(57)【要約】 【課題】  バンク（隔壁部）内に形成する有機材料の膜厚バラツキが生じた場合にも、輝度のバラツキが生じ難い構成を備えた有機ＥＬ装置を提供する。【解決手段】  本発明の有機ＥＬ装置は、基板２上に、複数の画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂを区画形成する隔壁部１１２を有してなり、前記画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂには、陽極１１１と、有機ＥＬ層１１０ｂと、陰極１２とが積層して形成され、前記陽極１１１の外縁１１１ｇが、前記有機ＥＬ層１１０ｂの外縁１１０ｇの内側に位置してなることを特徴とする。【選択図】    図３
2006260792.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、複数の画素領域を区画形成する隔壁部が形成されてなり、
前記画素領域には、少なくとも第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とが積層して形成され、
前記有機ＥＬ層が、前記隔壁部によって囲まれた領域に形成されてなる一方、
前記第１電極と前記第２電極の少なくとも一方が、前記画素領域毎にパターン形成されるとともに、当該電極の外縁が前記有機ＥＬ層の外縁よりも内側に位置するように形成されてなることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項２】
前記第１電極が、前記基板上において、前記画素領域毎にパターン形成された画素電極として構成されてなるとともに、当該第１電極の外縁が前記有機ＥＬ層の外縁よりも内側に位置するように形成されてなることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項３】
前記第１電極と第２電極のうち前記第１電極のみが、当該第１電極の外縁が前記有機ＥＬ層の外縁よりも内側に位置するように形成されてなり、
前記第２電極は、前記各画素領域に跨って形成された対向電極として構成されてなることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項４】
前記第１電極が陽極で、前記第２電極が陰極であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項５】
前記隔壁部が、相対的に小さな開口面積の第１開口領域を形成する第１隔壁部と、該第１隔壁部上に形成され、相対的に大きな開口面積の第２開口領域を形成する第２隔壁部とを有してなることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項６】
前記有機ＥＬ層が、当該有機ＥＬ層を構成する有機材料を溶媒に溶解ないし分散させた液状物を、前記隔壁部によって囲まれた領域に塗布して形成されたものであることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項７】
前記有機ＥＬ層が、液滴吐出法により形成されたものであることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ装置、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
自発光型の表示デバイスである有機ＥＬ装置（有機エレクトロルミネッセンス装置）としては、陽極と陰極との間に有機材料からなる正孔輸送層や発光層を挟持した構成のものがある。このような有機ＥＬ装置を製造する場合において、有機材料を用いる正孔輸送層及び発光層の成膜は、スピンコート法或いはインクジェット法等が好適に用いられる。特に、特許文献１のようにインクジェット法を用いる場合、目的の画素に成膜するために陽極上にバンクを形成しており、このようなバンクの形成により、有機材料（正孔輸送層形成材料又は発光層形成材料）及び溶媒を含む液滴が画素内に安定に着弾する。
【特許文献１】特開平１０−１５３９６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
