(57)【要約】      （修正有）【課題】ミラー面精度の悪化を防ぎ、投影光学系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を防ぎ、照明系の場合マスクへの目標照度低下及び照度ムラ悪化を防ぐ。【解決手段】  投影光学系あるいは照明光学系の反射ミラーの発熱を冷却する温調装置を備え、入射エネルギー量の少ない、あるいは上昇温度の低いミラーを上流として、入射エネルギーの多い、あるいは上昇温度の高いミラーへと冷却媒体を流すとともに、ミラーおよび冷却媒体の温度を検知し、温調装置によりミラーの温度を制御する。【選択図】  図１
2006013209.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置において、投影光学系あるいは投影光学系に露光光を供給する照明光学系あるいは発光光源部に設けられた複数の反射ミラーの発熱を冷却する温調装置を備え、入射エネルギー量の少ない、あるいは上昇温度の低いミラーを上流として、入射エネルギーの多い、あるいは上昇温度の高いミラーへ冷却媒体を流すことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置において、投影光学系あるいは投影光学系に露光光を供給する照明光学系あるいは発光光源部に設けられた複数の反射ミラーの発熱を冷却する温調装置を備え、露光光路の光源側のミラーを下流として、露光光の入射順と逆の順番にミラーへ冷却媒体を流すことを特徴とする露光装置。
【請求項３】
原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置において、投影光学系あるいは投影光学系に露光光を供給する照明光学系あるいは発光光源部に設けられた複数の反射ミラーの発熱を冷却する温調装置を備え、温度変化によるミラー形状維持精度、あるいは光学波面、あるいは光学収差敏感度の高いミラーを上流として、温度変化によるミラー形状維持精度、あるいは光学波面、あるいは光学収差敏感度の低いミラーへ冷却媒体を流すことを特徴とする露光装置。
【請求項４】
前記冷却対象が真空環境内、あるいは減圧環境内に配置されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体デバイスの製造に好適に用いられる半導体製造システムの技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
従来例を図７〜図１０に示す。
【０００３】
励起レーザー１０１は、光源の発光点となる光源材料をガス化、液化、噴霧ガス化させたポイントに向けて照射して、光源材料原子をプラズマ励起することにより発光させる為の励起レーザーで、ＹＡＧ固体レーザー等を用いる。光源発光部１０２は、内部を真空に維持された構造を持ち、その内部構造を図８に示す。ここで、１０２Ａで示す光源Ａは、実際の露光光源の発光ポイントを示す。１０２Ａａで示す光源ミラーＡａは、１０２Ａで示す光源Ａからの全球面光を発光方向に揃え集光反射する為に、１０２Ａで示す光源Ａ中心に半球面状のミラーとして配置される。１０２ＡｂはＸｅ（液化、噴霧、ガス）で、発光元素として液化Ｘｅあるいは液化Ｘｅ噴霧あるいはＸｅガスを１０２Ａで示す光源Ａのポイントにノズル１０２Ａｅにより突出させる。真空チャンバー１０３は露光装置全体を格納し、真空ポンプ１０４により真空状態を維持することを可能にする。露光光導入部１０５は光源発光部１０２からの露光光を導入成形し、１０５Ａ〜１０５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄにより構成され、露光光を均質化かつ整形する。レチクルステージ１０６の可動部には、露光パターンの反射原版である原盤１０６Ａが搭載されている。縮小投影ミラー光学系１０７は原版１０６Ａから反射した露光パターンを縮小投影し、１０７Ａ〜１０７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅに順次投影反射し最終的に規定の縮小倍率比で縮小投影される。ウエハステージ１０８は、原版１０５Ａにより反射されたパターンを露光するＳｉ基板であるウエハ１０８Ａを、所定の露光位置に位置決めする為に、ＸＹＺ、ＸＹ軸回りのチルト、Ｚ軸回りの回転方向の６軸駆動可能に位置決め制御される。レチクルステージ支持体１０９は、レチクルステージ１０５を装置設置床に対して支持する。投影系本体１１０は、縮小投影ミラー光学系１０７を装置設置床に対して支持する。ウエハステージ支持体１１１は、ウエハステージ１０８を装置設置床に対して支持する。
