(57)【要約】【課題】  簡便であり、作成した遮光膜は色調が黒色で光学濃度が高く、更に画像部と非画像部の厚み差が少ない、遮光膜の製造方法の提供。【解決手段】  ハロゲン化銀乳剤の少なくとも一部を転写性銀錯塩として、銀沈積剤を含有する受像層に拡散し銀微粒子を形成させ、次いで該受像層を露光し画像を形成した後、非画像部を除去する遮光膜の製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハロゲン化銀乳剤の少なくとも一部を転写性銀錯塩として、銀沈積剤を含有する受像層に拡散し銀微粒子を形成させ、次いで該受像層を露光し画像を形成した後、非画像部を除去する遮光膜の製造方法。
【請求項２】
ハロゲン化銀乳剤の少なくとも一部を転写性銀錯塩として、銀沈積剤を含有する受像層に拡散し銀微粒子を形成する方法が、該受像層上のハロゲン化銀乳剤を含有する乳剤層と該受像層とを共に現像し、次いで乳剤層を除去する方法であることを特徴とする請求項１記載の遮光膜の製造方法。
【請求項３】
遮光膜が液晶表示装置のカラーフィルター用の遮光膜である請求項１又は２記載の遮光膜の製造方法。
【請求項４】
カラーフィルター用の遮光膜がブラックマトリックスである請求項３記載の遮光膜の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか１項記載の製造方法により得られた遮光膜。
【請求項６】
遮光膜形成用基板であって、基板上に銀沈積剤を含有する受像層を設けたことを特徴とする遮光膜形成用基板。
【請求項７】
受像層が光重合性組成物中に銀沈積剤を含有することを特徴とする請求項６記載の遮光膜形成用基板。
【請求項８】
受像層が銀微粒子を含有することを特徴とする請求項６又は７記載の遮光膜形成用基板。
【請求項９】
基板上に像様遮光膜を形成する方法であって、銀沈積剤を含有する受像層を有する基板に、ハロゲン化銀乳剤を含有する乳剤層を隣接もしくは近接させて配置し、現像液の存在下で現像して該乳剤の少なくとも一部を転写性銀錯塩として該受像層に拡散させ銀微粒子を形成し、次いで該受像層を像様露光して遮光画像を形成させ、その後に非画像部を除去することを特徴とする像様遮光膜の形成方法。
【請求項１０】
銀微粒子形成後に乳剤層を除去することを特徴とする請求項９記載の像様遮光膜の形成方法。
【請求項１１】
請求項９又は１０記載の形成方法で像様遮光膜を形成し、その後に画素を形成するカラーフィルタの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等の表示装置に用いる遮光膜及びその製造方法に関する。
ここで言う表示装置用の遮光膜とは、液晶、プラズマディスプレイ、有機ＥＬ、ＣＲＴ等の表示装置の周辺部分に設けられた黒色の縁や、これらの表示装置の青、赤、緑色画素の周囲に設けられた格子状やストライプ状の黒色の縁（ブラックマトリックス）として用いる遮光膜である。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用の遮光膜の形成方法としては、幾つかの方法が知られている。
例えば、カーボンブラックを含有する感光性樹脂組成物を塗布する方法が挙げられる（特許文献１を参照）。
この方法は、製造コストは低いものの、カーボンブラックは単位塗布量当りの光学濃度が低いため、金属膜と同等の高い遮光性を確保するためには、カーボンブラック含有層の膜厚を厚くしなければならない。その結果、ブラックマトリックスの場合、ブラックマトリックスと画素との重なり（段差）が大きくなり、カラーフィルターの平坦性が悪くなって液晶表示素子のセルギャップムラが発生し、色ムラ等の表示不良につながるとうい問題が生じていた。
また、前記のごとき方法によりブラックマトリックスを作製した後にＲＧＢ画素を形成すると、ＲＧＢ画素形成面は平坦ではないためＲＧＢ画素形成の際、欠陥（気泡発生等）を生じることがあった。
【０００３】
これに対し、薄い膜でも高い遮光性を有するブラックマトリックスとして金属膜を用いる方法が知られている。例えば、クロム等の金属膜を遮光層とする場合には、遮光層は、金属薄膜を蒸着法やスパッタリング法により作製し、該金属薄膜の上にフォトレジストを塗布し、次いでブラックマトリックス用パターンをもつフォトマスクを用いてフォトレジスト層を露光現像し、その後露出した金属薄膜をエッチングし、最後に金属薄膜上のレジスト層を剥離することにより形成される（例えば以下の非特許文献１を参照）。
この方法は、金属薄膜を用いるため、膜厚が小さくても高い遮光効果が得られる反面、蒸着法やスパッタリング法という真空成膜工程やエッチング工程が必要となり、コストが高くなるとともに環境に対する負荷も無視できないという問題がある。また、金属膜であるため反射率が高く、強い外光の下では表示コントラストが低いという問題もある。これに対しては低反射クロム膜（金属クロムと酸化クロムの２層からなるもの等）を用いるという手段があるが、更にコストアップとなることは否めない。
【０００４】
このように、薄い膜でも十分な光学濃度を有し、着色画素形成の際、欠陥を生じることがなく、かつ低コストで作製が可能なブラックマトリックスは未だ提供されていないのが現状である。
【特許文献１】特開昭６２−９３０１号公報
【非特許文献１】共立出版（株）発行「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ」第２１８〜２２０頁（１９９７年４月１０日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、本発明の目的は、薄い膜でも十分な光学濃度が得られる遮光膜及びその工業的に有利な製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
