(57)【要約】【課題】  磁気回路に及ぼす影響が少なく、また発熱を抑える。【解決手段】  コイル体６２と、ヨーク７１に支持された発磁体７２とを相対移動させる。ヨーク７１は、第１分割体７１Ａと、第１分割体７１Ａとは相対移動方向における幅が異なる第２分割体７１Ｂとを電気絶縁部７４を介して積層させてなる。【選択図】      図５
2006230127.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コイル体と、ヨークに支持された発磁体とを相対移動させるリニアモータであって、
前記ヨークは、第１分割体と、前記第１分割体とは前記相対移動方向における幅が異なる第２分割体とを電気絶縁部を介して積層させてなることを特徴とするリニアモータ。
【請求項２】
請求項１記載のリニアモータにおいて、
前記第１分割体及び第２分割体の前記幅は、前記発磁体によって発生する前記ヨーク内の磁束密度分布に応じて決定されることを特徴とするリニアモータ。
【請求項３】
請求項１または２記載のリニアモータにおいて、
前記第１分割体の前記幅は、前記第２分割体の前記幅よりも大きく、
前記発磁体は、前記コイル体と対向する方向に磁化された第１発磁体と、前記第１発磁体と隣り合って配置され前記相対移動方向に磁化された第２発磁体とを有し、
前記第１分割体は、前記第１発磁体と前記第２発磁体との境界部近傍に配置されることを特徴とするリニアモータ。
【請求項４】
請求項３記載のリニアモータにおいて、
前記第１発磁体の磁化方向における前記第２分割体の厚さは、前記第１分割体の前記厚さよりも薄いことを特徴とするリニアモータ。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載のリニアモータにおいて、
前記ヨークと前記発磁体とが電気絶縁されて設けられていることを特徴とするリニアモータ。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載のリニアモータにおいて、
前記電気絶縁部は、非金属であることを特徴とするリニアモータ。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載のリニアモータにおいて、
前記第１及び第２の分割体は、組み立てられたときに互いに連通する連通孔をそれぞれ有することを特徴とするリニアモータ。
【請求項８】
請求項７記載のリニアモータにおいて、
前記連通孔と嵌合し、温度調整用媒体が流動する流路を形成する管体を有することを特徴とするリニアモータ。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載のリニアモータが駆動装置として用いられることを特徴とするステージ装置。
【請求項１０】
ステージ装置を用いて基板にパターンを露光する露光装置において、
前記ステージ装置として、請求項９に記載のステージ装置を用いたことを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コイル体と発磁体とを有するリニアモータ、及びこのリニアモータを駆動装置として備えるステージ装置、並びにリニアモータの駆動により移動するステージを用いてマスクのパターンを基板に露光する露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体等を製造する際に用いられる露光装置におけるステージ駆動には、発塵がないことや駆動機構の構成が簡単であること等の理由からリニアモータが多く用いられている。このステージ駆動用リニアモータには、使用環境の要望から種々の厳格な仕様が求められており、その一つに温度に関する仕様がある。
【０００３】
通常、露光装置のステージ駆動においては、精密な位置決め動作が必要とされ、その動作制御にはステージの位置を計測するための測長器が用いられており、リニアモータ（の可動子）はこの測長器の計測結果を基にサーボ制御されることで、ステージの高精度の位置決めが可能となっている。
【０００４】
ところが、リニアモータの駆動時には、モータからの発熱によって測長器に悪影響を及ぼし、位置決め精度が低下するという問題が生じる。また、コイル体により発生する磁力線は、コイルを収容するケースや永久磁石、それを支持しているヨークに作用するが、導電体であるケースや永久磁石、ヨークに変動磁場が作用すると、その磁場変動を打ち消すように導体表面近傍に渦電流が生じ、ジュール損失による発熱が生じる。
そして、測長器として光干渉測長器を用いた場合に、モータの発熱により周囲の温度が上昇すると空気揺らぎが生じ、光路変化が起こることにより測長器に微小な読取誤差を生じさせる。従って、露光装置においてはモータの温度上昇には厳格な制限が設けられている。
【０００５】
そのため、従来からリニアモータの温度上昇を抑えるために種々の工夫がなされおり、例えば特許文献１には発熱体であるコイルをハウジング内に封入して電機子を構成し、この電機子内に冷媒を流出入させて冷却する方法が開示されている。また、磁石を支持して閉磁路を形成するヨークを冷却する技術として、特許文献２にはヨークに冷媒用流路を設けたリニアモータが開示されている。また、特許文献３には、ヨークを薄板からなる積層鋼板で形成することにより渦電流の発生を低減させ、ヨークの発熱を抑える技術が開示されている。
【特許文献１】特開平８−１６７５５４号公報
【特許文献２】特開２０００−２４５１３０号公報
【特許文献３】特開平１０−１４６０３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
ヨークを一様に積層させた場合、ヨーク間には絶縁層が介装されるため、ヨークにおける絶縁層の割合が多くなり、磁気回路に悪影響を及ぼしモータ効率が低下するという問題が生じる。また、ステージ駆動に用いられるリニアモータは駆動ストーロークが長く、また高推力化により大型化されているため、ヨークの剛性、製造コストにも問題が生じる可能性がある。
【０００７】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、磁気回路に及ぼす影響が少なく、また発熱を抑えることができるリニアモータ及びこのリニアモータを駆動装置として備えるステージ装置並びに露光装置を提供することを目的とする。
また、本発明の別の目的は、ヨークの剛性を損なわず、容易に製造できるリニアモータ及びこのリニアモータを駆動装置として備えるステージ装置並びに露光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１１に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明のリニアモータは、コイル体（６２）と、ヨーク（７１）に支持された発磁体（７２）とを相対移動させるリニアモータ（３０）であって、ヨーク（７１）は、第１分割体（７１Ａ）と、第１分割体（７１Ａ）とは相対移動方向における幅が異なる第２分割体（７１Ｂ）とを電気絶縁部（７４）を介して積層させてなることを特徴とするものである。
