(57)【要約】【課題】  電気光学装置において、配向膜にラビングスジが発生するのを防止する。【解決手段】  電気光学装置において、電気光学物質を挟持する一対の基板のいずれかを構成する基板と、基板上の周辺領域に、基板の少なくとも一辺に沿って配列されて形成される複数の外部回路接続端子と、外部回路接続端子より上層側に形成されると共に、基板上で平面的に見て、周辺領域内に、複数の外部回路接続端子の配列方向に沿って千鳥状に、複数の開孔部が配列されて開孔された絶縁膜とを備えており、絶縁膜において、複数の開孔部のうち少なくとも一部は、複数の外部回路接続端子の各々の表面が絶縁膜より露出するように、開孔されている。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置を構成する電気光学装置用基板であって、
前記一対の基板のいずれかを構成する基板と、
該基板上の画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に形成されると共に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の外部回路接続端子と、
該複数の外部回路接続端子より上層側に形成されると共に、前記基板上で平面的に見て、前記周辺領域内に千鳥状に、複数の開孔部が配列されて開孔された絶縁膜と
を備えており、
前記絶縁膜において、前記複数の開孔部のうち少なくとも一部は、前記複数の外部回路接続端子の各々の表面が前記絶縁膜より露出するように、開孔されていることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項２】
前記絶縁膜において、前記複数の開孔部の全てが、前記複数の外部回路接続端子の各々の表面が前記絶縁膜より露出するように、開孔されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項３】
前記絶縁膜において、前記複数の開孔部のうち一部は夫々、前記外部回路接続端子の表面が前記絶縁膜より露出するように、前記基板上で平面的に見て前記外部回路接続端子に重畳的に配置された端子用開孔部として、開孔されると共に、前記複数の開孔部のうち他部は夫々、前記基板上で平面的に見て前記外部回路接続端子が存在しない位置に配置されたダミー用開孔部として、開孔されていること
を特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項４】
前記絶縁膜において、前記基板上で平面的に見て、前記複数の開孔部は２列以上に配列されて開孔されると共に、
前記２列以上のうち第１列には前記端子用開孔部が配列されており、前記２列以上のうち第２列には前記ダミー用開孔部が配列されていることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置用基板。
【請求項５】
前記絶縁膜において、前記基板上で平面的に見て、前記複数の開孔部は２列以上に配列されて開孔されると共に、
前記基板上で平面的に見て、前記２列以上のうち第１列における相隣接する二つの開孔部間の間隙は、前記２列以上のうち第２列における一つの開孔部を前記基板に沿った一の方向に延伸してなる範囲内に含まれるように、配列されている
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項６】
前記絶縁膜において、前記複数の開孔部は、前記基板上で平面的に見て、前記複数の開孔部の列の長さが、前記複数の開孔部に対向する前記画像表示領域の一辺と比較して長くなるように、開孔されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項７】
一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置が複数形成される電気光学装置用基板であって、
前記一対の基板のいずれかの基板を夫々構成することになる複数の基板部分を含むマザー基板と、
該複数の基板部分の各々について、該基板部分上の画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に形成されると共に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の外部回路接続端子と、
該複数の外部回路接続端子より上層側に形成されると共に、前記基板上で平面的に見て、前記周辺領域内に千鳥状に、且つ前記複数の基板部分のうち前記複数の外部回路接続端子の配列方向に並ぶものを跨って該配列方向に連なるように、複数の開孔部が配列されて開孔された絶縁膜と
を備えており、
前記絶縁膜において、前記複数の開孔部のうち少なくとも一部は、前記複数の外部回路接続端子の各々の表面が前記絶縁膜より露出するように、開孔されていること
を特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項８】
前記絶縁膜において、前記複数の開孔部のうち一部は夫々、前記外部回路接続端子の表面が前記絶縁膜より露出するように、前記基板上で平面的に見て前記外部回路接続端子に重畳的に配置された端子用開孔部として、開孔されると共に、前記複数の開孔部のうち他部は夫々、前記基板上で平面的に見て前記外部回路接続端子が存在しない位置に配置されたダミー用開孔部として、開孔されており、
前記マザー基板上で平面的に見て、前記複数の基板部分のうち前記配列方向に並ぶものを跨って前記配列方向に連なるように、前記ダミー用開孔部が千鳥状に配列されること
を特徴とする請求項７に記載の電気光学装置用基板。
【請求項９】
請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板と、
前記基板上において、前記絶縁膜より上層側に、少なくとも前記画像表示領域に形成された配向膜と、
前記基板と対向して配置され、前記基板と一対をなす他の基板と、
該一対の基板間に挟持される電気光学物質と
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【請求項１１】
一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置を構成する電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記一対の基板のいずれかを構成する基板上において、画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の外部回路接続端子を形成する工程と、
前記複数の外部回路接続端子より上層側に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜に、前記基板上で平面的に見て、前記周辺領域内に、千鳥状に、複数の開孔部を配列させて開孔する工程と
を備えており、
前記複数の開孔部を開孔する工程では、前記絶縁膜において、前記複数の開孔部のうち少なくとも一部を、前記複数の外部回路接続端子の各々の表面が前記絶縁膜より露出するように、開孔することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置に用いられる電気光学装置用基板及びその製造方法、該電気光学装置用基板を備えてなる電気光学装置並びに例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置として、一対の基板間に電気光学物質として液晶を挟持してなる液晶装置がある。このような液晶装置では、例えば一対の基板間において液晶を所定の配向状態としておき、画像表示領域に形成された画素部毎に、液晶に所定の電圧を印加することにより、液晶における配向や秩序を変化させて、光を変調することにより階調表示を行う。尚、一対の基板の少なくともいずれか一方上には、このような階調表示を行うため、外部回路から駆動信号が供給される外部回路接続端子が、画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に形成される。外部回路接続端子より上層側には、外部回路接続端子の延在部或いは端子から引き回された配線部と液晶等とを電気的に絶縁するため、絶縁膜が形成されると共に、該絶縁膜を貫通させて凹状の開口部が開孔されることで、外部回路接続端子の表面が絶縁膜より露出される。
【０００３】
また、液晶装置では、液晶の配向制御を、特定の表面形状をもつ配向膜により行う。このような配向膜として、例えば、一対の基板の少なくともいずれか一方上に、ポリイミド等の有機材料により形成される有機膜にラビング処理を施すことにより得られる有機配向膜が形成される。ラビング処理は、例えば、周面が布等のクロス材により形成されたラビングローラを用いて、このラビングローラの周面に有機膜の表面を当接させることにより行われる。
【０００４】
特許文献１には、表示不良を解消するために、一対の基板の一方上に、画素部に形成された画素電極と、外部回路接続端子に供給される駆動信号に基づいて画素電極を駆動するために形成された配線等とを層間絶縁する絶縁膜が形成されると共に、該絶縁膜に分離凹溝を開孔する構成が開示されている。この分離凹溝は、画素表示領域において、隣接する画素部の各々に形成された画素電極間に位置する絶縁膜の一部に開孔されると共に、その底部に垂直配向膜が形成される。    
【特許文献１】特開平１０−２３２３９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述したような液晶装置を製造する際、配向膜のラビング処理で、基板上の周辺領域に位置する絶縁膜に開孔された、外部回路接続端子の表面を露出させるための開口部に、ラビングローラの周面を形成するクロスが当接し、該クロスの当接部分の毛先が開口部内に落ち込むことで、クロスに毛羽立ち等の乱れが生じる恐れがある。これにより、開口部通過後、ラビングローラの周面において、開口部に当接する部分と当接しない部分とで、クロスの毛並みの状態が異なることとなり、該クロスの毛並みの状態に起因して、画像表示領域上に位置する配向膜において例えば帯状のラビングスジが発生することがある。このようなラビングスジが配向膜において生じると、一対の基板間で液晶の配向状態に乱れが生じ、画像表示時に、表示不良が発生する恐れがある。
