(57)【要約】  【課題】  波長の変動等の影響を受けずに適切な光量制御を既存の部品で実現する。  【解決手段】  光源と光ディスクとの間の光路中に配置される立ち上げミラー４に、第１の領域３１と、第２の領域３２とを形成する。第１の領域３１は、光源から出射されるレーザー光の一部を透過させてモニタ用検出器に導く。第２の領域３２は、上記レーザー光の残りを反射させて光ディスクに導く。第１の領域３１は、少なくとも第２の領域３２の内部に形成されている。立ち上げミラー４は、反射領域を元々有しているので、この立ち上げミラー４を利用してモニタ用光学素子を容易に実現することができる。また、第１の領域３１と第２の領域３２という領域で入射光を分離するため、立ち上げミラー４に入射するレーザー光の波長の変動等があっても、その影響を受けずに、第１の領域３１を介して得られるモニタ光に基づいて適切な光量制御を行うことができる。【選択図】      図１
2006073171.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と光ディスクとの間の光路中に配置されるモニタ用光学素子であって、
上記光源から出射される光ビームの一部をモニタ用検出器に導く第１の領域と、
上記光ビームの残りを上記光ディスクに導く第２の領域とを有し、
上記第１の領域は、少なくとも上記第２の領域の内部に形成されていることを特徴とするモニタ用光学素子。
【請求項２】
上記第１の領域は、上記第２の領域の内部で、かつ、上記光源から出射される光ビームの光軸と交わる平面内で、その光軸中心を含む１個のスポット状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のモニタ用光学素子。
【請求項３】
上記第１の領域は、上記第２の領域の内部またはその内部から外部にまたがる領域内で、かつ、上記光源から出射される光ビームの光軸と交わる平面内で、複数箇所に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のモニタ用光学素子。
【請求項４】
上記第１の領域の面積は、上記第２の領域の面積の５％以上２０％以下であることを特徴とする請求項２または３に記載のモニタ用光学素子。
【請求項５】
上記第１の領域は、上記第２の領域の内部で、複数のスポット状に形成されていることを特徴とする請求項１または３に記載のモニタ用光学素子。
【請求項６】
上記複数のスポットは、ランダムに配置されていることを特徴とする請求項５に記載のモニタ用光学素子。
【請求項７】
上記複数のスポットは、マトリクス状に配置されていることを特徴とする請求項５に記載のモニタ用光学素子。
【請求項８】
上記スポットは、直径０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下の円形であることを特徴とする請求項５から７のいずれかに記載のモニタ用光学素子。
【請求項９】
上記第１の領域は、上記第２の領域の内部で、かつ、上記光源から出射される光ビームの光軸と交わる平面内で、少なくとも１個のリング状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のモニタ用光学素子。
【請求項１０】
上記第１の領域は、上記光軸中心を囲むように互いに非接触で配置される複数のリング状に形成されていることを特徴とする請求項９に記載のモニタ用光学素子。
【請求項１１】
上記リングの線幅は、０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項９または１０に記載のモニタ用光学素子。
【請求項１２】
上記第１の領域は、上記光源から出射される光ビームの光軸と交わる平面内で、少なくとも１本のスリット状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のモニタ用光学素子。
【請求項１３】
上記第１の領域は、上記光源から出射される光ビームの光軸中心を通る１本のスリットで形成されていることを特徴とする請求項１２に記載のモニタ用光学素子。
【請求項１４】
上記スリットは、上記第２の領域の内部から外部にまたがって形成されていることを特徴とする請求項１２または１３に記載のモニタ用光学素子。
【請求項１５】
上記スリットの幅は、０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１２から１４のいずれかに記載のモニタ用光学素子。
【請求項１６】
上記第１の領域は、上記光源から出射される光ビームの一部を透過させて上記モニタ用検出器に導く透過領域であり、
上記第２の領域は、上記光ビームの残りを反射させて上記光ディスクに導く反射領域であることを特徴とする請求項１から１５のいずれかに記載のモニタ用光学素子。
【請求項１７】
上記反射領域における反射率は、９６％以上であることを特徴とする請求項１６に記載のモニタ用光学素子。
【請求項１８】
上記第１の領域は、上記光源から出射される光ビームのうち、特定波長の光ビームの一部を透過させて上記モニタ用検出器に導く透過機能と、他の波長の光ビームの一部を反射させて上記モニタ用検出器に導く反射機能とを両方有しており、
上記第２の領域は、特定波長の光ビームの残りを反射させて上記光ディスクに導く反射機能と、他の波長の光ビームの残りを透過させて上記光ディスクに導く透過機能とを両方有していることを特徴とする請求項１から１５のいずれかに記載のモニタ用光学素子。
【請求項１９】
上記第２の領域における反射率および透過率は、ともに９６％以上であることを特徴とする請求項１８に記載のモニタ用光学素子。
【請求項２０】
上記第２の領域は、誘電体多層膜を含んで形成されていることを特徴とする請求項１から１９のいずれかに記載のモニタ用光学素子。
【請求項２１】
光ビームを出射する光源と、
上記光源と光ディスクとの間に配置される立ち上げミラーと、
上記光源から出射される光ビームの出力を制御するためのモニタ用検出器とを備え、
上記立ち上げミラーは、請求項１から１７、２０のいずれかに記載のモニタ用光学素子で構成されていることを特徴とする光ピックアップ。
【請求項２２】
波長の異なる光ビームを出射する複数の光源と、
上記各光源と光ディスクとの間に配置され、入射する光ビームを選択的に透過または反射させる合波素子と、
上記各光源から出射される光ビームの出力を制御するためのモニタ用検出器とを備え、
上記合波素子は、請求項１から１５、１８から２０のいずれかに記載のモニタ用光学素子で構成されていることを特徴とする光ピックアップ。
【請求項２３】
透明基板上に犠牲層を形成する第１の工程と、
上記犠牲層上にレジストを塗布し、パターニングする第２の工程と、
上記レジストパターンに対応するパターンで残るように、上記犠牲層をエッチングする第３の工程と、
上記透明基板上に、上記レジストおよび残存している上記犠牲層を覆うように誘電体多層膜を成膜する第４の工程と、
上記犠牲層およびその上層の誘電体多層膜をエッチングして除去することにより、第１の領域および第２の領域を形成する第５の工程とを有し、
上記第１の領域は、上記第５の工程によって上記透明基板上で上記犠牲層が除去された領域であって、上記第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が透過してモニタ用検出器に到達する領域であり、
上記第２の領域は、上記透明基板上で上記誘電体多層膜が残存している領域であって、上記光ビームの残りが反射して光ディスクに到達する領域であることを特徴とするモニタ用光学素子の製造方法。
【請求項２４】
上記第３の工程では、上記犠牲層を上記レジストパターンの内側までエッチングすることを特徴とする請求項２３に記載のモニタ用光学素子の製造方法。
【請求項２５】
上記レジストは、耐熱性２００℃以上の材料で構成されていることを特徴とする請求項２３または２４に記載のモニタ用光学素子の製造方法。
【請求項２６】
透明基板上に第１の犠牲層を形成する第１の工程と、
上記第１の犠牲層上に第１のレジストを塗布し、パターニングする第２の工程と、
上記第１のレジストのパターンに対応するパターンで残るように、上記第１の犠牲層をエッチングする第３の工程と、
上記透明基板上に、上記第１のレジストおよび残存している上記第１の犠牲層を覆うように第１の誘電体多層膜を成膜する第４の工程と、
上記第１の犠牲層およびその上層の第１の誘電体多層膜をエッチングして除去することにより、残存している第１の誘電体多層膜からなる第２の領域を形成する第５の工程と、
上記透明基板上に上記第１の誘電体多層膜を覆うように第２の犠牲層を形成する第６の工程と、
上記第２の犠牲層上に第２のレジストを塗布し、上記第１のレジストのパターンを反転させたパターンで上記第２のレジストをパターニングする第７の工程と、
上記第２のレジストのパターンに対応するパターンで残るように、上記第２の犠牲層をエッチングする第８の工程と、
上記透明基板上に、上記第２のレジストおよび残存している上記第２の犠牲層を覆うように第２の誘電体多層膜を成膜する第９の工程と、
上記第２の犠牲層およびその上層の第２の誘電体多層膜をエッチングして除去することにより、残存している第２の誘電体多層膜からなる第１の領域を形成する第１０の工程とを有し、
上記第１の領域は、上記第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が透過または反射してモニタ用検出器に到達する領域であり、
上記第２の領域は、上記光ビームの残りが反射または透過して光ディスクに到達する領域であることを特徴とするモニタ用光学素子の製造方法。
【請求項２７】
上記第３の工程では、上記第１の犠牲層を上記第１のレジストパターンの内側までエッチングすることを特徴とする請求項２６に記載のモニタ用光学素子の製造方法。
【請求項２８】
上記第１のレジストおよび上記第２のレジストは、耐熱性２００℃以上の材料で構成されていることを特徴とする請求項２６または２７に記載のモニタ用光学素子の製造方法。
【請求項２９】
上記第１の領域は、上記光源から出射される光ビームの一部を反射させて上記モニタ用検出器に導く反射領域であり、
上記第２の領域は、上記光ビームの残りを透過させて上記光ディスクに導く透過領域であることを特徴とする請求項１から１５のいずれかに記載のモニタ用光学素子。
【請求項３０】
上記第１の領域は、金属膜で構成されていることを特徴とする請求項２９に記載のモニタ用光学素子。
【請求項３１】
上記第１の領域は、誘電体膜と金属膜とを積層して構成されていることを特徴とする請求項２９に記載のモニタ用光学素子。
【請求項３２】
上記金属膜は、マスク法により形成されていることを特徴とする請求項３０または３１に記載のモニタ用光学素子。
【請求項３３】
上記金属膜は、スクリーン印刷法により形成されていることを特徴とする請求項３０または３１に記載のモニタ用光学素子。
【請求項３４】
上記誘電体膜は、マスク法により形成されていることを特徴とする請求項３１に記載のモニタ用光学素子。
【請求項３５】
上記誘電体膜は、上記光源からの入射光の波長に応じて上記第１の領域の反射率が変化するように形成されていることを特徴とする請求項３１または３４に記載のモニタ用光学素子。
【請求項３６】
斜面同士が対向するように貼り合わされる２個の断面三角形状のプリズムをさらに有しており、
一方のプリズムの斜面上には、上記第１の領域および上記第２の領域が形成されており、
他方のプリズムの斜面上には、入射光をその偏光状態に応じて透過または反射させる偏光分離膜が形成されていることを特徴とする請求項２９から３５のいずれかに記載のモニタ用光学素子。
【請求項３７】
上記光源からの光が上記他方のプリズムよりも先に上記一方のプリズムに入射するように、上記各プリズムが貼り合わされて上記光源と上記光ディスクとの間の光路中に配置されていることを特徴とする請求項３６に記載のモニタ用光学素子。
【請求項３８】
上記各プリズムは、接着剤を介して貼り合わされていることを特徴とする請求項３６または３７に記載のモニタ用光学素子。
【請求項３９】
上記各プリズムは、エアギャップを介して貼り合わされていることを特徴とする請求項３６または３７に記載のモニタ用光学素子。
【請求項４０】
上記光源からの入射光と、上記一方のプリズムの斜面に対する法線とのなす角度をθとし、０°＜θ＜９０°とすると、
θ＜３５°
を満足することを特徴とする請求項３９に記載のモニタ用光学素子。
【請求項４１】
斜面同士が対向するように貼り合わされる２個の断面三角形状のプリズムをさらに有しており、
一方のプリズムの斜面上には、入射光をその偏光状態に応じて透過または反射させる偏光分離膜が形成されており、
上記第１の領域は、上記偏光分離膜を開口して形成されており、上記第２の領域は、上記偏光分離膜で形成されていることを特徴とする請求項１６に記載のモニタ用光学素子。
【請求項４２】
光ビームを出射する光源と、
上記光源と光ディスクとの間の光路中に設けられ、入射光をその偏光状態に応じて透過または反射させる偏光分離素子と、
上記光源から出射される光ビームの出力を制御するためのモニタ用検出器とを備え、
上記偏光分離素子は、請求項２９から４１のいずれかに記載のモニタ用光学素子で構成されていることを特徴とする光ピックアップ。
【請求項４３】
上記光ディスクからの戻り光を受光することによって信号検出を行う受光素子をさらに備えており、
上記偏光分離素子は、上記光源から出射される一方の偏光状態の光を上記光ディスクに導き、上記光ディスクを介して当該偏光分離素子に入射する他方の偏光状態の光を上記受光素子に導くことを特徴とする請求項４２に記載の光ピックアップ。
【請求項４４】
上記光源は、少なくとも１波長の光ビームを出射する光源が複数個、または複数波長の光ビームを出射する単一の光源で構成されていることを特徴とする請求項４２または４３に記載の光ピックアップ。
【請求項４５】
第１の透明基板上に、所定のパターンで開口部が形成されたマスクを装着し、その開口部を介して上記第１の透明基板上に金属膜を成膜した後、マスクを除去することにより、上記第１の透明基板上に第１の領域と第２の領域とを形成する第１の工程と、
第２の透明基板上に偏光分離膜を成膜する第２の工程と、
上記第１の透明基板と上記第２の透明基板とを、上記金属膜と上記偏光分離膜とが対向するように貼り合わせる第３の工程とを有し、
上記第１の領域は、上記第１の透明基板上で上記金属膜が形成されている領域であって、上記第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が反射してモニタ用検出器に到達する領域であり、
上記第２の領域は、上記第１の透明基板上の上記金属膜の形成領域以外の領域であって、上記光ビームの残りが透過して光ディスクに到達する領域であることを特徴とするモニタ用光学素子の製造方法。
【請求項４６】
上記第１の工程では、上記マスクの開口部を介して上記第１の透明基板上に誘電体膜を成膜した後に上記金属膜を成膜することを特徴とする請求項４５に記載のモニタ用光学素子の製造方法。
【請求項４７】
所定のパターンで開口部が形成されたスクリーン上に金属材料を塗布し、上記開口部を介して上記金属材料を第１の透明基板上に擦りつけることにより、上記第１の透明基板上に、第１の領域と第２の領域とを形成する第１の工程と、
第２の透明基板上に偏光分離膜を成膜する第２の工程と、
上記第１の透明基板と上記第２の透明基板とを、上記金属材料と上記偏光分離膜とが対向するように貼り合わせる第３の工程とを有し、
上記第１の領域は、上記第１の透明基板上で上記金属材料が成膜されている領域であって、上記第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が反射してモニタ用検出器に到達する領域であり、
上記第２の領域は、上記第１の透明基板上の上記金属材料の成膜領域以外の領域であって、上記光ビームの残りが透過して光ディスクに到達する領域であることを特徴とするモニタ用光学素子の製造方法。
