(57)【要約】【課題】  かぶりのない良好な画像を得ることのできる画像形成装置を提供すること。【解決手段】  電子写真感光体と、帯電装置と、露光装置と、現像装置と、転写装置とを有し、該転写装置に対し電子写真感光体の回転方向の下流側で除電装置を有さず次の帯電を行うイレーズレスシステムの電子写真装置であって、  前記帯電装置が直流電圧からなる帯電バイアスで印加するものであるか、又は転写装置が定電圧制御方式かの少なくとも一方であり、  前記電子写真感光体は、導電性基体上に、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層を順次積層してなり、  前記下引き層が、導電性金属酸化物とアクセプター性化合物とを含有してなること特徴とする画像形成装置。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真感光体と、直流電圧からなる帯電バイアスで印加し該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光装置と、前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置とを有し、該転写装置に対し電子写真感光体の回転方向の下流側で除電装置を有さず次の帯電を行うイレーズレスシステムの電子写真装置であって、
前記電子写真感光体は、導電性基体上に、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層を順次積層してなり、
前記下引き層は、導電性金属酸化物とアクセプター性化合物とを含有してなること特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光装置と、前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を被転写媒体に定電圧制御方式で転写する転写する転写装置とを有し、該転写装置の下流で電子写真感光体を除電することなく次の帯電を行うイレーズレスシステムの電子写真装置であって、
前記電子写真感光体は、導電性基体上に、下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次積層してなり、
前記下引き層は、導電性金属酸化物とアクセプター性化合物とを含有してなること特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
少なくとも、導電性基体上に下引き層と電荷発生層と電荷輸送層とを順次積層してなる電子写真感光体、直流電圧からなる帯電バイアスで印加し該電子写真感光体を帯電させる帯電装置、及び前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置を備える電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジであって、
前記帯電装置が、直流電圧からなる帯電バイアスで印加し該電子写真感光体を帯電し、
前記下引き層は、導電性金属酸化物とアクセプター化合物とを含有してなることを特徴とする電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ゴースト、黒点、かぶり等の画質欠陥を生じない画像形成装置、及びプロセスカートリッジに関するものである
【背景技術】
【０００２】
高速で高印字の品質が得られる電子写真装置は、複写機及びレーザービームプリンター等に利用されている。また、近年の環境意識の向上と共に、低電力消費による環境負荷の少ない画像形成装置が求められている。このような要求のもと、電子写真装置において用いられる電子写真感光体は、有機の光導電性材料を用いた有機感光体が主流であり、電子写真感光体の構成も、電荷輸送層と電荷発生層による機能分離型へ変遷している。
かかる機能分離型感光体の場合、アルミニウム基体の上に下引き層を形成し、その後電荷発生層及び電荷輸送層の感光層を形成することが多い。感光体の繰り返し安定性や環境安定性の改善に関しては、電荷発生層や電荷輸送層だけでなく下引き層にも依存する分が多く、繰り返し使用によっても電荷蓄積性の少ない下引き層が要求されている。また、画質欠陥の防止に関しては下引き層の役割は大きく、基材の欠陥や汚れあるいは電荷発生層などの上層の塗膜欠陥やむらに起因する画質欠陥を抑制するために、下引き層が重要な機能を果たしている。
【０００３】
特に近年、電子写真装置においてコロトロンに代わりオゾン発生が少ない接触帯電方式の帯電装置が用いられるようになり、感光体の局所的な劣化部に接触帯電時に加わる局所的な高電場により電気的なピンホールを生じ、これが画質欠陥となって生じる場合があった。
ピンホールリークは、感光体自体の塗膜欠陥により発生する場合もあるが、それ以外に電子写真装置内から発生した導電性の異物が、感光体に接触又は貫入して接触帯電装置と感光体基体との導電路を形成することに起因する場合もある。顕著な場合には、電子写真装置内の他の部材から混入した異物や電子写真装置内に混入したゴミが、感光体に突き刺さり、接触帯電装置からのリーク点を形成する場合もある。
【０００４】
そのような課題に対して、下引き層を厚膜化して基材の欠陥を隠蔽し、かつ電気特性上の安定を得るために、導電性微粉末を含有する層を基材上に塗布形成する方法が、これまで講じられてきている。
その一つはアルミニウム基材上に導電粉分散型の導電層を形成し、さらにその上層に下引き層を形成する方法である。この場合導電層で基材隠蔽を行うとともに抵抗調整を行い、ブロッキング（電荷注入制御）機能は下引き層に有させる（以降、導電層型下引き層と称する。）。また別の方法として、ブロッキング（電荷注入制御）機能と抵抗調整機能とを両有する導電粉分散層を基材上に塗布し、ブロッキング（電荷注入制御）層と抵抗調整層の機能を両有する下引き層を使用する方法が提示されている（以降、分散型下引き層と称する。）。導電層型下引き層の方法に比べ分散型下引き層の方が、積層数は１層少なくてすむため、感光体の製造プロセスを簡略化することができ、コストも低減できる。
【０００５】
しかしながら、分散型下引き層の場合には、下引き層１層のなかに抵抗制御の機能と電荷注入制御の機能とを合わせ織り込む必要があり、材料設計に大きな制約を課している。
また、リーク防止の観点からは下引き層は厚い程大きな効果を有し、１０μｍ以上の膜厚が求められる。一方で、厚膜化した時には良好な電気特性を得るため抵抗を低減する必要があるが、下引き層の抵抗を低減させると、電荷のブロッキング性が弱くなり、画質欠陥としてのカブリを増加させる傾向にある。
【０００６】
これまで酸化チタン導電粉などを用いて実用化されている分散型下引き層の膜厚は、１〜数μｍ程度の範囲にとどまっており、従来の材料を用いた場合には厚膜化による耐リーク性向上と電気特性の安定化及びカブリなどの感光体に要求されるすべての特性値を満足しうる分散型下引き層は存在しなかった。さらには、これら導電紛等を混合し、分散させただけではゴースト現象の解消には不十分である。
【０００７】
下引き層に電子受容性物質や電子輸送性物質などの添加剤を含有させる手法についても多く提案されているが（例えば、特許文献１〜特許文献３参照。）、これらの手法を用いた場合でも厚膜化による耐リーク性向上と電気特性の安定化及び画質欠陥（ゴーストやかぶり）などの感光体に要求されるすべての特性値を満足しうる下引き層を得ることはできなかった。
【０００８】
さらには、高速印字や低電圧での帯電工程及び転写工程の制御によって、低電力消費を実現しようとすると、感光体に書き込まれた潜像が、履歴として現れるゴーストと呼ばれる現象が強調されるという欠点を有している。
【０００９】
近年、環境問題への意識の高まりから、長寿命感光体開発への期待が高まり、長期間繰り返し使用時における電気特性や画質の安定性向上は必須となっている。また、電子写真画像形成装置の低コスト化が進み、近年、装置の低コストのために様々な装置仕様の機種が製品化されている。特に装置の低コスト化には、（１）直流電圧からなる帯電バイアスで印加して電子写真感光体を帯電する帯電装置や、（２）帯電装置と転写装置を簡略化できる定電圧制御方式による転写装置、（３）転写後の除電を行わないイレーズレスシステム、が有効である。しかしながら、これらの方法を用いると、画質欠陥としてゴースト画質欠陥やかぶり状画質欠陥が発生しやすく、低コストと高画質の両立ができていなかった。
【特許文献１】特開平７−１７５２４９号公報
【特許文献２】特開平８−４４０９７号公報
【特許文献３】特開平９−１９７７０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の課題は、低コストシステムである（１）直流電圧による帯電バイアス帯電装置、又は（２）定電圧制御方式による転写装置、及び（３）転写後の除電を行わないイレーズレスシステム、を有する電子写真装置において、ゴースト、黒点、かぶり等の画質欠陥を生じない画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、低コストシステム技術の課題である画像欠陥を改善でき、電子写真感光体としても電気特性の劣化もなく、耐久性が高い下引き層を発明し、低コストシステム技術の不具合点を解消する下記の発明に至った。
【００１２】
＜１＞    電子写真感光体と、直流電圧からなる帯電バイアスで印加し該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光装置と、前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置とを有し、該転写装置に対し電子写真感光体の回転方向の下流で除電装置を有さず次の帯電を行うイレーズレスシステムの電子写真装置であって、
前記電子写真感光体は、導電性基体上に、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層を順次積層してなり、
前記下引き層は、導電性金属酸化物とアクセプター性化合物とを含有してなること特徴とする画像形成装置。
【００１３】
＜２＞  電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光装置と、前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を被転写媒体に定電圧制御方式で転写する転写する転写装置とを有し、該転写装置の下流で電子写真感光体を除電することなく次の帯電を行うイレーズレスシステムの電子写真装置であって、
前記電子写真感光体は、導電性基体上に、下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次積層してなり、
前記下引き層は、導電性金属酸化物とアクセプター性化合物とを含有してなること特徴とする画像形成装置。
【００１４】
＜３＞  前記帯電装置が、直流電圧からなる帯電バイアスで印加して前記電子写真感光体を帯電させることを特徴とする前記＜２＞に記載の画像形成装置。
【００１５】
＜４＞  前記アクセプター性化合物が、キノン基を有する化合物であることを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の画像形成装置。
【００１６】
