(57)【要約】【課題】  簡単に製造することができ、凸刷版の洗浄と再使用が容易で、高分子電界発光素子への不純物の混入を防止し、ブランケットからの除去率の向上した凸版反転オフセット法用凸刷版とその製造方法及びその凸刷版を用いた高分子電界発光素子の製造方法を提供する。【解決手段】  凸版反転オフセット法により、高分子電界発光素子を製造する際に用いられる凸刷版であって、その表面に、厚さ５０〜１００ｎｍの有機材料層Ａを有する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸版反転オフセット法により、高分子電界発光素子を製造する際に用いられる凸刷版であって、
その表面に、厚さ５０〜１００ｎｍの有機材料層Ａを有することを特徴とする凸版反転オフセット法用凸刷版。
【請求項２】
前記凸刷版の凸部表面に、前記有機材料層Ａを有する請求項１記載の凸版反転オフセット法用凸刷版。
【請求項３】
前記有機材料層Ａが、正孔輸送材料または高分子発光媒体材料からなる請求項１または２に記載の凸版反転オフセット法用凸刷版。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の凸版反転オフセット法用凸刷版の製造方法であって、
前記凸刷版の表面に、塗布法により有機材料層Ａを形成することを特徴とする凸版反転オフセット法用凸刷版の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の凸版反転オフセット法用凸刷版の製造方法であって、
前記凸刷版の表面に、転写法により有機材料層Ａを形成することを特徴とする凸版反転オフセット法用凸刷版の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の凸版反転オフセット法用凸刷版を用いて、凸版反転オフセット法により高分子電界発光素子を製造することを特徴とする高分子電界発光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凸版反転オフセット法用凸刷版とその製造方法及びその凸刷版を用いた高分子電界発光素子の製造方法に関するものであり、特に、ブランケットから不要な有機材料層Ｂを除去して、パターンを形成する際の除去率の向上した凸版反転オフセット法用凸刷版とその製造方法及びその凸刷版を用いた高分子電界発光素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、対向電極間に高分子発光媒体層を設けた高分子電界発光素子（「有機エレクトロルミネッセンス素子」ともいう。）の開発が進められている。この高分子電界発光素子の大量生産に適した製造方法として、例えば、凸版反転オフセット法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この方法は、まずシリコーン樹脂製ブランケットの全周面に、高分子発光媒体材料からなる有機材料Ｂ（「インキ」ともいう。）を塗布して、有機材料層Ｂを形成する。次いで、このブランケットに、所定のパターニングをした凸刷版（「除去版」ともいう。）の凸部を押圧して、ブランケットから有機材料層Ｂの一部を凸部に転写する。
【０００４】
これにより、ブランケット上の不要な有機材料層Ｂが除去され、必要な有機材料層Ｂがパターニングされてブランケット上に残る。次いで、このパターニングされた有機材料層Ｂを、ブランケットから、電極が設けられた基板上に転写して、高分子発光媒体層を形成し、高分子電界発光素子を製造するものである。
【０００５】
上記凸版反転オフセット法では、ブランケットから凸刷版に、不要な有機材料層Ｂを１００％転写して除去するとともに、ブランケットから高分子電界発光素子基板上に、必要な有機材料層Ｂを１００％転写することが要求されている。
【０００６】
そのため、凸刷版で不要な有機材料層Ｂを完全に除去した後、ブランケット上には、必要なパターニング部分の有機材料層Ｂのみが残っていることが望ましい。しかしながら、従来の凸刷版では、その材料にガラスを用いているため、凸刷版による除去率が５０〜６０％と低いという問題があった。
【０００７】
そのため、刷版による除去率を向上させる方策として、凸刷版の表面に粘着性材料を塗布する方法や、凹刷版の凹部エッジにバリを設けて凸部のように突き出させる方法などが検討されている。
【特許文献１】特開２００３−１７２４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、凸刷版の表面に粘着性材料を塗布する方法にあっては、ブランケットから不要な有機材料層Ｂを除去する際に、この粘着性材料が、必要な有機材料層Ｂに拡散して、最終的な高分子発光媒体層を汚染し、高分子電界発光素子の特性を劣化させるおそれがあった。そのため、高分子電界発光素子の製造工程にあっては、高分子電界発光素子の材料となる物質以外の材料は、不純物の混入防止の観点から、使用したくないという要望がある。
【０００９】
また、凹部エッジにバリを設けて凸部のように突き出させる方法にあっては、ブランケットに押圧する際のブランケットへのキズを防止するため、有機材料Ｂを塗布した膜厚の１／２程度（５０ｎｍ以下）の高さに、バリを制御する必要があり、高精度の加工を必要とする点から困難であった。
