(57)【要約】【課題】  短波長の記録再生光による情報の記録再生が可能な多層型光記録媒体を提供すること。【解決手段】  有機色素を含む２個の記録層を有する光記録媒体であって、ポリカーボネート等からなる第１透明基板１０１上に、第１記録層１０２及び半透明中間層１０３を順次積層した第１のディスク基板と、第２基板１０８上に、反射層１０７、第２記録層１０６及び界面層１０５を積層した第２のディスク基板と、を有し、第１のディスク基板と第２のディスク基板とが、半透明中間層１０３と界面層１０５とが対向するように、透明接着層１０４を介して積層され、第１記録層１０２または第２記録層１０６に形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）が、記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）より高くなる（Ｒ1＞Ｒ0）光記録媒体１００。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を照射することにより情報の記録再生が可能な有機色素を含む記録層を少なくとも２層有し、
前記記録層に形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）が、当該記録層における前記記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）より高くなる（Ｒ1＞Ｒ0）ことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記記録マークの部分の反射率（Ｒ1）と当該記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）との差（Ｒ1−Ｒ0）が、少なくとも２％であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記有機色素は、波長３９０ｎｍ〜４２０ｎｍの光における消衰係数（ｋ）が、少なくとも０．１であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記記録マークから得られる再生信号の変調度が少なくとも４０％であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記光は、片側から照射されることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項６】
有機色素を含む２個の記録層を有する光記録媒体であって、
光透過性材料からなる第１の基板上に、第１の記録層及び半透明中間層を順次積層した第１のディスク基板と、
第２の基板上に、反射層、第２の記録層及び界面層を積層した第２のディスク基板と、を有し、
前記第１のディスク基板と前記第２のディスク基板とが、前記半透明中間層と前記界面層とが対向するように、透明接着層を介して積層され、
前記第１の記録層または前記第２の記録層に、照射される光により形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）が、前記記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）より高くなる（Ｒ1＞Ｒ0）ことを特徴とする光記録媒体。
【請求項７】
前記第１の基板に形成されたグルーブの溝深さが、前記第２の基板に形成されたグルーブの溝深さの少なくとも２倍の大きさを有することを特徴とする請求項６記載の光記録媒体。
【請求項８】
前記第１の基板及び前記第２の基板に形成されたグルーブのトラックピッチが３９０ｎｍ〜４１０ｎｍであることを特徴とする請求項６記載の光記録媒体。
【請求項９】
前記光は、前記第１の基板側から照射されることを特徴とする請求項６記載の光記録媒体。
【請求項１０】
前記光が照射される前記第１の基板側からみて、当該第１の基板の手前側凹部に存在する前記第１の記録層の部分と、前記第２の基板の奥側凹部に存在する前記第２の記録層の部分とに、前記記録マークが形成されることを特徴とする請求項６記載の光記録媒体。
【請求項１１】
前記光の波長が３９０ｎｍ〜４２０ｎｍであることを特徴とする請求項６記載の光記録媒体。
【請求項１２】
前記有機色素がモノメチン−アゾ金属錯体系色素であることを特徴とする請求項６記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体に関し、より詳しくは、有機色素を含む複数の記録層を有する光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報通信機器の発達により光記録媒体（光ディスク）に対する大容量化の要求が著しい。光ディスクの大容量化としては、記録再生光の短波長化、光学系におけるレンズの高ＮＡ化、トラックピッチの狭小化、記録トラックのランドおよびグルーブ記録、そして記録層の多層化等が積極的に行われている。特に記録層の多層化はディスク寸法を変えることなく記録層の面積を容易に増やし、さらに光学系におけるレンズの高ＮＡ化による対物レンズの開発、面ブレ抑制のための生産技術、防汚性確保のためのカートリッジ等が不要というメリットがある。
【０００３】
ここで、記録層の二層化の方法としては、通常、２Ｐ法と逆積層法とが挙げられる。２Ｐ法は、光入射側の基板に形成した第１記録層と半透明中間層の上に、光硬化性の樹脂を塗布して光透過性スタンパを押し当て、これを光照射により硬化した後、光透過性スタンパを剥がすことにより溝パターンを転写し、その溝パターン上に第２記録層を形成する方法である（特許文献１参照）。
