(57)【要約】      （修正有）【課題】結晶性ガス水和物の形成の防止、抑制又は改質においての使用に好適な、幾つかの置換されたアミン、アルキレンジアミン又はポリアミン及びそれらの誘導体の提供。【解決手段】これらの抑制剤は、アミン、アルキレンジアミン、又はポリアミン及びそれらの誘導体から成り、以下の化合物を含む。2006307217.tif 000063置換基Ｒ１〜Ｒ３は、ヒドロカルビル基であるか又は幾つかの場合にはポリヒドロキシアルキル基若しくは（ＣＨ２）ｐ−ＣＯＯ−であることができ、ｐは１又は２である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
水、１つ又は複数の低級炭化水素を含む粗天然ガス流又は原油流、及びガス水和物の形成を改質することのできる少なくとも１つの化合物を含む組成物であって、該化合物が、
ａ）式（１）による化合物であって、
【化１】
2006307217.tif 000040
式中、Ｒ1がＣ4〜Ｃ18の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール及びアラルキルからなる群より選択され；Ｒ2がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール、アラルキル及び式（Ａ）
【化２】
2006307217.tif 000041
の部分からなる群より選択され；Ｒ3がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール又は（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であって、式中、ｐが１又は２であり；ｎが２〜１４の整数であり；ｍが０〜２の整数であり；Ｒ4がＨ、α−Ｄ−グルコピラノシル、β−Ｄ−ピラノシル又はβ−Ｄ−ガラクトピラノシルであり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（１）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（１）による化合物；
ｂ）式（２）による化合物であって、
【化３】
2006307217.tif 000042
式中、Ｒ1、Ｒ2及びｎが式（１）に関して上に規定したとおりである式（２）による化合物；
ｃ）式（３）による化合物であって、
【化４】
2006307217.tif 000043
式中、ｍ及びＲ4が式（１）に関して規定したとおりであり、Ｒ2及びＲ3がそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ16のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基、Ｃ1〜Ｃ16のアルコキシ置換基を含むエチル又はプロピル基、及びＣ5又はＣ6のシクロアルキル基からなる群より選択され、Ｒ3がＨであることができるか又は式（Ｂ）による構造を有することができ、
【化５】
2006307217.tif 000044
式中、Ｒ1がＣ3〜Ｃ12のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基である式（３）による化合物；
ｄ）式（３ｂ）による化合物であって、
【化６】
2006307217.tif 000045
式中、ｍ及びＲ2〜Ｒ4が式（３）に関して規定したとおりであり、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることもでき、式中、ｐが１又は２であり；Ｒ5がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール又はアルキルアリール基であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（３ｂ）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（３ｂ）による化合物；
ｅ）式（４）による化合物であって、
【化７】
2006307217.tif 000046
式中、ｍ及びＲ4が上記式（Ａ）と同様に規定され、各Ｒ2が独立して上記式（３）と同様に規定され、上記式（Ｂ）であることもでき、ｎが２〜１４の整数である式（４）による化合物；
ｆ）式（５）による化合物であって、
【化８】
2006307217.tif 000047
式中、Ｒ1がＣ3〜Ｃ12の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル又はアリール置換の分枝若しくは直鎖アルキルであり；Ｒ2及びＲ3がそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ4のアルキル、ベンジル、Ｃ3〜Ｃ5のアルケニル及び（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-からなる群より選択され、式中、ｐが１又は２であり、但し、Ｒ2とＲ3の両方が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることはなく；Ｒ4及びＲ5が独立してＣ2〜Ｃ6のアルキレンより選択され；ｎが０〜４の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ2又はＲ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（５）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（５）による化合物；
ｇ）式（６）による化合物であって、
【化９】
2006307217.tif 000048
式中、Ｒ2が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることがないということ以外は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ5が式（５）に関して上に規定したとおりである式（６）による化合物；
ｈ）式（７ａ）による化合物であって、
【化１０】
2006307217.tif 000049
式中、各Ｒ1が独立してＣ1〜Ｃ20のアルキル又はベンジルであり；Ｒ2が水素又はメチルであり；Ｒ3がＣ1〜Ｃ18のアルキルであり；ｍが１又は２であり；ｎが２〜１０の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3である式（７ａ）による化合物；並びに
ｉ）式（７ｂ）による化合物であって、
【化１１】
2006307217.tif 000050
式中、Ｒ1、Ｒ3、ｎ及びＸが式（７ａ）に関して上に規定したとおりである式（７ｂ）による化合物
からなる群より選択される組成物。
【請求項２】
前記水の少なくとも一部と前記１つ又は複数の低級炭化水素の少なくとも一部が１つ又は複数のガス水和物の形態である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記少なくとも１つの化合物が式（１）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
Ｒ2が式（Ａ）の部分である、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
Ｒ2が１−デオキシグルシチルである、請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
前記少なくとも１つの化合物が式（２）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
Ｒ2が式（Ａ）の部分である、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
Ｒ2が１−デオキシグルシチルである、請求項６に記載の組成物。
【請求項９】
前記少なくとも１つの化合物が式（３）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
Ｒ3が式（Ｂ）の部分である、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
ｍが２であり、Ｒ4がＨである、請求項９に記載の組成物。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの化合物が式（３ｂ）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１３】
Ｒ3が式（Ｂ）の部分である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１５】
ｍが２であり、Ｒ4がＨである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの化合物が式（４）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】
Ｒ2が式（Ｂ）の部分である、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
ｍが２であり、Ｒ4がＨである、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの化合物が式（５）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項２０】
Ｒ3とＲ3のうち一方が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-である、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
Ｒ4とＲ5が両方とも（ＣＨ2）2、（ＣＨ2）3、（ＣＨ2）6又は（ＣＨ2）3ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2である、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの化合物が式（６）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項２３】
Ｒ4とＲ5が両方とも（ＣＨ2）2、（ＣＨ2）3、（ＣＨ2）6又は（ＣＨ2）3ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2である、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
