(57)【要約】【課題】  簡素な装置構成で、マスク板から光ディスクを離反させる際に塗布液の飛滴の発生を防止して塗布液の安定した塗布が可能となるブレード塗布方法及びこれを用いたディスク塗布方法並びにブレード塗布装置を提供し、もって、良好な表面性状を有する塗布液の塗布を可能とする。【解決手段】  開口２７を有するマスク板２５と、平面基板（光ディスク）Ｄ上に重ね合わせたマスク板２５上に塗布液４９を供給する塗布液供給部４１と、マスク板２５上方で該マスク板２５に対して相対移動するブレード５１と、塗布液４９をマスク板２５上に塗布した後にマスク板２５と平面基板Ｄとを離反させるマスク剥離手段（エアシリンダ）２３と、を具備し、マスク剥離手段２３によりマスク板２５と平面基板Ｄとを離反させるときに、マスク板２５の開口縁部２５ａと平面基板Ｄとの間に生じる液膜４９Ａを破壊する液膜破壊手段を備えた。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口を有するマスクを平面基板上に重ね合わせ、前記マスク上に塗布液を供給し、前記マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードにより前記塗布液を前記マスク上に塗布した後、前記マスクと前記平面基板とを離反させ、前記平面基板上に前記マスクの開口に応じた塗布液層を形成するブレード塗布方法であって、
前記マスクと前記平面基板とを離反した直後に、前記マスクの開口縁部と前記平面基板との間に生じる液膜を破壊することを特徴とするブレード塗布方法。
【請求項２】
前記離反動作が、前記マスクの開口縁部と前記平面基板との離反動作を、前記開口縁部の位置に応じて異なるタイミングで離反を開始させる動作であることを特徴とする請求項１記載のブレード塗布方法。
【請求項３】
前記離反動作が、前記マスクの開口縁部と前記平面基板との離反動作として、前記マスクと前記平面基板との上下方向の相互移動に加えて水平方向の相互移動を含むことを特徴とする請求項１又は請求項２記載のブレード塗布方法。
【請求項４】
前記離反動作のとき、前記液膜に液膜破壊用部材を接触させることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項記載のブレード塗布方法。
【請求項５】
開口を有するマスクと、
平面基板上に重ね合わせた前記マスク上に塗布液を供給する塗布液供給部と、
前記マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードと、
前記塗布液を前記マスク上に塗布した後に前記マスクと前記平面基板とを離反させるマスク剥離手段と、を備えたブレード塗布装置であって、
前記マスク剥離手段により前記マスクと前記平面基板とを離反させるときに、前記マスクの開口縁部と前記平面基板との間に生じる液膜を破壊する液膜破壊手段を備えたことを特徴とするブレード塗布装置。
【請求項６】
前記液膜破壊手段が、前記マスク剥離手段が前記マスクと前記平面基板とを離反させるときに、前記マスクと前記平面基板とを相互に傾斜させた状態で離反させる傾斜離反機構を含み、前記マスクと前記平面基板とを傾斜させた状態で離反させることを特徴とする請求項５記載のブレード塗布装置。
【請求項７】
前記液膜破壊手段が、前記マスク剥離手段が前記マスクと前記平面基板とを離反させるときに、前記マスク剥離手段の直線運動を回転運動に変換する回転変換機構を含み、前記マスクと前記平面基板とを相対回転させつつ離反させることを特徴とする請求項５記載のブレード塗布装置。
【請求項８】
前記液膜破壊手段が、前記マスクの開口外側から内側に突出自在に配設された液膜破壊用部材を含み、前記マスクと前記平面基板とを離反するときに該液膜破壊用部材をマスク開口内側に突出させて前記液膜に接触させることを特徴とする請求項５記載のブレード塗布装置。
【請求項９】
前記液膜破壊手段が、前記マスクの開口縁部の少なくとも１箇所に形成した切り欠きを含むことを特徴とする請求項５記載のブレード塗布装置。
【請求項１０】
前記液膜破壊手段が、前記マスクの開口縁部の少なくとも１箇所に形成した周囲と異なる濡れ性を有する濡れ性不連続部を含むことを特徴とする請求項５記載のブレード塗布装置。
【請求項１１】
請求項１〜請求項４記載のブレード塗布方法により、ディスク状記録媒体の印刷面の少なくとも１層を形成することを特徴とするディスク塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面基板に対してブレードにより塗布液を塗布するブレード塗布方法及びこれを用いたディスク塗布方法並びにブレード塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液状塗料を被塗布部材の塗布面に安定的に塗布するには、従来より種々の提案がなされている。例えば下記特許文献１に開示される塗布装置では、被塗布体に摺接する側枠と、その間に渡設した二枚のブレードよりなるポケット内に収容した塗布液を走行方向下流側ブレードの下端のギャップから被塗布体上に流出させて塗布するものであって、側枠が摺接する被塗布体上面に潤滑層を形成するための潤滑層形成手段を設けている。これにより、側枠下面の滑り性を改善し、塗布面にブレードの渡設方向に連続する横縞発生の防止を図っている。
