(57)【要約】【課題】磁気転写を行う際の、潤滑剤の吸着力を抑制させ、マスターディスクの変形となる不具合を排除し、正確な磁化パターンの転写を行う。【解決手段】表面に多数の微細な凹凸状の磁性層パターンが形成されている転写領域４６ｂと、転写領域に隣接する非転写領域４６ｃとが交互に形成されている磁気転写用マスターディスク４６において、転写領域の凹凸状パターンの段差Ｓよりも低い高さＤの複数の突起５０を非転写領域４６ｃに形成する。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に多数の微細な凹凸状の磁性層パターンが形成されている転写領域と、該転写領域に隣接する非転写領域とが交互に形成されている磁気転写用マスターディスクにおいて、
前記転写領域の凹凸状パターンの段差Ｓよりも低い高さＤの複数の突起が前記非転写領域に形成されていることを特徴とする磁気転写用マスターディスク。
【請求項２】
前記突起高さＤが前記パターンの段差Ｓの０．２倍〜０．５倍である請求項１に記載の磁気転写用マスターディスク。
【請求項３】
前記突起が球面の一部よりなる形状を呈している請求項１又は２に記載の磁気転写用マスターディスク。
【請求項４】
前記突起がレーザ加工により形成されている請求項１、２又は３に記載の磁気転写用マスターディスク。
【請求項５】
前記請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気転写用マスターディスクの表面に被転写用磁気記録媒体を密着させる密着工程と、
磁界生成手段を設け、前記被転写用磁気記録媒体と前記マスターディスクの円周方向に磁界を加え、前記マスターディスクの磁気パターンを前記被転写用磁気記録媒体に転写させる磁気転写工程と、
を経て磁気記録されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項６】
前記請求項５に記載の磁気記録媒体を備えたことを特徴とする磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気転写用マスターディスク、磁気記録媒体、及び磁気記録装置に係り、特に、ハードディスク装置等に用いられる磁気ディスクに、フォーマット情報等の磁気情報パターンを転写するのに好適な磁気転写用マスターディスク、該マスターディスクにより磁気転写された磁気記録媒体、及び該磁気記録媒体を備える磁気記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、急速に普及しているハードディスクドライブに使用される磁気ディスク（ハードディスク）は、磁気ディスクメーカーよりドライブメーカーに納入された後、ドライブに組み込まれる前に、フォーマット情報やアドレス情報が書き込まれるのが一般的である。この書き込みは、磁気ヘッドにより行うこともできるが、これらのフォーマット情報やアドレス情報が書き込まれているマスターディスクより一括転写する方法が効率的であり、好ましい。
【０００３】
この磁気転写技術は、マスターディスクと被転写ディスク（スレーブディスク）とを密着させた状態で、片側又は両側に電磁石装置、永久磁石装置等の磁界生成手段を配設して転写用磁界を印加し、マスターディスクの有する情報（たとえばサーボ信号）に対応する磁化パターンの転写を行うものである。
【０００４】
このような磁気転写を確実に行うためには、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にすること、すなわち、均一に隙間なく密着させることが求められる。このため、従来より各種構成のものが提案されている（たとえば、特許文献１〜３等参照。）。
【０００５】
このうち、特許文献１の提案は、マスターディスクの非転写領域に転写領域のパターンよりも高い凸部を形成して、マスターディスクとスレーブディスクとの接触圧を低減させる構成のものである。
【０００６】
特許文献２の提案は、マスターディスクのサーボ領域がデータ領域よりも凸状になるように形成して、マスターディスクとスレーブディスクとの密着状態を良好にさせる構成のものである。特許文献３の提案は、マスターディスクのスレーブディスクと接触する部分に所定高さの突起を所定密度で形成し、マスターディスクとスレーブディスクとの剥離性を向上させる構成のものである。
【特許文献１】特開２００２−２５１７２１号公報
【特許文献２】特開２００２−７４６５５号公報
