(57)【要約】【課題】異なる大きさの機能層を同一条件で乾燥させる場合でも、すべての大きさの機能層の上側の表面（上面）を平面とすることができる機能板の製造方法、機能板および電子機器を提供すること。【解決手段】本発明の機能板の製造方法は、基体と、基体上の複数の色要素に対応する部分にそれぞれ形成され、複数の異なる大きさの機能層とを備える機能板を製造する方法であり、色要素となるべき複数の区画が形成された基体と、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出手段とを相対的に移動させ、溶媒を含み、所定の機能層（スペーサＰｓ、正孔輸送層Ｏｔ、発光層Ｏｒ）形成用の液状材料をノズルから液滴として吐出して前記複数の区画に選択的に付与する工程と、区画に付与された機能層形成用の液状材料を乾燥して、機能層を形成する工程とを有し、機能層の大きさに応じて、前記機能層形成用の液状材料の溶媒として、常温において異なる蒸気圧のものを選択して用いる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、前記基体上の複数の色要素に対応する部分にそれぞれ形成され、複数の異なる大きさの機能層とを備える機能板の製造方法であって、
色要素となるべき複数の区画が形成された基体と、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出手段とを相対的に移動させ、溶媒を含み、所定の機能層形成用の液状材料を前記ノズルから液滴として吐出して前記複数の区画に選択的に付与する工程と、
前記区画に付与された機能層形成用の液状材料を乾燥して、機能層を形成する工程とを有し、
前記機能層の大きさに応じて、前記機能層形成用の液状材料の溶媒として、常温において異なる蒸気圧のものを選択して用いることを特徴とする機能板の製造方法。
【請求項２】
前記機能層の大きさが大きいほど、その機能層形成用の液状材料に用いる溶媒として、常温において蒸気圧が大きいものを選択して用いる請求項１に記載の機能板の製造方法。
【請求項３】
前記区画に付与された機能層形成用の液状材料の乾燥は、減圧下で行なわれる請求項１または２に記載の機能板の製造方法。
【請求項４】
前記機能層形成用の液状材料には、前記溶媒として２種以上のものが含まれる請求項１ないし３のいずれかに記載の機能板の製造方法。
【請求項５】
前記機能層は、発光層であり、
前記機能層形成用の液状材料は、発光層形成用の液状材料であり、
当該機能板は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である請求項１ないし４のいずれかに記載の機能板の製造方法。
【請求項６】
赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記青色の発光層が最も大きく、該青色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いる請求項５に記載の機能板の製造方法。
【請求項７】
赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記赤色の発光層が最も大きく、該赤色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いる請求項５に記載の機能板の製造方法。
【請求項８】
赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記緑色の発光層が最も大きく、該緑色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いる請求項５に記載の機能板の製造方法。
【請求項９】
複数色の前記発光層を有し、該発光層の大きさが色毎に異なり、
最も大きな発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いる請求項５に記載の機能板の製造方法。
【請求項１０】
前記機能層は、カラーフィルタであり、
前記機能層形成用の液状材料は、カラーフィルタ形成用の液状材料であり、
当該機能板は、カラーフィルタ付基板である請求項１ないし４のいずれかに記載の機能板の製造方法。
【請求項１１】
基体と、前記基体上の複数の色要素に対応する部分にそれぞれ形成され、複数の異なる大きさの機能層とを備える機能板であって、
前記機能層は、該機能層の大きさに応じて選択された蒸気圧の溶媒を含む所定の機能層形成用の液状材料を、ノズルから液滴として吐出して付与し、乾燥させて形成されたものであることを特徴とする機能板。
【請求項１２】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の機能板の製造方法により製造された機能板を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能板の製造方法、機能板および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置（有機ＥＬディスプレイ）は、表示モジュールとして、例えば、携帯電話やＰＤＡ等の携帯用の電子機器に搭載されている。
このような有機ＥＬ表示装置の発光層は、いわゆるインクジェット法により形成される（例えば、特許文献１参照）。すなわち、発光層形成用の液状材料をノズルから液滴として吐出して付与し、乾燥させることにより形成される。これにより、フォトリソグラフィ工程によって形成する場合に比べ、製造工程数が減少し、生産性を向上させることができる等の利点がある。
【０００３】
また、輝度の低い色の発光層や、寿命の短い色の発光層については、他の色の発光層に比べて、その画素サイズを大きくすることにより、輝度の向上や、寿命の向上を図ることができることが知られている。
そして、インクジェット法による発光層の形成においては、製造時間の短縮を図るため、複数の異なる大きさ（画素サイズ）の発光層を同時に、同一の条件で乾燥させる。
【０００４】
ところで、発光層は、その厚さが均一であり、発光層の上側の表面（上面）は、平面であるのが好ましいが、発光層の大きさ（画素サイズ）が異なると、乾燥速度（乾燥し易さ）が異なる（発光層の大きさが大きいほど、乾燥速度が遅い）ので、複数の異なる大きさの発光層が存在する場合、これらの発光層の上面をすべて平面とすることは困難である。
すなわち、例えば、大小、２つの大きさの発光層が存在する場合、小さい発光層に最適な乾燥条件で乾燥を行なうと、大きい発光層にとっては、乾燥速度が遅過ぎてしまい、その大きい発光層は、上面が、平面にはならず、湾曲凸面となってしまう。逆に、大きい発光層に最適な乾燥条件で乾燥を行なうと、小さい発光層にとっては、乾燥速度が速過ぎてしまい、その小さい発光層は、上面が、平面にはならず、湾曲凹面となってしまう。
したがって、小さい発光層に最適な乾燥条件と大きい発光層に最適な乾燥条件の略中間の乾燥条件で乾燥を行なうのが一般的であるが、この場合も、大きい発光層の上面は、湾曲凸面、小さい発光層の上面は、湾曲凹面となる。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−５４２７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、異なる大きさの機能層を同一条件で乾燥させる場合でも、すべての大きさの機能層の上側の表面（上面）を平面とすることができる機能板の製造方法、機能板および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の機能板の製造方法は、基体と、前記基体上の複数の色要素に対応する部分にそれぞれ形成され、複数の異なる大きさの機能層とを備える機能板の製造方法であって、
色要素となるべき複数の区画が形成された基体と、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出手段とを相対的に移動させ、溶媒を含み、所定の機能層形成用の液状材料を前記ノズルから液滴として吐出して前記複数の区画に選択的に付与する工程と、
前記区画に付与された機能層形成用の液状材料を乾燥して、機能層を形成する工程とを有し、
前記機能層の大きさに応じて、前記機能層形成用の液状材料の溶媒として、常温において異なる蒸気圧のものを選択して用いることを特徴とする。
これにより、異なる大きさの機能層を同一条件で乾燥させる場合でも、すべての大きさの機能層の上側の表面（上面）を平面とすること、すなわち、膜厚（層厚）にバラツキが生じるのを防止することができる。
【０００８】
