(57)【要約】【課題】  散乱のランダム性が増し表示性能に優れた電気光学装置、該電気光学装置用基板の製造方法及び該電気光学装置を備えた電子機器を提供する。【解決手段】  散乱層２６は、気泡２８を含み気泡２８の外形に応じた形状の凸状部２７を複数ランダムに備え、反射層２９は基板４とで散乱層２６を挟むように設けられ、凸状部２７に重なって反射層２９の凸面状部２９Ａがランダムに複数設けられているので、気泡２８の外形や位置等を反射層２９の凸面状部２９Ａの形状や位置等に反映させて、入射光等を凸面状部２９Ａでランダムに反射することができ、液晶表示装置１の表示性能を向上させることが可能となる。塗布材料３８を基板４に塗布する工程と、塗布材料３８の中に気泡２８を含む状態で減圧乾燥する工程とを備えているので、例えば気泡２８を含んだ状態で塗布材料３８を乾燥し、気泡２８を含む散乱層２６を基板４上に形成することができる。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学物質を保持する基板を有する電気光学装置において、
前記基板上に設けられ、入射光を反射可能な反射層と、
前記反射層上に設けられ、内部に気泡を含む散乱層と
を具備することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
電気光学物質を保持する基板を有する電気光学装置において、
前記基板上に設けられ、内部に形成された気泡と当該気泡の外形に応じた形状を有する凸状部を複数有する散乱層と、
前記散乱層上に設けられ、前記凸状部に重なる凸面状部を複数有し、入射光を反射可能な反射層と
を具備することを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
前記気泡は複数のサイズが異なる気泡を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記凸状部は、前記基板の表面から該表面に垂直な方向の高さが不均一となるように形成されていることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項５】
基板と、前記基板上に形成された反射層と、前記反射層で反射される光を散乱させるための散乱層を有する電気光学装置用基板の製造方法において、
前記散乱層を形成するための沸点の異なる複数の溶剤を含んだ塗布材料を、前記基板上に塗布して塗布層を形成する工程と、
前記複数の溶剤のうち少なくとも１つの溶剤の沸点より高温、かつその他の溶剤のうち少なくとも１つの溶剤の沸点より低温で加熱しながら、前記塗布層を気泡を含んだ状態で乾燥させる工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項６】
基板と、前記基板上に形成された反射層及び散乱層とを有する電気光学装置用基板の製造方法において、
前記散乱層を形成するための塗布材料内に気泡を形成する工程と、
前記塗布材料を前記基板上に塗布して塗布層を形成する工程と、
前記塗布層を前記気泡を含んだ状態で乾燥させる工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項７】
前記気泡を形成する工程では、前記塗布材料の内部に気体を取り込むように前記塗布材料を攪拌し、
前記塗布する工程は前記攪拌する工程により攪拌され前記気体を取り込んだ前記塗布材料を塗布する
ことを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項８】
前記気泡を形成する工程では、前記塗布材料の中にガスを注入し、
前記塗布する工程は前記ガスが注入された前記塗布材料を塗布することを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項９】
前記乾燥する工程は、前記塗布材料が塗布された前記基板を収容する密閉容器内の圧力を、１５秒以上１２０秒以下より好ましくは６０秒で１００Ｐａ以上３００Ｐａ以下より好ましくは２００Ｐａに減圧することを特徴とする請求項６から請求項８のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１０】
前記乾燥する工程では、前記塗布層表面に前記気泡の外形に応じた形状を有する複数の凸状部を形成し、
前記乾燥する工程の後に、乾燥された前記塗布層の前記凸状部に、前記基板の表面に垂直な方向に高低差を設ける工程を更に具備することを特徴とする請求項５から請求項９のうちのいずれか一項に記載の記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項１から請求項４に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を散乱するための散乱層を有する基板を備えた電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法及び該電気光学装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、パーソナルコンピュータや携帯電話機等といった電子機器の表示装置として液晶表示装置等が用いられている。この液晶表示装置は、例えば２枚の対向する基板の間に液晶が封入された液晶パネルを備えており、例えば一方の基板上には、液晶パネルに入射する入射光を散乱させるための散乱層が形成されている。散乱層は、例えば樹脂材料により形成されており、散乱層の表面には、光を散乱させるために例えば複数の凸状部が形成されている。散乱層上のこれらの凸状部は、例えばフォトリソグラフィ技術を用いたり、凹凸部を有する筒状の型材を基板上の樹脂材料に押圧したりして形成されている（例えば、特許文献１参照。）。  
