(57)【要約】【課題】  高い精度で実装され、安定した特性を得ることができる半導体レーザ装置を提供する。【解決手段】  ヒートシンク２１上に、下側サブマウント３０、複数のレーザダイオードチップを並設してなるバー状の半導体レーザ素子１０および上側サブマウント４０が、各々の端面をヒートシンク２１の一端面に揃えるようにして順に積層されている。下側サブマウント３０および上側サブマウント４０は、半導体レーザ素子１０よりも低い熱膨脹係数を有している。半導体レーザ素子１０の下面側と上面側とで熱膨張係数の均衡がとれて、下側サブマウント３０および上側サブマウント４０の熱膨張係数が低くても、反り等の発生を抑制して実装精度を高め、特に６３０μｍ以上６９０μｍ以下の波長域に発振波長を有する赤色の半導体レーザ素子１０において安定した特性を得ることができる。【選択図】図２
2006032406.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する第１面および第２面を有し、前記第１面および第２面の対向方向に直交する方向に光を出射する半導体レーザ素子と、
前記半導体レーザ素子よりも低い熱膨脹係数を有し、前記半導体レーザ素子の第１面に第１溶着層を間にして配設された第１支持部材と、
前記半導体レーザ素子よりも低い熱膨脹係数を有し、前記半導体レーザ素子の第２面に第２溶着層を間にして配設された第２支持部材と
を備えたことを特徴とする半導体レーザ装置。
【請求項２】
前記半導体レーザ素子は、６３０μｍ以上６９０μｍ以下の波長域に発振波長を有する
ことを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置。
【請求項３】
前記半導体レーザ素子は、ＧａＡｓよりなる基板上に、３Ｂ族元素のうちアルミニウム（Ａｌ）およびガリウム（Ｇａ）の少なくとも一方と５Ｂ族元素のうちインジウム（Ｉｎ）およびリン（Ｐ）の少なくとも一方とを含むＡｌＧａＩｎＰ系化合物半導体よりなる半導体層を有する
ことを特徴とする請求項２記載の半導体レーザ装置。
【請求項４】
前記第２支持部材の前記半導体レーザ素子からの光の出射方向における寸法は、前記第１支持部材よりも小さい
ことを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置。
【請求項５】
前記第２支持部材は、ダイヤモンドと銅とを含む材料により構成された
ことを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置。
【請求項６】
前記第２支持部材は、窒化アルミニウムよりなる本体部と、前記本体部に設けられた貫通孔と、前記貫通孔に充填された導電層とを有する
ことを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置。
【請求項７】
前記第２支持部材は、絶縁性の本体部の表面に１層以上の金属被覆層を有し、前記金属被覆層の合計厚みは２μｍ以上である
ことを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置。
【請求項８】
前記第１支持部材は、第１放熱部材の上に配設されている
ことを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置。
【請求項９】
前記第２支持部材の上に、第２放熱部材が配置されている
ことを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体レーザ素子を支持部材に実装した半導体レーザ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体レーザの発光領域は、現在、青紫色の短波長領域まで拡大されており、光通信、高密度光記録あるいはディスプレイへの応用が期待されている。このように発光領域が拡大する一方で、動作電流の低減化、低ノイズ化、低コスト化、さらに高出力、高速動作、且つ高温動作時の信頼性などの問題があり、既に半導体レーザが使用されている応用機器においても改善していかなければならない課題が多く残されている。特に、発熱に関連する問題については、半導体レーザの多方面にわたる利用を制限している。この発熱に関する問題は、半導体レーザの単位面積あたりの大きな発生熱と関連しており、熱循環によって接合温度の上昇および応力の発生などの現象が引き起こされる。接合部分の動作温度が上昇するに従って、発光出力、発光効率および半導体レーザの寿命などが低下し、さらに、半導体レーザから生じる光の波長を長波長化させるという問題がある。
