(57)【要約】      （修正有）【課題】本発明はプラズマディスプレイパネルの前面基板に関し、より詳しくはプラズマディスプレイパネルの前面基板のバス電極をシートを利用して製造する方法を提供する。【解決手段】本発明のプラズマディスプレイ装置製造用シートはベースフィルム、 前記ベースフィルムの上に形成されたフォトレジスト層、 前記フォトレジスト層の上に形成された電極材料層、 前記電極材料層上に形成されたブラック材料層と前記ブラック材料層上に形成されたカバーフィルムを含む。  本発明はシートを利用して電極を形成するのでスクリーンマスクの大面積化に対する難しさや使用回数によるスクリーンマスクの変形問題を解決することができる。【選択図】図４
2006059817.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルムと、
前記ベースフィルムの上に形成されたフォトレジスト層と、
前記フォトレジスト層の上に形成された電極材料層と、
を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項２】
前記電極材料層上に形成されたカバーフィルムをさらに含む請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項３】
前記シートは電極形成用のシートであることを特徴とする、請求項１又は２何れかに記載のプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項４】
前記シートは、透明電極の導電率を補償するバス電極を形成するためのシートであることを特徴とする、請求項３に記載のプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項５】
前記電極材料層は銀からなることを特徴とする、 請求項１乃至４何れか記載のプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項６】
ベースフィルムと、
前記ベースフィルムの上に形成されたフォトレジスト層と、
前記フォトレジスト層の上に形成された電極材料層と、
前記電極材料層上に形成されたブラック材料層と、
を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項７】
前記電極材料層上に形成されたカバーフィルムをさらに含む請求項６に記載のプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項８】
前記シートは電極形成用のシートであることを特徴とする、請求項６又は７何れかに記載のプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項９】
前記シートは、透明電極の導電率を補償するバス電極を形成するためのシートであることを特徴とする、請求項８に記載のプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項１０】
前記電極材料層は、銀からなることを特徴とする、 請求項６乃至９何れか記載のプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項１１】
前記ブラック材料層は、感光性ブラック材料層であることを特徴とする、 請求項６乃至１０何れか記載のプラズマディスプレイ装置製造用シート。
【請求項１２】
請求項６に記載のシートの前記ブラック材料層を第１フォトマスクを利用して露
光する段階と、
ガラスを準備する段階と、
前記露光されたブラック材料層を前記ガラス上にラミネイティングする段階と、
前記ラミネイティングされたシートのフォトレジスト層を第２フォトマス
クを利用して露光する段階と、
現象により前記電極材料層及び前記ブラック層を加工して、前記ガラス上に位
置するブラック層と前記ブラック層上に位置する電極を形成する段階と、
を含むシートを利用したプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１３】
前記シートは、前記ブラック材料層上に形成されたカバーフィルムをさらに備えており、
前記第１フォトマスクを利用して露光する前に前記カバーフィルムを除去する段階をさらに含むことを特徴とする、
請求項１２記載のシートを利用したプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第１ フォトマスクを利用して露光した後、前記ベースフィルムを除去する段階をさらに含むことを特徴とする、 請求項１２乃至１３何れか記載のシートを利用したプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１５】
前記ブラック層と前記電極を形成した後塑性する段階をさらに含むことを特徴とする、 請求項１２乃至１４何れか記載のシートを利用したプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１６】
