(57)【要約】【課題】メインシールであるエラストマー製シール５のプラズマ照射側にプラズマシールを設けた構造の耐プラズマ用シール１において、耐プラズマ性およびシール性の双方を十分に発揮することが可能な耐プラズマ用シールを提供する。【解決手段】エラストマー製シール５のプラズマ照射側に、プラズマを乱反射させて減衰させる非接触のラビリンスシール６、またはプラズマの電荷を吸収してプラズマを減衰させる非接触のラビリンスシール６を設けることにした。具体例としてラビリンスシール６は、プラズマを乱反射させる凹凸表面７，８を有し、かつ凹凸表面７，８を導電性材料にて成形されている。【選択図】図５
2006194303.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メインシールであるエラストマー製シール（５）のプラズマ照射側に、プラズマを乱反射させて減衰させる非接触のラビリンスシール（６）を設けたことを特徴とする耐プラズマ用シール。
【請求項２】
メインシールであるエラストマー製シール（５）のプラズマ照射側に、プラズマの電荷を吸収してプラズマを減衰させる非接触のラビリンスシール（６）を設けたことを特徴とする耐プラズマ用シール。
【請求項３】
メインシールであるエラストマー製シール（５）のプラズマ照射側に非接触のラビリンスシール（６）を設け、
前記ラビリンスシール（６）は、プラズマを乱反射させる凹凸表面（７）（８）を有し、かつ前記凹凸表面（７）（８）を導電性材料にて成形されていることを特徴とする耐プラズマ用シール。
【請求項４】
請求項１、２または３の何れかに記載した耐プラズマ用シールにおいて、
ラビリンスシール（６）は、エラストマー製シール（５）を装着するハウシング（２）（３）とは別体に成形されて前記ハウジング（２）（３）に後付けされるラビリンス形成部材（１１）（１２）にて形成されていることを特徴とする耐プラズマ用シール。
【請求項５】
請求項４の耐プラズマ用シールにおいて、
ラビリンス形成部材（１１）（１２）は、導電性材料にて成形されていることを特徴とする耐プラズマ用シール。
【請求項６】
請求項４の耐プラズマ用シールにおいて、
ラビリンス形成部材（１１）（１２）は、金型にて成形される材料にて成形されていることを特徴とする耐プラズマ用シール。
【請求項７】
請求項４の耐プラズマ用シールにおいて、
ラビリンス形成部材（１１）（１２）は、導電性樹脂材料にて成形されていることを特徴とする耐プラズマ用シール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、密封装置の一種である耐プラズマ用シールに係り、更に詳しくは、メインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側に、このエラストマー製シールをプラズマから保護するためのプラズマシールを設けた構造の耐プラズマ用シールに関するものである。本発明のシールは、半導体産業、液晶産業またはセンサー産業等の電子産業等でプラズマを使用する分野に用いられる。また、核融合施設等で用いることも可能である。
【背景技術】
【０００２】
エッチング、アッシング、プラズマＣＶＤ等の半導体を製造する装置でプラズマを使用する装置のシール部分には、従来から、図９に示すように、プラズマに対する耐性を備えたＦＦＫＭゴムまたはＦＫＭゴムよりなるＯリング５１が使用されている。上記装置はプラズマを照射して半導体デバイス等を製造するものであって、プラズマの照射が真空雰囲気で行なわれることから装置の内部を大気圧と遮断する必要があり、よってこのためにプラズマに対する耐性を備えた上記Ｏリング５１が用いられている。
【０００３】
しかしながら、プラズマはそのエネルギーが非常に強いことから、このプラズマの影響を受けて上記耐性を備えたＦＦＫＭやＦＫＭ等のＯリング５１であっても図１０に示すように削られ、場合によっては損失してしまい、シール機能が低下することがある。特に装置の開閉部では、開閉による金属コンタミの発生の可能性があり、発塵対策として多くの場合、開閉部に間隙（ＧＡＰ）５２が設けられていることから（半導体製造装置等は金属コンタミを極端に嫌うことがその背景にある）、この間隙５２をプラズマ（励起したラジカル種）が通り、Ｏリング５１にアタックする。
【０００４】
