(57)【要約】      （修正有）【課題】ブランケットローラーのブランケット上に均一な厚さのインキ塗膜を形成、塗膜除去版で、ブランケット上に所望の画素パターンを形成するパターンの形成方法において、ブランケット上の不必要な残存インキ塗膜除去手段を提供する。【解決手段】塗布液供給手段、該塗布液供給手段から供給された塗布液からなる塗膜４を形成するブランケットラローラー３、該ブランケットローラー３上の塗膜をパターン化し、所望の画素パターンと逆の凸部を有する逆パターンが形成された除去版１、前記除去版１によりブランケット上に形成した所望の画素パターンを転移する基板を支持する基板支持部２を有するパターン形成装置において、前記ブランケットローラー３が、前記除去版１及び基板より大きく、かつ、前記ブランケットローラー３上の画素パターンの外側の残存塗膜６を転写除去する除去手段５を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液供給手段、該塗布液供給手段から供給された塗布液からなる塗膜を形成するブランケットラローラー、該ブランケットローラー上の塗膜をパターン化し、所望の画素パターンと逆の凸部を有する逆パターンが形成された除去版、前記除去版によりブランケット上に形成した所望の画素パターンを転移する基板を支持する基板支持部を有するパターン形成装置において、前記ブランケットローラーが、前記除去版及び基板より大きく、かつ、前記ブランケットローラー上の画素パターンの外側の残存塗膜を転写除去する除去手段を有することを特徴とする微細パターンの形成装置。
【請求項２】
前記除去手段は、前記基板支持部に、画素パターンを転移する基板の周囲に位置するように配置されていることを特徴とする、請求項１記載の微細パターンの形成装置。
【請求項３】
前記除去手段は、前記基板支持部とは異なる位置に配置されていることを特徴とする、請求項１記載の微細パターンの形成装置。
【請求項４】
前記除去手段は、転写フィルムから構成されていることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれかに記載のパターン形成装置。
【請求項５】
前記転写フィルムは、エンドレス状に構成されていることを特徴とする、請求項４に記載のパターン形成装置。
【請求項６】
前記除去手段は、さらに洗浄手段を備えていることを特徴とする、請求項１ないし５のいずれかに記載のパターン形成装置。
【請求項７】
さらに乾燥手段を有することを特徴とする、請求項６記載のパターン形成装置。
【請求項８】
前記塗膜除去版が、ガラス、金属またはこれらの複合材料のいずれかで形成されていることを特徴とする、請求項１ないし７のいずれかに記載のパターン形成装置。
【請求項９】
前記塗膜除去版が、平板状、または円筒状のいずれかからなることを特徴とする、請求項８記載の微細印刷パターン形成装置。
【請求項１０】
塗布液供給手段から供給した塗布液を、ブランケットラローラー上に塗膜を形成する塗膜形成工程、該ブランケットローラー上の塗膜をパターン化するために所望の画素パターンと逆の凸部を有する逆パターンが形成された除去版を用いるパターン形成工程、前記除去版によりブランケット上に形成した所望の画素パターンを転移する転移工程を有するパターン形成方法において、前記パターン形成工程で生じるブランケットローラー上の画素パターンの外側の残存塗膜を転写除去する除去工程を有することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１１】
前記除去工程が、転移工程と同時に行うことを特徴とする請求項１０記載のパターン形成方法。
【請求項１２】
前記除去工程が、転移工程と異なる工程で行うことを特徴とする請求項１０記載のパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ等の微細印刷パターンを形成するパターン形成方法、およびパターン形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示装置に用いるカラーフィルタを製造する手段として、従来からフォトリソ法が一般的に用いられている。このフォトリソ法は、赤、緑、青の各色の画素を形成するには、塗布、露光、現像の各工程を経なければならず、作業効率が低くなっていた。
一方、カラーフィルタの効率的な製造を目的として、大型基板を用い、この基板に必要なカラーフィルタを多面付けすることで、生産効率を向上させる手法が用いられている。
【０００３】
しかしながら、前記カラーフィルタの製造工程に用いる、露光装置、現像装置は、カラーフィルタ基板の大型化に伴い、ますます高価な装置となり、カラーフィルタの廉価な供給の妨げとなっていた。
このフォトリソ法に代わるカラーフィルタの製造手段として、印刷法が挙げられる。この印刷法は、フォトリソ法と異なり、露光、現像の各工程を必要としないので、前記露光装置、現像装置を必要としないので、効率的にカラーフィルタを製造する手法として注目されている。
