(57)【要約】【課題】  たとえば経時的に変化する照度ムラの４次成分を良好に補正して、被照射面において所望の照度分布を得ることのできる照明光学装置。【解決手段】  光源（１）からの光束で被照射面（Ｍ，Ｗ）を照明する照明光学装置。第１の角度位置と第２の角度位置との間にて光軸周りに回転可能に設けられた補正フィルターを備えている。この補正フィルターは、被照射面における所定方向に沿った４次ムラ成分を補正するために、第１の角度位置にて第１分布を有すると共に第２の角度位置にて第１分布とは異なる第２分布を有する。【選択図】  図１
2006140393.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光束で被照射面を照明する照明光学装置において、
第１の角度位置と前記第１の角度位置とは異なる第２の角度位置との間にて光軸周りに回転可能に設けられた補正フィルターを備え、
前記補正フィルターは、前記被照射面における所定方向に沿った４次以上のムラ成分を補正するために、前記第１の角度位置にて第１分布を有すると共に前記第２の角度位置にて前記第１分布とは異なる第２分布を有することを特徴とする照明光学装置。
【請求項２】
前記補正フィルターは、前記第１の角度位置と前記第２の角度位置との間の少なくとも１つの角度位置において、前記第１分布と前記第２分布との間の分布を有することを特徴とする請求項１に記載の照明光学装置。
【請求項３】
前記補正フィルターは、前記第１の角度位置から前記第２の角度位置への連続的な回転により、前記第１分布から前記第２分布へほぼ単調に変化する分布を有することを特徴とする請求項１に記載の照明光学装置。
【請求項４】
前記補正フィルターは、前記光軸に関してほぼ２回回転対称で且つ光軸を通る所定の直線に関してほぼ対称な透過率分布を有し、前記第２の角度位置は前記第１の角度位置から前記補正フィルターを光軸周りに約９０度回転させた位置に対応していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項５】
光源からの光束で被照射面を照明する照明光学装置において、
第１の位置と前記第１の位置とは異なる第２の位置との間にて光軸と交差する所定の方向に移動可能に設けられた補正フィルターを備え、
前記補正フィルターは、前記被照射面における所定方向に沿った４次以上のムラ成分を補正するために、前記第１の位置にて第１分布を有すると共に前記第２の位置にて前記第１分布とは異なる第２分布を有することを特徴とする照明光学装置。
【請求項６】
前記補正フィルターは、前記第１の位置と前記第２の位置との間の少なくとも１つの位置において、前記第１分布と前記第２分布との間の分布を有することを特徴とする請求項５に記載の照明光学装置。
【請求項７】
前記補正フィルターは、前記第１の位置から前記第２の位置への連続的な移動により、前記第１分布から前記第２分布へほぼ単調に変化する分布を有することを特徴とする請求項５に記載の照明光学装置。
【請求項８】
前記補正フィルターは、前記被照射面と光学的に共役な位置もしくはその近傍に配置され、所定の二次元的な透過率分布を有するように形成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項９】
マスクを照明するための請求項１乃至８のいずれか１項に記載の照明光学装置を備え、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
前記マスクと前記感光性基板との間の光路中に配置されて前記マスクのパターン像を前記感光性基板上に形成する投影光学系をさらに備え、
前記投影光学系に対して前記マスクおよび前記感光性基板を前記所定方向とほぼ直交する方向に対応する走査方向に沿って相対的に移動させつつ露光を行うことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記感光性基板上における照度分布を計測するための計測手段と、前記補正フィルターの回転または移動を行うための駆動手段と、前記計測手段の計測結果に応じて前記駆動手段の駆動を制御するための制御手段とをさらに備えていることを特徴とする請求項９または１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記感光性基板と光学的にフーリエ変換の関係にある照明瞳面における光強度分布を変化させて照明条件を切り換えるための照明条件切り換え手段と、前記補正フィルターの回転または移動を行うための駆動手段と、前記照明条件切り換え手段による照明条件の切り換えに応じて前記駆動手段の駆動を制御するための制御手段とをさらに備えていることを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１３】
光源からの光束で被照射面を照明する照明光学装置において、
前記被照射面における所定方向に沿った傾斜ムラ成分を可変補正する第１補正手段と、前記被照射面における所定方向に沿った傾斜ムラ成分を含まない低次ムラ成分を可変補正する第２補正手段と、前記被照射面における所定方向に沿った高次ムラ成分を可変補正する第３補正手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置。
【請求項１４】
前記第１〜第３補正手段は、前記被照射面と光学的に共役な位置もしくはその近傍に配置され、前記第１補正手段は１次ムラ成分を補正し、前記第２補正手段は２次ムラ成分を補正し、前記第３補正手段は４次以上のムラ成分を補正することを特徴とする請求項１３に記載の照明光学装置。
【請求項１５】
マスクを照明するための請求項１３または１４に記載の照明光学装置を備え、前記マスクのパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
前記第１〜第３補正手段をそれぞれ駆動させる第１〜第３駆動手段と、前記感光性基板における照度分布を計測する計測手段と、前記計測手段の計測結果に基づいて前記第１〜第３駆動手段の駆動をそれぞれ制御する制御手段とをさらに備えていることを特徴とする請求項１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記第１〜第３補正手段をそれぞれ駆動させる第１〜第３駆動手段と、前記マスクまたは前記感光性基板に対する照明条件を変更する変更手段と、前記変更手段による照明条件の変更に応じて前記第１〜第３駆動手段の駆動をそれぞれ制御する制御手段とをさらに備えていることを特徴とする請求項１５または１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