特許文献１のようなインクジェット法を用いた場合、液滴を画素内へ着弾させた後、脱溶媒工程を経て、目的の正孔輸送層又は発光層が成膜される。ここで、液滴の状態から乾燥工程を経て膜になる際に、バンクで囲まれた画素の中央部と外周部（端部）とでは、バンクとの親和性や陽極上の表面状態の違いに起因して、膜厚のバラツキが生じてしまう場合がある。特に、画素の外周部においては膜厚が大きく、画素の中央部において膜厚が小さく形成される傾向にある。
【０００４】
発光層の膜厚と電流の関係は、一般的に言われている導電性ポリマーとほぼ同じ傾向が見られ、膜厚の２乗〜３乗の関係で電流のバラツキが生じ得る。電流と輝度の関係は線形に近いと考えると、ある範囲での輝度のバラツキを抑えるためには、膜厚のバラツキを厳密に抑えなければならない。一方、バンクを形成する以上、上述したような画素の中央部と外周部とにおいて発生する膜厚のバラツキを回避することは困難な状況にある。
【０００５】
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであって、バンク（隔壁部）内に形成する有機材料の膜厚バラツキが生じた場合にも、輝度のバラツキが生じ難い構成を備えた有機ＥＬ装置を提供することを目的としている。また、本発明は、そのような有機ＥＬ装置を備えた信頼性の高い電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の有機ＥＬ装置は、基板上に、複数の画素領域を区画形成する隔壁部が形成されてなり、前記画素領域には、少なくとも第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とが積層して形成され、前記有機ＥＬ層が、前記隔壁部によって囲まれた領域に形成されてなる一方、前記第１電極と前記第２電極の少なくとも一方が、前記画素領域毎にパターン形成されるとともに、当該電極の外縁が前記有機ＥＬ層の外縁よりも内側に位置するように形成されてなることを特徴とする。
【０００７】
このような有機ＥＬ装置によると、少なくとも一方の電極の外縁が、有機ＥＬ層の外縁の内側に位置してなるため、電極の形成領域が有機ＥＬ層の形成領域の平面視内側となり、つまり有機ＥＬ層の外周部に平面視重畳する位置には少なくとも一方の電極が形成されないこととなる。したがって、画素領域に形成される有機ＥＬ層において、例えば製造上の理由で画素領域の中央部と外周部とで膜厚にバラツキ（差異）が生じるような場合にも、有機ＥＬ層の外周部に重畳する位置には電極が形成されていないことで、当該外周部は発光に寄与されないこととなる。その結果、膜厚のバラツキに起因する輝度のバラツキが生じることもなく、均一な発光が得られることとなる。また、輝度のバラツキに起因する寿命のバラツキも生じることがなくなり、ひいては当該有機ＥＬ装置の寿命向上にも寄与することが可能となる。
【０００８】
前記第１電極は、前記基板上において、前記画素領域毎にパターン形成された画素電極として構成されてなるものとすることができる。このような画素電極の形成領域を、上述した通り有機ＥＬ層の形成領域との関係で決定した場合、本発明の有機ＥＬ装置を好適に提供することができる。なお、前記第２電極は、前記各画素領域に跨って全面ベタ状に形成された対向電極として構成されてなるものとすることができる。全面ベタ状に形成した対向電極に対して、上述の通り画素電極の外縁が有機ＥＬ層の外縁よりも内側に位置するように当該第１電極を形成することで、本発明の有機ＥＬ装置を好適に提供することができる。また、第１電極を陽極とし、第２電極を陰極として、当該有機ＥＬ装置を構成することができる。
【０００９】
前記隔壁部が、相対的に小さな開口面積の第１開口領域を形成する第１隔壁部と、該第１隔壁部上に形成され、相対的に大きな開口面積の第２開口領域を形成する第２隔壁部とを有してなるものとすることができる。この場合、例えば第１電極は相対的に小さな開口を形成する第１隔壁部により囲まれた画素領域の内側に形成するものとし、有機ＥＬ層は相対的に大きな開口を形成する第２隔壁部により囲まれた画素領域の内側に形成するものとすれば、本発明の有機ＥＬ装置を好適に提供することができるようになる。
【００１０】
