(57)【要約】【課題】  煩雑なフィルム化工程を必要とせずに〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の特性をもつ光学補償用塗工膜を提供し、フィルム貼り付け等の手間を必要とせずにその特性を有する光学素子を提供することである。【解決手段】  薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜とすること。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜。
【請求項２】
前記重合体が、芳香族ビニル系重合体であることを特徴とする請求項１記載の光学補償用塗工膜。
【請求項３】
前記重合体が、ポリ（１−ビニルナフタレン）、ポリ（２−ビニルナフタレン）、ポリ（４−ビニルビフェニル）から選ばれる少なくとも一つを含有してなることを特徴とする請求項１または請求項２のいずれか１項に記載の光学補償用塗工膜。
【請求項４】
前記重合体が、ポリ（１−ビニルナフタレン）、ポリ（２−ビニルナフタレン）、ポリ（４−ビニルビフェニル）から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項１乃至請求項３記載の光学補償用塗工膜。
【請求項５】
下記（Ａ）、（Ｂ）を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液。
（Ａ）請求項１乃至請求項４記載の重合体
（Ｂ）（Ａ）成分が可溶な溶媒
【請求項６】
請求項５記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、乾燥する光学素子の製造方法。
【請求項７】
請求項５記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、（Ｂ）成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、更に乾燥する光学素子の製造方法。
【請求項８】
請求項５記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工、乾燥してなる光学素子。
【請求項９】
請求項６または請求項７のいずれか１項に記載の製造方法により製造した光学素子。
【請求項１０】
面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たすことを特徴とする光学補償用塗工膜。
【請求項１１】
面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体を使用して形成した光学補償用塗工膜。
【請求項１２】
面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体と、この重合体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液。
【請求項１３】
面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体と、この重合体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工し、乾燥する光学素子の製造方法。
【請求項１４】
更に、前記重合体を可溶可能な溶媒の蒸気にさらしてアニーリングする工程を含んでいることを特徴とする請求項１３に記載の光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶セル等による位相差の光学補償を行うための光学補償用塗工膜、該塗工膜形成に好適な光学補償用塗工膜形成用塗工液、その塗工液を用いて製造した光学素子並びに光学素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置には液晶セルの複屈折による位相差を補償して視野角の拡大を図るため、光学補償用の位相差フィルムが使用されている。例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したものが挙げられる（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）。使用される液晶に合わせてポリカーボネートのような正の固有複屈折値を有する材料からなるフィルムやポリスチレンのような負の固有複屈折値を有する材料からなるフィルムが使い分けられているが、これらのフィルムを用いるためには煩雑なフィルム化工程が必要であり、また、液晶表示装置構成部品に貼り付ける等の手間も要する。これを解消するために、ｎz＜ｎx＝ｎyの光学特性を有するポリイミドのペースト塗布が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、ｎz＞ｎx≧ｎyの光学特性をもつもの、換言すれば、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄとして表される厚み位相差の値が負になるものについては提案されていない。
【特許文献１】特開平３−３３７１９号公報
【特許文献２】特開平１１−２４８９３９号公報
【特許文献３】特開２００１−２９００２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、煩雑なフィルム化工程を必要とせずに〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の特性をもつ光学補償用塗工膜を提供し、フィルム貼り付け等の手間を必要とせずにその特性を有する光学素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
このような課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜とすることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
【０００５】
すなわち、本発明は、
薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜（請求項１）であり、
前記重合体が、芳香族ビニル系重合体であることを特徴とする請求項１記載の光学補償用塗工膜（請求項２）であり、
重合体が、ポリ（１−ビニルナフタレン）、ポリ（２−ビニルナフタレン）、ポリ（４−ビニルビフェニル）から選ばれる少なくとも一つを含有するかその一つであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の光学補償用塗工膜（請求項３，４）であり、
