(57)【要約】  【課題】  磁気転写用マスター担体を用いて磁気転写を行う際の転写特性を向上させる。  【解決手段】  表面に凹凸パターンを有する垂直磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体30において、表面の凹凸パターンの凸部31に該凸部31の上面32に該上面32の面積の10〜50％の総面積の上面開口を有する、該凸部31の高さＨの５〜30％の深さｈの窪み部34を設ける。【選択図】          図５
2006073050.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写すべき情報に応じた凹凸パターンを表面に有する磁気転写用マスター担体であって、
走査型磁気力顕微鏡を用い、前記表面に対して垂直方向または面内方向の磁界を印加した状態で測定した、前記凹凸パターンに応じた磁気力強度分布の凸部における最大磁気力強度をＨ1、最小磁気力強度をＨ2とし、該磁気力強度分布の凹部における最大磁気力強度をＨ4、最小磁気力強度をＨ3としたとき、
前記Ｈ1とＨ2の強度差ΔＨa（＝Ｈ1−Ｈ2）、Ｈ2とＨ4との強度差ΔＨb（＝Ｈ2−Ｈ4）およびＨ1とＨ3との強度差ΔＨc（＝Ｈ1−Ｈ3）が、
０≦ΔＨa/ΔＨb＜0.3、かつ、0.5＜ΔＨb/ΔＨc≦１
の関係にあることを特徴とする磁気転写用マスター担体。
【請求項２】
転写すべき情報に応じた凹凸パターンを表面に有する垂直磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体であって、
前記凹凸パターンの凸部に、該凸部の上面に該上面の面積の10〜50％の総面積の上面開口を有する、該凸部の高さの５〜30％の深さの窪み部を備えていることを特徴とする磁気転写用マスター担体。
【請求項３】
転写すべき情報に応じた凹凸パターンを表面に有する面内磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体であって、
前記凹凸パターンの凸部のうち最小のビット長の1.5倍以上のビット長を有する凸部に、該凸部の上面に該上面の面積の10〜50％の総面積の上面開口を有する、該凸部の高さの５〜30％の深さの窪み部を備えていることを特徴とする磁気転写用マスター担体。
【請求項４】
前記窪み部が、トラック方向に対して30°以上の角度で交わる１つ以上の溝であることを特徴とする請求項３記載の磁気転写用マスター担体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体に磁気転写すべき情報に応じた凹凸パターンを表面に有する磁気転写用マスター担体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、少なくとも表層に磁性層を有するサーボ信号等の転写パターンが凹凸形状あるいは埋め込み構造で形成されたマスター担体（パターンドマスター担体）を、磁気記録層を有するスレーブ媒体（磁気記録媒体）と密着させた状態で、磁界を印加してマスター担体が担持した情報に対応する磁化パターンを磁気記録媒体の磁気記録層に転写記録する方法が提案されている（例えば特許文献１、２参照）。
【０００３】
磁気転写後のスレーブ媒体上における転写パターンの優劣すなわちその再生信号の優劣はマスター担体からの漏れ磁界（転写磁界）の状態に左右される。したがって、所望の転写幅（ビット長）で精度よく転写を行うためには、磁化反転領域において均一な強度の転写磁界が発生していることが望ましい。一方、この転写磁界が不均一な場合、磁化パターン転写後のスレーブ媒体における出力低下を招く虞がある。
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開２００１−１４６６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来においてはマスター担体に磁界を印加した際に発生する漏れ磁界の状態を測定する手段がなかったため、良好な転写を行うことができる転写磁界の均一さの許容範囲、均一な転写磁界を発生させるために最適な凹凸パターン形状等が明らかでなかった。
