(57)【要約】【課題】パーティクルを含んだ洗浄液が基板表面に再付着することを防ぐ基板洗浄装置を提供する。【解決手段】水平搬送される基板Ｗの表面に、回転する洗浄ブラシ２を摺接することによって、基板Ｗ表面のパーティクルの除去を行う基板洗浄装置において、洗浄ブラシ２をブラシケース３によって覆うことによって、洗浄ブラシ２の回転による洗浄液Ｌの飛散を防止する。さらに、洗浄液Ｌの供給を、ブラシケース３に設けた吐出ノズル４１によって、洗浄領域の下流側から上流側に向けて行うとともに、ブラシケース３に設けた吸引ノズル５１によって、洗浄領域の上流側において洗浄液Ｌの回収を行う。これにより、パーティクルの基板表面への再付着を防止する。【選択図】図１
2006278713.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定の方向に搬送し、前記基板に所定の洗浄処理を施す基板洗浄装置であって、
前記基板を搬送する搬送手段と、
前記基板の被処理面を洗浄するブラシ手段と、
前記ブラシ手段を覆うカバー手段と、
を備えることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板洗浄装置であって、
前記基板の搬送方向に直交する方向を幅方向と定義したとき、
前記ブラシ手段が前記基板の幅方向のサイズ以上の長さを有するローラー状であって、前記基板の幅方向の全長に当接することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板洗浄装置であって、
前記カバー手段が、
前記基板の被処理面に対向した開口部を有する凹部、
を備え、
前記ブラシ手段が前記凹部に格納されるとともに、前記ブラシ手段の一部が前記開口部から露出して前記被処理面をブラッシングすることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板洗浄装置であって、
前記カバー手段には、前記開口部付近に孔口を有する第１の貫通孔が形成されており、
前記第１の貫通孔を通して供給された処理液が前記被処理面に吐出されることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項５】
請求項４に記載の基板洗浄装置であって、
前記基板の搬送方向を基準として上流側と下流側とを定義したとき、
前記第１の貫通孔が前記開口部よりも下流側に形成されているとともに、
前記第１の貫通孔の孔軸を下流側に傾斜させていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板洗浄装置であって、
前記カバー手段のうち前記第１の貫通孔よりも下流側の部分が、撥水性材料によって構成された表面を有することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項７】
請求項４に記載の基板洗浄装置であって、
前記カバー手段には、前記開口部をはさんで前記第１の貫通孔の孔口とは反対側に孔口を有する第２の貫通孔が形成されており、
前記第１の貫通孔から前記基板に供給されて、前記ブラシ手段によるブラッシング部位を経由した後の前記処理液を、前記第２の貫通孔を介して回収することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項８】
請求項７に記載の基板洗浄装置であって、
前記基板の搬送方向を基準として上流側と下流側とを定義したとき、
前記第２の貫通孔が前記開口部よりも上流側に形成されているとともに、
前記第２の貫通孔の孔軸を上流側に傾斜させていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板洗浄装置であって、
前記ブラシ手段を回転させることにより、前記搬送方向とは逆方向に前記被処理面をブラッシングさせる駆動手段、
を備え、
前記第２の貫通孔の孔口が前記凹部と連通していることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の基板洗浄装置であって、
前記第２の貫通孔の孔軸が、当該第２の貫通孔の孔口付近での前記ブラシ手段の回転半径の方向に略垂直とされていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１１】
請求項７ないし１０のいずれかに記載の基板洗浄装置であって、
前記カバー手段のうち前記第２の貫通孔よりも上流側の部分が、撥水性材料によって構成された表面を有することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１２】
前記ブラシ手段と前記カバー手段との組合せ構造が、水平搬送される前記基板の上下両面側にそれぞれ配置されており、
前記基板の上下両面をそれぞれ被処理面として、それぞれの前記組合せ構造が互いに対向して配置されていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１３】
