(57)【要約】【課題】  ウエーハの表面に樹脂による保護被膜を均一に被覆することができる保護被膜の被覆方を提供する。【解決手段】  ウエーハの加工面に樹脂による保護被膜を被覆する保護被膜の被覆方法であって、ウエーハをスピンナーテーブルに加工面を上側にして保持するウエーハ保持工程と、スピンナーテーブルに保持されたウエーハの加工面の中央領域に所定量の液状樹脂を滴下する樹脂滴下工程と、スピンナーテーブルを回転するとともにウエーハの加工面の中央領域を通して外周に向けてエアーを吹き付け、ウエーハの加工面の中央領域に滴下された液状樹脂を外周に向けて流動せしめる保護被膜被覆工程とを含む。【選択図】        図７
2006198450.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエーハの加工面に樹脂による保護被膜を被覆する保護被膜の被覆方法であって、
ウエーハをスピンナーテーブルに加工面を上側にして保持するウエーハ保持工程と、
スピンナーテーブルに保持されたウエーハの加工面の中央領域に所定量の液状樹脂を滴下する樹脂滴下工程と、
スピンナーテーブルを回転するとともにウエーハの加工面の中央領域を通して外周に向けてエアーを吹き付け、ウエーハの加工面の中央領域に滴下された液状樹脂を外周に向けて流動せしめる保護被膜被覆工程と、を含む、
ことを特徴とする保護被膜の被覆方法。
【請求項２】
該保護被膜被覆工程において、スピンナーテーブルは1〜１００rpmの回転速度で回転せしめられる、請求項１記載の保護被膜の被覆方法。
【請求項３】
該保護被膜被覆工程を実施した後に、スピンナーテーブルを５００〜３０００rpmの回転速度で回転し、ウエーハの加工面に被覆された液状樹脂を乾燥せしめる乾燥工程を実施する、請求項１又は２記載の保護被膜の被覆方法。
【請求項４】
支持部材の表面に加工面を上側にして貼着した複数個のウエーハの加工面に樹脂による保護被膜を被覆する保護被膜の被覆方法であって、
ウエーハが貼着された支持部材をスピンナーテーブルに保持するウエーハ保持工程と、
スピンナーテーブルに保持されウエーハが貼着された支持部材の中央領域に所定量の液状樹脂を滴下する樹脂滴下工程と、
スピンナーテーブルを回転するとともに支持部材の中央領域を通して外周に向けてエアーを吹き付け、支持部材の中央領域に滴下された液状樹脂を外周に向けて流動せしめる保護被膜被覆工程と、を含む、
ことを特徴とする保護被膜の被覆方法。
【請求項５】
該保護被膜被覆工程において、スピンナーテーブルは1〜１００rpmの回転速度で回転せしめられる、請求項３記載の保護被膜の被覆方法。
【請求項６】
該保護被膜被覆工程を実施した後に、スピンナーテーブルを５００〜３０００rpmの回転速度で回転し、ウエーハの加工面に被覆された液状樹脂を乾燥せしめる乾燥工程を実施する、請求項４又は５記載の保護被膜の被覆方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のウエーハの表面に樹脂の保護被膜を被覆する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
当業者には周知の如く、半導体デバイス製造工程においては、シリコン等の半導体基板の表面に絶縁膜と機能膜が積層された積層体によって複数のＩＣ、ＬＳＩ等の半導体チップをマトリックス状に形成した半導体ウエーハが形成される。このように形成された半導体ウエーハは上記半導体チップがストリートと呼ばれる分割予定ラインによって区画されており、このストリートに沿って切断することによって個々の半導体チップを製造している。また、サファイヤ基板等の表面に格子状に形成されたストリートによって複数の領域が区画され、この区画された領域に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスが形成された光デバイスウエーハは、分割予定ラインに沿って個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。
【０００３】
このような半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のウエーハのストリートに沿った切断は、通常、ダイサーと称されている切削装置によって行われている。この切削装置は、被加工物である半導体ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された半導体ウエーハを切削するための切削手段と、チャックテーブルと切削手段とを相対的に移動せしめる移動手段とを具備している。切削手段は、高速回転せしめられる回転スピンドルと該スピンドルに装着された切削ブレードを含んでいる。