なお、前記有機ＥＬ層は、当該有機ＥＬ層を構成する有機材料を溶媒に溶解ないし分散させた液状物を、前記隔壁部によって囲まれた領域に塗布して形成されたものとすることができる。隔壁部によって囲まれた領域に液状物を塗布して有機ＥＬ層を形成する液相法を採用した場合、有機ＥＬ層は隔壁部に対する濡れ性の度合いによって、その膜厚が中央部と外周部とで異なり不均一となる場合があるが、このような液相法により形成されてなる有機ＥＬ層を含む有機ＥＬ装置について本発明の構成を採用すると、当該膜厚の不均一化の問題を上述の通り解消することができる。なお、液相法としては、具体的には液滴吐出装置（インクジェット装置）を用いた液滴吐出法を例示することができる。
【００１１】
次に、上記課題を解決するために、本発明の電子機器は、上記有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする。この場合、発光ムラが少なく、信頼性の高い電子機器を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図において、図面上で認識可能な大きさとするために、縮尺は各層や各部材ごとに異なる場合がある。
【００１３】
（第１実施形態）
図１は、本発明の有機ＥＬ装置の一実施形態を示すものであって、特にアクティブマトリクス型の有機ＥＬ装置について模式的に示す図である。なお、この図１に示す有機ＥＬ装置１は、薄膜トランジスタを用いたアクティブ型の駆動方式を採用している。
【００１４】
有機ＥＬ装置１は、基板２の上に、回路素子としての薄膜トランジスタを含む回路素子部１４、陽極（画素電極）１１１、有機ＥＬ層（有機ＥＬ素子）を含む機能層１１０、陰極（対向電極）１２、及び封止部３等を順次積層した構成からなる。
【００１５】
基板２としては、本例ではガラス基板が用いられている。ガラス基板の他にも、シリコン基板、石英基板、セラミックス基板、金属基板、プラスチック基板、プラスチックフィルム基板等、公知の様々な基板が適用される。基板２内には、発光領域としての複数の画素領域Ａがマトリクス状に配列されており、カラー表示を行う場合、例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色に対応する画素領域Ａが所定の配列で構成される。各画素領域Ａには、陽極１１１が配置され、その近傍には信号線１３２、電源線１３３、走査線１３１及び図示しない他の陽極用の走査線等が配置されている。画素領域Ａの平面形状は、図に示す矩形の他に、円形、長円形など任意の形状が適用される。
【００１６】
また、封止部３は、水や酸素の侵入を防いで陰極１２あるいは機能層１１０の酸化を防止するものであり、基板２に塗布される封止樹脂、及び基板２に貼り合わされる封止基板３ｂ（封止缶）等を含む。封止樹脂の材料としては、例えば、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等が用いられ、特に、熱硬化樹脂の１種であるエポキシ樹脂が好ましく用いられる。封止樹脂は、基板２の周縁に環状に塗布されており、例えば、マイクロディスペンサ等により塗布される。封止基板３ｂは、ガラスや金属等からなり、基板２と封止基板３ｂとは封止樹脂を介して貼り合わされている。
【００１７】
図２は、上記有機ＥＬ装置１の回路構造を示している。
図１に示した基板２上には、図２に示すような複数の走査線１３１と、走査線１３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１３２と、信号線１３２に並列に延びる複数の電源線１３３とが配線されている。また、走査線１３１及び信号線１３２の交点毎に上記画素領域Ａが形成されている。
信号線１３２には、例えば、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを含むデータ側駆動回路１０３が接続されている。また、走査線１３１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを含む走査側駆動回路１０４が接続されている。
【００１８】
