(57)【要約】【課題】本発明の課題は、加工品の表面上のレジストの種類または露光波長に関係なくどのような環境でも使用でき、かつ外部ノイズに対して実質的に影響を受けない流体ゲージ近接センサを提供することである。【解決手段】前記課題は、変調された単方向の流体の流れまたは交番的な流体の流れのソース、およびノズルと流量センサまたは圧力センサとを有する少なくとも１つの経路が設けられており、該流体はノズルとターゲットとの間のギャップに存在し、該流量センサまたは圧力センサは、該ギャップの大きさにしたがって変化する振幅変調された信号を出力することを特徴とする流体フロー近接ゲージによって解決される。【選択図】図１
2006064692.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体フロー近接ゲージにおいて、
変調された単方向の流体の流れまたは交番的な流体の流れのソースと、
ノズルと流量センサまたは圧力センサとを有する少なくとも１つの経路とが設けられており、
流体は、該ノズルとターゲットとの間のギャップに存在し、
該流量センサまたは圧力センサは、前記ギャップの大きさにしたがって変化する振幅変調された信号を出力することを特徴とする、流体フロー近接ゲージ。
【請求項２】
該振幅変調された信号は、振幅変調された搬送周波数を含んでおり、該振幅変調された信号の振幅である、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項３】
該振幅変調された信号を処理する信号処理電子回路が設けられており、
該信号処理電子回路によって、低周波エラーのうち少なくとも１つと、搬送周波数とノイズとが除去される、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項４】
該信号処理電子回路は、アナログまたはデジタルのハードウェア装置またはソフトウェア装置を有する、請求項３記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項５】
該信号処理電子回路は、該振幅変調された信号をフィルタリングするフィルタを有する、請求項３記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項６】
該信号処理電子回路は、センサの信号をフィルタリングする帯域通過フィルタを有する、請求項３記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項７】
該少なくとも１つの経路は、該流量センサまたは圧力センサのうち一方の第１のセンサおよび第２のセンサを有する、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項８】
該流量センサまたは圧力センサを含む差動型のブリッジが設けられている、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項９】
該流量センサまたは圧力センサは、シングルエンド型のセンサを含んでいる、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項１０】
該少なくとも１つの経路は、基準流路を有さないシングルエンド型の測定流路を含んでいる、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項１１】
該流量センサまたは圧力センサは、流量センサまたは差動型の圧力センサまたは絶対圧力センサを有する、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項１２】
第１の信号を形成する該流量センサまたは圧力センサのうち少なくとも一方の第１のセンサを有する基準流路と、
第２の信号を形成する該流量センサまたは圧力センサのうち少なくとも一方の第２のセンサを有する測定流路とが設けられており、
前記第１の信号および第２の信号を減算することにより、振幅変調された信号が形成される、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項１３】
該流量センサまたは圧力センサのうち少なくとも一方の第１のセンサおよび第２のセンサは、流量センサまたは差動型の圧力センサまたは絶対圧力センサを有する、請求項１２記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項１４】
変調された流体の流れの装置には、条件付けされた流体の外部の供給部が設けられており、
前記条件付けされた流体は、高速の可変フローコントローラによって供給され、
前記可変フローコントローラは、流体ゲージへの流れの制御および変調の双方を行う、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項１５】
変調された流体の流れの装置には、条件付けされた流体の外部の供給部と、流れを制御する一定のフローコントローラと、該流れを変調する制御弁とが設けられており、
条件付けされた流体の前記外部の供給部は連続的に、該一定のフローコントローラおよび別個の前記制御弁の双方によって供給される、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項１６】
変調された流体の流れの装置には、条件付けされた流体の外部の供給部と、流れを制御する一定のフローコントローラと、交番的な流れを形成する音響的ドライバとが設けられており、
条件付けされた前記外部の供給部は、まず該一定のフローコントローラによって供給された後、制御された該流れは交番的な流れと加算され、変調された流れが形成される、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項１７】
変調された流体の流れの装置には、周辺流体を使用して交番的な流体の流れを形成する音響的ドライバが設けられている、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項１８】
流体の連続的な供給部と、
ノズルと測定表面との間に測定ギャップを有する測定流路と、
ノズルと基準表面との間に基準ギャップを有する基準流路とが設けられており、
前記基準流路の流れが変調され、
信号処理電子回路は、センサの信号をフィルタリングおよび復調して基準ギャップを検出し、
該信号処理電子回路は、該センサの信号を低域通過フィルタリングして、該基準ギャップと測定ギャップとの間のギャップ差を検出する、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項１９】
該基準流路と測定流路との間に対称的なブリッジが設けられており、
該ブリッジは１つの搬送周波数で変調され、
該基準流路は第２の搬送周波数で変調される、請求項１８記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項２０】
