(57)【要約】【課題】本発明はリソグラフィ装置、リソグラフィ装置を制御する制御システム、リソグラフィ装置を制御する方法、基板ハンドラ、複数の基板を取り扱う方法、基板取り扱い装置、およびデバイス製造方法を提供する【解決手段】本発明は、基板テーブル上の複数の個々の露光可能位置で複数の基板を保持するように構築され、配置構成された基板テーブルと、パターン形成した放射線ビームを露光可能な位置で複数の基板の目標部分に投影するように構築され、配置構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置に関する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置であって、
基板テーブル上の複数の個々に露光可能な位置で複数の基板を保持するように構築され、配置構成された基板テーブルと、
パターン形成した放射線ビームを露光可能な位置で複数の基板の個々の目標部分に投影するように構築され、配置構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置。
【請求項２】
複数の位置が異なる、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
投影システムが各基板それぞれに投影した像を感知するために、基板テーブルに少なくとも１つの像センサを設ける、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
各基板それぞれの位置合わせを感知するために、基板テーブルに少なくとも１つの位置合わせセンサを設ける、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
各基板それぞれに投影されるパターン形成放射線ビームの強度を測定するために、基板テーブルに少なくとも１つの強度測定要素を設ける、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
基板テーブルに、各基板それぞれを持ち上げるように配置構成された複数の組の基板リフトピンを設ける、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
各基板を他とは独立して持ち上げるために、複数の組の基板リフトピンを配置構成する、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
基板テーブルに、各基板それぞれを締め付け可能であるように配置構成された複数の組のクランプを設ける、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
各基板を他とは独立して締め付けるために、複数の組のクランプを配置構成する、請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
パターニングデバイスからのパターンを複数の基板に投影するように配置構成されたリソグラフィ投影装置であって、複数の基板が、複数の露光位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された１つの基板テーブル上に装着されるリソグラフィ装置。
【請求項１１】
パターニングデバイスからのパターンを複数の基板に転写するように配置構成されたリソグラフィ装置であって、複数の基板が、複数の露光可能位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された基板テーブルに配置されるリソグラフィ装置。
【請求項１２】
リソグラフィ装置を制御する制御システムであって、
基板テーブル上の複数の露光位置それぞれで保持された複数の基板に関するデータを作成するデータ作成ユニットと、
基板テーブル上に保持された複数の基板に関するデータを維持するデータ維持ユニットと、
基板テーブル上に保持された複数の基板の高さを測定する基板高さ測定ユニットと、
基板テーブル上に保持された複数の基板それぞれに関連する位置合わせグリッド、または露光データ、または識別データ、またはその任意の組み合わせを記憶するデータ記憶ユニットとを有する制御システム。
【請求項１３】
さらに、基板テーブル上に保持された複数の基板に対応するような構成である設定シーケンスを実行するように配置構成された設定ユニットを有する、請求項１２に記載の制御システム。
【請求項１４】
さらに、基板テーブル上に保持された複数の基板で調節試験を実行する調節試験ユニットを有する、請求項１２に記載の制御システム。
【請求項１５】
リソグラフィ装置を制御する方法であって、
基板テーブル上の複数の露光可能位置それぞれに保持された複数の基板に関するデータを作成することと、
基板テーブル上に保持された複数の基板に関するデータを維持することと、
基板テーブル上に保持された複数の基板の高さを測定することと、
基板テーブル上に保持された複数の基板それぞれに関連する位置合わせグリッド、または露光データ、または識別データ、またはその任意の組み合わせを記憶することと、
記憶したデータに基づいてリソグラフィ装置を制御することとを含む方法。
【請求項１６】
リソグラフィ装置内で複数の基板を取り扱う基板ハンドラであって、
第一基板を把持する第一把持器と、
第二基板を把持する第二把持器と、
第一基板が基板テーブル上の第一位置に配置され、第二基板が基板テーブル上の台に位置に配置されるように第一および第二把持器を制御する制御ユニットとを含み、第一および第二基板が、基板テーブル上の第一および第二位置それぞれで露光可能である基板ハンドラ。
【請求項１７】
リソグラフィ装置内で複数の基板を取り扱う方法であって、
基板ホルダの第一把持器で第一基板を把持することと、
基板ホルダの第二把持器で第二基板を把持することと、
第一基板が基板テーブル上の第一露光可能位置で解放され、第二基板が基板テーブル上の第二の露光可能位置で解放されるように第一および第二把持器を制御することとを含む方法。
【請求項１８】
リソグラフィ装置で使用するために複数の基板を処理する基板取り扱い装置であって、
リソグラフィ装置に供給される複数の基板を被覆する第一処理トラックと、
複数の基板がリソグラフィ装置から出るとそれを現像する異なる第二処理トラックとを有し、
第一および第二処理トラックが、動作可能な状態でリソグラフィ装置と適合するように配置構成される基板取り扱い装置。
【請求項１９】
第一処理トラックが、複数の基板をリソグラフィ装置に入力するように配置構成された入力トラックである、請求項１８に記載の基板取り扱い装置。
【請求項２０】
第二処理トラックが、複数の基板をリソグラフィ装置から出力するように配置構成された出力トラックである、請求項１８に記載の基板取り扱い装置。
【請求項２１】
リソグラフィ装置が、第一処理トラックに関連する入力ロボット、および出力トラックに関連する出力トラックを有し、入力ロボットは、第一処理トラックから複数の基板を受け取って、基板テーブルに複数の基板を配置し、出力ロボットは、基板テーブルからの複数の基板を第二処理トラックに供給する、請求項１８に記載の基板取り扱い装置で使用するリソグラフィ装置。
【請求項２２】