【特許文献３】特開２００４−７９０５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記のような磁気転写方法においても、依然として解決されていないマスターディスクの変形という問題点がある。すなわち、マスターディスクの剛性が高ければ、マスターディスクとスレーブディスクとを密着させた場合、マスターディスクの転写領域がスレーブディスクと接触し、マスターディスクの非転写領域はスレーブディスクと接触しない筈であるが、通常はマスターディスクが弾性変形し、マスターディスクの非転写領域もスレーブディスクと接触してしまう。
【０００８】
この場合であっても、マスターディスクとスレーブディスクとの剥離性が良好であれば、マスターディスクの弾性変形は回復して、何ら問題は生じないが、スレーブディスク表面の潤滑剤により、マスターディスクとスレーブディスクとの剥離性が低下することが多い。
【０００９】
すなわち、一般的に、ハードディスク装置は、ＣＳＳ（Contact Start & Stop）方式を採用しており、ヘッドの接触によるダメージ防止等の目的で、ハードディスク（スレーブディスク）の表面に潤滑剤（いわゆる、Lube. ）の層が形成されており、この潤滑剤の吸着力により、剥離時にマスターディスクが塑性変形する場合がある。そして、一旦塑性変形したマスターディスクでは、正確な磁化パターンの転写が行えない。
【００１０】
したがって、この場合、マスターディスクを新規なものに交換する必要があるが、マスターディスクは高価なものであり、コスト的な負担は大きく、また、交換の手間も無視し難い。
【００１１】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、磁気転写を行う際の、潤滑剤の吸着力を抑制させ、マスターディスクの変形となる不具合を排除し、正確な磁化パターンの転写が行えるようにした磁気転写用マスターディスク、該マスターディスクにより磁気転写された磁気記録媒体、及び該磁気記録媒体を備える磁気記録装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するために、本発明は、表面に多数の微細な凹凸状の磁性層パターンが形成されている転写領域と、該転写領域に隣接する非転写領域とが交互に形成されている磁気転写用マスターディスクにおいて、前記転写領域の凹凸状パターンの段差Ｓよりも低い高さＤの複数の突起が前記非転写領域に形成されていることを特徴とする磁気転写用マスターディスクを提供する。
【００１３】
本発明によれば、転写領域の凹凸状パターンの段差Ｓよりも低い高さＤの複数の突起が非転写領域に形成されているので、磁気転写を行う際に、この複数の突起により潤滑剤による吸着力を抑制でき、マスターディスクの変形となる不具合を排除し、正確な磁化パターンの転写が行える。
【００１４】
すなわち、マスターディスクの非転写領域とスレーブディスクとが接触した場合であっても、この接触は、複数の点状の接触であり、従来の面状の接触と異なり、マスターディスクとスレーブディスクとの剥離性は良好である。
【００１５】
本発明において、前記突起高さＤが前記パターンの段差Ｓの０．２倍〜０．５倍であることが好ましい。このような突起高さＤとパターンの段差Ｓとの関係であれば、この複数の突起により潤滑剤による吸着力を一層抑制できる。
【００１６】
また、本発明において、前記突起が球面の一部よりなる形状を呈していることが好ましい。このような球面状の突起であれば、スレーブディスクとの接触面積を小さくでき、潤滑剤による吸着力を一層抑制できる。
【００１７】
なお、球面の一部よりなる形状とは、一般的には、球面の一部を切り取ったドーム状の形状をイメージするが、火山の噴火口のように、中央部が欠落し外輪山のみ残留した形状をも含むものである。突起がレーザ加工により形成される場合、このような噴火口形状になりやすく、このような一部球面状の突起であっても、スレーブディスクとの接触面積を小さくできる。
【００１８】
また、本発明において、前記突起がレーザ加工により形成されていることが好ましい。このようなレーザ加工は、微細形状の加工に適しており、また、マスターディスクの被加工箇所以外の部分に歪を生じさせないので、本発明の効果を一層発揮できる。
【００１９】
また、本発明は、前記の磁気転写用マスターディスクの表面に被転写用磁気記録媒体を密着させる密着工程と、磁界生成手段を設け、前記被転写用磁気記録媒体と前記マスターディスクの円周方向に磁界を加え、前記マスターディスクの磁気パターンを前記被転写用磁気記録媒体に転写させる磁気転写工程と、を経て磁気記録されたことを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
