(57)【要約】【課題】液晶性化合物の円盤面と透明支持体平面とが略垂直に配向した位相差板であって、波長分散値が小さい位相差板を提供する。【解決手段】透明支持体上に、少なくとも一層の光学異方性層を有する位相差板であって、該光学異方性層がディスコティック液晶性化合物を用いて形成されており、なお且つ該液晶性化合物の分子が、分子の円盤面と透明支持体平面とのなす角を略垂直にして配向固定されており、更に該液晶性化合物の波長分散値が下記化合物（Ａ）よりも小さいことを特徴とする位相差板。化合物（Ａ）【化１】2006301614.tif 000077【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、少なくとも一層の光学異方性層を有する位相差板であって、該光学異方性層がディスコティック液晶性化合物を用いて形成されており、しかも該液晶性化合物の分子が、分子の円盤面と透明支持体平面とのなす角を略垂直にして配向固定されており、更に該液晶性化合物の波長分散値が下記化合物（Ａ）よりも小さいことを特徴とする位相差板。
化合物（Ａ）
【化１】
2006301614.tif 000072
【請求項２】
ディスコティック液晶性化合物が下記一般式（IV）で表される請求項１記載の位相差板。
一般式（IV）
【化２】
2006301614.tif 000073
（一般式（IV）中、Ｄはトリフェニレンを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置
換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基または炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。）
【請求項３】
ディスコティック液晶性化合物が下記一般式（ＤＩ）で表される請求項１記載の位相差板。
一般式（ＤＩ）
【化３】
2006301614.tif 000074
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は、それぞれ独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｈ1、Ｈ2、Ｈ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）もしくは下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。
一般式（ＤＩ−Ａ）
【化４】
2006301614.tif 000075
［一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1、ＹＡ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。］
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【化５】
2006301614.tif 000076
［一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1、ＹＢ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。］
一般式（ＤＩ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す
。
一般式（ＤＩ−Ｒ）：＊−（−Ｌ21−二価の環状基）ｎ1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
［一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中の５員環に結合する位置を表す。Ｌ21は単結合または二価の連結基を表し、二価の環状基は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の連結基を表す。ｎ1は０〜４整数を表す。Ｌ22は＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊
−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）Ｈ−、＊−ＳＯ2−、＊−
ＣＨ2−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、または＊−Ｃ≡Ｃ−、を表し（ここで、＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中のベンゼン環に結合する位置を表す。）、Ｌ23は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ1はそれぞれ独立に重合性基または水素原子を表す。］
【請求項４】
化合物（Ａ）の波長分散値（４８０ｎｍ／７５０ｎｍ）が１．１８である請求項１記載の位相差板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、波長分散値が小さいディスコティック液晶性化合物を用い、且つ液晶性化合物の円盤面と透明支持体平面とが略垂直に配向した位相差板に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では、通常、液晶セル、偏光素子および位相差板からなる。透過型液晶表示装置では、通常、二枚の偏光素子を液晶セルの両側に配置し、一枚または二枚の位相差板を液晶セルと偏光素子との間に配置する。反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚の位相差板、そして一枚の偏光素子の順に配置する。液晶セルは、通常、棒状液晶性分子層、それを封入するための二枚の基板、棒状液晶性分子に電圧を加えるための電極層、および棒状液晶性分子の配向を制御する配向膜層からなる。液晶セルは、棒状液晶性分子の配向状態の違いで、透過型については、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  ＣｏｎｔｒｏｌｌｅｄＢｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、反射型については、ＴＮ、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）のような様々な表示モードが提案されている。
【０００３】
位相差板は、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。位相差板としては、延伸複屈折ポリマーフィルムが従来から使用されている。延伸複屈折フィルムからなる位相差板に代えて、透明支持体上に液晶性分子から形成された光学的異方性層を有する位相差板を使用することが提案されている。液晶性分子には多様な配向形態があるため、液晶性分子を用いることで、従来の延伸複屈折ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。
【０００４】
位相差板の光学的性質は、液晶セルの光学的性質、具体的には上記のような表示モードの違いに応じて決定する。液晶性分子を用いると、液晶セルの様々な表示モードに対応する様々な光学的性質を有する位相差板を製造することができる。液晶性分子としては、一般に、棒状液晶性分子またはディスコティック液晶性分子が用いられている。液晶性分子を用いた位相差板では、様々な表示モードに対応するものが既に提案されている。例えば、ＴＮモードの液晶セル用位相差板は、特許文献１〜４の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用位相差板は、特許文献５および６に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用位相差板は、特許文献７および８の各明細書に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板は、特許文献９に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板は、特許文献１０に記載がある。
【０００５】
これまで位相差板に用いられてきたディスコティック液晶性分子のほとんどは、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ｛４−（４−アクリロイルオキシブチルオキシ）ベンゾイルオキシ｝トリフェニレンおよびその誘導体であった。またこれ以外のディスコティック液晶性分子を用いた例も報告されているが、いずれも上記化合物（Ａ）で示された化合物より波長分散値は高いものであった。
ところが、位相差板の波長分散値は、その用途によって様々なものが必要となってきており、特に近年は、波長分散値の低いものが求められてきている。例えば、位相差板としてλ／４板を例にあげると、波長分散値の大きい液晶性分子を用いた位相差板よりも波長
分散値の小さい液晶性分子を用いた位相差板の方が、可視領域の全ての波長で比較すると、性能が高いものになる。
【０００６】
【特許文献１】特開平６−２１４１１６号公報
【特許文献２】米国特許５５８３６７９号明細書
【特許文献３】米国特許５６４６７０３号明細書
【特許文献４】ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号
【特許文献５】特開平９−２９２５２２号公報
【特許文献６】特開平１０−５４９８２号公報
【特許文献７】米国特許第５８０５２５３号明細書
【特許文献８】国際特許出願公開第９６／３７８０４号パンフレット
【特許文献９】特開平９−２６５７２号公報
【特許文献１０】特許第２８６６３７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、液晶性化合物の円盤面と透明支持体平面とが略垂直に配向した位相差板であって、波長分散値が小さい位相差板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的は、以下の発明によって達成される。
１．透明支持体上に、少なくとも一層の光学異方性層を有する位相差板であって、該光学異方性層がディスコティック液晶性化合物を用いて形成されており、しかも該液晶性化合物の分子が、分子の円盤面と透明支持体平面とのなす角を略垂直にして配向固定されており、更に該液晶性化合物の波長分散値が下記化合物（Ａ）よりも小さいことを特徴とする位相差板。
【０００９】
化合物（Ａ）
【化１】
2006301614.tif 000002
【００１０】
２．ディスコティック液晶性化合物が下記一般式（IV）で表されることを特徴とする上記１に記載の位相差板。
一般式（IV）
【００１１】
【化２】
2006301614.tif 000003
【００１２】
（一般式（IV）中、Ｄはトリフェニレンを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置
換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基または炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。）
３．ディスコティック液晶性化合物が下記一般式（ＤＩ）で表される請求項１記載の位相差板。
一般式（ＤＩ）
【００１３】
【化３】
2006301614.tif 000004
【００１４】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は、それぞれ独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｈ1、Ｈ2、Ｈ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）もしくは下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。
【００１５】
一般式（ＤＩ−Ａ）
【化４】
2006301614.tif 000005
【００１６】
［一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1、ＹＡ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。］
【００１７】
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【化５】
2006301614.tif 000006
【００１８】
［一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1、ＹＢ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。］
一般式（ＤＩ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す
。
一般式（ＤＩ−Ｒ）：＊−（−Ｌ21−二価の環状基）ｎ1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
［一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中の５員環に結合する位置を表す。Ｌ21は単結合または二価の連結基を表し、二価の環状基は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の連結基を表す。ｎ1は０〜４整数を表す。Ｌ22は＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−
ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）Ｈ−、＊−ＳＯ2−、＊−Ｃ
Ｈ2−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、または＊−Ｃ≡Ｃ−、を表し（ここで、＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中のベンゼン環に結合する位置を表す。）、Ｌ23は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ1はそれぞれ独立に重合性基または水素原子を表す。］
