(57)【要約】【課題】フォトレジストの層に衝突する光のテレセントリック性を歪めることなく照明フィールド内の光の強度の変動を修正するための装置及び方法を提供する。【解決手段】ブレード構造１９０２が、照明系１９１０とレチクルステージ１９１２との間において光路１９０６に沿って配置され、照明系が、照明フィールドを有する光を提供すると、ブレード構造が実質的に照明フィールド１９１６の中央に位置しかつ照明フィールド内の光の第１の部分がブレード構造に衝突し、ブレード構造が、光の波長に対して透明又は不透明であり、光の第１の部分が第１の領域を有し、ブレード構造の第１の部分とフレーム１９２６との間に接続された第１のアクチュエータ１９０４が、ブレード構造の少なくとも第１の部分を第１の方向に移動させ、第１の領域とは異なる第２の領域を有する、照明フィールド内の光の第２の部分がブレード構造に衝突する。【選択図】図１９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトリソグラフィシステムの照明フィールド内の光の総計強度を変化させるための装置において、
ブレード構造が設けられており、該ブレード構造が、フォトリソグラフィシステムの照明系とフォトリソグラフィシステムのレチクルステージとの間においてフォトリソグラフィシステムの光路に沿って位置決めされるように構成されており、これにより、前記照明系が、照明フィールドを有する光を提供すると、前記ブレード構造が実質的に照明フィールドの中央に位置しかつ照明フィールド内の光の第１の部分が前記ブレード構造に衝突するようになっており、前記ブレード構造が、光の波長に対して透明であるか又は該波長に対して不透明であり、前記光の第１の部分が第１の領域を有しており、
第１のアクチュエータが設けられており、該第１のアクチュエータが、前記ブレード構造の第１の部分とフォトリソグラフィシステムのフレームとの間に接続されておりかつ、前記ブレード構造の少なくとも前記第１の部分を第１の方向に移動させるように構成されており、これにより、前記照明系が、照明フィールドを有する光を提供すると、照明フィールド内の光の第２の部分が前記ブレード構造に衝突し、前記光の第２の部分が第２の領域を有しており、該第２の領域が前記第１の領域とは異なることを特徴とする、フォトリソグラフィシステムの照明フィールド内の光の総計強度を変化させるための装置。
【請求項２】
前記照明系が、照明フィールドを有する光を提供する場合、照明フィールドが矩形に成形されている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記ブレード構造が、ブレード構造長さと、ブレード構造幅と、ブレード構造高さとを有しておりかつ、前記照明系が照明フィールドを有する光を提供した時に、前記ブレード構造長さが実質的に照明フィールド長さに対して平行であり、前記ブレード構造幅が実質的に照明フィールド幅に対して平行であり、前記ブレード構造幅が実質的に、前記照明フィールド幅の中間点を通る線と交差しており、該線が実質的に前記照明フィールド長さに対して平行であるように向けられている、請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記ブレード構造幅が約１０ミクロンである、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記照明系が、照明フィールドを有する光を提供し、照明フィールドが扇形に成形されている、請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記ブレード構造が、ブレード構造外側円弧と、ブレード構造内側円弧と、ブレード構造幅と、ブレード構造高さとを有しておりかつ、前記照明系が照明フィールドを有する光を提供した時に、前記ブレード構造外側円弧が実質的に照明フィールド外側円弧と同じであり、前記ブレード構造内側円弧が実質的に照明フィールド内側円弧と同じであり、前記ブレード構造幅が実質的に、前記照明フィールド外側円弧と前記照明フィールド内側円弧との間の中間に配置された円弧と交差するように向けられている、請求項５記載の装置。
【請求項７】
前記ブレード構造幅が約１０ミクロンである、請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記ブレード構造の前記第１の部分がフラップであり、該フラップが前記ブレード構造の第２の部分に接続されている、請求項１記載の装置。
【請求項９】
前記フラップが前記ブレード構造の前記第２の部分にヒンジによって接続されている、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
前記フラップが複数のフラップを含んでおり、これにより、前記複数のフラップの第１のフラップが、前記複数のフラップの第２のフラップから、スリットによって分離されている、請求項８記載の装置。
【請求項１１】
前記スリットが開放端部と閉鎖端部とを有しており、前記閉鎖端部が、該閉鎖端部における応力を減じるための形状を有している、請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
前記形状が鍵穴形である、請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
前記第１のアクチュエータが複数の第１のアクチュエータを含み、これにより、該複数の第１のアクチュエータの第１のアクチュエータが、前記第１のフラップに接続されておりかつ、該第１のフラップを前記第１の方向に移動させるように構成されており、前記複数の第１のアクチュエータの第２のアクチュエータが、前記第２のフラップに接続されておりかつ、該第２のフラップを前記第１の方向に移動させるように構成されており、前記複数の第１のアクチュエータの前記第１のアクチュエータの制御が、前記複数の第１のアクチュエータの前記第２のアクチュエータの制御から独立している、請求項１０記載の装置。
【請求項１４】
前記ブレード構造の前記第２の部分と前記フレームとの間に接続された支持体が設けられている、請求項９記載の装置。
【請求項１５】
前記支持体と、前記レチクルステージが移動するように構成された方向との間に角度が形成されており、該角度がゼロ度とは異なる、請求項１４記載の装置。
【請求項１６】
前記照明系が、照明フィールドを有する光を提供し、前記第１の方向への移動が、照明フィールド内の光の総計強度を低減するようになっている、請求項１記載の装置。
【請求項１７】
前記照明系が、照明フィールドを有する光を提供し、前記第１の方向への移動が、照明フィールド内の光の総計強度を増大するようになっている、請求項１記載の装置。
【請求項１８】
前記第１のアクチュエータがさらに、前記ブレード構造の前記少なくとも第１の部分を第２の方向に移動させ、前記第２の方向が前記第１の方向と反対である、請求項１記載の装置。
【請求項１９】
前記ブレード構造の少なくとも前記第１の部分が、重力を介して第２の方向に移動するように構成されており、前記第２の方向が前記第１の方向と反対である、請求項１記載の装置。
【請求項２０】
前記ブレード構造の前記第１の部分が、前記重力を提供するための十分な質量を備えた部材を有している、請求項１９記載の装置。
【請求項２１】
前記ブレード構造が少なくとも弾性的な材料から形成されておりかつ、弾性的な復元力を介して第２の方向に移動するように構成されており、前記第２の方向が前記第１の方向と反対である、請求項１記載の装置。
【請求項２２】
前記弾性的な材料が、ステンレス鋼、銀、ニッケル、アルミニウム、銅又はシリコンのうちの少なくとも１つである、請求項２１記載の装置。
【請求項２３】
前記ブレード構造の前記第１の部分に接続されていてかつ、前記ブレード構造の少なくとも前記第１の部分を第２の方向に移動させるように構成された第１のアクチュエータが設けられており、前記第２の方向が前記第１の方向と反対である、請求項１記載の装置。
【請求項２４】
前記第１のアクチュエータが機械的なアクチュエータである、請求項１記載の装置。
【請求項２５】
前記機械的アクチュエータが、前記ブレード構造の前記第１の部分に機械的に接続されたワイヤを有している、請求項２４記載の装置。
【請求項２６】
前記ワイヤが剛性である、請求項２５記載の装置。
【請求項２７】
前記ワイヤと、前記レチクルステージが移動するように構成された方向との間に角度が形成されており、該角度がゼロ度とは異なる、請求項２５記載の装置。
【請求項２８】
前記第１のアクチュエータが電磁アクチュエータである、請求項１記載の装置。
【請求項２９】
前記電磁アクチュエータが、前記ブレード構造の前記第１の部分に結合された第１の磁気部材と、前記フレームに結合された第２の磁気部材とを有しており、前記第１の磁気部材が磁界を介して前記第２の磁気部材に接続されるように構成されている、請求項２８記載の装置。
【請求項３０】
前記第１の磁気部材が永久磁石又は電磁石の一方であり、前記第２の磁気部材が前記永久磁石又は前記電磁石の一方でありかつ前記第１の磁気部材とは異なっている、請求項２９記載の装置。
【請求項３１】
前記第１のアクチュエータが静電アクチュエータである、請求項１記載の装置。
【請求項３２】
前記静電アクチュエータが、前記ブレード構造の前記第１の部分に結合された第１の電極と、前記フレームに結合された第２の電極とを有しており、前記第１の電極が、前記第２の電極に静電界を介して接続されるように構成されている、請求項３１記載の装置。
【請求項３３】
前記第１のアクチュエータが光子アクチュエータである、請求項１記載の装置。
【請求項３４】