また、損失したＯリング片が異物となって半導体デバイスのパーティクルの原因となることから、半導体デバイスの機能を著しく低下させることがある。特に近年は、半導体製造におけるプラズマ条件が徐々に厳しくなってきており（プラズマ周波数の上昇）、これに対応すべく耐プラズマ性およびシール性の双方に優れたシールの開発が求められている。
【０００５】
また、プラズマに対する耐性のあるものとして、上記ゴム製Ｏリング５１に代えて、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）よりなるシールを用いることがあるが、ＰＴＦＥは弾性を備えていないために、シール性が余り良くない。
【０００６】
また、従来、耐プラズマ性シールとして特開２００２−１６１２６４号公報に記載されたものや、特開２０００−３４４６６号公報に記載されたものが知られているが、これらの従来技術は、耐プラズマ性を向上させるべくエラストマー製シールの組成構造に改良を加えたものであって、本発明のようにメインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側にプラズマシールを併設するものではない。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−１６１２６４号公報
【特許文献２】特開２０００−３４４６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は以上の点に鑑みて、耐プラズマ性およびシール性の双方を十分に発揮することが可能な耐プラズマ用シールを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明の請求項１による耐プラズマ用シールは、メインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側に、プラズマを乱反射させて減衰させる非接触のラビリンスシールを設けたことを特徴とするものである。
【００１０】
また、本発明の請求項２による耐プラズマ用シールは、メインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側に、プラズマの電荷を吸収してプラズマを減衰させる非接触のラビリンスシールを設けたことを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明の請求項３による耐プラズマ用シールは、メインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側に非接触のラビリンスシールを設け、前記ラビリンスシールは、プラズマを乱反射させる凹凸表面を有し、かつ前記凹凸表面を導電性材料にて成形されていることを特徴とするものである。
【００１２】
また、本発明の請求項４による耐プラズマ用シールは、上記した請求項１、２または３の何れかに記載した耐プラズマ用シールにおいて、ラビリンスシールは、エラストマー製シールを装着するハウシングとは別体に成形されて前記ハウジングに後付けされるラビリンス形成部材にて形成されていることを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の請求項５による耐プラズマ用シールは、上記した請求項４の耐プラズマ用シールにおいて、ラビリンス形成部材は、導電性材料にて成形されていることを特徴とするものである。
【００１４】
また、本発明の請求項６による耐プラズマ用シールは、上記した請求項４の耐プラズマ用シールにおいて、ラビリンス形成部材は、金型にて成形される材料にて成形されていることを特徴とするものである。
【００１５】
更にまた、本発明の請求項７による耐プラズマ用シールは、上記した請求項４の耐プラズマ用シールにおいて、ラビリンス形成部材は、導電性樹脂材料にて成形されていることを特徴とするものである。
【００１６】
上記構成を備えた本発明の請求項１による耐プラズマ用シールにおいては、メインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側に、プラズマを乱反射させて減衰させる非接触のラビリンスシールが設けられているために、このラビリンスシールにおいてプラズマが乱反射し、このときそのエネルギーや電子密度が低減せしめられる。
【００１７】
また、上記構成を備えた本発明の請求項２による耐プラズマ用シールにおいては、メインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側に、プラズマの電荷を吸収してプラズマを減衰させる非接触のラビリンスシールが設けられているために、このラビリンスシールにおいてプラズマの電荷が吸収され、プラズマが中性粒子（分子）化する。
