(57)【要約】【課題】  ラップアラウンドシールドを適用した垂直磁気ヘッドのリードライト間隔の狭小化、記録磁界の戻り分による補助磁極端部からのデータ消去及び磁性体のＴＰＲ低減。【解決手段】  ラップアラウンドシールド６，７を分割して形成し、主磁極２側のシールド６の素子高さ方向の高さＧｄを、補助磁極に接続されるシールド７の素子高さ方向の高さより小さくする。【選択図】図４
2006120223.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主磁極と、
補助磁極と、
浮上面側において、前記主磁極のトラック幅方向両側とトレーリング方向に前記主磁極の側面を覆うように形成されたラップアラウンドシールドとを有し、
前記ラップアラウンドシールドの素子高さ方向の高さは、前記主磁極のトレーリングエッジ側の端部における高さが、トレーリングエッジより遠い側の端部における高さよりも小さいことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、前記ラップアラウンドシールドは、主磁極の厚み方向に積層された第１のシールドと第２のシールドからなり、前記第１のシールドの主磁極高さ方向の高さは、前記第２のシールドの主磁極高さ方向の高さよりも小さいことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
請求項２記載の磁気ヘッドにおいて、前記第１のシールドの素子高さ方向の高さは５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にあることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項４】
請求項２記載の磁気ヘッドにおいて、前記第２のシールドの素子高さ方向の高さは３００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲にあることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項５】
請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、前記補助磁極と前記ラップアラウンドシールドは同じ磁性材料によって形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項６】
請求項２記載の磁気ヘッドにおいて、前記補助磁極、前記第1のシールド及び第２のシールドがそれぞれ異なる磁性材料によって形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項７】
請求項２記載の磁気ヘッドにおいて、前記補助磁極は前記主磁極のトレーリング側に配置された第1の補助磁極と前記主磁極のリーディング側に配置された第２の補助磁極からなり、前記第２のシールドは前記第１の補助磁極に接続していることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項８】
請求項７記載の磁気ヘッドにおいて、前記主磁極と前記第1の補助磁極の間に形成されたコイルと、前記主磁極と前記第２の補助磁極の間に形成されたコイルを有することを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項９】
磁気記録層と軟磁性裏打ち層とを備える磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体を駆動する媒体駆動部と、
