(57)【要約】【課題】基板処理装置へ電力が供給されなくても、筐体に対する基板処理室の移動制限の状態を変更可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置の筐体に収納される基板処理室２０ａのスライドは、基板処理室２０ａの後面に固設されたシリンダ（エアシリンダ）２２１ａと、棚板１１２ａに固設されたストッパブロック２２５，２２６とを備えるスライドストッパ機構によって制限される。当該ストッパブロック機構への駆動エアの供給は、制御回路本体部を含んで構成される制御回路（エア回路）によって制御される。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置であって、
基板に対する所定の処理を行う基板処理部と、
前記基板処理部を収納する筐体と、
供給される駆動エアの状態に応じて、前記筐体に対する前記基板処理部の移動制限の状態を変更する移動制限機構と、
外部のエア供給源から前記移動制限機構への駆動エアの供給を制御するエア回路と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記筐体に対する前記基板処理部の移動が、前記筐体からの前記基板処理部の引き出しおよび前記筐体への前記基板処理部の押し戻しであることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記移動制限機構が、
前記筐体に固設された第１部材と、
前記基板処理部に固設された第２部材と、
を備え、
前記第１部材と前記第２部材との干渉により前記筐体に対する前記基板処理部の移動制限が実現されるとともに、
前記第２部材が、前記筐体から前記基板処理部を引き出した場合に、前記筐体の内部に位置することを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の基板処理装置において、
前記筐体に複数の基板処理部が収納されるとともに、複数の基板処理部のうちのひとつが引き出されている場合に、他の基板処理部の引き出し制限の解除が禁止されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項２ないし請求項４のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記筐体に複数の基板処理部が収納されるとともに、複数の基板処理部のうちのひとつの引き出し制限が解除されている場合に、他の基板処理部の引き出し制限の解除が禁止されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記エア回路が、所定の操作に応答して、前記筐体に対する前記基板処理部の移動制限を解除するための駆動エアを前記移動制限機構へ供給するとともに、前記操作の終了後も、前記筐体に対する前記基板処理部の移動制限を解除するための駆動エアを前記移動制限機構へ供給し続けることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理対象の基板に所定の処理を行うための基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶表示装置用ガラス基板等の処理対象基板に加熱処理や冷却処理等を行うための基板処理装置が用いられている。このような基板処理装置では、フットプリントを削減するために、処理対象基板に対して所定の処理を行う複数の基板処理室を垂直方向に積層することも行われる。例えば、特許文献１には、複数の基板処理室を垂直方向に積層するとともに、保守点検を容易ならしめるために、各基板処理室を筐体から引き出し可能とした多段式の基板処理装置が開示されている。当該基板処理装置においては、基板処理室の引き出し方向に重心が片寄ることを防止するために、複数の基板処理室を筐体から同時に引き出すことが禁止されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−５９４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１の基板処理装置では、筐体に対する基板処理室の移動制限の状態を電気的に制御しているので、基板処理装置の組立途上で電気配線がなされていない場合や停電時等の電力を供給できない場合に、筐体に対する基板処理室の移動制限の状態を変更することが困難であった。
【０００５】
本発明は、この問題を解決するためになされたもので、基板処理装置へ電力が供給されなくても、筐体に対する基板処理室の移動制限の状態を変更可能な基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、請求項１の発明は、基板処理装置であって、基板に対する所定の処理を行う基板処理部と、前記基板処理部を収納する筐体と、供給される駆動エアの状態に応じて、前記筐体に対する前記基板処理部の移動制限の状態を変更する移動制限機構と、外部のエア供給源から前記移動制限機構への駆動エアの供給を制御するエア回路とを備える。
【０００７】
請求項２の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記筐体に対する前記基板処理部の移動が、前記筐体からの前記基板処理部の引き出しおよび前記筐体への前記基板処理部の押し戻しである。
【０００８】
請求項３の発明は、請求項２に記載の基板処理装置において、前記移動制限機構が、前記筐体に固設された第１部材と、前記基板処理部に固設された第２部材とを備え、前記第１部材と前記第２部材との干渉により前記筐体に対する前記基板処理部の移動制限が実現されるとともに、前記第２部材が、前記筐体から前記基板処理部を引き出した場合に、前記筐体の内部に位置する。
【０００９】
請求項４の発明は、請求項２または請求項３に記載の基板処理装置において、前記筐体に複数の基板処理部が収納されるとともに、複数の基板処理部のうちのひとつが引き出されている場合に、他の基板処理部の引き出し制限の解除が禁止される。
【００１０】
請求項５の発明は、請求項２ないし請求項４のいずれかに記載の基板処理装置において、前記筐体に複数の基板処理部が収納されるとともに、複数の基板処理部のうちのひとつの引き出し制限が解除されている場合に、他の基板処理部の引き出し制限の解除が禁止される。
【００１１】
