(57)【要約】【課題】  光透過性及び像鮮明度がそれぞれ高いものを製造コストを抑えつつ得ることが容易な電磁波遮蔽部材を提供する。【解決手段】  第１透明基材１上にメッシュ状金属層１０が形成されて多数の光透過部１２が画定されている電磁波遮蔽部材３０を作製するにあたり、前記メッシュ状金属層及び前記多数の光透過部を透明樹脂の硬化塗膜１５によって被覆すると共に硬化塗膜上に接合材層２０を介して第２透明基材２５を接合し、更に、前記光透過部を平面視上画定しているメッシュ状金属層の細線部１０ａ上での硬化塗膜の平均傾斜角度を０．０１〜１５．０°の範囲内にし、細線部上での第２透明基材の頂部と光透過部の平面視上の中央部での第２透明基材の上面との高低差の平均値を５．０μｍ以下にすることにより、解決した。【選択図】    図１
2006210573.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１透明基材と、前記第１透明基材上に形成されて多数の光透過部を平面視上画定するメッシュ状金属層と、透明樹脂により形成されて前記メッシュ状金属層及び前記光透過部を被覆する硬化塗膜と、接合材層を介して前記硬化塗膜に接合されて該硬化塗膜を覆う第２透明基材とを有し、
前記メッシュ状金属層の細線部上での前記硬化塗膜の平均傾斜角度が０．０１〜１５．０°の範囲内にあり、
前記細線部上での前記第２透明基材の頂部と前記光透過部の平面視上の中央部での前記第２透明基材の上面との高低差の平均値が５．０μｍ以下であることを特徴とする電磁波遮蔽部材。
【請求項２】
前記メッシュ状金属層が、前記第１透明基材上に接合剤により接合されていることを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽部材。
【請求項３】
前記透明樹脂が鎖状構造を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の電磁波遮蔽部材。
【請求項４】
前記透明樹脂が架橋構造を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の電磁波遮蔽部材。
【請求項５】
前記透明樹脂のガラス転移点が３０〜１５０℃の範囲内であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波遮蔽部材。
【請求項６】
前記硬化塗膜の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０１〜１０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の電磁波遮蔽部材。
【請求項７】
前記平均傾斜角度が１０°以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電磁波遮蔽部材。
【請求項８】
前記第２透明基材が透明樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の電磁波遮蔽部材。
【請求項９】
前記接合材層が感圧型粘着剤により形成されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の電磁波遮蔽部材。
【請求項１０】
前記硬化塗膜に赤外線吸収剤が含有されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の電磁波遮蔽部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電磁波遮蔽部材に関し、更に詳しくは、光透過性の高い電磁波遮蔽部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日では、種々の電子機器が必需品となっている。これらの電子機器の動作時には、程度の差こそあれ必ず電磁波が放射され、その強度が強い場合には周辺の電子機器が誤作動を起こしたり、人体に弊害を及ぼしたりする。このため、電子機器から放射された電磁波が周囲に及ばないようにするために、あるいは、電磁波から電子機器又は人体を保護するために、種々の電磁波遮蔽材料ないし電磁波遮蔽部材が開発されている。
【０００３】
電磁波は導電性材料により遮蔽することが可能である。電磁波遮蔽材料や電磁波遮蔽部材が光透過性を有しているか否かは電磁波の遮蔽と無関係であるが、例えばプラズマディスプレイパネルのような表示装置では、表示面から放射される電磁波が周囲に及ばないように遮蔽することが望まれるので、このような用途の電磁波遮蔽部材については、電磁波遮蔽性能に加えて、高い光透過性が要求される。
【０００４】
高い光透過性を有する電磁波遮蔽部材としては、例えば特許文献１に記載された電磁波遮蔽部材が知られている。この電磁波遮蔽部材では、メッシュ状に成形された金属薄膜（以下、「メッシュ状金属層」という。）が接着剤又は粘着剤を介して透明なフィルム基材上に積層されている。
【０００５】
上記のメッシュ状金属層は、例えば、透明なフィルム基材上に接着剤又は粘着剤を介して金属箔を積層し、その後、この金属箔をメッシュ状にパターニングすることによって形成される。金属箔は比較的厚いので、メッシュ状に成形しても充分な導電性を確保し易く、結果として、電磁波遮蔽性能の高い電磁波遮蔽部材を得易い。また、金属箔がメッシュ状に成形されているので、メッシュの目に相当する領域が光透過部として機能し、高い光透過性を得易い。
【０００６】
ただし、金属箔の表面が比較的粗いことから、金属箔の接合に用いた接着剤又は粘着剤のうちでその後に金属箔がパターニングにより除去されて光透過部となった領域は、金属箔の表面形状が表面に転写された粗面領域として残り、光透過性を低下させる一因となる。また、メッシュ状金属層の側面での光の乱反射は、電磁波遮蔽部材の光透過性を低下させる要因となる。このため、必要に応じて、メッシュ状金属層及び各光透過部を被覆するようにして透明樹脂からなる平坦化層が形成される。また、平坦化層の表面の平坦性が低いと、この電磁波遮蔽部材を表示装置上に配置したときにモワレ、干渉ムラ等が生じることから、表面の平坦性が高い平坦化層を形成するために、透明樹脂を硬化させる前にその上に平面性に優れた基材等をラミネートし、透明樹脂の硬化後（平坦化層の形成後）に前記平面性に優れた基材等が剥離される。
【特許文献１】特開２００２−３１１８４３号公報（特許請求の範囲、第００３０段、及び第００６０段参照）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載された電磁波遮蔽部材では、材料として用いる金属箔が前述のように比較的厚いので、メッシュ状金属層及び各光透過部を被覆するようにして平坦化層形成用の透明樹脂を塗工すると、得られる平坦化層の表面に大きな凹凸が生じ易い。電磁波遮蔽部材の表面に大きな凹凸があると、光透過性や、電磁波遮蔽部材を通して視認される像の鮮明度（以下、単に「像鮮明度」という。）が高い電磁波遮蔽部材を得ることが困難になる。
【０００８】
また、透明樹脂の硬化前にその上に平面性に優れた基材等をラミネートし、透明樹脂の硬化後（平坦化層の形成後）に前記平面性に優れた基材等を剥離するという手法は、表面の平坦性が高い平坦化層を得るうえで有用なものではあるが、上記の基材は最終的に電磁波遮蔽部材の構成部材とならないものであるので、この手法には電磁波遮蔽部材の製造コストが上昇するという問題がある。
【０００９】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、光透過性及び像鮮明度がそれぞれ高いものを製造コストを抑えつつ得ることが容易な電磁波遮蔽部材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成する本発明の電磁波遮蔽部材は、第１透明基材と、前記第１透明基材上に形成されて多数の光透過部を平面視上画定するメッシュ状金属層と、透明樹脂により形成されて前記メッシュ状金属層及び前記光透過部を被覆する硬化塗膜と、接合材層を介して前記硬化塗膜に接合されて該硬化塗膜を覆う第２透明基材とを有し、前記メッシュ状金属層の細線部上での前記硬化塗膜の平均傾斜角度が０．０１〜１５．０°の範囲内にあり、前記細線部上での前記第２透明基材の頂部と前記光透過部の平面視上の中央部での前記第２透明基材の上面との高低差の平均値が５．０μｍ以下であることを特徴とする（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材Ｉ」ということがある。）。