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、転写特性の良好な磁気転写用マスター担体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
マスター担体に磁界を印加した際に発生する漏れ磁界の状態を測定するため、本発明者らは、磁界を印加した状態で探針を走査させる走査型磁気力顕微鏡でマスター担体の表面の磁気力分布（ＭＦＭ強度分布）を測定する方法を開発し、その測定に成功した。
【０００７】
そこで、好ましい磁気力およびその磁気力を達成するための好ましい形状等を見出し、以下の発明に至った。
【０００８】
ここで、磁気力を測定するための走査型磁気力顕微鏡について説明する。図１に示す走査型磁気力顕微鏡１は、サンプル（ここでは磁気転写用マスター担体30）が載置されるサンプル台２と、サンプル表面を走査する低モーメントプローブ３を備えたカンチレバーと、プローブ３を制御すると共に、プローブ３とサンプルとの間に働く磁気力を測定する制御測定部４とを備えてなるものである。
【０００９】
サンプル台２は、サンプルが載置される、ステンレス等の非磁性材料からなる筐体10と、該筐体10に内蔵されている永久磁石11と、該永久磁石11をサンプルに対して接離方向（図中矢印Ａ方向）に移動させる移動手段である磁石位置可変手段とを備えている。永久磁石11は、載置されるサンプルに対して垂直な方向（図１中においては垂直上向き）の磁界を印加するものであり、サンプルとして載置されるマスター担体30に対して転写時の印加磁界Ｈduと略同一の強度の磁界を印加することができるものである。なお、この永久磁石11は、マスター担体30全域に亘って略同一の磁界を印加することができる、マスター担体の直径（一般には2.5〜3.5インチ程度）より大きい直径の断面を有する円柱状のものである。
【００１０】
磁石位置可変手段は、不図示の歯車ネジ機構と、筐体10に備えられた可変つまみ12とからなり、可変つまみ12を図中矢印Ｂ方向に回転させることにより、歯車ネジ機構を介して永久磁石11を矢印Ａ方向に移動してサンプルに印加される磁界強度を調節することができる。
【００１１】
この磁気力顕微鏡１を用いてマスター担体30に垂直磁界を印加した際の表面の磁気力強度分布を測定する方法を説明する。
【００１２】
マスター担体30を、転写パターン面（表面）を上にした状態でサンプル台２に載置する。印加磁界はスレーブ媒体の磁気記録層の保磁力Ｈｃの0.6〜1.3倍程度であり、例えば、保磁力が199ｋＡ／ｍ（≒2500Ｏｅ）のスレーブ媒体への磁気転写に用いる場合には、印加磁界を保磁力Ｈｃと同等の199ｋＡ／ｍとする。したがって、ここでは、仮にマスター担体表面で199ｋＡ／ｍの磁界を発生するように永久磁石の種類および位置を調整する。
【００１３】
このように表面に垂直な方向に所定強度の磁界が印加されているマスター担体30の表面をプローブ３で走査し、プローブ３とマスター担体30との間に働く磁気力を測定する。実際の測定原理は従来の磁気力顕微鏡のものと同様であり、プローブ３を備えたカンチレバーを上下方向に強制振動させて、このカンチレバーの振幅、位相あるいは周波数のズレ等を制御測定部において検出することにより、プローブ３とサンプルとの間に働く磁気力の変化すなわちサンプル表面上の磁界強度分布を測定するものである。これにより、実際の垂直磁気記録層を有するスレーブ媒体への磁気転写時におけるマスター担体表面の漏れ磁界の強度分布を得ることができる。
【００１４】
図２は、別の走査型磁気力顕微鏡の概略構成図を示すものである。図１に示した磁気力顕微鏡と同一の部分には同符号を付し詳細な説明を省略する。図２に示す磁気力顕微鏡は、サンプル台２’の筐体10に内蔵されている永久磁石の形態においてのみ図１に示した磁気力顕微鏡と異なるものである。本実施形態の磁気力顕微鏡１’におけるサンプル台２’は、筐体10内部に２つの永久磁石21を備えている。２つの永久磁石21は、互いに異なる極が対向するよう平行に並べて配置されており、載置されるサンプルの表面に対して水平な方向に磁界を印加するものであり、サンプルであるマスター担体40に対して転写時の印加磁界Ｈduと略同一の強度の磁界をマスター担体表面に平行な方向（面内方向）に印加することができるものである。なお、永久磁石21により広い範囲に亘って一様な水平方向の磁界領域を発生させるのは困難であるため、観察領域が一様磁界領域より広い場合には、サンプルと磁石21を互いに水平な方向に移動させつつ全面に亘る磁界分布を測定する。
