(57)【要約】【課題】供給口を複数に分割して形成することにより高い剛性を有する基板でありながら、全てのオリフィス、個別流路のインクのリフィルが十分かつ均一であるインクジェット記録ヘッドおよび該インクジェット記録ヘッドの製造方法の提供する。【解決手段】本発明のインクジェット記録ヘッド１００は、吐出圧力発生素子５のそれぞれに対応する複数の個別流路６と、各個別流路６に連通する共通流路８と、共通流路８に連通し、共通流路８にインクを供給するインク供給口１１と、インク供給口１１を分割するように形成された複数の梁部１１ａとを有する基板１を備えており、共通流路８に、梁部１１ａから最も近い位置に形成された個別流路６に至る凹部９が形成されている。【選択図】図１
2006264034.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オリフィスプレートに形成されたオリフィスよりインクを吐出するための複数の吐出圧力発生素子と、前記各吐出圧力発生素子のそれぞれに対応する複数の個別流路と、前記各個別流路に連通する共通流路と、前記共通流路に連通し、前記共通流路にインクを供給するインク供給口と、前記インク供給口を分割するように形成された複数の梁部とを有する基板を備えたインクジェット記録ヘッドにおいて、
前記共通流路に、前記梁部から最も近い位置に形成された前記個別流路に至る凹部が形成されていることを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
【請求項２】
前記梁部から最も近い位置に形成された前記個別流路以外の前記個別流路に至る領域に、前記共通流路の底面から前記凹部の底面までの深さよりも深さが浅い浅凹部が形成されている、請求項１に記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項３】
前記梁部から最も近い位置に形成された前記個別流路以外の前記個別流路と前記インク供給口との間の領域に、前記インク供給口から前記個別流路までの前記凹部の全長よりも全長が短い短凹部が形成されている、請求項１または２に記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項４】
前記インク供給口の開口断面形状が平行四辺形であり、前記梁部の側面が該インク供給口の短辺に平行に形成されている、請求項１ないし３のいずれか１項に記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項５】
前記オリフィスプレートに、前記インク供給口に対応する位置であって前記インク供給口の長手方向にオリフィス側梁が形成されている、請求項１ないし４のいずれか１項に記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載のインクジェット記録ヘッドを製造する製造方法において、
前記共通流路に、前記梁部から最も近い位置に形成された前記個別流路に至る凹部を形成する凹部形成工程を含むことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記基板の表面に前記個別流路および前記共通流路の型材となる樹脂をソルベントコートし、パターニングする工程と、
前記型材の上から前記個別流路の壁および前記オリフィスプレートとなる樹脂をソルベントコートし、前記オリフィスをパターニングする工程と、を含むことを特徴とする、請求項６に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記凹部形成工程において前記凹部が、ドライエッチング、ウエットエッチング、レーザ加工、イオンミーリングを含む物理的加工法のいずれかにより形成される、請求項６または７に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記オリフィスプレートにオリフィスを形成するオリフィス形成工程を含み、前記オリフィスがドライエッチング、ウエットエッチング、ドリル加工、サンドブラスト、レーザ加工、イオンミーリングを含む物理的加工法のいずれかにより形成される、請求項６ないし８のいずれか１項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