本発明の機能板の製造方法では、前記機能層の大きさが大きいほど、その機能層形成用の液状材料に用いる溶媒として、常温において蒸気圧が大きいものを選択して用いることが好ましい。
これにより、より確実に、すべての大きさの機能層の上側の表面（上面）を平面とすることができる。
【０００９】
本発明の機能板の製造方法では、前記区画に付与された機能層形成用の液状材料の乾燥は、減圧下で行なわれることが好ましい。
これにより、液状材料の乾燥速度を高めることができ、膜厚のバラツキを防止する効果がより顕著に発揮される。
本発明の機能板の製造方法では、前記機能層形成用の液状材料には、前記溶媒として２種以上のものが含まれることが好ましい。
例えば、沸点の異なる２種以上のもの、特に、比較的高沸点のものと中程度のものとを含むことにより、ノズルからの液滴の安定した吐出を可能とすることができるとともに、液滴（液体材料）の円滑な乾燥を図ることができる。
【００１０】
本発明の機能板の製造方法では、前記機能層は、発光層であり、
前記機能層形成用の液状材料は、発光層形成用の液状材料であり、
当該機能板は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることが好ましい。
本発明は、各種機能板の製造への適用に適するが、特に、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造への適用に適する。
【００１１】
本発明の機能板の製造方法では、赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記青色の発光層が最も大きく、該青色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いることが好ましい。
青色の発光層の構成材料、すなわち、青色の発光材料は、比較的寿命（耐久性）の短い材料が多いため、本発明は、特に、青色の発光層を他の色の発光層より大きく形成する有機エレクトロルミネッセンス表示装置への適用に適している。
【００１２】
本発明の機能板の製造方法では、赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記赤色の発光層が最も大きく、該赤色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いることが好ましい。
本発明は、特定の色の発光層を他の色の発光層より大きく形成する有機エレクトロルミネッセンス表示装置への適用に適している。
【００１３】
本発明の機能板の製造方法では、赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記緑色の発光層が最も大きく、該緑色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いることが好ましい。
本発明は、特定の色の発光層を他の色の発光層より大きく形成する有機エレクトロルミネッセンス表示装置への適用に適している。
本発明の機能板の製造方法では、複数色の前記発光層を有し、該発光層の大きさが色毎に異なり、
最も大きな発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いることが好ましい。
本発明は、特定の色の発光層を他の色の発光層より大きく形成する有機エレクトロルミネッセンス表示装置への適用に適している。
【００１４】
本発明の機能板の製造方法では、前記機能層は、カラーフィルタであり、
前記機能層形成用の液状材料は、カラーフィルタ形成用の液状材料であり、
当該機能板は、カラーフィルタ付基板であることが好ましい。
本発明は、各種機能板の製造への適用に適するが、特に、カラーフィルタ付基板の製造への適用に適する。
【００１５】
本発明の機能板は、基体と、前記基体上の複数の色要素に対応する部分にそれぞれ形成され、複数の異なる大きさの機能層とを備える機能板であって、
前記機能層は、該機能層の大きさに応じて選択された蒸気圧の溶媒を含む所定の機能層形成用の液状材料を、ノズルから液滴として吐出して付与し、乾燥させて形成されたものであることを特徴とする。
これにより、各機能層の膜厚のバラツキを防止して、信頼性の高い機能板が得られる。
本発明の電子機器は、本発明の機能板の製造方法により製造された機能板を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の機能板の製造方法、機能板および電子機器を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の機能板を適用した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置（有機ＥＬディスプレイ）を有する有機ＥＬ表示モジュールの実施形態を示す平面図、図２は、有機ＥＬ表示装置の第１実施形態におけるガラス基板上に形成された赤色、緑色、青色の各色に対応するサブピクセルのうち、赤色に対応したサブピクセルを示す断面図、図３は、有機ＥＬ表示装置の第１実施形態における有機ＥＬ素子を示す断面図、図４は、有機ＥＬ表示装置の第１実施形態における各色に対応する画素回路（各色に対応するサブピクセル）からの光の出射を説明するための図、図５は、有機ＥＬ表示装置の第１実施形態におけるスペーサの形成方法を説明するための図、図６は、有機ＥＬ表示装置の第１実施形態における発光層の形成方法を説明するための図である。
【００１７】
なお、以下の説明では、説明の便宜上、図１および図２中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。図３〜図６中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
図１に示すように、有機ＥＬ表示モジュール１０は、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置（有機ＥＬディスプレイ）１１を有しており、その有機ＥＬ表示装置１１の図中下側にはフレキシブル基板１２が接続されている。
【００１８】
有機ＥＬ表示装置１１は、本実施形態ではトップエミッション型（トップエミッション構造）の表示装置（ディスプレイ）であって、平面板状の基板としてのガラス基板（基板）１３を備えている。そのガラス基板１３の表面（画素形成面１３ａ）の略中央位置には、四角形状の表示領域１４が形成されている。
その表示領域１４内には、図１において上下方向（列方向）に延びる複数のデータ線Ｌｄと、各データ線Ｌｄに併設される電源線Ｌｖとが所定の間隔をおいて配列されている。また、データ線Ｌｄと直交する方向（行方向）に延びる複数の走査線Ｌｓが所定の間隔をおいて配列されている。これらデータ線Ｌｄと走査線Ｌｓの交差する位置には、それぞれ赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）にそれぞれ対応したサブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂが形成されている。すなわち、サブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂが、それぞれ対応するデータ線Ｌｄ、電源線Ｌｖおよび走査線Ｌｓに接続されることによってマトリックス状に、繰り返し配列されている。そして、走査線Ｌｓ上の、順番に繰り返し配設される赤色、緑色、青色に対応したサブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂをそれぞれ一つの組として、画素回路１５を構成している。
【００１９】
画素回路１５は、駆動電流が供給されることによって発光する電気光学素子としての有機ＥＬ素子（有機エレクロトルミネッセンス素子）１６、その有機ＥＬ素子１６の発光を制御する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７、さらには図示しない容量素子等を有している。
なお、本実施形態では、赤色用の有機ＥＬ素子１６と緑色用の有機ＥＬ素子１６とが略等しい大きさ（画素サイズ）で設けられ、これらより青色用の有機ＥＬ素子１６が大きい大きさ（画素サイズ）で設けられている。
【００２０】
画素形成面１３ａの一側端であって表示領域１４の左側には、ＣＯＧ（Chip on glass ）方式で実装される走査線駆動回路１８が形成されている。走査線駆動回路１８は、前記各走査線Ｌｓに対して、走査線Ｌｓ上のサブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂを選択するための走査信号を出力するようになっている。また、走査線駆動回路１８は、図示しないプリント基板に接続されて、そのプリント基板の制御用ＩＣ等から出力される制御信号に基づいて、前記走査信号を所定の走査線Ｌｓに所定のタイミングで出力するようになっている。そして、画素形成面１３ａの略全面を四角形状の保護ガラス基板１３ｂ（図１における２点鎖線）で覆うことによって、これら走査線駆動回路１８および表示領域１４が保護されるようになっている。
