(57)【要約】【課題】  磁気ヘッドのスライダを個別に切断する際に切断面のエッジにチッピング、バリ等が発生するのを抑制できる磁気ヘッドおよびその製造方法を得る。【解決手段】  スライダ１１の記録媒体対向面１４のトレーリング側端面Ｂに、薄膜磁気素子１５を有する薄膜磁気ヘッドスライダにおいて、上記スライダ１１は、上記記録媒体対向面１４に直交し、記録媒体と相対移動する方向に延びる両側面１８を有し、上記記録媒体対向面１４と両側面１８に跨らせてそれぞれ、該記録媒体対向面１４及び側面１８に鈍角で交わる傾斜面１７を備えた。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スライダの磁気記録媒体との対向面のトレーリング側端部に、薄膜磁気素子を有する薄膜磁気ヘッドスライダにおいて、
上記スライダは、上記記録媒体対向面に直交し、記録媒体と相対移動する方向に延びる両側面を有し、
上記記録媒体対向面と両側面に跨らせてそれぞれ、該記録媒体対向面及び側面に鈍角で交わる傾斜面を備えていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
上記スライダの傾斜面は、上記記録媒体対向面と成す角度が段階的に小さくなる二面以上で形成されている請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
スライダの磁気記録媒体との対向面のトレーリング側端部に薄膜磁気素子を有する薄膜磁気ヘッドスライダを製造する方法において、
スライダの母材となる基板のトレーリング側端部に、記録媒体対向面に臨む多数の薄膜磁気素子を整列させて形成する工程と；
一つの薄膜磁気素子を有するスライダ形成エリアの切断領域の中央位置に、先細の砥石によってＶ溝を形成する工程と；
該Ｖ溝の最大幅よりも幅狭の砥石によって上記Ｖ溝の中央位置から切断して各スライダに分割する工程と；を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】
上記Ｖ溝を形成する工程と上記切断する工程との間に、上記Ｖ溝とＶ溝の間の基板表面に、記録媒体対向面をパターニングするためのレジスト層を設ける工程と、上記レジスト層に覆われていない基板表面を、イオンミリングでエッチングして記録媒体対向面をパターニングする工程とを含む請求項３記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項５】
上記Ｖ溝を形成する工程は、先端部が先細の等脚台形または二等辺三角形形状の回転砥石で研削する工程を含む請求項３または４記載の磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばハードディスク装置などに搭載される、磁気ヘッドのスライダ、特にスライダの側面の形状に特徴を有する磁気ヘッドおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のハードディスク装置などに搭載される従来の磁気ヘッドのスライダ等は、基板上に多数の薄膜磁気ヘッド素子を形成し、続いてその基板をカッティングして棒状のチップバー（素子列）とし、カッティング面に所定の研磨加工を施す。このチップバーには、各スライダのトレーリング側端部となる面に、磁気記録媒体と対向する記録媒体対向面（ＡＢＳ面）に臨む、多数の磁気記録及び／又は再生用の薄膜磁気素子が設けられている。このチップバーを加工することによって、磁気記録媒体と対向する対向面（ＡＢＳ面）に所定形状のレールパターンを備えた複数の磁気ヘッドのスライダを得ていた。そうして各スライダは、母材となるセラミック等で形成されたチップバーから切り離されていた。
【０００３】
チップバーから個別のスライダ１１１を切り離す従来の製造方法について、図９および図１０を参照して説明する。まずスライダ１１１の母材となるチップバー１１０のスライダ１１１の記録媒体対向面となる表面に、各スライダ１１１を画定するための溝１１３を浅溝形成砥石１３１で形成する。図９では、チップバー１１０の表面に、溝１１３で区切られた記録媒体対向面１１２が複数形成された状態となっている。
【０００４】
次に、各溝１１３の中央を、溝１１３の幅よりも狭い厚さのチップスライス砥石１３２によって切断して、個別のスライダ１１１を得ていた。この製造方法によって製造された各スライダ１１１は、記録媒体対向面１１２と、記録媒体対向面１１２の両側においてリーディング側端部とトレーリング側端部との間に延びる側面１１４との間に、溝１１３による段差１１３ａが残っている。この従来のチップスライスによる製造方法では、記録媒体対向面１１２と段差１１３ａのエッジ１１２ａ、段差１１３ａと側面１１４のエッジ１１４ａにバリが残ったり、脱粒が発生していた。これらのエッジ１１２ａ、１１４ａがそのままスライダ１１１の最終エッジとなるため、スライダ１１１が傾いてエッジ１１２ａ、１１４ａが磁気ディスクに接触して磁気ディスクを傷つけるおそれがあった。