前記光子アクチュエータが、前記ブレード構造の前記第１の部分に結合された光子部材と、前記フレームに結合された第２の光子部材とを有しており、前記第１の光子部材が、光子エネルギを介して前記第２の光子部材に接続されるように構成されている、請求項３３記載の装置。
【請求項３５】
フォトリソグラフィシステムの照明フィールド内の光の総計強度を変化させるための装置において、
フォトリソグラフィシステムの照明系とレチクルステージとの間においてフォトリソグラフィシステムの光路に沿って位置決めされるように構成されたブレード構造が設けられており、これにより、前記照明系が照明フィールドを有する光を提供した場合、前記ブレード構造が、照明フィールド実質的に中央に位置しかつ、照明フィールド内の光の第１の部分が前記ブレード構造に衝突するようになっており、前記ブレード構造が、光の波長に対して透明又は不透明であり、前記光の第１の部分が第１の領域を有しており、
前記ブレード構造とフォトリソグラフィシステムのフレームとの間に接続されていてかつ、前記ブレード構造を第１の方向に回転させるように構成された第１のアクチュエータが設けられており、これにより、前記照明系が照明フィールドを有する光を提供した場合、照明フィールド内の光の第２の部分が前記ブレード構造に衝突し、光の前記第２の部分が第２の領域を有しており、前記第２の領域が前記第１の領域と異なることを特徴とする、フォトリソグラフィシステムの照明フィールド内の光の総計強度を変化させるための装置。
【請求項３６】
フォトリソグラフィシステム内の光の総計強度を変化させる方法において、
（１）フォトリソグラフィシステムの照明系によって照明フィールドを有する光を提供し、
（２）フォトリソグラフィシステムの照明系とレチクルステージとの間に、照明フィールドの実質的に中央に、フォトリソグラフィシステムの光路に沿ってブレード構造を位置決めし、これにより、照明フィールド内の光の第１の部分が前記ブレード構造に衝突するようになっており、ブレード構造が光の波長に対して透明又は不透明であり、光の第１の部分が第１の領域を有しており、
（３）少なくともブレード構造の部分を、照明フィールド内の光の第２の部分がブレード構造に衝突するような方向に移動させ、光の第２の部分が第２の領域を有しており、第２の領域が第１の領域とは異なることを特徴とする、フォトリソグラフィシステム内の光の総計強度を変化させる方法。
【請求項３７】
（４）照明フィールド内の光の所望の強度分布を決定する、請求項３６記載の方法。
【請求項３８】
照明フィールドが、フォトリソグラフィシステムのレチクルステージによって支持されたレチクルに配置されている、請求項３７記載の方法。
【請求項３９】
前記移動させるステップが、照明フィールド内の光の総計強度を減少させる、請求項３６記載の方法。
【請求項４０】
前記移動させるステップが、照明フィールド内の光の総計強度を増大させる、請求項３６記載の方法。
【請求項４１】
前記部分が複数の部分を含んでおり、前記移動させるステップが、
（ａ）複数の部分の第１の部分を所定の方向に移動させ、
（ｂ）複数の部分の第２の部分の位置を維持する、請求項３６記載の方法。
【請求項４２】
前記部分が複数の部分を含んでおり、前記移動させるステップがさらに、
（ａ）照明フィールド内の光の第３の部分がブレード構造に衝突するように複数の部分の第１の部分を所定の方向に第１の距離だけ移動させ、光の第３の部分が第３の領域を有しており、
（ｂ）照明フィールド内の光の第４の部分がブレード構造に衝突するように複数の部分の第２の部分を所定の方向に第２の距離だけ移動させ、光の第４の部分が第４の領域を有しており、第２の距離が第１の距離とは異なり、第２の領域が第３の領域と第４の領域との合計に等しい、請求項３６記載の方法。
【請求項４３】
前記移動させるステップの後に、フォトリソグラフィシステムのウェハステージによって支持されたウェハに提供されたフォトレジストの層に衝突する光のテレセントリック性が、前記移動するステップの前にフォトレジストの層に衝突する光のテレセントリック性と実質的に同じである、請求項３６記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光のテレセントリック性を歪めることなく照明フィールド内の光の強度の変動を修正することに関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路チップにおいて、デバイス及びその接続は一般的に段階的に製造される。複数の段階は半導体基板（すなわちウェハ）の部分を変化させるプロセスを含む。これらの段階のそれぞれのために、処理されるべき部分は、ウェハの残りの部分から隔離されなければならない。一般的には、これはウェハの表面に二次元パターンを複製することによって行われる。この複製を行うフォトリソグラフィツールはしばしばウェハステッパ又はウェハスキャナと呼ばれている。
【０００３】
パターンは処理されるウェハの部分を残りの部分と区別する。パターンは、対応する不透明の部分と、透明又は反射性の部分とを有するマスク（すなわちレチクル）に形成されている。光ビームはレチクルに衝突させられ、伝播方向に対して垂直なビームの断面（すなわち照明フィールド）にパターンが転移される。（照明フィールドは通常矩形又は扇形として成形されている）レチクルとウェハとの間の光路に沿って位置決めされた光学デバイスはパターンの寸法を縮小し、光ビームをウェハに衝突させる。フィルムの層（すなわちフォトレジスト）がウェハの表面に塗布されている。フォトレジストが光ビームに曝されると、フォトレジストの対応する部分が露光される。フォトレジストの露光された部分又は露光されていない部分（両方ではない）が除去され、処理されるウェハの下層部分を出現させる。ウェハの残りの部分は残りのフォトレジストによって処理から保護されている。
【０００４】
位置又はフィーチャ寸法の望ましくない変動は、製造されるデバイスの電気的及び電子的特性に影響するおそれがある。したがって、位置及びフィーチャ寸法を正確に制御できることが重要である。ウェハの表面に衝突する光の波長が数十から数百ナノメートルのオーダにある場合、ウェハ表面の平坦度の変動は、ウェハ表面を１つの像面としてモデル化するのを排除するために十分に著しく大きいことができる。この理由から、ウェハ表面に衝突する光は実質的にテレセントリックであることが重要である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
さらに、照明フィールド内の点における光の強度の変動はこれらの点におけるフォトレジストが露光される程度に影響するおそれがある。この理由から、照明フィールド内の光の強度の変動を修正することも重要である。したがって、必要とされているのは、フォトレジストの層に衝突する光のテレセントリック性を歪めることなく照明フィールド内の光の強度の変動を修正するための装置及び方法である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
発明の簡単な概要
本発明は、光のテレセントリック性を歪めることなく照明フィールド内の光の強度の変動を修正することに関する。本発明は、フォトリソグラフィシステムの照明フィールド内の光の総計強度を変化させるための装置を提供する。実施形態において、装置はブレード構造及び第１のアクチュエータを有している。ブレード構造は、照明系とレチクルステージとの間のフォトリソグラフィの光路に沿って位置決めされるように構成されているので、照明系が、照明フィールドを有する光を提供する時、ブレード構造は実質的に照明フィールドの中央に位置する。ブレード構造は実質的に照明フィールドの中央に位置するので、ブレード構造は、照明フィールド内のテレセントリック性を歪めない。ブレード構造は光の波長に対して透明又は不透明である。照明フィールド内の光の第１の部分はブレード構造に衝突する。光の第１の部分は第１の領域を有する。レチクルステージのスキャンの経過に亘って、ブレード構造とは反対のレチクルにおける点が曝される、光の累積強度は、第１の領域に比例して減じられる。
【０００７】
第１のアクチュエータは、ブレード構造の第１の部分と、フォトリソグラフィシステムのフレームとの間に接続されており、少なくともブレード構造の第１の部分を第１の方向に移動又は回転させるように構成されているので、照明系が、照明フィールドを有する光を提供する場合、照明フィールド内の光の第２の部分がブレード構造に衝突する。光の第２の部分は第２の領域を有している。第２の領域は第１の領域より大きくても小さくてもよいが、第１の領域とは異なる。レチクルステージのスキャンの経過に亘ってブレード構造とは反対側のレチクルにおける点が曝される、光の累積強度は、第２の領域に比例して減じられる。
【０００８】
したがって、第１のアクチュエータがブレード構造の第１の部分を第１の方向に移動させた場合のブレード構造とは反対のレチクルにおける点における光の累積強度の減少は、第１のアクチュエータがブレード構造の第１の部分を移動させていない場合とは異なっている。この形式において、本発明の装置は、光のテレセントリック性を歪めることなく照明フィールド内の光の強度の変動を修正するために使用されることができる。
【０００９】
実施形態において、照明フィールドは矩形に成形されることができる。ブレード構造は、ブレード構造長さと、ブレード構造幅と、ブレード構造高さとを有することができる。ブレード構造は、照明系が、照明フィールドを有する光を提供する場合に、ブレード構造長さが照明フィールド長さに対して実質的に平行であり、ブレード構造幅が照明フィールド幅に対して実質的に平行であり、ブレード構造幅が、照明フィールド幅の中間点を通る線と交差するように向けられることができ、この線は照明フィールド長さに対して実質的に平行である。ブレード構造幅は約１０ミクロンであることができる。
