(57)【要約】【課題】電極を被覆する絶縁体層の表面が平坦ではないプラズマディスプレイパネルの動作寿命を延ばすことを目的とする。【解決手段】第１の基板１１上に配列された複数の行電極Ｘ，Ｙを被覆する絶縁体層１６を備え、絶縁体層１６の表面が下地面の凹凸を反映した凹凸面であり、かつ絶縁体層１６の少なくとも表層部分１８が絶縁物質の結晶からなるプラズマディスプレイパネル１において、第２の基板２１に配置されて絶縁体層１６と当接する隔壁２９２の頂上面を、絶縁体層１６における当該隔壁２９２と当接する凸部１６１に対して当該凸部１６１の高さｈよりも大きい距離ｄだけ張り出すようにする。【選択図】図６
2006222034.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する第１および第２の基板、前記第１の基板上に配列された複数の行電極、および前記行電極を被覆する絶縁体層を備え、前記絶縁体層の表面が下地面の凹凸を反映した凹凸面であり、かつ前記絶縁体層の少なくとも表層部分が絶縁物質の結晶からなるプラズマディスプレイパネルであって、
前記第２の基板に、前記絶縁体層と当接する隔壁が配置され、
前記隔壁における前記絶縁体層と対向する頂上面は、前記絶縁体層における当該隔壁と当接する凸部に対して基板面方向に張り出しており、
前記隔壁の頂上面における前記凸部に対して張り出す距離が、前記絶縁体層における前記凸部とその近傍との高低差よりも大きい
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記高低差は２０μｍ以下である
請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記絶縁体層は誘電体層とそれを被覆する保護膜との積層体であり、
前記保護膜は酸化マグネシウムの蒸着膜である
請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記行電極のそれぞれは、透明導電膜と、前記透明導電膜の上に重なり前記透明導電膜よりも厚い金属膜とからなり、
前記凸部は、前記絶縁体層のうちの前記金属膜を覆う部分である
請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記隔壁は、隣接する列の境界および隣接する行の境界を画定する平面視格子状の壁体であり、
前記行電極のそれぞれは、対応する行の全長にわたって連続した帯状の給電幹部分と、対応する行内のセルで放電面を形成する放電部分と、前記給電幹部分と放電部分とを導通させる給電枝部分とからなり、
前記行電極のそれぞれにおいて、前記放電部分が前記給電幹部分よりも薄く、前記給電幹部分と放電部分とが列内で離れており、かつ前記給電枝部分が平面視において前記隔壁と重なる位置に配置されてなる
請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
対向する第１および第２の基板、前記第１の基板上に配列された複数の行電極、および前記行電極を被覆する絶縁体層を備え、前記絶縁体層の表面が下地面の凹凸を反映した凹凸面であり、かつ前記絶縁体層の少なくとも表層部分が絶縁物質の結晶からなるプラズマディスプレイパネルであって、
前記行電極のそれぞれは、対応する行の全長にわたって連続した帯状の給電幹部分と、前記給電幹部分よりも薄い導電膜からなり対応する行内のセルで放電面を形成する放電部分と、前記給電部幹分と放電部分とを導通させる給電枝部分とからなり、
前記第２の基板に、隣接する列の境界を画定する複数の隔壁が配置され、
前記行電極のそれぞれにおいて、前記放電部分が前記給電幹部分よりも薄く、前記給電幹部分と放電部分とが前記絶縁体層の厚みよりも大きい距離を隔てて配置され、かつ前記給電枝部分が平面視において前記壁体と重なる位置に配置されてなる
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平坦でない面を被覆するように形成されかつ放電ガス空間に露出する結晶質の膜を有するプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＡＣ型のプラズマディスプレイパネルは表示電極を被覆する誘電体層を有する。誘電体層は、表示電極が配列された基板上に画面の全体にわたるように形成される。一般的な材料である低融点ガラスからなる誘電体層は２０μｍ〜３０μｍ程度の厚さをもつ。誘電体層の表面には、誘電体層に対する放電によるスパッタリングを防ぐ厚さ０．５μｍ〜１μｍ程度の保護膜が成膜される。すなわち、誘電体層と保護膜の積層体が表示電極を放電ガス空間に対して被覆する。本明細書では、この誘電体層と保護膜の積層体を絶縁体層という。
