(57)【要約】      （修正有）【課題】ブラスト法とエッチング法とを組合せてディスプレイパネルの隔壁を効率良く形成する。【解決手段】パネル１の表面全面にわたって所定の厚さのエッチング用被膜２を設ける工程と、エッチング用被膜２の設けられた上面側に所定の厚さを有する感光性被膜３’を設けるとともに、この上面側に隔壁パターン５１、５５の形成されたマスターシート５を設置して感光性被膜３’を露光させて隔壁パターンの転写されたブラスト用マスキング被膜３を形成させる工程と、ブラスト用マスキング被膜３の上面側から所定のブラスト加工を施して所定の深さのキャビティ１１を形成させる工程と、所定の深さのキャビティ１１を有する半製品状態のものを所定のエッチング液４の満たされた槽４４内に浸してキャビティ１１の内面側をエッチング処理する工程と、エッチング用被膜２及びブラスト用マスキング被膜３の除去、並びにパネル１全体を乾燥させる工程と、からなる。【選択図】図１
2006335593.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスパネルを含む所定のパネルの表面上に全面にわたって所定の厚さを有するエッチング用被膜を設ける工程と、このようなエッチング用被膜の設けられた、その上面側に所定の厚さを有するものであって写真プロセス等にて隔壁パターンの形成されたブラスト用マスキング被膜を設ける工程と、このように隔壁パターンを有するブラスト用マスキング被膜の設けられた状態の、その上面側から所定のブラスト加工を施し、上記隔壁パターンに従って上記エッチング用被膜の除去並びに当該除去されたエッチング用被膜部の下側に存在するパネル部の研削を行い、所定の深さのキャビティを形成させる工程と、このように所定の深さのキャビティが形成された状態のものを所定のエッチング液中に浸して上記キャビティの内面側をエッチング処理するエッチング工程と、このようにして所定の深さのキャビティが形成された状態において、上記パネルの表面側に設けられていたエッチング用被膜及びブラスト用マスキング被膜の除去を行うとともに、パネル全体を乾燥させる洗浄・乾燥工程と、からなることを特徴とする隔壁形成方法。
【請求項２】
請求項１記載の隔壁形成方法において、上記ブラスト用マスキング被膜の形成に当って、上記エッチング用被膜側にも写真プロセスにて上記ブラスト用マスキング被膜と同一の隔壁パターンを形成させるようにしたことを特徴とする隔壁形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルを初めとした各種ディスプレイパネルにおける各画素形成のために設けられる隔壁の形成方法に関するものであり、特に、上記隔壁の幅をできる限り細くした状態で、このような状態の隔壁を効率良く形成させるようにした隔壁形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のものにおける隔壁の形成方法としては、ガラスパネル等に所定の研磨材を吹き付けることによって行われるブラスト法によるもの、あるいはガラスパネル等をフッ酸液中に浸すことによって行われるエッチング法によるもの等が挙げられる。ところで、これらの内、例えばブラスト法によるものにおいては、使用される研磨材に適当なものを選ばないと、ブラストに供せられた研磨材の一部が破砕され、この破砕されたものが隔壁の側面に衝突して、当該隔壁の側面部を傷付けてしまうと言う問題点がある。このような問題点を解決するために、研磨材を適当な粒径あるいは硬度等を有するものに限定するようにした技術が、例えば特開２００１−９７２７号公報等により挙げられている。また、一般に、フッ酸液等を用いたエッチング法による場合、隔壁の形成に寄与するマスキング膜のガラス表面への密着度が時間の経過とともに劣化して、長時間のエッチング作業、すなわち、高い隔壁を有するような形態のエッチング作業が難しいと言う問題点がある。