【特許文献１】特開２００３−３２４２５５号公報（段落[００５０]、図１）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、例えばフォトリソグラフィ技術で用いられるフォトマスクや凹凸部を有する型材を用いて散乱層に複数の凸状部を形成する場合には、散乱層に形成される複数の凸状部のランダム性が不十分になり易く、場合によっては液晶表示装置に入射する入射光を散乱層で十分に散乱させることができず表示性能が低下する、という問題がある。
【０００４】
また、基板に塗布材料を塗布し減圧下で塗布材料中に気泡を発生させて、例えば気泡を含む散乱層を形成する方法も考えられるが、この場合には処理時間を短縮することが難しい。
【０００５】
本発明は、上述の課題に鑑みてなされるもので、散乱のランダム性が増し表示性能に優れた電気光学装置、該電気光学装置用基板の製造方法及び該電気光学装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の主たる観点に係る電気光学装置は、電気光学物質を保持する基板を有する電気光学装置において、前記基板上に設けられ、入射光を反射可能な反射層と、前記反射層上に設けられ、内部に気泡を含む散乱層とを具備することを特徴とする。
【０００７】
ここで、内部とは、散乱層の内部及び表面を含んでいる。
【０００８】
本発明では、散乱層に気泡が含まれており基板と散乱層との間に反射層が設けられているので、気泡と散乱層との界面で屈折率が異なり、例えば散乱層中に入射し反射層で反射した反射光を、気泡により散乱させることができ、表示性能を向上させることが可能となる。例えば散乱層に気泡を含ませるときに、気泡はランダムに含まれるので、ランダムに含まれた気泡により反射光をランダムに散乱させることができる。
【０００９】
本発明の他の観点に係る電気光学装置は、電気光学物質を保持する基板を有する電気光学装置において、前記基板上に設けられ、内部に形成された気泡と当該気泡の外形に応じた形状を有する凸状部を複数有する散乱層と、前記散乱層上に設けられ、前記凸状部に重なる凸面状部を複数有し、入射光を反射可能な反射層とを具備することを特徴とする。
【００１０】
ここで、内部とは、散乱層の内部及び表面を含んでいる。
【００１１】
本発明では、例えば気泡の外形に応じて散乱層に形成された凸状部に重なって反射層の凸面状部が複数設けられているので、例えば入射光等を凸面状部で散乱させて、表示性能を向上させることができる。例えば気泡がランダムに散乱層に含まれている場合には、凸状部がランダムに設けられ、この結果、凸面状部もランダムに設けられるので、入射光を凸面状部でランダムに散乱することができる。
【００１２】
本発明の一の形態によれば、前記気泡は複数のサイズが異なる気泡を有することを特徴とする。これにより、例えば基板と散乱層との間に反射層が設けられている場合に、散乱層中に入射し反射層で反射した反射光が気泡を透過するときに、気泡のサイズの違いによって反射光をよりランダムに散乱させることができるので、表示性能を更に向上させることが可能となる。一方、反射層が基板とで散乱層を挟むように設けられる場合には、気泡のサイズが異なるので、反射層の凸面状部の形状（サイズ）が異なるようになり、形状の異なる複数の凸面状部により入射光等をよりランダムに散乱させることが可能となる。
【００１３】
本発明の一の形態によれば、前記凸状部は、前記基板の表面から該表面に垂直な方向の高さが不均一となるように形成されていることを特徴とする。これにより、例えばフォトリソグラフィ技術を用いて散乱層の凸状部の高さをそれぞれ異ならせ、反射層の凸面状部の高さや形状が異なるようにすることで、異なる高さや形状の凸面状部を用いて入射光をよりランダムに散乱させることができる。
【００１４】
本発明の他の観点にかかる電気光学装置用基板の製造方法は、基板と、前記基板上に形成された反射層と、前記反射層で反射される光を散乱させるための散乱層を有する電気光学装置用基板の製造方法において、前記散乱層を形成するための沸点の異なる複数の溶剤を含んだ塗布材料を、前記基板上に塗布して塗布層を形成する工程と、前記複数の溶剤のうち少なくとも１つの溶剤の沸点より高温、かつその他の溶剤のうち少なくとも１つの溶剤の沸点より低温で加熱しながら、前記塗布層を気泡を含んだ状態で乾燥させる工程とを具備することを特徴とする。
【００１５】
本発明では、散乱層を形成するための沸点の異なる複数の溶剤を含んだ塗布材料を、基板上に塗布して塗布層を形成する工程と、複数の溶剤のうち少なくとも１つの溶剤の沸点より高温、かつその他の溶剤のうち少なくとも１つの溶剤の沸点より低温で加熱しながら、塗布層を気泡を含んだ状態で乾燥させる工程とを具備しているので、例えば沸点が高い少なくとも１つの溶剤で塗布材料を溶解させつつ沸点が低い少なくとも１つの溶剤を沸騰させて確実に塗布材料中に気泡を含ませることができると共に、気泡を含む散乱層を基板上に形成することができる。塗布材料に含まれる気泡は、例えば製造時等にランダムに塗布材料に含まれるので、複数の気泡をランダムに含む散乱層を基板上に形成することができる。
【００１６】
