(57)【要約】【課題】  印刷面がシリコーンゴム層であるオフセット印刷用ブランケットを用いて、有機発光材料を溶剤中に溶解又は安定して分散させてなる有機発光インキをオフセット印刷法にて基板上に印刷し有機発光層をパターン形成する際に、ブランケット上にあるパターン化されたインキを被印刷基板に対して全て転写させ、信頼性の高い有機ＥＬ素子を得ることを目的とする。【解決手段】  トルエン浸漬による分子量１０００以上の溶出シリコーンオイル成分が１００ｐｐｍ以下であり、且つ、分子量１３０以上１０００未満のシリコーンオイル成分が１００ｐｐｍ以上且つ１５０００ｐｐｍ以下であるシリコーンゴム層が印刷面であるオフセット印刷用ブランケットをもちいて、有機発光層をオフセット印刷法にて形成する。【選択図】図１
2006260929.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光材料を溶剤中に溶解または安定して分散させてなる有機発光インキを凸版反転オフセット印刷法にて被印刷基板上に印刷し有機発光層をパターン形成する際に使用するシリコーンゴム層が印刷面のオフセット印刷用シリコーンブランケットが、トルエンに１時間浸漬したときにシリコーンゴム層からトルエンに溶出するシリコーンオイル成分のうち分子量１０００以上の溶出シリコーンオイル成分が１００ｐｐｍ以下であり、且つ、分子量１３０以上１０００未満の溶出シリコーンオイル成分が１００ｐｐｍ以上且つ１５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の製造方法を用いて有機発光層が形成されたことを特徴とする有機ＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機ＥＬ素子に係り、有機発光材料を溶剤中に溶解又は安定して分散させてなる有機発光インキをオフセット印刷法にて基板上に印刷し有機発光層をパターン形成する際、使用するブランケットに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子とは、ふたつの対向する電極の間に有機発光材料からなる有機発光層が形成され、有機発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには発光層の膜厚が重要であり、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。有機ＥＬ素子に用いられる有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出にくいという問題がある。
【０００３】
最近では有機発光材料に高分子材料を用い、有機発光材料を溶剤に溶かして塗工液（インキ）にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたりＲＧＢ３色に塗り分けしたりするにはこれらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け、パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。
【０００４】
さらに、各種印刷法のなかでも、有機ＥＬ素子やディスプレイでは、ガラス基板を用いることが多いため、ゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や感光性樹脂版を用いる凸版印刷法が好適である。実際にこれらの印刷法による試みとして、オフセット印刷による方法（例えば特許文献１）、凸版印刷による方法（例えば特許文献２）などが提唱されている。
【０００５】
オフセット印刷法には凹版オフセット印刷法や凸版反転オフセット印刷法と呼ばれるものがある。凹版オフセット印刷法と凸版反転オフセット印刷法はともに平滑なゴム層を印刷面に有するブランケットを用いてパターン化されたインキを被印刷基板上に転写するものであるが、インキをパターン化する工程が異なる。凹版オフセット印刷法はオフセット印刷法として広く知られているものであり、インキ供給手段から凹版にインキを供給し、凹版の凹部にインキを満たすことによりインキをパターン化する工程と、凹版の凹部にあるパターン化されたインキをブランケットに転写する工程と、ブランケットを被印刷基板に押圧し分離してブランケット上にあるインキパターンを被印刷基板に印刷する工程からなる。
