(57)【要約】【課題】  凹凸の周期性に起因する光の干渉を無くすことにより反射板の色付きを解消する。【解決手段】  基板１１上に感光性の有機膜１８を塗布して該有機膜１８を露光及び現像し、熱処理することにより有機膜１８の表面にゆるやかな波形の第１の凹凸形状１を形成する。第１の凹凸形状１が形成された有機膜１８の表面に、ドライエッチングにより第１の凹凸形状１よりも微小な第２の凹凸形状１９を形成する。有機膜１８上には、第１及び第２の凹凸形状１，２を反映した形状の反射膜１９を形成する。第１の凹凸形状１と第２の凹凸形状１は凹凸のピッチや表面傾斜角度の分布が相互に大きく異なるため、凹凸の周期性が無い。従って、凹凸の周期性に起因する光の干渉を無くし、反射板の色付きを無くすことができる。よって、液晶表示装置の色付き対策として用いている偏光板の拡散糊を無くすことができる。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、
前記第１の基板と対向して配置されている第２の基板と、
前記第１及び第２の基板に挟持される液晶層と、
からなる液晶表示装置であって、前記第１及び第２の基板の何れか一方に形成される反射板により外光を反射させ、画像を表示する際の光源とする構造を有する液晶表示装置における前記反射板の構造において、
前記反射板は、有機膜と、該有機膜上に形成された反射膜とを備え、
前記有機膜の表面には、凸部あるいは凹部のうちの少なくともどちらか一方の断面が弧状である第１の凹凸形状が形成され、該第１の凹凸形状の表面には、該第１の凹凸形状よりも微小な第２の凹凸形状が形成され、
前記反射膜は、前記第１及び第２の凹凸形状を反映した形状を有していることを特徴とする液晶表示装置用反射板の構造。
【請求項２】
前記第１の凹凸形状は波形の凹凸形状であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用反射板の構造。
【請求項３】
前記有機膜及び前記反射膜は、前記液晶表示装置が備える薄膜トランジスタ上を覆うものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置用反射板の構造。
【請求項４】
前記第２の凹凸形状の、相互に隣り合う２つの凸部間のピッチあるいは相互に隣り合う２つの凹部間のピッチが０．４μｍ以下に設定されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の液晶表示装置用反射板の構造。
【請求項５】
前記第２の凹凸形状は不均一な凹凸形状であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の液晶表示装置用反射板の構造。
【請求項６】
前記第２の凹凸形状は前記有機膜の表面の一部にのみ形成されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の液晶表示装置用反射板の構造。
【請求項７】
前記反射膜は、アルミ又はアルミを含む合金からなることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の液晶表示装置用反射板の構造。
【請求項８】
前記反射膜は、アルミと他の金属との積層膜又はアルミを含む合金と他の金属との積層膜であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の液晶表示装置用反射板の構造。
【請求項９】
前記反射膜の膜厚は０．４μｍ以下に設定されていることを特徴とする請求項１、２、３、６、７の何れか一項に記載の液晶表示装置用反射板の構造。
【請求項１０】
前記有機膜は感光性有機膜であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載の液晶表示装置用反射板の構造。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の構造を有する反射板を備えることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の液晶表示装置を搭載した電子機器。
【請求項１３】
第１の基板と、前記第１の基板と対向して配置されている第２の基板と、前記第１及び第２の基板に挟持される液晶層と、からなる液晶表示装置であって、前記第１及び第２の基板の何れか一方に形成される反射板により外光を反射させ、画像を表示する際の光源とする構造を有する液晶表示装置における前記反射板の製造方法において、
基板上に感光性の有機膜を塗布する工程と、
前記有機膜を露光及び現像する工程と、
前記有機膜を熱処理して前記有機膜の表面に凸部あるいは凹部のうちの少なくともどちらか一方の断面が弧状である第１の凹凸形状を形成する工程と、
前記第１の凹凸形状が形成された前記有機膜の表面に、ドライエッチングにより、前記第１の凹凸形状よりも微小な第２の凹凸形状を形成する工程と、
前記有機膜上に反射膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする反射板の製造方法。
【請求項１４】
前記ドライエッチングとして、イオン衝撃主体のドライエッチングを行うことを特徴とする請求項１３に記載の反射板の製造方法。
【請求項１５】
前記ドライエッチングでは不活性ガスを用いることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の反射板の製造方法。
【請求項１６】
