(57)【要約】【課題】  本発明は、低誘電率膜の疎水的性質を維持し、歩留まりを向上させることができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】  半導体基板の上方に、炭素を含む層間絶縁膜５０を形成するステップと、表面付近における炭素濃度が低下した層間絶縁膜５０上に保護膜６０を形成するステップと、保護膜６０の表面から層間絶縁膜５０の底面まで貫通するように、層間絶縁膜５０及び保護膜６０のうち所望の領域を選択的に除去することにより、溝８０、１００を形成するステップと、層間絶縁膜５０と保護膜６０との界面に、炭素を供給するステップと、溝８０、１００に導電性材料を埋め込むことにより、導電層を形成するステップとを備えることを特徴とする。【選択図】  図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の上方に、炭素を含む層間絶縁膜を形成するステップと、
表面付近における炭素濃度が低下した前記層間絶縁膜上に保護膜を形成するステップと、
前記保護膜の表面から前記層間絶縁膜の底面まで貫通するように、前記層間絶縁膜及び前記保護膜のうち所望の領域を選択的に除去することにより、溝を形成するステップと、
前記層間絶縁膜と前記保護膜との界面に、炭素を供給するステップと、
前記溝に導電性材料を埋め込むことにより、導電層を形成するステップと
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
半導体基板の上方に、炭素を含む層間絶縁膜を形成するステップと、
表面付近における炭素濃度が低下した前記層間絶縁膜上に保護膜を形成するステップと、
前記保護膜の表面から前記層間絶縁膜の底面まで貫通するように、前記層間絶縁膜及び前記保護膜のうち所望の領域を選択的に除去することにより、溝を形成するステップと、
前記溝に導電性材料を埋め込むことにより、導電層を形成するステップと、
前記保護膜を介して、前記層間絶縁膜と前記保護膜との界面に、炭素を供給するステップと
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記導電層を形成した後、前記保護膜及び前記導電層の上面に、前記導電層から導電性材料が拡散することを防止するための拡散防止膜を形成するステップをさらに備え、
前記炭素を供給するステップでは、前記拡散防止膜及び前記保護膜を介して、前記層間絶縁膜と前記保護膜の界面に、炭素を供給することを特徴とする請求項２記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
半導体基板の上方に、炭素を含む層間絶縁膜を形成するステップと、
表面付近における炭素濃度が低下した前記層間絶縁膜上に保護膜を形成するステップと、
前記保護膜の表面から前記層間絶縁膜の底面まで貫通するように、前記層間絶縁膜及び前記保護膜のうち所望の領域を選択的に除去することにより、溝を形成するステップと、
前記溝に導電性材料を埋め込むことにより、導電層を形成する際、露出する前記保護膜を除去するステップと、
前記層間絶縁膜の表面に、炭素を供給するステップと
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項５】
半導体基板と、
前記半導体基板の上方に形成された、炭素を含む層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に形成された絶縁膜と、
少なくとも前記層間絶縁膜の所定領域に形成された溝の内部に、所定の導電性材料を埋め込むことにより形成された導電層とを備え、
前記層間絶縁膜は、前記絶縁膜との界面から、前記層間絶縁膜の膜厚の約１０％の距離の位置における炭素濃度が、前記絶縁膜との界面付近を除く位置における炭素濃度の約７５％以上になるように形成されている
ことを特徴とする半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、多層配線を形成する際には、配線遅延を低減するため、層間絶縁膜として、シリコン酸化（ＳｉＯ２）膜より比誘電率が低い低誘電率膜を適用することが提案されている。この低誘電率膜としては、例えばシリコン酸化（ＳｉＯ２）膜に数％の炭素をドーピング（添加）したＳｉＯＣ膜などがある。
【０００３】
ところで、かかる低誘電率膜は、強度が弱いため、加工中に割れてしまうなどの問題があり、多層配線を形成する際に種々の不都合が生じる。そこで、低誘電率膜上に、当該低誘電率膜を保護する保護膜を成膜することが行われている。
【０００４】
また、かかる低誘電率膜は炭素（Ｃ）を含むため、低誘電率膜とその保護膜の密着性が悪い。このため、保護膜を成膜する前に、低誘電率膜の表面付近における炭素濃度を低下する処理を行うことにより、当該低誘電率膜と保護膜の密着性を確保するようにしている。
【０００５】
さらに、プラズマＣＶＤ(Chemical Vapor Deposition)法を用いて、保護膜を形成する場合には、低誘電率膜の表面付近における炭素濃度を低下させる。
【０００６】
低誘電率膜は、本来、疎水的性質を有するが、表面付近では炭素濃度が低下することにより、浸水性の方向に性質が変化する。
【０００７】
このため、低誘電率膜の表面付近における、炭素濃度が低下した領域は、ＯＨや水分（Ｈ２Ｏ）を吸着し易く、その結果、実効比誘電率の上昇や、低誘電率膜中に残留したプロセスガスが、プロセス中に脱離することによって引き起こされる膜のはがれや、金属の腐食などが生じるという問題があった。
【０００８】
以下、低誘電率膜の表面付近における炭素濃度に関する文献名を記載する。