【００１１】
本発明の電磁波遮蔽部材Ｉでは、メッシュ状金属層が上記の硬化塗膜により被覆されているので、第１透明基材を基準としたときのメッシュ状金属層の上面及び側面それぞれでの光の乱反射を抑制することができる。また、メッシュ状金属層の細線部上での硬化塗膜の平均傾斜角度が上記の範囲内にあるので、この硬化塗膜上に接合材層を介して第２透明基材を接合する際に接合材層を比較的薄くしても、硬化塗膜の表面の凹凸を当該接合材層により吸収して前記の凹凸が第２透明基材の表面に反映されるのを抑制することができる。そして、第２透明基材での上記高低差の平均値が５．０μｍ以下であるので、この第２透明基材表面での光の乱射反射が抑えられる。更に、第２透明基材としては、保護層として機能するものを用いる他に、反射防止膜、赤外線吸収層、ネオン光吸収層等として機能するものを利用することが可能である。これらの結果として、本発明の電磁波遮蔽部材によれば、光透過性及び像鮮明度がそれぞれ高いものを製造コストを抑えつつ得ることが容易になる。
【００１２】
なお、本発明でいう「メッシュ状金属層の細線部」とは、メッシュ状金属層のうちで、他の方向に分岐することなく一方向に延びている領域を意味する。
【００１３】
本発明の電磁波遮蔽部材Ｉにおいては、（１）前記メッシュ状金属層が、前記第１透明基材上に接合剤により接合されている（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材II」ということがある。）こと、が好ましい。
【００１４】
本発明の電磁波遮蔽部材IIによれば、メッシュ状金属層の材料として比較的厚肉の金属箔を用いることができるので、電磁波遮蔽性能が高い電磁波遮蔽部材を得ることが容易になる。また、接合剤の表面のうちで金属箔がパターニングにより除去された領域は、金属箔の表面形状が表面に転写された粗面領域として残るが、この粗面領域は前述した硬化塗膜により被覆されるので、当該粗面領域の表面での光の乱反射が抑えられ、結果として、高い光透過性及び高い像鮮明度を得ることが容易になる。
【００１５】
本発明の電磁波遮蔽部材Ｉ〜IIのいずれにおいても、（２）前記透明樹脂が鎖状構造を有している（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材III」 ということがある。）こと、又は、（３）前記透明樹脂が架橋構造を有している（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材IV」ということがある。）こと、とすることができる。
【００１６】
本発明の電磁波遮蔽部材Ｉ〜IVのいずれにおいても、（４）前記透明樹脂のガラス転移点が３０〜１５０℃の範囲内である（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材Ｖ」ということがある。）こと、（５）前記硬化塗膜の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０１〜１０μｍの範囲内である（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材VI」ということがある。）こと、又は、（６）前記平均傾斜角度が１０°以下である（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材VII」 ということがある。）こと、が好ましい。
【００１７】
本発明の電磁波遮蔽部材Ｖによれば、硬化塗膜の形状保持能が実用上充分に高くなるので、耐久性のよい電磁波遮蔽部材を提供し易くなる。
【００１８】
本発明の電磁波遮蔽部材VIによれば、硬化塗膜の表面粗さが小さいので、硬化塗膜の表面での光の乱反射が抑制され、結果として、高い光透過性及び高い像鮮明度を得ることが更に容易になる。また、接合材層を形成する際に、硬化塗膜と接合材層との界面に気泡が残りにくくなるので、高い光透過性及び高い像鮮明度を得ることが更に容易になる。なお、本発明でいう「十点平均粗さ（Ｒｚ）」とは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１ に準拠する粗さ曲線での十点平均粗さを意味する。
【００１９】
本発明の電磁波遮蔽部材VII によれば、メッシュ状金属層の細線部上での硬化塗膜の平均傾斜角度が１０°以下に抑えられているので、硬化塗膜の表面での光の乱反射、及び電磁波遮蔽部材での光芒（いわゆる虹ムラ）の発生が抑えられ、かつ、硬化塗膜上に第２透明基材を接合したときに両者の界面に気泡が残ることが抑制されるので、高い光透過性及び高い像鮮明度を得ることが更に容易になる。
【００２０】
本発明の電磁波遮蔽部材Ｉ〜VII のいずれにおいても、（７）前記第２透明基材が透明樹脂フィルムである（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材VIII」 ということがある。）こと、又は、（８）前記接合材層が感圧型粘着剤により形成されている（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材IX」ということがある。）こと、とすることができる。
【００２１】
本発明の電磁波遮蔽部材Ｉ〜IXのいずれにおいても、（９）前記硬化塗膜に赤外線吸収剤が含有されている（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材Ｘ」ということがある。）こと、が好ましい。
【００２２】
本発明の電磁波遮蔽部材Ｘによれば、赤外線を吸収することができるので、電磁波の遮蔽と共に赤外線の吸収が望まれるプラズマディスプレイパネル用の電磁波遮蔽部材、特に表示面上に配置される電磁波遮蔽部材として好適なものを得ることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の電磁波遮蔽部材によれば、製造コストを抑えつつ光透過性及び像鮮明度が高い電磁波遮蔽部材を得ることが容易になるので、プラズマディスプレイパネルのような表示装置の表示面から放射される電磁波を、視認される映像の画質の低下を抑制しつつ遮蔽することが可能な電磁波遮蔽部材を安価に提供することが容易になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
図１（ａ）は、本発明の電磁波遮蔽部材の一例を概略的に示す部分切欠き平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示したＩ−Ｉ線断面の概略図である。これらの図に示した電磁波遮蔽部材３０は、第１透明基材１と、接合剤５により第１透明基材１上に接合されたメッシュ状金属層１０と、透明樹脂により形成された硬化塗膜１５と、接合材層２０を介して硬化塗膜１５に接合された第２透明基材２５とを有している。以下、これらの部材毎に詳述し、その後、本発明の電磁波遮蔽部材の変形例について説明する。
【００２５】
（１）第１透明基材；
第１透明基材１は、メッシュ状金属層１０を支持するためのものである。この第１透明基材１としては、ガラス基板や透明樹脂基板のように可撓性に乏しい透明なリジッド材を用いることも可能であるが、電磁波遮蔽部材３０の設置場所の選択の自由度を高めるという観点から、あるいは、電磁波遮蔽部材３０の生産性を高めるという観点からは、ガラスシート、透明樹脂シート、又は透明樹脂フィルムのように可撓性に富んだものを用いることが好ましい。
【００２６】
第１透明基材１の材質は、電磁波遮蔽部材３０の用途や許容される生産コスト等に応じて適宜選択可能である。また、第１透明基材１の光透過率についても、電磁波遮蔽部材３０の用途に応じて適宜選択可能である。例えば、電磁波遮蔽部材３０が表示装置の表示面上に配置されるものである場合には、第１透明基材１として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロース、ポリエーテルサルファイド、ポリエーテルケトン等により形成された膜厚１２〜３００μｍ程度、可視光透過率（全光線透過率）８０％程度以上のフィルムないしシートを用いることが好ましい。
【００２７】
（２）接合剤；