【０００４】
一方、近年半導体ウエーハ等の板状の被加工物を分割する方法として、被加工物に形成されたストリートに沿ってパルスレーザー光線を照射することによりレーザー加工溝を形成し、このレーザー加工溝に沿ってメカニカルブレーキング装置によって割断する方法が提案されている。（例えば、特許文献１参照。）
【特許文献１】特開平１０−３０５４２１号公報
【０００５】
レーザー加工は切削加工に比して加工速度を速くすることができるとともに、サファイヤのように硬度の高い素材からなるウエーハであっても比較的容易に加工することができる。しかるに、ウエーハのストリートに沿ってレーザー光線を照射すると照射された領域に熱エネルギーが集中してデブリが発生し、このデブリが回路に接続されるボンディングパッド等に付着してチップの品質を低下させるという新たな問題が生じる。
【０００６】
上記デブリによる問題を解消するために、ウエーハの加工面にポリビニルアルコール等の保護被膜を被覆し、保護被膜を通してウエーハにレーザー光線を照射するようにしたレーザー加工方法が提案されている。（例えば、特許文献２参照。）
【特許文献２】特開２００４−１８８４７５号公報
【０００７】
上記公報には、図１４の(a)に示すようにスピンナーテーブルTに保持されたウエーハWの中心部に樹脂供給ノズルNから所定量の液状樹脂Lを滴下し、スピンナーテーブルTを所定速度で回転することにより、液状樹脂をウエーハWの加工面に被覆するスピンナーコーティング方法が開示されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
而して、図１４の(b)に示すようにウエーハWの表面には回路等のデバイスDが形成され凹凸があるため、ウエーハWを保持したスピンナーテーブルTを回転し、その遠心力によって液状樹脂Lを外周部に向けて流動させようとしても、液状樹脂をウエーハWの表面に均一に被覆することが困難である。また、サファイヤウエーハのように比較的小径のウエーハを支持部材に複数個配設した状態で上述したスピンナーコーティングを実施した場合にも、複数個のウエーハの表面に樹脂による保護被膜を均一に被覆することが困難である。
【０００９】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、ウエーハの表面に樹脂による保護被膜を均一に被覆することができる保護被膜の被覆方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、ウエーハの加工面に樹脂による保護被膜を被覆する保護被膜の被覆方法であって、
ウエーハをスピンナーテーブルに加工面を上側にして保持するウエーハ保持工程と、
スピンナーテーブルに保持されたウエーハの加工面の中央領域に所定量の液状樹脂を滴下する樹脂滴下工程と、
スピンナーテーブルを回転するとともにウエーハの加工面の中央領域を通して外周に向けてエアーを吹き付け、ウエーハの加工面の中央領域に滴下された液状樹脂を外周に向けて流動せしめる保護被膜被覆工程と、を含む、
ことを特徴とする保護被膜の被覆方法が提供される。
【００１１】
また、本発明によれば、支持部材の表面に加工面を上側にして貼着した複数個のウエーハの加工面に樹脂による保護被膜を被覆する保護被膜の被覆方法であって、
ウエーハが貼着された支持部材をスピンナーテーブルに保持するウエーハ保持工程と、
スピンナーテーブルに保持されウエーハが貼着された支持部材の中央領域に所定量の液状樹脂を滴下する樹脂滴下工程と、
スピンナーテーブルを回転するとともに支持部材の中央領域を通して外周に向けてエアーを吹き付け、支持部材の中央領域に滴下された液状樹脂を外周に向けて流動せしめる保護被膜被覆工程と、を含む、
ことを特徴とする保護被膜の被覆方法が提供される。
【００１２】
上記保護被膜被覆工程において、スピンナーテーブルは1〜１００rpmの回転速度で回転せしめられる。また、上記保護被膜被覆工程を実施した後に、スピンナーテーブルを５００〜３０００rpmの回転速度で回転し、ウエーハの加工面に被覆された液状樹脂を乾燥せしめる乾燥工程を実施することが望ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、スピンナーテーブルに保持されたウエーハの加工面の中央領域に所定量の液状樹脂を滴下する樹脂滴下工程を実施した後、スピンナーテーブルを回転するとともにウエーハの加工面の中央領域を通して外周に向けてエアーを吹き付ける保護被膜被覆工程を実施するので、ウエーハの加工面に液状樹脂による保護被膜を均一に被覆することができる。