入力ロボットが、第一基板を把持する第一把持器、第二基板を把持する第二把持器、および第一基板が基板テーブル上の第一位置に配置され、第二基板が基板テーブル上の第二位置に配置されるように第一および第二把持器を制御する制御ユニットを有する基板ハンドラを有し、第一および第二基板が、第一および第二位置それぞれで露光可能である、請求項２１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２３】
取り扱い装置が第一処理トラックおよび第二処理トラックを有し、第一処理トラックは、リソグラフィ装置に供給される第一基板を被覆して、第一基板がリソグラフィ装置を出ると、それを現像するように配置構成され、第二処理トラックは、リソグラフィ装置に供給される第二基板を被覆し、第二基板がリソグラフィ装置を出ると、それを現像するように配置構成され、第一および第二処理トラックは、リソグラフィ装置と動作可能な状態で適合するように配置構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置で使用するために第一基板および第二基板を処理する基板取り扱い装置。
【請求項２４】
取り扱い装置が、
第一処理トラックを有し、第一処理トラックは、リソグラフィ装置に供給される複数の第一基板を塗布し、複数の第一基板がリソグラフィ装置を出ると、これを現像するように配置構成され、さらに、
第二処理トラックを有し、第二処理トラックは、リソグラフィ装置に供給される複数の第二基板を被覆し、複数の第二基板がリソグラフィ装置を出ると、これを現像するように配置構成され、第一および第二処理トラックは、リソグラフィ装置と動作可能な状態で適合するように配置構成され、さらに、
複数の第一および第二基板が、リソグラフィ装置内で所定の順序で処理可能であり、第一および第二処理トラックへとそれぞれ復帰可能であるように、第一および第二処理トラックとリソグラフィ装置の境界で複数の第一および第二基板を緩衝するバッファを有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置で使用するために複数の第一基板および複数の第二基板を処理する基板取り扱い装置。
【請求項２５】
基板ハンドラが、複数の基板を搬送する搬送器と、複数の基板を基板テーブル上の複数の個々の露光位置へと同時にロードするローダとを有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置で使用する基板ハンドラ。
【請求項２６】
基板ハンドラが、複数の基板を複数の個々の露光位置から同時にアンロードするアンローダと、複数の基板を受け取る搬送器とを有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置で使用する基板ハンドラ。
【請求項２７】
基板取り扱い装置が、複数の基板を基板搬送器からリソグラフィ装置へと直接ロードするローダを有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置で使用する複数の基板を処理する基板取り扱い装置。
【請求項２８】
基板テーブル上の複数の位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された基板テーブル上の保持された複数の基板に、パターン形成した放射線のビームを投影することを含むデバイス製造方法。
【請求項２９】
基板テーブル上の複数の位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された基板テーブル上に保持された複数の基板に、パターニングデバイスからのパターンを転写することを含むデバイス製造方法。
【請求項３０】
処理装置によって読み取り可能なプログラム記憶デバイスであって、デバイスは、リソグラフィ装置を制御する方法を実行するためにプロセッサが実行可能である命令のプログラムを提供し、前記方法が、
基板テーブル上の複数の露光可能位置それぞれで保持された複数の基板に関するデータを作成することと、
基板テーブル上に保持された複数の基板に関するデータを維持することと、
基板テーブル上に保持された複数の基板の高さを測定することと、
基板テーブル上に保持された複数の基板それぞれに関連する位置合わせグリッド、露光データ、および識別データのうち少なくとも１つを記憶することと、記憶したデータに基づいてリソグラフィ装置を制御することとを含むプログラム記憶デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はリソグラフィ装置、リソグラフィ装置を制御する制御システム、リソグラフィ装置を制御する方法、基板ハンドラ、複数の基板を取り扱う方法、基板取り扱い装置、およびデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板の目標部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造において使用可能である。その場合、代替的にマスクまたはレチクルと呼ばれるパターニングデバイスは、ＩＣの個々の層に形成すべき回路パターンの生成に使用することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェハ）上の目標部分（例えば１つあるいはそれ以上のダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は、通常、基板上に設けた放射線感光原料（レジスト）の層への描像を介する。一般的に、１枚の基板は、順次照射される近接目標部分のネットワークを含んでいる。既知のリソグラフィ装置は、パターン全体を目標部分に１回露光することによって各目標部分が照射される、いわゆるステッパと、所定の基準方向（「走査」方向）にパターンを放射線ビームで走査し、これと同時に基板をこの方向と平行に、あるいは反平行に走査することにより、各目標部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板に刻印することによって、パターンをパターニングデバイスから基板へ転写することも可能である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の開示によると、基板テーブル上の複数の個々に露光可能な位置で複数の基板を保持するように構築され、配置構成された基板テーブルと、パターン形成した放射線ビームを露光可能な位置で複数の基板の個々の目標部分に投影するように構築され、配置構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置が提供される。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の実施形態によると、パターンをパターニングデバイスから複数の基板へと投影するように配置構成されたリソグラフィ投影装置が提供される。複数の基板は、複数の露光可能位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された１つの基板テーブル上に装着される。
【０００５】
本発明の実施形態によると、パターンをパターニングデバイスから複数の基板へと転写するように配置構成されたリソグラフィ装置が提供される。複数の基板は、複数の露光可能位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された基板テーブル上に配置される。
