(57)【要約】【課題】  装置本体の熱応力に起因した変形や破損を確実に防止する。【解決手段】  搬送路４３に沿って搬送される基板Ｂに対し焼成処理を含む一連の各種の処理を施すものであり、内部に室内搬送ローラ４０からなる基板Ｂ搬送用の搬送路４３を含み、かつ、一連の基板処理を行う複数の処理室３０が形成されてなる装置本体２０を備え、装置本体２０は、直方体状フレーム１１とこの直方体状フレーム１１を覆った表皮２１とを備え、直方体状フレーム１１は、一方の端部（本実施形態では上流側の端部）がストッパ１７に固定されて固定端とされている一方、他方の端部（下流側の端部）は自由端とされている。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
床面に載置される一体化された長尺の筐体と、この筐体内の長尺方向に沿って配置された、基板を搬送する搬送路と、この搬送路に沿って配列された少なくとも焼成処理部を含む複数の熱処理部とを備える基板熱処理装置において、前記筐体の一個所に設けられ、前記筐体の前記床面に対する長尺方向への動きを規制する規制部と、前記規制部を除く前記筐体の底部であって長尺方向所定位置に前記床面との間で低摩擦となる低摩擦部材とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記規制部は、前記筐体の長尺方向一端部に設けられていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記低摩擦部材は、前記筐体の底部に長尺方向に沿って取り付けられれた複数のコロであることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
基板処理装置。
【請求項４】
前記摩擦力軽減部材は、前記装置本体と前記フロアとの間に介設される粉状体であることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記複数の処理部は、内部の雰囲気が非酸化雰囲気とされる上流側雰囲気置換部と、この上流側雰囲気置換部から送り込まれた基板に対し予熱処理を施す予熱部と、この予熱部から送り込まれた基板に対して焼成処理を施す焼成部と、この焼成部から送り込まれた基板に対して冷却処理を施す冷却部と、内部の雰囲気が非酸化雰囲気とされ、基板が前記冷却部から送り込まれる下流側雰囲気置換部とであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶や各種の電子部品等がマウントされるガラス基板を含む各種の基板に、焼成処理を含む一連の各種の処理を施すように構成された基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、搬送路に沿って搬送されつつある基板に対し、焼成処理を含む一連の各種の処理を施すように構成された基板処理装置が知られている。一連の処理としては、送り込まれた基板に対して施される予熱処理と、この予熱処理が完了した基板に対して施される焼成処理と、この焼成処理が完了した基板に対して施される冷却処理とが一般的である。
【０００３】
前記各処理は、基板搬送方向に長尺の装置本体内が仕切壁によって他と区分された各処理部において行われる。各処理部としては、予熱部、焼成部および冷却部を挙げることができる。仕切壁には基板が通過する通過口が設けられているとともに、この通過口を開閉するシャッタが設けられている。そして、シャッタを閉じることによって各処理部は密閉状態になるため、他の処理部と縁切り状態で基板に当該処理部の処理を施すとができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記のような基板処理装置においては、予熱部および焼成部は、基板に予熱処理および焼成処理を施すに際し所定の加熱手段による加熱で他の処理部に比べて高温になるため、装置本体は、この部分の熱膨張によって基板搬送方向に向けて伸張することになる一方、基板処理が中断されることによる冷却で元のサイズにまで縮むことになる。
【０００５】
すなわち、装置本体は、操業および操業中断の度に伸縮を繰り返すことになるのであるが、従来、かかる装置本体の伸縮に対して対策されることがなかったため、装置本体の各所で熱応力が発生し、甚だしい場合には装置本体の一部が変形したり破損したりするような不都合の生じることがあった。