請求項６の発明は、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記エア回路が、所定の操作に応答して、前記筐体に対する前記基板処理部の移動制限を解除するための駆動エアを前記移動制限機構へ供給するとともに、前記操作の終了後も、前記筐体に対する前記基板処理部の移動制限を解除するための駆動エアを前記移動制限機構へ供給し続ける。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１ないし請求項６の発明によれば、筐体に対する基板処理部の移動制限の状態をエア回路により制御可能となるので、基板処理装置へ電力が供給されなくても、筐体に対する基板処理部の移動制限の状態を変更可能である。
【００１３】
請求項３の発明によれば、筐体から基板処理部を引き出した場合にも第１部材と第２部材とを干渉させることができるので、ひとつの第２部材により筐体からの基板処理部の引き出しと筐体への基板処理部の押し戻しの両方を制限可能となり、基板処理装置の構成を簡略化可能である。
【００１４】
請求項４の発明によれば、筐体からひとつの基板処理部が引き出された場合に、他の基板処理部の筐体からの引き出しが禁止されるので、ふたつ以上の基板処理部が筐体から同時に引き出されることを防止可能である。
【００１５】
請求項５の発明によれば、ひとつの基板処理部の引き出し制限が解除されている場合に、他の基板処理部の筐体からの引き出しが禁止されるので、ふたつ以上の基板処理部が筐体から同時に引き出されることを防止可能である。
【００１６】
請求項６の発明によれば、所定の操作を継続しなくても筐体に対する基板処理部の移動制限が解除された状態が継続されるので、基板処理装置の利便性が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
＜基板処理装置の全体構成＞
本発明の実施形態に係る基板処理装置１Ａ，１Ｂの全体構成を、図１，図２の模式図を参照しながら説明する。ここで、図１は上方（Ｚ軸の正方向）から見た基板処理装置１Ａ，１Ｂの平面図であり、図２は側方（Ｘ軸の正方向）から見た基板処理装置１Ａの側面図である。なお、ＸＹＺ座標系のＸＹ平面は水平面を示し、Ｚ軸方向は鉛直方向を示す。この点は、図３以降も同様である。
【００１８】
基板処理装置１Ａ，１Ｂは、搬送路２に面して設置されており、搬送ロボット３によって上流側の工程から搬送されてきた基板Ｗに対する所定の処理を行う。基板処理装置１Ａ，１Ｂが処理対象とする基板Ｗは、特に制限されないが、例えば、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板、磁気ディスク（光ディスク）用ガラス基板または磁気ディスク（光ディスク）用セラミック基板等である。また、基板処理装置１Ａ，１Ｂの行う処理も制限されないが、基板処理装置１Ａが基板Ｗの加熱処理を行い、基板処理装置１Ｂが基板Ｗの冷却処理を行うものとして以下の説明を進める。なお、基板処理装置１Ａ，１Ｂは、熱処理の内容を除いては同様の構成を有するので、以下では、基板処理装置１Ａに着目して説明を行う。
【００１９】
基板処理装置１Ａの筐体１１は、パイプやアングル等の棒状部材を結合したフレーム（骨組）によって形成され、略直方体の外形形状を有している。筐体１１の外形寸法は、処理対象の基板Ｗのサイズや同時に処理すべき基板Ｗの枚数に応じて適宜決定されるが、典型的には、幅（Ｘ軸方向）２．５ｍ×奥行き（Ｙ軸方向）２．９ｍ×高さ（Ｚ軸方向）２．７ｍである。なお、必要に応じて、外装となる板状部材をフレームに取り付けてもよい。筐体１１は、脚部１１１において、クリーンルーム等の設置場所の床面ＦＬに固定される。
【００２０】
基板処理装置１Ａの筐体１１には、略水平に設けられた網状の棚板１１２ａ〜１１２ｃおよび天板１１３によって略同一の高さを有する３段の棚１２０ａ〜１２０ｃが形成されており、棚１２０ａ〜１２０ｃのそれぞれには略直方体の外形形状を有する基板処理室（チャンバ）２０ａ〜２０ｃが収納される。すなわち、基板処理装置１Ａは、複数の基板処理室２０ａ〜２０ｃを鉛直方向に積層して収納することによりフットプリントを削減した多段式の基板処理装置である。基板処理部となる基板処理室２０ａ〜２０ｃは、それぞれ、スライド機構２１ａ〜２１ｃを介して棚板１１２ａ〜１１２ｃに取り付けられているので、図３の平面図（図１に対応）および図４の側面図（図２に対応）に例示するように、搬送路２の方向（Ｙ軸の負方向）に引き出し可能である。なお、図３および図４では、基板処理室２０ｂが筐体１１から搬送路２に引き出された状態が示されているが、他の基板処理室２０ａ，２０ｃも同様に筐体１１から引き出し可能である。また、以下では、図３および図４の基板処理室２０ｂのような、筐体１１から完全に引き出された基板処理室の位置を「引き出し位置」、図３および図４の基板処理室２０ａ，２０ｃのような、筐体１１へ完全に押し戻された基板処理室の位置を「戻り位置」とも称する。さらに、棚１１２ａ〜１１２ｃの各々には、与えられた力を倍力して基板処理室２０ａ〜２０ｃを引き出すスライドアシスト機構３０ａ〜３０ｃが設けられている。なお、スライドアシスト機構３０ａ〜３０ｃは、基板処理室２０ａ〜２０ｃの各々を筐体１１から引き出す場合に、引き出し作業に干渉しない位置に設けられている。
【００２１】
基板処理室２０ａ〜２０ｃには、搬送路２の側の側面に設けられた基板通過口（不図示）を介して基板Ｗが搬入され、その内部で基板Ｗに対する加熱処理（プリベークやポストベーク等）が行われる。加熱処理終了後の基板Ｗは、基板通過口を介して基板処理室２０ａ〜２０ｃから搬出され、搬送ロボット３によって下流側の工程へ搬送される。
【００２２】
なお、搬送ロボット３は搬送路２に沿って移動可能となっている。したがって、基板処理室２０ａ〜２０ｃの引き出しに先立って、基板処理装置１Ａの対面位置から別の位置へ搬送ロボット３を待避させれば、搬送ロボット３が基板処理室２０ａ〜２０ｃの引き出しの障害となることはない。また、基板処理室２０ａ〜２０ｃの引き出し方向（以下では、特に断らない限り、「引き出し方向」は、「基板処理室２０ａ〜２０ｃの引き出し方向」の意味で用いる）は搬送路２の方向に限られず、搬送路２とは反対方向（Ｙ軸の正方向）や基板処理装置１Ａの側方（Ｘ軸の正方向ないしは負方向）であってもよい。さらに、基板処理室２０ａ〜２０ｃを複数の方向に引き出し可能としてもよい。
【００２３】
＜基板処理室とスライド機構＞
以下では、スライド機構２１ａを介して棚板１１２ａに取り付けられた基板処理室２０ａについて、図５を参照しながら説明する。図５は、棚板１１２ａに取り付けられた基板処理室２０ａを示す斜視図である。なお、基板処理室２０ｂ，２０ｃも同様にして棚板１１２ｂ，１１２ｃに取り付けられている。
【００２４】
図５には、筐体１１の一部を構成する棚板１１２ａと、基板処理室２０ａと、棚板１１２ａに対する基板処理室２０ａの運動を引き出し方向に延びる直線上に制限するスライド機構２１ａとが図示されている。
【００２５】
