(57)【要約】【課題】  本発明は、移動対象物の大型化しても、低コストで、比較的軽量に構成することができる移動ステージ、これを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを課題としている。【解決手段】  本発明は、スライド自在に構成されたスライダ５２の移動をガイドするガイド部５４と、ガイド部５４を支持するベース部１１と、を備えた移動ステージ１５１において、ベース部１１は、高強度コンクリート１６３を主体としたコンクリート構造体１６１で構成され、ガイド部５４は、石材で構成されていることを特徴とする。【選択図】  図６
2006043496.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スライド自在に構成されたスライダの移動をガイドするガイド部と、前記ガイド部を支持するベース部と、を備えた移動ステージにおいて、
前記ベース部は、高強度コンクリートを主体としたコンクリート構造体で構成され、
前記ガイド部は、石材で構成されていることを特徴とする移動ステージ。
【請求項２】
前記ベース部と前記ガイド部との間には、金属板が介設されていることを特徴とする請求項１に記載の移動ステージ。
【請求項３】
前記コンクリート構造体は、上面を開放した仮枠状の金属ボックスに、前記高強度コンクリートを充填して構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の移動ステージ。
【請求項４】
前記コンクリート構造体には、補強筋となる金属フレームが埋め込まれていることを特徴とする請求項３に記載の移動ステージ。
【請求項５】
前記コンクリート構造体は、金属製の中空のパイプの内部に前記高強度コンクリートを充填した充填パイプを組んで構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の移動ステージ。
【請求項６】
前記ベース部を支持する複数本の支柱をさらに備え、
前記各支柱は、金属製の中空の支柱体と、前記支柱体の内部に充填した前記高強度コンクリートと、で構成されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の移動ステージ。
【請求項７】
ワークに対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドを駆動することにより、前記ワーク上に機能液を吐出して描画を行う液滴吐出装置において、
前記ワークおよび前記機能液滴吐出ヘッドの少なくとも一方を、請求項１ないし６のいずれかに記載の移動ステージに搭載させて、前記相対移動を行うことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
ワークに対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドを駆動することにより、前記ワーク上に機能液を吐出して描画を行う液滴吐出装置において、
ワークをＸ軸方向に移動させるＸ軸移動ステージと、
機能液滴吐出ヘッドをＹ軸方向に移動させるＹ軸移動ステージと、を備え、
前記Ｘ軸移動ステージは、請求項１ないし５のいずれかに記載の移動ステージで構成され、
前記Ｙ軸移動ステージは、請求項６に記載の移動ステージで構成されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項９】
請求項７または８に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項７または８に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１０に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スライド自在に構成されたスライダの移動をガイドするガイド部と、ガイド部を支持するベース部と、を備えた移動ステージ、これを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
工業応用の移動ステージでは、極めて高い移動精度が要求されるため、高い平面度を出しやすく、熱や振動の影響を受け難い石材（石定盤）をベース部に用い、この上に、移動機構を配設することにより、その移動精度を確保している。例えば、電気光学装置を製造する液滴吐出装置には、石定盤上に、ワークに対して機能液滴吐出ヘッドを相対移動させるためのＸ・Ｙ移動機構を配設した移動ステージが用いられており、ワークに対して、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドをＸ軸方向およびＹ軸方向に精度良く相対的移動させることにより、ワーク上に精度良く機能液を吐出させることができるようになっている。
【特許文献１】特開２００４−１８８４１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このように、石定盤を用いた移動テーブルを液滴吐出装置に適用する場合、石定盤の大きさは、処理するワークの大きさに従って決定される。すなわち、石定盤は、少なくともワークよりも大きくなければならず、また、（石定盤を大きくした）その分の撓みを考慮して厚手に形成しなければならない。このため、液滴吐出装置で処理するワークが大型化すると、これに合わせて石定盤も大型化しなければならず、大型のワークを処理する液滴吐出装置に上記のような移動ステージを適用しようとすると、石定盤の大型化に起因して、移動テーブル自身のコストがかさむと共に、その重量が非常に重くなってしまう。機能液滴吐出ヘッドを、キャリッジを介して移動させる移動テーブルについても同様であり、キャリッジの大きさとその移動距離に応じて大型化する。
【０００４】
