(57)【要約】【課題】ステンレス基材に対する濡れ性が良好な感放射線性樹脂組成物を提供することにある。【解決手段】硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）、溶剤（Ｃ）およびシリコーン系界面活性剤（Ｄ）を含有する感放射線性樹脂組成物において、シリコーン系界面活性剤（Ｄ）が、ＨＬＢ値が１以上９以下であるシリコーン系界面活性剤（Ｄ１）と、ＨＬＢ値が９を超えるシリコーン系界面活性剤（Ｄ２）とを含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）、溶剤（Ｃ）およびシリコーン系界面活性剤（Ｄ）を含有する感放射線性樹脂組成物において、シリコーン系界面活性剤（Ｄ）が、ＨＬＢ値が１以上９以下であるシリコーン系界面活性剤（Ｄ１）と、ＨＬＢ値が９を超えるシリコーン系界面活性剤（Ｄ２）とを含有する感放射線性樹脂組成物。
【請求項２】
界面活性剤（Ｄ１）がポリアルキレングリコール変性シリコーンである請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
界面活性剤（Ｄ２）がポリアルキレングリコール変性シリコーンである請求項１または２に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
シリコーン系界面活性剤（Ｄ）の含有量が、感放射線性樹脂組成物に対して質量分率で、１〜１０００ｐｐｍである請求項１〜３のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項５】
界面活性剤（Ｄ１）の含有量が、シリコーン系界面活性剤（Ｄ）の合計量に対して質量分率で、５０〜９０質量％である請求項１〜４のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項６】
スリット状のノズルを有する塗布装置に適用する請求項１〜５のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物により形成された透明硬化樹脂パターン。
【請求項８】
請求項７に記載の透明硬化樹脂パターンを具備する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感放射線性樹脂組成物およびそれを用いて形成された透明硬化樹脂パターンとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
感放射線性樹脂組成物は、例えば、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと記すことがある。）型液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置に使用されるＴＦＴの絶縁膜、反射型ＴＦＴ基板に使用される拡散反射板、カラーフィルタ基板に使用される柱状スペーサやＭＶＡ用突起材料、有機ＥＬ絶縁膜、固体撮像素子（以下、ＣＣＤと記すことがある。）の保護膜などをはじめとする硬化樹脂パターンを形成するための材料として有用である（例えば、特許文献１など参照。）。ここでＴＦＴの絶縁膜などには、より高性能なＴＦＴ基板を得るために、基板上に形成されたＴＦＴ素子など下地の段差を平坦化する性能が求められている（例えば、特許文献２など参照。）。
これらに加えて、近年のＴＦＴ基板製造に使用される基板ガラスサイズの大型化に伴い、組成物の塗布方法がスピンコーティングから基板をスピンさせないスリット状のノズルからコーティングする方法に変更されている。スリット状のノズルを有する塗布装置においては、ノズル基材としてステンレスが使用されるが（特許文献３〜５）、これらの装置で塗布するためには、感放射線性樹脂組成物のステンレス基材に対する濡れ性が良好であることが要求される。
【０００３】
【特許文献１】特許第２９３３８７９号公報  １頁右欄２２行目−２５行目、３頁左欄１３行目−１４行目
【特許文献２】特開平９−２４４００９号公報  １頁左欄１行目−３行目
【特許文献３】特開２００１−１６２２０４公報  ４頁左欄３４行目−３８行目
【特許文献４】特開２００３−２１１０５３公報  ５頁左欄３３行目−４１行目
【特許文献５】特開平８−１７３８７５公報  ４頁左欄３１行目−右欄９行目
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、ステンレス基材に対する濡れ性が良好な感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
そこで本発明者らは、前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、本発明に至った。
すなわち、本発明は、硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）、溶剤（Ｃ）およびシリコーン系界面活性剤（Ｄ）を含有する感放射線性樹脂組成物において、シリコーン系界面活性剤（Ｄ）が、ＨＬＢ値が１以上９以下であるシリコーン系界面活性剤（Ｄ１）と、ＨＬＢ値が９を超えるシリコーン系界面活性剤（Ｄ２）とを含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
【０００６】
また、本発明は、前記の感放射線性樹脂組成物により形成された透明硬化樹脂パターンおよび前記のパターンを具備する表示装置提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の感放射線性樹脂組成物によれば、ステンレス基材に対する濡れ性が良好であることから、スリット状のノズルを有する塗布装置での塗布性向上が期待できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明における硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）として、不飽和カルボン酸から導かれる構成単位（ａ１）および硬化性の基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）から導かれる構成単位（ａ２）を含む共重合体が好ましく用いられる。
【０００９】
前記の構成単位（ａ１）を導く不飽和カルボン酸としては、例えば、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸などのような、分子中に１個または２個以上のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸などが挙げられ、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などが挙げられる。
ここで、本明細書中においては、（メタ）アクリル酸の表記は、アクリル酸およびメタクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を表し、（メタ）アクリレートの表記は、アクリレートおよびメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種を表し、（メタ）アクリロイルの表記は、アクリロイルおよびメタクリロイルからなる群から選ばれる少なくとも１種を表し、（メタ）アクリロキシの表記は、アクリロキシおよびメタクリロキシからなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。