画素領域Ａには、走査線１３１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の第１の薄膜トランジスタ１２３と、この薄膜トランジスタ１２３を介して信号線１３２から供給される画像信号を保持する保持容量１３５と、保持容量１３５によって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用の第２の薄膜トランジスタ１２４と、この薄膜トランジスタ１２４を介して電源線１３３に電気的に接続したときに電源線１３３から駆動電流が流れ込む陽極（画素電極）１１１と、陽極１１１と陰極（対向電極）１２との間に挟み込まれる機能層１１０とが設けられている。なお、機能層１１０は、有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ層を含むものである。
【００１９】
画素領域Ａでは、走査線１３１が駆動されて第１の薄膜トランジスタ１２３がオンとなると、そのときの信号線１３２の電位が保持容量１３５に保持され、この保持容量１３５の状態に応じて、第２の薄膜トランジスタ１２４の導通状態が決まる。また、第２の薄膜トランジスタ１２４のチャネルを介して電源線１３３から陽極１１１に電流が流れ、さらに機能層１１０を通じて陰極（対向電極）１２に電流が流れる。そして、このときの電流量に応じて、機能層１１０が発光する。
【００２０】
図３は、上記有機ＥＬ装置１における表示領域の断面構造を拡大して示す図である。この図３には赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色に対応する３つの画素領域の断面構造が示されている。前述したように、有機ＥＬ装置１は、基板２上に、ＴＦＴなどの回路等が形成された回路素子部１４、陽極（画素電極）１１１、機能層１１０が形成された発光素子部１１、及び陰極（対向電極）１２が順次積層されて構成されている。
この有機ＥＬ装置１では、機能層１１０から基板２側に発した光が、回路素子部１４及び基板２を透過して基板２の下側（観測者側）に出射されるとともに、機能層１１０から基板２の反対側に発した光が陰極１２により反射されて、回路素子部１４及び基板２を透過して基板２の下側（観測者側）に出射されるようになっている。
【００２１】
回路素子部１４には、基板２上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜２ｃが形成され、この下地保護膜２ｃ上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜１４１が形成されている。なお、半導体膜１４１には、ソース領域１４１ａ及びドレイン領域１４１ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域１４１ｃとなっている。
さらに回路素子部１４には、下地保護膜２ｃ及び半導体膜１４１を覆う透明なゲート絶縁膜１４２が形成され、ゲート絶縁膜１４２上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極１４３（走査線）が形成され、ゲート電極１４３及びゲート絶縁膜１４２上には透明な第１層間絶縁膜１４４ａと第２層間絶縁膜１４４ｂが形成されている。ゲート電極１４３は半導体膜１４１のチャネル領域１４１ｃに対応する位置に設けられている。また、第１、第２層間絶縁膜１４４ａ、１４４ｂを貫通して、半導体膜１４１のソース、ドレイン領域１４１ａ、１４１ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール１４５，１４６が形成されている。
【００２２】
そして、第２層間絶縁膜１４４ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な陽極１１１が所定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール１４５がこの陽極１１１に接続されている。
また、もう一方のコンタクトホール１４６が電源線１３３に接続されている。
このようにして、回路素子部１４には、各陽極１１１に接続された駆動用の薄膜トランジスタ１２３が形成されている。なお、回路素子部１４には、前述した保持容量１３５及びスイッチング用の薄膜トランジスタ１２４も形成されているが、図３ではこれらの図示を省略している。
【００２３】
発光素子部１１は、複数の陽極１１１上の各々に積層された機能層１１０と、機能層１１０同士の間に配されて各機能層１１０を区画するバンク部１１２とを主体として構成されている。機能層１１０上には陰極１２が配置されている。なお、発光素子である有機ＥＬ素子１０は、陽極１１１、陰極１２、及び機能層１１０等を含んで構成される。