前記少なくとも１つの化合物が式（７ａ）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項２５】
ｎが２、３、４、６又はこれらのうち２つ以上である、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２６】
前記少なくとも１つの化合物が式（７ｂ）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項２７】
ｎが２である、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２８】
Ｒ1がメチル、Ｒ3が２−エチルヘキシルである、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２９】
ガス水和物の形成を改質する方法であって、水及び１つ又は複数の低級炭化水素を含む粗天然ガス流又は原油流を、
ａ）式（１）による化合物であって、
【化１２】
2006307217.tif 000051
式中、Ｒ1がＣ4〜Ｃ18の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール及びアラルキルからなる群より選択され；Ｒ2がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール、アラルキル及び式（Ａ）
【化１３】
2006307217.tif 000052
の部分からなる群より選択され；Ｒ3がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール又は（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であって、式中、ｐが１又は２であり；ｎが２〜１４の整数であり；ｍが０〜２の整数であり；Ｒ4がＨ、α−Ｄ−グルコピラノシル、β−Ｄ−ピラノシル又はβ−Ｄ−ガラクトピラノシルであり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（１）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（１）による化合物；
ｂ）式（２）による化合物であって、
【化１４】
2006307217.tif 000053
式中、Ｒ1、Ｒ2及びｎが式（１）に関して上に規定したとおりである式（２）による化合物；
ｃ）式（３）による化合物であって、
【化１５】
2006307217.tif 000054
式中、ｍ及びＲ4が式（１）に関して規定したとおりであり、Ｒ2及びＲ3がそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ16のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基、Ｃ1〜Ｃ16のアルコキシ置換基を含むエチル又はプロピル基、及びＣ5又はＣ6のシクロアルキル基からなる群より選択され、Ｒ3がＨであることができるか又は式（Ｂ）による構造を有することができ、
【化１６】
2006307217.tif 000055
式中、Ｒ1がＣ3〜Ｃ12のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基である式（３）による化合物；
ｄ）式（３ｂ）による化合物であって、
【化１７】
2006307217.tif 000056
式中、ｍ及びＲ2〜Ｒ4が式（３）に関して規定したとおりであり、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることもでき、式中、ｐが１又は２であり；Ｒ5がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール又はアルキルアリール基であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（３ｂ）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（３ｂ）による化合物；
ｅ）式（４）による化合物であって、
【化１８】
2006307217.tif 000057
式中、ｍ及びＲ4が上記式（Ａ）と同様に規定され、各Ｒ2が独立して上記式（３）と同様に規定され、上記式（Ｂ）であることもでき、ｎが２〜１４の整数である式（４）による化合物；
ｆ）式（５）による化合物であって、
【化１９】
2006307217.tif 000058
式中、Ｒ1がＣ3〜Ｃ12の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル又はアリール置換の分枝若しくは直鎖アルキルであり；Ｒ2及びＲ3がそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ4のアルキル、ベンジル、Ｃ3〜Ｃ5のアルケニル及び（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-からなる群より選択され、式中、ｐが１又は２であり、但し、Ｒ2とＲ3の両方が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることはなく；Ｒ4及びＲ5が独立してＣ2〜Ｃ6のアルキレンより選択され；ｎが０〜４の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ2又はＲ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（５）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（５）による化合物；
ｇ）式（６）による化合物であって、
【化２０】
2006307217.tif 000059
式中、Ｒ2が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることがないということ以外は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ5が式（５）に関して上に規定したとおりである式（６）による化合物；
ｈ）式（７ａ）による化合物であって、
【化２１】
2006307217.tif 000060
式中、各Ｒ1が独立してＣ1〜Ｃ20のアルキル又はベンジルであり；Ｒ2が水素又はメチルであり；Ｒ3がＣ1〜Ｃ18のアルキルであり；ｍが１又は２であり；ｎが２〜１０の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3である式（７ａ）による化合物；並びに
ｉ）式（７ｂ）による化合物であって、
【化２２】
2006307217.tif 000061
式中、Ｒ1、Ｒ3、ｎ及びＸが式（７ａ）に関して上に規定したとおりである式（７ｂ）による化合物
からなる群より選択されるガス水和物の形成を改質することのできる少なくとも１つの化合物と接触させることを含む方法。
【請求項３０】
前記少なくとも１つの化合物が式（３）による化合物を含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記少なくとも１つの化合物が式（４）による化合物を含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３２】
式（７ｂ）による化合物であって、
【化２３】
2006307217.tif 000062
式中、Ｒ1がＣ1〜Ｃ20のアルキル又はベンジルであり；Ｒ3がＣ1〜Ｃ18のアルキルであり；ｍが１又は２であり；ｎが２〜１０の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3である、化合物。
【請求項３３】
Ｒ3が２−エチルヘキシルである、請求項３２に記載の化合物。
【請求項３４】
Ｒ1がメチルである、請求項３２に記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
低級炭化水素、例えば、メタン、エタン、プロパン、ｎ−ブタン及びイソブタンは、原油中にしばしば見出され、さらには天然ガス流中にも存在する。石油含有配合物中に典型的に存在する成分の中には水もある。高圧及び低温の条件下では、水と多くの低級炭化水素の混合物が、包接化合物として公知の炭化水素水和物を形成する傾向にある。このような水和物は、水が低級炭化水素などのゲスト分子の周りにケージ構造を形成した結晶構造である。例えば、約１ＭＰａの圧力では、エタンは、４℃よりも低い温度で水とガス水和物を形成することができ、３ＭＰａの圧力では、１４℃よりも低い温度で水とガス水和物を形成することができる。このような温度及び圧力は、天然ガスや原油が生産及び輸送される多くの環境において一般的に受けるものである。
【０００２】
ガス水和物は、天然ガス又は原油を生産及び輸送する際にパイプラインを閉塞させる場合があるため特に関心が高い。ガス水和物がパイプ又は導管の内側に形成及び成長すると、それらはパイプライン及びそれに関連するバルブや他の設備を詰まらせ又はダメージを与える場合がある。したがって、予定外の運転停止、保守及び修理を最小限に抑え、生産及び／又は輸送設備のより安全な操業を提供するために、ガス水和物の形成及び凝集の防止又は抑制が求められている。
【発明の開示】
【０００３】
１つの態様においては、本発明は、水、１つ又は複数の低級炭化水素を含む粗天然ガス流又は原油流、及びガス水和物の形成を改質することのできる少なくとも１つの化合物を含む組成物を提供する。この化合物は、
ａ）式（１）による化合物であって、
【化１】
2006307217.tif 000002
式中、Ｒ1がＣ4〜Ｃ18の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール及びアラルキルからなる群より選択され；Ｒ2がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール、アラルキル及び式（Ａ）
【化２】
2006307217.tif 000003
