(57)【要約】【課題】  透明性に優れ、種々の表面機能層が積層されたときに、優れた反射防止能を有し、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）等、表示部材の製造用等の用途において好適な積層フィルムを提供する。【解決手段】  アルケニル置換ナジイミドを含有する塗布剤を基材フィルムの少なくとも片面に塗布し、乾燥させることにより設けられた塗布層を有することを特徴とする積層フィルム。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルケニル置換ナジイミドを含有する塗布剤を基材フィルムの少なくとも片面に塗布し、乾燥させることにより設けられた塗布層を有することを特徴とする積層フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は積層フィルムに関し、詳しくは、フィルムの塗布層面上に種々の表面機能層が積層されたときの視認性を向上させることのできる積層フィルムに関するものであり、例えば、液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤと略記する）、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略記する）、有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと略記する）等、表示部材製造用等の光学用途に好適な積層フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、接着性、帯電防止性等の各種機能を有する塗布層がフィルム上に設けられた積層フィルムが、液晶偏光板、位相差板、ＰＤＰ、有機ＥＬ等の表示部材製造用等をはじめ、各種光学用途等に使用されている。これらの光学用フィルムには優れた透明性、視認性が要求される。
【０００３】
近年、ＩＴ（Information Technology）分野の躍進に伴い、ＬＣＤ、ＰＤＰ、有機ＥＬ等の表示部材製造時に使用される積層フィルムの品質向上と共に外光反射により、視認性の悪化による各種不具合がさらに顕在化する傾向にある。
【０００４】
ＬＣＤ用ディスプレイ製造時に使用する粘着剤層保護用離型フィルムを構成する基材フィルム、ブラウン管（以下、ＣＲＴと略記する）用あるいはＬＣＤ用ディスプレイの反射防止フィルム用基材フィルム、タッチパネル用基材フィルム、液晶表示装置の構成部材であるプリズムレンズシート用基材フィルム、ＣＲＴのガラス飛散防止フィルム用基材フィルム、電子ペーパー用基材フィルム等には、特に優れた透明性が要求される。
【０００５】
上述の各種基材フィルムとして積層フィルムを用いた場合、近年の画像のデジタル化による高画質、高精度の映像表示は外光反射の影響を受けやすく、視認性が悪くなることがある。一般的に外光反射を防ぐには、表面に反射防止層を加工することや表面をグレア処理することが行われている。グレア処理では高画質な画像に対応できないため、反射防止処理層を表面に加工することが多い。反射防止層は高屈折率と低屈折率層を交互に積層させることで光の干渉現象を利用し、外光の反射防止を行う。通常、スパッタリング、ゾルゲルによるウェット加工等を何回か行い、積層体を作成する。高反射防止能にするには、ナノメーターオーダーの加工膜の膜厚制御が必要である。異物による表面欠点を嫌うため、クリーン内の工程で実施する必要もあり、高いコストとなり、高価なフィルムとなっている。
【０００６】
一方、積層フィルムは一般的に他の材料、例えばアクリル系樹脂を主成分とする反射防止層やハードコートとの接着性が悪いため、フィルム上にポリエステル樹脂やアクリル樹脂やウレタン樹脂等を積層して用いることが提案されている（例えば、特許文献１および２）。しかしながら、上記のような従来の樹脂による積層では、屈折率が１．５０前後に固定されてしまうため、反射防止フィルムを設計する際に、反射防止の性能が制限されることがある。
【特許文献１】特開平１０−１１９２１５号公報
【特許文献２】特開２０００−２４６８５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであって、その解決課題は、透明性に優れ、種々の表面機能層が積層されたときに、優れた反射防止能を有する積層フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記実状に鑑み、鋭意検討した結果、特定の構成からなる積層フィルムを用いれば、上述の課題を容易に解決できることを知見し、本発明を完成させるに至った。
【０００９】
すなわち、本発明の要旨は、アルケニル置換ナジイミドを含有する塗布剤を基材フィルムの少なくとも片面に塗布し、乾燥させることにより設けられた塗布層を有することを特徴とする積層フィルムに存する。
【００１０】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明におけるフィルムの基体としては、ポリエステルフィルム、トリアセテートフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリレートフィルム等を使用することが可能である。特に、表面機能層を当該積層フィルムの上層に設ける場合の後工程に備えるため、機械特性、耐熱性に優れた積層ポリエステルフィルムを用いることが好ましい。当該ポリエステルフィルムは単層構成であっても積層構成であってもよく、２層、３層構成以外にも本発明の要旨を越えない限り、４層またはそれ以上の多層であってもよく、特に限定されるものではない。
