(57)【要約】【課題】  耐スパッタ性が高く、長寿命のプラズマディスプレイパネル用保護膜およびその形成方法並びにプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】  本発明のプラズマディスプレイパネル用保護膜は、プラズマディスプレイパネルに用いられる透明な前面板１上の誘電体層５を保護するための膜であり、この保護膜１１は、酸化マグネシウムまたはアルカリ土類金属のフッ化物を含有する二次電子放出比が大きい材料からなる二次電子放出層１２と、この二次電子放出層１２上に形成され希土類元素の酸化物を含有する耐スパッタ性に優れた保護層１３とにより構成されていることを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルに用いられる透明板上の誘電体層を保護するための膜であって、
酸化マグネシウムまたはアルカリ土類金属のフッ化物を含有する二次電子放出層と、この二次電子放出層上に形成され希土類元素の酸化物を含有する保護層とを備えてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用保護膜。
【請求項２】
プラズマディスプレイパネルに用いられる透明板上の誘電体層を保護するための膜の形成方法であって、
前記誘電体層上に酸化マグネシウムまたはアルカリ土類金属のフッ化物を含有する塗膜を形成して二次電子放出層とし、
次いで、この二次電子放出層上に希土類元素の酸化物を含有する塗膜を形成して保護層とすることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用保護膜の形成方法。
【請求項３】
前記塗膜の形成は、塗布法または印刷法により行うことを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイパネル用保護膜の形成方法。
【請求項４】
透明な前面板と背面板とが対向配置され、この前面板の対向する側の面に第１の電極、誘電体層、保護膜が順次積層されるとともに、前記背面板の対向する側の面に第２の電極が形成され、これら前面板と背面板との間に形成される放電領域が表示セルとされるプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記保護膜は、酸化マグネシウムまたはアルカリ土類金属のフッ化物を含有する二次電子放出層と、この二次電子放出層上に形成され希土類元素の酸化物を含有する保護層とを備えてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、二次電子放出特性に優れるのはもちろんのこと、耐スパッタ性が高く、長寿命化が可能なプラズマディスプレイパネル用保護膜およびその形成方法並びにプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、次世代の代表的な薄型かつ大型のディスプレイとして、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が注目されている。
このＰＤＰは、放電に伴う発光現象を利用したディスプレイであり、放電ガスの可視発光を利用するもの、あるいは放電によって生じる紫外線で蛍光体を可視発光させるものがある。ＰＤＰは、（１）色再現性および応答速度が良く、自発光・直視型で自然な階調表示が得られるために、表示品質に優れていること、（２）大画面化、薄型化が容易であり、かつ比較的安価なこと、等の理由から次世代の代表的な薄型大型のディスプレイとして注目されている。
【０００３】
ＰＤＰは、電極の構造によってＡＣ型とＤＣ型とに大別される。ＰＤＰを薄型・大画面のカラーディスプレイとして用いる場合には、メモリ機能を有しかつ大型化の容易なＡＣ型が優れている。
ＡＣ型ＰＤＰは、電極の配置構造によって、対向放電型と面放電型とに分けられる。
対向放電型は、対となる電極をパネルに垂直方向に形成するもので、蛍光体の面積を大きく、かつ、容易に形成することが困難であり、低輝度であるため、カラーＰＤＰには不利な構成とされている。一方、面放電型はパネルに平行に電極を形成するもので、放電セルの電極が形成される面以外の全ての面に蛍光体が被着できるので高輝度である。
【０００４】
図２は、従来の面放電型のＡＣ型ＰＤＰを示す断面図であり、図において、１は透明なガラス基板からなる前面板、２は前面板１に対向配置される透明なガラス基板からなる背面板、３はストライプ状の表示電極（第１の電極）、４はストライプ状のバス電極（第１の電極）、５は電極３、４を覆う誘電体層、６は二次電子放出層としての機能を有する酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる薄い保護層、７は電極３、４と直交する様に配置されたストライプ状のアドレス電極（第２の電極）、８はアドレス電極７及び背面板２上を覆う蛍光体層、９は前面板１と背面板２との間に形成される隔壁、１０は隔壁９、９と保護層６と蛍光体層８とにより形成される放電領域であり、表示セルと称される。