の部分からなる群より選択され；Ｒ3がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール又は（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であって、式中、ｐが１又は２であり；ｎが２〜１４の整数であり；ｍが０〜２の整数であり；Ｒ4がＨ、α−Ｄ−グルコピラノシル、β−Ｄ−ピラノシル又はβ−Ｄ−ガラクトピラノシルであり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（１）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（１）による化合物；
ｂ）式（２）による化合物であって、
【化３】
2006307217.tif 000004
式中、Ｒ1、Ｒ2及びｎが式（１）に関して上に規定したとおりである式（２）による化合物；
ｃ）式（３）による化合物であって、
【化４】
2006307217.tif 000005
式中、ｍ及びＲ4が式（１）に関して規定したとおりであり、Ｒ2及びＲ3がそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ16のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基、Ｃ1〜Ｃ16のアルコキシ置換基を含むエチル又はプロピル基、及びＣ5又はＣ6のシクロアルキル基からなる群より選択され、Ｒ3がＨであることができるか又は式（Ｂ）による構造を有することができ、
【化５】
2006307217.tif 000006
式中、Ｒ1がＣ3〜Ｃ12のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基である式（３）による化合物；
ｄ）式（３ｂ）による化合物であって、
【化６】
2006307217.tif 000007
式中、ｍ及びＲ2〜Ｒ4が式（３）に関して規定したとおりであり、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることもでき、式中、ｐが１又は２であり；Ｒ5がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール又はアルキルアリール基であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（３ｂ）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（３ｂ）による化合物；
ｅ）式（４）による化合物であって、
【化７】
2006307217.tif 000008
式中、ｍ及びＲ4が上記式（Ａ）と同様に規定され、各Ｒ2が独立して上記式（３）と同様に規定され、上記式（Ｂ）であることもでき、ｎが２〜１４の整数である式（４）による化合物；
ｆ）式（５）による化合物であって、
【化８】
2006307217.tif 000009
式中、Ｒ1がＣ3〜Ｃ12の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル又はアリール置換の分枝若しくは直鎖アルキルであり；Ｒ2及びＲ3がそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ4のアルキル、ベンジル、Ｃ3〜Ｃ5のアルケニル及び（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-からなる群より選択され、式中、ｐが１又は２であり、但し、Ｒ2とＲ3の両方が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることはなく；Ｒ4及びＲ5が独立してＣ2〜Ｃ6のアルキレンより選択され；ｎが０〜４の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ2又はＲ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（５）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（５）による化合物；
ｇ）式（６）による化合物であって、
【化９】
2006307217.tif 000010
式中、Ｒ2が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることがないということ以外は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ5が式（５）に関して上に規定したとおりである式（６）による化合物；
ｈ）式（７ａ）による化合物であって、
【化１０】
2006307217.tif 000011
式中、各Ｒ1が独立してＣ1〜Ｃ20のアルキル又はベンジルであり；Ｒ2が水素又はメチルであり；Ｒ3がＣ1〜Ｃ18のアルキルであり；ｍが１又は２であり；ｎが２〜１０の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3である式（７ａ）による化合物；並びに
ｉ）式（７ｂ）による化合物であって、
【化１１】
2006307217.tif 000012
式中、Ｒ1、Ｒ3、ｎ及びＸが式（７ａ）に関して上に規定したとおりである式（７ｂ）による化合物
からなる群より選択される。
【０００４】
別の態様においては、本発明は、ガス水和物の形成を改質する方法を提供する。この方法は、水及び１つ又は複数の低級炭化水素を含有する粗天然ガス流又は原油流を、上に規定される群ａ）〜ｉ）より選択されるガス水和物の形成を改質することのできる少なくとも１つの化合物と接触させることを含む。
【０００５】
さらに別の態様においては、本発明は、上に示される式（７ｂ）による化合物を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明は、結晶性ガス水和物の形成の防止、抑制又は改質において使用するのに好適な、幾つかの置換されたアミン、アルキレンジアミン又はポリアミン及びそれらの誘導体を提供する。このような改質により、例えば、ガス水和物の核形成、成長及び／又は凝集を遅くするか、低減するか又は排除することができる。幾つかのクラスの化合物がこの用途に関して本明細書で開示され、そのそれぞれが次に詳細に説明される。本明細書で用いられる場合には、「ガス水和物」という語は、低級炭化水素の結晶性水和物を意味する。「低級炭化水素」という語は、メタン、エタン、プロパン、ブタンの任意の異性体、及びペンタンの任意の異性体のいずれかを意味する。
【０００７】
本発明による使用に好適な第１のクラスのガス水和物抑制剤は、式（１）において以下に示すＮ，Ｎ’−ジアルキルアルキレンジアミンの幾つかの誘導体からなる。
【化１２】
2006307217.tif 000013
式（１）において、Ｒ1はＣ4〜Ｃ18の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール及びアラルキルからなる群より選択され；Ｒ2はＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール、アラルキル及び式（Ａ）
【化１３】
2006307217.tif 000014
の部分からなる群より選択され；Ｒ3はＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール又は（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であって、式中、ｐは１又は２であり；ｎは２〜１４の整数であり；ｍは０〜２の整数であり；Ｒ4はＨ、α−Ｄ−グルコピラノシル、β−Ｄ−ピラノシル又はβ−Ｄ−ガラクトピラノシルであり；Ｘ-はＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（１）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない。上記式（Ａ）の置換基は、Ｒ4に関係なく本明細書で「ポリヒドロキシアルキル」基と称される。当業者であれば、式（１）及び以下の式１（ａ）における「２Ｘ-」という語の使用は、電荷の中性を提供するのに必要とされるアニオンの量を示すものであると理解するであろう。
【０００８】
好適な例示的Ｒ1基としては、直鎖又は分枝鎖のアルキル基、例えば、ｎ−ブチル、２−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、２−ペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、２−メチルペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、３，５−ジメチルオクチル、３，７−ジメチルオクチル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、３−メチル−１０−エチルドデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ココアルキル（Ｃ8Ｈ17〜Ｃ16Ｈ33）及び獣脂（Ｃ16Ｈ33〜Ｃ18Ｈ37）、並びにアラルキル、アリール、アルカリール、脂環式、二環式及び同様の基が挙げられる。このような基の例としては、シクロヘキシルメチル、ベンジル、ピニル、ピニルメチル、フェネチル、ｐ−メチルベンジル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、エチルフェニル、メチルナフチル、ジメチルナフチル、ノルボルニル及びノルボルニルメチルがある。
【０００９】
好適な例示的Ｒ2及びＲ3基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、２−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、２−ペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、２−メチルペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、２−エチルヘキシル、オクチル、シクロヘキシルメチル、ベンジル、フェネチル、ｐ−メチルベンジル、フェニル、トリル、キシリル及びエチルフェニルが挙げられる。好適な例示的Ｒ2基としてはまた、ポリヒドロキシアルキル基、例えば、１−デオキシグルシチル、２，３−ジヒドロキシプロピル、並びにマンニトール、キシリトール、ガラクチトール、マルチトール及びラクチトールから誘導される類似の１−デオキシ基が挙げられる。
【００１０】