本発明の他の観点にかかる電気光学装置用基板の製造方法は、基板と、前記基板上に形成された反射層及び散乱層とを有する電気光学装置用基板の製造方法において、前記散乱層を形成するための塗布材料内に気泡を形成する工程と、前記塗布材料を前記基板上に塗布して塗布層を形成する工程と、前記塗布層を前記気泡を含んだ状態で乾燥させる工程とを具備することを特徴とする。
【００１７】
本発明では、散乱層を形成するための塗布材料内に気泡を形成する工程と、塗布材料を基板上に塗布して塗布層を形成する工程と、塗布層を前記気泡を含んだ状態で乾燥させる工程とを具備しているので、予め気泡が形成された塗布材料を基板上に塗布し気泡を含んだ状態で乾燥し気泡を含んだ状態の散乱層を基板上に設けることが可能となる。
【００１８】
本発明の一の形態によれば、前記気泡を形成する工程では、前記塗布材料の内部に気体を取り込むように前記塗布材料を攪拌し、前記塗布する工程は前記攪拌する工程により攪拌され前記気体を取り込んだ前記塗布材料を塗布することを特徴とする。これにより、攪拌により塗布材料中に気泡を含ませ、気泡を含む塗布材料を基板に塗布することができるので、乾燥する工程で気泡を含む散乱層を基板に設けることが可能となる。
【００１９】
本発明の一の形態によれば、前記気泡を形成する工程では、前記塗布材料の中にガスを注入し、前記塗布する工程は前記ガスが注入された前記塗布材料を塗布することを特徴とする。これにより、例えばパイプを用いたガスの注入により塗布材料中に気泡を含ませ、気泡を含む塗布材料を基板に塗布することができるので、乾燥する工程で気泡を含む散乱層を基板に設けることが可能となる。
【００２０】
本発明の一の形態によれば、前記乾燥する工程は、前記塗布材料が塗布された前記基板を収容する密閉容器内の圧力を、１５秒以上１２０秒以下より好ましくは６０秒で１００Ｐａ以上３００Ｐａ以下より好ましくは２００Ｐａに減圧することを特徴とする。
【００２１】
これにより、作業時間を抑えると共に、基板に塗布された塗布材料を急激に沸騰させて気泡を発生させ、気泡により散乱層の表面に形成される凸状部が略隣り合うようにすることができる。
【００２２】
本発明の一の形態によれば、前記乾燥する工程では、前記塗布層表面に前記気泡の外形に応じた形状を有する複数の凸状部を形成し、前記乾燥する工程の後に、乾燥された前記塗布層の前記凸状部に、前記基板の表面に垂直な方向に高低差を設ける工程を更に具備することを特徴とする。これにより、例えば基板の表面に垂直な方向の高低差がほとんどない複数の凸状部が設けられている場合に比べて、基板の表面に垂直な方向の高低差を利用して例えば入射光をよりランダムに散乱することができる。
【００２３】
本発明の他の観点にかかる電子機器は、上述した電気光学装置を備えたことを特徴とする。
【００２４】
本発明では、光をランダムに散乱させるための散乱層を有する電気光学装置を備えているので、散乱のランダム性が増し表示性能に優れた電子機器を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。なお、以下実施形態を説明するにあたっては、電気光学装置としての液晶表示装置、具体的にはＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）アクティブマトリックス方式の液晶表示装置、液晶表示装置を用いた電子機器を例にあげるが、これに限られるものではない。また、以下の図面においては各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００２６】
（第１の実施形態）
【００２７】
図１は本発明に係る第１の実施形態の液晶表示装置の概略斜視図である。
【００２８】
本実施形態の液晶表示装置１は、液晶パネル２と、液晶パネル２に接続して設けられた回路基板３とを備えている。なお、液晶表示装置１は、液晶パネル２を収容する図示を省略したフレーム等の付帯機構が必要に応じて付設される。
【００２９】
液晶パネル２は、矩形状の基板４と、基板４に対向して設けられた基板５と、基板４、５との間に設けられたシール材６と、基板４、５及びシール材６により囲まれて形成された領域Ｓに封入された液晶７と、基板４上に設けられた液晶駆動用ＩＣ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）８Ａ、８Ｂ及び８Ｃとを備えている。
【００３０】
基板４は、例えばガラスや合成樹脂等の光透過性材料により形成されている。基板４のＸ方向の長さは基板５より長く設定されており、基板４は基板５の一端部から張り出す張り出し部４ａを備えている。基板４には、信号電極９、信号電極９に一端が接続された信号電極用配線１０、基板５の液晶７側の面に設けられた走査電極１１に上下導通部を介して一端が接続された走査電極用配線１２、１３、信号電極用配線１０、走査電極用配線１２、１３の他端等にそれぞれ接続された液晶駆動用ＩＣ８Ａ、８Ｂ及び８Ｃ、及び液晶駆動用ＩＣ８Ａ、８Ｂ及び８Ｃにそれぞれ信号を入力するための配線１４、１５、１６が設けられている。
【００３１】
信号電極９は、Ｘ方向に複数設けられており、例えば金属等の導電電材料により形成されている。信号電極９は、複数のＴＦＤ１７に接続されており、ＴＦＤ１７は、ＴＦＤ１７に対応して設けられた矩形状の画素電極１８に接続されている。
【００３２】
信号電極用配線１０は、一端が信号電極９に接続されており、他端は液晶駆動用ＩＣ８Ａの図示を省略した出力端子に例えばＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｆｉｌｍ）等を介して接続されている。