そこで、本発明は、移動対象物の大型化しても、低コストで、比較的軽量に構成することができる移動ステージ、これを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、スライド自在に構成されたスライダの移動をガイドするガイド部と、ガイド部を支持するベース部と、を備えた移動ステージにおいて、ベース部は、高強度コンクリートを主体としたコンクリート構造体で構成され、ガイド部は、石材で構成されていることを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、ベース部が高強度コンクリートを主体に構成されているので、ベース部を石材で構成した場合に比して、低コストかつ軽量に構成することができる。特に、大型の移動対象物に対応させた移動テーブルにおいて、その効果は顕著である。一方、ガイド部は、熱膨張による形而変化が少ないと共に、減振性が高く、また加工性のよい石材で構成されている。したがって、ガイド部を精度良く加工しておくことにより、熱や振動に起因するガイド部のガイド誤差がほとんど生じることがなく、スライダの移動を極めて精度良くガイドすることができる。なお、ここで使用する高強度コンクリートは、熱や振動の影響を受け難く、かつ、流動性が良く気泡の混入が少ないものが好ましい。
【０００７】
この場合、ベース部とガイド部との間には、金属板が介設されていることが好ましい。
【０００８】
この構成によれば、高強度コンクリートを主体としたベース部と、ガイド部との間には、金属板が介設されている。このように、ベース部とガイド部との間に加工性のよい金属板を介設することにより、ベース部に高精度な加工が施せない場合であっても、ガイド部の設置精度を高めることができる。具体的には、金属板の上面の平面度を出し、これを水平とすることにより、ガイド部を水平に設置することができる。
【０００９】
この場合、コンクリート構造体は、上面を開放した仮枠状の金属ボックスに、高強度コンクリートを充填して構成されていることが好ましい。また、この場合、コンクリート構造体には、補強筋となる金属フレームが埋め込まれていることが好ましい。
【００１０】
これらの構成によれば、コンクリート構造体（ベース部）の剛性および強度を金属ボックスおよび／または金属フレームで補うことが可能である。これにより、コンクリート構造体の厚みを極力抑えることが可能となり、ベース部の重量を軽減することが可能である。なお、金属フレームとしては、金属製の棒やパイプを組んだものを用いることができる。パイプを用いる場合には、その内部に、高強度コンクリートを充填することが好ましい。
【００１１】
この場合、コンクリート構造体は、金属製のパイプの内部に高強度コンクリートを充填した充填パイプを組んで構成されていることが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、金属製の中空のパイプと、その内部に充填する高強度コンクリートと、でコンクリート構造体が構成されているため、任意の大きさ（特に大型）のベース部を容易かつ低コストに製造可能であると共に、その重量を軽減することが可能である。この場合の高強度コンクリートも、熱や振動の影響を受け難く、かつ、流動性が良く気泡の混入が少ないものが好ましい。これにより、外部からの熱や振動の影響をベース部で吸収することができ、移動ステージの移動精度を高めることが可能である。
【００１３】
この場合、ベース部を支持する複数本の支柱をさらに備え、各支柱は、金属製の中空の支柱体と、支柱体の内部に充填した高強度コンクリートと、で構成されていることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、中空の金属製の支柱体の内部には、高強度コンクリートが充填されているので、その減振性を向上させることができる。したがって、複数本の支柱でベース部を支持する構成を採用する場合に、振動による影響を抑えることができ、スライダの移動を安定したものとすることができる。
【００１５】
本発明は、ワークに対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを駆動することにより、ワーク上に機能液を吐出して描画を行う液滴吐出装置において、ワークおよび機能液滴吐出ヘッドの少なくとも一方を、上記のいずれかに記載の移動ステージに搭載させて、相対移動を行うことを特徴とする。
【００１６】
本発明は、ワークに対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドを駆動することにより、ワーク上に機能液を吐出して描画を行う液滴吐出装置において、ワークをＸ軸方向に移動させるＸ軸移動ステージと、機能液滴吐出ヘッドをＹ軸方向に移動させるＹ軸移動ステージと、を備え、Ｘ軸移動ステージは、請求項１ないし５のいずれかに記載の移動ステージで構成され、Ｙ軸移動ステージは、請求項６に記載の移動ステージで構成されていることを特徴とする。
【００１７】
これらの構成によれば、液滴吐出装置は、低コストかつ軽量に構成した上記に記載の移動ステージを適用して構成されているので、装置自身のコストを削減することができると共に、軽量化を図ることが可能である。また、ワークに対する機能液滴吐出ヘッドの相対移動を精度良く行うことができ、描画精度を高めることができる。なお、装置の軽量化により、液滴吐出装置の設置するための重量対策が不要となり、設置場所を選ばない。
【００１８】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。また本発明の電気光学装置は、上記のいずれかに液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００１９】
これらの構成によれば、上記の液滴吐出装置を用いているため、精度良く成膜部を形成することができ、製造上の歩留まりを向上させることができる。また、大型の電気光学装置であっても、これを低コストで製造することが可能である。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置またはＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２０】
本発明の電子機器は、上記に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置、または上記に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２１】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、いわゆるフラットディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成する。
【００２３】
