(57)【要約】【課題】  一般的な成膜装置を用いた場合でも、安価に所望の膜厚を有する多層膜を高精度で成膜できるようにする。【解決手段】  開示される多層膜の成膜方法は、光学基板２上に、高屈折率膜４ａをその設計上の膜厚を制御膜厚として成膜する第１層成膜工程と、成膜された膜上に、低屈折率膜５ａ又は５ｂ、高屈折率膜４ａ又は４ｂを低屈折率膜５ａ又は５ｂあるいは高屈折率膜４ａ又は４ｂの設計上の膜厚の所定の割合の膜厚を制御膜厚として成膜する上層成膜工程とを有している。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学膜厚モニタガラス上に成膜される膜の膜厚を監視しつつ、光学基板上に高屈折率膜及び低屈折率膜を交互に成膜する多層膜の成膜方法において、
前記光学基板上に、前記高屈折率膜又は前記低屈折率膜を前記高屈折率膜又は前記低屈折率膜の設計上の膜厚を制御膜厚として成膜する第１層成膜工程と、
成膜された膜上に、前記低屈折率膜又は前記高屈折率膜を前記低屈折率膜又は前記高屈折率膜の前記設計上の膜厚の所定の割合の膜厚を制御膜厚として成膜する上層成膜工程と
を有することを特徴とする多層膜の成膜方法。
【請求項２】
前記光学膜厚モニタガラスは、同一材質かつ同一設計膜厚の膜を成膜する場合には、再度使用することを特徴とする請求項１記載の多層膜の成膜方法。
【請求項３】
前記高屈折率膜は、ＴｉＯ２膜であり、前記低屈折率膜は、ＳｉＯ２膜であることを特徴とする請求項１又は２記載の多層膜の成膜方法。
【請求項４】
前記第１層成膜工程では、ＴｉＯ２膜を成膜し、
前記上層成膜工程のうち、前記ＳｉＯ２膜を成膜する工程では、前記所定の割合は１．０であることを特徴とする請求項３記載の多層膜の成膜方法。
【請求項５】
前記上層成膜工程のうち、前記ＴｉＯ２膜を成膜する工程では、前記所定の割合は０．９８乃至０．９４であることを特徴とする請求項３又は４記載の多層膜の成膜方法。
【請求項６】
前記多層膜は、反射膜、透過膜又は反射防止膜であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の多層膜の成膜方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の多層膜の成膜方法により製造されたことを特徴とする光学部品。
【請求項８】
請求項７記載の光学部品を備えることを特徴とする光ヘッド。
【請求項９】
請求項８記載の光ヘッドを備えることを特徴とする光記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定波長帯の光を反射又は透過し、あるいはその反射を防止する多層膜の成膜方法、この方法により多層膜が成膜された光学部品、この光学部品を有する光ヘッド及びこの光ヘッドを用いて光ディスク等にデータの記録又は再生を行う光記録再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の多層膜の成膜方法には、以下に示すものがある。まず、光学膜厚モニタガラスの反射光量を監視しつつ、光学基板上に多層膜をＬ層まで成膜した段階で多層膜モニタ基板上に成膜されたＬ層の多層膜の分光特性を測定する。ここで、光学膜厚とは、各膜の物理的な膜厚（物理膜厚）に当該膜の屈折率を乗算したものをいう。次に、測定値と目標値とのズレ量を抽出し、このズレ量から予め決められた補正式を用いてズレ量を低減する（Ｌ＋１）層目の膜厚、屈折率を算出する。