(57)【要約】【課題】  液晶パネルの加熱を迅速に行うことで液晶パネル処理の省エネルギー化を実現でき、また液晶パネルから効率よく液晶を分離することができる液晶パネル処理装置を提供する。【解決手段】  本発明の液晶パネル処理装置は、減圧加熱処理によって液晶パネル１０から液晶を分離する液晶パネル処理装置であって、内部に液晶パネル１０を収容するチャンバー２０と、チャンバー２０内で前記液晶パネル１０を支持するパネル支持手段と、前記チャンバー２０内部を加熱する加熱装置２１と、前記チャンバー内部を減圧する減圧ポンプ２２とを具備しており、前記パネル支持手段に、前記液晶パネル１０の外面側から該液晶パネル１０のシール材形成領域の一部を選択的に加熱する熱伝導手段が設けられたものとなっている。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
減圧加熱処理によって液晶パネルから液晶を分離する液晶パネル処理装置であって、
内部に液晶パネルを収容する処理容器と、該処理容器内で前記液晶パネルを支持するパネル支持手段と、前記処理容器内部を加熱する加熱手段と、前記処理容器内部を減圧する排気手段と、を具備し、
前記パネル支持手段に、前記液晶パネルの外面側から該液晶パネルのシール材形成領域の一部を選択的に加熱する熱伝導手段が設けられていることを特徴とする液晶パネル処理装置。
【請求項２】
前記パネル支持手段に、前記液晶パネルの端縁部を挟持して支持するとともに、前記シール材形成領域の一部を選択的に加熱する一対の支持体が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項３】
前記パネル支持手段に、前記液晶パネルを支持した状態で前記一対の支持体の少なくとも一方を該液晶パネルの面方向に移動させる支持体駆動手段が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項４】
前記パネル支持手段に、前記支持体を前記液晶パネルの面内で回動させる支持体駆動手段が設けられていることを特徴とする請求項３に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項５】
前記パネル支持手段が、前記液晶パネルを載置する支持板を備えており、
前記支持板上に、前記シール材形成領域に対応する前記液晶パネルの外面と当接し、前記シール材形成領域の一部を選択的に加熱する伝熱部が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項６】
前記支持板と対向して配置され、該支持板とともに前記液晶パネルを挟持する対向側支持板を具備したことを特徴とする請求項５に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項７】
前記対向側支持板上に、前記シール材形成領域に対応する前記液晶パネルの外面と当接し、前記シール材形成領域の一部を選択的に加熱する伝熱部が設けられていることを特徴とする請求項６に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項８】
前記支持板の表面及び／又は前記対向側支持板の表面に、前記液晶パネルのシール材形成領域より小さい平面領域を有する凹部が形成されており、
前記支持板又は対向側支持板の表面領域のうち、前記凹部の外側の領域が、前記凹部と平面的に重なるように配置した前記液晶パネルのシール材形成領域の少なくとも一部を選択的に加熱する伝熱部とされたことを特徴とする請求項５から７のいずれか１項に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項９】
前記伝熱部が前記支持板及び／又は対向側支持板上に形成された凸状部であることを特徴とする請求項５から７のいずれか１項に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項１０】
前記伝熱部が、前記支持板及び／又は前記対向側支持板と異なる材料からなることを特徴とする請求項５から７のいずれか１項、あるいは請求項９に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項１１】
前記伝熱部が、加熱又は加圧により変形可能な材料からなることを特徴とする請求項１０に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項１２】
前記支持板及び対向側支持板の少なくとも一方を、当該支持板と対向側支持板との間に前記液晶パネルを挟持した状態で該液晶パネルの面方向に移動させる支持板駆動手段を備えたことを特徴とする請求項６から１１のいずれか１項に記載の液晶パネル処理装置。
【請求項１３】
処理容器内に収容した液晶パネルを減圧加熱処理することで前記液晶パネルから液晶を分離するに際して、