【特許文献１】特開２００３−１７５６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、低誘電率膜の疎水的性質を維持し、歩留まりを向上させることができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様による半導体装置の製造方法は、
半導体基板の上方に、炭素を含む層間絶縁膜を形成するステップと、
表面付近における炭素濃度が低下した前記層間絶縁膜上に保護膜を形成するステップと、
前記保護膜の表面から前記層間絶縁膜の底面まで貫通するように、前記層間絶縁膜及び前記保護膜のうち所望の領域を選択的に除去することにより、溝を形成するステップと、
前記層間絶縁膜と前記保護膜との界面に、炭素を供給するステップと、
前記溝に導電性材料を埋め込むことにより、導電層を形成するステップと
を備えることを特徴とする。
【００１１】
また本発明の一態様による半導体装置の製造方法は、
半導体基板の上方に、炭素を含む層間絶縁膜を形成するステップと、
表面付近における炭素濃度が低下した前記層間絶縁膜上に保護膜を形成するステップと、
前記保護膜の表面から前記層間絶縁膜の底面まで貫通するように、前記層間絶縁膜及び前記保護膜のうち所望の領域を選択的に除去することにより、溝を形成するステップと、
前記溝に導電性材料を埋め込むことにより、導電層を形成するステップと、
前記保護膜の表面から、前記保護膜を介して、前記層間絶縁膜と前記保護膜との界面に、炭素を供給するステップと
を備えることを特徴とする。
【００１２】
また本発明の一態様による半導体装置の製造方法は、
半導体基板の上方に、炭素を含む層間絶縁膜を形成するステップと、
表面付近における炭素濃度が低下した前記層間絶縁膜上に保護膜を形成するステップと、
前記保護膜の表面から前記層間絶縁膜の底面まで貫通するように、前記層間絶縁膜及び前記保護膜のうち所望の領域を選択的に除去することにより、溝を形成するステップと、
前記溝に導電性材料を埋め込むことにより、導電層を形成する際、露出する前記保護膜を除去するステップと、
前記層間絶縁膜の表面に、炭素を供給するステップと
を備えることを特徴とする。
【００１３】
また本発明の一態様による半導体装置は、
半導体基板と、
前記半導体基板の上方に形成された、炭素を含む層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に形成された絶縁膜と、
少なくとも前記層間絶縁膜の所定領域に形成された溝の内部に、所定の導電性材料を埋め込むことにより形成された導電層とを備え、
前記層間絶縁膜は、前記絶縁膜との界面から、前記層間絶縁膜の膜厚の約１０％の距離の位置における炭素濃度が、前記絶縁膜との界面付近を除く位置における炭素濃度の約７５％以上になるように形成されている
ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の半導体装置及びその製造方法によれば、低誘電率膜の疎水的性質を維持し、歩留まりを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１６】
（１）第１の実施の形態
図１〜図１０に、本発明の第１の実施の形態による半導体装置の製造方法を示す。まず図１に示すように、図示しない半導体基板の上方に層間絶縁膜１０が形成され、当該層間絶縁膜１０上に形成された保護膜２０と、これら層間絶縁膜１０及び保護膜２０に形成された配線３０との上面に、拡散防止膜４０を形成する。
【００１７】
配線３０は、例えば銅（Ｃｕ）によって形成され、拡散防止膜４０は、この配線３０から銅（Ｃｕ）が拡散することを防止すると共に、エッチングストッパとしての役割を果たす。なお、この拡散防止膜４０は、例えばＳｉＣＮ膜、ＳｉＯＣ膜、炭化ケイ素（ＳｉＣ）膜からなり、比誘電率は例えば３.５〜５.５である。
【００１８】
図２に示すように、拡散防止膜４０上に、シリコン酸化（ＳｉＯ２）膜より比誘電率が低い低誘電率膜からなる層間絶縁膜５０を形成する。この層間絶縁膜５０は、例えばＳｉＯＣ膜、メチルシルセスキオキサン（ＭＳＱ）膜などからなり、比誘電率は例えば２．６以下である。
【００１９】
そして、必要に応じて、後に層間絶縁膜５０上に形成される保護膜との密着性を向上させるため、層間絶縁膜５０に対して、当該層間絶縁膜５０の表面付近における炭素濃度を低下させる処理を行うことにより、層間絶縁膜５０の表面付近に炭素濃度低下領域５０Ａを形成する。具体的には、層間絶縁膜５０の表面に対して、例えば電子ビーム（ＥＢ）の照射処理、紫外線（ＵＶ）の照射処理、プラズマ処理などを行う。
【００２０】
次に、プラズマＣＶＤ法などを用いて、層間絶縁膜５０上に、当該層間絶縁膜５０を保護するための保護膜６０を形成する。この保護膜６０は、例えばＳｉＯＣ膜、メチルシルセスキオキサン（ＭＳＱ）膜、シリコン酸化（ＳｉＯ２）膜などからなり、比誘電率は例えば２.６〜４.３である。また、この保護膜６０は、層間絶縁膜５０より密度が高くなるように形成されている。なお、プラズマＣＶＤ法などのプラズマプロセスを用いて保護膜６０を形成する場合には、層間絶縁膜５０の表面付近における炭素濃度は低下するため、層間絶縁膜５０の表面付近における炭素濃度を低下させる処理を行う必要はない。
【００２１】
図３に示すように、保護膜６０上にフォトレジスト材を塗布した後、露光及び現像を行うことにより、下層の配線３０に対応するパターンを有するマスク材７０を形成する。
【００２２】
図４に示すように、マスク材７０をマスクとして用いると共に、拡散防止膜４０をエッチングストッパとして、保護膜６０及び層間絶縁膜５０にエッチングを行うことにより、ビアホール（接続孔）８０を形成する。その後、このマスク材７０を酸化して除去するアッシングを行う。
【００２３】