また、本発明によれば、スピンナーテーブルに保持され複数個のウエーハが貼着された支持部材の中央領域に所定量の液状樹脂を滴下する樹脂滴下工程を実施した後、スピンナーテーブルを回転するとともに支持部材の中央領域を通して外周に向けてエアーを吹き付ける保護被膜被覆工程を実施するので、支持部材に貼着された複数個のウエーハの加工面に液状樹脂による保護被膜を均一に被覆することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明による樹脂被膜の被覆方法の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１５】
図１には、本発明による保護被膜の被覆方法を実施する保護被膜形成兼洗浄手段を備えたレーザー加工装置の斜視図が示されている。
図１に示すレーザー加工装置は、略直方体状の装置ハウジング２を具備している。この装置ハウジング２内には、被加工物を保持する被加工物保持手段としてのチャックテーブル３が切削送り方向である矢印Ｘで示す方向に移動可能に配設されている。チャックテーブル３は、吸着チャック支持台３１と、該吸着チャック支持台３１上に装着された吸着チャック３２を具備しており、該吸着チャック３２の表面である載置面上に被加工物である例えば円盤状の半導体ウエーハを図示しない吸引手段によって保持するようになっている。また、チャックテーブル３は、図示しない回転機構によって回動可能に構成されている。このように構成されたチャックテーブル３の吸着チャック支持台３１には、後述する環状のフレームを固定するためのクランプ３４が配設されている。
【００１６】
図示のレーザー加工装置は、レーザー光線照射手段４を備えている。レーザー光線照射手段４は、レーザー光線発振手段４１と、該レーザー光線発振手段によって発振されたレーザー光線を集光する集光器４２を具備している。
【００１７】
図示のレーザー加工装置は、上記チャックテーブル３の吸着チャック３２上に保持された被加工物の表面を撮像し、上記レーザー光線照射手段４の集光器４１から照射されるレーザー光線によって加工すべき領域を検出する撮像手段５を具備している。この撮像手段５は顕微鏡やＣＣＤカメラ等の光学手段からなっており、撮像した画像信号を図示しない制御手段に送る。また、図示のウエーハの分割装置は、撮像手段５によって撮像された画像を表示する表示手段６を具備している。
【００１８】
図示のレーザー加工装置は、加工前の被加工物であるウエーハの表面(加工面)に保護被膜を被覆するとともに、加工後のウエーハの表面に被覆された保護被膜を除去する保護被膜形成兼洗浄手段７を具備している。この保護被膜形成兼洗浄手段７について、図２乃至図４を参照して説明する。
図示の実施形態における保護被膜形成兼洗浄手段７は、スピンナーテーブル機構７１と、該スピンナーテーブル機構７１を包囲して配設された洗浄水受け手段７２を具備している。スピンナーテーブル機構７１は、スピンナーテーブル７１１と、該スピンナーテーブル７１１を回転駆動する電動モータ７１２と、該電動モータ７１２を上下方向に移動可能に支持する支持機構７１３を具備している。スピンナーテーブル７１１は多孔性材料から形成された吸着チャック７１１ａを具備しており、この吸着チャック７１１ａが図示しない吸引手段に連通されている。従って、スピンナーテーブル７１１は、吸着チャック７１１ａに被加工物であるウエーハを載置し図示しない吸引手段により負圧を作用せしめることにより吸着チャック７１１上にウエーハを保持する。なお、スピンナーテーブル７１１には、後述する環状のフレームを固定するためのクランプ７１４が配設されている。電動モータ７１２は、その駆動軸７１２ａの上端に上記スピンナーテーブル７１１を連結する。上記支持機構７１３は、複数本（図示の実施形態においては３本）の支持脚７１３ａと、該支持脚７１３ａをそれぞれ連結し電動モータ７１２に取り付けられた複数本（図示の実施形態においては３本）のエアシリンダ７１３ｂとからなっている。このように構成された支持機構７１３は、エアシリンダ７１３ｂを作動することにより、電動モータ７１２およびスピンナーテーブル７１１を図３に示す上方位置である被加工物搬入・搬出位置と、図４に示す下方位置である作業位置に位置付ける。
【００１９】