【００２１】
画素形成面１３ａの一側端であって表示領域１４の下側には、データ線端子形成部１９が形成されている。そのデータ線端子形成部１９には、各データ線Ｌｄに対応する複数のデータ線端子（図示しない）が形成されている。各データ線端子は、例えば、銅箔等で形成される端子であって、ガラス基板１３の下側辺１３ｃに沿って等ピッチで配列されてそれぞれ対応するデータ線Ｌｄに電気的に接続されている。そして、各データ線端子が前記保護ガラス基板１３ｂから露出することによって、各データ線Ｌｄが、外部との電気的な接続を可能にする。
【００２２】
図１に示すように、画素形成面１３ａの一側端であってデータ線端子形成部１９の表側には、フレキシブル基板１２が接続されている。そのフレキシブル基板１２には、基板本体２０が備えられている。基板本体２０は、上下方向に長い長尺状に形成された可撓性基板であって電気的絶縁性を有するポリイミド樹脂等で形成されている。そして、フレキシブル基板１２は、その基板本体２０の表面（図１における裏側の面）を画素形成面１３ａと向かい合わせるように配設されている。基板本体２０の表面であって、前記データ線端子形成部１９と対向する位置には、外部端子形成部２３が設けられている。その外部端子形成部２３には、複数の接続端子（図示しない）が前記データ線端子と相対するピッチ幅で形成されている。そして、フレキシブル基板１２は、いわゆる異方性導電膜（ＡＣＦ）方式によって各接続端子と対応するデータ線端子とを電気的に接続して有機ＥＬ表示装置１１（有機ＥＬ表示モジュール１０）に実装される。
【００２３】
外部端子形成部２３の下側には、駆動用ＩＣチップ２７が配設されている。駆動用ＩＣチップ２７は、有機ＥＬ素子１６を発光させるための駆動信号および駆動電圧を生成し供給する。駆動用ＩＣチップ２７は、前記異方性導電膜（ＡＣＦ）方式によって基板本体２０（フレキシブル基板１２）に実装されている。
そして、その駆動用ＩＣチップ２７の出力側（有機ＥＬ表示装置１１側）に形成された図示しない接続端子と前記外部端子形成部２３に形成された接続端子とが出力配線３０によって接続されることによって、駆動用ＩＣチップ２７が、各データ線Ｌｄおよび電源線Ｌｖと電気的に接続される。また、駆動用ＩＣチップ２７の入力側（図１中下側）に形成された図示しない接続端子と図示しないプリント基板の制御用ＩＣが入力配線３１によって接続されることによって、駆動用ＩＣチップ２７が、その制御用ＩＣと電気的に接続される。
【００２４】
そして、駆動用ＩＣチップ２７は、制御用ＩＣから出力される制御信号に基づいて、駆動電圧を電源線Ｌｖに供給するとともに、データ信号を所定のデータ線Ｌｄに所定のタイミングで出力する。すなわち、駆動用ＩＣチップ２７が前記走査信号によって選択された画素回路１５（サブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ）に前記データ信号を出力すると、画素回路１５（サブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ）の有機ＥＬ素子１６がそのデータ信号に基づいて発光する。
このように、本実施形態では、赤色、緑色、青色にそれぞれ対応したサブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂを設けることにより、フルカラー表示を行うように構成されている。
【００２５】
次に、前記サブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂについて説明するが、これらは、後述する陽極Ｐｃ、すなわち、スペーサＰｓの膜厚（厚さ）が互いに異なり、発光層Ｏｒの構成材料が異なる以外は同様であるので、以下、代表的に、サブピクセル１５Ｒについて説明する（サブピクセル１５Ｇ、１５Ｂの図示および説明は省略する）。
図２に示すように、ＴＦＴ１７は、その最下層にチャンネル膜Ｂ１を備えている。チャンネル膜Ｂ１は、画素形成面１３ａ上に形成される島状のｐ型ポリシリコン膜であって、図２における左右両側には、活性化した図示しないｎ型領域（ソース領域およびドレイン領域）を備えている。すなわち、ＴＦＴ１７は、いわゆるポリシリコン形ＴＦＴである。
【００２６】
チャンネル膜Ｂ１の上側中央位置には、画素形成面１３ａ側から順に、ゲート絶縁膜Ｄ０、ゲート電極Ｐｇおよびゲート配線Ｍ１が形成されている。ゲート絶縁膜Ｄ０は、例えば、シリコン酸化膜等の光透過性を有する絶縁膜であって、画素形成面１３ａの略全面に堆積されている。ゲート電極Ｐｇは、例えば、タンタル等の低抵抗金属膜であって、チャンネル膜Ｂ１の略中央位置に形成されている。ゲート配線Ｍ１は、例えば、ＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜であって、ゲート電極Ｐｇと駆動用ＩＣチップ２７（図１参照）とを電気的に接続している。そして、駆動用ＩＣチップ２７がゲート配線Ｍ１を介してゲート電極Ｐｇにデータ信号を入力すると、ＴＦＴ１７は、そのデータ信号に基づいてオン状態となる。
【００２７】
チャンネル膜Ｂ１であって前記ソース領域およびドレイン領域の上側には、図２において上側に延びるソースコンタクトＳｃおよびドレインコンタクトＤｃが形成されている。各コンタクトＳｃ、Ｄｃは、例えば、チャンネル膜Ｂ１とのコンタクト抵抗を低くする金属シリサイド等の金属膜で形成されている。そして、これら各コンタクトＳｃ、Ｄｃおよびゲート電極Ｐｇ（ゲート配線Ｍ１）は、例えば、シリコン酸化膜等からなる第１層間絶縁膜Ｄ１によってそれぞれ電気的に絶縁されている。
【００２８】
各コンタクトＳｃ、コンタクトＤｃの上側には、それぞれ、例えば、アルミニウム等の低抵抗金属膜からなる電源線Ｍ２ｓおよび陽極線Ｍ２ｄが形成されている。電源線Ｍ２ｓは、ソースコンタクトＳｃと図示しない駆動電源とを電気的に接続している。陽極線Ｍ２ｄは、ドレインコンタクトＤｃと有機ＥＬ素子１６とを電気的に接続している。これら電源線Ｍ２ｓおよび陽極線Ｍ２ｄは、例えば、シリコン酸化膜等の絶縁性材料からなる平坦化膜Ｄ２によってそれぞれ電気的に絶縁されている。また、この平坦化膜Ｄ２を形成することで、その平坦化膜Ｄ２上に形成される有機ＥＬ素子１６を平坦化することができる。そして、ＴＦＴ１７がデータ信号に基づいてオン状態となると、そのデータ信号に応じた駆動電流が、電源線Ｍ２ｓ（駆動電源）から陽極線Ｍ２ｄ（有機ＥＬ素子１６）に供給される。
【００２９】
図２に示すように、平坦化膜Ｄ２の上側には、有機ＥＬ素子１６が形成されている。その有機ＥＬ素子１６の最下層には、陽極（電極）Ｐｃが形成されている。
陽極Ｐｃは、図３に示すように、反射層（光反射層）Ｐｒと、この上部に積層された光透過性の導電性スペーサとしてのスペーサＰｓとの積層構造で構成されている。
ここで、光反射層は、平坦化膜Ｄ２の上側で、かつ隔壁Ｄ３ａの内側であって、陽極Ｐｃ側（光の出射側と反対側に位置する電極側）に配置されるのが好ましい。本実施形態では、陽極Ｐｃ（光の出射側と反対側に位置する電極）の一部（下層の一部）が、光反射層を兼ねる。すなわち、反射層Ｐｒの一部が、光反射層を構成する。なお、本発明では、光反射層が、陽極Ｐｃとは、別の部材で構成されていてもよい。
【００３０】
反射層Ｐｒは、本実施形態では、例えば、Ｃｒ等の金属材料で形成されている。反射層Ｐｒの膜厚（厚さ）は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、２０〜５００ｎｍ程度とするのが好ましく、５０〜２００ｎｍ程度とするのがより好ましい。
導電性スペーサは、反射層Ｐｒの上側で、かつ隔壁Ｄ３ａの内側であって、陽極Ｐｃ側（光の出射側と反対側に位置する電極側）に配置されるのが好ましい。本実施形態では、陽極Ｐｃ（光の出射側と反対側に位置する電極）の一部（上層）が、導電性スペーサを兼ねる。すなわち、スペーサＰｓが、導電性スペーサを構成する。なお、本発明では、導電性スペーサが、陽極Ｐｃと、別部材で構成されていてもよい。
【００３１】