【０００６】
これに対して、凸版反転オフセット印刷法はインキ供給手段からブランケットの有効面全面にインキを塗工する工程と、凸部を被印刷基板に形成するパターンのネガパターンにした除去版にブランケットを押圧して分離することで、ブランケットからネガパターンでインキを除去しブランケット上に所望のパターンを形成する工程と、ブランケットを被印刷基板に押圧し分離してブランケット上にあるインキパターンを被印刷機板に印刷する工程からなる。この凸版反転オフセット印刷法は、インキの塗布状態とインキの転移状態とを独立して制御できるため、インキ膜厚の均一性がよいこと、糸引き現象が発生しない良好な転移を低印圧で実現できることから、高精細で歪みの少ない画像を形成する上で有利な方法である。なお、凸版反転オフセット印刷法に用いられるブランケットの印刷面の用いられるゴム材料は印刷適性等を考慮するとシリコーンゴムが好適である。
【０００７】
凸版反転オフセット印刷法により、有機発光材料を溶剤に分散、溶解させた有機発光インキを印刷面がシリコーンゴム層であるシリコーンブランケットから被印刷基板に印刷すると、シリコーンブランケットの印刷面であるシリコーンゴム層中に含まれるシリコーンオイルが有機発光インキに混入し、また、インキの無いインキパターン外においてシリコーンゴム層と被印刷基板が接触しシリコーンオイルが被印刷基板に転移する。そして、転移したシリコーンオイルは、電極等を形成し有機ＥＬ素子とした際のコンタミネーションとなり、発光不良が発生してしまう。
【０００８】
そこで、被印刷基板に有機発光インキからなる有機発光層を形成した後に、被印刷基板上に存在するシリコーンオイルを除去する方法としては各種洗浄方法や減圧乾燥、加熱乾燥による方法が挙げられるが、洗浄による除去ではシリコーンオイルのみを除去する洗浄液を選択することが困難である。減圧乾燥のみによる除去方法では有機発光層中に混入したシリコーンオイルのうち低揮発性のものを十分に取り除くことはできず、一部が発光しなくなってしまう。また、加熱乾燥による除去方法では、加熱温度を高温にした場合、熱により有機発光層が変質し発光しなくなってしまう。
【０００９】
さらに、シリコーンゴム層中に存在するシリコーンオイルが過多であった場合には、シリコーンゴム層上でインキハジキが発生してしまい、所望の形状及び膜厚を有する均一な有機発光インキパターンを得ることができなくなってしまう。
【００１０】
特許文献３において印刷層がシリコーンゴム層であるオフセットブランケットに対し、重合度２０以下の低分子量シロキサン及び無官能性シリコーンオイルの濃度をいずれも１５００ｐｐｍ以下としたオフセットブランケットが提案されている。しかし、シリコーンブランケットのシリコーンゴム層に含まれるシリコーンオイルを除去した場合、パターン化された有機発光インキをシリコーンブランケットから被印刷基板上に印刷するときのシリコーンブランケットとインキの剥離性が悪くなってしまう。
【００１１】
すなわち、オフセット印刷では、印刷面であるシリコーンゴム層に除去版により有機発光インキをパターニングし、これを被印刷基板へとへ印刷するが、パターニングを精細に行なうには、ブランケット上にある有機発光インキを乾燥させ、半乾燥状態にし、インキパターンの形状を一定に維持する必要がある。このため、シリコーンオイルを除去した場合、オフセット印刷用シリコーンブランケット上の有機発光インキとシリコーンゴム層との密着力が高くなり、シリコーンゴム層と被印刷基板の間で有機発光インキの取り合いが起こる。有機発光インキとシリコーンゴム層の密着力が大きい場合、被印刷基板にパターンがすべて転写されずに、有機発光インキがシリコーンブラケット上に残ってしまうという問題が発生する。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８号公報
【特許文献３】特開平５−２２９２７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