上述した２Ｐ法により製造される２層型光ディスクは、単層構造のディスク構成を積層した構造のため、記録感度の問題を除き、単層構造のディスクと同様な記録再生を得ることが比較的容易である。しかし、製造工程が複雑な上、光透過性スタンパのリサイクルが困難なために、製造コストが高いという問題がある。
【０００４】
一方、逆積層法は、第１記録層を形成した第１基板と第２記録層を形成した第２基板とを透明接着剤により貼り合せて製造する方法である（特許文献２参照）。
逆積層法により製造された２層型光ディスクは、２Ｐ法に比べて安価に製造できる利点を有しているが、レーザ入射側から奥側の記録層と反射層の構造が単層ディスクと逆になり、記録再生特性の最適化が難しいという問題がある。
このような問題を解消するために、例えば、第２の記録層の膜厚よりも第２の記録層の膜厚を大きく形成する等の手法により、逆積層法により製造された２層型光ディスクの第２の記録層からも良好な再生記録信号を得る方法が報告されている（特許文献３参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３３１４６３号公報
【特許文献２】特開２００３−３３１４７３号公報
【特許文献３】特開２００４−３４８８８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、光ディスクの大容量化を目的として記録再生光の短波長化を進めると次のような問題が生じる。例えば、二層型光ディスクでは、２個の記録層の両方に記録を行う必要があるため、片側の第１基板側から入射した入射光の半分以上が第１記録層および半透明中間層を透過させている。即ち、記録層を１個だけ有する単層型光ディスクに比較して、二層型光ディスクの感度は非常に低いので、二層型光ディスクの記録層に記録を行うためには高出力レーザが必要とされている。従来、市販されている２Ｐ法によるＤＶＤ＋Ｒでは、波長約６５０ｎｍ、１５０ｍＷ以上の高出力の赤色レーザを使用しているため、記録層の感度がそれほど高くなくても二層型光ディスクを実現することが可能である。しかし、近年の光ディスクの大容量化を目的として使用される青色レーザの場合は、赤色レーザのような高出力を確保することが困難であるという問題がある。
【０００７】
次に、従来のＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒでは、記録層に照射した光により有機色素を爆発させるとともに基板を変形させて記録マークを形成している。有機色素を含む記録層にこのように形成された記録マークの部分は、記録マークが形成されない部分（スペース）に比べて反射率が低下する（Ｈｉｇｈ  ｔｏ  Ｌｏｗ記録）。この記録方法の場合は、記録層の未記録状態の反射率を高くできるため、ＲＯＭディスクとの記録再生特性の互換性を取り易いという利点があったが、反対に、未記録状態の光吸収が小さいので記録感度が低い問題があった。
【０００８】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、光照射により記録再生可能な有機色素を含む複数の記録層を有する光記録媒体において、短波長の記録再生光による情報の記録再生が可能な多層型光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した課題を解決するために、本発明においては、特定の性質を有する有機色素を用いて記録層を形成している。
即ち、本発明によれば、光を照射することにより情報の記録再生が可能な有機色素を含む記録層を少なくとも２層有し、記録層に形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）が、記録層における記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）より高くなる（Ｒ1＞Ｒ0）ことを特徴とする光記録媒体が提供される。
本発明が適用される多層型の光記録媒体は、記録マークの部分が記録マークが形成されないスペースに比べて反射率が高くなるＬｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ記録を用いることにより、未記録状態の記録層の光吸収を高くし、レーザ光のエネルギーを多く吸収できるので、記録感度を高くすることができる。
【００１０】
ここで、記録マークの部分の反射率（Ｒ1）と記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）との差（Ｒ1−Ｒ0）は、少なくとも２％であることが好ましい。
また、複数の記録層には、波長３９０ｎｍ〜４２０ｎｍの光における消衰係数（ｋ）が、少なくとも０．１である有機色素が含まれることが好ましい。
このような性質を有する有機色素を含有する複数の記録層に形成された記録マークから得られる再生信号の変調度が少なくとも４０％である。
また、本発明が適用される光記録媒体の記録再生のために使用される光は、光記録媒体の片側から照射されることが好ましい。
【００１１】
次に、本発明によれば、有機色素を含む２個の記録層を有する光記録媒体であって、光透過性材料からなる第１の基板上に、第１の記録層及び半透明中間層を順次積層した第１のディスク基板と、第２の基板上に、反射層、第２の記録層及び界面層を積層した第２のディスク基板と、を有し、第１のディスク基板と第２のディスク基板とが、半透明中間層と界面層とが対向するように、透明接着層を介して積層され、第１の記録層または第２の記録層に、照射される光により形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）が、記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）より高くなる（Ｒ1＞Ｒ0）ことを特徴とする光記録媒体が提供される。
