(57)【要約】【課題】記録要素が凸部として形成された記録層及び記録要素の間の凹部に充填された充填材を含み、磁気ヘッドが接触しても表面が損傷しにくく、良好な記録・再生特性が確実に得られる信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。【解決手段】磁気記録媒体１２は、基板２２の上に所定の凹凸パターンで形成され、該凹凸パターンの凸部として記録要素２４Ａが形成された記録層２４と、記録要素２４Ａの間の凹部２６に充填された充填材２８と、を含み、充填材２８は、実質的にＳｉ及びＯからなり、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率が１．５以上、２未満である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に所定の凹凸パターンで形成され、該凹凸パターンの凸部として記録要素が形成された記録層と、前記記録要素の間の凹部に充填された充填材と、を含み、該充填材は、実質的にＳｉ及びＯからなり、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率が１．５以上、２未満であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
請求項１において、
前記充填材は、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率が１．９未満であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記充填材が前記記録要素の上面にも形成され、前記記録層を被覆していることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に対してデータの記録／再生を行うために該磁気記録媒体の表面に近接して浮上可能であるように設置された磁気ヘッドと、を備えることを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録要素が凸部として形成されて記録要素の間の凹部が充填材で充填された磁気記録媒体及びこれを備える磁気記録再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ハードディスク等の磁気記録媒体は、記録層を構成する磁性粒子の微細化、材料の変更、ヘッド加工の微細化等の改良により著しい面記録密度の向上が図られており、今後も一層の面記録密度の向上が期待されているが、ヘッドの加工限界、磁界の広がりに起因する、記録対象のトラックに隣りあう他のトラックへの誤った情報の記録やクロストーク等の問題が顕在化し、従来の改良手法による面記録密度の向上は限界にきている。
【０００３】
これに対し、一層の面記録密度の向上を実現可能である磁気記録媒体の候補として、記録層を所定の凹凸パターンで形成し、凹凸パターンの凸部として記録要素を形成したディスクリートトラックメディアやパターンドメディアが提案されている。
【０００４】
一方、ハードディスク等の磁気記録媒体は、表面の凹凸が大きいとヘッドスライダの浮上高さが不安定になり、良好な記録・再生特性が得られないため、記録要素の間の凹部を充填材で充填して記録層の表面を平坦化した磁気記録媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
尚、磁気ヘッドとの接触から記録層を保護するため、通常、記録層の上には保護層が形成される。保護層の材料としては硬度が高く摩耗しにくい材料が好ましく、硬質炭素膜等が用いられる。又、磁気ヘッドと記録層との間の磁気的スペースを小さくして良好な磁気特性を得るためには、保護層はできる限り薄いことが好ましい。一方、このように硬度が高く薄い保護層は変形した場合に損傷しやすいが、保護層を支持する部分の材料として剛性及び硬度が高く変形しにくい材料を用いることで、保護層の変形を抑制し、これにより保護層の損傷を抑制できる。ディスクリートトラックメディアやパターンドメディアの場合、記録要素と共に充填材が保護層を支持するため、充填材の材料として剛性及び硬度が高い材料を用いることが好ましい。又、万が一、保護層の一部が剥離した場合に、磁気ヘッドとの接触による磁気記録媒体の表面の摩耗を抑制するためにも、充填材の材料は、硬度が高く摩耗しにくい材料であることが好ましい。更に、保護層を省略し、記録要素と充填材が表面に露出する構成の磁気記録媒体も考えられ、このような構成の磁気記録媒体の場合は特に、充填材の材料として剛性及び硬度が高い材料を用いることが求められる。
