(57)【要約】【課題】無機アルカリ水溶液を含む剥離液を用いて、基板表面のポリイミド薄膜を基板から剥離する際に、剥離液に起因する粉末の生成を低減する。【解決手段】ポリイミド薄膜が付着した処理基板５を収容する剥離室１５ａ及び１５ｂと、水酸化カリウム水溶液を含む剥離液６を貯留する剥離液用タンク１０ａ、及び剥離液用タンク１０ａに貯留された剥離液６の中に窒素ガスをバブリングするバブリング管１７ａ’により構成され、その剥離液６に窒素ガスを含ませる第１ガス供給手段と、その窒素ガスを含んだ剥離液６を剥離室１５ａ及び１５ｂ内に収容された処理基板５の表面のポリイミド薄膜に供給する剥離液供給手段と、剥離室１５ａ及び１５ｂの内部に窒素ガスを供給する第２ガス供給手段とを備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機アルカリ水溶液を含む剥離液を用いて、基板の表面に付着しているポリイミド薄膜を上記基板から剥離する剥離装置であって、
上記基板を収容する処理室と、
上記剥離液に窒素ガスを供給して該窒素ガスを含ませる第１ガス供給手段と、
上記窒素ガスを含んだ剥離液を、上記処理室の内部に収容された基板表面のポリイミド薄膜に供給する剥離液供給手段と、
上記処理室の内部に窒素ガスを供給する第２ガス供給手段とを備えていることを特徴とする剥離装置。
【請求項２】
請求項１に記載された剥離装置において、
上記第１ガス供給手段は、上記剥離液を貯留する貯留槽と、該貯留槽に貯留されている剥離液の中に窒素ガスをバブリングするバブリング部とにより構成されていることを特徴とする剥離装置。
【請求項３】
請求項１に記載された剥離装置において、
上記処理室には、上記基板の表面に付着している剥離液に窒素ガスを噴射して液切りする液切り手段が設けられていることを特徴とする剥離装置。
【請求項４】
請求項１に記載された剥離装置において、
上記無機アルカリ水溶液は、水酸化カリウム水溶液であることを特徴とする剥離装置。
【請求項５】
無機アルカリ水溶液を含む剥離液を用いて、基板の表面に付着しているポリイミド薄膜を上記基板から剥離する方法であって、
上記基板を処理室の内部に収容する収容工程と
上記剥離液に窒素ガスを供給して該窒素ガスを含ませるガス供給工程と、
上記窒素ガスを含んだ剥離液を上記基板表面のポリイミド薄膜に供給することにより、上記ポリイミド薄膜を上記基板から剥離する剥離工程とを備え、
上記剥離工程は、上記処理室の内部に窒素ガスを供給しながら行われることを特徴とするポリイミド薄膜の剥離方法。
【請求項６】
請求項６に記載されたポリイミド薄膜の剥離方法において、
上記無機アルカリ水溶液は、水酸化カリウム水溶液であることを特徴とするポリイミド薄膜の剥離方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、剥離装置及びポリイミド薄膜の剥離方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、一対の電極基板間に挟持された液晶層の液晶分子の配向状態をその電極基板間の印加電圧によって変えることにより、バックライト等からの光の透過率を調整し、画像を表示するものである。
【０００３】
ところで、これらの電極基板と液晶層との間には配向膜が介設されており、この配向膜によって液晶層の液晶分子が全体として一定の方向に配向するようになっている。例えば、水平配向性の配向膜の場合には、液晶分子が電極基板面に対して斜めになったり、垂直に立ったりしようとせずに、電極基板面に対して横になろうとする。
【０００４】
この配向膜は、一般に、ポリイミド樹脂をフレキソ印刷装置により印刷することにより形成される。
【０００５】