【０００３】
保護膜の材料として酸化マグネシウム（マグネシア：ＭｇＯ）が用いられている。マグネシアは二次電子放出係数の大きい絶縁物質である。マグネシアからなる保護膜を放電ガス空間に晒すことにより、放電開始電圧が下がって放電が起こり易くなる。マグネシアからなる保護膜の成膜には、工業的に実績のある真空蒸着法が用いられている。
【０００４】
近年、誘電体層の形成方法として気相堆積法（気相成長法ともいう）が注目されている。特開２０００−２１３０４号公報には、化学的気相堆積法の一種であるプラズマＣＶＤ(Chemical Vapor Deposition)によって二酸化珪素または有機酸化珪素からなる誘電体層を形成することが記載されている。気相堆積法によれば、薄くて厚さの均一な誘電体層を得ることができるとともに、電極間容量の低減に有利な比誘電率の小さい誘電体層を低融点ガラスの焼成温度よりも低い温度で形成することができる。
【０００５】
気相堆積法により得られる層には、表面が下地面（層形成面）の凹凸を反映した凹凸面であるという構造上の特徴がある。すなわち、気相堆積法により得られる層の表面は、十分に高い温度で焼成される低融点ガラス層の表面とは違って、平坦ではない。誘電体層は表示電極が配列された基板に形成されるので、気相堆積法により得られる誘電体層の表面は、表示電極上の部分が他の部分よりも表示電極の厚さ分だけ突出した凹凸面である。そして、このような凹凸面上に形成される保護膜は十分に薄いので、保護膜の表面（すなわち絶縁体層の表面）も同様の凹凸面である。
【０００６】
特開２００３−３０８７８４号公報では、絶縁体層の表面の凹凸により形成される隙間を、プラズマディスプレイパネルの製造に際して内部の空気と放電ガスとを迅速に入れ換えるための通気路として利用することが提案されている。同公報には、第１の基板上の絶縁体層の凸部と第２の基板に支持されたメッシュパターンの隔壁とが当接する内部構造が記載されている。
【特許文献１】特開２０００−２１３０４号公報
【特許文献２】特開２００３−３０８７８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
電極を被覆する絶縁体層の表面が平坦ではないプラズマディスプレイパネルでは、絶縁体層の表面が平坦であるプラズマディスプレイパネルと比べて、所望の品質の表示が可能な動作寿命が短いという問題があった。本発明は、電極を被覆する絶縁体層の表面が平坦ではないプラズマディスプレイパネルの動作寿命を延ばすことを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の目的を達成するプラズマディスプレイパネルは、対向する第１および第２の基板、前記第１の基板上に配列された複数の行電極、および前記行電極を被覆する絶縁体層を備え、前記絶縁体層の表面が下地面の凹凸を反映した凹凸面であり、かつ前記絶縁体層の少なくとも表層部分が絶縁物質の結晶からなるものであり、前記第２の基板に前記絶縁体層と当接する隔壁が配置され、前記隔壁における前記絶縁体層と対向する頂上面は、前記絶縁体層における当該隔壁と当接する凸部に対して基板面方向に張り出しており、前記隔壁の頂上面における前記凸部に対して張り出す距離が、前記絶縁体層における前記凸部とその近傍との高低差よりも大きいという特徴をもつ。
【０００９】
本発明の目的を達成する他のプラズマディスプレイパネルは、行電極のそれぞれが、対応する行の全長にわたって連続した帯状の給電幹部分と、前記給電幹部分よりも薄い導電膜からなり対応する行内のセルで放電面を形成する放電部分と、前記給電部分と放電部分とを導通させる給電枝部分とからなり、第２の基板に隣接する列の境界を画定する複数の壁体が配置され、前記行電極のそれぞれにおいて、前記放電部分が前記給電幹部分よりも薄く、前記給電幹部分と放電部分とが前記絶縁体層の厚みよりも大きい距離を隔てて配置され、かつ前記給電枝部分が平面視において前記壁体と重なる位置に配置されてなるという特徴をもつ。
