(57)【要約】      （修正有）【課題】半導体素子の保護に用いる封止樹脂領域幅を低減し、半導体装置外形の小型化を図り得る半導体装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】ＣＯＦ等の半導体装置１０には、配線パターン２・３が形成されたフイルム状のフレキシブル配線基板１に半導体チップ４が搭載されている。フレキシブル配線基板１と半導体チップ４との隙間に半導体チップ４の保護用の封止樹脂６が充填されている。半導体チップ４の長辺側をノズルで描画して封止樹脂を充填するときにできる描画塗布跡６ｃの樹脂幅が０．１〜１．０ｍｍであり、かつ描画塗布跡６ｃの樹脂厚みが１０μｍ以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線パターンが形成されたフイルム状のフレキシブル配線基板に半導体素子が搭載された半導体装置において、
上記フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に該半導体素子の保護用の封止樹脂が充填されていると共に、
上記半導体素子の少なくとも長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる描画塗布跡の樹脂幅が０．１〜１．０ｍｍであり、かつ該描画塗布跡の樹脂厚みは１０μｍ以下であることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
配線パターンが形成されたフイルム状のフレキシブル配線基板に半導体素子が搭載された半導体装置において、
上記フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に該半導体素子の保護用の封止樹脂が充填されていると共に、
上記半導体素子の一つの長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる半導体素子周辺充填部の幅は、
上記半導体素子の一つの長辺側のノズル塗布側では半導体素子から１．０ｍｍ以下である一方、上記半導体素子の一つの長辺側に対向する長辺側では半導体素子から０．８ｍｍ以下であることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
前記封止樹脂は、充填時の粘度が２５℃において５０〜６００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項４】
前記封止樹脂は、充填時の温度が６０〜１２０℃であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の半導体装置。
【請求項５】
前記半導体素子の保護用の封止樹脂には、０．１０〜０．３０重量％の着色料が添加されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記描画塗布跡は、前記半導体素子の一つの長辺側にのみ存在することを特徴とする請求項１及び３〜５のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記フレキシブル配線基板は、フイルムキャリアテープに連続的に複数形成されていると共に、
前記半導体素子は、上記フレキシブル配線基板にそれぞれ搭載されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項８】
前記フレキシブル配線基板には、液晶表示素子及び周辺部品が搭載された液晶モジュールが接続されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項９】
配線パターンが形成されたフイルム状のフレキシブル配線基板に半導体素子が搭載された半導体装置の製造方法において、
上記フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に該半導体素子の保護用の封止樹脂を充填すると共に、
上記半導体素子の少なくとも長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる描画塗布跡の樹脂幅を０．１〜１．０ｍｍとし、かつ該描画塗布跡の樹脂厚みを１０μｍ以下とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
配線パターンが形成されたフイルム状のフレキシブル配線基板に半導体素子が搭載された半導体装置の製造方法において、
上記フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に該半導体素子の保護用の封止樹脂を充填すると共に、
上記半導体素子の一つの長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる半導体素子周辺充填部の幅を、
上記半導体素子の一つの長辺側のノズル塗布側では半導体素子から１．０ｍｍ以下とする一方、上記半導体素子の一つの長辺側に対向する長辺側では半導体素子から０．８ｍｍ以下とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
前記封止樹脂を充填するときに、樹脂粘度を２５℃において５０〜６００ｍＰａ・ｓとすることを特徴とする請求項９又は１０記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
前記封止樹脂の充填時における樹脂温度を６０〜１２０℃とすることを特徴とする請求項９、１０又は１１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
前記封止樹脂の充填時における樹脂温度を上げるときに、半導体素子を加熱することを特徴とする請求項１２記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１４】
