(57)【要約】【課題】リソグラフィプロセスのフォーカス監視用データを自動的に提供するための方法を提供する。【解決手段】リソグラフィ露光プロセスのフォーカス監視用データを自動的に提供する方法が開示される。第１に、ウエハ用のファイルが生成されるが、このファイルは、少なくとも、ウエハのサイズ、複数の測定パターンの位置、測定パターンが捕捉されかつ登録される順序、および測定パターンの整列の情報を保持する。第２に、この情報は、マスター格子に格納される。第３に、生成されたファイルのマスター格子に格納された各位置のパターンの画像が取得されるが、この画像取得は、格納された順序に従って実行される。最後に、取得された画像に名前が割り当てられる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ露光プロセスのフォーカス監視用のデータを自動的に提供するための方法であって、
・  ウエハ用のファイルを生成するステップであって、前記ファイルが、少なくとも、前記ウエハのサイズ、複数の測定パターンの位置、前記測定パターンが捕捉されかつ登録される順序、および前記測定パターンの整列の情報を保持するステップと、
・  複数の選択された測定パターンの位置をマスター格子に格納するステップと、
・  前記生成されたファイルの前記マスター格子に格納された各位置のパターンの画像を取得するステップであって、前記画像取得が、格納された順序に従って実行されるステップと、
・  前記取得された画像に名前を割り当てるステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記ファイルがＫＬＡファイルである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ファイルを生成するステップが、光学システムが測定パターンの各位置に移動させられかつ前記測定パターンの各位置が格納されて前記マスター格子を生成するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ファイルを生成するステップが、単一測定パターンの各位置がウエハ検査システムによって検出されるセッティングを有し、前記ウエハ検査システムのセッティングは、前記測定パターンの位置が前記システムに報告され、それは単一欠陥として示されて当該位置が一度だけ登録されるように選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記マスター格子が、順序情報および整列情報を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記マスター格子が一度生成され、リソグラフィ露光プロセスの稼動中に、検査のために選択された全てのウエハの検査レシピとして用いられる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記リソグラフィ露光プロセスの稼動中に、ゴールデンイメージが、測定パターンからの画像と比較され、前記ゴールデンイメージおよび前記測定パターンの画像の順序および整列が同一である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記測定パターンが、異なる形状および形態を有することができる、請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィプロセスのフォーカス監視用データを自動的に提供するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィプロセスにおけるフォーカス状態の信頼できる判定を可能にするフォーカス監視法を有することは、重要である。非特許文献１は、フォーカス解像度を向上させる方法を開示している。ブレーズド位相格子は、ウエハ収差監視のための適切な手段であることが立証されたが、しかし係数値を決定するために外部（ｅｘ−ｓｉｔｕ）との相関関係を必要とする。位相格子法は、ごく普通のフォーカス監視として生産に導入されている。この方法が正確であることによって、全ての露光ツールのレベリング能力および安定性に関する詳細な分析を提供することが可能になる。検査は、非常に高い精度で毎時６０００を超えるデータポイントを処理できる光学顕微鏡に基づいている。この方法によって、わずか５分しかかからない日常のフォーカス監視と並んで、チャック評価、ウエハエッジの動き、および歩留まりを低減させる他のシグネチャのための迅速で十分なウエハ分析が可能になる。
【０００３】
