(57)【要約】【課題】接合時に反射防止膜の劣化を抑制して、より信頼性の高い光デバイスを提供すること。【解決手段】光学素子が接合材によりホルダに固定されてなる光デバイスであって、該接合材が、ＳｎＯを３０〜７０ｍｏｌ％、Ｐ２Ｏ５を２０〜５０ｍｏｌ％、ＭｎＯを５〜３０ｍｏｌ％含む無鉛低融点ガラスであること。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子が接合材によりホルダに固定されてなる光デバイスであって、
該接合材が、ＳｎＯを３０〜７０ｍｏｌ％、Ｐ２Ｏ５を２０〜５０ｍｏｌ％、ＭｎＯを５〜３０ｍｏｌ％含む無鉛低融点ガラスである
光デバイス。
【請求項２】
上記接合材中のＳｎＯとＰ２Ｏ５の含有率が合計７０ｍｏｌ％以上である
ことを特徴とする請求項１記載の光デバイス。
【請求項３】
ファラデー回転子の一方側に偏光子、他方側に検光子を有し、
上記ファラデー回転子の外周に磁石を有し、
上記各光学素子の側面が上記接合材により上記ホルダに接合されている
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光デバイス。
【請求項４】
光学素子がホルダの固定面に固定されてなる光デバイスの製造方法であって、
上記光学素子の被固定面と上記ホルダの固定面の少なくとも一方に、無鉛低融点ガラスから成る接合材を接触させ、次いで該接合材を第１の昇温速度で焼成温度以上に昇温した後第１の冷却速度で冷却して上記光学素子を上記ホルダに固定する接合工程と、
次いで第１の昇温速度よりも速い第２の昇温速度で上記の焼成温度まで昇温した後第１の冷却速度よりも速い第２の冷却速度で冷却するアニール工程とを有する
光デバイスの製造方法。
【請求項５】
上記接合材としてＳｎＯを３０〜７０ｍｏｌ％、Ｐ２Ｏ５を２０〜５０ｍｏｌ％、ＭｎＯを５〜３０ｍｏｌ％含む無鉛低融点ガラスを用い、
上記接合材の溶融温度が４００℃以下である
ことを特徴とする請求項４記載の光デバイスの製造方法。
【請求項６】
一方面側を偏光子、他方面側を検光子で挟持したファラデー回転子を
還元雰囲気中もしくは減圧雰囲気中で上記接合材によりホルダに接合する
ことを特徴とする請求項４または請求項５に記載の光デバイスの製造方法。
【請求項７】
超音波振動によって上記接合材をホルダに含浸させながら、
上記偏光子、検光子、ファラデー回転子のそれぞれをホルダに接合する
ことを特徴とする請求項４〜請求項６のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光デバイス及びその固定方法に関し、さらに詳しくは光ファイバ通信用の各種モジュールに用いる光学素子をホルダに固定してなる光デバイス及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レンズ、プリズム、光学結晶等の光学素子を光ファイバ通信用のモジュール等の特定の装置に組み込む場合、これらの光学素子をホルダに固定して取り扱いの容易な光デバイスとして用いている。従来の光学デバイスの構造を図３に示す。光学素子１は、接合材３によりホルダ２に固定されている。
【０００３】
ここで、接合材には、接着剤や鉛と錫の合金半田が用いられている。しかし、接着剤を用いる場合、接着剤は一般に吸湿性が高いため、環境条件によっては脆くなり易い。しかも、ガラス転移点温度が低いため、接着剤を用いた光デバイスの使用温度は相対的に狭くなるという問題がある。また、アウトガスが生じるという問題もあることから、長期的な信頼性に欠けるという問題点もある。
【０００４】