前記封止樹脂に、０．１０〜０．３０重量％の着色料を添加することを特徴とする請求項９〜１３のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１５】
前記封止樹脂を、前記半導体素子の一つの長辺側からのみノズルで描画して充填することを特徴とする請求項９〜１４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１６】
前記フレキシブル配線基板を、フイルムキャリアテープに連続的に複数形成すると共に、
前記半導体素子を、上記フレキシブル配線基板にそれぞれ搭載することを特徴とする請求項９〜１５のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１７】
前記フレキシブル配線基板に、液晶表示素子及び周辺部品が搭載された液晶モジュールが接続されることを特徴とする請求項９〜１５のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキシブル配線基板上に半導体素子が搭載・接合されたＣＯＦ(Chip On Film)と呼ばれる半導体装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ドライバを搭載するフレキシブル配線基板は、液晶ドライバの多出力化の進展に伴い、配線パターンのファインピッチ化が急速に進んでいる。また、半導体装置の軽薄短小化に伴い、半導体素子の保護樹脂部を含めた縮小化が進んでいる。
【０００３】
現在、液晶ドライバＩＣの実装には、ＴＣＰ（Tape Carrier Package）よりも配線パターンのファインピッチ化が可能でありかつフレキシブルに折り曲げ位置を取ることができるＣＯＦ(Chip On Film)が主流となっている。
【０００４】
上記ＣＯＦの実装方法は下記の通りである。
【０００５】
まず、図８（ａ）（ｂ）に示すように、ポリイミドからなるフレキシブルフィルム１０１ａ上に銅からなる配線パターン１０２・１０３を形成し、図９に示すように、突起電極１０５を形成した半導体チップ１０４を接合する。
【０００６】
次に、半導体チップ１０４の保護として、半導体チップ１０４とフレキシブル配線基板１０１との間にアンダーフィル１０６の封止樹脂を充填し、加熱処理にてその封止樹脂を硬化させる。
【０００７】
アンダーフィル１０６の封止樹脂を充填するときには、図１０（ａ）（ｂ）に示すように、一定量の封止樹脂をノズル１４１から吐出して、半導体チップ１０４の形状に合わせて決められた描画パターンにて半導体チップ１０４の４側面から半導体チップ１０４とフレキシブル配線基板との間に注入する。封止樹脂は、半導体チップ１０４とフレキシブル配線基板１０１との間を毛細管現象により隙間無く流れ込むことにより、半導体チップ１０４の側面に均一なフィレット部１０６ａ・１０６ｂを形成する。その後、図８（ａ）に示すように、フレキシブルフィルム１０１ａのユーザ外形１０９にて切断することにより、図８（ｂ）に示すように、個々のＣＯＦ半導体装置１１０が完成する。
【０００８】
なお、アンダーフィル１０６の封止樹脂を吐出する際に用いられる描画パターンは、使用する樹脂の流動性に依存している。このため、半導体チップ１０４とフレキシブル配線基板１０１との隙間にムラ無く樹脂を充填し、半導体チップ１０４の側面に均一なフィレット部１０６ａ・１０６ｂを形成するには、半導体チップ１０４の４側面から樹脂を充填するしかなかった。また、封止樹脂を描画塗布した際に残る、描画塗布跡１０６ｃの樹脂厚みは３０〜５０μｍ以上と厚く樹脂がくっきり残る問題があった。
【特許文献１】特開２００３−１７４０４５号公報（２００３年６月２０日公開）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、半導体装置の軽薄短小化に応えるには、半導体チップの縮小化だけなく、半導体チップの樹脂領域を含めた縮小化が必要不可欠である。
【００１０】
すなわち、ＣＯＦ半導体装置には、フレキシブルに折り曲げ位置を取ることができるという特長がある。この点、樹脂領域は折り曲げることができない領域となってしまうので、この樹脂領域はできるだけ小さい方がよい。すなわち、樹脂封止部を無理に折り曲げると、封止樹脂にクラックを生じたり、封止樹脂とフレキシブル基材との接着面で剥がれたりする。
【００１１】
しかしながら、上記従来の半導体装置及びその製造方法では、アンダーフィル１０６の形成に基くフィレット部１０６ａ・１０６ｂ及び描画塗布跡１０６ｃの領域が大きく、この大きい樹脂領域の存在は、折り曲げ領域に全くかからない機構設計になるので、製品を折り曲げて小型化を図る上での制約になっているという問題点を有している。具体的には、図１０（ｂ）に示すように、半導体チップ１０４の周りのフィレット部１０６ａ・１０６ｂは、半導体チップ１０４から同じ幅を有して存在するものとなっている。また、図９に示すように、描画塗布跡１０６ｃの樹脂厚みが３０〜５０μｍというように厚いので、この描画塗布跡１０６ｃも折り曲げができない部分となっていた。
【００１２】
一方、配線パターン１０２・１０３のファインピッチ化が進むフレキシブル配線基板１０１においては、隣り合う配線パターン１０２・１０２間及び配線パターン１０３・１０３間の電気絶縁抵抗が最も信頼性に影響を与える項目となっている。したがって、図１１に示すように、半導体チップ１０４の保護として半導体チップ１０４とフレキシブル配線基板１０１との間にアンダーフィル１０６の封止樹脂を充填する際に発生する巻き込み気泡１５１・１５２が、樹脂が流動して硬化するまでの間に封止樹脂外部へ抜け切らずに半導体チップ１０４上や突起電極１０５並びに配線パターン１０２・１０２間及び配線パターン１０３・１０３間にまたがって残留すると、突起電極１０５並びに配線パターン１０２・１０２間及び配線パターン１０３・１０３間に空隙を発生させることになる。この空隙に外部からの水分や樹脂中の残留イオン成分が進入して貯まると、この部分で容易にマイグレーションを発生させ、端子間の電気絶縁抵抗の低下を招くという問題点を有している。