【非特許文献１】ビル・ロバーツ（Ｂｉｌｌ  Ｒｏｂｅｒｔｓ）およびゲルハルト・クンケル（Ｇｅｒｈａｒｄ  Ｋｕｎｋｅｌ）著、「Ｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｂｌａｚｅｄ  Ｐｈａｓｅ  Ｇｒａｔｉｎｇ  Ｆｏｃｕｓ  Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ」、Ｉｎｆｉｎｅｏｎ
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、リソグラフィ露光プロセスにおけるフォーカス監視用のデータを提供するための迅速で自動化された信頼できる方法を生み出すことである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的は、次のステップ、すなわち、
・  ウエハ用のファイルを生成するステップであって、ファイルが、少なくとも、ウエハのサイズ、複数の測定パターンの位置、測定パターンが捕捉されかつ登録される順序、および測定パターンの整列の情報を保持するステップと、
・  複数の選択された測定パターンの位置をマスター格子に格納するステップと、
・  生成されたファイルのマスター格子に格納された各位置のパターンの画像を取得するステップであって、画像取得が、格納された順序に従って実行されるステップと、
・  取得された画像に名前を割り当てるステップと、
を含む、リソグラフィ露光プロセスのフォーカス監視用のデータを自動的に提供するための方法によって達成される。
【０００６】
複数の選択された測定パターンをマスター格子に格納するファイルは、ＫＬＡファイルである。
【０００７】
ファイル、すなわちＫＬＡファイルを生成するステップは、光学システムが測定パターンの各位置に移動され、かつ測定パターンの各位置が格納されてマスター格子を生成するステップを含む。
【０００８】
ファイルを生成するステップは、セッティングであって、単一測定パターンの各位置がウエハ検査システムによって検出され、また単一欠陥として示される測定パターンの位置が、一度だけ登録されるためにシステムに報告されるように検査システムのセッティングがなされているセッティング、を含む。
【０００９】
マスター格子は、順序情報および整列情報を含む。マスター格子は、一度生成され、リソグラフィ露光プロセスの稼動中に、検査用に選択された全てのウエハの検査レシピとして用いられる。リソグラフィ露光プロセスの稼動中に、ゴールデンイメージが、測定パターンからの画像と比較されるが、ここで、ゴールデンイメージおよび測定パターンの画像の順序および整列は同一である。
【００１０】
測定パターンは、一連の異なる形状および形態で構成してもよい。
【００１１】
事例を介し、添付の図面に関連して本発明を以下に説明するが、それによって、さらなる特徴、利点および達成すべき目的が推測されるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１は、半導体基板、特にウエハ用の検査システム１の概略図である。ここに示す実施形態によれば、検査システム１には、ウエハのマクロ検査およびミクロの検査を行う能力が組み込まれている。この場合に、ウエハは、リソグラフィ露光プロセスから検査システム１へ、専用の容器３で送出される。ウエハの検査は、容器に入れられたハウジング２で実行される。少なくとも１つのディスプレイ５が、容器に入れられたハウジングに設けられている。ディスプレイ５に加えて、キーボード７が同様に設けられている。キーボードを介して、ユーザは、検査システム１で実施可能な様々な検査プロセスを設定するために入力を行うことができる。さらに、ユーザは、検査用の特定のレシピを設計することができる。
【００１３】
図２は、自身の表面１１上に複数のフィールド１２を配分したウエハ１０の上面概略図を示すが、各フィールド１２は、リソグラフィ露光プロセスのフォーカス計算に用いられる複数のパターンを有する。各フィールドにおける測定パターンを検査し、周知のアルゴリズムを用いて、リソグラフィ露光プロセスのフォーカス特性を判定する。
【００１４】
図３ａは、リソグラフィプロセスのフォーカス計算に用いられるパターンの第１の実施形態を示す。
【００１５】
図３ｂは、リソグラフィプロセスのフォーカス計算に用いられるパターンの第２の実施形態を示す。
【００１６】
図３ｃは、リソグラフィプロセスのフォーカス計算に用いられるパターンの第３の実施形態を示す。
【００１７】
図３ｄは、リソグラフィプロセスのフォーカス計算に用いられるパターンの第４の実施形態を示す。
【００１８】
図４は、複数のパターン２０を備えた１つのフィールド１２の概略図である。パターンは複数の列２２に配列されるが、パターンは、列から列へ、少なくとも異なる露光を示す。フィールド１２の左下角部の円２３は、各フィールド１２におけるリソグラフィプロセスの出発点をマークする。