【０００６】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置を制御する制御システムが提供される。制御システムは、基板テーブル上の複数の露光可能位置それぞれで保持された複数の基板に関するデータを作成するデータ作成ユニット、基板テーブル上に保持された複数の基板に関するデータを維持するデータ維持ユニット、基板テーブル上の保持された複数の基板の高さを測定する基板高さ測定ユニット、および基板テーブル上の保持された複数の基板それぞれに関連する位置合わせグリッド、または露光データ、または識別データ、またはその任意の組み合わせを記憶するデータ記憶ユニットを含む。
【０００７】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置を制御する方法が提供される。方法は、基板テーブル上の複数の露光可能位置それぞれに保持された複数の基板に関するデータを作成することと、基板テーブル上に保持された複数の基板に関するデータを維持することと、基板テーブル上に保持された複数の基板の高さを測定することと、基板テーブル上に保持された複数の基板それぞれに関連する位置合わせグリッド、または露光データ、または識別データ、またはその任意の組み合わせを記憶することと、記憶したデータに基づいてリソグラフィ装置を制御することとを含む。
【０００８】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置内で複数の基板を取り扱う基板ハンドラが提供される。基板ハンドラは、第一基板を把持する第一把持器、第二基板を把持する第二把持器、、および第一基板が基板テーブル上の第一位置に配置され、第二基板が基板テーブル上の台に位置に配置されるように第一および第二把持器を制御する制御ユニットを含む。第一および第二基板は、基板テーブル上の第一および第二位置それぞれで露光可能である。
【０００９】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置内で複数の基板を取り扱う方法が提供される。方法は、第一把持器で第一基板を把持することと、第二把持器で第二基板を把持することと、第一基板が基板テーブル上の第一露光可能位置で解放され、第二基板が基板テーブル上の台に露光可能位置で解放されるように第一および第二把持器を制御することとを含む。
【００１０】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置で使用するために複数の基板を処理する基板取り扱い装置が提供される。取り扱い装置は、リソグラフィ装置に供給される複数の基板を被覆する第一処理トラック、および複数の基板がリソグラフィ装置から出るとそれを現像する異なる第二処理トラックを含む。第一および第二処理トラックは、動作可能な状態でリソグラフィ装置と適合するように配置構成される。
【００１１】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置で使用するために第一基板および第二基板を処理する基板取り扱い装置が提供される。リソグラフィ装置は、基板テーブル上の複数の露光可能位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された基板テーブル、およびパターン形成した放射線ビームを露光可能位置で複数の基板の目標部分に投影するように構成された投影システムを含む。取り扱い装置は、第一処理トラックおよび第二処理トラックを含む。第一処理トラックは、リソグラフィ装置に供給される第一基板を被覆し、第一基板がリソグラフィ装置から出るとこれを現像するように配置構成され、第二処理トラックは、リソグラフィ装置に供給される第二基板を被覆し、第二基板がリソグラフィ装置から出るとこれを現像するように配置構成される。第一および第二処理トラックは、動作可能な状態でリソグラフィ装置と適合するように配置構成される。
【００１２】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置内で使用する基板ハンドラが提供される。リソグラフィ装置は、基板テーブル上の複数の露光可能位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された基板テーブル、およびパターン形成した放射線ビームを露光可能位置で複数の基板の目標部分に投影するように構成された投影システムを含む。基板ハンドラは、複数の基板を搬送する搬送器、および複数の基板を基板テーブル上の複数の個々の露光位置へと同時にロードするローダを含む。
【００１３】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置内で使用する基板ハンドラが提供される。リソグラフィ装置は、基板テーブル上の複数の露光可能位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された基板テーブル、およびパターン形成した放射線ビームを露光可能位置で複数の基板の目標部分に投影するように構成された投影システムを含む。基板ハンドラは、複数の基板テーブルを基板テーブル上の複数の個々の露光位置から同時にアンロードするアンローダ、および複数の基板を受け取る搬送器を含む。
【００１４】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置で使用するために複数の基板を処理する基板取り扱い装置が提供される。リソグラフィ装置は、基板テーブル上の複数の露光可能位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された基板テーブル、およびパターン形成した放射線ビームを露光可能位置で複数の基板の目標部分に投影するように構成された投影システムを含む。基板取り扱い装置は、複数の基板をリソグラフィ装置へと基板搬送器から直接装填するローダを含む。
【００１５】
本発明の実施形態によると、基板テーブル上の複数の位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された基板テーブル上に保持された複数の基板に、パターン形成した放射線ビームを投影することを含む。
【００１６】
本発明の実施形態によると、基板テーブル上の複数の位置それぞれで複数の基板を保持するように構築された基板テーブル上の保持された複数の基板にパターニングデバイスからのパターンを転写することを含むデバイス製造方法が提供される。
【００１７】
本発明の実施形態によると、処理装置によって読み取り可能なプログラム記憶デバイスが提供される。デバイスは、リソグラフィ装置を制御する方法を実行するためにプロセッサが実行可能である命令のプログラムを提供する。方法は、基板テーブル上の複数の露光可能位置それぞれで保持された複数の基板に関するデータを作成することと、基板テーブル上に保持された複数の基板に関するデータを維持することと、基板テーブル上に保持された複数の基板の高さを測定することと、基板テーブル上に保持された複数の基板それぞれに関連する位置合わせグリッド、露光データ、および識別データのうち少なくとも１つを記憶することと、記憶したデータに基づいてリソグラフィ装置を制御することとを含む。
【００１８】