【００１１】
本発明においてフィルムに使用するポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。ホモポリエステルからなる場合、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート等が例示される。一方、共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸（例えば、ｐ−オキシ安息香酸など）等の一種または二種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、４−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上が挙げられる。何れにしても本発明でいうポリエステルとは、通常６０モル％以上、好ましくは８０モル％以上がエチレンテレフタレート単位であるポリエチレンテレフタレート等であるポリエステルを指す。
【００１２】
本発明におけるフィルムには、易滑性付与を主たる目的として粒子を配合することが好ましい。配合する粒子の種類は、易滑性付与可能な粒子であれば特に限定されるものではなく、具体例としては、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の粒子が挙げられる。また、特公昭５９−５２１６号公報、特開昭５９−２１７７５５号公報等に記載されている耐熱性有機粒子を用いてもよい。この他の耐熱性有機粒子の例として、熱硬化性尿素樹脂、熱硬化性フェノール樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等が挙げられる。さらに、フィルム原料の製造工程中、触媒等の金属化合物の一部を沈殿、微分散させた析出粒子を用いることもできる。
【００１３】
一方、使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて２種類以上を併用してもよい。
【００１４】
また、用いる粒子の平均粒径は、通常０．０１〜３μｍ、好ましくは０．０１〜１μｍの範囲である。平均粒径が０．０１μｍ未満の場合には、粒子が凝集しやすく、分散性が不十分な場合があり、一方、３μｍを超える場合には、フィルムの表面粗度が粗くなりすぎて、後工程において種々の表面機能層を塗設させる場合等に不具合が生じる場合がある。
【００１５】
さらにフィルム中の粒子含有量は、通常０．００１〜５重量％、好ましくは０．００５〜３重量％の範囲である。粒子含有量が０．００１重量％未満の場合には、フィルムの易滑性が不十分な場合があり、一方、５重量％を超えて添加する場合にはフィルムの透明性が不十分な場合がある。
【００１６】
フィルムに粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、各層を構成するポリマーを製造する任意の段階において添加することができる。
【００１７】
なお、本発明におけるフィルム中には、上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。
【００１８】
本発明におけるフィルムの厚みは、フィルムとして製膜可能な範囲であれば特に限定されるものではないが、通常５〜２５０μｍ、好ましくは５〜２００μｍの範囲である。
【００１９】
次に本発明におけるフィルムの製造例について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。
すなわち、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必要があり、静電印加密着法および／または液体塗布密着法が好ましく採用される。次に得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。その場合、まず、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常７０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃であり、延伸倍率は通常２．５〜７倍、好ましくは３．０〜６倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する方向に延伸するが、その場合、延伸温度は通常７０〜１７０℃であり、延伸倍率は通常３．０〜７倍、好ましくは３．５〜６倍である。そして、引き続き１８０〜２７０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。上記の延伸においては、一方向の延伸を２段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。
【００２０】
また、本発明においては積層フィルムを構成するフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法とは、前記の未延伸シートを通常７０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法であり、延伸倍率としては、面積倍率で４〜５０倍、好ましくは７〜３５倍、さらに好ましくは１０〜２５倍である。そして、引き続き、１７０〜２５０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来公知の延伸方式を採用することができる。