【０００６】
又、充填材の材料は、化学的に安定で腐食しにくい材料であることが好ましい。
【０００７】
このような要求を満たす充填材の候補としては、種々の酸化物、窒化物、炭化物等が考えられるが、上記の要求を満たしうる低コストの充填材として、ＳｉＯ２（二酸化ケイ素）が知られている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−１９５０４２号公報
【特許文献２】特開平９−９７４１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、充填材としてＳｉＯ２を用いた場合も、良好な記録・再生特性が得られないことがあった。
【００１０】
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであって、記録要素が凸部として形成された記録層及び記録要素の間の凹部に充填された充填材を含み、磁気ヘッドが接触しても表面が損傷しにくく、良好な記録・再生特性が確実に得られる信頼性が高い磁気記録媒体及びこれを備える磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、充填材として、実質的にＳｉ及びＯからなり、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率が１．５以上、２未満である材料を用いることで、上記目的を達成するものである。
【００１２】
発明者らは、本発明に想到する過程で、充填材としてＳｉＯ２を用いた磁気記録媒体について記録・再生特性が悪化する原因を鋭意検討したところ、記録要素の側面の腐食がその原因の一つであることを突き止めた。記録要素の側面は、記録層を凹凸パターンに加工するドライエッチング等の加工の影響を直接受けるため、他の部分よりも腐食しやすいと考えられる。
【００１３】
これに対し発明者らは、充填材として様々な材料を試みたところ、実質的にＳｉ（ケイ素）及びＯ（酸素）からなり、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率が２未満の充填材を用いることで、記録要素の側面の腐食が発生しにくくなることを見出した。即ち、一般的に安定した化合物であると考えられているＳｉＯ２よりもＳｉの原子数に対するＯの原子数の比率を小さくすることで、記録要素の側面の腐食を抑制する効果が高くなることを見出した。このような効果が得られる原因は必ずしも明らかではないが、ＳｉＯ２よりもＳｉの原子数に対するＯの原子数の比率を小さくすることで、充填材の組織が緻密になり、これにより充填材を通って記録要素の側面に到達する酸素や水分が減少し、記録要素の側面の腐食が抑制されると考えられる。
【００１４】
尚、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率を１．９未満とすることで、記録要素の側面の腐食を抑制する効果を更に高めることができる。
【００１５】
一方、発明者らは、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率を１．５未満まで低減すると、磁気記録媒体の表面に傷が発生しやすくなることを発見した。この原因も必ずしも明らかではないが、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率を過度に小さくしたことで、充填材の剛性、硬度が低下し、磁気ヘッドとの接触により充填材が支持する保護層が過度に変形し、損傷したと推測される。これに対し、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率を１．５以上とすることで、磁気ヘッドとの接触による磁気記録媒体の表面の損傷を抑制できる。
