(57)【要約】【課題】  表示ムラなどを生じさせることなく液晶表示装置の視野角の改善に寄与する光学補償フィルムを提供する。【解決手段】  液晶化合物の配向状態を固定して形成された光学異方性層を少なくとも一層含む光学補償フィルムであって、前記光学異方性層中、前記液晶化合物が、分子のダイレクタと層平面とのなす角度が層の深さ方向に変化しているハイブリッド配向をしているとともに、該ダイレクタを層平面に投影した軸の方位が変化しているねじれ配向をしており、且つ前記光学異方性層がフルオロ脂肪族基含有ポリマーを含有する光学補償フィルムである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶化合物の配向状態を固定して形成された光学異方性層を少なくとも一層含む光学補償フィルムであって、前記光学異方性層中、前記液晶化合物が、分子のダイレクタと層平面とのなす角度が層の深さ方向に変化しているハイブリッド配向をしているとともに、該ダイレクタを層平面に投影した軸の方位が変化しているねじれ配向をしており、且つ前記光学異方性層がフルオロ脂肪族基含有ポリマーを含有する光学補償フィルム。
【請求項２】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーが、下記一般式（１）で表されるモノマーから誘導される少なくとも一種の繰り返し単位を含む重合体である請求項１に記載の光学補償フィルム。
【化１】
2006023543.tif 000057
（一般式（１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ2）−を表し、Ｈfは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。ｍは１〜６の整数、ｎは２〜４の整数を表す。）
【請求項３】
前記一般式（１）において、Ｈfがフッ素原子である請求項２に記載の光学補償フィルム。
【請求項４】
前記液晶化合物が、ディスコティック液晶化合物である請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項５】
さらに、前記光学異方性層を支持する支持体を有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項６】
前記支持体が、セルロースエステルフィルムである請求項５に記載の光学補償フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償フィルムと偏光膜とが積層された偏光板。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償フィルム、または請求項７に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶化合物から形成された光学異方性層を有す光学補償フィルム、ならびにそれを用いた偏光板および液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子および光学補償フィルム（位相差板）からなる。透過型液晶表示装置では、二枚の偏光素子を液晶セルの両側に配置し、一枚または二枚の光学補償フィルムを液晶セルと偏光素子との間に配置する。反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚の光学補償フィルム、そして一枚の偏光素子の順に配置する。液晶セルは、棒状液晶性分子、それを封入するための二枚の基板および棒状液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、棒状液晶性分子の配向状態の違いで、透過型については、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  ）、反射型については、ＴＮ、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）のような様々な表示モードが提案されている。
【０００３】
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学補償シートとしては、延伸複屈折ポリマーフィルムが従来から使用されていた。延伸複屈折フィルムからなる光学補償シートに代えて、透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物から形成された光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。液晶性化合物には多様な配向形態があるため、液晶性化合物を用いることで、従来の延伸複屈折ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。さらに偏光板の保護膜としても機能する。
【０００４】
光学補償シートの光学的性質は、液晶セルの光学的性質、具体的には上記のような表示モードの違いに応じて決定する。液晶性化合物を用いると、液晶セルの様々な表示モードに対応する様々な光学的性質を有する光学補償シートを製造することができる。様々な表示モードに対応した液晶性化合物を用いた光学補償シートが、既に種々提案されている。例えば、ＴＮモード液晶セル用光学補償シートは、電圧印加により液晶分子がねじれ構造が解消しつつ基板面に傾斜した配向状態の光学補償を行い、黒表示時の斜め方向の光漏れ防止によるコントラストの視角特性を向上させる。
【０００５】
ＴＮモード液晶表示装置では、電界印加により、液晶セル中の液晶分子のねじれ構造が解消するが、その際、液晶セルの基板面に対して傾斜した配向状態の光学異方性層を有する光学補償シートによって光学補償を行い、黒表示時の斜め方向の光漏れを防止し、コントラストの視角特性を向上させている。光学補償の代表例としては、位相差が同一の延伸フィルムを直交に積層し、面内リターデーションを０に近づけたフィルム組を、上下偏光板と液晶セルの間に各々配置する（特許文献１参照）。しかし、液晶セル中の分子は電界印加時に完全に基板に対して垂直配向せず、基板近傍では平行配向のままである。一方、基板中央部の液晶分子は垂直配向しており、その間の液晶分子は連続的に傾斜配向している。このような液晶セルの配向状態を光学補償するには、光学補償シートも同じような光学性能にすればよい。そのような光学補償シートとしては、液晶性化合物をハイブリット配向させて固定し、フィルム状にしたものがある。例えば、液晶性化合物として、円盤状液晶性化合物を使用したり（特許文献２参照）、棒状液晶性化合物を使用した例がある（特許文献３参照）。また、円盤状液晶性化合物のハイブリッド配向状態にさらにねじれ構造を導入した光学補償シートの例がある（特許文献４参照）。しかし、従来の技術では、ハイブリッド配向かつねじれ配向した液晶化合物を含む光学異方性層は、ハジキが発生しやすく、さらに液晶化合物の配向のムラや光学異方性層の膜厚のムラに由来する光学特性のムラが生じやすく、均一な光学特性を有す光学補償シートを大面積で得ることは非常に難しいという問題があった。
【０００６】
【特許文献１】特開平４−１６２０１８号公報
【特許文献２】特開平６−２１４１１６号公報
【特許文献３】特開平１０−１８６３５６号公報
【特許文献４】特許第３４４５６８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、表示ムラなどを生じさせることなく液晶表示装置の視野角の改善に寄与する、液晶性分子から形成された光学異方性層を有する光学補償フィルム、それを含む偏光板、及び、簡易な構成で、視野角が著しく改善された液晶表示装置、特にＴＮ型液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］液晶化合物の配向状態を固定して形成された光学異方性層を少なくとも一層含む光学補償フィルムであって、前記光学異方性層中、前記液晶化合物が、分子のダイレクタと層平面とのなす角度が層の深さ方向に変化しているハイブリッド配向をしているとともに、該ダイレクタを層平面に投影した軸の方位が変化しているねじれ配向をしており、且つ前記光学異方性層がフルオロ脂肪族基含有ポリマーを含有する光学補償フィルム。
［２］前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーが、下記一般式（１）で表されるモノマーから誘導される少なくとも一種の繰り返し単位を含む重合体である［１］の光学補償フィルム。
【０００９】
【化１】
2006023543.tif 000002
（一般式（１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ2）−を表し、Ｈfは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。ｍは１〜６の整数、ｎは２〜４の整数を表す。）
【００１０】
［３］前記一般式（１）において、Ｈfがフッ素原子である［２］の光学補償フィルム。
［４］前記液晶化合物が、ディスコティック液晶化合物である［１］〜［３］のいずれかの光学補償フィルム。
［５］さらに、前記光学異方性層を支持する支持体を有する［１］〜［４］のいずれかの光学補償フィルム。
［６］前記支持体が、セルロースエステルフィルムである［５］の光学補償フィルム。
［７］［１］〜［６］のいずれかの光学補償フィルムと偏光膜とが積層された偏光板。
［８］［１］〜［６］のいずれかの光学補償フィルム、または［７］の偏光板を含む液晶表示装置。
【００１１】
［９］［１］〜［６］のいずれかの光学補償フィルムと偏光膜とが積層された偏光板であって、前記光学異方性層の偏光膜に近い側の界面の液晶化合物の分子のダイレクタを層平面に投影した軸の方位が、該偏光膜の透過軸と吸収軸のいずれにも平行でない［７］の偏光板。
［１０］［１］〜［６］のいずれかの光学補償フィルムと偏光膜とが積層された偏光板であって、前記光学異方性層の偏光膜に遠い側の界面の液晶化合物の分子のダイレクタを層平面に投影した軸の方位が、該偏光膜の透過軸と吸収軸のいずれにも平行でないことを特徴とする［７］の偏光板。
［１１］［１］〜［６］のいずれかの光学補償フィルムと偏光膜とが積層された偏光板であって、該偏光膜の透過軸と吸収軸のいずれかが、前記光学異方性層の偏光膜に近い側と遠い側の界面の液晶化合物の分子のダイレクタを層平面に投影した軸の方位の間にある［７］の偏光板。
［１２］［９］〜［１１］のいずれかの偏光板を含む液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、表示ムラなどを生じさせることなく液晶表示装置の視野角の改善に寄与する、液晶性分子から形成された光学異方性層を有する光学補償フィルム、それを含む偏光板、及び、簡易な構成で、視野角が著しく改善された液晶表示装置、特にＴＮ型液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【００１３】
本明細書において、「４５°」、「平行」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は反時計周り方向を意味し、「−」は時計周り方向を意味するものとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。さらに「光学異方性層の液晶性化合物の配向制御方向」とは、配向膜に施されたラビング処理の方向等、光学異方性層との界面において、液晶性化合物を所定の方向に配向させるために配向膜または支持体に施される処理の方向をいう。
【００１４】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。
【００１５】
本明細書において、フィルムの面内のレターデーション値（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）は、それぞれ、下記数式（Ｉ）および（II）で定義される。
数式（Ｉ）：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
数式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
数式（Ｉ）および（II）において、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率である。数式（Ｉ）および（II）において、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率である。数式（II）において、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率である。数式（Ｉ）および（II）において、ｄは単位をｎｍとするフィルムの厚さである。
【００１６】
