(57)【要約】【課題】  保存安定性に優れた無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供すること。【解決手段】  無機粉体および特定構造の構成単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する結着樹脂を含有することを特徴とする、無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供する。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）無機粉体、および
（Ｂ）下記一般式（１）で表される構成単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する結着樹脂
【化１】
2006045270.tif 000003
（式中、Ｒは１価の有機基を示す。）
を含有することを特徴とする、無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項２】
前記式（１）で表される構成単位が、α−ヒドロキシメチル基を有するアクリレートから導かれる構成単位であることを特徴とする請求項１に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項３】
前記α−ヒドロキシメチル基を有するアクリレートが、メチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレートおよびｎ−ブチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレートから選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項２に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項４】
前記アルカリ可溶性樹脂が、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレートおよびジシクロペンタニル（メタ）アクリレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の（メタ）アクリレートと、α−ヒドロキシメチル基を有するアクリレートとの共重合体であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項５】
（Ａ）無機粉体、および
（Ｂ）下記一般式（１）で表される構成単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する結着樹脂
【化２】
2006045270.tif 000004
（式中、Ｒは１価の有機基を示す。）
を含有する無機粉体含有樹脂層を有することを特徴とする、転写フィルム。
【請求項６】
さらに、レジスト膜が積層されてなることを特徴とする、請求項５に記載の転写フィルム。
【請求項７】
基板上に、（Ａ）無機粉体、および
（Ｂ）下記一般式（１）で表される構成単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する結着樹脂
【化３】
2006045270.tif 000005
（式中、Ｒは１価の有機基を示す。）
を含有する無機粉体含有樹脂層を形成し、当該無機粉体含有樹脂層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
基板上に、請求項６に記載の転写フィルムを用い、無機粉体含有樹脂層が基板に当接されるように、無機粉体含有樹脂層とレジスト膜とを転写し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造に好適な無機粉体含有樹脂組成物、該組成物から得られる転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、大型パネルでありながら製造プロセスが容易であること、視野角が広いこと、自発光タイプで表示品位が高いこと等の理由から、フラットパネル表示技術の中で注目されており、特にカラープラズマディスプレイパネルは、２０インチ以上の壁掛けＴＶ用の表示デバイスとして将来主流になるものと期待されている。
カラーＰＤＰは、ガス放電により発生する紫外線を蛍光体に照射することによってカラー表示が可能になる。そして、一般に、カラーＰＤＰにおいては、赤色発光用の蛍光体部位、緑色発光用の蛍光体部位及び青色発光用の蛍光体部位が基板上に形成されることにより、各色の発光表示セルが全体に均一に混在した状態に構成されている。具体的には、ガラス等からなる基板の表面に、バリアリブと称される絶縁性材料からなる隔壁が設けられており、この隔壁によって多数の表示セルが区画され、当該表示セルの内部がプラズマ作用空間になる。そして、このプラズマ作用空間に螢光体部位が設けられるとともに、この螢光体部位にプラズマを作用させる電極が設けられることにより、各々の表示セルを表示単位とするプラズマディスプレイパネルが構成される。
【０００３】
図１は従来公知の交流型ＰＤＰの断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１０２は対抗配置されたガラス基板、１０３および１１１は隔壁であり、ガラス基板１０１、ガラス基板１０２、背面隔壁１０３および前面隔壁１１１によりセルが区画形成されている。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４の抵抗を下げる目的で、該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス基板１０２に固定されたアドレス電極であり、１０７はセル内に保持された蛍光物質であり、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の表面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板１０２の表面に形成された誘電体層であり、１１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーＰＤＰにおいては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
【０００４】
このようなプラズマディスプレイパネルの誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの製造方法としては、（１）非感光性の無機粉体含有樹脂組成物組成物を基板上にスクリーン印刷してパターンを得、これを焼成するスクリーン印刷法、（２）感光性の無機粉体含有樹脂組成物の膜を基板上に形成し、この膜にフォトマスクを介して紫外線を照射した上で現像することにより基板上にパターンを残存させ、これを焼成するフォトリソグラフィー法などが知られている。
しかしながら、無機粉体を含有する感光性樹脂組成物において、多価金属および／または多価金属酸化物を含有する無機粉体を使用すると、該樹脂組成物がゲル化するという問題点があった。これは、組成物に感光性とアルカリ可溶性を付与するために、通常、結着樹脂として不飽和二重結合を有するアルカリ可溶性ポリマーを使用しているため、ポリマー中の酸性官能基（カルボキシル基など）と、上記無機粉体表面の多価金属水酸化物とが、反応することに起因する。
