(57)【要約】【課題】  露光装置の動作中に原版をレチクルステージに鉛直下向きに装着した状態で、原版をレチクルチャックスライダーに対して静電吸着させていた静電チャック電極への給電が切られると、原版を保持する吸着力が無くなり、レチクルチャックスライダーから剥離落下してしまうことがある。【解決手段】  本発明は、装置電源が切られて静電チャックの吸引力が無くなって原版が落下した際に、落下剥離方向の近傍で原版を受け止めるストッパーを設けること特徴とする。【選択図】  図１
2006013208.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置において、原版を原版ステージ装置に装着後に、原版面に垂直方向の原版の移動を阻止する部材が、原版面に空隙を介して対向する位置に移動することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記阻止する部材は、原版装着部材あるいは前記原版ステージ装置移動部材に支持されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記阻止する部材は、原版を前記原版ステージ装置に装着した状態で、原版に設けられた凹凸形状部位に対して空隙を介して対向する位置に移動することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記原版装着面に対する原版位置を計測する原版位置計測手段を設け、該原版位置計測手段からの信号により、原版装着状態、原版装着面からの移動あるいは原版落下を判定することを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造工程において用いられる露光装置で、原版（レチクル）パターンをシリコンウエハ上に投影して転写する投影露光装置に関するものであり、その中でも、特にＥＵＶ光（Extreme Ultraviolet極紫外光）である１３〜１４ｎｍ程度の波長の露光光を光源として使用するＥＵＶ露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来技術を図１５〜１８に示す。
【０００３】
励起レーザー１０１は、光源の発光点となる光源材料をガス化、液化、噴霧ガス化させたポイントに向けて照射して、光源材料原子をプラズマ励起することにより発光させる為の励起レーザーで、ＹＡＧ固体レーザー等を用いる。源発光部１０２は、内部は真空に維持された構造を持ち、１０２Ａで示す光源Ａは実際の露光光源の発光ポイントを示す。１０２Ａａで示す光源ミラーＡａは、１０２Ａで示す光源Ａからの全球面光を発光方向に揃え集光反射する為に、１０２Ａで示す光源Ａ中心に半球面状のミラーとして配置される。１０２Ａｂで示すＸｅ（液化、噴霧、ガス）は、発光元素として液化Ｘｅあるいは液化Ｘｅ噴霧あるいはＸｅガスを１０２Ａで示す光源Ａのポイントに１０２Ａｅノズルにより突出させる。真空チャンバー１０３は露光装置全体を格納し、真空ポンプ１０４により真空状態を維持することを可能にする。露光光導入部１０５は光源発光部１０２からの露光光を導入成形し、１０５Ａ〜１０５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄにより構成され、露光光を均質化かつ整形する。レチクルステージ１０６は、レチクルステージ上の可動部に、露光パターンの反射原盤である原盤１０６Ａが搭載されている。縮小投影ミラー光学系１０７は、原版（レチクル）１０６Ａから反射した露光パターンを１０７Ａ〜１０７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅに順次投影反射し最終的に規定の縮小倍率比で縮小投影する。ウエハステージ１０８は、原版（レチクル）１０５Ａにより反射縮小投影されたパターンを露光するＳｉ基板であるウエハ１０８Ａを、所定の露光位置に位置決めする為に、ＸＹＺ、ＸＹ軸回りのチルト、Ｚ軸回りの回転方向の６軸駆動可能に位置決め制御される。レチクルステージ支持体１０９は、レチクルステージ１０５を装置設置床に対して支持する。投影系本体１１０は、縮小投影ミラー光学系１０７を装置設置床に対して支持する。ウエハステージ支持体１１１は、ウエハステージ１０８を装置設置床に対して支持する。