【００１５】
図２に示した磁気力顕微鏡を用いてマスター担体40に面内磁界を印加した状態における表面の磁界強度分布を測定する方法を説明する。
【００１６】
マスター担体40を、転写パターン面（表面）を上にした状態でサンプル台２’に載置する。上述の垂直方向への磁界印加の場合と同様に、仮にマスター担体表面で199ｋＡ／ｍの磁界を発生するように永久磁石21の種類および位置を調整する。
【００１７】
このように表面に平行な方向に所定強度の磁界が印加されているマスター担体40の表面をプローブ３で走査し、プローブ３とマスター担体40との間に働く磁気力を測定する。これにより、実際の面内磁気記録層を有するスレーブ媒体への磁気転写時におけるマスター担体表面の漏れ磁界の強度分布を得ることができる。
【００１８】
図３は、本発明者らが従来のマスター担体の漏れ磁界強度分布を測定し、得られた磁ＭＦＭ強度分布を模式的に示した図である。図３（ａ）は、図１の磁気力顕微鏡で測定したものであり、マスター担体30の表面に対して垂直に磁界Ｈduを印加した場合、図３（ｂ）は、図２の磁気力顕微鏡で測定したものであり、マスター担体40の表面に対して平行な磁界Ｈduを印加した場合についての模式図である。
【００１９】
図３（ａ）に示すように、垂直方向への磁界印加時には、概ねマスター担体30表面の凹凸に沿った凹凸パターン状のＭＦＭ強度分布が観測されるが、マスター担体の凸部31の端部に対応する部分で磁気力強度が突出し、磁気転写時にスレーブ媒体の磁性層内に発生する磁界分布が一様でないことが明らかになった。
【００２０】
また、図３（ｂ）に示すように、面内方向への磁界印加時には、概ねマスター担体40の凹凸とは凹部、凸部が逆の凹凸パターン状のＭＦＭ強度分布が観測される。そして、最短ビット長の1.5倍以上のビット長を有する凸部41の中間部位では、一旦磁性層中に収束された磁束が多少磁性層表面に漏れ出し、望ましくは磁化反転せず初期磁化状態を保持するスレーブ媒体の部位でこの漏れ出し転写磁界により磁化反転が発生する。これによりダミーパルスが発生し、それを誤検出してサーボが機能しない場合があることがわかった。
【００２１】
上述の知見に基づいて、本発明者らは、転写磁界分布の均一性の許容範囲、および該均一な磁界分布を得るための凹凸パターン形状を見出すに至った。
【００２２】
本発明の磁気転写用マスター担体は、転写すべき情報に応じた凹凸パターンを表面に有する磁気転写用マスター担体であって、
走査型磁気力顕微鏡を用い、前記表面に対して垂直方向または面内方向の磁界を印加した状態で測定した、前記凹凸パターンに応じた磁気力強度分布の凸部における最大磁気力強度をＨ1、最小磁気力強度をＨ2とし、該磁気力強度分布の凹部における最大磁気力強度をＨ4、最小磁気力強度をＨ3としたとき、
前記Ｈ1とＨ2の強度差ΔＨa（＝Ｈ1−Ｈ2）、Ｈ2とＨ4との強度差ΔＨb（＝Ｈ2−Ｈ4）およびＨ1とＨ3との強度差ΔＨc（＝Ｈ1−Ｈ3）が、
０≦ΔＨa/ΔＨb＜0.3、かつ、0.5＜ΔＨb/ΔＨc≦１
の関係にあることを特徴とするものである。
【００２３】
なお、印加する垂直方向または面内方向の磁界の大きさは、磁気転写時の印加磁界と同等の大きさとする。具体的にはスレーブ媒体の磁気記録層の保磁力Ｈｃの0.6〜1.3倍程度であり、例えば、スレーブ媒体の磁気記録層の保磁力Ｈｃと同一の大きさの磁界を印加する、即ち、保磁力が199ｋＡ／ｍ（≒2500Ｏｅ）のスレーブ媒体への磁気転写に用いるマスター担体については、印加磁界を保磁力Ｈｃと同等の199ｋＡ／ｍとすることもできる。
【００２４】
なお、ここで、「前記凹凸パターンに応じた磁気力強度分布」は、垂直方向への磁界印加の場合と水平方向への磁界印加の場合とで異なり、垂直方向への磁界印加の場合、磁界強度分布は図３（ａ）に示すようにマスター担体の凹凸パターンに沿った凹凸パターン状のものとなり、面内方向への磁界印加の場合、図３（ｂ）に示すようにＭＦＭ強度分布はマスター担体の凹凸パターンを反転した凹凸パターン状のものとなる。
【００２５】
本発明の磁気転写用マスター担体は、転写すべき情報に応じた凹凸パターンを表面に有する垂直磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体であって、