【００１３】
また、従来の封止樹脂では、粘度が高いために流動性が悪く、半導体チップ１０４の４側面を描画塗布しないと、図１２に示すように、一方のフィレット部１０６ａのみ存在し、前記フィレット部１０６ｂが存在しないというように、フィレットが不均一になる。その結果、配線パターン１０２・１０３の露出等の未充填を発生させ、品質不具合を発生させるという問題点を有している。
【００１４】
なお、特許文献１では、上述した、アンダーフィルにおける空隙の発生を防止するために、２５℃で粘度約１０００ｃｐ（１０００ｍＰａ・ｓ）の封止樹脂を５０℃に加温して粘度約２５０ｃｐ（２５０ｍＰａ・ｓ）に下げて充填を行い、１２０秒放置する充填工程の後に、１４０〜２００℃に加温したツールをフレキシブル配線基板１の表面に当てて５秒間加熱する脱泡工程を設けている。しかし、封止樹脂の充填自体は、半導体チップの４角又は外周に線引きして行っている。また、２５℃における封止樹脂の粘度は１０００ｍＰａ・ｓと高いために流動性が悪く、封止樹脂を５０℃に加熱して粘度を下げる手だてをとっているが、封止樹脂は加熱時間が長くなると、硬化反応が進み樹脂粘度は上昇し流動性の低下及び樹脂のポットライフが短くなり、作業性を低下させるという問題がある。
【００１５】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、半導体素子の保護に用いる封止樹脂領域幅を低減し、半導体装置外形の小型化を図り得る半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の半導体装置は、上記課題を解決するために、配線パターンが形成されたフイルム状のフレキシブル配線基板に半導体素子が搭載された例えばＣＯＦ等の半導体装置において、上記フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に該半導体素子の保護用の封止樹脂が充填されていると共に、上記半導体素子の少なくとも長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる描画塗布跡の幅が０．１〜１．０ｍｍであり、かつ該描画塗布跡の樹脂厚みは１０μｍ以下であることを特徴としている。
【００１７】
また、本発明の半導体装置の製造方法は、上記課題を解決するために、配線パターンが形成されたフイルム状のフレキシブル配線基板に半導体素子が搭載された例えばＣＯＦ等の半導体装置の製造方法において、上記フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に該半導体素子の保護用の封止樹脂を充填すると共に、上記半導体素子の少なくとも長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる描画塗布跡の樹脂幅を０．１〜１．０ｍｍとし、かつ該描画塗布跡の樹脂厚みを１０μｍ以下とすることを特徴としている。なお、描画塗布跡とは、塗布された封止樹脂がフレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に流動し、硬化後において封止樹脂が塗布した場所に残る樹脂をいう。
【００１８】
従来では、封止樹脂の粘度が高かったので、封止樹脂を充填するときにできる描画塗布跡の樹脂厚みは３０〜５０μｍ以上となり、この描画塗布跡は折り曲げの対象とはならなかった。
【００１９】
これに対して、本発明では、半導体素子の長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる描画塗布跡の樹脂幅を０．１〜１．０ｍｍとし、かつ該描画塗布跡の樹脂厚みを１０μｍ以下としている。
【００２０】
このように、樹脂の描画塗布跡の樹脂厚みを１０μｍ以下に抑えることによって、この部分での折り曲げストレスよる樹脂割れや樹脂剥離を防止することが可能となった。また、その結果、従来では折り曲げすることができなかったこの描画塗布跡が折り曲げ可能領域となり、折り曲げ不能樹脂領域を縮小することが可能となった。これにより、半導体装置の見かけの外形サイズつまりフレキシブルでない領域を従来に比べて小さくすることが可能となった。
【００２１】
したがって、半導体素子の保護に用いる封止樹脂領域幅を低減し、折り曲げ領域の拡大及び半導体装置外形の小型化を図り得る半導体装置及びその製造方法を提供することが可能となった。
【００２２】
また、本発明の半導体装置は、上記課題を解決するために、配線パターンが形成されたフイルム状のフレキシブル配線基板に半導体素子が搭載された半導体装置において、上記フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に該半導体素子の保護用の封止樹脂が充填されていると共に、上記半導体素子の一つの長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる半導体素子周辺充填部の幅は、上記半導体素子の一つの長辺側のノズル塗布側では半導体素子から１．０ｍｍ以下である一方、上記半導体素子の一つの長辺側に対向する長辺側では半導体素子から０．８ｍｍ以下であることを特徴としている。
【００２３】
また、本発明の半導体装置の製造方法は、上記課題を解決するために、配線パターンが形成されたフイルム状のフレキシブル配線基板に半導体素子が搭載された半導体装置の製造方法において、上記フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に該半導体素子の保護用の封止樹脂を充填すると共に、上記半導体素子の一つの長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる半導体素子周辺充填部の幅を、上記半導体素子の一つの長辺側のノズル塗布側では半導体素子から１．０ｍｍ以下とする一方、上記半導体素子の一つの長辺側に対向する長辺側では半導体素子から０．８ｍｍ以下とすることを特徴としている。