基板を所定の方向に搬送し、前記基板に所定の洗浄処理を施す基板洗浄装置であって、
前記基板を搬送する搬送手段と、
前記基板の被処理面を洗浄するブラシ手段と、
前記被処理面に処理液を供給する液供給手段と、
前記被処理面から前記処理液を回収する液回収手段と、
を備え、
前記液供給手段が、前記ブラシ手段と前記被処理面との当接部に対して、前記基板の搬送方向の下流側から上流側に向けて前記処理液を供給し、
前記液回収手段が、前記当接部の前記上流側から前記処理液を回収することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の基板洗浄装置であって、
前記基板の搬送方向に直交する方向を幅方向と定義したとき、
前記ブラシ手段が前記基板の幅方向のサイズ以上の長さを有するローラー状であって、前記基板の幅方向の全長に当接することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の基板洗浄装置であって、
前記ブラシ手段を回転させる駆動手段、
を備え、
前記液回収手段が、
液吸引ノズル部、
を有し、
前記液吸引ノズル部の孔軸が、前記液吸引ノズル部の吸引口の付近での前記ブラシ手段の回転半径の方向に略垂直とされていることを特徴とする基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等（以下、単に「基板」と称する）を搬送しながら、洗浄処理を行う基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板に洗浄処理を施す基板洗浄装置として、水平方向に敷設された搬送ローラーによって搬送される基板の表面に、洗浄液を供給しながら、回転駆動されたローラー状のブラシを摺接することによってブラシ洗浄を行うものが知られている（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
このようなブラシ洗浄においては、洗浄処理後の洗浄液には、ブラシによって除去されたパーティクルが含まれている。そこで、このような洗浄液を基板表面から除去して、基板へのパーティクルの再付着を防ぐ必要がある。
【０００４】
例えば、洗浄液の供給を、基板に対して垂直にではなく、基板の搬送方向と交差する方向に対して所定の傾斜角度をつけて行い、洗浄液を基板の搬送方向と交差する方向の端部から流出しやすくすることによって、パーティクルを含んだ洗浄液の基板上での滞留を防ぐ技術が知られている（特許文献２参照）。
【０００５】
また、基板の下面に接した吸引ブラシによって、ブラシ洗浄後の基板のスルーホール内などに残留した洗浄液を吸引除去する技術が知られている（特許文献３参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開平５−２３６５１号公報
【特許文献２】特開２００２−２３９４８５号公報
【特許文献３】特開平８−３１６６１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、このようなブラシ洗浄においては、ブラシをかなり速い回転数で回転駆動することによって洗浄力を高めている。しかし、このブラシの回転によって洗浄液が飛散し、ブラシによって除去されたパーティクルを含む洗浄液のミストが発生してしまう。このミストが基板搬送の下流側に飛散することによって、洗浄処理後の基板表面へのパーティクルの再付着の原因となっていた。上記の技術では、飛散した洗浄液に含まれるパーティクルの基板表面への再付着は防ぐことができなかった。
【０００８】
この発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、パーティクルを含んだ洗浄液が基板表面に再付着することを防ぐ基板洗浄装置を提供することを目的とする。また、特に、ブラシ洗浄による洗浄液の飛散を防止することによって、洗浄液の飛散が原因となる、パーティクルの基板表面への再付着を防ぐ基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１の発明は、基板を所定の方向に搬送し、前記基板に所定の洗浄処理を施す基板洗浄装置であって、前記基板を搬送する搬送手段と、前記基板の被処理面を洗浄するブラシ手段と、前記ブラシ手段を覆うカバー手段と、を備える。
【００１０】
請求項２の発明は、請求項１に記載の基板洗浄装置であって、前記基板の搬送方向に直交する方向を幅方向と定義したとき、前記ブラシ手段が前記基板の幅方向のサイズ以上の長さを有するローラー状であって、前記基板の幅方向の全長に当接する。
【００１１】
請求項３の発明は、請求項２に記載の基板洗浄装置であって、前記カバー手段が、前記基板の被処理面に対向した開口部を有する凹部、を備え、前記ブラシ手段が前記凹部に格納されるとともに、前記ブラシ手段の一部が前記開口部から露出して前記被処理面をブラッシングする。
【００１２】
請求項４の発明は、請求項３に記載の基板洗浄装置であって、前記カバー手段には、前記開口部付近に孔口を有する第１の貫通孔が形成されており、前記第１の貫通孔を通して供給された処理液が前記被処理面に吐出される。
