(57)【要約】【課題】簡易な方法で迅速かつ正確に発光材料と隔壁材料とのマッチングを評価することができる。【解決手段】本発明の評価方法は、例えば有機ＥＬ素子を構成する発光層の発光材料と画素間の隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価方法である。基板１上に評価対象である隔壁材料の隔壁材料層２を形成し、フォトリソグラフィー法等によりパターニングして隔壁２１およびこれに囲まれた複数の凹部２２を形成し、次い各凹部２２内に評価対象である発光材料３ａ、３ｂを充填して試験片１１を製造する。次に、試験片１１上の発光材料３ａ、３ｂに励起光７を照射し、発光材料３ａ、３ｂからの発光光８ａ、８ｂの強度を経時的に検知し、グラフ等に集計する。発光材料３ａ、３ｂからの発光光８ａ、８ｂの強度の持続性の大小により発光材料３ａ、３ｂと隔壁２１の隔壁材料との組み合わせの良し悪しを評価する。【選択図】図１０
2006278114.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光層を形成する発光材料と隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価方法であって、
基板上に評価対象である発光材料と隔壁材料とが接触するように形成してなる試験片を製造する工程と、
前記試験片上の前記発光材料に励起光を照射し、前記発光材料から発せられた光の強度の経時変化を検知する工程とを有し、
前記発光材料から発せられた光の強度の経時変化の度合いから前記発光材料と前記隔壁材料とを評価することを特徴とする評価方法。
【請求項２】
発光層を形成する発光材料と隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価方法であって、
基板上に評価対象である隔壁材料の層および評価対象である発光材料の層を積層して試験片を製造する工程と、
前記試験片上の前記発光材料の層に励起光を照射し、前記発光材料から発せられた光の強度を経時的に検知する工程とを有し、
前記発光材料から発せられた光の強度の持続性の大小により前記発光材料と前記隔壁材料とを評価することを特徴とする評価方法。
【請求項３】
発光層を形成する発光材料と隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価方法であって、
基板上に評価対象である隔壁材料の隔壁を形成し、次いで前記隔壁で仕切られた空間に評価対象である発光材料を充填して試験片を製造する工程と、
前記試験片上の前記発光材料に励起光を照射し、前記発光材料から発せられた光の強度を経時的に検知する工程とを有し、
前記発光材料から発せられた光の強度の持続性の大小により前記発光材料と前記隔壁材料とを評価することを特徴とする評価方法。
【請求項４】
前記試験片を製造する工程において、前記試験片の前記基板と反対側を封止する作業を有する請求項１ないし３のいずれかに記載の評価方法。
【請求項５】
前記試験片の前記基板と反対側を封止する作業は、発光材料の形成後板材を接合することにより行われ、前記板材と前記基板の少なくとも一方が光透過性を有するものである請求項４に記載の評価方法。
【請求項６】
前記発光材料への励起光の照射は、前記板材または前記基板を透過して行われる請求項５に記載の評価方法。
【請求項７】
前記発光材料から発せられた光の強度の検出は、前記試験片の前記板材側または前記基板側で行われる請求項５または６に記載の評価方法。
【請求項８】
前記板材と前記基板の一方が光透過性を有するものであり、他方が遮光性または光反射性を有するものである請求項５ないし７のいずれかに記載の評価方法。
【請求項９】
前記励起光は、レーザ光または紫外線である請求項１ないし８のいずれかに記載の評価方法。
【請求項１０】
前記発光材料から発せられた光の強度の持続性は、当該光の強度が最大強度の２０〜９０％の範囲内の所定値になるまでの時間で判断する請求項１ないし９のいずれかに記載の評価方法。
【請求項１１】
前記発光材料から発せられた光の強度の検出は、蛍光顕微鏡を用いて行われる請求項１ないし１０のいずれかに記載の評価方法。
【請求項１２】
前記試験片は、１種の発光材料と、前記発光材料に対し組成の異なる複数種の隔壁材料とをそれぞれ組み合わせた複数の組み合わせを持っている請求項１ないし１１のいずれかに記載の評価方法。
【請求項１３】
前記試験片は、１種の隔壁材料と、前記隔壁材料に対し組成の異なる複数種の発光材料とをそれぞれ組み合わせた複数の組み合わせを持っている請求項１ないし１１のいずれかに記載の評価方法。
【請求項１４】
前記試験片は、組成の異なる複数種の発光材料と、前記複数種の発光材料に対し組成の異なる複数種の隔壁材料とを適宜組み合わせた複数の組み合わせを持っている請求項１ないし１０のいずれかに記載の評価方法。
【請求項１５】
発光材料と隔壁材料の少なくとも一方が異なる複数の組み合わせのそれぞれに対応した複数の試験片を用意し、前記試験片を適宜選択または交換して評価を行う請求項１ないし１０のいずれかに記載の評価方法。
【請求項１６】
前記試験片を製造する工程において、発光材料および隔壁材料の少なくとも一方をインクジェット法により形成する請求項１ないし１５のいずれかに記載の評価方法。
【請求項１７】
製造された試験片を非酸化性雰囲気中で所定期間保存する工程を有する請求項１ないし１６のいずれかに記載の評価方法。
【請求項１８】
少なくとも、試験片上に発光材料を形成してから、励起光を照射し前記発光材料から発せられた光の強度を検知するまでの間、前記発光材料を非酸化性雰囲気中におく請求項１ないし１７のいずれかに記載の評価方法。
【請求項１９】
発光層を形成する発光材料と隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価装置であって、
基板上に評価対象である発光材料と隔壁材料とが接触するように形成してなる試験片と、
前記試験片上の前記発光材料に励起光を照射する光照射手段と、
前記発光材料から発せられた光の強度またはその経時変化を検知する検知手段とを備え、
前記光照射手段により前記発光材料に励起光を照射し、前記発光材料から発せられた光の強度を前記検知手段により検知し、当該光の強度の経時変化の度合いから前記発光材料と前記隔壁材料とを評価することを特徴とする評価装置。
【請求項２０】
発光層を形成する発光材料と隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価装置であって、
請求項１ないし１８のいずれかに記載の評価方法で用いられる試験片と、
前記試験片上の前記発光材料に励起光を照射する光照射手段と、
前記発光材料から発せられた光の強度または強度の経時変化を検知する検知手段とを備え、