スライド機構２１ａは、略正方形の断面形状を有する棒状部材である中間ブロック２１１，２１２と、棚板１１２ａに対する中間ブロック２１１，２１２の運動を引き出し方向に延びる直線上に制限するリニアガイド（直線運動案内機構）ＬＧ１，ＬＧ２と、中間ブロック２１１，２１２に対する基板処理室２０ａの運動を引き出し方向に延びる直線上に制限するリニアガイドＬＧ３，ＬＧ４とを備える。中間ブロック２１１，２１２およびリニアガイドＬＧ１〜ＬＧ４のレールＲＬ１〜ＲＬ４の長さは、基板処理室２０ａの奥行きより若干長く、その長手方向が引き出し方向となるように設けられている。
【００２６】
リニアガイドＬＧ１，ＬＧ２のレールＲＬ１，ＲＬ２は棚板１１２ａに対して固定される。また、リニアガイドＬＧ１の可動ブロックＭＢ１１，ＭＢ１２は中間ブロック２１１の下面に固定され、リニアガイドＬＧ２の可動ブロックＭＢ２１，ＭＢ２２は中間ブロック２１２の下面に固定される。可動ブロックＭＢ１１，ＭＢ１２はレールＲＬ１上で往復直線運動を行うことができ、可動ブロックＭＢ２１，ＭＢ２２はレールＲＬ２上で往復直線運動を行うことができるので、中間ブロック２１１，２１２は棚板１１２ａに対して引き出し方向に延びる直線上で往復直線運動を行うことができる。また、中間ブロック２１１，２１２の長手方向における可動ブロックＭＢ１１，ＭＢ１２，ＭＢ２１，ＭＢ２２の取り付け位置は、引き出し方向とは逆方向の端部付近の位置（可動ブロックＭＢ１２，ＭＢ２２）および中央から当該端部に若干寄った位置（可動ブロックＭＢ１１，ＭＢ２１）である。このような取り付け位置を選択することにより、基板処理室２０ａの奥行きの約半分の長さだけ、中間ブロック２１１，２１２を筐体１１から引き出すことが可能になる。
【００２７】
さらに、リニアガイドＬＧ３，ＬＧ４のレールＲＬ３，ＲＬ４は、それぞれ、中間ブロック２１１，２１２の上面に固定されており、リニアガイドＬＧ３，ＬＧ４の可動ブロックＭＢ３１，ＭＢ３２，ＭＢ４１，ＭＢ４２は基板処理室２０ａの底面に固定されている。可動ブロックＭＢ３１，ＭＢ３２はレールＲＬ３上で往復直線運動を行うことができ、可動ブロックＭＢ４１，ＭＢ４２はレールＲＬ４上で往復直線運動を行うことができるので、基板処理室２０ａは中間ブロック２１１，２１２に対して、引き出し方向に延びる直線上で往復直線運動を行うことができる。また、基板処理室２０ａの奥行き方向における可動ブロックＭＢ３１，ＭＢ３２，ＭＢ４１，ＭＢ４２の取り付け位置も、基板処理室２０ａの引き出し方向とは逆方向の端部付近の位置（可動ブロックＭＢ３２，ＭＢ４２）および中央から当該端部に若干寄った位置（可動ブロックＭＢ３１，ＭＢ４１）である。このような取り付け位置を選択することにより、基板処理室２０ａの奥行きの約半分の長さだけ、基板処理室２０ａを中間ブロック２１１，２１２に対して引き出すことが可能になる。
【００２８】
上述の説明から明らかなように、基板処理装置１Ａでは、中間ブロック２１１，２１２を筐体１１から引き出し可能であるとともに、中間ブロック２１１，２１２に対して基板処理室２０ａを引き出し可能であるので、基板処理室２０ａの全体を筐体１１から引き出すことが可能になる。これにより、基板処理室２０ａの全体を保守点検時に確認可能となり、基板処理部２０ａの保守点検が容易になる。さらに、スライド機構２１ａにより、基板処理室２０ａの運動が直線運動となるので、基板処理室２０ａの引き出しを容易ならしめるためのスライドアシスト機構３０ａの構成を単純化可能である。
【００２９】
＜スライドストッパ機構およびその制御回路＞
基板処理装置１Ａにおいては、基板処理室２０ａ〜２０ｃの各々に対応して、筐体１１に対する基板処理室２０ａ〜２０ｃのスライド制限（移動制限）の状態をロック状態（スライドすなわち引き出しおよび押し戻しが禁止された状態）およびロック解除状態（スライドすなわち引き出しおよび押し戻しが許可された状態）との間で変更するスライドストッパ機構と、外部のエア供給源ＡＳ（後述）からスライドストッパ機構への駆動エアの供給を制御する制御回路とが設けられる。以下では、図５〜図７を参照しながら、当該スライドストッパ機構および制御回路について説明する。図６および図７は、それぞれ、基板処理室２０ａに固設されたシリンダ２２１ａの近傍を拡大して示す図であり、図６が側方（Ｘ軸の負方向）から見た側面図に相当し、図７が上方（Ｚ軸の正方向）から見た平面図に相当している。
【００３０】
スライドストッパ機構は、基板処理室２０ａの後面に固設されたシリンダ２２１ａと、棚板１１２ａに固設されたストッパブロック２２５，２２６とを備えて構成される。
【００３１】
シリンダ２２１ａは、結合部材２２７によって基板処理室２０ａに取り付けられたシリンダ本体部２２２と、シリンダ本体部２２２から下方に突出したシリンダロッド２２３と、シリンダロッド２２３の下端に取り付けられたローラ２２４とを備える。シリンダ２２１ａは、供給される駆動エアの状態に応じて、シリンダロッド２２３を鉛直方向に往復直線運動させるエアシリンダとなっており、駆動エアが供給されるとシリンダロッド２２３を上昇させ、駆動エアの供給が絶たれるとシリンダロッド２２３を下降させる。シリンダロッド２２３の上昇時においては、棚板１１２ａに対するローラ２２４の下端の高さは、ストッパブロック２２５，２２６の高さより高くなっている。したがって、シリンダロッド２２３を上昇させれば、基板処理室２０ａのスライド時に、ローラ２２４とストッパブロック２２５，２２６とが干渉することはない。一方、シリンダロッド２２３の下降時においては、ローラ２２４は、棚板１１２ａに接しており、Ｘ軸方向に伸びる回転軸Ｐの周りに回転しつつ基板処理室２０とともに水平移動可能であるが、その移動方向によっては、後述するように、ストッパブロック２２５，２２６と干渉して基板処理室２０ａのスライドを制限する。すなわち、シリンダ２２１ａおよびストッパブロック２２５，２２６によって構成されるスライドストッパ機構は、供給される駆動エアの状態に応じて、筐体１１に対する基板処理室２０ａのスライド制限の状態を変更している。なお、シリンダ２２１ａは、筐体１１から基板処理室２０ａを引き出し位置まで引き出した場合に、筐体１１の内部に位置するように基板処理室２０ａに固設され、筐体１１からの基板処理室２０ａの引き出しを制限する場合および筐体１１への基板処理室２０ａの押し戻しを制限する場合の両方において、ストッパブロック２２５，２２６と干渉するようになっている。これにより、筐体１１から基板処理室２０ａを引き出した場合にも、シリンダ２２１ａとストッパブロック２２６とを干渉させることができるので、ひとつのシリンダ２２１ａにより、筐体１１からの基板処理室２０ａの引き出しと、筐体１１への基板処理室２０ａの押し戻しとを制限可能となり、基板処理装置１Ａの構成を簡略化可能である。
【００３２】
