(57)【要約】【課題】透明性、加工特性に優れ、かつ光弾性係数が小さく応力による表示ムラが生じにくい光学用樹脂組成物および光学フィルムを提供すること。【解決手段】非晶質熱可塑性樹脂および数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーからなる樹脂組成物。非晶質熱可塑性樹脂が、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルからなるモノマーからなる群から選ばれる１種または２種以上のポリマーである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非晶質熱可塑性樹脂および数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーを０．１〜３０重量％含む樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明性、低光弾性、加工性にすぐれた光学用樹脂組成物およびこれからなる光学フィルム、液晶表示装置に有用な位相差フィルムおよび液晶表示装置用基板に関する。さらに詳しくは、本発明は、非晶質熱可塑性樹脂とビニル系低分子ポリマーとを混合させて得られる、透明性、低複屈折性、耐熱性、耐湿性、製膜性にすぐれた樹脂組成物およびそれからなる光学フィルム、位相差フィルムおよび液晶表示装置用基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ポリカーボネートなどの非晶質熱可塑性樹脂はその透明性から光学フィルムなどの光学部品として利用されている。たとえば、液晶表示装置において、画像の視認性を向上させるために液晶セルと偏光板との間に位相差フィルムが積層されている。この位相差フィルムは液晶層を透過した楕円偏光を直線偏光に変換する役目をしている。その材質は主としてビスフェノールＡからなるポリカーボネート樹脂の一軸延伸フィルムが用いられ実用化されている。その理由は（１）透明性が高い、（２）高い屈折率異方性を示す、（３）耐熱性が比較的高い、など位相差フィルムに要求される性質が優れているからである。
【０００３】
しかし、該フィルムを液晶セルに偏光板とともに貼り合わせた時の貼りムラ、バックライトや外部環境からの熱を受けることによる構成材料間の熱膨張差、偏光フィルムの収縮、等により応力が発生する。その結果、ビスフェノールＡからなるポリカーボネートフィルムは、光弾性係数が高いために、光弾性複屈折に起因する位相差ムラが発生し、表示像のカラーバランスやコントラストの低減を引き起こしやすいという問題を抱えている。
【０００４】
この問題を克服するためには、応力により位相差の変化しにくい、すなわち、光弾性係数の小さなフィルム材料を使用することが考えられる。光弾性係数の小さな材料として、特開平０７−２８７１２２号公報等にみられるオレフィン系の材料や、国際公開ＷＯ９５／２３３３５３にみられるような特殊ポリカーボネート樹脂が知られている。しかし、オレフィン系の材料を用いた場合、フィルムを配向させても複屈折が発現しにくく、延伸して位相差フィルムとする場合、任意の位相差値を得ることが困難であり、また、極端に大きな延伸倍率を必要とし、均一な位相差値を有するフィルムを工業的に得ることが難しいという問題を抱えている。
【０００５】
また、特殊ポリカーボネート樹脂の場合、光弾性係数も適度に小さく、また、配向による位相差の付与も工業的実施上、特に問題とはならないが、一般には、フィルムの耐熱性が高くなり、従来用いられていた延伸装置をそのまま用いることが出来なく、耐熱性の高い特殊な延伸装置を必要とする他、延伸加工温度が高く均一な延伸が困難となり、幅広い範囲での位相差バラツキが大きくなるという欠点を有する。この耐熱性を下げるためには、可塑剤が使用される。モノマーの可塑剤の場合、使用量が増えるとフィルムからしみ出るという問題があるし、高分子量ポリマー系可塑剤の場合、非相溶化によるヘイズの増加、透過率の低下、すなわち透明性の低下という問題がある。
【特許文献１】特開平０７−２８７１２２号公報
【特許文献２】国際公開ＷＯ９５／２３３３５３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、透明性、加工特性に優れ、かつ光弾性係数が小さく応力による表示ムラが生じにくい光学用樹脂組成物および光学フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、かかる課題を解決すべく鋭意検討した結果、非晶質熱可塑性樹脂に特定のビニル系低分子ポリマーを混合することにより、かかる問題を解決することを見いだし本発明の完成に至った。
【０００８】
