(57)【要約】【課題】高い記録特性を有し、かつその記録特性を長期にわたって充分維持し得るような高い安定性を有し、更に性能の個体間差がきわめて小さい光情報記録媒体を提供する。【解決手段】  下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する光情報記録媒体。  一般式（Ｉ）    【化１】2006240135.tif 000012  式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R101、R102、R103、R104、R105、R106、R107、R108はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録層に下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
一般式（Ｉ）
【化１】
2006240135.tif 000010
式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R101、R102、R103、R104、R105、R106、R107、R108はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。
【請求項２】
記録層に更に、下記一般式（II）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。
一般式（II）
【化２】
2006240135.tif 000011
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4は各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3 は各々独立に置換基を有していてもよいメチン基を表し、ｍは０乃至３の整数を表し、Ｒ5、及びＲ6 は炭素原子数４〜８のアルキル基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数７〜１２のアラルキル基、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシル基、炭素原子数７〜１２のアシル基、炭素原子数６〜１２のアリールオキシ基、又は炭素原子数４〜８のアミド基を表し、ｐ及びｑは１乃至３の整数を表し、Ｒ1及びＲ2、Ｒ3及びＲ4は連結して環を形成していてもよく、ｍが２以上の整数のとき、複数個の−Ｌ2＝Ｌ3‐は同一であっても異なっていてもよく、ｐ及びｑは２以上の整数のとき、複数個のＲ5及びＲ6は同一であっても異なっていてもよい。
【請求項３】
記録層上に更に金属からなる反射層及び／又は保護層が設けられている請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
波長６３０乃至６６０ｎｍの範囲のレーザー光を照射して光情報記録媒体に記録する方法であって、請求項１〜３のいずれかに記載の光情報記録媒体を用いて情報を記録することを特徴とする光情報記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な化合物を用いた光情報記録媒体、光情報記録方法に関し、特に、近赤外レーザーや可視レーザーを用いて情報を記録するのに適した、例えばＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒなどの光情報記録媒体とこの光情報記録媒体を用いた情報記録方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザ光により一回限りの情報の記録が可能な情報記録媒体（光ディスク）が知られている。該情報記録媒体は、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、従来のＣＤの作製に比べて少量のＣＤを手頃な価格でしかも迅速に提供できる利点を有しており、最近のパーソナルコンピュータの普及に伴ってその需要も増大している。ＣＤ−Ｒ型の情報記録媒体の代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金や銀などの金属からなる反射層、更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである。そして光ディスクへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光（通常７８０ｎｍ付近の波長のレーザ光）を照射して記録層を局所的に発熱変形させることにより行われる。一方情報の読み取り（再生）は通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射して、記録層が発熱変形された部位（記録部分）と変形されない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより行われている。
【０００３】