前記ブラック材料層は、感光性ブラック材料層であることを特徴とする、 請求項１２乃至１５何れか記載のシートを利用したプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１７】
前記ガラスには透明電極が形成されており、
前記露光されたブラック材料層は、透明電極が形成された前記ガラス上にラミネイティングされることを特徴とする、請求項１２乃至１６何れか記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１８】
前記ガラスには透明電極が形成されて前記透明電極の間にブラックマトリックスが形成されており、
前記露光されたブラック材料層は、透明電極が形成されて前記透明電極の間にブラックマトリックスが形成された前記ガラス上にラミネイティングされることを特徴とする、請求項１２乃至１６何れか記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１９】
前記電極は、透明電極の導電率を補償するバス電極であることを特徴とする、請求項１７乃至１８何れか記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２０】
前記電極材料層は銀からなることを特徴とする、請求項１２乃至１９何れか記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２１】
ガラスを準備する段階と、
請求項１に記載のシートの前記電極材料層を前記ガラス上にラミネイティングする段階
と、
前記シートの前記フォトレジスト層をフォトマスクを利用し露光する段階と、
現象により前記電極材料層を加工して前記ガラス上に位置する電極を形成する段階と、
を含むことを特徴とするシートを利用したプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２２】
前記シートは、前記電極材料層上に形成されたカバーフィルムをさらに備えており、
前記フォトレジスト層を露光する段階の後に、前記ベースフィルムを除去する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項２１に記載のシートを利用したプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの前面基板に関し、より詳しくはプラズマディスプレイパネルの前面基板のバス電極をシートを利用して製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は一般的なプラズマディスプレイ装置の分解斜視図である。 図１に示すように、 一般的なプラズマディスプレイ装置は前面基板１０と背面基板２０からなる。 一般的なプラズマディスプレイ装置の前面基板１０と背面基板２０は一定距離を間に置いて平行に結合されている。
【０００３】
前面基板１０上には ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）物質で形成されたスキャン電極用透明電極(または ＩＴＯ 電極)（１１ａ_ｓｃａｎ）とスキャン電極用透明電極（１１ａ_ｓｃａｎ）上に銀(Ａｇ)のような金属材質に製作されたスキャン電極用バス電極（１１ｂ_ｓｃａｎ）が配列された複数のスキャン電極（１１_ｓｃａｎ）が平行に配列されている。
【０００４】
また前面基板１０上にはスキャン電極（１１_ｓｃａｎ）と対を成すサステイン電極（１１_ｓｕｓｔａｉｎ）が配列される。サステイン電極（１１_ｓｕｓｔａｉｎ）は、スキャン電極（１１_ｓｃａｎ）と同じく、サステイン電極用透明電極(またはＩＴＯ電極)（１１ａ_ｓｕｓｔａｉｎ）と銀(Ａｇ)のような金属材質で形成されたサステイン電極用バス電極（１１ｂ_ｓｕｓｔａｉｎ）からなる。
【０００５】
誘電体層１２は放電電流を制限してスキャン電極（１１_ｓｃａｎ）とサステイン電極（１１_ｓｕｓｔａｉｎ）の間を絶縁させる。
【０００６】
保護層１３は、誘電体層１２の上面に酸化マグネシウム(Ｍｇｏ)の蒸着によって形成されて、二次電子の放出を容易にしてスキャン電極（１１_ｓｃａｎ）とサステイン電極（１１_ｓｕｓｔａｉｎ）を保護する。
【０００７】
背面基板２０は複数個の放電空間すなわち、セルを形成させるためのストライプタイプ(またはウェルタイプ)の隔壁２１が平行を維持して配列される。
【０００８】
アドレス電極２２は、隔壁２１に対して平行に配置されてスキャン電極（１１_ｓｃａｎ）とサステイン電極（１１_ｓｕｓｔａｉｎ）が交差される部位でアドレス放電を遂行して真空紫外線を発生させる。
【０００９】
また、背面基板２０では、隔壁２１の間に於いて画像表示のための可視光線を放出するR，Ｇ，B 蛍光層２３が塗布されており、アドレス電極２２上には誘電体層２４が焼成によって形成される。
【００１０】
図２は他の一般的なプラズマディスプレイ装置の断面図である。