【００１９】
４．化合物（Ａ）の波長分散値（４８０ｎｍ／７５０ｎｍ）が１．１８である上記１記載の位相差板。
【００２０】
なお、本明細書において、「略垂直」及び「略直交」は、正確に９０°である態様以外
にも、９０±５°９０±１０°である態様も含む意味である。ただし、９０±５°であることが好ましい。
また、波長分散値とは、液晶分子を配向させて発現する短波長（４００ｎｍ〜５５０ｎｍにおける任意の波長）におけるレタデーション値と長波長（６００ｎｍ〜８００ｎｍにおける任意の波長）におけるレタデーション値を割った値である。すなわち、波長分散値＝（短波長におけるレタデーション値）／（長波長におけるレタデーション値）である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、液晶性化合物の円盤面と透明支持体平面とが略垂直に配向した位相差板であって、波長分散値が小さい位相差板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
［波長分散値］
波長分散値とは、波長分散値＝｛短波長（４００ｎｍ〜５５０ｎｍにおける任意の波長）におけるレタデーション値｝／｛長波長（６００ｎｍ〜８００ｎｍにおける任意の波長）におけるレタデーション値｝で示される値である。ここで、レタデーション値は、ディスコティック液晶性分子を配向膜平面に対して略垂直に配向させて測定した値である。レタデーションの測定は、種々の機器で可能であるが、例えば、このような測定が可能な機器としてはＫＯＢＲＡ（王子計測機器（株）製）を例にあげることができる。例えば、ＫＯＢＲＡ−３１ＰＲで測定を行うことにより、４８０ｎｍ（±５ｎｍ）と７５０ｎｍ（±５ｎｍ）におけるレタデーションを測定できる。
下記化合物（Ａ）を配向膜平面に対して略垂直に配向させて、ＫＯＢＲＡ−３１ＰＲで測定を行うと、波長分散値（４８０ｎｍ／７５０ｎｍ）＝１．１８が得られる。
【００２３】
化合物（Ａ）
【化６】
2006301614.tif 000007
【００２４】
本発明に用いるディスコティック液晶性化合物はこの波長分散値が化合物（Ａ）よりも小さいことに特徴がある。
本発明に用いるディスコティック液晶性化合物は、波長分散値をＫＯＢＲＡ−３１ＰＲで測定した波長分散値（４８０ｎｍ／７５０ｎｍ）で表すと、１．０３〜１．１７であることが好ましく、１．０５〜１．１４であることが特に好ましい。
【００２５】
［ディスコティック液晶性化合物］
本発明に係るディスコティック液晶性化合物は、下記一般式（Ｉ）または、下記一般式（ＤＩ）で表される化合物が好ましい。
以下、下記一般式（Ｉ）より順に詳細に説明する。
一般式（Ｉ）
【００２６】
【化７】
2006301614.tif 000008
【００２７】
一般式（I）において、Ｄは円盤状コアである。円盤状コアは、該円盤状化合物の中心
に位置し、その円盤面を構成する。円盤状コアは、円盤状液晶性分子の分子構造において、よく知られている概念である。円盤状液晶（Discotic Liquid Crystal）は、様々な文献（C.Destrade et al.,Mol.Crysr.Liq.Cryst.,vol.71,page 111 (1981);日本化学会編、季刊化学総説、No.22、液晶の化学、第5章、第10章第2節（1994）；Ｂ.Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (1985);J.Zhang et al.,J.Am.Chem.Soc.,vol.116,page 2655 (1994)等に記載されている。
【００２８】
以下に、円盤状コアの例を示す。各化合物中のＹは下記一般式（VI）を意味する。下記一般式（VI）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、前記一般式（I）のものと同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００２９】
一般式（VI）
【化８】
2006301614.tif 000009
【００３０】
【化９】
2006301614.tif 000010
【００３１】
【化１０】
2006301614.tif 000011
【００３２】
円盤状コア（Ｄ）は、トリフェニレン（Ｚ４）であることが特に好ましい。
円盤状コア（Ｄ）は、Ｙ（前記一般式（VI））以外の置換基を有していてもよい。円盤状コアが有していてもよい置換基の例は、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルバモイル基、スルファモ
イル基、メルカプト基、ウレイド基、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基、複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、置換アミノ基、アミド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、置換アリールオキシカルボニルアミノ基、置換カルバモイル基、スルホンアミド基、置換スルファモイル基、アルキルチオ基、置換アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アリールチオ基、アルキルスルホニル基、置換アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、置換アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、置換アリールスルフィニル基、置換ウレイド基、リン酸アミド基、置換シリル基、アルコキシカルボニルオキシ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基ならびに置換アリールオキシカルボニルオキシ基を含む。
【００３３】
アルキル基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキル基の置換基の例は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基および置換アルキニル基が除外される以外は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３４】
アルケニル基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。アルケニル基の炭素原子数は２〜３０であることが好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分は、アルケニル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルケニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。アルキニル基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。アルキニル基の炭素原子数は２〜３０であることが好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分は、アルキニル基と同様である。置換アルキニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３５】
アリール基の炭素原子数は、６〜３０であることが好ましい。置換アリール基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリール基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３６】
複素環基は、５員または６員の複素環を有することが好ましい。複素環に、他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環の複素原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子であることが好ましい。複素環基は置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３７】
アルコキシ基および置換アルコキシ基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルコキシ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。アリールオキシ基および置換アリールオキシ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３８】
アシル基はホルミルまたは−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。
アシルオキシ基はホルミルオキシまたは−Ｏ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置
換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。
【００３９】
アルコキシカルボニル基および置換アルコキシカルボニル基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシカルボニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アリールオキシカルボニル基および置換アリールオキシカルボニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００４０】
置換アミノ基は、−ＮＨ−Ｒまたは−Ｎ（−Ｒ）２で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。
アミド基は、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。
イミド基は、−Ｎ（−ＣＯ−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アル
ケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。
【００４１】
アルコキシカルボニルアミノ基および置換アルコキシカルボニルアミノ基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルコキシカルボニルアミノ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールオキシカルボニルアミノ基および置換アリールオキシカルボニルアミノ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニルアミノ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同様である。
【００４２】
置換カルバモイル基は、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒまたは−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）２で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。
スルホンアミド基は、−ＮＨ−ＳＯ2−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基
、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。置換スルファモイル基は、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｒまたは−ＳＯ2−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニ
ル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。
【００４３】
アルキルチオ基および置換アルキルチオ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルキルチオ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールチオ基および置換アリールチオ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールチオ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルホニル基および置換アルキルスルホニル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルホニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００４４】
アリールスルホニル基および置換アリールスルホニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールスルホニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルフィニル基および置換アルキルスルフィニル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルフィニル基の置換基の
例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルフィニル基および置換アルキルスルフィニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルフィニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００４５】
