(57)【要約】【課題】  観察者に届く透過の光量を増加させかつ輝度ムラのない液晶装置用基板、液晶装置、該液晶装置の製造方法及び該液晶装置を備えた電子機器を提供する。【解決手段】  液晶装置１は、液晶７を保持する基板５と、光が透過する透過領域８と光を反射する反射領域９とを有する基板５上の複数のサブ画素１０とを備えており、透過領域８に複数の凸レンズ１２ａからなるレンズアレイ１２が形成されているので、複数の凸レンズ１２ａによって透過領域８を透過する光を集光し観察者に届く透過の光量を増加させつつ略凸レンズ１２ａの数に集光させ透過光の輝度ムラをなくすことができると共に、反射領域９で光を反射することができる。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶を保持する基板と、光が透過する透過領域と光を反射する反射領域とを有し前記基板上に設けられた複数のサブ画素とを備えた液晶装置において、
前記透過領域に平面的に重なる領域に、凸形状又は凹形状の複数のレンズからなるレンズアレイ構造を有していることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記複数のレンズのうち隣接するレンズ同士は互いに接して設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記複数のレンズは、前記透過領域の全ての領域に渡って設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記複数のレンズは、マトリックス状に設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記複数のレンズは、千鳥状に配列されると共にその配列が複数並んで設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記レンズは該レンズの光軸に直交する断面が四角形状であることを特徴とする請求項１から請求項５のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記レンズは該レンズの光軸に直交する断面が円形状であることを特徴とする請求項１から請求項５のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項８】
前記基板上に設けられ前記レンズアレイ構造を有する下地層と、
前記反射領域で前記下地層上に設けられた反射膜と
を有し、
前記透過領域に平面的に重なる領域には、前記反射膜が設けられていないことを特徴とする請求項１から請求項７のうちのいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項９】
液晶を保持する基板と、光が透過する透過領域と光を反射する反射領域とを有し前記基板上に設けられた複数のサブ画素とを備えた液晶装置用基板において、
前記透過領域に平面的に重なる領域に、凸形状又は凹形状の複数のレンズからなるレンズアレイ構造を有していることを特徴とする液晶装置用基板。
【請求項１０】
液晶を保持する基板と、光が透過する透過領域と光を反射する反射領域とを有し前記基板上に設けられた複数のサブ画素とを備えた液晶装置の製造方法において、
基板上に感光性樹脂を塗布する工程と、
光を段階的に遮光するために光の遮光率が異なる複数の遮光領域が同心円状に設けられた遮光部を、前記透過領域に対応する領域に複数有するマスクを介して、前記基板上に塗布された前記感光性樹脂を露光する工程と、
露光された前記感光性樹脂を現像する工程と、
現像された前記感光性樹脂を焼成する工程と
を具備することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１１】
前記感光性樹脂がポジ型であるときは、前記遮光部の中心から外周に行くにつれ前記遮光領域の前記遮光率は段階的に減少し、
前記感光性樹脂がネガ型であるときは、前記遮光部の中心から外周に行くにつれ前記遮光領域の前記遮光率は段階的に増加する
ことを特徴とする請求項１０に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１２】
前記マスクは、前記反射領域に対応する領域に遮光率が異なる複数の領域を有していることを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を透過する透過領域を有する液晶装置用基板、液晶装置、該液晶装置の製造方法及び該液晶装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、パーソナルコンピュータや携帯電話機等といった電子機器の表示装置として液晶装置等が用いられている。例えば反射半透過型の液晶装置は、２枚の対向する基板の間に液晶が封入された液晶パネルを備えている。液晶パネルは、光を透過する透過領域と、反射する反射領域とを有するサブ画素を複数備えている。反射領域では例えば一方の基板に設けられた凹凸を有する下地層の上に反射膜が設けられており、透過領域では例えば凹凸を有する下地層の上に反射膜が設けられない。反射領域では、下地層の凹凸により反射膜に凹凸を形成し反射膜の凹凸により光を散乱している。この場合には、透過領域を光が透過するときに、下地層の凹凸により光が分散し観察者に届く光量が減少してしまう、という問題がある。
【０００３】
この問題を解決するために、反射半透過型の液晶装置として、例えば基板上の下地層の透過領域となる位置に光を散乱させるためではなく光を集光するための一つの透過領域に対して一つの凸部（レンズ）を形成する技術が開示されている。これにより、基板の裏側から透過領域を透過する光を、この凸部により集光し、観察者に届く光量を増加させて画面を見易くしている（例えば、特許文献１参照。）。  
【特許文献１】特開２００３−１７７３９６号公報（段落[００４１]、[００４７]、図５）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した特許文献１の技術では、下地層の透過領域を透過する光を凸部（レンズ）により集光して観察者に届く光量を増加させることはできるが、透過光が１点に集光し、液晶表示を見る方向によっては見え難くなったり、サブ画素毎に光が１点に集光して輝度ムラが生じたりする、という問題がある。
