(57)【要約】      （修正有）【課題】簡易な操作により残存溶媒率が著しく低く油状物を形成することのないトリフェニルアミン系化合物の精製法およびトリフェニルアミン系化合物の提供。【解決手段】下記一般式（１）で表されるトリフェニルアミン系化合物を、その良溶媒に溶解した後、得られた溶液を、その貧溶媒中に滴下して、トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させる。その後、その結晶を濾別し、得られた結晶を、温度４０℃、気圧２６６．６Ｐａの雰囲気下で８時間、減圧乾燥することにより、微粒子状の結晶を得る。2006335660.tif 000022【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）または（２）で表されるトリフェニルアミン系化合物を、前記トリフェニルアミン系化合物の良溶媒に溶解した後、得られた溶液を、前記トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒中に滴下して、前記トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させることを特徴とする、トリフェニルアミン系化合物の精製方法。
【化１】
2006335660.tif 000016
（一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ14は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基を示す。Ｒ2〜Ｒ6のうち隣接する２つの基およびＲ9〜Ｒ13のうち隣接する２つの基は、それぞれ、互いに結合して、Ｒ2〜Ｒ6またはＲ9〜Ｒ13を有するベンゼン環とともに、縮合環を形成していてもよい。前記アルキル基および前記ハロゲン化アルキル基は、さらに、炭素数１〜４のアルコキシ基を有していてもよく、前記アルコキシ基、前記アリール基、前記アラルキル基および前記アミノ基は、さらに、ハロゲンを有していてもよい。ａ〜ｄは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。ａ〜ｄが２以上の整数であるとき、同じベンゼン環に置換する２以上の基は、互いに異なる基であってもよい。Ｒ15〜Ｒ18は、それぞれ独立して、炭素数６〜２０のアリール基を示す。ｍおよびｎは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。）
【化２】
2006335660.tif 000017
（一般式（２）中、Ｒ21〜Ｒ26は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基を示す。前記アルキル基および前記ハロゲン化アルキル基は、さらに、炭素数１〜４のアルコキシ基を有していてもよく、前記アルコキシ基、前記アリール基、前記アラルキル基および前記アミノ基は、さらに、ハロゲンを有していてもよい。Ｒ27〜Ｒ38は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基、または、下記一般式（３）で表される基を示す。ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。）
【化３】
2006335660.tif 000018
（一般式（３）中、Ｒ41およびＲ42は、それぞれ独立して、炭素数６〜２０のアリール基を示す。ｚは、０〜４の整数である。）
【請求項２】
下記一般式（１）で表されるトリフェニルアミン系化合物を、前記トリフェニルアミン系化合物の良溶媒に溶解させた後、得られた溶液を、前記トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒中に滴下して、前記トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させることにより得られる、
温度４０℃、気圧２６６．６Ｐａの雰囲気下で８時間乾燥した後の残留溶媒率が１．０重量％以下であることを特徴とする、下記一般式（１）で表されるトリフェニルアミン系化合物。
【化４】
2006335660.tif 000019
（一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ14は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基を示す。Ｒ2〜Ｒ6のうち隣接する２つの基およびＲ9〜Ｒ13のうち隣接する２つの基は、それぞれ、互いに結合して、Ｒ2〜Ｒ6またはＲ9〜Ｒ13を有するベンゼン環とともに、縮合環を形成していてもよい。前記アルキル基および前記ハロゲン化アルキル基は、さらに、炭素数１〜４のアルコキシ基を有していてもよく、前記アルコキシ基、前記アリール基、前記アラルキル基および前記アミノ基は、さらに、ハロゲンを有していてもよい。ａ〜ｄは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。ａ〜ｄが２以上の整数であるとき、同じベンゼン環に置換する２以上の基は、互いに異なる基であってもよい。Ｒ15〜Ｒ18は、それぞれ独立して、炭素数６〜２０のアリール基を示す。ｍおよびｎは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。）