【００１６】
即ち、次のような本発明により、上記目的を達成することができる。
【００１７】
（１）基板上に所定の凹凸パターンで形成され、該凹凸パターンの凸部として記録要素が形成された記録層と、前記記録要素の間の凹部に充填された充填材と、を含み、該充填材は、実質的にＳｉ及びＯからなり、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率が１．５以上、２未満であることを特徴とする磁気記録媒体。
【００１８】
（２）（１）において、前記充填材は、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率が１．９未満であることを特徴とする磁気記録媒体。
【００１９】
（３）（１）又は（２）において、前記充填材が前記記録要素の上面にも形成され、前記記録層を被覆していることを特徴とする磁気記録媒体。
【００２０】
（４）（１）乃至（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に対してデータの記録／再生を行うために該磁気記録媒体の表面に近接して浮上可能であるように設置された磁気ヘッドと、を備えることを特徴とする磁気記録再生装置。
【００２１】
尚、本出願において、「基板上に所定の凹凸パターンで形成され、該凹凸パターンの凸部として記録要素が形成された記録層」とは、多数の記録要素に分割された記録層の他、部分的に分割されて、記録要素が螺旋形状や、一部が連続した所定のパターンである記録層、凸部である記録要素及び凹部双方が形成された連続した記録層も含む意義で用いることとする。
【００２２】
又、本出願において、「充填材は、実質的にＳｉ及びＯからなり」とは、充填材を構成する総ての元素の原子数に対する、充填材中のＳｉ及びＯの合計の原子数の比率が９０％以上であることを意味し、充填材がＳｉ及びＯだけで構成される場合に限定されない。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、記録要素が凸部として形成された記録層及び記録要素の間の凹部に充填された充填材を含み、磁気ヘッドが接触しても表面が損傷しにくく、良好な記録・再生特性が確実に得られる信頼性が高い磁気記録媒体及びこれを備える磁気記録再生装置を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００２５】
図１に示されるように、本発明の第１実施形態に係る磁気記録再生装置１０は、磁気記録媒体１２と、磁気記録媒体１２に対してデータの記録／再生を行うために磁気記録媒体１２の表面に近接して浮上可能であるように設置された磁気ヘッド１４と、を備えている。
【００２６】
尚、磁気記録媒体１２はチャック１６に固定され、該チャック１６と共に回転自在とされている。又、磁気ヘッド１４は、アーム１８の先端近傍に装着され、アーム１８はベース２０に回動自在に取付けられている。これにより、磁気ヘッド１４は磁気記録媒体１２の径方向に沿う円弧軌道で磁気記録媒体１２の表面上で浮上して可動とされている。
【００２７】
磁気記録媒体１２は、円板状の垂直記録型のディスクリートトラックメディアで、図２に示されるように、基板２２の上に所定の凹凸パターンで形成され、該凹凸パターンの凸部として記録要素２４Ａが形成された記録層２４と、記録要素２４Ａの間の凹部２６に充填された非磁性の充填材２８と、を含み、充填材２８に特徴を有している。他の構成については、本実施形態の理解のために特に必要とは思われないため、説明を適宜省略することとする。
【００２８】
充填材２８は、実質的にＳｉ（ケイ素）及びＯ（酸素）からなり、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率が１．５以上、２未満である。充填材２８は、記録要素２４Ａの上面の高さまで凹部２６を充填している。
