(57)【要約】【課題】  ポリウレタン系樹脂の優れた特性と複屈折性とを備えるフィルムを提供すること、また、透明基材フィルムや他の複屈折フィルムと前記ポリウレタン系樹脂から形成される複屈折性を備えるフィルムとを組み合わせた光学フィルムおよび該光学フィルムを備える液晶表示装置等を提供する。【解決手段】  少なくとも、第１の複屈折層として、厚さ１０〜１００μｍのポリウレタン系フィルムを含んでなることを特徴とする光学フィルムを提供する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、第１の複屈折層として、厚さ１０〜１００μｍのポリウレタン系フィルムを含んでなることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記第１の複屈折層が、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの光学特性を有する請求項１記載の光学フィルム。
但し、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ、前記第１の複屈折層における、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびZ軸方向の屈折率を示す。前記Ｘ軸方向は、前記第１の複屈折層の面内方向において最大の屈折率を示す軸方向であり、前記Ｙ軸方向は、前記面内における前記Ｘ軸方向に対して垂直な軸方向であり、前記Ｚ軸方向は、前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向に垂直な厚み方向を示す。
【請求項３】
更に、透明基材フィルムを含む請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
更に、第２の複屈折層として、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーから形成されるフィルムを含む請求項１〜３の何れかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記第２の複屈折層が、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの光学特性を有する請求項４記載の光学フィルム。
但し、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ、前記第２の複屈折層における、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびZ軸方向の屈折率を示す。前記Ｘ軸方向は、前記第２の複屈折層の面内方向において最大の屈折率を示す軸方向であり、前記Ｙ軸方向は、前記面内における前記Ｘ軸方向に対して垂直な軸方向であり、前記Ｚ軸方向は、前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向に垂直な厚み方向を示す。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかに記載の光学フィルムと偏光子とを含む偏光板。
【請求項７】
請求項１〜５の何れかに記載の光学フィルム若しくは請求項６に記載の偏光板を含む液晶セル。
【請求項８】
ＶＡモード若しくはＯＣＢモードである請求項７に記載の液晶セル。
【請求項９】
請求項７又は請求項８に記載の液晶セルを含む液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項１〜５の何れかに記載の光学フィルム若しくは請求項６に記載の偏光板を含む画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムおよび該光学フィルムを備える液晶表示装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、偏光子と透明保護フィルムとからなる偏光板を作製する場合、該偏光子と該透明保護フィルムとを接着する場合の接着剤としては、ポリウレタン系樹脂が主に用いられている。
その理由は、ポリウレタン系樹脂は、密着性が良好であり、また、耐湿性が高く、更に、透明性に優れるという特性を有しているためである。
【０００３】
このようなポリウレタン系樹脂の優れた特性より、光学フィルムとして利用することが考えられるが、このようなポリウレタン系樹脂から形成されるフィルムは複屈折性を呈するものが見いだされていないのが現状である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、ポリウレタン系樹脂の優れた特性と複屈折性とを備えるフィルムを提供すること、また、透明基材フィルムや他の複屈折フィルムと前記ポリウレタン系樹脂から形成される複屈折性を備えるフィルムとを組み合わせた光学フィルムおよび該光学フィルムを備える液晶表示装置等を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、現状では複屈折性が確認されていないポリウレタン系樹脂を所定の厚さのフィルムにすることにより、複屈折性を発現することを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００６】
すなわち、本発明は、少なくとも、第１の複屈折層として、厚さ１０〜１００μｍのポリウレタン系フィルムを含んでなることを特徴とする光学フィルムを提供する。
【０００７】
ポリウレタン系樹脂を厚さ１０〜１００μｍのフィルムに成型することにより複屈折性が発現される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光学フィルムは、ポリウレタン系樹脂の優れた特性と複屈折性とを有するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明に係る光学フィルムについて説明する。
本発明の光学フィルムは、少なくとも、複屈折層として、厚さ１０〜１００μｍのポリウレタン系フィルムたる第１の複屈折層を含んでなるものである。
【００１０】
ポリウレタン系フィルムの原料となるポリウレタン系樹脂としては、変性ポリエステルウレタン、水分散系ポリエステルウレタン、溶剤系ポリエステルウレタン、ポリエーテル系ウレタン、ポリカーボネート系ウレタン等、又は前記各樹脂の自己乳化型、強制乳化型樹脂等を挙げることができる。該ポリウレタン系樹脂は、一般的にポリオールとポリイソシアネートとから製造される。
【００１１】
前記ポリオールとしては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、その他のポリオール等を挙げることができる。
【００１２】
