(57)【要約】【課題】短時間の浸漬により内視鏡等の医療用機器の殺菌が可能な組成物の提供。【解決手段】医療用機器を浸漬して殺菌するための水性組成物であって、過酸および界面活性剤を含有する水性組成物。【特許請求の範囲】
【請求項１】
医療用機器を浸漬して殺菌するための水性組成物であって、過酸および界面活性剤を含有する水性組成物。
【請求項２】
医療用機器を浸漬して洗浄および殺菌するための水性組成物であって、過酸および界面活性剤を含有する水性組成物。
【請求項３】
医療用機器が内視鏡である請求項1又は２に記載の水性組成物。
【請求項４】
界面活性剤を含むミセルが形成されており、該ミセル中に過酸の少なくとも一部が内包されている、又は該界面活性剤と過酸の少なくとも一部が複合体を形成している請求項１〜３のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項５】
過酸が疎水性過酸であり、かつ界面活性剤がカチオン界面活性剤である請求項４に記載の水性組成物。
【請求項６】
過酸が炭素数３以上の疎水性過酸であり、かつ界面活性剤がカチオン界面活性剤である請求項１〜３のいずれか一項に記載の水性組成物であって、疎水性過酸：カチオン界面活性剤の混合モル比が１：０．５〜１：５である水性組成物。
【請求項７】
過酸が炭素数３以上の疎水性過酸であり、かつ界面活性剤がカチオン界面活性剤である請求項１〜３のいずれか一項に記載の水性組成物であって、カチオン界面活性剤の濃度が該カチオン界面活性剤の臨界ミセル濃度以上である水性組成物。
【請求項８】
疎水性過酸の濃度が０．１ｍＭ以上１００ｍＭ以下である請求項５〜７のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項９】
疎水性過酸の炭素数が３以上１０以下である請求項５〜８のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１０】
疎水性過酸がm-クロロ過安息香酸である請求項５〜９のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１１】
疎水性過酸がn-過ノナン酸である請求項５〜９のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１２】
カチオン界面活性剤が下記一般式（Ｉ）
【化１】
2006022049.tif 000021
で示される請求項５〜１１のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１３】
カチオン界面活性剤がオクタデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド又は塩化ベンザルコニウムである請求項５〜１１のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１４】
腐食防止剤を含有する請求項１〜１３のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１５】
ｐＨ調整剤を含有する請求項１〜１４のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１６】
金属封鎖剤を含有する請求項１〜１５のいずれか一項に記載の水性組成物。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の水性組成物を調製するための乾燥形態の組成物。
【請求項１８】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の水性組成物を調製するための過酸を含有する水性組成物と界面活性剤を含有する水性組成物とを含むセット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は医療用機器の洗浄および殺菌用組成物に関する。より具体的には、本発明は短時間の浸漬で内視鏡等の医療用機器の洗浄および殺菌が可能である組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
繰り返し使用される医療用機器の洗浄および殺菌方法としては、オートクレーブ処理、または紫外線照射等を用いる方法などいくつかの方法があるが、内視鏡等の精密医療用機器は使用後に殺菌作用を有する液に浸漬して洗浄および殺菌し、次の使用に供するのが一般的である。しかし、内視鏡等の医療用機器は高価であり、特に規模の小さい病院では１つの機器を短時間で使い回すことが多い。そのため、医療用機器を浸漬させる液としては、短時間の処理で医療用機器を洗浄および殺菌できる組成物が望まれている。また、医療用機器は患者に直接接触するため、殺菌に用いる組成物には感染の予防の観点から幅広い微生物を死滅させる作用が求められ、さらに、該組成物中の化合物等の量は可能な限り少ないことが望まれている。
【０００３】
従来、内視鏡等の医療用機器の洗浄および殺菌用組成物としては、市販品として、グルタルアルデヒド等のアルデヒドを有効成分とする組成物が知られている。しかし、グルタルアルデヒドについては、抗酸菌に対する殺菌作用が弱いことやアレルギーの原因となることが近年指摘されている。さらに過酢酸を有効成分とする組成物も知られているが、該組成物は、多大な量を必要とし、また、抵抗性の大きな細菌である芽胞、例えばBacillus subtilisを死滅させるためには長時間の接触を要するものであった。