【０００５】
そこで、チップバーに一段または二段の溝をイオンミリング技術により形成してから溝の中央部を砥石によって切断することにより、イオンミリングした溝の角部についてバリ等の発生、脱粒を防止する製造方法が開発されている（特許文献１）。さらに、隣り合う記録媒体対向面１１２間にイオンミリング技術によって溝を形成した後に、溝の角部をプラズマエッチング技術により面取り加工し、その後溝の中央部を砥石によって切断することにより、プラズマエッチングした角部についてバリ等の発生、脱粒を防止する製造方法も開発されている（特許文献２）。また、スライダの記録媒体と対向する対向面にレールを形成する際に、レール溝の内側面をテーパ面とすることにより、脱粒を防止する製造方法が開発されている（特許文献３）。
【特許文献１】特開平１１-２０３６４６号公報
【特許文献２】特開平１１-１９１２０９号公報
【特許文献３】特開平０４-２１４２７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の機械的工程では、スライダを個別に切断する最終的な砥石による切断では、段差面と側面とが成す角度が９０゜なので、切断部のエッジおよび切断面に、チッピング、バリ等が発生したり脱粒して、ディスク面を傷つける原因となることがあった。また、検査工程においても、切断面のチッピング等のために歩留まりが落ちていた。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、磁気ヘッドのスライダを個別に切断する際に切断面のエッジにチッピング、バリ等が発生するのを抑制できる磁気ヘッドおよびその製造方法を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決する本発明は、スライダの磁気記録媒体との対向面のトレーリング側端部に、薄膜磁気素子を有する薄膜磁気ヘッドスライダにおいて、上記スライダは、上記記録媒体対向面に直交し、記録媒体と相対移動する方向に延びる両側面を有し、上記記録媒体対向面と両側面に跨らせてそれぞれ、該記録媒体対向面及び側面に鈍角で交わる傾斜面を備えていることに特徴を有する。
【０００９】
上記傾斜面は、上記記録媒体対向面と成す角度が段階的に小さくなる二面以上で形成してもよい。
【００１０】
磁気ヘッドの製造方法に関する本発明は、スライダの磁気記録媒体との対向面のトレーリング側端部に薄膜磁気素子を有する薄膜磁気ヘッドスライダを製造する方法において、スライダの母材となる基板のトレーリング側端部に、記録媒体対向面に臨む、多数の薄膜磁気素子を整列させて形成する工程と、一つの薄膜磁気素子を有するスライダ形成エリアの切断領域の中央位置に、先細の砥石によってＶ溝を形成する工程と、該Ｖ溝の最大幅よりも幅狭の砥石によって上記Ｖ溝の中央位置から切断して各スライダに分割する工程と、を有することに特徴を有する。
【００１１】
実際的には、上記Ｖ溝を形成する工程と上記切断して分割する工程との間に、上記Ｖ溝とＶ溝の間の基板表面に、記録媒体対向面をパターニングするためのレジスト層を設ける工程と、上記レジスト層に覆われていない基板表面を、イオンミリングでエッチングして記録媒体対向面をパターニングする工程とを含む。
【００１２】
上記Ｖ溝を形成する工程は、先端部が先細の等脚台形形状または二等辺三角形の回転砥石で研削する工程を含む。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、スライダの記録媒体対向面と側面との間に傾斜面を備えているので、対向面と傾斜面、傾斜面と側面との境界であるエッジにスクラッチやバリが発生し難く、脱粒も少ない。
【００１４】
本発明の製造方法によれば、スライダの母材となる基板から各スライダを、切断領域の中央にまず先細の砥石によってＶ溝を形成してから、該Ｖ溝の最大幅よりも厚みが薄い砥石によって切断するので、Ｖ溝を形成する際にも、Ｖ溝から切断する際にも、対向面と傾斜面、傾斜面と側面が鈍角を成しているので、対向面と傾斜面とのエッジ、傾斜面と側面とのエッジにスクラッチやバリが発生し難く、脱粒も少なくなる。
【００１５】
Ｖ溝形成工程と切断工程の間にイオンミリングによるエッチング工程が入ると、エッジが丸まり、さらにスクラッチやバリが減少する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１は、ハードディスクなどに搭載される本発明の実施形態の磁気ヘッドを、記録媒体対向面を上向きにして示した斜視図である。図１に示した磁気ヘッドのスライダ１１は、アルミナ・チタンカーバイト、またはＳｉ（シリコン）などのセラミック材料により形成されており、記録媒体対向面にエアグルーブ１２が形成され、エアグルーブ１２を囲むようにしてレール部１３ａ、１３ｂが形成されている。