【０００６】
本発明は、かかる状況に鑑みなされたものであって、たとえ操業の開始、停止が繰り返えされても、装置本体の熱応力に起因した変形や破損を確実に防止することができる基板処理装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１記載の発明は、床面に載置される一体化された長尺の筐体と、この筐体内の長尺方向に沿って配置された、基板を搬送する搬送路と、この搬送路に沿って配列された少なくとも焼成処理部を含む複数の熱処理部とを備える基板熱処理装置において、前記筐体の一個所に設けられ、前記筐体の前記床面に対する長尺方向への動きを規制する規制部と、前記規制部を除く前記筐体の底部であって長尺方向所定位置に前記床面との間で低摩擦となる低摩擦部材とを備えたことを特徴とするものである。
【０００８】
かかる構成によれば、筐体は、基板に対して焼成処理を施したり、焼成処理を中断したりすることによる熱膨張または熱収縮が生じても、床面に対する長尺方向への動きを規制する規制部が設けられているため、長手方向の端部を自由端とすることにより、当該自由端側が基板搬送方向に向けて正逆移動することで熱による伸縮に対応する。この場合、筐体とフロアとの間に摩擦軽減部材が介設されているため、筐体の伸縮が容易に行われる。したがって、従来のように筐体の両端が固定されている場合には、焼成処理による加熱や加熱の中断で筐体が伸縮しようとしても逃げ場がないことにより筐体に熱応力が発生し、これによって筐体が変形したり破損したりする原因になると不都合が生じるが、本発明においてはこのような不都合の発生が防止される。
【０００９】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記規制部は、前記筐体の長尺方向一端部に設けられていることを特徴とするものである。
【００１０】
かかる構成によれば、筐体は、一方の端部に設けられた規制部により他方の端部側のみが伸縮する。
【００１１】
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の発明において、前記低摩擦部材は、前記筐体の底部に長尺方向に沿って取り付けられれた複数のコロであることを特徴とするものである。
【００１２】
かかる構成によれば、筐体の伸縮が、筐体とフロアとの間に介設されたコロの転動によって容易に行われる。
【００１３】
請求項４記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記摩擦力軽減部材は、前記筐体と前記フロアとの間に介設される粉状体であることを特徴とするものである。
【００１４】
かかる構成によれば、筐体の伸縮が、筐体とフロアとの間に介設された紛状体の流動によって容易に行われる。
【００１５】
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明において、前記複数の処理部は、内部の雰囲気が非酸化雰囲気とされる上流側雰囲気置換部と、この上流側雰囲気置換部から送り込まれた基板に対し予熱処理を施す予熱部と、この予熱部から送り込まれた基板に対して焼成処理を施す焼成部と、この焼成部から送り込まれた基板に対して冷却処理を施す冷却部と、内部の雰囲気が非酸化雰囲気とされ、基板が前記冷却部から送り込まれる下流側雰囲気置換部とであることを特徴とするものである。
【００１６】
かかる構成によれば、搬送路に沿って筐体内に搬入された基板は、まず、非酸化雰囲気とされた上流側雰囲気置換部を通過するため、つぎの予熱部に搬入され際に当該予熱部に外気を持ち込むことが防止された状態で所定の予熱処理が施される。ついで、予熱処理の完了した基板は、焼成部において基板に本格的な焼成処理が施され、引き続き冷却部において所定の冷却処理が施されたのち下流側雰囲気置換部を介して系外に排出される。そして、下流側雰囲気置換部においては、内部の雰囲気が非酸化雰囲気とされるため、酸化雰囲気が冷却部に入り込むような不都合が回避される。