【請求項３】
下記一般式（２）で表されるトリフェニルアミン系化合物を、前記トリフェニルアミン系化合物の良溶媒に溶解させた後、得られた溶液を、前記トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒中に滴下して、前記トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させることにより得られる、
温度４０℃、気圧２６６．６Ｐａの雰囲気下で８時間乾燥した後の残留溶媒率が１．０重量％以下であることを特徴とする、下記一般式（２）で表されるトリフェニルアミン系化合物。
【化５】
2006335660.tif 000020
（一般式（２）中、Ｒ21〜Ｒ26は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基を示す。前記アルキル基および前記ハロゲン化アルキル基は、さらに、炭素数１〜４のアルコキシ基を有していてもよく、前記アルコキシ基、前記アリール基、前記アラルキル基および前記アミノ基は、さらに、ハロゲンを有していてもよい。Ｒ27〜Ｒ38は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基、または、下記一般式（３）で表される基を示す。ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。）
【化６】
2006335660.tif 000021
（一般式（３）中、Ｒ41およびＲ42は、それぞれ独立して、炭素数６〜２０のアリール基を示す。ｚは、０〜４の整数である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トリフェニルアミン系化合物の精製方法と、その精製方法により精製されたトリフェニルアミン系化合物とに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、各種産業用途に用いられる化合物は、いくつかの反応工程を経て合成されており、その反応工程で副生成物や分解物などの不純物が発生することから、合成後に上記不純物を除去するため、精製処理が施されている。
精製処理の方法としては、特許文献１には、精製しようとする化合物の粗製品に溶媒（晶析溶媒）を添加し、攪拌しながら加温して溶解させ、その後溶液を冷却して、上記化合物の結晶が析出する途中で他の溶媒（添加溶媒）を添加する方法が記載されている。
【特許文献１】特開平１０−８５５０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、特許文献１に記載の精製方法を用いて、トリフェニルアミン系化合物を精製すると、トリフェニルアミン系化合物の良溶媒が高沸点または低揮発性の溶媒であるために、精製処理後には、粘度の高い、いわゆる油状物が生成されることとなり、その結果、精製処理後の溶媒の留去が困難となって、化合物中に残留する溶媒量が多くなるという不具合が生じる。
【０００４】
本発明の目的は、操作が簡易であり、かつ、精製処理を得た後においても油状物を形成することのないトリフェニルアミン系化合物の精製方法と、残留溶媒率が著しく低減されたトリフェニルアミン系化合物とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明のトリフェニルアミン系化合物の精製方法は、下記一般式（１）または（２）で表されるトリフェニルアミン系化合物を、前記トリフェニルアミン系化合物の良溶媒に溶解した後、得られた溶液を、前記トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒中に滴下して、前記トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させることを特徴としている。
【０００６】
【化１】
2006335660.tif 000002
【０００７】
（一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ14は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基を示す。Ｒ2〜Ｒ6のうち隣接する２つの基およびＲ9〜Ｒ13のうち隣接する２つの基は、それぞれ、互いに結合して、Ｒ2〜Ｒ6またはＲ9〜Ｒ13を有するベンゼン環とともに、縮合環を形成していてもよい。前記アルキル基および前記ハロゲン化アルキル基は、さらに、炭素数１〜４のアルコキシ基を有していてもよく、前記アルコキシ基、前記アリール基、前記アラルキル基および前記アミノ基は、さらに、ハロゲンを有していてもよい。ａ〜ｄは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。ａ〜ｄが２以上の整数であるとき、同じベンゼン環に置換する２以上の基は、互いに異なる基であってもよい。Ｒ15〜Ｒ18は、それぞれ独立して、炭素数６〜２０のアリール基を示す。ｍおよびｎは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。）
