(57)【要約】【課題】大型の基板上に高精度のパターンを形成可能なメタルマスクの製造方法およびメタルマスクを提供する。【解決手段】単位マスク本体１２に所定の張力をかけて仮張り用枠体１１の開口部１１’を覆う状態で張設し、仮張り用枠体１１の開口部１１’の周縁に、単位マスク本体１２を固着する工程と、単位マスク本体１２側を支持枠体１３に向けた状態で、単位マスク本体１２が支持枠体１３の一開口部１３’を覆うように、仮張り用枠体１１を支持枠体１３上に配置する第２工程と、単位マスク本体１２にかかる張力を維持したまま、支持枠体１３の一開口部１３’を覆う状態で、一開口部１３’の周縁に単位マスク本体１２を固着する第３工程と、支持枠体１３の一開口部１３’の周縁に固着された単位マスク本体１２から、仮張り用枠体１１を離す第４工程とを有することを特徴とするメタルマスクの製造方法およびメタルマスクである。【選択図】図２
2006037203.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の開口部が配列形成された支持枠体に、前記開口部を覆う状態で、開口パターンが設けられた単位マスク本体を前記開口部の周縁に固着するメタルマスクの製造方法であって、
前記単位マスク本体に所定の張力をかけて仮張り用枠体の開口部を覆う状態で張設し、前記仮張り用枠体の前記開口部の周縁に、前記単位マスク本体を固着する第１工程と、
前記単位マスク本体側を前記支持枠体に向けた状態で、前記単位マスク本体が前記支持枠体の一開口部を覆うように、前記仮張り用枠体を前記支持枠体上に配置する第２工程と、
前記単位マスク本体にかかる張力を維持したまま、前記支持枠体の一開口部を覆う状態で、当該一開口部の周縁に前記単位マスク本体を固着する第３工程と、
前記支持枠体の一開口部の周縁に固着された前記単位マスク本体から、前記仮張り用枠体を離す第４工程とを有する
ことを特徴とするメタルマスクの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載のメタルマスクの製造方法において、
前記第１工程から前記第４工程をこの順に繰り返して行い、
前記第２工程では、前記単位マスク本体が前記支持枠体の一開口部を覆うように、前記仮張り用枠体を前記支持枠体上に配置するとともに、配置する前記単位マスク本体の前記開口パターンと前記支持枠体の前記開口部に既に固着された前記単位マスク本体の前記開口パターンとの位置合わせを行う
ことを特徴とするメタルマスクの製造方法。
【請求項３】
請求項１記載のメタルマスクの製造方法において、
前記第４工程の後に、
前記仮張り用枠体を離した後の前記単位マスク本体の端部を前記支持枠体に固着する
ことを特徴とするメタルマスクの製造方法。
【請求項４】
請求項３記載のメタルマスクの製造方法において、
前記支持枠体の開口部の周縁に沿って溝が設けられており、
前記単位マスク本体の前記端部を前記溝の内壁に固着する
ことを特徴とするメタルマスクの製造方法。
【請求項５】
複数の開口部が配列形成された支持枠体と、開口パターンが設けられるとともに、前記開口部を覆う状態で、当該開口部の周縁に固着される単位マスク本体とを備えたメタルマスクであって、
前記単位マスク本体の端部と、当該端部よりも一回り内側の前記単位マスク本体の周縁部が、前記開口部の周縁に固着されている
ことを特徴とするメタルマスク。
【請求項６】
請求項５記載のメタルマスクにおいて、
前記支持枠体の開口部の周縁に沿って溝が設けられており、
前記単位マスク本体の端部が前記溝の内壁に固着されている