次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照に、例示の方法においてのみ説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示すものとする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
図１は、本発明の１つの実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、放射線ビームＢ（例えばＵＶ放射線、ＤＵＶ、ＥＵＶまたはｘ線放射線）を調整するように構成された照明システム（照明装置）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持し、かつ、特定のパラメータに従って正確にパターニングデバイスの位置決めを行うように構成された第一位置決め装置ＰＭに連結を行った支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、基板（例えばレジストで被覆したウェハ）Ｗを支持し、かつ、特定のパラメータに従って正確に基板の位置決めを行うように構成された第二位置決め装置ＰＷに連結を行った基板テーブル（例えばウェハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射線ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、１つあるいはそれ以上のダイから成る）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折性投影レンズシステム）ＰＳとを含む。
【００２０】
照明システムＩＬは、放射線の誘導、成形、あるいは制御を行うために、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気、または他のタイプの光学構成要素、またはその組み合わせなどの様々なタイプの光学構成要素を含むことができる。
【００２１】
支持構造ＭＴは、パターニングデバイスＭＡを支持、つまりその重量を担持する。これは、パターニングデバイスＭＡの方向、リソグラフィ装置の設計、および他の条件、例えばパターニングデバイスＭＡが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスＭＡを保持する。支持構造ＭＴは、パターニングデバイスＭＡを保持するために、機械的、真空、静電気、または他の締め付け技術を使用することができる。支持構造ＭＴは、例えばフレームもしくはテーブルでよく、これは必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。支持構造ＭＴは、パターニングデバイスＭＡを例えば投影システムＰＳなどに対する所望の位置に確保することができる。本明細書において使用する「レチクル」または「マスク」なる用語は、より一般的な「パターニングデバイス」なる用途と同義と見なすことができる。
【００２２】
本明細書において使用する「パターニングデバイス」なる用語は、基板の目標部分にパターンを生成するように、放射線ビームの断面にパターンを与えるために使用し得るデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。放射線ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが移相形態またはいわゆるアシスト形態を含む場合、基板の目標部分における所望のパターンに正確に対応しないことがあることに留意されたい。一般的に、放射線ビームに与えられるパターンは、集積回路などの目標部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。
【００２３】
パターニングデバイスは透過性または反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、様々なハイブリッドマスクタイプのみならず、バイナリマスク、レベンソンマスク、減衰位相シフトマスクといったようなマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例は小さなミラーのマトリクス配列を用いる。そのミラーの各々は、異なる方向に入射の放射線ビームを反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射線ビームにパターンを与える。
【００２４】
本明細書において使用する「投影システム」なる用語は、例えば使用する露光放射線、または浸漬流体の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システムおよび静電気光学システムを含むさまざまなタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」なる用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」なる用語と同義と見なされる。
【００２５】
ここで示しているように、本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射性マスクを使用する）。
【００２６】
リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）あるいはそれ以上の基板テーブル（および／または２つもしくはそれ以上のマスクテーブル）を有するタイプのものである。このような「多段」機械においては、追加のテーブルが並列して使用される。もしくは、１つ以上の他のテーブルが露光に使用されている間に予備工程が１つ以上のテーブルにて実行される。
【００２７】
リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するよう、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆うタイプでもよい。浸漬液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用してもよい。浸漬技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野でよく知られている。本明細書で使用する「浸漬」なる用語は、基板などの構造を液体に浸さなければいけないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体を配置するというだけの意味である。
【００２８】
図１を参照すると、照明装置ＩＬは放射線ソースＳＯから放射線ビームを受け取る。ソースとリソグラフィ装置とは、例えばソースがエキシマレーザである場合に、別個の存在でよい。このような場合、ソースはリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射線ビームは、例えば適切な集光ミラーおよび／またはビーム拡大器などを含むビーム送出システムＢＤの助けにより、ソースＳＯから照明装置ＩＬへと渡される。他の場合、例えばソースが水銀ランプの場合は、ソースが装置の一体部品でもよい。ソースＳＯおよび照明装置ＩＬは、必要に応じてビーム送出システムＢＤとともに放射線システムと呼ぶことができる。
【００２９】