前記ドライエッチングでは、不活性ガスと酸素ガスとの混合ガス、又は、酸素原子を含むガスと不活性ガスとの混合ガスを用いることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の反射板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に使用される反射板、その製造方法及びその反射板を備える液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、その光源の種類に応じて、透過型液晶表示装置と反射型液晶表示装置と半透過型液晶表示装置とに分類される。
【０００３】
透過型液晶表示装置は、後方に光源を備え、その光源から発せられる光（「バックライト」と呼ばれる）の透過及び遮断を切り替えることにより、所望の画像を表示する形式の液晶表示装置である。
【０００４】
反射型液晶表示装置は、光反射板を備え、この光反射板により周囲の光（外光）を反射させ、その反射光の透過及び遮断を切り替えることにより、所望の画像を表示する形式の液晶表示装置である。
【０００５】
半透過型液晶表示装置は、透過型液晶表示装置として機能する領域と、反射型液晶表示装置として機能する領域とを併せ持つ形式の液晶表示装置である。
【０００６】
携帯電話に代表されるモバイル機器や、デジタルビデオカメラ、デジタルカメラといった、屋外での使用も想定される各種の電子機器の表示部には、上記の３種類の液晶表示装置のうち、半透過型液晶表示装置を採用する例が多くなってきている。これは、例えば、ノートパソコンのディスプレイやモニタに用いられるような通常の透過型液晶表示装置の場合、日差しの強い屋外では液晶表示装置の表面での光の反射により、表示が見えづらいという欠点があるためである。その点、半透過型液晶表示装置は屋内ではバックライトを光源とし、屋外では日光などの周囲光を光源とするため屋内でも屋外でも見やすく、モバイル機器やカメラなどの表示部として最適である。
【０００７】
また、反射型液晶表示装置も、バックライトを用いない低消費電力性を利点としているため、例えば、携帯用ゲーム機などに広く用いられている。
【０００８】
このような半透過型あるいは反射型液晶表示装置に用いられる反射板としては、なめらかな凹凸を設けた有機膜を備えるものが一般的である（特許文献１、２）。この理由は、ＴＦＴ方式の液晶表示装置を製造するプロセス（特に、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィープロセス）との親和性が高く、低コストで反射板を形成するプロセスを導入することができ、さらに、得られる反射特性も他の凹凸形成方法に比べて優れているためである。
【０００９】
このような凹凸を持った反射板を用いた液晶表示装置に日光の直射のような強い光が当たった場合、光の干渉効果により、液晶表示装置の表面が虹色に光って見える現象が発生する。このような現象を生ずることは、屋外でも使用する機会の多いモバイル機器等では致命的な欠点となるため、各種の対策が提案されている。
【００１０】
干渉の発生は、図１６に示す（１）「凹凸パターンの周期性」と、図１７に示す（２）「凹凸の傾斜角度の周期性」の２つに起因しており、干渉に光の波長依存性があるため、虹のような色付きが発生する。
【００１１】
このような干渉の原因のうち、（１）「凹凸パターンの周期性」に関しては、凹凸パターンをランダム化するなどの工夫で軽減することができる。しかし、この方法では、凹凸パターンのランダム性を増すと、画素毎の反射率が不均一になるため、画面のザラツキ感が増すという欠点があった。
【００１２】
ここで、現在では、液晶表示装置の１画素ごとに同じ凹凸パターンを繰り返すことが一般的であり、このことが周期性を発生する要因となっているが、このように１画素ごとに同じ凹凸パターンを繰り返すのは、フォトリソグラフィーに用いる露光用フォトマスクのデータ量を減らすためである。従って、干渉を無くすためにパターンをランダム化すると、データ量が膨大となり、フォトマスクの作成が困難になるという欠点があった。
【００１３】
他方、干渉の原因のうち、（２）「凹凸の傾斜角度の周期性」については、有機膜の熱処理により、なめらかな凹凸形成を行う方法をとる限り、傾斜角度は、材料に依存した温度での有機膜の流動性と表面張力で決まってしまうため、発生する角度分布を大きく変えることは難しい。
【００１４】
従来提案されている反射板の干渉を低減する方法としては、上記（１）の「凹凸パターンの周期性」を低減するために非周期的な凹凸パターンを用いる方法（特許文献３、４、５、６、７）や、上記（２）の「凹凸の傾斜角度の周期性」を低減するために凹凸の高さを異ならせる方法（特許文献８）や、凹凸の傾斜角度分布と距離を制御する方法（特許文献９）などがある。
【００１５】
なお、従来、微小な凹凸形状を形成する方法としては、微小な光反射性粒子を塗布する方法（特許文献１０）や、反射膜成膜時の温度により反射膜自体に微小な凹凸を形成する方法（特許文献１１、１２）などが提案されている。
【特許文献１】特開昭５８−１２５０８４号公報
【特許文献２】特開平４−２４３２２６号公報
【特許文献３】特開２００２−２４３９２３号公報
【特許文献４】特開２００２−１４２１１号公報
【特許文献５】特開２００１−２０１７４３号公報
【特許文献６】特開平１０−１２３５０８号公報
【特許文献７】特開平１１−３３７９６４号公報
【特許文献８】特開平０６−２７４８１号公報
【特許文献９】特開２００２−２５８２７２号公報
【特許文献１０】特開２００４−６１７６７号公報
【特許文献１１】特開２００３−１１４４２９号公報
【特許文献１２】特開２００２−３５７８４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