置換ウレイド基は、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒまたは−ＮＨ−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）２で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。
リン酸アミド基は、−ＮＨ−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）−Ｏ−Ｒまたは−ＮＨ−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置
換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。
置換シリル基は、−ＳｉＨ2−Ｒ、−ＳｉＨ（−Ｒ）2または−Ｓｉ（−Ｒ）2で表され
、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基または置換アリール基である。
【００４６】
アルコキシカルボニルオキシ基および置換アルコキシカルボニルオキシ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシカルボニルオキシ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アリールオキシカルボニルオキシ基および置換アリールオキシカルボニルオキシ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニルオキシ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００４７】
一般式（Ｉ）において、ｎ１は３〜２０の整数であって、３〜１５の整数であることが好ましく、３〜１２の整数であることがより好ましく、３〜１０の整数であることがさらに好ましく、４〜８の整数であることがさらにまた好ましく、６であることが最も好ましい。
【００４８】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は水素原子または置換基を表し
、これらの例は円盤状コアの置換基の例と同様なものが挙げられる。また、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5のいずれか二つが結合して環を形成していてもよく、例えば、脂肪族ま
たは芳香族環があげられる。好ましくＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ独立に
、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、シアノ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子である。
【００４９】
カルボニルオキシ基に対し、Ｒ2およびＲ3、Ｒ4およびＲ5は、シス・トランスの位置関係が存在する。シスとはシクロプロパン環面に対してカルボニルオキシ基と同方向に置換基が存在する状態であり、トランスとはシクロプロパン環面に対してカルボニルオキシ基と逆方向に置換基が存在する状態である。この位置関係は指定のない限り特には制限しない。
【００５０】
一般式（I）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5の置換基の組み合わせにより、エナンチオマーおよびジアステレオマー立体異性体が存在するが、これらは指定のない限り特には制限しない。
【００５１】
一般式（Ｉ）で表される円盤状化合物は、下記一般式（II）で表されることが好ましい。
【００５２】
一般式（II）
【化１１】
2006301614.tif 000012
【００５３】
一般式（II）において、Ｄは円盤状コアである。ｎ１は３〜２０の整数である。Ｒ1、
Ｒ2、Ｒ3およびＲ5は水素原子または置換基を表し、互いに結合して環を形成していても
よい。ｍは１〜５の整数を表す。Ｒ6は置換基を表し、複数のＲ6が存在する時、それぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
【００５４】
上記Ｄ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ5は、一般式（Ｉ）で定義したＤ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ5と同様であり、好ましい範囲も同義である。
【００５５】
一般式（II）において、Ｒ6は置換基を表し、これらの例は円盤状コアの置換基の例と
同様なものが挙げられる。好ましいＲ6の例は、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニルオキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基または置換もしくは無置換のアシルオキシ基である。さらに好ましくは、少なくとも１つのＲ6が置換アルキル基、置換アルコキシ基、置換アルコキシカル
ボニル基、置換アリール基、置換アリールオキシ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、置換アリールオキシカルボニルオキシ基または置換アシルオキシ基であり、置換基の末端に重合性基を有する。
【００５６】
一般式（II）において、Ｒ6の置換位置は指定のない限り特に制限しない。好ましくは
少なくとも１つのＲ6がパラ位に存在する。
一般式（II）において、カルボニルオキシ基に対して、Ｒ5には、シス・トランスの位
置関係が存在する。この位置関係は指定のない限り特には制限しない。好ましくはシスである。
【００５７】
本発明の円盤状化合物、例えば、一般式（Ｉ）で表される円盤状化合物は、重合性基を有することができる。重合性基を有する円盤状化合物（重合性円盤状化合物）は、重合反応により円盤状化合物の円盤面が配向している状態を固定することができる。
一般式（Ｉ）で表される化合物が重合性基を有する場合、Ｒ4は置換アルキル基、置換
アルコキシ基、置換アリール基または置換アリールオキシ基であって、各置換基の末端に重合性基を有することが好ましい。
重合性円盤状化合物は、さらに、下記一般式（III）で表されることが好ましい。
【００５８】
一般式（III）
【化１２】
2006301614.tif 000013
【００５９】
一般式（III）において、Ｄは円盤状コアである。ｎ１は３〜２０の整数を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基をあらわし、互いに結合して環
を形成していてもよい。
Ｄ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ5は、一般式（Ｉ）で定義したＤ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3お
よびＲ5と同様であり、好ましい範囲も同義である。
【００６０】
一般式（III）において、Ｌは酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、置換もしくは無置
換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、およびそれらの組み合わせから選ばれる２価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、アルキレン基と同様である。置換アルキレン基の置換基の例は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基および置換アルキニル基が除外される以外は、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例と同様である。
アリーレン基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましい。アリーレン基は、フェニレンまたはナフチレンであることが好ましく、フェニレンであることがさらに好ましく、ｐ−フェニレンであることが最も好ましい。
置換アリーレン基のアリーレン部分は、アリーレン基と同様である。置換アリーレン基の置換基の例は、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例と同様である。
一般式（III）において、Ｑは重合性基である。重合性基は、エポキシ基またはエチレ
ン性不飽和基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和基（例、ビニル、１−プロペニル、イソプロペニル）であることが最も好ましい。
【００６１】
本発明の円盤状化合物として、特に、好ましい円盤状化合物は、下記一般式（IV）で表されるトリフェニレン化合物である。
【００６２】
一般式（IV）
【化１３】
2006301614.tif 000014
【００６３】
一般式（IV）において、Ｄ１はトリフェニレンを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もし
くは無置換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基または炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基である。各基の定義および例は、一般式（Ｉ）と同様であり、好ましい範囲も同義である。
【００６４】
一般式（IV）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ、水素原子、メチ
ル基、エチル基、メチルオキシ基、エチルオキシ基、シアノ基、ハロゲン原子または置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基であるのが好ましい。
一般式（IV）において、好ましくはＲ4が、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置
換のアリール基である。また、好ましくはＲ4が、カルボニルオキシ基に対して、トラン
スである。
【００６５】
一般式（IV）で表されるトリフェニレン化合物は、重合性基を有することができる。重合性基を有するトリフェニレン化合物（重合性トリフェニレン化合物）は、重合反応によりトリフェニレンからなる円盤面が配向している状態を固定することができる。
一般式（IV）で表されるトリフェニレン化合物が重合性基を有する場合、Ｒ４は炭素原子数が２〜２０の置換アルキル基、炭素原子数が２〜２０の置換アルコキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換アリール基または炭素原子数が６〜２０の置換アリールオキシ基であって、置換基の末端に重合性基を有することが好ましい。
上記一般式（IV）には、不斉炭素原子が存在するため、ジアステレオマーやエナンチオマーが存在するが、本発明においてはこれらを区別せず、すべて含まれるものとする。つまり、構造の記述方法により立体異性体を区別しないこととする。
【００６６】
以下に、一般式（Ｉ）で表される円盤状化合物の例を示す。なお、それぞれの例示化合物を表すとき、該例示化合物の横に記載されている数値（ｘ）をもって、例示化合物（ｘ）と示す。
【００６７】
【化１４】
2006301614.tif 000015
【００６８】
【化１５】
2006301614.tif 000016
【００６９】
【化１６】
2006301614.tif 000017
【００７０】
【化１７】
2006301614.tif 000018
【００７１】
【化１８】
2006301614.tif 000019
【００７２】
【化１９】
2006301614.tif 000020
【００７３】
次に、一般式（ＤＩ）について詳細に説明する。
【００７４】
一般式（ＤＩ）
【化２０】
2006301614.tif 000021
【００７５】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。
【００７６】
Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13がメチンの場合は、メチンは置換基を有していてもよい。メチンの置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基を挙げることができる。これらの中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がさらに好ましく、炭素数は１乃至１２のアルキル基、炭素数は１乃至１２のアルコキシ基、炭素数は２乃至１２アルコキシカルボニル基、炭素数は２乃至１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基が最も好ましい。
【００７７】
Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13は、すべてメチンであることが最も好ましく、またメチンは無置換であることが最も好ましい。
【００７８】
一般式（ＤＩ）中、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は、それぞれ独立に単結合または二価の連結基であ
る。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3が二価の連結基の場合、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝
Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み
合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００７９】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3で表される二価の環状基とは、少なくとも１種類の環状構造を有する二
