(57)【要約】【課題】  相溶を回避して均一な膜の形成を可能とする。【解決手段】  正孔注入層または正孔輸送層１４０Ａと発光層１４０Ｂとが液滴吐出法により形成される。正孔注入層または正孔輸送層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間の親和性を向上させる親和膜１５５が正孔注入層または正孔輸送層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間に介在する。【選択図】      図３
2006013139.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正孔注入層または正孔輸送層と発光層とが液滴吐出法により形成される有機ＥＬ装置であって、
前記正孔注入層または前記正孔輸送層と前記発光層との間の親和性を向上させる親和膜が前記正孔注入層または前記正孔輸送層と、前記発光層との間に介在することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項２】
請求項１記載の有機ＥＬ装置において、
前記親和膜は、シラン化合物または界面活性剤を含有することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の有機ＥＬ装置において、
前記正孔注入層または前記正孔輸送層、及び前記発光層を区画する区画壁を有し、
前記区画壁は前記親和膜を形成する材料に対して撥液性を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の有機ＥＬ装置において、
前記親和膜が化学気相蒸着、浸漬法、スピンコート法、液滴吐出方式のいずれかで製膜されていることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の有機ＥＬ装置を表示装置として備えることを特徴とする電子機器。
【請求項６】
液滴吐出法により正孔注入層または正孔輸送層を形成する工程と、液滴吐出法により発光層を形成する工程とを有する有機ＥＬ装置の製造方法であって、
前記正孔注入層または前記正孔輸送層と、前記発光層とのいずれか一方の上に、前記正孔注入層または前記正孔輸送層と、前記発光層との間の親和性を向上させる親和膜を形成する工程を有することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の有機ＥＬ装置の製造方法において、
前記親和膜は、シラン化合物または界面活性剤を含有することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項８】
請求項６または７記載の有機ＥＬ装置の製造方法において、
前記親和膜を形成する材料に対して撥液性を有し、前記正孔注入層または前記正孔輸送層、及び前記発光層を区画する区画壁を形成する工程を有することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項９】
請求項６から８のいずれかに記載の有機ＥＬ装置の製造方法において、
前記親和膜を製膜する工程を、化学気相蒸着、浸漬法、スピンコート法、液滴吐出方式のいずれかで行うことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ装置とその製造方法並びに電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年液晶ディスプレイに替わる発光型ディスプレイとして有機物を用いた電界発光素子の開発が加速している。有機物を用いた有機ＥＬ素子としては、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５１（１２），２１ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ １９８７の９１３ページに示されているように低分子を蒸着法で製膜する方法と、 Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７１（１），７ Ｊｕｌｙ １９９７の３４ページから示されているように高分子を塗布する方法が主に開発されている。特に高分子系ではカラー化する際にインクジェット法を用いる事により、パターニングが容易に出来る事から注目されている。この高分子を用いる場合には、正孔注入層または正孔輸送層を陽極と発光層の間に形成する事が多い。従来、前記バッファ層や正孔注入層としては導電性高分子、例えばポリチオフェン誘導体やポリアニリン誘導体を用いる事が多かった。低分子系においては、正孔注入層または正孔輸送層として、フェニルアミン誘導体を用いる事が多かった。
【０００３】
また、特許文献１に示されているように、発光層を高分子系材料のインクジェット方式（液滴吐出方式）によるパターン形成と、低分子系材料 の蒸着法による積層構造で形成する方式も提言されている。
高分子層形成において、インクジェット法では塗布とパターニングが一度に出来る。また用いる材料が必要最小限で済む。一方その外の塗布法では、用いる機械がスピンコーターなどの簡単なもので済むという利点がある。
【特許文献１】特開平１０−１５３９６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
上記の塗布法を用いてパターニング及び積層する場合、正孔輸送層と発光層とは隣り合って製膜されため、塗布液の溶媒が既に形成された有機膜を溶解する、いわゆる相溶性が問題となる。そのため、これらの層を形成する場合には、異なる溶媒（例えば、正孔輸送層には水系の溶媒、発光層には芳香族系の溶媒）を用いる必要が生じる。
この場合、重ねて塗布した際の親和性が低く、濡れ拡がりが悪いために均一な膜の形成が困難であるという問題があった。
【０００５】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、相溶を回避して均一な膜の形成が可能な有機ＥＬ装置とその製造方法並びにこの有機ＥＬ装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明の有機ＥＬ装置は、正孔注入層または正孔輸送層と発光層とが液滴吐出により形成される有機ＥＬ装置であって、正孔注入層または正孔輸送層と発光層との間に、これらの間の親和性を向上させる親和膜が介在することを特徴とするものである。
【０００７】
また、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、液滴吐出法により正孔注入層または正孔輸送層を形成する工程と、液滴吐出法により発光層を形成する工程とを有する有機ＥＬ装置の製造方法であって、正孔注入層または正孔輸送層と、発光層とのいずれか一方の上に、これらの間の親和性を向上させる親和膜を形成する工程を有することを特徴とするものである。
【０００８】
従って、本発明の有機ＥＬ装置及びその製造方法では、相溶を避けるために互いに異なる溶媒を用いて正孔注入層または正孔輸送層と発光層とを液滴吐出により形成する場合でも、正孔注入層または正孔輸送層と、発光層とのいずれか一方の上に、親和膜を介して正孔注入層または正孔輸送層と、発光層とのいずれか他方を液滴吐出した際に、これらの間の親和性が向上しているため、上記の他方の液滴を濡れ拡がらせることが可能になり、均一な上記他方の膜を形成することができる。
【０００９】
上記の親和膜としては、シランカップリング剤等のシラン化合物または界面活性剤を含有するものを好適に採用できる。
また、親和膜を製膜する際には、化学気相蒸着や、浸漬法、スピンコート法、液滴吐出方式等の液相方のいずれかで行う方法を好適に採用できる。
【００１０】
本発明の有機ＥＬ装置では、前記正孔注入層または正孔輸送層、及び発光層を区画する区画壁を有し、前記区画壁は前記親和膜を形成する材料に対して撥液性を有する構成を好適に採用できる。また、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法では、前記親和膜を形成する材料に対して撥液性を有し、前記正孔注入層または正孔輸送層、及び発光層を区画する区画壁を形成する工程を有することが好ましい。
これにより、本発明の有機ＥＬ装置及びその製造方法では、前記正孔注入層または正孔輸送層、及び発光層を製膜する際に、区画壁内に液滴を吐出することにより、混色することなく所定色の画素を形成することができる。また、本発明では、親和膜を形成する際にも区画壁に親和膜が製膜されてしまうことを防止できる。
【００１１】
一方、本発明の電子機器は、上記の有機ＥＬ装置を表示装置として備えることを特徴としている。
従って、本発明では均一な膜厚を有する前記正孔注入層または正孔輸送層、及び発光層を有し、表示品質、発光効率等の素子特性に優れた表示装置を備えた電子機器を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の有機ＥＬ装置とその製造方法並びに電子機器実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。以下の実施の形態では、本発明に係る有機ＥＬ装置を画素として基体上に配列してなる有機ＥＬ装置を例示して説明する。この有機ＥＬ装置は、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができるものである。
【００１３】
（有機ＥＬ装置）
図１は本実施形態の有機ＥＬ装置の回路構成図、図２は、同有機ＥＬ装置に備えられた各画素７１の平面構造を示す図であって反射電極や有機機能層を取り除いた状態を示す図である。また図３は、図２のＡ−Ａ線に沿う断面構成を示す図である。
【００１４】
図１に示すように、有機ＥＬ装置７０は、透明の基板上に、複数の走査線（配線、電力導通部）１３１と、これら走査線１３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線（配線、電力導通部）１３２と、これら信号線１３２に並列に延びる複数の共通給電線（配線、電力導通部）１３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線１３１及び信号線１３２の各交点毎に、画素（画素領域）７１が設けられて構成されたものである。
【００１５】