ストッパブロック２２５，２２６は、シリンダロッド２２３を下降させた状態で基板処理室２０ａをスライドさせたときに、シリンダロッド２２３の縮退によりローラ２２４の乗り越えが可能な斜面２２５Ｐ，２２６Ｐと、ローラ２２４の乗り越えが不可能な垂直面２２５Ｑ，２２６Ｑとを備える。
【００３３】
横向き三角柱形状を有するストッパブロック２２５は、それぞれ、斜面２２５Ｐが引き出し方向側（Ｙ軸の負方向側）、垂直面２２５Ｑが押し戻し方向側（Ｙ軸の正方向側）となるように、棚板１１２ａに固定される。また、ストッパブロック２２５の固定位置は、基板処理室２０ａが戻り位置にあるときに、ローラ２２４と垂直面２２５Ｑとがほぼ接する位置（若干の遊びがあってもよい）となっている。このストッパブロック２２５により、シリンダロッド２２３を上昇させない限りは、引き出し位置から基板処理室２０ａを引き出すことが規制されるとともに、斜面２２５Ｐの側からの引き出し位置への基板処理室２０ａの押し戻しはシリンダロッド２２３を上昇させることなく可能となる。
【００３４】
一方、ストッパブロック２２６は、ストッパブロック２２５とは逆に、斜面２２６Ｐが基板処理室２０ａの押し戻し方向側、垂直面２２６Ｑが基板処理室２０ａの引き出し方向側となるように、棚板１１２ａに固定される。また、ストッパブロック２２６の固定位置は、基板処理室２０ａが引き出し位置にあるときに、ローラ２２４と垂直面２２６Ｑとがほぼ接する位置（若干の遊びがあってもよい）となっている。ストッパブロック２２６により、シリンダロッド２２３を上昇させない限りは、引き出し位置から基板処理室２０ａを押し戻すことが規制されるとともに、斜面２２６Ｐの側からの引き出し位置への基板処理室２０ａの引き出しはシリンダロッド２２３を上昇させることなく可能となる。
【００３５】
シリンダ２２１ａおよびストッパブロック２２５，２２６により、基板処理室２０ａが戻り位置または引き出し位置にある場合において、シリンダロッド２２３を下降させると、筐体１１に対する基板処理室２０ａのスライド制限（筐体１１の内部の戻り位置から筐体１１の外部への基板処理室２０ａの引き出しおよび筐体１１の外部の引き出し位置から筐体１１の内部への基板処理室２０ａの押し戻しの制限）が行われ（ロック状態）、シリンダロッド２２３を上昇させると、筐体１１に対する基板処理室２０ａのスライド制限が解除される（ロック解除状態）。
【００３６】
一方、制御回路は、制御回路本体部２４１と、リミットスイッチ２７１，２７２および２８２と、基板処理室２０ａのスライド制限の解除指示を基板処理装置１Ａに与えるための指示部材となる押しボタン２６１と、基板処理室２０ａのスライド制限が解除されていることをオペレータに報知する表示灯２８１とを備えて構成される。基板処理室２０ａの底面に取り付けられた制御回路本体部２４１ａは、さらに、基板処理室２０ａのスライド制限の解除の取り消し指示を基板処理装置１Ａに与えるためのリセットボタン２５３と、エア供給源ＡＳからシリンダ２２１ａへの駆動エアの供給路Ｌ１を開閉するロック解除バルブ２５１と、ロック解除禁止バルブ２５２とを備えて構成される。
【００３７】
リミットスイッチ２７１，２７２は、それぞれ、基板処理室２０ａが戻り位置および引き出し位置にあるときに作動するリミットスイッチである。例えば、リミットスイッチ２７１は、基板処理室２０ａが戻り位置に達したときに、接触部材２２９とアーム２７１ａとが接触して作動するように設けられている。ここで、接触部材２２９は、基板処理室２０ａに結合部材２２７によって結合され、基板処理室２０ａと協動する部材となっている。また、結合部材２２７によって基板処理室２０ａに固定されたリミットスイッチ２８２は、シリンダロッド２２３が上昇したときに、接触部材２３０とアーム２８２ａとが接触して作動するように設けられている。ここで、接触部材２３０は、シリンダロッド２２３に結合部材２３１によって結合され、シリンダロッド２２３と協動する部材となっている。
【００３８】
＜蓋のロック機構＞
基板処理室２０ａは、略直方体の外形形状を有しており、その内部には基板Ｗの加熱処理に用いられるホットプレートが設置されている。基板処理室２０ａの上面には、支点２０１を軸として開き戸のように開閉可能な蓋２０２が設けられる。基板処理室２０ａの内部の状態は、蓋２０２を上方に引き上げることにより確認可能となる。
【００３９】
蓋２０２を閉めた場合に、蓋２０２と基板処理室２０ａの本体部２０３とが接する接触部分２０４〜２０６には、蓋２０２の開閉を規制するためのロック機構が設けられている。以下では、接触部分２０４に設けられたロック機構Ｌについて、図８および図９を参照しながら説明する。ここで、図８および図９は、ロック機構Ｌの側面図および平面図であり、図８が蓋２０２がロックされた状態の側面図（図８（Ａ））および平面図（図８（Ｂ））に相当し、図９が蓋２０２のロックが解除された状態の側面図（図９（Ａ））および平面図（図９（Ｂ））に相当する。
【００４０】
図８および図９に示すように、蓋２０２の縁部には、Ｘ軸正方向に突出した丸棒状の突起２５１が所定間隔で複数固設される。一方、本体部２０３には、突起２５１と掛合可能なＬ字形の鉤型部材２６１が複数設けられる。鉤型部材２６１は、Ｙ軸方向に伸びる棒状の連結部材２７０によって連結され、Ｙ軸方向に協動可能になっている。さらに、本体部２０３の前面には、連結部材２７０をＹ軸正負方向に押し引き可能な押し引き兼用クランプ２７１が固設される。押し引き専用クランプ２７１は、ハンドル２７１ａの操作（ＸＹ平面内における回転）によって連結部材２７０を押し引き可能に構成されており、連結部材２７０がＹ軸負方向に引かれた場合は突起２５１と鉤型部材２６１とが掛合され、蓋２０２の開閉が規制される（図８のロック状態）。一方、連結部材２７０がＹ軸正方向に押された場合は突起２５１と鉤型部材２６１の掛合が解除され、蓋２０２の開閉が可能になる（図９のロック解除状態）。
【００４１】
このようなロック機構Ｌを採用することにより、蓋２０２のロックをハンドル操作のみで行うことができるようになり、オペレータの作業効率を向上可能である。
【００４２】
＜スライドアシスト機構＞
先述の中間ブロック２１１の側面２１１ｓおよび基板処理室２０ａの側面２０ｓには、与えられた力を倍力して、筐体１１から基板処理室２０ａを搬送路２の方向へ引き出すスライドアシスト機構３０ａが設けられる。図１０は、スライドアシスト機構３０ａを側方（Ｘ軸の負方向）から見た側面図である。なお、図１０には、リニアガイドＬＧ１〜ＬＧ４は、便宜上図示されていない。
【００４３】
スライドアシスト機構３０ａは、オペレータから与えられた力による回転運動に応じて、中間ブロック２１１，２１２を棚板１１２ａに対して引き出し方向へ直線運動させる運動伝達機構３１と、棚板１１２ａに対する中間ブロック２１１，２１２の引き出し方向への直線運動に応答して、基板処理室２０ａを中間ブロック２１１，２１２に対して引き出し方向へ直線運動させる運動伝達機構３２とを備えている。これらの運動伝達機構３１，３２は、引き出し動作中に干渉しないように設けられている。