斯かる実状に鑑み、本発明者は鋭意研究を行った結果、次の方法によれば、工業的に有利に遮光膜が得られ、かつ該遮光膜は薄くとも十分な光学濃度が得られることを見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は、次の方法及びこの方法で得られた遮光膜を提供するものである。
【０００７】
＜１＞  ハロゲン化銀乳剤の少なくとも一部を転写性銀錯塩として、銀沈積剤を含有する受像層に拡散し銀微粒子を形成させ、次いで該受像層を露光し画像を形成した後、非画像部を除去する遮光膜の製造方法。
【０００８】
＜２＞  ハロゲン化銀乳剤の少なくとも一部を転写性銀錯塩として、銀沈積剤を含有する受像層に拡散し銀微粒子を形成する方法が、該受像層上のハロゲン化銀乳剤を含有する乳剤層と該受像層とを共に現像し、次いで乳剤層を除去する方法であることを特徴とする＜１＞記載の遮光膜の製造方法。
【０００９】
＜３＞  遮光膜が液晶表示装置のカラーフィルター用の遮光膜である＜１＞又は＜２＞記載の遮光膜の製造方法。
【００１０】
＜４＞  カラーフィルター用の遮光膜がブラックマトリックスである＜３＞記載の遮光膜の製造方法。
【００１１】
＜５＞  ＜１＞〜＜４＞の何れか１項記載の製造方法により得られた遮光膜。
【００１２】
＜６＞  遮光膜形成用基板であって、基板上に銀沈積剤を含有する受像層を設けたことを特徴とする遮光膜形成用基板。
【００１３】
＜７＞  受像層が光重合性組成物中に銀沈積剤を含有することを特徴とする＜６＞記載の遮光膜形成用基板。
【００１４】
＜８＞  受像層が銀微粒子を含有することを特徴とする＜６＞又は＜７＞記載の遮光膜形成用基板。
【００１５】
＜９＞  基板上に像様遮光膜を形成する方法であって、銀沈積剤を含有する受像層を有する基板に、ハロゲン化銀乳剤を含有する乳剤層を隣接もしくは近接させて配置し、現像液の存在下で現像して該乳剤の少なくとも一部を転写性銀錯塩として該受像層に拡散させ銀微粒子を形成し、次いで該受像層を像様露光して遮光画像を形成させ、その後に非画像部を除去することを特徴とする像様遮光膜の形成方法。
【００１６】
＜１０＞  銀微粒子形成後に乳剤層を除去することを特徴とする＜９＞記載の像様遮光膜の形成方法。
【００１７】
＜１１＞  ＜９＞又は＜１０＞記載の形成方法で像様遮光膜を形成し、その後に画素を形成するカラーフィルタの形成方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の製造方法は、煩雑な操作、高額な設備を要せず、工業的に有利な方法であり、この方法で得られた表示装置用の遮光膜は、薄くとも十分な光学濃度を有し、黒色の色相にも優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明は、ハロゲン化銀乳剤の少なくとも一部を転写性銀錯塩として、銀沈積剤を含有する受像層に拡散し銀微粒子を形成させ、次いで該受像層を露光し画像を形成した後、非画像部を除去する遮光膜の製造方法である。
【００２０】
以下、本発明について、更に詳細に説明する。
（基板）
本発明における受像層は、通常、基板の上に設けられる。
本発明に用いる基板は特に限定されないが、表示装置等に用いられるガラス基板が好ましい。ガラス基板としては、ソーダガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラス等の公知のガラスを用いたガラス基板を用いることができる。基板の厚さは０．５〜３ｍｍが好ましく、０．６〜２ｍｍ程度がより好ましい。ガラス基板については、例えば「液晶ディスプレイ工学入門（鈴木ハナニ著、日刊工業新聞社発行（１９９８年））」に記載されているものを使用することができる。また、シクロオレフィン系の透明ポリマー等も用いることができる。ガラス基板およびプラスチック基板については例えば「反射型カラーLCD総合技術（内田  龍男著  （株）シーエムシー  1999年発行）」157ページ
に記載されている。
【００２１】
（受像層）
本発明において、受像層は、通常基板の上に設けられる。受像層は少なくともバインダーと銀沈積剤を含有する。
受像層を基板上に設ける方法としては、以下の方法が挙げられる。
Ａ．受像層用塗布液を基板上に塗布して乾燥する方法。
Ｂ．仮支持体上に設けられた受像層を基板に転写する方法。
ここで、受像層の厚さは０．０５〜２０μｍが好ましく、特に０．０５〜０．５μｍ程度が好ましい。
【００２２】
本発明において、受像層には、公知の光重合性組成物を用いることができる。この光重合性組成物は、公知のポリマー、モノマー、光重合開始剤等を含んでいてもよく、特に重合前は、アルカリ可溶性のポリマーをバインダーとして用いたものが好ましい。好ましい光重合性組成物の具体例としては、例えば、特開平５−２１０７号［００２１］〜［００２５］に記載のものが挙げられる。
【００２３】
＜受像層バインダー＞
アルカリ可溶性ポリマーとしては、アクリル酸及び／又はメタクリル酸とスチレンやアクリレートの共重合体が好ましい。アクリレートとしては、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレートなどが好ましい。
具体的なアルカリ可溶性ポリマーの例として以下のようなものが挙げられる。
Ｐ−１：アクリル酸／ベンジルアクリレート＝３／７（Ｍｎ＝４０００）
Ｐ−２：メタクリル酸／ベンジルアクリレート＝４／７（Ｍｎ＝３０００）