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１記載の発明によれば、筐体は、基板に対して焼成処理を施したり、焼成処理を中断したりすることによる熱膨張または熱収縮が生じても、長尺方向への動きを規制する規制部が設けられて端部が自由端とされているため、規制部を基準として自由端側が基板搬送方向に向けて正逆移動することで熱による伸縮に対応することができる。したがって、両端が固定端とされている場合、焼成処理による加熱や加熱の中断で筐体が伸縮しようとしても逃げ場がないことにより筐体に熱応力が発生し、これによって筐体が変形したり破損したりする原因になると不都合が生じるが、本発明においてはこのような不都合の発生を確実に防止することができ、メンテナンスコストの低減化に貢献することができる。
【００１８】
請求項２記載の発明によれば、規制部が前記筐体の長尺方向一端部に設けられていることにより、筐体は、他方の端部側のみが伸縮するため、一端部の位置決め状態を安定させることができる。
【００１９】
請求項３記載の発明によれば、熱の出入りが生じた筐体は、筐体とフロアとの間に介設されたコロの転動によって容易に伸縮することができる。
【００２０】
請求項４記載の発明によれば、熱の出入りが生じた筐体は、筐体とフロアとの間に介設された紛状体の流動によって容易に伸縮することができる。
【００２１】
請求項５記載の発明によれば、基板に対する一般的な焼成処理を適正に実行することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
図１および図２は、本発明に係る基板焼成装置（基板処理装置）１０の直方体状フレーム１１の一実施形態を示す斜視図であり、図１は、直方体状フレーム１１がフロア上に据え付けられる直前の状態、図２は、直方体状フレームがフロア上に据え付けられた状態をそれぞれ示している。なお、図１および図２において、Ｘ−Ｘ方向を幅方向、Ｙ−Ｙ方向を前後方向といい、特に−Ｘ方向を左方、＋Ｘ方向を右方、−Ｙ方向を前方、＋Ｙ方向を後方という。
【００２３】
図１および図２に示すように、直方体状フレーム１１は、基板焼成装置１０を構造体として構成するための骨格となるものであり、前後方向に長尺の矩形状を呈した床枠体１２と、この床枠体１２の上方に配設される当該床枠体１２と同一形状の天井枠体１３と、これら床枠体１２および天井枠体１３の四隅部間にそれぞれ立設状態で介設される４本の主支柱１４とを備えた基本構成を有している。
【００２４】
前記床枠体１２は、前後方向に長尺の長尺根太材１２１と、一対の長尺根太材１２１の各端部間に架設された幅方向に延びる短尺根太材１２２とからなっている。これら長尺根太材１２１と短尺根太材１２２との当接部分は、溶接止めあるいはボルト止めで固定され、これによって床枠体１２は一体的に形成されている。
【００２５】
前記天井枠体１３は、前記長尺根太材１２１と同一寸法の前後方向に延びる長尺梁材１３１と、一対の長尺梁材１３１の各端部間に架設された幅方向に延びる短尺梁材１３２とからなっている。これら長尺梁材１３１と短尺梁材１３２との当接部分も、溶接止めあるいはボルト止めで固定され、これによって天井枠体１３は一体構造になっている。
【００２６】
かかる床枠体１２と天井枠体１３とが、それぞれの四隅において前記４本の主支柱１４によって溶接止め等で一体的に連結されることにより、直方体状フレーム１１そのものが一体構造になっている。
【００２７】
そして、長尺根太材１２１と長尺梁材１３１との間に複数本（本実施形態においては４本）の補助支柱１４１が前後方向に等ピッチで介設されているとともに、一対の長尺根太材１２１間および一対の長尺梁材１３１間には、それぞれ前後方向に等ピッチで複数本（本実施形態においては４本）の架設根太材１２３および架設梁材１３３が架設されている。これらの補助支柱１４１、架設根太材１２３および架設梁材１３３は、構造材としての役割を果たすとともに、複数の基板処理部（後述の上流側雰囲気置換部３１、予熱部３２，焼成部（焼成処理部）３３、冷却部３４および下流側雰囲気置換部３５）を仕切るための枠材として使用されるのものである。
【００２８】