【００３３】
走査電極用配線１２、１３は、それぞれの一端が図示を省略した上下導通部を介して走査電極１１に接続されており、他端が液晶駆動用ＩＣ８Ｂ、８Ｃの図示を省略した出力端子にＡＣＦ等を介して接続されている。
【００３４】
液晶駆動用ＩＣ８Ａ、８Ｂ及び８Ｃは、張り出し部４ａに実装されており、上述したように信号電極用配線１０、走査電極用配線１２、１３に電気的に接続された出力端子と、後述する入力端子とを備えている。これにより、液晶駆動用ＩＣ８Ａ、８Ｂ及び８Ｃの出力端子からの出力信号が信号電極用配線１０、走査電極用配線１２、１３を介して信号電極９、走査電極１１に伝達されるように構成されている。
【００３５】
配線１４は、一端が液晶駆動用ＩＣ８Ａの入力端子にＡＣＦ等を介して接続されており、他端が後述する回路基板３のＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔｓ）基板２０上の配線２１に例えばＡＣＦ等を介して接続されている。
【００３６】
配線１５、１６は、それぞれ一端が液晶駆動用ＩＣ８Ｂ、８Ｃの入力端子にＡＣＦ等を介して接続されており、他端が回路基板３のＦＰＣ基板２０上の配線２２、２３に例えばＡＣＦを介して接続されている。
【００３７】
また、基板５は、例えばガラスや合成樹脂等の光透過性材料により形成されており、基板５の基板４に対向する側の面には、複数の走査電極１１がＹ方向に設けられている。走査電極１１は、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：インジウムスズ酸化物）の透明導電材料により形成されており、上下導通部を介して基板５の液晶７側の面に引き回された走査電極用配線１２、１３に接続されている。
【００３８】
なお、信号電極９及び走査電極１１の本数は、液晶パネル２の解像度や表示領域の大きさに応じて適宜変更可能である。
【００３９】
シール材６は、例えばエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂により基板５の外形に沿うように枠状に設けられている。液晶７を注入するための注液口は、基板４、基板５及びシール材６により形成されている。この注液口は、図示を省略した封止材により封止されている。
【００４０】
液晶７は、基板４、５の間かつシール材６により囲まれて形成された領域内に封入されており、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶が用いられている。
【００４１】
図２は図１に示す液晶表示装置のＡ−Ａ断面図である。
【００４２】
基板４の液晶側の表面４ｂには、図２に示すように、入射光を散乱させるための散乱層２６が形成されている。散乱層２６には、バックライトからの光を透過させるための透光部となる開口２６ａが複数形成されている。散乱層２６の表面（液晶７側の面）側には、入射光を散乱させるための凸状部２７が複数形成されている。例えば散乱層２６の表面に平面部分がほとんどないように凸状部２７が複数形成されている。散乱層２６は、例えば、樹脂材料により形成されている。
【００４３】
基板４とで散乱層２６を挟むように、散乱層２６の表面（液晶７側の面）に反射層２９が設けられており、反射層２９は凸状部２７に重なる凸面状部２９Ａを複数備えている。これにより、反射層２９の液晶７側の表面は凹凸形状が形成されている。反射層２９の構成材料には、例えばアルミニウムやアルミニウム合金が用いられている。
【００４４】
この散乱層２６の開口２６ａ及び反射層２９の表面（液晶７側の面）側に、着色層３０Ｒ（赤）、３０Ｇ（緑）及び３０Ｂ（青）が形成されている。着色層材料には、例えば顔料により着色された感光性樹脂を用いることができる。なお、着色層３０Ｒ及び着色層３０Ｇ、着色層３０Ｇ及び着色層３０Ｂ、及び、着色層３０Ｂ及び着色層３０Ｒが隣接する部分には、それぞれ隣り合う着色層が積層して形成された図示を省略した遮光層が形成されている。着色層３０Ｒ、３０Ｇ、３０Ｂ及び遮光層上にはオーバーコート層３１が形成されており、オーバーコート層３１上には着色層３０Ｒ、３０Ｇ及び３０Ｂに対応するように複数の画素電極１８が形成されている。画素電極１８は、例えばＩＴＯ等の透明導電材料によって形成されている。画素電極１８上には配向膜３２が形成されている。配向膜３２の表面にはラビング処理が施されている。基板５上に設けられた走査電極１１等の上には例えば配向膜３３等が設けられている。
【００４５】
一方、基板４の一端部に接続された回路基板３は、基板４に接続された可撓性を有するＦＰＣ基板２０と、ＦＰＣ基板２０上に設けられた配線２１、２２及び２３とを備えている。ＦＰＣ基板２０の構成材料には、例えばポリイミドフィルム、ポリエステル、ポリプロピレン等が用いられている。配線２１、２２及び２３等は、例えば図示を省略した外部機器に接続されている。これにより、外部機器からの電気信号を配線２１等を介して信号電極９や走査電極１１に伝えることができるように構成されている。
【００４６】
（液晶表示装置の製造方法）
【００４７】
次に液晶表示装置１の製造方法について図面を参照しながら説明する。
【００４８】
図３は液晶表示装置１の製造工程のフローチャート、図４は感光性樹脂を溶剤に溶解した塗布材料を基板４に塗布した状態（図３に示すステップ１）の部分概略断面図、図５は基板４に塗布した塗布材料を沸騰させた状態（図３に示すステップ２）の部分概略断面図である。
【００４９】