信号線１３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路７２が設けられている。一方、走査線１３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査側駆動回路７３が設けられている。また、画素領域７１の各々には、走査線１３１を介して走査信号（電力）がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１４２と、このスイッチング薄膜トランジスタ１４２を介して信号線１３２から供給される画像信号（電力）を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１４３と、このカレント薄膜トランジスタ１４３を介して共通給電線１３３に電気的に接続したときに共通給電線１３３から駆動電流（電力）が流れ込む画素電極１４１と、この画素電極１４１と共通電極１５４との間に挟み込まれる発光部１４０と、が設けられている。そして、前記画素電極１４１と共通電極１５４と、発光部１４０とによって構成される素子が、本発明に係る有機ＥＬ装置（有機ＥＬ素子）である。
【００１６】
このような構成のもとに、走査線１３１が駆動されてスイッチング薄膜トランジスタ１４２がオンとなると、そのときの信号線１３２の電位（電力）が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、カレント薄膜トランジスタ１４３のオン・オフ状態が決まる。そして、カレント薄膜トランジスタ１４３のチャネルを介して共通給電線１３３から画素電極１４１に電流（電力）が流れ、さらに発光部１４０を通じて共通電極１５４に電流が流れることにより、発光部１４０は、これを流れる電流量に応じて発光する構成となっている。
【００１７】
次に、図２に示す画素７１の平面構造を参照すると、画素７１は、平面視略矩形状の画素電極１４１の四辺が、信号線１３２、共通給電線１３３、走査線１３１及び図示しない他の画素電極用の走査線によって囲まれた配置となっている。また図３に示す画素７１の断面構造をみると、基板（基体）Ｐ上に、駆動用ＴＦＴ１４３が設けられており、駆動用ＴＦＴ１４３を覆って形成された複数の絶縁膜を介した基板Ｐ上に、有機ＥＬ素子２００が形成されている。有機ＥＬ素子２００は、基板Ｐ上に立設されたバンク（区画壁）１５０に囲まれる領域内に設けられており、画素電極１４１と、共通電極１５４との間に、有機機能層１４０を挟持した構成を備えている。
【００１８】
駆動用ＴＦＴ１４３は、半導体層２１０に形成されたソース領域１４３ａ、ドレイン領域１４３ｂ、及びチャネル領域１４３ｃと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜２２０を介してチャネル領域１４３ｃに対向するゲート電極１４３Ａとを主体として構成されている。半導体層２１０及びゲート絶縁膜２２０を覆う第１層間絶縁膜２３０が形成されており、この第１層間絶縁膜２３０を貫通して半導体層２１０に達するコンタクトホール２３２，２３４内に、それぞれドレイン電極２３６、ソース電極２３８が埋設され、各々の電極はドレイン領域１４３ｂ、ソース領域１４３ａに導電接続されている。第１層間絶縁膜２３０には、第２層間絶縁膜２４０が形成されており、この第２層間絶縁膜２４０に貫設されたコンタクトホールに画素電極１４１の一部が埋設されている。そして画素電極１４１とドレイン電極２３６とが導電接続されることで、駆動用ＴＦＴ１４３と画素電極１４１（有機ＥＬ素子２００）とが電気的に接続されている。そして、この画素電極１４１の周縁部に一部乗り上げるようにして無機絶縁材料からなる無機バンク１４９が形成され、この無機バンク１４９上に、有機材料からなるバンク１５０が形成されている。
【００１９】
有機ＥＬ素子２００を構成する有機機能層１４０には、正孔輸送層１４０Ａと、発光層１４０Ｂとが含まれており、これらの正孔輸送層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間には、親和膜としての中間層１５５が介在している。正孔輸送層１４０Ａは、発光層１４０Ｂへの電荷輸送性を高め、発光効率を高めることを目的として設けられる層であり、その形成材料としては、ベンジジン誘導体、スチリルアミン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、トリフェニル（またはアリール）アミン誘導体、およびヒドラゾン誘導体などの低分子化合物、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ；Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ／  Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎｅｔｅ（Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ、バイエル社商標））などの高分子化合物が挙げられる。これらの中でも、α−ＮＰＤ（α−ナフチルフェニルジアミン）はよく用いられる化合物であり、特に好ましい。
【００２０】
有機ＥＬ素子２００の主たる発光部を成す発光層１４０Ｂの形成材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いることができる。そして本実施形態の場合、この発光層１４０Ｂが、液滴吐出方式等の液相法により形成された液相形成層となっている。
発光層１４０Ｂの形成材料の具体例を挙げるならば、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
このような有機化合物のうち赤色に発光するものとしては、例えば、ポリビニレンスチレン誘導体のベンゼン環にアルキルまたはアルコキシ置換基を有する高分子化合物や、ポリビニレンスチレン誘導体のビニレン基にシアノ基を有する高分子化合物などを挙げることができる。緑色に発光する有機化合物としては、例えば、アルキルまたはアルコキシまたはアリール誘導体置換基をベンゼン環に導入したポリビニレンスチレン誘導体などを挙げることができる。青色に発光する有機化合物としては、例えば、ジアルキルフルオレンとアントラセンの共重合体のようなポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。
尚、上述した高分子材料に代えて、従来公知の低分子材料を用いることもできる。また、必要に応じて発光層１４０Ｂ上に、フッ化リチウムとカルシウムの積層膜等の電子注入層を設けてもよい
【００２１】
そして、発光層１４０Ｂの形成に際しては、上記に挙げた形成材料を溶媒に溶解して調製した液体材料を、後述の中間層１５５上に配し、溶媒を蒸発させる方法が適用される。
前記溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の非極性溶媒を例示できる。
【００２２】
正孔輸送層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間に設けられた中間層１５５は、正孔輸送層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間の親和性を向上させる表面改質機能を有するものである。本実施形態の場合は、中間層１５５を設けたことで正孔輸送層１４０Ａの表面特性を改質しており、これによって、発光層１４０Ｂを形成するための液体材料の被覆性を改善し、均一な膜厚及び膜質を有する発光層１４０Ｂを得ている。以下に中間層１５５の作用を説明する。
【００２３】
まず、正孔輸送層１４０Ａを液相法により形成するためにＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの分散液を用いた場合、この分散液は極性溶媒を用いた溶液であるため、得られた正孔輸送層１４０Ａの表面は親水性となる。そしてこのような正孔輸送層１４０Ａ上に発光層１４０Ｂを液相法により形成する場合、その液体材料に芳香族系の溶媒（非極性溶媒）を用いると、正孔輸送層１４０Ａの表面との親和性が低いために濡れ性が悪くなる。その結果、液体材料が表面に偏在し、得られる発光層１４０Ｂの膜厚や膜質の均一性が低下することになる。
【００２４】
これに対して、本発明の如く中間層１５５を設けるならば、正孔輸送層１４０Ａの親水性の表面を改質して例えば親油性にすることができるため、発光層１４０Ｂの液体材料との親和性を向上させることができ、液体材料の塗れ性改善によって形成される発光層１４０Ｂの膜厚、膜質の均一性を向上させることができる。
なお、中間層１５５の厚さとしては、厚くなりすぎると電子とホールとが結合できない距離になる可能性があるため、分子１層〜１０層程度の厚さが好ましい。
【００２５】
また、中間層１５５は、分子構造内に極性基と非極性基とを有する、いわゆる両親媒性分子からなるものとすることが好ましい。そして、この両親媒性分子を層厚方向に配向させることで、前記極性基ないし非極性基を表面に配列させ、表面改質機能を得ることができる。
すなわち、正孔輸送層１４０Ａ表面に対して前記両親媒性分子の極性基を結合させて中間層１５５を形成すれば、中間層１５５の表面には非極性基が配置された状態となり、正孔輸送層１４０Ａの表面が改質される。その結果、発光層１４０Ｂを形成するための液体材料の塗れ性が良好なものとなる。
このような中間層１５５を形成する材料としては、シランカップリング剤（シラン化合物）や界面活性剤を好適に用いることができる。シラン化合物を用いる場合、中間層１５５が形成される正孔輸送層１４０Ａの表面にシラン化合物の加水分解性基の一部が加水分解されて生成するＳｉＯＨが吸着する。あるいは、正孔輸送層１４０Ａの表面原子Ｍとシラン化合物とが直接又は間接に反応し結合する。例えばシラン化合物の加水分解性基の一部が加水分解されて生成するＳｉＯＨと、表面の原子Ｍ（あるいはＭＯＨ等）が反応してＳｉ−Ｏ−Ｍ結合が形成される（図４参照）。
【００２６】
ここで、中間層１５５の態様においては、
（Ａ）一般式（Ｉ）
Ｒ１Ｓｉ Ｘ１ｍＸ２（３−ｍ）    …（Ｉ）
（式中、Ｒ１ は有機基を表し、Ｘ１ およびＸ２は−ＯＲ２ 、−Ｒ２、−Ｃｌを表し、Ｒ２ は炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｍは１から３の整数である。）で表される１種又は２種以上のシラン化合物（成分Ａ）あるいは、
（Ｂ）一般式（ＩＩ）
Ｒ１Ｙ１ （ＩＩ）