図１ないし図３に示すように、液滴吐出装置１は、機能液滴吐出ヘッド８３（図示省略）を有し、機能液によりワークＷに描画を行う描画装置２と、描画装置２に添設され、機能液滴吐出ヘッド８３の保守に供するヘッド保守装置３と、これら両装置２、３を制御する図外の制御装置４と、で構成されている。
【００２４】
描画装置２は、床上に設置した支持ベース１１と、支持ベース１１上の全域に広く載置され描画装置本体１２と、から成り、描画装置本体１２は、主走査方向（Ｘ軸方向）に延在するＸ軸テーブル３１およびＸ軸テーブル３１に直交するＹ軸テーブル３２を有するＸ・Ｙ移動機構２１と、Ｙ軸テーブル３２に移動自在に取り付けられたメインキャリッジ２２と、メインキャリッジ２２に支持され、機能液滴吐出ヘッドを搭載したヘッドユニット２３と、備えている。
【００２５】
Ｘ・Ｙ移動機構２１は、支持ベース１１上に配設されたＸ軸テーブル３１と、複数本（８本）の支柱３３を介して、Ｘ軸テーブル３１およびヘッド保守装置３を跨ぐように架け渡した一対のＹ軸支持ベース１１上に配設されたＹ軸テーブル３２と、で構成されている。詳細は後述するが、支持ベース１１およびＸ軸テーブル３１により、Ｘ軸移動ステージ１５１が構成され、８本の支柱３３、Ｙ軸支持ベース１１およびＹ軸テーブル３２により、Ｙ軸移動ステージ１５２が構成されている。
【００２６】
描画装置２では、Ｘ軸テーブル３１およびＹ軸テーブル３２が交わるエリアがワークＷの描画を行う描画エリア４１、Ｙ軸テーブル３２およびヘッド保守装置３が交わるエリアが機能液滴吐出ヘッド８３に対する機能回復処理を行う保守エリア４２となっている。なお、８本の支柱３３の内、４本の支柱３３ａは、支持ベース１１上に立設され、４本の支柱３３ｂは、床上に立設されている。４本の支柱３３ａは、他の４本の支柱３３ｂよりも（支持ベース１１の厚みを考慮して）短く構成されており、８本の支柱３３によって、一対のＹ軸支持ベース１１を水平に支持できるようになっている。
【００２７】
Ｘ軸テーブル３１は、ワークＷをセットするセットテーブル５１と、セットテーブル５１をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ５２と、Ｘ軸方向に延在し、セットテーブル５１を介してワークＷをＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ５３と、Ｘ軸リニアモータ５３に並設され、Ｘ軸エアースライダ５２の移動を案内する一対のＸ軸ガイドレール５４と、を備えている。
【００２８】
セットテーブル５１は、ワークＷを吸着セットする吸着テーブル６１と、吸着テーブル６１を支持し、吸着テーブル６１にセットしたワークＷの位置をθ軸方向に補正するためのθテーブル６２等を有している。Ｘ軸エアースライダ５２は、セットテーブル５１を支持するスライダ本体５２ａと、スライダ本体５２ａの下部に固定され、一対のＸ軸ガイドレール５４に係合する一対の係合部５２ｂと、を有している。一対のＸ軸リニアモータ５３を（同期させて）駆動すると、一対の係合部５２ｂにより一対のＸ軸ガイドレール５４にガイドされた状態で、Ｘ軸エアースライダ５２がＸ軸方向に移動し、セットテーブル５１にセットされたワークＷがＸ軸方向に移動する。
【００２９】
なお、Ｘ軸ガイドレール５４と一対の係合部５２ｂとの間には、空気静圧軸受けが介設されており、Ｘ軸リニアモータ５３の駆動時には、Ｘ軸ガイドレール５４と一対の係合部５２ｂとの間に、圧縮エアーが供給される。これにより、Ｘ軸エアースライダ５２は、Ｘ軸ガイドレール５４と非接触状態で移動することとなり、その移動を高精度に制御可能となっている。
【００３０】
Ｙ軸テーブル３２は、メインキャリッジ２２を挿通して固定したブリッジプレート６１と、ブリッジプレート６１を両持ちで支持する一対のＹ軸スライダ６２と、Ｙ軸方向に延在し、一対のＹ軸スライダ６２を介してブリッジプレート６１をＹ軸方向に移動させる一対のＹ軸リニアモータ６３と、一対のＹ軸リニアモータ６３に並設されると共に、一対のＹ軸スライダ６２を支持し、Ｙ軸スライダ６２を介して、ブリッジプレート６１の移動を案内する一対（２組４本）のＹ軸ガイドレール６４（ＬＭガイド）と、を備えている。一対のＹ軸リニアモータ６３を駆動すると、一対のＹ軸スライダ６２が一対のＹ軸ガイドレール６４を案内にして同時にＹ軸方向を平行移動し、ブリッジプレート６１を両持ち状態でＹ軸方向に移動させる。なお、一対のＹ軸リニアモータ６３、および一対のＹ軸ガイドレール６４は、Ｙ軸支持ベース１１に設置されている。
【００３１】
メインキャリッジ２２は、ヘッドユニット２３を支持するキャリッジ本体７１と、キャリッジ本体７１を介して、ヘッドユニット２３のθ方向に対する位置補正を行うためのθ回転機構７２と、θ回転機構７２を介して、キャリッジ本体７１（ヘッドユニット２３）をＹ軸テーブル３２（ブリッジプレート６１）に支持させる吊設部材７３と、を備えている。なお、吊設部材７３には、キャリッジ本体７１およびθ回転機構７２を介して、ヘッドユニット２３を昇降させるヘッド昇降機構（図示省略）が組み込まれており、ヘッドユニット２３の高さ位置を調整可能に構成されている。
【００３２】
ヘッドユニット２３は、ヘッドプレート８１にヘッド保持部材８２を介して機能液滴吐出ヘッド８３を搭載させて構成されている。図４に示すように、機能液滴吐出ヘッド８３は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針９２を有する機能液導入部９１と、機能液導入部９１に連なる２連のヘッド基板９３と、機能液導入部９１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体９４と、を備えている。接続針９２は、図外の機能液供給装置（機能液タンク）に接続され、機能液導入部９１に機能液を供給する。ヘッド本体９４は、キャビティ９５（ピエゾ圧電素子）と、吐出ノズル９８が開口したノズル面９７を有するノズルプレート９６と、で構成されている。ノズル面９７には、多数（１８０個）の吐出ノズル９８から成るノズル列が形成されている。機能液滴吐出ヘッド８３を吐出駆動すると、キャビティ９５のポンプ作用により、吐出ノズル９８から機能液滴を吐出する。
【００３３】