【００１９】
図５は、リソグラフィ露光プロセスのフォーカスを判定するためのデータを収集および提供する方法の概略図を示す。第１のステップ３１において、測定パターンの個々の位置をどのように発見し登録するかというレシピを設計しなければならない。このレシピは、スポットチェック（ＳｐｏｔＣｈｅｃｋ）レシピである。次に、第２のステップ３２において、データがレシピを用いて収集され、特定のファイルに格納されるが、これがマスター格子である。ファイルは、ＫＬＡファイルである。第３のステップ３３において、画像を取得するためのレシピが設計される。画像は、ＫＬＡファイルのマスター格子に格納された各位置で発見される様々な測定パターンである。第４のステップ３４において、画像が、ＲＵＮモードで収集される。上述のように、画像は、それらがＫＬＡファイルに格納されるのと同じ順序で収集される。
【００２０】
図６は、ウエハ設計のための、検査システム１の学習レシピ６０である。学習レシピ６０は、検査システム１のディスプレイ５でユーザに示される。ディスプレイ５で、「Ｗａｆｅｒ  ｄｅｓｉｇｎ」と名付けられたインデックス６１が、強調表示されるかまたは作動される。学習レシピの第１のセクション６２において、ウエハ設定を選択するかまたは入力することができる。入力は、たとえば、ウエハのサイズである。ここに示す場合では、ウエハサイズは３００ｍｍである。第２のセクション６３において、設計選択（ウエハ設計）を実行することができる。ユーザは、ドロップダウンボックス６３１から、関連したウエハ設計を選択することができる。さらに、ユーザは、同様に、「ＮＥＷ」ボタン６３２で、新しいウエハ設計をドロップダウンリストに追加することができる。第３のセクション６４において、設計データが提供される。設計データは、たとえば、ウエハ上のダイサイズ、格子オフセット、ならびにＸおよびＹ方向におけるＳＡＷサイズである。「ＬＯＡＤ」ボタン６４１で、ユーザは、検査中にウエハ用のデータをロードできる。「Ｅｄｉｔ」ボタン６４２で、ユーザは、入力データを変更することができる。第４のセクション６５において、「自動整列」用のセッティングを設定することができる。第５のセクション６６において、様々なダイを、検査プロセスから除外してもよい。さらに、指示ボックス６７が設けられているが、このボックスは、検査システムのステージ（図示せず）にウエハが存在するか存在しないかを示す。
【００２１】
図７は、マスター格子の生成用の、検査システム１の学習レシピ７０、すなわちスポットチェックである。ディスプレイ５に、「Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ」と名付けられたインデックス７１が、強調表示されるかまたは作動される。「ＮＥＷ」と名付けられた第１のセクション７２において、ユーザは、「検査走査」および「検査タイプ」を選択することができる。第２のセクション７３において、ユーザは、「位置ベース」および「フォーカスモード」を選択することができる。第３のセクション７４において、ユーザは、「検出パラメータ」を選択することができる。さらに、「ゴールデンイメージ」の使用が、同様に選択される。第４のセクション７５において、ユーザは、実際の検査位置に関して知らされる。第５のセクション７６において、ユーザは、「Ｄｉｅ／Ｓａｗ選択」に関して知らされる。さらに、指示ボックス７７が設けられているが、このボックスは、検査走査の使用準備ができていることを示す。
【００２２】
図８は、ウエハに特定の検査プログラムを割り当てるための、検査システムの学習レシピ８０である。ディスプレイ５に、「Ａｓｓｉｇｎ  Ｐｒｏｇｒａｍ  Ｔｏ  Ｗａｆｅｒ」と名付けられたインデックス８１が、強調表示されるかまたは作動される。「Ｌｏｔ  Ｄａｔａ」と名付けられた第１のセクション８２において、ユーザは、ロットサイズおよびカセットサイズを入力することができる。第２のセクション８３において、ユーザは、プログラム用の表示フィールド８３１を有する。第３のセクション８４において、ユーザは、カセット番号およびカセットのスロット番号へのウエハの割り当てに関して知らされる。さらに、指示ボックス８５が設けられているが、このボックスは、システムが、新しい検査プログラムを生成する準備ができていることを示す。
【００２３】
学習モードまたは学習レシピ６０、７０および８０は、ディスプレイ５および／またはキーボード７を介して、ユーザが開始できる。
【００２４】