そこで、本発明では有機発光材料を溶剤に分散、溶解させた有機発光インキを凸版反転オフセット印刷法によりシリコーンブランケットから被印刷基板にパターン印刷し有機発光層を形成する際に、シリコーンブランケットの印刷面であるシリコーンゴム層から被印刷基板にパターンがすべて印刷されることと被印刷基板に印刷された有機発光層に電極等を形成し有機ＥＬ素子とした際に有機ＥＬ素子がすべて正常に発光することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは印刷面であるシリコーンゴム層において揮発性のシリコーンオイル成分のみが所定の濃度で存在し、揮発性の低いシリコーンオイルがほとんど存在しないシリコーンブランケットを用いて凸版反転オフセット印刷法により有機発光インキを被印刷基板に印刷することによって、被印刷基板上にパターン化された有機発光インキが全て印刷されることと、印刷時に被印刷基板上に転移したシリコーンオイル成分を被印刷基板を高温加熱することなく減圧乾燥のみで除去できることを見出した。
【００１４】
したがって、請求項１に係る発明として、有機発光材料を溶剤中に溶解または安定して分散させてなる有機発光インキを凸版反転オフセット印刷法にて被印刷基板上に印刷し有機発光層をパターン形成する際に使用するシリコーンゴム層が印刷面のオフセット印刷用シリコーンブランケットが、トルエンに１時間浸漬したときにシリコーンゴム層からトルエンに溶出するシリコーンオイル成分のうち分子量１０００以上の溶出シリコーンオイル成分が１００ｐｐｍ以下であり、且つ、分子量１３０以上１０００未満の溶出シリコーンオイル成分が１００ｐｐｍ以上且つ１５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法とした。
【００１５】
また、請求項２に係る発明として、請求項１記載の製造方法を用いて有機発光層が形成されたことを特徴とする有機ＥＬ素子とした。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のシリコーンブランケットを用いて凸版反転オフセット印刷法により有機発光層を形成することにより、有機発光インキをシリコーンゴム層にパターン形成し、そのパターン化された有機発光インキを被印刷基板に対してすべて転写させることが可能となった。また、高温加熱することなく減圧乾燥することにより被印刷基板上に転移した有機発光層中のシリコーンオイルをすみやかに除去することが可能となり、信頼性の高い有機ＥＬ素子を得ることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明のシリコーンブランケットの印刷面に用いられるシリコーンゴム層はベース基材の上に設けられる。ベース基材としては、印刷時にブランケット胴に取り付けられることから可とう性のあるシートであれば構わないが、コスト及び寸法安定性からポリエチレンテレフタレートフィルムといったポリエステルフィルムが好適である。また、ベース基材とシリコーンゴム層の間には必要に応じてプライマー層が設けられる。また、ベース基材の下には必要に応じてクッション層が設けられる。
【００１８】
クッション層としてはスポンジ状の材料を用いることができる。なお、シリコーンゴム層は、ベース基材上でシリコーンゴム材料を硬化させることも、シリコーンゴム材料を型で硬化させた後にベース基材と貼りあわせることも可能である。シリコーンゴム層とベース基材およびクッション層を合わせた形でシリコーンブランケットとなる。なお、シリコーンゴム層のみでシリコーンブランケットとし、ブランケット胴に取り付けることも可能である。
【００１９】
本発明のシリコーンゴム層に用いられるシリコーンゴム材料は主剤と硬化剤を混合し、ベース基材上で硬化し用いられる。シリコーンゴム材料は印刷適性のあるものであれば構わないが、ＲＴＶ（室温硬化）型で付加型のシリコーンゴム材料が副生成物を発生せず、寸法安定が良いため好適である。なお、硬化前の段階でシリコーンオイル成分（シロキサン成分）が除去された、いわゆるシロキサン除去グレードのシリコーンゴム材料が市販されているのでそれらを用いても良い。
【００２０】
本発明におけるシリコーンゴム層を６時間トルエンに浸漬したときの溶出シリコーンオイルの量は、シリコーンゴム層全体を十分に浸漬できるだけの量のトルエンにシリコーンゴム層を６時間浸漬し、その後、浸漬したトルエンに対して１Ｈ−ＮＭＲ法またはＬＣ−ＭＳ法からトルエンに溶出したシリコーンオイル由来のピーク強度（面積）を測定することによって求めることができる。