【０００４】
過酸および界面活性剤を含有する殺菌用組成物としては、ＷＯ９４/００５４８（特許文献１）に有機過酸およびカチオン系界面活性剤を含有する組成物が開示されている。該組成物が医療用機器の短時間での殺菌に適していることについては開示がない。また、特開平５−２５７７０号公報（特許文献２）には有機過酸およびカチオン界面活性剤を含有する組成物が開示されているが、生地や織物の漂白組成物としての開示があるのみである。
【特許文献１】ＷＯ９４/００５４８
【特許文献２】特開平５−２５７７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、低濃度、短時間の浸漬により内視鏡等の医療用機器の殺菌が可能な組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意研究を行い、過酸および界面活性剤を含む水性組成物が短時間で殺菌作用を示すことを見出した。本発明はこれらの知見を基に完成されたものである。
【０００７】
すなわち本発明は、医療用機器を浸漬して殺菌するための水性組成物であって、過酸および界面活性剤を含有する水性組成物を提供する。また本発明は、医療用機器を浸漬して洗浄および殺菌するための水性組成物であって、過酸および界面活性剤を含有する水性組成物を提供する。本発明の好ましい態様によれば、医療用機器が内視鏡である上記いずれかの水性組成物が提供される。
【０００８】
本発明の別の好ましい態様によれば、界面活性剤を含むミセルが形成されており、該ミセル中に過酸の少なくとも一部が内包されている、又は該界面活性剤と過酸の少なくとも一部が複合体を形成している上記いずれかの水性組成物、および過酸が疎水性過酸であり、かつ界面活性剤がカチオン界面活性剤である該水性組成物が提供される。
【０００９】
本発明のさらに別の好ましい態様によれば、過酸が炭素数３以上の疎水性過酸であり、かつ界面活性剤がカチオン界面活性剤である上記いずれかの水性組成物であって、疎水性過酸およびカチオン界面活性剤の混合モル比が１：０．５〜１：５である上記いずれかの水性組成物、並びに過酸が炭素数３以上の疎水性過酸であり、かつ界面活性剤がカチオン界面活性剤である上記いずれかの水性組成物であって、カチオン界面活性剤の濃度が該カチオン界面活性剤の臨界ミセル濃度以上である水性組成物が提供される。
【００１０】
さらに好ましい態様によれば、疎水性過酸の濃度が０．１ｍＭ以上１００ｍＭ以下である上記いずれかの水性組成物；疎水性過酸の炭素数が３以上１０以下である上記いずれかの水性組成物；および疎水性過酸がm-クロロ過安息香酸またはn-過ノナン酸である上記いずれかの水性組成物；カチオン界面活性剤が下記一般式（Ｉ）
【００１１】
【化１】
2006022049.tif 000002
【００１２】
で示される上記いずれかの水性組成物；およびカチオン界面活性剤がオクタデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリドまたは塩化ベンザルコニウムである上記いずれかの水性組成物が提供される。本発明のさらに好ましい態様によれば、腐食防止剤を含有する上記いずれかの水性組成物；ｐＨ調整剤を含有する上記いずれかの水性組成物；および金属封鎖剤を含有する上記いずれかの水性組成物が提供される。
【００１３】
本発明の別の観点からは、上記いずれかの水性組成物水性組成物を調製するための乾燥形態の組成物、および上記いずれかの水性組成物水性組成物を調製するための過酸を含有する水性組成物と界面活性剤を含有する水性組成物とを含むセットが提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、短時間の浸漬で内視鏡等の医療用機器の洗浄および殺菌が可能な組成物が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明で用いられる過酸としては疎水性過酸を用いることが好ましい。疎水性過酸としては、炭素数が3以上の疎水性過酸が好ましく、炭素数が３以上１０以下の疎水性過酸がより好ましい。具体的には、「Organic Peroxides（Daniel Swern著、Wiley-Interscience）、60ページ」に記載の過酸を利用することができる。例えば、炭素数２以上の直鎖または分岐のアルキル基を有す過酸、置換または無置換のアリール基を有する過酸、置換または無置換のヘテロアリール基を有する過酸、２つの過酸部位を有する過酸などを挙げることができる。直鎖または分岐のアルキル基を有する過酸の例としては、過プロピオン酸、n-過ブタン酸、i-過ペンタン酸、n-過ヘキサン酸、n-過ヘプタン酸、n-過オクタン酸、n-過ノナン酸、n-過デカン酸、n-過ウンデカン酸、n-過ドデカン酸、n-過トリデカン酸、n-過テトラデカン酸、n-過パルミチン（ヘキサデカン）酸、i-過パルミチン酸、n-過オクタデカン酸、m-クロロ過安息香酸、m-ニトロ過安息香酸、p-ニトロ過安息香酸、モノペルオキシフタル酸、1,6-ジペルオキシ過アジピン酸、1,10-ペルオキシ過セバシン酸、およびモノペルオキシコハク酸などが挙げられる。この中で好ましくは、n-過ヘキサン酸、n-過ヘプタン酸、n-過オクタン酸、n-過ノナン酸、i-過パルミチン酸、およびm-クロロ過安息香酸が挙げられ、更に好ましくは、n-過ノナン酸、およびm-クロロ過安息香酸が挙げられる。本発明で用いられる疎水性過酸としては、上記に例示した疎水性過酸から選ばれる１種を用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１６】