前記処理容器内に収容した液晶パネルをパネル支持手段により支持するとともに、前記パネル支持手段に設けられた熱伝導手段により前記液晶パネルのシール材形成領域の一部を選択的に加熱することで前記シール材を脆弱化させることを特徴とする液晶パネル処理方法。
【請求項１４】
一部を開口してなる略枠状のシール材と、前記シール材の開口部を封止する封止材とを具備した液晶パネルを減圧加熱処理するに際して、
前記熱伝導手段により前記封止材に対応する部位を加熱することで前記封止材を脆弱化させることを特徴とする請求項１３に記載の液晶パネル処理方法。
【請求項１５】
前記パネル支持手段により支持した液晶パネルに対して面方向の剪断力を作用させることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の液晶パネル処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネル処理装置及び液晶パネル処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、一般廃棄物や産業廃棄物の量が増加の一途を辿っており、廃棄量の増加の抑制や、廃棄物による環境の悪化を抑制するための無害化に対する要請が高まっている。
例えば、家電製品や情報機器等の表示部に用いられている液晶パネルは、省電力、省スペースという利点から今後も急速に使用量が増大することが予想され、それに伴う廃棄量の増大を抑えるためのリサイクル技術の確立は非常に重要である。
【０００３】
液晶パネルは、一般的には、２枚のガラス基板を、それらの間に枠状のシール材を介在させて貼り合わせ、前記シール材の内側に液晶を封入した構成を備えている。ガラス基板の内側（液晶側）には、ＩＴＯ等の透光性導電材料からなる電極や、着色した樹脂材料からなるカラーフィルタが設けられており、ガラス基板の間に封入された液晶は、有機物を主成分とするものである。一方、ガラス基板の外側には、樹脂フィルムからなる偏光板や位相差板が設けられている。
【０００４】
上述した構成を備える液晶パネルからガラスや希少金属を回収する方法や回収装置の提案が既に成されている。例えば下記特許文献１に記載の技術は、液晶パネルを破砕しないで反応炉に配置し、反応炉内を減圧状態にして加熱することで、液晶パネルを構成する有機物（液晶、カラーフィルタ、偏光板等）を蒸発ないし炭化させることでガラス基板を回収するものである。
【特許文献１】特開２００４−２３０２２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記特許文献１に記載の技術を用いて液晶パネルの処理を行う場合、液晶パネルの液晶はシール材によって封止された状態であるから、ガラス基板と液晶とを分離するには、加熱によってシール材又は封止材（シール材の開口部を封止する部材）を脆弱化させてパネル内部から液晶を蒸発させる必要がある。ところが、上記特許文献１に記載の技術を用いて液晶とガラス基板とを分離しようとすると、以下のような問題を生じるおそれのあることが判明した。
第１に、液晶パネルを減圧下で加熱する際に、処理容器内が真空状態であるため昇温しにくく、液晶パネルへの加温の効率が低くなるために処理時間が長くなるという問題がある。第２に、液晶パネルから液晶を取り出すためにシール材又は封止材を脆弱化させるには２００〜８００℃程度の高温が必要であるが、処理温度をこのような高温に設定すると、液晶の気化温度は１５０℃程度であるため、過熱によって液晶の分解や変成が起こる可能性がある。そうすると、液晶が意図しない物質に変性し、その変成物質の処理が必要になる等、リサイクル性や処理コストの点での問題が生じる。
【０００６】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、液晶パネルの加熱を迅速に行うことで液晶パネル処理の省エネルギー化を実現でき、また液晶パネルから効率よく液晶を分離することができる液晶パネル処理装置、及び液晶パネル処理方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために、減圧加熱処理によって液晶パネルから液晶を分離する液晶パネル処理装置であって、内部に液晶パネルを収容する処理容器と、該処理容器内で前記液晶パネルを支持するパネル支持手段と、前記処理容器内部を加熱する加熱手段と、前記処理容器内部を減圧する排気手段と、を具備し、前記パネル支持手段に、前記液晶パネルの外面側から該液晶パネルのシール材形成領域の一部を選択的に加熱する熱伝導手段が設けられていることを特徴とする液晶パネル処理装置を提供する。
この液晶パネル処理装置によれば、液晶パネルを支持するパネル支持手段に、シール材形成領域の一部を選択的に加熱する熱伝導手段が設けられていることで、液晶パネルに封止されている液晶を蒸散させるためにシール材又は封止材を選択的にかつ高効率に加熱することができ、もってシール材又は封止材に液晶のリーク路を容易に形成することができる。また、通常シール材や封止材を脆弱化させるには液晶の蒸発温度より高い温度に加熱することを要するが、熱伝導手段を介してシール材や封止材を加熱するので、処理容器内部の温度を過度に上昇させる必要が無く、処理容器内の加熱に要するエネルギーを削減でき、液晶パネルの処理コストを低減することができる。さらに処理容器内の加熱温度を液晶の蒸発温度程度にまで下げれば、処理容器内に蒸散させた液晶を変質させることなく処理容器から排出することができ、リサイクル可能な状態での液晶の回収や、液晶の分解による有害物質の発生防止が可能である。