【０００４】
以上のレチクルステージ支持体１０９と投影系本体１１０とウエハステージ支持体１１１により分離独立して支持されたレチクルステージ１０５と、縮小投影ミラー光学系１０７間及び縮小投影ミラー光学系１０７とウエハステージ１０８との間は、相対位置を位置計測し所定の相対位置に連続して維持制御する手段（不図示）が設けられている。また、レチクルステージ支持体１０９と、投影系本体１１０と、ウエハステージ支持体１１１には、装置設置床からの振動を絶縁するマウント（不図示）が設けられている。レチクルストッカー１１２は、装置外部から一旦装置内部に原盤であるレチクル１０６Ａを保管し、保管容器に密閉状態で異なるパターン及び異なる露光条件に合わせたレチクルが保管されている。レチクルチェンジャー１１３は前記レチクルストッカー１１２から使用するレチクルを選択して搬送する。
【０００５】
レチクルアライメントユニット１１４はＸＹＺ及びＺ軸周りに回転可能な回転ハンドから成り、前記レチクルチェンジャー１１３から原盤１０６Ａを受け取り、レチクルステージ１０６端部に設けられたレチクルアライメントスコープ１１５部分に１８０度回転搬送し、縮小投影ミラー光学系１０７基準に設けられたアライメントマーク１１５Ａに対して、原盤１０６Ａ上をＸＹＺ軸回転方向に微動してアライメントする。アライメントを終了した原盤１０６Ａは、レチクルステージ１０６上にチャッキングされる。
【０００６】
ウエハストッカー１１６は装置外部から一旦装置内部にウエハ１０８Ａを保管し、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。
【０００７】
ウエハ搬送ロボット１１７は、前記ウエハストッカー１１６から露光処理するウエハ１０８Ａを選定し、ウエハメカプリアライメント温調機１１８に運ぶ。ウエハメカプリアライメント温調機１１８では、ウエハの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部温調温度に合わせ込む。
【０００８】
ウエハ送り込みハンド１１９は、ウエハメカプリアライメント温調機１１８にてアライメントと温調されたウエハ１０８Ａをウエハステージ１０８に送り込む。
【０００９】
ゲートバルブ１２０，１２１は、装置外部からレチクル及びウエハを挿入するゲート開閉機構である。同じくゲートバルブ１２２も、装置内部でウエハストッカー１１６及びウエハメカプリアライメント温調機１１８空間と露光空間を隔壁で分離し、ウエハ１０８Ａを搬送搬出するときのみ開閉する。
【００１０】
このように、隔壁で分離することによりウエハ１０８Ａの装置外部との搬送搬出の際に、一旦大気開放される容積を最小限にして、速やかに真空平行状態にすることを可能にしている。
【００１１】
このような、従来構成の露光装置で、原版（レチクル）１０６Ａを、レチクルステージ１０６のレチクル駆動手段１０６Ｃ上に設けられたレチクルチャックスライダー１０６Ｂに位置決めクランプする際は、図１５に示すレチクルストッカー１１２に保管された原版（レチクル）１０６Ａをレチクルチェンジャー１１３により選定搬送し、さらに、図１６に示すように、レチクルアライメントユニット１１４のレチクルアライメントハンド１１４Ａに持ち替えて回転搬送すると同時に、レチクル駆動手段１０６Ｃによりレチクルチャックスライダー１０６Ｂを、図１６（１）に示すようにレチクルアライメントスコープ１１５及びレチクルアライメントマーク１１５Ａ光学計測位置であるレチクルアライメント位置まで移動させる。
【００１２】
次に、図１６に示す様に、レチクルアライメントハンド１１４Ａにより吸着搬送された原版（レチクル）１０５Ａは、原版（レチクル）１０５Ａを、前記レチクルアライメントマーク１１５Ａに対してレチクルアライメントスコープ１１５で計測しながら、ＸＹ（面内方向）及びωＺ（Ｚ軸回転方向）にアライメントする。