図５に示すように、さらに保護膜６０及び拡散防止膜４０上にフォトレジスト材を塗布した後、露光及び現像を行うことにより、ビアホール８０に対応するパターンを有するマスク材９０Ａを形成する。ビアホール８０内にもマスク材（フォトレジスト材）９０Ｂが残ってもよい。
【００２４】
図６に示すように、マスク材９０Ａをマスクとして保護膜６０にエッチングを行った後、エッチング時間を指定した上で、さらに層間絶縁膜５０にエッチングを行うことにより、配線溝１００を形成する。
【００２５】
図７に示すように、マスク材９０Ａ及び９０Ｂを酸化して除去するアッシングを行った後、拡散防止膜４０を開口するためのエッチングを行うことにより、下層の配線３０の上面の一部を露出する。
【００２６】
図８に示すように、層間絶縁膜５０と保護膜６０の界面に、配線溝１００の内部表面から、炭素（Ｃ）を含むガス、液体などを供給する処理を行うことにより、層間絶縁膜５０のうち、保護膜６０との界面付近（炭素濃度低下領域５０Ａ）における炭素濃度を上昇させる。ガスや液体を透過する保護膜６０を用いた場合は、保護膜６０を介して炭素濃度を上昇させることも可能である。
【００２７】
これにより、層間絶縁膜５０の疎水的性質を維持して、層間絶縁膜５０がＯＨや水分（Ｈ２Ｏ）を吸着することを抑制することができる。その結果、実効比誘電率の上昇や、層間絶縁膜５０中に残留したプロセスガスが、プロセス中に脱離することによって引き起こされる膜のはがれや、金属の腐食などを抑制することができ、よって歩留まりを向上させることができる。
【００２８】
ところで、炭素（Ｃ）を供給する方法としては、層間絶縁膜５０と保護膜６０の界面に、例えばヘキサメチルジシランザン（ＨＭＤＳ：（ＣＨ３）３ＳｉＮＨＳｉ（ＣＨ３）３）などを供給して、Ｓｉ−ＯＨ結合をＳｉ−Ｃ結合に置換させる化学反応を行うことにより、層間絶縁膜５０の界面付近における炭素濃度を上昇させる方法がある。なお、この場合、Ｓｉ−ＯＨ結合をＳｉ−Ｃ結合に置換させることにより、層間絶縁膜５０の疎水性を維持することができる。
【００２９】
また、炭素（Ｃ）を供給する他の方法としては、層間絶縁膜５０のうち、保護膜６０との界面付近（炭素濃度低下領域５０Ａ）に、炭素（Ｃ）を含む所定の疎水性材料を浸透及び充填させることにより、層間絶縁膜５０の界面付近における炭素濃度を上昇させる方法がある。
【００３０】
この場合、液体の疎水性材料としては、例えばポリアリレンエーテル（ＰＡＥ）、メチルシルセスキオキサン（ＭＳＱ）、所定のレジスト材、反射防止膜で使用されるコーティング材などがあり、気体の疎水性材料としては、例えば炭素（Ｃ）を含むシロキサン、トリメチルシラン（ＴＭＳ）、ベンズシクロブテン（ＢＣＢ）などがある。このように、疎水性材料を浸透及び充填させる方法では、種々の疎水性材料の中から所望の材料を選択することができる。
【００３１】
これら化学反応による方法並びに疎水性材料の浸透及び充填による方法は、いずれも１００〜３５０℃の範囲内の温度で行うことが望ましい。すなわち、層間絶縁膜５０に吸着した水分を蒸発させるため、１００℃以上の温度で行うことが望ましく、また、熱によって配線が破壊されるストレスマイグレーションを抑制するため、３５０℃以下の温度で行うことが望ましい。
【００３２】
ここで図１１に、温度とストレスマイグレーション信頼性試験（ストレスマイグレーションの耐性を評価する試験）における不良率との関係を示す。この図１１に示すように、温度が３５０℃の場合には、不良率が４５％程度になり、温度が３５０℃を超えると、不良率がさらに高くなって、歩留まりが低下するため、温度は３５０℃以下であることが望ましい。
【００３３】
また、化学反応による方法並びに疎水性材料の浸透及び充填による方法は、いずれも１気圧以上の圧力で行うことが望ましい。すなわち、層間絶縁膜５０と保護膜の界面に炭素（Ｃ）を供給する際には、圧力が高い方が炭素（Ｃ）を供給し易いため、圧力は少なくとも大気圧である１気圧以上であることが望ましい。
【００３４】
図９に示すように、ビアホール８０及び配線溝１００を埋め込むように、層間絶縁膜５０及び保護膜６０の全面に、バリアメタル膜（図示せず）と、めっき処理のシード層となるシード銅膜（図示せず）とを、スパッタリング法によって順次形成した後、銅（Ｃｕ）を主成分とした膜をめっき法によって全面に形成することにより、銅膜（図示せず）を形成する。
【００３５】
そして、所定の熱処理（アニール）を行った後、バリアメタル膜及び銅膜をＣＭＰ法によって研磨することにより、プラグ１１０及び配線１２０を形成する。
【００３６】
図１０に示すように、保護膜６０及び配線１２０の上面に、拡散防止膜１３０を形成する。この拡散防止膜１３０は、配線１２０から銅（Ｃｕ）が拡散することを防止すると共に、エッチングストッパとしての役割を果たし、例えばＳｉＣＮ膜、ＳｉＯＣ膜、炭化ケイ素（ＳｉＣ）膜からなり、比誘電率は例えば３.５〜５.５である。
【００３７】
ここで図１２に、炭素（Ｃ）を供給する方法として、化学反応による方法を使用した場合における、層間絶縁膜５０の炭素濃度分布の一例を示す。なお、図１２及び図１３中、横軸は、層間絶縁膜５０の界面からの距離（単位：Å）を示し、縦軸は、炭素濃度（単位：Ａ.Ｕ.（アービタリーユニット））を示す。
【００３８】
この図１２において、曲線Ｌ１０は、層間絶縁膜５０の界面に炭素（Ｃ）を供給する処理を行った後における、層間絶縁膜５０の炭素濃度分布を示し、曲線Ｌ２０は、層間絶縁膜５０の界面に炭素（Ｃ）を供給する処理を行う前における、層間絶縁膜５０の炭素濃度分布を示す。
【００３９】
すなわち、この図１２に示すように、層間絶縁膜５０の界面付近における炭素濃度は、炭素（Ｃ）を供給する処理を行った後には、炭素（Ｃ）を供給する前と比較して、上昇し回復している。
【００４０】