【０００４】
以上のレチクルステージ支持体１０９と投影系本体１１０とウエハステージ支持体１１１により分離独立して支持されたレチクルステージ１０５と縮小投影ミラー光学系１０７間、及び縮小投影ミラー光学系１０７とウエハステージ１０８間は、相対位置を位置計測し所定の相対位置に連続して維持制御する手段（不図示）が設けられている。
【０００５】
また、レチクルステージ支持体１０９と投影系本体１１０とウエハステージ支持体１１１には、装置設置床からの振動を絶縁するマウント（不図示）が設けられている。
【０００６】
レチクルストッカー１１２は、装置外部から一旦装置内部に原版であるレチクル１０６Ａを保管し、保管容器に密閉状態で異なるパターン及び異なる露光条件に合わせたレチクルが保管されている。レチクルチェンジャー１１３は、レチクルストッカー１１２から使用するレチクルを選択して搬送する。
【０００７】
レチクルアライメントユニット１１４は、ＸＹＺ及びＺ軸周りに回転可能な回転ハンドから成り、レチクルチェンジャー１１３から原版１０６Ａを受け取り、レチクルステージ１０６端部に設けられたレチクルアライメントスコープ１１５部分に１８０度回転搬送し、縮小投影ミラー光学系１０７基準に設けられたアライメントマーク１１５Ａに対して原版１０６Ａ上をＸＹＺ軸回転方向に微動してアライメントする。アライメントを終了した原版１０６Ａは１０６、レチクルステージ上にチャッキングされる。
【０００８】
ウエハストッカー１１６は装置外部から一旦装置内部にウエハ１０８Ａを保管し、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。ウエハ搬送ロボット１１７は、ウエアストッカー１１６から露光処理するウエハ１０８Ａを選定し、ウエハメカプリアライメント温調機１１８に運ぶ。ウエハメカプリアライメント温調機１１８では、ウエハの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部温調温度に合わせ込む。ウエハ送り込みハンド１１９は、ウエハメカプリアライメント温調機１１８にてアライメントと温調されたウエハ１０８Ａをウエハステージ１０８に送り込む。
【０００９】
ゲートバルブ１２０及び１２１は、装置外部からレチクル及びウエハを挿入するゲート開閉機構である。同じくゲートバルブ１２２は、装置内部でウエハストッカー１１６及びウエハメカプリアライメント温調機１１８空間と露光空間を隔壁で分離し、ウエハ１０８Ａを搬送搬出するときのみ開閉する。このように、隔壁で分離することによりウエハ１０８Ａの装置外部との搬送搬出の際に、一旦大気開放される容積を最小限にして、速やかに真空平行状態にすることを可能にしている。
【００１０】
このような、従来の構成の露光装置で、光源発光部１０２からの露光光を導入成形する露光光導入部の１０５Ａ〜１０５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄ  及び原盤１０６Ａから反射した露光パターンを縮小投影する縮小投影ミラー光学系の１０７Ａ〜１０７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅは、Ｍｏ−Ｓｉの多層膜が蒸着あるいはスパッタにより形成され、個々の反射面で図９に示すように光源からの露光光を反射する。その際、一面あたりの反射率は凡そ７０％程度で残りはミラー母材に吸収され熱に変換される。
【００１１】
図１０に示すように、露光光反射エリアでは温度が＋１０〜２０℃程度上昇し、結果として熱膨張係数の極めて小さいミラー材料を使用してもミラー周辺部では反射面の変位が５０〜１００ｎｍ程度発生する。
【特許文献１】特開平１１−３４５７６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
