(57)【要約】      （修正有）【課題】神経学的障害、例えばてんかん症、発作性疾患、躁病、鬱病、パーキンソン病、気管支ぜんそく等の処置に特に適する医薬組成物を提供する。 【解決手段】（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−プロピルピロリジニル］ブタンアミド誘導体の（４Ｒ）及び／又は（４Ｓ）ジアステレオマー又はその製薬上許容される塩。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−プロピルピロリジニル］ブタンアミドの（４Ｒ）及び／又は（４Ｓ）ジアステレオマー又はその製薬上許容される塩。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物を含む、医薬組成物。
【請求項３】
てんかん、てんかん誘発症、発作性疾患、痙攣及び双極性障害を包含するその他の神経学的障害、躁病、うつ病、不安症、偏頭痛、三叉神経及びその他の神経痛、慢性の痛み、ニューロパシイ性痛み、脳虚血、心不整脈、ミオトニー、コカイン乱用、卒中、ミオクローヌス、本態性振せん及びその他の運動障害、新生児脳出血、筋萎縮側索硬化症、痙縮、パーキンソン病及びその他の変質性疾病、気管支喘息、喘息発作重積状態及びアレルギー性気管支炎、喘息症候群、気管支過剰反応及び気管支痙攣症候群、ならびにアレルギー性及び血管神経性鼻炎及び鼻結膜炎からなる群から選択される少なくとも１種の疾患を処置するための、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
処置される症状が、てんかん、双極性障害、偏頭痛、及びニューロパシイ性痛みからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項５】
医薬組成物を製造するための、請求項１に記載の化合物の使用。
【請求項６】
前記医薬組成物が、てんかん、てんかん誘発症、発作性疾患、痙攣及び双極性障害を包含するその他の神経学的障害、躁病、うつ病、不安症、偏頭痛、三叉神経及びその他の神経痛、慢性の痛み、ニューロパシイ性痛み、脳虚血、心不整脈、ミオトニー、コカイン乱用、卒中、ミオクローヌス、本態性振せん及びその他の運動障害、新生児脳出血、筋萎縮側索硬化症、痙縮、パーキンソン病及びその他の変質性疾病、気管支喘息、喘息発作重積状態及びアレルギー性気管支炎、喘息症候群、気管支過剰反応及び気管支痙攣症候群、ならびにアレルギー性及び血管神経性鼻炎及び鼻結膜炎からなる群から選択される少なくとも１種の疾患を処置するためのものである、請求項５に記載の使用。
【請求項７】
処置される症状が、てんかん、双極性障害、偏頭痛、及びニューロパシイ性痛みからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項６に記載の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２−オキソ−１−ピロリジン誘導体、それらの製造方法、これらの化合物を含有する医薬組成物及びそれらの製薬上の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヨーロッパ特許No.0162036B1（特許文献１）は、（Ｓ）−α−エチル−２−オキソ−１−ピロリジンアセトアミドを開示しており、この化合物はレベチラセタム(levetiracetam)の国際命名法による名前で公知である。
左旋性化合物であるレベチラセタムは、中枢神経系の低酸素性及び虚血性型の攻撃の処置及び予防用の保護剤として開示されている。この化合物はまた、てんかんの処置に有用であり、治療指針に関し、その右旋性エナンチオマー：（Ｒ）−α−エチル−２−オキソ−１−ピロリジンアセトアミド（この化合物はヨーロッパ特許No.0165919B1（特許文献２）から公知である）は、この活性が完全に欠落していることが証明されている（A.J.GOWER等、Eur.J.Pharmacol.,222,(1992),193-203（非特許文献１））。
【０００３】
ラセミ体のα−エチル−２−オキソ−１−ピロリジンアセトアミド及びその類縁化合物は、英国特許No.1309692（特許文献３）から公知である。米国特許No.3,459,738（特許文献４）は、２−オキソ−１−ピロリジンアセトアミドの誘導体を開示している。ヨーロッパ特許No.0645139B1（特許文献５）は、レベチラセタムの不安解消活性を開示している。ＰＣＴ出願No.PCT/EP00/11808（特許文献６）は、レベチラセタムの双極性障害、偏頭痛、慢性又はニューロパシイ性痛みの治療的及び／又は予防的処置における使用、及びＧＡＢＡAレセプターにより媒介される神経抑制を誘発する少なくとも１種の化合物とレベチラセタムとの組合わせを開示している。
【特許文献１】ヨーロッパ特許No.0162036B1
【特許文献２】ヨーロッパ特許No.0165919B1
【特許文献３】英国特許No.1309692
【特許文献４】米国特許No.3,459,738
【特許文献５】ヨーロッパ特許No.0645139B1
【特許文献６】ＰＣＴ出願No.PCT/EP00/11808
【非特許文献１】A.J.GOWER等、Eur.J.Pharmacol.,222,(1992),193-203
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
ここに驚くべきことに、レベチラセタムの或る種の類縁化合物、特にそのピロリジン環上に追加の置換基を有する化合物が、格別に改善された治療的性質を有することが見出された。
従って、一態様において、本発明は式Ｉを有する化合物又はその製薬上許容される塩を提供する：
2006022108.tif 000002
【０００５】
式中、
Ｘは、−ＣＡ1ＮＲ5Ｒ6又は−ＣＡ1ＯＲ7又は−ＣＡ1−Ｒ8又はＣＮであり；
Ａ1及びＡ2は独立して、酸素、イオウ又は−ＮＲ9であり；
Ｒ1は、水素、アルキル、アリール又は−ＣＨ2−Ｒ1aであり、ここでＲ1aはアリール、ヘテロ環、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ又はシアノであり；
Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は同一又は相違しており、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、チオール、アミノ、ニトロ、ニトロオキシ、シアノ、アジド、カルボキシ、アミド、スルホン酸、スルホンアミド、アルキル、アルケニル、アルキニル、エステル、エーテル、アリール、ヘテロ環、又はオキシ誘導体、チオ誘導体、アミノ誘導体、アシル誘導体、スルホニル誘導体又はスルフィニル誘導体であり；
Ｒ2a、Ｒ3a及びＲ4aは同一又は相違しており、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル又はアリールであり；
【０００６】
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ9は同一又は相違しており、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、アルキル、アリール、ヘテロ環又はオキシ誘導体であり；及び
Ｒ8は水素、ヒドロキシ、チオール、ハロゲン、アルキル、アリール、ヘテロ環又はチオ誘導体であり；
ただし、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ2a、Ｒ3a及びＲ4aの少なくとも１個は水素以外であり；及び当該化合物が全部の可能な異性体の混合物であり、Ｘが−ＣＯＮＲ5Ｒ6であり、Ａ2が酸素であり、及びＲ1が水素、メチル、エチル又はプロピルである場合、ピロリジン環上の置換基は、モノ−、ジ−又はトリ−メチル又はモノ−エチル以外であり；及びＲ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ2a、Ｒ3a及びＲ4aがそれぞれ水素であり、Ａ2が酸素であり、及びＸが−ＣＯＮＲ5Ｒ6である場合、Ｒ3はカルボキシ、エステル、アミド、置換オキソ−ピロリジン、ヒドロキシ、オキシ誘導体、アミノ、アミノ誘導体、メチル、ナフチル、オキシ誘導体により置換されていてもよいフェニル又はパラ位置でハロゲン原子により置換されているフェニルではない。
【０００７】
以下に記載する定義において、別段の記載がないかぎり、Ｒ11及びＲ12は同一又は相違しており、それぞれ独立して、アミド、アルキル、アルケニル、アルキニル、アシル、エステル、エーテル、アリール、アラルキル、ヘテロ環又はオキシ誘導体、チオ誘導体、アシル誘導体、アミノ誘導体、スルホニル誘導体又はスルフィニル誘導体であり、それぞれ、これらに制限されないものとして、低級アルキル又はアルキルにかかわる置換基として以下に記載するその他の基から選択される１個又は２個以上の基を包含するいずれか適当な基により置換されていてもよい。
【０００８】
本明細書で使用されているものとして、「オキシ誘導体」の用語は、−Ｏ−Ｒ11基を包含するものと定義され、ここでＲ11は「オキシ誘導体」以外の上記定義のとおりである。非制限的例には、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アシルオキシ、オキシエステル、オキシアミド、アルキルスルホニルオキシ、アルキルスルフィニルオキシ、アリールスルホニルオキシ、アリールスルフィニルオキシ、アリールオキシ、アラルコキシ又はヘテロシクロオキシ、例えばペンチルオキシ、アリルオキシ、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、２−ナフチルオキシ、２−ピリジルオキシ、メチレンジオキシ、カーボネートがある。
【０００９】
本明細書で使用されているものとして、「チオ誘導体」の用語は、−Ｓ−Ｒ11基を包含するものと定義され、ここでＲ11は「チオ誘導体」以外の上記定義のとおりである。非制限的例には、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ及びアリールチオがある。
本明細書で使用されているものとして、「アミノ誘導体」の用語は、−ＮＨＲ11又は−ＮＲ11Ｒ12基を包含するものと定義され、ここでＲ11及びＲ12は上記定義のとおりである。非制限的例には、モノ−又はジ−アルキル−、アルケニル−、アルキニル−及びアリールアミノ又は混合アミノがある。
【００１０】
本明細書で使用されているものとして、「アシル誘導体」の用語は、カルボン酸から誘導される基を表わし、従って式Ｒ11−ＣＯ−で表わされる基を含むものと定義され、ここでＲ11は上記定義のとおりであり、及び水素であることもできる。非制限的例には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、イソブチリル、バレリル、ラウロイル、ヘプタンジオイル、シクロヘキサンカルボニル、クロトノイル、フマロイル、アクリロイル、ベンゾイル、ナフトイル、フロイル、ニコチノイル、４−カルボキシブタノイル、オキザリル、エトキサリル、システイニル、オキサモイルがある。
【００１１】
本明細書で使用されているものとして、「スルホニル誘導体」の用語は、式−ＳＯ2−Ｒ11の基を含むものと定義され、ここでＲ11は「スルホニル誘導体」以外の上記定義のとおりである。非制限的例には、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル及びアリールスルホニルがある。
本明細書で使用されているものとして、「スルフィニル誘導体」の用語は、式−ＳＯ−Ｒ11の基を含むものと定義され、ここでＲ11は「スルフィニル誘導体」以外の上記定義のとおりである。非制限的例には、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル及びアリールスルフィニルがある。
【００１２】
本明細書で使用されているものとして、「アルキル」の用語は、直鎖状、分枝鎖状又は環状基又はその組合わせを有し、炭素原子１−２０個、好ましくは非環状アルキルの場合に炭素原子１−６個及びシクロアルキルの場合に炭素原子３−６個を含有する（これら２種の好適基の場合、別段の記載がない限り、「低級アルキル」）、飽和、一価炭化水素基を含むものと定義される。アルキル基は、ハロゲン、ヒドロキシ、チオール、アミノ、ニトロ、シアノ、チオシアナト、アシル、アシルオキシ、スルホニル誘導体、スルフィニル誘導体、アルキルアミノ、カルボキシ、エステル、エーテル、アミド、アジド、シクロアルキル、スルホン酸、スルホンアミド、チオ誘導体、オキシエステル、オキシアミド、ヘテロ環、ビニル、Ｃ１−５−アルコキシ、Ｃ６−１０−アリールオキシ及びＣ６−１０−アリールからなる群から独立して選択される１−５個の置換基により置換されていてもよい。
【００１３】
好適アルキル基は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ又はｔｅｒ−ブチル、及び２，２，２−トリメチルエチルであり、これらの基はそれぞれ、ハロゲン、ヒドロキシ、チオール、アミノ、ニトロ及びシアノからなる群から選択される少なくとも１個の置換基により置換されていてもよく、例えばトリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，１−ジメチル−２，２−ジブロモエチル、１，１−ジメチル−２，２，２−トリクロロエチルである。
【００１４】
本明細書で使用されているものとして、「アルケニル」の用語は、少なくとも１個の二重結合を有する分枝鎖状及び非分枝鎖状の両方の不飽和炭化水素基を含むものと定義され、例えばエテニル（＝ビニル）、１−メチル−１−エテニル、２，２−ジメチル−１−エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル（＝アリル）、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、３−メチル−１−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニルなどが包含され、及びこれらの基はまた、ハロゲン、ヒドロキシ、チオール、アミノ、ニトロ、シアノ、アリール及びヘテロ環からなる群から選択される少なくとも１個の置換基により置換されていてもよく、例えばモノ−及びジ−ハロビニル（ここで、ハロはフルオロ、クロロ又はブロモである）である。
【００１５】
本明細書で使用されているものとして、「アルキニル」の用語は、少なくとも１個の炭素−炭素三重結合を有する一価の分枝鎖状及び非分枝鎖状炭化水素基を含むものと定義され、例えばエチニル、２−プロピニル（＝プロパルギル）、などが包含され、及びこれらの基はまた、ハロゲン、ヒドロキシ、チオール、アミノ、ニトロ、シアノ、アリール及びヘテロ環からなる群から選択される少なくとも１個の置換基により置換されていてもよく、例えばハロエチニルである。
架橋基として存在する場合、アルキル、アルケニル及びアルキニルは、直鎖状又は分枝鎖状のＣ１−１２、好ましくはＣ１−４−アルキレン又はＣ２−１２−、好ましくはＣ２−４−アルケニレン又は−アルキニレン基をそれぞれ表わす。
分枝鎖状誘導体が、“ｎ”、“ｓｅｃ”、“ｉｓｏ”などの接頭語により常習的に制限される基（例えば、“ｎ−プロピル”、“ｓｅｃ−ブチル”）の場合、別段の記載がないかぎり、ｎ−形である。
【００１６】
本明細書で使用されているものとして、「アリール」の用語は、１−３個の環からなり、また炭素原子６−３０個を有する芳香族炭化水素から１個の水素を除くことによって誘導される有機基を包含するものと定義され、例えばフェニル及びナフチルを包含し、これらの基はそれぞれ、ハロゲン、ヒドロキシ、チオール、アミノ、ニトロ、シアノ、アシル、アシルオキシ、スルホニル、スルフィニル、アルキルアミノ、カルボキシ、エステル、エーテル、アミド、アジド、スルホン酸、スルホンアミド、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アルキルチオ、オキシエステル、オキシアミド、アリール、Ｃ１−６−アルコキシ、Ｃ６−１０−アリールオキシ、Ｃ１−６−アルキル、Ｃ１−６−ハロアルキルから独立して選択される１−５個の置換基により置換されていてもよい。アリール基は好ましくは６−１０個の炭素原子を含む単環である。好適アリール基は、フェニル及びナフチルであり、これらの基はそれぞれ、ハロゲン、ニトロ、アミノ、アジド、Ｃ１−６−アルコキシ、Ｃ１−６−アルキルチオ、Ｃ１−６−アルキル、Ｃ１−６−ハロアルキル及びフェニルから独立して選択される１−５個の置換基により置換されていてもよい。
【００１７】
本明細書で使用されているものとして、「ハロゲン」の用語は、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ、Ｉの原子を包含する。
本明細書で使用されているものとして、「ヒドロキシ」の用語は、式−ＯＨで表わされる基を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「チオール」の用語は、式−ＳＨで表わされる基を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「シアノ」の用語は、式−ＣＮで表わされる基を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「ニトロ」の用語は、式−ＮＯ2で表わされる基を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「ニトロオキシ」の用語は、式−ＯＮＯ2で表わされる基を表わす。
【００１８】
本明細書で使用されているものとして、「アミノ」の用語は、式−ＮＨ2で表わされる基を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「アジド」の用語は、式−Ｎ3で表わされる基を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「カルボキシ」の用語は、式−ＣＯＯＨで表わされる基を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「スルホン酸」の用語は、式−ＳＯ3Ｈで表わされる基を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「スルホンアミド」の用語は、式−ＳＯ2ＮＨ2で表わされる基を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「エステル」の用語は、式−ＣＯＯ−Ｒ11の基を含むものとして定義され、ここでＲ11はオキシ誘導体、チオ誘導体又はアミノ誘導体以外の上記基である。
【００１９】
「エーテル」の用語は、１個又は２個以上の酸素原子により中断されているＣ１−５０−直鎖状又は分枝鎖状アルキル基、又はＣ２−５０−直鎖状又は分枝鎖状アルケニル又はアルキニル基又はその組合わせから選択される基を含むものと定義される。
「アミド」の用語は、式−ＣＯＮＨ2又は−ＣＯＮＨＲ11又は−ＣＯＮＲ11Ｒ12（各式中、Ｒ11及びＲ12は上記定義のとおりである）で表わされる基を含むものと定義される。
【００２０】
本明細書で使用されているものとして、「ヘテロ環」の用語は、上記定義のとおりの芳香族又は非芳香族の環状のアルキル、アルケニル又はアルキニル基であって、その炭素環状環構造を中断する少なくとも１個のＯ、Ｓ及び／又はＮ原子を有し、また場合により、この炭素環状環構造の炭素の一つはカルボニルにより置き換えられていてもよい。芳香族ヘテロ環の非制限的例には、ピリジル、フリル、ピロリル、チエニル、イソチアゾリル、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、テトラゾリル、キナゾリニル、キノリジニル、ナフチリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、キノリル、イソキノリル、イソベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ピラゾリル、インドリル、インドリジニル、プリニル、イソインドリル、カルバゾリル、チアゾリル、１，２，４−チアジアゾリル、チエノ（２，３−ｂ）フラニル、フロピラニル、ベンゾフラニル、ベンゾキセピニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、チアントレニル、ベンゾチアゾリル、又はベンゾキサゾリル、シンノリニル、フタラジニル、キノキサリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナンチアジニル、フラザニル、イソクロマニル、インドリニル、キサンテニル、ハイポキサンチニル、プテリジニル、５−アザシチジニル、５−アザウラシリル、トリアゾロピリジニル、イミダゾロピリジニル、ピロロピリミジニル、及びピラゾロピリミジニルがあり、これらの基はアルキルにより、又はアルキル基について上記したとおりに置換されていてもよい。
【００２１】
非芳香族ヘテロ環の非制限的例には、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、ピペリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、イミダゾリジニル、モルホリノ、モルホリニル、１−オキサスピロ（４，５）デク−２−イル、ピロリジニル、２−オキソ−ピロリジニル、糖基（すなわち、グルコース、ペントース、ヘキソース、リボース、フラクトース、これらは置換されていてもよい）又は、これらに制限されないものとして、低級アルキルから、又はアルキル基について上記した他の基から選択される１個又は２個以上の基を包含するいずれか適当な基により置換されていてもよい上記基がある。「ヘテロ環」の用語はまた、二環状、三環状及び四環状環、スピロ基を包含し、これらの基は、上記ヘテロ環状環のいずれかが、アリール環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、又は別種の単環状ヘテロ環から独立して選択される１個又は２個の環と縮合しており、又は単環状ヘテロ環基はアルキレン基により架橋されている基であり、例えばキヌクリジニル、７−アザビシクロ（２．２．１）ヘプタニル、７−オキサビシクロ（２．２．１）ヘプタニル、８−アザビシクロ（３．２．１）オクタニルを包含する。
【００２２】
上記定義において、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8などの置換基が、ヘテロ原子又はカルボニルを経て分子の残りの部分に結合している場合、直鎖又は分枝鎖、Ｃ１−１２−、好ましくはＣ１−４−アルキレン、又はＣ２−１２、好ましくはＣ２−４−アルケニレン又は−アルキニレン架橋が、ヘテロ原子又はカルボニルと分子の残りの部分への結合点との間に挿入されていてもよいものと理解されるべきである。
Ｘの好適例は、−ＣＯＯＲ7又は−ＣＯＮＲ5Ｒ6であり、ここでＲ5、Ｒ6及びＲ7は好ましくは、水素、Ｃ１−４−アルキル、フェニル又はアルキルフェニルである。
好ましくは、Ｘはカルボキシ又は−ＣＯＮＲ5Ｒ6であり、ここでＲ5及びＲ6は好ましくは、水素、Ｃ１−４−アルキル、フェニル又はアルキルフェニル、特に−ＣＯＮＨ2である。
【００２３】
好適には、Ａ1及びＡ2はそれぞれ、酸素である。
好適には、Ｒ1は、水素、アルキル、特にＣ１−１２−アルキル、特に低級アルキル又はアリール、特にフェニルである。
好適Ｒ1基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ−又はｔｅｒ−ブチル、２，２，２−トリメチルエチル（これらはそれぞれ、メチレン架橋を経て結合していてもよい）、又は少なくとも１個のハロゲン原子により置換されているこのような基、例えばトリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，１−ジメチル−２，２−ジブロモエチル、１，１−ジメチル−２，２，２−トリクロロエチルがある。
エチルは、Ｒ1として特に好適である。
好適には、Ｒ2及びＲ2aは独立して、水素、ハロゲン又はアルキル、特に低級アルキルである。
【００２４】
好適Ｒ2及びＲ2a基の例には、独立して、水素、ハロゲン又はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ−又はｔｅｒ−ブチル、２，２，２−トリメチルエチル又は少なくとも１個のハロゲン原子により置換されている上記基、例えばトリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，１−ジメチル−２，２−ジブロモメチル、１，１−ジメチル−２，２，２−トリクロロエチルがある。
Ｒ2及びＲ2aの少なくとも１個、最も好ましくは両方が水素であると好ましい。
好適には、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aは独立して、水素、アルキル、特にメチル若しくはエチル、又はアリール、特にフェニル若しくはアラルキル、特にベンジルである。
【００２５】
好適Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4a基の例には独立して、水素、ハロゲン又はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ−若しくはｔｅｒ−ブチル、２，２，２−トリメチルエチルあるいは少なくとも１個のハロゲン原子により置換されている上記基、例えばトリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，１−ジメチル−２，２−ジブロモメチル、１，１−ジメチル−２，２，２−トリクロロエチルがある。
特に、Ｒ4及びＲ4aの少なくとも１個、最も好ましくは両方が水素であると好ましい。
Ｒ3aは、特に水素又はアルキル、特に低級アルキルであり、最も好ましくは、水素である。
【００２６】
好適Ｒ3は、水素、Ｃ１−１２−アルキル、特にＣ１−６−アルキル基（これらの基はそれぞれ、ヒドロキシ、ハロゲン、シアノ、チオシアナト又はアルコキシから選択される１個又は２個以上の置換基により置換されていてもよく、また直接に、又はチオ、スルフィニル、スルホニル、カルボニル若しくはオキシカルボニル基を経て、及び場合により、Ｃ１−４−アルキレン架橋、特にメチレン基を経て環に結合している）；Ｃ２−６−アルケニル又は−アルキニル、特にＣ２−３−アルケニル又は−アルキニル基（これらの基は１個又は２個以上のハロゲンにより置換されていてもよい）；アジド；シアノ；アミド；カルボキシ；チアゾリル、テトラゾリル、ピロリジニル、ピリジル、１−オキシドピリジル、チオモルホリニル、ベンゾジオキソリル、フリル、オキサゾリル、ピリミジニル、ピロリル、チアジアゾリル、チアゾリル、チエニル又はピペラジニル（これらの基はそれぞれ、ハロゲン、Ｃ１−６−アルキル及びフェニルから選択される１個又は２個以上の置換基により置換されていてもよく、また直接に、又はカルボニル基若しくはＣ１−４−アルキレン架橋、特にメチレンを経て環に結合している）；ナフチル；あるいはフェニル、フェニルアルキル又はフェニルアルケニル（これらの基はそれぞれ、ハロゲン、Ｃ１−６−アルキル、Ｃ１−６−ハロアルキル、Ｃ１−６−アルコキシ、Ｃ１−６−アルキルチオ、アミノ、アジド、フェニル及びニトロから選択される１個又は２個以上の置換基により置換されていてもよく、また直接に、又はオキシ、スルホニル、スルホニルオキシ、カルボニル若しくはカルボニルオキシを経て環に結合しており、さらに場合により、Ｃ１−４−アルキレン架橋、特にメチレンにより環に結合している）である。
【００２７】
また、好ましくは、Ｒ3は、Ｃ１−６−アルキル（この基は、ハロゲン、チオシアナト、アジド、アルコキシ、アルキルチオ、フェニルスルホニルから選択される１個又は２個以上の置換基によりも置換されていてもよい）；ニトロオキシ；Ｃ２−３−アルケニル又は−アルキニル（この基はそれぞれ、１個又は２個以上のハロゲンにより、又はアセチルにより置換されていてもよい）；テトラゾリル、ピリジル、フリル、ピロリル、チアゾリル又はチエニル；又はフェニル又はフェニルアルキル（この基はそれぞれ、ハロゲン、Ｃ１−６−アルキル、Ｃ１−６−ハロアルキル、Ｃ１−６−アルコキシ、アミノ、アジド、フェニル及びニトロから選択される１個又は２個以上の置換基により置換されていてもよく、また直接に、又はスルホニルオキシを経て、また場合により、さらにＣ１−４−アルキレン架橋、特にメチレンを経て環に結合している）である。
【００２８】