前記光照射手段により前記発光材料に励起光を照射し、前記発光材料から発せられた光の強度を前記検知手段により検知し、当該光の強度の経時変化の度合いから前記発光材料と前記隔壁材料とを評価することを特徴とする評価装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光材料と隔壁材料との組み合わせを評価する評価方法および評価装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子を用いた表示装置（有機ＥＬディスプレイ）は、表示モジュールとして、例えば、携帯電話やＰＤＡ等の携帯用の電子機器に搭載されている。また、将来はパソコンのディスプレー、薄型テレビ、各種モニター類等に利用されることが予想される。
このような有機ＥＬ素子は、透明基板をベースとして構成され、隔壁、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極、陽極等を所定の順序および所定のパターンで形成してなるものである（例えば、特許文献１参照）。そして、有機ＥＬ素子に要求される特性としては、色再現性、長寿命、信頼性、軽量・コンパクト性、低消費電力等が挙げられる。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子において、上記特性を確保または向上するためには、隣接する異種材料間での化学反応をできるだけ抑制することが必要となる。特に、発光層を構成する発光材料と隔壁を構成する隔壁材料とのマッチング（材料同士の組み合わせの良し悪し）が悪いと、隔壁と発光層とが接触している部分で、化学反応が起こり、発光材料または隔壁材料が変質、劣化し、性能の低下が生じるという問題がある。従って、このような悪影響を生じさせないために、発光材料と隔壁材料とは、それらのマッチングがよいものを選択する必要がある。
【０００４】
従来、このような発光材料と隔壁材料とのマッチングの良し悪しを知るためには、有機ＥＬ素子全体を組み立て、当該有機ＥＬ素子を駆動させてその発光特性や寿命を評価することにより行っていた。すなわち、透明基板上に、隔壁、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、電極（陰極、陽極）等を所定の順序、所定のパターンで形成し、これらを封止して有機ＥＬ素子を製造し、該素子の電極間に通電して素子を駆動させ、各画素の発光特性や寿命を評価していた。
【０００５】
しかしながら、使用し得る発光材料および隔壁材料にはそれぞれ多くの種類があり、それらの組み合わせは、膨大な数になるため、有機ＥＬ素子全体を組み立ててから評価を行う上記従来の評価方法では、手間と時間がかかるという欠点があった。特に、発光材料と隔壁材料とのベストマッチングを見つけるには、多大な労力と時間を要することがあった。
また、有機ＥＬ素子全体を組み立ててから評価を行うため、他の材料、例えば正孔輸送層や電子輸送層の材料の影響も受けたり、発光層に隣接する層の形状（平滑性）の影響を受けたりすることがあり、発光材料と隔壁材料とのマッチングを正確に評価することができないという問題もあった。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３２３２７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、簡易な方法で迅速かつ正確に発光材料と隔壁材料とのマッチングを評価することができる評価方法および評価装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の評価方法は、発光層を形成する発光材料と隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価方法であって、
基板上に評価対象である発光材料と隔壁材料とが接触するように形成してなる試験片を製造する工程と、
前記試験片上の前記発光材料に励起光を照射し、前記発光材料から発せられた光の強度の経時変化を検知する工程とを有し、
前記発光材料から発せられた光の強度の経時変化の度合いから前記発光材料と前記隔壁材料とを評価することを特徴とする。
これにより、簡易な方法で迅速かつ正確に発光材料と隔壁材料とのマッチングを評価することができる。
【０００９】
本発明の評価方法は、発光層を形成する発光材料と隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価方法であって、
基板上に評価対象である隔壁材料の層および評価対象である発光材料の層を積層して試験片を製造する工程と、
前記試験片上の前記発光材料の層に励起光を照射し、前記発光材料から発せられた光の強度を経時的に検知する工程とを有し、
前記発光材料から発せられた光の強度の持続性の大小により前記発光材料と前記隔壁材料とを評価することを特徴とする。
これにより、隔壁材料と発光材料の形成は、それぞれの材料による層を積層する方法により行うので、より簡易、迅速に試験片を製造することができる。
【００１０】
本発明の評価方法は、発光層を形成する発光材料と隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価方法であって、
基板上に評価対象である隔壁材料の隔壁を形成し、次いで前記隔壁で仕切られた空間に評価対象である発光材料を充填して試験片を製造する工程と、
前記試験片上の前記発光材料に励起光を照射し、前記発光材料から発せられた光の強度を経時的に検知する工程とを有し、
前記発光材料から発せられた光の強度の持続性の大小により前記発光材料と前記隔壁材料とを評価することを特徴とする。
これにより、１つの試験片上に、隔壁材料と発光材料の少なくとも一方の組成が異なる複数組を容易に形成することができ、また、検知結果の集計もし易くなり、その結果、より簡易、迅速に評価を行うことができる。
【００１１】
本発明の評価方法では、前記試験片を製造する工程において、前記試験片の前記基板と反対側を封止する作業を有することが好ましい。
これにより、試験片上の発光材料が湿気や酸素と接触することによる発光材料の変質、劣化が防止され、発光材料の変質、劣化の影響を受けることなくより正確な評価を行うことができる。
【００１２】
本発明の評価方法では、前記試験片の前記基板と反対側を封止する作業は、発光材料の形成後板材を接合することにより行われ、前記板材と前記基板の少なくとも一方が光透過性を有するものであることが好ましい。
これにより、発光材料から発せられた光の強度の測定に支障を来たすことなく、封止をより確実に行うことができる。
【００１３】
本発明の評価方法では、前記発光材料への励起光の照射は、前記板材または前記基板を透過して行われることが好ましい。
これにより、発光材料への励起光の照射を確実かつ十分に行うことができる。
本発明の評価方法では、前記発光材料から発せられた光の強度の検出は、前記試験片の前記板材側または前記基板側で行われることが好ましい。
これにより、発光材料から発せられた光の強度の検出を、確実かつ十分に行うことができる。
【００１４】
本発明の評価方法では、前記板材と前記基板の一方が光透過性を有するものであり、他方が遮光性または光反射性を有するものであることが好ましい。