描画処理における描画装置２の一連の動作について説明する。先ず、機能液を吐出する前の準備として、ヘッドユニット２３およびセットされたワークＷの位置補正がなされる。次に、Ｘ・Ｙ移動機構２１が、ワークＷを主走査（Ｘ軸）方向に往復動させる。ワークＷの往復動と同期して、機能液滴吐出ヘッド８３が駆動し、ワークＷに対する機能液滴の選択的な吐出動作が行われる。ワークＷが一往復動すると、Ｘ・Ｙ移動機構２１は、ヘッドユニット２３を副走査（Ｙ軸）方向に移動させる。そして、ワークＷの主走査方向へ往復動と機能液滴吐出ヘッド８３の駆動が再び行われる。すなわち、ヘッドユニット２３の主走査方向への（相対）移動と副走査方向への（相対）移動とを交互に繰り返しながら、機能液滴吐出ヘッドを選択的に吐出駆動させることにより、ワークＷに対する描画処理が行われてゆく。
【００３４】
なお、本実施形態では、ワークＷを主走査方向に一往復動した後に、ヘッドユニット２３を副走査方向に移動させる構成としているが、ワークＷを主走査方向に往動させた後、ヘッドユニット２３を副走査方向へ移動させ、さらに、ワークＷを復動させた後、ヘッドユニット２３を副走査移動させるといった構成としても良い。
【００３５】
図１および図２に示すように、ヘッド保守装置３は、描画装置２の支持ベース１１に添設された機台１０１と、機台１０１上に設置された吸引ユニット１０２およびワイピングユニット１０３と、を備えている。吸引ユニット１０２およびワイピングユニット１０３は、Ｙ軸方向に並んで機台１０１上に設置されており、機能液滴吐出ヘッド８３の保守時には、Ｙ軸テーブル３２を駆動して、ヘッドユニット２３を、吸引ユニット１０２またはワイピングユニット１０３に適宜臨ませる構成となっている。
【００３６】
吸引ユニット１０２は、機能液滴吐出ヘッド８３（吐出ノズル９８）を吸引することにより、吐出ノズル９８から機能液を強制的に排出させるためのものであり、機能液滴吐出ヘッド８３のノズル面９７に密着させるキャップ１１１と、機能液滴吐出ヘッド８３（ノズル面９７）に対してキャップ１１１を昇降させるキャップ昇降機構１１２と、キャップ１１１を介して機能液滴吐出ヘッド８３を吸引可能な単一の吸引ポンプ１１３と、を有している。なお、機能液滴吐出ヘッド８３を吸引するための手段として、吸引ポンプ１１３に代えてエジェクタ等を用いることも可能である。機能液の吸引は、機能液滴吐出ヘッド８３の目詰まりを解消／防止するために行われる他、液滴吐出装置１を新設した場合や、機能液滴吐出ヘッド８３のヘッド交換を行う場合などに、機能液供給装置から機能液滴吐出ヘッド８３に至る機能液流路に機能液を充填するために行われる。
【００３７】
なお、キャップ１１１は、機能液滴吐出ヘッド８３の捨て吐出（予備吐出）により吐出された機能液を受けるフラッシングボックスの機能を有しており、ワークＷの交換時のように、ワークＷに対する描画を一時的に停止するときに行う定期フラッシングの機能液を受けるようになっている。この捨て吐出（フラッシング動作）では、キャップ昇降機構１１２により、キャップ１１１は、その上面が機能液滴吐出ヘッド８３のノズル面９７から僅かに離間する位置まで移動させられる。
【００３８】
また、キャップ１１１は、液滴吐出装置１の非稼動時に、機能液滴吐出ヘッド８３を保管するためにも用いられる。この場合、保守エリア４２にヘッドユニット２３を臨ませ、機能液滴吐出ヘッド８３のノズル面９７にキャップ１１１を密着させることにより、ノズル面９７を封止し、機能液滴吐出ヘッド８３（吐出ノズル９８）の乾燥を防止できるようになっている。
【００３９】
ワイピングユニット１０３は、洗浄液を噴霧したワイピングシート１２１で機能液滴吐出ヘッド８３のノズル面９７を拭き取る（ワイピングを行う）ものであり、ロール状に巻回したワイピングシート１２１を繰り出しながら巻き取ってゆく巻取りユニット１２２と、繰り出したワイピングシート１２１に洗浄液を散布する洗浄液供給ユニット１２３と、洗浄液が散布されたワイピングシート１２１でノズル面９７を拭取る拭取りユニット１２４と、を備えている。機能液滴吐出ヘッド８３へのワイピングは、吸引ユニット１０２による機能液滴吐出ヘッド８３の吸引後等に行われ、ノズル面９７に付着した汚れを払拭するようになっている。
【００４０】
次に、図５を参照しながら液滴吐出装置１の主制御系について説明する。液滴吐出装置１は、描画装置２を有する描画部１３１と、ヘッド保守装置３を有するヘッド保守部１３２と、描画装置２やヘッド保守装置３の各種センサを有し、各種検出を行う検出部１３３、各部を駆動する駆動部１３４と、各部に接続され、液滴吐出装置１全体の制御を行う制御部１３５（制御装置４）と、を備えている。
【００４１】
制御部１３５は、描画装置２およびヘッド保守装置３を接続するためのインタフェース１４１と、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ１４２と、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ１４３と、ワークＷに描画を行うための描画データや、描画装置２およびヘッド保守装置３からの各種データ等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク１４４と、ＲＯＭ１４３やハードディスク１４４に記憶されたプログラム等に従い、各種データを演算処理するＣＰＵ１４５と、これらを互いに接続するバス１４６と、を備えている。
【００４２】
そして、制御部１３５は、描画装置２、ヘッド保守装置３等からの各種データを、インタフェース１４１を介して入力すると共に、ハードディスク１４４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等の外部入力装置から順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ１４５に演算処理させ、その処理結果を、インタフェース１４１を介して描画装置２やヘッド保守装置３等に出力することにより、各手段を制御している。
【００４３】
ところで、本実施形態の描画装置２には、Ｘ軸移動ステージ１５１およびＹ軸移動ステージ１５２の２つの移動ステージが組み合わせて適用されている。Ｘ軸移動ステージ１５１は、ワークＷをＸ軸方向に移動させるためのものであり、上記した支持ベース１１にＸ軸テーブル３１を支持させて構成されている。Ｙ軸移動ステージ１５２は、ヘッドユニット２３をＹ軸方向に移動させるためのものであり、上記した一対のＹ軸支持ベース１１上にＹ軸テーブル３２を設置し、これを８本の支柱３３に支持させて構成されている。Ｘ軸移動ステージ１５１およびＹ軸移動ステージ１５２は、いずれも高精度にワークＷおよびヘッドユニット２３を移動可能に構成されており、ワークＷに対して高精度な描画処理を行うことができるようになっている。
