(57)【要約】【課題】  処理部や湿式気体浄化部において使用された液体の再利用を図ることにより、装置のランニングコストの低減を図る。【解決手段】  洗浄等を行う洗浄装置Ｘと、該せそＸにおいて発生する汚染ガス成分を液体に溶解させることにより除去する湿式の気体浄化ユニットＫとからなる処理装置において、前記気体浄化ユニットＫの排液を前記洗浄装置Ｘにおける粗リンス用洗浄液として供給する洗浄液供給手段８を付設して、気体浄化ユニットＫの排液が、洗浄装置Ｘにおける粗リンス用洗浄液として再利用されるようにしている。【選択図】        図１
2006216599.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄等を行う処理部と、該処理部において発生する汚染ガス成分を液体に溶解させることにより除去する湿式気体浄化部とからなる処理装置であって、前記湿式気体浄化部の排液を前記処理部におけるリンス時初期のリンス用洗浄液として供給する洗浄液供給手段を付設したことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記洗浄液供給手段を、前記湿式気体浄化部からの排液を貯留する排液貯留タンクと、該排液貯留タンク内に貯留された排液を前記処理部へ供給する洗浄液ポンプとにより構成したことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項３】
前記処理部におけるリンス終了時に近いリンス排液を前記湿式気体浄化部の補給液として供給する補給液供給手段を付設したことを特徴とする請求項１および２のいずれか一項記載の処理装置。
【請求項４】
洗浄等を行う処理部と、該処理部において発生する汚染ガス成分を液体に溶解させることにより除去する湿式気体浄化部とからなる処理装置であって、前記処理部におけるリンス終了時に近いリンス排液を前記湿式気体浄化部の補給液として供給する補給液供給手段を付設したことを特徴とする処理装置。
【請求項５】
前記補給液体供給手段を、前記処理部からのリンス終了時に近いリンス排液を貯留するリンス排液貯留タンクと、該リンス排液貯留タンク内に貯留されたリンス排液を前記湿式気体浄化部の補給液として供給する補給液ポンプとにより構成したことを特徴とする請求項３および４のいずれか一項記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、各種電子部品の洗浄処理などを行うための処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＬＣＤ基板や半導体ウエハ等のような基板に対して液処理や熱処理を行う場合、清浄空気中（即ち、クリーンルーム内）において行うこととなっており、クリーンルーム内の空気を清浄化した後クリーンルームに還流させることとなっている。
【０００３】
上記した処理装置としては、基板洗浄等を行う処理部と、該処理部において発生する水溶性汚染ガス成分を純水に溶解させることにより除去する湿式気体浄化部とからなっているものが提案されている（特許文献１参照）。この湿式気体浄化部としては、貯水槽から供給される純水を噴霧する噴霧式のものや、例えばポリテトラフロロエチレン（以下、ＰＴＦＥという）からなる多孔質膜を介して気液を接触させることにより、気体中の汚染物質を液体（例えば、純水）中に分離除去するようにした気液分離エレメントを備えたものが提案されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２０１２０号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記湿式気体浄化部においては超純水が用いられるが、湿式気体浄化部において水溶性汚染ガス成分を分離除去した後においても相当に高い純度を保っているが、従来はそのまま排水されている。一方、処理部においては、基板を薬液で洗浄する薬液洗浄とリンス液で洗浄するリンス洗浄とが繰り返されることとなっており、薬液洗浄直後のリンス液は、含有されている成分さえ注意すれば、純度の高い純水を用いる必要はない。ところが、実際には超純水が用いられている。
【０００６】
また、処理部でのリンス終了時に近いリンス排液は、比抵抗値が高く、洗浄液の残りや液中に溶存している汚染ガス成分はほとんどなく、二次利用が可能であるにもかかわらず、実際には排水処理されている。