好適Ｒ3基のその他の例には、水素、ハロゲン又はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ又はｔｅｒ−ブチル、２，２，２−トリメチルエチル又は少なくとも１個のハロゲン原子により置換されている上記基、例えばトリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，１−ジメチル−２，２−ジブロモメチル、１，１−ジメチル−２，２，２−トリクロロエチルがある。
Ｒ3は特に、Ｃ１−４−アルキル（この基は、ハロゲン、チオシアナト又はアジドから選択される１個又は２個以上の置換基により置換されていてもよい）；Ｃ２−５−アルケニル又は−アルキニル（この基は、１個又は２個以上のハロゲンにより置換されていてもよい）；チエニル；又はフェニル（この基は、ハロゲン、Ｃ１−６−アルキル、Ｃ１−６−ハロアルキル又はアジドから選択される１個又は２個以上の置換基により置換されていてもよい）である。
【００２９】
好適Ｒ3のさらなる例には、Ｃ１−６−アルキル及びＣ２−６−ハロアルケニルがある。
好適Ｒ5及びＲ6は独立して、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ−又はｔｅｒ−ブチル、２，２，２−トリメチルエチル、特に水素又はメチルである。
特に、Ｒ5及びＲ6は、その少なくとも１方、最も好ましくは両方が水素である。
好適Ｒ7は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ−又はｔｅｒ−ブチル、２，２，２−トリメチルエチル、メトキシ、エトキシ、フェニル、ベンジル又は少なくとも１個のハロゲン原子により置換されている上記基、例えばトリフルオロメチル、クロロフェニルである。
【００３０】
好適には、Ｒ7は、水素、メチル又はエチル、特に水素である。
好適には、Ｒ8は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ−又はｔｅｒ−ブチル、２，２，２−トリメチルエチル、フェニル、ベンジル又は少なくとも１個のハロゲン原子により置換されている上記基、例えばトリフルオロメチル、クロロベンジルである。
好適Ｒ8は、水素又はメチルである。
これらの好適化合物基の１種又は２種以上の組合わせは、特に好適である。
【００３１】
式Ｉで表わされる化合物の特定の一群（化合物１Ａ）は、下記化合物を包含する：
Ａ2は、酸素である；
Ｘは、−ＣＯＮＲ5Ｒ6又は−ＣＯＯＲ7又は−ＣＯ−Ｒ8又はＣＮである；
Ｒ1は、水素又はアルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノである；
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一又は相違しており、それぞれ独立して、水素又はハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、アシル、アシルオキシ、スルホニル誘導体、スルフィニル誘導体、アミノ誘導体、カルボキシ、エステル、エーテル、アミド、スルホン酸、スルホンアミド、アルコキシカルボニル、チオ誘導体、アルキル、アルコキシ、オキシエステル、オキシアミド、アリール、オキシ誘導体、ヘテロ環、ビニルであり、及びＲ3はさらにまた、Ｃ２−５−アルケニル、Ｃ２−５−アルキニル又はアジド（これらの基はそれぞれ、１個又は２個以上のハロゲン、シアノ、チオシアノ、アジド、シクロプロピル、アシル及び／又はフェニルにより置換されていてもよい）；又はフェニルスルホニルオキシであることができ、ここでフェニル基はいずれも、１個又は２個以上のハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ニトロ、アミノ、及び／又はフェニルにより置換されていてもよい；Ｒ3は最も好ましくは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル又はイソブチルである。
【００３２】
Ｒ2a、Ｒ3a及びＲ4aは、水素である；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7は同一又は相違しており、それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、アルキル、アリール、ヘテロ環又はオキシ誘導体である；及び
Ｒ8は、水素、ヒドロキシ、チオール、ハロゲン、アルキル、アリール、ヘテロ環、アルキルチオ又はチオ誘導体である。
これらの化合物１Ａの中で、Ｒ1は好ましくは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル又はイソブチルであり；最も好ましくは、メチル、エチル又はｎ−プロピルである。
Ｒ2及びＲ4は好ましくは、独立して水素又はハロゲン、又はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチルであり；最も好ましくはそれぞれ、水素である。
【００３３】
Ｒ3は好ましくは、Ｃ１−５−アルキル、Ｃ２−５−アルケニル、Ｃ２−Ｃ５−アルキニル、シクロプロピル、アジド（これらの基はそれぞれ、１個又は２個以上のハロゲン、シアノ、チオシアノ、アジド、アルキルチオ、シクロプロピル、アシル及び／又はフェニルにより置換されていてもよい）；フェニル；フェニルスルホニル；フェニルスルホニルオキシ、テトラゾール、チアゾール、チエニル、フリル、ピロール、ピリジンであり、ここで上記フェニル基はいずれも、１個又は２個以上のハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ニトロ、アミノ及び／又はフェニルにより置換されていてもよく；最も好ましくは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル又はイソブチルである。
【００３４】
Ｘは好ましくは、−ＣＯＯＨ又は−ＣＯＯＭｅ又は−ＣＯＯＥｔ又は−ＣＯＮＨ2であり；最も好ましくは、−ＣＯＮＨ2である。
式Ｉで表わされる化合物のもう１種の特定の一群（化合物１Ｂ）は、下記化合物を包含する：
Ｘは、−ＣＡ1ＮＨ2、−ＣＡ1ＮＨＣＨ3又は−ＣＡ1Ｎ（ＣＨ3）2である；
Ｒ1は、アルキル又はフェニルである；
Ｒ3は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、イソチオシアナト、エーテル、カルボキシル、アミド、アリール、ヘテロ環である；又は
Ｒ3は、ＣＨ2Ｒ10（式中、Ｒ10は、水素、シクロアルキル、オキシエステル、オキシアルキルスルホニル、オキシアリールスルホニル、アミノアルキルスルホニル、アミノアリールスルホニル、ニトロオキシ、シアノ、イソチオシアナト、アジド、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ヘテロ環、アリールオキシ、アルコキシ又はトリフルオロエチルである；
【００３５】
Ｒ3aは、水素、アルキル又はアリール（特に、Ｒ3aが水素である場合、Ｒ3はメチル以外であるという条件付きである）である；又は
Ｒ3Ｒ3aは、シクロアルキルを形成している；及び
Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ4及びＲ4aはそれぞれ、水素である。
式Ｉで表わされる化合物の中で、
Ｒ1は好ましくは、アルキル、特にＣ１−１２−、さらに特にＣ１−６−アルキルであり、最も好ましくは、エチルである。
Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3a及びＲ4aは好ましくは、水素である。
【００３６】
Ｒ3は好ましくは、水素、Ｃ１−１２−アルキル、特にＣ１−６−アルキル（この基はそれぞれ、ヒドロキシ、ハロゲン、シアノ、チオシアナト又はアルコキシから選択される１個又は２個以上の置換基により置換されていてもよく、また直接に、又はチオ、スルフィニル、スルホニル、カルボニル若しくはオキシカルボニル基を経て、及び場合によりさらに、Ｃ１−４−アルキレン架橋、特にメチレンを経て環に結合している）：Ｃ２−６−アルケニル又は−アルキニル、特にＣ２−３−アルケニル又は−アルキニル（この基は、１個又は２個以上のハロゲンにより置換されていてもよい）；アジド；シアノ；アミド；カルボキシ；トリアゾリル、テトラゾリル、ピロリジニル、ピリジル、１−オキシドピリジル、チオモルホリニル、ベンゾジオキソリル、フリル、オキサゾリル、ピリミジニル、ピロリル、チアジアゾリル、チアゾリル、チエニル又はピペラジニル（これらの基は、ハロゲン、Ｃ１−６−アルキル及びフェニルから選択される１個又は２個以上の置換基により置換されていてもよく、また直接に、又はカルボニル基若しくはＣ１−４−アルキレン架橋、特にメチレンにより環に結合している）；ナフチル；あるいはフェニル、フェニルアルキル又はフェニルアルケニル（これらの基はそれぞれ、ハロゲン、Ｃ１−６−アルキル、Ｃ１−６−ハロアルキル、Ｃ１−６−アルコキシ、Ｃ１−６−アルキルチオ、アミノ、アジド、フェニル及びニトロから選択される１個又は２個以上の置換基により置換されていてもよく、またそれぞれ直接に、又はオキシ、スルホニル、スルホニルオキシ、カルボニル若しくはカルボニルオキシ基を経て環に結合しており、及び場合によりさらに、Ｃ１−４−アルキレン架橋、特にメチレンを経て環に結合している）から選択される。
【００３７】
Ｒ3aは好ましくは、水素又はＣ１−４−アルキルであり；
Ｒ4及びＲ4aは好ましくは、独立して水素、Ｃ１−４−アルキル、フェニル又はベンジルである。
式Ｉで表わされる化合物のもう１種の一群（化合物１Ｃ）は、ラセミ体形態であって、Ｘが−ＣＯＮＲ5Ｒ6であり、及びＲ1が水素、メチル、エチル又はプロピルである場合、ピロリジン環上の置換基は、モノ−、ジ−又はトリ−メチル又はモノ−エチル以外である化合物を包含する。
式Ｉで表わされるもう１種の一群（化合物１Ｄ）は、ラセミ体形態であって、Ｘが−ＣＯＮＲ5Ｒ6であり、及びＲ1が水素又はそれぞれ未置換のＣ１−６−アルキル、Ｃ２−６−アルケニル又は−アルキニル又はシクロアルキルである場合、環上の置換基は、それぞれ未置換のアルキル、アルケニル又はアルキニル以外である化合物を包含する。
【００３８】
式Ｉで表わされる化合物のもう１種の特定の一群（化合物１Ｅ）は、それらのラセミ体又はエナンチオマー的に富裕な形態、好ましくは純粋エナンチオマーとして、
Ｘが−ＣＡ1ＮＨ2であり；
Ｒ1がＨであり；
Ｒ3がアジドメチル、ヨウドメチル、エチル（この基は、１−５個のハロゲン原子により置換されていてもよい）、ｎ−プロピル（この基は、１−５個のハロゲン原子により置換されていてもよい）、ビニル（この基は、１個又は２個のメチル、及び／又は１〜３個のハロゲン原子により置換されていてもよい）、アセチレン（この基は、Ｃ１−４−アルキル、フェニル又はハロゲンにより置換されていてもよい）であり；
Ｒ3aが水素又はハロゲン、好ましくはフッ素であり；及び
Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ4及びＲ4aがそれぞれ、水素である；
化合物を包含する。
【００３９】
式Ｉで表わされるもう１種の特定の一群（化合物１Ｆ）は、それらのラセミ体又はエナンチオマー的に富裕な形態、好ましくは純粋エナンチオマーとして、
Ｘが−ＣＡ1ＮＨ2であり；
Ｒ1がＨであり；
Ｒ3が、アジド、オキシニトロ、１〜６個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６−アルキル、Ｃ２−６−アルケニル又はＣ２−６−アルキニルであり；
Ｒ3aが水素又はハロゲン、好ましくはフッ素であり；及び
Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ4及びＲ4aがそれぞれ、水素である；
化合物を包含する。
【００４０】
上記範囲の全部において、Ｒ1に結合している炭素原子が不斉である場合、「Ｓ」配置が好ましい。
本発明による「製薬上許容される塩」は、式Ｉで表わされる化合物から形成することができる治療的に活性であり、無毒性の塩基及び酸塩を包含する。
その遊離形態で塩基として生じる式Ｉで表わされる化合物の酸付加塩は、遊離塩基を適当な酸、例えばハロゲン化水素酸（例えば、塩酸又は臭化水素酸）、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸；又は例えば酢酸、ヒドロキシ酢酸、プロパン酸、乳酸、ピルビン酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、シクラミン酸、サリチル酸、ｐ−アミノサリチル酸、パモ酸などの有機酸により処理することによって得ることができる。
【００４１】
酸プロトンを含有する式Ｉで表わされる化合物は、適当な有機及び無機塩基により処理することによって、それらの治療的に活性であり、無毒性の塩基付加塩形態、例えば金属塩又はアミン塩に変換することができる。適当な塩基付加塩は、例えばアンモニウム塩、アルカリ及びアルカリ土類金属塩、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム塩など、及び有機塩基との塩、例えばＮ−メチル−Ｄ−グルカミン、ヒドラバミン塩、及びアミノ酸、例えばアルギニン、リジンなどとの塩を包含する。
これとは逆に、上記塩形態は、適当な塩基又は酸で処理することによって遊離形態に変換することができる。
式Ｉで表わされる化合物及びそれらの塩は、溶媒和物の形態であることができ、これらも本発明の範囲に包含される。このような溶媒和物は、例えば水和物、アルコール和物などを包含する。
【００４２】
式Ｉで表わされる化合物の多く、及び若干のそれらの中間体は、それらの構造中に少なくとも１個の立体異性中心を有する。この立体異性中心は、Ｒ又はＳ配置で存在することができ、このＲ及びＳの表示は、Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，４５（１９７６），１１−３０に記載の規則に従い使用される。
本発明はまた、式Ｉで表わされる化合物のエナンチオマー及びジアステレオマー形態又はその混合物（全部の可能な立体異性体の混合物を包含する）などの全部の立体異性体形態に関する。
さらにまた、アルケニル基を含有する式Ｉで表わされる或る種の化合物は、Ｚ(zusammen)又はＥ(entgegen)異性体として存在することができる。各場合、本発明は混合物及び別々の各異性体の両方を包含する。
【００４３】
ピロリドン環上の複数の置換基はまた、ピロリドン環の平面に対して相互にシス(cis)又はトランス(trans)関係で存在することができる。
式Ｉで表わされる化合物の数種はまた、互変異性型で存在することができる。このような形態は、上記式に明確に示されていないが、本発明の範囲内に包含されるものとする。
本発明にかかわり、１種又は２種以上の化合物の引用は、特定の異性体形態が特別に引用されていないかぎり、その可能な各異性体形態及びその混合物の形態にある当該化合物をも包含するものとする。
本発明はまた、その範囲内に、プロドラッグ形態の式Ｉで表わされる化合物及びその種々の付属範囲及び付属群を包含する。
【００４４】
本明細書で使用するものとして、「プロドラッグ」の用語は、インビボにおいて、例えば血中において加水分解によって、本発明による本発明の親化合物に迅速に変換される化合物形態を包含する。プロドラッグは、それらの薬理学的作用を示す以前に、生体変換によって分離される基を有する化合物である。このような基は、インビボでこの基を有する化合物から容易に開裂され、開裂後に、化合物が薬理学的に活性であり続けるか、又は薬理学的に活性になる基を包含する。代謝により開裂され得る基は、当業者に周知の一群の基を形成する。これらには、このような基に制限されないものとして、アルカノイル（すなわち、アセチル、プロピオニル、ブチリルなど）、未置換及び置換炭素環状アロイル（例えば、ベンゾイル、置換ベンゾイル及び１−及び２−ナフトイル）、アルコキシカルボニル（例えば、エトキシカルボニル）、トリアルキルシリル（例えば、トリメチル−及びトリエチルシリル）、ジカルボン酸を開いて形成されるモノエステル（例えば、スクシニル）、ホスフェート、サルフェート、スルホネート、スルフィネート、スルフィニルなどを包含する。
【００４５】
代謝により開裂され得る基を有する化合物は、これらが代謝により開裂され得る基の存在によって、親の化合物に与えられた増強された溶解性及び／又は吸収速度の結果として、改善された生体利用性を示すことができるという利点を有する。Ｔ．Ｈｉｇｕｃｈｉ及びＶ．Ｓｔｅｌｌａ，「新規放出系としてのプロドラッグ」（“Pro-drugs as Novel Delivery System”),Vol.14 of the A.C.S.Symposium Series；「医薬デザインにおける生体可逆性担体」（“Bioreversible Carriers in Drug Design”),Edward B.Roche編集、American Pharmaceutical Association and Pergamon Press,1987。
【００４６】
我々の発明による式Ｉで表わされる化合物は、合成有機化学の当業者により理解される慣用の方法と同様にして製造することができる。
以下の方法にかかわる記載は、例示的態様として、或る種の合成経路を説明するものである。その他の別法及び／又は類似方法は、当業者にとって容易に明白であると見なされる。本明細書で置換基の意味に関連して使用されているものとして、「＝」は「である」(is)を意味し、また「≠」は「以外である」(is other than)を意味する。
【００４７】
Ａ．アミノエステルの環化
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏである場合、式ＡＡ−ＩＩのアミノエステルは環化され、ここでＱ1は、これが結合している酸素と一緒になって、脱離性基である、特にＱ1はアルキル基、特に炭素原子１−４個を有する直鎖状又は分枝鎖状アルキル基である。
2006022108.tif 000003
【００４８】
Ｑ1＝メチル又はエチル。この反応はそれ自体公知であり、一般に室温〜１５０℃において、酢酸、ヒドロキシベンゾトリアゾール又は２−ヒドロキシピリジンなどの触媒の存在又は不存在下に行われる。
Ｑ1≠メチル又はエチル。式ＡＡ−ＩＩで表わされるエステルを、酸性又は塩基性条件下に加水分解し、次いで慣用のペプチド合成条件下にカプリング剤、例えばジシクロヘキシルカルボジイミドを用いることによって環化させる（Bodanszky,M.,Bodanszky,A..「ペプチド合成の実際」（“The Practice of Peptide Synthesis”),Springer Verlag,1984）。
【００４９】
Ａ．１．イタコネート誘導体に対する付加によるＡＡ−ＩＩの合成
式ＡＡ−ＩＩにおいて、Ｒ2a＝Ｒ3a＝Ｈ及びＲ3＝ＣＯＯＱ2であり、Ｑ2は任意により光学活性であることができる直鎖状又は分枝鎖状アルキル基である化合物は、式ＡＡ−ＩＩＩで表わされる化合物を式ＡＡ−ＩＶで表わされるイタコネート誘導体と下記式に従い反応させることによって得られる：
2006022108.tif 000004
【００５０】
この反応は、Street,L.J.,Baker,R.,Book,T.,Kneen,C.O.,ManLeod,A.M.,Merchant,K.J.,Showell,G.A.,Saunders,J.Herbert,R.H.,Freedman,S.B.,Harley,E.A.,J.Med.Chem.（１９９０），３３，２６９０−２６９７に記載されている方法に従い行うことができる。
【００５１】
Ａ．２．還元的アミノ化によるＡＡ−ＩＩの合成
式ＡＡ−ＩＩで表わされる化合物は、下記式に従い、式ＡＡ−Ｖで表わされる化合物を式ＡＡ−ＩＩＩで表わされる化合物により還元的にアミノ化することによって調製することができる：
2006022108.tif 000005
【００５２】
この反応は、Ａｂｄｅｌ−Ｍａｇｉｄ，Ａ．Ｆ．，Ｈａｒｒｉｓ，Ｂ．Ｄ．，Ｍａｒｙａｎｏｆｆ，Ｃ．Ａ．，Ｓｙｎｌｅｔｔ．（１９９４），８１−８３に記載されている条件を用いて行うことができる。別法として、ＸがＣＯＮＲ5Ｒ6を表わす場合、アミンＡＡ−ＩＩＩは、アミド基を経て固体支持体［例えば、リンク樹脂（Rink resin)］に結合させることもできる。
式ＡＡ−Ｖで表わされる化合物は、下記方法の一つによって製造することができる：
【００５３】
2006022108.tif 000006
【００５４】
Ａ．２．１．式ＡＡ−ＶＩで表わされるアルデヒドを、Ｗｈｉｔｅｓｓｅｌｌ，Ｊ．Ｋ．，Ｗｈｉｔｅｓｓｅｌｌ，Ｍ．Ａ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（１９８３），５１７−５３６に記載されているように中間エナミン化合物を使用し、又はＣｏｒｅｙ，Ｅ．Ｊ．，Ｅｎｄｅｒｓ，Ｄ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．（１９７６），１１−１４に記載されているようにヒドラゾン化合物を使用し、式ＡＡ−ＶＩＩにおいて、Ｘ1がハロゲン原子を表わすアルキルハロゲノアセテートによりアルキル化し、次いでオゾン分解させる。
【００５５】
Ａ．２．２．式ＡＡ−ＶＩＩＩで表わされるニトロエステルは、その共役塩基をメタノール中で硫酸により処理し、次いで中間体ジメチルアセタールを加水分解することによって、化合物ＡＡ−Ｖに変換することができる［ネフ(Nef)反応（Ｕｒｐｉ，Ｆ．，Ｖｉｌａｒｒｓａ，Ｊ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．（１９９０），３１，７４９９−７５００）］。式ＡＡ−ＶＩＩＩで表わされるニトロエステルは、Ｈｏｒｎｉ，Ａ．，Ｈｕｂａｃｅｋ，Ｉ．，Ｈｅｓｓｅ，Ｍ．，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ（１９９４），７７，５７９に記載されているとおりに製造することができる。
【００５６】
Ａ．２．３．エステルＡＡ−Ｘは、強塩基（例えば、リチウムジイソプロピルアミド）の存在下にアルキルハライドＡＡ−ＩＸ（Ｘ1＝ハロゲン原子）によりアルキル化し、次いでこの不飽和エステルを、Ａｍｒｕｔａ，Ｒｅｄｄｙ，Ｐ．，Ｈｓｉａｎｇ，Ｂ．Ｃ．Ｈ．，Ｌａｔｉｆｉ，Ｔ．Ｎ．，Ｈｉｌｌ，Ｍ．Ｗ．，Ｗｏｏｄｗａｒｄ，Ｋ．Ｅ．，Ｒｏｔｈｍａｎ，Ｓ．Ｍ．，Ｆｅｒｒｅｎｄｅｌｌｉ，Ｊ．Ａ．，Ｃｏｖｅｙ，Ｄ．Ｆ．，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．（１９９６），３９，１８９８−１９０６に記載されているとおりに還元的にオゾン分解する。
【００５７】
Ａ．３．γ−ハロゲノエステルのアルキル化によるＡＡ−ＩＩの合成
式ＡＡ−ＩＩにおいて、Ｘ＝ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＯＯＲ7又はＣＮである化合物は、Ｘ2がハロゲン原子であるＡＡ−ＸＩγ−ハロゲノエステルをアミンＡＡ−ＩＩＩでアルキル化することによって製造することができる。
2006022108.tif 000007
この反応は、特許出願ＧＢ２２２５３２２Ａに記載の条件を用いて行うことができる。エステルＡＡ−ＸＩの合成はパートＢに記載する。
【００５８】
Ａ．４．５−ヒドロキシラクトン誘導体の還元的アミノ化によるＡＡ−ＩＩの合成
式ＡＡ−ＩＩにおいて、Ｘ＝ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＯＯＲ7又はＣＮ、Ｑ1＝Ｈ及びＲ2a＝Ｈである化合物は、下記式に従い、式ＡＡ−ＸＩＩで表わされる５−ヒドロキシアセトンを式ＡＡ−ＩＩＩで表わされるアミンにより還元的アミノ化することによって製造することができる：
2006022108.tif 000008
式ＡＡ−ＸＩＩで表わされる５−ヒドロキシラクトンは、Ｂ．１に記載のとおりに合成することができる。
【００５９】
Ｂ．γ−ハロゲノ酸誘導体によるアミンの縮合
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ、Ｘ＝ＣＯＮＲ7Ｒ8、ＣＯＯＲ7又はＣＮ及びＲ2a＝Ｈである場合、式ＡＡ−ＸＩＩＩで表わされる化合物を、下記式に従い、式ＡＡ−ＩＩＩで表わされるアミンと反応させる：
2006022108.tif 000009
【００６０】
式中、Ｘ3はハロゲン原子、好ましくはヨウ素又は塩素原子を表わし、Ｘ4はハロゲン原子、好ましくは塩素原子を表わす。この反応は、特許出願ＧＢ２２２５３２２Ａに記載のとおりに行うことができる。
式ＡＡ−ＸＩＩＩで表わされる化合物は、下記式に従い式ＡＡ−ＸＩＶで表わされるラクトンをハロゲン化剤、例えばＴＭＳＩ、ＳＯＣｌ2／ＺｎＣｌ2の存在下に開環させることによって得ることができる（必要に応じて、次いで得られたハロゲノ酸（Ｘ4＝ＯＨ）をハロゲン化する）：
2006022108.tif 000010
【００６１】
ラクトンＡＡ−ＸＩＶの開環は、Ｍａｚｚｉｎｉ，Ｃ．，Ｌｅｂｒｅｔｏｎ，Ｊ．，Ａｌｐｈａｎｄ，Ｖ．，Ｆｕｒｓｔｏｓｓ，Ｒ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．（１９９８），３８，１１９５−１１９６及びＯｌａｈ，Ｇ．Ａ．，Ｎａｒａｎｇ，Ｓ．Ｃ．，Ｇｕｐｔａ，Ｂ．Ｇ．Ｂ．，Ｍａｌｈｏｔｒａ，Ｒ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９７９），４４，１２４７−１２５０に記載の方法に従い行うことができる。得られたハロゲノ酸（Ｘ4＝ＯＨ）のハロゲン化（Ｘ4＝ハロゲン）及びエステル化（Ｘ4＝ＯＱ1）は、当業者に公知のいずれかの条件下に行うことができる。
式ＡＡ−ＸＩＶで表わされるラクトンは、下記方法の一つによって製造することができる：
【００６２】
Ｂ．１．有機金属化合物の水素添加又は共役付加
式ＡＡ−ＸＩＶにおいて、Ｒ2a＝Ｒ4a＝Ｈである化合物は、式ＡＡ−ＸＶで表わされるα，β−不飽和ラクトンの水素添加によって、又は式Ｒ3Ｍ（式中、ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｍｇ又はＺｎを表わす）で表わされる有機金属誘導体の化合物ＡＡ−ＸＶに対する共役付加（この反応は、最終的に銅（Ｉ）塩により触媒される）によって得ることができる。
2006022108.tif 000011
【００６３】
この反応は、Ａｌｅｘａｋｉｓ，Ａ．，Ｂｅｒｌａｎ，Ｊ．，Ｂｅｓａｃｅ，Ｙ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．（１９８６），２７，１０４７−１０５０；Ｌｉｐｓｈｕｔｚ，Ｂ．Ｈ．，Ｅｌｌａｗｏｒｔｈ，Ｅ．Ｌ．，Ｓｉａｈａａｎ，Ｔ．，Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９８９），１１１，１３５１−１３５８；に記載の方法に従い、又は当業者に公知のいずれかの条件下に、行うことができる。
【００６４】
Ｂ．２．スクシネート誘導体の還元
式ＡＡ−ＸＩＶにおいて、Ｒ2＝Ｒ2a＝Ｈである場合、カルボン酸ＡＡ−ＸＶＩのホウ素水素化物試薬、好ましくはＬｉＢＨ4又はＣａ（ＢＨ4）2の存在下でのアルコール溶媒中での下記式に従う還元： 
2006022108.tif 000012
式中、Ｑ3はメチル又はエチル基であり、Ｇ1はＯ又はＳを表わし、及びＱ4は水素原子であるか、又は炭素原子１−４個を有する直鎖状又は分枝鎖状アルキルを表わす（但し、Ｇ1＝Ｓである場合、Ｑ4＝アルキルであり、Ｇ1＝Ｏである場合、Ｑ4＝Ｈであるという条件である。）。
【００６５】
Ｃ．ラクタム誘導体のアルキル化
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ及びＸ＝ＣＯＯＲ7である場合、式ＡＡ−ＸＶＩＩで表わされる化合物を、下記式に従い、式ＡＡ−ＸＶＩＩＩで表わされる化合物と反応させる：
2006022108.tif 000013
式中、Ｘ5はハロゲン原子を表わし、及びＭはアルカリ金属を表わす。この反応は特許出願ＧＢ（ケース１５−０９）に記載の方法に従い行うことができる。
式ＡＡ−ＸＶＩＩで表わされる化合物は、Ｈｏｒｎｉ，Ａ．，Ｈｕｂａｃｅｋ，Ｉ．，Ｈｅｓｓｅ，Ｍ．，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ（１９９４），７７，５７９に記載の方法に従い製造することができる。
【００６６】
Ｄ．エステル誘導体の変換