これにより、発光材料から発せられた光のロスを低減し、光強度の測定の際の受光効率を高めることができるので、より正確な評価ができる。
本発明の評価方法では、前記励起光は、レーザ光または紫外線であることが好ましい。
この種の励起光を用いることにより、発光材料から測定に必要な十分な発光が得られる。
【００１５】
本発明の評価方法では、前記発光材料から発せられた光の強度の持続性は、当該光の強度が最大強度の２０〜９０％の範囲内の所定値になるまでの時間で判断することが好ましい。
これにより、より正確で再現性、汎用性のある評価を行うことができる。
本発明の評価方法では、前記発光材料から発せられた光の強度の検出は、蛍光顕微鏡を用いて行われることが好ましい。
これにより、発光材料から発せられた光を検知し易く、より正確な評価を行うことができる。
【００１６】
本発明の評価方法では、前記試験片は、１種の発光材料と、前記発光材料に対し組成の異なる複数種の隔壁材料とをそれぞれ組み合わせた複数の組み合わせを持っていることが好ましい。
これにより、１つの試験片で、ある特定の発光材料に対しマッチングの良い隔壁材料、特に最もマッチングの良い（ベストマッチング）隔壁材料を容易に選出することができ、また、検知結果の集計がし易くなり、より簡易、迅速に評価を行うことができる。
【００１７】
本発明の評価方法では、前記試験片は、１種の隔壁材料と、前記隔壁材料に対し組成の異なる複数種の発光材料とをそれぞれ組み合わせた複数の組み合わせを持っていることが好ましい。
これにより、１つの試験片で、ある特定の隔壁材料に対しマッチングの良い発光材料、特に最もマッチングの良い（ベストマッチング）発光材料を容易に選出することができ、また、検知結果の集計がし易くなり、より簡易、迅速に評価を行うことができる。
【００１８】
本発明の評価方法では、前記試験片は、組成の異なる複数種の発光材料と、前記複数種の発光材料に対し組成の異なる複数種の隔壁材料とを適宜組み合わせた複数の組み合わせを持っていることが好ましい。
これにより、１つの試験片で、複数種の発光材料と複数種の隔壁材料のマッチング、特に最もマッチングの良い（ベストマッチング）組み合わせを容易に選出することができ、また、検知結果の集計がし易くなり、より簡易、迅速に評価を行うことができる。
【００１９】
本発明の評価方法では、発光材料と隔壁材料の少なくとも一方が異なる複数の組み合わせのそれぞれに対応した複数の試験片を用意し、前記試験片を適宜選択または交換して評価を行うことが好ましい。
これにより、複数種の発光材料と複数種の隔壁材料のマッチング、特に最もマッチングの良い（ベストマッチング）組み合わせを容易に選出することができ、また、より多くの組み合わせを効率良く検出、評価することができる。
【００２０】
本発明の評価方法では、前記試験片を製造する工程において、発光材料および隔壁材料の少なくとも一方をインクジェット法により形成することが好ましい。
これにより、発光材料や隔壁材料の形成パターン（形成位置、形状、大きさ、厚さ等）を容易にコントロールすることができ、また、試験片の製造の作業効率を向上することができる。
【００２１】
本発明の評価方法では、製造された試験片を非酸化性雰囲気中で所定期間保存する工程を有することが好ましい。
これにより、試験片上の発光材料が湿気や酸素と接触することによる発光材料の変質、劣化が防止され、発光材料の変質、劣化の影響を受けることなくより正確な検知、評価を行うことができる。
【００２２】
本発明の評価方法では、少なくとも、試験片上に発光材料を形成してから、励起光を照射し前記発光材料から発せられた光の強度を検知するまでの間、前記発光材料を非酸化性雰囲気中におくことが好ましい。
これにより、発光材料の形成から、発光光強度の検知までの間、発光材料が湿気や酸素と接触することによる発光材料の変質、劣化が防止され、発光材料の変質、劣化の影響を受けることなくより正確な検知、評価を行うことができる。
【００２３】
本発明の評価装置は、発光層を形成する発光材料と隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価装置であって、
基板上に評価対象である発光材料と隔壁材料とが接触するように形成してなる試験片と、
前記試験片上の前記発光材料に励起光を照射する光照射手段と、
前記発光材料から発せられた光の強度またはその経時変化を検知する検知手段とを備え、
前記光照射手段により前記発光材料に励起光を照射し、前記発光材料から発せられた光の強度を前記検知手段により検知し、当該光の強度の経時変化の度合いから前記発光材料と前記隔壁材料とを評価することを特徴とする。
これにより、簡易、迅速、正確に発光材料と隔壁材料とのマッチングを評価し得る評価装置を提供することができる。
【００２４】
本発明の評価装置は、発光層を形成する発光材料と隔壁を形成する隔壁材料との組み合わせを評価する評価装置であって、
本発明の評価方法で用いられる試験片と、
前記試験片上の前記発光材料に励起光を照射する光照射手段と、
前記発光材料から発せられた光の強度または強度の経時変化を検知する検知手段とを備え、
前記光照射手段により前記発光材料に励起光を照射し、前記発光材料から発せられた光の強度を前記検知手段により検知し、当該光の強度の経時変化の度合いから前記発光材料と前記隔壁材料とを評価することを特徴とする。
これにより、簡易、迅速、正確に発光材料と隔壁材料とのマッチングを評価し得る評価装置を提供することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、簡易な方法で迅速かつ正確に発光材料と隔壁材料とのマッチングを評価することができる。すなわち、例えば有機ＥＬ素子全体を製造することなく、評価に必要な材料のみを接触させた試験片を製造して検出、評価することができるので、評価に要する手間と時間を軽減することができるとともに、例えば正孔輸送材料や電子輸送材料のような他の材料の影響を受けることがないので、発光材料と隔壁材料とのマッチングをより正確に評価することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の評価方法および評価装置について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
＜第１実施形態＞
図１〜図４は、それぞれ、本発明の評価方法の第１実施形態を模式的に示す断面図である。これらの図に基づき、本発明の評価方法（第１実施形態）の工程について順次説明する。
【００２７】
［１］試験片（テストピース）の製造
［１−１］まず、基板１を用意する(図１参照)。基板１は、光透過性のものでも、遮光性または光反射性のものでもよい。
基板１が光透過性を有するもの、特に透明なものである場合、後述する層２、３の形成順序によっては、基板１を介して励起光を照射したり、発光材料による層３から発せられた光を受光したりすることができる。
【００２８】
基板１が遮光性を有するものである場合、光の漏れ、特に発光材料による層３から発せられた光の漏れを防止することができ、光強度の測定の際に受光の効率が高まるため、より正確な評価ができるという利点がある。