【００２９】
基板２２は、記録層２４側の面が鏡面研磨されている。基板２２の材料としては、ガラス、ＮｉＰで被覆したＡｌ合金、Ｓｉ、Ａｌ２Ｏ３等の非磁性材料を用いることができる。
【００３０】
記録層２４は、厚さが５〜３０ｎｍである。記録層２４の材料としては、ＣｏＣｒＰｔ合金等のＣｏＣｒ系合金、ＦｅＰｔ系合金、これらの積層体、ＳｉＯ２等の酸化物系材料の中に上記の各材料やＣｏＰｔ等の強磁性粒子をマトリックス状に含ませた材料等を用いることができる。記録要素２４Ａは、データ領域において径方向に微細な間隔の同心円状のトラック形状で形成されており、図２はこれを図示したものである。又、記録要素２４Ａは、サーボ領域において所定のサーボ情報のパターン形状で形成されている（図示省略）。
【００３１】
記録要素２４Ａ及び充填材２８の上には保護層３６、潤滑層３８がこの順で形成されている。
【００３２】
保護層３６は、厚さが１〜５ｎｍである。保護層３６の材料としては、例えば、ダイヤモンドライクカーボンと呼称される硬質炭素膜等を用いることができる。尚、本出願において「ダイヤモンドライクカーボン（以下、「ＤＬＣ」という）」という用語は、炭素を主成分とし、アモルファス構造であって、ビッカース硬度測定で２×１０９〜８×１０１０Ｐａ程度の硬さを示す材料という意義で用いることとする。又、潤滑層３８は、厚さが１〜２ｎｍである。潤滑層３８の材料としては、ＰＦＰＥ（パーフロロポリエーテル）やフォンブリン系潤滑剤等を用いることができる。
【００３３】
又、基板２２及び記録層２４の間には、下地層４０、反強磁性層４２、軟磁性層４４、記録層２４に厚さ方向（表面に垂直な方向）の磁気異方性を付与するための配向層４６が形成されている。下地層４０は、厚さが２〜４０ｎｍである。下地層４０の材料としてはＴａ等を用いることができる。反強磁性層４２は、厚さが５〜５０ｎｍである。反強磁性層４２の材料としてはＰｔＭｎ合金、ＲｕＭｎ合金等を用いることができる。軟磁性層４４は、厚さが５０〜３００ｎｍである。軟磁性層４４の材料としては、Ｆｅ（鉄）合金、Ｃｏ（コバルト）アモルファス合金、フェライト等を用いることができる。尚、軟磁性層４４は、軟磁性を有する層と、非磁性層と、の積層構造であってもよい。配向層４６は、厚さが２〜４０ｎｍである。配向層４６の具体的な材料としては、非磁性のＣｏＣｒ合金、Ｔｉ、Ｒｕ、ＲｕとＴａの積層体、ＭｇＯ等を用いることができる。
【００３４】
次に、磁気記録再生装置１０の作用について説明する。
【００３５】
磁気記録再生装置１０は、記録要素２４Ａの間の凹部２６を充填する充填材２８が、実質的にＳｉ及びＯからなり、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率が１．５以上、２未満であるので、記録要素２４Ａの側面が腐食しにくい。これは、充填材２８の組織が緻密であり、充填材２８が、潤滑層３８、保護層３６を通り抜けた大気や水分等から記録要素２４Ａの側面を遮断するためと考えられる。
【００３６】
更に、充填材２８は、実質的にＳｉ及びＯからなり化学的に安定しているので、充填材２８自体も腐食しにくい。
【００３７】
又、磁気記録媒体１２は、保護層３６の厚さが１〜５ｎｍしかないにも拘わらず、保護層３６が損傷しにくい。これは、充填材２８中のＳｉの原子数に対するＯの原子数の比率が１．５以上、２未満であるため、保護層３６を支持する充填材２８の硬度及び剛性が高く、磁気ヘッド１４が接触した場合、充填材２８の変形が抑制され、これにより保護層３６の変形も抑制されるためと考えられる。
【００３８】
又、充填材２８は硬度が高いので、万が一、保護層３６の一部が剥離しても、磁気ヘッド１４との接触による磁気記録媒体１２の表面の摩耗が抑制される。
【００３９】
このように磁気記録再生装置１０は、保護層３６が薄いので、記録層２４と磁気ヘッド１４との磁気的スペースが小さく、又、磁気記録媒体１２の表面が損傷しにくく磁気ヘッド１４の浮上が安定するので良好な記録／再生特性が得られる。
【００４０】