接合剤５は、メッシュ状金属層１０を金属箔のパターニングによって形成する際に、前記の金属箔をドライラミネーション法やウェットラミネーション法等によって第１透明基材１上に接合させるためのもの、あるいは、所望の金属箔をメッシュ状にパターニングした後にドライラミネーション法やウェットラミネーション法等によって第１透明基材１上に接合させるためのものである。この接合剤５は、図示のように、第１透明基材１上に層を形成しているので、以下、「接合剤層５」という。接合剤層５は、実用上充分な接合強度、耐エッチング特性、及び耐光性を有していることが好ましい。
【００２８】
この接合剤層５の具体例としては、アクリル系、エステル系、ウレタン系、フッ素系、ポリイミド系、エポキシ系、又はポリウレタンエステル系等の熱硬化型もしくは光硬化型の接着剤、あるいは、主成分としてメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、又は２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を含有したアクリル系粘着剤によって形成された層が挙げられる。なお、本明細書でいう「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタアクリレートの双方を意味する。
【００２９】
接合剤層５の膜厚は、使用する接合剤の種類に応じて、０．５〜５０μｍ程度の範囲内で適宜選定可能である。接合剤層５によって第１透明基材１上に接合した金属箔をウェットエッチングによりパターニングしてメッシュ状金属層１０とする場合には、接合剤層５がエッチングストッパとしても機能するように、その種類及び膜厚を選定することが好ましい。光透過性及び像鮮明度の高い電磁波遮蔽部材３０を得るという観点からは、接合剤層５と第１透明基材１との屈折率差を小さくすることが好ましく、波長５８７．６ｎｍの光を測定光としたときの屈折率差で０．２程度以下、更には０．１以下とすることが好ましい。この屈折率差が０（ゼロ）であれば、最も好ましい。
【００３０】
なお、メッシュ状金属層１０は、その母材となる金属層を例えば蒸着法により第１透明基材１上に形成し、この金属層をパターニングすることによっても、あるいは、所定形状のマスクを介して所望の金属を第１透明基材１上に蒸着させることによっても、形成可能である。これらの場合には接合剤層５を省略することも可能である。
【００３１】
（３）メッシュ状金属層；
メッシュ状金属層１０は、電磁波遮蔽部材３０の光透過性を高く保ちつつ電磁波を遮蔽するための部材であり、平面視上、第１透明基材１に多数の光透過部１２を画定している。個々の光透過部１２の平面形状は、例えば三角形、四角形、六角形等、適宜選定可能である。本形態の電磁波遮蔽部材３０での各光透過部１２の平面形状は、四角形である。メッシュ状金属層１０のうち、光透過部１２の辺を平面視上画定する領域それぞれが細線部１０ａである。以下、４つの細線部１０ａそれぞれの基点となっている領域を「交差部１０ｂ」という。
【００３２】
このメッシュ状金属層１０は、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン等の金属により形成することができる。光透過性及び電磁波遮蔽性能が共に高い電磁波遮蔽部材３０を低コストの下に得るという観点からは、銅のように安価で、表面反射率が低く、かつ導電性の高い金属によってメッシュ状金属層１０を形成することが好ましい。電磁波遮蔽性能が高い電磁波遮蔽部材３０を低コストの下に製造するという観点からは、所望の金属箔を上述した接合剤層５により第１透明基材１上に接合し、この金属箔をウェットエッチングによって所望形状にパターニングしてメッシュ状金属層１０とするか、所望の金属箔をメッシュ状にパターニングした後に接合剤層５により第１透明基材１上に接合してメッシュ状金属層１０とすることが好ましい。金属箔としては圧延箔や電解箔を用いることができるが、低コストであるという観点からは圧延箔が好ましい。
【００３３】
メッシュ状金属層１０の開口率（メッシュ状金属層１０の平面視上の面積と光透過部１２の平面視上の総面積との和に占める光透過部１２の平面視上の総面積の百分率を意味する。）を７０％程度以上にすることにより、光透過性の高い電磁波遮蔽部材３０を得易くなる。このとき、細線部１０ａの平面視上の平均線幅は２０μｍ程度以下、特に１５μｍ以下とすることが好ましい。
【００３４】
一方、電磁波遮蔽部材３０の電磁波遮蔽性能を高めるという観点からは、メッシュ状金属層１０の導電性を高めることが好ましいので、当該メッシュ状金属層１０の材質にもよるが、その平均膜厚を５〜３０μｍ程度、好ましくは５〜１５μｍ程度とし、かつ、細線部１０ａでの平面視上の平均線幅を５μｍ以上とすることが望ましい。
【００３５】
電磁波遮蔽部材３０が表示装置の表示面上に配置されるものである場合には、電磁波遮蔽部材３０の光透過性を高めることの他に、電磁波遮蔽部材３０の像鮮明度を高めることが望まれる。メッシュ状金属層１０の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．１μｍ程度以上、特に０．５μｍ程度以上であれば、電磁波遮蔽部材３０の像鮮明度を高め易い。メッシュ状金属層１０の表面が鏡面であると、メッシュ状金属層１０の表面で反射した外光が視認され易くなる結果として、電磁波遮蔽部材３０の像鮮明度が低下する。十点平均粗さ（Ｒｚ）の値が３μｍを超えると、メッシュ状金属層１０を第１透明基材１上に接合させる際に両者の界面に気泡が残り易くなり、適切な接合が困難になる。
【００３６】
電磁波遮蔽部材３０の像鮮明度を高めるうえでは、メッシュ状金属層１０の上下面のうちで、又はメッシュ状金属層１０の母材の上下面のうちで、少なくとも電磁波遮蔽部材３０を表示面上に配置したときに外側にくる面に、クロメート処理等の方法により黒化処理を施しておくことも有効である。
【００３７】
例えば、十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．１〜３μｍ程度の銅箔をメッシュ状金属層１０の母材として用い、かつ、各光透過部１２の平面形状を四角形とする場合には、メッシュ状金属層１０の平均膜厚を５〜１５μｍ程度、細線部１０ａでの平面視上の平均線幅を５〜１５μｍ程度とし、さらに、各光透過部１２の平面視上の大きさを１５０〜４００μｍ□程度とすることにより、電磁波遮蔽性能、光透過性、及び像鮮明度がそれぞれ高い電磁波遮蔽部材３０を得ることが容易になる。
【００３８】
（４）硬化塗膜；
硬化塗膜１５は、メッシュ状金属層１０の上面と接合剤層５（接合剤層５を省略する場合には第１透明基材１）の上面との段差を緩和して、電磁波遮蔽部材３０の光透過性及び像鮮明度を向上させるものであり、透明樹脂によって形成されてメッシュ状金属層１０及び各光透過部１２を被覆している。また、メッシュ状金属層１０の細線部１０ａ上での硬化塗膜１５の平均傾斜角度は、０．０１〜１５．０°に抑えられている。
【００３９】
ここで、本発明でいう「細線部上での硬化塗膜の平均傾斜角度」とは、次のようにして求めた平均傾斜角度を意味する。まず、図２に示すように、電磁波遮蔽部材３０について、細線部１０ａの長手方向と直交する方向の断面をとり、光透過部１２の平面視上の中央部での硬化塗膜１５の上面を基準にして、細線部１０ａ上での硬化塗膜１５の頂部Ｐの高さＬ１を測定する。また、頂部Ｐを通る垂線ＶＬ（ただし、第１透明基材１の表面に対する垂線を意味する。）を仮想的に引いて、この垂線ＶＬ上において頂部Ｐからの距離がＬ１の９０％に相当する点Ｂを求める。図２においては、頂部Ｐと点Ｂとの距離をＬ２で表している。次いで、第１透明基材１の表面に水平で点Ｂを通る水平線ＨＬを仮想的に引き、この水平線ＨＬと硬化塗膜１５の斜面との交点Ｃ１、Ｃ２を求めて、点Ｂと点Ｃ１との距離Ｌ３、及び点Ｂと点Ｃ２との距離Ｌ４を測定する。この後、tanθ１＝Ｌ２／Ｌ３とし、tanθ２＝Ｌ２／Ｌ４として求めたθ１とθ２との平均値Ａｖを求める。同様にして、任意に抽出した複数の細線部１０ａ上での硬化塗膜１５について平均値Ａｖを求める。これらの平均値Ａｖの算術平均が、本発明でいう「細線部上での硬化塗膜の平均傾斜角度」である。なお、図２においては、便宜上、ハッチングを省略している。
【００４０】
硬化塗膜１５は、鎖状構造を有する透明樹脂によって形成することもできるし、架橋構造を有する透明樹脂によって形成することもできる。具体的には、（ｉ）溶剤を揮散させるだけで固化する溶剤希釈型透明樹脂組成物、（ii）加熱することによって重合反応ないし架橋反応が進行して硬化する熱硬化型透明樹脂組成物、又は、（iii） 電磁波の照射によって重合反応ないし架橋反応が進行して硬化する透明樹脂組成物（以下、本明細書においてはこの透明樹脂組成物を「光硬化型透明樹脂組成物」という。）を用いて形成することができる。本明細書においては、溶剤希釈型透明樹脂組成物の溶剤を揮散させることでこの溶剤希釈型透明樹脂組成物を固化させて得た塗膜も「硬化塗膜」に含まれるものとする。