【請求項４８】
一方の透明基板上に犠牲層を形成する第１の工程と、
上記犠牲層上にレジストを塗布し、パターニングする第２の工程と、
上記レジストパターンに対応するパターンで残るように、上記犠牲層をエッチングする第３の工程と、
上記一方の透明基板上に、上記レジストおよび残存している上記犠牲層を覆うように偏光分離膜を成膜する第４の工程と、
上記犠牲層およびその上層の偏光分離膜をエッチングして除去することにより、第１の領域および第２の領域を形成する第５の工程と、
上記一方の透明基板と他方の透明基板とを貼り合わせる第６の工程とを有し、
上記第１の領域は、上記第５の工程によって上記一方の透明基板上で上記犠牲層が除去された領域であって、上記第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が透過してモニタ用検出器に到達する領域であり、
上記第２の領域は、上記一方の透明基板上で上記偏光分離膜が残存している領域であって、上記光ビームの残りが反射して光ディスクに到達する領域であることを特徴とするモニタ用光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光源と光ディスクとの間の光路中に配置され、光源から出射される光ビームの一部をモニタ用検出器に導くモニタ用光学素子（例えば立ち上げミラー、合波素子、偏光ビームスプリッタ（以下、ＰＢＳとも称する））と、その製造方法と、光ピックアップとに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光ピックアップやプリンタの分野では、レーザー光源の出射光量を安定させるために、レーザー光源の後側端面から出射されるレーザー光をモニタし、その結果に応じて出射光量を制御するオートパワーコントロール（ＡＰＣ）という手法がとられることがある。しかし、この手法では、レーザー光源の前側および後側の双方から出射されるレーザー光の光量が厳密には異なるために、フィードバックによって正確な光量制御がしにくい。また、所望の方向（前方）とは反対側（後方）にも光を出射させるため、レーザー光源の出射光量を有効に使えない。
【０００３】
そこで、近年では、レーザー光源から前方に出射されるレーザー光を、光記録の光学系の所定の場所で部分的に分岐させ、分岐された一部のレーザー光をモニタ光として利用するフロントモニタ方式が多用されている。
【０００４】
このような方式としては、例えば、（１）波長に応じた反射率を設定したミラーなどを光路の一部に新たに挿入し、出射光の一部をモニタ光として利用する方法、（２）ＣＤ、ＤＶＤなどの光を合波するプリズムやミラーの周辺部に入射する光を数％反射させ、モニタ光として利用する方法（例えば特許文献１、図１参照）、（３）回折格子を光路中に配置し、ホログラムを利用した回折により光を分岐し、モニタ光を確保する方法（例えば特許文献２参照）などがある。
【特許文献１】特開２００３−２７２２２１号公報
【特許文献２】特許第３２３６４６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、上記（１）（３）のように、光学素子を光路中に新たに配置することによりモニタ光を取り出す構成では、そのような光学素子を必要とする分、部品点数が増加する。特に、近年では、青色レーザーに対応した次世代光ディスクと、既存のＣＤやＤＶＤなどの光ディスクとを同一光学系で利用可能とする装置が提案されているが、上記（１）（３）の手法をこの種の装置に適用した場合、各波長ごとにモニタ光を取り出す必要があるために、各波長に対応して上記の光学素子が必要となる。その結果、装置の部品点数が益々多くなり、装置の複雑化およびコストアップを招く。
【０００６】
また、波長に応じた反射率が設定されているミラー（特に誘電体ミラー）では、レーザー光源の製造時のばらつきや温度変化により、ミラーに入射するレーザー光の波長がずれると、それに伴ってミラーでの反射光量、すなわちモニタ光量が変化する。したがって、上記（１）の手法では、レーザー光源のばらつきや温度変化があった場合に、モニタ光に基づく適切な光量制御を行うことができない。
【０００７】
また、レーザー光のパワー（出射光量）を変化させたり、温度変化があった場合、光源から出射されるレーザー光の広がり方も変わる。このため、プリズムやミラーの周辺部に入射する光をモニタ光として利用する上記（２）の手法においても、モニタ光量がパワーの変化等の影響を受けて変動しやすく、モニタ光に基づく光量制御を適切に行うことができない。
【０００８】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、波長のばらつき等の影響を受けずに適切な光量制御を少ない部品点数で実現することができるモニタ用光学素子と、その製造方法と、光ピックアップとを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のモニタ用光学素子は、（少なくとも１個の）光源と光ディスクとの間の光路中に配置されるモニタ用光学素子であって、上記光源から出射される光ビームの一部をモニタ用検出器に導く第１の領域と、上記光ビームの残りを上記光ディスクに導く第２の領域とを有し、上記第１の領域は、少なくとも上記第２の領域の内部に形成されていることを特徴としている。
【００１０】
上記の構成によれば、光源から出射される光ビームのうち、その一部は、モニタ用光学素子の第１の領域を介してモニタ用検出器に導かれる一方、上記光ビームの残りは、モニタ用光学素子の第２の領域を介して光ディスクに導かれる。
【００１１】
ここで、上記第１の領域としては、例えば入射光の一部を透過させる透過領域を考えることができ、上記第２の領域としては、例えば入射光の残りを反射させる反射領域を考えることができる。したがって、このような第１の領域および第２の領域を有するモニタ用光学素子は、光ピックアップの既存の構成である例えば立ち上げミラーや合波素子、ＰＢＳで容易に実現することができる。つまり、立ち上げミラーや合波素子、ＰＢＳに本発明のモニタ用光学素子としての機能を持たせることができる。
【００１２】
なお、立ち上げミラーとは、光ディスクの手前に配置され、光ディスクへの光路を折り曲げるミラーであり、合波素子とは、異なる光源から出射される光ビームを選択的に透過または反射させて立ち上げミラーに導く光学素子である。また、ＰＢＳは、偏光状態の異なる２種の光（例えばＰ偏光、Ｓ偏光）をその偏光状態に応じて分離する偏光分離素子である。立ち上げミラーでモニタ用光学素子を実現した場合は、立ち上げミラーを透過した光をモニタ光として利用することができ、合波素子でモニタ用光学素子を実現した場合は、合波素子を反射または透過した光をモニタ光として利用することができる。また、ＰＢＳでモニタ用光学素子を実現した場合は、ＰＢＳを透過または反射した一方の偏光状態の光をモニタ光として利用することができる。
【００１３】
このように、上記第１の領域と上記第２の領域とを有するモニタ用光学素子は、光ピックアップの既存の構成（立ち上げミラーや合波素子、ＰＢＳ）で容易に実現することができるので、出射光からモニタ光を分離するための専用の光学素子を新たに設ける必要がない。その結果、装置の部品点数を増加させることなく、モニタ光を得ることができる。特に、光ビームの異なる波長に対応して光源が複数設けられた場合でも、各波長の光ビームをモニタ用光学素子に入射させる構成とすれば、モニタ用光学素子は１個で済むので、装置の複雑化およびコストアップを回避することができる。
【００１４】
また、モニタ用光学素子での光ビームの分離（モニタ光とディスク再生光との分離）は、領域（第１の領域および第２の領域）を規定することにより行うため、光源の製造時のばらつきや温度変化により、モニタ用光学素子に入射する光ビームの波長が変動しても、第１の領域に入射しさえすれば、その入射した光ビームを波長の変動に関係なくモニタ光として利用することができる。したがって、光源のばらつきや温度変化があっても、上記モニタ光に基づいて適切な光量制御を行うことができる。
【００１５】
また、光源パワーの変化や温度変化によって光ビームの広がり方が変化しても、第２の領域の内部に入射する光ビームの光量変化は、第２の領域の周辺部に入射する光ビームの光量変化ほど大きくはない。したがって、本発明では、モニタ光を取り出すための第１の領域が第２の領域の少なくとも内部に形成されているので、光源パワーの変化等が合った場合でも、第１の領域を介して得られるモニタ光に基づいて、適切な光量制御を行うことができる。
【００１６】
本発明のモニタ用光学素子において、上記第１の領域は、上記第２の領域の内部で、かつ、上記光源から出射される光ビームの光軸と交わる平面内で、その光軸中心を含む１個のスポット状に形成されている構成が望ましい。
【００１７】
この構成によれば、第２の領域を介して光ディスクに導かれる光ビームの強度を光軸付近だけ落とすことができるので、光ディスクに照射される光ビームをシャープに絞る（高解像度にする）ことができる。これにより、本発明のモニタ用光学素子を例えば光ピックアップに適用した場合に、光ピックアップの他の光学素子（例えばレンズ）に多少の設計誤差があっても、光ディスクに適切な径の光スポットを形成することができ、光ディスクの記録再生を確実に行うことができる。つまり、他の光学素子での設計誤差を、モニタ用光学素子の設計で吸収することができる。
【００１８】
本発明のモニタ用光学素子において、上記第１の領域は、上記第２の領域の内部またはその内部から外部にまたがる領域内で、かつ、上記光源から出射される光ビームの光軸と交わる平面内で、複数箇所に形成されていてもよい。例えば、第１の領域は、第２の領域の内部でかつ上記平面内で、複数のスポット状に形成されてもよく、複数のリング状に形成されてもよい。また、第１の領域は、第２の領域の内部から外部にまたがる領域内でかつ上記平面内で、複数のスリット状に形成されてもよい。これらの構成であっても、複数の第１の領域を介して得られるモニタ光に基づいて、適切な光量制御を行うことができる。
【００１９】
また、第１の領域の面積は、第２の領域の面積の５％以上２０％以下であることが望ましい。この場合、第１の領域を介してモニタ光を確実に確保しながら、第２の領域を介して光ディスクに適切な量の光ビームを供給することができる。
【００２０】
本発明のモニタ用光学素子において、上記第１の領域は、上記第２の領域の内部で、複数のスポット状に形成されていてもよい。この構成において、上記複数のスポットは、ランダムに配置されていることが望ましい。この場合、スポットが規則的に配置されている場合に比べて、複数のスポットに起因する光の干渉を抑えることができ、光ディスクへの結像に支障が生じるのを抑えることができる。光ディスクへの結像に支障が生じないのであれば、上記複数のスポットは、マトリクス状に配置されていてもよい。
【００２１】
このように第１の領域が複数のスポットで構成される場合、上記スポットは、直径０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下の円形であることが望ましい。スポット径がこの程度の径であれば、第１の領域を介してモニタ光を確実に確保することができる。
【００２２】
本発明のモニタ用光学素子において、上記第１の領域は、上記第２の領域の内部で、かつ、上記光源から出射される光ビームの光軸と交わる平面内で、少なくとも１個のリング状に形成されていてもよい。例えば、第１の領域は、第２の領域内で１個のリング状（輪帯状）に形成されてもよく、光軸中心を囲むように互いに非接触で配置される複数のリング状に形成されてもよい。これらの構成であっても、複数の第１の領域を介して得られるモニタ光に基づいて、適切な光量制御を行うことができる。
【００２３】
このように第１の領域が少なくとも１個のリング状で形成される場合、上記リングの線幅は、０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下であることが望ましい。この場合、第１の領域を介してモニタ光を確実に確保することができる。
【００２４】
本発明のモニタ用光学素子において、上記第１の領域は、上記光源から出射される光ビームの光軸と交わる平面内で、少なくとも１本のスリット状に形成されていてもよい。また、第１の領域としての上記スリットは、第２の領域の内部にのみ形成されてもよく、第２の領域の内部から外部にまたがるように形成されてもよい。第１の領域をこのようなスリットで構成する場合、そのスリットに対応するマスクを容易に形成することができるので、本発明のモニタ用光学素子を、上記マスクを用いて容易に製造することができる。
【００２５】
また、上記第１の領域は、上記光源から出射される光ビームの光軸中心を通る１本のスリットで形成されてもよい。この場合、第２の領域は、第１の領域である１本のスリットによって２つに分けられるが、その各々は上記スリットに対して左右対称な位置関係となるので、第２の領域を介して光ディスクに照射される光ビームの光スポットが歪むのを極力低減することができる。
【００２６】
また、上記スリットが上記第２の領域の内部から外部にまたがって形成されていれば、上記スリットを第２の領域の内部にのみ形成する場合に比べて、そのスリットに対応するマスクをさらに容易に形成することができるので、本発明のモニタ用光学素子の製造がさらに容易となる。
【００２７】
上記したスリットの幅は、０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下であることが望ましい。この場合、第１の領域を介してモニタ光を確実に確保することができる。
【００２８】
本発明のモニタ用光学素子において、上記第１の領域は、上記光源から出射される光ビームの一部を透過させて上記モニタ用検出器に導く透過領域であり、上記第２の領域は、上記光ビームの残りを反射させて上記光ディスクに導く反射領域であってもよい。
【００２９】
例えば、立ち上げミラーにおいては、入射する光ビームを反射させて光ディスクに導く反射領域が形成されている。したがって、この反射領域の少なくとも内部に、入射する光ビームの一部を透過させてモニタ用検出器に導く透過領域を形成すれば、上記した第１の領域と第２の領域とを有する本発明のモニタ用光学素子を立ち上げミラーで容易に実現することができる。
【００３０】
このとき、上記反射領域における反射率は、９６％以上であることが望ましい。この場合、第２の領域を介して適切な光量の光ビームを光ディスクに照射することができる。
【００３１】
本発明のモニタ用光学素子において、上記第１の領域は、上記光源から出射される光ビームのうち、特定波長（例えば６６０ｎｍ、７８０ｎｍ）の光ビームの一部を透過させて上記モニタ用検出器に導く透過機能と、他の波長（例えば４０５ｎｍ）の光ビームの一部を反射させて上記モニタ用検出器に導く反射機能とを両方有しており、上記第２の領域は、特定波長の光ビームの残りを反射させて上記光ディスクに導く反射機能と、他の波長の光ビームの残りを透過させて上記光ディスクに導く透過機能とを両方有している構成であってもよい。
【００３２】
例えば、合波素子は、元々、入射する光ビームの波長に応じて、光ビームを選択的に透過または反射させる機能を有している。したがって、この合波素子において、特定波長の光ビームの一部を透過させるとともに、他の波長の光ビームの一部を反射させる領域と、特定波長の光ビームの残りを反射させるとともに、他の波長の光ビームの残りを透過させる領域とを形成することは容易であり、これによって、上記した第１の領域と第２の領域とを有する本発明のモニタ用光学素子を合波素子で容易に実現することができる。
【００３３】
このとき、上記第２の領域における反射率および透過率は、ともに９６％以上であることが望ましい。この場合、第２の領域を介して適切な光量の光ビームを光ディスクに照射することができる。