近年、記録密度のより高い情報記録媒体が求められている。記録密度を高めるには、照射されるレーザの光径を小さく絞ることが有効であり、また波長が短いレーザ光ほど小さく絞ることができるため、高密度化に有利であることが理論的に知られている。従って、従来から用いられている７８０ｎｍより短波長のレーザ光を用いて記録再生を行うための光ディスクの開発が進められており、例えば、追記型デジタル・バーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが提案されている。この光ディスクは、トラックピッチがＣＤ−Ｒの１．６μｍより狭い０．７〜０．８μｍのプレグルーブが形成された直径１２０mmあるいは直径が８０mmの透明な円盤状基板上に、色素からなる記録層、そして通常は該記録層の上に更に反射層および保護層を設けてなるディスクを二枚、あるいは該ディスクと略同じ寸法の円盤状保護基板とを該記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造となるように製造されている。そしてＤＶＤ−Ｒは、可視レーザ光（通常６００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の波長のレーザ光）を照射することにより、記録及び再生が行われ、ＣＤ−Ｒ型の光ディスクより高密度の記録が可能であるとされる。
【０００４】
ＤＶＤ−Ｒ型の情報記録媒体は、従来のＣＤ−Ｒ型に比べて数倍の情報量を記録することができるため、高い記録感度を有していることは勿論のこと、特に大量の情報を速やかに処理する必要から高速記録に対してもエラーの発生率が少ないことが望まれる。また色素からなる記録層は、一般に熱、あるいは光に対する経時的な安定性が低いため、長期間にわたって熱、あるいは光に対しても安定した性能を維持できる記録層の開発が望まれる。
【０００５】
特開２０００−５２６５８号公報には、酸性核がメルドラム酸構造であるオキソノール色素からなる記録層が基板上に設けられた光情報記録媒体が開示されている。そして、このオキソノ−ル色素を用いることにより、長期間にわたり安定した記録再生特性を維持し得るとされている。
【特許文献１】特開２０００−５２６５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者は上記公報に記載されているオキソノール色素をＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体に用い、その性能について検討を行なった。その結果、該オキソノール色素を記録層に含むＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体は、記録再生特性においては十分満足できるものの、複数の該情報記録媒体を作成した場合に、記録再生特性の個体間差が若干生じることを見出した。従って、本発明の主な目的は、高い記録特性を有し、かつその記録特性を長期にわたって充分維持し得るような高い安定性（特に高温高湿下においても高い安定性）を有し、更に性能の個体間差がきわめて小さい光情報記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的は下記の手段により達成された。
（１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。一般式（Ｉ）
【０００８】
【化１】
2006240135.tif 000002
【０００９】
式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R101、R102、R103、R104、R105、R106、R107、R108はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。
【００１０】
（２）更に、下記一般式（II）で表される化合物を含有することを特徴とする（１）記載の光情報記録媒体。
一般式（II）
【００１１】
【化２】
2006240135.tif 000003
【００１２】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4は各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3 は各々独立に置換基を有していてもよいメチン基を表し、ｍは０乃至３の整数を表し、Ｒ5、及びＲ6 は炭素原子数４〜８のアルキル基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数７〜１２のアラルキル基、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシル基、炭素原子数７〜１２のアシル基、炭素原子数６〜１２のアリールオキシ基、又は炭素原子数４〜８のアミド基を表し、ｐ及びｑは１乃至３の整数を表し、Ｒ1及びＲ2、Ｒ3及びＲ4は連結して環を形成していてもよく、ｍが２以上の整数のとき、複数個の−Ｌ2＝Ｌ3‐は同一であっても異なっていてもよく、ｐ及びｑは２以上の整数のとき、複数個のＲ5及びＲ6は同一であっても異なっていてもよい。〕
【００１３】
（３）記録層上に更に金属からなる反射層及び／又は保護層が設けられている前記（１）または（２）に記載の光情報記録媒体。
【００１４】
（４）波長６３０乃至６６０ｎｍの範囲のレーザー光を照射して光情報記録媒体に記録する方法であって、前記（１）〜（３）のいずれかに記載の光情報記録媒体を用いて情報を記録することを特徴とする光情報記録方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、レーザー照射により情報の記録及び再生を行う事が出来る追記型の光情報記録媒体において、記録再生特性の個体間差が小さい光情報記録媒体が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に、本発明の一般式（Ｉ）または（II）で表される化合物、光情報記録媒体、及び光情報記録方法について詳細に説明する。まず、下記一般式（Ｉ）で表される本発明ベタイン化合物について説明する。
一般式（Ｉ）
【００１７】
【化３】
2006240135.tif 000004
