(57)【要約】【課題】処理対象物の基準部位を基準とする目標位置に対して所定の処理を高精度に施す。【解決手段】露光ステージ１８に装着された基板Ｆのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを読み取り、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを基準とするテストパターンを基板Ｆに露光記録し、テストパターンとアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄとの位置関係から装置固有補正データを算出して露光装置１０に設定する。露光装置１０は、前記装置固有補正データを用いて描画データの描画位置を補正し、所望の画像を基板Ｆに露光記録する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理対象物の基準部位の基準位置データを取得し、前記基準位置データを基準として前記処理対象物に所定の処理を施す処理装置の調整方法であって、
前記基準部位の前記基準位置データを取得するステップと、
前記基準位置データを基準として、テストデータを用いた前記所定の処理によるテスト処理を前記処理対象物に施すステップと、
前記基準部位に対する前記テスト処理の結果としてのテスト位置データを測定するステップと、
前記テスト位置データを前記処理対象物の所望の処理位置データに補正する処理位置補正データを算出するステップと、
からなり、前記処理位置補正データを用いて前記処理装置による所定の処理を行う位置を調整することを特徴とする処理装置の調整方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
前記所定の処理は、描画処理であることを特徴とする処理装置の調整方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、
前記所定の処理は、前記基準部位に基づいて前記処理対象物上における処理位置が決められた処理であることを特徴とする処理装置の調整方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法において、
前記テストデータは、前記処理対象物に前記基準部位を中心とする円を形成するデータからなることを特徴とする処理装置の調整方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法において、
前記基準部位は、アラインメントマークによって指示されることを特徴とする処理装置の調整方法。
【請求項６】
請求項１記載の方法において、
前記テスト処理は、複数の異なる前記基準部位を基準として前記処理対象物の複数の部位に施され、前記各部位に対する前記テスト位置データを算出し、前記各テスト位置データの平均値を前記処理対象物の所望の前記処理位置データに補正する前記処理位置補正データを算出することを特徴とする処理装置の調整方法。
【請求項７】
請求項１記載の方法において、
前記テスト処理は、複数の異なる前記基準部位を基準として前記処理対象物の複数の部位に施され、前記各部位に対する前記テスト位置データを算出し、前記各基準部位毎に、前記各テスト位置データを前記処理対象物の所望の前記処理位置データに補正する前記処理位置補正データを算出することを特徴とする処理装置の調整方法。
【請求項８】
処理対象物の基準部位の基準位置データを取得し、前記基準位置データを基準として前記処理対象物に所定の処理を施す処理装置の調整装置であって、
前記基準部位の前記基準位置データを取得する基準位置データ取得手段と、
取得した前記基準位置データを基準として、テストデータを用いた前記所定の処理によるテスト処理を前記処理対象物に施すテスト処理手段と、
前記基準部位に対する前記テスト処理の結果としてのテスト位置データを、前記処理対象物の所望の処理位置データに補正する処理位置補正データを記憶する処理位置補正データ記憶手段と、
を備え、前記処理位置補正データを用いて前記処理装置による所定の処理を行う位置を調整することを特徴とする処理装置の調整装置。
【請求項９】
請求項８記載の装置において、
前記所定の処理は、前記基準部位に基づいて前記処理対象物上における処理位置が決められた処理であることを特徴とする処理装置の調整装置。
【請求項１０】
請求項８記載の装置において、
前記テストデータは、前記処理対象物に前記基準部位を中心とする円を形成するデータからなることを特徴とする処理装置の調整装置。
【請求項１１】
請求項８記載の装置において、
前記基準部位は、アラインメントマークによって指示されることを特徴とする処理装置の調整装置。
【請求項１２】
請求項８記載の装置において、
前記基準位置データ取得手段は、前記基準部位の画像を撮像する撮像カメラからなることを特徴とする処理装置の調整装置。
【請求項１３】
請求項８記載の装置において、
前記テスト処理手段は、前記処理対象物に所定の処理である画像描画処理を行う画像描画手段からなることを特徴とする処理装置の調整装置。
【請求項１４】
請求項１３記載の装置において、
前記画像描画手段は、前記処理対象物にデジタル画像を描画することを特徴とする処理装置の調整装置。
【請求項１５】
請求項１４記載の装置において、
前記画像描画手段は、前記処理対象物を露光して前記デジタル画像を描画することを特徴とする処理装置の調整装置。
【請求項１６】
請求項１５記載の装置において、
前記画像描画手段は、光ビームを描画データに従って変調し、前記処理対象物に前記デジタル画像を描画する空間光変調素子を備えることを特徴とする処理装置の調整装置。
【請求項１７】
請求項１６記載の装置において、
前記空間光変調素子は、前記光ビームを反射する反射面の角度が前記描画データに従って変更可能な多数のマイクロミラーを二次元的に配列して構成されるマイクロミラーデバイスからなることを特徴とする処理装置の調整装置。