【００１０】
前記の構成単位（ａ２）を導く硬化性の基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、３−エチル−３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、４−メチル−４，５−エポキシペンチル（メタ）アクリレート、２，３−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２−ビニルシクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルシクロヘキセンオキサイドなどのエポキシ基含有不飽和化合物；
３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、
３−メチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］メチルオキセタン、３−エチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］メチルオキセタン、３−メチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］エチルオキセタン、３−エチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］エチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンまたは２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メタクリロキシオキセタンなどのオキセタニル基含有不飽和化合物などが挙げられる。
構成単位（ａ２）を導く硬化性の基を有する不飽和化合物としては、前記のオキセタニル基含有不飽和化合物が好ましい。中でも好ましいオキセタニル基含有不飽和化合物としては、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（１−メタクリロキシ）エチルオキセタン、３−メタクリロキシオキセタンが挙げられる。
オキセタニル基含有不飽和化合物を含むアルカリ可溶性樹脂を用いて、感放射線性樹脂組成物を調製した場合、貯蔵安定性が良好になる傾向があり、好ましい。
【００１１】
前記の共重合体はさらに、オレフィン性二重結合を有するカルボン酸エステルから導かれる構成単位（ａ３１）、重合性の炭素−炭素不飽和結合を有する芳香族化合物から導かれる構成単位（ａ３２）、シアン化ビニル化合物から導かれる構成単位（ａ３３）およびＮ−置換マレイミド化合物の不飽和結合が開裂して導かれる構成単位（ａ３４）からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位（ａ３）を含むことができる。
前記の構成単位（ａ３１）を導くオレフィン性二重結合を有するカルボン酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートまたはジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの不飽和カルボン酸エステル；
アミノエチル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル；
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステルなどが挙げられる。
前記の構成単位（ａ３２）を導く重合性の炭素−炭素不飽和結合を有する芳香族化合物としては、芳香族ビニル化合物が挙げられ、具体的には、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどが挙げられる。
前記の構成単位（ａ３３）を導くシアン化ビニル化合物としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロ（メタ）アクリロニトリルなどが挙げられる。
前記の構成単位（ａ３４）を導くＮ−置換マレイミド化合物としては、例えば、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（４−アセチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ジメチルアミノ−３，５−ジニトロフェニル）マレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−（１−アニリノナフチル−４）−マレイミド、Ｎ−［４−（２−ベンズオキサゾリル）フェニル］マレイミド、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミドなどが挙げられる。
このような構成単位は、それぞれ単独で、または２種以上を組合せて用いられることができる。
【００１２】
本発明における不飽和カルボン酸から導かれる構成単位（ａ１）および硬化基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）から導かれる構成単位（ａ２）を含む共重合体において、（ａ１）の構成比率は、共重合体の構成単位の合計モル数に対し、好ましくは５〜５０モル％、より好ましくは１５〜４０モル％であり、（ａ２）の構成比率は、共重合体の構成単位の合計モル数に対し、好ましくは９５〜５０モル％、より好ましくは８５〜６０モル％である。
前記の共重合体において、構成単位（ａ１）および構成単位（ａ２）の比率が、前記の範囲にあると、パターン形成時に現像液に対して適正な溶解速度を示し、かつ得られたパターンが高い硬化性も示す傾向にあり、好ましい。
【００１３】
本発明における構成単位（ａ１）および構成単位（ａ２）を含む共重合体は、構成単位（ａ１）と構成単位（ａ２）の他に、任意成分としてその他の構成単位を含んでもよい。共重合体が任意成分としてその他の構成単位を含む場合には、構成単位（ａ１）の比率は、共重合体の構成単位の合計モルに対し、好ましくは５〜５０モル％、より好ましくは１５〜４０モル％であり、構成単位（ａ２）の比率は、前記と同じ基準で、好ましくは９５〜５モル％、より好ましくは８５〜１５モル％であり、その他の構成単位の比率は、好ましくは０．１〜９０モル％、より好ましくは５〜８０モル％である。