記凹部形成工程後に行われる前記オリフィス形成工程においてエッチングストップ層となる層を形成し、前記オリフィス形成工程後に、該エッチングストップ層を除去する工程を含む、請求項９に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクを吐出するインクジェット記録ヘッドおよび該インクジェット記録ヘッドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録方式は、記録時における騒音の発生が無視し得る程度に極めて小さいという点、また高速記録が可能であり、しかもいわゆる普通紙に定着可能で、特別な処理を必要とせずに記録が行えるという点で、ここ数年急速に普及しつつある。またインクジェット記録ヘッドの中で、インク吐出エネルギ発生素子が形成された基体に対して、垂直方向にインク液滴が吐出するものを「サイドシュータ型記録ヘッド」と称し、本発明は、この種のサイドシュータ型記録ヘッドの構造に関するものである。
このようなサイドシュータ型記録ヘッドとして、特許文献１、特許文献２、特許文献３には、発熱抵抗体を加熱することで生成した気泡が外気と連通することで、インク液滴を吐出させる構成が開示されている。該記録ヘッドにおいては、従来のサイドシュータ型ヘッドの製造方法（例えば特許文献４）では困難であったインク吐出エネルギ発生素子とオリフィス間の距離を短くすることができ、小液滴記録を容易に達成することができ、近年の高精細記録への要求に答えることが可能である。
【特許文献１】特開平４−１０９４０号公報
【特許文献２】特開平４−１０９４１号公報
【特許文献３】特開平４−１０９４２号公報
【特許文献４】特開昭６２−２３４９４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このようなインクジェットプリンタのヘッドは近年のさらなる高画質化の要求に応えるため、各オリフィスから吐出されるインクの方向がより揃っていることが求められてきている。この要求に応えるためにはヘッドの基板の剛性を高くし、作製工程中、あるいは使用中に変形しないようにすることが重要である。
【０００４】
ヘッドの基板の剛性を上げるためには単純に基板自体を大きくすることが考えられる。しかし、基板の平面積、即ち吐出圧力発生素子が形成される面の面積を大きくすることは、１ウエハからのヘッドの取り個数を減らすことになり、コスト増加となってしまう。また、基板の厚さを大きくすることは、スルーホールである供給口を形成する際に効率を悪化させてコスト増となってしまうことや、同工程における加工精度の低下などに繋がってしまうといった課題が生じる。
【０００５】
ところで、上述した従来技術によって製造されたインクジェット記録ヘッドは多くは、インクが基板裏面から、供給口を通って、共通流路、個別流路を介して吐出圧力発生素子上に送られる構成となっている。
【０００６】
近年スループットの向上のため、オリフィスの配列を長くし、１回の走査で大面積が描画できるようなヘッドの開発が求められている。オリフィスの配列を長くすると、それに合わせて共通流路や供給口も長くすることになる。このとき、基板に貫通口として形成される供給口を単純に長くしていくことは、基板の剛性を著しく低下させてしまうことになる。そこで、図８に示すように、インク供給口３１１を梁部３１１ａによって複数に分割することでして形成し、共通流路３０８に連結させる構造をとることが考えられる。図８（ａ）は複数に分割されたインク供給口を備えたインクジェット記録ヘッドの一例の一部を透過した平面図、図８（ｂ）は図８（ａ）に示すＡ−Ａ線における断面図、図８（ｃ）は図８（ａ）に示すＢ−Ｂ線における断面図、図８（ｄ）は図８（ａ）に示すＤ−Ｄ線における断面図である。図８に示すインクジェット記録ヘッド３００は、基板３０１に形成された一つの長いインク供給口３１１の間に複数の梁部３１１ａが形成された構造を有し、基板３０１の剛性を保つ上で非常に有効な構造である。しかしながら、このようにインク供給口３１１を梁部３１１ａで分割すると、インク供給口３１１とインク供給口３１１の間近く、すなわち、梁部３１１ａの近くに位置する個別流路３０６（共通流路３０８に連通し、各吐出圧力発生素子３０５に対応した流路）は、インクの供給が不足してしまうため、梁部３１１ａから離れた位置に形成された他の個別流路３０６よりもインクのリフィルが遅くなってしまう。