【００４４】
Ｘ軸移動ステージ１５１およびＹ軸移動ステージ１５２について、順を追って具体的に説明する。図６に示すように、Ｘ軸移動ステージ１５１では、支持ベース１１を、高強度コンクリートを主体としたコンクリート構造体１６１で構成し、Ｘ軸テーブル３１の一対のＸ軸ガイドレール５４を石材で構成することにより、Ｘ軸エアースライダ５２を精度良く移動させるようになっている。
【００４５】
図６に示すように、支持ベース１１となるコンクリート構造体１６１は、上面を開放した略方形の仮枠状（型枠状）の金属ボックス１６４と、金属ボックス１６４に充填された高強度コンクリート１６３と、高強度コンクリート１６３の上面に略面一に埋め込まれた一対の金属ベース１６４と、を備えている。これら金属ボックス１６４および金属ベース１６４は、ステンレスやスチールで構成されている。高強度コンクリート１６３には、減振性（減衰性）に優れ、熱膨張による形而変化が少ないＮＦセラミックス（非焼成セラミックス）が用いられている。なお、ＮＦセラミックスは、石材に比して比重が小さいため、支持ベースを石材で構成するよりも軽量化を図ることが可能である。
【００４６】
高強度コンクリート１６３には、補強筋となる金属製のフレーム（図示省略）が埋め込まれており、支持ベース１１全体の剛性（強度）が維持されている。金属ボックスの内部には、フレームが帯筋のように配設され、アンカー付きの金属ベース１６４がスペーサ１７５を介して溶接されている。一方、高強度コンクリート１６３は、いずれも特殊使用のセメント、砂、骨材、混和材、および水を混練したものである。コンクリート構造体１６１は、金属ボックス１６４に低スランプに構成した高強度コンクリート１６３を流し込み、振動を与えて高強度コンクリート１６３内のエアー（気泡）を抜いた後、これを所定時間養生させることにより製作される。なお、上記フレームに代えて、角パイプの内部に高強度コンクリートを充填した充填角パイプを格子状に組んだもの（図７（ｂ）参照）を用いるようにしても支持ベース１１の強度を高めることができる。この場合、予め充填角パイプを配置した金属ボックス１６４に高強度コンクリート１６３を流し込み、その間隙を高強度コンクリート１６３で埋めるようにする。
【００４７】
一対（２本）の金属ベース１６４は、鉄等の厚板で構成されている。各金属ベース１６４は、上面が外部に面するように、高強度コンクリート１６３に埋め込まれており、外部に面した上面にＸ軸ガイドレール５４が設置されている。各金属ベース１６４は、高強度コンクリート１６３に埋め込まれた後、上面にラップ加工が施され、Ｘ軸ガイドレール５４の設置面となる上面の平面度が高められている。この場合、ラップ加工の操作性を考慮して、各金属ベース１６４の上面を、高強度コンクリートの上面よりも僅かに突出させることが好ましい。
【００４８】
一対の各金属ベース１６４には、一対の各Ｘ軸ガイドレール５４を固定するためのボルト１７１を遊挿するばか穴１７２がそれぞれ形成され、その下面には、ボルト１７１を締結するためのナット１７３が溶接されている。また、各金属ベース１６４の下面には、高強度コンクリート１６３に対する抜け止めのアンカー１７４が溶接されている。なお、金属ベース１６４が厚手に構成されている場合には、金属ベース１６４の下部に、ばか穴に連通する雌ねじを形成しても良い。
【００４９】
Ｘ軸テーブル３１の内、一対のＸ軸リニアモータ５３および一対のＸ軸ガイドレール５４が支持ベース１１上に直接固定されている。一対のＸ軸リニアモータ５３は、高強度コンクリート１６３上に（インサートナットを介して）固定されている。一対のＸ軸ガイドレール５４は、一対の金属ベース１６４上に固定されており、金属ベース１６４を介して、高強度コンクリート１６３に支持されている。上述したが、各Ｘ軸ガイドレール５４は、柱状の石材で構成されており、金属ベース１６４にボルト１７１で固定されている。金属ベース１６４に固定後の各Ｘ軸ガイドレール５４には、金属ベース１６４の場合と同様にラップ加工される。これにより、Ｘ軸エアースライダ５２のガイド面となる上面の平面度は、極めて高い状態に維持され、ワークＷを精度良く移動させることが可能となる。
【００５０】
このように、Ｘ軸移動ステージ１５１は、高強度コンクリート１６３を主体とした支持ベース１１を備えているため、熱および振動の影響を受け難く、これらがワークＷ（Ｘ軸エアースライダ５２）の移動に悪影響を及ぼすことを防止することができる。また、Ｘ軸ガイドレール５４と高強度コンクリート１６３との間には、高い平面度に加工された金属ベース１６４が介設されており、Ｘ軸ガイドレール５４を安定した状態で、精度良く設置可能である。さらに、Ｘ軸ガイドレール５４は、熱および振動の影響を受け難く、精度良く加工することが可能な石材が用いられており、Ｘ軸ガイドレール５４を精度良く加工することにより、Ｘ軸エアースライダ５２の移動精度を高めることができる。
【００５１】
また、ワークＷを移動させるＸ軸移動ステージ１５１は、ワークＷの大きさに対応させて構成する必要があるが、本実施形態の支持ベース１１は、高強度コンクリート１６３を主体に構成しているため、大小様々な大きさの支持ベース１１を容易に製造可能である。すなわち、大型のワークＷに対応したＸ軸移動ステージ１５１であっても、これを低コストで製造することができる。
【００５２】
本実施形態では、一対の各金属ベース１６４上に各Ｘ軸ガイドレール５４をそれぞれ固定する構成としたが、一対の金属ベース１６４に代えて１枚の金属板（鉄板）を高強度コンクリート１６３に埋め込み、この上に一対のＸ軸ガイドレール５４を固定するようにしても良い。
【００５３】
次に、Ｘ軸移動ステージ１５１の変形例について説明する。変形例のＸ軸移動ステージ１８１は、コンクリート構造体の構成を除き、上記のＸ軸移動ステージ１５１と同様に構成されている。図７に示すように、Ｘ軸移動ステージ１８１のコンクリート構造体１８２は、充填角パイプ１８４を格子状に組んで、略方形に形成した充填支持フレーム１８３と、充填支持フレーム１８３の上面を覆い、（石材で構成された）一対のＸ軸ガイドレール５４およびＸ軸リニアモータ５３を支持する天板１８４と、を有している。