請求項１０乃至１２および請求項１５乃至１７のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、前記マスクに形成されたパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明光学装置、露光装置、および露光方法に関し、特に半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の典型的な露光装置においては、光源から射出された光束が、オプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズ（またはマイクロフライアイレンズなど）を介して、多数の光源からなる実質的な面光源としての二次光源を形成する。二次光源からの光束は、フライアイレンズの後側焦点面の近傍に配置された開口絞りを介して制限された後、コンデンサーレンズに入射する。
【０００３】
コンデンサーレンズにより集光された光束は、所定のパターンが形成されたマスクを重畳的に照明する。マスクのパターンを透過した光は、投影光学系を介してウェハ（感光性基板）上に結像する。こうして、ウェハ上には、マスクパターンが投影露光（転写）される。なお、マスクに形成されたパターンは高集積化されており、この微細パターンをウェハ上に正確に転写するにはウェハ上において均一な照度分布を得ることが不可欠である。
【０００４】
しかしながら、たとえば投影光学系を構成する光学部材の製造誤差や組立誤差などに起因して、ウェハ上において照度ムラが発生することがある。この照度ムラは、傾斜成分（１次成分：位置座標の１次関数にしたがって定義される成分）や２次成分（位置座標の２次関数にしたがって定義される成分）や４次成分（位置座標の４次関数にしたがって定義される成分）やそれ以上の高次成分を含む。照度ムラが起こると、投影光学系の結像性能が悪化し、ウェハ上に形成されるパターンの線幅が所望の線幅と実質的に異なってしまう現象、すなわち線幅異常が発生する。
【０００５】
従来、露光装置では、照度ムラの傾斜成分および２次成分の経時的変化が比較的大きいことが知られていた。そこで、本出願人は、光軸周りに回転する補正フィルターを用いて経時的に変化する照度ムラの傾斜成分および２次成分をそれぞれ補正する技術を提案している（たとえば特許文献１を参照）。また、固定的に位置決めされた補正フィルターを用いて照度ムラの４次成分を補正する技術を提案している（たとえば特許文献２を参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１００５６１号公報
【特許文献２】特開２００４−２６６２５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したように、従来の露光装置では、ウェハ上における照度ムラの傾斜成分および２次成分の経時的変化は比較的大きいが、４次成分およびそれ以上の高次成分の経時的変化は無視し得るものとして扱われていた。しかしながら、パターン線幅の精度に対する近年の高度な要求に伴って、経時的に変化する照度ムラの４次成分についても補正することが求められている。
【０００８】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、たとえば経時的に変化する照度ムラの４次成分を良好に補正して、被照射面において所望の照度分布を得ることのできる照明光学装置を提供することを目的とする。また、本発明は、被照射面において所望の照度分布を得ることのできる照明光学装置を用いて、線幅異常が実質的に発生することのない高精度な露光を行うことのできる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するために、本発明の第１形態では、光源からの光束で被照射面を照明する照明光学装置において、
第１の角度位置と前記第１の角度位置とは異なる第２の角度位置との間にて光軸周りに回転可能に設けられた補正フィルターを備え、
前記補正フィルターは、前記被照射面における所定方向に沿った４次以上のムラ成分を補正するために、前記第１の角度位置にて第１分布を有すると共に前記第２の角度位置にて前記第１分布とは異なる第２分布を有することを特徴とする照明光学装置を提供する。
【００１０】
本発明の第２形態では、光源からの光束で被照射面を照明する照明光学装置において、
第１の位置と前記第１の位置とは異なる第２の位置との間にて光軸と交差する所定の方向に移動可能に設けられた補正フィルターを備え、
前記補正フィルターは、前記被照射面における所定方向に沿った４次以上のムラ成分を補正するために、前記第１の位置にて第１分布を有すると共に前記第２の位置にて前記第１分布とは異なる第２分布を有することを特徴とする照明光学装置を提供する。
【００１１】
本発明の第３形態では、マスクを照明するための第１形態または第２形態の照明光学装置を備え、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
【００１２】
本発明の第４形態では、光源からの光束で被照射面を照明する照明光学装置において、
前記被照射面における所定方向に沿った傾斜ムラ成分を可変補正する第１補正手段と、前記被照射面における所定方向に沿った傾斜ムラ成分を含まない低次ムラ成分を可変補正する第２補正手段と、前記被照射面における所定方向に沿った高次ムラ成分を可変補正する第３補正手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
【００１３】
本発明の第５形態では、マスクを照明するための第４形態の照明光学装置を備え、前記マスクのパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
【００１４】