【０００３】
これらの問題を引き起こす半導体レーザの発熱を制御する方法として、例えば、半導体レーザ素子をシリコンカーバイト（ＳｉＣ）などのサブマウント（支持部材）上に配設し、更にサブマウントの下面をヒートシンク（放熱部材）に接合する方法が用いられている。
【０００４】
また、半導体レーザ素子のｎ側電極およびｐ側電極にヒートシンクをそれぞれ接合して、発生する熱を放出させる方法もある。例えば特許文献１では、二つのヒートシンクの間にスペーサを挟んで隙間をつくり、この隙間にバー状の半導体レーザ素子を配置したのち、予めヒートシンクにコーティングしてあるはんだを融解させることにより、半導体レーザ素子に固有の湾曲形状があっても半導体レーザ素子とヒートシンクとを密着させて接合することができるようにしている。あるいは、例えば特許文献２では、半導体レーザ素子を上下から金属板で挟むことにより冷却するようにした構成が開示されている。
【特許文献１】特開平１１−３４０５８１号公報
【特許文献２】米国特許第４４５４６０２号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、これらの従来構造は、金属よりなるサブマウントまたは金属板を用いていたので、金属の熱膨張係数が半導体レーザ素子よりもかなり大きいことから、半導体レーザ素子に割れ等が生じるおそれがあった。また、特許文献２に記載された構成では半導体レーザ素子と金属板とは単に接触しているだけであり、接着層などは特に設けられていないので、冷却効果が十分に得られないおそれがあった。
【０００６】
一方、半導体レーザ素子よりも熱膨張係数の小さいサブマウントを半導体レーザ素子の下側だけに設けた場合には、図１９に示したように、サブマウント１３０が半導体レーザ素子１１０側へ大きく反りかえってしまい、ヒートシンクへの実装精度が低下してしまっていた。また、長期の信頼性試験でも反りをもったままの場合には、図２０に示したように半導体レーザ素子１１０に斜め割れ１１０Ａや横割れ１１０Ｂが発生しやすいという問題があった。
【０００７】
更に、反りやゆがみを小さくするために熱膨張係数が半導体レーザ素子と同じサブマウントを用いて実装する場合、ＧａＡｓよりなる基板を用いた半導体レーザ素子、特に赤色の波長域に発振波長を有する素子では光出力、信頼性などの特性が悪化してしまうという問題があった。
【０００８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、高い精度で実装され、安定した特性を得ることができる半導体レーザ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明による半導体レーザ装置は、以下の（Ａ）〜（Ｃ）の要件を備えることにより実装精度を高めたものである。
（Ａ）対向する第１面および第２面を有し、前記第１面および第２面の対向方向に直交する方向に光を出射する半導体レーザ素子
（Ｂ）半導体レーザ素子よりも低い熱膨脹係数を有し、半導体レーザ素子の第１面に第１溶着層を間にして配設された第１支持部材
（Ｃ）半導体レーザ素子よりも低い熱膨脹係数を有し、半導体レーザ素子の第２面に第２溶着層を間にして配設された第２支持部材
【発明の効果】
【００１０】
本発明の半導体レーザ装置によれば、半導体レーザ素子よりも熱膨張係数の低い第１支持部材を半導体レーザ素子の第１面に配設するだけでなく、半導体レーザ素子よりも熱膨張係数の低い第２支持部材を半導体レーザ素子の第２面にも配設するようにしたので、半導体レーザ素子の第１面側と第２面側とで熱膨張係数の均衡がとれて、第１支持部材および第２支持部材の熱膨張係数が低くてもそれらの反りを抑制することができ、水平な状態で放熱部材に配設することができる。よって、実装精度を高めることができる。特に、６３０μｍ以上６９０μｍ以下の波長域に発振波長を有する赤色の半導体レーザ素子において安定した特性を得ることができる。また、第１支持部材および第２支持部材を第１溶着層および第２溶着層を間にして接着させるようにしたので、半導体レーザ素子で発生した熱を第１支持部材および第２支持部材を介して効率よく放散させることができ、排熱性を高めることができる。よって、高出力レーザにも対応可能である。
【００１１】