【００２１】
さらに上述のフィルムの延伸工程中にフィルム表面を処理する、いわゆるインラインコーティングを施すことができる。インラインコーティングによりフィルム上に塗布層が設けられる場合には、延伸と同時に塗布が可能となると共に、塗布層の厚みを延伸倍率により変化させることができるため、フィルムとして好適なフィルムを製造できる。
【００２２】
次に本発明における塗布層の形成について説明する。本発明における積層フィルムを構成する塗布層は上述のインラインコーティングによりフィルム上に設けられてもよく、一旦製造したフィルム上に系外で塗布する、いわゆるオフラインコーティングを採用してもよく、両者を併用してもよい。なお、積層フィルムの製造が安価に対応可能な点でインラインコーティングの方が好ましく用いられる。
【００２３】
インラインコーティングについては以下に限定するものではないが、例えば、逐次二軸延伸においては特に縦延伸が終了して、横延伸前にコーティング処理を施すことができる。塗布延伸法によりフィルム上に塗布層が設けられる場合には、製膜と同時に塗布が可能になると共に塗布層を高温で処理することができ、フィルムとして好適なフィルムを製造できる。
【００２４】
本発明においてはアルケニル置換ナジイミドを含有する塗布剤を基体フィルムの少なくとも片面に塗布し、乾燥させることにより、塗布層を有することを必須の要件とするものである。
【００２５】
アルケニル置換ナジイミドとしては、特開昭５９−８０６６２号公報、特開昭６０−１７８８６２号公報、特開昭６１−１８７６１号公報、特開昭６１−１９７５５６号公報および特開昭６３−１７０３５８号公報、特開平７−５３５１６号公報、特開平７−７０２８８号公報、特開平７−１７９８１６号公報、特開平８−１２００２５号公報、特開平８−２７７２６５号公報、特開平１１−２８６６２３号公報等に記載されている、公知のアルケニル置換ナジイミドを用いることができ、一般に、下記の一般式（１）で表されるアルケニル置換ナジイミドが用いられる。
【００２６】
【化１】
2006281731.tif 000002
【００２７】
上記式中、Ｒ１およびＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素原子またはメチル基を示し、ｎは１または２の整数を示す。Ｒ３は、ｎが１であるとき、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のアルケニル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の一価の芳香族基若しくはベンジル基を示すか、または基−［（ＣｑＨ２ｑＯ）ｔ（ＣｒＨ２ｒＯ）ｕＣｖＨ２ｖ＋１］（ここでｑ、ｒ、ｖは、それぞれ２〜６の整数を示し、ｔは０または１の整数を示し、ｕは１〜３０の整数を示す）もしくは基−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ５｛ここで、Ｔは−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−を示す｝を示す。
【００２８】
Ｒ３は、ｎが２であるとき、炭素数２〜２０のアルキレン基、炭素数５〜８のシクロアルキレン基、基−［（ＣｘＨ２ｘＯ）ｙ（ＣｚＨ２ｚＯ）ｗＣｂＨ２ｂ］−（ここで、ｘ、ｚ、ｂは、それぞれ２〜６の整数を示し、ｙは０または１の整数を示し、ｗは１〜３０の整数を示す）、炭素数６〜１２の二価の芳香族基、基−Ｒ−Ｃ６Ｈ４−（Ｒ´）ｍ−（ここで、ｍは０または１の整数を示し、Ｒ、Ｒ´は同一でも異なっていてもよく、炭素数１〜４のアルキレン基または炭素数５〜８のシクロアルキレン基を示す）もしくは基−Ｃ６Ｈ４−Ａ−Ｃ６Ｈ４−｛ここでＡは−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３)２Ｃ６Ｈ４Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−を示す。｝を示す。
【００２９】
また、上記Ｒ３の基は、その水素原子の１〜３個が水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基、カルバモイル基またはイソシアノ基で置換されていてもよい。
【００３０】
上記一般式（１）中、ｎ＝２の場合のＲ３で示される基−Ｒ−Ｃ６Ｈ４−（Ｒ´）ｍ−に含まれる非対称なアルキレン・フェニレン基としては、例えば、式（２）で表されるものが挙げられる。
【００３１】
【化２】
2006281731.tif 000003
【００３２】
一般式（１）で表されるアルケニル置換ナジイミドの一例は以下に示すとおりである。
【００３３】
（ｎが１のもの）Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アリル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−シクロヘキシル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−フェニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ベンジル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド。