照明装置ＩＬは、放射線ビームの角度強度分布を調節するように構成された調節装置ＡＤを含んでよい。一般的に、照明装置の瞳面における強度分布の外部および／あるいは内部放射範囲（一般的にそれぞれ、σ−ｏｕｔｅｒおよびσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を調節することができる。また、照明装置ＩＬは、積分器ＩＮおよびコンデンサＣＯのような他の様々な構成要素を含む。照明装置は、その断面に亘り所望する均一性と強度分布とを有するように、放射線ビームの調整に使用することができる。
【００３０】
放射線ビームＢは、支持構造（例えばマスクテーブルＭＴ）上に保持されているパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン形成される。放射線ビームＢはマスクＭＡを通り抜けて、基板Ｗの目標部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第二位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量性センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴは、例えば放射線ビームＢの経路における異なる目標部分Ｃに位置を合わせるために正確に運動可能である。同様に、第一位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示的に図示せず）を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、あるいは走査運動の間に、放射線ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般的に、マスクテーブルＭＴの運動は、第一位置決め装置ＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）にて行われる。同様に、基板テーブルＷＴの運動は、第二位置決め装置ＰＷの部分を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴはショートストロークアクチュエータに連結されるだけであるか、あるいは固定される。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用の目標位置を占有するが、目標部分の間の空間に配置してもよい（スクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる）。同様に、マスクＭＡに複数のダイを設ける状況では、マスクアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００３１】
ここに表した装置は以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
１．ステップモードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に保たれている。そして、放射線ビームに与えたパターン全体が１回で目標部分Ｃに投影される（すなわち１回の静止露光）。次に基板テーブルＷＴがＸ方向および／あるいはＹ方向にシフトされ、異なる目標部分Ｃが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、１回の静止露光で描像される目標部分Ｃのサイズを制限する。
２．走査モードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを同期走査する一方、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Ｃに投影する（つまり１回の動的露光）。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＬの拡大（縮小）および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、１回の動的露光で目標部分の（非走査方向における）幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の（走査方向における）高さを決定する。
３．別のモードでは、マスクテーブルＭＴが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターニングデバイスを保持し、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Ｃに投影する間に、基板テーブルＷＴが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルＷＴを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
【００３２】
上述した使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードも使用することができる。
【００３３】
図２は、本発明の実施形態による基板テーブルＷＴを示す。基板テーブルＷＴは基板（またはウェハ）ステージＷＳの一部を形成する。ウェハステージＷＳはブロック、例えば花崗岩ブロックＢを含む。ブロックＢはチャックＣを支持し、これが基板テーブルＷＴを支持する。本発明の実施形態によると、基板テーブルＷＴは、基板テーブルＷＴ上の複数の個々の位置１０、２０で複数の基板を保持するように構築される。複数の位置はそれぞれ、投影システムＰＳで露光可能である。露光可能位置とは、投影システムＰＳがパターン形成した放射線ビームを投影できる位置である。通常、この複数の位置は相互に異なる。さらに、投影システムＰＳは、基板テーブルＷＴ上の位置１０、２０と一致する複数の基板の目標部分にパターン形成した放射線ビームを投影するように構成される。この方法で、例えば２つの２００ｍｍの基板を、３００ｍｍのリソグラフィ装置で使用するように構築された基板テーブルＷＴ上で露光するように配置することができる。基板テーブルＷＴ上の個々の位置１０、２０に複数の基板を配置することの利点は、２００ｍｍの基板のスループットが、３００ｍｍの基板を処理するように構築されたリソグラフィ装置の従来の３００ｍｍの基板に対して２倍に近づくことである。例えばリソグラフィ装置などのスキャナのスループットは、様々な構成要素に依存する。その中で、位置合わせおよび露光時間は、カスタマのためにスキャナが実行するタスク、さらに機械工学的設計に依存する。他の構成要素は、スワップ位置から露光位置へと移動するウェハのスワップ、およびデュアルステージの装置では露光位置と測定位置間のチャックＣのスワップなど、機械設計に依存する。２００ｍｍ基板２個の場合、面積は３００ｍｍ基板１個の約８９％であり、したがって２００ｍｍ基板２個の露光時間は、３００ｍｍ基板１個のそれと同様である。２００ｍｍ基板上のアライメントマークの数は、３００ｍｍ基板のそれの約半分であるため、２００ｍｍ基板のアライメント時間は、３００ｍｍ基板とほぼ同じである。２つのウェハを一緒にロードし、アンロードする能力があるので、２００ｍｍ基板２個の合計処理時間は、３００ｍｍ基板１個のそれと同様である。その結果、２００ｍｍ基板のスループットは、３００ｍｍ基板のスループットの２倍に近づくことができる。基板テーブルＷＴ上に２００ｍｍ基板が１個ある場合との比較で、オーバヘッド時間は３００ｍｍウェハのオーバヘッド時間と常に同じであるが、位置合わせ時間および露光時間のような可変時間は削減することができる。その結果、基板テーブル上に２００ｍｍウェハが１枚ある場合の処理時間は、３００ｍｍウェハ１枚の処理時間の半分を超えることがある。
