(57)【要約】【課題】  光源装置を大きく移動させる必要が無く、かつ、照射されるレチクルの部分によって照明光の集光度が大きく変化しない波面収差測定装置用光源装置を提供する。【解決手段】  ターゲット４から放出された光と球面ミラー５で反射された光は一緒になってミラー部２中に入り、楕円ミラー６で反射され、さらに平面鏡７で反射されて、ＥＵＶ露光装置のレチクルが置かれる面であるレチクル面８に集光される。すなわち、楕円ミラー６の第１焦点はターゲット４の位置にあり、第２焦点は平面鏡７に対してレチクル面８と共役な位置となるようにされているので、ターゲット４から放出されたＥＵＶ光はレチクル面８面に集光する。楕円ミラー６と平面鏡７は一体となってＺ軸の周りに回動し、平面鏡７は、これに加えて紙面に垂直な方向の回動軸を中心として回動する。【選択図】  図１
2006216784.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
極端紫外線露光装置の投影光学系であってレチクルへの露光光の照射領域を制限するための円弧状の開口を有する遮蔽板を有する投影光学系の波面収差を測定するための波面収差測定装置に使用される光源装置であって、光源と、当該光源位置に第１の焦点を有し、前記レチクル面と共役な位置に第２の焦点を有する楕円反射鏡と、当該楕円反射鏡で反射された前記光源からの光を反射して前記レチクル面に照射する平面反射鏡とを有し、前記、楕円反射鏡と前記平面反射鏡は、一体として、前記極端紫外線露光装置の投影光学系の光軸に平行で前記光源位置を通る直線を中心軸とする回動が可能であり、かつ、前記平面反射鏡は、前記中心軸と前記楕円反射鏡の前記第２の焦点とを含む面に対して垂直な軸の周りに回動可能とされていることを特徴とする波面収差測定装置用光源装置。
【請求項２】
請求項１に記載の波面収差測定装置用光源装置であって、前記楕円反射鏡と前記平面反射鏡は、同一の架台に取り付けられ、当該架台は、前記極端紫外線露光装置の投影光学系の光軸に平行で前記光源位置を通る直線を中心軸として回動可能とされていることを特徴とする波面収差測定装置用光源装置。
【請求項３】
請求項２に記載の波面収差測定装置用光源装置であって、前記架台が、防震装置の上に載置されていることを特徴とする波面収差測定装置用光源装置。
【請求項４】
前記防震装置が、アクティブ防震マウントであることを特徴とする請求項３に記載の波面収差測定装置用光源装置。
【請求項５】
請求項２から請求項４のうちいずれか１項に記載の波面収差測定装置用光源装置であって、前記架台及び前記架台に前記楕円反射鏡及び前記平面反射鏡を取り付ける部材が、低熱膨張材からなることを特徴とする波面収差測定装置用光源装置。
【請求項６】
請求項２から請求項５のうちいずれか１項に記載の波面収差測定装置用光源装置であって、前記楕円反射鏡及び前記平面反射鏡の少なくとも一方が冷却装置により冷却されていることを特徴とする波面収差測定装置用光源装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のうちいずれか１項に記載の波面収差測定装置用光源装置であって、前記光源がＥＵＶ光源であることを特徴とする波面収差測定装置用光源装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のうちいずれか１項に記載の波面収差測定装置用光源装置を有することを特徴とする波面収差測定装置。
【請求項９】
請求項８に記載の波面収差測定装置が取り付けられていることを特徴とする極端紫外線露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、極端紫外線露光装置の投影光学系であってレチクルへの露光光の照射領域を制限するための円弧状の開口を有する遮蔽板を有する投影光学系の波面収差を測定するための波面収差測定装置に使用される光源装置、この光源装置を使用した波面収差測定装置、さらには、この波面収差測定装置を有する極端紫外線露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、集積回路の高密度集積化、すなわち、回路パターンの微細化が進められてきた。これに対応するため、投影露光装置における投影光も短波長化される傾向にある。すなわち、これまで主流だった水銀ランプの輝線に代わって、KrFエキシマレーザー（248nm）が用いられるようになり、さらに短波長のArFエキシマレーザー（193nm）を用いた投影露光装置が実用化されている。また、更なる高密度集積化をめざしてＦ２レーザー（157nm）を使用する露光装置や液浸機構を有する光露光機の開発も進められている。