【０００８】
【化２】
2006335660.tif 000003
【０００９】
（一般式（２）中、Ｒ21〜Ｒ26は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基を示す。前記アルキル基および前記ハロゲン化アルキル基は、さらに、炭素数１〜４のアルコキシ基を有していてもよく、前記アルコキシ基、前記アリール基、前記アラルキル基および前記アミノ基は、さらに、ハロゲンを有していてもよい。Ｒ27〜Ｒ38は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基、または、下記一般式（３）で表される基を示す。ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。）
【００１０】
【化３】
2006335660.tif 000004
【００１１】
（一般式（３）中、Ｒ41およびＲ42は、それぞれ独立して、炭素数６〜２０のアリール基を示す。ｚは、０〜４の整数である。）
本発明のトリフェニルアミン系化合物は、下記一般式（１）で表されるトリフェニルアミン系化合物を、前記トリフェニルアミン系化合物の良溶媒に溶解させた後、得られた溶液を、前記トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒中に滴下して、前記トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させることにより得られる、温度４０℃、気圧２６６．６Ｐａの雰囲気下で８時間乾燥した後の残留溶媒率が１．０重量％以下であることを特徴としている。
【００１２】
【化４】
2006335660.tif 000005
【００１３】
（一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ14は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基を示す。Ｒ2〜Ｒ6のうち隣接する２つの基およびＲ9〜Ｒ13のうち隣接する２つの基は、それぞれ、互いに結合して、Ｒ2〜Ｒ6またはＲ9〜Ｒ13を有するベンゼン環とともに、縮合環を形成していてもよい。前記アルキル基および前記ハロゲン化アルキル基は、さらに、炭素数１〜４のアルコキシ基を有していてもよく、前記アルコキシ基、前記アリール基、前記アラルキル基および前記アミノ基は、さらに、ハロゲンを有していてもよい。ａ〜ｄは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。ａ〜ｄが２以上の整数であるとき、同じベンゼン環に置換する２以上の基は、互いに異なる基であってもよい。Ｒ15〜Ｒ18は、それぞれ独立して、炭素数６〜２０のアリール基を示す。ｍおよびｎは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。）
また、本発明の他のトリフェニルアミン系化合物は、下記一般式（２）で表されるトリフェニルアミン系化合物を、前記トリフェニルアミン系化合物の良溶媒に溶解させた後、得られた溶液を、前記トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒中に滴下して、前記トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させることにより得られる、温度４０℃、気圧２６６．６Ｐａの雰囲気下で８時間乾燥した後の残留溶媒率が１．０重量％以下であることを特徴としている。
【００１４】
【化５】
2006335660.tif 000006
【００１５】
（一般式（２）中、Ｒ21〜Ｒ26は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基を示す。前記アルキル基および前記ハロゲン化アルキル基は、さらに、炭素数１〜４のアルコキシ基を有していてもよく、前記アルコキシ基、前記アリール基、前記アラルキル基および前記アミノ基は、さらに、ハロゲンを有していてもよい。Ｒ27〜Ｒ38は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基、または、下記一般式（３）で表される基を示す。ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜４の整数である。）
【００１６】