【００１３】
請求項５の発明は、請求項４に記載の基板洗浄装置であって、前記基板の搬送方向を基準として上流側と下流側とを定義したとき、前記第１の貫通孔が前記開口部よりも下流側に形成されているとともに、前記第１の貫通孔の孔軸を下流側に傾斜させている。
【００１４】
請求項６の発明は、請求項５に記載の基板洗浄装置であって、前記カバー手段のうち前記第１の貫通孔よりも下流側の部分が、撥水性材料によって構成された表面を有する。
【００１５】
請求項７の発明は、請求項４に記載の基板洗浄装置であって、前記カバー手段には、前記開口部をはさんで前記第１の貫通孔の孔口とは反対側に孔口を有する第２の貫通孔が形成されており、前記第１の貫通孔から前記基板に供給されて、前記ブラシ手段によるブラッシング部位を経由した後の前記処理液を、前記第２の貫通孔を介して回収する。
【００１６】
請求項８の発明は、請求項７に記載の基板洗浄装置であって、前記基板の搬送方向を基準として上流側と下流側とを定義したとき、前記第２の貫通孔が前記開口部よりも上流側に形成されているとともに、前記第２の貫通孔の孔軸を上流側に傾斜させている。
【００１７】
請求項９の発明は、請求項８に記載の基板洗浄装置であって、前記ブラシ手段を回転させることにより、前記搬送方向とは逆方向に前記被処理面をブラッシングさせる駆動手段、を備え、前記第２の貫通孔の孔口が前記凹部と連通している。
【００１８】
請求項１０の発明は、請求項９に記載の基板洗浄装置であって、前記第２の貫通孔の孔軸が、当該第２の貫通孔の孔口付近での前記ブラシ手段の回転半径の方向に略垂直とされている。
【００１９】
請求項１１の発明は、請求項７ないし１０のいずれかに記載の基板洗浄装置であって、前記カバー手段のうち前記第２の貫通孔よりも上流側の部分が、撥水性材料によって構成された表面を有する。
【００２０】
請求項１２の発明は、前記ブラシ手段と前記カバー手段との組合せ構造が、水平搬送される前記基板の上下両面側にそれぞれ配置されており、前記基板の上下両面をそれぞれ被処理面として、それぞれの前記組合せ構造が互いに対向して配置されている。
【００２１】
請求項１３の発明は、基板を所定の方向に搬送し、前記基板に所定の洗浄処理を施す基板洗浄装置であって、前記基板を搬送する搬送手段と、前記基板の被処理面を洗浄するブラシ手段と、前記被処理面に処理液を供給する液供給手段と、前記被処理面から前記処理液を回収する液回収手段と、を備え、前記液供給手段が、前記ブラシ手段と前記被処理面との当接部に対して、前記基板の搬送方向の下流側から上流側に向けて前記処理液を供給し、前記液回収手段が、前記当接部の前記上流側から前記処理液を回収する。
【００２２】
請求項１４の発明は、請求項１３に記載の基板洗浄装置であって、前記基板の搬送方向に直交する方向を幅方向と定義したとき、前記ブラシ手段が前記基板の幅方向のサイズ以上の長さを有するローラー状であって、前記基板の幅方向の全長に当接する。
【００２３】
請求項１５の発明は、請求項１４に記載の基板洗浄装置であって、前記ブラシ手段を回転させる駆動手段、を備え、前記液回収手段が、液吸引ノズル部、を有し、前記液吸引ノズル部の孔軸が、前記液吸引ノズル部の吸引口の付近での前記ブラシ手段の回転半径の方向に略垂直とされている。
【発明の効果】
【００２４】
請求項１に記載の発明では、ブラシ手段がカバー手段によって覆われているため、ブラシ洗浄による処理液の飛散を防止することができる。これによって、処理液の飛散が原因となる、パーティクルの基板表面への再付着を防ぐことができる。
【００２５】
請求項３に記載の発明では、ブラシ手段が凹部に格納されるとともに、ブラシ手段の一部が開口部から露出して被処理面をブラッシングするため、ブラシ洗浄力に影響を与えることなくブラシ洗浄による処理液の飛散を確実に防止することができる。
【００２６】
請求項４に記載の発明では、カバー手段に形成された貫通孔を通して基板の被処理面に処理液が吐出されるため、支持手段などを必要としない簡易な構成で液供給ノズルを得ることができるとともに、基板洗浄装置を小型化することができる。
【００２７】
請求項５に記載の発明では、開口部の下流側に形成された、孔軸が下流側に傾斜した貫通孔より処理液が吐出されるため、基板上での液の滞留を防ぐと共に洗浄領域の下流側に処理液が流出しにくくすることができる。
【００２８】
請求項６に記載の発明では、処理液が吐出される貫通孔よりも下流側に撥水性の表面領域があるため、洗浄領域の下流側に液が流出しにくくなり、洗浄領域を常にウエット状態に保つことができる。
【００２９】
請求項７に記載の発明では、カバー手段に形成された貫通孔を介して、ブラッシング部位を経由した後の処理液を回収するため、パーティクルを含んだ液を基板上から除去することができる。また、支持手段などを必要としない簡易な構成で液回収ノズルを得ることができるとともに、基板洗浄装置を小型化することができる。
【００３０】