【０００７】
そこで、特開平６−１１５０７５号公報においては、基体表面の共通流路の底にあたる領域を広範囲に彫り込んで溝を作り、その溝に連通するように供給口を形成することを提案している。このような構成にすることで、供給口を短くし、その分、共通流路を広くすることにより全体の個別流路に対するインクのリフィルを向上させると共に、供給口との相対位置の違いによるインクのリフィルの差を緩和させる効果も期待できる。この方法の場合、個別流路の供給口との相対位置の違いによるインクのリフィル差を十分に緩和させるためには溝をより深く形成する必要がある。しかし、このように広範囲に及んでいる溝を深く形成することは基板の強度、剛性を低下させることになる。基板の強度の低下は作製工程中のヘッドの破損を誘発し、歩留まりを悪化させるほか、基板の剛性が低下すると、作製の工程中、あるいは使用中の基板の変形が大きくなり、インクの吐出方向がオリフィス間で揃わずに画質を悪化させるといった課題が生じる。
【０００８】
また、供給口を精度良く形成するために、ＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）などのドライエッチングによりそれを形成することがある。一般的にドライエッチングは、高精度である反面、枚葉処理であることや、エッチングレートが低いなどのために他の加工方法よりタクトの面で不利である。これを補うために、基板の強度、剛性が許す限り薄い基板を予め用いるか、あるいは工程中に処理能力の高いグラインドやウエットエッチング、その他の手法で基板を薄くした後に、ドライエッチングで供給口を形成することが考えられる。このとき、前述のように共通流路の底部に広範囲に及ぶ溝を形成する場合、基板の強度と剛性を維持するためには溝を十分に深くすることができず、その効果を得ることができなくなるといった課題がある。
【０００９】
また、この方法では製造方法の課題もある。例えば、流路の型材と流路壁、オリフィスプレートをソルベントコートで形成することにより、吐出圧力発生素子とオリフィスとの距離を高精度で再現性良く形成できる方法が提案されている。しかし、基板上を広範囲に深く溝を加工した後にソルベントコートを行うと、その溝形状をトレースするように流路型材やオリフィスプレートもへこんだ形状となってしまう。基板に溝が形成されていても、流路の天井となるオリフィスプレートがそれと同じ程度へこんだ形状となっていては期待された効果は得られなくなってしまう。
【００１０】
以上の課題を鑑み、本発明では、供給口を複数に分割して形成することにより高い剛性を有する基板でありながら、全てのオリフィス、個別流路のインクのリフィルが十分かつ均一であるインクジェット記録ヘッドおよび該インクジェット記録ヘッドの製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため本発明のインクジェット記録ヘッドは、オリフィスプレートに形成されたオリフィスよりインクを吐出するための複数の吐出圧力発生素子と、各吐出圧力発生素子のそれぞれに対応する複数の個別流路と、各個別流路に連通する共通流路と、共通流路に連通し、共通流路にインクを供給するインク供給口と、インク供給口を分割するように形成された複数の梁部とを有する基板を備えたインクジェット記録ヘッドにおいて、共通流路に、梁部から最も近い位置に形成された個別流路に至る凹部が形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のインクジェット記録ヘッドによれば、基板の十分な剛性を確保するとともに、各個別流路のインクのリフィルが十分かつ均一とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（第１の実施形態）
図１は本実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部破断斜視図である。また、図２（ａ）は本実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部を透過した平面図、図２（ｂ）は図２（ａ）に示すＡ−Ａ線における断面図、図２（ｃ）は図２（ａ）に示すＢ−Ｂ線における断面図、図２（ｄ）は図２（ａ）に示すＤ−Ｄ線における断面図である。