【００１０】
本発明は、従来の問題の原因究明において見出された「絶縁体層の段差部分の劣化が他の部分よりも著しい」という事実に鑑みてなされたものである。本発明においては、絶縁体層の段差部分に対するスパッタリングを軽減するために、段差部分の近傍の放電ガス空間を狭めるように隔壁を配置するか、または放電を段差部分から遠ざけるように電極を配置する。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１ないし請求項６によれば、電極を被覆する絶縁体層の表面が平坦ではないプラズマディスプレイパネルの動作寿命を延ばすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
カラー表示用のプラズマディスプレイパネルは本発明の好適な適用対象である。以下では３電極面放電構造の多数のセルからなる画面をもつＡＣ型のプラズマディスプレイパネルを例に挙げる。
【００１３】
プラズマディスプレイパネルの基本構成を図１および図２に示す。図１はプラズマディスプレイパネルの全体構成を示す正面図、図２は図１のｚ−ｚ矢視断面図である。プラズマディスプレイパネルは前面板１０と背面板２０とで構成され、縦横に並ぶセル（発光素子）からなる画面６０を有する。例えば、画面６０のサイズが対角４２インチである場合、プラズマディスプレイパネルはおよそ９９４ｍｍ×５８５ｍｍの大きさをもつ。前面板１０および背面板２０はともに画面６０よりも大きい厚さ３ｍｍ程度のガラス基板に電極とその他の構成要素とが固着した構造体である。前面板１０および背面板２０は重ね合わせるように対向配置され、互いに重なり合う領域の周辺部に配置された平面視枠状の封着材３５によって接合されている。前面板１０は背面板２０に対して図１の左右に５ｍｍ程度張り出し、背面板２０は前面板１０に対して図１の上下に５ｍｍ程度張り出す。このように張り出した前面板１０および背面板２０のそれぞれの端部には、駆動ユニットとの導電接続のためのフレキシブル配線板が接合される。前面板１０と背面板２０と封着材３５とで密封された内部空間（放電ガス空間）３０は、ネオンとキセノンとを混合した放電ガスで満たされる。放電ガス空間３０の厚さ（前後方向の寸法）は１００μｍ〜２００μｍの範囲内の値である。
【００１４】
電極配列の一例を図３に示す。例示の電極配列は行電極が等間隔に並ぶ高精細表示に適した配列である。画面６０には、行電極である表示電極Ｘおよび表示電極Ｙと、列電極であるアドレス電極とが配列される。表示電極Ｘおよび表示電極Ｙは、ＸＹＸＹ…ＸＹＸの順に１本ずつ交互に並ぶように平行に配列され、隣り合う表示電極Ｘと表示電極Ｙの組が１つの行を画定する。配列の両端の表示電極Ｘを除く残りの表示電極Ｘおよび表示電極Ｙのそれぞれは、隣接する２つの行に関係する。表示電極Ｘと表示電極Ｙの総数は画面６０の行数に１を加えた数である。アドレス電極は各列に１本ずつ配列される。アドレス電極の数は列数と等しい。これらアドレス電極と表示電極Ｙとでアドレッシングのための電極マトリクスが構成される。図中の９個の楕円は第１、第２、および第３行のそれぞれにおける第１列から第３列に属するセルの位置を示す。
【００１５】
以上の構成は、以下に説明する３つの実施形態に共通の構成である。以下の説明において参照される図１〜図３を含む全ての図では、説明の重複を少なくするために、実施形態の相互で対応する構成要素には共通の符号が付される。
〔第１実施形態〕
図４は第１実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのセル構造の概略を示し、図５は表示電極および隔壁の平面形状を示す。図４では内部構造を判り易くするために前面板１０と背面板２０とを分離させて描いてある。
【００１６】
プラズマディスプレイパネル１の前面板１０は、ガラス基板１１、表示電極Ｘ，Ｙ、および絶縁体層１６から構成される。ガラス基板１１に配列された表示電極Ｘ，Ｙのそれぞれは、図５のように太い帯状の透明導電膜４１とその上に積層された細い帯状の金属膜４２とで構成される。透明導電膜４１の厚さは数千Å程度であり、金属膜４２の厚さは３μｍ〜４μｍ程度である。透明導電膜４１と比べて金属膜４２は大幅に厚い。表示電極Ｘ，Ｙを被覆する絶縁体層１６は誘電体層１７と保護膜１８の積層体である。保護膜１８は厚さ０．５μｍ程度のマグネシアの蒸着膜である。絶縁体層１６の表面は層形成の下地面の凹凸を反映した凹凸面であり、絶縁体層１６は表示電極の金属膜に対応した複数の凸部１６１を有する。
