(57)【要約】【課題】近赤外領域に大きくて、かつ、幅広い吸収を有し、可視光領域の光線透過率が高く、光学特性の経時変化が少なく、かつ、近年のディスプレイの高輝度化、ハイビジョン放送による高精細化や高画質化に対応し得る、近赤外線吸収層の塗膜外観に高度に優れる近赤外線吸収フィルム及びその製造方法を提供する。【解決手段】透明基材フィルム上に、近赤外線吸収色素と樹脂を主に含有する組成物からなる近赤外線吸収層を設けた近赤外線吸収フィルムであって、前記の組成物中にＨＬＢが２以上１２以下の界面活性剤を０．０１質量％以上２．００質量％以下含有することを特徴とする近赤外線吸収フィルム。【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルム上に、波長８００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素と樹脂を主に含有する組成物からなる近赤外線吸収層を設けた近赤外線吸収フィルムであって、前記の組成物中にＨＬＢが２以上１２以下の界面活性剤を０．０１質量％以上２．００質量％以下含有されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
【請求項２】
前記の界面活性剤がシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることを特徴とする請求項１記載の近赤外線吸収フィルム。
【請求項３】
プラズマディスプレイの前面に設置されることを特徴とする請求項１または２記載の近赤外線吸収フィルム。
【請求項４】
透明基材フィルム上に、近赤外線吸収色素、樹脂、界面活性剤、有機溶媒を含む塗布液を、塗布、乾燥させて近赤外線吸収層を形成させる近赤外線吸収フィルムの製造方法であって、前記の界面活性剤はＨＬＢが２以上１２以下であり、塗布液の固形分に対し０．０１質量％以上２．００質量％以下含有されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記の塗布液の乾燥において、乾燥を熱風による２段階の乾燥工程で行い、初期の乾燥を２０℃以上８０℃以下で、かつ風量を２ｍ／秒以上３０ｍ／秒以下で行うことを特徴とする請求項４記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記の塗布液の乾燥において、後期の乾燥をフィルムの実温が１２０℃以上１８０℃以下となる乾燥ゾーンで５秒以上１８０秒以下通過させて行うことを特徴とする請求項５記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記の塗布液を塗布する方法として、リバースグラビア方式を用いることを特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記のリバースグラビア方式において、グラビアの直径が８０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項７記載の近赤外線吸収フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線を吸収する光学フィルター、特にディスプレイ用フィルターとして好適な近赤外線吸収フィルムに関するものであり、詳しくは可視光線領域の透過率が高く、経時変化が少なく、かつ、塗膜外観が均一な近赤外線吸収フィルム及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近赤外線の吸収能を有する光学フィルターは、近赤外線を遮断し、可視光を通過させる性質を有しており、各種の用途に使用されている。
近年、薄型大画面ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されているが、プラズマディスプレイから放出される近赤外線により、近赤外線リモコンを使用する電子機器が誤動作を起こす問題があり、プラズマディスプレイの前面に上記の近赤外線吸収フィルムを使用されている。
【０００３】
近赤外線の吸収能を有するフィルターとしては、（１）燐酸系ガラスに、銅や鉄などの金属イオンを含有したフィルター、（２）屈折率の異なる層を積層し、透過光を干渉させることで特定の波長を透過させる干渉フィルター、（３）共重合体に銅イオンを含有するアクリル系樹脂フィルター、（４）樹脂に色素を分散又は溶解した層を積層したフィルター、が提案されている。
これらの中で（４）のフィルターは、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比較的大きく、各種の方法が提案されている（特許文献１〜９参照）。
【特許文献１】特開２００２−  ８２２１９号公報
【特許文献２】特開２００２−１３８２０３号公報
【特許文献３】特開２００２−２１４４２７号公報
【特許文献４】特開２００２−２６４２７８号公報
【特許文献５】特開２００２−３０３７２０号公報
【特許文献６】特開２００２−３３３５１７号公報
【特許文献７】特開２００３−  ８２３０２号公報
【特許文献８】特開２００３−  ９６０４０号公報
【特許文献９】特開２００３−１１４３２３号公報
【０００４】
しかしながら、これらの方法の中には、プラズマディスプレイから放出される近赤外線を十分に遮断する能力を有し、かつ、長時間の使用でも経時変化のないものがあるが、近年のプラズマディスプレイの高輝度化、ハイビジョン放送による高精細化や高画質化に対して近赤外線吸収層の外観が十分に満足できるものではなかった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、前記の従来技術の課題を解決するためになされたものであり、近赤外領域に大きくて、かつ、幅広い吸収を有し、可視光領域の光線透過率が高く、光学特性の経時変化が少なく、かつ、近年のディスプレイの高輝度化、ハイビジョン放送による高精細化や高画質化に対応し得る、近赤外線吸収層の塗膜外観に高度に優れる近赤外線吸収フィルム及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記の背景技術に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決することができた近赤外線吸収フィルム及びその製造方法とは、以下の通りである。なお、本発明でいう「フィルム」は、所謂「シート」も含む概念である。この他、上記本発明の近赤外線吸収フィルムを用いたプラズマディスプレイ用前面フィルターも、本発明に包含される。
【０００７】
第１の発明は、透明基材フィルム上に、波長８００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素と樹脂を主に含有する組成物からなる近赤外線吸収層を設けた近赤外線吸収フィルムであって、前記の組成物中にＨＬＢが２以上１２以下の界面活性剤を０．０１質量％以上２．００質量％以下含有されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムである。
【０００８】
第２の発明は、前記の界面活性剤がシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることを特徴とする第１の発明に記載の近赤外線吸収フィルムである。
【０００９】
第３の発明は、プラズマディスプレイの前面に設置されることを特徴とする第１または２の発明に記載の近赤外線吸収フィルムである。
【００１０】
第４の発明は、透明基材フィルム上に、近赤外線吸収色素、樹脂、界面活性剤、有機溶媒を含む塗布液を、塗布、乾燥させて近赤外線吸収層を形成させる近赤外線吸収フィルムの製造方法であって、前記の界面活性剤はＨＬＢが２以上１２以下であり、塗布液の固形分に対し０．０１質量％以上２．００質量％以下含有されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法である。
【００１１】