この表示セル１０内には、ヘリウム（Ｈｅ）−キセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）−キセノン（Ｘｅ）等の放電によって紫外線を多く発生する混合ガスＧが３０ｋＰａ程度の圧力で封入されている。
このＡＣ型ＰＤＰでは、表示セル１０の１つ１つに、光の３原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの蛍光体層８を形成し、これらの表示セル１０をマトリックス状に多数配置することにより、カラー表示を行うことができる。
【０００５】
保護層６の材質としては、ＭｇＯの他、ＭｇＯＦ、ＭｇＯのＭｇをＦｅ、Ｃｒ、Ｖ元素で置換したもの、ＭｇＯにそれ以外の酸化物としてＣｅＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３を添加したもの、ＭｇＯに第二成分としてＢ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３，ＳｉＯ２を添加させたもの等が提案されている（例えば、特許文献１、２等参照）。
また、保護層６の構造としては、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＬｉＦから構成される下地層（２次電子放出層）上にＭｇＯ層を成膜した２層構造の保護層、ＭｇＯ膜とＳｒＧｄ２Ｏ４膜とを交互に積層させた積層構造の保護膜等が提案されている（例えば、特許文献３、４等参照）。
【０００６】
保護層６の形成方法には、薄膜法と厚膜法がある。薄膜法としては、電子ビーム蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等がある。また、厚膜法としては、スクリーン印刷法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法等の方法がある。
例えば、ＭｇＯ層を形成する場合、塩基性炭酸マグネシウム水溶液をスプレー塗布した後に加熱処理し、酸化マグネシウム層を形成する方法等が取られる。
このような保護膜は、放電ガス中のイオンの衝突による誘電体層５の損傷を防ぐためだけでなく、２次電子の放出により放電開始電圧を低下させるために設けられている。
【０００７】
次に、このＡＣ型ＰＤＰの動作について説明する。
まず、表示電極３とバス電極４との間に放電維持電圧に相当するＡＣ電圧を印加して誘電体層５に電荷を蓄積しておく。次に、アドレス電極７に放電開始電圧に達するようなアドレス電圧（書き込み電圧）を印加して放電を開始させる。この放電により表示セル１０内がプラズマ化し、Ｘｅの共鳴線（１４７ｎｍ）を主とする紫外線が発生する。この紫外線が蛍光体層８を励起して可視光を放射させる。アドレス電圧を解除した後は、誘電体層５に蓄積された電荷の効果により、表示電極３とバス電極４との間に放電維持電圧に相当するＡＣ電圧を印加するだけで放電が持続する。
【特許文献１】特開平０８−２７９３４０号公報
【特許文献２】特開２００３−１７３７３８号公報
【特許文献３】特開２０００−８２４０４号公報
【特許文献４】特開平１０−３０２６４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、従来のＡＣ型ＰＤＰでは、放電時にＨｅ、Ｘｅ、Ｎｅ等の希ガスがイオン化し、このイオンが保護層をスパッタするために、長時間使用した後には、保護層がスパッタされて誘電体層が露出してしまう虞がある。
誘電体層が露出した場合、放電電圧の大幅な上昇が生じ、画像の表示に問題が生じる。また、スパッタされた保護膜は、一部が対向する蛍光体層に付着し色特性の低下を引き起こすことがある。
このように、保護膜のスパッタによる損傷はＰＤＰの寿命を左右する主原因の一つであるから、ＡＣ型ＰＤＰにおける保護膜としては、耐スパッタ性の高いこと、寿命の長いことが求められている。
そこで、保護膜の耐スパッタ性の向上のため、ＭｇＯに硼素（Ｂ）、アルミニウム（Ａｌ）、珪素（Ｓｉ）等の第２成分を添加したり、希土類酸化物を添加する試みがなされてきたが、保護膜の耐スパッタ性を十分に向上させるまでには至っていない。