基板１が光反射性を有するものである場合、層３から発せられた光が反射し、光強度の測定の際に該反射光も加えられるので、受光光量が増大し、より正確な評価ができるという利点がある。
【００２９】
基板１の構成材料としては、各種ガラス、各種プラスチック材料、各種金属材料、各種セラミックス材料が挙げられる。これらの材料の中から、前述した光透過性、遮光性、光反射性や、耐熱性、耐薬品性等を考慮して、適宜選択される。
基板１の厚さは特に限定されないが、通常、０.３〜２ｍｍ程度が好ましく、０.５〜１ｍｍ程度がより好ましい。
【００３０】
［１−２］次に、基板１の片面に隔壁を構成する隔壁材料の層（テスト用隔壁材料層）２を形成する(図２参照)。以下、この層２を「隔壁材料層２」とも言う。
隔壁材料としては、例えば有機ＥＬ素子の画素間の隔壁を形成するのに用いられる隔壁材料が挙げられる。なお、本発明において、隔壁材料の用途は、有機ＥＬ素子の画素間の隔壁（好ましくは絶縁性および遮光性を有する）という用途に限定されないことは言うまでもない。
【００３１】
隔壁材料としては、例えば、ポリイミド、ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリスチレン、ポリオレフィン（環状オレフィンを含む）、エポキシ樹脂、マレイン酸樹脂、フッ素系樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリシラザン、ポリシロキサン等が挙げられ、こららのうちから評価対象とする１種（または複数種）を選択して用いる。これらのうちでも特に好ましい材料は、ポリイミド、ノボラック樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂のような有機材料、ポリシラザン、ポリシロキサンといった無機材料、あるいは有機−無機ハイブリッド材料のような感光性材料である。かかる感光性材料を用いることにより、フォトリソグラフィー法により隔壁材料層２に所定のパターンニングを施すこともできる。
隔壁材料層２の形成方法としては、塗布法、インクジェット法、蒸着、スパッタリング等の気相成膜法等、転写法等が挙げられる。
【００３２】
塗布法としては、例えば前記のような隔壁材料を含む塗布液を調整し、この塗布液を塗布、乾燥（脱溶媒）し、必要に応じ硬化処理（架橋）を施して層２を形成する方法が挙げられる。塗布の方法としては、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、はけ塗り、ディッピング等が挙げられる。
インクジェット法としては、例えば前記のような隔壁材料を含む液を調整し、この液をインクジェットヘッドから微小な液滴として吐出して基板１の表面に付着させ、付着した液を乾燥し、必要に応じ硬化処理（架橋）を施して層２を形成する方法が挙げられる。このインクジェット法では、隔壁材料をマスク等を用いることなく必要な箇所に必要な厚さで所望の形状に付与、形成することができるという利点がある。
【００３３】
隔壁材料層２の厚さは、特に限定されないが、０.５〜５μｍ程度が好ましく、１〜３μｍ程度がより好ましい。隔壁材料層２の厚さが前記範囲の下限値未満であると評価の精度が下がるおそれがあり、また、上限値を越えても評価の精度の向上が期待できない。
なお、後述する発光材料層３との接触面積を増大させる（評価結果を顕著にする利点がある）ために、隔壁材料層２の表面（図１中上面）に微小な溝または凹凸を形成してもよい。隔壁材料層２をインクジェット法により形成する場合には、隔壁材料の微小点を重ねてゆくため、このような溝や凹凸を容易に形成することができる。このようにして隔壁材料層２と発光材料層３との接触面積が増大すれば、評価の差が顕著に表れるので、より正確な評価が可能となる。
【００３４】
［１−３］隔壁材料層２の表面（図２中上面）に発光層を構成する発光材料の層（テスト用発光材料層）３を形成する。以下、この層３を「発光材料層３」とも言う。
発光材料としては、例えば有機ＥＬ素子の発光層を形成する際に用いられる発光材料が挙げられる。なお、本発明において、発光材料の用途は、有機ＥＬ素子の発光層形成という用途に限定されないことは言うまでもない。
【００３５】
発光材料層３を構成する発光材料は、励起光を照射することにより発光（蛍光、りん光も含む）するような材料が好ましい。発光材料としては、低分子の発光材料および高分子の発光材料が挙げられる。
低分子の発光材料としては、例えば、ジスチリルベンゼン（ＤＳＢ）、ジアミノジスチリルベンゼン（ＤＡＤＳＢ）のようなベンゼン系化合物、ナフタレン、ナイルレッドのようなナフタレン系化合物、フェナントレンのようなフェナントレン系化合物、クリセン、６−ニトロクリセンのようなクリセン系化合物、ペリレン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−３，４，９，１０−ペリレン−ジ−カルボキシイミド（ＢＰＰＣ）のようなペリレン系化合物、コロネンのようなコロネン系化合物、アントラセン、ビススチリルアントラセンのようなアントラセン系化合物、ピレンのようなピレン系化合物、４−（ジ−シアノメチレン）−２−メチル−６−（パラ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）のようなピラン系化合物、アクリジンのようなアクリジン系化合物、スチルベンのようなスチルベン系化合物、２，５−ジベンゾオキサゾールチオフェンのようなチオフェン系化合物、ベンゾオキサゾールのようなベンゾオキサゾール系化合物、ベンゾイミダゾールのようなベンゾイミダゾール系化合物、２，２’−（パラ−フェニレンジビニレン）−ビスベンゾチアゾールのようなベンゾチアゾール系化合物、ビスチリル（１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン）、テトラフェニルブタジエンのようなブタジエン系化合物、ナフタルイミドのようなナフタルイミド系化合物、クマリンのようなクマリン系化合物、ペリノンのようなペリノン系化合物、オキサジアゾールのようなオキサジアゾール系化合物、アルダジン系化合物、１，２，３，４，５−ペンタフェニル−１，３−シクロペンタジエン（ＰＰＣＰ）のようなシクロペンタジエン系化合物、キナクリドン、キナクリドンレッドのようなキナクリドン系化合物、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジンのようなピリジン系化合物、２，２’，７，７’−テトラフェニル−９，９’−スピロビフルオレンのようなスピロ化合物、フタロシアニン（Ｈ２Ｐｃ）、銅フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、フローレンのようなフローレン系化合物、（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（Ａｌｑ３）、トリス（４−メチル−８キノリノレート）アルミニウム（III）（Ａｌｍｑ３）、（８−ヒドロキシキノリン）亜鉛（Ｚｎｑ２）、（１，１０−フェナントロリン）−トリス−（４，４，４−トリフルオロ−１−（２−チエニル）−ブタン−１，３−ジオネート）ユーロピウム（III）（Ｅｕ（ＴＴＡ）３（ｐｈｅｎ））、ファクトリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（Ｉｒ（ｐｐｙ）３）、（２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン）プラチナム（II）のような各種金属錯体等が挙げられる。