【０００３】
さらに、光の回折限界によって制限される光学系の解像力を向上させるために、従来の紫外線に代えてこれより短い波長（11〜14 nm）のＥＵＶ光（極端紫外光）を使用した投影リソグラフィが開発されている。この技術は、ＥＵＶ（極端紫外光）リソグラフィと呼ばれており、従来の光リソグラフィでは実現不可能な45nm以下の解像力を得られる技術として期待されている。このようなＥＵＶ光を使用した露光装置を、本明細書及び特許請求の範囲では極端紫外線露光装置、又はＥＵＶ露光装置と称する。
【０００４】
極端紫外線露光装置の投影光学系の組み立て、調整や検査においては、波面収差測定装置が使用される。波面収差測定装置として代表的なものにシャックハルトマン方式の波面収差測定装置がある。シャックハルトマン方式の波面収差測定装置を使用した露光装置の投影光学系の波面収差測定方法の例は、例えば、特開２００４−１４８６５公報（特許文献１）に記載されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１４８６５公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般にＥＵＶ光を透過する物質はないので、ＥＵＶ露光装置の投影光学系には透過型の光学要素を使用することができず、従って、専ら反射鏡を使用した光学系が用いられる。反射鏡を使用した光学系においては、近軸光線を使用することができないので、その収差や像面湾曲が大きくなり、その補正が困難となる。そのため、露光転写に使用されるＥＵＶ光として、光学系の光軸を中心とした円弧状のもののみを使用し、収差や像面湾曲の程度を同じとして、補正をし易くしている。この目的のために、レチクルの直前に、レチクルを照明するＥＵＶ光のうち光学系の光軸を中心とした円弧状のもののみを通過させるための開口を有する遮蔽板が設けられている。遮蔽板の開口の大きさは、円弧の長さが100mmm程度、開口の幅が８mm程度である。
【０００７】
一方、シャックハルトマン方式の波面収差測定方法においては、レチクル位置に、多数のピンホールが設けられたピンホール板をレチクルの代わりに置き、各々のピンホールを照明光で照明することによって、ピンホールを通過する球面波を発生させ、それを波面収差測定用に使用する。
【０００８】
波面収差の測定は、円弧状の開口の各部分を照明する光について行わなければならない。このためには、光源からの光を、開口の各部分に照射する必要がある。このようなことを行うためには、光源装置を２次元的に移動させるか、互いに直角な方向に振動する２枚の反射鏡を使用して光源からの光を２次元的な走査光に変えることが考えられる。
【０００９】
しかしながら、前者の場合には、光源装置を大きく移動させるための機構が必要となり、装置が大がかりとなるばかりでなく、移動に時間を要するため測定時間が長くなるという問題点がある。又、後者の場合には、レチクルの各部分を照射するときに、各部分に応じて照射光の光路長の変化が生じ、照射光の集光度が変化するという問題点がある。
【００１０】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、光源装置を大きく移動させる必要が無く、かつ、照射されるレチクルの部分によって照明光の集光度が大きく変化しない波面収差測定装置用光源装置、この光源装置を使用した波面収差測定装置、さらには、この波面収差測定装置を有する極端紫外線露光装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決するための第１の手段は、極端紫外線露光装置の投影光学系であってレチクルへの露光光の照射領域を制限するための円弧状の開口を有する遮蔽板を有する投影光学系の波面収差を測定するための波面収差測定装置に使用される光源装置であって、光源と、当該光源位置に第１の焦点を有し、前記レチクル面と共役な位置に第２の焦点を有する楕円反射鏡と、当該楕円反射鏡で反射された前記光源からの光を反射して前記レチクル面に照射する平面反射鏡とを有し、前記、楕円反射鏡と前記平面反射鏡は、一体として、前記極端紫外線露光装置の投影光学系の光軸に平行で前記光源位置を通る直線を中心軸とする回動が可能であり、かつ、前記平面反射鏡は、前記中心軸と前記楕円反射鏡の前記第２の焦点とを含む面に対して垂直な軸の周りに回動可能とされていることを特徴とする波面収差測定装置用光源装置である。