本発明において、液晶化合物を含む光学異方性層の光学特性は、以下のようにして算出する。光学異方性層における液晶性化合物の配向膜近傍の傾斜角、空気界面の傾斜角および平均傾斜角は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想し、「Ｄｅｓｉｇｎｉｎｇ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ  ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴ」に記載されている手法で算出する。
【００１７】
［光学補償フィルム］
本発明の光学補償フィルムは、液晶化合物の配向状態を固定化して形成された光学異方性層を含み、該液晶化合物は、分子のダイレクタと該光学異方性層平面とのなす角度が層の深さ方向において変化しているハイブリッド配向をしているとともに、該ダイレクタを該光学異方性層平面に投影した軸の方位が変化しているねじれ配向をしている。さらに、前記光学異方性層は、液晶性化合物とともに、フルオロ脂肪族基含有ポリマーを含有する。
【００１８】
前記光学異方性層において、前記液晶性分子は、そのダイレクタと層平面とのなす角度（以下「傾斜角」という場合がある）がフィルムの厚さ方向に変化するハイブリッド配向状態であり、且つねじれ角φで厚さ方向にねじれた配向状態に固定されている。図１に、ディスコティック液晶性分子の配向状態を模式的に示す。なお、液晶性分子がディスコティック液晶性分子である場合は、ダイレクタは分子の円盤面の法線方向と平行であり、液晶性分子が棒状液晶性分子である場合は、ダイレクタは分子の長軸方向と平行である。図１に示す様に、本発明の光学補償フィルムは、透明支持体３と光学異方性層４とからなり、光学異方性層４は、ディスコティック液晶性分子ｄが、ねじれ角φでねじれ配向しているとともに、透明支持体界面から空気界面へ、厚さ方向に局所的にはゆらぎをもちつつ傾斜角（長軸ｄeと層平面とのなす角）が増加するハイブリッド配向した状態に固定されている。液晶セルの液晶層のねじれ構造及び屈折率異方性を相殺するために、前記光学異方性層のねじれ配向が、表示面側に配置する表面から観察した場合に、液晶層のねじれの向きと逆向きとなるように配置するのが好ましい。例えば、表示側偏光膜と液晶セルとの間に本発明の光学補償フィルムを配置し、且つ光学異方性層を液晶セル側にして配置する場合は、図１中、下から上の矢印で示したａ方向から観察した場合に、液晶セルのねじれ配向と逆向きのねじれ配向に固定されているのが好ましい。一方、背面側偏光膜と液晶セルとの間に本発明の光学補償フィルムを配置し、且つ光学異方性層を液晶セル側にして配置する場合は、図１中、上から下の矢印で示したｂ方向から観察した場合に、液晶セルのねじれ配向と逆向きのねじれ配向に固定されているのが好ましい。
【００１９】
光学異方性層の好ましい平均傾斜角β、及び好ましいねじれ角φは、透明支持体のＲｔｈや光学異方性層の厚さｄ等に応じて決定されるが、ＴＮモードの液晶セルの光学補償に用いる場合は、一般的には、平均傾斜角βは３０〜６０°であるのが好ましく、３５〜５５°であるのがより好ましい。
【００２０】
前記光学異方性層において、ディスコティック液晶性分子はハイブリッド配向しているので、分子の円盤面の層平面に対する傾斜角度は、光学異方性層の深さ方向、支持体界面からの距離の増加と共にゆらぎをもちつつ増加または減少している。傾斜角度は、距離の増加と共に増加することが好ましい。さらに、傾斜角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。本発明では、傾斜角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。さらに、傾斜角度は連続的に変化することが好ましい。
【００２１】
また、前記光学異方性層において、ディスコティック液晶性分子はねじれ配向しているので、ダイレクタの向きは、光学異方性層の厚さ方向に一方の界面から他方の界面に向かって、ねじれ角φだけねじれている。ねじれ角φの好ましい範囲は１°〜３０°であるのが好ましく、２°〜２５°であるのがより好ましく、３°〜２０°であるのがより好ましい。光学異方性層中のねじれ配向は１ピッチ未満であるのが好ましい。ねじれ配向の方向は、時計回りであっても、反時計回りであってもよいが、光学補償の対象となる液晶セル中の液晶のねじれ方向とは逆向きのねじれ配向とするのが好ましい。
【００２２】
光学異方性層の他の光学特性については、特に制限はなく、用いる用途に応じて好ましい範囲が決定される。一般的には、面内レターデーションＲｅは、１０〜１２０ｎｍであるのが好ましく、２０〜９０ｎｍであるのがより好ましい。
【００２３】
本発明の光学補償フィルムに含まれる光学異方性層は、上記配向状態を満たす限り、液晶性化合物の種類については特に制限されず、ディスコティック液晶でもよいし、棒状液晶でもよい。また、低分子液晶性化合物だけでなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態において配向させ、光架橋や熱架橋によって配向を固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態において配向させ、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることができる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。前記光学異方性層の形成に用いられる液晶性化合物は、重合性液晶化合物であることが好ましい。該重合性液晶は多官能性でもよいし、単官能性でもよい。本発明の光学補償フィルムをＴＮ型液晶表示装置に適用する場合には、液晶化合物はディスコティック液晶化合物であることが好ましい。
【００２４】
また、本発明の光学補償フィルムに含まれる光学異方性層にはフルオロ脂肪族基含有ポリマーが含まれる。液晶性化合物を含む光学異方性層は、液晶性化合物とフルオロ脂肪族基含有ポリマー含む組成物と溶媒からなる塗布液を、支持体の上に塗布することで形成する。該塗布液に適切なフルオロ脂肪族基含有ポリマーを添加することで、塗布液を支持体上に塗布する工程、溶媒を乾燥させる工程、および、液晶の配向熟成工程で生じるハジキが抑制でき、さらに、塗布工程、乾燥工程および配向熟成工程において発生する膜厚のムラや、熱風の温度ムラに起因する配向状態のムラが軽減された均一な光学異方性層が形成できる。
【００２５】
［光学異方性層］
液晶性化合物を含む光学異方性層は、棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物、フルオロ脂肪族基含有ポリマー、および所望により、後述する重合開始剤や他の添加剤を含む組成物（塗布液の形態を含む）を、支持体の上に塗布することで形成することができる。
【００２６】
本発明では、ディスコティック液晶性化合物を用いて光学異方性層を形成するのが好ましく、トリフェニレン液晶を用いるのがより好ましい。ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００２７】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式で表される化合物であることが好ましい。
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。なお、液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【００２８】
また、本発明では棒状液晶性化合物を用いて光学異方性層を形成してもよい。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶分子には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は１〜６個、好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【００２９】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００３０】
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定するのが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基（Ｐ）の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【００３１】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。位相差層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましく、１〜５μｍであることが最も好ましい。
【００３２】
［カイラル剤］
本発明では、ねじれ構造を発現させるためにカイラル剤を光学異方性層に添加するのが好ましい。カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含む光学活性化合物である。カイラル剤としては、不斉炭素原子を含む様々な天然または合成化合物を使用できる。光学異方性層にディスコティック液晶化合物が用いられる場合には、特に好ましいカイラル剤は、特開平８−５０２０６号公報に記載されているディスコティック液晶性分子の連結基（Ｒ）に不斉炭素原子を導入した分子構造を有するディスコティック化合物である。具体的には、連結基（Ｒ）に含まれるＡＬ（アルキレン基またはアルケニレン基）に、不斉炭素原子を導入する。不斉炭素原子を含むＡＬ＊の好ましい例は、特開２００１−１０００３５号公報明細書中の段落番号［００３３］〜［００３５］に記載されている。カイラル剤には、ディスコティック液晶性分子と同じまたは類似の重合性基（Ｑ）を導入してもよい。重合性基を導入すると、ディスコティック液晶性分子を配向させた後に、同じまたは類似の重合反応によってカイラル剤を光学異方性層内で固定することができる。カイラル剤の量は、液晶性分子の配向状態を安定化させるために必要かつ充分な量で使用する。ねじれ量の大きさは、例えば、偏光顕微鏡によるクロスニコル状態での消光軸のラビング軸からの消光する角度（消光角）で求められる。ここで言う消光とは、厳密な意味で透過光がゼロとなることのみを意味するものではなく、透過光が、最小値となる角度を意味する。ねじれ配向が、上述の図４に模式的に示した状態である場合は、消光角は実際のねじれ角の６０％から８０％の値になる。
【００３３】
［配向膜］
配向膜は、光学異方性層を形成する液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。ポリビニルアルコールが、好ましいポリマーである。疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。疎水性基は、ポリビニルアルコールの主鎖末端または側鎖に結合させる。疎水性基は、炭素原子数が６以上の脂肪族基（好ましくはアルキル基またはアルケニル基）または芳香族基が好ましい。ポリビニルアルコールの主鎖末端に疎水性基を結合させる場合は、疎水性基と主鎖末端との間に連結基を導入することが好ましい。連結基の例には、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＮ）Ｒ1−、−ＮＲ2−、−ＣＳ−およびそれらの組み合わせが含まれる。上記Ｒ1およびＲ2は、それぞれ、水素原子または炭素原子数が１〜６のアルキル基（好ましくは、炭素原子数が１〜６のアルキル基）である。
【００３４】
ポリビニルアルコールの側鎖に疎水性基を導入する場合は、ポリビニルアルコールの酢酸ビニル単位のアセチル基（−ＣＯ−ＣＨ3）の一部を、炭素原子数が７以上のアシル基（−ＣＯ−Ｒ3）に置き換えればよい。Ｒ３は、炭素原子数が６以上の脂肪族基または芳香族基である。市販の変性ポリビニルアルコール（例、ＭＰ１０３、ＭＰ２０３、Ｒ１１３０、クラレ（株）製）を用いてもよい。配向膜に用いる（変性）ポリビニルアルコールのケン化度は、８０％以上であることが好ましい。（変性）ポリビニルアルコールの重合度は、２００以上であることが好ましい。ラビング処理は、配向膜の表面を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施する。長さおよび太さが均一な繊維を均一に植毛した布を用いることが好ましい。なお、光学異方性層の液晶性分子を配向膜を用いて配向後、配向膜を除去しても、液晶性分子の配向状態を保つことができる。すなわち、配向膜は、液晶性分子を配向させるため光学補償フィルムの製造においては必須であるが、製造された光学補償フィルムにおいては必須ではない。配向膜を支持体と光学異方性層との間に設ける場合は、さらに下塗り層（接着層）を透明支持体と配向膜との間に設けることが好ましい。
【００３５】