第５の発明は、前記の塗布液の乾燥において、乾燥を熱風による２段階の乾燥工程で行い、初期の乾燥を２０℃以上８０℃以下で、かつ風量を２ｍ／秒以上３０ｍ／秒以下で行うことを特徴とする第４の発明に記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法である。
【００１２】
第６の発明は、前記の塗布液の乾燥において、後期の乾燥をフィルムの実温が１２０℃以上１８０℃以下となる乾燥ゾーンで５秒以上１８０秒以下通過させて行うことを特徴とする第５の発明に記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法である。
【００１３】
第７の発明は、前記の塗布液の塗布する方法として、リバースグラビア方式を用いることを特徴とする第４〜６のいずれかの発明に記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法である。
【００１４】
第８の発明は、前記のリバースグラビア方式において、グラビアの直径が８０ｍｍ以下であることを特徴とする第７の発明に記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明による近赤外線吸収フィルムを近赤外線吸収フィルターとしてプラズマディプレイの前面に設置した場合、従来の近赤外線吸収フィルターと同様に、ディスプレイから放出される不要な近赤外線を吸収し、精密機器の誤動作を防ぐことができるだけでなく、塗膜外観が良好で、プラズマディスレイの高輝度化、ハイビジョン放送による高精細化や高画質化に大きく寄与できるという利点がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明を詳細に説明する。
（透明基材フィルム）
本発明において、透明基材フィルムは特に限定されるものではないが、全光線透過率が８０％以上で、かつヘイズが５％以下であることが好ましい。基材フィルムが透明性に劣る場合には、ディスプレイの輝度を低下させるだけでなく、画像のシャープさが不良となる。
【００１７】
このような透明基材フィルムとしては、例えばポリエステル系、アクリル系、セルロ−ス系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネート、フェノール系、ウレタン系等のプラスチックフィルム、またはこれらの任意の２種類以上を貼り合わせたものが挙げられる。好ましくは、耐熱性、柔軟性のバランスが良好なポリエステル系フィルムであり、より好ましくはポリエチレンテレフタレートフィルムである。
【００１８】
本発明で用いる透明基材フィルムとして好適なポリエステル系フィルムとは、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸又はそのエステルと、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１、４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコールなどをエステル化反応又はエステル交換反応を行い、次いで重縮合反応させて得たポリエステルチップを乾燥後、押出機で溶融し、Ｔダイからシート状に押し出して得た未延伸シートを少なくとも１軸方向に延伸し、次いで熱固定処理、緩和処理を行うことにより製造されるフィルムである。
【００１９】
前記フィルムは、強度等の点から、二軸延伸フィルムが特に好ましい。延伸方法としては、チューブラ延伸法、同時二軸延伸法、逐次二軸延伸法等が挙げられるが、平面性、寸法安定性、厚みムラ等から逐次二軸延伸法が好ましい。逐次二軸延伸フィルムは、例えば、長手方向にポリエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋３０℃）で、２．０〜５．０倍に長手方向にロール延伸し、引き続き、テンターで予熱後１２０〜１５０℃で１．２〜５．０倍に幅方向に延伸する。さらに、二軸延伸後に２２０℃以上（融点−１０℃）以下の温度で熱固定処理を行い、次いで幅方向に３〜８％緩和させることによって製造することができる。また、フィルムの長手方向の寸法安定性をさらに改善するために、縦弛緩処理を併用してもよい。
【００２０】
フィルムには、ハンドリング性（例えば、積層後の巻取り性）を付与するために、粒子を含有させてフィルム表面に突起を形成させることが好ましい。フィルムに含有させる粒子としては、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、等の無機粒子、アクリル、ＰＭＭＡ、ナイロン、ポリスチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン・ホルマリン縮合物、等の耐熱性高分子粒子が挙げられる。透明性の点から、フィルム中の粒子の含有量は少ないことが好ましく、例えば１ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。さらに、透明性の点から使用する樹脂と屈折率の近い粒子を選択することが好ましい。また、フィルムには必要に応じて各種機能を付与するために、耐光剤（紫外線防止剤）、色素、帯電防止剤などを含有させてもよい。
【００２１】
本発明で用いる透明基材フィルムは、単層フィルムであっても、表層と中心層を積層した２層以上の複合フィルムであっても構わない。複合フィルムの場合、表層と中心層の機能を独立して設計することができる利点がある。例えば、厚みの薄い表層にのみ粒子を含有させて表面に凹凸を形成することでハンドリング性を維持しながら、厚みの厚い中心層には粒子を実質上含有させないことで、複合フィルム全体として透明性をさらに向上させることができる。前記複合フィルムの製造方法は特に限定されるものではないが、生産性を考慮すると、表層と中心層の原料を別々の押出機から押出し、１つのダイスに導き未延伸シートを得た後、少なくとも１軸方向に配向させる、いわゆる共押出法による積層が特に好ましい。
【００２２】
透明基材フィルムの厚みは素材により異なるが、ポリエステルフィルムを用いる場合には、下限は３５μｍが好ましく、より好ましくは５０μｍである。一方、厚みの上限は２６０μｍが好ましく、より好ましくは２００μｍである。厚みが薄い場合には、ハンドリング性が不良となるばかりか、近赤外線吸収層の残留溶媒を少なくなるように乾燥時に加熱した場合に、フィルムに熱シワが発生して平面性が不良となりやすい。一方、厚みが厚い場合にはコスト面で問題があるだけでなく、ロール状に巻き取って保存した場合に巻き癖による平面性不良が発生しやすくなる。
【００２３】
（中間層）
本発明の近赤外線吸収フィルムは、透明基材フィルム上に近赤外線吸収層を積層した構成になっているが、透明基材フィルムと近赤外線吸収層の密着性の向上や透明基材フィルムの透明性向上を目的に中間層を設けることが好ましい。なお、フィルム中に粒子を含有させない場合、粒子を含有する中間層をフィルム製造時に同時に設けることにより、ハンドリング性を維持しながら高度な透明性を得ることができる。
【００２４】
前記中間層を構成する樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂などが挙げられるが、基材および近赤外線吸収層との密着性が良好となる樹脂を１種以上選択することが重要であり、具体的には、基材及び近赤外線吸収層を構成する樹脂がエステル系であれば、類似した構造を有するポリエステル系、ポリエステルウレタン系を選定することが好ましい。
【００２５】
前記中間層には、密着性の向上、耐水性の向上を目的に架橋剤を含有させて架橋構造を形成させても構わない。架橋剤としては、尿素系、エポキシ系、メラミン系、イソシアネート系が挙げられる。特に、樹脂が高温・高湿度下での白化や強度が低下する場合には、架橋剤による効果が顕著である。なお、架橋剤を用いずに、樹脂として自己架橋性を有するグラフト共重合樹脂を用いてもよい。
【００２６】
