(57)【要約】【解決手段】  ２５℃でのＥ型粘度が２００〜４００Ｐａ・ｓであり、５℃／ｍｉｎ．の昇温速度で１２０℃に加熱した際の最低粘度（ＶMin）が１Ｐａ・ｓ以上であることを特徴とする液晶表示セル用シール剤組成物。【効果】  本発明によれば、１００℃以下の温度範囲でＢステージ化を示す硬化促進剤又は擬似硬化性ゴム状ポリマー微粒子を使用することにより、熱硬化時にシール剤の粘度低下を引き起こさず、原料樹脂の液晶への拡散を抑えることができ、更に、微粒子にコアシェル構造を持つ部分架橋型アクリル系化合物を併用することにより、接着性、形状保持性に優れた液晶表示セル用シール剤組成物を提供することができる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
２５℃でのＥ型粘度が２００〜４００Ｐａ・ｓであり、５℃／ｍｉｎ．の昇温速度で１２０℃に加熱した際の最低粘度（ＶMin）が１Ｐａ・ｓ以上であることを特徴とする液晶表示セル用シール剤組成物。
【請求項２】
８０℃で５分間熱処理した後のＥ型粘度が、８０℃で１０〜２００Ｐａ・ｓであることを特徴とする請求項１記載の液晶表示セル用シール剤組成物。
【請求項３】
（Ａ）部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂：１００質量部、
（Ｂ）（Ａ）成分以外のエポキシ樹脂：０〜６０質量部、
（Ｃ）潜在性硬化剤：（Ａ）成分のエポキシ成分と（Ｂ）成分の合計量に対して１０〜７０質量％、
（Ｄ）硬化促進剤：組成物全体の０．１〜６質量％
を必須成分とし、１００℃以下の温度でＢステージ化することを特徴とする請求項１又は２記載の液晶表示セル用シール剤組成物。
【請求項４】
（Ａ）部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂：１００質量部、
（Ｂ）（Ａ）成分以外のエポキシ樹脂：０〜６０質量部、
（Ｃ）潜在性硬化剤：（Ａ）成分のエポキシ成分と（Ｂ）成分の合計量に対して１０〜７０質量％、
（Ｄ）硬化促進剤：組成物全体の０．１〜６質量％、
（Ｅ）１００℃以下の温度範囲で擬似硬化性を示すゴム状ポリマー微粒子：（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量に対して３〜３０質量％
を必須成分とすることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の液晶表示セル用シール剤組成物。
【請求項５】
前記（Ｅ）成分のゴム状ポリマー微粒子が、０．１〜１μｍの一次粒子径を持ち、かつコアシェル構造を持つ部分架橋型アクリル系微粒子であることを特徴とする請求項４記載の液晶表示セル用シール剤組成物。
【請求項６】
前記（Ｄ）成分の硬化促進剤が、ジメチル尿素化合物、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセン−７塩類及び１，５−ジアザビシクロ（４．３．０）ノネン−５塩類から選ばれる１種又は２種以上である請求項１乃至５のいずれか１項記載の液晶表示セル用シール剤組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、１００℃以下の温度でＢステージ化状態を示す液晶表示セル用シール剤組成物に関するものであり、特にＵＶ硬化後の加熱硬化時にシール剤から液晶への原料樹脂等の拡散による汚染性を抑えた液晶表示セル用シール剤組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
これまで、液晶表示セルの製造方法は、ＴＦＴ側基板にシール剤をスクリーン印刷又はディスペンサー装置による塗布を行った後、ビーズ状のスペーサー剤を散布したカラーフィルター側基板を重ね合わせた状態で、加圧下、シール剤を加熱硬化させ、空パネルを製造している。更に、この空パネルをスクライブ装置で切断してから、液晶を減圧下、注入口より注入して液晶表示セルを製造しているため、液晶の注入に時間がかかる。また、基板サイズの大型化及び液晶の応答速度を短縮するためにパネルギャップの薄型化を行うことにより、液晶注入時間の占める割合が増加するという技術的問題があり、生産性の低下及び液晶表示装置の低コスト化が困難であった。
【０００３】
しかし、近年大型パネルの低コスト化が強く求められるようになり、ＯＤＦ（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）方式による液晶表示装置の製造方法が検討されるようになった。従来方法では、接触することがなかった液晶と未硬化シール剤組成物とが接触するようになり、液晶に対するシール剤組成物の汚染性が重要な問題として浮上してきた。なお、ＯＤＦ方式とは、ＴＦＴ側基板にシール剤をスクリーン印刷又はディスペンサー装置による塗布を行った後、液晶をディスペンサー装置にて塗布し、ビーズ状のスペーサー剤を散布したカラーフィルター側基板あるいはホトスペーサーを形成したカラーフィルター側基板を一括で貼り合わせる方式である。
【０００４】
従来のＯＤＦ方式のシール剤では、紫外線硬化成分として（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂、熱硬化成分として液状エポキシ樹脂、及び潜在性硬化剤としてアミン系化合物を使用している。しかし、ガラス基板サイズの大型化、並びに高精彩画化に伴い、電極パターンの数が多くなり、シール剤に紫外線が照射されない陰影部の割合が大きくなっている。そこで、陰影部の硬化性を向上させる目的で、有機過酸化物等の併用により、これを（メタ）アクリレート変性樹脂の開始剤等として使用する方法が提案されている。しかし、有機過酸化物の併用系では脱炭酸反応等により揮発成分が発生し、ボイドが問題になる。更に、有機過酸化物はアミン系化合物と併用すると保存性を悪くするため、使用上の制限がある。
以上のような理由から、熱硬化時の陰影部の硬化性を向上させ、液晶への汚染性を減らすことは困難となっている。
【０００５】
なお、本発明に関連する先行技術としては、下記のものが挙げられる。
【特許文献１】特開平１０−２３９６９４号公報
【特許文献２】特開平９−００５７５９号公報
【特許文献３】特開２００１−１３３７９９号公報
【特許文献４】特開２００１−１３３７９４号公報
【特許文献５】特開平９−１９４５６７号公報