【００１１】
一般的に、バス電極を成す銀(Ａｇ)は放電による光を透過させず外部から入射される光を反射することが知られていてコントラストを悪くする。 このような問題を解決するために前記透明電極１１ａとバス電極１１ｂの間にはコントラストを改善するためのブラック層１１ｃが形成される。 また電極対と電極対の間には、前面基板１０外部で発生する外部光を吸収して反射を減らし前面基板１０のピュリティ（Ｐｕｒｉｔｙ）及びコントラストを進めるブラックマトリックス１４が形成される。この時、図面符号１２は誘電体層である。
【００１２】
このように構成された一般的なプラズマディスプレイ装置の前面基板１０を製造する工程を詳しく見れば次のようである。
【００１３】
図３(ａ)ないし図３(ｄ)は、スクリーンプリンティング法(ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ)を利用して一般的なプラズマディスプレイ装置の前面基板を製造する過程を示す。
【００１４】
図３(ａ)に示すように、ブラック層１１ｃを形成するためのブラックペースト(ｂｌａｃｋｐａｓｔｅ)３５をスクリーンマスク３０上に塗布した後、スクイズ（ｓｑｕｅｅｚｅ）３７を利用してブラックペースト３５を下に押し出す。 スクリーンマスク（ｓｃｒｅｅｎ  ｍａｓｋ）３０は、通常金属からなるメッシュ網（ｍｅｓｈ  ｎｅｔ）３３と、ブラック層１１ｃのパターンが形成されたパターン形成層３１で構成される。
【００１５】
このようにスクイズ３７を利用してブラックペースト３５を下に押し出せば、スクリーンマスク３０のパターン形成層３１のパターンによるホール３４を通じてブラックペースト３５が移動することで、図３(b)に示すように透明電極１１ａ上にブラック層１１ｃが形成される。 ブラック層１１ｃが形成されれば紫外線を利用した光硬化法や加熱を通じる熱硬化法を利用してブラック層１１ｃに対する硬化工程が成り立つ。
【００１６】
ブラック層１１ｃに対する硬化工程が仕上げされれば、 図３(c)に示すように、 バス電極１１ｂを形成するための銀ペースト(Ａｇ  ｐａｓｔｅ)３９をスクリーンマスク３０のメッシュ網３３上に塗布した後、スクイズ（ｓｑｕｅｅｚｅ）３７を利用して銀ペースト３９を下に押し出す。
【００１７】
このようにスクイズ３７を利用して銀ペースト３９を下に押し出せばスクリーンマスク３０のパターン形成層３１のパターンによるホール３４を通じて銀ペースト３９が移動することで、図３(ｄ)に示すようにブラック層１１ｃ上に銀材質のバス電極１１ｂが形成される。 バス電極１１ｂが形成されれば紫外線を利用した光硬化法や加熱を通じる熱硬化法を利用してバス電極１１ｂに対する硬化工程が成り立って、ブラック層１１ｃとバス電極１１ｂに対する塑性工程が成り立つ。
【００１８】
この時スクリーンプリンティング法(ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ)で前面基板１０の電極を形成するのに使われるスクリーンマスク３０は、プラズマディスプレイパネルが大型化されるによって大面積化にならなければならない。 このようにスクリーンマスク３０が大面的化される場合、使用回数の増加によってスクリーンマスク３０の変形が大きくなる問題が発生する。
【００１９】
またスクリーンプリンティング法で電極を形成する場合、電極形成後硬化工程を通さなければならないからプラズマディスプレイ装置の製造工程自体が複雑になって製造時間と製造費用が増加する問題点が発生する。
【００２０】
またスクリーンプリンティング法で電極を形成する場合プラズマディスプレイ装置の解像度が高くなることによる電極パターンを精緻で細密に形成しにくいという問題点が発生する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
本発明の目的は、電極形成のためのスクリーンプリンティング法に代替する手段及び製造方法を提供するすることにある。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明によるプラズマディスプレイ装置の製造用シートは、ベースフィルム、 前記ベースフィルムの上に形成されたフォトレジスト層、 前記フォトレジスト層の上に形成された電極材料層を含む。また、前記電極材料層上に形成されたカバーフィルムを含んでも良い。
【００２３】
本発明によるプラズマディスプレイ装置の製造用シートはベースフィルム、前記ベースフィルムの上に形成されたフォトレジスト層、前記フォトレジスト層の上に形成された電極材料層、前記電極層上に形成されたブラック材料層を含む。また、前記ブラック材料層上に形成されたカバーフィルムを含んでも良い。
【００２４】
本発明のプラズマディスプレイ装置の製造方法はシートの前記ブラック材料層を第１ フォトマスクを利用して露光する段階、ガラスを準備する段階、 前記露光されたブラック材料層を前記ガラス上にラミネイティングする段階、 前記ラミネイティングされたシートのフォトレジスト層を第２ フォトマスクを利用して露光する段階及び現象を通じて前記ガラス上に位置するブラック層と前記ブラック層上に位置する電極を形成する段階を含む。