また、前後方向で対向した各一対の主支柱１４間には、上下方向の略中央位置において架設されたローラ支持板１６がそれぞれ架設されている。これらのローラ支持板１６は、後述する複数本の室内搬送ローラ４０を支持するためのものである。これらの長尺根太材１２１や短尺根太材１２２、長尺梁材１３１、短尺梁材１３２、さらには架設根太材１２３や架設梁材１３３、筋交い材１５、ローラ支持板１６の他にも適宜補強用の材料が取付けられているが、図示を省略している。
【００２９】
そして、直方体状フレーム１１の一体構造をさらに強固なものにするために、長尺梁材１３１と主支柱１４および補助支柱１４１との間には斜めに筋交い材１５が溶接止め等によって一体に介設され、これによって直方体状フレーム１１は、全体的に各部材の節点が剛結となった、いわゆるラーメン構造になっている。
【００３０】
このように構成された直方体状フレーム１１は、基板焼成装置１０を据え付けるためのフロアＦにおける据付け領域Ｆ１に、複数本のコロ（摩擦力軽減部材）９０を介して据え付けられるとともに、上流端が据付け領域Ｆ１の直上流側のフロアＦに立設固定されたストッパ１７に固定されている。
【００３１】
前記ストッパ１７は、平面視で矩形状のコンクリート基礎１７１の前方側に、基端部がコンクリート基礎１７１に埋設された状態の門構え体１７２と、この門構え体１７２を支えるように斜めに設けられ、基端部がコンクリート基礎１７１に埋設された幅方向一対の筋交い柱１７５とを備えて構成されている。前記門構え体１７２は、幅方向一対の柱体１７３と、これら一対の柱体１７３の頂部間に一体に架設された梁体１７４とから構成されている。
【００３２】
前記柱体１７３の立設寸法（コンクリート基礎１７１より上部の長さ寸法）は、前記床枠体１２と天井枠体１３との間の外寸法と同一に長さ設定されているとともに、梁体１７４の長さ寸法は、幅方向で対向した一対の主支柱１４間の外寸法と同一に設定され、これによって直方体状フレーム１１の後端部をコンクリート基礎１７１の前縁部に載置した状態で、一対の主支柱１４および短尺梁材１３２がそれぞれ一対の柱体１７３および梁体１７４と対向するようになされている。
【００３３】
前記コロ９０は、複数本が軸心を基板搬送方向と直交する方向に向けて据付け領域Ｆ１上に等ピッチで敷設されるものであり、直径寸法がコンクリート基礎１７１のフロアＦから上方に突出した突出量と同一に設定され、これによって直方体状フレーム１１が複数本のコロ９０上に載置された状態で、後端部の一対の主支柱１４および短尺梁材１３２が門構え体１７２の一対の柱体１７３および梁体１７４に密着し得るようになっている。
【００３４】
そして、本発明においては、図２に示すように、直方体状フレーム１１が複数のコロ９０上に据え付けられた状態で、後端の主支柱１４と柱体１７３との間、および後端の短尺梁材１３２と梁体１７４との間が所定本数のボルトによって互いに連結され、これによって直方体状フレーム１１の後端部が固定端とされている一方、直方体状フレーム１１の前端部は自由端とされている。
【００３５】
したがって、直方体状フレーム１１が熱応力によって伸縮した場合、フロアＦと長尺根太材１２１との間に挟持された複数本のコロ９０は前記伸縮に応じてフロアＦ上を転動し、これによる熱応力の開放で直方体状フレーム１１に不要な力が作用しないようになっている。
【００３６】
そして、本実施形態においては、図２に示すように、直方体状フレーム１１がコロ９０上に据え付けられるとともに、後端部が門構え体１７２に固定された状態で当該直方体状フレーム１１の表面が所定の被覆材で覆われるとともに、内部に各種の機器が装着されることにより、基板焼成装置１０が完成するようになっている。以下、基板焼成装置１０について図３および図４を基に説明する。
【００３７】
図３は、基板焼成装置１０の一実施形態を示す一部切り欠き斜視図であり、図４は、そのＡ−Ａ線断面図である。なお、図３および図４におけるＸおよびＹによる方向表示は図１の場合と同様である。これらの図に示すように、基板焼成装置１０は、前記直方体状フレーム１１の外面に表皮２１が張設されることによって形成した装置本体（筐体）２０内に、基板Ｂを処理するための複数に分割された処理室３０が形成されることによって構成されている。
【００３８】
前記表皮２１は、直方体状フレーム１１の底部に張り付けられた底板２１１と、直方体状フレーム１１の左右幅方向の各側面に張設された一対の側板２１２と、直方体状フレーム１１の後面に張設された後板２１３と、直方体状フレーム１１の前面に張設された前板２１４と、直方体状フレーム１１の上面に張設された天版２１５  とからなっている。