【特許文献６】特開平１０−００３０８４号公報
【特許文献７】特開２００３−２８０００４号公報
【特許文献８】国際公開第０１／９８４１１号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、以上のような事情を考慮してなされたものであり、従来の液晶表示セル用シール剤組成物に要求されていた、液晶に対する汚染性が少なく、加熱硬化時のシール剤粘度の低下による原料樹脂等の液晶への汚染性を抑えた液晶表示セル用シール剤組成物を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、前記した課題を解決すべく鋭意検討した結果、汚染性の原因として、加熱時のシール剤の低粘度化により、シール剤から原料樹脂が液晶中へ拡散していくことに問題があることを見出した。そこで液晶への影響が少ないエポキシ樹脂用硬化触媒並びに擬似硬化性を持ったアクリル系微粒子を使用することで、シール剤粘度の低下を抑えることができ、液晶への汚染性のない液晶表示セル用シール剤組成物を得ることができることを見出し、本発明をなすに至った。
【０００８】
従って、本発明は、
（１）２５℃でのＥ型粘度が２００〜４００Ｐａ・ｓであり、５℃／ｍｉｎ．の昇温速度で１２０℃に加熱した際の最低粘度（ＶMin）が１Ｐａ・ｓ以上であることを特徴とする液晶表示セル用シール剤組成物、
（２）８０℃で５分間熱処理した後のＥ型粘度が、８０℃で１０〜２００Ｐａ・ｓであることを特徴とする（１）記載の液晶表示セル用シール剤組成物、
（３）（Ａ）部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂：１００質量部、
（Ｂ）（Ａ）成分以外のエポキシ樹脂：０〜６０質量部、
（Ｃ）潜在性硬化剤：（Ａ）成分のエポキシ成分と（Ｂ）成分の合計量に対して１０〜７０質量％、
（Ｄ）硬化促進剤：組成物全体の０．１〜６質量％
を必須成分とし、１００℃以下の温度でＢステージ化することを特徴とする（１）又は（２）記載の液晶表示セル用シール剤組成物。
（４）（Ａ）部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂：１００質量部、
（Ｂ）（Ａ）成分以外のエポキシ樹脂：０〜６０質量部、
（Ｃ）潜在性硬化剤：（Ａ）成分のエポキシ成分と（Ｂ）成分の合計量に対して１０〜７０質量％、
（Ｄ）硬化促進剤：組成物全体の０．１〜６質量％、
（Ｅ）１００℃以下の温度範囲で擬似硬化性を示すゴム状ポリマー微粒子：（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量に対して３〜３０質量％
を必須成分とすることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の液晶表示セル用シール剤組成物、
（５）前記（Ｅ）成分のゴム状ポリマー微粒子が、０．１〜１μｍの一次粒子径を持ち、かつコアシェル構造を持つ部分架橋型アクリル系微粒子であることを特徴とする（４）記載の液晶表示セル用シール剤組成物、
（６）前記（Ｄ）成分の硬化促進剤が、ジメチル尿素化合物、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセン−７塩類及び１，５−ジアザビシクロ（４．３．０）ノネン−５塩類から選ばれる１種又は２種以上である（１）〜（５）のいずれかに記載の液晶表示セル用シール剤組成物
を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、１００℃以下の温度範囲でＢステージ化することにより、ＵＶ硬化後の熱硬化時にシール剤の粘度低下を引き起こさず、原料樹脂の液晶への拡散を抑えることができ、更に、微粒子にコアシェル構造を持った部分架橋型アクリル系化合物を併用することにより、接着性、形状保持性に優れた液晶表示セル用シール剤組成物を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物は、
（ｉ）該組成物の２５℃でのＥ型粘度が２００〜４００Ｐａ・ｓであり、５℃／ｍｉｎ．の昇温速度で１２０℃に加熱した際の最低粘度（ＶMin）が１Ｐａ・ｓ以上であることを特徴とする液晶表示セル用シール剤組成物である。
【００１１】
即ち、本発明の液晶表示セル用シール剤組成物の２５℃でのＥ型粘度が２００〜４００Ｐａ・ｓであり、５℃／ｍｉｎ．の昇温速度で１２０℃に加熱した際の最低粘度（ＶMin）が１Ｐａ・ｓ以上であるものであるが、２５℃でのＥ型粘度を２００〜４００Ｐａ・ｓ、特に２５０〜３５０Ｐａ・ｓとし、また５℃／ｍｉｎ．の昇温速度で１２０℃に加熱した際の最低粘度（ＶMin）を１Ｐａ・ｓ以上とすることにより、上述した目的を達成し得たものである。なお、最低粘度の上限は、特に制限されないが、通常４００Ｐａ・ｓ以下である。
【００１２】
２５℃での粘度が２００Ｐａ・ｓ未満の場合には、ディスペンス時の塗布性（形状、塗布スピード等）、貼り合わせ時のギャップ制御性には問題がないが、貼り合わせ時の形状保持性に問題がある。逆に４００Ｐａ・ｓを超える場合には、ディスペンス時の塗布性（形状、塗布スピード等）、貼り合わせ時のギャップ制御性に問題が出てくる。また、加熱時の最低粘度が１Ｐａ・ｓ未満であると、液晶中へ原料モノマーが拡散しやすく、汚染性の原因になりやすい。更に、シール剤の形状保持性及びシール剤の決壊等の問題も起きやすくなる。
【００１３】
また、この場合、本発明の液晶表示セル用シール剤組成物は、
（ｉｉ）８０℃で５分間熱処理した後のＥ型粘度が、８０℃で１０〜２００Ｐａ・ｓ、より好ましくは２０〜１８０Ｐａ・ｓであることが好ましい。
【００１４】
このように本発明の液晶表示セル用シール剤組成物では、８０℃で５分間熱処理した後のＥ型粘度が、８０℃で１０〜２００Ｐａ・ｓであることが好ましく、８０℃で５分間熱処理後の粘度が１０Ｐａ・ｓ未満である場合には、Ｂステージ化までの時間が長く、加熱硬化時のシール剤粘度の低下により、液晶中への原料モノマーが拡散しやすく、汚染性の原因になりやすい。更に、シール剤の形状保持性及びシール剤の決壊等の問題が起きやすくなる。逆に２００Ｐａ・ｓを超える場合には、液晶に対する汚染性の問題は起き難くなるが、硬化性が早く、保存性、作業性等に影響を及ぼす可能性がある。このため、（ｉ）並びに（ｉｉ）の両方の特性を満足することが推奨される。