【０００７】
上記したように、従来のこの種処理装置においては、処理部および湿式気体浄化部において使用された純水が未だ利用価値が十分にあるにもかかわらず、再利用されることなく、排水処理されており、その分新たな純水の補給が必要となり、処理装置のランニングコストが高くなるという不具合が存していた。
【０００８】
本願発明は、上記の点に鑑みてなされたもので、処理部や湿式気体浄化部において使用された純水の再利用を図ることにより、装置のランニングコストの低減を図ることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願発明では、上記課題を解決するための第１の手段として、洗浄等を行う処理部と、該処理部において発生する汚染ガス成分を液体に溶解させることにより除去する湿式気体浄化部とからなる処理装置において、前記湿式気体浄化部の排液を前記処理部におけるリンス時初期のリンス用洗浄液として供給する洗浄液供給手段を付設している。
【００１０】
上記のように構成したことにより、湿式気体浄化部の排液が、処理部におけるリンス時初期のリンス用洗浄液として再利用されることとなる。従って、湿式気体浄化部で使用されたリンス液が無駄に排出されることがなくなるとともに、処理部において洗浄用として用いられるリンス液の使用量を低減できることとなる。その結果、装置のランニングコストが大幅に低減されることとなる。
【００１１】
本願発明では、さらに、上記課題を解決するための第２の手段として、上記第１の手段を備えた処理装置において、前記洗浄水供給手段を、前記湿式気体浄化部からの排液を貯留する排液貯留タンクと、該排液貯留タンク内に貯留された排液を前記処理部へ供給する洗浄液ポンプとにより構成することもでき、そのように構成した場合、排液貯留タンクに湿式気体浄化部からの排液が一時的に貯留された後に（若干の汚染ガス成分が抜けた後に）処理部へ供給されることとなり、リンス時初期のリンス用洗浄液として用いるにより適したものとなる。
【００１２】
本願発明では、さらに、上記課題を解決するための第３の手段として、上記第１又は第２の手段を備えた処理装置において、前記処理部におけるリンス終了時に近く比抵抗値が高いリンス排液を前記湿式気体浄化部の補給液として供給する補給液供給手段を付設することもでき、そのように構成した場合、処理部における前記リンス排液が前記湿式気体浄化部の補給液として再利用されることとなり、処理部において用いられた前記リンス排液が無駄に排出されることがなくなるとともに、湿式気体浄化部において用いられる液体の使用量を低減できることとなって、装置のランニングコストがより大幅に低減されることとなる。
【００１３】
本願発明では、上記課題を解決するための第４の手段として、洗浄等を行う処理部と、該処理部において発生する汚染ガス成分を液体に溶解させることにより除去する湿式気体浄化部とからなる処理装置であって、前記処理部におけるリンス終了時に近く比抵抗値が高いリンス排液を前記湿式気体浄化部の補給液として供給する補給液供給手段を付設している。
【００１４】
上記のように構成したことにより、処理部における前記リンス排液が湿式気体浄化部の補給液として再利用されることとなる。従って、処理部で使用された前記リンス排液が無駄に排出されることがなくなるとともに、湿式気体浄化部において用いられる液体の使用量を低減できることとなる。その結果、装置のランニングコストが大幅に低減されることとなる。
【００１５】
本願発明では、さらに、上記課題を解決するための第５の手段として、上記第３又は第４の手段を備えた処理装置において、前記補給液供給手段を、前記処理部からのリンス終了時に近いリンス排液を貯留するリンス排液貯留タンクと、該リンス排液貯留タンク内に貯留されたリンス排液を前記湿式気体浄化部の補給液として供給する補給液ポンプとにより構成することもでき、そのように構成した場合、リンス液が余り良い状態でない時にはリンス排液貯留タンク内に貯留されたリンス排液を湿式気体浄化部の補給液として利用できる。
【発明の効果】
【００１６】