【００５４】
充填角パイプ１８４は、金属製の中空の角パイプ１８４ａの内部に上記の高強度コンクリート１８４ｂを充填して構成したものであり、外部からの振動を減衰する。したがって、充填支持フレーム１８３は、振動の影響をＸ軸テーブル３１（Ｘ軸ガイドレール５４）に伝え難くなっている。天板１８５は、鉄板等で構成され、充填支持フレーム１８３の上面に支持・固定される。Ｘ軸ガイドレール５４を、天板１８５上に精度良く設置するため、充填支持フレーム１８３に固定後の天板１８５にはラップ加工が施され、上面の平面度が高められる。
【００５５】
このように、変形例のＸ軸移動ステージ１８１では、支持ベース１１となるコンクリート構造体１８２が、充填角パイプ１８４で構成された充填支持フレーム１８３と、金属製の天板１８５と、で構成されているため、任意の大きさの支持ベース１１を容易に製造可能である。また、充填支持フレーム１８３と、Ｘ軸ガイドレール５４との間に、加工性の良い金属製の天板１８５を介設することにより、Ｘ軸ガイドレール５４の設置精度を高めることができ、Ｘ軸エアースライダ５２をＸ軸ガイドレール５４により高精度に案内することが可能である。なお、この変形例では、充填支持フレーム１８３とＸ軸ガイドレール５４との間に天板１８５を介設したが、天板１８５の代わりに、上記のＸ軸移動ステージ１８１の金属ベース１６４を介設するようにしても良い。
【００５６】
次に、Ｙ軸移動ステージ１５２について説明する。Ｙ軸移動ステージ１５２では、一対のＹ軸支持ベース１１がブロック状の石材で構成されている。これにより、Ｙ軸支持ベース１１の熱膨張や振動を極力防止できると共に、一対のＹ軸支持ベース１１に対するＹ軸テーブル３２（一対のＹ軸ガイドレール６４）の設置精度を高めることができる。したがって、ヘッドユニット２３を安定して支持することができると共に、精度良くＹ軸テーブル３２を精度良く動作させることができるようになっている。
【００５７】
なお、Ｘ軸移動ステージ１５１の支持ベース１１と同様に、一対のＹ軸支持ベース１１を、高強度コンクリート１６３を主体としたコンクリート構造体で構成することも可能である。この場合、各Ｙ軸支持ベース１１を構成するコンクリート構造体には、１本ずつ金属ベース１６４が埋め込まれ、１本の金属ベース１６４上に１組分（２本）のＹ軸ガイドレール６４が固定される。また、上記した８本の支柱３３を、高強度コンクリート１６３で構成することも可能である。この場合、支柱３３となる高強度コンクリートには、補強筋となる金属フレームを埋め込むことが好ましい。また、アングル材や中空の角パイプ等の支柱体の内部に高強度コンクリートを充填したものを支柱３３として用いることも可能である。
【００５８】
以上のように、本実施形態の液滴吐出装置１は、ワークＷおよびヘッドユニット２３を精度良く移動させることができる移動ステージ（Ｘ軸移動ステージ１５１およびＹ軸移動ステージ１５２）を備えているため、ワークＷに対して高精度な描画処理を行うことが可能である。
【００５９】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【００６０】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図８は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図９は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図９（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００６１】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図９（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図９（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド８３により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００６２】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【００６３】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図９（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド８３によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド８３を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００６４】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図９（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００６５】
図１０は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図９に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００６６】
この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００６７】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図１０において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００６８】
液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。
そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【００６９】
通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００７０】