【０００８】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記パネル支持手段に、前記液晶パネルの端縁部を挟持して支持するとともに、前記シール材形成領域の一部を選択的に加熱する一対の支持体が設けられている構成とすることができる。
この構成によれば、液晶パネルを厚さ方向に挟み込み、直接加熱することができるので、液晶パネルの特定部位を選択的にかつ効果的に加熱することができ、迅速に液晶のリーク路を形成することができる。
【０００９】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記パネル支持手段に、前記液晶パネルを支持した状態で前記一対の支持体の少なくとも一方を該液晶パネルの面方向に移動させる支持体駆動手段が設けられている構成とすることもできる。
この構成によれば、減圧加熱処理時に、支持体によって液晶パネルに面方向の剪断力を作用させることができ、係る剪断力によって封止材やシール材を物理的に破壊することも可能になるので、加熱のみで封止材やシール材を脆弱化させる場合に比しても、極めて容易に液晶のリーク路を形成できるようになる。
【００１０】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記パネル支持手段に、前記支持体を前記液晶パネルの面内で回動させる支持体駆動手段が設けられている構成とすることもできる。
このような構成とした場合にも、液晶パネルに対して面方向の剪断力を作用させることができるので、加熱による封止材やシール材の脆弱化とともに、封止材やシール材を物理的に破壊する作用によりリーク路の形成が容易になるという効果を得ることができる。
【００１１】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記パネル支持手段が、前記液晶パネルを載置する支持板を備えており、前記支持板上に、前記シール材形成領域に対応する前記液晶パネルの外面と当接し、前記シール材形成領域の一部を選択的に加熱する伝熱部が設けられている構成とすることができる。
この構成では、パネル支持手段として液晶パネルを載置可能な支持板を用い、液晶パネルのシール材形成領域を選択的に加熱する手段として支持板上に設けられた伝熱部を用いるようになっている。このような構成とした場合にも、前記伝熱部が支持板又は他の部材を介して熱源に接続可能であり、係る伝熱部を介して液晶パネルのシール材形成領域を選択的に加熱でき、液晶のリークを形成する部位を迅速にかつ効果的に加熱し、脆弱化させることができる。
【００１２】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記支持板と対向して配置され、該支持板とともに前記液晶パネルを挟持する対向側支持板を具備した構成とすることができる。このように２枚の支持板を用いて液晶パネルを挟み込むことで、液晶パネルの加熱を迅速に行うことができ、減圧加熱処理の迅速化を実現できる。
【００１３】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記対向側支持基板上に、前記シール材形成領域に対応する前記液晶パネルの外面と当接し、前記シール材形成領域の一部を選択的に加熱する伝熱部が設けられている構成とすることができる。このような構成とすれば、シール材形成領域の選択的な加熱が促進され、もってシール材又は封止材に対する液晶リーク路の導入が促進される結果、減圧加熱処理の迅速化を実現することができる。
【００１４】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記支持板の表面及び／又は前記対向側支持板の表面に、前記液晶パネルのシール材形成領域より小さい平面領域を有する凹部が形成されており、前記支持板又は対向側支持板の表面領域のうち、前記凹部の外側の領域が、前記凹部と平面的に重なるように配置した前記液晶パネルのシール材形成領域の少なくとも一部を選択的に加熱する伝熱部とされた構成とすることができる。
この構成によれば、前記凹部の外側の支持板表面又は対向側支持板表面でシール材形成領域を選択的に加熱でき、液晶パネルに対し容易に液晶のリーク路を形成することができるので、液晶パネルを迅速に処理可能な液晶パネル処理装置が提供される。