ことを特徴とするメタルマスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メタルマスクの製造方法およびメタルマスクであって、特に大型の基板上に真空蒸着法により所定パターンの成膜を行うために用いられるメタルマスクの製造方法およびメタルマスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に有機電界発光素子（有機ＥＬ素子）を用いた表示装置、いわゆる有機ＥＬ表示装置の製造工程では、有機層を形成する有機材料の耐水性が低く、ウエットプロセスを利用できないことから、真空蒸着法により基板上に有機層を成膜している。この有機層の成膜においては、例えば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色成分に対応したパターンの成膜を行うために、通常、蒸着パターンに対応した形状の開口パターンを有したメタルマスクが用いられる。
【０００３】
このようなメタルマスクとしては、上記開口パターンが形成されたマスク本体と、１つの開口部を有し、この開口部を覆う状態でマスク本体が張設される支持枠体とを具備したものが知られている。このマスク本体は、例えば電気鋳造（メッキ）法により、ニッケルまたはニッケルコバルト等の熱線膨張係数の高い材料を用いて薄膜状に形成されている。
【０００４】
このようなマスク本体を支持枠体に張設する場合には、メッキ法による開口パターンの位置ずれを補正するとともに、メタルマスクを例えば真空蒸着法等による成膜に用いる際に、メタルマスクが晒される温度条件等を考慮に入れ、マスク本体に与える張力を調整する必要がある。
【０００５】
具体的には、まず、メッキ法による開口パターンの位置ずれを補正するための張力の大きさおよび方向を特定する。次に、温度変化が生じた際の熱応力によるマスク本体に生じる歪み量を認識するとともに、このマスク本体を支持枠体に張設する場合に、マスク本体に与える張力と、この張力によってマスク本体に生じる歪み量との関係を認識する。
【０００６】
次いで、メッキ法による開口パターンの誤差が補正されるとともに、熱応力による歪み量が張力による歪み量によって相殺されるような張力の大きさおよび方向を特定した後、その特定された大きさの張力および方向でマスク本体を支持枠体に張設する。
【０００７】
一方、上述した有機ＥＬ表示装置の生産性を向上するために、一枚の大きな基板に多数のパネル領域を形成する、いわゆる多面取りが有効であり、これに対応するメタルマスクが検討されている。しかし、上述した電気鋳造法により、開口パターンの位置精度±１０μｍ以内で製造可能なマスク本体の大きさは最大で４００ｍｍ×４００ｍｍから５００ｍｍ×５００ｍｍ程度である。
【０００８】
このため、より大きなメタルマスクを得るために、各々がメタルマスク領域を有する複数の単位メタルマスク（単位マスク本体）と、この単位メタルマスクの各々をメタルマスク以外の縁部で支持する開口縁部で画定された開口部を複数有する基材部（支持枠体）と、を備えた多面取り用のメタルマスクの例が報告されている。このようなメタルマスクを製造する場合には、基材部上に付与された位置合わせマークにより単位メタルマスクとの位置合わせを行った後、スポット溶接またはテープによる貼り付け等により単位メタルマスクを基材部に固着している（例えば、特許文献１参照）。
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−２３７０７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上述したような１つの開口部を有する支持枠体にマスク本体を張設する場合の張力の調整を、複数の開口部を有する支持枠体に単位マスク本体を張設するのに適用する場合には、上述したように、メッキ法による開口パターンの位置ずれが補正されるとともに、熱応力による歪み量が張力による歪み量によって相殺されるような張力の大きさおよび方向を特定し、その特定された大きさの張力および方向で単位マスク本体を各開口部に張設する。
【００１１】