【００２１】
本発明のシリコーンブランケットは、まず、シリコーンゴム層中に存在する全ての溶出シリコーンオイル成分を１００ｐｐｍ以下になるまで除去し、除去後に分子量が１５０以上１０００未満のシリコーンオイルを新たに加えることで得ることができる。
【００２２】
シリコーンゴム層中のシリコーンオイル除去方法としては、シリコーンゴムを真空中で加熱乾燥させシリコーンオイルを蒸発させる方法や、トルエン等の液体に浸漬させ除去する方法が用いられるが、この限りではない。なお、トルエン等の液体に浸漬する方法では、浸漬時に加熱や超音波洗浄を用いることにより溶出シリコーンオイル除去を促進させることができる。また、溶出シリコーンオイル成分が１００ｐｐｍ以下のシリコーンゴムを得るためにはトルエン等の液体を入れ替え、同様の操作を複数回行なう必要がある。なお、シリコーンオイル除去はシリコーンゴム硬化前、硬化後のどちらでおこなっても構わない。ただし、硬化前にシリコーンオイル除去をおこなった場合、硬化反応が不十分であるとき未反応のシリコーンゴムが溶出シリコーンオイル成分となってしまう。
【００２３】
また、分子量１３０以上１０００未満のシリコーンオイルをシリコーンゴムに付加する方法としては、シリコーンゴムを硬化する前に添加する方法と、シリコーンゴム硬化後に添加する方法が挙げられる。シリコーンゴム層硬化前に加えるには、所定量の分子量１３０以上１０００以下のシリコーンオイルをシリコーンゴム材料にそのまま加えればよい。シリコーンゴム層硬化後に加えるには、トルエン等の溶媒に所定量の分子量１３０以上１０００以下のシリコーンオイルを添加したシリコーンオイル溶液にシリコーンゴム層を浸漬させればよい。
【００２４】
分子量１３０以上１０００未満の溶出シリコーンオイル成分が１００ｐｐｍ以下の場合、インキとシリコーンブランケットの剥離性が悪いために、パターン化されたインキの一部が被印刷基板に対して転写されずにシリコーンブランケット上に上に残ってしまう。また、１５００ｐｐｍ以上の場合、シリコーンゴム表面にシリコーンオイル成分が多くなり、インキをはじいてしまい、シリコーンゴム上に所望通りにパターン化されたインキを形成することができなくなってしまう。
【００２５】
本発明における分子量１３０以上１０００以下のシリコーンオイルは、一般的なシロキサン化合物であればよい。シロキサン化合物の基本構造を（化１）に示した。
【００２６】
【化１】
2006260929.tif 000003
【００２７】
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素、また、メチル基、エチル基、プロピル基といったアルキル基、フェニル基といったアリール基、シリル基が挙げられる。また、これらの一部はハロゲン基によって置換されていても構わない。また、アリール基はその一部がアルキル基によって置換されていても構わない。また、（化１）においてＲ３とＲ４が単結合で結ばれた環状シロキサンであっても構わない。また、構造の一部に不飽和結合を有していても構わない。
【００２８】
（表１）にジメチルシロキサン化合物の分子量と沸点を示した。
【００２９】
【表１】
2006260929.tif 000004
【００３０】
（表１）に示される通り、被印刷基板上にあるシリコーンブランケットから転移した分子量１３０以上１０００未満のシリコーンオイルは２００℃以下の減圧乾燥により十分に除去することが可能となる。好ましくは１３０℃以下で減圧乾燥するほうが有機発光インキの選択性が広がるため好ましい。分子量が１０００以上の場合、被印刷基板上にあるシリコーンオイルを十分に除去するには２００℃より高い温度で減圧乾燥する必要があり、有機発光層が変質してしまう。
【００３１】
有機発光インキの耐熱性によって分子量１３０以上１０００未満のシリコーンオイルは適宜選択される。耐熱性の悪いインクや被印刷基板を使用する場合には、沸点の低いすなわち分子量が小さいシリコーンオイルを用いればよい。ただし、沸点の低いシリコーンオイルは、オフセット印刷においてシリコーンブランケットの使用時間が長時間になった場合にシリコーンオイル成分が揮発し、その効果が十分にあらわれない可能性がある。