このように、無機粉体を含有する樹脂組成物がゲル化すると、フィルム化が困難となるだけでなく、仮にフィルム化できたとしても現像処理が不安定になるなどの問題が生じるため、樹脂組成物を長期間保存することができなかった。そのため、長期間保存してもゲル化しにくい無機粉体含有樹脂組成物が望まれていた。
【特許文献１】特開昭６１−２２１７８３号公報
【特許文献２】特開平６−１２４６６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、保存安定性に優れた無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物は、
（Ａ）無機粉体、および
（Ｂ）下記一般式（１）で表される構成単位（以下、構成単位（１）ともいう）を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する結着樹脂
【０００７】
【化１】
2006045270.tif 000002
【０００８】
（式中、Ｒは１価の有機基を示す。）
【０００９】
を含有することを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る転写フィルムは、
（Ａ）無機粉体、および
（Ｂ）構成単位（１）を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する結着樹脂
を含有する無機粉体含有樹脂層を有することを特徴とする。
なお、本発明の転写フィルムは、さらに、レジスト膜が積層されてなるものであっても良い。
【００１１】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上に、（Ａ）無機粉体、および（Ｂ）構成単位（１）を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する結着樹脂を含有する無機粉体含有樹脂層を形成し、当該無機粉体含有樹脂層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴とする。
なお、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、上述したレジスト膜と無機粉体含有樹脂層とが積層された転写フィルムを用いて、基板上に、無機粉体含有樹脂層が基板に当接されるように無機粉体含有樹脂層とレジスト膜とを転写し、無機粉体含有樹脂層とレジスト膜とを一括形成してもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、長期間保存してもゲル化による粘度の上昇を抑制することができる無機粉体含有樹脂組成物が得られる。
上記樹脂組成物から形成された無機粉体含有樹脂層を有する本発明の転写フィルムは転写性に優れており、該転写フィルムを用いることにより、パターン形状に優れたプラズマディスプレイパネル用部材を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法について詳細に説明する。
【００１４】
＜無機粉体含有樹脂組成物＞
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、（Ａ）無機粉体および（Ｂ）結着樹脂を含有してなるペースト状の組成物である。
【００１５】
（Ａ）無機粉体
本発明の無機粉体含有樹脂組成物に用いられる無機粉体は、形成する構成部材の種類によって異なるが、いずれも金属および／または金属酸化物を含有する無機粉体である。
例えば、ＰＤＰを構成する「誘電体層」および「隔壁」を形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、ガラス粉末が挙げられる。上記ガラス粉末は、その軟化点が４００〜６００℃の範囲内にあるものが好ましい。ガラス粉末の軟化点が上記範囲にあることにより、ＰＤＰ用部材を製造する際の焼成工程を良好に行うことができる。その結果、結着樹脂などの有機物質が構成部材中に残留することがないため、アウトガスのパネル内への拡散による蛍光体の寿命低下を引き起こさず、またガラス基板の歪みなどを生じることもない。
【００１６】
本発明の樹脂組成物に好適に用いられるガラス粉末としては、
（１）酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カルシウム系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−ＣａＯ 系）、
（２）酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
（３）酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
（４）酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
（５）酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化チタン系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−ＴｉＯ2系）、
（６）酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
（７）酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2系）、
（８）酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム系（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系）、
（９）酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム系（Ｐ2Ｏ5−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系）、
（１０）酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン系（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＴｉＯ2系）混合物などが挙げられる。また、上記ガラス粉末に、例えば、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガンなどの無機酸化物粉末を混合して用いてもよい。
【００１７】
上記ガラス粉末は、他の構成部材、例えば電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスを形成するための組成物中に含有（併用）されていてもよい。本発明の樹脂組成物に上記ガラス粉末と該ガラス粉末以外の無機粉体とを併用する場合、該ガラス粉末は、無機粉体全量に対して、通常９０質量％以下の量で用いられる。
【００１８】
ＰＤＰを構成する「電極」、例えば、図１における透明電極１０４、バス電極１０５、アドレス電極１０６などを形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ａｇ−Ｐｄ合金、Ｃｕ、Ｃｒなどからなる金属粉が挙げられる。