なお、各粘度の測定法は、後述の実施例に示す通りである。
【００１５】
上記の特性を与える組成物としては、
（Ａ）部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂、
（Ｂ）（Ａ）成分以外のエポキシ樹脂、
（Ｃ）潜在性硬化剤、
（Ｄ）硬化促進剤
を必須成分とし、更に必要により、
（Ｅ）１００℃以下の温度範囲で擬似硬化性を示すゴム状ポリマー微粒子
を配合したものが好ましい。
【００１６】
［（Ａ）部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂］
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物で使用する（Ａ）成分の部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂は、一分子当たり２個以上のエポキシ基を持った液状エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とを当量比でエポキシ基：（メタ）アクリロイル基＝９／１〜１／９で反応させたものが好適であり、更に好ましくはエポキシ基：（メタ）アクリロイル基＝６／４〜３／７で反応させたものが好ましい。
【００１７】
この場合、一分子当たり２個以上のエポキシ基を持った液状エポキシ樹脂としては、従来から公知のものを全て使用することができる。
【００１８】
その具体例としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは１種単独でも２種以上を組み合わせても使用することができる。
【００１９】
これらの中でも、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂といったものが比較的低粘度であり、耐熱性や耐湿性に優れていることから好ましい。
【００２０】
上記反応は、通常、トルエン等の有機溶媒中で行われることが好ましい。また、上記反応はエポキシ基とカルボン酸との反応であるので、触媒として、トリフェニルホスフィン（ＴＰＰ）やアミン類を共存させて行うことが好ましい。上記反応は、通常、遮光条件下に、８０〜１００℃で行えばよい。しかし、上記反応は発熱反応であることから、（メタ）アクリロイル基の重合反応を防止するため、重合禁止剤等（ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ＢＨＴ（ジブチルヒドロキシトルエン）等）を使用し、制御する必要がある。
【００２１】
上記反応により得られた（Ａ）成分の部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂は、（メタ）アクリロイル基とエポキシ基を含有するものであるので、光、例えば紫外線照射、及び加熱により重合させることができる。
【００２２】
また、本発明の（Ａ）成分の部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂は、（Ｂ）成分のエポキシ樹脂に対する相溶性及び希釈効果が大きいので、本発明の液晶表示セル用シール剤組成物の調製上の作業性については何ら問題とはならない。
【００２３】
更に、エポキシ基に対する部分（メタ）アクリレート変性比率を９０／１０〜１０／９０、特に６０／４０〜３０／７０の当量比とすることで、従来の液晶表示セル用シール剤組成物に要求されていた液晶に対する汚染性が少なく、反応性希釈剤等の添加をすることなく作業性を維持し、接着性、耐熱性を達成しながらも、保存性に優れる液晶表示セル用シール剤組成物を得ることができる。
【００２４】
［（Ｂ）（Ａ）成分以外のエポキシ樹脂］
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物で使用するエポキシ樹脂としては、一分子当たり２個以上のエポキシ基を持ったもので、従来から公知のものを全て使用することができる。その具体例としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリフェノールエタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは１種単独でも２種以上を組み合わせても使用することができる。
【００２５】
これらの中でも、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂といったものが比較的低粘度であり、耐熱性や耐湿性に優れていることから好ましい。
【００２６】
エポキシ樹脂には、その合成過程でエピクロルヒドリンを使用することから、このエピクロルヒドリン由来の塩素が少量含まれるが、この加水分解性塩素量は６００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３００ｐｐｍ以下であることが好ましい。加水分解性塩素量が６００ｐｐｍより多くなると、液晶への汚染性が問題になる場合が生じる。なお、加水分解性塩素量は、例えば、約０．５ｇのエポキシ樹脂を２０ｍｌのジオキサンに溶解し、又はエポキシ樹脂に同質量のイオン交換水を加えて、１００℃×２０時間の条件で抽出処理を行った後の水中塩素濃度が１ＮのＫＯＨ／エタノール溶液５ｍｌで３時間還流した後、０．０１Ｎ硝酸銀溶液で滴定することにより定量することができる。
【００２７】
このエポキシ樹脂の配合量は、（Ａ）成分の部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂中のエポキシ樹脂と（Ｂ）成分のエポキシ樹脂を足したものになり、（メタ）アクリル当量に対して、エポキシ基を、通常、当量比（エポキシ基／（メタ）アクリル基、モル比）で０．７〜１．２、好ましくは０．８〜１．１の範囲とするのがよく、通常（Ａ）成分１００質量部に対して（Ｂ）成分０〜６０質量部、特に５〜４０質量部が好ましい。エポキシ樹脂の配合量が多すぎると紫外線照射による硬化を行っても、シール剤組成物中の硬化が不十分となり、ガラス基材に対する接着力が不十分になる場合があり、一方、逆に少なすぎると紫外線照射による硬化性は良好となるが、最終的な熱硬化を行った後での硬化物特性が低下してしまう場合がある。
【００２８】
［（Ｃ）潜在性硬化剤］