前記ポリエステルポリオールは、脂肪酸とポリオールとの反応物であり、該脂肪酸としては、例えば、リシノール酸、オキシカプロン酸、オキシカプリン酸、オキシウンデカン酸、オキシリノール酸、オキシステアリン酸、オキシヘキサンデセン酸のヒドロキシ含有長鎖脂肪酸等を挙げることができる。脂肪酸と反応するポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール及びジエチレングリコール等のグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン及びトリエタノールアミン等の３官能ポリオール、ジグリセリン及びペンタエリスリトール等の４官能ポリオール、ソルビトール等の６官能ポリオール、シュガー等の８官能ポリオール、これらのポリオールに相当するアルキレンオキサイドと脂肪族、脂環族、芳香族アミンとの付加重合物や、該アルキレンオキサイドとポリアミドポリアミンとの付加重合物等を挙げることができる。
【００１３】
前記ポリエーテルポリオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、４，４’−ジヒドロキシフェニルプロパン、４，４’−ジヒドロキシフェニルメタン等の２価アルコ−ルあるいはグリセリン、１，１，１−トリメチロ−ルプロパン、１，２，５−ヘキサントリオ−ル、ペンタエリスリト−ル等の３価以上の多価アルコ−ルと、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、α−オレフィンオキサイド等のアルキレンオキサイドとの付加重合物等を挙げることができる。
【００１４】
その他のポリオ−ルとして、主鎖が炭素−炭素よりなるポリオ−ル、例えば、アクリルポリオ−ル、ポリブタジエンポリオ−ル、ポリイソプレンポリオ−ル、水素添加ポリブタジエンポリオ−ル、ＡＮ（アクリロニトリル）やＳＭ（スチレンモノマ−）を前記した炭素−炭素ポリオ−ルにグラフト重合したポリオ−ル、ポリカ−ボネ−トポリオ−ル、ＰＴＭＧ（ポリテトラメチレングリコ−ル）等を挙げることができる。
【００１５】
前記ポリイソシアネ−トとしては、芳香族ポリイソシアネ−ト、脂肪族ポリイソシアネ−ト、脂環式ポリイソシアネ−ト等を挙げることができる。芳香族ポリイソシアネ−トとしては、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネ−ト（ＭＤＩ）、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネ−ト（粗ＭＤＩ）、トリレンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、ポリトリレンポリイソシアネ−ト（粗ＴＤＩ）、キシレンジイソシアネ−ト（ＸＤＩ）、ナフタレンジイソシアネ−ト（ＮＤＩ）等を挙げることができる。脂肪族ポリイソシアネ−トとしては、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト（ＨＤＩ）等を挙げることができる。脂環式ポリイソシアネ−トとしては、イソホロンジイソシアネ−ト（ＩＰＤＩ）等を挙げることができる。この他に、上記ポリイソシアネ−トをカルボジイミドで変性したポリイソシアネ−ト（カルボジイミド変性ポリイソシアネ−ト）、イソシアヌレ−ト変性ポリイソシアネ−ト、ウレタンプレポリマ−（例えばポリオ−ルと過剰のポリイソシアネ−トとの反応生成物であってイソシアネ−ト基を分子末端にもつもの）等を挙げることができる。これらは単独あるいは混合物として使用してもよい。
【００１６】
本実施形態のポリウレタン系フィルムは、ポリウレタン系樹脂を厚さ１０〜１００μｍのフィルムとしたものである。
該厚みが１０μｍ未満の場合には、面内位相差（△ｎｄ）、厚み位相差（Ｒｔｈ）が発現せず、複屈折フィルムとして機能しない。
また、該厚みが１００μｍを超えると位相差は発現するが、薄型、軽量化の点から問題がある。
尚、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）は、下記式に従って算出される。
Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄ
式中、ｎｘは光学フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｚは厚さ方向の屈折率であり、ｄは光学フィルムの厚み（ｎｍ）である。
また、面内位相差（△ｎｄ）は、下記式に従って算出する。
△ｎｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中ｎｘは、光学フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり、ｄは光学フィルムの厚み（ｎｍ）である。
尚、本実施形態のポリウレタン系フィルムは、未延伸での場合、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚの関係を有する、いわゆるネガティブＣプレートの光学特性を有する。
上記未延伸のｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚの関係を有するフィルムを加熱しながら延伸又は収縮することにより、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの関係を有する光学的に二軸性を有するフィルムとなる。
【００１７】
本実施形態のポリウレタン系フィルムは、複屈折率△ｎ＝０．０００１〜０．００１であり、好ましくは０．０００５〜０．０００８である。
複屈折率△ｎ＝０．０００１〜０．００１の範囲にあれば、最適な厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）、面内位相差（△ｎｄ）を得ることができるため、画像表示装置を薄く且つ軽量化できる。
なお、複屈折率は、実施例記載の方法により測定される。
【００１８】
前記ポリウレタン系樹脂を所定厚のフィルムにする方法としては、例えば、ポリウレタン樹脂を溶剤に溶解、所定の溶液濃度に調整し、基板上に塗布し、その後所定の温度条件下で乾燥させることにより透明で平滑なフィルムとする方法、又は、自己乳化型或いは強制乳化型のポリウレタン樹脂溶液を溶剤に加えて、所定の溶液濃度に調整し、基板上に塗布し、その後所定の温度条件下で乾燥させることにより透明で平滑なフィルムとする方法がある。
【００１９】
前記溶液濃度は適宜決定して構わないが、基材への塗布性(異物混入、塗工時のムラやスジ)を考慮すると、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％とすることができる。溶液濃度が５重量％未満であると、溶液粘度が低すぎるため所定の膜厚まで１回で塗布する事が困難となり、５０重量％を超えると溶液粘度が高すぎるために、塗布面が荒れるなどの不具合が発生する場合がある。
【００２０】
前記ポリウレタン系樹脂を溶解させる溶媒としては、使用するポリウレタン系樹脂に応じ適宜選択することができる。具体的には、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２-ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、酢酸エチル、t-ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２-メチル-２，４-ペンタンジオール、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、２-ピロリドン、Ｎ-メチル-２-ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ブチロニトリル、メチルイソブチルケトン、メチルエーテルケトン、シクロペンタノン、二硫化炭素、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、水等及びこれらの混合溶媒等が用いられる。