【００２４】
陽極１１１は、ＩＴＯにより形成されてなり、平面視略矩形にパターニングされて形成されている。この陽極１１１の厚さは、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍ程度がよい。
【００２５】
バンク部１１２は、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のあるレジスト（有機材料）から形成されている。また、バンク部１１２は、陽極１１１を区画する領域である第１の開口領域１１２ｄと、機能層１１０（正孔注入／輸送層１１０ａ及び有機ＥＬ層１１０ｂ）を区画する領域である第２の開口領域１１２ｅとを有しており、段差構造を有して構成されている。なお、第１の開口領域１１２ｄの開口径は、第２の開口領域１１２ｅの開口径よりも小さく構成されている。
【００２６】
機能層１１０は、陽極１１１上に積層された正孔注入／輸送層１１０ａと、正孔注入／輸送層１１０ａ上に隣接して形成された有機ＥＬ層（発光層）１１０ｂとから構成されている。
【００２７】
正孔注入／輸送層１１０ａは、正孔を有機ＥＬ層１１０ｂに注入する機能を有するとともに、正孔を正孔注入／輸送層１１０ａ内部において輸送する機能を有する。このような正孔注入／輸送層１１０ａを陽極１１１と有機ＥＬ層１１０ｂの間に設けることにより、有機ＥＬ層１１０ｂの発光効率、寿命等の素子特性が向上する。また、有機ＥＬ層１１０ｂでは、正孔注入／輸送層１１０ａから注入された正孔と、陰極１２から注入される電子が有機ＥＬ層で再結合し、発光が得られる。
【００２８】
有機ＥＬ層１１０ｂは、赤色（Ｒ）に発光する赤色有機ＥＬ層１１０ｂ１、緑色（Ｇ）に発光する緑色有機ＥＬ層１１０ｂ２、及び青色（Ｂ）に発光する青色有機ＥＬ層１１０ｂ３の発光波長帯域が互いに異なる３種類からなり、各有機ＥＬ層１１０ｂ１〜１１０ｂ２が所定の配列（例えばストライプ状）で配置されている。
【００２９】
ここで、本実施の形態の有機ＥＬ装置１では、陽極１１１の外縁１１１ｇが、有機ＥＬ層１１０ｂの外縁１１０ｇの内側に位置している。つまり、陽極１１１の形成領域が有機ＥＬ層１１０ｂの形成領域の平面視内側となるように、これら陽極１１１と有機ＥＬ層１１０ｂが相対配置され、有機ＥＬ層１１０ｂの周縁領域には陽極１１１が平面視重畳配置されていない構成となっている。
【００３０】
したがって、画素領域Ａ（図３ではＲ，Ｇ，Ｂ）に形成される有機ＥＬ層１１０ｂにおいて、例えば製造時においてバンク部１１２との親和性や陽極１１１上の表面状態の違いに起因して、画素領域Ａの中央部と外周部とで膜厚にバラツキ（差異）が生じるような場合にも、有機ＥＬ層１１０ｂの周縁領域（画素領域Ａの外周部）には陽極１１１が形成されていないことで、当該周縁領域は発光に寄与されないこととなる。その結果、有機ＥＬ層１１０ｂにおける膜厚のバラツキに起因して、輝度のバラツキが生じることもなく、均一な発光が得られるものとされている。
【００３１】
なお、本実施の形態の有機ＥＬ装置１において、正孔注入／輸送層１１０ａ及び有機ＥＬ層１１０ｂは、これらを構成する有機材料を溶媒に溶解ないし分散させた液状組成物を、インクジェット法（液滴吐出法）により選択吐出し、その後、該液状組成物を乾燥させることで成膜するものとしている。そして、吐出に先立って、バンク部１１２表面には撥液処理を、陽極１１１上には親液処理を施すものとしており、当該撥液処理及び親液処理に起因して、成膜された正孔注入／輸送層１１０ａ及び有機ＥＬ層１１０ｂには上述のような膜厚のバラツキが生じ得るものとなっている。
【００３２】
次に、陰極（対向電極）１２は、発光素子部１１の全面に形成されており、陽極１１１と対になって機能層１１０に電流を流す役割を果たす。この陰極１２は、本例ではカルシウム層１２ａとアルミニウム層１２ｂとが積層されて構成されている。
【００３３】
（第２実施形態）
次に、本発明の有機ＥＬ装置の第２実施形態について図４を用いて説明する。なお、本第２実施形態で説明する構成要素以外については、第１実施形態と同様の構成を有するものとして説明を省略する。
【００３４】