本発明で用いられる界面活性剤としては、カチオン系界面活性剤、アニオン系活性剤、又はノニオン系界面活性剤の何れの１種を用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよいが、カチオン系界面活性剤を用いることが好ましい。
【００１７】
本発明で用いられるカチオン界面活性剤としては、次の一般式（Ｉ）：
【化２】
2006022049.tif 000003
（式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立して、置換または無置換、飽和または不飽和、および分岐または直鎖の１〜３０の炭素原子を有する脂肪族基、例えばアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、ポリオキシアルキル基、アルキルアミドアルキル基、アルキルスルホアミドアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン原子置換アルキル基、またはアリールもしくはアルキルアリール等の芳香族基を表し、またR1、R2、R3、R4のいずれか２つまたは３つが連結し環を形成してもよく、X-はハロゲン化物（例えば、塩化物、臭化物、ヨウ物化物）、酢酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、グリコール酸塩、リン酸塩、硝酸塩、硫酸塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、過塩素酸塩、４フッ素化ホウ酸塩から選択されるアニオンを表す）で示される４級アンモニウム塩を挙げることができる。
【００１８】
具体例として、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、テトラデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムブロミド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムヨージド、（ドデシルフェニルメチル）トリメチルアンモニウムクロリド、ジオクタデシルジメチルアンモニウムクロリド、ジオクタデシルジベンジルアンモニウムクロリド、トリオクタデシルベンジルアンモニウムクロリド、オクタデシルトリヒドロキシエチルアンモニウムクロリドなどを挙げることができる。また、以下の化合物も一般式（Ｉ）の例として挙げられる。
【００１９】
【化３】
2006022049.tif 000004
【００２０】
また本発明で用いられるカチオン界面活性剤としては、次の一般式（II）：
【化４】
2006022049.tif 000005
【００２１】
（式中、R5、R6、R7、R8、R9、R10は、独立に、置換または無置換、飽和または不飽和、および分岐または直鎖の１〜３０の炭素原子を有する脂肪族基、例えばアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、ポリオキシアルキル基、アルキルアミドアルキル基、アルキルスルホアミドアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン原子置換アルキル基、またはアリールもしくはアルキルアリール等の芳香族基を表し、またR5、R6、R7、R8、R9、R10のいずれか２つまたは３つが連結し環を形成してもよく、L1は置換または無置換の２価の連結基、例えばアルキレン基、アリーレン基、又はアリールアルキレン基を表し、X-はハロゲン化物（例えば、塩化物、臭化物、ヨウ物化物）、酢酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、グリコール酸塩、リン酸塩、硝酸塩、硫酸塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、過塩素酸塩、４フッ素化ホウ酸塩から選択されるアニオンを表す）で示される４級アンモニウム塩を挙げることができる。
【００２２】
一般式（II）の具体例としては、次の一般式（III）：
【化５】
2006022049.tif 000006
（式中、nは2から12の整数を表す）で示される化合物や、以下の化合物などを挙げることができる。
【００２３】
【化６】
2006022049.tif 000007
【００２４】
また本発明で用いられるカチオン界面活性剤としては、次の一般式（IV）：
【化７】
2006022049.tif 000008
【００２５】
（式中、R11は、置換または無置換、飽和または不飽和、および分岐または直鎖の１〜３０の炭素原子を有する脂肪族基、例えばアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、ポリオキシアルキル基、アルキルアミドアルキル基、アルキルスルホアミドアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン原子置換アルキル基、またはアリールもしくはアルキルアリール等の芳香族基を表し、X-はハロゲン化物（例えば、塩化物、臭化物、ヨウ物化物）、酢酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、グリコール酸塩、リン酸塩、硝酸塩、硫酸塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、過塩素酸塩、４フッ素化ホウ酸塩から選択されるアニオンを表す）で示される４級アンモニウム塩を挙げることができる。