【０００６】
本発明は上述の問題点に鑑みなされたものであり、配向膜におけるラビングスジの発生を防止することが可能な電気光学装置用基板及びその製造方法、並びにこのような電気光学装置用基板を備えてなる電気光学装置、及び該電気光学装置を具備する液晶プロジェクタ等の電子機器を提供することを解決課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の電気光学装置用基板は上記課題を解決するために、一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置を構成する電気光学装置用基板であって、前記一対の基板のいずれかを構成する基板と、該基板上の画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に形成されると共に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の外部回路接続端子と、該複数の外部回路接続端子より上層側に形成されると共に、前記基板上で平面的に見て、前記周辺領域内に千鳥状に、複数の開孔部が配列されて開孔された絶縁膜とを備えており、前記絶縁膜において、前記複数の開孔部のうち少なくとも一部は、前記複数の外部回路接続端子の各々の表面が前記絶縁膜より露出するように、開孔されている。
【０００８】
本発明の第１の電気光学装置用基板は、例えば液晶装置である電気光学装置に用いられ、該電気光学装置の、電気光学物質を挟持する一対の基板のいずれか一方の基板を備えている。該基板上の画像表示領域である画像表示領域には、例えば、画素部毎に画素電極が形成されると共に、外部回路から供給される画像信号、電源信号、制御信号或いは駆動信号等の各種信号に基づいて、画素電極を駆動するための配線や、薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；以下適宜、”ＴＦＴ”と称する）等のトランジスタ、若しくは薄膜ダイオード（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ；以下適宜、”ＴＦＤ”と称する）等の画素スイッチング用の駆動素子が形成される。或いは、基板上には、該基板を含む一対の基板の他方に形成された画素電極と対向する対向電極や、例えば格子状のパターンを有する遮光膜等が画像表示領域に形成されてもよい。
【０００９】
また、基板上の画像表示領域の周辺に位置する周辺領域には、画素電極を駆動するための各種信号が外部回路から供給される、２以上の外部回路接続端子が形成される。これら複数の外部回路接続端子は、例えば、基板の少なくとも一辺に沿って配列され、各種信号を供給する外部回路と電気的に接続される。
【００１０】
尚、本発明の第１の電気光学装置用基板を用いて構成される電気光学装置では、複数の外部回路接続端子に供給される各種信号に基づいて、配線や画素スイッチング素子によって画素電極が駆動されることにより、一対の基板間に挟持された電気光学物質に画素部毎に所定の電圧が印加されることで、画像表示が行われる。
【００１１】
加えて、本発明の第１の電気光学装置用基板によれば、基板上において、複数の外部回路接続端子の延在部或いは複数の外部回路接続端子から引き出された配線部と電気光学物質等とを電気的に絶縁するために、基板上における外部回路接続端子より上層側に、絶縁膜が形成される。この絶縁膜は、画素電極若しくは対向電極と、画素電極若しくは対向電極を駆動するための配線等とを電気的に絶縁するように、周辺領域から画像表示領域に跨って形成されてもよい。
【００１２】
そして、絶縁膜において周辺領域内に位置する部分には、基板上で平面的に見て、複数の外部回路接続端子が、例えば一列或いは複数列配列された配列方向に沿って千鳥状に、複数の開孔部が配列されて開孔される。ここに「千鳥状」とは、複数の開孔部の配列方向に沿った線或いは中心線に対してジグザグであることを意味する。より具体的には、基板上で、複数の外部回路接続端子のうち、それらの配列の一端から配列方向に第ｎ（但し、ｎは自然数）番目の外部回路接続端子が、該配列の中心線に対して一方の側（例えば、右側や手前側）に外れて配置されており且つ第ｎ＋１番目の外部回路接続端子が配列方向の中心線に対して他方の側（例えば、左側や奥側）に外れて配置されており、このような配置がｎ＝１、２、３、…Ｎについて、交互に繰り返されていることを意味する。尚、「千鳥状」は、「千鳥足状」と表現してもよい。
【００１３】
このように複数の開孔部は千鳥状に配列されているので、基板上で平面的に見て、周辺領域内で、絶縁膜における複数の開孔部は、外部回路接続端子が配列された基板の少なくとも一辺に沿って千鳥足状に配列されることとなる。また、複数の開孔部のうち少なくとも一部について、該一部の開孔部は夫々、絶縁膜を貫通して外部回路接続端子の表面に至るように開孔される。尚、複数の開孔部には、このように、基板上で平面的に見て外部回路接続端子に重畳的に配置され、外部回路接続端子の表面を露出させるための開孔部の他、基板上で平面的に見て、外部回路接続端子が存在しない位置に配置される開孔部が含まれてもよい。後者の開孔部については、絶縁膜より下層側に配置された、例えば周辺領域内に形成された配線等の構成要素の表面が不要に露出するのを防止するために、絶縁膜を貫通させないで、絶縁膜に掘り込まれて開孔されるのが好ましい。或いは、複数の開孔部の全てが夫々、外部回路接続端子の表面を露出するように開孔されるようにしてもよい。
【００１４】
また、基板上で平面的に見て、周辺領域内で、各外部回路接続端子の形状、複数の開孔部の各々の形状は、任意の形状として形成されると共に、複数の開孔部の各々の、基板に垂直な方向の断面形状について、該開孔部の側壁から絶縁膜の表面に至る一部に面取りが施されてもよい。このように面取りを施すことにより、後述するようなラビング処理の際、ラビングローラの周面におけるクロスの毛乱れを低減することが可能となる。
【００１５】
以上のような構成を有する第１の電気光学装置用基板を用いて電気光学装置を製造する際、該第１の電気光学装置用基板において、基板上の少なくとも画像表示領域には、絶縁膜、及び画素電極若しくは対向電極より上層側に、配向膜が形成される。この配向膜は、画素電極若しくは対向電極より上層側に成膜された、例えばポリイミド等の有機材料により形成される有機膜にラビング処理を施すことにより、形成される。
【００１６】
ラビング処理は、例えば、ラビングローラの進行方向が、複数の外部回路接続端子の配列方向に対して、即ち基板の一辺に対して、言い換えれば、周辺領域内において絶縁膜に開孔された複数の開孔部の千鳥足状の配列方向に対して概ね垂直となるように、ラビングローラの周面を有機膜の表面に当接させることにより行うようにする。或いは、少なくとも、係る複数の外部回路接続端子の配列方向に対して交わる方向となるように、ラビングローラの周面を有機膜の表面に当接させることにより行うようにする。このようなラビング処理の際、ラビングローラの周面は、絶縁膜における複数の開孔部に当接する。
【００１７】
ここで、絶縁膜において複数の開孔部は、基板上で平面的に見て、該複数の開孔部上を通過するラビングローラの周面が全体的に満遍無く開孔部に当接されるように、千鳥配置されている。即ち、基板上で平面的に見て、絶縁膜において周辺領域内に開孔された複数の開孔部のうち三角形の頂点に位置する相隣接する３つの開孔部に着目すれば、３つの開孔部のうち２つの開孔部上を通過後、ラビングローラが、更にその進行先に、２つの開孔部の間隙を埋めるような位置に配置された残る１の開孔部上を通過するように配置される。これにより、相隣接する３つの開孔部上を通過するラビングローラの周面において、２つの開孔部上を通過後、開孔部に当接されなかった部分も、その進行先に配置された１の開孔部に当接されることとなる。或いは、相隣接する３つの開孔部は、３つの開孔部上を通過するラビングローラの周面の一部のうち、１の開孔部上を通過した後、開孔部に当接されなかったラビングローラの周面が、その進行先に配置された残る２つの開孔部上を通過するように配置される。
【００１８】
よって、絶縁膜における複数の開孔部上を通過するラビングローラの周面が、これら複数の開孔部に当接することで、該周面を形成するクロスの毛先が開孔部に落ち込み、全体的に満遍無くクロスの毛先において毛羽立ち等の乱れを発生させることができる。このように、複数の開孔部上を通過するラビングローラの周面において均一にクロスの毛乱れを発生させることにより、クロスの毛の劣化を均一にすることが可能となる。
【００１９】
よって、基板上の画像表示領域では、配向膜において複数の開孔部を通過したラビングローラの周面が当接された部分では、満遍無くクロス毛の乱れ又は劣化に起因するラビングスジが発生するため、当該部分において、ラビングスジが顕在化するのを防止することができる。
【００２０】
尚、基板上で平面的に見て、周辺領域内で、絶縁膜における複数の開孔部の列の長さを所定値にすることにより、例えば、上述したように、ラビングローラの進行方向に対する複数の開孔部の配列方向が、概ね垂直となる場合のほか、垂直以外の角度となるように、ラビング処理を行う場合においても、ラビングローラの基板に対する進行方向によらず、画像表示領域全体に亘って、配向膜においてラビングスジが顕在化するのを防止することができる。
【００２１】
従って、ラビング処理を、配向膜において画像表示領域全体に亘って均一に行うことが可能となり、電気光学装置において、液晶の配向状態が乱れるのを防止することができる。その結果、電気光学装置の表示画面において表示不良が発生するのを防止することができる。
【００２２】
本発明の第１の電気光学装置用基板の一態様では、前記絶縁膜において、前記複数の開孔部の全てが、前記複数の外部回路接続端子の各々の表面が前記絶縁膜より露出するように、開孔されている。
【００２３】
この態様によれば、基板上の周辺領域において、複数の外部回路接続端子は、例えば、基板の少なくとも一辺に沿って千鳥状に配列されて形成される。そして、絶縁膜の周辺領域内に位置する部分には、基板上で平面的に見て、外部回路接続端子に重畳的に夫々配置された複数の開孔部が開孔されて、各開孔部において外部回路接続端子の表面が絶縁膜から露出する。これにより、複数の開孔部は、基板上で平面的に見て、千鳥配置されることとなる。