該基準流路または測定流路のうち少なくとも一方が、リストリクタを有する、請求項１８記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項２１】
該基準流路と測定流路との間に合成的なブリッジが設けられている、請求項１８記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項２２】
振幅変調された信号を処理する信号処理電子回路が設けられており、
該信号処理電子回路によって、低周波エラーのうち少なくとも１つと、搬送周波数とノイズが除去され、
該信号処理電子回路は、第１の帯域通過フィルタおよび第２の帯域通過フィルタと、第１の相応の復調器および第２の相応の復調器とを有する、請求項１８記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項２３】
流体は、気体または液体のうち１つを含む、請求項１記載の流体フロー近接ゲージ。
【請求項２４】
リソグラフィツールに設けられる流体ゲージシステムにおいて、
該流体ゲージシステムを通流する流体を変調周波数で変調する装置と、
被測定間隔を表す信号をフィルタリングするアナログまたはデジタルのハードウェアフィルタリングシステムまたはソフトウェアフィルタリングシステムと、
フィルタリングされた該信号を変調周波数で復調するアナログまたはデジタルのハードウェア復調システムまたはソフトウェア復調システムとを有することを特徴とする流体ゲージシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非常に小さい距離を検出するための装置および方法に関し、とりわけ流体の流れによって近接的にセンシングするための装置および方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
多くの自動的な製造工程において、製造ツールと加工される製品または材料の表面との間の間隔をセンシングする必要がある。このような製品または材料は、しばしば「加工品」と称される（たとえば半導体ウェハ、フラットパネルディスプレイ基板等）。たとえばリソグラフィ（たとえばマスクレスリソグラフィ、液浸リソグラフィ、フォトリソグラフィ等）等の幾つかの状況では、ナノメータに達する精度で間隔を測定しなければならない。
【０００３】
このような精度の近接センサを創り出すことに関する試みは、とりわけリソグラフィシステムの場合に有意義である。リソグラフィの場合、この近接センサは侵入型でなく、かつ非常に小さな間隔を精確に検出できることの他に、異物を侵入させることなく、または、典型的には半導体ウェハ、フラットパネルディスプレイ等である加工品に接触するおそれはない。これらの状況のうちどれか１つが発生するだけで、加工品が有意に劣化または破壊するおそれがある。
【０００４】
非常に小さな間隔を測定するために使用可能な近接センサには、種々の種類がある。近接センサの例に、容量センサおよび光学的センサがある。このような近接センサは、リソグラフィシステムで使用される場合に重大な欠点を有する。というのも、ウェハまたは基板に沈殿した材料の物理的特性が、該装置の精度に悪影響を及ぼす可能性があるからだ。たとえば、電荷の濃度に依存する容量ゲージは、１種類の材料（たとえば金属）が集中する場所で、見かけ上の近接的な測定結果を発生させることがある。また、非導電性および／または感光性の材料から成る新種のウェハが使用される場合、別の種類の問題が発生する。このような材料は、たとえば砒化ガリウム（ＧａＡｓ）およびリン化インジウム（ＩｎＰ）である。さらに、光がウェハまたは基板の表面下の部分と相互作用することにより、別の問題が発生することもある。これによって見かけ上の反射が発生し、不所望の干渉パタンが引き起こされてしまう。また、容量センサおよび光学的センサが最適でないケースがある。
【０００５】
近接センシングのための択一的なアプローチでは、流体ゲージセンサが使用される。流体ゲージセンサは、基板表面の電荷濃度、または電気的特性、光学的特性および他の物理的特性の影響を受けにくい。現在の半導体製造では、近接度を高精度で、ナノメータのオーダで測定しなければならない。流体ゲージ技術は、非常に近接している表面までの間隔を測定する精確な手法となることができる。流体ゲージは、測定される材料の光学的特性または電気的特性の影響を受けにくい。間隔の精度は、ナノメータのオーダに達することがある。リソグラフィシステムでウェハまたは基板の最上面までの間隔を形成するためには、流体ゲージが使用される。
【０００６】
焦点の精度の要求は、プリントされるフィーチャサイズが縮小されるにつれて格段に強まってきている。流体ゲージ近接センサに関する１つの問題として、流体の流れが一定でなければならないことが挙げられる。このことは、異物および熱条件の問題にも関連する。また流体ゲージ近接センサは、低周波の外部音響干渉およびセンサのオフセットエラーにも敏感である。リソグラフィツール露光システムのステージでは、位置制御するためにしばしば干渉計が使用され、この干渉計は、異なる容量、圧力および温度の流体に影響を受けやすい。
【０００７】
さらに、レジストをウェハまたは基板上で使用する際には、特別な湿度要件が必要とされる。また、リソグラフィツールはそれぞれ異なる波長の光を使用するので、異なる種類の条件付きの流体が必要とされることがある。これらの要件は、流体ゲージセンサを慎重に選択し、流体ゲージセンサに供給される流体（たとえば流体、窒素、アルゴン等）を条件付けしなければならないことを意味する。比較的高性能の設計では、平衡状態のブリッジの設計が使用され、コモンモード除去によって外部音響干渉の作用が低減される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題は、加工品の表面上のレジストの種類または露光波長に関係なくどのような環境でも使用でき、かつ外部ノイズに対して実質的に影響を受けない流体ゲージ近接センサを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題は、変調された単方向の流体の流れまたは交番的な流体の流れのソース、およびノズルと流量センサまたは圧力センサとを有する少なくとも１つの経路が設けられており、該流体はノズルとターゲットとの間のギャップに存在し、該流量センサまたは圧力センサは、該ギャップの大きさにしたがって変化する振幅変調された信号を出力することを特徴とする流体フロー近接ゲージによって解決される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の別の実施例によれば、流体ゲージシステムを通過する流体の流れを変調周波数で変調する装置と、被測定間隔を表す信号をフィルタリングするアナログまたはデジタルのハードウェアフィルタリングシステムまたはソフトウェアフィルタリングシステムと、フィルタリングされた変調周波数の信号を復調するアナログまたはデジタルのハードウェア復調システムまたはソフトウェア復調システムとを有する、リソグラフィツールに設けられた流体ゲージシステムが提供される。