スペーサＰｓは、本実施形態では、例えば、ＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜であって、例えば、１０ｎｍ以上の膜厚で形成されているのが好ましい。このスペーサＰｓは、本実施形態では、各色に応じてその膜厚を異ならせており、図４に示すように、青色に対応するサブピクセル１５ＢのスペーサＰｓｂ、緑色に対応するサブピクセル１５ＧのスペーサＰｓｇ、赤色に対応するサブピクセル１５ＲのスペーサＰｓｒの順で厚くなるように形成されている。
【００３２】
図２に示すように、陽極Ｐｃは、その一端が陽極線Ｍ２ｄに接続されている。陽極Ｐｃの上側外周には、その陽極Ｐｃを囲むように第３層間絶縁膜Ｄ３が堆積されている。第３層間絶縁膜Ｄ３は、例えば、感光性ポリイミドやアクリル等の樹脂膜で形成され、各有機ＥＬ素子１６の陽極Ｐｃを電気的に絶縁している。また、第３層間絶縁膜Ｄ３は、陽極Ｐｃの上側を開放して、その内周面からなる隔壁Ｄ３ａを形成している。
【００３３】
陽極Ｐｃの上側であって隔壁Ｄ３ａの内側には、有機材料を主材料とする有機エレクトロルミネッセンス層（有機ＥＬ層）Ｏｅが形成されている。有機ＥＬ層Ｏｅは、図３に示すように、正孔輸送層Ｏｔと発光層Ｏｒの２層からなる有機化合物層である。
正孔輸送層Ｏｔの膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、２０〜２００ｎｍ程度とするのが好ましく、５０〜１００ｎｍ程度とするのがより好ましい。
【００３４】
また、発光層Ｏｒは、赤色の光を発光する発光層である。発光層Ｏｒの膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、２０〜２００ｎｍ程度とするのが好ましく、５０〜１００ｎｍ程度とするのがより好ましい。
なお、サブピクセル１５Ｇ、１５Ｂの発光層Ｏｒは、それぞれ、緑色の光、青色の光を発光する発光層である。
このような発光層Ｏｒの構成材料（発光材料）としては、例えば、下記化号物１〜化合物５に示すような化合物が挙げられ、用いる化合物の種類や、複数種用いる場合の配合比等を設定することにより、発光色の異なるものとすること、すなわち、赤色、緑色、青色の発光材料とすることができる。
【００３５】
【化１】
2006278214.tif 000003
【００３６】
【化２】
2006278214.tif 000004
【００３７】
【化３】
2006278214.tif 000005
【００３８】
【化４】
2006278214.tif 000006
【００３９】
【化５】
2006278214.tif 000007
【００４０】
本実施形態では、赤色用の発光層Ｏｒと緑色用の発光層Ｏｒとが略等しい大きさ（平面積）とされ、これらより青色用の発光層Ｏｒが大きい大きさ（平面積）とされている。これにより、前述したように、赤色用の有機ＥＬ素子１６と緑色用の有機ＥＬ素子１６とが略等しい大きさとされ、これらより青色用の有機ＥＬ素子１６が大きい大きさとなっている。
換言すれば、赤色用のＤ３ａの内側の空間と緑色用のＤ３ａの内側の空間とがほぼ等しい大きさに設定とされ、こられより青色用のＤ３ａの内側の空間が大きく設定されている。
【００４１】
このような構成により、青色用の発光層Ｏｒの構成材料として、比較的寿命（耐久性）の低い材料を用いた場合でも、青色用の有機ＥＬ素子１６の発光輝度が、他の色の有機ＥＬ素子１６の発光輝度より早期に低下することを防止することができる。その結果、有機ＥＬ表示装置１１の表示色が経時的に変化するのを好適に防止することができる。
なお、本実施形態では、隔壁Ｄ３ａの内側に、陽極ＰｃのスペーサＰｓおよび正孔輸送層Ｏｔもそれぞれ設けられるため、これらも、各色の有機ＥＬ素子１６（サブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ）に対応して大きさが異なっている。
【００４２】
前記有機ＥＬ層Ｏｅの上側には、陰極（電極）Ｐａが形成されている。陰極Ｐａの膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、２〜２００ｎｍ程度とするのが好ましく、５〜５０ｎｍ程度とするのがより好ましい。
また、陰極Ｐａの構成材料は、導電性および光透過性を有するものであれば、特に限定されない。この陰極Ｐａは、本実施形態では、例えば、下層にＭｇとＡｇの合金等の金属膜、上層にＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜の積層構造で構成されている。
この場合、下層の膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、２〜２００ｎｍ程度とするのが好ましく、５〜５０ｎｍ程度とするのがより好ましい。また、上層の膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、２〜２００ｎｍ程度とするのが好ましく、５〜５０ｎｍ程度とするのがより好ましい。
【００４３】
図２に示すように、陰極Ｐａは、画素形成面１３ａ側全面を覆うように形成され、各画素回路１５が共有することによって各有機ＥＬ素子１６に共通する電位を供給するようになっている。
以上のように、有機ＥＬ素子１６は、前記陽極Ｐｃ（反射層Ｐｒ、スペーサＰｓ）、有機ＥＬ層Ｏｅおよび陰極Ｐａによって構成される。この有機ＥＬ素子１６のうちの隔壁Ｄ３ａの内側に位置する部分により、色要素の主要部が構成される。また、本実施形態では、隔壁Ｄ３ａの内側に位置するスペーサＰｓ、正孔輸送層Ｏｔおよび発光層Ｏｒが、それぞれ機能層を構成する。
【００４４】
図２に示すように、陰極Ｐａの上側には、例えば、樹脂等のコーティング材で形成され、各種金属膜や有機ＥＬ層Ｏｅの酸化等を防止するための封止部Ｐ１が形成されている。
そして、データ信号に応じた駆動電流が陽極線Ｍ２ｄに供給されると、有機ＥＬ層Ｏｅは、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層Ｏｅから陰極Ｐａ側（図２における上側）に向かって発光された光は、陰極Ｐａおよび封止部Ｐ１を透過（通過）する（以下、透過光という）。また、有機ＥＬ層Ｏｅから陽極Ｐｃ側（図２における下側）に向かって発光された光は、陽極Ｐｃの反射層Ｐｒによって反射され（以下、反射光という）、スペーサＰｓ、有機ＥＬ層Ｏｅ、陰極Ｐａおよび封止部Ｐ１を透過する。そして、前記透過光と反射光とが干渉した光が保護ガラス基板１３ｂ側に向かって出射される。
【００４５】
この出射された光のスペクトルの波長λは、反射層Ｐｒと陰極Ｐａとの距離である光学的距離Ｌｒ、Ｌｇ、Ｌｂ（図４参照）に依存するので、各色（赤色、緑色、青色）に応じてこの光学的距離Ｌｒ、Ｌｇ、Ｌｂを異ならせる（変化させる）ことによって、各色に対応した光の波長λを得ることができる。本実施形態では、各色に応じて異なる厚さのスペーサＰｓ（Ｐｓｒ、Ｐｓｇ、Ｐｓｂ）を形成することによって光学的距離Ｌｒ、Ｌｇ、Ｌｂを変化させ、各色に対応した光の波長λを得ている。
【００４６】
この結果として、図４に示すように、光の波長が最も長い赤色に対応したサブピクセル１５Ｒにおいては、光学的距離Ｌｒが最も長くなるように、スペーサＰｓｒの膜厚を最も厚くする。一方、光の波長が最も短い青色に対応したサブピクセル１５Ｂにおいては、光学的距離Ｌｂが最も短くなるように、スペーサＰｓｂの膜厚を最も薄くする。そして、光の波長が両者の間である緑色に対応したサブピクセル１５Ｇにおいては、光学的距離Ｌｇが両者の間となるように、スペーサＰｓｇの膜厚を両者の間となるようにする。
【００４７】
次に、有機ＥＬ表示装置１１の製造方法（本発明の機能版の製造方法）について説明する。
まず、ガラス基板１３を用意する。そして、そのガラス基板１３上の画素形成面１３ａ全面にジシラン等を原料ガスにするＣＶＤ法等によってアモルファスシリコン膜を堆積する。次に、エキシマレーザ等によってそのアモルファスシリコン膜に紫外光を照射し、画素形成面１３ａ全面に結晶化したポリシリコン膜を形成する。続いて、フォトリソグラフィ法およびエッチング法等によってそのポリシリコン膜をパターニングし、チャンネル膜Ｂ１を形成する。
【００４８】
チャンネル膜Ｂ１を形成すると、シラン等を原料ガスにするＣＶＤ法等によってチャンネル膜Ｂ１および画素形成面１３ａの上側全面にシリコン酸化膜等を堆積してゲート絶縁膜Ｄ０を形成する。ゲート絶縁膜Ｄ０を形成すると、スパッタ法等によってゲート絶縁膜Ｄ０の上側全面にタンタル等の低抵抗金属膜を堆積し、その低抵抗金属膜をパターニングすることによって、ゲート絶縁膜Ｄ０の上側にゲート電極Ｐｇを形成する。ゲート電極Ｐｇを形成すると、そのゲート電極Ｐｇをマスクにしたイオンドーピング法によって、チャンネル膜Ｂ１にｎ型領域（ソース領域およびドレイン領域）を形成する。続いて、スパッタ法等によってゲート電極Ｐｇおよびゲート絶縁膜Ｄ０の上側全面にＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜を堆積し、その透明導電膜をパターニングすることによって、ゲート電極Ｐｇの上側にゲート配線Ｍ１を形成する。