一方、鉛と錫の合金半田は、相対的に融点が低いため、特に、半田接合部に重力等の荷重が常にかかる場合には、合金半田が時間とともに歪んでいくというクリープ現象を生じ易い。このため、合金半田を用いた場合、光学素子１の位置が時間と共に変化していくことになり、長期にわたる光学系の安定性が確保できないという問題がある。さらに、鉛と錫の合金半田は２５０×１０-7／℃であり、光学素子１の熱膨張係数１２０×１０-7／℃と大きな差がある。したがって、この合金半田で固定する場合、熱膨張係数の違いにより、合金半田の冷却時に光学素子に応力が加わり、亀裂や複屈折化等の問題が生じることがある。また、温度変化や電子回路の発熱等による周囲温度の変化があると、半田接合部に引っ張りと圧縮の応力が繰り返しかかる。この熱的疲労により半田に亀裂が生じて光学素子１の位置が変化し、光軸がずれるという問題もある。
【０００５】
これに対し、接合材に酸化鉛を主成分とする低融点ガラスを用いる方法が提案され（例えば、特許文献１）、上記の問題に対し、一定の効果が得られている。
【特許文献１】特開平２−２８１２０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
最近の光学素子には、入射光の利用効率の低下による光学特性の劣化を防止するため反射防止膜が設けられている。しかしながら、通常の反射防止膜の耐熱性は４００℃以下であり、酸化鉛系の低融点ガラスの焼成温度である概ね４５０℃以上に比べ低温であり、低融点ガラスを溶融させて接合しようとすると、反射防止膜が劣化し光デバイスの光学特性の信頼性が低下するという問題があった。また、環境保護の観点から、酸化鉛を使用しない接合方法が必要とされているという問題もあった。
【０００７】
そこで、本発明は、上記課題を解決し、光学特性の信頼性を向上させるとともに、酸化鉛を使用しない光デバイス及びその製造方法を提供することを目的とした。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の光デバイスは、光学素子が接合材によりホルダに固定されてなる光デバイスであって、該接合材が、ＳｎＯを３０〜７０ｍｏｌ％、Ｐ２Ｏ５を２０〜５０ｍｏｌ％、ＭｎＯを５〜３０ｍｏｌ％含む無鉛低融点ガラスであることを特徴とする。
【０００９】
また、上記接合材中のＳｎＯとＰ２Ｏ５の含有率が合計７０ｍｏｌ％以上であることを特徴とする。
【００１０】
更には、ファラデー回転子の一方側に偏光子を、他方側に検光子の各光学素子を有し、上記ファラデー回転子の外周に磁石を有し、上記各光学素子の側面が上記接合材により上記ホルダに接合されていることを特徴とする。
【００１１】
しかも、光学素子がホルダの固定面に固定されてなる光デバイスの製造方法であって、上記光学素子の被固定面と上記ホルダの固定面の少なくとも一方に、無鉛低融点ガラスから成る接合材を接触させ、次いで該接合材を第１の昇温速度で焼成温度以上に昇温した後第１の冷却速度で冷却して上記光学素子を上記ホルダに固定する接合工程と、次いで第１の昇温速度よりも速い第２の昇温速度で上記の焼成温度まで昇温した後第１の冷却速度よりも速い第２の冷却速度で冷却するアニール工程とを有することを特徴とする。
【００１２】
そして、記接合材としてＳｎＯを３０〜７０ｍｏｌ％、Ｐ２Ｏ５を２０〜５０ｍｏｌ％、ＭｎＯを５〜３０ｍｏｌ％含む無鉛低融点ガラスを用い、上記接合材の溶融温度が４００℃以下であることを特徴とする。
【００１３】
また、一方面側を偏光子、他方面側を検光子で挟持したファラデー回転子を還元雰囲気中もしくは減圧雰囲気中で上記接合材によりホルダに接合することを特徴とする。
【００１４】
そして超音波振動によって上記接合材をホルダに含浸させながら、
上記偏光子、検光子、ファラデー回転子のそれぞれをホルダに接合する