【００４４】
運動伝達機構３１は、棚板１１２ａに固定された軸受３１１に回動自在に保持された軸部材３１２と、軸部材３１２の一端に固定されたハンドル３１３と、軸部材３１２の他端に固定されたピニオンギア３１４とを備える。ハンドル３１３は、オペレータが回転のための力（トルク）を軸部材３１２に与えるために用いられる。また、ハンドル３１３、軸部材３１２およびピニオンギア３１４は、その回転軸が同軸となるように固定されている。また、運動伝達機構３１は、中間ブロック２１１の側面２１１ｓに固定部材３１５によって固定されたラック３１７を備える。ラック３１７は、歯面３１７ａが水平かつ下向きとなるように中間ブロック２１１に固定され、ピニオンギア３１４と噛み合わされている。ここで、ピニオンギア３１４およびラック３１７は、ピッチ方向が引き出し方向となるように設置されている。このような運動伝達機構３１の構成により、オペレータがハンドル３１３に力を与えてハンドル３１３を矢印ＡＲ１の方向へ回転させると、それに応じて軸部材３１２およびピニオンギア３１４が回転し、ラック３１７に固定された中間ブロック２１１が筐体１１から引き出される（矢印ＡＲ２の方向へ水平移動（直線運動）する）ことになる。すなわち、運動伝達機構３１は、回転運動を棚板１１２ａに対する中間ブロック２１１の相対運動に変換する機能を有している。逆に、オペレータがハンドル３１３を矢印ＡＲ１の方向とは逆方向に回転させる操作を行うと、中間ブロック２１１は筐体１１の内部へ押し入れられる（矢印ＡＲ２とは逆方向へ水平移動する）ことになる。
【００４５】
一方、運動伝達機構３２は、中間ブロック２１１の側面２１１ｓに回転自在に取り付けられたピニオンギア３２１と、棚板１１２ａに固定部材３２２によって固定されたラック３２４と、基板処理室２０ａの側面２０ｓに固定部材３２５によって固定されたラック３２６とを備える。ラック３２４は、歯面３２４ａが水平かつ上向きとなるように棚板１１２ａに固定され、ピニオンギア３２１と噛み合わされている。また、ラック３２６は、歯面３２６ａが水平かつ下向きとなるように基板処理室２０ａに固定されて、ピニオンギア３２１と噛み合わされている。ここで、ピニオンギア３２１、ラック３２４およびラック３２６は、ピッチ方向が引き出し方向となるように設置されている。このような運動伝達機構３２の構成により、中間ブロック２１１が筐体１１から引き出されると、ラック３２４が棚板１１２ａに固定されているためにピニオンギア３２１が水平移動しながら矢印ＡＲ３の方向に回転し、その回転がラック３２６に伝達されて基板処理室２０ａが中間ブロック２１１に対して引き出される（矢印ＡＲ４の方向へ水平移動する）。すなわち、運動伝達機構３２は、棚板１１２ａに対する中間ブロック２１１の相対運動を、中間ブロック２１１に対する基板処理室２０ａの相対運動に変換する機能を有している。逆に、中間ブロック２１１が筐体１１に押し入れられると、基板処理室２０ａも中間ブロック２１１に対して押し入れられる（矢印ＡＲ４とは逆方向へ水平移動する）。
【００４６】
上記の運動伝達機構３１，３２により、操作者がハンドル３１３を矢印ＡＲ１の方向へ回転させる操作を行うと、中間ブロック２１１が筐体１１に対して引き出され、基板処理室２０ａが中間ブロック２１１に対して同一長さだけ引き出される。したがって、筐体１１に対する中間ブロック２１１の引き出し長が基板処理室２０ａの奥行きの長さの半分を超えれば、基板処理室２０ａの全体が筐体１１から引き出されることになる。このように、基板処理室２０ａの全体が筐体１１から引き出された状態を図１１に示す。先述の可動ブロックＭＢ１〜ＭＢ４の中間ブロック２１１，２１２ないしは基板処理室２０ａへの取り付け位置は、このような奥行きの長さの半分の引き出しを可能ならしめるために決定されたものである。
【００４７】
ここで、上述のスライドアシスト機構３０ａにおいては、ハンドル３１３の回転半径をピニオンギア３１１の回転半径より大きくすることにより、小さな力で基板処理室２０ａを筐体１１から引き出すことが可能になり、基板処理室２０ａの保守点検が容易になる。例えば、ピニオンギア３１４の半径が５０ｍｍ、ハンドル３１３の回転半径が２５０ｍｍである場合、１５００ｋｇの基板処理室２０ａを引き出すために必要な力は、動摩擦係数を０．０３とすれば、（１５００×０．０３×５０）／２５０＝９ｋｇｆと、スライドアシスト機構３０ａを採用しない場合の約１／５の力で基板処理室２０ａの引き出しを行うことができる。換言すれば、スライドアシスト機構３０ａは、回転運動の回転半径の変更により、与えられた力を倍力して基板処理室２０ａの引き出しに利用する倍力機構として機能している。
【００４８】
なお、上述の説明では、オペレータの回転操作の力を用いて基板処理室２０ａの引き出しに利用する例を説明したが、人力に代えて、モータ等の動力源を用いてもよい。また、回転運動の回転半径の変更に、プーリやギアを利用してもよい。
【００４９】
＜インターロック機構＞
基板処理装置１Ａは、ふたつ以上の基板処理室が同時に筐体１１から引き出されることを防止するためのインターロック機構ＩＬを備える。インターロック機構ＩＬは、基板処理室２０ａ〜２０ｃの各々に対応して設けられた、３個のスライドストッパ機構および２個の制御回路をエア配管で接続することによって実現される。以下では、インターロック機構ＩＬについて図１２および図１３を参照しながら説明する。なお、図１２および図１３においては、エアの流通可能方向が矢印で図示されている。
【００５０】
○インターロック機構の全体回路；
図１２は、インターロック機構ＩＬの全体回路（エア回路）を示す図である。インターロック機構ＩＬは、電気的制御を用いないエア回路によって実現されるので、基板処理装置１Ａに電力が供給されなくても、外部のエア供給源ＡＳから駆動エアが供給されれば動作する。
【００５１】
図１２に示すように、基板処理装置１Ａでは、３個の基板処理室２０ａ〜２０ｃの各々に対応して、シリンダ２２１ａ〜２２１ｃと、エア供給源ＡＳからシリンダ２２１ａ〜２２１ｃへの駆動エアの供給を制御する制御回路２４０ａ〜２４０ｃとが設けられる。制御回路２４０ａは、制御回路本体部２４１、リミットスイッチ２７１，２７２，２８２、押しボタン２６１および表示灯２８１をエア配管で接続することによって実現される。制御回路２４０ｂ，２４０ｃも、それぞれ、基板処理室２０ｂ，２０ｃに対応して設けられた、制御回路本体部、リミットスイッチ、押しボタンおよび表示灯をエア配管で接続することによって実現されており、制御回路２４０ａと同様の構成を有する。
