(57)【要約】【課題】生産性が高く、かつ高品位な反射防止フィルムを提供する。【解決手段】バックアップローラ１１に支持されて連続走行するウェブＷ上に、スロットダイを使用して塗布液を塗布し、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下であり、かつ、ウェブよりも屈折率の低い層を少なくとも１層形成する反射防止フィルムの製造方法。ウェブ走行方向下流側の先端リップのウェブ走行方向ランド長さＩＬＯが３０〜１００μｍであり、かつ、ウェブ走行方向上流側の先端リップ１８ａとウェブ表面との隙間を、ウェブ走行方向下流側の先端リップ１８ｂとの隙間よりも３０〜１２０μｍ大きく設定する【選択図】  図１０
2006122889.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックアップローラに支持されて連続走行する透明支持体上に、スロットダイを使用して塗布液を塗布し、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下であり、かつ、該透明支持体よりも屈折率の低い層を少なくとも１層形成する反射防止フィルムの製造方法において、
前記スロットダイの、前記透明支持体走行方向下流側の先端リップの前記透明支持体走行方向ランド長さが３０〜１００μｍであり、かつ、前記透明支持体走行方向上流側の先端リップと前記透明支持体表面との隙間を、前記透明支持体走行方向下流側の先端リップと前記透明支持体表面との隙間よりも３０〜１２０μｍ大きく設定することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記塗布液の塗布時における粘度が２０．０ｍＰａ・秒以下であり、かつ、前記透明支持体上に塗布される塗布液の量が２．０〜５．０ｍｌ／ｍ２であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記透明支持体側より順に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層が形成され、実質上３層の屈折率の異なる層が形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記反射防止フィルムの設計波長λ（＝４００〜６８０ｎｍ）に対して、前記中屈折率層が下記の（式１）を、前記高屈折率層が下記の（式２）を、前記低屈折率層が下記の（式３）をそれぞれ満足することを特徴とする請求項３に記載の反射防止フィルムの製造方法。
λ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜λ／４×１．００      （式１）
λ／２×０．７５＜ｎ２ｄ２＜λ／２×０．９５      （式２）
λ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜λ／４×１．０５      （式３）
（ただし、式１中、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、式２中、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、式３中、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である）
【請求項５】
屈折率が１．４５〜１．５５である前記透明支持体に対して、前記中屈折率層の屈折率ｎ１が１．６０〜１．６５、前記高屈折率層の屈折率ｎ２が１．８５〜１．９５、及び、前記低屈折率層の屈折率ｎ３が１．３５〜１．４５であることを特徴とする請求項４に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記透明支持体よりも屈折率の低い層又は前記低屈折率層が、熱硬化性及び／又は電離放射線硬化性の含フッ素樹脂からなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記高屈折率層が、コバルト、アルミニウム、及びジルコニウムから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子を含有し、かつ、屈折率が１．５５〜２．４０であることを特徴とする請求項３、４及び６のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記透明支持体よりも屈折率の低い層又は前記低屈折率層と、前記透明支持体との間に少なくとも１層のハードコート層を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記反射防止フィルムを構成する層の１層以上を、巻き取ることなしに連続的に形成することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記請求項１乃至９のいずれか１項に記載の製造方法によって得られる層を少なくとも１層有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１１】
連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布して形成される塗布膜の製造方法において、
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とし、
かつ、前記塗布直後のウェブを囲むケーシングを有するドライヤにより塗布面近傍の風の乱れを防止し、乾燥中の塗布面側の溶剤蒸気を高い濃度で保ったまま乾燥する乾燥装置により乾燥を行うことを特徴とする塗布膜の製造方法。
【請求項１２】
前記ドライヤの中の前記ウェブの走行位置の塗布面側に塗布液中の溶剤を凝縮、回収させる凝縮器を設けることを特徴とする請求項１１記載の塗布膜の製造方法。
【請求項１３】
前記凝縮器が冷却機構を備えて温度制御可能であることを特徴とする請求項１２記載の塗布膜の製造方法。
【請求項１４】
連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布して形成される塗布膜の製造方法において、
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とし、
かつ、前記塗布膜の表面を、前記塗布膜の表面に沿って気体を前記ウェブの移動速度に対して−０．１ｍ／秒以上０．１ｍ／秒以下の相対速度となるように移動させながら乾燥する乾燥装置により乾燥することを特徴とする塗布膜の製造方法。
【請求項１５】
連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布した後に、乾燥装置で乾燥され形成される塗布膜の製造方法において、
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とし、
かつ、前記乾燥装置内を前記ウェブが搬送される間に、前記ウェブに塗布された前記塗布液から蒸発した有機溶媒のガスを整風部材の孔を通って排気室に逃がし、前記排気室に入った有機溶媒のガスを排気パイプを通して外部に排気する乾燥装置を用いて乾燥を行うことを特徴とする塗布膜の製造方法。
【請求項１６】
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向上流側の先端リップと前記ウェブ表面との隙間を、前記ウェブ下流側の先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくすることを特徴とする請求項１１乃至１５のいずれか１つに記載の塗布膜の製造方法。
【請求項１７】
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向上流側の先端リップと前記ウェブ表面との隙間を、前記ウェブ下流側の先端リップと前記ウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下の範囲で大きくすることを特徴とする請求項１６に記載の塗布膜の製造方法。
【請求項１８】
前記乾燥装置の全長が、前記乾燥装置中に前記塗布膜が２秒以上搬送される長さであり、かつ前記乾燥装置内における塗布液溶媒の蒸発速度が０．３ｇ／（ｍ２・ｓｅｃ）以上であることを特徴とする請求項１１乃至１７のいずれか１つに記載の塗布膜の製造方法。
【請求項１９】
請求項１１乃至１８のいずれか１つに記載の塗布膜の製造方法により作製されることを特徴とする塗布膜。
【請求項２０】
請求項１９に記載の塗布膜が、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下であり、かつ前記ウェブとしての透明支持体よりも屈折率の低い層を少なくとも１層有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２１】
請求項１０及び２０に記載の反射防止フィルム、または請求項１９に記載の塗布膜が偏光膜の少なくとも一方の面に貼付されていることを特徴とする偏光板。
【請求項２２】
請求項１０及び２０に記載の反射防止フィルム、または請求項１９に記載の塗布膜が偏光膜の一方の面に貼付され、光学異方性を有する光学補償フィルムが前記偏光膜の他方の面に貼付されていることを特徴とする偏光板。
【請求項２３】
請求項１０及び２０に記載の反射防止フィルム、または請求項１９に記載の塗布膜を用いて構成されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２４】
請求項２１または２２に記載の偏光板を用いて構成されていることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、長尺帯状支持体（以下、ウェブと称する）に連続して塗布膜を形成する塗布膜の製造方法、反射防止フィルム及びその製造方法、該フィルムを用いた偏光板、及びこれらを用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報通信関連機器・ＡＶ機器などの高性能化と普及に伴い、１０ｎｍから１００ｎｍのオーダーの薄膜を使用した部品の需要が急拡大しており、このような薄膜を高い生産性で作成するニーズが高まっている。該薄膜は光学部品として使用されることが多く、このような光学的な機能を持つ薄膜を一般的に光学薄膜と呼ぶ。光学薄膜は可視光波長の１／４〜１倍の程度の光学膜厚（光学膜厚ｎｄ＝物理膜厚×屈折率）であり、光学薄膜を単層あるいは多層積層することで様々な機能を持たせることが出来る。光学薄膜を用いた主な製
品としては、バンドパスフィルタ、ダイクロイックミラー、ダイクロイックフィルタ、コールドミラー・フィルタ、ビームスプリッター、反射防止膜、近赤外線カットフィルタ、レーザーミラー、ＮＤフィルタ等が挙げられる。
【０００３】
反射防止膜を有する反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に使用されている。また、眼鏡やカメラのレンズにも、反射防止フィルムが使用されている。
【０００４】
このような反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が、従来から普通に用いられている。複数の透明薄膜を用いる理由は、可視域でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためである。
【０００５】
これら金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタリング法により形成されている。ところが、金属酸化物の透明薄膜は、反射防止フィルムとして優れた光学的性質を有しているが、蒸着法やスパッタリング法による製膜方法は、生産性が低く大量生産には適していない。
【０００６】
これに対し、蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により反射防止フィルムを形成する方法が提案されている（特許文献１〜５）。このうち、特許文献１は、微細空孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層の構成のもので、反射防止層は、塗布により形成される。微細空孔は、層の塗布後に活性化ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することによって形成される。
【０００７】
特許文献２は、支持体、高屈折率層及び低屈折率層の順に積層した反射防止フィルムの構成、及び、支持体と高屈折率層の間に中屈折率層を設けた反射防止フィルムの構成を開示している。この低屈折率層は、ポリマー又は無機微粒子の塗布により形成されている。
【０００８】
特許文献３は、反射防止層をダイコート法により塗布する内容の提案である。特許文献４及び特許文献５は、反射防止層をダイコート法により塗布するもので、ダイの構成を工夫することによって精度よく薄層の塗布が行える内容の提案である。
【特許文献１】特公昭６０−５９２５０号公報
【特許文献２】特開昭５９−５０４０１号公報
【特許文献３】特開平７−１５１９０４号公報
【特許文献４】特開２００３−２０００９７号公報
【特許文献５】特開２００３−２１１０５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、塗布法により反射防止フィルムを形成する場合、可視光波長の１／２〜１／４程度の非常に薄い膜厚領域の塗布となるため、数ｎｍオーダーの膜厚ムラが大きな膜厚偏差となってしまう。更に、各層のわずかな膜厚ムラが色ムラとなり、色味が大きくシフトし、目視でムラとして検出されてしまう問題があるため、膜厚を正確に制御する塗布技術が非常に重要となる。反射防止フィルムの製造工程における膜厚ムラの主要な発生箇所は塗布部及び塗布後の乾燥部である。
【００１０】
これに対し、反射防止フィルムの塗布方式としてはこれまでディップコート法、マイクログラビア法、リバースロールコート法などが主に用いられてきた。
【００１１】
ところが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。また、リバースロールコート法、マイクログラビア法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。更に、マイクログラビア法では、グラビアロールの製作精度や、ブレードとグラビアロールの当たりによるロールやブレードの経時変化により、塗布量ムラを発生しやすい。
【００１２】
また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が比較的困難である。そのため、これらの塗布方式では、ある速度以上の塗布の高速化が困難であり、蒸着法などに比べれば生産性が高いものの、塗布本来の生産性の高さが活かし切れていない。
【００１３】
一方、既述した特許文献３のダイコート法は、前計量塗布方式であるため、膜厚の安定性が高い利点がある。ただし、通常一般的に用いられているダイの構成を用いて塗布を行うので、前記の各種塗布方式と同程度の高速性しか実現することができない。具体的には、反射防止層のような薄層塗布では、透明支持体の搬送方向と垂直及び平行な向きに発生する膜厚ムラが顕著に発生し、膜厚の安定性を保つことが難しい。
【００１４】
これに対し、既述した特許文献４及び５のダイコート法では、ダイの構成を工夫することによって精度よく薄層の塗布が行えるとされている。
【００１５】
しかしながら、これらの特許文献に示されている構成で塗布を行っても液の種類によっては、高速での塗布が困難であり、時には塗布自体が不可能である事も見受けられていた。更に高速塗布時においてはＷＥＴ膜厚は安定になってもその直後の乾燥工程で発生する膜厚ムラにより良好な面状が得られないことがある。
【００１６】
塗布液中に有機溶剤を含む場合、特に反射防止フィルムのように塗布および乾燥工程で発生する数ｎｍの膜厚ムラが面状故障として視認されてしまう場合には、このようなムラの発生は著しい製品の品質劣化をもたらす。
【００１７】
乾燥工程では通常、熱風乾燥方法が用いられ、この熱風乾燥方法は乾燥効率に優れるものの、塗布面に直接または多孔板、整流板等を介して風をあてるために、この風によって塗布面が乱れて塗布層の厚さが不均一となってムラを生じたり、対流によって塗布面での溶媒の蒸発速度が不均一になったりし、いわゆるユズ肌等が発生して、均一な塗布層が得られないという問題がある。また、塗布膜に吹きつける風の条件を調整して蒸発速度を下げることによって良好
な面状を得ることは可能であるが、生産性を上げるために塗布速度を下げると、乾燥を完了させるために長い乾燥工程が必要となるため、生産性向上のためには好ましい方法ではない。
【００１８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、高精細な描画性、反射防止性及び防眩性に優れた塗布膜の製造方法、反射防止フィルムの製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、生産性が蒸着法や他の塗布方式よりも優れ、膜厚均一性が高い反射防止フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
前記目的を達成するために、請求項１に係る本発明は、バックアップローラに支持されて連続走行する透明支持体上に、スロットダイを使用して塗布液を塗布し、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下であり、かつ、該透明支持体よりも屈折率の低い層を少なくとも１層形成する反射防止フィルムの製造方法において、前記透明支持体走行方向下流側の先端リップの前記透明支持体走行方向ランド長さが３０〜１００μｍであり、かつ、前記透明支持体走行方向上流側の先端リップと前記透明支持体表面との隙間を、前記透明支持体走行方向下流側の先端リップと前記透明支持体表面との隙間よりも３０〜１２０μｍ大きく設定することを特徴とする。
【００２０】
すなわち、本発明者は上記問題を解決するため鋭意検討を行った結果、スロットダイの形状を工夫した塗布装置を用いることにより、反射防止フィルムのような２００ｎｍ以下の薄層を膜厚ムラ無く安定に塗布可能となる新規な反射防止フィルムの製造方法を見出した。
【００２１】
請求項２に係る本発明は、前記塗布液の塗布時における粘度が２０．０ｍＰａ・秒以下であり、かつ、前記透明支持体上に塗布される塗布液の量が２．０〜５．０ｍｌ／ｍ２であることを特徴とする。このように、更に透明支持体に塗布される塗布液の量及び粘度を規定することにより、良好な面状を得ることができる。
【００２２】
すなわち、本発明は、透明支持体に塗布される塗布液の量が２０ｍｌ／ｍ２ 以下の際に有用であるが、２００ｎｍ以下の膜厚を安定的に塗布するためには、透明支持体に塗布される塗布液の量が２〜５ｍｌ／ｍ２の時に特に良好な面状を得ることができる。塗布液の量が２ｍｌ／ｍ２ 未満では全面に塗布する事が困難であり、５ｍｌ／ｍ２超では乾燥の乱れに起因するムラが発生してしまう。
【００２３】
請求項３に係る本発明は、前記透明支持体側より順に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層が形成され、実質上３層の屈折率の異なる層が形成されることを特徴とする。このように実質上３層とすることにより、高品質な反射防止フィルムとできる。
【００２４】
請求項４に係る本発明は、前記反射防止フィルムの設計波長λ（＝４００〜６８０ｎｍ）に対して、前記中屈折率層が下記の（式１）を、前記高屈折率層が下記の（式２）を、前記低屈折率層が下記の（式３）をそれぞれ満足することを特徴とする。
λ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜λ／４×１．００      （式１）
λ／２×０．７５＜ｎ２ｄ２＜λ／２×０．９５      （式２）
λ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜λ／４×１．０５      （式３）
（ただし、式１中、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、式２中、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、式３中、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である）
請求項５に係る本発明は、屈折率が１．４５〜１．５５である前記透明支持体に対して、前記中屈折率層の屈折率ｎ１が１．６０〜１．６５、前記高屈折率層の屈折率ｎ２が１．８５〜１．９５、及び、前記低屈折率層の屈折率ｎ３が１．３５〜１．４５であることを特徴とする。
【００２５】
請求項６に係る本発明は、前記透明支持体よりも屈折率の低い層又は前記低屈折率層が、熱硬化性及び／又は電離放射線硬化性の含フッ素樹脂からなることを特徴とする。
【００２６】
請求項７に係る本発明は、前記高屈折率層が、コバルト、アルミニウム、及びジルコニウムから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子を含有し、かつ、屈折率が１．５５〜２．４０であることを特徴とする。
【００２７】
請求項８に係る本発明は、前記透明支持体よりも屈折率の低い層又は前記低屈折率層と、前記透明支持体との間に少なくとも１層のハードコート層を有することを特徴とする。このように、ハードコート層を有することにより、高品質な反射防止フィルムとできる。
【００２８】
請求項９に係る本発明は、前記反射防止フィルムを構成する層の１層以上を、巻き取ることなしに連続的に形成することを特徴とする。このような連続的な形成により、生産性が向上する。
【００２９】
請求項１０に係る本発明は、前記請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法によって得られる層を少なくとも１層有することを特徴とする反射防止フィルムである。
【００３０】
請求項１１に係る本発明は、連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布して形成される塗布膜の製造方法において、前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とし、かつ、前記塗布直後のウェブを囲むケーシングを有するドライヤにより塗布面近傍の風の乱れを防止し、乾燥中の塗布面側の溶剤蒸気を高い濃度で保ったまま乾燥する乾燥装置により乾燥を行うことを特徴とする塗布膜の製造方法である。
【００３１】
請求項１２に係る本発明は、前記ドライヤの中の前記ウェブの走行位置の塗布面側に塗布液中の溶剤を凝縮、回収させる凝縮器を設けることを特徴とする請求項１１記載の塗布膜の製造方法である。
【００３２】
請求項１３に係る本発明は、前記凝縮器が冷却機構を備えて温度制御可能であることを特徴とする請求項１２記載の塗布膜の製造方法である。
【００３３】
請求項１４に係る本発明は、連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布して形成される塗布膜の製造方法において、前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とし、かつ、前記塗布膜の表面を、前記塗布膜の表面に沿って気体を前記ウェブの移動速度に対して−０．１ｍ／秒以上０．１ｍ／秒以下の相対速度となるように移動させながら乾燥する乾燥装置により乾燥することを特徴とする塗布膜の製造方法である。
【００３４】
請求項１５に係る本発明は、連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布した後に、乾燥装置で乾燥され形成される塗布膜の製造方法において、
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とし、
かつ、前記乾燥装置内を前記ウェブが搬送される間に、前記ウェブに塗布された前記塗布液から蒸発した有機溶媒のガスを整風部材の孔を通って排気室に逃がし、前記排気室に入った有機溶媒のガスを排気パイプを通して外部に排気する乾燥装置を用いて乾燥を行うことを特徴とする塗布膜の製造方法である。
【００３５】
請求項１６に係る本発明は、前記スロットダイの前記ウェブ走行方向上流側の先端リップと前記ウェブ表面との隙間を、前記ウェブ下流側の先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくすることを特徴とする請求項１１乃至１５のいずれか１つに記載の塗布膜の製造方法である。
【００３６】
請求項１７に係る本発明は、前記スロットダイの前記ウェブ走行方向上流側の先端リップと前記ウェブ表面との隙間を、前記ウェブ下流側の先端リップと前記ウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下の範囲で大きくすることを特徴とする請求項１６に記載の塗布膜の製造方法である。
【００３７】
請求項１８に係る本発明は、前記乾燥装置の全長が、前記乾燥装置中に前記塗布膜が２秒以上搬送される長さであり、かつ前記乾燥装置内における塗布液溶媒の蒸発速度が０．３ｇ／（ｍ２・ｓｅｃ）以上であることを特徴とする請求項１１乃至１７のいずれか１つに記載の塗布膜の製造方法である。
【００３８】
請求項１９に係る本発明は、請求項１１乃至１８のいずれか１つに記載の塗布膜の製造方法により作製されることを特徴とする塗布膜である。
【００３９】
請求項２０に係る本発明は、請求項１９に記載の塗布膜が、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下であり、かつ前記ウェブとしての透明支持体よりも屈折率の低い層を少なくとも１層有することを特徴とする反射防止フィルムである。
【００４０】
請求項２１に係る本発明は、請求項１０及び２０に記載の反射防止フィルム、または請求項１９に記載の塗布膜が偏光膜の少なくとも一方の面に貼付されていることを特徴とする偏光板である。
【００４１】
請求項２２に係る本発明は、請求項１０及び２０に記載の反射防止フィルム、または請求項１９に記載の塗布膜が偏光膜の一方の面に貼付され、光学異方性を有する光学補償フィルムが前記偏光膜の他方の面に貼付されていることを特徴とする偏光板である。
【００４２】
請求項２３に係る本発明は、請求項１０及び２０に記載の反射防止フィルム、または請求項１９に記載の塗布膜を用いて構成されていることを特徴とする画像表示装置である。
【００４３】
請求項２４に係る本発明は、請求項２１または２２に記載の偏光板を用いて構成されていることを特徴とする画像表示装置である。
【発明の効果】
【００４４】
以上説明したように、本発明によれば、生産性が高く、かつ高品位な塗布膜、反射防止フィルムを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４５】
以下、添付図面に従って本発明に係る反射防止フィルム、その製造方法、該フィルムを用いた偏光板、及びこれらを用いた画像表示装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【００４６】
［反射防止フィルムの構成］
図１は、本発明に係る反射防止フィルムの基本的な層構成を示す断面模式図である。反射防止フィルムは、透明支持体（１）、ハードコート層（２）、中屈折率層（３）、高屈折率層（４）、そして低屈折率層（５）の順序の層構成を有する。
【００４７】
このような５層構成の反射防止フィルムは、中屈折率層（３）、高屈折率層（４）、低屈折率層（５）のそれぞれの層の光学膜厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対してλ／４前後、又はその倍数であることが好ましいことが既述の特許文献２に記載されている。
【００４８】
しかし、本発明の低反射率且つ反射光の色味が低減された反射率特性を実現するためには、特に設計波長λ（＝４００〜６８０ｎｍ）に対して中屈折率層（３）が下記の（式１）を、高屈折率層（４）が下記の（式２）を、低屈折率層（５）が下記の（式３）をそれぞれ満足する必要がある。設計波長λは４００〜６００ｎｍであることが望ましく、４５０〜５５０ｎｍであることがより望ましく、４７５〜５２５ｎｍであることが最も望ましい。
【００４９】
[数１]
λ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜λ／４×１．００          （式１）
[数２]
λ／２×０．７５＜ｎ２ｄ２＜λ／２×０．９５          （式２）
[数３]
λ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜λ／４×１．０５        （式３）
上記各式において、ｎ１は中屈折率層（３）の屈折率であり、ｄ１は中屈折率層（３）の層厚（ｎｍ）であり、ｎ２は高屈折率層（４）の屈折率であり、ｄ２は高屈折率層（４）の層厚（ｎｍ）であり、ｎ３は低屈折率層（５）の屈折率であり、ｄ３は低屈折率層（５）の層厚（ｎｍ）である。
【００５０】
更に、たとえばトリアセチルセルロース（屈折率：１．４９）からなるような屈折率が１．４５〜１．５５の透明支持体に対しては、ｎ１は１．６０〜１．６５、ｎ２は１．８５〜１．９５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要があり、たとえばポリエチレンテレフタレート（屈折率：１．６６）からなるような屈折率が１．５５〜１．６５の透明支持体に対しては、ｎ１は１．６５〜１．７５、ｎ２は１．８５〜２．０５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要がある。
【００５１】
上記のような屈折率を有する中屈折率層（３）や高屈折率層（４）の素材が選択できない場合には、設定屈折率よりも高い屈折率を有する層と低い屈折率を有する層とを複数層組み合わせた等価膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈折率層（３）又は高屈折率層（４）と光学的に等価な層を形成できることは公知であり、本発明の反射率特性を実現するためにも用いることができる。
【００５２】
本発明において、「実質的に３層」とは、このような等価膜を用いた４層、５層の屈折率の異なる項からなる反射防止層も含むものである。
【００５３】
また、透明支持体（１）上、又は透明支持体（１）上にハードコート層（２）を塗布した上に、屈折率層として低屈折率層（５）を積層すると、反射防止フィルムとして好適に用いることができる。
【００５４】
図２〜図７に示されるように、更に、透明支持体（１）上、又は透明支持体（１）上にハードコート層（２）を塗布した上に、高屈折率層（４）、低屈折率層（５）を積層しても反射防止フィルムとして好適に用いることができる。
【００５５】
ハードコート層（２）は防眩性を有していてもよい。防眩性は図６に示されるようなマット粒子の分散によるものでも、図７に示されるようなエンボス加工などの方法による表面の賦形によって形成されてもよい。
【００５６】
［各層の材料についての説明］
＜基材フィルム＞