中間層には、表面に凹凸を形成させて滑り性を改善する目的で、各種の粒子を含有させてもよい。中間層中に含有させる粒子としては、例えば、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、等の無機粒子、アクリル、ＰＭＭＡ、ナイロン、スチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン・ホルマリン縮合物、等の有機粒子が挙げられる。なお、透明性の点から使用する樹脂と屈折率の近い粒子を選択することが好ましい。
【００２７】
さらに、中間層に各種機能を付与するために、界面活性剤、帯電防止剤、色素、紫外線吸収剤等を含有させてもよい。
【００２８】
中間層は目的とする機能を有する場合は単層でも構わないが、必要に応じて２層以上に積層しても構わない。
【００２９】
中間層の厚みは、目的とする機能を有すれば特に限定されるものではないが、０．０１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。厚みが薄い場合には中間層としても機能が発現し難くなり、逆に、厚い場合には透明性が不良となりやすくなる。
【００３０】
中間層を設ける方法としては、塗布法が好ましい。塗布法としては、グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式などの公知の塗布方法を用いて、フィルムの製造工程で塗布層を設けるインラインコート方式、フィルム製造後に塗布層を設けるオフラインコート方式により設けることができる。これらの方式のうち、インラインコート方式がコスト面で優れるだけでなく、塗布層に粒子を含有させることで、透明基材フィルムに粒子を含有させる必要がなくなるため、透明性を高度に改善することができるため好ましい。
【００３１】
（近赤外線吸収層）
本発明の近赤外線吸収フィルムは、透明基材フィルム上に直接あるいは中間層を介して近赤外線吸収色素と樹脂を主に含有する組成物からなる近赤外線吸収層を設けられている。上記の「近赤外線吸収色素と樹脂を主に含有」とは、前記組成物中に近赤外線吸収色素と樹脂を８０質量％以上含有することを意味する。前記組成物中の近赤外線吸収色素と樹脂の含有量の総和は、８５質量％以上が好ましく、特に好ましくは９０質量％以上である。
【００３２】
近赤外線吸収色素とは、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域に極大吸収を有する色素であって、ジインモニウム系、フタロシアニン系、ジチオ−ル金属錯体系、ナフタロシアニン系、アゾ系、ポリメチン系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、テトラデヒドオコリン系、トリフェニルメタン系、シアニン系、アゾ系、アミニウム系等の化合物が挙げられる。これらの化合物は単独で又は２種以上を混合して使用されるが、近赤外線領域の吸収が大きく、吸収域も広く、可視光領域の透過率も高い下記一般式（Ｉ）で示されるジイモニウム塩系化合物を含むことが好ましい。
【００３３】
【化１】
2006139311.tif 000002
【００３４】
（式中、Ｒ1〜Ｒ8は、夫々同一または異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基を表す。Ｒ9〜Ｒ12は、それぞれ同一でも、異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルコキシル基を表す。Ｒ1〜Ｒ12で、置換基を結合できるものは置換基を有してもよい。Ｘ-は陰イオンを表す。）。
【００３５】
上記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ8が、（ａ）アルキル基、（ｂ）アリール基、（ｃ）アルケニル基、（ｄ）アラルキル基の場合、それぞれ以下の基が例示できる。
（ａ）アルキル基：メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−シアノプロピル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基など。
（ｂ）アリール基：フェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、トリル基、ジエチルアミノフェニル基、ナフチル基など。
（ｃ）アルケニル基：ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基など。
（ｄ）アラルキル基：ベンジル基、ｐ−フルオロベンジル基、ｐ−クロロフェニル基、フェニルプロピル基、ナフチルエチル基など。
【００３６】
また、上記一般式（Ｉ）のＲ9〜Ｒ12の（ｅ）ハロゲン原子、（ｆ）アミノ基、（ｇ）アルキル基、（ｈ）アルコキシル基としては、それぞれ、以下の基が例示できる。
（ｅ）ハロゲン原子：フッ素、塩素、臭素など。
（ｆ）アミノ基：ジエチルアミノ基、ジメチルアミノ基など。
（ｇ）アルキル基：メチル基、エチル基、プロピル基、トリフルオロメチル基など。
（ｈ）アルコキシル基：メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基など。
【００３７】
また、上記一般式（Ｉ）におけるＸ-としては、例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオンなどの陰イオンが挙げられる。
【００３８】
上記一般式（Ｉ）で示されるジインモニウム塩系化合物は、市販品を用いることができる。例えば、Ｋａｙａｓｏｒｂ  ＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０２３、ＩＲＧ−０２４（以上、日本化薬社製）、ＣＩＲ−１０８０、ＣＩＲ−１０８１、ＣＩＲ−１０８３、ＣＩＲ−１０８５（以上、日本カーリット社製）などが好適である。
【００３９】
本発明の近赤外線吸収フィルムは、前記の一般式（Ｉ）で示されるジイモニウム塩系化合物以外に、近赤外線領域の吸収域の拡大、色目の調整を目的として、他の近赤外線吸収色素を併用することが好ましい。
【００４０】
前記のジインモニウム塩系化合物と併用し得る他の近赤外線吸収色素としては、フタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、スクアリリウム塩系化合物、ピリリウム塩系化合物、チオペリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、インドアニリンキレート系色素、インドナフトールキレート系色素、アゾ系色素、アゾキレート系色素、アミニウム塩系色素、キノン系色素、アントラキノン系色素、ポリメチン系色素、トリフェニルメタン系色素などが挙げられる。
【００４１】
例えば、上記フタロシアニン系化合物は、市販品を用いることができる。具体的には、Ｅｘｃｏｌｏｒ  ＩＲ−１、ＩＲ−２、ＩＲ−３、ＩＲ−４、ＩＲ−１０、ＩＲ−１０Ａ、ＩＲ−１２、ＩＲ−１４、ＴＸＥＸ−８０５Ｋ、ＴＸＥＸ−８０９Ｋ、ＴＸＥＸ−８１０Ｋ、ＴＸＥＸ−８１１Ｋ、ＴＸＥＸ−８１２Ｋ、ＴＸＥＸ−８１３Ｋ、ＴＸＥＸ−８１４Ｋ（以上、日本触媒社製）、ＭＩＲ−３６９、ＭＩＲ−３８９（以上、三井化学社製）などが好適なものとして挙げられる。
【００４２】
また、上記ジチオール金属錯体系化合物としては、例えば、下記一般式（II）で表される化合物が好適である。
【００４３】
【化２】
2006139311.tif 000003
【００４４】
（式中、Ｒ13〜Ｒ16は、夫々同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基を表す。Ｍは、ニッケル、銅、コバルト、パラジウム、白金を表す。）。
【００４５】