前記磁気記録媒体に対して記録再生を行う磁気ヘッドであって、主磁極と、補助磁極と、浮上面側において、前記主磁極のトラック幅方向両側とトレーリング方向に前記主磁極の側面を覆うように形成されたラップアラウンドシールドとを有し、前記ラップアラウンドシールドの素子高さ方向の高さは、前記主磁極のトレーリングエッジ側の端部における高さが、トレーリングエッジより遠い側の端部における高さよりも小さい磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して駆動する磁気ヘッド駆動部とを含むことを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項１０】
主磁極と、補助磁極と、浮上面側において前記主磁極のトラック幅方向両側とトレーリング方向に前記主磁極の側面を覆うように形成されたラップアラウンドシールドとを有する磁気ヘッドの製造方法において
主磁極を形成する工程と、
主磁極の周りに磁気ギャップを形成する工程と、
フレームめっき法にて第１のシールドを形成する工程と、
アルミナ膜を形成し、ケミカルメカニカルポリッシンングにて平坦化する工程と、
平坦化された前記第１のシールド上に、前記第１のシールドより素子高さ方向の高さが高い第２のシールドを形成する工程と、
コイル及びコイル絶縁層を形成し、ケミカルメカニカルポリッシンングにて平坦化する工程と、
平坦化された前記第２のシールドに接続して補助磁極を形成する工程と
を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク装置等の記録・再生に用いられる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関するものであり、特に記録ヘッドの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブを付加したビデオレコーダ、ハードディスクドライブ内蔵テレビなどに見られるように、画像、音楽などをハードディスクドライブに保存するニーズが急速に広まりつつある。画像データの増加に伴い、磁気ディスクドライブの面記録密度も、高密度化が要求されている。現在、磁気ヘッドにおいては、１００Gbit／inch２以上の高記録面密度を実現するために、面内磁気記録から垂直磁気記録に技術移行が急速に進みつつある。これは現状の面記録方式を用いると、ビット長を小さくしたとき、媒体の磁化の熱揺らぎが発生し、面内記録密度を上げられないためである。一方、垂直磁気記録方式では媒体垂直方向に磁化するために、この熱揺らぎの問題を回避できる。また、記録には単磁極ヘッドを用い、磁気損失が少なく媒体側に軟磁性裏打ち層（Soft Under Layer）があるため、記録能力も向上する。これも前述した垂直磁気記録への移行の原動力となっている。
【０００３】
面記録密度の高密度化のためには、垂直磁気ヘッドにおいても、トラック密度と線記録密度を向上する必要がある。トラック密度を向上するには、媒体上に書かれるトラック幅を狭小化する必要があり、（１）主磁極のトラック幅を狭小化する、（２）書きにじみを抑止する、などの方法がある。（２）について説明を加える。図１にオーバーライトと媒体上の実効トラック幅の関係を示す。オーバーライトは３０ｄＢ以上が必要なことから、図から明らかなように、幾何トラック幅に対し実効トラック幅が大きいことが分かる。これは、媒体、媒体とヘッドの浮上距離にも依存するが、主磁極からの書きにじみが原因と考えられる。
【０００４】
また、線記録密度向上のためには、記録ヘッドの記録磁界勾配を向上させる必要がある。記録磁界勾配を向上させる方法として、主磁極上に磁気ギャップを介してシールドを配置するトレーリングシールドが提案されている。この手法を用いると、記録磁界勾配は向上するが、トラック幅方向の書きにじみに対しては抑止できない。そこで、主磁極周りに磁気ギャップを介してシールドを配置する構造が提案された。このシールドの配置は、トラック幅方向とトレーリング方向同時にシールドするため、磁界強度には懸念があるが、書きにじみや記録磁界勾配向上効果を期待できる。
【０００５】