【特許文献１】特開２００１−９７２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このように、ブラスト法及びエッチング法には、それぞれ長所及び短所が存在する。そこで、これら各法、すなわち、ブラスト法とエッチング法とにおける、それぞれの長所のみを取出して、これらを組合せ、ディスプレイパネルにおける各画素形成の基礎となる隔壁の形成作業を効率良く、かつ、精度良く行わせるようにした、隔壁形成方法を提供しようとするのが、本発明の目的（課題）である。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するために、本発明においては次のような手段を講ずることとした。すなわち、請求項１記載の発明である第一の発明においては、プラズマディスプレイパネルを初めとした各種ディスプレイパネルにおける各画素を形成することとなるキャビティの、その隔壁の形成方法に関して、ガラスパネルを含む所定のパネルの表面上に全面にわたって所定の厚さを有するエッチング用被膜を設ける工程と、このようなエッチング用被膜の設けられた、その上面側に所定の厚さを有するものであって写真プロセス等にて隔壁パターンの形成されたブラスト用マスキング被膜を設ける工程と、このように隔壁パターンを有するブラスト用マスキング被膜の設けられた状態の、その上面側から所定のブラスト加工を施し、上記隔壁パターンに従って上記エッチング用被膜の除去並びに当該除去されたエッチング用被膜部の下側に存在するパネル部の研削を行い、所定の深さのキャビティを形成させる工程と、このように所定の深さのキャビティが形成された状態のものを所定のエッチング液中に浸して上記キャビティの内面側をエッチング処理するエッチング工程と、このようにして所定の深さのキャビティが形成された状態において、上記パネルの表面側に設けられていたエッチング用被膜及びブラスト用マスキング被膜の除去を行うとともに、パネル全体を乾燥させる洗浄・乾燥工程と、からなるようにした。
【０００５】
また、請求項２記載の発明である第二の発明においては、請求項１記載の隔壁形成方法に関して、上記ブラスト用マスキング被膜の形成に当って、上記エッチング用被膜側にも写真プロセスにて上記ブラスト用マスキング被膜と同一の隔壁パターンを形成させるようにした工程を採ることとした。
【発明の効果】
【０００６】
第一の発明によれば、まず、パネル表面全面にエッチング用被膜を設けておくようにし、この上面側に隔壁パターンを有するマスキング被膜を設けるようにし、このような状態において、ブラスト加工を施すことによって、上記マスキング被膜にて覆われていない部分のエッチング用被膜を研磨材にて削り取ることによって除去し、このようにしてエッチング用被膜の除去されてパネル表面が露出した状態のところを研磨材にて研削して行くようにしたので、隔壁を形成する部分は、上記エッチング用被膜及びブラスト用マスキング被膜にて完全に保護されることとなる。従って、幅の細いシャープな形状の隔壁を形成することができるようになる。また、上記ブラスト加工によって、所定の深さを有するキャビティの部分が効率良く形成される（削り込まれる）こととなる。
【０００７】
そして、このようにして所定の深さを有するように形成されたキャビティを有する半製品状態のものを、所定のエッチング液の満たされた槽中等に投入してエッチング処理を行い、これによって所定の深さのキャビティが形成されることとなる。このようにして形成されたキャビティの表面、特に、隔壁の側面等は、キャビティ全体をブラスト加工にて形成させた場合に比べて、その研削荒れ等が少ない状態に仕上げられることとなる。その結果、隔壁の側面等にはマイクロクラック等が残らないようになり、隔壁の強度が高められることとなる。
【０００８】
また、第二の発明によれば、エッチング用被膜のところにも隔壁パターンを形成させておき、キャビティを形成する部分は初めからパネルの表面が露出されているようにしたので、ブラスト加工が効率良く進められることとなる。すなわち、ブラスト加工によるキャビティの削り込み作業が効率良く進められることとなり、延いては本隔壁の形成作業が効率良く進められることとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明を実施するための最良の形態について、図１及び図２を基に説明する。本実施の形態に関するものは、プラズマディスプレイパネルを初めとした各種ディスプレイパネルにおける各画素を形成することとなるキャビティの、その隔壁の形成方法に関するものである。