図９は、マスター格子９０の概略図である。複数の位置９１が、マスター格子に格納されている。各位置は、列９２および行９３における定義された位置を有する。マスター格子９０の左下角部は、「Ｃ１Ｒ３１」で示されている。これは、この位置が、第１の列９１および３１番目の行にあることを意味する。
【００２５】
ディスプレイ５を介して、ユーザは、新しいプログラム（ウエハ検査のレシピ）を開くかまたは一から生成することができる。さらに、ユーザは、編集のために既存プログラムを開くことができる。ユーザがオプション「オープンアズ（Ｏｐｅｎ  Ａｓ）」を選択した場合には、既存プログラムのコピーが、編集用に生成される。この既存プログラムは、テンプレートの役割をする。
【００２６】
図６の説明で既に言及したように、ユーザは、最初はウエハサイズ、ウエハのオリエンテーションマーク、およびウエハのオリエンテーションを選択する。オリエンテーションマークは、フラット１４（図６参照）またはノッチ（図示せず）として構成してもよい。検査用のウエハは、容器３からロードされる。ウエハのタイプに従って、ユーザは、ウエハ設計を生成または選択する。新しいウエハ設計に関しては、新しいウエハ格子または新しいマスター格子を学習しなければならない。エッジおよび／またはダイは除外される。ウエハ上の測定パターンの各発見位置をシステムに登録させるために、システム１は自動整列を学習する必要があり、また特別の障害コードが選択される。
【００２７】
本実施形態によれば、ウエハ設計の生成のために、行Ｒ３０および列Ｃ１５における構造が用いられる。測定パターンは典型的なダイではないので、列および行に的をしぼり、それを左下角部（図５参照）として用いなければならない。
【００２８】
上述のように、マスター格子は、特定のプログラムを用いて確立される。本発明の一実施形態によれば、スポットチェックと呼ばれるプログラムが用いられる。第一に、ユーザは、スポットチェックスキャンを生成または選択しなければならない。それに加えて、ユーザは、スポットチェックタイプおよびフォーカスタイプを選択する必要がある。次に、検出パラメータが設定される。ゴールデンイメージが学習され、走査位置が選択される。さらに、スポットチェック検査用のダイが選択される。結果オプションの設定が、同様に実行される。最後に、スポットチェックスキャンがテストされる。「画像整列」用の典型的な検出パラメータは、Ｘ方向における最大画像シフトおよびＹ方向における最大画像シフトである。「画像フィルタ」用の典型的な検出パラメータは、最大正規化および結晶粒度である。「検出」用の典型的な検出パラメータは、感度である。「欠陥フィルタ」用の典型的な検出パラメータは、最小濃度（ｍｉｎｉｍｕｍ  ｄｅｎｓｉｔｙ）、濃度ウィンドウ（ｄｅｎｓｉｔｙ  ｗｉｎｄｏｗ）サイズ、欠陥接合（ｄｅｆｅｃｔ  ｃｏｎｎｅｃｔｉｎｇ）、最小欠陥サイズである。典型的なセッティングは、Ｘ方向における最大画像シフトおよびＹ方向における最大画像シフトに対して５８７０．４１μｍ、最大正規化に対して２５５、結晶粒度に対して０、感度に対して５５％、最小濃度に対して０％、濃度ウィンドウサイズに対して９．３９μｍ、欠陥接合に対して０μｍ、最小欠陥サイズに対して０．５０μｍである。
【００２９】
「ゴールデンイメージ」は、これらのレシピにとって極めて独特なものである。なぜなら、それは、欠陥が予想される、関心のあるエリアを有していないからである。ゴールデンイメージは、単に、測定パターンの位置の整列のためのものである。したがって、「ゴールデンイメージ」は、暗視野における明るいエッジ部で用いられる。走査は、ＡＤＲレシピにおいて画像を捕捉するために後で利用可能な測定パターンの全ての位置を実現する。
【００３０】
走査結果オプションは、非常に重要な様々なセッティングを表示する。「ゴールデンイメージ」と組み合わせて、欠陥は、各検査位置で一度だけ検出される。なぜなら、「ゴールデンイメージ」は、関心のあるエリアは示さず、またここで、フォーカスは、一度だけ、様々な測定パターンの位置の検出に向けられるからである。
【００３１】
「ウエハへのプログラム割り当て」機能を用いれば、定義された順序で、ウエハ上の全てのフィールド（測定パターン）を導くことが可能である。定義された順序は、後の分析にとって非常に重要である。リソグラフィプロセスのフォーカス監視用のデータを自動的に提供するようにＫＬＡファイルを用いるために、ＫＬＡファイルにおける修正が非常に重要である。第一に、検査システム１のＩＤを修正しなければならない。第２のステップは、ウエハをロードし、ウエハを整列して、「アジャストオリジン（Ａｊｕｓｔ  Ｏｒｉｇｉｎ）」を適切なフィールドに調節することである。
【００３２】