ことを特徴とする請求項４〜請求項６のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ＳｎＯを３０〜７０ｍｏｌ％、Ｐ２Ｏ５を２０〜５０ｍｏｌ％、ＭｎＯを５〜３０ｍｏｌ％含む無鉛低融点ガラスから成る接合材を用いることにより、接合材の焼成温度を酸化鉛系の低融点ガラスの場合に比べ低下させることができる。これにより、接合時に反射防止膜の劣化を抑制して、より信頼性の高い光デバイスを提供することができる。さらに、接合材に鉛を使用しないので、地球環境に優しい光デバイスを提供することもできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明に係る実施の形態を図面を参照して説明する。
【００１７】
図１は、本実施の形態に係る光デバイスの構造の一例を示す模式断面図である。光デバイスは、光学素子１と、これを保持するホルダ２と、光学素子１を固定する低融点ガラス３から構成されている。ここで、光学素子１の対向する主面には反射防止膜４が形成されている。
【００１８】
図１では光学素子１として円筒形ガラスレンズを用いた例を示しているが、用途に応じて、ボールレンズ、平板レンズ、角形レンズ等の各種レンズを用いても良い。また、レンズに限らず、気密窓、プリズム、偏光子等の光学ガラスや複屈折ガラス、ファラデー回転子などの光学結晶等を用いることもできる。また、これらの光学部品の材料には、環境に対する悪影響を防止するため、鉛の含有量が０．１重量％以下のものを用いることが望ましい。
【００１９】
また、ホルダは、各種光学素子１の熱膨張係数や機械的強度に応じて選定することができる。好ましくは、本発明の光デバイスをさらに他のデバイスに取り付けるときの方法によってホルダの材質は選定すべきである。Ｆｅ−Ｎｉ合金の他、ステンレス鋼、銅合金、真鍮、アルミニウム合金などあらゆる金属、また、金属に限らず、アルミナ、ジルコニア等の各種セラミックから選定できる。好適にはＦｅ−Ｎｉ合金、ステンレス鋼を用いることが接合強度の面から好ましい。
【００２０】
また、反射防止膜は、単層あるいは多層構造を用いることができ、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３等の材料をスパッタ法や真空蒸着法等により形成することができる。反射防止膜の耐熱性は光学素子との接合性が悪化するために４００℃以下である。
【００２１】
本発明に用いる低融点ガラスは、ＳｎＯとＰ２Ｏ５とＭｎＯを含有するものである。低軟化性のＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスにＭｎＯを添加することにより、酸化鉛系に比べより低温での焼成を可能とし、焼成温度を４００℃より低くし、さらに耐水性の向上および熱膨張係数の低下を図ることができる。これはＭｎＯの一部がＭｎ２Ｏ３に変化し、３価の陽イオン酸化物として働き、Ｐ２Ｏ５が作るネットワーク構造に組み込まれたため、構造が強固になり、耐水性の向上および熱膨張係数の低下に寄与するものと考えられる。また、マンガンイオンが高酸化数になることによって、スズイオンの価数変化を抑制する効果が考えられる。その結果、不熔解の化合物の生成が抑えられ、安定した融体を得ることができる。
【００２２】
ここで、ＳｎＯはガラスを低融点化する成分であり、３０〜７０ｍｏｌ％、より好ましくは４０〜６０ｍｏｌ％である。ＳｎＯが３０ｍｏｌ％より少ないとガラスの粘性が高くなって焼成温度が高くなり、７０ｍｏｌ％より大きいとガラス化しなくなる。また、Ｐ２Ｏ５はガラスを形成する成分であり、２０〜５０ｍｏｌ％、より好ましくは３０〜４０ｍｏｌ％である。Ｐ２Ｏ５が２０ｍｏｌ％より少ないとガラス化せず、５０ｍｏｌ％より大きいと機械的強度や耐候性が低下する。また、ＳｎＯとＰ２Ｏ５は、合わせて７０ｍｏｌ％以上、より好ましくは８０ｍｏｌ％以上である。７０ｍｏｌ％より少ないとガラスの粘性が高くなって焼成温度が高くなる。また、ＭｎＯは５〜３０ｍｏｌ％、より好ましくは１０〜２０ｍｏｌ％である。ＭｎＯが５ｍｏｌ％より少ないと機械的強度が不十分となり、３０ｍｏｌ％より大きいとガラス化しにくくなるからである。