【００３４】
本発明のモニタ用光学素子において、上記第２の領域は、誘電体多層膜を含んで形成されていることが望ましい。つまり、第２の領域は、誘電体多層膜のみで形成されてもよいし、誘電体多層膜と例えば金属膜とを併用して形成されてもよい。金属膜は、使用が長期になると腐食が進み、反射率が変動するので、信頼性で劣る。しかし、本発明のように、第２の領域が誘電体多層膜を含んで形成されることで、長期使用による腐食の心配がほとんどなく、金属膜のみで形成される場合に比べて、信頼性の高いモニタ用光学素子を実現することができる。
【００３５】
本発明の光ピックアップは、光ビームを出射する光源と、上記光源と光ディスクとの間に配置される立ち上げミラーと、上記光源から出射される光ビームの出力を制御するためのモニタ用検出器とを備え、上記立ち上げミラーは、上述した本発明のモニタ用光学素子で構成されていることを特徴としている。なお、上記光源は、１個であってもよいし、複数であってもよい。
【００３６】
上記の構成によれば、光源から出射される光ビームは、立ち上げミラーを介して光ディスクに照射される。このとき、立ち上げミラーが上述した本発明のモニタ用光学素子で構成されているので、立ち上げミラーにおいて第１の領域を透過した光ビームは、モニタ用検出器に導かれ、モニタ光に基づいて光源から出射される光ビームの出力が制御される。一方、立ち上げミラーの第２の領域にて反射された光ビームは、光ディスクに照射される。
【００３７】
このように、上述した本発明のモニタ用光学素子の機能を、光ピックアップの既存の構成である立ち上げミラーに持たせているので、出射光からモニタ光を取り出す専用の光学素子を光路中に新たに設ける必要がない。これにより、装置の部品点数の増加を回避して、装置の複雑化およびコストアップを回避することができる。
【００３８】
また、立ち上げミラーが本発明のモニタ用光学素子の機能を有しているので、光源のばらつきや温度変化があっても、モニタ光に基づいて適切な光量制御を行うことができるなど、本発明のモニタ用光学素子の構成による上述した効果と同様の効果を光ピックアップにて得ることができる。
【００３９】
本発明の光ピックアップは、波長の異なる光ビームを出射する複数の光源と、上記各光源と光ディスクとの間に配置され、入射する光ビームを（波長に応じて）選択的に透過または反射させる合波素子と、上記各光源から出射される光ビームの出力を制御するためのモニタ用検出器とを備え、上記合波素子は、上述した本発明のモニタ用光学素子で構成されていることを特徴としている。
【００４０】
ここで、波長の異なる光ビームを出射する複数の光源としては、（１）単一波長の光を出射する光源が複数個、（２）１パッケージで複数波長の光を出射する光源（例えば２波長１パッケージ）と単一波長の光を出射する光源との組み合わせ、（３）１パッケージで複数波長の光を出射する光源が複数個、などを含む概念である。
【００４１】
上記の構成によれば、複数の光源から出射される光ビームは、合波素子を介して光ディスクに照射される。このとき、波長の異なる光ビームは、合波素子にて選択的に透過または反射される。
【００４２】
このような構成の光ピックアップにおいて、合波素子が上述した本発明のモニタ用光学素子で構成されている。これにより、合波素子の第１の領域を透過した特定波長（例えば６６０ｎｍ、７８０ｎｍ）の光ビームの一部および第１の領域にて反射された他の波長（例えば４０５ｎｍ）の光ビームの一部は、モニタ用検出器に導かれ、モニタ光に基づいてそれぞれの光ビームの出力が制御される。一方、合波素子の第２の領域にて反射された特定波長の残りの光ビームおよび第２の領域を透過した他の波長の残りの光ビームは、光ディスクに照射される。
【００４３】
このように、上述した本発明のモニタ用光学素子の機能を、光ピックアップの既存の構成である合波素子に持たせているので、出射光からモニタ光を取り出す専用の光学素子を各波長ごとに光路中に新たに設ける必要がない。これにより、装置の部品点数の増加を回避して、装置の複雑化およびコストアップを回避することができる。
【００４４】
また、合波素子が本発明のモニタ用光学素子の機能を有しているので、光源のばらつきや温度変化があっても、モニタ光に基づいて適切な光量制御を行うことができるなど、本発明のモニタ用光学素子の構成による上述した効果と同様の効果を光ピックアップにて得ることができる。
【００４５】
本発明のモニタ用光学素子の製造方法は、透明基板上に犠牲層（例えばＣｒ層）を形成する第１の工程と、上記犠牲層上にレジスト（例えば感光性ポリイミド）を塗布し、パターニングする第２の工程と、上記レジストパターンに対応するパターンで残るように、上記犠牲層をエッチングする第３の工程と、上記透明基板上に、上記レジストおよび残存している上記犠牲層を覆うように誘電体多層膜を成膜する第４の工程と、上記犠牲層およびその上層の誘電体多層膜をエッチングして除去することにより、第１の領域および第２の領域を形成する第５の工程とを有し、上記第１の領域は、上記第５の工程によって上記透明基板上で上記犠牲層が除去された領域であって、上記第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が透過してモニタ用検出器に到達する領域であり、上記第２の領域は、上記透明基板上で上記誘電体多層膜が残存している領域であって、上記光ビームの残りが反射して光ディスクに到達する領域であることを特徴としている。
【００４６】
上記の製造方法によれば、透明基板上に形成された犠牲層は、その上に形成されるレジストのパターンに対応するパターン（例えばレジストパターンよりも小さいパターン）で残るようにエッチングされる。そして、レジストおよび残存している犠牲層を覆うように誘電体多層膜が形成された後、上記犠牲層およびその上層の誘電体多層膜がエッチングにより除去され、これによって、第１の領域および第２の領域が形成される。
【００４７】
ここで、第１の領域とは、第５の工程によって透明基板上で犠牲層が除去された領域であって、第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が透過してモニタ用検出器に到達する領域である。一方、第２の領域とは、透明基板上で誘電体多層膜が残存している領域であって、上記光ビームの残りが反射して光ディスクに到達する領域である。
【００４８】
このように、第１の領域および第２の領域を有するモニタ用光学素子が形成されるので、このモニタ用光学素子を、光ピックアップの既存の構成である立ち上げミラーや合波素子として用いれば、装置の部品点数を増加させることなく、モニタ光を得ることができる。特に、光ビームの異なる波長に対応して光源が複数設けられた場合でも、各波長の光ビームをモニタ用光学素子に入射させる構成とすれば、モニタ用光学素子は１個で済むので、装置の複雑化およびコストアップを回避することができる。
【００４９】
また、モニタ用光学素子での光ビームの分離（モニタ光とディスク再生光との分離）は、領域（第１の領域および第２の領域）を規定することにより行うため、光源の製造時のばらつきや温度変化により、モニタ用光学素子に入射する光ビームの波長が変動しても、第１の領域に入射しさえすれば、その入射した光ビームを波長の変動に関係なくモニタ光として利用することができる。したがって、光源のばらつきや温度変化があっても、上記モニタ光に基づいて適切な光量制御を行うことができる。
【００５０】
また、光源パワーの変化や温度変化によって光ビームの広がり方が変化しても、第２の領域の内部に入射する光ビームの光量変化は、第２の領域の周辺部に入射する光ビームの光量変化ほど大きくはない。したがって、本発明では、モニタ光を取り出すための第１の領域が第２の領域の少なくとも内部に形成されているので、光源パワーの変化等が合った場合でも、第１の領域を介して得られるモニタ光に基づいて、適切な光量制御を行うことができる。
【００５１】
ここで、上記第３の工程では、上記犠牲層を上記レジストパターンの内側までエッチングすることが望ましい。こうしておくと、上記犠牲層と、次の第４の工程にて成膜される誘電体多層膜との間に、レジストと犠牲層とのパターンの差に相当する若干の隙間を設けることができる。これにより、第５の工程にて、犠牲層をエッチングで完全に除去することができ、誘電体多層膜のエッジがだれるのを防止することができる。
【００５２】
また、上記レジストは、耐熱性２００℃以上の材料で構成されていることが望ましい。この場合、上記レジストを用いて、上記の誘電体多層膜を例えば２００℃以上の条件下で成膜することができ、耐久性の高い誘電体多層膜を成膜することができる。
【００５３】
また、本発明のモニタ用光学素子の製造方法は、透明基板上に第１の犠牲層を形成する第１の工程と、上記第１の犠牲層上に第１のレジストを塗布し、パターニングする第２の工程と、上記第１のレジストのパターンに対応するパターンで残るように、上記第１の犠牲層をエッチングする第３の工程と、上記透明基板上に、上記第１のレジストおよび残存している上記第１の犠牲層を覆うように第１の誘電体多層膜を成膜する第４の工程と、上記第１の犠牲層およびその上層の第１の誘電体多層膜をエッチングして除去することにより、残存している第１の誘電体多層膜からなる第２の領域を形成する第５の工程と、上記透明基板上に上記第１の誘電体多層膜を覆うように第２の犠牲層を形成する第６の工程と、上記第２の犠牲層上に第２のレジストを塗布し、上記第１のレジストのパターンを反転させたパターンで上記第２のレジストをパターニングする第７の工程と、上記第２のレジストのパターンに対応するパターンで残るように、上記第２の犠牲層をエッチングする第８の工程と、上記透明基板上に、上記第２のレジストおよび残存している上記第２の犠牲層を覆うように第２の誘電体多層膜を成膜する第９の工程と、上記第２の犠牲層およびその上層の第２の誘電体多層膜をエッチングして除去することにより、残存している第２の誘電体多層膜からなる第１の領域を形成する第１０の工程とを有していてもよい。ただし、上記第１の領域は、上記第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が透過または反射してモニタ用検出器に到達する領域であり、上記第２の領域は、上記光ビームの残りが反射または透過して光ディスクに到達する領域である。この場合であっても、装置の複雑化およびコストアップを回避できるなど、前述の製造方法による効果と同様の効果を得ることができる。
【００５４】
このとき、上記第３の工程では、上記第１の犠牲層を上記第１のレジストパターンの内側までエッチングすれば、第５の工程にて、第１の犠牲層をエッチングで完全に除去することができ、第１の誘電体多層膜のエッジがだれるのを防止することができる。
【００５５】
また、上記第１のレジストおよび上記第２のレジストは、耐熱性２００℃以上の材料で構成されていることが望ましい。この場合、上記各レジストを用いて、第１の誘電体多層膜および第２の誘電体多層膜を例えば２００℃以上の条件下で成膜することができ、耐久性の高い第１の誘電体多層膜および第２の誘電体多層膜を成膜することができる。
【００５６】
また、本発明のモニタ用光学素子において、上記第１の領域は、上記光源から出射される光ビームの一部を反射させて上記モニタ用検出器に導く反射領域であり、上記第２の領域は、上記光ビームの残りを透過させて上記光ディスクに導く透過領域であってもよい。
【００５７】
偏光分離素子であるＰＢＳは、一方の断面三角形状のプリズムの斜面上に偏光分離膜（例えば誘電体膜）を形成し、これと他方の断面三角形状のプリズムとを上記偏光分離膜を介して貼り合わせることによって形成されるが、例えば他方のプリズムの斜面上に金属膜を部分的に成膜しておけば、このＰＢＳにおいて、金属膜の存在する部分で光源から出射される光ビームの一部を反射させてモニタ用検出器に導く反射領域（第１の領域）を形成することができ、金属膜の存在しない部分で上記光ビームの残りを透過させて上記光ディスクに導く透過領域（第２の領域）を形成することができる。したがって、本発明のモニタ用光学素子を既存のＰＢＳを利用して容易に実現することができる。
【００５８】
このとき、第１の領域は、上述のように金属膜で構成されていることが望ましい。金属膜は、入射光の波長による反射率の変動が小さく、フラットな反射特性を有しているので、光源の製造ばらつきや温度変化によって入射光の波長が変動しても、モニタ用検出器にて安定したモニタ光量を得ることができる。
【００５９】
また、第１の領域は、（基板側から）誘電体膜と金属膜とを積層して構成されていてもよい。このように誘電体膜を形成することにより、金属膜単独では入射光の波長によって変動しない第１の領域での反射率を、入射光の波長に応じて変化させることができる。これにより、用いる光ディスクに応じたモニタ光量を得ることができる。
【００６０】
また、第１の領域の金属膜は、マスク法により形成されていてもよく、スクリーン印刷法により形成されていてもよい。これらの手法を用いることにより、金属膜を容易に形成することができ、第１の領域を容易に形成することができる。
【００６１】
また、第１の領域の誘電体膜は、マスク法により形成されていてもよい。これにより、誘電体膜を容易に形成することができ、第１の領域を容易に形成することができる。
【００６２】
また、第１の領域の誘電体膜は、光源からの入射光の波長に応じて第１の領域の反射率が変化するように形成されていることが望ましい。これにより、用いる光ディスクに応じたモニタ光量を得ることができる。
【００６３】
本発明のモニタ用光学素子は、斜面同士が対向するように貼り合わされる２個の断面三角形状のプリズムをさらに有しており、一方のプリズムの斜面上には、上記第１の領域および上記第２の領域が形成されており、他方のプリズムの斜面上には、入射光をその偏光状態に応じて透過または反射させる偏光分離膜が形成されている構成であってもよい。なお、このような偏光分離膜としては、偏光状態の異なる２種の光のうちの一方（例えばＰ偏光）を透過させ、他方（例えばＳ偏光）を反射させる特性を有する誘電体膜を想定することができる。また、偏光分離膜への入射光には、光源からの光と、光ディスクからの戻り光との両方が含まれる。
【００６４】
この構成によれば、斜面上に第１の領域および第２の領域が形成された一方のプリズムと、斜面上に上記の偏光分離膜が形成された他方のプリズムとを貼り合わせることで、既存の偏光分離素子（例えばＰＢＳ）に本発明のモニタ用光学素子としての機能を持たせることができる。
【００６５】
また、上記光源からの光が上記他方のプリズムよりも先に上記一方のプリズムに入射するように、上記各プリズムが貼り合わされて上記光源と上記光ディスクとの間の光路中に配置されていることが望ましい。
【００６６】
上記各プリズムは、例えば接着剤を介して貼り合わされるが、上記構成の場合は、他方のプリズムの偏光分離膜を、接着剤に対して光ディスク側の光路に位置させることができる。これにより、光ディスクからの戻り光は、上記接着剤に入射せずに、上記他方のプリズムの偏光分離膜で例えば反射される。したがって、光ディスクからの戻り光が接着剤を通過することによってその波面が乱れたり、位相がずれたりして信号検出に支障が生じるのを回避することができる。
【００６７】
また、上記各プリズムは、接着剤を介して貼り合わされていてもよく、エアギャップを介して貼り合わされていてもよい。これにより、接合型のＰＢＳやエアギャップ型のＰＢＳを実現することができる。
【００６８】
ここで、エアギャップ型の場合、上記光源からの入射光と、上記一方のプリズムの斜面に対する法線とのなす角度をθとし、０°＜θ＜９０°とすると、
θ＜３５°
を満足することが望ましい。
【００６９】