本発明の反射防止フィルムに用いる基材フィルムとしては、以下の透明支持体を用いることができる。基材フィルムはウェブとも言う。透明支持体（１）としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４' −ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。
【００５７】
特に液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いるために、本発明の反射防止フィルムを偏光板の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、トリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリアセチルセルロースフィルムとしては、ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ（富士写真フィルム（株）製）等の公知のもの、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。
【００５８】
また、平面ＣＲＴやＰＤＰ等に用いるためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合には、ポリエチレンテレフタレート、又はポリエチレンナフタレートが好ましい。
【００５９】
透明支持体（１）の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることが更に好ましい。透明支持体（１）のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることが更に好ましい。透明支持体（１）の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００６０】
本発明の透明支持体（１）の厚さは特に限定されないが、３０〜１５０μｍが好ましく、４０〜１３０μｍがより好ましく、７０〜１２０μｍが更に好ましい。
【００６１】
［ハードコート層］
ハードコート層（２）は、反射防止フィルムに物理強度(耐擦傷性とも言う)を付与するために、透明支持体（１）の表面に設ける。特に、透明支持体（１）と高屈折率層（４）との間に設けることが好ましい。
【００６２】
ハードコート層（２）は、光硬化性及び／又は熱硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。たとえば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、多官能モノマーや多官能オリゴマー又は加水分解性官能基含有の有機金属化合物を含む塗布組成物を透明支持体（１）上に塗布し、硬化性化合物を架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
【００６３】
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。具体的には、後述する高屈折率層（４）のマトリックスバインダーと同様の内容のものが挙げられる。
【００６４】
更に好ましい態様として、ラジカル重合反応及びカチオン重合反応により硬化する重合性化合物を用いることが挙げられる。重合性化合物は、ラジカル重合性基とカチオン重合性基が同一分子内に含有されていてもよいし、又は異なる分子に含有された化合物であって両者の混合物であってもよい。
【００６５】
これらの重合性化合物を主として含有する硬化性組成物から形成される硬化性膜からなる多層反射防止膜は、エンボス加工による表面凹凸の賦形が均一に安定して可能となる。これらは、ハードコート層（２）の熱弾性変形が適切に作用することによると推測される。
【００６６】
好ましい具体的な硬化性組成物の態様として、下記の（化学式１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーと、同一分子内に２個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物の両方を含有し、架橋性ポリマー中の開環重合性基とエチレン性不飽和基の両方を重合させることにより硬化する硬化性組成物が挙げられる。
【００６７】
【化１】
2006122889.tif 000003
この化学式１において、ａ１ 及びａ２ は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、脂肪族基、―ＣＯＯＲ１、又は−ＣＨ２ ＣＯＯＲ１ を表す。Ｒ１ は炭化水素基を表す。Ｐは、開環重合性基を含む一価の基又はエチレン性不飽和基を表す。Ｌは、単結合又は二価の連結基を表す。
【００６８】
次に、化学式１で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーについて詳細に説明する。化学式１において、ａ１及びａ２ は、水素原子、脂肪族基、好ましくは炭素原子数１〜４のアルキル基、−ＣＯＯＲ１ 、又は−ＣＨ２ＣＯＯＲ１ を表す。Ｒ１ は、炭化水素基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、より好ましくは水素原子又はメチル基を表す。
【００６９】
Ｌは単結合又は二価の連結基であり、好ましくは単結合、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、＊−ＣＯＯ−、＊−ＣＯＮＨ−、＊−ＯＣＯ−、又は＊−ＮＨＣＯ−である（ここで、＊は＊側で主鎖に連結することを意味する）。
【００７０】
Ｐは、開環重合性基を含む一価の基、又はエチレン性不飽和基を表す。開環重合性基を含む一価の基とは、カチオン、アニオン、ラジカルなどの作用により開環重合が進行する環構造を有する一価の基であり、この中でもヘテロ環状化合物のカチオン開環重合が好ましい。
【００７１】
好ましい開環重合性基を含む一価の基としては、ビニルオキシ基、又はエポキシ環、オキセタン環、テトラヒドロフラン環、ラクトン環、カーボネート環、オキサゾリン環などのイミノエーテル環などを含む一価の基が挙げられ、この中でも特に好ましくはエポキシ環、オキセタン環、オキサゾリン環を含む一価の基あり、最も好ましくはエポキシ環を含む一価の基である。
【００７２】
Ｐがエチレン性不飽和基を表す場合、好ましいエチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクロイル基、スチリル基、及びビニルオキシカルボニル基を挙げることができる。
【００７３】
本発明の化学式１で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、対応するモノマーを重合させて合成することが簡便で好ましい。この場合の重合反応としてはラジカル重合が最も簡便で好ましい。
【００７４】
以下に、化学式１で表される繰り返し単位の好ましい具体例を化学式２として示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７５】
【化２】
2006122889.tif 000004
本発明の化学式１で表される繰り返し単位のうち、より好ましい例としては、エポキシ環を有するメタクリレート又はアクリレートから誘導される繰り返し単位であり、その中でも特に好ましい例としてグリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートから誘導されるＥ−１、Ｅ−３を挙げることができる。
【００７６】
また、本発明の化学式１で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは化学式１で表される複数種の繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、その中でも特にＥ−１、Ｅ−３いずれかのコポリマーとすることでより効果的に硬化収縮を低減できる。
【００７７】
本発明の化学式１で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは化学式１以外の繰り返し単位を含んだコポリマーでもよい。特に架橋性ポリマーのＴｇや親疎水性をコントロールしたい場合や、架橋性ポリマーの開環重合性基の含有量をコントロールする目的で化学式１以外の繰り返し単位を含んだコポリマーとすることができる。化学式１以外の繰り返し単位の導入方法は、対応するモノマーを共重合させて導入する手法が好ましい。
【００７８】
化学式１以外の繰り返し単位を、対応するビニルモノマーを共重合することによって導入する場合、好ましく用いられるモノマーとしては、アクリル酸又はα−アルキルアクリル酸（たとえばメタクリル酸など）類から誘導されるエステル類又はアミド類（たとえば、Ｎ−ｉ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、アルキルエステル（メタ）アクリレート（アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等）、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ニトロプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシメトキシエチル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、２−イソボルニル（メタ）クリレート、２−ノルボルニルメチル（メタ）クリレート、５−ノルボルネン−２−イルメチル（メタ）クリレート３−メチル−２−ノルボルニルメチル（メタ）クリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）クリレートなど）、アクリル酸又はα−アルキルアクリル酸（アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸など）、ビニルエステル類（たとえば酢酸ビニル）、マレイン酸又はフマル酸から誘導されるエステル類（マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチルなど）、マレイミド類（Ｎ−フェニルマレイミドなど）、マレイン酸、フマル酸、ｐ−スチレンスルホン酸のナトリウム塩、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジエン類（たとえばブタジエン、シクロペンタジエン、イソプレン）、芳香族ビニル化合物（たとえばスチレン、ｐ−クロルスチレン、ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、スチレンスルホン酸ナトリウム）、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビニルサクシンイミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルアセトアミド、１−ビニルイミダゾール、４−ビニルピリジン、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル類（たとえばメチルビニルエーテル）、エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン等が挙げられる。
【００７９】
これらのビニルモノマーは２種類以上組み合わせて使用してもよい。これら以外のビニルモノマーはリサーチディスクロージャーＮｏ．１９５５１（１９８０年、７月）に記載されているものを使用することができる。
【００８０】
本発明では、アクリル酸又はメタクリル酸から誘導されるエステル類、及びアミド類、及び芳香族ビニル化合物が特に好ましく用いられるビニルモノマーである。
【００８１】
化学式１以外の繰り返し単位として開環重合性基又はエチレン性不飽和基以外の反応性基を有する繰り返し単位も導入することができる。特に、ハードコート層（２）の硬度を高めたい場合や、基材又はハードコート上に別の機能層を用いる場合の層間の接着性を改良したい場合、開環重合性基以外の反応性基を含むコポリマーとする手法は好適である。開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位の導入方法は対応するビニルモノマー（以下、「反応性モノマー」と称する。）を共重合する手法が簡便で好ましい。
【００８２】
以下に反応性モノマーの好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８３】
＜反応性モノマーの好ましい具体例＞
ヒドロキシル基含有ビニルモノマー（たとえば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなど）、イソシアネート基含有ビニルモノマー（たとえば、イソシアナトエチルアクリレート、イソシアナトエチルメタクリレートなど）、Ｎ−メチロール基含有ビニルモノマー（たとえば、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミドなど）、カルボキシル基含有ビニルモノマー（たとえばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、カルボキシエチルアクリレート、安息香酸ビニル）、アルキルハライド含有ビニルモノマー（たとえばクロロメチルスチレン、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルメタクリレート）、酸無水物含有ビニルモノマー（たとえばマレイン酸無水物）、ホルミル基含有ビニルモノマー（たとえばアクロレイン、メタクロレイン）、スルフィン酸基含有ビニルモノマー（たとえばスチレンスルフィン酸カリウム）、活性メチレン含有ビニルモノマー（たとえばアセトアセトキシエチルメタクリレート）、アミノ基含有モノマー（たとえばアリルアミン）、アルコキシシリル基含有モノマー（たとえばメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン）などが挙げられる。
【００８４】
本発明の化学式１で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマー中、化学式１で表される繰り返し単位が含まれる割合は、３０質量％以上１００質量％以下、好ましくは５０質量％以上１００質量％以下、特に好ましくは７０質量％以上１００質量％以下である。
【００８５】
化学式１以外の繰り返し単位が、架橋反応性基を有さない場合、その含量が多すぎると硬度が低下し、架橋反応性基を有する場合、硬度は維持できることもあるが、硬化収縮が大きくなったり、脆性が悪化する場合がある。
【００８６】
特に、アルコキシシリル基含有モノマー（たとえばメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン）と化学式１で表される繰り返し単位の共重合体を用いる場合などのように架橋反応時に脱水、脱アルコールなどの分子量低下を伴う場合、硬化収縮が大きくなりやすい。
【００８７】
このような分子量低下を伴って架橋反応が進行する架橋反応性基を有する繰り返し単位を、本発明の化学式１で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーに導入する場合の、化学式１で表される繰り返し単位が含まれる好ましい割合は、７０質量％以上９９質量％以下、より好ましくは８０質量％以上９９質量％以下、特に好ましくは９０質量％以上９９質量％以下である。
【００８８】
化学式１で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの、好ましい分子量範囲は、質量平均分子量で１０００以上１００万以下であり、更に好ましくは３０００以上２０万以下であり、最も好ましくは５０００以上１０万以下である。なお、上記質量平均分子量は、ＧＰＣ法で測定されポリスチレン換算値である。
【００８９】
本発明に用いることのできる同一分子内に２個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物について説明する。好ましいエチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基であり、特に好ましくはメタクリロイル基又はアクリロイル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。
【００９０】
エチレン性不飽和基を含む化合物はエチレン性不飽和基を分子内に２個以上有していればよいが、より好ましくは３個以上である。そのなかでもアクリロイル基を有する化合物が好ましく、分子内に２〜６個のアクリル酸エステル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートと称される分子内に数個のアクリル酸エステル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。具体的には、後述する高屈折率層（４）の多官能性モノマーと同様のものが挙げられる。
【００９１】
これらの重合性化合物は、重合開始剤を併用することが好ましく、具体的には後述の高屈折率層（４）に記載したと同様のものが挙げられる。
【００９２】
ハードコート層（２）は、一次粒子の平均粒径が３００ｎｍ以下の無機微粒子を含有することが好ましい。一次粒子の平均粒径は、より好ましくは１０〜１５０ｎｍであり、更に好ましくは２０〜１００ｎｍである。ここでいう平均粒径は質量平均径である。一次粒子の平均粒径を２００ｎｍ以下にすることにより、透明性を損なわないハードコート層（２）を形成できる。
【００９３】
無機微粒子はハードコート層（２）の硬度を高くするとともに、塗布層の硬化収縮を抑える機能がある。また、ハードコート層（２）の屈折率を制御する目的でも添加される。
【００９４】
ハードコート層（２）の具体的な組成としては、たとえば特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ０／４６６１７号公報等に記載の内容のもが挙げられる。
【００９５】
ハードコート層（２）における無機微粒子の含有量は、ハードコート層（２）の全質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、１５〜８０質量％であることがより好ましい。
【００９６】
高屈折率層（４）はハードコート層（２）を兼ねることができる。高屈折率層（４）がハードコート層（２）を兼ねる場合、高屈折率層（４）で記載した手法を用いて無機微粒子を微細に分散させて、ハードコート層（２）に含有させて形成することが好ましい。
【００９７】
ハードコート層（２）の膜厚は、用途により適切に設計することができる。ハードコート層（２）の膜厚は、０．２〜１５μｍであることが好ましく、０．５〜１２μｍであることがより好ましく、０．７〜１０μｍであることが特に好ましい。
【００９８】
ハードコート層（２）の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００９９】
また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１００】
［高屈折率層］
本発明の高屈折率層（４）は、典型的には高屈折率の無機化合物微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性組成物を塗布してなる屈折率１．５５〜２．４０の硬化性膜からなる。上記屈折率は１．６５〜２．３０が好ましく、１．８０〜２．００がより好ましい。本発明の高屈折率層（４）の屈折率は１．５５〜２．４０であり、いわゆる高屈折率層又は中屈折率層といわれている層であるが、以下の本明細書では、この層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。
【０１０１】
［高屈折率層用組成物］
［高屈折率粒子］
本発明の高屈折率層（４）に含まれる高屈折率の無機微粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０、一次粒子の平均粒径が３〜１５０ｎｍであるものが好ましい。屈折率が１．８０未満の粒子では、皮膜の屈折率を高める効果が小さく、屈折率が２．８０を超える粒子は着色しているため好ましくない。また、一次粒子の平均粒径が１５０ｎｍを超える粒子では皮膜を形成したときのヘイズ値が高くなり、皮膜の透明性を損なうので好ましくなく、３ｎｍ未満では高い屈折率の保持が難しい。
【０１０２】
本発明で、より好ましい無機微粒子は屈折率が１．９０〜２．８０で、一次粒子の平均粒径が３〜１００ｎｍの粒子であり、更に好ましいのは屈折率が１．９０〜２．８０で、一次粒子の平均粒径が５〜８０ｎｍの粒子である。
【０１０３】
好ましい高屈折率無機微粒子の具体例は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ｌａ、Ｗ、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｖ、Ｓｍ、Ｙ等の酸化物又は複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで、主成分とは粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分をさす。
【０１０４】
本発明で好ましいのはＴｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｓｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素を含む酸化物又は複合酸化物を主成分とする粒子である。本発明で使用される無機微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない。
【０１０５】
たとえば、Ｌｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｂａ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ｐ、Ｓなどが挙げられる。酸化錫、酸化インジウムにおいては粒子の導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｐ、Ｂ、Ｉｎ、Ｖ、ハロゲンなどの元素を含有させることが好ましく、特に、酸化アンチモンを約５〜２０質量％含有させたものが最も好ましい。
【０１０６】
特に好ましくは、Ｃｏ、Ｚｒ、Ａl から選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子（以降、「特定の酸化物」と称することもある）が挙げられる。特に、好ましい元素はＣｏである。
【０１０７】
Ｔｉに対する、Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒの総含有量は、Ｔｉに対し０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％、更に好ましくは０．２〜７質量％、特に好ましくは０．３〜５質量％、最も好ましくは０．５〜３質量％である。
【０１０８】
Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部、又は、表面に存在する。これらは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの特定の金属元素は、酸化物として存在してもよい。
【０１０９】
また、他の好ましい無機粒子として、チタン元素と酸化物が屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称する）との複酸化物の粒子で、かつ該複酸化物はＣｏイオン、Ｚｒイオン、及びＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複酸化物」と称することもある）が挙げられる。
【０１１０】
ここで、該酸化物の屈折率が１．９５以上となる金属酸化物の金属元素としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ、Ｓｎ、及びＢｉが好ましい。特には、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｂｉが好ましい。複酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複酸化物を構成する全金属［Ｔｉ＋Ｍｅｔ］量に対して、２５質量％を越えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましい。より好ましくは０．０５〜１０質量％、更に好ましくは０．１〜５質量％、最も好ましくは０．３〜３質量％である。
【０１１１】
ドープした金属イオンは、金属イオン、金属原子の何れのもので存在してもよく、複酸化物の表面から内部まで適宜に存在する。表面と内部との両方に存在することが好ましい。
【０１１２】
本発明で用いられる無機微粒子は結晶構造又はアモルファス構造を有することが好ましい。結晶構造は、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、又はアナターゼが主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。このことにより、本発明の特定の酸化物又は特定の複酸化物の無機微粒子は、１．９０〜２．８０、好ましくは２．１０〜２．８０、更に好ましくは２．２０〜２．８０の屈折率を有することが可能になる。また、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、本発明の高屈折率層（４）の耐候性を著しく改良することができる。
【０１１３】
上記した特定の金属元素又は、金属イオンをドープする方法は、従来公知の方法を用いることができる。たとえば、特開平５−３３０８２５号公報、同１１−２６３６２０号公報、特表平１１−５１２３３６号公報、ヨーロッパ公開特許第０３３５７７３号公報等に記載の方法、イオン注入法（たとえば、権田俊一、石川順三、上条栄治編「イオンビーム応用技術」（（株）シ−エムシー、１９８９年刊行、青木康、表面科学、Vol.18，（５）、pp.262、１９９８、安保正一等、表面科学、Ｖｏｌ. ２０（２）、pp６０、１９９９等記載）等に従って行うことができる。
【０１１４】
本発明に用いられる無機微粒子は、表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物及び／又は有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施し、無機粒子表面の濡れ性を調製し有機溶媒中での微粒子化、高屈折率層形成用組成物中での分散性や分散安定性を向上することができる。
【０１１５】
粒子表面に物理化学的な吸着をして粒子表面の改質をすることができる無機化合物としては、たとえばケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ２など）、アルミニウムを含有する無機化合物（Ａｌ２ Ｏ3 、Ａｌ（ＯＨ）３ など）、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ２ 、Ｃｏ２Ｏ３ 、Ｃｏ３ Ｏ４ など）、ジルコニウムを含有する無機化合物（ＺｒＯ２、Ｚｒ（ＯＨ）４ など）、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ２ Ｏ３ など）などが挙げらる。
【０１１６】
また、表面処理に用いられる有機化合物の例には、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることができる。たとえば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されている。
【０１１７】
具体的には、該無機粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物が挙げられる。そのような有機化合物には、カップリング化合物と称される化合物が含まれる。無機粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシル基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等が挙げられ、分子中に少なくとも１種を含有する化合物が好ましい。
【０１１８】
たとえば、長鎖脂肪族カルボン酸（たとえばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール化合物（たとえばペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性グリセロールトリアクリレート等）、ホスホノ基含有化合物（たとえばＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸トリアクリレート等）、アルカノールアミン（エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等）が挙げられる。
【０１１９】
カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、たとえば特開２００２−９９０８号公報同２００１−３１０４２３号公報明細書中の段落番号「００１１」〜「００１５」記載の化合物等が挙げられる。
【０１２０】
これらの表面処理は、２種類以上を併用することもできる。
【０１２１】
本発明で使用される酸化物微粒子としては、これをコアとして無機化合物からなるシェルを形成するコア／シェル構造の微粒子も好ましい。シェルとしては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｒから選ばれる少なくとも１種の元素からなる酸化物が好ましい。具体的には、たとえば特開２００１−１６６１０４号公報記載の内容が挙げられる。
【０１２２】
本発明で使用される無機微粒子の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、不定形状が好ましい。本発明の無機微粒子は単独で用いてもよいが、２種類以上を併用して用いることもできる。
【０１２３】
（分散剤）
本発明で使用される無機粒子を安定した所定の超微粒子として用いるため、分散剤を併用することが好ましい。分散剤としては、この無機微粒子表面と親和性を有する極性基を有する低分子化合物、又は高分子化合物であることが好ましい。
【０１２４】
上記極性基としては、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１）（ＯＨ）基、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１ ）（ＯＨ）基、アミド基（−ＣＯＮＨＲ２ 、−ＳＯ２ ＮＨＲ２）、環状酸無水物含有基、アミノ基、四級アンモニウム基等が挙げられる。
【０１２５】
ここで、Ｒ１ は炭素数１〜１８の炭化水素基を表す（たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、シアノエチル基、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基等）。Ｒ２は、水素原子又は前記Ｒ1 と同一の内容を表す。