【００２５】
前記電極材料層は銀からなることを特徴とする。
【００２６】
前記ブラック材料層は感光性ブラック材料層であることを特徴とする。
【００２７】
前記第１ フォトマスクを利用して露光する前に前記カバーフィルムを除去する段階をさらに含むことを特徴とする。
【００２８】
前記第１ フォトマスクを利用して露光した後前記ベースフィルムを除去する段階をさらに含むことを特徴とする。
【００２９】
前記ブラック層と前記電極を形成した後塑性する段階をさらに含むことを特徴とする。
【００３０】
前記ブラック材料層は感光性ブラック材料層であることを特徴とする。
【００３１】
前記露光されたブラック材料層は透明電極が形成された前記ガラス上にラミネイティングされることを特徴とする。
【００３２】
前記露光されたブラック材料層は透明電極が形成されて前記透明電極の間にブラックマトリックスが形成された前記ガラス上にラミネイティングされることを特徴とする。
前記シートは、プラズマディスプレイ装置の電極形成用のシートであることを特徴とする。
前記シートは、プラズマディスプレイ装置の透明電極の導電率を補償するバス電極を形成するためのシートであることを特徴とする
【発明の効果】
【００３３】
本発明はシートを利用して電極を形成すれば、スクリーンマスクの大面積化に対する難しさや使用回数によるスクリーンマスクの変形問題を解決することができる。
【００３４】
本発明はシートを利用して電極を形成すればプラズマディスプレイ装置の大型化に対応することができる特に多面取り工程にも適用可能である。
【００３５】
本発明はシートを利用して電極を形成すればスクリーンマスクを使うスクリーンプリンティング法に比べて製造工程の単純化と共に製造時間と製造費用の短縮が可能である。
【００３６】
本発明はシートを利用して電極を形成する過程の中に露光工程を利用するのでスクリーンプリンティング法で形成しにくい高精密の電極パターン形成が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下では本発明による具体的な実施形態を添付された図面を参照して説明する。
【００３８】
<実施形態１>
【００３９】
図４は本発明の第１実施形態によるシートの製造方法及び構造を示す。 図４に示すように、本発明の第１ 実施形態によるシート(ｓｈｅｅｔ)１１０はベースフィルム１００、フォトレジスト層(ｐｈｏｔｏ  ｒｅｓｉｓｔ  ｌａｙｅｒ)１０１、電極材料層１０２及びカバーフィルム１０４を含む。
【００４０】
ベースフィルム１００はシート１１０の一番下に配置される。 フォトレジスト層１０１はベースフィルム１００上に形成される。 電極材料層１０２はフォトレジスト層１０１ 上に形成される。 カバーフィルム１０４は電極材料層１０２上に形成される。 この時、電極材料層１０２は電極を形成するための層であり、例えば銀(Ａｇ)、銅（Ｃｕ）等の導電物質からなる。
【００４１】
第１ 実施形態によるシート１１０はテープキャスター（ｔａｐｅ  ｃａｓｔｅｒ）２００を通じて形成される。テープキャスター２００は図４に現われた矢印方向にベースフィルム１００を進行させながら、ベースフィルム１００上にフォトレジスト層１０１及び電極材料層１０２を配置（ｃａｓｔｉｎｇ）する。 次に、テープキャスター２００は、上下に間隔を置いて配置された ２個のラミネイティングロール（ｌａｍｉｎａｔｉｎｇ  ｒｏｌｌ）１０５の間を通じて、既に配置されたベースフィルム１００、 フォトレジスト層１０１ 及び電極材料層１０２を通過させながら、カバーフィルム１０４を電極材料層１０２上に貼り合わせて（合紙させて）シート１１０を完成する。
【００４２】
図 ５ａないし図 ５ｇは本発明の第１ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す。
【００４３】
先ず、 図５ａを参照すれば、プラズマディスプレイ装置の前面基板にバス電極を形成するためのシート(ｓｈｅｅｔ)１１０は、図４に示すようにベースフィルム１００、 フォトレジスト層１０１、 電極材料層１０２及びカバーフィルム１０４が順に積層されることで形成される。
【００４４】
以後、 図５bに示すように、 カバーフィルム１０４がロールによって巻き取られることによってシート１１０から除去される。
カバーフィルム１０４が除去されれば図５cのように、 シート１１０の電極材料層１０２の上面が、ブラックマットリックス１２１ａが形成された透明電極１２１が形成されたガラス（ｇｌａｓｓ）１２０にラミネイティングされる。 この時、透明電極１２１と透明電極１２１の間に形成されたブラックマットリックス１２１ａは必ず必要ではない。 ブラックマットリックス１２１ａは、ピュリティ（Ｐｕｒｉｔｙ）及びコントラストを改善するだけでなく、実施形態２で後述するように、ブラック層１０３のラミネイティングを良好に保つように透明電極１２１による屈曲を無くす役目もする。