即ち、本発明が適用される光記録媒体は、第１記録層を形成した第１基板と第２記録層を形成した第２基板とを透明接着層を介して貼り合せることにより低コストで製造することができる。
【００１２】
ここで、第１の基板に形成されたグルーブの溝深さが、第２の基板に形成されたグルーブの溝深さの少なくとも２倍の大きさを有することが好ましい。
また、第１の基板及び第２の基板に形成されたグルーブのトラックピッチが３９０ｎｍ〜４１０ｎｍであることが好ましい。
さらに、記録再生のための光は、第１の基板側から照射され、光が入射する側から見て手前側の第１の記録層と奥側の第２の記録層に情報が記録されることが好ましい。
【００１３】
また、本発明が適用される２層型の光記録媒体は、光が照射される第１の基板側からみて、第１の基板の手前側凹部に存在する第１の記録層の部分と、第２の基板の奥側凹部に存在する第２の記録層の部分とに、記録マークが形成されることが好ましい。
この場合、記録再生のための光の波長が３９０ｎｍ〜４２０ｎｍであることが好ましい。
さらに、記録層に含まれる有機色素としては、モノメチン−アゾ金属錯体系色素が好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、短波長の記録再生光により、有機色素を含む複数の記録層を有する多層型光記録媒体に情報を記録することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための最良の形態（実施の形態）について、図面に基づき説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。また、使用する図面は、本実施の形態を説明するために使用するものであり、実際の大きさを現すものではない。
（光記録媒体）
図１は、本実施の形態が適用される光記録媒体の層構成を説明するための図である。図１に示す光記録媒体１００は、トラック案内溝を有するディスク状の第１透明基板１０１と、第１透明基板１０１上に積層された色素を含む第１記録層１０２と、第１透明基板１０１側から入射したレーザ光１２０のパワーを振り分ける半透明中間層１０３と、を有している（第１のディスク基板）。次に、トラック案内溝を有するディスク状の第２基板１０８と、第２基板１０８上に積層された反射層１０７と、色素を含む第２記録層１０６と、界面層１０５と、を有している（第２のディスク基板）。
図１に示すように、光記録媒体１００は、第１のディスク基板と第２のディスク基板とが、透明接着層１０４を介して、第１透明基板１０１上に積層された半透明中間層１０３と第２基板１０８上に積層された界面層１０５とが対向するように貼り合わされた構造を有している。
【００１６】
光記録媒体１００には、片面から波長３９０ｎｍ〜４２０ｎｍのレーザ光１２０が入射し、光入射側から見て手前側の第１記録層１０２と奥側の第２記録層１０６において記録マークが形成され、情報の記録再生が行われる。本実施の形態においては、光記録媒体１００の第１記録層１０２に記録マークが形成される位置は、第１透明基板１０１上に形成されたトラック案内溝の、レーザ光１２０が入射する側からみて手前側凹部である第１記録層の凹部溝１０９に存在する部分であることが好ましい。また、第２記録層１０６に記録マークが形成される位置は、第２基板１０８上に形成されたトラック案内溝の、レーザ光１２０が入射する側からみて奥側凹部である第２記録層の凹部溝１１０に存在する部分であることが好ましい。
本実施の形態が適用される光記録媒体１００において、第１記録層１０２または第２記録層１０６に、照射されるレーザ光１２０により形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）が、記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）より高くなる（Ｒ1＞Ｒ0）ことを特徴としている（Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ記録）。以下、各層について説明する。
【００１７】
（記録層）
本実施の形態が適用される光記録媒体１００における２個の記録層（第１記録層１０２、第２記録層１０６）には、波長３９０ｎｍ〜４２０ｎｍの光による情報の記録に適する有機色素が含有される。第１記録層１０２または第２記録層１０６に使用される有機色素としては、例えば、シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等のポリメチン系色素；フタロシアニン色素、ポリフィリン色素等の大環状アザアヌレン系色素；アントラキノン系色素、トリアリールメタン色素、ピリリウム色素、アゾ色素、含金属アゾ色素、トリアリールアミン色素、ピロメテン系色素、ホルマザン金属錯体系色素、モノメチン−アゾ金属錯体系色素、アヌレン系色素等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１８】
上述したこれらの有機色素は、１種類を用いても良く、２種類以上の有機色素を混合して使用しても良い。また、２個の記録層には、クエンチャー、他の色素、添加剤、高分子（例えば、ニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー）、金属微粒子等を含んでいても良い。
【００１９】
本実施の形態が適用される光記録媒体１００における２個の記録層（第１記録層１０２、第２記録層１０６）には光吸収性が高い有機色素が含有されることが好ましい。具体的には、２個の記録層（第１記録層１０２、第２記録層１０６）に含有される有機色素の、第１透明基板１０１側から入射する波長３９０ｎｍ〜４２０ｎｍの光における光学定数の消衰係数（ｋ）が、０．１以上、好ましくは、０．１５以上である。但し、通常、消衰係数（ｋ）は、０．３以下、好ましくは、０．２５以下である。