【０００５】
本発明は、上述の課題に鑑みてなされるもので、観察者に届く透過の光量を増加させかつ輝度ムラのない液晶装置用基板、液晶装置、該液晶装置の製造方法及び該液晶装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の主たる観点に係る液晶装置は、液晶を保持する基板と、光が透過する透過領域と光を反射する反射領域とを有し前記基板上に設けられた複数のサブ画素とを備えた液晶装置において、前記透過領域に平面的に重なる領域に、凸形状又は凹形状の複数のレンズからなるレンズアレイ構造を有していることを特徴とする。
【０００７】
本発明では、サブ画素の透過領域に平面的に重なる領域に、凸形状又は凹形状の複数のレンズからなるレンズアレイ構造を有しているので、凸形状又は凹形状の複数のレンズによって透過領域を透過する光を集光し観察者に届く透過の光量を増加させつつ略レンズの数に集光させ集光した光によって透過光の輝度ムラをなくすことができると共に、反射領域で光を反射することができる。
【０００８】
本発明の一の形態によれば、前記複数のレンズのうち隣接するレンズ同士は互いに接して設けられていることを特徴とする。これにより、例えば複数のレンズが接することなく離間して設けられている場合には、透過領域のレンズとレンズとの間で透過光が分散してしまうことがあるのに対して、複数の隣接するレンズ同士が互いに接して設けられているので、透過光が分散せず、しかも透過領域中により多くのレンズを設けることができるで、透過領域を効率的に用いて透過光の輝度ムラをなくすことができる。
【０００９】
本発明の一の形態によれば、前記複数のレンズは、前記透過領域の全ての領域に渡って設けられていることを特徴とする。これにより、複数のレンズは、透過領域の全ての領域に渡って設けられているので、透過領域を効果的に用いて観測者に届く透過光を増加させてかつ透過光の輝度ムラをなくすことができる。
【００１０】
本発明の一の形態によれば、前記複数のレンズは、マトリックス状に設けられていることを特徴とする。これにより、例えばレンズがランダムに設けられている場合等に比べて、レンズの配設位置の偏り等がないので、この偏りにより生じる輝度ムラをなくすことができる。また、レンズをランダムに設ける場合に比べて、例えばレンズをマトリックス状に設けるために露光時に用いられるマスクの製造が容易となり、液晶装置の製造が容易となる。
【００１１】
本発明の一の形態によれば、前記複数のレンズは、千鳥状に配列されると共にその配列が複数並んで設けられていることを特徴とする。これにより、複数のレンズは、千鳥状に配列されると共にその配列が複数並んで設けられているようにすることで、例えばより多くのレンズを設けることができる。従って、レンズにより透過光が集光される数を増加させることができるので、輝度ムラの発生をより効率的に防止することができる。
【００１２】
本発明の一の形態によれば、前記レンズは該レンズの光軸に直交する断面が四角形状であることを特徴とする。これにより、例えばレンズを形成するためのマスクの形状を単純な格子状にすることができので、複数のレンズを備えた液晶装置を容易に製造することが可能となる。また、レンズの形状が四角形であるので、透過領域中のレンズのない領域が減少するように、それぞれのレンズ同士を近づけて設けることができるので、例えば透過領域中のレンズの数を増加させて透過光が集光される数を増加させて輝度ムラの発生を防止することができる。
【００１３】
本発明の一の形態によれば、前記レンズは該レンズの光軸に直交する断面が円形状であることを特徴とする。これにより、レンズの光軸に直交する断面が円形状であるので、集光性に優れたレンズによって透過光を集光させて、観察者に届く透過の光量を増加させることができる。
【００１４】
本発明の一の形態によれば、前記基板上に設けられ前記レンズアレイ構造を有する下地層と、前記反射領域で前記下地層上に設けられた反射膜とを有し、前記透過領域に平面的に重なる領域には、前記反射膜が設けられていないことを特徴とする。これにより、複数のレンズからなるレンズアレイ構造を有する下地層が基板上に設けられ、反射領域で反射膜が下地層上に設けられ、透過領域に平面的に重なる領域には、反射膜が設けられていないので、複数のレンズによって透過領域を透過する光を集光し観察者に届く透過の光量を増加させつつ略凸レンズの数に集光させ透過光の輝度ムラをなくすことができると共に、レンズアレイ構造が下地層上に一体的に設けられているので、液晶装置の薄型化を図ることができる。
【００１５】
本発明の他の観点にかかる液晶装置用基板は、液晶を保持する基板と、光が透過する透過領域と光を反射する反射領域とを有し前記基板上に設けられた複数のサブ画素とを備えた液晶装置用基板において、前記透過領域に平面的に重なる領域に、凸形状又は凹形状の複数のレンズからなるレンズアレイ構造を有していることを特徴とする。
【００１６】
本発明では、サブ画素の透過領域に透過領域に平面的に重なる領域に、凸形状又は凹形状の複数のレンズからなるレンズアレイ構造を有しているので、凸形状又は凹形状の複数のレンズによって透過領域を透過する光を集光し観察者に届く透過の光量を増加させつつ略レンズの数に集光させ集光した光によって透過光の輝度ムラをなくすことができると共に、反射領域で光を反射することができる。
【００１７】
本発明の他の観点にかかる液晶装置の製造方法は、液晶を保持する基板と、光が透過する透過領域と光を反射する反射領域とを有し前記基板上に設けられた複数のサブ画素とを備えた液晶装置の製造方法において、基板上に感光性樹脂を塗布する工程と、光を段階的に遮光するために光の遮光率が異なる複数の遮光領域が同心円状に設けられた遮光部を、前記透過領域に対応する領域に複数有するマスクを介して、前記基板上に塗布された前記感光性樹脂を露光する工程と、露光された前記感光性樹脂を現像する工程と、現像された前記感光性樹脂を焼成する工程とを具備することを特徴とする。
【００１８】
本発明では、光を段階的に遮光するために光の遮光率が異なる複数の遮光領域が同心円状に設けられた遮光部を、前記透過領域に対応する領域に複数有するマスクを介して、基板上に塗布された感光性樹脂を露光する工程と、露光された感光性樹脂を現像する工程とを備えているので、光の遮光率が異なる複数の遮光領域が同心円状に設けられた遮光部を、前記透過領域に対応する領域に複数有するマスクを介して基板上の感光性樹脂を露光した後現像することができ、遮光領域の遮光率に応じて複数の凸レンズを透過領域に同時に形成することが可能となる。