【００２６】
具体例としては、ドデシルピリジニウムクロリド、テトラデシルピリジニウムクロリド、ヘキサデシルピリジニウムクロリドなどが挙げられる。また、以下の化合物も一般式（IV）の例として挙げられる。
【化８】
2006022049.tif 000009
【００２７】
また本発明で用いられるカチオン界面活性剤としては、次の一般式（V）：
【化９】
2006022049.tif 000010
（式中、L2は、置換または無置換の２価の連結基、例えばアルキレン基、アリーレン基、又はアリールアルキレン基を表し、X-はハロゲン化物（例えば、塩化物、臭化物、ヨウ物化物）、酢酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、グリコール酸塩、リン酸塩、硝酸塩、硫酸塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、過塩素酸塩、４フッ素化ホウ酸塩から選択されるアニオンを表す）で示されるピリジニウム塩を挙げることができる。
【００２８】
一般式（V）の具体例としては、次の一般式（VI）：
【化１０】
2006022049.tif 000011
（式中、nは2から12の整数を表す）で示される化合物が挙げられる。
【００２９】
また本発明で用いられるカチオン界面活性剤としては、次の一般式（VII）：
【化１１】
2006022049.tif 000012
【００３０】
（式中、R12、R13は、独立に置換または無置換、飽和または不飽和、および分岐または直鎖の１〜３０の炭素原子を有する脂肪族基、例えばアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、ポリオキシアルキル基、アルキルアミドアルキル基、アルキルスルホアミドアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン原子置換アルキル基、またはアリールもしくはアルキルアリール等の芳香族基を表し、X-はハロゲン化物（例えば、塩化物、臭化物、ヨウ物化物）、酢酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、グリコール酸塩、リン酸塩、硝酸塩、硫酸塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、過塩素酸塩、４フッ素化ホウ酸塩から選択されるアニオンを表す）で示される４級アンモニウム塩を挙げることができる。
【００３１】
一般式（VII）の具体例として、以下の化合物が挙げられる。
【化１２】
2006022049.tif 000013
【００３２】
上記いずれかの一般式中の窒素原子上の置換基であるR1〜R13は、それぞれ、置換または無置換、飽和または不飽和、および分岐または直鎖の、アルキル基またはアリールアルキル基が好ましく、無置換、飽和または不飽和、および分岐または直鎖の、アルキル基またはアリールアルキル基がさらに好ましく、無置換かつ直鎖の、アルキル基またはアリールアルキル基が特に好ましい。
【００３３】
またこれらのカチオン界面活性剤のうち、次の一般式（Ｉ）；
【化１３】
2006022049.tif 000014
【００３４】
（式中、R1、R2、R3、R4は、独立に置換または無置換の飽和または不飽和、分岐または直鎖の１〜３０の炭素原子を有する脂肪族基、例えばアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、ポリオキシアルキル基、アルキルアミドアルキル基、アルキルスルホアミドアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン原子置換アルキル基、または芳香族基、例えばアリールまたはアルキルアリールを表し、またR1、R2、R3、R4のいずれか２つまたは３つが連結し環を形成してもよく、X-はハロゲン化物（例えば、塩化物、臭化物、ヨウ物化物）、酢酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、グリコール酸塩、リン酸塩、硝酸塩、硫酸塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、過塩素酸塩、４フッ素化ホウ酸塩から選択されるアニオンを表す）で示される４級アンモニウム塩を用いることが好ましい。
【００３５】
上記一般式で示される化合物のうち、好ましくは臨界ミセル濃度が10 mM以下の化合物が用いられ、より好ましくは臨界ミセル濃度が1 mM以下、最も好ましくは臨界ミセル濃度が0.1 mM以下の化合物が用いられる。具体的には、R1、R2、R3、R4のうち少なくとも１つが炭素数１２以上であることが好ましい。また、対アニオンとしては、塩化物、リン酸塩が好ましい。そのような化合物としては、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルピリジニウムクロリドなどを挙げることができ、好ましくはオクタデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリドを挙げることができる。