【００１３】
原版（レチクル）１０５Ａのアライメント動作終了後、図１７（１）に示すように、レチクルアライメントハンド１１４Ａにより、原版（レチクル）１０６Ａがレチクルチャックスライダー１０６Ｂに密接し、さらに図１７（２）に示すように、原版（レチクル）１０５Ａはレチクルチャックスライダー１０６Ｂに設けられた静電チャック１０６Ｅ電極に印加された電位により静電吸着される。
【特許文献１】特開２００２−３０５１３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかし、このような従来構成の露光装置では、露光装置の動作中に原版（レチクル）１０５Ａをレチクルステージ１０６に装着した状態で、装置緊急停止等により装置電源を切る必要が発生した場合、図１８に示すように、原版（レチクル）１０５Ａを、レチクルチャックスライダー１０６Ｂに対して静電吸着させていた静電チャック１０６Ｅ電極への給電が切られることから、原版（レチクル）１０６Ａを保持する吸着力が無くなり、結果として、図１８に示すように、レチクルチャックスライダー１０６Ｂから剥離落下し、縮小投影ミラー光学系１０７を構成する１０５Ｄで示すミラーＤ等に衝突落下し、相互の破損を招くことがあった。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記従来例の課題を解決する為に、露光装置の緊急停止等で、装置電源が切られて静電チャックの吸引力が無くなって原版（レチクル）が落下した際に、落下剥離方向の極近傍で原版（レチクル）を受け止めるストッパーを設けることにより、従来例で発生していた事故を防止する。
【００１６】
手段としては、以下の方法をとる。
（１）原版（レチクル）装着時に原版面と鉛直方向にストッパーを設ける。
（２）ストッパーを、原版（レチクル）装着部材から支持する。
（３）ストッパーを、原版（レチクル）ステージ移動部材から支持する。
（４）ストッパーを、原版（レチクル）装着後に原版面と鉛直方向する位置に移動させる。
（５）原版（レチクル）周囲に、凸形状のストッパー受け部材を設けて、原版（レチクル）装着時に、凸形状部位とストッパーとが原版面と鉛直方向で干渉関係にある位置にあるようにする。
（６）ストッパーを原版面と鉛直方向に移動可能にすることにより、落下してストッパー上の載った原版（レチクル）を、原版装着面に戻すことを可能にする。
（７）原版の落下及び移動を検出する、計測手段を設け、その検出信号により、原版落下を判定する。
【発明の効果】
【００１７】
原版（レチクル）落下ストッパーを、原版（レチクル）ステージ及び原版（レチクル）装着部材に設けることにより、原版（レチクル）及び装置の破損無く、露光装置の緊急停止が可能となり、より信頼性の高い露光装置を実現する。
また、装置緊急停止で、一旦原版（レチクル）落下ストッパーに落下した原版（レチクル）を、原版（レチクル）装着面に移動させることにより、原版（レチクル）装着面に原版（レチクル）を戻すことが可能になり、緊急停止後の装置の回復を素早く行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に本発明の実施例を説明する。
【００１９】
図１〜９に、本実施例を示す。励起レーザー１は、光源の発光点となる光源材料を、ガス化、液化、噴霧ガス化させたポイントに向けて照射して、光源材料原子をプラズマ励起することにより発光させる為の励起レーザーで、ＹＡＧ固体レーザー等を用いる。光源発光部２は内部が真空に維持された構造を持ち、２Ａで示す光源Ａは実際の露光光源の発光ポイントである。真空チャンバー３は露光装置全体を格納し、真空ポンプ４により真空状態を維持することを可能にする。露光光導入部５は５Ａ〜５Ｄで示すミラーＡ〜Ｄにより構成され、光源発光部２からの露光光を導入成形し、露光光を均質化かつ整形する。レチクルステージ６上の可動部には、露光パターンの反射原版である原版６Ａが搭載されている。レチクルチャックスライダー６Ｂは、原版６Ａをレチクル駆動手段６Ｃに対してクランプ移動保持する。