【００２０】
光記録媒体１００における２個の記録層（第１記録層１０２、第２記録層１０６）に、波長３９０ｎｍ〜４２０ｎｍの光における消衰係数（ｋ）が上述した範囲の有機色素を含有することにより、第１記録層１０２または第２記録層１０６に、照射される光により形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）が、記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）より高くなる（Ｒ1＞Ｒ0）記録（Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ記録）を行うことができる。
具体的には、第１記録層１０２または第２記録層１０６に形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）と記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）との差（Ｒ1−Ｒ0）が、２％以上、好ましくは５％以上とすることができる。（Ｒ1−Ｒ0）が少なくとも２％である場合、記録マークから得られる再生信号は、少なくとも４０％の変調度を得ることができる。
【００２１】
尚、第１記録層１０２または第２記録層１０６に形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）は、通常、６％〜１０％、好ましくは、６．５％〜８％である。一方、第１記録層１０２または第２記録層１０６の、記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）は、通常、２％〜５％、好ましくは、３％〜４％である。
【００２２】
本実施の形態が適用される光記録媒体１００は、記録層に形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）が、記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）より高くなる（Ｒ1＞Ｒ0）記録（Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ記録）を行うことにより、記録層の記録マークが形成されない部分の光吸収を高めてレーザ光１２０のエネルギーを多く吸収することができるため、記録感度を高くすることができる。この結果、光ディスクの大容量化を目的として使用される青色レーザによる情報の記録再生を良好に行うことができる。
【００２３】
第１記録層１０２と第２記録層１０６の形成方法としては、通常、上述した有機色素および必要に応じて添加される他の添加剤等を、公知の有機溶媒（例えば、テトラフルオロプロパノール、ケトンアルコール、アセチルアセトン、メチルセルロブ、トルエン等）に溶解または溶媒和して調製した有機色素溶液を、スピンコート法によりそれぞれの基板に塗布する方法が挙げられる。スピンコート法の条件としては、基板の内周から外周にかけて、回転数を３００ｒｐｍ〜５０００ｒｐｍの間で数条件組み合わせて行えばよい。第１記録層１０２と第２記録層１０６のそれぞれの厚さは、スピンコート回転数、有機色素溶液の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度等を条件により適宜選択され、特に限定されないが、通常、グルーブで厚さ６０ｎｍ〜１２０ｎｍ程度、ランドで厚さ４０ｎｍ〜８０ｎｍ程度になるように形成されることが好ましい。
【００２４】
尚、本実施の形態が適用される光記録媒体１００における２個の記録層（第１記録層１０２、第２記録層１０６）に含有される有機色素は、波長３９０ｎｍ〜４２０ｎｍの光における屈折率（ｎ）が、１．５〜２．３であることが好ましい。また、最大吸収波長が４２０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００２５】
次に、本実施の形態が適用される光記録媒体１００を構成する他の層について説明する。
（第１透明基板）
第１透明基板１０１は、透明かつ複屈折率が小さい等の光学特性に優れ、さらに射出成形等の成形性に優れた材料から構成される。また、吸湿性が小さいことが好ましい。第１透明基板１０１を構成する材料として、特に限定されないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。
【００２６】
第１透明基板１０１は、一方の面に螺旋状又は同心円状にトラッキング用の溝が形成されている。トラッキング用の溝は、サーボ用に一定周期でウォブルしたり、アドレス用にウォブル周期が変調していたりしてもよい。また、管理情報等を形成するために、ピットが設けられていても良い。第１透明基板１０１に形成されたトラッキング用の溝のトラックピッチは、通常、３９０ｎｍ〜４１０ｎｍ、好ましくは、３９５ｎｍ〜４０５ｎｍである。また、トラッキング用の溝の深さは、通常、５０ｎｍ〜９０ｎｍ、好ましくは、６０ｎｍ〜８０ｎｍである。第１透明基板１０１に形成されたグルーブの溝深さは、後述する第２基板１０８に形成されたグルーブの溝深さの少なくとも２倍の大きさを有することが好ましい。
第１透明基板１０１の厚さは約０．６ｍｍであることが好ましい。尚、第１透明基板１０１の厚さは他の層の厚さに合わせて調整しても良い。
第１透明基板１０１は、原盤及びスタンパを作製し、射出成型により作製することが好ましい。尚、第１透明基板１０１と第１記録層１０２との間には、ＳｉＯ2、ＺｎＳ−ＳｉＯ2等からなるエンハンス層や耐溶剤層を設けてもよい。
【００２７】
（半透明中間層）