【００１９】
本発明の一の形態によれば、前記感光性樹脂がポジ型であるときは、前記遮光部の中心から外周に行くにつれ前記遮光領域の前記遮光率は段階的に減少し、前記感光性樹脂がネガ型であるときは、前記遮光部の中心から外周に行くにつれ前記遮光領域の前記遮光率は段階的に増加することを特徴とする。これにより、ポジ型の感光性樹脂を用いる場合には、遮光部の中心から外周に行くにつれ段階的に光の遮光率が減少するマスクを用い、ネガ型の感光性樹脂を用いる場合には、遮光部の中心から外周に行くにつれ段階的に光の遮光率が増加するマスクを用いることで、同様に複数のレンズを形成することができる。
【００２０】
本発明の一の形態によれば、前記マスクは、前記反射領域に対応する領域に遮光率が異なる複数の領域を有していることを特徴とする。これにより、マスクは、反射領域に対応する領域に遮光率が異なる複数の領域を有しているので、透過領域に複数のレンズを形成するときに同時に反射領域に例えば凹凸を形成すことができる。
【００２１】
本発明の他の観点にかかる電子機器は、上述した液晶装置を備えたことを特徴とする。
【００２２】
本発明では、観察者に届く透過の光量を増加させかつ輝度ムラのない液晶装置を備えることができるので、表示性能に優れた電子機器を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明に実施形態を図面に基づき説明する。なお、以下実施形態を説明するにあたっては、電気光学装置の例として液晶装置、具体的には反射半透過型のニ端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ  薄膜ダイオード）を用いたアクティブマトリックス方式の液晶装置及びその液晶装置を用いた電子機器について説明するが、これに限られるものではない。また、以下の図面においては各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００２４】
（第１の実施形態）
【００２５】
図１は本発明に係る第１の実施形態の液晶装置の概略斜視図、図２は第１の実施形態の液晶装置の部分概略平面図、図３は図２に示す液晶装置のＡ−Ａ断面図である。
【００２６】
（液晶装置の構成）
【００２７】
液晶装置１は、例えば図１に示すように液晶パネル２と、液晶パネル２に接続された回路基板３とを備えている。ここで、液晶装置１には、回路基板３の他にも、図示しないバックライト等の照明装置やその他の付帯機構が必要に応じ付設されている。
【００２８】
液晶パネル２は、図１に示すようにシール材４を介して貼り合わされた一対の基板５及び基板６と、両基板５、６の隙間に封入された電気光学物質、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型の液晶７とを備えている。
【００２９】
基板５には、例えば図２及び図３に示すように、文字等を表示する最小単位となる画素８０がＸ方向及びＹ方向に複数配列して設けられている。画素８０は、例えばサブ画素１０がＸ方向に３個並設して形成されている。サブ画素１０は、基板５の液晶７側と反対側に設けられた図示を省略したバックライトからの光が透過する透過領域８と、基板６側から基板５側に向けて入射する光を反射する反射領域９とを備えている。透過領域８は、図２に示すように、反射領域９の略中央部に設けられている。透過領域８は、後述する下地層１１及び下地層１１に一体的に形成された後述するレンズアレイ（構造）１２を有し、反射領域９は、後述する下地層１１上に設けられた後述する反射膜１３を有する。下地層１１の透過領域８に平面的に重なる領域には、後述する反射膜１３は設けられていない。なお、透過領域８の位置（開口部の位置）や形状はこれに限定されず例えば反射領域９でＸ方向又はＹ方向のいずれかに偏倚して設けるようにしてもよいし、透過領域を複数箇所に設けるようにしてもよい。
【００３０】
基板５の液晶７側の表面には、図３に示すように、樹脂製の下地層１１が設けられている。下地層１１の光の屈折率ｎ１は、例えば１．６に設定されている。下地層１１の透過領域８を除く領域には複数の凹凸状部が形成されており、透過領域８に平面的に重なる領域には複数の凸レンズ１２ａからなるレンズアレイ（構造）１２が一体的に形成されている。凸レンズ１２ａは、例えば図２に示すようにＸ方向及びＹ方向に略直線状に等間隔で互いに隣接して配設されている。透過領域全域に渡って複数の凸レンズ１２ａが設けられている。凸レンズ１２ａは例えば凸レンズ１２ａの光軸Ｌに直交する方向の断面が略円形状である。複数の凸レンズ１２ａの直径はそれぞれ略同じに設定されている。また、複数の凸レンズ１２ａのＺ方向の高さは、それぞれ略同じに設定されている。なお、本実施形態では、凸レンズ１２ａがＸ方向に２個、Ｙ方向に８個設けられている例を示したがこれらの数に限定されない。例えば凸レンズ１２ａの直径は１０μｍ、Ｚ方向の高さは１μｍに設計すればよい。
【００３１】
下地層１１の液晶７側の表面の透過領域８を除く領域には、図３に示すように反射膜１３が形成されている。反射膜１３の構成材料には例えばアルミニウムやアルミニウム合金が用いられている。反射膜１３は下地層１１の凹凸形状に沿った凹凸形状を有している。
【００３２】
凸レンズ１２ａが設けられた透過領域８及び反射膜１３上でサブ画素１０に対応する領域には、着色層１４が形成されている。例えば着色層１４の屈折率ｎ２は、下地層１１の屈折率ｎ１より小さく設定されている。着色層材料には、例えば顔料により着色された感光性樹脂を用いることができる。着色層１４同士の間には、光を遮蔽する光遮蔽層１５が形成されている。
【００３３】
更に着色層１４及び光遮蔽層１５の液晶７側には、オーバーコート層１６が形成されており、そのオーバーコート層１６の液晶７側にはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電体からなる走査電極１７がＸ方向に形成されている。
【００３４】
また、その走査電極１７の上に、例えばポリイミド樹脂等からなる配向膜１８が形成されており、更に基板５の液晶７側と反対側には図示を省略した偏光板等が設けられている。