＜５＞  前記アクセプター性化合物が、アントラキノン構造を有する化合物であることを特徴とする前記＜４＞に記載の画像形成装置。
【００１７】
＜６＞  前記導電性金属酸化物が、酸化亜鉛、酸化チタン、及び酸化錫からなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする前記＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の画像形成装置。
【００１８】
＜７＞  前記下引き層が、１．０μｍ以上の樹脂粒子を含有してなることを特徴とする前記＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の画像形成装置。
【００１９】
＜８＞  前記下引き層の膜厚が、２０μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とする前記＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の画像形成装置。
【００２０】
＜９＞  前記電子写真感光体の帯電表面電位が、１０℃１５％ＲＨで、−４００Ｖ以上−２００Ｖ以下であることを特徴とする前記＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の画像形成装置。
【００２１】
＜１０＞  前記電子写真感光体の転写電圧が、１０℃１５％ＲＨで、３００Ｖ以上５００Ｖ以下であることを特徴とする前記＜１＞〜＜９＞のいずれかに記載の画像形成装置。
【００２２】
＜１１＞  前記電荷輸送層の膜厚が、１０μｍ以上２０μｍ以下であることを特徴とする前記＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載の画像形成装置。
【００２３】
＜１２＞  前記電荷輸送層における電荷輸送材料と樹脂との質量比が、４０：６０〜６０：４０であることを特徴とする前記＜１＞〜＜１１＞のいずれかに記載の画像形成装置。
【００２４】
＜１３＞  前記電荷発生層に含有される電荷発生材料が、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを含有することを特徴とする前記＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の画像形成装置。
【００２５】
＜１４＞  少なくとも、導電性基体上に下引き層と電荷発生層と電荷輸送層とを順次積層してなる電子写真感光体、直流電圧からなる帯電バイアスで印加し該電子写真感光体を帯電させる帯電装置、及び前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置を備える電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジであって、
前記帯電装置が、直流電圧からなる帯電バイアスで印加し該電子写真感光体を帯電し、
前記下引き層は、導電性金属酸化物とアクセプター化合物とを含有してなることを特徴とする電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００２６】
＜１５＞  前記アクセプター性化合物が、キノン基を有する化合物であることを特徴とする前記＜１４＞に記載の電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００２７】
＜１６＞  前記アクセプター性化合物が、アントラキノン構造を有する化合物であることを特徴とする前記＜１５＞に記載の電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００２８】
＜１７＞  前記導電性金属酸化物が、酸化亜鉛、酸化チタン、及び酸化錫からなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする前記＜１４＞〜＜１６＞のいずれかに記載の電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００２９】
＜１８＞  前記下引き層が、１．０μｍ以上の樹脂粒子を含有してなることを特徴とする前記＜１４＞〜＜１７＞のいずれかに記載の電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００３０】
＜１９＞  前記下引き層の膜厚が、２０μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とする前記＜１４＞〜＜１８＞のいずれかに記載の電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００３１】
＜２０＞  前記電子写真感光体の帯電表面電位が、１０℃１５％ＲＨで、−４００Ｖ以上−２００Ｖ以下であることを特徴とする前記＜１４＞〜＜１９＞のいずれかに記載の電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００３２】
＜２１＞  前記転写装置の転写電圧が、１０℃１５％ＲＨで、３００Ｖ以上５００Ｖ以下であることを特徴とする前記＜１４＞〜＜２０＞のいずれかに記載の電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００３３】
＜２２＞  前記電荷輸送層の膜厚が、１０μｍ以上２０μｍ以下であることを特徴とする前記＜１４＞〜＜２１＞のいずれかに記載の電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００３４】
＜２３＞  前記電荷輸送層における電荷輸送材料と樹脂との質量比が、４０：６０〜６０：４０であることを特徴とする前記＜１４＞〜＜２２＞のいずれかに記載の電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００３５】
＜２４＞  前記電荷発生層に含有される電荷発生材料が、ガリウムフタロシアニンを含有することを特徴とする前記＜１４＞〜＜２３＞のいずれかに記載の電子写真式画像形成装置本体に脱着自在なプロセスカートリッジ。
【００３６】
本発明にかかる下引き層はアクセプター性化合物と導電性金属酸化物を含有することを特徴とするものである。本来の目的である分散型下引き層のみに用いられるのではなく、さらに上層に従来の下引き層を形成し、導電型下引き層として用いることも可能である。以下本発明においては、分散型下引き層として用いる場合と導電導電型下引き層として用いる場合の両者を含めて、下引き層と表示する。
【発明の効果】
【００３７】
本発明では、低コストシステムである（１）直流電圧による帯電バイアス帯電装置、又は（２）定電圧制御方式による転写装置、及び（３）転写後の除電を行わないイレーズレスシステム、を有する電子写真装置において、ゴースト、黒点、かぶり等の画質欠陥を生じない画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
まず、本発明の画像形成装置の好適な実施形態について説明する。
図５は、本発明の画像形成装置の基本構成を概略的に示す断面図である。図５に示す画像形成装置１００は、電子写真感光体７と、電子写真感光体７を帯電させる帯電装置８と、帯電装置８に接続された電源９と、帯電装置８により帯電された電子写真感光体７を露光して静電潜像を形成する露光装置１０と、露光装置１０により形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置１１と、現像装置１１により形成されたトナー像を被転写媒体（画像出力媒体、記録媒体）５００に転写する転写装置１２と、クリーニング装置１３と、定着装置１５とを備える。電子写真感光体７はＡの方向に回転する。これらの装置は目的に応じて適宜選択することができる。図５の画像形成装置において、帯電装置８は電子写真感光体７に接触しているが、接触せずに近接するように配置されていても良い。また、クリーニング装置１３は、省かれても良い。
【００３９】
図６は本発明が適用された画像形成装置の実施の一形態（本例ではフルカラープリンタ）を示すものである。尚、図６中の矢印は、各回転部材の回転方向を示す。このフルカラープリンタは、図６に示すように、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロ（Ｙ）、ブラック（Ｋ）用の各感光体ドラム２１（２１Ｃ，２１Ｍ，２１Ｙ，２１Ｋ）を有する画像形成ユニット２０（２０Ｃ，２０Ｍ，２０Ｙ，２０Ｋ）と、これら感光体ドラム２１に接触する一次帯電用の帯電装置２２（２２Ｃ，２２Ｍ，２２Ｙ，２２Ｋ）と、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロ（Ｙ）、ブラック（Ｋ）の各色のレーザ光２３（２３Ｃ，２３Ｍ，２３Ｙ，２３Ｋ）を照射する図示しないレーザ光学ユニット等の露光装置と、各色成分トナーが含まれる現像剤を収容した現像装置２４（２４Ｃ，２４Ｍ，２４Ｙ，２４Ｋ）と、上記４つの感光体ドラム２１のうち２つの感光体ドラム２１Ｃ，２１Ｍに接触する第１の一次中間転写ドラム３１及び他の２つの感光体ドラム２１Ｙ，２１Ｋに接触する第２の一次中間転写ドラム３２と、上記第１、第２の一次中間転写ドラム３１，３２に接触する二次中間転写ドラム３３と、この二次中間転写ドラム３３に接触する最終転写ロール３４とで、その主要部が構成されている。
【００４０】
図７は、本発明の電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体７とともに、帯電装置８、現像装置１１、クリーニング装置（クリーニング手段）１３、及び露光のための開口部１８を、取り付けレール１６を用いて組み合わせ、そして一体化したものである。
そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写装置１２と、定着装置１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【００４１】
図７で示すプロセスカートリッジでは、帯電装置８、現像装置１１、クリーニング装置（クリーニング手段）１３、及び、露光のための開口部１８を備えているが、これら装置は適宜選択的に組み合わせることが可能である。本発明のプロセルカートリッジでは、電子写真感光体７のほかには、少なくとも、帯電装置８、及び、現像装置１１を備える。
【００４２】
帯電装置８としては、特に制限はなく、例えば、導電性又は半導電性のローラ、ブラシ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器などのそれ自体公知の帯電器が挙げられる。
一般に、交流電圧を重畳して印加することで、感光ドラム表面を所定の電位にムラなく均一に帯電でき、かぶりの少ない高品位な出力画像が得られるため、帯電装置に対して直流電圧に放電開始電圧の２倍程度の振幅を持つ交流電圧を重畳して印加している。しかし本発明では、低コスト化の目的から、定電圧制御方式で転写する転写装置を用いない場合には、直流電圧のみを印加する帯電バイアス電源９を備えた帯電装置８を用いる。一方、定電圧制御方式で転写する転写装置を用いる場合には、直流電圧のみを印加する帯電バイアス電源９を備えた帯電装置８を用いても、直流電圧に交流電圧を重畳して印加する帯電バイアス電源９を備えた帯電装置８を用いてもよいが、更なる低コスト化を考慮すると、直流電圧のみを印加する帯電バイアスを供えた帯電装置を用いることが好ましい。通常、帯電装置８に印加する直流帯電電圧は、−６００Ｖ〜−２００Ｖ程度の範囲であり、より好ましくは、−４００Ｖ〜−２００Ｖである。−６００Ｖより低いと、帯電均一性が悪くなり、−２００Ｖより高いと画質濃度のコントラストが得られにくくなる傾向にある。