しかしながら、反射板の干渉を低減するための従来の方法（特許文献３−９）は、いずれも有機膜による凹凸形成方式であるため、傾斜角度の周期性を無くし、光の干渉による色付きを完全に解消することはできなかった。そのため、干渉を低減する目的で、半透過型あるいは反射型液晶表示装置の偏光板に光の拡散効果を持たせた糊（拡散糊）を用いることにより、干渉による色付きを改善する方法が一般的に用いられているが、拡散糊を用いると、光の拡散効果により、反射率や反射コントラストの低下が起きてしまうという欠点があった。特に、半透過型液晶表示装置の場合、反射型液晶表示装置として機能する領域のみに拡散糊を形成することができないために、透過コントラストが約１／２に低下してしまうという欠点があった。
【００１７】
また、微小な凹凸形状を形成するための従来の方法のうち、微小な光反射性粒子を塗布する方法（特許文献１０）には、次のような問題があった。
【００１８】
すなわち、半透過型液晶表示装置の場合には、反射型液晶表示装置として機能する領域にのみ光反射性微粒子を塗布する必要があるため、パターン化が必要となるが、通常の金属膜と異なり、光反射性微粒子のパターン化は困難である。また、微粒子は製造工程内でゴミのもととなるため、歩留りの低下の要因となる。
【００１９】
また、微小な凹凸形状を形成するための従来の方法のうち、反射膜成膜時の温度により反射膜自体に微小な凹凸を形成する方法（特許文献１１、１２）には、次のような問題がある。
【００２０】
すなわち、これらの方法は、凹凸上の反射膜（例えば、アルミ膜）成膜時の温度制御により、反射膜のグレーン成長で微小な凹凸を形成する方法であるため、成膜時の加熱温度は下地の有機膜の耐熱温度（約２５０℃）で制限され、必ずしも、成膜時の加熱温度を自由に選択することはできない。
【００２１】
また、成膜温度が高くなると、グレーンの成長により凹凸が形成されるが、波長の短い青い色の光（波長０．４μｍ以下）がグレーンによる凹凸で散乱されてしまうため、成膜温度の上昇に伴い、反射膜の色味が黄色くなってしまう。つまり、成膜温度による方法では、干渉の低減に必要な微小な凹凸形状の形成に必要な条件を得ることができない。さらには、成膜温度による方法では、基板内が一様な条件となるため、反射板パターンの一部のみに微小な凹凸を形成しようとしても不可能であるという欠点がある。
【００２２】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、凹凸の周期性に起因する光の干渉を無くすことにより、反射板の色付きを解消することが可能な液晶表示装置用反射板の構造、反射板の製造方法及び液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上記課題を解決するため、本発明は、第１の基板と、前記第１の基板と対向して配置されている第２の基板と、前記第１及び第２の基板に挟持される液晶層と、からなる液晶表示装置であって、前記第１及び第２の基板の何れか一方に形成される反射板により外光を反射させ、画像を表示する際の光源とする構造を有する液晶表示装置における前記反射板の構造において、前記反射板は、有機膜と、該有機膜上に形成された反射膜とを備え、前記有機膜の表面には、凸部あるいは凹部のうちの少なくともどちらか一方の断面が弧状である第１の凹凸形状が形成され、該第１の凹凸形状の表面には、該第１の凹凸形状よりも微小な第２の凹凸形状が形成され、前記反射膜は、前記第１及び第２の凹凸形状を反映した形状を有していることを特徴とする液晶表示装置用反射板の構造を提供する。
【００２４】
すなわち、本発明に係る反射板構造は、反射型液晶表示装置または半透過型液晶表示装置に対して適用される。
【００２５】
本発明の反射板構造においては、前記第１の凹凸形状は波形の凹凸形状であることが好ましい。
【００２６】
本発明の反射板構造においては、前記有機膜及び前記反射膜は、前記液晶表示装置が備える薄膜トランジスタ上を覆うものであることが好ましい。
【００２７】
本発明の反射板構造においては、前記第２の凹凸形状の、相互に隣り合う２つの凸部間のピッチあるいは相互に隣り合う２つの凹部間のピッチが０．４μｍ以下に設定されていることが好ましい。
【００２８】
本発明の反射板構造においては、前記第２の凹凸形状は不均一な凹凸形状であることが好ましい。
【００２９】
本発明の反射板構造においては、前記第２の凹凸形状は前記有機膜の表面の一部にのみ形成されていることが好ましい。
【００３０】
本発明の反射板構造においては、例えば、前記反射膜は、アルミ又はアルミを含む合金からなる。
【００３１】
本発明の反射板構造においては、例えば、前記反射膜は、アルミと他の金属との積層膜又はアルミを含む合金と他の金属との積層膜からなる。
【００３２】
本発明の反射板構造においては、前記反射膜の膜厚は０．４μｍ以下に設定されていることが好ましい。
【００３３】
本発明の反射板構造においては、前記有機膜は、例えば、感光性有機膜からなる。
【００３４】
本発明は、さらに、上記の反射板構造を備える液晶表示装置を提供する。
【００３５】
本発明に係る液晶表示装置は、携帯情報端末、携帯電話機その他の電子機器に搭載することができる。
【００３６】