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ及びＸ＝ＣＯＮＲ5Ｒ6であり、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中でカルボキシル、エステル又はスルホン酸により置換されている基はない場合、式Ｉ：
2006022108.tif 000014
（式中，Ｒ7は水素原子であるか、又は炭素原子１−４個を有する直鎖状又は分枝鎖状アルキル基である）
で表わされる相当するエステルを、直接アンモノリンス条件下に、又は慣用のペプチド合成条件下に、アミン及びカプリング剤、例えばアルキルクロロホーメート又はジシクロヘキシルカルボジイミドを用いることによってアミンに変換する。
【００６７】
Ｅ．α，β−不飽和ラクタムの還元
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ及びＲ2a＝Ｒ3a＝Ｒ4a＝Ｈである場合、式Ｉで表わされる化合物は、不飽和ラクタムＡＡ−ＸＩＸの還元によって得ることができる：
2006022108.tif 000015
【００６８】
この還元工程は、当業者に公知の古典的条件下に、例えばＰｄ／Ｃの存在下に、又は任意に光学活性触媒の存在下に、水素を用いて行うことができる。Ｒ2、Ｒ3又はＲ4が、低圧条件下に、例えば触媒としてＰｄ／Ｃを用いることにより、水素添加されやすい場合、このオレフィン混合物の二重結合は、ＣｏＣｌ2の存在下にＮａＢＨ4を用いて選択的に還元することができる。
【００６９】
化合物ＡＡ−ＸＩＸは、下記方法の一つによって製造することができる：
Ｅ．１．アルキル化による
式ＡＡ−ＩＩＩで表わされる化合物を、式ＡＡ−ＸＸ（式中、Ｑ5は炭素原子１−４個を有する直鎖状又は分枝鎖状アルキル基である）で表わされる化合物によりアルキル化し、次いで環化させる。このアルキル化工程は、不活性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド又はジクロロメタン中で、０〜５０℃において三級アミンの存在又は不存在下に行うことができる。環化反応は、自発的に生じることもあり、又はパートＡに記載の方法に従い行うことができる。
【００７０】
Ｅ．２．還元的アミノ化による
式ＡＡ−ＸＸＩで表わされる化合物を、還元的アミノ化条件下に、式ＡＡ−ＩＩＩで表わされる化合物と反応させる。この反応の第一工程は、不活性溶媒、例えばトルエン中で０〜５０℃において還元剤、例えばＮａＢＨ3ＣＮの存在及び酸、例えば酢酸の存在下に、行うことができる。化合物ＡＡ−ＸＸＩの合成は、Ｂｏｕｒｇｕｉｇｎｏｎ，Ｊ．Ｊ．等、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．（１９８８），３１，８９３−８９７に記載されている。
【００７１】
Ｆ．側鎖の官能基変換
Ｆ．１．エステルのアルコールへの還元
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ、Ｘ＝ＣＯＮＲ5Ｒ6又はＣＯＯＲ7（ここで、Ｒ7は三級アルキル基である）であり、及び基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つがＧ2−ＣＯＯＱ6（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基であり、及びＱ6は炭素原子１−４個を有する直鎖状又は分枝鎖状アルキル基である）である化合物は、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つがＧ2−ＣＨ2ＯＨである対応する化合物用の重要な合成中間体である。これらの変換は当業者に公知のいずれかの条件下に行うことができる。
【００７２】
Ｆ．２．アルコールの活性化及び酸化
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つがＧ2−ＣＨ2ＯＨ（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基である）を表わす化合物は、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つがＧ2−ＣＨ2Ｘ6又はＧ2−ＣＨＯ［ここで、Ｘ6は塩素、臭素又はヨウ素原子を表わすか、又は式−Ｏ−ＳＯ2−Ｑ7又は−Ｏ−Ｑ8（ここで、Ｑ7はアルキル又はアリール基であり、及びＱ8はアルキル基である）の基である］である対応する化合物のための重要な合成中間体である。これらの変換は当業者に公知のいずれかの条件下に行うことができる。
【００７３】
Ｆ．３．活性化したアルコールの求核性置換
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ及び基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つがＧ2−ＣＨ2Ｘ6（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基であり、及びＸ6は塩素、臭素又はヨウ素原子を表わすか、又は上記Ｆ．２に定義のとおりの式−Ｏ−ＳＯ2−Ｑ7の基である）化合物は、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つがＧ2−ＣＨ2Ｘ7（ここで、Ｘ7はアジド、ハロゲン、ニトロ、アミノ、アミノ誘導体、チオ誘導体及びヘテロ環を表わす）を表わす対応する化合物のための重要な合成中間体である。これらの変換は当業者に公知のいずれかの条件下に行うことができる。
【００７４】
Ｆ．４．アルデヒドのオレフィン化による
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ、Ｘ＝ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＯＯＲ7又はＣＮ及び基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つがＧ2−ＣＨＯ（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基である）である化合物は、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つがＧ2−Ｑ9（ここで、Ｑ9は置換されていないか、１個又は２個のハロゲン原子又はアルキル基により置換されているビニル基を表わす）を表わす対応する化合物のための重要な合成中間体である。これらの変換は当業者に公知のいずれかの条件下に行うことができる。
別法として、化合物−Ｇ2−ＣＮは、そのオキシムとＳｅＯ2との反応によって、対応するアルデヒドから得ることができる（Ｅａｒｌ，Ｒ．Ａ．，Ｖｏｌｌｈａｒｄｔ，Ｋ．Ｐ．Ｃ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９８４），４９，４７８６に記載されている）。
【００７５】
Ｆ．５．酸誘導体のヘテロ環への変換
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ及び基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つが−Ｇ2−ＣＮ又は−Ｇ2−ＣＯＱ10（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基であり、及びＱ10はアルコキシ、アリールオキシ若しくはアミノ基、ハロゲン原子又はアミノ誘導体である、ただし−ＣＯＱ10はＸとは相違している）である化合物は、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つがＧ2−Ｑ11であり、Ｑ11が（ｉ）酸クロライド−Ｇ2−ＣＯＣｌとアリール／ヘテロ環状有機金属、例えばトリメチル−ピリジル−スズとの間のパラジウム触媒カプリングによる−ＣＯ−アリール／ヘテロ環、又は
【００７６】
（ｉｉ）ヘテロ環、例えばチアゾール（Ｆｒｉｅｄｍａｎ，Ｂ．Ｓ．，Ｓｐａｒｋｓ，Ｍ．，Ａｄａｍｓ，Ｒ．，Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９３３），５５，２２６２又はＩｒｏｋａ，Ｎ．，Ｈａｒｍａｄａ，Ｙ．，Ｓｈｉｏｒｉ，Ｔ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ（１９９２），４８，７２５１）、オキサゾール（Ｓｔｒｅｅｔ，Ｌ．Ｊ．，Ｂａｋｅｒ，Ｒ．，Ｃａｓｔｒｏ，Ｊ．Ｌ．，Ｃｌａｍｂｅｒ，Ｒ．Ｓ．，Ｇｕｉｂｌｉｎ，Ａ．Ｒ．，Ｈｏｂｂｓ，Ｓ．Ｃ．，Ｍｅｔａｓｓａ，Ｖ．Ｇ．，Ｒｅｅｖｅ，Ａ．Ｊ．，Ｂｅｅｒ，Ｍ．Ｓ．，Ｍｉｄｄｌｅｍｉｓ，Ｄ．Ｎ．，Ｎｏｂｌｅ，Ａ．Ｊ．，Ｓｔａｎｔｏｎ，Ｊ．Ａ．，Ｓｃｈｏｌｅｙ，Ｋ．，Ｈａｒｇｒｅａｖｅｓ，Ｒ．Ｊ．，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．（１９９３），３６，１５２９）、オキサジアゾール（Ａｉｎｓｗｏｒｔｈ，Ｃ．，Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９５５），７７，１１４８）、ニトリルから出発するテトラゾール（Ｇｏｅｒｌｉｔｚｅｒ，Ｋ．，Ｋｏｇｔ，Ｒ．，Ａｒｃｈ．Ｐｈａｒｍ．（１９９０），３２３，８４７）、又はチアジアゾール（Ｌａｍａｔｔｉｎａ，Ｊ．Ｌ．，Ｍｕｌａｒｓｋｉ，Ｃ．Ｊ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９８４），４９，４８００）を表わす対応する化合物のための重要な合成中間体である。
【００７７】
Ｆ．６．ケトン誘導体の合成
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏであり、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つが−Ｇ2−ＣＨ＝ＣＱ12Ｑ13又は−Ｇ2−ＣＱ13＝ＣＨＱ12（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基であり、Ｑ12及びＱ13は水素原子又はアルキル基である、ただしＲ1、Ｘ、Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aのいずれもが酸化条件に対して感受性である官能性基ではない）である化合物は、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つが−Ｇ2−ＣＯ−ＣＨＱ12Ｑ13又は−Ｇ2−ＣＨＱ13−ＣＯ−Ｑ12を表わす対応する化合物のための重要な合成中間体である。これらの変換は当業者に公知の適当な条件、例えば不活性溶媒、例えばジメチルホルムアミド又はＮ−メチルピロリドン中で０〜５０℃においてＯ2及びＰｄＣｌ2の存在下に行うことができる（Ｂｉｒｄ，Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ  Ｍｅｔａｌｓ  Ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ，ＮＹ，（１９６７），８８−１１１）。
【００７８】
Ｆ．７．ケトンの誘導体化
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ、Ｘ＝ＣＯＮＲ5Ｒ6又はＣＯＯＲ7であり、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つが、−Ｇ2−ＣＯ−Ｑ14（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基であり、及びＱ14はアルキル基である）を表わす化合物は、（ｉ）水素化物試薬を用いる還元によるアルコール−Ｇ2−ＣＨＯＨ−Ｑ14の合成（Ｍａｒｃｈ，Ｊ．，Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第３版、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，（１９８５），８０９）、（ｉｉ）Ｌａｌ，Ｇ．Ｓ．，Ｐｅｚ，Ｇ．Ｐ．，Ｐｅｓａｒｅｓｉ，Ｒ．Ｊ．，Ｐｒｏｚｏｎｉｃ，Ｆ．Ｍ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．（１９９９），２１５−２１６に記載の条件を用いるフッ素化側鎖−Ｇ2−ＣＦ2−Ｑ14の合成の重要な合成中間体である。
【００７９】
Ｆ．８．アルキニル誘導体の合成
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏであり、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つが−Ｇ2−Ｃ＝Ｃ（Ｘ8）2（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基であり、及びＸ8はハロゲン原子であり、ただしＸ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aのいずれもが強塩基に対して感受性である官能性基ではない）である化合物は、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つが
2006022108.tif 000016
（ここで、Ｑ15は水素、ハロゲン、アルキル又はアリールである）を表わす対応する化合物のための重要な合成中間体である。
【００８０】
これらの変換は下記のとおりに行うことができる：
−  塩基誘発β−脱離（例えば、Ｍｉｃｈｅｌ，Ｐ．，Ｒａｓｓａｔ，Ａ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．（１９９９），４０，８５７９−８５８１に記載のとおり１当量のｔ−ＢｕＯＫを低温で使用する）により、ハロアセチレン誘導体（Ｑ15＝ハロゲン）として、次いでハロゲンの有機金属種による金属触媒置換（例えば、Ｍｉｃｏｕｉｎ，Ｌ．，Ｋｎｏｃｈｅｌ，Ｐ．，Ｓｙｎｌｅｔｔ．（１９９７），３２７に記載のとおりにＣｕＣＮ．ＬｉＣｌの存在下にＭｅＺｎＣｌを用いる）による。
−  金属アセチレニド（例えば、２当量のｎ−ブチルリチウムを用いる）への直接変換、引続くアルキルハライド又はカルボニル誘導体によるアルキル化（Ｃｏｒｅｙ，Ｅ．Ｊ．，Ｆｕｃｈｓ，Ｐ．Ｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．（１９７２），３６，３７６９−３７７２に記載のとおり）による。
【００８１】
Ｆ．９．アルカンの合成
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏであり、基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つが、−Ｇ2−Ｃ＝Ｃ−Ｑ16Ｑ17（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基であり、及びＱ16及びＱ17はアルキル又はフルオロである）を表わす化合物は、Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つが、−Ｇ2−ＣＨ−ＣＨ−Ｑ16Ｑ17を表わす対応する化合物のための重要な合成中間体である。
この還元工程は、当業者に公知の古典的条件、例えばＰｄ／Ｃの存在下に水素を用いることによって行うことができる（Ｍａｒｃｈ，Ｊ．，“Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第三版”、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，（１９８５），１１０１−１１０２）。
【００８２】
Ｆ．１０．（ハロ）アジドアリール誘導体の合成
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ、Ｘ＝ＣＯＮＲ5Ｒ6又はＣＯＯＲ7又はＣＮであり、基Ｒ2、Ｒ3又はＲ4の中の一つが、−Ｇ2−Ｑ18（ここで、Ｑ18はニトロアリール又はトリアゼノアリールを表わし、Ｇ2は結合又はアルキレン基である）である化合物は、Ｒ2、Ｒ3又はＲ4の中の一つが、−Ｇ2−Ｑ19（ここで、Ｑ19は１個又は数個のハロゲン原子、好ましくはＢｒ又はＦ原子により置換されていてもよいアジドアリールである）である対応する化合物合成の重要な中間体である。この変換は、当業者に公知のいずれかの手段によるニトロ又はトリアゼン基のアニリンへの還元、及び必要に応じて、１個又は数個のハロゲン原子の導入（Ｘｉｎｇ−ｔｅｎｇ，Ｄ．，Ｇｕｏ−ｂｉｎ，Ｌ．，Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．（１９８９），１９，１２６１）、及び周知の方法によるアミンのアジドへの変換により行う。
【００８３】
Ｆ．１１．アミンからのヘテロ環の合成
式Ｉにおいて、Ａ1＝Ｏ、Ｘ＝ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＯＯＲ7又はＣＮであり、Ｒ2、Ｒ3又はＲ4の中の一つが、−Ｇ2−Ｑ20（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基であり、及びＱ20は、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ2又はＣＮである）である化合物は、Ｒ2、Ｒ3又はＲ4の中の一つが、−Ｇ2−ＮＨ2又はＧ2−ＣＨ2−ＮＨ2である対応する化合物合成のための重要な中間体であり、この化合物はＲ2、Ｒ3又はＲ4の中の一つが、Ｇ2−Ｈｅｔ又はＧ2−ＣＨ2−Ｈｅｔ（ここで、Ｈｅｔは、窒素原子により結合されているヘテロ環であり、及び１個又は数個のハロゲン原子により置換されていてもよい）である対応する化合物を導く。
【００８４】
−  Ｘ＝ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ又はＣＯＯＲ7（ここで、Ｒ7はＨとは異なる）である場合、及びＲ2、Ｒ3又はＲ4が、Ｇ2−ＣＯＯＨである場合、この変換はクルチウス転位（例えば、Ｋｉｍ，Ｄ．，Ｗｅｉｎｒｅｂ，Ｓ．Ｍ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９７８），４３，１２５に記載されているように、ジフェニルホスホルアジデート及びトリエチルアミンの作用及びベンジルアルコールによるその場での停止による）、アミン官能基の水素添加分解又は当業者に公知のいずれかの条件による脱保護によるＲ2、Ｒ3又はＲ4＝Ｇ2−ＮＨ2の生成、引続く環合成によるヘテロ環、例えばピロールの生成（Ｊｅｆｆｏｒｄ，Ｃ．Ｗ．，Ｔａｎｇ，Ｑ．，Ｚａｓｌｏｎａ，Ａ．，Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９９１），１１３，３５１３−３５１８）、及び必要に応じて、環上への１個又は数個のハロゲン原子の導入（Ｇｉｌｏｗ，Ｈ．Ｍ．，Ｂｕｒｔｏｎ，Ｄ．Ｅ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１９８１），４６，２２２１−２２２５）を経て進行する。
【００８５】
−  Ｘ＝ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＯＯＲ7又はＣＮ及び基Ｒ2、Ｒ3又はＲ4の中の一つが、Ｇ2−ＣＯＮＨ2である場合（この場合、ＸはＣＯＮＲ5Ｒ6とは相違している）又はＧ2−ＣＮ（この場合、ＸはＣＮとは相違している）である場合、この変換は、当業者に公知のいずれかの条件におけるアミド又はニトリルのアミノメチル基への選択的還元及び環合成によるヘテロ環、例えばトリアゾールの生成（Ｍｉｌｅｓ，Ｒ．Ｗ．，Ｓａｍａｎｏ，Ｖ．，Ｒｏｂｉｎｓ，Ｍ．Ｊ．，Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９９５），１１７，５９５１−５９５７）を経て進行する。
【００８６】
Ｆ．１２．トリアゾールの合成
式Ｉにおいて、Ａ2＝Ｏ及び基Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つが、−Ｇ2−ＣＨ2Ｎ3（ここで、Ｇ2は結合又はアルキレン基である）を表わす化合物は、Ｒ2、Ｒ2a、Ｒ3、Ｒ3a、Ｒ4及びＲ4aの中の一つが、−Ｇ2−ＣＨ2−トリアゾールを表わす対応する化合物のための重要な合成中間体である。これらの変換は、１−（トリフェニルホスホラニリデン）−ケトン誘導体の存在下における延長された時間にわたる加熱によって行うことができる（Ｈａｍｍｅｒｓｃｈｍｉｄｔ，Ｆ．，Ｐｏｌｓｔｅｒｅｒ，Ｊ．Ｐ．，Ｚｂｉｒａｌ，Ｅ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（１９９５），４１５に記載されている）。
【００８７】
Ｆ．１３．分割
式Ｉで表わされる化合物が、１個又は数個の立体異性中心を持って存在する場合、及び非立体選択的合成方法が使用される場合、立体異性体の混合物の分割は、１工程又は数工程で最良に行うことができ、これには一般に、好ましくは逆相又は好適には直接方式によるアキラル又はキラル相上でのクロマトグラフィー分離を用い、引続く最も好ましくは逆相又は好適には直接方式によるキラル相上でのクロマトグラフィー分離を用いる各ラセミ体のそのエナンチオマーへの少なくとも１回の分割最終工程を用いる、ジアステレオマーの混合物からのそれらの構成ラセミ体への順次的分離が含まれる。別法として、部分的に立体選択的な合成方法を使用する場合、この最終工程は逆相又は好適には直接方式によるアキラル又はキラル相上でのクロマトグラフィー分離を用い、ジアステレオマーを分離することであってもよい。
【００８８】
上記中間体化合物の或る種の化合物、特に式ＡＡ−ＩＩにおいて、種々の置換基が上記の意味を有する化合物は新規であり、本発明の一部をまた構成する。これらの新規中間体において、脱離基が製薬上許容される基である中間体は、以下に式Ｉで表わされる化合物について記載の有用性と同一の有用性を有する。
ここに、式Ｉで表わされる化合物及びそれらの製薬上許容される塩は、種々の製薬用途に有用であることが見出された。
例えば、本発明による化合物は、てんかん、てんかん誘発症、発作疾患及び痙攣の処置に有用である。
【００８９】
これらの化合物はまた、双極性障害(bipolar disorders)、躁病、うつ病、不安症、偏頭痛、三叉神経及びその他の神経痛、慢性の痛み、ニューロパシイ性痛み、脳虚血、心不整脈、ミオトニー、コカイン乱用、卒中、ミオクローヌス、本態性振せん及びその他の運動障害、新生児脳出血、筋萎縮側索硬化症、痙症、パーキンソン病及びその他の変質性疾病を包含する神経学的障害の処置に使用することができる。
さらにまた、本発明による化合物は、気管支喘息、喘息発作重積状態及びアレルギー性気管支炎、喘息症候群、気管支過剰反応及び気管支痙攣症候群、ならびにアレルギー性及び血管神経性鼻炎及び鼻結膜炎の処置に使用することができる。
【００９０】
従って、本発明はさらなる態様において式Ｉの化合物、又はその製薬上許容される塩の、上記のような神経性及びその他の疾患の治療用医薬の製造における使用に関する。
特に、本発明は式Ｉで表わされる化合物又はその製薬上許容される塩をてんかん、双極性障害、慢性の痛み又はニューロパシイ性痛み、偏頭痛、気管支−、喘息−又はアレルギー性症状を処置するための医薬の製造に使用することに関する。
活性化合物の活性及び性質、経口利用性及びインビトロ又はインビボ安定性は、開示されている化合物の光学異性体の間で有意に変化することがある。
好適態様において、活性化合物はエナンチオマー的に富裕の形態、すなわち実質的に１種の異性体の形態で投与する。
【００９１】
一例として、式Ｉにおいて、Ｒ1がエチルであり、Ｘが−ＣＯＮＨ2であり、Ａ2が酸素である場合であって、Ｒ3がプロピルであり、かつ残りの置換基のすべてが水素である場合、Ｓ（ブタンアミド），Ｒ（環）エナンチオマーが好適であり、またＲ3が２，２−ジフルオロビニルであり、及び全部の残りの置換基が水素である場合、Ｓ（ブタンアミド），Ｓ（環）エナンチオマーが好適である。
本発明はまた、処置を要する哺乳動物における、てんかん、偏頭痛、双極性障害、慢性の痛み又はニューロパシイ性痛み、又は気管支−、喘息−又はアレルギー性症状の処置方法に関し、この方法は少なくとも１種の式Ｉで表わされる化合物又はその製薬上許容される塩の治療用量を患者に投与することを含む。
【００９２】
本発明の方法は、上記症状又は障害に苦しむ哺乳動物（好ましくは、ヒト）に、このような障害又は症状の軽減又は予防に充分な量で本発明による化合物を投与することを包含する。
これらの化合物は、いずれか適当な単位剤型で都合良く投与することができ、これらに制限されないものとして、１単位剤型は活性成分を５〜１０００ｍｇ、好ましくは２５〜５００ｍｇの量で含有する。
本明細書で使用されているものとして、「処置」の用語は、治療的処置及び予防的処置を包含する。
「治療的」の用語は、障害又は症状の現存する症状の処置における有効性を意味する。
「予防的」の用語は、障害又は症状の発現又は再発の予防を意味する。
【００９３】
本明細書で使用されているものとして、「てんかん」(epilepsy)の用語は、発作の周期的及び予測外の発現を特徴とする脳機能の障害を表わす。発作は、電気ショック又は化学品による痙攣などの処置によって正常な脳で発症した場合、「非てんかん性」であり、又は明らかな刺激なしで発症した場合、「てんかん性」であることができる。
本明細書で使用されているものとして、「発作」(seizures)の用語は、脳ニューロンの損傷した、同時的及び律動的発現による挙動の一時的変化を表わす。
【００９４】
本明細書で使用されているものとして、「偏頭痛」の用語は、強度、頻度及び持続時間が広く変化する頭痛の再発性発病を特徴とする障害を意味する。この発病は通常、片側性であり、また通常、食欲不振、吐気、嘔吐、音恐怖症、及び／又は光恐怖症を付随する。或る種の場合、これらに先立ち、神経学的及び感覚的不調が生じるか、又は神経学的及び感覚的不調を付随する。偏頭痛による頭痛は、４時間〜約７２時間持続することがある。国際頭痛学会(International Headache Society)（ＩＨＳ，１９８８）は、偏頭痛の主要タイプとして、前兆を伴う偏頭痛（古典的偏頭痛）及び前兆を伴わない偏頭痛（通常の偏頭痛）に偏頭痛を分類している。前兆を伴う偏頭痛は、特徴的な視覚、感覚、発言、又は運動症状が先行する頭痛フェースからなる。このような症状が存在しない場合、この頭痛は前兆を伴わない偏頭痛と称される。
【００９５】
本明細書で使用されているものとして、「双極性障害」の用語は、精神障害の診断及び統計学的マニュアル（Ｄｉａｇｎｏｓｔｉｃ  ａｎｄ  Ｓｔａｔｉｓｔｉｃａｌ  Ｍａｎｕａｌ  ｏｆ  Ｍｅｎｔａｌ  Ｄｉｓｏｒｄｅｒｓ）、第４版（Ｄｉａｇｎｏｓｔｉｃ  ａｎｄ  Ｓｔａｔｉｓｔｉｃａｌ  ｍａｎｕａｌ  ｏｆ  Ｍｅｎｔａｌ  Ｄｉａｏｒｄｅｒｓ（ＤＳＭ−ＩＶＴＭ）、Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｐｓｙｃｈｉａｔｒｙ  Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ，Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ，ＤＣ，１９９４）に従い、気分障害(Mood Disorders)として分類されている障害を表わす。双極性障害は一般に、患者の過剰興奮、活動性及び気分が有意に不調である、自発的に引き起こされ、反復する（すなわち、少なくとも２回の）現象を特徴とする。この不調は、或る場合、情調の上昇及び増大したエネルギイ及び活動（躁病又は軽躁病）からなり、また他の場合、情調の低下及び減少したエネルギイ及び活動（うつ病）からなる。双極性障害は、ＤＳＭ−ＩＶにおいて４種の主なカテゴリイに分類される（双極性Ｉ障害、双極性ＩＩ障害、循環気質、及び別段に特定化されない双極性障害）。
【００９６】
本明細書で使用されているものとして、「躁病現象」(manic episode)の用語は、抑圧された発語及び精神運動動揺の兆しを伴う異常に、かつ継続的に上昇した、膨大な、又は過敏な気分が存在する明確な期間を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「軽躁病」の用語は、重篤度の低下を伴う、より極端ではない躁病現象を表わす。
本明細書で使用されているものとして、「主要うつ病現象」の用語は、その間損なわれた集中力及び精神運動遅滞の兆しを伴うほとんど全部の活動性における興味又は快楽の欠落又は落ち込んだ気分が存在するが、少なくとも２週間の期間を意味する。
【００９７】