【００１８】
式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R101、R102、R103、R104、R105、R106、R107、R108はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。
【００１９】
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R101、R102、R103、R104、R105、R106、R107、R108であらわされる置換基として好ましいものは、水素原子のほかに、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、炭素数2〜20のアルケニル基、アラルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルキルチオアルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルアミノアルコキシ基、ジアルキルアミノアルコキシ基、炭素数2〜20のアルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルキルスルホニルアルキル基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシアルキルアミノ基、ジ(ヒドロキシアルキル)アミノ基、アルコキシアルキルアミノ基、ジ(アルコキシアルキル)アミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ハロゲノアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、ヒドロキシアルキルアミノアルキル基、ジ(ヒドロキシアルキル)アミノアルキル基、アルコキシアルキルアミノアルキル基、ジ(アルコキシアルキル)アミノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニルアルキル基、アリールカルボニルアルキル基、アミノカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、ヒドロキシアルキルアミノカルボニル基、ジ(ヒドロキシアルキル)アミノカルボニル基、アルコキシアルキルアミノカルボニル基、ジ(アルコキシアルキル)アミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、炭素数2〜20のアルケニルオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルアルコキシカルボニル基またはアラルキルオキシカルボニル基が挙げられる。
【００２０】
特に好ましくは、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R101、R102、R103、R104、R105、R106、R107、R108がすべて水素原子である。
【００２１】
更に好ましくは、一般式（Ｉ）において、R1、R2、R3、R4、R101、R102、R103、R104がすべて水素原子であり、R5、R6、R7、R8、R105、R106、R107、R108がそれぞれ独立に、―OHもしくは―NH―結合を含まない基、または水素原子である化合物であり、―OHもしくは―NH―結合を含まない基として特に好ましいものは、フッ素原子、アリール基である。このアリール基の中でも、無置換フェニル基または、分岐アルキル基もしくはアルコキシ基で置換されたフェニル基が比較的極性の低い媒質に溶解しやすい点で特に好ましい。
【００２２】
以下に本発明の化合物の合成法について説明する。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、芳香族炭素原子に結合した水酸基を有するビピリジニウム塩に塩基を作用させて該水酸基からプロトンを脱離させることにより合成できる。  塩基は無機化合物であっても有機化合物であってもよく、比較的低分子量の化合物でも、高分子化合物でも良い。
【００２３】
好ましくは、一般式（III）で表されるビピリジニウム塩に塩基を作用させることにより合成できる。
一般式（III）
【００２４】
【化４】
2006240135.tif 000005
【００２５】
式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R101、R102、R103、R104、R105、R106、R107、R108の定義は一般式（Ｉ）における定義と同じであり、Xm-はｍ価の陰イオンを表し、ｍは正の整数を表す。
【００２６】
Xは無機陰イオンでも有機陰イオンでもよく、陽イオン交換樹脂のような重合体であっても良く、例えば、ハロゲン化物イオン（CL,  Br,  I）、オキシハロゲン化物イオン（次亜塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、塩素酸イオン、過塩素酸イオン、臭素酸イオン、ヨウ素酸イオンなど）、イソシアネート、イソチオシアネート、硫酸イオン、硫酸水素イオン、燐酸イオン、燐酸水素イオン、燐酸ニ水素イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、パラトルエンスルホン酸イオン、ナフタレン−１,５−ジスルホン酸イオンなどが挙げられる。ｍは好ましくは１ないし４、特に好ましくは１である。
【００２７】
