(57)【要約】      （修正有）【課題】所望の波長分散特性、高い透明性、優れた加工性を持つ位相差フィルムの提供。【解決手段】（Ａ）式［３］及び式［４］とカーボネート前駆物質の反応による芳香族ポリカーボネート共重合体（Ｂ）ポリエーテルエステル樹脂（Ｃ）テルペンフェノール樹脂とを所定割合配合した芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を使用した位相差フィルム。2006104323.tif 0000232006104323.tif 000024【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式[１]
【化１】
2006104323.tif 000011
［式中、Ｒ１〜Ｒ４は夫々独立して水素原子、炭素原子数１〜９の芳香族基を含んでもよい炭化水素基、またはハロゲン原子である。］で表される繰り返し単位（Ａ１）及び下記一般式［２］
【化２】
2006104323.tif 000012
［式中、Ｒ5〜Ｒ8は夫々独立して水素原子、炭素原子数１〜９の芳香族基を含んでもよい炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｗは単結合、炭素原子数１〜２０の芳香族基を含んでもよい炭化水素基、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＣＯ又はＣＯＯ基である。］
で表される繰り返し単位（Ａ２）よりなり、全カーボネート繰り返し単位における単位（Ａ１）と単位（Ａ２）の割合がモル比で（Ａ１）：（Ａ２）＝５：９５〜９５：５の範囲である芳香族ポリカーボネート共重合体１００重量部に対して（Ｂ）ポリエーテルエステル樹脂２〜９５重量部、および（Ｃ）テルペンフェノール樹脂４〜９５重量部を配合して得られる芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項２】
ポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）中のエーテル構造が下記繰り返し単位［３］及び／または［４］を含む請求項１記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【化３】
2006104323.tif 000013
【化４】
2006104323.tif 000014
［但し、式中Ｘは水素原子、ＣＨ３、ＣＨ２ＣｌまたはＣＨ２ＯＣＨ３を表し、ｎは１２０≧ｎ≧１を満足するものとする。］
【請求項３】
ポリエーテルエステル樹脂の合成に使用されるカルボン酸が炭素数８〜２０の芳香族カルボン酸または脂環族カルボン酸である請求項１または２記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項４】
ポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）が
（イ）（イ−１）テレフタル酸、（イ−２）テレフタル酸及びイソフタル酸または（イ−３）シクロヘキサンジカルボン酸、
（ロ）（ロ−１）シクロヘキサンジメタノールまたは、（ロ−２）下記一般式[５]で表されるポリ（アルキレンオキシド）グリコール、
【化５】
2006104323.tif 000015
［但し、式中Ｘは水素原子、ＣＨ３、ＣＨ２ＣｌまたはＣＨ２ＯＣＨ３を表し、ｎ及びｍはｎ≧０、ｍ≧０且つ１２０≧（ｎ＋ｍ）≧２０を満足するものとする。ｍが２以上の場合Ｘは同じでも異なってもよい。］
および（ハ）（ハ−１）テトラメチレングリコールまたは（ハ−２）テトラメチレングリコール及びエチレングリコール
を共重合させて得られるポリエーテルエステルブロック共重合体である請求項１〜３のいずれかに記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項５】
ポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）が
（イ）全酸由来の繰り返し単位を基準にしてテレフタル酸由来の繰り返し単位６０〜１００ｍｏｌ％及びイソフタル酸由来の繰り返し単位４０〜０ｍｏｌ％、あるいは、シクロヘキサンジカルボン酸由来の繰り返し単位１００ｍｏｌ％
（ロ）シクロヘキサンジメタノール由来の繰り返し単位あるいは、下記一般式[６]で表されるポリ（アルキレンオキシド）グリコール由来の繰り返し単位、
【化６】
2006104323.tif 000016
［但し、式中Ｘは水素原子、ＣＨ３、ＣＨ２ＣｌまたはＣＨ２ＯＣＨ３を表し、ｎ及びｍはｎ≧０、ｍ≧０且つ１２０≧（ｎ＋ｍ）≧２０を満足するものとする。ｍが２以上の場合Ｘは同じでも異なってもよい。］
及び（ハ）（ロ）成分を除くグリコール由来の繰り返し単位を基準にしてテトラメチレングリコール由来の繰り返し単位６５〜１００ｍｏｌ％及びエチレングリコール由来の繰り返し単位３５〜０ｍｏｌ％
からなるポリエーテルエステルブロック共重合体であり、かつ（ロ）成分の共重合量が全グリコール成分の４０〜８０重量％であるポリエーテルエステル樹脂である請求項４記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項６】
繰り返し単位（Ａ１）が下記式［７］で表される繰り返し単位である請求項１〜５のいずれかに記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【化７】
2006104323.tif 000017
【請求項７】
繰り返し単位（Ａ２）が下記式［８］〜［１２］で表される繰り返し単位である請求項１〜６のいずれかに記載の芳香族ポリカーボネートの樹脂組成物。
【化８】
2006104323.tif 000018
【化９】
2006104323.tif 000019
【化１０】
2006104323.tif 000020
【化１１】
2006104323.tif 000021
【化１２】
2006104323.tif 000022
【請求項８】
テルペンフェノール樹脂（Ｃ）の合成に用いられるテルペン化合物が、ミルセン、アロオシメン、オシメン、α−ピネン、β−ピネン、ジペンテン、リモネン、α−フェランドレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、テルピノレン、１，８−シネオール、１，４−シネオール、α−テルピネオール、β−テルピネオール、γ−テルピネオール、カンフェン、トリシクレン、サビネン、パラメンタジエン類、カレン類からなる群から選ばれる一種類以上の化合物である請求項１〜７のいずれかに記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項９】