【０００３】
また、下記特許文献２に開示される基板塗布装置では、下部が塗布液槽に浸漬されたマイクロロッドバーと、このマイクロロッドバーの上方に対向配置されたニップローラとの間に基板を挟んで送ることにより、基板の下面に塗布液を塗布するものであって、マイクロロッドバーの基板進入側に基板の前縁を下方から支えて基板前縁の撓みを制限する押上げ部材を設けている。これにより、基板の前縁中央付近の塗布厚がその両側より厚くなるのを防ぎ、均一な塗布厚での塗布を図っている。また、基板の後縁中央付近が塗布液槽の出口側せきに接触するのを防ぎ、均一な塗布厚での塗布を図っている。
【０００４】
さらに、下記特許文献３に開示されるロールコータでは、塗布処理すべき薄板を搬送する搬送台と塗布ロールとを設け、塗布ロールの下側に搬送台を移動通過させることにより液剤を薄板の表面に塗布するものであって、搬送台を基盤上面に薄板把持用の把持板を隙間を介在させて配置し、隙間の面方向中間部に薄板の中心を搬送台の移動方向に通る線分に対して線対称に弾性材を配置し、かつ把持板の周縁部を隙間規制手段により隙間を調整可能に規制している。これにより、把持板が塗布ロールを押圧して通過するとき、隙間の範囲内で傾動して接触侵入時の衝撃を緩和するように弾性材の反力（弾性力）を制御し、衝撃振動に伴う塗布ムラを生じないようにしている。
【０００５】
また、光ディスク等のディスク状記録媒体に塗布液を１００μｍ程度の厚さに塗布して、印刷可能な塗布液層（インク受理層）を形成する従来のディスク塗布装置としては、図１２に示すものがある。このディスク塗布装置１は、光ディスクＤを吸着載置する吸着台２、光ディスクＤを吸着台２と共に上下方向に移動させるエアシリンダ３、円形縁部４ａで画成された開口８を有するマスク板（マスク）４、及びマスク板４上を所定の隙間を保ちながら水平駆動されて塗布液６を光ディスクＤに塗布し、塗布液層９を形成するブレード５を備えている。
【０００６】
このようなディスク塗布装置１による塗布液６の塗布は、図１２（ａ）に示すように、吸着台２上に光ディスクＤを載置して吸着固定した後、エアシリンダ３を作動して光ディスクＤを上昇させ、これによりマスク板４を光ディスクＤ上に重ね合わる。そして、マスク板４上に塗布液６を供給しながら、マスク板４上方でブレード５を矢印Ａ方向に相対移動することにより、塗布液６をマスク板４の開口８から露出する光ディスクＤの塗布面７に塗布する。次いで、図１２（ｂ）に示すように、エアシリンダ３を作動して吸着台２を下降（矢印Ｂ方向）させてマスク板４から光ディスクＤを離反させ、光ディスクＤ上にマスク板４の開口８に応じた塗布液層９を形成する。
【特許文献１】特開昭６３−２２４７６１号公報
【特許文献２】特開平９−１０６４６号公報
【特許文献３】特開平１０−１２８２２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記の各塗布装置においては、それぞれ解決すべき課題が残されていた。まず、特許文献１に開示される塗布装置は、簡素な構造での構成が可能となるが、塗布具の一部が被塗布体上に支持され、下流側ブレードと被塗布体との相対的な間隔を維持して塗布を行うため、被塗布体は帯状のものに限られ、ブレードの両端側に未塗布部の生じる欠点があった。
また、特許文献２に開示される基板塗布装置は、基板をニップして下側からマイクロロッドバーで塗布を行うことから、全幅方向での塗布は可能となるものの、被塗布体が帯状や矩形状のものに限られた。そして、液膜の厚みが厚くなると、マイクロロッドバーの下流側でビードが乱れて塗布面にスジの発生する問題があった。
さらに、特許文献３に開示されるロールコータは、ディスク形状となる被塗布体の塗布を可能とし、各塗布体の全面塗布も可能となるが、塗布体のそれぞれを弾性体で支持するため、設備が大がかりとなり、これに加え、液膜厚みが厚くなれば、上記した基板塗布装置と同様に、スジの発生する問題があった。
【０００８】
このように、従来の技術では、装置が大がかりになることや、特に塗布厚みが厚くなると、ブレードと塗布面との隙間に押し込まれる塗布液の量が多くなり、ブレードに歪みが生じて塗布方向に略平行なスジが発生したり、ブレードが通過した直後の液界面の乱れが顕著となり、上記と同様に塗布方向に略平行なスジが発生し、良好な塗膜面の確保が困難となる欠点があった。
【０００９】
また、図１２に示す従来のディスク塗布装置１により光ディスクＤの塗布面７に塗布液６を塗布すると、図１３（ａ）に示すように、塗布液６はマスク板４の上面及び開口８から露出する光ディスクＤの塗布面７に連続して塗布される。マスク板４から光ディスクＤを離反させるように吸着台２を下降させると、所定の粘性を有する塗布液６は開口８の円形縁部４ａにおいて上下方向に引き伸ばされ（図１３（ｂ））、マスク板４と光ディスクＤとの間に略円筒形の液膜６Ａが形成される（図１３（ｃ））。更に、光ディスクＤが下降すると、図１３（ｄ）に示すように、やがて液膜６Ａが破壊して塗布液６が飛滴６Ｂとなって周囲に飛び散る。飛滴６Ｂは、光ディスクＤの塗布面７に塗布された塗布液層（インク受理層）９上に付着して表面性状を劣化させ、その後の印刷等において不具合を生じる問題があった。
【００１０】