【０００９】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、耐スパッタ性が高く、長寿命のプラズマディスプレイパネル用保護膜およびその形成方法並びにプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、保護膜の寿命に関して放電時の希ガスイオンによる保護膜のスパッタ現象を詳細に検討した結果、二次電子放出特性に優れた二次電子放出層と二次電子放出層の二次電子放出特性に影響を及ぼさない耐スパッタ性に優れた保護層との積層構造の保護膜が、最も二次電子放出特性及び耐スパッタ性ともに優れた効果があることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明のプラズマディスプレイパネル用保護膜は、プラズマディスプレイパネルに用いられる透明板上の誘電体層を保護するための膜であって、酸化マグネシウムまたはアルカリ土類金属のフッ化物を含有する二次電子放出層と、この二次電子放出層上に形成され希土類元素の酸化物を含有する保護層とを備えてなることを特徴とする。
【００１２】
本発明のプラズマディスプレイパネル用保護膜の形成方法は、プラズマディスプレイパネルに用いられる透明板上の誘電体層を保護するための膜の形成方法であって、前記誘電体層上に酸化マグネシウムまたはアルカリ土類金属のフッ化物を含有する塗膜を形成して二次電子放出層とし、次いで、この二次電子放出層上に希土類元素の酸化物を含有する塗膜を形成して保護層とすることを特徴とする。
前記塗膜の形成は、塗布法または印刷法により行うことが好ましい。
【００１３】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、透明な前面板と背面板とが対向配置され、この前面板の対向する側の面に第１の電極、誘電体層、保護膜が順次積層されるとともに、前記背面板の対向する側の面に第２の電極が形成され、これら前面板と背面板との間に形成される放電領域が表示セルとされるプラズマディスプレイパネルにおいて、前記保護膜は、酸化マグネシウムまたはアルカリ土類金属のフッ化物を含有する二次電子放出層と、この二次電子放出層上に形成され希土類元素の酸化物を含有する保護層とを備えてなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のプラズマディスプレイパネル用保護膜によれば、酸化マグネシウムまたはアルカリ土類金属のフッ化物を含有する二次電子放出層と、この二次電子放出層上に形成され希土類元素の酸化物を含有する保護層とを備えているので、二次電子放出特性および耐スパッタ性共に優れたものとすることができる。したがって、保護膜の長寿命化を図ることができる。
【００１５】
本発明のプラズマディスプレイパネル用保護膜の形成方法によれば、誘電体層上に酸化マグネシウムまたはアルカリ土類金属のフッ化物を含有する塗膜を形成して二次電子放出層とし、次いで、この二次電子放出層上に希土類元素の酸化物を含有する塗膜を形成して保護層とするので、二次電子放出特性および耐スパッタ性共に優れた保護膜を、低コストにて容易に形成することができる。
したがって、二次電子放出特性および耐スパッタ性共に優れ、しかも長寿命の保護膜を、容易かつ安価に得ることができる。
【００１６】
本発明のプラズマディスプレイパネルによれば、誘電体層を覆う保護膜を、酸化マグネシウムまたはアルカリ土類金属のフッ化物を含有する二次電子放出層と、この二次電子放出層上に形成され希土類元素の酸化物を含有する保護層とを備えた構成としたので、ディスプレイとしての当初の表示品位を長時間にわたって保持し続けることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明のプラズマディスプレイパネル用保護膜およびその形成方法並びにプラズマディスプレイパネルの最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１８】
図１は、本実施形態の面放電型のＡＣ型プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を示す断面図であり、図２に示す従来のＡＣ型ＰＤＰと同一の構成要素については同一の符号を付してある。
図において、１１は誘電体層５上に形成された保護膜であり、耐スパッタ性と二次電子放出特性に優れた２層構造の保護膜であることを特徴とするものである。
この保護膜１１は、二次電子放出比が大きい材料からなる二次電子放出層１２と、この二次電子放出層１２上に形成される耐スパッタ性に優れた保護層１３とにより構成されている。
【００１９】
二次電子放出層１２の材質としては、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）またはアルカリ土類金属（Ｍ）のフッ化物（ＭＦx）を主成分とするものであり、これらの混合物であっても、あるいは複数層からなる積層構造であってもよい。