価の連結基である。二価の環状基は５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることがもっとも好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であっても良い。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。環状基は、芳香族環、および複素環が好ましい。
【００８０】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3で表される二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、
１，４−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイルおよびナフタレン−２，６−ジイルが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレンであることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイルが好ましい。
【００８１】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3で表される二価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例に
は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１乃至１６のアルキル基、炭素原子数が１乃至１６のアルケニル基、炭素原子数が１乃至１６のアルキニル基、炭素原子数が１乃至１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１乃至１６のアルコキシ基、炭素原子数が２乃至１６のアシル基、炭素原子数が１乃至１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２乃至１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２乃至１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２乃至１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２乃至１６のアシルアミノ基が含まれる。
【００８２】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ
−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−二価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−、＊−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−二価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−二価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。特に、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−が好ましく、単結合が最も好ましい。（ここで、＊は一般式（ＤＩ）中のＹ11、Ｙ12およびＹ13を含む６員環に結合する位置を表す。）
【００８３】
Ｈ1、Ｈ2、Ｈ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）もしくは下記一般式（ＤＩ
−Ｂ）を表す。
【００８４】
一般式（ＤＩ−Ａ）
【化２１】
2006301614.tif 000022
【００８５】
一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1、ＹＡ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＹＡ1、ＹＡ2としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることが最も好ましい。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。ＸＡとしては、酸素原子であることが、最も好ましい。＊はＬ1〜Ｌ3と結合する
位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。
【００８６】
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【化２２】
2006301614.tif 000023
【００８７】
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1、ＹＢ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＹＢ1、ＹＢ2としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることが最も好ましい。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。ＸＢとしては、酸素原子であることが、最も好ましい。＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。
【００８８】
一般式（ＤＩ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す
。
【００８９】
一般式（ＤＩ−Ｒ）：＊−（−Ｌ21−二価の環状基）ｎ1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
【００９０】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中の５員環に結合する位置を表す。
【００９１】
Ｌ21は単結合または二価の連結基である。Ｌ21が二価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこ
れらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００９２】
Ｌ21は単結合、および、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ21の左側を表す）が好ましい。特に、単結合が好ましい。
【００９３】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中の二価の環状基とは、少なくとも１種類の環状構造を有する二価の連結基である。二価の環状基は５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることがもっとも好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であっても良い。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環および、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
【００９４】
二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレンおよび１，３−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−２，５−ジイル、およびナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイルが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレンであることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイルが好ましい。二価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン、１，３−フェニレンおよびナフタレン−２，６−ジイルが好ましい。
【００９５】
二価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１乃至１６のアルキル基、炭素原子数が１乃至１６のアルケニル基、炭素原子数が１乃至１６のアルキニル基、炭素原子数が１乃至１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１乃至１６のアルコキシ基、炭素原子数が２乃至１６のアシル基、炭素原子数が１乃至１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２乃至１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２乃至１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２乃至１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２乃至１６のアシルアミノ基が含まれる。二価の環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６のハロゲン置換アルキル基が好ましく、さらに、ハロゲン原子、炭素原子数が１乃至４のアルキル基、炭素原子数が１乃至４のハロゲン置換アルキル基が好ましく。特に、ハロゲン原子、炭素原子数が１乃至３のアルキル基、トリフルオロメチル基が好ましい。
【００９６】
ｎ1は、０〜４整数を表す。ｎ1としては、１〜３の整数が好ましく。特に、１もしくは２が好ましい。
【００９７】
Ｌ22は、＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）Ｈ−、＊−ＳＯ2−、＊−ＣＨ2−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、を表す。（ここで、＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中のベンゼン環に結合する位置を表す。）好ましくは、＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ2−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−であり、特に、＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ2−が好ましい。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００９８】
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、他の置換基に置
き換えられていてもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１乃至６のアルコキシ基、炭素原子数が２乃至６のアシル基、炭素原子数が１
乃至６のアルキルチオ基、炭素原子数が２乃至６のアシルオキシ基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２乃至６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２乃至６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数が１乃至６のアルキル基が好ましい。これらの置換基に置き換えられることにより、本発明の液晶性化合物から液晶性組成物の調製する際に、使用する溶媒に対する溶解性を向上させることが出来る。
【００９９】
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−の組み合わせからなることが好ましい。Ｌ23は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することが特に好ましい。さらに、Ｌ23は、−ＣＨ2−を１〜１６個含有することが好ましく、特に、−ＣＨ2−を２〜１２個含有することが好ましい。
【０１００】
Ｑ1は、それぞれ独立に、重合性基または水素原子である。本発明の液晶性化合物を光
学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないものが好ましい光学フィルム等に用いる場合には、Ｑ1は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（
開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【０１０１】
重合性基の例
【化２３】
2006301614.tif 000024
【０１０２】
さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。
【０１０３】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【０１０４】
【化２４】
2006301614.tif 000025
【０１０５】
式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表す。Ｒとしては、水素原子またはメチル基が好ましい。
上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）のなかでも、（Ｍ−１）または（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）が最も好ましい。
【０１０６】
開環重合性基として好ましいのは、環状エーテル基であり、中でもエポキシ基またはオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。
【０１０７】
本発明の液晶化合物としては、下記一般式（ＤII）で表される化合物が好ましいい。
【０１０８】
一般式（ＤII）
【化２５】
2006301614.tif 000026