【００２３】
本発明の無鉛低融点ガラスの製造のための出発原料としては、以下の化合物を用いることができる。ＭｎＯの原料には、ＭｎＯ２、ＭｎＯ、ＭｎＣＯ３等を挙げることができる。この中で、ＭｎＯ２はＳｎＯを酸化して、Ｐ２Ｏ５と不熔解の化合物(ＳｎＰ２Ｏ７)を作るＳｎＯ２を生成させる傾向があるため、あまり好ましくない。好ましくはＭｎＯであり、熔解の容易さを考慮すれば、分解温度が低いＭｎＣＯ３がさらに好ましい。
【００２４】
また、ＳｎＯの原料には、ＳｎＯよりも、熔解の容易さを考慮すれば、分解温度が低いメタスズ酸が良いが、Ｐ２Ｏ５と不熔解の化合物(ＳｎＰ２Ｏ７)を生成し難くするには、ＳｎＯの方がさらに好ましい。
【００２５】
また、Ｐ２Ｏ５の原料には、Ｐ２Ｏ５、Ｈ３ＰＯ４、ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４等を挙げることができるが、Ｐ２Ｏ５は吸水性がある、あるいはＨ３ＰＯ４は液体であることを考慮すると、好ましくない。それに対し、リン酸のアンモニウム塩（第一リン酸アンモニウム：リン酸二水素アンモニウム(ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４)あるいは、第二リン酸アンモニウム：リン酸水素二アンモニウム((ＮＨ４) ２ＨＰＯ４)は固体であり、これらを用いると、分解時に発生する還元性のアンモニアガスによって、ＳｎＯの酸化（ＳｎＯ２への変化）を抑制することができるので好ましい。
【００２６】
なお、無鉛低融点ガラスの製造には、上記原料単体を混合してもよいが、前記組成元素を含有する種々のリン酸塩を用いても良い。これらを用いると、ガラス製造時に成分の揮発が抑えられ、組成変動が小さくなる。
【００２７】
熔解に用いる容器は、金属、石英、アルミナ、ムライト質、炭素質など特に限定されない。なお、熔解に用いる容器のふたについては、あっても構わないが、分解ガスの放出促進の観点から、無い方が好ましい。また、熔解雰囲気は、不活性雰囲気でも構わないが、製造プロセスの複雑さから考えると、大気中が好ましい。
【００２８】
さらに、焼成温度、熱膨張係数の調整、結晶化温度の調整、各種材料との濡れ性、接着性の調整を目的として、焼成温度を著しく上げない、耐水性を著しく下げない、熱膨張係数を著しく上げない範囲で、合計１０ｍｏｌ％以内で、アルカリ金属、アルカリ土類金属の化合物、遷移金属の化合物あるいはアルミナや酸化鉄、酸化ガリウム、酸化アンチモンなどの３価の陽イオン酸化物、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２等の添加物を加えても良い。
【００２９】
ここで、本発明に用いる低融点ガラスの組成分析には、誘導結合プラズマ発光分析装置(ＩＣＰ発光分析)を用いることが望ましい。ＩＣＰ発光分析は、代表的な無機元素分析の一つであり、多くの元素に対してｐｐｂレベルの高感度分析ができるだけでなく、他の分析法と比較して共存物質の影響を受け難く、多元素同時分析に適している。
【００３０】