【００３６】
高分子の発光材料としては、例えば、トランス型ポリアセチレン、シス型ポリアセチレン、ポリ（ジ−フェニルアセチレン）（ＰＤＰＡ）、ポリ（アルキル，フェニルアセチレン）（ＰＡＰＡ）のようなポリアセチレン系化合物、ポリ（パラ−フェンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリ（２，５−ジアルコキシ−パラ−フェニレンビニレン）（ＲＯ−ＰＰＶ）、シアノ−置換−ポリ（パラ−フェンビニレン）（ＣＮ−ＰＰＶ）、ポリ（２−ジメチルオクチルシリル−パラ−フェニレンビニレン）（ＤＭＯＳ−ＰＰＶ）、ポリ（２−メトキシ，５−（２’−エチルヘキソキシ）−パラ−フェニレンビニレン）（ＭＥＨ−ＰＰＶ）のようなポリパラフェニレンビニレン系化合物、ポリ（３−アルキルチオフェン）（ＰＡＴ）、ポリ（オキシプロピレン）トリオール（ＰＯＰＴ）のようなポリチオフェン系化合物、ポリ（９，９−ジアルキルフルオレン）（ＰＤＡＦ）、α，ω−ビス［Ｎ，Ｎ’−ジ（メチルフェニル）アミノフェニル］−ポリ［９，９−ビス（２−エチルヘキシル）フルオレン−２，７−ジル］（ＰＦ２／６ａｍ４）、ポリ（９，９−ジオクチル−２，７−ジビニレンフルオレニル−オルト−コ（アントラセン−９，１０−ジイル）のようなポリフルオレン系化合物、ポリ（パラ−フェニレン）（ＰＰＰ）、ポリ（１，５−ジアルコキシ−パラ−フェニレン）（ＲＯ−ＰＰＰ）のようなポリパラフェニレン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）（ＰＶＫ）のようなポリカルバゾール系化合物、ポリ（メチルフェニルシラン）（ＰＭＰＳ）、ポリ（ナフチルフェニルシラン）（ＰＮＰＳ）、ポリ（ビフェニリルフェニルシラン）（ＰＢＰＳ）のようなポリシラン系化合物等が挙げられる。
さらに具体的な発光材料としては、下記化１〜化５に示される化合物１〜５が挙げられる。化合物１〜５中のｎは、それぞれ、５〜１.０×１０６程度とされる。また、化合物５中のＲは、それぞれ、Ｈ、ＣｍＨ２ｍ＋１等である。
【００３７】
【化１】
2006278114.tif 000003
【００３８】
【化２】
2006278114.tif 000004
【００３９】
【化３】
2006278114.tif 000005
【００４０】
【化４】
2006278114.tif 000006
【００４１】
【化５】
2006278114.tif 000007
【００４２】
以上のような発光材料のうちから評価対象とする１種（または複数種）を選択して用いる。
発光材料層３の形成方法としては、塗布法、インクジェット法、蒸着、スパッタリング等の気相成膜法、転写法等が挙げられる。
塗布法としては、例えば前記のような発光材料を含む塗布液を調整し、この塗布液を塗布、乾燥し、必要に応じ硬化処理（架橋）を施して発光材料層３を形成する方法が挙げられる。塗布の方法としては、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、はけ塗り、ディッピング等が挙げられる。
【００４３】
インクジェット法としては、例えば前記のような発光材料を含む液を調整し、この液をインクジェットヘッドから微小な液滴として吐出して隔壁材料層２の表面に付着させ、付着した液を乾燥（脱溶媒）し、必要に応じ硬化処理（架橋）を施して発光材料層３を形成する方法が挙げられる。このインクジェット法では、発光材料をマスク等を用いることなく必要な箇所に必要な厚さで所望の形状に付与、形成することができるという利点がある。
発光材料層３の厚さは、特に限定されないが、２０〜２００μｍ程度が好ましく、５０〜１００μｍ程度がより好ましい。発光材料層３の厚さが薄すぎると感度が敏感になり過ぎるおそれがあり、また、厚すぎると感度が鈍くなるおそれがある。
【００４４】
［１−４］発光材料層３上に板材４を重ね（接合し）、封止する(図３参照)。これにより、試験片１０が完成する。この封止を行うことにより、次にような利点がある。
発光材料の中には、湿気（水分）や酸素と接触すると、変質、劣化し易いものがあるが、このような封止を行うことにより、湿気（水分）や酸素を遮断し、発光材料の変質、劣化を防止または抑制することができるので、発光材料と隔壁材料とのマッチングを評価するに際し、湿気や酸素との接触による発光材料の変質、劣化の影響を受けず、より正確な評価を行うことができる。
【００４５】
封止に用いる板材４は、光透過性を有するものが好ましく、実質的に透明であるものがより好ましい。具体的には、各種ガラス板、透明樹脂板等を用いることができる。
また、板材４の厚さは特に限定されないが、通常、０．３〜２ｍｍ程度が好ましく、０.５〜１ｍｍ程度がより好ましい。
封止の方法としては、例えば、基板１と同寸法の板材４を発光材料層３上に重ねて圧着し、基板１および板材４の縁部（外周部）を接着剤等により封止する方法が挙げられる。この封止作業は、減圧（真空）下または窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス中で行われるのが好ましい。
【００４６】
本発明では、板材４と前記基板１の少なくとも一方が光透過性を有するものであるのが好ましい。板材４が光透過性（透明性）を有する場合、板材４側からの投光・受光、すなわち板材４を介して発光材料への励起光の照射や、発光材料から発せられた光の強度の検出を行うことができる。基板１が光透過性（透明性）を有する場合、基板１側からの投光・受光、すなわち基板１を介して発光材料への励起光の照射や、発光材料から発せられた光の強度の検出を行うことができる。
【００４７】
また、板材４と基板１の一方（例えば板材４）が光透過性を有し、他方（基板１）が遮光性または光反射性を有するものである場合には、板材４側から投光・受光を行うことにより、前述したように、光強度の測定の際に受光効率を高めることができ、より正確な評価ができる。
なお、本工程（封止工程）は、必ずしも必要ではない。例えば、発光材料層３を形成（前記工程［１−３］）の後、励起光を照射し発光材料から発せられた光の強度を検知する（後述する工程［３−２］）までの間、試験片１０を非酸化性雰囲気中、すなわち減圧（真空）下または不活性ガス雰囲気下におく場合には、発光材料が湿気や酸素と接触することが阻止されるため、上述した封止を行わなくてもよい。
【００４８】
