(57)【要約】 【課題】  電極基板とメンブレンとの間隔が正確に保持できて、かつ材料費が低廉な可変形状ミラーを提供する。【解決手段】  表面に複数の電極（１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ）が形成された電極基板１１と、電極基板１１に形成された複数の電極と対向する対向電極を有するシリコンメンブレン１３と、シリコンメンブレン１３の対向電極と反対側に設けられた反射部１５と、電極基板１１と一体に貼付されて、シリコンメンブレン１３の変形に支障を生じないように、前記複数の電極の変形を拘束する支持板１９とを備え、電極基板１１には、当該複数の電極に駆動電圧を通電する配線パターン（１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ）が複数層に渡って形成されている。【選択図】  図１
2006023684.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に複数の電極が形成された電極基板と；
前記電極基板に形成された複数の電極と対向する対向電極を有するシリコンメンブレンと；
前記シリコンメンブレンの対向電極と反対側に設けられた反射部と；
前記電極基板と一体に貼付されて、前記シリコンメンブレンの変形に支障を生じないように、前記複数の電極の変形を拘束する支持板と；
を備え、前記電極基板には、当該複数の電極に駆動電圧を通電する配線パターンが複数層形成されていることを特徴とする可変形状ミラー。
【請求項２】
前記支持板は、前記電極基板が有する変形応力より生じる変形であって、前記電極基板に形成された複数の電極に生じる変形を、前記電極の間隔を基準として十分の１以下とする剛性を有する請求項１記載の可変形状ミラー。
【請求項３】
前記支持板は、装着用の基準面を有する請求項１又は請求項２に記載の可変形状ミラー。
【請求項４】
前記電極基板には、コネクターによりケーブルが接続可能に構成されており、前記支持板は、前記電極基板が有する変形応力による前記電極基板の変形を妨げる程度の剛性を有することを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の可変形状ミラー。
【請求項５】
前記支持板と前記電極基板の材料として、膨張係数が略同一の材料が選定されることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載の可変形状ミラー。
【請求項６】
前記電極基板はガラスエポキシ樹脂系の材料であり、前記支持板はステンレス鋼板系の材料で形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか１項に記載の可変形状ミラー。
【請求項７】
表面に複数の電極が形成された電極基板と；
前記電極基板に形成された複数の電極と対向する対向電極を有するシリコンメンブレンと；
前記シリコンメンブレンの対向電極と反対側に設けられた反射部と；
前記シリコンメンブレンと前記電極基板との間を所定の間隔に保持するスペーサと；
前記電極基板と一体に貼付されて、前記シリコンメンブレンの変形に支障を生じないように、前記複数の電極の変形を拘束する支持板と；
を備え、前記支持板が前記電極基板と一体に貼付される範囲は、前記シリコンメンブレンの対向電極を有する領域と対向する対向電極対向領域と、前記スペーサが装着されるスペーサ装着領域と、前記電極基板の複数電極が形成された電極形成領域を含むことを特徴とする可変形状ミラー。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７の何れか１項に記載の可変形状ミラーを用いたことを特徴とする眼底観察装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、眼底カメラ、ヘッドアップディスプレイ、天体望遠鏡、レーザ照射装置等に用いて好適な可変形状ミラーに関する。また本発明は、撮影光源から出射された光束を被検眼に照射して、その眼底で反射された反射光束を撮影光として記録して被検眼の眼底像の記録を行う眼底観察装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
眼底カメラ等の眼底観察装置では、眼底像を撮影して、眼科医や検眼士が網膜の状態や眼底出血などを検査している。ところで、人間の眼光学系は、角膜、水晶体、ガラス体等を構成要素とする眼球より構成されているが、幾何光学で前提としている完全光学系と比較して、人間の眼光学系には歪みがある。特に、眼科臨床の分野では被検眼が正常眼から乖離している程度を診断情報として用いているため、鮮明で収差の少ない眼底像が必要である。しかし、撮影対象を構成する眼光学系が不完全であるために、十分な解像度を得られない場合があった。そこで、眼光学系における波面の崩れを補正するために、例えば特許文献１、２に示すような、圧電効果を用いた可変形状ミラーが用いられている。