半透明中間層１０３は、第１透明基板１０１側から入射するレーザ光１２０の吸収が小さく、光透過率が３０％以上あり、かつ、通常、適度な光反射率を有することが望ましい。例えば、反射率の高い金属膜を薄くすることにより、適当な光透過率と光反射率とのバランスを保つことができる。また、半透明中間層１０３の厚さは極めて小さい（通常、３ｎｍ〜５０ｎｍ程度）ため、耐食性のある材料が望ましい。さらに、透明接着層１０４に、第１記録層１０２に含有される有機色素の侵み出しを防ぐ程度の遮蔽性を持つことが好ましい。
【００２８】
半透明中間層１０３は、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）またはこれらの金属を含む合金等により、スパッタ法等の手段を用いて形成される。なかでも、Ａｇを主成分とする場合は、低コスト、高反射率であることから特に好ましい。半透明中間層１０３を構成する金属の結晶粒が過度に大きいと、記録再生光のノイズの原因となるため、結晶粒が小さい材料を用いるのが好ましい。また、純銀は結晶粒が大きい傾向があるため、Ａｇは合金として用いるのが好ましい。
【００２９】
Ａｇを主成分とする合金の中でも、Ａｇ以外に、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１原子％〜５原子％含有することが好ましい。Ａｇを主成分とする合金に、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ及び希土類金属の中から選ばれる２種以上の金属が含まれる場合は、各々の金属濃度が０．１原子％〜５原子％であり、好ましくは、それらの金属の合計が０．１原子％〜５原子％である。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＩｎ等が挙げられる。
【００３０】
半透明中間層１０３としてＡｕのみからなる層は結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適であるが、Ａｇ合金に比べて高価である。また、半透明中間層１０３としてＳｉＯ2等の金属以外の材料を用いて、低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、適度な光透過性を有する反射層を形成することも可能である。
第１記録層１０２と半透明中間層１０３との間に、ＳｉＯ2、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3等からなるエンハンス層、耐酸化層等の他の層を設けてもよい。また、半透明中間層１０３上に保護層を形成してもよい。この場合、保護層としては、半透明中間層１０３を保護できる層であればよく、例えば、紫外線硬化樹脂、シリコーン系樹脂等によって形成される。
【００３１】
（第２基板）
第２基板１０８は、機械的安定性が高く、剛性が大きく、さらに射出成形等の成形性に優れた材料により形成されることが好ましい。また、吸湿性が小さいことが好ましい。但し、第２基板１０８は、前述した第１透明基板１０１のように、光透過性や光学特性を備える必要はない。第２基板１０８を形成するための材料としては、第１透明基板１０１と同様な材料のほか、ＡＢＳ樹脂、フィラー含有エポキシ樹脂、Ａｌを主成分とした、例えば、Ａｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板等が挙げられる。
【００３２】
第２基板１０８は、第１透明基板１０１と同様に、一方の面に螺旋状又は同心円状にトラッキング用の溝が形成されている。溝はサーボ用に溝が一定周期でウォブルしたり、アドレス用にウォブル周期が変調していたりしてもよい。
第２基板１０８に形成されたトラッキング用の溝のトラックピッチは、通常、３９０ｎｍ〜４１０ｎｍ、好ましくは、３９５ｎｍ〜４０５ｎｍである。また、トラッキング用の溝の深さは、通常、１０ｎｍ〜４０ｎｍ、好ましくは、１５ｎｍ〜３５ｎｍである。また、管理情報等を形成するために、ピットが設けられていても良い。第２基板１０８は原盤及びスタンパを作製し、射出成型により作製することが好ましい。また、第２基板１０８の厚さは約０．６ｍｍであることが好ましく、他の層の厚さに合わせて調整しても良い。
【００３３】
（反射層）
反射層１０７は、反射率が高く、耐食性に優れることが望ましい。反射層１０７の厚さは、反射率を高めるために、通常、５０ｎｍ以上、好ましくは、８０ｎｍ以上である。但し、記録感度を上げるためにはある程度薄いことが好ましく、また、反射層１０７の厚さが過度に大きいと第２基板１０８が反るおそれがあるため、通常、３００ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下である。
反射層１０７を形成するための材料としては、再生光の波長において反射率の十分高いもの（例えば、６０％以上）が用いられる。例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ等の金属またはこれらの合金が挙げられる。この中でも、Ａｌ、Ａｇまたはこれらの合金が好ましい。合金を形成する成分としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属等の金属及び半金属を挙げることができる。
【００３４】
上述した金属等の中でも、Ａｇ合金は低コスト、高反射率、耐食性に優れるので好ましい。Ａｇ合金としてはＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１原子％〜５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々の金属濃度が０．１原子％〜５原子％であり、好ましくは、それらの合計が０．１原子％〜５原子％である。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＩｎ等である。