【００３４】
スループット、したがって主に３００ｍｍの基板用に設計されたスキャナのカスタマ価値は、２００ｍｍの基板で使用した場合に、システム設計を大きく変化させる必要なく、その後に３００ｍｍを使用するようにツールを再改修する可能性を残しながら、大幅に改善できることが判明した。したがって、本発明は、スループットを向上させるという目的に対して効率的かつ汎用性がある解決策を提供することができる。上記の実施形態は、２００ｍｍおよび３００ｍｍの基板に関して説明してきたが、本発明はこの態様に制限されず、基板テーブルＷＴ上の複数の露光可能位置それぞれに配置された複数の基板のいずれにも用途を有することができる。例えば、３インチの基板４枚を８インチの基板テーブルに配置することができ、６インチのウェハ４枚を１２インチの基板テーブルＷＴに配置することができ、あるいは実際に、任意の数の基板を、複数基板処理用に特に設計された基板テーブルＷＴに配置することができる。１つの実施形態では、パターン形成した放射線ビームを１回の露光で複数の基板の目標部分に投影するように、投影システムＰＳを配置構成する。
【００３５】
各基板Ｗに１組のリフトピン１２、２２を設け、各基板Ｗに１組のクランプ１４、２４を設ける。特に、基板テーブルＷＴには、投影システムＰＳによって各基板Ｗにそれぞれ投影される像を感知するために、少なくとも１つの像センサ１６、２６を設ける。さらに、基板テーブルＷＴには、各基板の位置合わせをそれぞれ感知するために少なくとも１つのアラインメントセンサ１６、２６を設ける。さらに、基板テーブルＷＴには、各基板Ｗにそれぞれ投影されたパターン形成放射線ビームの強度を測定するために、少なくとも１つの強度測定要素１６、２６を設ける。さらに、基板Ｗを受け取るように配置構成された各位置１０、２０には、各基板をそれぞれ持ち上げるように配置構成された複数の組の基板リフトピン１２、２２を設ける。さらに、基板Ｗを受け取るように配置構成された各位置１０、２０には、各基板をそれぞれ締め付けられるように配置構成された複数の組のクランプ１４、２４を設ける。基板リフトピンおよびクランプの複数の組は、特に、それぞれの基板を独立して持ち上げたり、締め付けるように、配置構成する。
【００３６】
従来のリフトピンおよびクランプを使用してもよいが、本発明の実施形態によるその配置構成および動作は、従来通りではない。特に、リフトピンおよびクランプの動作は従来通りではない。従来の装置では、基板テーブルＷＴ内のリフトピンおよびクランプは、１個の基板を受け取るように配置構成され、制御されるからである。
【００３７】
本発明の１つの実施形態では、リソグラフィ投影装置は、パターニングデバイスからのパターンを複数の基板に投影するように配置構成され、ここで複数の基板は、複数の基板を保持するように構築された１つの基板テーブルに装着される。したがって、本発明は光学リソグラフィに適用可能である。しかし、本発明はこの態様に制限されない。さらなる実施形態では、パターニングデバイスからのパターンを複数の基板に転写するように配置構成されたリソグラフィ装置が提供され、ここで複数の基板は、複数の基板を保持するように構築された基板テーブル上に配置される。したがって、本発明はインプリントリソグラフィ装置への用途を有する。
【００３８】
図３（ａ）は、本発明の実施形態による基板テーブルＷＴの平面図を示し、図３（ｂ）は、従来の基板テーブルＷＴ’の平面図を比較により示す。特に、図３ａは、例えば基板テーブルＷＴ上の個々の位置１０、２０に配置された２つの８インチ基板を、図３ｂの基板テーブルＷＴ’上の１つの位置３０に配置された１つの１２インチ基板と比較して示す。複数の基板を受け取るように配置構成された基板テーブルＷＴに関して図３ａで示した様々な像、センサ、アラインメントセンサ、および強度測定デバイス１６、２６は、１つの基板のみを受け取るように配置構成された基板テーブルＷＴ’に関して図３ｂで示したセンサ３６に対して位置決めされていることが分かる。センサ１６、２６を例えば基板テーブルＷＴの対向する隅部などの配置構成することによって、関連する方向の関連する量を効果的に感知できることが判明している。さらに、上記で検討したように、各位置１０、２０で、当技術分野でＥピンとも呼ばれるリフトピンの組、およびクランプの組を設けることができる。クランプは、真空または他の要素、例えば静電要素を含んでよい。
【００３９】
図４は、本発明の実施形態により図２の線ＩＶ−ＩＶに沿った基板の断面図および基板ハンドラＷＨを示す。本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置内で複数の基板Ｗを取り扱う基板ハンドラＷＨを設ける。基板ハンドラＷＨは、第一基板Ｗ１を把持する第一把持器４０、第二基板Ｗ２を把持する第二把持器４２、および第一基板Ｗ１が基板テーブルＷＴ上の第一位置１０に配置され、第二基板Ｗ２が基板テーブルＷＴ上の台に位置２０に配置されるように、第一および第二把持器４０、４２を制御する制御ユニット４４を含む。この方法で、例えば図３ｂで示すような１つの基板を保持する基板テーブルＷＴに対して、２つの基板Ｗ１およびＷ２の同様の基板スワップ時間を達成することができる。特に、図４は、本発明の実施形態による基板ローディングシーケンスを示す。基板ハンドラＷＨは、第一および第二把持器４０、４２を含む。第一把持器４０は第一基板Ｗ１を把持する。第二把持器４２は第二基板４２を把持する。第一および第二基板は、それぞれ第一および第二位置１０、２０へ向けて運ばれる。ローディングシーケンス中に、制御ユニット４４は、基板ハンドラＷＨが第一位置１０に隣接して配置されるように、これを制御する。次に、制御ユニット４４は、第一位置１０で第一基板Ｗ１を解放するように第一把持器４０を制御する。所定の位置に着いたら、第一基板Ｗ１はリフトピン１２上で第一位置１０に支持される。その後、制御ユニット４４は、基板ハンドラＷＨが第二位置２０に隣接して配置されるように、これを制御する。次に、制御ユニット４４は、第二位置２０で第二基板Ｗ２を解放するように第二把持器４２を制御する。所定の位置に着いたら、第二基板Ｗ２はリフトピン２２上で第二位置２０に支持される。この方法で、１つの基板しかロードしない従来通りの基板ハンドラに対してロード時間を大幅に増加させずに、基板Ｗ１、Ｗ２を効率的にロードすることができる。特に、基板Ｗ１、Ｗ２は、同じロボットに装着された２つの別個の把持器上で持ち上げ、制御ユニット４４がロボットを制御することができる。図４では、中心の像で、ウェハハンドラＷＨが、基板を重ねて搬送するように配置構成された長い把持器４０、４２を有する。右手の像では、長い把持器４０が、第二ウェハを付着できるように道を空けるために、上方に折り返すように配置構成される。実施形態では、各基板に複数、好ましくは３つの把持器を設けることができる。上から見た場合、つまり平面図でＺ軸に沿って見た場合、３つの把持器が相互に対して１２０°で配置構成されるように見える。
【００４０】
さらなる実施形態では、リソグラフィ装置内で複数の基板Ｗを取り扱い方法が提供される。方法は、第一および第二把持器４０、４２を有する基板ハンドラＷＨ１を設けることと、第一把持器４０で第一基板Ｗ１を把持することと、第二把持器４２で第二基板Ｗ２を把持することと、第一基板Ｗ１が基板テーブルＷＴ上の第一位置１０で解放され、第二基板Ｗ２が基板テーブルＷＴ上の台に位置２０で解放されるように基板ハンドラＷＨ１を制御することとを含む。