上記一般式（II）のＲ13〜Ｒ16の具体例としては、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−シアノプロピル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基などのアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシル基；フェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、トリル基、ジエチルアミノフェニル、ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、ｐ−フルオロベンジル基、ｐ−クロロフェニル基、フェニルプロピル基、ナフチルエチル基などのアラルキル基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基などのアミノ基；が挙げられる。上記一般式（II）のジチオール金属錯体系化合物としては、例えば、三井化学製：ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９などの市販品も好適に用い得る。
【００４６】
また、シアニン系化合物としては、旭電化製のＴＺ−１０３、ＴＺ−１０４、ＴＺ−１０５、ＴＺ−１０９、ＴＺ−１１１、ＴＺ−１１４、日本化薬製のＣＹ−９、ＣＹ−１０、ＣＹ−２０、ＣＹ−３０、山田化学製のＩＲ−３０１などが好適である。
【００４７】
本発明において、目的とする近赤外線領域の吸収、可視光領域での透過率を制御するために、近赤外線吸収色素の量を、近赤外線吸収層の厚み方向における任意の面で０．０１ｇ／ｍ2 以上１．０ｇ／ｍ2 以下の範囲で存在するように調整することが好ましい。単位面積当たりの近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、近赤外線領域での吸収能が不足しやすくなる。一方、単位面積当たりの近赤外線吸収色素の量が多い場合には、可視光領域での透明性が不足して、ディスプレイの輝度が低下するという問題がある。
【００４８】
本発明において、近赤外線吸収色素は樹脂中に分散あるいは溶解した組成物として、塗布法により、透明基材フィルム上に積層される。樹脂としては、近赤外線吸収色素を均一に溶解あるいは分散できるものであれば特に限定されないが、ポリエステル系、アクリル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系樹脂を好適に用いることができる。中でも、柔軟性と基材との密着性に優れる点から、ポリエステル系樹脂が好ましい。樹脂が硬い場合には、後加工の工程で塗膜に微小なひび割れが発生する場合がある。さらに、樹脂のガラス転移温度が、利用する機器の使用保証温度以上であることが好ましい。
【００４９】
前記近赤外線吸収層を形成する樹脂のガラス転移温度が機器使用温度以下であると、樹脂中に分散された色素同士が反応したり、樹脂が外気中の水分等を吸収したりして、色素やバインダ−樹脂の劣化が大きくなる。また、本発明において、前記樹脂のガラス転移温度は、機器使用温度以上であれば特に限定されないが、特に好ましくは８５℃以上１６０℃以下が好ましい。なお、前記のガラス転移温度は、ＪＩＳ−Ｋ７１２１に準拠し、示差走査熱量計（セイコーインスツルメンツ株式会社製、ＤＳＣ６２００）を使用して、２５〜３００℃の温度範囲にわたって１０℃／ｍｉｎで昇温させ、ＤＳＣ曲線から得られた補外ガラス転移開始温度を意味する。
【００５０】
前記樹脂のガラス転移温度が８５℃未満の場合、高温高湿下において、近赤外線吸収色素が運動し易くなるため、該色素同士あるいは色素と樹脂との相互作用が生じ易く、該色素の変性が顕著となる傾向にある。そのためフィルムの分光特性や色調の変化が生じ易くなる傾向にある。
【００５１】
一方、前記樹脂のガラス転移温度が１６０℃を超える場合、該樹脂を溶媒に溶解し、透明基材フィルム上に塗布する時に、十分な乾燥をしようとすれば高温にしなければならない。その結果、熱シワによる基材の平面性不良、更には、色素の劣化が発生する。また、低温で乾燥した場合、乾燥時間が長く生産性が悪くなり、生産性が不良となる。また、十分な乾燥ができない可能性もあり、溶媒が塗膜中に残留し、前述のように樹脂の見かけのガラス転移温度が低下し、やはり、色素の変性を引き起こしやすくなる。
【００５２】
近赤外線吸収層における近赤外線吸収色素の含有量は、樹脂に対し１質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。近赤外線吸収色素の含有量の上限は、樹脂に対し８質量％がさらに好ましく、特に好ましくは６質量％である。また、近赤外線吸収色素の含有量の下限は、樹脂に対し２質量％がさらに好ましく、特に好ましくは３質量％である。
【００５３】
樹脂中の近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、目的とする近赤外線吸収能を達成するために、近赤外線吸収層の塗工量を増やす必要がある。この場合、塗膜を十分に乾燥しようとすれば、高温及び／又は長時間にする必要があり、色素の劣化や基材の平面性不良などが起こりやすくなる。特に、近赤外線吸収色素として、ジインモニウム塩系化合物を用いた場合、ジインモニウム塩系化合物が高温下や高湿下で変性し易く、近赤外線領域の吸収が小さくなったり、可視光線領域の一部の透過率が低下したりして、色調が変化し易い傾向がある。一方、樹脂中の近赤外線吸収色素の量が多い場合には、樹脂中の色素間の距離がより短くなる。そのため、色素間の相互作用が強くなり、残留溶媒が少なくしたとしても色素の経時的な変性が起こりやすくなる。
【００５４】
本発明において、近赤外線吸収層は、近赤外線吸収色素、樹脂、および有機溶媒を含む塗布液を、透明基材フィルム上に塗布、乾燥させて形成される。この際に、前記塗布液中に界面活性剤を含有させることが重要である。界面活性剤を含有させることにより、近赤外線吸収層の塗工外観、特に、微小な泡によるヌケ、異物等の付着より凹み、乾燥工程でのハジキが改善される。更には、界面活性剤を特定条件下で塗布乾燥することにより、界面活性剤が近赤外線吸収層の表面にブリードして局在化する。その結果、近赤外線吸収層の表面の耐久性が向上するだけでなく、近赤外線吸収層の表面に滑り性が付与され、近赤外線吸収層あるいは／及び反対面に表面凹凸を形成しなくともハンドリング性が良好となり、ロール状に巻取ることが容易になる。
【００５５】
界面活性剤は、カチオン系、アニオン系、ノニオン系の公知のものを好適に使用できるが、近赤外線吸収色素との相互作用による近赤外線吸収色素の劣化を抑制する点から、極性基を有していないノニオン系が好ましく、更には、界面活性能に優れるシリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。
【００５６】
シリコーン系界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、アミノシラン、アクリルシラン、ビニルベンジルシラン、ビニルベンジシルアミノシラン、グリシドシラン、メルカプトシラン、ジメチルシラン、ポリジメチルシロキサン、ポリアルコキシシロキサン、ハイドロジエン変性シロキサン、ビニル変性シロキサン、ビトロキシ変性シロキサン、アミノ変性シロキサン、カルボキシル変性シロキサン、ハロゲン化変性シロキサン、エポキシ変性シロキサン、メタクリロキシ変性シロキサン、メルカプト変性シロキサン、フッ素変性シロキサン、アルキル基変性シロキサン、フェニル変性シロキサン、アルキレンオキシド変性シロキサンなどが挙げられる。
【００５７】
フッ素系界面活性剤としては、４フッ化エチレン、パーフルオロアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルスルホン酸アミド、パーフルオロアルキルスルホン酸ナトリウム、パーフルオロアルキルカリウム塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルアミノスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルアルキル化合物、パーフルオロアルキルアルキルベタイン、パーフルオロアルキルハロゲン化物などが挙げられる。