更に、第１支持部材および第２支持部材をほぼ同程度の熱膨張係数にしたので、半導体レーザ素子に無理な負荷がかかることがなく、信頼性を向上させることができる。
【００１２】
加えて、第２支持部材を設けることにより、半導体レーザ素子に直接ボンディングワイヤを打ったり、第１支持部材にワイヤボンディング用のパターニングを施す必要もなくなる。よって、超音波や熱によるダメージを軽減し、半導体レーザ素子の欠けやｐ側電極の剥離などの不具合を回避することができる。
【００１３】
特に、第２支持部材を、半導体レーザ素子からの光の出射方向における寸法が第１支持部材よりも小さくなるようにすれば、第２支持部材の実装上の安定性を高めることができる。
【００１４】
また、特に、第２支持部材を、ダイヤモンドと銅とを含む材料（以下、「ダイヤモンド−銅（Ｃｕ）」という。）により構成すれば、または、窒化アルミニウムよりなる本体部に貫通孔を設け、この貫通孔に導電層を充填させるようにすれば、通電性を高めることができる。
【００１５】
加えて、特に、第２支持部材の表面に１層以上の金属被覆層を設け、金属被覆層の合計厚みを２μｍ以上とすれば、第２支持部材を導電性の低い材料により構成しても通電性を高めることができる。
【００１６】
更にまた、特に、第２支持部材の上に第２放熱部材を配置するようにすれば、排熱性を更に向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施の形態に係る半導体レーザ装置に構成要素として含まれる半導体レーザ素子１０の概略構成を表すものである。また、図２は、この半導体レーザ素子１０を備えた半導体レーザ装置の全体構成を表すものである。
【００１９】
この半導体レーザ素子１０は、例えば６３０μｍ以上６９０μｍ以下の波長域に発振波長を有する赤色レーザである。また、半導体レーザ素子１０は、例えば、複数のレーザダイオード（ＬＤ）チップ１１が並設されたレーザダイオードバーであり、その寸法は長さ約１０ｍｍ、共振器長２００μｍないし１．５ｍｍ、具体的には約７００μｍ程度、厚み約１００μｍである。なお、ここで、厚みとは、半導体レーザ素子１０の第１面（図１における下面）１０Ａおよび第２面（図１における上面）１０Ｂの対向方向における寸法であり、共振器長は、半導体レーザ素子１０からの光ＬＢの出射方向すなわち共振器方向における寸法であり、長さは、第１面１０Ａおよび第２面１０Ｂの対向方向と共振器方向との両方に直交する方向における寸法である。
【００２０】
各レーザダイオードチップ１１は、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）よりなる基板１２上に、ＡｌＧａＩｎＰ系化合物半導体よりなる、活性層を含む半導体層１３を有している。なお、ここでいうＡｌＧａＩｎＰ系化合物半導体とは、短周期型周期表における３Ｂ族元素のうちアルミニウム（Ａｌ）およびガリウム（Ｇａ）の少なくとも一方と５Ｂ族元素のうちインジウム（Ｉｎ）およびリン（Ｐ）の少なくとも一方とを含む四元系半導体のことであり、例えばＡｌＧａＩｎＰ混晶，ＧａＩｎＰ混晶またはＡｌＩｎＰ混晶などが挙げられる。これらは、必要に応じてケイ素（Ｓｉ）またはセレン（Ｓｅ）などのｎ型不純物、または、マグネシウム（Ｍｇ），亜鉛（Ｚｎ）または炭素（Ｃ）などのｐ型不純物を含有している。
【００２１】
半導体層１３の上には、例えば、各レーザダイオードチップ１１に対応して、ｐ側電極１４が形成されている。ｐ側電極１４は、例えば、チタン（Ｔｉ）層，白金（Ｐｔ）層および金（Ａｕ）層を半導体層１３の側から順に積層した構成を有している。また、基板１２の裏面には、例えば、各レーザダイオードチップ１１に対応して、ｎ側電極１５が設けられている。ｎ側電極１５は、例えば、金（Ａｕ）層，金（Ａｕ）とゲルマニウム（Ｇｅ）との合金層および金（Ａｕ）層を基板１２の側から順に積層した構成を有している。
【００２２】
この半導体レーザ素子を備えた半導体レーザ装置は、レーザプロジェクタの光源などとして用いられるものであり、例えば、ヒートシンク２１上に、下側サブマウント３０、半導体レーザ素子１０および上側サブマウント４０が、各々の端面をヒートシンク２１の一端面に揃えるようにして順に積層された構成を有している。また、半導体レーザ素子１０は、第１面１０Ａが上側サブマウント４０に、第２面１０Ｂが下側サブマウント３０にそれぞれ対向するようにして配設されている。半導体レーザ素子１０からの光ＬＢは、主としてヒートシンク２１の端面に揃えられた端面から、下側サブマウント３０および上側サブマウント４０との積層方向に直交する方向に出射されるようになっている。