上記洗浄水受け手段７２は、洗浄水受け容器７２１と、該洗浄水受け容器７２１を支持する３本（図２には２本が示されている）の支持脚７２２と、上記電動モータ７１２の駆動軸７１２ａに装着されたカバー部材７２３とを具備している。洗浄水受け容器７２１は、図３および図４に示すように円筒状の外側壁７２１ａと底壁７２１ｂと内側壁７２１ｃとからなっている。底壁７２１ｂの中央部には上記電動モータ７１２の駆動軸７１２ａが挿通する穴７２１ｄが設けられおり、この穴７２１ｄの周縁から上方に突出する内側壁７２１ｃが形成されている。また、図２に示すように底壁７２１ｂには排液口７２１ｅが設けられており、この排液口７２１ｅにドレンホース７２４が接続されている。上記カバー部材７２３は、円盤状に形成されており、その外周縁から下方に突出するカバー部７２３ａを備えておる。このように構成されたカバー部材７２３は、電動モータ７１２およびスピンナーテーブル７１１が図４に示す作業位置に位置付けられると、カバー部７２３ａが上記洗浄水受け容器７２１を構成する内側壁７２１ｃの外側に隙間をもって重合するように位置付けられる。
【００２０】
図示の保護被膜形成兼洗浄手段７は、上記スピンナーテーブル７１１に保持された加工前の被加工物であるウエーハの表面に、液状樹脂を供給する樹脂液供給手段７４を具備している。樹脂液供給手段７４は、スピンナーテーブル７１１に保持された加工前のウエーハの表面に向けて液状樹脂を供給する樹脂液供給ノズル７４１と、該樹脂液供給ノズル７４１を揺動せしめる正転・逆転可能な電動モータ７４２を備えており、樹脂液供給ノズル７４１が図示しない樹脂液供給源に接続されている。樹脂液供給ノズル７４１は、水平に延び先端部が下方に屈曲されたノズル部７４１ａと、該ノズル部７４１ａの基端から下方に延びる支持部７４１ｂとからなっており、支持部７４１ｂが上記洗浄液回収容器７２１を構成する底壁７２１ｂに設けられた図示しない挿通穴を挿通して配設され図示しない液状樹脂液供給源に接続されている。また、上記樹脂液供給ノズル７４１の支持部７４１ｂが挿通する図示しない挿通穴の周縁には、支持部７４１ｂとの間をシールするシール部材（図示せず）が装着されている。
【００２１】
図示の保護被膜形成兼洗浄手段７は、上記樹脂液供給手段７４の樹脂液供給ノズル７４１からスピンナーテーブル７１１に保持された加工前のウエーハの表面に供給された液状樹脂にエアーを吹き付けるエアー供給手段７５を具備している。エアー供給手段７５は、スピンナーテーブル７１１に保持されたウエーハに向けてエアーを噴出するエアーノズル７５１と、該エアーノズル７５１を揺動せしめる正転・逆転可能な電動モータ７５２を備えており、該エアーノズル７５１が図示しないエアー供給源に接続されている。エアーノズル７５１は、水平に延びるノズル部７５１ａと、該ノズル部７５１ａの基端から下方に延びる支持部７５１ｂとからなっており、支持部７５１ｂが上記洗浄液回収容器７２１を構成する底壁７２１ｂに設けられた図示しない挿通穴を挿通して配設され図示しないエアー供給源に接続されている。なお、エアーノズル７５１の支持部７５１ｂが挿通する図示しない挿通穴の周縁には、支持部７６１ｂとの間をシールするシール部材（図示せず）が装着されている。
【００２２】
また、図示の保護被膜形成兼洗浄手段７は、上記スピンナーテーブル７１１に保持された加工後の被加工物であるウエーハを洗浄するための洗浄水供給手段７６を具備している。洗浄水供給手段７６は、スピンナーテーブル７１１に保持された加工後のウエーハに向けて洗浄水を噴出する洗浄水ノズル７６１と、該洗浄水ノズル７６１を揺動せしめる正転・逆転可能な電動モータ(図示せず)を備えており、該洗浄水ノズル７６１が図示しない洗浄水供給源に接続されている。洗浄水ノズル７６１は、水平に延び先端部が下方に屈曲されたノズル部７６１ａと、該ノズル部７６１ａの基端から下方に延びる支持部７６１ｂとからなっており、支持部７６１ｂが上記洗浄液回収容器７１を構成する底壁７２１ｂに設けられた図示しない挿通穴を挿通して配設され図示しない洗浄水供給源に接続されている。なお、洗浄水ノズル７６１の支持部７６１ｂが挿通する図示しない挿通穴の周縁には、支持部７６１ｂとの間をシールするシール部材（図示せず）が装着されている。
【００２３】