【０１２６】
上記極性基において、解離性プロトンを有する基はその塩であってもよい。また、上記アミノ基、四級アンモニウム基は、一級アミノ基、二級アミノ基又は三級アミノ基のいずれでもよく、三級アミノ基又は四級アンモニウム基であることが更に好ましい。
【０１２７】
二級アミノ基、三級アミノ基又は四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、炭素原子数が１〜１２の脂肪族基（上記Ｒ１の基と同一の内容のもの等）であることが好ましい。
【０１２８】
また、三級アミノ基は、窒素原子を含有する環形成のアミノ基（たとえば、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、ピリジン環等）であってもよく、更に四級アンモニウム基はこれら環状アミノ基の四級アモニウム基であってもよい。特に炭素原子数が１〜６のアルキル基であることが更に好ましい。
【０１２９】
本発明に係る分散剤の極性基としては、ｐＫａが７以下のアニオン性基又はこれらの解離基の塩が好ましい。特に、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基、又はこれらの解離基の塩が好ましい。
【０１３０】
分散剤は、更に架橋性又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋性又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基（たとえば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基カルボニル基、ビニルオキシ基等）、カチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基、スピロオルトエステル基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基、エポキシ基、又は加水分解性シリル基である。
【０１３１】
具体的には、たとえば、特開平１１−１５３７０３号公報、特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１、特開２００２−２７７６０６９号公報、特開２００１−３１０４２３号公報明細書中の段落番号［００１３］〜［００１５］記載の化合物等が挙げられる。
【０１３２】
また、本発明に用いられる分散剤は、高分子分散剤であることも好ましい。特に、アニオン性基、及び架橋性又は重合性官能基を含有する高分子分散剤が挙げられ、これらの官能基が上記した内容と同様のものが挙げられる。
【０１３３】
分散剤の無機微粒子に対する使用量は、１〜１００質量％の範囲であることが好ましく、３〜５０質量％の範囲であることがより好ましく、５〜４０質量％であることが最も好ましい。また、分散剤は２種類以上を併用してもよい。
【０１３４】
（分散媒体）
本発明において、無機微粒子の湿式分散に供する分散媒体としては、水、有機溶媒から適宜選択して用いることができ、沸点が５０°Ｃ以上の液体であることが好ましく、沸点が６０〜１８０°Ｃの範囲の有機溶媒であることがより好ましい。
【０１３５】
分散媒体は、無機微粒子及び分散剤を含む全分散組成物の５〜５０質量％となる割合で用いることが好ましい。更に好ましくは１０〜３０質量％の割合である。この範囲において、分散が容易に進行し、得られる分散物は作業性良好な粘度の範囲となる。
【０１３６】
分散媒体としては、アルコール類、ケトン類、エステル類アミド類、エーテル類、エーテルエステル類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。
【０１３７】
具体的には、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート等）、ケトン（例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、乳酸エチル、等）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチルクロロホルム等）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン等）、エーテル（例、ジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール、エチルセルソルブ、メチルカルビノール等）が挙げられる。
【０１３８】
単独での２種以上を混合して使用してもよい。好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノールが挙げられる。また、ケトン溶媒（たとえばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）を主にした塗布溶媒系も好ましく用いられる。
【０１３９】
（無機微粒子の超微粒子化）
本発明の高屈折率層（４）を形成するための硬化性塗布組成物は、平均粒子径１００ｎｍ以下の無機超微粒子が分散した組成物とすることにより、該組成物の液の安定性が向上し、この硬化性塗布組成物から形成された硬化膜は、無機微粒子が硬化膜のマトリックス中で超微粒子状態で均一に分散されて存在し、光学特性が均一で透明な高屈折率膜が達成される。硬化膜のマトリックス中で存在する超微粒子の大きさは、平均粒径３〜１００ｎｍの範囲が好ましく、５〜１００ｎｍがより好ましい。特に１０〜８０ｎｍが最も好ましい。
【０１４０】
更には、５００ｎｍ以上の平均粒子径の大粒子が含まれないことが好ましく、３００ｎｍ以上の平均粒子径の大粒子が含まれないことが特に好ましい。これにより、硬化膜表面が上記した特定の凹凸形状を形成できる。
【０１４１】
上記高屈折率無機物粒子を上記の範囲の粗大粒子を含まない超微粒子の大きさに分散するには、たとえば、前記の分散剤とともに、平均粒径０．８ｍｍ未満のメディアを用いた湿式分散方法で分散する方法で達成される。
【０１４２】
湿式分散機としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、ダイノミル、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター、コロイドミル等の従来公知のものが挙げられる。特に本発明の酸化物微粒子を超微粒子に分散するには、サンドグラインダーミル、ダイノミル、及び高速インペラーミルが好ましい。
【０１４３】
上記分散機とともに用いるメディアとしては、その平均粒径が０．８ｍｍ未満であり、平均粒径がこの範囲のメディアを用いることで上記の無機微粒子径が１００ｎｍ以下となり、かつ粒子径の揃った超微粒子を得ることができる。メディアの平均粒径は、好ましくは０．５ｍｍ以下であり、より好ましくは０．０５〜０．３ｍｍである。
【０１４４】
また、湿式分散に用いられるメディアとしては、ビーズが好ましい。具体的には、ジルコニアビーズ、ガラスビーズ、セラミックビーズ、スチールビーズ等が挙げられ、分散中におけるビーズの破壊等を生じ難い等の耐久性と超微粒子化の上から０．０５〜０．２ｍｍのジルコニアビーズが特に好ましい。
【０１４５】
分散工程での分散温度は２０〜６０°Ｃが好ましく、より好ましくは２５〜４５°Ｃである。この範囲の温度で超微粒子に分散すると分散粒子の再凝集、沈殿等が生じない。この理由は、無機化合物粒子への分散剤の吸着が適切に行われ、常温下での分散剤の粒子からの脱着等による分散安定不良とならないためと考えられる。
【０１４６】
上記した内容の分散方法を用いることにより、透明性を損なわない屈折率均一性、膜の強度、隣接層との密着性等に優れた高屈折率膜が好ましく形成される。
【０１４７】
また、上記湿式分散の工程の前に、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
【０１４８】
更には、分散物中の分散粒子がその平均粒径、及び粒子径の単分散性が上記した範囲を満足する上で、分散物中の粗大凝集物を除去するためにビーズとの分離処理において精密濾過されるように濾材を配置することも好ましい。精密濾過するための濾材は濾過粒子サイズ２５μｍ以下が好ましい。
【０１４９】
精密濾過するための濾材のタイプは、上記性能を有していれば特に限定されないが、たとえばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。分散物を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、かつ塗布液に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが、たとえばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。
【０１５０】
（高屈折率層のマトリックス）
高屈折率層（４）は、高屈折率無機超微粒子とマトリックスを少なくとも含有してなる。本発明の好ましい態様によれば、高屈折率層のマトリックスは、（ｉ）有機バインダー、又は（ii）加水分解性官能基含有する有機金属化合物及びこの有機金属化合物の部分縮合物の少なくともいずれかを含有する高屈折率層形成用組成物を塗布後に、硬化して形成される。
【０１５１】
（ｉ）有機バインダー
有機バインダーとしては、
（イ）従来公知の熱可塑性樹脂、
（ロ）従来公知の反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ、又は、
（ハ）バインダー前駆体（後述する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）と重合開始剤との組み合わせ、
から形成されるバインダーが挙げられる。
【０１５２】
上記（イ）、（ロ）又は（ハ）のバインダー形成用成分と、高屈折率複合酸化物微粒子と分散剤を含有する分散液から高屈折率層形成用の塗布組成物が調製される。塗布組成物は、透明支持体上に塗布し、塗膜を形成した後、バインダー形成用成分に応じた方法で硬化され、高屈折率層（４）が形成される。
【０１５３】
硬化方法は、バインダー成分の種類に応じて適宜選択され、たとえば加熱及び光照射の少なくともいずれかの手段により、硬化性化合物（たとえば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応又は重合反応を生起させる方法が挙げられる。なかでも、上記（ハ）の組み合わせを用いて光照射することにより硬化性化合物を架橋反応又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法が好ましい。
【０１５４】
更に、高屈折率層形成用の塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に、高屈折率複合酸化物微粒子の分散液に含有される分散剤を架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
【０１５５】
このようにして作製した硬化膜中のバインダーは、たとえば、前記した分散剤とバインダーの前駆体である硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。
【０１５６】
更に、硬化膜中のバインダーは、アニオン性基が無機微粒子の分散状態を維持する機能を有するので、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、高屈折率無機化合物微粒子を含有する硬化膜中の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良することができる。
【０１５７】
上記熱可塑性樹脂としては、たとえば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリメタアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、イミド樹脂等が挙げられる。
【０１５８】
また、上記反応硬化型樹脂、すなわち、熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。
【０１５９】
電離放射線硬化型樹脂には、たとえば、ラジカル重合性不飽和基（（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、スチリル基、ビニル基等）及び/ 又はカチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、ビニルオキシ基、オキセタニル基等）の官能基を有する樹脂で、たとえば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等が挙げられる。
【０１６０】
これらの反応硬化型樹脂に必要に応じて、架橋剤（エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ポリアミン化合物、メラミン化合物等）、重合開始剤（アゾビス化合物、有機過酸化化合物、有機ハロゲン化合物、オニウム塩化合物、ケトン化合物等のＵＶ光開始剤等）等の硬化剤、重合促進剤（有機金属化合物、酸化合物、塩基性化合物等）等の従来公知の化合物を加えて使用する。具体的には、たとえば、山下普三、金子東助「架橋剤ハンドブック」（大成社、１９８１年刊）記載の化合物が挙げられる。
【０１６１】
以下、硬化したバインダーの好ましい形成方法である、上記（ハ）の組み合わせを用いて光照射により硬化性化合物を架橋又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法について、主に説明する。
【０１６２】
光硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、ラジカル重合性又はカチオン重合性のいずれでもよい。
【０１６３】
ラジカル重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０１６４】
分子内に２個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが好ましい。
【０１６５】
ラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも２個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に２〜６個の末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、たとえば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物、並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。
【０１６６】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、前記のエステルのエチレンオキサイド変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。前記モノマーは２種以上併用してもよい。
【０１６７】
ラジカル重合性モノマー例としては、不飽和カルボン酸（たとえば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が挙げられる。
【０１６８】
また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類やアミド類と、単官能又は多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
【０１６９】
また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【０１７０】
脂肪族多価アルコール化合物としては、アルカンジオール、アルカントリオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサントリオール、イノシットール、シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセリン等が挙げられる。
【０１７１】
これら脂肪族多価アルコール化合物と、不飽和カルボン酸との重合性エステル化合物（モノエステル又はポリエステル）、例として、たとえば、特開２００１−１３９６６３号公報明細書段落番号［００２６］〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。
【０１７２】
その他の重合性エステルの例としては、たとえば、ビニルメタクリレート、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、特公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、特開昭５７−１９６２３１号記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開平２−２２６１４９号等記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号記載のアミノ基を有するもの等も好適に用いられる。
【０１７３】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とから形成される重合性アミドの具体例としては、メチレンビス−（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、特公昭５４−２１７２６号記載のシクロヘキシレン構造を有するもの等を挙げることができる。
【０１７４】
また、１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物（特公昭４８−４１７０８号公報等）、ウレタンアクリレート類（特公平２−１６７６５号等）、エチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物（特公昭６２−３９４１８号等）、ポリエステルアクリレート類（特公昭５２−３０４９０号等））、更に、日本接着協会誌vol.２０、No. ７、３００〜３０８頁（１９８４年）に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマーも使用することができる。
【０１７５】
これらラジカル重合性の多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
【０１７６】
次に、高屈折率層（４）のバインダーの形成に用いることができるカチオン重合性基含有の化合物（以下、「カチオン重合性化合物」又は「カチオン重合性有機化合物」とも称する）について説明する。
【０１７７】
本発明に用いられるカチオン重合性化合物は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射したときに、重合反応及び／又は架橋反応を生ずる化合物のいずれもが使用でき、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニルエーテル化合物などを挙げることができる。本発明では前記したカチオン重合性有機化合物のうちの１種を用いても２種以上を用いてもよい。
【０１７８】
カチオン重合性基含有化合物としては、１分子中のカチオン重合性基の数は２〜１０個が好ましく、特に好ましくは２〜５個である。該化合物の分子量は３０００以下であり、好ましくは２００〜２０００の範囲、特に好ましくは４００〜１５００の範囲である。分子量が小さすぎると、皮膜形成過程での揮発が問題となり、大きすぎると、高屈折率層形成用組成物との相溶性が悪くなり好ましくない。
【０１７９】
上記エポキシ化合物としては脂肪族エポキシ化合物及び芳香族エポキシ化合物が挙げられる。
【０１８０】
脂肪族エポキシ化合物としては、たとえば、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどを挙げることができる。
【０１８１】
更に、前記のエポキシ化合物以外にも、たとえば、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチルエポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエンなどを挙げることができる。
【０１８２】
また、脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも１個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、又は不飽和脂環族環（たとえば、シクロヘキセン、シクロペンテン、ジシクロオクテン、トリシクロデセン等）含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化して得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物などを挙げることができる。
【０１８３】
また、芳香族エポキシ化合物としては、たとえば、少なくとも１個の芳香核を有する１価又は多価フェノール又はそのアルキレンオキサイド付加体のモノ又はポリグリシジルエーテルを挙げることができる。これらのエポキシ化合物として、たとえば、特開平１１−２４２１０１号明細書中の段落番号〔００８４〕〜〔００８６〕記載の化合物、特開平１０−１５８３８５号明細書中の段落番号〔００４４〕〜〔００４６〕記載の化合物等が挙げられる。
【０１８４】
これらのエポキシ化合物のうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシ化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１８５】
環状チオエーテル化合物としては、上記のエポキシ環がチオエポキシ環となる化合物が挙げられる。
【０１８６】
環状エーテルとしてのオキセタニル基を含有する化合物としては、具体的には、たとえば、特開２０００−２３９３０９号公報中の段落番号〔００２４〕〜〔００２５〕に記載の化合物等が挙げられる。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用することが好ましい。
【０１８７】
スピロオルソエステル化合物としては、たとえば、特表２０００−５０６９０８号公報等記載の化合物を挙げることができる。
【０１８８】
ビニル炭化水素化合物としては、スチレン化合物、ビニル基置換脂環炭化水素化合物（ビニルシクロヘキサン、ビニルビシクロヘプテン等）、前記ラジカル重合成性モノマーで記載の化合物（Ｖ1 が−Ｏ−に相当の化合物）、プロペニル化合物（ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：ＰａｒｔＡ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．３２，２８９５（１９９４）記載等）、アルコキシアレン化合物（ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉｅｎｃｅ：ＰａｒｔＡ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．３３，２４９３（１９９５）記載等）、ビニル化合物（ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉｅｎｃｅ：ＰａｒｔＡ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．３４，１０１５（１９９６）、特開２００２−２９１６２号等記載）、イソプロペニル化合物（ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉｅｎｃｅ：ＰａｒｔＡ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．３４，２０５１（１９９６）記載等）等を挙げることができる。
【０１８９】
２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１９０】
また、本発明の多官能性化合物は、上記のラジカル重合性基及びカチオン重合性基から選ばれる、少なくとも各１種を、少なくとも分子内に含有する化合物を用いることが好ましい。たとえば、特開平８−２７７３２０号公報中の段落番号〔００３１〕〜〔００５２〕記載の化合物、特開２０００−１９１７３７号明細書中の段落番号〔００１５〕記載の化合物等が挙げられる。本発明に供される化合物は、これらの限定されるものではない。
【０１９１】
上記したラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物：カチオン重合性化合物の質量比で、９０：１０〜２０：８０の割合で含有していることが好ましく、８０：２０〜３０：７０の割合で含有していることがより好ましい。
【０１９２】
次に、前記（ハ）の組み合わせにおいて、バインダー前駆体と組み合わせて用いられる重合開始剤について詳述する。重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられる。
【０１９３】
本発明の重合開始剤（Ｌ）は、光及び／又は熱照射により、ラジカル又は酸を発生する化合物である。本発明において用いられる光重合開始剤（Ｌ）は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、取り扱いを白灯下で実施することができる。また、近赤外線領域に極大吸収波長を持つ化合物を用いることもできる。
【０１９４】
まず、ラジカルを発生する化合物（Ｌ１）について詳述する。本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物（Ｌ１）は、光及び／又は熱照射によりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。
【０１９５】
公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることとができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独又は２種以上を併用して用いることができる。
【０１９６】
ラジカルを発生する化合物としては、たとえば、従来公知の有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤等の熱ラジカル重合開始剤、アミン化合物（特公昭４４−２０１８９号公報記載）、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸塩化合物、ジスルホン化合物等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
【０１９７】
上記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特開昭６３−２９８３３９号、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ" Ｊｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ" １（Ｎｏ３），（１９７０）」等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：Ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。
【０１９８】
より好適には、少なくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体が挙げられる。
【０１９９】
他の有機ハロゲン化合物の例として、特開平５−２７８３０号公報中の段落番号〔００３９〕〜〔００４８〕記載のケトン類、スルフィド類、スルホン類、窒素原子含有の複素環類等が挙げられる。
【０２００】
上記カルボニル化合物としては、たとえば、「最新  ＵＶ硬化技術」６０〜６２ページ（（株）技術情報協会刊、１９９１年）、特開平８−１３４４０４号明細書の段落番号〔００１５〕〜〔００１６〕、同１１−２１７５１８号明細書の段落番号〔００２９〕〜〔００３１〕に記載の化合物等が挙げられ、アセトフェノン系、ヒドロキシアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサン系、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、ベンジルジメチルケタール、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０２０１】
上記有機過酸化化合物としては、たとえば、特開２００１−１３９６６３号明細書の段落番号〔００１９〕に記載の化合物等が挙げられる。
【０２０２】
上記メタロセン化合物としては、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
【０２０３】
上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、たとえば、特公平６−２９２８５号、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号等の各公報記載の種々の化合物等が挙げられる。
【０２０４】
上記有機ホウ酸塩化合物としては、たとえば、特許第２７６４７６９号、特開２００２−１１６５３９号等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ" Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ' ９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ" 等に記載される有機ホウ酸塩化合物が挙げられる。たとえば、前記特開２００２−１１６５３９号明細書の段落番号〔００２２〕〜〔００２７〕記載の化合物が挙げられる。
【０２０５】
他の有機ホウ素化合物として、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
【０２０６】
上記スルホン化合物としては、特開平５−２３９０１５号に記載の化合物等、上記ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号明細書に記載の一般式（II）及び一般式(III)で示される化合物等が挙げられる。
【０２０７】
これらのラジカル発生化合物は、一種のみを添加しても、二種以上を併用してもよい。添加量としては、ラジカル重合性モノマーの全量に対し０．１〜３０質量％、好ましくは０．５〜２５質量％、特に好ましくは１〜２０質量％で添加することができる。この範囲において、高屈折率層用組成物の経時安定性が問題なく高い重合性となる。「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９にも種々の化合物例が記載されており本発明に有用である。