【００２４】
よって、この態様によれば、電気光学装置の製造プロセスにおいて、基板上に、絶縁膜より上層側に配向膜を形成する際、ラビング処理において、複数の開孔部上を通過するラビングローラの周面を、全体的に満遍無く開孔部に当接させることが可能となる。
【００２５】
本発明の第１の電気光学装置用基板の他の態様では、前記絶縁膜において、前記複数の開孔部のうち一部は夫々、前記外部回路接続端子の表面が前記絶縁膜より露出するように、前記基板上で平面的に見て前記外部回路接続端子に重畳的に配置された端子用開孔部として、開孔されると共に、前記複数の開孔部のうち他部は夫々、前記基板上で平面的に見て前記外部回路接続端子が存在しない位置に配置されたダミー用開孔部として、開孔されている。
【００２６】
この態様によれば、基板上の周辺領域において、端子用開孔部は、絶縁膜を貫通して外部回路接続端子の表面に至るように開孔され、ダミー用開孔部は、好ましくは、絶縁膜を貫通させないで、絶縁膜に掘り込まれて開孔される。尚、基板に対して垂直方向の、端子用開孔部及びダミー用開孔部の各々の深さは、任意の値として形成することができる。
【００２７】
そして、ダミー用開孔部は、例えば、相隣接する２つの端子用開孔部のいずれにも隣接し、且つ、基板上におけるラビングローラの進行経路について、相隣接する２つの端子用開孔部を通過したラビングローラの進行先に、これら２つの端子用開孔部の間隙を埋めるような位置に配置されて形成される。或いは、ダミー用開孔部は、基板上におけるラビングローラの進行経路について、１の端子用開孔部を通過したラビングローラの進行先に、該ラビングローラの周面において開孔部に当接されなかった部分が、ダミー用開孔部に当接されるような位置に配置されて形成される。
【００２８】
若しくは、基板上におけるラビングローラの進行経路について、相隣接する２つのダミー用開孔部を通過したラビングローラの進行先に、これら２つのダミー用開孔部の間隙を埋めるような位置に配置させて、更に１のダミー用開孔部を形成するか、又は、１のダミー用開孔部を通過したラビングローラの進行先に、該ラビングローラの周面において開孔部に当接されなかった部分が、当接されるような位置に、更にダミー用開孔部を配置して形成することにより、ダミー用開孔部を、端子用開口部の配列方向に沿って、千鳥状に配列させるようにしてもよい。
【００２９】
よって、このように端子用開孔部及びダミー用開孔部が絶縁膜において配置されることにより、複数の開孔部を、基板上で平面的に見て、該複数の開孔部上を通過するラビングローラの周面が全体的に満遍無く開孔部に当接されるように、千鳥配置させることが可能となる。
【００３０】
この、複数の開孔部が端子用開孔部及びダミー用開孔部からなる態様では、前記絶縁膜において、前記基板上で平面的に見て、前記複数の開孔部は２列以上に配列されて開孔されると共に、前記２列以上のうち第１列には前記端子用開孔部が配列されており、前記２列以上のうち第２列には前記ダミー用開孔部が配列されているように構成してもよい。
【００３１】
このように構成すれば、複数の開孔部を、基板上で平面的に見て、該複数の開孔部上を通過するラビングローラの周面が全体的に満遍無く開孔部に当接されるように、千鳥配置させることが可能となる。
【００３２】
例えば、第２列において、ダミー用開孔部は、基板上におけるラビングローラの進行経路について、第１列における相隣接する２つの端子用開孔部を通過したラビングローラの進行先に、これら２つの端子用開孔部の間隙を埋めるような位置に配置されて形成される。或いは、第２列において、ダミー用開孔部は、基板上におけるラビングローラの進行経路について、第１列における１の端子用開孔部を通過したラビングローラの進行先に、該ラビングローラの周面において開孔部に当接されなかった部分が、ダミー用開孔部に当接されるような位置に配置されて形成される。
【００３３】
本発明の第１の電気光学装置用基板の他の態様では、前記基板上で平面的に見て、前記２列以上のうち第１列における相隣接する二つの開孔部間の間隙は、前記２列以上のうち第２列における一つの開孔部を前記基板に沿った一の方向に延伸してなる範囲内に含まれるように、配列されている。
【００３４】
この態様によれば、基板上で平面的に見て、絶縁膜において周辺領域内に開孔された複数の開孔部のうち三角形の頂点に位置する相隣接する３つの開孔部に着目すれば、基板上におけるラビングローラの進行経路を前記一の方向に平行にすることによって、該進行経路について、３つの開孔部のうち２つの開孔部上を通過したラビングローラの進行先に、これら２つの開孔部の間隙を埋めるような位置に、残る１の開孔部が配置されて形成される。
【００３５】
或いは、相隣接する３つの開孔部は、基板上におけるラビングローラの進行経路を前記一の方向に平行にすることによって、該進行経路について、１の開孔部を通過したラビングローラの進行先に、該ラビングローラの周面において開孔部に当接されなかった部分が、残る２つの開孔部に当接されるように、配置される。
【００３６】
よって、この態様によれば、複数の開孔部を、基板上で平面的に見て、該複数の開孔部上を通過するラビングローラの周面が全体的に満遍無く開孔部に当接されるように、千鳥配置させることが可能となる。
【００３７】
本発明の第１の電気光学装置用基板の他の態様では、前記絶縁膜において、前記複数の開孔部は、前記基板上で平面的に見て、前記複数の開孔部の列の長さが、前記複数の開孔部に対向する前記画像表示領域の一辺と比較して長くなるように、開孔されている。
【００３８】
この態様によれば、電気光学装置の製造プロセスにおいて、基板上に、絶縁膜より上層側に配向膜を形成する際、ラビング処理において、複数の開孔部を通過することで、全体的に満遍無くクロスの毛乱れ又は劣化が生じたラビングローラの周面を、基板上の画像表示領域全体に亘って、有機膜の表面に当接させることが可能となる。これにより、画像表示領域全体に亘って、配向膜においてラビングスジが顕在化するのを防止することができる。
【００３９】
本発明の第２の電気光学装置用基板は上記課題を解決するために、一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置が複数形成される電気光学装置用基板であって、前記一対の基板のいずれかの基板を夫々構成することになる複数の基板部分を含むマザー基板と、該複数の基板部分の各々について、該基板部分上の画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に形成されると共に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の外部回路接続端子と、該複数の外部回路接続端子より上層側に形成されると共に、前記基板上で平面的に見て、前記周辺領域内に千鳥状に、且つ前記複数の基板部分のうち前記複数の外部回路接続端子の配列方向に並ぶものを跨って該配列方向に連なるように、複数の開孔部が配列されて開孔された絶縁膜とを備えており、前記絶縁膜において、前記複数の開孔部のうち少なくとも一部は、前記複数の外部回路接続端子の各々の表面が前記絶縁膜より露出するように、開孔されている。
【００４０】
本発明の第２の電気光学装置用基板を用いて、複数の電気光学装置が製造される。本発明の第２の電気光学装置用基板は夫々、電気光学装置において、電気光学物質を挟持する一対の基板のいずれか一方を構成することになる、複数の基板部分を含むマザー基板或いは大型基板を備える。マザー基板において、例えば、複数の基板部分は縦方向及び横方向に配列される。尚、例えば、第２の電気光学装置用基板を用いて複数の電気光学装置が作製された後、大型のマザー基板を構成する各基板部分を、例えばスクライビング、ダイシング等により個別に切り分けることで、各電気光学装置が得られる。
【００４１】
そして、このマザー基板を構成する複数の基板部分の各々について、上述した本発明の第１の電気光学装置用基板と同様に、基板部分上の画像表示領域に、画素電極若しくは対向電極等が形成されると共に、周辺領域には、複数の外部回路接続端子が形成される。
【００４２】
また、各基板部分上において、複数の外部回路接続端子より上層側に、絶縁膜が形成される。この際好ましくは複数の基板に跨って、即ちマザー基板の一面に絶縁膜が形成される。
【００４３】
更に、マザー基板を構成する複数の基板部分の各々について周辺領域内に、該マザー基板上で平面的に見て、各基板部分上において周辺領域内に位置する絶縁膜の一部には、上述した本発明の第１の電気光学装置用基板と同様に、千鳥状に、複数の開孔部が配列されて開孔される。そして、本発明の第２の電気光学装置用基板では、マザー基板を構成する複数の基板部分のうち互いに隣接する基板に跨って連なるように、複数の開孔部が、絶縁膜において千鳥状に配列されて開孔される。
【００４４】
以上のような構成を有する第２の電気光学装置用基板を用いて電気光学装置を製造する際、該第２の電気光学装置用基板において、マザー基板を構成する複数の基板部分の各々について、該基板部分上の少なくとも画像表示領域には、絶縁膜、及び画素電極若しくは対向電極より上層側に、配向膜が形成される。この際、ラビング処理は、例えば、大型のマザー基板を構成する複数の基板部分に対して、一括してまとめて行われる。ここでは、例えばラビングローラの進行方向が、外部回路接続端子の配列方向に対して、概ね垂直となるように、ラビングローラの周面を有機膜の表面に当接させることにより行うようにする。或いは、少なくとも、係る外部回路接続端子の配列方向に対して交わる方向となるように、ラビングローラの周面を有機膜の表面に当接させることにより行うようにする。
【００４５】
このようなラビング処理の際、ラビングローラの周面は、絶縁膜において、マザー基板を構成する複数の基板のうち互いに隣接する基板に跨って連なるように開孔された複数の開孔部に当接する。そして、例えば、マザー基板上で平面的に見て、縦方向又は横方向に沿って配列された基板部分毎に、これらの基板部分上において、複数の開孔部を通過するラビングローラの周面を全体的に満遍無く開孔部に当接させることができる。よって、マザー基板全体に亘って、複数の開孔部を通過することで、全体的に満遍無くクロスの毛乱れ又は劣化が生じたラビングローラの周面を、マザー基板を構成する複数の基板部分の各々について、該基板上の画像表示領域に形成された有機膜の表面に当接させて、ラビング処理を行うことが可能となる。よって、大型のマザー基板を構成する複数の基板部分の各々について、画像表示領域に形成された配向膜において、ラビングスジが顕在化するのを防止することが可能となる。