式（１）による化合物は、合成有機化学の技術分野で公知の任意の方法によって調製することができる。例えば、これらの化合物は、化学分野で周知の方法に従い、対応するＮ，Ｎ’−ジ（Ｒ1）−Ｎ，Ｎ’−ジ（Ｒ2）アルキレンジアミンとハロゲン化アルキルを反応させてＲ3基を導入することにより調製できる。Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-である場合には、ハロカルボン酸塩、例えば、ハロ酢酸塩との反応を使用することができる（例えば、Ｅ．Ｉ．デュポン・ドゥ・ヌムール＆カンパニーの米国特許第３，８３９，４２５号明細書の例１を参照されたい）。
【００１１】
Ｒ2がポリヒドロキシアルキル基である場合には、幾つかのＲ2の変形態様が可能であり、Ｒ4及びｍの値に応じて以下の式（１ａ）による種々の化合物が形成される。
【化１４】
2006307217.tif 000015
式（１ａ）による化合物は、任意の好適な手順、例えば、Ｖ．Ｉ．ＶｅｋｓｌｅｒらのＺｈｕｒｎａｌ Ｏｂｓｈｃｈｅｉ Ｋｈｉｍｉｉ，５０（９），２１２０−２１２３（１９８０）により報告された手順によって得ることができる。任意の種々のポリヒドロキシアルキル基を本発明の実施に有用な化合物に組み入れることができるが、これらのポリヒドロキシアルキル基は、最も典型的には還元糖、例えば、グルコースの開鎖形態から誘導される。例示的なポリヒドロキシアルキル基はグルコースから誘導される。即ち、それらは、１−デオキシグルシチル基である。一般に、本発明による使用のＮ，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ポリヒドロキシアルキル）アルキレンジアミンを製造するのに有用なＮ−（ポリヒドロキシアルキル）アルキルアミンのポリヒドロキシアルキル基は、グルコース、フラクトース、マルトース、ラクトース、ガラクトース、マンノース及びキシロースからなる還元糖の任意の群から誘導することができる。ケトースを使用することもできるが、典型的には還元糖はアルドースであり、単糖類と二糖類の両方を使用することができ、後者の好都合な供給源としては、高デキストロースコーンシロップ、高フラクトースコーンシロップ及び高マルトースコーンシロップが挙げられる。他の有用なポリヒドロキシアルキル基はグリセルアルデヒドから誘導することができる。幾つかの実施態様においては、Ｒ2はグルコースから誘導されたポリヒドロキシアルキル基である。即ち、この基は１−デオキシグルシチルである。この場合、ｍは２であり、Ｒ4は水素である。
【００１２】
本発明を実施するのに有用な第２のクラスのガス水和物抑制剤は、一般式（２）のビスＮ−オキシドであって、
【化１５】
2006307217.tif 000016
式中、Ｒ1、Ｒ2及びｎが式（１）の化合物に関して上に規定したとおりであるビスＮ−オキシドを含む。式（２）による化合物は、合成有機化学の技術分野で公知の任意の方法によって調製することができる。例えば、これらの化合物は、対応するジ第三アミンを酸化剤、例えば、過酸化水素で処理することにより調製することができる（例えば、Ｎ，Ｎ−ジアルキルグルカミンのＮ−オキシドの調製については、米国特許第５，７１０，３３２号明細書の例４を参照されたい）。
【００１３】
Ｒ2がポリヒドロキシアルキル基である場合は、式（２ａ）として以下に示される式（２）の下位分類を構成し、
【化１６】
2006307217.tif 000017
式中、Ｒ1、Ｒ4、ｍ及びｎは、式（１ａ）に関して上に規定したのと同じ意味を有する。１つの実施態様においては、ポリヒドロキシアルキル基はグルコースから誘導される。即ち、この基は１−デオキシグルシチルである。この場合には、ｍは２であり、Ｒ4は水素である。
【００１４】
本発明を実施するのに有用な第３のクラスのガス水和物抑制剤は、構造（３）によるポリヒドロキシアルキル［（ジ）アルキル］アミンを含む。Ｒ3がＨの場合には、生成物はポリヒドロキシアルキル［アルキル］アミンであり、Ｒ3がアルキル又は置換アルキル基である場合には、生成物はポリヒドロキシアルキル［ジアルキル］アミンである。
【化１７】
2006307217.tif 000018
式（３）において、ｍ及びＲ4は式（１）に関して規定したとおりであり、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ16のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基、Ｃ1〜Ｃ16のアルコキシ置換基を含むエチル又はプロピル基、及びＣ5又はＣ6のシクロアルキル基からなる群より選択される。Ｒ3はＨであることができるか又は式（Ｂ）による構造を有することができる。
【化１８】
2006307217.tif 000019
Ｒ3が（Ｂ）の場合には、得られる化合物は（３ａ）によって以下に示される化合物であり、式中、Ｒ1はＣ3〜Ｃ12のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基である。
【化１９】
2006307217.tif 000020
【００１５】
ポリヒドロキシアルキル［アルキル］アミン、即ち、Ｒ3＝Ｈである式（３）による化合物は、グルコース又は他の好適な単糖類又は二糖類と所望のアミンとの標準的な還元的アミン化によって得ることができる（例えば、プロクター・アンド・ギャンブル社の米国特許第５，６２５，０９８号明細書の例１）。同様のプロセスは、Ｒ3がヒドロカルビル基であるポリヒドロキシアルキル［ジアルキル］アミン（３）の調製に使用することもできる（例えば、ＢＡＳＦの欧州特許出願公開第６６３，３８９号明細書の例３）。式（３ａ）のポリヒドロキシアルキル［ジアルキル］アミンは、例えば、Ｓ．ＷａｒｗｅｌらのＴｅｎｓｉｄｅ Ｓｕｒｆ．Ｄｅｔ．，３８（１），７−１４（２００１）に記載されているような方法を用いて、対応するポリヒドロキシアルキル［アルキル］アミン（構造（３）、Ｒ3＝Ｈ）を以下に示される式のグリシジルエーテルで処理することにより得ることができる。
【化２０】
2006307217.tif 000021
【００１６】
構造（３）によるアミンの四級塩もまた本発明の範囲に含まれ、構造（３ｂ）によって以下に表される。
【化２１】
2006307217.tif 000022
（３ｂ）において、ｍ及びＲ2〜Ｒ4は式（３）に関して規定したとおりであり、Ｒ3は（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることもでき、式中、ｐは１又は２である。四級化剤によって導入することができる基Ｒ5は、Ｃ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール又はアルキルアリール基であり；Ｘ-はＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（３ｂ）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない。当業者であれば、式（３ｂ）における「Ｘ-」という語の使用は、電荷の中性を提供するのに必要とされるアニオンの量を示すものであると理解するであろう。
【００１７】
四級塩（３ｂ）は、対応するジアルキルアミン前駆体（３）とハロゲン化アルキル（例えば、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｒ．Ｂ．Ｗａｇｎｅｒ及びＨ．Ｄ．Ｚｏｏｋ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９５３，６６８頁）又はハロカルボン酸塩（例えば、Ｅ．Ｉ．デュポン・ドゥ・ヌムール＆カンパニーの米国特許第３，８３９，４２５号明細書の例１）との反応により調製することができる。
【００１８】
本発明を実施するのに有用な第４のクラスのガス水和物抑制剤は、構造（４）を有し、式中、ｍ及びＲ4が上記式（１ａ）に関してと同様に規定され、各Ｒ2が独立して上記式（３）と同様に規定され、上記式（Ｂ）であることもでき、ｎが２〜１４の整数であるＮ，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ポリヒドロキシアルキル）アルキレンジアミンを含む。本発明の幾つかの実施態様においては、構造（４）の２つのＲ2基のそれぞれが異なる。例えば、一方がブチルであり、もう一方がオクチルであることができる。幾つかの実施態様においては、構造（４）の生成物は、例えば、２つのブチル基を含有する分子が約２５ｍｏｌ％、２つのオクチル基を有する分子が約２５ｍｏｌ％、それぞれ１つを有する分子が約５０％の統計的混合物であることができる。
【化２２】
2006307217.tif 000023
Ｒ2が式（Ｂ）による場合には、構造（４）による化合物は、式（４ａ）として以下に示される構造を有する。
【化２３】
2006307217.tif 000024
【００１９】
式（４ａ）による化合物は、ポリヒドロキシアルキル［ジアルキル］アミン（３ａ）を調製するのに用いられるものと同様にして、Ｒ2＝Ｈである式（４）による化合物と、グリシジルエーテルを反応させることにより調製できる。化合物（４）は、例えば、ＳｍｉｔｈＫｌｉｎｅ Ｂｅｅｃｈａｍ ＰＬＣによる国際公開第００／０７６９５４号パンフレットの４及び５頁並びにＭ．Ｌ．ＦｉｅｌｄｅｎらによるＥｕｒ．Ｊ．Ｂｉｏｃｈｅｍ．，２６８，１２６９−１２７９（２０００）に記載されているように、対応するＮ，Ｎ’−ジ（１−デオキシグルシチル）−アルキレンジアミンと適切なアルデヒドの還元的アルキル化によって得ることができる。化合物（４ａ）の調製は、米国特許出願公開第２００４／０１８０９７０号明細書において説明及び例示されている。
【００２０】
本発明を実施するのに有用な第５のクラスのガス水和物抑制剤は、一般式（５）のＮ，Ｎ’−ジアルキルポリアルキレンポリアミンの四級誘導体からなる。
【化２４】
2006307217.tif 000025