下記（Ａ）、（Ｂ）を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液（請求項５）であり、
（Ａ）請求項１乃至請求項４記載の重合体
（Ｂ）（Ａ）成分が可溶な溶媒
請求項５記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、必要に応じ（Ｂ）成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、乾燥する光学素子の製造方法（請求項６，７）であり、
請求項５記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工、乾燥してなる光学素子（請求項８）であり、
請求項６または請求項７のいずれか１項に記載の製造方法により製造した光学素子（請求項９）である。
【０００６】
また、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たすことを特徴とする光学補償用塗工膜を提供した。
【０００７】
また、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体を使用して形成した光学補償用塗工膜を提供した。
【０００８】
また、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体と、この重合体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を提供した。
【０００９】
また、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体と、この重合体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工し、必要に応じ前記重合体を可溶可能な溶媒の蒸気にさらしてアニーリングし、更に乾燥する光学素子の製造方法を提供した。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の光学補償用塗工膜を用いると、煩雑なフィルム化工程やフィルム貼り付け等の手間を必要とせずに〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の光学補償層を有する光学素子が製造できることから、工業的に極めて有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１２】
本発明における、薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体、または、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体としては（以下（Ａ）成分と言うことがある）、前記式を満たすことが可能である点から、芳香族ビニル系重合体が好適に使用できる。
【００１３】
（Ａ）成分は、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たす重合体である。例えば、ポリスチレン；ポリ（α−メチルスチレン）；ポリ（２−メチルスチレン）、ポリ（３−メチルスチレン）、ポリ（４−メチルスチレン）、ポリ（２，４−ジメチルスチレン）、ポリ（２，５−ジメチルスチレン）、ポリ（３，４−ジメチルスチレン）、ポリ（３，５−ジメチルスチレン）、ポリ（２−エチルスチレン）、ポリ（３−エチルスチレン）、ポリ（４−エチルスチレン）、ポリ（２，４−ジエチルスチレン）、ポリ（２，５−ジエチルスチレン）、ポリ（３，４−ジエチルスチレン）、ポリ（３，５−ジエチルスチレン）、ポリ（２−プロピルスチレン）、ポリ（３−プロピルスチレン）、ポリ（４−プロピルスチレン）、ポリ（２，４−ジプロピルスチレン）、ポリ（２，５−ジプロピルスチレン）、ポリ（３，４−ジプロピルスチレン）、ポリ（３，５−ジプロピルスチレン）、ポリ（２−ブチルスチレン）、ポリ（３−ブチルスチレン）、ポリ（４−ブチルスチレン）、ポリ（２，４−ジブチルスチレン）、ポリ（２，５−ジブチルスチレン）、ポリ（３，４−ジブチルスチレン）、ポリ（３，５−ジブチルスチレン）等のポリ（アルキルスチレン）；ポリ（２−メトキシスチレン）、ポリ（３−メトキシスチレン）、ポリ（４−メトキシスチレン）、ポリ（２，４−ジメトキシスチレン）、ポリ（２，５−ジメトキシスチレン）、ポリ（３，４−ジメトキシスチレン）、ポリ（３，５−ジメトキシスチレン）、ポリ（２−エトキシスチレン）、ポリ（３−エトキシスチレン）、ポリ（４−エトキシスチレン）、ポリ（２，４−ジエトキシスチレン）、ポリ（２，５−ジエトキシスチレン）、ポリ（３，４−ジエトキシスチレン）、ポリ（３，５−ジエトキシスチレン）、ポリ（２−プロポキシスチレン）、ポリ（３−プロポキシスチレン）、ポリ（４−プロポキシスチレン）、ポリ（２，４−ジプロポキシスチレン）、ポリ（２，５−ジプロポキシスチレン）、ポリ（３，４−ジプロポキシスチレン）、ポリ（３，５−ジプロポキシスチレン）、ポリ（２−ブトキシスチレン）、ポリ（３−ブトキシスチレン）、ポリ（４−ブトキシスチレン）、ポリ（２，４−ジブトキシスチレン）、ポリ（２，５−ジブトキシスチレン）、ポリ（３，４−ジブトキシスチレン）、ポリ（３，５−ジブトキシスチレン）等のポリ（アルコキシスチレン）；ポリ（２−クロロスチレン）、ポリ（３−クロロスチレン）、ポリ（４−クロロスチレン）、ポリ（２，４−ジクロロスチレン）、ポリ（２，５−ジクロロスチレン）、ポリ（２，６−ジクロロスチレン）、ポリ（３，４−ジクロロスチレン）、ポリ（２−ブロモスチレン）、ポリ（３−ブロモスチレン）、ポリ（４−ブロモスチレン）、ポリ（２，４−ジブロモスチレン）、ポリ（２，５−ジブロモスチレン）、ポリ（２，６−ジブロモスチレン）、ポリ（３，４−ジブロモスチレン）、ポリ（２−ヨードスチレン）、ポリ（３−ヨードスチレン）、ポリ（４−ヨードスチレン）、ポリ（２，４−ジヨードスチレン）、ポリ（２，５−ジヨードスチレン）、ポリ（２，６−ジヨードスチレン）、ポリ（３，４−ジヨードスチレン）、ポリ（２−フルオロスチレン）、ポリ（３−フル��ロスチレン）、ポリ（４−フルオロスチレン）、ポリ（２，４−ジフルオロスチレン）、ポリ（２，５−ジフルオロスチレン）、ポリ（２，６−ジフルオロスチレン）、ポリ（３，４−ジフルオロスチレン）等のポリ（ハロゲン化スチレン）；ポリ（２−メトキシカルボニルスチレン）、ポリ（４−メトキシカルボニルスチレン）、ポリ（２−エトキシカルボニルスチレン）、ポリ（４−エトキシカルボニルスチレン）、ポリ（２−プロポキシカルボニルスチレン）、ポリ（４−プロポキシカルボニルスチレン）、ポリ（２−ブトキシカルボニルスチレン）、ポリ（４−ブトキシカルボニルスチレン）等のポリ（ビニル安息香酸エステル）；ポリ（ｏ−ヒドロキシスチレン）、ポリ（ｍ−ヒドロキシスチレン）、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）等のポリ（ヒドロキシスチレン）；ポリ（１−ビニルナフタレン）、ポリ（２−ビニルナフタレン）等のビニルナフタレン系重合体；ポリ（４−ビニルビフェニル）、ポリ（３−（４−ビフェニル）スチレン）、ポリ（４−（４−ビフェニル）スチレン）等のポリ（アリールスチレン）；ポリアセナフチレン等が挙げられる。