【００２０】
このようなマスターディスクであれば、スレーブディスクとの密着状態及び剥離状態を良好にでき、欠陥がなく、良好な精度で磁気転写が行え、Ｃ／Ｎ比の良好な磁気記録媒体（スレーブディスク）が得られる。
【００２１】
また、本発明は、前記の磁気記録媒体を備えたことを特徴とする磁気記録装置を提供する。このような磁気記録媒体を使用すれば、Ｃ／Ｎ比の良好な磁気記録装置（ハードディスクドライブ等）が得られる。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、本発明によれば、転写領域の凹凸状パターンの段差Ｓよりも低い高さＤの複数の突起が非転写領域に形成されているので、磁気転写を行う際に、この複数の突起により潤滑剤による吸着力を抑制でき、マスターディスクの変形となる不具合を排除し、正確な磁化パターンの転写が行える。
【００２３】
その結果、欠陥がなく、良好な精度で磁気転写が行え、Ｃ／Ｎ比の良好な磁気記録媒体（スレーブディスク）及び磁気記録装置（ハードディスクドライブ）が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付図面に従って、本発明に係る磁気転写用マスターディスク、磁気記録媒体、及び磁気記録装置の好ましい実施の形態について詳説する。図１は、本発明に係るマスターディスクの平面図である。図２は、マスターディスク４６の表面の微細な突起状パターンを示す部分拡大斜視図である。
【００２５】
図１に示されるように、マスターディスク４６は円盤状に形成されており、マスターディスク４６の径方向中周部分（マスターディスク４６の内周部分４６ｄと外周部分４６ｅを除いた部分）には、円周方向に、ハッチングで示される転写領域４６ｂと非転写領域４６ｃ（非ハッチング部分）とが交互に形成されている。
【００２６】
転写領域４６ｂは、磁気パターン（サーボ情報パターン等）が形成されている領域であり、非転写領域４６ｃは、磁気パターン（サーボ情報パターン等）が形成されていない領域である。
【００２７】
このマスターディスク４６は、内径を有する円環状（ドーナツ状）であるが、内径を有しない円盤状のものであってもよい。
【００２８】
図２は、転写領域４６ｂの部分拡大図であり、基板４７の片面に磁性層４８による微細な突起状パターンが形成された転写情報担持面が形成されており、基板４７の反対側の面が不図示の密着手段に保持されるようになっている。この微細な突起状パターンの形成は、後述するフォトファブリケーション法等によりなされる。このマスターディスク４６の片面（転写情報担持面）は、スレーブディスク４０（図５〜図７参照）と密着される面である。
【００２９】
微細な突起状パターンは、平面視で長方形であり、厚さｔの磁性層４８が形成された状態で、トラック方向（図中の太矢印方向）の長さｂと、半径方向の長さｌとよりなる。この長さｂとｌの最適値は、記録密度や記録信号波形等により異なるが、たとえば、長さｂを８０ｎｍに、長さｌを２００ｎｍにできる。
【００３０】
この微細な突起状パターンはサーボ信号の場合は、半径方向に長く形成される。この場合、たとえば、半径方向の長さｌが０．０５〜２０μｍ、トラック方向（円周方向）の長さが０．００５〜５μｍであることが好ましい。この範囲で半径方向の方が長いパターンを選ぶことが、サーボ信号の情報を担持するパターンとしては好ましい。
【００３１】
基板２７表面の微細な突起状（凹凸状）の段差（突起の高さ）Ｓは、３０〜８００ｎｍの範囲が好ましく、５０〜３００ｎｍの範囲がより好ましい。
【００３２】
マスターディスク４６において、基板４７がＮｉ等を主体とした強磁性体の場合には、この基板４７のみで磁気転写が可能であり、磁性層４８は被覆しなくてもよいが、転写特性のよい磁性層４８を設けることにより、より良好な磁気転写が行える。基板４７が非磁性体の場合には、磁性層４８を設けることが必要である。マスターディスク４６の磁性層４８は、保磁力Ｈｃが４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下の軟磁性層であることが好ましい。
【００３３】
マスターディスク４６の基板４７としては、ニッケル、シリコン、石英ガラス等各種組成のガラス、アルミニウム、合金、各種組成のセラミックス、合成樹脂等が使用できる。この基板４７表面の凹凸パターンの形成は、フォトファブリケーション法や、フォトファブリケーション法等で形成した原盤によるスタンパー法、等によって行える。