【００４９】
ゲート配線Ｍ１を形成すると、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）等を原料にするＣＶＤ法によってゲート配線Ｍ１およびゲート絶縁膜Ｄ０の上側全面にシリコン酸化膜等を堆積して第１層間絶縁膜Ｄ１を形成する。第１層間絶縁膜Ｄ１を形成すると、フォトリソグラフィ法やエッチング法等によって、ソース領域およびドレイン領域から図２における上側に第１層間絶縁膜Ｄ１の上側までを開放する一対の円形孔（コンタクトホールＨｄ、Ｈｓ）を形成する。コンタクトホールＨｄ、Ｈｓを形成すると、スパッタ法等によってそのコンタクトホールＨｄ、Ｈｓ内を金属シリサイド等で埋め込みながら第１層間絶縁膜Ｄ１の上側全面に金属膜を堆積する。そして、エッチング法等によってコンタクトホールＨｄ、Ｈｓ内以外の金属膜を除去し、ソースコンタクトＳｃおよびドレインコンタクトＤｃを形成する。
【００５０】
各コンタクトＳｃ、Ｄｃを形成すると、スパッタ法等によって各コンタクトＳｃ、Ｄｃおよび第１層間絶縁膜Ｄ１の上側全面にアルミニウム等の金属膜を堆積し、その金属膜をパターニングして各コンタクトＳｃ、Ｄｃに接続する電源線Ｍ２ｓおよび陽極線Ｍ２ｄを形成する。次に、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）等を原料にするＣＶＤ法によって、これら電源線Ｍ２ｓ、陽極線Ｍ２ｄおよび第１層間絶縁膜Ｄ１の上側全面にシリコン酸化膜等を堆積して平坦化膜Ｄ２を形成する。続いて、フォトリソグラフィ法やエッチング法等によって、陽極線Ｍ２ｄの一部から図２における上側に平坦化膜Ｄ２の上側まで開放する円形孔（ビアホールＨｖ）を形成する。ビアホールＨｖを形成すると、スパッタ法等によって、そのビアホールＨｖ内を埋め込みながら平坦化膜Ｄ２の上側全面にクロム等の金属膜を堆積する。そして、この金属膜をパターニングして、ビアホールＨｖを介して陽極線Ｍ２ｄと接続する陽極Ｐｃ（反射層Ｐｒ）を形成する。
【００５１】
反射層Ｐｒを形成すると、その反射層Ｐｒ上にレジスト等のマスクを形成して、反射層Ｐｒおよび平坦化膜Ｄ２の上側全面に感光性ポリイミドやアクリル等の樹脂膜を堆積する。そして、前記レジスト等を剥離して、隔壁Ｄ３ａを備えた第３層間絶縁膜Ｄ３を形成する。
なお、ガラス基板１３と、ここまでの各工程でそのガラス基板１３上に形成された各構成要素により、色要素となるべき複数の区画が形成された基体の主要部が構成される。また、隔壁Ｄ３ａの内部、すなわち、隔壁Ｄ３ａで規定（画成）される凹部は、前記区画に対応する。
【００５２】
隔壁Ｄ３ａを形成すると、続いて、その隔壁Ｄ３ａ内に陽極Ｐｃ（スペーサＰｓ）を形成する。
ここで、本実施形態では、いわゆるインクジェット法（液滴吐出法）により、スペーサＰｓおよび有機ＥＬ層Ｏｅ（正孔輸送層Ｏｔ、発光層Ｏｒ）を形成する。
すなわち、スペーサＰｓの形成は、ガラス基板１３（基体）と、後述する液滴吐出ヘッド４４とを相対的に移動させ、スペーサＰｓの構成材料として導電性材料（例えばＩＴＯ）を含んだスペーサ形成用の液状材料（機能層形成用の液状材料）５１をノズルＮから液滴として吐出して複数の隔壁Ｄ３ａ内（区画）に選択的に付与し、前記隔壁Ｄ３ａ内に付与されたスペーサ形成用の液状材料５１を乾燥し、必要に応じて加熱することにより行う。
【００５３】
同様に、正孔輸送層Ｏｔの形成は、ガラス基板１３（基体）と、液滴吐出ヘッド４４とを相対的に移動させ、正孔輸送層Ｏｔの構成材料として有機材料を含んだ正孔輸送層形成用の液状材料（機能層形成用の液状材料）をノズルＮから液滴として吐出して複数の隔壁Ｄ３ａ内（区画）に選択的に付与し、前記隔壁Ｄ３ａ内に付与された正孔輸送層形成用の液状材料を乾燥し、必要に応じて加熱することにより行う。
【００５４】
同様に、発光層Ｏｒの形成は、ガラス基板１３（基体）と、液滴吐出ヘッド４４とを相対的に移動させ、発光層Ｏｒの構成材料として有機発光材料を含んだ発光層形成用の液状材料（機能層形成用の液状材料）５２をノズルＮから液滴として吐出して複数の隔壁Ｄ３ａ内（区画）に選択的に付与し、前記隔壁Ｄ３ａ内に付与された発光層形成用の液状材料５２を乾燥し、必要に応じて加熱することにより行う。
【００５５】
まず、スペーサＰｓを形成するための液滴吐出装置の構成について説明する。なお、有機ＥＬ層Ｏｅ（正孔輸送層Ｏｔ、発光層Ｏｒ）を形成するための液滴吐出装置については、スペーサＰｓを形成するための液滴吐出装置と同様であるので、その説明は、省略する。
図５に示すように、ガラス基板１３（基体）の上側には、液滴吐出装置の液滴吐出手段の主要部を構成する液滴吐出ヘッド４４が配置されている。その液滴吐出ヘッド４４には、ノズルプレート４５が備えられている。そのノズルプレート４５の一側面であってガラス基板１３側の面（ノズル形成面４５ａ）には、導電性材料を含んだスペーサ形成用の液状材料５１を吐出する多数のノズルＮが、その中心線が鉛直方向Ｚと略並行になるように形成されている。また、ガラス基板１３は、その画素形成面１３ａがノズル形成面４５ａと平行になるように、液滴吐出装置の図示しないステージ上に載置されている。そして、ステージ（ガラス基板１３）と液滴吐出ヘッド４４とを相対的に移動させ、ガラス基板１３上の各隔壁Ｄ３ａの中心位置がそれぞれノズルＮの中心位置と相対向するように位置決めされる。
【００５６】
各ノズルＮの上側には、図示しない収容タンクに連通してスペーサ形成用の液状材料５１をノズルＮ内に供給可能にする供給室４６Ｒ、４６Ｇ、４６Ｂがそれぞれ赤色、緑色、青色の各色に対応して形成されている。各供給室４６Ｒ、４６Ｇ、４６Ｂの上側には、鉛直方向Ｚに沿って往復振動して各供給室４６Ｒ、４６Ｇ、４６Ｂ内の容積を拡大縮小する振動板４７が配設されている。その振動板４７の上側であって各供給室４６Ｒ、４６Ｇ、４６Ｂと相対向する位置には、それぞれ鉛直方向Ｚに沿って伸縮動して振動板４７を振動させる圧電素子４８Ｒ、４８Ｇ、４８Ｂがそれぞれ赤色、緑色、青色の各色に対応して配設されている。
【００５７】
次に、上記した液滴吐出装置によるスペーサＰｓの形成方法について説明する。
まず、液滴吐出ヘッド４４にスペーサＰｓを形成するため駆動信号を入力する。すると、その駆動信号に基づいて各圧電素子４８Ｒ、４８Ｇ、４８Ｂがそれぞれ伸縮動し、各供給室４６Ｒ、４６Ｇ、４６Ｂの容積がそれぞれ拡大縮小する。この時、各供給室４６Ｒ、４６Ｇ、４６Ｂの容積が縮小すると、縮小した容積分のスペーサ形成用の液状材料５１が、各ノズルＮから液滴Ｄｓとして対応する隔壁Ｄ３ａ内に吐出、付与される。続いて、各供給室４６Ｒ、４６Ｇ、４６Ｂの容積が拡大すると、拡大した容積分のスペーサ形成用の液状材料５１が、図示しない収容タンクから供給室４６Ｒ、４６Ｇ、４６Ｂ内にそれぞれ供給される。
【００５８】
すなわち、液滴吐出ヘッド４４は、こうした各供給室４６Ｒ、４６Ｇ、４６Ｂをそれぞれ拡大縮小させることによって、各色について、それぞれ、スペーサＰｓ（Ｐｓｒ、Ｐｓｇ、Ｐｓｂ）の目標の膜厚に対応した所定量のスペーサ形成用の液状材料５１を隔壁Ｄ３ａ内に吐出、付与する。そして、隔壁Ｄ３ａ内に付与されたスペーサ形成用の液状材料５１を所定時間だけ放置してそのスペーサ形成用の液状材料５１を乾燥させた後、ガラス基板１３を図示しない焼成室に搬送して焼成（加熱）することにより、導電性を有するスペーサＰｓ（Ｐｓｒ、Ｐｓｇ、Ｐｓｂ）が、色毎にそれぞれ異なる目標の膜厚で形成される。
【００５９】
このように、インクジェット法を用いることにより、例えば、フォトリソグラフィ法によってスペーサＰｓ（Ｐｓｒ、Ｐｓｇ、Ｐｓｂ）を形成するときのように、色毎に膜厚を変えるための複数回のフォトリソグラフィ工程が不要となるため、製造工程を低減することができ、生産性を向上させることができる。さらに、所望の位置へ、所望の量のスペーサ形成用の液状材料５１を付与することができるので、フォトリソグラフィ工程によってスペーサＰｓを形成する場合に比べ、使用するスペーサ形成用の液状材料５１の量を低減することができ（例えば、エッチング等により不要な部分を除去する必要がない）、所望の位置へ、所望の膜厚のスペーサＰｓを、迅速かつ確実に形成することができる。
【００６０】
スペーサＰｓを形成すると、前記インクジェット法によって、隔壁Ｄ３ａに囲まれたスペーサＰｓ上に、正孔輸送層Ｏｔの構成材料として有機材料を含んだ正孔輸送層形成用の液状材料を液滴として吐出、付与し、その液状材料を乾燥および固化（加熱）することによって正孔輸送層Ｏｔを形成する。