Ｐ−４：アクリル酸／ベンジルアクリレート／メチルメタクリレート＝３／３／４
（Ｍｎ＝４００００）
Ｐ−５：アクリル酸／メタクリル酸／メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリ        レート＝２／２／３／３（Ｍｎ＝９０００）
【００２４】
多官能モノマーとしては特に多官能アクリルモノマーが好ましく具体的には以下のようなものが挙げられる。
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１−４ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等。
【００２５】
光重合開始剤としてはハロメチルオキサジアゾール系化合物、ハロメチル−ｓ−トリアジン系化合物などが好ましい。中でもビス［４−［Ｎ−［４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル］カルバモイル］フェニル］セバケートは好ましい。これらの添加量は受像層中の質量％で次の範囲が好ましい。
アルカリ可溶性ポリマー：１０〜５０質量％
多官能モノマー        ：１０〜５０質量％
光重合開始剤          ：１〜２０質量％
【００２６】
＜銀沈積剤＞
受像層には銀沈積剤が含まれる。これはハロゲン化銀乳剤が溶解した転写性銀錯塩を現像主薬が還元して銀微粒子を形成する働きを助ける化合物である。銀沈積剤の具体例としては鉄、鉛、亜鉛、ニッケル、スズ、銅、クロム、コバルトなどの重金属や金、銀（コロイド銀を含む）、白金、パラジウムなどの貴金属を挙げることができる。また、貴金属の硫化物やセレン化物、例えば水銀、銅、亜鉛、銀、パラジウムなどの硫化物や鉛、亜鉛、アンチモンなどのセレン化物なども好ましい銀沈積剤である。さらにあらかじめ被らせたハロゲン化銀も現像により還元されて金属銀になるので、銀沈積剤の働きをする。
銀沈積剤は、受像層に通常微小な微粒子の形で含まれる、この微粒子の平均粒子サイズは３００ｎｍ以下であり、好ましくは２〜６０ｎｍである。銀沈積剤の塗布量は０．００５〜０．２ｇ／ｍ2が好ましく、特に好ましくは０．０１〜０．３ｇ／ｍ2である。
【００２７】
受像層は、受像層用塗布液を基板の上に塗布することにより形成される。受像層用塗布液は、例えば、受像層のバインダー溶液に銀沈積剤を添加することにより、また、受像層のバインダー溶液中で銀沈積剤を生成させることにより調製することができる。
受像層は仮支持体上に設けた受像層をラミネーションにより基板上に転写させて設けることもできる。
【００２８】
［受像層中の銀の拡散方法］
ハロゲン化銀乳剤の少なくとも一部を転写性銀錯塩として、銀沈積剤を含有する受像層に拡散し銀微粒子を形成する方法としては、次の方法が挙げられる。
（１）基板上に、塗布により受像層と乳剤層を設け、現像した後、乳剤層を除去する方    法。
（２）仮支持体上に乳剤層が設けた材料を作製する。ついで、この材料と、受像層が設    けられた基板とを現像液を介在させて重ね合わせて現像し、その後、乳剤層を除去    する方法。
これら２つの方法の内、（１）の方法が好ましい。
この方法は、いわゆる銀塩写真の拡散転写法を応用したものである。
（１）及び（２）の何れの方法においても、受像層と乳剤層は塗布又はラミネーションにより設けることもでき、乳剤層を除去する行程は、乳剤層を溶解することにより除去してもよく、乳剤層を受像層と剥離することにより乳剤層を除去してもよい。
【００２９】
（ハロゲン化銀乳剤、乳剤層）
＜ハロゲン化銀乳剤＞
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤としては銀塩写真の拡散転写法で用いられる感光性ハロゲン化銀乳剤が挙げられる。例えば、ハロゲン化銀としては臭化銀、塩化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、塩沃化臭化銀などを用いることができるが．特に沃化銀含有量１〜１０モル％である沃臭化銀または塩沃化臭化銀が好ましい。ハロゲン化銀粒子の形状には特に制限は無く立方体、八面体、平板状、球状あるいはこれらの複合したものなどを用いることができる。ハロゲン化銀粒子の平均粒径（球形に近似させた時の直径で表す）にも特に制限は無いが、４μｍ以下のものが好ましく、０．２〜２μｍの範囲のものがより好ましい。本発明の感光性ハロゲン化銀乳剤は公知の方法で化学増感、分光増感を行ってもよい。
【００３０】
本発明に用いる感光性ハロゲン化銀乳剤は、グラフキデ（ P.Glafkides) 著、「写真の化学と物理（Chimie et Phisique Photographique ) 」、ポール・モンテル（Paul Montel)社刊（１９６７年）；ダフィン（G. F. Duffin) 著、「写真用乳剤の化学（Photographic Emulsion Chemistry)」、フォーカル・プレス（Focal press)社刊（１９６６年）；ツェリクマン他（V.L.Zelikman et al) 著、「写真用乳剤の調製と塗布（Making and Coating Photographic Emulsions ）」、フォーカル・プレス（Focal Press)社刊（１９６４年）などに記載された方法を用いて調製することができる。すなわち、酸性法、中性法、アンモニア法などのいずれでも良く、また可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合法、およびそれらの組み合わせなどのいずれの方法を用いても良い。粒子を銀イオン過剰の雰囲気下で形成させる方法（いわゆる逆混合法）を用いることもできる。同時混合法の一つの形式として、ハロゲン化銀の生成する液相中のｐＡｇを一定に保つ方法、すなわちコントロールド・ダブルジェット法を用いることもできる。この方法によると、結晶形が規則的で、粒子サイズが均一に近いハロゲン化銀乳剤を得ることができる。さらに、粒子サイズが均一に近い平板状のハロゲン化銀を得る方法としては、例えば、米国特許４，７９７，３５４号の技術を利用することができる。