【００１１】
本発明の別の実施形態、特徴および利点、ならびに本発明の種々の実施形態の構造および実施は、添付図面と関連して以下で詳細に説明する。
【００１２】
本発明が図解されている添付図面と説明とによって、本発明の基本的思想が説明されており、これらによって当業者は本発明を活用することができる。
【００１３】
ここで本発明を、図面と関連して説明する。図面では、同様の参照番号は同一または同機能の要素を指すことがある。さらに参照番号の最も左の（複数の）数字は、該参照番号が最初に現れる図面を指す。
【００１４】
ここでは本発明を、特定の適用事例に対する実施例と関連して説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されないことを理解すべきである。ここで提供された思想を当業者が読めば、本発明の範囲内で別の付加的な修正、適用および実施形態を認識し、本発明を活用できる別の付加的な領域を認識することができる。
【００１５】
本発明の１つの実施形態によれば、流体ゲージ近接センサを使用するシステムおよび方法が提供される。変調された単方向の流体の流れまたは交番的な流体の流れのソースが、ノズルと流量センサまたは圧力センサとを有する少なくとも１つの経路に沿って案内される。流体は、ノズルとターゲットとの間のギャップに存在する。該流量センサまたは圧力センサは、該ギャップの大きさにしたがって変化する振幅変調された信号を出力する。
【００１６】
１つの実施例では、変調された流体は１つのターゲット（たとえば測定表面）のみと相互作用する。別の実施例では、変調された流体はターゲットおよび基準と相互作用する。
【００１７】
振幅変調された信号は、デジタル処理されるか、またはアナログ装置で処理される。ここでは、変調周波数および該変調周波数のいずれか一方の側に十分な帯域幅を含むようにフィルタリング（たとえば帯域通過フィルタ、帯域制限フィルタ、高域通過フィルタ等）すること、および／または、音響的ドライバの変調周波数で動作する復調器を使用して復調することも含むことができる。
【００１８】
流量センサまたは圧力センサは、流体の流れをシングルエンドまたは差動式で検出するために使用される。１つの実施例では、流量センサまたは圧力センサは合成ブリッジの一部とされる。別の実施例では、流量センサまたは圧力センサは対称的ブリッジの一部とされる。いずれの実施例でも、該少なくとも１つの経路にリストリクタを設けることができる。
【００１９】
本システムおよび本方法を使用すると、実際には装置動作に干渉するおそれのある装置の所望の周波数範囲に、周辺の音響エネルギーのみが得られる。このことによって、外部音響ノイズおよびセンサオフセットに対する装置全体の敏感度が低減される。
【００２０】
本願の記載では、「流体」は概して、すべての粘性の材料、たとえば空気、気体、液体等を指すのに使用される。しかし、これらの例に制限されない。
【００２１】
本構成を使用すると、条件付けされた流体ソースを使用する必要が実質的になくなり、低周波の外部音響妨害およびセンサのオフセットエラー双方に対するセンサの敏感度が低減される。
【実施例】
【００２２】
流体ゲージ近接センサ
図１に、本発明の１つの実施形態による流体ゲージ近接センサ１００が示されている。流体ゲージ近接センサ１００は、質量流量コントローラ１０６と、中央流路１１２と、測定流路１１６と、基準流路１１８と、測定流路リストリクタ１２０と、基準流路リストリクタ１２２と、測定プローブ１２８と、基準プローブ１３０と、ブリッジ流路１３６と、質量流量センサ１３８とを有する。流体供給部１０２は、流体を所望の圧力で、流体ゲージ近接センサ１００へ噴射する。
【００２３】
中央流路１１２は流体供給部１０２と質量流量コントローラ１０６とを連通し、接合部１１４（たとえば流体分流部または流体方向決定部）を終端とする。質量流量コントローラ１０６は、流体ゲージ近接センサ１００内部における流速を一定に維持する。流体は、質量流量コントローラ１０６から有孔のスナバ１１０を介して、流路１１２に付加されたアキュムレータ１０８によって押出される。スナバ１１０は、流体供給部１０２によって引き起こされた流体の乱流を低減し、このスナバ１１０の使用はオプションである。設けられたスナバ１１０にしたがって、流体は中央流路１１２を介して接合部１１４へ通流する。中央流路１１２は接合部１１４を終端とし、測定流路１１６と基準流路１１８とに分割される。１つの実施形態では、質量流量コントローラ１０６は十分に低い速度で流体を噴射することにより、該システム全体にわたって非圧縮性の流体の層流を形成し、不所望の空気のノイズの生成が最小になる。
【００２４】
ブリッジ流路１３６が、測定流路１１６と基準流路１１８との間に結合されている。ブリッジ流路１３６は、測定流路１１６と接合部１２４で連通されており、基準流路１１８と接合部１２６で連通されている。１つの実施形態では、接合部１１４と接合部１２４との間の間隔および接合部１１４と接合部１２６との間の間隔は等しくなっている。別の実施形態を異なる配置で実現することも考えられる。
【００２５】
流体ゲージ近接センサ１００内のすべての流路を、流体が通流することができる。流路１１２，１１６，１１８および１３６は、導管（たとえばチューブ、パイプ等）から形成できる。または、流体の流れを含んでセンサ１００を案内する種類であれば、どの種類の構造からでも形成することができる。これは、通常の当業者であれば理解できる。大抵の実施形態では流路１１２，１１６，１１８および１３６は、たとえば局所的な乱流または流れの不安定性を起こすことによって空気のノイズを引き起こす可能性のある屈曲部も凹凸も、不要な障害物も有してはならない。種々の実施形態では、測定流路１１６および基準流路１１８の全長は等しいか、または等しくない。
【００２６】
基準流路１１８は、基準プローブ１３０の近傍を終端とする。それと同様に、測定流路１１６は測定プローブ１２８の近傍を終端とする。基準プローブ１３０は基準表面１３４の上方に位置づけられ、測定プローブ１２８は測定表面１３２の上方に位置づけられる。リソグラフィの場合には測定表面１３２は、半導体ウェハまたはフラットパネルディスプレイ基板であるか、または基板を支持するステージである。基準表面１３４は扁平な金属板とすることができるが、この例に制限されない。
【００２７】
ノズルが測定プローブ１２８および基準プローブ１３０に設けられる。ノズルの一例が以下に、図３および４と関連して記載されている。流体供給部１０２によって噴射された流体は、プローブ１２８および１３０に設けられたノズルから放出され、測定表面１３２および基準表面１３４に衝突する。
【００２８】
上記のように、ノズルと相応の測定表面または基準表面との間の間隔は、スタンドオフとも称される。
【００２９】