【００２１】
前記溶液を前記基材上に塗布する方法は、特に限定されず、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法等により行うことができる。これらの方法により前記溶液を、得られるフィルムが所望の膜厚になるように基材上に配した後、乾燥させることによりフィルムを得ることができる。乾燥温度は溶媒の種類等に応じて適宜選択することができるが、通常、８０〜２００℃、好ましくは１００〜１５０℃とすることができる。乾燥は一定温度下で行っても良いし段階的に温度を上昇させて行っても良い。
乾燥時間は、通常、５〜３０分間、好ましくは１０〜２０分間とすることができる。乾燥時間が５分未満であると、溶媒が多量に残って製品の信頼性に問題を生じる場合があり、３０分を超えると工業生産性に適しない。
【００２２】
本発明の光学フィルムは、ポリウレタン系樹脂から形成される複屈折性を示すフィルムに、更に透明基材フィルムを含んでいてもよい。
【００２３】
前記透明基材フィルムとしては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。透明基材フィルムの材料としては、例えばポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーなどを挙げることができる。
また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または前記ポリマーのブレンド物などを挙げることができる。
【００２４】
前記透明基材フィルムには、必要に応じて光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、充填剤などの各種添加剤を配合することができる。また、コロナ処理等の公知の表面改質処理を行なうこともできる。
【００２５】
前記透明基材フィルムの厚さは、特に制限されないが、３〜３００μｍ程度が好ましく、特に１０〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００２６】
ポリウレタン系樹脂から形成される複屈折性を示すフィルムに、更に、透明基材フィルムを積層させる場合には、該ポリウレタン系樹脂から調整された塗布溶液を直接、透明基材フィルム上に塗布し、所定厚の複屈折性を示すフィルムを積層することができる。
また、公知の接着剤や粘着剤を用いて、ポリウレタン系樹脂から形成される複屈折性を示すフィルムと、透明基材フィルムとを積層させることもできる。
前記接着剤や粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、イソシアネート系を用いることができる。
【００２７】
本発明の光学フィルムは、第１の複屈折層とは別の層である第２の複屈折層として、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエ−テルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーから形成される複屈折フィルムを更に含んでいてもよい。
【００２８】
前記複屈折フィルムの材料としては、例えば、非液晶性材料、特に非液晶性ポリマ−を好適に使用できる。非液晶性材料は、液晶性材料とは異なり、塗布される基材の配向性に関係なく、それ自身の性質によりｎｘ＞ｎｚ、ｎｙ＞ｎｚという光学的一軸性を示すフィルムを形成するものである。このため、前記フィルム（基材）は、未配向性のものであってもその表面に配向膜を塗布する工程や配向膜を積層する工程等を必要としない。
前記非液晶性材料を塗布された基材を加熱しながら延伸又は収縮させることでｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学的二軸性を付与することができる。
【００２９】
前記非液晶性ポリマーとしては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドーイミド、ポリエステルーイミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。
【００３０】
前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば、重量平均分子量（Ｍｗ）が１,０００〜１,０００,０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２,０００〜５００,０００の範囲である。
【００３１】
前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式(１)に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
【００３２】
【化１】
2006139105.tif 000002
【００３３】
前記式(１)中、Ｒ3〜Ｒ6は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子又はＣ1〜10のアルキル基で置換されたフェニル基、及びＣ1〜10のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ3〜Ｒ6は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子又はＣ1〜10のアルキル基で置換されたフェニル基、及びＣ1〜10のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
【００３４】
前記式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ6〜20の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、又は、下記式（２）で表される基である。
【００３５】
【化２】
2006139105.tif 000003
【００３６】
前記式（２）中、Z'は、例えば、共有結合、Ｃ(Ｒ7) 2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｃ2Ｈ5)2基、又は、ＮＲ8基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。
また、Ｗは、１〜１０までの整数を表す。Ｒ7は、それぞれ独立に、水素又はＣ(Ｒ9)3である。Ｒ8は、水素、炭素原子数１〜２０のアルキル基、又はＣ6〜20のアリ−ル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。Ｒ9は、それぞれ独立に、水素、フッ素、又は塩素である。