【００５２】
制御回路２４０ａ〜２４０ｃは、それぞれ、エア供給源ＡＳおよびシリンダ２２１ａ〜２２１ｃとエア配管で接続されるとともに(AIR IN,CYL)、ひとつのロック解除禁止信号出力(OUT)と、ふたつのロック解除禁止信号入力(IN1,IN2)とを備える。エア供給源ＡＳとしては、エアコンプレッサ、エアボンベ、基板処理装置１Ａが設置された工場のエア配管等の圧縮エア供給源を利用可能である。制御回路２４０ａ〜２４０ｃのロック解除禁止信号出力(OUT)は、それぞれ、他のふたつの制御回路のシリンダ制御回路のロック解除禁止信号入力(IN)に接続される。
【００５３】
制御回路２４０ａ〜２４０ｃは、それぞれ、筐体１１から基板処理部２０ａ〜２０ｃが引き出されている場合、および、基板処理部２０ａ〜２０ｃの引き出し制限が解除されている場合に、ロック解除禁止信号出力にエア信号を出力するとともに、ロック解除禁止信号入力からエア信号が入力された場合は、シリンダ２２１ａ〜２２１ｃへの駆動エアの供給を停止することにより、筐体１１からの基板処理室２０ａ〜２０ｃの引き出しを禁止する（ロック解除を禁止する）。このため、インターロック機構ＩＬでは、基板処理室２０ａ〜２０ｃのうちのひとつが筐体１１から引き出されている場合、および、基板処理室２０ａ〜２０ｃのうちのひとつの引き出し制限が解除されている場合に、当該基板処理室に対応する制御回路のロック解除禁止信号出力から他のふたつの基板処理部に対応する制御回路のロック解除禁止信号入力へエア信号が与えられる。これにより、基板処理装置１Ａでは、筐体１１からひとつの基板処理室が引き出されている場合、および、ひとつの基板処理室の引き出し制限が解除されている場合、他のふたつの基板処理室の筐体１１からの引き出しが禁止される（ロック解除が禁止される）。したがって、基板処理装置１Ａでは、ふたつ以上の基板処理室が筐体１１から同時に引き出されることがインターロック機構ＩＬにより防止される。
【００５４】
なお、ここでは、基板処理室が３個である場合について説明したが、基板処理室の数を２個以下または４個以上とすることも妨げられない。
【００５５】
続いて、制御回路２４０ａのエア回路構成について、図１３の回路図を参照しながら説明する。図１３に示すように、制御回路２４０ａは、大別して、供給制御系２５０、ロック解除系２６０、ロック解除禁止系２７０、報知系２８０および出力系２９０とを含んで構成される。以下では、これらについて順次説明する。
【００５６】
○供給制御系；
供給制御系２５０は、エア供給源ＡＳからシリンダ２２１ａへ至る駆動エアの供給路Ｌ１を開閉するロック解除バルブ２５１、ロック解除禁止バルブ２５２およびリセットボタン２５３を備える。ロック解除バルブ２５１は、常時閉型(NC;Normal Close)のエア駆動バルブ（空圧自動バルブ）であり、駆動エアがアクチュエータ部２５１ａに与えられるのに応答してバルブ本体部２５１ｂが開放状態となる。ロック解除禁止バルブ２５２は、常時開型(NO;Normal Open)型のエア駆動バルブであり、駆動エアがアクチュエータ部２５２ａに与えられるのに応答して、バルブ本体部２５２ｂが閉鎖状態となる。リセットボタン２５３は、常時開(NO)型の手動バルブであり、押下に応答して供給路Ｌ１を閉鎖する。
【００５７】
ロック解除バルブ２５１のバルブ本体部２５１ｂ、ロック解除禁止バルブ２５２のバルブ本体部２５２ｂおよびリセットボタン２５３は、この順序で直列接続されているので、ロック解除バルブ２５１のアクチュエータ部２５１ａへ駆動エアが供給されるとともに、ロック解除禁止バルブ２５２のアクチュエータ部２５２ａへ駆動エアが供給されず、かつ、リセットボタン２５３が押下されなければ、供給路Ｌ１を経由してエア供給源ＡＳからシリンダ２２１ａへ駆動エアが供給され、基板処理室２０ａのロックが解除される。一方、アクチュエータ部２５１ａへ駆動エアが供給されても、アクチュエータ部２５２ａへ駆動エアが供給されるか、または、リセットボタン２５３が押下されると、シリンダ２２１ａへの駆動エアの供給が絶たれて、基板処理室２０ａのロックは解除されない。もちろん、アクチュエータ部２５１ａへ駆動エアが供給されない場合は、ロック解除禁止バルブ２５２およびリセットボタン２５３の状態に関わらず、シリンダ２２１ａへの駆動エアの供給は行われず、基板処理室２０ａのロックは解除されない。
【００５８】
○ロック解除系；
ロック解除系２６０は、押しボタン２６１の押下に応答して、ロック解除バルブ２５１のアクチュエータ部２５１ａへ駆動エアを供給し、基板処理部２０ａのロックを解除させる。
【００５９】
ロック解除系２６０は、押しボタン２６１およびシャトルバルブ２６２を、エア供給源ＡＳからアクチュエータ部２５１ａへ至る駆動エアの供給路Ｌ２の途中にこの順序で挿入することにより構成される。押しボタン２６１は、常時閉(NC)型のプッシュボタンバルブであり、押下に応答して供給路Ｌ２を開放する。したがって、制御回路２４０ａは、押しボタン２６１の押下操作に応答してアクチュエータ部２５１へ駆動エアを供給することにより、エア供給源ＡＳからシリンダ２２１ａへ駆動エアを供給可能とし、もって基板処理室２０ａのロックを解除する。
【００６０】
シャトルバルブ２６２は、ふたつの供給口２６２ａ，２６２ｂとひとつの吐出口２６２ｃとを有するエア部品であり、ふたつの供給口２６２ａ，２６２ｂのいずれかに駆動エアが入力されると、入力された駆動エアを吐出口２６２ｃから出力する（この点は、後述する他のシャトルバルブ２７３，２７４，２８３，２９１も同様である。）。シャトルバルブ２６２においては、一方の供給口２６２ａに押しボタン２６１の出力が接続され、他方の供給口２６２ｂに供給制御系２５０の出力（リセットボタン２５３の出力）が接続される。これにより、押しボタン２６１の押下に応答してアクチュエータ部２５１ａへの駆動エアの供給が開始された後に、押しボタン２６１の押下解除により供給口２６２ａへの駆動エアの供給が絶たれても、供給口２６２ｂには駆動エアの供給が継続されるので、吐出口２６２ｃからアクチュエータ部２５１ａへの駆動エアの供給は継続される。したがって、基板処理装置１Ａでは、いったん押しボタン２６１の押下を行って基板処理室２０ａのロックを解除すれば、押しボタン２６１の押下を終了してもロックが解除された状態は保持される。すなわち、ロック解除系２６０には、ロックが解除された状態を保持するための自己保持回路が組み込まれている。これにより、基板処理装置１Ａでは、押しボタン２６１の押下を継続しなくてもロックが解除された状態が継続されるので、利便性の点で優れている。
【００６１】
○ロック解除禁止系；