【００２３】
ヒートシンク２１は、例えば、銅（Ｃｕ）などの電気的および熱的な伝導性を有する材料により構成されており、表面には金（Ａｕ）などよりなる薄膜が被着されている。熱伝導性は、半導体レーザ素子１０から発生する大量の強熱を放出させ、半導体レーザ素子１０を適当な温度に維持するために必要な特性であり、電気伝導性は、電流を半導体レーザ素子１０に効率よく伝導させるために必要な特性である。
【００２４】
ヒートシンク２１上には、例えばヒートシンク２１と同一材料よりなる電極部材２２が、例えばネジ２２Ａ，２２Ｂにより固定されている。ヒートシンク２１と電極部材２２との間には例えばガラスエポキシ材よりなる絶縁板２３が設けられており、ヒートシンク２１と電極部材２２とは電気的に絶縁されている。電極部材２２には、半導体レーザ素子１０側の一方の角に段部２２Ｃが設けられており、この段部２２Ｃには、例えば太さが２００μｍの金（Ａｕ）よりなるワイヤ５０の一端部が接合されている。ワイヤ５０の他端部は上側サブマウント４０に接合され、上側サブマウント４０を介して電極部材２２と半導体レーザ素子１０の第１面１０Ａとが電気的に接続されている。なお、電極部材２２の段部２２Ｃには、ワイヤ５０および半導体レーザ素子１０等を保護するため、ヒートシンク２１と同一材料よりなる保護部材２４がネジ２４Ａにより固定されるようになっている。
【００２５】
図３は、図２に示した半導体レーザ装置のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面構造を表すものである。下側サブマウント３０は、半導体レーザ素子１０の第２面１０Ｂに、例えば、厚みが３μｍないし５μｍ程度であり、はんだ等よりなる下側溶着層３１を間にして配設されている。また、下側サブマウント３０とヒートシンク２１との間には、はんだ等よりなる接着層３２が設けられている。
【００２６】
下側溶着層３１および接着層３２は、鉛を含まないはんだ（鉛フリーはんだ）により構成されていることが好ましいが、鉛系はんだにより構成されていてもよい。下側溶着層３１の具体的な構成材料としては、例えば、金（Ａｕ）−スズ（Ｓｎ）はんだ（共晶）、または銀（Ａｇ）−スズ（Ｓｎ）はんだ（共晶）が挙げられる。接着層３２の構成材料としては、具体的には、インジウム（Ｉｎ）等を主成分とする低融点のはんだがある。スズ（Ｓｎ）−鉛（Ｐｂ）系のもの、およびスズ（Ｓｎ）−銀（Ａｇ）−銅（Ｃｕ）系のものは、組み合わせによっては下側溶着層３１および接着層３２のいずれにも使用可能である。
【００２７】
上側サブマウント４０は、半導体レーザ素子１０の第１面１０Ａに、例えば、厚みが３μｍないし５μｍ程度であり、はんだ等よりなる上側溶着層４１を間にして配設されている。上側溶着層４１の構成材料は上述した下側溶着層３１と同様であり、具体的な構成材料としては例えば金（Ａｕ）−スズ（Ｓｎ）はんだ（共晶）、銀（Ａｇ）−スズ（Ｓｎ）はんだ（共晶）が挙げられる。
【００２８】
下側サブマウント３０および上側サブマウント４０は、例えば同一形状を有し、各々の寸法は、例えば、長さ約１１ｍｍ、奥行き約２ｍｍ、厚み約３００μｍである。ここで、奥行きは、半導体レーザ素子１０からの光ＬＢの出射方向すなわち共振器方向における寸法である。このように下側サブマウント３０と上側サブマウント４０とを同一寸法とする場合には、上側サブマウント４０の実装上の安定性を高めるため、図４に点線で示したように、下側サブマウント３０と上側サブマウント４０との間にスペーサ４２を入れることも可能である。なお、図４では、図２に示した電極部材２２，絶縁板２３，保護部材２４およびワイヤ５０、並びに図３に示した下側溶着層３１，上側溶着層４１および接着層３２等は省略している。
【００２９】
上側サブマウント４０の奥行きは、例えば図５に示したように、下側サブマウント３０よりも小さくすることが好ましい。上側サブマウント４０の実装上の安定性を高めることができるからである。なお、この場合、上側サブマウント４０の奥行きは、半導体レーザ素子３０の共振器長よりも長いことが望ましい。
【００３０】