本明細書で使用されているものとして、「混合現象」（mixed  episode）の用語は、躁病現象及び主要うつ病現象の両方の基準がほぼ毎日満たされる期間（少なくとも１週間の持続時間）を意味する。
本明細書で使用されているものとして、「慢性の痛み」の用語は、急性の痛みとは相違する病気プロセスとして次第に認識される状態を表わす。通常、正常な治癒時間を越えて持続する痛みであると定義される痛みはまた、その痛みが予知可能な将来にわたって、彼等の生涯の一部に継続することが、個人により認識される時点で、慢性であると考えることができる。同様に、慢性の痛み症状の大部分は、ニューロパシイ要素を包含し、これは通常、急性の体性疼痛よりも処置が困難である。
【００９８】
本明細書で使用されているものとして、「ニューロパシイ性痛み」（neuropathic pain）の用語は、有害な刺激の存在を知らせる神経における病的変化により開始される痛みを表わし、このような認識できる刺激がない場合、痛みの発現の失敗が生じる。換言すれば、この痛みのシステムは、それ自体で作動され、それ自体で中断することはできないようである。
式Ｉで表わされる化合物又はそれらの製薬上許容される塩の抗痙攣剤としての活性は、聴覚原性発作モデルにおいて測定することができる。この試験の目的は、遺伝的動物モデルである反射痙攣発作を示す音−感受性マウスにおいて誘発させた視覚原性発作を用いて化合物の抗痙攣の可能性を評価することにある。この原発性全身てんかん症のモデルでは発作は電気的又は化学的刺激を用いることなく生じ、またこのタイプの痙攣は、少なくとも部分的に、ヒトに生じる発作に臨床現象学的に類似する（Ｌｏｓｃｈｅｒ  Ｗ．＆  Ｓｃｈｍｉｄｔ  Ｄ．，Ｅｐｉｌｅｐｓｙ  Ｒｅｓ．（１９９８），２，ｐ．１４５−１８１；Ｂｕｃｈｈａｌｔｅｒ  Ｊ．Ｒ．，Ｅｐｉｌｅｐｓｉａ（１９９３），３４，Ｓ３１−Ｓ４１）。式Ｉで表わされる化合物で得られた結果は、強力な薬理学的効果を示す。
【００９９】
抗痙攣活性の可能性を示すもう一つの試験は、本明細書中、以下で説明するレベチラセタム結合部位（ＬＢＳ）に対する結合である。
慢性ニューロパシイ性痛みに対する式Ｉで表わされる化合物又はそれらの製薬上許容される塩の活性は、動物モデルで測定することができる。一例として、慢性ニューロパシイ性痛みは、ラットにおいて薬理学的に糖尿病を誘発させることによりモデル化することができる。このモデルにおいて、動物は、痛みを有する末梢ニューロパシイを患う患者に一般的に見出される症状である、侵害受容性刺激に対する進行性痛覚過敏を示す（Ｃｏｕｒｔｅｉｘ，Ｃ．，Ｅｓｃｈａｌｉｅｒ，Ａ．及びＬａｖａｒｅｎｎｅ，Ｊ．，Ｐａｉｎ，５３（１９９３），８１−８８）。このモデルは高い薬理学的予測可能性を有することを示した（Ｃｏｕｒｔｅｉｘ，Ｃ．，Ｂａｒｄｉｎ，Ｍ．，Ｃｈａｎｔｅｌａｕｚｅ，Ｃ．，Ｌａｖａｒｅｎｎｅ，Ｊ．及びＥｓｃｈａｌｉｅｒ，Ａ．，Ｐａｉｎ，５７（１９９４），１５３−１６０）。
【０１００】
式Ｉで表わされる化合物又はそれらの製薬上許容される塩の双極性障害に対する活性は、動物モデルにおいて評価することができる。一例として、双極性障害、特に躁病は、ラットにおいて薬理学的に異常活動を誘発させ、Ｙ型迷路における彼等の挙動を評価することによりモデル化することができる。このような状況において、リチウム及びナトリウムバルプロエート（Ｖａｌｐｒｏａｔｅ）のような、ヒトにおいて有効な治療剤は、異常活動を減少させ、従ってモデルの予測可能性を確実なものとする（Ｃａｏ，Ｂ．及びＰｅｎｇ，Ｎ．Ａ．：Ｅｕｒ．Ｊ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．２３７（１９９３），１７７−１８１。Ｖａｌｅ，Ａ．Ｌ．及びＲａｔｃｌｉｆｆｅ，Ｆ．，Ｐｓｙｃｈｏｐｈａｒｍａｃｏｌｏｇｙ，９１（１９８７），３５２−３５５）。
【０１０１】
式Ｉで表わされる化合物又はそれらの製薬上許容される塩の抗−喘息性質の可能性は、アレルギー性喘息の動物モデルにおいて試験されている。この試験は、オボアルブミンに対して感作されているモルモットに抗原をチャレンジさせ、肺機能及び気道炎症細胞数の変化を調べる試験方法である（Ｙａｍａｄａ等（１９９２），「モルモットにおける遅延喘息応答の動物モデルの開発及び抗喘息薬の効果」、Ｐｒｏｓｔａｇｌａｎｄｉｎｓ，４３：５０７−５２１）。
上記適応症のいずれかにおける活性が、特定の適応症及び／又は一般的臨床試験の計画にかかわる当業者に知られている方法で適当な臨床試験を行うことによって測定することができることは勿論のことである。
【０１０２】
病気の処置において、式Ｉで表わされる化合物又はそれらの製薬上許容される塩は、有効一日薬用量で使用することができ、医薬組成物の形態で投与することができる。
従って、本発明のもう一つの態様は、有効量の式Ｉで表わされる化合物又はその製薬上許容される塩を製薬上許容される稀釈剤又は担体と組合わせて含有する医薬組成物に関する。
本発明による医薬組成物を製造する場合、１種又は２種以上の式Ｉで表わされる化合物又はその製薬上許容される塩を、当業者に知られている常習的製薬配合技術に従い製薬用稀釈剤又は担体と緊密に混合する。
【０１０３】
適当な稀釈剤及び担体は、所望の投与経路、例えば経口、直腸又は非経口に応じて広く種々の形態であることができる。
本発明による化合物を含有する医薬組成物は、例えば経口又は非経口、すなわち静脈内、筋肉内又は皮下、鞘内投与することができる。
経口投与に適する医薬組成物は、例えば錠剤、丸剤、糖衣錠、ゼラチンカプセル剤、溶液、シロップ等の形態であることができる。
この目的には、活性成分を不活性稀釈剤又は無毒性の医薬上で許容される担体、例えばデンプン又は乳糖と混合することができる。所望により、これらの医薬組成物はまた、微結晶セルロース、トラガカントガム又はゼラチンなどの結合剤、アルギン酸などの崩壊剤、ステアリン酸マグネシウムなどの滑剤、コロイド状二酸化ケイ素などの粉砕剤、ショ糖若しくはサッカリンなどの甘味剤、又は着色剤又はペパーミント若しくはサリチル酸メチルなどの風味付与剤を含有することができる。
【０１０４】
本発明はまた、制御様相で活性物質を放出することができる組成物を包含する。非経口投与に使用することができる医薬組成物は、一般にアンプル、使い捨て注射器、ガラス又はプラスティック製バイアル又は点滴用容器内に含有されている水性又は油性の溶液又は懸濁液などの慣用の形態である。
活性成分に加えて、これらの溶液又は懸濁液は、所望により、無菌希釈剤、例えば注射用水、生理食塩水、油類、ポリエチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール又はその他の合成溶剤；抗菌剤、例えばベンジルアルコール；酸化防止剤、例えばアスコルビン酸又は重硫酸ナトリウム；キレート形成剤、例えばエチレンジアミン−テトラ酢酸；緩衝剤、例えばアセテート、シトレート又はホスフェート；及び浸透圧調整剤、例えば塩化ナトリウム又はデキストローズ；をまた含有することができる。
【０１０５】
これらの医薬形態は、薬剤師によって常習的に使用される方法を用いて製造される。
医薬組成物中の活性成分の量は、広範囲の濃度を与えるものでよく、種々の因子、例えば患者の性別、年齢、体重及び医療状態に、及び投与方法に依存する。従って、経口投与用組成物中の式Ｉで表わされる化合物の量は、組成物の総重量に基づき、少なくとも０．５重量％であり、８０重量％までであることができる。
【０１０６】
本発明に従い、式Ｉで表わされる化合物又はその製薬上許容される塩は、単独で又は別の医薬活性成分と組合わせて投与することができる。このような本発明による化合物と組合わせて使用することができる追加の化合物の非制限例には、抗ウイルス薬、抗痙攣薬［例えば、バクロフェン(baclofen)］、制吐薬、抗躁気分安定剤、鎮痛薬［例えば、アスピリン(aspirin)、イブプロフェン(ibuprofen)、パラセタモル(paracetamol)］、麻酔性鎮痛薬、局所麻酔薬、オピオイド鎮痛薬、リチウム塩、抗うつ薬［例えば、ミアンセリン(mianserin)、フルオキセチン(fluoxetine)、トラゾドン(trazodone)］、三環状抗うつ薬［例えば、イミプラミン(imipramine)、デシプラミン(desipramine)］、抗痙攣薬［例えば、バルプロ酸(valproic acid)、カルバマゼピン(carbamazepine)、フェニトイン(phenytoin)］、
【０１０７】
抗精神薬［例えば、リスペリドン(risperidon)、ハロペリドール(haloperidol)］、神経安定薬、ベンゾジアゼピン類［例えば、ジアゼパム(diazepam)、クロナゼパム(clonazepam)］、フエノチアジン類［例えば、クロルプロマジン(chlorpromazine)、カルシウムチャンネル遮断薬、アンフェタミン(amphetamine)、クロニジン(clonidine)、リドカイン(lidocaine)、メキシレチン(mexiletine)、カプサイシン(capsaicin)、カフェイン(caffeine)、クエチアピン(quetiapine)、セロトニンアンタゴニスト、β−遮断薬、抗不整脈薬、トリプタン類(triptans)、エルゴット(ergot)誘導体がある。
【０１０８】
本発明による特に重要な組合わせは、式Ｉで表わされる化合物又はその製薬上許容される塩と少なくとも１種のＧＡＢＡAレセプターにより媒介される神経抑制を誘発する化合物との組合わせである。式Ｉで表わされる化合物は、ＧＡＢＡAレセプターにより媒介される神経抑制を誘発する化合物に対する強化作用を示し、かなりの場合に、有害な作用の危険性の減少をした、症状及び障害を効果的に処置することができる。
ＧＡＢＡAレセプターにより媒介される神経抑制を誘発する化合物の例には、下記化合物が包含される：ベンゾジアゼピン類(benzodiazepines)、バルビツレート類(barbiturates)、ステロイド類、及び抗痙攣薬、例えばバルプロエート(valproate)、ビアガバトリン(viagabatrine)、チアガビン(tiagabine)又はその製薬上許容される塩。
【０１０９】
ベンゾジアゼピン類は、１，４−ベンゾジアゼピン類、例えばジアゼパム(diazepam)及びクロナゼパム(clonazepam)、及び１，５−ベンゾジアゼピン類、例えばクロバザム(clobazam)を包含する。好適化合物はクロナゼパムである。
バルビツレート類は、フェノバルビタール(phenobarbital)及びペントバルビタール(pentobarbital)を包含する。好適化合物はフェノバルビタールである。
ステロイド類は、副腎皮質作用性ホルモン類、例えばテトラコサクチド(tetracosactide)アセテートなどを包含する。
【０１１０】
抗痙攣薬は、ヒダントイン類［フェニトイン(phenytoin)、エトトイン(ethotoin)など］、オキサゾリジン類［トリメタジオン(trimethadione)など］、スクシンイミド類［エトスクシミド(ethosuximide)など］、フェナセミド類［フェナセミド(phenacemide)、アセチルフェネツリド(acetylpheneturide)など］、スルホンアミド類［スルチアム(sulthiam)、アセトアゾラミド(acetoazolamide)など］、アミノ酪酸類［例えば、γ−アミノ−β−ヒドロキシ酪酸など］、ナトリウムバルプロエート及び誘導体、カルバムアゼピン(carbamazepine)などを包含する。
好適化合物は、バルプロ酸、バルプロミド、バルプロエートピボキシル、ナトリウムバルプロエート、半−ナトリウムバルプロエート、ジバルプロエックス(divalproex)、クロナゼパム(clonazepam)、フェノバルビタール(phenobarbital)、ビガバトリン(vigabatrine)、チアガビン(tiagabine)を包含する。
【０１１１】
好適経口組成物の場合、式Ｉで表わされる化合物の一日薬用量は、５〜１０００ミリグラム（ｍｇ）の範囲である。
非経口投与用組成物の場合、存在する式Ｉで表わされる化合物の量は、組成物の総重量に基づき、少なくとも０．５重量％であり、３３重量％までであることができる。好適非経口組成物の場合、単位用量は式Ｉで表わされる化合物５ｍｇ〜１０００ｍｇの範囲である。
一日の用量は、式Ｉで表わされる化合物を広範囲の投与単位とすることができ、一般に５〜１０００ｍｇの範囲である。しかしながら、特定の投与量は、個々の要件に応じて医師の裁量により特定の場合に適合させることができる。
【０１１２】
本発明の医薬組成物中の活性成分（化合物Ｉ及びＧＡＢＡAレセプターにより媒介される神経阻害を誘発する化合物）の量は、当該組成物が投与される哺乳動物、処置される病気、その他の活性成分の存在などに依存して変化する。一般に、ある組成物及び剤型中のＧＡＢＡAレセプターにより媒介される神経抑制を誘発する化合物の量及び化合物Ｉの量は、常習的方法を用いて容易に決定することができる。
【実施例】
【０１１３】
下記例は、例証の目的でのみ提供されているものであって、本発明をいずれの様相でも制限する表図のものでもまたそのように解釈されるべきものでもない。
下記例の常習的変更及び修正を、本発明の精神又は範囲を越えることなくなしうることは、当業者にとって明白である。
これらの例において、別段の記載がないかぎり、化合物の特徴確認は下記方法に従い行う：
ＮＭＲスペクトルは、アスペクト(Aspect)３０００コンピューター及び５ｍｍ1Ｈ／13Ｃデュアルプロビヘッドを備えたＢＲＵＫＥＲ  ＡＣ２５０Ｆｏｕｒｉｅｒ  ＴｒａｎｓｆｏｒｍＮＭＲスペクトロメータ又はＳＧ  Ｉｎｄｉｇｏ2コンピューター及び５ｍｍインバースジオメトリー1Ｈ／13Ｃ／15Ｎトリプルプロビヘッドを備えたＢＲＵＫＥＲ  ＤＲＸ４００ＦＴＮＭＲで記録する。化合物は３１３Ｋのプローブ温度及び２０ｍｇ／ｍｌの濃度で、ＤＭＳＯ−ｄ6（又はＣＤＣｌ3）溶液中で評価する。装置はＤＭＳＯ−ｄ6（又はＣＤＣｌ3）のジュウテリウム信号でロックされる。化学シフトは、内部標準として採取されているＴＭＳからのｐｐｍダウンフィールドで示されている。
【０１１４】
ＬＣ／ＭＳモードによる質量分析測定は、下記のとおりに行う：
ＨＰＬＣ条件
分析は、ＩＮＥＲＴＳＩＬ  ＯＤＳ３，ＤＰ５μｍ，２５０Ｘ４．６ｍｍカラムを備えたＷＡＴＥＲＳ  ＡｌｌｉａｎｃｅＨＰＬＣ装置を用いて行う。
勾配は、１００％溶剤Ａ（アセトニトリル、水、ＴＦＡ（１０／９０／０．１ｖ／ｖ／ｖ））から１００％溶剤Ｂ（アセトニトリル、水、ＴＦＡ（９０／１０／０．１ｖ／ｖ／ｖ））までを７分間で行い、１００％Ｂで４分間の維持した。流速は、２．５ｍｌ／分に設定し、またＡＰＩ源の直前に１／１０のスプリットを使用する。クロマトグラフィーは、３０℃で行う。
【０１１５】
ＭＳ条件
試料は、アセトニトリル／水、７０／３０、ｖ／ｖ中に約２５０μｇｒ／ｍｌの濃度で溶解する。ＡＰＩスペクトル分析（＋又は−）は、ＦＩＮＮＩＧＡＮ(SanJose,CA,USA)ＬＣＱイオントラップ質量分析計を用いて行う。ＡＰＣＩ源は４５０℃で操作し、また毛細管ヒーターは１６０℃で操作する。ＥＳＩ源は３．５ｋＶで操作し、また毛細管ヒーターは２１０℃で操作する。
ＤＩＰ／ＥＩモードによる質量分析測定は、次のとおりに行う：試料は、プローブを５０℃から２５０℃まで５分間で加熱することによって蒸発させる。ＥＩ（電子衝撃）スペクトルは、ＦＩＮＮＩＧＡＮ(SanJose,CA,USA)ＴＳＱ７００タンデム四重極質量分析計を用いて記録する。この供給源温度は、１５０℃に設定する。
【０１１６】
比旋光度は、Ｐｅｒｋｉｎ−ＥｌｍｅｒＭＣ２４１又は３４１旋光計で記録する。旋光角度は、ＭｅＯＨ中の１％溶液に対して２５℃で記録する。若干の分子の場合、溶解度の問題のため、溶剤はＣＨ2Ｃｌ2又はＤＭＳＯである。
水含有量は、Ｍｅｔｒｏｈｍマイクロクーロメトリー(microcoulometric)Ｋａｒｌ  Ｆｉｓｃｈｅｒ滴定装置を用いて測定する。
調整用クロマトグラフィー分離は、粒径１５−４０μｍのシリカゲル６０Ｍｅｒｃｋ、対照１．１５１１１．９０５２において、実験室修飾Ｊｏｂｉｎ  Ｙｖｏｎ−型軸圧縮カラム（８０ｍｍ  ｉ．ｄ．）、７０〜１５０ｍｌ／分の流速を用いて行う。シリカゲル及び溶剤混合物の量は、各処理について記載されているとおりである。
【０１１７】
調整用キラルクロマトグラフィー分離は、低級アルコールとＣ５〜Ｃ８直鎖状，分枝鎖状又は環状アルカンとの各種混合物を用いる実験室構築装置を±３５０ｍｌ／分で使用する、ＤＡＩＣＥＬ  Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ２０μｍ、１００＊５００ｍｍカラムで行う。溶剤混合物は各処理について記載のとおりである。
融点は、Ｂｕｃｈｉ５３５  Ｔｏｔｏｌｉ−型融解計で測定し、補正されていないか、又はＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  ＤＳＣ７で開始温度による。
粉末Ｘ−線回析パターンは、ＰＷ３７１０ｍｐｄ制御装置を備えたコンピューター制御Ｐｈｉｌｉｐｓ  ＰＷ１７１０において室温及び大気圧で、モノクロメーター、ＣｕＫα照射（４０ｋＶ、３５ｍＡで操作されている管）及びシンチレーション計数機を用いて得られる。データは、０．０２  ２θ／秒の走査速度を用いて連続走査モードで４°〜５０°２θの角度範囲にわたり採取する。
【０１１８】
これらの例において、下記略語を使用する：
ＡｃＯＥｔ                          酢酸エチル
ＡｃＯＨ                            酢酸
ＢｕＬｉ                            ｎ−ブチルリチウム
ｎ−Ｂｕ3Ｐ                         トリ−ｎ−ブチルホスフィン
ＣｌＣＯＯＥｔ又はＣｌＣＯ2Ｅｔ     エチルクロロホルメート
ＤＣＥ                              １，２−ジクロロエタン
ＤＩＣ                              ジイソプロピルカルボジイミド
ＤＭＳＯ                            ジメチルスルホキシド
ＤＳＣ                              示差走査熱量測定
ＤＭＦ                              Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
Ｅｔ3Ｎ                             トリエチルアミン
Ｅｔ2Ｏ                             ジエチルエーテル
ＥｔＯＨ                            エタノール
ＦＭＯＣ                            フルオレニルメチルオキシカルボニル
【０１１９】
ＬＤＡ                              リチウムジイソプロピルアミド
ＭｅＣＯＣｌ                        アセチルクロライド
ＭｅＣＮ                            アセトニトリル
ＭｅＯＨ                            メタノール
ＭＴＢＥ                            メチルｔｅｒブチルエーテル
ＮＭＰ                              Ｎ−メチルピロリジノン
ＰｈＭｅ                            トルエン
ＰｒｅｐＬＣ                        調整用液体クロマトグラフィー
ｉ−Ｐｒ2Ｏ                         ジイソプロピルエーテル
ｉ−ＰｒＯＨ                        イソプロパノール
ＴＦＡ                              トリフルオロ酢酸
ＴＨＦ                              テトラヒドロフラン
ＴＭＯＦ                            トリメチルオルトホルメート
ＴＭＳＣｌ                          クロロトリメチルシラン
ＴＭＳＩ                            ヨウドトリメチルシラン
これらの例において、別段の記載がないかぎり、化合物は遊離（非塩）形態で得られる。
【０１２０】
例１：アルデヒドエステルの還元的アミノ化による４−置換２−オキソ−ピロリジンブタンアミドの合成
１．１．  ３−置換−４−オキソ−ブタン酸エステルの合成
１．１．１．経路Ａ：エナミンのアルキル化による
５，５−ジメチル−３−ホルミル−ヘキサン酸メチルエステル３６１の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000017
【０１２１】
ディーン−スターク(Dean-Stark)装置を備えた三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、トルエン（２０ｍｌ）中のジイソブチルアミン（４．６２ｍｌ、Acrosから）、４，４−ジメチルペンタナール３６２（２．５ｇ、０．０２１ｍｏｌ）の溶液を、１３０℃において２時間にわたり加熱し、次いで水を抽出する。この黄色溶液を室温まで冷却させ、次いでメチルブロモアセテート（３．７ｇ、０．０２４ｍｏｌ）を一度に添加する。このピンク色溶液を室温で一夜にわたり攪拌し、次いで９０℃で１時間にわたり撹拌する。この温度において、水（１０ｍｌ）を添加し、１時間後、この溶液を室温まで冷却させる。この有機層を、ＨＣｌ（１Ｎ）、飽和水性重炭酸ナトリウムにより洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで蒸発させ、得られた油状物を減圧（１ｍｍＨｇ）で蒸留し、５，５−ジメチル−３−ホルミル−ヘキサン酸メチルエステル３６１を液体として得る（１．１ｇ、０．０５ｍｏｌ、Ｔｅｂ（１ｍｍＨｇ）：６９−７１℃）。このアルデヒドエステルを次いで、還元的アミノ化工程に使用する。別法として、エチルブロモアセテートによるアルキル化を、溶媒としてトルエン−アセトニトリル１／１（ｖ／ｖ）の存在下に行うこともできる。最終アルデヒドはまた、減圧蒸留することもできる。
【０１２２】
１．１．２．その他の合成経路
アルデヒドエステルは、下記方法を包含する別の方法によって得ることもできる：
（ｉ）ブロモアセテート誘導体によるヒドラゾンのアルキル化。一例として、５−（フェニル）−３−ホルミル−ペンタン酸２，２−ジメチル−エチルエステルは、Ｎ−（４−フェニル）−プロピリデン−Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラゾンを、ｔｅｒｔ−ブチル−ブロモアセテート及びＬＤＡと反応させ、次いでアルキル化ヒドラゾンをオゾン分解させることによって得られる。
（ｉｉ）α，β−不飽和エステルへのニトロメタンの付加。３−（３−ブロモ−フェニル）−４−オキソ−ブタン酸エチルエステルは、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンの存在下に、３−（３−ブロモ−フエニル）−アクリル酸エチルエステルにニトロメタンを付加し、このニトロ誘導体をＮｅｆ条件において酸化し、次いでこのメチル−アセタールをＨＣｌにより制御加水分解することによって得られる。
（ｉｉｉ）４−ペンテン酸誘導体のオゾン分解。２−ベンジル−４−オキソ−ブタン酸エチルエステルは、３−フェニル−ブタン酸エチルエステル及びアリルブロマイドのリチウムジイソプロピルアミドによるアルキル化、引続くオゾン分解及びオゾニドのＰＰｈ3による還元によって得られる。
【０１２３】
１．２．  ３−置換−４−オキソ−ブタン酸エステルの還元的アミノ化及びピロリジン−２−オンへの環化
１．２．１．還元的アミノ化
メチル４−｛［（（１Ｓ）−１−アミノカルボニル）プロピル］アミノ｝ブタノエート３６３の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000018
【０１２４】
還流コンデンサーを備えた三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＭｅＯＨ中のアルデヒド３６１（１．７ｇ、０．０９ｍｏｌ）、（Ｓ）−２−アミノ−ブタンアミド（１．５８ｇ、０．１５ｍｏｌ）及び分子篩（Aldrichから３Å）の懸濁液を、０．５時間にわたり６０℃に加熱する。この懸濁液を０℃まで冷却させ、次いでホウ水素化ナトリウム（０．５５ｇ）を少しづつ添加する。室温で１時間後、この反応混合物をエーテルで稀釈し、水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで蒸発させ、黄色油状物を得る。メチル４−｛［（（１Ｓ）−１−アミノカルボニル）プロピル］アミノ｝ブタノエート３６３は、さらに精製することなく次の工程で直接に使用する。
別法として、この還元的アミノ化は、同一条件下に、ＮａＢＨ3ＣＮ又はＮａＢＨ（ＯＡｃ）3（これらはアルデヒドエステルに対して１．４ｍｏｌ当量で使用する）等の他の還元剤を用いて行うことができる。
【０１２５】
１．２．２．ブタン酸（メチル又はエチル）エステルの環化
（２Ｓ）−２−（４−ネオペンチル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミドの２種の立体異性体１４９及び１４８の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000019
【０１２６】
還流コンデンサーを備えた三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、油状３６３を、ヒドロキシ−ベンゾトリアゾール（２．０５ｇ、Aldrichから入手できる）の存在下に、トルエンと１，２−ジクロロエタン（それぞれ、２５ｍｌ）との１／１混合物中に溶解し、この溶液を９０℃で２時間にわたり加熱し、次いで室温まで冷却させる。この有機相を、飽和水性重炭酸ナトリウム、水により順次洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで蒸発させ、褐色固形物を得る（１．８ｇ）。この生成物をシリカゲル上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（溶出剤：ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ：９５／０５（ｖ／ｖ））、（２Ｓ）−２−（４−ネオペンチル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミド（０．８９ｇ、０．００３６ｍｏｌ）をジアステレオマーの１／１混合物として得る。これら２種の異性体の分離は、キラル固定相上におけるクロマトグラフィー（ＥｔＯＨ−ヘキサン１／１（ｖ／ｖ））により行い、トルエンからの再結晶後、２種の立体異性体（それぞれ、０．３５ｇ及び０．３７ｇ）を得ることにより達成される。その物理化学的性質は表に記載する。別法として、アミノエステルの環化は、酢酸（溶媒として）又は２−ヒドロキシ−ピリジン（１当量）などの試剤をヒドロキシ−ベンゾトリアゾールの代わりに使用して行うこともできる。この環化の溶媒として酢酸を用いる場合、反応混合物は、減圧で蒸発乾燥させ、ジクロロメタンで稀釈し、次いで上記のとおりに仕上げ処理する。
【０１２７】
１．２．３．その他の環化
別法として、環化は、（ｉ）エステルの酸又は塩基加水分解及び（ｉｉ）ペプチド合成に記載の通常の条件における活性化エステルの環化による２工程で行うことができる。
１．３．ピロリドンの固体相合成
１．３．１．リンク(Rink)アミド樹脂上へのＦＭＯＣ保護アミノ酸の結合
2006022108.tif 000020
【０１２８】
リンクアミド樹脂４ｇ（０．５１ｍｅｑ／ｇ、１００−２００メッシュ）をガラス容器に入れ、２０％ｖ／ｖピペリジン／ＤＭＦ（４０ｍｌ）中で３０分間にわたり撹拌する。この樹脂の水分を切り、この全脱保護処理を反復する。この樹脂を濾別し、洗浄し（６ｘＤＭＦ）、次いで乾燥させる。この樹脂をＤＭＦ（４０ｍｌ）中に懸濁し、次いでＮ−Ｆｍｏｃ−２−アミノ酪酸（３．０２ｇ、９．２８ｍｍｏｌ）で処理し、次いでＤＭＦ（２０ｍｌ）中の１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（１．４ｇ、１１．１３ｍｍｏｌ）の溶液で処理する。この反応混合物を室温で１時間にわたり撹拌し、次いで濾過し、洗浄し（ＤＭＦ）、次いでこのカプリング反応を反復する。この樹脂を濾別し、洗浄し（６ｘＤＭＦ、６ｘＣＨ2Ｃｌ2）、乾燥させ、次の工程でそのまま使用する。
【０１２９】
１．３．２．付加した５−ヒドロキシ−４−プロピル−フラン−２−オンによる還元的アミノ化及び環化
2006022108.tif 000021
【０１３０】