【００５８】
界面活性剤の含有量は、近赤外線吸収層を構成する樹脂に対して０．０１質量％以上２．００質量％以下であることが重要である。界面活性剤の含有量が少ない場合には、塗膜外観の向上や滑り性付与の効果が不足し、逆に、界面活性剤の含有量が多い場合には近赤外線吸収層が水分を吸収しやすくなり、色素の劣化が促進される場合がある。
【００５９】
本発明において、界面活性剤のＨＬＢは２以上１２以下であることが重要である。ＨＬＢの下限値は好ましくは３であり、特に好ましくは４である。一方、ＨＬＢの上限値は好ましくは１１であり、特に好ましくは１０である。ＨＬＢが低い界面活性剤を用いた場合には、近赤外線吸収層の表面が撥水化して、高温・高湿度の環境下で長期間保管しても、近赤外線吸収色素の劣化を抑えることができ、かつ、易滑性を付与しやすくなる。一方、ＨＬＢが低すぎる界面活性剤を使用した場合には、界面活性能の不足によりレベリング性が不足する。逆に、ＨＬＢが高すぎる界面活性剤を使用した場合には、近赤外線吸収層の滑り性が不足するだけでなく、近赤外線吸収層が水分を吸収しやすくなり、色素の経時安定性が不良となる。
【００６０】
なお、ＨＬＢとは、アメリカのAtlas Powder社のW.C.Griffinが、Hydorophil Lyophile Balanceと名付けて、界面活性剤の分子中に含まれる親水基と親油基のバランスを特性値として指標化した値である。なお、ＨＬＢは低いほど親油性が、逆に高いほど親水性が高くなることを意味する。
【００６１】
近赤外線吸収層の表面への界面活性剤の局在化は、用いる樹脂の種類や溶剤による異なるが、ＨＬＢが７付近で最も起こりやすく、かつ、初期の乾燥が緩やかな条件であるほうが局在化しやすい。近赤外線吸収層の表面への界面活性剤の局在化の程度は、例えば、近赤外線吸収層中の界面活性剤の含有量と、近赤外線吸収層の表面の界面活性剤量を対比することにより確認できる。例えば、シリコーン系界面活性剤であれば、化学分析により定量した近赤外線吸収層中のＳｉ量と、ＥＳＣＡ分析により定量した近赤外線吸収層の表面のＳｉ量を対比することにより、近赤外線吸収層の表面への界面活性剤の局在化の程度確認することができる。
【００６２】
本発明において、近赤外線吸収層は、樹脂、近赤外線吸収色素、界面活性剤を含む塗布液を透明基材フィルム上に塗布・乾燥することにより積層されるが、該塗布液は、塗工性より有機溶媒により希釈することが必要である。
【００６３】
該有機溶媒としては、（１）メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、トリデシルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−メチルシクロヘキシルアルコール等のアルコール類、（２）エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン等のグリコール類、（３）エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチレンエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、エチレングリコールモノブチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルアセテート等のグリコールエーテル類、（４）酢酸エチル、酢酸イソプロピレン、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、（５）アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソホロン、ジアセトンアルコール等のケトン類、を例示することができ、これら単独あるいは２種以上を混合して使用することができる。
【００６４】
好ましくは、色素の溶解性に優れるケトン類を、塗布液に使用する全有機溶媒に対し、３０質量％以上８０質量％以下含有させ、その他の有機溶媒は、レベリング性、乾燥性を考慮して選定することが好ましい。また、有機溶媒の沸点は、６０℃以上１８０℃以下が好ましい。沸点が低い場合には、塗工中に塗布液の固形分濃度が変化し、塗工厚みが安定化しにくい。逆に、沸点が高い場合には、塗膜中に残存する有機溶媒量が増え、経時安定性が不良となる。
【００６５】
近赤外線吸収色素および樹脂を有機溶媒中に溶解あるいは分散する方法としては、加温下での攪拌、分散、または粉砕の方法が挙げられる。加温することにより色素及び樹脂の溶解性を向上することができ、未溶解物等による塗工外観の悪化を抑制することができる。また、樹脂及び色素を分散または粉砕して、大きさが０．３μｍ以下の微粒子状態で塗布液中に分散することにより、透明性に優れる塗布層を形成することが可能となる。分散機または粉砕機としては、公知のものを用いることができる。例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、ホモミキサー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー、バタフライミキサー、プラネタリーミキサー、ヘンシェルミキサー等が挙げられる。
【００６６】
塗布液中にコンタミや大きさが１μｍ以上の未溶解物が存在した場合、塗布後の外観が不良になるため、塗布する前に、フィルター等で除去する必要がある。フィルターとして、各種のものが好適に使用できるが、大きさが１μｍの異物を９９％以上除去できる濾過性能を有するフィルターを用いることが好ましい。大きさ１μｍ以上のコンタミや未溶解物を含む塗布液を塗布し乾燥した場合には、その周囲に凹み等が発生し、大きさが１００〜１０００μｍの欠点になる場合がある。
【００６７】
塗布液中に含まれる樹脂及び色素等の固形分濃度は、１０質量％以上３０重量％が好ましい。固形分濃度が低い場合には、塗布後の乾燥に時間が掛かり、生産性が劣るばかりか、塗膜中に残存する溶媒量が増加し、経時安定性が不良となる。逆に、固形分濃度が高い場合には、塗布液の粘度が高くなりレベリング性が不足して塗工外観が不良となる。塗布液の粘度は、１０ｃｐｓ以上３００ｃｐｓ以下が塗工外観の面で好ましく、この範囲になるように有機溶媒で固形分濃度を調整することが好ましい。
【００６８】
本発明で、近赤外線吸収層を透明基材フィルム上に塗布する方法としては、グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式、バーコート方式、リップコート方式など通常用いられている方法が適用できる。これらのなかで、均一に塗布することのできるグラビアコート方式、特にリバースグラビア方式が好ましい。また、グラビアの直径は、８０ｍｍ以下であることが好ましい。直径が大きい場合には流れ方向にうねスジが発生する頻度が増える。
【００６９】
近赤外線吸収層の乾燥後の塗布量は特に限定されないが、下限は１ｇ／ｍ2 が好ましい、より好ましくは３ｇ／ｍ2 であり、上限は５０ｇ／ｍ2 が好ましく、より好ましくは３０ｇ／ｍ2 である。乾燥後の塗布量が少ない場合には、近赤外線の吸収力が不足しやすくなる。そのため、樹脂中の近赤外線吸収色素の存在量を増やすと、色素間の距離が短くなるため、色素間の相互作用が強くなる。その結果、色素の劣化等が起こりやすくなり、経時安定性が不良となる。逆に、乾燥後の塗布量が多い場合には、近赤外線の吸収能は十分であるが、可視光領域での透明性が低下し、ディスプレイの輝度が低下する。そのため、樹脂中の近赤外線吸収色素の存在量を低減すると、光学特性は調節できるが、乾燥が不十分になりやすなる。その結果、塗膜中の残留溶媒により色素の経時安定性が不良となる。一方、乾燥を十分にした場合には基材の平面性が不良となる。
【００７０】
塗布液を透明基材フィルム上に塗布し、乾燥する方法としては、公知の熱風乾燥、赤外線ヒーター等が挙げられるが、乾燥速度が早い熱風乾燥が好ましい。