【請求項１８】
請求項８〜１７のいずれか１項に記載の装置において、
前記処理装置が当該調整装置を備えることを特徴とする処理装置の調整装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理対象物の基準部位の基準位置データを取得し、前記基準位置データを基準として前記処理対象物に所定の処理を施す処理装置の調整方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、感光材料からなるシート体を露光ステージに位置決め固定し、この露光ステージをシート体とともに移動させる一方、レーザビームを所望の画像パターンに従い変調してシート体を露光走査することにより、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフィルタや多層プリント配線基板を製造する露光装置が開発されている（特許文献１参照）。
【０００３】
このような露光装置では、シート体の所定位置に画像パターンを正確に記録するため、シート体と画像パターンとの位置関係を高精度に設定する必要がある。特に、カラー液晶ディスプレイのカラーフィルタや多層プリント配線基板のように、同一のシート体に対して複数の画像パターンを重ねて露光記録しなければならないものにおいては、繰り返し記録される画像パターン間の位置ずれを回避するため、前記位置関係を一層高精度に設定する必要がある。また、マスクを用いてシート体に画像パターンを露光記録する装置においても同様に、シート体とマスクとの位置関係を高精度に設定する必要がある。
【０００４】
そこで、このような露光装置では、通常、シート体の所定位置に形成されたアラインメントマークを読み取り、このアラインメントマークを基準としてシート体に対する画像パターンの記録位置を調整している。
【０００５】
【特許文献１】米国特許第５１３２７２３号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、アラインメントマークを読み取って画像パターンの記録位置を調整する処理を行ったとしても、露光装置の動作環境や装置固有の特性が変動した場合、アラインメントマークを基準とする目標位置に画像パターンを記録できなくなるおそれがある。
【０００７】
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、処理対象物の基準部位を基準とする目標位置に対して所定の処理を高精度に施すことのできる処理装置の調整方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の課題を解決するため、本発明は、処理対象物の基準部位の基準位置データを取得し、前記基準位置データを基準として前記処理対象物に所定の処理を施す処理装置の調整方法であって、
前記基準部位の前記基準位置データを取得するステップと、
前記基準位置データを基準として、テストデータを用いた前記所定の処理によるテスト処理を前記処理対象物に施すステップと、
前記基準部位に対する前記テスト処理の結果としてのテスト位置データを測定するステップと、
前記テスト位置データを前記処理対象物の所望の処理位置データに補正する処理位置補正データを算出するステップと、
からなり、前記処理位置補正データを用いて前記処理装置による所定の処理を行う位置を調整することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明は、処理対象物の基準部位の基準位置データを取得し、前記基準位置データを基準として前記処理対象物に所定の処理を施す処理装置の調整装置であって、
前記基準部位の前記基準位置データを取得する基準位置データ取得手段と、
取得した前記基準位置データを基準として、テストデータを用いた前記所定の処理によるテスト処理を前記処理対象物に施すテスト処理手段と、
前記基準部位に対する前記テスト処理の結果としてのテスト位置データを、前記処理対象物の所望の処理位置データに補正する処理位置補正データを記憶する処理位置補正データ記憶手段と、
を備え、前記処理位置補正データを用いて前記処理装置による所定の処理を行う位置を調整することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の処理装置の調整方法及び装置では、処理装置の動作環境や装置固有の特性に基づいて発生する処理位置のずれを補正し、処理対象物の基準部位を基準とする目標位置に対して所定の処理を高精度に施すことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１は、本発明の処理装置の調整方法及び装置が適用される実施形態である積層プリント配線基板等の露光処理を行う露光装置１０（処理装置）を示す。露光装置１０は、複数の脚部１２によって支持された変形の極めて小さい定盤１４を備え、この定盤１４上には、２本のガイドレール１６を介して露光ステージ１８が矢印方向に往復移動可能に設置される。露光ステージ１８には、感光材料が塗布された矩形状の基板Ｆ（処理対象物）が吸着保持される。
【００１２】
定盤１４の中央部には、ガイドレール１６を跨ぐようにして門型のコラム２０が設置される。このコラム２０の一方の側部には、基板Ｆの所定位置（基準部位）に配設されたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを検出するＣＣＤカメラ２２ａ及び２２ｂ（撮像カメラ）が固定され、コラム２０の他方の側部には、基板Ｆに対して画像を露光記録する複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊ（画像描画手段）が位置決め保持されたスキャナ２６が固定される。ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂには、ロッドレンズ６２ａ、６２ｂを介してストロボ６４ａ、６４ｂが装着される。ストロボ６４ａ、６４ｂは、基板Ｆを感光することのない赤外光からなる照明光をＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂの撮像域に照射する。