【００１０】
別の実施形態において、照明フィールドは扇形として成形されることができる。ブレード構造は、ブレード構造外側円弧と、ブレード構造内側円弧と、ブレード構造幅と、ブレード構造高さとを有している。ブレード構造は、照明系が、照明フィールドを有する光を提供する場合に、ブレード構造外側円弧が照明フィールド外側円弧と実質的に同じであり、ブレード構造内側円弧が照明フィールド内側円弧と実質的に同じであり、ブレード構造幅が、照明フィールド外側円弧と照明フィールド内側円弧との間の中間に配置されたアーチと実質的に交差するように、向き付けられることができる。ブレード構造幅は約１０ミクロンである。
【００１１】
照明系が、照明フィールドを有する光を提供する場合、第１の方向への移動は、照明フィールド内の光の総計強度を減じるおそれがある。択一的に、照明系が、照明フィールドを有する光を提供する場合、第１の方向への移動は、照明フィールド内の光の総計強度を増大するおそれがある。
【００１２】
ブレード構造の第１の部分はフラップであることができる。フラップは、例えばヒンジによってブレード構造の第２の部分に結合されることができる。第１のフラップは、スリットによって第２のフラップから分離されることができる。スリットは開放端部と閉鎖端部とを有することができる。閉鎖端部は、閉鎖端部における応力を減じるために、例えば鍵穴等の形状を有することができる。第１のアクチュエータは、複数のアクチュエータのうちの１つであることができる。例えば、複数のアクチュエータのうちの第１のアクチュエータは、第１のフラップに接続されており、第１のフラップを第１の方向に移動させるように構成されているのに対し、複数のアクチュエータのうちの第２のアクチュエータは、第２のフラップに接続されており、第２のフラップを第１の方向に移動させるように構成されることができる。複数のアクチュエータのうちの第１のアクチュエータの制御は、複数のアクチュエータのうちの第２のアクチュエータの制御から独立していることができる。
【００１３】
さらに、第１のアクチュエータは、ブレード構造の第１の部分を、第１の方向とは反対の第２の方向に移動させるように構成されることができる。択一的に、装置は、ブレード構造の第１の部分に接続された、少なくともブレード構造の第１の部分を第２の方向に移動させるように構成された第２のアクチュエータも有することができる。択一的に、ブレード構造の第１の部分は、重力を介して第２の方向に移動するように構成されることができる。例えば、ブレード構造の第１の部分は、重力を提供するために、十分な質量を備えた部材を有することができる。択一的に、ブレード構造は、少なくとも弾性的な材料から形成されており、弾性的な復元力を介して第２の方向に移動するように構成されることができる。例えば、弾性材料は、ステンレス鋼、銀、ニッケル、アルミニウム、銅又はシリコンのうちの少なくとも１つであることができる。
【００１４】
本発明は、フォトリソグラフィシステムの照明フィールド内の光の総計強度を変化させるための方法も提供する。照明フィールドを有する光は、フォトリソグラフィシステムの照明系によって提供される。ブレード構造は、照明系とレチクルステージの間のフォトリソグラフィシステムの光路に沿って、実質的に照明フィールドの中央に位置決めされているので、照明フィールド内の光の第１の部分は、ブレード構造に衝突する。ブレード構造は、光の波長に対して透明又は不透明である。光の第１の部分は第１の領域を有している。ブレード構造の少なくとも一部は、照明フィールド内の光の第２の部分がブレード構造に衝突するような方向に移動させられる。光の第２の部分は、第１の領域とは異なる第２の領域を有している。ブレード構造の部分を移動させることは、照明フィールド内の光の総計強度を増減させることができる。選択的に、照明フィールド内の光の所望の強度分布は決定されることができる。所望の強度分布は、フォトリソグラフィシステムのレチクルステージによって支持されたレチクルに配置されることができる。フォトリソグラフィシステムのウェハステージによって支持されたウェハに衝突する光のテレセントリック性は、ブレード構造の部分を移動させた後、ブレード構造の部分を移動させる前にウェハに衝突する光のテレセントリック性と実質的に同じである。
【００１５】
ブレード構造の部分は、複数の部分のうちの１つであることができる。複数の部分のうちの第１の部分は所定の方向に移動することができるのに対し、複数の部分の第２の部分の位置は維持されることができる。択一的に、複数の部分のうちの第１の部分は所定の方向に第１の距離だけ移動することができるのに対し、複数の部分のうちの第２の部分は所定の方向に第２の距離だけ移動することができる。第２の距離は第１の距離と異なる。複数の部分のうちの第１の部分の移動は、照明フィールド内の光の第３の部分をブレード構造に衝突させる。複数の部分のうちの第２の部分の移動は、照明フィールド内の光の第４の部分をブレード構造に衝突させる。光の第３の部分は第３の領域を有しており、光の第４の部分は第４の領域を有している。第２の領域は、第３の領域と第４の領域との合計に等しい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本明細書に組み込まれて、明細書の一部を構成する添付の図面は、本発明を例示しており、詳細な説明と相俟って、本発明の原理を説明し、当業者が発明を実施及び使用できるようにするために働く。
【００１７】
本発明の好適な実施形態が図面を参照に説明され、これらの図面において同じ参照符号は同一の又は機能的に類似の要素を示している。また、図面において、各参照符号の左側の数字は、その参照符号が最初に使用されている図面を表している。
【００１８】
本発明は、光のテレセントリック性を歪めることなく照明フィールド内の光の強度の変動を修正することに関する。図１は、平面１０８における第１の点１０４及び第２の点１０６において集束する光線を備えたテレセントリックな光ビーム１０２を示している。平面１１０及び１１２も示されている。平面１０８はｚ＝０における公称仮想平面である。平面１１０は平面１０８に対して平行であるが、光ビーム１０２のための光源（図示せず）に距離ｄだけ近い。平面１１２も平面１０８に対して平行であるが、照明源から距離ｄだけ遠い。図２は、平面１０８，１１０，１１２におけるテレセントリックな光ビーム１０２のための強度分布２０２，２０４，２０６を示している。光ビーム１０２はテレセントリックなので、強度分布２０２，２０４，２０６は整合させられている。この状況において、第１の点１０４及び第２の点１０６のための露光されたフォトレジストの領域の間の距離Ｄ２０８は、各点のためのフォトレジストの層の平面に拘らず実質的に同じである。
【００１９】
図３は、平面１０８における第１の点１０４及び第２の点１０６において集束する光線を備えたテレセントリックでない光ビーム３０２を示している。図４は、平面１０８，１１０，１１２におけるテレセントリックでない光ビーム３０２のための強度分布４０２，４０４，４０６を示している。光ビーム３０２はテレセントリックではないので、強度分布４０２，４０４，４０６は整合させられていない。この状況において、第１の点１０４及び第２の点１０６のための露光されたフォトレジストの領域の間の距離２０８Ｄは、各点のためのフォトレジストの層の平面に応じて異なっている。例えば、第１の点１０４のためのフォトレジストの層が平面１１０にあるのに対し第２の点１０６のためのフォトレジストの層が平面１０８にあるならば、距離Ｄ２０８はＤ１４０８を測定する。択一的に、第１の点１０４のためのフォトレジストの層が平面１１０にあるのに対し第２の点１０６のためのフォトレジストの層が平面１１２にあるならば、距離Ｄ２０８はＤ２４１０を測定する。Ｄ２４１０はＤ１４０８よりも小さい。露光されたフォトレジストの領域の間の距離のこのような差は、製造されるデバイスの位置又はフィーチャ寸法の望ましくない変動を生じるおそれがある。この理由から、フォトレジストの層に衝突する光が実質的にテレセントリックであることが重要である。
【００２０】
図５は典型的な深紫外（ＤＵＶ）フォトリソグラフィシステム５００を示している。システム５００は、フレーム５０２と、ＤＵＶ照明系５０４と、レチクルステージ５０６と、投影光学系５０８と、ウェハステージ５１０とを有している。ＤＵＶ照明系５０４と、レチクルステージ５０６と、投影光学系５０８と、ウェハステージ５１０とは光路５１２に沿って位置決めされている。レチクルステージ５０６はレチクル５１４を支持するように構成されている。ウェハステージ５１０はウェハ５１６を支持するように構成されている。ＤＵＶ照明系５０４は通常２４８ｎｍ、１９３ｎｍ又は１５７ｎｍの波長を有するＤＵＶビーム５１８を生ぜしめる。回折は、ＤＵＶビーム５１８がレチクル５１４を通過するときにこれを分散させる。投影光学系５０８はＤＵＶビーム５１８をウェハ５１６において集束させる。当業者は、より小さなフィーチャ寸法がシステム５００の開口数を増大することによって実現されることができることを認めている。システム５００は、ＤＵＶビーム５１８が約０．８の開口数を有するように構成されていることができる。図６は、ＤＵＶフォトリソグラフィシステム５００のための照明フィールド６００を示している。照明フィールド６００は通常矩形に成形されており、幅６０２と長さ６０４とを有している。
【００２１】