そして、計算処理によって得られた（Ｌ＋１）層目の膜厚、屈折率の計算値を膜厚制御又は屈折率制御手段にフィードバックして（Ｌ＋１）層目を成膜する（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開平７−３４２４７号公報（請求項８〜請求項１０，［０１１８］〜［０１３６］、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、上記従来の多層膜の成膜方法では、一般的な成膜装置としての構成要素の他、上記多層膜モニタ基板と、この多層膜モニタ基板上に成膜された多層膜の分光特性を測定する測定手段と、この測定結果を処理し、各層の膜厚を制御する膜厚制御手段にフィードバックする機能とをさらに追加した成膜装置が必要であった。このような成膜装置は、一般的な成膜装置に比べて高価であるため、この装置を用いて作製された反射ミラー等の光学部品、これらの光学部品を用いた光ヘッド等の光記録再生部品、さらには、これらの光記録再生部品を用いたＣＤプレーヤ等の光記録再生装置の価格もアップするという問題がある。
【０００４】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、上述のような課題を解決することができる多層膜の成膜方法、光学部品、光ヘッド及び光記録再生装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、請求項１記載の発明に係る多層膜の成膜方法は、光学膜厚モニタガラス上に成膜される膜の膜厚を監視しつつ、光学基板上に高屈折率膜及び低屈折率膜を交互に成膜する多層膜の成膜方法に係り、前記光学基板上に、前記高屈折率膜又は前記低屈折率膜を前記高屈折率膜又は前記低屈折率膜の設計上の膜厚を制御膜厚として成膜する第１層成膜工程と、成膜された膜上に、前記低屈折率膜又は前記高屈折率膜を前記低屈折率膜又は前記高屈折率膜の前記設計上の膜厚の所定の割合の膜厚を制御膜厚として成膜する上層成膜工程とを有することを特徴としている。
【０００６】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の多層膜の成膜方法に係り、前記光学膜厚モニタガラスは、同一材質かつ同一設計膜厚の膜を成膜する場合には、再度使用することを特徴としている。
また、請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の多層膜の成膜方法に係り、前記高屈折率膜は、ＴｉＯ２膜であり、前記低屈折率膜は、ＳｉＯ２膜であることを特徴としている。
また、請求項４記載の発明は、請求項３記載の多層膜の成膜方法に係り、前記第１層成膜工程では、ＴｉＯ２膜を成膜し、前記上層成膜工程のうち、前記ＳｉＯ２膜を成膜する工程では、前記所定の割合は１．０であることを特徴としている。
【０００７】
また、請求項５記載の発明は、請求項３又は４記載の多層膜の成膜方法に係り、前記上層成膜工程のうち、前記ＴｉＯ２膜を成膜する工程では、前記所定の割合は０．９８乃至０．９４であることを特徴としている。
また、請求項６記載の発明は、請求項１乃至５のいずれかに記載の多層膜の成膜方法に係り、前記多層膜は、反射膜、透過膜又は反射防止膜であることを特徴としている。
【０００８】
また、請求項７記載の発明に係る光学部品は、請求項１乃至６のいずれかに記載の多層膜の成膜方法により製造されたことを特徴としている。
また、請求項８記載の発明に係る光ヘッドは、請求項７記載の光学部品を備えることを特徴としている。
また、請求項９記載の発明に係る光記録再生装置は、請求項８記載の光ヘッドを備えることを特徴としている。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、請求項１記載の発明に係る多層膜の成膜方法は、光学膜厚モニタガラス上に成膜される膜の膜厚を監視しつつ、光学基板上に高屈折率膜及び低屈折率膜を交互に成膜する多層膜の成膜方法に係り、前記光学基板上に、前記高屈折率膜又は前記低屈折率膜を前記高屈折率膜又は前記低屈折率膜の設計上の膜厚を制御膜厚として成膜する第１層成膜工程と、成膜された膜上に、前記低屈折率膜又は前記高屈折率膜を前記低屈折率膜又は前記高屈折率膜の前記設計上の膜厚の所定の割合の膜厚を制御膜厚として成膜する上層成膜工程とを有している。従って、一般的な成膜装置を用いた場合であっても、安価に所望の膜厚を高精度に成膜することができる。