また、これらの２種以上の共重合体；これらの１種又は２種以上と他のポリマーとの共重合体も用いることができる。例えば、スチレン−（α−メチルスチレン）共重合体、スチレン−（２−メチルスチレン）共重合体、スチレン−（３−メチルスチレン）共重合体、スチレン−（４−メチルスチレン）共重合体、スチレン−（２−メトキシスチレン）共重合体、スチレン−（３−メトキシスチレン）共重合体、スチレン−（４−メトキシスチレン）共重合体、スチレン−（２−クロロスチレン）共重合体、スチレン−（３−クロロスチレン）共重合体、スチレン−（４−クロロスチレン）共重合体、スチレン−（２−メトキシカルボニルスチレン）共重合体、スチレン−（４−メトキシカルボニルスチレン）共重合体、スチレン−（ｏ−ヒドロキシスチレン）共重合体、スチレン−（ｍ−ヒドロキシスチレン）共重合体、スチレン−（ｐ−ヒドロキシスチレン）共重合体、スチレン−（１−ビニルナフタレン）共重合体、スチレン−（２−ビニルナフタレン）共重合体、スチレン−（４−ビニルビフェニル）共重合体、スチレン−アクリル酸メチル共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−酢酸ビニル共重合体等のスチレン系２元共重合体；（α−メチルスチレン）−（２−メチルスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（３−メチルスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（４−メチルスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（２−メトキシスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（３−メトキシスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（４−メトキシスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（２−クロロスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（３−クロロスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（４−クロロスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（２−メトキシカルボニルスチレン）共重合体、（α−メチルスチレ��）−（４−メトキシカルボニルスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（ｏ−ヒドロキシスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（ｍ−ヒドロキシスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（ｐ−ヒドロキシスチレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（１−ビニルナフタレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（２−ビニルナフタレン）共重合体、（α−メチルスチレン）−（４−ビニルビフェニル）共重合体、（α−メチルスチレン）−アクリル酸メチル共重合体、（α−メチルスチレン）−メタクリル酸メチル共重合体、（α−メチルスチレン）−イソプレン共重合体、（α−メチルスチレン）−ブタジエン共重合体、（α−メチルスチレン）−アクリロニトリル共重合体、（α−メチルスチレン）−無水マレイン酸共重合体、（α−メチルスチレン）−酢酸ビニル共重合体等のα−メチルスチレン系２元共重合体；スチレン−アクリル酸メチル−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−（α−メチルスチレン）−アクリロニトリル共重合体、スチレン−（α−メチルスチレン）−メタクリル酸メチル共重合体等の３元共重合体等が挙げられる。これらの重合体は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１４】
上記重合体は、単独のモノマー又は２種以上のモノマーをラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤又はカチオン重合開始剤の存在下で重合することにより製造できる。
【００１５】
尚、（Ａ）成分としては、特にポリ（１−ビニルナフタレン）、ポリ（２−ビニルナフタレン）、ポリ（４−ビニルビフェニル）から選ばれる少なくとも一つを含有するかその一つであることが耐熱性と、入手の容易さの点で好ましい。
【００１６】
また、（Ａ）成分の重量平均分子量の下限は好ましくは１００００、より好ましくは２００００、さらに好ましくは３００００であり、上限は好ましくは１００００００、より好ましくは８０００００、さらに好ましくは６０００００である。重量平均分子量が１００００より小さいと塗工膜強度が低下する傾向があり、重量平均分子量が１００００００より大きいと溶媒に溶け難くなる傾向がある。なお、当該重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定した値である。本発明では、重量平均分子量が異なる重合体の２種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。
【００１７】