【００４１】
上記の溶剤希釈型透明樹脂組成物の具体例としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等を溶剤で希釈したものが挙げられる。
【００４２】
また、上記の熱硬化型透明樹脂組成物の具体例としては、重合又は架橋によりアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂になるもの等が挙げられる。
【００４３】
そして、上記の光硬化型透明樹脂組成物としては、モノマー成分とオリゴマー成分とを少なくとも含有しているものが好ましい。モノマー成分の具体例としては、（Ａ）酢酸ビニル、スチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等のビニルモノマー、（Ｂ）ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ｎ−デシルアクリレート、イソボニルアクリレート、ジシクロペンテニロキシエチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等の単官能アクリレート系モノマー、（Ｃ）１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール４００ジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡジエトキシジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシビバリ酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能アクリレート系モノマー、などが挙げられる。また、オリゴマー成分の具体例としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエン／チオール、ポリスチリルメタクリレート等が挙げられる。
【００４４】
なお、溶剤希釈型透明樹脂組成物及び熱硬化型樹脂組成物それぞれの具体例についての説明の中で挙げたフッ素系樹脂としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンとの三元共重合体、テトラフルオロエチレンとエチレンもしくはプロピレンとの共重合体、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとの共重合体、ペルフルオロアルコキシ樹脂、フッ化ビニリデン系樹脂、フッ化ビニル系樹脂等を例示することができる。同様に、上記のポリイミド系樹脂としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等を例示することができる。
【００４５】
また、熱硬化型透明樹脂組成物及び光硬化型透明樹脂組成物には、それぞれ、重合開始剤及び増感剤の少なくとも一方を必要に応じて含有させることができる。例えば、光硬化型透明樹脂組成物に含有させる重合開始剤（光重合開始剤）の具体例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、４，４−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−ジメトキシ−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、アゾビスイソブチルニトリル、２−クロロチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジメチルチオキサンソン、メチルベンゾイルフォーメート、３，３，４，４−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等が挙げられ、増感剤の具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、トリエチル−ｎ−ブチルホスフィン、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソブチル、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート等が挙げられる。
【００４６】
メッシュ状金属層１０の細線部部１０ａ上での平均傾斜角度が前述の範囲内にある硬化塗膜１５は、材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物、熱硬化型透明樹脂組成物、及び光硬化型透明樹脂組成物のいずれを用いる場合でも、その２３℃での粘度を０．０１〜２Ｐａ・ｓ程度の範囲内に調整し、この透明樹脂組成物をグラビアコート、グラビアリバースコート、キスリバースコート、コンマコート、ダイコート、３本リバースコート、スリットリバースコート等の方法により塗工して塗膜を形成した後に塗膜を硬化（固化）させることによって得ることができる。
【００４７】
透明樹脂組成物の粘度を上述の範囲内とすることにより、硬化塗膜１５の形成時に、メッシュ状金属層１０における第１透明基材１側の基部と接合剤層５（接合剤層５が省略されている場合には第１透明基材１）とが形成する角部に気泡が残ることも容易に抑制することができる。
【００４８】
形成される硬化塗膜１５の膜厚が厚いと、硬化塗膜１５による吸収光量が多くなり易いので、メッシュ状金属層１０の細線部１０ａ上における硬化塗膜１５の最大膜厚の平均値は、メッシュ状金属層１０の平均膜厚の１０〜４００％程度の範囲内とすることが好ましく、１０〜２００％程度の範囲内とすることが更に好ましい。そのためには、硬化塗膜１５の材料として用いる透明樹脂組成物の塗工量（硬化後の塗工量を意味する。）を１〜２５ｇ／ｍ２ 程度の範囲内で適宜選定することが好ましい。
【００４９】
硬化塗膜１５の材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物、熱硬化型透明樹脂組成物、及び光硬化型透明樹脂組成物のいずれを用いる場合でも、光透過性及び像鮮明度が高い電磁波遮蔽部材３０を得るという観点からは、硬化塗膜１５と接合剤層５（接合剤層５を省略する場合には第１透明基材１）との界面での反射を抑えるために、波長５８７．６ｎｍの光を測定光としたときの屈折率差が０．２程度以下、更には０．１以下となるよう、その材料を選定することが好ましい。
【００５０】
硬化塗膜１５の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）を０．０１〜１０μｍ程度とすることも、電磁波遮蔽部材３０の光透過性及び像鮮明度を向上させるという観点から好ましい。この十点平均粗さ（Ｒｚ）が上記の範囲から外れると、後述する第２透明基材２５を設けても硬化塗膜１５の表面での反射光量が増大して、あるいは、硬化塗膜１５の表面での乱反射が大きくなって、電磁波遮蔽部材３０の像鮮明度が低くなることがある。硬化塗膜１５の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）は、０．０５〜７μｍ程度の範囲内とすることが更に好ましく、０．１〜５μｍ程度の範囲内とすることが特に好ましい。硬化塗膜１５の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が上述の範囲内であれば、後述する接合材層２０を形成する際に硬化塗膜１５との界面に気泡が残りにくくなるので、電磁波遮蔽部材３０の光透過性及び像鮮明度を向上させることが容易になる。
【００５１】
硬化塗膜１５の材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物を用いる場合、十点平均粗さ（Ｒｚ）が上述の範囲内にある硬化塗膜１５は、例えば、塗膜を温度５０〜１３０℃、風速２〜２０ｍ／秒の熱風により１〜３分かけて乾燥することにより得ることができる。このとき、残留溶剤量をできるだけ少なくすることにより、良好な硬化塗膜１５を得易くなる。硬化塗膜１５での残留溶剤量を少なくするためには、熱風の温度及び風速を段階的に上げて、塗膜表面があまりにも早期に乾燥してしまうのを防止することが好ましい。例えば、初期には温度５０〜７０℃、風速２〜５ｍ／秒の熱風により乾燥し、塗膜表面が乾燥した段階で温度１００〜１３０℃、風速１０〜２０ｍ／秒の熱風により更に乾燥すると、残留溶剤が無いか、又は少ない良好な硬化塗膜１５を得ることができる。