本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、簡素な装置構成で、マスク板から光ディスクを離反させる際に塗布液の飛滴の発生を防止して塗布液の安定した塗布が可能となるブレード塗布方法及びこれを用いたディスク塗布方法並びにブレード塗布装置を提供し、もって、良好な表面性状を有する塗布液の塗布を可能とすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る上記目的は、下記構成により達成できる。
（１）  開口を有するマスクを平面基板上に重ね合わせ、前記マスク上に塗布液を供給し、前記マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードにより前記塗布液を前記マスク上に塗布した後、前記マスクと前記平面基板とを離反させ、前記平面基板上に前記マスクの開口に応じた塗布液層を形成するブレード塗布方法であって、前記マスクと前記平面基板とを離反した直後に、前記マスクの開口縁部と前記平面基板との間に生じる液膜を破壊することを特徴とするブレード塗布方法。
【００１２】
このようなブレード塗布方法によれば、マスクと平面基板とを離反した直後に、双方の間に生じる液膜を破壊することができる。これにより、離反動作に伴って成長する液膜が自然破壊する際に、飛滴を生じて、この飛滴が平面基板に付着することを未然に防止できる。
【００１３】
（２）  前記離反動作が、前記マスクの開口縁部と前記平面基板との離反動作を、前記開口縁部の位置に応じて異なるタイミングで離反を開始させる動作であることを特徴とする（１）記載のブレード塗布方法。
【００１４】
このようなブレード塗布方法によれば、開口縁部の位置に応じて異なるタイミングで離反を開始することにより、液膜の成長が阻止され、液膜の破壊が促される。
【００１５】
（３）  前記離反動作が、前記マスクの開口縁部と前記平面基板との離反動作として、前記マスクと前記平面基板との上下方向の相互移動に加えて水平方向の相互移動を含むことを特徴とする（１）又は（２）記載のブレード塗布方法。
【００１６】
このようなブレード塗布方法によれば、マスクと平面基板の上下方向の相互移動に加えて水平方向の相互移動が加わることにより、発生する液膜が伸ばされて、これにより液膜を早期に破壊することができる。
【００１７】
（４）  前記離反動作のとき、前記液膜に液膜破壊用部材を接触させることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載のブレード塗布方法。
【００１８】
このようなブレード塗布方法によれば、発生した液膜に液膜破壊用部材を接触させることにより、液膜を確実に破壊することができる。
【００１９】
（５）  開口を有するマスクと、平面基板上に重ね合わせた前記マスク上に塗布液を供給する塗布液供給部と、前記マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードと、前記塗布液を前記マスク上に塗布した後に前記マスクと前記平面基板とを離反させるマスク剥離手段と、を備えたブレード塗布装置であって、前記マスク剥離手段により前記マスクと前記平面基板とを離反させるときに、前記マスクの開口縁部と前記平面基板との間に生じる液膜を破壊する液膜破壊手段を備えたことを特徴とするブレード塗布装置。
【００２０】
このように構成されたブレード塗布装置においては、マスクと平面基板とを離反させるときに、マスクの開口縁部と平面基板との間に生じる液膜を破壊する液膜破壊手段を備えたので、液膜を液膜破壊手段により任意のタイミングで確実に破壊することができる。またこれにより、液膜が自然破壊する際に生じる飛滴が平面基板に付着することを未然に防止して表面性状の良好な塗布液層を形成することができる。
【００２１】
（６）  前記液膜破壊手段が、前記マスク剥離手段が前記マスクと前記平面基板とを離反させるときに、前記マスクと前記平面基板とを相互に傾斜させた状態で離反させる傾斜離反機構を含み、前記マスクと前記平面基板とを傾斜させた状態で離反させることを特徴とする（５）記載のブレード塗布装置。
【００２２】
このように構成されたブレード塗布装置においては、マスクと平面基板とを離反させる際、傾斜離反機構によりマスクと平面基板とを相対的に傾斜させた状態で離反させるようにしたので、マスクと平面基板との間に生じる液膜が成長する前に、マスクの開口縁部の一点で液膜の破壊を発生させると共に、該破壊を開口縁部に沿って進行させて液膜を確実に破壊することができる。
【００２３】
（７）  前記液膜破壊手段が、前記マスク剥離手段が前記マスクと前記平面基板とを離反させるときに、前記マスク剥離手段の直線運動を回転運動に変換する回転変換機構を含み、前記マスクと前記平面基板とを相対回転させつつ離反させることを特徴とする（５）記載のブレード塗布装置。
【００２４】
このように構成されたブレード塗布装置においては、マスクと平面基板とを離反させる際、回転変換機構によりマスク剥離手段の直線運動を回転運動に変換して、マスクと平面基板との上下方向の相互移動に加えて水平方向の相互移動を与えて離反させるようにしたので、液膜発生の初期に、液膜を確実に破壊することができる。
【００２５】