【００３５】
一方、基板６には、例えば図２に示すように液晶７側の表面に、マトリックス状に配列する複数の画素電極１９と、各画素電極１９の境界領域において走査電極１７と交差する方向に帯状に延びる複数の信号電極２０と、画素電極１９及び信号電極２０に電気的に接続されたＴＦＤ２１とが配置され、画素電極１９等の液晶７側には配向膜２２が形成されている。画素電極１９は、例えばＩＴＯ等の透明導電体により形成されている。また、基板５と同様、基板６の液晶側と反対側には図示を省略した偏光板等が設けられている。
【００３６】
ここで、基板５及び基板６は、例えば図１、図２及び図３に示すようにガラスや合成樹脂といった光透過性材料から形成された板状部材であり、基板５は基板６に対し外側へ突出した張出し領域（以下「張出し部」という。）２３を備えている。
【００３７】
次に、張出し部２３は図１、図２及び図３に示すように走査電極１７及び信号電極２０がシール材４で囲まれる領域から張出し部２３に延びている走査電極用配線２４及び信号電極用配線２５、その各電極用配線２４、２５に例えば液晶駆動用電流を供給する液晶駆動用ＩＣ２６等を備えている。
【００３８】
また、張出し部２３には、液晶駆動用ＩＣ２６の実装面に対応する基板５上の実装領域内に設けられた複数の図示を省略した電極用端子、更に回路基板３からの電流を液晶駆動用ＩＣ２６に入力する複数の図示を省略した入力用端子が設けられている。電極用端子は走査電極用配線２４及び信号電極用配線２５にそれぞれ電気的に接続されている。
【００３９】
更に張出し部２３は、回路基板３からの電流を受取る図示を省略した外部用端子、その外部からの電流を入力用端子に供給する入力用配線２７等を備えている。なお、信号電極２０は例えばＴａやＣｒ，ＴａＷ等の金属材料により形成されている。
【００４０】
次に、回路基板３は例えば図１に示すようにベース基材２８の上に配線パターン２９等が形成、実装されている。
【００４１】
ここで、ベース基材２８は可撓性を有するフィルム状の部材であり、配線パターン２９は例えば銅等により形成されており、張出し部２３側の端に図示しない端子が形成されている。この端子は外部用端子に例えばＡＣＦを介して電気的に接続されている。
【００４２】
（液晶装置の製造方法）
【００４３】
次に液晶装置１の製造方法について図面を参照しながら説明する。
【００４４】
図４は液晶装置１の製造工程のフローチャート、図５はレンズアレイ１２を備えた下地層１１の形成工程（図４のステップ１）のフローチャート、図６は本実施形態の液晶装置１の製造に用いられるフォトマスクの部分概略平面図である。
【００４５】
まず、レンズアレイ１２を備えた下地層１１の形成工程（図４のステップ１（Ｓ１））について図５を用いて説明する。
【００４６】
図５に示すように、基板５を洗浄し（Ｓ１１）、乾燥し、例えばスピンコート法によりポジ型の感光性樹脂を基板５に塗布する（Ｓ１２）。次に、例えば基板５を載置可能な図示を省略したステージと、ステージに載置された基板５上の感光性樹脂を加熱可能な例えばヒーターと、ステージ等を収容し基板５を収容する密閉空間を形成する図示を省略した密閉容器とを備えたプレベークユニットを用いて、感光性樹脂を８０℃〜９０℃で２分間プレベークする（Ｓ１３）。次に、感光性樹脂を図６に示すフォトマスク３０を介して露光し（Ｓ１４）、現像液により現像し（Ｓ１５）、焼成し凸レンズ１２ａを複数形成する（Ｓ１６）。なお、この焼成工程では、１１０°Ｃ〜１３０°Ｃで２分間焼成することで、感光性樹脂の形状を安定させた後、２２０°Ｃで３０分〜６０分間焼成することで感光性樹脂の光反応を終了させる。このように、焼成工程を２段階にすることで、感光性樹脂が急激に高温となり溶解して平坦化することを防止することができる。
【００４７】
この露光工程（Ｓ１４）で用いるフォトマスク３０は、図６に示すように、例えばサブ画素１０を形成するためのサブ画素形成部３１を複数備えている。サブ画素形成部３１は、ＸＹ方向に離間して配列して設けられている。
【００４８】
サブ画素形成部３１は、反射領域９を形成するための外形が略矩形状の反射領域形成部３３と、反射領域形成部３３の略中央部に設けられレンズアレイ１２を形成するための矩形状のレンズアレイ形成部３２とを備えている。サブ画素形成部３１のＸ方向の幅ａは例えば１００μｍ、Ｙ方向の長さｂは例えば３００μｍに設定されている。なお、レンズアレイ形成部３２と反射領域形成部３３との形成位置はこれに限定されず、例えばレンズアレイ形成部３２をＸ方向に偏倚して設けるようにしてもよいし、レンズアレイ形成部３２より小さいレンズアレイ形成部をサブ画素１０内に複数箇所に設けるようにしてもよい。
【００４９】
レンズアレイ形成部３２のＸ方向の幅ｃは例えば４０μｍ、Ｙ方向の長さｄは例えば１００μｍ（長さｅはそれぞれ１００μｍ）に設定されている。レンズアレイ形成部３２には、凸レンズ１２ａを形成するための円形状の遮光部３４が複数設けられている。これらの遮光部３４は、ＸＹ方向に互いに隣接して略直線状に配列されている。
【００５０】
図７は図６に示すフォトマスク３０の遮光部３４の概略平面図である。
【００５１】
遮光部３４は、図７に示すように略円形状の形状を有しており、円形状の遮光領域３４ｍの周りに円環状の遮光領域３４ｋ、遮光領域３４ｋの周りに円環状の遮光領域３４ｈ、遮光領域３４ｈの周りに円環状の遮光領域３４ｇ、遮光領域３４ｇの周りに円環状の遮光領域３４ｆ、遮光領域３４ｆの周りに円環状の遮光領域３４ｅ、遮光領域３４ｅの周りに円環状の遮光領域３４ｄ、遮光領域３４ｄの周りに円環状の遮光領域３４ｃ、遮光領域３４ｃの周りに円環状の遮光領域３４ｂ、遮光領域３４ｂの周りに円環状の遮光領域３４ａが設けられている。すなわち、遮光部３４は、遮光率の異なる遮光領域３４ａ〜３４ｍが同心円状に設けられて形成されている。遮光率とは、例えば露光装置の照射する光エネルギーに対するフォトマスク３０が遮光する光エネルギーの百分率である。遮光領域３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄ、３４ｅ、３４ｆ、３４ｇ、３４ｈ、３４ｋ及び３４ｍの遮光率は、それぞれ１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％及び１００％に設定されている。これにより、本実施形態のように、ポジ型の感光性樹脂を用いる場合には、例えばフォトマスク３０の中心の遮光部３４ｍでは、遮光率が１００％に設定されているため、露光装置により露光されず、現像後もそのまま残る。遮光領域３４ｋ、３４ｈと遮光部３４の外周側に近づくに連れて、現像後にそのまま残る感光性樹脂の量が段階的に減少する。なお、本実施形態では、隣り合う遮光領域の遮光率が、それぞれ露光装置の全露光量の１０％ずつ異なる例を示したが、これに限定されず例えば５％ずつ異なるようにしてもよいし、各遮光領域３４ａ〜３４ｍの遮光部３４の直径方向の幅が略等しい例を示したが、この幅を各領域毎に異なるようにしてもよい。これにより、より凸レンズの表面を滑らかにすることができる。