【００１４】
図１に示すように、本実施形態のインクジェット記録ヘッド１００は、複数の吐出圧力発生素子５を備えた基板１上に各吐出圧力発生素子５に対応するオリフィス１２が形成されたオリフィスプレート４が接合されてなる。基板１には、上記の吐出圧力発生素子５及びこれら吐出圧力発生素子５に電気信号を供給するための不図示のＡｌ配線が成膜技術によって形成されている。
【００１５】
基板１には、各吐出圧力発生素子５に対応した複数の個別流路６と、各個別流路６に連通する共通流路８と、外部からインクを共通流路８へと供給し、梁部１１ａで分割されたインク供給口１１とが形成されている。また、インク供給口１１とインク供給口１１との間付近の個別流路６、すなわち、インク供給口１１を分割するようにして形成された梁部１１ａから最も近い位置に形成された個別流路６に至る領域には、共通流路８の底面となる共通流路底面８ａよりも掘り込まれることで凹部９が形成されている。図２（ａ）および図２（ｄ）では簡単のため、インク供給口１１が３本の梁部１１ａによって４分割されたものを示している。梁部１１ａは、掘り込まれた凹部９と同じ高さに形成されている。すなわち、凹部９の底面となる凹部底面９ａと、梁部１１ａの上面となる梁部上面１１ｂとは、段差無く同一面となるように形成されている。
【００１６】
インク供給口１１は単純に長くしていくと、開口部分が大きくなることで基板１の剛性を著しく低下させてしまう。よって、基板１の剛性を確保するため、梁部１１ａを複数箇所設けている。しかしながら、この梁部１１ａの梁部上面１１ｂを共通流路８と同じ高さに合わせると、梁部１１ａ近傍におけるインク供給口１１から個別流路６のインクの流れは梁部１１ａの影響を大きく受けてしまうこととなる。よって、インクの流れに対する梁部１１ａの影響を少なくするため、上述したように、個別流路６に凹部９を形成するとともに、梁部１１ａの梁部上面１１ｂと凹部９の凹部底面９ａとを同じ高さにしている。また、凹部９は梁部１１ａの個別流路６のみに形成することで、凹部９を形成することによる剛性の低下を極力少なくしている。
【００１７】
吐出圧力発生素子５は、インクに与える吐出エネルギを発生させるためのエネルギ発生素子であり、吐出圧力発生素子５を駆動し発熱させると、吐出圧力発生素子５上のインクが急激に加熱されて個別流路６内に膜沸騰に伴う気泡が発生し、この気泡の成長による圧力でオリフィス１２からインクが吐出される。
【００１８】
次に、本実施形態のインクジェット記録ヘッド１００の製造方法について図３を参照して説明する。
【００１９】
シリコンの基板１上に汎用の半導体工程により吐出圧力発生素子５である発熱抵抗体とその駆動回路を形成する（図３（ａ））。このとき発熱抵抗体のある面を表面１ｂとし、表面１ｂの反対側の面を裏面１ｃとする。
【００２０】
続いて、基板１の表面１ｂにレジストを塗布する。さらに、フォトリソグラフィ技術により、インク供給口１１とインク供給口１１との間となる部分の近傍、すなわち、梁部１１ａの近傍において、インク供給口１１が形成される予定の位置から個別流路６が形成される手前までレジストを露光、現像して除去する。この除去領域は個別流路６の手前で終わらせることなく、個別流路６の内部までとしてもよい。
【００２１】
続いて図３（ｂ）に示すように、レジストの除去された領域をエッチングし、凹部９を形成する。凹部９の形成方法としてはドライエッチング、ウエットエッチング、または、レーザー加工、イオンミーリングなどの物理的加工法が適用可能である。なお、エッチングにはＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）−ＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）エッチャを用い、ガスにはＳＦ6とＣ2Ｆ8を用いることが考えられる。ここで、図３（ｃ）は、図３（ｂ）中のＤ−Ｄ線における断面図である。
【００２２】
この上に、プラズマＣＶＤ法により酸化シリコンを成膜し、エッチングストップ層とした。
【００２３】
次に、後工程で溶出除去が可能なＵＶレジストであるポリメチルイソプロペニルケトンをソルベントコートする。このレジストをＵＶ光によって露光し、現像して流路型材１３を形成する（図３（ｃ））。