図７は、幅６０２に沿った典型的な強度分布７００を示している。通常、強度分布７００は台形（又はガウス形状）を有している。スキャンは通常幅６０２に沿って（ここではｘ軸で表されている）行われるので、レチクル５１４における与えられた点は、スキャンの経過に亘って、強度分布６００の上昇部分７０２と、一定部分７０４と、下降部分７０６とのそれぞれからの強度に曝される。すなわち、スキャンの完了によって、ｘ軸に対して平行な線に沿ったレチクル５１４における各点は、同じ累積強度に曝される。
【００２２】
図８は、長さ６０４に沿った典型的な強度分布８００を示している。長さ６０４は実質的に幅６０２よりも長いことができるので、長さ６０４に沿って著しい望ましくない強度変化の可能性が大きい。ここでは、強度分布８００は、例えば光の強度の望ましくない減少として示されている、不均一部分８０２を有している。スキャンは、長さ６０４（ここではｙ軸で表されている）に沿って行われないので、同じ累積強度に曝されるｙ軸に対して平行な線に沿ったフォトレジスト層における各点を有することによってこれらの変動を補償するための機会はない。すなわち、長さ６０４に沿った光強度の望ましくない変動は、修正される必要がある。
【００２３】
引用によって全体が本明細書に記載されることになる、“Dynamically Adjustable High Resolution Adjustable Slit”という発明の名称の、McCullough他に発行された米国特許第６０９７４７４号明細書は、照明フィールド６００内の光の強度の変動を修正するための装置及び方法を開示している。図９及び図１０は、米国特許第６０９７４７４号明細書に開示されたような、典型的な動的に調整可能なスリット装置９００を示している。装置９００は、ブレード９０２と、プッシュロッド９０４と、フレーム９０６とを有している。各ブレード９０２は、照明フィールド６００内の光の対応する部分を遮断するために使用されるように構成されている。プッシュロッド９０４は、ピン９０８によってブレード９０２に結合されている。各プッシュロッド９０４は、調整可能な駆動装置（図示せず）によって個々に位置決めされるように構成されている。調整可能な駆動装置はソレノイド等（図示せず）を有することができる。フレーム９０６は、矢印１００２によって示されたようにｘ軸に沿って移動することができるようにプッシュロッド９０４を支持及び案内している。レチクル５１４から照明フィールド６００に転移されるパターンを歪めないように、装置９００は、光路に沿ってＤＵＶ照明系５０４とレチクルステージ５０６との間（すなわち光ビームがレチクル５１４に衝突する前）に配置されている。
【００２４】
図１１は、照明フィールド６００内の光の強度の変動を修正するためにどのように装置９００が使用されることができるかを示している。典型的な強度分布７００及び８００の三次元表示である、典型的な強度分布１１００が示されている（強度分布７００はガウス形状で示されている）。ブレード９０２は、長さ６０４に沿って分配されており、照明フィールド６００内の光の対応する部分を遮断することによって、光分布８００を修正するために光の強度が減じられる必要がある位置における幅６０２の寸法を減じるように構成されている。例えば、不均一な部分８０２の位置に対応しないブレード９０２は、幅６０２の寸法をＷ１１１０２からＷ２１１０４まで減じるように配置されているのに対して、不均一部分８０２の位置に対応するブレード９０２は、幅６０２の寸法をＷ１１１０２に維持するように配置されている。したがって、スキャンの完了によって、不均一部分８０２の位置に相当するｙ軸に対して平行な線に沿って位置決めされたｘ軸に対して平行な線に沿ったレチクル５１４における各点は、不均一部分８０２の位置に相当しないｙ軸に対して平行な線に沿って位置決めされたｘ軸に対して平行な線に沿ったレチクル５１４における各点よりも、長い時間に亘って光に曝される。しかしながら、不均一部分８０２の位置に相当する光の強度は、不均一部分８０２の位置に対応しない光の強度よりも小さいので、レチクル５１４における各点は、実質的に同じ累積強度に曝される。このように、照明フィールド６００内の光の強度の変動を修正するために装置９００が使用されることができる。
【００２５】
光ビームを生じる照明系が瞳フィルを制御するように構成されている場合、動的に調整可能なスリット装置９００は前記の形式で使用されることができる。このような照明系は、例えば、引用によって全体が本明細書に記載されたことになる、“Hybrid Illumination System for Use in Photography”という名称の、Stanton他に発行された米国特許第５６３１７２１号明細書に開示されている。米国特許第５６３１７２１号明細書の照明系は、瞳フィルを制御するために、マルチイメージ光学素子と、アレイ光学素子とを有している。マルチイメージ光学素子は、複数の屈折レンズ素子又は回折光学素子を有するマイクロレンズアレイであることができる。アレイ光学素子は、波面を制御するために回折及び／又は屈折を使用するマイクロ光学素子の二次元の周期的及び／又は準周期的なアレイである。アレイ光学素子は、透過性又は反射性の材料から形成されることができる。
【００２６】
図１２は、瞳フィルを制御するように構成された照明系によって生ぜしめられ場合の、強度分布７００に亘る瞳フィルを示している。このような状況において、上昇部分７０２は部分的な瞳フィル１２０２を有しており、一定部分７０４は完全な瞳フィル１２０４を有しており、下降部分７０６は部分的な瞳フィル１２０６を有している。さらに、瞳フィルを制御するための照明系の能力により、装置９００のブレード９０２は、強度分布７００に亘る瞳フィルの構成における対称性を維持しながら、強度分布７００の一方の側（すなわち上昇部分７０２又は下降部分７０６）だけから幅６０２の寸法を減じることができる。
【００２７】
図１３は、瞳フィルを制御するように構成された照明システムによって生ぜしめられ、ブレード９０２が幅６０２の寸法を下降部分７０６の側から減じた場合の、強度分布７００に亘る瞳フィルを示している。幅６０２の寸法の減少は、一定部分７０４の幅の寸法の減少として実現されている。上昇部分７０２は部分的な瞳フィル１２０２を維持しており、一定部分７０４は完全な瞳フィル１２０４を維持しており、下降部分７０６は部分的な瞳フィル１２０６を支持している。当業者は、強度分布７００に亘る瞳フィルの構成において対称性を維持することが、フォトレジストの層に衝突する光のテレセントリック性を保存するということを認識する。
【００２８】
図１４は、瞳フィルを制御するように構成されていない照明系によって生ぜしめられた、強度分布７００に亘る瞳フィルを示している。このような状況において、上昇部分７０２は完全な瞳フィル１４０２を有しており、一定部分７０４は完全な瞳フィル１４０４を有しており、下降部分７０６は完全な瞳フィル１４０６を有している。ここでは、強度分布７００の一方の側（すなわち上昇部分７０２又は下降部分７０６）からだけ幅６０２の寸法を減じることは、強度分布７００に亘る瞳フィルの構成を非対称にさせる。
【００２９】
図１５は、瞳フィルを制御するように構成されていない照明系によって生ぜしめられ、ブレード９０２が下降部分７０６の側から幅６０２の寸法を減じた場合の、強度分布７００に亘る瞳フィルを示している。やはり、幅６０２の寸法の減少は、一定部分７０４の幅の寸法の減少として実現されている。上昇部分７０２は完全な瞳フィル１４０２を維持しており、一定部分７０４は完全な瞳フィル１４０４を維持している。あいにく、この場合には下降部分７０６は部分的な瞳フィル１５０２を有している。当業者は、強度分布７００に亘る瞳フィル構成を非対称にすることが、フォトレジストの層に衝突する光のテレセントリック性を歪めるということを認識する。
【００３０】
しかしながら、ブレード９０２が強度分布７００の両側（すなわち上昇部分７０２及び下降部分７０６）から幅６０２の寸法を減じるならば、フォトレジストの層に衝突する光のテレセントリック性は保存されることができる。図１６は、瞳フィルを制御するように構成されていない照明系によって生ぜしめられ、ブレード９０２が上昇部分７０２及び下降部分７０６の側から幅６０２の寸法を減じた場合の、強度分布７００に亘る瞳フィルを示している。やはり、幅６０２の寸法の減少は、一定部分７０４の幅の寸法の減少として実現されている。一定部分７０４は完全な瞳フィル１４０４を維持しているが、この場合には上昇部分７０２は部分的な瞳フィル１６０２を有しており、下降部分７０６は部分的な瞳フィル１６０４を有している。強度分布７００に亘る瞳フィルの構成は変化しているが、構成は対称なままである。当業者は、強度分布７００に亘る瞳フィルの構成において対称性を維持することは、フォトレジストの層に衝突する光のテレセントリック性を保存するということを認識する。
【００３１】
図１７は、潜在的な極紫外（ＥＵＶ）フォトリソグラフィシステム１７００を示している。システム１７００は、フレーム１７０２と、ＥＵＶ照明系１７０４と、レチクルステージ１７０６と、投影光学系１７０８と、ウェハステージ１７１０とを有している。ＥＵＶ照明系１７０４と、レチクルステージ１７０６と、投影光学系１７０８と、ウェハステージ１７１０とは光路１７１２に沿って位置決めされている。レチクルステージ１７０６は反射式レチクル１７１４を支持するように構成されている。ウェハステージ１７１０はウェハ５１６を支持するように構成されている。システム１７００は、１０〜１５ｎｍの波長を有するＥＵＶビーム１７１６を発生することが予想されている。フォトリソグラフィのためにＥＵＶを使用することは複数の挑戦を伴う。ＥＵＶ光はほとんどの材料によって著しく吸収される。すなわち、ＥＵＶフォトリソグラフィシステム１７００は、光路１７１２に沿って真空を維持し（ガスはＥＵＶ光を吸収する）、投影光学系１７０８及びＥＵＶ照明系１７０４のために反射式（屈折式ではない）の光学素子を使用する。