すなわち本発明の第１は、非晶質熱可塑性樹脂および数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーからなる樹脂組成物を内容とする（請求項１）。
【０００９】
本発明の第２は、下記一般式（１）
【００１０】
【化７】
2006193751.tif 000002
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3およびＲ4は同一もしくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｘは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基である。）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネート樹脂および数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーからなる樹脂組成物を内容とする（請求項６）。
【００１１】
本発明の第３は、下記一般式（１）
【００１２】
【化８】
2006193751.tif 000003
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3およびＲ4は同一もしくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｘは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基である。）で表される繰り返し単位と、下記一般式（２）
【００１３】
【化９】
2006193751.tif 000004
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3およびＲ4は同一もしくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｙは炭素数１〜５のアルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基である。）で表される繰り返し単位とからなるポリカーボネート樹脂および数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーからなる樹脂組成物を内容とする（請求項７）。
【００１４】
本発明の第４は、非晶質熱可塑性樹脂および数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーからなる樹脂組成物から構成される光学フィルムを内容とする（請求項８）。
【００１５】
本発明の第５は、下記一般式（１）
【００１６】
【化１０】
2006193751.tif 000005
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3およびＲ4は同一もしくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｘは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基である。）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネート樹脂および数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーからなる樹脂組成物から構成される光学フィルムを内容とする（請求項１３）。
【００１７】
本発明の第６は、下記一般式（１）
【００１８】
【化１１】
2006193751.tif 000006
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3およびＲ4は同一もしくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｘは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基である。）で表される繰り返し単位と、下記一般式（２）
【００１９】
【化１２】
2006193751.tif 000007
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3およびＲ4は同一もしくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｙは炭素数１〜５のアルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基である。）で表される繰り返し単位とからなるポリカーボネート樹脂および数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーからなる樹脂組成物からなる光学フィルムを内容とする（請求項１４）。