（８）  前記液膜破壊手段が、前記マスクの開口外側から内側に突出自在に配設された液膜破壊用部材を含み、前記マスクと前記平面基板とを離反するときに該液膜破壊用部材をマスク開口内側に突出させて前記液膜に接触させることを特徴とする（５）記載のブレード塗布装置。
【００２６】
このように構成されたブレード塗布装置においては、マスクと平面基板とを離反するときに、液膜破壊用部材をマスク開口内側に突出させて液膜に接触させるようにしたので、液膜が成長する前に液膜を確実に破壊することができる。
【００２７】
（９）  前記液膜破壊手段が、前記マスクの開口縁部の少なくとも１箇所に形成した切り欠きを含むことを特徴とする（５）記載のブレード塗布装置。
【００２８】
このように構成されたブレード塗布装置においては、マスクの開口縁部の少なくとも１箇所に切り欠きを形成したので、マスクと平面基板とを離反すると、該切り欠きから液膜の破壊が発生して、液膜発生の初期段階で該液膜を破壊することができる。
【００２９】
（１０）  前記液膜破壊手段が、前記マスクの開口縁部の少なくとも１箇所に形成した周囲と異なる濡れ性を有する濡れ性不連続部を含むことを特徴とする（５）記載のブレード塗布装置。
【００３０】
このように構成されたブレード塗布装置においては、マスクの開口縁部の少なくとも１箇所に周囲と異なる濡れ性を有する濡れ性不連続部を形成したので、液膜が成長する前に該濡れ性不連続部で液膜の破壊を発生させ、これにより液膜を確実に破壊することができる。
【００３１】
（１１）  （１）〜（４）記載のブレード塗布方法により、ディスク状記録媒体の印刷面の少なくとも１層を形成することを特徴とするディスク塗布方法。
【００３２】
このようなディスク塗布方法によれば、大面積の塗布が可能な塗布装置を用いてディスク状記録媒体の印刷面のうち少なくとも１層を形成することにより、均一で高品位な塗布液層を形成することができる。これにより、例えばインクジェットプリンタを用いた印刷を行うための印刷層（インク受理層）を、必要十分なインク受理能力を持たせた厚みで形成可能となる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明のブレード塗布方法及びこれを用いたディスク塗布方法並びにブレード塗布装置によれば、マスクと平面基板とを離反するときに、マスクと平面基板との間に生じる液膜が十分に成長する前に破壊することができる。これにより、成長した液膜が自然破壊する際に生じる飛滴が平面基板に付着して、塗布液層の表面性状を劣化させることを未然に防止できる。また、これによりディスク状記録媒体の印刷面に均一で高品位な塗布液層を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、本発明に係るブレード塗布方法及びこれを用いたディスク塗布方法並びにブレード塗布装置の好適な実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
（第１実施形態）
図１は本発明に係るブレード塗布装置の概略を表す構成図、図２は図１に示したブレード塗布装置の外観の概略を表した斜視図である。
【００３５】
本実施の形態によるブレード塗布装置１００は、例えば平面基板の一例であるディスク状記録媒体（光ディスク）Ｄを被塗布部材とする液膜の塗布に用いられる。
まず、ブレード塗布装置１００の基本構成について説明する。
図１に示すように、ブレード塗布装置１００の塗布部１１には、光ディスクＤが吸着載置可能となる円形状の吸着台１３が設けられる。この吸着台１３の上面には複数の吸着孔１５が開口されて、各吸着孔１５には吸引路１７を介して真空ポンプ１９が接続される。  吸着台１３は、真空ポンプ１９が作動することで吸着孔１５を介して光ディスクＤを上面に吸着保持することができる。
【００３６】
また、吸着台１３は、昇降軸２１によって下面中央が上下方向に移動自在に支持される。この昇降軸２１の上下移動は、マスク剥離手段の一例であるエアシリンダ２３の駆動によりなされる。
そして、吸着台１３の上方にはマスク板（マスク）２５が設けられ、マスク板２５は光ディスクＤの塗布面５７を露出させる開口２７を有している。吸着台１３に載置された光ディスクＤは、エアシリンダ２３の駆動によって昇降軸２１が上昇して、上限位置に到達したときに、外周縁がマスク板２５の開口縁部２５ａによって覆われる。
【００３７】
また、塗布部１１には、光ディスクＤの中央部上方に、マスクキャップ着脱手段２９が具備される。マスクキャップ着脱手段２９は、キャップ吸着ノズル３１と、真空ポンプ３３と、昇降手段３５とからなる。マスクキャップ着脱手段２９は、真空ポンプ３３の駆動によってキャップ吸着ノズル３１の下端に、マスクキャップ３７を吸着保持する。この状態で昇降手段３５が駆動されることで、キャップ吸着ノズル３１が下降して、光ディスクＤの中央部の穴にマスクキャップ３７が挿着されるようになっている。なお、マスクキャップ（センターキャップ）は、これに限らず、他の機械的手段で脱着してもよい。例えば、マスクキャップ３７の下方から突き上げてマスク板２５から浮き上がらせ、マスクキャップ３７を、その側方からすくい取る等の方法がある。
【００３８】