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−１３７５２２号公報  ［００３１］、図８
【特許文献２】米国特許公報第６０４２２２３号公報  第３欄第５１行〜第６５行、図８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上述の特許文献１、２に開示された可変形状ミラー(Deformable mirror)では、圧電素子を用いているため、圧電素子の印加電圧が高くなって、電子制御回路として高価な耐高電圧素子を用いる必要があった。そこで、商業用の眼底カメラでは、圧電型に比較して低い駆動電圧で済む静電引力を用いた可変形状ミラーが用いられている。
【０００５】
しかし、静電引力を用いた可変形状ミラーの場合には、ミラーの変形形状を細かく制御するために、高密度に電極が配置されている。そして、電極・配線間の沿面放電や絶縁破壊を防ぐ為に間隔を一定量以上あける必要がある。例えば沿面放電を防ぐため、駆動電圧３００Ｖに対して、0.2〜0.3ｍｍ以上の間隔が必要である。
【０００６】
他方、従来から可変形状ミラーとして、単一のガラス基板やセラミックス基板を電極基板として用いている。このような従来構造によれば、電極基板の配線をスルーホール加工で電極基板表面から裏面に配線を導き、表面と裏面の２層でコネクタ・ケーブルまで結線する構造が採用されている。しかし、駆動電圧として数百ボルトが用いられる場合、高電圧に対応した配線間の距離を満足に確保する必要性と、高密度に電極を配置することの必要性を両立させる為には、２層構造では配線の配置位置の設計自由度が少なくなるという課題があった。そこで、多層に配線可能なセラミックス基板を電極基板とする場合においては、加工によって所望の平面度を確保し、膨張係数をメンブレンに近い物を選ぶことができる利点があるが、材料費が高額になるという課題があった。
【０００７】
本発明は、上述する課題を解決するもので、電極基板とメンブレンとの間隔が正確に保持できて、かつ材料費が低廉な可変形状ミラーを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成する本発明の可変形状ミラーは、例えば図１に示すように、表面に複数の電極（１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ）が形成された電極基板１１と、電極基板１１に形成された複数の電極と対向する対向電極を有するシリコンメンブレン１３と、シリコンメンブレン１３の対向電極と反対側に設けられた反射部１５と、電極基板１１と一体に貼付されて、シリコンメンブレン１３の変形に支障を生じないように、前記複数の電極の変形を拘束する支持板１９とを備え、電極基板１１には、当該複数の電極に駆動電圧を通電する配線パターン（１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ）が複数層に渡って形成されている。
【０００９】
このように構成された装置においては、剛性の高い支持板１９が電極基板１１に装着されているので、電極基板１１の反り等の変形が、電極基板１１単体のときに比較して小さくなり、複数の電極の変形が小さくなる。また、電極基板１１には、前記複数の電極に駆動電圧を通電する配線パターンが複数層形成されているので、駆動電圧に対応した配線間の距離を満足に確保すると共に、高密度に電極を配置することができる。そこで、駆動電圧を前記複数の電極に印加して、シリコンメンブレン１３の変形を制御する際に、電極基板１１の反り等による干渉を受けない。
【００１０】
本発明の可変形状ミラーにおいて、好ましくは、支持板１９は、電極基板１１が有する変形応力より生じる変形であって、電極基板１１に形成された複数の電極に生じる変形を、前記電極の間隔を基準として十分の１以下とする剛性を有する構成とするよい。すると、使用環境の温度が変化しても、支持板１９の剛性により電極基板１１の熱変形が抑止される為、性能に影響を及ぼすほど変形することはない。よって電極基板１１の表面に形成された複数の電極１６の変形も抑えられる。
【００１１】
本発明の可変形状ミラーにおいて、好ましくは、例えば図２（Ｂ）に示すように、支持板１９は、装着用の基準面１９ａを有するとよい。このように構成すると、支持板１９基準で眼底観察装置等に可変形状ミラーを取付けることができ、可変形状ミラーを眼底観察装置に組込む作業が円滑に行なえ、複雑な調整作業が不要になる。
【００１２】
本発明の可変形状ミラーにおいて、好ましくは、例えば図２に示すように、電極基板１１には、コネクタ１７によりケーブル１８が接続可能に構成されており、支持板１９には、電極基板１１が有する変形応力を妨げる程度の十分な剛性を有するとよい。このように構成すると、可変形状ミラーを眼底観察装置に組込む際の、取付け及びケーブル１８の引き回しによる応力がシリコンメンブレン１３及び電極１６に影響しないため、安定した性能が得られる。
