Ａを介して外部に排出できるようになっている。
【００４６】
なお、排液管路７８Ａとは別系統に排液管路７８Ｂが配設されている。この排液管路７８Ｂには、上記主供給管路７０に切換バルブＶAを介設した戻り管路８４が接続されている。
【００４７】
なお、上記処理容器１０の処理空間の上部側の左右２箇所には、特に急速排液口１７Ａからの液排出時にウエハホルダ２によって保持された複数枚のウエハＷの隣接同士が接触するのを防止する倒れ防止機構９０が設けられている。この倒れ防止機構９０は、隣接するウエハＷの隙間内に挿入可能な複数の支持片９１を列設した櫛歯状の倒れ防止部材９２を、図示しない回転手段によって支持片９１がウエハＷに係合する位置と非係合位置に切り換え可能に形成されている（図５参照）。
【００４８】
なお、図５に示すように、上記処理容器１０の上部外周の一側面に、超音波発振器１００を装着することも可能である。このように構成することにより、超音波発振器１００の作動により、処理容器１０内の処理液に超音波振動を付与して処理を行うことができる。
【００４９】
次に、この発明に係る液処理装置の動作態様について説明する。まず、搬入・搬出部１にセットされたキャリアＣ内のウエハＷをウエハ搬送アーム４によって取り出して、一方のウエハホルダ２ａに受け渡す。この動作を繰り返して、キャリアＣ内の複数枚のウエハＷを順にウエハホルダ２ａに受け渡してウエハＷ間のピッチを例えば３ｍｍに変換する。次に、ウエハホルダ２ａを作動してウエハホルダ２ａによって保持された複数枚のウエハＷを蓋体１１に装着されたウエハ保持体３０の保持棒３２に受け渡す。ウエハＷがウエハ保持体３０に受け渡された後、ウエハホルダ２ａはウエハ保持体３０から退避する一方、姿勢変換及び移動機構６０が作動して、蓋体１１と共にウエハ保持体３０を水平姿勢から垂直姿勢に姿勢変換すると共に処理容器本体１２側に移動し、ウエハＷを処理容器本体１２内に搬入すると共に、蓋体１１を処理容器本体１２の開口部１３に密閉する。
【００５０】
上記のようにして、処理容器１０内にウエハＷを垂直状態で収容した状態で、開閉バルブＶ2を開放して純水供給源７１から主供給管路７０に処理温度に温調された純水を流すと共に、切換開閉バルブＶａ，Ｖｂ，Ｖｃ，Ｖｄのうちの選択された１つを開放して薬液を純水に混合して、混合薬液をノズル４０側に供給する。混合薬液の供給時には、ノズル４０は吐出口４３を処理容器内の下部側に位置しており、ノズル回転モータ５０が駆動してノズル４０は下方側から上方に向かって回転して、混合薬液のしぶきがウエハＷに飛散するのを防止しながら、処理容器１０内に混合薬液を供給する。また、薬液の供給と同時に、ウエハ回転モータ２０が駆動して、ウエハ保持体３０と共にウエハＷが略中心を軸にしてゆっくりと回転する。なお、ノズル４０からの薬液供給時には、空気抜き口１８に接続する排気管路８０に介設された開閉バルブＶ6が開放されているので、処理容器１０内に供給される薬液の液流は円滑になる。したがって、略中心を軸に回転するウエハＷに対して処理容器１０の下部側に配設されたノズル４０を回転又は揺動、あるいは、揺動を数回行なった後、回転を行いながら薬液を供給することにより、薬液の液流がウエハＷの周辺から中心方向に流れ、ウエハＷの全面に均一に薬液が接触してエッチング処理が施される。また、ノズル回転モータ５０を制御してノズル４０から供給される薬液の液流方向をウエハＷの周辺部に多く向けることにより、周辺部をより多くエッチング処理することもできる。なお、処理容器１０内に供給され、処理に供された薬液は、排液口１７から排液管路７８を介して排液される。また、収容部１４内のノズル４０との隙間に薬液が溜まる虞があるが、ノズル４０が３６０°回転可能であるため、回転した際にノズル４０の回転により吐出口４３から吐出される新規の薬液によって排出されるので、処理容器１０内には薬液の淀みがなく、常時新規の薬液が供給される。
【００５１】
上記のようにして、薬液処理を所定時間行った後、切換供給バルブを閉じて薬液の供給を停止し、回転するノズル４０から純水のみを処理容器１０内に供給してリンス処理を行う。この際、開閉バルブＶ2を閉じると共に、開閉バルブＶ3を開放して温調されていない純水を供給する。このリンス処理時においてもウエハ回転モータ２０の駆動によってウエハＷは回転しているので、回転するノズル４０から供給される純水はウエハＷの周辺から中心方向に流れ、ウエハＷの全面に均一に純水が接触してリンス処理が施される。この際にも、収容部１４の隙間１５にノズル４０の回転により、純水が供給可能であるため、収容部１４内に薬液が残ることがない。
【００５２】