【００３７】
前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレン又はアントラセンから誘導される４価の基を挙げることができる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ1〜10のアルキル基、そのフッ素化誘導体、及びＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基を挙げることができる。
【００３８】
この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）又は（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等を挙げることができる。尚、下記式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００３９】
【化３】
2006139105.tif 000004
【００４０】
【化４】
2006139105.tif 000005
【００４１】
【化５】
2006139105.tif 000006
【００４２】
前記一般式（３）〜（５）中、Ｇ及びＧ’は、例えば、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ(ＣＨ3)2基、Ｃ(ＣＦ3)2基、Ｃ(ＣＸ3)2基(ここで、Ｘは、ハロゲンである。)、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(ＣＨ2ＣＨ3)2基、及び、Ｎ(ＣＨ3)基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００４３】
前記式（３）及び式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄ及びｅは、その置換数を表す。  Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、Ｃ1〜3のハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、及びＣ1〜3のハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を挙げることができる。ｄは、０〜２までの整数であり、ｅは、０〜３までの整数である。
【００４４】
前記式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、及び置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子又は基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基を挙げることができる。
また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基を挙げることができる。ｆは、０〜４までの整数であり、ｇ及びｈは、それぞれ０〜３及び１〜３までの整数である。また、ｇ及びｈは、１より大きいことが好ましい。
【００４５】
前記式（４）中、Ｒ10及びＲ11は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、及び置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。
その中でも、Ｒ10及びＲ11は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００４６】
前記式（５）中、Ｍ1及びＭ2は、同一であるか又は異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、Ｃ1〜3のハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基である。
前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。
また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、及びＣ1〜3のハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。
【００４７】
前記式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（６）で表されるもの等を挙げることができる。
【００４８】
【化６】
2006139105.tif 000007
【００４９】
さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格(繰り返し単位)以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーを挙げることができる。
【００５０】
前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
【００５１】
前記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリット酸二無水物、３，６−ビス(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリット酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリット酸二無水物等を挙げることができる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
前記２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス(トリフルオロメチル)−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
【００５２】
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(２，３−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、２，２−ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−(３，４−ジカルボキシフェニル)−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物(３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物)、４，４’−［４，４'−イソプロピリデン−ジ(ｐ−フェニレンオキシ)］ビス(フタル酸無水物)、Ｎ，Ｎ−(３，４−ジカルボキシフェニル)−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物等を挙げることができる。
【００５３】
これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス(トリハロメチル)−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２’−ビス(トリフルオロメチル)−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００５４】
前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンを挙げることができ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、及びその他の芳香族ジアミンを挙げることができる。
【００５５】
前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−及びｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼン及び１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等を挙げることができる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、及び３，３’−ジアミノベンゾフェノン等を挙げることができる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、及び１，５−ジアミノナフタレン等を挙げることができる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、及び２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等を挙げることができる。
【００５６】
また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−(９−フルオレニリデン)−ジアニリン、２，２’−ビス(トリフルオロメチル)−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス(４−アミノフェノキシフェニル)プロパン、２，２−ビス(４−アミノフェニル)プロパン、２，２−ビス(４−アミノフェニル)−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエ−テル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス(３−アミノフェノキシ)ベンゼン、１，３−ビス(４−アミノフェノキシ)ベンゼン、１，４−ビス(４−アミノフェノキシ)ベンゼン、４，４’−ビス(４−アミノフェノキシ)ビフェニル、４，４’−ビス(３−アミノフェノキシ)ビフェニル、２，２−ビス[４−(４−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、２，２−ビス[４−(４−アミノフェノキシ)フェニル)−１，１，１，３，３，３−へキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等を挙げることができる。
【００５７】
前記第２の複屈折層の成膜材料である前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンを挙げることができる。
【００５８】
【化７】
2006139105.tif 000008
【００５９】
前記式(７)中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、又は、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。
【００６０】
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子及びヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ1〜6の直鎖又は分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、及び、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基及びエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物を挙げることができる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ1〜6の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、及び、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基及びエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物を挙げることができる。
【００６１】
前記式(７)中、ｑは、０〜４までの整数である。前記式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
【００６２】
また、前記式（７）中、Ｒ1は、下記式（８）で表される基であり、ｍは、０又は１の整数である。
【００６３】
【化８】
2006139105.tif 000009
【００６４】
前記式（８）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、前記式（７）におけるＸと同様である。  前記式（８）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。ｑ’は、前記Ｘ’の置換数を表し、０〜４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０又は１の整数である。
【００６５】
前記式（８）中、Ｒ2は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、又は、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等を挙げることができる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ2としては、下記式（９）〜(１５)からなる群から選択される芳香族基が好ましい。
【００６６】
【化９】
2006139105.tif 000010
【００６７】
前記式（７）中、前記Ｒ1としては、下記式(１６)で表される基が好ましく、下記式(１６)において、Ｒ2及びｐは前記式（８）と同義である。
【００６８】
【化１０】
2006139105.tif 000011
【００６９】
さらに、前記式(７)中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５,０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。
【００７０】