静電チャック電極６Ｄ，６Ｅ，６Ｆ，６Ｇ，６Ｈ，６Ｊ，６Ｋ，６Ｌはレチクルチャックスライダー６Ｂの中に内蔵され、電位を６Ｄ〜６Ｅ間及び６Ｆ〜６Ｇ間及び６Ｊ〜６Ｈ間及び６Ｋ〜６Ｌ間に印可することにより、それぞれの電極と原版６Ａ間に静電位が分極し、原版６Ａをレチクルチャックスライダー６Ｂにクーロン力あるいはジョンソンラーベック力により吸着固定する。ギャップセンサー６Ｎ，６Ｍ，６Ｐ，６Ｑ，は、原版６Ａとレチクルチャックスライダー６Ｂ間のギャップを計測する。センサー原理としては、一般的に静電容量センサー（電極間ギャップ量変位に対する静電容量変化を検出）及び渦電流センサー（電極ターゲット間ギャップ量変位に対するターゲットの渦電流変化を渦電流損変化として検出）及びレーザー光斜入射反射検知式等の光マイクロセンサー等を用いる。
【００２０】
縮小投影ミラー光学系７は原版６Ａから反射した露光パターンを縮小投影する。７Ａ〜７Ｅで示すミラーＡ〜Ｅに順次投影反射し最終的に規定の縮小倍率比で縮小投影される。
【００２１】
ウエハステージ８は、原版５Ａにより反射縮小投影されたパターンを露光するＳｉ基板であるウエハ８Ａを所定の露光位置に位置決めする為に、ＸＹＺ、ＸＹ軸回りのチルト、Ｚ軸回りの回転方向の６軸駆動可能に位置決め制御される。レチクルステージ支持体９は、レチクルステージ５を装置設置床に対して支持する。投影系本体１０は、縮小投影ミラー光学系７を装置設置床に対して支持する。ウエハステージ支持体１１は、ウエハステージ８を装置設置床に対して支持する。
【００２２】
以上のレチクルステージ支持体９と投影系本体１０とウエハステージ支持体１１により分離独立して支持されたレチクルステージ５と、縮小投影ミラー光学系７間及び縮小投影ミラー光学系７とウエハステージ８間は、相対位置を位置計測し所定の相対位置に連続して維持制御する手段（不図示）が設けられている。
【００２３】
また、レチクルステージ支持体９と投影系本体１０とウエハステージ支持体１１には、装置設置床からの振動を絶縁するマウント（不図示）が設けられている。
【００２４】
レチクルストッカー１２は装置外部から一旦装置内部に原版であるレチクル６Ａを保管し、保管容器に密閉状態で異なるパターン及び異なる露光条件に合わせたレチクルが保管されている。レチクルチェンジャー１３はレチクルストッカー１２から使用するレチクルを選択して搬送する。
【００２５】
レチクルアライメントユニット１４はＸＹＺ及びＺ軸周りに回転可能な回転ハンドから成り、レチクルチェンジャー１３から原版６Ａを受け取り、レチクルステージ６端部に設けられたレチクルアライメントスコープ１５部分に１８０度回転搬送し、縮小投影ミラー光学系７基準に設けられたアライメントマーク１５Ａに対して原版６Ａ上をＸＹＺ軸回転方向に微動してアライメントする。
【００２６】
レチクルアライメントハンド１４Ａは、レチクルアライメントユニット１４のＸＹＺ及びＺ軸周りに回転可能な回転ハンドとして機能する。また、原版６Ａを保持する静電チャック電極（不図示）が内蔵されている。
【００２７】
ウエハストッカー１６は装置外部から一旦装置内部にウエハ８Ａを保管し、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。ウエハ搬送ロボット１７は、ウエアストッカー１６から露光処理するウエハ８Ａを選定し、ウエハメカプリアライメント温調機１８に運ぶ。ウエハメカプリアライメント温調機１８では、ウエハの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部温調温度に合わせ込む。ウエハ送り込みハンド１９は、ウエハメカプリアライメント温調機１８でアライメントと温調されたウエハ８Ａをウエハステージ８に送り込む。
【００２８】
ゲートバルブ２０，２１は、装置外部からレチクル及びウエハを挿入するゲート開閉機構である。ゲートバルブ２２も同じく、装置内部でウエハストッカー１６、ウエハメカプリアライメント温調機１８空間と露光空間を隔壁で分離し、ウエハ８Ａを搬送搬出するときのみ開閉する。
【００２９】
