(57)【要約】【課題】    基板上に形成される塗膜の厚さを均一にできるスリットノズルを提供する。【解決手段】  ノズル半体１のノズル半体２との対向面には、塗布液の第１貯留部４及び第２貯留部５が形成されている。第１貯留部４は幅方向の中央部が最も高く、両端が低くなるように山形に形成され、最も高くなった中央部において塗布液供給孔６と連通している。また、最も高くなった中央部にはエア抜き穴７が連通している。第２貯留部５は前記第１貯留部４の下側に連続して形成され、その深さはノズル半体１の厚み方向を基準として前記第１貯留部４よりも小さくされている。この第２貯留部５の下辺はノズル半体１の幅方向の中央部が最も低く、両端に行くに従って高くなるＶ字状傾斜面８となるように設計されている。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つのノズル半体を結合した状態で、下方に向かって開口するスリット状吐出口が形成されるスリットノズルにおいて、前記２つのノズル半体のうちの一方には塗布液の第１貯留部が形成され、この第１貯留部に連続する下側にノズル半体の厚み方向を基準として前記第１貯留部よりも浅い第２貯留部が形成され、この第２貯留部に連続する下側に他方のノズル半体との間で下端がスリット状吐出口となるオリフィスを形成する平坦面が設けられ、前記第１貯留部はノズル半体の幅方向の中央部に形成した塗布液供給孔と連通する箇所が最も高く、両端が低くなるように山形に形成され、また前記第２貯留部の下辺はノズル半体の幅方向の中央部が最も低く、両端に行くに従って高くなるＶ字状傾斜面をなすことを特徴とするスリットノズル。
【請求項２】
請求項１に記載のスリットノズルにおいて、前記Ｖ字状傾斜面の両端の始点は、前記第２貯留部の下辺を直線状にした場合に、最も塗布液の流下量が多くなる点としたことを特徴とするスリットノズル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板表面に一定の幅で塗布液を塗布するスリットノズルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板等の表面にホトレジスト等の塗布液を塗布する方法として、通常のノズルから基板表面に塗布液を滴下し、その後回転することで均一な厚みとする方法があるが、これでは塗布された塗布液の９０％以上が飛散してしまい、無駄になる量が多い。そこで、スリットノズルを用いて基板に一定幅で塗布液を塗布した後にある程度回転させて塗膜の厚さを均一にする方法、或いはスリットノズルを用いて基板に一定幅で塗布液を塗布し、これで塗布工程を終了することが最近では行われている。
【０００３】
上記のように塗布液の無駄を少なくするには、できるだけ基板を回転させないで、塗膜の厚みを均一にすることが条件となる。このためスリットノズルには、吐出口から吐出される塗布液の量がスリット状吐出口に沿って均一であることが必要になる。この均一性を確保するため従来から種々の提案がなされている。
【０００４】
特許文献1には、スリットノズルを構成する一方の半体に、２つの塗布液貯留部を上下に離間して設け、これら２つの塗布液貯留部を連通する部分のうちスリットノズルの幅方向の中央部に相当する箇所に遮断部を設けて、塗布量の均一性を確保する提案がなされている。
特許文献２には、スロット（スリット状流路）内を塗布液の流れ方向に２段のスロットエレメントに分割し、それぞれのスロットエレメントのギャップを異ならせ、塗布液の圧力損失を制御することで、塗布量の均一性を確保する提案がなされている。
特許文献３には、スリットノズルを構成する一方の半体に、塗布液の貯留部を設け、この貯留部の下側に整圧部を連続して形成し、この整圧部を介して吐出口に塗布液を供給することで、塗布液が吐出口に沿って均一に吐出する提案がなされている。
特許文献４には、スリットノズルを構成する一方の半体に、塗布液の貯留部を設け、この貯留部の中にノズル内流路形成用の部材を配置し、均一な塗布量とする提案がなされている。
【０００５】
【特許文献１】特開平７−３２６５６４号公報
【特許文献２】特開２０００−０５１７７７号公報
【特許文献３】特開２００２−０８６０４５号公報
【特許文献４】特開２００２−３７００５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献２および特許文献３に開示されるスリットノズルのように、貯留部とその下側に整圧部を設けることで、ある程度の均一塗布が可能になるが十分ではない。
また、特許文献１および特許文献４に開示されるスリットノズルのように、貯留部を山形とし、貯留部の下に遮断部を設けるか貯留部内にノズル内流路形成用の部材を配置した場合には、図６に示すように幅方向の中央部での塗布液の流下量が少なくなり、中央部を外れた両サイドでの塗布液の流下量が多くなり、更に両端部は塗布液の流下量が少なくなる傾向にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するため本発明に係るスリットノズルは、２つのノズル半体を結合した状態で、下方に向かって開口するスリット状吐出口が形成されるスリットノズルにおいて、前記２つのノズル半体のうちの一方には塗布液の第１貯留部が形成され、この第１貯留部に連続する下側にノズル半体の厚み方向を基準として第１貯留部よりも浅い第２貯留部が形成され、この第２貯留部に連続する下側に他方のノズル半体との間で下端がスリット状吐出口となるオリフィスを形成する平坦面が設けられ、前記第１貯留部はノズル半体の幅方向の中央部に形成した塗布液供給孔と連通する箇所が最も高く、両端が低くなるように山形に形成され、また前記第２貯留部の下辺はノズル半体の幅方向の中央部が最も低く、両端に行くに従って高くなるＶ字状傾斜面をなす構成とした。