【００５２】
反射領域形成部３３等には、下地層１１の表面の反射領域９に凹凸を形成するための図示を省略した遮光率の異なる遮光部が複数個ランダムに設けられている。このため、フォトマスク３０を介して露光し（Ｓ１４）、現像液により現像し（Ｓ１５）する等して複数の凸レンズ１２ａを形成するときに同時に反射領域９に凹凸を形成することができる。なお、これらの反射領域の遮光部の直径は、遮光部３４の直径より大きい例を示したが（図２参照）、これに限定されず、例えばこれらの反射領域の透光部の直径と遮光部３４の直径とが略同じとなるようにしてもよい。
【００５３】
次いで、図４に示すように、スパッタリング等により下地層１１を覆うようにアルミニウムを略一定の厚さで形成し、エッチングにより一部反射膜を除去し、光を透過可能な透過領域を複数備えた反射膜１３を形成する（Ｓ２）。
【００５４】
次に、反射膜１３及び凸レンズ１２ａが設けられている透過領域８を覆うように着色層材料を塗布し、プリベークし、図示を省略した露光装置等により露光、現像の各処理を施すことで、着色層１４を形成し、同様に光遮蔽層１５を形成する（Ｓ３）。
【００５５】
次に、着色層１４及び光遮蔽層１５を覆うようにオーバーコート層１６を形成する（Ｓ４）
【００５６】
続いて、オーバーコート層１６上に着色層１４に対応するようにＩＴＯからなる薄膜を同様に形成しパターニングして走査電極１７を形成する（Ｓ５）。更に、走査電極１７を覆うように配向膜１８を形成しラビング処理を施す。
【００５７】
一方、基板５に対向する基板６に画素電極１９、信号電極２０及びＴＦＤ２１を形成し、画素電極１９等を覆うように配向膜２２を形成しラビング処理を施す（Ｓ６）。
【００５８】
続いて、基板５上にシール材４を設け、両基板５、６を貼り合わせる（Ｓ７）。
【００５９】
そして、シール材４に形成された注液口から液晶７を注液し注液口を封止し、基板５、６の外側に偏光板を設け、回路基板３を液晶パネル２に電気的に接続する等して液晶装置１を製造する（Ｓ８）。
【００６０】
以上で液晶装置１の製造方法についての説明を終了する。
【００６１】
次に、本実施形態の液晶装置１の動作について図面を参照しながら説明する。
【００６２】
図８は本実施形態の液晶装置１の透過領域８を透過する透過光の動作の説明図である。
【００６３】
例えば基板５の液晶７側とは反対側に設けられた図示を省略したバックライトが光を照射すると、バックライトからの光は基板５を透過し下地層１１に入射し複数の凸レンズ１２ａに到達する。本実施形態のように、下地層１１の屈折率ｎ１（１．６）が着色層１４の屈折率ｎ２より大きい場合には、凸レンズ１２ａの表面に対して入射角θ１で入射した入射光は、凸レンズ１２ａの表面（凸レンズ１２ａと着色層１４との境界面）で屈折角θ２（>θ１）で屈折する。この結果、複数の凸レンズ１２ａを透過した透過光は、下地層１１の基板５側とは反対側に複数の擬似的な光源Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３等があるかのように略凸レンズ１２ａの数に集光され、複数の擬似的な光源Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３等からの光が観察者に届く。
【００６４】
このように本実施形態によれば、液晶装置１は、液晶７を保持する基板５と、光が透過する透過領域８と光を反射する反射領域９とを有する基板５上の複数のサブ画素１０とを備えており、透過領域８に複数の凸レンズ１２ａからなるレンズアレイ１２が形成されているので、複数の凸レンズ１２ａによって透過領域８を透過する光を集光し観察者に届く透過の光量を増加させつつ略凸レンズ１２ａの数に集光させ透過光の輝度ムラをなくすことができると共に、反射領域９で光を反射することができる。
【００６５】
また、例えば複数の凸レンズ１２ａが接することなく離間して設けられている場合には、透過領域８の凸レンズ１２ａと凸レンズ１２ａとの間で透過光が分散してしまうことがあるのに対して、本実施形態では、複数の凸レンズ１２ａが互いに接して設けられているので、透過光が分散せず、しかも透過領域８中により多くの凸レンズ１２ａを設けることができるで、透過領域８を効率的に用いて透過光の輝度ムラをなくすことができる。
【００６６】
更に、複数の凸レンズ１２ａはＸ方向及びＹ方向に略直線状に配列してマトリックス状に設けられているので、例えば凸レンズ１２ａがランダムに設けられている場合等に比べて、凸レンズ１２ａの配設位置の偏り等がないので、この偏りにより生じる輝度ムラをなくすことができる。また、凸レンズ１２ａをランダムに設ける場合に比べて、例えば凸レンズ１２ａをマトリックス状に設けるために露光時に用いられるフォトマスク３０の製造が容易となり、液晶装置用基板５の製造が容易となる。
【００６７】
更にまた、凸レンズ１２ａは凸レンズ１２ａの光軸Ｌに直交する断面が円形状であるので、集光性に優れた凸レンズ１２ａによって透過光を集光させて、観察者に届く透過の光量を増加させることができる。
【００６８】