図２は、フレキソ印刷装置３０の概略構成図である。
【０００６】
このフレキソ印刷装置３０は、円柱状のドクターロール２５と、ドクターロール２５の斜め下側にドクターロール２５と接するように設けられた円柱状のアニロックスロール２４と、ドクターロール２５とアニロックスロール２４との間の上方に設けられたディスペンサー２６と、アニロックスロール２４の斜め下側のドクターロール３側にアニロックスロール４と接するように設けられた円柱状の版胴２３と、版胴２３の外側の周壁に部分的に取り付けられた樹脂凸版２２と、版胴２３の樹脂凸版２２と塗布面（電極基板５ａの表面）とが接する位置にくるように設けられた塗布テーブル２１とを備えている。
【０００７】
塗布テーブル２１は、版胴２３の回転に合わせて、アニロックスロール２４側（入口側）と版胴２３側（出口側）との間を平行に往復移動するように構成されている。
【０００８】
そして、このフレキソ印刷装置３０を用いてポリイミド薄膜を印刷する際には、互いに逆方向に回転するドクターロール２５及びアニロックスロール２４の間に、ディスペンサ２６からその回転方向に沿ってポリイミド樹脂溶液２７を添加供給することにより、ドクターロール２５及びアニロックスロール２４の間でポリイミド樹脂溶液２７が練られてアニロックスロール２４の表面に薄膜となって保持され、アニロックスロール２４から版胴２３上の樹脂凸版２２に薄膜状のポリイミド樹脂溶液２７が転移され、塗布テーブル２１上に固定された電極基板５ａが版胴２３の直下を通過するときに、薄膜状のポリイミド樹脂溶液２７が樹脂凸版２２から電極基板５ａの表面に転写塗布（印刷）される。続いて、ポリイミド樹脂溶液２７が転写塗布された電極基板５ａを加熱することにより、ポリイミド樹脂溶液２７中の溶媒が飛散して、ポリイミド薄膜５ｂが形成される。（その後、ポリイミド樹脂薄膜５ｂの表面をラビング処理することにより配向膜が形成される。）
ところで、ＴＦＴアレイ基板やカラーフィルター基板の電極基板上にポリイミド樹脂を印刷する前には、数１０枚の素ガラス基板にポリイミド樹脂を試し印刷して、印刷状態を安定させる必要がある。
【０００９】
この試し印刷する工程は、電極基板の製品仕様、及び樹脂凸版の交換の毎に、実施すべき工程なので、液晶表示装置の製造工程では、ポリイミド薄膜が形成された素ガラス基板が大量に発生することになる。そのため、素ガラス基板からポリイミド薄膜を除去して、素ガラス基板を再生（リサイクル）する技術が重要になっている。
【００１０】
この素ガラス基板からポリイミド薄膜を除去する方法として、ポリイミド薄膜が形成された素ガラス基板を無機アルカリ水溶液を含む剥離液によって剥離処理することにより、ポリイミド薄膜を素ガラス基板から剥離させる方法がよく知られている。
【００１１】
図３は、ポリイミド薄膜を剥離する一般的な剥離装置４０の構成概略図である。
【００１２】
この剥離装置４０は、順に連設された第１剥離室１５ａ、第２剥離室１５ｂ及びリンス室１６と、剥離液用タンク１０ａと、リンス水用タンク１０ｂとを備えている。
【００１３】
第１剥離室１５ａ及び第２剥離室１５ｂの各内部には、搬送ローラー２と、剥離槽８ａ（８ｂ）と、剥離液用シャワーノズル１ａと、回転ブラシ３とが設けられている。
【００１４】
剥離槽８ａ（８ｂ）と剥離液用タンク１０ａとは、剥離液用配管１４ａによって連結されている。
【００１５】
剥離液用タンク１０ａと剥離液用シャワーノズル１ａとは、剥離液用配管１４ｂによって連結され、剥離液用配管１４ｂの剥離液用タンク１０ａ側には、ポンプ１１ａ及びフィルター１２ａが設けられている。
【００１６】
リンス室１６の内部には、搬送ローラー２と、リンス槽９と、リンス水用シャワーノズル１ｂとが設けられている。
【００１７】