【００４１】
図４は、本発明の態様による基板取り扱い構成の１つの実施形態を示しているだけであることが理解される。図４では、２つの基板を重ねて搬送し、基板テーブル上に順番にロード（またはアンロード）できることが分かる。代替実施形態では、２つの基板を並べて搬送し、両方の基板を基板テーブルから同時にロード、またはアンロードするように配置構成されたハンドラを設ける。
【００４２】
図５は、本発明の実施形態によるリソグラフィ装置ＬＡと動作可能な状態で関連する基板取り扱い装置の詳細を示す。本発明の１つの実施形態では、リソグラフィ装置内で使用するために複数の基板Ｗを処理する基板取り扱い装置が提供される。装置は、リソグラフィ装置に供給される複数の基板Ｗを被覆する第一処理トラック５０、および複数の基板Ｗがリソグラフィ装置を出ると、それを現像する異なる第二処理トラック５２を含む。第一および第二処理トラック５０、５２は、リソグラフィ装置ＬＡと動作可能な状態で関連するように配置構成される。特定の実施形態では、第一処理トラック５０は、複数の基板をリソグラフィ装置ＬＡに入力するように配置構成された入力トラックである。さらなる実施形態では、第二処理トラック５２は、リソグラフィ装置ＬＡから複数の基板Ｗを出力するように配置構成された出力トラックである。図５では、第一および第二処理トラック５０、５２は、リソグラフィ装置ＬＡと動作可能な状態で関連する。特に、図５は、リソグラフィ装置ＬＡの基板ロードおよびアンロード装置の詳細を示す。基板をロードし、アンロードするロードおよびアンロードシーケンスは、通常は以下の通りである。つまり、トラック５０の出力ロボット（図示せず）が、プレアライナ５１に２つの基板を配置する。プレアライナ５１は事前位置合わせ機能を提供する。上述したウェハハンドラＷＨによって実現される出力ロボット５６が、基板テーブル（図示せず）から基板を取り出し、これを出力台５８に配置するように配置構成される。さらに、入力ロボット５４は、プレアライナから基板を取り出し、基板を基板テーブル（図示せず）へと移送する。さらに、トラック５２の入力ロボットは、現像するためにウェハを出力台５８から取り出す。
【００４３】
従来の基板ロードおよびアンロードシステムとは対照的に、従来通りの１つのプレアライナではなく、２つのプレアライナ５１を設けると、リソグラフィ装置のスループットをさらに増加できることが判明している。事前位置決め時間は通常、基板処理時間の半分以上であることが判明している。図５には、基板に代替的な入力または出力経路を提供するように配置構成された搬送器ハンドラ５７も図示されている。これによって、トラックで処理する必要なく、リソグラフィスキャナへ基板を入力するか、そこから基板を出力できるようになる。例えば、このような基板は、収集した基板を試験するか、不合格にするために使用することができる。
【００４４】
図５は、システムの１つの実施形態しか示していないことが理解される。代替実施形態では、ロボット５４および５６を１つのロボットと置換してよい。さらに、複数の基板を一連の搬送器ハンドラに対してロードおよびアンロードすることができる。さらに、出力台を出力トラックに配置することができる。１つの実施形態では、リソグラフィ装置内で第一基板および第二基板を処理するために基板取り扱い装置が提供される。取り扱い装置は、第一処理トラック５０および第二処理トラック５２を含む。第一処理トラック５０は、リソグラフィ装置に供給される第一基板を被覆し、第一基板がリソグラフィ装置を出ると、これを現像するように配置構成され、第二処理トラック５２は、リソグラフィ装置に供給される第二基板を被覆し、第二基板がリソグラフィ装置を出ると、これを現像するように配置構成される。第一および第二処理トラック５０、５２は、リソグラフィ装置と動作可能な状態で適合するように配置構成される。この方法で、基板をリソグラフィ装置に提供する速度を上げることができる。代替実施形態では、リソグラフィ装置内で使用するために複数の第一基板および複数の第二基板を処理する基板取り扱い装置が提供される。取り扱い装置は、第一処理トラック５０および第二処理トラック５２を含む。第一処理トラック５０は、リソグラフィ装置に供給される複数の第一基板を被覆し、複数の第一基板がリソグラフィ装置を出ると、これを現像するように配置構成され、第二処理トラック５２は、リソグラフィ装置に供給される複数の第二基板を被覆し、複数の第二基板がリソグラフィ装置を出ると、これを現像するように配置構成される。第一および第二処理トラック５０、５２は、リソグラフィ装置と動作可能な状態で適合するように配置構成される。基板取り扱い装置はさらに、複数の第一および第二基板をリソグラフィ装置内で所定の順番にて処理可能にし、第一および第二処理トラック５０、５２それぞれへと返却可能であるように、第一および第二処理トラックとリソグラフィ装置の間の境界で複数の第一および第二基板を緩衝するバッファ６１を含む。所定の順番は、例えば基板をリソグラフィ装置へと第一および第二処理トラック５０、５２から交互にロードさせることでよい。第一および第二トラック５０、５２とリソグラフィ装置の境界にバッファ６１を設けると、基板をリソグラフィ装置に設ける際の融通性が向上する。
【００４５】
図６は、本発明の実施形態により、第一および第二処理トラック５０、５２と動作状態で関連するリソグラフィ装置ＬＡ、およびリソグラフィ装置ＬＡ、および第一および第二処理トラック５０、５２のうち少なくとも１つを制御する制御システム６０を示す。従来のトラック設計は、被覆ステーションと現像ステーションの両方に囲まれたロボットを含む。このような従来通りの配置構成では、トラックは１時間に最高で約１５０の基板のスループットが可能である。つまり被覆ステーションが１時間に１５０の基板を被覆し、現像ステーションが１時間に１５０の基板を現像する。したがって、１時間で、３００の基板がトラックを通って流れる。本発明の実施形態によると、上述したように２つのトラック５０、５２が提供される。第一トラック５０を、１つの被覆ステーションのみで設定し、第二トラック５２を１つの現像ステーションのみで設定してよい。この方法で、スループットをさらに挙げることができる。上記で検討した例を用いると、１時間に３００の基板というスループットを達成することができる。制御システム６０は、第一および第二トラック５０、５２およびリソグラフィ装置ＬＡのうち少なくとも１つを制御するように配置構成することができ、これは図６で示すように、上述した多段装置でよい。代替実施形態では、被覆および現像ステーションを含む第一処理トラックを提供し、被覆および現像ステーションを含む第二処理トラックを提供することができる。この特定の実施形態では、第一処理トラックは複数の第一基板を処理するように配置構成し、第二処理トラックは複数の第二基板を処理するように配置構成することができる。
【００４６】