（式中、Ｙ１は親水性の極性基、−ＯＨ、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＫ、−ＣＯＯＮａ、−ＣＯＮＨ２、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ３Ｎａ、−ＯＳＯ３Ｈ、−ＯＳＯ３Ｎａ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＰＯ３Ｎａ２、−ＰＯ３Ｋ２、−ＮＯ２、−ＮＨ２、−ＮＨ３Ｃｌ（アンモニウム塩）、−ＮＨ３Ｂｒ（アンモニウム塩）、≡ＮＨＣｌ（ピリジニウム塩）、≡ＮＨＢｒ（ピリジニウム塩）等である。）で表される両親媒性化合物を用いる。
【００２７】
一般式（Ｉ）で表されるシラン化合物は、シラン原子に有機基が置換し、残りの結合手は、アルコキシ基またはアルキル基または塩素基が置換したものである。Ｒ１は発光層材料との親和性および付着性を高める効果があるものである。この親和性および付着性は、正孔輸送層との間に、溶媒との親和力やファンデルワールス力、静電引力などの親和力または共有結合、イオン結合、配位結合、水素結合などの結合形成によるものである。有機基Ｒ１の例としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ヒドロキシフェニル基、クロロフェニル基、アミノフェニル基、ナフチル基、アンスレニル基、ピレニル基、チエニル基、ピロリル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、ピリジニル基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、オクタデシル基、ｎ−オクチル基、クロロメチル基、メトキシエチル基、ヒドロキシエチル基、アミノエチル基、シアノ基、メルカプトプロピル基、ビニル基、アリル基、アクリロキシエチル基、メタクリロキシエチル基、グリシドキシプロピル基、アセトキシ基等を例示できる。Ｘ1 のアルコキシ基や塩素基、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合等を形成するための官能基であり、水により加水分解されてアルコールや酸として脱離する。アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等を挙げることができる。Ｒ２の炭素数は脱離するアルコールの分子量が比較的小さく、除去が容易であり形成される膜の緻密性の低下を抑制できるという観点から、１〜４の範囲であることが好ましい。
【００２８】
一般式（Ｉ）で表されるシラン化合物としては、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、１−プロペニルメチルジクロロシラン、プロピルジメチルクロロシラン、プロピルメチルジクロロシラン、プロピルトリクロロシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、スチリルエチルトリメトキシシラン、テトラデシルトリクロロシラン、３−チオシアネートプロピルトリエトキシシラン、ｐ−トリルジメチルクロロシラン、ｐ−トリルメチルジクロロシラン、ｐ−トリルトリクロロシラン、ｐ−トリルトリメトキシシラン、ｐ−トリルトリエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロポキシシラン、ジイソプロピルジイソプロポキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジ−ｎ−ブチロキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブチロキシシラン、ジ−ｔ−ブチルジ−ｔ−ブチロキシシラン、オクタデシルトリクロロシラン、オクタデシルメチルジエトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルジメチルクロロシラン、オクタデシルメチルジクロロシラン、オクタデシルメトキシジクロロシラン、７−オクテニルジメチルクロロシラン、７−オクテニルトリクロロシラン、７−オクテニルトリメトキシシラン、オクチルメチルジクロロシラン、オクチルジメチルクロロシラン、オクチルトリクロロシラン、１０−ウンデセニルジメチルクロロシラン、ウンデシルトリクロロシラン、ビニルジメチルクロロシラン、メチルオクタデシルジメトキシシラン、メチルドデシルジエトキシシラン、メチルオクタデシルジメトキシシラン、メチルオクタデシルジエトキシシラン、ｎ−オクチルメチルジメトキシシラン、ｎ−オクチルメチルジエトキシシラン、トリアコンチルジメチルクロロシラン、トリアコンチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルイソプロポキシシラン、メチル−ｎ−ブチロキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブチロキシシラン、メチルトリ−ｔ−ブチロキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルイソプロポキシシラン、エチル−ｎ−ブチロキシシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブチロキシシラン、エチルトリ−ｔ−ブチロキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ｎ−ドデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、ｎ−ドデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、２−〔２−（トリクロロシリル）エチル〕ピリジン、４−〔２−（トリクロロシリル）エチル〕ピリジン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、１，３−（トリクロロシリルメチル）ヘプタコサン、ジベンジルジメトキシシラン、ジベンジルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、フェニルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、フェニルジメチルエトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、ベンジルトリメトキシシラン、ベンジルメチルジメトキシシラン、ベンジルジメチルメトキシシラン、ベンジルジメトキシシラン、ベンジルジエトキシシラン、ベンジルメチルジエトキシシラン、ベンジルジメチルエトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、ジベンジルジメトキシシラン、ジベンジルジエトキシシラン、３−アセトキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、６−（アミノヘキシルアミノプロピル）トリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｍ−アミノフェニルエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシシラン、ω−アミノウンデシルトリメトキシシラン、アミルトリエトキシシラン、ベンゾオキサシレピンジメチルエステル、５−（ビシクロヘプテニル）トリエトキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、８−ブロモオクチルトリメトキシシラン、ブロモフェニルトリメトキシシラン、３−ブロモプロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、２−クロロメチルトリエトキシシラン、クロロメチルメチルジエトキシシラン、クロロメチルメチルジイソプロポキシラン、ｐ−（クロロメチル）フェニルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、２−（４−クロロスルフォニルフェニル）エチルトリメトキシシラン、２−シアノエチルトリエトキシシラン、２−シアノエチルトリメトキシシラン、シアノメチルフェネチルトリエトキシシラン、３−シアノプロピルトリエトキシシラン、２−（３−シクロヘキセニル）エチルトリメトキシシラン、２−（３−シクロヘキセニル）エチルトリエトキシシラン、３−シクロヘキセニルトリクロロシラン、２−（３−シクロヘキセニル）エチルトリクロロシラン、２−（３−シクロヘキセニル）エチルジメチルクロロシシラン、２−（３−シクロヘキセニル）エチルメチルジクロロシシラン、シクロヘキシルジメチルクロロシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジクロロシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、（シクロヘキシルメチル）トリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロオクチルトリクロロシラン、（４−シクロオクテニル）トリクロロシラン、シクロペンチルトリクロロシラン、シクロペンチル���リメトキシシラン、１,１−ジエトキシ−１−シラシクロペンタ−３−エン、３−（２，４−ジニトロフェニルアミノ）プロピルトリエトキシシラン、（ジメチルクロロシリル）メチル−７,７−ジメチルノルピナン、（シクロヘキシルアミノメチル）メチルジエトキシシラン、（３−シクロペンタジエニルプロピル）トリエトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−アミノプロピル）トリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、（フルフリルオキシメチル）トリエトキシシラン、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシプロポキシ）ジフェニルケトン、３−（ｐ−メトキシフェニル）プロピルメチルジクロロシラン、３−（ｐ−メトキシフェニル）プロピルトリクロロシラン、ｐ−（メチルフェネチル）メチルジクロロシラン、ｐ−（メチルフェネチル）トリクロロシラン、ｐ−（メチルフェネチル）ジメチルクロロシラン、３−モルフォリノプロピルトリメトキシシラン、（３−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、１，２，３，４，７，７，−ヘキサクロロ−６−メチルジエトキシシリル−２−ノルボルネン、１，２，３，４，７，７，−ヘキサクロロ−６−トリエトキシシリル−２−ノルボルネン、３−ヨードプロピルトリメトキシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、（メルカプトメチル）メチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチル｛２−（３−トリメトキシシリルプロピルアミノ）エチルアミノ｝−３−プロピオネート、７−オクテニルトリメトキシシラン、Ｒ−Ｎ−α−フェネチル−Ｎ’−トリエトキシシリルプロピルウレア、Ｓ−Ｎ−α−フェネチル−Ｎ’−トリエトキシシリルプロピルウレア、フェネチルトリメトキシシラン、フェネチルメチルジメトキシシラン、フェネチルジメチルメトキシシラン、フェネチルジメトキシシラン、フェネチルジエトキシシラン、フェネチルメチルジエトキシシラン、フェネチルジメチルエトキシシラン、フェネチルトリエトキシシラン、（３−フェニルプロピル）ジメチルクロロシラン、（３−フェニルプロピル）メチルジクロロシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（トリエトキシシリルプロピル）ダンシルアミド、Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）−４，５−ジヒドロイミダゾール、２−（トリエトキシシリルエチル）−５−（クロロアセトキシ）ビシクロヘプタン、（Ｓ）−Ｎ−トリエトキシシリルプロピル―Ｏ―メントカルバメート、３−（トリエトキシシリルプロピル）−ｐ−ニトロベンズアミド、３−（トリエトキシシリル）プロピルサクシニック無水物、Ｎ−〔５−（トリメトキシシリル）−２−アザ−１−オキソ−ペンチル〕カプロラクタム、２−（トリメトキシシリルエチル）ピリジン、Ｎ−（トリメトキシシリルエチル）ベンジル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロライ���、フェニルビニルジエトキシシラン、３−チオシアナートプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフロオロ−１，１，２，２，−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、Ｎ−｛３−（トリエトキシシリル）プロピル｝フタルアミド酸、（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルジメトキシシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシシラン、１−トリメトキシシリル−２−（クロロメチル）フェニルエタン、２−（トリメトキシシリル）エチルフェニルスルホニルアジド、β−トリメトキシシリルエチル−２−ピリジン、トリメトキシシリルプロピルジエチレントリアミン、Ｎ−（３−トリメトキシシリルプロピル）ピロール、Ｎ−トリメトキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリブチルアンモニウムブロマイド、Ｎ−トリメトキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリブチルアンモニウムクロライド、Ｎ−トリメトキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロライド、ビニルメチルジエトキシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビニルフェニルジクロロシラン、ビニルフェニルジエトキシシラン、ビニルフェニルジメチルシラン、ビニルフェニルメチルクロロシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリス−ｔ−ブトキシシラン、アダマンチルエチルトリクロロシラン、アリルフェニルトリクロロシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、３−アミノフェノキシジメチルビニルシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルジメチルクロロシラン、フェニルメチルジクロロシラン、ベンジルトリクロロシラン、ベンジルジメチルクロロシラン、ベンジルメチルジクロロシラン、フェネチルジイソプロピルクロロシラン、フェネチルトリクロロシラン、フェネチルジメチルクロロシラン、フェネチルメチルジクロロシラン、５−（ビシクロヘプテニル）トリクロロシラン、５−（ビシクロヘプテニル）トリエトキシシラン、２−（ビシクロヘプチル）ジメチルクロロシラン、２−（ビシクロヘプチル）トリクロロシラン、１,４−ビス（トリメトキシシリルエチル）ベンゼン、ブロモフェニルトリクロロシラン、３−フェノキシプロピルジメチルクロロシラン、３−フェノキシプロピルトリクロロシラン、ｔ−ブチルフェニ
ルクロロシラン、ｔ−ブチルフェニルメトキシシラン、ｔ−ブチルフェニルジクロロシラン、ｐ−（ｔ−ブチル）フェネチルジメチルクロロシラン、ｐ−（ｔ−ブチル）フェネチルトリクロロシラン、１,３−（クロロジメチルシリルメチル）ヘプタコサン、（（クロロメチル）フェニルエチル）ジメチルクロロシラン、（（クロロメチル）フェニルエチル）メチルジクロロシラン、（（クロロメチル）フェニルエチル）トリクロロシラン、（（クロロメチル）フェニルエチル）トリメトキシシラン、クロロフェニルトリクロロシラン、２−シアノエチルトリクロロシラン、２−シアノエチルメチルジクロロシラン、３−シアノプロピルメチルジエトキシシラン、３−シアノプロピルメチルジクロロシラン、３−シアノプロピルメチルジクロロシラン、３−シアノプロピルジメチルエトキシシラン、３−シアノプロピルメチルジクロロシラン、３−シアノプロピルトリクロロシラン、等が挙げられる。
【００２９】
一般式（ＩＩ）で表される両親媒性化合物は、親油性の有機基Ｒ１に親水性の官能基が結合した化合物である。Ｙ１ は親水性の極性基を表し、親水面に吸着するための官能基であり、界面活性剤の親油基Ｒ１は親水面の反対側に並ぶことにより親水面上に親油面が形成される。Ｒ１ は発光層材料との親和性および付着性を高める効果があるものである。この親和性および付着性は、正孔輸送層１４０Ａとの間に、溶媒との親和力やファンデルワールス力、静電引力などの親和力または共有結合、イオン結合、配位結合、水素結合などの結合形成によるものである。有機基Ｒ１の例としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ヒドロキシフェニル基、クロロフェニル基、アミノフェニル基、ナフチル基、アンスレニル基、ピレニル基、チエニル基、ピロリル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、ピリジニル基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、オクタデシル基、ｎ−オクチル基、クロロメチル基、メトキシエチル基、ヒドロキシエチル基、アミノエチル基、シアノ基、メルカプトプロピル基、ビニル基、アリル基、アクリロキシエチル基、メタクリロキシエチル基、グリシドキシプロピル基、アセトキシ基等を例示できる。
【００３０】
一般式（ＩＩ）で表される両親媒性化合物としては、ｎ−デシルトリメチルアンモニウムクロライド、ｎ−デシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ｎ−ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ｎ−ドデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ｎ−ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ｎ−ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ｎ−オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ｎ−オクタデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ジ−ｎ−ドデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジ−ｎ−ドデシルジメチルアンモニウムブロマイド、ｎ−デシルピリジニウムクロライド、ｎ−デシルピリジニウムブロマイド、ｎ−ドデシルピリジニウムクロライド、ｎ−ドデシルピリジニウムブロマイド、ｎ−ドデシルピリジニウムアイオダイド、ｎ−テトラデシルピリジニウムクロライド、ｎ−テトラデシルピリジニウムブロマイド、ｎ−ヘキサデシルピリジニウムクロライド、ｎ−ヘキサデシルピリジニウムブロマイド、ｎ−ヘキサデシルピリジニウムアイオダイド、ｎ−オクタデシルピリジニウムクロライド、ｎ−オクタデシルピリジニウムブロマイド、ｎ−ドデシルピコリニウムクロライド、ｎ−ドデシルピコリニウムブロマイド、ｎ−オクタデシルピコリニウムクロライド、ｎ−オクタデシルピコリニウムブロマイド、ｎ−オクタデシルピコリニウムアイオダイド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−４，４’−ビピリジニウム ジクロライド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−４，４’−ビピリジニウム ジブロマイド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−４，４’−ビピリジニウム ビス（メチルサルフェイト）、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−４，４’−ビピリジニウムビス（р−トルエンスルホネート）、Ｎ，Ｎ’−ジ（ｎ−プロピル）−４，４’−ビピリジニウム ジクロライド、Ｎ，Ｎ’−ジ（ｎ−プロピル）−４，４’−ビピリジニウム ジブロマイド、Ｎ，Ｎ’−ジ（ｎ−プロピル）−４，４’−ビピリジニウム ビス（р−トルエンスルホネート）、Ｎ，Ｎ’−ジベンジル−４，４’−ビピリジニウム ジクロライド、Ｎ，Ｎ’−ジベンジル−４，４’−ビピリジニウム ジブロマイド、Ｎ，Ｎ’−ジベンジル−４，４’−ビピリジニウムジアイオダイド、Ｎ，Ｎ’−ジベンジル−４，４’−ビピリジニウム ビス（р−トルエンスルホネート）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−４，４’−ビピリジニウム