【０００９】
従って、本発明のリニアモータでは、ヨーク（７１）が分割されることにより、各分割体（７１Ａ、７１Ｂ）に流れる渦電流を小さくすることができ、発熱を抑えることが可能になる。また、本発明では、例えば第１分割体（７１Ａ）の幅（ＷＡ）を第２分割体（７１Ｂ）の幅（ＷＢ）よりも大きくすることにより、分割体の数が減り、結果として電気絶縁部（７４）の数を減らすことができる。そのため、本発明では磁気回路に及ぼす影響を低減することが可能になる。さらに、本発明では第１分割体（７１Ａ）及び第２分割体（７１Ｂ）が相対移動方向における幅が異なるように分割されるので、相対移動方向の駆動ストロークが長くなった場合でも、第１分割体（７１Ａ）、第２分割体（７１Ｂ）の数が増減するだけであり、剛性の低下を招くことはない。
【００１０】
また、本発明のステージ装置は、上記のリニアモータ（３０）が駆動装置として用いられることを特徴とするものである。そして、本発明の露光装置は、ステージ装置（２）を用いて基板（Ｐ）にパターンを露光する露光装置において、ステージ装置として、上記のステージ装置（２）を用いたことを特徴とするものである。
従って、本発明のステージ装置及び露光装置では、モータ（３０）の駆動時にもヨーク（７１）からの発熱を抑えることができ、装置を熱変形させたり、ステージの位置検出精度を低下させてパターンの転写精度が低下することを抑えることができるとともに、磁気回路に及ぼす悪影響を低減できる。
【００１１】
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１２】
本発明では、磁気回路に及ぼす影響を抑えつつ、発熱を抑えることができる。
また、本発明では、発熱を抑えることにより、パターンの転写精度が低下することを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明のリニアモータ及びステージ装置並びに露光装置の実施の形態を、図１ないし図１２を参照して説明する。
（第１実施形態）
図１は本発明のリニアモータを駆動装置として備えた露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。ここで、本実施形態における露光装置ＥＸは、マスクＭと感光基板Ｐとを同期移動しつつマスクＭに設けられているパターンを投影光学系ＰＬを介して感光基板（基板）Ｐ上に転写する所謂スキャニングステッパである。以下の説明において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内における前記同期移動方向（相対移動方向）をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向と垂直な方向（非走査方向）をＸ軸方向とする。更に、Ｘ軸周り、Ｙ軸周り、及びＺ軸周りの回転方向をそれぞれθＸ方向、θＹ方向、及びθＺ方向とする。また、ここでいう「感光基板」は半導体ウエハ上にレジストが塗布されたものを含み、「マスク」は感光基板上に縮小投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。
【００１４】
図１において、露光装置ＥＸは、マスク（レチクル）Ｍを保持して移動するマスクステージ（レチクルステージ）ＭＳＴ及びこのマスクステージＭＳＴを支持するマスク定盤３を有するステージ装置１と、光源を有し、マスクステージＭＳＴに支持されているマスクＭを露光光で照明する照明光学系ＩＬと、感光基板Ｐを保持して移動する基板ステージＰＳＴ及びこの基板ステージＰＳＴを支持する基板定盤４を有するステージ装置２と、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターン像を基板ステージＰＳＴに支持されている感光基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、ステージ装置１及び投影光学系ＰＬを支持するリアクションフレーム５と、露光装置ＥＸの動作を統括制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。リアクションフレーム５は床面に水平に載置されたベースプレート６上に設置されており、このリアクションフレーム５の上部側及び下部側には内側に向けて突出する段部５ａ及び５ｂがそれぞれ形成されている。
【００１５】
照明光学系ＩＬはリアクションフレーム５の上面に固定された支持コラム７により支持される。照明光学系ＩＬより射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などが用いられる。
【００１６】
ステージ装置１のうちマスク定盤３は各コーナーにおいてリアクションフレーム５の段部５ａに防振ユニット８を介してほぼ水平に支持されており、その中央部にマスクＭのパターン像が通過する開口３ａを備えている。マスクステージＭＳＴはマスク定盤３上に設けられており、その中央部にマスク定盤３の開口３ａと連通しマスクＭのパターン像が通過する開口Ｋを備えている。マスクステージＭＳＴの底面には非接触ベアリングである複数のエアベアリング９が設けられており、マスクステージＭＳＴはエアベアリング９によりマスク定盤３に対して所定のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００１７】
図２はマスクステージＭＳＴを有するステージ装置１の概略斜視図である。
図２に示すように、ステージ装置１（マスクステージＭＳＴ）は、マスク定盤３上に設けられたマスク粗動ステージ１６と、マスク粗動ステージ１６上に設けられたマスク微動ステージ１８と、マスク定盤３上において粗動ステージ１６をＹ軸方向に所定ストロークで移動可能な一対のＹリニアモータ２０、２０と、マスク定盤３の中央部の上部突出部３ｂの上面に設けられ、Ｙ軸方向に移動する粗動ステージ１６を案内する一対のＹガイド部２４、２４と、粗動ステージ１６上において微動ステージ１８をＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に微小移動可能な一対のＸボイスコイルモータ１７Ｘ及び一対のＹボイスコイルモータ１７Ｙとを備えている。なお、図１では、粗動ステージ１６及び微動ステージ１８を簡略化して１つのステージとして図示している。