エアギャップを介して各プリズムを貼り合わせた場合、光源側に配置されるプリズム（例えば第１の領域および第２の領域が斜面上に形成された一方のプリズム）の斜面にて全反射が起こる臨界角は、およそ４１°である。一方、光源から出射される光（例えばレーザー光）の開き角はおよそ６°である。したがって、上記プリズムの斜面に入射する光源からの光の入射角が、その差し引き分である３５°よりも小さい角度であれば、光源からの光が上記斜面にて全反射して光ディスクに照射されなくなるといった不都合を回避することができる。
【００７０】
また、本発明のモニタ用光学素子は、斜面同士が対向するように貼り合わされる２個の断面三角形状のプリズムをさらに有しており、一方のプリズムの斜面上には、入射光をその偏光状態に応じて透過または反射させる偏光分離膜が形成されており、上記第１の領域は、上記偏光分離膜を開口して形成されており、上記第２の領域は、上記偏光分離膜で形成されている構成であってもよい。なお、このような偏光分離膜としては、偏光状態の異なる２種の光のうちの一方（例えばＳ偏光）を反射させ、他方（例えばＰ偏光）を透過させる特性を有する誘電体膜を想定することができる。また、偏光分離膜への入射光には、光源からの光と、光ディスクからの戻り光との両方が含まれる。
【００７１】
この構成では、既存のＰＢＳの偏光分離膜を一部開口すれば、その開口部を第１の領域とすることができ、偏光分離膜の残っている領域の一部をそのまま第２の領域として利用することができる。したがって、このようなホールパターン型のＰＢＳであっても、本発明のモニタ用光学素子を実現することができる。
【００７２】
本発明の光ピックアップは、光ビームを出射する光源と、上記光源と光ディスクとの間の光路中に設けられ、入射光をその偏光状態に応じて透過または反射させる偏光分離素子と、上記光源から出射される光ビームの出力を制御するためのモニタ用検出器とを備え、上記偏光分離素子は、上述した本発明のモニタ用光学素子で構成されていることを特徴としている。
【００７３】
上記の構成によれば、光源から出射される光ビームは、偏光分離素子を介して光ディスクに照射される。このとき、偏光分離素子が上述した本発明のモニタ用光学素子で構成されているので、光源から出射されて偏光分離素子の第１の領域に入射した光ビームは、モニタ用検出器に導かれ、モニタ光に基づいて光源から出射される光ビームの出力が制御される。一方、光源から出射されて偏光分離素子の第２の領域に入射した光ビームは、光ディスクに照射される。
【００７４】
このように、上述した本発明のモニタ用光学素子の機能を、光ピックアップの既存の構成である偏光分離素子に持たせているので、出射光からモニタ光を取り出す専用の光学素子を光路中に新たに設ける必要がない。これにより、装置の部品点数の増加を回避して、装置の複雑化およびコストアップを回避することができる。
【００７５】
また、偏光分離素子が本発明のモニタ用光学素子の機能を有しているので、光源のばらつきや温度変化があっても、モニタ光に基づいて適切な光量制御を行うことができるなど、本発明のモニタ用光学素子の構成による上述した効果と同様の効果を光ピックアップにて得ることができる。
【００７６】
また、本発明の光ピックアップは、上記光ディスクからの戻り光を受光することによって信号検出を行う受光素子をさらに備えており、上記偏光分離素子は、上記光源から出射される一方の偏光状態の光を（透過または反射によって）上記光ディスクに導き、上記光ディスクを介して当該偏光分離素子に入射する他方の偏光状態の光を（反射または透過によって）上記受光素子に導く構成であってもよい。
【００７７】
この構成によれば、光ディスクからの戻り光が、偏光分離素子を介して受光素子にて受光されるので、光ディスクの記録再生時に、受光素子にて種々の信号（例えばサーボ信号、情報信号、収差信号）を確実に検出することができる。
【００７８】
また、本発明の光ピックアップでは、上記光源は、少なくとも１波長の光ビームを出射する光源が複数個、または複数波長の光ビームを出射する単一の光源で構成されていてもよい。この場合、複数種類の光ディスクの各々に対応した光ピックアップを実現することができる。
【００７９】
本発明のモニタ用光学素子の製造方法は、第１の透明基板上に、所定のパターンで開口部が形成されたマスクを装着し、その開口部を介して上記第１の透明基板上に金属膜を成膜した後、マスクを除去することにより、上記第１の透明基板上に第１の領域と第２の領域とを形成する第１の工程と、第２の透明基板上に偏光分離膜を成膜する第２の工程と、上記第１の透明基板と上記第２の透明基板とを、上記金属膜と上記偏光分離膜とが対向するように貼り合わせる第３の工程とを有し、上記第１の領域は、上記第１の透明基板上で上記金属膜が形成されている領域であって、上記第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が反射してモニタ用検出器に到達する領域であり、上記第２の領域は、上記第１の透明基板上の上記金属膜の形成領域以外の領域であって、上記光ビームの残りが透過して光ディスクに到達する領域であることを特徴としている。
【００８０】
上記の構成によれば、第１の透明基板上に金属膜からなる第１の領域がマスク法によって形成され、同時に金属膜の非形成領域が第２の領域として形成される。そして、第１の透明基板と、偏光分離膜を有する第２の透明基板とを貼り合わせることで例えばＰＢＳが完成する。つまり、このＰＢＳは、既存のＰＢＳにモニタ用光学素子としての機能を持たせたものである。したがって、このようなＰＢＳを実現することで、出射光からモニタ光を取り出す専用の光学素子を光路中に新たに設ける必要がなくなり、装置の部品点数の増加を回避して、装置の複雑化およびコストアップを回避することができるなど、上述した本発明のモニタ用光学素子の製造方法による効果と同様の効果を得ることができる。
【００８１】
このとき、上記第１の工程では、上記マスクの開口部を介して上記第１の透明基板上に誘電体膜を成膜した後に上記金属膜を成膜するようにしてもよい。この誘電体膜により、金属膜単独では入射光の波長によって変動しない第１の領域での反射率を、入射光の波長に応じて変化させることができる。これにより、用いる光ディスクに応じたモニタ光量を得ることができる。
【００８２】
本発明のモニタ用光学素子の製造方法は、所定のパターンで開口部が形成されたスクリーン上に金属材料を塗布し、上記開口部を介して上記金属材料を第１の透明基板上に擦りつけることにより、上記第１の透明基板上に、第１の領域と第２の領域とを形成する第１の工程と、第２の透明基板上に偏光分離膜を成膜する第２の工程と、上記第１の透明基板と上記第２の透明基板とを、上記金属材料と上記偏光分離膜とが対向するように貼り合わせる第３の工程とを有し、上記第１の領域は、上記第１の透明基板上で上記金属材料が成膜されている領域であって、上記第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が反射してモニタ用検出器に到達する領域であり、上記第２の領域は、上記第１の透明基板上の上記金属材料の成膜領域以外の領域であって、上記光ビームの残りが透過して光ディスクに到達する領域であることを特徴としている。
【００８３】
上記の構成によれば、第１の基板上に金属材料がスクリーン印刷法によって塗布され、このような金属材料の成膜によって第１の領域が形成される。また、これと同時に、金属材料の非成膜領域が第２の領域として形成される。そして、第１の基板と、偏光分離膜を有する第２の基板とを貼り合わせることで例えばＰＢＳが完成する。つまり、このＰＢＳは、既存のＰＢＳにモニタ用光学素子としての機能を持たせたものである。したがって、このようなＰＢＳを実現することで、出射光からモニタ光を取り出す専用の光学素子を光路中に新たに設ける必要がなくなるので、上述した本発明のモニタ用光学素子の製造方法による効果と同様の効果を得ることができる。
【００８４】
本発明のモニタ用光学素子の製造方法は、一方の透明基板上に犠牲層を形成する第１の工程と、上記犠牲層上にレジストを塗布し、パターニングする第２の工程と、上記レジストパターンに対応するパターンで残るように、上記犠牲層をエッチングする第３の工程と、上記一方の透明基板上に、上記レジストおよび残存している上記犠牲層を覆うように偏光分離膜を成膜する第４の工程と、上記犠牲層およびその上層の偏光分離膜をエッチングして除去することにより、第１の領域および第２の領域を形成する第５の工程と、上記一方の透明基板と他方の透明基板とを貼り合わせる第６の工程とを有し、上記第１の領域は、上記第５の工程によって上記一方の透明基板上で上記犠牲層が除去された領域であって、上記第２の領域の少なくとも内部に形成され、光源から出射される光ビームの一部が透過してモニタ用検出器に到達する領域であり、上記第２の領域は、上記一方の透明基板上で上記偏光分離膜が残存している領域であって、上記光ビームの残りが反射して光ディスクに到達する領域であることを特徴としている。
【００８５】
上記の構成によれば、一方の透明基板上には、リフトオフ法によって第１の領域および第２の領域が形成され、この透明基板と、偏光分離膜を有する他方の透明基板とを貼り合わせることで例えばＰＢＳが完成する。つまり、このＰＢＳは、既存のＰＢＳにモニタ用光学素子としての機能を持たせたものである。したがって、このようなＰＢＳを実現することで、出射光からモニタ光を取り出す専用の光学素子を光路中に新たに設ける必要がなくなるので、上述した本発明のモニタ用光学素子の製造方法による効果と同様の効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００８６】
本発明によれば、第１の領域と第２の領域とを有するモニタ用光学素子を、光ピックアップの既存の構成（立ち上げミラーや合波素子、ＰＢＳ）で容易に実現することができるので、装置の部品点数を増加させることなく、モニタ光を得ることができ、装置の複雑化およびコストアップを回避することができる。
【００８７】
また、光源の製造時のばらつきや温度変化により、モニタ用光学素子に入射する光ビームの波長が変動しても、第１の領域に入射した光ビームを波長の変動に関係なくモニタ光として利用することができる。また、光源パワーの変化や温度変化によって光ビームの広がり方が変化しても、第２の領域の内部に入射する光ビームの光量変化は、第２の領域の周辺部に入射する光ビームの光量変化ほど大きくはない。したがって、本発明によれば、光源のばらつき、温度変化、光源パワーの変化があっても、第１の領域を介して得られるモニタ光に基づいて、適切な光量制御を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００８８】
〔実施の形態１〕
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。
図２は、本実施形態の光ピックアップの概略の構成を示す説明図である。この光ピックアップは、第１の光源部１と、第２の光源部２と、ダイクロイックプリズム３と、立ち上げミラー４と、モニタ用検出器５と、対物レンズ６とを有している。なお、立ち上げミラー４と対物レンズ６との間の光路中には、図示しない１／４波長板が設けられている。
【００８９】
第１の光源部１は、光源１１と、偏光ビームスプリッタ（以下、ＰＢＳと略称する）１２と、コリメータレンズ１３と、受光素子１４とを有している。光源１１は、光ビームとして、例えば波長４０５ｎｍのレーザー光（青色レーザー）を出射する。ＰＢＳ１２は、光源１１から出射された直線偏光のレーザー光を透過させ（例えばＰ偏光を透過させ）、光ディスクＤからの戻り光（例えばＳ偏光）を反射させて受光素子１４に導く。コリメータレンズ１３は、ＰＢＳ１２を介して入射するレーザー光を平行光にする。受光素子１４は、ＰＢＳ１２を介して入射する光ディスクＤからの戻り光を受光する。受光素子１４での受光により、青色レーザーに対応した高密度記録の光ディスクの記録再生時に、サーボ信号（フォーカスエラー信号、トラッキングエラー信号）、情報信号、収差信号等が検出される。
【００９０】
第２の光源部２は、光源２１と、ＰＢＳ２２と、コリメータレンズ２３と、受光素子２４とを有している。光源２１は、光ビームとして、例えば波長６６０ｎｍ（ＤＶＤ用）のレーザー光と、波長７８０ｎｍ（ＣＤ用）のレーザー光とを出射する。すなわち、光源２１は、２波長のレーザー光を出射する光源である。ＰＢＳ２２は、光源２１から出射された直線偏光のレーザー光を透過させ（例えばＰ偏光を透過させ）、光ディスクＤからの戻り光（例えばＳ偏光）を反射させて受光素子２４に導く。コリメータレンズ２３は、ＰＢＳ２２を介して入射するレーザー光を平行光にする。受光素子２４は、ＰＢＳ２２を介して入射する光ディスクＤからの戻り光を受光する。受光素子２４での受光により、ＤＶＤやＣＤの記録再生時に、サーボ信号（フォーカスエラー信号、トラッキングエラー信号）、情報信号、収差信号等が検出される。
【００９１】
ダイクロイックプリズム３は、第１の光源部１から供給されるレーザー光を反射させて立ち上げミラー４に導くとともに、第２の光源部２から供給されるレーザー光を透過させて立ち上げミラー４に導く。つまり、ダイクロイックプリズム３は、異なる方向から入射する各レーザー光の進行方向を同一方向にして出射する光路変換素子である。
【００９２】
立ち上げミラー４は、光源１１・２１と光ディスクＤとの間、より詳細にはダイクロイックプリズム３と対物レンズ６との間の光路中に配置され、ダイクロイックプリズム３から出射されて光ディスクＤに向かうレーザー光の光路を折り曲げる機能を有している。本来ならば、この立ち上げミラー４は、入射するレーザー光の全てを反射させて光ディスクＤに導くが、本実施形態では、光源１１・２１から出射されるレーザー光の一部をモニタ用検出器５に導く一方、残りのレーザー光を光ディスクＤに導くように構成されている。つまり、本実施形態では、立ち上げミラー４にモニタ用光学素子としての機能を持たせている。なお、立ち上げミラー４の詳細については後述する。
【００９３】
モニタ用検出器５は、各光源１１・２１から出射されるレーザー光の一部を受光（モニタ）するものであり、例えばフォトダイオードで構成されている。このモニタ用検出器５での受光量に基づいて、各光源１１・２１から出射されるレーザー光の出力が、図示しない制御部によって制御される。本実施形態では、各光源１１・２１から前方（光ディスクＤ方向）に出射されたレーザー光をモニタ用検出器５にてモニタするので、フロントモニタ方式となっている。
【００９４】
上記の構成において、光源１１から出射された直線偏光のレーザー光のうち、例えばＰ偏光はＰＢＳ１２を透過してコリメータレンズ１３に入射する。そして、コリメータレンズ１３で平行光となったレーザー光は、ダイクロイックプリズム３にて反射されて立ち上げミラー４に入射する。一方、光源２１から出射された直線偏光のレーザー光のうち、例えばＰ偏光はＰＢＳ２２を透過してコリメータレンズ２３に入射する。そして、コリメータレンズ２３で平行光となったレーザー光は、ダイクロイックプリズム３を透過して立ち上げミラー４に入射する。
【００９５】
立ち上げミラー４では、光源１１・２１から出射されるレーザー光の一部がモニタ用検出器５に導かれ、モニタ用検出器５でモニタされる。一方、光源１１・２１から出射されるレーザー光の残りは、立ち上げミラー４にて反射され、１／４波長板によって円偏光とされた後、対物レンズ６によって光ディスクＤ上に集光される。
【００９６】
光ディスクＤからの戻り光は、再び対物レンズ６を介して１／４波長板に入射し、ここで直線偏光（例えばＳ偏光）に変換された後、立ち上げミラー４に入射し、立ち上げミラー４にて反射されてダイクロイックプリズム３に入射する。このとき、戻り光が光源１１から出射されたレーザー光の戻り光であれば、ダイクロイックプリズム３に入射した戻り光はダイクロイックプリズム３にて反射され、コリメータレンズ１３を介してＰＢＳ１２に入射する。ＰＢＳ１２では、入射した戻り光が反射され、受光素子１４にて受光される。一方、戻り光が光源２１から出射されたレーザー光の戻り光であれば、ダイクロイックプリズム３に入射した戻り光はダイクロイックプリズム３を透過し、コリメータレンズ２３を介してＰＢＳ２２に入射する。ＰＢＳ２２では、入射した戻り光が反射され、受光素子２４にて受光される。