【００２０】
本発明の第７は、該光学フィルムを延伸して得られることを特徴とする位相差フィルムを内容とする（請求項１７）。
【００２１】
本発明の第８は、該光学フィルムの少なくとも一方の表面に透明電極層を設けたことを特徴とする透明導電フィルムを内容とする（請求項１８）。
【００２２】
本発明の第９は、該透明導電フィルムを電極基板としてもちいた液晶表示装置を内容とする（請求項１９）。
【００２３】
本発明の第１０は、該透明導電フィルムを電極基板として用いたタッチパネルを内容とする（請求項２０）。
【発明の効果】
【００２４】
本発明により、応力により位相差の変化が少なく、かつ、適度な配向性と耐熱性を有する光学フィルムを得ることが出来る。該光学フィルムを用いることにより、応力に対して表示特性が低下しにくい、位相差フィルム、透明導電フィルム、液晶表示装置やタッチパネルを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明における第１の樹脂組成物は、非晶質熱可塑性樹脂および数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーを必須成分とする。
【００２６】
非晶質熱可塑性樹脂としては、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルおよびこれらの共重合体から選ばれる。
【００２７】
本発明の熱可塑性樹脂の数平均分子量は、好ましくは、１００００〜１１００００であり、より好ましくは、１５０００〜８００００である。
【００２８】
ビニル系低分子ポリマーとしては、ビニル芳香族化合物、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイン酸エステル、Ｎ−置換マレイミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルエステルからなる群から選ばれる一種または二種以上のポリマーから選ばれる。
【００２９】
本発明における第２の樹脂組成物は、下記一般式（１）
【００３０】
【化１３】
2006193751.tif 000008
で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートおよび数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーを必須成分とする。式中、Ｒ1〜Ｒ4は水素原子またはメチル基である。式中、Ｘは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基、または炭素数７〜１５のアラアルキレン基である。
【００３１】
シクロアルキレン基としては、１，１−シクロペンチレン、１，１−シクロヘキシレン、１，１−（３，３，５−トリメチル）シクロヘキシレン、ノルボルナン−２，２−ジイル、トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン−８，８’−ジイルなどが上げられ、価格の点、原料の入手のし易さから１，１−シクロヘキシレン、１，１−（３，３，５−トリメチル）シクロヘキシレンが好適に用いられる。
【００３２】
またアラアルキレン基としては、フェニルメチレン、１，１−（１−フェニル）エチレンなどがあげられる。
【００３３】
本発明における第３の樹脂組成物は、前記一般式（１）
【００３４】
【化１４】
2006193751.tif 000009
で示される繰り返し単位と前記一般式（２）
【００３５】
【化１５】
2006193751.tif 000010
で示される繰り返し単位からなるポリカーボネートおよび数平均分子量が２００〜１００００であるビニル系低分子ポリマーを必須成分とする。
【００３６】
一般式（２）中、Ｒ1〜Ｒ4は水素原子またはメチル基で、同一であっても異なっていてもよい。式中、Ｙは炭素数１〜５のアルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基である。
【００３７】
アルキレン基としては、メチレン、１，１−エチレン、２，２−プロピレン、２，２−ブチレン、２，２−（４−メチル）ペンチレンなどが挙げられる。
【００３８】
またアラアルキレン基としては、一般式（１）で挙げたものと同じものが挙げられる。
【００３９】
前記一般式（１）で示される繰り返し単位と、前記一般式（２）で示される繰り返し単位との割合は特に制限されないが、例えば前者を２０モル％以上とし、後者を８０モル％以下とする樹脂は低い光弾性を有する点で優れている。
【００４０】