ジクロライド、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−４，４’−ビピリジニウム ジブロマイド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−スルホネートプロピル）−４，４’−ビピリジニウム、１，３−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジル）｝プロパンテトラクロライド、１，３−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジル）｝プロパン テトラブロマイド、１，３−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジル）｝プロパン テトラクロライド、１，３−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジル）｝プロパン テトラブロマイド、１，４−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジル）｝ブタン テトラクロライド、１，４−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジル）｝ブタン テトラブロマイド、１，４−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジル）｝ブタン テトラクロライド、１，４−ビス���Ｎ−（Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジル）｝ブタン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジル）｝−ｏ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジル）｝−ｏ−キシレン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジル）｝−ｏ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジル）｝−ｏ−キシレン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジル）｝−ｍ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジル）｝−ｍ−キシレンテトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジル）｝−ｍ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジル）｝−ｍ−キシレン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジル）｝−ｐ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジル）｝−ｐ−キシレン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジル）｝−ｐ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジル）｝−ｐ−キシレン テトラブロマイド、Ｎ−ｎ−ドデシル−Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジニウム ジクロライド、Ｎ−ｎ−ドデシル−Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジニウム ブロマイドアイオダイド、Ｎ−ｎ−ドデシル−Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジニウム ブロマイドメチルサルフェイト、Ｎ−ｎ−ドデシル−Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジニウムジクロライド、Ｎ−ｎ−ドデシル−Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジニウム ジブロマイド、Ｎ−ｎ−ドデシル−Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジニウム クロライドブロマイド、Ｎ−ｎ−ヘキサデシル−Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジニウム ジクロライド、Ｎ−ｎ−ヘキサデシル−Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジニウム ブロマイドアイオダイド、Ｎ−ｎ−ヘキサデシル−Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジニウム ブロマイドメチルサルフェイト、Ｎ−ｎ−ヘキサデシル−Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジニウム ジクロライド、Ｎ−ｎ−ヘキサデシル−Ｎ’−ベンジル−４，４’−ビピリジニウム ジブロマイド、Ｎ−ｎ−オクタデシル−Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジニウムジクロライド、Ｎ−ｎ−オクタデシル−Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジニウム ブロマイドアイオダイド、Ｎ−ｎ−オクタデシル−Ｎ’−メチル−４，４’−ビピリジニウム ブロマイドメチルサルフェイト、Ｎ−ｎ−オクタデシル−Ｎ’−ベンジル−４、４’−ビピリジニウム ジブロマイド、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジニウム ジクロライド、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジニウム ジブロマイド、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジニウム ジクロライド、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジニウム ジブロマイド、１，３−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジル）｝プロパン テトラクロ���イド、1 ，３−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジル）｝プロパン テトラブロマイド、1 ，４−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジル）｝ブタン テトラブロマイド、1 ，６−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジル）｝ヘキサンテトラブロマイド、1 ，３−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジル）｝プロパン テトラブロマイド、1 ，４−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジル）｝ブタン テトラブロマイド、1 ，６−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジル）｝ヘキサン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｏ−キシレンテトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｏ−キシレン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｍ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｍ−キシレン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｐ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ドデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｐ−キシレン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｏ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｏ−キシレン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｍ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｍ−キシレン テトラブロマイド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｐ−キシレン テトラクロライド、α，α’−ビス｛Ｎ−（Ｎ’−ｎ−ヘキサデシル−４，４’−ビピリジル）｝−ｐ−キシレン