【００３９】
前記後板２１３には、上流側から搬送されてくる基板Ｂを処理室３０内に搬入するための搬入口２２が開口されているとともに、前記前板２１４には、基板収納装置３０内で焼成処理が完了した基板Ｂを系外に搬出するための搬出口２３が開口されている。これら搬入口２２および搬出口２３には、回動式のシャッタ２４がそれぞれ開閉自在に設けられている。これらのシャッタ２４は、図略の開閉機構の駆動で開閉するようになされている。
【００４０】
前記処理室３０は、最上流側に形成された上流側雰囲気置換部３１と、この上流側雰囲気置換部３１の下流側に形成された予熱部３２と、この予熱部３２の下流側に形成された焼成部３３と、この焼成部３３の下流側に形成された冷却部３４と、この冷却部３４の下流側に形成された下流側雰囲気置換部３５とに分割されている。各部３１，３２，３３，３４，３５は、直方体状フレーム１１における互いに対応した一組の補助支柱１４１、架設根太材１２３および架設梁材１３３を境にしてその前後に形成されている。そして、各一組の補助支柱１４１、架設根太材１２３および架設梁材１３３で囲まれた部分には仕切板２５が設けられ、この仕切板２５によって各部３１，３２，３３，３４，３５は互いに仕切られている。かかる各仕切板２５には、基板Ｂを通過させるための通過口２６が開口されている。
【００４１】
そして、上流側雰囲気置換部３１と予熱部３２との間および冷却部３４と下流側雰囲気置換部３５との間に設けられた仕切板２５には、通過口２６を開閉する上下動式のゲートバルブ２７が設けられているとともに、焼成部３３の前後の仕切板２５には通過口２６を開閉するシャッタ２４が設けられている。なお、前記ゲートバルブ２７は、シャッタ２４より高度な密閉度が得られるものであり、かかるゲートバルブ２７が予熱部３２の上流側の通過口２６および冷却部３４の下流側の通過口２６に採用されることにより、焼成処理の心臓部というべき予熱部３２、焼成部３３および冷却部３４を確実に密閉し得るようになっている。
【００４２】
また、処理室３０内には、前記直方体状フレーム１１の幅方向一対のローラ支持板１６間に架設された複数の室内搬送ローラ４０が設けられ、処理室３０内に搬入された基板Ｂは、図略の搬送モータの駆動による室内搬送ローラ４０の駆動回転によって処理室３０内で搬送されるようになっている。
【００４３】
前記室内搬送ローラ４０は、基板焼成装置１０の上流側に並設された複数の上流側搬送ローラ４１および同下流側に並設された下流側搬送ローラ４２と同一高さ位置にレベル設定され、これによって基板Ｂは、上流側搬送ローラ４１から室内搬送ローラ４０を介して下流側搬送ローラ４２へ連続的に搬送され得るようになっている。これら上流側搬送ローラ４１，室内搬送ローラ４０および下流側搬送ローラ４２によって基板焼成装置１０を貫通して基板Ｂを搬送するための搬送路４３が形成されている。
【００４４】
前記上流側雰囲気置換部３１は、基板Ｂが搬入され、上流側のシャッタ２４および下流側のゲートバルブ２７が閉止された状態で内部の雰囲気を非酸化雰囲気に置換するためのものである。そして、基板Ｂを上流側雰囲気置換部３１から予熱部３２へ移すに際し、ゲートバルブ２７が開放され、これによって上流側雰囲気置換部３１と予熱部３２とが連通状態になっても、予熱部３２が酸化雰囲気になることがないようにしている。
【００４５】
前記予熱部３２は、上流側雰囲気置換部３１から送り込まれた基板Ｂに対し非酸化雰囲気下で予熱処理を施すためのものである。本実施形態においては、予熱部３２内に予熱処理用の紫外線ランプ３２１が設けられ、予熱部３２に導入された基板Ｂは、この紫外線ランプ３２１からの紫外線の照射を受けることによって予熱されるとともに、紫外線による所定のキュア処理が施されるようになっている。基板Ｂは、本実施形態においては、この予熱部３２における略５分〜１０分の滞留中に１５０℃〜２００℃に予熱される。
【００４６】
前記焼成部３３は、予熱処理済の基板Ｂに対し非酸化雰囲気の下で本格的な焼成処理を施すものであり、内部に基板Ｂを焼成するための熱源となる通電発熱体３３１が設けられている。かかる焼成部３３に導入された基板Ｂは、前後のシャッタ２４が閉止された状態で略３０分〜５０分の滞留中に通電発熱体３３１からの熱を得て略２５０℃〜３５０℃に加熱されることにより焼成処理が施されるようになっている。