【００１３】
本発明の可変形状ミラーにおいて、好ましくは、支持板１９と電極基板１１の材料として、熱膨張係数が略同一の材料が選定されるとよい。このように構成すると、使用環境の温度が変化しても、支持板１９と電極基板１１の熱膨張係数が略同一であるため、使用環境の温度変化が可変形状ミラーの特性劣化を招来しない。
【００１４】
本発明の可変形状ミラーにおいて、好ましくは、電極基板１１はガラスエポキシ樹脂系の材料であり、支持板１９はステンレス鋼板系の材料で形成されているとよい。
【００１５】
前記目的を達成する本発明の可変形状ミラーは、例えば図１に示すように、表面に複数の電極（１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ）が形成された電極基板１１と、電極基板１１に形成された複数の電極と対向する対向電極を有するシリコンメンブレン１３と、シリコンメンブレン１３の対向電極と反対側に設けられた反射部１５と、シリコンメンブレン１３と電極基板１１との間を所定の間隔に保持するスペーサ１４と、電極基板１１と一体に貼付されて、シリコンメンブレン１３の変形に支障を生じないように、前記複数の電極の変形を拘束する支持板１９とを備えている。そして、例えば図３に示すように、支持板１９が電極基板１１と一体に貼付される領域は、シリコンメンブレン１３の対向電極を有する領域と対向する対向電極対向領域１１ａと、スペーサ１４が装着されるスペーサ装着領域１１ｂと、電極基板１１の複数電極が形成された電極形成領域１６ｆを含むことを特徴とする。
【００１６】
本発明の眼底観察装置は、例えば図７に示すように、請求項１ないし請求項７の何れか１項に記載の可変形状ミラーを用いたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１７】
このように構成された本発明の可変形状ミラーにおいては、電極基板１１として多層プリント基板を用いることができ、製造コストの低廉化に寄与する。また、支持板１９の面にならって電極基板１１の表面平面度を数μｍ程度に平滑化処理することで、電極基板１１の表面に複数の電極を形成して可変形状ミラーに使用することができ、駆動電圧の高電圧や多数電極化の傾向に有効に対応できる。
【００１８】
本発明の眼底観察装置においては、本発明の可変形状ミラーのメンブレン１３と電極１６間距離を大きくとり、可変形状ミラー１０を高い駆動電圧で駆動することができるので、眼底観察装置に用いられるシリンダーレンズの屈折度数間隔をカバーできるような大きな収差量が補正できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を用いて本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【実施例１】
【００２０】
図１は、本発明の一実施の形態を説明する構成図で、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は図１（Ａ）のＢ−Ｂ断面図を示すと共に、併せて電圧制御回路を示している。図において、本発明の可変形状ミラーは、電極基板としてのプリント基板１１、シリコンメンブレンとしてのメンブレン１３、スペーサ１４、反射膜１５、電極１６、支持板としての金属プレート１９、電圧制御回路２０を備えている。
【００２１】
電極基板１１は、例えばガラスエポキシ樹脂系の低膨張多層プリント基板で、熱膨張係数αは、例えば８〜１２［ｐｐｍ／℃］になっている。電極基板１１に用いる多層プリント基板は、例えばプレス成型をして表面を研磨した後に切断される為、全体的に反りがあるから、できるだけ反り量を小さくするため、多層プリント基板材料として反りを抑えられる材料を選定するとよい。配線パターン１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅは、それぞれ電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄ、１６ｅに駆動電圧を通電するもので、多層プリント基板の複数層に形成されている。
【００２２】
シリコン基板１２は、例えば単結晶シリコンや多結晶シリコンで、例えば厚さ約０．５ｍｍを有している。メンブレン１３は、シリコン基板１２に対する選択エッチング処理により製作されるもので、可撓性を有しており、例えば厚さ４μｍ程度の厚みを有している。
【００２３】