この際、一般式（III）で表される化合物を溶媒に溶かして得られる溶液中で塩基を作用させることが好ましい。該溶媒としては水、有機溶媒、イオン性液体、などが用いられ、好ましい溶媒は比較的極性が高い溶媒か好ましく、比誘電率が１０以上の溶媒が特に好ましく、この範囲に属する非プロトン性の極性溶媒、水、プロトン性溶剤であってｐKa（酸解離定数の逆数の対数）が４以上の溶媒が挙げられる。
【００２８】
好ましい塩基としては、その共役酸の解離定数が、一般式（III）で表される化合物の水酸基の解離定数より小さい塩基が好ましく、特に２けた以上小さい塩基が好ましい。塩基の具体例としては、水酸化物塩類（水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化バリウム、水酸化アンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、）、アンモニア、有機アミン類（メチルアミン、ブチルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ベンジルアミン、シクロヘキシルアミン、テトラメチレンヘキサミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、N-メチルピロリジン、N-メチルピペリジン、N-メチルモルホリン、ピリジン、アニリン、N,N-ジエチルアニリン、ジフェニルアミン、１，２−ジメチルアミノエタンなど）、1ないし3級アミノ基を有する重合体、アルコキシド類（ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなど）、金属水素化物（テトラヒドロホウ酸ナトリウム、テトラヒドロアルミン酸リチウム、ビス−２−メトキシエトキシジヒドロアルミン酸ニナトリウムなど）が挙げられる。
【００２９】
なお、一般式（III）で表されるビピリジニウム塩の合成は例えば上記特許文献１または２に記載されているように、４，４’−ビピリジンの窒素原子を求電子的アリール化剤で四級化した後、一級アミンと反応させることにより行うことができる（次式参照）。
【００３０】
【化５】
2006240135.tif 000006
【００３１】
上記の化合物の１例として例示化合物７の合成例を挙げる。
例示化合物７の合成
Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）−４，４’−ビピリジニウム二塩化物を、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，４−ジニトロフェニル）−４，４’−ビピリジニウム二塩化物と４−ヒドロキシ−３−フェニルアニリンとの反応により合成した。その282ｍｇに水１５０ｍLを加えた後、加熱して溶解せしめた。不溶物をろ過して除き、ろ液にトリエチルアミン120MLを加えて撹拌した。生じた沈殿を吸引ろ過してろ紙上に集め、水をかけて洗い、１７０ｍｇの粗製物を得た。このうちの50ｍｇにメタノール20ｍLを加えて加熱し、不溶部をろ過して除去し、ろ液にエタノール１０ｍLを加えた後ロータリーエバポレーターで濃縮してゆくと結晶が析出した。生じた結晶を吸引ろ過によりろ紙上に集め、冷エタノールをかけて洗った後、乾燥して４０ｍｇのブロンズ光沢結晶として化合物７を得た。融点：４８０℃以上。質量スペクトル：m/z４９３（M+1）。
以下に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明の範囲はこれらのみに限定されるものではない。
【００３２】
【表１】
2006240135.tif 000007
【００３３】
次に、下記一般式（II）で表されるオキソノール化合物について説明する。
一般式（II）
【００３４】
【化６】
2006240135.tif 000008
【００３５】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4は各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3は各々独立に置換基を有していてもよいメチン基を表し、ｍは０乃至３の整数を表し、Ｒ5、及びＲ6は炭素原子数４〜８のアルキル基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数７〜１２のアラルキル基、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシル基、炭素原子数７〜１２のアシル基、炭素原子数６〜１２のアリールオキシ基、又は炭素原子数４〜８のアミド基を表し、ｐ及びｑは１乃至３の整数を表し、Ｒ1及びＲ2、Ｒ3及びＲ4は連結して環を形成していてもよく、ｍが２以上の整数のとき、複数個の−Ｌ2＝Ｌ3‐は同一であっても異なっていてもよく、ｐ及びｑは２以上の整数のとき、複数個のＲ5及びＲ6は同一であっても異なっていてもよい。〕
【００３６】