【００３４】
スタンパー法における原盤の形成は、たとえば、以下のように行える。表面が平滑なガラス板（又はシリコンウェーハ）の上にスピンコート法等によりフォトレジストの層を形成し、プレベーク後に、このガラス板を回転させながら、サーボ信号に対応して変調したレーザ光（又は電子ビーム）を照射し、フォトレジスト層の略全面に所定のパターン、たとえば各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応する部分に露光する。
【００３５】
その後、フォトレジストの層を現像処理し、露光部分が除去されたフォトレジストの層により形成された凹凸形状を有するガラス原盤（又はシリコンウェーハ）を得る。次いで、ガラス原盤の表面の凹凸パターンを基に、この表面にメッキ（電鋳）を施し所定厚さまで形成することにより、表面にポジ状の凹凸パターンを有するＮｉ基板を作成する。そして、この基板をガラス原盤から剥離する。
【００３６】
この基板をそのままプレス原盤とするか、凹凸パターン上に必要に応じて軟磁性層、保護膜等を被覆してプレス原盤とする。
【００３７】
また、ガラス原盤にメッキを施して、電鋳により第２の原盤を作成し、この第２の原盤に更にメッキを施して、電鋳によりネガ状凹凸パターンを有する反転原盤を作成してもよい。更に、第２の原盤にメッキを施して電鋳を行うか、低粘度の樹脂を押し付けて硬化させるかした、第３の原盤を作成し、第３の原盤にメッキを施して電鋳を行い、ポジ状凹凸パターンを有する基板を作成してもよい。
【００３８】
基板４７の材料としては、金属ではＮｉ又はＮｉ合金を使用することができる。この基板を作成するメッキ法としては、無電解メッキ、電鋳、スパッタリング、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法等が適用できる。
【００３９】
磁性層４８（軟磁性層）の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜する。磁性層４８の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）を用いることができる。特に、ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉが好ましく用いることができる。磁性層４８の厚さｔは、３０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲が好ましく、５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲が更に好ましい。
【００４０】
なお、磁性層４８の上にダイヤモンドライクカーボン等の保護膜を設けることが好ましく、保護膜の上に更に潤滑剤層を設けてもよい。この場合、保護膜として厚さが５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜（スパッタリングによるカーボン膜）と潤滑剤層とする構成が好ましい。また、磁性層４８と保護膜との間に、Ｓｉ等の密着強化層を設けてもよい。潤滑剤は、スレーブディスク４０との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などの耐久性の劣化を改善する効果を有する。
【００４１】
マスターディスク４６として、前記のプレス原盤を用いて樹脂基板を作製し、その表面に磁性層を設けて形成してもよい。樹脂基板の樹脂材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどが使用できる。
【００４２】
このうち、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネートが好ましい。成形品にバリがある場合は、これをバーニシュ又は研磨加工により除去する。また、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用して、プレス原盤にスピンコート、バーコート等の塗布によりマスターディスク４６を形成してもよい。樹脂基板のパターン突起の高さＳは、３０〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、５０〜３００ｎｍの範囲が更に好ましい。
【００４３】
この樹脂基板の表面の微細パターンの上に磁性層４８を被覆しマスターディスク４６を得る。磁性層４８の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜方法、メッキ法などによる成膜方法で行える。