【００２４】
従来では、封止樹脂の粘度が高かったので、半導体素子の４側面から封止樹脂を充填せざるを得なく、その結果、半導体素子周辺充填部の幅を、半導体素子から１．０ｍｍ以下とすることができなかった。
【００２５】
これに対して、本発明では、半導体素子周辺充填部の幅を、半導体素子の一つの長辺側のノズル塗布側では半導体素子から１．０ｍｍ以下とする一方、上記半導体素子の一つの長辺側に対向する長辺側では半導体素子から０．８ｍｍ以下としている。
【００２６】
これが可能となったのは、封止樹脂について従来にない低粘度化を図り、流動性を向上させた結果、樹脂の充填方法を半導体素子の４側面の描画塗布から長辺の１辺描画塗布に変更できたためである。したがって、特に、半導体素子の一つの長辺側に対向する長辺側では半導体素子から０．８ｍｍ以下となり、半導体素子周辺充填部の幅を、大幅に低減できるようになった。
【００２７】
これにより、従来では折り曲げすることができなかった折り曲げ不能樹脂領域を縮小し、半導体装置の見かけの外形サイズつまりフレキシブルでない領域を従来に比べて小さくすることが可能となった。
【００２８】
上記発明の半導体装置及びその製造方法では、前記封止樹脂は、充填時の粘度が２５℃において５０〜６００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
【００２９】
これにより、フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間を埋めるために使用する封止樹脂について、従来にない低粘度化により流動性を上げることができる。このため、樹脂の充填方法を半導体素子の４側面の描画塗布から長辺の１辺描画塗布に変更できる。
【００３０】
また、この結果、半導体素子側面に形成する半導体素子周辺充填部の幅を均一化し、かつ他方の側面側の半導体素子周辺充填部の幅を低減することができる。
【００３１】
したがって、半導体素子の保護に用いる封止樹脂領域幅を低減し、折り曲げ領域の拡大及び小型化を図り得る半導体装置及びその製造方法を提供することができる。
【００３２】
さらに、半導体素子とレキシブル配線基板との隙間に封止樹脂を充填するときに発生する巻き込み気泡は、樹脂が流動し硬化するまでの間に封止樹脂外部に抜けやすくなるので、気泡が残留することを防止できる。したがって、封止樹脂上に発生する気泡を撲滅し、半導体装置の品質を向上することができる。
【００３３】
また、上記発明の半導体装置及びその製造方法では、前記封止樹脂は、充填時の温度が６０〜１２０℃であることが好ましい。また、封止樹脂の温度を上げるときには、半導体素子を加熱するのが好ましい。これは、封止樹脂側の加熱方法では、封止樹脂の硬化が進み、樹脂粘度の増粘化が進むことによって、ポットライフの低下や樹脂塗布ノズルが詰まるという問題により、作業性が悪化するためである。
【００３４】
この結果、樹脂の粘度をできるだけ下げて、封止樹脂の流動性を上げることができる。さらに、封止樹脂の温度を上げるときに、封止樹脂を加熱したのでは、ノズルからの液ダレが発生するおそれがあると共に、封止樹脂を充填した直後に低温に晒されることによって該樹脂の温度が下がり、粘度が増加するおそれがある。したがって、封止樹脂の温度を上げるときには、半導体素子を加熱するのが好ましい。
【００３５】
また、上記発明の半導体装置及びその製造方法では、前記半導体素子の保護用の封止樹脂には、０．１０〜０．３０重量％の着色料が添加されていることが好ましい。
【００３６】
これにより、樹脂の半導体素子周辺充填部と描画塗布跡との目視検査での識別を容易にすることができ、樹脂領域管理が容易となる。
【００３７】
また、上記発明の半導体装置では、前記描画塗布跡は、前記半導体素子の一つの長辺側にのみ存在することが好ましい。
【００３８】
また、上記発明の半導体装置の製造方法では、前記封止樹脂を、前記半導体素子の一つの長辺側からのみノズルで描画して充填することが好ましい。
【００３９】
これにより、樹脂描画塗布にかかるタクトタイムを短縮することが可能となり、樹脂塗布装置の処理能力の向上を図ることができる。
【００４０】
また、上記発明の半導体装置及びその製造方法では、前記フレキシブル配線基板は、フイルムキャリアテープに連続的に複数形成されていると共に、前記半導体素子は、上記フレキシブル配線基板にそれぞれ搭載されているが好ましい。
【００４１】
これにより、テープキャリア型の半導体装置を提供することができる。
【００４２】
また、上記発明の半導体装置及びその製造方法では、前記フレキシブル配線基板には、液晶表示素子及び周辺部品が搭載された液晶モジュールが接続されることが好ましい。
【００４３】
これにより、液晶表示素子や周辺部品が搭載された液晶モジュールの半導体装置に適用することができる。
【発明の効果】
【００４４】
本発明の半導体装置及びその製造方法は、以上のように、フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に該半導体素子の保護用の封止樹脂が充填されていると共に、上記半導体素子の少なくとも長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる描画塗布跡の樹脂幅が０．１〜１．０ｍｍであり、かつ該描画塗布跡の樹脂厚みは１０μｍ以下である。
【００４５】
それゆえ、樹脂の描画塗布跡の樹脂厚みを１０μｍ以下に抑えることによって、この部分での折り曲げストレスよる樹脂割れや樹脂剥離を防止することが可能となった。また、その結果、従来では折り曲げすることができなかったこの描画塗布跡が折り曲げ可能領域となり、折り曲げ不能樹脂領域を縮小することが可能となった。これにより、半導体装置の見かけの外形サイズつまりフレキシブルでない領域を従来に比べて小さくすることが可能となった。