請求項８に記載の発明では、開口部の上流側に形成された、孔軸が上流側に傾斜した貫通孔を介して処理液が回収されるため、パーティクルを含んだ液を洗浄領域の上流側に流出させることなく回収することができる。
【００３１】
請求項９に記載の発明では、被処理面を基板搬送と逆方向にブラッシングさせるため、高い洗浄力を得ることができる。
【００３２】
請求項１０に記載の発明では、孔軸がブラシ手段の回転半径の方向に略垂直である貫通孔を介して処理液が回収されるため、ブラシ回転推力を利用して処理液を回収することができる。
【００３３】
請求項１１に記載の発明では、処理液の回収が行われる貫通孔よりも上流側に撥水性の表面領域があるため、洗浄領域の上流側に液が流出しにくくなり、洗浄領域を常にウエット状態に保つことができる。
【００３４】
請求項１２に記載の発明では、ブラシ手段とカバー手段との組合せ構造が、基板の上下両面をそれぞれ被処理面として互いに対向して配置されているため、基板の上下両面を洗浄することができるとともに、基板の上下両面へのパーティクルの基板表面への再付着を防ぐことができる。
【００３５】
請求項１３に記載の発明では、処理液がブラシ手段と被処理面との当接部の下流側から上流側に向けて供給され、さらに、上流側から回収されるため、洗浄領域外へのパーティクルを含んだ洗浄液の流出を防止することができる。これによって、パーティクルの基板表面への再付着を防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
図１、２及び図６、７は、本発明に係る基板洗浄装置の構成を示す側面図であり、図３は本発明に係る基板洗浄装置の構成を示す正面図である。また、図４、５は本発明に係る基板洗浄装置におけるブラシケースを示す斜視図である。図１〜７の各図には、それらの方向関係を明確にするため、ＸＹＺ直交座標系を付している。なお、この座標系においては、Ｚ軸方向を鉛直方向とし、水平面を規定するＸ、Ｙ軸のうち、基板Ｗの搬送方向Ｓ１と略平行な方向をＹ軸としている。従って、Ｘ軸は基板Ｗの搬送経路ＰＬに垂直な方向を規定している。
【００３７】
この基板洗浄装置１００は、水平に敷設される複数の搬送ローラー１によって所定の方向Ｓ１（Ｙ軸正方向）に搬送される基板Ｗに、洗浄処理を施すものである。
【００３８】
〈第１の実施の形態〉
〔装置構成〕
図１及び図３は、本発明の第１の実施の形態に係る基板洗浄装置１００を示す側面図（図１）及び正面図（図３）である。また、図２は、特にブラシケース３近傍を詳細に示す図である。
【００３９】
この基板洗浄装置１００は、搬送ローラー１の配列が形成する搬送経路ＰＬを挟んで、基板Ｗの上面側に設置された上面洗浄部１０ａ及び基板Ｗの下面側に設置された下面洗浄部１０ｂを備える。
【００４０】
図１に示すように、各部１０ａ、１０ｂはそれぞれ、洗浄ブラシ２、ブラシケース３、液供給部４及び液回収部５、から構成される。また、ブラシケース３の所定位置には、撥水部７が形成されている。下面洗浄部１０ｂはさらに、排液部６を備えている。以下において各構成部について説明する。
【００４１】
〔１  洗浄ブラシ〕
この基板洗浄装置１００は、基板Ｗの表面に洗浄液を供給しつつ、回転する洗浄ブラシ２を摺接することによってブラッシングを行い、基板Ｗ表面のパーティクルの除去を行うものである。
【００４２】
洗浄ブラシ２は、ＰＶＡやモヘアなどからなる洗浄部材の植毛によって、円筒に形成された洗浄部２ａ及びそれを支持する軸部２ｂからなるローラー状のブラシであり、洗浄部２ａの幅は、基板Ｗの横幅のサイズとほぼ同じ長さとなっている。ただし、ここでいう「横幅」とは、基板Ｗの搬送方向Ｓ１に直交する方向Ｘ（図１の紙面を浮き抜ける方向）の幅である。一般には基板Ｗの横幅のサイズ以上の長さを持つ洗浄部を用いることができる。
【００４３】
洗浄ブラシ２は、図示しない軸受によってブラシ回転軸２０を中心とした回転が可能となるように軸支されている。さらに、図３に示すように、ブラシ回転軸２０の方向が基板Ｗの搬送方向Ｓ１（Ｙ方向）と直交し、かつ、基板Ｗと洗浄ブラシ２が基板Ｗと所定距離で接触する水平位置に配置される。すなわち、洗浄ブラシ２は、洗浄部２ａが基板Ｗの幅方向の全長に当接するように配置される。以下において、基板Ｗの表面において洗浄ブラシ２が当接されている部分をブラッシング部位Ｂという（図２参照）。
【００４４】
さらに、回転軸２ａの一端には回転駆動モーター２１が取り付けられており、洗浄ブラシ２を回転軸２０を中心として回転させることができる。モーター２１による洗浄ブラシ２の回転方向Ｓ２は、洗浄ブラシ２が基板Ｗをブラッシングしている部位Ｂにおいて、ブラシの周速方向が基板Ｗの搬送方向Ｓ１とは逆方向になるような方向とされている。図１の方向関係の場合は、上面洗浄部１０ａの洗浄ブラシ２の回転は時計回りであり、下面洗浄部１０ｂの洗浄ブラシ２の回転は反時計回りである。
【００４５】
以上の構成によって、水平方向に搬送される基板Ｗの表面に、回転する洗浄ブラシ２を摺接させることができる。
【００４６】
〔２  ブラシケース〕