又、磁気記録媒体１２は、記録要素２４Ａが、データ領域においてトラック形状で形成されているので面記録密度が高くても記録対象のトラックに隣りあう他のトラックへの誤った情報の記録や再生時のクロストーク等の問題が生じにくく、この点でも良好な記録／再生特性が得られる。
【００４１】
更に、磁気記録媒体１２は、記録要素２４Ａ同士が分割され、記録要素２４Ａ間の凹部２６には記録層２４が存在しないので凹部２６からノイズが発生することがなく、この点でも良好な記録／再生特性が得られる。
【００４２】
尚、本第１実施形態において、磁気記録媒体１２は、充填材２８が凹部２６内だけに設置されているが、図３に示される本発明の第２実施形態のように、充填材２８が記録要素２４Ａの上面にも形成されて記録層２４を被覆する構成としてもよい。
【００４３】
このようにすることで、記録要素２４Ａの側面だけでなく、記録要素２４Ａの上面も充填材２８により酸素や水分等から遮断され、記録要素２４Ａの全面の腐食を抑制する効果が得られる。
【００４４】
又、前記第１及び第２実施形態において、磁気記録媒体１２は、記録層２４の上に保護層３６、潤滑層３８が形成されているが、これらの一方、又は両方を省略した構成としてもよい。この場合も、充填材２８の材料として、実質的にＳｉ及びＯからなり、Ｓｉの原子数に対するＯの原子数の比率が１．５以上、２未満である材料を用いることで、記録要素２４Ａの腐食を抑制し、且つ、磁気ヘッド１４との接触による磁気記録媒体１２の表面の損傷を抑制する効果が得られる。
【００４５】
又、前記第１及び第２実施形態において、基板２２と、記録層２４と、の間に下地層４０、反強磁性層４２、軟磁性層４４、配向層４６が形成されているが、基板２２と、記録層２４と、の間の層の構成は、磁気記録媒体の種類やニーズに応じて適宜変更すればよい。又、下地層４０、反強磁性層４２、軟磁性層４４、配向層４６を省略し、基板２２上に記録層２４を直接形成してもよい。
【００４６】
又、上記第１及び第２実施形態において、磁気記録媒体１２は、垂直記録型であるが、面内記録型の磁気記録媒体についても本発明は適用可能である。
【００４７】
又、前記第１及び第２実施形態において、磁気記録媒体１２は、基板２２の片面に記録層２４等が形成されているが、基板の両面に記録層等が形成された両面記録式の磁気記録媒体についても本発明は適用可能である。
【００４８】
又、前記第１及び第２実施形態において、磁気記録媒体１２はデータ領域において記録要素２４Ａがトラックの径方向に微細な間隔で並設されたディスクリートトラックメディアであるが、記録要素がトラックの径方向及び周方向の両方向に微細な間隔で並設されたパターンドメディア、トラックが螺旋形状をなし、記録要素がこの形状で形成された磁気記録媒体についても本発明は当然適用可能である。又、ＭＯ等の光磁気ディスク、磁気と熱を併用する熱アシスト型の磁気ディスク、更に、磁気テープ等の円板形状以外の凹凸パターンの記録層を有する他の磁気記録媒体に対しても本発明を適用可能である。
【００４９】
［実験例１］
上記第１実施形態の磁気記録媒体１２と同様の構成を有する７種類のサンプル及び充填材２８中のＳｉの原子数に対するＯの原子数の比率が２．０以上である１種類のサンプルを２０枚ずつ作製した。これら８種類のサンプルは、充填材２８中のＳｉの原子数に対するＯの原子数の比率が異なる構成であり（表１参照）、他の構成は共通である。尚、表１では、各種類のサンプルにおける充填材２８中のＳｉの原子数に対するＯの原子数の比率が０．１刻みの範囲で示されているが、これは測定精度を考慮したものである。
【００５０】
基板２２は直径が約６５ｍｍで材料はガラスである。記録層２４は、厚さが約２０ｎｍで、材料はＣｏＣｒＰｔ合金である。保護層３６は、厚さが約４ｎｍで、材料はＤＬＣである。潤滑層３８は、厚さが約２ｎｍで、材料はＰＦＰＥである。
【００５１】
これらのサンプルの具体的な作製方法を図４のフローチャートに沿って簡単に説明する。まず、基板２２の上に、下地層４０、反強磁性層４２、軟磁性層４４、配向層４６、連続記録層（未加工の記録層２４）、第１のマスク層、第２のマスク層をこの順でスパッタリング法等により形成し、更にレジスト層をスピンコート法で塗布した（Ｓ１０２）。尚、第１マスク層の材料はＣ、第２マスク層の材料はＮｉである。