【００４６】
したがって、半導体素子の保護に用いる封止樹脂領域幅を低減し、折り曲げ領域の拡大及び半導体装置外形の小型化を図り得る半導体装置及びその製造方法を提供することができるという効果を奏する。
【００４７】
また、本発明の半導体装置及びその製造方法は、以上のように、フレキシブル配線基板と半導体素子との隙間に該半導体素子の保護用の封止樹脂が充填されていると共に、上記半導体素子の一つの長辺側をノズルで描画して上記封止樹脂を充填するときにできる半導体素子周辺充填部の幅は、上記半導体素子の一つの長辺側のノズル塗布側では半導体素子から１．０ｍｍ以下である一方、上記半導体素子の一つの長辺側に対向する長辺側では半導体素子から０．８ｍｍ以下である。
【００４８】
これが可能となったのは、封止樹脂について従来にない低粘度化を図り、流動性を向上させた結果、樹脂の充填方法を半導体素子の４側面の描画塗布から長辺の１辺描画塗布に変更できたためである。したがって、特に、半導体素子の一つの長辺側に対向する長辺側では半導体素子から０．８ｍｍ以下となり、半導体素子周辺充填部の幅を、大幅に低減できるようになった。
【００４９】
それゆえ、従来では折り曲げすることができなかった折り曲げ不能樹脂領域を縮小し、
半導体装置のフレキシブルでない領域を従来に比べて小さくすることができ、半導体装置の打ち抜き外形サイズをより小さくすることが可能となるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５０】
本発明の一実施形態について図１ないし図７に基づいて説明すれば、以下の通りである。
【００５１】
本実施の形態の半導体装置１０は、図２（ａ）（ｂ）に示すように、ＣＯＦ(chip on film)にてなっている。すなわち、上記ＣＯＦは、フレキシブルフィルムベースの構造を持ち、上記フレキシブルフィルム１ａ上に配線パターン２・３を形成してフレキシブル配線基板１とした後、半導体素子としての半導体チップ４を搭載した半導体装置１０であり、このＣＯＦでは、フレキシブルフィルム１ａ上に、直接、半導体チップ４が実装されている。
【００５２】
上記配線パターン２・３は、例えば、銅（Ｃｕ）に錫（Ｓｎ）メッキされたものからなっている。ただし、これに限らず例えば銅（Ｃｕ）に金（Ａｕ）メッキしたものや、単に、銅（Ｃｕ）だけでもよい。
【００５３】
上記半導体チップ４には、図１（ａ）に示すように、金（Ａｕ）にてなるバンプ電極５が設けられている。そして、このバンプ電極５と上記配線パターン２・３とが接続されることにより、両者が電気的に接続されるようになっている。
【００５４】
また、半導体装置１０は、フレキシブル配線基板１上における配線パターン２・３と半導体チップ４とを除く部分に、絶縁性材料からなるソルダーレジスト７が塗布されており、これにより、導電性異物が、直接、配線パターン２・３上に付着することによるショートを防止することができる。
【００５５】
さらに、半導体装置１０は、例えば、バンプ電極５とフレキシブル配線基板１上の配線パターン２・３とを接合した後、半導体チップ４とフレキシブル配線基板１との間にできる隙間及び半導体チップ４の周辺に、樹脂からなるアンダーフィル６が充填される。これにより、半導体装置１０の耐湿性及び機械的強度の向上を図ることができる。このアンダーフィル６の充填に際して、半導体チップ４とフレキシブル配線基板１との間にできる隙間にアンダーフィル６を充填していくと、このアンダーフィル６が半導体チップ４の周辺にまで毛細管現象によって滲み出す。この半導体チップ４の周辺に滲み出したアンダーフィル６は特にフィレット部６ａ・６ｂと呼ばれる。また、図１（ｂ）にも示すように、このアンダーフィル６の充填に際して、後述するノズル４１にて樹脂を注入する領域に塗布跡が残る。この塗布跡は、描画塗布跡６ｃと呼ばれる。
【００５６】
上述の半導体装置１０は、図２（ａ）に示すように、フレキシブルフィルム１ａにおいて、連続して複数個が設けられている。したがって、同図（ａ）に示すように、この絶縁フィルムにおけるユーザ外形９にて切り出すことにより、同図（ｂ）に示すように、フレキシブル配線基板１に半導体チップ４が搭載された１個の半導体装置１０となる。
【００５７】
なお、フレキシブルフィルム１ａには、同図（ａ）に示すように、両側に搬送用送り穴部であるスプロケットホール８が設けられている。したがって、このスプロケットホール８に図示しない突起物を通すことにより、フレキシブルフィルム１ａを搬送することができるようになっている。これにより、流れ作業にて半導体装置１０が製造されるようになっている。
【００５８】
完成した半導体装置１０は、本実施の形態では、例えば、図３（ａ）（ｂ）に示すように、表示モジュールとしての液晶モジュール２０に実装され、液晶表示パネル２１を駆動するために利用される。
【００５９】
すなわち、液晶モジュール２０は、図３（ａ）（ｂ）に示すように、ＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）基板２１ａ及びカラーフィルタ基板２１ｂからなる液晶表示パネル２１に、半導体装置１０が実装されてなっている。また、上記半導体装置１０における液晶表示パネル２１と反対側には、回路基板としてのＰＷ（Printed Wiring)基板３０が取り付けられている。上記半導体装置１０をこれら液晶表示パネル２１及びＰＷ基板３０に取り付けるときには、上記半導体装置１０は、液晶表示パネル２１及びＰＷ基板３０に対して異方性導電接着剤（ＡＣＦ：Anisotropic Conductive Film)１１を用いて接着することにより、電気的に接続される。この異方性導電接着剤１１は、厚さ１５〜４５μｍの接着性フィルムの中に、直径３〜１５μｍの導電粒子を分散させたものである。したがって、導電粒子がフィルム中に分散しているために、異方性導電接着剤１１自体は絶縁物である。しかし、この異方性導電接着剤１１を回路パターンの間に挟み、加熱・加圧することにより、上下の電極間の導通をとり、隣り合う電極間を絶縁し、上下の接着を同時に行うことができる。