さらに、前記インクジェット法によって、隔壁Ｄ３ａに囲まれた正孔輸送層Ｏｔ上に、図６に示すように、発光層Ｏｒの構成材料として有機発光材料を含んだ発光層形成用の液状材料５２を液滴Ｄｓとして吐出、付与し、その液状材料を乾燥および固化（加熱）することによって発光層Ｏｒを形成する。これによって、正孔輸送層Ｏｔと発光層Ｏｒとを備えた有機ＥＬ層Ｏｅを形成する。
【００６１】
このように、インクジェット法を用いることにより、前記スペーサＰｓの形成において述べた効果と同様の効果が得られる。
ここで、一般に、これらの機能層（スペーサＰｓ、正孔輸送層Ｏｔ、有機ＥＬ層Ｏｅ）の形成に用いられる機能層形成用の液状材料（以下、単に「液状材料」と言う。）には、その大きさ（画素サイズ）に関わらず、同一の溶媒（または分散媒）が用いられる。
【００６２】
ところが、機能層の大きさが異なる場合、機能層毎に、液状材料の乾燥速度が異なるため、同一の条件で乾燥を行うと（同時に乾燥させると）、大きさの大きい機能層において上面が平面とならない傾向が高く、機能層の特性が低下する傾向を示す。
そこで、本発明では、機能層の大きさに応じて、液状材料の溶媒として、常温において異なる蒸気圧のものを選択して用いることとした。なお、ここで言う溶媒には、分散媒も含まれる。また、以下では、「常温における蒸気圧」を「蒸気圧（常温）」、または、単に「蒸気圧」と記載する。
【００６３】
そして、本実施形態では、最も大きい青色用の有機ＥＬ素子１６の形成に用いる液状材料の溶媒として、蒸気圧が最も大きいものを選択して用いる。また、大きさのほぼ等しい赤色および緑色用の有機ＥＬ素子１６の形成に用いる液状材料の溶媒としては、互いに同一またはほぼ等しい蒸気圧のものを選択して用いる。
これにより、異なる大きさの機能層を形成するのに際し、これらを同時に乾燥させても、各機能層に対応する液状材料の乾燥速度に差が生じるのを抑制することができる。このため、大きさの異なるいずれの機能層においても、上面をより平面に近づけること、すなわち、膜厚（層厚）にバラツキが生じるのを防止することができる。その結果、膜厚のバラツキに起因して生じる特性の低下を好適に防止することができる。
【００６４】
なお、青色の発光層Ｏｒの構成材料、すなわち、青色の発光材料は、比較的寿命（耐久性）の短い材料が多いため、本発明は、特に、青色の発光層Ｏｒを他の色の発光層Ｏｒより大きく形成する有機ＥＬ表示装置１１への適用に適している。
また、赤色用、緑色用および赤色用の有機ＥＬ素子１６（機能層）の大きさがいずれも異なる場合には、機能層の大きさが大きいほど、その液状材料に用いる溶媒として、蒸気圧（常温）が大きいものを選択して用いるようにすればよい。これにより、前記と同様の効果が得られる。
【００６５】
溶媒には、例えば、水、二硫化炭素、四塩化炭素等の無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、シクロヘキサノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−メトキシエタノール、アリルアルコール、フルフリルアルコール、フェノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールエチルエーテル（カルビトール）、２−メトキシエタノール等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、オクタン、ジデカン、メチルシクロヘキサン、イソプレン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン（１，３，５−トリメチルベンゼン）、１，２，３，４ーテトラメチルベンゼン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、ドデシルベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、２−メチルピリジン、３−メチルピリジン、４−メチルピリジン、メチルピロリドン、フルフリルアルコール等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、トリクロロエチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化合物系溶媒、アセチルアセトン、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸イソペンチル、クロロ酢酸エチル、クロロ酢酸ブチル、クロロ酢酸イソブチル、ギ酸エチル、ギ酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、安息香酸エチル等のエステル系溶媒、トリメチルアミン、ヘキシルアミン、トリエチルアミン、アニリン等のアミン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、ニトロエタン等のニトロ系溶媒、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ペンタナール、アクリルアルデヒド等のアルデヒド系溶媒等の有機溶媒等が挙げられ、これらを単独またはこれらを含む混合溶媒として用いることができる。
【００６６】
そして、これらの中から、機能層の大きさに応じて、用いる溶媒を適宜選択すればよい。
なお、混合溶媒の場合、その蒸気圧（ｍｍＨｇ）は、ラ・ウールの法則、すなわち、それぞれの純粋溶媒の蒸気圧と混合溶媒中のモル分率の積の和で表される。
また、１つの液状材料には、溶媒として２種以上のものが含まれること、すなわち、溶媒として混合溶媒を用いることが好ましい。これにより、大きさの異なる機能層における液状材料の乾燥速度の差を小さく設定するのが容易となる。また、各機能層において、その膜厚がバラツクのを防止し得るように溶媒を調製するのが容易となる。
【００６７】
また、溶媒として混合溶媒を用いる場合には、特に、沸点の異なる２種以上の溶媒を混合して用いるのが好ましい。例えば、溶媒として比較的高沸点（例えば１８０℃以上）のものを用いることにより、ノズルＮの目詰りを防止することができる。また、中程度（例えば、１４０〜１７０℃程度）の沸点のものを用いることにより、液状材料の乾燥速度を上昇（向上）させることができる。そして、これらの２種のものを混合して用いることにより、それらの相乗効果により、ノズルＮからの液滴の安定した吐出を可能とすることができるとともに、液滴（液体材料）の円滑な乾燥を図ることができる。
また、付与した液体材料の乾燥は、常圧下で行われてもよいが、減圧下で行われるのが好ましい。これにより、液状材料の乾燥速度を高めることができ、膜厚のバラツキを防止する効果がより顕著に発揮される。
【００６８】
有機ＥＬ層Ｏｅを形成すると、スパッタ法等によって、その有機ＥＬ層Ｏｅおよび第３層間絶縁膜Ｄ３の上側全面にアルミニウム等の金属膜を堆積して陰極Ｐａを形成する。陰極Ｐａを形成すると、ＣＶＤ法等によって、陰極Ｐａの上側全面に樹脂等のコーティング材を堆積して封止部Ｐ１を形成して封止する。これにより、画素形成面１３ａ上に有機ＥＬ素子１６を備えた画素回路１５（サブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ）が形成される。
【００６９】
以上説明したように、本発明によれば、スペーサＰｓ、正孔輸送層Ｏｔ、有機ＥＬ層Ｏｅのような機能層が発光色によって大きさが異なっている場合でも、それらの上面を平面とすること、すなわち、膜厚にバラツキが生じるのを防止することができ、この膜厚のバラツキに起因して生じる特性（発光効率や耐久性）の低下を防止することができる。
なお、上記実施形態では、ガラス基板（基板）１３は、光透過性を有しているが（透明であるが）、これに限らず、基板は、例えば、ステンレス鋼等で構成された光透過性を有さない（透明でない）基板であってもよい。また、基板の構成材料は、ガラス以外の光透過性を有するものであってもよい。
【００７０】
また、本実施形態では、青色用の有機ＥＬ素子１６（発光層）が最も大きい場合について説明したが、本発明は、赤色用の有機ＥＬ素子１６（発光層）、緑色の有機ＥＬ素子１６（発光層）が最も大きい場合にも、それぞれ、同様に適用することができる。
さらに、本発明は、白色等の他の色の有機ＥＬ素子１６（発光層）が設けられる構成において、各有機ＥＬ素子１６の大きさが異なる場合にも適用することができる。
【００７１】
＜第２実施形態＞
次に、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法の第２実施形態について説明する。