【００１８】
また、上記構成を備えた本発明の請求項３による耐プラズマ用シールにおいては、メインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側に非接触のラビリンスシールが設けられ、このラビリンスシールが、プラズマを乱反射させる凹凸表面を有し、かつ凹凸表面を導電性材料にて成形されているために、凹凸表面においてプラズマが乱反射し、このときそのエネルギーや電子密度が低減せしめられる。また、凹凸表面の導電性材料によってプラズマの電荷が吸収され、プラズマが中性粒子（分子）化する。
【００１９】
上記請求項１、２または３による耐プラズマ用シールにおいて、ラビリンスシールはこれを、エラストマー製シールを装着するハウシングに直接形成しても良いが、この場合には大型のハウジングに細かな加工を施すことになるために、加工に多くの手間とコストがかかることになる。そこで、本発明の請求項４による耐プラズマ用シールにおいては、ラビリンスシールをハウジングとは別体に成形し、ハウジングに対して後付けすることにした。ラビリンスシールは間隙を含むものであるので、構成部品としてはラビリンス形成部材を加えることにする。
【００２０】
そして、このラビリンス形成部材を導電性材料にて成形すると、請求項２または３に係る発明と同様にプラズマ電荷吸収作用を奏し（請求項５）、金型にて成形される材料にて成形すると、その成形が比較的容易であることから、成形にかかる手間とコストを低減させることが可能となる（請求項６）。また、導電性樹脂材料にて成形すると、この導電性樹脂材料が導電性材料（請求項５）でありかつ金型にて成形される材料（請求項６）であることから、請求項５に係る作用と請求項６に係る作用とを兼ね備えることが可能となる（請求項７）。
【発明の効果】
【００２１】
本発明は、以下の効果を奏する。
【００２２】
すなわち、本発明の請求項１による耐プラズマ用シールにおいては、上記したようにメインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側に配置されるラビリンスシールにおいてプラズマが乱反射し、このときそのエネルギーや電子密度が低減せしめられるために、プラズマがエラストマー製シールに到達したときには、そのエラストマー破壊力が低減されているので、エラストマー製シールをプラズマから保護することができる。メインのシール性は、適宜弾性を有するエラストマー製シールにて発揮される。したがって所期の目的どおり、耐プラズマ性およびシール性の双方を発揮する耐プラズマ用シールを提供することができる。
【００２３】
また、本発明の請求項２による耐プラズマ用シールにおいては、上記したようにメインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側に配置されるラビリンスシールにおいてプラズマの電荷が吸収され、プラズマが中性粒子化するために、やはりエネルギーや電子密度が低減せしめられ、プラズマがエラストマー製シールに到達したときにはエラストマー破壊力が低減されているので、エラストマー製シールをプラズマから保護することができる。メインのシール性は、適宜弾性を有するエラストマー製シールにて発揮される。したがって所期の目的どおり、耐プラズマ性およびシール性の双方を発揮する耐プラズマ用シールを提供することができる。
【００２４】
また、本発明の請求項３による耐プラズマ用シールにおいては、上記したようにメインシールであるエラストマー製シールのプラズマ照射側に配置されるラビリンスシールの凹凸表面においてプラズマが乱反射し、このときそのエネルギーや電子密度が低減せしめられるために、プラズマがエラストマー製シールに到達したときには、そのエラストマー破壊力が低減されているので、エラストマー製シールをプラズマから保護することができる。また併せて、ラビリンスシールにおける凹凸表面の導電性材料においてプラズマの電荷が吸収され、プラズマが中性粒子化するために、やはりエネルギーや電子密度が低減せしめられ、プラズマがエラストマー製シールに到達したときにはエラストマー破壊力が低減されているので、エラストマー製シールをプラズマから保護することができる。当該請求項に係る発明では、凹凸表面によるプラズマの乱反射と、導電性材料によるプラズマ電荷の吸収とが双方なされるので、エネルギーや電子密度の低減効果が頗る大きい。メインのシール性については、上記と同様、適宜弾性を有するエラストマー製シールにて発揮される。したがって所期の目的どおり、耐プラズマ性およびシール性の双方を発揮し、しかも一段と優れた耐プラズマ性を発揮することが可能な耐プラズマ用シールを提供することができる。