【００４６】
従って、以上説明したような第２の電気光学装置用基板によれば、該第２の電気光学装置用基板において形成される複数の電気光学装置において、夫々、液晶の配向状態が乱れるのを防止することができ、表示画面において表示不良が発生するのを防止することが可能となる。
【００４７】
本発明の第２の電気光学装置用基板の一態様では、前記絶縁膜において、前記複数の開孔部のうち一部は夫々、前記外部回路接続端子の表面が前記絶縁膜より露出するように、前記基板上で平面的に見て前記外部回路接続端子に重畳的に配置された端子用開孔部として、開孔されると共に、前記複数の開孔部のうち他部は夫々、前記基板上で平面的に見て前記外部回路接続端子が存在しない位置に配置されたダミー用開孔部として、開孔されており、前記マザー基板上で平面的に見て、前記複数の基板部分のうち前記配列方向に並ぶものを跨って前記配列方向に連なるように、前記ダミー用開孔部が千鳥状に配列される。
【００４８】
この態様によれば、マザー基板を構成する複数の基板部分の各々について、該マザー基板上で平面的に見て、例えば、第１列に端子用開孔部を配列させると共に、第２列にダミー用開孔部を配列させることにより、端子用開孔部及びダミー用開孔部が千鳥配置されると共に２列に配列されて絶縁膜に開孔される。そして、ダミー用開孔部を、絶縁膜において、マザー基板を構成する複数の基板部分のうち互いに隣接する基板の一方から他方へ、これらの基板の境界を跨って連なるように、千鳥状に配列させて開孔する。これにより、例えば、互いに隣接する基板を夫々個別に切断するために設けられた２本のスクライブライン上又はその間にも、ダミー用開孔部が千鳥配置されて開孔されることとなる。
【００４９】
よって、この態様では、大型のマザー基板を構成する複数の基板部分のうち互いに隣接する基板の一方から他方に跨って、複数の開孔部を千鳥配置させると共に例えば２列に配列させて、連続的に開孔させることが可能となる。
【００５０】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、上述した本発明の第１の電気光学装置用基板（但し、その各種態様も含む）と、前記基板上において、前記絶縁膜より上層側に、少なくとも前記画像表示領域に形成された配向膜と、前記基板と対向して配置され、前記基板と一対をなす他の基板と、該一対の基板間に挟持される電気光学物質とを備える。
【００５１】
本発明の電気光学装置によれば、電気光学装置の製造において、基板上の画像表示領域において、配向膜全体に亘ってラビング処理を均一に行うことが可能となり、液晶の配向状態が乱れるのを防止することができる。よって、表示画面において表示不良が発生するのを防止して、高品質な画像表示を行うことが可能となる。
【００５２】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置を具備する。
【００５３】
本発明の電子機器は、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置、電子放出装置（Field Emission Display及びConduction Electron-Emitter Display）、これら電気泳動装置、電子放出装置を用いた装置としてDLP（Digital  Light  Processing）等を実現することも可能である。
【００５４】
本発明の電気光学装置用基板の製造方法は上記課題を解決するために、一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置を構成する電気光学装置用基板の製造方法であって、前記一対の基板のいずれかを構成する基板上において、画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の外部回路接続端子を形成する工程と、前記複数の外部回路接続端子より上層側に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜に、前記基板上で平面的に見て、前記周辺領域内に、千鳥状に、複数の開孔部を配列させて開孔する工程とを備えており、前記複数の開孔部を開孔する工程では、前記絶縁膜において、前記複数の開孔部のうち少なくとも一部を、前記複数の外部回路接続端子の各々の表面が前記絶縁膜より露出するように、開孔する。
【００５５】
本発明の電気光学装置用基板の製造方法によれば、上述した本発明の第１の電気光学装置と同様に、当該製造方法により製造された電気光学装置用基板を用いて電気光学装置を製造する際、配向膜の形成において、ラビング処理を、配向膜において画像表示領域全体に亘って均一に行うことが可能となり、電気光学装置において、液晶の配向状態が乱れるのを防止することができる。その結果、電気光学装置の表示画面において表示不良が発生するのを防止することができる。尚、ラビング方向としては、好ましくは平面的に見て複数の外部回路接続端子の配列方向に対して直交する方向、少なくとも交わる方向が望ましい。
【００５６】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５７】
本発明の実施の形態について図を参照しつつ説明する。以下の実施形態は、本発明の電気光学装置を液晶装置に適用したものである。
【００５８】
＜１：第１実施形態＞
本発明の電気光学装置に係る第１実施形態について、図１から図９を参照して説明する。
【００５９】
＜１−１：液晶装置の構成＞
先ず、本実施形態における液晶装置の全体構成について、図１から図３を参照して説明する。図１は、対向基板側から見た液晶装置の平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ’断面図である。更に、図３は、液晶装置の電気的な構成を示すブロック図である。
【００６０】
図１及び図２において、液晶装置は、対向配置されたＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とから構成されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。
【００６１】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。尚、シール材５２中に、若しくはこれに加えて又は代えて画像表示領域１０ａ又は画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、例えば、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されるようにしてもよい。
【００６２】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００６３】
ＴＦＴアレイ基板１０上における周辺領域では、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２が、ＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設けられている。尚、例えば、外部回路接続端子１０２は、データ線駆動回路１０１と画像表示領域１０ａを介して対向するＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられるようにしてもよい。或いは、外部回路接続端子１０２が、ＴＦＴアレイ基板１０の２辺以上に沿って設けられか、又はＴＦＴアレイ基板１０に加えて若しくは代えて対向基板２０側に設けられ、ＴＦＴアレイ基板１０側と上下導通端子１０６を介して電気的接続を図るようにしてもよい。
【００６４】
また、対向基板２０及びＴＦＴアレイ基板１０には夫々、基板の少なくとも一辺の両端に位置する２隅に配置されて、上下導通端子１０６が配置されている。これらの上下導通端子１０６により、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００６５】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴや各種配線等より上層側に画素電極９ａが、更にその上に、配向膜１６が形成されている。尚、画素スイッチング素子はＴＦＴのほか、各種トランジスタ或いはＴＦＤ等により構成されてもよい。
【００６６】
他方、対向基板２０上の画像表示領域１０ａには、液晶層５０を介して複数の画素電極９ａと対向する対向電極２１が形成されている。即ち、夫々に電圧が印加されることで、画素電極９ａと対向電極２１との間には液晶保持容量が形成される。この対向電極２１より下層側（即ち、図２中、対向電極２１より上側）には、格子状又はストライプ状の遮光膜２３が形成され、更に対向電極２１上を配向膜２２が覆っている。
【００６７】
ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０上において、配向膜１６又は２２は、例えばポリイミド等の有機材料により形成される。本実施形態では、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０のいずれか一方上にのみ配向膜を形成するか、或いはこれらのいずれか一方上に形成される配向膜を無機材料により形成するようにしてもよい。
【００６８】
液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００６９】
尚、ここでは図示しないが、ＴＦＴアレイ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４の他に、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等が形成されていてもよい。
【００７０】