図７は、有機ＥＬ表示装置の第２実施形態における赤色に対応したサブピクセル（有機ＥＬ素子）を示す断面図である。
【００７２】
なお、以下の説明では、説明の便宜上、図７中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。
以下、第２実施形態の有機ＥＬ表示装置１１について、前述した第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図７に示すように、第２実施形態の有機ＥＬ表示装置１１は、ボトムエミッション型（ボトムエミッション構造）の表示装置である。
【００７３】
また、陽極Ｐｃは、例えば、ＩＴＯ等で形成され、例えば、１０ｎｍ以上の膜厚で形成されているのが好ましい。その陽極Ｐｃの膜厚は、液滴吐出装置のノズルＮから吐出される機能液の吐出量を調整することによって、各色に対応する画素回路１５（サブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ）毎に、それぞれ異なる目標の膜厚にする。
そして、陰極Ｐａと陽極Ｐｃとの距離である光学的距離Ｌｒ、Ｌｇ、Ｌｂを異ならせる（変化させる）ことによって、各色に対応した光の波長λを得ることができる。
【００７４】
陰極Ｐａの膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、５〜５００ｎｍ程度とするのが好ましく、１００〜２００ｎｍ程度とするのがより好ましい。
また、陰極Ｐａの構成材料は、導電性および光反射性を有するものであれば、特に限定されない。この陰極Ｐａは、本実施形態では、例えば、下層にＭｇとＡｇの合金等の金属膜、上層にＡｌ等の金属膜の積層構造で構成されている。
【００７５】
この場合、下層の膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、２〜５０ｎｍ程度とするのが好ましく、５〜３０ｎｍ程度とするのがより好ましい。また、上層の膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、５〜５００ｎｍ程度とするのが好ましく、５０〜２００ｎｍ程度とするのがより好ましい。
ここで、陰極Ｐａ（光の出射側と反対側に位置する電極）の一部が、光反射層を兼ねる。すなわち、陰極Ｐａの一部が、光反射層を構成する。
【００７６】
なお、本発明では、光反射層が、陽極Ｐｃとは、別の部材で構成されていてもよい。すなわち、このボトムエミッション構造において、陰極Ｐａを光透過性を有する電極で構成し、陰極Ｐａの発光層Ｏｒと反対側にＣｒ等の金属材料からなる反射層（光反射層）を形成する構成としてもよい。
この第２実施形態によれば、前述した第１実施形態と同様の効果が得られる。
【００７７】
＜第３実施形態＞
次に、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法の第３実施形態について説明する。
図８は、本発明の有機ＥＬ表示装置の第３実施形態における有機ＥＬ素子を示す断面図である。
【００７８】
なお、以下の説明では、説明の便宜上、図８中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
以下、第３実施形態の有機ＥＬ表示装置１１について、前述した第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図８に示すように、第３実施形態の有機ＥＬ表示装置１１は、トップエミッション構造の有機ＥＬ素子１６を積層したマルチフォトン構造の表示装置である。
【００７９】
スペーサＰｓの膜厚は、液滴吐出装置のノズルＮから吐出される機能液の吐出量を調整することによって、各色に対応する画素回路１５（サブピクセル１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ）毎に、それぞれ異なる目標の膜厚にする。
そして、陰極Ｐａと陽極Ｐｃとの距離である光学的距離Ｌｒ、Ｌｇ、Ｌｂを異ならせる（変化させる）ことによって、各色に対応した光の波長λを得ることができる。
【００８０】
また、マルチフォトン構造、すなわち有機ＥＬ層Ｏｅ（発光層Ｏｒ）を重ねることによって発生するフォトンの量が増加し、１００％超相当の内部量子効率が可能となる。この結果、色再現性を向上しながらも、輝度が高く（明るく）、長寿命の有機ＥＬ表示装置１１（有機ＥＬ素子１６）を少ない製造工程数で製造することができる。
この第３実施形態によれば、前述した第１実施形態と同様の効果が得られる。
【００８１】
＜本発明の電子機器の実施形態＞
前述したようなエレクトロルミネッセンス表示装置等の画像表示装置（電気光学装置）１０００は、各種電子機器の表示部に用いることができる。
図９は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【００８２】
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ１１００においては、表示ユニット１１０６が画像表示装置１０００を備えている。
【００８３】
図１０は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、画像表示装置１０００を表示部に備えている。
図１１は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
【００８４】
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、画像表示装置１０００が表示部に設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
【００８５】
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
【００８６】
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【００８７】
なお、本発明の電子機器は、上述したパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、携帯電話機、ディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類等に適用することができる。
【００８８】
以上、本発明の本発明の機能板の製造方法、機能板および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物や、工程が付加されていてもよい。
また、本発明は、有機ＥＬ表示装置の製造への適用に限定されず、例えば、液晶表示装置等が備えるカラーフィルタ付基板の製造に適用することもできる。この場合、前記機能層がカラーフィルタに、前記機能層形成用の液状材料がカラーフィルタ形成用の液状材料に、また、機能板がカラーフィルタ付基板に、それぞれ対応する。
また、本発明は、前記各実施形態のうちの、任意の２以上の構成（特徴）を組み合わせたものであってもよい。
【実施例】
【００８９】
以下、本発明の具体的な実施例について説明する。
なお、以下で用いた溶媒の蒸気圧（室温）と沸点（常圧）とは、それぞれ、次の通りである。
・メシチレン
蒸気圧：１．７３ｍｍＨｇ、沸点：１６５℃
・ジエチルベンゼン
蒸気圧：０．７０ｍｍＨｇ、沸点：１８４℃
・１，２，３，４−テトラメチルベンゼン
蒸気圧：０．２３ｍｍＨｇ、沸点：１９７℃
【００９０】
（実施例１）
図１２に示すように、ガラス基板１００上に、バンク２００を形成した試験用基板を用意した。
なお、バンク２００の内側の空間（領域）の大きさは、赤色用＞緑色用＝青色用とした。
＜サンプルＮｏ．１Ａ＞
まず、発光材料として、前述したような化合物１、２、５を用いて、各色の発光層形成用の液状材料を準備した。なお、各色の発光層形成用の液状材料の組成は、以下の表１に示す通りである。
【００９１】
【表１】
2006278214.tif 000008
【００９２】
次に、各発光層形成用の液状材料を、それぞれ所定の領域に、インクジェット法により３色同時に供給した。
次に、３色の発光層形成用の液状材料を、同時に乾燥させた。
＜サンプルＮｏ．１Ｂ＞
各色の発光層形成用の液状材料として、以下の表２に示すものを用いた以外は、サンプルＮｏ．１Ａと同様にして発光層を形成した。
【００９３】
【表２】
2006278214.tif 000009
【００９４】
得られた各発光層の膜厚を、触針式段差計（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ社製、「Ｐ−１５」）を用いて測定を行った。