【００１０】
また、本発明によれば、請求項７記載の発明に係る光学部品は、請求項１乃至６のいずれかに記載の多層膜の成膜方法により製造されている。従って、この光学部品は、高精度であるが安価である。
また、本発明によれば、請求項８記載の発明に係る光ヘッドは、請求項７に記載の光学部品を備えている。従って、この光ヘッドは、高精度であるが安価である。
また、本発明によれば、請求項９記載の発明に係る光記録再生装置は、請求項８記載の光ヘッドを備えている。従って、この光記録再生装置は、高精度であるが安価である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１に係る光学部品の１つである反射ミラー１の外観構成を示す概略断面図である。この例の反射ミラー１は、光学基板２上に、多層膜３が成膜されて構成されている。この例の反射ミラー１は、光記録再生装置において、レーザダイオードから出射される２種類の光ビームを反射するために用いられるものである。２種類の光ビームは、ＣＤ（Compact Disk）を記録再生するための波長７８０ｎｍの光ビームと、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）を記録再生するための波長６５０ｎｍの光ビームである。多層膜３は、高屈折率膜４ａ又は４ｂと、低屈折率膜５ａ又は５ｂとが交互に積層されて構成されている。図１の例では、３０層積層されている。光学基板２は、例えば、ホウケイ酸クラウン光学ガラスやシリコン等からなり、低熱膨張係数（例えば、７．５×１０−６／℃）を有する。光学基板２は、略直方体状を呈している。
【００１２】
高屈折率膜４ａ及び４ｂは、例えば、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、一酸化チタン（ＴｉＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、二酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等からなる。高屈折率膜４ａ及び４ｂの屈折率は、光の波長や成膜条件によって異なるが、例えば、２．００〜２．６０である。高屈折率膜４ａと高屈折率膜４ｂとは、光学膜厚が異なるだけであり、反射ミラー１が４５度の入射角で入射する所定波長帯の光を反射するための設計波長をλ０とした場合、高屈折率膜４ａの光学膜厚は、λ０／４であるのに対し、高屈折率膜４ｂの光学膜厚は、λ０／２である。
【００１３】
低屈折率膜５ａ及び５ｂは、例えば、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）等からなる。低屈折率膜５ａ及び５ｂの屈折率は、光の波長や成膜条件によって異なるが、例えば、１．４０〜１．５０である。低屈折率膜５ａと低屈折率膜５ｂとは、光学膜厚が異なるだけであり、低屈折率膜５ａの光学膜厚は、λ０／４であるのに対し、低屈折率膜５ｂの光学膜厚は、λ０／４よりやや薄い。
【００１４】
次に、上記構成の反射ミラー１を構成する多層膜３の成膜方法について説明する。まず、成膜装置としては、上記した特許文献１に従来技術として記載された一般的な成膜装置を用いる（上記特許文献１の段落［０００４］〜［０００７］及び図２２参照）。次に、多層膜の成膜手法としては、例えば、イオンアシスト蒸着（ＩＡＤ：Ion Assisted Deposition）法を用いる。このイオンアシスト蒸着法の詳細については、例えば、特開平８−２５４６１２号公報に開示されている。この場合、光学基板２の基板温度を３００度程度に加熱・保持しつつ、各膜を成膜する。