本発明は、さらに、第１の基板と、前記第１の基板と対向して配置されている第２の基板と、前記第１及び第２の基板に挟持される液晶層と、からなる液晶表示装置であって、前記第１及び第２の基板の何れか一方に形成される反射板により外光を反射させ、画像を表示する際の光源とする構造を有する液晶表示装置における前記反射板の製造方法において、基板上に感光性の有機膜を塗布する工程と、前記有機膜を露光及び現像する工程と、前記有機膜を熱処理して前記有機膜の表面に凸部あるいは凹部のうちの少なくともどちらか一方の断面が弧状である第１の凹凸形状を形成する工程と、前記第１の凹凸形状が形成された前記有機膜の表面に、ドライエッチングにより、前記第１の凹凸形状よりも微小な第２の凹凸形状を形成する工程と、前記有機膜上に反射膜を形成する工程と、を有することを特徴とする反射板の製造方法を提供する。
【００３７】
前記ドライエッチングとしては、例えば、イオン衝撃主体のドライエッチングを行うことが好ましい。
【００３８】
前記ドライエッチングでは不活性ガスを用いることが好ましい。
【００３９】
前記ドライエッチングでは、不活性ガスと酸素ガスとの混合ガス、又は、酸素原子を含むガスと不活性ガスとの混合ガスを用いることが好ましい。
【発明の効果】
【００４０】
本発明によれば、有機膜の表面にはゆるやかな波状の第１の凹凸形状が形成され、さらに、第１の凹凸形状の表面には第１の凹凸形状よりも微小な第２の凹凸形状が形成されており、この有機膜上に形成された反射膜も、有機膜の表面形状を反映し、第１の凹凸形状及び該第１の凹凸形状表面の第２の凹凸形状を有している。
【００４１】
第１の凹凸形状と第２の凹凸形状は凹凸のピッチや表面傾斜角度の分布が相互に大きく異なるため、凹凸の周期性を無くすことができる。従って、凹凸の周期性に起因する光の干渉を無くし、反射板の色付きを無くすことができる。
【００４２】
光の干渉による反射板の色付きをなくすことにより、液晶表示装置の色付き対策として用いられている偏光板の拡散糊を使用する必要がなくなる。その結果、コストを削減することができると同時に、反射率、コントラストなどの反射特性を改善することができる。特に、半透過型液晶表示装置の場合には、透過コントラストを改善することもできる。
【００４３】
なお、有機膜のゆるやかな波状の第１の凹凸形状は、例えば、感光性の有機膜を露光、現像及び熱処理することにより形成することができ、第１の凹凸形状よりも微小な第２の凹凸形状は、第１の凹凸形状が形成されている有機膜表面に対するドライエッチング処理（例えば、不活性ガスによるリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理）により、該第１の凹凸形状の表面形状を荒らすことによって形成することができる。更に、そのような第１及び第２の凹凸形状が形成された有機膜の表面上に反射膜を被着することによって、該反射膜を、有機膜の表面形状を反映したものとして形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
以下、図面を参照して、本発明に係る実施形態について説明する。
【００４５】
〔第１の実施形態〕
図１は、本発明の第１の実施形態に係る反射板を備える液晶表示装置１００の断面図、図２乃至図８は本発明の第１の実施形態に係る反射板を備えるアクティブマトリクス基板１１０の製造工程を示す縦断面図、図９は図７のＡ部を示す要部拡大図、図１０は図８のＡ部を示す要部拡大図である。
【００４６】
本実施形態に係る液晶表示装置１００は、透過型液晶表示装置として機能する光透過領域３０と、反射型液晶表示装置として機能する光反射領域４０とを備える半透過型液晶表示装置である。
【００４７】
液晶表示装置１００は、アクティブマトリクス基板１１０と、アクティブマトリクス基板１１０に対向して配置されている対向基板１２０と、アクティブマトリクス基板１１０と対向基板１２０との間に挟持されている液晶層１３０と、から構成されている。
【００４８】
アクティブマトリクス基板１１０は、ガラスからなる第１透明基板１１と、液晶層１３０とは反対側において第１透明基板１１上に形成されている位相差板３１と、位相差板３１上に形成されている偏光板３２と、液晶層１３０と同じ側において第１透明基板１１上に形成されているゲート電極１２と、ゲート電極１２を覆って第１透明基板１１上に形成されているゲート絶縁膜１３と、ゲート電極１２の上方においてゲート絶縁膜１３上に形成された半導体膜１４と、半導体膜１４の周囲においてゲート絶縁膜１３上に形成されたソース／ドレイン電極１５と、半導体膜１４及びソース／ドレイン電極１５を覆ってゲート絶縁膜１３上に形成されたパッシベーション膜１６と、パッシベーション膜１６上に形成されたＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなる透過電極１７と、透過電極１７を部分的に覆ってパッシベーション膜１６上に形成された有機膜１８と、有機膜１８を覆う反射膜１９と、から構成されている。
【００４９】
偏光板３２の下方にはバックライト光源３３が配置されている。
【００５０】
以下に詳述するように、有機膜１８と有機膜１８を覆う反射膜１９とが本実施形態に係る反射板を構成している。
【００５１】
対向基板１２０は、ガラスからなる第２透明基板４１と、第２透明基板４１上に形成された位相差板４２と、位相差板４２上に形成された偏光板４３と、から構成されている。
【００５２】
光透過領域３０は、バックライト光源３３から発せられた光が透過する領域であり、この光を透過させるための透過電極１７は、光透過領域３０内に形成されている。
【００５３】
他方、光反射領域４０は、外部からの光が反射する領域であり、この光反射領域４０内には、有機膜１８と反射膜１９とからなる反射板が形成されている。
【００５４】
バックライト光源３３から発せられた光５０は透過電極１７を透過し、液晶表示パネル上に所定の画像を表示する。また、本液晶表示装置１００の外部から進入してきた外光５１は反射板を構成する反射膜１９において反射することにより、液晶表示パネル上に所定の画像を表示する。