反射層１０７を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられるが、スパッタ法が生産性の上で好ましい。
【００３５】
（界面層）
界面層１０５は、有機色素を含有する第２記録層１０６と透明接着層１０４とを遮蔽し、両層の混和を防止するために、第２記録層１０６上に形成される。即ち、後述するように、透明接着層１０４として用いられる液状の紫外線硬化樹脂と第２記録層１０６とが相溶することを防ぐために両層のあいだに界面層１０５が設けられる。
界面層１０５を形成するための材料は、第２記録層１０６と透明接着層１０４と混和しない材料であれば特に限定されるものではない。他の機能を兼ねていても良いし、必要に応じてさらに他の層を挟んでも良い。
【００３６】
界面層１０５を形成する材料としては無機物が好ましく、例えば、金属または半導体、金属または半導体の酸化物、窒化物、硫化物、誘電体等の透明な無機物が挙げられる。具体的には、二酸化珪素等の酸化珪素；酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウム等の硫化物；窒化珪素等の窒化物；炭化珪素；酸化物とイオウとの混合物；および後述する合金等が好適である。また、酸化珪素と硫化亜鉛との３０：７０〜９０：１０程度（重量比）の混合物も好適である。また、イオウ及び二酸化イットリウム混合物と酸化亜鉛との混合物（Ｙ2Ｏ2Ｓ−ＺｎＯ）も好適である。
【００３７】
界面層１０５の厚さは、通常、３ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上である。但し、１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下である。界面層１０５の厚さが過度に小さいと、遮蔽防止が不十分となる傾向がある。界面層１０５の厚さが過度に大きいと、光透過率が低下するおそれがある。また、界面層１０５が無機物からなる層の場合には、成膜に時間を要し生産性が低下したり、膜応力が増大する傾向がある。界面層１０５を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられるが、スパッタ法が生産性の上で好ましい。
【００３８】
（透明接着層）
透明接着層１０４は、記録再生波長において透明である他に、高接着力、硬化接着時の収縮率が小さく、環境保存安定性が高い材料が好ましい。
本実施の形態が適用される光記録媒体１００は、２個の記録層（第１記録層１０２、第２記録層１０６）に別々にフォーカスサーボをかけるため、透明接着層１０４の厚さは正確に調製することが好ましい。フォーカスサーボ機構にもよるが、透明接着層１０４の厚さは、好ましくは１０μｍ以上が必要である。記録再生に用いられる対物レンズの開口数が高いほど、透明接着層１０４の厚さは小さくてよい傾向がある。厚さ０．６ｍｍの２枚の基板を貼り合せて製造され、記録再生光として青色レーザを用いる場合は、透明接着層１０４の厚さ約２０μｍが好適である。透明接着層１０４は、半透明中間層１０３にダメージを与えない材料からなることが望ましい。また、両層のあいだに公知の無機系または有機系の保護層を形成してもよい。
【００３９】
透明接着層１０４を形成する材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）、感圧式両面テープ等を挙げることができる。これらの中でも、無溶剤タイプの紫外線硬化性樹脂は環境性に優しく、生産性に優れるために好ましい。紫外線硬化性樹脂には様々な種類があり、透明であればいずれも用いることができる。
【００４０】
紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂とが挙げられ、いずれも使用可能である。ラジカル系紫外線硬化性樹脂としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能アクリレート、単官能メタアクリレート、多官能アクリレート、多官能メタアクリレートを重合性モノマー成分として、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。
【００４１】
単官能アクリレートおよび単官能メタアクリレートとしては、例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル、イソボルニル、ジシクロペンタニル等の如き基を有するアクリレート、メタアクリレート等が挙げられる。
【００４２】
また、多官能アクリレートおよび多官能メタアクリレートとしては、例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、等のジアクリレート、ジメタアクリレート等が挙げられる。
【００４３】
また、上述した重合性モノマーと同時に、重合性オリゴマーを併用することができる。重合性オリゴマーとしては、例えば、ポリエステルメタアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルメタアクリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシメタアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンメタアクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。
【００４４】
また、光重合開始剤としては、公知のものがいずれも使用できる。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが好ましい。分子開裂型としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が好適に挙げられる。