【００１８】
Ｙリニアモータ２０のそれぞれは、マスク定盤３上においてＹ軸方向に延びるように設けられたコイルユニット（電機子ユニット）からなる一対の固定子２１と、この固定子２１に対応して設けられ、連結部材２３を介して粗動ステージ１６に固定された磁石ユニットからなる可動子２２とを備えている。そして、これら固定子２１及び可動子２２によりムービングマグネット型のリニアモータ２０が構成されており、可動子２２が固定子２１との間の電磁気的相互作用により駆動することで粗動ステージ１６（マスクステージＭＳＴ）がＹ軸方向に移動する。固定子２１のそれぞれは非接触ベアリングである複数のエアベアリング１９によりマスク定盤３に対して浮上支持されている。このため、運動量保存の法則により粗動ステージ１６の＋Ｙ方向の移動に応じて固定子２１が−Ｙ方向に移動する。この固定子２１の移動により粗動ステージ１６の移動に伴う反力が相殺されるとともに重心位置の変化を防ぐことができる。なお、固定子２１は、マスク定盤３に変えてリアクションフレーム５に設けられてもよい。固定子２１をリアクションフレーム５に設ける場合にはエアベアリング１９を省略し、固定子２１をリアクションフレーム５に固定して粗動ステージ１６の移動により固定子２１に作用する反力をリアクションフレーム５を介して床に逃がしてもよい。
【００１９】
Ｙガイド部２４のそれぞれは、Ｙ軸方向に移動する粗動ステージ１６を案内するものであって、マスク定盤３の中央部に形成された上部突出部３ｂの上面においてＹ軸方向に延びるように固定されている。また、粗動ステージ１６とＹガイド部２４、２４との間には非接触ベアリングである不図示のエアベアリングが設けられており、粗動ステージ１６はＹガイド部２４に対して非接触で支持されている。
【００２０】
微動ステージ１８は不図示のバキュームチャックを介してマスクＭを吸着保持する。微動ステージ１８の＋Ｙ方向の端部にはコーナーキューブからなる一対のＹ移動鏡２５ａ、２５ｂが固定され、微動ステージ１８の−Ｘ方向の端部にはＹ軸方向に延びる平面ミラーからなるＸ移動鏡２６が固定されている。そして、これら移動鏡２５ａ、２５ｂ、２６に対して測長ビームを照射する３つのレーザ干渉計（いずれも不図示）が各移動鏡との距離を計測することにより、マスクステージＭＳＴのＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の位置が高精度で検出される。制御装置ＣＯＮＴはこれらレーザ干渉計の検出結果に基づいて、Ｙリニアモータ２０、Ｘボイスコイルモータ１７Ｘ、及びＹボイスコイルモータ１７Ｙを含む各モータを駆動し、微動ステージ１８に支持されているマスクＭ（マスクステージＭＳＴ）の位置制御を行う。
【００２１】
図１に戻って、開口Ｋ及び開口３ａを通過したマスクＭのパターン像は投影光学系ＰＬに入射する。投影光学系ＰＬは複数の光学素子により構成され、これら光学素子は鏡筒で支持されている。投影光学系ＰＬは、例えば１／４又は１／５の投影倍率を有する縮小系である。なお、投影光学系ＰＬとしては等倍系あるいは拡大系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬの鏡筒の外周にはこの鏡筒に一体化されたフランジ部１０が設けられている。そして、投影光学系ＰＬはリアクションフレーム５の段部５ｂに防振ユニット１１を介してほぼ水平に支持された鏡筒定盤１２にフランジ部１０を係合している。
【００２２】
ステージ装置２は、基板ステージＰＳＴと、基板ステージＰＳＴをＸＹ平面に沿った２次元方向に移動可能に支持する基板定盤４と、基板ステージＰＳＴをＸ軸方向に案内しつつ移動自在に支持するＸガイドステージ３５と、Ｘガイドステージ３５に設けられ、基板ステージＰＳＴをＸ軸方向に移動可能なＸリニアモータ４０と、Ｘガイドステージ３５をＹ軸方向に移動可能な一対のＹリニアモータ（リニアモータ、駆動装置）３０、３０とを有している。基板ステージＰＳＴは感光基板Ｐを真空吸着保持する基板ホルダＰＨを有しており、感光基板Ｐは基板ホルダＰＨを介して基板ステージＰＳＴに支持される。また、基板ステージＰＳＴの底面には非接触ベアリングである複数のエアベアリング３７が設けられており、これらエアベアリング３７により基板ステージＰＳＴは基板定盤４に対して非接触で支持されている。また、基板定盤４はベースプレート６の上方に防振ユニット１３を介してほぼ水平に支持されている。
【００２３】
図３は基板ステージＰＳＴを有するステージ装置２の概略斜視図である。
図３に示すように、ステージ装置２は、Ｘ軸方向に沿った長尺形状を有するＸガイドステージ３５と、Ｘガイドステージ３５で案内しつつ基板ステージＰＳＴをＸ軸方向に所定ストロークで移動可能なＸリニアモータ４０と、Ｘガイドステージ３５の長手方向両端に設けられ、このＸガイドステージ３５を基板ステージＰＳＴとともにＹ軸方向に移動可能な一対のＹリニアモータ３０、３０とを備えている。
【００２４】
Ｘリニアモータ４０は、Ｘガイドステージ３５にＸ軸方向に延びるように設けられたコイルユニットからなる固定子４１と、この固定子４１に対応して設けられ、基板ステージＰＳＴに固定された磁石ユニットからなる可動子４２とを備えている。これら固定子４１及び可動子４２によりムービングマグネット型のリニアモータ４０が構成されており、可動子４２が固定子４１との間の電磁気的相互作用により駆動することで基板ステージＰＳＴがＸ軸方向に移動する。ここで、基板ステージＰＳＴはＸガイドステージ３５に対してＺ軸方向に所定量のギャップを維持する磁石及びアクチュエータからなる磁気ガイドにより非接触で支持されている。基板ステージＰＳＴはＸガイドステージ３５に非接触支持された状態でＸリニアモータ４０によりＸ軸方向に移動する。
【００２５】
Ｙリニアモータ３０のそれぞれは、Ｘガイドステージ３５の長手方向両端に設けられた磁石ユニットからなる可動子３２と、この可動子３２に対応して設けられコイルユニットからなる固定子３１とを備えている。ここで、固定子３１、３１はベースプレート６に突設された支持部３６、３６（図１参照）に設けられている。なお、図１では固定子３１及び可動子３２は簡略化して図示されている。これら固定子３１及び可動子３２によりムービングマグネット型のリニアモータ３０が構成されており、可動子３２が固定子３１との間の電磁気的相互作用により駆動することでＸガイドステージ３５がＹ軸方向に移動する。また、Ｙリニアモータ３０、３０のそれぞれの駆動を調整することでＸガイドステージ３５はθＺ方向にも回転移動可能となっている。したがって、このＹリニアモータ３０、３０により基板ステージＰＳＴがＸガイドステージ３５とほぼ一体的にＹ軸方向及びθＺ方向に移動可能となっている。
【００２６】