【００２４】
さらにこの上にネガレジストであるカチオン重合型エポキシ樹脂を塗布して、インクの流路の天井と各流路間を仕切る流路壁を形成する。このネガレジストに対して、所定のパターンのフォトマスクを用いて露光、現像を行い、吐出口１２と電極パットの部分のネガレジストを除去し、オリフィスプレート４を形成する（図３（ｅ））。
【００２５】
基板１の両面１ｂ、１ｃにレジストを塗布し、裏面１ｃのレジストについてフォトリソグラフィ技術により、インク供給口１１を形成する位置に開口を有するような所定のパターンにパターニングする。そしてこのレジストをマスクとして、ドライエッチングにより基板１にスルーホールであるインク供給口１１を形成する（図３（ｆ））。インク供給口１１の形成方法としてはドライエッチング、ウエットエッチング、または、ドリル、サンドブラストなどの機械加工法、レーザー加工、イオンミーリングなの物理的加工法が適用可能であり、特にドライエッチングには凹部９の形成工程と同じくＩＣＰ−ＲＩＥエッチャを用いることが考えられる。ここで、図３（ｇ）は、図３（ｆ）中のＥ−Ｅ線における断面図である。
【００２６】
基板１の両面１ｂ、１ｃのレジストを剥離液により除去した後、流路型材１３をオリフィスプレートを通して露光し、乳酸メチルに浸漬することにより流路型材１３を除去し、共通流路８および各吐出圧力発生素子５に対応する個別流路６を形成する。またこのとき超音波を付与しても良い（図３（ｈ））。
【００２７】
最後にダイシングにより基板から切り出して本実施形態のインクジェット記録ヘッド１００を得る。
【００２８】
以上本実施形態のインクジェット記録ヘッド１００は、インク供給口１１に梁部１１ａを複数箇所設けていることで基板１の剛性を確保している。また、本実施形態のインクジェット記録ヘッド１００は、梁部１１ａに最も近い位置の各吐出圧力発生素子５に対応する、梁部１１ａの最も近い位置に形成された個別流路６のみに、共通流路８の底面となる共通流路底面８ａから掘り込まれた凹部９を有する。これにより、基板１の剛性の低下を極力少なくしている。また、本実施形態のインクジェット記録ヘッド１００は、凹部９の底面となる凹部底面９ａと、梁部１１ａの上面となる梁部上面１１ｂとが同一面となるように形成されている。すなわち、梁部１１ａの存在による、インク供給口１１から個別流路６へのインクの流れの影響を極力少なくするような構成となっている。
【００２９】
このように、本実施形態のインクジェット記録ヘッド１００は、梁部１１ａから最も近い位置に形成された個別流路６のみに凹部９を設ける構成とすることで、基板１の剛性低下の抑制と、十分かつ均一な個別流路６のインクのリフィルとを両立させた構成となっている。
（第２の実施形態）
図４（ａ）に本実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部を透過した平面図、図４（ｂ）に図４（ａ）に示すＡ−Ａ線における断面図、図４（ｃ）に図４（ａ）に示すＢ−Ｂ線における断面図、図４（ｄ）に図４（ａ）に示すＤ−Ｄ線における断面図をそれぞれ示す。
【００３０】
本実施形態のインクジェット記録ヘッド１０１は、インク供給口１１の開口断面形状は平行四辺形であること、これに応じて梁部１１ａも図４（ａ）に示すように平行四辺形になっている。すなわち、インク供給口１１の開口断面形状が平行四辺形であり、梁部１１ａの側面１１ｄがインク供給口１１ａの短辺１１ｃに平行に形成されている。なお、これ以外の構成は基本的に第１の実施形態で説明したインクジェット記録ヘッド１００と同様であるため、詳細の説明は省略するとともに、同様の記号を用いて説明する。なお、本実施形態においては、梁部１１ａの両端の凹部９がいずれも２つの個別流路６に連通する構成が示されているが、第１の実施形態で示したように、一方は１つの個別流路６に連通し、他方は２つの個別流路６に連通する構成としてもよい。
【００３１】
本実施形態のインクジェット記録ヘッド１０１のインク供給口１１の形状が平行四辺形であるのは、個別流路６の配列が、インク供給口１１の両側で半ピッチ分ずれているのに合せたためである。このようにすることで、吐出圧力発生素子５と凹部９、インク供給口１１の端からの相対的な位置が、インク供給口１１の両側で同じとなり、インクの吐出をランダムに行ってもインク流の変化の特性をほぼ同じにすることができる。