【００４４】
一方、マスターディスク４６の形成方法の１種であるフォトファブリケーション法は、以下の手順で行う。先ず、たとえば、平板状の基板の平滑な表面にフォトレジストを塗布し、サーボ信号のパターンに応じたフォトマスクを用いた露光、現像処理により、情報に応じたパターンを形成させる。
【００４５】
次いで、エッチング工程により、パターンに応じて基板のエッチングを行い、凹凸状パターンの段差Ｓに相当する深さの穴を形成する。次いで、フォトレジストを除去し、必要に応じて、表面を研磨して、バリがある場合には、これを取り除くとともに、表面を平滑化する。次いで、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜方法、メッキ法等により、所定厚さｔで基板の表面に磁性材料を成膜する。
【００４６】
次に、マスターディスク４６の非転写領域４６ｃ形成されている複数の突起について説明する。図３は、本発明に係るマスターディスク４６の部分拡大断面図である。既述したように、マスターディスク４６の表面には、転写領域４６ｂと非転写領域４６ｃとが交互に形成されており、非転写領域４６ｃには、複数の突起５０、５０…が形成されている。なお、転写領域４６ｂは、図２と異なり、概略的に示している。
【００４７】
この突起５０、５０…の形状は、目的とする潤滑剤による吸着力を抑制する効果が得られるのであれば、特に制限されないが、球面の一部であることが好ましく採用できる（既述の火山の噴火口形状も含む）。また、球面状でなくとも、加工が容易で、かつ吸着力を抑制する効果が得られる形状であれば好ましく採用できる。
【００４８】
突起５０の高さＤは、パターンの段差Ｓよりも低いことが必須である。このような突起５０の高さＤとすることにより、転写領域４６ｂがスレーブディスク４０と密着できるとともに、非転写領域４６ｃにおいて、潤滑剤による吸着力を抑制する効果が得られる。
【００４９】
なお、突起５０の高さＤが、パターンの段差Ｓと同一、又はこれより大であると、転写領域４６ｂとスレーブディスク４０との密着状態が不良となるうえ、突起５０の先端部によりスレーブディスク４０の接触部分に応力集中を生じさせ、スレーブディスク４０の表面を破壊することとなるので、不適である。
【００５０】
更に、突起５０の高さＤは、突起の高さＳの３０％以下であることが好ましい。このような突起高さＤとパターンの段差Ｓとの関係であれば、この複数の突起５０、５０…により潤滑剤による吸着力を良好に抑制できる。
【００５１】
突起５０のサイズ（直径）は、目的とする潤滑剤による吸着力を抑制する効果が得られるのであれば、特に制限されないが０．００１〜０．１００ｍｍの範囲が好ましく、０．００５〜０．０５０ｍｍの範囲がより好ましく、０．００５〜０．０２０ｍｍの範囲が更に好ましい。
【００５２】
突起５０の単位面積（たとえば、１００ｍｍ2 ）当りの密度（個数）は、目的とする潤滑剤による吸着力を抑制する効果が得られるのであれば、特に制限されないが、２×１０6 〜５０×１０6 ／１００ｍｍ2 の範囲が好ましく、４×１０6 〜３０×１０6 ／１００ｍｍ2 の範囲がより好ましく、５×１０6 〜２０×１０6 ／１００ｍｍ2 の範囲が更に好ましい。
【００５３】
突起５０の形成方法は、マスターディスク４６の材質にもよるが、レーザ加工によることが好ましい。このようなレーザ加工は、微細形状の加工に適しており、また、マスターディスク４６の被加工箇所以外の部分に歪を生じさせないので、本発明の効果を一層発揮できる。
【００５４】
マスターディスク４６の材質がＮｉのような金属である場合には、レーザ光の加工熱により被加工箇所をバンプ状に変形させて突起５０を形成させればよい。マスターディスク４６の材質が樹脂材である場合には、レーザ光の加工熱により被加工箇所を溶融させて突起５０を形成させればよい。
【００５５】
突起５０の形成する工程順序としては、１）電鋳−剥離−レーザ加工（突起形成）−軟磁性層成膜、２）磁性層成膜−保護層成膜−レーザ加工（突起形成）、の２種類が可能である。ただし、２）の工程順序では、レーザ加工（突起形成）の際の発塵や材料の溶融があり得、材料の腐食が懸念されるので、１）の工程順序が好ましい。
【００５６】
なお、突起５０の形成方法として、レーザ加工以外の方法も採用できる。たとえば、フォトファブリケーション法（フォトエッチング、リフトオフ等）や、フォトファブリケーションによる被覆層の形成とブラスト加工（サンドブラスト）との組み合わせや、放電加工等の公知の各種加工方法も採用できる。