図１に戻って、基板ステージＰＳＴの−Ｘ側の側縁にはＹ軸方向に沿って延設されたＸ移動鏡５１が設けられ、Ｘ移動鏡５１に対向する位置にはレーザ干渉計５０が設けられている。レーザ干渉計５０はＸ移動鏡５１の反射面と投影光学系ＰＬの鏡筒下端に設けられた参照鏡５２とのそれぞれに向けてレーザ光（検出光）を照射するとともに、その反射光と入射光との干渉に基づいてＸ移動鏡５１と参照鏡５２との相対変位を計測することにより、基板ステージＰＳＴ、ひいては感光基板ＰのＸ軸方向における位置を所定の分解能でリアルタイムに検出する。同様に、基板ステージＰＳＴ上の＋Ｙ側の側縁にはＸ軸方向に沿って延設されたＹ移動鏡５３（図１には不図示、図３参照）が設けられ、Ｙ移動鏡５３に対向する位置にはＹレーザ干渉計（不図示）が設けられており、Ｙレーザ干渉計はＹ移動鏡５３の反射面と投影光学系ＰＬの鏡筒下端に設けられた参照鏡（不図示）とのそれぞれに向けてレーザ光を照射するとともに、その反射光と入射光との干渉に基づいてＹ移動鏡と参照鏡との相対変位を計測することにより、基板ステージＰＳＴ、ひいては感光基板ＰのＹ軸方向における位置を所定の分解能でリアルタイムに検出する。レーザ干渉計の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力され、制御装置ＣＯＮＴはレーザ干渉計の検出結果に基づいてリニアモータ３０、４０を介して基板ステージＰＳＴの位置制御を行う。
【００２７】
次に、図４乃至図６を参照しながら本発明に係るリニアモータ３０の第１実施形態について説明する。
図４はリニアモータ３０をＸ軸方向に沿って断面した図であり、図５はリニアモータ３０をＹ軸方向に沿って断面した図である。
リニアモータ３０は、Ｙ軸方向を長手方向とするコイルユニットからなる固定子３１と、図４に示すように、固定子３１のＺ方向両側に隙間をあけて配置された永久磁石（発磁体）７２を有する可動子３２とを備えている。
【００２８】
固定子３１は、図５に示すように、ハウジング（コイルジャケット）６０内にコイル体６２が配置された構成となっている。コイル体６２は、ボビン６３の周囲に巻回されたコイル６４を有しており、長さ方向（Ｙ軸方向）に沿って複数配列されている。複数のコイル体６２は、エポキシ樹脂等により樹脂成型体として一体的に形成されている。この樹脂成型体は、円柱状の突起６２ａ及び不図示の支持体によってハウジング６０内に位置決め固定されるとともに、ハウジング６０との間に冷媒流路６５を形成する。図３に示すように、ハウジング６０には、冷媒流路６５に冷媒を入れるための導入管８１及び冷媒を排出するための導出管８２が設けられており、不図示の冷媒供給装置により温度調整された冷媒が循環する構成となっている。
なお、使用される冷媒としては、ハイドロフルオロエーテル（例えば「ノベックＨＦＥ」：住友スリーエム株式会社製）や、フッ素系不活性液体（例えば「フロリナート」：住友スリーエム株式会社製）などが挙げられる。
【００２９】
可動子３２は、永久磁石７２と、永久磁石７２をそれぞれ支持するヨーク７１と、ヨーク７１を固定子３１を挟んだＺ方向両側に位置させるスペーサ７０とから構成されている。スペーサ７０及びヨーク７１は、取付ネジ等の締結部材６９により一体的に締結固定される。
【００３０】
永久磁石７２は、例えば大きなブロック状態で磁化された後に、切断されて配列されたものであり、図５に示すように、磁化方向が固定子３１（コイル体６２）を貫くＺ軸方向（コイル体６２と対向する方向）となる主極（第１発磁体）７２Ａと、磁化方向が長さ方向（Ｙ方向、相対移動方向）となる補極（第２発磁体）７２Ｂとが交互に、且つＸ軸周りの磁路（閉磁路）を形成するようにハルバッハ配列された構成となっている。これら永久磁石７２同士は、電気絶縁性を有する接着剤（樹脂接着剤等）で固定されている。
【００３１】
ヨーク７１は、永久磁石７２を保持（支持）するとともに、主極７２Ａから漏れ出した磁力線を補極７２Ｂに導くための磁路を形成するものであって、厚さ（Ｚ軸方向の長さ）が略同一で、固定子３１と可動子３２との相対移動方向であるＹ軸方向に異なる幅を有するヨーク片（第１分割体）７１Ａ及びヨーク片（第２分割体）７１Ｂとが電気絶縁層（電気絶縁部）７４を介して積層された構成となっている。ヨーク片７１Ａ、７１Ｂとしては、珪素鋼、純Ｆｅ、パーマロイ、Ｆｅ−Ｃｏ系合金等の軟磁性材が用いられ、加工性やコスト等を考慮して、ここでは珪素鋼が使用されている。
【００３２】
これらヨーク片７１Ａ、７１Ｂの配置は、永久磁石７２によって発生するヨーク７１内の磁束密度分布に応じて決定される。
具体的には、相対的に大きな幅ＷＡのヨーク片７１Ａは、永久磁石７２からの磁束漏れが生じやすく（ヨーク７１における磁束密度が大きく）、磁気回路への影響が大きい主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部と対向する位置に配置される。一方、幅ＷＡよりも小さな幅ＷＢのヨーク片７１Ｂは、永久磁石７２からの磁束の漏れ量が少ない（ヨーク７１における磁束密度が小さい）、主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部から離間した位置に複数枚で配置されている。隣り合うヨーク片７１Ａと７１Ｂとの間、及び隣り合うヨーク片７１Ｂ、７１Ｂの間には、電気絶縁層７４が介装されている。そして、上述した永久磁石７２（主極７２Ａ及び補極７２Ｂ）は、電気絶縁性を有する接着剤により幅広のヨーク片７１Ａに固定されている。
【００３３】
電気絶縁層７４としては、導電率が低い接着剤が用いられる。
接着剤としては、例えばエポキシ系接着剤や、シリコン系接着剤、アクリル系接着剤等を用いることができる。
【００３４】
また、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂ（及び電気絶縁層７４）には、これらが組み立てられたときに互いに連通する位置に位置決め孔（連通孔）７５がそれぞれ略同一径で形成されている。位置決め孔７５は、永久磁石７２によって生じる磁束に影響を与えないように、図４に示すように、永久磁石７２と対向する位置から外れたＸ軸方向両側に形成されている。
【００３５】
続いて、上述したヨーク７１の製造方法について図６を参照して説明する。
ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの中、幅が小さい（薄い）ヨーク片７１Ｂについては、薄板に対して外形形状及び位置決め孔７５をプレスで打ち抜くことにより製造される。また、幅が大きい（厚い）ヨーク片７１Ａについては、外形形状、位置決め孔７５及び締結部材６９が挿入される挿入孔６９ａを切削加工や研削加工等の機械加工で製造される。なお、挿入孔６９ａは、スペーサ７０と対向し、且つ締結部材６９の径に応じた挿入孔６９ａが形成可能な幅を有するヨーク片７１Ａに形成される。また、挿入孔６９ａとしては、一対のヨーク７１の中、一方には貫通孔及び締結部材６９のヘッド部が係合するザグリが形成され、他方には締結部材６９の雄ネジ部に螺合する雌ネジ部が形成される。
