(57)【要約】【課題】  この発明は基板を搬送する搬送軸が撓むのを防止するようにした搬送装置を提供することにある。【解決手段】  基板を搬送する搬送装置であって、  基板の搬送方向に沿って所定間隔で設けられた複数の搬送軸１１と、搬送軸を回転駆動して上記基板を搬送する駆動源と、搬送軸の軸方向中央部をこの搬送軸が自重によって撓むのを阻止するよう回転可能に支持する回転体３５とを具備する。【選択図】      図３
2006206274.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送する搬送装置であって、
上記基板の搬送方向に沿って所定間隔で設けられた複数の搬送軸と、
この搬送軸を回転駆動して上記基板を搬送する駆動手段と、
上記搬送軸の軸方向中央部をこの搬送軸が自重によって撓むのを阻止するよう回転可能に支持する支持手段と
を具備したことを特徴とする基板の搬送装置。
【請求項２】
上記支持手段は、上記搬送軸の軸方向中央部に設けられたローラブッシュと、上記チャンバ内の上記ローラブッシュと対応する部分に回転可能に設けられこのローラブッシュの外周面の上記搬送軸の軸芯よりも径方向下側の部分を支持した回転体とによって構成されていることを特徴とする請求項１記載の基板の搬送装置。
【請求項３】
上記ローラブッシュは分解可能に連結された２つの半円筒部によって構成されていることを特徴とする請求項２記載の基板の搬送装置。
【請求項４】
上記搬送軸の軸方向中央部に設けられた上記支持手段を内部に収容する容器を有し、この容器には内部の雰囲気を吸引する吸引手段が接続されていることを特徴とする請求項１記載の基板の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明はたとえば大型サイズの液晶表示パネルなどの基板を搬送するために用いられる搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルに用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。
【０００３】
つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去し、レジストが除去された部分をエッチングする。そして、エッチング後に基板からレジストを除去するという一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。
【０００４】
このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板に現像液、エッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などの処理液によって基板を処理する工程、さらに処理液による処理後に洗浄液によって洗浄する工程が必要となる。
【０００５】
上記基板を処理する各種の処理工程は処理装置によって行われる。処理装置はチャンバを有する。このチャンバ内には上記基板を所定方向に沿って搬送する搬送装置が設けられている。この搬送装置は上記基板を搬送する方向に沿って所定間隔で配置された複数の搬送軸を有する。各搬送軸には基板を支持する搬送ローラが軸方向に所定間隔で設けられている。そして、搬送軸が駆動手段によって回転駆動されると、上記搬送ローラに支持された基板が搬送されるようになっている。
【０００６】
ところで、最近では液晶表示パネルが大型化する傾向にあり、それに伴い基板及び基板を処理する処理装置が大型化してきている。たとえば基板としては２ｍ角程度の大きさのものが採用されており、そのような大型の基板を処理するためには処理装置に組み込まれる搬送装置の搬送軸が２ｍ以上の長さとなってしまう。
【０００７】
従来、上記搬送軸は通常、洗浄時に用いられるオゾン水や過酸化水素などの処理液、或いは前工程から持ち込まれる現像液やエッチング液などに対して耐性を有する金属材料である、ステンレス鋼によって形成されていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、金属製の搬送軸の長さを２ｍ以上とし、処理装置に組み込んでその両端部を軸受によって支持すると、自重によって軸方向中央部での撓み量が大きくなり、基板を水平な状態で支持することができなくなる。
【０００９】