【００３２】
図１８は、ＥＵＶフォトリソグラフィシステム１７００のための照明フィールド１８００を示している。照明フィールド１８００は、扇形に成形されており、幅１８０２と、長さ１８０４と、外側円弧１８０６と、内側円弧１８０８と、円弧角１８１０とを有している。長さ１８０４は外側円弧１８０６の端部から測定されることができる、幅１８０２に沿った典型的な強度分布は、実質的に強度分布７００（すなわち台形又はガウス形状を有する）と同じであることができる。スキャンは通常幅１８０２に沿って（ここではｘ軸で示されている）行われる。照明フィールド１８００の円弧（すなわち外側円弧１８０６、内側円弧１８０８、又はあらゆる内部円弧）に沿った典型的な強度分布は、実質的に強度分布８００と同じであることができる。スキャンは長さ１８０４（ここではｙ軸で示されている）に沿って行われないので、照明フィールド１８００の円弧に沿った光の強度の望ましくない変動は修正される必要がある。
【００３３】
反射式レチクル１７１４のパターンが高い忠実度で照明フィールド１８００に転移されるために、反射式レチクル１７１４に衝突するＥＵＶビーム１７１６は、反射式レチクル１７１４の平面に対してほぼ垂直な平均角度１７１８であるべきである。平均角度１７１８が急すぎるならば、反射式レチクル１７１４のパターンは歪められる。平均角度１７１８が反射面１７１４の平面に対して完全に垂直であるならば、ＥＵＶビーム１７１６は、投影光学系１７０８にではなくＥＵＶ照明系１７０４に向かって反射する。システム１７００の代表的な実施形態において、ＥＵＶビーム１７１６は、例えば垂線から６度の平均入射角１７２０で反射式レチクル１７１４に衝突し、同じ大きさの平均対角１７２２で反射される。したがって、反射式レチクル１７１４に衝突するＥＵＶビーム１７１６の部分１７２４と、反射式レチクル１７１４から反射されるＥＵＶビーム１７１６の部分１７２６との間の角度の合計１７２０及び１７２２は、例えば１２度である。
【００３４】
角度１７１８は反射式レチクル１７１４の平面に対する垂線よりも小さいので、ＥＵＶ照明系１７０４は、ＥＵＶビーム１７１６の部分１７２４を、反射式レチクル１７１４への途中で逸脱させる。反射式レチクル１７１４からの反射に基づき、回折により、ＥＵＶビーム１７１６の部分１７２６は、投影光学系１７０８への途中でさらに逸脱する。システム１７００のＥＵＶビーム１７１６が約０．１〜０．３の開口数を有することが予想される。ＥＵＶビーム１７１６の逸脱の結果は、ＥＵＶビーム１７１６の強度分布７００の形状が光路１７１２に沿って変化するということである。ＥＵＶ照明源１７０４の近くにおいて、強度分布７００の上昇部分７０４及び下降部分７０６は、より緩やかな角度によって特徴付けられかつ、分布全体のより大きな部分を消費する。これに対して、反射式レチクル１７１４の近くにおいて、上昇部分７０４及び下降部分７０６は、より鋭い角度によって特徴付けられ、分布全体のより小さな部分を消費する。当業者は、反射式レチクル１７１４の近くにおいて照明フィールド１８００の円弧に沿って光強度の望ましくない変動を修正することがより望ましいということを認識する。しかしながら、ＥＵＶビーム１７１６の逸脱の別の結果は、反射式レチクル１７１４の近くにおいて、部分１７２４及び部分１７２６が第１の空間１７２８において互いに重ね合わされるということである。このことは、部分１７２４のこの側から幅１８０２の寸法を減じるのに使用するために第１の空間１７２８に動的に調整可能なスリット装置９００を配置するための能力を排除する（部分１７２４の別の側から幅１８０２の寸法を減じるために、第２の空間１７３０に配置された別の動的に調整可能なスリット装置９００に関連している）。さらに、例えば米国特許第５６３１７２１号明細書に開示されたＤＵＶ照明系と同様の形式で瞳フィルを制御するように構成されたＥＵＶ照明系（幅１８０２の寸法が部分１７２４の一方の側だけから減じられるようにする）は開発されていない。
【００３５】
図１９及び図２０は本発明による装置１９００を示している。装置１９００は、ブレード構造１９０２と、第１のアクチュエータ１９０４とを有している。ブレード構造１９０２は、フォトリソグラフィシステム１９０８の照明系１９１０とレチクルステージ１９１２との間において光路１９０６に沿って位置決めされるように構成されており、照明系１９１０が、照明フィールド１９１６を有する光１９１４を提供する時、ブレード構造１９０２は実質的に照明フィールド１９１６の中央１９１８に位置している。ブレード構造１９０２は光１９１４の波長に対して透明又は不透明である。図１９は、ブレード構造１９０２が第１のアクチュエータ１９０４によって移動させられる前の装置１９００を示している。この構成において、照明フィールド１９１６内の光１９１４の第１の部分１９２０はブレード構造１９０２に衝突する。光１９１４の第１の部分１９２０は第１の領域１９２２を有している。好適には第１の領域１９２２は、ブレード構造１９０２が照明フィールド１９１６における光１９１４を遮断する程度を制限するために最小限である。
【００３６】
第１のアクチュエータ１９０４は、ブレード構造１９０２の第１の部分１９２４とフォトリソグラフィシステム１９０８のフレーム１９２６との間に結合されており、ブレード構造１９０２の少なくとも第１の部分１９２４を第１の方向２００２に移動させるように構成されている。図２０は、ブレード構造１９０２が第１のアクチュエータ１９０４によって移動させられた後の装置１９００を示している。照明系１９１０が、照明フィールド１９１６を有する光を提供する場合、照明フィールド１９１６内の光１９１４の第２の部分２００４はブレード構造１９０２に衝突する。光１９１４の第２の部分は第２の領域２００６を有している。第２の領域２００６は第１の領域１０２２とは異なる。
【００３７】
図２１は、瞳フィルを制御するように構成されていない照明系によって生ぜしめられ、装置１９００が、強度分布８００における光の強度の望ましくない変動を修正するために使用される場合の、強度分布７００に亘る瞳フィルを示している。装置１９００は幅６０２の寸法を減じるのではなく、一定部分７０４の中央の近くにおいて強度の僅かな減少２１０２を生じる。上昇部分７０２及び下降部分７０６は完全な瞳フィル１４０６を維持する。しかしながら、この場合には一定部分７０４は、減じられた強度を備えた完全な瞳フィルを有する。強度分布７００に亘る瞳フィルの構成は変化しているが、構成は対称的なままである。当業者は、強度分布７００に亘って瞳フィルの構成の対称性を維持することは、フォトレジスト層に衝突する光のテレセントリック性を保存することを認識する。すなわち、装置は、光のテレセントリック性を歪めることなく照明フィールド内の光の強度の変動を修正する。
【００３８】
図１９及び図２０に戻ると、ブレード構造１９０２の第１の部分１０２４はフラップ１９２８であることができるが、必ずしもそうであるわけではない。フラップ１９２８はブレード構造１９０２の第２の部分１９３０に結合されることができる。フラップ１９２８は、ヒンジ２００８によって第２の部分１９３０に結合されることができるが、必ずしもそうであるわけではない。図２２、図２３及び図２４は、フラップ１９２８が複数のフラップを有する、装置１９００の構成を示している。図２２、図２３及び図２４に示された装置１９００の構成において、複数のフラップの第１のフラップ２２０２は、スリット２２０６によって、複数のフラップの第２のフラップ２２０４から分離されている。スリット２２０６は、開放端部２２０８と閉鎖端部２２１０とを有している。閉鎖端部２２１０は、閉鎖端部２２１０における応力を減じるための形状を有することができる。例えばその形状は鍵穴形であることができる。
【００３９】
さらに、第１のアクチュエータ１９０４は複数の第１のアクチュエータを含むことができる。例えば、図２２において、複数の第１のアクチュエータの第１のアクチュエータ２２１２は、第１のフラップ２２０２とフレーム１９２６との間に結合され、第１のフラップ２２０２を第１の方向２００２に移動させるように構成されることができ、複数の第１のアクチュエータの第２のアクチュエータ２２１４は、第２のフラップ２２０４とフレーム１９２６との間に結合され、第２のフラップ２２０４を第１の方向２００２に移動させるように構成されることができる。第１のアクチュエータ２２１２の制御は、第２のアクチュエータ２２１４の制御から独立していることができる。図２３において、例えば、第１のアクチュエータ２２１２は、第１のフラップ２２０２を第１の方向２００２に移動させることができるのに対し、第２のアクチュエータ２２１４は第２のフラップ２２０４を所定の位置に維持することができる。別の例においては、図２４において、第１のアクチュエータ２２１２は第１のフラップ２２０２を第１の方向２００２に第１の距離２４０２だけ移動させることができるのに対し、第２のアクチュエータ２２１４は第２のフラップ２２０４を第１の方向２００２に第２の距離だけ２４０４移動させることができる。
【００４０】
図２５は、ブレード構造１９０２の第１の部分１９２４と第２の部分１９３０との択一的な構成を示している。図２５において、ブレード構造１９０２は、剛性であり、第１の部分１９２４を第２の部分１９３０から識別する中心２５０２（線、円弧等によって規定される）を中心として回転するように構成されている。この場合、第１のアクチュエータ１９０４は、第１の部分１９２４及び第２の部分１９３０を第１の方向に移動させるように構成されることができる。
【００４１】