ブラシケース３は、洗浄ブラシ２を格納するケースであり、洗浄ブラシ２を覆うカバーとして機能している。図４及び図５は、上面洗浄部１０ａにおけるブラシケース３を示す斜視図である。本実施の形態においては、ブラシケース３の外形は箱形であるが、これ以外の形状であってもよい。
【００４７】
ブラシケース３は、内部に洗浄ブラシ２を格納するための略円柱型の凹部Ｑが形成されており、格納時に、凹部Ｑの開口部Ｓから洗浄ブラシ２の洗浄部２ａの一部を露出させて突出させることができる。つまり、ブラシケース３に格納された状態における洗浄ブラシ２は、開口部Ｓより突出した部分において、洗浄部２ａが基板Ｗの表面に当接する（図２参照）。
【００４８】
また、ブラシケース３の幅方向の両端には、洗浄ブラシ２の格納時に洗浄ブラシ２の両端の軸部２ｂを挿通させるための挿通孔Ｒが形成されている。洗浄ブラシ２の軸部２ｂをこの挿通孔Ｒに挿通することによって、洗浄ブラシ２はブラシケース３内に回転可能に遊挿される。上面洗浄部１０ａ及び下面洗浄部１０ｂのそれぞれは、洗浄ブラシ２とブラシケース３（カバー手段）との組合せ構造となっているが、これらの組合せ構造は、基板Ｗの上下両面をそれぞれ被処理面として、互いに対向して配置されている。
【００４９】
さらに、ブラシケース３には複数の貫通孔が形成されている。これらの貫通孔は、それぞれ吐出ノズル４１もしくは吸引ノズル５１として機能するが、これについては後述する。また、下面洗浄部１０ｂにおけるブラシケース３にはさらに排液溝６１が形成されているが、これについても後述する。
【００５０】
〔３  液供給部〕
液供給部４は、基板Ｗの洗浄領域、すなわち基板Ｗにおける洗浄ブラシ２の当接領域（ブラッシング部位Ｂ）、に洗浄液を供給するためのものである。
【００５１】
図３に示すように、液供給部４は、基板Ｗの幅方向Ｘに沿って配列した複数の吐出ノズル４１と、これらの吐出ノズル４１を洗浄液槽４４に接続する供給管４３と、供給管４３の管路中に介挿されたポンプ４２とを備えて構成されている。
【００５２】
図３及び図４に示すように、吐出ノズル４１は、ブラシケース３に所定間隔で貫設された非連続の貫通孔である。ポンプ４２を駆動することによって、洗浄液槽４４に貯留された洗浄液を複数の吐出ノズル４１より所定の圧力で吐出することができる。
【００５３】
このように、吐出ノズル４１をブラシケース３に形成された貫通孔とすることによって、複数の吐出ノズル４１を個別部品で形成する場合に比べて基板洗浄装置を小型化することができる。
【００５４】
また、図２に示すように、吐出ノズル４１は、ブラシケース３に形成された凹部Ｑ（すなわち洗浄ブラシ２）に対して搬送経路ＰＬの下流側に設けられる。吐出ノズル４１が凹部Ｑの下流側に設けられることによって、洗浄液が洗浄領域の下流側より供給されることになる。
【００５５】
さらに、図２及び図４に示すように、吐出ノズル４１の孔軸４１０は、基板Ｗの表面の法線（Ｚ軸方向）に対して下流側に傾斜している。すなわち、孔口（以下、吐出口４１１という）が基板Ｗの搬送方向Ｓ１と逆の方向に向けて開口するように吐出ノズル４１を構成する貫通孔を傾斜させている。このため、吐出口４１１から吐出される洗浄液は、搬送方向Ｓ１の逆方向に向けて流れることになる。なお、傾斜の角度は図に示されているものに関わらず、任意に設定することができる。
【００５６】
なお、吐出ノズル４１の形状、すなわち貫通孔の形状は、吐出口４１１が略円形ないしは楕円形となるようなものであってもよいし（図４参照）、吐出口４１１が線形となるようなものであってもよい（図５参照）。後者の場合、複数の線形の吐出口４１１を互いに接近させて並設することによってスリット状の吐出口４１１を得ることができる。
【００５７】
また、ポンプ４２の圧力は、吐出ノズル４１の形状や、必要とされる吐出圧に応じて規定される。
【００５８】
〔４  液回収部〕
液回収部５は、洗浄ブラシ２によって基板Ｗから除去されたパーティクルが含まれている洗浄処理後の洗浄液を回収するためのものである。
【００５９】
図３に示すように、液回収部５は、基板Ｗの幅方向Ｘに沿って配列した複数の吸引ノズル５１と、これらの吸引ノズル５１を回収液槽５４に接続する回収管５３と、回収管５３の管路中に介挿されたポンプ５２とを備えて構成されている。
【００６０】
図４に示すように、吸引ノズル５１は、ブラシケース３に所定間隔で貫設された非連続の貫通孔である。ポンプ５２を駆動することによって、基板Ｗ状の洗浄液を吸引ノズル５１から吸引して、回収液槽５４に回収させることができる。
【００６１】
このように、吸引ノズル５１をブラシケース３に形成された貫通孔とすることによって、複数の吸引ノズル５１を個別部品で形成する場合に比べて基板洗浄装置を小型化することができる。
【００６２】
また、図２に示すように、吸引ノズル５１は、ブラシケース３に形成された凹部Ｑに関して、吐出ノズル４１が形成された側と反対の側、すなわち凹部Ｑに対して搬送経路ＰＬの上流側に設けられる。吸引ノズル５１が凹部Ｑの上流側に設けられることによって、洗浄領域の下流側より供給された洗浄液が上流側からスムースに回収されることになる。
【００６３】