第１実施形態の有機ＥＬ装置１においては、バンク部１１２が段差構造を有する有機材料により構成されているが、本第２実施形態の有機ＥＬ装置１ａでは、開口径の異なるバンク層を２層積層することで、段差構造を形成した。具体的には、図４に示すように、基板２側に位置する無機物バンク層１１２ａ（第１バンク層）と基板２から離れて位置する有機物バンク層１１２ｂ（第２バンク層）とが積層されて構成されている。無機物バンク層１１２ａは、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機材料からなる。また、有機物バンク層１１２ｂは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のあるレジストから形成されている。
【００３５】
そして、本第２実施形態においても、陽極１１１の外縁１１１ｇが、有機ＥＬ層１１０ｂの外縁１１０ｇの内側に位置している。つまり、陽極１１１の形成領域が有機ＥＬ層１１０ｂの形成領域の平面視内側となるように、これら陽極１１１と有機ＥＬ層１１０ｂが相対配置され、有機ＥＬ層１１０ｂの周縁領域には陽極１１１が平面視重畳配置されていない構成となっている。
【００３６】
したがって、画素領域Ａに形成される有機ＥＬ層１１０ｂにおいて、例えば製造時においてバンク部１１２との親和性や陽極１１１上の表面状態の違いに起因して、画素領域Ａの中央部と外周部とで膜厚にバラツキ（差異）が生じるような場合にも、有機ＥＬ層１１０ｂの周縁領域（画素領域Ａの外周部）には陽極１１１が形成されていないことで、当該周縁領域は発光に寄与されないこととなる。その結果、有機ＥＬ層１１０ｂにおける膜厚のバラツキに起因して、輝度のバラツキが生じることもなく、均一な発光が得られるものとされている。
【００３７】
（第３実施形態）
次に、本発明の有機ＥＬ装置の第３実施形態について図５を用いて説明する。なお、本第３実施形態で説明する構成要素以外については、第１実施形態と同様の構成を有するものとして説明を省略する。
【００３８】
第１実施形態においては、機能層１１０から発した光が基板２の下側（観測者側）に出射するようになっているのに対し、本第３実施形態の有機ＥＬ装置１ｂにおいては、封止基板３ｂの上側（観測者側）に出射するようになっている。本第３実施形態は、基板２の対向側である封止基板３ｂ側から発光を取り出す構成であるので、基板２としては透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミック、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
【００３９】
また、陽極１１１としては、必ずしも透明性材料に限る必要がなく、陽極の機能を満たす材料が用いられ、また、光反射性を有する材料が好ましく、Ａｌ等が採用される。なお、陽極１１１として透明金属のＩＴＯ等を採用する場合には、その下層にＡｌ薄膜等を形成し、光反射性を有する構成が好ましい。
【００４０】
また、陰極１２ｃの材料としては、透明性を有する必要があり、ＩＴＯ等の透明金属が採用される。ここで、ＩＴＯからなる第１陰極と有機ＥＬ層１１０ｂとの間に、透明性を有する膜厚でＡｌ薄膜（第２陰極）を形成してもよい。透明性を有する膜厚としては、５０ｎｍ以下が好ましい。このようなＡｌ薄膜を形成することによって、有機ＥＬ層１１０ｂへの電子注入性を促進させるだけでなく、ＩＴＯをスパッタで形成する際のプラズマダメージを抑制し、また、陰極１２ｃを透過・侵入する水分や酸素から有機ＥＬ層１１０ｂを保護することができる。また、封止基板３ｂの材料としては、透明性を有する好適な材料が採用される。
【００４１】
そして、本第３実施形態においても、陽極１１１の外縁１１１ｇが、有機ＥＬ層１１０ｂの外縁１１０ｇの内側に位置している。つまり、陽極１１１の形成領域が有機ＥＬ層１１０ｂの形成領域の平面視内側となるように、これら陽極１１１と有機ＥＬ層１１０ｂが相対配置され、有機ＥＬ層１１０ｂの周縁領域には陽極１１１が平面視重畳配置されていない構成となっている。
【００４２】