【０００４】
この印刷法の具体的手法として、例えば、特許文献１に示されるように、各色画素に対応した着色インキをブランケットローラーに塗布し、前記ブランケットローラー上にインキ塗膜を形成し、次に、前記インキ塗膜を、所望の画素パターンと逆の凸部を有する逆パターンが形成された塗膜除去版を用い、余剰塗膜を除去し、ブランケットローラー上に所望の画素パターンを形成する。そして、このブランケットローラー上の画素パターンを、透明基板に転写することで、透明基板上に所望の画素パターンを得ることができる。
【特許文献１】特開２０００−１４１５９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記特許文献１に記載のパターン形成方法は、表面がシリコーン樹脂等により形成されたブランケットローラーに塗布された塗布材の外周部は厚くなり、ブランケットローラー上に残存する塗布材が生じるおそれがあった。
ここで、ブランケットローラーの長さ及び／または幅が、前記除去版及び基板と同等またはそれ以上であると、ブランケットローラーの外縁部に、除去版または基板に転写されなかった塗膜が残ってしまう問題があった。この外縁部に残った塗膜は、繰り返しパターンを形成していくに従い、厚みが増し、基板にパターン形成するのに支障をきたすおそれがあった。
【０００６】
本発明の目的は、ブランケットローラーのブランケット上に均一な厚さのインキ塗膜を形成、塗膜除去版で、ブランケット上に所望の画素パターンを形成するパターンの形成方法において、ブランケット上に不必要な残存インキ塗膜が発生しないパターン形成方法およびそれに用いる形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、塗布液供給手段、該塗布液供給手段から供給された塗布液からなる塗膜を形成するブランケットラローラー、該ブランケットローラー上の塗膜をパターン化し、所望の画素パターンと逆の凸部を有する逆パターンが形成された除去版、前記除去版によりブランケット上に形成した所望の画素パターンを転移する基板を支持する基板支持部を有するパターン形成装置において、前記ブランケットローラーが、前記除去版及び基板より大きく、かつ、前記ブランケットローラー上の画素パターンの外側の残存塗膜を転写除去する除去手段を有することを特徴とする微細パターンの形成装置である。
【０００８】
請求項２記載の発明は、前記除去手段は、前記基板支持部に、画素パターンを転移する基板の周囲に位置するように配置されていることを特徴とする、請求項１記載の微細パターンの形成装置である。
【０００９】
請求項３記載の発明は、前記除去手段は、前記基板支持部とは異なる位置に配置されていることを特徴とする、請求項１記載の微細パターンの形成装置である。
【００１０】
請求項４記載の発明は、前記除去手段は、転写フィルムから構成されていることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれかに記載のパターン形成装置である。
【００１１】
請求項５記載の発明は、前記転写フィルムは、エンドレス状に構成されていることを特徴とする、請求項４に記載のパターン形成装置である。
【００１２】
請求項６記載の発明は、前記除去手段は、さらに洗浄手段を備えていることを特徴とする、請求項１ないし５のいずれかに記載のパターン形成装置である。
【００１３】
請求項７記載の発明は、さらに乾燥手段を有することを特徴とする、請求項６記載のパターン形成装置である。
【００１４】
請求項８記載の発明は、前記塗膜除去版が、ガラス、金属またはこれらの複合材料のいずれかで形成されていることを特徴とする、請求項１ないし７のいずれかに記載のパターン形成装置である。
【００１５】
請求項９記載の発明は、前記塗膜除去版が、平板状、または円筒状のいずれかからなることを特徴とする、請求項８記載の微細印刷パターン形成装置である。
【００１６】
請求項１０記載の発明は、塗布液供給手段から供給した塗布液を、ブランケットラローラー上に塗膜を形成する塗膜形成工程、該ブランケットローラー上の塗膜をパターン化するために所望の画素パターンと逆の凸部を有する逆パターンが形成された除去版を用いるパターン形成工程、前記除去版によりブランケット上に形成した所望の画素パターンを転移する転移工程を有するパターン形成方法において、前記パターン形成工程で生じるブランケットローラー上の画素パターンの外側の残存塗膜を転写除去する除去工程を有することを特徴とするパターン形成方法である。
【００１７】
請求項１１記載の発明は、前記除去工程が、転移工程と同時に行うことを特徴とする請求項１０記載のパターン形成方法である。
【００１８】
請求項１２記載の発明は、前記除去工程が、転移工程と異なる工程で行うことを特徴とする請求項１０記載のパターン形成方法である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、塗膜除去版で余剰塗膜を除去したブランケットローラーには、不必要な残存インキ塗膜がなく、塗布ローラーから画素パターンに必要な大きさの画素塗膜を転移させ、画素パターンを形成可能としたので、均一な厚みの画素パターンを基板に転写形成でき、しかも、基板に不必要な残存インキ塗膜が転移するおそれがなくなった。