【００５２】
このレジスト層に転写装置（図示省略）を用いて、サーボ領域のサーボパターン及びデータ領域のトラックパターンに相当する凹凸パターンをナノ・インプリント法により転写し、Ｏ２ガスを用いた反応性イオンビームエッチングにより、凹部の底部のレジスト層を除去した（Ｓ１０４）。次に、Ａｒガスを用いたイオンビームエッチングにより、凹部の底部の第２のマスク層を除去し（Ｓ１０６）、更に、Ｏ２ガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングにより、凹部の底部の第１のマスク層を除去してから（Ｓ１０８）、Ａｒガスを用いたイオンビームエッチングにより、凹部の底部の連続記録層を除去し、連続記録層を多数の記録要素２４Ａに分割し、凹凸パターンの記録層２４を形成した（Ｓ１１０）。尚、データ領域におけるトラックピッチ（記録要素２４Ａ同士のトラック幅方向のピッチ）は約２００ｎｍとし、記録要素２４Ａの上面の幅（トラック幅）が約１００ｎｍとなるように加工した。又、Ｏ２ガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングにより、記録要素２４Ａ上に残存する第１のマスク層を完全に除去した。
【００５３】
次に、ＲＦスパッタリング法により記録層２４の表面に充填材２８を約８０ｎｍの厚さ（記録要素２４Ａ上の厚さ）に成膜した（Ｓ１１２）。この際、成膜パワー（ターゲットに印加するパワー）を約５００Ｗ、真空チャンバ内圧力を約０．３Ｐａ、サンプルに印加するバイアスパワーを約１５０Ｗに設定した。又、ターゲットは、ＳｉＯ（一酸化ケイ素）を用い、真空チャンバ内にＡｒ及びＯ２の混合ガスを導入した。Ａｒ及びＯ２の混合比を調整することで、充填材２８中のＳｉの原子数の比率に対するＯの原子数の比率を調節した。具体的には、充填材２８中のＳｉの原子数に対するＯの原子数の比率をＸとして、Ｘを８種類の範囲に調節し（表１参照）、各種類の充填材２８をそれぞれ２０枚のサンプルに成膜した。
【００５４】
充填材２８は、記録層２４の凹凸パターンに倣って、表面の凹凸がある程度抑制された形状で記録要素２４Ａを覆うようにサンプルの上に成膜され、凹部２６に充填材２８が充填された。
【００５５】
尚、ターゲットとしてＳｉＯ２を用いてもよい。この場合も、スパッタリングガスの種類や圧力、成膜パワー等の条件を調整することで、充填材２８中のＳｉの原子数の比率に対するＯの原子数の比率を調節することが可能である。
【００５６】
次に、サンプルを回転させながらＡｒガスを用いたイオンビームエッチングによりサンプルの表面の余剰の充填材２８（記録要素２４Ａの上面よりも上側に存在する充填材２８）を除去し、平坦化した（Ｓ１１４）。尚、Ａｒガスの入射角を被加工体の表面に対して約２°に設定した。充填材２８は、実質的にＳｉ及びＯからなるので、イオンビームエッチングに対し、凸部が凹部よりも選択的に速く除去される傾向が強く、平坦化効率が良い。
【００５７】
次に、ＣＶＤ法により記録要素２４Ａ及び充填材２８の上面に約４ｎｍの厚さでＤＬＣの保護層３６を形成し（Ｓ１１６）、更に、スピンコート法により保護層３６の上に約２ｎｍの厚さでＰＦＰＥの潤滑層３８を塗布した（Ｓ１１８）。
【００５８】
このようにして得られた８種類のサンプルに対し、中心から半径方向に１７〜２１ｍｍの幅が４ｍｍの領域において、シーク速度１５ｍ／ｓｅｃにて、２０００万回の磁気ヘッド１４のシーク試験を行った。この際、磁気ヘッド１４は、浮上高さが１０ｎｍとなるようにサスペンション荷重を調節した。シーク試験後、サンプルの表面を光学式表面検査装置にて観察し、スクラッチの有無を調べた。これらの測定結果を表１に示す。尚、スクラッチの測定結果はスクラッチの発生が認められたサンプルの枚数として示す。
【００５９】