【００１３】
アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄは、画像が描画される基板Ｆと明確に区別することのできるスルーホール、あるいは、予め露光記録されたマークからなり、露光ステージ１８によって搬送される基板Ｆの隅角部近傍に形成されている。なお、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄは、露光記録される画像に影響を与えることのない部位であれば、基板Ｆの隅角部近傍以外の部位に形成されていてもよい。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊは、基板Ｆの走査方向（露光ステージ１８の移動方向）と直交する方向に２列で千鳥状に配列される。
【００１４】
また、図２に示すように、定盤１４の端部には、校正スケール９４が固定される。校正スケール９４には、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂによって撮像され、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂの定盤１４に対するカメラ位置校正データを取得するためのカメラ校正マーク９６と、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊから出力される後述するレーザビームＬが照射されることで、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの定盤１４に対するヘッド位置校正データを取得するためのヘッド校正マーク９８とが形成される。
【００１５】
カメラ校正マーク９６は、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂによって正確に読み取ることのできる色及び形状からなるマークである。また、ヘッド校正マーク９８は、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊからのレーザビームＬを透過させるＶ字状のスリットからなる。ヘッド校正マーク９８のレーザビームＬが透過する側には、レーザビームＬを検出するフォトセンサ１００が配設される。なお、フォトセンサ１００は、露光ステージ１８の移動方向と直交する方向に移動可能に構成される。
【００１６】
図３は、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの構成を示す。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊには、例えば、光源ユニット２８を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビームＬが合波され光ファイバ３０を介して導入される。レーザビームＬが導入された光ファイバ３０の出射端には、ロッドレンズ３２、反射ミラー３４及びデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）３６が順に配列される。
【００１７】
ここで、ＤＭＤ３６は、ＳＲＡＭセル（メモリセル）の上に格子状に配列された多数のマイクロミラーを揺動可能な状態で配置したものであり、各マイクロミラーの表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。ＳＲＡＭセルにＤＭＤ制御ユニット４２から描画データに従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号に応じて各マイクロミラーが所定方向に傾斜し、その傾斜状態に従ってレーザビームＬのオンオフ状態が実現される。
【００１８】
オンオフ状態が制御されたＤＭＤ３６によって反射されたレーザビームＬの射出方向には、拡大光学系である第１結像光学レンズ４４、４６、ＤＭＤ３６の各マイクロミラーに対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー４８、ズーム光学系である第２結像光学レンズ５０、５２が順に配列される。なお、マイクロレンズアレー４８の前後には、迷光を除去するとともに、レーザビームＬを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー５４、５６が配設される。
【００１９】
図４は、露光装置１０の制御回路ブロック図である。露光装置１０は、ステージ駆動部６６を制御して露光ステージ１８を矢印方向に往復移動させるステージコントローラ６８と、校正スケール９４のカメラ校正マーク９６及び基板Ｆのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを読み取るＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂを制御するカメラコントローラ７０と、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを制御して校正スケール９４のヘッド校正マーク９８にレーザビームＬを照射するとともに、基板Ｆに画像を描画する露光ヘッドコントローラ７２とを備える。
【００２０】
露光ステージ１８には、露光ステージ１８の移動位置を検出するエンコーダ等からなる位置検出器７４が連結される。位置検出器７４により検出された露光ステージ１８の移動位置データは、トリガ信号生成部７６に供給される。