ロック解除禁止系２７０は、ロック解除禁止信号入力（IN1,IN2）へ駆動エアがエア信号として入力されるのに応答して、ロック解除禁止バルブ２５２のアクチュエータ部２５２ａへ駆動エアを供給し、基板処理室２０ａのロックの解除を禁止する。また、ロック解除禁止系２７０は、基板処理室２０ａが、戻り位置および引き出し位置以外の位置にあるとき、アクチュエータ部２５２ａへ駆動エアを供給し、基板処理部２０ａのロックの解除を禁止する。
【００６２】
このような制御を実現するため、ロック解除禁止系２７０では、吐出口２７３ｃがアクチュエータ部２５２ａに接続されたシャトルバルブ２７３の一方の供給口２７３ａに別のシャトルバルブ２７４の吐出口２７４ｃが接続され、シャトルバルブ２７４のふたつの供給口２７４ａ，２７４ｂが、ふたつのロック解除禁止信号入力（IN1,IN2）となっている。また、シャトルバルブ２７３の他方の供給口２７３ｂは、直列接続されたリミットスイッチ２７１，２７２を介して、エア供給源ＡＳに接続されている。リミットスイッチ２７１，２７２は、それぞれ、基板処理室２０ａが戻り位置および引き出し位置にあるときに作動してエア供給源ＡＳからアクチュエータ部２５２ａへ至る供給路Ｌ３を閉鎖する常時開(NO)型のリミットスイッチである。
【００６３】
○報知系；
報知系２８０は、基板処理室２０ａが戻り位置から引き出されている場合、および、シリンダロッド２２３が上昇して基板処理室２０ａのロックが解除されている場合に表示灯２８１を点灯させる。
【００６４】
報知系２８０は、表示灯２８１、リミットスイッチ２８２およびシャトルバルブ２８３を含んで構成される。表示灯２８１は、駆動エアの供給に応答して点灯（表示態様が変化）するパイロットランプである。リミットスイッチ２８２は、シリンダロッド２２３が上昇したときに作動してエア供給源ＡＳから表示灯２８１へ至る供給路Ｌ４を開放する常時閉(NC)型のリミットスイッチである。
【００６５】
報知系２８０では、シャトルバルブ２８３の吐出口２８３ｃが表示灯２８１の入力に接続され、供給口２８３ａ，２８３ｂが、それぞれ、リミットスイッチ２８２，２７１の出力と接続される。これにより、基板処理室２０ａが戻り位置から引き出されて、リミットスイッチ２７１が非作動状態となっているとき、および、シリンダロッド２２３が上昇してリミットスイッチ２８２が作動状態となっているときに、エア供給源ＡＳから表示灯２８１へ駆動エアが供給され、表示灯２８１が点灯する。したがって、オペレータは、表示灯２８１の点灯により、基板処理室２０ａが戻り位置から引き出されていること、および、基板処理室２０ａのロックが解除され、基板処理室２０ａが引き出し可能となっていることを認識可能となる。
【００６６】
○出力系；
出力系２９０は、基板処理室２０ａが戻り位置から引き出されている場合、または、基板処理室２０ａのロックが解除されている場合に、駆動エアをエア信号としてロック解除禁止信号出力(OUT)へ出力する。
【００６７】
出力系２９０は、ひとつのシャトルバルブ２９１によって構成されており、その吐出口２９１ｃがロック解除禁止信号出力(OUT)となっている。シャトルバルブ２９１の供給口２９１ａ，２９１ｂは、リミットスイッチ２７１の出力および供給制御系２５０の出力と接続される。これにより、出力系２９０は、基板処理室２０ａが戻り位置から引き出されてリミットスイッチ２７１が非作動状態となっているときに駆動エアをロック解除禁止信号出力（OUT）へ出力するとともに、シリンダ２２１ａへ駆動エアが供給されて基板処理室２０ａのロックが解除されているときに、ロック解除禁止信号出力(OUT)へ駆動エアを出力する。
【００６８】
＜インターロック機構の動作＞
以下では、基板処理室２０ａを筐体１１から引き出して作業を行い、しかる後に基板処理室２０ａを筐体１１へ押し戻す場合におけるインターロック機構ＩＬの動作について、オペレータの操作手順にしたがって説明し、最後に他の基板処理室２０ｂ，２０ｃの引き出しにより、基板処理室２０ａの引き出しが禁止される場合について説明する。なお、エアの流通状態を示す図１４〜図１８（制御回路２４０ａのエア回路構成）では、駆動エアが流通している供給路が太線で示されている。
【００６９】
○押しボタン押下（図１４）；
基板処理室２０ａが戻り位置にある状態で、オペレータが押しボタン２６１を押下すると、エア供給源ＡＳからロック解除バルブ２５１のアクチュエータ部２５１ａへ至る供給路Ｌ２に駆動エアが流通可能な状態となり、ロック解除バルブ２５１のバルブ本体部２５１ｂが開放状態となる。このとき、リミットスイッチ２７１は作動状態となっているので、ロック解除禁止バルブ２５２のアクチュエータ部２５２ａへ駆動エアは供給されておらず、ロック解除禁止バルブ２５２のバルブ本体部２５２ｂは開放状態となっている。したがって、押しボタン２６１が押下されると、供給路Ｌ１を経由してシリンダ２２１ａへ駆動エアが供給され、シリンダロッド２２３が上昇する。これにより、基板処理室２０ａのロックが解除される（引き出し制限の解除）。さらに、このとき、供給制御系２５０から出力系２９０へ駆動エアが供給されるため、押しボタン２６１が押下された基板処理室２０ａ以外の基板処理室２０ｂ，２０ｃのロックの解除は禁止される。また、このとき、シリンダロッドの上昇によりリミットスイッチ２８２が作動し、供給路Ｌ４を経由してエア供給源ＡＳから表示灯２８１へ駆動エアが供給され、表示灯２８１は点灯した状態となる。
【００７０】
さらに、シリンダ２２１ａへの駆動エアの供給が開始された後に、押しボタン２６１の押下が解除されると、エア供給源ＡＳからアクチュエータ部２５１ａへ至る供給路Ｌ２が閉鎖されるが、供給制御系２５０の出力からシャトルバルブ２６２を経由してアクチュエータ部２５１ａへ駆動エアの供給が継続されるので、ロックが解除された状態は維持される。このため、オペレータは、基板処理室２０ａの引き出し作業時に押しボタン２６１を押し続ける必要はない。
【００７１】
なお、リセットボタン２５３の押下が行われると、エア供給源ＡＳからシリンダ２２１ａへの駆動エアの供給が絶たれるので、シリンダロッド２２３が下降して、制御回路２４０ａは押しボタン２６１の押下前の状態に戻る。これにより、誤って押しボタン２６１を押下した場合に、基板処理室２０ａをいったん引き出してから押し戻すという手順を踏まなくても、基板処理室２０ａのロックがなされている状態を回復可能である。
【００７２】
○基板処理室の引き出し（図１５）；
押しボタン２６１の押下によりロックが解除された状態で、基板処理室２０ａを戻り位置から引き出すと、リミットスイッチ２７１が非作動状態となり、エア供給源ＡＳからロック解除禁止バルブ２５２のアクチュエータ部２５２ａへ駆動エアが供給される。これにより、ロック解除禁止バルブ２５２のバルブ本体部２５２ｂが閉鎖状態となるので、シリンダ２２１ａへの駆動エアの供給が絶たれて、シリンダロッド２２３は下降する。このとき、供給制御系２５０の出力からシャトルバルブ２６２を経由したロック解除バルブ２５１のアクチュエータ部２５１ａへの駆動エアの供給も絶たれるので、ロック解除バルブ２５１のバルブ本体部２５１ｂも閉鎖状態となる。