そして、このように製造されたヨーク片７１Ａ、７１Ｂを組立治具ＪＧを用いて組み立てる。
【００３６】
組立治具ＪＧは、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの外形よりも大きな輪郭を有する基台８６と、基台８６に位置決め孔７５と対応する位置（ピッチ）に着脱自在に立設され、位置決め孔７５と嵌合する軸部８７とから構成されている。基台８６には、組立及び取り外し時に、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの操作性（把持性）を向上させるための切欠８６ａが長さ方向中央部に形成されている。軸部８７は、組立後のヨーク７１の全長よりも大きな長さを有しており、その先端には、位置決め孔７５への挿入を容易にするためのテーパー部８７ａが形成されている。
【００３７】
組立治具ＪＧを用いてヨーク７１を組み立てる際には、軸部８７に位置決め孔７５を挿入することにより、まず挿入孔６９ａを有するヨーク片７１Ａを組み込む。
次いで、ヨーク片７１Ａの露出している側面に電気絶縁層７４としての接着剤を塗布し、その上に同様にヨーク片７１Ｂを組み込む。そして、同様の手順で主極７２Ａ及び補極７２Ｂに応じた配置となるように、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの組み込み及び接着剤の塗布を繰り返す。この後、乾燥工程で接着剤を固化させて一体化したヨーク片７１Ａ、７１Ｂを組立治具ＪＧから引き抜くことにより、ヨーク７１が完成する。完成したヨーク７１は、図４に示すように、ヨーク片７１Ａにおいて永久磁石７２を接着固定させた後に、スペーサ７０を挟持した状態で締結部材６９により締結固定することにより可動子３２が完成する。
【００３８】
続いて、上述したリニアモータ３０の作用について説明する。
制御装置ＣＯＮＴの制御のもとで、リニアモータ３０のコイル体６２に対して駆動電流として交流電流が供給されると、主極７２Ａが発生する磁力線はコイル体６２に作用しローレンツ力を発生させる。補極７２Ｂは、主極７２Ａから発生しコイル体６２（固定子３１）と逆方向へ向かう磁力線を引き寄せて隣接する主極７２Ａに導くための磁路を形成する。また、補極７２Ｂが発生する磁力線も隣接する主極７２Ａに導入されてコイル体６２に作用することにより、コイル体６２に作用する磁力線の数、即ち推力の増加に寄与することになる。
【００３９】
ここで、永久磁石７２によって発生するヨーク７２内における磁束密度は、主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部近傍、すなわちヨーク片７１Ａが配置された位置において大きく、主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部から離間した位置、すなわちヨーク片７１Ｂが配置された位置では小さい。
そして、主極７２Ａと補極７２Ｂとの磁化方向が直交しており、また磁力線は急激に進行方向の向きを変えられないため、主極７２Ａから補極７２Ｂに導かれる磁力線及び補極７２Ｂから主極７２Ａに導かれる磁力線は、主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部近傍からヨーク７１におけるヨーク片７１Ａに漏れ出し、ヨーク片７１Ａにおいても磁路の一部が形成される（図５に符号Ｂで示す）。
【００４０】
このとき、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂは導電性を有しているため、変動磁場が作用することにより、磁場変動を相殺するように表面近傍にＺ軸周りに渦電流が生じる。ここで、ヨーク片７１Ｂは、Ｙ軸方向に分断された形状を呈しており、Ｙ軸方向の幅ＷＢが小さく設定されているため、ヨーク片７１Ｂで生じる渦電流は、ヨーク片の間に介在する電気絶縁層７４によって流れを阻止される。そのため、ヨーク片７１Ｂで生じる渦電流は、それぞれ幅ＷＢの狭い範囲で流れることになり電流値が小さくなる。
【００４１】
このように、本実施の形態では、幅の異なるヨーク片７１Ａ、７１Ｂが電気絶縁部７４を介して積層されているので、幅の小さいヨーク片７１Ｂにおいて生じる渦電流の値が小さくなり、その結果、発熱を抑制することができる。また、本実施の形態では、磁束密度が大きい主極７２Ａと補極７２Ｂとの接合部近傍に配置されるヨーク片７１Ａはヨーク片７１Ｂよりも幅が大きく設定され磁路形成に寄与できるため、ヨーク片の積層構造による磁気回路への悪影響を低減して、モータ効率の低下を防止することができる。すなわち、本実施の形態では、永久磁石７２によって生じる磁束密度分布に応じて決定される幅でヨーク片７１Ａ、７１Ｂを積層させることにより、モータ効率の低下防止と発熱抑制という相反する効果を両立させることが可能である。さらに、本実施の形態では、永久磁石７２とヨーク７１との間も電気絶縁した状態で固定しているので、永久磁石７２の内部に流れる渦電流も分断することが可能となり、渦電流を低減して発熱量をより小さくすることができる。
【００４２】
また、本実施の形態では、幅広のヨーク片７１Ａを用いることで、結果的にヨーク片の枚数を少なくすることが可能になり、複数のヨーク片７１Ａ、７１Ｂからなるヨーク７１を用いる場合の製造上のコストアップを減ずることができる。さらに、本実施の形態では、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂが互いに連通する位置決め孔７５を有しているため、これらの組立・製造及び位置決めが容易になり、製造効率及び組立精度の向上に寄与できる。さらに、本実施の形態では、位置決め孔７５が永久磁石７２と対向する位置から外れた位置に形成されているので、磁気回路への悪影響を回避することができる。
【００４３】
なお、上記実施の形態では、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの組立時に、組立治具ＪＧにおける軸部８７からヨーク片７１Ａ、７１Ｂを離脱させる手順としたが、これに限定されるものではなく、軸部８７を位置決め孔７５に嵌合させた状態で残存させてもよい。この場合、ヨーク７１としての剛性を高めることができる。また、軸部８７をヨーク７１に残存させない場合には、ヨーク７１を貫通する位置決め孔７５を冷媒（温度調整用媒体）を流通させるための流路として用い、ヨーク７１（可動子３２）を冷却する構成としてもよい。この場合、冷媒は気体であってもよいし、液体であってもよい。