また、本発明において用いる感光性ハロゲン化銀乳剤については例えば特開平５−４５８２６号明細書に詳細に記載されており、その技術を利用することができる。
遮光膜としての光学濃度を達成するためには、本発明の乳剤層における感光性ハロゲン化銀の量は銀として、０．３〜７．０ｇ／ｍ2程度、好ましくは１．０〜５．０ｇ／ｍ2程度である。
【００３１】
＜バインダー＞
乳剤層のバインダーとしてはゼラチンが最も好ましい。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼラチンなどを用いることができる。さらにフタル化ゼラチンのような変性ゼラチンを用いることもできる。ゼラチンについては、例えばT.H.James（ティー  エイチ  ジェームズ）著「The Theory of the photographic Process（ザ  セオリー  オブ  ザ  フォトグラフィックプロセス）」（Macmillan Publishing Co.,Inc.（マクミラン  パブリッシング社）発行）に記載されている。
乳剤層のバインダーとして、ゼラチン以外にカゼインやアルブミンなどのタンパク質、ヒドロキシエチルセルロースやカルボキシメチルセルロースのようなセルロース誘導体、ポリビニルアルコールやポリビニルピロリドンなどの合成高分子を用いることができる。
【００３２】
乳剤層にはバインダーとハロゲン化銀乳剤以外に必要に応じて硬膜剤、塗布助剤（界面活性剤）、染料、紫外線吸収剤などを添加してもよい。これらの化合物の具体的な例は例えば特開平５−４５８２６号公報に記載されている。
乳剤層の膜厚は、０．３〜３０μｍ、特に１．０〜１０μｍ程度が好ましい。
【００３３】
乳剤層を受像層又は仮支持体の上に設ける方法としては、前記ハロゲン化銀乳剤やバインダー等を含む乳剤層塗布液を受像層等の上に塗布して乾燥する方法やラミネートする方法を用いることができ、前記乳剤層塗布液を塗布後乾燥する方法が好ましい。塗布の方法は銀塩写真の分野で知られている公知の方法を用いることができる。
また、受像層等に乳剤層をラミネートにより設ける方法は、仮支持体の上に乳剤層を設けたものを用い、これを受像層の上にラミネートし転写形成する。この際、良好なラミネートを行うために、仮支持体と乳剤層との間に熱可塑性樹脂層を設けることが好ましい。
仮支持体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート等のポリエステル、三酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン類、ポリエチレンで被覆された紙、ポリスチレン等のシートが挙げられる。なかでも２軸延伸したポリエチレンテレフタレートはコスト、耐熱性、寸法安定性の観点から好ましい。  仮支持体の厚さは、５〜３００μｍが好ましく、特に２０〜２００μｍ程度が好ましい。３００μｍ以上のものは、コスト上不利であり、５μｍ未満のものは、強度が十分でないことがある。
【００３４】
更に、熱可塑性樹脂層を構成する樹脂は、必ずしも必須ではないがアルカリ可溶であることが望ましい。この場合、熱可塑性樹脂層を構成する樹脂として、エチレン／アクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレン／（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレン／（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸エステル３元共重合体、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、並びに、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチックエ業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著  工業調査会発行、１９６８年１０月２５目発行）による有機高分子のうち、アルカリ水溶液に可溶なもの、等から少なくとも一種を適宜選択することができる。
【００３５】
これらの樹脂は、以下のように樹脂Ａ及びＢの２種類を混合して用いることが好ましい。即ち、
上記の樹脂の中で、重量平均分子量５万〜５０万（ガラス転移温度Ｔｇ＝０〜１４０℃）の範囲にある樹脂（以下、「樹脂Ａ」ともいう。）から、好ましくは重量平均分子量６万〜２０万（Ｔｇ＝３０〜１１０℃）の範囲にある樹脂から選択したものを使用できる。
【００３６】