【００３４】
（ｎが２のもの）Ｎ，Ｎ′−エチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ′−ドデカメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ′−シクロヘキシレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、１，２−ビス［３′−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ］エタン、ビス［２′−［３″−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ］エチル］エーテル、１，４−ビス［３′−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ］ブタン、Ｎ，Ｎ′−ｐ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ′−ｍ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ′−ｐ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ′−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ−［４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミドエチル）フェニル］アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、２，２−ビス［４′−［４″−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ］フェニル］プロパン、ビス［４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル］メタン、ビス［４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル］エーテル、ビス［４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル］スルホン。
【００３５】
本発明で用いられるアルケニル置換ナジイミドはこれらに限定されない。また、これらのアルケニル置換ナジイミドは、単独で用いてもよいし、複数種を混合して用いてもよく、さらにオリゴマーとして用いても差し支えない。
【００３６】
また、アルケニル置換ナジイミドの硬化をより効率よく行うために、例えば、有機過酸化物、無機過酸化物、オニウム塩、カチオン触媒、有機基含有金属化合物を硬化触媒として併用することも可能である。
【００３７】
本発明における積層フィルムにおいて、塗布面上に種々の表面機能層が積層されたときの反射防止能の向上や透明性の向上、種々の表面機能層との接着性を向上させる為にバインダーポリマーを併用することも可能である。
【００３８】
本発明において使用する「バインダーポリマー」とは高分子化合物安全性評価フロースキーム（昭和６０年１１月  化学物質審議会主催）に準じて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定による数平均分子量（Ｍｎ）が１０００以上の高分子化合物で、かつ造膜性を有するものと定義する。
【００３９】
バインダーポリマーの具体例としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニル（ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体等）、ポリアルキレングリコール、ポリアルキレンイミン、メチルセルロース、ヒドロキシセルロース、でんぷん類等が挙げられる。
【００４０】
上述のバインダーポリマー中、特に芳香環骨格を有するバインダーポリマーを塗布層中に含有することによれば、塗布面上に種々の表面機能層が積層されたときの反射防止能がより一層向上するので好ましい。
【００４１】
さらに塗布層中には本発明の主旨を損なわない範囲において、架橋剤を併用してもよく、具体例としてはメチロール化またはアルキロール化した尿素系、メラミン系、グアナミン系、アクリルアミド系、ポリアミド系化合物、オキサゾリン化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、ブロックポリイソシアネート、シランカップリング剤等が挙げられる。これらの架橋成分はバインダーポリマーと予め結合していてもよい。
【００４２】
また、塗布層の固着性、滑り性改良を目的として、不活性粒子を含有してもよく、具体例としてはシリカ、アルミナ、カオリン、炭酸カルシウム、酸化チタン、有機粒子等が挙げられる。
【００４３】
さらに本発明の主旨を損なわない範囲において、必要に応じて消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、有機系潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発泡剤、染料等が含有されてもよい。
【００４４】