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物で使用する潜在性硬化剤は、常温では固体であり、加熱硬化時に液化して上記エポキシ樹脂の硬化剤として作用するものである。
この成分としては、例えば、ジシアンジアミド、カルボヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、イミノジ酢酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、スベリン酸ジヒドラジド、アゼライン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、ドデカンジオヒドラジド、ヘキサデカンジヒドラジド、マレイン酸ジヒドラジド、フマル酸ジヒドラジド、ジグリコール酸ジヒドラジド、酒石酸ジヒドラジド、リンゴ酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、２，６−ナフトエ酸ジヒドラジド、４，４’−ビスベンゼンジヒドラジド、１，４−ナフトエ酸ジヒドラジド、アミキュアＶＤＨ、アミキュアＵＤＨ（商品名、味の素（株）製）、クエン酸トリヒドラジド等の有機酸ヒドラジド等が挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上組み合わせても使用することができる。これらの中でも、下記式で示されるアミキュアＶＤＨ、アミキュアＵＤＨが比較的低融点であり、硬化性のバランスに優れているという点から好ましく用いることができる。
【００２９】
アミキュアＶＤＨ
（１，３−ビス（ヒドラジノカルボノエチル）−５−イソプロピルヒダントイン）
【化１】
2006023419.tif 000002
【００３０】
アミキュアＵＤＨ
（７，１１−オクタデカジエン−１，１８−ジカルボヒドラジド）
【化２】
2006023419.tif 000003
【００３１】
上記潜在性硬化剤は、平均粒径が０．１〜２μｍ、より好ましくは０．５〜１．５μｍであり、かつ９０質量％累積時の粒径が３μｍ以下、特に２．５μｍ以下であるものを使用する。なお、ここでの平均粒径とは、レーザー回析散乱法を原理とした粒度分布測定装置（マイクロトラックＭＴ３０００：日機装（株）製）により測定した値である。
【００３２】
ここで、上記潜在性硬化剤は、室温で固形のものであるから、その使用に際しては、前処理としてビーズミル、アトライタ、ボールミル等の装置で湿式粉砕及び分級したものを使用し、更には三本ロール等で分散混練して、上記平均粒径９０質量％累積時の粒径となるようにすること、更に好ましくは最大粒径が３μｍ以上のものがないようにするのがよい。
【００３３】
この場合、上記潜在性硬化剤の一部又は全部を下記一般式（１）で示されるシランカップリング剤と混合し、この混合物を湿式ビーズミルで処理したものを使用することが好ましい。
Ｒ1Ｃ3Ｈ6ＳｉＲ2n（ＯＲ3）3-n              （１）
（式中、Ｒ1はグリシドキシ基、アクリロキシ基又はメタクリロキシ基である。Ｒ2、Ｒ3はアルキル基、ｎは０，１又は２である。）
【００３４】
ここで、Ｒ2のアルキル基としては炭素数１〜２のものが好ましく、Ｒ3のアルキル基としては炭素数１〜２のものが好ましい。
【００３５】
潜在性硬化剤を表面処理するために用いられるシランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは１種単独でも２種以上組み合わせても使用することができる。これらの中でも、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が潜在性を更に向上させる点から好適に使用することができる。
【００３６】
上記シランカップリング剤を用いる場合、その使用量は、潜在性硬化剤に対して、通常、０．１〜６質量％程度であり、特に１〜３質量％の範囲で添加することが好ましい。添加量が少なすぎると十分に表面処理されずポットライフが悪くなる場合があり、逆に多すぎると液晶を汚染する場合がある。
【００３７】
なお、潜在性硬化剤をシランカップリング剤で表面処理する際に用いられる装置については特に限定されないが、ヘンシェルミキサー、ボールミル、ビーズミルなどが挙げられ、乾式又は湿式のいずれの方法で処理してもよい。
【００３８】
また、上記湿式ビーズミルは、硬化剤を含有したスラリー溶液を処理する容器の中に剪断場を作り出す回転子、剪断場中で動くビーズを有していれば特に限定しないが、処理容器やそれに付属する配管部等に加熱又は冷却機構を備え、硬化剤を含有したスラリーを繰り返し処理することができるポンプ機構、及び樹脂を排出する際に一緒にビーズが流出することを防ぐセパレータ機構を具備した連続方式のものが好適である。このようなビーズミルとしては、三井鉱山（株）製のＳＣ−ＭＩＬＬ（ＳＣ１００）等を用いることができる。使用するビーズも限定しないが、硬化剤の材質や分率に応じて、直径が０．２５〜１．５ｍｍであるジルコニア、アルミナ、ガラス、スチール製のものが使用可能であり、処理室の有効容積の６０〜９０体積％、更に好ましくは８０〜８５体積％充填させることが好ましい。また、セパレータ機構を具備した連続方式の湿式ビーズミルの場合、繰り返し処理を円滑に行うため、処理温度、硬化剤の配合量、処理流量を加減することによって、硬化剤を含有したスラリーの粘度（２５℃）を５０Ｐａ・ｓ以下にすることが必要である。
【００３９】
この潜在性硬化剤の配合量は、（Ａ）成分の部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂中のエポキシ成分と（Ｂ）成分の合計量に対して、通常、１０〜７０質量％、より好ましくは２０〜６０質量％の範囲で配合するのが好ましい。前記配合量が多すぎると未反応の硬化剤が残り、耐湿性に影響を与える場合がある。また、逆に少なすぎると未反応・未硬化のエポキシ樹脂が残り、液晶に対する汚染性及び硬化物特性の低下を引き起こす場合がある。
【００４０】
［（Ｄ）硬化促進剤］
硬化促進剤としては、エポキシ樹脂の熱硬化触媒用として用いられている、従来から公知のものを全て使用することができる。特に硬化剤として使用されるジシアンジアミド、ヒドラジド化合物の硬化促進剤として使用されているものが特によい。