【００３２】
図１に、本発明に係る有機ＥＬ素子を示す模式断面図を示す。この有機ＥＬ素子１０は、透光性基板１１と透明導電層１２と正孔注入層１３と有機発光媒体層１４と陰極層１５とを具備するものである。
【００３３】
この高分子ＥＬ素子１０において、透光性基板１１としては、ガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。プラスチック製のフィルムを用いれば、巻き取りにより高分子ＥＬ素子の製造が可能となり、安価に素子を提供できる。そのプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート等を用いることができる。また、透明導電層１２を成膜しない側にセラミック蒸着フィルムやポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物等の他のガスバリア性フィルムを積層してもよい。
【００３４】
透明導電層１２の材料としては、インジウムと錫の複合酸化物（以下ＩＴＯという）が挙げられる。また、アルミニウム、金、銀等の金属が半透明状に蒸着されたものや、ポリアニリン等の有機半導体などが挙げられる。また、正孔注入層１３の材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物等の導電性高分子材料が挙げられる。
【００３５】
有機発光媒体層１４は有機発光材料を含有する有機発光層を含有する層であり、電流が流れることにより発光する層である。高分子の有機発光材料としては、例えば、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系などの高分子材料が挙げられる。
【００３６】
また、有機発光媒体層１４は必要に応じ、有機発光材料を含有する有機発光層以外に正孔注入層・正孔輸送層・電子ブロック層・正孔ブロック層・電子輸送層・電子注入層を含む積層構造をとることが可能である。なお、有機発光媒体層１４に正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層・電子輸送層・電子注入層が設けられた場合、これらの層を形成する際にも本発明の製造方法を適用することが可能である。
【００３７】
正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層とは、正孔輸送性及び／若しくは電子ブロック性を有する材料を有する層であり、それぞれ透明導電層１２から有機発光媒体層１４への正孔注入の障壁を下げる、透明導電層１２から注入された正孔を陰極層１５の方向へ進める、正孔を通しながらも電子が透明導電層１２の方向へ進行するのを妨げる役割を担う層である。
【００３８】
これらの層に用いられる材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物等の高分子材料が挙げられる。また、ポリパラフェニレン（ＰＰＰ）等のポリアリーレン系、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）等のポリアリーレンビニレン系等の導電性高分子若しくはポリスチレン（ＰＳ）等の高分子に、アリールアミン類、カルバゾール誘導体、アリールスルフィド類、チオフェン誘導体、フタロシアニン誘導体等の低分子の正孔輸送性、電子ブロック性を示す材料を混合したものを用いても良い。
【００３９】
正孔ブロック層、電子輸送層とは電子輸送性及び／若しくは正孔ブロック性を有する材料を有する層であり、それぞれ陰極層１５から注入された電子を透明導電層１２の方向へ進める。電子を通しながらも正孔が陰極層１５の方向へ進行するのを妨げる役割を担う層である。これらの層に用いられる材料としては、電子輸送性ポリシラン、ポリシロール、含ボロンポリマー等の電子輸送性を有するもの、ポリパラフェニレン（ＰＰＰ）等のポリアリーレン系、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）等のポリアリーレンビニレン系等の導電性高分子若しくはポリスチレン等の高分子に、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）誘導体の電荷移動錯体、シロール誘導体、アリールボロン誘導体、ビスフェナントロリン等のピリジン誘導体、パーフルオロ化されたオリゴフェニレン誘導体、オキサジアゾール誘導体等の電子輸送性若しくは正孔ブロック性を有する材料を混合したものを用いても良い。