【００５２】
また、硬化塗膜１５の材料として熱硬化型透明樹脂組成物又は光硬化型透明樹脂組成物を用いる場合でも、これらの透明樹脂組成物に溶剤が含有されている場合には、上記の乾燥条件と同様の条件の下に溶剤を揮散させてから、加熱により、又は電磁波の照射により重合反応もしくは架橋反応を進行させることが好ましい。熱硬化型透明樹脂組成物を硬化させるにあたっては、温度４０℃〜６０℃の環境下で１〜７日間養生することが好ましい。また、光硬化型透明樹脂組成物を硬化させるにあたっては、当該光硬化型透明樹脂組成物を硬化させることができる電磁波の照射強度を５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２ 程度の範囲内とすることが好ましい。なお、光硬化型透明樹脂組成物が紫外線硬化型透明樹脂組成物である場合には、紫外線の光源として、例えば高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、パルスキセノンランプ等を用いることができる。
【００５３】
硬化塗膜１５の形状保持能を実用上充分なものとするためには、そのガラス転移点を３０℃以上とし、数平均分子量を数千以上とすることが好ましい。硬化塗膜１５の材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物を用いた場合には、この透明樹脂組成物に含有されている透明樹脂のガラス転移点及び数平均分子量が、略そのまま、硬化塗膜１５のガラス転移点及び数平均分子量となる。一方、硬化塗膜１５の材料として熱硬化型透明樹脂組成物又は光硬化型透明樹脂組成物を用いた場合には、この透明樹脂組成物の硬化条件を適宜選定することにより、硬化塗膜１５のガラス転移点及び数平均分子量を制御することができる。硬化塗膜１５の数平均分子量の上限値は特に限定されないが、材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物を用いる場合には３０万程度以下、特に１５万程度以下となるように当該透明樹脂組成物を選定することが好ましい。また、材料として熱硬化型透明樹脂組成物又は光硬化型透明樹脂組成物を用いる場合には、５０万程度以下、特に３０万程度以下とすることが好ましい。
【００５４】
ところで、細線部１０ａ上での硬化塗膜１５の最大膜厚の平均値を前述の範囲内とした場合、メッシュ状金属層１０の交差部１０ｂ上における硬化塗膜１５の最大膜厚の平均値は、通常、細線部１０ａ上における硬化塗膜１５の最大膜厚の平均値よりも大きくなる。その結果として、各交差部１０ｂ上の硬化塗膜１５は微小な凸レンズとして機能する。このため、硬化塗膜１５を透過した光の発散、収束の度合いは、メッシュ状金属層１０の細線部１０ａの近傍、メッシュ状金属層１０の交差部１０ｂの近傍、及び光透過部１２の平面視上の中央部とで互いに相違する。この相違が大きいと、後述する接合材層２０及び第２透明基材２５を設けても、電磁波遮蔽部材３０に光芒（いわゆる虹ムラ）が生じて像鮮明度が低下することがある。
【００５５】
像鮮明度の高い電磁波遮蔽部材３０を得るという観点からは、細線部１０ａ上での硬化塗膜１５の平均傾斜角度を１０°程度以下にすることが好ましい。この平均傾斜角度が１０°程度以下に抑えられていれば、電磁波遮蔽部材３０を透過した光の発散、収束の度合いについての前述の相違が小さくなるので、電磁波遮蔽部材３０での光芒の発生が抑えられる。また、硬化塗膜１５の表面での光の乱反射も抑えられる。これらの結果として、像鮮明度がより高い電磁波遮蔽部材３０が得られる。
【００５６】
このような硬化塗膜１５は、その膜厚を厚くすれば比較的容易に形成することが可能であるが、硬化塗膜１５の膜厚を厚くするに従って当該硬化塗膜１５による吸収光量が増大し、電磁波遮蔽部材３０の光透過性及び像鮮明度が低下する。また、硬化塗膜１５の材料として溶剤を含有した透明樹脂組成物を用いた場合には、硬化塗膜１５中の残留溶剤が増加して当該硬化塗膜１５に浮きやクラックが生じ易くなる。さらに、１回の塗工で所望の硬化塗膜１５を形成することが困難になる。
【００５７】
したがって、光透過性及び像鮮明度が高い電磁波遮蔽部材３０を効率よく得るという観点からは、細線部１０ａ上での硬化塗膜１５の最大膜厚の平均値をメッシュ状金属層１０の平均膜厚の１０〜４００％程度の範囲内、特に１０〜２００％程度の範囲内とすることが好ましい。この場合、上記の平均傾斜角度の下限値は１°程度になる。
【００５８】
溶剤希釈型透明樹脂組成物を用いて上記の平均傾斜角度が１０°程度以下である硬化塗膜１５を１回の塗工で効率よく形成しようとする場合には、その２３℃での粘度を０．０１〜１０Ｐａ・ｓ程度の範囲内とし、その塗工量（ただし、硬化（固化）後の塗工量を意味する。）を１〜３５ｇ／ｍ２ 程度の範囲内で適宜選定することが好ましい。上記の粘度は０．０３〜１Ｐａ・ｓ程度の範囲内とすることが更に好ましく、上記の塗工量は１５〜２５ｇ／ｍ２ 程度の範囲内で適宜選定することが更に好ましい。
【００５９】
上記の粘度条件を満たす溶剤希釈型透明樹脂組成物は、例えば、数平均分子量が１千〜３０万程度の透明樹脂を固形分量が１５〜３５wt％程度の範囲内となるように溶剤で希釈することによって、得ることができる。このとき、透明樹脂の数平均分子量は５千〜１５万程度の範囲内であることが好ましく、固形分量は１５〜３０wt％程度の範囲内とすることが好ましい。
【００６０】
また、熱硬化型透明樹脂組成物を用いて前述の平均傾斜角度が１０°程度以下である硬化塗膜１５を１回の塗工で効率よく形成しようとする場合には、その２３℃での粘度を０．０１〜２Ｐａ・ｓ程度の範囲内とすることが好ましく、その塗工量（ただし、硬化後の塗工量を意味する。）を１〜５０ｇ／ｍ２ 程度の範囲内で適宜選定することが好ましい。上記の粘度は０．０５〜０．２Ｐａ・ｓ程度の範囲内とすることが更に好ましく、上記の塗工量は１〜２５ｇ／ｍ２ 程度の範囲内で適宜選定することが更に好ましい。
【００６１】
そして、光硬化型透明樹脂組成物を用いて前述の平均傾斜角度が１０°程度以下である硬化塗膜１５を１回の塗工で効率よく形成しようとする場合には、その２３℃での粘度を０．０３〜５Ｐａ・ｓ程度の範囲内とすることが好ましく、その塗工量（ただし、硬化後の塗工量を意味する。）を１〜３５ｇ／ｍ２ 程度の範囲内で適宜選定することが好ましい。上記の粘度は０．０５〜１Ｐａ・ｓ程度の範囲内とすることが更に好ましく、上記の塗工量は１５〜２５ｇ／ｍ２ 程度の範囲内で適宜選定することが更に好ましい。
【００６２】
上記の粘度条件を満たす熱硬化型透明樹脂組成物及び光硬化型透明樹脂組成物は、それぞれ、例えばモノマー含量又は溶剤含量を適宜調整することによって得ることができる。
【００６３】
（５）第２透明基材；
第２透明基材２５は、前述のように、接合材層２０を介して硬化塗膜１５に接合されており、メッシュ状金属層１０の細線部１０ａ上での第２透明基材２５の頂部と光透過部１２の平面視上の中央部での第２透明基材２５の上面との高低差の平均値は５．０μｍ以下に抑えられている。この平均値は１．０μｍ以下であることが好ましい。
【００６４】
接合材層２０を介して硬化塗膜１５に第２透明基材２５を接合させることにより、仮に硬化塗膜１５の表面の凹凸が大きくても、硬化塗膜１５の表面の凹凸を接合材層２０により吸収して、この凹凸が第２透明基材２５の表面に反映されるのを抑制することができる。結果として、第２透明基材２５の表面における上記の高低差の平均値を所望の範囲内に納めることが可能になる。
【００６５】
接合材層２０の膜厚を厚くすれば、第２透明基材２５の表面における上記の高低差の平均値を所望の範囲内に納め易くなるが、接合材層２０の膜厚が厚くなる程、当該接合材層２０での光の吸収が大きくなり、結果として電磁波遮蔽部材３０の光透過性が低下する。
【００６６】
したがって、接合材層２０の膜厚は、硬化塗膜１５の表面の凹凸の度合いに応じて、できるだけ薄くする方が好ましい。メッシュ状金属層１０の細線部１０ａ上での硬化塗膜１５の平均傾斜角度が１５°程度以下であれば、接合材層２０の膜厚を１５〜７５μｍ程度の範囲内で適宜選定することにより、第２透明基材２５の表面の前記高低差の平均値を５．０μｍ以下に抑えることが可能である。また、上記の平均傾斜角度が１０°程度以下であれば、接合材層２０の膜厚を２０〜５０μｍ程度の範囲内で適宜選定することにより、第２透明基材２５の表面の前記高低差の平均値を１μｍ以下に抑えることが可能である。