上記のようにして、リンス処理を所定時間行った後、開閉バルブＶ3を閉じると共に、ノズル回転モータ５０の駆動を停止して純水の供給を停止する。その後、開閉バルブＶ8及びＶ4を開放して、処理容器１０内の純水を急速排液口１７Ａから排液管路７８Ａを介して外部に排出する。この純水の排液と同時に、乾燥用気体供給口１９から乾燥用気体例えばＮ2ガス又はＮ2ガスとＩＰＡの混合気体を処理容器１０内に供給してウエハＷに付着した液滴を除去して、ウエハＷを乾燥する。
【００５３】
上記のようにして、所定の時間乾燥用気体を処理容器１０内に供給して乾燥処理を行った後、乾燥用気体の供給を停止して、液処理が終了する。
【００５４】
次に、姿勢変換及び移動機構６０を駆動して、蓋体１１を処理容器本体１２の開口部１３から引き離すと共に、ウエハ保持体３０によって保持されたウエハＷを処理容器本体１２内から取り出し、垂直姿勢から水平姿勢に変換する。姿勢変換及び移動機構６０によって水平姿勢に変換されたウエハＷは、搬入時と違うウエハホルダ２ｂに受け取られた後、ウエハ搬送アーム４によって空のキャリアＣ内に収容されて、次の処理部に搬送される。
【００５５】
なお、上記実施形態では、ノズル４０が処理容器１０の下部側の一側部に１個設けられる場合について説明したが、ノズル４０は必ずしも処理容器１０の下部側の一側部に設け場合に限定されるものではない。例えば、図１０に示すように、処理容器１０の下部側の対向する２箇所に設けられた収容部１４内にそれぞれノズル４０を回転及び又は揺動可能に配設してもよい。なお、この場合、排液口１７は、一方のノズル４０と対向する位置に設けられている。このように、処理容器１０の下部側の対向する２箇所にノズル４０を設けることにより、処理時には、回転するウエハＷに対して両ノズル４０を回転及び又は揺動させながら処理液（薬液，純水）を供給することができるので、処理時間の短縮を図ることができる。
【００５６】
また、図１１に示すように、処理容器１０の垂直方向における中心部の一側部に収容部１４を連通し、この収容部１４内にノズル４０を回転及び又は揺動可能に配設し、ノズル４０と対向する部位に排液口１７を設けるようにしてもよい。
【００５７】
なお、上記図１０及び図１１において、その他の部分は上記第１実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００５８】
＜その他の実施形態＞
上記実施形態では、複数枚のウエハＷを処理する場合について説明したが、１枚のウエハＷを処理する液処理装置についても適用できることは勿論である。
【００５９】
また、上記実施形態では、被処理体がウエハである場合について説明したが、ウエハ以外の例えばＬＣＤ用ガラス基板の液処理についても同様に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】この発明に係る液処理装置を具備する処理システムの一例を示す概略平面図である。
【図２】上記処理システムの要部の概略縦断面図である。
【図３】この発明における処理容器を構成する処理容器本体と蓋体を示す斜視図である。
【図４】この発明に係る液処理装置の配管状態を示す概略構成図である。
【図５】上記液処理装置の第１実施形態を示す概略断面図である。
【図６】この発明における処理液供給ノズルの一例を示す分解斜視図である。
【図７】上記処理液供給ノズルの断面図である。
【図８】この発明における処理容器と保持手段を示す縦断面図である。
【図９】この発明における保持手段を示す概略断面図である。
【図１０】この発明に係る液処理装置の第２実施形態を示す概略断面図である。
【図１１】この発明に係る液処理装置の第３実施形態を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００６１】
１０  処理容器
１１  蓋体
１１ａ  Ｏリング
１２  処理容器本体
１３  開口部
１４  液溜り室
１５  隙間
１７，１７Ａ  排液口
１８  空気抜き口
１９  乾燥用気体供給口
２０  ウエハ回転モータ
２１  回転軸
３０  ウエハ保持体（保持手段）
４０  処理液供給バルブ（処理液供給手段）
４１  処理液供給路
４２  ノズル本体
４３  吐出口
５０  ノズル回転モータ
５３  ノズル回転軸
７０  主供給管路
７１  純水供給源
７３ａ〜７３ｄ  薬液供給管路
７４ａ〜７４ｄ  薬液タンク
７６  排液口
Ｗ  半導体ウエハ（被処理体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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