１ｎｍ以下程度と極めて厳しいミラー面形状精度が要求される投影光学系ミラー及び照明系ミラーの精度を補償出来なくなる。このように、ミラー面精度が悪化すると、投影系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を招く。さらに照明系の場合マスクへの目標照度低下及び照度ムラ悪化を招く結果となる。また、ミラー面精度の悪化を防ぐ為に冷却媒体の系統数を増やすことは真空内配管数を増やすことになり真空内残留ガスを増加させることに繋がる。これらは、総じて露光装置の露光精度及びスループット等の基本性能の劣化につながる。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明では入射エネルギー量の少ない、あるいは上昇温度の低いミラーを上流として、入射エネルギーの多い、あるいは上昇温度の高いミラーへと冷却媒体を流す。
【００１４】
あるいは本発明では露光光路の光源側のミラーを上流として、露光光の入射順と逆の順番にミラーへ冷却媒体を流す。
【００１５】
あるいは本発明では温度変化によるミラー形状維持精度、あるいは光学波面、あるいは光学収差敏感度の高いミラーを上流として、温度変化によるミラー形状維持精度、あるいは光学波面、あるいは光学収差敏感度の低いミラーへ冷却媒体を流す。
【発明の効果】
【００１６】
以上により、ミラー面精度の悪化を防ぎ、投影光学系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を防ぎ、照明系の場合マスクへの目標照度低下及び照度ムラ悪化を防ぐ効果が得られる。また、冷却媒体の系統数を減らすことを可能とし、冷却媒体量を減らし、真空内配管数を減らすことで真空内の残留ガスを減少させるなどの効果は大きい。
【００１７】
ミラー面精度の悪化を防ぎ、投影光学系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を防ぎ、照明系の場合マスクへの目標照度低下及び照度ムラ悪化を防ぐ効果が得られる。また、冷却媒体の系統数を減らすことを可能とし、冷却媒体量を減らす、真空内配管数を減らすことで真空内の残留ガスを減少させるなどの効果は大きい。
【００１８】
つまり、これらの効果は、総じて露光装置の露光精度及びスループット等の基本性能の向上を可能にする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下に本発明の実施例を説明する。
【００２０】
図１〜６に、本実施例及び他の実施例を示す。励起レーザー１は、光源の発光点となる光源材料をガス化、液化、噴霧ガス化させたポイントに向けて照射して、光源材料原子をプラズマ励起することにより発光させる為の励起レーザーで、ＹＡＧ固体レーザー等を用いる。光源発光部２は、内部は真空に維持された構造を持ち、光源発光部の内部構造を図２に示す。ここで、２Ａで示す光源Ａは実際の露光光源の発光ポイントを示す。２Ａａで示す光源ミラーＡａは、２Ａで示す光源Ａからの全球面光を発光方向に揃え集光反射する為に、２Ａで示す光源Ａ中心に半球面状のミラーとして配置される。２ＡｂはＸｅ（液化、噴霧、ガス）で、発光元素として液化Ｘｅあるいは液化Ｘｅ噴霧あるいはＸｅガスを２Ａで示す光源Ａのポイントにノズル２Ａｅにより突出させる。
【００２１】
真空チャンバー３は露光装置全体を格納し、真空ポンプ４により真空状態を維持することを可能にする。露光光導入部５は、光源発光部２からの露光光を導入成形し、５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄにより構成され、露光光を均質化かつ整形する。レチクルステージ６上の可動部には、露光パターンの反射原版である原版６Ａが搭載されている。
【００２２】
縮小投影ミラー光学系７は、原盤６Ａから反射した露光パターンを縮小投影し、７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅに順次投影反射し最終的に規定の縮小倍率比で縮小投影される。ウエハステージ８は、原版５Ａにより反射されたパターンを露光するＳｉ基板であるウエハ８Ａを所定の露光位置に位置決めする為に、ＸＹＺ、ＸＹ軸回りのチルト、Ｚ軸回りの回転方向の６軸駆動可能に位置決め制御される。レチクルステージ支持体９は、レチクルステージ５を装置設置床に対して支持する。投影系本体１０は、縮小投影ミラー光学系７を装置設置床に対して支持する。ウエハステージ支持体１１は、ウエハステージ８を装置設置床に対して支持する。
【００２３】