【００２５】
また、本発明の請求項４による耐プラズマ用シールにおいては、ラビリンスシールが、エラストマー製シールを装着するハウシングとは別体に成形されてハウジングに後付けされるラビリンス形成部材にて形成されているために、その製作にかかる手間とコストを、ハウジングに直接設ける場合よりも低減させることができる。
【００２６】
また、本発明の請求項５による耐プラズマ用シールにおいては、ラビリンス形成部材が導電性材料にて成形されているために、請求項２または３に係る発明と同様、プラズマ電荷吸収作用による耐プラズマ性を発揮することができる。
【００２７】
また、本発明の請求項６による耐プラズマ用シールにおいては、ラビリンス形成部材が金型にて成形される材料にて成形されているために、その成形が比較的容易で、成形にかかる手間とコストを低減させることができる。
【００２８】
更にまた、本発明の請求項７による耐プラズマ用シールにおいては、ラビリンス形成部材が導電性樹脂材料にて成形性されているために、請求項５に係る作用効果と請求項６に係る作用効果とを双方発揮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
尚、本発明には、以下の実施形態が含まれる。
【００３０】
（１）  プラズマ側がくる位置にラビリンスシールを１個または数個設置する。ラビリンスの形状（断面形状）は、三角形状、四角形状、円（半円）形状等とする。また、金属、導電性樹脂等との組み合わせとしても良い。その後ろ側にエラストマー製のシールを設置する。励起したラジカル（プラズマ）は、設置されたラビリンスシールの各壁に乱反射し、何度も衝突する。壁は、金属、導電性樹脂等で構成されており、励起したラジカル（プラズマ）は電荷を失い、中性粒子（分子）化する。エラストマー製シールのところにラジカル（プラズマ）が到達した際、エネルギーや電子密度は低い状態で到達する。
【００３１】
（２）  プラズマ中には、中性の気体原子、分子および荷電粒子としての電子、イオンが多数存在する。これらの粒子間で衝突が頻繁に起こっている。原子または外部からエネルギーを与えると、内部エネルギーがより高い状態に遷移する。この状態を励起状態という。プラズマ中の電子・イオンの消失過程として、電子が原子に付着して起こる「負イオン」の生成と、正イオンと電子または負イオンが中和して原子や分子に戻る「再結合」がある。通常の溝の場合、ＧＡＰ部分の隙間を、ラジカル（プラズマ）が通り、Ｏリングをアタックする。ラジカル（プラズマ）は、Ｏリング部分に到達するまで障害がないため、直接接触し、著しい劣化を生じる。シール部分の手前側にラビリンスシールを設けることで、励起種であるラジカル（プラズマ）は、ラビリンスの中で、乱反射を起こし、各壁に衝突する。壁は、金属等で構成されており、励起したラジカル（プラズマ）は、電荷を失い、中性粒子（分子）化する。エラストマー製シールのところにラジカル（プラズマ）が到達した際、エネルギーや電子密度は低い状態となり、エラストマー製シールが劣化しにくくなる。また、メンテナンスのために、狭い入口のアリ溝に入ったＯリングを取り外すという困難な作業もしなくて良い。
【００３２】
（３−１）  ラビリンスシールを耐プラズマ性の良い材質のもので別体にする（ＰＴＦＥ樹脂、金属、導電性樹脂を含む）。効果・・・装置にわざわざ複雑な凹凸の加工をする必要がなく、コストを低減できる。
（３−２）  上記（３−１）において、別体部分を導電性の良い材質にする（金属、導電性樹脂を含む）。効果・・・励起したラジカル（プラズマ）は電荷を失い、中性粒子（分子）化する。
（３−３）  上記（３−１）において、別体部分を樹脂にする（ＰＴＦＥ樹脂、導電性樹脂を含む）。効果・・・成型したものを装置に取り付けるだけで良い。複雑なラビリンス凹凸部分の加工が成型で済む。
（３−４）  上記（３−２）（３−３）の合体案として、別体部分を導電性樹脂材にする。効果・・・上記（３−１）〜（３−３）の効果を全て奏する。
【実施例】
【００３３】
つぎに本発明の実施例を図面にしたがって説明する。