該硬化促進剤成分の具体例としては、例えば、イミダゾール化合物としてアミキュアＰＮ−２３（商品名、味の素（株）製）、ハードナーＥＨ−３２９３Ｓ（商品名、エー・シー・アール（株）製）、ノバキュアＨＸ−３７２１（商品名、旭化成（株）製）、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、２−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、脂肪族アミン系化合物とエポキシ樹脂とのアダクト体としてアミキュアＰＮ−Ｈ、アミキュアＭＹ−２４（商品名、味の素（株）製）、ハードナーＨ−３６１５Ｓ（商品名、エー・シー・アール（株）製）、ノバキュアＨＸ−３７４１（商品名、旭化成（株）製）等が挙げられ、尿素型アダクトとしてフジキュアＦＸＥ−１０００、フジキュアＦＸＥ−１０３０（商品名、富士化成（株）製）等が挙げられる。アミン化合物とジイソシアナート化合物との付加体としてＵＤ−３４（商品名、保土ヶ谷化学（株）製）、Ｕ−ＣＡＴ３５０２Ｔ、Ｕ−ＣＡＴ３５０３Ｎ（商品名、サンアプロ（株）製）等が挙げられる。これらの中でも、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７塩類（以下、ＤＢＵ塩類という）としてＵ−ＣＡＴ  ＳＡ  １、Ｕ−ＣＡＴ  ＳＡ  １０２、Ｕ−ＣＡＴ  ＳＡ  ５０６、Ｕ−ＣＡＴ  ＳＡ  ６０３、Ｕ−ＣＡＴ  ＳＡ  ８１０、あるいは１，５−ジアザビシクロ（４，３，０）ノネン−５塩類（以下、ＤＢＮ塩類という）としてＵ−ＣＡＴ  ＳＡ  ８８１などが好適に用いられ、それらを単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４１】
上記例示の中でも、特に室温での活性が低く、潜在性に優れている点から、具体的にはジメチル尿素化合物、ＤＢＵ塩類、ＤＢＮ塩類を用いるのがよい。
【００４２】
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物における（Ｄ）硬化促進剤の添加量としては、組成物全体の０．１〜６質量％の範囲で添加することが好ましい。より好ましくは、０．５〜３質量％の範囲で添加することが好ましい。添加量が少なすぎると熱硬化性が低下する場合があり、逆に多すぎるとシール剤組成物の保存性が低下する傾向となる場合がある。
【００４３】
上記潜在性硬化剤は、平均粒径が０．１〜２μｍ、より好ましくは０．５〜１．５μｍであり、かつ９０質量％累積時の粒径が３μｍ以下、特に２．５μｍ以下であるものを使用することが好ましい。なお、ここでの平均粒径とは、レーザー回析散乱法を原理とした粒度分布測定装置（マイクロトラックＭＴ３０００：日機装（株）製）により測定した値である。
【００４４】
ここで、上記潜在性硬化剤は、室温で固形のものであるから、その使用に際しては、前処理としてビーズミル、アトライタ、ボールミル等の装置で湿式粉砕及び分級したものを使用し、更には三本ロール等で分散混練して、上記平均粒径９０質量％累積時の粒径となるようにすること、更に好ましくは粒径が３μｍ以上のものがないようにするのがよい。
【００４５】
［（Ｅ）擬似硬化性を示すゴム状ポリマー微粒子］
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物で使用する擬似硬化性を示すゴム状ポリマー微粒子としては、１００℃以下の温度範囲で擬似硬化性を示すものである。ここで、擬似硬化性とは、粒子の膨潤に伴って、粒度が上昇し、擬塑性流動を示すことであり、かかる擬似硬化性ゴム状ポリマー微粒子として具体的には、シリコーンゴム微粒子、シリコーン樹脂微粒子、ポリエチレン微粒子、ポリプロピレン微粒子、ポリ塩化ビニル微粒子、ポリメチルメタクリレート微粒子、架橋ポリメチルメタクリレート微粒子、ポリｎ−ブチルアクリレート微粒子などのポリアクリレート系微粒子、架橋ポリスチレン微粒子、ナイロン１２微粒子、メラミン樹脂微粒子、ベンゾグアナミン樹脂微粒子、メラミン−グアナミン樹脂微粒子、ポリウレタン樹脂微粒子、ポリ酢酸ビニル微粒子、ポリスチレン−酢酸ビニル共重合体微粒子、ポリエステル微粒子、尿素樹脂微粒子、フェノール樹脂微粒子、エポキシ樹脂微粒子等のゴム状ポリマー微粒子の表面にエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等と膨潤ゲル化を起こしやすい官能基を導入したものが挙げられる。
【００４６】
この場合、上記官能基としては、カルボキシル基等が挙げられ、その官能基の導入方法としては、コア粒子に化学的にカルボキシル基を持った直鎖状のポリマーをグラフト化（結合）させることで得ることができる。
【００４７】
上記擬似硬化性ゴム状ポリマー微粒子は、その一次粒子径がレーザー回折散乱法による測定法において０．１〜１μｍ、特に０．１〜０．６μｍが好ましい。また平均凝集（二次）粒子径は２〜２０μｍが好ましい。二次粒子径が大きすぎると、貼り合わせ時のギャップ制御性が悪くなるおそれがある。これらの擬似硬化性ゴム状ポリマー微粒子の中で、特にコアシェル型アクリル系微粒子（ガラス転移温度が−３０℃以下の（メタ）アクリレート系重合体からなるコア部とガラス転移温度が７０℃以上の（メタ）アクリレート系重合体からなるシェル部）のシェル部にイオン架橋を持たせたコアシェル構造を有する部分架橋型アクリル系微粒子は、更に接着強度が強く、染み出し防止に効果があり、好ましい。
【００４８】
このようなコアシェル構造を持つ部分架橋型アクリル系微粒子として具体的には、ゼオンＦ３５１（ゼオン化成（株）製）が挙げられる。
【００４９】
前記のような擬似硬化性ゴム状ポリマー微粒子の添加量としては、染み出し防止の点などから、（Ａ）成分の部分（メタ）アクリレート変性エポキシ樹脂と（Ｂ）成分の（Ａ）成分以外のエポキシ樹脂との合計量に対して３〜３０質量％の範囲が好ましい。より好ましくは５〜２０質量％の範囲である。３質量％未満であると、Ｂステージ化状態になりにくく、原料樹脂の液晶への拡散防止に効果が見られず、配向性が悪くなる場合がある。また、３０質量％を超えると、粘度が高くなり、ディスペンス性、作業性が悪くなってしまうなどの問題が出てくるおそれがある。なお、前記擬似硬化性微粒子の混合の際、凝集物によるニードル詰まりを防止するため、予め充填剤と混合分散を行うか、使用樹脂と予備混合した後、三本ロール等で凝集物が完全になくなるように混練し、微細化して使用することが望ましい。
【００５０】
上記成分の他に、本発明の液晶表示セル用シール剤組成物に、必要に応じて、下記成分を添加・配合することは任意である。