【００２０】
また、さらに洗浄装置を設けることで、除去手段の塗膜を洗浄除去することで、ブランケットローラーのブランケットから不必要な塗膜が、基板に転移することがなく、安定したパターンの形成が可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
図１、図２は、本発明のパターン形成装置を用いたパターン形成工程の一例を示す説明図である。
塗布液供給装置（図示せず）と、この供給装置から供給された塗布液を塗膜化し、表面に塗膜を有するブランケットを有するブランケットローラー３を備え、かつ、前記塗膜を、所望の画素パターンと逆の凸部を有する逆パターンが形成された塗膜除去版１を具備したことを特徴とするパターン形成装置である。
また、ブランケットローラー４表面のブランケットへ転移されずに残った残存塗膜Ａを除去する除去装置５、さらに前記除去装置５に転移した残存塗膜６を洗浄除去する洗浄装置８が配置されている。
そして、前記塗膜除去版１の後には、画素パターンを形成するための基板Ｂが基板支持部２に配置されている。
ここで、画素パターンを形成する基板Ｂは、ガラス、プラスチックシートのいずれかを用いることができる。なお、前記基板に画素パターンが転移しやすいように、表面処理を施す、安定した画素パターンを形成するため、平滑処理を施すなど、目的に応じて適宜選択して処理を行うことが可能である。
【００２２】
具体的に画素パターンの形成は、まず、図１（ａ）に示すように、塗布液供給装置から塗布液を回転しているブランケットローラー３のブランケットに、均一な厚みに塗膜を形成する。
そして、図１（ｂ）に示すように、前記塗膜が形成されたブランケット３を、所望の画素パターンと逆の凸部を有する逆パターンが形成された塗膜除去版１に接触させ、余剰塗膜を除去し、ブランケット３上に画素パターン７を形成する。
次に、図１（ｃ）に示すように、前記ブランケット３上の画素パターン７を基板Ｂに転移させ、基板Ｂに画素パターン７を形成する。
【００２３】
次に、ブランケットローラー３から基板Ｂに転移されず、ブランケットローラー３上に残った残存塗膜６は、基板支持部２の周囲に設けられた除去装置５により除去される。
前記除去装置５は、図２に示すように、転写フィルムから構成されている。この転写フィルムは、１対の支持ローラー９、１０に掛け渡されているエンドレス状に構成することで、ブランケットローラー３から順に残存塗膜６の除去が可能となる。
また、除去装置５に転移した残存塗膜６は、洗浄装置７により、洗浄除去される。また、洗浄後、乾燥工程で乾燥させることで、次の、画素パターンの転移が確実に行うことが可能となる。
【００２４】
ここで、前記除去装置が転写フィルムからなる場合、転写フィルムとして、具体的には、機材は、天然繊維、または合成繊維からなる織布または不織布、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、等の合成樹脂系基材、ゴム基材、アルミニウム、ステンレス等の金属系基材またはこれらの複合機材からなる。
また、前記基材の表面には、粘着性が付与されていることが好ましく、具体的には、ポリエステル系樹脂、アルキド系樹脂、シリコーン系樹脂、天然ゴム、合成ゴム等からなる粘着材が用いることができる。
さらに、残存塗膜６に対する濡れ性を向上させるため、接触面、または不要な残存塗膜面にオゾン処理、コロナ処理を施してもよい。
【００２５】
除去装置５は、図１では、基板の周囲に設け、基板に画素パターンを転移すると同時に、残存塗膜を除去可能としているが、この除去装置は、基板の前工程である、除去版の周囲に設けてもよいし、除去版と基板支持部の間に設けてもよい。
また、基板支持部で基板に画素パターンを転移した後、別に除去装置を設けてもよい。
さらに、周囲に設けるのではなく、両端にのみ、また前後端のみに設けてもよい。
【００２６】
前記除去版５は、ガラス、金属、樹脂またはこれらの複合材のいずれから構成されていてもよく、また、形状は、平板状、または円筒状のいずれでもよい。
【産業上の利用可能性】
【００２７】
本発明の微細形成パターンは、配線パターン、抵抗パターン、蛍光体パターン、電極パターン、あるいはカラーフィルタ等を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明のパターン形成方法の一例を示す説明図である。
【図２】図１のパターン形成装置の除去装置の説明図である。
【符号の説明】
【００２９】
１…除去版
２…基板支持部
３…ブランケットローラー
４…塗膜
５…除去装置
６…残存塗膜
７…画素パターン
９、１０…支持ローラー
【図１】
2006281489.tif 000003
【図２】
2006281489.tif 000004