【００１７】
レール部１３ａ、１３ｂの周囲は、エアグルーブ１２と同一平面で形成された記録媒体と対向する記録媒体対向面１４となっている。なお本発明では２個のレール部１３ａ、１３ｂを形成したが、レール部１３ａ、１３ｂの数や形状は図１に示す数、形状に限定するものではない。
【００１８】
スライダ１１のトレーリング側端面（端部）Ｂには、記録媒体対向面１４に臨む薄膜磁気素子１５と、記録媒体対向面１４とは反対側の背面近傍に４個の電極１６が設けられている。図示されていないが、この薄膜磁気素子１５は例えばアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）などのセラミック材料による保護膜で覆われている。
【００１９】
薄膜磁気素子１５は、磁性材料のパーマロイ（Ｎｉ-Ｆｅ系合金）や絶縁材料のアルミナなどが積層されたものであり、磁気ディスクに記録された磁気記録信号を再生する磁気検出部、または磁気ディスクに磁気信号を記録する磁気記録部、あるいは磁気検出部と磁気記録部の双方を含むものである。磁気検出部は例えば巨大磁気抵抗効果素子（ＧＭＲ素子）により構成されたＧＭＲ磁気ヘッドである。また磁気記録部は、コイルとコアがパターン形成されたインダクティブヘッドにより構成される。これらの磁気記録部、磁気検出部は、対応する電極１６に接続されている。
【００２０】
次に、スライダ１１の側面形状について以下に説明する。図１に示すように、リーディング側端面Ａとトレーリング側端面Ｂの間（記録媒体との相対移動方向）に延びる両側面１８と記録媒体対向面１４との間に、記録媒体対向面１４を跨ぐように傾斜面１７が形成されている。記録媒体対向面１４と側面１８とは直角を成し、記録媒体対向面１４と傾斜面１７、傾斜面１７と側面１８とはそれぞれ鈍角を成している。記録媒体対向面１４と傾斜面１７の成す角度（内角）をθ1とすると、９０゜＜θ1＜１８０゜の範囲である。
【００２１】
記録媒体対向面１４と側面１８とは直交しているので、傾斜面１７と側面１８とが成す角度（内角）θ2は、２７０゜-θ1となる。θ1＝θ2＝１３５゜に設定してもよいが、角度θ1、θ2を異ならせ、９０゜＜θ2≦θ1、またはθ1＜θ2＜１８０゜に設定してもよい。なお角度θ1、θ2は、いずれも９０゜よりも大きい鈍角である。
【００２２】
次に、本発明におけるスライダ１１の製造方法を以下に図２、図３および図４を参照して説明する。まず図２に示すように、薄膜磁気ヘッド素子を例えばアルミナ・チタンカーバイト、またはＳｉ（シリコン）などのセラミック材料などからなる基板表面の縦方向および横方向に多数形成したウェハーを１列毎の素子列（ロー）に切断して形成した、多数のスライダ１１の母材となるチップバー２１を用意する。このチップバー２１から各スライダ１１を切り離す記録媒体対向面の切断領域中央に、先端部が先細形状をしたＶ溝形成用砥石３１によって、幅が開口部から底部に向かって狭くなる断面Ｖ字形のＶ溝２２を研削する。このＶ溝形成用砥石３１によって研削されたＶ溝２２は、深さ方向に幅狭のＶ溝２２となり、その斜面がスライダ１１の傾斜面１７（図１ないし図４参照）となるものである。図２に示したＶ溝形成用砥石３１は、断面が等脚台形状を呈しているがこれに限定されず、二等辺三角形形状または、先端部のみを半円形状にしたものや台形角部にＲ形状を付与したものでもよい。
【００２３】
次に、図３のようにチップバー２１の表面であって、各Ｖ溝２２とＶ溝２２の間の各スライダを規定する領域に各スライダ１１の記録媒体対向面１４およびレール部１３ａ、１３ｂを画定するためのレジスト層２０を形成する。続いてレジスト層２０に覆われていない上記チップバー２１表面をイオンミリングによって削り、レール部１３ａ、１３ｂおよび記録媒体対向面１４を形成する。その後にレジスト層２０を除去してレール部１３ａ、１３ｂを露出させる。なお、上記イオンミリング工程は、チップバー２１を回転させながら行なうので、図３に示すようにＭ方向やＮ方向にＡｒ等の中性イオンが照射され、記録媒体対向面１４のエッジはＲ形状になる。その際、Ｖ溝２２の傾斜面１７と記録媒体対向面１４との境界部も削られて、Ｒ形状となる。
【００２４】
次に、図４に示すように、チップバー２１に形成されている各Ｖ溝２２の中央部を、Ｖ溝２２の最大幅よりも厚みが薄いスライス用回転砥石３２によって切断して、個々のスライダ１１に分割する。このように厚みが薄いスライス用回転砥石３２によってＶ溝２２の中央から切断することにより、傾斜面１７の傾斜方向途中位置から記録媒体対向面１４に対して直交する側面１８が形成される。角度θ1、θ2はいずれも鈍角である。