【００３４】
第一実施例・・・
図１は、本発明の第一実施例に係る耐プラズマ用シール１の要部断面を示している。当該実施例に係る耐プラズマ用シール１は、半導体製造装置、更に具体的には半導体用真空ポンプの排気部、吸気部もしくはチャンバー部またはエッチング、アッシングもしくはプラズマＣＶＤ装置の配管部もしくはチャンバー部等に用いられるものであって、以下のように構成されている。
【００３５】
すなわち、当該耐プラズマ用シール１は、所定の大きさの間隙Ｇを介して互いに対向する一対のハウジング（一対の装着部材）２，３間をシールするものであって、当該シール１を装着する一方のハウジング２の対向面２ａにシール装着溝４が設けられて、このシール装着溝４にエラストマー製シール５が装着されており、このエラストマー製シール５から見てプラズマが照射されてくる側（図上左側）に、プラズマを乱反射させて減衰させる非接触のラビリンスシール（ラビリンス部または狭隘部とも称する）６がプラズマシールとして設けられている。ハウジング２，３は一般に導電性を備えた金属によって成形されているので、上記ラビリンスシール６はプラズマの電荷を吸収してプラズマを減衰させるものでもある。ハウジング２，３間の間隙Ｇは一般に０．２〜０．３ｍｍ程度の大きさに設定されている。
【００３６】
エラストマー製シール５は、具体的にはＯリングよりなり、所定のエラストマー（ゴム状弾性材）、例えばＦＫＭゴム、更に具体的には無機成分レス耐プラズマＦＫＭゴムによって断面円形状に成形されており、装着時に一対のハウジング２，３間にて圧縮されてシール作用を発揮することにより大気の流入を防止する。また、このエラストマー製シール５を装着するシール装着溝４は、その開口幅が底面幅よりも狭い蟻溝状とされており、エラストマー製シール５の最大幅よりも開口幅の方が狭く設定されることによりエラストマー製シール５の抜け止めをなしている。
【００３７】
非接触のラビリンスシール６は、一対のハウジング２，３の対向面２ａ，３ａに互いに対向するように設けられた凹凸表面７，８の組み合わせよりなり、当該実施例では、この凹凸表面７，８が断面三角形状の凹部７ａ，８ａを複数（図では３箇所ずつ）設けることによって形成されている。一方のハウジング２側の凹部７ａと他方のハウジング３側の凹部８ａは、互いに対向するよう配置しても良いが、当該実施例では互い違いとなるように配置されている。
【００３８】
このようなラビリンスシール６が設けられた当該耐プラズマ用シール１に対してプラズマが照射されると、照射されたプラズマはラビリンスシール６の凹凸表面７，８の非平行壁のあちらこちらに衝突して乱反射し、このときそのエネルギーないし電子密度を徐々に低減せしめられる。また、ハウジング２，３の材質に伴って凹凸表面７，８が導電性材料である金属にて成形されているので、プラズマは衝突時に電荷を吸収されて中性粒子（分子）化し、これによってもエネルギーないし電子密度を低減せしめられる。また、一般に非接触のラビリンスシール６は圧力損失を発生させる抵抗体であるので、この抵抗体としての作用によってもプラズマはエネルギーないし電子密度を低減せしめられる。したがって、プラズマがラビリンスシール６を通過してエラストマー製シール５に到達したときには、そのエラストマー破壊力が随分と低減されているので、これによりエラストマー製シール５をプラズマから保護し、その劣損を抑えることができる。また当該シール１では、メインのシール性が適宜弾性を有するエラストマー製シール５によって十分に確保される。したがってこれらのことから所期の目的どおり、耐プラズマ性およびシール性の双方を発揮することが可能な耐プラズマ用シール１を提供することができる。
【００３９】
尚、上記実施例においては、その構成を以下のように変更しても良い。
【００４０】
（１）  上記実施例では、ラビリンスシール６の凹凸表面７，８に設ける凹部７ａ，８ａの断面形状を三角形状としたが、その断面形状は特に限定されず、例えば図２に示す四角形状や、図３に示す半円形状等であっても良い。
【００４１】
（２）  上記実施例では、ラビリンスシール６の凹凸表面７，８に凹部７ａ，８ａのみを設けて凹部７ａ，７ａ、８ａ，８ａ間を相対の凸部としたが、凸部を積極的に設けるようにしても良い。ここに凸部を積極的に設けるとは、凸部をハウジング２，３の対向面２ａ，３ａから突出するように設けることを云い、例えば図４の例では、一方のハウジング２（３）に積極的に設けた凸部７ｂ（８ｂ）が他方のハウジング３（２）に設けた凹部８ａ（７ａ）と互いに対向して組み合わされている。また、この図４の例では、凸部７ｂ，８ｂの高さが間隙Ｇの大きさよりも大きく形成されているので、間隙Ｇはエラストマー製シール５まで直線的に通じないように構成されており、このような間隙Ｇであると、プラズマ通路として屈曲したものとなり、プラズマ衝突回数の増大が期待できるので、プラズマ減衰効果が大きなものとなる。