【００４０】
電子注入層とは電子注入性を有する材料を有する層であり、陰極層１５から有機発光媒体層１４への電子の注入障壁を下げる役割を担う層である。この層に用いられる材料としては、前述の電子輸送層に用いられるのと同様な材料の他に、フッ化リチウムや酸化リチウム等のアルカリ金属やアルカリ土類金属の塩や酸化物をポリスチレン（ＰＳ）等の高分子材料に混合したものを用いても良い。
【００４１】
陰極層１５の材料としては、有機発光媒体層１４の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウムなどの金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。
【００４２】
正孔注入層１３の形成は、高分子ＥＬ材料インキとして、前記導電性高分子材料を含有するインキを用いる。先ず、透明導電層付き透光性基板を用意し、その透明導電層を所定のパターンにエッチングし、次いで、パターン状に透明導電層が形成された透光性基板上に、導電性高分子材料を含有するインキを印刷して正孔注入層を設ける。このようにして、透光性基板と透明導電層と正孔注入層とを有する被印刷基板を得る。
【００４３】
有機発光媒体層１４にある有機発光層の形成は、有機発光インキを用いる。有機発光インキとは、上述した有機発光材料が溶媒に溶解または分散したものである。有機発光材料を溶解または分散する溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独またはこれらの混合溶媒などが挙げられる。また、有機発光インキには、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されてもよい。
【００４４】
次に、有機ＥＬ素子の製造方法および有機発光層を形成する際の凸版反転オフセット印刷法について示す。図２に有機発光層を形成する際の凸版反転オフセット印刷装置の模式図を示した。まず、透明導電層付き透光性基板を用意し、その透明導電層を所定のパターンにエッチングし、次いで、パターン状に透明導電層が形成された透光性基板上に、導電性高分子材料を含有するインキを印刷して正孔注入層を設ける。このようにして、透光性基板と透明導電層と正孔注入層とを有する被印刷基板２５を得る。次に、図示しないインキ供給手段からブランケット胴２０に設置したシリコーンブランケット２１の有効面に有機発光インキ２２を塗布、乾燥させ塗膜を形成する。
【００４５】
次いで、ブランケット胴２０を回転させ、インキのネガパターンが形成された除去版２３とシリコーンブランケット２１を圧着させ、除去版２３を固定したステージ２４をブランケット胴の回転に合わせ移動させる。このとき除去版の凸部に圧着した有機発光インキ２２はブランケットから除去され除去版２３の凸部に転移し、ブランケット上には所望の有機発光インキ２２のパターンが形成される（図２（ａ）、（ｂ））。次に、ブランケット胴２０を回転させ、被印刷基板とシリコーンブランケット２１を圧着させ、被印刷基板２５を固定したステージ２４をブランケット胴２０の回転に合わせて移動させる。このとき、シリコーンブランケット上にある有機発光インキ２２のパターンは被印刷基板２５に印刷される（図２（ｃ）、（ｄ））。
【００４６】
なお、図２ではブランケット胴の回転に合わせ除去版および被印刷基板のあるステージが移動する機構だが、ブランケット胴の回転に合わせブランケット胴が移動する機構であっても良い。以上より、被印刷基板上に有機発光層は形成され、印刷時に転移したシリコーンオイル成分及び余分な溶剤を減圧乾燥により除去し、その上に陰極層を設け有機ＥＬ素子を得る。
【実施例】
【００４７】
ＴＳＥ３０３２（Ａ）（ＧＥ東芝シリコーン製２液型シリコーンゴム主剤）１００重量部と、ＴＳＥ３０３２（Ｂ）（ＧＥ東芝シリコーン製２液型シリコーンゴム硬化剤）１０重量部とを混合し、シリコーンゴム組成物を得た。この組成物を型に流し込み、７０℃で２時間加熱し硬化反応をさせた。これにより、厚さ２ｍｍのシリコーンブランケット１を得た。