配向膜を、主鎖に結合した架橋性官能基を有する側鎖を有するポリマー又は液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を有するポリマーを用いて形成し、その上に光学異方性層を、多官能モノマーを含む組成物を用いて形成すると、配向膜中のポリマーと、その上に形成される光学異方性層中の多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマー間だけではなく、配向膜ポリマー間及び多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間にも共有結合が形成され、配向膜と光学異方性層とが強固に結合される。従って、架橋性官能基を有するポリマーを用いて配向膜を形成することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【００３６】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［０２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【００３７】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、又は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【００３８】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー及び架橋剤を含む組成物を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥し（架橋させ）、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行ってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方性層表面の欠陥が著しく減少する。
【００３９】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行うことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行うことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【００４０】
配向膜は、透明支持体上に設けられることが好ましい。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋した後、表面をラビング処理することにより得ることができる。ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【００４１】
なお、仮支持体上に設けた配向膜を用いて液晶性化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性化合物を固定して光学異方性層を形成し、光学異方性層のみを異なる支持体に転写してもよい。
【００４２】
［フルオロ脂肪族基含有ポリマー］
前記光学異方性層はフルオロ脂肪族基含有ポリマーを含有する。該フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、光学異方性層のハジキやムラの防止に寄与する。従来の大型液晶表示装置では、光学フィルムに起因する表示ムラの問題があったが、本発明の光学補償フィルムを用いることによって、大型液晶表示装置のムラを軽減し、大型液晶表示装置の画像品位を改善することができる。
【００４３】
本発明では、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーとして、下記一般式（１）で表されるモノマーから誘導される少なくとも一種の繰り返し単位を含む重合体を用いるのが好ましい。
【００４４】
【化２】
2006023543.tif 000003
【００４５】
一般式（１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ2）−を表し、Ｈfは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。ｍは１〜６の整数であり、１又は２が好ましい。ｎは２〜４の整数であり、２又は３が好ましい。前記重合体は、複数種の前記一般式（１）で表されるモノマーの共重合体であってもよい。
一般式（１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーのより具体的なモノマーの例を以下にあげるがこの限りではない。
【００４６】
【化３】
2006023543.tif 000004
【００４７】
【化４】
2006023543.tif 000005
【００４８】
【化５】
2006023543.tif 000006
【００４９】
【化６】
2006023543.tif 000007
【００５０】
【化７】
2006023543.tif 000008
【００５１】
【化８】
2006023543.tif 000009
【００５２】
【化９】
2006023543.tif 000010
【００５３】
前記フルオロ脂肪族化合物は、テロメリゼーション法（テロマー法）またはオリゴメリゼーション法（オリゴマー法）により製造することができる。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  ＩＩ」（Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ  １８７，Ｅｄ  ｂｙ  Ｍｉｌｏｓ  Ｈｕｄｌｉｃｋｙ  ａｎｄ  Ａｔｔｉｌａ  Ｅ．Ｐａｖｌａｔｈ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９９５）の７４７−７５２ページに記載されている。テロメリゼーション法とは、ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である（Ｓｃｈｅｍｅ−１に例を示した）。
【００５４】
【化１０】
2006023543.tif 000011
【００５５】
得られた、末端ヨウ素化テロマーは通常、例えば（Ｓｃｈｅｍｅ２）のごとき適切な末端化学修飾を施され、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合物は必要に応じ、さらに所望のモノマー構造へと変換され、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの製造に使用される。
【００５６】
【化１１】
2006023543.tif 000012
【００５７】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、さらに下記一般式（２）で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
【００５８】
【化１２】
2006023543.tif 000013
【００５９】
一般式（２）において、Ｒ3は水素原子又はメチル基を表し、Ｙは２価の連結基を表し、Ｒ4は置換もしくは無置換のポリ（アルキレンオキシ）基、置換基もしくは無置換の炭素数１〜２０の直鎖、又は炭素数４〜２０の分岐もしくは炭素数３〜２０の環状のアルキル基を示す。
【００６０】
Ｙが表す２価の連結基としては、酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ5）−が好ましい。ここでＲ5は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましい。Ｒ5は、より好ましくは、水素原子又はメチル基である。Ｙは、酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−および−Ｎ（ＣＨ3）−がより好ましい。
【００６１】
Ｒ4が表す置換換基を有してもよいポリ（アルキレンオキシ）基は、（ＲＯ）xで表すことができ、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基であり、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）−であることが好ましい。
前記のポリ（アルキレンオキシ）基中のアルキレンオキシ単位はポリ（プロピレンオキシ）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のアルキレンオキシが不規則に分布されたものであってもよい。直鎖もしくは分岐状のプロピレンオキシ又はエチレンオキシ単位、直鎖もしくは分岐状のプロピレンオキシ単位のブロック又はエチレンオキシ単位のブロックとして存在するものであってもよい。
【００６２】
前記ポリ（アルキレンオキシ）鎖は、複数のポリ（アルキレンオキシ）単位同士が１つまたはそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など、ここでＰｈはフェニレン基を表す）で連結されたものであってもよい。連鎖の結合が３つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、分岐鎖のアルキレンオキシ単位を得ることができる。また、ポリ（アルキレンオキシ）基の化合物量は２５０〜３０００が適当である。
【００６３】
Ｒ4で表される炭素数１〜２０の直鎖、炭素数４〜２０の分岐または炭素数３〜２０の環状のアルキル基の例には、直鎖および分岐してもよいメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等；シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基；及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基等の多環シクロアルキル基が含まれる。
【００６４】
Ｒ4で表されるポリ（アルキレンオキシ）基またはアルキル基は置換されていてもよく、該置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等が挙げられるが、この限りではない。
【００６５】
前記一般式（２）で表されるモノマーは、アルキル（メタ）アクリレートまたはポリ（アルキレンオキシ）（メタ）アクリレートであることが特に好ましい。
一般式（２）で示されるモノマーの具体例を次に示すが、この限りではない。
【００６６】
【化１３】
2006023543.tif 000014
【００６７】
【化１４】
2006023543.tif 000015
【００６８】
【化１５】
2006023543.tif 000016
【００６９】
【化１６】
2006023543.tif 000017
【００７０】
【化１７】
2006023543.tif 000018
【００７１】
【化１８】
2006023543.tif 000019
【００７２】
【化１９】
2006023543.tif 000020
【００７３】
【化２０】
2006023543.tif 000021
【００７４】
【化２１】
2006023543.tif 000022
【００７５】
【化２２】
2006023543.tif 000023
【００７６】
【化２３】
2006023543.tif 000024
【００７７】
【化２４】
2006023543.tif 000025
【００７８】
【化２５】
2006023543.tif 000026
【００７９】
なお、ポリ（アルキレンオキシ）アクリレートおよびメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（アルキレンオキシ）材料、例えば商品名“プルロニック”（Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製）、“アデカポリエーテル”（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”（Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス））、“トリトン”（Ｔｏｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ製））および“Ｐ．Ｅ．Ｇ”（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。また、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。
【００８０】
本発明のフルオロ脂肪族基含有ポリマーとしては、前記一般式（１）で表されるモノマーのホモポリマー、又は前記一般式（１）で表されるモノマーと前記一般式（２）で表されるモノマー（より好ましくは、ポリアルキレンオキシ（メタ）アクリレート、さらに好ましくはポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートまたはポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレート）との共重合体が好ましい。