【０１０９】
一般式（ＤII）中、Ｙ31、Ｙ32、Ｙ33は、一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13の定義と同様である。
【０１１０】
一般式（ＤII）中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33は、それぞれ独立に、下記一般式（ＤII−Ｒ）で表される。
【０１１１】
一般式（ＤII−Ｒ）
【化２６】
2006301614.tif 000027
【０１１２】
一般式（ＤII−Ｒ）中、Ａ31、Ａ32は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ａ31、Ａ32としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が、窒素原子であることが最も好ましい。Ｘ3は酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表
す。Ｘ3としては、酸素原子であることが、最も好ましい。
【０１１３】
一般式（ＤＩI−Ｒ）中の二価の環状基とは、６員環状構造を有する二価の連結基であ
る。環状基に含まれる環は、縮合環であっても良い。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環および、ナフタレン環、アントラセン環およびフェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
【０１１４】
二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレンおよび１，３−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−２，５−ジイル、およびナフタレン−２，６−ジイルおよびナフタレン−２，７−ジイルが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレンであることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイルが好ましい。二価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン、１，３−フェニレンおよびナフタレン−２，６−ジイルが好ましい。
【０１１５】
二価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１乃至１６のアルキル基、炭素原子数が１乃至１６のアルケニル基、炭素原子数が１乃至１６のアルキニル基、炭素原子数が１乃至１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１乃至１６のアルコキシ基、炭素原子数が２乃至１６のアシル基、炭素原子数が１乃至１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２乃至１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２乃至１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２乃至１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２乃至１６のアシルアミノ基が含まれる。二価の環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６のハロゲン置換アルキル基が好ましく、さらに、ハロゲン原子、炭素原子数が１乃至４のアルキル基、炭素原子数が１乃至４のハロゲン置換アルキル基が好ましく。特に、ハロゲン原子、炭素原子数が１乃至３のアルキル基、トリフルオロメチル基が好ましい。
【０１１６】
一般式（ＤII−Ｒ）中のｎ3は、１〜３整数を表す。ｎ3としては、１もしくは２が好ましい。
【０１１７】
一般式（ＤII−Ｒ）中のＬ31は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ22の定義と同様である。
【０１１８】
一般式（ＤII−Ｒ）中のＬ32は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ23の定義と同様である。
【０１１９】
一般式（ＤII−Ｒ）中のＱ3は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ1の定義と同様である。
【０１２０】
以下に、一般式（Ｉ）または一般式（II）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２１】
【化２７】
2006301614.tif 000028
【０１２２】
【化２８】
2006301614.tif 000029
【０１２３】
【化２９】
2006301614.tif 000030
【０１２４】
【化３０】
2006301614.tif 000031
【０１２５】
【化３１】
2006301614.tif 000032
【０１２６】
【化３２】
2006301614.tif 000033
【０１２７】
【化３３】
2006301614.tif 000034
【０１２８】
【化３４】
2006301614.tif 000035
【０１２９】
【化３５】
2006301614.tif 000036
【０１３０】
【化３６】
2006301614.tif 000037
【０１３１】
【化３７】
2006301614.tif 000038
【０１３２】
【化３８】
2006301614.tif 000039
【０１３３】
【化３９】
2006301614.tif 000040
【０１３４】
【化４０】
2006301614.tif 000041
【０１３５】
【化４１】
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【０１３６】
【化４２】
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【０１３７】
【化４３】
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【０１３８】
【化４４】
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【０１３９】
【化４５】
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【０１４０】
【化４６】
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【０１４１】
【化４７】
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【０１４２】
【化４８】
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【０１４３】
【化４９】
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【０１４４】
【化５０】
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【０１４５】
【化５１】
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【０１４６】
【化５２】
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【０１４７】
【化５３】
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【０１４８】
【化５４】
2006301614.tif 000055
【０１４９】
【化５５】
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【０１５０】
【化５６】
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【０１５１】
【化５７】
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【０１５２】
【化５８】
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【０１５３】
本発明に係る液晶性化合物は、良好なモノドメイン性を示す液晶相を発現することが望ましい。モノドメイン性が悪い場合には、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになる。良好なモノドメイン性を示すと、位相差板が高い光透過率を有しやすくなる。
【０１５４】
本発明に係る液晶性化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相およびディスコティックネマチック相（ＮD相）を挙げることができる。これらの液晶相の中では、良好な
モノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（ＮD相）が最も好ましい。
【０１５５】
本発明に係る液晶性化合物は、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現することが好ましい。さらに好ましくは４０℃〜２８０℃であり、最も好ましくは６０℃〜２５０℃である。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（具体的に例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（具体的に例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。
【０１５６】
２．位相差板
本発明の位相差板の一形態は、支持体上に配向膜層（本明細書では単に「配向膜」と称することもある）と、該配向膜によって配向制御され、且つその配向状態に固定された液晶性化合物を含有する光学異方性層を有する。図１は、本発明の位相差板の一実施形態を示した断面模式図である。図１に示す位相差板１４は、透明支持体１１上に、配向膜１２および光学異方性層１３を有する。配向膜１２は、プラスチックフィルム等の透明支持体１１の表面に、塗布または蒸着等によって形成することができる。配向膜１２の表面をラビングした後、液晶性化合物を含有する組成物（塗布液）をラビング処理面に塗布すると
、液晶性化合物の分子はラビングによって配向制御され、所望の配向角度に配向する。その後、その配向状態に液晶性分子を固定して、光学異方性層１３を形成し、位相差板１４が得られる。
【０１５７】
本発明においては、分子の円盤面と透明支持体平面とのなす角は略垂直であり、液晶性化合物の分子の円盤面と配向膜のラビング方向とは、目的に応じて直交及び平行のどちらかを選択することが可能である。位相差板をＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードに用いるのであれば、略直交であることが好ましい。
【０１５８】
図２および図３は、本発明の好ましい態様の１つである。ここで、図２は長尺状に作製された位相差板の斜視図を表し、図３（ａ）は側面模式図（図２中、ａ方向から観察した図）、及び図３（ｂ）は正面模式図（図２中、ｂ方向から観察した図）を表す。図３に示す位相差板２４は、透明支持体２１上に配向膜２２を設け、ディスコティック液晶性化合物０１の分子の円盤面がラビング方向０４と略直交する光学異方性層２３を有する。ディスコティック液晶性化合物０１の分子の円盤面は、配向膜２２側から空気界面側まで配向膜平面に対し略垂直に配向している。なお、透明支持体平面と配向膜平面とは実質平行であり、本明細書において、「分子の円盤面と配向膜平面とのなす角度が略垂直」と「分子の円盤面と透明支持体平面とのなす角度が略垂直」とは同義である。
【０１５９】
例えば、配向膜を設けた長尺状の支持体にラビング処理を施そうとすれば、長手方向とラビング方向０４を直交させることは困難である。従って、ラビング処理を施した配向膜を設けた長尺状の支持体の上に、図２および３に示す位相差板を作製するためには、液晶性化合物の分子の円盤面が配向膜のラビング方向とは略直交で配向する必要が生じる。
【０１６０】
［光学異方性層］
本発明における光学異方性層は、本発明に係る液晶性化合物が配向した状態を含む。従って、光学異方性層は、液晶性化合物の配向に基づく光学異方性を示す。
光学異方性層は、本発明に係る液晶性化合物とともに、その配向を制御するのに寄与する材料、配向状態を固定するのに寄与する材料等、他の材料を含有する組成物から形成してもよい。本発明に従う液晶性化合物は一度液晶相形成温度まで加熱し、次にその配向状態を維持したまま冷却することによりその液晶状態における配向形態を損なうことなく固定化することができる。また、本発明に従う液晶性化合物は、重合開始剤を添加した組成物を液晶相形成温度まで加熱した後、重合させ冷却することによっても固定化することができる。本発明で配向状態が固定化された状態とは、その配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様ではあるが、それだけには限定されず、具体的には、通常０℃〜５０℃、より過酷な条件下では−３０℃〜７０℃の温度範囲において、該層に流動性がなく、且つ外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を指すものである。
なお、配向状態が最終的に固定化された際に、液晶性組成物はもはや液晶性を示す必要はない。例えば、液晶性化合物として重合性化合物を用いた場合、結果的に熱、光等での反応により重合または架橋反応が進行し、高分子量化して、液晶性を失ってもよい。
【０１６１】
[光学異方性層の形成方法]
光学異方性層は、例えば、液晶性化合物を可溶できる溶媒に溶解して調製した塗布液を、支持体上に形成され且つ配向性が付与された配向膜上に塗布し、次いで、２５℃〜１３０℃において用いた溶媒を乾燥すると同時に、液晶性化合物を配向させ、更に、所望により紫外線照射等によって固定化することによって形成されることができる。