【００４５】
次に図５ｄに示すように、 ガラス１２０にラミネイティングされたシート(Ｓｈｅｅｔ)のフォトレジスト層１０１が、フォトマスク３０を通じて照射された紫外線（ＵＶ）によって露光される。このとき、フォトマスク３０を通じて照射される紫外線（ＵＶ）は、ベースフィルム１００を介してフォトレジスト層１０１に照射される。そのため、ベースフィルム１００は、フォトマスク３０を通じて照射される紫外線（ＵＶ）を良好に通過させる材料、言い換えれば、フォトレジスト層１０１を感光させるように紫外線（ＵＶ）を通過させる材料で形成される。ベースフィルム１００は、例えばＰＥＴ（ｐｏｌｙ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）で形成される。
【００４６】
次いで、図５ｅに示すように、 露光されたシート(Ｓｈｅｅｔ)の表面上に位置したベースフィルム１００がロールによって巻き取られて除去される。
その後、 図５ｆに示すように現像液によって現象されることで電極１０２’が形成される。
【００４７】
最後に、 図５ｇに示すように、フォトレジスト層１０１を除去した後、例えば一定温度以上で約 ３時間焼成または硬化（塑性工程）して、一定パターンを持つプラズマディスプレイ装置の電極１０２’が形成される。一定温度は、例えば５００〜６００℃である。この時電極１０２’はバス電極である。
【００４８】
このようにスクリーンプリンティング法の代りに、第１実施形態のシート１１０を利用して電極が形成されるので、スクリーンマスクが必要なくなってスクリーンマスクの大面積化に対する難しさや使用回数によるスクリーンマスクの変形問題を解決することができる。言い換えれば、スクリーンプリンティング法では、スクリーンマスクを繰り返し使用するためスクリーンマスクの変形の問題があり、変形を避けるためにスクリーンマスクの交換頻度を高くするとコストアップの問題があるが、一方、本実施形態によれば、電極材料を含むシートを用いて電極を形成し、シートを繰り返し使用しないので、スクリーンプリンティング法のようなスクリーンマスクの変形の問題が発生しない。
【００４９】
スクリーンプリンティング法代りに、第１実施形態のシート１１０を利用して電極が形成されるので、プラズマディスプレイ装置の大型化に対応することができれば特に多面取り工程にも適用可能である。
【００５０】
また第１ 実施形態のシート１１０を利用して電極が形成される場合、露光工程１回、 現象工程１回及び塑性工程１回でバス電極が形成されることで、スクリーンマスクを使うスクリーンプリンティング法に比べて、製造工程の単純化と共に製造時間と製造費用の短縮が可能である。
【００５１】
また第１ 実施形態のシート１１０が利用されれば、露光工程を通じて電極が形成されるのでスクリーンプリンティング法で形成しにくい高精密の電極パターン形成が可能である。
【００５２】
<実施形態２>
図６は本発明の第２ 実施形態によるシートの製造方法及び構造を示す。 図６に示すように、 本発明によるシート１１０はベースフィルム１００、 フォトレジスト層１０１、 電極材料層１０２、 ブラック材料層１０３及びカバーフィルム１０４を含む。
【００５３】
ベースフィルム１００はシート１１０の一番下に配置される。 フォトレジスト層１０１はベースフィルム１００ 上に形成される。 電極材料層１０２はフォトレジスト層１０１ 上に形成される。 ブラック材料層１０３は電極材料層１０２上に形成される。 カバーフィルム１０４はブラック材料層１０３上に形成される。 この時、電極材料層１０２は電極を形成するための層であり、例えば銀(Ａｇ)、銅（Ｃｕ）等の導電物質からなる。 またブラック材料層１０３は感光性ブラック材料層が望ましい。
【００５４】
第２実施形態によるシート１１０はテープキャスター（ｔａｐｅ  ｃａｓｔｅｒ）２００を通じて形成される。 テープキャスター２００は図６に示す矢印方向にベースフィルム１００を進行させながら、ベースフィルム１００上にフォトレジスト層１０１、 電極材料層１０２及びブラック材料層１０３を順に配置（ｃａｓｔｉｎｇ）する。 次に、テープキャスター２００は、上下に間隔を置いて配置された ２個のラミネイティングロール（ｌａｍｉｎａｔｉｎｇ  ｒｏｌｌ）１０５の間を通じて、既に配置されたベースフィルム１００、 フォトレジスト層１０１、 電極材料層１０２及びブラック材料層１０３を通過させながらカバーフィルム１０４をブラック材料層１０３上に貼り合わせて（合紙させて）シート１１０を完成する。
【００５５】
図 ７ａ ないし図 ７ｈは、本発明の第２ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す。
【００５６】
先ず、 図７ａを参照すれば、プラズマディスプレイ装置の前面基板にバス電極を形成するためのシート(ｓｈｅｅｔ)１１０は図６に示すようにベースフィルム１００、 フォトレジスト層１０１、電極材料層１０２、ブラック材料層１０３及びカバーフィルム１０４が順に積層されることで形成される。