樹脂Ａの具体例としては、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５５−３８９６１号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭６１−１３４７５６号、特公昭５９−４４６１５号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５４−９９４１８号、特開昭５４−１３７０８５号、特開昭５７−２０７３２号、特開昭５８−９３０４６号、特開昭５９−９７１３５号、特開昭６０−１５９７４３号、ＯＬＳ３５０４２５４号、特開昭６０−２４７６３８号、特開昭６０−２０８７４８号、特開昭６０−２１４３５４号、特開昭６０−２３０１３５号、特開昭６０−２５８５３９号、特開昭６１−１６９８２９号、特開昭６１−２１３２１３号、特開昭６３−１４７１５９号、特開昭６３−２１３８３７号、特開昭６３−２６６４４８号、特開昭６４−５５５５１号、特開昭６４−５５５５０号、特開平２−１９１９５５号、特開平２−１９９４０３号、特開平２−１９９４０４号、特開平２−２０８６０２号、特願平４−３９６５３号の各明細書（公報）に記載の、アルカリ水溶液に可溶な樹脂が挙げられる。特に好ましいものは、特開昭６３−１４７１５９号公報に記載の、メタクリル酸／２一エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メチルメタクリレート共重合体である。
【００３７】
また、上記した種々の樹脂の中で、重量平均分子量３千〜３万（Ｔｇ＝３０〜１７０℃）の範囲にある樹脂（以下、「樹脂Ｂ」ともいう。）から、好ましくは重量平均分子量４千〜２万（Ｔｇ＝６０〜１４０℃）の範囲にある樹脂から、選択したものを使用できる。樹脂Ｂの好ましい具体例は、上記樹脂Ａの具体例として挙げた各明細書（公報）に記載のものの中から選ぶことができるが、特に好ましくは、特公昭５５−３８９６１号、特開平５−２４１３４０号に記載のスチレン／（メタ）アクリル酸共重合体である。
【００３８】
熱可塑性樹脂層を構成する樹脂Ａは、その重量平均分子量が５万未満であったり、Ｔｇが０℃未満であると、レチキュレーションの発生や、転写中に熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して永久支持体を著しく汚染することがある。また、樹脂Ａの重量平均分子量が５０万を越えたり、Ｔｇが１４０℃を越えると、転写時に画素間に気泡が入ったり、熱可塑性樹脂のアルカリ水溶液除去性が著しく低下することがある。
【００３９】
熱可塑性樹脂層を構成する樹脂Ｂは、その重量平均分子量が３千未満であったり、Ｔｇが３０℃未満であると、レチキュレーションの発生や、転写中に熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して永久支持体を著しく汚染することがある。樹脂Ｂの重量平均分子量が３万を越えたり、Ｔｇが１７０℃を越えると、転写時に画素間に気泡が入ったり、熱可塑性樹脂のアルカリ水溶液除去性が低下することがある。
【００４０】
樹脂ＡとＢとを混合する場合の混合比において、樹脂Ａの全混合質量に占める割合としては、５〜９５質量％が好ましい。樹脂Ａの比率が９５％を越えると、転写時に画素間に気泡が入りやすくなることがあり、５％未満であると、熱可塑性樹脂が周囲にはみ出したり、熱可塑性樹脂層が脆くなって裁断工程で微細な切りくずが飛散し易くなることがある。
【００４１】
熱可塑性樹脂層には、仮支持体との接着力及び／又は転写性を調節する目的で、上記の樹脂と共に、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤等の可塑剤を加えることによって、熱可塑性樹脂層のＴｇを微調整することができる。
【００４２】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェートビフェニルジフェニルフォスフェート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂とポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、有機ジイソシアナートとポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、有機ジイソシアナートとポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、ビスフェノールＡとポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの縮合反応生成物、等が挙げられる。
【００４３】
前記可塑剤の添加量としては、熱可塑性樹脂層を構成する樹脂Ａ及びＢの合計量（質量）に対して、０〜２００質量％が好ましく、２０〜１００質量％がより好ましい。
【００４４】
熱可塑性樹脂層の層厚としては、６μｍ以上が好ましい。この理由としては、熱可塑性樹脂の層厚が６μｍ未満であると、１μｍ以上の下地の凹凸を完全に吸収することが不可能なためである。また、層厚の上限については、アルカリ水溶液除去性、製造適性から約１００μｍ以下、好ましくは約５０μｍ以下である。
【００４５】
熱可塑性樹脂層形成用の塗布液を調製する場合、一般に溶剤が用いられるが、該溶剤としては、この層を構成する樹脂を溶解する限り特に制限なく使用でき、例えば、メチルエチルケトン、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等が挙げられる。
【００４６】
［現像］
現像方法は特に制限は無く、拡散転写法のハロゲン化銀写真材料を現像する方法を用いることができる。
現像液は現像主薬、アルカリ剤、銀溶剤を含む。現像主薬としてはハイドロキノン．アミドール、メトール、ヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルヒドロキシルアミン、トリエタノールアミンなどの公知の現像主薬が使用可能である。アルカリ剤としては水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどの周知のアルカリ剤が使用できる。銀溶剤としてはナトリウムチオサルフェート、ナトリウムチオシアネート、アンモニウムチオサルフェート、ウラシルなどの拡散転写法のハロゲン化銀写真材料において公知の銀溶剤が使用できる。