【０１６２】
このようにして形成された光学異方性層の厚さは、用途に応じて、例えば、最適なレタデーションの値に応じて、その好ましい範囲も異なるが、一般的には、０．１〜１０μｍ
であるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。
【０１６３】
［光学異方性層の添加剤］
光学異方性層の形成にあたり、本発明に係る液晶性化合物に加えることが可能な添加剤としては、例えば、特開特開２００２−９８８２８号公報に記載のディスコティック液晶性分子および後述する空気界面配向制御剤、配向膜界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等が挙げられる。
【０１６４】
［空気界面配向制御剤］
液晶性化合物は、空気界面においては空気界面のチルト角（透明支持体面と液晶性化合物の円盤面のなす角）で配向する。空気界面におけるチルト角は、液晶性化合物の種類によりその程度が異なるために、空気界面のチルト角を任意に制御する必要がある。
このチルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができるが、添加剤を用いることが好ましい。
このような添加剤としては、炭素原子数が６〜４０の置換または無置換脂肪族基もしくは炭素原子数が６〜４０の置換または無置換脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を、分子内に１本以上有する化合物が好ましく、分子内に２本以上有する化合物がさらに好ましい。例えば、空気界面配向制御剤としては、特開２００２−２０３６３号公報に記載の疎水性排除体積効果化合物を用いることができる。
【０１６５】
空気界面側の配向制御用添加剤の添加量としては、液晶性化合物に対して、０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１質量％〜１０質量％がさらに好ましく、０．１質量％〜５質量％が最も好ましい。
【０１６６】
[配向膜界面配向制御剤]
液晶性化合物は、配向膜界面においては配向膜界面のチルト角で配向する。本発明に係る液晶性化合物が配向膜界面においてほぼ９０°のチルト角を示す場合においては、配向膜界面のチルト角を制御する必要がないが、９０°より小さいチルト角を示す液晶性化合物を用いた場合は、配向膜界面のチルト角を任意に制御する必要がある。
このチルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができるが、添加剤を用いることが好ましい。
このような添加剤としては、分子内に極性基を有する化合物が好ましい。極性基を有する化合物としては、例えば、−ＯＨ、−ＮＨ2、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ基やオニウム塩を分子内に有する化合物を挙げることができる。具体的に例えば特開２００４−１０１９２０に記載の添加剤を用いることができる。
【０１６７】
配向膜界面側の配向制御用添加剤の添加量としては、本発明に係る液晶性化合物に対して、０．００１質量％〜１０質量％が好ましく、０．００５質量％〜５質量％がさらに好ましく、０．０１質量％〜２質量％が最も好ましい。
【０１６８】
［ハジキ防止剤］
本発明に係る液晶性化合物に添加し、該組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。使用するポリマーとしては、本発明に係る液晶性化合物のチルト角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。
ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。本発明に係る液晶性化合物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマ
ーの添加量は、円盤状化合物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
また、界面活性剤を用いることもできる。このような界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号[００２８]〜[００５６]記載の化合物、特願２００４−１８８３３３号公報明細書中の段落番号[０１００]〜[０１１８]記載の化合物が挙げられる。界面活性剤の好ましい例としては、特願２００４−１８８３３３号公報明細書中のX−1〜X−２０、X−６１〜X−７２の化合物が挙げられる。上記界面活性剤は、ディスコティック化合物に対して一般に０．００５〜８質量％（好ましくは０．２〜２．５質量％）の量にて使用される。
【０１６９】
［重合開始剤］
本発明では、液晶性化合物はモノドメイン配向、つまり実質的に均一に配向している状態で固定されていることが好ましく、そのため重合性の液晶性化合物を用いている場合には重合反応により液晶性化合物を固定することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応と電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応と電子線照射による重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、５０ｍＪ〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。また、雰囲気の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達しない場合には、窒素置換等の方法により酸素濃度を低下させることが好ましい。好ましい酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がさらに好ましく、３％以下が最も好ましい。
【０１７０】
［重合性モノマー］
本発明に係る液晶性化合物とともに使用する重合性モノマーとしては、本発明に係る液晶性化合物と相溶性を有し、本発明に係る液晶性化合物のチルト角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に０〜３０質量％の範囲にあり、０〜２０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
【０１７１】
［塗布方式］
光学異方性層は、下記溶媒を用いて液晶組成物の塗布液を調製し、例えば配向膜上に塗布し、液晶性化合物を配向処理することで形成する。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【０１７２】
［塗布溶剤］
液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド、エステルおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０１７３】
塗布液中の液晶性化合物およびその他の添加剤の固形分濃度としては、０．１質量％〜６０質量％が好ましく、０．５質量％〜５０質量％がより好ましく、２質量％〜４０質量％がさらに好ましい。また、塗布液の粘度は、０．０１ｃｐ〜１００ｃｐが好ましく、０．１ｃｐ〜５０ｃｐがより好ましい。
【０１７４】
［配向膜］
液晶性化合物を配向させる方法としては、例えば、電場や磁場のような外場を用いる方法や配向膜を用いる方法を挙げることができるが、本発明においては、配向膜を用いることが好ましい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜上に設けられる光学異方性層の液晶性化合物に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、ラビング処理もしくは、光照射により形成される配向膜が好ましい。特にポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法により行うことが好ましい。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがさらに好ましい。
なお、配向膜を用いて液晶性化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性化合物を固定して光学異方性層を形成し、光学異方性層のみをポリマーフィルム（または透明支持体）上に転写しても良い。配向状態の固定された液晶性化合物は、配向膜がなくても配向状態を維持することができる。そのため、位相差板では、配向膜は（位相差板の製造において必須であるが）必須ではない。
液晶性化合物を配向させるためには、配向膜の表面エネルギーを調節するポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは位相差板について種々の文献に記載がある。いずれの配向膜においても、液晶性化合物と透明支持体の密着性を改善する目的で、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、側鎖に重合性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向膜を用いることが好ましく、かかる配向膜としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されている。
【０１７５】
本発明においては、液晶性化合物の分子の円盤面と配向膜のラビング方向とが略直交に配向する配向膜を用いることが好ましい。このような配向膜としては、棒状液晶性化合物の長軸方向をラビング方向とが略直交に配向させるような配向膜を用いることが好ましい。そのような配向膜としては、例えば、ポリスチレンやカルバゾール環やフルオレン環等をポリマー主鎖に置換させた配向膜を用いることができる。
【０１７６】
[支持体]
本発明の位相差板は支持体を有する。支持体は、作製時に用いられる支持体と必ずしも同一でなくてもよく、前記光学異方性層を作製した後、作製時に用いた仮支持体から他の支持体に転写してもよい。支持体としては、ガラスおよびポリマーフィルムが好ましい。特に、透明で光学異方性が小さく、波長分散が小さいポリマーフィルムを支持体として用いることが好ましい。ここで支持体が透明であるとは、支持体を分光光度計（(株)島津製作所製UV−2550）を用いて、透過率の測定を行った場合、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長において、光透過率が８０％以上であることを意味する。
波長分散が小さいとは、具体的には、波長４００ｎｍおよび７００ｎｍにおける面内レタデーションの比（Ｒｅ４００／Ｒｅ７００）が１．２未満であることが好ましい。光学異方性が小さいとは、具体的には、面内レタデーション（Ｒｅ）が２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。透明支持体は、ロール状または長方形のシート状の形状を有することが好ましく、ロール状の透明支持体を用いて、光学異方性層を積層してから、必要な大きさに切断することが好ましい。ポリマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレートが含まれる。セルロースエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
【０１７７】
本発明の位相差板は、種々の用途に利用される。画像表示装置、例えば液晶表示装置の光学補償シートや、直線偏光膜や透明保護膜と積層して偏光板として利用され得る。
【０１７８】
[偏光板]
本発明の位相差板に、直線偏光膜または透明保護膜を貼り合せ、偏光板とした後に、実際の液晶表示素子に用いる際に好ましい。以下に該偏光膜および透明保護膜について説明する。
【０１７９】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の透過軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。ディスコティック液晶性化合物を光学異方性層に用いた場合には、偏光膜の透過軸は、配向膜側のディスコティック液晶性分子の面に対し、実質的に平行になるように配置される。また、棒状液晶性化合物を用いた場合、偏光膜の透過軸は、棒状液晶性分子の長軸方向（遅相軸）と、実質的に平行になるように配置する。通常は、位相差板の支持体側に張り合わせるのが好ましいが、必要によっては、光学異方性層側と張り合わせてもよい。
【０１８０】
位相差板の光学異方性層側に透明保護膜として、透明なポリマーフィルムを用いてもよい。保護膜が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【０１８１】
[液晶表示装置]
本発明の位相差板は、様々な表示モードの液晶セルを有する液晶表示装置に用いることができる。前述した様に、本発明の位相差板は、液晶セルの光学補償シートして有用である。液晶性分子からなる光学異方性層有する光学補償シートは、透過型については、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  ＣｏｎｔｒｏｌｌｅｄＢｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、反射型については、ＴＮ、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）等の液晶セルに対応するものが既に提案されている。本発明によって得られる位相差板および偏光板は、その配向状態によって種々の液晶表示モードに適用できるが、図３に示した、ディスコティック液晶性化合物を配向膜側から空気界面側まで垂直に配向させた光学異方性層を有する位相差板は、透過型のＩＰＳモードに好適に使用できる。
【実施例】
【０１８２】
以下に本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明はこれら具体例に限定されるものではない。
一般式（I）で表される円盤状化合物は、下記合成例に従って合成することができる。