【００１５】
図２は、本発明の実施の形態１に係る多層膜３の成膜方法において、多層膜３を構成する各膜を成膜するための条件の一例を示している。この例では、設計波長λ０を７８０ｎｍとしている。また、光学基板２として、１．５２の屈折率を有するホウケイ酸クラウン光学ガラスを用いる。また、高屈折率膜４ａ及び４ｂの材料としてＴｉＯ２を用いる（屈折率：２．２０〜２．４０）とともに、低屈折率膜５ａ及び５ｂの材料としてＳｉＯ２を用いる（屈折率：１．４４〜１．４８）。図２において、設計膜厚とは、光学部品、今の場合、反射ミラー１として要求される所定の性能（仕様）を満たすために設計された当該膜の物理膜厚をいう。また、制御膜厚とは、対応する設計膜厚を得るために目標（ターゲット）とされる当該膜の物理膜厚をいい、予め各制御波長において光学基板上に成膜される単層膜の物理膜厚を測定して求めている。設計膜厚の総膜厚は、３４１７．１７ｎｍであり、制御膜厚の総膜厚は、３３６０．５７ｎｍである。この実施の形態１では、上記制御膜厚の制御手法として、制御波長λｃを変えて各制御波長λｃに対する反射率の最大値又は最小値に基づいて制御膜厚を制御するピーク制御法を用いているが、制御波長λｃは変えずにその制御波長λｃに対する反射率の値に基づいて制御膜厚を制御する比例制御法を用いても良い。
【００１６】
ここで、設計波長λ０及び制御波長λｃについて説明する。上記したように、光学基板上に成膜される高屈折率膜又は低屈折率膜は、設計波長λ０により定まる光学膜厚を有している必要がある。これに対し、高屈折率膜又は低屈折率膜の所望の光学膜厚は、上記した制御波長λｃにより定まる。制御波長λｃは、成膜される膜の材料及び膜厚により異なってくる。
【００１７】
図２から分かるように、偶数番目の各層の膜が低屈折率膜５ａ及び５ｂである場合、即ち、各膜の材質がＳｉＯ２である場合（以下、「ＳｉＯ２膜」と称する。）には、制御膜厚を設計膜厚と同一としている。一方、奇数番目の各層の膜が高屈折率膜４ａ及び４ｂである場合、即ち、各膜の材質がＴｉＯ２である場合（以下、「ＴｉＯ２膜」と称する。）には、制御膜厚と設計膜厚との関係は、以下のようになっている。まず、１層目のＴｉＯ２膜については、制御膜厚を設計膜厚と同一とし、９層目及び２１層目のＴｉＯ２膜（中間調整層）を除く奇数番目のＴｉＯ２膜については、制御膜厚を設計膜厚に対して、２〜６％（好ましくは、約４．８％）だけ薄くなるようにし、９層目及び２１層目のＴｉＯ２膜については、制御膜厚を設計膜厚に対して２〜６％（好ましくは、約２％）だけ薄くなるようにしている。
【００１８】
これは、以下に示す理由による。即ち、従来の多層膜の成膜方法では、光学膜厚モニタガラス上に直接成膜される単層膜の光学膜厚を監視しつつ、光学部品を構成する光学基板上に既に成膜された少なくとも１層の膜上に成膜される膜の物理膜厚を所望の厚さになるように制御している。ところが、本発明者らが種々実験することにより、以下に示す結果が得られた。まず、ＳｉＯ２膜上にλ０／４（λ０：設計波長）の光学膜厚を有するＴｉＯ２膜を成膜しようとした場合、実際に成膜されたＴｉＯ２膜の物理膜厚は、ガラス基板上に直接成膜したＴｉＯ２膜の物理膜厚よりも、５〜６％程度厚くなった。また、ＳｉＯ２膜上にλ０／２の光学膜厚を有するＴｉＯ２膜を成膜しようとした場合、実際に成膜されたＴｉＯ２膜の物理膜厚は、ガラス基板上に直接成膜したＴｉＯ２膜の物理膜厚よりも、２％程度厚くなった。これは、ＳｉＯ２膜上にＴｉＯ２膜を成膜した場合、ＳｉＯ２膜の表面は、アモルファス状を呈しており、光学基板のように表面処理が施されていないため、ＴｉＯ２膜の成膜初期段階においてＳｉＯ２膜上にＴｉＯ２膜が結晶化しやすいためと思われる。この結果、表面がアモルファス状を呈しているＳｉＯ２膜上にＴｉＯ２膜を成膜した場合のＴｉＯ２膜の物理膜厚は、表面処理されたガラス基板上に直接ＴｉＯ２膜を成膜した場合のＴｉＯ２膜の物理膜厚よりも、２〜６％程度厚く成膜されたものと思われる。一方、ＴｉＯ２膜上にＳｉＯ２膜を成膜した場合、実際に成膜されたＳｉＯ２膜の物理膜厚は、ガラス基板上に直接成膜したＳｉＯ２膜の物理膜厚とほぼ等しくなった。