リンス槽９とリンス水用タンク１０ｂとは、リンス水用配管１８ａによって連結されている。
【００１８】
リンス水用タンク１０ｂとリンス水用シャワーノズル１ｂとは、リンス水用配管１８ｂによって連結され、リンス水用配管１８ｂのリンス水用タンク１０ｂ側には、ポンプ１１ｂ及びフィルター１２ｂが設けられている。
【００１９】
この剥離装置４０を用いてポリイミド薄膜を剥離する際には、剥離室１５ａ及び１５ｂにおいて、ポリイミド薄膜が形成された素ガラス基板（処理基板５）を搬送ローラー２上で搬送させながら、その基板表面（ポリイミド薄膜形成側）に水酸化ナトリウム等の無機アルカリ水溶液からなる剥離液６をシャワーノズル１ａからシャワー状に供給すると共に、回転ブラシ３でブラシ洗浄することにより、ポリイミド薄膜が剥離される。そして、リンス室１６において、処理基板５を搬送ローラー２上で搬送させながら、その上面（ポリイミド薄膜形成側）にリンス水７をリンス水用シャワーノズル１ｂからシャワー状に供給することにより、処理基板５が洗浄される。
【００２０】
剥離液６は、剥離液用シャワーノズル１ａと、剥離槽８ａ（８ｂ）と、剥離液用配管１４ａと、剥離液用タンク１０ａと、剥離液用配管１４ｂとの間をポンプ１１ａによって循環するものであり、使用中に空気と接触することにより水分が蒸発して、濃縮されるので、定期的に水分量をチェックして、適宜水分を補充することにより、剥離液を管理する必要がある。
【００２１】
また、特許文献１には、ポリイミド薄膜の剥離ではないが、フェノール性水酸基を有するフォトレジストの剥離において、レジスト剥離液中の炭酸ガス濃度を３重量％以下に維持するレジスト剥離液の管理方法が開示されている。そして、これによれば、剥離液中の炭酸水素イオン、炭酸イオンの濃度が低く管理されるので、フォトレジストの溶解量が保持されて、レジスト剥離液の性能低下が抑止されると記載されている。
【特許文献１】特開２００３−１２２０２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
ところで、上記のような剥離装置３０を用いて、ポリイミド薄膜を剥離する場合には、水分を補充する剥離液の管理だけでは、剥離装置３０の剥離室１５ａ及び１５ｂの内部において、空気中の二酸化炭素と水酸化ナトリウムとが反応して、炭酸ナトリウムが塩として生成することになる。
【００２３】
しかしながら、この炭酸ナトリウムは、粉末として、剥離室１５ａ及び１５ｂの内部の搬送ローラー２や搬送ローラー２の軸を受けるベアリング等に付着及び固着する恐れがある。こうなると、処理基板５が剥離室１５ａ及び１５ｂにおいて正常に搬送されないという問題が発生する。
【００２４】
また、この粉末が剥離室１５ａ及び１５ｂの内部において処理基板５の位置を検知するセンサー１９の受光部に付着すると、センサー１９が誤作動して、例えば、処理基板５が所定位置に搬送されて来ているにも拘わらず、処理基板５が所定位置に搬送されて来ていないと検知されるような搬送トラブルが多発する恐れがある。さらに、剥離液用配管１４ｂ中のフィルター１２ａの目詰まりが多くなり、そのフィルター１２ａの交換頻度が増えるという問題もある。
【００２５】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、無機アルカリ水溶液を含む剥離液を用いて、基板表面のポリイミド薄膜を基板から剥離する際に、剥離液に起因する粉末の生成を低減することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
本発明は、窒素ガスを含んだ剥離液を用いると共に、窒素ガスの雰囲気中でポリイミド薄膜を剥離するようにしたものである。
【００２７】