洗浄、乾燥した基板４を準備し、図４に示すように、例えばスピンコート法によりポジ型の感光性樹脂を溶剤に溶かした塗布材料３８を基板４に塗布する（ステップ１）。このとき用いる溶剤は、例えば沸点が異なり沸騰し易い複数（本実施形態では２種類）の溶剤を含んでいる。具体的には、例えば、低融点の溶剤として沸点が６５°ＣのＴＨＦ（Ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）、高沸点の溶剤として沸点が１４３°Ｃ〜１４９°ＣのＰＥＧＭＥＡ（Ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ）ｍｅｔｈｙｌｅｔｈｅｒ  ａｃｒｙｌａｔｅ）が用いられている。なお、このとき用いる溶剤の数及び種類はこれに限定されず、例えば３種類以上の沸点の異なる溶剤を混合して用いるようにしてもよいし、ＴＨＦの代わりにトリクロロエチレンやテトラクロロエチレンを用いる等種々の変更が可能である。このとき、例えば後述するように塗布材料を沸騰させるときに、例えば６５°Ｃで全ての溶剤が沸騰するのを避けるために、溶剤の沸点の温度差が所定値（例えば２０°Ｃ）以上確保されていることが好ましい。
【００５０】
次に、図５に示すように、例えば基板４を載置可能なステージ３６と、ステージ３６に載置された基板４上の塗布材料３８を加熱可能な例えばヒーター３７と、ステージ３６等を収容し基板４を収容する密閉空間を形成する図示を省略した密閉容器とを備えた減圧乾燥装置を用いて、塗布材料３８の中に気泡２８を含ませ、気泡２８を含んだ状態で減圧乾燥する（ステップ２）。すなわち、ヒーター３７を用いて、低沸点の溶剤が沸騰し高沸点の溶剤を沸騰しない温度まで、塗布材料３８の温度を上昇させ、高沸点の溶剤で感光性樹脂３５を溶解させつつヒーター３７を用いて低沸点の溶剤を沸騰させて、図５に示すように気泡２８を感光性樹脂３５中に含ませ、気泡２８を含んだ感光性樹脂３５を減圧乾燥装置を用いて減圧乾燥する（ステップ２）。
【００５１】
なお、ヒーター３７による加熱に加えて減圧乾燥処理装置の密閉容器内の圧力を制御（減圧）することで、低沸点の溶剤を沸騰させ、感光性樹脂３５中に気泡２８を含めるようにしてもよい。具体的には、密閉容器内の圧力を、所定時間（１５秒以上１２０秒以下）で所定圧力（１００Ｐａ以上３００Ｐａ以下より好ましくは２００Ｐａ）に減圧することが好ましい。これにより、この内圧を急激に減少させることで、溶剤から発生する気泡２８の量を増加させ、感光性樹脂３５の表面に気泡２８による凸状部２７が隣接して形成されるようにすることができる。
【００５２】
次に、図示を省略したプリベークユニットで感光性樹脂３５をプリベークする（ステップ３）。なお、ステップ２の気泡２８を含んだ状態で減圧乾燥する工程で低沸点の溶剤を沸騰させる例を示したが、ステップ２で気泡２８を含めずにステップ３のプリベーク工程で低沸点の溶剤を沸騰させて気泡２８を含めるようにしてもよい。
【００５３】
次に、気泡２８を含む感光性樹脂３５をフォトマスクを介して露光し、光が照射された部分を現像液により溶解させて除去し透光部となる図２に示す開口２６ａ及び散乱層２６を形成する（ステップ４）
【００５４】
次いで、スパッタリング等により散乱層２６を覆うようにアルミニウムを略一定の厚さで形成し、エッチングにより反射層２９を形成する。次に、着色層材料が反射層２９を覆うように基板４上に着色層材料を塗布し、プリベークし、図示を省略した露光装置等により露光、現像の各処理を施すことで、図２に示すように着色層３０Ｒを形成する。同様にして着色層３０Ｇ及び３０Ｂを形成する。
【００５５】
次に、着色層３０Ｒ、３０Ｇ及び３０Ｂを覆うようにオーバーコート層３１を形成し、オーバーコート層３１上に着色層３０Ｒ、３０Ｇ及び３０Ｂに対応するようにＩＴＯからなる薄膜を同様に形成しパターニングして画素電極１８を形成する。更に、画素電極１８を覆うように配向膜３２を形成しラビング処理を施す。このようにして、液晶表示装置用基板としてのカラーフィルター基板を形成する。一方、基板５に走査電極１１を形成し、走査電極１１を覆うように配向膜３３を形成しラビング処理を施す。
【００５６】
続いて、基板４上にシール材６を設け、両基板４、５を貼り合わせる（ステップ５）。
【００５７】
そして、シール材６に形成された注液口から液晶７を注液し注液口を封止し、基板４、５の外側に偏光板を設け、回路基板３を液晶パネル２に電気的に接続する等して液晶表示装置１を製造する（ステップ６）。
【００５８】
以上で液晶表示装置１の製造方法についての説明を終了する。
【００５９】
このように本実施形態によれば、散乱層２６は、気泡２８を含み気泡２８の外形に応じた形状の凸状部２７を複数ランダムに備え、反射層２９は基板４とで散乱層２６を挟むように設けられ、凸状部２７に重なって反射層２９の凸面状部２９Ａがランダムに複数設けられているので、気泡２８の外形や位置等を反射層２９の凸面状部２９Ａの形状や位置等に反映させて、入射光等を凸面状部２９Ａでランダムに反射することができ、液晶表示装置１の表示性能を向上させることが可能となる。
【００６０】
また、散乱層２６を形成するための塗布材料３８を基板４に塗布する工程（ステップ１）と、塗布材料３８の中に気泡２８を含む状態で減圧乾燥する工程（ステップ２）とを備えているので、例えば気泡２８を含んだ状態で塗布材料３８を乾燥し、気泡２８を含む散乱層２６を基板４上に形成することができる。
【００６１】