しかし、支持枠体には複数の開口部が設けられていることから、一開口部に単位マスク本体を張設する場合に、他の開口部の構成枠に妨げられ、特定された大きさの張力および方向で単位マスク本体を張設し難い傾向にある。また、既に一部の開口部に単位マスク本体が張設された支持枠体の他の開口部に、単位マスク本体を張設する場合にも、既に張設された単位マスク本体への損傷を防ぐため、単位マスク本体が既に張設された方向には、特定された大きさの張力をかけ難い。
【００１２】
以上のことから、メッキ法による開口パターンの位置ずれが補正されるとともに、熱応力による歪み量が張力による歪み量によって相殺されるような大きさの張力を単位マスク本体にかけ難いため、開口パターンの位置精度が十分に得られ難いだけでなく、製造したメタルマスクを蒸着等の成膜に用いた場合に、熱応力により単位マスク本体が歪み易い。このため、このメタルマスクを用いた成膜では、大型の基板上に高精度のパターンを形成し難いという問題がある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上述したような課題を解決するために、本発明におけるメタルマスクの製造方法は、複数の開口部が配列形成された支持枠体に、開口部を覆う状態で、開口パターンが設けられた単位マスク本体を開口部の周縁に固着するメタルマスクの製造方法であって、次のような工程を順次行うことを特徴としている。まず、第１工程では、単位マスク本体に所定の張力をかけて仮張り用枠体の開口部を覆う状態で張設し、仮張り用枠体の開口部の周縁に、単位マスク本体を固着する工程を行う。次に、第２工程では、単位マスク本体側を支持枠体に向けた状態で、単位マスク本体が支持枠体の一開口部を覆うように、仮張り用枠体を支持枠体上に配置する工程を行う。次いで、第３工程では、単位マスク本体にかかる張力を維持したまま、支持枠体の一開口部を覆う状態で、この一開口部の周縁に単位マスク本体を固着する工程を行う。その後の第４工程では、支持枠体の一開口部の周縁に固着された単位マスク本体から、仮張り用枠体を離す工程を行う。
【００１４】
このようなメタルマスクの製造方法によれば、仮張り用枠体に張設され、仮張り用枠体の開口部の周縁に固着された単位マスク本体を、単位マスク本体にかかる張力を維持したまま、支持枠体の開口部の周縁に固着する。これにより、背景技術で説明したように、メッキ法による開口パターンの位置ずれが補正されるとともに、熱応力による歪み量が張力による歪み量によって相殺されるような張力の大きさおよび方向で単位マスク本体を仮張り用枠体に張設した場合には、単位マスク本体にかかる張力が維持されたまま、支持枠体の開口部の周縁に固着される。
【００１５】
このため、従来のように、複数の開口部を有する支持枠体の各開口部に単位マスク本体を直接張設する場合と比較して、一部の開口部に単位マスク本体が張設された支持枠体の他の開口部に、単位マスク本体を張設する場合であっても、既に張設された単位マスク本体に損傷を与えることなく、上述したような大きさの張力および方向で単位マスク本体が張設されるようになる。これにより、単位マスク本体の開口パターンの位置精度が向上するとともに、製造したメタルマスクを蒸着等の成膜に用いる場合に、熱応力による単位マスク本体の歪みが防止される。
【発明の効果】
【００１６】
以上、説明したように、本発明におけるメタルマスクの製造方法およびこれによって得られるメタルマスクによれば、各単位マスク本体の開口パターンの位置精度を向上させることができるとともに、熱応力による単位マスク本体の歪みを防止できることから、このメタルマスクを用いて成膜を行うことで、大型の基板上に高精度なパターンを形成することができる。したがって、形成するデバイスの歩留まりを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明のメタルマスクの製造方法に係わる実施の形態の一例を、図１〜図４の平面図およびＡ−Ａ’、Ｂ−Ｂ’断面図を用いて説明する。本実施形態では、有機ＥＬディスプレイの製造工程において、一枚の大きな基板に多数のパネル領域を形成する際の真空蒸着法に用いる多面取り用のメタルマスクを製造する例について説明する。このメタルマスクは、複数の開口部が配列形成された支持枠体と、この開口部を覆う状態で、開口部の周縁に固着される単位マスク本体とを備えている。ここでは、このメタルマスクの構成を製造工程順に説明することとする。