【００１９】
そこで、本発明者らが鋭意検討した結果、上記したように、１層目のＴｉＯ２膜については、制御膜厚を設計膜厚と同一とし、９層目及び２１層目を除く奇数番目のＴｉＯ２膜については、制御膜厚を設計膜厚に対して約４．８％だけ薄くなるようにし、９層目及び２１層目のＴｉＯ２膜については、制御膜厚を設計膜厚に対して約２％だけ薄くなるようにしている。
【００２０】
また、図２において、モニタガラス番号とは、対応する膜を形成するために用いる光学膜厚モニタガラスに付与されている番号である。従って、図２において、異なる膜で同一のモニタガラス番号を示しているのは、同一の光学膜厚モニタガラスを用いていることを意味している。例えば、５層目のＴｉＯ２膜を成膜する際には、３層目のＴｉＯ２膜を成膜する際に用いたモニタガラス番号３の光学膜厚モニタガラスを再び用いている。即ち、本発明の実施の形態１においては、同一材質の膜を同一の物理膜厚だけ成膜する場合には、２回まで同一の光学膜厚モニタガラスを用いている。これにより、毎回光学膜厚モニタガラスを交換する場合に比べて、成膜時間を短縮することができるとともに、使用する光学膜厚モニタガラスの枚数がその分減少するので、コストダウンを図ることができる。
【００２１】
図３は、光学膜厚モニタガラス上に光学膜厚λｃ／２（今の場合、λｃ＝５５０ｎｍ）を有するＴｉＯ２膜を順次積層した場合の波長に対する透過率特性の一例を示している。図３において、曲線ａは、光学膜厚モニタガラス上に直接１層目のＴｉＯ２膜を成膜した場合の特性曲線、曲線ｂは、上記１層目のＴｉＯ２膜上に２層目のＴｉＯ２膜を成膜した場合の特性曲線、曲線ｃは、上記２層目のＴｉＯ２膜上に３層目のＴｉＯ２膜を成膜した場合の特性曲線である。図３からは、曲線ａと曲線ｂとは、ほぼ同様な形状を有しているが、曲線ａ及び曲線ｂと曲線ｃとでは波長シフトしていることが分かる。即ち、同一材質の膜を同一の物理膜厚だけ成膜する場合には、２回まで同一の光学膜厚モニタガラスを用いても同様な特性を得ることができる。要するに、多層膜を成膜する際に用いる光学膜厚モニタガラスは、原則として、各膜を成膜するごとに取り替えるが、同一材質の膜を同一の物理膜厚（制御膜厚）だけ成膜する場合には、２回まで同一の光学膜厚モニタガラスを使用することができる。
【００２２】
図４は、上記多層膜の成膜方法により成膜された多層膜の光の波長に対する反射率の特性の一例を示している。図４において、反射率は、多層膜のｐ偏光及びｓ偏光のそれぞれに対する反射率Ｒｐ及びＲｓの平均で示している。破線ＳＬはＤＶＤの記録再生を可能とするために図２に示す設計膜厚によってシミュレーションした結果、破線ＳＨはＣＤの記録再生を可能とするために図２に示す設計膜厚を用いてシミュレーションした結果である。そして、１点鎖線で示すサンプルｓｍｐ１と実線で示すサンプルｓｍｐ２は、それぞれ上記多層膜の成膜方法により成膜された多層膜の特性である。図４から分かるように、サンプルｓｍｐ１及びｓｍｐ２は、いずれも、シミュレーション結果と同等の特性を得ている。
【００２３】
一方、上記した本発明の実施の形態１における具体例と比較するために、従来の成膜方法で作成したサンプルのデータを以下に示す。この従来例では、上記設計膜厚と制御膜厚が等しくなるように光学膜厚モニタガラス上に成膜される光学膜厚を監視しつつ、多層膜を成膜した。