【００６７】
このような接合材層２０は、自重により、又は荷重をかけることにより平坦な表面（上面）を形成することができるものが好ましく、その材料としては、例えば感圧型粘着剤、熱硬化型接着剤、光硬化型接着剤等を用いることができる。また、キャリアタイプ又はノンキャリアタイプの粘着シートを利用すれば、所望の粘着材層２０の形成が容易になる。
【００６８】
接合材層２０の材料としては、その表裏に膜厚１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを積層した状態で１８０°剥離試験（試験幅２５ｍｍ、剥離速度３００ｍｍ／分）を行ったときの剥離強度が、３〜２５Ｎ／２５ｍｍ程度のものが好ましい。
【００６９】
光透過性及び像鮮明度の高い電磁波遮蔽部材３０を得るという観点からは、接合材層２０と硬化塗膜１５との屈折率差、及び、接合材層２０と第２透明基材２５との屈折率差をそれぞれ小さくすることが好ましく、波長５８７．６ｎｍの光を測定光として用いたときの屈折率差で０．２程度以下、更には０．１以下とすることが好ましい。
【００７０】
第２透明基材２５としては、既に説明した第１透明基材１と同様に、ガラス基板のように可撓性に乏しい透明なリジッド材を用いることも可能であるが、ガラスシート、透明樹脂シート、又は透明樹脂フィルムのように可撓性に富んだものを用いることが好ましい。可撓性、光透過性、及び像鮮明度がそれぞれ高い電磁波遮蔽部材３０を高い生産性の下に得るためには、厚さが１２〜３００μｍ程度の範囲内である透明樹脂フィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロース、ポリエーテルサルファイド、ポリエーテルケトン等により形成された透明樹脂フィルムを用いることが好ましい。
【００７１】
第２透明基材２５の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）は、１〜１００ｎｍ程度の範囲内で適宜選定可能であるが、光透過性及び像鮮明度の高い電磁波遮蔽部材３０を得るという観点からは、１〜２０程度の範囲内で適宜選定することが好ましい。十点平均粗さ（Ｒｚ）が２０ｎｍ程度以下の透明樹脂フィルの具体例としては、各種の光学用透明樹脂フィルムが挙げられる。
【００７２】
なお、反射防止膜、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、衝撃吸収層、近赤外線吸収層等として機能するものを第２透明基材２５として用いることも可能である。このような第２透明基材２５を用いることにより、所望の機能が付加された電磁波遮蔽部材３０の製造コストを抑えることが容易になる。
【００７３】
前述した接合材層２０を介しての第２透明基材２５と硬化塗膜１５との接合は、例えば、接合材層２０の材料となる粘着剤又は接着剤を硬化塗膜１５及び第２透明基材２５の少なくとも一方に塗工した後、又は塗工しつつ、塗工された粘着剤又は接着剤により第２透明基材２５を硬化塗膜１５上に貼付することによって行うことができる。また、接着剤層２０の材料としてキャリアタイプ又はノンキャリアタイプの粘着シートを用いる場合には、この粘着シートの片面の離型フィルムのみを剥離して硬化塗膜１５及び第２透明基材２５のいずれか一方、好ましくは第２透明基材２５に貼付し、その後に他の片面の離型フィルを剥離して、又は剥離しつつ、第２透明基材２５を硬化塗膜１５上に貼付することによって行うことができる。
【００７４】
接合材層２０を介して硬化塗膜１５に第２透明基材２５を接合させるにあたっては、接合時に、又は接合後に、温度６０〜７０℃程度、線圧１ｋｇ／ｃｍ２ 程度の条件でラミネートロール等を用いて第２透明基材２５に荷重をかけ、これにより第２透明基材２５の表面の平坦化を図ることが好ましい。接合材層２０の材料として熱硬化型接着剤や光硬化型接着剤を用いる場合には、第２透明基材２５の表面の平坦化を図りながら、又は平坦化を図った後に、熱硬化型接着剤又は光硬化型接着剤を硬化させて接合材層２０とすることが好ましい。
【００７５】
以上説明した構造を有する電磁波遮蔽部材３０では、メッシュ状金属層１０が硬化塗膜１５により被覆されているので、第１透明基材１を基準としたときのメッシュ状金属層１０の上面及び側面それぞれでの光の乱反射を抑制することができる。また、メッシュ状金属層１０の細線部１０ａ上での硬化塗膜１５の平均傾斜角度が０．０１〜１５．０°の範囲内にあるので、この硬化塗膜１５上に接合材層２０を介して第２透明基材１５を接合する際に接合材層２０を比較的薄くしても、硬化塗膜１５の表面の凹凸を接合材層２０により吸収して前記の凹凸が第２透明基材１５の表面に反映されるのを抑制することができる。そして、細線部１０ａ上での第２透明基材２５の頂部と光透過部１２の平面視上の中央部での第２透明基材２５の上面との高低差の平均値が５．０μｍ以下であるので、この第２透明基材２５の表面での光の乱射反射が抑えられる。更に、第２透明基材２５としては、保護層として機能するものを用いる他に、反射防止膜、赤外線吸収層、ネオン光吸収層等として機能するものを利用することが可能である。
【００７６】
これらの結果として、電磁波遮蔽部材３０では、光透過性及び像鮮明度がそれぞれ高いものを製造コストを抑えつつ得ることが容易である。さらに、第２透明基材２５の表面が比較的平坦であることから、この第２透明基材２５上に他の部材を貼付する場合でも、第２透明基材２５と他の部材との間に気泡が残ることが抑制されるので、脱泡処理等の工程を省略することが可能になる。
【００７７】
この電磁波遮蔽部材３０は、プラズマディスプレイパネルのような表示装置の表示面から放射される電磁波を、視認される映像の画質の低下を抑制しつつ遮蔽するうえで好適である。
【００７８】
（５）変形例；
本発明の電磁波遮蔽部材は上述した形態のものに限定されるものではなく、種々の変形、改良、組み合わせ等が可能である。以下、幾つかの変形例について、図１（ａ）又は図１（ｂ）で用いた参照符号を適宜引用しつつ、説明する。
【００７９】
例えばプラズマディスプレイパネルの表示面からは赤外線も放射され、この赤外線は、リモートコントローラ等の周辺機器を誤作動させる原因となることがある。したがって、本発明の電磁波遮蔽部材には、必要に応じて８００〜１２００ｎｍの波長域の近赤外線を吸収する赤外線吸収能を付与することが好ましい。この赤外線吸収能は、例えば、接合剤層５、硬化塗膜１５、及び接合材層２０の少なくとも１つに赤外線吸収剤を含有させることにより、あるいは、第１透明基材１の外表面上、又は第２透明基材２５の外表面上に赤外線吸収層を形成することにより、付与することができる。第１透明基材１の外表面上、又は第２透明基材２５の外表面上に赤外線吸収フィルムを貼付するか、又は、第２透明基材２５として赤外線吸収フィルム用いることによっても、付与することができる。
【００８０】
接合剤層５、硬化塗膜１５、又は接合材層２０に赤外線吸収剤を含有させる場合、この赤外線吸収剤としては、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化鉛、酸化ビスマス等の無機赤外線吸収剤や、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アルミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、ジイモニウム類、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系錯体類等の有機赤外線吸収剤を用いることができる。赤外線吸収剤は、１種のみを含有させてもよいし、２種以上を含有させてもよい。
【００８１】
接合剤層５、硬化塗膜１５、又は接合材層２０での赤外線吸収剤の含有量は、８００〜１２００ｎｍの波長域の近赤外線の透過率（ただし、電磁波遮蔽部材全体としての透過率を意味する。）が２０％程度以下、特に１０％程度以下となるように、使用する赤外線吸収剤の種類に応じて適宜選定することが好ましい。なお、ここでいう「近赤外線の透過率」とは、（株）島津製作所製のＵＶ−３１０ＯＰＣ（商品名）を用いて測定した近赤外線の透過率を意味する。
【００８２】