【００１５】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記伝熱部が前記支持板及び／又は対向側支持板上に形成された凸状部であることが好ましい。この構成によれば、前記液晶パネルのシール材形成領域と前記凸状部とを当接させるようにして前記支持板上、ないし支持板と対向側支持板との間に液晶パネルを配置するのみで、シール材形成領域を選択的に加熱することが可能になる。また液晶パネルを処理に供する際の作業効率も向上させることができる。
【００１６】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記伝熱部が、加熱又は加圧により変形可能な材料からなる構成とすることもできる。このような構成とすれば、減圧加熱処理時に前記液晶パネルと当接する伝熱部を変形させ、液晶パネルとの接触面積を増大させることができる。これにより、伝熱部による液晶パネルの加熱効率を高め、処理の迅速化に寄与する。
【００１７】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記伝熱部が、前記支持板及び／又は前記対向側支持板と異なる材料からなる構成であってもよい。このような構成とすることで、前記伝熱部における伝熱性を容易に向上させることができ、シール材形成領域の選択的な加熱をより効率的に行える液晶パネル処理装置を提供することができる。
なお、上記構成は、本発明において前記伝熱部と支持板（対向側支持板）とを同一材料で形成するのを妨げるものではない。この場合には、支持板と前記伝熱部とを一体に形成することができる。
【００１８】
本発明の液晶パネル処理装置では、前記支持板及び対向側支持板の少なくとも一方を、当該支持板と対向側支持板との間に前記液晶パネルを挟持した状態で該液晶パネルの面方向に移動させる支持板駆動手段を備えている構成とすることもできる。
この構成によれば、液晶パネルを挟持する２枚の支持板を移動させることで、液晶パネルに面方向の剪断力を作用させることができるので、加熱によるシール材又は封止材の脆弱化に加え、これらを物理的に破壊することができる。これにより、リーク路の形成が著しく促進され、減圧加熱処理を効率よく迅速に行うことができる。
【００１９】
本発明の液晶パネル処理方法は、処理容器内に収容した液晶パネルを減圧加熱処理することで前記液晶パネルから液晶を分離するに際して、前記処理容器内に収容した液晶パネルをパネル支持手段により支持するとともに、前記パネル支持手段に設けられた熱伝導手段により前記液晶パネルのシール材形成領域の一部を選択的に加熱することで前記シール材を脆弱化させることを特徴とする。
この液晶パネル処理方法によれば、シール材形成領域の一部のみを選択的に加熱するので、シール材を容易にかつ効果的に加熱することができ、シール材の脆弱化による液晶のリーク路の形成を促進することができる。
【００２０】
本発明の液晶パネル処理方法では、一部を開口してなる略枠状のシール材と、前記シール材の開口部を封止する封止材とを具備した液晶パネルを減圧加熱処理するに際して、前記熱伝導手段により前記封止材に対応する部位を加熱することで前記封止材を脆弱化させることもできる。本発明に係る液晶パネル処理方法によって脆弱化させるのは封止材であってもよい。
【００２１】
本発明の液晶パネル処理方法では、前記パネル支持手段により支持した液晶パネルに対して面方向の剪断力を作用させることもできる。この液晶パネル処理方法によれば、加熱による脆弱化に加え、物理的にシール材又は封止材を破壊することもできるため、極めて容易に液晶のリーク路を形成することができ、容易かつ迅速に液晶を蒸散させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明に係る液晶パネル処理装置の一構成例を示す概略構成図である。図２は、液晶パネル処理装置の主要部たるチャンバーの斜視構成図であり、図３は、図２のチャンバー内部に配設されたトレーの斜視構成図、図４は、トレー内での液晶パネルの支持形態を示す斜視構成図である。
【００２３】
図１に示す液晶パネル処理装置は、内部に液晶パネルを収容可能とし、その内部を加熱する加熱装置（加熱手段）２１を備えたチャンバー（処理容器）２０と、チャンバー２０内部を減圧可能に接続された減圧ポンプ（排気手段）２４と、チャンバー２０と減圧ポンプ２４との間に介挿され、チャンバー２０の排気から液晶を凝集、分離する凝集器２２と、凝集器２２にて分離された液晶を回収する回収装置２３と、減圧ポンプ２４からの排気を処理するガス処理装置２５とを備えている。
【００２４】
チャンバー２０は、図２に示すように、液晶パネル１０を収容可能な略直方体又は立方体の箱形状に構成され、その前面側（図示手前側）に、開閉可能でかつ内部空間を密閉可能な扉部を備えている。この扉部には耐熱性のガラス窓を取り付けて内部空間を観察可能に構成してある。チャンバー２０の内部空間２０ａは、棚板により上下２段の空間に区画されており、区画された各段に、液晶パネル１０を収容したトレー２８をそれぞれ２個ずつ配置できるようになっている。
【００２５】