また、本実施形態の液晶装置１の製造方法は、光の遮光率が異なる複数の遮光領域３４ａ〜３４ｍが同心円状に設けられた遮光部３４を複数有するフォトマスク３０を介して、基板５上に塗布された感光性樹脂を露光する工程（Ｓ１４）と、露光された感光性樹脂を現像する工程（Ｓ１５）とを備えているので、基板５上の感光性樹脂を、遮光率が異なる複数の遮光領域３４ａ〜３４ｍが同心円状に設けられた遮光部３４を複数備えるフォトマスク３０を介して複数の遮光部３４を同時に露光した後現像することができ、遮光領域９の遮光率に応じて複数の凸レンズ１２ａを透過領域８に一回の露光、現像で同時に形成することが可能となる。このとき、本実施形態では、ポジ型の感光性樹脂を用いると共に、遮光領域３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄ、３４ｅ、３４ｆ、３４ｇ、３４ｈ、３４ｋ及び３４ｍの遮光率が、それぞれ１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％及び１００％に設定されている遮光部３４を複数備えたフォトマスク３０を用いるので、凸レンズ１２ａを複数形成することができる。
【００６９】
（第１の変形例）
【００７０】
次に、本発明に係る第１の変形例の液晶装置について説明する。なお、本変形例以降の実施形態及び変形例においては、上記実施形態と同一の構成部材等には同一の符号を付しその説明を省略し、異なる箇所を中心に説明する。
【００７１】
図９は第１変形例の液晶装置の断面図、図１０は第１変形例の液晶装置の透過領域を透過する透過光の動作説明図である。
【００７２】
本変形例の液晶装置７０のサブ画素７１は、複数の凸レンズ１２ａが設けられた透過領域８を備える代わりに、凹レンズ７４ａを複数有するレンズアレイ７４が設けられた透過領域７２を備えている。
【００７３】
基板５上には、光の屈折率ｎ３の下地層７５が設けられており、下地層７５の透過領域７２に平面的に重なる領域に複数の凹レンズ７４ａからなるレンズアレイ（構造）７４が設けられている。下地層７５とレンズアレイ７４とは一体的に形成されている。凹レンズ７４ａは、例えば図９に示すようにＸ方向及びＹ方向に略直線状に等間隔で互いに隣接して配設されている。複数の凹レンズ７４ａの直径はそれぞれ略同じに設定されている。また、複数の凹レンズ７４ａのＺ方向の窪みの深さは、それぞれ略同じに設定されている。なお、本実施形態では、凹レンズ７４ａがＸ方向に２個、Ｙ方向に８個設けられている例を示したがこれらの数に限定されない。例えば凹レンズ７４ａの直径は１０μｍ、Ｚ方向の窪みの深さは１μｍに設計すればよい。凹レンズ７４ａが設けられた透過領域７４及び反射膜１３上でサブ画素７１に対応する領域には、光の屈折率ｎ４が屈折率ｎ３より大きい着色層７６が形成されている。
【００７４】
次に本変形例の液晶装置の製造方法について上記実施形態と異なる箇所を中心に説明する。
【００７５】
本変形例では、例えば下地層７５を形成するときに、ポジ型の感光性樹脂を塗布する代りにネガ型の感光性樹脂を塗布すると共に、図６に示すフォトマスク３０を介して露光し現像する。これにより、感光性樹脂に例えば凹レンズ７４ａを複数形成する。続いて、感光性樹脂を焼成する。なお、以降の製造工程については上記実施形態と同様なので説明を省略する。
【００７６】
以上で液晶装置の製造方法についての説明を終了する。
【００７７】
本実施形態のように、下地層７５の屈折率ｎ３が着色層７６の屈折率ｎ４より小さい場合には、凹レンズ７４ａの表面に対して入射角θ３で入射した入射光は、凹レンズ７４ａの表面（凹レンズ７４ａと着色層７６との境界面）で屈折角θ４（<θ３）で屈折する。この結果、複数の凹レンズ７４ａを透過した透過光は、下地層７５の基板５側とは反対側に複数の擬似的な光源Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３等があるかのように略凹レンズ７４ａの数に集光され、複数の擬似的な光源Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３等からの光が観察者に届く。
【００７８】
このように本変形例によれば、下地層７５の透過領域７２に平面的に重なる領域に複数の凹レンズ７４ａからなるレンズアレイ（構造）７４が設けられ、透過領域７４及び反射膜１３上でサブ画素７１に対応する領域には、光の屈折率ｎ４が屈折率ｎ３より大きい着色層７６が形成されているので、複数の凹レンズ７４ａによって透過領域７２を透過する光を集光し観察者に届く透過の光量を増加させつつ略凹レンズ７４ａの数に集光させ透過光の輝度ムラをなくすことができる。
【００７９】
また、凹レンズ７４ａを形成するために、第１実施形態と同じ凸レンズ１２ａを形成可能なフォトマスク３０を用いることができるので、製造コストを低減させることが可能となる。なお、本変形例では、ネガ型の感光性樹脂を用いる例を示したが、ポジ型の感光性樹脂を用いると共に、遮光領域３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄ、３４ｅ、３４ｆ、３４ｇ、３４ｈ、３４ｋ及び３４ｍの遮光率が、それぞれ１００％、９０％、８０％、７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％及び１０％に設定されている遮光部を複数備えた図示を省略したフォトマスクを用いても同様に凹レンズ７４ａを複数形成することができる。
【００８０】
（第２の変形例）
【００８１】
次に、本発明に係る第２の変形例の液晶装置について説明する。
【００８２】
図１１は本発明に係る第２の変形例の液晶装置のサブ画素の概略平面図、図１２は図１１のサブ画素を備えた液晶装置のＢ−Ｂ断面図である。
【００８３】
本変形例の液晶装置のサブ画素３６は、複数の凸レンズ１２ａが設けられた透過領域８を備える代わりに、四角形の凸レンズ３８が複数設けられた透過領域３７を備えている。
【００８４】
透過領域３７には、図１１及び図１２に示すように光軸Ｌに直交する方向の断面が四角形の複数の凸レンズ３８がそれぞれ隣接して設けられている。複数の凸レンズ３８はそれぞれＸ方向、Ｙ方向に直線状に配列してマトリックス状に設けられている。それぞれの凸レンズ３８同士の間には、溝が形成されている。四角形の凸レンズ３８は、光が透過し射出する側の四個の角が図示しない凸面形状とされている。なお、本変形例においても、凸レンズ３８の形状や数等はこれらに限定されない。例えば光軸Ｌに直交する方向の断面が六角形状の凸レンズとしてもよい。この場合にも、透過領域３７中の凸レンズのない領域が少なくなるように、それぞれの凸レンズ同士が接触するように設けることができるので、例えば透過領域３７中の凸レンズの数を増加させて透過光が集光される数を増加させて輝度ムラの発生を防止することができる。