【０２０８】
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，８１９、９０７、１８７０(CGI-403/Irg184=7/3混合開始剤、５００，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など)、OXE０１）等、日本化薬（株）製のKAYACURE（DETX-S，BP-100，BDMK，CTX，BMS，2-EAQ，ABQ，CPTX，EPD，ITX，QTX，BTC，MCAなど）、サートマー社製のEsacure（KIP100F，KB1，EB3，BP，X33，KT046，KT37，KIP150，TZT）等が好ましい例として挙げられる。
【０２０９】
次に、光重合開始剤（Ｌ）として用いることができる酸発生剤（Ｌ２）について詳述する。酸発生剤（Ｌ２）としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、又は、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。
【０２１０】
また、酸発生剤（Ｌ２）として、たとえば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物が挙げられる。有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物のこれらの具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。  
【０２１１】
オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、たとえば、特開２００２−２９１６２号公報の段落番号〔００５８〕〜〔００５９〕に記載の化合物等が挙げられる。
【０２１２】
本発明において、特に好適に用いられる酸発生剤（Ｌ２）としては、オニウム塩が挙げられ、中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。
【０２１３】
本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、たとえば、特開平９−２６８２０５号公報の段落番号〔００３５〕に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開２０００−７１３６６号明細書の段落番号〔００１０〕〜〔００１１〕に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開２００１−２８８２０５号公報の段落番号〔００１７〕に記載のチオ安息香酸Ｓ−フェニルエステルのスルホニウム塩、特開２００１−１３３６９６号公報の段落番号〔００３０〕〜〔００３３〕に記載のオニウム塩等が挙げられる。
【０２１４】
酸発生剤の他の例としては、特開２００２−２９１６２号公報の段落番号〔００５９〕〜〔００６２〕に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物（イミノスルフォネート等）等の化合物が挙げられる。
【０２１５】
これらの酸発生剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの酸発生剤は、全カチオン重合性モノマーの全質量１００質量％に対し０．１〜２０質量％、好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％の割合で添加することができる。添加量が上記範囲において、高屈折率用組成物の安定性、重合反応性等から好ましい。
【０２１６】
本発明の高屈折率用組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の合計質量に対して、ラジカル重合開始剤を０．５〜１０質量％及びカチオン重合開始剤を１〜１０質量％の割合で含有していることが好ましい。より好ましくは、ラジカル重合開始剤を１〜５質量％、及びカチオン重合開始剤を２〜６質量％の割合で含有する。
【０２１７】
本発明の高屈折率用組成物には、紫外線照射により重合反応を行なう場合には、従来公知の紫外線分光増感剤、化学増感剤を併用してもよい。たとえば、ミヒラーズケトン、アミノ酸（グリシンなど）、有機アミン（ブチルアミン、ジブチルアミンなど）等が挙げられる。
【０２１８】
また、近赤外線照射により重合反応を行なう場合には、近赤外線分光増感剤を併用することが好ましい。
【０２１９】
併用する近赤外線分光増感剤は、７００ｎｍ以上の波長域の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよく、分子吸光係数が１００００以上の値を有する化合物が好ましい。更には、７５０〜１４００ｎｍの領域に吸収を有し、かつ分子吸光係数が２００００以上の値が好ましい。
【０２２０】
また、４２０ｎｍ〜７００ｎｍの可視光波長域に吸収の谷があり、光学的に透明であることがより好ましい。近赤外線分光増感剤は、近赤外線吸収顔料及び近赤外線吸収染料として知られる種々の顔料及び染料を用いることができる。その中でも、従来公知の近赤外線吸収剤を用いることが好ましい。
【０２２１】
市販の染料及び文献（たとえば、「化学工業」１９８６年５月号Ｐ．４５〜５１の「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市場動向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー）、「特殊機能色素」（池森・柱谷編集、１９８６年、（株）シーエムシー発行）、Ｊ．ＦＡＢＩＡＮ、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ. 、９２、ｐｐ１１９７〜１２２６（１９９２）、日本感光色素研究所が１９９５年に発行したカタログ、ＥｘｃｉｔｏｎＩｎｃ．が１９８９年に発行したレーザー色素カタログ又は特許に記載されている公知の染料が利用できる。
【０２２２】
（ii）加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物
本発明に用いる高屈折率層（４）のマトッリクスとして、加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物を用いてゾルゲル反応により塗布膜形成後に硬化された膜を形成することも好ましい。有機金属化合物としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ等からなる化合物が挙げられる。加水分解可能な官能基な基としては、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、水酸基が挙げられ、特に、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基が好ましい。
【０２２３】
好ましい有機金属化合物は、下記の化学式３で表される有機ケイ素化合物及びその部分加水分解物（部分縮合物）である。なお、化学式３で表される有機ケイ素化合物は、容易に加水分解し、引き続いて脱水縮合反応が生じることはよく知られた事実である。
【０２２４】
【化３】
2006122889.tif 000005
化学式３において、Ｒａは、置換又は無置換の炭素数１〜３０脂肪族基又は炭素数６〜１４アリール基を表す。Ｘは、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、ＯＨ基、ＯＲ２基、ＯＣＯＲ２ 基を表す。ここで、Ｒ２ は置換又は無置換のアルキル基を表す。ｍは０〜３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合計は４である。但し、ｍが０の場合は、ＸはＯＲ２基又はＯＣＯＲ２ 基を表す。
【０２２５】
化学式３において、Ｒａの脂肪族基としては、好ましくは炭素数１〜１８（たとえば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル、ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基等）が挙げられる。より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは１〜８のものである。
【０２２６】
Ｒａ のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【０２２７】
置換基としては特に制限はないが、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、（メタ）アクリロイル等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が好ましい。
【０２２８】
これらの置換基うちで、更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であり、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイル）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）である。またこれら置換基は更に置換されていてもよい。
【０２２９】
Ｒ２ は置換又は無置換のアルキルを表す。アルキル基中の置換基の説明はＲ1 と同じである。
【０２３０】
ｍは０〜３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合計は４である。ｍとして好ましくは０、１、２であり、特に好ましくは１である。ｍが０の場合は、ＸはＯＲ２基又はＯＣＯＲ２ 基を表す。
【０２３１】
化学式３の化合物の含有量は、高屈折率層（４）の全固形分の１０〜８０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％、特に好ましくは３０〜５０質量％である。
【０２３２】
化学式３の化合物の具体例として、たとえば、特開２００１−１６６１０４号公報段落番号［００５４］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
【０２３３】
高屈折率層（４）において、有機バインダーは、シラノール基を有することが好ましい。バインダーがシラノール基を有することにより、高屈折率層（４）の物理強度、耐薬品性、耐候性が更に改良される。
【０２３４】
シラノール基は、たとえば、高屈折率層形成用の塗布組成物を構成するバインダー形成成分として、バインダー前駆体（硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）や重合開始剤、高屈折率無機微粒子の分散液に含有される分散剤とともに、架橋又は重合性官能基を有する化学式３で表される有機ケイ素化合物を該塗布組成物に配合し、この塗布組成物を透明支持体上に塗布して上記の分散剤、多官能モノマーや多官能オリゴマー、化学式３で表される有機ケイ素化合物を架橋反応又は重合反応させることによりバインダーに導入することができる。
【０２３５】
上記の有機金属化合物を硬化させるための加水分解・縮合反応は、触媒存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸などの有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基類、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタネートなどの金属アルコキシド類、β−ジケトン類又はβ−ケトエステル類の金属キレート化合物類等が挙げられる。具体的には、たとえば、特開２０００−２７５４０３号公報中の段落番号［００７１］〜［００８３］記載の化合物等が挙げられる。
【０２３６】
これらの触媒化合物の組成物中での割合は、有機金属化合物に対し、０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜５０質量％、更に好ましくは０．５〜１０質量％である。反応条件は有機金属化合物の反応性により適宜調節されることが好ましい。
【０２３７】
高屈折率層（４）においてマトリックスは、特定の極性基を有することも好ましい。特定の極性基としては、アニオン性基、アミノ基、及び四級アンモニウム基が挙げられる。アニオン性基、アミノ基及び四級アンモニウム基の具体例としては、前記分散剤について述べたものと同様のものが挙げられる。
【０２３８】
特定の極性基を有する高屈折率層のマトリックスは、たとえば、高屈折率層形成用の塗布組成物に、高屈折率無機微粒子と分散剤を含む分散液を配合し、硬化膜形成成分として、特定の極性基を有するバインダー前駆体（特定の極性基を有する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）と重合開始剤の組み合わせ及び特定の極性基を有し、かつ架橋又は重合性官能基を有する化学式３で表される有機ケイ素化合物の少なくともいずれかを配合し、更に所望により特定の極性基と架橋又は重合性官能基とを有する単官能性モノマーを配合し、該塗布組成物を透明支持体上に塗布して上記の分散剤、単官能性モノマー、多官能モノマーや多官能オリゴマー及び／又は化学式３で表される有機ケイ素化合物を架橋又は重合反応させることにより得られる。
【０２３９】
特定の極性基を有する単官能性モノマーは、塗布組成物の中で無機微粒子の分散助剤として機能する。更に、塗布後、分散剤、多官能モノマーや多官能オリオリゴマーと架橋反応、又は、重合反応させてバインダーとすることにより、高屈折率層（４）における無機微粒子の良好な均一な分散性を維持し、物理強度、耐薬品性、耐候性に優れた高屈折率層（４）を作製することができる。
【０２４０】
アミノ基又は四級アンモニウム基を有する単官能性モノマーの分散剤に対する使用量は、０．５〜５０質量％であることが好ましく、更に好ましくは１〜３０質量％である。高屈折率層（４）の塗布と同時又は塗布後に、架橋又は重合反応によってバインダーを形成すれば、高屈折率層（４）の塗布前に単官能性モノマーを有効に機能させることができる。
【０２４１】
また、本発明の高屈折率層（４）のマトリックスとして、前記した有機バインダーの（イ）に相当し、従来公知の架橋又は重合性官能基を含有する有機ポリマーから硬化・形成されたものが挙げられる。高屈折率層形成後のポリマーが、更に架橋又は重合している構造を有することが好ましい。
【０２４２】
ポリマーの例には、ポリオレフィン（飽和炭化水素からなる）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂が含まれる。なかでも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレアが好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルが更に好ましい。硬化前の有機ポリマーとしての質量平均分子量は１×１０３〜１×１０６ が好ましく、より好ましくは３×１０３ 〜１×１０５ である。
【０２４３】
硬化前の有機ポリマーは、前記の内容と同様の特定の極性基を有する繰り返し単位と、架橋又は重合構造を有する繰り返し単位とを有する共重合体であることが好ましい。ポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位中の０．５〜９９質量％であることが好ましく３〜９５質量％であることが更に好ましく、６〜９０質量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二つ以上の同じでも異なってもよいアニオン性基を有していてもよい。
【０２４４】
シラノール基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、２〜９８ｍｏｌ％であることが好ましく、４〜９６ｍｏｌ％であることが更に好ましく、６〜９４ｍｏｌ％であることが最も好ましい。
【０２４５】
アミノ基又は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、０．１〜５０質量％であることが好ましく、更には０．５〜３０質量％が好ましい。
【０２４６】
なお、シラノール基、アミノ基、及び四級アンモニウム基は、アニオン性基を有する繰り返し単位又は架橋又は重合構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。
【０２４７】
ポリマー中の架橋又は重合構造を有する繰り返し単位の割合は、1 〜９０質量％であることが好ましく、５〜８０質量％であることが更に好ましく、８〜６０質量％であることが最も好ましい。
【０２４８】
バインダーが架橋又は重合してなるマトリックスは、高屈折率層形成用の塗布組成物を透明支持体上に塗布して、塗布と同時又は塗布後に、架橋又は重合反応によって形成することが好ましい。
【０２４９】
本発明の高屈折率層（４）は、更に用途・目的によって適宜他の化合物を添加することができる。たとえば、高屈折率層（４）の上に低屈折率層（５）を有する場合、高屈折率層（４）の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましく、高屈折率層（４）に、芳香環、フッ素以外のハロゲン化元素（たとえば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等）、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原子を含有すると有機化合物の屈折率が高くなることから、これらを含有する硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
（高屈折率層の他の組成物）
本発明の高屈折率層（４）は、更に用途・目的によって適宜他の化合物を添加することができる。たとえば、高屈折率層（４）の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましく、高屈折率層（４）に、芳香環、フッ素以外のハロゲン化元素（たとえば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等）、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原子を含む硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
【０２５０】
高屈折率層（４）には、前記の成分（無機微粒子、重合開始剤、増感剤など）以外に、樹脂、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子等を添加することもできる。
【０２５１】
［中屈折率層］
本発明の反射防止膜は、高屈折率層（４）が異なる屈折率からならなる２層の積層構成が好ましい。すなわち、上記の方法で組成物を塗布して形成された低屈折率層（５）がそれよりも高い屈折率を有する高屈折率層（４）の上に形成され、高屈折率層（４）に隣接し、低屈折率層（５）の反対側に支持体の屈折率と高屈折率層（４）の屈折率の中間の屈折率を有する中屈折率層（３）が形成された３層積層構造が好ましい。上記したように、各屈折率層の屈折率は相対的なものである。
【０２５２】
本発明の中屈折率層（３）を構成する材料は、従来公知の材料の何れでもよいが、上記高屈折率層（４）と同様のものが好ましい。屈折率は無機微粒子の種類、使用量で容易に調整され、上記高屈折率層（４）に記載の内容と同様にして、膜厚３０〜５００ｎｍの薄層を形成する。更に好ましくは、５０〜３００ｎｍの膜厚である。
【０２５３】
［低屈折率層］
低屈折率層（５）は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分とする共重合体の硬化皮膜によって形成されるのが好ましい。また、前記共重合体とともに低屈折率化と皮膜硬度の両立の観点から多官能（メタ）アクリレート等の硬化剤や、無機微粒子や有機微粒子の充填剤も好ましく用いられる。
【０２５４】
低屈折率層（５）の屈折率は、１．２０〜１．４９であることが好ましく、１．２５〜１．４８であることがより好ましく、１．３０〜１．４６であることが特に好ましい。
【０２５５】
低屈折率層（５）の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１００ｎｍであることが更に好ましい。低屈折率層（５）のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層（５）の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で５００ｇ荷重においてＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０２５６】
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。９５゜以上であることが更に好ましく、１００゜以上であることが特に好ましい。
【０２５７】
以下に本発明の低屈折率層（５）に用いられる共重合体について説明する。
【０２５８】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、たとえば、フルオロオレフィン類（たとえば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（たとえば、ビスコート６ＦＭ（大阪有機化製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０２５９】
架橋反応性付与のための構成単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（たとえば、（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（たとえば、ヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【０２６０】
また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、たとえば、オレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【０２６１】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号及び特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用してもよい。
【０２６２】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％を占めていることである。
【０２６３】
本発明に用いられる共重合体の好ましい態様として、下記の化学式４で表される化合物が挙げられる。
【０２６４】
【化４】
2006122889.tif 000006
化学式４において、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表す。この連結基は、好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、より好ましくは２〜４の連結基である。また、この連結基は、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
【０２６５】
好ましい例としては、* −（ＣＨ2 ）２−Ｏ−**、 *−( ＣＨ2 ）２−ＮＨ−**、 *−( ＣＨ2 ）４−Ｏ−**、 *−( ＣＨ2 ）６−Ｏ−**、 *−( ＣＨ2 ）２−Ｏ−( ＣＨ2 ）２−Ｏ−**、 *Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2 ）３−Ｏ−**、 *−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 −Ｏ−**、 *−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＯＮＨ( ＣＨ2 ）３−Ｏ−**（* はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０又は１を表わす。
【０２６６】
化学式４において、Ｘは水素原子又はメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【０２６７】
化学式４において、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一又は複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。
【０２６８】
好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【０２６９】
化学式４において、ｘ、ｙ、ｚは、それぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。
【０２７０】
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい態様として下記の化学式５で表される化合物が挙げられる。
【０２７１】
【化５】
2006122889.tif 000007
化学式５において、Ｘ、ｘ、ｙは、化学式４と同じ意味を表し、好ましい範囲も同じである。
【０２７２】
化学式５において、ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表し、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
【０２７３】
化学式５において、Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていてもよい。例としては、前記化学式４におけるＡの例として説明したものが挙げられる。
【０２７４】
化学式５において、ｚ１及びｚ２は、それぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表わし、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。
【０２７５】
化学式４又は５で表される共重合体は、たとえば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。
【０２７６】
以下に、本発明で有用な共重合体の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２７７】
【化６】
2006122889.tif 000008
【０２７８】
【化７】
2006122889.tif 000009
【０２７９】
【化８】
2006122889.tif 000010
【０２８０】
【化９】
2006122889.tif 000011
【０２８１】
【化１０】
2006122889.tif 000012
本発明に好ましく用いられる共重合体の合成は、種々の重合方法、たとえば、溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって（メタ）アクリロイル基を導入することにより行なうことができる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行なうことができる。
【０２８２】
前記したように、低屈折率層（５）の皮膜硬度の観点からは、硬化剤等の添加剤を添加することは必ずしも有利ではないが、高屈折率層（４）との界面密着性等の観点から、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸又はその無水物等の硬化剤を添加することもできる。
【０２８３】
これらを添加する場合には、低屈折率層皮膜の全固形分に対して０〜３０質量％の範囲であることが好ましく、０〜２０質量％の範囲であることがより好ましく、０〜１０質量％の範囲であることが特に好ましい。
【０２８４】
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系又はフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０〜５質量％の場合である。
【０２８５】
ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、又は光の作用によりラジカルを発生するもののいずれの形態も可能である。
【０２８６】
熱の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、有機又は無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
【０２８７】
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾービスーイソブチロニトリル、２−アゾービスープロピオニトリル、２−アゾ−ビスーシクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【０２８８】
光の作用によりラジカル重合を開始する化合物を使用する場合は、活性エネルギー線の照射によって皮膜の硬化が行われる。
【０２８９】
このような光ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン及び２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。
【０２９０】
ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン及びｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。これらの光ラジカル重合開始剤と併用して増感色素も好ましく用いることができる。
【０２９１】
熱又は光の作用によってラジカル重合を開始する化合物の添加量としては、炭素−炭素二重結合の重合を開始できる量であればよいが、一般的には低屈折率層形成組成物中の全固形分に対して０．１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜１０質量％であり、特に好ましくは２〜５質量％の場合である。
【０２９２】
低屈折率層塗布液組成物に含まれる溶剤としては、含フッ素共重合体を含む組成物が沈殿を生じることなく、均一に溶解又は分散されるものであれば特に制限はなく、２種類以上の溶剤を併用することもできる。好ましい例としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、水などを挙げることができる。
【０２９３】
低屈折率層（５）は、含フッ素化合物以外に充填剤（たとえば、無機微粒子や有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのシリコーン化合物等）、界面活性剤等を含有することができる。特に、無機微粒子、シランカップリング剤、滑り剤を含有することが好ましい。
【０２９４】