【００１７】
背面板２０は、ガラス基板２１、アドレス電極Ａ、誘電体層２４、隔壁２９、および発光色の異なる３種の蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂから構成される。隔壁２９は列間の境界を画定する複数の垂直壁２９１と行間の境界を画定する複数の水平壁２９２が一体化した平面視格子状の構造体であって、放電ガス空間をセルごとに区画する。ここでいう垂直壁２９１は画面の垂直方向の一端から他端まで延びる平面視直線状に壁体を意味し、水平壁２９２は画面の水平方向の一端から他端まで延びる平面視直線状に壁体を意味する。すなわち、隔壁２９における格子点の部分（セルの四隅）は垂直壁２９１の一部でありかつ水平壁２９２の一部でもある。垂直壁２９１と水平壁２９２とは同じ高さをもつので、絶縁体層１６（詳しくは、その凸部１６１）と当接するのは水平壁２９２である。
【００１８】
図５のように、隣り合う表示電極Ｘと表示電極Ｙの組が面放電形式の表示放電７１を生じさせるための電極対（陽極および陰極）を構成する。表示電極Ｘ，Ｙのそれぞれは対応する１つの水平壁２９２と重なる。透明導電膜４１は水平壁２９２よりも太く、水平壁２９２の両側に均等に張り出す。これに対して、金属膜４２は水平壁２９２よりも細く、水平壁２９２の幅方向の中央部と重なる。言い換えれば、水平壁２９２が金属膜４２の両側に均等に張り出す。この水平壁２９２が金属膜４２よりも太いことは本発明に係る特徴である。
【００１９】
図６は図５のａ−ａ矢視断面図であり、第１実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの要部断面構造を示す。図７は絶縁体層の凸部の断面形状を示す。図８は図７の一点鎖線で囲まれた部分Ｂの拡大図であり、保護膜の構成を模式的に示す。
【００２０】
上述したとおり絶縁体層１６は表示電極Ｘ，Ｙの金属膜４２に対応した凸部１６１を有している。このような絶縁体層１６の構造には誘電体層１７の形成方法が関係する。誘電体層１７の形成に気相堆積法を用いると、誘電体層１７の表面が凹凸面になるので、誘電体層１７を覆う薄い保護膜１８の表面も凹凸面になる。厳密には透明導電膜４１に対応した段差も生じるが、その段差は考慮の必要がない微小な値である。気相堆積法に限らず、厚膜法で誘電体層１７を形成する場合であっても、焼成時におけるレベリングが不十分であれば、誘電体層１７の表面が凹凸面になる。鉛フリーに適合する比較的に軟化点の高い低融点ガラスを誘電体材料として用いたときに、レベリングが不十分になり易い。
【００２１】
絶縁体層１６の凸部１６１と当接する水平壁２９２の幅は、凸部１６１の幅よりも大きい。詳しくは、水平壁２９２の頂上面が凸部１６１に対して基板面方向に張り出し、その張り出す距離ｄが凸部１６１の高さｈよりも大きい。高さｈとは、絶縁体層における凸部１６１とその近傍との高低差である。本例では高さｈは金属膜４２の厚さに等しい。
【００２２】
水平壁２９２が凸部１６１に対して張り出すことによって、放電ガス空間における凸部１６１の近傍部分が狭められる。距離ｄが凸部１６１の高さｈよりも大きいことによって、イオンを引き寄せる放電時の電界に対して凸部１６１の側面（段差面）が遮蔽される。
【００２３】
凸部１６１の側面に対するスパッタリングを防ぐことが動作寿命の改善に寄与する。それは、図８のようにマグネシアの蒸着により得られる保護膜１８が誘電体層１７の表面から成長した多数の柱状結晶１８０で構成されるからである。保護膜１８のうちの平坦面上に成長した部分１８Ａでは、膜厚方向の密度が均一で膜質が密である。これに対して、凸部１６１の頂上付近に在る凸面上に成長した部分１８Ｂでは、表層に近づくにつれて密度が小さくなる。微視的には表層付近で柱状結晶どうしの間に隙間が生じる。このような疎密質の部分１８Ｂは稠密な部分１８Ａと比べて耐スパッタリング性に劣るので、部分１８Ｂに対するスパッタリングを低減することによって保護膜１８の全体が稠密である場合と同等の寿命が実現される。
【００２４】
本発明の効果を確認するため、次の仕様のプラズマディスプレイパネル１を試作し、サステイン周波数６０ｋＨｚの連続全面点灯試験を行った。これは通常のテレビジョン表示と比べて約６倍の負荷を与える加速試験である。