テルペンフェノール樹脂（Ｃ）の合成に用いられるフェノール類がフェノール、クレゾール、キシレノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ビスフェノールＡからなる群から選ばれる一種類以上の化合物である請求項１〜８のいずれかに記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項１０】
テルペンフェノール樹脂（Ｃ）のＯＨ価が１５０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）以下である請求項１〜９のいずれかに記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなるフィルム又はシート。
【請求項１２】
フィルム又はシートが溶融押出法又はキャストフィルム法により成形されたフィルム又はシートである請求項１１記載のフィルム又はシート。
【請求項１３】
フィルムまたはシートが位相差フィルムである請求項１１または１２記載のフィルム又はシート。
【請求項１４】
位相差フィルムが下記の特性を満足する位相差フィルムである請求項１３記載の位相差フィルム。
Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）≦１
［式中、Ｒ（４５０）及びＲ（５５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおける位相差フィルムの位相差を表す。］
【請求項１５】
フィルムまたはシートがプラセル基板、光ディスクの保護フィルム、導光板又は拡散板である請求項１１または１２記載のフィルム又はシート。
【請求項１６】
請求項１〜１０のいずれかに記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる成形品。
【請求項１７】
成形品がピックアップレンズ、カメラレンズ、マイクロアレーレンズ、プロジェクターレンズ及びフレネルレンズなどのレンズ、プリズム及び光ファイバーなどの光路変換部品、リフローハンダ付け部品、光ディスク、プラスチックミラー、各種筐体、トレイ又は容器である請求項１６記載の成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は所望の波長分散特性をもち、高度な透明性、溶融加工性に優れたポリカーボネート樹脂組成物及びそれからなる位相差フィルムに関する。
かかる位相差フィルムは、例えば液晶表示装置、記録装置に用いられる光ピックアップ、光記録媒体等の光学装置、発光素子、光演算素子、光通信素子、タッチパネルに好適に用いられる。
【背景技術】
【０００２】
一般に、位相差フィルムは、液晶表示装置等の表示装置に用いられ、色補償、視野角拡大、反射防止等の機能を有している。この位相差フィルムの材料としては、一般にビスフェノールＡを重縮合したポリカーボネートやポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、ポリビニールアルコール、ノルボルネン樹脂の熱可塑性ポリマーが用いられる。
【０００３】
位相差フィルムは、例えば、スーパーツイストネマチック（ＳＴＮ）モードの液晶表示装置においては、通常、色補償や視野角拡大を目的として用いられる。この位相差フィルムとしては、次のようなものが知られている。
例えば、正の複屈折を生じるポリマーと負の複屈折を生じるポリマーとを混合した樹脂より成る位相差フィルムが記載されている。具体的には、ポリ（２，６ジメチル−１，４フェニレンオキサイド）とポリスチレン又はポリ塩化ビニルとポリメチルメタクリレートとを混合した樹脂を用いて成形したフィルムを一軸延伸し、それぞれ視野角依存性が小さい位相差フィルムが得られたことがそれぞれ報告されている。（例えば特許文献１参照）
また、フルオレン構成単位を有するポリカーボネート樹脂フィルムがキャストフィルム法により得られ、高屈折率で且つ低複屈折性を有することも報告されている。（例えば特許文献２参照）
【０００４】
このようなフルオレン系ビスフェノール骨格を有するポリカーボネート樹脂は、溶融加工する場合、溶融温度が高いため分解によるゲル物が発生しやすいという問題がある。また、高いＴｇ（ガラス転移温度）を有しているためフィルムの延伸加工等のために高い温度を必要とし、従来と異なる特別な加工設備を必要とする等、加工性が必ずしも十分なものとはいえない。
【０００５】
また、反射型液晶表示装置、特に偏光板を一枚のみ用いた反射型液晶表示装置においては、位相差フィルムは偏光板と組み合わせて円偏光を発生させる機能を発現させるように光学的に設計されている場合がある。このような液晶表示装置においては、通常、装置全体としての光学的な特徴を最適化するために位相差フィルムの光学設計を行なう。しかしながら、光学的な特性の一つである位相差の波長分散特性は位相差フィルムを構成する材料によりほぼ決定されてしまうため使用できる材料は限られたものとなる。一般にポリマー同士は相溶性が悪いので、それらを混合した場合には相分離する。したがって得られた混合物を光学的に観察するとヘーズが高く位相差フィルムには不適当である。そのため実用可能な材料が限られており、互いに相溶するポリマーの組み合わせは、ポリ（２，６ジメチル−１，４フェニレンオキサイド）とポリスチレン又は、ポリ塩化ビニルとポリメチルメタクリレートなど非常に少ない。
【０００６】
このため、位相差フィルムの位相差の波長分散を液晶セルの位相差の波長分散と合わせるという光学的設計を行なうのは、実用可能なポリマー材料の種類が限られるので難しいのが現状である。また、多くの液晶表示装置メーカーの要求する位相差の波長分散特性を有する種々の位相差フィルムを提供するには、位相差フィルムの製造業者としては、非常に多数の材料を保有し、フィルム化することを考えなくてはならないといった問題があった。さらに、上記したような相溶しうるポリマーの組み合わせは異種のポリマーの組み合わせであるが、熱的耐久性や生産性の点で問題があった。
【０００７】
位相差の波長分散が制御された位相差フィルムとしては、２枚のフィルムを積層するという下記の技術が知られている。
例えば、位相差の波長依存性が異なる特定の２枚以上の複屈折性フィルムを特定の角度で積層して製造することが報告されている。（例えば特許文献３参照）これらの場合、位相差フィルムを複数枚用いるので、それらを貼り合わせたり、貼り合わせる角度を調整する工程が必要であり、生産性に問題がある。また、位相差フィルム全体の厚さが大きくなるために、光線透過率が低下して、装置に組み込んだときに厚くなったり暗くなるという問題もある。
【０００８】