なお、図１２に示すように、炭素（Ｃ）を供給する方法として、化学反応による方法を使用した場合には、炭素濃度を低下させる処理（図２）を行う前における、本来の炭素濃度を超えることはない。
【００４１】
続いて図１３に、炭素（Ｃ）を供給する方法として、疎水性材料の浸透及び充填による方法を使用した場合における、層間絶縁膜５０の炭素濃度分布の一例を示す。
【００４２】
この図１３において、曲線Ｌ３０は、層間絶縁膜５０の界面に炭素（Ｃ）を供給する処理を行った後における、層間絶縁膜５０の炭素濃度分布を示し、曲線Ｌ４０は、層間絶縁膜５０の界面に炭素（Ｃ）を供給する処理を行う前における、層間絶縁膜５０の炭素濃度分布を示す。
【００４３】
すなわち、この図１３に示すように、層間絶縁膜５０の界面付近における炭素濃度は、化学反応による方法と同様に、炭素（Ｃ）を供給する処理を行った後には、炭素（Ｃ）を供給する前と比較して、上昇し回復している。
【００４４】
なお、図１３に示すように、疎水性材料の浸透及び充填による方法は、炭素濃度を低下させる処理（図２）を行う前における、本来の炭素濃度を超える場合があるが、界面の炭素濃度は、保護膜６０が形成されていることから、界面付近における最大の炭素濃度と比較して低くなる。
【００４５】
これら図１２及び図１３に示すように、化学反応による方法並びに疎水性材料の浸透及び充填による方法のいずれも、層間絶縁膜５０の界面から、当該層間絶縁膜５０の膜厚の１０％程度の距離の位置（例えば８０Å程度）における炭素濃度が、層間絶縁膜５０の界面付近を除く位置（例えば４００Å程度）における炭素濃度の７５％程度以上になるように形成されている。
【００４６】
（２）第２の実施の形態
図１４〜図１６に、本発明の第２の実施の形態による半導体装置の製造方法を示す。なお、ビアホール８０及び配線溝１００を形成した後、下層の配線３０の上面の一部を露出するまでの工程は、第１の実施の形態の図１〜図７における工程と同一であるため、説明を省略する。
【００４７】
図１４に示すように、ビアホール８０及び配線溝１００を埋め込むように、層間絶縁膜５０及び保護膜６０の全面に、バリアメタル膜（図示せず）と、めっき処理のシード層となるシード銅膜（図示せず）とを、スパッタリング法によって順次形成した後、銅（Ｃｕ）を主成分とした膜をめっき法によって全面に形成することにより、銅膜（図示せず）を形成する。
【００４８】
そして、所定の熱処理（アニール）を行った後、バリアメタル膜及び銅膜をＣＭＰ法によって研磨することにより、プラグ１１０及び配線１２０を形成する。
【００４９】
図１５に示すように、保護膜６０の上方から、当該保護膜６０を介して、層間絶縁膜５０と保護膜の界面に、炭素（Ｃ）を含むガス、液体などを供給する処理を行うことにより、層間絶縁膜５０のうち、保護膜６０との界面付近（炭素濃度低下領域５０Ａ）における炭素濃度を上昇させる。
【００５０】
これにより、層間絶縁膜５０の疎水的性質を維持して、層間絶縁膜５０がＯＨや水分（Ｈ２Ｏ）を吸着することを抑制することができる。その結果、実効比誘電率の上昇や、層間絶縁膜５０中に残留したプロセスガスが、プロセス中に脱離することによって引き起こされる膜のはがれや、金属の腐食などを抑制することができ、よって歩留まりを向上させることができる。
【００５１】
炭素（Ｃ）を供給する方法としては、第１の実施の形態と同様に、化学反応による方法と、疎水性材料の浸透及び充填による方法とがあり、これらの方法による温度や圧力などの条件についても、第１の実施の形態と同様である。
【００５２】
本実施の形態の場合、保護膜６０を介して、層間絶縁膜６０の界面に炭素（Ｃ）を含むガスや液体などを供給するため、ガスや液体が保護膜６０を通過することが必要である。従って、保護膜６０の比誘電率は、例えば２.６〜２.９の範囲内であることが望ましい。
【００５３】
また、本実施の形態の場合、プラグ１１０及び配線１２０を形成した後に、炭素（Ｃ）を含むガスや液体などを供給するため、ビアホール８０や配線溝１００にガスや液体などの残渣が蓄積されることを抑制することができる。
【００５４】
図１６に示すように、保護膜６０及び配線１２０の上面に、拡散防止膜１３０を形成することにより、多層配線を形成する。
【００５５】
（３）第３の実施の形態
図１７〜図１９に、本発明の第３の実施の形態による半導体装置の製造方法を示す。なお、ビアホール８０及び配線溝１００を形成した後、下層の配線３０の上面の一部を露出するまでの工程は、第１の実施の形態の図１〜図７における工程と同一であるため、説明を省略する。
【００５６】
図１７に示すように、ビアホール８０及び配線溝１００を埋め込むように、層間絶縁膜５０及び保護膜６０の全面に、バリアメタル膜（図示せず）と、めっき処理のシード層となるシード銅膜（図示せず）とを、スパッタリング法によって順次形成した後、銅（Ｃｕ）を主成分とした膜をめっき法によって全面に形成することにより、銅膜（図示せず）を形成する。
【００５７】
そして、所定の熱処理（アニール）を行った後、バリアメタル膜及び銅膜をＣＭＰ法によって研磨することにより、プラグ１１０及び配線１２０を形成する。本実施の形態の場合、バリアメタル膜及び銅膜をＣＭＰ法によって研磨して、不要なバリアメタル膜及び銅膜を除去する際、保護膜６０も同時に除去することにより、層間絶縁膜５０の上面を露出させる。保護膜６０は、銅膜を形成する前に除去してもよい。
【００５８】
図１８に示すように、層間絶縁膜５０の上方から、層間絶縁膜５０の表面に、炭素（Ｃ）を含むガス、液体などを供給する処理を行うことにより、層間絶縁膜５０の表面付近（炭素濃度低下領域５０Ａ）における炭素濃度を上昇させる。
【００５９】
これにより、層間絶縁膜５０の疎水的性質を維持して、層間絶縁膜５０がＯＨや水分（Ｈ２Ｏ）を吸着することを抑制することができる。その結果、実効比誘電率の上昇や、層間絶縁膜５０中に残留したプロセスガスが、プロセス中に脱離することによって引き起こされる膜のはがれや、金属の腐食などを抑制することができ、よって歩留まりを向上させることができる。