以下、光学補償用塗工膜形成用塗工液（以下、単に塗工液と言うことがある）について説明する。塗工液は、（Ａ）前記重合体，（Ｂ）（Ａ）成分が可溶な溶媒、を含有して形成されていることが好ましい。
【００１８】
（Ｂ）成分の溶媒としては、（Ａ）成分が可溶であれば特に限定されるものではなが、具体的な例としては、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンの異性体混合物等の炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒；エチルエーテル、イソプロピルエーテル、１，３−ジオキソラン、１,４−ジオキサン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１,２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、１−クロロプロパン、２−クロロプロパン、１，１−ジクロロプロパン、１，２−ジクロロプロパン、１，３−ジクロロプロパン、２，２−ジクロロプロパン、１，２，３−トリクロロプロパン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベンゼン、１，４−ジクロロベンゼン、１，２，３−トリクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、１，３，５−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１９】
本発明では、溶媒量は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総重量に対する（Ａ）成分の割合が下限１重量％、上限７０重量％の範囲で用いるのが好ましく、下限２重量％、上限６０重量％の範囲で用いるのがより好ましく、下限３重量％、上限５０重量％の範囲で用いるのがさらに好ましい。（Ａ）成分の割合が１重量％より小さい場合は塗工膜厚が薄くなり、必要な膜厚が得られ難くなる傾向があり、７０重量％より大きい場合は塗工液の粘度が高くなり、作業性が劣る傾向がある。
【００２０】
次に、本発明の塗工膜の特性を改質する目的で添加することが可能な樹脂について説明する。当該添加することが可能な樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等が例示されるが、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。
【００２１】
次に、本発明の塗工膜、塗工液の特性を改質する目的で加えることが可能な添加剤について説明する。
【００２２】
添加剤としては、酸化防止剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ  １１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ  １３３０等のヒンダードフェノール類）、加工安定剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＨＰ−１３６、ＩＲＧＡＮＯＸ  Ｅ２０１、ＩＲＧＡＦＯＳ  １６８等）、光安定剤（例えば、三共ライフテック製サノールＬＳ−７６５、サノールＬＳ−７７０等のヒンダードアミン類）、紫外線吸収剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６等のベンゾトリアゾール類）、接着性改良剤（例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤）、シラノール縮合触媒（例えば、川研ファインケミカル製アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミキレートＭ等のアルミニウムキレート類）、可塑剤（例えば、ジ２−エチルヘキシルフタレート、ジイソブチルアジペート等のエステル類）、界面活性剤（例えば、住友スリーエム製Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４３０、Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４４３０等のフッ素系化合物）、帯電防止剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＩＲＧＡＳＴＡＴ  Ｐ１８、ＩＲＧＡＳＴＡＴ  Ｐ２２等）等が挙げられ、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。
【００２３】
本発明の塗工液は、例えば上記各成分を溶媒の融点以上、沸点以下の温度で、混合後静置又は攪拌混合等することにより得られる。
【００２４】
次に、光学素子用の基板について説明する。基板としては、各種のものが使用可能であるが、特に用途から考えると透明であることが好ましい。具体的な例としては、ビスフェノールＡと塩化カルボニルより重縮合して製造されたポリカーボネート系重合体；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル；アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の２塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合又はラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体；ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のスチレン系重合体；アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体；ポリエチレン、ポリノルボルネン、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体；トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂；ナイロン６、ナイロン６６等のポリアミド；ポリイミド；ポリアミドイミド；ポリビニルアルコール；塩化ビニル；ポリエーテルスルホン；エポキシ樹脂；シリコーン樹脂；国際公開第０１／３７００７号パンフレットに記載される化合物等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したもの、これらのフィルムを偏光板に貼り付けたもの、ガラス板、カラーフィルター、液晶セル等が挙げられる。