US2002/0176214 A1には、トレーリング側に再生ヘッド、リーディング側に、ラップアラウンドシールドを配置した垂直磁気ヘッドが提案されている。The magnetic recording conference (TMRC) 2003 の要旨No.56には、ラップアラウンドシールドを設けるとともに主磁極のトレーリング側とリーディング側に補助磁極を配置した垂直磁気ヘッドが開示されている。
【特許文献１】US2002/0176214 A1
【非特許文献１】The magnetic recording conference (TMRC) 2003、要旨No.56
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
US 2002/0176214 A1に開示された形状は、サイドシールドが直接補助磁極に接続された構造となっている。素子高さ方向のシールド厚みは、典型的な数値として１００ｎｍ〜２００ｎｍと非常に薄く、そのためスライダー加工プロセス時の研磨時、またはドライブ内での衝撃に対してマージンが少ないことが懸念される。また、TMRC2003の要旨No.56で開示されている形状は、ラップアラウンドシールドを適用した主磁極の上下に補助磁極が配置してあり、リードライト間隔が大きく、フォーマット効率が減少する。
【０００７】
一方、垂直磁気ヘッド特有の問題点として、主磁極からの記録磁界が媒体の軟磁性裏打ち層を通り補助磁極に戻る時に、記録磁束が補助磁極端部に集中してデータを消去する問題が知られている。更に、ＴＰＲ（Thermal Protrusion）の問題がある。ＴＰＲとは、コイルから発熱及び動作環境の温度上昇により、磁気ヘッドを構成するＮｉＦｅなどの磁性体が熱膨張して媒体側に突出する現象を云う。ＴＰＲの問題は、面内記録磁気ヘッドでも同様に存在する。
【０００８】
そこで、本発明では、ラップアラウンドシールドに適した垂直磁気ヘッドの構造及び製造方法を提供し、薄膜ラップアラウンドシールドのラッププロセス及びドライブ内の衝撃に対してマージンを拡大し、更には、垂直磁気ヘッドに特有の問題である主磁極から媒体を経由して戻る記録磁束による補助磁極端部への磁束集中を分散でき、同時にＴＰＲを低減できる垂直記録用磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明では、下部シールド、上部シールド、下部シールドと上部シールドとの間に形成された磁気抵抗効果素子を有する再生ヘッドと、主磁極と補助磁極とコイルと、主磁極の周りに磁気ギャップを介して形成されたシールドを有する記録ヘッドを備える垂直磁気ヘッドの製造に際し、主磁極の周りのシールドを分割して形成する。このシールドは、トラック幅方向と、トレーリング側の両方をシールドしているため、ラップアラウンドシールドと呼ぶ。分割して形成したラップアラウンドシールドを有する垂直磁気ヘッドにおいて、主磁極側のシールドをラップアラウンドシールドＩ、補助磁極に接続されるシールドをラップアラウンドシールドIIと定義すると、素子高さ方向のシールドの高さが、ラップアラウンドシールドＩよりラップアラウンドシールドIIの方が大きいのが特徴である。
【００１０】
ラップアラウンドシールドを分割して形成する垂直磁気ヘッドの製造方法としては、まず再生ヘッドの上部磁気シールドを形成し、再生ヘッドと記録ヘッドを分離する絶縁層を作製した後、最初に主磁極形成を行う。次に主磁極の周りに磁気ギャップを形成し、フレームめっき法を用いてラップアラウンドシールドＩを作製する。ラップアラウンドシールドＩは、素子高さの方向の膜厚Ｇｄが１００〜２００ｎｍと薄いために、再生ヘッドとの位置を正確に制御する必要がある。また、シールドには、パーマロイ（ＮｉＦｅ）等の軟磁性体を用いる。次にアルミナを形成し、ＣＭＰ（Chemical Mechanical Polish）にて一旦平坦化する。