ＰＤＰを構成する「抵抗体」を形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、ＲｕＯ2などの無機粉体が挙げられる。
ＰＤＰを構成する「蛍光体」を形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、
Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ3+、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｅｕ3+、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：、ＹＶＯ4：Ｅｕ3+、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+、Ｚｎ3（ＰＯ4）2：Ｍｎなどの組成を有する赤色用蛍光物質；
Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｍｎ、ＬａＰＯ4：（Ｃｅ，Ｔｂ）、Ｙ3（Ａｌ，Ｇａ）5Ｏ12：Ｔｂなどの組成を有する緑色用蛍光物質；
Ｙ2ＳｉＯ5：Ｃｅ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+、（Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）10（ＰＯ4）6Ｃｌ2：Ｅｕ2+、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇなどの組成を有する青色用蛍光物質などからなる無機粉体が挙げられる。
【００１９】
ＰＤＰを構成する「カラーフィルター」を形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、Ｆｅ2Ｏ3、Ｐｂ3Ｏ4などの赤色用物質、Ｃｒ2Ｏ3などの緑色用物質、２（Ａｌ2Ｎａ2Ｓｉ3Ｏ10）・Ｎａ2Ｓ4などの青色用物質などからなる無機粉体が挙げられる。
ＰＤＰを構成する「ブラックマトリックス」を形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒなどからなる金属粉を挙げることができる。
【００２０】
（Ｂ）結着樹脂
本発明の組成物における結着樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂が用いられる。本発明の組成物に用いられる結着樹脂は、アルカリ可溶性樹脂を３０〜１００重量％の割合で含有する。なお、本発明における「アルカリ可溶性」とは、後述するアルカリ性のエッチング液によって溶解し、目的とするエッチング処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
【００２１】
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂は、構成単位（１）を有する樹脂、具体的には、α−ヒドロキシメチル基を有するアクリレートを構成モノマーとする樹脂である。
式（１）中、Ｒは１価の有機基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基などのアルキル基を示す。
上記構成単位（１）を有するアルカリ可溶性樹脂を用いることにより、金属および／または金属酸化物との反応が起こりにくく、保存安定性に優れた無機粉体含有樹脂組成物が得られる。
【００２２】
本発明で好ましく用いられるα−ヒドロキシメチル基を有する（メタ）アクリレートとしては、メチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート、ｎ−プロピル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート、ｎ−ブチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレートなどのアルキル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレートが挙げられる。これらの中では、メチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレートおよびｎ−ブチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレートが特に好ましい。
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂において、構成単位（１）の含有量は、３０〜１００モル％、好ましくは４０〜９０モル％である。含有量が上記範囲にあることにより、本発明の効果である保存安定性が充分に発現される。
【００２３】
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂における他の構成モノマーとしては、例えば、下記モノマー（イ）〜（ハ）の群から選ばれるモノマーが挙げられる。
モノマー（イ）：
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル等の水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類などの、α−ヒドロキシメチル基を有する（メタ）アクリレートと共重合可能なアルカリ可溶性官能基含有モノマー類。
モノマー（ロ）：
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等のモノマー（イ）以外の（メタ）アクリレート類；スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類などの、α−ヒドロキシメチル基を有する（メタ）アクリレートと共重合可能なモノマー類。
モノマー（ハ）：
ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基等の重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどのマクロモノマー類：
これらの中では、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルおよび（メタ）アクリル酸エトキシエチルが特に好ましい。
【００２４】
上記アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００〜５，０００，０００であることが好ましく、特に１０，０００〜３００，０００であることが好ましい。Ｍｗが上記範囲にあることにより、十分なアルカリ可溶性と、フィルム成形性が得られる。なお上記Ｍｗは、ＧＰＣ測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
【００２５】
本発明の組成物における上記アルカリ可溶性樹脂を含む結着樹脂の含有量は、上記無機粉体１００重量部に対して、通常１〜５０重量部、好ましくは１〜４０重量部である。結着樹脂の含有量が上記範囲にあることにより、本発明の効果が充分に発現される。
【００２６】
（Ｃ）その他成分
本発明の組成物には、通常、適当な流動性または可塑性および良好な膜形成性を付与するために溶剤が含有される。本発明で用いられる溶剤としては、無機粉体との親和性および結着樹脂の溶解性が良好であり、本組成物に適度な粘性を付与することができるとともに、乾燥により容易に蒸発除去できる溶剤であることが好ましい。