下側サブマウント３０および上側サブマウント４０は、半導体レーザ素子１０よりも低い熱膨脹係数を有している。これにより、この半導体レーザ装置では、半導体レーザ素子１０の第１面１０Ａ側と第２面１０Ｂ側とで熱膨張係数の均衡がとれており、下側サブマウント３０および上側サブマウント４０の熱膨張係数が低くても、反り等の発生を抑制して実装精度を高め、特に６３０μｍ以上６９０μｍ以下の波長域に発振波長を有する赤色の半導体レーザ素子１０において安定した特性を得ることができるようになっている。
【００３１】
下側サブマウント３０および上側サブマウント４０の構成材料としては、例えば、コンポジットダイヤモンド，ダイヤモンド−銅（Ｃｕ），炭化ケイ素（ＳｉＣ），窒化アルミニウム（ＡｌＮ）が好ましい。半導体レーザ素子１０の主たる構成材料であるＧａＡｓよりも熱膨張係数が低く、かつ熱伝導率が大きいからである。なお、表１は、これらの材料の熱膨張係数および熱伝導率の一例を示したものである。
【００３２】
【表１】
2006032406.tif 000003
【００３３】
下側サブマウント３０と上側サブマウント４０とは、同一材料により構成されていてもよいし、異なる材料により構成されていてもよい。例えば、下側サブマウント３０は、半導体レーザ素子１０の実装工程において精度基準としての役割も有していることから、下側サブマウント３０の構成材料は、上述した材料のうち高い加工精度を確保できるものを選択することが好ましい。一方、上側サブマウント４０は、電圧下げの観点から、通電性の高い材料により構成することが好ましい。上側サブマウント４０を設けることによりその分だけ電気抵抗がかかって電圧が高くなってしまうことを可及的に抑制することができるからである。上側サブマウント４０の通電性を高めることのできる材料としては、例えばダイヤモンド−銅（Ｃｕ）が好ましい。また、図示しないが、窒化アルミニウムよりなる本体部と、本体部に設けられた貫通孔と、貫通孔に充填された導電層とを有するものも好ましい。あるいは、例えば図６に示したように、絶縁性の本体部４０Ａの表面に金属被覆層４０Ｂを設け、金属被覆層４０Ｂの厚みを２μｍ以上とすれば、本体部４０Ａを炭化ケイ素（ＳｉＣ）等の導電性の低い材料により構成しても、上側サブマウント４０の通電性を高めることができる。金属被覆層４０Ｂは１層でもよく複数の層の積層構造でもよい。金属被覆層４０Ｂを複数の層の積層構造とする場合には、それらの合計厚みを２μｍ以上とすることが好ましい。
【００３４】
この半導体レーザ装置は、例えば、次のようにして製造することができる。
【００３５】
まず、例えば、上述した材料よりなる基板１２の表側に、例えばＭＯＣＶＤ（Metal Organic Chemical Vapor Deposition ；有機金属化学気相成長）法またはＭＢＥ（Molecular Beam Epitaxy；電子ビーム蒸着）法により、上述した材料よりなる半導体層１３を形成する。次いで、ｐ側電極１４およびｎ側電極１５を形成し、基板１２を所定の大きさに整える。これにより、図１に示したバー状の半導体レーザ素子１０が形成される。
【００３６】
続いて、上述した寸法および材料よりなる下側サブマウント３０を用意し、この下側サブマウント３０の半導体レーザ素子１０が設けられる面に、例えば真空蒸着法またはめっきにより、金（Ａｕ）層およびスズ（Ｓｎ）層を順に積層することにより、下側溶着層３１を形成する。
【００３７】
下側サブマウント３０に下側溶着層３１を形成したのち、半導体レーザ素子１０の第２面１０Ｂと下側サブマウント３０の下側溶着層３１とを対向させ、位置合わせを精度よく行い、下側サブマウント３０の上に半導体レーザ素子１０を載せる。続いて、この下側サブマウント３０に対して加熱処理を施すことにより、図７（Ａ）に示したように、半導体レーザ素子１０を下側サブマウント３０に溶着させる。
【００３８】
また、上述した寸法および材料よりなる上側サブマウント４０を用意し、この上側サブマウント４０の半導体レーザ素子１０が設けられる面に、例えば真空蒸着法またはめっきにより、金（Ａｕ）層およびスズ（Ｓｎ）層を順に積層することにより、上側溶着層４１を形成する。
【００３９】
上側サブマウント４０に上側溶着層４１を形成したのち、半導体レーザ素子１０の第１面１０Ａと上側サブマウント４０の上側溶着層４１とを対向させ、位置合わせを精度よく行い、上側サブマウント４０を半導体レーザ素子１０に載せる。続いて、この上側サブマウント４０に対して加熱処理を施すことにより、図７（Ｂ）に示したように、半導体レーザ素子１０を上側サブマウント４０に溶着させる。なお、このように上側溶着層４１と下側溶着層３１とを両方とも金（Ａｕ）−スズ（Ｓｎ）はんだ（融点約２８０℃）により構成した場合でも、下側溶着層３１は合金化により融点が上昇しているので、上側溶着層４１を加熱する際に下側溶着層３１も溶融して半導体レーザ素子１０の位置がずれてしまうおそれがない。