さらに、図２及び図４に示すように、吸引ノズル５１の孔軸５１０は、基板Ｗの表面の法線（Ｚ軸方向）に対して上流方向に傾斜している。すなわち、孔口（以下、吸引口５１１という）が基板Ｗの搬送方向Ｓ１の方向に向けて開口するように吸引ノズル５１を構成する貫通孔を傾斜させている。このため、搬送方向Ｓ１の逆方向に向けて流れる洗浄液の流れに逆らうことなく液を吸引することができる。なお、傾斜の角度は任意に設定することができるが、特に、図２に示されているように、洗浄ブラシ２の外周回転円よりも若干大きな同心円の接線方向すなわち、吸引ノズル５１の孔軸５１０が吸引口５１１付近での洗浄ブラシ２の半径方向ｒと略直角を形成する方向が望ましい。その理由については後述する。
【００６４】
なお、吸引ノズル５１の形状、すなわち貫通孔の形状は、吐出ノズル４１と同様、吸引口５１１が略円形ないしは楕円形となるようなものであってもよいし（図４参照）、吸引口５１１が線形となるようなものであってもよい（図５参照）。また、吐出ノズル４１の形状と吸引ノズル５１の形状は互いに独立に規定することが可能である。例えば図４に記載された形状の吐出ノズル４１と、図５に記載された形状の吸引ノズル５１とを組み合わして構成してもよい。
【００６５】
また、ポンプ５２の圧力は、吸引ノズル５１の形状や、必要とされる吸引力に応じて規定される。
【００６６】
〔５  排液部〕
排液部６は、洗浄ブラシ２によって除去されたパーティクルが含まれている洗浄処理後の洗浄液を重力落下によって回収するためのものであって、下面洗浄部１０ｂのみに備えられる。
【００６７】
図１に示すように、排液部６は、排液溝６１、排液管６３及び回収液槽５４から構成されている。
【００６８】
排液溝６１は、ブラシケース３において凹部Ｑまで貫設された例えばスリット型の開孔である。また、複数の非連続の貫通孔であってもよい。排液溝６１は、図１に示すように、排液管６３によって回収液槽５４と連結されている。
【００６９】
図１に示すように、排液溝６１は、設置されたブラシケース３の底面部に設けられる。特に、凹部Ｑにおける最低部に開口が形成されることが望ましい。このように排液溝６１が形成されることによって、凹部Ｑ内に洗浄液を貯留させずに、排液溝６１から排液管６３を通じて回収液槽５４に排液することができる。
【００７０】
〔６  撥水部〕
撥水部７は基板Ｗの洗浄領域、すなわち基板Ｗにおける洗浄ブラシ２の当接領域（ブラッシング部位Ｂ）付近からの洗浄液の流散を防ぎ、洗浄領域を常にウエット状態に保つためのものである。
【００７１】
撥水部７の一部は、ブラシケース３の部分構成要素であり、例えばＰＴＦＥといった撥水性材料によって形成される。ブラシケース３において撥水部７によって形成されている部分は、ブラシケース３の基板Ｗとの接触する側の面における搬送経路ＰＬの下流側の側縁部と、当該面における搬送経路ＰＬの上流側の側縁部である。以下において、前者の部分を構成する撥水部７を下流撥水部７ａと、後者の部分を構成する撥水部７を上流撥水部７ｂという。
【００７２】
また、下面洗浄部１０ｂには、上流撥水部７ｂの近傍に回転自在のローラー状の補助部材が形成されている。この補助部材もまた撥水性材料によって形成されており、これを補助撥水部７ｃという。これらの各撥水部７ａ〜７ｃは、少なくともその表面が撥水材料で形成されていればよく、必ずしも部材全体が撥水材料である必要はない。
【００７３】
なお、このローラー状の補助部材は、基板Ｗの水平搬送を補助するために設けられており、例えば、基板Ｗが、上面洗浄部１０ａ及び下面洗浄部１０ｂの間に挟入される際に自重によって湾曲することによって下面洗浄部１０ｂの洗浄ブラシ２と触突し、破損する、といった事故を防ぐためのものである。
【００７４】
〔洗浄処理動作〕
次に、上記の構成を備える基板洗浄装置１００の洗浄処理について図１を参照しながら説明する。なお、基板Ｗは、搬送ローラー１によってＹ方向に搬送されながら以下の洗浄処理を施される。
【００７５】
基板Ｗは搬送ローラー１によってＹ方向（搬送方向Ｓ１）に搬送されて、上面洗浄部１０ａ及び下面洗浄部１０ｂの間に挟入される。なお挟入の際に、補助撥水部７ｃによって基板Ｗの水平搬送が補助されており、自重によって湾曲することが防止されている。
【００７６】
基板Ｗが上面洗浄部１０ａ及び下面洗浄部１０ｂの間に挟入されると、基板Ｗの洗浄処理が行われる。
【００７７】
洗浄ブラシ２の下流側においては、上面洗浄部１０ａ、下面洗浄部１０ｂそれぞれの液供給部４によって、基板Ｗの上下面への洗浄液Ｌの供給が行われる。つまり、ポンプ４２を駆動することによって洗浄液槽４４に貯留された洗浄液Ｌが吐出ノズル４１より吐出され、基板Ｗ表面に洗浄液Ｌが供給される。ここで、吐出ノズル４１の吐出口４１１は基板Ｗの搬送方向Ｓ１と逆の方向に向けて開口しているため、基板Ｗに供給された洗浄液Ｌは、下流側から上流側に向けて流れることになる。
【００７８】
上面洗浄部１０ａ、下面洗浄部１０ｂそれぞれの洗浄ブラシ２は回転駆動モーター２１によって回転駆動され、洗浄液Ｌによってウエット状態となっている基板Ｗの上下面に摺接し、そのブラッシング作用によって基板Ｗ面のパーティクルの除去を行う。洗浄ブラシ２の回転方向Ｓ２は、基板Ｗの表面上において基板Ｗの搬送方向Ｓ１と逆の向きである。