次に、図３を参照して、上述した液晶装置の電気的な構成について説明する。図３において、液晶装置は、例えば石英基板、ガラス基板或いはシリコン基板等からなるＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０（ここでは図示せず）とが液晶層を介して対向配置され、画像表示領域１０ａにおいて区画配列された画素電極９ａに印加する電圧を制御し、液晶層にかかる電界を画素毎に変調する構成となっている。これにより、両基板間の透過光量が制御され、画像が階調表示される。尚、本実施形態では、この液晶装置はＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式を採るものとする。
【００７１】
ＴＦＴアレイ基板１０における画像表示領域１０ａには、マトリクス状に配置された複数の画素電極９ａと、互いに交差して配列された複数の走査線２及びデータ線３とが形成され、画素に対応する画素部が構築されている。尚、ここでは図示しないが、画素電極９ａとデータ線３との電気的導通を制御するために、各画素部には、走査線２を介して夫々供給される走査信号に応じて導通、非導通が制御される画素スイッチング素子としてのＴＦＴや、画素電極９ａに印加した電圧を維持するための蓄積容量が形成されている。また、画像表示領域１０ａの周辺領域には、データ線駆動回路１０１等の駆動回路が形成されている。
【００７２】
データ線駆動回路１０１には、サンプリング信号供給回路５２及びサンプリング回路７が含まれる。サンプリング信号供給回路５２は、データ線駆動回路１０１内に入力される所定周期のＸ側クロック信号ＣＬＸ（及びその反転信号ＣＬＸＢ）、ＸスタートパルスＤＸに基づいて、各段からサンプリング信号Ｓｉ（ｉ＝１、…、ｎ）を順次生成して出力するように構成されている。
【００７３】
サンプリング回路７は、データ線３に設けられたサンプリングスイッチ７１を複数含み、各サンプリングスイッチ７１は、図３に示す画像信号線６に供給される画像信号ＶＩＤを、サンプリング信号供給回路５２から出力されるサンプリング信号Ｓｉに応じてサンプリングし、対応するデータ線３に供給する。尚、各サンプリングスイッチ７１は、例えばＰチャネル型又はＮチャネル型の片チャネル型ＴＦＴ若しくは相補型のＴＦＴにより整形される。
【００７４】
本実施形態では、画像信号線６は一本とし、いずれのサンプリングスイッチ７１にもこの画像信号線６から画像信号ＶＩＤが供給される場合について説明するが、画像信号は、シリアル−パラレル展開（即ち、相展開）されていてもよい。例えば、画像信号を画像信号ＶＩＤ１〜ＶＩＤ６の６相にシリアル−パラレル展開した場合、これらの画像信号は、６本の画像信号線を夫々介してサンプリング回路７に入力される。複数の画像信号線に対し、シリアルな画像信号を変換して得たパラレルな画像信号を同時供給すると、データ線３への画像信号入力をグループ毎に行うことができ、駆動周波数が抑えられる。
【００７５】
走査線駆動回路１０４は、マトリクス状に配置された複数の画素電極９ａを画像信号及び走査信号により走査線２の配列方向に走査するために、走査信号印加の基準クロックであるＹ側クロック信号ＣＬＹ（及びその反転信号ＣＬＹＢ）、ＹスタートパルスＤＹに基づいて生成される走査信号を、複数の走査線２に順次印加するように構成されている。その際には、図３において、各走査線２には、両端から同時に電圧が印加される。
【００７６】
尚、クロック信号ＣＬＸやＣＬＹ等の各種タイミング信号は、本発明に係る「信号」の例として、図示しない外部回路に形成されたタイミングジェネレータにて生成され、ＴＦＴアレイ基板１０上の各回路に外部回路接続端子１０２を介して供給される。また、各駆動回路の駆動に必要な電源電圧等もまた「信号」として外部回路から供給される。更に、上下導通端子１０６から引き出された信号線には、外部回路から対向電極電位ＬＣＣが供給される。対向電極電位ＬＣＣは、上下導通端子１０６を介して対向電極２１に供給される。対向電極電位ＬＣＣは、画素電極９ａとの電位差を適正に保持して液晶保持容量を形成するための対向電極２１の基準電位となる。
【００７７】
液晶装置には、本発明の第１の電気光学装置用基板が含まれる。図４から図６を参照して、第１の電気光学装置用基板の構成について説明する。図４は、第１の電気光学装置用基板の構成を示す概略的な平面図であり、図５は、図４のＡ−Ａ’断面図であり、更に図６（ａ）及び図６（ｂ）は、絶縁膜の周辺領域内に位置する一部に開孔される開孔部の平面形状を概略的に示す図である。
【００７８】
第１の電気光学装置用基板は、上述したように、画像表示領域１０ａに画素電極９ａ等が形成されたＴＦＴアレイ基板１０と、該ＴＦＴアレイ基板１０上における周辺領域において、ＴＦＴアレイ基板１０の少なくとも一辺に沿って形成された外部回路接続端子１０２と、図５に示すように、外部回路接続端子１０２と液晶とを電気的に絶縁するように、複数の外部回路接続端子１０２より上層側に形成された絶縁膜１２とから構成される。
【００７９】
絶縁膜１２は、ＴＦＴアレイ基板１０上において、周辺領域から画像表示領域１０ａに連続的に跨って形成され、画像表示領域１０ａに形成された絶縁膜１２の一部によって、画素電極９ａと、走査線２及びデータ線３等の配線やＴＦＴ等とが電気的に絶縁されるようにしてもよい。尚、絶縁膜１２は、２層以上の積層膜として形成されるようにしてもよい。
【００８０】
また、絶縁膜１２において周辺領域内に位置する部分には、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿って千鳥状に、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂが配列されて開孔される。図４には、ＴＦＴアレイ基板１０上における、画像表示領域１０ａと、絶縁膜１２に開孔された開孔部１０２ａ及び１０２ｂとの各々の配置関係を概略的に示してある。図４に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、周辺領域内で、絶縁膜１２における複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂは、外部回路接続端子１０２が配列されたＴＦＴアレイ基板１０の少なくとも一辺に沿って配列されることとなる。
【００８１】
より具体的には、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂのうち、一部の開孔部１０２ａは夫々、端子用開孔部として、外部回路接続端子１０２に重畳的に配置されると共に、図５に示すように、絶縁膜１２を貫通して、外部回路接続端子１０２の表面に至るように開孔される。よって、各外部回路接続端子１０２の表面は、端子用開孔部１０２ａ内において絶縁膜１２より露出されることとなる。尚、図４中、各端子用開孔部１０２ａには、ハッチングを付して示してある。
【００８２】
また、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂのうち、端子用開孔部１０２ａを除く他の開孔部１０２ｂは夫々、ダミー用開孔部として、外部回路接続端子１０２が存在しない位置に配置されて、絶縁膜１２に開孔される。これらダミー用開孔部１０２ｂは、好ましくは、図５に示すように、絶縁膜１２を貫通させないで、絶縁膜１２に掘り込まれて開孔される。
【００８３】
加えて、図４に示すように、第１列に端子用開孔部１０２ａが配列されると共に、第２列にはダミー用開孔部１０２ｂが配列されることで、端子用開孔部１０２ａ及びダミー用開孔部１０２ｂは、２列に配列されて、絶縁膜１２に開孔される。本実施形態では、絶縁膜１２において、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、第１列に、端子用開孔部１０２ａと共に、外部回路接続端子１０２の存在しない位置にダミー用開孔部１０２ｂを配列させて開孔することで、当該第１列の列の長さが調整されてもよい。そして、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、第１及び第２列の各列の長さが調整されることで、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂの列の長さｗ１２が、該複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂに対向する画像表示領域１０ａの一辺の長さＸ１１と比較して長くなるように形成するのが好ましい。
【００８４】
次に、図６（ａ）及び図６（ｂ）を参照して、より詳細に、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂの構成について説明する。尚、以下では、当該第１の電気光学装置用基板を用いて電気光学装置を製造する際、例えば、ラビング処理は、ラビンローラの進行方向（図中、矢印Ｒｂにて表される方向）が、外部回路接続端子１０２が配列されるＴＦＴアレイ基板１０の一辺に対して、即ち絶縁膜１２における複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂの配列方向に対して概ね垂直となるように、行われることを前提とする。電気光学装置の製造プロセスについて、より詳細な説明は後述する。
【００８５】
図６（ａ）には、図４に示す、第１列に配列された端子用開孔部１０２ａ及び第２列に配列されたダミー用開孔部１０２ｂの配置関係及び各々の、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見た構成について示してある。
【００８６】
本実施形態では、各端子用開孔部１０２ａは、例えば、複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿う方向の径ｗ２２ａが５００μｍとなるように、及び該径ｗ２２ａに対して垂直方向の径ｗ２１ａが２００μｍとなるように開孔されている。加えて、隣接する端子用開孔部１０２ａの間隔ａ１が、例えば、１００μｍとなるように、絶縁膜１２において各端子用開孔部１０２ａが開孔される。
【００８７】