１つの実施形態では基準プローブ１３０は、固定された基準表面１３４の上方に既知の基準スタンドオフ１４２をもって位置づけされる。測定プローブ１２８は、測定表面１３２の上方に未知の測定スタンドオフ１４０をもって位置づけされる。既知の基準スタンドオフ１４２は、所望の一定の値に設定される。この一定の値は、最適なスタンドオフとすることができる。このような配置では、測定プローブ１２８の上流側の逆圧が未知の測定スタンドオフ１４０の関数であり、基準プローブ１３０の上流側の逆圧が既知の基準スタンドオフ１４２の関数である。
【００３０】
スタンドオフ１４０および１４２が等しい場合、構成は対称的であり、ブリッジは平衡状態にある。したがって、ブリッジ流路１３６を通流する流体の流れは存在しない。他方で、測定スタンドオフ１４０と基準スタンドオフ１４２とが異なる場合、その結果として測定流路１１６と基準流路１１８との間に発生した圧力差によって、質量流量センサ１３８を通流する流体の流れが引き起こされる。
【００３１】
質量流量センサ１３８はブリッジ流路１３６に沿って配置され、中央の位置に配置することができる。質量流量センサ１３８は、測定流路１１６と基準流路１１８との間の圧力差によって引き起こされた流体の流れを感知する。このような圧力差は、測定表面１３２の垂直方向の位置付けが変化した結果として発生する。
【００３２】
対称的なブリッジが設けられる実施例では、測定スタンドオフ１４０および基準スタンドオフ１４２は等しくなっている。測定流路１１６と基準流路１１８との間に圧力差が存在しないので、質量流量センサ１３８は質量流量を検出しない。他方で、測定スタンドオフ１４０の値と基準スタンドオフ１４２の値との間に差が存在すれば、どのような差であっても、測定流路１１６と基準流路１１８との間に差圧が発生する。有利なオフセットを使用して非対称的な配置を実現することができる。
【００３３】
質量流量センサ１３８は、圧力差または非平衡状態によって引き起こされた流体の流れを感知する。圧力差によって、測定スタンドオフ１４０のユニークな関数である速度を有する流体の流れが引き起こされる。換言すれば、流体ゲージ１００へ流入する流れの流速が一定であると仮定すると、測定流路１１６の流体圧力と基準流路１１８の流体圧力との間の差が、スタンドオフ１４０とスタンドオフ１４２との間の大きさの差の関数である。基準スタンドオフ１４２が既知のスタンドオフに設定されていれば、測定流路１１６の流体圧力と基準流路１１８の流体圧力との間の差が、測定スタンドオフ１４０（すなわち、測定表面１３２と測定プローブ１２８との間のｚ方向の未知のスタンドオフ）の大きさの関数である。
【００３４】
質量流量センサ１３８は、いずれか一方向にブリッジ流路１３６を流れる流体の流れを検出する。ブリッジの構成に起因して、流路１１６と流路１１８との間に圧力差が発生した場合のみ、流体の流れがブリッジ流路１３６に発生する。圧力が非平衡状態にある場合、質量流量センサ１３８はその結果である流体の流れを検出し、適切な制御機能が開始される。この適切な制御機能は、システム１００の相応の部分に接続されたオプションのコントローラ１５０を使用して行われる。質量流量センサ１３８は、視覚的なディスプレイまたは聴覚的な指示によって、感知された流れの指示を供給する。これは、オプションの出力装置１５２を使用することによって行うことができる。
【００３５】
択一的に、質量流量センサの代わりに差圧センサ（図示されていない）を使用することができる。差圧センサは、２つの流路間の圧力の差を測定する。この圧力の差は、測定スタンドオフと基準スタンドオフとの間の差の関数である。
【００３６】
オプションのコントローラ１５０における制御機能はたとえば、精確なギャップ差を計算することである。別の実施形態では、この制御機能は測定スタンドオフ１４０の大きさを増大または低減することである。このことは、圧力差がゼロに十分に近づくまで、測定表面１３２を測定プローブ１２８に対して相対的に移動することによって行われる。圧力差がゼロに十分に近づくのは、測定表面１３２からのスタンドオフと基準表面１３４からのスタンドオフとの間に差がなくなった場合である。
【００３７】
質量流量コントローラ１０６、スナバ１１０およびリストリクタ１２０および１２２を使用して、流体乱流および別の空気ノイズを低減することも考えられる。こうすることにより、本発明においてナノメータの精度に達することができる。これらの要素はすべて、本発明の１つの実施形態でも、またはどのような組み合わせでも、所望の感度に依存して使用することができる。たとえば非常に高精度の感度が必要とされる適用事例の場合、すべての要素を使用することができる。択一的に、必要とされる感度が比較的低い適用事例の場合、スナバ１１０のみを使用して、かつ有孔のリストリクタ１２０および１２２をオリフィスに置換するだけでよいことがある。したがって本発明は、特定の適用事例の要求をコスト上効率よく満たすフレキシブルなアプローチを提供する。
【００３８】
本発明の１つの実施形態では、有孔のリストリクタ１２０および１２２が使用される。有孔のリストリクタ１２０および１２２は、圧力を多数の段で、かつ急速でなく段階的に低減しなければならない場合に、サファイアリストリクタの代わりに使用することができる。これは、乱流を回避するのに使用することができる。
【００３９】
フローリストリクタ
本発明の１つの実施形態によれば、測定流路１１６および基準流路１１８はリストリクタ１２０および１２２を有する。各リストリクタ１２０および１２２は、測定流路１１６および基準流路１１８をそれぞれ通流する流体の流れを制限する。
【００４０】
測定流路リストリクタ１２０は測定流路１１６内部に、接合部１１４と接合部１２４との間に配置される。同様に、基準流路リストリクタ１２２は基準流路１１８内部に、接合部１１４と接合部１２６との間に配置される。１つの実施例では、接合部１１４から測定流路リストリクタ１２０までの間隔と、接合部１１４から基準流路リストリクタ１２２までの間隔とは等しくなっている。別の実施例では、これらの間隔は等しくされない。センサを対称的にしなければならないという内因的な要件は存在しないが、センサが幾何的に対称的であれば、センサを使用するのが容易になる。
【００４１】
図２は、本発明の別の構成による、多孔質材料２１０を有するリストリクタ１２０の断面のイメージを示している。この多孔質材料２１０を、流体の流れ２００が通過する。各リストリクタ１２０および１２２は、多孔質材料（たとえばポリエチレン、焼結ステンレス鋼等）から成る。測定流路リストリクタ１２０および基準流路リストリクタ１２２の寸法および透磁性は、実質的に同じである。１つの実施例では、リストリクタ１２０および１２２は約２〜約１５ｍｍの長さであるが、この長さに制限されない。測定流路リストリクタ１２０も基準流路リストリクタ１２２も、流路１１６および１１８の断面積にわたる流体の流れを制限する。多孔質材料リストリクタは、乱流およびそれに関連する空気ノイズを格段に低減するのに寄与する。これは、固体の無孔材料に孔を空けて形成されたオリフィスを１つしか使用しないリストリクタによって引き起こされた乱流およびノイズの量との比較による。