本発明の第６形態では、第３形態または第５形態の露光装置を用いて、前記マスクに形成されたパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法を提供する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の典型的な形態にしたがう照明光学装置では、２つの角度位置の間で光軸周りに回転可能に設けられ且つ２つの角度位置で互いに異なる透過率分布を有する補正フィルターの作用により、たとえば経時的に変化する照度ムラの４次成分を良好に補正して、被照射面において所望の照度分布を得ることができる。したがって、本発明の照明光学装置を用いる露光装置および露光方法では、被照射面において所望の照度分布を得ることのできる照明光学装置を用いて、線幅異常が実質的に発生することのない高精度な露光を行うことができ、ひいては高精度で良好なデバイスを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図１は、本発明の実施形態にかかる照明光学装置を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。図１において、感光性基板であるウェハＷの法線方向に沿ってＹ軸を、ウェハＷに平行な面内において互いに直交する２つの方向に沿ってＸ軸およびＺ軸をそれぞれ設定している。なお、図１では、照明光学装置が通常の円形照明を行うように設定されている。
【００１７】
本実施形態の露光装置は、露光光（照明光）を供給するためのレーザ光源１を備えている。レーザ光源１として、たとえば２４８ｎｍの波長の光を供給するＫｒＦエキシマレーザー光源や１９３ｎｍの波長の光を供給するＡｒＦエキシマレーザー光源などを用いることができる。レーザ光源１から射出されたほぼ平行な光束は、Ｘ方向に沿って細長く延びた矩形状の断面を有し、一対のレンズ２ａおよび２ｂからなるビームエキスパンダー２に入射する。各レンズ２ａおよび２ｂは、図１の紙面内（ＹＺ平面内）において負の屈折力および正の屈折力をそれぞれ有する。したがって、ビームエキスパンダー２に入射した光束は、図１の紙面内において拡大され、所定の矩形状の断面を有する光束に整形される。
【００１８】
整形光学系としてのビームエキスパンダー２を介したほぼ平行な光束は、円形照明用の回折光学素子３を介して、ズームレンズ４に入射する。ズームレンズ４の後側焦点面またはその近傍には、マイクロフライアイレンズ（またはフライアイレンズ）５の入射面が位置決めされている。一般に、回折光学素子は、基板に露光光（照明光）の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され、入射ビームを所望の角度に回折する作用を有する。具体的には、回折光学素子３は、光軸ＡＸに沿って入射した矩形状の平行光束を、円形状の断面を有する発散光束に変換する。
【００１９】
回折光学素子３は、照明光路に対して挿脱自在に構成され、且つ輪帯照明用の回折光学素子（不図示）や４極照明用の回折光学素子（不図示）などと切り換え可能に構成されている。ここで、円形照明用の回折光学素子３と輪帯照明用の回折光学素子や４極照明用の回折光学素子などとの間の切り換えは、制御系２０からの指令に基づいて動作する駆動系２１により行われる。また、ズームレンズ４の焦点距離の変化は、制御系２０からの指令に基づいて動作する駆動系２２により行われる。
【００２０】
マイクロフライアイレンズ５は、縦横に且つ稠密に配列された多数の微小レンズからなる光学素子である。一般に、マイクロフライアイレンズは、たとえば平行平面板にエッチング処理を施して微小レンズ群を形成することによって構成される。ここで、マイクロフライアイレンズを構成する各微小レンズは、フライアイレンズを構成する各レンズエレメントよりも微小である。また、マイクロフライアイレンズは、互いに隔絶されたレンズエレメントからなるフライアイレンズとは異なり、多数の微小レンズが互いに隔絶されることなく一体的に形成されている。しかしながら、レンズ要素が縦横に配置されている点でマイクロフライアイレンズはフライアイレンズと同じ波面分割型のオプティカルインテグレータである。
【００２１】
こうして、回折光学素子３を介した光束は、ズームレンズ４を介して、マイクロフライアイレンズ５の入射面に、たとえば光軸ＡＸを中心とする円形状の照野を形成する。マイクロフライアイレンズ５に入射した光束は多数の微小レンズにより二次元的に分割され、光束が入射した各微小レンズの後側焦点面には光源がそれぞれ形成される。こうして、マイクロフライアイレンズ５の後側焦点面には、マイクロフライアイレンズ５への入射光束によって形成される円形状の照野とほぼ同じ光強度分布を有する円形状の実質的な面光源（以下、「二次光源」という）が形成される。
【００２２】
ここで、形成される円形状の二次光源の大きさ（すなわちその直径）は、ズームレンズ４の焦点距離に依存して相似的に変化する。マイクロフライアイレンズ５の後側焦点面またはその近傍に形成された円形状の二次光源からの光束は、必要に応じてその近傍に配置された開口絞り６に入射する。円形状の開口部（光透過部）を有する開口絞り６を介した二次光源からの光は、コンデンサー光学系７の集光作用を受けた後、照度ムラ補正部８を介して、マスクＭ（ひいてはウェハＷ）と光学的に共役な位置に配置されたマスクブラインド９を重畳的に照明する。
【００２３】
照度ムラ補正部８は、マスクブラインド９の近傍に配置され、後述するように複数の補正フィルター（８１〜８５）を備えている。なお、照度ムラ補正部８の内部構成および作用については後述する。こうして、マスクブラインド９には、マイクロフライアイレンズ５を構成する各微小レンズの形状と相似な矩形状の照野が形成される。マスクブラインド９の矩形状の開口部（光透過部）を介した光束は、結像光学系１０の集光作用を受けた後、所定のパターンが形成されたマスクＭを重畳的に照明する。
【００２４】
このように、結像光学系１０は、マスクブラインド９の矩形状の開口部の像を、マスクステージＭＳにより支持されたマスクＭ上に形成することになる。すなわち、マスクブラインド９は、マスクＭ（ひいてはウェハＷ）上に形成される照明領域を規定するための視野絞りを構成している。マスクＭには転写すべきパターンが形成されており、パターン領域全体のうちＸ方向に沿って長辺を有し且つＺ方向に沿って短辺を有する矩形状（スリット状）のパターン領域が照明される。マスクＭのパターンを透過した光束は、投影光学系ＰＬを介して、感光性基板であるウェハＷ上にマスクＭのパターン像を形成する。
【００２５】
すなわち、マスクＭ上での矩形状の照明領域に光学的に対応するように、ウェハＷ上においてもＸ方向に沿って長辺を有し且つＺ方向に沿って短辺を有する矩形状の静止露光領域（実効露光領域）にパターン像が形成される。こうして、いわゆるステップ・アンド・スキャン方式にしたがって、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと直交する平面（ＸＺ平面）内において、Ｚ方向（走査方向）に沿ってマスクステージＭＳとウェハステージＷＳとを、ひいてはマスクＭとウェハＷとを同期的に移動（走査）させることにより、ウェハＷ上には静止露光領域のＸ方向寸法に等しい幅を有し且つウェハＷの走査量（移動量）に応じた長さを有するショット領域（露光領域）に対してマスクパターンが走査露光される。