本発明の主たる目的は、位相差の波長分散特性を容易に且つ高度に制御し、高度な透明性、優れた溶融加工性を有するポリカーボネート樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、同種のポリマーから溶融成形された一枚の位相差フィルムを提供することにある。
本発明のさらなる目的は、光学特性に優れた光学部品を提供することにある。
【０００９】
【特許文献１】特開平４−１９４９０２号公報
【特許文献２】特開２００１−２５３９６０号公報
【特許文献３】特開平２−１２０８０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、これらの問題を解決することを課題とするものである。
即ち、本発明は、所望の波長分散特性をもち、高度な透明性、溶融加工性に優れたポリカーボネート樹脂組成物及びそれからなる位相差フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、鋭意検討の結果、特殊ポリカーボネートに特定のポリエーテルエステル樹脂とテルペンフェノール樹脂を適量混合することによって所望の波長分散特性をもち、高度な透明性、優れた溶融加工性を付与出来ることを見出し、本発明に到達した。
【００１２】
即ち、本発明は、
（Ａ）下記一般式[１]
【化１】
2006104323.tif 000002
［式中、Ｒ1〜Ｒ4は夫々独立して水素原子、炭素原子数１〜９の芳香族基を含んでもよい炭化水素基、またはハロゲン原子である。］で表される繰り返し単位（Ａ１）及び下記一般式［２］
【００１３】
【化２】
2006104323.tif 000003
［式中、Ｒ5〜Ｒ8は夫々独立して水素原子、炭素原子数１〜９の芳香族基を含んでもよい炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｗは単結合、炭素原子数１〜２０の芳香族基を含んでもよい炭化水素基、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＣＯ又はＣＯＯ基である。］
で表される繰り返し単位（Ａ２）よりなり、全カーボネート繰り返し単位における単位（Ａ１）と単位（Ａ２）の割合がモル比で（Ａ１）：（Ａ２）＝５：９５〜９５：５の範囲である芳香族ポリカーボネート共重合体１００重量部に対して（Ｂ）ポリエーテルエステル樹脂２〜９５重量部、（Ｃ）テルペンフェノール樹脂４〜９５重量部を配合して得られる樹脂組成物及びそれからなる位相差フィルムである。
【００１４】
なお、上記の位相差フィルムは波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおける位相差をそれぞれＲ（４５０）及びＲ（５５０）としたとき下記の式を満足する事が好ましい。
Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）≦１
【００１５】
以下、本発明を詳細に説明する。
［ポリカーボネート共重合体］
本発明のポリカーボネート共重合体（Ａ）は、それを構成する芳香族ジヒドロキシ成分として、下記式[３]で表されるフルオレン系ビスフェノールの割合が全芳香族ジヒドロキシ成分の５〜９５モル％、好ましくは１０〜９５モル％、さらに好ましくは３０〜８５モル％である。５モル％未満の場合、本発明の目的である光学用材料として不満足な性質となり好ましくない。なお、フルオレン系ビスフェノールは９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンであることが好ましい。
【００１６】
【化３】
2006104323.tif 000004
［式中、Ｒ１〜Ｒ４は夫々独立して水素原子、炭素原子数１〜９の芳香族基を含んでもよい炭化水素基、またはハロゲン原子である。］
【００１７】
前記９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンは、その１０ｇをエタノール５０ｍｌに溶解した溶液を光路長３０ｍｍで測定したｂ値が好ましくは６．０以下、より好ましくは５．５以下であり、さらに好ましくは５．０以下である。ｂ値が上記範囲内であれば、得られるポリカーボネート共重合体から形成される成形体は色相が良好で強度が高く、延伸フィルム特性も良好となり好ましい。
【００１８】
通常、この９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンはｏ−クレゾールとフルオレノンの反応によって得られる。前記特定のｂ値を有する９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンは、特定の処理を行い不純物を除去することによって得ることができる。具体的には、ｏ−クレゾールとフルオレノンの反応後に、未反応のｏ−クレゾールを留去した後、残さをアルコール系、ケトン系またはベンゼン誘導体系の溶媒に溶解し、これに活性白土または活性炭を加えてろ過後、ろ液から結晶化した生成物をろ過して精製された９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンを得ることができる。除去される不純物としては、２，４′−ジヒドロキシ体、２，２′−ジヒドロキシ体および構造不明の不純物等である。かかる精製に用いるアルコール系の溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の低級アルコール、ケトン系の溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等の低級脂肪族ケトン類およびこれらの混合物が好ましく、ベンゼン誘導体系の溶媒としてはトルエン、キシレン、ベンゼンおよびこれらの混合物が好ましい。溶媒の使用量はフルオレン化合物が十分に溶解する量であれば足り、通常フルオレン化合物に対して２〜１０倍量程度である。活性白土としては市販されている粉末状または粒状のシリカ−アルミナを主成分とするものが用いられる。また、活性炭としては市販されている粉末状または粒状のものが用いられる。
【００１９】
本発明のポリカーボネート共重合体において用いられる他のジヒドロキシ成分としては、通常芳香族ポリカーボネートのジヒドロキシ成分として使用されているものであればよく、下記式[４]で表される。
【００２０】
【化４】
2006104323.tif 000005
［式中、Ｒ5〜Ｒ8は夫々独立して水素原子、炭素原子数１〜９の芳香族基を含んでもよい炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｗは単結合、炭素原子数１〜２０の芳香族基を含んでもよい炭化水素基、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＣＯ又はＣＯＯ基である。］
【００２１】