【００１２】
本手段においては、光源からの光は楕円反射鏡で反射された後、平面反射鏡で反射されてレチクル面を照明する。光源が楕円円反射鏡の第１焦点位置にあり、レチクル面と共役な位置に楕円反射鏡の第２焦点が位置するので、光源からの光は、レチクル面で集光される。
【００１３】
又、楕円反射鏡と前記平面反射鏡は、一体として、極端紫外線露光装置の投影光学系の光軸に平行で光源位置を通る直線を中心軸とする回動が可能であるので、光源の位置が極端紫外線露光装置の投影光学系の光軸上にあるように光源装置の位置を調整することにより、レチクル面を照明する光を、レチクルを照射するＥＵＶ光を遮蔽する遮蔽板の円弧状の開口の円弧に沿って走査することができる。しかも、この走査によっては、光源からレチクルまでの光学系の相対的な位置が変わらないので、走査に応じてレチクルを照明する光の集光度が変化することはない。
【００１４】
さらに、平面反射鏡は、前記中心軸と楕円反射鏡の前記第２の焦点とを含む面に対して垂直な軸の周りに回動可能とされているので、回動させることにより、レチクル面を照明する光を、レチクルを照射するＥＵＶ光を遮蔽する遮蔽板の円弧状の開口の半径方向に走査することができる。この走査により、光源からレチクルまでの光学系の相対的な位置はわずかに変化し、従って走査に応じてレチクルを照明する光の集光度は変化するが、この方向の走査距離は短い（８mm程度）ので、実質上問題とならない。
【００１５】
前記課題を解決するための第２の手段は、前記第１の手段であって、前記楕円反射鏡と前記平面反射鏡は、同一の架台に取り付けられ、当該架台は、前記極端紫外線露光装置の投影光学系の光軸に平行で前記光源位置を通る直線を中心軸として回動可能とされていることを特徴とするものである。
【００１６】
本手段においては、架台を回動させることにより、レチクルを照明する光を、レチクルを照射するＥＵＶ光を遮蔽する遮蔽板の円弧状の開口の円弧に沿って走査することが可能である。
【００１７】
前記課題を解決するための第３の手段は、前記第２の手段であって、前記架台が、防震装置の上に載置されていることを特徴とするものである。
【００１８】
本手段においては、楕円反射鏡と平面反射鏡を搭載する架台が防震装置の上に載置されているので、振動があっても、レチクルを照明する光がその影響を受けにくくなる。
【００１９】
前記課題を解決するための第４の手段は、前記第３の手段であって、前記防震装置が、アクティブ防震マウントであることを特徴とするものである。
【００２０】
アクティブ防震マウントを用いることにより、単なる防震ゴム等による防震よりも、確実に振動の影響を小さくすることができる。
【００２１】
前記課題を解決するための第５の手段は、前記第２の手段から第４の手段のいずれかであって、前記架台及び前記架台に前記楕円反射鏡及び前記平面反射鏡を取り付ける部材が、低熱膨張材からなることを特徴とするものである。
【００２２】
光源からの光の一部は反射鏡で吸収され熱となる。特に光源として実際に露光に使用されるのと同じＥＵＶ光を使用した場合、吸収率が大きいので温度上昇も大きくなる。本手段においては、架台、及び架台に楕円反射鏡及び平面反射鏡を取り付ける部材を低熱膨張材（線膨張率が[ppm／Ｋ]以下の材料）で形成しているので、熱変形が小さくなり、光学的な狂いが小さくなる。
【００２３】
前記課題を解決するための第６の手段は、前記第２の手段から第５の手段のいずれかであって、前記楕円反射鏡及び前記平面反射鏡の少なくとも一方が冷却装置により冷却されていることを特徴とするものである。
【００２４】
楕円反射鏡及び平面反射鏡の少なくとも一方を冷却装置で冷却することにより、これらの反射鏡の熱変形が小さくなり、光学的な狂いが小さくなる。
【００２５】
前記課題を解決するための第７の手段は、前記第１の手段から第６の手段のいずれかであって、前記光源がＥＵＶ光源であることを特徴とするものである。