「アジャストオリジン」の修正後に、ウエハはステージに留まり、いくつかの検査ポイントがチェックされる。構造または測定パターンはすべて、ビュー（ｖｉｅｗ）フィールドにあるべきである。全てが正常な場合には、「自動整列」用の学習ダイアログが開始される。「自動整列」のためには、各ポイント用の３つの暗視野像を備えた２ポイント「自動整列」が実行される（図１０参照）。第１のポイント１０１において、３つの異なる画像１０３が、「自動整列」用に用いられる。第２のポイント１０２において、３つの画像１０３が、「自動整列」用に用いられる。各画像１０３におけるフレーム１０４は、整列が実行されるエリアをマークする。
【００３３】
図１１は、ＶＰＧダイアログを呼び出すために、ディスプレイ５上に開く必要があるパス１１０を示す。ＶＰＧは、ビスコンプログラムジェネレータ（ＶＩＳＣＯＮ  Ｐｒｏｇｒａｍ  Ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）を表わす。ユーザは、ＶＰＧを用いて、ＡＤＲレシピを学習しなければならない。ＡＤＲは自動欠陥検出（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ  Ｄｅｆｅｃｔ  Ｒｅｖｉｅｗ）を表わす。
【００３４】
図１２は、ディスプレイ上でユーザに示されるＶＰＧダイアログ１２０である。ＶＰＧダイアログ１２０の上部のバー１２１において、レシピの設計のために設定する必要があるいくつかのセッティングが左から右へ表示される。第１のセッティングは「Ｆｉｌｅ」１２２、第２のセッティングは「Ｗａｆｅｒ」１２３、第３のセッティングは「Ｅｖｅｎｔ」１２４、第４のセッティングは「Ｓｃａｎ」１２５、第５のセッティングは「Ｏｐｔｉｏｎｓ」１２６、第５のセッティングは「Ｍｏｄｅ」１２７である。
【００３５】
図１３は、ユーザが、容器に存在しかつ検査システムによって検査されなければならないウエハを選択できるようにするウエハ事前選択ダイアログ１３０を示す。ウエハ事前選択ダイアログ１３０におけるボックス１３１によって、ユーザは、検査を受けるロットからウエハを選択することが可能になる。さらに、ユーザは、「Ａｌｌｏｗ  ｏｐｅｒａｔｏｒ  ｃｈａｎｇｅ」と名付けられたボックス１３２をマークすべきではない。
【００３６】
図１４はイベント事前選択ダイアログ１４０である。「自動選択の使用」のための指示ボックス１４１がマークされている。さらに、指示ボックス１４２「ランダム選択」が同様にマークされており、ウエハおよびダイ用のランダム値が、１００％に設定されている。選択可能なフィルタのリストが、「Ｆｉｌｔｅｒｓ」なる名称のウィンドウ１４３に表示される。
【００３７】
図１５は、走査オプション１５０を設定するためのダイアログである。ダイアログ１５０を用いて、ユーザは、照明用の光源を選択する。このダイアログ１５０において、レーザが、ドロップダウンボックス１５１によって選択される。さらに、ユーザが顕微鏡のセッティングを格納できるウィンドウ１５２が表示される。顕微鏡のセッティングは、たとえば、倍率、絞り、コントラスト、輝度、グレーフィルタおよびＺオフセットある。
【００３８】
図１６は、整列オプション１６０を設定するためのダイアログである。整列ウィンドウ１６１において、「自動モード」１６２が設定される。さらに、ユーザは、ドロップダウンボックス１６３を用いて、整列用の特別なプログラムを選択する。
【００３９】
図１７は、結果オプション１７０を設定するためのダイアログである。ユーザは、利用可能ないくつかのドロップダウンボックス１７１を有し、また結果を格納するための様々なオプションを選択することができる。
【００４０】
図１８は、フォーカス監視を実行するためにユーザが選択できる複数のＫＬＡファイルのファイル構造および複数の測定レシピの表現である。フォーカス監視用のデータの決定を開始する前に、ユーザは、適切なＫＬＡファイル１８１を選択しなければならない。所望のＫＬＡファイルの選択後、ユーザは、ＡＤＲレシピ用に所望のレシピ１８２を選択しなければならない。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の方法を取り入れた装置の概略図である。
【図２】表面に複数のフィールドを配分したウエハの上面概略図であり、各フィールドは、リソグラフィプロセスのフォーカス計算に用いられる複数のパターンを有する。
【図３ａ】リソグラフィプロセスのフォーカス計算に用いられるパターンの第１の実施形態である。
【図３ｂ】リソグラフィプロセスのフォーカス計算に用いられるパターンの第２の実施形態である。
【図３ｃ】リソグラフィプロセスのフォーカス計算に用いられるパターンの第３の実施形態である。
【図３ｄ】リソグラフィプロセスのフォーカス計算に用いられるパターンの第４の実施形態である。