開口２７より外側のマスク板２５の上方には塗布液供給手段４１が設けられている。塗布液供給手段４１は、塗布液供給ノズル４３と、塗布液供給装置４５と、ノズル昇降装置４７とからなる。塗布液供給手段４１は、塗布液供給装置４５から供給される塗布液４９を、塗布液供給ノズル４３からマスク板２５上に滴下供給する。この際、塗布液供給ノズル４３は、塗布液４９を滴下供給するときだけノズル昇降装置４７によってマスク板２５の近傍高さに移動し、通常は塗布工程に支障とならない位置まで上昇して待機状態とされる。
ここで、塗布液４９は、例えば、液粘度が１５０ｃＰ〜８００ｃＰのものが利用でき、特に、２００ｃＰ〜６００ｃＰの塗布液４９が好適に用いられる。なお、ここでいう液粘度は、２５℃の環境下でＢ型粘度計（ビスメトロン）により測定した値である。
【００３９】
塗布液供給手段４１によってマスク板２５上に供給された塗布液４９のさらに外側には、ブレード５１が待機状態で配置される。ブレード５１は、移動手段５３によってマスク板２５上を所定の隙間Ｇを保ちながら水平駆動され、前側面５５で塗布液４９を押しながら、図２に示すように、マスク板２５の開口２７によって露出された光ディスクＤの塗布面５７に塗布液４９を塗布するように移動する。
【００４０】
ブレード５１は、図１の紙面垂直方向に長尺に形成されたステンレス材等の金属材料からなり、ブレード５１長手方向に垂直方向の断面形状が、略台形形状に形成されている。  また、ブレード５１の下面とマスク板２５との間には隙間（ギャップ）Ｇが形成され、塗布液４９はブレード５１の前側面５５により流れが案内されるに伴い押圧されることで、このギャップＧに押し込まれる。そして、塗布面５７に対面するブレード５１の下面（押圧面５９）を通過することで塗布液４９がマスク板２５の開口２７内に充填される。その結果、塗布面５７に塗布液４９が平坦に塗布されるようになる。
【００４１】
上記した真空ポンプ１９、エアシリンダ２３、真空ポンプ３３、昇降手段３５、塗布液供給装置４５、ノズル昇降装置４７、移動手段５３は、それぞれが制御部６３によって動作が制御される。
【００４２】
また、マスク板２５の開口２７は、ブレード５１の長手方向に沿って連続する少なくとも５０ｍｍを超える開口を有することで、詳細を後述する本発明に係るブレード塗布による均一塗布性の効果が顕著となる。本実施の形態においては、開口２７が直径１２０ｍｍ程度の円形状に形成される。
【００４３】
本実施の形態によるブレード塗布装置１００においては、塗布時における塗布液層の膜厚が、少なくとも１００μｍ以上で塗布される。このような１００μｍ以上の厚みの塗布である場合、薄膜の塗布の場合と比較して、塗布液層の表面性状は塗布面５７の表面に倣う傾向が低くなり、ブレード５１の形状が大きな影響を及ぼすことになる。つまり、塗布面５７の凹凸に影響されにくく、ブレード５１による塗布液４９の圧力、ブレード５１形状による塗布液４９の濡れ上がり性等が、塗布液層の表面性状を決定する主要因となる。
【００４４】
本ブレード塗布装置１００は、ディスク状記録媒体の記録層の少なくとも１層を形成するディスク塗布装置として使用する場合、例えばインクジェットプリンタを用いた印刷を行うための印刷層（インク受理層）を形成することができる。このディスク塗布装置によれば、印刷層への印刷の際、良好な色再現性が確保できるように、必要十分な厚みの印刷層を形成することができる。実際には、塗布液層が塗布時１００μｍ程度の厚みであると、乾燥後の目減り時において３０μｍ程度の塗膜が形成され、この３０μｍ程度のインク受理層が良好な色再現性を可能にする。
【００４５】
次に、このブレード塗布装置１００を用いた塗布液の塗布方法を説明する。
図３は本発明に係る塗布方法の手順を（ａ）〜（ｃ）で表した説明図、図４は本発明に係る塗布方法の手順を（ｄ）〜（ｇ）で表した説明図、図５は塗布の完了した被塗布部材の平面図である。
まず、制御部６３の指令により、図３（ａ）に示すように、昇降軸２１の下降位置において、吸着台１３上に光ディスクＤが吸着され、図３（ｂ）に示すように、エアシリンダ２３の駆動によって吸着台１３が上昇して光ディスクＤがマスク板２５の開口縁部２５ａに当接する。次いで、図３（ｃ）に示すように、マスクキャップ着脱手段２９の駆動により、マスクキャップ３７が光ディスクＤの中央穴に挿着される。
【００４６】
そして、図４（ｄ）に示すように、塗布液供給手段４１によりマスク板２５上に滴下された塗布液４９を、ブレード５１が移動手段５３によって図中右方から左方に移動する。  すると、図４（ｅ）に示すように、ブレード５１が光ディスクＤの塗布面５７を塗布液４９と共に通過して、光ディスクＤの塗布面５７に所定厚の塗布液層が形成される。
なお、塗布液４９としては、光ディスクＤにインク受理層を形成するための塗布液４９である表１に示す組成物が例示される。
【００４７】
【表１】
2006198477.tif 000003
【００４８】
次いで、図４（ｆ）に示すように、マスクキャップ着脱手段２９が駆動され、マスクキャップ３７が光ディスクＤから脱着される。これにより、光ディスクＤの中央部には塗布液４９の塗布されない円形段部６９が形成されることとなる。次いで、エアシリンダ２３の駆動によって、図４（ｇ）に示すように、吸着台１３が下降することによりマスク板２５の開口縁部２５ａから光ディスクＤが下方へと離反される。これにより、塗布面５７に塗布された塗布液４９は、マスク板２５上の塗布液４９と剪断により分離される。この結果、光ディスクＤの外周縁にはマスク板２５に覆われていたことで、塗布液４９の塗布されていない図５に示す非塗布部７１が形成されることとなる。