本発明における構成単位（ａ１）および構成単位（ａ２）含む共重合体としては、例えば、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／スチレン共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／シクロヘキシルメタクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／メタクリル酸メチル共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／イソボルニルメタクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ベンジルアクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／シクロヘキシルアクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／イソボルニルアクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ジシクロペンタニルメタクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／フェニルマレイミド共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メタクリル酸／シクロヘキシルマレイミド共重合体などが挙げられる。
【００１４】
本発明における構成単位（ａ１）および構成単位（ａ２）を含む共重合体は、ポリスチレンを基準としてゲルパーミェーションクロマトグラフィーで求められる重量平均分子量が、好ましくは２，０００〜１００，０００、より好ましくは２，０００〜５０，０００、とりわけ好ましくは３，０００〜２０，０００の範囲で用いられる。重量平均分子量が前記の範囲にあると、現像時の残膜率を保持しながら高い現像速度が得られる傾向があり、好ましい。
本発明の感放射線性樹脂組成物における構成単位（ａ１）および構成単位（ａ２）を含む共重合体の含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは５０〜９０％、より好ましくは６０〜９０％である。
【００１５】
本発明におけるキノンジアジド化合物（Ｂ）としては、例えば、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド類などが挙げられる。
【００１６】
具体的には、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのトリヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
２，２’，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのテトラヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのペンタヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどのヘキサヒドロキシベンゾフェノン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルなどの（ポリヒドロキシフェニル）アルカン類の１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルなどが挙げられる。
【００１７】
前記におけるキノンジアジド化合物（Ｂ）は、それぞれ単独でまたは２種以上を組合せて用いられる。本発明におけるキノンジアジド化合物（Ｂ）の含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは２〜５０％、より好ましくは５〜４０％である。キノンジアジド化合物の含有量が前記の範囲にあると、未露光部と露光部の溶解速度差が高くなることにより、現像残膜率が高く保持できる傾向があり、好ましい。
【００１８】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、溶剤（Ｃ）を含有する。前記の溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノｓｅｃ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノｔｅｒｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ペンチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ヘキシルエーテル、チレングリコールモノｎ−ヘプチルエーテル、チレングリコールモノｎ−オクチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールメチルｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコールエチルｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールエチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールエチルｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコールｎ−プロピルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールｎ−プロピルｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールｎ−プロピルｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールｎ−プロピルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールｎ−プロピルｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコールｎ−ブチルｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールｎ−ブチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールｎ−ブチルｎ−ペンチルエーテル、ジエチレングリコールｓｅｃ−ブチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールｓｅｃ−ブチルｎ−ペンチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類；
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、などのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類；
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類；
３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシイソブタン酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、ピルビン酸メチル、１，３−ブタンジオールジアセテートなどのエステル類などが挙げられる。前記の溶剤は、単独でも組合せてもよい。
好ましい溶媒としては、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸ブチルなどが挙げられ、溶剤を組合せる場合もこれらの溶剤を使用することが好ましい。