【００８１】
本発明に用いるフルオロ脂肪族基含有ポリマーは、上記一般式（１）及び上記一般式（２）で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位以外の繰り返し単位を含んだ、共重合体であってもよい。上記各モノマーと共重合可能なモノマーの好ましい共重合比率としては、全モノマー中の２０モル％以下、より好ましくは１０モル％以下である。このようなモノマーとしては、「ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）」の第２章の１〜４８３頁記載のものを用いることが出来る。例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【００８２】
具体的には、以下のモノマーを挙げることができる。
アクリル酸エステル類：
フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど、
メタクリル酸エステル類：
フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど、
【００８３】
アリル化合物：
アリルエステル類（例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど
【００８４】
ビニルエーテル類：
アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど
【００８５】
ビニルエステル類：
ビニルビチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。
【００８６】
イタコン酸ジアルキル類：
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。
フマール酸のジアルキルエステル類またはモノアルキルエステル類：
ジブチルフマレートなど
その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど。
【００８７】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマー中の前記一般式（１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該ポリマーの構成モノマー総量の５モル％以上であるのが好ましく、より好ましくは２０モル％以上、さらに好ましくは３０モル％以上である。本発明のフルオロ脂肪族基含有ポリマー中の前記一般式（２）で表されるモノマーの量は、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの構成モノマー総量の１０モル％以上であるのが好ましく、より好ましくは１５〜７０モル％であり、さらに好ましくは２０〜６０モル％である。
【００８８】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの好ましい重量平均分子量は、３０００〜１００，０００であり、より好ましく６，０００〜８０，０００である。質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン（ＰＳ）換算の値として測定可能である。
更に、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの、光学異方性層形成用の組成物中における含有量は、好ましくは０．００５〜８質量％であり、より好ましくは０．０１〜１質量％であり、さらに好ましくは０．０５〜０．５質量％である。前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの添加量を０．００５質量％以上とすることにより、より良好なものが得られ、また８質量％以下とすることにより、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、光学フィルムとしての性能（例えばレターデーションの均一性等）に悪影響を及ぼすのをより効果的に防止できる。
【００８９】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは公知の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有する（メタ）アクリレート、ポリアルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート等の単量体を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。
【００９０】
なお、本発明の前記ポリマーは、液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【００９１】
以下に、前記ポリマーとして本発明に好ましく用いられる具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によってなんら限定されるものではない。ここで式中の数値（ａ、ｂ、ｃ、ｄ等の数値）は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、ＭｗはTSK Gel GMHxL、TSK Gel G4000 HxL、TSK Gel G2000 HxL （いずれも東ソー(株)の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した質量平均分子量である。
【００９２】
【化２６】
2006023543.tif 000027
【００９３】
【化２７】
2006023543.tif 000028
【００９４】
【化２８】
2006023543.tif 000029
【００９５】
【化２９】
2006023543.tif 000030
【００９６】
【化３０】
2006023543.tif 000031
【００９７】
【化３１】
2006023543.tif 000032
【００９８】
【化３２】
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【００９９】
【化３３】
2006023543.tif 000034
【０１００】
【化３４】
2006023543.tif 000035
【０１０１】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有してもよい。また、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーとは別に、下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有するポリマー（以下、ポリマーＡ）を含有していてもよい。下記一般式（３）で表される繰り返単位を有するポリマーは、液晶層のハジキやムラを抑制するだけでなく、液晶化合物の傾斜角を調整するために好ましく用いられる。
【０１０２】
【化３５】
2006023543.tif 000036
【０１０３】
上記一般式（３）において、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）またはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）またはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝またはその塩を表す。Ｌは下記の連結基群から選ばれる任意の基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ14−（Ｒ14は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ15）−（Ｒ15はアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基およびアリーレン基。
【０１０４】
一般式（３）中、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、水素原子または下記に例示した置換基群から選ばれる置換基を表す。
（置換基群）
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２のアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【０１０５】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０１０６】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１０７】
Ｒ11、Ｒ12およびＲ13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、または後述する−Ｌ−Ｑで表される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ−Ｑで表される基であることがより好ましく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子、炭素数１〜２のアルキル基であることが特に好ましく、Ｒ12およびＲ13が水素原子で、Ｒ11が水素原子またはメチル基であることが最も好ましい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。該アルキル基は、適当な置換基を有していても良い。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。なお、アルキル基の炭素数は、置換基の炭素原子を含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。
【０１０８】
Ｌは、上記連結基群から選ばれる２価の連結基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。上記連結基群中、−ＮＲ14−のＲ14は、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは水素原子またはアルキル基である。また、−ＰＯ（ＯＲ15）−のＲ15はアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくはアルキル基である。Ｒ14およびＲ15がアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す場合の炭素数は「置換基群」で説明したものと同じである。Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ14−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、アルキレン基またはアリーレン基を含むことが好ましく、単結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲ14−、アルキレン基またはアリーレン基を含んでいることが特に好ましく、単結合であることが最も好ましい。Ｌがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラブチレン、ヘキサメチレン基等が挙げられる。Ｌが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン、ナフタレン基等が挙げられる。Ｌが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、特に好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。Ｌとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。このような置換基としては先にＲ11〜Ｒ13における置換基として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。
以下にＬの具体的構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１０９】
【化３６】
2006023543.tif 000037
【０１１０】
【化３７】
2006023543.tif 000038
【０１１１】