図５は、上記した従来の多層膜の成膜方法において、多層膜を構成する各膜の成膜条件の一例を示している。設計波長λ０（λ０＝７８０ｎｍ）、光学基板の材質、高屈折率膜及び低屈折率膜の材質と屈折率は、上述した実施の形態１の場合と同様である。図５において、モニタガラス番号の意味については、図２の場合と同様であるが、このことは、光学膜厚モニタガラスを交換する手法が公知であることを意味するものではない。光学膜厚モニタガラスを交換する手法を上述した実施の形態１の場合と同様としたのは、本発明と従来例との差異を明確にするためである。
【００２４】
図６は、上記した従来の多層膜の成膜方法により成膜された多層膜の光の波長に対する反射率の特性の一例を示している。図６において、反射率、破線ＳＬ及びＳＨの意味については、図４の場合と同様である。また、図６において、１点鎖線で示すサンプルｓｍｐ１、実線で示すサンプルｓｍｐ２及び２点鎖線で示すサンプルｓｍｐ３は、それぞれ上記した従来の多層膜の成膜方法により成膜された多層膜の特性である。図６において、短波長側においては、シミュレーション結果と比較してサンプルｓｍｐ１〜ｓｍｐ３の帯域幅が狭くなっている。一方、図６において、長波長側においては、サンプルｓｍｐ１〜ｓｍｐ３は、シミュレーション結果に一致する帯域幅となっている。
【００２５】
このように、本発明の実施の形態１によれば、一般的な成膜装置を用いた場合でも、安価に所望の膜厚を有する多層膜を高精度で成膜することができる。従って、このような多層膜が成膜された光学部品は、必要な性能が得られる。
【００２６】
実施の形態２．
図７は、本発明の実施の形態２に係る光ヘッド１１の構成を示す概略図である。光ヘッド１１は、上記した実施の形態１に係る反射ミラー１と、光源１２と、回折格子１３と、ビームスプリッタ１４と、対物レンズ１５と、レンズ１６と、光検出器１７及び１８とから概略構成されている。なお、なお、ビームスプリッタ１４と反射ミラー１との間に、コリメータレンズを設けても良い。また、光ヘッド１１は、以上説明した光学系の他、駆動系、回路系も有するが、これらは本発明と直接関係しないので、その説明を省略する。
【００２７】
半導体レーザ等の光源１２から出射された光ビームは、回折格子１３で３ビームに分離された後、ビームスプリッタ１４で直進する光ビームと反射する光ビームに分離される。次に、ビームスプリッタ１４を直進する光ビームは、反射ミラー１で上方に立ち上げられる。反射ミラー１は、実施の形態１で説明した成膜方法を用いて、図１に示すように、光学基板２上に高屈折率膜４ａ又は４ｂと低屈折率膜５ａ又は５ｂとが交互に、仕様を満足した膜厚で、積層されて構成されている。従って、ビームスプリッタ１４を直進した光ビームは、ＣＤを記録再生するための波長７８０ｎｍの光ビーム又はＤＶＤを記録再生するための波長６５０ｎｍの光ビームのいずれであっても、反射ミラー１で上方に立ち上げられる際、各波長が仕様の範囲内である限り、それぞれ所定の反射率で反射される。
【００２８】
次に、反射ミラー１で上方に立ち上げられた光ビームは、対物レンズ１５で収束され、光ディスク１９上に集光する。その後、光ディスク１９上で反射された光ビームは、対物レンズ１５を透過して反射ミラー１に到達する。この場合、上記したように、多層膜３が仕様を満足した膜厚で積層されて構成されているので、対物レンズ１５を透過した光ビームは、ＣＤを記録再生するための波長７８０ｎｍの光ビーム又はＤＶＤを記録再生するための波長６５０ｎｍの光ビームのいずれであっても、反射ミラー１において、所定の反射率で反射された後、ビームスプリッタ１４に入射される。ビームスプリッタ１４に入射された光ビームは、ビームスプリッタ１４で反射され、レンズ１６を透過した後に光検出器１７に達し、電気信号に変換される。光検出器１７から出力された電気信号は、音楽データ等を再生するために用いられる。
【００２９】
一方、半導体レーザ等の光源１２から出射され、回折格子１３で３ビームに分離された後、ビームスプリッタ１４で反射された光は、ビームスプリッタ１４の近傍に配置された光検出器１８に達し、電気信号に変換される。光検出器１８から出力された電気信号は、光源１２の出力を一定値に保持するフィードバック回路（図示略）によって光源１２に供給される電流を制御するために用いられる。