式（５）において、Ｒ1はＣ3〜Ｃ12の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル又はアリール置換の分枝若しくは直鎖アルキルであり；Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ4のアルキル、ベンジル、Ｃ3〜Ｃ5のアルケニル及び（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-からなる群より選択され、式中、ｐが１又は２であり、但し、Ｒ2とＲ3の両方が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることはなく；Ｒ4及びＲ5は独立してＣ2〜Ｃ6のアルキレンより選択され；ｎは０〜４の整数であり；Ｘ-はＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ2又はＲ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（５）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない。当業者であれば、式（５）における「（ｎ＋２）Ｘ-」という語の使用は、電荷の中性を提供するのに必要とされるアニオンの量を示すものであると理解するであろう。
【００２１】
好適な例示的Ｒ1基としては、直鎖又は分枝鎖のアルキル基、例えば、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、２−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、２−ペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、２−メチルペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、３，５−ジメチルオクチル、３，７−ジメチルオクチル、デシル、ウンデシル及びドデシル、並びにシクロヘキシルメチル、ベンジル、フェネチル及びｐ−メチルベンジルが挙げられる。好適な例示的Ｒ2及びＲ3基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、２−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソブチル及びベンジルが挙げられる。幾つかの実施態様においては、Ｒ4とＲ5は両方とも、（ＣＨ2）2、（ＣＨ2）3、（ＣＨ2）6又は（ＣＨ2）3ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2である。
【００２２】
式（５）による化合物は、合成有機化学の技術分野で公知の任意の方法によって調製することができる。例えば、これらの化合物は、当技術分野で公知の条件下において対応するポリアミン（６）をアルキル化することにより調製でき、ポリアミン（６）は、例えば、米国特許第４，１２６，６４０号明細書、同第４，１９５，１５２号明細書又は同第６，０１５，８５２号明細書のいずれの手順に従って得ることができる。
【化２５】
2006307217.tif 000026
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ5は、Ｒ2が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることがないということ以外は、式（５）に関して規定したとおりである。このようなアルキル化は、例えば、ハロゲン化アルキルとの反応によって行なうことができる（例えば、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｒ．Ｂ．Ｗａｇｎｅｒ及びＨ．Ｄ．Ｚｏｏｋ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９５３，６６８頁を参照されたい）。式（６）による化合物はそれ自体が、本発明による使用に好適なガス水和物抑制剤の第６のクラスを構成する。幾つかの実施態様においては、Ｒ4とＲ5は両方とも、（ＣＨ2）2、（ＣＨ2）3、（ＣＨ2）6又は（ＣＨ2）3ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2である。
【００２３】
本発明による使用に好適な最後のクラスのガス水和物抑制剤は、式（７ａ）及び（７ｂ）において以下に示されるアルキレンジアミンのビス四級誘導体からなる。ここで、各Ｒ1は独立してＣ1〜Ｃ20のアルキル又はベンジルであり；Ｒ2は水素又はメチルであり；Ｒ3はＣ1〜Ｃ18のアルキルであり；ｍは１又は２であり；ｎは２〜１０の整数であり；Ｘ-はＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3である。
【化２６】
2006307217.tif 000027
当業者であれば、式（７ａ）及び（７ｂ）における「２Ｘ-」という語の使用は、電荷の中性を提供するのに必要とされるアニオンの量を示すものであると理解するであろう。化合物（７ａ）の例は、１９９７年４月２８日公開のライオン株式会社による特開平９−１１１６６０号公報並びにＴ．Ｔａｔｓｕｍｉ、Ｗ．Ｚｈａｎｇ、Ｔ．Ｋｉｄａ、Ｙ．Ｎａｋａｔｓｕｊｉ、Ｄ．Ｏｎｏ、Ｔ．Ｔａｋｅｄａ及びＩ．ＩｋｅｄａによるＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ ａｎｄ Ｄｅｔｅｒｇｅｎｔｓ，４，（３），２７９−２８５（２００１）において記載されている。この化合物は、例えば、当業者に公知の条件下で対応する第三アミンをα，ω−ジハロゲン化アルキレンと反応させることにより調製できる。発明者らは、化合物（７ｂ）が新規組成物であると考えている。これらは（７ａ）と同様にして調製できる。即ち、（花王株式会社による２００２年７月１６日公開の特開２００２−２０１１６５号公報において開示されている手順に従って調製できる）対応する第三アミンをα，ω−ジハロゲン化アルキレンと反応させることにより調製できる。
【００２４】
好適な例示的Ｒ1基としては、直鎖アルキル基、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、２−エチルヘキシル及びベンジルが挙げられる。好適なＲ3基としては、直鎖アルキル、分枝鎖アルキル又は混合アルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシルメチル、ｎ−ヘプチル、２−エチルヘキシル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、イソデシル、ドデシル、イソドデシル、イソトリデシル、テトラデシル、混合オクチル／デシル、混合ドデシル／テトラデシル、混合テトラデシル／ドデシル、混合ドデシル／ペンタデシル、及び混合オクタデシル／ヘキサデシル、並びに自然源、例えば、ココアルキル、オレイル、獣脂、及びステアリルから得られる混合アルキル基が挙げられる。
【００２５】
［ガス水和物抑制剤の使用］
本発明を実施するのに有用な抑制剤は、それ自体で又は互いに若しくは当技術分野で公知の他の抑制剤との任意の所望の混合物において又はガス水和物の抑制以外の目的のために含まれる溶媒若しくは他の添加剤とともにガス水和物の形成に対する保護を提供することができる。所望の混合物は、潜在的な水和物形成流体への導入前に混合することによって得ることができるか、又は潜在的な水和物形成流体への同時の導入若しくは逐次的な導入によって得ることができる。本発明の抑制剤と組み合わせて使用できる他の抑制剤の限定的でない例としては、熱力学的抑制剤（例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、しかしそれらに限定されない）、動力学的抑制剤（例えば、ビニルピロリドン、ビニルカプロラクタム、ビニルピリジン、ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルアセトアミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、エタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−オクチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−オクチルアクリルアミド、Ｎ−オクタデシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、Ｎ−ドデシルメタクリルアミド、１−ビニルイミダゾール、及び１−ビニル−２−メチルビニルイミダゾールのホモポリマー又はコポリマー、しかしそれらに限定されない）並びに凝集抑制剤（例えば、テトラアルキルアンモニウム塩、テトラアルキルホスホニウム塩、トリアルキルアシルオキシルアンモニウム塩、ジアルキルジアシルオキシアルキルアンモニウム塩、アルコキシル化ジアミン、トリアルキルアルキルオキシアルキルアンモニウム塩、及びトリアルキルアルキルポリアルコキシアルキルアンモニウム塩）が挙げられる。
【００２６】
ガス水和物抑制剤を含有する配合物を作製するのに好適な例示的な溶媒としては、上記の熱力学的抑制剤、並びに水、Ｃ4〜Ｃ6アルコール、Ｃ4〜Ｃ6グリコール、Ｃ4〜Ｃ10エーテル、Ｃ2〜Ｃ6グリコールのＣ1〜Ｃ6モノ−アルキルエーテル、Ｃ3〜Ｃ10エステル、及びＣ3〜Ｃ10ケトンが挙げられる。本発明の抑制剤と混合できる他の添加剤としては、腐食抑制剤、ワックス抑制剤、スケール抑制剤、アスファルテン抑制剤、乳化破壊剤，消泡剤及び殺生剤が挙げられるがそれらに限定されない。このような混合物中の本発明のガス水和物抑制剤の量は、１〜１００ｗｔ％、好ましくは５〜５０ｗｔ％の範囲にわたって変化させることができる。
【００２７】
所与の用途においてガス水和物を抑制するのに効果的な成分の用量又は割合を先験的に予測することは、不可能ではないにしても非常に困難であると考えられる。例えば、水の塩分、炭化水素流の組成、水と炭化水素の相対量、温度及び圧力など、しかしそれらに限定されない考慮すべき幾つかの複雑な相関因子がある。これらの理由のため、成分の用量及び割合は、当業者に周知の技術により所与の用途のための実験室及びフィールド試験を通して一般に最適化される。本発明の抑制剤を用いた２つの例示的な限定的でないガス水和物抑制剤配合物は以下のとおりである。
［典型的なガス水和物抑制剤配合物Ａ］
本発明の抑制剤１０〜３０ｗｔ％
メタノール７０〜９０ｗｔ％
［典型的なガス水和物抑制剤配合物Ｂ］
本発明の抑制剤１０〜３０ｗｔ％
ポリマーの動力学的抑制剤１０〜３０ｗｔ％
水２０〜４０ｗｔ％
２−ブトキシエタノール２０〜４０ｗｔ％
【００２８】