この二次電子放出層１２は、上記の成分以外に、禁止帯幅（エネルギーギャップ）が７ｅＶ以上で電子親和力の小さい材料も含有させることができる。このような材料の例としては、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、Ｃｅ２Ｏ３）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）等を挙げることができる。
【００２０】
この二次電子放出層１２の厚みは、１００ｎｍ以上かつ２０００ｎｍ以下が好ましい範囲であり、より好ましくは２００ｎｍ以上かつ１０００ｎｍ以下の範囲である。その理由は、厚みが１００ｎｍ未満では、二次電子放出量が減少するために輝度が低下する原因となるからであり、一方、２０００ｎｍ以上では、二次電子放出量が飽和してしまい、厚くすることによる効果が得られないからである。
【００２１】
保護層１３の材質としては、希土類元素（Ｌｎ）の酸化物（ＬｎＯx）を主成分とするものであり、希土類元素（Ｌｎ）としては、スカンジウム（Ｓｃ）、イットリウム（Ｙ）、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、プロメチウム（Ｐｍ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、ルテチウム（Ｌｕ）が挙げられる。
酸化物（ＬｎＯｘ）の例としては、酸化スカンジウム（Ｓｃ２Ｏ３）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）等の単一組成の酸化物や希土類元素を含む複合酸化物が挙げられる。
【００２２】
保護層１３の厚みは、１０ｎｍ以上かつ１０００ｎｍ以下が好ましい範囲であり、より好ましくは５０ｎｍ以上かつ５００ｎｍ以下の範囲である。
その理由は、保護層１３の厚みが１０ｎｍ未満では、耐スパッタ性が不十分なために、二次電子放出層１２を保護することができず、長寿命のＰＤＰを得ることができないからであり、一方、厚みが１０００ｎｍを越えると、二次電子放出層１２における二次電子放出特性を低下させてしまうからである。
【００２３】
この２層構造型の保護膜１１の形成方法としては、電子線蒸着法やスパッタ法によっても形成可能であるが、二次電子放出層１２または保護層１３の内、少なくとも１つの層を塗布法で形成すれば、低コストで形成できるので好ましい。
塗布方法については、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スプレー法、ロールコート法、インクジェット法、転写法等により形成可能である。
【００２４】
例えば、基材上に、酸化物の微粒子を有機樹脂等の結合材と混合した塗布液やペーストを塗布した後、焼成、マイクロ波加熱、レーザー照射、プラズマ照射等により結合材を除去して酸化物層とすることにより、二次電子放出層１２や保護層１３を形成する方法、あるいは、基材上に、金属水酸化物、金属炭酸化物、有機金属等の金属酸化物の前駆体を含む塗布液やペーストを塗布した後、上記と同様、焼成、マイクロ波加熱、レーザー照射、プラズマ照射等により前駆体を酸化させて酸化物層を生成させることにより、二次電子放出層１２や保護層１３を形成する方法が挙げられる。
【００２５】
このＡＣ型ＰＤＰにおいては、表示セル１０内に、Ｈｅ−Ｘｅ、Ｎｅ−Ｘｅ等の放電によって紫外線を多く発生する混合ガスＧが３０ｋＰａ程度の圧力で封入され、表示セル１０の１つ１つに、光の３原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの蛍光体層８を形成し、これらの表示セル１０をマトリックス状に多数配置することにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３種類の表示セル１０を一組として１つの画素をカラー表示できる様になっている。
【００２６】
次に、このＡＣ型ＰＤＰの動作について説明する。
まず、表示電極３とバス電極４との間に放電維持電圧に相当するＡＣ電圧を印加して誘電体層５に電荷を蓄積しておく。次に、アドレス電極７に放電開始電圧に達するようなアドレス電圧（書き込み電圧）を印加して放電を開始させる。この放電により表示セル１０内がプラズマ化し、Ｘｅの共鳴線（１４７ｎｍ）を主とする紫外線が発生する。この紫外線が蛍光体層８を励起して可視光を放射させる。
【００２７】
この放電の際には、励起されたＨｅ、Ｎｅ、Ｘｅ等の希ガスイオンが保護膜１１の表面に衝突し、その表面をスパッタするが、耐スパッタ性に優れた保護層１３により二次電子放出層１２が保護され、二次電子放出層１２がスパッタされる虞はない。また、二次電子放出層１２はスパッタによる損傷が無いので、二次電子放出特性が低下する虞もない。
以上により、二次電子放出層１２の寿命が向上し、その結果、ＰＤＰの寿命を向上させることができる。
【実施例】
【００２８】