前記凹凸パターンの凸部に、該凸部の上面に該上面の面積の10〜50％の総面積の上面開口を有する、該凸部の高さの５〜30％の深さの窪み部を備えていることを特徴とするものである。
【００２６】
本発明の磁気転写用マスター担体は、転写すべき情報に応じた凹凸パターンを表面に有する面内磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体であって、
前記凹凸パターンの凸部のうち最小のビット長の1.5倍以上のビット長を有する凸部に、該凸部の上面に該上面の面積の10〜50％の総面積の上面開口を有する、該凸部の高さの５〜30％の深さの窪み部を備えていることを特徴とするものである。なお、ここで凸部のビット長とは、凸部のトラック方向の長さに相当するものである。
【００２７】
垂直磁気記録媒体用、面内磁気記録媒体用のいずれの磁気転写用マスター担体においても、窪み部は、一つの窪み、溝からなるものであってもよいし、複数の窪み、溝からなるものであってもよく、複数の窪み、溝からなる場合には総面積は全ての窪み、溝の開口面積の合計を言うものとする。
【００２８】
なお、窪み、溝は凸部の端部の一部を切り欠くように形成されるものであってもよいが、凸部の端部全域に亘り、該端部を面取りするような形状のものは含まない。
【００２９】
特に、面内磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体の場合においては、窪み部が、トラック方向に対して30°以上の角度で交わる１つ以上の溝であることが望ましい。
【００３０】
なお、転写すべき情報としては、例えば、サーボ信号が挙げられるが、その他種々のデータを含むものであってもよい。
【００３１】
「凹凸パターンを表面に有する磁気転写用マスター担体」としては、凹凸パターンを表面に有する磁性体基板のみからなるもの、凹凸パターンを表面に有する基板と該基板上の該凹凸パターンに沿って積層された磁性層とからなるもの、平板基板上に凹凸パターンを表面に有する磁性層が形成されてなるもの等が挙げられる。
【００３２】
なお、磁気転写用マスター担体としては、磁性層上にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）等の保護層を設けてもよい。
【発明の効果】
【００３３】
本発明の磁気転写用マスター担体は、走査型磁気力顕微鏡を用い、表面に対して垂直方向または面内方向の磁界を印加した状態で測定した、表面の凹凸パターンに応じた磁気力強度分布の凸部における最大磁気力強度をＨ1、最小磁気力強度をＨ2とし、該磁気力強度分布の凹部における最大磁気力強度をＨ4、最小磁気力強度をＨ3としたとき、Ｈ1とＨ2の強度差ΔＨa（＝Ｈ1−Ｈ2）、Ｈ2とＨ4との強度差ΔＨb（＝Ｈ2−Ｈ4）およびＨ1とＨ3との強度差ΔＨc（＝Ｈ1−Ｈ3）が、０≦ΔＨa/ΔＨb＜0.3、かつ、0.5＜ΔＨb/ΔＨc≦１の関係にあるので、磁気転写時の磁気力強度分布が理想的な凹凸パターン状のものであるため、磁気記録媒体に対して良好な転写を行うことができる。
【００３４】
本発明の垂直磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体は、表面の凹凸パターンの凸部に、該凸部の上面に該上面の面積の10〜50％の総面積の上面開口を有する、該凸部の高さの５〜30％の深さの窪み部を備えており、これにより、磁気力強度分布を０≦ΔＨa/ΔＨb＜0.3、かつ、0.5＜ΔＨb/ΔＨc≦１の関係とすることができ、垂直磁気記録媒体に対して良好な転写を行うことができる。
【００３５】
また、本発明の面内磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体は、表面の凹凸パターンの凸部のうち最小のビット長の1.5倍以上のビット長を有する凸部に、該凸部の上面に該上面の面積の10〜50％の総面積の上面開口を有する、該凸部の高さの５〜30％の深さの窪み部を備えており、これにより、磁気力強度分布を０≦ΔＨa/ΔＨb＜0.3、かつ、0.5＜ΔＨb/ΔＨc≦１の関係の関係とすることができ、面内磁気記録媒体に対して良好な転写を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