例えばハイドロキノン、レゾルシノール、４，４′−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＥ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（ビスフェノールＣ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＺ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４′−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール、α，α′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン（ビスフェノールＭ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサンなどが挙げられ、なかでもビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＥ、ビスフェノールＭが好ましく、特にビスフェノールＡが好ましい。
【００２２】
本発明のポリカーボネート共重合体は、通常の芳香族ポリカーボネート樹脂を製造するそれ自体公知の反応手段、例えば芳香族ジヒドロキシ成分にホスゲンや炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を反応させる方法により製造される。次にこれらの製造方法について基本的な手段を簡単に説明する。
【００２３】
カーボネート前駆物質として、例えばホスゲンを使用する反応では、通常酸結合剤および溶媒の存在下に反応を行う。酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物またはピリジンなどのアミン化合物が用いられる。溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素が用いられる。また反応促進のために例えば第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩などの触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常０〜４０℃であり、反応時間は数分〜５時間である。
【００２４】
カーボネート前駆物質として炭酸ジエステルを用いるエステル交換反応は、不活性ガス雰囲気下所定割合の芳香族ジヒドロキシ成分を炭酸ジエステルと加熱しながら撹拌して、生成するアルコールまたはフェノール類を留出させる方法により行われる。反応温度は生成するアルコールまたはフェノール類の沸点などにより異なるが、通常１２０〜３００℃の範囲である。反応はその初期から減圧にして生成するアルコールまたはフェノール類を留出させながら反応を完結させる。
【００２５】
また、反応を促進するために通常エステル交換反応に使用される触媒を使用することもできる。前記エステル交換反応に使用される炭酸ジエステルとしては、例えばジフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネートなどが挙げられる。これらのうち特にジフェニルカーボネートが好ましい。
【００２６】
本発明のポリカーボネート共重合体は、その重合反応において、末端停止剤として通常使用される単官能フェノール類を使用することができる。殊にカーボネート前駆物質としてホスゲンを使用する反応の場合、単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用され、また得られた芳香族ポリカーボネート共重合体は、末端が単官能フェノール類に基づく基によって封鎖されているので、そうでないものと比べて熱安定性に優れている。
かかる単官能フェノール類としては、芳香族ポリカーボネート樹脂の末端停止剤として使用されるものであればよい。
【００２７】
本発明のポリカーボネート共重合体は、そのポリマーを塩化メチレンに溶解した溶液での２０℃における比粘度をηｓｐとしたとき、
０．１８  ≦  ηｓｐ  ≦  ０．９０
であることが好ましい。より好ましくは、
０．２０  ≦  ηｓｐ  ≦  ０．７５
である。
【００２８】
ηｓｐが０．１８よりも小さい場合、樹脂が脆く、成形品が非常に割れやすくなるため好ましくない。ηｓｐが０．９０よりも大きい場合、樹脂の溶融流動性が非常に低くなり、成形が困難となるため好ましくない。
【００２９】
〔ポリエーテルエステル樹脂〕
本発明に用いられるポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）は、酸成分とグリコール成分を重合させ得られるポリエーテルエステル共重合体である。
本発明で用いられるポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）はＴｍ（融点）が１２０℃〜２４０℃、好ましくは１５０〜２３０℃、最も好ましくは１６０〜２１０℃であるポリエーテルエステル樹脂であるのが望ましい。
【００３０】
また、本発明で用いられるポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）はＩＶ（固有粘度）が０．５〜１．５（ｄｌ／ｇ）、好ましくは０．８〜１．４（ｄｌ／ｇ）、最も好ましくは１．０〜１．３（ｄｌ／ｇ）であるポリエーテルエステル樹脂であるのが望ましい。
【００３１】
本発明に用いられるポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）を製造するには、その合成に使用されるカルボン酸としては炭素数８〜２０の芳香族カルボン酸又は脂環族カルボン酸、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、その中でもテレフタル酸、イソフタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸が好ましい。
【００３２】
本発明のポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）の合成に使用されるグリコールとしては（変性）エチレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、トリメチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール及び下記式[５]で表されるポリ（アルキレンオキシド）グリコール、
【００３３】
【化５】
2006104323.tif 000006