以下、実施例１〜６及び比較例１、２により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００２９】
［１］ＭｇＯ層付石英基板の作製
実施例１〜６および比較例１に共通して用いられる二次電子放出層付石英基板として、ＭｇＯ層付石英基板Ａを作製した。
まず、アセトンおよび純水を用いた２段階洗浄により表面を清浄にした石英基板を用意した。
【００３０】
また、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）を６００℃にて加熱して作製した平均粒径が５０ｎｍの酸化マグネシウム（ＭｇＯ）微粒子１００ｇと、結合材としてエチルセルロース２０ｇと、有機溶媒としてテレピネオール５０ｇとを、３本ロールミルを用いて混合し、２次電子放出層形成用ペーストを調整した。
次いで、この２次電子放出層形成用ペーストを上記の石英基板上にスクリーン印刷法により印刷し、塗膜を形成した。その後、１５０℃にて３０分加熱して有機溶媒を蒸発・除去させ、表面に厚みが９０００ｎｍの酸化マグネシウム（ＭｇＯ）層が形成されたＭｇＯ層付石英基板を作製した。
【００３１】
［２］保護層形成用塗布液の作製
実施例１〜６に用いられる保護層形成用塗布液として、下記の３種類の保護層形成用塗布液を作製した。
（ａ）酸化イットリウム前駆体塗布液の調整
トリスアセチルアセトナトイットリウム（Ｙ（Ｃ５Ｈ７Ｏ２）３）１０２．６ｇをエチレングリコール４９．５ｇに溶解し、これに２−プロパノール３４７．９ｇを加え、塗布液Ｙを調整した。
【００３２】
（ｂ）酸化セリウム前駆体塗布液の調整
酢酸セリウム（Ｃｅ（ＣＨ３ＣＯＯ）３）４６７．５ｇをエチレングリコール１７３．１ｇに溶解し、これに２−プロパノール３５９．４ｇを加え、塗布液Ｃを調整した。
【００３３】
（ｃ）酸化ランタン前駆体塗布液の調整
トリスアセチルアセトナトランタン（Ｌａ（Ｃ５Ｈ７Ｏ２）３）２４１．１ｇをエチレングリコール１３７．２ｇに溶解し、これに２−プロパノール６２１．７ｇを加え、塗布液Ｌを調整した。
【００３４】
［３］２層構造の保護膜付石英基板の作製
（実施例１）
上記の石英基板Ａにスピンコータを用いて１０００ｒｐｍ、３０秒の条件にて塗布液Ｙを塗布し、次いで、１５０℃にて１０分間乾燥させ、その後、電気炉にて４５０℃にて１時間加熱し、ＭｇＯ層上に酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）層が形成された実施例１の保護膜付石英基板を作製した。
これらの層の厚みを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の断面観察により測定したところ、ＭｇＯ層の厚みは８００ｎｍ、Ｙ２Ｏ３層の厚みは７０ｎｍであった。
【００３５】
（実施例２）
上記の石英基板Ａにスピンコータを用いて６００ｒｐｍ、３０秒の条件にて塗布液Ｙを塗布し、次いで、１５０℃にて１０分間乾燥させ、その後、電気炉にて４５０℃にて１時間加熱し、ＭｇＯ層上に酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）層が形成された実施例２の保護膜付石英基板を作製した。
これらの層の厚みを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の断面観察により測定したところ、ＭｇＯ層の厚みは８００ｎｍ、Ｙ２Ｏ３層の厚みは１５０ｎｍであった。
【００３６】
（実施例３）
上記の石英基板Ａにスピンコータを用いて４００ｒｐｍ、３０秒の条件にて塗布液Ｙを塗布し、次いで、１５０℃にて１０分間乾燥させ、その後、電気炉にて４５０℃にて１時間加熱し、ＭｇＯ層上に酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）層が形成された実施例３の保護膜付石英基板を作製した。
これらの層の厚みを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の断面観察により測定したところ、ＭｇＯ層の厚みは８００ｎｍ、Ｙ２Ｏ３層の厚みは３２０ｎｍであった。
【００３７】
（実施例４）
上記の石英基板Ａにスピンコータを用いて１５０ｒｐｍ、３０秒の条件にて塗布液Ｙを塗布し、次いで、１５０℃にて１０分間乾燥させ、その後、電気炉にて４５０℃にて１時間加熱し、ＭｇＯ層上に酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）層が形成された実施例４の保護膜付石英基板を作製した。
これらの層の厚みを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の断面観察により測定したところ、ＭｇＯ層の厚みは８００ｎｍ、Ｙ２Ｏ３層の厚みは６４０ｎｍであった。