【００１０】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、簡単に製造することができ、凸刷版の洗浄と再使用が容易で、高分子電界発光素子への不純物の混入を防止し、ブランケットからの除去率の向上した凸版反転オフセット法用凸刷版とその製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
また、本発明は、上記凸刷版を用いた高分子電界発光素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
かかる課題を解決するため、
請求項１にかかる発明は、凸版反転オフセット法により、高分子電界発光素子を製造する際に用いられる凸刷版であって、その表面に、厚さ５０〜１００ｎｍの有機材料層Ａを有することを特徴とする凸版反転オフセット法用凸刷版である。
【００１３】
請求項２にかかる発明は、前記凸刷版の凸部表面に、前記有機材料層Ａを有する請求項１記載の凸版反転オフセット法用凸刷版である。
【００１４】
請求項３にかかる発明は、前記有機材料層Ａが、正孔輸送材料または高分子発光媒体材料からなる請求項１または２に記載の凸版反転オフセット法用凸刷版である。
【００１５】
請求項４にかかる発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の凸版反転オフセット法用凸刷版の製造方法であって、前記凸刷版の表面に、塗布法により有機材料層Ａを形成することを特徴とする凸版反転オフセット法用凸刷版の製造方法である。
【００１６】
請求項５にかかる発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の凸版反転オフセット法用凸刷版の製造方法であって、前記凸刷版の表面に、転写法により有機材料層Ａを形成することを特徴とする凸版反転オフセット法用凸刷版の製造方法である。
【００１７】
請求項６にかかる発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の凸版反転オフセット法用凸刷版を用いて、凸版反転オフセット法により高分子電界発光素子を製造することを特徴とする高分子電界発光素子の製造方法である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の凸版反転オフセット法用凸刷版とその製造方法によれば、凸刷版の表面に有機材料層Ａを有することにより、有機材料層Ｂと凸刷版の接着性が向上して、ブランケットからの除去率を１００％とすることができる。
【００１９】
また、この有機材料層Ａは、高分子電界発光素子を汚染する材料ではないため、高分子電界発光素子への不純物の混入を防止することができる。
【００２０】
さらに、上記凸刷版は簡単に製造することができ、有機材料層Ａは水や有機溶媒に可溶であるため、凸刷版の洗浄と再使用を容易にすることができる。
【００２１】
また、本発明の高分子電界発光素子の製造方法によれば、上記凸刷版を用いることにより、不純物の混入による特性劣化を生じない高分子電界発光素子を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態に係る凸版反転オフセット法用凸刷版の例を図面に示し、詳細に説明する。図１は、本発明に係る凸版反転オフセット法用凸刷版１にブランケット２から有機材料層Ｂ４を転写除去する様子を示した模式図である。
【００２３】
本発明の凸版反転オフセット法用凸刷版１は、その表面に、厚さ５０〜１００ｎｍの有機材料層Ａ３を有するものである。
【００２４】
凸刷版１をなす材料としては、石英ガラス、超硬質ガラス、普通硬質ガラス、並ガラスなどの各種ガラスあるいは金属が用いられる。
【００２５】
また、有機材料層Ａ３は、ブランケット２上に形成され、最終的には高分子発光媒体層として機能する有機材料層Ｂ４と同じ材料のものである。そのなかでも、正孔輸送材料または高分子発光媒体材料からなるのが好ましい。
【００２６】
このような正孔輸送材料としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）等の水溶性材料が挙げられる。また、高分子発光媒体材料としては、ポリパラフェニレンビニレン（ＰＰＶ）やポリフルオレン（ＰＦ）等の有機溶媒可溶性材料が挙げられる。
【００２７】
有機材料層Ａ３を有機材料層Ｂ４と同じ材料とすることにより、有機材料層Ｂ４との接着性が向上して、ブランケット２からの不要な有機材料層Ｂの除去率を向上させることができる。
【００２８】
また、この有機材料層Ａ３自身は、高分子電界発光素子内に組み込まれて機能するものではないが、有機材料層Ｂ４と同じ材料であるため、有機材料層Ｂ４に拡散して高分子電界発光素子内に侵入しても、これを汚染する材料ではない。そのため、有機材料層Ａ３を用いることにより、製造工程での高分子電界発光素子への不純物の混入を防止することができる。
【００２９】
また、有機材料層Ａ３は、水溶性材料または有機溶媒可溶性材料からなるため、水・有機溶媒で容易に洗浄することができ、凸刷版１を再使用することができる。