接合剤層５、硬化塗膜１５、又は接合材層２０に赤外線吸収剤を含有させた場合には、第１透明基材１の外表面上、又は第２透明基材２５の外表面上に赤外線吸収フィルムもしくは赤外線吸収層を設けた場合に比べて光学的な界面の数の増加がないので、赤外線吸収能を付与したことに伴う電磁波遮蔽部材の光透過性及び像鮮明度それぞれの低下が抑制される。
【００８３】
なお、接合剤層５、硬化塗膜１５、又は接合材層２０に赤外線吸収剤を含有させる場合には、赤外線吸収剤の劣化や分解等を抑制するという観点から、接合剤層５、硬化塗膜１５、及び接合材層２０のうちで赤外線吸収剤を含有させようとする層又は膜での水酸基価を１０以下、更には５以下、特に０とすることが好ましい。同様の観点から、接合剤層５、硬化塗膜１５、及び接合材層２０のうちで赤外線吸収剤を含有させようとする層又は膜での酸価は１０以下、更には５以下、特に０とすることが好ましい。ここで、本明細書でいう「水酸基価」とは、試料１ｍｇから得られるアセチル化物に結合している酢酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数を意味する。また、本明細書でいう「酸価」とは、試料１ｇ中の遊離脂肪酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数を意味する。接合剤層５、硬化塗膜１５、及び接合材層２０それぞれでの水酸基価や酸価は、これらの層又は膜の材料を適宜選定することにより、制御することができる。
【００８４】
また、プラズマディスプレイパネルからは、放電ガスとして用いられる希ガスから発光が起こる。例えば、希ガスとしてネオン（Ｎｅ）ガスを用いた場合には、オレンジ色の発光が生じる。このような希ガスからの発光は、表示映像の画質を低下させる要因となる。したがって、本発明の電磁波遮蔽部材には、必要に応じて、放電ガスとして用いられる希ガスからの発光を吸収する光吸収能を付与することが好ましい。この光吸収能は、例えば、接合剤層５、硬化塗膜１５、及び接合材層２０の少なくとも１つに適当な光吸収色素を含有させることにより、あるいは第１透明基材１の外表面上、又は第２透明基材２５の外表面上に適当な光吸収層を形成することにより、付与することができる。さらには、第２透明基材２５として、所望の光吸収能を有するものを用いることにより、付与することができる。
【００８５】
例えば、ネオンガスからの発光を吸収するための光吸収色素としては、シアニン系色素、ポリメチン系色素、サブフタロシアンニン系色素、ポリフィリン系色素等を用いることができる。光吸収色素は、前述した赤外線吸収剤と混在させることも可能であるし、光吸収色素を含有させる層又は膜と、赤外線吸収剤を含有させる層又は膜とを互いに別個のものとすることも可能である。
【００８６】
上記の光吸収層は、例えば、上述した光吸収色素と、アクリレート系粘着剤、例えば２−エチルヘキシルアクリレート系を主成分とするものやブチルアクリレート系の粘着剤とを、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、イソプロピルアルコール等の溶媒に溶解させてコーティング溶液を調製し、このコーティング溶液を第１透明基材１の外表面上、又は第２透明基材２５の外表面上に塗工して塗膜を形成した後に、この塗膜を乾燥させることによって形成することができる。
【００８７】
その他、本発明の電磁波遮蔽部材では、第１透明基材１上又は第２透明基材２５上に反射防止膜や衝撃吸収層等を積層することもできる。また、既に説明したように、反射防止機能や衝撃吸収機能を有するものを第２透明基材２５として用いることも可能である。
【実施例】
【００８８】
＜実施例１＞
まず、第１透明基材として厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製のＡ４３００（商品名））を用意し、このフィルムの片面にウレタン系接着剤を用いて厚さ９μｍの銅箔（古川サーキットフォイール社製のＥＸＰ−ＷＳ（商品名））をドライラミネーションした。上記の銅箔は、片面がクロメート処理により黒化されたものであり、ドライラミネーションにあたっては黒化処理面（クロメート処理面）が外表面となるように配置した。
【００８９】
上記のポリエチレンテレフタレートフィルムでの波長５８７．６ｎｍの光の屈折率は１．５７である。また、ドライラミネーションに用いたウレタン系接着剤は、ガラス転移点が２０℃、数平均分子量が３万、酸価が１、水酸基価が９、波長５８７．６ｎｍの光の屈折率が１．４９のものであり、その膜厚は１０μｍである。
【００９０】
次に、銅箔上に所定形状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンをエッチングマスクとして用いて銅箔をウェットエッチングした。このとき、エッチャントとしては塩化第二鉄溶液を用い、液温は５０℃とした。ウェットエッチング後にレジストパターンを剥離し、純水でリンスした。これにより、個々の目の平面視上の大きさ及び形状が３００μｍ□である格子状を呈し、細線部の平面視上の線幅が１０μｍであるメッシュ状金属層が得られた。このメッシュ状金属層は、前述したポリエチレンテレフタレートフィルムに、平面視上の大きさ及び形状が３００μｍ□の光透過部を多数画定している。
【００９１】
これとは別に、市販の溶剤希釈型透明樹脂組成物（三菱レーヨン社製のＢＲ−９８（商品名））を用意した。この溶剤希釈型透明樹脂組成物は、ガラス転移点が６５℃、数平均分子量が６万、酸価が１、水酸基価が０であるメチルメタクリレート系透明樹脂をトルエンとメチルエチルケトンとの１：１（重量比）混合液で希釈したものであり、メチルメタクリレート系透明樹脂は鎖状構造を有している。
【００９２】
また、接合材層の材料としてブチルアクリレート系粘着剤層が２枚の離型フィルムによって挟持された構造を有するノンキャリアタイプの粘着シート（日東電工社製のＨｊ−９１５０Ｗ（商品名））を用意し、第２透明基材として、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製のＡ４３００（商品名））を用意した。上記のブチルアクリレート系粘着剤層における波長５８７．６ｎｍの光の屈折率は１．４６である。
【００９３】
次に、上記の溶剤希釈型透明樹脂組成物をベース組成物として用い、このベース組成物をトルエンとメチルエチルケトンとの１：１（重量比）混合液で５倍（重量比）に希釈して塗工液を調製し、この塗工液を前述したメッシュ状金属層上、及び多数の光透過部それぞれの上にアプリケーター用いて塗工した。塗工量は、硬化後の塗工量（乾燥重量）が２０ｇ／ｍ２ になる量とした。
【００９４】
次いで、得られた塗膜を風速５ｍ／秒、温度６０℃の熱風で３０秒間乾燥し、引き続き、風速２０ｍ／秒、温度１００℃の熱風で６０秒間を乾燥した。これにより、メッシュ状金属層及び多数の光透過部をそれぞれ被覆する硬化塗膜が透明樹脂により形成された。
【００９５】
この後、上記の粘着シートにおける一方の離型フィルムを剥離してアクリル系粘着剤層を露出させ、このアクリル系粘着剤層が第２透明基材（ポリエチレンテレフタレートフィルム）と接する向きで粘着シートと第２透明基材とをラミネートロールに通し、温度７０℃、線圧１ｋｇ／ｃｍ２ の条件の下に両者を貼り合わせた。さらに、粘着シートにおける他方の離型フィルムを剥離してアクリル系粘着剤層を再び露出させ、硬化塗膜まで形成した第１透明基材と粘着シートが貼付された第２透明基材とをアクリル系粘着剤層が硬化塗膜と接する向きでラミネートロールに通し、線圧１ｋｇ／ｃｍ２ の条件の下に両者を貼り合わせた。これにより、第２透明基材がアクリル系粘着剤層を介して硬化塗膜に接合され、目的とする電磁波遮蔽部材が得られた。以下、同じ条件の下に複数の電磁波遮蔽部材を作製した。
【００９６】
本実施例１並びに後述する実施例２〜１４及び比較例１〜３で電磁波遮蔽部材の作製に使用した塗工液（透明樹脂組成物）について、ベース組成物の商品名、種類、希釈倍率、重合開始剤の含有の有無、及び赤外線吸収剤（ＩＲ吸収剤）の含有の有無、並びに塗工液の塗工条件を一覧にして、後掲の表１に示す。
【００９７】
また、形成された硬化塗膜でのガラス転移点、数平均分子量、酸価、及び水酸基価、並びに複数の電磁波遮蔽部材の中から無作為に抽出した電磁波遮蔽部材における硬化塗膜の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）、光透過部での平均膜厚（光透過部の平面視上の中央部での膜厚の平均値）、図２に示した距離Ｌ２の平均値、図２に示した距離Ｌ３と距離Ｌ４との平均値、及びメッシュ状金属層の細線部上での硬化塗膜の平均傾斜角度を一覧にして、後掲の表２に示す。さらに、接合材層の材料及び厚さを表２に併記する。