本発明における積層フィルムを構成する塗布層中のアルケニル置換ナジイミド由来の化合物の含有量に関しては、下記式（３）を満足するのが好ましい。
【００４５】
１０≦Ｗ≦１００  …（３）
（上記式中、Ｗは、積層フィルムを構成する塗布層中におけるアルケニル置換ナジイミド由来の化合物の重量％を表す）
【００４６】
上述の一連の化合物を溶液または分散体として、固形分濃度が０．１〜５０重量％程度を目安に調整した塗布液をフィルム上に塗布する要領にて積層フィルムを製造するのが好ましい。
【００４７】
さらにインラインコーティングの場合は、上述の一連の化合物を水溶液または水分散体として、固形分濃度が０．１〜５０重量％程度を目安に調整した塗布液をフィルム上に塗布する要領にて積層フィルムを製造するのが好ましい。また、本発明の主旨を損なわない範囲において、水への分散性改良、造膜性改良等を目的として、塗布液中には少量の有機溶剤を含有していてもよい。有機溶剤は一種類のみでもよく、適宜、二種類以上を使用してもよい。
【００４８】
本発明における積層フィルムに関して、フィルム上に設けられる塗布層の塗布量（乾燥後）は通常０．００５〜１ｇ／ｍ２、好ましくは０．００５〜０．５ｇ／ｍ２の範囲である。塗布量が０．００５ｇ／ｍ２未満の場合には、塗布厚みの均一性が不十分な場合がる。一方、１ｇ／ｍ２を超えて塗布する場合には、滑り性低下等の不具合を生じる場合がある。
【００４９】
本発明において、塗布層を設ける方法はリバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、ロールコート、ダイコート、バーコート、カーテンコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。塗工方式に関しては「コーティング方式」槇書店  原崎勇次著 １９７９年発行に記載例がある。
【００５０】
本発明において、フィルム上に塗布層を形成する際の乾燥および硬化条件に関しては特に限定されるわけではなく、例えば、オフラインコーティングにより塗布層を設ける場合、通常、８０〜２００℃で３〜４０秒間、好ましくは１００〜１８０℃で３〜４０秒間を目安として熱処理を行うのが良い。
【００５１】
一方、インラインコーティングにより塗布層を設ける場合、通常、７０〜２８０℃で３〜２００秒間を目安として熱処理を行うのが良い。
【００５２】
また、オフラインコーティングあるいはインラインコーティングに係わらず、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。本発明における積層フィルムを構成するフィルムには予め、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。
【００５３】
塗布層が積層されたポリエステルフィルムの鏡面反射率は、波長３５０〜８００ｎｍの任意の波長において５．０％以上、好ましくは５．５％以上であり、塗布層を積層しないポリエステルフィルムの鏡面反射率以下であることが好ましい。また横軸に波長、縦軸に鏡面反射率を描いた場合に、４００〜７００ｎｍの間で最小値を持つ曲線で表され、４００〜７００ｎｍの間における最大値と最小値の差が２．０％以内であるものが好ましい。鏡面反射率が５．０％を下回る場合、または４００〜７００ｎｍの間で最小値をもたない場合、あるいは４００〜７００ｎｍの間における最大値と最小値の差が２．０％を超える場合は、フィルムの塗布層上に、種々の表面機能層が積層したときの反射防止能が悪くなることにより、干渉ムラが強くなるため、視認性が低下する場合がある。
【００５４】
また、本発明における積層フィルムの全光線透過率は８０％以上であることがＬＣＤ、ＰＤＰ、有機ＥＬ等の表示部材製造時に使用される等の光学用途等、透明性を特に必要とされる用途に対応可能になるので好ましく、さらに好ましくは８５％以上がよい。全光線透過率が８０％未満の場合、透明性が不十分となり、例えば、光学的評価を伴う検査工程に使用する場合、異物の混入を見落としやすくなる等の不具合を生じる場合がある。
【発明の効果】
【００５５】
本発明の積層フィルムによれば、当該フィルムの塗布層面上に、種々の表面機能層が積層されたときの反射防止能に優れた積層フィルムを提供することができ、その工業的価値は高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５６】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。また、本発明で用いた測定法および評価方法は次のとおりである。
【００５７】
（１）ポリエステルの固有粘度の測定
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル１ｇを精秤し、フェノール／テトラクロロエタン＝５０／５０（重量比）の混合溶媒１００ｍｌを加えて溶解させ、３０℃で測定した。
【００５８】
（２）平均粒径（ｄ５０：μｍ）の測定
遠心沈降式粒度分布測定装置（株式会社島津製作所社製ＳＡ−ＣＰ３型）を使用して測定した等価球形分布における積算（重量基準）５０％の値を平均粒径とした。
【００５９】
（３）フィルムにおける一方の塗布層表面からの鏡面反射率の測定
積層フィルムの測定裏面に黒テープ（ニチバン株式会社製ビニールテープＶＴ―５０）を貼り、分光光度計（株式会社島津製作所社製ＵＶ−３１００ＰＣ型）を使用して入射角８°で塗布層面を波長範囲３５０〜８００ｎｍ、サンプリングピッチ１．０ｎｍ、スリット幅２０ｎｍ、スキャン速度中速の鏡面反射率を測定した。