【００２７】
本発明で用いられる溶剤としては、上記特性を有する溶剤であれば特に制限されないが、例えばエーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。
より具体的には、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどが挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の組成物における上記溶剤の含有量は、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択すればよい。
【００２８】
本発明の組成物には、任意成分として、可塑剤、分散剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー等の各種添加剤が含有されていてもよい。
【００２９】
＜転写フィルム＞
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、（Ａ）無機粉体および（Ｂ）構成単位（１）を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する結着樹脂を含有してなる無機粉体含有樹脂層が形成されてなる。前記無機粉体含有樹脂層（以下、単に「樹脂層」ともいう）は、通常、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム状に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥することにより得られる。
【００３０】
転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、無機粉体含有樹脂層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。なお、支持フィルムの厚さとしては、使用に適した範囲であればよく、例えば２０〜１００μｍである。
支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどが挙げられる。
【００３１】
本発明の組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば１０μｍ以上）、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されず、例えば、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法などが挙げられる。
なお、本発明の組成物が塗布される支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、プラズマディスプレイの製造における転写工程の際に、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【００３２】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合（樹脂層中の溶剤含有率）が２質量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、５０〜１５０℃の乾燥温度で、０．５〜３０分間程度である。
上記のようにして支持フィルム上に形成される樹脂層の厚さは、無機粉体の含有率やサイズなどによっても異なるが、例えば５〜５００μｍである。
なお、樹脂層の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどが挙げられる。
【００３３】
また、本発明の転写フィルムは、支持フィルム上にレジスト膜を形成し、その上に無機粉体含有樹脂層を積層形成してもよい。レジスト膜は、後述するレジスト組成物を、無機粉体含有樹脂層の形成に用いる方法と同様の塗布方法で塗布し、乾燥することにより得られる。
【００３４】
＜プラズマディスプレイパネルの製造方法＞
本発明の製造方法においては、〔１〕無機粉体含有樹脂層の形成工程、〔２〕レジスト膜の形成工程、〔３〕レジスト膜の露光工程、〔４〕レジスト膜の現像工程、〔５〕無機粉体含有樹脂層のエッチング工程、〔６〕無機粉体含有樹脂層パターンの焼成工程により、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターまたはブラックマトリックスを形成する。
【００３５】
〔１〕無機粉体含有樹脂層の形成工程
無機粉体含有樹脂層は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を基板上に塗布するか、本発明の転写フィルムを用いて該転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写することによって形成することができる。
転写フィルムを用いる方法によれば、膜厚均一性に優れた樹脂層を容易に形成することができ、形成されるパターンの膜厚均一化を図ることができる。また、上記転写フィルムを用いてｎ回転写を繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。あるいは、ｎ層の樹脂層からなる積層体が支持フィルム上に形成された転写フィルムを用いて基板上に一括転写することにより、上記積層体を形成してもよい。
【００３６】
本発明の組成物を基板上に塗布する方法としては、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法など種々の方法が挙げられる。このような方法により組成物を塗布した後、塗膜を乾燥することにより、樹脂層を形成することができる。なお、上記工程をｎ回繰り返すことでｎ層からなる積層体を形成してもよい。
【００３７】
転写フィルムを用いた転写工程の一例を示せば以下のとおりである。必要に応じて使用される転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に、樹脂層の表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に無機粉体含有樹脂層が転写されて密着した状態となる。
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が４０〜１４０℃、加熱ローラによるロール圧が０．１〜１０ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分である。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
【００３８】
なお、本工程においては、エッチング液に対して溶解性が異なる複数の無機粉体含有樹脂層からなる積層体を基板上に転写形成してもよい。このような積層体をエッチング処理することにより、エッチングに対する深さ方向の異方性が生じるため、矩形状または矩形に近い好ましい断面形状を有するパターンを形成することができる。無機粉体含有樹脂層の積層数は、通常１０以下とされ、好ましくは２〜５とされる。