【００５５】
アクティブマトリクス基板１１０の第１透明基板１１上には、相互に並行に形成された複数の走査線（図示せず）と、これら走査線と直交するように第１透明基板１１上に相互に平行に形成された複数の信号線（図示せず）と、信号線と走査線との交点近傍に形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、画素電極と、が形成されている。
【００５６】
薄膜トランジスタは、図１に示したゲート電極１２と、ゲート絶縁膜１３と、半導体膜１４と、ソース／ドレイン電極１５とによって構成されている。
【００５７】
画素電極は、相互に電気的に接続された反射膜１９と透過電極１７とから構成されており、ＴＦＴに対して電気的に接続されている。
【００５８】
画素電極の、透過電極１７と反射膜１９との間は、ＴＦＴを覆う有機膜１８によって相互に分離されている。
【００５９】
この有機膜１８の表面は、図７に示すように、ゆるやかな波形の第１の凹凸形状とされ、更に、この第１の凹凸形状の表面は、該第１の凹凸形状よりも微少な第２の凹凸形状（図９）とされている。
【００６０】
この有機膜１８の表面上には、反射膜１９が形成されている。この反射膜１９は、図８及び図１０に示すように、有機膜１８の表面形状を反映した形状とされている。すなわち、有機膜１８の表面の第１及び第２の凹凸形状と同様の凹凸形状が反射膜１９の表面にも形成されている。
【００６１】
次に、図２乃至図８を参照して、液晶表示装置１００のアクティブマトリクス基板１１０の製造方法を説明する。
【００６２】
先ず、図２に示すように、第１透明基板１１上にＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）のゲート電極１２および走査線（ゲート電極１２から紙面と垂直な方向に延びているため、図２には現れない）を形成する。
【００６３】
その後、図３に示すように、例えばシリコン窒化膜からなるゲート絶縁膜１３を、ゲート電極１２および走査線上を覆うようにして、第１透明基板１１上に成膜する。
【００６４】
続いて、半導体膜１４を構成するアモルファスシリコン膜と、オーミック接続層を構成するリン（燐）ドープアモルファスシリコン膜と、をゲート絶縁膜１３上に成膜した後で、フォトリソグラフィーにより、アモルファスシリコン膜とリンドープアモルファスシリコン膜とをアイランド状にパターン化することにより、図３に示すように、ゲート絶縁膜１３上に半導体膜１４を形成する。
【００６５】
その後、ＴＦＴのソース／ドレイン電極１５と信号配線（図示せず）とをゲート絶縁膜１３上に形成する。
【００６６】
その後、ソース−ドレイン間に残った半導体膜１４のリンドープアモルファスシリコン膜を除去し、図４に示すように、シリコン窒化膜からなるパッシベーション膜１６を一面に成膜する。
【００６７】
その後、ソース電極１５と透過電極１７とを相互に接続するためのスルーホール１６Ａをシリコン窒化膜に形成した後で、図４に示すように、スルーホール１６Ａの内面を覆うように透過電極１７としての酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜を形成する。
【００６８】
次いで、図５に示すように、パッシベーション膜１６及び透過電極１７上に一面に有機膜１８を構成する感光性アクリル樹脂１８Ａを全面に塗布する。
【００６９】
その後、図６に示すように、有機膜１８の表面を第１の凹凸パターン（第１の凹凸形状）に形成するためのフォトマスク３４を用いて、光反射領域４０及び光透過領域３０をそれぞれ適切な露光量で露光現像した後で、熱処理する。
【００７０】
その結果、図７に示すように、光反射領域４０内の有機膜１８の表面形状は、ゆるやかな波形の第１の凹凸パターン１に形成される。
【００７１】
また、図７に示すように、光透過領域３０の内部に形成されていた感光性アクリル樹脂１８Ａは全て露光されることにより、完全に除去される。
【００７２】
その後、例えばアルゴンあるいはヘリウムなどの不活性ガスを用いたドライエッチングを有機膜１８の表面に対して行うことにより、第１の凹凸パターン１の表面を、第１の凹凸パターン１よりも微少なパターンである第２の凹凸パターン（第２の凹凸形状）２（図９参照）に形成する。
【００７３】
この時、不活性ガスのイオン衝撃を主体としたエッチング処理を行うことにより、微小な凹凸パターンが得られる。
【００７４】
このようなエッチング処理を行う装置としては、通常のリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ：Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）装置を用い、該装置の処理室内に不活性ガスを導入し、例えば、１０Ｐａ以下の比較的低圧力でエッチングすればよい。
【００７５】
なお、微小な凹凸パターンはイオン衝撃による物理的なエッチングで形成されるため、イオン衝撃の少ないプラズマエッチングを適用しても微小な凹凸パターンは形成されない。
【００７６】
また、エッチング処理の際の雰囲気ガスの種類としては不活性ガスが適当であるが、有機膜１８を化学的にエッチングしないガスであれば他のガスを用いることもできる。ただし、還元性のガスは下地のＩＴＯ膜１７を還元してしまうので適当ではない。
【００７７】
酸素ガスや、酸素（酸素原子）を含むガスは、有機膜１８を化学的にエッチングしてしまうが、活性ガスに少量添加する程度であれば、エッチングレートを増加し、スループットを上げることができる。
【００７８】