【００６０】
ここで、上記構成のＣＯＦからなる半導体装置１０について、本実施の形態の特徴的な製造方法及びこの製造方法によって製造される特徴的な構成について詳述する。
【００６１】
まず、半導体装置１０を製造するときには、図１（ａ）及び図２（ａ）（ｂ）に示すように、ポリイミドからなるフレキシブルフィルム１ａ上にバリアメタル層２ａ・３ａ及び銅（Ｃｕ）膜２ｂ・３ｂを形成し、この銅（Ｃｕ）からなる膜をエッチングにてパターニングする。さらに、その上に錫（Ｓｎ）メッキ２ｃ・３ｃを施すことにより配線パターン２・３とする。次いで、半導体チップ搭載部や液晶パネル２１やＰＷ基板３０と接続する端子部を除いて、配線パターン２・３の保護用としてソルダーレジスト７を印刷塗布し、乾燥硬化させて、テープキャリアフィルムを作製する。次に、このテープキャリアフィルムにバンプ電極５を形成した半導体チップ４を接合する。この接合する工程をインナーリードボンディング（ＩＬＢ）という。
【００６２】
次に、インナーリードボンディング後に、半導体チップ４の保護として、半導体チップ４とフレキシブル配線基板１との間にアンダーフィル６の封止樹脂を充填し、加熱処理にてその封止樹脂を硬化させる。アンダーフィル６の封止樹脂を充填するときには、図４（ａ）（ｂ）に示すように、一定量の封止樹脂をノズル４１から吐出して、半導体チップ４の形状に合わせて決められた描画パターンにて半導体チップ４の長辺側から半導体チップ４とフレキシブル配線基板１との間に注入する。封止樹脂は、半導体チップ４とフレキシブル配線基板１との間を毛細管現象により隙間無く流れ込むことにより、半導体チップ４の側面に均一なフィレット部６ａ・６ｂを形成する。その後、ファイナルテストを行って、ＣＯＦ半導体装置１０の実装が完了する。
【００６３】
ところで、アンダーフィル６の封止樹脂を吐出する際に用いられる描画パターンは、使用する樹脂の流動性に依存している。このため、半導体チップ４とフレキシブル配線基板１との隙間にムラ無く樹脂を充填し、半導体チップ４の側面に均一なフィレット部６ａ・６ｂを形成するには、従来では、半導体チップ４の４側面から樹脂を充填するしかなかった。
【００６４】
また、封止樹脂を描画塗布した際に残る、描画塗布跡６ｃの樹脂厚みは３０〜５０μｍ以上と厚く、樹脂が明瞭に残るという問題があった。
【００６５】
そこで、本実施の形態では、まず、アンダーフィル６に使用する樹脂の充填時の粘度を低粘度の５０〜６００ｍＰａ・ｓとすることにより、流動性を向上させている。
【００６６】
すなわち、表１に示すように、封止樹脂粘度を２５℃において５０〜６００ｍＰａ・ｓとすることによって、封止樹脂の充填性が良好となる。なお、封止樹脂粘度が８００ｍＰａ・ｓ以上になると気泡や未充填が発生し易くなる。また、上記封止樹脂粘度５０〜６００ｍＰａ・ｓの範囲のうち、５０〜２００ｍＰａ・ｓの範囲では、ノズル４１からの液ダレが発生する傾向があり、塗布装置側に液ダレ防止の機構が必要となる。この点、２５℃において樹脂粘度３００〜９００ｍＰａ・ｓの範囲としておけば作業性面で扱い易く、また半導体チップ４を加熱する方法により、さらなる粘度低下が図れ、流動性を向上させることができる。このことから、本実施の形態では、総合評価としては、封止樹脂粘度が２５℃において３００〜６００ｍＰａ・ｓの範囲が最も好ましい。
【００６７】
【表１】
2006216720.tif 000003
【００６８】
また、本実施の形態では、ノズル４１で樹脂を塗布するときに、半導体チップ４側を予備加熱（プリヒート）し、樹脂を６０〜１２０℃程度にヒートアップさせた状態で樹脂の充填を行う。なお、半導体チップ４とフレキシブル配線基板１との隙間は狭くてアンダーフィル６は少量であるので、アンダーフィル６の樹脂温度は、樹脂塗布後速やかに半導体チップ４の温度に昇温すると考えられる。
【００６９】
ここで、半導体チップ４をプリヒートするのは、図５及び図６に示すように、樹脂の加熱による該樹脂の粘度低下により、樹脂の流動性が向上するためである。本実施の形態では、半導体チップ４をプリヒート温度は、流動性効果が最も高い６０〜１２０℃の範囲を使用するのが好ましい。なお、樹脂温度を１２０℃よりもさらに高温にすることは、封止樹脂の急激な熱硬化の進行や増粘化により、樹脂の流動性は向上し難いという観点により好ましくない。
【００７０】
ここで、本実施の形態において、樹脂温度を高くする理由として、もう一つある。すなわち、封止樹脂として一般的に使用されるエポキシ系の樹脂は、常温常圧（２５℃、１気圧）においては、粘度７００ｍＰａ・ｓ以上が一般的である。したがって、常温常圧（２５℃、１気圧）において充填性の良い製品を得ることは困難であることから、常温常圧（２５℃、１気圧）においては粘度が高くても、温度を高めることにより粘度を低くして容易に充填性を高めることができる。
【００７１】
一方、従来では、図１０（ａ）に示すように、半導体チップ１０４の保護として半導体チップ１０４とフレキシブル配線基板１０１の間を半導体チップ１０４の形状に合わせて４側面に一定量の封止樹脂をノズル１４１にて吐出するしかなかった。しかし、本実施の形態では、使用する樹脂の低粘度化による流動性向上により、図４（ａ）に示すように、一定量の封止樹脂を半導体チップ４の長辺側１辺側のみの描画塗布へ変更する。
【００７２】
この１辺描画塗布により、半導体チップ４とフレキシブル配線基板１との隙間にアンダーフィル６の封止樹脂を充填するときに発生する巻き込み気泡は、樹脂が流動し硬化するまでの間において、従来の４側面での樹脂の充填に比べて、内部に発生した気泡が抜け易くなる。つまり、ノズル４１で樹脂塗布をしない側面から外部に気泡が抜けるので、気泡が残留することを防止することができる。
【００７３】