ここに、ｎ層の無機粉体含有樹脂層からなる積層体を基板上に形成する方法としては、（１）支持フィルム上に形成された無機粉体含有樹脂層（一層）をｎ回にわたって転写する方法、（２）ｎ層の無機粉体含有樹脂層からなる積層体を一括転写する方法のいずれの方法であってもよいが、転写工程の簡略化の観点からは前記（２）の方法が好ましい。
【００３９】
〔２〕レジスト膜の形成工程
この工程においては、形成された無機粉体含有樹脂層の表面にレジスト膜を形成する。このレジスト膜を構成するレジストとしては、ポジ型レジストおよびネガ型レジストのいずれであってもよく、その具体的組成については後述する。
レジスト膜は、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法等種々の方法によってレジストを塗布した後、塗膜を乾燥することにより形成することができる。
レジスト膜の膜厚としては、通常、０．１〜４０μｍ、好ましくは０．５〜２０μｍである。
【００４０】
また、支持フィルム上に形成されたレジスト膜を無機粉体含有樹脂層の表面に転写することによって形成してもよい。このような形成方法によれば、レジスト膜の形成工程における工程改善（高効率化）を図ることができるとともに、形成される無機粉体パターンの膜厚均一性を図ることができる。
さらに好ましくは、上述したレジスト膜と無機粉体含有樹脂層とが積層された転写フィルムを用い、無機粉体含有樹脂層が基板に当接されるように、無機粉体含有樹脂層とレジスト膜とを転写して、〔１〕と〔２〕の工程を一括して行うことができる。
【００４１】
〔３〕レジスト膜の露光工程
この工程においては、無機粉体含有樹脂層上に形成されたレジスト膜の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的照射（露光）して、レジストパターンの潜像を形成する。
ここに、放射線照射装置としては特に限定されないが、前記フォトリソグラフィー法で使用されている紫外線照射装置、半導体および液晶表示装置を製造する際に使用されている露光装置などが挙げられる。
なお、レジスト膜を転写により形成した場合には、該膜上に被覆されている支持フィルムを剥離しない状態で露光を行うのが好ましい。
【００４２】
〔４〕レジスト膜の現像工程
この工程においては、露光されたレジスト膜を現像処理することにより、レジストパターン（潜像）を顕在化させる。
ここに、現像処理条件としては、レジスト膜の種類などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、現像装置などを適宜選択することができる。
この現像工程により、レジスト残留部とレジスト除去部とから構成されるレジストパターン（露光用マスクに対応するパターン）が形成される。
このレジストパターンは、次工程（エッチング工程）におけるエッチングマスクとして作用するものであり、レジスト残留部の構成材料（光硬化されたレジスト）は、無機粉体含有樹脂層の構成材料よりもエッチング液に対する溶解速度が小さいことが必要である。
【００４３】
〔５〕無機粉体含有樹脂層のエッチング工程
この工程においては、無機粉体含有樹脂層をエッチング処理し、レジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂層のパターンを形成する。
すなわち、無機粉体含有樹脂層のうち、レジストパターンのレジスト除去部に対応する部分がエッチング液に溶解されて選択的に除去され、無機粉体含有樹脂層におけるレジスト除去部に対応する部分でガラス基板表面が露出する。これにより、樹脂層残留部と樹脂層除去部とから構成される無機粉体含有樹脂層パターンが形成される。
ここに、エッチング処理条件としては、無機粉体含有樹脂層の種類などに応じて、エッチング液の種類・組成・濃度、処理時間、処理温度、処理方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、処理装置などを適宜選択することができる。
【００４４】
なお、エッチング液として、現像工程で使用した現像液と同一の溶液を使用することができるよう、レジスト膜および無機粉体含有樹脂層の種類を選択することにより、現像工程と、エッチング工程とを連続的に実施することが可能となり、工程の簡略化による製造効率の向上を図ることができる。
ここに、レジストパターンを構成するレジスト残留部は、エッチング処理の際に徐々に溶解され、無機粉体含有樹脂層パターンが形成された段階（エッチング処理の終了時）で完全に除去されるものであることが好ましい。
なお、エッチング処理後にレジスト残留部の一部または全部が残留していても、当該レジスト残留部は、次の焼成工程で除去される。
【００４５】
〔６〕無機粉体含有樹脂層パターンの焼成工程
この工程においては、無機粉体含有樹脂層パターンを焼成処理して、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターまたはブラックマトリックスを形成する。これにより、材料層残留部中の有機物質が焼失して、ガラス層、金属層、蛍光体層などの無機物層が形成され、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターまたはブラックマトリックスのパターンが形成されてなるパネル材料を得ることができる。
ここに、焼成処理の温度としては、樹脂層残留部中の有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常、４００〜６００℃とされる。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間とされる。
【００４６】
以下に、前記の各工程に用いられる材料、各種条件などについて説明する。
＜レジスト膜（レジスト組成物）＞
本発明の製造方法においては、基板上に転写された無機粉体含有樹脂層上にレジスト膜が形成され、当該レジスト膜に露光処理および現像処理を施すことにより、前記無機粉体含有樹脂層上にレジストパターンが形成される。
レジスト膜を形成するために使用するレジスト組成物としては、（１）アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物、（２）有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物、（３）水性現像型感放射線性レジスト組成物などを例示することができる。以下、これらのレジスト組成物について説明する。
【００４７】
（１）アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂と感放射線性成分を必須成分として含有してなる。
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物を構成するアルカリ可溶性樹脂としては、無機粉体含有樹脂組成物組成物の結着樹脂成分を構成するものとして例示したアルカリ可溶性樹脂を挙げることができる。
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物を構成する感放射線性成分としては、例えば、（イ）多官能性モノマーと光重合開始剤との組み合わせ、（ロ）メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせなどを好ましいものとして例示することができ、上記（イ）の組み合わせのうち、多官能性（メタ）アクリレートと光重合開始剤との組み合わせが特に好ましい。