【００３６】
以上の記載以外にも、例えば「13398の化学商品（化学工業日報社）」1203から1205ページ、「Handbook of Industrial Surfactants, 2nd Edition, Vol. 2」（Gower）、「Surfactant systems」（Chapman and hall）や「Industrial surfactants」（NOYES）、「新版  界面活性剤ハンドブック」（工学図書）などに記載の市販品を含むカチオン界面活性剤を用いることができる。市販品としては、脂肪族４級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、インミダゾリウム塩などがあるが、好ましくは脂肪族４級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩を用いることができ、更に好ましくはベンザルコニウム塩を用いることができる。市販のベンザルコニウム塩としては、カチオンＦ２−３５Ｒ、カチオンＦ２−４０Ｅ、カチオンＦ２−５０、カチオンＦ２−５０Ｅ（以上、日本油脂）、アーカードＣＢ−５０（ライオン）、カチオーゲンＳ、カチオーゲンＴＭＳ−Ｃ（以上、第一工業製薬）、テクスノール（日本乳化剤）などを挙げることができる。
【００３７】
カチオン界面活性剤の使用は１種類に限定されず、複数のカチオン界面活性剤を任意の比率で混合してもよい。またアルキル基等の違いによる複数の化合物の混合物である市販カチオン界面活性剤を用いてもよい。
【００３８】
本発明の過酸および界面活性剤としては、炭素数が３以上の疎水性性過酸およびカチオン界面活性剤を用いることが好ましく、炭素数が３以上１０以下の疎水性過酸およびカチオン界面活性剤を用いることがより好ましい。例えば、過酸としてm-クロロ過安息香酸またはn-過ノナン酸、および界面活性剤としてオクタデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、塩化ベンザルコニウムを好ましく用いることができる。
【００３９】
本発明の水性組成物は、過酸および界面活性剤を、水又は水とエタノール等の有機溶媒との混合溶媒に溶解して調製することができる。過酸および界面活性剤の混合モル比は１：０．５〜１：５が好ましく、１：１〜１：２がさらに好ましい。本発明の組成物中の過酸の濃度は０．１ｍＭ以上が５ｍＭ以下が好ましく、５ｍＭ以上１００ｍＭ以下がさらに好ましい。本発明の組成物中の界面活性剤の濃度は用いる界面活性剤の臨界ミセル濃度以上であることが好ましい。
本発明の水性組成物はｐＨ５未満であることが好ましく、ｐＨ３未満であることが更に好ましい。ｐＨは後述のｐＨ調整剤により調整することができる。
【００４０】
いかなる特定の理論に拘泥するわけではないが、本発明の水性組成物中においては、界面活性剤によりミセルが形成されており、過酸の少なくとも一部が、該ミセルに内包されているため、過酸が低濃度でも細菌細胞に取り込まれ易くなっていると考えられる。ここで、内包されているとは、該ミセルにおいて過酸が界面活性剤の疎水基部部分が配向している部位に存在していることをいう。
【００４１】
本発明の水性組成物は、上述の過酸および界面活性剤のほかに１又は２以上の添加物を含んでいてもよい。添加物としては腐食防止剤、ｐＨ調整剤、再付着防止剤、安定化剤、および金属封鎖剤等が挙げられる。
【００４２】
腐食防止剤としては、殺菌される医療機器の材質に適した剤を選択すればよく、例えば、1,2,3-ベンゾトリアゾールと、低級アルキルベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、低級アルキルヒドロキシベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、低級アルキルカルボキシベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、低級アルキルベンズイミダゾール、ヒドロキシベンズイミダゾール、低級アルキルヒドロキシベンズイミダゾール、カルボキシベンズイミダゾール、低級アルキルカルボキシベンズイミダゾール、メルカプトベンゾチアゾール、低級アルキルメルカプトベンゾチアゾール、ヒドロキシメルカプトベンゾチアゾール、低級アルキルヒドロキシメルカプトベンゾチアゾール、カルボキシメルカプトベンゾチアゾール、低級アルキルカルボキシメルカプトベンゾチアゾール、グルコン酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸ブチル、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、ソルビトール、エリスリトール、リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸テトラナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、クロム酸塩、およびホウ酸塩から選択される１種又は2種以上の化合物とを組み合わせた剤等が挙げられる。本明細書において、用語「低級アルキル」は、1個から6個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖の飽和または不飽和の炭化水素基を意味する。
【００４３】