【００４２】
（３）  また上記実施例では、ラビリンスシール６の凹凸表面７，８を、互いに対向する一対のハウジング２，３の双方に設けたが、何れか一方のみに設けることにしても良い。この場合、凹凸表面を設けない他方のハウジングの対向面は平坦状のままとされる。
【００４３】
第二実施例・・・
図５は、本発明の第二実施例に係る耐プラズマ用シール１の要部断面を示している。当該実施例に係る耐プラズマ用シール１は、半導体製造装置、更に具体的には半導体用真空ポンプの排気部、吸気部もしくはチャンバー部またはエッチング、アッシングもしくはプラズマＣＶＤ装置の配管部もしくはチャンバー部等に用いられるものであって、以下のように構成されている。
【００４４】
すなわち、当該耐プラズマ用シール１は、所定の大きさの間隙Ｇを介して互いに対向する一対のハウジング（一対の装着部材）２，３間をシールするものであって、当該シール１を装着する一方のハウジング２の対向面２ａにシール装着溝４が設けられて、このシール装着溝４にエラストマー製シール５が装着されており、このエラストマー製シール５から見てプラズマが照射されてくる側（図上左側）に、プラズマを乱反射させて減衰させる非接触のラビリンスシール（ラビリンス部または狭隘部とも称する）６がプラズマシールとして設けられている。ハウジング２，３には、導電性材料よりなるラビリンス形成部材１１，１２が取り付けられて、このラビリンス形成部材１１，１２によりラビリンスシール６が形成されているので、ラビリンスシール６はプラズマの電荷を吸収してプラズマを減衰させるものでもある。ハウジング２，３間の間隙Ｇは一般に０．２〜０．３ｍｍ程度の大きさに設定されている。ハウジング２，３の材質は金属であるが、特に問わない。
【００４５】
エラストマー製シール５は、具体的にはＯリングよりなり、所定のエラストマー（ゴム状弾性材）、例えばＦＫＭゴム、更に具体的には無機成分レス耐プラズマＦＫＭゴムによって断面円形状に成形されており、装着時に一対のハウジング２，３間にて圧縮されてシール作用を発揮することにより大気の流入を防止する。また、このエラストマー製シール５を装着するシール装着溝４は、その開口幅が底面幅よりも狭い蟻溝状とされており、エラストマー製シール５の最大幅よりも開口幅の方が狭く設定されることによりエラストマー製シール５の抜け止めをなしている。
【００４６】
非接触のラビリンスシール６は、エラストマー製シール５を装着するハウシング２，３とは別体に成形されてハウジング２，３に後付けされる一対のラビリンス形成部材１１，１２にて形成されており、ハウジング２，３の対向面２ａ，３ａには、このラビリンス形成部材１１，１２を取り付けるための凹部状の装着空間９，１０が設けられている。また、このラビリンスシール６は、一対のラビリンス形成部材１１，１２の互いの対向面に互いに対向するように設けられた凹凸表面７，８の組み合わせよりなり、当該実施例では、この凹凸表面７，８が断面三角形状の凹部７ａ，８ａを複数（図では３箇所ずつ）設けることによって形成されている。一方のハウジング２側の凹部７ａと他方のハウジング３側の凹部８ａは、互いに対向するよう配置しても良いが、当該実施例では互い違いとなるように配置されている。ラビリンス形成部材１１，１２は、導電性を備えた金属によって成形されている。
【００４７】
このようなラビリンスシール６が設けられた当該耐プラズマ用シール１に対してプラズマが照射されると、照射されたプラズマはラビリンスシール６の凹凸表面７，８の非平行壁のあちらこちらに衝突して乱反射し、このときそのエネルギーないし電子密度を徐々に低減せしめられる。また、ラビリンス形成部材１１，１２の材質に伴って凹凸表面７，８が導電性材料である金属にて成形されているので、プラズマは衝突時に電荷を吸収されて中性粒子（分子）化し、これによってもエネルギーないし電子密度を低減せしめられる。また、一般に非接触のラビリンスシール６は圧力損失を発生させる抵抗体であるので、この抵抗体としての作用によってもプラズマはエネルギーないし電子密度を低減せしめられる。したがって、プラズマがラビリンスシール６を通過してエラストマー製シール５に到達したときには、そのエラストマー破壊力が随分と低減されているので、これによりエラストマー製シール５をプラズマから保護し、その劣損を抑えることができる。また当該シール１では、メインのシール性が適宜弾性を有するエラストマー製シール５によって十分に確保される。したがってこれらのことから所期の目的どおり、耐プラズマ性およびシール性の双方を発揮することが可能な耐プラズマ用シール１を提供することができる。