更に、塗布材料３８は沸点の異なる例えば２種類の溶剤を含んでおり、塗布材料３８に気泡２８を含んだ状態で減圧乾燥する工程（ステップ２）では、基板４に塗布された塗布材料３８を加熱することとしたので、例えば低沸点の溶剤の沸点より高温、かつ高沸点の溶剤の沸点より低温となる温度に２種類の溶剤を加熱し、高沸点の溶剤で塗布材料３８を溶解させつつ低沸点の溶剤を沸騰させて発生した気泡２８を塗布材料３８中に含ませることができる。
【００６２】
また、減圧乾燥する工程（ステップ２）では、加熱に加えて減圧乾燥装置の密閉容器内の圧力を、所定時間（１５秒以上１２０秒以下）で所定圧力（１００Ｐａ以上３００Ｐａ以下より好ましくは２００Ｐａ）に減圧する場合には、作業時間を抑えると共に、基板４に塗布された塗布材料３８を急激に沸騰させて多数の気泡２８を発生させ、多数の気泡２８により散乱層２６の表面に高密度に凸状部２７を形成し、凸状部２７に重なる凸面状部２９Ａも高密度に形成することができるので、凸面状部による散乱効果を向上させることができる。
【００６３】
（第１の変形例）
【００６４】
次に、本発明に係る第１の変形例の液晶表示装置について説明する。なお、本変形例以降の実施形態及び変形例においては、上記実施形態と同一の構成部材等には同一の符号を付しその説明を省略し、異なる箇所を中心に説明する。
【００６５】
図６は本発明にかかる第１の変形例の液晶表示装置の部分概略断面図である。
【００６６】
本変形例の液晶表示装置は、基板４上に散乱層２６Ａが設けられており、基板４の表面４ｂに垂直なＺ方向の高さが不均一な凸状部２７等がランダムに複数形成されている。すなわち、凸状部２７と凸状部２７との間に、基板４の表面４ｂからのＺ方向の高さが高さｈ１の凹状部４７が形成されていたり、別の凸状部２７には、基板４の表面４ｂからの高さが高さｈ１と異なる高さｈ２である平坦部４９が形成されていたりしている。凸状部２７は、気泡２８の形状に応じた形状を有しており内部には気泡２８が含まれている。散乱層２６Ａの凸状部２７、凹状部４７及び平坦部４９上には、それぞれ反射層２９の凸面状部２９Ａ、凹状部２９Ｂ及び平坦部２９Ｃが重なって設けられている。なお、凹状部２９Ｂや平坦部２９Ｃ等の形状はこれらに限定されず例えばＶ字状や逆Ｖ字状であってもよい。
【００６７】
次に本変形例の液晶表示装置の製造方法について図面を参照しながら説明する。
【００６８】
図７は第１の変形例の液晶表示装置の製造工程を説明するための部分概略断面図である。
【００６９】
本変形例では、例えば図３に示す減圧乾燥する工程（ステップ２）の後に、フォトリソグラフィ技術により感光性樹脂３５の層に基板４の表面４ｂに垂直なＺ方向に、高低差を設ける工程を備えている。この高低差を設ける工程では、凸状部２７に気泡２８を含む感光性樹脂３５を、フォトマスク４５を介して、図示を省略した露光装置により露光する。このとき、例えば光を透過可能な透過部Ｅがランダムに形成されたフォトマスク４５を用いる。続いて、図示を省略した現像装置により現像し、凸状部２７等にランダムに複数の凹状部４７や平坦部４９等を形成する。これにより、例えば高さｈ１、ｈ２等が、それぞれ異なる凹状部４７や平坦部４９をランダムに形成する。次いで、上記実施形態と同様に透光部及び散乱層２６Ａを形成し、散乱層２６Ａ上に反射層２９を形成する。これにより、図６に示す反射層２９には、凸面状部２９Ａに加えて、凹状部２９Ｂや平坦部２９Ｃが形成される。なお、以降の製造工程については上記実施形態と同様なので説明を省略する。
【００７０】
以上で液晶表示装置の製造方法についての説明を終了する。
【００７１】
このように本変形例によれば、気泡２８を含んだ状態で減圧乾燥する工程（ステップ２）の後に、減圧乾燥された感光性樹脂３５にＺ方向の高さを不均一にする工程を更に備えており、凹状部４７、平坦部４９等はＺ方向の高さｈ１、ｈ２がそれぞれ異なっており、反射層２９の凹状部２９Ｂや平坦部２９Ｃが散乱層２６Ａの凹状部４７や平坦部４９に重なった形状であるので、Ｚ方向の高低差がほとんどない複数の凸状部２７が設けられている第１の実施形態の場合に比べて、凹状部２９Ｂや平坦部２９Ｃ等のＺ方向の高低差を利用して例えば入射光をよりランダムに散乱することができる。
【００７２】
（第２の実施形態）
【００７３】
次に、本発明に係る第２の実施形態の液晶表示装置について説明する。
【００７４】
図８は本発明に係る第２の実施形態の液晶表示装置の部分概略断面図、図９は第２の実施形態で用いられる攪拌機の部分概略断面図である。
【００７５】
本実施形態の液晶表示装置５０は、反射層５１の位置が上記実施形態及び変形例と異なっている。すなわち、上実施形態等では、基板４と反射層２９とで散乱層２６を挟むように、反射層２９が設けられているのに対し、本実施形態の反射層５１は基板４上に開口５２ａを形成するための間隔をあけて設けられ、反射層５１上に散乱層５２が形成されている。散乱層５２の内部には、気泡５３が複数含まれている。散乱層５２の液晶７側の表面には、気泡５３による凸状部が形成されていてもよい。
【００７６】
次に、本実施形態の液晶表示装置５０の製造工程について説明する。なお、本実施形態では、図３に示す塗布材料の塗布工程（ステップ１）と、気泡を含んだ状態で減圧乾燥する工程（ステップ２）のみが異なるので、プリベーク工程（ステップ３）以降のステップについては説明を省略する。
【００７７】
まず、スパッタリング等により基板４を覆うようにアルミニウムを略一定の厚さで形成し、エッチングにより反射層５１を形成する。
【００７８】