【００４０】
半導体レーザ素子１０を上側サブマウント４０に溶着させたのち、下側サブマウント３０を、例えば鉛を含まないはんだ（融点約２２０℃）よりなる接着層３２を間にしてヒートシンク２１に載せ、加熱処理を施す。これにより、図３に示したように、下側サブマウント３０、半導体レーザ素子１０および上側サブマウント４０を順に積層したものを、ヒートシンク２１上に接着層３２を間にして接着させる。ここでは、半導体レーザ素子１０の第１面１０Ａおよび第２面１０Ｂの両方に、それよりも熱膨張係数の低い下側サブマウント３０および上側サブマウント４０をそれぞれ配設するようにしたので、半導体レーザ素子１０の第１面１０Ａ側と第２面１０Ｂ側とで熱膨張係数の均衡がとれて、下側サブマウント３０および上側サブマウント４０の熱膨張係数が低くてもそれらの反りを抑制することができ、水平な状態でヒートシンク２１に配設することができ、実装精度を高めることができる。
【００４１】
下側サブマウント３０とヒートシンク２１とを接着させたのち、ヒートシンク２１上に絶縁板２３を介して電極部材２２を固定し、ワイヤ５０の一端部を電極部材２２の段部２２Ｃに接合し、ワイヤ５０の他端部を上側サブマウント４０に接合する。そののち、電極部材２２の段部２２Ｃに保護部材２４を固定する。以上により、図２に示した半導体レーザ装置が完成する。
【００４２】
なお、上述した製造方法では、上側溶着層４１と下側溶着層３１とを両方とも金（Ａｕ）−スズ（Ｓｎ）はんだにより構成し、接着層３２を鉛を含まないはんだにより構成した場合について説明したが、下側溶着層３１と上側溶着層４１とを異なるはんだにより構成するようにしてもよい。例えば、下側溶着層３１を金（Ａｕ）−スズ（Ｓｎ）はんだ（融点約２８０℃）、上側溶着層４１を鉛を含まないはんだ（融点約２２０℃）、接着層３２をインジウムを主成分とする低融点のはんだ（融点約１５０℃）により構成するようにしてもよい。
【００４３】
この半導体レーザ装置では、各レーザダイオードチップ１１のｎ側電極１５とｐ側電極１４との間に所定の電圧が印加されると、半導体層１３の活性層に電流が注入され、電子−正孔再結合により発光が起こる。ここでは、半導体レーザ１０よりも熱膨張係数の低い下側サブマウント３０が半導体レーザ素子１０の第２面１０Ｂに配設されているだけでなく、下側サブマウント３０と同程度に低い熱膨張係数を有する上側サブマウント４０が半導体レーザ１０の第１面１０Ａにも配設されているので、下側サブマウント３０および上側サブマウント４０の熱膨張係数が低くてもそれらの反りが抑制され、実装精度が高くなっている。よって、特に６３０μｍ以上６９０μｍ以下の波長域に発振波長を有する赤色の半導体レーザ素子において安定した特性が得られる。
【００４４】
このように本実施の形態の半導体レーザ装置では、半導体レーザ素子１０よりも熱膨張係数の低い下側サブマウント３０を半導体レーザ素子１０の第２面１０Ｂに配設する一方、半導体レーザ素子１０の第１面１０Ａにも、半導体レーザ素子１０よりも熱膨張係数の低い上側サブマウント４０を配設するようにしたので、半導体レーザ素子１０の第１面１０Ａ側と第２面１０Ｂ側とで熱膨張係数の均衡がとれて、下側サブマウント３０および上側サブマウント４０の熱膨張係数が低くてもそれらの反りを抑制することができ、水平な状態でヒートシンク２１に配設することができる。よって、実装精度を高めることができる。特に、６３０μｍ以上６９０μｍ以下の波長域に発振波長を有する赤色の半導体レーザ素子１０において安定した特性を得ることができる。また、下側サブマウント３０および上側サブマウント４０を下側溶着層３１および上側溶着層４１を間にして接着させるようにしたので、半導体レーザ素子１０で発生した熱を下側サブマウント３０および上側サブマウント４０を介して効率よく放散させることができ、排熱性を高めることができる。よって、高出力レーザにも対応可能である。
【００４５】
更に、下側サブマウント３０および上側サブマウント４０をほぼ同程度の熱膨張係数にしたので、半導体レーザ素子１０に無理な負荷がかかることがなく、信頼性を向上させることができる。
【００４６】
加えて、上側サブマウント４０を設けることにより、半導体レーザ素子１０に直接ワイヤ５０を打つ必要もなくなる。よって、超音波や熱によるダメージを軽減し、半導体レーザ素子１０の欠けやｐ側電極１４の剥離などの不具合を回避することができる。