次に、本発明の低屈折率層（５）中に含有することのできる無機微粒子について、以下に記載する。
【０２９５】
無機微粒子の塗布量は、１〜１００ｍｇ／ｍ２ が好ましく、より好ましくは５〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１０〜６０ｍｇ／ｍ２ である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
【０２９６】
無機微粒子は、低屈折率層（５）に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。たとえば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層（５）の厚さの３０％以上１５０％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。
【０２９７】
すなわち、低屈折率層（５）の厚さが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
【０２９８】
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球状が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
【０２９９】
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【０３００】
低屈折率層（５）の屈折率上昇をより１層少なくするために、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。この中空シリカ微粒子は、屈折率が１．１７〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、更に好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は、粒子全体としての屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、空隙率ｘは下記の式４で表される
[数４]
ｘ=(４πa３／３)／（４πb３／３）×１００
空隙率ｘは、好ましくは１０〜６０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
【０３０１】
中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚さが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から１．１７未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
【０３０２】
なお、これら中空シリカ粒子の屈折率は、アッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定をおこなった。
【０３０３】
また、平均粒径が低屈折率層（５）の厚さの２５％未満であるシリカ微粒子（「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）の少なくとも１種を上記の粒径のシリカ微粒子（「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）と併用することが好ましい。
【０３０４】
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
【０３０５】
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層（５）の厚さが１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コスト及び保持剤効果の点で好ましい。
【０３０６】
シリカ微粒子は、分散液中又は塗布液中で、分散安定化を図るために、又はバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。
【０３０７】
このうち、カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
【０３０８】
上記カップリング剤は、低屈折率層（５）の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時に更に添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
【０３０９】
シリカ微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０３１０】
以上、シリカ微粒子について述べたことは、他の無機粒子についても適用される。
【０３１１】
シランカップリング剤としては、下記の化学式で表される化合物、及び、又は、その誘導体化合物を用いることができる。
【０３１２】
(X)n-Si-(OR)m 
上記化学式において、Ｘは、有機官能基、Ｒは、アルキル基を示す。これらのうち、好ましいのは、Ｘに水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するシランカップリング剤であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイル）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）を含有するシランカップリング剤である。ｍは０〜３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合計は４である。
【０３１３】
上記化学式で表される化合物で特に好ましいのは、Ｘに架橋又は重合性官能基として（メタ）アクリロイル基を有する化合物であり、たとえば、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０３１４】
滑り剤としては、ジメチルシリコーン、及びポリシロキサンセグメントが導入された含フッ素化合物が好ましい。
【０３１５】
［その他の層］
積層型反射防止膜には、更に、防湿層、帯電防止層、プライマー層、下塗り層や保護層、シールド層、滑り層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
【０３１６】
［反射防止膜を形成する方法の概略］
多層構成の反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）により、塗布により形成することができるが、ダイコート法で塗布することが好ましく、更には後述する新規ダイコーターを用いて塗布を行うことがより好ましい。
【０３１７】
この場合、二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０３１８】
本発明の反射防止フィルムにおいては、少なくとも高屈折率層（４）と低屈折率層（５）を積層するので、ゴミ、ほこり等の異物が存在したとき、輝点欠陥が目立ちやすい。本発明における輝点欠陥とは、前記したように目視により、塗膜上の反射で見える欠陥のことで、塗布後の反射防止フィルムの裏面を黒塗りする等の操作により目視で検出できる。目視により見える輝点欠陥は、一般的に５０μｍ以上である。輝点欠陥が多いと製造時の得率が低下し、大面積の反射防止フィルムを製造することができない。
【０３１９】
本発明の反射防止フィルムは、輝点欠陥の数が１平方メートル当たり２０個以下、好ましくは１０個以下、更に好ましくは５個以下、特に好ましくは１個以下とする。
【０３２０】
本発明の反射防止フィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
【０３２１】
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布室で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室に送られて乾燥される。
【０３２２】
乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は、乾燥室から放射線硬化室へ送り出され、放射線が照射されて塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。更に、放射線により硬化した層を有するフィルム支持体は熱硬化室へ送られ、加熱されて硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。
【０３２３】
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布室−乾燥室−放射線硬化室−熱硬化室をそれぞれ複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。生産性の観点から各層の形成を連続的に行う事が好ましい。
【０３２４】
各層の塗布を連続的に行う装置の構成例を図８に示す。この装置は、ロール状の支持体フィルム（以下、「ウェブ」と称する）Ｗを連続的に送り出す送出装置１と、ウェブＷを巻き取る巻取装置２の間に製膜ユニット(支持体上に塗膜を形成するためのユニット)１００、２００、３００、及び４００を適宜必要な数だけ設置したものである。
【０３２５】
図８で示される装置は、４層を巻き取ることなく連続的に塗布する際の構成の一例であるが、層構成に合わせて製膜ユニット数を変化させることは、もちろん可能である。
【０３２６】
製膜ユニット１００は、塗布液を塗布する工程１０１、塗膜を乾燥する工程１０２、塗膜を硬化する工程１０３から構成されている。他の製膜ユニット２００、３００、及び４００も同様の構成である。塗布液を塗布する工程、塗膜を乾燥する工程、塗膜を硬化する工程については以下で詳述する。
【０３２７】
製膜ユニットが３つ設置された装置を用いて、ハードコート層（２）を塗布したロール状のウェブＷを連続的に送り出し、中屈折率層（３）、高屈折率層（４）、低屈折率層（５）を各製膜ユニットで順次塗布した後に巻き取る事がより好ましく、製膜ユニットが４つ設置された、図８に示される装置を用いて、ロール状のウェブＷを連続的に送り出し、ハードコート層（２）、中屈折率層（３）、高屈折率層（４）、低屈折率層（５）を各製膜ユニットで順次塗布した後に巻き取る事が更に好ましい。
〔塗布前の事前準備〕
本発明における、輝点欠陥の少ない反射防止フィルムを作成するためには、前記したように高屈折率層用塗布物中の高屈折率超微粒子分散度を精密に制御すること、及び塗布液の精密濾過操作が挙げられる。同様に、反射防止層を形成する各層は、上記の塗布部における塗布工程及び乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、ウェブＷ上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。
【０３２８】
塗布工程及び乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／（立方メートル）以下）以上であることが好ましく、クラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であることが更に好ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことが好ましい。
【０３２９】
塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載の、ウェブ表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法、特開平１０−３０９５５３号公報に記載の、清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をウェブ表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法、特開平７−３３３６１３号公報に記載される、超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法（伸興社製、ニューウルトラクリーナー等）等の乾式除塵法が挙げられる。
【０３３０】
また、洗浄槽中にウェブを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法、特公昭４９−１３０２０号公報に記載されている、ウェブに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行なう方法、特開２００１−３８３０６号に記載のように、ウェブを液体でぬらしたローラで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法又は湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。
【０３３１】
また、このような除塵工程を行う前に、ウェブ上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、１０００Ｖ以下が好ましく、３００Ｖ以下がより好ましく、１００Ｖ以下が更に好ましい。
【０３３２】
以下では塗布液を調製するために必要な要件について述べる。
【０３３３】
［塗布用分散媒］
本発明のハードコート層、低屈折率層の各層の塗布液を調製する際には、以下の分散溶媒を用いることができる。塗布用分散媒としては、特に限定されない。単独でも２種以上を混合して使用してもよい。
【０３３４】
好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、スチレン等の芳香族炭化水素類、クロルベンゼン、オルトージクロルベンゼン等の塩化芳香族炭化水素類、モノクロルメタン等のメタン誘導体、モノクロルエタン等のエタン誘導体等を含む塩化脂肪族炭化水素類、メタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、エチルエーテル、1,4 −ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、エチレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ノルマルヘキサン等の脂肪族炭化水素類、脂肪族又は芳香族炭化水素の混合物等が該当する。
【０３３５】
これら溶媒の中でも、ケトン類の単独又は２種以上の混合により作成される塗布用分散媒が特に好ましい。
【０３３６】
［塗布液物性］
本発明の塗布方式は、液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の液物性、特に粘度及び表面張力を制御する必要がある。
【０３３７】
粘度については２０．０ｍＰａ・秒以下であることが好ましく、１０．０ｍＰａ・秒以下がより好ましく、５．０ｍＰａ・秒以下が更に好ましく、２．０ｍＰａ・秒以下が最も好ましい。
【０３３８】
塗布液によっては、せん断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間のせん断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高せん断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液にせん断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると、乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。
【０３３９】
また、液物性ではないが、ウェブに塗布される塗布液の量も、塗布可能な上限の速度に影響を与える。ウェブに塗布される塗布液の量は２．０〜５．０ｍｌ／ｍ２であることが好ましい。ウェブに塗布される塗布液の量を増やすと、塗布可能な上限の速度が上がるため好ましいが、ウェブに塗布される塗布液の量を増やしすぎると、乾燥にかかる負荷が大きくなるため、液処方・工程条件によって最適なウェブに塗布される塗布液の量を決めることが好ましい。
【０３４０】
表面張力については、１５〜３６ｍＮ／ｍの範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは、乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると、塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、１７〜３２ｍＮ／ｍの範囲がより好まく、１９〜２６ｍＮ／ｍの範囲が更に好ましい。
【０３４１】
［濾過］
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲で、できるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜１０μｍのフィルターが用いられ、更には絶対濾過精度が０．１〜５μｍであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、ろ過圧力は１．５ＭＰａ（１５ｋｇｆ／ｃｍ２）以下、より好ましくは１．０ＭＰａ（１０ｋｇｆ／ｃｍ２ ）以下、更には０．２ＭＰａ（２ｋｇｆ／ｃｍ２ ）以下で濾過することが好ましい。
【０３４２】
ろ過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ、特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物のろ過部材と同様のものが挙げられる。
【０３４３】
また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
〔塗布工程〕
反射防止フィルムの各層の塗布方法としては、スロットダイを用いた塗布方式が好ましい。更に、後述するようにスロットダイを用いると、高速で塗布する際の膜厚ムラの発生が抑えられ、より好ましい。
【０３４４】
［ダイコーターの構成］
図９は、本発明の実施の際に使用したスロットダイを用いたコーターの断面図である。コーター１０はバックアップローラ１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂを形成する。
【０３４５】
スロットダイ１３の内部にはポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その断面が曲線及び直線で構成されており、たとえば、図９に示されるような略円形でもよいし、又は半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。
【０３４６】
ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、又はスロット開口部１６ａとは反対側の面の中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。
【０３４７】
スロット１６は、ポケット１５からウェブＷへの塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップローラ１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。
【０３４８】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は、先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブＷの走行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。
【０３４９】
図１０は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は、本発明のスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は、従来のスロットダイ３０を示している。従来のスロットダイ３０では、上流側リップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂのウェブＷとの距離は等しい。なお、（Ｂ）において、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩＬＯが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度よく行うことができる。
【０３５０】
上流側リップランド１８ａのランド長さＩＵＰは特に限定はされないが、１００μｍ〜１ｍｍの範囲が好ましく採用される。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩＬＯは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、更に好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。
【０３５１】
下流側リップのランド長さＩＬＯが３０μｍよりも短い場合は、先端リップ１７のエッジ又はランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。
【０３５２】
一方、下流側リップのランド長さＩＬＯが１００μｍよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。
【０３５３】
更に、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブＷに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて、薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、更に好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、最も好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。
【０３５４】
スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブＷの隙間ＧＬとは、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間を示す。
【０３５５】
図１１は、本発明の実施に使用された塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。ウェブＷが走行する側とは反対側に、ビード１４ａに対して充分な減圧調整を行えるよう、ウェブＷに接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間にはそれぞれ隙間ＧＢ、ＧＳが存在する。
【０３５６】
図１２及び図１３は、近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図である。サイドプレート４０ｂとバックプレート４０ａは、図１２のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図１３のように適宜隙間を変えられるように、チャンバーにネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。
【０３５７】
いかなる構造であっても、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間ＧＢ、ＧＳと定義する。減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧＢとは、減圧チャンバー４０を図１１のようにウェブＷ及びスロットダイ１３の下方に設置した場合、バックプレート４０ａの最上端からウェブＷまでの隙間を示す。
【０３５８】
バックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧＢを、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間ＧＬよりも大きくして設置するのが好ましい。これにより、バックアップローラ１１の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。
【０３５９】
たとえば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間ＧＬが３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間ＧＢは１００μｍ以上５００μｍ以下とするのが好ましい。
【０３６０】
［材質、精度］
ウェブＷの走行方向側の先端リップ１７のウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が２０μｍ以内とすることが好ましい。
【０３６１】
また、スロットダイの先端リップ１７の材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップ１７のウェブ走行方向における長さを３０〜１００μｍの範囲にしても、先端リップ１７の精度を満足できない。
【０３６２】
したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第２８１７０５３号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップ１７を、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。
【０３６３】
超硬合金としては、タングステンカーバイド（以下、ＷＣと称す）などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることもできる。ＷＣ結晶の平均粒径としては、粒径３μｍ以下が更に好ましい。
【０３６４】
高精度な塗布を実現するためには、先端リップ１７のウェブ走行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、すなわち、隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以下になるように先端リップ１７とバックアップローラ１１との真直度を出す。
【０３６５】
［塗布速度］
上記のようなバックアップローラ１１及び先端リップ１７の精度を達成することにより、本発明で採用する塗布方式は、高速塗布時における膜厚の安定性が高い。更に、本発明で採用する塗布方式は、前計量方式であるために、高速塗布時でも安定した膜厚の確保が容易である。
【０３６６】
本発明の反射防止フィルムのような低塗布量の塗布液に対して、本発明で採用する塗布方式は、高速で膜厚安定性よく塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法、マイクログラビア法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。
【０３６７】
また、マイクログラビア法では、グラビアロールの製作精度や、ブレードとグラビアロールの当たりによるロールやブレードの経時変化により塗布量ムラを発生しやすい。また、これらの塗布方式は、後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。本発明の製造方法を用いることにより、２５ｍ／分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。
【０３６８】
＜乾燥工程＞
乾燥速度を制御する方法の代表的な方法としては、塗布機の直後に乾燥ゾーンを設け、乾燥ゾーン内の環境を制御することで乾燥速度を制御する乾燥工程を設置するものである。以下にいくつかの代表的な例を挙げて説明する。
【０３６９】
例えば特開平９−７３０１６号公報には、下記の方法が記載されている。塗布直後に、塗布膜表面の気体の移動速度を搬送される塗布膜の移動速度に対して−０．１ｍ／ｓｅｃ以上０．１ｍ／ｓｅｃ以下の相対速度となるように制御するための乾燥工程を設け、抑制下で乾燥を行う。この塗膜を加温、あるいは冷却することで乾燥速度の制御を行うことができる。
【０３７０】
上記乾燥工程の一例を、図１４を参照しながら詳しく説明する。ウェブ１１０を搬送しながら、その表面に、塗布機１１１により塗布液を塗布して塗布膜を形成する。図１４では塗布機の一例としてワイヤーバー塗布機の図が示されているが、本発明では塗布機はワイヤーバー塗布機に限定されるものではない。塗布膜を有するウェブ（以下、塗布ウェブと称する）１１０ａは整流板１１２に沿って乾燥ゾーン１１３に搬送され、更に加熱ゾーン１１４に搬送される。但し、加熱ゾーン１１４では、残留溶剤を蒸発させるための乾燥も行なわれる。本発明では、塗布直後から加熱ゾーン１１４に入るまでは、塗布膜にでき
るだけ風を当てることなく行なわれる。即ち、整流板１１２を過ぎた後の乾燥ゾーン１１３の金網１１６から塗布室給気口からの風（ほぼフィルムの搬送速度と同じ風速、風向の風）が導入される。塗布室給気口からの風は、塗布室排気口から排気されると共に、乾燥ゾーン１１３から多孔板１１５及び金網１１６を介して排気孔１１７から排気される。このような金網や多孔板を配置することによって、風速、風向の急激な変化がほとんど起こらない。
【０３７１】
整流板１１２と塗布ウェブ１１１ａの間隙は１ｍｍ〜１０ｍｍが一般的である。整流板１１２の長さは、１ｍ〜１５ｍが好ましい。乾燥ゾーン１１３の温度は、１０℃〜５０℃が好ましい。乾燥ゾーン１１３の条件を上記のようにすることによって、乾燥時に、塗布ウェブ１１１ａの移動速度（搬送速度）との相対速度が−０．１ｍ／ｓｅｃ以上０．１ｍ／ｓｅｃ以下の風を塗布膜に当てる（即ち、気体層を移動させる）ことようにすることが好ましい。
【０３７２】
また、特開２００１−１７０５４７号公報には以下の方法が記載されており、本発明にも好ましく適用できる。塗布直後に乾燥ゾーンを設けて乾燥ゾーンにより塗布膜面を囲み、更に長尺支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させている。この乾燥風は塗布膜に含まれる分散媒と同一の溶剤ガスを含んでおり、風速及び溶剤ガスの含有量を制御することによって乾燥速度を制御することができる。更に、前記乾燥ゾーンを複数の分割ゾーンに分割し、分割した各分割ゾーンの前記一方向流れの乾燥風の風速及び溶剤ガスの含有量を調整することで、乾燥速度の制御をより詳細に行うこと
ができる。
【０３７３】
図１５は、本発明に用いられる乾燥装置１３０の一例の側面図であり、また、図１６は図１５の乾燥装置１３０を上方から見た平面図である。
【０３７４】
図１５及び図１６に示す塗布膜の乾燥装置１３０は、連続走行するウェブ１３１を通過させて塗布膜の乾燥が行なわれる乾燥ゾーンを形成する乾燥装置本体１３２と、乾燥ゾーン内にウェブ１３１幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させる一方向気流発生手段パイプ１３３〜１３９とで構成される。この乾燥装置１３０は、走行するウェブ１３１に有機溶剤を含む塗布液を塗布する塗布機１４０の直後に設けられる。