つまり、基板は搬送方向と交差する幅方向に対して凹状に撓んでしまう。そのため、洗浄液などの処理液による基板の処理を幅方向に対して均一に行えなくなったり、基板を円滑に搬送できなくなるなどのことが生じる。とくに、基板をローラブラシを用いて洗浄する場合、基板が撓むと、ローラブラシが基板の板面に均一に当たらなくなるから、基板の洗浄処理を均一に行えなくなるということが顕著になる。
【００１０】
この発明は基板を搬送方向と交差する幅方向に対して撓むことなく搬送することができるようにした基板の搬送装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この発明は、基板を搬送する搬送装置であって、
上記基板の搬送方向に沿って所定間隔で設けられた複数の搬送軸と、
この搬送軸を回転駆動して上記基板を搬送する駆動手段と、
上記搬送軸の軸方向中央部をこの搬送軸が自重によって撓むのを阻止するよう回転可能に支持する支持手段と
を具備したことを特徴とする基板の搬送装置にある。
【００１２】
上記支持手段は、上記搬送軸の軸方向中央部に設けられたローラブッシュと、上記チャンバ内の上記ローラブッシュと対応する部分に回転可能に設けられこのローラブッシュの外周面の上記搬送軸の軸芯よりも径方向下側の部分を支持した回転体とによって構成されていることが好ましい。
【００１３】
上記ローラブッシュは分解可能に連結された２つの半円筒部によって構成されていることが好ましい。
【００１４】
上記搬送軸の軸方向中央部に設けられた上記支持手段を内部に収容する容器を有し、この容器には内部の雰囲気を吸引する吸引手段が接続されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
この発明によれば、搬送軸の軸方向中央部を支持手段によって回転可能に支持するため、この支持手段によって搬送軸が下方へ撓むのが阻止されるから、搬送軸によって搬送される基板にも撓みが生じるのを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、この発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００１７】
図１は基板の処理装置の概略的構成図であって、図２は同じく縦断面図である。上記処理装置はチャンバ１を有する。このチャンバ１の長手方向一端には搬入口２が形成され、他端には搬出口３が上記搬入口２と同じ高さで形成されている。
【００１８】
上記チャンバ１内には搬送機構４が設けられている。この搬送機構４は、図２に示すように矩形枠状のフレーム５を有する。このフレーム５は上記チャンバ１内の幅方向一端と他端とに設けられた受け部材６によって支持されている。一方の受け部材６には高さ調整部材７が設けられている。したがって、上記フレーム５はチャンバ１の幅方向に対して所定の角度で傾斜して設けられている。
【００１９】
上記フレーム５には軸線をチャンバ１の幅方向に沿わせた複数の搬送軸１１がチャンバ１の長手方向に対して所定間隔で設けられている。各搬送軸１１は両端が上記フレーム５の幅方向両端に設けられた軸受１２によって回転可能に支持され、上記フレーム５と同じ角度でチャンバ１の幅方向に対して傾斜している。なお、搬送軸１１は処理液によって腐食されることのない金属材料によって形成されている。
【００２０】
さらに、各搬送軸１１には軸方向に所定間隔で複数の搬送ローラ１３が設けられている。通常、上記搬送軸１１は処理液に対して耐蝕性を備えたステンレス鋼などの金属材料によって形成され、上記搬送ローラ１３は同じく耐蝕性を備えた塩化ビニールなどの合成樹脂によって形成されている。
【００２１】
上記フレーム５の高さ方向上端の一側外方には伝達軸１４がチャンバ１の長手方向に沿って設けられている。この伝達軸１４の中途部には従動歯車１５が設けられている。この従動歯車１５には駆動歯車１６が噛合している。この駆動歯車１６はチャンバ１の外部に設けられた駆動源１７の出力軸１８に嵌着されている。
【００２２】
詳細は図示しないが、上記搬送軸１１の上記伝達軸１４側に位置する一端部には第１のかさ歯車が設けられている。第１のかさ歯車には上記搬送軸１１に設けられた第２のかさ歯車が噛合している。したがって、上記駆動源１７が作動して上記駆動歯車１６及び従動歯車１５を介して上記伝達軸１４が回転されると、上記第１、第２のかさ歯車を介して上記搬送軸１１が回転駆動される。それによって、上記搬入口２からチャンバ１内に供給されて搬送軸１１の搬送ローラ１３に支持された液晶表示パネルなどの基板Ｗは搬出口３に向かって搬送されるようになっている。