【００２１】
トリガ信号生成部７６は、露光ステージ１８が所定量だけ移動し、位置検出器７４から供給される移動位置データが、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄに略対応する設定位置の位置データ、及び、カメラ校正マーク９６に対応する設定位置の位置データにそれぞれ一致したとき、トリガ信号をストロボコントローラ８０及びカメラコントローラ７０に出力する。
【００２２】
ストロボコントローラ８０は、トリガ信号に従ってストロボ６４ａ、６４ｂを駆動し、照明光を基板Ｆに照射する。カメラコントローラ７０は、トリガ信号に従ってＣＣＤカメラシャッタ（電子シャッタ又はメカニカルシャッタ）を所定時間開放し、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄ及びカメラ校正マーク９６の画像を撮像する一方、ＣＣＤカメラシャッタが閉塞した後の所定のタイミングでＡ／Ｄ変換器８２を制御し、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの画像をデジタルデータに変換してマーク位置算出部８４に供給するとともに、カメラ校正マーク９６の画像データをデジタルデータに変換して校正データ算出部７８に供給する。
【００２３】
露光ヘッドコントローラ７２は、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを駆動し、ＤＭＤ３６を構成する特定のマイクロミラーからレーザビームＬをヘッド校正マーク９８に照射する。露光ステージ１８が所定量移動し、ヘッド校正マーク９８を介してフォトセンサ１００がレーザビームＬを検出したときの検出信号は、位置検出器７４からの露光ステージ１８の移動位置データとともに校正データ算出部７８に供給される。
【００２４】
マーク位置算出部８４は、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの画像データから、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂに対するアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄのマーク位置データを算出する。校正データ算出部７８は、カメラ校正マーク９６の画像データに基づいて、露光ステージ１８の移動位置データに対するＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂのカメラ位置校正データを算出し、また、ヘッド校正マーク９８を検出したときの露光ステージ１８の移動位置データに対する露光ヘッド２４ａ〜２４ｊのヘッド位置校正データを算出する。
【００２５】
補正データ算出部８６は、校正データ算出部７８から供給されるカメラ位置校正データ及びヘッド位置校正データと、マーク位置算出部８４から供給されるアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄのマーク位置データと、装置固有補正データメモリ１０２から供給される装置固有補正データとに基づき、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに対するアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの基準位置データを算出し、この基準位置データを基準としてテストデータ又は描画データに基づく画像の描画位置を補正する補正データを算出してデータ補正部８８に供給する。
【００２６】
なお、装置固有補正データメモリ１０２に記憶される装置固有補正データ（処理位置補正データ）は、露光装置１０の動作環境や装置固有の特性による描画位置を補正して、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを基準とする目標位置に所望の画像を描画するための補正データである。
【００２７】
データ補正部８８には、テストデータメモリ９０又は描画データメモリ９２からテストデータ又は所望の描画データが供給される。この場合、テストデータメモリ９０には、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの基準位置データと一定の関係にあるテストデータが記憶されている。データ補正部８８は、テストデータメモリ９０から供給されるテストデータを補正データ算出部８６から供給される補正データに従って補正し、あるいは、描画データメモリ９２から供給される描画データを前記補正データに従って補正し、露光ヘッドコントローラ７２に供給する。露光ヘッドコントローラ７２は、データ補正部８８から供給される補正されたテストデータ又は描画データに基づいて露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを制御し、基板Ｆにテストパターン又は所望の画像を露光記録する。
【００２８】
本実施形態の露光装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その動作について説明する。
【００２９】
先ず、露光装置１０の装置固有補正データを求める処理につき、図５に示すフローチャートを用いて説明する。
【００３０】
露光ステージ１８に基板Ｆを吸着保持させた後、露光ステージ１８をスキャナ２６側に移動させ、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂを用いてアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを読み取る（ステップＳ１）。
【００３１】