以上のレチクルステージ支持体９と投影系本体１０とウエハステージ支持体１１により分離独立して支持されたレチクルステージ５と縮小投影ミラー光学系７間、及び縮小投影ミラー光学系７とウエハステージ８間は、相対位置を位置計測し所定の相対位置に連続して維持制御する手段（不図示）が設けられている。また、レチクルステージ支持体９と投影系本体１０とウエハステージ支持体１１には、装置設置床からの振動を絶縁するマウント（不図示）が設けられている。
【００２４】
レチクルストッカー１２は装置外部から一旦装置内部に原版であるレチクル６Ａを保管し、保管容器に密閉状態で異なるパターン及び異なる露光条件に合わせたレチクルが保管されている。レチクルチェンジャー１３はレチクルストッカー１２から使用するレチクルを選択して搬送する。レチクルアライメントユニット１４はＸＹＺ及びＺ軸周りに回転可能な回転ハンドから成り、レチクルチェンジャー１３から原版６Ａを受け取り、レチクルステージ６端部に設けられたレチクルアライメントスコープ１５部分に１８０度回転搬送し、縮小投影ミラー光学系７基準に設けられたアライメントマーク１５Ａに対して原盤６Ａ上をＸＹＺ軸回転方向に微動してアライメントする。アライメントを終了した原版６Ａはレチクルステージ６上にチャッキングされる。
【００２５】
ウエハストッカー１６は装置外部から一旦装置内部にウエハ８Ａを保管し、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。ウエハ搬送ロボット１７は、ウエアストッカー１６から露光処理するウエハ８Ａを選定し、ウエハメカプリアライメント温調機１８に運ぶ。ウエハメカプリアライメント温調機１８では、ウエハの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部温調温度に合わせ込む。ウエハ送り込みハンド１９は、ウエハメカプリアライメント温調機１８にてアライメントと温調されたウエハ８Ａをウエハステージ８に送り込む。
【００２６】
ゲートバルブ２０及び２１は、装置外部からレチクル及びウエハを挿入するゲート開閉機構である。同じくゲートバルブ２２も、装置内部でウエハストッカー１６及びウエハメカプリアライメント温調機１８空間と露光空間を隔壁で分離し、ウエハ８Ａを搬送搬出するときのみ開閉する。このように、隔壁で分離することによりウエハ８Ａの装置外部との搬送搬出の際に、一旦大気開放される容積を最小限にして、速やかに真空平行状態にすることを可能にしている。
【００２７】
光源発光部２からの露光光を導入成形する露光光導入部の５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄ及び原版６Ａから反射した露光パターンを縮小投影する縮小投影ミラー光学系の７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅは、Ｍｏ−Ｓｉの多層膜が蒸着あるいはスパッタにより形成され、個々の反射面で光源からの露光光を反射する。その際ミラー一面の反射率は凡そ７０％程度で残りはミラー母材に吸収され熱に変換される。
【００２８】
その際、露光光反射エリアでは温度が＋１０〜２０℃程度上昇し、結果として熱膨張係数の極めて小さいミラー材料を使用してもミラー周辺部では反射面の変位が５０〜１００ｎｍ程度発生し、０．１ｎｍ〜数ｎｍと極めて厳しいミラー面形状精度が要求される投影光学系ミラー及び照明系ミラーの精度を補償出来なくなる。
【００２９】
このように、ミラー面精度が悪化すると、投影光学系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を招き、照明系の場合マスクへの目標照度低下及び照度ムラ悪化を招く結果となる。
【００３０】
本実施例では、上記ミラー発熱の問題を解決する為に、以下にミラー冷却手段の実施例を示す。なお、ミラーの形状は各部位で異なる為、本実施例では円筒凹面ミラーを代表例として示す。
【００３１】
本発明の実施例を、図３に示す。ここで、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄに冷却媒体２３を流す際に、冷却媒体２３を入射エネルギー量の少ない、あるいは上昇温度の低いミラーを上流として、入射エネルギーの多い、あるいは上昇温度の高いミラーへ流す。
【００３２】