【００６０】
炭素（Ｃ）を供給する方法としては、第１の実施の形態と同様に、化学反応による方法と、疎水性材料の浸透及び充填による方法とがあり、これらの方法による温度や圧力などの条件についても、第１の実施の形態と同様である。
【００６１】
図１９に示すように、層間絶縁膜５０及び配線１２０の上面に、拡散防止膜１３０を形成することにより、多層配線を形成する。
【００６２】
ところで、第１及び第２の実施の形態のように、層間絶縁膜５０上に形成される保護膜６０は、図９及び図１４に示す工程において、ＣＭＰ法による研磨に耐えることが必要とされるため、層間絶縁膜５０と保護膜６０の間に高い密着性を確保しなければならない。従って、層間絶縁膜５０の表面付近における炭素濃度を低下させる処理を行った後に、保護膜６０を形成することにより、層間絶縁膜５０と保護膜６０の密着性を高くするようになされている。
【００６３】
これに対して、本実施の形態において、層間絶縁膜５０上に形成される拡散防止膜１３０は、第１及び第２の実施の形態の保護膜６０のように、製造プロセスの各工程で強い力が加えられることはない。このため、層間絶縁膜５０と拡散防止膜１３０の間には、層間絶縁膜５０と保護膜６０の間のように、高い密着性は要求されない。従って、層間絶縁膜５０の表面に、炭素（Ｃ）を供給する処理を行って、層間絶縁膜５０の表面付近における炭素濃度を上昇させた後、拡散防止膜１３０を形成することができる。
【００６４】
（４）第４の実施の形態
図２０〜図２２に、本発明の第４の実施の形態による半導体装置の製造方法を示す。なお、ビアホール８０及び配線溝１００を形成した後、下層の配線３０の上面の一部を露出するまでの工程は、第１の実施の形態の図１〜図７における工程と同一であるため、説明を省略する。
【００６５】
図２０に示すように、ビアホール８０及び配線溝１００を埋め込むように、層間絶縁膜５０及び保護膜６０の全面に、バリアメタル膜（図示せず）と、めっき処理のシード層となるシード銅膜（図示せず）とを、スパッタリング法によって順次形成した後、銅（Ｃｕ）を主成分とした膜をめっき法によって全面に形成することにより、銅膜（図示せず）を形成する。
【００６６】
そして、所定の熱処理（アニール）を行った後、バリアメタル膜及び銅膜をＣＭＰ法によって研磨することにより、プラグ１１０及び配線１２０を形成する。
【００６７】
図２１に示すように、保護膜６０及び配線１２０の上面に、拡散防止膜１３０を形成することにより、多層配線を形成する。
【００６８】
図２２に示すように、拡散防止膜１３０の上方から、当該拡散防止膜１３０及び保護膜６０を介して、層間絶縁膜５０と保護膜６０の界面に、炭素（Ｃ）を含むガス、液体などを供給する処理を行うことにより、層間絶縁膜５０の界面付近（炭素濃度低下領域５０Ａ）における炭素濃度を上昇させる。
【００６９】
これにより、層間絶縁膜５０の疎水的性質を維持して、層間絶縁膜５０がＯＨや水分（Ｈ２Ｏ）を吸着することを抑制することができる。その結果、実効比誘電率の上昇や、層間絶縁膜５０中に残留したプロセスガスが、プロセス中に脱離することによって引き起こされる膜のはがれや、金属の腐食などを抑制することができ、よって歩留まりを向上させることができる。
【００７０】
炭素（Ｃ）を供給する方法としては、第１の実施の形態と同様に、化学反応による方法と、疎水性材料の浸透及び充填による方法とがあり、これらの方法による温度や圧力などの条件についても、第１の実施の形態と同様である。
【００７１】
本実施の形態の場合、拡散防止膜１３０及び保護膜６０を介して、層間絶縁膜６０の界面に炭素（Ｃ）を含むガスや液体などを供給するため、ガスや液体が拡散防止膜１３０及び保護膜６０を通過することが必要である。従って、保護膜６０の比誘電率は、例えば２.６〜２.９の範囲内であることが望ましく、また拡散防止膜１３０の比誘電率は、例えば４.０以下であることが望ましい。
【００７２】
また、本実施の形態の場合、プラグ１１０及び配線１２０を形成した後に、炭素（Ｃ）を含むガスや液体などを供給するため、ビアホール８０や配線溝１００にガスや液体などの残渣が蓄積されることを抑制することができる。
【００７３】
（５）第５の実施の形態
図２３〜図３２に、本発明の第５の実施の形態による半導体装置の製造方法を示す。まず図２３に示すように、図示しない半導体基板の上方に層間絶縁膜２１０が形成され、当該層間絶縁膜２１０上に形成された保護膜２２０と、これら層間絶縁膜２１０及び保護膜２２０に形成された配線２３０との上面に、拡散防止膜２４０を形成する。この拡散防止膜２４０は、配線２３０から例えば銅（Ｃｕ）が拡散することを防止すると共に、エッチングストッパとしての役割を果たす。
【００７４】
図２４に示すように、拡散防止膜２４０上に、シリコン酸化（ＳｉＯ２）膜より比誘電率が低い低誘電率膜からなる層間絶縁膜２５０を形成する。
【００７５】
そして、後に層間絶縁膜２５０上に形成される保護膜との密着性を確保するため、層間絶縁膜２５０に対して、当該層間絶縁膜２５０の表面付近における炭素濃度を低下させる処理を行うことにより、層間絶縁膜２５０の表面付近に炭素濃度低下領域２５０Ａを形成する。
【００７６】
次に、プラズマＣＶＤ法を用いて、層間絶縁膜２５０上に、当該層間絶縁膜２５０を保護するための保護膜２６０を形成する。
【００７７】
そして、かかる工程を繰り返すことにより、保護膜２６０上に層間絶縁膜２７０を形成した後、当該層間絶縁膜２７０の表面付近に炭素濃度低下領域２７０Ａを形成し、層間絶縁膜２７０上にさらに保護膜２８０を形成する。
【００７８】