例示化合物（３）を、下記のルートにより合成した。
【０１８３】
【化５９】
2006301614.tif 000060
【０１８４】
パラヒドロキシケイヒ酸（２００g、１．２２ｍｏｌ）のエチルアルコール１.５Ｌ溶液に濃硫酸２０ｍｌ加え、６時間還流した。放冷後、減圧下でエチルアルコール１Ｌを留去し、酢酸エチルおよび飽和食塩水を加えて分液し、有機相を重曹水にて中和した。有機相を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、２２６ｇの（Ｂ−１）を得た（収率９７％）。
【０１８５】
（Ｂ−１）（５７．６g、０．３ｍｏｌ）の塩化メチレン６００ｍｌ溶液にメトキシエト
キシメチルクロライド（ＭＥＭＣｌ）（５１．４ｍｌ）を加え、ジエチルイソプロピルアミン（７８．４ｍｌ、０．４５ｍｍｏｌ)を、反応系の温度を３０℃以下に保ちながらゆ
っくり滴下した。そのまま３時間攪拌した後、飽和食塩水を加えて分液し、有機相を希塩酸水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、７７．４ｇの（Ｂ−２）を得た（収率９２％）。
【０１８６】
水素化ナトリウム（９．２ｇ、２２８ｍｍｏｌ）、トリメチルスルホニウムヨ−ジド（５０．２ｇ、２２８ｍｏｌ）にジメチルスルフォキシド（１６０ｍｌ）を窒素雰囲気下滴下した。水素が発生しなくなるのを確認し、さらに３０分間撹拌した。（Ｂ−２）（４９．２ｇ、１７５．６ｍｍｏｌ）のジメチルスルフォキシド６００ｍｌ溶液を添加し、５０℃にて３時間撹拌した。放冷後、酢酸エチルおよび飽和食塩水を加えて分液し、有機相を希塩酸水、飽和食塩水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、３３．６ｇの粗生成物（Ｂ−３）を得た（粗収率６５％）。
【０１８７】
（Ｂ−３）（２０．４ｇ、６９．３ｍｍｏｌ）のエタノール２００ｍｌ溶媒にピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸（１７．４ｇ、６９．３ｍｍｏｌ）を添加し、還流した。６時間攪拌した後、放冷後、酢酸エチルおよび飽和食塩水を加えて分液し、有機相を希塩酸水し、飽和食塩水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、酢酸エチルおよびヘキサン混合溶媒を溶離液として用いて精製した。１３．０ｇ（収率９１％）の（Ｂ−４）を得た。
【０１８８】
窒素雰囲気下、（Ｂ−４）（１２．４ｇ、６０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１５０ｍｌ溶液に、ブロモエタノール（１１．２ｇ、９０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１２．４ｇ、９０ｍｍｏｌ）を加え、内温１１０℃にて５時間攪拌した。放冷後、酢酸エチルおよび飽和食塩水を加えて分液し、有機相を希塩酸水し飽和食塩水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、酢酸エチルおよびヘキサン混合溶媒を溶離液として用いて精製した。１４．０ｇ（収率９３％）の（Ｂ−５）を得た。
【０１８９】
（Ｂ−５）（１４．０ｇ、５５．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン１００ｍｌ溶液に、水酸化リチウム１水和物（４．２ｇ、１００ｍｍｏｌ）を水１００ｍｌに溶解させた水溶液を添加し、還流下６時間攪拌した。放冷後、酢酸エチルおよび飽和食塩水を加えて分液し、有機相を希塩酸水、飽和食塩水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、酢酸エチルおよびヘキサン混合溶媒を溶離液として用いて精製した。１１．７ｇ（収率９５％）の（Ｂ−６）を得た。
【０１９０】
（Ｂ−６）（７．４ｇ、３３．２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン１００ｍｌ溶液に、アクリル酸クロライド（３．２４ｍｌ、４０ｍｍｏｌ）、ジメチルアニリン（５．０６ｍｌ、４０ｍｍｏｌ）、ニトロベンゼン（０．３ｍｌ）を加え、内温６０℃にて３時間攪拌した。放冷後、酢酸エチルおよび飽和食塩水を加えて分液し、有機相を希塩酸水、飽和食塩水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し残渣にＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド（１００ｍｌ）、トリエチルアミン（５．６ｍｌ、４０ｍｍｏｌ）を加えて内温６０℃にて２時間攪拌した。放冷後、酢酸エチルおよび飽和食塩水を加えて分液し、有機相を希塩酸水および飽和食塩水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、酢酸エチルとヘキサン混合溶媒から晶斥し、７．２ｇ（収率７８％）の（Ｂ−７）を得た。
【０１９１】
窒素雰囲気下、（Ｂ−７）（４．１g、１４．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン１０
０ml溶液に、氷冷下にてメタンスルホニルクロライド（１．１５ｍｌg、１４．８ｍｍｏ
ｌ）を添加し、ジエチルイソプロピルアミン（２．５８ｍｌ、１４．８ｍｍｏｌ)をゆっ
くり滴下した。滴下後室温まで昇温させ３０分撹拌させた。ＴＬＣにて反応を確認後、氷冷し、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの１水和物（０．６３ｇ、１．８５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン５０ｍｌ溶液を添加し、さらにジエチルイソプロピルアミン（２．１３ｍｌ、１２．２５ｍｍｏｌ)をゆっくり滴下した。滴下終了後、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノピリジンを触媒量加え、そのまま室温まで昇温し３時間撹拌した。酢酸エチルおよび飽和食塩水を加えて分液し、有機相を希塩酸水、飽和食塩水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、ジクロロメタンおよびメタノール混合溶媒を溶離液として用いて精製した。氷冷したメタノールから晶斥し、２．８ｇ（収率８２％）の例示化合物（３）を得た。
【０１９２】
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ１．３０−１．４５（６Ｈ、ｍ）、１．７０−１．８５（６Ｈ、ｍ）、２．０５−２．２０（６Ｈ、ｍ）、２．６５−２．８０（６Ｈ、ｍ）、４．１９（１２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．５２（１２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、５．８７（６Ｈ、ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ）、６．１７（６Ｈ、ｄ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ、１７．２Ｈｚ）、６．４６（６Ｈ、ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ）、６．８３（１２Ｈ、ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０３（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０６（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、８．２４（６Ｈ、ｓ）；マススペクトル（Ｍ＋Ｎａ）／（ＰＯＳＩ）＝１８９６。；相転移温度：Ｃｒｙ  ７０℃  ＮＤ  １２７℃ Ｉｓｏ
【０１９３】
［合成例４、５］
例示化合物（４）、（５）は、それぞれ、合成例３のブロモエタノールをブロモプロパノール、ブロモブタノールに変更した以外は、合成例３と同様の方法にて行い、例示化合物（４）収率３３％（８Ｓｔｅｐｓ）、例示化合物（５）収率２４％（８Ｓｔｅｐｓ）を得た。
【０１９４】
例示化合物（４）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ１．３０−１．４５（６Ｈ、ｍ）、１．７０−１．８５（６Ｈ、ｍ）、２．０５−２．２０（１８Ｈ、ｍ）、２．６５−２．８０（６Ｈ、ｍ）、４．０４（１２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、４．３７（１２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、５．８４（６Ｈ、ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ）、６．１３（６Ｈ、ｄ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ、１７．２Ｈｚ）、６．４２（６Ｈ、ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ）、６．８１（１２Ｈ、ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０１（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０５（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、８．１９（６Ｈ、ｓ）；マススペクトル（Ｍ＋Ｎａ）／（ＰＯＳＩ）＝１９８０。；相転移温度：Ｃｒｙ  ６５℃  ＮＤ  １４７℃  Ｉｓｏ
【０１９５】
例示化合物（５）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ１．３０−１．４５（６Ｈ、ｍ）、１．７０−１．８５（６Ｈ、ｍ）、２．０５−２．２０（３０Ｈ、ｍ）、２．６５−２．８０（６Ｈ、ｍ）、３．９８（１２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．８Ｈｚ）、４．２５（１２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、５．８３（６Ｈ、ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ）、６．１３（６Ｈ、ｄ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ、１７．２Ｈｚ）、６．４２（６Ｈ、ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ）、６．８１（１２Ｈ、ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０２（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０６（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、８．２１（６Ｈ、ｓ）；マススペクトル（Ｍ＋Ｎａ）／（ＰＯＳＩ）＝２０６４。；相転移温度：Ｃｒｙ  ７０℃  ＮＤ  １３０℃  Ｉｓｏ
【０１９６】
一般式（ＤＩ）で表される円盤状化合物は、下記合成例に従って合成することができる
。
［例示化合物Ｄ−３８］
［合成中間体Ｄ−３の合成］
下記スキームにしたがって合成した。
【０１９７】
【化６０】
2006301614.tif 000061
【０１９８】
（Ｄ−３Ａの合成）
４−シアノフェノール１５．０ｇをジメチルホルムアミド３００ｍｌに溶解させ、炭酸カリウム２０．９ｇ、１−ブロモヘキサン１８．５ｍｌを添加後、窒素雰囲気下、１１０℃で５時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を減圧濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、Ｄ−３Ａを２５．０ｇ得た。
【０１９９】
（Ｄ−３Ｂの合成）
Ｄ−３Ａ２５．０ｇをエタノール２００ｍｌに溶解させ、５０％ヒドロキシルアミン溶液２６．０ｍｌを添加後、９０℃で３時間撹拌した。冷却後、反応液にメタノールを加え、析出した結晶を濾別し乾燥しＤ−３Ｂの結晶を２９．０ｇ得た。
【０２００】
（Ｄ−３の合成）
Ｄ−３Ｂ２９．０ｇ、を１，４−ジオキサン３００ｍｌに溶解させ、トリメシン酸クロライド１０．２ｇ、ピリジン１０．９ｍｌを添加後、９０℃で７時間撹拌した。冷却後、メタノールを添加し、析出した結晶を濾取した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、Ｄ−３を２５ｇ得た。得られたＤ−３のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
【０２０１】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
０．８５（９Ｈ、ｔ）
１．２５−１．３５（１２Ｈ、ｍ）
１．３５−１．４５（６Ｈ、ｍ）
１．７０−１．８０（６Ｈ、ｍ）
３．９５（６Ｈ、ｔ）
６．９５（６Ｈ、ｄ）
８．０５（６Ｈ、ｄ）
９．１０（３Ｈ、ｓ）
【０２０２】
得られたＤ−３の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。まず温度を上げて行くと、１３９℃付近で結晶相から等方性液体相に変わった。次に１３９℃から徐々に温度を下げていくと１２３℃付近でディスコティックネマチック相に変わり、９８℃まで下げると再び結晶相に変化した。すなわち、Ｄ−３は、降温時に、１２３℃から９８℃の間でディスコティックネマチック相を呈することが分かった。
【０２０３】
［Ｄ−３からＤ−３８への変換］
下記スキームにしたがって合成した。
【０２０４】
【化６１】
2006301614.tif 000062