図６に温調方法を次に示す。ここで、液温度検出手段２６は、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと、照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄに供給される冷却液２３の温度を検出する。ミラー温度検出手段２５は、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄの表面、又は裏面温度をモニターする。冷却媒体温調機２７は、冷却媒体２３を目標温度に制御する。
【００３３】
露光制御手段２８は、露光光の発光タイミング及び露光量を制御する。
【００３４】
このような構成で、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄの表面、又は裏面温度を、ミラー温度検出手段２４により計測し、同時に液温度検出手段２６により冷却媒体２３の温度を検出する。さらに、露光制御手段２８からミラーへの露光光量情報を出し、それらを基に冷却液２３の目標温度を決め、冷却媒体温調機２７により冷却媒体２３を目標温度に制御する。目標温度になった冷却媒体２３は、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄに供給され、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜Ｄで示すミラーＡ〜Ｄは冷却される。
【００３５】
（他の実施例１）
他の実施例１を図４に示す。ここで、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄに冷却媒体２３を流す際に、ウエハ８Ａ側を上流、光源２Ａ側を下流として、露光光の入射順とは逆の順番でミラーへ流す。ここで、露光光反射エリア高温度部位で、温度上昇が抑えられ、入射エネルギー量の変化の影響によるミラー温度変化を小さくしている。本実施例では、冷却媒体２３をウエハ８Ａ側を上流、光源２Ａ側を下流として、露光光の入射順とは逆の順番でミラーへ流す。
【００３６】
図６に温調方法を次に示す。先の実施例に同じく液温度検出手段２６は、投影系ミラーの７Ａ〜Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜Ｄで示すミラーＡ〜Ｄに供給される冷却媒体２３の温度を検出する。ミラー温度検出手段２５は、投影系ミラーの７Ａ〜Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜Ｄで示すミラーＡ〜Ｄの表面、又は裏面温度をモニターする。冷却媒体温調機２７は、冷却媒体２３を目標温度に制御する。
【００３７】
露光制御手段２８は、露光光の発光タイミング及び露光量を制御する。
【００３８】
このような構成で、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄの表面、又は裏面温度を、ミラー温度検出手段２４により計測し、同時に液温度検出手段２６により冷却媒体２３の温度を検出する。さらに、露光制御手段２８からミラーへの露光光量情報を出し、それらを基に冷却媒体２３の目標温度を決め、冷却媒体温調機２７により冷却媒体２３を目標温度に制御する。目標温度になった冷却媒体２３は、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄに供給され、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄは冷却される。
【００３９】
（他の実施例２）
他の実施例２を図５に示す。ここで、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄに冷却媒体２３を流す際に、温度変化によるミラー形状維持精度、あるいは光学波面、あるいは光学収差敏感度の高いミラーを上流として、温度変化によるミラー形状維持精度、あるいは光学波面、あるいは光学収差敏感度の低いミラーへ冷却媒体を流す。
【００４０】
図６に温調方法を示す。実施例に同じく液温度検出手段２６は、７Ａ〜Ｅで示すミラーＡ〜Ｅに供給される冷却液２３の温度を検出する。ミラー温度検出手段２５は、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄの表面又は裏面温度をモニターする。冷却媒体温調機２７は、冷却液２３を目標温度に制御する。露光制御手段２８は、露光光の発光タイミング及び露光量を制御する。
【００４１】