本願発明の第１の手段によれば、洗浄等を行う処理部と、該処理部において発生する汚染ガス成分を液体に溶解させることにより除去する湿式気体浄化部とからなる処理装置において、前記湿式気体浄化部の排液を前記処理部におけるリンス初期時のリンス用洗浄液として供給する洗浄液供給手段を付設して、湿式気体浄化部の排液が、処理部におけるリンス初期時のリンス用洗浄液として再利用されるようにしたので、湿式気体浄化部で使用された液体が無駄に排水されることがなくなるとともに、処理部において洗浄用として用いられるリンス液の使用量を低減できることとなり、装置のランニングコストを大幅に低減できるという効果がある。
【００１７】
本願発明の第２の手段におけるように、上記第１の手段を備えた処理装置において、前記洗浄液供給手段を、前記湿式気体浄化部からの排液を貯留する排液貯留タンクと、該排液貯留タンク内に貯留された排液を前記処理部へ供給する洗浄液ポンプとにより構成することもでき、そのように構成した場合、排液貯留タンクに湿式気体浄化部からの排液が一時的に貯留された後に（若干の汚染ガス成分が抜けた後に）処理部へ供給されることとなり、リンス初期時のリンス用洗浄液として用いるにより適したものとなる。
【００１８】
本願発明の第３の手段におけるように、上記第１又は第２の手段を備えた処理装置において、前記処理部におけるリンス終了時に近く比抵抗値が高いリンス排液を前記湿式気体浄化部の補給液として供給する補給液供給手段を付設することもでき、そのように構成した場合、処理部におけるリンス排液が前記湿式気体浄化部の補給液として再利用されることとなり、処理部において用いられたリンス排液が無駄に排出されることがなくなるとともに、湿式気体浄化部において用いられる液体の使用量を低減できることとなって、装置のランニングコストがより大幅に低減されることとなる。
【００１９】
本願発明の第４の手段によれば、洗浄等を行う処理部と、該処理部において発生する汚染ガス成分を液体に溶解させることにより除去する湿式気体浄化部とからなる処理装置であって、前記処理部におけるリンス終了時に近いリンス排液を前記湿式気体浄化部の補給液として供給する補給液供給手段を付設して、処理部におけるリンス排液が湿式気体浄化部の補給液として再利用されるようにしたので、処理部で使用された前記リンス排液が無駄に排出されることがなくなるとともに、湿式気体浄化部において用いられる液体の使用量を低減できることとなり、装置のランニングコストを大幅に低減できるという効果がある。
【００２０】
本願発明の第５の手段におけるように、上記第３又は第４の手段を備えた処理装置において、前記補給液供給手段を、前記処理部からのリンス終了時に近いリンス排液を貯留するリンス排液貯留タンクと、該リンス排液貯留タンク内に貯留されたリンス排液を前記湿式気体浄化部の補給液として供給する補給液ポンプとにより構成することもでき、そのように構成した場合、リンス排液が余り良い状態でない時にはリンス排液貯留タンク内に貯留されたリンス排液を湿式気体浄化部の補給液として利用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付の図面を参照して、本願発明の幾つかの好適な実施の形態について説明する。
【００２２】
第１の実施の形態
図１には、本願発明の第１の実施の形態にかかる処理装置が示されている。
【００２３】
この処理装置は、半導体ウエハの処理部として作用する洗浄装置Ｘと、該洗浄装置ＸからダクトＤ1を介して排出された非清浄空気Ｗ′に含まれる水溶性汚染ガス成分を分離除去する湿式空気浄化部として作用する気体浄化装置Ｚとからなっており、気体浄化装置Ｙにおいて清浄化された再生空気Ｗは、ダクトＤ2を介して再び洗浄装置Ｘへ供給されることとなっている。符号Ｆは洗浄装置Ｘへの空気供給部となる天井部に配設された高性能フィルタを備えたファンフィルタユニットである。
【００２４】
前記気体浄化装置Ｚは、例えば、多孔質膜を介して気液接触を行うことにより非清浄空気Ｗ′中の水溶性汚染ガス成分を液体（本実施の形態においては、純水）中に分離除去する湿式の気体浄化ユニットＫを配設して構成されている。符号Ｃは清浄空気Ｗを洗浄装置Ｘへ圧送するためのファンである。なお、気体浄化ユニットとしては、貯水槽から供給される液体（例えば、純水）を噴霧する噴霧式のものを採用することができる。
【００２５】
前記洗浄装置Ｘには、洗浄用の液体（本実施の形態においては、純水）を供給するための純水供給手段１と、基板などの洗浄に供された後の洗浄水を排出するための洗浄水排水手段２とが付設されている。符号３は洗浄水の供給が必要なときにのみ開弁される開閉弁である。