【００３７】
図４は、本実施形態の磁気転写用マスター担体の斜視図を示すものである。本実施形態のマスター担体30は、ディスク状磁気記録媒体への磁気転写に用いられるものであり、円盤状に形成されており、等間隔に放射状に設けられたサーボ領域35が形成されておりこのサーボ領域35にサーボ信号に応じた凹凸パターンを転写パターンとして有するものである。なお、ここでは転写パターンとしてサーボ信号を挙げるが、その他種々のデータを含むものであってもよい。
【００３８】
図５〜図７は垂直磁気記録についてであり、図５は本発明の実施形態に係る垂直磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体の一部の断面図で、図５（ａ）はマスター担体30のサーボ領域35内の一部の、トラック方向に平行な面に沿った断面図である。
【００３９】
本実施形態の磁気転写用マスター担体30は、凹凸パターンの凸部31に、該凸部31の上面32に該上面32の面積の10〜50％の総面積の上面開口を有する、該凸部31の高さＨの５〜30％の深さｈの窪み部34を備えている。本実施形態において、窪み部34はトラック方向に略垂直な方向に延びる溝である。
【００４０】
図５（ｂ）は、マスター担体30表面の磁気力を走査型磁気力顕微鏡１を用いて観察して得られた、マスター担体30表面の凹凸パターンに沿ったＭＦＭ強度分布を示すものである。すなわち、図１に示した上述の走査型磁気力顕微鏡１および磁気力測定方法を用い、転写磁界と略同等の磁界をマスター担体の表面に略垂直な向きに印加した状態で測定したＭＦＭ強度分布を示すものである。図中には参考のためマスター担体30表面の凹凸パターン形状を点線で示してある。
【００４１】
このように、本マスター担体30は、凹凸パターンの凸部に溝が設けられていることにより、従来のマスター担体表面で観測されたＭＦＭ強度分布におけるような磁気力が突出した部分がなくなり、マスター担体の凹凸パターンに沿ったＭＦＭ強度分布が得られる。
【００４２】
図６は、垂直磁気記録媒体用のマスター担体30の表面の凹凸パターンに沿ったＭＦＭ強度分布を模式的に示した図である。本実施形態の垂直磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体30は、表面に対して垂直方向の磁界を印加した状態で測定した、表面の凹凸パターンに応じた磁気力強度分布の凸部における最大磁気力強度をＨ1、最小磁気力強度をＨ2とし、該磁気力強度分布の凹部における最大磁気力強度をＨ4、最小磁気力強度をＨ3としたとき、ΔＨa（＝Ｈ1−Ｈ2）、ΔＨb（＝Ｈ2−Ｈ4）およびΔＨc（＝Ｈ1−Ｈ3）が、０≦ΔＨa/ΔＨb＜0.3、かつ、0.5＜ΔＨb/ΔＨc≦１の関係を満たすものである。
【００４３】
図７は、本実施形態の磁気転写用マスター担体を用いて、垂直磁気記録層22を有する磁気記録媒体20に対して磁気転写を行う基本工程を説明するための図である。磁気記録媒体20はディスク状支持体21の少なくとも片面に垂直磁気記録層22を備えるものである。
【００４４】
図７(ａ)に示すように、予めスレーブ媒体20に初期直流磁界Ｈinをトラック面に垂直な一方の向きに印加して磁気記録層22の磁化を初期直流磁化させておく。その後、図７(ｂ)に示すように、このスレーブ媒体20の記録面20ｂとマスター担体30の転写パターン面とを密着させ、スレーブ媒体20のトラック面に垂直な方向に前記初期直流磁界Ｈinとは逆方向の磁界Ｈduを印加する。スレーブ媒体20とマスター担体30の転写パターンの凸部とが密着した箇所において、磁界Ｈduはマスター担体30の凸部に吸いこまれてこの部分に対応するスレーブ媒体20の磁化が反転し、マスター担体30の凹部に対応するスレーブ媒体20の部分の磁化は反転しない。その結果、図７(ｃ)に示すように、スレーブ媒体20の磁気記録層20ｂにはマスター担体30の凹凸パターンに応じた情報（例えばサーボ信号）が磁気的に転写記録される。
【００４５】