【００４７】
前記冷却部３４は、焼成処理後の基板Ｂに対し冷却処理を施すものであり、当該基板Ｂは、冷却部３４に供給される常温の非酸化性ガスとの間の１０分〜２０分間に亘る熱交換によって冷却されるようになっている。
【００４８】
前記下流側雰囲気置換部３５は、冷却部３４から送り込まれた冷却処理後の基板Ｂが外部に排出される前に通過する部分であり、上流側のゲートバルブ２７が閉止され、下流側のシャッタ２４が開放された状態で基板Ｂが搬出口２３を介して外部に搬出された後、シャッタ２４を閉止した状態で内部の雰囲気を酸化雰囲気から非酸化雰囲気に置換するようになされている。
【００４９】
このようにされるのは、基板Ｂを下流側雰囲気置換部３５から搬出するために下流端のシャッタ２４が開放されると、搬出口２３を介して空気が下流側雰囲気置換部３５内に侵入し、これによって下流側雰囲気置換部３５内が酸化雰囲気になってしまい、つぎの基板Ｂを冷却部３４から下流側雰囲気置換部３５へ搬送すべくゲートバルブ２７を開放する際に冷却部３４へ酸化雰囲気が侵入してしまうため、これを避けるべく予め下流側雰囲気置換部３５内の雰囲気を置換して非酸化雰囲気としているのである。
【００５０】
そして、基板焼成装置１０の近傍には、図４に示すように、処理室３０に非酸化性ガス（窒素ガス）を供給するガス供給部５０が設けられ、このガス供給部５０からの窒素ガスが処理室３０の各部３１，３２，３３，３４，３５へ供給されるようになっている。
【００５１】
かかるガス供給部５０は、窒素ボンベ等のガス源５１と、このガス源５１と処理室３０の各部３１，３２，３３，３４，３５との間に介設されたガス供給管５２と、このガス供給管５２の各部３１，３２，３３，３４，３５に対応した部分に設けられた制御弁５３とを備えて構成され、各制御弁５３の開閉操作によって各部３１，３２，３３，３４，３５に対する窒素ガスの供給量が制御されるようになっている。
【００５２】
そして、処理室３０の各部３１，３２，３３，３４，３５には、それぞれ排気管５４が接続され、供給される窒素ガスによって追い出される各部３１，３２，３３，３４，３５内の気体が排気管５４を通って外部に排気されるようになっている。
【００５３】
このように構成された基板焼成装置１０によれば、処理室３０内に供給された基板Ｂは、まず上流側雰囲気置換部３１で内部の気体が窒素ガスと置換されることにより非酸化雰囲気内に置かれ、ついで予熱部３２において紫外線ランプ３２１の照射を受けて予熱されるとともに、紫外線によるキュア処理が施され、引き続き焼成部３３において通電発熱体３３１による焼成処理が施された後、冷却部３４で冷却処理が施され、下流側雰囲気置換部３５を介して外部へ排出されることになる。
【００５４】
そして、かかる基板焼成装置１０の骨格である直方体状フレーム１１は、フロアＦに敷設された複数本のコロ９０に支持されているとともに、上流端がストッパ１７に固定されてフロアＦに対して固定端とされている一方、下流端がフロアＦに対して固定されずいずれにも支持されない自由端とされているため、基板焼成装置１０が紫外線ランプ３２１や通電発熱体３３１によって加熱され、これによって直方体状フレーム１１が基板搬送方向に伸張しても、この伸張はコロ９０の転動によって吸収される。したがって、直方体状フレーム１１内に熱による内部応力が蓄積され、これによって直方体状フレーム１１が変形したり破損するような不都合の発生が確実に防止される。
【００５５】
以上詳述したように、本発明に係る基板焼成装置１０は、搬送路４３に沿って搬送される基板Ｂに対し焼成処理を含む一連の各種の処理を施すものであり、内部に室内搬送ローラ４０からなる基板Ｂ搬送用の搬送路４３を含み、かつ、一連の基板処理を行う複数の処理室３０が形成されてなる装置本体２０を備え、装置本体２０は、直方体状フレーム１１とこの直方体状フレーム１１を覆った表皮２１とを備え、直方体状フレーム１１は、一方の端部（本実施形態では上流側の端部）がストッパ１７に固定されている一方、他方の端部（下流側の端部）は自由端とされているため、装置本体２０は、基板Ｂに対して焼成処理を施したり、焼成処理を中断したりすることによる熱膨張または熱収縮が生じても、一方の端部が固定端とされている一方、他方の端部が自由端とされていることにより、固定端側を基準として自由端側が基板搬送方向に向けて正逆移動することで熱による伸縮に対応する。したがって、両端が固定端とされている場合、焼成処理による加熱や加熱の中断で装置本体２０が伸縮しようとしても逃げ場がないことにより装置本体２０に熱応力が発生し、これによって装置本体２０が変形したり破損したりする原因になると不都合が生じるが、本発明においては自由端側が自由に移動するためこのような不都合の発生を確実に防止することができる。
