(57)【要約】【課題】線幅が小さく開口率の高いメッシュ状の導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を提供する。【解決手段】透明フィルム１上に水等の溶剤に対して可溶な材料を用いてドット７を印刷する。次いで、このフィルム１のドット７上及びドット７間のフィルム露出面のすべてを覆うように防眩層２、金属層３及び防眩層４を順次に形成する。次に、このフィルム１を水等の溶剤によって洗浄する。ドット同士の間の領域に形成された層２，３，４よりなる導電性パターン防眩層２，４付きの金属層３がフィルム１上に残る。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に所定パターンにて積層状に形成された防眩層及び金属層を備えてなる低反射性導電膜において、
該防眩層が可視光吸収性金属酸化物よりなることを特徴とする低反射性導電膜。
【請求項２】
請求項１において、該金属層は、Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ及びＡｌの少なくとも１種の金属又は合金よりなることを特徴とする低反射性導電膜。
【請求項３】
請求項１又は２において、該金属酸化物の金属の少なくとも一部がＡｇ，Ｃｕ及びＣｒの少なくとも１種であることを特徴とする低反射性導電膜。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項において、前記金属層を構成する金属の酸化物により前記防眩層が構成されていることを特徴とする低反射性導電膜。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、前記防眩層はスパッタ薄膜よりなることを特徴とする低反射性導電膜。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項において、前記防眩層は金属層の片面又は両面に形成されていることを特徴とする低反射性導電膜。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項において、前記パターンはストライプパターン又はメッシュパターンであることを特徴とする低反射性導電膜。
【請求項８】
低反射性導電膜よりなる電磁波シールド膜において、該低反射性導電膜が請求項１ないし７のいずれか１項に記載の低反射性導電膜であることを特徴とする電磁波シールド膜。
【請求項９】
透明基板上に電磁波シールド膜が設けられた電磁波シールド性光透過窓材において、該電磁波シールド膜が請求項１ないし８のいずれか１項に記載の電磁波シールド膜であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタや、病院などの電磁波シールドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用フィルム）等として有用な低反射性導電膜と、この低反射性導電膜よりなる電磁波シールド膜と、この電磁波シールド膜を備えた電磁波シールド性光透過窓材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にともない、これらの機器から発生する電磁波が問題視されるようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題となっている。
【０００３】
そこで、従来、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材としても利用されている。
【０００４】
従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主に、金網のような導電性メッシュ材又は透明導電性フィルムをアクリル板等の透明基板の間に介在させて一体化した構成とされている。
【０００５】
従来の電磁波シールド性光透過窓材に用いられている導電性メッシュは、一般に線径１０〜５００μｍで５〜５００メッシュ程度のものであり、開口率は７５％未満である。
【０００６】
従来用いられている導電性メッシュは、一般に、メッシュを構成する導電性繊維の線径が太いものは目が粗く、線径が細くなると目が細かくなっている。これは、線径の太い繊維であれば、目の粗いメッシュとすることは可能であるが、線径の細い繊維で目の粗いメッシュを形成することは非常に困難であることによる。
【０００７】
このため、このような導電性メッシュを用いた従来の電磁波シールド性光透過窓材では、光透過率の良いものでも、高々７０％程度であり、良好な光透過性を得ることができないという欠点があった。
【０００８】
また、従来の導電性メッシュでは、電磁波シールド性光透過窓材を取り付ける発光パネルの画素ピッチとの関係で、モアレ（干渉縞）が発生し易いという問題もあった。
【０００９】
透明導電性フィルムを併用することで光透過性と電磁波シールド性とを両立させることが考えられるが、透明導電性フィルムは、筐体との導通をとることが容易ではないという不具合がある。
【００１０】
即ち、導電性メッシュであれば、上述の如く、導電性メッシュの周縁部を透明基板周縁部からはみ出させ、このはみ出し部分を折り曲げ、この折り曲げた部分から筐体との導通を図ることができるが、透明導電性フィルムでは、その周縁部を透明基板周縁部からはみ出させて折り曲げると、この折り目部分でフィルムが裂けてしまい、筐体との導通をとることができない。
【００１１】
また、透明導電性フィルムの代りに、一方の透明基板の接着面に透明導電性膜を直接成膜することも考えられるが、この場合には、透明導電性膜が他方の透明基板で覆われてしまい、透明導電性膜から筐体への導通を図ることができない。
【００１２】