平坦化されたラップアラウンドシールドＩ上に、素子高さ方向にフレームをシフトさせフレームめっき法にて、更にラップアラウンドシールドIIを素子高さ方向に大きく形成する。ラップアラウンドシールドＩ同様に、シールドには軟磁性材料を用いる。このようにラップアラウンドシールドを２つに分割して形成することにより、素子高さ方向の断面形状は、段差を有した構造となる。ラップアラウンドII形成後、コイル及びコイル絶縁層を形成しＣＭＰにて平坦化する。平坦化されたラップアラウンドシールドIIに補助磁極を接続する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、ラップアラウンドシールドIIを素子高さ方向に厚く形成することにより、非常に薄いラップアラウンドシールドＩの面積を縮小でき、その結果、加工プロセスの研磨等による衝撃に対し強度が増しマージンが拡大する。
【００１２】
また、補助磁極に接続したラップアラウンドシールドIIの素子高さ方向の膜厚は、３００ｎｍ以上あり比較的厚いため、浮上面からみた補助磁極の面積が、ラップアラウンドシールドIIの面積分大きくなる。これにより、補助磁極自体を薄膜化することが可能となる。その結果、補助磁極のＴＰＲを低減できる。また、補助磁極の面積が大きくなることは、記録磁界が媒体を経由して補助磁極に戻る磁束を分散でき、補助磁極端部によるデータ消去を改善する効果も同時にもたらす。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。以下の図において同様の機能部分には同じ符号を付して説明する。
【００１４】
図２は、磁気記録再生装置の概念図である。磁気記録再生装置は、モータ２１によって回転する磁気ディスク（磁気記録媒体）４０上の所定位置に、サスペンションアーム１９の先端に固定されたスライダー１８に搭載された磁気ヘッドによって磁化信号の記録再生を行う。ロータリアクチュエータ２０を駆動することにより、磁気ヘッドの磁気ディスク半径方向の位置（トラック）を選択することができる。磁気ヘッドへの記録信号及び磁気ヘッドからの読み出し信号は信号処理回路３５ａ，３５ｂにて処理される。
【００１５】
図３は、垂直磁気ヘッド５０と磁気ディスク４０との関係及び垂直記録の概略を示す図である。本発明の垂直磁気ヘッド５０は、ヘッドの走行方向側（リーディング側）から、下部再生シールド４８、再生素子４７、上部再生シールド４９、主磁極２、薄膜コイル４、補助磁極３の順に積層されている。下部再生シールド４８、再生素子４７、上部再生シールド４９は再生ヘッド５１を構成し、主磁極２、薄膜コイル４、補助磁極３は記録ヘッド（単磁極ヘッド）５２を構成する。主磁極２の周りにはラップアラウンドシールド４６が形成されている。主磁極２の浮上面形状は、ヘッドにスキュー角がついた場合を考慮して、リーディング側の幅が狭い台形形状とされる。記録ヘッド５２の主磁極２から出た磁界は、磁気ディスク４０の磁気記録層４１、軟磁性裏打ち層４２を通り、補助磁極３に入る磁気回路を形成し、磁気記録層４１に磁化パターン５を記録する。このとき、ディスク回転方向との関係から、主磁極２が磁気ディスクのある点から最後に離れる部分即ち主磁極の上面（トレーリング側）及び、側面の形状が磁化パターンの形状に大きな影響を及ぼす。磁気ディスク４０の磁気記録層４１と軟磁性裏打ち層４２の間には中間層が形成されている場合もある。再生ヘッド５１の再生素子４７には、巨大磁気抵抗効果素子（ＧＭＲ）やトンネル磁気抵抗効果型素子（ＴＭＲ）などが用いられる。
【００１６】
図４は、本発明による磁気ヘッドの代表的な浮上面形状と断面形状を示す図である。図４（ａ）は浮上面形状を表し、図４（ｂ）は断面形状を表す。本発明の磁気ヘッドの特徴は、断面形状を表す図４（ｂ）に示すとおり、主磁極２の側面を覆うラップアラウンドシールド６，７を主磁極厚み方向に分割して形成することにより、図のようにラップアラウンドシールド部分が主磁極２の高さ方向に段差を有することにある。
【００１７】