【化６】
2006335660.tif 000007
【００１７】
（一般式（３）中、Ｒ41およびＲ42は、それぞれ独立して、炭素数６〜２０のアリール基を示す。ｚは、０〜４の整数である。）
【発明の効果】
【００１８】
本発明のトリフェニルアミン系化合物の精製方法によれば、操作が簡易であり、かつ、トリフェニルアミン系化合物を精製した後においても油状物を形成することがない。それゆえ、トリフェニルアミン系化合物の精製処理にかかるコストを低減させることができ、しかも、残留溶媒率が著しく低減されたトリフェニルアミン系化合物を得ることができる。
【００１９】
また、本発明のトリフェニルアミン系化合物は、残留溶媒率が著しく低減されていることから、純度の高いトリフェニルアミン系化合物として、各種産業用途に用いることができる。例えば、本発明のトリフェニルアミン系化合物は、電子写真感光体における電荷輸送剤として、特に好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明に係るトリフェニルアミン系化合物の精製方法の実施形態を詳細に説明する。
上記一般式（１）で表されるトリフェニルアミン系化合物において、Ｒ1〜Ｒ14は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基である。
【００２１】
ハロゲンとしては、例えば、フルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードなどが挙げられ、好ましくは、クロロが挙げられる。
炭素数１〜２０アルキル基としては、直鎖状または分岐鎖状であってもよく、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、イソペンチル、ｎ−ヘキシル、へプチル、オクチル、２−エチルへキシル、イソオクチル、ｎ−ノニル、イソノニル、ｎ−デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、デカデシルなどが挙げられる。上記アルキル基の炭素数は、好ましくは、１〜６、より好ましくは、１〜４、最も好ましくは、１または２である。
【００２２】
炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基としては、例えば、上記した炭素数１〜２０のアルキル基に上記したハロゲンが１または２以上導入されたものが挙げられる。上記ハロゲン化アルキル基の炭素数は、好ましくは、１〜６、さらに好ましくは、１〜４、最も好ましくは、１または２である。ハロゲン化アルキル基のハロゲンとしては、例えば、フルオロ、クロロ、ブロモまたはヨード、好ましくは、クロロが挙げられる。上記したハロゲン化アルキル基として、例えば、クロロメチル、１−クロロエチル、１，２−ジクロロエチルなどが挙げられる。
【００２３】
炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、２−メチルペンチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、ｎ−デシルなどが挙げられる。上記アルコキシ基の炭素数は、好ましくは、１〜６、さらに好ましくは、１〜４、最も好ましくは、１または２である。
炭素数６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、ｏ、ｍ、ｐ−トリル、２，３−、２，４−、２，５−、３，４−キシリル、メシチル、ｏ、ｍ、ｐ−クメニル、２−エチル−６−メチルフェニルなどが挙げられる。上記アリール基の炭素数は、好ましくは、６〜１２、さらに好ましくは、６〜１０、最も好ましくは、６〜８であり、具体的には、フェニル、ｏ、ｍ、ｐ−トリル、２，３−、２，４−、２，５−、３，４−キシリルなどが挙げられる。
【００２４】
炭素数７〜２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリルなどが挙げられる。上記アラルキル基の炭素数は、好ましくは、７〜１１、さらに好ましくは、７〜９であり、具体的には、ベンジルなどが挙げられる。
炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基（−ＮＨ2）の他に、アミノ基の１個または２個の水素を、炭素数１〜４のアルキル基で置換した置換アミノ基が挙げられる。上記置換アミノ基としては、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなどが挙げられる。
【００２５】
上記一般式（１）で表されるトリフェニルアミン系化合物において、好ましくは、上記したＲ2〜Ｒ6のうち少なくとも２つおよび上記したＲ9〜Ｒ13のうち少なくとも２つが、水素以外の置換基、すなわち、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基または炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基である。また、Ｒ2〜Ｒ6のうち少なくとも２つ、または、Ｒ9〜Ｒ13のうち少なくとも２つが有している水素以外の置換基としては、上記例示の置換基の中でも、特に、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましい。