【００４７】
以下、上記実施の形態の変形例について説明する。これらの変形例は、半導体レーザ素子１０の第１面１０Ａ側にも上側ヒートシンクを配置することにより、排熱性を更に向上させるようにしたものである。
【００４８】
〔変形例１〕
例えば図８に示したように、上側サブマウント４０上に、上側接着層６１を間にして、ブロック状の上側ヒートシンク６０が重ねて配置されているものが好ましい。上側ヒートシンク６０の構成材料としては、銅の表面に金よりなる薄膜を形成したもの、またはダイヤモンドが挙げられる。また、上側接着層６１は、例えば、厚みが３μｍないし５μｍであり、接着層３２と同様の材料により構成されている。
【００４９】
〔変形例２〕
また、上側ヒートシンクはブロック状のものには限られず、例えば図９および図１０に示したような薄板状の上側ヒートシンク７０を設けるようにしてもよい。この上側ヒートシンク７０は、例えば、上部サブマウント４０に固定された接合部７１と、この接合部７１から横方向に延びた架橋部７２とを有しており、架橋部７２の端部７２Ａは電極部分２２の段部２２Ｃに固定されている。熱は横方向にも比較的広がりやすいので、このような上側ヒートシンク７０を設けることにより、上方向だけでなく横方向の排熱性を高め、半導体レーザ素子１０で発生した熱を電極部分２２へと放散させることができる。
【００５０】
上側ヒートシンク７０は、例えば、厚みが数１０μｍないし数１００μｍ程度の銅板により構成され、表面に金（Ａｕ）よりなる薄膜が形成されている。接合部７１および架橋部７２の端部７２Ａは、図示しないが、例えばはんだよりなる接着層を間にして、上側サブマウント４０および電極部分２２の段部２２Ｃにそれぞれ接着されていてもよい。あるいは、接合部７１および架橋部７２の端部７２Ａは、表面の金（Ａｕ）よりなる薄膜を利用して、加熱または超音波による圧着により、上側サブマウント４０および電極部分２２の段部２２Ｃにそれぞれ接合されていてもよい。
【００５１】
また、上側ヒートシンク７０は、ワイヤ５０による電気的接続に支障を生じない平面形状を有することが好ましい。例えば、上側ヒートシンク７０の架橋部７２は櫛歯状とされており、ワイヤ５０の隙間に配置されている。このようにすることにより、ワイヤ５０による電気的接続を妨げずに排熱性を高めることができ、上側ヒートシンク７０の構成材料として導電性の低いものでも利用可能であり、材料の選択の幅を広くすることができる。
【００５２】
更に、図１１および図１２に示したように、上側ヒートシンク７０の架橋部７２に、半導体レーザ素子１０の微妙な厚みの違いを吸収するための高さ調整構造７２Ｂが形成されていることが好ましい。このような高さ調整構造７２Ｂを設けることにより、半導体レーザ素子１０に対して負荷がかかることを防ぎ、割れや欠けを抑制して信頼性を向上させることができるからである。また、半導体レーザ素子１０の厚みに合わせて上側ヒートシンク７０の寸法を厳密に決める必要をなくすことができるからである。高さ調整構造７２Ｂとしては、アコーディオン状の伸縮構造などが好ましい。
【００５３】
なお、上側ヒートシンク７０の架橋部７２の平面形状は、ワイヤ５０による電気的接続に支障がなければ、図１０に示したような櫛歯状に限られない。例えば、図１３および図１４に示したように、架橋部７２の端部を連結する連結部７２Ｃが形成されていてもよい。更に、図１５および図１６に示したように、架橋部７２の端部を連結する連結部７２Ｃが形成されると共に、ワイヤ５０を打つ位置のみに窓部７３が設けられたものでもよい。なお、窓部７３の形状は特に限定されない。図１３ないし図１６に示した変形例においても、架橋部７２に図１１および図１２に示したような高さ調整構造７２Ｂを設けてもよい。
【００５４】
更にまた、図１７および図１８に示したように、上側ヒートシンク７０の接合部７１は、半導体レーザ素子１０の上面１０Ｂに、上側サブマウント４０を設けずに直接固定されていてもよい。このようにすれば、簡素な構成でありながら高い排熱性を得ることができる。なお、この場合にも、図１１および図１２に示したような高さ調整構造７２Ｂを設けたり、図１３および図１４に示したような連結部７２Ｃを設けたり、あるいは図１５および図１６に示したような窓部７３を設けるようにすることが可能である。