【００５７】
次に、マスターディスク４６の磁性層パターンを被転写用ディスク（スレーブディスク）に転写する磁気転写方法について説明する。図４は、本発明に係るマスターディスク４６を使用して磁気転写を実施するための磁気転写装置１０の要部斜視図である。
【００５８】
磁気転写装置１０において、磁気転写時には、図６（ａ）に示される後述する初期直流磁化を行った後の、スレーブディスク（被転写用ディスク）４０のスレーブ面（磁気記録面）を、マスターディスク４６の情報担持面に接触させ、所定の押圧力で密着させることができるようになっている。そして、このスレーブディスク４０とマスターディスク４６との密着状態で、磁界生成手段３０により転写用磁界を印加してサーボ信号等の磁化パターンを転写記録することができるようになっている。
【００５９】
次に、スレーブディスク４０について説明する。スレーブディスク４０は、両面又は片面に磁気記録層が形成されたハードディスク、フレキシブルディスク等の円盤状磁気記録媒体であり、マスターディスク４６に密着させる以前に、グライドヘッド、研磨体などにより表面の微小突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理（バーニッシィング等）が必要に応じて施される。また、スレーブディスク４０には予め初期磁化が施される。この詳細は後述する。
【００６０】
スレーブディスク４０としては、ハードディスク、高密度フレキシブルディスク等の円盤状磁気記録媒体が使用できる。スレーブディスク４０の磁気記録層には、塗布型磁気記録層、メッキ型磁気記録層、又は金属薄膜型磁気記録層が採用できる。
【００６１】
金属薄膜型磁気記録層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。これらは、磁束密度が大きいこと、磁界印加方向と同じ方向（面内記録なら面内方向）の磁気異方性を有していることより、明瞭な転写が行えるため好ましい。
【００６２】
そして磁性材料の下（支持体側）に必要な磁気異方性を付与するために、非磁性の下地層を設けることが好ましい。この下地層には、結晶構造と格子定数を磁性層４８に合わすことが必要である。そのためには、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を用いることが好ましい。
【００６３】
マスターディスク４６による磁気転写は、図４に示されるように、スレーブディスク４０の片面にマスターディスク４６を密着させて片面毎に逐次転写を行う場合と、スレーブディスク４０の両面にそれぞれマスターディスク４６、４６を密着させて両面で同時転写を行う場合とがある。なお、マスターディスク４６には、スレーブディスク４０と密着させる前に、付着した塵埃を除去するクリーニング処理が必要に応じて施される。
【００６４】
転写用磁界を印加する磁界生成手段３０は、密着手段に保持されたスレーブディスク４０及びマスターディスク４６の半径方向に延びるギャップ３１を有するコア３２にコイル３３が巻き付けられた電磁石装置３４、３４が上下両側に配設されてなり、上下で同じ方向にトラック方向と平行な磁力線Ｇ（図５参照）を有する転写用磁界を印加できるようになっている。この図５は、転写用磁界の印加方法を示す平面図であり、円周トラック４０Ａ、４０Ａ…と磁力線Ｇ、Ｇ…との関係を示す。
【００６５】
磁界印加時には、スレーブディスク４０及びマスターディスク４６を一体に回転させつつ磁界生成手段３０によって転写用磁界を印加し、マスターディスク４６の転写情報をスレーブディスク４０のスレーブ面に磁気的に転写記録できるように回転手段が設けられている。なお、この構成以外に、磁界生成手段３０を回転移動させるように設ける構成も採用できる。
【００６６】
転写用磁界は、最適転写磁界強度範囲（スレーブディスク４０の保磁力Ｈｃの０．６〜１．３倍）の最大値を越える磁界強度がトラック方向のいずれにも存在せず、最適転写磁界強度範囲内の磁界強度となる部分が１つのトラック方向で少なくとも１カ所以上存在し、これと逆向きのトラック方向の磁界強度がいずれのトラック方向位置においても最適転写磁界強度範囲の最小値未満である磁界強度分布の磁界をトラック方向の一部分で発生させている。
【００６７】
次に、上記のように構成された磁気転写装置１０による磁気転写方法について説明する。
【００６８】