なお、マスク板２５の開口形状を適宜変更することによって、塗布部の形状は自由に設定できる。
【００４９】
このようにして塗布液４９の塗布が完了した光ディスクＤは、図示は省略するが、吸着台１３から取り外され、次工程の塗布液４９の乾燥工程へと移送される。
【００５０】
なお、上記のブレード塗布装置１００においては、ブレード５１をステンレス材により形成したが、本発明はこれに限らず、例えば樹脂材料や硬質ゴムであってもよい。また、本実施形態では、光ディスクの印刷面の塗布に本ブレード塗布装置を用いているが、対象物はこれに限らず、厚膜を形成するものであれば、種々の対象物に塗布することができる。
【００５１】
マスク板２５から光ディスクＤが離反する過程を詳述すると、図４（ｇ）で示すように、マスク板２５から光ディスクＤが下方へと離反して塗布面５７に塗布された塗布液４９とマスク板２５上の塗布液４９とが剪断により分離される際、塗布液４９は所定の粘度を有するので、塗布液４９が分離方向(図においては上下方向)に引き伸ばされる。これによりマスク板２５の開口縁部２５ａに沿って一時的に液膜が形成され、やがて該液膜が破断する過程を経てマスク板２５と光ディスクＤとが分離する。成長した液膜が自然破壊すると、塗布液が飛滴となって周囲に飛び散り、光ディスクＤに塗布された塗布液層に付着して塗布液層の表面性状を劣化させる場合がある。このような不具合を防止するため、液膜が大きく成長する以前の液膜発生初期において、液膜を破壊しておくことが肝要である。
【００５２】
以下に液膜破壊手段を具体的に説明する。
図６は、本発明の第１実施形態のブレード塗布装置によりマスク板から光ディスクが離反する過程の各状態を（ａ）〜（ｄ）で表した要部縦断面図である。
図６に示すように、第１実施形態のブレード塗布装置１００は、液膜破壊手段の一例である傾斜離反機構７１を備えている。傾斜離反機構７１は、弾性押圧部材７３と、一対のストッパ７５（７５Ａ，７５Ｂ）とを具備する。弾性押圧部材７３は、光ディスクＤが最上位置に達したとき、マスク板２５を光ディスクＤに弾性的に押圧するためのものであって、マスク板２５の上方且つブレード５１の作動範囲外の機枠７７下面に配設されている。弾性押圧部材７３は、図において上下方向に弾性変形可能とされたコイルバネ７９を有する。ストッパ７５は、第１ストッパ７５Ａ及び第２ストッパ７５Ｂとからなり、機枠７７の左右の側壁にそれぞれ対向して固定されている。また、第１ストッパ７５Ａは、第２ストッパ７５Ｂより、距離ΔＨだけ上方に配設されている。
【００５３】
このようなブレード塗布装置１００を用いた塗布液の塗布方法、特に、マスク板２５と光ディスクＤとの離反作用について説明する。
図６（ａ）に示すように、エアシリンダ２３の駆動によって吸着台１３が上昇すると、光ディスクＤがマスク板２５に当接し、更にマスク板２５を押し上げながら上昇する。やがてマスク板２５は、弾性押圧部材７３であるコイルバネ７９からの弾性反発力により押圧されて、光ディスクＤに安定して位置決めされる。ここで、塗布液供給手段４１によりマスク板２５上に滴下された塗布液４９を、ブレード５１によって光ディスクＤの塗布面５７に塗布して所定厚の塗布液層を形成する。
【００５４】
次いで、図６（ｂ）に示すように、吸着台１３が下降すると、弾性押圧部材７３により下方に押圧されているマスク板２５は、光ディスクＤと共に下降し、やがて、マスク板２５が第１ストッパ７５Ａに当接する。これにより、マスク板２５は、第１ストッパ７５Ａ側端部の下降が阻止される。更に、光ディスクＤが吸着台１３と共に下降すると、図６（ｃ）に示すように、マスク板２５が傾斜して第１ストッパ７５Ａ側においてマスク板２５と光ディスクＤとの離反が開始される。該離反は、光ディスクＤの下降と共にマスク板２５の開口縁部２５ａに沿って進行し、やがて、マスク板２５の第２ストッパ７５Ｂ側端部が第２ストッパ７５Ｂに当接して、マスク板２５の下降が阻止される。このとき、離反部分（開口縁部２５ａ）に塗布された塗布液４９は、上下方向に引き伸ばされて液膜４９Ａが形成される。該液膜４９Ａは、光ディスクＤの下降に伴ってマスク板２５の開口縁部２５ａに沿って第１ストッパ７５Ａ側から第２ストッパ７５Ｂ側へと成長する。
【００５５】
マスク板２５が傾斜することにより、他の部分の液膜４９Ａに比較して大きく引き伸ばされている第１ストッパ７５Ａ側に形成された液膜４９Ａは、速やかに自然破壊される。  これにより、他の部分の液膜４９Ａは、この破壊点が起点となって、成長する以前に次々と破壊し、図６（ｄ）に示すように、マスク板４から光ディスクＤが離反する。従って、液膜４９Ａの破壊に伴う塗布液４９の飛滴の発生が防止される。
【００５６】
なお、光ディスクＤに対するマスク板２５の傾斜は、第２ストッパ７５Ｂ側においてマスク板２５から光ディスクＤが離反する直前における第１ストッパ７５Ａ側開口縁部２５ａのマスク板２５と光ディスクＤとの距離ｔを、１ｍｍ〜５ｍｍ、特に約３ｍｍとするのが飛滴を発生させることなく液膜４９Ａを破壊する上で効果的であった（図６（ｃ）参照）。
【００５７】