すなわち、ステージコントローラ６８は、ステージ駆動部６６を制御し、露光ステージ１８を一定の移動速度でスキャナ２６側に移動させる。位置検出器７４は、露光ステージ１８の移動位置を検出し、移動位置データをトリガ信号生成部７６に供給する。ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂの撮像域内にアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄが移動し、位置検出器７４から供給される移動位置データがアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの予め設定された位置データに一致すると、トリガ信号生成部７６は、トリガ信号をストロボコントローラ８０及びカメラコントローラ７０に出力する。
【００３２】
ストロボコントローラ８０は、トリガ信号に従ってストロボ６４ａ、６４ｂを駆動し、基板Ｆのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄに照明光を照射する。一方、カメラコントローラ７０は、トリガ信号に従ってＣＣＤカメラシャッタを所定時間開放し、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂによりアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの画像を撮影する。
【００３３】
撮影されたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの画像は、Ａ／Ｄ変換器８２によってデジタルの画像データに変換され、マーク位置算出部８４に供給される。マーク位置算出部８４は、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの画像データから、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂを基準としたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄのマーク位置データを算出する（ステップＳ２）。
【００３４】
次に、露光ステージ１８をさらにスキャナ２６側に移動させ、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂを用いて校正スケール９４のカメラ校正マーク９６を読み取るとともに、スキャナ２６の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊ及びフォトセンサ１００を用いてヘッド校正マーク９８を読み取る（ステップＳ３）。
【００３５】
この場合、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂにより撮像されて得られたカメラ校正マーク９６の画像データは、位置検出器７４によって検出された露光ステージ１８の移動位置データとともに校正データ算出部７８に供給される。校正データ算出部７８は、カメラ校正マーク９６の画像データと、露光ステージ１８の移動位置データとから、露光ステージ１８を基準としたＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂのカメラ位置校正データを算出する（ステップＳ４）。
【００３６】
また、ヘッド校正マーク９８が露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの所定位置まで移動したとき、露光ヘッドコントローラ７２は、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを駆動し、ＤＭＤ３６を構成する特定のマイクロミラーからレーザビームＬをヘッド校正マーク９８に照射する。ヘッド校正マーク９８を介して照射されたレーザビームＬを検出したフォトセンサ１００は、その検出信号を校正データ算出部７８に供給する。校正データ算出部７８は、ヘッド校正マーク９８を検出したときに位置検出器７４から供給される露光ステージ１８の移動位置データに基づき、露光ステージ１８を基準とした露光ヘッド２４ａ〜２４ｊのヘッド位置校正データを算出する（ステップＳ４）。
【００３７】
次に、補正データ算出部８６は、マーク位置算出部８４から供給されるＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂを基準としたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄのマーク位置データと、校正データ算出部７８から供給される露光ステージ１８を基準としたＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂのカメラ位置校正データ及び露光ヘッド２４ａ〜２４ｊのヘッド位置校正データとから、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに対するアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの基準位置データを算出し、この基準位置データを基準として、テストパターンＴａ〜Ｔｄ（図６参照）を描画するためのテストデータの描画位置の補正データを算出する（ステップＳ５）。なお、ここでの補正データの算出処理においては、装置固有補正データメモリ１０２から装置固有補正データが供給されないか、あるいは、装置固有補正データが０に設定されているものとする。
【００３８】