又、シーク試験後、これらのサンプルの充填材２８中のＳｉの原子数に対するＯの原子数の比率をＸＲＦ（Ｘ−Ｒａｙ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｅ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）法により測定したところ、いずれも表１に示される、それぞれの種類の範囲内であることが確認された。
【００６０】
【表１】
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【００６１】
［実験例２］
上記実験例１に対し、未加工の２０ｎｍの一様な厚さの連続記録層の上に充填材２８を約２０ｎｍの厚さで成膜した８種類のサンプルを２０枚ずつ作製した。これら８種類のサンプルは、上記実験例１と同様に充填材２８中のＳｉの原子数に対するＯの原子数の比率が異なる構成である（表１参照）。尚、充填材２８により腐食を抑制する効果を確認するため、充填材２８の上に保護層３６、潤滑層３８は形成しなかった。他の構成は上記実験例１のサンプルと同様である。
【００６２】
これら８種類のサンプルを、温度８０℃、湿度８５％の高温高湿環境下に約４８時間保持した後、表面を光学式表面検査装置にて観察し、連続記録層の腐食の有無を調べた。これらの測定結果を表１に併記する。尚、腐食の測定結果は腐食の発生が認められたサンプルの枚数として示す。
【００６３】
表１に示されるように、２．０≦Ｘ＜２．１の２０枚のサンプルは、そのうちの３枚に腐食の発生が認められた。これに対し、１．９≦Ｘ＜２．０の２０枚のサンプルは、そのうちの１枚だけに腐食の発生が認めら、１．３≦Ｘ＜１．９の１２０枚のサンプルには、腐食の発生が全く認められなかった。即ち、Ｘ＜２．０とすることで記録層の腐食を抑制でき、Ｘ＜１．９とすることで、記録層の腐食を抑制する効果を著しく高めることができることが確認された。尚、実験例２では便宜上、連続記録層の上に充填材２８を一様に形成し、充填材２８により連続記録層の上面の腐食を抑制する効果を確認したが、Ｘ＜２．０の充填材で記録要素の間の凹部を充填すれば、記録要素の側面の腐食を抑制する効果が得られることは言うまでもない。
【００６４】
又、表１に示されるように、実験例１では、１．３≦Ｘ＜１．４の２０枚のサンプルは、そのうちの３枚にスクラッチの発生が認められ、１．４≦Ｘ＜１．５の２０枚のサンプルは、そのうちの１枚にスクラッチの発生が認められたのに対し、１．５≦Ｘの１２０枚のサンプルには、スクラッチの発生が全く認められなかった。即ち、１．５≦Ｘとすることで、表面のスクラッチの発生を抑制できることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明は、例えば、ディスクリートトラックメディア、パターンドメディア等の凹凸パターンで形成された記録層を有する磁気記録媒体に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る磁気記録再生装置の要部の概略構造を模式的に示す斜視図
【図２】同磁気記録再生装置の磁気記録媒体の構造を模式的に示す側断面図
【図３】本発明の第２実施形態に係る磁気記録媒体の構造を模式的に示す側断面図
【図４】実験例１に係るサンプルの製造方法の概要を示すフローチャート
【符号の説明】
【００６７】
１０…磁気記録再生装置
１２…磁気記録媒体
１４…磁気ヘッド
１６…チャック
１８…アーム
２０…ベース
２２…基板
２４…記録層
２４Ａ…記録要素
２６…凹部
２８…充填材
３６…保護層
３８…潤滑層
４０…下地層
４２…反強磁性層
４４…軟磁性層
４６…配向層
Ｓ１０２…サンプルの加工出発体作製工程
Ｓ１０４…レジスト層加工工程
Ｓ１０６…第２のマスク層加工工程
Ｓ１０８…第１のマスク層加工工程
Ｓ１１０…記録層加工工程
Ｓ１１２…充填材成膜工程
Ｓ１１４…平坦化工程
Ｓ１１６…保護層形成工程
Ｓ１１８…潤滑層塗布工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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