【００６０】
（４）鏡面反射率の測定方法
波長範囲３５０〜８００ｎｍにおける鏡面反射率を測定し、最小値と当該最小値となる測定波長を決定した。また、波長範囲４００〜７００ｎｍにおける鏡面反射率の最大値と最小値の差についても測定して算出した。
【００６１】
（４）干渉ムラの評価方法
ポリエステルフィルムの塗布層側に、ペンタエリスリトールアクリレート：Ｎ―メチロールアクリルアミド：Ｎ―ビニルピロリドン：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが重量で４５：４０：１０：５からなるＵＶ硬化系組成物を硬化後の膜厚が５μｍとなるように均一に塗布し、その後、８０Ｗ／ｃｍの強度を有する高圧水銀灯で３０秒間紫外線を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。該ハードコート層の上に、低屈折率層（ＳｉＯ２、３０ｎｍ）、高屈折率層（ＴｉＯ２、３０ｎｍ）、低屈折率層（ＳｉＯ２、３０ｎｍ）、高屈折率層（ＴｉＯ２、１００ｎｍ）、低屈折率層（ＳｉＯ２、１００ｎｍ）を、この順にスパッタリングによって形成した。得られたフィルムを３波長光域型蛍光灯下で目視にて、干渉ムラを観察し、視認性が良好ならば○、視認性の悪化が確認できれば×とした。
【００６２】
実施例および比較例において使用したポリエステルは、以下のようにして準備したものである。
〈ポリエステルの製造〉
ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール６０部および酢酸マグネシウム・４水塩０．０９部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチルアシッドフォスフェート０．０４部、三酸化アンチモン０．０３部、平均粒径１．５μｍのシリカ粒子を０．０１部添加した後、１００分で温度を２８０℃、圧力を１５ｍｍＨｇに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に０．３ｍｍＨｇとした。４時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度０．６１のポリエチレンテレフタレートを得た。
【００６３】
塗布層を構成する化合物例は以下のとおりである。
（化合物例）
・アルケニル置換ナジイミド（Ａ）：  下記式（３）で表される化合物を使用した。
【００６４】
【化３】
2006281731.tif 000004
・バインダーポリマー（Ｂ１）：  下記組成で共重合したポリエステル樹脂の水分散体
モノマー組成：（酸成分）テレフタル酸／５−ソジウムスルホイソフタル酸／／（ジオール成分）エチレングリコール／ジエチレングリコール＝９２／８／／７７／２３（ｍｏｌ％）
・バインダーポリマー（Ｂ２）：  ケン化度８８モル％、重合度３５０のポリビニルアルコール
・架橋剤（Ｃ）：  ヘキサメトキシメチルメラミン
・粒子（Ｄ）：  平均粒径６５ｎｍのシリカゾル
【実施例１】
【００６５】
製造したポリエチレンテレフタレートを１８０℃で４時間、不活性ガス雰囲気中で乾燥し、溶融押出機により２９０℃で溶融し、口金から押出し静電印加密着法を用いて表面温度を４０℃に設定した冷却ロール上で冷却固化して未延伸シートを得た。次に得られた未延伸シートをまず、９５℃で３．６倍に縦延伸し、下記塗布剤をバーコート方式により塗布した後、テンターに導き、横方向に４．３倍の逐次二軸延伸を行った。
その後、２３０℃にて３秒間熱固定し、塗工量（乾燥後）が０．１ｇ／ｍ２の下記に示す組成の塗布層が設けられた、厚さ５０μｍのフィルムを得た。
【００６６】
《塗布層組成》
アルケニル置換ナジイミド（Ａ）：９７重量％
粒子（Ｄ）：３重量％
上記塗布液の濃度は１０重量％とした。
【００６７】
出来上がった積層フィルムは下記表１に示すとおり、高い鏡面反射率を有し、塗布面上に表面機能層を積層したときの干渉ムラがなく、視認性は良好であった。
（実施例２〜実施例８）
【００６８】
実施例１において、塗布剤組成を表１に示す塗布剤組成に変更する以外は実施例１と同様にしてフィルムを得た。出来上がった積層フィルムは表１に示すとおり、高い鏡面反射率を有し、塗布面上に表面機能層を積層したときの干渉ムラがなく、視認性は良好であった。
【００６９】
（比較例１）
実施例１において、塗布剤組成を表１に示す塗布剤組成に変更する以外は実施例１と同様にして製造し、積層フィルムを得た。出来上がった積層フィルムは表１に示すとおりであり、鏡面反射率の最小値は４．９％であり、塗布面上に表面機能層を積層したときに干渉ムラが発生し、視認性が悪化してしまった。
【００７０】
（比較例２〜比較例３）
実施例１において、塗布剤組成を表１に示す塗布剤組成に変更する以外は実施例１と同様にしてフィルムを得た。出来上がった積層フィルムは表１に示すとおり、低い鏡面反射率を有し、塗布面上に表面機能層を積層したときに干渉ムラが発生し、視認性が悪化してしまった。
【００７１】
【表１】
2006281731.tif 000005
【産業上の利用可能性】
【００７２】
本発明の積層フィルムは、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、有機ＥＬ等、表示部材製造用等の光学用途のほか、視認性を重視する用途に好適に利用することができる。