【００４５】
分子開裂型としては、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等が挙げられる。
さらに、水素引き抜き型光重合開始剤も使用することができる。具体例としては、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等が挙げられる。
【００４６】
また、光重合開始剤とともに増感剤を併用することができる。増感剤としては、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等のアミン類を併用することもできる。
【００４７】
カチオン系紫外線硬化性樹脂としては、公知のすべての組成物を用いることができ特に限定されないが、通常、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂が挙げられる。カチオン重合型の光開始剤としては、例えば、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩等が挙げられる。ヨードニウム塩としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラフルオロボレート等が挙げられる。
【００４８】
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ−エピクロルヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等が挙げられる。エポキシ樹脂としては、半透明中間層１０３にダメージを与えないよう、遊離したフリーの塩素および塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。具体的には、塩素量は１重量％以下が好ましく、０．５重量％以下のものがより好ましい。
【００４９】
カチオン型紫外線硬化性樹脂１００重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は、通常、０．１重量部〜２０重量部であり、好ましくは０．２重量部〜５重量部である。なお、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。
【００５０】
さらに、紫外線硬化性樹脂には、各種の特性を改良する目的等必要に応じて他の添加剤を配合することができる。他の添加剤としては、例えば、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン等の酸化防止剤；可塑剤；エポキシシラン、メルカプトシラン、メタアクリルシラン、アクリルシラン等のシランカップリング剤等が挙げられる。これらの他の添加剤は、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。
【００５１】
透明接着層１０４は、紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。塗布方法としては、スピンコート法、スクリーン印刷、キャスト法等が挙げられ、中でもスピンコート法が好ましい。紫外線硬化性樹脂として、１０℃〜４０℃において、粘度が２０ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓであるものを用いると溶媒を用いることなく塗布できるために好ましい。
【実施例】
【００５２】
以下に実施例に基づき本実施の形態をより具体的に説明する。尚、本実施の形態は実施例に限定されない。
（実施例１）
以下の操作により、有機色素を含有する２個の記録層を有する光記録媒体（Ｉ）を調製した。反時計回りの向きのグルーブが形成されたスタンパＡを射出成型機に装着し、射出成型によりポリカーボネート樹脂製の第１透明基板Ａを得た。第１透明基板Ａは、直径１２０ｍｍ、厚さ０．５９ｍｍであり、トラックピッチ０．４０μｍ、半値幅０．２１μｍ、溝深さ７０ｎｍの変調されたウォブル溝が形成されている。また、時計回りの向きの溝が形成されたスタンパＢを使用して、同様の手法によりポリカーボネート樹脂製の第２基板Ａを得た。第２基板Ａは、直径１２０ｍｍ、厚さ０．５９ｍｍであり、トラックピッチ０．４０μｍ、半値幅０．２１μｍ、溝深さ１５ｎｍの変調されたウォブル溝が形成されていた。
【００５３】
次に、第１透明基板Ａの溝形成面上に、下記の化学式（１）で表わされるモノメチン−アゾ金属錯体系色素溶液（濃度１．０重量％のテトラフルオロプロパノール溶液）を、スピンコート法により塗布した。尚、前述の色素溶液をフィルタで濾過して不純物を取り除いた後、スピンコートを行った。尚、化学式（１）で表わされるモノメチン−アゾ金属錯体系色素の光学定数の消衰係数（ｋ）は、０．２である。
【００５４】
【化１】
2006236476.tif 000003
【００５５】
次いで、前述の色素溶液が塗布された第１透明基板Ａを９０℃にて１時間乾燥し、さらに、室温にて１時間冷却して、第１記録層を第１透明基板Ａ上に形成した。続いて、形成された第１記録層上に、半透明中間層としてＡｇＣｕＮｄ合金を厚さ１２ｎｍになるように、スパッタ法を用いて形成した。
【００５６】
次に、第２基板Ｂの溝形成面上に、反射層としてＡｇＣｕＮｄ合金を厚さ１２０ｎｍになるように、スパッタ法を用いて形成した。次に、第１記録層を形成したのと同様な操作により、反射層上に化学式（１）で表わされるモノメチン−アゾ金属錯体系色素を含有する第２記録層を形成した。さらに、第２記録層上に、界面層としてＺｎＳ−ＳｉＯ2を厚さ１２ｎｍとなるように、スパッタ法を用いて形成した。