次に、本発明の光デバイスの製造方法の一例を説明するが、光学素子の被固定面とホルダの固定面の少なくとも一方に、無鉛低融点ガラスから成る接合材を接触させ、次いで接合材を第１の昇温速度で焼成温度以上に昇温した後第１の冷却速度で冷却して光学素子を上記ホルダに固定する接合工程と、次いで第１の昇温速度よりも速い第２の昇温速度で上記の焼成温度まで昇温した後第１の冷却速度よりも速い第２の冷却速度で冷却するアニール工程とを有するものであれば特に限定されない。後述のアニールの効果を得るには、第２の昇温速度は第１の昇温速度の３倍以上、より好ましくは５倍以上である。また、第２の冷却速度は第１の冷却速度の６倍以上、より好ましくは１０倍以上である。なお、第２の冷却速度を達成するには、例えば、空気ジェットを吹き付ける方法を用いることができる。低融点ガラスは、焼成温度以下で分解する有機系ビヒクルなどでペースト化して光学素子の被固定面とホルダの固定面に塗布した後焼成するか、あるいはプレス成形で所定の形状に成形した後、光学素子とホルダの接合箇所に配置して焼成することもできる。
【００３１】
図１を参照して説明すると、光学素子１をホルダ２に搭載し、リング状に成形された低融点ガラス３を光学素子とホルダの接合箇所に配置させ、温度コントロールが可能な焼成炉に入れて５〜１０℃／分（第１の昇温速度）で焼成温度以上まで上昇させ、その温度で３〜３０分間保持後、２０〜５０℃／分（第１の冷却速度）で室温まで降下させた後、焼成炉から取り出す。接合方法はこれに限らず、低融点ガラス３としてバインダーを混合したペースト状のものを使用することもできる。また、焼成炉に限らず、ホットプレート等のヒーター付きの高温器具を用いることもできる。温度条件も、上記に限らず、使用部材、器具に応じて変更することができる。
【００３２】
次に再び焼成温度近くまで、第１の昇温速度の３倍以上の第２の昇温速度、すなわち、３０〜２００℃／分で急速均一加熱を行い、次いで空気ジェットを吹き付けることにより、第１の冷却速度の６倍以上の３００〜２０００℃／分の第２の冷却速度で急冷して低融点ガラスの表面に圧縮応力を与えることによりアニールする。
【００３３】
低融点ガラスに急速加熱を加えることにより、低融点ガラスの表面温度は内部温度より高くなる。この際に低融点ガラスに発生する応力は表面が圧縮、内部が引張りとなるので、低融点ガラス自体の破壊の危険はない。次に、低融点ガラス全体が均一に最高温度に達した後に急冷すると、最初は表面のほうが内部より温度降下が速く熱応力は表面が引張り、内部が圧縮となる。しかし、低融点ガラスが焼成温度近くの高温にあるときは、熱応力はごく僅かな時間で緩和され、表面と内部の温度差の存在にかかわらずに応力のない状態となる。そして、冷却率を一定にして上記表面と内部の温度差を一定に保つと低融点ガラスは応力のない状態で温度降下して、最後に室温になって、上記温度差がなくなったときに、高温時の温度差に起因する熱応力を緩和した分だけ低融点ガラスの表面に圧縮応力、内部に引張り応力が存在することとなり、低融点ガラスが強化されることとなる。
【００３４】
本実施の形態によれば、ＳｎＯとＰ２Ｏ５とＭｎＯを所定組成含有する無鉛低融点ガラスを接合材として用いることにより、従来の酸化鉛系の低融点ガラスに比べ焼成温度をより低温にして４００℃より低くすることができるので、光学素子に設けられた反射防止膜を劣化させることがない。これにより、光デバイスの信頼性を向上させることできる。また、無鉛の低融点ガラスを用いるので、環境に優しい光デバイスを提供できる。
【００３５】
なお、本発明の光デバイスは、光学素子１をホルダ２に低融点ガラス３で固定するだけではなく、例えば偏光子と検光子の組み合わせからなる光アイソレータや光フィルタ等のあらゆる光デバイスに応用することが可能である。
【００３６】