図１９及び図２０に戻ると、さらに装置１９００は、第２の部分１９３０とフレーム１９２６との間に結合された支持体１９３２を有している。支持体１９３２と、レチクルステージ１９１２が移動するように構成された方向１９３６との間に角度１９３４が形成されることができる。角度１９３４はゼロ度とは異なることができる。スキャンの経過に亘って、ゼロ度とは異なる角度１９３４を有することは、レチクル１９３８における与えられた点が、支持体１９３２によって光１９１４から連続的に遮断されることを防止する。
【００４２】
第１のアクチュエータ１９０４はさらに、少なくともブレード構造１９０２の第１の部分を第２の方向２０１０に移動させるように構成されることができる。第２の方向２０１０は第１の方向２００２とは反対である。択一的に、少なくとも第１の部分１９２４は、重力を介して第２の方向２０１０に移動するように構成されることができる。第１の部分１９２４は例えば、重力を提供するための十分な質量を備えた部材１９４０を有する。択一的に、ブレード構造１９０２は少なくとも弾性的な材料から形成されることができ、少なくとも第１の部分１９２４は、弾性的な復元力を介して第２の方向２０１０に移動するように構成されることができる。弾性的な材料は、少なくともステンレス鋼、銀、ニッケル、アルミニウム、銅、シリコン等のうちの１つであることができる。択一的に、図２６は、さらに第２のアクチュエータ２６０２を有する装置１９００の構成を示している。この場合、第１のアクチュエータ１９０４は第１の方向２００２に第１の部分１９２４を移動させるように構成されることができ、第２のアクチュエータ２６０２は第２の方向２０１０に第１の部分１９２４を移動させるように構成されることができる。
【００４３】
図１９及び図２０に戻ると、第１のアクチュエータ１９０４は機械的なアクチュエータであることができる。機械的なアクチュエータは、ブレード構造１９０２の第１の部分１９２４に接続されたワイヤ１９４２を有することができる。第１のアクチュエータ１９０４が少なくとも第１の部分１９２４を第１の方向２００２及び第２の方向２０１０に移動させるように構成されることができるようにワイヤ１９４２は剛性であることができる。ワイヤ１９４２と、レチクルステージ１９１２が移動するように構成されている方向１９３６との間には角度１９４４が形成されることができる。角度１９４４はゼロ度とは異なることができる。スキャンの経過に亘って、ゼロ度とは異なる角度１９４４を有することは、レチクル１９３８における与えられた点が、ワイヤ１９４２によって光１９１４から連続的に遮断されることを防止する。
【００４４】
図２７、図２８及び図２９は、択一的なアクチュエータを備えた装置１９００の構成を示している。概念的には、アクチュエーションは、電磁アクチュエータ、静電アクチュエータ、光子アクチュエータ等によって実現されることもできる。図２７は、第１のアクチュエータ１９０４が電磁アクチュエータ２７００である装置１９００の構成を示している。電磁アクチュエータ２７００は、ブレード構造１９０２の第１の部分１９２４に接続された第１の磁性部分２７０２と、フレーム１９２６に接続された第２の磁性部分２７０４とを有している。第１の磁性部分２７０２は磁界２７０６を介して第２の磁性部分２７０４に接続されている。第１の磁性部分２７０２は永久磁石であり、第２の磁性部分２７０４は電磁石であるが、その逆であってもよい。図２８は、第１のアクチュエータ１９０４が静電アクチュエータ２８００である装置１９００の構成を示している。静電アクチュエータ２８００、第１の部分１９２４に結合された第１の電極２８０２と、フレーム１９２６に結合された第２の電極２８０４とを有している。第１の電極２８０２は静電界２７０６を介して第２の電極２８０４に接続されている。図２９は、第１のアクチュエータ１９０４が光子アクチュエータ２９００である装置１９００の構成を示している。光子アクチュエータ２９００は、第１の部分１９２４に結合された第１の光子部材２９０２と、フレーム１９２６に結合された第２の光子部材２９０４とを有している。第１の光子部材２９０２は光子エネルギ２９０６を介して第２の光子部材２９０４に接続されている。第１の光子部材は光子源であり、第２の光子部材２９０４は反応フレームであるが、その逆であってもよい。当業者は、アクチュエーションが実現されることができるその他の手段を認識する。したがって、本発明は前記のアクチュエーション手段に限定されない。
【００４５】
図１９及び図２０に示したように、照明系１９１０が、照明フィールド１９１６を有する光１９１４を提供すると、第１の方向２００２での装置１９００のブレード構造１９０２の少なくとも第１の部分１９２４の移動は、照明フィールド１９１６内の光１９１４の総計強度を減少させる。なぜならば、第２の領域２００６が第１の領域１９２２よりも大きく、照明フィールド１９１６内の光１９１４のより大きな部分がブレード構造１９０２に衝突するからである。しかしながら、選択的に、ブレード構造１９０２の少なくとも第１の部分１９２４の移動が照明フィールド１９１６内の光１９１４の総計強度を増大させるように装置１９００が構成されることができる。例えば、図２０が、ブレード１９０２が第１のアクチュエータによって移動させられる前の装置１９００を示しているのに対し、図１９が、ブレード構造１９０２が第１のアクチュエータ１９０４によって移動させられた後の装置１９００を示しているように装置１９００が構成されることができる。この場合、第１の方向２００２が反転され、第１の方向２００２での装置１９００のブレード構造１９０２の少なくとも第１の部分１９２４の移動は、照明フィールド１９１６内の光１９１４の総計強度を増大させる。
【００４６】
１つの実施形態において、フォトリソグラフィシステム１９０８はＤＵＶフォトリソグラフィシステム５００であることができる。図３０は、ＤＵＶフォトリソグラフィシステム５００において使用するために構成されたブレード構造１９０２を示している。この場合、照明フィールド１９１６は、矩形の照明フィールド６００であることができる。ブレード構造１９０２は、ブレード構造長さ３００２と、ブレード構造幅３００４と、ブレード構造高さ３００６とを有することができる。ＤＵＶ照明系５０４が、照明フィールド６００を有する光１９１４を提供するとき、ブレード構造長さ３００２が実質的に照明フィールド長さ３００８に対して平行であり、ブレード構造幅３００４が実質的に照明フィールド幅３０１０に対して平行であり、ブレード構造幅３００４が実質的に、照明フィールド幅３０１０の中間点３０１４を通過する、照明フィールド長さ３００８に対して実質的に平行な線３０１２と実質的に交差するように、ブレード構造１９０２は向けられていることができる。ブレード構造幅３００４は約１０ミクロンであることができるが、これに限定されない。
【００４７】
別の実施形態において、フォトリソグラフィシステム１９０８はＥＵＶフォトリソグラフィシステム１７００であることができる。図３１は、ＥＵＶフォトリソグラフィシステム１７００において使用するために構成されたブレード構造１９０２を示している。この場合、照明フィールド１９１６は、扇形の照明フィールド１８００であることができる。ブレード構造１９０２は、ブレード構造外側円弧３１０２と、ブレード構造内側円弧３１０４と、ブレード構造幅３１０６と、ブレード構造高さ３１０８とを有することができる。ＥＵＶ照明系１７０４が、照明フィールド１８００を有する光１９１４を提供する時、ブレード構造外側円弧３１０２が実質的に照明フィールド外側円弧３１１０と同じであり、ブレード構造内側円弧３１０４が実質的に照明フィールド内側円弧３１１２と同じであり、ブレード構造幅３１０６が実質的に、照明フィールド外側円弧３１１０と照明フィールド内側円弧３１１２との間の中間に配置された円弧３１１４と交差するように、ブレード構造１９０２が向けられていることができる。ブレード構造幅３１０６は、約１０ミクロンであることができるが、これに限定されない。
【００４８】
図３２は装置１９００の特定の実施形態を示している。この場合、ブレード構造１９０２の第１の部分１０２４は３３個のフラップ１９２８を有している。ブレード構造幅３１０６は約１０ミクロンである。各フラップ１９２８はブレード構造１９０２の第２の部分１９３０に結合されている。各フラップ１９２８は、約８ミリメートルの高さを有しており、第２の部分１９３０は、約２ミリメートルの高さを有しており、ブレード構造高さは約１０ミリメートルである。各フラップ１９２８は、スリット２２０６によって隣接するフラップ１９２８から分離されている。スリット２２０６の閉鎖端部は、閉鎖端部における応力を減じるための形状を有することができる。例えば、形状は鍵穴形であることができる。第２の部分１９３０とフレーム１９２６との間には７個の支持体１９３２が結合されている。各支持体１９３２は、約２ミリメートルの高さと、約１０ミクロンの幅とを有している。各支持体１９３２はＶ字形であり、支持体１９３２と、フォトリソグラフィシステムのレチクルステージ（図示せず）が移動するように構成された方向１９３６との間に角度が形成されている。
【００４９】
第１のアクチュエータ１９０４は３３個の機械的なアクチュエータを有している。各機械的なアクチュエータは、対応するフラップ１９２８とフレーム１９２６との間に接続されたワイヤ１９４２を有しており、対応するフラップを第２の方向２００２に移動させるように構成されている。ワイヤ１９４２は約１０ミクロンの厚さである。機械的な各アクチュエータの制御は、他の機械的なアクチュエータの制御から独立している。各フラップ１９２８は、重力、弾性的な復元力又はこれらの両方を介して第２の方向２０１０に移動するように構成されることができる。各フラップ１９２８は、重力を提供するのに十分な質量を備えた部材（図示せず）を有することができる。例えば、各部材は、ワイヤ１９４２の球（図示せず）として形成されることができ、ワイヤ１９４２はフラップ１９２８に接続されている。