【００４２】
このようなリストリクタは、少なくとも２つの重要な機能を果たす。第１にこれらのリストリクタは、流体ゲージ近接センサ１００に存在する圧力および流れの妨害を低減する。もっとも顕著な妨害は、質量流量コントローラ１１０または音響的なピックアップのソースによって発生される。第２に、これらのリストリクタはブリッジ内で必要な抵抗素子として使用される。
【００４３】
流体ゲージ近接センサの実施例を挙げたが、本発明はこの例に制限されない。この例は図解のために挙げられたものであり、制限するためのものではない。関連分野の当業者であれば、ここに含まれる思想に基づいて、択一的構成（ここに挙げられた実施例の等価的形態、拡大形態、変形形態、派生的形態等）を理解することができる。このような択一的構成は、本発明の範囲および対象内である。
【００４４】
ノズル
図３には、本発明の実施形態によるノズル３５０の断面図および該ノズルの特性がそれぞれ示されている。流体ゲージノズル３５０の基本的な構成の特徴は、測定表面１３２または基準表面１３４に対して平行な、扁平な端面３５１である。ノズルのジオメトリは、ゲージのスタンドオフｈおよび内径ｄによって決定される。一般的に、ノズル外径Ｄが十分に大きければ、Ｄに対するノズルの圧力降下の依存性は低い。残った物理的パラメータは、Ｑｍ‐流体の質量流量と、Δｐ‐ノズル全体における圧力降下である。流体は、密度ρおよび動的粘度ηによって表される。
【００４５】
無次元パラメータであるΔｐ／（１／２・ρｕ２）とレイノルズ数Ｒｅとｈ／ｄとの間の関係式が求められる。ここでは半径方向速度ｕは、ノズル面と基板表面との間の円柱領域への入口でとられる。レイノルズ数は、Ｒｅ＝ｕｄ／ｖと定義される。ここでは、ｖは運動粘性率である。
【００４６】
したがってノズルの特性は、５つの物理的変数であるｖ，Δｐ，Ｑｍ，ｄおよびｈの項で表される。ここでΔｐとｈとの間に関係式が成立し、残りの変数は実際のシステムの場合、典型的には一定である。この関係式は、異なる適用事例、異なる所要感度に対してノズル形式の展開するのに役立つ。
【００４７】
ノズルの実施例を挙げたが、本発明はこの実施例に制限されない。この実施例は、例解の目的でここに挙げられたのであり、制限のためではない。関連分野の当業者であれば、ここに含まれる思想に基づいて、択一的構成（ここに挙げられた実施例の等価的形態、拡大形態、変形形態、派生的形態等）を理解することができる。このような択一的構成は、本発明の範囲および対象内である。
【００４８】
センサの使用方法
図４に、流体の流れを使用して非常に小さい間隔を検出し、制御動作（たとえばステップ４１０〜４７０）を実行するための方法４００を説明するフローチャートが示されている。簡便化のため、方法４００は流体ゲージ近接センサ１００に関連して説明される。しかし方法４００は、この構造のセンサ１００に必ずしも制限されるわけではなく、異なる構造の流体ゲージ近接センサによって実施することができる。
【００４９】
ステップ４１０で、基準プローブが基準表面上方に（たとえば操作者、機械装置またはロボットアーム等によって）位置づけされる。たとえば、ロボットが基準プローブ１３０を、基準表面１３４上方に既知の基準スタンドオフ１４２をもって位置づける。択一的に、基準スタンドオフをセンサアセンブリ内部に配置することができる。基準スタンドオフは、特定の値に事前調節され、この特定の値は典型的には一定に維持される。
【００５０】
ステップ４２０で、測定プローブが測定表面上方に位置づけされる。たとえば、測定プローブ１２８を測定表面１３２上方に位置づけすることにより、測定ギャップ１４０が形成される。
【００５１】
ステップ４３０で、流体がセンサ内に噴射される。たとえば、測定流体が流体ゲージ近接センサ１００内に、一定の質量流量で噴射される。ステップ４４０で、センサへ流入する流体フローが一定に維持される。たとえば、質量流量コントローラ１０６が流体フローを一定に維持する。ステップ４５０で、流体の流れが測定流路と基準流路とに分配される。たとえば、流体ゲージ近接センサ１００によって測定流体の流れが引き起こされ、測定流路１１６にも基準流路１１８にも同様に分配される。
【００５２】
ステップ４６０で、測定流路の流体の流れも基準流路の流体の流れも同様に、該流路の断面積にわたって制限される。測定流路リストリクタ１２０および基準流路リストリクタ１２２が流体の流れを制限して空気ノイズを低減し、流体ゲージ近接センサ１００における抵抗素子として使用される。
【００５３】
ステップ４７０で、流体は基準プローブおよび測定プローブから圧出される。たとえば、流体ゲージ近接センサ１００が流体を、測定プローブ１２８および基準プローブ１３０から圧出する。ステップ４８０で流体の流れが、基準流路と測定流路とを連通するブリッジ流路を介して監視される。ステップ４９０において、基準流路と測定流路との間の圧力差に基づいて制御動作が実行される。たとえば質量流量センサ１３８が、測定流路１１６と基準流路１１８との間の質量流量を監視する。質量流量に基づいて、質量流量センサ１３８が制御動作を開始する。このような制御動作には、感知された質量流量の指示を供給すること、感知された質量流量を指示するメッセージを送出すること、または、質量流量または質量流量の固定的な基準値が感知されなくなるまで基準表面に対して相対的な測定表面の位置を再配置するサーボ制御動作を開始することが含まれる。このような制御動作は例として挙げられたのであり、制限ではないことを理解すべきである。
【００５４】
関連分野の当業者が本思想から知り得る上記ステップに対して付加的なステップまたは拡張も、本発明の範囲内である。
【００５５】
本発明を図１〜４と関連して、流体または流体に関して説明した。１つの実施形態では、該流体は流体である。本発明は流体に制限されない。別の流体、流体またはこれらの組み合わせも使用することができる。たとえば、測定される表面および／または使用される光の波長に依存して、水分含有量が低減された流体または不活性の流体を使用することができる。低水分含有量の流体または不活性の流体の方が流体よりも、測定される表面と反応しにくい。
【００５６】
流体の流れに周辺流体を使用するセンサ
上記実施形態で記載されたセンサは、基準表面１３２および／または測定表面１３８に近接する流体の流れよって引き起こされた周辺ノイズ５０１から悪影響を受けることがある。センサ５００は、周辺ノイズ信号５０１が測定信号に与える影響を補償および／または消去するように構成される。ノイズ信号５０１は、各表面１３２および１３４近傍における局所的な流体の流れの変動によって引き起こされる。ノイズ信号５０１は固有の周波数範囲を有し、このような周波数範囲は、該信号５０１のノイズ周波数と区別されるように調節される変調信号５５９の任意の周波数Ｆｍから分離することができる。
【００５７】