【００２５】
次に、光学素子の製造方法について説明する。
【００２６】
光学素子は、前記基板の片面又は両面に本発明の塗工液を塗工後、乾燥、又は塗工後、アニーリング、乾燥することにより好適に製造できる。塗工方法としては、グラビヤロールコート法、マイヤーバーコート法、ドクターブレードコート法、リバースロールコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カレンダーコート法、スキーズコート法、キスコート法、バーコート法、スロットダイコート法、スピンコート法等が挙げられる。
【００２７】
乾燥方法としては、例えば空気中又は窒素等の不活性ガス中に放置（風乾）、熱風オーブン、赤外線加熱炉等での加熱乾燥、真空乾燥機等での減圧乾燥等により行うことができる。乾燥温度は種々設定できるが、下限−３０℃、上限３００℃の温度範囲が好ましく、下限０℃、上限２８０℃がより好ましく、下限１０℃、上限２６０℃がさらに好ましい。乾燥温度が−３０℃より低いと乾燥時間が長くなる傾向があり、３００℃より高いと塗工膜や基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。
【００２８】
また、アニーリングは塗工膜のレベリング性向上、応力緩和等の為に行うことが好ましく、例えば面内位相差の低減、面内位相差の振れの低減等に有効である。本発明では、アニーリングは、（Ｂ）成分の蒸気中に塗工基板の塗工膜を上にして水平に静置して行うことが好ましい。アニーリング時の温度は種々設定できるが、下限−３０℃、上限〔（Ｂ）成分の沸点（℃）〕の範囲が好ましく、下限−１５℃、上限〔（Ｂ）成分の沸点（℃）−５℃〕がより好ましく、下限０℃、上限〔（Ｂ）成分の沸点（℃）−１０℃〕がさらに好ましい。アニーリング時の温度が−３０℃より低いとアニーリング時間が長くなる傾向があり、アニーリング時の温度が（Ｂ）成分の沸点（℃）より高いと塗工膜の基板からの流れ出しが生じ易くなる傾向がある。アニーリング時の圧力も種々設定でき、大気圧、加圧下、又は減圧下で行うことができるが、作業性の点で大気圧が好ましい。
【００２９】
次に、本発明における光学補償用塗工膜の光学特性について説明する。
【００３０】
本発明の光学補償用塗工膜は〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の特性をもつことが好ましい。光学補償用塗工膜の厚みをｄとすると、面内位相差は、（ｎx−ｎy）×ｄで表され、厚み位相差は、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄで表されるが、面内位相差は下限０ｎｍ、上限１００ｎｍが好ましく、下限０ｎｍ、上限８０ｎｍがより好ましく、下限０ｎｍ、上限６０ｎｍがさらに好ましい。面内位相差が１００ｎｍより大きいと液晶セルの複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。また、厚み位相差は下限−１０００ｎｍ、上限−１ｎｍが好ましく、下限−８００ｎｍ、上限−１０ｎｍがより好ましく、下限−６００ｎｍ、上限−２０ｎｍがさらに好ましい。厚み位相差が−１０００ｎｍより小さいと液晶セルの複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。
【００３１】
また、本発明の光学補償用塗工膜、該塗工膜形成用塗工液及びその塗工液を用いて製造した光学素子は、ビデオ、カメラ、携帯電話、パソコン、テレビ、モニター、自動車のインパネ等の液晶表示装置作製部品等に好適に使用できる。
【実施例】
【００３２】
以下に、本発明をより詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【００３３】
（実施例１）
ポリ（２−ビニルナフタレン）（アルドリッチ製、重量平均分子量：１７５０００）１２．０ｇに塩化メチレン８８．０ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に塗工した後、２５℃で６時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を下記の方法によって行い、結果を表１に示した。ここでは、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の光学素子が得られた。
【００３４】
（１）屈折率（ｎx，ｎy，ｎz）の測定
王子計測機器製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて、２５℃下で５９０ｎｍ光における屈折率を測定した。得られた結果から、面内位相差を（ｎx−ｎy）×ｄにより求めた。また、厚み位相差を〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄにより求めた。
【００３５】
（実施例２）
ポリ（４−ビニルビフェニル）（アルドリッチ製、重量平均分子量：１１５０００）５．０ｇに塩化メチレン９５．０ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に塗工した後、２５℃で６時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例１記載の方法によって行い、結果を表１に示した。ここでは、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の光学素子が得られた。
【００３６】
（実施例３）
スチレン−無水マレイン酸共重合体（ノヴァケミカル製ダイラークＤ３３２）３０．０ｇにクロロホルム７０．０ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に塗工した後、この塗布基板を大気圧でクロロホルム蒸気が充満したガラス容器に入れ、密閉後、２５℃で４８時間アニーリングした。その後、塗布基板を取り出し、２５℃で６時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例１記載の方法によって行い、結果を表１に示した。ここでは、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の光学素子が得られた。
【００３７】
【表１】
2006221116.tif 000002