［但し、式中Ｘは水素原子、ＣＨ３、ＣＨ２ＣｌまたはＣＨ２ＯＣＨ３を表し、ｎ及びｍはｎ≧０、ｍ≧０且つ１２０≧（ｎ＋ｍ）≧２０を満足するものとする。ｍが２以上の場合Ｘは同じでも異なってもよい。］
等が挙げられる。その中でもテトラメチレングリコール、エチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール及び上記式[５]で表され式中のＸが水素原子、ＣＨ３、ＣＨ２Ｃｌ、ＣＨ２ＯＣＨ３であるポリ（アルキレンオキシド）グリコールが好ましい。
【００３４】
本発明のポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）としては、樹脂中にエーテル構造が繰り返し単位［６］及び／または［７］を含むポリエーテルエステル樹脂が好ましい。
【００３５】
【化６】
2006104323.tif 000007
［但し、式中Ｘは水素原子、ＣＨ３、ＣＨ２ＣｌもしくはＣＨ２ＯＣＨ３を表し、ｎは１２０≧ｎ≧１を満足するものとする。］
【００３６】
【化７】
2006104323.tif 000008
［但し、式中ｎは１２０≧ｎ≧１を満足するものとする。］
【００３７】
このＸがこれら以外の複雑な基の場合、立体障害のために共重合ポリマーの重合度を上げるのが困難になる。また、ポリエチレングリコール単位の主鎖に直接ハロゲンやアルコキシ基を置換したものはポリマーの分解性が強い。なお、Ｘは水素原子であることが最も好ましい。
【００３８】
ｎの値が１に満たない場合、ブロック共重合体のブロック性が低下し、ポリカーボネート共重合体（Ａ）との相溶性が不十分となり、一方、ｎの値が１２０を越えると重合度が低下し、十分な重合度の共重合ポリマーを得ることが困難となる。このポリ（アルキレンオキシド）グリコール成分は該成分自体ランダム共重合体であってもよい。
【００３９】
さらに、本発明のポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）として最も好ましいのは下記成分（イ）、（ロ）、（ハ）よりなり、かつ（ロ）成分に由来する繰り返し単位が全グリコール由来の繰り返し単位の４０〜８０重量％であるポリエーテルエステル樹脂である。
（イ）全酸由来の繰り返し単位基準にしてテレフタル酸由来の繰り返し単位６０〜１００ｍｏｌ％及びイソフタル酸由来の繰り返し単位４０〜０ｍｏｌ％、あるいは、シクロヘキサンジカルボン酸由来の繰り返し単位１００ｍｏｌ％。
（ロ）シクロヘキサンジメタノール由来の繰り返し単位、あるいは、下記一般式［８］で表されるポリ（アルキレンオキシド）グリコール由来の繰り返し単位。
【００４０】
【化８】
2006104323.tif 000009
［但し、式中Ｘは水素原子、ＣＨ３、ＣＨ２ＣｌまたはＣＨ２ＯＣＨ３を表し、ｎ及びｍはｎ≧０、ｍ≧０且つ１２０≧（ｎ＋ｍ）≧２０を満足するものとする。ｍが２以上の場合Ｘは同じでも異なってもよい。］
【００４１】
なお、このＸがこれら以外の複雑な基の場合、立体障害のために共重合ポリマーの重合度を上げるのが困難になる。ポリエチレングリコール単位の主鎖に直接ハロゲンやアルコキシ基を置換したものはポリマーの分解性が強い。Ｘは水素原子であることが好ましい。また、（ｎ＋ｍ）の値が２０に満たない場合、ブロック共重合体のブロック性が低下し、ポリカーボネート共重合体（Ａ）との相溶性が不十分となり、一方（ｎ＋ｍ）の値が１２０を越えると重合度が低下し、十分な重合度の共重合ポリマーを得ることが困難となる。このポリ（アルキレンオキシド）グリコール由来の繰り返し単位は該成分自体ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよい。
（ハ）（ロ）成分を除くグリコール由来の繰り返し単位を基準にしてテトラメチレングリコール由来の繰り返し単位６５〜１００ｍｏｌ％及びエチレングリコール由来の繰り返し単位３５〜０ｍｏｌ％。
【００４２】
なお、このポリエーテルエステル樹脂におけるテトラメチレングリコール由来の繰り返し単位は、（ロ）成分を除くグリコール由来の繰り返し単位を基準にして６５ｍｏｌ％以上であることが必要である。テトラメチレングリコール由来の繰り返し単位が６５ｍｏｌ％未満では成形性が悪くなる。
【００４３】
また、このポリエーテルエステル樹脂中に共重合されているシクロヘキサンジメタノール、または上記式［８］で表されるポリ（アルキレンオキシド）グリコールの共重合量は全グリコール成分の４０〜８０重量％、好ましくは４０〜７０重量％である。４０重量％より少ないとポリカーボネート共重合体との相溶性が悪くなる。８０重量％より多くなるとポリマーの融着、膠着が起こり、工程上問題が生じる。
【００４４】
なお、このポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）には酸として炭素数８〜２０の芳香族カルボン酸又は脂環族カルボン酸以外のカルボン酸が共重合せしめられていてもよい。
これらの成分が共重合される場合、共重合量は全酸成分量を基準に、好ましくは４０ｍｏｌ％未満、更に好ましくは２０ｍｏｌ％未満である。
【００４５】
また、ポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）にはグリコールとして、上記記載の化合物以外のグリコールを共重合せしめられてもよい。
これらの成分が共重合される場合、共重合量は（ロ）成分を除くグリコール成分量を基準に、好ましくは４０ｍｏｌ％未満、更に好ましくは２０ｍｏｌ％未満である。
【００４６】
本発明に用いられるポリエーテルエステル樹脂（Ｂ）の配合量は、ポリカーボネート共重合体（Ａ）１００重量部に対して１〜９０重量部であり、好ましくは４〜８０重量部であり、５〜５０重量部が最も好ましい。１重量部より少ないと目標とする光学特性を付与することが出来ない。９０重量部より多いと光弾性係数が大きくなり問題である。
【００４７】
〔テルペンフェノール樹脂〕  
本発明で用いるテルペンフェノール樹脂とは、テルペン化合物とフェノール類を重合したものである。
かかるテルペンフェノール樹脂としては、テルペン化合物とフェノール類をフリーデルクラフト触媒のもとで、カチオン重合したものが使用できる。
【００４８】
本発明のテルペンフェノール樹脂の分子量は好ましくは５００〜１２００、さらに好ましくは６００〜１１００である。
また、本発明のテルペンフェノール樹脂は好ましくはＯＨ価１５０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）以下のテルペンフェノール樹脂であり、さらに好ましくは１２０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）以下、最も好ましくは１００（ＫＯＨｍｇ／ｇ）以下のテルペンフェノール樹脂である。