【０３７５】
塗布機１４０としては、例えば、ワイヤーバー１４１を備えたバー塗布装置を使用することができ、複数のバックアップローラ１４２、１４３、１４４に支持されて走行するウェブ１３１の下面に塗布液が塗布されて塗布膜が形成される。図１５及び図１６では塗布機の一例としてワイヤーバー塗布機の図が示されているが、本発明では塗布機はワイヤーバー塗布機に限定されるものではない。
【０３７６】
乾燥装置本体１３２は、塗布機１４０の直後に設けられ、走行するウェブ１３１の塗布膜面側（ウェブの下面側）に沿った長四角な箱体状に形成され、箱体の各辺のうちの塗布膜面側の辺（箱体の上辺）が切除されている。これにより、走行する塗布ウェブ１３１ａの乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーンが形成される。乾燥ゾーンは、乾燥装置本体１３２を、塗布ウェブ１３１ａの走行方向に直交した複数の仕切板１４５ａ〜１４５ｆで仕切ることにより、複数の乾燥ゾーン１４６ａ〜１４６ｇ（本実施形態では７つの分割ゾーン）に分割される。この場合、乾燥ゾーン１４６ａ〜１４６ｇを分割する仕切板１４５ａ〜
１４５ｆの上端と、塗布ウェブ１３１ａに形成された塗布膜面との距離は、０．５ｍｍ〜１２ｍｍの範囲が好ましく、更に好ましくは１ｍｍ〜１０ｍｍの範囲である。また、各乾燥ゾーン１４６ａ〜１４６ｇには一方向気流発生手段１３３〜１３９（図１６参照）が設けられている。
【０３７７】
一方向気流発生手段１３３〜１３９は、主として、乾燥装置本体１３２の両側辺の一方側に形成された吸込口と、他方側に吸込口に対向して形成された排気口と、排気口接続された排気手段とで構成される。これにより、排気手段を駆動させることにより、吸込口から各乾燥ゾーン１４６ａ〜１４６ｇに吸い込まれた空気が排気口から排気されるので、各乾燥ゾーン１４６ａ〜１４６ｇには、塗布ウェブ１３１ａ幅方向の一方端側（吸込口側）から他方端側（排気口側）に向けて一方向に流れる乾燥風が発生する。この一方向気流発生手段１３３〜１３９は、排気手段により、乾燥ゾーン１４６ａ〜１４６ｇごとに個々に
排気量を制御できるようになっている。吸込口から吸い込まれる乾燥風としては、温度・湿度が空調された空調風が好ましい。また、吸込口から吸い込まれる乾燥風としては、乾燥風中に塗布液の塗布用分散媒のガスが濃度を制御されて含まれていることが好ましい。
【０３７８】
また、乾燥装置本体１３２の幅はウェブ１３１の幅よりも大きくなるように形成して、乾燥ゾーン１４６ａ〜１４６ｇの両側の開放部分を整風板１４７、１４８で蓋をした整風部分を設けるようにした。この整風部分は、吸込口から塗布膜端までの距離と、塗布膜端から排気口までの距離を確保すると共に、乾燥風が吸込口のみから乾燥ゾーン１４６ａ〜１４６ｇ内に吸い込まれ易くするもので、乾燥ゾーン１４６ａ〜１４６ｇに急激な乾燥風の流れを作らないようにしたものである。この整風部分、即ち整風板１４７、１４８の長さとしては、吸込口側及び排気口側ともに、５０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下の範囲が好ましい。
【０３７９】
各乾燥ゾーン１４６ａ〜１４６ｇのうち、特に塗布機１４０に一番近い乾燥ゾーン１４６ａは、ウェブ１３１に塗布液が塗布された直後に、乾燥ゾーン１４６ａ外の新鮮な空気、例えば上記した空調風が乾燥ゾーン１４６ａに入り込みにくくすることが重要である。この為には、塗布機１４０に隣接するように分割ゾーン１４６ａを配置することや前記した整風板１４７、１４８の他に、塗布機１４０のワイヤーバー１４１の位置と、バックアップローラ１４３の位置を調整し、ウェブ１３１が乾燥ゾーン１４６ａの直近を走行するようにして、塗布ウェブ１３１ａで乾燥ゾーン１４６ａの開放部をあたかも蓋をするように構成することが好ましい。また、塗布ウェブ１３１ａを挟んで、乾燥装置本体１３２の反対側位置には、前記空調風等の風により、塗布ウェブ１３１ａの安定走行が阻害されないように遮蔽板１４９を設けることが好ましい。
【０３８０】
また、特開２００３−９３９５４号公報においては、特開２００１−１７０５４７号公報と同様に塗布直後に乾燥ゾーンを設置し、塗膜の膜面に対峙して複数の穴を持った整風板が設置されており、穴の開口率や塗膜と整風板の間隔を制御することで乾燥速度が制御出来ることを示している。
【０３８１】
図１７は、本発明に用いられる乾燥装置１６０の一例の側面図であり、図１８は図１７の上面図である。また、図１９には、図１７の乾燥装置１６０の要部断面図を示す。なお、図１８では、後述する上蓋を取り外して示している。
【０３８２】
乾燥装置１６０は、搬送ローラ１６１、１６２、１６３に支持され搬送されているウェブ１６４に塗布装置１６５のワイヤーバー１６６で塗布液を塗布し塗布膜を乾燥させる。
【０３８３】
なお、塗布膜が形成されているウェブを塗布ウェブ１６４ａと称する。乾燥装置１６０は、塗布膜を乾燥させるために用いられ、７分割された乾燥ゾーン１６７、１６８、１６９、１７０、１７１、１７２、１７３から構成されている。図１７、図１８及び図１９では塗布機の一例としてワイヤーバー塗布機の図が示されているが、本発明に用いられる塗布機はワイヤーバー塗布機に限定されるものではない。これら各乾燥ゾーン１６７〜１７３を順次通過することにより、塗布液から有機溶媒のガスが発生して塗布ウェブ１６４ａ上に塗布膜が形成される。
【０３８４】
図１８に示すようにそれぞれの乾燥ゾーン１６７〜１７３の一方の側には、排気口１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８０を有し、排気装置１８１に接続している。なお、それぞれの排気口１７４〜１８０は、排気装置１８１により個々に排気できるようになっている。また他方には、通風口１８２、１８３、１８４、１８５、１８６、１８７、１８８が取り付けられ大気（空気であっても良いし、その他のガスであっても良い）が乾燥ゾーン内に入りこむ構成になっている。なお、各排気口及び各通風口には排気パイプ及び吸気パイプ（いずれも図示しない）が取り付けられている。
【０３８５】
図１９には、７分割された乾燥ゾーンのうち乾燥ゾーン１６８の断面図を示した。乾燥ゾーン１６８は、乾燥ゾーン本体１６８ａと整風板１９０とが備えられている。乾燥ゾーン本体１６８ａは、ウェブ１６４を通す通路室１９１と、蒸発した溶媒ガスを排気する排気室１９２とを備えている。また、整風板１９０は、通路室１９１と排気室１９２とを仕切るように設けられている。排気室１９２には、排気パイプ１９３と吸気パイプ１９４とが取り付けられ、その吸気パイプ１９４により排気室１９２内に空気（その他のガスであても良い）が送られる。また、吸気パイプ１９４と排気パイプ１９３とは、ウェブ１６４の幅方向に取り付けられており、ウェブ１６４の幅方向に空気が流れ、空気流１９５が形成される。
【０３８６】
整風板１９０の開口率、材料などは特に限定されないが、５０％以下の開口率である金網やパンチングメタルなどが好ましく、開口率が２０％〜４０％であることがより好ましい。具体的には、３００メッシュで開口率３０％の金網を用いることができる。また、塗膜面１６４ｂと整風板１９０との隙間が広いと空気の渦が発生し、塗膜面１６４ｂにムラが生じる原因となる。そこで、風の流れをコントロールするために、塗膜面１６４ｂと整風板１９０との隙間Ｃを３ｍｍ〜３０ｍｍとすることが好ましく、より好ましくは、５ｍｍ〜１５ｍｍである。また、ウェブ１６４裏面（塗布膜が形成されていない面）及びサイ
ドからの不必要な風の流れを抑制するためにシール部材である上蓋１９６及びサイドシール１９７、１９８を取り付けている。なお、整風板１９０には、開口率を調整するために金網を用いているが、金網に限らずパンチメタル等で開口率を決定することも可能である。上記乾燥工程によれば、塗布膜中の有機溶媒が蒸発したガス（通常は、気化した溶媒が高濃度に含まれている）１９９は、整風板１９０の孔１９０ａを通過して、塗膜面１６４ｂに対して整風板１９０の反対側を通る排気室１９２の乾燥風１９５によりウェブの幅方向に均一に排気パイプ１９３から排気され乾燥ゾーン１６８外に排出される。このため、塗膜面１６４ｂに乾燥風が触れることが無く、塗膜面１６４ｂにムラが発生することが抑制される。
【０３８７】
また、図１７に示すように乾燥ゾーン１６７は、ウェブ１６４に塗布液を塗布した直後に設置し、新鮮な塗布室の空調風が乾燥装置１６０に入り込まないように設置することが重要である。
【０３８８】
特開２００３−１０６７６７号公報には、塗布直後の走行位置にほぼ並行に板状部材である凝縮板を設置し、凝縮板と塗布膜の距離や凝縮板の温度を制御して、塗布液中の溶媒を凝縮、回収させる乾燥装置を配置することで乾燥に起因する膜厚ムラを発生させずに乾燥が可能であることを示されている。この方法は本発明にも適用できる。
【０３８９】
図２０（ａ）は、本発明の塗布膜の乾燥方法を実施するための塗布・乾燥ライン２１０の一例を示す概略図である。塗布・乾燥ラインは、ウェブ２１１を送り出す送出機２１２とバックアップローラ２１３と塗布ダイ２１４と第１乾燥装置２１５とローラ２１６と第２乾燥装置２１７とローラ２１８、２１９と巻取機２２０とから構成されている。ウェブ２１１は送出機２１２から送り出される。ウェブ２１１は、バックアップローラ２１３に巻き掛けられながら搬送されて塗布ダイ２１４によりウェブ２１１に塗布液が塗布されてウェブ２１１は、塗布ウェブ２１１ａとなる。
【０３９０】
第１乾燥装置２１５は、ウェブ２１１と所定距離をおいて平行に設けられる凝縮板２２１、２２２と、凝縮板２２１、２２２の前後辺から下方に垂設される側面板等とで構成される。これにより、塗布膜中の溶媒が揮発した際に、揮発した溶媒が凝縮板２２１、２２２に凝縮し回収される構成となっている。
【０３９１】
第１乾燥装置２１５では、ウェブ２１１の塗布面と凝縮板２２１、２２２との間の空間へ溶媒が蒸発するとともに、蒸発した溶媒が凝縮板２２１、２２２の凝縮面から回収される。塗布面の均一な乾燥が行われるには、塗布面と凝縮板２１３、２１４の凝縮面との間に、乱れのない境界層が形成され、均一な物質移動と熱伝達が行われることが必要である。
【０３９２】
しかし、上記塗布膜の乾燥装置におけるような、温度の違う二平面間では、それら均一な熱伝達を阻害するものとして、熱自然対流が一般的に知られている。熱自然対流が発生すると、この境界層を不安定にし、境界層を乱すことにより、不均一な乾燥速度分布を生じる。その結果、塗布膜の均一な乾燥を行うことができなくなる。
【０３９３】
自然対流に関する研究は古くから行われており、たとえば、Heat Transfer 、vol.1(1953) 、Max Jacob 著( 出版社：John Wiley & Sons)には、様々な場合における自然対流に関する実験的研究が紹介されている。化学工学便覧、改訂六版、化学工学会編( 出版社：丸善) には、自然対流に関する研究がまとめて紹介されている。
【０３９４】
これらは、垂直平板、水平正方形板、傾斜平板、水平円柱面、傾斜円柱面、垂直平板で挟まれた間隙、水平平面板で挟まれた間隙、等に関する。これらの研究で明らかなように、固体表面の形状が伝熱量に大きな影響を及ぼす。
しかし、これらの研究は主に空気中に単純に置かれた板または円柱に関するものである。一方、今回対象とするような、一方が連続走行する、塗布液を塗られた面を含む二平面間の問題に関する研究は少なく、自然対流を抑え、均一な境界層の形成するための条件については、明確になっていない。また、自然対流は流体塊の浮力によって生じる対流であるので、浮力に対する粘性力の比、運動量拡散率に対する熱拡散率の比などが重要である。これらを表す無次元数として、それぞれ次の形で表現できる。
グラスホフ数＝［熱膨張率×（Ｔ１−Ｔ２）×Ｌ３×ｄ２×ｇ］／δ２・・式 （１１）
プラントル数＝（比熱容量×δ）／熱伝導度・・式（１２）
一般的に、式（１１）はグラスホフ数、式（１２）はプラントル数と呼ばれる。これらの値と自然対流の発生との関係は、特有の場合についてのみ実験式が示されているのみである。なお、これら二つの無次元数を掛けた値は、一般にレイリー数と言われる。
【０３９５】
本発明に係る塗布方法を実施するための塗布・乾燥ライン２１０では、レイリー数を５０００未満にするように、ウェブ２１１と凝縮板２２１、２２２との距離、凝縮板２２１、２２２の温度および塗布膜の温度を設定することにより、塗布液の溶媒の種類、凝縮板２２１、２２２の形状、凝縮板２２１、２２２の配置角度、ウェブ２１１の走行角度などによらず、乾燥ムラのない良好な面の塗布膜が得られる。また、レイリー数が２０００未満になるように各条件を設定すると、塗布膜の表面性状はさらに改善される。
【０３９６】
凝縮板２２１、２２２の溶媒を凝縮させる面に用いる材質は、金属、プラスチック、木材等、特に限定はされないが、塗布液中に有機溶剤が含まれる場合には、その有機溶剤に対して耐性のある材料を使用するか、または表面にコーティングを施すことが望ましい。
【０３９７】
第１乾燥装置２１５において、凝縮板２２１、２２２に凝縮した溶媒を回収させる手段は、たとえば、凝縮板２２１、２２２の凝縮面に溝を設け、毛管力を利用して溶媒を回収させる。溝の方向は、ウェブ２１１の走行方向であってもよく、これに直交する方向であってもよい。凝縮板２２１、２２２が傾斜して設置されている場合には、溶媒を回収させやすい方向に溝を設ければよい。
【０３９８】
図２０（ｂ）に他の実施形態の塗布・乾燥ライン２２５を示す。なお、図２０（ａ）の塗布・乾燥ライン２１０と同一箇所には同一の符号を付して、説明は省略する。塗布・乾燥ライン２２５の第１乾燥装置２２６には温度調整が可能な温調ローラ２２７が多数備えられている。温調ローラ２２７の温度を制御することで塗布ウェブ２２１ａの塗布膜表面温度を調整して塗布膜からの有機溶剤の揮発量を所望のものとする。
【０３９９】
図２１（ａ）に本発明の塗布膜の製造方法が適用されるフィルム製品製造ライン２３０を示す。調製されているドープを流延ダイ２３１から回転ドラム２３２上へ流延して流延膜を形成する。流延膜が自己支持性を有するものとなった後に、剥取ローラ２３３で支持しながらウェブ２３４として剥ぎ取る。そして、多数のローラ２３５が設けられている前乾燥室２２６へウェブ２３４は送られ所望の溶媒含有量となるまで乾燥する。その後にローラ２３７で塗布ダイ２３８まで搬送される。塗布ダイ２３８にウェブ２３４と対向して設けられているバックアップローラ２３９と併せて塗布装置が構成されている。ウェブ２
３４はバックアップローラ２３９に巻き掛けられながら搬送され塗布ダイ２３８から塗布液が塗付され、塗布膜が形成されている塗布ウェブ２３４ａとなる。
【０４００】
塗布ウェブ２３４ａは、乾燥装置２４０に送られ塗布膜が所望の溶媒量となるように乾燥を行う。乾燥装置２４０には、凝縮板２４１、２４２が設けられており、塗布膜から揮発した有機溶剤ガスを凝縮回収する。凝縮板２３１の右端の下方には凝縮した溶媒を回収するための樋２４３が設けられており、樋２４３を経て溶媒が回収される。
【０４０１】
乾燥装置２４０から送り出される塗布ウェブ２３４ａは、ローラ２４４で搬送されて多数のローラ２４５が備えられている後乾燥室２４６に送られ、塗布膜が所望の溶媒含有量となるまで乾燥される。最後に、塗布ウェブ２３４ａは、巻取機２４７に巻き取られる。
【０４０２】
乾燥装置２４０に凝縮板２４１を採用する構成以外に、同様な機能を奏する構成、たとえば、多孔板、網、簀の子、ロール等を使用する構成も採用できる。また、ＵＳ５６９４７０１号明細書に示されるような回収装置と併用してもよい。
【０４０３】
乾燥装置２４０は、塗布液を塗布した直後の自然対流の発生による塗布膜の乾燥ムラを防止するため、塗布ダイ２３８のできるだけ近くに配設することが好ましい。具体的には、乾燥装置２４０の入口が塗布ダイ２３８から５ｍ以内の位置になるように配設することが好ましく、２ｍ以内の位置になるように配設することがより好ましく、０．７ｍ以内の位置になるように配設することが最も好ましい。また、乾燥装置２４０の長さとしては、塗布後の塗布膜を乾燥装置２４０中に２秒以上置くことのできる長さにしておくことが望ましく、３秒以上がより望ましく、５秒以上が更に好ましい。
【０４０４】
同様の理由で、ウェブ２３４の走行速度は、ウェブ２３４が塗布ダイ２３８による塗布後３０秒以内に乾燥装置２４０に到達する速度であることが好ましく、塗布後２０秒以内に乾燥装置２４０に到達する速度であることがより好ましい。
【０４０５】
塗布液の塗布量および塗布膜厚さは、大きい程塗布膜内部での流動が起きやすいことよりムラが発生しやすいが、上記乾燥装置２４０を使用すれば、塗布量および塗布膜厚さが大きい場合でも十分な効果が得られる。塗布膜の厚さが０．００１ｍｍ〜０．０８ｍｍ（１μｍ〜８０μｍ）であれば、ムラなくかつ効率よく乾燥することができる。
【０４０６】
ウェブ２３４の走行速度が大きすぎると、同伴風によって塗布膜近傍の境界層が乱され、塗布膜に悪影響を及ぼす。したがって、ウェブ２３４の走行速度は１ｍ／分〜１００ｍ／分に設定することが好ましく、５ｍ／分〜８０ｍ／分に設定することがより好ましい。
【０４０７】
塗布膜のムラは、乾燥初期で特に発生しやすいので、乾燥装置２４０が塗布液中の溶媒の７０％以上を凝縮、回収し、残りの塗布液を後乾燥室２４６で乾燥させることが好ましい。塗布液中の溶媒の何％を凝縮、回収させるかは、塗布膜の乾燥ムラへの影響、生産効率、等を総合的に判断して決定すればよい。
【０４０８】
塗布液中の溶媒の蒸発、凝縮を促進させるため、塗布ウェブ２３４ａを加熱するか、凝縮板２４１、２４２を冷却するか、またはその両手段を採用することが好ましい。たとえば、乾燥装置２４０に冷却手段を配し、また、塗布ウェブ２３４ａを挟んで非塗布面側に加熱手段を配することもできる。
【０４０９】
いずれの場合も、塗布膜の乾燥速度を制御するために、凝縮板２４１、２４２は温度管理されていることが望ましい。凝縮板２４１、２４２は、温度コントロールできるようにし、冷却したい場合には、冷却するための設備を設置する必要がある。冷却には、冷媒等を使った水冷式の熱交換器方式のもの、風を使った空冷式、電気を用いた方式、たとえばペルチェ素子を使用した方式などを用いることができる。
【０４１０】
塗布ウェブ２３４ａを加熱したい場合には、反塗布膜側にヒータを配設して加熱することができる。また、昇温可能な搬送ロール（加熱ロール）を配設して加熱することもできる。その他、赤外線ヒータ、マイクロ波加熱手段などを用いて加熱してもよい。
【０４１１】
塗布ウェブ２３４ａ、凝縮板２４１、２４２の温度を決定する際、注意しなければならないのは、蒸発させた溶媒が凝縮板２４１、２４２以外の場所、たとえば、搬送ロールの表面等に結露しないようにしなければならないことである。このため、たとえば、凝縮板２４１、２４２以外の部分の温度を凝縮板２４１、２４２の温度よりも高くしておくことによりこの種の結露を回避することができる。
【０４１２】
塗布膜の表面と凝縮板２４１、２４２表面との距離（間隔）は、所望の塗布膜の乾燥速度を考慮した上で、適当な距離に調整する必要がある。距離を短くすると乾燥速度が上がる一方、設定した距離精度の影響を受けやすい。一方、距離を大きくすると乾燥速度が大幅に低下するのみならず、熱による自然対流が起きて乾燥ムラを引き起こす。
【０４１３】
塗布膜の表面と凝縮板２４１、２４２表面との距離は、式（１１）で示されるグラスホス数と式（１２）で示されるプラントル数を掛けた値で示されるレイリー数が５０００未満となる条件を満たす範囲で決定する必要があるが、０．１ｍｍ〜２００ｍｍの範囲で調整することが好ましく、０．５ｍｍ〜１００ｍｍの範囲で調整することがより好ましく、５ｍｍ〜１０ｍｍの範囲が最も好ましい。
【０４１４】
なお、乾燥装置２４０内には、塗布ウェブ２３４ａを挟んで凝縮板２４１、２４２の反対側に多数のガイドローラ２４８を設けても良いし、設けなくても良い。
【０４１５】
第１乾燥装置は、必ずしも図２０に示されるような直線状である必要はなく、たとえば、図２２ａ、２２ｂの塗布・乾燥ライン２５０、２５１に示されるような円弧状の形状を有する第１乾燥装置２５２、２５３であってもよい。また、大きなドラムを設け、それにドライヤを配設してもよい。なお、図２０と同一の箇所は同一の符号を付して説明は省略する。なお、図２２の塗布・乾燥ライン２５０、２５１では、円弧状の第１乾燥装置２５２、２５３を塗布ダイ２１４に近づけて溶媒の回収効率の向上を図っている。
【０４１６】
第２乾燥装置２１７としては、従来技術として使用されているローラ搬送ドライヤ方式またはエアフローティングドライヤ方式の乾燥装置が使用できる。いずれの方式の乾燥装置であっても、乾燥した空気を塗布膜の表面に供給して塗布膜を乾燥させる点では共通する。
【０４１７】
なお、第２乾燥装置を設けず、第１乾燥装置のみで塗布膜を乾燥させる方法も採り得る。図２３、図２４、図２５は、いずれも第１乾燥装置のみで塗布膜を乾燥させる構成の例である。なお、図２０と同一の箇所は同一の符号を付して説明は省略する。また、塗布。乾燥ラインの要部を図示している。
【０４１８】
図２３の塗布・乾燥ライン２６０では、第１乾燥装置２６１を複数のゾーン２６１ａ、２６１ｂ、２６１ｃ、２６１ｄ、２６１ｅに分割している。それぞれのゾーン２６１ａ〜２６１ｅにおいて凝縮板２６２、２６３、２６４、２６５、２６６と塗布膜との距離が階段的に変化する構成としてある。また、塗布ウェブ２１１ａを挟んで凝縮板２６２〜２６６の反対側に多数のガイドローラ２６７が設けてある。
【０４１９】
図２４の塗布・乾燥ライン２７０では、第１乾燥装置２７１を複数のゾーン２７１ａ〜２７１ｅに分割している。また、それぞれのゾーン２７１ａ〜２７１ｅにおいて凝縮板２７２〜２７６と塗布膜との距離が階段的に変化する構成としてある。ガイドローラは設けていない。
【０４２０】
図２５の塗布・乾燥ライン２８０では、第１乾燥装置２８１は複数のゾーンに分割されておらず、また、それぞれの凝縮板２８２〜２８６と塗布膜との距離は一定とした構成としてある。また、塗布ウェブ２１１ａを挟んで凝縮板２８２〜２８６の反対側に多数のガイドローラ２８７が設けてある。
〔塗布フィルムの硬化工程〕
本発明において、反射防止フィルム各層の硬化方法については、塗布組成物を塗布と同時、又は塗布後に光照射、電子線ビーム照射や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により形成することが好ましい。
【０４２１】
反射防止フィルムの各層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応又は重合反応は、酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
【０４２２】
好ましくは酸素濃度が５体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が０．５体積％以下、最も好ましくは０．１体積％以下である。
【０４２３】
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０４２４】
光照射の光源は、紫外線光域又は近赤外線光域のものであればいずれでもよく、紫外線光の光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長３５０〜４２０ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。
【０４２５】
また、近赤外光光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長７５０〜１４００ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。
【０４２６】
近赤外光光源を用いる場合、紫外線光源と組み合わせて用いてもよいし、又は塗布面側と反対の基材面側より光照射してもよい。これにより、塗膜層内の深さ方向での膜硬化が表面近傍と遅滞無く進行し均一な硬化状態の硬化膜が得られる。
【０４２７】
照射する紫外線の照射強度は、０．１〜１０００ｍＷ／ｃｍ2 程度が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２ が好ましい。また、光照射工程での塗布膜の温度分布は、均一なほど好ましく、±３°Ｃ以内が好ましく、更には±１．５°Ｃ以内に制御されることが好ましい。この範囲において、塗布膜の面内及び層内深さ方向での重合反応が均一に進行するので好ましい。
【０４２８】
上記のようにして作成した反射防止フィルムは、反射防止を必要とする物品、特に以下に述べる偏光板や各種の画像表示装置に用いることができる。
【０４２９】
[偏光板]
本発明の反射防止フィルムを偏光子の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、ウェブの反射防止層が形成される面とは反対側の面をアルカリによって鹸化処理することが必要である。アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の２つから選択することができる。
【０４３０】
（１）ウェブ上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、ウェブ裏面を鹸化処理する。
【０４３１】
（２）ウェブ上に反射防止層を形成する前又は後に、アルカリ液をウェブの反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗及び／又は中和することで、ウェブの裏面だけを鹸化処理する。
【０４３２】
汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で（１）が優れているが、反射防止膜面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、（２）が優れる。
【０４３３】
偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルム（以下、「ＰＶＡ」と記載する）が好ましく用いられる。ＰＶＡは通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、変性ＰＶＡも用いることができる。
【０４３４】
ＰＶＡを染色して偏光膜が得られる。染色を行う例としては、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液にＰＶＡフィルムを浸漬させる方法、ヨウ素又は染料溶液の塗布又は噴霧など任意の手段で行うことができる。ＰＶＡを延伸して偏光膜を製造する過程では、ＰＶＡを架橋させる添加物、たとえば、ホウ酸類を用いることが好ましい。
【０４３５】
偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることが更に好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることが更に好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。
【０４３６】
[画像表示装置]
本発明の反射防止フィルムは、偏光子の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
【０４３７】
また、透過型又は半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、たとえば、住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、更に視認性の高い表示装置を得ることができる。
【０４３８】
また、透過型、反射型、及び半透過型の液晶表示装置において液晶セルの全面に空気を介してアクリル板等の前面板を配する場合には、液晶セル表面側の偏光板だけでなく、前面板の内側及び／又は外側に粘着剤等を介して貼り付けることが、界面の反射を低減することができるため好ましい。また、λ／４板と組み合わせることにより、反射型又は半透過型のＬＣＤや、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として用いることができる。
【０４３９】
更に、ＰＥＴ、ＰＥＮ等の透明支持体上に本発明の反射防止層を形成して、ＰＤＡ、携帯電話の表面保護板、タッチパネル、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用できる。
【実施例】
【０４４０】
以下に、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０４４１】
（ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
【０４４２】
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）７４２．０質量部に、重量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７７質量部、メチルエチルケトン７２８．０質量部、シクロヘキサノン５０３．０質量部及び光重合開始剤（イルガキュア１８４、日本チバガイギー（株）製）５１．０質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液（ＨＣＬ−１）を調製した。
【０４４３】
（防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−２）の調製）
市販のジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０４、ＪＳＲ（株）製、固形分濃度約６１％、固形分中ＺｒＯ２含率約７０％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２８４質量部ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８６質量部ｇを混合し、更に、メチルイソブチルケトン６０質量部ｇ、メチルエチルケトン１７質量部ｇで希釈した。
【０４４４】
更に、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学（株）製）２８．５質量部ｇを混合攪拌した。
【０４４５】
更にこの溶液に平均粒径３．０μｍの分級強化架橋ＰＭＭＡ粒子（屈折率１．４９、ＭＸＳ−３００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した分散液を３０質量部ｇ加え、次いで、平均粒径１．５μｍのシリカ粒子（屈折率１．４６、シーホスタＫＥ−Ｐ１５０、日本触媒（株）製）の３０％メチルエチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を９５質量部ｇ加えて混合攪拌し、完成液とした。
【０４４６】
上記完成液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−２）を調製した。
【０４４７】
（防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−３）の調製）