【００４８】
感放射線性成分を構成する多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４９】
また、感放射線性成分を構成する光重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｒｅｔ−ブチルパーオキシド、ｔｒｅｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００５０】
このアルカリ現像型感放射線性レジスト組成物における感放射線性成分の含有割合としては、アルカリ可溶性樹脂１００重量部当たり、通常１〜３００重量部とされ、好ましくは１０〜２００重量部である。
また、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物については、良好な膜形成性付与するために、適宜有機溶剤が含有される。かかる有機溶剤としては、無機粉体含有樹脂組成物組成物を構成するものとして例示した溶剤を挙げることができる。
【００５１】
（２）有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物：
有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物は、天然ゴム、合成ゴム、およびこれらを環化されてなる環化ゴムなどから選ばれた少なくとも１種と、アジド化合物とを必須成分として含有してなる。
有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物を構成するアジド化合物の具体例としては、4，４’−ジアジドベンゾフェノン、４，４’−ジアジドジフェニルメタン、４，４’−ジアジドスチルベン、４，４’−ジアジドカルコン、４，４’−ジアジドベンザルアセトン、２，６−ジ（４’−アジドベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ジ（４’−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノンなどを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
また有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物には、良好な膜形成性を付与するために、通常有機溶剤が含有される。かかる有機溶剤としては、無機粉体含有樹脂組成物組成物を構成するものとして例示した溶剤を挙げることができる。
【００５２】
（３）水性現像型感放射線性レジスト組成物：
水性現像型感放射線性レジスト組成物は、例えばポリビニルアルコールなどの水溶性樹脂と、ジアゾニウム化合物および重クロム酸化合物から選ばれた少なくとも１種とを必須成分として含有してなる。
【００５３】
上述したように、レジスト膜の現像に用いる現像液と、無機粉体含有樹脂層のエッチング工程に使用するエッチング液とを同一の溶液にすることが好ましいことから、レジスト組成物としては、（１）アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物を用いることが好ましい。
本発明の製造方法において使用するレジスト組成物には、任意成分として、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー、蛍光体、顔料、染料などの各種添加剤が含有されていてもよい。
【００５４】
＜露光用マスク＞
レジスト膜の露光工程において使用される露光用マスクの露光パターンとしては、材料によって異なるが、一般的に１０〜５００μｍ幅のストライプである。
【００５５】
＜現像液＞
レジスト膜の現像工程で使用される現像液としては、レジスト膜（レジスト組成物）の種類に応じて適宜選択することができる。具体的には、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物によるレジスト膜にはアルカリ現像液を使用することができ、有機溶剤型感放射線性レジスト組成物によるレジスト膜には有機溶剤現像液を使用することができ、水性現像型感放射線性レジスト組成物によるレジスト膜には水性現像液を使用することができる。
【００５６】
アルカリ現像液の有効成分としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙げることができる。
レジスト膜の現像工程で使用されるアルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物の１種または２種以上を水などに溶解させることにより調整することができる。ここに、アルカリ性現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常０．００１〜１０重量％とされ、好ましくは０．０１〜５重量％とされる。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００５７】
有機溶剤現像液の具体例としては、トルエン、キシレン、酢酸ブチルなどの有機溶剤を挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。なお、有機溶剤現像液による現像処理がなされた後は、必要に応じて貧溶媒によるリンス処理が施される。
水性現像液の具体例としては、水、アルコールなどを挙げることができる。
【００５８】
上述したように、レジスト膜の現像に用いる現像液と、無機粉体含有樹脂層のエッチング工程に使用するエッチング液とを同一の溶液にすることが好ましいことから、アルカリ現像液を用いることが好ましい。
【００５９】
＜エッチング液＞
無機粉体含有樹脂層のエッチング工程で使用されるエッチング液としては、アルカリ性溶液であることが好ましい。これにより、無機粉体含有樹脂層に含有されるアルカリ可溶性樹脂を容易に溶解除去することができる。
なお、無機粉体含有樹脂層に含有される無機粉体は、アルカリ可溶性樹脂により均一に分散されているため、アルカリ性溶液で結着樹脂であるアルカリ可溶性樹脂を溶解させ、洗浄することにより、無機粉体も同時に除去される。
ここに、エッチング液として使用されるアルカリ性溶液としては、現像液と同一組成の溶液を挙げることができる。
そして、エッチング液が、現像工程で使用するアルカリ現像液と同一の溶液である場合には、現像工程と、エッチング工程とを連続的に実施することが可能となり、工程の簡略化による製造効率の向上を図ることができる。
なお、アルカリ性溶液によるエッチング処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００６０】
また、エッチング液として、無機粉体含有樹脂層の結着樹脂を溶解することのできる有機溶剤を使用することもできる。かかる有機溶剤としては、無機粉体含有樹脂組成物組成物を構成するものとして例示した溶剤を挙げることができる。
なお、有機溶剤によるエッチング処理がなされた後は、必要に応じて貧溶媒によるリンス処理が施される。
【実施例】
【００６１】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において、「部」および「％」は、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