減圧ポンプ２４は、チャンバー２０の内部空間２０ａを例えば０．０１〜１０ｋＰａ程度に減圧可能なポンプである。減圧ポンプ２４とチャンバー２０との間に配設された凝集器２２は、減圧加熱処理により液晶パネル１０から蒸発した液晶のガスを冷却し、液化させて排気から分離するものである。凝集器２２で分離された液晶は回収装置２３に送られ、リサイクルするために回収される。あるいは回収装置２３は、液晶を分解して低分子化したり、無害化する分解装置であってもよい。ガス処理装置２５は、液晶を分離した後の排気を清浄化する装置であり、例えば活性炭フィルタ等を用いて排気に含まれる有機物のガス等を吸着除去するものを適用できる。
【００２６】
内部空間２０ａ内に配置された各トレー２８には、チャンバー２０の内壁から延びるヒータ線２７が接続されている。各ヒータ線２７の他端側はチャンバーの側壁部を貫通してチャンバーの外側に延び、チャンバー２０の外側に配置された熱源２６に接続されている。
またチャンバー２０の底壁部には、その内部空間２０ａを加熱するための加熱手段２１が配設されており、側壁部には、当該壁面を貫通して内部空間２０ａに連通する接続管２０ｂが配設され、この接続管２０ｂを介して図示略の減圧ポンプ２４等に接続されるようになっている。
【００２７】
チャンバー２０の内部空間２０ａを規定するチャンバー内壁面は、高熱伝導率の金属部材を用いて構成されており、チャンバー２０の底壁部に配設された加熱手段２１にて加熱され、液晶パネル１０から液晶を蒸発させるための主熱源として機能する。
【００２８】
トレー２８は、図２及び図３に示すように、複数の液晶パネル１０を整列して収容可能な枠状又は箱状の部材であり、耐熱性の絶縁材料を用いて形成されている。チャンバー内壁面から延びるヒータ線２７は、そのうち２本がトレー２８の側壁を貫通して内部に接続されており、それぞれのヒータ線２７がトレー２８の底部で互いにほぼ平行に配置されている。ヒータ線２７には、その延在方向に沿ってほぼ等間隔に支持部材１７が配設されており、各支持部材１７が液晶パネル１０を縦位置に支持する構造となっている。
【００２９】
図４は、支持部材１７による液晶パネル１０の支持構造を説明するための図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。本実施形態に係る支持部材１７は、液晶パネル１０が挿入される溝部１７ｃを有する側面視略Ｕ形の金属製の部材であり、溝部１７ｃを形成する一対の支持部１７ａ、１７ｂにより液晶パネル１０を挟持して支持するようになっている。また、支持部材１７の図示下部にヒータ線２７が貫通しており、ヒータ線２７（熱源２６）により加熱されるようになっている。すなわち、本実施形態に係る支持部材１７は、液晶パネル１０を支持するパネル支持手段であるとともに、ヒータ線２７から供給される熱を液晶パネル１０に伝導する熱伝導手段としても機能するものである。
【００３０】
本実施形態の液晶パネル処理装置による減圧加熱処理に供される液晶パネル１０は、液晶パネルの製造工場より排出されたり、市場において使用済みとなった表示装置等から取り出されたものである。液晶パネル１０は、図４に示すように、シール材７を介して所定間隔に対向配置された２枚のガラス基板１１，１２を主体としてなり、ガラス基板１１，１２とシール材７とに囲まれる領域に注入された液晶を、シール材７の開口部に設けられた封止材７ｂによって封止したものとなっている。なお、図４には封止材７ｂを有する液晶パネル１０を示しているが、シール材に開口部が設けられていない、いわゆる封口レスタイプの液晶パネルであっても問題なく処理することが可能である。
【００３１】
そして、液晶パネル１０の処理を行う際には、液晶を封止している封止材７ｂの形成部位から支持部材１７の溝部７ｃに挿入し、封止材７ｂが支持部１７ａ、１７ｂによって挟まれる位置に液晶パネル１０を固定し、複数の液晶パネル１０をトレー２８に整列して収容する。
【００３２】
ここで図５は、図４（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面構造を示す図である。本実施形態では液晶パネル１０としてパッシブマトリクス型のものを例示して説明するが、液晶パネル処理装置を用いて処理できる液晶パネルの種類は、パッシブマトリクス型に限られず、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）が基板上に形成されたアクティブマトリクス型のパネルであってもよい。また、基板内面にアルミニウムや銀等からなる反射膜が形成された反射型や半透過反射型の液晶パネルであってもよい。
【００３３】
図５に示すように、液晶パネル１０を構成するガラス基板１１，１２は、それらの間に分散配置されたスペーサ３４により所定間隔に離間され、基板端部に設けられたシール材７によって貼り合わされており、ガラス基板１１，１２とシール材７とに囲まれた空間に液晶３５が封入されている。各ガラス基板１１，１２の外面側には、それぞれ粘着材を介して偏光板や位相差板等の光学素子３１，３２が設けられている。
【００３４】