続いて、ポジ型の感光性樹脂３５を溶剤に溶かした塗布材料を、図９に示す攪拌機７０を用いて塗布材料７３中に気体を取り込み塗布材料７３中に気泡７４が含まれるように攪拌する。攪拌機７０は、塗布材料７３を収容可能な容器７１と、塗布材料７３を攪拌するために例えば鉛直方向に対して傾斜して設けられ羽を備えた攪拌棒７２と、攪拌棒７２を回転させるための図示を省略した駆動部等を備えている。
【００７９】
なお、攪拌機７０を用いる代わりに、例えば、図１０に示すガス注入装置８０を用いて、塗布材料８３の中にガスを注入し塗布材料８３中に気泡８４を含めるようにしてもよい。ガス注入装置８０は、塗布材料８３を収容可能な容器８１と、容器８１内に鉛直方向に対して傾斜して設けられたパイプ８２と、パイプ８２に接続されパイプ８２内に例えばエアを供給するための図示を省略したエア供給部とを備えている。エア供給部は、ポンプを備えており、ポンプを駆動することでパイプ８２を介して塗布材料８３中に気泡８４を含めることができるように構成されている。なお、パイプ８２が１つ設けられている例を示したが、これに限定されず例えばパイプ８２の口径とは異なる口径の図示を省略したパイプをパイプ８２と同様に容器８１内に設けるようにしてもよい。この場合には、大きさ異なる気泡を塗布材料８３中に含めることができるので、散乱のランダム性を更に向上させることができる散乱層を得ることができる。
【００８０】
次に、気泡８４を含んだ塗布材料８３を例えばディスペンサー等を用いて基板４上に塗布し、塗布材料８３が気泡８４を含んだ状態で、上述したように減圧乾燥装置で塗布材料８３を乾燥する。
【００８１】
なお、気泡を含む散乱層を反射層５１上に形成する方法はこれらに限定されず、例えば、塗布材料を反射層５１上に塗布した後、上述したプリベークユニット等により塗布材料を加熱沸騰し、乾燥させて気泡を含む散乱層を反射膜５１上に形成するようにしても良い。
【００８２】
以上で液晶表示装置５０の製造方法についての説明を終了する。
【００８３】
このように本実施形態によれば、散乱層５２に気泡５３が含まれていると共に基板４と散乱層５２との間に反射層５１が設けられているので、気泡５３と散乱層５２との界面で屈折率が異なり、散乱層５２中に入射し反射層５１で反射した反射光を、気泡５３によりランダムに散乱させることができ、表示性能を向上させることが可能となる。
【００８４】
また、気泡５３は散乱層５２の内部に設けられているので、例えば散乱層５２の表面でなく内部に含まれた気泡５３を、反射光等の散乱に用いることができる。このとき、例えば表面に比べて内部にはより多くの気泡を含ませることができるので、気泡５３によるより大きな散乱効果を得ることが可能となる。
【００８５】
更に、塗布材料中に気体を取り込み塗布材料が気泡５３を含むように塗布材料を攪拌し、気泡５３を含む塗布材料を基板４に塗布するので、塗布された塗布材料を減圧乾燥することで、気泡５３を内部に含む散乱層５２を基板４に設けることが可能となる。
【００８６】
なお、塗布材料の中にガス注入装置によりガスを注入し、ガスが注入された塗布材料を塗布する場合にも、塗布された塗布材料を減圧乾燥することで、気泡５３を内部に含む散乱層５２を基板４に設けることが可能となる。なお、例えば攪拌機やガス注入装置を用いて塗布材料中に気泡５３を含めるようにするので、減圧乾燥装置にヒーターを設けることが不要となるので、低コスト化を図ることができる。
【００８７】
（第２の変形例）
【００８８】
次に、本発明に係る第２の変形例の液晶表示装置について説明する。
【００８９】
図１１は本発明に係る第２の変形例の液晶表示装置の散乱層の部分概略断面図である。
【００９０】
本変形例では、基板４上に散乱層４０が設けられており、散乱層４０の表面（基板４側とは反対側の面）には、例えば基板４の表面４ｂに垂直なＺ方向で基板４の表面４ｂから突出する高さｈ３が異なる凸状部４１、４２等が複数形成されている。例えば、凸状部４１の高さｈ３は、凸状部４２の高さより高く、凸状部４１、４２の内部には、それぞれ気泡４３、４４が含まれており、気泡４３のサイズ（直径）は、気泡４４のサイズより大きい。これにより、Ｚ方向の高さが異なる凸状部４１、４２等により、散乱層４０の表面には、Ｚ方向の高さの異なる凹凸がランダムに形成されている。また、上記実施形態と同様に、反射層５７と基板４とで散乱層４０を挟むように、反射層５７が設けられており、例えば大小の凸状部４１、４２に重なって反射層５７の大小の凸面状部５７Ａ、５７Ｂ等が設けられている。
【００９１】
塗布材料中に異なるサイズの気泡４３、４４等を含めるために、例えば、上述した口径の異なる複数のパイプを備えた気泡注入装置を用いるようにすればよい。
【００９２】
このように本変形例によれば、散乱層４０中には、複数のサイズが異なる気泡４３、４４が含まれ、サイズの異なる気泡４３、４４により形成された凸状部４１、４２等により散乱層４０の表面に凹凸がランダムに形成されており、凸状部４１、４２等に重なるようにサイズの異なる複数の凸面状部５７Ａ、５７Ｂ等が設けられているので、これらの凸面状部５７Ａ、５７Ｂにより入射光等をよりランダムに散乱させることが可能となる。
【００９３】
（第３の変形例）
【００９４】
図１２は本発明にかかる第３の変形例の液晶表示装置の散乱層の部分概略断面図である。
【００９５】
本変形例の液晶表示装置は、第２の変形例の液晶表示装置と、反射層の位置が異なる。すなわち、基板４と散乱層４０との間に反射層６０が形成されている。
【００９６】