【００２６】
ところで、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置では、走査露光の平均化効果により、ウェハＷ上のＸ方向に沿って細長い矩形状の静止露光領域において走査方向（Ｚ方向）に照度ムラがある程度残っていても大きな問題にはならない。換言すれば、ウェハＷ上の静止露光領域において補正すべき照度ムラは、走査方向と直交する方向すなわち走査直交方向（Ｘ方向）の照度ムラである。したがって、本実施形態では、ウェハＷ上の静止露光領域における走査直交方向の照度ムラの補正に着目し、以下、特に明示しない限り照度ムラは走査直交方向のものとする。
【００２７】
なお、ウェハステージＷＳ上には光検出器１１が設けられ、この光検出器１１の検出面を投影光学系ＰＬの像面に一致させつつウェハステージＷＳ（ひいては光検出器１１）を光軸ＡＸと直交する平面（ＸＺ平面）に沿って二次元的に移動させることにより、ウェハＷ上における照度分布を計測することができる。こうして、ウェハステージＷＳと光検出器１１とは、ウェハＷ上における照度分布を計測するための計測手段を構成している。光検出器１１で計測された照度分布情報は、制御系２０に供給される。
【００２８】
なお、円形照明用の回折光学素子３に代えて輪帯照明用の回折光学素子を照明光路中に設定することによって輪帯照明を行うことができる。輪帯照明用の回折光学素子は、光軸ＡＸに沿って入射した矩形状の平行光束を、輪帯状の断面を有する発散光束に変換する。したがって、輪帯照明用の回折光学素子を介した光束は、マイクロフライアイレンズ５の入射面に、たとえば光軸ＡＸを中心とした輪帯状の照野を形成する。その結果、マイクロフライアイレンズ５の後側焦点面にも、その入射面に形成された輪帯状の照野とほぼ同じ光強度分布を有する輪帯状の二次光源が形成される。
【００２９】
また、円形照明用の回折光学素子３に代えて４極照明用（一般には２極、８極などを含む複数極照明用）の回折光学素子を照明光路中に設定することによって４極照明（または２極照明、８極照明などを含む複数極照明）を行うことができる。４極照明用の回折光学素子は、光軸ＡＸに沿って入射した矩形状の平行光束を、４極状の断面を有する発散光束に変換する。したがって、４極照明用の回折光学素子を介した光束は、マイクロフライアイレンズ５の入射面に、たとえば光軸ＡＸを中心とした４極状の照野を形成する。その結果、マイクロフライアイレンズ５の後側焦点面にも、その入射面に形成された４極状の照野とほぼ同じ光強度分布を有する４極状の二次光源が形成される。
【００３０】
図２は、図１の照度ムラ補正部の内部構成を概略的に示す図である。図２を参照すると、照度ムラ補正部８は、マスクブラインド９側から順に、２次ムラ補正用の第１補正フィルター８１と、２次ムラ補正用の第２補正フィルター８２と、１次ムラ（傾斜ムラ）補正用の補正フィルター８３と、４次ムラ補正用の回転補正フィルター８４と、４次ムラ補正用の固定補正フィルター８５とを備えている。ここで、各補正フィルター８１〜８５は、たとえば石英ガラスのような光学材料により形成された平行平面板状の光学部材である。そして、各補正フィルター８１〜８５には、たとえばクロムの微小ドットパターンの濃密によって表現された所定の透過率分布がそれぞれ形成されている。
【００３１】
具体的に、第１補正フィルター８１および第２補正フィルター８２は、それぞれ光軸ＡＸ周りに回転可能に設けられ、互いに同じ透過率分布すなわち光軸ＡＸに関して軸対称な一次元の透過率分布が形成されている。また、第１補正フィルター８１および第２補正フィルター８２は、制御系２０からの指令に基づいて動作する駆動系２３により、互いに反対方向に同じ角度だけ回転駆動されるように構成されている。こうして、ウェハＷ上の静止露光領域における２次ムラ成分の経時的変化に応じて、第１補正フィルター８１および第２補正フィルター８２を逆位相で回転駆動することにより、２次ムラ成分を可変補正することができる。
【００３２】
すなわち、第１補正フィルター８１と第２補正フィルター８２とは、ウェハＷ上の静止露光領域（最終的な被照射面）における２次ムラ成分（傾斜ムラ成分を含まない低次ムラ成分）を可変補正する補正手段を構成している。なお、２次ムラ成分の可変補正手段を構成する第１補正フィルター８１および第２補正フィルター８２の詳細な構成および作用については、特開２００２−１００５６１号公報（特に図６、図７およびこれらの図に関連する記載）を参照することができる。
【００３３】
補正フィルター８３は、光軸ＡＸ周りに回転可能に設けられ、光軸ＡＸを通る直線に沿って線形的に変化する一次元透過率分布が形成されている。また、補正フィルター８３は、制御系２０からの指令に基づいて動作する駆動系２４により回転駆動されるように構成されている。こうして、ウェハＷ上の静止露光領域における１次ムラ成分の経時的変化に応じて補正フィルター８３を回転駆動することにより、１次ムラ成分を可変補正することができる。
【００３４】
すなわち、補正フィルター８３は、ウェハＷ上の静止露光領域における１次ムラ成分を可変補正する補正手段を構成している。なお、１次ムラ成分の可変補正手段を構成する補正フィルター８３の詳細な構成および作用については、特開２００２−１００５６１号公報（特に図８およびこの図に関連する記載）を参照することができる。
【００３５】
回転補正フィルター８４は、光軸ＡＸ周りに回転可能に設けられ、図３に示すように、光軸ＡＸに関してほぼ２回回転対称で且つ光軸ＡＸを通る図中水平な線Ａおよび図中鉛直な線Ｃに関してほぼ対称な透過率分布を有する。なお、図３において、破線で示す細長い長方形は、図中水平な線Ａと走査直交方向とが一致した状態で、マスクＭ上の矩形状の照明領域（ひいてはウェハＷ上の矩形状の静止露光領域）に対応している。
【００３６】
具体的に、水平線Ａに沿った透過率分布（破線で示す細長い長方形内における分布；以降の類似説明においても同様）は、図４（ａ）に示すように位置座標の４次関数にしたがって定義される形状の分布であって、比較的浅い（透過率の最大値と最小値との差が比較的小さい）Ｗ字状の分布である。一方、鉛直線Ｃに沿った透過率分布は、図４（ｃ）に示すように位置座標の４次関数にしたがって定義される形状の分布であって、比較的深い（透過率の最大値と最小値との差が比較的大きい）Ｗ字状の分布である。