以上説明したように、本実施形態のブレード塗布装置１００によれば、マスク板２５と平面基板である光ディスクＤとを離反させるときに、マスク板２５の開口縁部２５ａと光ディスクＤとの間に生じる液膜４９Ａを破壊する液膜破壊手段を備えたので、液膜４９Ａを液膜破壊手段により任意のタイミングで確実に破壊することができる。またこれにより、液膜４９Ａが自然破壊する際に生じる飛滴が光ディスクＤに付着することを未然に防止して表面性状の良好な塗布液層を形成することができる。
【００５８】
また、本実施形態のブレード塗布装置１００によれば、マスク板２５と光ディスクＤとを離反させる際、傾斜離反機構７１によりマスク板２５と光ディスクＤとを傾斜させた状態で離反させるようにしたので、マスク板２５と光ディスクＤとの間に生じる液膜４９Ａが成長する前に、マスク板２５の開口縁部２５ａの一点で液膜４９Ａの破壊を発生させると共に、該破壊を開口縁部２５ａに沿って進行させて液膜４９Ａを確実に破壊することができる。
【００５９】
つまり、本実施形態のブレード塗布方法は、開口２７を有するマスク２５を光ディスクＤ上に重ね合わせ、マスク２５上に塗布液４９を供給し、マスク２５上方で該マスク２５に対して相対移動するブレード５１により塗布液４９をマスク２５上に塗布した後、マスク２５と光ディスクＤとを離反させ、光ディスクＤ上にマスク２５の開口２７に応じた塗布液層を形成するブレード塗布方法であって、マスク２５と光ディスクＤとを離反した直後に、マスク２５の開口縁部２５ａと光ディスクＤとの間に生じる液膜４９Ａを破壊するものである。
【００６０】
また、マスク２５の開口縁部２５ａと光ディスクＤとの離反動作を、開口縁部２５ａの位置に応じて異なるタイミングで離反を開始させる動作としている。
【００６１】
（第２実施形態）
図７は、本発明の第２実施形態のブレード塗布装置の要部側面図である。以降の説明においては、基本構成となるブレード塗布装置１００と同様の部材に対しては、同一符号を付与することでその説明を省略、或いは簡略化する。  図７に示すように、第２実施形態のブレード塗布装置２００は、前述の傾斜離反機構７１とは異なる液膜破壊手段を備えている。
【００６２】
即ち、エアシリンダ２３と吸着台１３とを連結する昇降軸２１の途中に回転変換機構である溝カム８１と、回転自在継手８３とを具備する。溝カム８１は、略円筒形本体の外周面に２本の螺旋溝８１ａが形成されている。螺旋溝８１ａのリードは、溝カム８１の軸方向長さ５０ｍｍに対して１８０°回転するように設定されている。昇降軸２１に固定された溝カム８１の螺旋溝８１ａには、それぞれ機枠（図示せず）に固定されたピン８５の先端部のカムフォロアが嵌合している。これにより、溝カム８１が上下方向に直線移動すると、溝カム８１、即ち、吸着台１３が回動する。
【００６３】
回転自在継手８３は、溝カム８１よりエアシリンダ２３側の昇降軸２１に配設された自在継手であり、エアシリンダ２３のピストン８７と昇降軸２１とを、回転自在且つ軸方向には一体として作動するように連結する。これにより、エアシリンダ２３を駆動してピストン８７を上下方向に移動すると、吸着台１３は、上下移動しつつ回転するように構成されている。
【００６４】
このようなブレード塗布装置２００を用いたマスク板２５と光ディスクＤとの離反作用について説明する。
図７に示すように、光ディスクＤに塗布液４９を塗布した後、エアシリンダ２３を駆動してピストン８７を下方（矢印Ｃ方向）に移動すると、吸着台１３は、溝カム８１の作用により矢印Ｒ方向に回転しながら下降する。これにより、マスク板２５及び光ディスクＤに塗布された塗布液４９は、マスク板２５の開口縁部２５ａに沿う部分が上下方向及び回転方向に同時に引き伸ばされて、液膜４９Ａが成長する以前にマスク板２５と光ディスクＤの離反初期において破壊する。
【００６５】
本実施形態のブレード塗布装置２００によれば、マスク２５と平面基板Ｄの上下方向の相互移動に加えて水平方向の相互移動が加わることにより、発生する液膜４９Ａが伸ばされて、これにより液膜４９Ａを早期に破壊することができる
【００６６】
（第３実施形態）
図８は本発明の第３実施形態のブレード塗布装置の要部平面図、図９は図８に示すブレード塗布装置の要部縦断面図である。
図８及び図９に示すように、第３実施形態のブレード塗布装置３００は、マスク板２５の下方に液膜破壊手段９１が配設されている。液膜破壊手段９１は、電動モータ９５と、電動モータ９５の回転軸９７に固定された液膜破壊用部材である回転アーム９３とを具備している。そして、マスク板２５から光ディスクＤを僅かに下降させたとき、電動モータ９５を駆動してマスク板２５と光ディスクＤの間に形成された隙間に回転アーム９３をマスク２５の開口２７の外側から内側に突出させて液膜４９Ａに接触させる。これにより、マスク板２５と光ディスクＤの間に形成された液膜４９Ａは、強制的に破壊される。
【００６７】
本実施形態のブレード塗布装置３００によれば、マスク２５と平面基板（光ディスク）Ｄとを離反するときに、液膜破壊用部材（回転アーム）９３をマスク２５の開口２７の内側に突出させて液膜４９Ａに接触させるようにしたので、液膜４９Ａが成長する前に液膜４９Ａを確実に破壊することができる。
【００６８】
なお、液膜破壊用部材は、回転アームのように機械部品を液膜４９Ａに接触させて破壊するものに限定されず、例えば、空気等の流体を液膜４９Ａに向けて噴出させて液膜４９Ａを破壊するようにしてもよい。