図２５に示すように、保護膜２８０上にフォトレジスト材を塗布した後、露光及び現像を行うことにより、下層の配線２３０に対応するパターンを有するマスク材２９０を形成する。
【００７９】
図２６に示すように、マスク材２９０をマスクとして用いる共に、拡散防止膜２４０をエッチングストッパとして、層間絶縁膜２５０及び２７０並びに保護膜２６０及び２８０にエッチングを行うことにより、ビアホール（接続孔）３００を形成する。その後、このマスク材２９０を酸化して除去するアッシングを行う。
【００８０】
図２７に示すように、さらに保護膜２８０上にフォトレジスト材を塗布した後、露光及び現像を行うことにより、ビアホール３００に対応するパターンを有するマスク材３１０を形成する。
【００８１】
図２８に示すように、マスク材３１０をマスクとして保護膜２８０にエッチングを行い、さらに保護膜２６０をエッチングストッパとして、層間絶縁膜２７０にエッチングを行った後、続いて保護膜２６０にエッチングを行うことにより、配線溝３２０を形成する。この場合、層間絶縁膜２５０上に、当該層間絶縁膜２５０より密度の高い保護膜２６０を形成すれば、エッチングを終了させる位置を正確に制御することができる。
【００８２】
図２９に示すように、マスク材３１０を酸化して除去するアッシングを行った後、拡散防止膜２４０を開口するためのエッチングを行うことにより、下層の配線２３０の上面の一部を露出する。
【００８３】
図３０に示すように、層間絶縁膜２７０及び保護膜２８０の界面と、層間絶縁膜２５０及び保護膜２６０の界面とに、配線溝３２０及びビアホール３００の内部表面から、炭素（Ｃ）を含むガス、液体などを供給する処理を行うことにより、層間絶縁膜２７０のうち、保護膜２８０との界面付近（炭素濃度低下領域２７０Ａ）における炭素濃度を上昇させると共に、層間絶縁膜２５０のうち、保護膜２６０との界面付近（炭素濃度低下領域２５０Ａ）における炭素濃度を上昇させる。
【００８４】
これにより、層間絶縁膜５０の疎水的性質を維持して、層間絶縁膜５０がＯＨや水分（Ｈ２Ｏ）を吸着することを抑制することができる。その結果、実効比誘電率の上昇や、層間絶縁膜２５０及び２７０中に残留したプロセスガスが、プロセス中に脱離することによって引き起こされる膜のはがれや、金属の腐食などを抑制することができ、よって歩留まりを向上させることができる。
【００８５】
炭素（Ｃ）を供給する方法としては、第１の実施の形態と同様に、化学反応による方法と、疎水性材料の浸透及び充填による方法とがあり、これらの方法による温度や圧力などの条件についても、第１の実施の形態と同様である。
【００８６】
図３１に示すように、ビアホール３００及び配線溝３２０を埋め込むように、層間絶縁膜２５０及び２７０並びに保護膜２６０及び２８０の全面に、バリアメタル膜（図示せず）と、めっき処理のシード層となるシード銅膜（図示せず）とを、スパッタリング法によって順次形成した後、銅（Ｃｕ）を主成分とした膜をめっき法によって全面に形成することにより、銅膜（図示せず）を形成する。
【００８７】
そして、所定の熱処理（アニール）を行った後、バリアメタル膜及び銅膜をＣＭＰ法によって研磨することにより、プラグ３３０及び配線３４０を形成する。
【００８８】
図３２に示すように、保護膜２８０及び配線３４０の上面に、拡散防止膜３５０を形成する。この拡散防止膜３５０は、配線３４０から銅（Ｃｕ）が拡散することを防止すると共に、エッチングストッパとしての役割を果たす。
【００８９】
なお、本実施の形態では、プラグ３３０及び配線３４０を形成する前に、ビアホール３００及び配線溝３２０の内部表面から、層間絶縁膜２７０及び保護膜２８０の界面と、層間絶縁膜２５０及び保護膜２６０の界面とに、炭素（Ｃ）を供給したが、第２の実施の形態のように、プラグ３００及び配線３４０を形成した後、保護膜２８０を介して、層間絶縁膜２７０及び保護膜２８０の界面に炭素（Ｃ）を供給すると共に、保護膜２８０、層間絶縁膜２７０及び保護膜２６０を順次介して、層間絶縁膜２５０及び保護膜２６０の界面に炭素（Ｃ）を供給しても良い。
【００９０】
また、第３の実施の形態のように、プラグ３００及び配線３４０を形成する際、保護膜２８０を除去し、層間絶縁膜２７０の上面を露出させた上で、層間絶縁膜２７０の表面に炭素（Ｃ）を供給すると共に、層間絶縁膜２７０及び保護膜２６０を順次介して、層間絶縁膜２５０及び保護膜２６０の界面に炭素（Ｃ）を供給した後、層間絶縁膜２７０及び配線３２０の上面に、拡散防止膜３５０を形成しても良い。
【００９１】
また、第４の実施の形態のように、プラグ３００及び配線３４０並びに拡散防止膜３５０を形成した後、拡散防止膜３５０及び保護膜２８０を介して、層間絶縁膜２７０及び保護膜２８０の界面に炭素（Ｃ）を供給すると共に、拡散防止膜３５０，保護膜２８０、層間絶縁膜２７０及び保護膜２６０を順次介して、層間絶縁膜２５０及び保護膜２６０の界面に炭素（Ｃ）を供給しても良い。
【００９２】
（６）第６の実施の形態
図３３〜図３９に、本発明の第６の実施の形態による半導体装置の製造方法を示す。まず図３３に示すように、図示しない半導体素子が形成された半導体基板上に、層間絶縁膜４００と、例えばタングステンプラグなどのプラグ４１０を形成する。
【００９３】
図３４に示すように、層間絶縁膜４００及びプラグ４１０上に、層間絶縁膜４２０を形成する。そして、後に層間絶縁膜４２０上に形成される保護膜との密着性を確保するため、層間絶縁膜４２０に対して、当該層間絶縁膜４２０の表面付近における炭素濃度を低下させる処理を行うことにより、層間絶縁膜４２０の表面付近に炭素濃度低下領域４２０Ａを形成する。
【００９４】
次に、プラズマＣＶＤ法を用いて、層間絶縁膜４２０上に、当該層間絶縁膜４２０を保護するための保護膜４３０を形成する。
【００９５】
図３５に示すように、保護膜４３０上にフォトレジスト材を塗布した後、露光及び現像を行うことにより、所定のパターンを有するマスク材４４０を形成する。