［２］  以上のようにして製造された試験片１０は、所定の雰囲気ガス中で所定期間保存（放置）される。これにより、発光材料と隔壁材料との反応が進み、後に評価を行った際に、より正確な評価結果が得られる。従って、保存期間は、発光材料と隔壁材料との反応が十分に進行する程度の時間とされ、例えば、５０〜２００時間程度とされる。
また、保存環境（雰囲気ガス）は、空気中でもよいが、非酸化性雰囲気中、すなわち減圧（真空）下または窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス中であるのが好ましい。これにより、前記封止の効果に加え（または封止の効果に代えて）、保存期間中に、発光材料が湿気や酸素と接触することが阻止され、よって、湿気や酸素との接触による発光材料の変質、劣化の影響を受けず、より正確な評価を行うことができる。
【００４９】
［３］発光光強度の測定
［３−１］所定期間保存された試験片１０に対し、発光材料層３に励起光５を照射する(図４参照)。発光材料層３を構成する発光材料は、通常、励起光を照射されると、発光（蛍光、りん光等）する性質を有する。従って、励起光５が照射されると、それに応じて発光する。
励起光５としては、各種レーザ光、可視光、紫外線、赤外線、電子線、放射線等が挙げられるが、本実施形態では、レーザ光とされる。レーザ光の種類としては、ＣＯ２レーザ、ＹＡＧレーザ、エキシマレーザ、半導体レーザ、窒素レーザ等が挙げられるが、そのなかでも特に、半導体レーザ、窒素レーザが好ましい。
このような励起光（レーザ光）５は、試験片１０の板材４側から板材４を介して発光材料層３に照射される(図４参照)。
【００５０】
［３−２］励起光５の照射により発光材料層３から発せられた光（以下「発光光６」と言う）の強度（またはその経時変化）を検知する。この発光光６の検知は、試験片１０の板材４側から板材４を介して行われる(図４参照)。
このような発光光６の検知は、肉眼でも、所定の光学機器を用いてもよい。例えば、蛍光顕微鏡で観察することにより行うことができる。特に、蛍光顕微鏡を用いて発光光６の強度の検出（測定）を所定時間毎（例えば５時間毎）に行い、その結果を記録し、集計する。集計は、グラフまたは表を作成することにより行うと良い。
【００５１】
また、発光光６の強度の検出（測定）は、例えばフォトダイオードのような光電変換素子や、ＣＣＤのような撮像素子を用いて行うことができる。この場合には、発光光６の強度を電気信号として検出し、定量化することができるので、より正確で客観的な測定および評価を行うことができる。この場合でも、前記と同様に、発光光６の強度の検出（測定）を所定時間毎に行い、その結果を記録し、集計する。
なお、撮像素子を用いる場合、発光光６の強度のみならず、必要に応じ、発光位置、発光面積、発光色等の他の条件も把握することができ、より正確な測定および評価を行うことができるとともに、検知結果の利用範囲が広がるという利点がある。
【００５２】
［４］評価
発光光６の強度の経時変化を調べ、その度合いから試験片１０上に形成された発光材料と隔壁材料との組み合わせの良し悪しを評価する。この評価は、前述した集計の結果（グラフ、表など）に基づいて行うことができる。以下、発光光強度の集計結果と評価の方法の一例について、図１１を参照しつつ説明する。
【００５３】
図１１は、発光光強度の集計結果の例を示すグラフである。より詳しくは、２種の隔壁材料Ａ、Ｂに対し各々２種の発光材料Ｘ、Ｙを組み合わせた合計４組（サンプル１〜４）の組み合わせについて、励起光（レーザ光）を照射し、発光材料層３からの発光光の発光光強度を１０時間毎に測定したときの結果を示すグラフである。図１１中、各時間での発光光強度は、初回測定時（０時間）の強度を１としたときの相対値である。
【００５４】
サンプル１は、７０時間経過後も発光光強度の低下は全くない。サンプル２は、７０時間経過した時点で発光光強度の若干の低下があり、サンプル３は、５０時間を超えたころから発光光強度の低下が目立つようになり、サンプル４は、サンプル１〜３に比べて発光光強度の低下が著しい。従って、発光光強度の持続性の大小は、サンプル１＞サンプル３＞サンプル２＞サンプル４となる。
【００５５】
例えば、閾値として、７０時間経過時点で発光光強度（相対値）が０．９５を設定し、０．９５以上（低下率５％未満）の場合には、発光光強度の持続性は大であるとし、当該隔壁材料と発光材料の組み合わせは良好であると判定（評価）する。また、７０時間経過時点で発光光強度（相対値）が０．９５未満（低下率５％以上）の場合には、発光光強度の持続性は小であるとし、当該隔壁材料と発光材料の組み合わせは不良であると判定（評価）する。この評価基準によれば、サンプル１および３は良好（合格）、サンプル２および４は不良（不合格）との評価結果を得ることができる。
なお、上記では閾値を「７０時間経過時点で０．９５」としたが、閾値は、これに限定されるものではなく、諸条件に応じて適宜選択することができる。また、閾値という概念を導入せずに評価を行う方法、例えば各サンプルを相対評価する方法を採用してもよい。
【００５６】
図１２は、発光光強度の集計結果の他の例を示すグラフである。より詳しくは、１種の発光材料Ｚに対し３種の隔壁材料Ａ、Ｂ、Ｃを組み合わせた合計３組（サンプル５〜７）の組み合わせについて、励起光（紫外線）を照射し、発光材料層３からの発光光のピーク波長における発光光強度（吸光度）の経時変化を連続的に測定したときの結果を示すグラフである。
図１２中の各サンプルにおいて、励起光を照射すると（時間＝０）発光光強度は０から急速に増大し、やがてピークＰ（最大強度）に達する。その後、発光光強度は、減少に転じる。
【００５７】
ピークＰにおける発光光強度は、サンプル５〜７共にほぼ等しく、この値（最大強度）をＩＭＡＸとする。そして、発光光強度がＩＭＡＸの例えば２０〜９０％の範囲内の所定値になるまでの時間、図示の場合には発光光強度がＩＭＡＸの５０％（１／２ＩＭＡＸ）になるまで時間（半減時間）の長短で、発光光強度の持続性を評価（判断）する。
この評価基準によれば、サンプル５〜７中、サンプル７における半減時間ｔＣが最も短く、サンプル６における半減時間ｔＢは前記ｔＣよりも長く、サンプル５における半減時間は前記ｔＢよりもさらに長い。従って、発光光強度の持続性の大小は、サンプル５＞サンプル６＞サンプル７となる。
【００５８】
例えば、閾値として、半減時間ｔ０を導入したとすると、実際に測定された半減時間がｔ０以上の場合には、発光光強度の持続性は大であるとし、当該隔壁材料と発光材料の組み合わせは良好であると判定（評価）する。また、実際に測定された半減時間がｔ０未満の場合には、発光光強度の持続性は小であるとし、当該隔壁材料と発光材料の組み合わせは不良であると判定（評価）する。この評価基準によれば、サンプル５および６は良好（合格）、サンプル７は不良（不合格）との評価結果を得ることができる。
なお、上記では閾値を「半減時間ｔ０」としたが、閾値は、これに限定されるものではなく、諸条件に応じて適宜選択することができる。
【００５９】
＜第２実施形態＞