市販されるテルペンフェノール樹脂としては、ヤスハラケミカル（株）製のポリスターシリーズやマイテイーエースシリーズが挙げられる。
【００４９】
テルペンフェノール樹脂の原料の１つであるテルペン化合物について説明する。テルペン化合物とは一般に、イソプレン（Ｃ５Ｈ８）の重合体で、モノテルペン（Ｃ１０Ｈ１６）、セスキテルペン（Ｃ１５Ｈ２４）、ジテルペン（Ｃ２０Ｈ３２）等に分類される。テルペン化合物とは、これらを基本骨格とする化合物である。この中で、本発明では、モノテルペン、セスキテルペン、ジテルペンが好ましく、セスキテルペン、モノテルペンが最も好ましく用いられる。これらテルペン化合物の具体的な例として、例えば次のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５０】
テルペン化合物としては、ミルセン、アロオシメン、オシメン、α−ピネン、β−ピネン、ジペンテン、リモネン、α−フェランドレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、テルピノレン、１，８−シネオール、１，４−シネオール、α−テルピネオール、β−テルピネオール、γ−テルピネオール、カンフェン、トリシクレン、サビネン、パラメンタジエン類、カレン類等が挙げられる。これらの化合物の中で、α−ピネン、β−ピネン、リモネン、ミルセン、アロオシメン、α−テルピネンが本発明では特に好ましく用いられる。
フェノール類としては、フェノール、クレゾール、キシレノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ビスフェノールＡ等が挙げられる。
【００５１】
本発明のテルペンフェノール樹脂の配合量は、ポリカーボネート化合物１００重量部に対して４〜９５重量部である。好ましくは、６〜７５重量部である。９５重量部より多いとテルペンフェノール自体の分解が促進され製膜が難しく、５重量部以下では所望の特性が得られない。
【００５２】
［添加剤］
本発明の樹脂組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、各種添加剤を添加することができる。
添加剤としては、例えば、モンタン酸ワックス、ポリエチレンワックス、シリコンオイルなどの離型剤、難燃剤、難燃助剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、顔料、染料などの金属塩を挙げることができる。
【００５３】
熱安定剤は、リン系安定剤が好ましく、このようなリン系安定剤には、例えば、ホスファイト化合物、ホスホナイト化合物、ホスフェート化合物などが含まれる。ホスファイト化合物としては、例えばトリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。
【００５４】
ホスフェート化合物としては、例えばトリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどが挙げられる。
【００５５】
ホスホナイト化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−ビフェニレンジホスホナイトなどが挙げられる。
これらの中でもトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリフェニルホスフェート、トリメチルホスフェートが好ましい。
【００５６】
これらの熱安定剤は、単独で用いてもよく、二種類以上を併用してもよい。熱安定剤の含有量（又は添加量）は、前記樹脂組成物全体に対して、例えば、０.００１〜０．５重
量％、好ましくは０．００５〜０．３重量％程度の範囲であってもよい。
【００５７】
紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾオキサジン系紫外線吸収剤、およびサリチル酸フェニルエステル系紫外線吸収剤などが挙げられる。
【００５８】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられ、中でも２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノンが好ましい。
【００５９】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−（４−メトキシ−α−クミル）−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【００６０】
中でも２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールが好ましく、さらには２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾールが好ましい。
【００６１】
トリアジン系の紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−ブトキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−メチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−メチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−メチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−メチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−メチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−メチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−メチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−メチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヘキシルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヘキシルオキシエトキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジンなどが挙げられ、市販品ではチヌビン４００、チヌビン１５７７（チバスペシャルティーケミカル社製）などが挙げられる。中でもチヌビン４００が好ましい。
【００６２】