塗布後の、初期の恒率乾燥の段階では、２０℃以上８０℃以下で、２ｍ／秒以上３０ｍ／秒以下の熱風を用いて乾燥することが好ましい。乾燥温度の下限は３０℃がさらに好ましい。初期乾燥を強く行う（熱風温度が高い、熱風の風量が大きい）場合には、界面活性剤の表面への局在化が起こりにくくなる。その結果、近赤外線吸収層に耐久性向上や滑り性付与の効果がでにくいだけでなく、泡由来の微小なコートヌケ、微小なハジキ、クラック等の塗膜の微小な欠点も発生しやすくなる。逆に、初期乾燥を弱くする（熱風温度が低い、熱風の風量が小さい）場合には、塗工外観は良好になる。しかしながら、乾燥に時間を要し生産性（コスト）の点で問題があるばかりか、ブラッシング等の問題も発生する。近赤外線吸収層形成用塗布液に界面活性剤を添加しない場合には、上記の微小な欠点が発生しやすく、初期乾燥をかなり弱くする必要がある。
【００７１】
減率乾燥の工程では、初期乾燥よりも高温し、塗膜中の溶媒を減少させる必要があり、好ましい温度は、１２０℃以上１８０℃以下である。特に好ましくは、下限値が１４０℃であり、上限値は１７０℃である。温度が低い場合には、塗膜中の溶媒が減少しにくくなり、残留溶媒となって色素の経時的な安定性が不十分となる。逆に、高温の場合には、熱シワにより基材の平面性が不良となるだけでなく、近赤外線吸収色素が熱により劣化する。また、通過時間としては、５秒以上１８０秒以下であることが好ましい。時間が短い場合には塗膜中の残留する溶媒が多くなり経時安定性が不良となり、逆に時間が長い場合には、生産性が不良となるだけでなく、基材に熱シワが発生して平面性が不良となる。通過時間の上限は、生産性と平面性の点から、３０秒とすることが特に好ましい。
【００７２】
乾燥の最終では、熱風温度を樹脂のガラス転移温度以下にし、フラットの状態で基材の実温を樹脂のガラス転移温度以下に冷却することが好ましい。高温のままでは乾燥炉を出た場合には、塗工面がロール表面に接触した際に滑りが不良となり、キズ等が発生するだけでなく、カール等が発生する場合がある。
【００７３】
（近赤外線吸収フィルター）
本発明において近赤外線吸収フィルターとは、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域の透過率が低く、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの可視光領域の透過率が高いフィルターのことである。近赤外領域の透過率は低いほど好ましく、具体的には４０％以下、より好ましくは３０％以下である。前記の近赤外線領域の透過率が高い場合には、本発明の近赤外線吸収フィルムをプラズマディスプレイの前面フィルターの構成部材として使用した場合に、プラズマディスプレイから放出される近赤外線の吸収が不足し、近赤外線リモコンを用いる電子機器の誤動作を防止することができない。また、ディスプレイ用フィルターとして使用する場合、前記の可視光領域の透過率は高ければ高いほどよく、好ましくは５０％以上、より好ましくは６０％以上である。可視光領域の透過率が低い場合には、ディスプレイの発色を妨げ、輝度の低い映像となる。
前記の透過率の調整は、上述の近赤外線吸収色素の種類、単位面積あたりの近赤外線吸収色素の存在量により制御することができる。
【００７４】
近赤外線吸収フィルターの色調としては、Ｌａｂ表色系で表現すると、ａ値は−１０．０〜＋１０．０、ｂ値は−１０．０〜＋１０．０であることが好ましい。この範囲であれば、プラズマディスプレイの前面に設置した場合でもナチュラル色となり好ましい。
【００７５】
近赤外線吸収フィルターの色調の調整は、上述の近赤外線吸収色素の種類、単位面積あたりの近赤外線吸収色素の存在量、更には、他の色補正色素を混合することにより制御できる。なお、後述の近赤外線吸収フィルターの前面または裏面に着色された粘着層や他の機能層（反射防止層、電磁波吸収層、紫外線吸収層など）を積層する場合には、それも含めてナチュラル色に近赤外線吸収フィルターの色調を調整することが好ましい。
【００７６】
本発明の近赤外線吸収層は、直径３００μｍ以上、より好ましくは１００μｍのサイズの欠点が存在しないような塗膜外観にしなければならない。直径３００μｍ以上の欠点は、プラズマディスプレイの前面に設置し、画像を表示した際に輝点として検出され、欠点が顕著化される。直径が１００μｍ以上３００μｍ未満の欠点も、粘着加工等の貼り合せにより、レンズ効果により強調される場合があり、できるだけ近赤外線吸収層に存在しないように制御しなければならない。また、塗工層の薄いスジ、ムラ等もディスプレイ前面では顕著化されて問題となる。
【００７７】
近赤外線吸収フィルターは、高温、高湿度下に長期間放置されても、近赤外線の透過率、可視光の透過率が変化しないことが好ましい。高温、高湿度下の経時安定性が不良の場合には、ディスプレイの映像の色調が変化するばかりか、近赤外線リモコンを用いた電子機器の誤動作を防止する本発明の効果がなくなる場合がある。
【００７８】
経時安定性を良好にするには、近赤外線吸収層形成用の塗布液で使用する有機溶媒の種類、塗布層の厚み、乾燥条件等を制御することで、近赤外線吸収層中の残留溶媒量を低減することができる。また、近赤外線吸収層を構成する樹脂中の色素の含有量を調整することによっても近赤外線吸収層中の残留溶媒量を低減することができる。なお、近赤外線吸収層の残留溶媒の量は、少なければ少ないほどよく、３質量％以下に制御することが好ましい。近赤外線吸収層中の残留溶媒量が３質量％以下になれば、実質的に経時安定性に差がなくなる。しかしながら、さらに残留溶媒量を低下させるために、例えば、乾燥を過酷な条件とすると、フィルターの平面性不良や色素の変質などの弊害が発生する。また、減圧乾燥のような方法では、生産性が低下する。
【００７９】
本発明において、ディスプレイから放出される有害電磁波を遮断する目的で、赤外線吸収層と同一面、ないしは、反対面に導電層を直接或いは粘着剤を介して設けてもよい。該導電層は金属メッシュと導電薄膜の何れを用いても良く、金属メッシュを用いた場合、開口率が５０％以上の金属メッシュ導電層を有している必要がある。金属メッシュの開口率が低ければ電磁波シ−ルド性は良好となるが光線透過率が低下する問題が有る、この為、良好な光線透過率を得る為には開口率が５０％以上は必要となる。本発明に用いられる金属メッシュとしては、電気電導性の高い金属箔にエッチング処理を施して、メッシュ状にしたものや、金属繊維を使った織物状のメッシュや、高分子繊維の表面に金属をメッキ等の手法を用いて付着させた繊維を用いてもよい。該電磁波吸収層に使われる金属は、電気電導性が高く、安定性が良ければいかなる金属でも良く特に限定されるものではないが、加工性、コストなどの観点より、好ましくは、銅、ニッケル、タングステンなどがよい。
【００８０】
また、導電薄膜を用いた場合、透明導電層はいかなる導電膜でもよいが、好ましくは、金属酸化物であることが好ましい。これによって、より高い可視光線透過率を得ることが出来る。また、本発明において透明導電層の導電率を向上させたい場合は、金属酸化物／金属／金属酸化物の３層以上の繰り返し構造であることが好ましい。金属を多層化することで、高い可視光線透過率を維持しながら、電導性を得ることができる。本発明に用いられる。金属酸化物は、電導性と可視光線透過性が有していれば如何なる金属酸化物でもよい。一例として、酸化錫、インジウム酸化物、インジウム錫酸化物、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ビスマスなどがある。以上は一例であり、特に限定されるものではない。また、本発明に用いられる金属層は、導電性の観点より、金、銀及びそれらを含む化合物が好ましい。
【００８１】
更に、導電層を多層化した場合、例えばくり返し層数が３層の場合、銀層の厚さは５０〜２００Åが好ましく、より好ましくは５０〜１００Åである。これよりも膜厚が厚い場合は、光線透過率が低下し、薄い場合は抵抗値が上がってしまう。また、金属酸化物層の厚さとしては、好ましくは、１００〜１０００Å、より好ましくは、１００〜５００Åである。この厚さより厚い場合には着色して色調が変ってしまい、薄い場合には抵抗値が上がってしまう。さらに、３層以上多層化する場合、例えば、金属酸化物／銀／金属酸化物／銀／金属酸化物のように５層とした場合、中心の金属酸化物の厚さは、それ以外の金属酸化物層の厚さよりも厚いことが好ましい。この様にすることで、多層膜全体の光線透過率が向上する。