【００５１】
［光重合開始剤］
光重合開始剤としては、（メタ）アクリル基の光重合用に用いられている、従来から公知のものを全て用いることができる。
【００５２】
該光重合開始剤成分の具体例としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンゾフェノン、１−｛４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル｝−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン（商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＩＰ−１５０、ＬＡＭＢＥＲＴＩ  Ｓ．ｐ．Ａ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７（商品名、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）等のフェニルケトン類、アデカオプトマーＮ−１４１４、アデカオプトマーＮ−１７１７（商品名、旭電化（株）製）、ＣＧＩ−１２４、ＣＧＩ−２４２（商品名、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ７５４（商品名、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）（２，４，４−トリメチルペンチル）フォスフィンオキサイド、（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ジフェニルフォスフィンオキサイド等のベンゾイルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。これらは１種単独でも２種類以上組み合わせても使用することができる。
【００５３】
上記例示の中でも、特に、液晶表示セル用としては、光硬化時にＶＯＣ（揮発性有機化合物）が少ない点から、ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＩＰ−１５０（ＬＡＭＢＥＲＴＩ  Ｓ．ｐ．Ａ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ７５４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）等が好適である。
【００５４】
本光重合開始剤成分の配合量は、上記（Ａ）成分に対し０．１〜６質量％、好ましくは１〜５質量％、より好ましくは２〜４質量％の範囲で添加することが好ましい。添加量が少なすぎると光重合性・硬化性が低下する場合があり、逆に多すぎるとシール剤組成物の保存性、作業性等が低下する傾向となる場合がある。更に、光開始剤の分解成分によるボイド、液晶への汚染等の問題が発生しやすくなる。
【００５５】
［無機質充填剤・カップリング剤］
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物には、膨張係数を小さくするために、従来より公知の各種無機質充填剤を添加することができる。
【００５６】
この無機質充填剤としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、酸化チタン、シリカチタニア、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、マグネシア、マグネシウムシリケート、タルク、マイカ等が挙げられ、これらは１種単独でも２種類以上組み合わせても使用することができる。また、これらの中でもシリカ、アルミナ及びタルクを単独又は２種類以上併用して用いることが好ましい。
【００５７】
用いられる無機質充填剤は、粒径３μｍ以上の含有率が１質量％以下、かつ平均粒径が０．２〜２μｍのものが好ましい。ここで、粒径が３μｍ以上の含有率が１質量％を超えると、ガラス基板のギャップ出し精度が悪くなり、貼り合わせが困難になるおそれがある。また、平均粒径が０．２μｍ未満であると、粘度が高くなり、ニードルからの塗布量が低下し、塗布スピードが遅くなり、生産性が悪くなる場合があるため、実際的でない。なお、平均粒径は、レーザー回析散乱法を原理とした粒度分布測定装置による測定値である。
【００５８】
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物中に占める無機質充填剤の含有率は、１０〜３０質量％、より好ましくは１５〜２５質量％の範囲とするのが好ましい。前記含有率が１０質量％未満では、膨張係数が大きいため、硬化後に歪みを生じさせる傾向がある。３０質量％を超えると組成物の粘度が高くなるため、使用時に後添加するスペーサー剤の分散性及びガラス基板のギャップ出し精度が悪くなる場合がある。
【００５９】
上記無機質充填剤は、予めシラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤等のカップリング剤で表面処理したものを使用することが好ましい。より好ましくは、使用するエポキシ樹脂とカップリング剤で表面処理した充填剤とを予め減圧・混練処理を行うことである。これにより、充填剤表面とエポキシ樹脂の界面がよく濡れた状態とすることができ、耐湿信頼性が格段に向上する。
【００６０】
上記シランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシプロピル）テトラスルフィド、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のシラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらは１種単独でも２種以上組み合わせても使用することができる。これらの中でも、シラン系カップリング剤を使用することが好ましく、耐湿信頼性に優れ、吸湿劣化後の接着強度の低下が少ない液晶表示セル用シール剤組成物を得ることができる。
【００６１】
上記カップリング剤を用いる場合、その使用量は、上記無機質充填剤に対して０．５〜２．０質量％程度である。
【００６２】
［その他］