【００４４】
続いて、上記の構成の露光装置ＥＸにおける露光動作について説明する。
不図示のレチクル顕微鏡および不図示のオフアクシス・アライメントセンサ等を用いたレチクルアライメント、ベースライン計測等の準備作業が行われ、その後アライメントセンサを用いた感光基板Ｐのファインアライメント（ＥＧＡ；エンハンスト・グローバル・アライメント等）が終了し、感光基板Ｐ上の複数のショット領域の配列座標が求められる。そして、アライメント結果に基づいてレーザ干渉計５０の計測値をモニタしつつ、リニアモータ３０、４０を制御して感光基板Ｐの第１ショットの露光のための走査開始位置に基板ステージＰＳＴを移動する。そして、リニアモータ２０、３０を介してマスクステージＭＳＴと基板ステージＰＳＴとのＹ方向の走査を開始し、両ステージＭＳＴ、ＰＳＴがそれぞれの目標走査速度に達すると、ブラインド機構の駆動により設定された露光用照明光によってマスクＭのパターン領域が照明され、走査露光が開始される。
【００４５】
この走査露光時には、マスクステージＭＳＴのＹ方向の移動速度と、基板ステージＰＳＴのＹ方向の移動速度とが投影光学系ＰＬの投影倍率（１／５倍あるいは１／４倍）に応じた速度比に維持されるように、リニアモータ２０、３０を介してマスクステージＭＳＴおよび基板ステージＰＳＴを同期制御する。基板ステージＰＳＴの移動に伴って基板定盤４に変形が生じる場合には、防振ユニット１３を制御して定盤４の変形を補正することで、感光基板Ｐの表面位置を投影光学系ＰＬの焦点位置に位置決めすることができる。
【００４６】
また、鏡筒定盤１２の残留振動に関しては、ステージ移動に伴う重心変化時と同様にエアマウント２６及びボイスコイルモータ２７を駆動することで残留振動をアクティブに制振し、下部支持フレーム５ｄを介して鏡筒定盤２５（投影光学系ＰＬ）に伝わる微振動をマイクロＧ（Ｇは重力加速度）レベルで絶縁する。
そして、マスクＭのパターン領域の異なる領域が照明光で逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、感光基板Ｐ上の第１ショットの走査露光が完了する。これにより、マスクＭのパターンが投影光学系ＰＬを介して感光基板Ｐ上の第１ショット領域に縮小転写される。
【００４７】
このように、本実施形態におけるステージ装置及び露光装置では、走査露光時にＹリニアモータ３０を駆動する際にも、モータ効率を低下させることなく、ヨーク７１及び永久磁石７２からの発熱を抑制することができるため、発熱に起因する周囲の部材・装置の熱変形や、空気揺らぎ等のステージ位置検出精度の低下要因を排除することが可能になり、パターンの転写精度が低下することを防止できる。
【００４８】
（第２実施形態）
次に、本発明に係るリニアモータの第２実施形態について図７を参照して説明する。
上記第１実施形態では、電気絶縁層として接着剤を用いたが、本実施の形態では絶縁シートを用いる場合について説明する。この図において、図１乃至図６に示す第１の実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
図７に示す組立治具ＪＧには、両端に小径部８８が設けられた軸部８７が着脱自在に立設されている（図７では一端のみ図示）。小径部８８にはナット８９と螺合する雄ネジ８８ａが形成されており、また小径部８８の基端部（軸部８７の大径部の先端）には面取りＣが形成されている。
【００４９】
この組立治具ＪＧを用いてヨーク７１を組み立てる際には、軸部８７に位置決め孔７５を挿入することにより、まず挿入孔６９ａを有するヨーク片７１Ａを組み込む。
次いで、絶縁シート（電気絶縁部）７４Ａを組み込み、さらにヨーク片７１Ｂを組み込む。絶縁シート７４Ａとしては、例えばポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ；厚さ２５μｍでの体積固有抵抗が５×１０１７Ω・ｃｍ）やポリエステル（厚さ２５μｍでの体積固有抵抗が１×１０１８Ω・ｃｍ）、ポリイミド（ＰＩ；厚さ２５μｍでの体積固有抵抗が１×１０１８Ω・ｃｍ）、ポリエーテルイミド（厚さ２５μｍでの体積固有抵抗が１×１０１７Ω・ｃｍ）等を用いることができる。なお、絶縁シート７４Ａにおいても軸部８７と嵌合する位置決め孔７５Ａが形成されている。
【００５０】
そして、同様の手順で、間に絶縁シート７４Ａを介在させながら、所定の配置となるようにヨーク片７１Ａ、７１Ｂをそれぞれ組み込む。このとき、軸部８７には面取りＣが施されているため、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂ及び絶縁シート７４Ａを容易に組み込むことができる。ヨーク片７１Ａ、７１Ｂ及び絶縁シート７４Ａの組み込みが完了したら、軸部８７の先端の雄ネジ８８ａにナット８９を螺合し、ヨーク列の一端側を挟持させる。この後、軸部８７の他端側を基台８６から外し、他端側に形成された雄ネジ８８ａに同様にナット８９を螺合させ、これらナット８９間でヨーク列を挟持させる。かくして、ヨーク７１が形成される。
【００５１】
本実施形態では、上記第１実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、接着剤を用いることなくヨーク片７１Ａ、７１Ｂを有するヨーク７１を製造できるので、接着剤の塗布・固化に要する時間が不要となり、製造効率を向上させることができる。
【００５２】
（第３実施形態）
次に、本発明に係るリニアモータの第３実施形態について図８を参照して説明する。
上記第１実施形態では、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの厚さ（Ｚ軸方向の長さ；ヨーク片７１Ａの磁化方向の厚さ）が略同一であるものとして説明したが、第３実施形態では、厚さを異ならせる構成としている。
すなわち、幅広のヨーク片７１Ａは、磁束漏れを防止するために、磁気回路設計や磁気解析のルーチンによって必要な厚さが設定されるが、幅狭のヨーク片７１Ｂについては、ＸＹ平面と平行に流れる渦電流を遮断するという観点から大きな厚さは必要としない。そのため、図８に示すように、ヨーク片７１Ｂの厚さは、ヨーク片７１Ａの厚さよりも薄く形成されている。
【００５３】