【００２３】
なお、搬送ローラ１３によって支持されて搬送される基板Ｗの幅方向両端は、上記フレーム５に設けられたラジアル軸受１９によって支持される。それによって、基板Ｗはチャンバ１の幅方向に対して蛇行することなく搬送されるようになっている。
【００２４】
チャンバ１内を搬送される基板Ｗの上方には複数のシャワーパイプ２１が基板Ｗの搬送方向に対して所定間隔で配置されている。各シャワーパイプ２１には複数のノズル２２が所定間隔で設けられている。上記シャワーパイプ２１はヘッダパイプ２３に連通管２４を介して接続されている。このヘッダパイプ２３はエッチング液などの処理液の供給源（図示しない）に連通している。それによって、処理チャンバ６内を搬送される基板Ｗの上面には上記ノズル２２から処理液が噴射されるようになっている。
【００２５】
各搬送軸１１の軸方向中央部は支持手段２７によって支持されている。上記支持手段２７は図３乃至図５に示すように上記搬送軸１１に取付けられたローラブッシュ２８を有する。このローラブッシュ２８はポリ塩化ビニール（ＰＶＣ）などの耐薬品性を備えた合成樹脂によって形成された２つの半円筒部２９に分割されている。
【００２６】
これらの半円筒部２９は軸方向両端に形成された大径部２９ａ及び一対の大径部２９ａ間に設けられた中間部２９ｂを有する。一対の半円筒部２９は、内周面を上記搬送軸１１の外周面に接触させ、軸方向の両端の大径部２９ａにそれぞれ一対のねじ３１が螺合される。それによって、ローラブッシュ２８は搬送軸１１に着脱可能に取り付けられている。なお、大径部２９ａの外径寸法は上記搬送ローラ１３の外径寸法よりも小さく設定されている。
【００２７】
上記フレーム５の幅方向中央部、つまり搬送軸１１に設けられたローラブッシュ２８と対応する位置には桟３２（図３に示す）が上記フレーム５の幅方向と交差する基板Ｗの搬送方向に沿って架設されている。この桟３２の側面には図４に示すように取り付け板３３が長孔３３ａを介してねじ３４によって高さ調整可能に取付けられている。
【００２８】
上記取り付け板３３には上記ローラブッシュ２８の外周面の中間部２９ｂを回転可能に支持する一対の回転体３５が設けられている。つまり、一対の回転体３５は搬送軸１１の径方向に対して左右対称に配置され、しかも搬送軸１１の軸芯よりも径方向下側の部分を支持している。
【００２９】
詳細は図示しないが、上記回転体３５としてはたとえばラジアル軸受が用いられる。そのラジアル軸受は内輪が図３に示すねじ３６によって上記取り付け板３３に固定され、この内輪に対して回転自在な外輪が上記ローラブッシュ２８の外周面に接触している。それによって、各搬送軸１１の軸方向中央部は、一対の回転体３５によって回転が阻止されることなく支持される。
【００３０】
上記回転体３５が設けられた取り付け板３３は上述した桟３２に対して高さ調整可能となっている。そのため、回転体３５の高さを調整することで、上記搬送軸１１の軸方向中央部を、この搬送軸１１が自重によって生じる撓みを矯正した状態、つまり撓みのない状態で支持することができる。
【００３１】
図３に示すように、ローラブッシュ２８と回転体３５とによって構成された支持手段２７は容器３７内に収容されている。この容器３７は箱型状の上ケース３８と下ケース３９とに分割されている。上ケース３８の上記搬送軸１１の軸方向に沿う一対の側壁には搬送軸１１を挿入する一対の挿通溝３８ａが上記側壁の下端に開口して形成されている。
【００３２】
上記上ケース３８の上記一対の側壁のうちの一方には下端にフランジ３８ｂが形成され、このフランジ３８ｂは上記桟３２の上面にねじ４１ａで固定されている。上ケース３８の残りの３つの側壁の下端部には上記下ケース３９の３つの側壁の上端部がねじ４１ｂ（１つのみ図示）によって連結固定されている。
【００３３】
上記下ケース３９の残りの１つの側壁は高さ寸法が低く形成され、上記桟３２の一側面にねじ４１ｃによって固定されている。それによって、上ケース３８を桟３２及び下ケース３９に連結したねじ４１ａ，４１ｂを外せば、この上ケース３８を取り外すことができるようになっている。
【００３４】
なお、容器３７の上面の高さは搬送ローラ１３よりもわずかに低く設定されている。それによって、上記容器３７が搬送ローラ１３によって搬送される基板Ｗに干渉することがないようになっている。