ガラス基板１１の内面側（液晶側）には、カラーフィルタ１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが配列形成されており、これらのカラーフィルタの間には遮光膜（ブラックマトリクス）１６が形成されている。カラーフィルタ１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを覆って樹脂材料等からなる平坦化膜１３が形成され、平坦化膜１３上にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電材料かからなる平面視略ストライプ状の電極パターン４０と、ポリイミド等からなる配向膜２１とが順に形成されている。
ガラス基板１２の内面側には、平面視略ストライプ状を成して前記電極パターン４０と交差する方向に延びる電極パターン５０が形成されており、電極パターン５０上に、樹脂材料等からなるオーバーコート膜２９と、ポリイミド等からなる配向膜２２とが順に形成されている。
【００３５】
上記構成の液晶パネル処理装置を用いて液晶パネル１０の減圧加熱処理を行うには、図４に示したように、チャンバー２０内に配設されたトレー２８の各支持部材１７に液晶パネル１０を挿入して縦位置に支持する。その後、チャンバー２０を密閉して加熱装置２１及び減圧ポンプ２２を動作させ、内部空間２０ａを所定の圧力（０．０１〜１０ｋＰａ）と温度（例えば液晶の蒸発温度である１５０℃程度）に保持する。また、熱源２６によりヒータ線２７を加熱し、支持部材１７を例えば封止材７ｂの分解温度（アクリル樹脂であれば１８０℃程度）にまで昇温し、支持部材１７を介して封止材７ｂが形成された部位を選択的に加熱する。
【００３６】
すると、前記液晶パネル１０は、チャンバー２０の内壁面からの輻射熱と、支持部材１７から直接に供給される伝導熱とによって加熱され、特に直接に加熱される支持部材１７との当接部位が迅速に昇温される結果、液晶を封止している封止材７ｂが効果的に脆弱化されるようになっている。そして、脆弱化した封止材７ｂには、その内部に生じる亀裂や、ガラス基板１１，１２及びシール材７からの剥離により液晶のリーク路が形成され、加熱により気化した液晶が封止材７ｂの形成部位とその近傍からチャンバー２０内部に蒸散されるようになる。
【００３７】
その後、内部空間２０ａに蒸散された液晶は、チャンバー２０の内壁が加熱装置２１により液晶の気化温度に保持されていることから気体の状態で接続管２０ｂから減圧ポンプ２４側へ排出される。そして、凝集器２２により液化された液晶が回収装置２３へ回収され、液晶を除去された排ガスは、ガス処理装置２５を介して無害化された後排出される。
【００３８】
なお、上記液晶の分離回収を行った後、チャンバー２０内の温度を上昇させ、シール材７や封止材７ｂ、ガラス基板１１，１２上に形成された各構成部材（光学素子３１，３２やカラーフィルタ等）を気化あるいは炭化させて、ガラス基板１１，１２から有機物の構成部材を除去することもできる。このようにして有機物を処理した後のガラス基板１１，１２は、チャンバー２０から取り出した後、基板上に残る有機物の灰や金属類（反射膜や配線等）を溶解除去することでリサイクル品として回収することができる。
【００３９】
本実施形態の液晶パネル処理装置では、図４に示したように、支持部材１７に設けられた溝部１７ｃに液晶パネル１０における封止材７ｂの形成部位を挿入し、熱源２６からヒータ線２７を介して供給される熱によって封止材７ｂの周辺を選択的に加熱するようになっている。これにより、支持部材１７を介して液晶パネル１０に直接熱が伝わり、また支持体の支持部１７ａ、１７ｂにより液晶パネル１０が挟み込まれていることから、封止材７ｂの近傍が迅速に昇温され、チャンバー内壁の輻射熱によって液晶パネル１０を加熱する場合に比して効率よく迅速に液晶パネル１０を加熱することができるようになっている。これにより、チャンバーの内部空間２０ａの加熱温度を抑えつつ効率よく封止材７ｂを脆弱化させることができ、減圧加熱処理におけるエネルギー消費を抑えつつ迅速に液晶パネルの処理を行うことができる。
【００４０】
また本実施形態の液晶パネル処理装置によれば、液晶パネル１０を破砕せずにチャンバー内に配置し、密閉された内部空間２０ａ内で液晶を分離できるので、安全に液晶パネルの処理を行うことができる。また、チャンバー２０内壁の加熱温度を液晶の蒸発温度程度にまで下げることができるので、液晶を変質させることなく回収することができ、液晶のリサイクルが容易になるとともに、液晶の変質による有害物質の発生を効果的に抑制でき、液晶処理を安全に行うことができる。
【００４１】
上記実施形態では、図４に示した側面視略Ｕ形の支持部材１７を用いて液晶パネル１０を支持する構造について説明したが、係るパネル支持手段（熱伝導手段）の構成としては、図６の各図に示す構造も採用することができる。