このような構成で、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄの表面温度を、ミラー温度検出手段２４により計測し、同時に液温度検出手段２６により冷却媒体２３の温度を検出する。
【００４２】
さらに、露光制御手段２８からミラーへの露光光量情報を出し、それらを基に冷却媒体２３の目標温度を決め、冷却媒体温調機２７により冷却媒体２３を目標温度に制御する。目標温度になった冷却媒体２３は、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄに供給され、投影系ミラーの７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅと照明系ミラーの５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄは冷却される。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本実施例に示す露光装置全体図。
【図２】本実施例に示す光源部詳細図。
【図３】実施例に示すミラー冷却構成図。
【図４】他実施例に示すミラー冷却構成図。
【図５】他実施例に示すミラー冷却構成図。
【図６】実施例に示すミラー冷却温調制御構成図。
【図７】従来例に示す露光装置全体図。
【図８】従来例に示す光源部詳細図。
【図９】従来例に示すミラー形状図。
【図１０】従来例に示すミラー温度説明図。
【符号の説明】
【００４４】
１  励起レーザー
２  光源発光部
２Ａ  光源Ａ
２Ａａ  光源ミラーＡａ
２Ａｂ  Ｘｅ（液化、噴霧、ガス）
２Ａｅ  ノズル
３  真空チャンバー
４  真空ポンプ
５  露光光導入部
５Ａ  ミラーＡ
５Ｂ  ミラーＢ
５Ｃ  ミラーＣ
５Ｄ  ミラーＤ
６  レチクルステージ
６Ａ  原版
７  縮小投影ミラー光学系
７Ａ  ミラーＡ
７Ｂ  ミラーＢ
７Ｃ  ミラーＣ
７Ｄ  ミラーＤ
７Ｅ  ミラーＥ
８  ウエハステージ
８Ａ  ウエハ
９  レチクルステージ支持体
１０  露光装置本体
１１  ウエハステージ支持体
１２  レチクルストッカー
１３  レチクルチェンジャー
１４  レチクルアライメントユニット
１５  レチクルアライメントスコープ
１６  ウエハストッカー
１７  ウエハ搬送ロボット
１８  ウエハメカプリアライメント温調機
１９  ウエハ送り込みハンド
２０  ゲートバルブ
２１  ゲートバルブ
２２  ゲートバルブ
２３  冷却媒体
２４  露光光路
２５  液温度検出手段
２６  ミラー温度検出手段
２７  冷却液媒体温調機
２８  露光量制御手段
１０１  励起レーザー
１０２  光源発光部
１０２Ａ  光源Ａ
１０２Ａａ  光源ミラーＡａ
１０２Ａｂ  Ｘｅ（液化、噴霧、ガス）
１０２Ａｅ  ノズル
１０３  真空チャンバー
１０４  真空ポンプ
１０５  露光光導入部
１０５Ａ  ミラーＡ
１０５Ｂ  ミラーＢ
１０５Ｃ  ミラーＣ
１０５Ｄ  ミラーＤ
１０６  レチクルステージ
１０６Ａ  原版
１０７  縮小投影ミラー光学系
１０７Ａ  ミラーＡ
１０７Ｂ  ミラーＢ
１０７Ｃ  ミラーＣ
１０７Ｄ  ミラーＤ
１０７Ｅ  ミラーＥ
１０８  ウエハステージ
１０８Ａ  ウエハ
１０９  レチクルステージ支持体
１１０  露光装置本体
１１１  ウエハステージ支持体
１１２  レチクルストッカー
１１３  レチクルチェンジャー
１１４  レチクルアライメントユニット
１１５  レチクルアライメントスコープ
１１６  ウエハストッカー
１１７  ウエハ搬送ロボット
１１８  ウエハメカプリアライメント温調機
１１９  ウエハ送り込みハンド
１２０  ゲートバルブ
１２１  ゲートバルブ
１２２  ゲートバルブ
【図１】
2006013209.tif 000003
【図２】
2006013209.tif 000004
【図３】
2006013209.tif 000005
【図４】
2006013209.tif 000006
【図５】
2006013209.tif 000007
【図６】
2006013209.tif 000008
【図７】
2006013209.tif 000009
【図８】
2006013209.tif 000010
【図９】
2006013209.tif 000011
【図１０】
2006013209.tif 000012