【００８２】
本発明では、近赤外線吸収フィルムの赤外線吸収層と同一面、ないしは、反対面に反射防止層、きらつき防止層を直接或いは粘着剤を介して設けてもよい。
【００８３】
前記の近赤外線吸収フィルターでは、耐光性を向上させる目的で、紫外線吸収能を有する層を設けてもよい。紫外線吸収能を付与するためには、近赤外線吸収層、透明基材フィルム、粘着剤、反射防止層、ぎらつき防止層のいずれかに紫外線吸収剤を添加すればよい。この紫外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルターは、紫外線吸収層が近赤外線吸収層よりも表面側（ディスプレイ側とは反対側）になるように、ディスプレイの前面に配設することが特に好ましい。反対面紫外線吸収剤は、有機系紫外線防止剤、無機系紫外線防止剤等の公知のものが使用可能である。
【実施例】
【００８４】
次に本発明の実施例及び比較例を示す。また、本発明で使用した特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
【００８５】
＜塗布液粘度＞
２０℃に塗布液を調節し、東京計器製のＢ型粘度計（ＢＬ）を用いて、ローター回転数６０ｒｐｍにて測定した。
【００８６】
＜全光線透過率、ヘイズ＞
ヘイズメータ（日本電色工業製、ＮＤＨ２０００）を用いて、全光線透過率およびヘイズを測定した。
【００８７】
＜透過率＞
分光光度計（日立Ｕ−３５００型）を用い、波長２００〜１１００ｎｍの範囲で、近赤外線吸収層側に光が照射するようにして、室内の空気を透過率の参照として測定した。近赤外領域での透過率は、波長９００〜１１００ｎｍの透過率の平均値より求めた。また、可視光領域での透過率は、波長４５０〜７００ｎｍの透過率の平均値より求めた。
【００８８】
＜色調＞
色差計（日本電色工業製、ＺＥ−２０００）を用い、近赤外線吸収層側に光が照射するようにして、Ｌａｂ表色系のａ値、ｂ値を、標準光としてＤ６５光源、１０度視野角で測定した。
【００８９】
＜経時安定性＞
温度６０℃、湿度９５％雰囲気中で５００時間放置した後、上記の分光特性、色調を測定した。
まず、近赤外線領域の透過率、可視光領域の透過率の平均値を経時処理前後で求め、それらの変化量を下記式（１）より求め、以下の判断基準でランク付けを行った。
◎：透過率の変化が５％未満
○：透過率の変化が５％以上１０％未満
△：透過率の変化が１０％以上２０％未満
×：透過率の変化が２０％以上
【００９０】
変化量（％）＝（｜処理前の透過率−処理後の透過率｜／処理前の透過率）×１００
・・・（１）
【００９１】
次に、色調の経時処理前後での下記式（２）の変化量より以下の判断基準でランク付けを行った。
◎：透過率の変化が１未満
○：透過率の変化が１以上２未満
△：透過率の変化が２以上４未満
×：透過率の変化が４以上
【００９２】
変化量＝√（（処理前ａ値―処理後ａ値）2＋（処理前ｂ値―処理後ｂ値）2）
・・・（２）
【００９３】
＜塗膜外観＞
（１）微小欠点
近赤外線吸収フィルムを白色フィルム（東洋紡製、クリスパーＫ１２１２；１００μｍ）上に置き、３波長の蛍光灯下で観察して、微小欠点の評価を行った。なお、微小欠点は、１００ｍ2 あたりの３００μｍ以上の大きさの欠点の個数を計測し、以下の判断基準でランク付けを行った。なお、欠点の個数の計測は以下のようにして行った。
まず、目視で欠点と観察されるものをすべてマーキングし（欠点の個数が多い場合は途中で中止する）、次いで光学顕微鏡にて前記欠点の大きさを確認し、３００μｍ以上の大きさの欠点の個数を計測する。
◎：微小欠点が１個未満
○：微小欠点が１個以上５個未満
△：微小欠点が５個以上１０個未満
×：微小欠点が１０個以上
【００９４】
（２）塗工不良
近赤外線吸収フィルムを白色フィルム（東洋紡製、クリスパーＫ１２１２；１００μｍ）上に置き、３波長の蛍光灯下で観察して、１００ｍ2 あたりの塗膜外観（塗工ムラ、スジ等の塗工不良）の評価を行い、以下の判断基準でランク付けを行った。
◎：近赤外線吸収フィルムを動かしながら観察しても、塗工不良な箇所が観察されな
い
○：近赤外線吸収フィルムを動かしながら観察すると、塗工不良な箇所が若干観察さ
れる
△：近赤外線吸収フィルムを動かしながら観察すると、塗工不良な箇所が観察される
×：静止状態でも塗工不良な箇所が観察される
【００９５】
＜巻き特性＞
巻き張力を２００Ｎ／ｍで２０ｍ／ｍｉｎの速度で、６インチ紙管にフィルムをロール状に１０００ｍ巻き付けた後の、ロール端面の巻きズレの量より、以下の判断基準でランク付けを行った。
◎：巻きズレが１ｍｍ未満
○：巻きズレが１ｍｍ以上２ｍｍ未満
△：巻きズレが２ｍｍ以上４ｍｍ未満
×：巻きズレが４ｍｍ以上、または、巻取り不能
【００９６】
実施例１
（基材）
固有粘度０．６２ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレート樹脂を２軸スクリュー押出機に投入し、Ｔ−ダイスから２９０℃で溶融押出しし、冷却回転金属ロール上で静電印加を付与しながら密着固化させ、未延伸シートを得た。
次いで、該未延伸シートをロール延伸機で９０℃に加熱して、３．５倍で縦延伸を行った後、縦延伸フィルム上に下記塗布液Ａを乾燥後の塗布量が０．５ｇ／ｍ2 となる様に両面に塗布し、風速１０ｍ／秒、１２０℃の熱風下で２０秒通過させて、中間塗布層を形成させた。さらに、テンターで１４０℃に加熱して３．７倍横延伸したあと、２３５℃で幅（横）方向に５％緩和させながら熱処理してフィルムを得た。得られた中間塗布層を有する二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが厚み１００μｍ、全光線透過率が９０．２％で、ヘイズが０．５％であった。
【００９７】
（中間塗布層用塗布液Ａの組成）
・イオン交換水                                            ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール                                  ２８．９質量％
・アクリルーメラミン樹脂                                  １０．０質量％
（日本カーバイト製、Ａ−０８、固形分濃度：４６質量％）
・ポリエステル系樹脂                                      １０．０質量％
（東洋紡績製、ＭＤ−１２５０、固形分濃度：３０質量％）
・有機粒子                                                  １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤                                                ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
【００９８】
（近赤外線吸収層の積層）
下記の塗布液Ｂ（固形分濃度：１７質量％、粘度：４０ｃｐｓ）を上記の中間塗布層上に乾燥後の塗布量が８．５ｇ／ｍ2になるように直径６０ｃｍの斜線グラビアを用いてリバース方式で塗工し、４０℃で５ｍ／秒の熱風で２０秒間、１５０℃で２０ｍ／秒の熱風で２０秒間、さらに、９０℃で２０ｍ／秒の熱風で１０秒間通過させて乾燥し、近赤外線吸収フィルムを作成した。
【００９９】
（近赤外線吸収層用の塗布液Ｂ）
下記の質量比で混合し、加温下（４０℃）で色素および樹脂を溶解し、公称ろ過精度１μｍのフィルターで未溶解物を除去して塗布液を作成した。
・シクロペンタノン                                  ４１．５０質量％
・トルエン                                          ４１．５０質量％