【００９６】
図３６に示すように、マスク材４４０をマスクとして、保護膜４３０及び層間絶縁膜４２０にエッチングを行うことにより、配線溝４５０Ａ及び４５０Ｂを形成する。
【００９７】
図３７に示すように、マスク材４４０を酸化して除去するアッシングを行った後、層間絶縁膜４２０と保護膜４３０の界面に、配線溝４５０Ａ及び４５０Ｂの内部表面から、炭素（Ｃ）を含むガス、液体などを供給する処理を行うことにより、層間絶縁膜４２０のうち、保護膜４３０との界面付近（炭素濃度低下領域４２０Ａ）における炭素濃度を上昇させる。
【００９８】
これにより、層間絶縁膜５０の疎水的性質を維持して、層間絶縁膜５０がＯＨや水分（Ｈ２Ｏ）を吸着することを抑制することができる。その結果、実効比誘電率の上昇や、層間絶縁膜４２０中に残留したプロセスガスが、プロセス中に脱離することによって引き起こされる膜のはがれや、金属の腐食などを抑制することができ、よって歩留まりを向上させることができる。
【００９９】
炭素（Ｃ）を供給する方法としては、第１の実施の形態と同様に、化学反応による方法と、疎水性材料の浸透及び充填による方法とがあり、これらの方法による温度や圧力などの条件についても、第１の実施の形態と同様である。
【０１００】
図３８に示すように、配線溝４５０Ａ及び４５０Ｂを埋め込むように、層間絶縁膜４００及び４２０並びに保護膜４３０の全面に、バリアメタル膜（図示せず）と、めっき処理のシード層となるシード銅膜（図示せず）とを、スパッタリング法によって順次形成した後、銅（Ｃｕ）を主成分とした膜をめっき法によって全面に形成することにより、銅膜（図示せず）を形成する。
【０１０１】
そして、所定の熱処理（アニール）を行った後、バリアメタル膜及び銅膜をＣＭＰ法によって研磨することにより、配線４６０Ａ及び４６０Ｂを形成する。
【０１０２】
図３９に示すように、保護膜４３０並びに配線４６０Ａおよび４６０Ｂの上面に、拡散防止膜４７０を形成する。この拡散防止膜４７０は、配線４６０Ａ及び４６０Ｂから銅（Ｃｕ）が拡散することを防止すると共に、エッチングストッパとしての役割を果たす。
【０１０３】
なお、本実施の形態では、配線４６０Ａ及び４６０Ｂを形成する前に、配線溝４５０Ａ及び４５０Ｂの内部表面から、層間絶縁膜４２０と保護膜４３０の界面に、炭素（Ｃ）を供給したが、第２の実施の形態のように、配線４６０Ａ及び４６０Ｂを形成した後、保護膜４３０を介して、層間絶縁膜４２０と保護膜４３０の界面に炭素（Ｃ）を供給しても良い。
【０１０４】
また、第３の実施の形態のように、配線４６０Ａ及び４６０Ｂを形成する際、保護膜４３０を除去し、層間絶縁膜４２０の上面を露出させた上で、層間絶縁膜４２０の表面に炭素（Ｃ）を供給しても良い。
【０１０５】
また、第４の実施の形態のように、配線４６０Ａ及び４６０Ｂ並びに拡散防止膜４７０を形成した後、拡散防止膜４７０及び保護膜４３０を介して、層間絶縁膜４２０と保護膜４３０の界面に炭素（Ｃ）を供給しても良い。
【０１０６】
（７）他の実施の形態
なお上述の実施の形態は一例であって、本発明を限定するものではない。例えば、プラグ１１０、３３０及び配線１２０、３４０、４６０の材料として、銅（Ｃｕ）を使用したが、例えばアルミニウム（Ａｌ）など、他の種々の導電性材料を、層間絶縁膜５０、２５０、２７０、４２０及び／又は保護膜６０、２６０、２８０、４３０に形成された、ビアホール８０、３００及び／又は配線溝１００、３２０、４５０からなる溝に埋め込むことにより、プラグ１１０、３３０及び／又は配線１２０、３４０、４６０からなる導電層を形成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】本発明の第１の実施の形態による半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図４】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図５】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図６】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図７】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図８】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図９】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図１０】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図１１】温度とストレスマイグレーション信頼性試験における不良率との関係を示す説明図である。
【図１２】化学反応による方法における、界面からの距離と炭素濃度との関係を示す説明図である。
【図１３】疎水性材料の浸透及び充填による方法における、界面からの距離と炭素濃度との関係を示す説明図である。