ガスの種類と混合比、エッチング時の圧力、印加電力を適当に選ぶことにより微小な凹凸パターン２の形状を自由に制御することができる。
【００７９】
また、ドライエッチング時に下地のＩＴＯ膜１７やパッシベーション膜１６へのダメージがある場合には、微小な凹凸形状を形成する以外の場所をフォトレジストにより保護してドライエッチングを行い、その後で、フォトレジストを剥離すればよい。
【００８０】
微小な第２の凹凸パターン２における凹凸のピッチは、第１の凹凸形状における凹凸のピッチに比べてできるだけ小さい方がよい。
【００８１】
微小な第２の凹凸パターン２における凹凸のピッチが０．４μｍを超えるとほぼ同等な波長を持つ青い色の光を散乱して黄色付いてしまうため、該ピッチは０．４μｍ以下が望ましい。すなわち、第２の凹凸パターン２においては、相互に隣り合う２つの凸部間のピッチあるいは相互に隣り合う２つの凹部間のピッチは０．４μｍ以下に設定される。
【００８２】
また、第２の凹凸パターン２における凹凸のピッチや深さは、図９に示したように、できるだけ規則性がなく不均一（不規則）にした方が光の干渉が起こりにくい。
【００８３】
一方、第１の凹凸パターン１における凹凸は感光性有機膜１８のフォトリソグラフィーにより形成されるため、寸法の下限は露光精度により決まる。現在の一般的な液晶製造プロセスに用いられる大判ガラス用露光機の最小加工寸法は３μｍ程度である。例えば、一般的な寸法である３μｍの円形の凸形状を露光する場合、第１の凹凸パターン１における凹凸の最小ピッチは６μｍ以上となる。このピッチの寸法の上限は、凹凸が含まれる画素の大きさで決まる。画素の大きさは画面の大きさや解像度に応じて異なるが、携帯電話機に一般的に使用される対角２．２型（５．６ｃｍ）ＱＶＧＡ（２４０×３２０画素）を例にとると、一画素の大きさは約５０μｍ弱平方であり、光反射領域４０の大きさはその１／２乃至１／３程度である。その中に反射板が形成され、凹凸が少なくとも１ピッチ以上含まれる必要があるため、３０μｍ程度がピッチの上限となる。
【００８４】
次に、図８に示すように、反射膜１９を構成するモリブデン膜とアルミ膜とを成膜する。すなわち、本実施形態の場合、反射膜１９は、例えば、アルミ膜と他の金属（例えば、モリブデン）膜との積層膜である。ここで、モリブデン膜はアルミ膜とＩＴＯ膜の電池反応を抑制するためのバリア膜として機能する。
【００８５】
反射膜１９の膜厚は、厚くすると微小な第２の凹凸パターン２を埋めてしまうので、０．４μｍ以下であることが望ましい。
【００８６】
次に、アルミ膜とモリブデン膜とをフォトリソグラフィーによりパターン化し、反射膜１９を形成する。
【００８７】
この時、図８に示すように、反射電極として機能する反射膜１９と透過電極１７とは、反射膜１９の一部をなす電極接続部２０を介して、相互に電気的に接続されている。
【００８８】
なお、反射膜１９は、アルミ膜と他の金属（例えば、モリブデン）膜との積層膜に限らず、アルミを含む合金と他の金属との積層膜であっても良く、単に、アルミ膜からなるもののであっても良く、或いは、単に、アルミを含む合金からなるのであっても良い。
【００８９】
このようにして形成された反射板においては、反射膜１９の表面は、図８及び図１０に示すように、下地のゆるやかな凹凸パターン１及び微小な凹凸パターン２を反映した形状となっている。
【００９０】
位相差板３１及び偏光板３２は、任意の工程において（例えば、図８に示した構造が形成された後の工程あるいは図２に示した構造が形成される前の工程）、第１透明基板１１に取り付けられる。
【００９１】
この後、アクティブマトリクス基板１１０に配向膜（図示せず）を塗布し、同様に、別途形成された対向基板１２０にも配向膜を塗布する。次いで、これら両基板１１０、１２０の間の規定のギャップを形成するためのスペーサを介して、両基板１１０、１２０を相互に重ね、両基板１１０、１２０の間に液晶を注入し、両基板１１０、１２０の周囲をシール材により封止することにより、液晶表示装置１００が完成する。
【００９２】
完成後の液晶表示装置１００における光透過領域３０の位相差が１／４波長、光反射領域４０の位相差が１／２波長となるように、両領域４０、３０のギャップ差を設ける必要があるが、第１及び第２の凹凸パターン１、２を形成する感光性アクリル樹脂１８Ａの光透過領域３０内のＩＴＯ膜１７に対する平均高さをあらかじめ調整することにより、両領域４０、３０のギャップ差を設けることができる。
【００９３】
以上のような第１の実施形態によれば、有機膜１８の表面にはゆるやかな波状の第１の凹凸パターン１が形成され、さらに、第１の凹凸パターン１の表面には第１の凹凸パターン１よりも微小な第２の凹凸パターン２が形成されており、この有機膜１８上に形成された反射膜１９も、有機膜１８の表面形状を反映し、第１の凹凸パターン１及び該第１の凹凸パターン表面の第２の凹凸パターン２を有している。
【００９４】
第１の凹凸パターン１と第２の凹凸パターン２は凹凸のピッチや表面傾斜角度の分布は相互に大きく異なるため、凹凸の傾斜角度の周期性を無くすことができる。従って、凹凸の周期性に起因する光の干渉を無くし、反射板の色付きを無くすことができる。
【００９５】
光の干渉による反射板の色付きが無くなると、液晶表示装置の色付き対策として用いている偏光板の拡散糊を使用する必要がなくなる。その結果、生産コストを削減することができると同時に、反射率、コントラストなどの反射特性を改善することができる。特に、半透過型液晶表示装置の場合には、透過コントラストを改善することもできる。
【００９６】