【００５０】
ブレード構造１９０２はあらゆる様々な材料から形成されることができる。材料の選択は、（特にブレード構造１９０２がＥＵＶフォトリソグラフィシステムにおいて使用される場合）少なくともフォトリソグラフィ環境における安定性、熱伝導率、導電率、及び弾性を考慮すべきである。これらのパラメータに応じて、ブレード構造１９０２は、ステンレス鋼、銀、ニッケル、アルミニウム、銅及びシリコンのうちのいずれかから、単独又は組み合わせで形成されることができる。しかしながら、ブレード構造１９０２は、当業者によって認められるように他の材料から形成されることもできる。
【００５１】
ブレード構造１９０２は複数の異なる方法によって形成されることができる。例えば、ブレード構造１９０２は、ワイヤ電気放電加工によってストック材料から形成するように裁断されることができる。別の例においては、ブレード構造１９０２のパターンは、第１の材料（例えばアルミニウム）から形成されることができ、この第１の材料は第２の材料（例えばニッケル）で電気めっきされ、この後にエッチングによって第１の材料を除去し、ブレード構造１９０２を解放する。パターンは、フライス削り又はワイヤ電気放電加工によって形成されることができる。さらに別の例において、ブレード構造１９０２の様々な部分（例えば第１の部分１９２４、フラップ１９２８、第２の部分１９３０等）は、個々に形成されることができ、電子ビーム溶接によって組み立てられることができる。当業者は、ブレード構造１９０２を形成するその他の方法を認識する。
【００５２】
ブレード構造１９０２が形成されると、放電加工又は同様のプロセスによって第１の部分１９２４に孔が形成されることができ、ワイヤ１９４２は、第１のアクチュエータ１９０４において使用するために孔を貫通させられることができる。ワイヤ１９４２は、孔を貫通しないように十分に大きなワイヤ１９０４の球を形成することによって、第１の部分１９２４に接続されることができる。球は、第１の部分１９２４を移動させるための十分な重力を提供するための質量を備えた第１の部分１９２４を提供することもできる。当業者は、第１のアクチュエータ１９０４を形成するその他の方法を認識する。
【００５３】
図３３は、フォトリソグラフィシステムの照明フィールド内の光の総計強度を変化させるための方法３３００を示すフローチャートである。方法３３００において、選択的に、ステップ３３０２において、照明フィールド内の光の所望の強度分布が決定される。本発明は均一な強度分布を提供するという観点から説明されているが、当業者は、本発明が、その他の所望の強度分布を提供するために使用されることができることを認識する。したがって、本発明は、均一な強度分布を提供するための使用に限定されない。
【００５４】
照明フィールド内の光の所望の強度分布は、光路に沿った様々な位置のいずれかにおいて実現されることができる。照明フィールド内の光の所望の強度分布は、フォトリソグラフィシステムのレチクルステージによって支持されたレチクルに配置されることができるが、必ずしもそうでなくてもよい。例えば、照明フィールド１９１６内の光１９１４の所望の強度分布は、フォトリソグラフィシステム１９０８のレチクルステージ１９１２によって支持されたレチクル１９３８に配置されることができる。
【００５５】
ステップ３３０４において、フォトリソグラフィシステムの照明系は、照明フィールドを有する光を提供する。例えば、フォトリソグラフィシステム１９０８の照明系１９１０は、照明フィールド１９１６を有する光１９１４を提供する。
【００５６】
ステップ３３０６において、ブレード構造は、フォトリソグラフィシステムの光路に沿って、照明系とレチクルステージとの間において、実質的に照明フィールドの中央に位置決めされており、照明フィールド内の光の第１の部分は、ブレード構造に衝突する。ブレード構造は、光の波長に対して透明又は不透明である。光の第１の部分は第１の領域を有する。例えば、ブレード構造１９０２は、フォトリソグラフィシステム１９０８の光路１９０６に沿って、フォトリソグラフィシステム１９０８の照明系１９１０とレチクルステージ１９１２との間において、実質的に照明フィールド１９１６の中央１９１８に位置決めされることができ、照明フィールド１９１６内の光１９１４の第１の部分１９２０はブレード構造１９０２に衝突する。ブレード構造１９０２は光１９１４の波長に対して透明又は不透明であることができる。光１９１４の第１の部分１９２０は第１の領域１９２２を有することができる。
【００５７】
ステップ３３０８において、ブレード構造の少なくとも一部は、照明フィールド内の光の第２の部分がブレード構造に衝突するような方向に移動させられる。光の第２の部分は、第１の領域とは異なる第２の領域を有している。たとえば、ブレード構造１９０２の少なくとも第１の部分１９２４は、照明フィールド１９１６内の光１９１４の第２の部分２００４がブレード構造１９０２に衝突するように第１の方向２００２に移動させられることができる。光１９１４の第２の部分２００４は、第１の領域１９２２とは異なる第２の領域２００６を有することができる。
【００５８】
実施形態において、ステップ３３０８は照明フィールド内の光の総計強度を減じることができる。例えば、ブレード構造１９０２が移動させられる前の装置１９００が、図１９に示したように構成されており、ブレード構造１９０２が移動させられた後の装置１９００は、図２０に示したように構成されている場合、第１の方向２００２へのブレード構造１９０２の少なくとも一部の移動は、照明フィールド１９１６内の光１９１４の総計強度を低減する。択一的に、ステップ３３０８は、照明フィールド内の光の総計強度を増大することができる。例えば、ブレード構造１９０２が移動させられる前の装置１９００が、図２０に示されたように構成されており、ブレード構造１９０２が移動させられた後の装置１９００が、図１９に示したように構成されている場合、第２の方向２０１０へのブレード構造１９０２の少なくとも一部の移動は、照明フィールド１９１６内の光１９１４の総計強度を増大する。
【００５９】
別の実施形態において、ブレード構造の部分は複数の部分を含むことができる。例えば、フラップ１９２８は複数のフラップから成ることができる。複数の部分の第１の部分は所定の方向に移動することができるのに対し、複数の部分の第２の部分の一部は維持されることができる。例えば、第１のフラップ２２０２は第１の方向２００２に移動することができるのに対し、第２のフラップ２２０４はその位置に維持されることができる。択一的に、複数の部分の第１の部分は所定の方向に第１の距離だけ移動することができるのに対し、複数の部分の第２の部分は、所定の方向に第２の距離だけ移動することができる。例えば、第１のフラップ２２０は第１の方向２００２に第１の距離２４０２だけ移動することができるのに対し、第１のアクチュエータ２２１４は第２のフラップ２２０４を第１の方向２００２に第２の距離２４０４だけ移動させることができる。第２の距離は第１の距離とは異なり、複数の部分の第１の部分の移動が、照明フィールド内の光の第３の部分をブレード構造に衝突させ、複数の部分の第２の部分の移動が、照明フィールド内の光の第４の部分をブレード構造に衝突させる。光の第３の部分は第３の領域を有しており、光の第４の領域は第４の領域を有している。第２の領域は、第３の領域及び第４の領域の合計に等しい。
【００６０】
さらに別の実施形態において、ステップ３３０８の後におけるフォトリソグラフィシステムのウェハステージによって支持されたウェハに提供されたフォトレジストの層に衝突する光のテレセントリック性は、ステップ３３０８の前にフォトレジストの層に衝突する光のテレセントリック性と実質的に同じであることができる。例えば、ステップ３３０８の後の強度分布７００に亘る瞳フィルが図２１に示したように構成されており、ステップ３３０８の前の強度分布７００に亘る瞳フィルは図１４に示したように構成されている場合、ステップ３３０８の後にフォトレジスト層に衝突する光のテレセントリック性は、ステップ３３０８の前にフォトレジスト層に衝突する光のテレセントリック性と実質的に同じである。
【００６１】
結論
本発明の様々な実施形態が上に説明されたが、これらの実施形態は例として示されており、それらに限定されないことが理解されるべきである。本発明の精神及び範囲から逸脱することなく形式及び詳細における様々な変更がなされることができることが当業者に明らかになるであろう。したがって、本発明は、前記の典型的な実施形態のいずれによっても限定されるべきではなく、請求項及びその均等物のみに従って定義されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】平面１０８における第１の点１０４及び第２の点１０６において集束する光線を備えたテレセントリックな光ビーム１０２を示している。
【図２】平面１０８，１１０，１１２におけるテレセントリックな光ビーム１０２のための強度分布２０２，２０４，２０６を示している。
【図３】平面１０８における第１の点１０４及び第２の点１０６において集束する光線を備えたテレセントリックではない光ビーム３０２を示している。
【図４】平面１０８，１１０，１１２におけるテレセントリックではない光ビーム３０２のための強度分布４０２，４０４，４０６を示している。
【図５】典型的な深紫外（ＤＵＶ）フォトリソグラフィシステム５００を示している。