好ましい溶媒の組合せとして、ジエチレングリコールジメチルエーテルと３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテルと乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテルと乳酸ブチル、ジエチレングリコールジメチルエーテルと酢酸ブチル、ジエチレングリコールジエチルエーテルと３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールジエチルエーテルと乳酸エチル、ジエチレングリコールジエチルエーテルと乳酸ブチル、ジエチレングリコールジエチルエーテルと酢酸ブチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと乳酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと乳酸ブチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと酢酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸エチルと乳酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチルと乳酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸エチルと酢酸ブチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと３−エトキシプロピオン酸エチルと乳酸ブチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと３−エトキシプロピオン酸エチルと酢酸ブチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと乳酸エチルと酢酸ブチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと乳酸ブチルと酢酸ブチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと３−エトキシプロピオン酸エチルと乳酸ブチルと酢酸ブチルが挙げられ、さらに好ましくはジエチレングリコールメチルエチルエーテルと３−エトキシプロピオン酸エチルと乳酸ブチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと３−エトキシプロピオン酸エチルと酢酸ブチルが挙げられ、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルと３−エトキシプロピオン酸エチルと乳酸ブチルと酢酸ブチルは特に好ましい。
【００１９】
溶剤（Ｃ）の含有量は、感放射線性樹脂組成物に対して質量分率で、好ましくは５０〜９５質量％、より好ましくは７０〜９０質量％である。
中でも、スリット状のノズルから塗布する工程だけの塗布装置に適応する場合には、溶剤（Ｃ）の含有量は、前記と同じ基準で、７５〜９０質量％であることがとりわけ好ましい。また、スリット状のノズルから塗布する工程に加えて、組成物を塗布された基板を回転させる工程を有する塗布装置に適用する場合には、溶剤（Ｃ）の含有量は、前記と同じ基準で、６５〜８０質量％であることがとりわけ好ましい。
溶剤（Ｃ）の含有量が、前記の範囲にあると、ムラの発生が少ない塗膜を形成できる傾向があり、好ましい。
【００２０】
本発明におけるシリコーン系界面活性剤（Ｄ）としては、ＨＬＢ値が１以上９以下であるシリコーン系界面活性剤（Ｄ１）と、ＨＬＢ値が９を超えるシリコーン系界面活性剤（Ｄ２）とを含有する。
ここで、界面活性剤のＨＬＢ値は具体的には以下の方法で実測される。
界面活性剤／０．５ｇをエタノール／５ｍｌに溶解する。２％フェノール水溶液を滴下していき、液が混濁したときの添加量（ｍｌ）を曇数Ａとして記録する。ＨＬＢ＝０．８９×（曇数Ａ）＋１．１１  によりＨＬＢ値を算出する。（西一郎：界面活性剤便覧／産業図書株式会社参照）
ポリエーテル導入量やポリエーテル中のエチレンオキサイド／プロピレンオキサイド比で多様なＨＬＢを設定できることから、本発明のシリコーン系界面活性剤（Ｄ）としては、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましい。
【００２１】
ＨＬＢ値が１以上９以下であるシリコーン系界面活性剤（Ｄ１）としては、例えばＦＳ１２６５、ＳＨ７１０、ＳＨ２０３、ＢＹ１６−８８０、ＳＨ３７７５、ＳＨ３７４８、ＳＨ３７４９、ＳＦ８４１０、ＳＦ８４２１、ＳＨ８４００、ＳＨ２８ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン（株）製）、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６（ジーイー東芝シリコーン（株）製）等が挙げられる。
【００２２】
ＨＬＢ値が９を超えるシリコーン系界面活性剤（Ｄ２）としては、例えばＳＨ３７７１Ｍ、ＳＨ３７４６、ＳＦ８４２７、ＢＹ１６−２０１（東レダウコーニングシリコーン（株）製）、ＰＳ５５８（Ｕｎｉｔｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，  ｉｎｃ社製）、Ｑ２−５２１１（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｃｏｒｐ社製）、ＳＩＬＷＥＴ  ４０８、Ｌ−７２１０、Ｌ−７２００（以上、いずれも、ＯＳｉ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ社製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４５２（ジーイー東芝シリコーン（株）製）等が挙げられる。なお、ＨＬＢ値が９を超えるシリコーン系界面活性剤（Ｄ２）において、そのＨＬＢ値は、好ましくは９を越え２５以下、より好ましくは１０〜２０である。
【００２３】
シリコーン系界面活性剤（Ｄ）の含有量は、組成物に対して質量分率で、好ましくは１〜１０００ｐｐｍであり、より好ましくは１０〜５００ｐｐｍであり、とりわけ好ましくは５０〜３００ｐｐｍである。シリコーン系界面活性剤の含有量が前記の範囲にあると、ムラの発生が少ない塗膜を形成できる傾向があり、好ましい。
ＨＬＢ値が１以上９以下であるシリコーン系界面活性剤（Ｄ１）の含有量が、シリコーン系界面活性剤（Ｄ）の合計有効量に対して質量分率で、５０〜９０質量％であることが好ましい。
【００２４】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、その他の成分として、重合開始剤（Ｆ）、多価フェノール化合物（Ｇ）、架橋剤（Ｈ）、重合性モノマー（Ｉ）、シランカップリング剤（Ｊ）を含有することができる。
【００２５】
前記の重合開始剤（Ｆ）として、カチオン重合開始剤であるオニウム塩が挙げられる。オニウム塩はオニウムカチオンとルイス酸由来のアニオンとから構成されている。