【００９７】
次に、モニタ用光学素子としての立ち上げミラー４の詳細について説明する。
図１は、本実施形態の立ち上げミラー４の概略の構成を模式的に示す平面図である。この立ち上げミラー４は、第１の領域３１と、第２の領域３２とを有している。
【００９８】
第１の領域３１は、光源１１・２１から出射されるレーザー光の一部をモニタ用検出器５に導く領域であり、本実施形態では、入射光を透過させる透過領域となっている。この第１の領域３１は、例えば、透明基板であるガラス基板上に一般的な反射防止膜（ＡＲ（Anti Reflection）膜）を成膜することで形成することが可能であるが、ガラス基板上に反射防止膜を設けずに光を素通しにする、つまり、ガラス基板のみで第１の領域３１を形成することもできる。
【００９９】
ここで、図３は、第１の領域３１の分光反射率を示している。第１の領域３１では、波長４０５ｎｍ、６６０ｎｍ、７８０ｎｍ付近での反射率が低く抑えられており、これらの波長のレーザー光を透過させてモニタすることが可能となっている。
【０１００】
一方、第２の領域３２は、光源１１・２１から出射されるレーザー光の残りを光ディスクＤに導く領域である。図１において、第２の領域３２の外縁を表す線は、立ち上げミラー４に入射するレーザー光の光束の外縁を表している。この第２の領域３２は、入射光を反射させる反射領域となっており、本実施形態では、ガラス基板上に誘電体多層膜を成膜することで形成されている。なお、ガラス基板上に誘電体多層膜と金属膜とを複合して形成することで第２の領域３２を形成してもよい。
【０１０１】
ここで、第２の領域３２が例えばアルミニウムのみで形成されると、反射率が９３％程度しかとれず、反射が弱い。また、第２の領域３２が例えば銀で形成されれば、長期使用に伴って腐食の進行が早いので、信頼性の面で劣る。したがって、第２の領域３２が、少なくとも誘電体多層膜を含んで形成されることで、長期使用による腐食の心配がほとんどなく、信頼性の高い立ち上げミラー４を実現することができる。
【０１０２】
図４は、第２の領域３２の分光反射率を示している。このように、第２の領域３２では、波長４０５ｎｍ、６６０ｎｍ、７８０ｎｍ付近での反射率が９６％以上に設定されている。これにより、これらの波長のレーザー光が第２の領域３２に入射したときに、第２の領域３２にて確実に反射されて光ディスクＤに向かい、光ディスクＤの記録再生を行うことが可能となっている。
【０１０３】
図１に示すように、本実施形態では、第１の領域３１は、第２の領域３２の内部に形成されている。つまり、光ディスクＤに向かうレーザー光の光束が立ち上げミラー４に当たる領域内に、第１の領域３１が形成されている。特に、本実施形態では、第１の領域３１は、第２の領域３２の内部で、かつ、光源１１・２１から出射されるレーザー光の光軸と交わる平面内で、その光軸中心を含む１個のスポット状に形成されている。
【０１０４】
このように第１の領域３１が、光軸中心を含むスポット状に形成されていることにより、第２の領域３２を介して光ディスクＤに導かれるレーザー光のうち、その光軸付近の光をスポット状の第１の領域によってモニタ用検出器５の方向に抜くことができる。これにより、光ディスクＤに照射されるレーザー光の強度を光軸付近だけ落とすことができ、光ディスクＤに照射されるレーザー光をシャープに絞ることができる。したがって、例えば対物レンズ６等に多少の設計誤差がある場合でも、光ディスクＤに適切な径の光スポットを当てることができ、光ディスクＤの記録再生を確実に行うことができる。つまり、光ピックアップを構成する光学素子の設計誤差を、立ち上げミラー４の上記設計によって吸収することができる。
【０１０５】
また、第１の領域３１の面積は、第２の領域３２の面積の５％以上２０％以下に設定されている。このように第１の領域３１と第２の領域３２との面積比を規定することにより、第１の領域３１を介してモニタ光を確実に確保しながら、第２の領域３２を介して光ディスクＤに適切な量のレーザー光を供給することができる。なお、このように面積比を規定することによる効果は、後述する図５ないし図８の構成にも適用することができる。
【０１０６】
なお、第１の領域３１が図１のようにスポット状に形成されている場合、第１の領域３１は、第２の領域３２の内部であって、光源１１・２１から出射されるレーザー光の光軸中心を含み、第２の領域３２の面積の８０％を占める領域内に形成されていると言うことができる。このとき、第１の領域３１のスポット形状は、上記光軸中心を含むような形状であれば、円であってもよいし、楕円であってもよいし、その他の形状であってもよい。
【０１０７】
ところで、上述した第１の領域３１は、第２の領域３２の内部またはその内部から外部にまたがる領域内で、かつ、光源１１・２１から出射されるレーザー光の光軸と交わる平面内で、複数箇所に形成されていてもよい。以下、このような例について、図５ないし図８に基づいて説明する。
【０１０８】
図５および図６は、第１の領域３１が、第２の領域３２の内部で、複数のスポット状に形成されている立ち上げミラー４の平面図である。特に、図５は、第１の領域３１を構成する複数のスポットが第２の領域３２の内部でランダムに配置されている場合を示しており、図６は、第１の領域３１を構成する複数のスポットが第２の領域３２の内部でマトリクス状に配置されている場合を示している。
【０１０９】
第１の領域３１としての複数のスポットが規則的に配置されていると、それに起因して光の干渉が起こり、光ディスクＤへの結像に支障をきたす場合がある。このような点を考慮すれば、第１の領域３１の複数のスポットは、第２の領域３２の内部でランダムに配置されていることが望ましい。ただし、そのような支障が生じないのであれば、第１の領域３１の複数のスポットは、第２の領域３２の内部でマトリクス状に配置されてもよい。
【０１１０】
また、このように第１の領域３１が複数のスポットで構成される場合、各スポットは、直径０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下の円形であることが望ましい。この場合、モニタに必要な光量の光を第１の領域３１を介して確実に確保することができる。
【０１１１】
図７は、第１の領域３１が、第２の領域３２の内部で、かつ、光源１１・２１から出射されるレーザー光の光軸と交わる平面内で、複数のリング状に形成されている立ち上げミラー４の平面図である。特に、図７では、第１の領域３１は、上記光軸中心を囲むように互いに非接触で配置される複数のリング状に形成されている。第１の領域３１がこのように形成されても、複数のリング状の領域を介して得られるモニタ光に基づいて、適切な光量制御を行うことができる。
【０１１２】
このとき、モニタに必要な光量の光を第１の領域３１を介して確実に確保するためには、上記リングの線幅は、０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下であることが望ましい。なお、図７では、第１の領域３１を複数のリングで形成しているが、１個のリングで形成しても構わない。
【０１１３】
図８は、第１の領域３１が、光源１１・２１から出射されるレーザー光の光軸と交わる平面内で、複数のスリット状に形成されている立ち上げミラー４の平面図である。図８では特に、第１の領域３１は、上記光軸中心を通るスリットと、そのスリットを対称の軸として左右対称となる位置に配置される複数のスリットとで形成されている。第１の領域３１がこのようなスリットで形成されていても、そのスリットを介して得られるモニタ光に基づいて、適切な光量制御を行うことができる。また、第１の領域３１がスリット状であれば、そのスリットに対応するマスクを容易に製造することができるので、上記マスクを用いて立ち上げミラー４を容易に製造することができる。
【０１１４】
また、図８のように、上記光軸中心を通るスリットに対して左右対称となるように第１の領域３１を形成すれば、第１の領域３１が非対称に形成される場合に比べて、第２の領域を介して光ディスクに照射される光ビームの光スポットが歪むのを極力低減することができる。
【０１１５】
このように第１の領域３１としてのスリットは、図８に示すように、第２の領域３２の内部から外部にまたがって形成されてもよく、第２の領域３２の内部にのみ形成されてもよい。また、第１の領域３１としてのスリットは、上記光軸中心を通る１本のスリットのみで構成されてもよい。さらに、モニタに必要な光量の光を第１の領域３１を介して確実に確保するためには、上記スリットの幅は、０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下であることが望ましい。
【０１１６】
以上で説明した図１、図５ないし図８の立ち上げミラー４の構成から、第１の領域３１は、第２の領域３２の少なくとも内部に形成されていればよいと言うことができる。
【０１１７】
次に、上述した第１の領域３１および第２の領域３２を有する立ち上げミラー４の製造方法について、図９（ａ）ないし図９（ｊ）に基づいて説明する。
【０１１８】
まず、ガラス基板４１（透明基板）上にスパッタリングで厚さ１μｍ程度の犠牲層４２（第１の犠牲層）を形成する（図９（ａ）参照）。この犠牲層４２は、例えばＣｒやＡｌの金属を材料として形成される。これらの材料を用いるのは、スパッタリングなどでの成膜が容易であり、また、のちの工程にてエッチングしやすい（酸に容易に溶ける）からである。
【０１１９】
続いて、犠牲層４２上に、第１のレジストとして、光硬化性樹脂である感光性ポリイミド４３をスピンコータで塗布する。感光性ポリイミド４３は、本実施形態では３００℃程度の耐熱性を有しているが、耐熱性が２００℃以上の材料で構成されればよい。そして、第１の領域３１に対応する開口部を有する形状のガラスマスクの上から、感光性ポリイミド４３を露光（紫外線照射）および現像し、パターニングする。露光後、溶剤で洗浄することにより、感光性ポリイミド４３の硬化したところ以外の部分が除去される（図９（ｂ）参照）。
【０１２０】
次に、感光性ポリイミド４３のパターンに対応するパターンで犠牲層４２が残るように、表面に露出している犠牲層４２をエッチング液（例えばナカライテスク製ＥＣＲ２）でエッチングし、有機溶剤で洗浄する（図９（ｃ）参照）。この工程により、犠牲層４２は、感光性ポリイミド４３のパターンの内側までエッチングされる。
【０１２１】
そして、ガラス基板４１上に、感光性ポリイミド４３および残存している犠牲層４２を覆うように、図４の特性を有する誘電体多層膜４４（第１の誘電体多層膜）を例えば真空蒸着法で成膜する（図９（ｄ）参照）。このとき、誘電体多層膜４４は、例えば２００℃以上の加熱によって成膜される。
【０１２２】
ここで、誘電体多層膜４４としては、例えば金属酸化物の多層膜を考えることができ、屈折率が２〜２．３程度のＴａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ3や、屈折率が１．３〜１．５程度のＳｉＯ2、ＭｇＦ2などを用いて形成することができる。本実施形態では、高屈折率の金属酸化物と低屈折率の金属酸化物とが交互に重なるように、誘電体多層膜４４を成膜している。
【０１２３】
続いて、残っている犠牲層４２およびその上層の誘電体多層膜４４をエッチングして除去する（図９（ｅ）参照）。これにより、誘電体多層膜４４が形成されていない領域、すなわち、犠牲層４２が除去された領域と、誘電体多層膜４４が形成されている領域とが残存することになる。
【０１２４】
ここで、犠牲層４２が除去された領域は、ガラス基板４１のみで透過領域とすることもできる。また、誘電体多層膜４４は、図４の特性を有する反射膜であるため、その形成領域は反射領域となる。したがって、図９（ｅ）の状態で、最終的な立ち上げミラー４とすることもできる。この場合、犠牲層４２の除去された領域は透過領域であるため、立ち上げミラー４の第１の領域３１に対応し、誘電体多層膜４４の形成された領域は反射領域であるため、第２の領域３２に対応することになる。
【０１２５】
また、図９（ｅ）の状態から、さらに以下の工程を経ることにより、最終的な立ち上げミラー４を完成させてもよい。
【０１２６】
すなわち、図９（ｅ）のガラス基板４１上に、スパッタリングで厚さ１μｍ程度の犠牲層４５（第２の犠牲層）を形成する（図９（ｆ）参照）。この犠牲層４５は、犠牲層４２と同様に、例えばＣｒやＡｌの金属を材料として形成される。
【０１２７】
続いて、犠牲層４５上に、第２のレジストとしての感光性ポリイミド４６をスピンコータで塗布する。感光性ポリイミド４６は、感光性ポリイミド４３と同様に、３００℃程度の耐熱性を有しているが、耐熱性が２００℃以上の材料で構成されればよい。そして、第２の領域３２に対応する開口部を有する形状のガラスマスクの上から、感光性ポリイミド４６を露光および現像し、パターニングする。つまり、感光性ポリイミド４３のパターンを反転させたパターンが残るように、感光性ポリイミド４６をパターニングする。露光後、溶剤で洗浄することにより、感光性ポリイミド４６の硬化したところ以外の部分が除去される（図９（ｇ）参照）。この結果、硬化した感光性ポリイミド４６は、誘電体多層膜４４の形成領域に対応して形成されることになる。
【０１２８】
次に、感光性ポリイミド４６のパターンに対応するパターンで犠牲層４５が残るように、表面に露出している犠牲層４５をエッチング液でエッチングし、有機溶剤で洗浄する（図９（ｈ）参照）。この工程により、犠牲層４５は、感光性ポリイミド４６のパターンの内側までエッチングされる。
【０１２９】
そして、ガラス基板４１上に、感光性ポリイミド４６および残存している犠牲層４５を覆うように、図３の特性を有する誘電体多層膜４７（第２の誘電体多層膜）を例えば真空蒸着法で成膜する（図９（ｉ）参照）。このとき、誘電体多層膜４７は、例えば２００℃以上の加熱によって成膜される。誘電体多層膜４７としては、誘電体多層膜４４と同様の金属酸化物からなるＡＲ膜を考えることができる。
【０１３０】
続いて、残っている犠牲層４５およびその上層の誘電体多層膜４７をエッチングして除去する（図９（ｊ）参照）。これにより、ガラス基板４１上には、誘電体多層膜４４が形成された領域と、誘電体多層膜４７が形成された領域とが残ることになる。誘電体多層膜４４が形成された領域は、図４の特性を有することから反射領域として機能するので、立ち上げミラー４の第２の領域３２に対応することになる。また、誘電体多層膜４７が形成された領域は、図３の特性を有することから透過領域として機能するので、立ち上げミラー４の第１の領域３１に対応することになる。
【０１３１】
以上では、誘電体多層膜４４・４７の形成を真空蒸着法により行っているが、これに限定されるわけではなく、例えばスパッタリング法やＣＶＤ法で行っても構わない。また、以上では、誘電体多層膜４４・４７のパターニングをリフトオフ法で行っているが、マスキング法やレーザーアブレーション法で行っても構わない。
【０１３２】
また、光の利用効率を上げるために、立ち上げミラー４の裏面にも、図３の特性を有する誘電体多層膜４７を形成してもよい。この場合、誘電体多層膜４７をパターニング形成する必要はなく、立ち上げミラー４の裏面全体に形成すればよい。
【０１３３】
また、本実施形態では、先に第２の領域３２に対応する誘電体多層膜４４を成膜し、その後、第１の領域３１に対応する誘電体多層膜４７を成膜しているが、誘電体多層膜４４・４７を両方成膜するのであれば、先に誘電体多層膜４７を成膜し、その後、誘電体多層膜４４を成膜するようにしても構わない。
【０１３４】