【図１４】本発明の第２の実施の形態による半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図１５】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図１６】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図１７】本発明の第３の実施の形態による半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図１８】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図１９】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２０】本発明の第４の実施の形態による半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２１】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２２】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２３】本発明の第５の実施の形態による半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２４】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２５】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２６】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２７】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２８】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図２９】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３０】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３１】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３２】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３３】本発明の第６の実施の形態による半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３４】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３５】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３６】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３７】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３８】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【図３９】同半導体装置の製造方法における工程別素子の断面構造を示す縦断面図である。
【符号の説明】
【０１０８】
１０、５０、２１０、２５０、２７０、４００、４２０  層間絶縁膜
２０、６０、２２０、２６０、２８０、４３０  保護膜
３０、１２０、２３０、３４０、４６０  配線
４０、１３０、２４０、３５０、４７０  拡散防止膜
５０Ａ、２５０Ａ、２７０Ａ、４２０Ａ  炭素濃度低下領域
７０、９０、２９０、３１０、４４０  レジスト材
８０、３００  ビアホール
１００、３２０、４５０  配線溝
１１０、３３０  プラグ
【図１】
2006128575.tif 000003
【図２】
2006128575.tif 000004
【図３】
2006128575.tif 000005
【図４】
2006128575.tif 000006
【図５】
2006128575.tif 000007
【図６】
2006128575.tif 000008
【図７】
2006128575.tif 000009
【図８】
2006128575.tif 000010
【図９】
2006128575.tif 000011
【図１０】
2006128575.tif 000012
【図１１】
2006128575.tif 000013
【図１２】
2006128575.tif 000014
【図１３】
2006128575.tif 000015
【図１４】
2006128575.tif 000016
【図１５】
2006128575.tif 000017
【図１６】
2006128575.tif 000018
【図１７】
2006128575.tif 000019
【図１８】
2006128575.tif 000020
【図１９】
2006128575.tif 000021
【図２０】
2006128575.tif 000022
【図２１】
2006128575.tif 000023
【図２２】
2006128575.tif 000024
【図２３】
2006128575.tif 000025
【図２４】
2006128575.tif 000026
【図２５】
2006128575.tif 000027
【図２６】
2006128575.tif 000028
【図２７】
2006128575.tif 000029
【図２８】
2006128575.tif 000030
【図２９】
2006128575.tif 000031
【図３０】
2006128575.tif 000032
【図３１】
2006128575.tif 000033
【図３２】
2006128575.tif 000034
【図３３】
2006128575.tif 000035
【図３４】
2006128575.tif 000036
【図３５】
2006128575.tif 000037
【図３６】
2006128575.tif 000038
【図３７】
2006128575.tif 000039
【図３８】
2006128575.tif 000040
【図３９】
2006128575.tif 000041