本発明の組成物は、一般に溶液からのキャスト法や溶融押し出し法によりフィルムに加工される。しかし、光学フィルムは高度な均一性を要求されるため溶液からのキャスト法が好ましく用いられる。溶剤としては、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロアルカン類、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、クロロベンゼンなどの芳香族溶剤が用いられる。このうち、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、クロロベンゼンなどが溶解性とドープ安定性の面から特に好ましい。これらは、単独溶剤でもよいし、二種以上の混合溶剤でもよい。樹脂の濃度としては、本発明の光学フィルムのために１５重量％から３５重量％が用いられる。
【００４１】
本発明の樹脂組成物を用いてフィルムを作製する場合、その、光弾性係数が小さいため応力により位相差が発生しにくく、生産性良く高品位のフィルムを製造することが可能となる。
【００４２】
本発明のフィルムの膜厚は用途に応じて選択すればよいが、一般的には、１０〜５００μｍ、好ましくは、３０〜３００μｍ、より好ましくは５０〜１００μｍの範囲が用いられる。
【００４３】
本発明フィルムの分子を配向させ位相差フィルムとする事が出来る。一般的には、一軸あるいは二軸に加熱延伸することにより分子を配向する事が出来る。一軸延伸法としては、テンター法による横一軸延伸、ロール間による縦一軸延伸、ロール間圧延法などの任意の方法が用いられる。その他、必要により湿式延伸法を採用することもできる。また、フィルムの三次元屈折率を制御するために、特開平２−１６０２０４号公報、特開平４−２３０７０４号公報、特開平５−１５７９１１号公報などにみられるような、特殊な延伸方法も好適に用いることが出来る。延伸温度は、使用する樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に依存し、（Ｔｇ−３０）℃〜（Ｔｇ＋３０）℃、好ましくは、（Ｔｇ−２０）℃〜（Ｔｇ＋２０）℃の範囲が用いられる。温度がこの範囲より低いと均一配向が困難になり、この範囲より高いと配向の緩和が起こり期待された配向度が得られないうえに配向制御が困難になるため好ましくない。好ましい位相差の範囲は、用途により適宜選択することが出来る。一般には、λ／４位相差フィルムとして用いる場合は１００ｎｍから２００ｎｍの範囲が選択され、λ／２位相差フィルムとして用いる場合は、２００ｎｍから３５０ｎｍの範囲が選択される。また、ＳＴＮ型液晶表示装置の色補償用として用いる場合は、液晶表示装置の方式により、４００ｎｍから２０００ｎｍの範囲で選択される。必要とされる位相差は、延伸温度や延伸倍率を調節する事により得ることが出来る。
【００４４】
本発明の組成物に用いられるビニル系低分子ポリマーの例としては、ビニル芳香族化合物、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイン酸エステル、Ｎ−置換マレイミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルエステルからなる群から選ばれる一種または二種以上のポリマーである。その添加量は樹脂の０．１〜３０重量％、好ましくは１〜２０重量％である。
【００４５】
また、本発明フィルムは液晶表示装置用基板としても好適に用いることが出来る。本発明フィルムを用いた液晶表示装置は、使用環境下での偏光板の収縮により該基板に応力がかかっても、位相差を生じることがないため、表示品位を損なうことが無いという特徴を有する。該基板として用いる場合、フィルムの位相差は、２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下であり、その位相差バラツキは１０％以下が好ましく、また、その吸収軸の方向バラツキは±５°の範囲にあることが望ましい。また、表示像が視野角度により変化することを防ぐため、フィルムの二軸性は小さく保つ方が好ましい。フィルムの面方向から測定した位相差Ｒ（０）と、光軸に対して直交方向へ４５°傾けて測定した位相差（Ｒ（４５））の比（Ｒ（４５）／Ｒ（０））で、フィルムの二軸性を表すことが出来る。Ｒ（４５）／Ｒ（０）は、好ましくは、５以下、より好ましくは３以下、更に好ましくは１．５以下である。また、液晶表示装置がＳＴＮ型の液晶表示装置の場合、前記位相差フィルムを該液晶表示装置用基板として用いることも可能である。
【００４６】
液晶表示装置用基板として用いる場合、一般には、該フィルムの少なくとも一方の表面に酸素や水蒸気に対するバリヤー性を付与するため単層または複数層からなるガスバリヤー層や、透明電極層が形成される。
【００４７】