また、ラップアラウンドシールド構造を有した垂直磁気ヘッドにおいて、主磁極とラップアラウンドシールドのトレーリング側のギャップ間隔Ｇｔ、主磁極とラップアラウンドシールドのトラック幅方向の間隔Ｇｓ、素子高さ方向のラップアラウンドシールドの厚み（素子高さ方向の高さ）Ｇｄの制御は、非常に重要である。
【００１８】
図５は、３次元磁界計算により得られた主磁極２とラップアラウンドシールドのトレーリング側のギャップ間隔Ｇｔと、記録磁界勾配の関係を示す図である。この計算においては、主磁極２のトラック幅を規定する幅と膜厚はそれぞれ１２０ｎｍ、２００ｎｍとした。主磁極２のヘッド浮上面の形状は、トレーリング側の幅が広い台形とした。主磁極２の材料として、飽和磁束密度が１．７Ｔの４５ａｔ％Ｎｉ−５５ａｔ％Ｆｅを想定し、比透磁率を１０００とした。また、主磁極ヨーク部９は飽和磁束密度が１．０Ｔの８０ａｔ％Ｎｉ−２０ａｔ％Ｆｅを想定した。補助磁極３は、飽和磁束密度が１．０Ｔの材料を想定し、大きさは、トラック幅方向の幅を３０μｍ、素子高さ方向の長さを１６μｍ、膜厚を２μｍとした。上部シールド４９、下部シールド４８は、飽和磁束密度が１．０Ｔの８０ａｔ％Ｎｉ−２０ａｔ％Ｆｅを想定し、大きさは、トラック幅方向の幅を３２μｍ、素子高さ方向の長さは１６μｍ、膜厚を１．５μｍ、とした。また、ラップアラウンドシールド部分の材料は飽和磁束密度が１．０Ｔの８０ａｔ％Ｎｉ−２０ａｔ％Ｆｅを想定した。磁気記録媒体の裏打ち層の材料としてはＣｏＴａＺｒを想定し、ヘッド浮上面から裏打ち層の表面までの距離は４０ｎｍ、裏打ち層の膜厚は１５０ｎｍとした。記録磁界はヘッド浮上面から２５ｎｍの媒体中心を想定した位置で算出した。
【００１９】
図５から、磁界勾配を急峻化させるには、Ｇｔを２０〜６０ｎｍに膜厚制御する必要があることが分かる。主磁極２の材料として、ＣｏＮｉＦｅ，ＦｅＣｏなどの更に飽和磁束密度が大きい材料を適用しても同様の結果が得られることを我々は確認している。
【００２０】
図６は、３次元磁界計算により得られた主磁極２とラップアラウンドシールドのサイド側のギャップ間隔Ｇｓと主磁極中央の磁界強度の関係を示す図である。記録磁界を低下させないためには、サイド側のギャップ間隔Ｇｓを１００ｎｍ程度に制御する必要がある。
【００２１】
図７は、ラップアラウンドシールドの主磁極２側のシールド６の素子高さ方向の厚みＧｄを変化させた時の記録磁界強度の関係を示す図である。主磁極２のスロートハイトは、１５０ｎｍとして計算した。図から明らかなように、急激に記録磁界を低下させないためにも、主磁極２側のシールド６の素子高さ方向の厚みＧｄは５０〜２００ｎｍに制御することが重要である。
【００２２】
上記構造を実現するための製造方法と作用について、図８（１）と図８（２）に示すプロセスフローを用いて説明する。図の左側は浮上面から見た概略図、右側は概略断面図である。再生ヘッドの製造工程は従来と変わらないため、図には、記録ヘッドの製造工程のみを示す。再生ヘッドとしては、巨大磁気抵抗効果型ヘッド（ＧＭＲヘッド）及び、更に再生出力が大きいトンネル型巨大磁気抵抗効果型ヘッド（ＴＭＲヘッド）や膜面に垂直に電流を流すＣＰＰ型ＧＭＲヘッドを用いることができる。
【００２３】
（ａ）記録ヘッドと再生ヘッドを分離する絶縁層８上に、ヨーク９をめっきにて形成し、アルミナ被覆後、ＣＭＰにて平坦化する。ヨークの材料はＮｉＦｅである。記録後消去の観点からもＮｉＦｅの磁歪は負が望ましい。平坦化されたヨーク上に、最初に主磁極２をイオンミリングにて形成する。上部磁気シールドの次に主磁極２を形成するため、再生素子と主磁極との間隔が縮小でき、リードライト間隔を狭小化することが可能である。リードライト間隔小さく出来ることにより、フォーマット効率が向上する。
【００２４】