【００４８】
オフセット印刷用ブランケット１をＳＵＳ製の容器に入った過剰量のトルエンに漬け、超音波洗浄を１時間行った。洗浄の都度トルエンを新たな物に入れ替え、同様な洗浄を１０回行ないブランケット２を得た。なお、ブランケット２をさらにトルエンに６時間浸漬し、そのトルエン溶液を１Ｈ−ＮＭＲ法で分析した結果、溶出シリコーンオイル成分は１０ｐｐｍとなった。
【００４９】
この十分な洗浄をほどこしたシリコーンブランケット２を、デカメチルシクロペンタシロキサンを溶解したトルエン溶液に４８時間浸漬し、シリコーンブランケット中の溶出シリコーンオイルの量が１０００ｐｐｍとなるようなシリコーンブランケット３を得た。
【００５０】
次に、上述したシリコーンブランケット３の表面に、ポリアリーレンビニレン系高分子発光体であるポリ（２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシロキシ）−１，４−フェニレンビニレン）をトルエンに溶解し、有機発光インキを得た。この有機発光インキをバーコーターにて塗布、乾燥して１００ｎｍの層を形成した。有機発光インキはブランケット上に均一に塗布されており、インキはじきによるメロンパターンなどの塗布ムラは一切見られなかった。次いで、有機発光インキが外側に位置するようにブランケットをブランケット胴に巻き付けた。また、ＩＴＯ付きガラス基板を用意し、そのＩＴＯを所定のパターンにエッチングした。次いで、エッチングした透明導電層上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物をグラビア印刷法によりパターン上に印刷して厚さ５０ｎｍの正孔注入層を設けた。このようにして、透光性基板と透明導電層と正孔注入層とを有する被印刷基板を得た。
【００５１】
次に、ブランケット上の有機発光インキを、被転写体の正孔注入層に押圧部材により圧着させた。続いて、ブランケットが巻き付けられたブランケット胴を回転させるとともにその回転に応じて被印刷基板を平行に移動させて、有機発光インキをを被印刷基板に順次印刷した。その結果、有機発光インキは被印刷基板に完全に印刷された。被印刷基板を窒素雰囲気下で１３０℃、３０分減圧乾燥し印刷時に転移したシリコーンオイル成分及び余分な溶剤を除去し有機発光層を得た。次いで、陰極層としてフッ化リチウムおよびアルミニウムを真空蒸着によりそれぞれ０．５ｎｍ、２００ｎｍ設けて、有機ＥＬ素子を得た。得られた高分子ＥＬ素子に８Ｖの電圧を印可したところ、１００ｃｄ／ｍ２のパターン化された発光を示した。この有機ＥＬ素子の発光面を光学顕微鏡で１００倍まで拡大して観察したところ発光ムラは一切見られなかった。
【００５２】
（比較例１）
上記実施例記載のシリコーンブランケット１を用い、同様な印刷試験を行った。その結果、ブランケット上でインキが若干はじかれ塗膜にムラが生じた。その塗膜は被転写体へ完全に転写されたが、減圧乾燥後もムラはそのまま残った。
【００５３】
得られた有機ＥＬ素子に１５Ｖの電圧を印可したところ、１００ｃｄ／ｍ２のパターン化された発光を示した。この有機ＥＬ素子の発光面を観察したところ、目視でわかる程のマーブル模様の発光ムラが観測された。
【００５４】
（比較例２）
上記実施例記載のブランケット２を用い、同様な印刷試験を行った。その結果、有機発光インキはブランケット上に均一に塗布されており、インキはじきによるメロンパターンなどの塗布ムラは一切見られなかったが、有機発光インキは被印刷基板へは転写されず、すべてブランケット上に残ってしまった。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明に係る有機ＥＬ素子を示す模式断面図である
【図２】有機発光層を形成する際の凸版反転オフセット印刷装置の模式図である
【符号の説明】
【００５６】
１０・・有機ＥＬ素子
１１・・透光性基板
１２・・透明導電層
１３・・正孔注入層
１４・・高分子発光媒体層
１５・・陰極層
２０・・ブランケット胴
２１・・シリコーンブランケット
２２・・有機発光インキ
２３・・除去版
２４・・ステージ
２５・・被印刷基板
【図１】
2006260929.tif 000005
【図２】
2006260929.tif 000006