【図４】複数のパターンを備えた一フィールドの概略図である。
【図５】リソグラフィ露光プロセスのフォーカス決定用のデータを収集および提供する方法の概略図である。
【図６】ウエハ設計用の検査システムの学習レシピである。
【図７】マスター格子を生成するための、検査システムの学習レシピ、すなわちスポットチェックである。
【図８】特定の検査プログラムをウエハに割り当てのための、検査システムの学習レシピである。
【図９】マスター格子の概略図である。
【図１０】２ポイント「自動整列」に用いられる画像の表現である。
【図１１】ＶＰＧダイアログを呼び出すためにディスプレイ上に開く必要があるパスである。
【図１２】ディスプレイ上でユーザに示されるＶＰＧダイアログである。
【図１３】ウエハ事前選択ダイアログである。
【図１４】イベント事前選択ダイアログである。
【図１５】走査オプションを設定するためのダイアログである。
【図１６】整列オプションを設定するためのダイアログである。
【図１７】結果オプションを設定するためのダイアログである。
【図１８】フォーカス監視を実行するためにユーザが選択できる複数のＫＬＡファイルのファイル構造および複数の測定レシピの表現である。
【符号の説明】
【００４２】
１  検査システム
２  ハウジング
３  容器
５  ディスプレイ
７  キーボード
１０  ウエハ
１１  表面
１２  フィールド
１４  フラット
２０  パターン
２２  行
２３  円
３１  第１のステップ
３２  第２のステップ
３３  第３のステップ
３４  第４のステップ
６０  学習レシピ
６１  インデックス
６２  第１のセクション
６３  第２のセクション
６３１  ドロップダウンボックス
６３２  「ＮＥＷ」ボタン
６４  第３のセクション
６４１  「ＬＯＡＤ」ボタン
６４２  「Ｅｄｉｔ」ボタン
６５  第４のセクション
６６  第５のセクション
６７  指示ボックス
７０  学習レシピ
７１  インデックス
７２  第１のセクション
７３  第２のセクション
７４  第３のセクション
７５  第４のセクション
７６  第５のセクション
７７  指示ボックス
８０  学習レシピ
８１  インデックス
８２  第１のセクション
８３  第２のセクション
８３１  表示フィールド
８４  第３のセクション
８５  指示ボックス
９０  マスター格子
９１  位置
９２  列
９３  行
１０１  第１のポイント
１０２  第２のポイント
１０３  画像
１０４  フレーム
１１０  パス
１２０  ＶＰＧダイアログ
１２１  バー
１２２  Ｆｉｌｅ
１２３  Ｗａｆｅｒ
１２４  Ｅｖｅｎｔ
１２５  Ｓｃａｎ
１２６  Ｏｐｔｉｏｎ
１２７  Ｍｏｄｅ
１３０  ウエハ事前選択ダイアログ
１３１  ボックス
１３２  ボックス
１４０  イベント事前選択ダイアログ
１４１  指示ボックス
１４２  指示ボックス
１５０  走査オプション
１５１  ドロップダウンボックス
１５２  ウィンドウ
１６０  整列オプション
１６１  ウィンドウ
１６２  自動モード
１６３  ドロップダウンボックス
１７０  結果オプション
１７１  ドロップダウンボックス
１８１  ＫＬＡファイル
１８２  レシピ
【図１】
2006222432.tif 000003
【図５】
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【図２】
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【図３ａ】
2006222432.tif 000006
【図３ｂ】
2006222432.tif 000007
【図３ｃ】
2006222432.tif 000008
【図３ｄ】
2006222432.tif 000009
【図４】
2006222432.tif 000010
【図６】
2006222432.tif 000011
【図７】
2006222432.tif 000012
【図８】
2006222432.tif 000013
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
2006222432.tif 000017
【図１３】
2006222432.tif 000018
【図１４】
2006222432.tif 000019
【図１５】
2006222432.tif 000020
【図１６】
2006222432.tif 000021
【図１７】
2006222432.tif 000022
【図１８】
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