【００３０】
この有機材料層Ａ３は、厚さ５０〜１００ｎｍ、好ましくは厚さ６０〜８０ｎｍで、凸刷版１の表面に設けられており、凸刷版１の凸部表面にのみ設けられているのが好ましい。有機材料層Ａ３の厚さを５０〜１００ｎｍとすることにより、ブランケット２上の有機材料層Ｂ４との接着性が向上して、不要な有機材料層Ｂの除去率を向上させることができる。
【００３１】
シリコーン樹脂製ブランケット２の全周面に、厚さ６０〜８０ｎｍの有機材料層Ｂ４を形成し、凸刷版１を押圧することにより、ブランケット２上の不要な有機材料層Ｂが有機材料層Ａ３上に転写除去され、ブランケット２上には必要な有機材料層Ｂがパターニングされて残る。この必要な有機材料層Ｂを、ブランケット２から、電極が設けられた基板上に転写して、乾燥・焼成し、高分子発光媒体層を形成する。
【００３２】
本発明の凸版反転オフセット法用凸刷版は、凸刷版の表面に所定の厚さの有機材料層Ａを有することにより、有機材料層Ｂと凸刷版の接着性が向上して、ブランケットからの除去率を１００％とすることができる。
【００３３】
次に、本発明の凸版反転オフセット法用凸刷版の製造方法について説明する。この有機材料層Ａ３は、ダイコート等の湿式法により、水または有機溶媒で希釈した正孔輸送材料または高分子発光媒体材料を、凸刷版１の表面に直接塗布して形成することができる。
【００３４】
また、有機材料層Ａ３は、凸刷版１の表面に転写法により形成することができる。図２は、本発明に係る転写法による凸版反転オフセット法用凸刷版の製造工程を示した模式図であり、（ａ）は、凸刷版１の表面に有機材料層Ａ３を形成する様子を示した模式図であり、（ｂ）は、凸刷版１の表面に有機材料層Ａ３が形成された除去版１０を示した模式図であり、（ｃ）は、この除去版１０を、有機材料層Ｂ４が形成されたブランケット２に押圧する様子を示した模式図であり、（ｄ）はブランケット２から、不要な有機材料層Ｂ４ａを除去版１０に転写する様子を示した模式図であり、（ｅ）は、ブランケット２上に残った、必要な有機材料層Ｂ４ｂを、電極が設けられた高分子電界発光素子基板６上に転写する様子を示した模式図である。
【００３５】
まず、図２（ａ）に示したように、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂からなる基板５上に、ダイコートやバーコータ等により、厚さ１〜２μｍの正孔輸送材料または高分子発光媒体材料からなる有機材料Ａ３を形成する。
【００３６】
次いで、基板５をホットプレート等で加熱して、有機材料Ａ３のガラス転移点（Ｔｇ）近傍まで昇温した後、凸刷版１の凸部を有機材料Ａ３に押圧する。これにより、図２（ｂ）に示したような、凸刷版１の表面に有機材料層Ａ３が形成された除去版１０を作製する。
【００３７】
次いで、図２（ｃ）に示したように、除去版１０の凸部に、有機材料層Ｂ４が設けられたブランケット２を押圧する。図２（ｄ）に示したように、不要な有機材料層Ｂ４ａが除去版１０の凸部の有機材料層Ａ３上に転写される。そして、ブランケット２上には、必要な有機材料層Ｂ４ｂがパターニングされる。
【００３８】
次いで、図２（ｅ）に示したように、有機材料層Ｂ４ｂを、電極が設けられた高分子電界発光素子基板６上に転写して、乾燥・焼成し、高分子発光媒体層とする。
【００３９】
本発明の凸版反転オフセット法用凸刷版の製造方法によれば、上記凸刷版を簡単に製造することができ、また、有機材料層Ａを水や有機溶媒で洗浄して、凸刷版を何度でも再使用することができる。
【００４０】
本発明の高分子電界発光素子の製造方法は、上記凸刷版を用いて、背景技術において具体的に説明した凸版反転オフセット法により、高分子電界発光素子の少なくとも正孔輸送層または高分子発光媒体層などのパターニングを必要とする各構成層を形成するものである。この製造方法に用いられる構成材料や手法は背景技術において説明した公知の製造方法と同様である。
【００４１】
本発明の高分子電界発光素子の製造方法によれば、上記凸刷版を用いることにより、高分子電界発光素子を汚染する材料の混入を防止することができるため、不純物の混入による特性劣化を生じない高分子電界発光素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係る凸版反転オフセット法用凸刷版にブランケットから有機材料層Ｂを転写除去する様子を示した模式図である。
【図２】本発明に係る転写法による凸版反転オフセット法用凸刷版の製造工程を示した模式図であり、（ａ）は、凸刷版の表面に有機材料層Ａを形成する様子を示した模式図であり、（ｂ）は、凸刷版の表面に有機材料層Ａが形成された除去版を示した模式図であり、（ｃ）は、この除去版を、有機材料層Ｂが形成されたブランケットに押圧する様子を示した模式図であり、（ｄ）はブランケットから、不要な有機材料層Ｂを除去版に転写する様子を示した模式図であり、（ｅ）は、ブランケット上に残った、必要な有機材料層Ｂを、電極が設けられた高分子電界発光素子基板上に転写する様子を示した模式図である。
【符号の説明】
【００４３】
１  凸版反転オフセット法用凸刷版
３  有機材料層Ａ
【図１】
2006236913.tif 000003
【図２】
2006236913.tif 000004