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物には、応力を低下させる目的でシリコーン微粒子、シリコーンゴム、シリコーンオイルや液状のポリブタジエンゴム、アクリル系コアシェル微粒子などの熱可塑性樹脂を配合してもよい。
【００６３】
更に必要に応じ、重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、イオントラップ剤、その他の添加剤を配合することができる。
【００６４】
［液晶表示セル用シール剤組成物の調製］
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物は、上記各成分を同時に又は別々に必要により加熱処理を加えながら撹拌、混合及び分散させることにより得ることができる。これらの混合物の撹拌、混合及び分散等に用いられる装置については、特に限定されないが、撹拌及び加熱装置を備えたライカイ機、三本ロール、ボールミル、プラネタリーミキサー等を用いることができる。これら装置を適宜組み合わせてもよい。
【００６５】
なお、このようにして得られる液晶表示セル用シール剤組成物は、紫外線照射及び加熱により硬化させることができる。この場合、その硬化条件は種々選定でき、特に制限されないが、照度は８０〜１５０ｍＷ／ｃｍ2、換算光量は２，０００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ2の条件で紫外線照射を行い、次いで１１０〜１３０℃、特に１１５〜１２５℃で３０〜１２０分、特に４５〜９０分加熱する方法を採用することができる。
【００６６】
［液晶表示セル用シール剤組成物の適用］
本発明のシール剤組成物を液晶表示セルのシール剤として使用する場合、その適用方法は特に限定されないが、例えば、下記方法により液晶パネルの作製に適用することができる。
【００６７】
本発明の液晶表示セル用シール剤組成物に、スペーサーとしてシリカファイバー（直径５μｍφの短繊維）が１質量％になるように配合し、真空撹拌脱泡装置で分散、脱泡を行い、シリンジに分取する。次に、ディスペンサー装置を使い、ガラス基板上に線幅が０．２ｍｍ、高さが０．０５ｍｍのパターンを描画した後、液晶（ＭＬＣ−６６２８、メルク社製）をディスペンサー装置にて所定量、点塗布する。次に、このガラス基板を減圧下に置き（１３．３Ｐａ）、ガラス基板を重ね合わせる。その後、荷重が０．０１ＭＰａになるように設定し、ＵＶ照射して（光量２．５Ｊ／ｃｍ2、照度１００ｍＷ／ｃｍ2）仮止め（仮硬化）を行った後、ガラス基板を大気圧に戻す。次いで、熱風乾燥機にて１２０℃×１時間の条件でシール剤の加熱硬化及び液晶の再配向を行うことで、液晶パネルが作製される。
得られた液晶パネルについて、偏光顕微鏡にて、シール剤周辺の配向ムラの有無の確認を行うことにより、問題がないか確認することができる。
【実施例】
【００６８】
以下、合成例、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、以下の例において部、％はそれぞれ質量部、質量％を意味する。また、表１及び表２中の数は質量部を意味する。
【００６９】
［合成例１］
部分メタクリル変性エポキシ樹脂の合成
撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた１Ｌ丸底フラスコに、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（商品名：ＲＥ−３１０Ｓ、日本化薬（株）製）１８５ｇ、メタクリル酸４３．１ｇ、トリフェニルホスフィン１ｇ、ＢＨＴ（ブチルヒドロキシトルエン）０．１３ｇ、トルエン１００ｇを仕込み、撹拌しながら原料を溶解させた後、１００℃の温度で６時間反応させた。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で未反応のメタクリル酸を中和、除去し、次いでイオン交換水で洗浄を行い、精製を行った。洗浄後の水溶液のイオン伝導度（ＣＭ−３０Ｖ、電気伝導率計、東亜ディーケーケー（株）製）を測定し、０．２８ｍＳ／ｍであることを確認した。精製後の反応溶液を乾燥した空気でバブリングしながら、共沸脱水及び減圧下、７０℃で濃縮して、トルエンを完全除去精製することで部分メタクリル変性エポキシ樹脂を得た。ここで得られた反応生成物をテトラヒドロフランを溶媒とするゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて本樹脂のゲル浸透クロマトグラフィーによる重量平均分子量（ポリスチレン換算）を測定したところ、２０質量％が未反応のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、４３質量％が部分メタクリル化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、３７質量％が完全にメタクリル化したビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の混合物であった。
【００７０】
【化３】
2006023419.tif 000004
【００７１】
［実施例１〜７］
（Ａ）成分として、部分メタクリル変性エポキシ樹脂を用い、（Ｂ）成分として、フェノールノボラック型エポキシ樹脂：ＥＰＰＮ−５０１Ｈ（商品名、日本化薬（株）製）、（Ｃ）成分の潜在性硬化剤として、ヒドラジド化合物：アミキュアＶＤＨ（商品名、味の素（株）製）をビーズミル粉砕したものを用い、（Ｄ）成分の硬化促進剤として、Ｕ−ＣＡＴ３５０２Ｔ（ジメチル尿素化合物、商品名、サンアプロ（株）製）、（Ｅ）成分として、擬似硬化性ゴム状ポリマー微粒子（ゼオンＦ３５１、ゼオンＦ３０１（商品名、ゼオン化成（株）製））、光重合開始剤としてＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＩＰ−１５０（ＬＡＭＢＥＲＴＩ  Ｓ．ｐ．Ａ社製）を用い、無機質充填剤として溶融球状シリカ、シランカップリング剤：ＫＢＭ−４０３（商品名、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業（株）製）を用いて、表１及び表２に示した組成及び量（質量部）で配合し、プラネタリーミキサーで均一に混練し、次に三本ロールで固形原料が３μｍ以下になるまで十分混合分散し、得られた混合物を真空脱泡処理することにより、実施例１〜７の本発明の液晶表示セル用シール剤組成物を得た。