図1に戻って説明を続けると、図示のレーザー加工装置は、被加工物であるウエーハ１０を収容するカセットが載置されるカセット載置部１３ａを備えている。カセット載置部１３ａには図示しない昇降手段によって上下に移動可能にカセットテーブル１３１が配設されており、このカセットテーブル１３１上にカセット１３が載置される。半導体ウエーハ１０は、環状のフレーム１１に装着された保護テープ１２の表面に貼着されており、保護テープ１２を介して環状のフレーム１１に支持された状態で上記カセット１３に収容される。なお、半導体ウエーハ１０は、図５に示すように表面１０ａに格子状に配列された複数の分割予定ライン１０１によって複数の領域が区画され、この区画された領域にＩＣ、ＬＳＩ等のデバイス１０２が形成されている。このように構成された半導体ウエーハ１０は、図1に示すように環状のフレーム１１に装着された保護テープ１２に表面１０ａ即ちストリート１０１およびデバイス１０２が形成されている面を上側にして裏面が貼着される。
【００２４】
図示のレーザー加工装置は、上記カセット１３に収納された加工前の半導体ウエーハ１０を仮置き部１４ａに配設された位置合わせ手段１４に搬出するとともに加工後の半導体ウエーハ１０をカセット１３に搬入する被加工物搬出・搬入手段１５と、位置合わせ手段１４に搬出された加工前の半導体ウエーハ１０を保護被膜形成兼洗浄手段７に搬送するとともに保護被膜形成兼洗浄手段７によって表面に保護被膜が被覆された半導体ウエーハ１０を上記チャックテーブル３上に搬送する被加工物搬送手段１６と、チャックテーブル３上で切削加工された半導体ウエーハ１０を保護被膜形成兼洗浄手段７に搬送する洗浄搬送手段１８を具備している。
【００２５】
図示のレーザー加工装置は以上のように構成されており、以下その作動について説明する。
図１に示すように環状のフレーム１１に保護テープ１２を介して支持された加工前の半導体ウエーハ１０（以下、単に半導体ウエーハ１０という）は、加工面である表面１０ａ即ちストリート１０１および回路１０２が形成されている面を上側にしてカセット１３の所定位置に収容されている。カセット１３の所定位置に収容された加工前の半導体ウエーハ１０は、図示しない昇降手段によってカセットテーブル１３１が上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、被加工物搬出・搬入手段１５が進退作動して搬出位置に位置付けられた半導体ウエーハ１０を仮置き部１４ａに配設された位置合わせ手段１４に搬出する。位置合わせ手段１４に搬出された半導体ウエーハ１０は、位置合わせ手段１４によって所定の位置に位置合せされる。次に、位置合わせ手段１４によって位置合わせされた加工前の半導体ウエーハ１０は、被加工物搬送手段１６の旋回動作によって保護被膜形成兼洗浄手段７を構成するスピンナーテーブル７１１の吸着チャック７１１ａ上に搬送され、該吸着チャック７１１ａに吸引保持される(ウエーハ保持工程)。また、環状のフレーム１１がクランプ７１４によって固定される。このとき、スピンナーテーブル７１１は図３に示す被加工物搬入・搬出位置に位置付けられており、樹脂供給ノズル７４１と洗浄水ノズル７５１およびエアーノズル７６１は図２および図３に示すようにスピンナーテーブル７１１の上方から離隔した待機位置に位置付けられている。
【００２６】
加工前の半導体ウエーハ１０が保護被膜形成兼洗浄手段７のスピンナーテーブル７１１上に保持するウエーハ保持工程を実施したならば、半導体ウエーハ１０の加工面である表面１０ａの中央領域に所定量の液状樹脂を滴下する樹脂滴下工程を実施する。樹脂滴下工程は、図６に示すように環状のフレーム１１に装着された保護テープ１２の表面に貼着された半導体ウエーハ１０の表面１０a(加工面)の中央領域に樹脂液供給手段７４の樹脂液供給ノズル７４１から所定量の液状樹脂１００を滴下する。なお、液状樹脂１００は、例えばPVA(Poly Vinyl Alcohol)、ＰＥＧ（Poly Ethylene Glycol）、PEO(Poly Ethylene Oxide)等の水溶性のレジストが望ましい。
【００２７】
図６に示すように樹脂滴下工程を実施したならば、図７に示すようにスピンナーテーブル７１１(図２参照)従って半導体ウエーハ１０を矢印で示す方向に回転するとともに、エアーノズル７５１から、半導体ウエーハ１０の加工面である表面１０ａに滴下された液状樹脂１００に向けてエアーを吹き付ける保護被膜被覆工程を実施する。このとき、エアーノズル７５１から噴出されるエアーは、半導体ウエーハ１０の中央領域を通して外周に向けて吹き付けられる。なお、スピンナーテーブル７１１の回転速度は1〜１００rpmでよく、エアーノズル７５１から噴出されるエアーの圧力は０．４Mpa程度でよい。