【００８５】
次に本変形例の液晶装置の製造方法について上記実施形態と異なる箇所を中心に説明する。
【００８６】
本変形例では、例えば図６に示すフォトマスク３０とはレンズアレイ形成部３２が異なる図示を省略したフォトマスクを用いる。フォトマスク３０のレンズアレイ形成部３２が遮光率の異なる遮光領域３４ａ〜３４ｍを備えているのに対して、本変形例のフォトマスクは、凸レンズ３８の間の溝の形状に対応する格子状の透光部を備えている。このフォトマスクを介して露光し現像することで、感光性樹脂に例えば略直角の角を有する四角形の凸部が複数形成される。続いて、感光性樹脂を焼成することで、感光性樹脂が溶解し四角形の凸部の四個の角が垂れ四個の角がなだらかな曲面状になる。なお、以降の製造工程については上記実施形態と同様なので説明を省略する。
【００８７】
以上で液晶装置の製造方法についての説明を終了する。
【００８８】
このように本変形例によれば、透過領域３７の凸レンズ３８の光軸Ｌに直交する方向の断面が四角形であるので、透過領域３７中の凸レンズ３８のない領域が減少するように、それぞれの凸レンズ３８同士を近づけて設けることができるので、例えば透過領域３７中の凸レンズ３８の数を増加させて透過光が集光される数を増加させて輝度ムラの発生を防止することができる。
【００８９】
また、凸レンズ３８は、光が透過し射出する側の四個の角が凸面形状とされているので、これらの四個の角が凸面形状でない場合に比べて、凸レンズ３８の光の射出する面がより凸レンズに近い形状なので、光をより効率的に集光することができる。
【００９０】
更に、例えば凸レンズ３８を形成するために、格子状の透光部を備えた単純なフォトマスクを用いることができるので、複数の凸レンズ３８を備えた基板５を容易に製造することが可能となる。
【００９１】
（第３の変形例）
【００９２】
次に、本発明に係る第３の変形例の液晶装置について説明する。
【００９３】
図１３は本発明に係る第３の変形例の液晶装置のサブ画素の概略平面図、図１４は図１３のサブ画素の透過領域の拡大平面図である。
【００９４】
本実施形態の液晶装置は、第２の変形例と同じく透過領域のレンズアレイが上記実施形態と異なっている。複数の凸レンズ４３は、図１３に示すように、Ｙ方向で直線状に配列されると共にその配列が複数Ｘ方向に並んで設けられている。このＸ方向に並設された複数の配列は少なくともその一部が隣の配列とＹ方向にずれている。すなわち、図１４に示すように、例えばＹ方向に配列された凸レンズ４３ａ、４３ｂの間に、隣の列の凸レンズ４３ｃが位置するように、凸レンズ４３ａ、４３ｂ等に対して凸レンズ４３ｃがＹ方向に長さｈだけずれて設けられている。このように、凸レンズ４３が千鳥状に設けられている。
【００９５】
次に本変形例の液晶装置の製造方法については、露光工程（図５に示すステップ１４）でフォトマスク３０を用いる代わりに複数の凸レンズ４３を形成可能なレンズアレイ形成部を備えたフォトマスクを用いる以外は略上記実施形態と同様なので説明を省略する。なお、レンズアレイ形成部は、フォトマスク３０の遮光部３４と同様の構造の透光部が凸レンズ４３に対応するように複数設けられて構成されている。
【００９６】
このように本変形例によれば、複数の凸レンズ４３は、Ｙ方向に略直線状に配列され、その配列がＸ方向に並んで設けられ、このＸ方向に並設された複数の配列は少なくともその一部が隣の配列とＹ方向に長さｈだけずれているので、例えばＸ方向に隣り合う凸レンズ４３同士を近づけて設けることで、より多くの凸レンズ４３を透過領域４１に設けることができる。従って、凸レンズ４３により透過光が集光される数を増加させることができるので、輝度ムラの発生をより効率的に防止することができる。
【００９７】
（第４の変形例）
【００９８】
次に、本発明に係る第４の変形例の液晶装置について説明する。
【００９９】
図１５は本発明に係る第４変形例の液晶装置の製造に用いられるフォトマスクの遮光部の概略平面図である。
【０１００】
本変形例では、上記実施形態の下地層形成時に基板５に塗布する感光性樹脂に、ポジ型ではなくネガ型の感光性樹脂を用いる。この場合に上記実施形態と同様に例えば凸レンズ１２ａを形成するために、フォトマスク３０とは異なるフォトマスクを用いる。
【０１０１】
本変形例で用いられるフォトマスクには、例えば凸レンズ１２ａを形成するための円形状の遮光部３４の代わりに遮光部４５が複数設けられている。それぞれの遮光部４５は、例えばＸＹ方向に略直線状に等間隔で互いに隣接して配設されている。フォトマスクのこれらの遮光部４５とは異なる領域は、遮光率が１００％に設定されている。
【０１０２】
遮光部４５は、図１５に示すように、略円形状の形状を有しており、円形状の遮光領域４５ｍの周りに円環状の遮光領域４５ｋ、遮光領域４５ｋの周りに円環状の遮光領域４５ｈ、遮光領域４５ｈの周りに円環状の遮光領域４５ｇ、遮光領域４５ｇの周りに円環状の遮光領域４５ｆ、遮光領域４５ｆの周りに円環状の遮光領域４５ｅ、遮光領域４５ｅの周りに円環状の遮光領域４５ｄ、遮光領域４５ｄの周りに円環状の遮光領域４５ｃ、遮光領域４５ｃの周りに円環状の遮光領域４５ｂ、遮光領域４５ｂの周りに円環状の遮光領域４５ａが設けられている。遮光領域４５ａ、４５ｂ、４５ｃ、４５ｄ、４５ｅ、４５ｆ、４５ｇ、４５ｈ、４５ｋ及び４５ｍの遮光率は、それぞれ９０％、８０％、７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％、１０％及び０％に設定されている。
【０１０３】
このように本変形例によれば、ネガ型の感光性樹脂を用いると共に、遮光領域４５ａ、４５ｂ、４５ｃ、４５ｄ、４５ｅ、４５ｆ、４５ｇ、４５ｈ、４５ｋ及び４５ｍの遮光率が、それぞれ９０％、８０％、７０％、６０％、５０％、４０％、３０％、２０％、１０％及び０％に設定されている遮光部４５を複数備えたフォトマスクを用いるので、複数の凸レンズを同時に形成することができる。なお、本変形例では、隣り合う遮光領域の遮光率が、それぞれ露光装置の全露光量の１０％ずつ異なる例を示したが、これに限定されず例えば５％ずつ異なるようにしてもよい。
【０１０４】
（第５の変形例）
【０１０５】
次に、本発明に係る第５の変形例の液晶装置について説明する。
【０１０６】
図１６は本発明に係る第５変形例の液晶装置の製造に用いられるフォトマスクの遮光部の概略平面図である。