【００５７】
以後、 図７bに示すように、 カバーフィルム１０４がロールによって巻き取られることによってシート１１０から除去される。
カバーフィルム１０４が除去されれば図７cのように、 シートのブラック材料層１０３が第１ フォトマスク３０−１を通じて照射された紫外線（ＵＶ）によって露光される。 この時第１ フォトマスク３０−１はブラック層１０３’のパターンを形成するためのパターンを有する。
【００５８】
露光された以後図７ｄに示すように、 シート１１０のブラック材料層１０３の上面が、ブラックマットリックス１２１ａが形成された透明電極１２１が形成されたガラス（ｇｌａｓｓ）１２０にラミネイティングされる。 この時、透明電極１２１と透明電極１２１ の間に形成されたブラックマットリックス１２１ａは必ず必要ではない。 ブラックマットリックス１２１ａはピュリティ（Ｐｕｒｉｔｙ）及びコントラストを改善するだけでなく、ブラック層１０３のラミネイティングを良好に保つように透明電極１２１による屈曲を無くす役目もする。言い換えれば、ブラックマトリクス１２１ａが透明電極１２１の屈曲を防止し、それによってブラック層１０３と透明電極１２１との密着性を確保する。
【００５９】
次に図７ｅに示すように、 ガラス１２０にラミネイティングされたシート(Ｓｈｅｅｔ)のフォトレジスト層１０１が、第２ フォトマスク３０−２を通じて照射された紫外線（ＵＶ）によって露光される。このとき、フォトマスク３０−２を通じて照射される紫外線（ＵＶ）は、ベースフィルム１００を介してフォトレジスト層１０１に照射される。そのため、ベースフィルム１００は、フォトマスク３０−２を通じて照射される紫外線（ＵＶ）を良好に通過させる材料、言い換えれば、フォトレジスト層１０１を感光させるように紫外線（ＵＶ）を通過させる材料で形成される。ベースフィルム１００は、例えばＰＥＴ（ｐｏｌｙ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）で形成される。
【００６０】
次いで、図７ｆに示すように、露光されたシートの表面上に位置したベースフィルム１００がロールによって巻き取られて除去される。
図７ｇに示すように現像液によって現象されることでブラック層１０３’と電極１０２’が形成される。 すなわち一回の現象によって、ブラック層１０３’と電極１０２’が同時に形成される。 この時電極１０２’はバス電極である。
【００６１】
最後に、図７ｈに示すように、フォトレジスト１０１を除去した後、一定温度以上で約 ３時間焼成して、一定パターンを持つプラズマディスプレイ装置のブラック層１０３’及びバス電極１０２’が形成される。
【００６２】
このようにスクリーンプリンティング法の代りに、第２実施形態のシート１１０を利用して電極が形成されるので、スクリーンマスクが必要なくなってスクリーンマスクの大面積化に対する難しさや使用回数によるスクリーンマスクの変形問題を解決することができる。
【００６３】
スクリーンプリンティング法代りに、第２実施形態のシート１１０を利用して電極が形成されるので、プラズマディスプレイ装置の大型化に対応することができれば特に多面取り工程にも適用可能である。
【００６４】
また第２ 実施形態のシート１１０を利用して電極が形成される場合、露光工程２回、現象工程１回及び焼成工程１回でバス電極が形成されることで、スクリーンマスクを使うスクリーンプリンティング法に比べて製造工程の単純化と共に製造時間と製造費用の短縮が可能である。
【００６５】
また第２ 実施形態のシート１１０が利用されれば、露光工程を通じて電極が形成されるのでスクリーンプリンティング法で形成しにくい高精密の電極パターン形成が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】一般的なプラズマディスプレイ装置の分解斜視図。
【図２】また一つの一般的なプラズマディスプレイ装置の断面図。
【図３ａ】スクリーンプリンティング法(ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ)を利用して一般的なプラズマディスプレイ装置の前面基板を製造する過程を示す図。
【図３ｂ】スクリーンプリンティング法(ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ)を利用して一般的なプラズマディスプレイ装置の前面基板を製造する過程を示す図。
【図３ｃ】スクリーンプリンティング法(ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ)を利用して一般的なプラズマディスプレイ装置の前面基板を製造する過程を示す図。
【図３ｄ】スクリーンプリンティング法(ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ)を利用して一般的なプラズマディスプレイ装置の前面基板を製造する過程を示す図。