【００７２】
［比較例１］
（Ｄ）成分，（Ｅ）成分を添加しなかった以外は、各成分を表２に示した組成及び量（質量部）で配合して実施例１〜７と同様にして組成物を得た。
【００７３】
［比較例２］
（Ｅ）成分の擬似硬化性ゴム状ポリマー微粒子としてゼオンＦ３５１（ゼオン化成（株）製）４０質量部とした以外は、各成分を表２に示した組成及び量（質量部）で配合して実施例１〜７と同様にして組成物を得た。
【００７４】
以上の実施例、比較例の組成を表１，２に示す。
【００７５】
【表１】
2006023419.tif 000005
【００７６】
【表２】
2006023419.tif 000006
【００７７】
［評価手法］
上記で得られた各液晶表示セル用シール剤組成物について、下記の諸試験を行って、諸特性を評価し、その結果を表３に示した。なお、各組成物の硬化条件は、まず、紫外線照射による光重合硬化（ＵＶ照射光量：２．５Ｊ／ｃｍ2、ＵＶ照度：１００ｍＷ／ｃｍ2）、次いで、加熱硬化（１２０℃×１時間）とした。
（ａ）粘度（組成物）
各組成物について、ＪＩＳ  Ｚ−８８０３に準じ、測定温度：２５℃、ずり速度：２．００（ｓｅｃ-1）、Ｅ型粘度計（ＨＢＤＶ−ＩＩＩ、ブルックフィールド社製）を用いて２分後の値を測定した。
（ｂ）加熱時の粘度（組成物）
各組成物について、ＪＩＳ  Ｚ−８８０３に準じ、測定温度：設定値、ずり速度：２．００（ｓｅｃ-1）、Ｅ型粘度計（ＨＢＤＶ−ＩＩＩ、ブルックフィールド社製）を用いて測定した。
１）昇温法：３０℃から１５０℃まで、５℃／ｍｉｎ．の昇温速度で粘度測定を行い、最低粘度をＶMinとした。
２）定温法：８０℃、５分間熱処理後の粘度測定（測定温度：８０℃）を行った。
【００７８】
（ｃ）保存安定性（組成物）
各組成物１００部を褐色ポリエチレン製容器に入れ、密封した後、初期の２５℃、Ｅ型粘度値を１００とし、−２０℃×３０日経過後の粘度値の変化率に基づいて、次の通りに評価した。
○：初期粘度に対する変化率が１０％未満であり、保存安定性は良好
△：初期粘度に対する変化率が１０〜４０％であり、保存安定性にやや問題がある
×：初期粘度に対する変化率が４０％を超えており、保存安定性が悪い
（ｄ）ポットライフ（組成物）
褐色ポリエチレン製容器に密封保存された各組成物を、冷凍保管庫（−２０℃）から取出し、３時間かけて解凍し、組成物温度を２５℃とした。その時点の２５℃、Ｅ型粘度値を１００とし、これに対する４８時間放置後の粘度変化率に基づいて、ポットライフ（可使時間）を次の通りに評価した。
○：初期粘度に対する変化率が２０％未満であり、ポットライフは良好かつ十分である
△：初期粘度に対する変化率が２０〜４０％であり、ポットライフにやや問題がある
×：初期粘度に対する変化率が４０％を超えており、ポットライフが短く不十分である
【００７９】
（ｅ）液晶処理試料の作製
３ｍｌ透明バイアル瓶に、上記各組成物０．５ｇを入れ、その後液晶（ＭＬＣ−６６２８、メルク社製）２．０ｇを入れた。次に、以下の処理を施し、試料溶液を調製した。なお、同時に上記組成物を入れないで同様の処理を施したものをブランクとした。
１）バイアル瓶を２５℃で２時間放置する。
２）バイアル瓶に紫外線照射装置（スポットキュア装置、ウシオ電機（株）製）でＵＶ照射（光量：２．５Ｊ／ｃｍ2、照度：１００ｍＷ／ｃｍ2）する。
３）バイアル瓶を１２０℃の熱風循環式恒温槽に１時間入れた後、室温に戻す。
４）上記１）〜３）の処理を行った処理液晶をサンプル瓶にデカンテーションする。
（ｆ）比抵抗値の測定（液晶処理試料）
比抵抗測定装置（エレクトロ・メーターＲ８３４０Ａ、液体抵抗試料箱Ｒ１２７０７、（株）アドバンテスト製）を使い、液晶の２５℃での比抵抗値を測定する。液体電極に上記処理液晶及びブランク液晶を１ｍｌ採取し、０．５Ｖの電圧をかけ、１分後の液晶の比抵抗値（Ω・ｃｍ）を測定し、次の通り評価した。
○：ブランク液晶の比抵抗値に対する処理液晶の比抵抗値の低下が０．５オーダー未満で
あり、汚染性については問題がない
△：ブランク液晶の比抵抗値に対する処理液晶の比抵抗値の低下が０．５〜１オーダーで
あり、汚染性にやや問題がある
×：ブランク液晶の比抵抗値に対する処理液晶の比抵抗値の低下が１オーダーを超えてお
り、汚染性に問題がある
【００８０】
（ｇ）配向性検査（硬化物）
上記各実施例・比較例で得られた液晶表示セル用シール剤組成物１００部に、スペーサーとしてシリカファイバー（直径５μｍφの短繊維）が１質量％になるように配合し、真空撹拌脱泡装置で分散脱泡を行い、シリンジに分取した。
次に、清浄なガラス基板（コーニング社製：＃１７３７、サイズ３０ｍｍ角、厚さ０．７ｍｍ）に幅０．３ｍｍ、２ｃｍ角の枠線を引き、液晶（ＭＬＣ−６６２８、メルク社製）を所定量、滴下し、減圧下、同サイズのガラス基板を貼り合わせて、厚さが５μｍになるように荷重をかけた。常圧に戻した後、ＵＶ照射し（光量：２．５Ｊ／ｃｍ2、照度：１００ｍＷ／ｃｍ2）、次いで、１２０℃×１時間の条件で熱硬化させた。得られたガラス基板のシール材と液晶界面を偏向顕微鏡にて５０倍に拡大し、配向ムラの有無を測定し、次の通り評価した。
○：シール剤と液晶界面に配向ムラの発生は認められなかった
△：シール剤と液晶界面に配向ムラが０．２〜０．５ｍｍの範囲で観察された
×：シール剤と液晶界面に配向ムラが０．５ｍｍを超える範囲で観察された
（ｈ）接着試験（硬化物）
清浄なガラス基板（コーニング社製：＃１７３７、サイズ２０ｍｍ角、厚さ０．７ｍｍ）の中心部に、前記スペーサー剤を分散させた液晶表示セル用シール剤組成物を塗布し、その基板に同サイズのガラス基板を重ね合わせて、厚み５μｍ、直径３ｍｍになるように荷重を掛けた。その後、ＵＶ照射し（光量２．５Ｊ／ｃｍ2、照度１００ｍＷ／ｃｍ2）、次いで、１２０℃×１時間の条件で熱硬化させた。得られたガラス面に支持基材を張り付け、接着用試験片を作製した。得られた試験片を島津製作所（株）製のオートグラフ装置を用いて、引張りスピード５ｍｍ／分にて単位面積当たりの垂直剥離強度（ＭＰａ）を求めた。
【００８１】
【表３】
2006023419.tif 000007
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】シール剤をＥ型粘度計で３０℃から１５０℃まで昇温測定した際の温度−粘度カーブを示す図である。ＶMinは最低粘度を示す。
【図１】
2006023419.tif 000008