【００３７】
また、水平線Ａおよび鉛直線Ｃと４５度をなす斜め線Ｂに沿った透過率分布は、図４（ｂ）に示すように位置座標の４次関数にしたがって定義される形状の分布であって、図４（ａ）の比較的浅いＷ字状と図４（ｃ）の比較的深いＷ字状との中間的なＷ字状の分布である。図示を省略したが、回転補正フィルター８４は、線Ａから線Ｃへ連続的に光軸ＡＸ周りに回転する直線に沿った透過率分布が図４（ａ）の比較的浅いＷ字状の分布から図４（ｃ）の比較的深いＷ字状の分布へほぼ単調に変化するように構成されている。
【００３８】
また、回転補正フィルター８４は、制御系２０からの指令に基づいて動作する駆動系２５により回転駆動されるように構成されている。こうして、後述するように、ウェハＷ上の静止露光領域における４次ムラ成分（高次ムラ成分）の経時的変化に応じて回転補正フィルター８４を回転駆動することにより、４次ムラ成分を可変補正することができる。すなわち、回転補正フィルター８４は、ウェハＷ上の静止露光領域における４次ムラ成分を可変補正する補正手段を構成している。
【００３９】
固定補正フィルター８５は、光軸ＡＸに対して固定的に設けられ、ウェハＷ上の静止露光領域における所定分布の４次ムラ成分を補正するための所要の一次元透過率分布として、光軸ＡＸに関して軸対称な一次元の透過率分布が形成されている。具体的に、固定補正フィルター８５は、図５（ａ）に示すように、マスクＭ上の矩形状の照明領域（ひいてはウェハＷ上の矩形状の静止露光領域）に対応する長方形の有効領域（図中破線で示す）を含む矩形状の外形を有する。
【００４０】
また、固定補正フィルター８５の長方形の有効領域内においてその長手方向（図中水平方向）に沿った透過率分布は、図５（ｂ）に示すように位置座標の４次関数にしたがって定義される形状の分布であって、図４（ｂ）のＷ字状の分布を反転させたようなＭ字状の分布である。固定補正フィルター８５はウェハＷ上の静止露光領域における所定分布の４次ムラ成分を補正する補正手段であるが、後述するように回転補正フィルター８４と協働して、４次ムラ成分の可変補正手段を構成している。なお、固定補正フィルター８５の詳細な構成および作用については、特開２００４−２６６２５９号公報（特に図２、図３およびこれらの図に関連する記載）を参照することができる。
【００４１】
以下、回転補正フィルター８４と固定補正フィルター８５との協働作用について説明する。上述したように、回転補正フィルター８４は、図３中の水平線Ａが走査直交方向に一致する角度位置（第１の角度位置）すなわち０度位置と、図３中の鉛直線Ｃが走査直交方向に一致する角度位置（第２の角度位置）すなわち９０度位置との間で、光軸ＡＸ周りに回転可能に設けられている。また、回転補正フィルター８４は、ウェハＷ上の静止露光領域における走査直交方向に沿った４次ムラ成分を補正するために、０度位置にて図４（ａ）に示すような比較的浅いＷ字状の分布（第１分布）を有すると共に、９０度位置にて図４（ｃ）に示すような比較的深いＷ字状の分布（第２分布）を有する。
【００４２】
そして、回転補正フィルター８４は、０度位置から９０度位置への連続的な回転により、図４（ａ）に示すような比較的浅いＷ字状の分布から図４（ｃ）に示すような比較的深いＷ字状の分布へほぼ単調に変化する分布を有する。したがって、回転補正フィルター８４を０度位置に設定した場合、回転補正フィルター８４と固定補正フィルター８５との合成透過率分布は、図６（ａ）に示す固定補正フィルター８５の透過率分布と図６（ｂ）に示す回転補正フィルター８４の０度位置の透過率分布（図４（ａ）に対応）との合成分布として、図６（ｃ）に示すようなＭ字状の分布になる。
【００４３】
一方、回転補正フィルター８４を９０度位置に設定した場合、回転補正フィルター８４と固定補正フィルター８５との合成透過率分布は、図７（ａ）に示す固定補正フィルター８５の透過率分布と図７（ｂ）に示す回転補正フィルター８４の９０度位置の透過率分布（図４（ｃ）に対応）との合成分布として、図７（ｃ）に示すようなＷ字状の分布になる。そして、回転補正フィルター８４を０度位置と９０度位置との中間的な４５度位置に設定した場合、回転補正フィルター８４と固定補正フィルター８５との合成透過率分布は、図８（ａ）に示す固定補正フィルター８５の透過率分布と図８（ｂ）に示す回転補正フィルター８４の４５度位置の透過率分布（図４（ｂ）に対応）との合成分布として、図８（ｃ）に示すようなほぼ一様な分布になる。
【００４４】
このように、回転補正フィルター８４を０度位置と９０度位置との間で回転駆動することにより、図６（ｃ）に示すＭ字状の分布と図７（ｃ）に示すＷ字状の分布との間でほぼ単調に変化する合成透過率分布が得られる。したがって、回転補正フィルター８４を０度位置と９０度位置との間で回転駆動することにより、図６（ｃ）に示すＭ字状の合成透過率分布により補正可能なＷ字状の４次ムラ成分と図７（ｃ）に示すＷ字状の合成透過率分布により補正可能なＭ字状の４次ムラ成分との間でほぼ単調に変化する４次ムラ成分を可変補正することができる。
【００４５】
具体的に、たとえば円形照明時（第１の照明条件時）に、ウェハＷ上の静止露光領域において図９（ａ）に示すようなＷ字状の４次ムラ成分が初期的に発生している場合、回転補正フィルター８４を約２０度位置に設定することにより上記Ｗ字状の４次ムラ成分を補正して、ほぼ均一な照度分布を得ることができる。そして、たとえば露光装置の長期間に亘る使用により、同じ照明条件において、図９（ａ）に示すような初期的なＷ字状の４次ムラ成分が図９（ｂ）に示すようにほぼ一様な分布に変化した場合、回転補正フィルター８４を約２５度だけ回転させて約４５度位置に設定することにより４次ムラ成分の経時的変化を補正して、ほぼ均一な照度分布を得ることができる。
【００４６】
また、たとえば輪帯照明時（第２の照明条件時）に、ウェハＷ上の静止露光領域において図１０（ａ）に示すようなＭ字状の４次ムラ成分が初期的に発生している場合、回転補正フィルター８４を約７０度位置に設定することにより上記Ｍ字状の４次ムラ成分を補正して、ほぼ均一な照度分布を得ることができる。そして、たとえば露光装置の長期間に亘る使用により、同じ照明条件において、図１０（ａ）に示すような初期的なＭ字状の４次ムラ成分が図１０（ｂ）に示すようにさらに深いＭ字状の分布に変化した場合、回転補正フィルター８４を約２０度だけ回転させて約９０度位置に設定することにより４次ムラ成分の経時的変化を補正して、ほぼ均一な照度分布を得ることができる。