テトラブロマイド、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、シクロヘキシルメチルアクリレート、シクロヘキシルメチルメタクリレート、シクロヘキシルメチルアクリルアミド、シクロヘキシルメチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、フェニルアクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、１−ノルボルニルアクリレート、１−ノルボルニルメタクリレート、１−ノルボルニルアクリルアミド、１−ノルボルニルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ノルボルニル）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ノルボルニル）メタクリルアミド、シクロオクチルアクリレート、シクロオクチルメタクリレート、シクロオクチルアクリルアミド、シクロオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロオクチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−シクロオクチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、アダマンチルアクリレート、アダマンチルメタクリレート、アダマンチルアクリルアミド、アダマンチルメタクリルアミド、Ｎ−アダマンチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−アダマンチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、１−ナフチルアクリレート、１−ナフチルメタクリレート、１−ナフチルアクリルアミド、１−ナフチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ナフチル）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ナフチル）メタクリルアミド、２−ナフチルアクリレート、２−ナフチルメタクリレート、２−ナフチルアクリルアミド、２−ナフチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ナフチル）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ナフチル）メタクリルアミド、ｎ−ドデシルアクリレート、ｎ−ドデシルメタクリレート、ｎ−ドデシルアクリルアミド、ｎ−ドデシルメタクリルアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、シクロドデシルアクリレート、シクロドデシルメタクリレート、シクロドデシルアクリルアミド、シクロドデシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロドデシル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−シクロドデシル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、ｎ−ヘキサデシルアクリレート、ｎ−ヘキサデシルメタクリレート、ｎ−ヘキサデシルアクリルアミド、ｎ−ヘキサデシルメタクリルアミド、Ｎ−ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、ｎ−オクタデシルアクリレート、ｎ−オクタデシルメタクリレート、ｎ−オクタデシルアクリルアミド、ｎ−オクタデシルメタクリルアミド、Ｎ−ｎ−オクタデシル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−オクタデシル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、ジ−ｎ−オクチルアクリルアミド、ジ−ｎ−オクチルメタクリルアミド、ジ−ｎ−デシルアクリルアミド、ジ−ｎ−デシルメタクリルアミド、ジ−ｎ−ドデシルアクリルアミド、ジ−ｎ−ドデシルメタクリルアミド、９−アントラセンメチル
アクリレート、９−アントラセンメチルメタクリレート、９−アントラセンメチルアクリルアミド、９−アントラセンメチルメタクリルアミド、９−フェナントレンメチルアクリレート、９−フェナントレンメチルメタクリレート、９−フェナントレンメチルアクリルアミド、９−フェナントレンメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（９−フェナントレンメチル）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（９−フェナントレンメチル）メタクリルアミド、１−ピレンメチルアクリレート、１−ピレンメチルメタクリレート、１−ピレンメチルアクリルアミド、１−ピレンメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ピレンメチル）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ピレンメチル）メタクリルアミド、４−アクリロイルオキシメチルフタロシアニン等が挙げられる。
【００３１】
上に挙げた中間層形成材料を用いて中間層１５５を形成するには、後述の化学気相蒸着による気相法や液滴吐出法、スピンコート法、浸漬法（ディップ法）などの液相法が好適に用いられる。
【００３２】
基板Ｐとしては、いわゆるトップエミッション型の有機ＥＬ装置の場合、有機ＥＬ素子２００が配設された側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板のほか、不透明基板も用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、また熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム（プラスチックフィルム）などが挙げられる。
画素電極１４１は、トップエミッション型の場合にはＩＴＯ等の透明導電材料により形成する必要はなく、金属材料等の適宜な導電材料によって形成できる。
【００３３】
共通電極１５４は、発光層１４０Ｂとバンク１５０の上面、さらにはバンク１５０の側面部を形成する壁面を覆った状態で基板Ｐ上に形成される。この共通電極１５４を形成するための材料としては、トップエミッション型の場合、透明導電材料が用いられる。透明導電材料としてはＩＴＯが好適であるが、他の透光性導電材料であっても構わない。
【００３４】
共通電極１５４の上層側には、陰極保護層を形成してもよい。係る陰極保護層を設けることで、製造プロセス時に共通電極１５４が腐食されるのを防止する効果が得られ、無機化合物、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン窒酸化物等のシリコン化合物により形成できる。共通電極１５４を無機化合物からなる陰極保護層で覆うことにより、無機酸化物からなる陰極への酸素等の侵入を良好に防止することができる。
【００３５】
（有機ＥＬ装置の製造方法）
次に、本発明に係る有機ＥＬ装置の製造方法の実施形態を、図５乃至図７を参照して説明する。
【００３６】
＜液滴吐出装置＞
まず、本実施形態に係る製造方法に用いられる液滴吐出装置について説明する。図５は本発明の有機ＥＬ装置を製造する際に用いる液滴吐出装置を示す概略斜視図であり、図６及び図７は液滴吐出装置に設けられた液滴吐出ヘッドを示す図である。
図５において、液滴吐出装置ＩＪは、基板Ｐの表面に液滴（インク滴）を配置可能な成膜装置であって、ベース１２と、ベース１２上に設けられ、基板Ｐを支持するステージＳＴと、ベース１２とステージＳＴとの間に介在し、ステージＳＴを移動可能に支持する第１移動装置１４と、ステージＳＴに支持されている基板Ｐに対して所定の材料を含む液滴を定量的に吐出（滴下）可能な液滴吐出ヘッド２０と、液滴吐出ヘッド２０を移動可能に支持する第２移動装置１６とを備えている。液滴吐出ヘッド２０の液滴の吐出動作や、第１移動装置１４及び第２移動装置１６の移動動作を含む液滴吐出装置ＩＪの動作は制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００３７】
第１移動装置１４はベース１２の上に設置されており、Ｙ軸方向に沿って位置決めされている。第２移動装置１６は、ベース１２の後部１２Ａに立てられた支柱１６Ａ，１６Ａにより第１移動装置１６の上方に支持されている。第２移動装置１６のＸ軸方向は第１移動装置１４のＹ軸方向と直交する方向である。ここで、Ｙ軸方向はベース１２の前部１２Ｂと後部１２Ａ方向に沿った方向である。これに対してＸ軸方向はベース１２の左右方向に沿った方向であり、各々水平である。また、Ｚ軸方向はＸ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向である。
【００３８】
第１移動装置１４は例えばリニアモータによって構成され、２本のガイドレール４０と、これらのガイドレール４０，４０に沿って移動可能なスライダー４２とを備えている。
このリニアモータ形式の第１移動装置１４のスライダー４２はガイドレール４０に沿ってＹ軸方向に移動して位置決め可能である。スライダー４２はＺ軸回り（θＺ）用のモータ４４を備えている。モータ４４のロータはステージＳＴに固定されている。これにより、モータ４４に通電することでロータとステージＳＴとはθＺ方向に沿って回転してステージＳＴをインデックス（回転割り出し）することができる。すなわち、第１移動装置１４はステージＳＴをＹ軸方向及びθＺ方向に移動可能である。
【００３９】
ステージＳＴは基板Ｐを保持し所定の位置に位置決めするものである。ステージＳＴは吸着保持装置５０を有しており、吸着保持装置５０が作動することによりステージＳＴに設けられた吸入孔４６Ａを通して基板ＰをステージＳＴの上に吸着して保持する。
【００４０】
第２移動装置１６はリニアモータによって構成され、支柱１６Ａ，１６Ａに固定されたコラム１６Ｂと、このコラム１６Ｂに支持されているガイドレール６２Ａと、ガイドレール６２Ａに沿ってＸ軸方向に移動可能に支持されているスライダー６０とを備えている。
スライダー６０はガイドレール６２Ａに沿ってＸ軸方向に移動して位置決め可能であり、液滴吐出ヘッド２０はスライダー６０に取り付けられている。
【００４１】
液滴吐出ヘッド２０は揺動位置決め装置としてのモータ６２，６４，６６，６８を有している。モータ６２を作動すれば、液滴吐出ヘッド２０はＺ軸に沿って上下動して位置決め可能である。このＺ軸はＸ軸とＹ軸に対して各々直交する方向（上下方向）である。モータ６４を作動すると、液滴吐出ヘッド２０はＹ軸回りのβ方向に沿って揺動して位置決め可能である。モータ６６を作動すると、液滴吐出ヘッド２０はＸ軸回りのγ方向に揺動して位置決め可能である。モータ６８を作動すると、液滴吐出ヘッド２０はＺ軸回りのα方向に揺動して位置決め可能である。すなわち、第２移動装置１６は液滴吐出ヘッド２０をＸ軸方向及びＺ軸方向に移動可能に支持するとともに、この液滴吐出ヘッド２０をθＸ方向、θＹ方向、θＺ方向に移動可能に支持する。
【００４２】
このように、図５に示す液滴吐出ヘッド２０は、スライダー６０において、Ｚ軸方向に直線移動して位置決め可能で、α、β、γに沿って揺動して位置決め可能であり、液滴吐出ヘッド２０の吐出面２０Ｐは、ステージＳＴ側の基板Ｐに対して正確に位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。なお、液滴吐出ヘッド２０の吐出面２０Ｐには液滴を吐出する複数のノズルが設けられている。