前記式（３）中、Ｑはカルボキシル基、カルボキシル基の塩（例えばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩（例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、トリメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、ジメチルフェニルアンモニウムなど）、ピリジニウム塩など）、スルホ基、スルホ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）、ホスホノキシ基、ホスホノキシ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）を表す。より好ましくはカルボキシル基、スルホ基、ホスホ基であり、特に好ましいのはカルボキシル基またはスルホ基であり、最も好ましいのは、カルボキシル基である。
【０１１２】
本発明に使用可能な前記ポリマーＡに含まれる前記一般式（３）に対応するモノマーの具体例を以下に挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
【０１１３】
【化３８】
2006023543.tif 000039
【０１１４】
【化３９】
2006023543.tif 000040
【０１１５】
【化４０】
2006023543.tif 000041
【０１１６】
前記ポリマーＡは、前記一般式（３）で表される繰り返し単位を１種含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。また前記ポリマーＡは、前記フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位（例えば、前記一般式（１）で表される繰り返し単位）を含有していてもよく、２種以上有していてもよい。また、前記ポリマーＡは、さらに他の繰り返し単位を含んでいてもよい。該他の繰り返し単位については特に制限されず、通常のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位が好ましい例として挙げられる。以下、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げる。前記ポリマーＡは、下記モノマー群から選ばれる１種または２種以上のモノマーから誘導される繰り返し単位を含有していてもよい。
【０１１７】
モノマー群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど；
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、１−ブロモ−１，３−ブタジエン、１−クロロブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロロ−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロロ−１，３−ブタジエンおよび２−シアノ−１，３−ブタジエン、１，４−ジビニルシクロヘキサンなど；
【０１１８】
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（３ａ）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）；
【０１１９】
（３ｂ）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど；
【０１２０】
（３ｃ）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど；
【０１２１】
（３ｄ）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミドなど；
【０１２２】
（４）不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど；
（５）スチレンおよびその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど；
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど；
【０１２３】
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど；および
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリンなど。
【０１２４】
前記ポリマーＡ中の前記一般式（３）で表される繰り返し単位の含有量は、該ポリマーの構成モノマー総量の０．１〜５０モル％であるのが好ましく、０．２〜４０モル％であるのがより好ましく、０．３〜３０モル％であるのがさらに好ましい。
【０１２５】
本発明に用いる前記ポリマーＡの質量平均分子量は１，０００，０００以下であるのが好ましく、５００，０００以下であるのがより好ましく、５，０００以上５０,０００以下であるのがさらに好ましい。
【０１２６】
前記ポリマーＡの重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、ビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、あるいは、アニオン重合等の重合方法を採ることができ、これらの中ではラジカル重合が汎用に利用できる点で特に好ましい。ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤や、ラジカル光重合開始剤等の公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等）、ケトンパーオキサイド（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等）、ハイドロパーオキサイド（過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等）、ジアルキルパーオキサイド（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等）、パーオキシエステル類（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等）、過硫酸塩類（過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、１種を単独で使用することもできるし、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【０１２７】
ラジカル重合方法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法等を採ることが可能である。典型的なラジカル重合方法である溶液重合についてさらに具体的に説明する。他の重合方法についても概要は同等であり、その詳細は例えば「高分子科学実験法」高分子学会編（東京化学同人、１９８１年）等に記載されている。
【０１２８】
溶液重合を行うためには有機溶媒を使用する。これらの有機溶媒は本発明の目的、効果を損なわない範囲で任意に選択可能である。これらの有機溶媒は通常、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有する有機化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる有機化合物が好ましい。好ましい有機溶媒の例を示すと、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類；ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、１種単独または２種以上を組み合わせて用いることが可能である。さらに、モノマーや生成するポリマーの溶解性の観点から上記有機溶媒に水を併用した水混合有機溶媒も適用可能である。
【０１２９】
また、溶液重合条件も特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度範囲内で、１０分〜３０時間加熱することが好ましい。さらに、発生したラジカルが失活しないように、溶液重合中はもちろんのこと、溶液重合開始前にも、不活性ガスパージを行うことが好ましい。不活性ガスとしては通常窒素ガスが好適に用いられる。
【０１３０】
前記ポリマーＡを好ましい分子量範囲で得るためには、連鎖移動剤を用いたラジカル重合法が特に有効である。連鎖移動剤としてはメルカプタン類（例えば、オクチルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、チオフェノール、ｐ−ノニルチオフェノール等）、ポリハロゲン化アルキル（例えば、四塩化炭素、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，１−トリブロモオクタンなど）、低活性モノマー類（α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマー等）のいずれも用いることができるが、好ましくは炭素数４〜１６のメルカプタン類である。これらの連鎖移動剤の使用量は、連鎖移動剤の活性やモノマーの組み合わせ、重合条件などにより著しく影響され精密な制御が必要であるが、通常は使用するモノマーの全モル数に対して０．０１モル％〜５０モル％程度であり、好ましくは０．０５モル％〜３０モル％、特に好ましくは０．０８モル％〜２５モル％である。これらの連鎖移動剤は、重合過程において重合度を制御するべき対象のモノマーと同時に系内に存在させればよく、その添加方法については特に問わない。モノマーに溶解して添加してもよいし、モノマーと別途に添加することも可能である。
【０１３１】
なお、本発明の前記ポリマーＡは、液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【０１３２】
以下に、前記ポリマーＡとして本発明に好ましく用いられる具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によってなんら限定されるものではない。ここで式中の数値（ａ、ｂ、ｃ、ｄ等の数値）は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、ＭｗはTSK Gel GMHxL、TSK Gel G4000 HxL、TSK Gel G2000 HxL （いずれも東ソー(株)の商品名）のカラムを使用したGPC分析装置により、溶媒THF、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した質量平均分子量である。
【０１３３】
【化４１】
2006023543.tif 000042
【０１３４】
【化４２】
2006023543.tif 000043
【０１３５】
【化４３】
2006023543.tif 000044
【０１３６】
【化４４】
2006023543.tif 000045
【０１３７】
【化４５】
2006023543.tif 000046
【０１３８】
【化４６】
2006023543.tif 000047
【０１３９】
【化４７】
2006023543.tif 000048
【０１４０】
【化４８】
2006023543.tif 000049
【０１４１】
【化４９】
2006023543.tif 000050
【０１４２】
［光学異方性層の他の組成物］
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることが出来る。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
【０１４３】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性もしくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０１４４】
液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロース系高分子を液晶層に混ぜることによりハジキを抑制することが可能である。さらに該セルロースエステルは、液晶性化合物の傾斜角制御剤として機能する。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどが好ましい。中でもセルロースエステルが液晶性化合物の傾斜角制御剤として好ましく、セルロースアセテートブチレートが特に好ましく、セルロースアセテートブチレートのブチリル化度が、４０％以上であることが最も好ましい。液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【０１４５】
［支持体］
光学異方性層は、支持体上に形成された配向膜上で作製するのが好ましい。光学異方性層の支持体としては、光透過率が８０％以上であるポリマーフィルムを用いることが好ましい。フィルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースジアセテート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメ
タクリレート）、ポリカーボネートおよびポリスルホンが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン（ＪＳＲ製）、ゼオノア（日本ゼオン製）など）を用いてもよい。ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは位相差層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、透明支持体や長尺の透明支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒径が１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。
【０１４６】
透明支持体として用いるポリマーフィルムは、セルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。セルロースの低級脂肪酸エステルのなかでは、セルロースアセテートであることが最も好ましい。セルロースアセテートの酢化度は、５５．０〜６２．５％であることが好ましく、５７．０〜６２．０％であることがさらに好ましい。
【０１４７】
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｍ／Ｍｎ（Ｍｍは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。Ｍｍ／Ｍｎの値は、１．０〜５．０であることが好ましく、１．３〜３．０であることがさらに好ましく、１．４〜２．０であることが最も好ましい。
【０１４８】
セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位および６位のヒドロキシル基が均等に置換されるのでなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明において、セルロースエステルの６位置換度は、２位および３位と同程度またはそれ以上であることが好ましい。２位、３位および６位の置換度の合計に対する６位置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましい。６位置換度の割合は、３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。セルロースの６位は、アセチル以外に炭素数３以上のアシル基（例、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ベンゾイル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位の置換度は、ＮＭＲによって測定することができる。６位置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、および段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３を参照して合成することができる。
【０１４９】
セルロースエステルフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【０１５０】
セルロースエステルフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。さらに、ライトパイピング防止に、極少量の染料を添加してもよい。透過率の観点からは、波長４２０ｎｍの光の透過率が５０％以上となるように、種類および量を調整することが好ましい。染料の添加量としては、０．０１ｐｐｍ〜１ｐｐｍであることが好ましい。
【０１５１】
セルロースエステルフィルムには、レターデーション値を制御するため、レターデーション上昇剤を添加することができる。セルロースエステルフィルムのＲｅ値は０〜７０ｎｍの範囲に、そして、Ｒｔｈ値は１０〜４００ｎｍの範囲に調節することが好ましい。なお、セルロースエステルフィルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０〜０．０２の範囲にあることが好ましい。また、セルロースエステル
フィルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０〜０．０４の範囲にあることが好ましい。
【０１５２】
レターデーション上昇剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物であることが好ましい。レターデーション上昇剤は、セルロースエステル１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することが最も好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
【０１５３】
芳香族性ヘテロ環は、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。
【０１５４】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。レターデーション上昇剤についてはＷＯ０１／８８５７４号、ＷＯ００／２６１９号の各パンフレット、特開２０００−１１１９１４号、同２０００−２７５４３４号の各公報に記載がある。
【０１５５】
セルロースエステルフィルムは、セルロースエステルおよび他の成分を含む溶液をドープとして用いて、ソルベントキャスト法により製造することができる。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０質量％となるように濃度を調整することが好ましい。固形分量は１８〜３５質量％であることがさらに好ましい。ドープを２層以上流延することもできる。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
【０１５６】
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。そして、得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０℃で逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させる方法（特公平５−１７８４４号公報記載）を採用できる。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。複数のセルロースエステル溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースエステルを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい（特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および同１１−１９８２８５号の各公報記載）。２つの流延口からセルロースエステル溶液を流延することによりフィルムを作製することもできる（特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、同６１−９４７２４５号、同６１−１０４８１３号、同６１−１５８４１３号および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載）。高粘度セルロースエステル溶液の流れを低粘度のセルロースエステル溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースエステル溶液を同時に押出すセルロースエステルフィルムの流延方法（特開昭５６−１６２６１７号公報記載）を採用してもよい。
【０１５７】
セルロースエステルフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％の範囲にあることが好ましい。テンター延伸が好ましい。遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度および離脱タイミングの差をできる限り小さくすることが好ましい。延伸処理についてはＷＯ０１／８８５７４号パンフレットの３７頁８行〜３８頁８行目に記載がある。
【０１５８】
セルロースエステルフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。表面処理には、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理および紫外線照射処理が挙げられる。フィルムの平面性を保持する観点から、表面処理においてセルロースエステルフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【０１５９】
セルロースエステルフィルムの表面処理は、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースエステルに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。アルカリ処理が最も好ましい。以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。アルカリ処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液は、水酸化カリウム溶液および水酸化ナトリウム溶液が好ましい。水酸化物イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１６０】
表面処理後のフィルム表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることが更に好ましい。固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。前記セルロースエステルフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースエステルフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。セルロースエステルフィルムに、下塗り層（特開平７−３３３４３３号公報記載）を設けてもよい。
【０１６１】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光膜と、上記光学異方性層とを有する。偏光膜は、該偏光膜を挟持する一対の保護膜を有していてもよく、一対の保護膜のうち少なくとも一方が、上記光学異方性層の支持体を兼ねていてもよい。保護膜の種類は特に限定されず、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル等を用いることができる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン（ＪＳＲ製）、ゼオノア（日本ゼオン製）など）を用いてもよい。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜が挙げられる。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡ）系フィルムを用いて製造する。
【０１６２】
ここで偏光膜に用いるＰＶＡは、通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。ＰＶＡのケン化度は特に限定されないが、溶解性、偏光性、耐熱、耐湿性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。またＰＶＡの重合度は特に限定されないが、フィルム強度や耐熱、耐湿性、延伸性などから１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。また、ＰＶＡのシンジオタクチシチーについては特に限定されず、目的に応じ任意の値をとることもできる。
【０１６３】
ＰＶＡを染色、延伸して偏光膜を作製する手順には、原反となるＰＶＡフィルムを乾式または湿式で延伸した後、ヨウ素あるいは二色性染料の溶液に浸漬する方法、ヨウ素あるいは二色性染料の溶液中でＰＶＡフィルムを延伸し配向させる方法、ヨウ素あるいは二色性染料にＰＶＡフィルムを浸漬後、湿式または乾式で延伸し配向させる方法などがある。また、ＰＶＡ原反を溶液製膜法により製膜する際、ＰＶＡ溶液中に二色性物質をあらかじめ含有させる手法もとることができる。
【０１６４】
代表的な偏光板の湿式延伸による製造法を以下に述べる。まず、原反ＰＶＡフィルムを水溶液で予備膨潤する。次いで二色性物質の溶液に浸漬し、二色性物質を吸着させる。さらにホウ酸等のホウ素化合物の水溶液中で進行方向に一軸延伸する。必要に応じ色味調整浴、硬化浴等をこの後に設けても良い。ある程度乾燥したところでＰＶＡ等の接着剤を用い保護膜を貼合する。さらに乾燥して偏光板が得られる。
【０１６５】