【図６】ＤＵＶフォトリソグラフィシステム５００のための照明フィールド６００を示している。
【図７】幅６０２に沿った典型的な強度分布７００を示している。
【図８】長さ６０４に沿った典型的な強度分布８００を示している。
【図９】米国特許第６０９７４７４号明細書に開示されたような典型的なダイナミックに調整可能なスリット装置９００を示している。
【図１０】米国特許第６０９７４７４号明細書に開示されたような典型的なダイナミックに調整可能なスリット装置９００を示している。
【図１１】照明フィールド６００内の光の強度の変動を修正するためにどのように装置９００が使用されるかを示している。
【図１２】瞳フィルを制御するように構成された照明系によって生ぜしめられた場合の、強度分布７００に沿った瞳フィルを示している。
【図１３】瞳フィルが、瞳フィルを制御するように構成された照明系によって生ぜしめられ、ブレード９０２が、落下部分７０６の側部からの幅６０２の寸法を減じた場合の、強度分布７００に沿った瞳フィルを示している。
【図１４】瞳フィルが、瞳フィルを制御するように構成されていない照明系によって生ぜしめられ束愛の、強度分布７００に沿った瞳フィルを示している。
【図１５】瞳フィルが、瞳フィルを制御するように構成されていない照明系によって生ぜしめられ、ブレード９０２が、落下部分７０６の側部からの幅６０２の寸法を減じた場合の、強度分布７００に沿った瞳フィルを示している。
【図１６】瞳フィルが、瞳フィルを制御するように構成された照明系によって生ぜしめられ、ブレード９０２が、上昇部分７０２の側部及び落下部分７０６の側部からの幅６０２の寸法を減じた場合の、強度分布７００に沿った瞳フィルを示している。
【図１７】潜在的な極紫外（ＥＵＶ）フォトリソグラフィシステム１７００を示している。
【図１８】ＥＵＶフォトリソグラフィシステム１７００のための照明フィールド１８００を示している。
【図１９】本発明による装置１９００を示している。
【図２０】本発明による装置１９００を示している。
【図２１】瞳フィルが、瞳フィルを制御するように構成されていない照明系によって生ぜしめられ、強度分布８００における光の強度の望ましくない変動を修正するために装置１９００が使用された場合の、強度分布７００に沿った瞳フィルを示している。
【図２２】フラップ１９２８が複数のフラップを含む、装置１９００の構成を示している。
【図２３】フラップ１９２８が複数のフラップを含む、装置１９００の構成を示している。
【図２４】フラップ１９２８が複数のフラップを含む、装置１９００の構成を示している。
【図２５】ブレード構造１９０２の第１部分１９２４及び第２部分１９３０の交互の構成を示している。
【図２６】さらに第２のアクチュエータ２６０２を含む装置１９００の構成を示している。
【図２７】択一的なアクチュエータを備えた装置１９００の構成を示している。
【図２８】択一的なアクチュエータを備えた装置１９００の構成を示している。
【図２９】択一的なアクチュエータを備えた装置１９００の構成を示している。
【図３０】ＤＵＶフォトリソグラフィシステム１７００において使用するために構成されたブレード構造１９０２を示している。
【図３１】ＥＵＶフォトリソグラフィシステム１７００において使用するために構成されたブレード構造１９０２を示している。
【図３２】装置１９００の特定の実施形態を示している。
【図３３】フォトリソグラフィシステムの照明フィールド内の光の総計強度を変化させるための方法３３００を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００６３】
１０４  第１の点、  １０６  第２の点、  １０８，１１０，１１２  平面、  ２０２，２０４，２０６  強度分布、  ２０８  距離、  ４０２，４０４，４０６  強度分布、  ５００  フォトリソグラフィシステム、  ５０２  フレーム、  ５０４  ＤＵＶ照明系、  ５０６  レチクルステージ、  ５０８  投影光学系、  ５１０  ウェハステージ、  ５１２  光路、  ５１４  レチクル、  ５１６  ウェハ、  ５１８  ＤＵＶビーム、  ６００  照明フィールド、  ６０２  幅、  ６０４  長さ、  ７００  強度分布、  ７０２  上昇部分、  ７０４  一定部分、  ７０６  下降部分、  ８００  強度分布、  ８０２  不均一部分、  ９００  スリット装置、  ９０２  ブレード、  ９０４  ブッシュロッド、  ９０６  フレーム、  ９０８  ピン、  １２０２，１２０４，１２０６，１４０２，１４０４，１４０６，１５０２，１６０２，１６０４  瞳フィル、  １７００  フォトリソグラフィシステム、  １７０２  フレーム、  １７０４  ＥＵＶ照明系、  １７０６  レチクルステージ、  １７０８  投影光学系、  １７１０  ウェハステージ、  １７１２  光路、  １７１４  反射式レチクル、  １７１６  ＥＵＶビーム、  １７１８  角度、  １７２０  平均入射角、  １７２２  平均対角、  １７２４，１７２６  部分、  １８００  照明フィールド、  １８０２  幅、  １８０４  長さ、  １８０６  外側円弧、  １８０８  内側円弧、  １８１０  円弧角、  １９００  装置、  １９０２  ブレード構造、  １９０４  第１のアクチュエータ、  １９０６  光路、  １９０８  フォトリソグラフィシステム、  １９１０  照明系、  １９１２  レチクルステージ、  １９１４  光、  １９１６  照明フィールド、  １９２０  光の第１の部分、  １９２２  第１の領域、  １９２４  ブレード構造の第１の部分、  １９２６  フレーム、  １９２８  フラップ、  １９３０  第２の部分、  １９３２  支持体、  １９３４  角度、  １９３６  方向、  １９３８  レチクル、  １９４０  部材、  １９４２  ワイヤ、  １９４４  角度、  ２００２  第１の方向、  ２００４  光の第２の部分、  ２００６  第２の領域、  ２００８  ヒンジ、  ２０１０  第２の方向、  ２２０２  第１のフラップ、  ２２０４  第２のフラップ、  ２２０６  スリット、  ２２０８  開放端部、  ２２１０  閉鎖端部、  ２２１２  第１のアクチュエータ、  ２２１４  第２のアクチュエータ、  ２５０２  中心、  ２７００  電磁アクチュエータ、  ２７０２  第１の磁性部分、  ２７０４  第２の磁性部分、  ２７０６  磁界、  ２８００  静電アクチュエータ、  ２８０２  第１の電極、  ２８０４  第２の電極、  ２９００  光子アクチュエータ、  ２９０２  第１の光子部材、  ２９０４  第２の光子部材、  ２９０６  光子エネルギ、  ３００２  ブレード構造長さ、  ３００４  ブレード構造幅、  ３００６  ブレード構造高さ、  ３００８  照明フィールド長さ、  ３０１０  照明フィールド幅、  ３０１２  線、  ３１０２  ブレード構造外側円弧、  ３１０４  ブレード構造内側円弧、  ３１０６  ブレード構造幅、  ３１０８  ブレード構造高さ、  ３１１０  照明フィールド外側円弧、  ３１１２  照明フィールド内側円弧、  ３１１４  円弧
【図１】
2006140460.tif 000003
【図２】
2006140460.tif 000004
【図３】
2006140460.tif 000005
【図４】
2006140460.tif 000006
【図５】
2006140460.tif 000007
【図６】
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【図７】
2006140460.tif 000009
【図８】
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【図９】
2006140460.tif 000011
【図１０】
2006140460.tif 000012
【図１１】
2006140460.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
2006140460.tif 000016
【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
2006140460.tif 000021
【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【手続補正書】
【提出日】平成18年3月9日(2006.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2006140460.tif 000039
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2006140460.tif 000043
【図９】
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【図１０】
2006140460.tif 000045
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
2006140460.tif 000066
【図３２】
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【図３３】
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【外国語明細書】
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