【００４７】
また、露光装置の初期状態において、円形照明と輪帯照明との間の照明条件の切り換え（変更）によりウェハＷ上の静止露光領域における４次ムラ成分の分布が図９（ａ）に示す分布と図１０（ａ）に示す分布との間で変化した場合、回転補正フィルター８４を約２０度位置と約７０度位置との間で切り換える（角度位置を変更する）ことにより、照明条件の切り換えに起因する４次ムラ成分の変化を補正して、ほぼ均一な照度分布を得ることができる。同様に、露光装置の長期間に亘る使用後の状態において、円形照明と輪帯照明との間の照明条件の切り換えによりウェハＷ上の静止露光領域における４次ムラ成分の分布が図９（ｂ）に示す分布と図１０（ｂ）に示す分布との間で変化した場合、回転補正フィルター８４を約４５度位置と約９０度位置との間で切り換えることにより、照明条件の切り換えに起因する４次ムラ成分の変化を補正して、ほぼ均一な照度分布を得ることができる。
【００４８】
こうして、本実施形態では、各照明条件（典型的には円形照明、輪帯照明、４極照明などの各照明状態；一般的には二次光源の形状または大きさの異なる各照明状態）について、光検出器１１を用いてウェハＷ上の静止露光領域における照度分布を計測する。制御系２０は、光検出器１１からの照度分布情報に基づいて、各照明条件について、駆動系２３を介して２次ムラ成分の可変補正手段（８１，８２）を所定の回転角度位置に設定することにより照度分布に含まれる２次ムラ成分を補正し、駆動系２４を介して１次ムラ成分の可変補正手段（８３）を所定の回転角度位置に設定することにより照度分布に含まれる１次ムラ成分を補正し、駆動系２５を介して４次ムラ成分の可変補正手段（８４，８５）のうちの回転補正フィルター８４を所定の回転角度位置に設定することにより照度分布に含まれる４次ムラ成分を補正する。
【００４９】
また、露光装置を所定期間に亘って使用した後に、各照明条件について、光検出器１１を用いてウェハＷ上の静止露光領域における照度分布を適時計測する。制御系２０は、光検出器１１からの照度分布情報に基づいて、各照明条件について、駆動系２３を介して可変補正手段（８１，８２）の回転角度位置を変更することにより２次ムラ成分の経時的変化を補正し、駆動系２４を介して可変補正手段（８３）の回転角度位置を変更することにより１次ムラ成分の経時的変化を補正し、駆動系２５を介して回転補正フィルター８４の回転角度位置を変更することにより４次ムラ成分の経時的変化を補正する。
【００５０】
さらに、制御系２０は、各照明条件について、２次ムラ成分の補正に必要な可変補正手段（８１，８２）の所要の回転角度位置、１次ムラ成分の補正に必要な可変補正手段（８３）の所要の回転角度位置、および４次ムラ成分の補正に必要な回転補正フィルター８４の所要の回転角度位置をそれぞれ記憶している。したがって、制御系２０は、照明条件の切り換え（変更）に際して、駆動系２３を介して可変補正手段（８１，８２）の回転角度位置を変更することにより照明条件の切り換えに起因する２次ムラ成分の変化を補正し、駆動系２４を介して可変補正手段（８３）の回転角度位置を変更することにより照明条件の切り換えに起因する１次ムラ成分の変化を補正し、駆動系２５を介して回転補正フィルター８４の回転角度位置を変更することにより照明条件の切り換えに起因する４次ムラ成分の変化を補正する。
【００５１】
以上のように、本実施形態の露光装置では、たとえば経時的に変化したり照明条件の切り換えにより変化したりする照度ムラの１次成分、２次成分および４次成分を良好に補正して、ウェハＷ上の静止露光領域においてほぼ均一な照度分布（一般的には所望の照度分布）を得ることができる。したがって、ウェハＷ上の静止露光領域において得られるほぼ均一な照度分布に基づいて、線幅異常が実質的に発生することのない高精度な露光を行うことができる。
【００５２】
なお、上述の実施形態では、回転補正フィルター８４と固定補正フィルター８５とにより４次ムラ成分の可変補正手段を構成しているが、これに限定されることなく、固定補正フィルター８５の設置を省略して回転補正フィルター８４だけで４次ムラ成分の可変補正手段を構成することもできる。この場合、回転補正フィルター８４を０度位置と９０度位置との間で回転駆動することにより、図６（ｂ）に示す比較的浅いＷ字状の透過率分布により補正可能な比較的浅いＭ字状の４次ムラ成分と図７（ｂ）に示す比較的深いＷ字状の透過率分布により補正可能な比較的深いＭ字状の４次ムラ成分との間でほぼ単調に変化する４次ムラ成分を可変補正することができる。
【００５３】
また、上述の実施形態では、回転補正フィルター８４の連続的な回転により透過率分布がほぼ単調に変化するように構成されている。しかしながら、これに限定されることなく、たとえば２つの角度位置の間において透過率分布が実質的に段階的に変化するように回転補正フィルターを構成したり、さらに一般的には２つの角度位置の間の少なくとも１つの角度位置においてその中間的な透過率分布を有するように回転補正フィルターを構成したりすることもできる。
【００５４】
また、上述の実施形態では、マスクブラインド９側から順に、２次ムラ補正用の第１補正フィルター８１と、２次ムラ補正用の第２補正フィルター８２と、１次ムラ補正用の補正フィルター８３と、４次ムラ補正用の回転補正フィルター８４と、４次ムラ補正用の固定補正フィルター８５とを配置している。しかしながら、２次ムラ成分の可変補正手段（８１，８２）、１次ムラ成分の可変補正手段（８３）、４次ムラ成分の可変補正用の回転補正フィルター８４、および４次ムラ補正用の固定補正フィルター８５の配置位置および配列順序については、マスクＭと光学的に共役な位置もしくはその近傍に配置されていることを条件として様々な変形例が可能である。
【００５５】
また、上述の実施形態では、光軸周りに回転可能に設けられた回転補正フィルター８４により４次ムラ成分の可変補正手段を構成しているが、これに限定されることなく、光軸と直交する方向（一般には光軸と交差する方向）に移動可能に設けられた並進補正フィルターにより４次ムラ成分の可変補正手段を構成することもできる。具体的には、回転補正フィルター８４に代えて、図１１の変形例に示すような並進補正フィルター９１を用いることができる。
【００５６】