【００４３】
露光装置１０としては、特に制限はなく、例えば、前記電子写真感光体表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光源を、所望の像様に露光できる光学系機器などが挙げられる。
【００４４】
現像装置１１としては、特に制限はなく、例えば、一成分系、二成分系の正規又は反転現像剤を用いる公知の現像器などが挙げられる。
【００４５】
転写装置１２としては、特に制限はなく、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器などのそれ自体公知の転写帯電器などが挙げられる。
かぶり等の発生を低減し、高品質な画質を得るためには、転写時の電圧を逐次制御し電圧の最適化を図ることが好ましい。しかしながら、本発明では、低コスト化の目的から、直流電圧のみを印加する帯電バイアス電源９を備えた帯電装置８を用いない場合には、転写時の電圧を一定に保つ定電圧制御方式の転写装置１２を用いる。転写装置１２に印加する転写電圧の最適値は、被転写媒体５００の種類や搬送速度、トナーの帯電状態、雰囲気温度、湿度等により設定される。
転写装置１２に印加する転写電圧は、２００Ｖ〜７００Ｖが好ましく、より好ましくは、３００Ｖ〜５００Ｖである。２００Ｖより低いと、現像剤の転写効率が低下し、７００Ｖより高いと転写履歴によるゴーストが悪化する傾向にある。
【００４６】
転写部材としては、その構造、形状、材料等について特に制限はなく、公知のものを使用できる。前記構造としては、例えば、導電性支持体上に、少なくともゴム、エラストマー、樹脂等から形成される弾性層と、少なくとも１層の被覆層とを設けてなる構造などが挙げられる。また、前記形状としては、例えば、ローラ形状、ベルト形状などが挙げられる。また、前記材料としては、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、フッ素系樹脂等に対して、導電性のカーボン粒子や金属粉等を分散混合させたものなどが挙げられる。
【００４７】
クリーニング装置１３としても、その構造、形状、材料等について特に制限はなく、公知のものを使用できる。例えば、作像プロセスにおける転写装置通過後の感光体ドラムの長手方向全長に渡って長尺固定ブラシを押し当てておき、感光体ドラムの回転に伴なって感光体ドラム表面が長尺固定ブラシに摺擦されることにより、残留トナーを清掃するように構成したクリーニング装置を挙げることができる。
【００４８】
定着装置１５も、その構造、形状、材料等について特に制限はなく、公知のものを使用できる。例えば、所定温度に加熱することができる一対の定着ローラ等を挙げることができる。加熱された定着ローラにより被転写媒体５００を挟持搬送することにより被転写媒体上のトナー像を熱定着させることができる。また、ローラに限らずベルト状でもよく、熱定着に限らず圧力定着により定着させてもよい。
【００４９】
また、かぶり等の発生の少ない高品質な画質を得るためには、電子写真感光体と対向するようにイレーズランプを設置することが効果的である。イレーズランプにより、帯電していた電子写真感光体は除電されて、前の履歴が消去される。
しかしながら、低コスト化を目的とする本発明の画像形成装置では、イレーズランプを設置しないイレーズレスシステムを採用する。
【００５０】
本発明の画像形成装置では、（１）直流電圧による帯電バイアス帯電装置又は（２）定電圧制御方式による転写装置であり、（３）転写後の除電を行わないイレーズレスシステム、を採用するため、極めてかぶり等が発生しやすい。
しかし、このような系の画像形成装置であっても、下記の下引き層を有する電子写真感光体を用いることで、かぶり等の発生の少ない高品質な画像が得られる。なお、画像形成装置全体として低コスト化を達成するため、電子写真感光体についても低コスト化が要求される。しかし、本発明の効果を得るために必要なアクセプター性化合物及び導電性金属酸化物の添加量は少量であるため、費用等に影響を与えない範囲である。
【００５１】
図１〜４は、本発明にかかる電子写真感光体の断面図である。図１の電子写真感光体は、導電性基材１と、この基材上に形成された下引き層２と、当該下引き層２の上に形成された感光層３と、から構成されている。さらに、図２に示すように、感光層３は、電荷発生層４と電荷輸送層５との２層構造であることが好ましい。また、感光層上に保護層６を設けてもよい。
【００５２】
導電性基材１としては、アルミニウム・銅・鉄・ステンレス・亜鉛・ニッケルなどの金属ドラムとしてもよいし、シート・紙・プラスチック又はガラス上にアルミニウム・銅・金・銀・白金・パラジウム・チタン・ニッケルークロム・ステンレス鋼・銅・インジウム等の金属を蒸着したり酸化インジウム・酸化錫などの導電性金属化合物を蒸着したものとしてもよいし、金属箔をラミネートしたり、或いは、カーボンブラック・酸化インジウム・酸化錫・酸化アンチモン粉・金属粉・沃化銅等を結着樹脂に分散し、塗布することによって導電処理したもの等が用いられる。また、導電性基材の形状はドラム状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。尚、導電性基材を金属パイプとした場合、表面は素管のままであってもよいし、事前に鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。
【００５３】
下引き層２は、アクセプター性化合物と導電性金属酸化物を含有させて形成される。
本発明において、アクセプター性化合物とは、電子吸引性の構造を有し、光照射により電荷発生顔料で発生した正孔と電子のうち電子を引き抜く性質を有する化合物である。
アクセプター性化合物としては所望の特性が得られるものならばいかなるものでも使用可能であるが、導電性金属酸化物と反応可能な基を有することが好ましい。導電性金属酸化物と反応可能な基としては、キノン基を有する化合物が好ましく、キノン基としてはアントラキノン構造を有する化合物であることがより好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、アントラキノン以外に、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物などがあげられ、いずれも好ましく用いることができる。さらに具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリンなどが特に好ましく用いられる。
【００５４】
これらのアクセプター性化合物の付与量は所望の特性が得られる範囲であれば任意に設定できるが、好ましくは導電性金属酸化物に対して０．０１〜２０質量％付与される。さらに好ましくは導電性金属酸化物に対して０．０５〜１０質量％付与される。０．０１質量％未満では下引き層内の電荷蓄積改善に寄与するだけの十分なアクセプター性を付与できないため、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を招きやすい。また２０質量％より多い場合では導電性金属酸化物同士の凝集を引き起こしやすく、その為下引き層形成時に下引き層内で導電性金属酸化物が良好な導電路を形成することができず、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を招きやすくなるだけでなく、黒点などの画質欠陥も引き起こしやすくなる。
【００５５】
本発明に用いられる導電性金属酸化物としては、１０2〜１０11Ω・ｃｍ程度の抵抗が必要である。これは下引き層はリーク耐性獲得のために適切な抵抗を得ることが必要でるためである。中でも上記抵抗値を有する酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛等の導電性金属酸化物を用いるのが好ましい。特に酸化亜鉛は好ましく用いられる。尚、上記範囲の下限よりも導電性金属酸化物の抵抗値が低いと十分なリーク耐性が得られず、この範囲の上限よりも高いと残留電位上昇を引き起こしてしまう懸念がある。
導電性金属酸化物は、画質濃度の均一性の観点から、微粒子であることが好ましい。かかる粒径は、体積平均粒子径で１．０μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．５μｍ以下であり、更に好ましくは、０．１μｍ以下である。
【００５６】
また、導電性金属酸化物は表面処理の異なるものあるいは粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いることもできる。また、導電性金属酸化物微粒子としては、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ2／ｇ以上のものが好ましく用いられる。ＢＥＴ比表面積値が１０ｍ2／ｇ以下のものは帯電性低下を招きやすく、良好な電子写真特性を得にくい欠点がある。
【００５７】
また、導電性金属酸化物は表面処理を施すことができる。表面処理剤としてはシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材など所望の特性が得られるものであれば公知の材料から選択することができる。特にシランカップリング剤は良好な電子視写真特性を与えるため好ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤は下引き層に良好なブロッキング性を与える為好ましく用いられる。
【００５８】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては所望の感光体特性を得られるものであればいかなる物でも用いることができるが、具体的例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。アミノ基を有するシランカップリング剤は単独でも、或いは２種以上混合して用いることもできる。
シランカップリング剤は２種以上混合して使用することもできる。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いることができるシランカップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５９】
表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法あるいは湿式法を用いることができる。
乾式法にて表面処理を施す場合には導電性金属酸化物をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接あるいは有機溶媒まに溶解させたシランカップリング剤を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理される。添加あるいは噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが好ましい。溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、均一に攪拌される前に溶剤が蒸発し、シランカップリング剤が局部的にかたまってしまい均一な処理ができにくい欠点があり、好ましくない。添加あるいは噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。