【００２６】
光源としてＥＵＶ光を使用することにより、投影光学系が実際に使用される状態においての波面収差を測定することが可能となる。
【００２７】
前記課題を解決するための第８の手段は、前記第１の手段から第７の手段のうちいずれかの波面収差測定装置用光源装置を有することを特徴とする波面収差測定装置である。
【００２８】
本手段においては、大きな光源装置を使用することなく、かつ、照射されるレチクルの部分によって照明光の集光度が大きく変化しない状態で波面収差を測定することができる。
【００２９】
前記課題を解決するための第９の手段は、前記第８の手段である波面収差測定装置が取り付けられていることを特徴とする露光装置である。
【００３０】
本手段においては、大きな光源装置を使用することなく、かつ、照射されるレチクルの部分によって照明光の集光度が大きく変化しない状態で波面収差を測定し、投影光学系の検査や調整を行うことができる。波面収差測定装置が組み込まれていることにより、検査や調整を適宜行うことが可能となる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、光源装置を大きく移動させる必要が無く、かつ、照射されるレチクルの部分によって照明光の集光度が大きく変化しない波面収差測定装置用光源装置、この光源装置を使用した波面収差測定装置、さらには、この波面収差測定装置を有する極端紫外線露光装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、本発明の実施の形態の例を、図を用いて説明する。図１は、本発明の実施の形態の１例である波面収差測定装置用光源装置の例を示す図である。この光源装置は、光源部１とミラー部２を主要部として構成されている。光源部１には励起用レーザ３が設けられており、励起用レーザ３からのレーザ光がターゲット４を照射することによりＥＵＶ光が発生する。ターゲット４の後方には、ターゲット４の位置を中心とする球面ミラー５が設けられている。ターゲット４から放出された光と球面ミラー５で反射された光は一緒になってミラー部２中に入り、楕円ミラー６で反射され、さらに平面鏡７で反射されて、ＥＵＶ露光装置のレチクルが置かれる面であるレチクル面８に集光される。すなわち、楕円ミラー６の第１焦点はターゲット４の位置にあり、第２焦点は平面鏡７に対してレチクル面８と共役な位置となるようにされているので、ターゲット４から放出されたＥＵＶ光はレチクル面８面に集光する。
【００３３】
ミラー部２の底面にはアクティブ防震マウント９が設けられており、その上にステージベース１０が搭載されている。アクティブ防震マウント９は、ミラー部２底面とステージベース１０の間に設けられた変位計、速度計、加速度計等の信号によりミラー部２底面とステージベース１０との間の振動を検出してフィードバック制御を行うことにより、ミラー部２底面の振動がステージベース１０に伝達されないように制御する。又は、ミラー部２底面に設けられた加速度計からの信号を受けてフィードフォワード制御を行うことにより、ミラー部２底面の振動がステージベース１０に伝達されないように制御する。
【００３４】
ステージベース１０上には円弧ガイド１１を介して架台１２が搭載されている。円弧ガイド１１は架台１２が、レチクル面をｘ−ｙ平面、ＥＵＶ露光装置の投影光学系の光軸をｚ軸とするｘ−ｙ−ｚ直交座標系で、ｚ軸に平行なＺ軸を中心として回動するようにガイドするものである。ステージベース１０と架台１２の間にはリニアモータの一種である円弧モータ１３が設けられ、架台１２の回動を駆動する。回動範囲は約±３０°である。この回動運動により、レチクル面８を照射するＥＵＶ光は、Ｚ軸を中心として約±３０°走査される。
【００３５】
楕円ミラー６は、取付部材１４を介して架台１２に固定されている。一方、平面鏡７は１軸ピエゾ駆動系駆動装置１５と取付部材１６を介して架台１２に固定されている。１軸ピエゾ駆動系駆動装置１５は、平面鏡７を紙面に垂直な軸の周りに約±１°回転させるような伸縮運動を行う。これにより、レチクル面８を照射するＥＵＶ光は、紙面の左右方向（ｘ軸方向とする）に走査される。
【００３６】