そして、各発光層において、中央部と端部との最大膜厚差を求めた。
この結果を、表３に示す。
【００９５】
【表３】
2006278214.tif 000010
【００９６】
サンプルＮｏ．１Ａ（本発明）では、各色の発光層において膜厚のバラツキは認められなかった。これに対して、サンプルＮｏ．１Ｂ（比較例）では、赤色の発光層において明らかな膜厚のバラツキが確認された。
【００９７】
（実施例２）
図１２に示すような試験用基板と同様の試験用基板を用意した。
なお、バンク２００の内側の空間（領域）の大きさは、緑色用＝青色用＞赤色用とした。
＜サンプルＮｏ．２Ａ＞
まず、発光材料として、前述したような化合物１、２、５を用いて、各色の発光層形成用の液状材料を準備した。なお、各色の発光層形成用の液状材料の組成は、以下の表４に示す通りである。
【００９８】
【表４】
2006278214.tif 000011
【００９９】
次に、各発光層形成用の液状材料を、それぞれ所定の領域に、インクジェット法により３色同時に供給した。
次に、３色の発光層形成用の液状材料を、同時に乾燥させた。
＜サンプルＮｏ．２Ｂ＞
各色の発光層形成用の液状材料として、以下の表５に示すものを用いた以外は、サンプルＮｏ．２Ａと同様にして発光層を形成した。
【０１００】
【表５】
2006278214.tif 000012
【０１０１】
得られた各発光層の膜厚を、前記と同様の触針式段差計を用いて測定を行った。
そして、各発光層において、中央部と端部との最大膜厚差を求めた。
この結果を、表６に示す。
【０１０２】
【表６】
2006278214.tif 000013
【０１０３】
サンプルＮｏ．２Ａ（本発明）では、各色の発光層において膜厚のバラツキは認められなかった。これに対して、サンプルＮｏ．２Ｂ（比較例）では、緑色および青色の発光層において明らかな膜厚のバラツキが確認された。
【０１０４】
（実施例３）
図１２に示すような試験用基板と同様の試験用基板を用意した。
なお、バンク２００の内側の空間（領域）の大きさは、赤色用＝緑色用＞青色用とした。
＜サンプルＮｏ．３Ａ＞
まず、発光材料として、前述したような化合物１、２、５を用いて、各色の発光層形成用の液状材料を準備した。なお、各色の発光層形成用の液状材料の組成は、以下の表７に示す通りである。
【０１０５】
【表７】
2006278214.tif 000014
【０１０６】
次に、各発光層形成用の液状材料を、それぞれ所定の領域に、インクジェット法により３色同時に供給した。
次に、３色の発光層形成用の液状材料を、同時に乾燥させた。
＜サンプルＮｏ．３Ｂ＞
各色の発光層形成用の液状材料として、以下の表８に示すものを用いた以外は、サンプルＮｏ．３Ａと同様にして発光層を形成した。
【０１０７】
【表８】
2006278214.tif 000015
【０１０８】
得られた各発光層の膜厚を、前記と同様の触針式段差計を用いて測定を行った。
そして、各発光層において、中央部と端部との最大膜厚差を求めた。
この結果を、表９に示す。
【０１０９】
【表９】
2006278214.tif 000016
【０１１０】
サンプルＮｏ．３Ａ（本発明）では、各色の発光層において膜厚のバラツキは認められなかった。これに対して、サンプルＮｏ．３Ｂ（比較例）では、赤色および緑色の発光層において明らかな膜厚のバラツキが確認された。
【０１１１】
（実施例４）
図１２に示すような試験用基板と同様の試験用基板を用意した。
なお、バンク２００の内側の空間（領域）の大きさは、赤色用＝青色用＞緑色用とした。
＜サンプルＮｏ．４Ａ＞
まず、発光材料として、前述したような化合物１、２、５を用いて、各色の発光層形成用の液状材料を準備した。なお、各色の発光層形成用の液状材料の組成は、以下の表１０に示す通りである。
【０１１２】
【表１０】
2006278214.tif 000017
【０１１３】
次に、各発光層形成用の液状材料を、それぞれ所定の領域に、インクジェット法により３色同時に供給した。
次に、３色の発光層形成用の液状材料を、同時に乾燥させた。
＜サンプルＮｏ．４Ｂ＞
各色の発光層形成用の液状材料として、以下の表１１に示すものを用いた以外は、サンプルＮｏ．４Ａと同様にして発光層を形成した。
【０１１４】
【表１１】
2006278214.tif 000018
【０１１５】
得られた各発光層の膜厚を、前記と同様の触針式段差計を用いて測定を行った。
そして、各発光層において、中央部と端部との最大膜厚差を求めた。
この結果を、表１２に示す。
【０１１６】
【表１２】
2006278214.tif 000019
【０１１７】
サンプルＮｏ．４Ａ（本発明）では、各色の発光層において膜厚のバラツキは認められなかった。これに対して、サンプルＮｏ．４Ｂ（比較例）では、赤色および青色の発光層において明らかな膜厚のバラツキが確認された。
【０１１８】
（実施例５）
図２および図３に示すように、ガラス基板１３上に、各層を順次積層し、第３層間絶縁膜Ｄ３の隔壁Ｄ３ａの内側に正孔輸送層Ｏｔまで形成した積層体を用意した。
なお、隔壁Ｄ３ａの内側の空間の大きさは、赤色用＞緑色用＝青色用とした。
そして、この積層体を用いて、前記実施例１（サンプルＮｏ．１Ａおよび２Ａ）と同様にして、発光層Ｏｒを形成し、その後、陰極Ｐａおよび封止部Ｐ１を形成して、有機ＥＬ表示装置を完成させた。
【０１１９】
製造された２つの有機ＥＬ表示装置に、初期輝度が４００ｃｄ／ｍ２となる電流値で定電流駆動を行ったところ、サンプルＮｏ．２Ａと同様にして製造した有機ＥＬ表示装置（比較例）の方が早く表示色の変化（赤色の発光輝度の低下）が確認された。
この結果は、前述したような赤色の発光層における膜厚のバラツキが大きな要因であると推察される。
【図面の簡単な説明】
【０１２０】
【図１】本発明の機能版を適用した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置（有機ＥＬディスプレイ）を有する有機ＥＬ表示モジュールの実施形態を示す平面図。
【図２】有機ＥＬ表示装置の第１実施形態におけるサブピクセルを示す断面図。
【図３】有機ＥＬ表示装置の第１実施形態における有機ＥＬ素子を示す断面図。
【図４】有機ＥＬ表示装置の第１実施形態における画素回路（サブピクセル）からの光の出射を説明するための図。
【図５】有機ＥＬ表示装置の第１実施形態におけるスペーサの形成方法を説明するための図。
【図６】有機ＥＬ表示装置の第１実施形態における発光層の形成方法を説明するための図。
【図７】有機ＥＬ表示装置の第２実施形態における赤色に対応したサブピクセル（有機ＥＬ素子）を示す断面図。
【図８】有機ＥＬ表示装置の第３実施形態における有機ＥＬ素子を示す断面図。
【図９】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図。
【図１０】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図。
【図１１】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図。
【図１２】試験用基板の構成を示す断面図。
【符号の説明】
【０１２１】
１０…有機ＥＬ表示モジュール  １１…有機ＥＬ表示装置  １３…ガラス基板  １５…画素回路  １５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ…サブピクセル  １６…有機ＥＬ素子  ４４…液滴吐出ヘッド  Ｄｓ…液滴  Ｌｒ、Ｌｇ、Ｌｂ…光学的距離  Ｏｅ…有機ＥＬ層  Ｏｒ…発光層  Ｏｔ…正孔輸送層  Ｐａ…陰極  Ｐｃ…陽極  Ｐｒ…反射層  Ｐｓ、Ｐｓｒ、Ｐｓｇ、Ｐｓｂ…スペーサ  ５１…スペーサ形成用の液状材料  ５２…発光層形成用の液状材料  Ｎ…ノズル  １００…ガラス基板  ２００…バンク
【図１】
2006278214.tif 000020
【図２】
2006278214.tif 000021
【図３】
2006278214.tif 000022
【図４】
2006278214.tif 000023
【図５】
2006278214.tif 000024
【図６】
2006278214.tif 000025
【図７】
2006278214.tif 000026
【図８】
2006278214.tif 000027
【図９】
2006278214.tif 000028
【図１０】
2006278214.tif 000029
【図１１】
2006278214.tif 000030
【図１２】
2006278214.tif 000031