ガスバリヤー層としては、各種ガスバリヤー層を用いることができる。ガスバリヤー層を形成する前に、フィルムとの密着性を上げるため、アンカーコーティングを施す場合もある。有機材料系のガスバリヤー層としては、ポリビニールアルコール、ビニールアルコールーエチレン共重合体等のビニールアルコール系重合体、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルーアクリル酸メチル共重合体やアクリロニトリルースチレン共重合体のアクリロニトリル系重合体、あるいはポリ塩化ビニリデン等の有機高分子材料からなる層を用いることができる。これらの材料は、本発明フィルム上にグラビアコーターやリバースコーターを用いて湿式コーティング法により成膜を行いガスバリヤー層とする事ができる。ポリビニルアルコール系のバリヤー層を用いる場合、吸湿により酸素バリヤー特性が急激に低下するため、別途、水蒸気バリヤー層を形成させることが好ましい。
【００４８】
また、無機系のガスバリヤー層としては、二酸化珪素あるいはこれを主成分として含み、一酸化珪素、酸化アルミニウムなどの金属酸化物の１種以上を含む化合物、及び／または、窒化珪素、あるいはこれを主成分として含み、窒化アルミニウムなどの金属窒化物の１種以上を含む化合物を用いることができ、この化合物の具体例としては、例えばＳｉＯx、ＳｉＡｌＮなどがあげられる。前記無機系バリヤー薄膜、すなわち珪素酸化物を主体とした金属酸化物、及び／または、珪素窒化物を主体とした金属窒化物のうちでもＳｉＯx、特にｘの値が１．３〜１．８、好ましくは１．５となるものが、酸素ガスおよび水蒸気バリヤー性の点から好ましい。これら無機系バリヤー層は、スパッタや電子ビーム蒸着法のような物理的気相堆積法（ＰＶＤ）の他、化学的気相堆積法（ＣＶＤ）によって成膜することもできる。また、ポリシラザンなどの有機金属化合物層を本発明フィルム上に形成させた後熱分解することにより形成させることもできる。
【００４９】
これらバリヤー層は、単独で用いても良く、また、複数を併用しても構わない。特に、有機系バリヤー層と無機系バリヤー層を併用した場合、バリヤー層のクラックピンホールに対する有機系バリヤー層の優れた耐性と、特に水蒸気に対する無機バリヤー層の優れた耐性が相乗効果を成すため、特に好ましい組み合わせである。なかでも、ポリビニルアルコール系のバリヤー層と、電子ビーム蒸着法により成膜したシリカまたはアルミナのバリヤー層との組み合わせが特性上最も好ましい。この時、各層の密着性を向上する目的でそれぞれの層の間に、アンカーコート層を設けることができる。アンカーコート層として、ポリジメチルシロキサン等のシロキサン系硬化物や、ウレタン系・エポキシ系の硬化物層が好適に用いられる。これら硬化物層を形成させる方法は特に限定されず、熱硬化法や紫外線硬化法・電子ビーム硬化法を用いることができる。有機バリヤー層上に硬化物層上を形成させ更に無機系バリヤー層を形成することが、有機バリヤー層を外界から保護するという意味で好ましい。そのため、硬化物上に無機バリヤーが形成されるが、無機バリヤー層は、成膜中に該層を形成させる基材からの低分子量物が揮発すると形成される膜質が好ましくない変化を受け、所望する特性が得られない場合がある。硬化物を硬化させる方法として、電子ビーム硬化法は、高温に加熱することなく未硬化物を少なくすることができるという特徴を有しており、好ましい硬化方法である。
【００５０】
また、透明電極層は、各種加工の最上層に設けられ、インジウム酸化物を主体とする金属酸化物が好ましい。該層は、目的により、本発明フィルムに直接形成されることもあれば、前記バリヤー層上に形成されることもあり、また、バリヤー層上に密着性改善のための中間層を設けその上に形成されることもある。該透明導電層は、液晶表示装置の電極として用いる場合、厚さ２０〜４００ｎｍ程度、好ましくは５０〜２００ｎｍ程度、さらに好ましくは８０〜１５０ｎｍ、光線透過率８０％以上、好ましくは８５％以上、シート抵抗１００Ω／□以下、好ましくは５０Ω／□以下の透明導電性薄膜である。前記透明導電性薄膜の厚さが６０〜１５０ｎｍ程度の範囲内の場合には、シート抵抗および光線透過率の双方を目的の範囲にしやすい。また、前記透明導電性薄膜の光線透過率が８５％程度以上の場合には、透明導電性フィルムの透明性も良好にしうる。前記インジウム酸化物を主体とする金属酸化物とは、酸化インジウムまたはこれを主成分、具体的には８０％（重量％、以下同様）以上、さらには９０〜９５％含み、酸化スズ、酸化カドミウムなどの他の金属酸化物の１種以上を２０％以下、さらには５〜１０％含む化合物であり、この化合物の具体例としては、例えばＩＴＯ、ＣｄＩｎ2Ｏ4などがあげられる。前記インジウム酸化物を主体とした金属酸化物のうちでもＩＴＯ、とくに金属換算でスズが１０％以下、好ましくは５〜１０％のものが、高い透明性を維持しつつシート抵抗を下げる点から好ましい。
【００５１】
これら透明電極層は、無機系ガスバリヤーと同じく、ＰＶＤやＣＶＤの他、有機金属の熱分解法によっても形成させることができる。
【００５２】