具体的には、図１に示す如く、ガラスパネルを含む所定のパネル１の表面上に全面にわたって所定の厚さのエッチング用被膜２を設ける工程（Ａ）と、このようなエッチング用被膜２の設けられた、その上面側に所定の厚さを有するものであって感光性のある被膜（感光性被膜３’）を設けるとともに、このような感光性被膜３’の設けられた上面側に隔壁パターン５１、５５の形成されたマスターシート５を設置して上記感光性被膜３’を露光させる工程（Ｂ１）と、このような露光処理を施すことによって、上記エッチング用被膜２の上面側に所定の隔壁パターン５１、５５の転写されたブラスト用マスキング被膜３を形成させる工程（Ｂ２）と、上記隔壁パターン５１、５５の転写によって形成された所定のパターンを有するブラスト用マスキング被膜３の、その上面側から所定のブラスト加工を施し（図１の（Ｃ）矢印図示）、上記ブラスト用マスキング被膜３を介して上記エッチング用被膜２の一部を除去し、更には当該除去されたエッチング用被膜部の下側に存在するパネル部１の研削を行い、所定の深さのキャビティ１１を形成させる工程（Ｃ）と、このように所定の深さのキャビティ１１が形成された半製品状態のものを所定のエッチング液４の満たされた槽４４内に浸して上記キャビティ１１の内面側をエッチング処理するエッチング工程（Ｄ）と、このようにして所定の深さのキャビティ１１が形成された状態において、上記パネル１の表面側に設けられていたエッチング用被膜の一部（２２）及びブラスト用マスキング被膜の一部（３３）を除去するとともに、パネル１全体を乾燥させる洗浄・乾燥工程（Ｅ）と、からなることを基本とするものである。
【００１０】
このような基本工程からなるものにおいて、上記エッチング用被膜２は、図１の（Ａ）に示す如く、ガラス等からなるパネル１の表面側全面にわたって設けられるものであって、例えば図２に示す如く、厚さ（Ａ）が約１０〜３０μｍの値を有するように、かつ、均一な状態に設けられるようになっているものである。具体的には、耐フッ酸性に優れたＰＶＣ（ポリ塩化ビニール）製等からなるものであって略上記厚さ（Ａ）を有するフィルムが所定の圧着手段等を介して上記パネル１の上面側に圧着されることによって形成されるか、または、上記ＰＶＣ樹脂からなるものであって液状のものが、スピンコータあるいはフローコータ等の所定の手段を介して上記パネル１の上面上に略均一な厚さ（Ａ）を有するように塗布されることによって形成されるようになっているものである。特に、このようにして形成される本エッチング用被膜２は上記パネル１の面との間における高い密着性が確保された状態で取付けられるようになっているものである。
【００１１】
次に、このようにして形成されたエッチング用被膜２の上面側には所定の厚さ（Ｂ）を有する感光性被膜３’が設けられるとともに、このような感光性被膜３’の上面側からは隔壁パターン５１、５５を有するマスターシート５を介して露光処理が行われる。なお、本実施の形態においては、上記感光性被膜３’としては、後に行われるブラスト処理にも耐え得るような所定の強度を有する素材のもの、例えばウレタン系の樹脂等を主としたプラスチック材が用いられ、これらのものが約３０〜１００μｍの厚さを有するように設けられることとなる。このような工程を経ることによって、上記感光性被膜３’には隔壁パターン５１、５５の転写されたブラスト用マスキング被膜３が形成されることとなる。そして、このブラスト用マスキング被膜３には、隔壁１５の形成に寄与する部分（３３）と、ブラスト加工時において研磨材を通過させる開口部３１とを有する所定のパターンが形成されることとなる。なお、上記露光処理に基づく開口部３１の形成に関連して、上記エッチング用被膜２も感光性素材にて形成させ、上記開口部３１と同一の形態からなる開口部２１を形成させるようにしても良い（図１の（Ｂ２）破線図示）。
【００１２】
次に、このようにして所定のパターンが形成された状態において、ブラスト加工（処理）が行なわれる。これによって、例えば図２に示す如く、所定の深さ（Ｈ）を有するとともに、所定の幅（Ｔ）からなる隔壁１５にて区画されたキャビティ１１が形成されることとなる。具体的には、図１の（Ｃ）に示す如く、ブラスト加工（処理）を施すことによって、エッチング用被膜２の一部、すなわち、ブラスト用マスキング被膜３の開口部３１の下側に存在してブラスト加工の際、研磨材に晒される部分（図２において２１に相当する部分）が、まず初めに削り取られる。そして、このようにしてエッチング用被膜の一部（２１）が除去された、その下側に存在するパネル１の表面が削り取られる。なお、この場合、上記露光処理において、エッチング用被膜２についても、この部分が除去されているものについては、上記ブラスト加工によって直ちにパネル１の表面が削り取られることとなる。その結果、この場合にはブラスト加工（処理）が、より効率良く進められることとなる。これによって、図２に示すようなＨの値の深さを有するキャビティ１１が形成されることとなる。なお、このようなブラスト加工手段に基づくキャビティ１１の形成作業に関しては、一例としてキャビティ１１の最終的な深さ（Ｈ＋ｈ）の値の約８０〜９０％程度の値まで行なわせるようにすることが考えられている。すなわち、キャビティ１１のほとんどの成形加工を上記ブラスト加工手段にて行なわせるようにする。これによってキャビティ１１の形成、すなわち、隔壁１５の形成を効率良く行わせることができるようになる。なお、このブラスト加工に基づくキャビティ１１の削り込み作業は、場合によっては、もっと少なく、例えば５０〜６０％程度に抑えることも考えられる。