湿式法としては、導電性金属酸化物を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散し、シランカップリング剤溶液を添加し攪拌あるいは分散したのち、溶剤除去することで均一に処理される。溶剤除去方法はろ過あるいは蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法においては表面処理剤を添加する前に導電性金属酸化物含有水分を除去することもでき、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いることもできる。
下引き層中の導電性金属酸化物に対するシランカップリング剤の量は所望の電子写真特性が得られる量であれば任意に設定できる。
【００６０】
下引き層２に含有されるバインダー樹脂としては、良好な膜を形成できるもので、かつ所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用可能であるが、たとえばポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などを用いることができる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが好ましく用いられる。
下引き層形成用塗布液中のアクセプター性化合物と導電性金属酸化物とバインダー樹脂との比率は所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定できる。
【００６１】
下引き層形成用塗布液には電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いることができる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。シランカップリング剤は酸化亜鉛の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いることもできる。
【００６２】
ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどである。
【００６３】
ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどが挙げられる。
【００６４】
チタニウムキレート化合物の例としてはテトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。
【００６５】
アルミニウムキレート化合物の例としてはアルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。
【００６６】
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。
【００６７】
下引き層形成用塗布液を調整するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。
また、これらの分散に用いる溶剤は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かす事ができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。
【００６８】
導電性金属酸化物及びアクセプター性化合物を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法を用いることができる。さらにこの下引き層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。このようにして得られた下引き層形成用塗布液を用い、導電性基材１上に下引き層２が成膜される。
【００６９】
下引き層２の膜厚は、１５μｍ以上が好ましく、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは２０μｍ以上３０μｍ以下である。下引き層２の厚さが１５μｍ未満であるときには、充分な耐リーク性能を得ることができず画質欠陥（色点、かぶり）が発生しやすく、また５０μｍ以上であるときには長期使用時に残留電位が残りやすくなるため画像欠陥（ゴースト）を招きやすい欠点がある。
【００７０】
また、下引き層２の表面粗さはモアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）〜１／２λに調整される。表面粗さ調整のために下引き層中に樹脂などの粒子を添加することもできる。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ＰＭＭＡ樹脂粒子等を用いることができる。
樹脂粒子は、直径が１．０μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは２．０μｍ〜５．０μｍである。
【００７１】
また、表面粗さ調整のために下引き層を研磨することもできる。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることもできる。
【００７２】
さらに、この下引き層と感光層との間に、電気特性向上、画質向上、画質維持性向上、感光層接着性向上などのために中間層を設けてもよい。中間層はポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、シリコン原子などを含有する有機金属化合物などがある。これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。中でも、ジルコニウムもしくはもしくはシリコンを含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れている。
【００７３】
シリコン化合物の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどである。これらのなかでも特に好ましく用いられるシリコン化合物はビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が上げられる。
【００７４】
有機ジルコニウム化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどが挙げられる。
【００７５】
有機チタン化合物の例としてはテトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。
【００７６】
有機アルミニウム化合物の例としてはアルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。
【００７７】
中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こす。したがって、中間層を形成する場合には、０．１〜５μｍの膜厚範囲に設定されることが好ましい。
【００７８】
次に電荷発生層４について説明する。
感光層の電荷発生層４は、電荷発生材料を真空蒸着により形成するか、有機溶剤及び結着樹脂とともに分散し塗布することにより形成される。
分散液を塗布により電荷発生層４を形成する場合、電荷発生材料を有機溶剤及び結着樹脂、添加剤等とともに分散し、得られた分散液を塗布することにより電荷発生層４は形成される。
【００７９】
本発明において、電荷発生材料としては、公知の電荷発生材料なら何でも使用できる。赤外光用ではフタロシアニン顔料、スクアリリウム、ビスアゾ、トリスアゾ、ペリレン、ジチオケトピロロピロール、可視光用としては縮合多環顔料、ビスアゾ、ペリレン、トリゴナルセレン、色素増感した酸化亜鉛微粒子等を用いる。これらの中で、特に優れた性能が得られ、好ましく使用される電荷発生材料として、フタロシアニン系顔料が用いられる。これを用いることにより、特に高感度で、繰り返し安定性の優れる電子写真感光体が得られることができる。また、フタロシアニン顔料は一般に数種の結晶型を有しており、目的にあった感度が得られる結晶型であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることができる。特に好ましく用いられる電荷発生材料としては、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロススフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無金属フタロシアニン、オキシチタニルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン等が挙げられる。
【００８０】
本発明で好ましく用いられるフタロシアニン顔料結晶は公知の方法で製造されるフタロシアニン顔料を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダー等で機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
上記の処理において使用される溶剤は、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、さらには数種の混合系、水とこれら有機溶剤の混合系があげられる。使用される溶剤は、顔料結晶に対して、１〜２００部、好ましくは１０〜１００部の範囲で用いる。処理温度は、−２０℃〜溶剤の沸点以下、好ましくは−１０〜６０℃の範囲で行う。
また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いることもできる。磨砕助剤は顔料に対し０．５〜２０倍、好ましくは１〜１０倍用いればよい。また、公知の方法で製造されるフタロシアニン顔料結晶を、アシッドペースティングあるいはアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕あるいは湿式粉砕を組み合わせることにより、結晶制御することもできる。アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、濃度７０〜１００％、好ましくは９５〜１００％のものが使用され、溶解温度は、−２０〜１００℃好ましくは−１０〜６０℃の範囲に設定される。濃硫酸の量は、フタロシアニン顔料結晶の重量に対して、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍の範囲に設定される。析出させる溶剤としては、水あるいは、水と有機溶剤の混合溶剤が任意の量で用いられる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。
【００８１】
電荷発生層４に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂をあげることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。これらの中で特にポリビニルアセタール樹脂が好ましく用いられる。