図６に示す支持部材（パネル支持手段）３７は、一対の略板状の支持体３７ａ、３７ｂとを対向配置したものであり、これら支持体３７ａ、３７ｂにより液晶パネル１０の端縁部を挟持することでパネルを縦位置に支持するものである。支持体３７ａ、３７ｂについても、先の支持部材１７と同様、伝熱性を有する例えば金属製とすることが好ましく、係る構成によれば、支持体３７ａ、３７ｂに先のヒータ線２７を接続することで熱源２６から供給される熱を液晶パネル１０に伝導する熱伝導手段として機能させることができる。
【００４２】
また支持部材３７には、支持体３７ａ、３７ｂを、両者の間隔を狭めるように付勢する付勢手段（例えば、ばね等）を設けることが好ましい。このような構成とすれば、支持体３７ａ、３７ｂによる押圧力で液晶パネル１０を安定した姿勢で保持することができ、また液晶パネル１０への伝熱性も良好なものとなり、処理に要するエネルギーの低減を図ることができる。
【００４３】
さらに上記支持部材３７は、液晶パネル１０を支持した状態で前記支持体３７ａ、３７ｂの少なくとも一方を液晶パネル１０の面方向（基板面方向）に移動可能に構成することが好ましい。つまり、支持体３７ａ又は支持体３７ｂを基板面方向に移動させる支持体駆動手段を備えた構成とすることが好ましい。
このような構成とすることで、減圧加熱処理時に液晶パネル１０に対して面方向の剪断力を作用させることができ、封止材７ｂ及びシール材７をより効率よく脆弱化させる（あるいは破壊する）ことができる。これにより、液晶のリーク路の形成を促進させることができ、短時間に液晶をパネルから分離できるようになる。
【００４４】
例えば図６（ａ）に示すように、液晶パネル１０を挟持した状態で、支持体３７ａ、３７ｂに対して、それらを図示左右方向で互いに逆向きに移動させる力を加えることで、支持体３７ａ、３７ｂを介して液晶パネル１０に剪断力を作用させることができ、液晶のリーク路の形成を促進することができる。
また、支持体３７ａ、３７ｂの移動方向は図６（ａ）に示す左右方向に限らず、図６（ｂ）に示すような図示上下方向であってもよい。あるいは、図６（ｃ）に示すように基板面内で支持体３７ａを回転させる方向であってもよい。いずれの移動方向とした場合にも液晶パネル１０に対して面方向の剪断力を作用させることができ、封止材７ｂ及びシール材７を効率よく脆弱化させて液晶のリーク路を迅速に形成することができる。
【００４５】
なお、上記実施の形態では、チャンバーの内部空間２０ａを加熱するための加熱装置２１と、ヒータ線２７を介して支持部材１７を加熱するための熱源２６とを別個に設けた場合について説明したが、上記減圧加熱処理に際しては、内部空間２０ａは減圧状態に保持されるためチャンバー内壁から液晶パネル１０には熱が伝わりにくく、ヒータ線２７とチャンバー２０とを同一温度に加熱したとしても、液晶パネル１０は、ヒータ線２７と接続された支持部材１７に当接する部位が優先的に昇温される。したがって、ヒータ線２７又はそれに代わる伝熱性の部材をチャンバー２０の内壁に接続し、加熱装置２１から供給される熱を支持部材１７に伝える構成であってもよい。ただし、液晶パネル１０から蒸散した液晶が熱により有害物質に変性する可能性がある場合、その無害化のための処理装置が必要になることから、チャンバーの加熱温度は液晶が分解されない程度の温度とすることが好ましい。
【００４６】
次に、図７を参照して本発明に係る液晶パネル処理装置におけるパネル支持手段の他の形態について説明する。図７は、本発明に係るパネル支持手段の他の形態である支持板４７の平面構成図である。図８は、支持板４７を用いた場合のパネル支持構造の一例を示す側面構成図であり、図９は同支持構造の他の形態を示す側断面構成図である。
【００４７】
支持板４７は、チャンバー２０内に収容可能な板材であって、伝熱性を有する金属製の板材を用いることが好ましい。またチャンバー２０の内壁に一体に形成されていてもよい。この支持板４７は、加熱装置２１により加熱されたチャンバー側壁部の熱を、その上面に載置した液晶パネル１０に対して伝導させ、液晶パネル１０を加熱するものである。
【００４８】
支持板４７による液晶パネル１０の支持形態としては、図８に示すように、パネルの一端側を支持板４７上に設けられた凸状部（伝熱部）４７ａ上に配置し、側面視で傾けるようにして配置することができる。凸状部４７ａは、支持板４７と同一材質で支持板表面に一体に形成されていてもよく、異なる材料を用いて支持板４７上に設けられていてもよい。このように液晶パネル１０を支持板４７上に傾斜させて配置することで、凸状部４７ａと液晶パネル１０との当接部位を優先的に加熱することができ、前記封止材７ｂが形成された位置で液晶パネル１０と凸状部４７ａとが当接するように配置することで封止材７ｂを効率よく加熱し、液晶のリーク路を封止材７ｂ又はその周囲に形成して液晶を内部空間２０ａに蒸散させることができる。
【００４９】