図５は、本発明の１つの実施形態による流体ゲージ近接センサを示している。この実施形態では、質量流量コントローラおよび条件付けされた流体を使用する代わりに、変調された単方向の流体の流れまたは交番的な流体の流れ５６０のソースが、交番的な流体の流れを発生する。このような流体の流れを使用することによってセンサ信号５６２が形成され、たとえばフィルタ５６４および復調器５７０等である信号処理電子回路を通過し、センサ信号５６２の不所望の成分（たとえばノイズ５０１）が除去される。
【００５８】
本発明の種々の実施形態では、信号処理電子回路をアナログ装置、デジタル装置、または両装置の組み合わせとすることができ、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、またはこれらすべての組み合わせで実現することができる。これらはすべて、本発明の範囲内で考えられる。
【００５９】
ソース５６０は、トランデューサ、音響的ドライバ、スピーカ、ヘッドフォン、圧電結晶、マイクロフォン、光電池、または１つの形態の入力エネルギーを別の形態の出力エネルギーに変換する別の装置とすることができる。しかし、これらに制限されない。別の例としてソース５６０は、電磁力、静電力、圧電力または磁気抵抗力のいずれかによって移動される表面またはダイヤフラムとすることができる。
【００６０】
１つの例では、ソース５６０はプローブ１２８および１３０近傍の周辺流体を、センサ５００の測定部（たとえば測定側の測定流路１１６、測定プローブ１２８等）または基準部（たとえば基準側の基準流路１１８、基準プローブ１３０等）によって双方向に移動（たとえば押し引き）する。周辺流体を押し引きする周期は、音響的ドライバ５６０を駆動する変調周波数Ｆｍ５５９を使用して設定される。
【００６１】
この実施形態では、第１の流体フロー近接プローブ１２８および第２の流体フロー近接プローブ１３０が、センサ１３８を使用して比較され、差信号５６２が形成される。
【００６２】
センサ１３８は、流量センサ、圧力センサまたは絶対圧力センサとすることができるが、これらに制限されない。
【００６３】
差信号５６２は、所望の成分（たとえば、変調周波数および側波帯にある測定信号）および不所望の成分（たとえばノイズ５０１）双方を含む情報を有する。
【００６４】
フィルタ５６４（たとえば帯域制限フィルタ、帯域通過フィルタ、高域通過フィルタ等）は差信号５６４をフィルタリングして、フィルタリング信号５６８を形成する。フィルタリング信号５６８は特定の周波数範囲内にある情報を含んでいるので、低周波ノイズおよび／または高周波のノイズおよび干渉がフィルタリング除去され、差信号５６４の所望の成分のみが残る。
【００６５】
復調器５７０は、音響的ドライバ５６０を駆動する変調周波数Ｆｍ５５９（ｍは変調を表す）と同じ周波数（Ｆｍ５５９）を使用してフィルタリング信号５６８を復調し、復調信号５７２（たとえば測定信号、結果信号等）を形成する。復調信号５７２は、測定スタンドオフ１４２に関する情報を含んでおり、ひいては加工品１３８に関する情報を提供する。
【００６６】
１つの例では、ソース５６０はプローブ１２８および１３０近傍の周辺流体を、センサ５００の測定部（たとえば測定側における測定流路１１６、測定プローブ１２８等）および／または基準部（たとえば基準側における基準流路１１８、基準プローブ１３０等）によって単方向に移動する（たとえば押すか、または引く）。周辺流体を押す周期または引く周期は、音響的ドライバ５６０を駆動する変調周波数Ｆｍ５５９を使用して設定される。ソース５６０に適用される周波数Ｆｍ５５９は、周期的な流れの振幅を測定するのに十分に低くされる。これは、音波がターゲットに到達するのに要する時間を測定するのとは異なる。ブリッジを通流する正味の流れは、ゼロになる。
【００６７】
前記実施形態もここに記載された別の実施形態も、液浸ベースのリソグラフィシステム、マスクレスリソグラフィシステム、フォトリソグラフィシステムまたはマスクベースのリソグラフィシステム等とともに使用できることを認識されたい。
【００６８】
音響的ドライバ５６０の駆動周波数Ｆｍ５５９の波長は、ブリッジ経路１３６の長さに対して長くすることができる。ブリッジに発生する非平衡状態がどのようなものであっても、非平衡状態が発生すれば、Ｆｍの搬送周波数を伴う振幅変調された信号５６２が生成される。変調信号５６２はＦｍ５５９にある信号を含んでおり、この信号の振幅は、非平衡状態によって変化する。非平衡状態が０より高い周波数で発生するので、信号５６２の振幅変調が発生する。これによって、±ｆｇのＦｍを中心とする周波数帯が形成される（ｆｇは、流体ゲージ近接センサ５００の所望の応答である）。フィルタ５６４によってこれらの信号５６８が通過し、かつ不所望の音響的干渉５０１を含む他のすべての信号が抑圧される。フィルタ出力５６８の（たとえば復調された）振幅が測定され、結果として得られた出力５７２が、所望のブリッジ非平衡状態である。
【００６９】
たとえばノイズ５０１が１０Ｈｚである場合、１００Ｈｚの変調レート（周波数）および８０〜１２０Ｈｚの通過帯域によって、差信号５６２の所望の成分のみをスタンドオフ１４２の検出測定に使用することができる。
【００７０】
この実施形態によって、センサ５００に対していかなる適合も変更も行う必要なく、任意の波長を使用する任意の種類のリソグラフィシステムで該センサ５００を使用することもできるようになる。条件付けされた流体および質量流量コントローラを使用する上記に記載された実施形態では、リソグラフィツールで使用される光の波長および／または基板上で使用されるレジストの種類に依存して、流体の異なるソース（加湿された流体、乾燥した流体、特別な種類の流体等）を使用しなければならなかった。しかし図５に示された実施形態では、条件付けされた流体のソースは使用されないので、波長またはレジストの種類を考慮せずに、センサ５００をいかなる種類のリソグラフィシステムにも配置することができる。また、周辺流体のみを使用することにより、条件付けされた流体ソースによる上記実施形態で起こりうるような、異物を該システムに引き込むことはない。
【００７１】
フィルタ５６４および復調器５７０を、両機能を果たす１つの装置として構成するか、または２つ以上の別個の装置として構成できることにも留意されたい。また、フィルタ５６４および復調器５７０をアナログ装置および／またはデジタル装置として構成し、ハードウェア、ソフトウェアおよび／またはファームウェアとして構成できることにも留意されたい。デジタル領域で行われる場合、量子化器およびデジタル信号プロセッサ等を使用することができる。種々の実施形態において、復調器５７０を任意のＡＭ無線波長復調装置と同様にすることができ、復調器５７０において同期検出等を使用することができる。また、フィルタ５６４および復調器５７０をセンサ５００内部の局所的なものにするか、または、センサ５００から遠隔に配置して固定配線伝送システムまたは無線伝送システムのいずれかによって接続することも可能であることに注目すべきである。