従って、透明導電性膜フィルムを用いる場合には、例えば、透明基板に貫通孔を形成して透明導電性フィルムとの導通路を設けるなどの設計変更が必要となり、電磁波シールド性光透過窓材の組み立てや筐体への組み込み作業が複雑となる。
【００１３】
また特に、ＰＤＰ等に用いる場合には、表示面が平面であることから、外光が差し込んだ際に広い範囲で反射した光が同時に観察者の目に入り、眩しさにより画面が見難くなることから、視認性が劣るという問題があった。
【００１４】
このような問題点を解決し、モアレ現象を防止すると共に、光透過性、電磁波シールド性、熱線（近赤外線）カット性、防眩性がいずれも極めて良好な電磁波シールド性光透過窓材とするために、金属層と防眩層とを積層させた電磁波シールド性光透過窓材が特開２００２−３７４０９４号に記載されている。同号では、防眩層は黒又は暗色系インキにより形成されている。
【特許文献１】特開２００２−３７４０９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
上記のインクとしては、バインダー（インクメジウム）に顔料微粒子を分散させたものが用いられているが、この微粒子のインク中での分散状態を保つためにインクの粘性を十分に高くしておく必要がある。このため、インク線幅を著しく小さくすることはできず、開口率も著しく大きくすることはできなかった。
【００１６】
なお、防眩層を金属層の黒化処理により形成することも考えられているが、処理に手間がかかりコスト高であると共に、金属層の一方の面しか黒化処理することができない。
【００１７】
本発明は、防眩性に優れると共に、線幅が十分に小さく、開口率も著しく高くすることができる低反射性導電膜と、この低反射性導電膜を有した電磁波シールド膜及び電磁波シールド性光透過窓材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明（請求項１）の低反射性導電膜は、透明基板上に所定パターンにて積層状に形成された防眩層及び金属層を備えてなる低反射性導電膜において、該防眩層が可視光吸収性金属酸化物よりなることを特徴とするものである。
【００１９】
請求項２の低反射性導電膜は、請求項１において、該導電層は、Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ及びＡｌの少なくとも１種の金属又は合金よりなることを特徴とするものである。
【００２０】
請求項３の低反射性導電膜は、請求項１又は２において、該金属酸化物の金属の少なくとも一部がＡｇ，Ｃｕ及びＣｒの少なくとも１種であることを特徴とするものである。
【００２１】
請求項４の低反射性導電膜は、請求項１ないし３のいずれか１項において、前記金属片を構成する金属の酸化物により前記防眩層が構成されていることを特徴とするものである。
【００２２】
請求項５の低反射性導電膜は、請求項１ないし４のいずれか１項において、前記防眩層はスパッタ薄膜よりなることを特徴とするものである。
【００２３】
請求項６の低反射性導電膜は、請求項１ないし５のいずれか１項において、前記防眩層は金属層の片面又は両面に形成されていることを特徴とするものである。
【００２４】
請求項７の低反射性導電膜は、請求項１ないし６のいずれか１項において、前記パターンはストライプパターン又はメッシュパターンであることを特徴とするものである。
【００２５】
本発明（請求項８）の電磁波シールド膜は、低反射性導電膜よりなる電磁波シールド膜において、該低反射性導電膜が請求項１ないし７のいずれか１項に記載の低反射性導電膜であることを特徴とするものである。
【００２６】
本発明（請求項９）の電磁波シールド性光透過窓材は、透明基板上に電磁波シールド膜が設けられた電磁波シールド性光透過窓材において、該電磁波シールド膜が請求項１ないし８のいずれか１項に記載の電磁波シールド膜であることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２７】
本発明は、金属層に積層する防眩層を可視光吸収性金属酸化物により形成したものであるから、スパッタ法などにより微細なパターンを容易に且つ高精度にて形成することができる。この線幅を小さくすることにより、開口率を大きくとることができる。
【００２８】
本発明によれば、金属層の両面に防眩層を設けることも可能である。
【００２９】
なお、金属層の金属と防眩層の金属酸化物の金属とを同一金属とすることにより、防眩層を極めて容易に成膜することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、図面を参照して実施の形態について説明する。
【００３１】
図１は本発明の実施の形態に係る電磁波シールド性光透過窓材の拡大断面図、図２はその製造方法を示す断面図である。
【００３２】
この電磁波シールド１０は、透明フィルム１と、この透明フィルム１上に所定パターンにて形成された防眩層２、金属層３及び防眩層４とを有する。
【００３３】
この電磁波シールドを製造するには、図２（ａ），（ｂ）のように透明フィルム１上に水等の溶剤に対して可溶な材料を用いてドット７を印刷する。次いで、図２（ｃ）の通り、このフィルム１のドット７上及びドット７間のフィルム露出面のすべてを覆うように防眩層２、金属層３及び防眩層４を順次に形成する。次に、このフィルム１を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。
【００３４】
これにより、図２（ｄ）の通り、可溶性のドット７が溶解し、このドット７上の層２，３，４もフィルム１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された層２，３，４よりなる導電性パターン防眩層２，４付きの金属層３がフィルム１上に残る。この導電性パターンは、ドット７間の領域を占めるものであるから、全体としてはメッシュ状となる。