【００５７】
続いて、第１透明基板Ａ上に形成された半透明中間層上に、ラジカル重合型紫外線硬化性樹脂（ＵＶ樹脂）をスピンコート法により塗布し、貼り合せ装置に設置した。次に、第１透明基板ＡのＵＶ樹脂塗布面に第２基板Ｂ上に形成した界面層を対向するように貼り合せ装置に設置した。続いて、装置内を真空にして、ＵＶ樹脂層に泡が発生しないようにして第１透明基板Ａと第２基板Ｂとを貼り合せた。その後、貼り合せた第１透明基板Ａと第２基板Ｂとを貼り合せ装置から取り出し、第１透明基板Ａ側からＵＶ照射を施してＵＶ樹脂層を硬化し、厚さ２０μｍの透明接着層を介して第１透明基板Ａと第２基板Ｂとを貼り合せた構造を有する光記録媒体（Ｉ）を得た。
【００５８】
調製した光記録媒体（Ｉ）に対し、波長４０５ｎｍ、開口数０．６５の記録再生評価機を用いて記録を行った。記録光は第１透明基板Ａから照射した。第１透明基板Ａの記録トラックは、光が照射される側からみて、第１透明基板Ａのトラック案内溝の手前側凹部を用いた。第２基板Ｂの記録トラックは、光が照射される側からみて、第２基板Ｂのトラック案内溝の奥側凹部を用いた。記録条件は、線速６ｍ／ｓで周波数６０ＭＨｚのＥＦＭ信号により、第１記録層に１２ｍＷで、第２記録層に１４ｍＷで記録マークを形成することができた。
【００５９】
再生光により再生したところ、第１記録層に形成された記録マークの部分の反射率は６．９％であり、記録マークが形成されない部分の反射率は３．８％であった。また、第２記録層に形成された記録マークの部分の反射率は７．２％であり、記録マークが形成されない部分の反射率は３．９％であった。このように第１記録層及び第２記録層においてＬｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ記録が行えた。さらに、第１記録層に形成した記録マークに基づく再生信号はジッター７．５％であり、第２記録層に形成した記録マークに基づく再生信号はジッター７．８％であり、いずれも良好なアイパターンを観測できた。
【００６０】
（実施例２）
第２基板Ｂの溝深さを２５ｎｍにした以外は実施例１と同様の操作を行って、有機色素を含有する２個の記録層を有する光記録媒体（ＩＩ）を調製した。
次に、実施例１と同様に、第１透明基板Ａの記録トラックとして、第１透明基板Ａのトラック案内溝の手前側凹部を用い、第２基板Ｂの記録トラックとして、第２基板Ｂのトラック案内溝の奥側凹部を用いて、第１記録層に１２ｍＷで、第２記録層に１４ｍＷで記録マークを形成した。
再生光により再生したところ、第１記録層に形成された記録マークの部分の反射率は６．９％であり、記録マークが形成されない部分の反射率は３．８％であった。また、第２記録層に形成された記録マークの部分の反射率は６．８％であり、記録マークが形成されない部分の反射率は３．７％であった。第１記録層に形成した記録マークに基づく再生信号はジッター７．５％であり、第２記録層に形成した記録マークに基づく再生信号はジッター７．６％であり、いずれも良好なアイパターンを観測できた。
【００６１】
（比較例）
記録層に含まれる有機色素として下記化学式（２）で示される有機色素を用いる以外は、実施例１と同様の操作を行って、有機色素を含有する２個の記録層を有する光記録媒体（ＩＩＩ）を調製した。尚、化学式（２）で表わされる有機色素の光学定数の消衰係数（ｋ）は、０．０８である。
【００６２】
【化２】
2006236476.tif 000004
【００６３】
次に、実施例１と同様に、第１透明基板Ａの記録トラックとして、第１透明基板Ａのトラック案内溝の手前側凹部を用い、第２基板Ｂの記録トラックとして、第２基板Ｂのトラック案内溝の奥側凹部を用いて、第１記録層及び第２記録層に記録再生装置の最大パワー１５ｍＷで記録した。
再生光により再生したところ、第１記録層に形成された記録マークの部分の反射率は５．５％であり、記録マークが形成されない部分の反射率は７．６％であった。また、第２記録層に形成された記録マークの部分の反射率は５．７％であり、記録マークが形成されない部分の反射率は７．８％であった。このように第１記録層及び第２記録層から得られる記録信号の極性は、両方とも記録部分の反射率が未記録部分より低くなるＨｉｇｈ  ｔｏ  Ｌｏｗであった。また、信号のアシンメトリーがマイナスとなり、明らかに記録パワー不足状態で、ジッターを測定することはできなかった。
【００６４】
以上、説明したように、片側からの青色レーザ照射により、記録再生可能な有機色素を含む２個の記録層を有する光記録媒体において、記録層に形成される記録マークの部分の反射率（Ｒ1）が、記録マークが形成されない部分の反射率（Ｒ0）より高くなる（Ｒ1＞Ｒ0）Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ記録にすることにより、記録感度の優れた２層型の光記録媒体を実現できる。
また、光記録媒体の構造が、グルーブを有する光透過性の第１の基板上に、第１の記録層及び半透明中間層を順次積層した第１のディスク基板と、第２の基板上に、反射層、第２の記録層及び界面層を積層した第２のディスク基板と、半透明中間層と界面層とが対向するように、透明接着層を介して貼り合せた構造にすることにより、低コストにより製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本実施の形態が適用される光記録媒体の層構成を説明するための図である。
【符号の説明】
【００６６】
１００…光記録媒体、１０１…第１透明基板、１０２…第１記録層、１０３…半透明中間層、１０４…透明接着層、１０５…界面層、１０６…第２記録層、１０７…反射層、１０８…第２基板、１０９…第１記録層の凹部溝、１１０…第２記録層の凹部溝、１２０…レーザ光
【図１】
2006236476.tif 000005