図２は、本実施の形態に係る光デバイスの構造を示す模式断面図である。低融点ガラス３の外気露出表面に被覆部材５を設けた以外は、実施の形態１と同様の構造を有する。本実施の形態に係る光デバイスは、実施の形態１における効果に加え、以下の効果を有する。すなわち、被覆部材５は、外気に露出した低融点ガラス３の表面を、湿度等の、低融点ガラス３を劣化させる可能性のあるものから保護することができる。これにより、高湿度環境における光デバイスの劣化を抑制して、光デバイスの光学特性の信頼性をさらに向上させることができる。この被覆部材５はリング状で、ホルダ２と同様に、Ｆｅ−Ｎｉ合金の他、ステンレス鋼、銅合金、真鍮、アルミニウム合金などあらゆる金属、また、金属に限らず、アルミナ、ジルコニア等の各種セラミックから選定できる他、各種金属を蒸着するなどの方法でも成形可能である。
【００３７】
図３は本実施の形態に係る光デバイスの他の実施形態である、光アイソレータの構造を示す模式断面図である。
【００３８】
ファラデー回転子１１、該ファラデー回転子１１の一方側に偏光子１２、他方側に検光子１３を配置し、ファラデー回転子１１の外周に磁石１４、ファラデー回転子１１はホルダ１５、偏光子１２はホルダ１６、検光子１３はホルダ１７にそれぞれ取り付けられ、ホルダ１６とホルダ１７はケース１８により連結されている。ファラデー回転子１１には、例えばＢｉ置換ガーネット厚膜を使用し、偏光子１２及び検光子１３には赤外偏光ガラス（コーニング社製、商品名ポーラコア）、ホルダ１６及びホルダ１７にはニッケル−鉄合金、低融点ガラスＧ２及びＧ３には本発明の低融点ガラスを、ホルダ１５はニッケル−鉄合金、そして低融点ガラスＧ１には本発明の低融点ガラスを用いている。ケース１８とホルダ１６及びホルダ１７の固定は、Ｙ１，Ｙ２の接合箇所をＹＡＧレーザーで溶接している。
【００３９】
本発明に用いる低融点ガラスは、ＳｎＯとＰ２Ｏ５とＭｎＯを含有するものである。低軟化性のＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスにＭｎＯを添加することにより、酸化鉛系に比べより低温での焼成を可能とし、焼成温度を４００℃より低くし、さらに耐水性の向上および熱膨張係数の低下を図ることができる。これはＭｎＯの一部がＭｎ２Ｏ３に変化し、３価の陽イオン酸化物として働き、Ｐ２Ｏ５が作るネットワーク構造に組み込まれたため、構造が強固になり、耐水性の向上および熱膨張係数の低下に寄与するものと考えられる。また、マンガンイオンが高酸化数になることによって、スズイオンの価数変化を抑制する効果が考えられる。その結果、不熔解の化合物の生成が抑えられ、安定した融体を得ることができる。
【００４０】
ここで、上記ファラデー回転子１１、偏光子１２及び検光子１３は、引張応力に弱い脆性材料であり、ガラスの表面に生じている微小傷が、わずかな引張力でも、応力集中のために破壊する原因となる。しかしながら、圧縮力に付いては、逆に脆性材料の長所であるが非常に強いという特性を有し、また、本発明の低融点ガラスの焼成温度は４００℃より低いので、ファラデー回転子１１、偏光子１２及び検光子１３には、ホルダの収縮力により圧縮力がかかり、又、ファラデー回転子１１、偏光子１２及び検光子１３との中間層として低融点ガラスが緩衝材として存在するので、その圧縮力によりファラデー回転子１１、偏光子１２及び検光子１３の破壊が生じない。
【００４１】
また、ファラデー回転子１１、偏光子１２及び検光子１３の光学面には反射防止膜を形成する場合があり、また該反射防止膜の劣化を抑制することも可能である。
【実施例】
【００４２】
（実施例１）
以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
【００４３】
実施例として反射防止膜付の光学素子に外径１．８ｍｍで熱膨張係数が８８×１０-7／℃の円筒形ガラスレンズ、ホルダに熱膨張係数９７×１０-7／℃のＦｅ−Ｎｉ合金、低融点ガラスに、焼成温度が３３０〜３８０℃の本発明の低融点ガラスを用い、試料Ａ〜Ｄの光デバイスを作製した。