また、各ダミー用開孔部１０２ｂは、絶縁膜１２において、例えば、相隣接する２つの端子用開孔部１０２ａのいずれにも隣接し、且つ、ラビングローラの進行経路について、相隣接する２つの端子用開孔部１０２ａを通過したラビングローラの進行先に、これら２つの端子用開孔部１０２ａの間隙を埋めるような位置に配置されて形成される。これにより、相隣接する２つの端子用開孔部１０２ａ及びこれら２つの端子用開孔部１０２ａのいずれにも隣接する１のダミー用開孔部１０２ｂの３つの開孔部上を通過するラビングローラの周面において、相隣接する２つの端子用開孔部１０２ａ上を通過後、端子用開孔部１０２ａに当接されなかった部分も、その進行先に配置された１のダミー用開孔部１０２ｂに当接されることとなる。
【００８８】
或いは、各ダミー用開孔部１０２ｂは、ラビングローラの進行経路について、１の端子用開孔部１０２ａを通過したラビングローラの進行先に、該ラビングローラの周面において端子用開孔部１０２ａに当接されなかった部分が、ダミー用開孔部１０２ｂに当接されるような位置に配置されて形成される。
【００８９】
このため、ダミー用開孔部１０２ｂの、複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿う方向の径ｗ２２ｂが、例えば、相隣接する端子用開孔部１０２ａの間隔ａ１より大きい値となるように、各ダミー用開孔部１０２ｂは絶縁膜１２に開孔される。また、好ましくは、相隣接するダミー用開孔部１０２ｂの間隔ｂ１が、端子用開孔部１０２ａの、複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿う方向の径ｗ２２ａより小さい値となるように、各ダミー用開孔部１０２ｂは絶縁膜１２に開孔される。尚、ダミー用開孔部１０２ｂの、複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿う方向の径ｗ２２ｂに対して垂直方向の径ｗ２１ｂは、端子用開孔部１０２ａの径ｗ２１ａと同程度の値としてもよいし、異なる値としてもよい。また、図５において、ＴＦＴアレイ基板１０に対して垂直方向の、端子用開孔部１０２ａ及びダミー用開孔部１０２ｂの各々の深さｄａ及びｄｂは、夫々、任意の値として形成することができる。
【００９０】
他方、図６（ｂ）には、図４に示す複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂのうち、第１及び第２列に配列されたダミー用開孔部１０２ｂの各々の配置関係及びＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見た構成について示してある。
【００９１】
本実施形態では、ラビングローラの進行経路について、第１列における相隣接する２つのダミー用開孔部１０２ｂを通過したラビングローラの進行先に、これら２つのダミー用開孔部１０２ｂの間隙を埋めるような位置に、第２列における１のダミー用開孔部１０２ｂを配置するか、又は、第１列における１のダミー用開孔部１０２ｂを通過したラビングローラの進行先に、該ラビングローラの周面において第１列のダミー用開孔部１０２ｂに当接されなかった部分が、当接されるような位置に、第２列におけるダミー用開孔部１０２ｂが配置される。
【００９２】
よって、第１列における相隣接するダミー用開孔部１０２ｂの間隔ｂ２が、好ましくは、第２列におけるダミー用開孔部１０２ｂの、複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿う方向の径ｗ２２ｂより小さい値となるように、第１列の各ダミー用開孔部１０２ｂは開孔される。或いは、第１列におけるダミー用開孔部１０２ｂは夫々、複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿う方向の径ｗ２２ｂが、例えば、第２列において相隣接する端子用開孔部１０２ｂの間隔ｂ１より大きい値となるように、開孔される。尚、第１及び第２列におけるダミー用開孔部１０２ｂについて、各々の複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿う方向の径ｗ２２ｂを、互いに同一の値としてもよい。また、第１及び第２列におけるダミー用開孔部１０２ｂについて、各々の複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿う方向の径ｗ２２ｂに対して垂直方向の径ｗ２１ｂについても、互いに同一の値としてもよい。
【００９３】
よって、本実施形態では、図４から図６を参照して説明したように、端子用開孔部１０２ａ及びダミー用開孔部１０２ｂが夫々、絶縁膜１２において配置されて開孔されることにより、これら複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂを、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、該複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂ上を通過するラビングローラの周面が全体的に満遍無く開孔部１０２ａ及び１０２ｂに当接されるように、千鳥配置させることが可能となる。
【００９４】
尚、本実施形態では、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、周辺領域内で、各外部回路接続端子１０２の形状、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂの各々の形状は、任意の形状として形成されると共に、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂの各々の、ＴＦＴアレイ基板１０に垂直な方向の断面形状について、開孔部１０２ａ若しくは１０２ｂの側壁から絶縁膜１２の表面に至る一部に面取りが施されてもよい。このように面取りを施すことにより、ラビング処理の際、ラビングローラの周面におけるクロスの毛乱れを低減することが可能となる。
【００９５】
＜１−２;液晶装置の製造方法＞
次に、上述した本実施形態の液晶装置の製造プロセスについて、図１から図６に加えて図７及び図８を参照して説明する。図７は、第１の電気光学装置用基板の製造プロセスの各工程における図５に示す断面の構成を、順を追って示す工程図であり、図８は、本実施形態における電気光学装置の製造プロセスの各工程を説明するためのフローチャートを示す図である。
【００９６】
先ず、図７を参照して、第１の電気光学装置用基板の製造プロセスについて説明する。尚、以下では、ＴＦＴアレイ基板１０上の周辺領域における、外部回路接続端子１０２及び絶縁膜１２、並びに絶縁膜１２に開孔された複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂに係る製造工程について、特に詳しく説明し、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａにおける画素電極９ａ等の各種構成要素に係る製造工程の説明に関しては省略する。
【００９７】
図７（ａ）の工程において、ＴＦＴアレイ基板１０上に、夫々所定パターンで、複数の外部回路接続端子１０２を、ＴＦＴアレイ基板１０の少なくとも一辺に沿って配列させて、形成する。
【００９８】
続いて、図７（ｂ）の工程では、ＴＦＴアレイ基板１０上において、外部回路接続端子１０２より上層側に絶縁膜１２を、例えば常圧ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により形成する。
【００９９】
その後、図７（ｃ）の工程では、例えばフォトリソグラフィ法及びエッチング法により絶縁膜１２を掘り込んで、絶縁膜１２に端子用開孔部１０２ａ及びダミー用開孔部１０２ｂを開孔する。尚、本実施形態では、絶縁膜１２において、端子用開孔部１０２ａ及びダミー用開孔部１０２ｂは、いずれか一方を開孔した後、他方を開孔してもよいし、同時に開孔するようにしてもよい。或いは、図４において、第１列に配列されたダミー用開孔部１０２ｂと、第２列に配列されたダミー用開孔部１０２ｂとについても、同様に、いずれか一方を開孔した後、他方を開孔してもよいし、同時に開孔するようにしてもよい。
【０１００】
次に、以上のように製造された第１の電気光学装置用基板を用いた、液晶装置の製造方法について、図８を参照して説明する。
【０１０１】
図８において、ＴＦＴアレイ基板１０上に、絶縁膜１２並びに画素電極９ａより上層側に、少なくとも画像表示領域１０ａに例えばポリイミド等の有機材料により形成される有機膜を形成する（ステップＳ１）。続いて、この有機膜に次のようなラビング処理を施すことにより、配向膜１６を形成する（ステップＳ２）。
【０１０２】
ラビング処理は、図４又は図６中に矢印Ｒｂによって示すように、例えばラビングローラの進行方向が、外部回路接続端子１０２が配列されるＴＦＴアレイ基板１０の一辺に対して、即ち絶縁膜１２における複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂの配列方向に対して概ね垂直となるように、ラビングローラの周面を有機膜の表面に当接させることにより行う。この際、ラビングローラの周面は、絶縁膜１２における複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂに当接する。
【０１０３】
ここで、図４から図６を参照して既に説明したように、絶縁膜１２における複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂは、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、これら複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂ上を通過するラビングローラの周面が全体的に満遍無く開孔部１０２ａ及び１０２ｂに当接されるように、千鳥配置されている。よって、絶縁膜１２における複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂ上を通過するラビングローラの周面が、これら複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂに当接することで、該周面を形成するクロスの毛先が開孔部に落ち込み、全体的に満遍無くクロスの毛先において毛羽立ち等の乱れを発生させることができる。
【０１０４】