（第３の実施形態）
図５（ａ）に本実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部を透過した平面図、図５（ｂ）に図５（ａ）に示すＡ−Ａ線における断面図、図５（ｃ）に図５（ａ）に示すＢ−Ｂ線における断面図、図５（ｄ）に図５（ａ）に示すＤ−Ｄ線における断面図をそれぞれ示す。
【００３２】
本実施形態のインクジェット記録ヘッド１０２は、オリフィスプレート４の、インク供給口１１に対応する部分に、インク供給口１１の長手方向に向けて形成されたオリフィス側梁４ａを有する。これ以外の構成は基本的に第２の実施形態で説明したインクジェット記録ヘッド１０１と同様であるため、詳細の説明は省略するとともに、同様の記号を用いて説明する。
【００３３】
通常、サイドシュータ型のインクジェット記録ヘッドでは、オリフィスプレート４がインク供給口１１上で広い範囲で宙に浮いてしまい、構造上、強度や剛性が弱くなってしまう。そこで、本実施形態では、インク供給口１１に対応する部分のオリフィスプレート４の浮きを防止して、インクジェット記録ヘッドとしての強度および剛性を確保するため、オリフィスプレート４に上述したオリフィス側梁４ａに設けたものである。オリフィス側梁４ａの断面形状は、オリフィスプレート４の剛性を確保するためであれば、どのような形状であってもよいが、図５（ｂ）に示すように、凹部９に対応していないような領域においてはオリフィス側梁４ａの断面積をできるだけ大きくするため矩形形状とし、一方、図５（ｃ）に示すように、凹部９に対応する領域においては個別流路６のインクのリフィルを十分かつ均一にするため、インクの流れを阻害しないような滑らかな曲面形状としてもよい。また、オリフィス側梁４ａの周辺の厚みがなだらかに厚さを増してオリフィス側梁４ａが形成されているものであってもよい。さらには、オリフィス側梁４ａはインク供給口１１に対応し、インク供給口１１の長手方向に形成されていることで、オリフィスプレート４のインク供給口１１上における浮きを解消できるのであれば、基板１に面する側でなく、その反対側の面に形成されているものであってもよい。
【００３４】
なお、このオリフィス側梁４ａは、第１の実施形態において説明したインクジェット記録ヘッドの製造工程において、流路型材１３をパターニングする際に、インク供給口１１上のオリフィス側梁４ａを設ける部分を露光、現像して除去することで形成することができる。
（第４の実施形態）
図６（ａ）に本実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部を透過した平面図、図６（ｂ）に図６（ａ）に示すＡ−Ａ線における断面図、図６（ｃ）に図６（ａ）に示すＢ−Ｂ線における断面図、図６（ｄ）に図６（ａ）に示すＤ−Ｄ線における断面図をそれぞれ示す。
【００３５】
本実施形態のインクジェット記録ヘッド１０３は、上述した各実施形態の凹部９と同様の深さであり、梁部１１ａと段差のない深凹部１０９と、この深凹部１０９に比べてΔｈだけ浅い浅凹部１１９とを有する。これ以外の構成は基本的に第３の実施形態で説明したインクジェット記録ヘッド１０２同様であるため、詳細の説明は省略するとともに、同様の記号を用いて説明する。
【００３６】
深凹部１０９は上述した各実施形態と同様に梁部１１ａから最も近い位置に形成された個別流路６に至るように形成されている。一方、浅凹部１１９は梁部１１ａから比較的離れた残る個別流路６に対応するように形成されている。すなわち、梁部１１ａから最も近い位置に形成された個別流路６以外の個別流路６に至る領域に形成されている。このように、本実施形態のインクジェット記録ヘッド１０３は、全ての個別流路６についてインク供給口１１からその手前、もしくはその内部に至る領域に凹部が形成されている。これにより、全ての個別流路６についてリフィル速度が向上するだけでなく、各個別流路６間におけるインクのリフィル特性の差を少なくすることができ、均一なリフィル特性を確保することができる。
【００３７】
このような深さの異なる深凹部１０９および浅凹部１１９を形成するためには、凹部形成する際に行うレジストのパターニングとエッチングの工程を複数繰り返し、それぞれ任意の深さの凹部を形成するという方法が適用可能である。あるいは、いわゆるデュアルマスク法を用い、それぞれのマスクで任意の深さのエッチングを行うことにより形成することも可能である。