このように、隔壁で分離することによりウエハ８Ａの装置外部との搬送搬出の際に、一旦大気開放される容積を最小限にして、速やかに真空平行状態にすることを可能にしている。
【００３０】
原版アライメント制御回路２３でアライメントスコープ１５の計測データからの情報を基にレチクルアライメントユニット１４の制御を行う。
【００３１】
原版（レチクル）落下ストッパー２４は原版（レチクル）６Ａ，６Ｄの落下を防止する。
【００３２】
以上の構成の露光装置で、原版（レチクル）６Ａをレチクルステージ６のレチクル駆動手段６Ｃ上に設けられたレチクルチャックスライダー６Ｂに位置決めクランプする際は、
レチクルストッカー１２に保管された原版（レチクル）６Ａをレチクルチェンジャー１３により選定搬送し、さらに、図２に示すように、レチクルアライメントユニット１４のレチクルアライメントハンド１４Ａに持ち替えて回転搬送すると同時に、レチクル駆動手段６Ｃによりレチクルチャックスライダー６Ｂを、図３に示すようにレチクルアライメントスコープ１５及びレチクルアライメントマーク１５Ａ光学計測位置であるレチクルアライメント位置まで移動させる。
【００３３】
次に、図３（１）に示す様に、レチクルアライメントハンド１４Ａに設けられたレチクルアライメント静電チャック（不図示）により吸着搬送された原版（レチクル）５Ａのアライメント動作を行う。
【００３４】
図３（２）に示すように、原版（レチクル）６Ａの位置誤差をレチクルアライメントマーク１５Ａとの相対位置合わせ誤差からレチクルアライメントスコープ１５で計測検出して、原版アライメント制御回路２４によりレチクルアライメントユニット１４が駆動制御され、レチクルアライメントハンド１４ＡによりＸＹ（面内方向）及びωＺ（Ｚ軸回転方向）にアライメント動作が行われることにより、原版６Ａのアライメントが行われる。
【００３５】
原版（レチクル）６Ａのアライメントが終了した時点で、図４（２）に示すように、レチクルチャックスライダー６Ｂの静電チャック電極６Ｅに印加された電位により、原版６Ａ裏面をクーロン力あるいはジョンソンラーベック力により吸着クランプする。
【００３６】
クランプが完了した後に、図３（３）に示すように、レチクルアライメントハンド１４Ｂに設けられた静電チャック（不図示）が原版（レチクル）６Ｄをリリースして、レチクルアライメントハンド１４Ａは下方退避する。以上のレチクルアライメント動作が終了してから、露光動作が開始される。
【００３７】
ここで、実施例では、図４（２）に示すように、レチクルチャックスライダー６Ｂに設けられた原版（レチクル）落下ストッパー２４を図５の（１）の状態から（２）の状態に回転動作させることにより、原版（レチクル）６Ｄの原版面の鉛直直下に微小隙間を持って位置決めされる。
【００３８】
さらに、図６（２）に示すように、原版（レチクル）落下ストッパー２４の原版（レチクル）受け面部に原版（レチクル）落下検知・水平位置センサー２４Ａを設けることにより、原版（レチクル）２４の落下検知を行うことができる。
【００３９】
図７に、原版（レチクル）落下検知が発生した際の装置動作フローを示す。ここで、原版（レチクル）落下検知センサー２４Ａにより、原版（レチクル）落下検知が発生した場合、装置動作状態判定２４Ｂを行う。ここで、もし装置がスキャン露光中あるいはキャリブレーション中あるいはウエハ受け渡し中（２４Ｃ）である場合、速やかにステージ停止（２４Ｅ）とし、同時に原版（レチクル）クランプエラーを示し、装置停止させる。
【００４０】
装置動作状態判定（２４Ｂ）で、原版（レチクル）アライメント中あるいは原版（レチクル）受け渡し中（２４Ｄ）であった場合、速やかに原版（レチクル）アライメント動作中止あるいは原版（レチクル）受け渡し動作中止あるいは原版（レチクル）クランプエラーを示し（２４Ｆ）、装置を停止させる。
【００４１】
次に、原版（レチクル）クランプエラーにより装置停止した状態で、オペレーターは装置電源を一旦ＯＦＦし、原版（レチクル）クランプエラー及び落下原因の確認と対策を実施する（２４Ｈ）。
【００４２】