図６は、磁気転写方法の基本工程を示す図である。図６のうち（ａ）は、磁場を一方向に印加してスレーブディスク４０を初期直流磁化する工程を、（ｂ）は、マスターディスク４６とスレーブディスク４０とを密着して反対方向に磁界を印加する工程を、（ｃ）は、は磁気転写後の状態をそれぞれ示す。また、図７は、図６（ｂ）における磁気転写の状態を説明する斜視図である。なお、各図は模式図であり各部の寸法は実際とは異なる比率で示している。
【００６９】
先ず、図６（ａ）に示されるように、スレーブディスク４０に初期磁界Ｈｉをトラック方向（円周方向）の一方向に印加して予め初期磁化（直流消磁）を行う。この初期磁化は、スレーブディスク４０の保磁力Ｈｃ以上の磁界強度部分をトラック方向位置で少なくとも１カ所以上有する磁界、好ましくは、スレーブディスク４０の保磁力Ｈｃ以上の磁界強度部分をトラック方向位置で一方向のみで有しており、逆方向の磁界強度はいずれのトラック方向位置でのスレーブディスク４０の保磁力未満である磁界強度分布の磁界を使用する。この磁界を、トラック方向の一部分で発生させ、スレーブディスク４０又は磁界をトラック方向に回転させることにより、全トラックの初期磁化（直流消磁）を行う。
【００７０】
次いで、図６（ｂ）及び図７に示されるように、このスレーブディスク４０のスレーブ面（磁気記録面）とマスターディスク４６の基板４７の微細凹凸パターンに磁性層４８が被覆されてなる情報担持面とを密着させ、スレーブディスク４０のトラック方向に初期磁界Ｈｉとは逆方向に転写用磁界Ｈｄを印加して磁気転写を行う。
【００７１】
磁気転写の結果、図６（ｃ）に示されるように、スレーブディスク４０のスレーブ面（トラック）にはマスターディスク４６の情報担持面の磁性層４８の密着凸部と凹部空間との形成パターンに応じた磁化パターンが転写記録される。
【００７２】
なお、マスターディスク４６の基板４７の凹凸パターンが、図６のポジパターンと逆の凹凸形状のネガパターンの場合であっても、初期磁界Ｈｉの方向及び転写用磁界Ｈｄの方向をこれと逆方向にすることによって、同様の磁化パターンが転写記録できる。
【００７３】
磁気転写後に、スレーブディスク４０の片面に密着されたマスターディスク４６を剥離する。この際、転写領域４６ｂの凹凸状パターンの段差Ｓよりも低い高さＤの複数の突起５０、５０…が非転写領域４６ｃに形成されているので、この複数の突起５０、５０…によりスレーブディスク４０表面の潤滑剤による吸着力を抑制でき、マスターディスク４６の変形となる不具合を排除できる。これにより、マスターディスク４６のライフを大幅に延長させることができる。
【００７４】
磁気転写されたスレーブディスク４０は、磁気記録装置（ハードディスクドライブ）に組み込んで好適に使用できる。これに使用されるハードディスクドライブとしては、各ドライブメーカーより販売されている公知の各種装置を使用すればよい。
【００７５】
以上、本発明に係る磁気転写用マスターディスク、磁気記録媒体、及び磁気記録装置の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００７６】
たとえば、本実施形態において、非転写領域４６ｃにおける突起５０の単位面積当りの密度（個数）が所定値を採るように記載されているが、このように突起５０が均一に配置されていない態様も採用できる。
【００７７】
一例として、内周部分の突起５０の密度を外周部分の突起５０の密度より小さくする態様が挙げられる。通常、マスターディスク４６の内周部分の非転写領域４６ｃの周方向の幅は外周部分の非転写領域４６ｃの周方向の幅より小さいので、非転写領域４６ｃの内周部分の剥離性は外周部分より良好と考えられる。したがって、上記のような態様も採用できる。
【００７８】
また、マスターディスク４６の転写領域４６ｂと非転写領域４６ｃの周方向のピッチが小さい場合には、非転写領域４６ｃの１個おきに突起５０を設けるものと突起５０を設けないものを交互に配する態様も採用できる。
【００７９】
また、上記実施形態の突起５０以外の構成に関し、マスターディスク４６の裏面の加工は行っていないが、マスターディスク４６の裏面に機械加工等を施して、板厚偏差を無くすようにする態様も採用できる。
【００８０】
また、既述したように、マスターディスク４６は、内径を有する円環状（ドーナツ状）のものであるが、内径を有しない円盤状のものであってもよい。
【００８１】
更に、磁気転写に関し、上記実施形態においては、スレーブディスク４０（密着したマスターディスク４６も）を連続回転させながら、磁界生成手段３０によりスレーブディスク４０に磁気転写を行っているが、スレーブディスク４０及びマスターディスク４６への磁界印加を円周方向に１周以上行った後に、磁界強度を所定値まで減少させ、その後にスレーブディスク４０及びマスターディスク４６の回転を停止させる構成も採用できる。