上記のようなガス水和物抑制剤を存在させることで、水和物の形成速度及び／又は形成量を低減することができる。さらに又はその代わりに、抑制剤がない所与の環境において見られるものに比べて低減された水和物の結晶サイズを得ることができる。ガス水和物を形成できる水及び１つ又は複数の低級炭化水素の複合流又は静止質量に添加されると、本明細書に記載される化合物は、ガス水和物の凝集する傾向を低減することもできる。このことは、これらの炭化水素を生産及び／又は輸送する際に有利な場合がある。このような添加のための方法は当技術分野で周知であり、例えば、Ｐａｋｕｌｓｋｉによる米国特許第６，３３１，５０８号明細書において開示されている。
【００２９】
ガス水和物抑制剤は、ガス水和物の形成を低減又は改質するのに効果的な量において水及び１つ又は複数の低級炭化水素を含む組成物に添加される。典型的には、このような水和物の形成は、高圧、一般的には少なくとも０．２ＭＰａ、より典型的には少なくとも０．５ＭＰａ、最も典型的には少なくとも１．０ＭＰａで生じる。抑制剤は、水が添加される前に低級炭化水素を含有する組成物に添加することができるか又はその逆もまた同じであり、又は抑制剤は両方をすでに含有する組成物に添加することもできる。この添加は、組成物が高圧又は低温にさらされる前又は後に実施することができる。
【００３０】
本発明に従って処理できる組成物としては、水及びゲスト分子を含む流体があり、水とゲスト分子が互いに包接水和物を形成することができる。流体混合物は、ガス状の水又は有機相、水性の液相、及び有機液相のいずれか又はすべてを任意の割合で含むことができる。処理すべき典型的な流体としては、原油又は粗天然ガス流、例えば、油井又はガス井、特には温度が非常に低くガス水和物の形成を助ける海底の油井又はガス井から出るものが挙げられる。
【００３１】
本発明のガス水和物抑制剤は、種々の方法で流体混合物に添加することができ、ただ１つの要件は、水和物の形成を制御するのに十分な量で添加剤が流体混合物に含まれることである。例えば、水和物抑制剤又は添加剤は、流体系、例えば、流動流体流に混合することができる。したがって、抑制剤は、生産井を通して生産される流体中の水和物の形成を制御するため、生産井中の穴の場所に注入することができる。同様に、添加剤は、源泉の場所で生産流体流に注入することができるか又は立上り管を通って延びる配管中に注入することさえでき、生産流体は、海底から水の表面又はその上に位置する海洋生産設備まで海洋の生産操作で輸送される。加えて、添加剤は、混合物を輸送する前に、例えば、海洋の生産場所から陸上の収集及び／又は処理設備まで海中パイプラインを介して流体混合物に注入することができる。
【００３２】
抑制剤の流体混合物中への取り込み又は混合は、当技術分野で周知であるような機械的な手段、例えば、パイプラインにおける静的インラインミキサーの使用により助けることができる。しかしながら、大部分のパイプライン輸送用途においては、流体流の乱流性質によって十分な混合及び接触が生じるため、機械的な混合の助けは不要である。
【００３３】
任意の特定の流体混合物における水和物の形成を効果的に抑制するのに必要とされる添加剤の量は、系の組成並びに流体混合物が受ける温度及び圧力条件に依存している。しかしながら、一般的には、水和物抑制剤は、流体混合物中に存在する水の約０．０１〜約５ｗｔ％、より典型的には約０．１〜約１ｗｔ％の量で存在するよう流体混合物に添加される。
【００３４】
本抑制剤の性能特性は、抑制剤の構造、置換基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の選択、連結基における反復単位の数ｍ又はｎ、並びに窒素原子間のアルキレン基の長さを適切に変更することにより、特定用途について最適化することができる。このような最適化は通常のことであり、特定用途の分野における当業者の能力の範囲内である。したがって、これらの変数をうまく操作することで、例えば、先の開示で概説したものを含む種々の用途においてガス水和物抑制剤として有用性を見出すことができる化合物が得られる。
【００３５】
ガス水和物抑制剤としてのそれらの活性に加えて、本発明の化合物（１ａ）、（２ａ）、（３）、（３ａ）、（３ｂ）、（４）及び（４ａ）は、従来技術の抑制剤に比べて高い生物分解性と低い水生毒性を示すことができる。より一般的には、ジアミン又はポリアミン化合物である本発明の抑制剤（１）、（５）、（６）、（７ａ）及び（７ｂ）は、幾つかの既存の抑制剤と比べて低い水生毒性を示すことができる。
【００３６】
本発明は以下の例によってさらに説明されるが、これらの例は、例証を目的として提示されており、本発明の方法及び組成物を限定するものではない。
【実施例】
【００３７】
例１〜３６では、本発明によるガス水和物の形成を抑制するのに好適な化合物の調製を説明する。例３７及び３８では、このような化合物の使用によるガス水和物形成の抑制を示す実験を説明する。
【００３８】
例１では、式（１）のガス水和物抑制剤の合成における中間体の例であるＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジラウリルエチレンジアミンの調製を説明する。（それはｎ＝０である式（６）による抑制剤の例でもある。）例２〜１０では、他のＮ，Ｎ’−ジ（Ｒ1）−Ｎ，Ｎ’−ジ（Ｒ2）アルキレンジアミンの調製を説明する。
【００３９】
［例１〜１０］
３００ｍＬのオートクレーブエンジニアーズ製ステンレス鋼反応器に、ラウロニトリル７２．４ｇ（０．４０モル）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン１６．８ｇ（０．１９モル）、５％パラジウム担持炭素触媒１．４５ｇ（乾燥重量ベース）及びイソプロパノール４８ｇを仕込んだ。反応器を閉じて窒素及び水素でパージし、水素で約６００ｐｓｉｇに加圧した。混合物を撹拌（１０００ｒｐｍ）しながら１２５℃に加熱し、水素で１０００ｐｓｉｇまで加圧し、水素フィードを調節してこの温度及び圧力で維持した。７時間後、混合物を室温まで冷却し、内径０．５μｍの焼結金属エレメントで濾過することにより生成物を反応器から取り出した。ＧＣ（ガスクロマトグラフィー）とＧＣ−ＭＳ（ガスクロマトグラフィー−質量分析法）による生成物の分析で、転化が完全であり、生成物が９８＋％のＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジラウリルエチレンジアミンと、ちょうど１％を超えるＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−ラウリルエチレンジアミンからなることが示された。真空蒸留（１９０〜２００℃／８０〜１００Ｔｏｒｒ）により、純粋なＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジラウリルエチレンジアミンが得られた。追加のＮ，Ｎ’−ジ（Ｒ1）−Ｎ，Ｎ’−ジ（Ｒ2）アルキレンジアミンは、上記と同様の手順により調製して特性を明らかにすることができる。これらジアミンの幾つかを表１に例２〜１０として示す。
【化２７】
2006307217.tif 000028
【００４０】
【表１】
2006307217.tif 000029
【００４１】
例１１〜１５では、ジ四級塩、即ち、ガス水和物抑制剤の第１のクラスの例、具体的には表１の例１から得られる塩の調製を説明する。
【００４２】
［例１１〜１５］
マグネチックスターラー、還流凝縮器、温度計、隔壁及び窒素パージを備えた２５０ｍＬの三口フラスコに、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ラウリルエチレンジアミン２０ｇ（０．０４７２モル）及びイソプロパノール８０ｍＬを周囲温度で添加した。ジアミンを溶解した後、隔壁を介してシリンジによりヨウ化メチル１２．０８ｇ（０．０８５１モル）を滴下した。混合物を撹拌しながら５０℃に加熱し、この温度で１６時間維持した。室温に冷却した後、ロータリーエバポレータを用いて真空下で溶媒を除去し、表２において例１１として示されるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｎ，Ｎ’−ジラウリルエチレンジアンモニウム二ヨウ化物を得た。生成物の同定及び純度はＮＭＲ分析により決定した。追加のアルキレンジアンモニウムヨウ化物は、上記と同様の手順により調製して特性を明らかにすることができる。これらの幾つかを表２に示す（すべての場合においてＸはＩである）。
【化２８】
2006307217.tif 000030
【００４３】
【表２】
2006307217.tif 000031
【００４４】
例１６〜２０では、ビスベタイン塩、即ち、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるクラス（１）のガス水和物抑制剤の例、具体的には表３における例１６の調製を説明する。
【００４５】
［例１６〜２０］
マグネチックスターラー、還流凝縮器、温度計及び窒素パージを備えた２５０ｍＬの三口フラスコに、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジラウリルエチレンジアミン２０ｇ（０．０４７２モル）、ヨード酢酸ナトリウム２５．５４ｇ（０．１１８０モル）、イソプロパノール８０ｍＬ及び脱イオン水８ｍＬを周囲温度で添加した。混合物を撹拌しながら８０℃に加熱し、この温度で４．５時間維持した。室温に冷却した後、ロータリーエバポレータを用いて真空下で溶媒を除去した。イソプロパノール（約１００ｍＬ）を添加し、真空濾過し、次いでロータリーエバポレータを用いて真空下でイソプロパノールを除去して、表３において例１６として示される純粋なＮ，Ｎ’−ジ（カルボキシメチル）−Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジラウリルエチレンジアンモニウム二水酸化物内塩を得た。追加のビスベタインは、上記と同様の手順により調製して特性を明らかにすることができる。これらの幾つかを表３に示す（化合物は以下の構造を有する）。
【化２９】
2006307217.tif 000032
【００４６】
【表３】
2006307217.tif 000033
【００４７】
例２１〜２５では、窒素上のいずれの置換基もポリヒドロキシアルキル基ではないクラス（２）のガス水和物抑制剤の例である幾つかのビスＮ−オキシドの調製を説明する。
【００４８】
［例２１〜２５］