【００２６】
Ｒ2〜Ｒ6およびＲ9〜Ｒ13の具体例として、特に限定されないが、例えば、表１に示すものが挙げられる。
【００２７】
【表１】
2006335660.tif 000008
【００２８】
表１中、Ｈは水素、Ｃｌはクロロ、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、ＯＭｅはメトキシ、ＮＨ2はアミノを示す。
上記した炭素数１〜２０のアルキル基および炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基は、さらに、炭素数１〜４のアルコキシ基を有していてもよい。上記した炭素数１〜４のアルコキシ基としては、上記例示の炭素数１〜２０のアルコキシ基のうち、炭素数が１〜４であるものが挙げられ、好ましくは、炭素数が１または２、より好ましくは、１である。
【００２９】
上記した炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基および炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基は、さらに、上記例示のハロゲンを有していてもよい。
Ｒ2〜Ｒ6のうち隣接する２つの基およびＲ9〜Ｒ13のうち隣接する２つの基は、それぞれ、互いに結合して、Ｒ2〜Ｒ6またはＲ9〜Ｒ13を有するベンゼン環とともに、縮合環を形成していてもよい。縮合環としては、例えば、ナフタレン、アントラセン、フェナントレンなどが挙げられる。
【００３０】
上記一般式（１）中、ａ〜ｄは、同じベンゼン環に置換するＲ1、Ｒ7、Ｒ8およびＲ14の個数であり、それぞれ独立した０〜４の整数を示し、好ましくは、０〜２、より好ましくは、０または１である。
また、上記したａ〜ｄが２以上の整数であるとき、同じベンゼン環に置換する２以上の基は、互いに異なる基であってもよい。
【００３１】
Ｒ15〜Ｒ18は、それぞれ独立して、炭素数６〜２０のアリール基を示す。炭素数６〜２０のアリール基としては、上記例示の炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。なかでも、好ましくは、炭素数が６〜８のアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル、ｏ、ｍ、ｐ−トリル、２，３−、２，４−、２，５−、３，４−キシリルなどが挙げられる。
上記一般式（１）中、ｍおよびｎは、ビニル基の繰り返し数であり、それぞれ独立して０〜４の整数を示し、好ましくは、０〜２、より好ましくは、０または１、さらに好ましくは、０である。
【００３２】
上記一般式（２）で表されるトリフェニルアミン系化合物において、Ｒ21〜Ｒ26は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基を示す。
【００３３】
ハロゲンとしては、上記例示のハロゲンと同様のものが挙げられ、好ましくは、クロロが挙げられる。
炭素数１〜２０アルキル基としては、上記例示のアルキル基と同様のものが挙げられる。上記アルキル基の炭素数は、好ましくは、１〜６、より好ましくは、１〜４、最も好ましくは、１または２である。
【００３４】
炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基および上記ハロゲン化アルキル基のハロゲンとしては、上記したものと同様のものが挙げられる。上記ハロゲン化アルキル基の炭素数は、好ましくは、１〜６、さらに好ましくは、１〜４、最も好ましくは、１または２である。上記ハロゲン化アルキル基としては、好ましくは、例えば、クロロメチル、１−クロロエチル、１，２−ジクロロエチルなどが挙げられる。
【００３５】
炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、上記例示のアルコキシ基と同様のものが挙げられる。上記アルコキシ基の炭素数は、好ましくは、１〜６、さらに好ましくは、１〜４、最も好ましくは、１または２である。
炭素数６〜２０のアリール基としては、上記例示のアリール基と同様のものが挙げられる。上記アリール基の炭素数は、好ましくは、６〜１２、さらに好ましくは、６〜１０、最も好ましくは、６〜８であり、具体的には、フェニル、ｏ、ｍ、ｐ−トリル、２，３−、２，４−、２，５−、３，４−キシリルなどが挙げられる。
【００３６】
炭素数７〜２０のアラルキル基としては、上記例示のアラルキル基と同様のものが挙げられる。上記アラルキル基の炭素数は、好ましくは、７〜１１、さらに好ましくは、７〜９であり、具体的には、ベンジルなどが挙げられる。
炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基としては、上記例示のアミノ基および置換アミノ基と同様のものが挙げられる。
【００３７】
上記した炭素数１〜２０のアルキル基および炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基は、さらに、炭素数１〜４のアルコキシ基を有していてもよい。上記した炭素数１〜４のアルコキシ基としては、上記例示のアルコキシ基のうち、炭素数が１〜４であるものが挙げられ、その炭素数は、好ましくは、１または２、より好ましくは、１である。
上記した炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基および炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基は、さらに、上記例示のハロゲンを有していてもよい。
【００３８】
Ｒ27〜Ｒ38は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基、または、上記一般式（３）で表される基を示す。
ハロゲンとしては、上記例示のハロゲンと同様のものが挙げられ、好ましくは、クロロが挙げられる。
【００３９】
炭素数１〜２０のアルキル基としては、上記例示のアルキル基と同様のものが挙げられる。上記アルキル基の炭素数は、好ましくは、１〜６、より好ましくは、１〜４、最も好ましくは、１または２である。
炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基および上記ハロゲン化アルキル基のハロゲンとしては、上記したものと同様のものが挙げられる。上記ハロゲン化アルキル基の炭素数は、好ましくは、１〜６、さらに好ましくは、１〜４、最も好ましくは、１または２である。上記ハロゲン化アルキル基としては、好ましくは、例えば、クロロメチル、１−クロロエチル、１，２−ジクロロエチルなどが挙げられる。
【００４０】
炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、上記例示のアルコキシ基と同様のものが挙げられる。上記アルコキシ基の炭素数は、好ましくは、１〜６、さらに好ましくは、１〜４、最も好ましくは、１または２である。
炭素数６〜２０のアリール基としては、上記例示のアリール基と同様のものが挙げられる。上記アリール基の炭素数は、好ましくは、６〜１２、さらに好ましくは、６〜１０、最も好ましくは、６〜８であり、具体的には、フェニル、ｏ、ｍ、ｐ−トリル、２，３−、２，４−、２，５−、３，４−キシリルなどが挙げられる。
【００４１】
炭素数７〜２０のアラルキル基としては、上記例示のアラルキル基と同様のものが挙げられる。上記アラルキル基の炭素数は、好ましくは、７〜１１、さらに好ましくは、７〜９であり、具体的には、ベンジルなどが挙げられる。
炭素数１〜４のアルキル基を有していてもよいアミノ基としては、上記例示のアミノ基および置換アミノ基と同様のものが挙げられる。
【００４２】
上記一般式（３）で表される基において、Ｒ41およびＲ42は、それぞれ独立して、炭素数６〜２０のアリール基を示す。
炭素数６〜２０のアリール基としては、上記例示のアリール基と同様のものが挙げられる。上記アリール基の炭素数は、好ましくは、６〜１２、さらに好ましくは、６〜１０、最も好ましくは、６〜８であり、具体的には、フェニル、ｏ、ｍ、ｐ−トリル、２，３−、２，４−、２，５−、３，４−キシリルなどが挙げられる。
【００４３】
上記一般式（３）中、ｚは、ビニル基の繰り返し数であり、０〜４の整数を示し、好ましくは、０〜２、より好ましくは、０または１、さらに好ましくは、０である。
Ｒ27〜Ｒ38の具体例を表２および表３に示す。
【００４４】
【表２】
2006335660.tif 000009
【００４５】
【表３】
2006335660.tif 000010
【００４６】
表２および表３中、Ｈは水素、Ｃｌはクロロ、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、ＯＭｅはメトキシ、ＤＰＶはジフェニルビニル、ＮＨ2はアミノを示す。また、「２−」、「４−」および「６−」は、それぞれ、ベンゼン環上での置換位置を示す。なお、ＤＰＶは、上記一般式（３）で表される基において、Ｒ41およびＲ42がフェニルであり、かつ、ｚが０である場合を示している。また、ベンゼン環上での置換位置は、下記式に示すとおりである。
【００４７】
【化７】
2006335660.tif 000011
【００４８】
本実施形態におけるトリフェニルアミン系化合物の精製方法では、上記一般式（１）または（２）で表されるトリフェニルアミン系化合物（以下、単に「トリフェニルアミン系化合物」という場合がある。）を、トリフェニルアミン系化合物の良溶媒に溶解した後、得られた溶液を、トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒中に滴下して、トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させる。