電荷発生材料と結着樹脂との配合比（重量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
【００８２】
電荷発生材料は電気特性の安定性向上、画質欠陥防止などのために表面処理を施すことができる。表面処理剤としてはカップリング剤などを用いることができるがこれに限定されるものではない。
表面処理に用いるカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が挙げられる。
これらのなかでも特に好ましく用いられるシランカップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が上げられる。
【００８３】
また、表面処理剤として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどの有機ジルコニウム化合物も用いることができる。また、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどの有機チタン化合物、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などの有機アルミニウム化合物も用いることができる。
【００８４】
さらに、この電荷発生層４用塗布液には電気特性向上、画質向上などのために種々の添加剤を添加することもできる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。
シランカップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどである。
【００８５】
ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどが挙げられる。
【００８６】
チタニウムキレート化合物の例としてはテトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。
【００８７】
アルミニウムキレート化合物の例としてはアルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。
【００８８】
塗布液を調整するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。
また、これらの分散に用いる溶剤は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かす事ができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。
【００８９】
分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの方法を用いることができる。さらにこの電荷発生層４を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００９０】
さらにこの分散の際、粒子を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることは高感度・高安定性に対して有効である。
【００９１】
さらにこの電荷発生層４を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
本発明で用いる電荷発生層４の厚みは、０．１〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．２〜２．０μｍである。
【００９２】
次いで、電荷輸送層５について説明する。
電荷輸送層５としては、公知の技術によって形成されたものを使用できる。それらの電荷輸送層５は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して形成されるか、あるいは高分子電荷輸送材を含有して形成される。
【００９３】
電荷輸送層５に含有される電荷輸送材料としては、公知のものならいかなるものでも使用可能であるが、下記に示すものを例示することができる。２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールなどのオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリンなどのピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（Ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミンなどの芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジアミンなどの芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジンなどの１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリンなどのキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフランなどのベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリンなどのα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾールなどのカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質。クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送物質、あるいは以上に示した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などがあげられる。これらの電荷輸送材料は、１種又は２種以上を組み合せて使用できる。
【００９４】
電荷輸送層５の結着樹脂は公知のものであればいかなるものでも使用することができるが、電機絶縁性のフィルム形成可能な樹脂が好ましい。例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンーブタジエン共重合体、塩化ビニリデンーアクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノールーホルムアルデヒド樹脂、スチレンーアルキッド樹脂、ポリーＮ―カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシーメチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等があげられるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は、単独又は２種類以上混合して用いられるが、特にポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂が電荷輸送材との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で優れ好ましく用いられる。
【００９５】
結着樹脂と電荷輸送材料との配合比（重量比）はいずれの場合も任意に設定することができるが、配合比は１０：１〜１：５が好ましく、より好ましくは、７０：３０〜３０：７０であり、更に好ましくは６０：４０〜４０：６０である。かかる配合比は、電気特性低下、膜強度低下に配慮しつつ決定される。
電荷輸送層の厚みは、５〜５０μｍが好ましく、より好ましくは１０〜４０μｍである。また直流電圧で帯電される帯電システムでは１０〜２０μｍの膜厚がより好ましい。
【００９６】
電荷輸送層は、上に示した電荷輸送材料及び結着樹脂とを適当な溶媒に溶解させた溶液を塗布し乾燥することによって形成することができる。電荷輸送層の形成に使用される溶媒としては、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ―ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル系溶剤、或いはこれらの混合溶剤などを用いることができる。これらの溶剤は、単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
電荷輸送層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法、突き上げ塗布法、ロールコータ塗布法、グラビアコータ塗布法等の通常の方法を用いることができる。
【００９７】
さらに、本発明の電子写真感光体には電子写真装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光・熱による電子写真感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤・光安定剤などの添加剤を添加することができる。
【００９８】
たとえば、酸化防止剤としてはヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。
酸化防止剤の具体的な化合物例として、フェノール系酸化防止剤では２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル−フェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙げられる。
ヒンダードアミン系化合物ではビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６，−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物などが挙げられる。
有機イオウ系酸化防止剤としてジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられる。
有機燐系酸化防止剤としてトリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィートなどが挙げられる。
有機硫黄系及び有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われフェノール系あるいはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
【００９９】
光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。
ベンゾフェノン系光安定剤として２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
ベンゾトリアゾール系系光安定剤として２−（−２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル−）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（−２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