予備膨潤液中には、各種有機溶媒、無機塩、可塑剤、ホウ酸類等を水溶液中に添加してもよい。
【０１６６】
染色液は、二色性物質としてヨウ素を用いる場合を例にすると、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液を用いる。ヨウ素は０．１〜２０ｇ／リットル、ヨウ化カリウムは１〜１００ｇ／リットル、ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比は１〜１００が好ましい。染色時間は３０〜５０００秒が好ましく、液温度は５〜５０℃が好ましい。染色液中にホウ素化合物等ＰＶＡを架橋する化合物を含有させることも好ましい。延伸浴中のホウ素化合物は、ホウ酸が特に好ましい。ホウ酸濃度は、好ましくは１〜２００ｇ／リットルであり、さらに好ましくは１０〜１２０ｇ／リットルである。延伸浴には、ホウ素化合物の他にヨウ化カリウム等の無機塩、各種有機溶媒、あるいは二色性染料等を含むことができる。色味調整浴、硬化浴には二色性染料のほか、ヨウ化カリウム等の無機塩、ホウ素化合物等を必要に応じ含有させる。
【０１６７】
ＰＶＡの延伸工程としては、上に例示した如く連続フィルムの進行方向に張力を付与し、進行方向にフィルムを延伸、配向させる方法が一般的であるが、いわゆるテンター方式等の延伸手段でフィルムの幅手方向に張力を付与し、幅手方向に配向させる方法も適用可能である。延伸は一軸方向に３倍以上行うことが好ましく、４．５倍以上がより好ましい。偏光膜の使用目的により二軸延伸を行ってもよい。延伸後の膜厚は特に限定されないが、取り扱い性、耐久性、経済性の観点より、５〜１００μｍが好ましく、１０〜４０μｍがより好ましい。延伸時の温度は延伸条件によって異なるが、通常１０〜２５０℃である。１００℃以上の温度で乾式延伸する場合は、窒素等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。また、予め延伸したフィルムを染色する前には、１００℃以上の温度で結晶化処理を行うことが好ましい。
【０１６８】
染色方法としては上に例示した浸漬法だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。また、既に述べた液層吸着のみでなく、気相による吸着も必要に応じ行うことができる。二色性色素で染色することも好ましい。二色性色素の具体例としては、例えばアゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素、アントラキノン系色素等の色素系化合物をあげることができる。水溶性のものが好ましいが、この限りではない。又、これらの二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入されていることが好ましい。
【０１６９】
二色性分子の代表的なものとしては、例えばシー．アイ．ダイレクト．イエロー１２、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ３９、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ７２、シー．アイ．ダイレクト．レッド２８、シー．アイ．ダイレクト．レッド３９、シー．アイ．ダイレクト．レッド７９、シー．アイ．ダイレクト．レッド８１、シー．アイ．ダイレクト．レッド８３、シー．アイ．ダイレクト．レッド８９、シー．アイ．ダイレクト．バイオレット４８、シー．アイ．ダイレクト．ブルー６７、シー．アイ．ダイレクト．ブルー９０、シー．アイ．ダイレクト．グリーン５９、シー．アイ．アシッド．レッド３７等が挙げられ、さらに特開平１−１６１２０２号、特開平１−１７２９０６号、特開平１−１７２９０７号、特開平１−１８３６０２号、特開２０００４８１０５号、特開２０００６５２０５号、特開平７−２６１０２４号の各公報に記載の色素等を挙げることができる。特に、シー．アイ．ダイレクト．レッド２８（コンゴーレッド）は古くよりこの用途に好ましいとして知られている。これらの二色性分子は遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として用いられる。
【０１７０】
これらの二色性分子は２種以上を配合することにより、各種の色相を有する偏光子を製造することができる。偏光素子または偏光板として偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）や黒色を呈するように各種の二色性分子を配合したものが単板透過率、偏光率とも優れており好ましい。
【０１７１】
偏光膜の耐熱、耐湿性を高める観点から、偏光膜の製造工程においてＰＶＡに架橋させる添加物を含ませることが好ましい。架橋剤としては、米国再発行特許第２３２８９７号に記載のものが使用できるが、ホウ酸、ホウ砂が実用的に好ましく用いられる。また、亜鉛、コバルト、ジルコニウム、鉄、ニッケル、マンガン等の金属塩を偏光膜に含有させることも、耐久性を高めることが知られており好ましい。これら架橋剤、金属塩は、上に述べた予備膨潤浴、二色性物質染色浴、延伸浴、硬化浴、色調整浴等のいずれの工程に含有させても良く、工程の順序は特に限定されない。保護膜と偏光膜を接着する接着剤としては特に限定はなく、ＰＶＡ系、変性ＰＶＡ系、ウレタン系、アクリル系等、知られているものを任意に用いることができる。接着層の厚みは０．０１〜２０μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがさらに好ましい。
【０１７２】
偏光膜の一方の表面には、本発明の光学補償シート（支持体表面が偏光膜と接する様に）貼合し、その反対側の表面には、セルロースアシレート等からなるポリマーフィルムを配置する（光学異方性層／偏光膜／ポリマーフィルムの配置とする）のが好ましい。
【０１７３】
［液晶表示装置］
本発明の光学補償フィルムは、液晶がねじれ配向している液晶セル、例えば、ＴＮモードの液晶セル用の光学補償に、好ましく用いられる。図２は、本発明の光学補償フィルムを備えた透過型液晶表示装置の基本的ないくつかの構成例についての模式図である。
図２に示す透過型液晶表示装置は、バックライト（ＢＬ）側から順に、透明保護膜（１ａ）、偏光膜（２ａ）、透明支持体（３ａ）、光学異方性層（４ａ）、液晶セルの下基板（５ａ）、棒状液晶層（６）、液晶セルの上基板（５ｂ）、光学異方性層（４ｂ）、透明支持体（３ｂ）、偏光膜（２ｂ）、そして透明保護膜（１ｂ）からなる。透明支持体および光学異方性層（３ａ、４ａおよび４ｂ、３ｂ）が本発明の光学補償フィルムを構成する。そして、透明保護膜、偏光膜、透明支持体および光学異方性層（１ａ〜４ａおよび４ｂ〜１ｂ）が本発明の楕円偏光板を構成する。
【０１７４】
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。ノーマリーホワイトモードの液晶表示装置では、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶セル中の液晶分子は基板面に対して略平行に配向し、その配向方向は上下基板の間で９０°ねじれるように構成し、且つ印加電圧を大きくしていくと、液晶分子がねじれを解消しながら基板面に対して垂直な方向に次第に立っていくように構成する。
【０１７５】
液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは、０．２〜０．５μｍとするのが好ましい。また、液晶層のツイスト角（ねじれ角）は、一般に光源側から表示観察側に向けて観察側から見て時計回りにねじらせ、９０°近傍（８５°から９５°）が最適値となる。これらの範囲では白表示輝度が高く、黒表示輝度が小さいことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。なお、これらの最適値は透過モードの値であり、反射モードでは液晶セル内の光路が２倍になることから、最適Δｎｄの値は上記の１／２程度の値になる。また、ツイスト角は３０°〜７０°が最適値となる。
【０１７６】
図２に示す透過型液晶表示装置では、２つの偏光膜２ａ、２ｂは、その偏光軸を略直交にして配置される。
【０１７７】
本発明の液晶表示装置は、図２に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを配置することができる。本発明の液晶表示装置は、透過と反射のモードの両立をはかるため，表示装置の１画素の中で反射部と透過部を設けた半透過型であってもよい。
【０１７８】
本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子または２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、パッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。
【０１７９】
図２に示す構成の液晶表示装置の動作について説明する。本実施の形態では正の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いてアクティブ駆動を行った例で説明する。上下基板６ａ、６ｂ間に誘電異方性が正で、屈折率異方性Δｎ＝０．０８５４（５８９ｎｍ、２０°Ｃ）、誘電率異方性Δε＝＋８．５程度の液晶を封入する。液晶層の配向制御は、上下基板６ａ、６ｂの内面に形成された配向膜の表面性状及びラビング軸により制御することができる。液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角は、約３°とするのが好ましい。ラビング方向は上下基板６ａ及び６ｂで互いに直交する方向に施し、その強さとラビング回数などでチルト角の大きさが制御できる。配向膜はポリイミド膜を塗布後、焼成して形成するのが好ましい。液晶層のツイスト角の大きさは、上下基板のラビング方向の交差角と液晶材料に添加するカイラル剤により決定される。例えば、ツイスト角が９０°になるようにするためには、ピッチ６０μｍ程度のカイラル剤を添加するのが好ましい。液晶層の厚さｄは、例えば５μｍ程度としてもよい。用いる液晶材料ＬＣは、ネマチック液晶であれば、特に限定されない。誘電率異方性Δεは、その値が大きいほうが駆動電圧が低減できる。屈折率異方性Δｎは、小さいほうが液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、ギャップばらつきを少なくすることができる。また、Δｎが大きい方がセルギャップを小さくでき、高速応答が可能となる。
【０１８０】
上側偏光膜２ｂの偏光軸と下側偏光膜２ａの偏光軸は概略直交に積層し、さらに液晶セルの上側偏光膜２ｂの偏光軸と上側基板６ｂのラビング方向は概略直交に、下偏光膜２ａの偏光軸と下基板６ａのラビング方向はそれぞれ概略直交になるように積層する。上基板６ｂ及び下基板６ａそれぞれの配向膜の内側には透明電極（図示せず）が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶セル中の液晶分子は基板面に対して略平行に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態は液晶分子のねじれ構造に沿って伝播し、偏光面が９０°回転して出射する。即ち、液晶表示装置では非駆動状態において白表示を実現する。これに対し、駆動状態では液晶分子は基板面に対してある角度をなす方向に配向しており、下側偏光膜２ａを通過した光は、偏光状態を維持したまま液晶層７を通過し、偏光膜２ｂによって遮断される。換言すると、駆動状態において黒表示が得られる。この液晶表示装置は、本発明の光学補償フィルムを備えているので、観察方向に依存して生じる階調反転現象が軽減され、且つ視野角が改善されている。その結果、所望の黒透過率を得るために必要な駆動実効電圧を低減することができるので、液晶セル、特にＴＮモード液晶セル内の液晶分子の立つ角は小さくなる。これによって、階調反転の発生する角度をより法線から大きな、より下の方からでないと認識できない角度にすることができる。本発明の液晶表示装置は、好ましくは、本発明の光学補償フィルムを抜いた場合に液晶表示装置として欲する黒透過率となる駆動実効電圧をＶ１とする時、前記黒透過率となる駆動実効電圧が、Ｖ１に較べて５％以上６０％未満小さいのが好ましく、１０％以上５０％未満小さいのがより好ましい。
【実施例】
【０１８１】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１８２】
［実施例１］
（支持体の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液組成（質量部）          内層        外層