一般式（II）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、またはヘテロ環基を表す。アルキル基は、炭素数が１〜２０のアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｉ−アミル、シクロプロピル、シクロヘキシル）で下記の置換基（但しアルキル基は除く）を有していてもよい。置換基の例（置換基ＳＵＢと称する）には、炭素数１〜２０のアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、カルボキシメチル、エトキシカルボニルメチル）、炭素数７〜２０のアラルキル基（例、ベンジル、フェネチル）、炭素数１〜８のアルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、炭素数６〜２０のアリール基（例、フェニル、ナフチル）、炭素数６〜２０のアリールオキシ基（例、フェノキシ、ナフトキシ）、ヘテロ環基（例、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル、スクシンイミド、フタルイミド、マレイミド）、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、沃素）、カルボキシル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、シアノ基、炭素数２〜１０のアシル基（例、アセチル、ピバロイル）、炭素数１〜１０のカルバモイル基（例、カルバモイル、メチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル）、アミノ基、炭素数１〜２０の置換アミノ基（例、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ビス（メチルスルホニルエチル）アミノ、Ｎ−エチル−Ｎ’−スルホエチルアミノ）、スルホ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１０のスルホンアミド基（例、メタンスルホンアミド）、炭素数１〜１０のウレイド基（例、ウレイド、メチルウレイド）、炭素数１〜１０のスルホニル基（例、メタンスルホニル、エタンスルホニル）、炭素数１〜１０のスルフィニル基（例、メタンスルフィニル）、および炭素数０〜１０のスルファモイル基（例、スルファモイル、メタンスルファモイル）が含まれる。カルボキシル基およびスルホ基は塩の状態であってもよい。
【００３７】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で表されるアリール基は、炭素数６〜２０のアリール基（例、フェニル、ナフチル）が挙げられる。アリール基は前記の置換基ＳＵＢを有していてもよい。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で表されるアラルキル基は炭素数７〜２０のアラルキル基（例、ベンジル、フェネチル）が挙げられる。アラルキル基は前記の置換基ＳＵＢを有していてもよい。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で表されるヘテロ環基は炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から構成される５〜６員環の飽和又は不飽和のヘテロ環基であり例えばピリジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピペリジル基、トリアジル基、ピロリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、フラニル基、チオフェニル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基などであり、これらがベンゾ縮環したもの（例えばキノリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基など）でもよく、またヘテロ環上に例えば前記の置換基ＳＵＢを有していてもよい。
【００３８】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4として好ましいものは水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数４〜１０のヘテロ環基である。Ｒ1及びＲ2、或いはＲ3 及びＲ4が各々アルキル基を表す場合、互いに連結して炭素環（例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２−メチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、アダマンチルなど）または複素環（例えばピペリジル、クロマニル、モルホリルなど）を形成していてもよく、好ましくは炭素数３〜１０の炭素環または炭素数２〜１０の複素環である。一般式（II−１）において、Ｒ1とＲ2、および／またはＲ3とＲ4が連結して環構造を形成した方が湿熱保存耐久性に優れる。
【００３９】
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は各々独立に置換または無置換のメチン基を表し、置換基としては前記の置換基ＳＵＢが挙げられる。Ｌ1、Ｌ2及びＬ3として好ましいものは無置換メチン基、炭素数１〜５のアルキル置換メチン基、炭素数７〜１０のアラルキル置換メチン基、炭素数６〜１０のアリール置換メチン基、飽和または不飽和のヘテロ環置換メチン基およびハロゲン置換メチン基である。ｍは０、１、２または３を表す。好ましくは１、２または３である。ｍが２以上のとき、複数のＬ2及びＬ3は同じでも異なっていてもよい。
【００４０】
Ｒ5、及びＲ6は置換または無置換の炭素原子数４〜８のアルキル基（例、ブチル、ペンチル）、炭素原子数６〜１２のアリール基（例、フェニル、ナフチル）、炭素原子数７〜１２のアラルキル基（例、ベンジル）、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシル基、炭素原子数７〜１２のアシル基（例、ベンゾイル）、炭素原子数６〜１２のアリールオキシ基（例、フェノキシ）、又は炭素原子数４〜８のアミド基を表し、置換基としては前記の置換基ＳＵＢが挙げられる。Ｒ5、及びＲ6として特に好ましいものは、炭素原子数６〜１２のアリール基、ヒドロキシル基、炭素原子数７〜１２のアシル基（例、ベンゾイル）である。ｐ及びｑは１乃至３の整数を表し、ｐ及びｑは２以上の整数のとき、複数個のＲ5及びＲ6は同一であっても異なっていてもよい。