【００１８】
まず、図１（ａ）に示すように、単位マスク本体を仮張りするための、仮張り用枠体１１を用意する。この仮張り用枠体１１には、例えば矩形状の開口部１１’が設けられており、後述する単位マスク本体を本張りする支持枠体に設けられる開口部よりも一回り大きい開口を有して設けられることとする。この仮張り用枠体１１は、熱線膨張係数の低い例えばインバー（ニッケル鉄合金）で形成されており、後工程で、この仮張り用枠体１１に単位マスク本体を張設する際の張力に対して十分な剛性強度を持つように構成されている。ここでは、仮張り用枠体１１は、例えば枠の幅が４０ｍｍ〜５０ｍｍ、厚さが５ｍｍ〜１５ｍｍで形成されていることとする。
【００１９】
次に、図１（ｂ）に示すように、中央部に配置されたパターン領域内に、蒸着パターンとなる多数の微細な開口パターン１２ａが設けられた単位マスク本体１２を用意する。この単位マスク本体１２は、例えばニッケルまたはニッケルコバルト等からなり、電気鋳造（メッキ）法により１０μｍ〜５０μｍの膜厚で形成される。ここで、単位マスク本体１２は、電気鋳造法により開口パターン１２ａの位置精度±１０μｍ以内で製造するため、４００ｍｍ×４００ｍｍから５００ｍｍ×５００ｍｍ程度以下の大きさで形成されることとする。
【００２０】
そして、この単位マスク本体１２を、仮張り用枠体１１の開口部１１ａを覆う状態で張設する。この場合には、まず、メッキ法による開口パターン１２ａの位置ずれを補正するための張力の大きさおよび方向を認識する。次に、製造するメタルマスクの使用条件等に基づき、ここでは真空蒸着法に用いるため、このメタルマスクが受ける蒸着中の温度変化量、すなわち、蒸着時の輻射熱による温度変化量を把握して、その温度変化が生じた際に、単位マスク本体１２に生じる歪み量を認識する。次に、単位マスク本体１２を仮張り用枠体１１に張設する場合に、単位マスク本体１２に与える張力と、この張力によって単位マスク本体１２に生じる歪み量との関係を認識する。次いで、上述したメッキ法による開口パターン１２ａの位置ずれが補正されるとともに、熱応力による歪み量が張力による歪み量によって相殺されるような張力の大きさおよび方向を特定する。
【００２１】
そして、この特定された張力を単位マスク本体１２に与えて、単位マスク本体１２のパターン領域より外側の外縁部を外方に向けて引っ張った状態とする。これにより、単位マスク本体１２はその張力による歪み量の分だけ伸びをもった状態となる。この際、単位マスク本体１２は治具に直接固定して引っ張ってもよく、マスク本体１２を枠状のアクリル等の織布の内部に接着することで、この織布を治具に固定して引っ張ってもよい。
【００２２】
そして、単位マスク本体１２が伸びを持った状態のまま、単位マスク本体１２の外縁部を仮張り用枠体１１の開口部１１’の周縁に密着させて張設し、この状態で固着する。この場合には、例えばスポット式電気抵抗溶接法などにより、溶接スポットＳが開口部１１’の周縁に沿って設けられる状態で固着されることとする。これにより、単位マスク本体１２の開口パターン１２ａの位置ずれは±５μｍ以下の範囲で設けられる。
【００２３】