【００３０】
このように、本発明の実施の形態２によれば、光ヘッド１１を構成する反射ミラーとして、一般的な成膜装置を用いて、上記した実施の形態１に係る多層膜の成膜方法で多層膜３が成膜されてなる反射ミラー１を用いている。従って、反射ミラー１の価格は、従来の反射ミラーの価格と同等又はそれ以下であるので、この反射ミラー１を用いた光ヘッド１１の価格も、従来の光ヘッドの価格と同等又はそれ以下となる。一方、多層膜３を構成する各膜の膜厚は、従来に比べて高精度で制御されている。従って、光ヘッド１１も安価であるが、高精度で作製することができる。
【００３１】
実施の形態３．
図８は、本発明の実施の形態３に係る光記録再生装置の構成を示す概略図である。この光記録再生装置は、上記した実施の形態２に係る光ヘッド１１と、スピンドルモータ３１と、コントローラ３２と、レーザ駆動回路３３と、レンズ駆動回路３４とから概略構成されている。
【００３２】
スピンドルモータ３１は、コントローラ３２の制御の下、光ディスク１９を回転駆動する。コントローラ３２は、光ヘッド１１から供給されるフォトディテクタ検出信号に基づいて、スピンドルモータ３１、レーザ駆動回路３３及びレンズ駆動回路３４を制御する。レーザ駆動回路３３は、コントローラ３２の制御の下、光ヘッド１１を構成する光源１２（図７参照）である半導体レーザを駆動するためのレーザ駆動信号を生成し、光ヘッド１１に供給する。レンズ駆動回路３４は、コントローラ３２の制御の下、光ヘッド１１を構成する対物レンズ１５（図７参照）のフォーカシング及びトラッキングを制御するためのレンズ駆動信号を生成し、光ヘッド１１に供給する。
【００３３】
コントローラ３２は、フォーカスサーボ追従回路３５と、トラッキングサーボ追従回路３６と、レーザコントロール回路３７とを有している。フォーカスサーボ追従回路３５は、光ヘッド１１から供給されるフォトディテクタ検出信号に基づいて、回転している光ディスク１９の情報記録面に光ヘッド１１から出射された光ビームのフォーカスをかけるためのフォーカスサーボ信号を生成し、レンズ駆動回路３４に供給する。
【００３４】
トラッキングサーボ追従回路３６は、光ヘッド１１から供給されるフォトディテクタ検出信号に基づいて、光ディスク１９の偏芯している信号トラックに対して、光ヘッド１１から出射された光ビームのビームスポットを追従させるためのトラッキングサーボ信号を生成し、レンズ駆動回路３４に供給する。レーザコントロール回路３７は、光ヘッド１１から供給されるフォトディテクタ検出信号から抽出された光ディスク１９に記録されている記録条件設定情報に基づいて、適切なレーザ駆動信号の生成を行う。
【００３５】
このように、本発明の実施の形態３によれば、上記した実施の形態１に係る反射ミラー１を用いた光ヘッド１１を用いて光記録再生装置を構成している。従って、光記録再生装置は、高精度であるが、安価に構成することができる。
【００３６】
実施の形態４．
上述の各実施の形態では、本発明を反射ミラーに適用する例を示したが、これに限定されない。本発明は、例えば、入射光の一部を透過するとともに、残りの一部を反射するハーフミラー、透過膜又は反射防止膜が成膜された各種光学部品、ビームスプリッタ、ダイクロイックプリズムに適用することができる。何故なら、透過膜又は反射防止膜は、反射膜と同一の成膜方法において、高屈折率膜と低屈折率膜との各膜厚を変更することにより成膜することができるからである。
【００３７】
実施の形態５．
上述した各実施の形態では、反射ミラー１は、２波長の光を反射する例を示したが、これに限定されるものではない。即ち、この発明は、１波長の光を反射する反射ミラーその他の光学部品に適用することができる。この場合、高屈折率膜４ａ及び４ｂは、同一の光学膜厚λ０／４とし、低屈折率膜５ａ及び５ｂも同一の光学膜厚λ０／４とする。