マグネチックスターラー、還流凝縮器、温度計、隔壁及び窒素パージを備えた１００ｍＬの三口フラスコに、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ラウリルエチレンジアミン５ｇ（０．０１１８モル）及びイソプロパノール２５ｍＬを周囲温度で添加した。混合物を撹拌しながら６０℃に加熱し、その後、３０ｗｔ％水性過酸化水素３．２ｇ（０．０２８モル；２．４当量）をシリンジから滴下した。反応を６０℃で６時間維持した。室温まで冷却した後、ロータリーエバポレータを用いて真空下で溶媒を除去し、表４において例２１として示されるＮ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジラウリルエチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−ビス（Ｎ−オキシド）を得た。生成物の同定及び純度はＮＭＲ分析により決定した。追加の類似のアルキレンジアミンビス（Ｎ−オキシド）は、上記と同様の手順により調製して特性を明らかにすることができる。これらの幾つかを表４に示す。
【化３０】
2006307217.tif 000034
【００４９】
【表４】
2006307217.tif 000035
【００５０】
例２６〜２９では、両方の窒素原子がポリヒドロキシアルキル基で置換された幾つかのビスＮ−オキシド、即ち、下位分類（２ａ）の化合物の調製を説明する。
【００５１】
［例２６〜２９］
溶媒としてイソプロパノールよりもむしろメタノールを使用するとともに、Ｎ，Ｎ’−ジオクチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（１−デオキシグルシチル）エチレンジアミンを使用して例２１の手順を繰り返し、表５に示す化合物（Ｒ4＝Ｈ、ｍとｎがともに２）を調製する。
【化３１】
2006307217.tif 000036
【００５２】
【表５】
2006307217.tif 000037
【００５３】
例３０〜３６では、化合物（７ｂ）の調製を説明する。
【００５４】
［例３０〜３６］
マグネチックスターラー、還流凝縮器、温度計、隔壁及び窒素パージを備えた２５０ｍＬの三口フラスコに、３−（２−エチル）ヘキシルオキシ−１−ジメチルアミノプロパン２１．５ｇ（０．１モル）及びイソプロパノール８０ｍＬを周囲温度で添加した。ジアミンを溶解した後、隔壁を介してシリンジにより１，２−ジクロロエタン４．９５ｇ（０．０５モル）を滴下した。混合物を撹拌しながら５０℃に加熱し、この温度で１６時間維持した。室温まで冷却した後、ロータリーエバポレータを用いて真空下で溶媒を除去し、下表６において例３０として示されるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（２−エチル）ヘキシルオキシプロピル］エチレンジアンモニウム二塩化物を得た。生成物の同定及び純度はＮＭＲ分析により決定した。追加のアルキレンジアンモニウム塩化物は、上記と同様の手順により調製して特性を明らかにされ、例３１〜３６として表６に示される。
【化３２】
2006307217.tif 000038
【００５５】
【表６】
2006307217.tif 000039
【００５６】
例３８では、ガス水和物抑制剤として本明細書に記載される化合物の使用を説明する。例３７は対称標準試料である。
【００５７】
［例３７−性能試験−対称標準試料］
本例では、タービン翼を備えた５００ｃｍ3のステンレス鋼オートクレーブに食塩水（３．５ｗｔ％ＮａＣｌ）１００ｍｌを仕込む。系をメタンで６．５ＭＰａに加圧し、ガスの供給によって圧力を維持する。オートクレーブの温度を約５℃／ｈの速度で以って１５℃の温度まで速やかに低下させる。次いで、温度を制御された仕方において１℃／ｈの速度でゆっくりとさらに低下させる。顕著な水和物の形成が９℃で起こる。
【００５８】
［例３８−性能試験−抑制剤の使用］
本操作は、例３７の場合と同じであるが、メタンによる加圧の前にオートクレーブに本明細書で記載されるようなガス水和物抑制剤を水に対して０．５ｗｔ％添加する。ガス水和物の核形成、成長及び／又は凝集の速度は、対称標準の例３７において観測されたものよりも低い。
【００５９】
本発明は具体的な実施態様を参照して本明細書で説明及び記載されているが、特許請求の範囲は示された詳細に限定されることを意図するものではない。むしろ、これらの詳細において種々の変更が当業者によりなされることが期待され、このような変更は依然として特許請求された主題の趣旨及び範囲内にあり、それに応じてこれらの請求項が解釈されることを意図するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月5日(2006.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水、１つ又は複数の低級炭化水素を含む粗天然ガス流又は原油流、及びガス水和物の形成を改質することのできる少なくとも１つの化合物を含む組成物であって、該化合物が、
ａ）式（１）による化合物であって、
【化１】
2006307217.tif 000064
式中、Ｒ1がＣ4〜Ｃ18の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール及びアラルキルからなる群より選択され；Ｒ2がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール、アラルキル及び式（Ａ）
【化２】
2006307217.tif 000065
の部分からなる群より選択され；Ｒ3がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール又は（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であって、式中、ｐが１又は２であり；ｎが２〜１４の整数であり；ｍが０〜２の整数であり；Ｒ4がＨ、α−Ｄ−グルコピラノシル、β−Ｄ−ピラノシル又はβ−Ｄ−ガラクトピラノシルであり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（１）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（１）による化合物；
ｂ）式（２）による化合物であって、
【化３】
2006307217.tif 000066
式中、Ｒ1、Ｒ2及びｎが式（１）に関して上に規定したとおりである式（２）による化合物；
ｃ）式（３）による化合物であって、
【化４】
2006307217.tif 000067
式中、ｍ及びＲ4が式（１）に関して規定したとおりであり、Ｒ2及びＲ3がそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ16のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基、Ｃ1〜Ｃ16のアルコキシ置換基を含むエチル又はプロピル基、及びＣ5又はＣ6のシクロアルキル基からなる群より選択され、Ｒ3がＨであることができるか又は式（Ｂ）による構造を有することができ、
【化５】
2006307217.tif 000068
式中、Ｒ1がＣ3〜Ｃ12のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基である式（３）による化合物；
ｄ）式（３ｂ）による化合物であって、
【化６】
2006307217.tif 000069
式中、ｍ及びＲ2〜Ｒ4が式（３）に関して規定したとおりであり、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることもでき、式中、ｐが１又は２であり；Ｒ5がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール又はアルキルアリール基であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（３ｂ）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（３ｂ）による化合物；
ｅ）式（４）による化合物であって、
【化７】
2006307217.tif 000070
式中、ｍ及びＲ4が上記式（Ａ）と同様に規定され、各Ｒ2が独立して上記式（３）と同様に規定され、上記式（Ｂ）であることもでき、ｎが２〜１４の整数である式（４）による化合物；
ｆ）式（５）による化合物であって、
【化８】
2006307217.tif 000071
式中、Ｒ1がＣ3〜Ｃ12の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル又はアリール置換の分枝若しくは直鎖アルキルであり；Ｒ2及びＲ3がそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ4のアルキル、ベンジル、Ｃ3〜Ｃ5のアルケニル及び（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-からなる群より選択され、式中、ｐが１又は２であり、但し、Ｒ2とＲ3の両方が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることはなく；Ｒ4及びＲ5が独立してＣ2〜Ｃ6のアルキレンより選択され；ｎが０〜４の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ2又はＲ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（５）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（５）による化合物；
ｇ）式（６）による化合物であって、
【化９】
2006307217.tif 000072
式中、Ｒ2が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることがないということ以外は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ5が式（５）に関して上に規定したとおりである式（６）による化合物；
ｈ）式（７ａ）による化合物であって、
【化１０】
2006307217.tif 000073
式中、各Ｒ1が独立してＣ1〜Ｃ20のアルキル又はベンジルであり；Ｒ2が水素又はメチルであり；Ｒ3がＣ1〜Ｃ18のアルキルであり；ｍが１又は２であり；ｎが２〜１０の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3である式（７ａ）による化合物；並びに
ｉ）式（７ｂ）による化合物であって、
【化１１】
2006307217.tif 000074
式中、Ｒ1、Ｒ3、ｎ及びＸが式（７ａ）に関して上に規定したとおりである式（７ｂ）による化合物