尚、図９には、図４に示す、第１列に配列された端子用開孔部１０２ａ及び第２列に配列されたダミー用開孔部１０２ｂの配置関係及び各々の、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見た構成に係る比較例について示してある。
【０１０５】
図９では、ダミー用開孔部１０２ｂの、複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿う方向の径ｗ２２ｂが、例えば、相隣接する端子用開孔部１０２ａの間隔ａ１より小さい値となるように、各ダミー用開孔部１０２ｂが絶縁膜１２に開孔される構成を示してある。このように構成した場合、各ダミー用開孔部１０２ｂは、ラビングローラの進行経路について、相隣接する２つの端子用開孔部１０２ａを通過したラビングローラの進行先に、これら２つの端子用開孔部１０２ａの各々に対して間隙を形成する位置に配置されることとなる。よって、ラビングローラの周面において、相隣接する２つの端子用開孔部１０２ａ上を通過後、端子用開孔部１０２ａに当接されなかった部分が、その進行先に配置された１のダミー用開孔部１０２ｂに当接されたとしても、当該部分において端子用開孔部１０２ａ及びダミー用開孔部１０２ｂのいずれにも当接されなかった部分が残存してしまう。このため、絶縁膜１２における複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂ上を通過するラビングローラの周面において、開孔部１０２ａ又は１０２ｂに当接する部分と当接しない部分とで、クロスの毛並みの状態が異なることとなり、該クロスの毛並みの状態に起因して、画像表示領域１０ａ上に位置する配向膜１６において例えば帯状のラビングスジが発生する恐れがある。
【０１０６】
これに対して本実施形態では、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂ上を通過するラビングローラの周面において均一にクロスの毛乱れを発生させることにより、クロスの毛の劣化を均一にすることができる。
【０１０７】
また、図４に示すように、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂの列の長さｗ１２が、画像表示領域１０ａの一辺の長さＸ１１と比較して長くなるように形成することにより、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂを通過することで、全体的に満遍無くクロスの毛乱れ又は劣化が生じたラビングローラの周面を、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａ全体に亘って、有機膜の表面に当接させることが可能となる。よって、有機膜において、画像表示領域１０ａ全体に亘って、満遍無く、ラビングローラの周面におけるクロスの毛乱れ又は劣化に起因するラビングスジが発生することにより、配向膜１６においてラビングスジが顕在化するのを防止することができる。
【０１０８】
図７に戻り、ステップＳ１及びＳ２のＴＦＴアレイ基板１０に係る製造工程と並行して又は相前後して、対向基板２０において、遮光膜２３や対向電極２１等が作り込まれ、続いて、配向膜２２が形成される（ステップＳ３）。
【０１０９】
ここで、第１の電気光学装置用基板は、ＴＦＴアレイ基板１０に代えて対向基板２０を含む構成とし、例えばＴＦＴアレイ基板１０に加えて若しくは代えて、対向基板２０上において周辺領域に外部回路接続端子が設けられると共に、図４から図６を参照して説明した構成と同様に、外部回路接続端子と、対向電極２１又は液晶とを電気的に絶縁するための絶縁膜に、該絶縁膜より外部回路接続端子の表面を露出させるための開孔部を含む複数の開孔部を開孔するようにしてもよい。このように構成すれば、対向基板２０の側においても、画像表示領域１０ａにおいて、配向膜２２に顕著にラビングスジが発生するのを、効果的に防止することが可能となる。
【０１１０】
その後、ＴＦＴアレイ基板１０において配向膜１６が形成された側と、対向基板２０において配向膜２２が形成された側とをシール材５２を介して貼り合わせる（ステップＳ４）。続いて、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶を注入する（ステップＳ５）。
【０１１１】
従って、本実施形態ではラビング処理を、配向膜１６又は２２において画像表示領域１０ａ全体に亘って均一に行うことが可能となり、液晶装置において、液晶の配向状態が乱れるのを防止することができる。その結果、液晶装置の表示画面において表示不良が発生するのを防止して、高品質な画像表示を行うことができる。
【０１１２】
＜１−３；変形例＞
以上説明した本実施形態の変形例について、図１０から図１２を参照して説明する。
【０１１３】
先ず、図１０を参照して、本変形例に係る第１の電気光学装置用基板に係る一の構成について説明する。図１０は、本変形例に係る絶縁膜に開孔される開孔部の構成を示す図である。
【０１１４】
図４を参照して既に説明したように、絶縁膜１２における複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂの列の長さｗ１２を所定値にするのに加えて若しくは代えて、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂを、図１０に示すように、夫々所定位置に千鳥配置させることで、上述したように、ラビングローラの進行方向が、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂの配列方向に対して概ね垂直となる場合のほか、垂直以外の角度となるように、ラビング処理を行う場合においても、ラビングローラのＴＦＴアレイ基板１０に対する進行方向によらず、画像表示領域１０ａ全体に亘って、配向膜１６においてラビングスジが顕在化するのを防止することができる。
【０１１５】
例えば、図１０において、矢印Ｒｂによって示す方向にラビングローラが進行する場合、第１列において、相隣接する２つの端子用開孔部１０２ａを通過したラビングローラの進行先に、これら２つの端子用開孔部１０２ａの間隙を埋めるような位置に、第２列における１のダミー用開孔部１０２ｂが配置されると共に、更にこの１のダミー用開孔部１０２ｂと、該ダミー用開孔部１０２ｂに隣接する、第１列における１の端子用開孔部１０２ａとの間隙を埋めるような位置に、ダミー用開孔部１０２ｂを第３列目に配置するようにしてもよい。これにより、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、絶縁膜１２において、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂは３列に千鳥配置されることとなる。
【０１１６】
次に、図１１及び図１２を参照して、本変形例に係る第１の電気光学装置用基板に係る他の構成について説明する。図１１は、本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の他の構成を示す概略的な平面図であり、図１２は、図１１のＢ−Ｂ’断面図である。
【０１１７】
第１の電気光学装置用基板において、絶縁膜１２の周辺領域内に位置する部分には、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、複数の開孔部の全てが、夫々、図１２に示すように、外部回路接続端子１０２の表面を絶縁膜１２より露出させるように開孔された端子用開孔部１０２ａとして形成されるようにしてもよい。このように構成する場合、ＴＦＴアレイ基板１０上の周辺領域において、複数の外部回路接続端子１０２は、例えば、ＴＦＴアレイ基板１０の少なくとも一辺に沿って千鳥状に配列されて形成される。そして、絶縁膜１２において、複数の開孔部１０２ａが夫々、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、外部回路接続端子１０２に重畳的に配置されて開孔されることにより、これら複数の開孔部１０２ａは、図１１に示すように千鳥配置されることとなる。よって、この場合においても、図４及び図６を参照して説明した構成と同様に、各端子用開孔部１０２ａを絶縁膜１２において配置させることにより、電気光学装置の製造プロセスにおいて、ラビング処理で、複数の開孔部１０２ａ上を通過するラビングローラの周面を、全体的に満遍無く開孔部１０２ａに当接させることが可能となる。
【０１１８】
＜２；第２実施形態＞
次に、本発明の第２電気光学装置用基板について、第２実施形態として説明する。尚、第２実施形態について、第１実施形態と重複する説明を省略すると共に、第１実施形態との共通箇所には、同一符号を付して示し、異なる点についてのみ図１３を参照して説明する。図１３は、第２の電気光学装置用基板の構成を示す概略的な平面図である。尚、第１実施形態との共通箇所について、図１から図６を参照して説明することもある。
【０１１９】
第２の電気光学装置用基板は、複数のＴＦＴアレイ基板１０を含む、本発明に係る「マザー基板」の一例たる大型基板Ｍ０を有している。図１３に示すように、大型基板Ｍ０において、複数のＴＦＴアレイ基板１０は、縦方向及び横方向に配列される。尚、大型基板Ｍ０に切断予定線として設けられたスクライブラインＳＬに沿って、大型基板Ｍ０を切断することによって、各ＴＦＴアレイ基板１０を個別に得ることができる。
【０１２０】
そして、この大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに画素電極９ａ等が形成されると共に、周辺領域には、複数の外部回路接続端子１０２が形成される。また、各ＴＦＴアレイ基板１０上において、複数の外部回路接続端子１０２より上層側に、絶縁膜１２が形成される。大型基板Ｍ０上において、該大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０のうち、互いに隣接するＴＦＴアレイ基板１０に跨って絶縁膜１２が形成される。これにより、絶縁膜１２が、大型基板Ｍ０上において、該大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０に跨って形成されるようにしてもよい。
【０１２１】