【００３５】
上記容器３７の下ケース３９の底部壁には接続口体４３が接続されている。この接続口体４３にはチャンバ１の外部に設置された吸引ポンプ４４が配管４５を介して接続されている。それによって、容器３７内で回転体３５が回転することで塵埃が生じても、その塵埃は容器３７内の雰囲気とともに排出され、チャンバ１内に拡散するのが防止される。
【００３６】
このように構成された処理装置によれば、基板Ｗの大型化に伴い、チャンバ１の幅寸法が大きくなると、搬送機構４の搬送軸１１がたとえば２ｍ以上の長さに長尺化する。搬送軸１１が長尺化すると、この搬送軸１１は自重によって撓みが生じることになる。搬送軸１１に生じる撓みは、その軸方向の中央部で最大となる。搬送軸１１に撓みが生じると、基板Ｗも撓むため、基板を円滑に搬送できなくなったり、基板Ｗの幅方向に対して処理液による処理が均一に行えなくなるなどのことがある。
【００３７】
しかしながら、搬送軸１１の軸方向中央部は支持手段２７によって支持されている。つまり、搬送軸１１にはローラブッシュ２８が設けられ、このローラブッシュ２８の中間部２９ｂの外周面の軸芯よりも径方向下側の部分が一対の回転体３５によって左右対称に支持されている。
【００３８】
そのため、搬送軸１１は上記回転体３５により自重で下方に撓むのが阻止されるから、搬送軸１１に設けられた搬送ローラ１３によって搬送される基板Ｗに撓みが生じるということもない。しかも、搬送軸１１の中央部は一対の回転体３５によって左右対称に支持されているため、そのことによっても搬送軸１１が自重によって下方に撓むのを確実に防止することができる。
【００３９】
回転体３５はローラブッシュ２８の外周面に回転可能に接触している。そのため、搬送軸１１が回転駆動されたときに、上記回転体３５とローラブッシュ２８とに接触抵抗が生じることがほとんどない。したがって、回転体３５がローラブッシュ２８を介して搬送軸１１の回転を阻止したり、接触部分が早期に磨耗するなどのことがない。
【００４０】
回転体３５が回転することで、この回転体３５の回転部分から塵埃が発生することがある。しかしながら、支持手段２７のローラブッシュ２８と回転体３５は容器３７内に収容されている。この容器３７には吸引ポンプ４４が接続され、容器３７内の雰囲気を吸引排出する。
【００４１】
そのため、仮に回転体３５が回転することで塵埃が発生したとしても、その塵埃は容器３７内の雰囲気とともに排出され、容器３７から流出してチャンバ１内に拡散するということがない。そのため、支持手段２７から塵埃が生じたとしても、その塵埃がチャンバ１内を搬送される基板Ｗに付着して汚れの原因になるということがない。
【００４２】
容器３７の上カバー３８は取り外すことができる。上カバー３８を取り外せばロールブッシュ２８が外部に露出する。ロールブッシュ２８は２つの半円筒部２９に分割され、上記搬送軸１１にねじ３１によって分解可能に取付けられている。そのため、ロールブッシュ２８が磨耗したような場合、その交換や点検などを容易に行うことができる。
【００４３】
この発明は上記一実施の形態に限定されず、たとえばロールブッシュを支持する回転体の数は２つに限られず、１つ或いは３つ以上であってもよく、要は搬送軸が下方へ撓むことのない状態で支持できるようになっていればよい。  
また、ロールブッシュは２つに分割せずに筒状とし、搬送軸の外周に装着するようにしてもよく、或いは３つ以上の円弧状に分割するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】この発明の一実施の形態を示す処理装置の概略的構成を示す側面図。
【図２】処理装置の搬送手段を示す縦断面図。
【図３】搬送軸の軸方向中央部に設けられた支持手段の断面図。
【図４】支持手段を搬送軸の軸方向と交差する方向から見た断面図。
【図５】ロールブッシュの分解斜視図。
【符号の説明】
【００４５】
１１…搬送軸、１３…搬送ローラ、１７…駆動源（駆動手段）、２７…支持手段、２８…ローラブッシュ、２９…半円筒部、３５…回転体、３７…容器、３８…上ケース、３９…下ケース、４３…接続口体（吸引手段）、４４…吸引ポンプ（吸引手段）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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