算出された補正データは、データ補正部８８に供給され、テストデータメモリ９０から供給されるテストデータが補正される（ステップＳ６）。補正されたテストデータは、露光ヘッドコントローラ７２に供給され、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊが駆動されて基板Ｆに所定の直径の円からなるテストパターンＴａ〜Ｔｄが露光記録される（ステップＳ７）。この場合、テストパターンＴａ〜Ｔｄは、各アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの位置を基準として基板Ｆに記録される。
【００３９】
次いで、基板Ｆに露光記録されたテストパターンＴａ〜Ｔｄの露光位置を測定する（ステップＳ８）。具体的には、図６に示すように、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの中心に対する各テストパターンＴａ〜Ｔｄの中心のｘ方向及びｙ方向（図１参照）の位置データｘ１、ｙ１〜ｘ４、ｙ４（テスト位置データ）を測定する。
【００４０】
この場合、テストデータは、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを中心としてテストパターンＴａ〜Ｔｄを露光記録するように設定されているが、例えば、露光装置１０の温度等の動作環境、露光ステージ１８の移動精度、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの設定状態等が初期調整時と異なっていると、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄに対するテストパターンＴａ〜Ｔｄの位置にずれが生じる。この位置ずれは、上記の理由に起因するものであり、装置固有のものと見なすことができる。
【００４１】
そこで、測定した位置データｘ１、ｙ１〜ｘ４、ｙ４を用いて、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの中心をテストパターンＴａ〜Ｔｄの中心に一致させる補正データを算出し、この補正データを装置固有補正データとして装置固有補正データメモリ１０２に設定する（ステップＳ９）。
【００４２】
なお、装置固有補正データの設定処理は、例えば、露光装置１０のメンテナンス時点で行うことができる。このようにして算出された補正データを用いてテストデータを補正し、基板ＦにテストパターンＴａ〜Ｔｄを描画した場合、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄの中心とテストパターンＴａ〜Ｔｄの中心とを一致させることができる。  また、装置固有補正データは、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄに対するテストパターンＴａ〜Ｔｄの位置データｘ１、ｙ１〜ｘ４、ｙ４の平均値を求め、この平均値を０に補正する補正データとして設定してもよい。さらに、各位置データｘ１、ｙ１〜ｘ４、ｙ４を基準とし、基板Ｆ上の各地点での補正データを算出して装置固有補正データを設定するようにしてもよい。
【００４３】
以上のようにして装置固有補正データを装置固有補正データメモリ１０２に記憶させた後、所望の描画データを用いた露光記録処理を行う。
【００４４】
先ず、ステージコントローラ６８は、ステージ駆動部６６を介して露光ステージ１８をＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂ側からスキャナ２６側に移動させる。
【００４５】
ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂは、移動する露光ステージ１８に吸着保持された基板Ｆのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを読み取り、その画像データをマーク位置算出部８４に供給する。マーク位置算出部８４は、画像データからＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂを基準としたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄのマーク位置データを算出し、補正データ算出部８６に供給する。
【００４６】
また、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂは、校正スケール９４のカメラ校正マーク９６を読み取り、その画像データを校正データ算出部７８に供給する。さらに、フォトセンサ１００が校正スケール９４のヘッド校正マーク９８を検出し、その検出信号を校正データ算出部７８に供給する。校正データ算出部７８は、カメラ校正マーク９６の画像データからＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂのカメラ位置校正データを算出するとともに、ヘッド校正マーク９８の検出信号からＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂのヘッド位置校正データを算出し、これらのデータを補正データ算出部８６に供給する。
【００４７】
補正データ算出部８６は、マーク位置算出部８４から供給されたアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄのマーク位置データと、校正データ算出部７８から供給されたカメラ位置校正データ及びヘッド位置校正データと、装置固有補正データメモリ１０２から供給された装置固有補正データとを用いて、基板Ｆに対する描画データの描画位置を補正する補正データを算出し、データ補正部８８に供給する。
【００４８】
次いで、露光ステージ１８をスキャナ２６側からＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂ側に移動させ、スキャナ２６による所望の画像の露光処理を開始する。
【００４９】