【００４３】
図６は、液滴吐出ヘッド２０を示す分解斜視図である。液滴吐出ヘッド２０は、複数のノズル８１を有するノズルプレート８０と、振動板８５を有する圧力室基板９０と、これらノズルプレート８０と振動板８５とを嵌め込んで支持する筐体８８とを備えて構成されている。液滴吐出ヘッド２０の主要部構造は、図７に示すように、圧力室基板９０をノズルプレート８０と振動板８５とで挟み込んだ構造とされている。ノズルプレート８０のノズル８１は、各々圧力室基板９０に区画形成された圧力室（キャビティ）９１に対応している。圧力室基板９０には、シリコン単結晶基板等をエッチングすることにより、各々が圧力室として機能可能にキャビティ９１が複数設けられている。キャビティ９１同士の間は側壁９２で分離されている。各キャビティ９１は供給口９４を介して共通の流路であるリザーバ９３に繋がっている。振動板８５は例えば熱酸化膜等により構成される。
【００４４】
振動板８５にはタンク口８６が設けられ、図５に示したタンク３０からパイプ（流路）３１を通じて任意の液滴を供給可能に構成されている。振動板８５上のキャビティ８１に相当する位置には圧電体素子８７が配設されている。圧電体素子８７はＰＺＴ素子等の圧電性セラミックスの結晶を上部電極および下部電極（図示せず）で挟んだ構造を備える。圧電体素子８７は制御装置ＣＯＮＴから供給される吐出信号に対応して体積変化を発生可能に構成されている。
【００４５】
液滴吐出ヘッド２０から液滴を吐出するには、まず、制御装置ＣＯＮＴが液滴を吐出させるための吐出信号を液滴吐出ヘッド２０に供給する。液滴は液滴吐出ヘッド２０のキャビティ９１に流入しており、吐出信号が供給された液滴吐出ヘッド２０では、その圧電体素子８７がその上部電極と下部電極との間に加えられた電圧により体積変化を生ずる。この体積変化は振動板８５を変形させ、キャビティ９１の体積を変化させる。この結果、そのキャビティ９１のノズル８１から液滴が吐出される。液滴が吐出されたキャビティ９１には吐出によって減った液体材料が新たにタンク３０から供給される。
本実施形態に係る液滴吐出装置ＩＪに備えられた液滴吐出ヘッド２０は、圧電体素子に体積変化を生じさせて液滴を吐出させる構成であるが、発熱体により液体材料に熱を加えその膨張によって液滴を吐出させるような構成であってもよい。
【００４６】
図５に戻り、基板Ｐ上に設けられる液体材料は、液体材料調整装置Ｓにより生成される。液体材料調整装置Ｓは、液体材料を収容可能なタンク３０と、タンク３０に取り付けられ、このタンク３０に収容されている液体材料の温度を調整する温度調整装置３２と、タンク３０に収容されている液体材料を攪拌する撹拌装置３３とを備えている。温度調整装置３２はヒータにより構成されており、タンク３０内の液体材料を任意の温度に調整する。温度調整装置３２は制御装置ＣＯＮＴにより制御され、タンク３０内の液体材料は温度調整装置３２により温度調整されることで所望の粘度に調整される。
タンク３０はパイプ（流路）３１を介して液滴吐出ヘッド２０に接続しており、液滴吐出ヘッド２０から吐出される液体材料の液滴はタンク３０からパイプ３１を介して供給される。また、パイプ３１を流れる液体材料は不図示のパイプ温度調整装置によって所定の温度に制御され、粘度を調整される。更に、液滴吐出ヘッド２０から吐出される液滴の温度は、液滴吐出ヘッド２０に設けられた不図示の温度調整装置により制御され、所望の粘度に調整されるようになっている。
【００４７】
＜有機ＥＬ装置の製造手順＞
次に、上述した液滴吐出装置ＩＪを用いて本発明に係る有機ＥＬ装置の製造手順について、図８及び図９を参照して説明する。
【００４８】
まず、図８（ａ）に示すように、ガラス基板などの基板Ｐ上に、駆動用ＴＦＴ１４３を形成し、これと電気的に接続された画素電極１４１を形成した後、画素電極１４１の周縁部に沿って、無機バンク１４９及び（有機）バンク１５０を形成する。
バンク１５０は、区画壁として機能する部材であり、バンク１５０の形成はリソグラフィ法や印刷法等、任意の方法で行うことができる。例えば、リソグラフィ法を使用する場合は、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコート、ディップコート等所定の方法で、基板Ｐ上にバンクの高さに合わせて有機系感光性材料を塗布し、その上にレジスト層を塗布する。そして、バンク形状（画素配置）に合わせてマスクを施しレジストを露光・現像することによりバンク形状に合わせたレジストを残す。最後にエッチングしてマスク以外の部分のバンク材料を除去する。また、下層が無機物または有機物で機能液に対し親液性を示す材料で、上層が有機物で撥液性を示す材料で構成された２層以上でバンク（凸部）を形成してもよい。
バンクを形成する有機材料としては、液体材料（正孔輸送層形成材料、発光層形成材料、中間層形成材料）に対してもともと撥液性を示す材料でも良いし、後述するように、プラズマ処理による撥液化が可能で下地基板との密着性が良くフォトリソグラフィによるパターニングがし易い絶縁有機材料でも良い。例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、オレフィン樹脂、メラミン樹脂等の高分子材料を用いることが可能である。
【００４９】
次に、バンク間におけるバンク形成時のレジスト（有機物）残渣を除去するために、基板Ｐに対して残渣処理を施す。
残渣処理としては、紫外線を照射することにより残渣処理を行う紫外線（ＵＶ）照射処理や大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするＯ２プラズマ処理等を選択できるが、ここではＯ２プラズマ処理を実施する。このような処理を施すことにより、画素電極１４１上の親液性を高めることができる。
【００５０】
続いて、バンク１５０に対し撥液化処理を行い、その表面に撥液性を付与する。撥液化処理としては、例えば大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理法（ＣＦ４プラズマ処理法）を採用することができる。
なお、処理ガスとしては、テトラフルオロメタン（四フッ化炭素）に限らず、ＳＦ６、ＣＨＦ３等、他のフルオロカーボン系のガスを用いることもできる。
このような撥液化処理を行うことにより、バンク１５０にはこれを構成する樹脂中にフッ素基が導入され、高い撥液性が付与される。なお、上述した親液化処理としてのＯ２プラズマ処理は、バンク１５０の形成後に行ってもよいが、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等は、Ｏ２プラズマによる前処理がなされた方がよりフッ素化（撥液化）されやすいという性質があるため、バンク１５０を形成する前にＯ２プラズマ処理することが好ましい。
【００５１】
なお、このような撥液処理を基体の一面側全体に施したとしても、ＩＴＯ膜や金属膜からなる無機材料の画素電極１４１や無機バンク１４９の表面は、有機材料からなるバンク１５０の表面よりも撥液化されにくく、バンク１５０の表面のみが選択的に撥液化され、バンク１５０に囲まれる領域内に液体材料に対する親和性の異なる複数の領域が形成される。
なお、上記の駆動用ＴＦＴ１４３や画素電極１４１、バンク１４９については、公知の製造方法を適用すればよく、本明細書ではその製造工程についての説明は省略している。
【００５２】
次に、図８（ｂ）に示すように、基板Ｐの上面（バンク１５０の開口部）を上に向けた状態で、先に記載の正孔輸送層形成材料を含む液体材料１１４ａを液滴吐出ヘッド２０によりバンク１５０に囲まれた塗布位置に選択的に塗布する。正孔輸送層を形成するための液体材料１１４ａは、図５に示した液体材料調整装置Ｓにより調製され、正孔輸送層形成材料及び溶媒を含むものであり、例えばＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの分散液を使用する。本実施形態において、液滴吐出法にて正孔輸送層を形成しているが、基板上に形成した非親和性（撥液性）を示す部位と親和性（親液性）を示す部位を利用して、スリットコート（或いはカーテンコート）、ダイコート法により正孔輸送層を形成することも可能である。
上述した正孔輸送層形成用材料を含む液体材料１１４ａが液滴吐出ヘッド２０より基板Ｐ上に吐出されると、流動性が高いため水平方向に広がろうとするが、塗布された位置を囲んでバンク１５０が形成されているので、液体材料１１４ａはバンク１５０を越えてその外側に広がらないようになっている。
【００５３】
続いて、加熱あるいは光照射により液体材料１１４ａの溶媒を蒸発させて画素電極１４１上に固形の正孔輸送層１４０Ａを形成する。あるいは、大気環境下又は窒素ガス雰囲気下において所定温度及び時間（一例として２００℃、１０分）焼成するようにしてもよい。あるいは大気圧より低い圧力環境下（真空環境下）に配置することで溶媒を除去するようにしてもよい。
【００５４】
続いて、正孔輸送層１４０Ａ上に中間層１５５を製膜する。
本実施の形態では、化学気相蒸着法、浸漬法、スピンコート法、液滴吐出法を用いて中間層１５５を製膜する場合について説明する。
【００５５】
（化学気相蒸着法）
上記の製造手順で正孔輸送層１４０Ａが形成された基板Ｐをテフロン製容器300mlに入れ、中間層としての有機薄膜を形成する材料、フェニルトリエトキシシランをサンプルビン20ml中に20μl入れた後、ふたをせずにテフロン容器中に基板とともに入れる。その後、テフロン製容器を密栓し、電気炉の中に置く。温度を120℃まで上げて１時間保持し、その後電気炉の中から取り出して、図９（ａ）に示すように、正孔輸送層１４０Ａ上に中間層１５５を形成する。
【００５６】
膜厚はエリプソメータで測定した。原子力顕微鏡(AFM)、Ｘ線を用いた測定(XPS)によりフェニルトリエトキシシラン膜の形成が同定された。１時間堆積させたフェニルトリエトキシシラン膜の製膜前後における水および発光層形成材料に対する接触角を表１に示す。      
【００５７】
【表１】
2006013139.tif 000003
水に対する接触角が増加し、発光材料に対する接触角が減少していることから親油性の親和膜が形成されていることが確認された。また、フェニルトリエトキシシラン膜の表面エネルギーを水、ヨウ化メチレン、ヘキサデカンとの接触角から算出したところ、35mN/mであった。化学吸着膜を形成しないSi-OHは80mN/mであった。
【００５８】