【００３５】
従って、ドット７間の間隙を狭くしておくことにより、線幅の小さいメッシュ状の導電性パターンが形成される。また、各ドット７の面積を広くすることにより、開口率の大きなメッシュ状の導電性パターンが形成される。ドット７を形成するための前記水等に対して可溶な印刷材料は、微粒子を分散させる必要のないものであり、低粘性のもので足りる。この低粘性の印刷材料によれば、微細なドットパターンとなるようにドットを印刷することができる。
【００３６】
なお、上記図２（ｄ）の工程の後、必要に応じ仕上げ洗浄（リンス）し、乾燥することにより、電磁波シールド性光透過窓材が得られる。また、ドットの代わりにストライプパターンを印刷することにより、ストライプ状の導電性パターンを高精度に形成することができる。
【００３７】
次に、上記の各材料の好適例について説明する。
【００３８】
透明フィルム１としては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくは、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙げられる。
【００３９】
この透明フィルムの厚さは、電磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場合１μｍ〜５ｍｍ程度とされる。
【００４０】
フィルム１上に形成するドットは印刷により形成されることが好ましい。印刷材料としては、ドットを除去させる溶剤に対して可溶な材料の溶液が用いられる。このドットを除去させる溶剤としては、有機溶剤であってもよいが、安価であると共に、環境への影響の点からして水が好ましい。水は、通常の水のほか、酸、アルカリ又は界面活性剤を含んだ水溶液であってもよい。この印刷材料には、印刷仕上り状況を確認し易くするために顔料や染料を混ぜてもよい。
【００４１】
溶剤をこのように水とする関係からして、ドット形成材料としては水溶性の高分子材料が好ましくは、具体的にはポリビニルアルコールなどが好適である。
【００４２】
ドット７は、それらの間のフィルム露出領域がメッシュ状又はストライプ状となるように印刷される。好ましくは、このフィルム露出領域の線幅が３０μｍ以下となるように印刷される。印刷手法としてはグラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷が好適であるが、細線化のためにはグラビア印刷が好適である。
【００４３】
ドットの場合、その形状は、円、楕円、角形など伝意であるが、角形とくに正方形であることが好ましい。
【００４４】
ドット又はストライプの印刷厚みは、特に限定されるものではないが、通常は０．１〜５μｍ程度とされる。
【００４５】
ドット又はストライプの印刷後、好ましくは乾燥し、次いで防眩層２、金属層３、防眩層４を順次に形成する。防眩層２，４は可視光吸収性を有した金属酸化物により形成される。この金属酸化物としては、Ａｇ，Ｃｕ，Ｃｒの少なくとも１種の酸化物が好適である。
【００４６】
金属層３は、低抵抗のＡｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ａｌの少なくとも１種の金属又は合金よりなることが好適である。
【００４７】
これらの層２，３，４はスパッタリングにより形成されることが好ましい。金属酸化物よりなる防眩層２，４を形成するためのスパッタリングとしては、反応性スパッタリング、デュアルカソードスパッタリングが好適である。これらのスパッタリングは、プラズマ発光コントロール法により制御されて行われてもよい。
【００４８】
本発明では、防眩層２，４を構成する金属酸化物の金属と金属層を構成する金属とを同一としてもよい。このようにすれば、スパッタリング工程において、酸素の供給を制御するだけで、同一装置内にて同一のターゲットを用いて防眩層２、金属層３、防眩層４をこの順に連続して成膜することができる。なお、この層２，３，４により低反射性導電膜が構成されている。
【００４９】
防眩層２，４の厚みは、１００〜１００００Å特に、１００〜１０００Åが好ましい。１００Å未満であると、光の反射防止効果が充分でないことがある。１００００Åを超えると、パターンを除去するのが困難となり、又、斜視した際の見かけ上の開口率が低下することがある。
【００５０】
金属層３の厚みは、０．５〜１００μｍ程度が好ましい。この厚みが、０．５μｍ未満であると、電磁波シールド性能が充分でないことがある。一方、１００μｍを超えると、得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚みに影響を及ぼすと共に、視野角を狭くしてしまうことがある。
【００５１】
この層２，３，４の形成後、前記の通り、溶剤好ましくは水を用いてドット７を除去し、必要に応じ乾燥して電磁波シールド性光透過窓材とされる。
【００５２】
上記実施の形態では防眩層２，４が設けられているが、防眩層２のみ又は防眩層４のみが設けられてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】実施の形態に係る電磁波シールド性光透過窓材の断面図である。
【図２】実施の形態に係る電磁波シールド性光透過窓材の製造方法を示す模式的な断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１  フィルム
２，４  防眩層
３  金属層
７  ドット
１０  電磁波シールド性光透過窓材
【図１】
2006140220.tif 000003
【図２】
2006140220.tif 000004