その他の化合物として２，４，ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメートなどがある。
【０１００】
また感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも１種の電子受容性物質を電荷輸送層に含有せしめることができる。本発明の電子写真感光体に使用可能な電子受容性物質としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸などをあげる事ができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ，ＣＮ，ＮＯ2等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。また、電荷輸送層にはシリカやＰＴＦＥのような微粒子を含有させることもできる。
【０１０１】
また、本発明ではフッ素系樹脂を含有する電荷輸送層を用いることができる。
電荷輸送層中におけるフッ素系樹脂含有率は、電荷輸送層全量に対し、０．１〜４０質量％が適当であり、特に１〜３０質量％が好ましい。含量が１質量％未満ではフッ素系樹脂粒子の分散による改質効果が十分でなく、一方、４０質量％を越えると光通過性が低下し、かつ、繰返し使用による残留電位の上昇が生じ得る。
本発明で用いるフッ素系樹脂粒子としては、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂及びそれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を適宜選択するのが望ましいが、特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。
前記フッ素系樹脂の一次粒径は０．０５μｍ〜１μｍが良く、更に好ましくは０．１μｍ〜０．５μｍが好ましい。一次粒径が０．０５μｍを下回ると分散時の凝集が進みやすくなる。又、１μｍを上回ると画質欠陥が発生し易くなる。
【０１０２】
本発明の電荷輸送層中にフッ素系樹脂を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、コロイドミル、衝突式メディアレス分散機、貫通式メディアレス分散機等の方法を用いることができる。
本発明の電荷輸送層を形成する塗布液の分散例としては、溶媒に溶解した結着樹脂、電荷輸送材料などの溶液中にフッ素系樹脂粒子を分散する方法が挙げられる。
【０１０３】
塗工液製造工程での塗工液の温度を０℃〜５０℃に制御する方法として、水で冷やす、風で冷やす、冷媒で冷やす、製造工程の室温を調節する、温水で暖める、熱風で温める、ヒーターで暖める、発熱しにくい材料で塗工液製造設備を作る、放熱しやすい材料で塗工液製造設備を作る、蓄熱しやすい材料で塗工液製造設備を作るなどの方法が利用できる。塗工液前混合方法として、スターラー、攪拌羽による攪拌、ロールミル、サンドミル、アトライター、ボールミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、等の方法が利用できる。分散方法として、サンドミル、アトライター、ボールミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、ロールミル等の方法が利用できる。
【０１０４】
また、本発明において分散液の分散安定性を向上させるため、及び塗膜形成時の凝集を防止するために分散助剤を少量添加することも有効である。分散助剤として、フッ素系界面活性剤、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー、シリコーンオイル等が挙げられる。
【０１０５】
電荷輸送層の上に、さらに保護層６を設けることもできる。保護層６は、積層構造からなる電子写真感光体では帯電時の電荷輸送層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する為に用いられる。
この保護層６は、硬化性樹脂、電荷輸送性化合物を含む樹脂硬化膜、導電性材料を適当な結着樹脂中に含有させて形成された膜などから成る。硬化性樹脂としては公地の樹脂であれば何でも使用できるが、例えばフェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シロキサン樹脂等が挙げられる。
【０１０６】
前記電荷輸送性を有する化合物を含んで形成される保護層６としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含んで形成される硬化膜が好ましい。
一般式（Ｉ）；      Ｆ−［Ｄ−Ａ］b
【０１０７】
一般式（Ｉ）中、Ｆは光機能性化合物から誘導される有機基を表す。Ｄは可とう性サブユニットを表す。Ａは−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)（ＯＲ2）aで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基を表す。ここで、Ｒ1は水素、アルキル基、置換若しくは無置換のアリール基を表し、好ましくはアルキル基であり、より好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基である。Ｒ2は水素、アルキル基、トリアルキルシリル基を表し、好ましくはアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、又はイソプロピル基である。ａは１〜３の整数を表す。ｂは１〜４の整数を表す。
一般式（Ｉ）中、Ａは、−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)（ＯＲ2）aで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基を表すが、この置換ケイ素は、Ｓｉ基により、互いに架橋反応を起こして、３次元的なＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合、即ち無機ガラス質ネットワークを形成する役割を担う構造である。
【０１０８】
一般式（Ｉ）中、Ｆは、光電特性、具体的には特に光キャリア輸送特性を有するユニットであり、従来、電荷輸送材料として知られている構造をそのまま用いることができる。Ｆとして具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、などの正孔輸送性を有する化合物骨格、及びキノン系化合物、フルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物、などの電子輸送性を有する化合物骨格を用いることができる。
【０１０９】
一般式（Ｉ）中、Ｄは、可とう性サブユニットを示すが、具体的には、光電特性を付与するためのＦ部位と、３次元的な無機ガラス質ネットワークに直接結合で結びつくＡ部位とを結びつける働きを担い、かつ、堅さの反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークに適度な可とう性を付与し、膜としての強靱さを向上させるという働きを担う構造を表す。Ｄとして具体的には、−ＣnＨ2n−、Ｃn'Ｈ(2n'-2)−、−Ｃn'Ｈ(2n'-4)−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、ｎは１〜１５の整数を表し、ｎ’は２〜１５の整数を表す。）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ6Ｈ4）−（Ｃ6Ｈ4）−、及びこれらの組み合わせたものや置換基を導入したものなどが挙げられる。
【０１１０】
一般式（Ｉ）中、ｂは、２以上であることが好ましい。ｂは２以上であると、一般式（Ｉ）で表される光機能性有機ケイ素化合物中にＳｉ原子を２つ以上含むことになり、無機ガラス質ネットワークを形成し易くなり、機械的強度が向上する。
【０１１１】
一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。下記一般式（ＩＩ）で表わされる化合物は、正孔輸送能を有する化合物であり、特に優れた光電特性と機械特性を示すため、一般式（Ｉ）で表される化合物として好ましい。
【０１１２】
【化１】
2006221094.tif 000002
【０１１３】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ1〜Ａｒ4は、それぞれ独立に置換あるいは無置換のアリール基を表す。Ａｒ5は、置換あるいは無置換のアリール基、又はアリーレン基を表す。但し、Ａｒ1〜Ａｒ5のうち１〜４個は、−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ3）(3-c)（ＯＲ4）cで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基を表す。ここで、Ｒ3は水素、アルキル基、置換若しくは無置換のアリール基を表わす。Ｒ4は水素、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。ｃは１〜３の整数を表す。またＹは、−ＣxＨ2x−、Ｃx'Ｈ(2x'-2)−、及び−Ｃx"Ｈ(2x"-4)−、で表される炭化水素基（ｘは１〜１５の整数を表す。ｘ'及びｘ"はそれぞれ単独に２〜１５の整数を表す。）、置換若しくは無置換の２価のアリール基、又は、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｏ−、−Ｓ−、及び−ＣＯＯ−からなる群より選択される少なくとも１種を含有する２価の置換基を表す。ｋは０又は１を表す。
【０１１４】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ1〜Ａｒ4として、具体的には下記構造群１に示すものが好ましい。
【０１１５】
【化２】
2006221094.tif 000003
【０１１６】
構造群１中、Ａｒは、下記構造群２に示されるものを表す。
【０１１７】
【化３】
2006221094.tif 000004
構造群１中、Ｚ’は、下記構造群３に示されるものを表す。
【０１１８】
【化４】
2006221094.tif 000005
構造群３中、ｑ及びｒはそれぞれ１〜１０の整数を表す。Ｗは、後述の構造群９に示すものを表す。
【０１１９】
構造群１中、Ｘは、−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ3）(3-c)（ＯＲ4）cで表わされる加水分解性基を有する置換ケイ素基（Ｒ3、Ｒ4、Ｙ、及びｃは、一般式（ＩＩ）中で示されるＲ3、Ｒ4、Ｙ、及びｃと同様である。）を表すが、Ｙとして具体的には、下記構造群４に示されるものが特に好ましく、その他下記構造群５に示されるものも選択してもよい
【０１２０】
【化５】
2006221094.tif 000006
【０１２１】
【化６】
2006221094.tif 000007
【０１２２】
構造群１〜５中、Ｒ5は、水素、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、又は無置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基から選択される。