【００７２】
図６および７は、信号５６２を形成するために使用される本発明の種々の実施形態による種々のセンシングの概略図である。
【００７３】
図６には、本発明の１つの実施形態によるシングルエンド型のセンシング構成が示されている。この構成では、シングルエンド型センサ６３８を使用して測定流路内の変調された流体の流れが感知され、信号５６２が生成される。
【００７４】
図７は、本発明の１つの実施形態による差動型センシング構成が示されている。この構成では、差動センサ７３８Ａおよび７３８Ｂを使用して信号５６２が生成される。１つの実施例では、第１のフィルタおよび第２のフィルタ（たとえば第１の帯域通過フィルタおよび第２の帯域通過フィルタ）（図示されていない）および第１の復調器および第２の復調器（図示されていない）がそれぞれ、信号５６２を処理するために使用される。
【００７５】
図８，９，１０および１１に、図５のシステムで本発明の種々の実施形態にしたがって変調された流体の流れの生成に関する異なった概略図を示している。
【００７６】
図８に、本発明の１つの実施形態によるソース８６０が示されている。ソース８６０は流体供給部８７４を有しており、この流体供給部８７４は、可変のフローコントローラ８７６の周辺よりも大きな供給圧力で条件付けられた流体８７５を供給する。記憶装置８７９から得られた信号８７８（たとえば平均フロー設定）をＦｍ信号５５９に加算することにより、変調信号８７７が形成される。変調信号８７７が可変フローコントローラ８７６を駆動することにより、変調された流体の流れ８７９が生成され、流体ゲージ５００の方向に方向付けられる。１つの実施例では、可変フローコントローラ８７６は高速の可変フローコントローラであり、流体ゲージ５００への流れ８７９の制御および変調双方を行う。
【００７７】
図９には、本発明の１つの実施形態によるソース９６０が示されている。ソース９６０は、制御された流れを形成する一定のフローコントローラ９８０の周辺より高い供給圧力で条件付けられた流体９７５を供給する流体供給部９７４を含んでいる。記憶装置９７９から得られた信号９７８（たとえば平均フロー設定）によって一定のフローコントローラ９８０を駆動することにより、制御された流体の流れ９８１が形成される。Ｆｍ信号５５９がフロー変調弁９８２を駆動し、交番的な流れが形成され、変調された流体の流れ９７９が形成される。この流れ９７９は、流体ゲージ５００の方向に方向付けられる。
【００７８】
図１０には、本発明の１つの実施形態によるソース１０６０が示されている。ソース１０６０は、一定のフローコントローラ１０８０の周辺より高い供給圧力で条件付けられた
流体１０７５を供給する流体供給部１０７４を含んでいる。記憶装置１０７９から得られた信号１０７８（たとえば平均フロー設定）によって一定の流体フローコントローラ１０８０を駆動することによって、流体の流れ１０８１が形成される。Ｆｍ信号５５９は音響的ドライバ１０８３を駆動し、フロー１０８１と加算された信号１０８４が形成され、変調された流体の流れ１０７９が流れ１０８１から形成される。この流体の流れ１０７９は、流体ゲージ５００の方向に方向付けられる。
【００７９】
図１１に、本発明の１つの実施形態によるソース１１６０が示されている。ソース１１６０には、Ｆｍ信号５５９によって駆動される音響的ドライバ１１８３が含まれており、これによって信号１１８４が形成され、ゲージ５００へ流れる周辺流体を変調するために使用される。
【００８０】
コンピュータシステムの例
図１２には、本発明がコンピュータ読み取り可能なコードとして実現されるコンピュータシステム１２００の一例が示されている。本発明の種々の実施形態を、このコンピュータシステムの例１２００に関して説明する。関連分野の当業者であれば、この説明を読んで、別のコンピュータシステムおよび／またはコンピュータアーキテクチャを使用してどのように本発明を実現できるかを理解することができる。
【００８１】
コンピュータシステム１２００には、プロセッサ１２０４等の１つまたは複数のプロセッサが含まれている。プロセッサ１２０４は、特殊用途または汎用のデジタル信号プロセッサとすることができる。プロセッサ１２０４は、通信インフラストラクチャ１２０６（たとえばバスまたはネットワーク）に接続されている。種々のソフトウェア実装を、このコンピュータシステムの例に関して説明する。関連分野の当業者であれば、この説明を読んで、別のコンピュータシステムおよび／またはコンピュータアーキテクチャを使用してどのように本発明を実現できるかを理解することができる。
【００８２】
コンピュータシステム１２００には主記憶装置１２０８が含まれており、２次記憶装置１２１０を設けることもできる。主記憶装置１２０８は、有利にはランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）である。２次記憶装置１２１０にはたとえば、ハードディスクドライブ１２１２および／またはリムーバブル記憶ドライブ１２１４が含まれる。このリムーバブル記憶ドライブ１２１４の代表的なものは、フロッピーディスクドライブ、磁気テープドライブ、光ディスクドライブ等である。リムーバブル記憶ドライブ１２１４は周知のように、リムーバブル記憶ユニット１２１８から読み出し、および／またはリムーバブル記憶ドライブ１２１４に書き込む。リムーバブル記憶ユニット１２１８の代表的なものは、フロッピーディスク、磁気テープ、光ディスク等であり、リムーバブル記憶ドライブ１２１４によって読み出されリムーバブル記憶ドライブ１２１４によって書き込まれるものである。もちろんリムーバブル記憶ユニット１２１８には、コンピュータソフトウェアおよび／またはデータが記憶されたコンピュータ使用可能な記憶媒体が含まれている。
【００８３】
択一的な構成では２次記憶装置１２１０にも、コンピュータプログラムまたは別の命令をコンピュータシステム１２００にロードするための同様の手段を設けることができる。このような手段にはたとえば、リムーバブル記憶ユニット１２２２およびインタフェース１２２０が含まれる。このような手段の例に、プログラムカートリッジおよびカートリッジインタフェース（たとえばビデオゲーム装置で見られるようなインタフェース）、リムーバブルメモリチップ（たとえばＥＰＲＯＭまたはＰＲＯＭ）および所属のソケット、およびソフトウェアおよびデータをリムーバブル記憶ユニット１２２２からコンピュータシステム１２００へ伝送するのに使用できる別のリムーバブル記憶ユニット１２２２およびインタフェース１２２０が含まれることもある。
【００８４】