【００３８】
（実施例５）
上記の石英基板Ａにスピンコータを用いて９００ｒｐｍ、３０秒の条件にて塗布液Ｃを塗布し、次いで、１５０℃にて１０分間乾燥させ、その後、電気炉にて４５０℃にて１時間加熱し、ＭｇＯ層上に酸化セリウム（ＣｅＯ２）層が形成された実施例５の保護膜付石英基板を作製した。
これらの層の厚みを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の断面観察により測定したところ、ＭｇＯ層の厚みは８００ｎｍ、ＣｅＯ２層の厚みは１８０ｎｍであった。
【００３９】
（実施例６）
上記の石英基板Ａにスピンコータを用いて９００ｒｐｍ、３０秒の条件にて塗布液Ｌを塗布し、次いで、１５０℃にて１０分間乾燥させ、その後、電気炉にて４５０℃にて１時間加熱し、ＭｇＯ層上に酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）層が形成された実施例６の保護膜付石英基板を作製した。
これらの層の厚みを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の断面観察により測定したところ、ＭｇＯ層の厚みは８００ｎｍ、Ｌａ２Ｏ３層の厚みは１４０ｎｍであった。
【００４０】
［４］比較例の保護膜付石英基板の作製
（比較例１）
上記［１］にて作製されたＭｇＯ層付石英基板Ａを４５０℃にて１時間加熱し、比較例１の保護膜付石英基板を作製した。
このＭｇＯ膜の厚みを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の断面観察により測定したところ、８００ｎｍであった。
【００４１】
（比較例２）
まず、アセトンおよび純水を用いた２段階洗浄により表面を清浄にした石英基板を用意した。
また、電子ビーム蒸着法の蒸着源として、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）を６００℃にて加熱して得られた酸化マグネシウム（ＭｇＯ）粉末をペレット状に加圧成形し、その後１０００℃にて１２０分間焼成し、ＭｇＯペレットを作製した。
【００４２】
次いで、電子ビーム蒸着法により、上記のＭｇＯペレットを蒸着源として石英基板上にＭｇＯ膜を成膜した。
まず、真空チャンバ内に石英基板を配置し、この真空チャンバ内を１０−３Ｐａ程度まで真空引きし、その後、酸素（Ｏ２）ガスを２×１０−２Ｐａの圧力で真空チャンバ内に供給しながら２００℃に加熱した石英基板上にＭｇＯ膜を成膜し、比較例２の保護膜付石英基板を作製した。得られたＭｇＯ膜の厚みは７００ｎｍであった。
【００４３】
［５］耐スパッタ性の評価
実施例１〜６および比較例１、２各々の保護膜付石英基板の耐スパッタ性を評価した。
評価方法は下記の通りとした。
真空チャンバー内に配置した実施例１〜６および比較例１、２各々の保護膜付石英基板に、イオン銃によりアルゴン（Ａｒ）を加速電圧１ｋＶの条件で所定時間照射し、スパッタ量（深さ）を測定した。照射時間は、２０時間、５０時間の２通りとした。
この評価方法は、イオン銃によるエッチング方法でＰＤＰの放電によるスパッタを模擬したものであり、短時間で保護膜の耐スパッタ性の相対評価を行うことができる。
これらの結果を表１に示す。
【００４４】
【表１】
2006139999.tif 000003
【００４５】
これらの結果によれば、実施例１〜６各々の保護膜は、２０時間後のスパッタ量が５０ｎｍ以下、５０時間後のスパッタ量が８５ｎｍ以下であり、比較例１、２各々の保護膜のスパッタ量と比較して大幅に向上していることが分かった。
したがって、本実施例の保護膜を使用したＰＤＰは、表示面の寿命が大幅に向上することが期待できる。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明のプラズマディスプレイパネル用保護膜は、二次電子放出特性及び耐スパッタ性ともに優れたものであるから、プラズマディスプレイパネルの長寿命化はもちろんのこと、より大画面化、より薄厚化に対しても極めて有用なものである。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施形態の面放電型のＡＣ型ＰＤＰを示す断面図である。
【図２】従来の面放電型のＡＣ型ＰＤＰを示す断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１  前面板
２  背面板
３  表示電極
４  バス電極
５  誘電体層
７  アドレス電極
８  蛍光体層
９  隔壁
１０  表示セル
１１  保護膜
１２  二次電子放出層
１３  保護層
Ｇ  混合ガス
【図１】
2006139999.tif 000004
【図２】
2006139999.tif 000005