次に、装置電源ＯＮとし（２４Ｊ）、原版（レチクル）回収動作（２４Ｋ）に移行する。原版（レチクル）回収動作（２４Ｋ）は、次の順序２４Ｌにより行われる。
（１）原版（レチクル）水平位置確認：落下した原版（レチクル）の水平方向の位置を確認し、静電チャックに対して相対的に復帰可能な水平位置内にあるかを確認する。
（２）原版（レチクル）リフトアップ：図９（１）に示す、原版（レチクル）落下ストッパー２４により落下した原版（レチクル）６Ａ，６Ｄを、図９（２）に示すようにレチクルチャックスライダー６Ｂ装着面方向にリフトアップする。
（３）原版（レチクル）静電チャック保持：この状態で、再度、静電チャック電極６Ｅに電位を印加し、原版（レチクル）を静電チャックする。次に、図９（３）に示すように、原版（レチクル）落下ストッパー２８が下方退避する。
（４）レチクルアライメントユニットによる回収動作：静電チャックされた原版（レチクル）を、レチクルアライメントユニット１４により回収する。
（５）落下原版（レチクル）メンテナンス、検査：回収された落下原版（レチクル）をメンテナンス、検査し、問題が無いことを確認し、原版（レチクル）を装置に復帰させる。
【００４３】
図８に、装置稼動中に装置電源ＯＦＦあるいは装置非常停止（２４Ｍ）が実効された際の装置動作フローを示す。
【００４４】
まず、装置動作状態判定（２４Ｎ）を行う。ここで、もし装置がスキャン露光中あるいはキャリブレーション中あるいはウエハ受け渡し中（２４Ｐ）である場合、速やかにステージ停止（２４Ｒ）とし、同時に原版（レチクル）クランプエラーを示し、装置停止させる。
【００４５】
装置動作状態判定（２４Ｎ）で、原版（レチクル）アライメント中あるいは原版（レチクル）受け渡し中（２４Ｑ）であった場合、速やかに原版（レチクル）アライメント動作中止あるいは原版（レチクル）受け渡し動作中止あるいは原版（レチクル）クランプエラーを示し、装置を停止させる（２４Ｓ）。
【００４６】
次に、原版（レチクル）クランプエラーにより装置停止した状態で、オペレーターは、非常停止の場合、再度装置停止、電源ＯＦＦの後に装置電源ＯＮ（２４Ｔ）とし、原版（レチクル）回収動作（２４Ｕ）に移行する。
【００４７】
原版（レチクル）回収動作（２４Ｕ）は、次の順序２４Ｖにより行われる。
（１）原版（レチクル）水平位置確認：落下した原版（レチクル）の水平方向の位置を確認し、静電チャックに対して相対的に復帰可能な水平位置内にあるかを確認する。
（２）原版（レチクル）リフトアップ：図９（１）に示す原版（レチクル）落下ストッパー２４により、落下した原版（レチクル）６Ａ，６Ｄを、図９（２）に示すように、レチクルチャックスライダー６Ｂ装着面方向にリフトアップする。
（３）原版（レチクル）静電チャック保持：この状態で、再度、静電チャック電極６Ｅに電位を印加し、原版（レチクル）を静電チャックする。次に、図９（３）に示すように、原版（レチクル）落下ストッパー２８が下方退避する。
（４）レチクルアライメントユニットによる回収動作：静電チャックされた原版（レチクル）を、レチクルアライメントユニット１４により回収する。
（５）落下原版（レチクル）メンテナンス、検査：回収された落下原版（レチクル）をメンテナンス、検査し、問題が無いことを確認し、原版（レチクル）を装置に復帰させる。
【００４８】
このように、原版（レチクル）６Ｄの落下方向に近接して原版（レチクル）落下ストッパー２４を設けることにより、露光装置の緊急停止時にも原版（レチクル）６Ｄは露光装置内の他の部位に干渉する位置まで落下することなく、装置および原版（レチクル）の破損を防止することが出来る。
【００４９】
また、原版（レチクル）落下検知及び水平位置センサーを設けることにより、原版（レチクル）のより迅速で安全な回収動作を可能にする。
【００５０】
（他の実施例１）
他の実施例１を図１０に示す。先の実施例では、原版（レチクル）落下防止ストッパーをレチクルチャックスライダー６Ｂに支持していたが、他の実施例として、図１０に示すように、レチクル駆動手段６Ｃに対して支持することも可能である。
【００５１】