次に、図１（ｃ）に示すように、複数の開口部１３’が配列形成された支持枠体１３を用意する。ここでは支持枠体１３は、例えば２行２列で配列形成された４つの矩形状の開口部１３’を備えており、開口部１３ａ’に対して隣接して設けられる開口部１３ｂ’、１３ｃ’と、対角に設けられる開口部１３ｄ’を備えていることとする。この支持枠体１３は、仮張り用枠体１１（前記図１（ｂ）参照）と同様に、例えばインバーにより形成されることとする。
【００２４】
そして、図２（ｄ）に示すように、単位マスク本体１２側を支持枠体１３側に向けて、単位マスク本体１２が支持枠体１３の一開口部１３ａ’を覆うように、仮張り用枠体１１を支持枠体１３上に配置する。この際、ここでの図示は省略したが、支持枠体１３と仮張り用枠体１１に付与された位置合わせマークを目安として、仮張り用枠体１１を配置することとする。
【００２５】
その後、仮張り用枠体１１において単位マスク本体１２にかかる張力を維持したまま、支持枠体１３の開口部１３ａ’を覆う状態で、開口部１３ａ’の周縁に単位マスク本体１２を固着する。この場合には、例えばスポット式抵抗溶接法により、仮張り用枠体１１の内縁に沿うとともに、支持枠体１３の開口部１３ａ’の周縁に沿って、単位マスク本体１２側から溶接することで、単位マスク本体１２のパターン領域より外側の外縁部を開口部１３ａ’の周縁に固着する。これにより、開口部１３ａ’の周縁には単位マスク本体１２の外縁側を固着する溶接スポットＳ’が連続的に設けられることとする。
【００２６】
ここで、製造後のメタルマスクは、支持枠体１３に固着される単位マスク本体１２側が、被蒸着物となる基板に接する状態で用いられることから、溶接スポットＳ’の突出によって基板とマスクの密着が阻害されるという、成膜への影響を防止するため、溶接スポットＳ’が単位マスク本体１２の表面から突出しないように溶接されることが好ましい。
【００２７】
続いて、図２（ｅ）に示すように、例えばカッター等により、上述した溶接スポットＳ’よりも外側で、単位マスク本体１２を切断することで、仮張り用枠体１１を単位マスク本体１２から切り離す。これにより、単位マスク本体１２のみが、支持枠体１３の開口部１３ａ’を覆う状態で固着される。
【００２８】
次に、図３（ｆ）に示すように、仮張り用枠体１１に固着された単位マスク本体１２側を支持枠体１３に向けて、開口部１３ａ’に隣接する開口部１３ｂ’を覆うように、仮張り用枠体１１を支持枠体１３上に配置する。
【００２９】
この場合には、図２（ｄ）を用いて説明した工程と同様に、支持枠体１３と仮張り用枠体１１に付与された位置合わせマークを目安として、仮張り用枠体１１を配置するだけでなく、製造するメタルマスクの基準となる開口パターンが形成された基準ガラス原器（図示省略）を、支持枠体１３の上方または下方に重ねて配置する。これにより、開口部１３ａ’の周縁に固着された単位マスク本体１２の開口パターン１２ａに対して、開口部１３ｂ’を覆う状態で配置され、仮張り用枠体１１に固着された単位マスク本体１２の開口パターン１２ｂの位置を調整する。
【００３０】
ここで、基準ガラス原器とは、石英ガラス基板上にスパッタ法または蒸着法によりクロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属膜を成膜し、通常のフォトリソグラフィー技術を用いたエッチングにより、メタルマスクに設けられる全ての開口パターンが設けられたものであり、例えば±０．５μｍ以下の高い位置精度で開口パターンを形成することができる。
【００３１】
これにより、上述した開口パターン１２ａと開口パターン１２ｂとの位置合わせを行うことで、開口部１３ａ’の周縁に単位マスク本体１２が固着されることにより、支持枠体１３に歪みが生じたとしても、既に固着された単位マスク本体１２の開口パターン１２ａの位置に対して、開口部１３ｂ’を覆う状態で配置される単位マスク本体１２の開口パターン１２ｂの位置が精度よく配置される。
【００３２】