ベンゾオキサジン系の紫外線吸収剤としては、２−メチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ブチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−フェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（１−又は２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（４−ビフェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６又は１，５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、１，３，５−トリス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゼンなどが挙げられるが、中でも２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好ましい。
【００６３】
サリチル酸フェニルエステル系紫外線吸収剤としては、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリチル酸エステル、ｐ−オクチルフェニルサリチル酸エステルなどが挙げられる。
紫外線吸収剤は、単独で用いても、二種類以上を併用してもよい。これらの紫外線吸収剤の含有量（又は添加量）は、ポリカーボネート樹脂と紫外線吸収剤との合計量を１００重量％として、例えば、０．０１〜５重量％、好ましくは０．０２〜３重量％程度であり、特に好ましくは０．０５〜２重量％程度であってもよい。０．０１重量％未満では紫外線吸収性能が不十分の場合があり、５重量％を超えると樹脂の色相が悪化することがあるので好ましくない。
【００６４】
離型剤としては、シリコーンオイル、一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステル等が挙げられ、炭素原子数１〜２０の一価または多価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸との部分エステル又は全エステルが好ましい。このような離型剤としては、例えば、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、プロピレングリコールモノステアレート、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート、２−エチルヘキシルステアレートなどが挙げられ、中でもステアリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレートが好ましい。離型剤は、単独で又は２種以上組みあわせてもよい。
【００６５】
離型剤の配合量（添加量、含有量）は、前記樹脂組成物に対して、例えば、０.０１〜２重量％、好ましくは０.０１５〜０.５重量％、さらに好ましくは０.０２〜０.２重量％程度であってもよい。配合量がこの範囲内であれば離型性に優れ、また該離型剤が金型汚染を起こすこともないため好ましい。
【００６６】
また、本発明の目的を損なわない範囲で他の熱可塑性樹脂、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド；熱硬化性樹脂、例えばフェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂；軟質熱可塑性樹脂、例えばエチレン／酢ビ共重合体、ポリエステルエラストマ、エポキシ変性ポリオレフィンを添加することができ、さらに他の充填剤、例えば、タルク、カオリン、ワラストナイト、クレー、シリカ、セリサイト、酸化チタン、カーボンブラック、グラファイト、金属粉末、ガラスビーズ、ガラスバルーン、ガラスフレーク、ガラスパウダー、ガラス繊維を添加することができる。
【００６７】
［樹脂組成物の製造方法］
本発明の樹脂組成物は上記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）成分を任意の配合方法により配合することにより得ることができる。これらの成分の割合は成分（Ａ）１００重量部に対し成分（Ｂ）２〜９５重量部、成分（Ｃ）４〜９５重量部が好ましく、成分（Ｂ）３〜８５重量部、成分（Ｃ）６〜７５重量部がより好ましく、成分（Ｂ）５〜５０重量部、成分（Ｃ）１０〜６０重量部が最も好ましい。
通常これらの配合成分はより均一に分散させることが好ましく、その全部もしくは一部を同時にあるいは別々に均一に分散させることが好ましい。
【００６８】
本発明の樹脂組成物において、その成分の全部もしくは一部を同時にあるいは別々に例えばブレンダー、ニーダー、バンバリーミキサー、ロール、押出機等の混合機で混合し均質化させる方法を用いることができる。
更に、予めドライブレンドされた組成物を加熱した押出機で溶融混練して均質化した後針金状に押出し、次いで所望の長さに切断して粒状化する方法を用いることもできる。
【００６９】
本発明の樹脂組成物は高度な透明性、優れた溶融加工性を有するためプラセル基板、光ディスクの保護フィルム、導光板又は拡散板等のフィルムまたは、シートとしても好適である。
また、本発明の樹脂組成物は高度な透明性、優れた溶融加工性を有するためピックアップレンズ、カメラレンズ、マイクロアレーレンズ、プロジェクターレンズ及びフレネルレンズなどのレンズ、プリズム及び光ファイバーなどの光路変換部品、リフローハンダ付け部品、光ディスク、プラスチックミラー、各種筐体、トレイ又は容器のような光学部品（成形品）としても最適である。
【発明の効果】
【００７０】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物によれば、所望の波長分散特性を持ち、高度な透明性、加工性に優れた位相差フィルムを提供することが出来る。
【実施例】
【００７１】
以下実施例により本発明を説明する。実施例において使用した使用樹脂及び評価方法は以下のとおりである。配合量に関して表１の単位は重量％である。
１．使用樹脂
各種樹脂は以下のものを使用した。
・ポリカーボネート共重合体（ＰＣ（１））
温度計、撹拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水２１５４０部、４８％水酸化ナトリウム水溶液４９３０部を入れ、エタノール溶液でのｂ値が３．０の９,９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（以下“ＢＣＦ”と略称することがある。）３２３１部、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以下“ＢＰＡ” と略称することがある。）１９４９部およびハイドロサルファイト１５部を溶解した後、塩化メチレン１４５３０部を加えた後撹拌下１５〜２５℃でホスゲン２２００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、クミルフェノール１６３．１部および４８％水酸化ナトリウム水溶液７０５部を加え、乳化後、トリエチルアミン５．９部を加えて２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになったところで、ニーダーにて塩化メチレンを蒸発して、ＢＣＦとＢＰＡの比がモル比で５０：５０の比粘度が０.２９７、Ｔｇが１９７℃である黄白色のポリマー５３５０部を得た（収率９４％）。