現像液には必要に応じて、拡散転写法のハロゲン化銀写真材料において周知の、かぶり防止剤や安定剤を添加してもよい。
現像方法についても拡散転写法のハロゲン化銀写真材料の現像方法が特に制限無く使用できる。拡散転写法における現像液及び現像方法は、特開平５−４５８２６号公報の段落0047〜0053に詳細に説明されている。
【００４７】
本発明における転写性銀錯塩とは、拡散転写法のハロゲン化銀写真材料において公知のハロゲン化銀と現像液に含まれる銀溶剤との錯塩である。ハロゲン化銀の少なくとも一部を銀溶剤との転写性錯塩とし、該錯塩を受像層に拡散させると、現像剤中に含まれる現像主薬の作用により該錯塩が銀原子に還元され、これが受像層の銀沈積核（銀沈積剤からなる微粒子）に沈積して銀像を形成する。受像層中の銀沈積剤は前記還元反応を促進する。
本発明の銀像は通常５〜２０００ｎｍ程度のサイズである。銀像の色調は黒色が好ましく、この目的のため乳剤、乳剤層、受像層、現像液に色調剤を添加してもよい。色調剤は銀塩写真の拡散転写法で公知のものを用いることができる。
【００４８】
［乳剤層の除去］
また、乳剤層の除去は、乳剤層を剥離して除去する方法や、乳剤層を溶解して除去する方法があるが、これらに限定されるものではない。乳剤層を剥離する方法は、具体的には、予め乳剤層と受像層の間にシリコーン樹脂等をバインダーとする剥離層を設けるなどの方法がある。また、乳剤層を溶解して除去する方法は、乳剤層を溶解する溶液、例えば、パパイン（タンパク質分解酵素）や次亜塩素酸等の水溶液を用いて処理し、その後洗浄するなどの方法が挙げられる。
【００４９】
［露光］
上記の如くして銀像が形成された受像層は、パターン様に露光しアルカリ現像することにより遮光膜とすることができる。
露光に使用される光源は、受像層の感光性樹脂層の感光性に応じて選択される。例えば、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、アルゴンレーザー等の公知の光源を使用することができる。特開平６−５９１１９号公報に記載のように、４００ｎｍ以上の波長の光透過率が２％以下である光学フィルター等を併用しても良い。また、同様に特開平６−５９１１９号公報に記載のように、必要に応じて、あらかじめ基板上に形成される赤色、緑色、青色画素の、受像層の感光波長域における光透過率を２％以下にしても良い。
【００５０】
［アルカリ現像］
上記受像層の現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液を使用するが、さらに、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものを用いても良い。適当なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド）または燐酸三ナトリウムを挙げることができる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１重量％〜３０重量％であり、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【００５１】
上記水と混和性のある適当な有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンを挙げることができる。水と混和性の有機溶剤の濃度は、０．１〜３０重量％が一般的である。
【００５２】
現像液には、さらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１〜１０重量％が好ましい。
現像は、現像液に受像層等を５〜６００秒浸漬することにより行うことができる。
【００５３】
現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。現像は、現像液に受像層等を５〜６００秒浸漬等することにより行うことができる。遮光性の感光性樹脂組成物層の未硬化部分を固形状（好ましくは膜状）で除去するには、現像液中で回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法、あるいは現像液を噴霧した際の噴霧圧を利用する方法が好ましい。現像液の温度は、通常室温付近から４０℃の範囲が好ましい。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
【００５４】
［ブラックマトリックス］
続いて、本発明のブラックマトリックスについて説明する。
本発明のブラックマトリックスは前述のように液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置に使用できるが、このうち液晶表示装置に使用することは特に好ましい。
ブラックマトリックスの厚みは0.1〜0.8μｍ、より好ましくは0.2〜0.6μｍの範囲が望ましい。厚みが0.1μｍ未満になると遮光性が低下し、厚みが0.8μｍを超えるとこの後設ける赤、青、緑の画素の表面が平滑にならず色むらが発生する。
【００５５】
ブラックマトリックスの光学濃度は3.0以上、より好ましくは3.5以上が望ましい。光学濃度が3未満になるとコントラストが低下し、表示品位が低下する。