また、封止樹脂を半導体チップ４の長辺側１辺側のみの描画塗布へ変更したことによって、図１（ｂ）に示すように、描画塗布跡６ｃ幅Ａは例えば０．４３ｍｍとなり、０．１〜１．０ｍｍとすることができた。さらに、フィレット部６ａの半導体チップ４からの幅Ｂは例えば０．９２ｍｍとなり、１．０ｍｍ以下とすることができた。また、フィレット部６ｂの半導体チップ４からの幅Ｃは例えば０．５５ｍｍとなり、０．８ｍｍ以下とすることができた。さらに、半導体チップ４の短辺側のフィレット部は、半導体チップ４から例えば０．５９ｍｍの幅となった。また、描画塗布跡６ｃの樹脂厚みは、３μｍとなった。
【００７４】
この結果、図４（ｂ）に示す〔横方向樹脂領域（フィレット部６ａ・６ｂ＋描画塗布跡６ｃ）＋半導体チップ幅〕Ｗｂ１は、従来の図１０（ｂ）に示す〔横方向樹脂領域＋半導体チップ幅〕Ｗａ１よりも小さくなった。また、図４（ｂ）に示す〔縦方向樹脂領域〕Ｗｂ２は、従来の図１０（ｂ）に示す〔縦方向樹脂領域〕Ｗａ２よりも小さくなった。
【００７５】
また、本実施の形態では、特に、封止樹脂の流動性を向上させたことにより、描画塗布跡６ｃの樹脂厚みを薄く仕上げている。すなわち、図７（ａ）（ｂ）に示すように、従来の封止樹脂では粘度が９００ｍＰａ・ｓ以上と高いために、描画塗布跡１０６ｃの樹脂厚みは２０μｍ厚以上と厚いものであった。しかし、本実施の形態では、樹脂粘度を２５℃において５０〜６００ｍＰａ・ｓに抑える共に、樹脂の充填時に半導体チップ４を６０℃〜１２０℃にプリヒート加熱して２５℃の時よりもさらに粘度を低下させることにより、容易に描画塗布跡６ｃの樹脂厚みが１０μｍ以下に薄く仕上がる。
【００７６】
これにより、表２に示すように、従来の封止樹脂では描画塗布跡１０６ｃを折り曲げると樹脂クラックが発生するという問題があったが、本実施の形態では、樹脂厚みが１０μｍ以下と極薄いものとなったので、折り曲げてもクラックが発生しない特性に変化した。これにより、従来、折り曲げストレスをかけることができなかった領域を狭めることが可能になった。
【００７７】
【表２】
2006216720.tif 000004
【００７８】
ところで、従来では、描画塗布跡１０６ｃにて折り曲げることができなかったために、この描画塗布跡１０６ｃの封止樹脂領域の視認性を上げる必要性があった。このため、従来では、封止樹脂内に添加する着色料（染料）として、表３の従来例に示すように、０．３〜０．５重量％の範囲で添加して色目を濃くして描画塗布跡１０６ｃを明瞭にする必要があった。すなわち、表３に示すように、従来の樹脂における着色剤の配合比は、例えば０．５重量％であった。
【００７９】
【表３】
2006216720.tif 000005
【００８０】
これに対して、本実施の形態では、描画塗布跡６ｃの厚みが小さいので、描画塗布跡６ｃでも折り曲げが可能となった。しかし、樹脂厚みが３０μｍ以上の厚いフィレット部６ａ・６ｂと、樹脂厚みが１０μｍ以下の薄い描画塗布跡６ｃとについての差異を明確にするために視認性を上げる必要がある。
【００８１】
そこで、本実施の形態では、表３に示すように、樹脂における着色剤の配合比として、例えば０．１５重量％として、従来に比べて色目を淡くしている。
【００８２】
この添加量は、表４に示すように、封止樹脂内に添加する着色料（染料）を０．１〜０．３重量％の範囲とすることが、実験により、フィレット部６ａ・６ｂと描画塗布跡６ｃとの境界の視認性を向上し得ることが確認できたためである。なお、着色料（染料）の添加量は、表４に示すように、０．１５〜０．２０重量％の範囲とすることがより好ましい。
【００８３】
【表４】
2006216720.tif 000006
【００８４】
なお、本実施の形態では、表３に示すように、その他の添加剤の量が、従来例の０.２重量％に比べて、３.１重量％と多くなっている。この理由は、本実施の形態では、封止樹脂の粘度増加抑制策として、封止樹脂の熱硬化反応開始剤の働きをする硬化促進剤に、粘度増加抑制効果のあるものを用いているためである。なお、硬化促進剤の粘度増加抑制手法としては、硬化促進剤の成分をカプセルにしみ込ませて低温反応性を抑制化するタイプや、硬化促進剤の分子構造の調整により低温時において反応を抑えたタイプを用いることが好ましい。
【００８５】
このように、本実施の形態の半導体装置１０及びその製造方法では、ＣＯＦに使用する封止樹脂材料について、従来にない低粘度化により流動性を向上させる。これにより、以下のことが可能となる。
【００８６】
すなわち、樹脂の充填方法を、従来の半導体チップ４の４側面の描画塗布から、長辺の１辺描画塗布に変更ができる。この結果、樹脂塗布側についてはフィレット部６ａを従来の１．５ｍｍから１．０ｍｍ以下に抑えることができると共に、樹脂塗布をしない側についてはフィレット部６ｂを０．８ｍｍ以下に抑えることができる。
【００８７】
また、樹脂の描画塗布を４側面の描画塗布から１側面の描画塗布にすることによって、樹脂描画塗布にかかるタクトタイムを短縮することが可能となり、その結果、樹脂塗布装置の処理能力のアップが可能となる。
【００８８】
また、樹脂の充填方法を半導体チップ４の４側面の描画塗布から長辺の１辺描画塗布に変更することによって、半導体チップ４とフレキシブル配線基板１との隙間にアンダーフィル６の封止樹脂を充填するときに発生する巻き込み気泡は、樹脂が流動し硬化するまでの間に封止樹脂外部に抜け易くなる。この結果、気泡が残留することを防止でき、チップ上に発生する気泡を撲滅することが可能となる。
【００８９】
また、樹脂の描画塗布跡６ｃの樹脂厚みを１０μｍ以下に抑えることによって、この部分での折り曲げストレスよる樹脂割れや樹脂剥離を防止することが可能となる。この結果、従来では折り曲げることができなかった描画塗布跡６ｃも折り曲げ可能領域となり、折り曲げ不可能な樹脂領域を縮小することが可能となる。また、これにより、半導体装置１０の外形サイズは従来に比べてより小さくすることが可能となる。
【００９０】