【００４９】
トリフェニルアミン系化合物をその良溶媒に溶解させるには、トリフェニルアミン系化合物をその良溶媒中に添加して、撹拌し、必要により、加熱すればよい。
トリフェニルアミン系化合物の良溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などの酸素含有脂環式系溶媒、例えば、クロロホルムなどのハロゲン含有脂肪族系溶媒、例えば、アセトン、２−ブタノンなどのケトン系溶媒が挙げられる。また、これらトリフェニルアミン系化合物の良溶媒は、単独で、または、２種以上を混合して使用することができる。
【００５０】
トリフェニルアミン系化合物の良溶媒の配合割合は、溶媒の種類によって適宜選択されるが、トリフェニルアミン系化合物１００重量部に対して、例えば、１０〜１０００重量部、好ましくは、５０〜５００重量部、さらに好ましくは、１００〜２００重量部である。
トリフェニルアミン系化合物の結晶は、上記良溶媒によるトリフェニルアミン系化合物の溶液を、上記トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒中に滴下することにより、上記トリフェニルアミン系化合物の溶液から結晶を析出される。トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させる際には、トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒を撹拌しながら、トリフェニルアミン系化合物の溶液を、上記貧溶媒中に徐々に滴下して、その後、３０〜３００分間、撹拌するか、または、１２〜２４時間、静置することにより、トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させることができる。
【００５１】
トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒としては、例えば、ヘキサンなどの脂肪族系溶媒、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒が挙げられる。また、これらトリフェニルアミン系化合物の貧溶媒は、単独で、または、２種以上を混合して使用することができる。
トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒の配合割合は、トリフェニルアミン系化合物の溶液１００重量部に対して、例えば、５０〜５０００重量部、好ましくは、２００〜１０００重量部、さらに好ましくは、４００〜５００重量部である。
【００５２】
トリフェニルアミン系化合物は、上記良溶媒による溶液から、上記の操作を経て析出されることにより、精製される。
上記精製方法により精製されたトリフェニルアミン系化合物は、上記貧溶媒中にて析出された結晶を濾別して、次いで、減圧乾燥することにより、微粒子状の結晶として得られる。減圧乾燥する場合には、例えば、温度が２０〜６０℃、気圧１〜３０００Ｐａの雰囲気下で、８〜２４時間乾燥する。
【００５３】
上記実施形態におけるトリフェニルアミン系化合物の精製方法によれば、操作が簡易であり、かつ、トリフェニルアミン系化合物を精製した後においても油状物を形成することがない。それゆえ、トリフェニルアミン系化合物の精製処理にかかるコストを低減させることができ、しかも、残留溶媒率が著しく低減されたトリフェニルアミン系化合物を得ることができる。
【００５４】
本発明に係るトリフェニルアミン系化合物の精製方法により精製されたトリフェニルアミン系化合物は、温度４０℃、気圧２６６．６Ｐａ（２ｍｍＨｇ）の雰囲気下で、８時間乾燥されることにより、その残留溶媒率が１．０重量％以下にまで低減される。
精製されたトリフェニルアミン系化合物に対する乾燥処理条件は、特に限定されないが、例えば、乾燥温度は２０〜６０℃であることが好ましく、４０〜５０℃であることがより好ましい。
【００５５】
また、乾燥時間は、好ましくは、２〜４８時間であり、より好ましくは、８〜２４時間である。なお、４８時間を超えて乾燥させても、通常、不可避的に残存する溶媒を除去できないことから、乾燥処理に要するコストの観点から、乾燥時間の上限は４８時間とすることが好ましい。
上記の精製方法により精製されたトリフェニルアミン系化合物の場合、乾燥処理条件を適宜設定することにより、残留溶媒率を１．０重量％以下、好ましくは、０．５重量％以下、より好ましくは、０．２重量％以下にまで低減させることができる。
【００５６】
なお、トリフェニルアミン系化合物を、その良溶媒に一旦溶解させた後、トリフェニルアミン系化合物の貧溶媒を加えて析出させる精製方法の場合には、精製されたトリフェニルアミン系化合物を、例えば、温度４０℃、気圧２６６．６Ｐａの雰囲気下で、８時間乾燥させた場合であっても、残存溶媒率を約５重量％よりも低い値に設定することができず、また、この場合には、たとえ乾燥時間を４８時間以上とした場合であっても、不可避的に残存溶媒率が１．０重量％を超える値となる。