Ｒ6及びＲ7は、各々独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲンから選択される。
ｔは１から３の整数を表す。ｔが２又は３のとき、Ｒ6は、それぞれ異なっていても同じであってもよいし、連結して環を形成しても良い。
ｔ’は１又は２の整数を表す。ｔ’が２のとき、Ｒ7は、それぞれ異なっていても同じであってもよいし、連結して環を形成しても良い。
ｍは０又は１を表す。ｓは０又は１を表す。ｘは１〜１０の整数を表す。ｘ’及びｘ''は各々独立に２〜１５の整数を表す。Ｙ及びｚは、それぞれ１〜５の整数を表す。
【０１２３】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ5として具体的には、ｋが０のとき下記構造群６に示されるものが好ましく、ｋが１のとき下記構造群７に示されるものが好ましい。
【０１２４】
【化７】
2006221094.tif 000008
【０１２５】
【化８】
2006221094.tif 000009
構造群６〜７中、Ｚは、下記構造群８に示されるものを表す。
【０１２６】
【化９】
2006221094.tif 000010
構造群８中、Ｗは、下記構造群９に示されるものを表す。
【０１２７】
【化１０】
2006221094.tif 000011
【０１２８】
構造群６〜９中、ｓ’は０〜３の整数を表す。また、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、ｓ、ｔ、ｔ’、ｑ、ｒ、Ａｒ、及びＸ（Ｙ、Ｒ3、Ｒ4、ｃを含む）は、それぞれ構造群１〜５中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、ｓ、ｔ、ｔ’、ｑ、ｒ、Ａｒ、Ｘと同様である。
【０１２９】
一般式（Ｉ）あるいは一般式（ＩＩ）で表される化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
一般式（Ｉ）あるいは一般式（ＩＩ）で表される化合物と共に、硬化膜の機械的強度をさらに向上させる目的で、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を併用してもよい。
【０１３０】
【化１１】
2006221094.tif 000012
【０１３１】
一般式（ＩＩＩ）中、Ａは−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)（ＯＲ2）aで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基を表す（ここで、Ｒ1、Ｒ2、ａは、一般式（Ｉ）中のＲ1、Ｒ2、ａと同義である。）。
Ｂは、枝分かれを含んでもよい２価以上の炭化水素基、２価以上のフェニル基、−ＮＨ−、から選ばれる基の少なくとも１つ、或いはこれらの組み合わせから構成され、置換基を有していてもよい。ｎは２以上の整数を表す。
【０１３２】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、Ａ部位、即ち−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)（ＯＲ2）ａで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基を有している化合物である。この一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、Ａ部位に含まれるＳｉ基の部分が一般式（Ｉ）で表される化合物或いは一般式（ＩＩＩ）で表される化合物自身と反応し、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合となって３次元的な架橋硬化膜を形成する。一般式（Ｉ）で表される化合物も同様のＳｉ基を有しているので、それのみで硬化膜を形成することも可能であるが、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は２個以上のＡ部位分子構造の両端にアルコキシシリル基を有しているので硬化膜の架橋構造が３次元的になり易く、より強い機械強度を有するようになると考えられる。また、一般式（Ｉ）で表される化合物におけるＤ部分と同様、硬化膜に適度な可とう性を与える役割もある。
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物としては、下記構造群１０に示されるのものが好ましい。
【０１３３】
【化１２】
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【０１３４】
構造群１０中、Ｔ1、Ｔ2はそれぞれ独立に枝分かれしていてもよい２価あるいは３価の炭化水素基を表す。Ａは−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)（ＯＲ2）aで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基を表す。ｈ、ｊは、それぞれ独立に２又は３を表し、ｉは１〜３の整数を表し、かつ、分子内のＡの数が２以上となるように選ばれる。
以下に、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例を下記構造群１１に示すが、本発明は、これら具体例に限定されるわけではない。
【０１３５】
【化１３】
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【０１３６】
一般式（Ｉ）で表される化合物と共に、さらに架橋反応可能な他の化合物を併用しても良い。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコン系ハードコート剤を用いることができる。
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、ＣＲ−３９、Ｘ−１２−２２０８、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４１−１００７、ＫＮＳ−５３００、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越化学工業社製）、及びＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）、などが挙げられる。
【０１３７】
前記硬化型表面層には、表面潤滑性を付与する目的でフッ素原子含有化合物を添加できる。表面潤滑性を向上させることによりクリーニング部材との摩擦係数が低下し、耐摩耗性を向上させることができる。また、電子写真感光体表面に対する放電生成物、現像剤及び紙粉などの付着を防止する効果も有し、電子写真感光体の寿命向上に役立つ。
【０１３８】
前記フッ素含有化合物としては、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素原子含有ポリマーをそのまま添加するか、あるいはそれらポリマーの微粒子を添加することができる。また、一般式（Ｉ）で表される化合物により形成される硬化膜の場合、フッ素含有化合物としては、アルコキシシランと反応できるものを添加し、架橋膜の一部として構成するのが望ましい。そのようなフッ素原子含有化合物の例として、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、などが挙げられる。
前記フッ素含有化合物の添加量としては、２０質量％以下とすることが好ましい。これを越えると、架橋硬化膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０１３９】
前記硬化型表面層は十分な耐酸化性を有しているが、さらに強い耐酸化性を付与する目的で、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。
【０１４０】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、などが挙げられる。
前記硬化型表面層には公知の塗膜形成に用いられるその他の添加剤を添加することも可能であり、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、界面活性剤、など公知のものを用いることができる。
【０１４１】
前記硬化型表面層を形成するためには、前述の各種材料、及び各種添加剤の混合物を感光層の上に塗布し、加熱処理する。これにより、３次元的に架橋硬化反応を起こし、強固な硬化膜を形成する。加熱処理の温度は、下層である感光層に影響しなければ特に制限はないが、室温〜２００℃、特に１００〜１６０℃に設定するのが好ましい。
前記硬化型表面層の形成において、架橋硬化反応を行う際には無触媒で行なってもよいが、適切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、等の酸触媒、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクトエート、オクエ酸第一錫等の有機錫化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩、アルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
【０１４２】
前記硬化型表面層には、塗布を容易にするため、必要に応じて溶剤を添加して用いることができる。具体的には、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジメチルエーテル、ジブチルエーテル、等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【０１４３】
前記硬化型表面層の形成において、塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
前記硬化型表面層の膜厚は０．５〜２０μｍ、特に２〜１０μｍであることが望ましい。
【０１４４】
本発明にかかる電子写真感光体では、高解像度を得るために、電荷発生層より上層（導電性基材から遠い側）の機能層の膜厚は、５０μｍ以下、好ましくは４０μｍ以下が好ましい。機能層が薄膜の場合は、本発明の粒子分散型下引き層と高強度な保護層との組み合わせが特に有効に用いられる。
【０１４５】
帯電装置によって、電子写真感光体の帯電表面電位は、１０℃１５％ＲＨで、−６００Ｖ〜−２００Ｖとすることが好ましく、より好ましくは、−４００Ｖ〜−２００Ｖである。−６００Ｖより低いと、帯電均一性が悪化しやすくなり、−２００Ｖより高いと画質濃度コントラストが得にくくなる傾向にある。
【実施例】
【０１４６】
以下に本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明がこれらの実施例によって限定されるものではない。
【０１４７】
＜実施例１＞
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ2／ｇ）１００重量部をテトラヒドロフラン５００重量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ６０３：信越化学工業社製）１．２５重量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間）焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛顔料を得た。