なお、ここでは、基準ガラス原器を用いて開口パターン１２ａと開口パターン１２ｂの位置合わせを行うこととしたが、座標測定機（図示省略）を用いて、上記開口パターン１２ａと開口パターン１２ｂの座標をそれぞれ測定することで、位置合わせを行ってもよい。ただし、上述した基準ガラス原器を用いて位置合わせを行う方が、測定誤差が少ないため、好ましい。
【００３３】
その後、開口部１３ａ’の周縁に単位マスク本体１２を張設する場合と同様に、スポット式抵抗溶接法等により、単位マスク本体１２の外縁側を開口部１３ｂ’の周縁に固着した後、図３（ｇ）に示すように、溶接スポットＳ’よりも外側で単位マスク本体１２から仮張り用枠体１１を切り離す。これにより、単位マスク本体１２が、支持枠体１３の開口部１３ｂ’を覆う状態で固着され、支持枠体の開口部１３ａ’、１３ｂ’が単位マスク本体１２によりそれぞれ覆われた状態となる。
【００３４】
この後の工程は、図４（ｈ）に示すように、図３（ｆ）および図３（ｇ）を用いて説明した工程と同様の方法により、開口部１３ａ’に隣接する開口部１３ｃ’を覆う状態で単位マスク本体１２を張設し、開口部１３ｃ’の周縁で単位マスク本体１２の外縁側を固着する。この場合には、既に張設された開口部１３ａ’、開口部１３ｂ’の単位マスク本体１２の開口パターン１２ａ、１２ｂに対して、開口部１３ｃ’を覆う状態で配置され、仮張り用枠体１１に張設された単位マスク本体１２の開口パターンの位置合わせを行う。開口部１３ｄ’に単位マスク本体１２を張設する場合も同様である。
【００３５】
このようにして、支持枠体１３の各開口部１３’に単位マスク本体１２が張設されるとともに、開口部１３’の周縁に単位マスク本体１２が固着されたメタルマスクを製造する。これにより、支持枠体１３の各開口部１３’に張設された単位マスク本体１２の開口パターンの位置ずれを例えば±８μｍ以下の高精度に抑えられる。
【００３６】
このようなメタルマスクの製造方法およびこれにより得られるメタルマスクによれば、仮張り用枠体１１の開口部１１’を覆う状態で、メッキ法による開口パターンの位置ずれが補正されるとともに、熱応力による歪み量が張力による歪み量によって相殺されるような張力の大きさおよび方向で単位マスク本体１２を張設し、開口部１１’の周縁に単位マスク本体１２を固着した後、単位マスク本体１２にかけられた張力を維持したまま、支持枠体１３の開口部１３’の周縁に固着する。
【００３７】
これにより、従来のように、支持枠体１３の各開口部１３’に単位マスク本体１２を直接張設する場合と比較して、開口部１３ａ’に単位マスク本体１２が張設された支持枠体１３の他の開口部１３ｂ’に単位マスク本体１２を張設する場合であっても、開口部１３ａ’に張設された単位マスク本体１２に損傷を与えることなく、各開口部１３’に上述したような張力の大きさおよび方向で単位マスク本体１２を張設することが可能となる。このため、各単位マスク本体１２の開口パターンの位置精度が向上するとともに、このメタルマスクを成膜に用いる場合に、熱応力による単位マスク本体１２の歪みが防止される。
【００３８】
したがって、製造したメタルマスクを用いて真空蒸着法等により成膜を行うことで、大型の基板上に高精度なパターンを形成することができ、形成するデバイスの歩留まりを向上させることができる。
【００３９】
また、本実施形態では、開口部１３ａ’に単位マスク本体１２が固着された支持枠体１３に、開口部１３ｂ’を覆うように、仮張り用枠体１１に固着された単位マスク本体１２を配置する際に、仮張り用枠体１１に固着された単位マスク本体１２の開口パターン１２ｂと開口部１３ａ’に既に固着された単位マスク本体１２の開口パターン１２ａとの位置合わせを行う。これにより、既に固着された単位マスク本体１２により支持枠体１３に歪みが生じた場合であっても、各開口部１３’に張設される各単位マスク本体１２間の開口パターンの位置精度を向上させることができる。
【００４０】