したがって、画素領域Ａに形成される有機ＥＬ層１１０ｂにおいて、例えば製造時においてバンク部１１２との親和性や陽極１１１上の表面状態の違いに起因して、画素領域Ａの中央部と外周部とで膜厚にバラツキ（差異）が生じるような場合にも、有機ＥＬ層１１０ｂの周縁領域（画素領域Ａの外周部）には陽極１１１が形成されていないことで、当該周縁領域は発光に寄与されないこととなる。その結果、有機ＥＬ層１１０ｂにおける膜厚のバラツキに起因して、輝度のバラツキが生じることもなく、均一な発光が得られるものとされている。
【００４３】
（第４実施形態）
次に、本発明の有機ＥＬ装置の第４実施形態について図６を用いて説明する。なお、本第４実施形態の有機ＥＬ装置１ｃは、第３実施形態の有機ＥＬ装置１ｂのバンク部１１２を２層構造としたものである。したがって、以下で説明する構成要素以外については、第３実施形態と同様の構成を有するものとして説明を省略する。
【００４４】
第３実施形態の有機ＥＬ装置１ｂにおいては、バンク部１１２が段差構造を有する有機材料により構成されているが、本第４実施形態では、開口径の異なるバンク層を２層積層することで、段差構造を形成した。具体的には、図６に示すように、基板２側に位置する無機物バンク層１１２ａ（第１バンク層）と基板２から離れて位置する有機物バンク層１１２ｂ（第２バンク層）とが積層されて構成されている。無機物バンク層１１２ａは、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機材料からなる。また、有機物バンク層１１２ｂは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のあるレジストから形成されている。
【００４５】
そして、本第２実施形態においても、陽極１１１の外縁１１１ｇが、有機ＥＬ層１１０ｂの外縁１１０ｇの内側に位置している。つまり、陽極１１１の形成領域が有機ＥＬ層１１０ｂの形成領域の平面視内側となるように、これら陽極１１１と有機ＥＬ層１１０ｂが相対配置され、有機ＥＬ層１１０ｂの周縁領域には陽極１１１が平面視重畳配置されていない構成となっている。
【００４６】
したがって、画素領域Ａに形成される有機ＥＬ層１１０ｂにおいて、例えば製造時においてバンク部１１２との親和性や陽極１１１上の表面状態の違いに起因して、画素領域Ａの中央部と外周部とで膜厚にバラツキ（差異）が生じるような場合にも、有機ＥＬ層１１０ｂの周縁領域（画素領域Ａの外周部）には陽極１１１が形成されていないことで、当該周縁領域は発光に寄与されないこととなる。その結果、有機ＥＬ層１１０ｂにおける膜厚のバラツキに起因して、輝度のバラツキが生じることもなく、均一な発光が得られるものとされている。
【００４７】
（第５実施形態）
図７は、本発明の電子機器の一実施の形態を示している。
本例の電子機器は、上述した有機ＥＬ装置を表示手段として備えている。図７は、携帯電話の一例を示した斜視図で、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は前記の有機ＥＬ装置を用いた表示部を示している。このように本発明の電気光学装置に係る有機ＥＬ装置を表示手段として備える電子機器は、良好な発光特性を得ることができ、非常に信頼性が高いものとなる。
【００４８】
上記各実施の形態の有機ＥＬ装置は、上記のような携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、色鮮やかな高画質の表示が得られるものとなっている。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】第１実施形態の有機ＥＬ装置について一部を切り欠いて示す斜視図。
【図２】図１の有機ＥＬ装置の等価回路図。
【図３】図１の有機ＥＬ装置の部分断面模式図。
【図４】第２実施形態の有機ＥＬ装置の部分断面模式図。
【図５】第３実施形態の有機ＥＬ装置の部分断面模式図。
【図６】第４実施形態の有機ＥＬ装置の部分断面模式図。
【図７】電子機器の一実施形態を示す斜視図。
【符号の説明】
【００５０】
２…ガラス基板（基板）、１２…陰極（第２電極）、１１０ｂ…有機ＥＬ層、１１０ｇ…有機ＥＬ層の外縁、１１１…陽極（第１電極）、１１１ｇ…陽極の外縁、１１２…バンク部（隔壁部）、Ａ（Ｒ，Ｇ，Ｂ）…画素領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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