なお、有機膜１８のゆるやかな波状の第１の凹凸パターン１は、例えば、感光性の有機膜を露光、現像、熱処理することにより形成することができ、微小な第２の凹凸パターン２は、第１の凹凸パターン１が形成されている有機膜表面に対するドライエッチング処理（例えば、不活性ガスによるリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理）により該第１の凹凸パターン１の表面形状を荒らすことによって形成することができる。更に、そのような第１及び第２の凹凸パターン１，２が形成された有機膜１８の表面上に反射膜１９を被着することによって、該反射膜１９を、有機膜１８の表面形状を反映したものとして形成することができる。
【００９７】
また、ドライエッチングによる第２の凹凸パターン２の形成に際しては、エッチングに用いるガスの種類や、圧力、印加する電力などの条件を適宜に選択することにより、凹凸の形状（ピッチ、深さなど）をある程度自由に制御することができる。
【００９８】
更に、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィー工程を用いることにより、第２の凹凸パターン２を形成したい場所にのみ選択的にエッチングを施すことも可能であり、これにより、有機膜１８の表面の一部にのみ第２の凹凸パターン２を形成することができる。
【００９９】
〔第２の実施形態〕
図１１は、本発明の第２の実施形態に係る反射板を備える液晶表示装置２００の断面図である。
【０１００】
液晶表示装置２００は、光反射板により周囲の光（外光）を反射させ、その反射光の透過及び遮断を切り替えることにより、所望の画像を表示する反射型液晶表示装置である。
【０１０１】
液晶表示装置２００は、アクティブマトリクス基板２１０と、アクティブマトリクス基板２１０に対向して配置されている対向基板１２０と、アクティブマトリクス基板２１０と対向基板１２０との間に挟持されている液晶層１３０と、から構成されている。
【０１０２】
アクティブマトリクス基板２１０は、ガラスからなる第１透明基板１１と、液晶層１３０と同じ側において第１透明基板１１上に形成されているゲート電極１２と、ゲート電極１２を覆って第１透明基板１１上に形成されているゲート絶縁膜１３と、ゲート電極１２の上方においてゲート絶縁膜１３上に形成された半導体膜１４と、半導体膜１４の周囲においてゲート絶縁膜１３上に形成されたソース／ドレイン電極１５と、半導体膜１４及びソース／ドレイン電極１５を覆ってゲート絶縁膜１３上に形成されたパッシベーション膜１６と、パッシベーション膜１６上に形成された有機膜１８と、有機膜１８を覆う反射膜１９と、から構成されている。
【０１０３】
以下に詳述するように、有機膜１８と有機膜１８を覆う反射膜１９とが本実施形態に係る反射板を構成している。
【０１０４】
対向基板１２０は、第１の実施形態の場合と同様に、ガラスからなる第２透明基板４１と、第２透明基板４１上に形成された位相差板４２と、位相差板４２上に形成された偏光板４３と、から構成されている。
【０１０５】
図１２乃至図１４は本発明の第２の実施形態に係る反射板を備えるアクティブマトリクス基板２１０の製造工程を示す縦断面図である。以下、図１２乃至図１４を参照して、アクティブマトリクス基板２１０の製造方法を説明する。
【０１０６】
パッシベーション膜１６を形成するまでの工程は上記の第１の実施形態における工程、すなわち、図２乃至図４に示した工程と同じである。
【０１０７】
本実施形態においては、パッシベーション膜１６としてシリコン窒化膜を成膜した後、図１２に示すように、スルーホール１６Ａを形成せずに、有機膜１８を構成する感光性ノボラック樹脂膜１８Ａを塗布する。
【０１０８】
その後、上記の第１の実施形態と同様にして、凹凸部を露光する。この際、第２の実施形態においては、凹凸部とともに有機膜１８にスルーホール２１を形成する。
【０１０９】
次に、図１３に示すように、ドライエッチングにより、微小な第二の凹凸パターン２を有機膜１８に形成した後、パッシベーション膜１６を貫通し、ソース／ドレイン電極１５に達するスルーホール２１を形成する。
【０１１０】
次いで、図１４に示すように、有機膜１８の表面及びスルーホール２１の内壁に覆う反射膜１９を形成する。反射膜１９は、例えば、銀からなる。ＴＦＴのソース電極１５と反射膜１９とはスルーホール２１を介して電気的に接続される。
【０１１１】
この後、第１の実施形態の場合と同様にして、アクティブマトリクス基板２１０と対向基板１２０とを相互に重ね合わせて、本実施形態に係る液晶表示装置２００が完成する。
【０１１２】
以上のような第２の実施形態によれば、上記の第１の実施形態と同様の効果が得られる。
【０１１３】
本実施形態においては、感光性有機膜１８Ａとしてアクリル樹脂、ノボラック樹脂を用いたが、その他の感光性樹脂を用いることも可能である。
【０１１４】
また、反射膜１９として用いたアルミ膜（第１の実施形態）に代えて、アルミとネオジウム、シリコン等の合金を用いることもでき、あるいは、銀（第２の実施形態）に代えて、銀合金を用いることもできる。
【０１１５】
また、バリア金属としてはモリブデンのほかに、チタンやクロムなど他の金属を用いることもできる。
【０１１６】
以上のような第２の実施形態によれば、上記の第１の実施形態と同様の効果が得られる他に、有機膜１８にスルーホール２１を形成し、反射膜１９とソース電極１５とをスルーホール２１を介して直結することにより、第１の実施形態における透明電極１７を省略することができる。
【０１１７】
なお、上記の各実施形態においては、第１の凹凸パターン１がゆるやかな波形に形成されている例を説明したが、本発明はこの例に限らず、第１の凹凸パターン１の凸部あるいは凹部のうちの少なくともどちらか一方の断面が弧状（円弧状）であれば、同様の効果が得られる。