【００９８】
なお、硬化塗膜の表面粗さ（十点平均粗さ（Ｒｚ））は、いずれの実施例及び比較例においても、東京精密社製の表面粗さ計（ＨＡＮＤＹＳＵＲＦ  Ｅ−３５Ａ（商品名））を用いてＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１ に従って測定した。
【００９９】
＜実施例２〜９＞
塗工液として実施例毎に後掲の表１に示す溶剤希釈型透明樹脂組成物を用い、かつ、接合材層の材料として後掲の表２に示すものを用いた以外は実施例１と同様の条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を実施例毎に作製した。なお、各溶剤希釈型透明樹脂組成物における透明樹脂は、いずれも、鎖状構造を有している。また、各実施例で作製した電磁波遮蔽部材における接合材層は、いずれも、波長５８７．６ｎｍの光の屈折率が１．４６のものである。
【０１００】
＜実施例１０＞
塗工液として後掲の表１に示す熱硬化型透明樹脂組成物を用い、かつ、塗膜の乾燥後にこの塗膜を６０℃で４日間加熱した以外は実施離１と同様の条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を作製した。乾燥後の塗膜を更に加熱したことにより、各電磁波遮蔽部材には、架橋した透明樹脂からなる硬化塗膜が形成された。なお、塗膜の乾燥は、実施例１での塗膜の乾燥と同じ条件の下に行った。
【０１０１】
＜実施例１１＞
塗工液として後掲の表１に示す光硬化型（紫外線硬化型）透明樹脂組成物を用い、その塗工量（ただし、硬化後の重量を意味する。）を１７ｇ／ｍ２ にして塗膜を形成すると共に、塗膜の乾燥後に紫外線ランプを用いて照射強度４００ｍＪ／ｃｍ２ の条件の下に紫外線を照射した以外は実施離１と同様の条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を作製した。塗膜に紫外線を照射したことにより、各電磁波遮蔽部材には、架橋した透明樹脂からなる硬化塗膜が形成された。なお、塗膜の乾燥は、実施例１での塗膜の乾燥と同じ条件の下に行った。
【０１０２】
＜実施例１２〜１４＞
後掲の表１に示すように、塗工液（透明樹脂組成物）に赤外線吸収剤を含有させ、かつ、この塗工液の塗工量（ただし、硬化後の重量を意味する。）を表１に示す量とし、他は実施例４、実施例６、又は実施例１０と同様の条件の下に複数の電磁波遮蔽部材を実施例毎に作製した。
【０１０３】
＜比較例１＞
硬化塗膜、接合材層、及び第２透明基材をそれぞれ設けなかった以外は実施例１と同じ条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を作製した。
【０１０４】
＜比較例２＞
接合材層及び第２透明基材をそれぞれ設けず、かつ、塗工液（溶剤希釈型透明樹脂組成物）の塗工量（ただし、硬化後の重量を意味する。）を３ｇ／ｍ２ とした以外は実施例６と同じ条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を作製した。
【０１０５】
＜比較例３＞
硬化塗膜を形成しなかった以外は実施例１と同じ条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を作製した。
【０１０６】
【表１】
2006210573.tif 000003
【０１０７】
【表２】
2006210573.tif 000004
【０１０８】
［評価］
実施例１〜１４及び比較例１〜３でそれぞれ作製した電磁波遮蔽部材について、ヘイズ、視感透過率、及び像鮮明度を下記の方法で測定した。また、透明樹脂組成物（硬化塗膜）に赤外線吸収剤を含有させた実施例１２〜１４の各電磁波遮蔽部材について、赤外線透過率を下記の方法で測定した。これらの結果を表３に示す。
【０１０９】
（Ａ）ヘイズ；
スガ試験機社製のカラーコンピューター  ＳＭ−Ｃ（商品名）を用い、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１ 「プラスチックの光学的特性試験方法」に従って、作製直後（初期）の値と、気温６０℃、湿度９５％の空気雰囲気中に１０００時間放置して耐久性試験を行った後（試験後）での値とを測定した。
【０１１０】
（Ｂ）視感透過率；
スガ試験機社製の写像性測定器  ＩＣＭ−１（商品面）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１ 「プラスチックの光学的特性試験方法」に従って、作製直後（初期）の値と、気温６０℃、湿度９０％の空気雰囲気中に１０００時間放置して耐久性試験を行った後（試験後）での値とを透過法により測定した。
【０１１１】
（Ｃ）像鮮明度；
上記の写像性測定器を用い、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１ 「プラスチックの光学的特性試験方法」に従って、作製直後（初期）の透過鮮明度と、気温６０℃、湿度９５％の空気雰囲気中に１０００時間放置して耐久性試験を行った後（試験後）での透過鮮明度とを測定した。なお、光学くしとしては、暗部及び明部それぞれの幅が共に０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ、又は２ｍｍである計５種類を使用した。
【０１１２】
（Ｄ）赤外線透過率；
８００〜１２００ｎｍの波長域の近赤外線の最大透過率について、作製直後（初期）の値と、気温６０℃、湿度９０％の空気雰囲気中に１０００時間放置して耐久性試験を行った後（試験後）での値とを、（株）島津製作所製の分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ（品番））を用いて測定した。
【０１１３】
【表３】
2006210573.tif 000005
【０１１４】
実施例１〜１４で作製した各電磁波遮蔽部材でのヘイズと比較例１で作製した電磁波遮蔽部材でのヘイズとの対比から明らかなように、メッシュ状金属層及び多数の光透過部を被覆する硬化塗膜を透明樹脂により形成し、この硬化塗膜に接合材層を介して第２透明基材を接合させることにより、ヘイズが小さい電磁波遮蔽部材を得ることができる。
【０１１５】
また、実施例１〜１４で作製した各電磁波遮蔽部材での視感透過率及び像鮮明度それぞれの値と、比較例１〜３で作製した電磁波遮蔽部材での視感透過率及び像鮮明度それぞれの値との対比から明らかなように、硬化塗膜に接合材層を介して第２透明基材を接合させることにより、これら視感透過率及び像鮮明度がそれぞれ高い電磁波遮蔽部材を得ることができる。硬化塗膜を形成しなかった比較例３の電磁波遮蔽部材では、粘着材層の形成時に内部に多数の気泡が残り、結果として、ヘイズ、視感透過率、及び像鮮明度がそれぞれ悪化した。実施例１〜１４で作製したいずれの電磁波遮蔽部材内にも、気泡は認められなかった。
【０１１６】
実施例４、実施例５、実施例６、又は実施例１０で作製した電磁波遮蔽部材と実施例１２〜１４で作製した電磁波遮蔽部材との対比から明らかなように、赤外線吸収剤を硬化塗膜に含有させた場合でも、ヘイズ、視感透過率、及び像鮮明度それぞれの値が赤外線吸収剤を含有させない場合と同程度の電磁波遮蔽部材を容易に得ることができる。
【０１１７】
なお、実施例１〜１４で作製したいずれの電磁波遮蔽部材においても、メッシュ状金属層の細線部上での第２透明基材の頂部と光透過部の平面視上の中央部での第２透明基材の上面との高低差の平均値は１μｍ以下であった。
【図面の簡単な説明】
【０１１８】
【図１】図１（ａ）は、本発明の電磁波遮蔽部材の一例を概略的に示す部分切欠き平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示したＩ−Ｉ線断面の概略図である。
【図２】本発明でいう「細線部上での硬化塗膜の平均傾斜角度」の求め方を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【０１１９】
１  第１透明基材
５  接着剤層
１０  メッシュ状金属層
１０ａ  細線部
１２  光透過部
１５  硬化塗膜
２０  接合材層
２５  第２透明基材
３０  電磁波遮蔽部材
【図１】
2006210573.tif 000006
【図２】
2006210573.tif 000007