ブラックマトリックス中のコアシェル微粒子の体積分率には特に制限はないが、通常5〜70％、より好ましくは10〜50％程度の範囲が望ましい。体積分率が5％未満になると、必要な遮光性が得られなくかり、70％を超えるとブラックマトリックスが脆くなるという不都合が生じる。
本発明のブラックマトリックスの場合も一般的にカラーフィルターに要求される耐熱性、耐光性、耐薬品性、表面の平滑性、硬度などの性能が必要である。これらの要求性能についてはたとえば「カラーフィルターの成膜技術とケミカルズ(渡辺  順次監修、株式会社シーエムシー、1998年発行)」の189ページ、「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男著  工業調査会  1994年発行）」の117ページに記載されている。必要な性能は従来公知のブラックマトリックス同様、顔料/バインダー比、バインダー種、露光や熱処理条件などで制御することができる。
【００５６】
［カラーフィルター］
本発明のカラーフィルターは本発明のブラックマトリックスを設けた基板に更に、2色以上の色を呈する画素群、例えば赤、青及び緑色の画素群を設けたものである。
画素群の形成方法には特に制限はない。フォトリソ法、エッチング法、印刷法などの公知の方法を用いることができる。これらの方法についてはたとえば「カラーフィルターの成膜技術とケミカルズ(渡辺  順次監修、株式会社シーエムシー、1998年発行)」に記載されている。
【００５７】
これらの方法のうちフォトリソ法が好ましい。具体的な方法といては次のようなものがある。
第一は顔料や染料を含有するレジスト液を用いる方法である。この方法ではまず、レジストを基板に塗布、乾燥した後フォトマスクを介して露光してから現像してカラーフィルターを作成する。
第二は顔料や染料を含有する転写層を有する転写材料を用いる方法である。この方法ではまず、転写材料を基板にラミネートした後フォトマスクを介して露光してから現像してカラーフィルターを作成する。
【００５８】
本発明のカラーフィルターの画素群の配置方法(BRG画素パターン)には特に制限はなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状、格子状、デルタ配列状、ブロック状、市松状などの配置方法を用いることができる。また画素が凹凸のある形状であるTFT型も使用できる。これらの配置方法については例えば前述の「カラーフィルターの成膜技術とケミカルズ(渡辺  順次監修、株式会社シーエムシー、1998年発行)」の14ページに記載されている。
本発明のカラーフィルターの色度域についても従来のカラーフィルターと同様である。色度域およびこれに関係するバックライトについても例えば前述の「カラーフィルターの成膜技術とケミカルズ(渡辺  順次監修、株式会社シーエムシー、1998年発行)」の15ページに記載されている。
【００５９】
本発明のカラーフィルターの場合もブラックマトリックスのところで述べた耐熱性、耐光性、耐薬品性、表面の平滑性、硬度などの性能が必要である。
【００６０】
［表示装置］
本発明の表示装置としては液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などを言う。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  1990年発行
)」、「ディスプレイデバイス(伊吹  順章著、産業図書（株）  平成元年発行)」などに
記載されている。
本発明の表示装置のうち、液晶表示装置は特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  1994年発行）」
に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーTFT方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーTFT方式の液晶表示装置については例えば「カラーTFT液晶ディスプレイ(共立出版（株）1996年発行)」に記載されている。さらに本発明はもちろんIPSなどの横電界駆動方式、MVAなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ-技術と市場の最新動向-（東レリサーチセンター調査研究部門  2001年発行）」の43ページに記載されている。
【００６１】
液晶表示装置はカラーフィルター以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角保障フィルムなどさまざまな部材から構成される。本発明のブラックマトリックスはこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「'94液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎  （株）シーエムシー  1994年発行  ）」、「2003液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉  （株）富士キメラ総研  2003年発行）」
に記載されている。
【００６２】
［対象用途］
本発明のブラックマトリックスはテレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。
【実施例】
【００６３】
以下に実施例を示し本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
実施例１
［受像層の形成］
（受像層塗布液１）