この中間層１５５は、例えば中間層形成材料としてフェニルトリエトキシシランが含まれている場合、加水分解性基（Ｘ”基）が正孔輸送層１４０Ａ表面に優先的に吸着し、非極性基であるフェニル基が中間層１５５の表面に整然と配列された単分子膜又はその積層膜となる。この中間層１５５は、単分子層〜１０分子層程度にごく薄く形成することが好ましく、このように薄く形成すれば、正孔輸送層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間の電荷移動度を損なうことなく十分な効果が得られる。
【００５９】
（浸漬法）
ガラス製染色バット（44×98×41mm）にベンジルトリメトキシシランを１wt％で溶解させたトルエン溶液を100ml浸し、その中に基板を入れて25℃で１時間浸漬する。取り出した基板を脱水トルエンで２回洗浄して余分な有機薄膜を除去し、正孔輸送層１４０Ａ上に中間層１５５を形成する。
浸漬法においても、化学気相蒸着法と同様に、正孔輸送層１４０Ａ上に中間層１５５の薄膜が得られる。
【００６０】
（液滴吐出法）
図８（ｃ）に示すように、基板Ｐの上面を上に向けた状態で液滴吐出ヘッド２０より、先に記載の中間層形成材料と溶媒とを含む液体材料１１５をバンク１５０内の正孔注入層１４０Ａ上に選択的に塗布する。このとき、バンク１５０は液体材料１１５に対する撥液性を付与されているため、液体材料１１５がバンク１５０上に着弾した場合でもはじかれてバンク１５０内に溜まるため、バンク１５０の表面に中間層１５５が形成されることを防止できる。
その後溶媒を蒸発させると、図９（ａ）に示すような中間層１５５が得られる。
【００６１】
このように、正孔輸送層１４０Ａ上に中間層１５５が形成されると、次に、図９（ｂ）に示すように、発光層形成材料を含む液体材料１１４ｂを液滴吐出ヘッド２０から吐出して、発光層形成材料と溶媒とを含む液体材料１１４ｂをバンク１５０内の中間層１５５上に塗布する。本実施形態の場合、この液体材料１１４ｂの溶媒には、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の非極性溶媒を用いるのがよい。上記フェニルトリエトキシシランの非極性基との親和性に優れるからである。
このように液体材料１１４ｂを塗布すると、中間層１５５の作用により、液体材料１１４ｂは中間層１５５の表面で良好に濡れ広がり、均一にバンク１５０内に充たされる。
【００６２】
このとき、中間層１５５が形成されない状態で正孔輸送層１４０Ａ上に発光層形成材料を含む液体材料１１４ｂを吐出した場合には親和性が低いため、図１０（ａ）に示すように、液滴の濡れ拡がりが十分ではなかったが、中間層１５５を介して正孔輸送層１４０Ａ上に発光層形成材料を含む液体材料１１４ｂを吐出した場合には親和性が向上しているため、図１０（ｂ）に示すように、十分に液滴が濡れ拡がり均一な厚さの発光層を得ることができた。
【００６３】
尚、複数色の有機ＥＬ素子が基板上に配列されたカラー表示が可能な有機ＥＬ装置を製造する場合、液体材料１１４ｂの吐出による発光層の形成は、赤色の発色光を発光する発光層形成材料（例えばシアノポリフェニレンビニレン）を含む液体材料、緑色の発色光を発光する発光層形成材料（例えばポリフェニレンビニレン）を含む液体材料、青色の発色光を発光する発光層形成材料（例えばポリフェニレンビニレンおよびポリアルキルフェニレン、いずれもケンブリッジ・ディスプレイ・テクノロジー社製であり、液状で入手可能）を含む液体材料を、それぞれ対応するバンク１５０内部（画素７１）に吐出し塗布することによって行う。なお、各色に対応する画素７１は、これらが規則的な配置となるように予め決められている。
【００６４】
このようにして各色の発光層形成用材料を含む液体材料１１４ｂを吐出し塗布したならば、液体材料１１４ｂ中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図９（ｃ）に示すように正孔注入層１４０Ａ上に固形の発光層１４０Ｂが形成される。上記中間層１５５により液体材料１１４ｂは均一に塗布されているので、得られる発光層１４０Ｂもその膜厚、膜質が均一なものとなる。
【００６５】
これにより正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとからなる有機機能層１４０が得られる。ここで、発光層形成用材料を含む液体材料１１４ｂ中の溶媒の蒸発については、必要に応じて加熱あるいは減圧等の処理を行うが、発光層形成用材料は通常乾燥性が良好で速乾性であることから、特にこのような処理を行うことなく、したがって各色の発光層形成用材料を順次吐出塗布することにより、その塗布順に各色の発光層１４０Ｂを形成することができる。
【００６６】
その後、図９（ｃ）に示すように、透明基板Ｐの表面全体に、あるいはストライプ状に、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる共通電極１５４を形成する。こうして、有機ＥＬ素子２００を製造することができる。尚、本実施形態において有機ＥＬ素子２００は画素電極１４１と正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂと共通電極１５４とを含むものである。
【００６７】
以上のように、本実施の形態では、中間層１５５が正孔輸送層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの親和性を向上させるので、相溶性を考慮して異なる溶媒を用いて発光層１４０Ｂを液滴吐出方式で形成する際にも、発光層形成材料を含む液体材料１１４ｂを濡れ拡がらせることが可能になり、正孔輸送層１４０Ａ上に均一な発光層１４０Ｂを形成することができる。
また、本実施の形態では、バンク１５０が正孔輸送層形成材料、発光層形成材料、中間層形成材料に対して撥液性を有しているので、バンク１５０に中間層が形成されることを防止できる。
【００６８】
（電子機器）
図１１は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視構成図である。
図１１（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１１（ａ）において、符号６００は携帯電話本体を示し、符号６０１は上記有機ＥＬ装置７０を表示手段として用いた表示部を示している。図１１（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１１（ｂ）において、符号７００は情報処理装置、符号７０１はキーボードなどの入力部、符号７０２は上記ＥＬ装置７０を表示手段として用いた表示部、符号７０３は情報処理装置本体を示している。図１１（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１１（ｃ）において、符号８００は時計本体を示し、符号８０１は上記有機ＥＬ装置７０を表示手段として用いた表示部を示している。
図１１（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、上記実施形態の有機ＥＬ装置７０を備えているので、高画質で、均一な明るさの表示が可能である。
【００６９】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【００７０】
例えば、上記実施形態では、正孔輸送層１４０Ａと発光層１４０Ｂとが中間層１５５を介して隣り合う構成としたが、これに限定されるものではなく、正孔輸送層１４０Ａの代わりに正孔注入層が設けられる構成であっても適用可能である。
また、上記実施の形態では、有機機能層１４０を正孔輸送層１４０Ａ、発光層１４０Ｂの２層からなる構成としたが、これに限定されるものではなく３層以上の多層構造としてもよく、例えば画素電極１４１と正孔輸送層１４０Ａとの間に正孔注入層を設けたり、発光層１４０Ｂと共通電極１５４との間に必要に応じて電子輸送層や電子注入層等を設けることもできる。これらの層を設けることで、駆動電圧の上昇を制御することができ、駆動寿命（半減期）も長くすることができる。
また、中間層１５５は有機ＥＬ素子２００につき１層のみである必要はなく、正孔輸送層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間の他に、画素電極１４１と共通電極１５４との間の任意の層間に複数の中間層１５５を設けることができる。
【００７１】
さらに、上記実施の形態では、基板Ｐ側から正孔輸送層１４０Ａ、発光層１４０Ｂが製膜される構成としたが、基板Ｐ側から発光層１４０Ｂ、正孔輸送層１４０Ａが製膜される構成であってもよい。この場合、発光層１４０Ｂ上に親和膜としての中間層１５５を製膜し、さらに中間層１５５上に正孔輸送層１４０Ａを製膜すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の実施形態に係る有機ＥＬ装置の回路構成図である。
【図２】１画素を示す平面構成図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線に沿う断面構成図である。
【図４】中間層の結合状態を示す図である。
【図５】実施形態に係る液滴吐出装置の斜視構成図である。
【図６】液滴吐出ヘッドの分解斜視図である。
【図７】液滴吐出ヘッドの拡大斜視構成図である。
【図８】実施形態に係る製造工程を示す断面工程図である。
【図９】実施形態に係る製造工程を示す断面工程図である。
【図１０】発光層形成材料の液滴の濡れ拡がり状態を示す図である。
【図１１】本発明に係る電子機器の例を示す図である。
【符号の説明】
【００７３】
７０…有機ＥＬ装置、  １４０Ａ…正孔輸送層、  １４０Ｂ…発光層、  １５０…バンク（区画壁）、  １５５…中間層（親和膜）、  ２００…有機ＥＬ素子、  ６００…携帯電話本体（電子機器）、  ７００…情報処理装置（電子機器）、  ８００…時計本体（電子機器）
【図１】
2006013139.tif 000004
【図２】
2006013139.tif 000005
【図３】
2006013139.tif 000006
【図４】
2006013139.tif 000007
【図５】
2006013139.tif 000008
【図６】
2006013139.tif 000009
【図７】
2006013139.tif 000010
【図８】
2006013139.tif 000011
【図９】
2006013139.tif 000012
【図１０】
2006013139.tif 000013
【図１１】
2006013139.tif 000014