Ｎ−Ｆｍｏｃ−２−アミノ酪酸アミド樹脂１００ｍｇ（０．０５１ｍｍｏｌ）を、フリットした（fritted）ポリプロピレン注射器内に含有させる。Ｆｍｏｃ基の除去は、ＤＭＦ中の２０％ピペリジンを用いて達成される。このアミノ樹脂に、ＤＣＥ（２ｍｌ）中の５−ヒドロキシ−４−プロピル−フラン−２−オン（３６．７２ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌから）を添加する。この樹脂を次いで、酢酸（１５μＬ）及びトリアセトキシホウ水素化ナトリウム（５４ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）で処理する。この反応混合物を室温で１８時間にわたり撹拌し、次いで濾過し、次の溶剤順序：Ｈ2Ｏ／ＤＭＦ（１：１）、ＤＭＦ、ＣＨ2Ｃｌ2、ＭｅＯＨで洗浄し、次いで乾燥させる。この樹脂をトリフルオロ酢酸／ＣＨ2Ｃｌ2混合物（１／１）中で激しく撹拌しながら４時間にわたり懸濁し、次いで濾過し、洗浄する（ＣＨ2Ｃｌ2ｘ２）。この濾過液を濃縮し、残留物をＣＨ2Ｃｌ2（２ｍｌ）中に溶解し、次いでもう一度濃縮する。所望の化合物は、ＬＣ−ＭＳにより精製する（Ｍｉｃｒｏｍａｓｓ−Ｇｉｌｓｏｎ、ＬＣＺ−Ｐｌａｔｆｏｒｍ、ＲＰ−１８カラム、勾配溶出：ＣＨ3ＣＮ／Ｈ2Ｏ／ＴＦＡ１％）。
【０１３１】
１．３．３．付加したアルデヒドエステルによる還元的アミノ化及び環化
2006022108.tif 000022
【０１３２】
Ｎ−Ｆｍｏｃ−２−アミノ酪酸アミド樹脂１５０ｍｇ（０．０８７ｍｍｏｌ）を、フリットした（fritted）ポリプロピレン注射器内に含有させる。Ｆｍｏｃ基の除去は、ＤＭＦ中の２０％ピペリジンを用いて達成される。このアミノ樹脂に、ＴＭＯＦ（２ｍｌ）中のアルデヒド（０．５ｍｍｏｌ）を添加する。この反応混合物を室温で１８時間にわたり撹拌し、次いで濾過し、次いで洗浄する（ＣＨ2Ｃｌ2）。この樹脂をＣＨ2Ｃｌ2で膨潤させ、次いでトリアセトキシホウ水素化ナトリウム（２２ｍｇ、０．１０４ｍｍｏｌ）で処理する。この反応混合物を室温でさらに１８時間にわたり撹拌する。この樹脂を次いで、次の溶剤順序で洗浄し：Ｈ2Ｏｘ６、ＭｅＯＨｘ６、ＣＨ2Ｃｌ2ｘ６、次いで乾燥させる。この樹脂をトリフルオロ酢酸／水混合物（９５／５）中に激しく撹拌しながら１時間にわたり懸濁し、次いで濾過し、洗浄する（ＣＨ2Ｃｌ2ｘ２）。この濾過液を濃縮し、残留物をＣＨ2Ｃｌ2（２ｍｌ）中に溶解し、次いでもう一度濃縮する。所望の化合物は、ＬＣ−ＭＳにより精製する（Ｍｉｃｒｏｍａｓｓ−Ｇｉｌｓｏｎ、ＬＣＺ−Ｐｌａｔｆｏｒｍ、ＲＰ−１８カラム、勾配溶出：ＣＨ3ＣＮ／Ｈ2Ｏ／ＴＦＡ１％）。
【０１３３】
例２：４−置換−γ−ラクトンの開環による４−置換２−オキソ−ピロリジンブタンアミドの合成
２．１．ラクトンの合成
２．１．１．経路Ａ：２，３−フラノンのアルキル化による
４−ｎ−ブチル−ブチロラクトン３６５の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000023
【０１３４】
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．６Ｍ、７５ｍｌ、０．１２ｍｏｌ）を、−３０℃に冷却した乾燥ＴＨＦ（８０ｍｌ）中のＣｕＩ（１１．４２ｇ、０．０６ｍｏｌ）の懸濁液に添加する。０．５時間後、溶液を−７８℃に冷却させ、ＴＭＳＣｌ（４．７５ｇ、０．０４ｍｏｌ）を滴下添加し、次いで乾燥ＴＨＦ中に溶解させた２，３−フラノン３６４（Aldrichから、３．３６ｇ、０．０４ｍｏｌ）を添加する。この懸濁液を室温まで温め、次いで飽和アンモニウムクロライドにより加水分解する。この水性層をＡｃＯＥｔ（３ｘ）により抽出し、水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで蒸発乾燥させる。この粗製ラクトンを蒸留により精製し（１ｍｍＨｇ；７３−８０℃）、４−ｎ−ブチル−ブチロラクトン３６５の２．７ｇを得る。
別法として、銅反応剤は、有機リチウムの代わりに有機マグネシウムを使用することによって製造することができる。この有機マグネシウム化合物は、この種の変換に常用される条件下に、アルキルハロゲニド（halogenide）とマグネシウム片との間の反応によって得ることができる。ＴＨＦの代わりにジエチルエーテルを使用することができる（一般情報：Ｌｉｐｓｈｕｔｚ，Ｂ．Ｈ．；Ｓｅｎｇｕｐｔａ，Ｓ．，Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，１９９１，４１，１３５参照）。
【０１３５】
２．１．２．その他の経路
別法として、ラクトンはまた下記方法によって得ることもできる：
（ｉ）スクシネートエステルの還元。４−（シクロプロピル）メチル−ブチロラクトンは、リチウムジイソプロピルアミドを用いるシクロプロピルメチルブロマイドによるモノメチルスクシネートのアルキル化、引続く２−（シクロプロピル）メチル−コハク酸１−メチルエステルのＮａＢＨ4及びＣａＣｌ2による還元によって得られる。
（ｉｉ）コハク酸１−アルキルエステル４−アルキルチオエステルの還元。４−アリル−ブチロラクトンは、エチル４−ペンテン酸チオエステル（この化合物は、４−ペンタン酸及びエタンチオールからジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下に合成される）から得られる。エチル４−ペンタン酸チオエステルのリチウムジイソプロピルアミドを用いるエチルブロモアセテートによるアルキル化により２−アリル−コハク酸１−メチルエステル４−エチルチオエステルが得られ、この化合物を次いで、ＬｉＢＨ4及び硫酸との順次反応によって４−アルキル−ブチロラクトンに変換する。
【０１３６】
２．２．ピロリドンの合成
２．２．１．ブチルアミドのアシル化／アルキル化による
（２Ｓ）−２−（４−アリル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミドの２種の立体異性体２２８及び２２４の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000024
【０１３７】
工程１：ラクトンの開環
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＴＭＳＩ（５１ｍｌ、Aldrich）を、０℃に冷却した粗製４−アリル−ブチロラクトン３６６（製法は§２．１．３．参照、２２．９ｇ、０．１８１ｍｏｌ）の溶液に添加する。この溶液を室温で２時間にわたり撹拌し、次いで１Ｎ  ＨＣｌ（３００ｍｌ）により加水分解する。この水性層をＣＨ2Ｃｌ2により抽出し、集めた有機相をブラインにより洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで減圧濃縮し、粗製３−（ヨウド）メチル−５−ヘキセン酸３６７（４４．５ｇ）を得る。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：１．８０−２．０５（ｍ，２Ｈ）、２．２０（ｔ，２Ｈ）、２．４０−２．６０（ｔ，２Ｈ）、５．１０−５．２０（ｍ，２Ｈ）、５．１５−５．８０（ｍ，１Ｈ）。
【０１３８】
工程２：ヨウド酸の塩素化
還流コンデンサーを備えた三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ベンゼン（９０ｍｌ）中の粗製ヨウド酸３６７（４４．５ｇ、０．１７５ｍｏｌ）及びチオニルクロライド（２５．５ｍｌ）の溶液を、室温で２４時間にわたり撹拌する。溶媒を減圧下に蒸発させ、粗製３−（ヨウド）メチル−５−ヘキセン酸クロライド３６８（４７ｇ）を得る。この生成物はさらに精製することなく次の工程で直接に使用する。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：１．９０−２．０５（ｍ，２Ｈ）、２．１５（ｔ，２Ｈ）、２．９０−３．１０（ｍ，２Ｈ）、３．２５（ｄｄ，１Ｈ）、３．３５（ｄｄ，１Ｈ）、５．１０−５．２０（ｍ，２Ｈ）、５．１５−５．８０（ｍ，１Ｈ）。
【０１３９】
工程３：Ｓ−２−アミノ−ブチルアミドによるアシル化−アルキル化
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＣＨ2Ｃｌ2（３００ｍｌ）中の粗製酸クロライド３６８（４７ｇ、０．１７２ｍｏｌ）を、０℃に冷却したＣＨ2Ｃｌ2（４７０ｍｌ）中の分子篩（２９ｇ）、粉末化したＫＯＨ（２２．３ｇ）、無水Ｎａ2ＳＯ4（２８．８ｇ）、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド（２．８ｇ、０．００８６ｍｏｌ）及びＳ−２−アミノブチルアミド（［α］25D＝＋１９．３５°；２６．３ｇ、０．２６ｍｏｌ）の機械的に撹拌されている懸濁液に滴下添加する。この溶液を−５℃で５時間にわたり撹拌し、粉末化したＫＯＨを添加し（６．２ｇ）、次いで撹拌を−５℃で３時間、継続する。この反応混合物をハイフロセル(hyflocel)上で濾過し、次いで溶媒を減圧蒸発させる。この粗製反応混合物を、シリカゲル上のクロマトグラフィー（ＡｃＯＥｔ／ｉ−ＰｒＯＨ：９７／０３（ｖ／ｖ））及びキラル固体相上の調整用クロマトグラフィー（ヘキサン／ＥｔＯＨ）により順次精製し、（２Ｓ）−２−（４−アリル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミドの２種の異性体を得る（それぞれ、６．０ｇ（２２８）及び５．４８ｇ（２２４）；１６及び１５％）。
クロマトグラフィー後に２種の副不純物、すなわち（２Ｓ）−２−［４−（２−ヨウドプロピル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド２２５（０．２２ｇ）及び２２６（０．２７ｇ）の２種の立体異性体が、再結晶後に、白色固形物として得られる。
【０１４０】
２．２．２．ブチルアミドのアルキル化／アシル化による
（２Ｓ）−２−（５−ノニル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミドの２種の立体異性体の合成を代表として示す：
工程１：ラクトンの開環
チオニルクロライド（１６４μｌ、２．２５ｍｍｏｌ）中のγ−ノナラクトン（０．３２ｍｌ、２ｍｍｏｌ）の溶液に、塩化アエン（１２ｍｇ、０．０８８ｍｍｏｌ）を室温で添加し、この混合物を２４時間にわたり撹拌する。過剰のメタノールを添加し、この反応混合物を１０分間にわたり撹拌し、次いで減圧濃縮し、４−クロロ−ノナン酸メチルエステルを得る。この生成物はそのまま用いられる。
2006022108.tif 000025
【０１４１】
工程２：アルキル化
ＤＭＦ（２ｍｌ）中の４−クロロ−ノナン酸メチルエステル（２ｍｍｏｌ）の溶液に、２−アミノブチルアミド（１ｇ、１０ｍｍｏｌ）、ナトリウムヨウダイド３００ｍｇ（２ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム２７６ｍｇ（２ｍｍｏｌ）を順次添加する。この混合物を、６０℃で一夜にわたり撹拌する。固形物を濾別し、ＣＨ2Ｃｌ2（２ｘ２ｍｌ）により洗浄する。この濾液を減圧濃縮し、エステル誘導体を得る。この生成物は環化などに使用することができる。
2006022108.tif 000026
工程３：環化：§１．２．２．及び§１．２．３．の条件参照。
【０１４２】
２．３．ケト−ピロリジン−２−オンの合成
（２ｓ）−２−［２−オキソ−４−（２−オキソプロピル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド２３０の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000027
【０１４３】
三頚フラスコにおいて、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン（ＮＭＰ、４０ｍｌ）中のＰｄＣｌ2（０．６８ｇ、０．００３９ｍｏｌ）、ＣｕＣｌ2（１．６８ｇ、０．００９８ｍｏｌ）の溶液に、酸素を泡立てて通し、次いでＮＭＰ（４０ｍｌ）中の（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−（２−オキソプロピル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド２２４（４．１３ｇ、０．０２０ｍｏｌ）の溶液を滴下添加する（添加時間：１．２時間）。この溶液を、泡立てながら０．７５時間かけて撹拌し、次いでセライトに通して濾過し、次いで減圧（１ｍｍＨｇ）で蒸発させる。この粗製ケトンを、シリカゲル上におけるクロマトグラフィーにより精製し（ＣＨ2Ｃｌ2／メチル−ｔ−ブチルエーテル／ｉ−ＰｒＯＨ：９／０．９／０．１（ｖ／ｖ））、（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−（２−オキソプロピル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド２３０を、ＡｃＯＥｔからの再結晶後に白色固形物として得る。
【０１４４】
２．４．ケトン２３０の誘導体化
２．４．１．アルコールの合成
（２Ｓ）−２−［（４Ｓ）−４−（２−ヒドロキシプロピル）−２−オキソピロリジニル］ブタンアミド２３３の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000028
【０１４５】
工程１：還元
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、−５℃に冷却したＥｔＯＨ（１４０ｍｌ）中の２３０（９ｇ、０．０１２ｍｏｌ）の溶液に、ＮａＢＨ4を少しづつ添加する。この溶液をこの温度で４時間にわたり撹拌し、飽和アンモニウムクロライドによりクエンチし、次いで蒸発乾燥させる。この固形物をＭｅＯＨ／CＨ2Ｃｌ2中に溶解し、濾過し、次いで減圧濃縮する。この残留物を、シリカゲル上におけるクロマトグラフィーにより精製し（ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2：９０／１０（ｖ／ｖ））、アルコール３６９（２．２ｇ、７９％）のエピマー混合物を、油状物として得る。この粗製混合物は、次の工程で直接にアセチル化する。1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，（ＣＤ3）2ＳＯ）：０．７０（ｔ，３Ｈ）、１．０５（ｄ，３Ｈ）、１．３０−１．４５（ｍ，１Ｈ）、１．７０−１．８０（ｍ，１Ｈ）、１．８０−２．０５（ｍ，１Ｈ）、２．２０−２．４０（ｍ，２Ｈ，溶媒と部分的に重複）、３．００−３．２０（ｍ，１Ｈ）、３．３０−３．３５（ｍ，２Ｈ，溶媒と部分的に重複）、３．５０−３．６５（ｍ，１Ｈ）、４．３０（ｍ，１Ｈ）、４．４５（ｍ，１Ｈ）、７．１０（ｓ（broad），１Ｈ）、７．２０（ｓ（broad），１Ｈ）。
【０１４６】
工程２：アセチル化
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、アセチルクロライド（０．９１ｇ、０．０１１ｍｏｌ）を、ＣＨ2Ｃｌ2（９０ｍｌ）中の４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（０．１１ｇ、０．００１ｍｏｌ）、ピリジン（０．８６ｍｌ）及び上記アルコールの溶液に、室温で添加する。この溶液を５時間にわたり撹拌し、飽和アンモニウムクロライドによりクエンチし、次いでこの水性層をＣＨ2Ｃｌ2（３ｘ）により抽出し、硫酸マグネシウム上で蒸発させ、次いで減圧蒸発させ、粗製アセテートを得る。この生成物をキラル相上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサン／ＥｔＯＨ）、２種のエピマーアセテート３７０及び３７１（それぞれ、１．１４３ｇ及び１．１７ｇ）を得る。キラルクロマトグラフィー以前の３７０と３７１との１／１混合物について：1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ3ＳＯＣＤ3）：０．９０（ｔ，３Ｈ）、１．２１−１．２８（ｍ，４Ｈ）、１．５１−１．８２（ｍ，４Ｈ）、１．８９−１．９８（ｍ，１Ｈ）、１．８０−２．０５（ｍ，１Ｈ）、２．０４（ｓ，３Ｈ）、２．１６（ｄｄ，１Ｈ）、２．３８（ｍ，１Ｈ）、２．６２（ｄｄ，１Ｈ）、３．１１（ｄｄ，１Ｈ）、３．４９（ｄｄ，１Ｈ）、４．３９−４．４９（ｍ，１Ｈ）、４．８９−４．９９（ｍ，１Ｈ）、５．４３（ｓ（broad），１Ｈ）、６．２４（ｓ（broad），１Ｈ）。
【０１４７】
工程３：脱アセチル化
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＥｔＯＨ中のアセテートの単一のエナンチオマー３７１（１．１１ｇ、０．００４２ｍｏｌ）及びＫ2ＣＯ3の懸濁液を、０℃で２０時間にわたり撹拌し、蒸発乾燥させ、次いで粗製アルコールをシリカゲル上においてクロマトグラフィーにより精製し（ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2：８５／１５（ｖ／ｖ））、（２Ｓ）−２−［（４Ｓ）−４−（２−ヒドロキシプロピル）−２−オキソピロリジニル］ブタンアミド２３３（０．６７ｇ、７２％）を、アセトニトリル中における再結晶後、白色固形物として得る。
【０１４８】
２．４．２．２３０のフッ素化
ケトン２３０のフッ素化を、２−［（４Ｓ）−４−（２，２−ジフルオロプロピル）−２−オキソピロリジニル］ブタンアミド２６５の合成に使用する。
2006022108.tif 000029
【０１４９】
工程１：フッ素化
テフロン（Ｒ）フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、（ＭｅＯＣＨ2ＣＨ2）2ＮＳＦ3（１．８６ｇ、０．００９ｍｏｌ）を、ＣＨ2Ｃｌ2中の２３０（０．３８９ｇ、０．００１７ｍｏｌ）の溶液を少しづつ添加し、８０℃で４時間にわたり加熱する。この溶液を、この温度で４時間、撹拌し、炭酸ナトリウムによりクエンチし、ＣＨ2Ｃｌ2により抽出し、ＨＣｌ（１Ｎ）により洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で蒸発させ、三級アミド３７２（１．２ｇ）を得る。ＬＣ／ＭＳ：３６５（ＭＨ＋）。この粗製混合物は、次の工程で直接に使用する。
【０１５０】
工程２：加水分解及びアンモノリンス
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＨＣｌ（６Ｎ）中の粗製３７２（０．２８ｇ）の溶液を、６０℃で２２時間にわたり加熱し、室温まで冷却させ、次いでこの水性溶液を蒸発乾燥させる。この固形物をＭｅＣＮとすり混ぜ、濾過し、次いで減圧で蒸発させ、酸（１．２ｇ）を白色固形物として得る。
この粗製混合物は、§６．３．１．（工程２）に記載の標準的条件においてアミド化し、（２Ｓ）及び（２Ｒ）−２−［（４Ｓ）−４−（２，２−ジフルオロプロピル）−２−オキソピロリジニル］ブタンアミドの混合物（それぞれ、８７％及び１３％）を得る。
【０１５１】
２．５．  （２Ｓ）−２−（２−オキソ−４−プロピル−１−ピロリジニル）ブタンアミド１５８及び１５９の合成
2006022108.tif 000030
【０１５２】
２．５．１．工程１：還元的アミノ化
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、４−ｎ−プロピル−ヒドロキシフラノン３７３（３５．５ｇ、０．２５ｍｏｌ、この化合物はＢｏｕｒｇｕｉｇｎｏｎ，ＪＪ．等；Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９８８，３１，８９３−８９７から合成される）を、１８℃において、ＰｈＭｅ（３５５ｍｌ）中のＳ−２−アミノブチルアミド（２８．１ｇ，０．２７５ｍｏｌ）の溶液を添加する。この溶液を、この温度で０．５時間にわたり撹拌すると、沈殿が現れる。この反応混合物を２時間かけて撹拌し、次いでこの懸濁液に、ＮａＯＨ（４Ｎ）（３７．５ｍｌ）を、次いで水（６２ｍｌ）中のＮａＢＨ4（６．２ｇ、０．１６ｍｏｌ）の水性溶液を滴下添加する。１時間後、この反応混合物を、ＡｃＯＨ（３０ｍｌ）により注意深くクエンチし、５０℃に３時間、加熱し、次いで一夜かけて室温まで冷却させる。ＮａＯＨ５０％ｗ／ｗを添加し（２０ｍｌ）、この水性相をＰｈＭｅ（２ｘ）により抽出する。有機相を集め、ブラインで洗浄し、次いで減圧蒸発させ、粗製不飽和ピロリドン３７４（４３．４ｇ）をオレンジ色油状物として得る。この生成物はさらに精製することなく、次の工程で使用する。この生成物は白色固形物に再結晶することができる（ＤＳＣ、オンセット：Ｍｐ＝７２．９℃）。
【０１５３】
２．５．２．工程２：水素添加分解
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＮＨ4ＣＯＯＨ（８ｇ、０．１２６ｍｏｌ）の水性溶液を、５０℃に加熱されている水（２２０ｍｌ）中の粗製３７４（２２ｇ、０．１０５ｍｏｌ）及び１０％Ｐｄ／Ｃ（１．１ｇ）の懸濁液に少しづつ添加する。この懸濁液を、５０℃において３時間にわたり撹拌し、室温まで冷却させ、次いで一夜かけて撹拌する。１８時間後、この懸濁液を５０℃に加熱し、次いでＮＨ4ＣＯＯＨ（８ｇ、０．１２６ｍｏｌ）の水性溶液を少しづつ添加する。１．５時間後、３回目のＮＨ4ＣＯＯＨ（８ｇ、０．１２６ｍｏｌ）の水性溶液を添加する。この懸濁液を、５０℃で０．５時間にわたり撹拌し、次いで１０％Ｐｄ／Ｃ（１．１ｇ）を添加する。この懸濁液を、この温度で５時間にわたり撹拌し、次いで室温で撹拌することなく一夜にわたり放置する。この反応混合物をセライト上で濾過し、水（３０ｍｌ）により洗浄し、次いでこの水性層をＡｃＯＥｔ（３ｘ）により抽出する。集めた有機相をブラインにより洗浄し、次いで減圧で濃縮し、粗製ピロリドンを白色結晶として得る（１８．１ｇ）。この２種のジアステレオマーは、キラル相上における調整用ＨＰＬＣにより分離し（ＥｔＯＨ／ヘプタン：１／１）、ｉ−Ｐｒ2Ｏ中で再結晶後、２種のピロリドン１５８（９．５ｇ）及び１５９（７．２ｇ）を白色固形物として得る。
【０１５４】
１５９の２種の固体形態状態、すなわちＡ形態及びＢ形態が見出される。このＡ形態は、典型的に、８．８、９．８、１４．９、１５．０、１７．０、１７．１、２１．２、２１．４、２４．８（２θ°）の回析ピークを特徴とする。Ｂ型は典型的に、６．５０、１１．２５、１９．２２、２３．４４、２８．４７、２９．９４（２θ°）の回析ピークを特徴とする。
【０１５５】
２．５．３．  ５−ヒドロキシ−４−プロピル−フラン−２−オンの合成
2006022108.tif 000031
【０１５６】
５−ヒドロキシ−４−プロピル−５Ｈ−フラン−２−オン３７３（１５ｇ、０．１ｍｏｌ）、酢酸エチル（２６０ｍｌ）及びＰｄ／Ｃ５％を、パール(Parr)装置に入れる。この混合物を脱気し、次いで水素を３６ｐｓｉの加圧下に導入する。この混合物を次いで、２５℃において２時間にわたり激しく撹拌する。セライト上で濾過後、溶媒を５０℃において減圧下に除去し、５−ヒドロキシ−４−プロピル−フラン−２−オンを粗製生成物として得る（収率：１００％）。ＬＣ／ＭＳ：１４５（ＭＨ＋）。
【０１５７】
例３：２−オキソ−ピロリジンのエチル２−ブロモ−ブタノエートによるアルキル化による４−置換２−オキソ−ピロリジンブタンアミドの合成
３．１．  ４−置換２−オキソ−ピロリジンの合成
３．１．１．ａ．１．  エチル３−（３−クロロフェニル）−２−プロペノエート３７５の製造
2006022108.tif 000032
【０１５８】
機械的撹拌機及び滴下ロートを備えた２Ｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、３−クロロベンズアルデヒド１０６．２ｇ（７５５ｍｍｏｌ、１当量）をＴＨＦ  １Ｌ中に溶解し、０℃に冷却させる。エチル（トリフェニルホスホラニリデン）アセテート３４１．９ｇ（９８０ｍｍｏｌ、１．３当量）を、効果的に撹拌しながら添加し、温度を１０℃に高める。この混合物を、０℃において１時間、撹拌しながら保持し、次いで室温で一夜にわたり撹拌しながら保持する。この混合物を濃縮乾燥させ、残留物をジエチルエーテル中に懸濁し、トリフェニルホスフィンオキサイドを濾別し、この濾液を濃縮乾燥させる。この残留物をＰｒｅｐＬＣにより精製し（１ｋｇＳｉＯ2、石油エーテル／ＥｔＯＡｃ、７５：３５）、純粋３７５の１９１．８ｇを得る、収率：９２％。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，（ＣＤ3）2ＳＯ）：１．３０（ｔ，３Ｈ）、４．２５（ｑ，２Ｈ）、６．７０（ｄ，１Ｈ）、７．４０（ｍ，２Ｈ）、７．５０−７．７０（ｍ，２Ｈ）、７．８５（ｓ（broad），１Ｈ）。
【０１５９】
３．１．１．ａ．２．その他の方法：
2006022108.tif 000033
【０１６０】
別法として、シンナメート誘導体はまた、アクリル酸誘導体のパラジウム触媒炭素金属化(carbometalation)によって合成される。一例として、エチル（２Ｅ）−３−（５−ピリミジニル）−２−プロペノエート３７６は、パラジウムアセテートの存在下におけるエチルアクリレート及び５−ブロモピリミジンとの反応によって得られる。
【０１６１】
３．１．１．ｂ．エチル３−（３−クロロフェニル）−４−ニトロブタノエート３７７の製造
2006022108.tif 000034
【０１６２】
還流コンデンサー、磁気的撹拌機及び滴下ロートを備えた５００ｍｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、エチル３−（３−クロロフェニル）−２−プロペノエート３７５の１００ｇ（４４７ｍｍｏｌ、１当量）をニトロメタン１２７ｍｌ（２．３７ｍｏｌ、５当量）に溶解する。ジアザビシクロウンデセン７０．９ｍｌ（４４７ｍｍｏｌ、１当量）を次いで、充分に撹拌しながら、また温度を２５℃に維持しながら（氷／水浴）滴下添加する。この深赤色混合物を室温で一夜にわたり撹拌する。この混合物をジエチルエーテルにより稀釈し、１Ｎ  ＨＣｌで洗浄し、この水性相をエチルエーテルにより２回、再抽出する。集めた有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮乾燥させ、粗製３７７を１２８．５ｇの量で得る（収率：９９％）。この生成物はそのまま次の工程で使用する。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，（ＣＤ3）2ＳＯ）：１．１０（ｔ，３Ｈ）、２．７０（ｄｄ，１Ｈ）、２．７５（ｄｄ，１Ｈ）、３．９５（ｑ，２Ｈ）、４．９５（ｍ，２Ｈ）、７．２０−７．４５（ｍ，４Ｈ）。
【０１６３】
３．１．１．ｃ．  エチル４−アミノ−３−（３−クロロフェニル）ブタノエート３７８の製造
2006022108.tif 000035
【０１６４】
２Ｌ圧力ジャーにおいて、不活性雰囲気下に、エチル３−（３−クロロフェニル）−４−ニトロブタノエート３７７の１９６ｇ（７３３ｍｍｏｌ）をエタノール２００ｍｌに溶解する。エタノール７００ｍｌ中の前もって乾燥した（３ｘ、エタノール）ラネーニッケル２００ｇの懸濁液を添加し、この混合物を２０ｐｓｉＨ2圧力の最大加圧下にパール水素添加器で水素添加する(高度に発熱性の反応、氷／水冷却を要する)。この混合物を脱気し、セライト／ノライトパッド上で濾過し、濾液を減圧濃縮し、粗製３７８の１３６．７ｇを得る（収率：７８％）。この生成物は次の工程でそのまま使用する。
【０１６５】
３．１．１．ｄ．４−（３−クロロフェニル）−２−ピロリジノン３７９の製造：
2006022108.tif 000036
【０１６６】
還流コンデンサー及び磁気撹拌機を備えた５００ｍｌフラスコにおいて、エチル４−アミノ−３−（３−クロロフェニル）ブタノエート３７８の１３５．７ｇ（５６１ｍｍｏｌ）をトルエン２００ｍｌに溶解し、この混合物を３０分間にわたり還流させる。この溶液を濃縮乾燥させ、残留物をＰｒｅｐＬＣにより精製し（１ｋｇＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＥｔＯＨ：９８：２から９５：５へ）、純粋３７９を５４．４ｇの量で得る（４９．２％）。ＧＣ／ＭＳ：１９７／１９７Ｍ＋。
【０１６７】
３．１．１．ｆ．エチル２−［４−（３−クロロフェニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタノエート３８０の製造
2006022108.tif 000037
【０１６８】
