(57)【要約】【課題】  大型ガラス基板の端縁部の撓みが確実に防止される基板端縁部被膜の除去装置を提供する【解決手段】  基板保持部２の軸４を伸張せしめ、チャック３を上昇させ、この上昇位置で基板Ｗを受け取る。この状態では基板Ｗは自重によって周辺部が下方に撓んでいる。次いで、軸４を縮めてチャック３をバー部材１７の上面と面一になるまで下降せしめる。すると、基板Ｗの周縁部下面がバー部材１７によって支持され、基板Ｗは水平状態で保持される。このとき、洗浄ユニット１０のスリット１１内には洗浄液（溶剤）が表面張力で保持されている。この状態から、左右の洗浄ユニット１０を前進させ、洗浄ユニット１０のスリット１１内に基板Ｗの端縁部を挿入する。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の下面中央部を支持するとともに昇降自在且つ回転可能とされた基板保持部材と、この基板保持部材に保持された基板に対して進退可能で基板の端縁部を挿入して端縁部に付着した余分な被膜を除去する洗浄ユニットを備えた基板端縁部被膜の除去装置であって、この除去装置は、基板保持部材と、基板保持部材に保持された基板の中央部よりも外側寄りの部分を下方から支える支え部材とを有することを特徴とする基板端縁部被膜の除去装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板端縁部被膜の除去装置において、前記支え部材は支柱にバー部材を取り付けてなり、このバー部材の長さを基板の長辺の長さと略等しくしたことを特徴とする基板端縁部被膜の除去装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガラス基板などの端縁部に形成された余分な被膜（塗布液）を除去する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子（ＬＣＤ）用のガラス基板に回路を形成するには、半導体ウェーハに集積回路を形成するのと同様にレジスト液やＳＯＧ液の塗布工程を経る必要がある。これら塗布液をガラス基板に塗布する手段としては、スリットノズルを用いた塗布方法などが適用されているが、基板の端縁部において塗膜が厚くなる傾向がある。このような余分な塗膜が形成されると、エッチング等の後に塗膜を除去する際に端縁に塗膜の一部が残り、これが後工程において微細なパーティクルとなって基板表面に付着し、歩留まり低下を来すことがある。
【０００３】
上記の問題を解消するため、一般的には、特許文献１に開示されるように、基板の端縁に沿って剥離液（洗浄液）を噴出するノズルを移動させるようにしているが、この方法では剥離液は噴出しっぱなしのため、極めて大量の剥離液を必要とする。
【０００４】
特許文献１においては、チャックなどに保持された基板の周辺部に対し、フォトレジスト除去装置を基板の周辺部に沿って相対移動させつつ、フォトレジストを溶解する溶剤吐出手段と、溶解した溶剤を吸引する吸引手段を備えることで基板の周辺部に付着した不要なフォトレジストを除去することが記載されている。更に、本出願人は特許文献２において、チャックなどに保持された基板に対し、除去ユニットを進退可能とし、除去ユニットに形成したスリットに基板の端縁部を挿入し、スリットの内方に設けた洗浄ユニットによって基板の端縁部に付着した余分な被膜を除去することを提案した。
【０００５】
【特許文献１】特開平５−１１４５５５号公報
【特許文献２】特開平８−１０２４３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、液晶表示素子自体の寸法が大きくなるとともに、１枚の素板用ガラス基板からできるだけ多数の液晶表示素子用ガラス基板を切り出すことができるようにするため、ガラス基板（素板）はますます大型化し、１辺が１０００ｍｍを超えるものも珍しくなくなっている。しかしながら、ガラス基板の厚みは従前のままであるので、従来の基板保持部でガラス基板を支持すると、基板の周辺部が下方に撓んでしまい、除去ユニットのスリットに基板の端縁部が入らないことになる。
【０００７】