【００５６】
そして、本実施形態のように、装置本体２０内において、高温の部分と低温の部分とが混在しており、装置全体で伸縮の程度が均一でない場合であっても、自由端側が自由に移動するので不都合はない。また、装置本体２０の全体を自由端とした場合（すなわち、前端および後端の双方を自由端とした場合）には、装置本体２０の伸縮が繰り返されるとそれに伴って装置本体２０が本来の設置位置から移動してしまうことが考えられるが、本発明においては、装置本体２０の動きを規制する規制部（本実施形態ではストッパ１７）を設けているので、装置本体２０が本来の設置位置から移動してしまうような不都合は生じない。
【００５７】
また、上記の実施形態においては、装置本体２０の底部とフロアＦとの間には、両者間の摩擦力を軽減する摩擦力軽減部材としてのコロ９０が介設されているため、装置本体２０の伸縮が、装置本体２０とフロアＦとの間に介設されたコロ９０の転動によって容易に行われ、直方体状フレーム１１内への内部応力の蓄積を確実に防止することができる。
【００５８】
そして、上記の実施形態においては、基板処理装置として基板焼成装置１０が採用され、複数の処理室３０は、内部の雰囲気が非酸化雰囲気とされる上流側雰囲気置換部３１と、この上流側雰囲気置換部３１から送り込まれた基板Ｂに対し予熱処理を施す予熱部３２と、この予熱部３２から送り込まれた基板Ｂに対して焼成処理を施す焼成部３３と、この焼成部３３から送り込まれた基板Ｂに対して冷却処理を施す冷却部３４と、非酸化雰囲気とされ基板Ｂがこの冷却部３４から送り込まれる下流側雰囲気置換部３５とを備えているため、搬送路４３に沿って装置本体２０内に搬入された基板Ｂは、まず、非酸化雰囲気とされた上流側雰囲気置換部３１通過するため、つぎの予熱部３２に搬入されるに際し当該予熱部３２に外気を持ち込むことが防止された状態で所定の予熱処理が施される。ついで、予熱処理の完了した基板Ｂは、焼成部３３において基板Ｂに本格的な焼成処理が施され、引き続き冷却部３４において所定の冷却処理が施されたのち下流側雰囲気置換部３５を介して系外に排出される。そして、下流側雰囲気置換部３５においては、内部の雰囲気が非酸化雰囲気とされるため、酸化雰囲気が冷却部３４に入り込むような不都合が回避される。
【００５９】
そして、かかる基板焼成装置１０において、予熱部３２や焼成部３３の温度上昇による直方体状フレーム１１の伸張は、直方体状フレーム１１の上流端が固定端とされている一方、下流端が自由端とされていることにより有効に吸収され、直方体状フレーム１１の熱膨張によって基盤焼成処理に不具合が生じるような不都合の発生が確実に排除される。
【００６０】
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。
【００６１】
（１）上記の実施形態においては、基板処理装置として基板Ｂに焼成処理を施す基板焼成装置１０が採用されているが、本発明は、基板処理装置が基板焼成装置１０であることに限定されるものではなく、焼成処理を伴わない通常の基板処理装置であってもよい。すなわち、焼成処理を伴わない基板処理装置であっても、基板Ｂを平流しで搬送しながら処理するものにあっては、搬送路に沿って配設される直方体状を呈したフレームが長尺になる傾向にあることから、部分的な気温の変動によってフレームが伸縮するため、かかる変動に対応させるためにも本発明に係るコロ９０を用いたフレームの配設構造は有効である。
【００６２】