以上のように、本実施形態の立ち上げミラー４は、光源１１・２１から出射されるレーザー光の一部をモニタ用検出器５に導く第１の領域３１と、上記光ビームの残りを光ディスクＤに導く第２の領域３２とを有し、第１の領域３１は、第２の領域３２の少なくとも内部に形成されている構成である。光源１１・２１のパワーの変化や温度変化によってレーザー光の広がり方が変化しても、第２の領域３２の内部に入射するレーザー光の光量変化は、第２の領域３２の周辺部に入射する光ビームの光量変化ほど大きくはないので、上記構成によれば、パワーの変化等が合った場合でも、第２の領域３２の内部に形成された第１の領域３１を介して得られるモニタ光に基づいて、適切な光量制御を行うことができる。
【０１３５】
また、本実施形態の構成では、立ち上げミラー４にて分離されるモニタ光とディスク再生光との光量比は、第１の領域３１および第２の領域３２の面積比率で実質的に決定される。したがって、光源１１・２１の製造時のばらつきや温度変化により、立ち上げミラー４に入射するレーザー光の波長が変動しても、第１の領域３１に入射したレーザー光を波長の変動に関係なくモニタ光として利用することができる。よって、光源１１・２１のばらつきや温度変化があっても、上記モニタ光に基づいて適切な光量制御を行うことができる。
【０１３６】
また、第２の領域３２の反射率は、製造誤差により１％程度は容易に変動するが、本実施形態の構成では、モニタ光とディスク再生光との光量比が第１の領域３１および第２の領域３２の面積比率で実質的に決定されるので、第２の領域３２の反射率のばらつき（製造誤差）の影響をほとんど受けることなく、ディスク再生光を得ることができる。
【０１３７】
また、立ち上げミラー４は、本来、光ディスクＤに向かうレーザー光を光路の途中で折り曲げる機能を有しており、元から反射領域を有している。したがって、光源１１・２１から出射されたレーザー光からモニタ光を取り出すに際して、モニタ光を取り出す専用の光学素子を光路中に設けなくても、本実施形態のように立ち上げミラー４に透過領域を形成することで、立ち上げミラー４でモニタ用光学素子を容易に実現することができる。したがって、異なる波長に対応して光源が複数設けられた場合でも、各波長の光ビームを立ち上げミラー４に入射させる構成とすれば、モニタ用光学素子を１個の立ち上げミラー４で済ませることができ、装置の複雑化およびコストアップを回避することができる。
【０１３８】
また、上述した立ち上げミラー４の製造方法では、図９（ｃ）の工程において、犠牲層４２を感光性ポリイミド４３のパターンの内側までエッチングしている。このようにしておけば、その犠牲層４２と、次の図９（ｄ）の工程でガラス基板４１上に成膜される誘電体多層膜４４との間に、感光性ポリイミド４３と犠牲層４２とのパターンの差に相当する若干の隙間を設けることができる。これにより、図９（ｅ）の工程にて、エッチングによる犠牲層４２の除去がしやすくなり、犠牲層４２をエッチングで完全に除去することができる。その結果、誘電体多層膜４４のエッジがだれるのを防止することができる（誘電体多層膜４４のエッジをシャープに形成することができる）。
【０１３９】
また、感光性ポリイミド４３・４６は、耐熱性が２００℃以上の材料で構成されているので、その後の誘電体多層膜４４・４７の高温（２００℃）での成膜においても、これに耐えることができる。したがって、耐久性の高い誘電体多層膜４４・４７を成膜することが可能となる。
【０１４０】
なお、図９（ｅ）の工程までで立ち上げミラー４を完成させた場合、すなわち、第１の領域３１に対応する誘電体多層膜４７を形成せず、第２の領域３２に対応する誘電体多層膜４４のパターニングのみで立ち上げミラー４を完成させた場合、誘電体多層膜４４が形成されていない部分（第１の領域３１）の入射角４５°における反射率は、Ｐ偏光が入射する場合で約１％、Ｓ偏光が入射する場合で約１０％である。立ち上げミラー４の裏面も同様の反射率であるので、トータルでは、Ｐ偏光が入射する場合で約２％、Ｓ偏光が入射する場合で約２０％、モニタ光量が減少する。
【０１４１】
したがって、Ｐ偏光がモニタ用の立ち上げミラー４に入射するような光ピックアップ光学系を構成すれば、光量の減少は約２％とわずかである。一方、Ｓ偏光がモニタ用の立ち上げミラー４に入射するような光ピックアップ光学系を構成すれば、光量の減少は約２０％とやや大きいが、その分リフトオフするパターンの面積（第１の領域３１の面積）を予め増やしてやればよい。
【０１４２】
また、反射率の波長依存性は、ガラスの分散に依存する。このため、ガラス基板４１として分散の小さいガラスを選択すれば、レーザー光の波長シフトに対するモニター透過光量の変動を抑えることができ、さらにはコスト削減のメリットもある。
【０１４３】
ところで、青色レーザー光と、ＣＤおよびＤＶＤ用のレーザー光とでは、光の通る領域の大きさが異なることがあり、第１の領域３１の面積を第２の領域３２の面積に対して例えば５％に設定しても、第１の領域３１を透過するレーザー光によっては、モニタ光量が変動することがある。
【０１４４】
そこで、透過する波長に応じた透過率補正を第１の領域３１にて行ってもよい。例えば、図１０は、図３で示した第１の領域３１の分光反射率を、Ｐ偏光とＳ偏光との平均で示している。一方、図１１は、青色（４０５ｎｍ）のレーザー光の反射率を図１０よりも高くした場合の第１の領域３１の分光反射率を示している。一般的に、ＣＤおよびＤＶＤ用のレーザー光よりも青色レーザー光のほうが光束が広いので、図１１に示すような特性を有する誘電体多層膜４７で第１の領域３１を形成することにより、入射するレーザー光の波長によるモニタ光量の変動を抑えることができる。
【０１４５】
なお、本実施形態では、光源が複数設けられている場合について説明したが、光源が１個の光学系にも本実施形態の立ち上げミラー４を適用することは可能である。
【０１４６】
なお、本発明は、以下のように表現することもできる。
本発明のモニタ用光学素子は、光源と光ディスクとの間の光路中に配置されるモニタ用光学素子であって、上記光源から出射される光ビームの一部をモニタ用検出器に導く第１の領域と、上記光ビームの残りを上記光ディスクに導く第２の領域とを有し、上記第１の領域および上記第２の領域は、基板の同一面上にそれぞれ形成されており、上記第１の領域は、少なくとも上記第２の領域の内側に形成されている構成である。ここで、少なくとも第２の領域の内側とは、第２の領域の内側のみならず、第２の領域の内側から外側にまたがる領域も含む概念である。
【０１４７】
また、本発明のモニタ用光学素子は、上記のモニタ用光学素子において、上記第２の領域は、誘電体多層膜を含んで形成されている一方、上記第１の領域は、上記第２の領域を開口した開口部で形成されている構成である。
【０１４８】
〔実施の形態２〕
本発明の他の実施の形態について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、以下での説明の便宜上、実施の形態１と同一の構成には同一の部材番号を付記し、その説明を省略する。
【０１４９】
図１２は、本実施形態の光ピックアップの概略の構成を示す説明図である。本実施形態では、実施の形態１のダイクロイックプリズム３の代わりにダイクロイックミラー７を用い、モニタ用検出器５がダイクロイックミラー７を介してモニタ光を受光するようにした以外は、実施の形態１と同様の構成である。
【０１５０】
ダイクロイックミラー７は、光源１１・２１と光ディスクＤとの間に配置され、入射するレーザー光を波長に応じて選択的に透過または反射させる合波素子である。本来ならば、ダイクロイックミラー７は、光源１１から出射されるレーザー光（波長６６０ｎｍ、７８０ｎｍ）の全てを透過させて光ディスクＤに導く一方、光源１２から出射されるレーザー光（波長４０５ｎｍ）の全てを反射させて光ディスクＤに導くが、本実施形態では、このダイクロイックミラー７に本発明のモニタ用光学素子としての機能を持たせている。
【０１５１】
つまり、本実施形態では、ダイクロイックミラー７に、光源１１・２１から出射されるレーザー光の一部をモニタ用検出器５に導く第１の領域３１と、上記レーザー光の残りを光ディスクＤに導く第２の領域３２とを形成している。第１の領域３１の形状および配置は、例えば、図１、図５ないし図８で示した実施の形態１の立ち上げミラー４の場合と同様に考えることができ、ダイクロイックミラー７においても、第１の領域３１は、第２の領域３２の少なくとも内部に形成されている。
【０１５２】
ところで、本実施形態では、第１の領域３１および第２の領域３２が立ち上げミラー４ではなく、ダイクロイックミラー７に形成されていることから、その機能が実施の形態１での機能とは異なっている。すなわち、ダイクロイックミラー７の第１の領域３１は、光源１１・２１から出射されるレーザー光のうち、特定波長（例えば６６０ｎｍ、７８０ｎｍ）のレーザー光の一部を透過させてモニタ用検出器５に導く透過機能と、他の波長（例えば４０５ｎｍ）のレーザー光の一部を反射させてモニタ用検出器５に導く反射機能とを両方有している。
【０１５３】
ここで、図１３は、ダイクロイックミラー７の第１の領域３１の分光反射率を示している。第１の領域３１では、波長６６０ｎｍ、７８０ｎｍ付近での反射率が４％以下（透過率９６％以上）であり、これらの波長のレーザー光のほとんどが第１の領域３１を透過することになる。また、第１の領域３１の波長４０５ｎｍ付近での反射率は９６％以上と高く、波長４０５ｎｍのレーザー光のほとんどは第１の領域３１にて反射されることになる。
【０１５４】
一方、第２の領域３２は、特定波長（例えば６６０ｎｍ、７８０ｎｍ）のレーザー光の残りを反射させて光ディスクＤに導く反射機能と、他の波長（例えば４０５ｎｍ）のレーザー光の残りを透過させて光ディスクＤに導く透過機能とを両方有している。
【０１５５】
ここで、図１４は、ダイクロイックミラー７の第２の領域３２の分光反射率を示している。第２の領域３２では、波長６６０ｎｍ、７８０ｎｍ付近での反射率が９６％以上と高く、これらの波長のレーザー光のほとんどが第２の領域３２にて反射されることになる。また、第２の領域３２の波長４０５ｎｍ付近での反射率は４％以下（透過率９６％以上）であり、波長４０５ｎｍのレーザー光のほとんどが第２の領域を透過することになる。
【０１５６】
上記の構成において、本実施形態の光ピックアップの動作は、以下の通りである。すなわち、光源１１から出射された直線偏光のレーザー光のうち、例えばＰ偏光はＰＢＳ１２を透過してコリメータレンズ１３に入射する。そして、コリメータレンズ１３で平行光となったレーザー光のうち、ダイクロイックミラー７の第１の領域３１に入射したレーザー光は、ダイクロイックミラー７にて反射されてモニタ用検出器５に導かれ、そこでモニタされる。一方、光源２１から出射された直線偏光のレーザー光のうち、例えばＰ偏光はＰＢＳ２２を透過してコリメータレンズ２３に入射する。そして、コリメータレンズ２３で平行光となったレーザー光のうち、ダイクロイックミラー７の第１の領域３１に入射したレーザー光は、ダイクロイックミラー７を透過してモニタ用検出器５に導かれ、そこでモニタされる。
【０１５７】
一方、光源１１から出射されたレーザー光のうち、ダイクロイックミラー７の第２の領域３２に入射したレーザー光は、ダイクロイックミラー７を透過し、立ち上げミラー４に入射する。また、光源２１から出射されたレーザー光のうち、ダイクロイックミラー７の第２の領域３２に入射したレーザー光は、ダイクロイックミラー７にて反射されて、立ち上げミラー４に入射する。立ち上げミラー４に入射したレーザー光は、そこで光ディスクＤ方向に反射され、１／４波長板によって円偏光とされた後、対物レンズ６によって光ディスクＤ上に集光される。
【０１５８】
光ディスクＤからの戻り光は、再び対物レンズ６を介して１／４波長板に入射し、ここで直線偏光（例えばＳ偏光）に変換された後、立ち上げミラー４にて反射されてダイクロイックミラー７に入射する。このとき、戻り光が光源１１から出射されたレーザー光の戻り光であれば、ダイクロイックミラー７に入射した戻り光はダイクロイックミラー７を透過し、コリメータレンズ１３を介してＰＢＳ１２に入射する。ＰＢＳ１２では、入射した戻り光が反射され、受光素子１４にて受光される。一方、戻り光が光源２１から出射されたレーザー光の戻り光であれば、ダイクロイックミラー７に入射した戻り光はダイクロイックミラー７にて反射され、コリメータレンズ２３を介してＰＢＳ２２に入射する。ＰＢＳ２２では、入射した戻り光が反射され、受光素子２４にて受光される。
【０１５９】
上述した第１の領域３１および第２の領域３２を有するダイクロイックミラー７は、図９（ａ）ないし図９（ｊ）に基づいて説明した実施の形態１の立ち上げミラー４と全く同様の方法で製造することができる。ただし、ダイクロイックミラー７の第１の領域３１には、透過および反射の両方の機能を持たせ、第２の領域３２にも透過および反射の両方の機能を持たせるために、第１の領域３１に対応する誘電体多層膜４７と、第２の領域３２に対応する誘電体多層膜４４との両方をガラス基板４１上に成膜する必要がある。したがって、本実施形態では、図９（ａ）ないし図９（ｊ）の工程を全て行うことが必要となる。このとき、図９（ｄ）の工程では、誘電体多層膜４４として、図１４の特性を有するものを用いればよく、図９（ｉ）の工程では、誘電体多層膜４７として、図１３の特性を有するものを用いればよい。
【０１６０】
以上のように、本実施形態のダイクロイックミラー７においても、実施の形態１の立ち上げミラー４と同様に、光源１１・２１から出射されるレーザー光の一部をモニタ用検出器５に導く第１の領域３１と、上記レーザー光の残りを光ディスクＤに導く第２の領域３２とを有し、第１の領域３１は、少なくとも第２の領域３２の内部に形成されている。これにより、光源１１・２１のパワーの変化等によってレーザー光が広がっても、第２の領域３２の少なくとも内部に形成された第１の領域３１にて、それらの影響を受けることなくモニタ光を得ることができる。その結果、第１の領域３１を介して得られるモニタ光に基づいて、適切な光量制御を行うことができる。
【０１６１】
しかも、第１の領域３１および第２の領域３２は、所定の面積を有して形成されるので、温度変化等によって入射するレーザー光の波長がばらついても、第１の領域３１および第２の領域３２にレーザー光が入射する限り、その影響を受けることなく、第１の領域３１と第２の領域３２とで入射光を分離することができる。したがって、温度変化等による波長のばらつきがあっても、第１の領域３１を介して得られるモニタ光に基づいて、適切な光量制御を行うことができる。
【０１６２】
また、モニタ光を取り出す専用の光学素子を光路中に設けなくても、光ピックアップに既存のダイクロイックミラー７に図１３および図１４の特性を有する第１の領域３１および第２の領域を形成することで、ダイクロイックミラー７でモニタ用光学素子を容易に実現することができる。したがって、異なる波長に対応して光源が複数設けられた場合でも、モニタ用光学素子を１個のダイクロイックミラー７で済ませることができ、装置の複雑化およびコストアップを回避することができる。
【０１６３】
なお、本発明は、以下のように表現することもできる。
本発明のモニタ用光学素子は、光源と光ディスクとの間の光路中に配置されるモニタ用光学素子であって、上記光源から出射される光ビームの一部をモニタ用検出器に導く第１の領域と、上記光ビームの残りを上記光ディスクに導く第２の領域とを有し、上記第１の領域および上記第２の領域は、基板の同一面上にそれぞれ形成されているとともに、特性の異なる誘電体多層膜をそれぞれ含んで形成されており、上記第１の領域は、少なくとも上記第２の領域の内側に形成されている構成である。
【０１６４】
〔実施の形態３〕
本発明のさらに他の実施の形態について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。本実施形態では、ＰＢＳにモニタ用光学素子としての機能を持たせている。以下、詳細に説明する。