（ｂ）次に、主磁極２上にギャップ膜となるアルミナ膜を形成し、磁気ギャップ１０の加工をイオンミリングにて行う。ミリング角度は、４５〜６０度で行うと図に示するような主磁極のトレーリング側のギャップを薄く、サイド側を厚くした所望の形状が得られる。磁気ギャップ形成後、ヨーク９及び主磁極２と磁気ギャップ１０をイオンミリングにて分離する。ここでは、記録後消去の観点から、主磁極２をヨーク９から分離した形態を適用している。特性によっては、分離しなくてもよい。
【００２５】
（ｃ）次に、シード膜を形成しフレームめっき法にて、主磁極厚み方向にラップアラウンドシールド６とバックギャップ部１４を同時に形成する。上述したように磁界強度を一定に保つためには素子高さ方向の膜厚Ｇｄの制御が重要であるため、高精度ステッパを用いてフレームを形成しＧｄの位置を制御するのが望ましい。例えば、ニコンEx12BKrFステッパを用いた場合、再生素子と主磁極の高さＧｄの重ね合わせ精度は、３σで６０ｎｍ以下に制御することが可能である。更なる高精度手法として、重ね合わせ測定機を用いた制御などを用いても良い。また、シールド材には軟磁性材料を用いる。典型的な軟磁性材料として、パーマロイ（ＮｉＦｅ）が利用可能である。もちろん他の磁性材料、例えば、ＦｅＣｏ，ＦｅＣｏＮｉ，ＮｉＦｅＣｒ，ＦｅＮｉＣｕ等を用いてもよい。軟磁性膜の形成手段は、スパッタ法であっても良い。めっきを用いる場合、シード膜は非磁性でも良い。シード膜を非磁性とする場合には、ギャップ膜厚にシード膜厚を含める必要がある。
【００２６】
（ｄ）主磁極の高さ方向にラップアラウンドシールド６を形成した後、アルミナ膜１１を形成し、ＣＭＰにて平坦化する。このＣＭＰにて、主磁極形成工程にて発生するミリングによるヨークの周りの段差をキャンセルできる。ラップアラウンドシールド６のトレーリング方向の高さをＧｙ1とすると、絶縁耐圧を確保するためにも３００ｎｍ以上が望ましい。
【００２７】
（ｅ）平坦化されたラップアラウンドシールド６上に、シード膜（図示していない）を形成し、主磁極の素子高さ方向にフレームをシフトさせ、めっきにてラップアラウンドシールド７とバックギャップ部１４を同時に形成する。ラップアラウンドシールド７に用いるシールド材としては、ラップアラウンドシールド６と同様に、典型的な軟磁性材料であるパーマロイ（ＮｉＦｅ）が利用可能である。もちろん他の軟磁性材料、例えば、ＦｅＣｏ，ＦｅＣｏＮｉ，ＮｉＦｅＣｒ，ＦｅＮｉＣｕ等を用いてもよい。軟磁性膜の形成手段は、スパッタ法であっても良い。また、ラップアラウンドシールド６と７とは、同じ軟磁性材料であってもよいし違う軟磁性材料の組み合わせでもよい。
【００２８】
このとき、図８（ｅ）に示すとおり、素子高さ方向のラップアラウンドシールド６の高さ（Ｇｄ１と定義する）とラップアラウンドシールド７の高さ（Ｇｄ２と定義する）には、Ｇｄ１＜Ｇｄ２の関係が成り立つ。また、トレーリング方向のラップアラウンドシールド７の高さをＧｙ2とすると、コイル形成を考慮して１μｍ以上あったほうが良い。また、ラップアラウンドシールド７の素子高さ方向の膜厚は、シールドの磁性材料のＴＰＲを考慮すると３００ｎｍ〜５００ｎｍが望ましい。シールドの膜厚が５００ｎｍ以上になるとシールド材自体が膨張する懸念があるからである。
【００２９】
（ｆ）ラップアラウンドシールド７を形成後、コイルとシールドを絶縁する絶縁層１２を形成し、コイル４、コイル絶縁層であるレジスト１３とアルミナ膜１１を積層して形成する。これは、コイル上面を熱伝導率の良いアルミナで被覆することにより、コイル発熱を抑えＴＰＲを低減する効果があるためである。
【００３０】
（ｇ）次に、コイル上にアルミナを形成後、ＣＭＰにて平坦化する。平坦化されたラップアラウンドシールド７上に補助磁極３を形成する。ＴＰＲ低減からも、補助磁極３の膜厚は２．０μｍ以下が望ましい。補助磁極を形成後、本工程を終了する。
【００３１】