上記の不具合を解消するには、基板保持部の面積を大きくすると、基板保持部全体の重量が重くなり、重量を軽くしようと保持部分を薄くすると、面積が大きいため端部が撓んで水平度が出せなくなってしまう。保持部が撓めばその上に載置する基板も一緒に撓んでしまうため、除去ユニットのスリットに基板端縁部が入らなくなってしまう。また、基板の保持部材として例えば、特開２００２−２９９４１６号公報のような搬送ユニットを適用しても基板の４辺の端縁部に付着した余分な被膜を除去するには、対向する２辺の洗浄除去を行った後、ガラス基板を９０°水平面内で回転させなければならず、特開２００２−２９９４１６号公報では、これができない。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明に係る基板の基板端縁部被膜の除去装置は、下面中央部を支持するとともに昇降自在且つ回転可能とされた基板保持部材と、この基板保持部材に保持された基板に対して進退可能で基板の端縁部を挿入して端縁部に付着した余分な被膜を除去する洗浄ユニットと、基板保持部材に保持された基板の中央部よりも外側寄りの部分を下方から支える支え部材とを備えている。
【０００９】
前記支え部材の構造としては、支柱にバー部材を取り付けたものが考えられる。そしてバー部材の長さは、基板の長辺の長さと略等しくすることか、好ましくは若干長くすることで、安定して基板を支持することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る基板端縁部被膜の除去装置によれば、基板の寸法が大きくなっても、端縁部の撓みがなくなるので、効率よく端縁部に付着した余分な被膜を除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。図１は本発明に係る除去装置の全体斜視図、図２は同除去装置の平面図、図３（ａ）〜（ｃ）は端縁部に付着した余分な被膜の除去工程を説明した図、図４（ａ）は基板の端縁部が洗浄部材のスリットに入る前の状態の拡大断面図、（ｂ）は基板の端縁部が洗浄部材のスリットに入った状態の拡大断面図である。
【００１２】
基板端部被膜の除去装置はベース１上に設けられる基板保持部２と、この基板保持部２を中心として対向位置に配置される一対の洗浄ユニット１０，１０から構成される。基板保持部２は基板Ｗの下面を固定するチャック（真空チャックまたは静電チャック）３とこのチャック３を回転せしめる軸４とからなる。
【００１３】
一方、前記一対の洗浄ユニット１０，１０はベース１上に設けたレール５に沿って、基板保持部２（基板Ｗ）に対して互いに接近及び離反する方向に移動可能とされている。
【００１４】
洗浄ユニット１０には基板Ｗの端縁部が挿入されるスリット１１が水平方向に形成され、このスリット１１には洗浄液の供給路１２を介して洗浄液が供給され、スリット１１内に供給された洗浄液は表面張力にてスリット１１内に滞留する。また、洗浄ユニット１０の背面側には洗浄液の供給管１３及び排出管１４が接続され、常に前記供給路１２に洗浄能力の高い新鮮な洗浄液を供給し、洗浄後の洗浄液は排出管１４から回収するようにしている。
【００１５】
ここで、前記スリット１１の上下方向の寸法は表面張力によってスリット１１内側に溜まった洗浄液がそのまま保持される寸法、具体的には基板Ｗを挿入した状態で基板Ｗの上面とスリット１１上端、基板Ｗの下面とスリット１１下端との間隔は、使用する溶剤の表面張力値に基づき適宜設定すればよいが、通常はそれぞれ１ｍｍ以下になるよう設定する。また、スリット１１の横方向寸法は、挿入する基板Ｗの長辺の寸法よりもやや大きく設定する。
【００１６】
更に、スリット１１を形成する下エッジ部１１ａは上エッジ部１１ｂよりも前方に突出し、これにより、基板Ｗの接液領域が上面よりも下面（裏面）において広くなるようにし、基板の裏面に廻り込んだ塗膜も効果的に除去できるようにしている。
【００１７】
一方、前記基板保持部２と洗浄ユニット１０との間には支え部材１５を配置している。この支え部材１５は支柱１６にバー部材１７を取り付けてなり、このバー部材１７の長さは基板Ｗの長辺の長さと略等しくするか、好ましくは若干長くしている。この支え部材１５の配置位置は、前記洗浄ユニット１０の前進端（最も内側位置）において洗浄ユニット１０に干渉しない位置とする。
【００１８】
またバー部材１７の上面は下降位置にある前記チャック３の上面と面一とし、チャック３及びバー部材１７上に基板Ｗが水平に保持されるようにしている。