からなる群より選択される組成物。
【請求項２】
前記水の少なくとも一部と前記１つ又は複数の低級炭化水素の少なくとも一部が１つ又は複数のガス水和物の形態である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記少なくとも１つの化合物が式（１）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記少なくとも１つの化合物が式（２）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
Ｒ2が式（Ａ）の部分である、請求項３又は４に記載の組成物。
【請求項６】
Ｒ2が１−デオキシグルシチルである、請求項３又は４に記載の組成物。
【請求項７】
前記少なくとも１つの化合物が式（３）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記少なくとも１つの化合物が式（３ｂ）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
Ｒ3が式（Ｂ）の部分である、請求項７又は８に記載の組成物。
【請求項１０】
Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの化合物が式（４）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
Ｒ2が式（Ｂ）の部分である、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
ｍが２であり、Ｒ4がＨである、請求項７、８又は１１に記載の組成物。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの化合物が式（５）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
Ｒ3とＲ3のうち一方が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの化合物が式（６）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】
Ｒ4とＲ5が両方とも（ＣＨ2）2、（ＣＨ2）3、（ＣＨ2）6又は（ＣＨ2）3ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2である、請求項１４又は１６に記載の組成物。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの化合物が式（７ａ）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１９】
ｎが２、３、４、６又はこれらのうち２つ以上である、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
前記少なくとも１つの化合物が式（７ｂ）による化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項２１】
ｎが２である、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
Ｒ1がメチル、Ｒ3が２−エチルヘキシルである、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２３】
ガス水和物の形成を改質する方法であって、水及び１つ又は複数の低級炭化水素を含む粗天然ガス流又は原油流を、
ａ）式（１）による化合物であって、
【化１２】
2006307217.tif 000075
式中、Ｒ1がＣ4〜Ｃ18の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール及びアラルキルからなる群より選択され；Ｒ2がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール、アラルキル及び式（Ａ）
【化１３】
2006307217.tif 000076
の部分からなる群より選択され；Ｒ3がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルカリール又は（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であって、式中、ｐが１又は２であり；ｎが２〜１４の整数であり；ｍが０〜２の整数であり；Ｒ4がＨ、α−Ｄ−グルコピラノシル、β−Ｄ−ピラノシル又はβ−Ｄ−ガラクトピラノシルであり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（１）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（１）による化合物；
ｂ）式（２）による化合物であって、
【化１４】
2006307217.tif 000077
式中、Ｒ1、Ｒ2及びｎが式（１）に関して上に規定したとおりである式（２）による化合物；
ｃ）式（３）による化合物であって、
【化１５】
2006307217.tif 000078
式中、ｍ及びＲ4が式（１）に関して規定したとおりであり、Ｒ2及びＲ3がそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ16のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基、Ｃ1〜Ｃ16のアルコキシ置換基を含むエチル又はプロピル基、及びＣ5又はＣ6のシクロアルキル基からなる群より選択され、Ｒ3がＨであることができるか又は式（Ｂ）による構造を有することができ、
【化１６】
2006307217.tif 000079
式中、Ｒ1がＣ3〜Ｃ12のアルキル、アルケニル、アリール又はアルキルアリール基である式（３）による化合物；
ｄ）式（３ｂ）による化合物であって、
【化１７】
2006307217.tif 000080
式中、ｍ及びＲ2〜Ｒ4が式（３）に関して規定したとおりであり、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることもでき、式中、ｐが１又は２であり；Ｒ5がＣ1〜Ｃ8のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール又はアルキルアリール基であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（３ｂ）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（３ｂ）による化合物；
ｅ）式（４）による化合物であって、
【化１８】
2006307217.tif 000081
式中、ｍ及びＲ4が上記式（Ａ）と同様に規定され、各Ｒ2が独立して上記式（３）と同様に規定され、上記式（Ｂ）であることもでき、ｎが２〜１４の整数である式（４）による化合物；
ｆ）式（５）による化合物であって、
【化１９】
2006307217.tif 000082
式中、Ｒ1がＣ3〜Ｃ12の分枝アルキル、直鎖アルキル、アルケニル、シクロアルキル又はアリール置換の分枝若しくは直鎖アルキルであり；Ｒ2及びＲ3がそれぞれ独立してＣ1〜Ｃ4のアルキル、ベンジル、Ｃ3〜Ｃ5のアルケニル及び（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-からなる群より選択され、式中、ｐが１又は２であり、但し、Ｒ2とＲ3の両方が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることはなく；Ｒ4及びＲ5が独立してＣ2〜Ｃ6のアルキレンより選択され；ｎが０〜４の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3であり、但し、Ｒ2又はＲ3が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であるごとに、式（５）におけるＸ-部分の数が１だけ少ない式（５）による化合物；
ｇ）式（６）による化合物であって、
【化２０】
2006307217.tif 000083
式中、Ｒ2が（ＣＨ2）p−ＣＯＯ-であることがないということ以外は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ5が式（５）に関して上に規定したとおりである式（６）による化合物；
ｈ）式（７ａ）による化合物であって、
【化２１】
2006307217.tif 000084
式中、各Ｒ1が独立してＣ1〜Ｃ20のアルキル又はベンジルであり；Ｒ2が水素又はメチルであり；Ｒ3がＣ1〜Ｃ18のアルキルであり；ｍが１又は２であり；ｎが２〜１０の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3である式（７ａ）による化合物；並びに
ｉ）式（７ｂ）による化合物であって、
【化２２】
2006307217.tif 000085
式中、Ｒ1、Ｒ3、ｎ及びＸが式（７ａ）に関して上に規定したとおりである式（７ｂ）による化合物
からなる群より選択されるガス水和物の形成を改質することのできる少なくとも１つの化合物と接触させることを含む方法。
【請求項２４】
前記少なくとも１つの化合物が式（３）による化合物を含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記少なくとも１つの化合物が式（４）による化合物を含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
式（７ｂ）による化合物であって、
【化２３】
2006307217.tif 000086
式中、Ｒ1がＣ1〜Ｃ20のアルキル又はベンジルであり；Ｒ3がＣ1〜Ｃ18のアルキルであり；ｍが１又は２であり；ｎが２〜１０の整数であり；Ｘ-がＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＯＨ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、１／２ＳＯ4-2又は１／３ＰＯ4-3である、化合物。
【請求項２７】
Ｒ3が２−エチルヘキシルである、請求項２６に記載の化合物。
【請求項２８】
Ｒ1がメチルである、請求項２６に記載の化合物。
【外国語明細書】
2006307217000001.pdf