コンピュータシステム１２００には、通信インタフェース１２２４も設けることができる。通信インタフェース１２２４を使用して、ソフトウェアおよびデータをコンピュータシステム１２００と外部装置との間で伝送する。通信インタフェース１２２４の例には、モデム、ネットワークインタフェース（たとえばイーサネットカード）通信ポート、ＰＣＭＣＩＡスロットおよびＰＣＭＣＩＡカード等が含まれる。通信インタフェース１２２４を介して伝送されるソフトウェアおよびデータは、信号１２２８の形態であり、この信号は電子的信号、電磁的信号、光学的信号、または通信インタフェース１２２４によって受信可能な別の信号とすることができる。このような信号１２２８は、通信経路１２２６を介して通信インタフェース１２２４へ供給される。通信経路１２２６は信号１２２８を伝搬し、ワイヤまたはケーブル、ファイバ光学系、電話回線、携帯電話リンク、ＲＦリンクおよび他の通信路を使用して実現することができる。
【００８５】
本明細書では「コンピュータプログラム媒体」および「コンピュータ使用可能媒体」という用語は、リムーバブル記憶ドライブ１２１４、ハードディスクドライブに設けられたハードディスク１２１２および信号１２２８等の媒体を全般的に指すのに使用される。またコンピュータプログラム媒体およびコンピュータ使用可能媒体は、主記憶装置１２０８および２次記憶装置１２１０等のメモリも指す。このメモリは、半導体記憶装置（たとえばＤＲＡＭ等）であってもよい。このようなコンピュータプログラム製品は、ソフトウェアをコンピュータシステム１２００へ供給するための手段である。
【００８６】
コンピュータプログラム（コンピュータ制御ロジックとも称される）は主記憶装置１２０８および／または２次記憶装置１２１０に記憶される。またコンピュータプログラムは、通信インタフェース１２２４を介して受信することもできる。このようなコンピュータプログラムが実行される場合、コンピュータシステム１２００によって本発明を上記のように実施することができる。特にコンピュータプログラムを実行する場合、プロセッサ１２０４によって本発明のプロセスを実施することができ、たとえば上記のフィルタ５６４および／または復調器５７２における動作を実施することができる。したがってこのようなコンピュータシステムは、コンピュータシステム１２００の制御システムである。ソフトウェアを使用して本発明を実施する場合、ソフトウェアをコンピュータプログラム製品に記憶し、リムーバブル記憶ドライブ１２１４またはハードドライブ１２１２または通信インタフェース１２２４を使用してコンピュータシステム１２００にロードすることができる。
【００８７】
また本発明は、任意のコンピュータ使用可能媒体に記憶されたソフトウェアを含むコンピュータ製品も対象としている。このようなソフトウェアを１つまたは複数のデータ処理装置で実行する場合、該データ処理装置を上記のように動作させることができる。本発明の実施形態では、現在または将来公知である任意のコンピュータ使用可能媒体またはコンピュータ読み出し可能媒体を使用することができる。コンピュータ使用可能媒体の例には、１次記憶装置（たとえば、すべての種類のランダムアクセスメモリ）、２次記憶装置（たとえば、ハードドライブ、フロッピーディスク、ＣＤ ＲＯＭ、ＺＩＰディスク、テープ、磁気記憶装置、光学的記憶装置、ＭＥＭＳ、ナノテクノロジー記憶装置等）および通信媒体（たとえば、有線通信ネットワーク、無線通信ネットワーク、ローカルエリアネットワーク、広域ネットワーク、イントラネット等）があるが、これらに制限されない。ソフトウェア、ハードウェア、ファームウェアまたはこれらの組み合わせを使用して、ここに記載された実施形態を実現することも考えられる。
【００８８】
本発明の別の実施形態によれば、ここに記載されたセンサは、ＵＳ Ser. Nos. １０／３２２７６８（提出日：２００２年１２月１９日、Atty. Docket １８５７．０９２００００）、１０／６４６７２０（提出日：２００２年８月９日、Atty. Docket １８５７２０３００００）、１０／＿＿＿＿＿＿＿（提出日：＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿、Atty. Docket １８５７２１３００００）、１０／＿＿＿＿＿＿＿（提出日：＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿、Atty. Docket １８５７２４３００００）および１０／＿＿＿＿＿＿＿（提出日：＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿、Atty. Docket １８５７２５８００００）に開示されたシステム、および、ＵＳ４９５３３８８およびＵＳ４５５０５９２に開示されたシステム内部で使用することができる。これらはすべて、参照によってここに完全に開示されたものとする。
【００８９】
結論
本発明の種々の実施形態を上記で説明したが、これらの実施形態は例として挙げられたものであり、制限するものではないことを理解すべきである。関連分野の当業者であれば、本発明の思想および範囲から逸脱することなく、形態および詳細の種々の変更を行えることを理解することができる。特定の機能の実施および該機能の関連性を図解するステップを使用して、上記で本発明を説明した。ここでは説明を簡便化するため、これらのステップの境界を任意に定義したが、択一的な境界を定義することもできる。したがって、このような択一的な境界はすべて、請求項に記載された本発明の範囲および思想に含まれる。したがって本発明の思想および範囲は、上記で説明された実施例に制限すべきではなく、特許請求の範囲およびそれに類するものによってのみ定義すべきである。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の１つの実施形態による流体ゲージ近接センサを示す図である。
【図２】本発明の１つの実施形態によるリストリクタの断面を示す図である。
【図３】本発明の１つの実施形態によるノズルの断面および該ノズルの特性を示す図である。
【図４】流体ゲージ近接センサを使用して非常に小さい間隔を検出し制御動作を実行する、本発明の１つの実施形態による方法を示すフローチャートである。
【図５】本発明の１つの実施形態による、変調された流体の流れを有する流体ゲージ近接センサを示す図である。
【図６】本発明の１つの実施形態によるシングルエンド型のセンシング構成を示す図である。
【図７】本発明の１つの実施形態による差動型のセンシング構成を示す図である。
【図８】本発明の実施形態による、図５における変調された流体の流れの形成に関する図である。
【図９】本発明の実施形態による、図５における変調された流体の流れの形成に関する図である。
【図１０】本発明の実施形態による、図５における変調された流体の流れの形成に関する図である。
【図１１】本発明の実施形態による、図５における変調された流体の流れの形成に関する図である。
【図１２】本発明の１つまたは複数の実施形態をコンピュータ読み出し可能なコードとして実現するためのコンピュータシステムの例を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【外国語明細書】
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