【００１３】
次に、このようにして所定の深さ（Ｈ）を有するキャビティ１１の形成された状態のものをフッ酸等からなる所定のエッチング液４の満たされた槽４４内に投入して上記キャビティ１１を所定の深さ（Ｈ＋ｈ）を有するようにエッチング加工（処理）する。すなわち、ｈの深さだけ更にキャビティ１１をエッチング処理（加工）する。これと同時に、隔壁１５を形成する、その側面部１９のところもエッチング処理をする。すなわち、上記ブラスト加工の際に跳ね返った研磨材等によって側面部１９が肌荒れ状態となっている部分を滑らかな面を有する状態に仕上げる。これによって、隔壁１５の側面部１９に生じていたマイクロクラック等が除去され、結果的に隔壁１５の強度向上が図られることとなる。
【００１４】
なお、本実施の形態においては、上記エッチング処理は、従来のキャビティ１１の形成をすべてエッチング処理にて行わせるようにしたものに較べて短時間にて行わせるようにしたので、エッチング用被膜２とパネル１の上面との間における密着度の劣化等を懸念する必要がなくなる。その結果、従来の長時間エッチング処理等によって生ずるおそれのあった隔壁１５の先端角部１５１（図２参照）等におけるダレの発生等を心配する必要がなくなった。従って、シャープな形態の隔壁１５を形成させることができるようになり、図２における隔壁１５の幅（Ｔ）の値を、限りなく細く形成させることができるようになる。本実施の形態のものにおいては、Ｔの値を約６０μｍ程度まで細くすることができるようになる。
【００１５】
このようにして所定の深さ（Ｈ＋ｈ）を有するキャビティ１１の形成された状態のものを上記槽４４から取出し、隔壁１５を形成する部分の上面に設けられていたエッチング用被膜の一部、すなわち、隔壁１５の形成に寄与した部分（２２）並びにブラスト用マスキング被膜３のうちの隔壁１５の形成に寄与した部分（３３）を、所定の除去剤（洗浄剤）等を用いて除去する。そして、このようにエッチング用被膜の一部（２２）及びブラスト用マスキング被膜３の一部（３３）が除去された状態のものを乾燥させる。このような各工程を経ることによって、図２に示すような、所定の深さのキャビティ１１及び隔壁１５を有するパネル１が形成されることとなる。
【００１６】
このように、本実施の形態のものにおいては、ブラスト加工工程とエッチング加工工程とを適宜組合わせることによって、所定の深さ（Ｈ＋ｈ）を有するキャビティ１１であって、各キャビティ１１、１１を区画する隔壁１５の幅（Ｔ）の値を極力小さく（細く）したパネル１を、効率良く形成させる（製造する）ことができるようになった。また、ある程度の深さ（Ｈ）を有するところまでブラスト加工手段を用いて効率良く削り込むとともに、最終段階においてはキャビティ１１の内面にエッチング処理を施すようにすることによってキャビティ１１の内面、特に隔壁１５の側面部１９の面のブラスト加工時に生ずる荒れ等を除去するようにし、これによって隔壁１５の側面部１９に生じていたマイクロクラック等を除去することができるようになった。また、エッチング用被膜２とブラスト用マスキング被膜３とからなる２重の被膜にて保護された状態でブラスト加工が施されることとなるので、隔壁１５を形成することとなるパネル１の上面部等は充分に保護されるようになり、隔壁１５の先端角部１５１におけるダレの発生等を未然に防止することができるようになった。その結果、シャープな形態の、かつ、幅の細い隔壁１５を効率良く形成させることができるようになった。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の全体構成を示す工程説明図である。
【図２】本発明の主要部をなす隔壁周りの構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００１８】
１  パネル
１１  キャビティ
１５  隔壁
１５１  先端角部
１９  側面部
２  エッチング用被膜
２１  開口部
２２  隔壁形成寄与部
３  ブラスト用マスキング被膜
３’  感光性被膜
３１  開口部
３３  隔壁形成寄与部
４  エッチング液
４４  槽
５  マスターシート
５１  隔壁パターン
５５  隔壁パターン
【図１】
2006335593.tif 000003
【図２】
2006335593.tif 000004