そして、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、該ＴＦＴアレイ基板１０上において周辺領域内に位置する絶縁膜１２の一部には、上述した第１の電気光学装置用基板と同様に、ＴＦＴアレイ基板１０上に平面的に見て、複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿って千鳥状に、端子用開孔部及びダミー用開孔部１０２ａ及び１０２ｂが配列されて開孔される。そして、ダミー用開孔部１０２ｂが、相隣接する２つのＴＦＴアレイ基板１０の一方から他方へ、これらの基板の境界を跨って、千鳥状に連続的に配列されて、絶縁膜１２に開孔される。よって、相隣接する２つのＴＦＴアレイ基板１０の各々を区画する２本のスクライブラインＳＬ上又はその間にも、ダミー用開孔部１０２ｂが千鳥配置されて開孔されることとなる。従って、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０のうち、互いに隣接するＴＦＴアレイ基板１０の一方から他方に跨って、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂを千鳥配置させると共に例えば２列に配列させて、連続的に開孔させることが可能となる。
【０１２２】
以上のような構成を有する第２の電気光学装置用基板を用いて液晶装置を製造する際、該第２の電気光学装置用基板において、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、該ＴＦＴアレイ基板１０上の少なくとも画像表示領域１０ａには、絶縁膜１２、及び画素電極９ａより上層側に、配向膜１６が形成される。この際、ラビング処理は、例えば、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０に対して、一括してまとめて行われる。
【０１２３】
ラビング処理において、ラビングローラの周面は、絶縁膜１２において、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０のうち互いに隣接するＴＦＴアレイ基板１０に跨って連なるように開孔された複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂに、当接する。そして、例えば、大型基板Ｍ０上に平面的に見て、縦方向又は横方向に沿って配列されたＴＦＴアレイ基板１０毎に、これらのＴＦＴアレイ基板１０上において、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂを通過するラビングローラの周面を全体的に満遍無く開孔部１０２ａ若しくは１０２ｂに当接させることができる。よって、大型基板Ｍ０全体に亘って、複数の開孔部１０２ａ及び１０２ｂを通過することで、全体的に満遍無くクロスの毛乱れ又は劣化が生じたラビングローラの周面を、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、該ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに形成された有機膜の表面に当接させて、ラビング処理を行うことが可能となる。よって、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、画像表示領域１０ａに形成された配向膜１６において、ラビングスジが顕在化するのを防止することが可能となる。
【０１２４】
尚、第２の電気光学装置用基板において、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、個別に、第２の電気光学装置用基板とは別に、対向電極２１、配向膜２２等々が作りこまれて形成された対向基板２０を、ＴＦＴアレイ基板１０に対してシール材５２を介して貼り合わせた後、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶を封入して液晶装置を作製する。その後、大型基板Ｍ０を、各ＴＦＴアレイ基板１０毎にスクライブラインＳＬに沿って個別に切り分けることで、各液晶装置が得られる。
【０１２５】
従って、以上説明したような第２の電気光学装置用基板によれば、該第２の電気光学装置用基板において形成される複数の液晶装置において、夫々、液晶の配向状態に乱れが生じるのを防止することができ、表示画面において表示不良が発生するのを防止することが可能となる。
【０１２６】
尚、第２の電気光学装置用基板は、ＴＦＴアレイ基板１０に代えて対向基板２０を含む大型基板Ｍ０を有する構成とし、例えば各対向基板２０上において周辺領域に外部回路接続端子が設けられると共に、図１３を参照して説明した構成と同様に、絶縁膜に、該絶縁膜より外部回路接続端子の表面を露出させるための開孔部を含む複数の開孔部を開孔するようにしてもよい。このように構成すれば、対向基板２０の側においても、画像表示領域１０ａにおいて、配向膜２２に顕著にラビングスジが発生するのを、効果的に防止することが可能となる。
【０１２７】
＜３；電子機器＞
次に、上述した液晶装置が各種の電子機器に適用される場合について説明する。
【０１２８】
＜３−１：プロジェクタ＞
まず、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。図１４は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。この図に示されるように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６および２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇに入射される。
【０１２９】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、外部回路（図示省略）から外部接続用端子１０２に供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、ＲおよびＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【０１３０】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【０１３１】
なお、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
【０１３２】
＜３−２：モバイル型コンピュータ＞
次に、液晶装置を、モバイル型のパーソナルコンピュータに適用した例について説明する。図１５は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。図において、コンピュータ１２００は、キーボード１２０２を備えた本体部１２０４と、液晶表示ユニット１２０６とから構成されている。この液晶表示ユニット１２０６は、先に述べた液晶装置１００５の背面にバックライトを付加することにより構成されている。
【０１３３】
＜３−３；携帯電話＞
さらに、この液晶パネルを、携帯電話に適用した例について説明する。図１６は、この携帯電話の構成を示す斜視図である。図において、携帯電話１３００は、複数の操作ボタン１３０２とともに、反射型の液晶装置１００５を備えるものである。この反射型の液晶装置１００５にあっては、必要に応じてその前面にフロントライトが設けられる。
【０１３４】
尚、図１４から図１６を参照して説明した電子機器の他にも、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【０１３５】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置用基板及びその製造方法、該電気光学装置用基板を備えてなる電気光学装置並びにこれを備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【０１３６】
【図１】本実施形態における液晶装置の全体構成を表す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ’断面図である。
【図３】液晶装置の電気的な構成を示すブロック図である。
【図４】第１の電気光学装置用基板の構成を示す概略的な平面図である。
【図５】図４のＡ−Ａ’断面図である。
【図６】図６（ａ）及び図６（ｂ）は、絶縁膜の周辺領域内に位置する一部に開孔される開孔部の平面形状を概略的に示す図である。
【図７】第１の電気光学装置用基板の製造プロセスの各工程における図５に示す断面の構成を、順を追って示す工程図である。
【図８】本実施形態における電気光学装置の製造プロセスの各工程を説明するためのフローチャートを示す図である。
【図９】端子用開孔部及びダミー用開孔部の構成に係る比較例について示す図である。
【図１０】本変形例に係る絶縁膜に開孔される開孔部の構成を示す図である。
【図１１】本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の他の構成を示す概略的な平面図である。
【図１２】図１１のＢ−Ｂ’断面図である。
【図１３】第２の電気光学装置用基板の構成を示す概略的な平面図である。
【図１４】液晶装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。
【図１５】液晶装置を適用した電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図１６】液晶装置を適用した電子機器の一例たる携帯電話の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１３７】
１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、１２…絶縁膜、１０２…外部回路接続端子、１０２ａ…端子用開孔部、１０２ｂ…ダミー用開孔部
【図１】
2006301011.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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