前記のオニウムカチオンとして具体的には、ジフェニルヨードニウム、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウム、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウム、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウム、トリス（ｐ−トリル）スルホニウム、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウム、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウム、ジメチル（メトキシ）スルホニウム、ジメチル（エトキシ）スルホニウム、ジメチル（プロポキシ）スルホニウム、ジメチル（ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウム、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウム、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウム、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウム、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムなどが挙げられ、好ましくは、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウム、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムなどが挙げられる。
前記のルイス酸由来のアニオンとしては具体的には、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられ、好ましくはヘキサフルオロアンチモネート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。
前記のオニウムカチオンおよびルイス酸由来のアニオンは、任意に組合せることができる。
【００２６】
具体的に光カチオン重合開始剤（Ｆ）としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート；
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート；
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート；
ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルナフチルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、エチルナフチルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルナフチルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジエチルナフチルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられ、好ましくはビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられ、より好ましくはビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。
【００２７】
重合開始剤（Ｆ）を含有する場合、その含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。重合開始剤（Ｆ）の含有量が、前記の範囲にあると、熱硬化時の硬化速度を高めることで、熱硬化時の解像度低下を抑制し、さらに硬化膜の耐溶剤性が向上する傾向があり、好ましい。
【００２８】
前記の多価フェノール化合物（Ｇ）として、分子中に２個以上のフェノール性水酸基を有する化合物が挙げられる。前記の多価フェノール化合物は、例えば、キノンジアジド化合物において記載したと同様のトリヒドロキシベンゾフェノン類、テトラヒドロキシベンゾフェノン類、ペンタヒドロキシベンゾフェノン類、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン類、（ポリヒドロキシフェニル）アルカン類などの多価フェノール類などが挙げられる。
【００２９】
また、前記の多価フェノール化合物（Ｇ）として、少なくともヒドロキシスチレンを原料モノマーとする重合体が挙げられる。多価フェノール化合物（Ｇ）として、具体的には、ポリヒドロキシスチレン、ヒドロキシスチレン／メチルメタクリレート共重合体、ヒドロキシスチレン／シクロヘキシルメタクリレート共重合体、ヒドロキシスチレン／スチレン共重合体、ヒドロキシスチレン／アルコキシスチレン共重合体などのヒドロキシスチレンを重合した樹脂が挙げられる。さらに、フェノール類、クレゾール類およびカテコール類からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と、アルデヒド類およびケトン類からなる群から選ばれる１以上の化合物とを縮重合して得られるノボラック樹脂なども挙げられる。
【００３０】
前記の多価フェノール化合物（Ｇ）を含有する場合、その含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは０．０１〜４０質量％、より好ましくは０．１〜２５質量％である。多価フェノール化合物（Ｇ）の含有量が前記の範囲にあると、解像度が向上し、可視光透過率が低下しない傾向があり好ましい。
【００３１】
前記の架橋剤（Ｈ）としては、メチロール化合物等が挙げられる。
【００３２】
前記のメチロール化合物としては、アルコキシメチル化メラミン樹脂、アルコキシメチル化尿素樹脂などのアルコキシメチル化アミノ樹脂などが挙げられる。ここで、アルコキシメチル化メラミン樹脂としては、メトキシメチル化メラミン樹脂、エトキシメチル化メラミン樹脂、プロポキシメチル化メラミン樹脂、ブトキシメチル化メラミン樹脂などが、アルコキシメチル化尿素樹脂としては、メトキシメチル化尿素樹脂、エトキシメチル化尿素樹脂、プロポキシメチル化尿素樹脂、ブトキシメチル化尿素樹脂などが挙げられる。前記の架橋剤は、それぞれ単独でまたは２種以上を組合せて用いられることができる。
【００３３】
架橋剤（Ｈ）を含有する場合、その含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは０．０１〜１５質量％である。架橋剤の含有量が前記の範囲にあると、得られる膜の可視光透過率が増大し、硬化樹脂パターンとしての性能が向上するので好ましい。
【００３４】
前記の重合性モノマー（Ｉ）としては、例えば、加熱されることによってラジカル重合し得る重合性モノマー、カチオン重合し得る重合性モノマーなどが挙げられ、好ましくはカチオン重合し得る重合性モノマーが挙げられる。
【００３５】
前記のラジカル重合し得る重合性モノマーとしては、例えば、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物が挙げられ、単官能の重合性モノマーであってもよいし、２官能の重合性モノマーまたは３官能以上の重合性モノマーなど、多官能の重合性モノマーであってもよい。