従って、本実施の形態では、上記第１実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、ヨーク７１の軽量化が図られることから、可動子３２の駆動に伴って生じる熱を少なくすることができるとともに、ヨーク７１Ａの露出面積が増えることから、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂで形成される凹凸が冷却用フィンとして機能し、モータ駆動時の冷却効率を高めることができる。
【００５４】
（第４実施形態）
次に、本発明に係るリニアモータの第４実施形態について図９及び図１０を参照して説明する。上記実施形態は、固定子にコイル体が設けられ、可動子に永久磁石が設けられる構成としたが、第４実施形態では、固定子に永久磁石が設けられ、可動子にコイル体が設けられる構成について説明する。
【００５５】
図９に示すように、本実施形態における固定子３１は、スペーサ７０と、−Ｘ側の側縁においてスペーサ７０を挟んだＺ方向両側に配置された一対のヨーク７１とが＋Ｘ側に開口するコ字状に形成された構成となっている。各ヨーク７１は、内部にコイル体を有する可動子３２の移動ストロークを超える長さを有している。本実施形態では、永久磁石７２は、ヨーク７１の可動子３２と対向する面で、且つスペーサ７０と逆側の縁部に沿って固定されている。そして、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂに形成される位置決め孔７５は、永久磁石７２と離間したスペーサ７０近傍の位置に一箇所ずつ配置されている。
【００５６】
上記の構成では、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂを位置決めするための位置決め孔７５がそれぞれ一箇所ずつしか形成されていないため、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの組立時に位置決め孔７５（軸部８７）を中心として回転してしまう。そのため、図１０に示すように、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの長辺側の一面Ｆと当接する治具ＪＧ１を設けておき、位置決め孔７５に軸部８７を挿通させた状態で面Ｆを治具ＪＧ１に当接させることにより、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂを位置決めして固定することが可能になる。
【００５７】
（第５実施形態）
次に、本発明に係るリニアモータの第５実施形態について図１１を参照して説明する。
本実施の形態では、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂを組み立てる際に、位置決め孔７５に管体を嵌合させる構成としている。
すなわち、図１１に示すように、ヨーク片７１Ａ、７１Ｂの位置決め孔７５には、管体としての円管９０の外周面が嵌合している。円管９０は、両端の内径部（内周面）に形成された雌ネジ９０ａを有している。雌ネジ９０ａには、不図示の冷媒供給装置に接続された供給管９１の継手９２が螺着している。
【００５８】
上記の構成のリニアモータでは、円管９０をヨーク片７１Ａ、７１Ｂの位置決め孔７５に挿通させることにより容易にヨーク片７１Ａ、７１Ｂを組み立てられるとともに、円管９０内の内部空間９０ｂが冷媒供給装置から供給管９１を介して供給される温度調整された冷媒の流路となり、冷媒供給装置との間で冷媒を循環させることにより、ヨーク７１を効果的に冷却することが可能になる。
なお、ここで用いられる冷媒は、上述した固定子３１の冷媒流路６５に供給するものを分岐させて用いればよい。
【００５９】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００６０】
例えば、上記実施形態では、幅が異なる２種類のヨーク片７１Ａ、７１Ｂの例を用いて説明したが、これに限定されるものではなく、Ｙ軸方向の位置における磁束密度の大きさに基づいてそれぞれ幅の異なる３種類以上のヨーク片を用いてもよい。
また、上記実施形態では、固定子と可動子の相対移動方向にヨーク片を積層させる構成としたが、さらに相対移動方向と交差する方向（Ｘ軸方向）にも積層させる構成、すなわち、ＸＹ平面と平行に格子状に配列する構成としてもよい。
さらに、永久磁石７２の構成としては、必ずしも主極７２Ａと補極７２Ｂとを双方備えている必要はなく、主極７２Ａのみが配列されている構成であってもよい。
【００６１】
また、ヨーク片の間に介在させる電気絶縁部としては、上述した非金属の接着剤や絶縁シートの他に、非磁性金属のメッキ等を用いることが可能である。この種の非磁性金属としては、チタンやステンレス等を採用できる。さらに、非金属の電気絶縁部として、ヨーク片をエナメル被覆したものや、ポリエチレン等の透明樹脂でホルマル被覆したものを用いてもよい。
【００６２】
また、上記の実施形態では、本発明をＹリニアモータ３０に適用する構成としたが、これに限られず、Ｘリニアモータ４０に適用する構成としてもよい。さらに、上記実施形態では、本発明を基板Ｐ側のステージ装置２に適用する構成としたが、これ以外にもマスクＭ側のステージ装置１に適用してもよい。この場合、Ｙリニアモータ２０に本発明を適用できる。
【００６３】
また、上記実施形態の感光基板Ｐとしては、半導体デバイス用の半導体ウエハのみならず、液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００６４】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと感光基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光し、感光基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置にも適用することができる。
【００６５】
露光装置ＥＸの種類としては、ウエハに半導体デバイスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置に限られず、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶表示素子製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００６６】
また、本発明は、投影光学系と基板との間に局所的に液体を満たし、該液体を介して基板を露光する、所謂液浸露光装置にも適用することができる。液浸露光装置については、国際公開第９９／４９５０４号パンフレットに開示されている。液浸露光装置の場合、露光に用いる液体の温度管理を特に厳密に行う必要があり、感光基板Ｐの近傍に熱源が存在することは好ましくない。この点、本発明によればリニアモータの発熱が低減されるので、本発明に係るリニアモータあるいはステージ装置は液浸露光装置に好適である。