【００２５】
このように本発明の実施形態の製造方法によれば、チップバー２１にＶ溝２２を形成する際にＶ溝形成用砥石３１の先端の両縁部３１ａとチップバー２１とが９０゜未満の角度（鋭角）で切削を開始するので、記録媒体対向面１４と傾斜面１７との境界であるＶ溝エッジ１７ａにバリ等の発生が少なく、脱粒等も少ない。さらにＶ溝２２の傾斜面１７とスライス用回転砥石３２の先端部の両側面部３２ａとが９０゜未満の角度（鋭角）で切削を開始するので、傾斜面１７と側面１８との境界部であるチップスライスエッジ１８ａにバリ等の発生が少なく、脱粒等の発生も少ない。また、切断工程の前にイオンミリング工程が入るので、Ｖ溝エッジ１７ａ、傾斜面１７のバリ、スクラッチ等が除去され、表面が滑らかになる。
【００２６】
本発明の製造方法によって製造したスライダ１１の、トレーリング側端面近傍のＶ溝エッジ１７ａおよび傾斜面１７の表面状態を撮影した電子顕微鏡写真を図５に、同スライダ１１のトレーリング側端面近傍のチップスライスエッジ１８ａを中心とした表面状態を撮影した電子顕微鏡写真を図６に、同スライダ１１の、中央付近のＶ溝エッジ１７ａおよび傾斜面１７の表面状態を撮影した電子顕微鏡写真を図７に、同スライダ１１の、中央付近のチップスライスエッジ１８ａを中心とした表面状態を撮影した電子顕微鏡写真を図８に示した。図５乃至図８同様部分の、従来の製造方法で製造したスライダの電子顕微鏡写真を図１１、図１２、図１３および図１４に示した。これらの写真から明らかなように本発明の製造方法で製造したスライダ１１の方が、表面の粒子配列に乱れがなく、チッピング、バリ等の発生が少なく、脱粒が少ないことが分かる。
【００２７】
本発明の実施形態では、Ｖ溝２２をＶ溝形成用砥石３１で形成したが、先端が先細の２種類以上のＶ溝形成用砥石を用意してスライダの記録媒体対向面と傾斜面とが成す角度が段階的に大きくなるように複数工程に分けて製造し、複数の傾斜面を形成してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明のスライダの製造方法で製造した本発明の実施形態のスライダを記録媒体対向面を上にして示した斜視図である。
【図２】本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法の一工程を示す図である。
【図３】本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法の一工程を示す図である。
【図４】本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法の一工程を示す図である。
【図５】本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法で製造した実施形態であるスライダの、トレーリング側端面近傍のＶ溝エッジ周辺を撮影した電子顕微鏡写真である。
【図６】同スライダの、トレーリング側端面近傍のチップスライスエッジを撮影した電子顕微鏡写真である。
【図７】同スライダの、中央付近のＶ溝エッジ周辺を撮影した電子顕微鏡写真である。
【図８】同スライダの、中央付近のチップスライスエッジを撮影した電子顕微鏡写真である。
【図９】従来の磁気ヘッドの製造方法の一工程を示す図である。
【図１０】従来の磁気ヘッドの製造方法の一工程を示す図である。
【図１１】従来の磁気ヘッドの製造方法で製造したスライダのトレーリング側端面近傍の記録媒体対向面と段差部とのエッジを撮影した電子顕微鏡写真である。
【図１２】従来の磁気ヘッドの製造方法で製造したスライダのトレーリング側端面近傍の段差部と側面の境界であるエッジを撮影した電子顕微鏡写真である。
【図１３】従来の磁気ヘッドの製造方法で製造したスライダの中央付近の記録媒体対向面と段差部とのエッジを撮影した電子顕微鏡写真である。
【図１４】従来の磁気ヘッドの製造方法で製造したスライダの中央付近の段差部と側面との境界であるエッジを撮影した電子顕微鏡写真である。
【符号の説明】
【００２９】
１１  スライダ
１２  エアグルーブ
１３ａ  １３ｂ  レール部
１４  記録媒体対向面
１５  薄膜磁気素子
１６  電極
１７  傾斜面
１７ａ  Ｖ溝エッジ
１８  側面
１８ａ  チップスライスエッジ
２１  チップバー
２２  Ｖ溝
３１  Ｖ溝形成用砥石
３２  スライス用回転砥石
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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