図７は、本発明の実施形態によりリソグラフィ装置を制御する制御システム６０の詳細を示す。本発明の実施形態による制御システム６０は、幾つかの点で従来通りの装置の制御システムと異なる。本発明の実施形態によると、基板テーブルＷＴは、複数の個々の位置に配置された複数の基板Ｗを支持するように配置構成されるので、複数の基板の数に応じて、複数の組の基板データを作成して維持し、複数の基板を測定して、各基板の様々な位置で高さを求め、さらに複数の基板位置合わせグリッドおよび露光データおよび基板識別番号を監視することができる。さらに、装置設定シーケンスおよび調節試験は、基板テーブルＷＴごとに複数の基板を扱えるような構成にすることができる。基板高さ測定ユニット７３は、基板テーブル上に保持された複数の基板の高さを測定するように配置構成することができる。１つの実施形態では、基板高さ測定ユニット７３は、ウェハを測定し、装置の１つの区域で表面の輪郭マップを構築するように配置構成することができる。その後、露光でマップを辿ることができる。代替実施形態では、基板高さ測定ユニット７３は、同時にウェハを測定し、露光中のウェハの形状を辿るように配置構成することができる。したがって、制御システム６０は、同時または交互に測定して、辿るように配置構成され、制御システムは、その後に測定し、辿れることが理解される。
【００４７】
本発明の実施形態によると、リソグラフィ装置を制御する制御システム６０が提供される。制御システム６０は、基板テーブルＷＴ上に保持された複数の基板Ｗに関するデータを作成するデータ作成ユニット７１、基板テーブルＷＴ上に保持された複数の基板Ｗに関するデータを維持するデータ維持ユニット７２、基板テーブルＷＴ上に保持された複数の基板Ｗの高さを測定する基板高さ測定ユニット７３、基板テーブルＷＴ上に保持された複数の基板Ｗそれぞれに関する位置合わせグリッド、露光データ、および識別データのうち少なくとも１つを記憶するデータ記憶ユニット７４を含んでよい。さらなる実施形態では、制御システム６０は、基板テーブルＷＴ上に保持された複数の基板Ｗに対応するために構成された設定シーケンスを実行するように配置構成された設定ユニット７５を含んでよい。さらなる実施形態では、基板テーブルＷＴ上に保持された複数の基板Ｗで調節試験を実行する調節試験ユニット７６が提供される。各ユニットは、処理ユニットおよびデータ記憶ユニットを含んでよい。あるいは、局所または遠隔処理ユニットおよび／またはデータ処理ユニットを設けてよい。例えばセンサ１６、２６、３６で感知したデータなどに対応する入力データを、入力線を介して制御ユニット６０に入力する。入力データ７７に応答して、制御信号７８が制御システム６０から提供される。制御信号７８は、第一、第二トラック５０、５２およびリソグラフィ装置ＬＡのうち少なくとも１つに提供される。さらなる実施形態では、リソグラフィ装置を制御する方法が提供される。方法は、基板テーブル上に保持された複数の基板に関するデータを作成することと、基板テーブル上に保持された複数の基板に関するデータを維持することと、基板テーブル上に保持された複数の基板の高さを測定することと、基板テーブル上に保持された複数の基板それぞれに関連する位置合わせグリッド、露光データおよび識別データのうち少なくとも１つを記憶することを含む。
【００４８】
さらなる実施形態では、処理装置が読み取り可能なプログラム記憶デバイスが提供される。デバイスは、上述した制御方法を実行するために処理装置が実行可能な命令のプログラムを提供する。
【００４９】
本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置が他の多くの用途においても使用可能であることは明確に理解されるべきである。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用ガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造に使用され得る。こうした代替的な用途の状況においては、本文にて使用した「ウェハ」または「ダイ」といった用語は、それぞれ「基板」または「目標部分」といった、より一般的な用語に置き換えて使用され得ることが当業者には理解される。本明細書で言及する基板は、露光前または露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）または計測または検査ツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指す。
【００５０】
以上では光学リソグラフィの状況における本発明の実施形態の使用に特に言及しているが、本発明は、インプリントリソグラフィなどの他の用途においても使用可能であり、状況が許せば、光学リソグラフィに制限されないことが分かる。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスの構造が、基板上に生成されるパターンを画定する。パターニングデバイスの構造を、基板に供給されたレジストの層に押しつけ、その後に電磁放射線、熱、圧力またはその組み合わせを適用して、レジストを硬化する。パターニングデバイスをレジストから離し、レジストを硬化した後にパターンを残す。
【００５１】
本明細書では、「放射線」および「ビーム」という用語は、イオンビームあるいは電子ビームといったような粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射線（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、あるいは１２６ｎｍの波長を有する）および超紫外線（ＥＵＶ）放射線（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射線を網羅するものとして使用される。
【００５２】
「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気および静電気光学構成要素を含む様々なタイプの光学構成要素のいずれか、またはその組み合わせを指す。
【００５３】
以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、または自身内にこのようなコンピュータプログラムを有するデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとることができる。
【００５４】
上記の説明は例示的であり、制限的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示したものである。
【図２】本発明の実施形態による基板テーブルを示したものである。
【図３】（ａ）は本発明の実施形態による基板テーブルの平面図を示したものである。  （ｂ）は従来の基板テーブルの平面図を比較により示したものである。
【図４】図２の線ＩＶ−ＩＶに沿って本発明の実施形態による基板テーブルの断面図および基板ハンドラを示したものである。
【図５】本発明の実施形態によるリソグラフィ装置の細部と動作可能な状態で関連する基板処理装置の詳細を示したものである。
【図６】本発明の実施形態により、第一および第二処理トラックと動作可能な状態で関連するリソグラフィ装置、およびリソグラフィ装置および第一および第二処理トラックのうち少なくとも１つを制御する制御システムを示したものである。
【図７】本発明の実施形態によりリソグラフィ装置を制御する制御システムの詳細を示したものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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