還流コンデンサー、磁気撹拌機及び滴下ロートを備えた２Ｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、４−（３−クロロフェニル）−２−ピロリジノン３７９の５４．４ｇ（２７８ｍｍｏｌ、１当量）をアセトニトリル１．４Ｌに溶解する。メチル２−ブロモブタノエート６４ｍｌ（１００．４ｇ、５５６ｍｍｏｌ、２当量）を添加し、温度を５０℃に高める。水素化ナトリウム２２．２４ｇ（５５６ｍｍｏｌ、２当量）を少しづつ添加し、温度を６５℃まで高める。この混合物を５０℃において１時間以上、撹拌する。この混合物を濃縮乾燥させ、残留物を酢酸エチル中に懸濁し、水により洗浄し、この水性相は酢酸エチルにより再抽出する。集めた有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮乾燥させる。この残留物をＰｒｅｐＬＣにより精製し（１ｋｇＳｉＯ2、石油エーテル／ＥｔＯＡｃ、７０：３０）、純粋３８０を５６．７ｇの量で得る、６９％。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，（ＣＤ3）2ＳＯ）：０．８０−１．００（ｍ，３Ｈ）、１．６０−１．９０（２Ｈ，ｍ）、２．３５−２．５５（ｍ，１Ｈ；溶媒と部分的に重複）、２．６０−２．９０（ｍ，１Ｈ；溶媒と部分的に重複）、３．７０（ｓ，３Ｈ）、３．５０−３．８０（ｍ，３Ｈ）、４．５０（ｍ，１Ｈ）、７．２０−７．５０（ｍ，４Ｈ）。
【０１６９】
３．１．１．ｇ．２−［４−（３−クロロフエニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド３８１の製造：
2006022108.tif 000038
【０１７０】
還流コンデンサー、磁気撹拌機を備えた１Ｌ三頚フラスコにおいて、エチル２−［４−（３−クロロフェニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタノエート３８０の５６．７ｇ（１９２ｍｍｏｌ）をメタノール６００ｍｌに溶解する。この溶液に気体状アンモニアを泡立てて通し、この飽和溶液を室温において時々アンモニアで再飽和しながら５日間、維持する。反応完了後、この溶液を濃縮乾燥させる。残留物をＰｒｅｐＬＣにより精製し（１ｋｇＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＥｔＯＨ、９７：３）、純粋３８１を５０ｇの量で得る、９７．８％。このジアステレオマーの混合物８２．２ｇを、キラルＰｒｅｐＬＣ（ＣｈｉｒａｌｐａｋＡＤ、ベンゼン／ＥｔＯＨ、５０：５０）により分離し、各一対のエナンチオマーをキラルＰｒｅｐＬＣ（ＣｈｉｒａｌｐａｋＡＤ、ベンジン／ＥｔＯＨ、５０：５０）により分割する。これら４種の化合物をトルエンから結晶化し、２０２、２０３、２０４及び２０５をそれぞれ、１６．７９ｇ、１３．９ｇ、１５．８４ｇ及び１４．８４ｇの量で得る、総合７２％。
【０１７１】
例４：４−ブロモ−３−置換−ブタ−２−エン酸エステルの２−アミノ−ブタンアミドによるアルキル化／環化による４−置換２−オキソ−ピロリジンブタンアミドの合成
４．１．  ４−ブロモ−３−置換−ブタ−２−エン酸エステルの合成、アルキル化及び還元
４．１．１．  ３−置換クロトン酸エチルエステルの臭素化
４−ブロモ−３−（２−チオフェニル）−ブタ−２−エン酸エチルエステル３８２の合成を示す：
2006022108.tif 000039
【０１７２】
機械的撹拌機を備えた２Ｌ三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＣＣｌ4（６００ｍｌ）中の２−チオフエン−３−イル−ブタ−２−エン酸エチルエステル３８３（３２．８８ｇ、０．２１１ｍｏｌ）、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３７．５６ｇ、０．２１１ｍｏｌ）及び２，２´−アザ−ビス−イソブチロニトリル（３．４６ｇ、０．０２１ｍｏｌ）の脱気溶液を、６時間にわたり還流させ、室温まで冷却し、次いで２０時間にわたり撹拌する。この懸濁液を濾過し、次いで減圧濃縮し、粗製ブロマイドを得る。この生成物をシリカゲル上におけるクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサン／ＣＨ2Ｃｌ2：６５／３５（ｖ／ｖ））、４−ブロモ−３−（２−チオフェニル）−ブタ−２−エン酸エチルエステル３８２を得る（３６．７２ｇ、７８％）。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，（ＣＤＣｌ3）：３．８０（ｓ，３Ｈ）、４．９５（ｓ，２Ｈ）、６．２５（ｓ，１Ｈ）、７．１０（ｄｄ，１Ｈ）、７．３５（ｄ，１Ｈ）、７．４５（ｄ，１Ｈ）。
【０１７３】
４．１．２．  ２−アミノ−ブタンアミドによるアルキル化
２−［２−オキソ−４−（２−チエニル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド７１の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000040
【０１７４】
４．１．２．１．工程１：アルキル化−環化
１Ｌ三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＴＨＦ（３５０ｍｌ）中の４−ブロモ−２−チオフエン−３−イル−ブタ−２−エン酸メチルエステル３８２（３６．７２ｇ、０．１３４ｍｏｌ）、（Ｓ）−２−アミノ−ブチルアミド（［α］25D：１９．０９°；３１．６ｇ、０．２７０ｍｏｌ）の溶液を、室温で２０時間にわたり撹拌する。この懸濁液を濾過し、次いで減圧濃縮し、粗製不飽和ピロリドン３８４及び３８５（４３．４７ｇ）を得る。この生成物はさらに精製することなく、次の工程で使用する。粗製ピロリドンは、単離することができ、通常二重結合異性体の混合物である（３，４及び４，５でオレフィン、最初の方が主異性体である）。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，（ＣＤ3）2ＳＯ）：０．８０（ｔ，３Ｈ）、１．３０−１．９０（ｍ，２Ｈ）、４．４０（ｄ，１Ｈ）、４．４５（ｍ，１Ｈ）、４．７０（ｄ，１Ｈ）、６．３０（ｓ，２Ｈ）、７．０（ｓ（broad），１Ｈ）、７．１５（ｄｄ，１Ｈ）、７．４０（ｓ（broad），１Ｈ）、７．５０（ｄ，１Ｈ）、７．８５（ｄ，１Ｈ）。
【０１７５】
４．１．２．２．工程２：還元
０．５Ｌ三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＮａＢＨ4（１．７５ｇ、０．０４４ｍｏｌ）を、０℃に冷却したＥｔＯＨ（１００ｍｌ）−ジエチレングリコール（６５ｍｌ）中の粗製不飽和ピロリドン３８４／３８５（１４ｇ、０．０４４ｍｏｌ）、ＣＯＣｌ2（０．０６２ｇ、０．０００５ｍｏｌ）の溶液に少しづつ添加する。０．７５時間後、この反応混合物を４８時間、加熱還流させる。この期間中、ＮａＢＨ4（１．７５ｇ、０．０４５ｍｏｌ）及びＣＯＣｌ2（０．０６２ｇ、０．０００５ｍｏｌ）を３回に分けて、出発物質が消失するまで、１０時間おきに順次添加する。この反応混合物を室温まで冷却し、飽和塩化アンモニウムにより加水分解し、ＡｃＯＥｔにより抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで減圧濃縮し、粗製ピロリドンを得る。この生成物をシリカゲル上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ：９７／０３（ｖ／ｖ））、２−［２−オキソ−４−（２−チエニル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド４．１５ｇを得る（３８％）。この立体異性体の混合物を、キラル相上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサン／ＥｔＯＨ）、２種のジアステレオマー（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−（２−チエニル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド７１（ＡｃＯＥｔ中で再結晶）及び７２（ＡｃＯＥｔ中で再結晶）を得る。この特定の場合、２種の副不純物、すなわち（２Ｒ）−２−［２−オキソ−４−（２−チエニル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド８４（０．２５ｇ、ＡｃＯＥｔ中で再結晶）及び８５（０．４４ｇ、ＡｃＯＥｔ中で再結晶）がまた、精製中に得られる。
【０１７６】
４．２．アジドフェニルピロリドンの合成
（２Ｓ）−２−［４−（３−アジドフェニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド８６の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000041
【０１７７】
４．２．１．アニリンの合成
４．２．１．１．工程１：４−ブロモ−３−（３−ニトロフェニル）−ブタ−２−エン酸メチルエステル３８６による（Ｓ）−２−アミノ−ブチルアミドのアルキル化
３８６の合成は、§４．１．１．に記載のとおりに行う。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，（ＣＤ3）2ＳＯ）：１．３０（ｔ，３Ｈ）、４．２０（ｑ，２Ｈ）、５．１５（ｓ，２Ｈ）、６．４５（ｓ，１Ｈ）、７．７５（ｄｄ，１Ｈ）、８．１０（ｄｄ，１Ｈ）、８．２５（ｄｄ，１Ｈ）、８．４５（ｄ，１Ｈ）。
アルキル化は、§４．１．２．１．に記載の実施方法に従い行う（５９％）。ＬＣ／ＭＳ：２９０（ＭＨ＋）。
【０１７８】
４．２．１．２．工程２：還元
２．５Ｌ圧力ジャーにおいて、不活性雰囲気下に、３８７の７．２２ｇ（０．０２５ｍｏｌ）及び木炭上Ｐｄ（１０％ｗ／ｗ．０．２ｇ）を、ＥｔＯＨ（１Ｌ）に溶解し、この混合物をパール水素添加器において２０ｐｓｉＨ2の最大圧力下に水素添加する。１時間後、この混合物を脱気し、セライト／ノライトパッド上で濾過し、この濾液を減圧濃縮し、粗製ピロリドンを得る。この生成物をシリカゲル上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ：９３／０７（ｖ／ｖ））、ジアステレオマーの混合物を得る。この混合物をキラル相上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサン／ＥｔＯＨ）、ＥｔＯＨ中のＨＣｌと反応させた後（塩酸塩の合成のため）、（２Ｓ）−２−［４−（３−アミノフェニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミドの２種のジアステレオマー９０（０．８００ｇ、ＥｔＯＨ中で再結晶）及び９１（１．２１ｇ、ＥｔＯＨ中で再結晶）を、それらの塩酸塩として得る。
【０１７９】
４．２．２．フェニルアジド８６の合成
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、水（１．５ｍｌ）中ＮａＮＯ2（０．２３２ｇ、０．００３７ｍｏｌ）を、０℃に冷却したＨＣｌ（１０Ｍ）（６．５ｍｌ）中の（２Ｓ）−２−［４−（３−アミノフェニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド９０（０．８ｇ、０．００３１ｍｏｌ）の遊離塩基の溶液に、滴下添加する。室温で０．５時間後、水（２ｍｌ）中のＮａＮ3（０．２２０ｇ、０．００３７ｍｏｌ）を添加し、生成する溶液を０℃で０．５時間にわたり撹拌する。この反応混合物をＮａＯＨ（３３％ｗ／ｗ）によりクエンチし、次いでＥｔＯＡｃにより稀釈する。この水性相をｐＨ５−６へと酸性にし、次いでＥｔＯＡｃにより抽出する。集めた有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで減圧濃縮し、粗製ピロリドンを得る。この生成物をシリカゲル上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ：９７／０３（ｖ／ｖ））、ＭｅＣＮから再結晶後、（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−（３−アジドフェニル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド８６を０．４２ｇの量で得る（４８％）。
【０１８０】
４．３．  （２Ｓ）−２−［４−（３−アミノ−２，４，６−トリブロモフェニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド１０７の合成：
2006022108.tif 000042
【０１８１】
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＣＨ2Ｃｌ2（１０ｍｌ）及びＭｅＯＨ（５ｍｌ）中のＰｈ3ＰＣＨ2ＰｈＢｒ3（２．８７０ｇ、０．０４８ｍｏｌ）及び９０（０．４２０ｇ、０．００１６ｍｏｌ）の溶液を、ＮａＨＣＯ3（０．４０７ｇ、０．０４８ｍｏｌ）とともに室温で４時間にわたり撹拌する。この反応混合物を濾過し、次いで減圧濃縮し、粗製アニリンを得る。この生成物をシリカゲル上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ＡｃＯＥｔ／エタノール：９８／０２（ｖ／ｖ））、予測されるアニリン１０７  ０．３８ｇを得る（４７％、Ｅｔ2Ｏから再結晶）。
【０１８２】
４．４．  （２Ｓ）−２−［４−メチル−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド３５及び３６の合成：
2006022108.tif 000043
【０１８３】
３５及び３６は、溶媒としてＥｔＯＨ及びヘキサンを用いるキラル固定相上におけるラセミ体３８９のキラル精製によって得られた。３５は、ｉ−Ｐｒ2ＯＥｔ中での再結晶後に白色結晶として得られる。３６は、Ｅｔ2Ｏ中での再結晶後に白色結晶として得られる。
【０１８４】
例５：メチル１−［１−（アミノカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシレート１１の誘導体化による４−置換２−オキソ−ピロリジンブタンアミドの合成
５．１．メチル１−［１−（アミノカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシレート１１／１２の合成
2006022108.tif 000044
この変換は、２種のエステル１１及び１２の生成について、他の場所、§７．０．１．に記載されている。
【０１８５】
５．２．  １−［２Ｓ−１−（アミノカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸４８の合成
2006022108.tif 000045
【０１８６】
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、１Ｎ  ＮａＯＨ（１２６ｍｌ）の溶液を、０℃に冷却したＭｅＯＨ中のエナンチオマー的に純粋なエステル１１（２２．６２ｇ、０．１ｍｏｌ）の溶液に添加する。この温度で１．５時間後、この反応混合物を、ＨＣｌ（１Ｎ（１０９ｍｌ））により酸性にし、溶媒を減圧で蒸発させる。この残留物をｉ−ＰｒＯＨにより抽出し、濾過し、濾液を減圧濃縮し、粗製酸（１７．８２ｇ）を得る。この生成物をＭｅＣＮから再結晶し、エナンチオマー的に純粋な１−［２Ｓ−１−（アミノカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸４８を生成する。
【０１８７】
５．３．  （２Ｓ）−２−［４−（１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド５０の合成
2006022108.tif 000046
【０１８８】
工程１：ヒドラジンとの反応
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、エステル１１（３ｇ、０．０１３ｍｏｌ）及びヒドラジンヒドレート（０．７ｍｌ）の溶液を、ＥｔＯＨ（３ｍｌ）中で２４時間、撹拌する。この黄色溶液を次いで、濃縮し、粗製ヒドラジド３９１を得る。この生成物は放置すると結晶化する（２．３７ｇ、７９％）。ＧＣ／ＭＳ：２２８（Ｍ＋）。
【０１８９】
工程２：オキサジアゾールの合成
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、粗製ヒドラジド３９１（本特許、３ｇ、０．０１３ｍｏｌ）、トリエチルオルトホルメート（２ｍｌ）及びｐ−トルエンスルホン酸（０．０１０ｇ）の溶液を、１１０℃で２４時間、加熱する。この反応混合物を室温まで冷却し、減圧濃縮し、粗製オキサジアゾールを得る。この生成物はシリカゲル上におけるクロマトグラフィー（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ：９５／０５（ｖ／ｖ））により精製し、（２Ｓ）−２−［４−（１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド５０（０．３１２ｇ）を油状物として得る。
【０１９０】
５．４．  １，３，４−オキサジアゾール誘導体の合成
別法として、１，３，４−オキサジアゾール誘導体は、ヒドラジン３９１から得ることもできる。一例として、２−［２−オキソ−（５−スルファニル−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド５１は、ヒドラジン３９１をＥｔＯＨ中でＣＳ2及びＫＯＨと反応させることによって得られる。
【０１９１】
５．５．  ４−アミノ−ピロリジン−２−オン３９２の合成
2006022108.tif 000047
【０１９２】
５．５．１．工程１：カルバメート３９３の合成
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＭｅＣＮ（２２５ｍｌ）中のエナンチオマー的に純粋な１−［２Ｓ−１−（アミノカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸４８（１９．０６ｇ、０．０８９ｍｏｌ）、ジフェニルホスホリルアジド（２６．９ｇ、０．０９７ｍｏｌ）及びＥｔ3Ｎ（１３．５ｍｌ）の溶液を、Ｎ2の生成を伴うよう５５℃で加熱する。この温度は、５５℃に０．５時間、７０℃に２時間、維持し、次いで室温まで冷却させる。ベンジルアルコール（９．２５ｍｌ）を添加し、この溶液を４時間にわたり還流させ、室温まで冷却させ、次いで減圧濃縮する。この粗製カルバメートをシリカゲル上におけるクロマトグラフィーにより精製し（ＡｃＯＥｔ／ＭｅＯＨ／ＮＨ4ＯＨ：９５／０４／０１（ｖ／ｖ））、２種のジアステレオマーカルバメート３９４（２．６４ｇ、９．３％）及び３９３（１１．９ｇ、４２％）を得る。３９３について、1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：０．９０（ｔ，３Ｈ）、１．３０−１．９０（ｍ，２Ｈ）、２．３５（ｄｄ，１Ｈ）、２．７５（ｄｄ，１Ｈ）、３．３０（ｄｄ，１Ｈ）、３．７５（ｍ，１Ｈ）、４．３０−４．５０（ｍ，２Ｈ）、５．１０（ｓ，２Ｈ）、５．３５（ｓ（broad），１Ｈ）、５．５５（ｓ（broad），１Ｈ）、６．４０（ｓ（broad），１Ｈ）、７．３０−７．４５（ｍ，５Ｈ）。
【０１９３】
５．５．２．  工程２：４−アミノ−ピロリジン−２−オン３９２の合成
０．２５Ｌ圧力ジャーにおいて、不活性雰囲気下に、３９３の１１．９ｇ（０．０３７ｍｍｏｌ）及び木炭上Ｐｄ（１０％ｗ／ｗ、０．２ｇ）を、ＥｔＯＨ（３００ｍｌ）中に溶解し、この混合物をパール水素添化器において、２０ｐｓｉＨ2最高圧力下に水素添加する。２０時間後、この混合物を脱気し、セライト／ノライトパッド上で濾過し、この濾液を減圧濃縮し、粗製アミンを得る。この生成物をＰｈＭｅから再結晶させ、２−［４−アミノ−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド３９２を得る（６．９９ｇ、定量的）。
【０１９４】
５．６．  ４−ピロール−ピロリジン−２−オン２２３の合成
2006022108.tif 000048
【０１９５】
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、２−［４−アミノ−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド３９３（６．９９ｇ、０．０３７ｍｏｌ）、ジメトキシテトラヒドロフラン（５．５３ｇ、０．０４１ｍｏｌ）、ピリジン（５０．６ｍｌ）及びＡｃＯＨ（３６ｍｌ）の懸濁液を、７０℃に温め、溶解を生じさせる。この温度で２時間後、この反応混合物を室温まで冷却させ、減圧濃縮し、粗製生成物をシリカゲル上におけるクロマトグラフィー（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ：９５／０５（ｖ／ｖ））により精製し、２２３を油状物として得る（２．６７ｇ、３０．１％）。
【０１９６】
５．７．  ４−ピロリル−ピロリジン−２−オン２２３の臭素化
2006022108.tif 000049
【０１９７】
磁気撹拌機を備えた０．２５Ｌ三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＴＨＦ（３５ｍｌ）中の単一エナンチオマーとしての２Ｓ−４−ピロール−ピロリジン−２−オン２２３（１．１８ｇ、０．００４９ｍｏｌ）の脱気した溶液を−７８℃に冷却させ、次いでＮ−ブロモスクシンイミド（０．８７７ｇ、０．００５ｍｏｌ）を少しづつ添加する。この反応混合物を０．５時間にわたり撹拌し、次いでＮａ2Ｓ2Ｏ3（０．９ｇ）によりＮＢＳをクエンチする。この反応混合物を室温まで温め、減圧濃縮し、次いでシリカゲル上におけるクロマトグラフィー（ＥｔＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2：０５／９５（ｖ／ｖ））により精製し、ＭｅＣＮ中で再結晶後、（２Ｓ）−２−［４−（２−ブロモ−１Ｈ−ピロール−１−イル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド２３４（１．０５ｇ、６７％）を白色固形物として得る。
別法として、同一実施方法及び２当量のＮ−ブロモ−スクシンイミドを使用し、ジブロモピロール２３７を得ることができる。
【０１９８】
５．８．テトラゾリル誘導体の合成
§５．６の別法として、２−［４−アミノ−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミドとトリエチルオルトホルメート、ＮａＮ3及びＡｃＯＨとの反応は、２−［２−オキソ−４−（１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド６７をもたらす。
５．９．  （４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−４−イル）誘導体の合成
§５．６の別法として、２−［４−アミノ−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミドとピリジン及び１，２−ビス（（ジメチルアミノ）メチレン）ヒドラジンとの反応は、２−［２−オキソ−４−（４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−４−イル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド６５及び６６をもたらす。
【０１９９】
例６：１−［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシアルデヒド３９６のオレフィン化による４−置換２−オキソ−ピロリジンブタンアミドの合成
６．１．  １−［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシアルデヒド３９６の合成
工程１：２−アミノブチレートのメチルイタコネートとの縮合
2006022108.tif 000050
【０２００】
１リットル三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、２，２−ジメチルエチル（Ｓ）−２−アミノ−ブタノエート（市販されている、４６．６ｇ、０．２６８ｍｏｌ）及びジメチルイタコネート（８３ｍｌ、０．５９ｍｏｌ）の溶液を、ＭｅＯＨ（４００ｍｌ）中で２０時間にわたり還流させる。この混合物を室温で２０時間にわたり撹拌し、減圧濃縮し、残留物をシリカゲル上におけるクロマトグラフィ（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ：９７／３（ｖ／ｖ））により精製し、メチル１−［（１Ｓ）−１−（ｔｅｒｔブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシレート３９７（８１．６ｇ、定量的）を得る。メチル１−［（１Ｓ）−１−（ｔｅｒｔブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシレート３９７の１／１混合物の分析： 1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，（ＣＤ3）2ＳＯ）：１．０５（ｔ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，９Ｈ）、１．６０−１．６５（ｍ，１Ｈ）、１．６５−１．９０（ｍ，１Ｈ）、２．４０−２．６５（ｍ，２Ｈ、溶媒シグナルと部分的に重複）、３．３０−３．６５（ｍ，３Ｈ）、３．７０（ｓ，３Ｈ）、４．４０（ｄｄ，１Ｈ）。
別法として、この反応はまた、ラセミ体２，２−ジメチルエチル−２−アミノブタノエートを用いて行い、同様の収率でラセミ体ブタンアミドを得ることができる。
【０２０１】
工程２：アルデヒド３９６の合成
2006022108.tif 000051
【０２０２】
エステル３９７のアルコール３９８への還元
§７．０．２ａに記載の方法を使用し、３９７を単一エナンチオマーとして、２種のジアステレオマーの混合物として、又は４種の立体異性体の１／１／１／１混合物として用いて行う。ｔｅｒｔ−ブチル（２Ｓ）−２−［４−（ヒドロキシメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタノエート３９８の１／１ジアステレオマー混合物について：ＧＣ／ＭＳ：２５７Ｍ＋。
【０２０３】
アルコール３９６への酸化
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＣＨ2Ｃｌ2（８ｍｌ）中のｔｅｒｔ−ブチル（２Ｓ）−２−［４−（ヒドロキシメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタノエート３９８（４．０ｇ、０．０１６ｍｏｌ）の溶液を、室温で撹拌されているピリジン（１１．３ｍｌ）／ＣＨ2Ｃｌ2（８０ｍｌ）中のＣｒＯ3（６．２ｇ、０．０６２ｍｏｌ）の懸濁液に添加する。温度を３０℃に高め、この懸濁液を０．２時間にわたり撹拌する。この懸濁液をセライトに通して濾過し、濾液をＨＣｌ（１Ｎ）、ブラインにより順次洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで減圧濃縮し、粗製アルデヒドを得る。この生成物をシリカゲル上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサン／アセトン：７０／３０（ｖ／ｖ））、１−［（１Ｓ）−１−（ｔｅｒｔブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシアルデヒド３９６を２．０３ｇの量で得る（４１％）。
【０２０４】
別法として、この反応はまた、ラセミ体エステルを用いて行い、ラセミ体アルデヒドを同様の収率で得ることができる。１−［（１Ｓ）−１−（ｔｅｒｔブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシアルデヒド３９６の１／１混合物の分析：1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：０．９１（ｔ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，９Ｈ）、１．５５−１．７７（ｍ，１Ｈ）、１．９０−２．１５（ｍ，１Ｈ）、２．６３−２．８２（ｍ，２Ｈ）、３．４７−３．６１（ｍ，１Ｈ）、３．６５−３．７９（ｍ，１Ｈ）、３．８３−３．９４（ｍ，ジアステレオマーの一方の１Ｈ）、４．４８−４．６２（ｍ，１Ｈ）、９．７４（ｓ（broad），１Ｈ）。