図５〜図１０は、それぞれ、本発明の評価方法の第２実施形態を模式的に示す斜視図（図８は断面図）である。これらの図に基づき、本発明の評価方法（第２実施形態）の工程について順次説明する。なお、以下の説明では、第１実施形態と相違する点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
【００６０】
［１］試験片（テストピース）の製造
［１−１］まず、基板１を用意する(図２参照)。この基板１には関しては、前記第１実施形態で説明したものと同様である。基板１の光学的特性およびそれに伴う効果についても同様である。
［１−２］次に、基板１の片面に隔壁材料層（テスト用隔壁材料層）２を形成する(図５参照)。隔壁材料層２を構成する隔壁材料の組成、形成方法、厚さ等については、前記第１実施形態で説明したものと同様である。
次工程で、隔壁材料層２に対しフォトリソグラフィー法（露光、現像）により凹部２２をパターンニングする場合、隔壁材料層２を構成する隔壁材料は、感光性材料とされる。感光性材料としては、ネガ型、ポジ型のいずれでもよい。
【００６１】
［１−３］次に、隔壁材料層２に対し所定の処理または加工を施し、発光材料を充填するための凹部（空間）２２を形成する(図６参照)。隔壁材料層２の凹部２２以外の箇所（凹部２２の外周部の箇所）は、凹部２２を囲む隔壁２１を構成する。従って、この工程は、発光材料の充填空間を仕切るための隔壁２１を形成する工程とも言える。
凹部２２を形成する（隔壁２１を形成する）方法としては、隔壁材料層２に対し機械加工を施して凹部２２を形成する方法、レーザ光等を照射して隔壁材料を部分的に除去し凹部２２を形成する方法、隔壁材料層２に対しフォトリソグラフィー法によりパターンニングする方法、隔壁材料層２に対しエッチングを施して凹部２２を形成する方法等が挙げられる。
【００６２】
なお、上記では、隔壁材料層２の形成と凹部２２の形成（隔壁２１の形成）とを順次行ったが、これに限らず、例えば、フォトリソグラフィー法、インクジェット法等により基板１上に直接隔壁２１を形成してもよい。この場合には、工程数が省略でき、より簡易に試験片１１を製造することができる。
隔壁２１をフォトリソグラフィー法により形成する場合、基板１の構成材料は、ガラス材あるいは比較的高融点の樹脂材料が好ましい。
【００６３】
凹部２２は、１つの試験片１１に対し１個形成されていてもよいが、複数個形成されているのが好ましい。この場合、各凹部２２は、規則的に配置されているのが好ましい。図６に示す構成では、凹部２２が行列状に配置されている。すなわち、計８個の凹部２２が２列×４行に配置されている。各凹部２２には、同一組成の発光材料が充填されも、異なる組成の発光材料が充填されてもよい。
【００６４】
異なる組成の発光材料が充填されることを考慮して、隣接する凹部２２同士は、発光光強度の測定の際にクロストークを生じない程度の十分な離間距離を隔てて形成されているのが好ましい。なお、該クロストークを防止するために、隣接する凹部２２間に、ブラックマトリックス等の遮光壁を設けてもよい。
凹部２２自体の形状、寸法（面積）も特に限定されないが、十分な発光面積を確保することができ、かつ前述したクロストークの問題が生じないような形状、寸法とするのが好ましい。１つの凹部２２の面積は、通常、１.０×１０３〜５.０×１０５μｍ２程度とするのが好ましく、５.０×１０３〜５.０×１０４μｍ２程度とするのがより好ましい。
【００６５】
［１−４］次に、各凹部２２内に発光材料３ａ、３ｂを充填する(図７、図８参照)。用いる発光材料の組成は、前記第１実施形態で説明したものと同様である。本実施形態では、１列目の４つの凹部２２には、発光材料３ａが充填され、２列目の４つの凹部２２には、発光材料３ａとは組成（種類）が異なる発光材料３ｂが充填されている。
本実施形態では、試験片１１は、１種の隔壁材料に対し２種の発光材料３ａ、３ｂを組み合わせた計２組の組み合わせを持っている。このように、１つの試験片１１で複数組の組み合わせを評価することができるので、発光光の強度の測定および評価の作業を効率的に行うことができる。
【００６６】
凹部２２内への発光材料３ａ、３ｂの供給方法としては、塗布法、インクジェット法、蒸着、スパッタリング等の気相成膜法等が挙げられる。これらのうち、インクジェット法以外の方法では、凹部２２以外の箇所（隔壁２１の箇所）にマスキングを施して前記方法を実行する。インクジェット法では、調整された液による微小な液滴を吐出し、凹部２２内に着弾させ、付着した液を乾燥し、必要に応じ硬化処理（架橋）を施して発光材料３ａ、３ｂを充填する。
【００６７】
［１−５］凹部２２内に発光材料３ａ、３ｂ充填された隔壁材料層２上に板材４を重ね（接合し）、封止する(図９参照)。これにより、試験片１１が完成する。この封止を行うことの利点は、前記第１実施形態で説明したのと同様である。また、板材４の厚さ、板材４と基板１の光学的特性について、および本工程（封止工程）が必ずしも必要でないこと等についても、前記第１実施形態と同様である。
【００６８】
［２］  以上のようにして製造された試験片１１は、所定の雰囲気ガス中で所定期間保存（放置）される。当該保存の作用・効果、好ましい保存期間、保存環境（雰囲気ガス）等については、前記第１実施形態で説明したのと同様である。
【００６９】
［３］発光光強度の測定
［３−１］所定期間保存された試験片１１に対し、発光材料３ａ、３ｂに励起光７を照射する(図１０参照)。発光材料３ａ、３ｂは、通常、励起光を照射されると、発光（蛍光、りん光等）する性質を有する。従って、励起光７が照射されると、それに応じて発光する。
【００７０】
励起光７としては、各種レーザ光、可視光、紫外線、赤外線、電子線、放射線等が挙げられるが、本実施形態では、紫外線（紫外光）とされる。
このような励起光（紫外線）７は、試験片１１の基板１側から基板１を介して発光材料３ａ、３ｂに照射される(図１０参照)。
なお、励起光７の照射は、発光材料３ａ、３ｂに対し同時に行ってもよいが、発光材料３ａ、３ｂに対し時間差をおいて行ってもよい。
【００７１】
［３−２］励起光７の照射により発光材料３ａおよび３ｂから発せられた光（以下「発光光８ａ、８ｂ」と言う）の強度（またはその経時変化）をそれぞれ検知する。この発光光８ａ、８ｂの検知は、本実施形態では、試験片１１の板材４側から板材４を介して行われる(図１０参照)。発光光８ａの検知と発光光８ｂの検知は、それぞれ、同時に行っても、時間差をおいて行ってもよい。
【００７２】
このような発光光８ａ、８ｂの検知は、肉眼でも、所定の光学機器を用いてもよい。例えば、蛍光顕微鏡で観察することにより行うことができる。特に、蛍光顕微鏡を用いて発光光８ａ、８ｂの強度の検出（測定）を所定時間毎（例えば１分〜５時間毎）に行い、その結果を記録し、集計する。集計は、グラフまたは表を作成することにより行うと良い。
また、発光光８ａ、８ｂの強度の検出（測定）は、例えばフォトダイオードのような光電変換素子や、ＣＣＤのような撮像素子を用いて行うことができる。この場合には、発光光８ａ、８ｂの強度を電気信号として検出し、定量化することができるので、より正確で客観的な測定および評価を行うことができる。この場合でも、前記と同様に、発光光８ａ、８ｂの強度の検出（測定）を所定時間毎に行い、その結果を記録し、集計する。