実施形態の液滴吐出装置８３は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド８３で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド８３で行うことも可能である。
【００７１】
図１１は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００７２】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。
【００７３】
液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【００７４】
図１２は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００７５】
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。
【００７６】
対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００７７】
また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００７８】
なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００７９】
次に、図１３は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。
【００８０】
この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００８１】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【００８２】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【００８３】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第1層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。
【００８４】
このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【００８５】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【００８６】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【００８７】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００８８】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。
【００８９】
そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【００９０】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【００９１】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図１４〜図２２を参照して説明する。
この表示装置７００は、図１４に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、及び対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【００９２】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１５に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図１６に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【００９３】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド８３を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【００９４】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２３に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）及び発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【００９５】
図１７に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド８３から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図１８に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入/輸送層７１７ａを形成する。
【００９６】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【００９７】
そして次に、図１９に示すように、各色のうちの何れか（図１９の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【００９８】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２０に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【００９９】
同様に、機能液滴吐出ヘッド８３を用い、図２１に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１００】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１０１】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２２に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１０２】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【０１０３】
次に、図２３は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１０４】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【０１０５】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【０１０６】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１０７】
本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２３に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド８３により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１０８】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【０１０９】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド８３から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【０１１０】
次に、図２４は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【０１１１】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１１２】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１１３】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１４】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１１５】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図２５（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２５（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１１６】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】本実施形態に係る液滴吐出装置を模式的に示した外観斜視図である。
【図２】液滴吐出装置の平面模式図である。
【図３】液滴吐出装置の正面模式図である。
【図４】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図５】液滴吐出装置の主制御系を示したブロック図である。機能液タンク廻りの説明図である。
【図６】Ｘ軸移動ステージを模式的に示した説明図であり、（ａ）は側面断面図、（ｂ）は、正面断面図である。
【図７】本実施形態の変形例となるＸ軸移動ステージのコンクリート構造体の説明図であり、（ａ）コンクリート構造体の外観斜視図、（ｂ）は、充填支持フレームの外観斜視図である。
【図８】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図９】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１２】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１３】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１４】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１５】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１６】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１７】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１８】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１９】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２０】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２１】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２２】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２３】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２４】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２５】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１１８】
１  液滴吐出装置                      １１  支持ベース
３３  支柱                              ５１  セットテーブル
５２  Ｘ軸エアースライダ                ５４  Ｘ軸ガイドレール
６２  Ｙ軸スライダ                      ６４  Ｙ軸ガイドレール
８３  機能液滴吐出ヘッド              １５１  Ｘ軸移動ステージ
１５２  Ｙ軸移動ステージ                １６１  コンクリート構造体
１６２  金属ボックス                    １６３  高強度コンクリート
１６４  金属ベース                          Ｗ  ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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