銅、黄銅、青銅または多金属系を含む機器等を処理するために本発明の組成物が使用される場合には、1,2,3-ベンゾトリアゾールおよび1種またはそれ以上の低級アルキルベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、低級アルキルヒドロキシベンゾトリアゾール、モリブデン酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、クロム酸塩、ホウ酸塩、およびこれらの混合物である腐食防止剤が好ましく用いられる。1,2,3-ベンゾトリアゾール、モリブデン酸ナトリウムおよび亜硝酸ナトリウムを含む腐食防止剤が特に好ましく用いられる。炭素鋼およびステンレス鋼を含む機器等を処理するために本発明の組成物が使用される場合には、例えば、安息香酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウムおよびモリブデン酸ナトリウムなどの腐食防止剤が好ましく用いられる。炭素鋼および／またはステンレス鋼を含む機器等を処理するために本発明の組成物が使用される場合には、例えば、硝酸ナトリウムおよび／またはモリブデン酸ナトリウムを含む腐食防止剤が好ましく用いられる。本発明の水性組成物中に存在する腐食防止剤の総量は、典型的には、0.1重量％から約30重量％である。1,2,3-ベンゾトリアゾールの量は、好ましくは0.1％から約3.0％であり、より好ましくは0.5％から約2.0％である。
【００４４】
腐食防止剤が過酸を含む本発明の水性組成物に難溶である場合には、本発明の組成物はさらにアルキレングリコールのなどの可溶化剤を含んでもよい。本明細書において、用語「アルキレングリコール」は、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジアルキレングリコール(例えば、ジエチレングリコール)、トリアルキレングリコール(例えば、トリエチレングリコール)、ならびに対応するそれらのモノ-およびジアルキルエーテルなどのグリコールをいう。ここでこのアルキルエーテルは、1個から6個の炭素原子を有する低級アルキルエーテル(例えば、メチル、エチル、またはプロピルエーテル)である。特に好ましくは、本発明組成物は可溶化剤としてプロピレングリコールを含み、またこのプロピレングリコールは本発明組成物に腐食防止剤の約3倍から10倍の濃度で含まれていることが好ましい。例えば、本発明の水性組成物中に約1重量％で含まれる1,2,3-ベンゾトリアゾールに対してプロピレングリコールが本発明の水性組成物中に約3.5重量％から6.5重量％で含まれているのが好ましい。
【００４５】
ｐＨ調整剤としては、本発明組成物に適合しかつ環境に適合するような酸、例えば、クエン酸、酢酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、グリコール酸、コハク酸、グルタル酸、又はアジピン酸等の有機酸およびその塩、リン酸、硫酸等の無機酸およびその塩、水酸化アンモニウム又は水酸化アルカリ金属等の塩基を用いることができる。本発明組成物中のｐＨ調整剤の濃度は20重量％以下が好ましく、特に0．1重量％〜１０重量％が好ましい。
【００４６】
本発明の組成物は、任意の成分として重金属イオン封鎖剤を含有することが好ましい。本明細書において重金属イオン封鎖剤とは、重金属イオンを封鎖（キレート）する作用を行う成分を意味し、これらの成分がカルシウムおよびマグネシウムのキレート化能力を有する場合でも、鉄、マンガンおよび銅のような重金属イオンとより選択的に結合する成分を意味する。
重金属イオン封鎖剤は通常本発明の組成物中に本発明の組成物の総重量の０．００５％〜２０％、好ましくは０．１％〜１０％、さらに好ましくは０．２５％〜７．５％そして最も好ましくは０．５％〜５重量％のレベルで存在する。本発明の組成物に添加するのに適した重金属イオン封鎖剤としては、有機ホスホン酸塩、例えば、アミノアルキレンポリ(アルキレンホスホン酸塩)、アルカリ金属エタン１−ヒドロキシジホスホン酸塩およびニトリロトリメチレンホスホン酸塩が挙げられる。
上記種類の中で好ましいのは、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸塩）ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）およびヒドロキシ−エチレン１，１二ホスホン酸塩である。
【００４７】
本発明の組成物に添加するのに好ましい他の重金属イオン封鎖剤としては、ニトリロ三酢酸およびポリアミノカルボン酸、例えばエチレンジアミノ四酢酸、エチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミン二コハク酸、エチレンジアミン二グルタル酸、２−ヒドロキシプロピレンジアミン二コハク酸またはこれらのすべての塩が挙げられる。特に好ましいのはエチレンジアミン−Ｎ，Ｎ'−二コハク酸（ＥＤＤＳ）またはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、またはこれらの置換アンモニウム塩、もしくはこれらの混合物である。
【００４８】