また、重量平均分子量（Ｍｗ）は、東ソー株式会社製ゲルパーミィエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）により測定したポリスチレン換算の平均分子量である。
【００６２】
〔合成例１〕
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部、メチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート７０部、２−エチルヘキシルメタクリレート３０部、アゾビスイソブチロニトリル１．５部および２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン２部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。攪拌後、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液は、重合率が８７％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体〔以下、「ポリマー（Ａ）」という。〕のＭｗは２２，０００であった。
【００６３】
〔合成例２〕
合成例１において、メチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート７０部を５０部とし、２−エチルヘキシルメタクリレート３０部の代わりに、エトキシエチルメタクリレート５０部を用いた以外は合成例１と同様にして、重合率が８８％であり、Ｍｗが３１，０００の共重合体〔以下、「ポリマー（Ｂ）」という。〕を得た。
【００６４】
〔合成例３〕
合成例１において、３−エトキシプロピオン酸エチル２００部、ｎ−ブチルメタクリレート８５部、メタクリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル１部からなる単量体組成物をオートクレーブに仕込んだこと以外は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。ここに、重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体〔以下、「ポリマー（Ｃ）」という。〕の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０，０００であった。
【００６５】
実施例１
無機粉体として、比表面積１．８ｍ２／ｇのＡｇ粉体（導電性粉体）１００部および平均粒径３μｍのＢｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスフリット（不定形、軟化点５２０℃）１０部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ａ）３０部、分散剤としてオレイン酸１部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート１０部、並びに溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１００部をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（４００メッシュ、３８μｍ径）でフィルタリングすることにより、電極形成用の無機粉体含有樹脂組成物〔以下、「無機粉体含有樹脂組成物組成物（１）」という。〕を調製した。
次いで、得られた無機粉体含有樹脂組成物（１）を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１００℃で３分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、これにより、厚さ１０μｍの電極形成用の無機粉体含有樹脂層〔以下、「無機粉体含有樹脂層（１）」という。〕が支持フィルム上に形成されてなる転写フィルム〔以下、「転写フィルム（１）」という。〕を作製した。
【００６６】
実施例２
無機粉体として、比表面積１．８ｍ２／ｇのＡｇ粉体（導電性粉体）１００部および平均粒径３μｍのＢｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスフリット（不定形、軟化点５２０℃）１０部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ｂ）３０部、分散剤としてオレイン酸１部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート１０部、並びに溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１００部をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（４００メッシュ、３８μｍ径）でフィルタリングすることにより、電極形成用の無機粉体含有樹脂組成物〔以下、「無機粉体含有樹脂組成物組成物（２）」という。〕を調製した。
次いで、得られた無機粉体含有樹脂組成物（２）を用いたこと以外は作製例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物を塗布して溶剤を完全に除去することにより、厚さ１０μｍの電極形成用の無機粉体含有樹脂層〔以下、「無機粉体含有樹脂層（２）」という。〕が支持フィルム上に形成されてなる転写フィルム〔以下、「転写フィルム（２）」という。〕を作製した。
【００６７】
作製例
アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ｃ）５０部と、多官能性モノマー（感放射線性成分）としてペンタエリスリトールテトラアクリレート４０部と、光重合開始剤（感放射線性成分）として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン５部と、溶剤として３−エトキシプロピオン酸エチル１５０部とを混練りすることにより、ペースト状のアルカリ現像型感放射線性レジスト組成物を調製した。
【００６８】
次いで、得られたレジスト組成物を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、これにより、厚さ５μｍのレジスト膜〔以下、「レジスト膜（１）」という。〕が支持フィルム上に形成されてなる転写フィルム〔以下、「転写フィルム（３）」という。〕を作製した。
【００６９】
実施例３
下記（イ）〜（ハ）の操作により、無機粉体含有樹脂層（２層）と、レジスト膜との積層膜が支持フィルム上に形成されてなる転写フィルム〔以下、「転写フィルム（４）」という。〕を作製した。
（イ）上記作製例で用いたレジスト組成物を離型処理したＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にロールコータを用いて塗布し、塗膜を１１０℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ５μｍのレジスト膜〔以下、「レジスト膜（１’）」という。〕を支持フィルム上に形成した。
（ロ）実施例２で使用した無機粉体含有樹脂組成物（２）をレジスト膜（１’）上にロールコータを用いて塗布し、塗膜を１１０℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ１０μｍの無機粉体含有樹脂層〔以下、「無機粉体含有樹脂層（２’）」という。〕をレジスト膜（１’）上に形成した。