具体的に本発明に係る剥離装置は、無機アルカリ水溶液を含む剥離液を用いて、基板の表面に付着しているポリイミド薄膜を上記基板から剥離する剥離装置であって、上記基板を収容する処理室と、上記剥離液に窒素ガスを供給して該窒素ガスを含ませる第１ガス供給手段と、上記窒素ガスを含んだ剥離液を、上記処理室の内部に収容された基板表面のポリイミド薄膜に供給する剥離液供給手段と、上記処理室の内部に窒素ガスを供給する第２ガス供給手段とを備えていることを特徴とする。
【００２８】
上記の構成によれば、第１ガス供給手段によって剥離液に窒素ガスを含ませて、その窒素ガスを含んだ剥離液が、剥離液供給手段によって基板の表面に付着しているポリイミド薄膜に供給されて、基板表面のポリイミド薄膜が基板から剥離することになる。しかも、基板を収容する処理室の内部には、第２ガス供給手段によって窒素ガスが供給されるので、剥離液が窒素ガスの雰囲気中で基板表面のポリイミド薄膜に供給されることになる。そのため、剥離液に含まれる無機アルカリ成分と空気中の二酸化炭素との接触が抑止され、無機アルカリ成分と二酸化炭素との反応による粉末の生成が低減される。
【００２９】
上記第１ガス供給手段は、上記剥離液を貯留する貯留槽と、該貯留槽に貯留されている剥離液の中に窒素ガスをバブリングするバブリング部とにより構成されていてもよい。
【００３０】
上記の構成によれば、バブリング部を介して、貯留槽の内部の剥離液に窒素ガスをバブリングすることにより、剥離液に窒素ガスを効率よく含ませることが可能になり、その剥離液が不活性になる。
【００３１】
上記処理室には、上記基板の表面に付着している剥離液に窒素ガスを噴射して液切りする液切り手段が設けられていてもよい。
【００３２】
上記の構成によれば、例えば、基板の表面に付着しているポリイミド薄膜が基板から剥離した後に、基板の表面に付着している剥離液が液切り手段から噴射される窒素ガスによって液切りされるので、剥離液に含まれる無機アルカリ成分と空気中の二酸化炭素との接触が抑止される。
【００３３】
上記無機アルカリ水溶液は、水酸化カリウム水溶液であってもよい。
【００３４】
上記の構成によれば、水酸化カリウムと空気中の二酸化炭素とが反応すると、塩として炭酸カリウムが生成する。また、例えば、一般的な無機アルカリである水酸化ナトリウムと空気中の二酸化炭素とが反応すると、塩として炭酸ナトリウムが生成する。ここで、水に対する溶解度は、炭酸カリウムが炭酸ナトリウムよりも高いので、炭酸カリウムは、炭酸ナトリウムよりも粉末として生成しにくい。これにより、無機アルカリ水溶液が水酸化カリウム水溶液であれば、無機アルカリ水溶液が水酸化ナトリウム水溶液である場合よりも、二酸化炭素との反応による粉末の生成が低減される。
【００３５】
また、本発明に係るポリイミド薄膜の剥離方法は、無機アルカリ水溶液を含む剥離液を用いて、基板の表面に付着しているポリイミド薄膜を上記基板から剥離する方法であって、上記基板を処理室の内部に収容する収容工程と、上記剥離液に窒素ガスを供給して該窒素ガスを含ませるガス供給工程と、上記窒素ガスを含んだ剥離液を上記基板表面のポリイミド薄膜に供給することにより、上記ポリイミド薄膜を上記基板から剥離する剥離工程とを備え、上記剥離工程は、上記処理室の内部に窒素ガスを供給しながら行われることを特徴とする。
【００３６】
上記の方法によれば、まず、収容工程において、表面にポリイミド薄膜が付着した基板を処理室内に収容して、次いで、ガス供給工程において、剥離液に窒素ガスを含ませて、次いで、剥離工程において、窒素ガスを含んだ剥離液が、基板の表面に付着しているポリイミド薄膜に供給されて、基板表面のポリイミド薄膜が基板から剥離することになる。しかも、剥離工程は、処理室内に窒素ガスを供給しながら行われるので、剥離液が窒素ガスの雰囲気中で基板表面のポリイミド薄膜に供給されることになる。そのため、剥離液に含まれる無機アルカリ成分と空気中の二酸化炭素との接触が抑止され、無機アルカリ成分と二酸化炭素との反応による粉末の生成が低減される。