【００７３】
なお、撮像素子を用いる場合、発光光８ａ、８ｂの強度をそれぞれ、その発光位置（すなわち発光材料３ａからの発光と発光材料３ｂからの発光を区別して）とともに把握することができ、複数種の組み合わせに対し同時に発光強度の測定ができ、作業効率上好ましい。また、撮像素子を用いる場合、発光面積、発光色等の他の条件も把握することができ、より正確な測定および評価を行うことができるとともに、検知結果の利用範囲が広がるという利点もある。
【００７４】
［４］評価
発光光８ａ、８ｂの強度の経時変化を調べ、その度合い（発光光８ａ、８ｂの強度の持続性の大小）から試験片１１上に形成された発光材料３ａ、３ｂと隔壁２１の隔壁材料との組み合わせの良し悪しを評価する。この評価は、前述した集計の結果（グラフ、表など）に基づいて行うことができる。
本実施形態についても、集計結果と評価の方法について、前記第１実施形態で説明したのと同様であり、例えば図１１または図１２に示すものと同様のグラフを作成し、これに基づいて同様の方法で評価することができる。
【００７５】
また、その他の方法として、１種（または２種）の隔壁材料Ｄに対し２種の発光材料３ａ、３ｂを組み合わせた合計２組（または４組）の組み合わせについて、励起光（紫外線）を照射し、発光材料３ａ、３ｂからそれぞれ発せられる発光光のピーク波長における発光光強度（吸光度）の経時変化を連続的に測定し、図１２に示すグラフと同様のグラフを作成して評価することもできる。
【００７６】
前記第１および第２実施形態においては、１つの試験片上に、発光材料と隔壁材料の組み合わせを１組または複数組形成することができる。より詳しくは、次のような場合がある。
１．１つの試験片上に発光材料と隔壁材料の組み合わせを１組形成。
２．１つの試験片上に発光材料と隔壁材料の異なる複数の組み合わせを形成。この場合、次の形態が可能である。
【００７７】
２−Ａ．試験片は、１種の発光材料とこれに対し組成の異なる複数種の隔壁材料とをそれぞれ組み合わせた複数の組み合わせを持っている。
２−Ｂ．試験片は、１種の隔壁材料とこれに対し組成の異なる複数種の発光材料とをそれぞれ組み合わせた複数の組み合わせを持っている。
２−Ｃ．試験片は、組成の異なる複数種の発光材料とこれらに対し組成の異なる複数種の隔壁材料とを適宜組み合わせた複数の組み合わせを持っている。
【００７８】
３．１つの試験片上には、発光材料と隔壁材料の組み合わせが１組形成されており、前記１つの試験片に対し、発光材料と隔壁材料の少なくとも一方が異なる組み合わせの試験片を１つまたは複数用意する。すなわち、発光材料と隔壁材料の組み合わせが異なる複数の試験片を用意する。そして、これらの試験片の中から所定の試験片を選択し、前述したような評価を行う。複数の（全部の）試験片に対し評価を行い、それらを比較する。
【００７９】
４．１つの試験片は、１種の発光材料Ｒとこれに対し組成の異なる複数種（３種）の隔壁材料Ｕ、Ｖ、Ｗとをそれぞれ組み合わせた複数（３組）の組み合わせを持っている。他の１つの試験片は、前記発光材料Ｒとは異なる１種の発光材料Ｓとこれに対し組成の異なる複数種（３種）の隔壁材料Ｕ、Ｖ、Ｗとをそれぞれ組み合わせた複数（３組）の組み合わせを持っている。２種の試験片に対しそれぞれ前述したような評価を行う。
【００８０】
５．１つの試験片は、１種の隔壁材料Ｕとこれに対し組成の異なる複数種（３種）の発光材料Ｅ、Ｆ、Ｇとをそれぞれ組み合わせた複数（３組）の組み合わせを持っている。他の１つの試験片は、前記隔壁材料Ｕとは異なる１種の隔壁材料Ｔとこれに対し組成の異なる複数種（３種）の発光材料Ｅ、Ｆ、Ｇとをそれぞれ組み合わせた複数（３組）の組み合わせを持っている。２種の試験片に対しそれぞれ前述したような評価を行う。
６．前記１〜５のうちの任意の２以上の組み合わせ。
複数の試験片に対し評価を行う場合、１つの評価装置で各試験片を適宜交換して評価を行っても、複数の評価装置で全ての試験片に対し（または複数の試験片ごとに）評価を行ってもよい。
【００８１】
本発明の評価装置は、上述した試験片１０または１１を少なくとも１つと、試験片１０または１１上の発光材料に励起光５または７を照射する光照射手段(図示せず)と、発光材料からの発光光６、８ａ、８ｂの強度またはその経時変化を検知する検知手段(図示せず)とを備えており、前記光照射手段により発光材料に励起光５または７を照射し、発光材料からの発光光６、８ａ、８ｂの強度を前記検知手段により検知し、当該発光光強度の経時変化の度合いから発光材料と隔壁材料との組み合わせの良し悪しを評価する。
【００８２】
光照射手段としては、例えばレーザ光光源、紫外線ランプ等の光源（励起光の光源）と、光源から発せられた励起光を所定の光路で照射するための光学系とで構成される。
また、検知手段としては、前述した蛍光顕微鏡や、フォトダイオードのような光電変換素子、ＣＣＤのような撮像素子を挙げることができ、さらには、光電変換素子や撮像素子から出力される電気信号の処理回路、制御回路、画像信号生成装置、再生装置、モニター類等を含めることができる。
以上、本発明を図示の各実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではい。
また、評価装置の構成は、同様の機能を発揮し得る任意の構成と置換することができ、また、任意の構成が付加されていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の評価方法の第１実施形態を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の評価方法の第１実施形態を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の評価方法の第１実施形態を模式的に示す断面図である。
【図４】本発明の評価方法の第１実施形態を模式的に示す断面図である。
【図５】本発明の評価方法の第２実施形態を模式的に示す斜視図である。
【図６】本発明の評価方法の第２実施形態を模式的に示す斜視図である。
【図７】本発明の評価方法の第２実施形態を模式的に示す斜視図である。
【図８】図７中のＡ−Ａ線断面図である。
【図９】本発明の評価方法の第２実施形態を模式的に示す斜視図である。
【図１０】本発明の評価方法の第２実施形態を模式的に示す斜視図である。
【図１１】発光光強度の集計結果の例を示すグラフである。
【図１２】発光光強度の集計結果の例を示すグラフである。
【符号の説明】
【００８４】
１・・・基板  ２・・・隔壁材料層  ２１・・・隔壁  ２２・・・凹部  ３・・・発光材料層  ３ａ、３ｂ・・・発光材料  ４・・・板材  ５・・・励起光  ６・・・発光光  ７・・・励起光  ８ａ、８ｂ・・・発光光  １０、１１・・・試験片
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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