ラップアラウンドシールドを分割して形成した本発明の垂直磁気ヘッドのＴＰＲを測定した結果を図９に示す。ラップアラウンドシールドを分割せず、ラップアラウンドシールド１のみを形成した従来構造の垂直ヘッド（Ｇｄ１＝１００ｎｍ、補助磁極の膜厚２．０μｍ）と本発明の垂直ヘッド（Ｇｄ１＝１００ｎｍ、Ｇｄ２＝３００ｎｍ、補助磁極の膜厚１．５μｍ）の記録ヘッド部でのＴＰＲを比較すると、図に示すとおり、ＴＰＲが０．４ｎｍ減少した。
【００３２】
図１０は、本発明による垂直磁気ヘッドの他の実施例を示す概略図である。図１０（ａ）は浮上面形状を表し、図１０（ｂ） は断面形状を表す。本実施例の垂直磁気ヘッドは、主磁極のトレーリング側とリーディング側に補助磁極を配置したいわゆるカスプ型垂直磁気ヘッドに、主磁極厚み方向に分割したラップアラウンドシールドを適用したものである。本発明は、このような形態の垂直磁気ヘッドにも適用可能である。
【００３３】
図１１は、本発明による垂直磁気ヘッドの更に他の実施例を示す概略図である。図１１（ａ）は浮上面形状を表し、図１１（ｂ） は断面形状を表す。本実施例の垂直磁気ヘッドは、図１０に示した垂直磁気ヘッドを基本とし、リーディング側の補助磁極と主磁極の間にコイルを配置した垂直磁気ヘッドである。コイルは、現状の素子高さ方向に巻く横巻きコイルでも、トレーリング方向に巻く立て巻き（ヘリカルコイル）でもよい。
【００３４】
本発明の垂直記録用磁気ヘッドを搭載することにより、トラック及び線記録密度を向上させることができ、面記録密度２００Ｇbit／in２の磁気記録再生装置を作成できた。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】オーバーライトと媒体上の実効トラック幅の関係を示す図。
【図２】磁気記録再生装置の概念図。
【図３】垂直磁気ヘッドと磁気ディスクとの関係及び垂直記録の概略を示す図。
【図４】本発明による磁気ヘッドの代表的な浮上面形状と断面形状を示す図。
【図５】トレーリング側のギャップ間隔Ｇｔと記録磁界勾配との関係を示す図。
【図６】サイド側のギャップ間隔Ｇｓと主磁極中央の磁界強度の関係を示す図。
【図７】磁界強度とサイドシールドの浮上面からの厚みの関係を示す図。
【図８（１）】本発明のプロセスフローを示した図。
【図８（２）】本発明のプロセスフローを示した図。
【図９】垂直磁気ヘッドのＴＰＲを測定したグラフ。
【図１０】本発明による垂直磁気ヘッドの他の実施例を示す概略図。
【図１１】本発明による垂直磁気ヘッドの更に他の実施例を示す概略図。
【符号の説明】
【００３６】
２…主磁極、３…補助磁極、４…導体コイル、５…磁化信号、６…ラップアラウンドシールドＩ、７…ラップアラウンドシールドII、８…絶縁層、９…ヨーク、１０…磁気ギャップ、１１…アルミナ膜、１２…コイルとシールドを絶縁する絶縁膜、１３…レジスト、１４…バックギャップ部、１８…磁気ヘッド、１９…アーム、２０…ロータリアクチュエータ、２１…モータ、４０…磁気ディスク、４１…磁気記録層、４２…軟磁性裏打ち層、４６…ラップアラウンドシールド、４７…再生素子、４８…下部再生シールド、４９…上部再生シールド、５０…垂直磁気ヘッド、５１…再生ヘッド、５２…記録ヘッド、Ｇｄ…素子高さ方向のシールドの高さ、Ｇｓ…トラック幅方向の主磁極とシールドの間隔、Ｇｔ…トレーリング側の主磁極とシールドのギャップ間隔
【図１】
2006120223.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2006120223.tif 000009
【図８（１）】
2006120223.tif 000010
【図８（２）】
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【図９】
2006120223.tif 000012
【図１０】
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【図１１】
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