【００３７】
上記無機アルカリ水溶液は、水酸化カリウム水溶液であってもよい。
【００３８】
上記の方法によれば、水酸化カリウムと空気中の二酸化炭素とが反応すると、塩として炭酸カリウムが生成する。また、例えば、一般的な無機アルカリである水酸化ナトリウムと空気中の二酸化炭素とが反応すると、塩として炭酸ナトリウムが生成する。ここで、水に対する溶解度は、炭酸カリウムが炭酸ナトリウムよりも高いので、炭酸カリウムは、炭酸ナトリウムよりも粉末として生成しにくい。これにより、無機アルカリ水溶液が水酸化カリウム水溶液であれば、無機アルカリ水溶液が水酸化ナトリウム水溶液である場合よりも、二酸化炭素との反応による粉末の生成が低減される。
【発明の効果】
【００３９】
本発明の剥離装置は、第１ガス供給手段によって剥離液中に窒素ガスが供給され、その窒素ガスを含んだ剥離液が、剥離液供給手段によって基板上のポリイミド薄膜に供給されて、ポリイミド薄膜が基板から剥離することになる。しかも、基板を収容する処理室の内部には、第２ガス供給手段によって窒素ガスが供給されるので、剥離液が窒素ガスの雰囲気中で基板表面のポリイミド薄膜に供給されることになる。そのため、剥離液に含まれる無機アルカリ成分と空気中の二酸化炭素との接触が抑止され、無機アルカリ成分と二酸化炭素との反応による粉末の生成を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
以下、本発明の実施形態に係る剥離装置及びポリイミド薄膜の剥離方法について、図面に基づいて詳細に説明する。
【００４１】
まず、ポリイミド薄膜の剥離方法に用いられる剥離装置について説明する。
【００４２】
図１は、本実施形態の剥離装置２０の概略構成図である。
【００４３】
ここで、剥離処理を行う処理基板５について説明する。
【００４４】
処理基板５は、液晶表示装置を構成する、例えば、ＴＦＴアレイ基板、対向基板に対応するダミー基板であり、その表面にポリイミド樹脂（薄膜）が試し印刷により付着しており、素ガラス基板とその素ガラス基板上に形成されたポリイミド薄膜とにより構成されている。
【００４５】
剥離装置２０は、図中の左側から右側に向かって順に連設された第１剥離室１５ａ（処理室）、第２剥離室１５ｂ（処理室）及びリンス室１６と、剥離液６を貯留する剥離液用タンク１０ａ（貯留槽）と、リンス水７を貯留するリンス水用タンク１０ｂと、窒素ガスを供給する窒素タンク１３とを備えている。
【００４６】
第１剥離室１５ａ、第２剥離室１５ｂ及びリンス室１６は、その側壁にそれぞれの基板搬入部及び基板排出部となる開口部を有しており、各基板搬入部と基板搬出部との間には搬送ローラー２が設けられ、第１剥離室１５ａの基板搬入部からリンス室１６の基板排出部まで搬送ローラー２上を処理基板５が搬送されるように構成されている。
【００４７】
第１剥離室１５ａ及び第２剥離室１５ｂの各処理室の内部には、剥離液６を一時的に貯留する剥離槽８ａ（８ｂ）と、剥離液６をシャワー状に供給する剥離液用シャワーノズル１ａ（剥離液供給手段）と、処理基板５の表面に接触して洗浄する回転ブラシ３と、所定位置での処理基板５の有無を検出するセンサー１９とが設けられている。
【００４８】
そして、第２剥離室１５ｂの内部の基板排出口には、処理基板５の表面に付着している剥離液６に窒素ガスを噴射して液切りする液切り手段としてエアナイフ４ａが設けられている。
【００４９】