この上記酸化亜鉛顔料６０重量部とアリザリン１重量部とブロック化イソシアネート（スミジュールＢＬ３１７５：住友バイエルンウレタン社製）１３．５重量部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１：積水化学社製）１５重量部をメチルエチルケトン８５重量部に溶解した樹脂液３８重量部とメチルエチルケトン２５重量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５重量部、平均粒径４．４μｍのシリコーン樹脂粒子（トスパール１４５；ＧＥ東芝シリコーン社製）：４．０重量部を添加し、下引き層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて外径２０ｍｍ、長さ２４９ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２５μｍの下引き層を得た。
【０１４８】
次に、下引き層上に感光層を形成した。まず、電荷発生材料としてのＣｕｋα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、ユニオンカーバイト社製）１０部、ｎ−酢酸ブチル２００部からなる混合物を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５部、メチルエチルケトン１８０部を添加し、攪拌して電荷発生層用の塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、常温で乾燥して、厚みが０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１４９】
さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１、１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４重量部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４万）６重量部（電荷輸送層における電荷輸送材料と樹脂との比率は、４：６）とをテトラフドロフラン８０重量部を加えて溶解した塗布液を電荷発生層上に形成し、１１５℃、４０分の乾燥を行うことにより膜厚１５μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０１５０】
このようにして得られた電子写真感光体を、接触型直流電圧帯電システム、及び定電圧転写システムを有し、イレーズレスシステムである富士ゼロックス社製フルカラープリンターＤｏｃｕ  Ｐｒｉｎｔ  Ｃ１６１６に搭載しプリント画質を調べたところ、良好な画質が得られた。
この電子写真感光体を用いて３５℃８５％ＲＨ、１０℃１５％ＲＨの環境下で、それぞれにて連続３０００枚の下記のプリントテストを行った。なお、電子写真感光体の帯電表面電位は、３５℃８５％ＲＨで、−３２０Ｖであり、１０℃１５％ＲＨでは、−３５０Ｖであった。また、転写電位は、３５℃８５％ＲＨで、３６０Ｖであり、１０℃１５％ＲＨでは、４００Ｖであった。
【０１５１】
（評価）
評価は、ゴースト、黒点、かぶり、干渉模様について行った。
ゴーストの評価において、ポジとは画像履歴の残像が濃くなることをいい、ネガとは画像履歴の残像が白く抜けることをいう。ゴースト評価では、極弱発生および弱い発生では合格とし、強い発生は不合格とした。
黒点評価では、Ａ４サイズの記録用紙において、数個発生までを合格とした。
かぶり評価では、かぶりが発生しない、又は微小発生を合格とした。
干渉模様の評価では、発生しない、又は極弱発生を合格とした。
これらの結果を表１に示した。
【０１５２】
＜実施例２＞
実施例１において下引き層分散液に平均粒径２．１μｍのシリコーン樹脂粒子（トスパール１２０；ＧＥ東芝シリコーン社製）に変更した電子写真感光体を作製した。この際、他の条件は全て実施例１と同様の方法でおこなった。このようにして得られた電子写真感光体を、実施例１に記載した評価方法で実施した。本実施例の結果を表１に示した。
【０１５３】
＜実施例３＞
酸化錫：（Ｓ１：三菱マテリアル社製）１００重量部をテトラヒドロ５００重量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ６０３：信越化学工業社製）１．０重量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間）焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化錫顔料を得た。
この上記酸化錫顔４５重量部と１−ヒドロキシアントラキノン０．５重量部とブロック化イソシアネート（スミジュールＢＬ３１７５：住友バイエルンウレタン社製）１３．５重量部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１：積水化学社製）１５重量部をメチルエチルケトン８５重量部に溶解した樹脂液３８重量部とメチルエチルケトン２５重量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散を行い分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５重量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５：ＧＥ東芝シリコーン社製）：４．０重量部を添加し、下引き層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて外径２０ｍｍ、長さ２４９ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２５μｍの下引き層を得た。
【０１５４】
次に、実施例１で記載された電荷発生層を形成した。
さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１、１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン６部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４万）４重量部とをテトラフドロフラン８０重量部を加えて溶解した塗布液を電荷発生層上に形成し、１３５℃、４０分の乾燥を行うことにより膜厚１５μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を得た。
このようにして得られた電子写真感光体を実施例１に記載した評価方法により画質評価を実施した。結果を表１に示した。
【０１５５】
＜実施例４＞
実施例１において下引き層にアクセプター性化合物としてプルプリンに変更した以外は同様にして電子写真感光体を作製した。このようにして得られた電子写真感光体を実施例１に記載した評価方法により画質評価を実施した。結果を表１に示した。
【０１５６】
＜実施例５＞
実施例１において下引き層分散液に平均粒径０．９μｍのシリコーン樹脂粒子（ＸＣ９９−Ａ８８０８；ＧＥ東芝シリコーン社製）に変更した電子写真感光体を作製した。この際、他の条件は全て実施例１と同様の方法でおこなった。このようにして得られた電子写真感光体を、実施例１に記載した評価方法により画質評価を実施した。結果を表１に示した。
【０１５７】
＜比較例１＞
実施例１において下引き層にアリザリンを添加しない以外は同様に電子写真感光体を作製した。このようにして得られた電子写真感光体を実施例１に記載した評価方法により画質評価を実施した。結果を表１に示した。
【０１５８】
＜実施例６＞
実施例１において電荷輸送層の膜厚を２３ミクロンにした以外は同様に電子写真感光体を作製した。このようにして得られた電子写真感光体を実施例１に記載した評価方法により画質評価を実施した。結果を表１に示した。
【０１５９】
＜実施例７＞
実施例１において電荷輸送層の膜厚を９ミクロンにした以外は同様に電子写真感光体を作製した。このようにして得られた電子写真感光体を実施例１に記載した評価方法により画質評価を実施した。結果を表１に示した。
【０１６０】
＜実施例８＞
実施例１において下引き層の膜厚を９ミクロンにした以外は同様に電子写真感光体を作製した。このようにして得られた電子写真感光体を実施例１に記載した評価方法により画質評価を実施した。結果を表１に示した。
【０１６１】
＜実施例９＞
実施例１において電子写真感光体の帯電表面電位が、１０℃１５％ＲＨで、−５００Ｖになるように設定し、実施例１に記載した評価方法により画質評価を実施した。結果を表１に示した。
【０１６２】
＜実施例１０＞
実施例１において転写電位が、１０℃１５％ＲＨで５５０Ｖになるように設定し、実施例１に記載した評価方法により画質評価を実施した。結果を表１に示した。
【０１６３】
＜実施例１１＞
実施例１において電荷輸送層の電荷輸送材料：樹脂比を７：３にした以外は同様に電子写真感光体を作製した。このようにして得られた電子写真感光体を実施例１に記載した評価方法により画質評価を実施した。結果を表１に示した。
【０１６４】
【表１】
2006221094.tif 000015
【０１６５】
表１に示すように、比較例１では、強くゴーストが発生しているのに対し、実施例１〜１１では、ゴーストは発生しないか極弱く又は弱く発生するに止まった。黒点、かぶり、及び干渉模様の評価においても、実施例１〜１１では良好な結果であった。
【図面の簡単な説明】
【０１６６】
【図１】電子写真感光体の一例の断面図の一例である。
【図２】電子写真感光体の他の一例の断面図である。
【図３】電子写真感光体の他の一例の断面図である。
【図４】電子写真感光体の他の一例の断面図である。
【図５】本発明の電子写真装置の概略図である。
【図６】本発明の電子写真装置の他の一例の概略図である。
【図７】本発明のプロセスカートリッジの一例の概略図である。
【符号の説明】
【０１６７】
１  導電性基材
２  下引き層
３  感光層
４  電荷発生層
５  電荷輸送層
６  保護層
７  電子写真感光体
８  帯電装置
９  電源
１０  露光装置
１１  現像装置
１２  転写装置
１３  クリーニング装置
１５  定着装置
１６  取り付けレール
１８  露光のための開口部
２０  画像形成ユニット
２１  感光体ドラム２１
２２  一次帯電用の帯電装置
２３  レーザ光
２４  現像装置
３１  第１の一次中間転写ドラム
３２  第２の一次中間転写ドラム
３３  二次中間転写ドラム
３４  最終転写ロール
３００  プロセスカートリッジ
５００  被転写媒体
【図１】
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【図２】
2006221094.tif 000017
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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