なお、本実施形態では、開口部１３ａ’に単位マスク本体１２を固着した後、開口部１３ａ’に隣接する開口部１３ｂ’に単位マスク本体１２を固着する工程を行うこととしたが、各開口部１３’を単位マスク本体１２で覆う順は特に限定されるものではない。ただし、開口部１３ａ’に単位マスク本体１２を固着した後、開口部１３ａ’の対角に設けられた開口部１３ｄ’に単位マスク本体１２を固着すれば、単位マスク本体１２の固着により支持枠体１３に歪みが生じる場合であっても、歪みが均等に生じ易いため、好ましい。また、本実施形態では４つの開口部１３’を有する支持枠体１３の例について説明したが、開口部１３’はいくつ設けられていてもよい。
【００４１】
（変形例１）
ここでは、図５（ａ）に示すように、第１実施形態で図１（ｃ）を用いて説明した支持枠体１３に、各開口部１３’を格子状に区切る仕切り板１４が設けられた例について説明する。この仕切り板１４は、支持枠体１３と同じインバーにより形成されており、０．５ｍｍ〜１．０ｍｍの膜厚で設けられている。仕切り板１４には、支持枠体１３の各開口部１３’を区切る複数の開口部１４’が配列形成されおり、各開口部１４’は例えばエッチングにより形成されることとする。これらの開口部１４’は、例えば有機ＥＬ表示装置の一パネル領域を形成可能な大きさに仕切られていることとする。
【００４２】
図５（ｂ）のＣ−Ｃ’断面図に示すように、この仕切り板１４は、例えば支持枠体１３の各開口部１３’が設けられた領域ごとに、支持枠体１３の表面全域を覆う状態で設けられており、仕切り板１４の周縁部が支持枠体１３の各開口部１３’の周縁に溶接されることで支持枠体１３に固着されていることとする。
【００４３】
このような仕切り板１４が設けられた支持枠体１３を用いることにより、支持枠体１３が補強されるため、開口部１３’に単位マスク本体１２が張設されることによる支持枠体１３の歪みを確実に防止することができる。また、製造したメタルマスクを真空蒸着法などの蒸着用マスクとして使用する場合に、メタルマスクに熱による温度変化が生じたとしても、仕切り板１４により速やかに熱を伝導することが可能となるため、単位マスク本体１２の熱応力による歪みを確実に防止することができる。
【００４４】
なお、ここでは、仕切り板１４が支持枠体１３上に支持枠体１３の全域を覆う状態で設けられることとしたが、図５（ｃ）に示すように、支持枠体１３の開口部１３’の周縁が、支持枠体１３の表面よりも一段低く設けられており、仕切り板１４が開口部１３’を覆うとともに、開口部１３’の周縁の段差部分に嵌め込まれた状態で設けられていても良い。この場合には、仕切り板１４は、開口部１３’の周縁の段差下部分に溶接により固着され、単位マスク本体１２は支持枠体１３の段差上部に固着されることとする。
【００４５】
（第２実施形態）
本実施形態では、図２（ｄ）〜（ｅ）を用いて説明したように、支持枠体１３の開口部１３’周縁に固着された単位マスク本体１２から仮張り用枠体１１を切り離した場合の単位マスク本体１２の端部を支持枠体１３に固着する例について説明する。
【００４６】
この場合、図１（ｂ）を用いて説明した、仮張り用枠体１１に単位マスク本体１２を張設するまでは、第１実施形態と同様の方法で行い、図１（ｃ）を用いて説明した、例えば４つの矩形状の開口部１３’が配列形成された支持枠体１３には、図６（ａ）に示すように、例えば各開口部１３’の周縁に沿って溝１５が設けられたものを用いることとする。
【００４７】
そして、単位マスク本体１２が固着された仮張り用枠体１１（前記図２（ｄ）参照）を、単位マスク本体１２側を支持枠体１３側に向けて、支持枠体１３の開口部１３ａ’を覆うように、単位マスク本体１２を支持枠体１３上に配置する。その後、例えばスポット式抵抗溶接法により、仮張り用枠体１１の内縁に沿うとともに、支持枠体１３の開口部１３ａ’の周縁に沿って、単位マスク本体１２側から溶接することで、単位マスク本体１２を開口部１３ａ’の周縁に固着する。この場合には、図６（ｂ）のＤ−Ｄ’断面要部拡大図に示すように、開口部１３ａ’周縁の溝１５よりも開口部１３ａ’側に単位マスク本体１２の外縁側が固着されることとする（溶接スポットＳ’）。