スペーサ１４は、メンブレン１３と電極１６とのギャップ長を所定値に保持する為に用いられるもので、例えば剛性の高い球等が用いられる。電極１６は、プリント基板１１の上に所定数形成される。反射膜１５は、メンブレン１３に反射率の高い材料を蒸着して形成するもので、例えばアルミ等の反射率の高い金属膜が用いられる。電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄ、１６ｅは、個別に電圧制御回路２０によって電圧駆動される。
【００２４】
金属プレート１９は、表面が所望の平面度、例えば数μｍ程度に仕上げてあるもので、例えばＳＵＳ４３０、ＳＵＳ３０４等の電極基板１１の材料と同じ程度の熱膨張係数α（９．８〜１０．４［ｐｐｍ／℃］を有する材料が用いられている。金属プレート１９は、電極基板１１の電極形成領域裏面に貼り合せられる。金属プレート１９と電極基板１１の熱膨張係数が近いので、環境温度変化による変形の影響が抑制される。金属プレート１９を直接眼底観察装置に取付ける場合、装置取付け面と電極基板１１貼り付け面の直角度も出しておく。例えば、眼底カメラの光束の引き回し距離にもよるが、取付け面からの面の倒れを数分以内に抑えておくのが望ましい。
【００２５】
図２は、図１の装置の構成図で、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は斜視図である。図２において、コネクタ１７、ケーブル１８を付記していると共に、配線パターン１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅと電圧制御回路２０を省略してある。コネクタ１７やケーブル１８は、電圧制御回路２０から送られる駆動電圧を電極１６に導く導電体で、電極基板１１としての多層プリント基板に取付けられている。また、ケーブル１８の引き回し方によって電極基板１１に応力がかかり、電極基板１１は変形する。しかし、金属プレート１９は剛性があるため、電極基板１１の変形が金属プレート１９の貼り付け部まで及ばない。よって、ケーブル１８の引き回しの影響で、可変形状ミラーの特性を変化させることはない。
【００２６】
なお、金属プレート１９に装置取付け用の取付け穴やタップを設けると、直接装置に取付けすることができる。基準面１９ａは、金属プレート１９の底部に設けられたもので、電極基板１１を貼り付ける為の位置決めに用いられる。金属プレート１９の基準面１９ａを、眼底観察装置の設置基準面に位置させることで、眼底観察装置に対して可変形状ミラーの位置が簡単に決まる。また、メンブレン１３を電極基板１１上に配置するときも、金属プレート１９の基準面１９ａを基準にすることで、メンブレン１３を所望の位置に配置できる。
【００２７】
このように構成された装置の組立作業について説明する。図３は、電極基板と金属プレートの位置合わせの説明図で、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側面図である。電極基板１１の外形寸法と表面パターンの位置精度は、典型的には±０．３ｍｍ程度と精度が悪いため、電極基板１１の外形寸法での位置管理は難しい。そのため、電極基板１１表面の電極パターンを基準に位置管理を行うのが望ましい。例えば電極基板１１表面の４辺の各中心位置に、０．１ｍｍの基準ラインパターン１１ｃ１〜１１ｃ４を付ける。そして、組立冶工具（図示せず）を用いて、基準ラインパターン１１ｃ１〜１１ｃ４と金属プレート１９の基準面の位置を、顕微鏡を見ながらラインパターン巾以下の合わせ精度で位置合わせをする。そして、電極基板１１の電極形成領域中心位置１６ｇと金属プレート１９の取付け基準面の位置を合わせて接着する。
【００２８】
接着剤は、金属プレート１９と電極基板１１の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有するものを選定するのが良い。接着剤には、熱膨張係数の近い接着剤がない場合は、出来る限り接着層の厚みが薄くなるものが望ましい。また、使用環境温度にて十分に接着強度が保てるものが望ましい。
【００２９】
また、電極基板１１の電極形成領域１６ｆの平面度を良くする為に、電極１６の形成されている電極形成領域１６ｆでの、多層プリント基板各層の配線にも配慮する。例えば、電極形成領域１６ｆにおいて、多層プリント基板で、配線材料となる銅と間を埋めて接着するためのプリプレグの重なり量を均等になるような、配線パターンとすることが望ましい。
【００３０】
支持板１９が電極基板１１と一体に貼付される領域は、シリコンメンブレン１３の対向電極を有する領域と対向する対向電極対向領域１１ａと、スペーサ１４が装着されるスペーサ装着領域１１ｂと、電極基板１１の複数電極が形成された電極形成領域１６ｆを含むとよい。ことを特徴とする。
【００３１】