画面サイズ：４２インチ
放電ガス：  ８％Ｘｅ−Ｎｅ
ガス圧：    ６７ｋＰａ
誘電体層：  厚さ８μｍのＳｉＯ2（ＣＶＤ成膜）
保護膜：    厚さ５０００ÅのＭｇＯ（真空蒸着）
試験の開始から点灯ミスが許容範囲を超えるまでの適正動作時間（つまり、動作寿命）は１４０００ｈ以上であった。
【００２５】
比較例として、隔壁２９を垂直壁２９１のみとし、他はプラズマディスプレイパネル１と同じ構成をもつプラズマディスプレイパネルに対して同様の加速試験を行った。適正動作時間は６０００ｈであった。このことは第１実施形態の動作寿命が比較例の動作寿命の２．３倍であることを意味する。
【００２６】
誘電体層１７として厚さ１５μｍの無鉛低融点ガラスを厚膜法で形成した場合についても試験を行い、比較例と比べて１．６倍以上の動作寿命の延長が可能であることを確認できた。
〔第２実施形態〕
図９は第２実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの表示電極の平面形状を示す。図１０は図９のｂ−ｂ矢視に対応する要部断面構造を示す。
【００２７】
プラズマディスプレイパネル２の表示電極Ｘｂおよび表示電極Ｙｂのそれぞれは、構造の上では、四角穴の開いた太い帯状の透明導電膜４３とその上に積層された細い帯状の金属膜４２とで構成される。透明導電膜４３は、水平方向（行方向）に延びる３本の等間隔に並んだ長い水平帯部分とこれら水平帯部分を垂直壁２９１と重なる位置で連結する短い垂直帯部分とが一体化した形状にパターニングされている。金属膜４２は例えば３μｍ〜４μｍの厚さをもつクロム−銅−クロムの薄膜であり、透明導電膜４３における３本並びの中央の水平帯部分に重なる。このような表示電極Ｘｂおよび表示電極Ｙｂのそれぞれは、機能の上では、行の全長にわたって連続した帯状の給電幹部分５１ｂと、対応する行内のセルで放電面を形成する放電部分５２ｂと、給電幹部分５１ｂと放電部分５２ｂとを導通させる給電枝部分５３ｂとで構成される。給電幹部分５１ｂは、透明導電膜４３の中央の水平帯部分とそれに重なる金属膜４２とからなる。放電部分５２ｂは透明導電膜４３における３本並びの両端の２本の水平帯部分であり、必然的に給電幹部分５１ｂよりも薄い。給電枝部分５３ｂは透明導電膜４３における垂直帯部分である。
【００２８】
図１０において、表示電極Ｘｂ，Ｙｂを被覆する絶縁体層１６ｂは誘電体層１７ｂと保護膜１８ｂの積層体である。誘電体層１７ｂは気相堆積法または厚膜法で形成される。保護膜１８ｂは厚さ０．５μｍ程度のマグネシアの蒸着膜である。絶縁体層１６ｂの表面は層形成の下地面の凹凸を反映した凹凸面であり、絶縁体層１６ｂは表示電極の金属膜４２に対応した複数の凸部１６２を有する。背面側のガラス基板２１には、上述のプラズマディスプレイパネル１と同様に、アドレス電極Ａ、誘電体層２４、隔壁２９、および発光色の異なる３種の蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂが配置されている。図１０では、隔壁２９のうちの水平壁２９２が描かれ、蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂのうちの発光色が緑（Ｇ）の蛍光体層２８Ｇが描かれている。
【００２９】
プラズマディスプレイパネル２の特徴は、上述のプラズマディスプレイパネル１と同様に水平壁２９２の頂上面が凸部１６２に対して基板面方向に距離ｄだけ張り出すことに加えて、表示電極Ｘｂおよび表示電極Ｙｂのそれぞれの放電部分５２ｂが給電幹部分５１ｂから距離Ｄ１だけ離れていることである。図示の例における距離Ｄ１は絶縁体層１６ｂの厚みｔと同程度である。厚みｔとは、表面上の任意の位置から下地面（基板または電極の表面）までの最短距離である。すなわち、絶縁体層１６ｂにおいて凸部１６２での厚みと他の位置での厚みはほぼ等しい。
【００３０】
水平壁２９２が凸部１６２に対して張り出すことによって上述のプラズマディスプレイパネル１と同様に、凸部１６２の段差面に対するスパッタリングが低減される。そして、放電部分５２ｂが給電幹部分５１ｂから離れているので、表示放電７２が凸部１６２の段差面まで広がりにくい。プラズマディスプレイパネル２では、プラズマディスプレイパネル１よりも確実に凸部１６２の段差面に対するスパッタリングが低減される。