この構成によって、処理基板５の表面に付着しているポリイミド薄膜が素ガラス基板から剥離した後に、素ガラス基板の表面に付着（残留）している剥離液６がエアナイフ４ｂから噴射される窒素ガスによって液切りされるので、剥離液６に含まれる無機アルカリ成分と空気中の二酸化炭素との接触を抑止することができる。
【００５０】
剥離槽８ａ（８ｂ）と剥離液用タンク１０ａとは、剥離液用配管１４ａによって連結されている。
【００５１】
剥離液用タンク１０ａと剥離液用シャワーノズル１ａとは、剥離液用配管１４ｂによって連結され、剥離液用配管１４ｂの剥離液用タンク１０ａ側には、ポンプ１１ａ及びフィルター１２ａが設けられている。
【００５２】
剥離液用タンク１０ａと窒素タンク１３とは、窒素ガス用配管１７ａ（第１ガス供給手段）によって連結されている。そして、窒素ガス用配管１７ａは、剥離液用タンク１０ａの内部に突き出るように延設されたバブリング部１７ａ’を有しており、そのバブリング部１７ａ’には、気体を排出する複数の排出孔が設けられ、窒素タンク１３から供給される窒素ガスが剥離液６中にバブリングされるように構成されている。
【００５３】
この構成によって、バブリング部１７ａ’を介して、剥離液用タンク１０ａの内部に貯留された剥離液６に窒素ガスをバブリングさせることにより、剥離液６に窒素ガスを効率よく含ませることができ、その剥離液６を不活性にすることができる。
【００５４】
また、第１剥離室１５ａ、第２剥離室１５ｂ及びエアナイフ４ａと窒素タンク１３とは、窒素ガス用配管１７ｂ（第２ガス供給手段）によって連結されている。
【００５５】
リンス室１６の内部には、リンス水７を一時的に貯留するリンス槽９と、リンス水７をシャワー状に供給するリンス水用シャワーノズル１ｂと、所定位置での処理基板５の有無を検出するセンサー１９とが設けられている。
【００５６】
そして、リンス室第１６の内部の基板排出口には、処理基板５（素ガラス基板）上に付着したリンス水７に空気を噴射して液切りする液切り手段としてエアナイフ４ｂが設けられている。なお、このエアナイフ４ｂは、第２剥離室１５ｂ内に設けられたエアナイフ４ｂのように、窒素ガスを噴射するように構成されていてもよい。
【００５７】
リンス槽９とリンス水用タンク１０ｂとは、リンス水用配管１８ａによって連結されている。
【００５８】
リンス水用タンク１０ｂとリンス水用シャワーノズル１ｂとは、リンス水用配管１８ｂによって連結され、リンス水用配管１８ｂのリンス水用タンク１０ｂ側には、ポンプ１１ｂ及びフィルター１２ｂが設けられている。
【００５９】
以上のような剥離装置２０は、剥離液６がポンプ１１ａによって、剥離液用タンク１０ａ、剥離液用配管１４ｂ、剥離液用シャワーノズル１ａ、剥離槽８ａ（８ｂ）及び剥離液用配管１４ａの間を順に循環すると共に、リンス水７がポンプ１１ｂによって、リンス水用タンク１０ｂ、リンス水用配管１８ｂ、リンス水用シャワーノズル１ｂ、リンス槽９及びリンス水用配管１８ａの間を順に循環するように構成されている。
【００６０】
次に、この剥離装置２０を用いて、素ガラス基板からポリイミド薄膜を剥離する方法の一例を工程を追って、説明する。
【００６１】
＜準備工程＞
例えば、無機アルカリとして水酸化カリウム１７．５重量％、及び有機溶剤としてジメチルスルホキシド（Dimethyl Sulfoxide：ＤＭＳＯ）１７．５重量％となるように、それぞれ純水と混合して、剥離液６を調製する。
【００６２】
ここで、水酸化カリウムと空気中の二酸化炭素とが反応すると、塩として炭酸カリウムが生成する。また、例えば、一般的な無機アルカリである水酸化ナトリウムと空気中の二酸化炭素とが反応すると、塩として炭酸ナトリウムが生成する。そして、水に対する溶解度は、炭酸カリウムが炭酸ナトリウムよりも高いので、炭酸カリウムは、炭酸ナトリウムよりも粉末として生成しにくい。この場合、無機アルカリ水溶液が水酸化カリウム水溶液であるので、無機アルカリ水溶液が水酸化ナトリウム水溶液である場合よりも、二酸化炭素との反応による粉末の生成を低減することができる。