その際レチクル駆動手段６Ｃに支持設けられた原版（レチクル）落下ストッパー２５は、実施例と同じく図１０の（１）の状態から（２）の状態に回転動作で位置決めされる。
【００５２】
（他の実施例２）
他の実施例２を、図１１に示す。実施例および他の実施例１では、原版（レチクル）落下ストッパーが原版（レチクル）を直接受け止める構成にしているが、他の実施例として、図１１に示すように原版（レチクル）６Ａ，６Ｄの外周部に凸形状部材となる原版耳６Ｅを接合して設け、レチクルチャックスライダー６Ｂに支持設けられた原版（レチクル）落下ストッパー２６を、図１１の（１）の状態から（２）の状態に回転動作で移動させることにより、原版（レチクル）６Ａ，６Ｄ落下時に、原版耳６Ｅを原版（レチクル）落下ストッパー２６が受け止め、原版（レチクル）６Ａ，６Ｄの落下を防ぐことも可能である。
【００５３】
（他の実施例３）
他の実施例３を図１２に示す。実施例では、原版（レチクル）落下ストッパーが原版（レチクル）の装着後に、回転動作により所定位置に装着される構成にしているが、他に図１２に示すように原版（レチクル）落下ストッパー２７をレチクルチャックスライダー６Ｂに固定形状で設けて、原版（レチクル）６Ａ，６Ｄの装着時には、原版耳６Ｆと原版（レチクル）落下ストッパー２７は非干渉位置にて原版（レチクル）に対して鉛直方向に移動近接して、次に水平移動によりレチクルチャックスライダー６Ｂの装着位置に移動し、この状態で原版（レチクル）アライメント動作を行い、レチクルチャックスライダー６に装着される。
【００５４】
この状態では、原版耳６Ｆと原版（レチクル）落下ストッパー２７は原版面に対して鉛直方向で略同一面内位置に位置するので、原版（レチクル）６Ａ，６Ｄの落下時に、原版（レチクル）落下ストッパー２７は原版耳６Ｆを受け止め落下防止を可能にする。
【００５５】
このように、原版（レチクル）落下ストッパー自身の移動及び動作が無い構成も可能となる。
【００５６】
（他の実施例４）
他の実施例４を図１３に示す。他の実施例３の構成で、落下した原版（レチクル）を一旦レチクルチャックスライダー６Ｂの装着位置に戻し、自動で装置外部に回収する動作を可能にする構成も考えられる。図１３にその構成を示す。
【００５７】
レチクルチャックスライダー６Ｂに設けられた原版（レチクル）落下ストッパー２７は、原版（レチクル）６Ａ，６Ｄが落下した際に、図１３（１）に示す位置にある。この状態で、露光装置を再度起動する際に、原版（レチクル）を装置内から外部に取り出す際に、一旦レチクルステージ６上のレチクルチャックスライダー６Ｂに戻す必要がある。
【００５８】
そこで図１３（２）に示すように原版（レチクル）落下ストッパー２７に原版（レチクル）６Ａ，６Ｄが載った状態で、図示上方に原版（レチクル）落下ストッパー２７を移動させることにより、レチクルチャックスライダー６Ｂに原版（レチクル）６Ａ，６Ｄを密着させる。この状態で静電チャック給電することにより、原版（レチクル）６Ａ，０６Ｄを保持する。ここで、図１３（３）に示すように原版（レチクル）落下ストッパー２７を下方向に移動させ、元の位置に戻すことが出来る。
【００５９】
（他の実施例５）
他の実施例５を図１４に示す。実施例では、落下検知及び水平位置センサーを、落下防止ストッパー側に設けていたが、他に図１５（２）に示すように、レチクルチャックスライダー６Ｂ側に原版（レチクル）落下検知センサー２９を設けることにより、原版（レチクル）６Ａ，６Ｄがレチクルチャックスライダー６の装着面から移動あるいは落下した際に検知することが可能になる。原版（レチクル）落下検知センサー２９としては、原版（レチクル）裏面との距離を光反射方式で検出する方法や、原版（レチクル）裏面の静電チャック用の誘電膜との静電容量変化により原版（レチクル）裏面との距離を計測する静電容量センサー等があげられる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本実施例に示す露光装置全体図。
【図２】本実施例に示すアライメント手段詳細図。
【図３】本実施例に示すアライメント手段詳細図。