【００７９】
ここで、洗浄ブラシ２はブラシケース３によって覆われているため、洗浄ブラシ２の回転による洗浄液Ｌの飛散が防止されている。従って、除去されたパーティクルを含んだ洗浄液Ｌは、飛散されることなくほとんどすべて、洗浄ブラシ２の回転によって基板Ｗの上流側に向けて押し流されることになる。
【００８０】
なお、下流撥水部７ａによって、洗浄液Ｌの洗浄ブラシ２の洗浄領域よりも下流側への流出が防がれている。また、上流撥水部７ｂ及び補助撥水部７ｃによって上流側への流出が防がれている。これによって洗浄領域は常にウエット状態に保たれている。
【００８１】
洗浄ブラシ２の上流側においては、上面洗浄部１０ａ、下面洗浄部１０ｂそれぞれの液回収部５によって、洗浄ブラシ２による洗浄処理後の洗浄液Ｌ、すなわち除去されたパーティクルを含んだ洗浄液Ｌ、の回収が行われる。つまり、洗浄ブラシ２の上流側に流れてきた洗浄液Ｌが、ポンプ５２によって負圧された吸引ノズル５１から吸引されて回収液槽５４に回収される。ここで、吸引ノズル５１の吸引口５１１は基板Ｗの搬送方向Ｓ１の方向に向けて開口しているため、基板Ｗの上下面を下流側から上流側に向けて流れている洗浄液Ｌは、その流れに沿って吸引されることになる。また、下面洗浄部１０ｂにおいては、凹部Ｑ内に滴下した洗浄液Ｌは排液溝６１から排液される。
【００８２】
以上が基板洗浄装置１００における洗浄処理であるが、ここで、洗浄液Ｌの供給及び回収のバランスについて説明する。ポンプ４２及びポンプ５２は、液供給部４による洗浄液Ｌの供給速度と、液回収部５及び排液部６による洗浄液Ｌの回収速度とが、ほぼ等しい状態に保たれるように制御されている。
【００８３】
またここで、洗浄ブラシ２の回転方向Ｓ２は基板Ｗの搬送方向Ｓ１と逆の向きであるため、洗浄ブラシ２の回転推力が、洗浄液Ｌの回収力として寄与することとなる。従って、洗浄液Ｌの供給速度と洗浄ブラシ２の回転数を適切に設定すれば、ポンプ５２を備えることなく基板洗浄装置１００を構成することも可能である。ここで、先に述べたように、吸引ノズル５１の孔軸５１０を洗浄ブラシ２の回転同心円の接線方向に傾斜させることによって、洗浄ブラシ２の回転推力を最も効率的に液の回収力として用いることができる。
【００８４】
〔第１の実施の形態の変形例〕
上記の動作態様においては、洗浄ブラシ２を、基板Ｗの表面上において基板Ｗの搬送方向Ｓ１と逆の向きに回転駆動しているが、変形例として、これとは逆向き、すなわち基板Ｗの表面上において基板Ｗの搬送方向Ｓ１と同じ向きに回転駆動させる動作態様も可能である。
【００８５】
また、ほぼ同様の装置構成で、洗浄液Ｌの供給と回収の方向を逆にすることも可能である。例えば、供給管４３、回収管５３をそれぞれ吸引ノズル５１、吐出ノズル４１に連結すればよい。これによって、上流側より洗浄液Ｌを供給し、下流側より回収することができる。
【００８６】
例えば、洗浄ブラシ２の回転方向を、基板Ｗの搬送方向Ｓ１と同じ向きとした場合には、洗浄液Ｌの供給を上流側より行う構成にしてもよい。
【００８７】
〈第２の実施の形態〉
〔装置構成〕
図６は、本発明の第２の実施の形態に係る基板洗浄装置１００を示す側面図である。
【００８８】
この基板洗浄装置１００は、第１の実施の形態と同様、搬送ローラー１の形成する搬送経路ＰＬを挟んで、基板Ｗの上面側に設置された上面洗浄部１０ａ及び基板Ｗの下面側に設置された下面洗浄部１０ｂを備える。
【００８９】
第１の実施の形態との相違点は、液回収部５を備えていない点である。また、液供給部４の吐出ノズル４１はブラシケース３と一体成形されておらず、基板Ｗの搬送経路ＰＬの上流側に独立して配置される。また、撥水部７として設けられているのは下流撥水部７ａのみであり、上流撥水部７ｂ及び補助撥水部７ｃは有さない。その他の点については第１の実施の形態と同様である。
【００９０】
〔洗浄処理動作〕
次に、上記の構成を備える基板洗浄装置１００の洗浄処理について図６を参照しながら説明する。なお、基板Ｗは、搬送ローラー１によってＹ方向に搬送されながら以下の洗浄処理を施される。
【００９１】
基板Ｗは搬送ローラー１によってＹ方向（搬送方向Ｓ１）に搬送されて、上面洗浄部１０ａ及び下面洗浄部１０ｂの間に挟入される。なお挟入の際に、ローラー状の補助部材によって基板Ｗの水平搬送が補助されており、自重によって湾曲することが防止されている。
【００９２】
基板Ｗが上面洗浄部１０ａ及び下面洗浄部１０ｂの間に挟入されると、基板Ｗの洗浄処理が行われる。
【００９３】
洗浄ブラシ２の下流側においては、ブラシケース３と独立に形成された上面洗浄部１０ａ、下面洗浄部１０ｂそれぞれの液供給部４によって、基板Ｗの上下面への洗浄液Ｌの供給が行われる。
【００９４】
洗浄ブラシ２の動作については、第１の実施の形態と同様である。ただし、洗浄ブラシ２の回転方向は基板Ｗの表面上において基板Ｗの搬送方向Ｓ１と同じ向きであってもよいし、逆の向きであってもよい。なお、下流撥水部７ａによって、洗浄液Ｌの洗浄ブラシ２の洗浄領域よりも下流側への流出が防がれている。また、基板Ｗの上面に供給された洗浄液Ｌは洗浄領域の上流側において基板Ｗの端部（基板Ｗの搬送方向Ｓ１に対して交差する方向の端部、もしくは、上流側の端部）から流出する。