なお、図１は、楕円ミラー６と平面鏡７とがＺ軸周りの回動の中心に置かれている状態を示している。この状態では、紙面の上下方向がｚ軸方向、紙面の左右方向がｘ軸方向、紙面の奥行き方向がｙ軸方向となっている。露光状態で露光用の照明光により照明される円弧状の領域は、ｘ軸に平行な軸に対して対象となるような円弧とされている。
【００３７】
この場合、楕円ミラー６の第１焦点は光源であるターゲット４の位置に一致するが、第２焦点は、Ｚ軸を含み、紙面に平行な面内にあるようにしてある。平面鏡７の回動軸はｙ軸に平行な軸とされているが、一般的には、楕円ミラー６と平面鏡７との共通の回動軸（Ｚ軸に相当）と、楕円ミラー６の第２焦点とを含む平面に垂直な方向の軸となる。
【００３８】
なお、波面収差測定用の光としてＥＵＶ光を使用する場合には、楕円ミラー６や平面鏡７の反射率は７０％程度であるので、多くのＥＵＶ光が吸収されて熱が発生する。よって、楕円ミラー６や平面鏡７をフロリナート等の液体を循環させることにより冷却して熱を放散させることが好ましい。又、ステージベース１０、円弧ガイド１１、架台１２、取付部材１４、取付部材１６を構成する部材として、スーパーインバーや低熱膨張セラミクス等の低熱膨張材を使用し、これらの部材の熱変形により光学的な関係が狂わないようにすることが好ましい。
【００３９】
図２は、図１に示した光学系の数値的な関係を示した図であり、（ａ）は立面図、（ｂ）は平面図である。なお、図２においては図１のＺ軸は、ＥＵＶ露光装置の投影光学系の光軸すなわちｚ軸に一致しているものとしている。使用時には、このようにＺ軸をｚ軸に一致させて使用する。
【００４０】
図２（ａ）において、ターゲット４と楕円ミラー６との距離は351.1mmに設定されている。実線はターゲット４から発したＥＵＶ光の中心を示す。水平に進行したＥＵＶ光は楕円ミラー６により３０°下向きに反射され、平面鏡７が中立の状態にあるとき（１軸ピエゾ駆動系駆動装置１５に電圧が印加されていないとき）、平面鏡７で反射されて、6.02°の入射角でレチクル面８の点Ｐに入射するようになっている。平面鏡７を±0.3°振動させることにより、レチクル面８に入射するＥＵＶ光はｘ軸方向にＰ’Ｐ”間の距離８mmだけ走査される。
【００４１】
又、図２（ｂ）に示すように、楕円ミラー６と平面鏡７をＺ軸の周りに±23.2°回転させることにより、レチクル面８に入射するＥＵＶ光はレチクル面８での円弧フィールド１８（露光転写時に露光用のＥＵＶ光の照射を受ける領域に対応）内を、円弧の方向に104mm走査される。よって、楕円ミラー６と平面鏡７の回転と平面鏡７の振動を組み合わせることにより、レチクル面８での104×８mmの円弧フィールド１８内をターゲット４から発するＥＵＶ光で走査することができる。なお、図から明らかなように、楕円ミラー６と平面鏡７をＺ軸の周りに回転させても、ターゲット４からレチクル面８までの相対位置は変化しないので、光線の進行状態は同一状態に保たれる。これに対し、図２（ａ）におけるＧＰ、ＧＰ’、ＧＰ”の距離は異なるので、Ｐ点を楕円ミラー６の第２焦点と共役な位置とした場合には、Ｐ’点、Ｐ”点は楕円ミラー６の第２焦点と共役な位置とはならず、集光位置とは少し異なることになる。しかし、この距離変化は光源の大きさに比して小さいので、実用上問題となることはない。
【００４２】
詳しい計算は省略するが、楕円ミラー６として、直径100mmの楕円ミラーで光源側ＮＡが0.131、集光側ＮＡが0.080、入射角１５°のものを使用し、平面鏡７として、145mm×３２mmのものを使用すれば、レチクル面８に入射するＥＵＶ光のＮＡを0.08とすることができる。
【００４３】
なお、図１、図２を総合すると分かるように、平面鏡７の回動軸は、レチクル面８に平行で円弧フィールド１８の中心線、すなわち円弧フィールド１８の対称軸に垂直なもの（図においてはｙ軸に平行）となっており、これにより、平面鏡７の回動によるＥＵＶ光の走査方向はｘ軸方向となっている（楕円ミラー６と平面鏡７とが回動すると、それにつれて走査方向は変わり、常に円弧フィールド１８の半径方向が走査方向となる）。すなわち、楕円ミラー６と平面鏡７との回動により円弧フィールド１８の円弧方向に、平面鏡７の回動により円弧フィールド１８の半径方向に、ＥＵＶを走査することができ、円弧フィールド１８内の任意の点にＥＵＶ光を照射することができる。
【００４４】
図３は、図１に示すような光源装置を光源とするハックシャルトマン型波面収差測定装置を使用して、ＥＵＶ露光装置の投影光学系の波面収差を測定する状態を示す図である。