メチルアルコール                                          ４０．０ｇ
メチルエチルケトン                                        ４０．０ｇ
Ｆ１７６ＰＦ（固形分２０％）（大日本インキ化学工業（株）製フッ素系界面活性剤）
０．１ｇ
ヒドロキノンモノメチルエーテル                          ０．００１ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  １５．０ｇ
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７／３
数平均分子量約３０００  のポリマーＡ                      ２５．０ｇ
ビス［４−［Ｎ−［４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル］カルバモイル］フェニル］セバケート                ０．１ｇ
【００６４】
上記（受像層塗布液１）に下記Ａ液を添加し、攪拌を続けながら、Ｂ液を１ｍｌ／秒の速度で添加した。添加後５分間撹拌を続け受像層塗布液とした。この塗布液の中には計算上酢酸セルロース１ｇあたり７×１０-3ｍ  ｍｏｌの硫化パラジウムが生成していることになる。
Ａ液：０．０１７５Ｍの硫化ナトリウム・９水塩水溶液１６ｍｌとアセトン２４ｍｌの混合物
Ｂ液：０．７０Ｍの４塩化パラジウム・２ナトリウム・３水塩水溶液４ｍｌとメタノール３６ｍｌの混合物
【００６５】
（受像層の形成）
ガラス基板上に乾燥膜厚が０．３μｍになるよう受像層塗布液を塗布して８０℃で５分間乾燥した。
【００６６】
［乳剤層の形成］
（乳剤層塗布液）
感光性ハロゲン化銀乳剤（平均粒径１．ｌμｍ、ＡｇＩ＝３ｍｏｌ％の沃臭化銀乳剤）
９．８ｇ
ゼラチン                                                            １４．４ｇ
増感色素Ａ  （下記式（Ａ））                                    ３．２×１０-3ｇ
増感色素Ｂ  （下記式（Ｂ））                                    ３．２×１０-3ｇ
増感色素Ｃ  （下記式（Ｃ））                                    ｌ．２×１０-3ｇ
界面活性剤（サンデツトＢＬ（三洋化成（株）製））                      ０．０５ｇ
蒸留水                                                                ９８０ｇ
【００６７】
【化１】
2006139085.tif 000002
【００６８】
（乳剤層の形成）
上記の塗布液を受像層が形成されているガラス基板の上に銀塗布量が２．２ｇ／ｍ2になるように塗布して３０℃で５分間乾燥した。
【００６９】
［拡散、現像］
下記の現像液に試料を浸漬することにより、現像を行った。現像は１０℃で６０秒間で行った。
【００７０】
（現像液処方）
水酸化カリウム                                                        １８０ｇ
ウラシル                                                                ８８ｇ
無水チオ硫酸ナトリウム                                                １．０ｇ
沃化カリウム                                                          ０．３ｇ
トリエタノールアミン                                                  ０．５ｇ
Ｎ、Ｎ−ビス（メトキシエチル）ヒドロキシルアミン（１７％水溶液）      ２５０ｇ
テトラヒドロピリミジンチオン                                          ０．２ｇ
２，４−ジメチルメルカプトピリジン                                    ０．２ｇ
３−（５−メルカプトテトラゾリル）ベンゼシスルホン酸ナトリウム        ０．２ｇ
４−メチル−４−ヒドロキシメチル−１−フェニル−３−ピラゾリジン      ３．０ｇ
蒸留水                                                            １２７０ｍｌ
【００７１】
［乳剤層の除去］
現像が終了した試料を４３℃の蒸留水で洗浄して乳剤層を除去し、その後２５℃で６０分間乾燥した。
【００７２】
［露光、現像］
超高圧水銀灯を用いて塗布面側から５００ｍＪ／ｃｍ2の露光を行った。次いで、現像処理液ＴＣＤ（富士写真フィルム（株）製、  アルカリ現像液）を用いて現像処理（３３℃、２０秒）して、未露光部分の受像層を除去した。この後、１００℃で２分間乾燥し、次いで、２２０℃で４０分間熱処理を行った。
このようにして、遮光膜を得た。
【００７３】
［評価結果］
このようにして得られた遮光膜の光学濃度を測定したところ３．５であった。また色調は黒色で、良好な遮光膜であった。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明の方法は、簡便であり、作成した遮光膜は色調が黒色で光学濃度が高く遮光膜として好ましい。更に画像部と非画像部の厚み差が少なく遮光膜として望ましいものである。