【０１０７】
本変形例で用いられるフォトマスクには、例えば凸レンズ１２ａを形成するための円形状の遮光部３４の代わりに遮光部５０が複数設けられている。それぞれの遮光部５０は、例えばＸＹ方向に略直線状に等間隔で互いに隣接して配設されている。
【０１０８】
遮光部５０は、略円形状の形状を有しており、遮光率が遮光部５０の中心Ｏから外周Ｐに向けて例えば図１６に示すように段階的に変化（増加又は減少）するように設定されている。本変形例では、ポジ型の感光性樹脂を用いる場合には、図５に示す露光工程（Ｓ１４）において、中心Ｏから外周Ｐに向けて遮光率が減少する遮光部を複数有するフォトマスクが用いられ、ネガ型の感光性樹脂を用いる場合には、中心Ｏから外周Ｐに向けて遮光率が増加する遮光部を複数有するフォトマスクが用いられる。他は上記実施形態と略同様なので説明を省略する。なお、段階的とは、遮光部の中心Ｏから外周Ｐに向けて遮光率が連続的に変化（グラデーション）することを意味している。
【０１０９】
このように本変形例によれば、複数の凸レンズ１２ａを下地層に設けるための露光工程（Ｓ１４）で、遮光率が遮光部５０の中心Ｏから外周Ｐに向けて図１６に示すように段階的に変化する遮光部５０を複数備えたフォトマスクを用いるので、例えば第４の変形例等の場合に比べて、露光工程で連続的に露光装置による露光量を変化させることができ、現像後の凸レンズの凸状面をより滑らかにすることができる。従って、複数の凸レンズによる集光性をより向上させて輝度ムラの発生を防止することができる。
【０１１０】
（第２の実施形態・電子機器）
【０１１１】
次に、上述した液晶装置１を備えた本発明の第２の実施形態に係る電子機器について説明する。
【０１１２】
図１７は本発明の第２の実施形態にかかる電子機器の表示制御系の全体構成の概略構成図である。
【０１１３】
電子機器３００は、表示制御系として例えば図１７に示すように液晶パネル２及び表示制御回路３９０などを備え、その表示制御回路３９０は表示情報出力源３９１、表示情報処理回路３９２、電源回路３９３及びタイミングジェネレータ３９４などを有する。
【０１１４】
また、液晶パネル２には表示領域Ｉを駆動する液晶駆動用ＩＣ８Ａを含む駆動回路３６１を有する。
【０１１５】
表示情報出力源３９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備えている。更に表示情報出力源３９１は、タイミングジェネレータ３９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路３９２に供給するように構成されている。
【０１１６】
また、表示情報処理回路３９２はシリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３６１へ供給する。また、電源回路３９３は、上述した各構成要素に夫々所定の電圧を供給する。
【０１１７】
このように本実施形態によれば、電子機器３００に備えられた液晶パネル２は、観察者に届く透過の光量を増加させかつ輝度ムラのない液晶装置１を備えることができるので、表示性能に優れた電子機器を得ることができる。
【０１１８】
具体的な電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピュータなどの他に液晶装置が搭載されたタッチパネル、プロジェクタ、液晶テレビやビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上述した例えば液晶装置１が適用可能なのは言うまでもない。
【０１１９】
なお、本発明の電子機器は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲において上述した各例を組み合わせても良い。
【０１２０】
第１の実施形態では、反射膜１３と着色層１４とが基板５側に形成されている例を示したが、これに限定されず、例えば、着色層を基板６の液晶７側の面に設けるようにしてもよい。
【０１２１】
また、上述の実施形態ではＴＦＤ型の液晶装置１について説明したがこれに限られるものではなく、例えばＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｅｒ）アクティブマトリクス型、パッシブマトリクス型の液晶装置であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】第１の実施形態の液晶装置の概略斜視図である。
【図２】第１の実施形態の液晶装置の部分概略平面図である。
【図３】図２の液晶装置のＡ−Ａ断面図である。
【図４】第１の実施形態の液晶装置の製造工程のフローチャートである。
【図５】図４のステップ１の詳細のフローチャートである。
【図６】第１の実施形態の液晶装置の製造に用いられるフォトマスクの部分概略平面図である。
【図７】図６に示すフォトマスクの遮光部の概略平面図である。
【図８】液晶装置の透過領域を透過する透過光の動作説明図である。
【図９】第１変形例の液晶装置の断面図である。
【図１０】第１変形例の液晶装置の透過領域を透過する透過光の動作説明図である。
【図１１】第２変形例の液晶装置のサブ画素の概略平面図である。
【図１２】図１１のサブ画素を備えた液晶装置のＢ−Ｂ断面図である。
【図１３】第３変形例の液晶装置のサブ画素の概略平面図である。
【図１４】図１３のサブ画素の透過領域の拡大平面図である。
【図１５】第４変形例のフォトマスクの遮光部の概略平面図である。
【図１６】第５変形例のフォトマスクの遮光部の概略平面図である。
【図１７】本発明に係る第２実施形態の電子機器の表示制御系の概略構成図である。
【符号の説明】
【０１２３】
１  液晶装置、  ２  液晶パネル、  ３  回路基板、  ５  基板、  ８  透過領域、  ９  反射領域、  １０  サブ画素、  １１  下地層、  １２  レンズアレイ、  １２ａ  凸レンズ、  １３  反射膜、  １４  着色層、  ３０  フォトマスク、  ３４  遮光部、  ３４ａ〜３４ｍ  遮光領域、  ３００  電子機器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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