【図４】本発明の第１ 実施形態によるシートの製造方法及び構造を示す図。
【図５ａ】本発明の第１ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図。
【図５ｂ】本発明の第１ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図。
【図５ｃ】本発明の第１ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図。
【図５ｄ】本発明の第１ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図。
【図５ｅ】本発明の第１ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図。
【図５ｆ】本発明の第１ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図。
【図５ｇ】本発明の第１ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図。
【図６】本発明の第２ 実施形態によるシートの製造方法及び構造を示す図。
【図７ａ】本発明の第２ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図である。
【図７ｂ】本発明の第２ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図である。
【図７ｃ】本発明の第２ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図である。
【図７ｄ】本発明の第２ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図である。
【図７ｅ】本発明の第２ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図である。
【図７ｆ】本発明の第２ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図である。
【図７ｇ】本発明の第２ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図である。
【図７ｈ】本発明の第２ 実施形態によるシートを利用した電極製造方法を示す図である。
【図３ａ】
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【図３ｃ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図５ｃ】
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【図５ｄ】
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【図５ｅ】
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【図５ｆ】
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【図５ｇ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図７ｃ】
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【図７ｄ】
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【図７ｅ】
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【図７ｆ】
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【図７ｇ】
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【図７ｈ】
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【図１】
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【図２】
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【図３ｂ】
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【図３ｄ】
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【図４】
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【図６】
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