図４は、電極基板と金属プレートの接着作業の説明図である。まず、金属プレート１９の上に接着剤を塗布し、電極基板１１を置き、その上から電極基板１１が金属プレート１９の面にならうように重りをのせる。重り３１は、電極基板１１に接する部分に関しては、平面度を数μｍ以下に仕上げているのが望ましい。重り３１の重さは、例えば２０×２０ｍｍのエリアで１０ｋｇ程度とする。接着剤３０は、上述の金属プレート１９と電極基板１１の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有するものを用い、使用環境温度にて十分に接着強度が保てるものが望ましい。
【００３２】
なお、電極基板１１を平面度が管理されたプレートで挟み加重し、電極基板１１のガラス転移点以上に温度を上げ、電極基板１１を所望の平面度にした成型した後に、金属プレート１９と貼り合せても良い。また、支持板としての金属プレート１９が電極基板１１と接する範囲は、対向電極を有するシリコンメンブレン１３と、電極基板１１を接続するスペーサ１４及び電極形成領域が、含まれるようにすることが望ましい。
【００３３】
次に、比較実施例として、金属プレートによって補強していない多層プリント基板を電極基板１１として用いる場合を取り上げる。一般的に、多層プリント基板の反りを含む表面の平面度は、多層プリント基板の厚さ程度になっている。そして、プリント基板１１は製造過程での残留応力を有しており、使用環境温度変化によってプリント基板１１が変形してしまう可能性がある。プリント基板１１が変形した場合、電極とメンブレン１３間の距離が変化し、可変形状ミラーの特性が変化するという課題がある。
【００３４】
可変形状ミラーにおいて、電極１６とメンブレン１３の間隔は数十μｍ程度である。メンブレン１３の最大変形量は、電極１６とメンブレン１３との間の距離で決まる。そして、電極１６とメンブレン１３との間の距離を基準として、１／３以上メンブレン１３を変形させると、メンブレン１３にプルインが生じ、電極１６側にメンブレン１３が貼り付いてしまうという課題がある。また、同じ電圧を印加しても、電極１６とメンブレン１３間距離が異なることから、メンブレン１３にかかる電界｛電圧(Ｖ)／電極１６とメンブレン１３間の距離(ｍｍ)｝にばらつきが生じ、正確な制御ができなくなるという課題がある。また、プリント基板１１の平面度が悪いため、電極１６とメンブレン１３間隔が不均一の場合、十分に可変形状ミラーの性能を得ることができないという課題がある。
【００３５】
他方、多層プリント基板の反りの影響を低減するため、電極基板１１の表面上にスペーサ１４で距離をとって、メンブレン１３を貼り合せている実施例もある。しかし、この場合でも、電極基板１１の変形がメンブレン１３に影響し、メンブレン１３に応力が加わり、電圧制御回路２０によって電極１６に制御電圧を供給しても、メンブレン１３が所望形状に変形せず、反射膜１５の形状制御が旨くできないという課題がある。
【００３６】
図５は、金属プレートを貼り合せる前後における電極基板の反りの説明図で、（Ａ）は貼り合せ前、（Ｂ）は貼り合せ後を示している。図中、横軸は基板上の位置（ｍｍ）、縦軸は反り量（μｍ）で、金属プレート１９の貼り合せ前後の電極基板１１の反り量分布を、反り量０μｍを基準として示している。もともとの電極基板１１の反り量が約２０μｍであるのに対して、金属プレート１９貼り合せ後の反り量が約５μｍ程度となった。可変形状ミラー用の電極基板１１として十分に使用することが可能である。
【００３７】
図６は、環境温度試験後における電極基板の反りの説明図である。本発明者は、接着後の電極基板１１を恒温層に入れ、環境温度試験に対して表面形状が変化するかどうかテストを行った。図６と図５（Ｂ）を対比すれば判るように、試験前後で表面形状は変化することなく安定している。即ち、電極基板１１と金属プレート１９の熱膨張係数が近いため、環境温度変化に伴なって電極基板１１と金属プレート１９との間に応力が発生することは少ない。よって、使用環境温度変化において、金属プレート１９を貼り付けた電極基板１１は安定しているのが原因と考える。
【実施例２】
【００３８】
次に、上記の可変形状ミラー１０が用いられる眼底観察装置を説明する。図７は眼底観察装置の全体を説明する構成ブロック図である。図において、眼底観察装置は、波面補正系８、眼底照明系２、眼底観察系３、アライメント系４、固視系５、補償光学部７０とを備える。波面補正系８は、点像投影光学系８１、点像受光光学系８２、点像受光部８３（ＣＣＤ）とを備える波面測定系８０と、コンピュータ８４と、制御部８５を有する。コンピュータ８４は、光学特性測定部８４１、画像データ形成部８４２、補償量決定部８４３、メモリ８４４、表示部８４５を備える。
【００３９】
眼底照明系２は、第２光源部、集光レンズ、ビームスプリッタを備え、第２光源部からの第２光束で被検眼網膜上の所定領域を照明するためのものである。眼底観察系３は、眼底画像形成用光学系３６と眼底画像受光部３８（ＣＣＤ）とを備える。眼底画像形成用光学系３６は、例えばアフォーカルレンズ８８、補償光学部７０、集光レンズ、ビームスプリッタを備え、眼底６１で反射した光を補償光学部７０を介して眼底画像受光部３８に導く。補償光学部７０は、測定光の収差を補償する可変形状ミラー１０、光軸方向に移動して球面成分を補正する移動プリズムや球面レンズを有している。補償光学部７０は、点像投影光学系８１と眼底画像形成用光学系３６中に配置され、例えば被検眼６０から反射して戻ってくる反射光束の収差を補償する。