【００４８】
続いて、例えばカッター等により、溶接スポットＳ’よりも外側で、単位マスク本体１２を切断することで、仮張り用枠体１１を単位マスク本体１２から切り離す。これにより、単位マスク本体１２のみが、支持枠体１３の開口部１３ａ’を覆う状態で固着される。
【００４９】
その後、図６（ｃ）に示すように、例えばスポット式抵抗溶接法により、単位マスク本体１２の端部を単位マスク本体１２側から溶接することで、溝１５の内壁に固着する。この場合の溶接部を溶接スポットＳ’’とする。これにより、単位マスク本体１２の端部のまくれ上りが防止される。この場合の溶接スポットＳ’’は、単位マスク本体１２の端部のまくれ上りが防止される程度に設けられていればよいことから、仮張り用枠体１１に張設された単位マスク本体１２を開口部１３ａ’の周縁に固着する場合に設けられる溶接スポットＳ’よりも疎に設けられていてもよい。
【００５０】
このようなメタルマスクの製造方法およびメタルマスクによれば、仮張り用枠体１１に張設され、仮張り用枠体１１の開口部１１’の周縁に固着された単位マスク本体１２を、単位マスク本体１２にかかる張力を維持したまま、支持枠体１３の開口部１３’の周縁に固着することから、第１実施形態と同様の効果を奏することができる。また、本実施形態では単位マスク本体１２の端部が支持枠体１３の開口部１３’の周縁に沿って設けられた溝１５の内壁に設けられていることから、単位マスク本体１２の端部側がまくれ上ることが防止される。これにより、製造したメタルマスクを蒸着等の成膜に用いる場合に、単位マスク本体１２のまくれ上がりによる成膜への影響を防止できる。
【００５１】
なお、本実施形態では、開口部１３’に沿った溝１５が設けられた支持枠体１３を用いた例について説明したが、本発明はこれに限定されることなく、支持枠体１３に溝１５が設けられていなくてもよい。この場合には、単位マスク本体１２の端部は、支持枠体１３の開口部１３’の周縁の溶接スポットＳ’よりも外側で固着された状態となる。ただし、溝１５の内壁に単位マスク本体１２の端部を固着する方が、単位マスク本体１２の端部を固着する溶接スポットＳ’’が単位マスク本体１２の表面に突出することが確実に防止でき、溶接スポットＳ’’の突出によって基板とマスクの密着が阻害されるという、成膜への影響を防止できるため、好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明のメタルマスクの製造方法に係る第１実施形態を説明するための平面図および断面図（その１）である。
【図２】本発明のメタルマスクの製造方法に係る第１実施形態を説明するための平面図および断面図（その２）である。
【図３】本発明のメタルマスクの製造方法に係る第１実施形態を説明するための平面図および断面図（その３）である。
【図４】本発明のメタルマスクの製造方法に係る第１実施形態を説明するための平面図および断面図（その４）である。
【図５】本発明のメタルマスクの製造方法に係る第１実施形態の変形例を説明するための平面図である。
【図６】本発明のメタルマスクの製造方法に係る第２実施形態を説明するための平面図および要部断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１１…仮張り用枠体、１２…単位マスク本体、１２ａ，１２ｂ…開口パターン、１３…支持枠体、１３’…開口部、１５…溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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