このように、半導体ウエーハ１０を矢印で示す方向に回転しつつエアーノズル７５１からエアーを吹き付けることにより、半導体ウエーハ１０の加工面である表面１０ａの中央領域に滴下された液状樹脂１００は、図７の(a),(b),(c),(d)の順に順次半導体ウエーハ１０の外周に向けて流動せしめられる。そして、半導体ウエーハ１０が１回転したら、図７の(e)に示すように半導体ウエーハ１０の回転を停止するとともに、エアーノズル７５１からのエアーの噴出を停止する。この結果、図８に示すように半導体ウエーハ１０の加工面である表面１０ａには、液状樹脂による保護被膜１１０が均一に被覆される。この保護被膜１１０は、上記樹脂滴下工程によって供給される液状樹脂の量によって決まるが、１〜１０μm程度まで薄く形成することが可能である。
【００２８】
上述した保護被膜被覆工程を実施したならば、半導体ウエーハ１０の加工面である表面１０ａに被覆された保護被膜１１０の乾燥工程を実施する。この乾燥工程は、スピンナーテーブル７１１従って半導体ウエーハ１０を所定方向に例えば５００〜３０００rpmの回転速度で回転し、３０秒程度実施する。
【００２９】
上述した保護被膜被覆工程によって半導体ウエーハ１０の加工面である表面１０ａに保護被膜１１０を被覆したならば、スピンナーテーブル７１１を図３に示す被加工物搬入・搬出位置に位置付けるとともに、スピンナーテーブル７１１に保持されている半導体ウエーハ１０の吸引保持を解除する。そして、スピンナーテーブル７１１上の半導体ウエーハ１０は、被加工物搬送手段１６によってチャックテーブル３の吸着チャック３２上に搬送され、該吸着チャック３２に吸引保持される。このようにして半導体ウエーハ１０を吸引保持したチャックテーブル３は、図示しない移動手段によってレーザー光線照射手段４に配設された撮像手段５の直下に位置付けられる。
【００３０】
チャックテーブル３が撮像手段５の直下に位置付けられると、撮像手段５および図示しない制御手段によって半導体ウエーハ１０に所定方向に形成されているストリート１０１と、ストリート１０１に沿ってレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段４の集光器４２との位置合わせを行うためのパターンマッチング等の画像処理が実行され、レーザー光線照射位置のアライメントが遂行される。また、半導体ウエーハ１０に形成されている上記所定方向に対して直角に延びるストリート１０１に対しても、同様にレーザー光線照射位置のアライメントが遂行される。このとき、半導体ウエーハ１０のストリート１０１が形成されている表面１０ａには保護被膜１１０が形成されているが、保護膜１１０が透明でない場合は赤外線で撮像して表面からアライメントすることができる。
【００３１】
以上のようにしてチャックテーブル３上に保持されている半導体ウエーハ１０に形成されているストリート１０１を検出し、レーザー光線照射位置のアライメントが行われたならば、図９で示すようにチャックテーブル３をレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段４の集光器４２が位置するレーザー光線照射領域に移動し、所定のストリート１０１を集光器４２の直下に位置付ける。このとき、図９の（ａ）で示すように半導体ウエーハ１０は、ストリート１０１一端(図９の（ａ）において左端)が集光器４２の直下に位置するように位置付けられる。次に、レーザー光線照射手段４の集光器４２からパルスレーザー光線を照射しつつチャックテーブル３即ち半導体ウエーハ１０を図９の（ａ）において矢印Ｘ１で示す方向に所定の加工送り速度で移動せしめる。そして、図９の（ｂ）で示すようにストリート１０１の他端（図９の（ｂ）において右端）が集光器４２の直下位置に達したら、パルスレーザー光線の照射を停止するとともにチャックテーブル３即ち半導体ウエーハ１０の移動を停止する。このレーザー加工溝形成工程においては、パルスレーザー光線の集光点Ｐをストリート１０１の表面付近に合わせる。
【００３２】
上述したレーザー光線照射工程を実施することにより、半導体ウエーハ１０のストリート１０１には図１０に示すようにレーザー加工溝１２０が形成される。このとき、図１０に示すようにレーザー光線の照射によりデブリ１３０が発生しても、このデブリ１３０は保護被膜１１０によって遮断され、回路１０２およびボンディングパッド等に付着することはない。そして、上述したレーザー光線照射工程を半導体ウエーハ１０の全てのストリート１０１に実施する。
【００３３】
なお、上記レーザー光線照射工程は、例えば以下の加工条件で行われる。
レーザー光線の光源  ：ＹＶＯ４レーザーまたはＹＡＧレーザー