【００４５】
図１に示したような光源装置２１から発生したＥＵＶ光は、露光状態においてはレチクルが置かれる位置に置かれたピンホール板２２のピンホールを透過して球面波となり、被測定対象である投影光学系ＰＬに入射する。投影光学系ＰＬを透過したＥＵＶ光は、コンデンサミラー２３で反射されて平行光束に変えられ、反射型フィルタアレイ２６に入射する。反射型フィルタアレイ２６で反射されたＥＵＶ光は、ゾーンプレートアレイ２４に入射する。ゾーンプレートアレイ２４は、入射したＥＵＶ光を一部宛集光する単位ゾーンプレート２４１，２４２，・・・をアレイ状に配置している。また、反射型フィルタアレイ２６には、単位ゾーンプレート２４１，２４２，・・・に個別に入射する各ＥＵＶ光を個別に反射する単位フィルタ２６１，２６２，・・・が配置される。ゾーンプレート２４を透過したＥＵＶ光は、ＣＣＤアレイ２５に集光されて電気信号に変えられる。
【００４６】
図４は、図３に示したようなシャックハルトマン方式の波面収差測定装置を組み込んだＥＵＶ露光装置の概要を示す図である。この露光装置においては、通常の露光時には、露光用ＥＵＶ光源３１からのＥＵＶ光がレチクルステージ３２に搭載されたレチクルＲを照明する。レチクルＲで反射されたＥＵＶ光は、投影光学系ＰＬを通って、ウエハステージ３３上に置かれたウエハＷの表面にレチクルＲのパターンの像を結ぶ。
【００４７】
レチクルステージ３２には、レチクルＲの反射面と同じ位置となるようにピンホール板２２が取り付けられている。又、ウエハステージ３３には、シャックハルトマン方式の波面収差測定装置の検出部３４が搭載されている。検出部３４中には前述のコンデンサミラー２３、ゾーンプレート２４、ＣＣＤアレイ２５、反射型フィルタアレイ２６が設けられ、前述のような作用を行う。
【００４８】
投影光学系ＰＬの検査を行うときは、レチクルステージ３２を移動させてピンホール板２２をレチクルＲが露光中に置かれる位置に置き、光源装置２１からレチクルステージ３２の孔３２ａを通して検査用のＥＵＶ光をピンホール板２２上に照射する。それと同時にウエハステージ３３を移動させて、検出部３４を図３に示すような位置に置いて測定を行う。このように、光源装置２１と検出部３４を露光装置に組み込んでおくことにより、適宜投影光学系ＰＬの検査と調整を行うことができる。
【００４９】
以上の説明においては、光源部１はＥＵＶ光光源であるものとして説明してきた。波面収差測定用の光源として、実際の露光に使用するものと同じＥＵＶ光を使用すると、投影光学系を実際の使用条件と同じ条件で検査することができるので好ましいが、その必要がない場合は、光源部１として、ＥＵＶ光源を使用せず、他の光源、例えばレーザ光源等を使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の実施の形態の１例である波面収差測定装置用光源装置の例を示す図である。
【図２】図１に示した光学系の数値的な関係を示した図である。
【図３】図１に示すような光源装置を光源とするハックシャルトマン型波面収差測定装置を使用して、ＥＵＶ露光装置の投影光学系の波面収差を測定する状態を示す図である。
【図４】図３に示したようなシャックハルトマン方式の波面収差測定装置を組み込んだＥＵＶ露光装置の概要を示す図である。
【符号の説明】
【００５１】
１…光源部、２…ミラー部、３…励起用レーザ、４…ターゲット、５…球面ミラー、６…楕円ミラー、７…平面鏡、８…レチクル面、９…アクティブ防震マウント、１０…ステージベース、１１…円弧ガイド、１２…架台、１３…円弧モータ、１４…取付部材、１５…１軸ピエゾ駆動系駆動装置、１６…取付部材、１８…円弧フィールド、２１…光源装置、２２…ピンホール板、２３…コンデンサミラー、２４…ゾーンプレート、２５…ＣＣＤアレイ、２６…反射型フィルタアレイ、３１…露光用ＥＵＶ光源、３２…レチクルステージ、３２ａ…孔、３３…ウエハステージ、３４…検出部
【図１】
2006216784.tif 000003
【図２】
2006216784.tif 000004
【図３】
2006216784.tif 000005
【図４】
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