【００４１】
一般式（II）で表されるオキソノール色素化合物の好ましい具体例は特開２００２−２４９６７４号広報に記載されている。
【００４２】
尚、これらの化合物は特開２０００−５２６５８号公報、特開２００２−２４９６７４、および特開２００３−１２８６５４に記載の合成法に準じて合成する事が出来る。
【００４３】
次に、本発明の光情報記録媒体について説明する。本発明の光情報記録媒体は、一般式（Ｉ）で表されるベタイン化合物の少なくとも一種を含有する（好ましくは該ベタイン化合物を含む記録層を基板上に有する）ものである。記録層には一般式（Ｉ）で表されるベタイン化合物の他に、記録再生に用いる光の波長に応じて適当な化合物を選択して用いる事が出来る。例えば、ＣＤ−Ｒで用いられる中心波長７８０ｎｍの半導体レーザで記録する場合には、一般式（II）においてｍ＝３の化合物、ＤＶＤ−Ｒで用いられる波長６３０−６６０ｎｍのレーザで記録する場合には、ｍ＝２の色素化合物、波長５５０ｎｍ以下のレーザで記録する場合には、ｍ＝０又は１（好ましくは０）の化合物を用いる事が出来る。
【００４４】
また、本発明のベタイン化合物は、二種以上を併用してもよい。更に、一般式（Ｉ）または一般式（II）で表される化合物とこれら以外の化合物を併用してもよい。
【００４５】
記録層は、更に記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有することが出来る。褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号に記載されている化合物が好ましい。一重項酸素クエンチャーとしては、特開平３−２２４７９３号公報記載の一般式（ＩＩＩ）、（IV）又は（Ｖ）で表される金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩などを挙げる事が出来る。
【００４６】
次に、本発明の情報記録媒体の構造について説明する。上記の通り、本発明の光情報記録媒体は、好ましくは基体上に一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含有する（好ましくは該化合物を記録層に有する）ものであれば、特に制限はないが、本発明の情報記録媒体をＣＤ−Ｒとして適用する場合には、トラックピッチ１．４〜１．８μｍのプレグルーブが形成された厚さ１．２±０．２ｍｍの透明な円盤状基板上に、一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含有する記録層、光反射層、及び保護層をこの順に設けた構成であることが好ましい。また、本発明の光情報記録媒体をＤＶＤ−Ｒとして適用する場合には、下記の態様である事が好ましい。
【００４７】
（１）トラックピッチ０．６〜０．９μｍのプレグルーブが形成された、直径が１２０±３ｍｍあるいは直径が８０±３mmで、厚さが０．６±０．１ｍｍの透明な円盤状基板の該プレグルーブが設けられた側の表面に、本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含む記録層が設けられてなる二枚の積層体を、それぞれの記録層が内側となるように接合してなる、厚さ１．２±０．２ｍｍの情報記録媒体。
（２）トラックピッチ０．６〜０．９μｍのプレグルーブが形成された、直径が１２０±３ｍｍあるいは直径が８０±３mmで、厚さが０．６±０．１ｍｍの透明な円盤状基板の該プレグルーブが設けられた側の表面に、本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含む記録層が設けられてなる積層体と、該円盤状基板と略同じ寸法の円盤状保護板とを、記録層が内側となるように接合してなる、厚さ１．２±０．２ｍｍの情報記録媒体。なお、上記の態様においても記録層の上には反射層が設けられていることが好ましい。また反射層の上には更に保護層が設けられていてもよい。
【００４８】
本発明の情報記録媒体の製造法について説明する。本発明の情報記録媒体は、ＤＶＤ−Ｒの場合においては、より高い記録密度を達成するために、ＣＤ−Ｒに比べてより狭いトラックピッチのプレグルーブが形成された基板を用いること以外は、基本的にＣＤ−Ｒ型の情報記録媒体の製造に用いられる材料を使用して製造することができる。即ち、ＤＶＤ−Ｒ型の情報記録媒体は、基板上に、記録層、及び反射層、そして所望により保護層を順に形成した積層体を二枚作成し、記録層を内側にしてこれらを接着剤により接合することにより、あるいはまた、該積層体と、該積層体の基板と略同じ寸法の円盤状保護基板とを同様にして接着剤により接合させることにより、製造することができる。
【００４９】
本発明の情報記録媒体は、例えば、以下に述べるような方法により製造することができる。基板（保護基板も含む）は、従来の情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。基板材料としては、例えば、ガラス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル等を挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
【００５０】