図１１（ａ）を参照すると、４次ムラ成分の可変補正用の並進補正フィルター９１は、図中の矢印で示すようにＺ方向（走査方向）に往復移動可能に設けられ、Ｚ方向に細長い矩形状の外形および図示のような二次元的な透過率分布を有する。なお、図１１（ａ）において、破線で示す細長い長方形は、図中中央の鉛直線Ｂが光軸ＡＸを通る位置状態で、マスクＭ上の矩形状の照明領域（ひいてはウェハＷ上の矩形状の静止露光領域）に対応している。具体的に、図中左側の鉛直線Ａに沿った透過率分布は、図１１（ｂ）に示すように位置座標の４次関数にしたがって定義されるＭ字状の分布である。
【００５７】
一方、図中右側の鉛直線Ｃに沿った透過率分布は、図１１（ｄ）に示すように位置座標の４次関数にしたがって定義されるＷ字状の分布である。鉛直線Ａと鉛直線Ｃとの中間に位置する鉛直線Ｂに沿った透過率分布は、図１１（ｂ）に示すＭ字状の分布と図１１（ｄ）に示すＷ字状の分布との中間的なほぼ一様な分布である。こうして、ウェハＷ上の静止露光領域に対する並進補正フィルター９１の透過率分布は、鉛直線Ａが光軸ＡＸを通る位置から鉛直線Ｃが光軸ＡＸを通る位置へのＺ方向に沿った連続的な移動により、図１１（ｂ）に示すＭ字状の分布から図１１（ｄ）に示すＷ字状の分布へほぼ単調に変化する。
【００５８】
同様に、一対の回転補正フィルター８１および８２に代えて、図１２の変形例に示すような並進補正フィルター９２を用いることができる。図１２（ａ）を参照すると、２次ムラ成分の可変補正用の並進補正フィルター９２は、図中の矢印で示すようにＺ方向に往復移動可能に設けられ、Ｚ方向に細長い矩形状の外形および図示のような二次元的な透過率分布を有する。なお、図１２（ａ）において、破線で示す細長い長方形は、図中中央の鉛直線Ｂが光軸ＡＸを通る位置状態で、マスクＭ上の矩形状の照明領域（ひいてはウェハＷ上の矩形状の静止露光領域）に対応している。
【００５９】
具体的に、図中左側の鉛直線Ａに沿った透過率分布は、図１２（ｂ）に示すように位置座標の２次関数にしたがって定義される上に凸状の分布である。一方、図中右側の鉛直線Ｃに沿った透過率分布は、図１２（ｄ）に示すように位置座標の２次関数にしたがって定義される上に凹状の分布である。鉛直線Ａと鉛直線Ｃとの中間に位置する鉛直線Ｂに沿った透過率分布は、図１２（ｂ）に示す凸状の分布と図１２（ｄ）に示す凹状の分布との中間的なほぼ一様な分布である。こうして、ウェハＷ上の静止露光領域に対する並進補正フィルター９２の透過率分布は、鉛直線Ａが光軸ＡＸを通る位置から鉛直線Ｃが光軸ＡＸを通る位置へのＺ方向に沿った連続的な移動により、図１２（ｂ）に示す凸状の分布から図１２（ｄ）に示す凹状の分布へほぼ単調に変化する。
【００６０】
また、同様に、回転補正フィルター８３に代えて、図１３の変形例に示すような並進補正フィルター９３を用いることができる。図１３（ａ）を参照すると、１次ムラ成分の可変補正用の並進補正フィルター９３は、図中の矢印で示すようにＺ方向に往復移動可能に設けられ、Ｚ方向に細長い矩形状の外形および図示のような二次元的な透過率分布を有する。なお、図１３（ａ）において、破線で示す細長い長方形は、図中中央の鉛直線Ｂが光軸ＡＸを通る位置状態で、マスクＭ上の矩形状の照明領域（ひいてはウェハＷ上の矩形状の静止露光領域）に対応している。
【００６１】
具体的に、図中左側の鉛直線Ａに沿った透過率分布は、図１３（ｂ）に示すように位置座標の１次関数にしたがって定義される右肩下がり状の分布である。一方、図中右側の鉛直線Ｃに沿った透過率分布は、図１３（ｄ）に示すように位置座標の１次関数にしたがって定義される右肩上がり状の分布である。鉛直線Ａと鉛直線Ｃとの中間に位置する鉛直線Ｂに沿った透過率分布は、図１３（ｂ）に示す右肩下がり状の分布と図１３（ｄ）に示す右肩上がり状の分布との中間的なほぼ一様な分布である。こうして、ウェハＷ上の静止露光領域に対する並進補正フィルター９３の透過率分布は、鉛直線Ａが光軸ＡＸを通る位置から鉛直線Ｃが光軸ＡＸを通る位置へのＺ方向に沿った連続的な移動により、図１３（ｂ）に示す右肩下がり状の分布から図１３（ｄ）に示す右肩上がり状の分布へほぼ単調に変化する。
【００６２】
また、上述の実施形態では、４次ムラ成分の可変補正用の回転補正フィルター８４が光軸ＡＸを通る直線に関してほぼ対称な透過率分布を有するように構成されている。しかしながら、これに限定されることなく、４次ムラ成分の可変補正用の回転補正フィルターに付与すべき透過率分布については様々な変形例が可能である。たとえば、図１４に模式的に示すように、光軸に関してほぼ２回回転対称で且つ光軸を通る直線に関して非対称な透過率分布を有する回転補正フィルター９４により４次ムラ成分の可変補正手段を構成することができる。
【００６３】
図１４の変形例にかかる回転補正フィルター９４は、線Ａで示す角度位置にて比較的深いＭ字状の透過率分布を有すると共に、線Ｃで示す角度位置にて比較的浅いＭ字状の透過率分布を有する。さらに詳細には、回転補正フィルター９４は、線Ａで示す角度位置から線Ｂで示す中間的な角度位置を経て線Ｃで示す角度位置への連続的な回転（１８０度よりも僅かに小さい角度範囲の回転）により、比較的深いＭ字状の透過率分布から中間的なＭ字状の透過率分布を経て比較的浅いＭ字状の透過率分布へほぼ単調に変化する分布を有する。
【００６４】
また、上述の実施形態では、２次ムラ成分の可変補正手段および１次ムラ成分の可変補正手段を補正フィルター８１〜８３により構成している。しかしながら、これに限定されることなく、可変開口部を有する可変スリット部をマスクブラインド９の近傍に配置し、可変スリット部の開口部（光透過部）の形状を変化させることにより、マスクＭ上の照明領域の形状（ひいてはウェハＷ上の静止露光領域の形状）を変化させて、ウェハＷ上の静止露光領域における照度ムラの２次成分および１次成分を可変補正することができる。なお、可変スリット部の具体的な構成および作用については、特開２００４−２６６２５９号公報（特に図８、図９およびこれらの図に関連する記載）を参照することができる。
【００６５】
また、上述の実施形態および変形例では、回転補正フィルター９４および並進補正フィルター９１により照度ムラの４次成分を可変補正している。しかしながら、これに限定されることなく、回転補正フィルターまたは並進補正フィルターに所要の透過率分布を付与することにより、４次よりも高次（偶数次または奇数次）のムラ成分を可変補正することもできる。
【００６６】
上述の実施形態にかかる露光装置では、照明光学装置によってマスク（レチクル）を照明し（照明工程）、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、上述の実施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図１５のフローチャートを参照して説明する。