【０２０５】
６．２．  １−［（１Ｓ）−１−（ｔｅｒｔブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシアルデヒド３９６のオレフィン化
６．２．１．エチレン系誘導体の合成
§６．２．３．の別法として、エチレン系誘導体は、強塩基の存在下における１−［（１Ｓ）−１−（ｔｅｒｔブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシアルデヒド３９６とホスホニウム塩とのウィティッヒ(Wittig)オレフィン化によって得ることができる。一例として、アルデヒド３９６とＰｈ3ＰＣＨ3Ｂｒ及びｎ−ＢｕＬｉとをＴＨＦ中で反応させることによって、（２Ｓ）−２−（２−オキソ−４−ビニル−１−ピロリジニル）ブタン酸２，２−（ジメチル）エチルエステルが得られる。
【０２０６】
６．２．２．  Ｐｈ3Ｐ／ＣＢｒ4を用いるオレフィン化による
§６．２．３．の別法として、ハロビニル系誘導体は、ホスフィン及びハロゲノメタンの存在下における１−［（１Ｓ）−１−（ｔｅｒｔブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシアルデヒド３９６のウィティッヒ(Wittig)オレフィン化によって得ることができる。一例として、トリフエニルホスフィンの存在下に、アルデヒド３９６及びＣＢｒ4から、（２Ｓ）−２−（２−オキソ−４−（２，２−ジブロモビニル）−１−ピロリジニル）ブタン酸２，２−（ジメチル）エチルエステルが得られる。
【０２０７】
６．２．３．  （Ｍｅ2Ｎ）3Ｐ／ＣＦ2Ｂｒ2を用いるオレフィン化による
2006022108.tif 000052
【０２０８】
（２Ｓ）−２−（２−オキソ−４−（２，２−ジフルオロビニル）−１−ピロリジニル）ブタン酸２，２−（ジメチル）エチルエステル３９９の２種のジアステレオマーの合成を代表例として示す。三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＴＨＦ（２８０ｍｌ）中のＣＦ2Ｂｒ2（５８ｇ、０．２５ｍｏｌ）の溶液に、−７８℃で（Ｍｅ2Ｎ）3Ｐ（８９．８ｇ、０．５５ｍｏｌ）を添加し（白色沈殿が現れる）、室温まで温める。この前もって形成されたホスホニム塩に、ＴＨＦ中のアルデヒド３９６（３５．２ｇ、０．１３８ｍｏｌ）をジアステレオマーの１／１混合物として滴下添加する。１時間後、この反応混合物をセライトに通して濾過し、次いで減圧濃縮する。この反応混合物をヘキサンにより稀釈し、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで減圧濃縮し、粗製オレフィンを得る。この生成物をシリカゲル上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ９９／０１（ｖ／ｖ））、（２Ｓ）−２−（２−オキソ−４−（２，２−ジフルオロビニル）−１−ピロリジニル）ブタン酸２，２−（ジメチル）エチルエステル３９９の１／１ジアステレオマー混合物を３４．６ｇの量で得る（８７％）：1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，（ＣＤ3）2ＳＯ）：０．８１−０．９１（ｍ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，９Ｈ）、１．５０−１．７５（ｍ，１Ｈ）、１．８０−１．９５（ｍ，１Ｈ）、２．３０−２．４０（ｍ，２Ｈ、溶媒と部分的に重複）、３．００−３．３５（ｍ，２Ｈ）、３．４５−３．５５（ｍ，１Ｈ）、４．２０−４．４０（ｍ，１Ｈ）、４．６０（ｄｄｄ、ジアステレオマーの一方の１Ｈ）、４．７５（ｄｄｄ、ジアステレオマーの一方の１Ｈ）。
【０２０９】
６．２．４．  （ｎ−Ｂｕ）3Ｐ／ＣＣｌ3Ｆを用いるオレフィン化による
§６．２．３．の別法として、ハロビニル誘導体は、ホスフィン及びハロゲノメタンの存在下における１−［（１Ｓ）−１−（ｔｅｒｔブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシアルデヒド３９６のウィティッヒオレフィン化によって得ることができる。一例として、２−（２−オキソ−４−（２（Ｚ）−フルオロビニル）−１−ピロリジニル）ブタン酸２，２−（ジメチル）エチルエステルは、アルデヒド３９６から、ＣＦＣｌ3及びｎ−Ｂｕ3Ｐとの順次反応、引続く中間ビニルホスホニウム化合物のＮａＯＨによる脱ホスホリル化によって得られる。
【０２１０】
６．２．５．  ４−シアノ−ピロリドンの合成
別法として、４−シアノ−ピロリドン誘導体は、１−［（１Ｓ）−１−（ｔｅｒｔブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシアルデヒド３９６をヒドロキシルアミンと反応させ、次いでＳｅＯ2と反応させることによって得られる。
【０２１１】
６．３．  ２，２−ジメチル−エチルエステルのアミノ化
６．３．１．トリフルオロ酢酸による脱保護及びアミノ分解
（２Ｓ）−２−（２−オキソ−４−（２，２−ジフルオロビニル）−１−ピロリジニル）ブタンアミドの２種のジアステレオマー２１３及び２２２の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000053
【０２１２】
工程１：２，２−（ジメチル）エチルエステルの脱保護
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、トリフルオロ酢酸（１７０ｍｌ）及びＣＨ2Ｃｌ2（５００ｍｌ）中の（２Ｓ）−２−（２−オキソ−４−（２，２−ジフルオロビニル）−１−ピロリジニル）ブタン酸２，２−（ジメチル）エチルエステル３９９の１／１ジアステレオマー混合物（３１．８ｇ、０．０１１０ｍｏｌ）の溶液を、室温で２０時間にわたり撹拌する。この反応混合物を蒸発乾燥させる。この残留物をトルエン中に溶解し、再蒸発乾燥させ、トリフルオロ酢酸の存在を無くし、粗製酸３２ｇを得る。この生成物はさらに生成することなく次の工程で使用する。ＬＣ／ＭＳ：２３４（ＭＨ＋）。
【０２１３】
工程２：活性化及びアンモニウム分解
機械的撹拌機を備えた三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＣｌＣＯＯＥｔ（２３ｍｌ、０．２４ｍｏｌ）を、−１５℃に冷却したＣＨ2Ｃｌ2（２５０ｍｌ）及びトリエチルアミン（３３．７ｍｌ）中の酸の混合物（２５．６ｇ、０．１１ｍｏｌ）の溶液に添加する。この反応混合物を、−１０℃で１．５時間にわたり撹拌し、次いでこの溶液に気体状ＮＨ3を、温度を０℃以下に維持しながら、泡立てて通す。この懸濁液を０℃で１時間にわたり撹拌し、室温まで温め、濾過し、この濾液を減圧蒸発させる。この粗製アミドを、シリカゲル上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ＣＨ2Ｃｌ2／ＥｔＯＨ：９９／０１（ｖ／ｖ））、（２Ｓ）−２−（２−オキソ−４−（２，２−ジフルオロビニル）−１−ピロリジニル）ブタン酸２，２−（ジメチル）エチルエステルの１／１ジアステレオマー混合物を２３ｇの量で得る。この生成物をキラル相上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサン／ＥｔＯＨ）、２種のジアステレオマー２１３（１０．１ｇ、ｉ−Ｐｒ2Ｏから再結晶）及び２２２（１１．２ｇ、ｉ−Ｐｒ2Ｏから再結晶）を得る。
【０２１４】
６．３．２．別法として、脱保護はブロモカテコールボランを用いて行うことができる。
２−（２−オキソ−４−（２，２−ジメチルビニル）−１−ピロリジニル）ブタンアミド１６３の４種のジアステレオマーは、２−（２−オキソ−４−（２，２−ジメチルビニル）−１−ピロリジニル）ブタン酸２，２−（ジメチル）エチルエステルの１／１／１／１ジアステレオマー混合物をブロモカテコールボランと反応させ、酸を生成し、次いで§６．３．１（工程２）に記載の条件でアミノ化することによって得られる。
【０２１５】
６．４．アセチレン系誘導体の合成
６．４．１．  ２−（４−エチニル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミド２０６／２０７の合成
2006022108.tif 000054
【０２１６】
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．６Ｍ、１１６ｍｌ）を、−７８℃に冷却したＴＨＦ中の２−［４−（２，２−ジブロモビニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド（未確定の立体異性体、１０．９５ｇ、０．０３１ｍｏｌ）の２種のジアステレオマーの１／１混合物の溶液に添加する。この白色懸濁液を、この温度で１．５時間にわたり撹拌し、次いでＭｅＯＨ（１２０ｍｌ）によりクエンチし、室温まで温め、次いで減圧濃縮する。この粗製アルキンをＥｔＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2（１０／９０ｖ／ｖ）中に溶解し、セライトに通して濾過し、減圧濃縮し、生成する固形物を、シリカゲル上におけるクロマトグラフィーにより（ＥｔＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2：１０／９０（ｖ／ｖ））及びキラル相上におけるカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／ＥｔＯＨ）により順次精製し、２−（４−エチニル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミドの２種のジアステレオマー２０６（０．８４ｇ、ＰｈＭｅ中で再結晶）及び２０７（０．４４ｇ、ＰｈＭｅ中で再結晶）を得る。
別法として、２−（４−ブロモ−エチニル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミド２６７は、２−［４−（２，２−ジブロモビニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド４７を、低温（−５０〜０℃）においてＴＨＦ中で２当量のカリウムｔｅｒｔブトキシドと反応させることによって得られる。
【０２１７】
６．４．２．  ２−（４−プロピン−１−イル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミド２８０の合成
2006022108.tif 000055
【０２１８】
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、メチル亜鉛クロライドの溶液（この溶液は、ＴＨＦ（１５ｍｌ）中でメチルリチウム（エーテル中１．５Ｍ、６．１４ｍｌ）及びＺｎＣｌ2（１．２５ｇ）から製造される）を、−１０℃に冷却したＴＨＦ（１０ｍｌ）中のＣｕＣＮ（０．８２ｇ）及びＬｉＣｌ（０．７８ｇ）の溶液に添加する。もう一つの三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＮａＨ（油中の８０％、０．０９７ｇ）を、−１０℃において、ＴＨＦ（２０ｍｌ）中の２−（４−ブロモ−エチニル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミド（１ｇ、０．００３６ｍｏｌ）の溶液に添加し、次いでＺｎＣｌ2（０．５０ｇ）を添加する。このアミド溶液を次いで、−７８℃に冷却した有機クプレート（cuprate）上に滴下添加する。この反応混合物を、この温度で３時間にわたり撹拌し、次いで一夜かけて室温まで温める。飽和水性ＮＨ4Ｃｌにより加水分解後、水性層をＣＨ2Ｃｌ2により抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧濃縮し、粗製アルキンを得る。この生成物を、キラル相上におけるクロマトグラフィー（ＥｔＯＨ／ヘキサン）により精製し、２−（４−プロピン−１−イル−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミド２８０を得る。
【０２１９】
６．５．オレフィン系ピロリドンの水素添加
２−［４−（２，２−ジフルオロエチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド１５７の４種のジアステレオマーの１／１／１／１混合物の合成を代表例として示す：
2006022108.tif 000056
【０２２０】
０．２５Ｌ圧力ジャーにおいて、不活性雰囲気下に、１５６の１ｇ（０．００４３ｍｍｏｌ）及び木炭上Ｐｄ（１０％ｗ／ｗ、０．２ｇ）を、ＥｔＯＨ（５０ｍｌ）に溶解し、この混合物をパール水素添化器において水素添加する。２０時間後、この混合物を脱気し、セライト／ノライトパッド上で濾過し、濾液を減圧濃縮し、粗製フルオロアルカンを得る。この生成物をＰｈＭｅから再結晶化させ、２−［４−（２，２−ジフルオロエチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド１５７の４種のジアステレオマーの１／１／１／１混合物を白色固形物として得る（０．７５ｇ）。
【０２２１】
６．６．  ２−［４−（５−メチル−１，３−オキサゾール−２−イル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド６２及び６３の合成：
2006022108.tif 000057
【０２２２】
工程１：エステルの加水分解
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＮａＯＨ（１Ｎ）（３９ｍｌ）を、２０℃において、ＭｅＯＨ（１００ｍｌ）中のメチル１−［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシレート３９７（４種の立体異性体の１／１／１／１混合物として（１０ｇ、０．０３５ｍｏｌ））の溶液に添加する。この溶液を０．５時間にわたり撹拌し、次いで蒸発乾燥させ、次いでＨＣｌ（１Ｎ）によりｐＨ＝１に酸性にする。この水性層をＡｃＯＥｔにより抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧濃縮し、粗製酸４００を白色固形物として得る（８．４５ｇ）。この生成物は、さらに精製することなく次の工程で使用する。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，（ＣＤ3）2ＳＯ）：０．８０（ｔ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，９Ｈ）、１．５５−１．６０（ｍ，１Ｈ）、１．７０−１．９５（ｍ，１Ｈ）、２．４０−２．５５（ｍ，２Ｈ、溶媒と部分的に重複）、３．１０−３．５５（ｍ，１Ｈ、溶媒と部分的に重複）、４．４５（ｄｄ、１Ｈ）。
【０２２３】
工程２：アミド４０１の合成
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＣｌＣＯＯＥｔ（０．５０ｍｌ、０．００５ｍｏｌ）を、−２０℃に冷却したＣＨ2Ｃｌ2（１０ｍｌ）及びトリエチルアミン（０．７７ｍｌ）中の酸４００（０．６７８ｇ、０．００２５ｍｏｌ）の溶液に添加する。この反応混合物を−１０℃において１．５時間にわたり撹拌し、次いで温度を０℃以下に維持しながら、この溶液にプロパルギルアミン（０．３６ｍｌ）を添加する。この懸濁液を０℃において１時間にわたり撹拌し、室温まで温め、濾過し、次いでこの濾液を減圧蒸発させる。この粗製アミドを、シリカゲル上においてカラムクロマトグラフィーにより精製し（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ：９８／０２（ｖ／ｖ））、プロパルギルアミド４０１を４種のジアステレオマーの１／１／１／１混合物として得る（０．８ｇ）。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，（ＣＤ3）2ＳＯ）：０．８０（ｔ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，９Ｈ）、１．５５−１．６５（ｍ，１Ｈ）、１．７０−１．９５（ｍ，１Ｈ）、２．４０−２．５５（ｍ，４Ｈ、溶媒と部分的に重複）、３．０−３．７０（ｍ，３Ｈ、溶媒と部分的に重複）、３．７０−３．９０（ｍ，２Ｈ）、４．４５（ｍ，１Ｈ）、８．４５（ｍ，１Ｈ）。
【０２２４】
工程３：オキサゾール４０２の合成
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＡｃＯＨ（４０ｍｌ）及びＨｇ（ＯＡｃ）2（０．０４８ｇ、０．０００１５ｍｏｌ）中のアミド４０２（０．７７ｇ、０．００２５ｍｏｌ）の溶液を、１時間にわたり還流させ、この反応混合物を室温まで冷却させ、減圧濃縮し、次いで飽和Ｎａ2ＣＯ3により加水分解する。この水性層をＣＨ2Ｃｌ2により抽出し、有機相をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥させ、次いで減圧濃縮し、粗製化合物を得る。この生成物を、シリカゲル上におけるクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサン／ＡｃＯＥｔ：５０／（ｖ／ｖ））純粋なオキサゾール４０２（０．１５ｇ、２０％）を得る。ＧＣ／ＭＳ：３０８（Ｍ＋）この化合物は、６．３．１．と同様にアンモノリンスによって６２及び６３に変換することができる。
【０２２５】
６．７．テトラゾールの合成
６．７．１．未置換テトラゾールの合成
2006022108.tif 000058
【０２２６】
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ラセミ体ニトリル４０３（２．６６ｇ、０．０１１ｍｏｌ）、ＮａＮ3（４．８ｇ、０．０７３ｍｏｌ）及びＥｔ3Ｎ−塩酸塩（１０．１２ｇ）の溶液を、ＤＭＦ（６０ｍｌ）中で１１０℃において２時間にわたり加熱し、室温まで冷却させ、次いで減圧蒸発させる。この粗製物を、シリカゲル上におけるクロマトグラフィーにより精製し（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ／ＡｃＯＨ：９０／０８／０２（ｖ／ｖ））、ラセミ体テトラゾールエステル４０４（３．４２ｇ、０．０１０ｍｏｌ）をジアステレオマーの１／１／１／１混合物として得る。ＬＣ／ＭＳ：２９５（ＭＨ＋）。
【０２２７】
６．７．２．テトラゾールのアルキル化
2006022108.tif 000059
【０２２８】
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＤＭＦ（６０ｍｌ）中のラセミ体テトラゾール４０４（５．６ｇ、０．０１９ｍｏｌ）、Ｋ2ＣＯ3（２．８８ｇ）及びＭｅＩ（１．３ｍｌ）の懸濁液を、室温において２９時間にわたり撹拌し、次いで減圧蒸発させる。この粗製混合物を、シリカゲル上におけるクロマトグラフィーにより精製し（ＭＴＢＥ／ヘキサン：５０／５０（ｖ／ｖ））、２種のレジオ異性体テトラゾール４０５（１．９８ｇ、３４％）及び４０６（１．０３ｇ、１７％）を油状物として得る。ＬＣ／ＭＳ：３０９（ＭＨ＋）。
【０２２９】
６．８．チアゾールの合成
６．８．１．チオアミドの合成
2006022108.tif 000060
【０２３０】
６．８．１．１．３９８のアンモノリシス
還流コンデンサー、磁気撹拌機及び溶液中に浸漬されている添加ガス管を備えている、０．５Ｌ三頚フラスコにおいて、３９７の１０ｇ（０．０３５ｍｍｏｌ）をメタノール１００ｍｌ中に溶解する。この溶液中に、気体状アンモニアを泡立てて通し、この飽和溶液を室温においてアンモニアにより時々、再飽和しながら、１日間にわたり維持する。反応完了後、この溶液を減圧濃縮し、粗製アミド４０７（９．６ｇ、１００％）を得る。1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ、（ＣＤ3）2ＳＯ）：０．８５（ｔ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，９Ｈ）、１．５５−１．６０（ｍ，１Ｈ）、１．７０−１．９５（ｍ，１Ｈ）、２．４０−２．６０（ｍ，２Ｈ、溶媒と部分的に重複）、３．００−３．７０（ｍ，１Ｈ、溶媒と部分的に重複）、４．３５−４．４５（ｍ，１Ｈ）、６．９５（ｓ（broad），１Ｈ）、７．４０（ｓ（broad），１Ｈ）。
【０２３１】
６．８．１．２．  チオアミド４０８の合成
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＭｅＣＮ（１００ｍｌ）中の粗製アミド４０７（６ｇ、０．０２２ｍｏｌ）、Ｐ4Ｓ10（４．９３ｇ、０．０１１ｍｏｌ）及びＮａＨＣＯ3（３．７３ｇ）の溶液を、５℃において６時間にわたり撹拌する。この反応混合物を濾過し、減圧濃縮し、次いでこの粗製チオアミドを、シリカゲル上におけるクロマトグラフィーにより精製し（ＡｃＯＥｔ／ヘキサン：５０／５０（ｖ／ｖ））、ＡｃＯＥｔからの再結晶後、チオアミド４０８（３．７ｇ、６０％）を得る。ＧＣ／ＭＳ：２８６（Ｍ＋）。
【０２３２】
６．８．２．置換チアゾールの合成
2006022108.tif 000061
【０２３３】
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＰｈＭｅ（１００ｍｌ）中のチオアミド４０８（４種のジアステレオマーの１／１／１／１混合物として）（本特許、１．５ｇ、０．００５ｍｏｌ）、Ａｌ2Ｏ3（１２ｇ）及び１−ブロモ−２−ジメトキシプロパ−２−エン（０．８５ｍｌ）の溶液を、３時間にわたり還流させる。この反応混合物を、室温まで冷却させ、濾過し、次いで減圧濃縮し、粗製チアゾール４０９（０．５ｇ、３０％）を得る。この生成物はさらに精製することなく、次の工程で使用する。ＧＣ／ＭＳ：３２４（Ｍ＋）。
【０２３４】
６．８．３．  未置換チアゾールの合成
別法として、未置換チアゾールは、チオアミド４０８をＡｌ2Ｏ3及びブロモ−アセトアルデヒド（酸性条件において、ブロモ−２，２−ジメトキシエタンからその場で生成される）との反応によって得ることができる。
６．８．４．  １，２，４−チアジアゾール−５−イル−誘導体の合成
別法として、１，２，４−チアジアゾール−５−イル−誘導体は、チオアミド４０８をＮ，Ｎ−ジメチル−アセトアミド、ジメチルアセタールとの順次反応、引続くピリジンの存在下における環化によって得ることができる。
【０２３５】
６．９．  ２−［２−オキソ−４−（３−ピリジニルカルボニル）−１−ピロリジニル］ブタン酸２，２−ジメチルエチルエステル４１０の合成
2006022108.tif 000062
【０２３６】
三頚フラスコにおいて、アルゴン雰囲気下に、ＳＯＣｌ2（０．５６ｍｌ）を、室温においてＰｈＭｅ（２０ｍｌ）中の酸４００（１．９０ｇ、０．００７ｍｏｌ）の溶液に添加する。この反応混合物を、１．５時間にわたり還流させると、黄色になる。室温まで冷却後、ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2（０．２５ｇ、０．０００３５ｍｏｌ）及び３−トリメチルスタニル−ピリジン（１．７ｇ、０．００７ｍｏｌ）を一度に添加し、この反応混合物を０．５時間にわたり還流させ、室温まで冷却させ、水で反応をクエンチする。この水性層をジクロロメタンにより抽出し、集めた有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧濃縮する（３．２ｇ）。この粗製ケトンを、シリカゲル上におけるカラムクロマトグラフィーにより精製し（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ：９７／０３（ｖ／ｖ））、ケトン４１０（１．３ｇ）を、４種のジアステレオマーの１／１／１／１混合物として得る。ＬＣ／ＭＳ：３３３（ＭＨ＋）。
【０２３７】
例７：活性化した２−（４−ヒドロキシメチル−２−オキソ−ピロリジニル）ブタンアミドの置換による２−（４−置換−２−オキソ−ピロリジニル）ブタンアミドの合成
７．０．原料アルコールの合成
７．０．１．エステル−アミドの合成
７．０．１．ａ．メチル１−［（１Ｓ）−１−（アミノカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシレート１１／１２の合成。
2006022108.tif 000063
【０２３８】
機械的撹拌機及び還流コンデンサーを備えた１０Ｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、（２Ｓ）−２−アミノブタンアミド１２２６ｇ（１２ｍｏｌ、１当量）及びジメチルイタコネート１９１２ｍｌ（２１５０ｇ、１３．２ｍｏｌ、１．１当量）を、ＭｅＯＨ６．１３Ｌ中に溶解する。この混合物を、１０時間にわたり還流させ、次いで４時間かけて２０℃にまでゆっくりと冷却させる。濾過し、沈殿をＭｅＯＨにより洗浄し、集めた有機相を濃縮乾燥させ、粗製中間体３．２８３ｇを得る（７４％）。
機械的撹拌機、ラッシグ(Rashig)カラム及び蒸留アームを備えた２０Ｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、粗製中間体及び２−ヒドロキシピリジン８４．７ｇ（８９１ｍｍｏｌ、０．１当量）を、トルエン１１．６Ｌ中に溶解する。この混合物を還流させ、次いで生成されたメタノールを８時間かけて、４８０ｍｌが採取されるまで蒸留する。このポット内の温度は１１２℃に達した。この混合物を冷却させ、次いで濃縮乾燥させ、粗製アミドエステル２．１８７ｇを５７．５／４２．５の比のジアステレオマー混合物として得る。
【０２３９】
この２種のジアステレオマーを、キラル相上における調製用液体クロマトグラフィー（Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ１００＊５００ｍｍ、ＥｔＯＨ／Ｈ2Ｏ：９９．９／０．１）により分離し、溶出液を濃縮乾燥させ、粗製物１２（第一溶出液）９６８ｇ及び粗製物１１（第二流出液）１．０５２ｇを得る。粗製物１２は結晶化しなかった。これをＥｔＯＨ（１．５Ｌ）に溶解し、さらに使用するためにそのまま保持する。粗製物１１はＥｔＯＡｃ（２Ｌ）から再結晶させ、純粋な１１の６７６ｇを得る。
別法として、同様の方法で、メチル１−［（１Ｓ）−２−アミノ−１−メチル−２−オキソエチル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシレート、メチル１−［（１Ｓ）−１−（アミノカルボニル）ブチル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシレート、メチル１−［（１Ｓ）−１−［（メチルアミノ）カルボニル］プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジンカルボキシレートが製造される。
【０２４０】
７．０．２．アルコール−アミドの合成
７．０．２．ａ．  （２Ｓ）−２−［４−（ヒドロキシメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド６の合成
2006022108.tif 000064
【０２４１】
機械的撹拌機及び還流コンデンサーを備えた２Ｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、ＥｔＯＨ２００ｍｌ中の（２Ｓ）−２−（４−メトキシカルボニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル）ブタンアミド１１の１３３ｇ（５８３ｍｍｏｌ、１当量）の溶液を、ＥｔＯＨ３００ｍｌに添加し、この混合物を０℃に冷却させる。固形ＮａＢＨ4の６６．２ｇ（１．７４ｍｏｌ、１２当量）を次いで、１．５時間かけて少しづつ添加する。この全期間、温度は２〜４℃に維持する。２時間後、温度を１時間かけて１２℃に上昇させ、次いで２〜４℃に再度、低下させる。ＮＨ4Ｃｌの飽和溶液２４０ｍｌを１時間かけて滴下添加し、次いでアセトン１２０ｍｌを添加し、この混合物を室温で一夜にわたり放置する。この混合物を濾過し、沈殿をＥｔＯＨ３ｘ７０ｍｌにより洗浄し、集めた有機フラクションを濃縮乾燥させ、粗製物６を１４８ｇ得る。それをＣＨ2Ｃｌ2３００ｍｌ中に懸濁し、３０分間にわたり撹拌し、濾過し、ＣＨ2Ｃｌ2２ｘ１００ｍｌにより洗浄し、次いで乾燥させ、純粋６を１１４ｇの量で得る（９８％）。
【０２４２】