また、半導体チップ４の封止樹脂に添加する着色剤の適正化によって、フィレット部６ａ・６ｂと描画塗布跡６ｃとの視認性が向上し、樹脂領域管理が容易となる。
【実施例】
【００９１】
前記の半導体装置１０を製造するために、封止樹脂として、表３に示すように、着色材を０．１５重量％を含有させ、かつ２５℃において粘度４００ｍＰａ・ｓのものを用いて、図４（ａ）に示すように、半導体チップ４の１辺側からノズル４１にて一定量の塗布を行った。なお、樹脂を塗布するときには、半導体チップ４とフレキシブル配線基板１との隙間にアンダーフィル６の樹脂の流動性を良くするために、半導体チップ４をヒータにて９０℃に予備加熱（プリヒート）を行ったところに樹脂を塗布した。
【００９２】
次に、フィレット部６ａ・６ｂ及び描画塗布跡６ｃの形状を安定化させ、樹脂を硬化させるべく、熱風循環炉又は遠赤外ヒータにて所定の温度に昇温させた硬化炉に、樹脂が硬化する所定時間滞留させて、硬化を完了させた。
【００９３】
この製造方法により製造した半導体装置１０の仕上がり寸法値は、図１（ｂ）に示すように、描画塗布跡６ｃ幅Ａは０．４３ｍｍ、フィレット部６ａの半導体チップ４からの幅Ｂは０．９２ｍｍ、フィレット部６ｂの半導体チップ４からの幅Ｃは０．５５ｍｍ、半導体チップ４の短辺側のフィレット部は、半導体チップ４から０．５９ｍｍの幅となった。また、描画塗布跡６ｃの樹脂厚みは、３μｍ厚であった。
【産業上の利用可能性】
【００９４】
本発明は、ＣＯＦ(Chip On Film) と呼ばれる、フレキシブルフィルム上に形成された配線パターンと、少なくとも１つ実装された半導体素子に形成された、外部回路との接続のための電極とを接続してなるテープキャリアパッケージタイプの半導体装置及びその製造方法に適用できる。このＣＯＦの用途として、半導体素子としての液晶ドライバＩＣがフレキシブル配線基板上に搭載された液晶ドライバがある。
【００９５】
また、その他、表示用モジュールとしては、アクティブマトリクス型等の上述の液晶表示モジュールの他、電気泳動型ディスプレイ、ツイストボール型ディスプレイ、微細なプリズムフィルムを用いた反射型ディスプレイ、デジタルミラーデバイス等の光変調素子を用いたディスプレイに利用できる。さらに、発光素子として、有機ＥＬ発光素子、無機ＥＬ発光素子、ＬＥＤ（Light Emitting Diode) 等の発光輝度が可変の素子を用いたディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、プラズマディスプレイにも利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】（ａ）は本発明における半導体装置の実施の一形態を示すものであって図２（ｂ）のＸ−Ｘ線断面図であり、（ｂ）は上記半導体装置の封止樹脂におけるフィレット部及び描画塗布跡の樹脂の平面図である。
【図２】（ａ）はフレキシブルフィルムに連続して複数形成された半導体装置を示す平面図であり、（ｂ）は上記フレキシブルフィルムから切り出された単独の半導体装置を示す平面図である。
【図３】（ａ）は上記半導体装置に液晶表示パネルとＰＷ基板とが接続された液晶モジュールを示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線断面図である。
【図４】（ａ）は上記半導体装置の製造工程において、封止樹脂を充填する方法を示す平面図であり、（ｂ）は充填された封止樹脂のフィレット部及び描画塗布跡を示す平面図である。
【図５】上記封止樹脂の加熱温度（プリヒート）と流れ性との関係を示すグラフである。
【図６】上記封止樹脂の加熱温度（プリヒート）と樹脂粘度との関係を示すグラフである。
【図７】（ａ）は上記封止樹脂の樹脂粘度と描画塗布跡の樹脂厚みとの関係を示すグラフであり、（ｂ）は描画塗布跡を示す断面図である。
【図８】（ａ）は従来のフレキシブルフィルムに連続して複数形成された半導体装置を示す平面図であり、（ｂ）は上記フレキシブルフィルムから切り出された単独の半導体装置を示す平面図である。
【図９】図８（ｂ）のＸ−Ｘ線断面図である。
【図１０】（ａ）は上記半導体装置の製造工程において、封止樹脂を充填する方法を示す平面図であり、（ｂ）は充填された封止樹脂のフィレット部及び描画塗布跡を示す平面図である。
【図１１】充填された封止樹脂に気泡が発生している半導体装置を示す断面図である。
【図１２】充填された封止樹脂において、一方のフィレット部が内部配線パターンが露出した欠損している半導体装置を示す断面図である。
【符号の説明】
【００９７】
１      フレキシブル配線基板
２      配線パターン
３      配線パターン
４      半導体チップ（半導体素子）
５      バンプ電極）
６      フィレット部
６ａ    フィレット部
６ｂ    フィレット部
６ｃ    描画塗布跡
８      スプロケットホール
１０      半導体装置
１１      異方性導電接着剤
２０      液晶モジュール
２１      液晶表示パネル
２１ａ    ＴＦＴ基板
２１ｂ    カラーフィルタ基板
３０      ＰＷ基板（回路基板）
４１      ノズル
【図１】
2006216720.tif 000007
【図２】
2006216720.tif 000008
【図３】
2006216720.tif 000009
【図４】
2006216720.tif 000010
【図５】
2006216720.tif 000011
【図６】
2006216720.tif 000012
【図７】
2006216720.tif 000013
【図８】
2006216720.tif 000014
【図９】
2006216720.tif 000015
【図１０】
2006216720.tif 000016
【図１１】
2006216720.tif 000017
【図１２】
2006216720.tif 000018