〔第３実施形態〕
図１１は第３実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの表示電極および隔壁の平面形状を示す。図１２は図１１のｃ−ｃ矢視に対応する要部断面構造を示す。
【００３１】
プラズマディスプレイパネル３の表示電極Ｘｃおよび表示電極Ｙｃの構成は基本的に第２実施形態と同様である。すなわち、表示電極Ｘｃおよび表示電極Ｙｃのそれぞれは、第２実施形態と同様に、構造の上では四角穴の開いた太い帯状の透明導電膜４５とその上に積層された細い帯状の金属膜４２とで構成される。透明導電膜４５は、水平方向（行方向）に延びる３本の等間隔に並んだ長い水平帯部分とこれら水平帯部分を隔壁２７と重なる位置で連結する短い垂直帯部分とが一体化した形状にパターニングされている。金属膜４２は透明導電膜４５における３本並びの中央の水平帯部分に重なる。このような表示電極Ｘｃおよび表示電極Ｙｃのそれぞれは、機能の上では、行の全長にわたって連続した帯状の給電幹部分５１ｃと、対応する行内のセルで放電面を形成する放電部分５２ｃと、給電幹部分５１ｃと放電部分５２ｃとを導通させる給電枝部分５３ｃとで構成される。給電幹部分５１ｃは、透明導電膜４５の中央の水平帯部分とそれに重なる金属膜４２とからなる。放電部分５２ｃは透明導電膜４３における３本並びの両端の２本の水平帯部分であり、必然的に給電幹部分５１ｃよりも薄い。給電枝部分５３ｃは透明導電膜４５における垂直帯部分である。
【００３２】
第２実施形態と比較の上での表示電極Ｘｃおよび表示電極Ｙｃの特徴は、放電部分５２ｃと給電幹部分５１ｃとの距離Ｄ２が大きいことである。
【００３３】
図１２において、表示電極Ｘｃ，Ｙｃを被覆する絶縁体層１６ｃは誘電体層１７ｃと保護膜１８ｃの積層体である。誘電体層１７ｃは気相堆積法または厚膜法で形成される。保護膜１８ｃは厚さ０．５μｍ程度のマグネシアの蒸着膜である。絶縁体層１６ｃの表面は層形成の下地面の凹凸を反映した凹凸面であり、絶縁体層１６ｃは表示電極の金属膜４２に対応した複数の凸部１６３を有する。背面側のガラス基板２１には、アドレス電極Ａ、誘電体層２４、図示しない複数の隔壁２７、および発光色の異なる３種の蛍光体層が配置されている。図１２では、発光色が緑（Ｇ）の蛍光体層２８Ｇｃが描かれている。蛍光体層２８Ｇｃは列の全長にわたって連続する。
【００３４】
プラズマディスプレイパネル３における複数の隔壁２７のそれぞれは隣接する列の境界を画定する平面視直線状の壁体である。したがって、図１１および図１２から明らかなように、列の中央では絶縁体層１６ｃの凸部１６３に対向する隔壁はなく、凸部１６３の全表面が放電ガス空間３０ｃに露出する。つまり、凸部１６３の段差面は表示放電７３に対して隠れない。その代わり、表示電極の放電部分５２ｃが給電幹部分５１ｃから十分に大きい距離Ｄ２だけ離れている。凸部１６３を生む金属膜４２の幅はは給電幹部分５１ｃの幅と同じかまたは小さいので、実質的には放電部分５２ｃは凸部１６３から基板面方向にほぼ距離Ｄ２だけ離れる。距離Ｄ２は絶縁体層１６ｃの厚みｔよりも大きい。
【００３５】
プラズマディスプレイパネル３においては、放電部分５２ｃが凸部１６３の段差面から十分に遠ざけられ、これによって凸部１６３の段差面に対するスパッタリングが低減される。
【００３６】
第３実施形態についても第１実施形態と同様に加速試験を行った。ＣＶＤにより得られた誘電体層１７ｃをもつプラズマディスプレイパネル３の適正動作時間は１３０００ｈ以上であった。
【００３７】
以上の実施形態において、表示電極の導電性を高めるいわゆるバス導体である金属膜４２を、薄膜法によらず厚膜法によって形成することができる。その場合、膜厚は５μｍ〜１５μｍであり、絶縁体層１６，１６ｂの凸部１６１，１６２の高さｈも同程度の値をもつ。高さｈが大きくなるほど隔壁によるスパッタリングの抑制が困難になるので、高さｈの小さいのが望ましい。ただし、１ｍｍ以下の現実的なサイズのセルにおいては、高さｈが２０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下であれば、凸部に対するスパッタリング抑制効果をもつ隔壁を配置することができる。
【００３８】