【００４８】
また、当該シール１では、ラビリンスシール６が、エラストマー製シール５を装着するハウシング２，３とは別体に成形されてハウジング２，３に後付けされるラビリンス形成部材１１，１２にて形成されているために、その製作にかかる手間とコストを、ハウジング２，３に直接設ける場合よりも低減させることができる。
【００４９】
尚、上記実施例においては、その構成を以下のように変更しても良い。
【００５０】
（１）  上記実施例では、ラビリンスシール６の凹凸表面７，８に設ける凹部７ａ，８ａの断面形状を三角形状としたが、その断面形状は特に限定されず、例えば図６に示す四角形状や、図７に示す半円形状等であっても良い。
【００５１】
（２）  上記実施例では、ラビリンスシール６の凹凸表面７，８に凹部７ａ，８ａのみを設けて凹部７ａ，７ａ、８ａ，８ａ間を相対の凸部としたが、凸部を積極的に設けるようにしても良い。ここに凸部を積極的に設けるとは、凸部をハウジング２，３の対向面２ａ，３ａから突出するように設けることを云い、例えば図８の例では、一方のハウジング２（３）に積極的に設けた凸部７ｂ（８ｂ）が他方のハウジング３（２）に設けた凹部８ａ（７ａ）と互いに対向して組み合わされている。また、この図８の例では、凸部７ｂ，８ｂの高さが間隙Ｇの大きさよりも大きく形成されているので、間隙Ｇはエラストマー製シール５まで直線的に通じないように構成されており、このような間隙Ｇであると、プラズマ通路として屈曲したものとなり、プラズマ衝突回数の増大が期待できるので、プラズマ減衰効果が大きなものとなる。
【００５２】
（３）  上記実施例では、ラビリンスシール６の凹凸表面７，８、この凹凸表面７，８を設けたラビリンス形成部材１１，１２、およびこのラビリンス形成部材１１，１２を収容する凹部状の装着空間９，１０を、互いに対向する一対のハウジング２，３の双方に設けたが、何れか一方のみに設けることにしても良い。この場合、これらを設けない他方のハウジングの対向面は平坦状のままとされる。
【００５３】
（４）  上記実施例では、ラビリンス形成部材１１，１２の材質を、導電性を備えた金属としたが、これに代えて、導電性を備えた樹脂（導電性樹脂）としても良く、この場合には、ラビリンス形成部材１１，１２が金型にて成形可能な材料にて成形されることになるために、その成形が比較的容易で、成形にかかる手間とコストを低減させることができる。
（５）  更にまた、ラビリンス形成部材１１，１２の材質は、導電性を備えない通常の樹脂（例えば、耐プラズマ性に優れたＰＴＦＥ等）としても良い。この場合、導電性材料に特有のプラズマ電荷吸収作用は喪失されるが、その他は上記と同じ作用効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の第一実施例に係る耐プラズマ用シールの要部断面図
【図２】凹凸表面についての他の例を示す要部断面図
【図３】凹凸表面についての他の例を示す要部断面図
【図４】凹凸表面についての他の例を示す要部断面図
【図５】本発明の第二実施例に係る耐プラズマ用シールの要部断面図
【図６】凹凸表面についての他の例を示す要部断面図
【図７】凹凸表面についての他の例を示す要部断面図
【図８】凹凸表面についての他の例を示す要部断面図
【図９】従来例に係る耐プラズマ用シールの要部断面図
【図１０】同シールの不具合発生状態を示す写真図
【符号の説明】
【００５５】
１  耐プラズマ用シール
２，３  ハウジング
２ａ，３ａ  対向面
４  シール装着溝
５  エラストマー製シール
６  ラビリンスシール
７，８  凹凸表面
７ａ，８ａ  凹部
７ｂ，８ｂ  凸部
９，１０  装着空間
１１，１２  ラビリンス形成部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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