【００６７】
また、本発明は、ツインステージ型の露光装置にも適用できる。
ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平１０−１６３０９９号公報及び特開平１０−２１４７８３号公報（対応米国特許６，３４１，００７号、６，４００，４４１号、６，５４９，２６９号及び６，５９０，６３４号）、特表２０００−５０５９５８号（対応米国特許５，９６９，４４１号）或いは米国特許６，２０８，４０７号に開示されている。
【００６８】
また、本発明は、特開平１１−１３５４００号に開示されているように、ウエハ等の被処理基板を保持して移動可能な露光ステージと、各種の計測部材やセンサを備えて移動可能な計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。
【００６９】
また、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（または位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型のマスクＭを用いたが、光反射性の基板上に所定の反射パターンを形成した光反射型マスクを用いることもできる。さらに、これらのマスクに代えて、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターンまたは反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスクを用いてもよい。このような電子マスクは、例えば米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されている。ここではこの米国特許第６，７７８，２５７号公報を参照として援用する。なお、電子マスクとしては、非発光型画像表示素子または自発光型画像表示素子のいずれも用いることができる。
【００７０】
また、露光用照明光の光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．７ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２  レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ６  ）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合は、マスクＭを用いる構成としてもよいし、マスクＭを用いずに直接ウエハ上にパターンを形成する構成としてもよい。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。
【００７１】
投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（マスクＭも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズ及び偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系ＰＬを用いることなく、マスクＭと基板Ｐとを密接させてマスクＭのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。
【００７２】
上記実施形態のように基板ステージＰＳＴやマスクステージＭＳＴにリニアモータを用いる場合においてエアベアリングを用いたエア浮上型に限られず、ローレンツ力を用いた磁気浮上型を用いてもよい。また、各ステージＰＳＴ、ＭＳＴは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００７３】
基板ステージＰＳＴの移動により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−１６６４７５号公報（USP5,528,118）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。マスクステージＭＳＴの移動により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−３３０２２４号公報（US S/N08/416,558）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。
【００７４】
以上のように、本願実施形態の露光装置ＥＸは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００７５】
半導体デバイスは、図１２に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明のリニアモータを備えた露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】同露光装置を構成するステージ装置の概略斜視図である。
【図３】本発明のリニアモータを備えたステージ装置の一実施形態を示す概略斜視図である。
【図４】リニアモータをＸ軸方向に沿って断面した図である。
【図５】リニアモータをＹ軸方向に沿って断面した図である。
【図６】ヨーク片の組立手順を説明するための図である。
【図７】第２実施形態に係る、ヨーク片の組立手順を説明するための図である。
【図８】第３実施形態に係るリニアモータをＹ軸方向に沿って断面した図である。
【図９】第４実施形態に係るリニアモータの外観斜視図である。
【図１０】第４実施形態に係るヨーク片の組立手順を説明するための図である。
【図１１】第５実施形態に係るリニアモータをＹ軸方向に沿って断面した図である。
【図１２】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００７７】
ＥＸ…露光装置、  Ｍ…マスク（レチクル）、  Ｐ…感光基板（基板）、  ２…ステージ装置、  ３０…Ｙリニアモータ（リニアモータ、駆動装置）、  ６２…コイル体、  ７１…ヨーク、  ７１Ａ…ヨーク片（第１分割体）、  ７１Ｂ…ヨーク片（第２分割体）、  ７２…永久磁石（発磁体）、  ７２Ａ…主極（第１発磁体）、  ７２Ｂ…補極（第２発磁体）、  ７４…電気絶縁層（電気絶縁部）、  ７４Ａ…絶縁シート（電気絶縁部）、  ７５…位置決め孔（連通孔）、  ９０…円管（管体）、  ９０ｂ…内部空間（流路）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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