（第５の実施形態）
図７（ａ）に本実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部を透過した平面図、図７（ｂ）に図７（ａ）に示すＡ−Ａ線における断面図、図７（ｃ）に図７（ａ）に示すＢ−Ｂ線における断面図、図７（ｄ）に図７（ａ）に示すＤ−Ｄ線における断面図をそれぞれ示す。
【００３８】
本実施形態のインクジェット記録ヘッド１０４は、上述した各実施形態の凹部９と同様の長さであり、梁部１１ａと段差のない長凹部２０９と、この長凹部２０９に比べてΔＬだけ短い短凹部２１９とを有する。すなわち、本実施形態の基板１には、梁部１１ａから最も近い位置に形成された個別流路６以外の個別流路６とインク供給口１１との間の領域に、インク供給口１１から個別流路までの長凹部２０９の全長よりも全長がΔＬだけ短い短凹部２１９が形成されている。なお、これ以外の構成は基本的に第３の実施形態で説明したインクジェット記録ヘッド１０２同様であるため、詳細の説明は省略するとともに、同様の記号を用いて説明する。
【００３９】
長凹部２０９は上述した各実施形態と同様に梁部１１ａの最も近い位置に形成された個別流路６に連通するように形成されている。一方、短凹部２１９は梁部１１ａから比較的離れた残る個別流路６に対応して設けられている。このように、本実施形態のインクジェット記録ヘッド１０３は、全ての個別流路６についてインク供給口１１からその手前、もしくはその内部に至る領域に凹部が形成されている。これにより、全ての個別流路６についてリフィル速度が向上するだけでなく、各個別流路６間におけるインクのリフィル特性の差を少なくすることができ、均一なリフィル特性を確保することができる。また、短凹部２１９を長凹部２０９に比べてΔＬだけ短くしたということは、ΔＬの分だけ、基板１の厚みを残した構成としたということである。すなわち、この厚みを残した分だけ、基板１の剛性を上げることができる。
【００４０】
なお、上述した各実施形態はどのように組み合わせるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の第１の実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部破断斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部透過平面図および断面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態のインクジェット記録ヘッドの製造工程を説明するための図である。
【図４】本発明の第２の実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部透過平面図および断面図である。
【図５】本発明の第３の実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部透過平面図および断面図である。
【図６】本発明の第４の実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部透過平面図および断面図である。
【図７】本発明の第５の実施形態のインクジェット記録ヘッドの一部透過平面図および断面図である。
【図８】複数に分割されたインク供給口を備えたインクジェット記録ヘッドの一例の一部透過平面図および断面図である。
【符号の説明】
【００４２】
５    吐出圧力発生素子
６    個別流路
８    共通流路
９    凹部
１１    インク供給口
１１ａ    梁部
１００    インクジェット記録ヘッド
【図１】
2006264034.tif 000003
【図２】
2006264034.tif 000004
【図３】
2006264034.tif 000005
【図４】
2006264034.tif 000006
【図５】
2006264034.tif 000007
【図６】
2006264034.tif 000008
【図７】
2006264034.tif 000009
【図８】
2006264034.tif 000010