【００３８】
実施の形態６．
上述の実施の形態２〜５では、光源が１個だけ設けられている光ヘッドや光ヘッドが１個だけ設けられている光記録再生装置の例を示したが、これに限定されない。本発明は、光源が複数個設けられている光ヘッドや光ヘッドが複数個設けられている光記録再生装置にも適用することができる。このような光ヘッド及び光記録再生装置は、例えば、特開２００４−２９５９８２号公報に開示されている。
【００３９】
以下、この実施の形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。
例えば、上述した各実施の形態では、光記録媒体が円盤状の光ディスクである例を示したが、これに限定されず、光記録媒体は、矩形状であっても良い。
また、上述の実施の形態１では、ＳｉＯ２膜を成膜する際には設計膜厚と制御膜厚とを同一にするとともに、ＴｉＯ２膜を成膜する際に設計膜厚に対し制御膜厚を異ならせる例を示したが、これに限定されず、ＳｉＯ２膜を成膜する際にも、設計膜厚に対し制御膜厚を異ならせるように構成しても良い。
また、上述の実施の形態１では、光学基板２上に１層目として高屈折率膜４ａを成膜する例を示したが、これに限定されず、光学基板２上に１層目として低屈折率膜５ａを成膜した後、２層目として高屈折率膜４ａを成膜するというように、成膜する順番を異ならせても良い。
また、上述の各実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの技術を流用することができる。例えば、上述した実施の形態２及び３では、本発明を光ヘッド１１の反射ミラー１だけに適用する例を示したが、これに限定されない。例えば、本発明は、図４に示すビームスプリッタ１４、対物レンズ１５あるいはレンズ１６にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の実施の形態１に係る光学部品の１つである反射ミラーの外観構成を示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る多層膜の成膜方法における各膜の成膜条件の一例を示す図である。
【図３】光学膜厚モニタガラス上に光学膜厚λ０／２を有するＴｉＯ２膜を順次積層した場合の設計波長λ０に対する透過率特性の一例を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る多層膜の成膜方法により成膜された多層膜の光の波長に対する反射率の特性の一例を示す図である。
【図５】従来の多層膜の成膜方法における各膜の成膜条件の一例を示す図である。
【図６】従来の多層膜の成膜方法により成膜された多層膜の光の波長に対する反射率の特性の一例を示す図である。
【図７】本発明の実施の形態２に係る光ヘッドの光学系の構成を示す概略図である。
【図８】本発明の実施の形態３に係る光記録再生装置の構成を示す概略図である。
【符号の説明】
【００４１】
１  反射ミラー
２  光学基板
３  多層膜
４ａ，４ｂ  高屈折率膜
５ａ，５ｂ  低屈折率膜
１１  光ヘッド
１２  光源
１３  回折格子
１４  ビームスプリッタ
１５  対物レンズ
１６  レンズ
１７，１８  光検出器
１９  光ディスク
３１  スピンドルモータ
３２  コントローラ
３３  レーザ駆動回路
３４  レンズ駆動回路
３５  フォーカスサーボ追従回路
３６  トラッキングサーボ追従回路
３７  レーザコントロール回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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