【００４０】
アライメント系４は、集光レンズ、アライメント受光部を備え、光源部から発せられて被検眼６０の角膜６２から反射して戻ってくる光束をアライメント受光部に導く。固視系５は、例えば被検眼６０の固視や雲霧をさせる為の視標を投影する光路を含むものであって、第３光源部５１、固視標５２、リレーレンズを備える。第３光源部５１からの光束で固視標５２を眼底６１に照射することができ、被検眼６０にその像を観察させる。
【００４１】
光学特性測定部８４１は、点像受光部８３からの出力に基づき、被検眼６０の高次収差を含む光学特性を求める。画像データ形成部８４２は、光学特性に基づき視標の見え具合のシミュレーションを行ない、シミュレーション画像データ又は見え具合を示すＭＴＦ等の被検眼データを算出する。メモリ８４４は、可変形状ミラー１０を調整する為の複数の電圧変化テンプレートを記憶している。補償量決定部８４３は、メモリ８４４に記憶されている電圧変化テンプレートを選択して、選択した電圧変化テンプレートに基づき、可変形状ミラー１０の補正量を決定して、補正量を制御部８５に出力する。制御部８５は、補償量決定部８４３からの出力に基づいて可変形状ミラー１０を変形させる。眼底観察装置の更なる詳細は、例えば本出願人の提案に掛かる特願２００３−１２５２７９号明細書に記載されている。
【００４２】
以上説明したように、本発明の可変形状ミラーの実施例によれば、プリント基板１１を金属プレートの面にならって表面の平面度を数μｍ程度に平滑化し、プリント基板１１を可変形状ミラーの電極基板１１として使用することができ、電極基板１１として比較的安価な多層プリント基板を使用できる。また、電極基板１１に多層プリント基板を利用することで、電極に印加する駆動電圧の高電圧化や、電極数の増加による木目細かなメンブレン形状制御に対応ができる。また、シリコン基板１２の上方にある開口部に、ガラス基板により塞ぐように構成することもできる。このように構成することにより、取扱いの際にシリコンメンブラン１３の破損を防止し、塵埃の付着防止などが行える。
【００４３】
また、本発明の可変形状ミラーを眼底観察装置に適用すると、以下の効果がある。即ち、被検眼６０の眼底からの反射光は、眼光学系が不完全であるため収差を含み、鮮明な眼底像は得られない。そこで、現在の眼底カメラにおいて、シリンダー成分（Zernike(2.±2)成分）は補正用シリンダーレンズを光路に入れて補正しているが、シリンダーレンズの屈折度数間隔もある一定間隔｛例えば３Ｄ（ディオプター）間隔｝と制限があり、充分に収差補正された鮮明な眼底像を得ることができない。そこで、この光学的ひずみを可変形状ミラー１０で補正することができる。メンブレンと電極間距離を大きくとり、可変形状ミラー１０を高い駆動電圧で駆動すると、シリンダーレンズの屈折度数間隔をカバーできるような大きな収差量が補正できる。また、メンブレン下の電極数を多くすることで、複雑な収差を補正できる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の一実施の形態を説明する構成図で、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は図１（Ａ）のＢ−Ｂ断面図を示している。
【図２】図１の装置の構成図で、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は斜視図である。
【図３】電極基板と金属プレートの位置合わせの説明図で、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側面図である。
【図４】電極基板と金属プレートの接着作業の説明図である。
【図５】金属プレートを貼り合せる前後における電極基板の反りの説明図で、（Ａ）は貼り合せ前、（Ｂ）は貼り合せ後を示している。
【図６】環境温度試験後における電極基板の反りの説明図である。
【図７】眼底観察装置の全体を説明する構成ブロック図である。
【符号の説明】
【００４５】
１０  可変形状ミラー
１１  電極基板（プリント基板）
１１ａ  対向電極対向領域
１１ｂ  スペーサ装着領域
１３  メンブレン（シリコンメンブレン）
１４  スペーサ
１５  反射部
１６  電極
１６ｆ  電極形成領域
１７  コネクタ
１８  ケーブル
１９  金属プレート（支持板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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