紫外線硬化型樹脂であるＰＥＴ−３０（商品名、ペンタエリスリトールトリアクリレート、日本化薬（株）製、屈折率１．５１）を２６．６１２８．０質量部、同じく紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡ（商品名、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製、屈折率１．５１）を１．４１質量部、アクリル系ポリマーを２．９４質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４（商品名、チバガイギー（株）製）を１．３５質量部、第１の透光性微粒子としてのアクリル−スチレンビーズ（綜研化学（株）製、粒径３．５μｍ、屈折率１．５５）を１．５質量部、第２の透光性微粒子としてのスチレンビーズ（綜研化学（株）製、粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）を４．６５質量部、レベリング剤であるＲ−３０（商品名、大日本インキ化学工業（株）製）を０．０５質量部、下記フッ素系表面改質剤（化学式 １１、FP-1）を０．０５質量部、オルガノシラン化合物であるＫＢＭ−５１０３（商品名、信越化学工業（株）製）を６．２質量部、トルエンを３８．７質量部、及び、シクロヘキサノンを１６．６質量部を十分混合して塗布液として調整した。
【０４４８】
【化１１】
2006122889.tif 000013
この塗布液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−３）を調製した。
【０４４９】
（二酸化チタン微粒子分散液Ａの調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９Ｃ、石原産業（株）製、ＴｉＯ2 ：Ｃｏ3 Ｏ4 ：Ａｌ2 Ｏ3 ：ＺｒＯ2 ＝９０．５：３．０：４．０：０．５重量比）を使用した。
【０４５０】
この粒子２５６質量部に、下記分散剤（化学式１２）４２質量部、及びシクロヘキサノン７０２質量部を添加してダイノミルにより分散し、重量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液Ａを調製した。
【０４５１】
【化１２】
2006122889.tif 000014
（中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）の調製）
上記の二酸化チタン分散液Ａ５９．６質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）４０．７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７）２．１９質量部、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．８質量部、メチルエチルケトン２８０質量部及びシクロヘキサノン１０４９．０質量部を添加して攪拌した。
【０４５２】
充分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）を調製した。この塗布液の粘度は１．５ｍＰａ・秒、表面張力は２８ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は３．５ｍｌ／ｍ２とした。
【０４５３】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−１）の調製）
上記の二酸化チタン分散液Ａ４３０．７質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３６．６質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）３．０質量部、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０質量部、メチルエチルケトン５３５．０質量部、及びシクロヘキサノン４９５質量部を添加して攪拌した。
【０４５４】
孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液（ＨＬ−１）を調製した。この塗布液の粘度は１．６ｍＰａ・秒、表面張力は２８ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は３．５ｍｌ／ｍ２とした。
【０４５５】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−２）の調製）
上記の二酸化チタン分散液Ａ４３０．６質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３６．７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）３．０質量部、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０質量部、メチルエチルケトン２６７．０質量部、及びシクロヘキサノン７６１．７質量部を添加して攪拌した。
【０４５６】
孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液（ＨＬ−２）を調製した。この塗布液の粘度は２．０ｍＰａ・秒、表面張力は２８ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は３．５ｍｌ／ｍ２とした。
【０４５７】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−３）の調製）
上記の二酸化チタン分散液Ａ４３０．６質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３６．７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）３．０質量部、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０質量部、及びシクロヘキサノン１０２８．６質量部を添加して攪拌した。
【０４５８】
孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液（ＨＬ−３）を調製した。この塗布液の粘度は２．６ｍＰａ・秒、表面張力は２８ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は３．５ｍｌ／ｍ２とした。
【０４５９】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−４）の調製）
上記の二酸化チタン分散液Ａ４３０．６質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３６．７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）３．０質量部、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０質量部、及びメチルエチルケトン５０．０質量部を添加して攪拌した。
【０４６０】
孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液（ＨＬ−４）を調製した。この塗布液の粘度は２０．０ｍＰａ・秒、表面張力２８ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は３．５ｍｌ／ｍ２とした。
【０４６１】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−５）の調製）
上記の二酸化チタン分散液Ａ４３０．６質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３６．７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）３．０質量部、及び光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０量部を添加して攪拌した。
【０４６２】
孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液（ＨＬ−５）を調製した。この塗布液の粘度は２４．０ｍＰａ・秒、表面張力は２８ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は３．５ｍｌ／ｍ２とした。
【０４６３】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）の調製）
下記の共重合体（化学式１３）をメチルエチルケトンに２３．７質量％の濃度になるように溶解した溶液２０３．２質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）１．４質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）２．４質量部、メチルエチルケトン７６４．６質量部、及びシクロヘキサノン２８．４質量部を添加して攪拌した。
【０４６４】
孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を調製した。この塗布液の粘度は０．６１ｍＰａ・秒、表面張力は２４ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は３．５ｍｌ／ｍ２とした。
【０４６５】
【化１３】
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（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２）の調製）
上記の共重合体（化学式１３）をメチルエチルケトンに２３．７質量％の濃度になるように溶解した溶液４６８．８質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）３．３質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）５．６質量部、メチルエチルケトン４９５．９質量部、及びシクロヘキサノン２６．４質量部を添加して攪拌した。
【０４６６】
孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２）を調製した。この塗布液の粘度は１．０ｍＰａ・秒、表面張力は２４ｍＮ／ｍであり、透明支持体に塗布される塗布液の量は１．５ｍｌ／ｍ２とした。
【０４６７】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−３）の調製）
上記の共重合体（化学式１３）をメチルエチルケトンに２３．７質量％の濃度になるように溶解した溶液３５５．５質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）２．５質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）４．２質量部、メチルエチルケトン６１０．５質量部、及びシクロヘキサノン２７．３質量部を添加して攪拌した。
【０４６８】
孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−３）を調製した。この塗布液の粘度は０．７６ｍＰａ・秒、表面張力は２４ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は２．０ｍｌ／ｍ２とした。
【０４６９】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−４）の調製）
上記の共重合体（化学式１３）をメチルエチルケトンに２３．７質量％の濃度になるように溶解した溶液１４２．２質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）１．０質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）１．７質量部、メチルエチルケトン８２６．２質量部、及びシクロヘキサノン２８．９質量部を添加して攪拌した。
【０４７０】
孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−４）を調製した。この塗布液の粘度は０．４９ｍＰａ・秒、表面張力は２４ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は５．０ｍｌ／ｍ２とした。
【０４７１】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−５）の調製）
上記の共重合体（化学式１３）をメチルエチルケトンに２３．７質量％の濃度になるように溶解した溶液１１８．４質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）０．８質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）１．４質量部、メチルエチルケトン８５０．３質量部、及びシクロヘキサノン２９．１質量部を添加して攪拌した。
【０４７２】
孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−５）を調製した。この塗布液の粘度は０．４６ｍＰａ・秒、表面張力は２４ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は６．０ｍｌ／ｍ２とした。
【０４７３】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６）の調製）
上記の共重合体（化学式１３）をメチルエチルケトンに２３．７質量％の濃度になるように溶解した溶液７１．１質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）０．５質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）０．８質量部、メチルエチルケトン８９８．１質量部、及びシクロヘキサノン２９．５質量部を添加して攪拌した。
【０４７４】
孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−５）を調製した。この塗布液の粘度は０．４３ｍＰａ・秒、表面張力は２４ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は１０．０ｍｌ／ｍ２とした。
【０４７５】
（ゾル液ａの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器内において、メチルエチルケトン１１９部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３、信越化学工業（株）製）１０１質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０°Ｃで４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。
【０４７６】
ゾル液ａの質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０４７７】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−７）の調製）
ポリシロキサン及び水酸基含有フッ素ポリマーを含有するＪＮ−７２２８Ａ（屈折率１．４２、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１４．９質量部ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）０．６１質量部ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）０．７９質量部ｇ、ゾル液ａ０．４１質量部ｇ及びメチルエチルケトン３．１質量部ｇ、シクロヘキサノン０．６質量部ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−７）を調製した。
【０４７８】
この塗布液の粘度は０．６１ｍＰａ・秒、表面張力は２４ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は２．８ｍｌ／ｍ２とした。
【０４７９】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−８）の調製）
既述のＪＮ−７２２８Ａに比して塗膜強度を高めたＪＴＡ１１３（商品名、屈折率１．４４、固形分濃度６％、ＭＥＫ溶液、ＪＳＲ（株）製）１３．１質量部ｇ、コロイダルシリカ分散液ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（商品名、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３１質量部ｇ、前記ゾル液ａ０．５９質量部ｇ、及びメチルエチルケトン５．１質量部ｇ、シクロヘキサノン０．６質量部ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−８）を調製した。
【０４８０】
この塗布液の粘度は０．６６ｍＰａ・秒ｍ、表面張力は２３．７ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は２．８ｍｌ／ｍ２とした。
【０４８１】
（分散液Ａ−１の調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａ−１のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０４８２】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−９）の調製）
メチルエチルケトン１００質量部に対して、特開平２００４−４５４６２号公報に記載の含フッ素共重合体Ｐ−３（重量平均分子量約５００００）４４．０質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）６．０質量部、末端メタクリレート基含有シリコーンＲＭＳ−０３３（Ｇｅｌｅｓｔ社製）３．０質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）３．０質量部を加えて溶解した。その後に分散液（Ａ−１）を１９５質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として３９．０質量部）、ゾル液ａ１７．２質量部（固形分として５．０質量部）を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの比率が１０対９０になるようにシクロヘキサノン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率層用塗布液（LL-9）を調製した。
【０４８３】
この塗布液の粘度は０．６６ｍＰａ・秒ｍ、表面張力は２３．７ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は２．８ｍｌ／ｍ２  とした。
【０４８４】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１０）の調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３．３質量部、末端メタクリレート基含有シリコーンＲＭＳ−０３３（Ｇｅｌｅｓｔ社製）０．７質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２質量部を加えて溶解した。その後に分散液（Ａ−１）を３６．４質量部、ゾル液ａ６．２質量部を添加した。メチルエチルケトンを２９０．６質量部、シクロヘキサノンを９．０質量部添加し、低屈折率層用塗布液（LL-１０）を調製した。
【０４８５】
この塗布液の粘度は０．６６ｍＰａ・秒ｍ、表面張力は２３．７ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は２．８ｍｌ／ｍ２とした。
【０４８６】
（ダイコーターの構成）
図１０に示されるスロットダイ１３は、上流側リップランド長ＩＵＰが０．５ｍｍ、下流側リップランド長ＩＬＯが５０μｍで、スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。
【０４８７】
上流側リップランド１８ａとウェブＷの隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧＬを５０μｍに設定した。
【０４８８】
また、減圧チャンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブＷとの隙間ＧＳ、及びバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧＢはともに２００μｍとした。
【０４８９】
（実施例１）
（反射防止フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）を前記ダイコーターを用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。ＨＣＬ−１の塗布では、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧＬ８０μｍに変更し、減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。
【０４９０】
その後８０°Ｃで乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２ の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層（２）を形成した。
【０４９１】
上記のハードコート層（２）の上に、中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）を前記ダイコーターを用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。
【０４９２】
その後１００°Ｃで３０秒間乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ２ の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．６３、膜厚６４ｎｍ）を形成した。
【０４９３】
中屈折率層（３）の上に、高屈折率層用塗布液（ＨＬ−１）を前記ダイコーターを用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。
【０４９４】
その後１００°Ｃで３０秒間乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ/ ｃｍ２ 、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ２ の紫外線を照射し、高屈折率層（屈折率１．９０、膜厚１０３ｎｍ）を形成した。
【０４９５】
高屈折率層の上に、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を前記ダイコーターを用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。その後９０°Ｃで３０秒間乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ/ ｃｍ２ 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２ の紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率１．４５ 、膜厚８３ ｎｍ）を形成した。このようにして、反射防止フィルムを作製した。      
【０４９６】
上記製造工程において、塗布、乾燥工程は０．５μｍ以上の粒子として３０個／（立方メートル）以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をウェブＷの表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、２００Ｖ以下であった。上記の塗布は１層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶ又は熱）硬化−巻き取りの各工程で行った。
【０４９７】
作成された反射防止フィルムを、２．０規定、５５°ＣのＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣーＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。
【０４９８】
このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０４９９】
（実施例２）
前記ダイコーターを使用する代わりにグラビアコーターを使用し、その他の条件は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作成した。塗布は可能であったが、ウェブＷ（ベース）の長手方向に等間隔で発生するスジ及び幅方向に発生する段状のムラが発生した。実施例１と同様の手順で表示装置を作成したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えないレベルであった。
【０５００】
（実施例３〜６）
コーター１０の下流側リップランド長ＩＬＯを１０μｍ、３０μｍ、１００μｍ、及び１２０μｍにした他は、実施例１と同様の構成で塗布を行い、反射防止フィルムを作成した。
【０５０１】
結果を表１に示す。下流側リップランド長ＩＬＯが３０μｍから１００μｍの範囲で面状故障の発生しない反射防止フィルムが得られている。
【０５０２】
実施例３では、ベース長手方向にスジ状のムラが発生した。
【０５０３】
実施例６では実施例１と同様のスピードではビード１４ａの形成ができず、塗布不可能であった。塗布速度を半分に落とすことにより塗布は可能となったが、ベース長手方向にスジ状のムラが発生した。
【０５０４】
実施例４及び５で作成された反射防止フィルムを使用し、実施例１と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５０５】
一方、実施例３及び６で得られた反射防止フィルムを使用し、実施例１と同様の手順で表示装置を作成したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えないレベルであった。
【０５０６】
（実施例７〜１０）
コーター１０のオーバーバイト長さＬＯを０μｍ、３０μｍ、１２０μｍ、及び１５０μｍとした他は、実施例１と同様の構成で塗布を行い、反射防止フィルムを作成した。
【０５０７】
結果を表１に示す。オーバーバイト長さがＬＯ３０μｍから１２０μｍまでの範囲で面状故障の発生しない反射防止フィルムが得られている
実施例７では塗布は可能であったが、面状を見るとベース幅方向に段状ムラが認められている。
【０５０８】
実施例１０では実施例１と同様のスピードではビード１４ａの形成ができず、塗布不可能であった。塗布速度を半分に落とすことにより塗布は可能となったが、ベース長手方向にスジ状のムラが発生した。
【０５０９】
実施例８及び９で作成された反射防止フィルムを使用し、実施例１と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５１０】
一方、実施例７及び１０で得られた反射防止フィルムを使用し、実施例１と同様の手順で表示装置を作成したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えないレベルであった。
【０５１１】
（実施例１１〜１５）
低屈折率層用塗布液として、ＬＬ−１の代わりにＬＬ−２、ＬＬ−３、ＬＬ−４、ＬＬ−５、及びＬＬ−６を使用する他は実施例１と同様の条件で塗布を行い、反射防止フィルムを作成した。
【０５１２】
結果を表２に示す。ウェブＷに塗布される塗布液の量が２ｍｌ／ｍ２ 以上では塗布液の塗布が可能であるが、１．５ｍｌ／ｍ２では全面均一に塗布することができず、反射防止フィルムを作成することができなかった。
【０５１３】
また、ウェブＷに塗布される塗布液の量が６ｍｌ／ｍ２ 及び１０ｍｌ／ｍ２ の時は塗布は可能であるが、塗布液の量が多いため乾燥が間に合わず、風に起因する縦スジ状のムラが全面に発生した。
【０５１４】
実施例１２及び１３で作成された反射防止フィルムを使用し、実施例１と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５１５】
一方、実施例１４及び実施例１５で得られた反射防止フィルムを使用し、実施例１と同様の手順で表示装置を作成したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えないレベルであった。
【０５１６】
（実施例１６〜１９）
高屈折率層用塗布液をＨＬ−１の代わりにＨＬ−２、ＨＬ−３、ＨＬ−４、及びＨＬ−５を使用する他は実施例１と同様の条件で塗布を行い、反射防止フィルムを作成した。
【０５１７】
結果を表３に示す。塗布液の粘度が２ｍＰａ・秒までは、２５ｍ／分で塗布可能である。
【０５１８】
２．６ｍＰａ・秒の粘度を示すＨＬ−３は、２５ｍ／分では、全面均一に塗布することができなかったが、２０ｍ／分では、良好な反射防止フィルムを作成することができた。
【０５１９】
２０ｍＰａ・秒の粘度を示すＨＬ−４は、２５ｍ／分では、全面均一に塗布することができなかったが、３ｍ／分では、良好な反射防止フィルムを作成することができた。
【０５２０】
２４ｍＰａ・秒の粘度を示すＨＬ−５は、塗布速度を下げても全面に塗布することができなかった。
【０５２１】
実施例１６で作成された反射防止フィルム及びＨＬ−３を２０ｍ／分で塗布して作成された反射防止フィルムを使用し、実施例１と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５２２】
（実施例２０）
（反射防止フィルムの作製）
（１）防眩性ハードコート層の塗布
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣーＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−２）を前記ダイコーターを用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。ＨＣＬ−２の塗布では、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧＬを８０μｍに変更し、減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。
【０５２３】
６０°Ｃで１５０秒乾燥の後、更に窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２ の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２．９μｍのハードコート層（２）を形成し、巻き取った。