【００５７】
上記の実施形態に係るトリフェニルアミン系化合物の精製方法により得られたトリフェニルアミン系化合物は、残留溶媒率が著しく低減されていることから、純度の高いトリフェニルアミン系化合物として各種産業用途に用いることができる。例えば、本発明のトリフェニルアミン系化合物は、電子写真感光体における電荷輸送剤として、特に好適である。
【実施例】
【００５８】
（実施例１）
下記式（４）で表されるトリフェニルアミン系化合物の粗結晶１０ｇを、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍｌに溶解させて、トリフェニルアミン系化合物（４）のＴＨＦ溶液を得た。
【００５９】
【化８】
2006335660.tif 000012
【００６０】
次いで、メタノール１００ｍｌを撹拌させながら、上記トリフェニルアミン系化合物のＴＨＦ溶液を、徐々に滴下して、さらに、３０分間撹拌することにより、上記トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させた。
次に、析出したトリフェニルアミン系化合物の結晶を濾別し、得られた結晶を、温度４０℃、気圧２６６．６Ｐａの雰囲気下で８時間、減圧乾燥することにより、微粒子状の結晶を得た。
【００６１】
こうして得られた微粒子状の結晶について、室温〜２５０℃の温度範囲（昇温速度１０℃／分）での減量率を差動型示差熱天秤（「差動型示差熱天秤ＴＧ−ＤＴＡ  ＴＧ８１０１Ｄ」、（株）リガク製）で測定することにより、残留溶媒率（重量％）を算出した。
なお、残留溶媒率（重量％）は、サンプルとして微粒子状の結晶１０ｍｇを採取し、その測定前における初期サンプル重量（ｍｇ）と測定後におけるサンプル重量（ｍｇ）とから重量変化量（ｍｇ）を測定し、下記式に基づいて、算出した。
【００６２】
残留溶媒率（重量％）＝（重量変化量／初期サンプル重量）×１００
また、減圧乾燥時間が異なるトリフェニルアミン系化合物（４）についても、上記と同様に残留溶媒率（重量％）を測定した。減圧乾燥の時間は、２４時間、４８時間、７２時間、１２０時間および１６８時間とした。
その結果を、表４に示す。
【００６３】
（比較例１）
上記式（４）で表されるトリフェニルアミン系化合物の粗結晶１０ｇを、ＴＨＦ２０ｍｌに添加し、加熱して溶解させた後、冷却することにより、トリフェニルアミン系化合物のＴＨＦ溶液を得た。次いで、メタノール１００ｍｌを、上記トリフェニルアミン系化合物のＴＨＦ溶液中に、徐々に滴下した。その後、３０分間撹拌することにより、上記トリフェニルアミン系化合物の結晶を析出させて、上記トリフェニルアミン系化合物を精製した。
【００６４】
次に、析出したトリフェニルアミン系化合物の結晶を濾別し、得られた結晶を、温度４０℃、気圧２６６．６Ｐａの雰囲気下で８時間、減圧乾燥することにより、塊状の粗結晶を得た。
減圧乾燥により得られたトリフェニルアミン系化合物について、上記と同様の差動型示差熱天秤によって、その減量率を測定することにより、残留溶媒率（重量％）を算出した。その結果を、表４に示す。
【００６５】
【表４】
2006335660.tif 000013
【００６６】
（実施例２）
実施例１において、上記式（４）で表されるトリフェニルアミン系化合物を、下記式（５）で表されるトリフェニルアミン系化合物に変更して、ＴＨＦをトルエン２０ｍｌに変更した以外は、実施例１と同様に精製処理して、減圧乾燥することにより、微粒子状の結晶を得た。
【００６７】
得られた微粒子状の結晶について、実施例１と同様の測定条件により、残留溶媒率（重量％）を算出した。
その結果を、表５に示す。
【００６８】
【化９】
2006335660.tif 000014
【００６９】
（比較例２）
比較例１において、上記式（４）で表されるトリフェニルアミン系化合物を、下記式（５）で表されるトリフェニルアミン系化合物に変更して、ＴＨＦをトルエン２０ｍｌに変更した以外は、比較例１と同様に精製処理して、減圧乾燥することにより、塊状の粗結晶を得た。
【００７０】
得られた塊状の粗結晶について、比較例１と同様の測定条件により、残留溶媒率（重量％）を算出した。
その結果を、表５に示す。
【００７１】
【表５】
2006335660.tif 000015
【００７２】
各実施例のトリフェニルアミン系化合物の残留溶媒率は、減圧乾燥時間８時間において、各比較例のトリフェニルアミン系化合物の残留溶媒率よりも低いことが分かる。また、各比較例において、比較例１のトリフェニルアミン系化合物は、１２０時間以上減圧乾燥しても残留溶媒率が変化せず、比較例２のトリフェニルアミン系化合物は、４８時間以上減圧乾燥しても残留溶媒率が変化しないことが分かる。一方、各実施例のトリフェニルアミン系化合物は、減圧乾燥時間８時間においても、残留溶媒率が著しく低減されていることが分かる。