【０２０５】
上記方法で合成したＤ−３  １１．０ｇをCH2Cl2１００ｍｌに溶解させ、三臭化ホウ素（１．０MCH2Cl2溶液）１３５ｍｌを添加した。４０℃で８時間撹拌後、反応液に水を加
え、析出した結晶をろ過により濾取した。この結晶を乾燥することで、トリヒドロキシ体を７．５ｇ得た。
次に、２−ヒドロキシエチルアクリレート０．７３ｇをテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解後、氷冷下ジメチルアニリン０．８４ｍｌを滴下し、トリホスゲン０.６２ｇを加え
た。室温に戻し２時間撹拌後、氷冷下トリヒドロキシ体０．３５ｇを加え、ピリジン０．３１ｍｌを滴下し、室温で２時間撹拌した。反応後、メタノールを添加し、析出した結晶を濾取した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、Ｄ−３８を０．３８ｇ得た。得られたＤ−３８のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
【０２０６】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
４．４０−４．６０（１２Ｈ、ｍ）
５．９０（３Ｈ、ｄｄ）
６．２０（３Ｈ、ｄｄ）
６．５０（３Ｈ、ｄｄ）
７．４５（６Ｈ、ｄ）
８．３０（６Ｈ、ｄ）
９．３０（３Ｈ、ｓ）
【０２０７】
得られたＤ−３８の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。まず温度を上げて行くと、１１４℃付近で結晶相から等方性液体相に変わった。次に１１４℃から徐々に温度を下げていくと９４℃付近でディスコティックネマチック相に変わり、室温まで下げると再び結晶相に変化した。すなわち、Ｄ−３８は、降温時に、９４℃から室温の間でディスコティックネマチック相を呈することが分かった。
【０２０８】
［実施例１］：例示化合物（４）を用いた位相差板の作製
（透明支持体の作製）
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌して、セルロースアセテート溶液（
以下、ドープと呼ぶことがある）を調製した。
（セルロースアセテート溶液組成）
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                １００質量部
トリフェニルホスフェート                              ６．５質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                      ５．２質量部
下記のレタデーション上昇剤（１）                      ０．１質量部
下記のレタデーション上昇剤（２）                      ０．２質量部
メチレンクロライド                              ３１０．２５質量部
メタノール                                        ５４．７５質量部
１−ブタノール                                    １０．９５質量部
【０２０９】
レタデーション上昇剤（１）
【化６２】
2006301614.tif 000063
【０２１０】
レタデーション上昇剤（２）
【化６３】
2006301614.tif 000064
【０２１１】
得られたドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の領域で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、１２０℃を越える領域で機械方向の延伸率が実質０％、（剥ぎ取り時に機械方向に４％延伸することを考慮して）幅方向の延伸率と機械方向の延伸率との比が０．７５となるように調整して、厚さ１００μｍのセルロースアセテートフィルムを作製した。作製したフィルムのレタデーション値を波長６３２．８ｎｍで測定したところ、厚み方向のレタデーション値が４０ｎｍ、面内のレタデーション値が４ｎｍであった。作製したセルロースアセテートフィルムを透明支持体として用いた。
【０２１２】
（第１下塗り層の形成）
上記透明支持体の上に、下記の組成の塗布液を２８ｍｌ／ｍ２塗布し、乾燥して、第１下塗り層を形成した。
（第１下塗り層塗布液組成）
ゼラチン                                          ５．４４質量部
ホルムアルデヒド                                  １．３８質量部
サリチル酸                                        １．６２質量部
アセトン                                            ３９１質量部
メタノール                                          １５８質量部
メチレンクロライド                                  ４０６質量部
水                                                    １２質量部
【０２１３】
（第２下塗り層の形成）
第１下塗り層の上に、下記の組成の塗布液を７ｍｌ／ｍ２塗布し、乾燥して、第２下塗り層を形成した。
【０２１４】
（第２下塗り層塗布液組成）
下記のアニオン性ポリマー                          ０．７７質量部
クエン酸モノエチルエステル                        １０．１質量部
アセトン                                            ２００質量部
メタノール                                          ８７７質量部
水                                                ４０．５質量部
【０２１５】
アニオン性ポリマー
【化６４】
2006301614.tif 000065
【０２１６】
（バック層の形成）
透明支持体の反対側の面に、下記の組成の塗布液を２５ｍｌ／ｍ2塗布し、乾燥して、
バック層を形成した。
（バック層塗布液組成）
酢化度５５％のセルロースジアセテート              ６．５６質量部
シリカ系マット剤（平均粒子サイズ：１μｍ）        ０．６５質量部
アセトン                                            ６７９質量部
メタノール                                          １０４質量部
【０２１７】
（配向膜の形成）
下記変性ポリビニルアルコールとグルタルアルデヒド（変性ポリビニルアルコールの５質量％）とを、メタノール／水の混合溶媒（容積比＝２０／８０）に溶解して、５質量％の溶液を調製した。
【０２１８】
【化６５】
2006301614.tif 000066
【０２１９】
この溶液を、第２下塗り層の上に塗布し、１００℃の温風で１２０秒間乾燥した後、ラビング処理を行い配向膜を形成した。得られた配向膜の膜厚は０．５μｍであった。配向膜のラビング方向は、透明支持体の流延方向と平行であった。
【０２２０】
（光学異方性層の形成）
前記で作製した配向膜のラビング処理面上に、下記の組成を有する光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーを用いて塗布した。
（光学異方性層塗布液）
本発明の液晶性化合物（４）                          １００質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）３．３質量部
増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）      １．１質量部
下記空気界面配向制御剤  （KK−1）                   ０．４質量部
下記配向膜界面配向制御剤  （HK−1）                 ０．５質量部
メチルエチルケトン                                  ２７０質量部
【０２２１】
空気界面配向制御剤（KK−1）
【化６６】
2006301614.tif 000067
【０２２２】
配向膜界面配向制御剤（HK-1）
【化６７】
2006301614.tif 000068
【０２２３】
上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、恒温槽中にて配向させ、２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、位相差板
を作製した。形成した光学異方性層の厚さは約１．１μｍであった。
【０２２４】
［実施例２］：例示化合物（D−38）を用いた位相差板の作製
（光学異方性層の形成）
実施例１で作製した配向膜のラビング処理面上に、下記の組成を有する光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーを用いて塗布した。
（光学異方性層塗布液）
本発明の液晶性化合物（D−38）                        １００質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製） ３．０質量部
増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）       １．０質量部
下記空気界面配向制御剤  （KK−2）                    ０．４質量部
下記配向膜界面配向制御剤  （HK−2）                  ０．５質量部
メチルエチルケトン                                   ３００質量部
【０２２５】
空気界面配向制御剤（KK-2）
【化６８】
2006301614.tif 000069
【０２２６】
配向膜界面配向制御剤（HK−2）
【化６９】
2006301614.tif 000070
【０２２７】
上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、恒温槽中にて配向させ、４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、位相差板
を作製した。形成した光学異方性層の厚さは約１．０μｍであった。
【０２２８】
［比較例１］
実施例１で作製した配向膜に、下記の組成の光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーを用いて塗布した。
【０２２９】
（光学異方性層塗布液）
上記従来型液晶性化合物（Ａ）                              １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ９．９質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）        ３．３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）          １．１質量部
下記空気界面配向制御剤 （KK−1）                          ０．４質量部
下記配向膜界面配向制御剤（HK−1）                         ０．５質量部
メチルエチルケトン                                        ２７０質量部
【０２３０】
上記の光学異方性層を塗布したフィルムを配向させ、２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照
射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、位相差板を作製した。形成した光学異方性層の厚さは約１．２０μｍであった。
【０２３１】
［位相差板の評価］
（傾斜角の測定）
実施例1、２および比較例１で得られた位相差板の平均傾斜角（平均チルト角）の測定
をＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器（株）製）で行い、４８０ｎｍと７５０ｎｍにおけるレタデーションの測定をＫＯＢＲＡ−３１ＰＲ（王子計測機器（株）製）を用いて行った。結果を第１表に示す。
【０２３２】
【表１】
2006301614.tif 000071
【０２３３】
［実施例３］
例示化合物（４）、（Ｄ−３８）および従来液晶化合物（Ａ）を用いて、実施例１、２および比較例１の記載の方法で、５５０ｎｍにおけるレタデーションが約１３９ｎｍ（λ／４）になる位相差板をそれぞれ作製した。作製した位相差板を、金属光沢のある部分を偏光板を通して観察したこころ、従来液晶化合物（Ａ）を用いた位相差板よりも、例示化合物（４）、（Ｄ−３８）を用いた位相差板の方がより黒に近く、優れることが分った。
【０２３４】
以上の結果から、従来のディスコティック液晶性化合物を用いたよりも小さい波長分散値を有し、且つ円盤面と透明支持体平面とが略垂直に配向した位相差板を得ることができた。また、結果として良好な位相差板を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【０２３５】
【図１】本発明の位相差板の一実施形態の断面模式図である。
【図２】本発明の位相差板の一実施形態の斜視図である。
【図３】本発明の位相差板の一実施形態の（ａ）側面模式図および（ｂ）正面模式図である。
【符号の説明】
【０２３６】
０１  ディスコティック液晶性化合物
０４  ラビング方向
１１、２１  透明支持体
１２、２２  配向膜
１３、２３  光学異方性層
１４、２４  位相差板
【図１】
2006301614.tif 000078
【図２】
2006301614.tif 000079
【図３】
2006301614.tif 000080