波長                ：３５５ｎｍ
繰り返し周波数      ：５０〜１００ｋＨｚ
出力                ：０．３〜４W
集光スポット径      ：９．２μｍ
加工送り速度        ：1〜８００ｍｍ／秒
【００３４】
上述したレーザー光線照射工程を半導体ウエーハ１０の全てのストリート１０１に沿って実施したならば、半導体ウエーハ１０を保持しているチャックテーブル３は、最初に半導体ウエーハ１０を吸引保持した位置に戻され、ここで半導体ウエーハ１０の吸引保持を解除する。そして、半導体ウエーハ１０は、洗浄搬送手段１８によって保護被膜形成兼洗浄手段７を構成するスピンナーテーブル７１１の吸着チャック７１１ａ上に搬送され、該吸着チャック７１１ａに吸引保持される。このとき樹脂供給ノズル７４１とエアーノズル７５１および洗浄水ノズル７６１は、図３および図４に示すようにスピンナーテーブル７１１の上方から離隔した待機位置に位置付けられている。
【００３５】
加工後の半導体ウエーハ１０が保護被膜形成兼洗浄手段７のスピンナーテーブル７１１上に保持されたならば、洗浄工程を実行する。即ち、スピンナーテーブル７１１を作業位置に位置付けるとともに、洗浄水供給手段７６の図示しない電動モータを駆動して洗浄水供給ノズル７６１のノズル部７６１ａの噴出口をスピンナーテーブル７１１上に保持された半導体ウエーハ１０の中心部上方に位置付ける。そして、スピンナーテーブル７１１を例えば８００ｒｐｍの回転速度で回転しつつノズル部７６１ａの噴出口から純水とエアーとからなる洗浄水を噴出する。即ち、ノズル部７５１ａは所謂２流体ノズルで構成され０．２ＭＰａ程度の純水が供給されるとともに、０．３〜０．５ＭＰａ程度のエアーが供給され、純水がエアーの圧力で噴出して半導体ウエーハ１０の加工面である表面１０ａを洗浄する。このとき、図示しない電動モータが駆動して洗浄水供給ノズル７６１のノズル部７６１ａの噴出口から噴出された洗浄水がスピンナーテーブル７１１に保持された半導体ウエーハ１０の中心に当たる位置から外周部に当たる位置までの所要角度範囲で揺動せしめられる。この結果、半導体ウエーハ１０の表面１０ａに被覆された保護被膜１１０が上述したように水溶性の樹脂によって形成されているので、保護被膜１を容易に洗い流すことができるとともに、レーザー加工時に発生したデブリ１３０も除去される。
【００３６】
上述した洗浄工程が終了したら、乾燥工程を実行する。即ち、洗浄水供給ノズル７６１を待機位置に位置付け、スピンナーテーブル７１１を例えば３０００ｒｐｍの回転速度で１５秒程度回転せしめる。
【００３７】
上述したように加工後の半導体ウエーハ１０の洗浄および乾燥が終了したら、スピンナーテーブル７１１の回転を停止するとともに、エアー供給手段７５のエアーノズル７５１を待機位置に位置付ける。そして、スピンナーテーブル７１１を図３に示す被加工物搬入・搬出位置に位置付けるとともに、スピンナーテーブル７１１に保持されている半導体ウエーハ１０の吸引保持を解除する。次に、スピンナーテーブル７１１上の加工後の半導体ウエーハ１０は、被加工物搬送手段１６によって仮置き部１４ａに配設された位置合わせ手段１４に搬出する。位置合わせ手段１４に搬出された加工後の半導体ウエーハ１０は、被加工物搬出手段１５によってカセット１３の所定位置に収納される。
【００３８】
次に、本発明による保護被膜の被覆方法の他の実施形態について、図１１乃至図１３を参照して説明する
この実施形態は、サファイヤウエーハのように比較的小径のウエーハの加工面に保護被膜の被覆方法である。この実施形態においては、図１１に示すように環状のフレーム１１に装着された保護テープ１２の表面に複数個のサファイヤウエーハ２０が加工面である表面２０aを上側にして貼着されている。従って、環状のフレーム１１に装着された保護テープ１２は、複数個のウエーハを支持する支持部材として機能する。
【００３９】
図１１に示すように環状のフレーム１１に保護テープ１２を介して支持された加工前の複数個のサファイヤウエーハ２０は、上述した実施形態と同様に被膜形成兼洗浄手段７のスピンナーテーブル７１１上に吸引保持される(ウエーハ保持工程)。次に、図１２に示すように複数個のサファイヤウエーハ２０が貼着された支持部材である保護テープ１２の中央領域に上記樹脂液供給手段７４の樹脂液供給ノズル７４１から所定量の液状樹脂１００を滴下する（樹脂滴下工程）。
【００４０】