尚、好ましくは、前記Ｖ字状傾斜面の両端の始点は、前記第２貯留部の下辺を直線状にした場合に、最も塗布液の流下量が多くなる点とする。
【０００８】
上記の構成とすることにより、スリット状吐出口から流下する塗布液の量が吐出口の幅方向に沿って均一になる。したがって、基板上に塗布される塗布液の厚さが均一になるので、製品歩留まりの向上が図れる。
【発明の効果】
【０００９】
以上に説明したように本発明に係るスリットノズルによれば、ノズルの幅方向に延びるスリット状吐出口からの塗布液の流下量が何れの箇所においても等しくなるので、基板上に形成される塗膜の厚さが均一になる。
特に、１０〜２０μｍの範囲でレジスト膜の厚さを正確にコントロールすることができるので、例えば、ＩＣパターン面上に正確な高さのパンプ（突起状電極）を集積回路形成技術を応用して簡単に形成することができる。また、ワイヤボンディングの代わりとなる金属柱をチップに設けることにも利用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。図１は本発明に係るスリットノズルの全体斜視図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿った断面図、図３は図２のＢ−Ｂ矢示方向図、図４は貯留部を形成したノズル半体の拡大断面図、図５はノズル下端部の拡大断面図である。
【００１１】
スリットノズルは左右のノズル半体１，２を突き合わせボルト３にて結合一体化することで構成され、一方のノズル半体１のノズル半体２との対向面には、塗布液の第１貯留部４及び第２貯留部５が形成されている。
【００１２】
第１貯留部４はノズル半体１の厚み方向（図２の左右方向）の約半分近くの深さまで穿設され、その断面形状は同一幅で深さが深くなるほど高くなるように傾斜している。また第１貯留部４のノズル半体１のノズル半体２との対向面に開口している部分の形状は、図３に示すように、幅方向（図３の左右方向）の中央部が最も高く、両端が低くなるように山形に形成され、最も高くなった中央部において塗布液供給孔６と連通している。また、最も高くなった中央部にはエア抜き穴７が連通している。
【００１３】
第２貯留部５は前記第１貯留部４の下側に連続して形成され、その深さはノズル半体１の厚み方向を基準として前記第１貯留部４よりも小さくされている。この第２貯留部５の下辺はノズル半体１の幅方向の中央部が最も低く、両端に行くに従って高くなるＶ字状傾斜面８となるように設計され、中央部が傾斜面８の両端８ａ、８ａよりも０．５〜３ｍｍ低く形成されている。
【００１４】
前記Ｖ字状傾斜面８の両端はノズルの両端まで延ばしてもよいが、この実施例では傾斜面８の両端８ａ、８ａをノズルの両端から内側に位置せしめている。具体的には、両端８ａ、８ａは、従来技術として図６で示した流下量の大小の関係から流下量が多くなる点を第２貯留部５の下辺を水平にした場合に最も塗布液の流下量が多くなる点に選定している。このようにすることで、より均一な塗布が可能になる。
【００１５】
また、第２貯留部５の下側には他方のノズル半体２との間でオリフィスを形成する平坦面９が連続して形成され、このオリフィスの下端がスリット状吐出口１０となる。
【００１６】
また、第１貯留部４、第２貯留部５及びオリフィスからの塗布液の漏れを防止するため、ノズルの両端には端板１１，１２が取り付けられ、また、ノズル半体１、２の下部傾斜面１ａ、２ａの角度は水平面とのなす角が約３０〜６０°となるように設定されている。
【００１７】
以上において、塗布液供給孔６から第１貯留部４に流入した塗布液は、従来であれば中央部に集中しがちであった塗布液は、第１貯留部４が山形であるので、左右に均等に分配され、更に第２貯留部５に流入する。
そして、この第２貯留部５の下辺が水平であると、両サイドにおいて流下量が他の箇所よりも多くなる傾向があるが、第２貯留部５の下辺をＶ字状傾斜面としたことで、流下量が均一になる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に係るスリットノズルの全体斜視図
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った断面図
【図３】図２のＢ−Ｂ矢示方向図
【図４】貯留部を形成したノズル半体の拡大断面図
【図５】ノズル下端部の拡大断面図
【図６】従来のスリットノズルによる不具合を説明した図
【符号の説明】
【００１９】
１，２…ノズル半体、１ａ，２ａ…ノズル半体の下部傾斜面、３…ボルト、４…第１貯留部、５…第２貯留部、６…塗布液供給孔、７…エア抜き穴、８…Ｖ字状傾斜面、８ａ…傾斜面の端部、９…平坦面、１０…スリット状吐出口、１１，１２…端板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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