【００９５】
〔第２の実施の形態の変形例〕
上記の動作態様においては、洗浄ブラシ２を、ブラシケース３に形成した凹部Ｑに格納しているが、ブラシケース３の外形の態様を変えることも可能である。例えば、図６に示すような箱型ではなく、中空の円筒型としてもよい。ただし、この場合も洗浄ブラシ２が基板Ｗと当接可能となるように開口を設ける必要がある。また例えば、特に洗浄ブラシ２の所定側面、例えば搬送経路ＰＬの下流側に面する側面及び上面側のみを覆うようなカバーによって構成してもよい。
【００９６】
〈第３の実施の形態〉
〔装置構成〕
図７は、本発明の第３の実施の形態に係る基板洗浄装置１００を示す側面図である。
【００９７】
この基板洗浄装置１００は、第１の実施の形態と同様、搬送ローラー１の形成する搬送経路ＰＬを挟んで、基板Ｗの上面側に設置された上面洗浄部１０ａ及び基板Ｗの下面側に設置された下面洗浄部１０ｂからなる。
【００９８】
第１の実施の形態との相違点は、洗浄ブラシ２の外周全体を覆うようなブラシケースを備えていない点である。従って、液供給部４の吐出ノズル４１、液回収部５の吸引ノズル５１及び撥水部７はブラシケース３と一体成形されることなく独立して形成されるが、基板Ｗの搬送経路ＰＬ及び洗浄ブラシ２に対する相対位置関係は、第１の実施の形態と同様である。なお、排液部６も備えていない。その他の点については第１の実施の形態と同様である。
【００９９】
〔洗浄処理動作〕
次に、上記の構成を備える基板洗浄装置１００の洗浄処理について図７を参照しながら説明する。なお、基板Ｗは、搬送ローラー１によって所定方向に搬送されながら以下の洗浄処理を施される。
【０１００】
基板Ｗは搬送ローラー１によって所定方向Ｓ１に搬送されて、上面洗浄部１０ａ及び下面洗浄部１０ｂの間に挟入される。なお挟入の際に、補助撥水部７ｃによって基板Ｗの水平搬送が補助されており、自重によって湾曲することが防止されている。
【０１０１】
基板Ｗが上面洗浄部１０ａ及び下面洗浄部１０ｂの間に挟入されると、基板Ｗの洗浄処理が行われる。
【０１０２】
洗浄ブラシ２の下流側においては、上面洗浄部１０ａ、下面洗浄部１０ｂそれぞれの液供給部４によって、基板Ｗの上下面への洗浄液Ｌの供給が行われる。液供給部４の動作については、第１の実施の形態と同様である。
【０１０３】
洗浄ブラシ２の動作及び撥水部７の機能についても、第１の実施の形態と同様である。
【０１０４】
洗浄ブラシ２の上流側においては、上面洗浄部１０ａ、下面洗浄部１０ｂそれぞれの液回収部５によって、洗浄ブラシ２によって洗浄処理後の洗浄液Ｌ、すなわち除去されたパーティクルを含んだ洗浄液Ｌ、の回収が行われる。液回収部５の動作については、第１の実施の形態と同様である。
【０１０５】
〔第３の実施の形態の変形例〕
上記の動作態様においては、洗浄ブラシ２を、基板Ｗの表面上において基板Ｗの搬送方向Ｓ１と逆の向きに回転駆動しているが、これとは逆向き、すなわち基板Ｗの表面上において基板Ｗの搬送方向Ｓ１と同じ向きに回転駆動してもよい。また、先述のように、洗浄液Ｌの供給と回収の方向を逆にして、洗浄液Ｌの供給を上流側より、回収を下流側より行ってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る基板洗浄装置１００を示す側面図である。
【図２】基板洗浄装置１００におけるブラシケース３近傍を示す側面図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る基板洗浄装置１００を示す正面図である。
【図４】上面洗浄部１０ａにおけるブラシケース３を示す斜視図である。
【図５】上面洗浄部１０ａにおけるブラシケース３を示す斜視図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態に係る基板洗浄装置１００を示す側面図である。
【図７】本発明の第３の実施の形態に係る基板洗浄装置１００を示す側面図である。
【符号の説明】
【０１０７】
１    搬送ローラー
２    洗浄ブラシ
３    ブラシケース
４    液供給部
５    液回収部
６    排液部
７    撥水部
１０ａ    上面洗浄部
１０ｂ    下面洗浄部
４１    吐出ノズル（第１の貫通孔）
４４    洗浄液槽
５１    吸引ノズル（第２の貫通孔）
５４    回収液槽
６１    排水溝
４１１    吐出口
５１１    吸引口
【図１】
2006278713.tif 000003
【図２】
2006278713.tif 000004
【図３】
2006278713.tif 000005
【図４】
2006278713.tif 000006
【図５】
2006278713.tif 000007
【図６】
2006278713.tif 000008
【図７】
2006278713.tif 000009