本発明の組成物に添加するのに好ましい他の重金属イオン封鎖剤としては、例えば、欧州特許公開公報第３１７，５４２号および欧州特許公開公報第３９９，１３３号の各明細書に記載されている２−ヒドロキシエチル二酢酸またはグリセリルイミノ二酢酸のようなイミノ二酢酸誘導体、欧州特許公開公報第５１６，１０２号に記載されているイミノ二酢酸−Ｎ−２−ヒドロキシプロピルスルホン酸およびアスパラギン酸Ｎ−カルボキシメチルＮ−２−ヒドロキシプロピル−３−スルホン酸封鎖剤、並びに欧州特許公開公報第５０９，３８２号に記載されているβ−アラニン−Ｎ，Ｎ'−二酢酸、アスパラギン酸−Ｎ，Ｎ'−二酢酸、アスパラギン酸−Ｎ−モノ酢酸およびイミノ二コハク酸封鎖剤が挙げられる。
欧州特許公開公報第４７６，２５７号には適するアミノ基剤の封鎖剤が記載されている。欧州特許公開公報第５１０，３３１号にはコラーゲン、ケラチンまたはカゼインから誘導した適する封鎖剤が記載されている。欧州特許公開公報第５２８，８５９号には適するアルキルイミノ二酢酸封鎖剤が記載されている。二ピコリン酸および２−ホスホノブタン−１，２，４−三カルボン酸も好適である。グリシンアミド−Ｎ，Ｎ'−二コハク酸(ＧＡＤＳ)、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ'−二グルタル酸（ＥＤＤＧ）および２−ヒドロキシプロピレンジアミン−Ｎ，Ｎ'−二コハク酸（ＨＰＤＤＳ）もまた好適である。
【００４９】
再付着防止剤としては、医療器具から脱離した汚れ等を液中に懸濁した状態に保つ機能を有するものを使用することができる。例えば、有機性の水溶性コロイド（例えば、デンプン、ゼラチン、デンプンのエーテルカルボン酸又はエーテルスルホン酸の塩、セルロース、セルロースエーテル、セルロースのエーテルカルボン酸又はエーテルスルホン酸の塩、もしくはセルロースまたはデンプンの酸性硫酸エステルの塩）などを用いることができる。酸性基を含む水溶性ポリアミドも好ましく用いることができる。さらに上記以外のデンプン誘導体、例えばアルデヒドデンプンも使用することができる。再付着防止剤としては、再付着防止剤として例示された上記の化合物からなる群から選択される1種または2種以上を用いることができる。本発明の水性組成物中の再付着防止剤の濃度は５重量％以下が好ましく、特に２重量％以下が好ましい。
【００５０】
本明細書において用いられる「洗浄」という用語には医療用機器の表面に付着している微生物等を除去するとの意味が含まれる。本明細書において用いられる「殺菌」という用語には、「消毒」、および「抗菌」などの意味が含まれる。過酸の濃度および医療用機器との接触時間等の条件を検討することにより、本発明の水性組成物を用いた医療用機器の「滅菌」も可能である。本発明の水性組成物により、特に抵抗性の大きい細菌である芽胞、例えばBacillus subtilisも短時間で死滅させることが可能である。
医療用機器としては、例えば、外科手術用器具、歯科機器、および体内に挿入して診断又は治療に用いその後抜管される機器等が挙げられ、特に短時間での殺菌を要する機器が好ましい。体内に挿入して診断又は治療に用いその後抜管される機器として具体的には内視鏡が挙げられる。内視鏡としては、例えば上部消化管内視鏡、大腸内視鏡、および気管支内視鏡が挙げられる
【００５１】
本明細書において「浸漬」という用語には、本発明の水性組成物に医療用機器を浸してそのまま放置することのほか、自動洗浄機により浸して該医療用機器を振とうする又は該水性組成物を攪拌すること等が含まれる。該浸漬前または該浸漬後に該医療用機器を水洗等してもよく、浸漬の後に、該医療用機器を滅菌ガーゼ等で拭ってもよく、ドライヤー等で乾燥させてもよい。浸漬時間は１５秒程度以上であれば特に制限はないが、５分以内で充分な殺菌が可能であるため、通常の医療診断で医療用機器が用いられる時間内で殺菌操作を終了させることができる。
【００５２】
本発明の殺菌用水性組成物はそのまま提供することもできるが、疎水性過酸を含む組成物とカチオン界面活性剤を含む組成物を別々に提供し、使用に際し混合し使用することもでき、必要に応じて混合物を水で希釈後に使用することもできる。また、過酸、界面活性剤、および上記添加物の混合物を乾燥形態で提供し、使用に際して水性溶媒に溶解することもできる。
【実施例】
【００５３】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
芽胞に対する抗微生物活性評価方法
厚生労働省通知  衛乳第10号（平成8年1月29日）の芽胞原液調製法を参考にBacillus subtilis IFO3134の芽胞を調製した。具体的にはBacillus subtilis IFO3134をNutient Agar（Difco）上で1週間、37℃で培養し、約90%の芽胞形成率を確認した。この菌を滅菌水3mLに懸濁し、振とうしながら（160 rpm）、65℃で30分間加熱処理し栄養型を死滅させた。これを遠心分離（3000 rpm）した後、上清を捨て滅菌水3 mLを加え芽胞原液とした。この芽胞原液を約2×108 cfu/mLになる様に希釈し、以下の抗微生物活性評価に供した。
【００５４】
抗微生物活性評価は坂上らの方法（J. Antibact. Antifung. Agents.、26巻、605〜601ページ、1998年）に従って実施した。具体的には、0.2μmのフィルター濾過を行った各サンプル水溶液250μLに前記方法により調整した芽胞懸濁液 10μLを加え、25℃で一定時間反応させた（混合後菌濃度：約8×106 cfu/mL）。この水溶液から2μLをサンプリングし、2 mLのSCDLP培地（日水製薬）に加え160 rpm、37℃で48時間培養し、菌の生育の有無を調べた。
【００５５】
例１.   