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善および接着力の向上および記録層の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質剤をあげることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００５１】
また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝またはアドレス信号等の情報を表す凹凸（プレグルーブ）が形成されている。このプレグルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際に直接基板上に前記のトラックピッチで形成されることが好ましい。また、プレグルーブの形成を、プレグルーブ層を設けることにより行ってもよい。プレグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエステルのうち少なくとも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて基板と塗布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離することにより得ることができる。プレグルーブ層の層厚は、一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲である。
【００５２】
プレグルーブの深さは３００〜２０００Åの範囲にあることが好ましく、またその半値幅は、０．２〜０．９μｍの範囲にあることが好ましい。またプレグルーブ層の深さを１５００〜２０００Åの範囲にすることにより反射率をほとんど低下させることなく感度を向上させることができ、特にＣＤ−Ｒに好ましい。
【００５３】
基板上（又は下塗層）のプレグルーブが形成されているその表面上には、本発明に係る前記式で示される色素化合物からなる記録層が設けられる。
【００５４】
記録層の形成は、本発明に係る色素、更に所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行うことができる。色素記録層形成用の塗布液の溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレンングリコールモノエチルエーテル、プロピレンングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する化合物の溶解性を考慮して単独または二種以上組み合わせて用いることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤などの各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００５５】
結合剤の例としては、例えばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、色素に対して一般に０．０１〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液の濃度は一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００５６】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。
【００５７】
上記記録層の上に、情報の再生時における反射率の向上の目的で、反射層が設けられる。反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組み合わせで、または合金として用いてもよい。反射層は、例えば上記反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は一般には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲である。
【００５８】
反射層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられていてもよい。この保護層は、基盤の記録層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。保護層に用いられる材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4などの無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着層を介して反射層上及び／または基板上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらの適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。以上の工程により、基板上に記録層、及び反射層、そして所望により保護層を設けた積層体を作製することができる。上記のようにして二枚の積層体を作製し、これらを、各々の記録層が内側となるように接着剤で貼り合わせることにより、二つの記録層を持つＤＶＤ−Ｒ型の情報記録媒体を製造することができる。貼合せの手段としては、遅効性紫外線硬化型の接着剤を使用する方法や、ホットメルト法、粘着テープで貼合せる方法などが挙げられるが、記録層へのダメージやコストの観点から遅効性紫外線硬化型の接着剤を用いる方法が好ましい。また、接着剤としては、無溶剤タイプの接着剤を用いるのが好ましい。接着剤の塗布は、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法やスクリーン印刷法などを挙げることができるが、中でもスクリーン印刷法が好ましい。また得られた積層体と、該積層体の基板と略同じ寸法の円盤状保護基板とを、その記録層が内側となるように接着剤で貼り合わせることにより、片側のみに記録層を持つＤＶＤ−Ｒ型の情報記録媒体を製造することができる。