図１２に示すように樹脂滴下工程を実施したならば、図１３に示すようにスピンナーテーブル７１１(図２参照)、従って複数個のサファイヤウエーハ２０が貼着された支持部材である保護テープ１２を矢印で示す方向に回転するとともに、エアーノズル７５１から、保護テープ１２の表面に滴下された液状樹脂１００に向けてエアーを吹き付ける保護被膜被覆工程を実施する。このとき、エアーノズル７５１から噴出されるエアーは、複数個のサファイヤウエーハ２０が貼着された保護テープ１２の中央領域を通して外周に向けて吹き付けられる。なお、スピンナーテーブル７１１の回転速度は上述した実施形態と同様に1〜１００rpmでよく、エアーノズル７５１から噴出されるエアーの圧力も上述した実施形態と同様に０．４Mpa程度でよい。このように、複数個のサファイヤウエーハ２０を支持した支持部材である保護テープ１２を矢印で示す方向に回転しつつエアーノズル７５１からエアーを吹き付けることにより、保護テープ１２の表面の中央領域に滴下された液状樹脂１００は、図７の(a),(b),(c),(d)の順に順外周に向けて流動せしめられる。そして、複数個のサファイヤウエーハ２０が貼着された支持部材である保護テープ１２が１回転したら、図１３の(e)に示すように複数個のサファイヤウエーハ１１０が貼着された支持部材である保護テープ１２の回転を停止するとともに、エアーノズル７５１からのエアーの噴出を停止する。この結果、図１３の(e)に示すように複数個のサファイヤウエーハ１１０の加工面１１０aには、液状樹脂による保護被膜１１０が均一に被覆される。
【００４１】
上述した保護被膜被覆工程を実施したならば、サファイヤウエーハ２０の加工面である表面２０ａに被覆された保護被膜１１０の乾燥工程を実施する。この乾燥工程は、上述した実施形態と同様にスピンナーテーブル７１１、従って複数個のサファイヤウエーハ２０が貼着された支持部材である保護テープ１２を所定方向に例えば５００〜３０００rpmの回転速度で回転し、３０秒程度実施する。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明による保護被膜の被覆方法を実施する保護被膜形成兼洗浄手段を備えたレーザー加工装置の斜視図。
【図２】図１に示すレーザー加工装置に装備される保護被膜形成兼洗浄手段の一部を破断して示す斜視図。
【図３】図２に示す保護被膜形成兼洗浄手段のスピンナーテーブルを被加工物搬入・搬出位置に位置付けた状態を示す説明図。
【図４】図２に示す保護被膜形成兼洗浄手段のスピンナーテーブルを作業位置に位置付けた状態を示す説明図。
【図５】図１に示すレーザー加工装置によって加工される被加工物としての半導体ウエーハの斜視図。
【図６】本発明による保護被膜の被覆方法の一実施形態における樹脂滴下工程を示す説明図。
【図７】本発明による保護被膜の被覆方法の一実施形態における保護被膜被覆工程を示す説明図。
【図８】保護被膜形成工程によって保護被膜が被覆された被加工物としての半導体ウエーハの要部拡大断面図。
【図９】図１に示すレーザー加工装置によるレーザー光線照射工程を示す説明図。
【図１０】図９に示すレーザー光線照射工程によってレーザー加工された被加工物としての半導体ウエーハの要部拡大断面図。
【図１１】被加工物としての複数個のサファイヤウエーハを環状のフレームに装着された保護テープ１２に貼着した状態を示す平面図。
【図１２】本発明による保護被膜の被覆方法の他の実施形態における樹脂滴下工程を示す説明図。
【図１３】本発明による保護被膜の被覆方法の他の実施形態における保護被膜被覆工程を示す説明図。
【図１４】従来の保護被膜の被覆方法を示す説明図。
【符号の説明】
【００４３】
２：装置ハウジング
３：チャックテーブル
４：レーザー光線照射手段
４１： レーザー光線発振手段
４２：集光器
５：撮像機構
６：表示手段
７：保護被膜形成兼洗浄手段
７１：スピンナーテーブル機構
７１１：スピンナーテーブル
７１２：電動モータ
７２：洗浄水受け手段
７４：樹脂液供給手段
７４１：樹脂液供給ノズル
７５：エアー供給手段
７５１：エアーノズル
７６：洗浄水供給手段
７６１：洗浄水ノズル
１０：半導体ウエーハ
１０１：ストリート
１０２：回路
１１０：保護被膜
１１：環状のフレーム
１２：保護テープ
１３：カセット
１４：位置合わせ手段
１５：被加工物搬出・搬入手段
１６：被加工物搬送手段
１８：洗浄搬送手段
２０：サファイヤウエーハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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