さらに、前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式(１７)で表すことができる。尚、下記式において、ｎは前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００７１】
【化１１】
2006139105.tif 000012
【００７２】
前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としでは、下記式(１８)〜(２１)で表されるもの等があげられ、下記各式において、ｎは、前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００７３】
【化１２】
2006139105.tif 000013
【００７４】
【化１３】
2006139105.tif 000014
【００７５】
【化１４】
2006139105.tif 000015
【００７６】
【化１５】
2006139105.tif 000016
【００７７】
また、これらの他に、前記第２の複屈折層の成膜材料である前記ポリアミド又はポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式(２２)で表すことができる。
【００７８】
【化１６】
2006139105.tif 000017
【００７９】
前記式(２２)中、Ｙは、Ｏ又はＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ2アルキレン基、ハロゲン化Ｃ2アルキレン基、ＣＨ2基、Ｃ(ＣＸ3)2基(ここで、Ｘはハロゲン又は水素である。)、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｒ)2基、及び、Ｎ(Ｒ)基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。
前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ1〜3のアルキル基及びＣ1〜3のハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基又はY基に対してメタ位又はパラ位にある。
【００８０】
また、前記(２２)中、Ａ及びＡ’は、置換基であり、ｔ及びｚは、それぞれの置換数を表す。  また、ｐは、０〜３までの整数であり、ｑは、１〜３までの整数であり、ｒは、０〜３までの整数である。
【００８１】
前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、Ｃ1〜3のハロゲン化アルキル基、ＯＲ(ここで、Ｒは、前記定義のものである。)で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ1〜9のアルコキシカルボニル基、Ｃ1〜9のアルキルカルボニルオキシ基、Ｃ1〜12のアリ−ルオキシカルボニル基、Ｃ1〜12のアリ−ルカルボニルオキシ基及びその置換誘導体、Ｃ1〜12のアリ−ルカルバモイル基、並びに、Ｃ1〜12のアリ−ルカルボニルアミノ基及びその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、Ｃ1〜3のハロゲン化アルキル基、フェニル基及び置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、Ｃ1〜3のハロゲン化アルキル基及びこれらの組み合わせを挙げることができる。前記ｔは、０〜４までの整数であり、前記ｚは、０〜３までの整数である。
【００８２】
前記式(２２)で表されるポリアミド又はポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式(２３)で表されるものが好ましい。
【００８３】
【化１７】
2006139105.tif 000018
【００８４】
前記式(２３)中、Ａ、Ａ’及びＹは、前記式(２２)で定義したものであり、ｖは０〜３の整数、好ましくは、０〜２の整数である。ｘ及びｙは、それぞれ０又は１であるが、共に０であることはない。
【００８５】
また、ポリエステルとしては、繰り返し単位が下記一般式(２４)(２５)で表されるものであってもよい。
【００８６】
【化１８】
2006139105.tif 000019
【００８７】
前記式(２４)(２５)中、Ｘ及びＹは、置換基である。該Ｘは、水素、塩素及び臭素からなる群から選択される。また、該Ｙは、下記式(２６)(２７)(２８)(２９)からなる群から選択される。
【００８８】
【化１９】
2006139105.tif 000020
【００８９】
更に、ポリエステルとしては、前記一般式(２４)(２５)で表されるポリエステルを組み合わせたコポリマ−であってもよい。
【００９０】
本発明の光学フィルムは、偏光子と組み合わせることで偏光板として用いることができる。前記偏光子としては、特に制限されず、従来の公知の方法により各種フィルムにヨウ素や二色染料等の二色性物質を吸着させて染色し、延伸、架橋、乾燥することにより作製したものを使用できる。その中でも自然光を入射させると直線偏光を透過する偏光子が好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させるフィルムとしては、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡフィルム、エチレン・酢酸ビニル供重合体系ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等が挙げられる。これらの他にも、例えばＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理等のポリエン配向フィルム等も使用できる。これらの中でも、好ましいのはＰＶＡ系フィルムである。前記偏光子の厚みは、通常１〜８０μｍの範囲であるがこれには限定されない。
【００９１】
本発明の光学フィルムと前記偏光子とを積層させて偏光板を作製する場合、積層には、例えば接着剤等を使用することができる。前記接着剤等としては、アクリル系・ビニルアルコール系・シリコーン系・ポリエステル系・ポリウレタン系・ポリエーテル系等のポリマー性感圧接着剤やゴム系感圧接着剤を挙げることができる。また、グルタルアルデヒド・メラミン・シュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤等から構成される接着剤も使用できる。これらの接着剤等としては、温度や熱の影響によっても離れにくく、光透過率や偏光度にも優れるものが好ましい。具体的には、前記偏光子がＰＶＡ系フィルムの場合、例えば接着処理の安定性等の点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。
【００９２】
本発明の光学フィルム及び偏光板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、ＰＤＰ等の画像表示装置 の形成に好ましく用いることができる。
【００９３】