【０１１８】
〔第３の実施形態〕
上記の第１の実施形態に係る液晶表示装置１００または第２の実施形態に係る液晶表示装置２００は種々の電子機器に応用することが可能である。その一例として、第１の実施形態に係る液晶表示装置１００を携帯電話機に応用した例を以下に説明する。
【０１１９】
図１５は、液晶表示装置１００を応用した携帯電話機２７５のブロック図である。
【０１２０】
携帯電話機２７５は、液晶パネル２６５、バックライト発生手段２６６及び映像信号を処理する映像信号処理部２６７からなる表示部２７６と、本携帯電話機２７５の各構成要素を制御する制御部２７７と、制御部２７７が実行するプログラムあるいは各種データを記憶する記憶部２７８と、無線信号を受信するための受信部２７９と、無線信号を送信するための送信部２８１と、キーボードまたはポインターからなる入力部２８２と、本携帯電話機２７５の各構成要素へ電力を供給する電源部２８３と、から構成されている。
【０１２１】
液晶パネル２６５には上記の第１の実施形態に係る液晶表示装置１００が用いられている。液晶表示装置１００を用いることにより、反射板の色付きを解消することができ、表示パネル２６５の視認性を向上させることができる。
【０１２２】
また、液晶表示装置１００を用いた液晶パネル２６５は、携帯型パーソナルコンピュータあるいはノート型パーソナルコンピュータあるいはデスクトップ型パーソナルコンピュータのモニタに適用することもでき、さらには、携帯電話機のみならず、携帯情報端末装置その他の電子機器のディスプレイとして使用することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る反射板を備える液晶表示装置の断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る反射板の製造方法における工程図として示す反射板の縦断面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る反射板の製造方法における工程図として示す反射板の縦断面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る反射板の製造方法における工程図として示す反射板の縦断面図である。
【図５】本発明の第１の実施形態に係る反射板の製造方法における工程図として示す反射板の縦断面図である。
【図６】本発明の第１の実施形態に係る反射板の製造方法における工程図として示す反射板の縦断面図である。
【図７】本発明の第１の実施形態に係る反射板の製造方法における工程図として示す反射板の縦断面図である。
【図８】本発明の第１の実施形態に係る反射板の製造方法における工程図として示す反射板の縦断面図である。
【図９】図７のＡ部を示す要部拡大の縦断面図である。
【図１０】図８のＡ部を示す要部拡大の縦断面図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態に係る反射板を備える液晶表示装置の断面図である。
【図１２】本発明の第２の実施形態に係る反射板の製造方法における工程図として示す反射板の縦断面図である。
【図１３】本発明の第２の実施形態に係る反射板の製造方法における工程図として示す反射板の縦断面図である。
【図１４】本発明の第２の実施形態に係る反射板の製造方法における工程図として示す反射板の縦断面図である。
【図１５】本発明に係る液晶表示装置を応用した携帯電話機のブロック図である。
【図１６】光の干渉が発生する第１の原因を説明する図である。
【図１７】光の干渉が発生する第２の原因を説明する図である。
【符号の説明】
【０１２４】
１      第１の凹凸パターン（第１の凹凸形状）
２      第２の凹凸パターン（第２の凹凸形状）
１１    第１透明基板
１２    ゲート電極
１３    ゲート絶縁膜
１４    半導体膜
１５    ソース／ドレイン電極
１６    パッシベーション膜
１７    透過電極
１８    有機膜
１９    反射膜
２０    電極接続部
２１    スルーホール
３４    フォトマスク
１００  第１の実施形態に係る反射板を備える液晶表示装置
１１０  アクティブマトリクス基板
１２０  対向基板
１３０  液晶層
２００  第２の実施形態に係る反射板を備える液晶表示装置
２１０  アクティブマトリクス基板
【図１】
2006221055.tif 000003
【図２】
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【図３】
2006221055.tif 000005
【図４】
2006221055.tif 000006
【図５】
2006221055.tif 000007
【図６】
2006221055.tif 000008
【図７】
2006221055.tif 000009
【図８】
2006221055.tif 000010
【図９】
2006221055.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
2006221055.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
2006221055.tif 000015
【図１４】
2006221055.tif 000016
【図１５】
2006221055.tif 000017
【図１６】
2006221055.tif 000018
【図１７】
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