【図４】本実施例に示す落下防止手段詳細図。
【図５】本実施例に示す落下防止手段詳細図。
【図６】本実施例に示す落下防止手段詳細図。
【図７】本実施例に示す露光装置機能フロー。
【図８】本実施例に示す露光装置機能フロー。
【図９】本実施例に示す落下防止手段詳細図。
【図１０】他の実施例１に示す落下防止手段詳細図。
【図１１】他の実施例２に示す落下防止手段詳細図。
【図１２】他の実施例３に示す落下防止手段詳細図。
【図１３】他の実施例４に示す落下防止手段詳細図。
【図１４】他の実施例５に示す落下防止手段詳細図。
【図１５】従来例に示す露光装置全体図。
【図１６】従来例に示すアライメント手段詳細図。
【図１７】従来例に示すアライメント手段詳細図。
【図１８】従来例に示す落下状態説明図。
【符号の説明】
【００６１】
１  励起レーザー
２  光源発光部
２Ａ  光源Ａ
３  真空チャンバー
４  真空ポンプ
５  露光光導入部
５Ａ  ミラーＡ
５Ｂ  ミラーＢ
５Ｃ  ミラーＣ
５Ｄ  ミラーＤ
６  レチクルステージ
６Ａ  原版（レチクル）
６Ｂ  レチクルチャックスライダー
６Ｃ  レチクル駆動手段
６Ｄ  原版（レチクル）
６Ｅ  静電チャック電極
６Ｆ  原版耳
７  縮小投影ミラー光学系
７Ａ  ミラーＡ
７Ｂ  ミラーＢ
７Ｃ  ミラーＣ
７Ｄ  ミラーＤ
７Ｅ  ミラーＥ
８  ウエハステージ
８Ａ  ウエハ
９  レチクルステージ支持体
１０  露光装置本体
１１  ウエハステージ支持体
１２  レチクルストッカー
１３  レチクルチェンジャー
１４  レチクルアライメントユニット
１４Ａ  レチクルアライメントハンド
１５  レチクルアライメントスコープ
１５Ａ  レチクルアライメントマーク
１６  ウエハストッカー
１７  ウエハ搬送ロボット
１８  ウエハメカプリアライメント温調機
１９  ウエハ送り込みハンド
２０  ゲートバルブ
２１  ゲートバルブ
２２  ゲートバルブ
２３  原版アライメント制御回路
２４  原版（レチクル）落下ストッパー
２４Ａ  原版（レチクル）落下検知センサー
２４Ｂ  装置動作状態判定
２４Ｃ〜Ｖ  装置動作状態説明
２５  原版（レチクル）落下ストッパー
２６  原版（レチクル）落下ストッパー
２７  原版（レチクル）落下ストッパー
２８  原版（レチクル）落下ストッパー
２９  原版（レチクル）落下センサー
１０１  励起レーザー
１０２  光源発光部
１０２Ａ  光源Ａ
１０２Ａａ  光源ミラーＡａ
１０２Ａｂ  Ｘｅ（液化、噴霧、ガス）
１０２Ａｅ  ノズル
１０３  真空チャンバー
１０４  真空ポンプ
１０５  露光光導入部
１０５Ａ  ミラーＡ
１０５Ｂ  ミラーＢ
１０５Ｃ  ミラーＣ
１０５Ｄ  ミラーＤ
１０６  レチクルステージ
１０６Ａ  原版（レチクル）
１０６Ｂ  レチクルチャックスライダー
１０６Ｃ  レチクル駆動手段
１０６Ｄ  原版（レチクル）
１０６Ｅ  静電チャック電極
１０７  縮小投影ミラー光学系
１０７Ａ  ミラーＡ
１０７Ｂ  ミラーＢ
１０７Ｃ  ミラーＣ
１０７Ｄ  ミラーＤ
１０７Ｅ  ミラーＥ
１０８  ウエハステージ
１０８Ａ  ウエハ
１０９  レチクルステージ支持体
１１０  露光装置本体
１１１  ウエハステージ支持体
１１２  レチクルストッカー
１１３  レチクルチェンジャー
１１４  レチクルアライメントユニット
１１４Ａ  レチクルアライメントハンド
１１５  レチクルアライメントスコープ
１１５Ａ  レチクルアライメントマーク
１１６  ウエハストッカー
１１７  ウエハ搬送ロボット
１１８  ウエハメカプリアライメント温調機
１１９  ウエハ送り込みハンド
１２０  ゲートバルブ
１２１  ゲートバルブ
１２２  ゲートバルブ
１２３  原版アライメント制御回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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