（２）上記の実施形態においては、直方体状フレーム１１の上流側の端部がストッパ１７に固定されて固定端とされている一方、下流側の端部が自由端とされているが、こうする代わりに下流側の端部を固定端とするとともに、上流側の端部を自由端としてもよい。また、直方体状フレーム１１の基板搬送方向の中央部をフロアＦに固定する一方、直方体状フレーム１１の上流端および下流端の双方を自由端としてもよい。こうすることによって、直方体状フレーム１１の端部での変形量を半分に減らすことができる。この場合、直方体状フレーム１１の中央部を本発明に係る固定端が形成される側の端部であると解釈することができる。
【００６３】
（３）上記の実施形態においては、直方体状フレーム１１とフロアＦとの間に摩擦力軽減部材としてのコロ９０が介設されているが、本発明は、摩擦力軽減部材がコロ９０であることに限定されるものではなく、軸回りに回転自在に車輪が設けられてなるキャスターを直方体状フレーム１１の底部に取付けてもよいし、砂などの粉状体を直方体状フレーム１１とフロアＦとの間に介設してもよい。特に、粉状体を介設した場合には、装置本体２０の伸縮が当該紛状体の流動によって容易に吸収され、直方体状フレーム１１内に内部応力が蓄積されるような不都合が有効に解消される。
【００６４】
（４）上記の実施形態においては、コロ９０がフロアＦ上に直接載置されているが、こうする代わりに据付け領域Ｆ１にレールを敷設し、このレール上にコロ９０を載置してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明に係る基板焼成装置（基板処理装置）の直方体状フレームの一実施形態を示す斜視図であり、直方体状フレームがフロア上に据え付けられる直前の状態を示している。
【図２】本発明に係る基板焼成装置（基板処理装置）の直方体状フレームの一実施形態を示す斜視図であり、直方体状フレームがフロア上に据え付けられた状態を示している。
【図３】基板焼成装置の一実施形態を示す一部切り欠き斜視図である。
【図４】図３に示す基板焼成装置のＡ−Ａ線断面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１０  基板焼成装置            １１  直方体状フレーム
１２  床枠体                  １２１  長尺根太材
１２２  短尺根太材            １２３  架設根太材
１３  天井枠体                １３１  長尺梁材
１３２  短尺梁材              １３３  架設梁材
１４  主支柱                  １４１  補助支柱
１５  筋交い材                １６  ローラ支持板
１７  ストッパ                １７１  コンクリート基礎
１７２  門構え体              １７３  柱体
１７４  梁体                  １７５  筋交い柱
２０  装置本体（筐体）        ２１  表皮
２１１  底板                  ２１２  側板
２１３  後板                  ２１４  前板
２１５  天版                  ２２  搬入口
２３  搬出口                  ２４  シャッタ
２５  仕切板                  ２６  通過口
２７  ゲートバルブ            ３０  処理室
３１  上流側雰囲気置換部      ３２  予熱部
３２１  紫外線ランプ          ３３  焼成部（焼成処理部）
３３１  通電発熱体            ３４  冷却部
３５  下流側雰囲気置換部      ４０  室内搬送ローラ
４１  上流側搬送ローラ        ４２  下流側搬送ローラ
４３  搬送路                  ５０  ガス供給部
５１  ガス源                  ５２  ガス供給管
５３  制御弁                  ５４  排気管
９０  コロ（摩擦力軽減部材）  Ｂ  基板
Ｆ  フロア
【図１】
2006082926.tif 000003
【図２】
2006082926.tif 000004
【図３】
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【図４】
2006082926.tif 000006