【００５９】
本発明の情報記録方法は、上記情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。まず、情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場合は１．２〜１４ｍ／秒）または定角速度にて回転させながら、基板側から半導体レーザ光などの記録用のレーザ光を照射する。この光の照射により、記録層と反射層との界面に空洞を形成（空洞の形成は、記録層または反射層の変形、あるいは両層の変形を伴って形成される）するか、基板が肉盛り変形する、あるいは記録層に変色、会合状態の変化等により屈折率が変化することにより情報が記録されると考えられる。記録光としては、可視域のレーザ光、即ち、ＣＤ−Ｒの場合、中心波長７８０ｎｍの発振波長を有する半導体レーザーが用いられ、ＤＶＤ−Ｒの場合、通常６００ｎｍ〜７００ｎｍ（好ましくは６２０〜６８０ｎｍ、更に好ましくは、６３０〜６６０ｎｍ）の範囲の発振波長を有する半導体レーザービームが用いられる。上記のように記録された情報の再生は、情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら記録時と同じ波長を持つ半導体レーザ光を基板側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００６０】
［実施例］
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００６１】
射出成形機（住友重機械工業（株）製）を用いて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状のグルーブ（深さ１５０nm、幅２９０nm、トラックピッチ０．７４μm ）を有する厚さ０．６mm、直径１２０mmの基板に成形した。 本発明のベタイン化合物（Ｉ−７）と本発明のオキソノール色素化合物（特開２００２−２４９６７４号広報の化合物II−８）を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１００mlに溶解した塗布液（ベタイン濃度：０．０５質量％、オキソノール濃度：１．５質量％）を調製した。この塗布液をスピンコート法により上記基板のグルーブが形成された面上に塗布し、色素層を形成した。このときの色素層の膜厚は、８０nmであった。次に、色素塗布面上に銀をスパッタして膜厚約１５０nmの反射層を形成した後、反射層上に、紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学社製  ダイキュアクリアＳＤ−３１８）をスピンコート法で塗布し、メタルハライドランプで紫外線照射することで約７μm の保護層を形成し、０．６mm厚のディスクＡを得た。また、前記基板に色素塗布せずに銀をスパッタして、保護層を形成し、色素記録層の無い０．６mm厚のディスクＢを得た。ディスクＡとディスクＢとを貼合せて、１枚のディスクとして完成させるため、次のような工程を経た。まず、ディスクＡ及びディスクＢの保護層上に遅効性カチオン重合型接着剤（ソニーケミカル社製  ＳＫ７０００）をスクリーン印刷によって塗布した。このとき、スクリーン印刷版のメッシュサイズは３００メッシュを使用した。次に、メタルハライドランプを使用し紫外線照射した直後、ディスクＡとディスクＢとを保護層側を貼合せ、両面から圧縮した。約５分放置後、接着剤は完全に硬化し、厚さ１．２mmの１枚のディスクとして完成した。
【００６２】
〔実施例２〜５〕
実施例１と同様の操作で光情報記録媒体の作成を更に4回実施し、ＤＶＤ−Ｒ型ディスクを得、それぞれ実施例２−５とした。
【００６３】
[比較例１〜５]
実施例１において、前記ベタイン化合物（Ｉ−７）を加えない以外は実施例１と全く同様の操作を繰り返して、比較例1〜５のＤＶＤ−Ｒ型ディスを作成した。
【００６４】
〔光ディスクとしての評価〕上記の実施例及び比較例のＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクにＤＤＵ１０００（バルステック社製）評価機を用いてレーザ光の波長６５７nm（ＮＡ０．６にピックアップ）、定線速度４１．９m/s 、記録パワーは４０mWで８−１６変調３Ｔ信号を記録した。その後、記録レーザ光と同じ波長のレーザを用いて０．５mWのレーザパワーで信号を再生し、3Ｔの変調度及びジッタ―を測定した。同様にして、比較例１〜５のＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクも評価した。得られた評価結果を表２に示す。
【００６５】
【表２】
2006240135.tif 000009
【００６６】
上記表２に示す結果からわかる様に、本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を記録層に含有するＤＶＤ−Ｒ用光デイスク（実施例１〜５）は、いずれもほぼ一定かつ低いジッターを与えており、安定して優れた記録再生特性が得られていることがわかる。
なお、実施例２と比較例２、実施例４と比較例４の結果からわかるように、本発明の光デイスクは、ベタイン化合物を含有していることから、他の特性を悪化させることなく、記録特性を向上できることが確認された。