【００４４】
比較例として低融点ガラスに酸化鉛を含有した焼成温度が４５０℃と４６０℃のものを用いた以外は、実施例と同様の方法により試料Ｅ、Ｆの光デバイスを作製した。
【００４５】
評価結果は実施例及び比較例の試料をそれぞれ１００個ずつ作製し、作製後の反射防止膜の反射率測定を行った。次に、８５℃、８５％の恒温恒湿試験に投入し、２０００時間後の反射率を測定し、投入前からの反射率変動値に変換した。その結果を表１に示す。
【表１】
2006309193.tif 000003
【００４６】
表１に示すように、本発明の範囲内の低融点ガラスを用いた試料（Ｎｏ．Ａ〜Ｄ）はすべて０．２％以下の反射率変動に抑えられているが、比較例の試料（Ｎｏ．Ｅ、Ｆ）においては、０．２％を超える反射率変動のものが、半数程度も発生した。
【００４７】
この結果より、本発明の光デバイスは従来の光デバイスに比べ、反射率変動が小さく信頼性が向上した。
【００４８】
（実施例２）
次に、図３に示すファラデー回転子１１、該ファラデー回転子１１の一方側に偏光子１２、他方側に検光子１３を配置し、ファラデー回転子１１の外周に磁石１４、ファラデー回転子１１はホルダ１５、偏光子１２はホルダ１６、検光子１３はホルダ１７にそれぞれ取り付けられ、ホルダ１６とホルダ１７はケース１８により連結されている。
【００４９】
ファラデー回転子１１には、例えばＢｉ置換ガーネット厚膜を使用し、偏光子１２及び検光子１３には赤外偏光ガラス（コーニング社製、商品名ポーラコア）、ホルダ１６及びホルダ１７にはニッケル−鉄合金、低融点ガラスＧ２及びＧ３には本発明の低融点ガラスを、ホルダ１５はニッケル−鉄合金、そして低融点ガラスＧ１には本発明の低融点ガラスを用いている。ケース１８とホルダ１６及びホルダ１７の固定は、Ｙ１，Ｙ２の接合箇所をＹＡＧレーザーで溶接した光アイソレータのサンプルを作成した。
【００５０】
ここで、低融点ガラスを本発明実施例として、上記実施例１の試料Ｃを用いたものと、比較例として、上記実施例１の試料Ｅを用いたものの２種類とし、それぞれ低融点ガラスの焼成温度３５４℃、４５０℃として各５０個作成した。
【００５１】
作成したサンプルのファラデー回転子１６、偏光子１７及び検光子１８の割れ発生を１００倍の金属顕微鏡で確認した。その結果を表２に示す。
【表２】
2006309193.tif 000004
【００５２】
以上より、比較例の試料Ｅを用いた光アイソレータでは、５０個中８個の割れを確認できたが、本発明実施例の試料Ｃを用いた光アイソレータでは、５０個中割れの発生はなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施の形態１に係る光デバイスの構造の一例を示す模式断面図である。
【図２】本発明の実施の形態２に係る光デバイスの構造の一例を示す模式断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る光アイソレータの構造の一例を示す模式断面図である。
【図４】従来の光デバイスの構造の一例を示す模式断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１：光学素子
２：ホルダ
３：接合材
４：反射防止膜
５：被覆部材
１１：ファラデー回転子
１２：偏光子
１３：検光子
１４：磁石
１５：ホルダ
１６：ホルダ
１７：ホルダ
１８：ケース
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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