【００７３】
一方、このとき、リミットスイッチ２７１の出力から報知系２８０および出力系２９０へ駆動エアが供給されるので、他の基板処理室２０ｂ，２０ｃのロックの解除が禁止された状態および表示灯２８１が点灯した状態は継続される。
【００７４】
○基板処理室の引き出し完了（図１６）；
基板処理室２０ａの引き出しが完了し、基板処理室２０ａが引き出し位置に到達すると、リミットスイッチ２７２が作動して、エア供給源ＡＳからロック解除禁止バルブ２５２のアクチュエータ部２５２ａへ駆動エアの供給が絶たれる。これにより、ロックの解除は禁止されていない状態となるが、ロック解除バルブ２５１のバルブ本体部２５１ａが閉鎖状態となっているので、シリンダ２２１ａへの駆動エアの供給は行われず、基板処理室２０ａはロックされた状態となっている。
【００７５】
一方、このときも、リミットスイッチ２７１の出力から報知系２８０および出力系２９０へ駆動エアが供給されるので、他の基板処理室２０ｂ，２０ｃのロックの解除が禁止された状態および表示灯２８１が点灯した状態は継続される。
【００７６】
○押しボタン再押下（図１７）；
基板処理室２０ａの引き出し完了後、オペレータが再び押しボタン２６１を押下すると、先の押下時（図１４）と同様に、供給路Ｌ１を経由してシリンダ２２１ａへ駆動エアが供給され、シリンダロッド２２３が上昇する。これにより、基板処理室２０ａのロックが解除（押し戻し制限の解除）される。
【００７７】
さらに、先の押下時（図１４）と同様に、シリンダ２２１ａへの駆動エアの供給が開始された後に、押しボタン２６１の押下が解除されても、ロックが解除された状態は維持される。このため、オペレータは、基板処理室２０ａの押し戻し作業時に押しボタン２６１を押下し続ける必要はない。
【００７８】
一方、このときも、リミットスイッチ２７１の出力から報知系２８０および出力系２９０への駆動エアが供給されるので、他の基板処理室２０ｂ，２０ｃのロックの解除が禁止された状態および表示灯２８１が点灯した状態は継続される。
【００７９】
○基板処理室の押し戻し（図１５）；
押しボタン２６１の再押下によりロックが解除された状態で、基板処理室２０ａを引き出し位置から押し戻すと、リミットスイッチ２７２が非作動状態となり、エア供給源ＡＳからロック解除禁止バルブ２５２のアクチュエータ部２５２ａへ駆動エアが供給される。これにより、ロック解除禁止バルブ２５２のバルブ本体部２５２ｂが閉鎖状態となるので、シリンダ２２１ａへの駆動エアの供給が絶たれて、シリンダロッド２２３は下降する。さらに、供給制御系２５０の出力からシャトルバルブ２６２を経由したロック解除バルブ２５１のアクチュエータ部２５１ａへの駆動エアの供給も絶たれるので、ロック解除バルブ２５１のバルブ本体部２５１ｂも閉鎖状態となる。
【００８０】
一方、このとき、リミットスイッチ２７１の出力から報知系２８０および出力系２９０への駆動エアが供給されるので、他の基板処理室２０ｂ，２０ｃのロックの解除が禁止された状態および表示灯２８１が点灯した状態は継続される。
【００８１】
○基板処理室の押し戻し完了；
基板処理室２０ａの押し戻しが完了し、基板処理室２０ａが戻り位置に到達すると、リミットスイッチ２７１が作動して、エア供給源ＡＳからロック解除禁止バルブ２５２のアクチュエータ部２５２ａへの駆動エアの供給が絶たれる。これにより、ロックの解除の禁止は行われていない状態となるが、ロック解除バルブ２５１のバルブ本体部２５１ａは閉鎖状態となっているので、シリンダ２２１ａへの駆動エアの供給は行われず、ロックの解除は行われない。
【００８２】
一方、このとき、リミットスイッチ２７１の出力から報知系２８０および出力系２９０への駆動エアの供給も絶たれるので、表示灯２８１は消灯し、他の基板処理室２０ｂ，２０ｃのロックの解除は可能となる。
【００８３】
○他の基板処理室が引き出された場合（図１８）;
他の基板処理室２０ｂまたは２０ｃ（ここでは、基板処理室２０ｃとする）が筐体１１から引き出されると、ロック解除禁止信号入力(IN1)からシャトルバルブ２７４，２７３を経由してロック解除禁止バルブ２５２のアクチュエータ部２５２ａへ駆動エアが供給され、ロック解除禁止バルブ２５２のバルブ本体部２５２ｂが閉鎖状態となる。このため、この状態で押しボタン２６１の押下を行ってロック解除バルブ２５１のバルブ本体部２５１ｂを開放状態としても、シリンダ２１１ｂへ駆動エアは供給されず、基板処理室２０ａのロックは解除されない。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】基板処理装置１Ａ，１Ｂの全体構成を示す平面図である。
【図２】基板処理装置１Ａの全体構成を示す側面図である。
【図３】基板処理装置１Ａの基板処理室２０ｂが搬送路２の方向に引き出された状態を示す平面図である。
【図４】基板処理装置１Ａの基板処理室２０ｂが搬送路２の方向に引き出された状態を示す側面図である。
【図５】棚板１１２ａに取り付けられた基板処理室２０ａを示す斜視図である。
【図６】基板処理室２０ａに固設されたシリンダ２２１ａの近傍を拡大して示す側面図である。
【図７】基板処理室２０ａに固設されたシリンダ２２１ａの近傍を拡大して示す平面図である。
【図８】蓋２０２がロックされた状態の側面図および平面図である。
【図９】蓋２０２のロックが解除された状態の側面図および平面図である。
【図１０】スライドアシスト機構３０ａを示す側面図である。
【図１１】基板処理室２０ａの全体が筐体１１から引き出された状態を示す図である。
【図１２】インターロック機構ＩＬの全体回路を示す図である。
【図１３】制御回路２４０ａの構成を示す図である。
【図１４】制御回路２４０ａにおけるエアの流通状態を示す図である。
【図１５】制御回路２４０ａにおけるエアの流通状態を示す図である。
【図１６】制御回路２４０ａにおけるエアの流通状態を示す図である。
【図１７】制御回路２４０ａにおけるエアの流通状態を示す図である。
【図１８】制御回路２４０ａにおけるエアの流通状態を示す図である。
【符号の説明】
【００８５】
１Ａ，１Ｂ  基板処理装置
１１  筐体
２０ａ〜２０ｃ  基板処理室
２１ａ〜２１ｃ  スライド機構
２２１ａ  エアシリンダ
２２５，２２６  ストッパブロック
２４１  制御回路本体部
２７１，２７２，２８２  リミットスイッチ
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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