酢化度６０．９％のセルロースアセテート    １００質量部  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）        ７．８質量部  ０．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）３．９質量部  ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）            ２９３質量部  ３１４質量部
メタノール（第２溶媒）                      ７１質量部    ７６質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                １．５質量部  １．６質量部
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０質量部    ０．８質量部
下記レターデーション上昇剤              １．４質量部        ０質量部
【０１８３】
【化５０】
2006023543.tif 000051
【０１８４】
得られた内層用ドープおよび外層用ドープを三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。
【０１８５】
得られたセルロースアセテートフイルムの幅は１３４０ｍｍであり、厚さは、８０μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３０ｎｍにおける面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、８ｎｍであった。また、波長６３０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、９３ｎｍであった。
上記セルロースアセテートフイルムを２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このフィルムの表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
このフィルム上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０１８６】
配向膜塗布液組成
下記の変性ポリビニルアルコール        １０質量部
水                                  ３７１質量部
メタノール                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）        ０．５質量部
【０１８７】
【化５１】
2006023543.tif 000052
【０１８８】
上記セルロースアセテートフイルムの遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と平行方向に配向膜にラビング処理を実施した。
【０１８９】
（光学異方性層Ａの形成）
光学異方性層Ａの組成物
下記のディスコティック液晶化合物                      ９１．０質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ９．０質量部
下記のカイラル剤                                        ０．１質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（Ｘ−１１）                ０．４質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３．０質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １．０質量部
【０１９０】
上記光学異方性層Ａの組成物を、１９４質量部のメチルエチルケトンに溶解し塗布液とし、これを配向膜上に、＃３．４のワイヤーバーで連続的に塗布し、１３０℃の状態で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層付き光学補償フィルム１を作製した。形成された光学異方性層の厚みは１．９μｍであった。また、光学異方性層にハジキ（配向膜上に液晶層が形成されていない部分）はなかった。波長５４６ｎｍで測定した際の光学異方性層のみのＲｅレターデーション値は３４ｎｍであった。また、液晶分子の円盤面と透明支持体面との間の平均傾斜角βは３８゜で、液晶分子がハイブリッド配向していることを確認した。別途ガラス板を支持体として作製した光学異方性層を偏光顕微鏡によるクロスニコル配置にて観察したところ、ねじれの向きは配向膜との界面から空気界面に向けて、空気界面から観察して反時計回りねじれており、消光位から求めたねじれ角φは５°であった。偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償フィルムのムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【０１９１】
【化５２】
2006023543.tif 000053
【０１９２】
【化５３】
2006023543.tif 000054
【０１９３】
［実施例２］
上記実施例１の光学異方性層Ａの代わりに下記組成物を用いて光学異方性層Ｂを形成したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルム２を作製した。形成された光学異方性層の厚みは１．９μｍであった。また、光学異方性層にハジキ（配向膜上に液晶層が形成されていない部分）はなかった。波長５４６ｎｍで測定した際の光学異方性層のみのＲｅレターデーション値は４２ｎｍであった。また、液晶分子の円盤面と透明支持体面との間の平均傾斜角βは４４゜で、液晶分子がハイブリッド配向していることを確認した。別途ガラス板を支持体として作製した光学異方性層を偏光顕微鏡によるクロスニコル配置にて観察したところ、ねじれの向きは配向膜との界面から空気界面に向けて、空気界面から観察して反時計回りねじれており、消光位から求めたねじれ角φは５°であった。偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償フィルムのムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
光学異方性層Ｂの組成物
下記のディスコティック液晶化合物                        ９１．０質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                      ９．０質量部
上記のカイラル剤                                          ０．１質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（Ｘ−１１）                  ０．４質量部
セルロースアセテートブチレート                          ０．８５質量部
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
下記のポリマー                                          ０．８５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）    ３．０質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）          １．０質量部
【０１９４】
【化５４】
2006023543.tif 000055
【０１９５】
［比較例１］
上記実施例１において、光学異方性層Ａの組成物にフルオロ脂肪族基含有ポリマー（Ｘ−１１）を添加しなかったこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルム３を作製した。光学異方性層には１００ｃｍ2あたり６個のハジキ（平均の直径が約５ｍｍ）があった。さらに、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償フィルムを正面および法線から６０°まで傾けた方向から観察したところ、ムラは検出された。
【０１９６】
［比較例２］
上記実施例２において、光学異方性層Ｂの組成物にフルオロ脂肪族基含有ポリマー（Ｘ−１１）を添加しないこと以外は、実施例２と同様にして、光学補償フィルム４を作製した。光学異方性層には１００ｃｍ2あたり３個のハジキ（平均の直径が約３ｍｍ）があった。さらに、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償フィルムを正面および法線から６０°まで傾けた方向から観察したところ、ムラは検出された。
【０１９７】
（偏光板の作製）
平均重合度４０００、鹸化度９９．８ｍｏｌ％のＰＶＡを水に溶解し、４．０％の水溶液を得た。この溶液をテーパーのついたダイを用いてバンド流延して乾燥し、延伸前の幅が１１０ｍｍで厚みは左端が１２０μｍ、右端が１３５μｍになるように製膜した。
このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライ状態で４５度方向に斜め延伸してそのままよう素０．５ｇ／Ｌ、よう化カリウム５０ｇ／Ｌの水溶液中に３０℃で１分間浸漬し、次いでホウ酸１００ｇ／Ｌ、よう化カリウム６０ｇ／Ｌの水溶液中に７０℃で５分間浸漬し、さらに水洗槽において２０度で１０秒間水洗したのち８０℃で５分間乾燥してよう素系偏光膜を得た。偏光膜は、幅６６０ｍｍ、厚みは左右とも２０μｍであった。
【０１９８】
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光学補償フィルム１〜４を偏光膜の片側に貼り付けた。このとき、支持体面（光学異方性層が形成された面と反対側の面）が偏光膜に接するように貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。なお、偏光膜の吸収軸と光学補償フィルムのラビング方向のなす角は２°となるように貼り合わせた。このとき、偏光膜に近い側のディスコティック液晶化合物のダイレクタを光学異方性層平面に投影した軸の方位と、偏光膜の吸収軸のなす角度は２°であり、かつ、偏光膜の吸収軸は、偏光膜に近い側と遠い側のディスコティック液晶化合物のダイレクタを光学異方性層平面に投影した軸の方位の間になるようにした。このようにして、光学補償フィルム１〜４をそれぞれ片側に有す偏光板１〜４を作製した。
【０１９９】
（液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＱＵＯＳ  ＬＣ２０Ｃ１Ｓ、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記作製した偏光板１〜５を、光学異方性層が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付け、液晶表示装置１〜５を作製した。なお、観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置１〜５について、画面全体に黒表示および中間調表示を行い、正面および法線から６０°まで傾けた方向からムラおよびハジキを観察した。また、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、正面方向におけるコントラスト比を求めた。結果を表１に示す。
【０２００】
【表１】
2006023543.tif 000056
【０２０１】
［参考例］
光学補償フィルム１を、偏光膜の吸収軸と光学補償フィルムのラビング方向のなす角が０°となるように貼り合わせた以外は、実施例１と同様にして偏光板を作製した。作製した偏光板では、偏光膜に近い側のディスコティック液晶化合物のダイレクタを光学異方性層平面に投影した軸の方位と偏光膜の吸収軸とのなす角度は、０°であった。この偏光板を用いて同様に液晶表示装置を作製し、同様に評価したところ、正面方向のコントラストは２３０であり、実施例１と比較して劣っていた。
【図面の簡単な説明】
【０２０２】
【図１】本発明の光学補償フィルムの一例について、ディスコティック液晶性分子のねじれたハイブリッド配向を拡大して示した模式図である。
【図２】本発明の透過型液晶表示装置の基本的な構成例を示す模式図である。
【符号の説明】
【０２０３】
１ａ、１ｂ、１ｃ    透明保護膜
２ａ、２ｂ          偏光膜
３、３ａ、３ｂ      透明支持体
４、４ａ、４ｂ      光学異方性層
５ａ、５ｂ          液晶セルの上下基板
６                  棒状液晶層
ＢＬ                バックライト
ｄ                  円盤状液晶性分子
ｄe                円盤状液晶性分子の長軸
【図１】
2006023543.tif 000058
【図２】
2006023543.tif 000059