【００２６】
一方、気体浄化ユニットＫには、液体（本実施の形態においては、純水）を循環させるための純水循環手段４が付設されている。該純水循環手段４には、循環用ポンプ５が介設されている。符号６は純水循環手段４に純水を補給するための純水補給手段、７は純水補給手段６に介設された開閉弁であり、該開閉弁７は、純水の補給が必要なときにのみ開弁される。
【００２７】
本実施の形態においては、前記気体浄化ユニットＫの排水を前記洗浄装置Ｘにおけるリンス初期時のリンス用洗浄液（以下、粗リンス用洗浄液という）として供給する洗浄液供給手段８が付設されている。
【００２８】
この洗浄液供給手段８は、前記純水循環手段４から分岐して前記純水供給手段１における開閉弁３の下流側に接続された管路からなっており、該管路の途中には、前記気体浄化ユニットＫの純水循環手段４からの排水が必要なときにのみ開弁する開閉弁９と、前記気体浄化ユニットＫの純水循環手段４からの排液（以下、排水という）を一時的に貯留するための排液貯留タンク１０と、該排液貯留タンク１０内に貯留された排水を前記洗浄装置Ｘにおける純水供給手段１へ供給する洗浄液ポンプ１１と、該洗浄液ポンプ１１の下流側にあって粗リンス用洗浄液供給時にのみ開弁される開閉弁１２とが介設されている。
【００２９】
上記のように構成したことにより、気体浄化ユニットＫの純水循環手段４の排水が、洗浄装置Ｘにおける粗リンス用洗浄水として再利用されることとなる。従って、気体浄化ユニットＫで使用された純水が無駄に排水されることがなくなるとともに、洗浄装置Ｘにおいて洗浄用として用いられる純水の使用量を低減できることとなる。その結果、装置のランニングコストが大幅に低減されることとなる。しかも、排水貯留タンク１０に気体浄化ユニットＫからの排水が一時的に貯留された後に（若干の汚染ガス成分が抜けた後に）洗浄装置Ｘへ供給されることとなり、粗リンス用として用いるにより適したものとなる。
【００３０】
第２の実施の形態
図２には、本願発明の第２の実施の形態にかかる処理装置が示されている。
【００３１】
この場合、洗浄装置Ｘにおけるリンス終了時に近いリンス排液を気体浄化ユニットＫの補給液として供給する補給液供給手段１３が付設されている。該補給液供給手段１３は、洗浄水排水手段２から分岐して純水循環手段４に接続された管路からなっており、該管路の途中には、補給液ポンプ１４と、リンス終了時に近く比抵抗の高い水（例えば、０．５ＭΩ・ｃｍ以上）が洗浄装置Ｘの排水となっているときにのみ開弁される開閉弁１５とが介設されている。符号１６は純水循環手段４からの排水を排出するための排水手段である。なお、本実施の形態の場合、純水補給手段および洗浄水供給手段は省略される。このようにすると、洗浄装置Ｘにおけるリンス終了時に近く比抵抗値の高いリンス排液が気体浄化ユニットＫにおける純水循環手段４の補給液として再利用されることとなり、洗浄装置Ｘにおいて用いられたリンス排液が無駄に排出されることがなくなるとともに、気体浄化ユニットＫにおいて用いられる液体（即ち、純水）の使用量を低減できることとなって、装置のランニングコストがより大幅に低減されることとなる。
【００３２】
その他の構成および作用効果は、第１の実施の形態におけると同様なので説明を省略する。
【００３３】
第３の実施の形態
図３には、本願発明の第３の実施の形態にかかる処理装置が示されている。
【００３４】
この場合、第１の実施の形態と第２の実施の形態とを組み合わせたものとなっている。即ち、気体浄化ユニットＫの排水を前記洗浄装置Ｘにおける粗リンス用洗浄水として供給する洗浄液供給手段８と、洗浄装置Ｘにおけるリンス排液を気体浄化ユニットＫの補給液として供給する補給液供給手段１３とが付設されている。
【００３５】
前記洗浄液供給手段８は、前記純水循環手段４から分岐して前記純水供給手段１における開閉弁３の下流側に接続された管路からなっており、該管路の途中には、前記気体浄化ユニットＫの純水循環手段４からの排水が必要なときにのみ開弁する開閉弁９と、前記気体浄化ユニットＫの純水循環手段４からの排液（即ち、排水）を一時的に貯留するための排液貯留タンク１０と、該排液貯留タンク１０内に貯留された排水を前記洗浄装置Ｘにおける純水供給手段１へ供給する洗浄液ポンプ１１と、該洗浄液ポンプ１１の下流側にあって粗リンス用洗浄液供給時にのみ開弁される開閉弁１２とが介設されている。