また、上記、ガスバリヤー層や透明導電層に加えて、液晶表示装置のカラー化を目的として、色素などを用いたカラーフィルター層を設けることもできる。
【００５３】
このようにして得られた透明導電フィルムを液晶表示装置用の電極基板として用い、公知の方法により、液晶表示装置を組み立てることができる。
【００５４】
更に、本発明フィルムは抵抗膜式タッチパネル用基板としても、好適に用いることが出来る。特開平３−１２１５２３号公報や、月刊ディスプレィ１９９９年１月号６７頁（（株）テクノタイムズ社刊）にみられるような、インナータイプ型のタッチパネルには、光学的特性の制御されたフィルムが必要とされ、ビスフェノールＡタイプのポリカーボネートを用いることが試みられている。この様なタッチパネルの場合、偏光板とタッチパネル用基板が貼合されて用いられるが、偏光板の収縮による応力で基板の光学的特性が変化し、表示像に好ましくない影響を与えるが、本発明光学フィルムを用いることにより、光学的特性の安定したタッチパネル用基板を得ることが出来る。また、特開平１０−４８６２５号公報などにみられるように、位相差フィルムとタッチパネルを組み合わせて用いる事が知られている。この様なタッチパネルに於いて、本発明フィルムを用い、特に、位相差フィルムをタッチパネル用基板として用いることも有用である。
【００５５】
タッチパネル用基板用途においても、本発明フィルムは液晶表示装置用基板と同様に透明導電層を表面に形成する。タッチパネル用基板は、必要により、液晶表示装置用と同様の水蒸気バリヤー層を形成することも、タッチパネル内での好ましくない結露を防止するためには有効である。透明導電層のシート抵抗値は、２００〜２０００Ω／□、より好ましくは、３００〜１０００Ω／□である。対向する表面との接触による好ましくない光干渉模様（ニュートンリング）を防止する目的で、透明導電層を形成させる表面は、フィラーを含有するコーティング処理や磨耗処理により予め粗面化しておくことも可能である。タッチパネル用基板の光線透過率を向上するため、透明導電層での光反射を防止する目的で、透明導電層の下に屈折率の異なる層を多層設けて反射率を低減することもできる。酸化インジウムを主体とした透明導電層の下層に、シリコンの酸化物を主体とした低屈折率の層を形成させ、更に、その下層に、チタンやジルコニウムの酸化物を主体とした高屈折率層を設けた、三層からなる薄膜は、好ましい組み合わせである。
【実施例】
【００５６】
以下、本発明を実施例にて具体的に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
フィルムの各物性値は以下のようにして測定した。
（１）厚み：
フィルムから１０mm×１５０mmのサイズでＭＤ、ＴＤ方向それぞれ５枚の試験片を切り出した。温度２０℃±２℃、湿度６０％±５％において、各試験片の５ヶ所をミツトヨ製デジマティックインジケーターを用いて測定し、その平均値をフィルムの厚みとした。
（２）位相差：
フィルムから５０mm×１５０mmのサイズでＭＤの試験片を切り出した。温度２０℃±２℃、湿度６０％±５％において、王子計測製ＫＯＢＲＡ  ２１−ＳＤＨを用いて、各試験片について無加重における位相差値Ｒ(0)を測定した。
（３）光弾性係数：
上記（２）における各試験片について、温度２０℃±２℃、湿度６０％±５％において、王子計測製ＫＯＢＲＡ  ２１−ＳＤＨを用いて、各試験片について０．５Ｋｇの加重を架けて位相差値Ｒ(w)を測定した。次式より光弾性係数を算出した。なお、式中、Ｄは上記（１）で測定したフィルムの厚みである。
光弾性係数（ｃｍ2/ｄｙｎｅ）＝（（Ｒ(w)−Ｒ(0)）／Ｄ）÷（０．５×９．８×105／（５０×１０-1×Ｄ）
（４）ガラス転移温度：
フィルムから試験片を約７ｍｇに切り出し、セイコー製ＤＳＣを用いて、３００℃まで２０℃／ｍｉｎの昇温速度で測定した。ＤＳＣプロファイルの変化点からガラス転移温度を求めた。
（５）全光線透過率とヘイズ：
フィルムから５０mm×５０mmのサイズで試験片を切り出し、日本電色工業製濁度計３００Ａを用いて、温度２０℃±２℃、湿度６０％±５％において測定した。
比較例１
ビスフェノールＡタイプのポリカーボネート樹脂を用いて塩化メチレン溶液（２０重量％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。この未延伸フィルムのＴｇは１５０℃であった。このフィルムを延伸機を用いて１６５℃で１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。光弾性係数は９０×１０-13cm2／ｄｙｎｅであった。このフィルムの位相差は２０４ｎｍであった。フィルムの物性値を表１及び表２に示す。
比較例２
下記の構造式（３）（ｘ／ｙ＝１：２）
【００５７】
【化１６】
2006193751.tif 000011
からなるポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。この未延伸フィルムのＴｇは１８５℃であった。このフィルムを延伸機を用いて２００℃で１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。光弾性係数は７２×１０-13cm2／ｄｙｎｅであり、比較例１のポリカーボネート樹脂に対し８０％に低下していることが確認された。このフィルムの位相差は１９５ｎｍであった。
比較例３
下記の構造式（４）
【００５８】
【化１７】
2006193751.tif 000012
を有するポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、流延法によりフィルムを作製した。この未延伸フィルムのＴｇは２３０℃であった。このフィルムを延伸機を用いて２４５℃で１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。光弾性係数は５４×１０-13cm2／ｄｙｎｅであり、比較例１のポリカーボネート樹脂に対し６０％に低下していることが確認された。このフィルムの位相差は２０１ｎｍであった。
実施例１〜３
比較例２のポリカーボネート樹脂に対し、低分子量ポリスチレン（数平均分子量３００）をそれぞれ１、５、１０重量％添加し、その塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。いずれのフィルムも全光線透過率とヘイズが良好で透明性に優れており、さらに比較例２に比べ、Ｔｇが低下していることが確認された。これらのフィルムを延伸機を用いて１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。いずれのフィルムについても、光弾性係数が、比較例２に比べ、低下していることが確認された。得られたフィルムの物性値を表１及び表２に示す。
実施例４〜６
比較例２のポリカーボネート樹脂に対し、低分子量ポリスチレン（数平均分子量２０００）をそれぞれ１、５、１０重量％添加し、その塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。いずれのフィルムも全光線透過率とヘイズが良好で透明性に優れており、さらに比較例２に比べ、Ｔｇが低下していることが確認された。これらのフィルムを延伸機を用いて１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。いずれのフィルムについても、光弾性係数が比較例２に比べ低下していることが確認された。得られたフィルムの物性値を表１及び表２に示す。
実施例７〜９
比較例２のポリカーボネート樹脂に対し、低分子量ポリスチレン（数平均分子量４０００）をそれぞれ１、５、１０重量％添加し、その塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。いずれのフィルムも全光線透過率とヘイズが良好で透明性に優れており、さらに比較例２に比べ、Ｔｇが低下していることが確認された。これらのフィルムを延伸機を用いて１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。いずれのフィルムについても、光弾性係数が比較例２に比べ低下していることが確認された。得られたフィルムの物性値を表１及び表２に示す。
実施例１０、１１
比較例２のポリカーボネート樹脂に対し、低分子量ポリスチレン（数平均分子量１００００）をそれぞれ１、５重量％添加し、その塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。いずれのフィルムも全光線透過率とヘイズが良好で透明性に優れており、さらに比較例３に比べ、Ｔｇが低下していることが確認された。これらのフィルムを延伸機を用いて１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。いずれのフィルムについても、光弾性係数が、比較例２に比べ、低下していることが確認された。得られたフィルムの物性値を表１及び表２に示す。
実施例１２〜１４
比較例３のポリカーボネート樹脂に対し、低分子量ポリスチレン（数平均分子量２０００）をそれぞれ１、５、１０重量％添加し、その塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。いずれのフィルムも全光線透過率とヘイズが良好で透明性に優れており、さらに比較例３に比べ、Ｔｇが低下していることが確認された。これらのフィルムを延伸機を用いて１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。いずれのフィルムについても、光弾性係数が比較例３に比べ低下していることが確認された。得られたフィルムの物性値を表１及び表２に示す。