【００６９】
（第４実施形態）
図１０は、本発明の第４実施形態のブレード塗布装置に用いられるマスク板の平面図である。
図１０に示すように、第４実施形態のブレード塗布装置４００のマスク板２５は、開口縁部２５ａの一部が略Ｖ字形に切り欠かれて形成された切欠２５ｂ、２５ｂが設けられている。このようなマスク板２５を用いて光ディスクＤに塗布液４９を塗布した後、マスク板２５と光ディスクＤとを離反させると、切欠２５ｂ、２５ｂ近傍に形成される液膜４９Ａは、他の部位(即ち、円弧部)の液膜４９Ａと比較して大きく引き伸ばされてアンバランスが生じ、切欠２５ｂ、２５ｂ近傍に塗布された液膜４９Ａから破壊が発生する。該破壊は、マスク板２５の開口縁部２５ａに沿って進行し、液膜４９Ａが成長する前に破壊することができる。
【００７０】
本実施形態のブレード塗布装置４００によれば、マスク２５の開口縁部２５ａの少なくとも１箇所に切り欠き２５ｂ、２５ｂを形成したので、マスク２５と光ディスクＤとを離反させると、該切り欠き２５ｂ、２５ｂから液膜４９Ａの破壊が発生し、早期に該液膜４９Ａを破壊することができる。なお、切り欠き２５ｂ、２５ｂは２つに限らず、任意の数を設けることができる。また、切り欠きに限らず、突起であってもよい。
【００７１】
（第５実施形態）
図１１は、本発明の第５実施形態のブレード塗布装置に用いられるマスク板の要部拡大斜視図である。
図１１に示すように、第５実施形態のブレード塗布装置５００に用いられるマスク板２５は、開口２７を画成する開口縁部２５ａの大部分に濡れ性の小さな材料である、例えばフッ素系樹脂がコーティングされており、これにより、該塗布部に濡れ性の小さなコーティング部２５ｃが形成されている。開口縁部２５ａの残りの部分には、フッ素系樹脂がコーティングされていない、換言すれば、大きな濡れ性を有する非コーティング部２５ｄが形成されている。従って、濡れ性が異なるコーティング部２５ｃと非コーティング部２５ｄとの境界には、濡れ性不連続部２５ｅが形成されている。
【００７２】
このようなマスク板２５を用いて光ディスクＤに塗布液４９を塗布した後、マスク板２５と光ディスクＤとを離反させると、マスク板２５と光ディスクＤとの間に形成された液膜４９Ａは、濡れ性不連続部２５ｅにおいて生じるアンバランスにより破壊が生じ、該破壊はマスク板２５の開口縁部２５ａに沿って進行し、液膜４９Ａが成長する前に破壊することができる。
【００７３】
本実施形態のブレード塗布装置５００によれば、マスク２５の開口縁部２５ａの少なくとも１箇所に周囲と異なる濡れ性を有する濡れ性不連続部２５ｅを形成したので、液膜４９Ａが成長する前に該濡れ性不連続部２５ｅで液膜４９Ａの破壊を発生させ、これにより液膜４９Ａを確実に破壊することができる。
【００７４】
なお、以上説明したの本発明に係るブレード塗布装置は、前述した各実施形態の構成に限定されるものではなく、適宜、変形や改良等が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明に係るブレード塗布装置の概略基本構成を表す構成図である。
【図２】図１に示したブレード塗布装置の外観の概略を表した斜視図である。
【図３】本発明に係るブレード塗布方法の基本手順を（ａ）〜（ｃ）で表した説明図である。
【図４】本発明に係るブレード塗布方法の基本手順を（ｄ）〜（ｇ）で表した説明図である。
【図５】塗布の完了した被塗布部材の平面図である。
【図６】第１実施形態のブレード塗布装置によりマスク板から光ディスクが離反する過程の各状態を（ａ）〜（ｄ）で表した要部縦断面図である。
【図７】第２実施形態のブレード塗布装置の要部側面図である。
【図８】第３実施形態のブレード塗布装置の要部平面図である。
【図９】図８に示したブレード塗布装置の要部縦断面図である。
【図１０】第４実施形態のブレード塗布装置に用いられるマスク板の平面図である。
【図１１】第５実施形態のブレード塗布装置に用いられるマスク板の要部破断斜視図である。
【図１２】従来のディスク塗布装置により塗布液を塗布する状態を示し、（ａ）はブレードにより光ディスクに塗布液が塗布された状態を示す斜視図、（ｂ）はマスク板から光ディスクが離反した状態を示す斜視図である。
【図１３】マスク板から光ディスクが離反する過程の各状態を（ａ）〜（ｄ）で表した従来技術の説明図である。
【符号の説明】
【００７６】
２３    エアシリンダ（マスク剥離手段）
２５    マスク板（マスク）
２５ａ  開口縁部
２５ｂ  切り欠き
２５ｅ  濡れ性不連続部
２７    開口
４１    塗布液供給部
４９    塗布液（塗布液層）
４９Ａ  液膜
５１    ブレード
７１    傾斜離反機構（液膜破壊手段）
８１    溝カム(回転変換機構)
９１    液膜破壊手段
９３    回転アーム（液膜破壊用部材）
１００，２００，３００，４００，５００  ブレード塗布装置
Ｄ      光ディスク（平面基板）
【図１】
2006198477.tif 000004
【図２】
2006198477.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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