光源ユニット２８から出力されたレーザビームＬは、光ファイバ３０を介して各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに導入される。導入されたレーザビームＬは、ロッドレンズ３２から反射ミラー３４を介してＤＭＤ３６に入射する。
【００５０】
一方、描画データメモリ９２から読み出された描画データは、データ補正部８８において、補正データ算出部８６から供給される補正データにより描画位置が補正され、ＤＭＤ制御ユニット４２に供給される。ＤＭＤ制御ユニット４２は、補正された描画データに従ってＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラーをオンオフ制御する。ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０により所望の方向に選択的に反射されたレーザビームＬは、第１結像光学レンズ４４、４６によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー５４、マイクロレンズアレー４８及びマイクロアパーチャアレー５６を介して所定の径に調整され、次いで、第２結像光学レンズ５０、５２により所定の倍率に調整されて基板Ｆに導かれる。露光ステージ１８は、定盤１４に沿って移動し、基板Ｆには、露光ステージ１８の移動方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊにより所望の二次元画像が露光記録される。この場合、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを基準とする目標位置に所望の二次元画像が露光記録される。
【００５１】
ここで、上述した実施形態では、図６に示すように、基板Ｆに円形のテストパターンＴａ〜Ｔｄを露光記録し、このテストパターンＴａ〜Ｔｄとアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄとの位置関係に基づいて装置固有補正データを算出するようにしているが、例えば、図７に示すように、矢印ｘ方向及び矢印ｙ方向に沿って相互に交差する線分からなるテストパターンＴｘ及びＴｙを露光記録し、アラインメントマーク６０ｄの中心に対する線分の交点の位置データｘ４、ｙ４を測定することにより、装置固有補正データを求めるようにしてもよい。なお、図７では、１つのアラインメントマーク６０ｄとテストパターンＴｘ及びＴｙとの関係を示しているが、他のアラインメントマーク６０ａ〜６０ｃについても同様である。
【００５２】
また、上述した露光装置１０は、例えば、多層プリント配線基板（ＰＷＢ：Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｗｉｒｉｎｇ  Ｂｏａｒｄ）の製造工程におけるドライ・フィルム・レジスト（ＤＦＲ：Ｄｒｙ  Ｆｉｌｍ  Ｒｅｓｉｓｔ）の露光、液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造工程におけるカラーフィルタの形成、ＴＦＴの製造工程におけるＤＦＲの露光、プラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）の製造工程におけるＤＦＲの露光等の用途に好適に用いることができる。また、本発明は、インクジェット記録ヘッドを備えた描画装置にも同様して適用することが可能である。
【００５３】
さらに、本発明は、アラインメントマークを基準として、基板に孔を形成する装置や、基板に所定の部材を取り付ける装置にも適用することが可能である。この場合、テストパターンは、基板に形成される複数の孔、又は、基板に取り付けられる複数の部材によってマーキングすればよい。
【００５４】
さらにまた、本発明は、アラインメントマークを基準として、基板の所定の位置を検査する画像検査装置にも適用することが可能である。例えば、基板に予め形成されたテストパターンをカメラで撮像することによってカメラの撮像位置を補正すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本実施形態の露光装置の外観斜視図である。
【図２】本実施形態の露光装置における露光ステージ及びそれに装着された基板の平面説明図である。
【図３】本実施形態の露光装置における露光ヘッドの概略構成図である。
【図４】本実施形態の露光装置における制御回路ブロック図である。
【図５】本実施形態の露光装置における装置固有補正データを設定する処理のフローチャートである。
【図６】本実施形態の露光装置により基板に露光記録されたテストパターンの説明図である。
【図７】他の実施形態であるテストパターンの説明図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０…露光装置                １４…定盤
１８…露光ステージ            ２２ａ、２２ｂ…ＣＣＤカメラ
２４ａ〜２４ｊ…露光ヘッド    ２６…スキャナ
６４ａ、６４ｂ…ストロボ      ６８…ステージコントローラ
７０…カメラコントローラ      ７２…露光ヘッドコントローラ
７４…位置検出器              ７６…トリガ信号生成部
７８…校正データ算出部        ８０…ストロボコントローラ
８４…マーク位置算出部        ８６…補正データ算出部
８８…データ補正部            ９０…テストデータメモリ
９２…描画データメモリ        １０２…装置固有補正データメモリ
Ｆ…基板                      Ｔａ〜Ｔｄ、Ｔｘ、Ｔｙ…テストパターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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