【００１９】
次に、基板Ｗの端縁に付着したレジスト膜等の余分な被膜を溶剤によって溶解除去する手順を図３、図４及び図５を参照して説明する。
先ず、図３（ａ）に示すように、基板保持部２の軸４を伸張せしめ、チャック３を上昇させ、この上昇位置で基板Ｗを受け取る。この状態では基板Ｗは自重によって周辺部が下方に撓んでいる。
【００２０】
次いで、図３（ｂ）に示すように、軸４を縮めてチャック３をバー部材１７の上面と面一になるまで下降せしめる。すると、基板Ｗの周縁部下面がバー部材１７によって支持され、基板Ｗは水平状態で保持される。このとき、図４（ａ）に示すように、洗浄ユニット１０のスリット１１内には洗浄液（溶剤）が表面張力で保持されている。また、図４（ａ）に限らず、スリット１１内に基板端縁部を挿入した後でスリット１１内に洗浄液（溶剤）を満たすようにしてもよい。
【００２１】
この状態から、左右の洗浄ユニット１０を前進させ、洗浄ユニット１０のスリット１１内に基板Ｗの端縁部を挿入する。この状態を図３（ｃ）及び図４（ｂ）に示している。
【００２２】
以上の操作で端縁部に付着している余分な被膜（塗布液）を除去したならば、洗浄ユニット１０を後退させて図３（ｂ）の状態に戻す。この後、軸４を９０°廻して、基板Ｗの残りの２辺を洗浄ユニット１０に対向せしめ、前記と同様の操作により残りの２辺の洗浄を行う。尚、上記の除去を行うにあたり、除去ユニット１０または基板Ｗを振動させてもよい。このようにすることで、被膜の溶解が促進する。
【００２３】
図５（ａ）に示すように、基板保持部３には図示しない搬送アームから基板Ｗを受け取るリフトピン１８が貫通して上昇している。この上昇位置で基板Ｗを受け取ると基板は自重によって周辺部が下方に撓んでいる。
【００２４】
次いで、図５（ｂ）に示すように、リフトピン１８をチャック３とバー部材１７の上に基板Ｗが水平状態で保持するまで下降させる。
【００２５】
この状態から、左右の洗浄ユニット１０を前進させ、洗浄ユニット１０のスリット内に基板Ｗの端縁部を挿入する。この状態を図５（ｃ）及び図４（ｂ）に示している。
【００２６】
図示例では基板支持部材の高さを固定した例を示したが、バー部材をシリンダユニットなどに支持することで、昇降可能としてもよい。昇降可能とした場合には、基板の端縁部が除去部材の洗浄スリットに入った時点で、シリンダユニットを駆動してバー部材を下げて除去部材との干渉を避けることができるので、基板支持部材によって支持する位置を基板の端縁部ギリギリの位置にすることができる。
【００２７】
図示例では、洗浄ユニット１０に乾燥機能を持たせなかったので、被膜が除去された基板は下流側において端縁部を乾燥装置の基板挿入スリットに水平方向から挿入し、乾燥ガスにて基板端縁部を乾燥せしめる。また、基板端縁部を乾燥せしめるガス噴出部を除去ユニットの一部に付設した場合には下流側に乾燥装置を設ける必要はない。
【産業上の利用可能性】
【００２８】
本発明に係る基板端縁部被膜の除去装置は、液晶表示素子用ガラス基板に回路などを形成するラインの一部に組み込んで使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明に係る除去装置の全体斜視図
【図２】同除去装置の平面図
【図３】（ａ）〜（ｃ）は端縁部に付着した余分な被膜の除去工程を説明した図
【図４】（ａ）は基板の端縁部が洗浄部材のスリットに入る前の状態の拡大断面図、（ｂ）は基板の端縁部が洗浄部材のスリットに入った状態の拡大断面図
【図５】（ａ）〜（ｃ）は端縁部に付着した余分な被膜の除去工程を説明した別実施例の図
【符号の説明】
【００３０】
１…ベース、２…基板保持部、３…チャック、４…軸、５…レール、１０…洗浄ユニット、１１…スリット、１１ａ…スリットの下エッジ部、１１ｂ…スリットの上エッジ部、１２…洗浄液の供給路、１３…洗浄液の供給管、１４…洗浄液の排出管、１５…支え部材、１６…支柱、１７…バー部材、１８…リフトピン、Ｗ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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