本発明の偏光板は、液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができ、例えば、偏光板を液晶セルの片側あるいは両側に配置してなる反射型液晶表示装置や半透過型液晶表示装置、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置に用いることができる。  液晶セル基板は、プラスチック基板、ガラス基板のいずれでも良い。液晶表示装置を形成する液晶セルは任意であり、例えば薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のものなど適宜なタイプの液晶セルを用いたものであって良い。
【００９４】
前記透過型液晶表示装置としては、ＶＡ(Vertical aligned)モード、ＯＣＢ(Optically compensated bend)モードの液晶表示装置を挙げることができる。
これらの液晶表示装置は、セル及びその両側に配置された２枚の偏光板からなる。透過型液晶表示装置の液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶が担持されてなる。また、反射型液晶表示装置は、液晶セルが偏光板と反射板との間で挟持されてなる。
【００９５】
ＶＡモード液晶セルとは、電圧制御複屈折(ECB:Electrically Controlled Birefringnence)効果を利用し、透明電極間に誘電率異方性が負のネマチック液晶が、電圧無印加時において、垂直配列した液晶セルのことをいう。具体的には、特開昭６２−２１０４２３号公報や、特開平４−１５３６２１号公報に記載の液晶セルを挙げることができる。また、ＶＡモード液晶セルは、特開平１１−２５８６０５号公報に記載されているように、視野角拡大のために、画素内にスリットを設けたものや、表面に突起を形成した基材を用いることによって、マルチドメイン化したＭＶＡモードの液晶セルであっても良い。更に、特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているように、液晶中にカイラル剤を添加し、ネマチック液晶電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるＶＡＴＮモードの液晶セルであっても良い。
【００９６】
ＯＣＢモード液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆方向（対称的）に配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置である。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。ＯＣＢモードの液晶表示装置においては、光学補償層付偏光板に更に円盤状化合物若しくは棒状液晶化合物を含む光学補償層を組み合わせることが好ましい。
【００９７】
次いで、有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ表示装置）について説明する。一般に、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせを持った構成が知られている。
【００９８】
有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性に伴う強い非線形性を示す。
【００９９】
有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
【０１００】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度と極めて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見える。
【０１０１】
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差フィルムを設けることができる。
【０１０２】
位相差フィルムおよび偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差フィルムを１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相差フィルムとの偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【０１０３】
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差フィルムにより一般に楕円偏光となるが、特に位相差フィルムが１／４波長板でしかも偏光板と位相差フィルムとの偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
【０１０４】
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差フィルムで再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【実施例】
【０１０５】
以下に実施例を述べるが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、実施例で用いた各分析法は以下の通りである。
【０１０６】
（複屈折率及び位相差の測定）
自動複屈折計(王子計測機器製 ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ)を用いて測定した。
測定に用いた波長５９０ｎｍ、測定温度２５℃で測定した。
【０１０７】
(膜厚測定)
波長７００〜９００ｎｍの光干渉法より計算(大塚電子製 自記分光光度計ＭＣＰＤ−２０００)した。
【０１０８】
（実施例１）
旭電化社製、商品名「アデカボンタイターＨＵＸ３２０」を水／イソプロピルアルコール（１／１）を用いて２０重量％溶液を作製し、該溶液をトリアセチルセルロースフィルム（厚み８０μｍ）上に塗布した。
その後、１２０℃で３０分間乾燥処理を行い、１．３倍に延伸し、透明で平滑な厚み３０μｍの複屈折フィルムを形成した。
該複屈折フィルムの複屈折△ｎ＝０．００１であり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学特性を有していた。該フィルムの厚み及び面内位相差は、△ｎｄ＝１００ｎｍ、Ｒｔｈ＝２００ｎｍであった。
【０１０９】
（実施例２）
２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニルとから合成された、△ｎ≒０．０４ｎｍのポリイミド樹脂をシクロヘキサノンに溶解し２３ｗｔ％の塗布溶液を調整した。該塗布溶液を前記実施例１で作製したフィルムに塗布し、１４０℃で１５分間乾燥処理を行い透明で平滑な（ポリイミド層の厚み６μｍ）の光学フィルムを得た。
該フィルムは、ポリイミド層がｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚの光学特性を有し、フィルム全体としてはｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学特性を有していた。
該フィルムの厚み及び面内位相差は、△ｎｄ＝１００ｎｍ、Ｒｔｈ＝４４０ｎｍであった。