【００３６】
一方、前記補給液供給手段１３は、洗浄水排水手段２から分岐して純水循環手段４に接続された管路からなっており、該管路の途中には、補給水ポンプ１４と、リンス終了時に近く比抵抗の高い水（例えば、０．５ＭΩ・ｃｍ以上）が洗浄装置Ｘの排水となっているときにのみ開弁される開閉弁１５とが介設されている。
【００３７】
上記のように構成したことにより、気体浄化ユニットＫの純水循環手段４の排水が、洗浄装置Ｘにおける粗リンス用洗浄水として再利用されることとなる。従って、気体浄化ユニットＫで使用された純水が無駄に排水されることがなくなるとともに、洗浄装置Ｘにおいて洗浄用として用いられる純水の使用量を低減できることとなる。その結果、装置のランニングコストが大幅に低減されることとなる。しかも、排水貯留タンク１０に気体浄化ユニットＫからの排水が一時的に貯留された後に（若干の汚染ガス成分が抜けた後に）洗浄装置Ｘへ供給されることとなり、粗リンス用として用いるにより適したものとなるし、洗浄装置Ｘにおけるリンス排液が気体浄化ユニットＫにおける純水循環手段４の補給液として再利用されることとなり、洗浄装置Ｘにおいて用いられたリンス排液が無駄に排出されることがなくなるとともに、気体浄化ユニットＫにおいて用いられる純水の使用量を低減できることとなって、装置のランニングコストがより大幅に低減されることとなる。
【００３８】
その他の構成および作用効果は、第１の実施の形態におけると同様なので説明を省略する。
【００３９】
第４の実施の形態
図４には、本願発明の第４の実施の形態にかかる処理装置が示されている。
【００４０】
この場合、第３の実施の形態における補給液供給手段１３の途中において補給ポンプ１４の上流側には、リンス時の比抵抗の高い水（例えば、０．５ＭΩ・ｃｍ以上）が洗浄装置Ｘの排液となっているときにのみ開弁される開閉弁１５と、該開閉弁１５の下流側にあって洗浄装置Ｘからのリンス排液を貯留するリンス排液貯留タンク１６とが介設されている。符号７は純水循環手段４への純水補給が必要なときにのみ開弁される開閉弁である。このようにすると、リンス排液が余り良い状態でない時にはリンス排液貯留タンク１６内に貯留されたリンス排液を気体浄化ユニットＫにおける純水循環手段４の補給液として利用できる。また、気体浄化ユニットＫからの給水と排水を無くすることができる。
【００４１】
その他の構成および作用効果は、第３の実施の形態におけると同様なので説明を省略する。
【００４２】
なお、リンス用の薬液濃度によっては、粗リンス槽とファイナルリンス槽とに分ける場合もあるが、その場合にもリンス工程の初期と終了時に近い時とでリンス槽を使い分けることで対応できる。
【００４３】
また、本実施の形態においては、洗浄液および気体浄化用として純水を使用しているが、他の溶液を使用することも可能である。
【００４４】
上記各実施の形態においては、気体浄化装置Ｚが付設される装置Ｘを洗浄装置としているが、該装置Ｘは、洗浄装置に限らず、フォトレジスト塗布現像装置等の基板処理装置やミニエンバイロメント（ＥＦＥＭ）などとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本願発明の第１の実施の形態にかかる処理装置の概略構成を示す断面図である。
【図２】本願発明の第２の実施の形態にかかる処理装置の概略構成を示す断面図である。
【図３】本願発明の第３の実施の形態にかかる処理装置の概略構成を示す断面図である。
【図４】本願発明の第４の実施の形態にかかる処理装置の概略構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１は純水供給手段
２は洗浄液排水手段
４は純水循環手段
８は洗浄液供給手段
１０は排液貯留タンク
１１は洗浄液ポンプ
１３は補給液供給手段
１４は補給液ポンプ
１６はリンス排液貯留タンク
Ｋは湿式気体浄化部（気体浄化ユニット）
Ｘは処理部（洗浄装置）
Ｚは気体浄化装置
【図１】
2006216599.tif 000003
【図２】
2006216599.tif 000004
【図３】
2006216599.tif 000005
【図４】
2006216599.tif 000006