別法として、同様の方法で、（２Ｓ）−２−［４−（ヒドロキシメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］プロパンアミド、（２Ｓ）−２−［４−（ヒドロキシメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ペンタンアミド、（２Ｓ）−２−［４−（ヒドロキシメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］−Ｎ−メチルブタンアミドが製造される。
【０２４３】
７．１．ＰＰｈ3を用いるアルコールの直接変換による合成
７．１．１．  （２Ｓ）−２−［４−（ヨウドメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド１０の合成
2006022108.tif 000065
【０２４４】
機械的撹拌機及び還流コンデンサーを備えた１０Ｌ三頚容器において、不活性雰囲気下に、（２Ｓ）−２−［４−（ヒドロキシメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド６の４００ｇ（２ｍｏｌ、１当量）を、アセトニトリル３Ｌに溶解する。トリフェニルホスフィン６２９ｇ（２．４ｍｏｌ、１．２当量）を添加し、次いでヨウ素６０８ｇ（２．４ｍｏｌ、１．２当量）を５分間かけて３回に分けて添加する。この混合物を３０分間で６０℃まで加熱し、次いでこの温度で５時間にわたり撹拌する。冷却後、この混合物を濃縮乾燥させ、残留物を水１０Ｌ中のＮａ2Ｓ2Ｏ3７５０ｇの溶液に懸濁し、５０℃で４時間にわたり撹拌する。沈殿を濾別し、水３ｘ１Ｌにより洗浄する。集めた水性相を、ＮａＣｌ１ｋｇで処理し、次いでＣＨ2Ｃｌ2６ｘ１Ｌにより抽出する。集めた有機相をＭｇＳＯ4上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮乾燥させ、粗製物１０の４８２ｇを得る。これをトルエンから再結晶する。数回の収穫物を一緒に、酢酸エチルから再結晶させ、純粋１０を４２５ｇの量で得る（６８％）。
【０２４５】
別法として、同様の方法で、（２Ｓ）−２−［４−（ヨウドメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］−Ｎ−メチルブタンアミド１４６、（２Ｓ）−２−［４−（ヨウドメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］プロパンアミド１１０、（２Ｓ）−２−［４−（ヨウドメチル）−２−オキソ−１−ピロリジン−１−イル］ペンタンアミド１０５、（２Ｓ）−２−［４−（ブロモメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド８、（２Ｓ）−２−［４−（クロロメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ペンタンアミド３０が製造される。
【０２４６】
７．１．２．  （２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−（フェノキシメチル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド１８の合成
2006022108.tif 000066
【０２４７】
磁気撹拌機及び滴下ロートを備えた５０ｍｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、（２Ｓ）−２−［４−（ヒドロキシメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド６の１ｇ（５ｍｍｏｌ、１当量）を、ＴＨＦ２０ｍｌに溶解し、次いで０℃に冷却する。フェノール５１７ｍｌ、ジエチルアゾジカルボキシレート０．８７ｍｌ（９６０ｍｇ）及びトリフェニルホスフィン１．４４ｇ（５．５ｍｍｏｌ、１．１当量）を順次添加し、この混合物を２時間にわたり撹拌する。この混合物を濃縮乾燥させ、次いでＰｒｅｐＬＣ（５００ｋｇＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＥｔＯＨ、９７．５：２．５）により精製し、純粋１８を得る、１．１ｇ（８０％）。この生成物は酢酸エチルから結晶化させる。
【０２４８】
７．２．メシレートの置換による合成
７．２．１．  ｛１−［（１Ｓ）−１−（アミノカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジニル｝メチルメタンスルホネート３７の合成
2006022108.tif 000067
【０２４９】
機械的撹拌機、滴下ロート及び還流コンデンサーを備えた４Ｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、（２Ｓ）−２−［４−（ヒドロキシメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド６の１１４ｇ（５６９ｍｍｏｌ、１当量）を、ＣＨ2Ｃｌ2２Ｌに溶解し、次いで０℃に冷却する。乾燥トリエチルアミン１５８．５ｍｌ（１１５ｇ、２当量）を一度に添加し、次いでＣＨ2Ｃｌ2１９０ｍｌ中のメタンスルホニルクロライド６６．３ｍｌ（９６．２ｇ、１．５当量）の溶液を、１時間かけて滴下添加する。この期間中、温度は４℃以下に維持する。４時間後、メタンスルホニルクロライド７．５ｍｌ及びトリエチルアミン１５ｍｌを添加し、混合物を冷蔵庫内で一夜にわたり保持する。この混合物を濾過し、残留物をＣＨ2Ｃｌ2により洗浄し、集めた有機相を濃縮乾燥させ、粗製物３７を２１６ｇ得る。ＰｒｅｐＬＣ（１ｋｇＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＥｔＯＨ、１００：０から９６：４まで）により数バッチで精製し、純粋３７の１０９ｇ（６９％）を得る。別法として、同様の方法で、｛１−［（１Ｓ）−１−（アミノカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジニル｝メチル４−メチルベンゼンスルホネート３１が製造される。
【０２５０】
７．２．２．  （２Ｓ）−２−［４−（アジトメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド３２の合成
2006022108.tif 000068
【０２５１】
機械的撹拌機及び還流コンデンサーを備えた３Ｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、｛１−［（１Ｓ）−１−（アミノカルボニル）プロピル］−５−オキソ−３−ピロリジニル｝メチルメタンスルホネート３７の８９．７ｇ（３２２ｍｍｏｌ、１当量）を、アセトニトリル３００ｍｌに溶解する。ナトリウムアジド２７．３ｇ（４１９ｍｍｏｌ、１．３当量）をアセトニトリル１５０ｍｌとともに一度に添加する。この混合物を２０分間にわたり還流させ、次いで一夜にわたり撹拌する。ナトリウムアジド３．１ｇ（４８ｍｍｏｌ、０．２当量）を添加し、還流を全部で４４時間継続する。１０℃まで冷却後、この混合物を濾過し、沈殿をアセトニトリル３ｘ５０ｍｌにより洗浄し、集めた有機相を濃縮乾燥させ、粗製物３２の７７．３ｇを得る。これを酢酸エチル１５０ｍｌから１０℃において結晶化させ、純粋３２を６０ｇの量で得る（８２％）。
【０２５２】
別法として、同様の方法で、活性化したアルコール誘導体、例えばメシレート、トシレート又はハライドから、（２Ｓ）−２−［４−（フルオロメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド４４、（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−（１Ｈ−テトラゾール−１−イルメチル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド３９、（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−（１Ｈ−テトラゾール−１−イルメチル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド４０、（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド５５、２−［２−オキソ−４−（１Ｈ−１，２，３−トリアゾール−１−イルメチル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド５６、（２Ｓ）−２−｛４−［（イソプロピルスルファニル）メチル］−２−オキソ−１−ピロリジニル｝ブタンアミド２４、（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−（１−ピロリジニルメチル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド１５、（２Ｓ）−２−［２−オキソ−４−（４−チオモルホリニルメチル）−１−ピロリジニル］ブタンアミド１７が製造される。
【０２５３】
７．３．その他の合成
７．３．１．  ｛１−（１Ｓ）−１−（アミノカルボニル）プロピル｝−５−オキソ−３−ピロリジニル｝メチルニトレート３８の合成
2006022108.tif 000069
【０２５４】
機械的撹拌機及び還流コンデンサーを備えた５００ｍｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、（２Ｓ）−２−［４−（ヨウドメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド１０の８．１０ｇ（２６ｍｍｏｌ、１当量）を、アセトニトリル２５０ｍｌに溶解する。硝酸銀４．８６ｇ（２８．６ｍｍｏｌ、１．１当量）を添加し、この混合物を還流させる。２時間後、硝酸銀４４０ｍｇ（２．８ｍｍｏｌ、０．１当量）を添加し、次いで還流を、全部で４時間、継続する。冷却後、この混合物を濃縮乾燥させ、ＰｒｅｐＬＣ（２００ｇＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ／ＮＨ4ＯＨ、９６：５．４：０．６）により精製し、粗製物３８の５．７ｇを得る。この生成物を酢酸エチル５０ｍｌから結晶化させ、純粋３８の４．１３ｇを得る。
【０２５５】
７．３．２．  ２−｛４−［（ベンジルオキシ）メチル］−２−オキソ−１−ピロリジニル｝ブタンアミド１５３／１５４の合成
2006022108.tif 000070
【０２５６】
７．３．２．ａ．  ｔｅｒｔ−ブチル（２Ｓ）−２−｛４−［（ベンジルオキシ）メチル］−２−オキソ−１−ピロリジニル｝ブタノエートの合成
磁気撹拌機及び還流コンデンサーを備えた１００ｍｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、水素化ナトリウム１．１ｇ（６０％、２７．５ｍｍｏｌ、１．１当量）を、ＤＭＦ６０ｍｌ中に懸濁し、この混合物を０℃に冷却させる。ＤＭＦ１０ｍｌ中のｔｅｒｔ−ブチル（２Ｓ）−２−［４−（ヒドロキシメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタノエート３９８の６．３７ｇ（２４．８ｍｍｏｌ、１当量）を注意して添加する。１０分後、ＤＭＦ１０ｍｌ中のベンジルブロマイド３．３ｍｌ（４．７５ｇ、２７．８ｍｍｏｌ、１当量）を添加し、撹拌を０℃において３０分間、次いで室温で３時間、継続する。この混合物を濃縮乾燥させ、残留物をブライン／ＣＨ2Ｃｌ2中に懸濁し、デカンタし、次いでＣＨ2Ｃｌ2により抽出する。集めた有機相をＭｇＳＯ4上で乾燥させ、濃縮乾燥させ、残留物をＰｒｅｐＬＣ（１ｋｇＳｉＯ2、ヘキサン／ＭＴＢＥ、４０：６０から０：１００まで）により精製し、２つのフラクシヨンにｔ−Ｂｕ及びベンジルエステルの混合物３．２ｇを得る、総収率：３７％。これは次の工程でそのまま使用する。
1ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ、（ＣＤＣｌ3））：０．８５（ｔ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，９Ｈ）、１．５５−１．９５（ｍ，２Ｈ）、２．１０（ｄｄ，１Ｈ）、２．４５（ｄｄ，１Ｈ）、２．５５−２．７０（ｍ，１Ｈ）、３．４５−３．５５（ｍ，１Ｈ）、４．４０（ｄｄ，１Ｈ）、４．５５（ｓ，２Ｈ）、７．２０−７．４０（ｍ，５Ｈ）。
【０２５７】
７．３．２．ｂ．  ２−｛４−［（ベンジルオキシ）メチル］−２−オキソ−１−ピロリジニル｝ブタンアミド１５３の合成
磁気撹拌機及び還流コンデンサーを備えた５０ｍｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、ベンジルエステルに富んだフラクション１．７５ｇを、ＭｅＯＨ２０ｍｌ中に溶解する。この溶液に、気体状アンモニアを泡立てて通し、この飽和溶液を室温に２４時間、時々アンモニアを再飽和しながら、保持する。反応完了後、この溶液を濃縮乾燥させ、次いでＰｒｅｐＬＣ（１ｋｇＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ、９８：２から９０：１０まで）により精製し、２種のジアステレオマーを得る。
【０２５８】
磁気撹拌機及び還流コンデンサーを備えた２５ｍｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、ｔ−Ｂｕエステルに富んだフラクション１．２４ｇを、ＣＨ2Ｃｌ2／ＴＦＡの１：１混合物１６ｍｌ中に溶解し、０−５℃において２４時間保持する。この溶液を濃縮乾燥させ、残留物をＣＨ2Ｃｌ2１０ｍｌに溶解する。トリエチルアミン１２ｍｌ（２．２理論的当量）を添加し、この混合物を−２０℃にまで冷却させる。エチルクロロホーメート７８０μｌを滴下添加し、この混合物を−１０℃にまで１．５時間かけてゆっくりと温める。この溶液に、気体状アンモニアを次いで、泡立てて通し、この混合物を室温において一夜にわたり保持する。これを濾過し、沈殿をＣＨ2Ｃｌ2により洗浄し、集めた有機フラクシヨンを濃縮乾燥させ、次いでＰｒｅｐＬＣ（１ｋｇＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ、９８：２から９０：１０まで）により精製し、２種のジアステレオマーを得る。２回の操作からの第一及び第二溶出ジアステレオマーを集め、次いでトルエンから再結晶させ、それぞれ純粋１５３を３０５ｍｇ及び純粋１５４を４８０ｍｇ得る、総合収率：１１％。
【０２５９】
７．３．３．  （２Ｓ）−２−｛４−［（５−メチル−１Ｈ−１，２，３−トリアゾール−１−イル）メチル］−２−オキソ−１−ピロリジニル｝ブタンアミド５２の合成
2006022108.tif 000071
【０２６０】
磁気撹拌機及び還流コンデンサーを備えた５０ｍｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、（２Ｓ）−２−［４−（アジドメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド３２の１ｇ（４．４４ｍｍｏｌ、１当量）を、トルエン２０ｍｌに懸濁する。１−（トリフェニルホスホラニリデン）アセトン１．５５ｇ（４．８８ｍｍｏｌ、１．１当量）を添加し、この混合物を、２４時間かけて８０℃まで加熱する。冷却後、この混合物を濃縮乾燥させ、ＰｒｅｐＬＣ（１ｋｇＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ／ＮＨ4ＯＨ、９４：５：５：０．５）により精製する。水１５ｍｌに懸濁し、次いで凍結乾燥させ、純粋５２の２４０ｍｇを清明な油状物として得る、４２％。
【０２６１】
７．３．４．  （２Ｓ）−２−［４−（イソチオシアナトメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド４９の合成
2006022108.tif 000072
【０２６２】
５００ｍｌ圧力ジャーにおいて、不活性雰囲気下に、木炭上に吸着させた１０％Ｐｄ９００ｍｇをエタノール１００ｍｌ中に懸濁する。エタノール１５０ｍｌ中の（２Ｓ）−２−［４−（アジドメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド３２の８．７ｇ（３８ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、この混合物を、３０ｐｓｉＨ2最高圧力において２時間、パール水素添加器において水素添加する。この混合物を脱気し、セライト／リライトパッド上で濾過し、残留物を２ｘ１００ｍｌのＥｔＯＨにより洗浄し、集めた濾液を濃縮乾燥させ、粗製物４１２を７．９３ｇ得る（収率：１００％）。この生成物は、次の工程でそのまま使用する。ＧＣ／ＭＳ：１９９（Ｍ＋）。
【０２６３】
７．３．４．ａ．（２Ｓ）−２−［４−（イソチオシアナトメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド４９の合成
磁気撹拌機及び還流コンデンサーを備えた１００ｍｌ三頚フラスコにおいて、不活性雰囲気下に、チオカルボニルイミダゾール４．５ｇ（２２．７ｍｍｏｌ、１当量）を、ＤＭＦ２５ｍｌに溶解し、この混合物を０℃に冷却させる。ＤＭＦ２５ｍｌ中の（２Ｓ）−２−［４−（アミノメチル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド４１２の４．５３ｇ（２２．７ｍｍｏｌ、１当量）を、３０分間かけて滴下添加する。この混合物を室温において３時間、撹拌し、次いで一夜にわたり放置する。この混合物を濃縮乾燥させ、残留物をトルエン２０ｍｌ中に溶解し、再度濃縮乾燥させ、残留物をＰｒｅｐＬＣ（３５０ｇＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ／ＮＨ4ＯＨ、９３．４：４：６：０．６）により精製し、粗製物４９の３．１ｇを得る。この生成物をエーテル２０ｍｌ中ですり混ぜ、濾過し、残留物（１．９ｇ）をアセトニトリル１５ｍｌから結晶化し、純粋４９の１．２ｇを得る（２２％）。
【０２６４】
以下の表に示されている式Ｉで表わされる化合物は、同様にして、又は別段に本明細書の記載どおりにして、製造することができる。
表中、立体化学情報は、「立体配置データ」と題する２つの欄に含まれている。この第二欄は、化合物が立体異性中心を有していない(ACHIRAL)か、純粋なエナンチオマーであるか(PURE)、ラセミ体であるか(RAC)、又は多分、同等ではない割合の２種又は３種以上の立体異性体の混合物であること(MIXT)を示している。この第一欄は、前欄で用いられているIUPAC命名法に従う、それぞれ認識されている中心にかかわる立体化学的配置を含んでいる。番号は単独で、その中心における両方の配置の存在を示している。「Ｒ」又は「Ｓ」が付けられている数字は、その中心における公知の絶対配置を示す。「§」が付けられている数字は、その中心における唯一であるが、未知の絶対形態の存在を示す。一番前の文字（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）は、同一構造の種々のエナンチオマー又はラセミ体を区別するものである。
【０２６５】
表中、融点は、大部分の場合、ＤＳＣ曲線の開始によって測定する。視覚（融解計（fusionometer））による融点が示されている場合、この数値はカッコに入れられている。
表中、「合成」欄の数字は、最も重要な化合物に実際に用いられた合成方法を表わす。僅かな変化が類似化合物を得るために必要であることもある。このような修正は、有機合成の当業者の能力範囲内にある。
【０２６６】
2006022108.tif 000073
【０２６７】
2006022108.tif 000074
【０２６８】
2006022108.tif 000075
【０２６９】
2006022108.tif 000076
【０２７０】
2006022108.tif 000077
【０２７１】
2006022108.tif 000078
【０２７２】
2006022108.tif 000079
【０２７３】
2006022108.tif 000080
【０２７４】
2006022108.tif 000081
【０２７５】
2006022108.tif 000082
【０２７６】
2006022108.tif 000083
【０２７７】
2006022108.tif 000084
【０２７８】
2006022108.tif 000085
【０２７９】
2006022108.tif 000086
【０２８０】
2006022108.tif 000087
【０２８１】
2006022108.tif 000088
【０２８２】
2006022108.tif 000089
【０２８３】
2006022108.tif 000090
【０２８４】
例８：ＬＢＳ結合試験
［ＬＢＳは、Ｍ．Ｎｏｙｅｒ等、Ｅｕｒ．Ｊ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．，２８６（１９９５），１３７−１４６のＬｅｖｅｔｉｒａｃｅｔａｍ  Ｂｉｎｄｉｎｇ  Ｓｉｔｅ（レベチラセタム  結合部位）を表わす］。
化合物の阻害定数（Ｋｉ）は、種々の濃度の未標識被験物質との平衡点で単一濃度の放射性リガンドの結合を測定することによる競合結合試験で測定される。放射リガンドの特異結合の５０％を阻害する被験物質の濃度は、ＩＣ50と称される。平衡解離定数(equilibrium dissociation constant)Ｋｉは、このＩＣ50に比例し、Ｃｈｅｎｇ及びＰｒｕｓｏｆｆの方程式を用いて計算される（Ｃｈｅｎｇ，Ｙ．等、Ｂｉｏｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．１９７２，２２，３０９９−３１０８）。
濃度範囲は一般に、変化段階（０．３〜０．５ｌｏｇ）をもって、６ｌｏｇ単位を包含する。評価は一回又は二回方式で行い、各Ｋｉ値測定を被験物質の二つの相違するサンプルについて行う。
【０２８５】
２００〜２５０ｇの雄スプラギュー−ダウレイ種ラットからの脳皮質を、ポッターＳ(Potter S)ホモジナイザー（１０００ｒｐｍで１０ストローク；Ｂｒａｕｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）を使用し、トリス(Tris)−ＨＣｌ（ｐＨ７．４）２０ｍｍｏｌ／Ｌ、ショ糖２５０ｍｍｏｌ／Ｌ（緩衝液Ａ）中でホモジナイズする；全部の操作は４℃で行う。このホモジネートを３０，０００ｇで１５分間、遠心処理する。得られた粗製膜ペレットをトリス−ＨＣｌ（ｐＨ７．４）５０ｍｍｏｌ／Ｌ（緩衝液Ｂ）中に再懸濁し、３７℃で１５分間インキュベートし、３０，０００ｘｇで１５分間、遠心処理し、次いで同一緩衝液により２回、洗浄する。最終ペレットを緩衝液Ａ中に１５〜２５ｍｇ／ｍｌの範囲のタンパク質濃度で再懸濁し、液体窒素中で保存する。
【０２８６】
膜（１５０−２００μｇタンパク質／試験）を、２ｍｍｏｌ／Ｌ  ＭｇＣｌ2、［3Ｈ］−２−［４−（３−アジドフェニル）−２−オキソ−１−ピロリジニル］ブタンアミド１〜２ｘ１０-9ｍｏｌ／Ｌ及び増加する濃度の被験物質を含有する５０ｍｍｏｌ／Ｌトリス−ＨＣｌ緩衝液（ｐＨ７．４）５０ｍｌ中で１２０分間にわたりインキュベートする。非特異結合（ＮＳＢ）は、レセプターの実質的に全部を結合する対照物質（例えば、１０-3ｍｏｌ／Ｌレベチラセタム）の濃度の存在下で見出される残留結合であると定義される。膜−結合した放射リガンド及び遊離放射リガンドは、０．１％ポリエチレンイミン及び１０-3ｍｏｌ／Ｌレベチラセタムに前もって浸漬させたガラス繊維フィルター（Ｗｈａｔｍａｎ  ＧＦ／Ｃ又はＧＦ／Ｂ；ＶＥＬ，ベルギー国と同等なもの）に通す急速濾過により分離して非特異結合を減少させる。試料及びフィルターを、少なくとも６ｍｌの５０ｍｍｏｌ／Ｌトリス−ＨＣｌ緩衝液（ｐＨ７．４）によりすすぐ。この濾過操作全体は、１０秒／試料を越えない。フィルター上に捕獲された放射能は、β−カウンター（Ｔｒｉ−Ｃａｒｂ１９００又はＴｏｐＣｏｕｎｔ９２０６、Ｃａｍｂｅｒｒａ  Ｐａｃｋａｒｄ，ベルギー国、又はいずれか他の同等のカウンター）を用いる液体シンチレーションにより計量する。
データ分析は、質量の法則に従う独立した非相互作用性レセプターの集団とみなして数種の結合モデルを記述する一組の方程式を用いるコンピューター処理した非線型曲線に当てはめる方法によって行う。
【０２８７】
本発明による化合物は、６．０及びそれよりも大きいｐＫｉ値を示した。特別の親和性は、化合物番号：８、９、１０、２２、２３、２７、３０、３１、３２、３３、３８、４０、４１、４３、４６、４７、４９、６４、７１、７２、７３、７５、８１、８３、８６、８７、８８、９２、９３、９５、９６、９８、１００、１０３、１０５、１１０、１１９、１２７、１４２、１４６、１４９、１５１、１５２、１５６、１５７、１５８、１５９、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１６９、１７０、１７１、１７３、１７４、１７５、１７６、１８０、１８１、１８５、１８７、１８８、１９５、１９６、１９７、１９８、２００、２０１、２０４、２０５、２０７、２０９、２１１、２１２、２１３、２１４、２１５、２１９、２２１、２２２、２２３、２２４、２２５、２２６、２２８、２２９、２３４、２５０、２５１、２５２、２６４、２６５、２６７、３０４、３０６、３５０及び３５１により示される。
【０２８８】
例９：音感受性マウスの動物モデル
この試験の目的は、反射発作を有する音感受性遺伝動物モデルにおける化合物の抗痙攣の可能性を評価することにある。原発性全身てんかん症のモデルでは、発作は電気的又は化学的刺激なしで生じ、その発作のタイプは、少なくとも部分的に、ヒトで生じる発作にそれらの臨床的現象において類似している（Ｌｏｓｃｈｅｒ，Ｗ．＆  Ｓｃｈｍｉｄｔ，Ｄ．，Ｅｐｉｌｅｐｓｙ  Ｒｅｓ．（１９９８），２，１４５−１８１；Ｂｕｃｈｈａｌｔｅｒ，Ｊ．Ｒ．，Ｅｐｉｌｅｐｓｉａ（１９９３），３４，Ｓ３１−Ｓ４１）。
【０２８９】
Ｄｒ．Ｌｅｈｍａｎｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ  ｏｆ  Ａｃｏｕｓｔｉｃ  Ｐｈｙｓｉｏｌｏｇｙ（Ｐａｒｉｓ）により初めに選ばれたＤＢＡ種から入手され、１９８７年以来、ＵＣＢ  Ｐｈａｒｍａ  Ｓｅｃｔｏｒ管理下に繁殖された雄又は雌の遺伝的に音感受性のマウス（１４−２８ｇ；Ｎ＝１０）を使用する。この試験のデザインは、数群からなる、すなわちビヒクル対照を摂取した群及び相違する用量の被験化合物を投与した群である。化合物は、聴覚原性痙攣発作の誘発以前の６０分の時点に腹腔内投与する。投与する用量範囲は一般に、１．０ｘ１０-5ｍｏｌ／ｋｇ及び１．０ｘ１０-3ｍｏｌ／ｋｇの間の、対数累進(logarithmic progression)を有していたが、必要に応じて、さらに少量又は大量の投与量を試験する。
【０２９０】
試験に際して、動物は音響を弱めた部屋の小さいオリに入れる（マウス１匹／オリ）。３０秒間の適応期間後、聴覚刺激（９０ｄＢ、１０−２０ｋＨｚ）を、各オリの上に配置した拡声器を経て３０秒間にわたり与える。この期間中、マウスを観察し、３フェーズの発作活性、すなわち乱暴に走り回る痙攣（wild running convulsion）、間代性痙攣、及び強直性痙攣の存在を記録する。乱暴に走り回る痙攣、間代性痙攣及び強直性痙攣に対してそれぞれ保護されたマウスの割合を計算する。
活性化合物についてはＥＤ５０値、すなわち対照群に対して５０％防護を生じさせる投与量を、９５％の信頼限界をもって、３フェーズの発作活性のそれぞれについて、防護されたマウスの割合のプロビット分析(Probit Analysis)［ＳＡＳ／ＳＴＡＴ（商標名）、バージョン６．０９、ＰＲＯＢＩＴ法］を用いて計算する。
【０２９１】
本発明による化合物は、１．０Ｅ−０４又はそれ以下のＥＤ５０値を示した。特に有望な活性は、化合物番号：８、９、１０、２２、２３、２７、３０、３１、３２、３３、３８、４０、４１、４６、４７、６４、７１、７２、８１、８６、８７、８８、９２、９３、９５、９６、１００、１０５、１１０、１４６、１５１、１５２、１５６、１５８、１５９、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１８０、１８１、１８７、１８８、１９５、１９６、１９７、１９８、２００、２０１、２０４、２０５、２０７、２０９、２１１、２１２、２１３、２１４、２１５、２１９、２２１、２２２、２２３、２２４、２２６、２２８、２２９、２３４、２５０、２５１、２５２、２６４、２６５、２６７、ＡＡ１、ＡＡ２、ＡＡ３、ＡＡ４及びＡＡ５により示された。