（ハ）実施例１で使用した無機粉体含有樹脂組成物（１）を無機粉体含有樹脂層（２’）上にロールコータを用いて塗布し、塗膜を１１０℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ１０μｍの無機粉体含有樹脂層〔以下、「無機粉体含有樹脂層（１’）」という。〕を無機粉体含有樹脂層（２’）上に形成した。
【００７０】
実施例４
〔無機粉体含有樹脂層の形成工程〕
６インチパネル用のガラス基板の表面に、電極形成用の無機粉体含有樹脂層（１）の表面が当接されるよう転写フィルム（１）を重ね合わせ、この転写フィルム（１）を加熱ローラにより熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。熱圧着処理の終了後、無機粉末分散ペースト層（１）から支持フィルムを剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に無機粉体含有樹脂層（１）が転写されて密着した状態となった。この無機粉体含有樹脂層について膜厚を測定したところ１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【００７１】
次いで、無機粉体含有樹脂層（１）の表面に、無機粉体含有樹脂層（２）の表面が当接されるよう転写フィルム（２）を重ね合わせ、この転写フィルム（２）を加熱ローラにより上記と同一の圧着条件により熱圧着した。熱圧着処理の終了後、無機粉体含有樹脂層（２）から支持フィルムを剥離除去した。これにより、無機粉体含有樹脂層（１）の表面に無機粉体含有樹脂層（２）が転写されて密着した状態となった。ガラス基板上に形成された無機粉体含有樹脂層（１）〜（２）の積層体について膜厚を測定したところ２０μｍ±２μｍの範囲にあった。
【００７２】
〔レジスト膜の形成工程〕
無機粉体含有樹脂層（２）の表面に、レジスト膜（１）の表面が当接されるよう転写フィルム（３）を重ね合わせ、この転写フィルム（３）を加熱ローラ上記と同一の圧着条件により熱圧着した。熱圧着処理の終了後、レジスト膜（１）から支持フィルムを剥離除去した。これにより、無機粉体含有樹脂層（２）の表面にレジスト膜（１）が転写されて密着した状態となった。
無機粉体含有樹脂層（２）の表面に転写されたレジスト膜（１）について膜厚を測定したところ５μｍ±１μｍの範囲にあった。
【００７３】
〔レジスト膜の露光工程〕
無機粉体含有樹脂層の積層体上に形成されたレジスト膜（１）に対して、露光用マスク（７０μｍ幅のストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。ここに、照射量は４００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【００７４】
〔レジスト膜の現像工程〕
露光処理されたレジスト膜（１）に対して、０．３重量％の水酸化ナトリウム水溶液（３０℃）を現像液とするシャワー法による現像処理を２０秒かけて行った。次いで超純水による水洗処理を行い、これにより、紫外線が照射されていない未硬化のレジストを除去し、レジストパターンを形成した。
【００７５】
〔無機粉体含有樹脂層のエッチング工程〕
上記の工程に連続して、０．３重量％の水酸化ナトリウム水溶液（３０℃）をエッチング液とするシャワー法によるエッチング処理を２分かけて行った。
次いで、超純水による水洗処理および乾燥処理を行った。これにより、材料層残留部と、材料層除去部とから構成される無機粉体含有樹脂層のパターンを形成した。
【００７６】
〔無機粉体含有樹脂層の焼成工程〕
無機粉体含有樹脂層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これにより、ガラス基板の表面に電極が形成されてなるパネル材料が得られた。
得られたパネル材料における電極の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定したところ、底面の幅が５０μｍ±２μｍ、高さが１０μｍ±１μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであった。
【００７７】
実施例５
〔積層膜の転写工程〕
実施例４で使用したのと同様のガラス基板の表面に、無機粉体含有樹脂層（１’）の表面が当接されるよう転写フィルム（４）を重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラに熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を１２０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。熱圧着処理の終了後、積層膜〔レジスト膜（１’）の表面〕から支持フィルムを剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に積層膜が転写されて密着した状態となった。この積層膜〔無機粉体含有樹脂層（２層）と、レジスト膜との積層膜〕ついて膜厚を測定したところ２５μｍ±２μｍの範囲にあった。
【００７８】
〔レジスト膜の露光工程・現像工程〕
無機粉体含有樹脂層の積層体上に形成されたレジスト膜（１’）に対して、実施例４と同様の条件で、露光処理（紫外線照射）、水酸化カリウム水溶液による現像処理および水洗処理を行うことにより、無機粉体含有樹脂層の積層体上にレジストパターンを形成した。
【００７９】
〔無機粉体含有樹脂層のエッチング工程〕
上記の工程に連続して、実施例４と同様の条件で、水酸化カリウム水溶液によるエッチング処理、水洗処理および乾燥処理を行うことにより、無機粉体含有樹脂層のパターンを形成した。
【００８０】
〔無機粉体含有樹脂層パターンの焼成工程〕
無機粉体含有樹脂層パターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これにより、ガラス基板の表面に電極が形成されてなるパネル材料が得られた。
得られたパネル材料における電極の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定したところ、底面の幅が５０μｍ±２μｍ、高さが１０μｍ±１μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであった。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】一般的な交流型ＰＤＰを示す説明用断面図である。
【符号の説明】
【００８２】
１０１    ガラス基板                  １０２    ガラス基板
１０３    背面隔壁                    １０４    透明電極
１０５    バス電極                    １０６    アドレス電極
１０７    蛍光体                      １０８    誘電体層
１０９    誘電体層                    １１０    保護膜
１１１    前面隔壁                    
【図１】
2006045270.tif 000006