【００３６】
単官能の重合性モノマーとしては、例えば、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、ノニルフェニルカルビトールメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールメタアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドンなどが挙げられる。
【００３７】
２官能の重合性モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、３−メチルペンタンジオールジアクリレート、３−メチルペンタンジオールジメタクリレートなどが挙げられる。
【００３８】
また、３官能以上の重合性モノマーとしては、例えば、トリメチルロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートなどが挙げられる。前記の重合性モノマーの中でも、２官能または３官能以上の重合性モノマーが好ましく用いられる。具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートがより好ましい。また、２官能または３官能以上の重合性モノマーと、単官能の重合性モノマーとを組合せて用いてもよい。
【００３９】
カチオン重合し得る重合性モノマーとしては、例えば、ビニルエーテル基、プロペニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基などのカチオン重合性の官能基を有する重合性モノマーが挙げられ、具体的にビニルエーテル基を含む化合物として、例えば、トリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテルなどが挙げられ、プロペニルエーテル基を含む化合物として、４−（１−プロペニルオキシメチル）−１，３−ジオキソラン−２−オンなどが挙げられ、エポキシ基を含む化合物として、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、オキセタニル基を含む化合物として、ビス｛３−（３−エチルオキセタニル）メチル｝エーテル、１，４−ビス｛３−（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝ベンゼン、１，４−ビス｛３−（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチルベンゼン、１，４−ビス｛３−（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝シクロヘキサン、１，４−ビス｛３−（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチルシクロヘキサン、３−（３−エチルオキセタニル）メチル化ノボラック樹脂などが挙げられる。これはそれぞれ単独でまたは２種以上を組合せて用いられる。
【００４０】
前記の重合性モノマー（Ｉ）を含有する場合、その含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは０．１〜２０質量％である。
【００４１】
前記のシランカップリング剤（Ｊ）としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−クロロプロピル−トリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチル−ジクロロシラン、３−クロロプロピルメチル−ジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチル−ジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピル−トリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピル−トリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチル−ジメトキシシラン、３−メルカプトプロピル−トリメトキシシラン、３−メタクリロイロキシプロピル−トリメトキシシラン、３−メタクリロイロキシプロピルメチル−ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル−トリメトキシシラン、Ｎ−２−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、ジアミノシラン、トリアミノプロピル−トリメトキシシラン、３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、３−アミノプロピル−トリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチル−ジエトキシシラン、３−アミノプロピル−トリス（２−メトキシエトキシエトキシ）シラン、３−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、３−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチル−ジメトキシシラン、３−ウレイドプロピル−トリメトキシシラン、３−ウレイドプロピル−トリエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−３−アミノプロピルメチル−ジメトキシシラン、Ｎ−メチル−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピル−トリメトキシシランなどが挙げられる。中でも、その構造中にエポキシ基を有するシランカップリング剤が好ましい。前記のその構造中にエポキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピル−トリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピル−トリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチル−ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル−トリメトキシシランが挙げられ、より好ましくは２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル−トリメトキシシラン等の脂環式エポキシ基を有するシランカップリング剤が挙げられる。
シランカップリング剤（Ｊ）を含有する場合、その含有量は、感放射線性樹脂組成物に対して質量分率で、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．１〜２質量％であり、とりわけ好ましくは０．２〜１質量％である。シランカップリング剤の含有量が前記の範囲にあると、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて硬化樹脂パターンを形成した場合に、該硬化樹脂パターンの可視光透過率が向上するため透明性が向上する傾向があるほか、該硬化樹脂パターンと基材との密着性が向上し、好ましい。