実施例１５〜１７
比較例３のポリカーボネート樹脂に対し、低分子量ポリスチレン（数平均分子量２０００）をそれぞれ１、５、１０重量％添加し、その塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。いずれのフィルムも全光線透過率とヘイズが良好で透明性に優れており、さらに比較例３に比べ、Ｔｇが低下していることが確認された。これらのフィルムを延伸機を用いて１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。いずれのフィルムについても、光弾性係数が比較例３に比べ低下していることが確認された。得られたフィルムの物性値を表１及び表２に示す。
実施例１８〜２０
比較例３のポリカーボネート樹脂に対し、低分子量ポリスチレン（数平均分子量４０００）をそれぞれ１、５、１０重量％添加し、その塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。いずれのフィルムも全光線透過率とヘイズが良好で透明性に優れており、さらに比較例３に比べ、Ｔｇが低下していることが確認された。これらのフィルムを延伸機を用いて１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。いずれのフィルムについても、光弾性係数が比較例３に比べ低下していることが確認された。得られたフィルムの物性値を表１及び表２に示す。
実施例２１、２２
比較例３のポリカーボネート樹脂に対し、低分子量ポリスチレン（数平均分子量１００００）をそれぞれ１、５重量％添加し、その塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。いずれのフィルムも全光線透過率とヘイズが良好で透明性に優れており、さらに比較例３に比べ、Ｔｇが低下していることが確認された。これらのフィルムを延伸機を用いて１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。いずれのフィルムについても、光弾性係数が、比較例３に比べ、低下していることが確認された。得られたフィルムの物性値を表１及び表２に示す。
【００５９】
【表１】
2006193751.tif 000013
【００６０】
【表２】
2006193751.tif 000014
実施例２３
実施例１で得られた樹脂を用いて連続的な溶剤キャスティング法により位相差９ｎｍ、遅相軸のバラツキが±５°以下のロールフィルムを作成した。更に、フィルム上にアクリル系ＵＶ硬化型ハードコートをコーティングしたのち、２００×６６０ｍｍのターゲットを３台備えたマグネトロンスパッタ装置を用いて、始めにフィルムの片面にガスバリヤー層を成膜し、更に、フィルムの他方の面にガスバリヤー膜、透明導電膜を順次形成した。バリヤー膜用ターゲットとしてＳｉＯ2、透明導電薄膜用ターゲットとして酸化スズ比１０％のＩＴＯ、スパッタガスとしてバリヤー薄膜はアルゴン流量１００ｓｃｃｍ、酸素１ｓｃｃｍで総ガス圧２.０ｍＴｏｒｒ、ＩＴＯではアルゴン３５０ｓｃｃｍ、酸素３.５ｓｃｃｍ、総ガス圧５ｍＴｏｒｒ、パワー条件としてバリヤー薄膜はＲＦ３ｋＷ（２.２７Ｗ／ｃｍ2）、ＩＴＯはＤＣ５.０Ａ２５０Ｖ（０.９６Ｗ／ｃｍ2）となるようにして成膜を行った。バリヤー薄膜は３分処理し、４５ｎｍ、ＩＴＯは３分処理し、１００ｎｍとなる透明導電フィルムを得た。得られたフィルムは、シート抵抗５０Ω／□、光線透過率８０％、酸素ガスバリヤー性０.５ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ、水蒸気バリヤー性０.１ｇ／ｍ2／ｄａｙ、である透明導電フィルムが得られた。更に、この透明導電フィルムを用いて、透明電極層を対向させるように配置し、公知の方法にて液晶表示装置を組み立てた。
実施例２４
実施例１で得られた未延伸フィルムを用いて、フィルム上にアクリル系ＵＶ硬化型ハードコートをコーティングしたのち、ＤＣマグネトロンスパッター法により、ＩＴＯの成膜を行った。ＩＴＯの膜厚は約２０ｎｍ、シート抵抗は４５０±１０Ω／□であった。この透明導電膜付き位相差板に電極として端部に銀電極を印刷し、別に用意した５ｍｍピッチのスペーサーと、銀電極を印刷した透明導電ガラスを導電膜が向かい合うように両基板の周囲に絶縁性接着材を塗布して接着し透明タッチパネルを作成した。バックライト付のＴＦＴカラーＴＮ液晶表示装置のバックライトと反対側（観察側）の偏光板と液晶セルのあいだに、タッチパネルを配置し、ペンによる押圧が液晶セルに伝搬しないようタッチパネルと液晶表示装置のあいだは０．５ｍｍ程度空隙が開くように周囲にギャップ剤入りの粘着剤を塗布し接着し、透明タッチパネル付液晶表示装置を作製した。