【００７２】
・ポリカーボネート共重合体（ＰＣ（２））
温度計、撹拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水２１５４０部、４８％水酸化ナトリウム水溶液４９３０部を入れ、エタノール溶液でのｂ値が３．０の９,９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン４５２３部、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１１６９部およびハイドロサルファイト１５部を溶解した後、塩化メチレン１４５３０部を加えた後撹拌下１５〜２５℃でホスゲン２２００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、クミルフェノール１７４部および４８％水酸化ナトリウム水溶液７０５部を加え、乳化後、トリエチルアミン５．９部を加えて２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになったところで、ニーダーにて塩化メチレンを蒸発して、ＢＣＦとＢＰＡの比がモル比で７０：３０の比粘度が０．２６３、Ｔｇが２１６℃である黄白色のポリマー５６４０部を得た（収率９０％）。
【００７３】
・ポリエーテルエステル樹脂
帝人化成（株）製  TR-EKV
・ポリスチレン樹脂（ＰＳ（１））
PSジャパン（株）製  ポリスチレンHH102
・ポリスチレン樹脂（ＰＳ（２））
日本油脂（株）製  モディパーC L130  
（ポリカーボネートにポリスチレンをグラフト化したもの）
・テルペンフェノール樹脂（１）
ヤスハラケミカル（株）製  S145
ＯＨ価：１１０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）
・テルペンフェノール樹脂（２）
ヤスハラケミカル（株）製  T115
ＯＨ価：７０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）
【００７４】
２．ヘイズ測定
フィルムから長さ５０ｍｍ、幅５０ｍｍ、厚み１８０μｍの試験片を切り出し、日本電色工業（株）製  Haze Meter NDH２０００を用いてヘイズを測定した。
【００７５】
３．光弾性係数測定
フィルムから長さ６０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚み１８０μｍの試験片を切り出し、日本分光（株）製  Spectroellipsometer  M-200を使用し光弾性係数を測定した。
【００７６】
４．波長分散性測定
フィルムから長さ７５ｍｍ、幅１５ｍｍ、厚み１８０μｍの試験片を切り出し、Ｔｇ＋１５℃の延伸温度で１．５倍たて延伸し、得られたフィルムを日本分光（株）製  Spectroellipsometer  M-200を使用し波長分散性を測定した。
【００７７】
５．Ｔｇ（ガラス転移温度）測定
ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）社製２９１０型ＤＳＣを使用し、昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定した。
【００７８】
６．溶融押出フィルムのロール巻取り性
下記フィルム装置及び引取りロール（直径１２０ｍｍ、幅２３０ｍｍ）、巻取りロール（直径６０ｍｍ、幅２００ｍｍ）を用い、下記条件にて製膜の際、フィルム（厚み１５０〜２００μｍ）の巻取り性を評価した。
使用装置：テクノベル（株）製  KZW１５−３０MG  ２軸押出機  
テクノベル（株）製  Ｔダイ（吐出口  幅１５０ｍｍ 厚み０．５ｍｍ）
実施条件：シリンダー温度Ｔｇ＋１００℃〜Ｔｇ＋１７０℃
Ｔダイ温度Ｔｇ＋１００℃〜Ｔｇ＋１７０℃
引取りロール温度Ｔｇ±３０℃（巻取りロールは未温調）
スクリュー回転数２００〜３００ｒｐｍ
なお、評価基準は下記の通りである。
○：特に問題なく巻取りロールで巻取り可能。
△：巻取りロールで巻取り可能であるが、破断が３０分間当り、３回以上発生する。
×：巻取りロールでの巻取り不可。
【００７９】
[実施例１]
各樹脂を表１に記載の割合で予め均一ドライブレンドした後、テクノベル（株）製  KZW１５−３０MG  ２軸押出機、テクノベル（株）製Ｔダイ（吐出口  幅１５０ｍｍ 厚み０．５ｍｍ）及び引取りロール（直径１２０ｍｍ、幅２３０ｍｍ）、巻取りロール（直径６０ｍｍ、幅２００ｍｍ）を用い、厚みが１５０μｍ〜２００μｍの範囲に入りかつ１８０μｍの試験片が採取でき、また、透明であるフィルムを作成できるようにシリンダー温度をＴｇ＋１００℃〜Ｔｇ＋１７０℃、Ｔダイ温度をＴｇ＋１００℃〜Ｔｇ＋１７０℃、引取りロール温度をＴｇ±３０℃、スクリュー回転数を２００〜３００ｒｐｍの範囲で調節しながら溶融製膜し、必要な大きさにフィルムを切断後評価した。
【００８０】
［実施例２〜４及び比較例１〜３］
各種樹脂を表１に記載の量割合で予め均一ドライブレンドした後、実施例１と同様の方法で溶融製膜し、必要な大きさにフィルムを切断後評価した。
【００８１】
【表１】
2006104323.tif 000010
【００８２】
表１に示すように本樹脂組成物は良好な溶融加工性、高度な透明性、良好な光学特性を示した。また、実施例１〜３の波長分散性は単独フィルムで下記に示すようにフラットな分散性を有することが確認できた。
（波長４５０ｎｍの位相差）÷（波長５５０ｎｍの位相差）≒０．９９
（波長６５０ｎｍの位相差）÷（波長５５０ｎｍの位相差）≒１．０１
【００８３】
さらに、実施例４の波長分散性は単独フィルムで下記に示すように逆分散性を示すことが確認できた。
（波長４５０ｎｍの位相差）÷（波長５５０ｎｍの位相差）≒０．７０
（波長６５０ｎｍの位相差）÷（波長５５０ｎｍの位相差）≒１．１０
【００８４】
一方、比較例１に示すように合成したＰＣ単独はゲル状物が発生し、Ｔｇが高く、良好なフィルムを得ることは出来ない。
比較例２、３に示すようにポリスチレンとのアロイでは、フィルム透明性がなく光学フィルムとして適さない。