・フルオレン環を有する共重合ポリエステル系樹脂      １６．２２質量％
（カネボウ製、Ｏ−ＰＥＴ  ＯＰＮ−ＩＲ）
・ジインモニウム塩系化合物                            ０．５３５３質量％
（日本化薬製、ＩＲＧ−０２２）
・ニッケル金属錯体                                    ０．１１７８質量％
（みどり化学製、ＭＩＲ１０１）
・シアニン系化合物                                    ０．０１７０質量％
（山田化学工業製、ＩＲ３０１）
・フタロシアニン系化合物                              ０．０８１６質量％
（日本触媒製、ＩＲ−１４）
・シリコーン系界面活性剤                              ０．０３２４質量％
（ダウコーニング製、ペインタッド５７；ＨＬＢ＝６．７）
【０１００】
得られた近赤外線吸収フィルムの物性を表１に示す。近赤外領域の吸収が強く、可視光領域での透過率が高いフィルムが得られた。また、経時安定性、塗膜外観も良好であった。
【０１０１】
実施例２
近赤外線吸収層用の塗布液中の界面活性剤をＨＬＢが１１であるシリコーン系界面活性剤（日本ユニカー製、ＦＺ−２１０５）に変更したこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。親水性の高い界面活性剤に変更したため、高温・高湿度下での経時安定性がやや劣った。また、近赤外線吸収層の表面に界面活性剤を局在化させることにより滑り性を付与するという効果が不足するため、若干巻きズレが発生した。いずれも、実用レベルであった。
【０１０２】
実施例３
近赤外線吸収層用の塗布液中の界面活性剤を、ＨＬＢが３であるシリコーン系界面活性剤（日本ユニカー製、ＦＺ−２１３６）に変更したこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。疎水性の高い界面活性剤に変更したため、レベリング性が若干劣り、微小欠点が少量発生した。
【０１０３】
実施例４
近赤外線吸収層用の塗布液中に、界面活性剤を樹脂に対し０．０２質量％含有させたこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。界面活性剤の含有量を低減したため、レベリング性がやや劣り、微小欠点が少量発生した。
【０１０４】
実施例５
近赤外線吸収層用の塗布液中に、界面活性剤を樹脂に対し１．５質量％含有させたこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。界面活性剤の含有量を増加したため、経時安定性がやや不良となった。
【０１０５】
実施例６
近赤外線吸収層用の塗布後の乾燥を１００℃で５ｍ／秒の熱風で２０秒間、１５０℃で２０ｍ／秒の熱風で２０秒間、さらに、９０℃で２０ｍ／秒の熱風で１０秒間通過させて乾燥し、近赤外線吸収フィルムを作成した。初期乾燥を強くしたため、微小欠点が多少増加した。
【０１０６】
実施例７
近赤外線吸収層用の塗布後の乾燥を４０℃で５ｍ／秒の熱風で２０秒間、１３０℃で２０ｍ／秒の熱風で２０秒間、さらに、９０℃で２０ｍ／秒の熱風で１０秒間通過させて乾燥したこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを作成した。乾燥炉内でのフィルム実温が低下したため、残留溶媒量が増加し、経時安定性が若干不良となった。
【０１０７】
実施例８
ワイヤーバーで塗工したこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを作成した。ワイヤーバーによる薄い縦スジが発生した。
【０１０８】
実施例９
直径３００ｍｍの斜線グラビアを用いてリバースで塗工したこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを作成した。縦方向にうね状のスジが発生した。
【０１０９】
比較例１
近赤外線吸収層用の塗布液中の界面活性剤を用いないこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。界面活性剤を添加していないため、微小欠点が多数発生した。また、滑り不良となりロール状での巻取りが困難であった。
【０１１０】
比較例２
近赤外線吸収層用の塗布液中の界面活性剤を、樹脂に対し３質量％としたこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。界面活性剤の含有量が多いため、経時安定性が不良となった。
【０１１１】
比較例３
近赤外線吸収層用の塗布液中の界面活性剤を、ＨＬＢが１のシリコーン系界面活性剤（日本ユニカー製、ＦＺ−２１１０）に変更したこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。本発明の構成要件以外の界面活性剤を使用したため、レベリング性が不足し微小欠点が多く発生した。また、表面の滑り性が良すぎるために、巻きズレが発生した。
【０１１２】
比較例４
近赤外線吸収層用の塗布液中の界面活性剤を、ＨＬＢが１４のシリコーン系界面活性剤（東芝シリコーン製、ＴＳＦ４４４０）に変更したこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。本発明の構成要件以外の界面活性剤を使用したため、レベリング性が不足し微小欠点が発生した。また、表面の滑り性がやや不足し巻きずれが発生した。
【０１１３】
実施例１０
近赤外線吸収層を下記の方法で設けたこと以外は実施例１と同様にして、近赤外線吸収フィルムを作成した。
（近赤外線吸収層の積層）
下記の塗布液Ｃ（固形分濃度：２１質量％、粘度：３０ｃｐｓ）を上記の中間塗布層上に乾燥後の塗布量が９．３ｇ／ｍ2になるように直径６０ｃｍの斜線グラビアを用いてリバース方式で塗工し、４０℃で５ｍ／秒の熱風で２０秒間、１５０℃で２０ｍ／秒の熱風で２０秒間、さらに、９０℃で２０ｍ／秒の熱風で１０秒間通過させて乾燥し、近赤外線吸収フィルムを作成した。
【０１１４】
（近赤外線吸収層用の塗布液Ｃ）
下記の質量比で混合し、加温下で色素および樹脂を溶解し、公称ろ過精度１μｍのフィルターで未溶解物を除去して塗布液を作成。
・メチルエチルケトン                              ３９．０７３質量％
・トルエン                                        ３９．０７３質量％
・アクリル系樹脂                                    ６．２３質量％
（三菱レイヨン製、ＢＲ−８０）
・アクリル系樹脂                                  １４．５４質量％
（三菱レイヨン製、ＢＲ−８３）
・ジインモニウム塩系化合物                          ０．６５８８質量％
（日本カーリット製、ＣＩＲ−１０８５）
・フタロシアニン系化合物                            ０．３６６８質量％
（日本触媒製、ＩＲ−１０Ａ）
・シリコーン系界面活性剤                            ０．０６５４質量％
（日本ユニカー製、ＦＺ−２１３０；ＨＬＢ＝７．０）
【０１１５】
得られた近赤外線吸収フィルムの物性を表１に示す。近赤外領域の吸収が強く、可視光領域での透過率が高いフィルムが得られた。また、経時安定性、塗膜外観も良好であった。
【０１１６】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【０１１７】
本発明の近赤外線吸収フィルムは、近赤外領域の透過率が低く、可視光領域の透過率が高く、かつ、塗膜外観が良好であるため、プラズマディスプレイの前面に設置することにより良好が映像を表現でき、かつ、近赤外線リモコンを用いて精密機器の誤動作を防止することができ、産業界に寄与することが大である。