上述の実施形態においては、絶縁体層１６，１６ｂ、１６ｃが金属膜４２に対応した凸部１６１，１６２，１６３を有する例を挙げた。しかし、本発明の適用はこれに限らない。例えば、行ごとに一対の表示電極を配列し、隣接する電極対の電極間隙を十分に大きくし、それら電極間隙にコントラストを高める厚い帯状の暗色顔料層を配置したプラズマディスプレイパネルにおいて、表示電極の被覆する絶縁体層における暗色顔料層に対応した凸部へのスパッタリングを本発明によって低減することができる。
【００３９】
絶縁体層１６，１６ｂ、１６ｃは誘電体層１７，１７ｂ、１７ｃと保護膜１８，１８ｂ、１８ｃの積層体に限らず、表層における凸部の密度が他の部分より小さい膜質であれば、単層構造であってもよい。絶縁体層１６，１６ｂ、１６ｃの表層の材質はマグネシアに限定されない。柱状結晶からなる層に限らず、下地面の起伏に依存する疎密をもつ結晶性の層が放電ガス空間に露出する構造は本発明の適用対象である。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
本発明はディスプレイ装置の性能向上に貢献する。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】プラズマディスプレイパネルの全体構成を示す正面図である。
【図２】図１のｚ−ｚ矢視断面図である。
【図３】電極配列の一例を示す模式図である。
【図４】第１実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのセル構造の概略を示す図である。
【図５】第１実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの表示電極および隔壁の平面形状を示す図である。
【図６】第１実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの要部断面構造を示す図である。
【図７】絶縁体層の凸部の断面形状を示す図である。
【図８】保護膜の構成を模式的に示す図である。
【図９】第２実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの表示電極および隔壁の平面形状を示す図である。
【図１０】第２実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの要部断面構造を示す図である。
【図１１】第３実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの表示電極および隔壁の平面形状を示す図である。
【図１２】第３実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの要部断面構造を示す図である。
【符号の説明】
【００４２】
１，２，３    プラズマディスプレイパネル
１１    ガラス基板（第１の基板）
２１    ガラス基板（第２の基板）
Ｘ，Ｙ    表示電極（行電極）
Ｘｂ，Ｙｂ    表示電極（行電極）
Ｘｃ，Ｙｃ    表示電極（行電極）
１６，１６ｂ、１６ｃ    絶縁体層
１７，１７ｂ、１７ｃ    誘電体層
１７，１７ｂ、１７ｃ    保護膜（絶縁体層の表層部分）
２９１    垂直壁
２９２    水平壁（隔壁）
２７，２９    隔壁
ｄ    距離（凸部に対して張り出す距離）
ｈ    凸部の高さ（高低差）
４１，４３，４５    透明導電膜
４２    金属膜
５１ｂ、５１ｃ    給電幹部分
５２ｂ、５２ｃ    放電部分
５３ｂ、５３ｃ    給電枝部分
Ｄ２    距離（放電部分と給電幹部分との距離）
【図１】
2006222034.tif 000003
【図２】
2006222034.tif 000004
【図３】
2006222034.tif 000005
【図４】
2006222034.tif 000006
【図５】
2006222034.tif 000007
【図６】
2006222034.tif 000008
【図７】
2006222034.tif 000009
【図８】
2006222034.tif 000010
【図９】
2006222034.tif 000011
【図１０】
2006222034.tif 000012
【図１１】
2006222034.tif 000013
【図１２】
2006222034.tif 000014