【００６７】
先ず、図１５のステップ３０１において、１ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ３０２において、その１ロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ３０３において、上述の実施形態の露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その１ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ３０４において、その１ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ３０５において、その１ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。
【００６８】
また、上述の実施形態の露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図１６のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図１６において、パターン形成工程４０１では、上述の実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィー工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程４０２へ移行する。
【００６９】
次に、カラーフィルター形成工程４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程４０２の後に、セル組み立て工程４０３が実行される。セル組み立て工程４０３では、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。
【００７０】
セル組み立て工程４０３では、例えば、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。その後、モジュール組み立て工程４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。
【００７１】
なお、上述の実施形態では、露光光としてＫｒＦエキシマレーザー光（波長：２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマレーザー光（波長：１９３ｎｍ）を用いているが、これに限定されることなく、他の適当なレーザ光源、たとえば波長１５７ｎｍのレーザ光を供給するＦ2レーザ光源や、レーザ光源以外の光源、例えばｉ線やｇ線、ｈ線等の紫外光を供給するランプ光源に対して本発明を適用することもできる。
【００７２】
また、上述の実施形態では、図１に示すような特定の構成を有する照明光学装置に対して本発明を適用しているが、照明光学装置の具体的な構成については様々な変形例が可能である。たとえば、上述の実施形態における第１インテグレータとしての回折光学素子３から第２インテグレータとしてのマイクロフライアイレンズ５までの光学系を、特開２００１−８５２９３号公報や特開２００２−２３１６１９号公報に開示された対応部分の光学系で置換して得られる照明光学装置に対して本発明を適用することもできる。
【００７３】
また、上述の実施形態では、照明光学装置を備えた投影露光装置を例にとって本発明を説明したが、マスク以外の被照射面を照明するための一般的な照明光学装置に本発明を適用することができることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の実施形態にかかる照明光学装置を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の照度ムラ補正部の内部構成を概略的に示す図である。
【図３】照度ムラ補正部中の回転補正フィルターの構成を概略的に示す図である。
【図４】図３の回転補正フィルターの各角度位置における透過率分布を概略的に示す図である。
【図５】照度ムラ補正部中の固定補正フィルターの構成を概略的に示す図である。
【図６】０度位置に設定された回転補正フィルターと固定補正フィルターとの合成透過率分布を概略的に示す図である。
【図７】９０度位置に設定された回転補正フィルターと固定補正フィルターとの合成透過率分布を概略的に示す図である。
【図８】４５度位置に設定された回転補正フィルターと固定補正フィルターとの合成透過率分布を概略的に示す図である。
【図９】第１の照明条件において装置の使用により４次ムラ成分が経時的に変化する様子を模式的に示す図である。
【図１０】第２の照明条件において装置の使用により４次ムラ成分が経時的に変化する様子を模式的に示す図である。
【図１１】４次ムラ成分の可変補正手段の変形例としての並進補正フィルターの構成を概略的に示す図である。
【図１２】２次ムラ成分の可変補正手段の変形例としての並進補正フィルターの構成を概略的に示す図である。
【図１３】１次ムラ成分の可変補正手段の変形例としての並進補正フィルターの構成を概略的に示す図である。
【図１４】４次ムラ成分の可変補正用の固定補正フィルターに付与すべき透過率分布の変形例を模式的に示す図である。
【図１５】マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法のフローチャートである。
【図１６】マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得る際の手法のフローチャートである。
【符号の説明】
【００７５】
１  光源
３  回折光学素子
４  ズームレンズ
５  マイクロフライアイレンズ
７  コンデンサー光学系
８  照度ムラ補正部
８１〜８５  補正フィルター
９  マスクブラインド
１０  結像光学系
１１  光検出器
２０  制御系
２１〜２５  駆動系
Ｍ  マスク
ＭＳ  マスクステージ
ＰＬ  投影光学系
Ｗ  ウェハ
ＷＳ  ウェハステージ
【図１】
2006140393.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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