【０１６５】
図１５は、本実施形態の光ピックアップの概略の構成を示す説明図である。本実施形態の光ピックアップは、光源５１と、ＰＢＳ５２と、モニタ用検出器５３と、受光素子５４と、ミラー５５と、コリメータレンズ５６と、立ち上げミラー５７と、１／４波長板５８と、対物レンズ５９とを有している。
【０１６６】
光源５１は、光ビームとして、ＤＶＤ用のレーザー光（例えば波長６６０ｎｍ）と、ＣＤ用のレーザー光（例えば波長７８０ｎｍ）とを出射する２波長１チップ型の光源である。
【０１６７】
ＰＢＳ５２は、入射光をその偏光状態に応じて分離する偏光分離素子であり、例えばＰ偏光を透過させる一方、Ｓ偏光を反射させる特性を有している。このようなＰＢＳ５２により、光源５１から出射される一方の偏光状態の光（例えばＰ偏光）を透過させて光ディスクＤに導くことができるとともに、光ディスクＤを介してＰＢＳ５２に入射する他方の偏光状態の光（例えばＳ偏光）を受光素子５４に導くことができる。なお、ＰＢＳ５２の詳細については後述する。
【０１６８】
モニタ用検出器５３は、光源５１から出射されるレーザー光の一部を受光（モニタ）するものであり、例えばフォトダイオードで構成されている。このモニタ用検出器５３での受光量に基づいて、光源５１から出射されるレーザー光の出力が、図示しない制御部によって制御される。本実施形態においても、光源５１から前方（光ディスクＤ方向）に出射されたレーザー光をモニタ用検出器５３にてモニタするので、フロントモニタ方式となっている。
【０１６９】
受光素子５４は、ＰＢＳ５２を介して入射する光ディスクＤからの戻り光を受光することによって信号検出を行う。つまり、受光素子５４での受光により、光ディスクＤの記録再生時に、サーボ信号（フォーカスエラー信号、トラッキングエラー信号）、情報信号、収差信号等が検出される。
【０１７０】
ミラー５５は、ＰＢＳ５２から射出されるレーザー光を反射させ、その光路をコリメータレンズ５６の方向に折り曲げる。コリメータレンズ５６は、ミラー５５にて反射されたレーザー光を平行光にする。
【０１７１】
立ち上げミラー５７は、コリメータレンズ５６から射出されるレーザー光を反射させ、その光路を光ディスクＤ方向に折り曲げる。１／４波長板５８は、入射する直線偏光のレーザー光を円偏光に変換する。対物レンズ５９は、１／４波長板５８を介して入射するレーザー光を光ディスクＤ上に集光させる。
【０１７２】
上記の構成において、光源５１から出射された直線偏光のレーザー光（例えばＰ偏光）は、ＰＢＳ５２に入射し、ＰＢＳ５２の後述する第２の領域７２（図１６参照）を透過してミラー５５に入射する。そして、ミラー５５に入射したレーザー光は、コリメータレンズ５６にて平行光に変換され、立ち上げミラー５７にて反射された後、１／４波長板５８に入射する。１／４波長板５８では、入射した直線偏光のレーザー光が円偏光に変換され、対物レンズ５９を介して光ディスクＤ上に集光する。
【０１７３】
一方、光源５１から出射されたレーザー光のうちでＰＢＳ５２の後述する第１の領域７１（図１６参照）に入射したレーザー光は、第１の領域７１にて反射されてモニタ用検出器５３に入射し、モニタ用検出器５３にてモニタされる。
【０１７４】
また、光ディスクＤからの戻り光は、対物レンズ５９を介して１／４波長板５８に入射し、ここで直線偏光（例えばＳ偏光）に変換された後、立ち上げミラー５７に入射し、立ち上げミラー５７にて反射されて、コリメータレンズ５６、反射ミラー５５を順に介してＰＢＳ５２に入射する。ＰＢＳ５２では、上記戻り光は反射され、受光素子５４にて受光される。
【０１７５】
次に、ＰＢＳ５２の詳細について説明する。
図１５に示すように、ＰＢＳ５２は、２個の断面三角形状のプリズムをその斜面同士が対向するように貼り合わせて構成したキューブプリズムである。本実施形態では、２個のプリズムは、断面直角二等辺三角形の直角プリズムとなっている。以下では、２個のプリズムの一方を第１のプリズム５２ａと称し、他方を第２のプリズム５２ｂと称することにする。なお、上記の「斜面」とは、プリズムの各面のうちで、断面三角形の最も長い辺（斜辺）を側辺に持つ四角形の面を指すものとする。
【０１７６】
図１６は、ＰＢＳ５２の詳細な構成を示す断面図である。第１のプリズム５２ａの斜面上には、誘電体膜６１と金属膜６２とが基板側から積層されており、これらがパターニングされている。一方、第２のプリズム５２ｂの斜面上には、偏光分離膜５２ｃが形成されている。そして、各斜面同士が対向するように第１のプリズム５２ａと第２のプリズム５２ｂとが接着剤５２ｄを介して接合されている。
【０１７７】
ここで、第１のプリズム５２ａよりも先の第２のプリズム５２ｂの詳細について説明する。第２のプリズム５２ｂの斜面上に形成された偏光分離膜５２ｃは、入射光をその偏光状態に応じて透過または反射させる特性を有しており、例えば誘電体多層膜で構成されている。この偏光分離膜５２ｃの形成により、偏光分離膜５２ｃにＰ偏光が入射すれば、そのＰ偏光は例えば偏光分離膜５２ｃを透過し、偏光分離膜５２ｃにＳ偏光が入射すれば、そのＳ偏光は例えば偏光分離膜５２ｃにて反射される。
【０１７８】
偏光分離膜５２ｃを構成する誘電体多層膜は、所望の特性（上述の光学特性）を得るために、高屈折率、低屈折率およびその中間の屈折率を有する誘電体の材料および層数が適切に設定されて構成されている。高屈折率の誘電体としては、例えばＴａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＴｉとＬａの混合酸化物、ＴｉとＺｒとの混合酸化物がある。中屈折率の誘電体としては、例えばＡｌ2Ｏ3、ＡｌとＬａとの混合酸化物がある。低屈折率の誘電体としては、例えばＳｉＯ2、ＭｇＦ2がある。
【０１７９】
次に、第１のプリズム５２ａの詳細について説明する。第１のプリズム５２ａの斜面上で誘電体膜６１および金属膜６２が塗布されている領域は、光源５１から出射されるレーザー光の一部を反射させてモニタ用検出器５３に導く反射領域であり、光源５１から出射される光ビームの一部をモニタ用検出器５３に導く第１の領域７１を構成している。一方、第１のプリズム５２ａの斜面上で光源５１からの光束が入射する領域内で、かつ、誘電体膜６１および金属膜６２が塗布されていない領域は、光源５１から出射されるレーザー光の残りを透過させて光ディスクＤに導く透過領域であり、光源５１から出射される光ビームの残りを光ディスクＤに導く第２の領域７２を構成している。
【０１８０】
本実施形態では、第１の領域７１を構成する誘電体膜６１および金属膜６２のパターン形状は、例えば実施の形態１で示した図１、図５ないし図８の第１の領域３１のパターン形状のいずれかと同じである。それゆえ、本実施形態においても、実施の形態１と同様に、第１の領域７１は、少なくとも第２の領域７２の内部（内側）に形成されていると言うことができる。
【０１８１】
第１の領域７１の金属膜６２は、例えばＡｌ（反射率約８５％）、Ｃｒ（反射率約６０％）、Ａｇ（反射率約９０％）のいずれかの材料で構成されている。これらの金属材料では、いずれも、入射光の波長に関係なく、ほとんどフラットな反射率が得られる。一方、誘電体膜６１は、上述した偏光分離膜５２ｃを構成する誘電体の材料を適切に選択し、それらを適切な層数だけ積むことによって構成されている。
【０１８２】
このようなＰＢＳ５２の構成において、光源５１から出射されたＤＶＤ用またはＣＤ用の光（例えばＰ偏光）は、第１のプリズム５２ａに入射し、誘電体膜６１および金属膜６２からなる第１の領域７１または第２の領域７２に入射する。このうち、第１の領域７１に入射した光は、第１の領域７１にて反射されてモニタ用検出器５３に入射し、そこでモニタされる。また、光源５１から出射されて第２の領域７２に入射した光は、第２の領域７２および偏光分離膜５２ｃを透過し、光ディスクＤ方向に向かう。一方、光ディスクＤからの戻り光（Ｓ偏光）は、第２のプリズム５２ｂを透過した後、偏光分離膜５２ｃに入射し、そこで反射されて受光素子５４にて受光される。
【０１８３】
以上のように、本実施形態においても、ＰＢＳ５２において、第１の領域７１は、第２の領域７２の少なくとも内部（内側）に形成されているので、光源５１のパワーの変化等によってレーザー光が広がっても、第２の領域７２の少なくとも内部に形成された第１の領域７１にて、それらの影響を受けることなくモニタ光を得ることができ、第１の領域７１を介して得られるモニタ光に基づいて適切な光量制御を行うことができるなど、実施の形態１および２と同様の効果を得ることができる。
【０１８４】
また、特に、本実施形態のＰＢＳ５２は、誘電体膜６１および金属膜６２を設けた以外は、既存のＰＢＳと同じ構成であり、このような誘電体膜６１および金属膜６２を塗布することにより、第１の領域７１および第２の領域７２をＰＢＳ５２にて容易に形成することができる。したがって、第１の領域７１および第２の領域７２を有する本発明のモニタ用光学素子を既存のＰＢＳを利用して容易に実現することができる。
【０１８５】
また、上述の動作からもわかるように、本実施形態では、光源５１からの光が第２のプリズム５２ｂよりも先に第１のプリズム５２ａに入射するように、各プリズムが接合されて光源５１と光ディスクＤとの間の光路中に配置されている。これにより、光ディスクＤからの戻り光は、第２のプリズム５２ｂを透過した後は、上述のように偏光分離膜５２ｃにて反射され、接着剤５２ｄに入射することがない。戻り光が接着剤５２ｄを通過すると、その波面が乱れるために受光素子５４での信号検出を的確に行えなかったり、位相のずれを起こして（直線偏光が乱れて）光量損失となるおそれもある。したがって、上記構成によれば、光ディスクＤからの戻り光が接着剤５２ｄを通過することによる上記の不都合を回避することができる。
【０１８６】
また、第１のプリズム５２ａの斜面上に金属膜６２のみならず、誘電体膜６１を形成することにより、金属膜６２の反射率を向上させることができ、金属膜６２のみを形成する場合と比較して光の利用効率を上げることができる。
【０１８７】
さらに、誘電体膜６１を形成することにより、金属膜６２単独では入射光の波長によって変動しない第１の領域７１の反射率を、入射光の波長に応じてなめらかに変化させることができる。これにより、用いる光ディスクＤに応じたモニタ光量を得ることができる。例えば、ＤＶＤ用として、光源５１からの出射光量の約１５％±３％のモニタ光量を得ることができ、ＣＤ用として、光源５１からの出射光量の約１８％±３％のモニタ光量を得ることができる。また、青色レーザーに対応した光ディスク用の光源をさらに積む場合でも、光源５１からの出射光量の約１５％±３％のモニタ光量を得ることができる。なお、±３％の変動幅は、光ピックアップの仕様によって変動し得る範囲を示す。
【０１８８】
図１７は、入射光の波長と、モニタ光とディスク照射光との光量比との関係を示すグラフである。ＤＶＤ用として最低１２％のモニタ光量を確保する場合、モニタ光とディスク照射光との光量比は、１２／８８＝０．１４である。一方、ＣＤ用として最高２１％のモニタ光量を確保する場合、モニタ光とディスク照射光との光量比は、２１／７９＝０．２７である。本実施形態では、ＤＶＤ用として最低１２％のモニタ光量を確保するとともに、ＣＤ用として最高２１％のモニタ光量を確保したいので、そのようなモニタ光量を得るためには、上記光量比が０．１４以上０．２７となるように誘電体膜６１を構成し、第１の領域７１の反射率を設定すればよい。
【０１８９】
なお、図１７では、波長６６０ｎｍのときの上記光量比が０．１４、波長７８０ｎｍのときの上記光量比が０．２７として図示しているが、装置の仕様等により、ＤＶＤ用のレーザー光の波長は、６６０ｎｍ±３０ｎｍの範囲で変動し、ＣＤ用のレーザー光の波長は、７８０ｎｍ±３０ｎｍの範囲で変動するので、このような波長の変動範囲内で、ＤＶＤ用として上記光量比０．１４が得られるようにすればよく、ＣＤ用として上記光量比０．２７が得られるようにすればよい。
【０１９０】
なお、モニタ光量自体は、入射光の波長に関係なく、第１の領域７１の面積や密度を変化させることによっても変動する。したがって、用いる光ディスクＤに応じてモニタ光量を変化させるためには、第１の領域７１の面積や密度を適切に規定した上で、第１の領域７１を構成する誘電体膜６１（の材料および層数）を、光源５１からの入射光の波長に応じて第１の領域７１の反射率が変化するように形成すればよい。
【０１９１】
また、本実施形態のように第１のプリズム５２ａと第２のプリズム５２ｂとを接着剤５２ｄを介して接合した接合型のＰＢＳ５２を構成した場合、第１のプリズム５２ａの斜面にて全反射が起こらないため、上記斜面に対する入射角（上記斜面に対する法線と入射光とのなす角度のうちで鋭角のもの）を４５°とすることができる。したがって、第１のプリズム５２ａおよび第２のプリズム５２ｂを直角プリズムで構成して、その組み立て（接合）を容易にすることができる。
【０１９２】
ところで、以上では、第１の領域７１を誘電体膜６１と金属膜６２とで構成した例について説明したが、第１の領域７１を金属膜６２のみで構成するようにしてもよい。例えば、図１８は、ＰＢＳ５２の他の構成を示す断面図である。このＰＢＳ５２では、第１のプリズム５２ａの斜面上に金属膜６２が直接形成され、これをパターニングすることによって第１の領域７１が形成されている。上述したモニタ光量（または上述の光量比）を入射光の波長に応じて変える必要がない場合には、このように金属膜６２のみで第１の領域７１を構成するようにしてもよい。
【０１９３】
ところで、上記の金属膜６２は、マスク法またはスクリーン印刷法によって形成することが可能である。そこで、これらの手法を用いたＰＢＳ５２の製造方法について以下に説明する。
【０１９４】
図１９（ａ）ないし図１９（ｄ）は、マスク法を用いて製造されるＰＢＳ５２の製造工程を示す断面図である。まず、第１のプリズム５２ａ（第１の透明基板）の斜面上に、所定のパターンで開口部８１ａが形成されたマスク８１を装着する（図１９（ａ）参照）。そして、マスク８１の開口部８１ａを介して第１のプリズム５２ａの斜面上に金属膜６２を成膜する（図１９（ｂ）参照）。その後、マスク８１を除去することにより、第１のプリズム５２ａ上に金属膜６２の形成領域である第１の領域７１と、金属膜６２の非形成領域である第２の領域７２とを形成する（図１９（ｃ）参照）。
【０１９５】
次に、第２のプリズム５２ｂ（第２の透明基板）の斜面上に、偏光分離膜５２ｃを成膜しておき、第１のプリズム５２ａと第２のプリズム５２ｂとを、金属膜６２と偏光分離膜５２ｃとが対向するように位置させ（図１９（ｄ）参照）、これらを接着剤（図示せず）を介して貼り合わせる。これにより、図１８に示すＰＢＳ５２が完成する。
【０１９６】
なお、第１のプリズム５２ａ上に誘電体膜６１を成膜する場合は、マスク８１の開口部８１ａを介して第１のプリズム５２ａ上に先に誘電体膜６１を成膜し、その後に同じ開口部８１ａを介して金属膜６２を成膜すればよい。
【０１９７】
一方、図２０（ａ）ないし図２０（ｆ）は、スクリーン印刷法を用いて製造されるＰＢＳ５２の製造工程を示す断面図である。まず、所定のパターンで開口部９１ａが形成されたスクリーン９１を用意し（図２０（ａ）参照）、スクリーン９１上に金属材料６２ａ（金属膜６２の材料）を塗布する（図２０（ｂ）参照）。そして、スクリーン９１を第１のプリズム５２ａの斜面上に近接させ（図２０（ｃ）参照）、ヘラ９２によって、開口部９１ａを介して金属材料６２ａを第１のプリズム５２ａ上に擦りつける（図２０（ｄ）参照）。その後、第１のプリズム５２ａ上からスクリーン９１除去する（図２０（ｅ）参照）。この結果、第１のプリズム５２ａ上には、金属材料６２ａの成膜領域（金属膜６２の形成領域）である第１の領域７１と、金属材料６２ａの非成膜領域である第２の領域７２とが形成される。
【０１９８】