凸状部４７ａは金属製の部材であってもよく、この場合には支持板４７と一体に形成でき、また支持板４７から凸状部４７ａへの熱伝導を円滑なものとすることができる。また、凸状部４７の形成材料として、例えば比較的高い伝熱性を有するゴム材等を用いることもできる。このような伝熱性を有する弾性体により凸状部４７ａを形成するならば、液晶パネル１０を凸状部１０上に配置した際の加圧や、チャンバー内の加熱により凸状部４７ａを変形させることができる。これにより、液晶パネル１０と凸状部４７ａの先端部との接触面積が大きくなり、凸状部４７ａを介した液晶パネル１０の加熱を効率よく行うことが可能である。
【００５０】
なお、上記凸状部４７ａを加熱又は加圧により変形可能な材料で形成する場合、用いる形成材料は弾性材料であっても、加熱等によって溶融したり塑性変形するものであってもよい。液晶パネル１０の特定位置（封止材７ｂ形成領域等）を選択的に加熱し、当該位置でシール材ないし封止材の脆弱化させることを目的としているからである。
【００５１】
また図８に示す形態において、支持板４７に対向する対向側支持板５７を設けることもでき、この対向側支持板５７の支持板４７と対向する面に凸状部（伝熱部）５７ａを設けることもできる。液晶パネル１０を支持板４７と対向側支持板５７とで挟み込むことで、液晶パネル１０に対する伝熱効率を高めることができ、液晶パネル１０の減圧加熱処理をより迅速化することができる。また、対向側支持板５７に設けられた凸状部５７ａにより液晶パネル１０のシール材形成領域を選択的に加熱することで、封止材７ｂやシール材７の脆弱化を促進することができ、液晶のリーク路を迅速に形成することができる。
【００５２】
なお、図８に示す態様では支持板４７の凸状部４７ａと対向側支持板５７の凸状部５７ａとが互いに対向して配置されている場合について示しているが、凸状部４７ａ、５７ａの配置は、同態様に限定されるものではなく、例えば凸状部４７ａが当接している液晶パネル１０の端縁部と反対側（図示右端）の縁端部と凸状部５７ａが当接するように配置してもよい。
【００５３】
また支持板を用いたパネル支持構造としては、図９に示すように、支持板４７の表面に凹部４７ｂを形成し、係る凹部４７ｂ上に液晶パネル１０を載置する構造も採用することができる。前記凹部４７ｂの平面領域は、液晶パネル１０におけるシール材７に囲まれた平面領域よりも小さく形成されており、液晶パネル１０は、そのシール材７が凹部４７ｂの外側に配置されるようにして支持板４７上に載置される。このようなパネル支持構造を採用することで、凹部４７ｂの外側の支持板表面が、液晶パネル１０と当接するパネル支持領域（伝熱部）４７ｃとなり、シール材７の形成領域に対応する部位を選択的に加熱することができる。これにより、液晶パネル１０全体を過熱することなくシール材形成領域を迅速に昇温させ、シール材又は封止材を効率よく脆弱化させ、液晶のリーク路を形成することができる。
【００５４】
なお、支持板４７上に平面的に液晶パネル１０を載置する場合、図９に示すように、支持板４７と互いに対向する対向側支持板５７を設けることもできる。この対向側支持板５７は、支持板５７と同様、伝熱性の板状部材とすることが好ましく、２枚の支持板４７，５７によって液晶パネル１０を挟み込み、両側から加熱することで効率よく液晶パネル１０を加熱でき、液晶を内部空間２０ａに蒸散させることができる。
【００５５】
対向側支持板５７には、図９に示すような凹部５７ｂを設けることもでき、係る凹部５７ｂを先の凹部４７ｂと対向する位置に配置することで、液晶パネル１０のシール材形成領域を選択的に加熱することができ、封止材７ｂないしシール材７の加熱を促進して効果的に脆弱化させることができる。なお、対向側支持板５７を凹部を有さない平板状部材としてもよいのは勿論であり、対向側支持板５７に、図８に示したような凸状部を設け、係る凸状部のみを液晶パネル１０に当接させて加熱する構成とすることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】実施形態に係る液晶パネル処理装置の概略構成図。
【図２】同、チャンバーの斜視構成図。
【図３】同、トレーの斜視構成図。
【図４】パネル支持構造の説明図。
【図５】液晶パネルの部分断面構成図。
【図６】支持部材の他の形態を示す斜視構成図。
【図７】パネル支持手段の一例たる支持板の平面構成図。
【図８】支持板を用いたパネル支持構造の一例を示す側断面構成図。
【図９】パネル支持構造の他の例を示す側面構成図。
【符号の説明】
【００５７】
１０  液晶パネル、１７，３７  支持部材（パネル支持手段／熱伝導手段）、３７ａ，３７ｂ  支持体（熱伝導手段）、４７  支持板（パネル支持手段）、４７ａ  凸状部（伝熱部／熱伝導手段）、４７ｂ  凹部、４７ｃ  パネル支持領域（伝熱部）、２０  チャンバー（処理容器）、２０ａ  内部空間、２１  加熱装置（加熱手段）、２２  凝集器、２３  回収装置、２４  減圧ポンプ（排気手段）、２５  ガス処理装置、２６  熱源、２７  ヒータ線、２８  トレー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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