【００５５】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、半導体レーザ装置がバー状の半導体レーザ素子１０を備えた場合について説明したが、半導体レーザ素子１０はレーザダイオードチップでもよい。
【００５６】
また、例えば、上記実施の形態では、半導体レーザ素子１０が、第１面１０Ａを上側サブマウント４０に、第２面１０Ｂを下側サブマウント３０にそれぞれ対向させるようにして配設されている場合について説明したが、第１面１０Ａを下側サブマウント３０に、第２面１０Ｂを上側サブマウント４０にそれぞれ対向させるようにして配設されていてもよい。
【００５７】
更に、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態では、ＧａＡｓよりなる基板１２上にＡｌＧａＩｎＰ系化合物半導体よりなる半導体層１３を有する赤色レーザを例として説明したが、本発明は、例えばＧａＡｓ系（赤外：７８０ｎｍないし８５０ｎｍ）あるいはＧａＮ系（発振波長４００ｎｍないし５００ｎｍ）などの他の材料系にも適用可能である。
【００５８】
加えて、上記実施の形態では、半導体レーザを例として説明したが、本発明は半導体レーザ以外にも、スーパールミネッセントダイオードなどの他の半導体発光素子にも適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明による半導体レーザ装置は、例えば、レーザプロジェクタに利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】図２に示した半導体レーザ素子の一部を拡大して表す斜視図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係る半導体レーザ装置の全体構成を表す分解斜視図である。
【図３】図２に示した半導体レーザ装置のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った構造を拡大して表す断面図である。
【図４】図２に示した半導体レーザ装置の光の出射方向における構造を拡大して表す断面図である。
【図５】図２に示した半導体レーザ装置の変形例を表す断面図である。
【図６】図２に示した半導体レーザ装置の他の変形例を表す断面図である。
【図７】図２に示した半導体レーザ装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図８】図２に示した半導体レーザ装置の変形例を表す断面図である。
【図９】図２に示した半導体レーザ装置の他の変形例を表す平面図である。
【図１０】図９に示した半導体レーザ装置の光の出射方向における構造を表す断面図である。
【図１１】図２に示した半導体レーザ装置の更に他の変形例を表す平面図である。
【図１２】図１１に示した半導体レーザ装置の光の出射方向における構造を表す断面図である。
【図１３】図２に示した半導体レーザ装置の更に他の変形例を表す平面図である。
【図１４】図１３に示した半導体レーザ装置の光の出射方向における構造を表す断面図である。
【図１５】図２に示した半導体レーザ装置の更に他の変形例を表す平面図である。
【図１６】図１５に示した半導体レーザ装置の光の出射方向における構造を表す断面図である。
【図１７】図２に示した半導体レーザ装置の更に他の変形例を表す平面図である。
【図１８】図１７に示した半導体レーザ装置の光の出射方向における構造を表す断面図である。
【図１９】従来の半導体レーザ装置の問題点を説明するための断面図である。
【図２０】従来の半導体レーザ装置の問題点を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【００６１】
１０…半導体レーザ素子、１０Ａ…第１面、１０Ｂ…第２面、１１…レーザダイオードチップ、１２…基板、１３…半導体層、１４…ｐ側電極、１５…ｎ側電極、２１…ヒートシンク、２２…電極部分、２３…絶縁板、２４…保護部材、３０…下側サブマウント、３１…下側溶着層、３２…接着層、４０…上側サブマウント、４１…上側溶着層、５０…ワイヤ、６０，７０…上側ヒートシンク、７１…接合部、７２…架橋部、７２Ａ…端部、７２Ｂ…高さ調整構造、７２Ｃ…連結部、７３…窓部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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