【００６３】
＜収容工程＞
まず、処理基板５を第１剥離室１５ａの基板搬入部の搬送ローラー２上に設置する。
【００６４】
次いで、搬送ローラー２を作動させ、処理基板５を第１剥離室１５ａの内部に収容する。
【００６５】
＜ガス供給工程＞
まず、剥離液用タンク１０ａに剥離液６を、リンス水用タンク１０ｂにリンス水（純水等）を、それぞれ貯留する。
【００６６】
次いで、窒素タンク１３からの窒素ガスを、剥離液用タンク１０ａ中の剥離液６に窒素ガス用配管１７ａの先端のバブリング部１７ａ’を介して、例えば、５０リットル／分でバブリング（供給）する。
【００６７】
このバブリングによって、剥離液６中に窒素ガスが含まれることになり、剥離液６中の二酸化炭素濃度は、５０ｐｐｍ程度になる。
【００６８】
＜剥離工程＞
まず、窒素タンク１３からの窒素ガスを第１剥離室１５ａ及び第２剥離室１５ｂに供給する。ここで、窒素ガスの流量は、例えば、５００リットル／分であり（第１剥離室１５ａ及び第２剥離室の容積：各２．３７ｍ3）、第１剥離室１５ａの基板搬入部において、窒素ガスの流速は、第１剥離室１５ａの内部から外部の方向に、例えば、５ｍ／秒である。
【００６９】
次いで、回転ブラシ３を作動させると共に、処理基板５を搬送ローラー２上で搬送させながら、剥離液用シャワーノズル１ａからガス供給工程において窒素ガスを含ませた剥離液６を、処理基板５の表面のポリイミド薄膜にシャワー状に供給する。
【００７０】
また、処理基板５が第２剥離室１５ｂの内部を搬送しているときにおいても、上記と同様に、回転ブラシ３を作動させながら、剥離液用シャワーノズル１ａから上記窒素ガスを含んだ剥離液を、処理基板５の表面のポリイミド薄膜にシャワー状に供給させる。
【００７１】
これにより、ポリイミド薄膜が処理基板５を構成する素ガラス基板から剥離して、剥離液６と共に剥離槽８ａ（８ｂ）に回収される。
【００７２】
そして、第２剥離室１５ｂの基板排出部では、エアナイフ４ａにより、圧縮された窒素ガスが処理基板５の表面に吹き付けられ、処理基板５の表面に付着（残留）している剥離液６が液切りされる。
【００７３】
＜リンス工程＞
ポリイミド薄膜が剥離した処理基板５をリンス室１６内に搬送させながら、リンス水用シャワーノズル１ｂからリンス水７を、処理基板５の表面にシャワー状に供給する。
【００７４】
そして、リンス室１６の基板排出部では、エアナイフ４ｂにより、圧縮された空気が処理基板５の表面に吹き付けられ、処理基板５上に付着（残留）しているリンス水７が液切りされる。
【００７５】
これらの工程によって、素ガラス基板上に形成されたポリイミド薄膜が素ガラス基板から剥離されて、素ガラス基板がリサイクルされる。
【００７６】
以上説明した本発明のポリイミド薄膜の剥離方法及び剥離装置２０によれば、まず、収容工程において、処理基板５を第１剥離室１５ａの内部に収容し、次いで、ガス供給工程において、剥離液用タンク１０ａ内の剥離液６にバブリング部１７ａ’を介して窒素ガスを含ませて、次いで、剥離工程において、その窒素ガスを含んだ剥離液６を、第１剥離室１５ａ及び第２剥離室１５ｂの内部の剥離液用シャワーノズル１ａを介して、処理基板５の表面に付着しているポリイミド薄膜に供給させることにより、処理基板５の表面のポリイミド薄膜が素ガラス基板から剥離することになる。
【００７７】
しかも、剥離工程は、第１剥離室１５ａ及び第２剥離室１５ｂの内部に窒素ガスを供給しながら行われるので、剥離液６が窒素ガスの雰囲気中で処理基板５の表面のポリイミド薄膜に供給されることになる。