【０５２４】
（２）低屈折率層の塗布
ハードコート層（２）を塗布したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液ＬＬ−７を前記ダイコーターを用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。
【０５２５】
１２０°Ｃで１５０秒乾燥の後、更に１４０°Ｃで８分乾燥させてから、窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２ の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層（５）を形成し、巻き取った。
【０５２６】
上記の工程において、塗布、乾燥工程は０．５μｍ以上の粒子として３０個／（立方メートル）以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、２００Ｖ以下であった。上記の塗布は１層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶ又は熱）硬化−巻き取りの各工程で行った。
【０５２７】
作成された反射防止フィルムを、２．０規定、５５°ＣのＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬して、フィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。
【０５２８】
このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５２９】
（実施例２１）
（反射防止フィルムの作製）
（１）防眩性ハードコート層の塗布
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ：商品名、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、防眩性ハードコート層用塗布液ＨＣＬ−３を、乾燥膜厚が７μｍになるように前記ダイコーターを用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。
【０５３０】
ＨＣＬ−３の塗布では、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧＬを８０μｍに変更し、減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。１１０°Ｃで１０秒間、５０°Ｃで２０秒間、溶剤乾燥の後、更に窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、積算光量が５５ｍＪになるようにＵＶ照射して、光硬化させ、防眩層を形成し、巻き取った。
【０５３１】
（２）低屈折率層の塗布
前記防眩層を塗布したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液（ＬＬ−８）を乾燥膜厚が１００ｎｍになるように前記ダイコーターを用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。
【０５３２】
１２０°Ｃで７０秒乾燥の後、更に１１０°Ｃ°Ｃで１０分乾燥し、熱硬化させてから、窒素パージ下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）で、積算光量が１２０ｍＪになるようにＵＶ照射して、光硬化させ、低屈折率層（５）が塗布された反射防止フィルムを形成し、巻き取った。
【０５３３】
上記工程において、塗布、乾燥工程は０．５μｍ以上の粒子として３０個／（立方メートル）以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、２００Ｖ以下であった。上記の塗布は１層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶ又は熱）硬化−巻き取りの各工程で行った。
【０５３４】
作成された反射防止フィルムを、２．０規定、５５°ＣのＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５３５】
（実施例２２）
（反射防止フィルムの作製）
（１）防眩性ハードコート層の塗布
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ：商品名、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、防眩性ハードコート層用塗布液ＨＣＬ−３を、乾燥膜厚が７μｍになるように前記ダイコーターを用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。 
【０５３６】
ＨＣＬ−３の塗布では、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧＬを８０μｍに変更し、減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。１１０°Ｃで１０秒間、５０°Ｃで２０秒間、溶剤乾燥の後、更に窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、積算光量が５５ｍＪになるようにＵＶ照射して、光硬化させ、防眩層を形成し、巻き取った。
【０５３７】
（２）低屈折率層の塗布
前記防眩層を塗布したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−９）を前記ダイコーターを用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．８ｋＰａとした。その後９０°Ｃで３０秒間乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ/ ｃｍ２ 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２ の紫外線を照射し、低屈折率層（膜厚９５ｎｍ）を形成した。このようにして、反射防止フィルムを作製した。
【０５３８】
上記工程において、塗布、乾燥工程は０．５μｍ以上の粒子として３０個／（立方メートル）以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、２００Ｖ以下であった。上記の塗布は１層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶ又は熱）硬化−巻き取りの各工程で行った。
【０５３９】
作成された反射防止フィルムを、２．０規定、５５°ＣのＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５４０】
（実施例２３）
低屈折率層用塗布液として、ＬＬ−９の代わりにＬＬ−１０を使用する他は実施例２２と同様の条件で塗布を行い、反射防止フィルムを作成した。  
該反射防止フィルムを使用して実施例２２と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５４１】
（比較例）
物理蒸着法により、実施例１のハードコート上に順次、酸化チタン（屈折率：２．３９）２５ｎｍと酸化ケイ素（屈折率１．４７）２５ｎｍの２層からなる実質上中屈折率層、酸化チタン４６ｎｍからなる高屈折率層、酸化ケイ素９７ｎｍからなる低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作成したところ、反射光が赤紫色に強く着色していた。
【０５４２】
また、得られた反射防止フィルムを使用し、実施例１と同様の手順で表示装置を作成したところ、画面が赤紫色に強く着色しておリ、表示品位が劣っていた。
【０５４３】
（実施例１０１）
（ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）の調整）
実施例１のＨＣＬ−１と同じものを調製して用いた。
【０５４４】
（防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−２）の調製）
紫外線硬化型樹脂であるＰＥＴＡ（商品名、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物、日本化薬（株）製）を５０．０質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）を２．０質量部、第１の透光性微粒子としての架橋アクリル−スチレン粒子（綜研化学（株）製、平均粒径３．５μｍ、屈折率１．５５、３０％トルエン分散液）を１３．３質量部、第２の透光性微粒子としての架橋ポリスチレン粒子（綜研化学（株）製、粒径３．５μｍ、屈折率１．６０、３０％トルエン分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用）を１．７質量部、下記のフッ素系表面改質剤（化学式１４）であるＦＰ−１３２を０．７５質量部、オルガノシラン化合物であるＫＢＭ−５１０３（商品名、信越化学工業（株）製）を１０．０質量部、及びトルエン３８．５質量部を十分混合して塗布液として調整した。この塗布液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−２）を調製した。
【０５４５】
【化１４】
2006122889.tif 000016
（二酸化チタン微粒子分散液Ａの調整）
二酸化チタン微粒子分散液Ａは実施例１の二酸化チタン微粒子分散液Ａと全く同様にして調製した。
【０５４６】
（中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）の調製）
実施例１のＭＬ−１と全く同様にしてＭＬ−１を調整した。
【０５４７】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−１）の調製）
実施例１のＨＬ−１と全く同様にしてＨＬ−１を調整した。
【０５４８】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）の調製）
実施例１のＬＬ−１と全く同様にしてＬＬ−１を調整した。
【０５４９】
（ゾル液ａの調製）
実施例１のゾル液ａと全く同様にしてゾル液ａを調整した。
【０５５０】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２）の調製）
既述のＪＮ−７２２８Ａに比して塗膜強度を高めたＪＴＡ１１３（商品名、屈折率１．４４、固形分濃度６％、ＭＥＫ溶液、ＪＳＲ（株）製）１３．１ｇ、コロイダルシリカ分散液ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（商品名、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３１ｇ、前記ゾル液ａ０．５９ｇ、及びメチルエチルケトン５．１ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２）を調製した。
【０５５１】
（ダイコータの構成）
図１０に示したスロットダイ１３は、上流側リップランド長ＩUPが０．５ｍｍ、下流側リップランド長ＩLOが５０μｍで、スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランド１８ａとウェブ１２の隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２の隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２との隙間ＧLを５０μｍに設定した。また、図１１に示した減圧チャンバ４０のサイドプレート４０ｂとウェブＷとの隙間ＧS及びバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧBはともに２００μｍとした。
【０５５２】
（反射防止フィルムの作製）
超音波除塵器で、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の塗布側表面を除電処理した上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）を前記ダイコータを用いて３０ｍ／ｍｉｎの塗布速度で塗布した。減圧チャンバ４０の減圧度は０．８ｋＰａとした。ＨＬＣ−１（ハードコート層用塗布液）の塗布においては、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧLを８０μｍに変更して塗布を行った。塗布直後に図２０（ａ）に示した第１乾燥装置２１５を使用して初期乾燥を行った。第１乾燥装置２１５の全長は５ｍとした。第１乾燥装置２１５中の凝縮板２２１、２２２は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第１乾燥装置２１５で初期乾燥された塗布ウェブ２１１ａは、第２乾燥装置２１７を用いて８０℃で乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。上記のハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）を前記ダイコータを用いて３０ｍ／ｍｉｎの塗布速度で塗布した。減圧チャンバの減圧度は０．８ｋＰａとした。
【０５５３】
中屈折率層用塗布液を塗布した直後に図２０（ａ）に示した第１乾燥装置２１５を使用して初期乾燥を行った。第１乾燥装置２１５中の凝縮板２２１、２２２は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第１乾燥装置２１５で初期乾燥された塗布ウェブ２１１ａは、その後第２乾燥装置２１７を用いて１００℃で３０秒間乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．６３、膜厚６４ｎｍ）を形成した。
【０５５４】
中屈折率層の上に、高屈折率層用塗布液（ＨＬ−１）を前記ダイコータを用いて３０ｍ／ｍｉｎの塗布速度で塗布した。減圧チャンバの減圧度は０．８ｋＰａとした。塗布直後に図２０（ａ）に示した第１乾燥装置２１５を使用して初期乾燥を行った。第１乾燥装置２１５中の凝縮板２２１、２２２は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第１乾燥装置２１５で初期乾燥された塗布ウェブ２１１ａは、その後第２乾燥装置２１７を用いて１００℃で30秒間乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ/ｃｍ２、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、高屈折率層（屈折率１．９０、膜厚１０３ｎｍ）を形成した。
【０５５５】
高屈折率層の上に、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を前記ダイコータを用いて３０ｍ／ｍｉｎで塗布した。減圧チャンバの減圧度は０．８ｋＰａとした。塗布直後に図２０に示した第１乾燥装置２１５を使用して初期乾燥を行った。第１乾燥装置２１５中の凝縮板２２１、２２２は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第１乾燥装置２１５で初期乾燥された塗布ウェブ２１１ａは、その後第２乾燥装置２１７を用いて９０℃で３０秒間乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラ
フィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ/ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率１．４５、膜厚８３ｎｍ）を形成した。このようにして、図１に示した反射防止フィルム１０を作製した。
【０５５６】
上記工程において、塗布、乾燥工程は０．５μｍ以上の粒子として３０個／（立方メートル）以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をウェブ表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、２００Ｖ以下であった。上記の塗布は１層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶ又は熱）硬化−巻き取りの各工程で行った。
【０５５７】
この反射防止フィルムは塗布工程が起因で発生する故障が全く発生していない。更に、塗布直後の乾燥速度は２００ｎｍ以下の乾燥膜厚を持つ各層とも０．３[ｇ／(ｍ２・ｓ)]以上であったが、乾燥工程に起因する膜厚ムラが視認されないため、色味の均一性が非常に高い反射防止フィルムであった。上記乾燥速度は第１乾燥装置２１５内の数点における塗布膜を採取して測定した。
【０５５８】
作製された反射防止フィルム１０を、２．０規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥ
Ｆをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５５９】
（実施例１０２）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ：商品名、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、防眩性ハードコート層用塗布液ＨＣＬ−２を、乾燥膜厚が７μｍになるように前記ダイコータ（図８及び図９参照）を用いて３０ｍ／分の塗布速度で塗布した。
【０５６０】
ＨＣＬ−２の塗布では、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧLを８０μｍに変更し、減圧チャンバの減圧度は０．８ｋＰａとした。塗布直後に図２０（ａ）に示した第１乾燥装置２１５を使用して初期乾燥を行った。第１乾燥装置２１５の全長は５ｍとした。第１乾燥装置２１５中の凝縮板２２１、２２２は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第１乾燥装置２１５で初期乾燥された塗布ウェブ２１１ａは、その後第２乾燥装置２１７を用いて１１０℃で１０秒間、５０℃で２０秒間乾燥の後、更に窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、積算光量が５５ｍＪになるようにＵＶ照射して、光硬化させ、防眩層を形成し、巻き取った。
【０５６１】
前記防眩層を塗布したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液（ＬＬ−８）を乾燥膜厚が１００ｎｍになるように前記ダイコータを用いて３０ｍ／分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバの減圧度は０．８ｋＰａとした。塗布直後に図２０に示した第１乾燥装置２１５を使用して初期乾燥を行った。第１乾燥装置２１５の全長は５ｍとした。第１乾燥装置２１５中の凝縮板２２１、２２２は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第１乾燥装置２１５で初期乾燥された塗布ウェブ２１１ａは、その後第２乾燥装置２１７を用いて１２０℃で７０
秒乾燥の後、更に１１０℃で１０分乾燥し、熱硬化させてから、窒素パージ下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）で、積算光量が１２０ｍＪになるようにＵＶ照射して、光硬化させ、低屈折率層が塗布された反射防止フィルム３０（図３参照）を形成し、巻き取った。
【０５６２】
上記工程において、塗布、乾燥工程は０．５μｍ以上の粒子として３０個／（立方メートル）以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、２００Ｖ以下であった。上記の塗布は１層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶ又は熱）硬化−巻き取りの各工程で行った。
【０５６３】
この反射防止フィルム３０は塗布工程が起因で発生する故障が全く発生していない。更に、塗布直後の乾燥速度は２００ｎｍ以下の乾燥膜厚を持つ各層とも０．３[ｇ／（ｍ２・ｓｅｃ）]以上であったが、乾燥工程に起因する膜厚ムラが視認されないため、色味の均一性が非常に高い反射防止フィルム３０であった。
【０５６４】
作製された反射防止フィルム３０を、２．０規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥ
Ｆをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５６５】
（実施例１０３）
各層を塗布する際に塗布直後に設置する乾燥工程を図２０の塗布・乾燥ライン２１０に示したものから図１７に示した乾燥装置１６０変更して初期乾燥を行う以外は実施例１０２と同様にして塗布を行い、反射防止フィルム（図３参照）３０を作製した。図１７に示された乾燥装置１６０は、整風板１９０の開口率２５％、塗膜面と整風板間距離Ｃは１０ｍｍ、各乾燥ゾーン１６７〜１７３の排気風速は０．１ｍ／秒に設定した。乾燥装置１６０の全長は５ｍとした。この反射防止フィルム３０は塗布工程が起因で発生する故障が全く発生していなかった。更に、塗布直後の乾燥速度は２００ｎｍ以下の乾燥膜厚を持つ各層とも０．３[ｇ／（ｍ２・ｓｅｃ）]以上であったが、乾燥工程に起因する膜厚ムラが視認されないため、色味の均一性が非常に高い反射防止フィルムであった。この反射防止フィルムを用いて実施例１０２と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５６６】
（実施例１０４）
各層を塗布する際に塗布直後に設置する乾燥工程を図２０に示した塗布・乾燥ライン２１０から図１４に示した乾燥装置に変更して初期乾燥を行う以外は実施例１０２と同様にして塗布を行い、反射防止フィルム３０を作製した。乾燥工程に於いては、整流板１１２を過ぎた後の乾燥ゾーン１１３の金網から塗布室給気口（５ｍｍ×１６００ｍｍ）からの風（塗布面が受ける相対風速：搬送方向に０．０５ｍ／秒；２５℃、５０％ＲＨ）を導入した。塗布室給気口からの風は、塗布室排気口から排気されると共に、多孔板１１５及び金網１１６を介して排気口１１７から排気される。
【０５６７】
この反射防止フィルム３０は塗布工程が起因で発生する故障が全く発生していなかった。更に、塗布直後の乾燥速度は２００ｎｍ以下の乾燥膜厚を持つ各層とも０．３[ｇ／（ｍ２・ｓｅｃ）]以上であったが、乾燥工程に起因する膜厚ムラが視認されないため、色味の均一性が非常に高い反射防止フィルムであった。この反射防止フィルムを用いて実施例１０２と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５６８】
［比較例１０１］
各層を塗布する際に塗布直後に設置する乾燥工程として、非塗布面側をロールで支持し、塗布面側にエア・ノズルから風を吹いて乾燥させる熱風乾燥方法を採用する以外は実施例１０２と同様にして塗布を行い、反射防止フィルムを作製したところ、塗布直後から風が当たるため塗布面が乱れ、膜厚ムラが全面に強く発生した。塗布直後の乾燥速度は各層とも０．３[ｇ／（ｍ２・ｓｅｃ）]以上であった。また、得られた反射防止フィルムを実施例１０２と同様の手順で表示装置を作成したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。
【０５６９】
［比較例１０２］
各層を塗布する際に塗布直後に設置する乾燥工程を、各層の蒸発速度が０．１５[ｇ／（ｍ２・ｓｅｃ）]になるように、凝縮板を走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配する以外は実施例１０２と同様にして塗布を行い、反射防止フィルムを作製した。
【０５７０】
本実験（比較例１０２）では各層の蒸発速度は０．１５[ｇ／（ｍ２・ｓｅｃ）]であり、０．３[ｇ／（ｍ２・ｓｅｃ）]を下回っているため、十分に乾燥しきらずに乾燥装置を出てしまい、その後急激に乾燥が進行して膜厚ムラが全面に発生した。この反射防止フィルムを使用して実施例１０２と同様の手順で表示装置を作成すると、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。
【０５７１】
［比較例１０３］
各層を塗布する際に塗布直後に設置する乾燥工程の全長を０．５ｍとする以外は実施例１０２と同様にして塗布を行い、反射防止フィルムを作製した。比較例１０３では乾燥工程の全長が短いため、十分に乾燥しきらずに乾燥装置を出てしまい、その後急激に乾燥が進行して膜厚ムラが全面に発生した。この反射防止フィルムを使用して実施例１０２と同様の手順で表示装置を作製すると、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。
【０５７２】
［比較例１０４］
前記ダイコータ（図９及び図１０参照）を使用する代わりにグラビアコータを使用し、その他の条件は実施例１０２と同様にして反射防止フィルムを作製した。塗布は可能であったが、塗布に起因する膜厚ムラが発生した。実施例１０２と同様の手順で表示装置を作製したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えない。
【０５７３】
下流側リップランド長ＩLOを１０μｍ（比較例１０５）、３０μｍ（実施例１０５）、１００μｍ（実施例１０６）、１２０μｍ（比較例１０６）にした他は実施例１０２と同様に塗布を行い、反射防止フィルムを作製した。下流側リップランド長ＩLOが３０μｍから１００μｍの範囲で面状故障の発生しない反射防止フィルムが得られることが分かった。比較例１０５ではベース長手方向に塗布に起因する膜厚ムラが発生し、比較例１０６では実施例１０２と同様のスピードでは塗布ビード１４ａの形成ができず、塗布不可能であった。実施例１０５及び実施例１０６で作製された反射防止フィルムを実施例１０１と同様の手順で表示装置を作製したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０５７４】
一方、比較例１０５及び比較例１０６で得られた反射防止フィルムを実施例１０２と同様の手順で表示装置を作製すると、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。
【０５７５】
［比較例１０７、実施例１０７、実施例１０８、比較例１０８］
ダイコータのオーバーバイト長さＬＯを０μｍ（比較例１０７）、３０μｍ（実施例１０７）、１２０μｍ（実施例１０８）、１５０μｍ（比較例１０８）とした他は、実施例１０２と同様に塗布を行い、反射防止フィルムを作製した。オーバーバイト長さが３０μｍから１２０μｍまでの範囲で面状故障の発生しない反射防止フィルムが得られた。比較例１０７では塗布は可能であったが、面状を見ると塗布に起因する膜厚ムラが認められた。
【０５７６】
また、比較例１０８では実施例１０２と同様のスピードでは塗布ビード１４ａの形成ができず、塗布不可能であった。実施例１０７及び実施例１０８で作製された反射防止フィルムを実施例１０２と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。一方、比較例１０７及び比較例１０８で得られた反射防止フィルムを実施例１０２と同様の手順で表示装置を作製すると、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。
【図面の簡単な説明】
【０５７７】
【図１】本発明に係る反射防止フィルムの基本的な層構成を示す断面模式図
【図２】反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図
【図３】反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図
【図４】反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図
【図５】反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図
【図６】反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図
【図７】反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図
【図８】各層の塗布を連続的に行う装置の構成例を示す説明図
【図９】スロットダイを用いたコーターの断面図
【図１０】スロットダイの要部拡大断面図
【図１１】スロットダイ及びその周辺を示す斜視図
【図１２】減圧チャンバーとウェブとの位置関係を示す断面図
【図１３】減圧チャンバーとウェブとの位置関係を示す断面図
【図１４】本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。
【図１５】本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。
【図１６】図１５の平面図である。
【図１７】本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。
【図１８】図１７の平面図である。
【図１９】図１７の断面図である。
【図２０】本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。
【図２１】本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。
【図２２】本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。
【図２３】本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の要部概略図である。
【図２４】本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の要部概略図である。
【図２５】本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の要部概略図である。
【図２６】実施例３乃至６、及び７乃至１０の結果を示す表である。
【図２７】実施例１、及び１１乃至１５の結果を示す表である。
【図２８】実施例１、及び１６乃至１９の結果を示す表である。
【符号の説明】
【０５７８】
１０…コーター
１１…バックアップローラ
１３…スロットダイ
１４…塗布液
１４ａ…ビード
１４ｂ…塗膜
１５…ポケット
１６…スロット
１７…先端リップ
１８…ランド
１８ａ…上流側リップランド
１８ｂ…下流側リップランド
Ｗ…ウェブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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