その後は、マスク法の場合と同様に、第２のプリズム５２ｂ上に偏光分離膜５２ｃを成膜しておき、第１のプリズム５２ａと第２のプリズム５２ｂとを、金属材料６２ａと偏光分離膜５２ｃとが対向するように位置させ（図２０（ｆ）参照）、これらを接着剤（図示せず）を介して貼り合わせる。これにより、図１８に示すＰＢＳ５２が完成する。
【０１９９】
このようにマスク法またはスクリーン印刷法を用いることにより、金属膜６２（金属材料６２ａ）を容易に第１のプリズム５２ａ上に成膜することができ、第１の領域７１および第２の領域７２を容易に形成することができる。したがって、このような手法を用いることにより、本実施形態のＰＢＳ５２を容易に実現することができる。
【０２００】
なお、第１のプリズム５２ａ上に誘電体膜６１を成膜する場合は、真空蒸着等によって第１のプリズム５２ａ上に先に誘電体膜６１を成膜しておき、その後に上記のスクリーン印刷法によって金属膜６２を成膜すればよい。この場合は、誘電体膜６１は、金属膜６２と同じパターンで形成されてもよいし、第１のプリズム５２ａ上でパターニングなしで形成されてもよい。
【０２０１】
〔実施の形態４〕
本発明のさらに他の実施の形態について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。前述の実施の形態２では、接合型のＰＢＳでモニタ用光学素子を構成した例について説明したが、本実施形態では、エアギャップ型のＰＢＳでモニタ用光学素子を構成した例について説明する。なお、実施の形態３と同一の構成には同一の部材番号を付記し、その説明を省略する。
【０２０２】
図２１は、本実施形態の光ピックアップの概略の構成を示す説明図である。また、図２２は、本実施形態のＰＢＳ５２の概略の構成を示す断面図である。本実施形態では、ＰＢＳ５２の第１のプリズム５２ａおよび第２のプリズム５２ｂは、５〜１０μｍ程度のエアギャップ５２ｅを介して貼り合わされている。第１のプリズム５２ａの斜面上には誘電体膜６１および金属膜６２が積層されており、第２のプリズム５２ｂの斜面上には偏光分離膜５２ｃが形成されている。誘電体膜６１および金属膜６２が積層された領域は第１の領域７１を構成しており、光源光束が入射する領域内で第１の領域７１以外の領域は、第２の領域７２を構成している。
【０２０３】
なお、本実施形態では、ＰＢＳ５２全体としては菱形プリズムとなっており、ＰＢＳ５２を構成する第１のプリズム５２ａおよび第２のプリズム５２ｂの断面形状は、直角二等辺三角形から崩れて、１内角が鈍角となる三角形となっている。
【０２０４】
本実施形態のエアギャップ型のＰＢＳ５２は、第１のプリズム５２ａと第２のプリズム５２ｂとの間に接着剤が存在しない点以外は接合型のＰＢＳ５２と同様の構成であるので、エアギャップ型のＰＢＳ５２を用いても、実施の形態３と同様の効果を得ることができる。しかも、エアギャップ型のＰＢＳ５２では、上記の接着剤が存在しないので、光ディスクＤからの戻り光が接着剤を通過することによって起こる問題（波面の乱れ、位相ずれ）を一切考慮しなくても済む。したがって、実施の形態３のように、必ずしも、第１のプリズム５２ａを光源５１側に配置し、第２のプリズム５２ｂを光ディスクＤ側に配置する必要がなく、第１のプリズム５２ａおよび第２のプリズム５２ｂの配置の自由度が増す。
【０２０５】
ただし、エアギャップ型のＰＢＳ５２においては、入射角を適切に設定しないと、光源５１側のプリズムの斜面にて全反射が起こり、光ディスクＤに光が到達しなくなるといった不都合が生じる。そこで、本実施形態では、入射角、すなわち、光源５１からの入射光と第１のプリズム５２ａの斜面に対する法線とのなす角度をθ（ただし、０°＜θ＜９０°）とすると、
θ＜３５°
を満足するようにＰＢＳ５２が構成され、光源５１と光ディスクＤとの間の光路中に配置されている。これは、第１のプリズム５２ａの斜面にて全反射が起こる臨界角がおよそ４１°であり、光源５１から出射される光の開き角（最も外側の光線同士のなす角度）がおよそ６°であることを考慮したことによる。つまり、その差し引き分である３５°よりも入射角が小さければ、光源５１からの光が上記斜面にて全反射して光ディスクＤに照射されなくなるのを回避することができる。
【０２０６】
また、図２３は、エアギャップ型のＰＢＳ５２の他の構成を示す断面図である。このように、第１のプリズム５２ａ上に誘電体膜６１を形成せずに金属膜６２のみを形成してエアギャップ型のＰＢＳ５２を構成することも勿論可能である。
【０２０７】
なお、本実施形態のエアギャップ型のＰＢＳ５２を製造する場合、接着剤で２種のプリズムを貼り合わせる点を除けば、実施の形態３で述べた製造方法を適用することが可能である。
【０２０８】
〔実施の形態５〕
本発明のさらに他の実施の形態について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。本実施形態では、ホールパターン型のＰＢＳでモニタ用光学素子を構成した例について説明する。なお、実施の形態３または４と同一の構成には同一の部材番号を付記し、その説明を省略する。
【０２０９】
図２４は、本実施形態の光ピックアップの概略の構成を示す説明図である。また、図２５は、本実施形態のＰＢＳ５２の概略の構成を示す断面図である。本実施形態では、光源５１は、Ｓ偏光を出射するように構成されている。そして、ＰＢＳ５２の第１のプリズム５２ａの斜面上には、実施の形態３および４で述べた誘電体膜６１および金属膜６２が形成されておらず、第２のプリズム５２ｂの斜面上に、偏光分離膜５２ｆが形成されている。
【０２１０】
偏光分離膜５２ｆは、入射光をその偏光状態に応じて透過または反射させる特性を有している。より詳細には、偏光分離膜５２ｆは、Ｓ偏光を反射させ、Ｐ偏光を透過させる特性を有している。偏光分離膜５２ｆは、実施の形態３で述べた偏光分離膜５２ｃを構成する誘電体の材料および層数を適宜選択することで形成される。
【０２１１】
偏光分離膜５２ｆは、第２のプリズム５２ｂの斜面上にパターニング形成されている点で、先の実施の形態３および４の偏光分離膜５２ｃとは異なっている。本実施形態では、偏光分離膜５２ｆを開口してできた領域（開口部）が、光源５１から出射される光ビームの一部を（透過によって）モニタ用検出器５３に導く第１の領域７１となっている。一方、光源光束が入射する領域内で偏光分離膜５２ｆの存在する領域が、上記光ビームの残りを（反射によって）光ディスクＤに導く第２の領域となっている。つまり、本実施形態では、第１の領域７１は透過領域であり、第２の領域７２は反射領域である。ただし、第１の領域７１が第２の領域７２の少なくとも内部（内側）に形成されている点は、前述の各実施の形態と同様である。
【０２１２】
この構成では、光源５１から出射されたＤＶＤ用またはＣＤ用の光（Ｓ偏光）は、第１のプリズム５２ａに入射し、第１の領域７１または第２の領域７２に入射する。このうち、第１の領域７１に入射した光は、そのまま第１の領域７１を透過してモニタ用検出器５３に入射し、そこでモニタされる。また、光源５１から出射されて第２の領域７２に入射した光は、そのほとんどが第２の領域７２で反射されて光ディスクＤ方向に向かうが、残りの一部は第２の領域７２を透過してモニタ用検出器５３に入射する。一方、光ディスクＤからの戻り光（Ｐ偏光）は、第１のプリズム５２ａ、偏光分離膜５２ｆ、第２のプリズム５２ｂを順に透過して受光素子５４にて受光される。
【０２１３】
このように、本実施形態においても、ＰＢＳ５２において、第１の領域７１は、第２の領域７２の少なくとも内部（内側）に形成されているので、第１の領域７１を介して得られるモニタ光に基づいて適切な光量制御を行うことができるなど、上述した各実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【０２１４】
また、本実施形態のＰＢＳ５２は、既存のＰＢＳの偏光分離膜をパターニングすることによって容易に形成することができ、しかも、実施の形態３および４で用いた誘電体膜６１や金属膜６２は不要である。したがって、本発明のモニタ用光学素子であるＰＢＳ５２を、既存のＰＢＳを用いて容易に実現することができる。
【０２１５】
また、本実施形態のＰＢＳ５２は、実施の形態１で述べたリフトオフ法を用いて形成することが可能である。つまり、図９（ａ）ないし図９（ｅ）の工程を経ることによって、ホールパターン型のＰＢＳ５２を製造することは可能である。ただし、図９（ａ）ないし図９（ｅ）において、透明基板４１は、第２のプリズム５２ｂに対応し、誘電体多層膜４４は、偏光分離膜５２ｃに対応する。つまり、ホールパターン型のＰＢＳ５２は、以下のようにして製造することができる。
【０２１６】
まず、一方の透明基板（第２のプリズム５２ｂ）上に犠牲層を形成する。そして、この犠牲層上にレジストを塗布し、パターニングする。次に、レジストパターンに対応するパターンで残るように、犠牲層をエッチングする。続いて、上記一方の透明基板上に、上記レジストおよび残存している犠牲層を覆うように偏光分離膜を成膜する。その後、上記犠牲層およびその上層の偏光分離膜をエッチングして除去することにより、第１の領域および第２の領域を形成する。ここまでの工程で図９（ａ）ないし図９（ｅ）の工程が完結する。その後は、上記一方の透明基板と他方の透明基板（第１のプリズム５２ａ）とを貼り合わせる。このようにリフトオフ法を用いれば、本実施形態のＰＢＳ５２を容易に製造することができる。
【０２１７】
なお、本実施形態のＰＢＳ５２において、偏光分離膜５２ｆの開口部に別の誘電体膜を成膜するようにしてもよい。このようにＰＢＳ５２を構成すれば、上記誘電体膜に反射特性を持たせてその形成領域を第１の領域７１とし、偏光分離膜５２ｆに透過特性を持たせてその形成領域を第２の領域７２とすることができる。これにより、光源５１、モニタ用検出器５３、受光素子５４を適切な位置に配置すれば、光源光束を反射させてモニタすることも可能となる。
【０２１８】
なお、以上では、光源５１を２波長１チップ型の光源で構成した例について説明したが、単一波長を出射する光源複数個で光源５１を構成してもよいし、単一波長を出射する光源と複数波長を出射する光源との組み合わせで光源５１を構成してもよい。複数個の光源を用いる場合は、各光源とＰＢＳ５２との間の光路中にダイクロイックプリズムを配置して、各光源から出射されるレーザー光をＰＢＳ５２に入射する手前で合成すればよい。したがって、光源５１は、少なくとも１波長の光ビームを出射する光源が複数個、または複数波長の光ビームを出射する単一の光源で構成されてもよいと言える。
【図面の簡単な説明】
【０２１９】
【図１】本発明の実施の一形態に係る光ピックアップに用いられる立ち上げミラーの概略の構成を模式的に示す平面図である。
【図２】上記光ピックアップの概略の構成を示す説明図である。
【図３】上記立ち上げミラーの第１の領域の分光反射率を示す説明図である。
【図４】上記立ち上げミラーの第２の領域の分光反射率を示す説明図である。
【図５】上記第１の領域が、上記第２の領域の内部で、複数のスポット状でランダムに配置されている立ち上げミラーの平面図である。
【図６】上記第１の領域が、上記第２の領域の内部で、複数のスポット状でマトリクス状に配置されている立ち上げミラーの平面図である。
【図７】上記第１の領域が、上記第２の領域の内部で、かつ、光源から出射されるレーザー光の光軸と交わる平面内で、複数のリング状に形成されている立ち上げミラーの平面図である。
【図８】上記第１の領域が、光源から出射されるレーザー光の光軸と交わる平面内で、複数のスリット状に形成されている立ち上げミラーの平面図である。
【図９】（ａ）ないし（ｊ）は、上記立ち上げミラーの製造工程を示す断面図である。
【図１０】図３で示した上記第１の領域の分光反射率を、Ｐ偏光とＳ偏光との平均で示す説明図である。
【図１１】上記第１の領域の分光反射率の他の例を示す説明図である。
【図１２】本発明の他の実施の形態に係る光ピックアップの概略の構成を示す説明図である。
【図１３】上記光ピックアップに用いられるダイクロイックミラーの第１の領域の分光反射率を示す説明図である。
【図１４】上記ダイクロイックミラーの第２の領域の分光反射率を示す説明図である。
【図１５】本発明のさらに他の実施の形態に係る光ピックアップの概略の構成を示す説明図である。
【図１６】上記光ピックアップで用いられるＰＢＳの詳細な構成を示す断面図である。
【図１７】入射光の波長と、モニタ光とディスク照射光との光量比との関係を示す説明図である。
【図１８】上記ＰＢＳの他の構成を示す断面図である。
【図１９】（ａ）ないし（ｄ）は、マスク法を用いて製造されるＰＢＳの製造工程を示す断面図である。
【図２０】（ａ）ないし（ｆ）は、スクリーン印刷法を用いて製造されるＰＢＳの製造工程を示す断面図である。
【図２１】本発明のさらに他の実施の形態に係る光ピックアップの概略の構成を示す説明図である。
【図２２】上記光ピックアップで用いられるＰＢＳの詳細な構成を示す断面図である。
【図２３】上記ＰＢＳの他の構成を示す断面図である。
【図２４】本発明のさらに他の実施の形態に係る光ピックアップの概略の構成を示す説明図である。
【図２５】上記光ピックアップで用いられるＰＢＳの詳細な構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【０２２０】
３    ダイクロイックプリズム（光路変換素子）
４    立ち上げミラー（モニタ用光学素子）
５    モニタ用検出器
７    ダイクロイックミラー（モニタ用光学素子、合波素子）
１１    光源
１２    光源
３１    第１の領域
３２    第２の領域
４１    ガラス基板（透明基板）
４２    犠牲層（第１の犠牲層）
４３    感光性ポリイミド（第１のレジスト）
４４    誘電体多層膜（第１の誘電体多層膜）
４５    犠牲層（第２の犠牲層）
４６    感光性ポリイミド（第２のレジスト）
４７    誘電体多層膜（第２の誘電体多層膜）
５１    光源
５２    ＰＢＳ（偏光分離素子）
５２ａ  第１のプリズム（第１の透明基板）
５２ｂ  第２のプリズム（第２の透明基板）
５２ｃ  偏光分離膜
５２ｄ  接着剤
５２ｅ  エアギャップ
５２ｆ  偏光分離膜
５３    モニタ用検出器
５４    受光素子
６１    誘電体膜
６２    金属膜
７１    第１の領域
７２    第２の領域
Ｄ    光ディスク
【図１】
2006073171.tif 000003
【図２】
2006073171.tif 000004
【図３】
2006073171.tif 000005
【図４】
2006073171.tif 000006
【図５】
2006073171.tif 000007
【図６】
2006073171.tif 000008
【図７】
2006073171.tif 000009
【図８】
2006073171.tif 000010
【図９】
2006073171.tif 000011
【図１０】
2006073171.tif 000012
【図１１】
2006073171.tif 000013
【図１２】
2006073171.tif 000014
【図１３】
2006073171.tif 000015
【図１４】
2006073171.tif 000016
【図１５】
2006073171.tif 000017
【図１６】
2006073171.tif 000018
【図１７】
2006073171.tif 000019
【図１８】
2006073171.tif 000020
【図１９】
2006073171.tif 000021
【図２０】
2006073171.tif 000022
【図２１】
2006073171.tif 000023
【図２２】
2006073171.tif 000024
【図２３】
2006073171.tif 000025
【図２４】
2006073171.tif 000026
【図２５】
2006073171.tif 000027