【００８２】
このように、円周方向に１周分の転写後に、磁界強度を所定値まで漸減させ、しかる後に回転を停止させるのであれば、転写精度が受ける影響は非常に少なくなり、再生信号のＣ／Ｎ比は良好になる。
【実施例】
【００８３】
以下に説明する条件でスレーブディスク４０及びマスターディスク４６を作製し、スレーブディスク４０及びマスターディスク４６との密着、剥離のサイクルを１万回繰り返し行い、その後、磁界生成手段３０を使用して磁気転写を行い、転写後のスレーブディスク４０の再生信号の抜けの有無等を評価した。
【００８４】
マスターディスク４６は、Ｎｉスタンパー法により作製した。先ず、円盤中心から半径方向２０〜４０ｍｍの位置まで、幅０．５μｍの等間隔放射状ラインで、ライン間隔が半径方向２０ｍｍの最内周位置で０．５μｍ間隔であるような、深さ０．２μｍの円盤状パターンを有するＮｉ基板を作成した。
【００８５】
真空成膜装置を使用して、室温下で１．３３×１０-5Ｐａ（１０-7Ｔｏｒｒ）まで減圧した後に、アルゴンガスを導入して０．４Ｐａ（３×１０-3Ｔｏｒｒ）とした条件下で、Ｎｉ基盤上に厚さ２００ｎｍのＦｅＣｏ膜（軟磁性層）を形成し、マスターディスク４６とした。このマスターディスク４６の保磁力Ｈｃは８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）、磁束密度Ｍｓは２８．９Ｔ（２３０００Ｇａｕｓｓ）であった。
【００８６】
マスターディスク４６表面の突起５０の形成は、レーザ加工により行った。突起高さＤとパターンの段差Ｓとの比Ｄ／Ｓを、０．２以下から０．５〜１．０までの４種と、突起５０のない比較例（従来例）のものを準備した。
【００８７】
スレーブディスク４０は、薄膜のガラスハードディスクとした。真空成膜装置を使用して、室温下で１．３３×１０-5Ｐａ（１０-7Ｔｏｒｒ）まで減圧した後に、アルゴンガスを導入して０．４Ｐａ（３×１０-3Ｔｏｒｒ）とした条件下で、ガラス板を２００℃に加熱し、ＣｒＴｉ６０ｎｍ、ＣｏＣｒＰｔ２５ｎｍ、磁束密度Ｍｓが５．７Ｔ（４５００Ｇａｕｓｓ）、保磁力Ｈｃが１９９ｋＡ／ｍ（２５００Ｏｅ）の外径９５ｍｍ（３．５インチ型）のハードディスクを作製した。
【００８８】
磁気転写は、既述の図４に示される構成で行った。
【００８９】
図８は、実施例の結果を示す表である。表のうち、１万回転写後の欠陥数は、スレーブディスク４０の表面に観察される欠陥の数である。
【００９０】
表のうち、バンプ形成形態は、マスターディスク４６表面の突起５０の均一度合いを示す。突起高さＤとパターンの段差Ｓとの比Ｄ／Ｓが０．２以下の試料は、突起高さＤを小さく加工するために、レーザ加工の際の出力を低くしたことにより、ディスクの高さ方向のブレ（Run Out ）により、マスターディスク４６表面の突起５０が不均一となった。
【００９１】
表のうち、形状変化量は、スレーブディスク４０の１万回転写前後の反りの変化を測定した値である。
【００９２】
表のうち、信号出力は、１万回転写後のマスターディスク４６を使用してスレーブディスク４０に磁気転写した再生信号の半径方向の抜けの有無を評価した結果である。判定は、総合評価である。
【００９３】
以上の結果より、突起高さＤとパターンの段差Ｓとの比Ｄ／Ｓが０．２〜０．５の範囲において良好な結果が得られることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】本発明に係る磁気転写用マスターディスクの平面図
【図２】マスターディスクの表面の微細凹凸パターンを示す部分拡大斜視図
【図３】マスターディスクの部分拡大断面図
【図４】磁気転写方法を実施するための磁気転写装置の要部斜視図
【図５】転写用磁界の印加方法を示す平面図
【図６】磁気転写方法の基本工程を示す図
【図７】図６（ｂ）における磁気転写の状態を説明する斜視図
【図８】実施例の結果を示す表
【符号の説明】
【００９５】
１０…磁気転写装置、２２、２４、２６…磁界生成手段、３０…磁界生成手段、３１…ギャップ、３２…コア、３３…コイル、３４…電磁石装置、４０…スレーブディスク（被転写用ディスク）、４６…マスターディスク、４６ｂ…転写領域、４６ｃ…非転写領域、４７…基板、４８…磁性層、５０…突起
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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