【００４２】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、必要に応じてさらに他の成分、例えば、酸化防止剤、溶解抑止剤、増感剤、紫外線吸収剤、光安定剤、接着性改良剤、電子供与体など、各種の添加物を含有することもできる。
【００４３】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、例えば、硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）を溶剤（Ｃ）に溶解した溶液、およびキノンジアジド化合物（Ｂ）を溶剤（Ｃ）に溶解した溶液、シリコーン系界面活性剤（Ｄ）を混合することにより調製することができる。また、混合後、さらに溶剤（Ｃ）や、必要に応じてフッ素系界面活性剤（Ｅ）を加えてもよい。さらに、溶液を混合した後、濾過して不溶解物を取り除くことが好ましく、例えば、孔径３μｍ以下、好ましくは０．１〜２μｍ程度のフィルターを用いて濾過することが好ましい。前記の各成分に対して用いる溶剤は、同一でもよいし、相溶するものであれば、異なっていてもよい。
【００４４】
本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて透明硬化樹脂パターンを形成するには、例えば、本発明の感放射線性樹脂組成物からなる層を基板の上に形成し、マスクを介して前記の層に放射線を照射して露光した後、現像すればよい。
【００４５】
基板としては、例えば、透明なガラス板などが挙げられる。前記基板上には、ＴＦＴやＣＣＤなどの回路、カラーフィルタなどが形成されていてもよい。
【００４６】
感放射線性樹脂組成物からなる層は、スリット状のノズルを有する塗布装置を用いて塗布されることが好ましい。スリット状のノズルを有する塗布装置としては、スリットコーター、ダイコーター、カーテンフローコーターなどが挙げられる。
塗布後、加熱乾燥（プリベーク）または減圧乾燥後に加熱して、溶剤などの揮発成分の一部または全部を除去することによって、溶剤の含有量が減少した感放射線性樹脂組成物層が形成される。また、この感放射線性樹脂組成物層の厚みは、例えば、１．５μｍ〜５μｍ程度である。
【００４７】
次いで、感放射線性樹脂組成物層に、マスクを介して放射線を照射する。マスクのパターンは、硬化樹脂パターンの目的とするパターンに応じて適宜選択される。放射線としては、例えば、ｇ線、ｉ線などの光線が用いられる。放射線は、感放射線性樹脂組成物層の全面に亙って平行となって照射されうるように、例えば、マスクアライナーやステッパなどを用いて照射されることが好ましい。
【００４８】
このように露光した後、現像する。現像は、露光後の感放射線性樹脂組成物層を、例えば、現像液に接触させる方法によって行なうことができる。現像液としては、通常と同様に、アルカリ水溶液が用いられる。アルカリ水溶液としては、通常と同様に、アルカリ性化合物の水溶液が用いられ、アルカリ性化合物は、無機アルカリ性化合物であってもよいし、有機アルカリ性化合物であってもよい。
【００４９】
無機アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどが挙げられる。
【００５０】
有機アルカリ性化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどが挙げられる。前記のアルカリ性化合物は、それぞれ単独でまたは２種以上を組合せて用いられる。現像液は、現像液１００質量部あたりアルカリ性化合物を、通常、０．０１〜１０質量部、好ましくは０．１〜５質量部含有する。
【００５１】
現像液は、界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、例えば、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤などが挙げられる。
【００５２】
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルなどのポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロック共重合体、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンなどが挙げられる。
【００５３】
カチオン系界面活性剤としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩などのアミン塩、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩などが挙げられる。
【００５４】
アニオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウム、オレイルアルコール硫酸エステルナトリウムなどの高級アルコール硫酸エステル塩、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウムなどのあるキル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルアリールスルホン酸塩などが挙げられる。これらの界面活性剤は、それぞれ単独でまたは２種以上を組合せて用いられる。
【００５５】
また、現像液は、有機溶剤を含有していてもよい。前記の有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノールなどの水溶性の有機溶剤などが挙げられる。
【００５６】
感放射線性樹脂組成物層を現像液に接触させるには、例えば、感放射線性樹脂組成物層が形成された基板を現像液に浸漬すればよい。現像によって、感放射線性樹脂組成物層のうちの、先の露光において放射線が照射された放射線照射領域が現像液に溶解し、放射線が照射されなかった放射線未照射領域が現像液に溶解することなく残って、パターンを形成する。
【００５７】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、キノンジアジド化合物（Ｂ）を含有するので、感放射線性樹脂組成物層を現像液と接触させる時間が短くても、放射線照射領域は容易に溶解して、除去される。また、キノンジアジド化合物（Ｂ）を含有するので、感放射線性樹脂組成物層を現像液に接触させる時間が長くなっても、放射線未照射領域が現像液に溶解して消失することがない。
【００５８】
現像後、通常は水洗し、乾燥する。乾燥ののち、さらに得られたパターンの全面または一部に放射線を照射する。ここで照射する放射線は紫外線または深紫外線であることが好ましく、単位面積あたりの照射量は、先の露光における照射量よりも多いことが好ましい。
【００５９】
このようにして形成されたパターンは、さらに加熱処理（ポストベーク）されることが、硬化樹脂パターンの耐熱性、耐溶剤性などが向上する点で、好ましい。加熱は、全面に亙って放射線を照射した後の基板をホットプレート、クリーンオーブンなどの加熱装置で加熱する方法により行なわれる。加熱温度は、通常、１５０℃〜２５０℃、好ましくは１８０℃〜２４０℃である。加熱時間は、通常、５分〜１２０分、好ましくは１５分〜９０分である。加熱することによって、パターンが硬化して、硬化樹脂パターンが形成される。