【００７８】
そのため、剥離液６に含まれる水酸化カリウム成分と空気中の二酸化炭素との接触が抑止され、水酸化カリウム成分と二酸化炭素との反応による粉末の生成を低減することができる。
【００７９】
従って、粉末の生成が低減されることにより、搬送ローラー２、ベアリング、センサー１９の受光部等に粉末が付着することが抑制されるので、第１剥離室１５ａ及び第２剥離室１５ｂの内部における処理基板５の搬送トラブルを抑止することができる。
【００８０】
また、粉末の生成が低減されるので、剥離液用配管１４ｂ中に設けられたフィルター１２ａの目詰まりが減って、そのフィルター１２ａの交換頻度も少なくすることができる。
【００８１】
上記実施形態では、剥離工程が第１剥離室１５ａ及び第２剥離室１５ｂの２つの連結した処理室で行われているが、３つ以上の連結した処理室で行われても、又は、１つの処理室で行われてもよい。
【００８２】
また、上記実施形態では、剥離液用タンク１０ａ内で剥離液６に窒素ガスをバブリングさせたが、剥離槽８ａ及び８ｂにおいてバブリングさせてもよい。
【００８３】
さらに、剥離液用配管１７ａを２重配管として、例えば、内側の多孔性の管内に窒素ガスを、外側の配管内に剥離液６を、それぞれ流すことにより、剥離液６に窒素ガスを含ませてもよい。
【００８４】
また、上記実施形態では、不活性のガスとして窒素ガスを用いたが、ヘリウム等の希ガスを用いてもよい。
【００８５】
なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、他の構成のものであってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
以上説明したように、本発明は、剥離液に起因する粉末の生成を低減して、基板表面のポリイミド薄膜を基板から剥離することができるので、液晶表示装置の配向膜を剥離するのに有用である。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本発明の実施形態に係る剥離装置２０の構成概略図である。
【図２】一般的なフレキソ印刷装置３０の構成概略図である。
【図３】従来の剥離装置４０の構成概略図である。
【符号の説明】
【００８８】
１ａ            剥離液用シャワーノズル
１ｂ            リンス水用シャワーノズル
２              搬送ローラー
３              回転ブラシ
４ａ，４ｂ      エアーナイフ
５              処理基板
５ａ            電極基板
５ｂ            ポリイミド薄膜
６              剥離液
７              リンス水
８ａ，８ｂ      剥離槽
９              リンス槽
１０ａ          剥離液用タンク
１０ｂ          リンス水用タンク
１１ａ，１１ｂ  ポンプ
１２ａ，１２ｂ  フィルター
１３            窒素タンク
１４ａ，１４ｂ  剥離液用配管
１５ａ          第１剥離室
１５ｂ          第２剥離室
１６            リンス室
１７ａ，１７ｂ  窒素ガス用配管
１７ａ’        バブリング部
１８ａ，１８ｂ  リンス水用配管
１９            センサー
２０，４０      剥離装置
３０            フレキソ印刷装置
【図１】
2006060110.tif 000003
【図２】
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【図３】
2006060110.tif 000005