このように本変形例によれば、散乱層４０中に複数のサイズが異なる気泡４３、４４が含まれていると共に基板４と散乱層４０との間に反射層６０が設けられているので、例えば入射光が散乱層４０中に入射し反射層６０で反射し気泡４３、４４を通過するときに、気泡４３、４４のサイズの違いによってより反射光をランダムに散乱させ、表示性能を更に向上させることが可能となる。
【００９７】
（第３の実施形態・電子機器）
【００９８】
次に、上述した液晶表示装置１や５０を備えた本発明の第３の実施形態に係る電子機器について説明する。
【００９９】
図１３は本発明の第３の実施形態にかかる電子機器の表示制御系の全体構成の概略構成図である。
【０１００】
電子機器３００は、表示制御系として例えば図１３に示すように液晶パネル２及び表示制御回路３９０などを備え、その表示制御回路３９０は表示情報出力源３９１、表示情報処理回路３９２、電源回路３９３及びタイミングジェネレータ３９４などを有する。
【０１０１】
また、液晶パネル２には表示領域Ｉを駆動する液晶駆動用ＩＣ８Ａを含む駆動回路３６１を有する。
【０１０２】
表示情報出力源３９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備えている。更に表示情報出力源３９１は、タイミングジェネレータ３９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路３９２に供給するように構成されている。
【０１０３】
また、表示情報処理回路３９２はシリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３６１へ供給する。また、電源回路３９３は、上述した各構成要素に夫々所定の電圧を供給する。
【０１０４】
このように本実施形態によれば、電子機器３００に備えられた液晶パネル２は、入射光や反射光をランダムに散乱するための散乱層２６、５３等及び散乱層２６等に重なる反射層２９等を備えているので、表示性能に優れた電子機器を得ることができる。
【０１０５】
具体的な電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピュータなどの他に液晶表示装置が搭載されたタッチパネル、プロジェクタ、液晶テレビやビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上述した例えば液晶表示装置１が適用可能なのは言うまでもない。
【０１０６】
なお、本発明の電子機器は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲において上述した各例を組み合わせても良い。
【０１０７】
例えば、上述の実施形態ではＴＦＤ型の液晶表示装置１について説明したがこれに限られるものではなく、例えばＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｅｒ）アクティブマトリクス型、パッシブマトリクス型の液晶表示装置であってもよい。更には、反射半透過型に限らず反射型であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】本発明に係る第１の実施形態の液晶表示装置の概略斜視図である。
【図２】図１に示す液晶表示装置のＡ−Ａ断面図である。
【図３】図３は図１に示す液晶表示装置の製造工程のフローチャートである。
【図４】感光性樹脂を溶剤に溶解した塗布材料を基板に塗布した状態（図３に示すステップ１）の部分概略断面図である。
【図５】基板に塗布した塗布材料を沸騰させた状態（図３に示すステップ２）の部分概略断面図である。
【図６】本発明にかかる第１の変形例の液晶表示装置の部分概略断面図である。
【図７】第１の変形例の液晶表示装置の製造工程を説明するための部分概略断面図である。
【図８】本発明に係る第２の実施形態の液晶表示装置の部分概略断面図である。
【図９】第２の実施形態で用いられる攪拌機の部分概略断面図である。
【図１０】塗布材料に気泡を含めるために用いられる気体注入装置の部分概略断面図である。
【図１１】本発明にかかる第２の変形例の液晶表示装置の散乱層の部分概略断面図である。
【図１２】本発明にかかる第３の変形例の液晶表示装置の散乱層の部分概略断面図である。
【図１３】本発明に係る第３の実施形態の電子機器の表示制御系の概略構成図である。
【符号の説明】
【０１０９】
１  液晶表示装置、  ２  液晶パネル、  ３  回路基板、  ４、５  基板、  ７  液晶、  ２６  散乱層、  ２７  凸状部、  ２８  気泡、  ２９  反射層、  ２９Ａ  凸面状部、ｈ１〜ｈ３  高さ、  ３８  塗布材料、  ３００  電子機器
【図１】
2006139021.tif 000003
【図２】
2006139021.tif 000004
【図３】
2006139021.tif 000005
【図４】
2006139021.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2006139021.tif 000009
【図８】
2006139021.tif 000010
【図９】
2006139021.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
2006139021.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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