【００６０】
本発明によれば、ステンレス基材に対する濡れ性が良好な感放射線性樹脂組成物を提供することが可能となる。よって、本発明の感放射線性樹脂組成物は、スリット状のノズルを有する塗布装置による塗布性を向上することができる。
このようにして形成された硬化樹脂パターンは、本発明の感放射線性樹脂組成物が硬化されてなるものであり、例えばＴＦＴ基板、有機ＥＬ素子の絶縁膜、ＣＣＤの保護膜などを構成する硬化樹脂パターンとして有用である。
【００６１】
上記において、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上記に開示された本発明の実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むものである。
【実施例】
【００６２】
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００６３】
合成例１：樹脂Ａ１
撹拌機、冷却管及び温度計を装着した３００ｍＬの四つ口フラスコに、溶剤として乳酸エチル３６ｇ、および３−エトキシプロピオン酸エチル１４６ｇ、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル２．２ｇさらに以下のモノマーを仕込んで、窒素気流下、内温を１００〜１１０℃に保ちながら３時間撹拌して反応を行い、樹脂Ａ１を含む溶液を得た。この樹脂Ａ１のポリスチレン換算重量平均分子量は７，９００であった。
【００６４】
メタクリル酸                                              １０．８ｇ
３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン            ３６．９ｇ
Ｎ−シクロヘキシルマレイミド                              ３１．４ｇ
【００６５】
ここで、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）の測定については、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置；ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
カラム；ＴＳＫ−ＧＥＬＧ４０００ＨＸＬ＋ＴＳＫ−ＧＥＬＧ２０００ＨＸＬ（直列接続）
カラム温度；４０℃
溶媒；ＴＨＦ
流速；１．０ｍｌ／ｍｉｎ
注入量；５０μｌ
検出器；ＲＩ
測定試料濃度；０．６質量％（溶媒；ＴＨＦ）
校正用標準物質；ＴＳＫ  ＳＴＡＮＤＡＲＤ  ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ  Ｆ−４０、Ｆ−４、Ｆ−１、Ａ−２５００、Ａ−５００（東ソー（株）製）
【００６６】
界面活性剤のＨＬＢ値測定例
界面活性剤／０．５ｇをエタノール／５ｍｌに溶解した。２％フェノール水溶液を滴下していき、液が混濁したときの添加量（ｍｌ）を曇数Ａとした。ＨＬＢ＝０．８９×（曇数Ａ）＋１．１１  によりＨＬＢ値を算出した。（西一郎：界面活性剤便覧／産業図書株式会社参照）
【００６７】
実施例１
下記の各成分を２３℃で混合した後、ＨＬＢ値が１以上９以下であるシリコーン系界面活性剤（Ｄ１）成分としてＳＨ８４００（ＨＬＢ値＝８．０、ポリエーテル変性シリコーンオイル；信越シリコーン（株）製）を組成物全体の２００ｐｐｍ、ＨＬＢ値が９を超えるシリコーン系界面活性剤（Ｄ２）成分としてＳＨ３７４６（ＨＬＢ値＝１４．０、ポリエーテル変性シリコーンオイル；信越シリコーン（株）製）を組成物全体の１００ｐｐｍ添加した。
孔径１．０μｍのポリテトラフルオロエチレン製カートリッジフィルターを通して加圧濾過して、感放射線性樹脂組成物１を濾液として得た。得られた感放射線性樹脂組成物中の溶剤（Ｃ）の含有量は７２．５％、溶媒組成比は乳酸エチル：３−エトキシプロピオン酸エチル：酢酸ブチル：プロピレングリコールモノメチルエーテル＝１６：６０：２０：４であった。
【００６８】
樹脂Ａ１を含む溶液  ３３３質量部（固形分換算；１００質量部）
式（２）で表される化合物  ２０質量部
アデカオプトマーＳＰ−１７２（光カチオン重合触媒；旭電化工業（株）製）  ２質量部
サンエイドＳＩ−１００Ｌ（熱カチオン重合触媒；三新化学工業（株）製）  ２質量部
ＫＢＭ−３０３（シランカップリング剤；β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン；信越化学工業（株）製）  ３質量部
乳酸エチル  ８．１質量部
３−エトキシプロピオン酸エチル  １６．２質量部
酢酸ブチル  ６７質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル  １３．４部
【００６９】
2006139265.tif 000002
【００７０】
（式中、Ｑ４は、式（１−１）で表される置換基を表す。）
【００７１】
2006139265.tif 000003
【００７２】
比較例１
ＳＨ３７４６を使用しない以外は実施例１と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物２を得た。
比較例２
ＳＨ８４００の含有量を感放射線性樹脂組成物に対して３００ｐｐｍとし、ＳＨ３７４６を使用しない以外は実施例１と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物３を得た。
【００７３】
＜流れ性の測定例＞
上記の実施例および比較例において得られた感放射線性樹脂組成物を、それぞれ、水平に設置したＳＵＳ６３０板（大きさ：１００ｍｍ×２００ｍｍ×１０ｍｍ、表面粗さ：ＪＩＳ  Ｂ０６５９  １２．５−Ｓ相当の一方向ヘアライン仕上げ）上にパスツールピペット（５−３／４”；フィッシャー社製）から、１０μｌ滴下し、滴下後すぐに、該ＳＵＳ６３０板を鉛直方向に立てた。このとき、板のヘアラインは液の滴下方向に対して垂直になるようにした。
該組成物が流れを止めるまでに感放射線性樹脂組成物が流れた距離を測定し、流れ距離とした。測定結果を表１に示す。
また、液が流れる際にヘアライン上で液が１０秒以上滞留し液の流れが一時止まったものを流れ性×、液が止まらずにスムーズに流動したものを流れ性○と判定した。流れ性が良好なものは同時に、解決すべき課題であるステンレス基材の濡れ性も良好であるといえる。
判定結果を表１に示す。
【００７４】
【表１】
2006139265.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、ＴＦＴ型液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置に使用されるＴＦＴの絶縁膜やフォトスペーサー、反射型ＴＦＴ基板に使用される拡散反射板、液晶配向用突起、有機ＥＬ絶縁膜、ＣＣＤの保護膜など、透明な硬化樹脂パターンの形成に用いることができる。