m-クロロ過安息香酸（mCPBA（東京化成））、ペルオキシノナン酸（PNA、（J. Am. Chem. Soc.、4037ページ、1955年に記載の方法により合成））各々に対する、オクタデシルベンジルジメチルアンモニウムクロリド（S-1）の効果を検討した。各過酸とS-1をモル比1：2で含む水溶液（過酸濃度49〜0.049 mM）を調整し、芽胞に対する抗微生物活性を評価した。評価結果を表１に示す。表中、−は菌生育なし、−〜＋は24時間後では菌生育はなかったが48時間後には菌生育あり、＋は24時間後から菌生育ありを示す。
表１が示すように、mCPBAとPNAでは、49 mM、15秒の接触で抗微生物活性が確認され、また4.9 mM以下でも抗微生物活性があることがわかった。尚、S-1は表1中の濃度（98〜0.098 mM）および条件では抗微生物活性を示さないことは別途確認した。
【００５６】
【表１】
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【００５７】
また、過酸単独での抗微生物活性を評価した。結果を表2に示す。mCPBAは49m Mで抗微生物活性を示すことが確認された。
【表２】
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【００５８】
これらの実験結果より、界面活性剤の存在下で過酸は抗微生物活性が強まる事がわかった。これは非水溶性のmCPBAとPNAがS-1の添加によりミセル内部に取り込まれ、ミセルのカチオン電荷により皮層と呼ばれるペプチドグリカンから形成される負に電荷した層を有する芽胞に取り込まれ易くなる事が原因と推定される。
【００５９】
例２
mCPBA、PNA各々に対するオクタデシルベンジルジメチルアンモニウムクロリド（S-1）のモル比の影響を検討した。各過酸濃度4.9 mMに対し界面活性剤をモル比１：10〜0.014で含む水溶液を調製し、芽胞に対する抗微生物活性を評価した。結果を表３に示す。その結果、過酸：S-1 ＝ 1：5〜1：0.5の範囲でS-1の併用効果があることがわかった。
【００６０】
【表３】
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例３.   カチオン性界面活性剤比率依存性評価  （2）
過酢酸、mCPBA各々に対するテトラデシルベンジルジメチルアンモニウムクロリド（S-2）のモル比の影響を検討した。各過酸濃度4.9 mMに対し界面活性剤をモル比１：2〜0.014で含む水溶液を調整し、芽胞に対する抗微生物活性を評価した。結果を表４に示す。その結果、過酸：S-2 ＝ 1：2〜1：0.5の範囲でS-2の併用効果あるが、1：0.5では抗微生物活性は弱いことがわかった。S-2の効果が1：0.5では弱く、それ以下の濃度では併用効果が見られなかった理由としては、モル比率が低くミセル中に取り込まれにくいことに加え、S-2の臨界ミセル濃度は4 mMであり、モル比1：0.5以下ではS-2が臨界ミセル濃度以下であることが考えられる。
【００６１】
【表４】
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【００６２】
例４.  カチオン界面活性剤種依存性評価
過酸mCPBAと各種界面活性剤を4.9 mM：9.8 mMで含む水溶液を調製し、芽胞に対する抗微生物活性を評価した。評価結果を表５に示す。テトラデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリドが良好な抗微生物活性を示すことがわかった。
【００６３】
【表５】
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【００６４】
例５.
例3および４と同様にカチオン界面活性剤の効果を検討した。界面活性剤としては、市販のニッサンカチオンF2-50E（日本油脂（株）、塩化ベンザルコニウム（アルキルジメチルベンジルアンモニウムクロリド（アルキル：C8H17〜C18H37、主成分C12H25））を用い、過酸としてはmCPBAおよびPNAを用いた。過酸の濃度は4.9 mMに固定し、ニッサンカチオンF2-50Eを過酸に対し重量比で10〜0.02倍の範囲で添加し、芽胞に対する抗微生物活性を検討した。結果を表６に示す。過酸：ニッサンカチオンF2-50E＝1：10〜1の範囲で明確な抗微生物活性を示した。ニッサンカチオンF2-50Eの主成分  ドデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリドの分子量を仮の分子量としてモル比を算出すると、抗微生物活性を示した範囲はモル比で過酸：ニッサンカチオンF2-50E＝1：5〜0.5であることがわかった。
また別途表面張力法により臨界ミセル濃度を測定した結果、ニッサンカチオンF2-50Eの臨界ミセル濃度は0.007%であることがわかり、表６において抗微生物活性が発現しているのは、ニッサンカチオンF2-50Eの臨界ミセル濃度以上であることがわかった。
【００６５】
【表６】
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