図８〜図１０は面内磁気記録についてであり、図８は本発明の実施形態に係る面内磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体の一部の断面図である。本実施形態のマスター担体も上記実施形態のマスター担体と同様に円盤状を有し、等間隔に略放射状に形成されたサーボ領域を備えるものである。図８（ａ）は、本実施形態のマスター担体40のサーボ領域内の一部の、トラック方向に平行な面に沿った断面図である。
【００４６】
本実施形態の磁気転写用マスター担体40は、凹凸パターンの凸部41のうち最小のビット長Ｌの1.5倍以上のビット長を有する凸部41’のみに、該凸部41’の上面42に該上面42の面積の10〜50％の総面積の上面開口を有する、該凸部41の高さＨの５〜30％の深さｈの窪み部44を備えている。本実施形態において、窪み部44はトラック方向に略垂直な方向に延びる溝である。
【００４７】
図８（ｂ）は、マスター担体40表面の磁気力を走査型磁気力顕微鏡を用いて観察して得られた、マスター担体40表面の凹凸パターンに沿ったＭＦＭ強度分布を示すものである。すなわち、図２に示した上述の走査型磁気力顕微鏡および磁気力測定方法を用い、転写磁界と略同等の磁界をマスター担体の表面に略垂直な向きに印加した状態で測定したＭＦＭ強度分布を示すものである。図中には参考のためマスター担体表面の凹凸パターン形状を点線で示してある。
【００４８】
このように、本マスター担体40は、凹凸パターンの凸部に溝が設けられていることにより、従来のマスター担体表面で観測されたＭＦＭ強度分布におけるような磁気力が突出した部分がなくなり、マスター担体の凹凸パターンに沿った（ここでは、マスター担体の凹凸パターンと逆の凹凸パターン状の）ＭＦＭ強度分布が得られる。
【００４９】
図９は、面内磁気記録媒体用のマスター担体の表面の凹凸パターンに沿ったＭＦＭ強度分布を模式的に示した図である。本実施形態の面内磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体は、表面に対して面内方向の磁界を印加した状態で測定した、表面の凹凸パターンに応じた磁気力強度分布の凸部における最大磁気力強度をＨ1、最小磁気力強度をＨ2とし、該磁気力強度分布の凹部における最大磁気力強度をＨ4、最小磁気力強度をＨ3としたとき、ΔＨa（＝Ｈ1−Ｈ2）、ΔＨb（＝Ｈ2−Ｈ4）およびΔＨc（＝Ｈ1−Ｈ3）が、０≦ΔＨa/ΔＨb＜0.3、かつ、0.5＜ΔＨb/ΔＨc≦１の関係を満たすものである。
【００５０】
図１０は、本実施形態の磁気転写用マスター担体を用いて、面内磁気記録層52を有する磁気記録媒体50に対して磁気転写を行う基本工程を説明するための図である。磁気記録媒体50はディスク状支持体51の少なくとも片面に面内磁気記録層52を備えるものである。
【００５１】
図１０(ａ)に示すように、予めスレーブ媒体50にトラック方向（トラック面に水平な方向）の一方の向きの初期直流磁界Ｈinを印加して磁気記録層52の磁化を初期直流磁化させておく。その後、図１０(ｂ)に示すように、このスレーブ媒体50の記録面50ｂとマスター担体30の転写パターン面とを密着させ、スレーブ媒体50のトラック方向に前記初期直流磁界Ｈinとは逆方向の磁界Ｈduを印加する。スレーブ媒体50とマスター担体40の転写パターンの凸部とが密着した箇所において、磁界Ｈduはマスター担体40の凸部に吸い込まれ、この部分に対応するスレーブ媒体50の磁化は反転せず、マスター担体40の凹部に対応するスレーブ媒体50の部分の磁化がマスター担体40の凸部からの漏れ磁界により反転する。その結果、図１０(ｃ)に示すように、スレーブ媒体50の記録面50ｂの磁気記録層52にはマスター担体40の凹凸パターンに応じた情報（例えばサーボ信号）が磁気的に転写記録される。
【００５２】
上記実施形態のマスター担体30および40の凸部に設けられている窪み部34および44は、トラック方向に略垂直に延びる溝であったが、窪み部としては、凸部の上面に該上面の面積の10〜50％の総面積の上面開口を有する、該凸部の高さの５〜30％の深さの条件を満たす限りいかなる開口形状、断面形状を有するものであってもよい。図１１に、種々の窪み部の例（ａ）〜（ｊ）を挙げる。それぞれ上図に凸部の上面図、下図に該上面図に対応する、凸部のトラック中心位置のトラック方向に平行な断面図（同図（ａ）に例示するＡ−Ａ断面）を示す。上面図においてそれぞれ斜線で示す開口部分の面積の総和が上面の面積の10〜50％である。ここで、開口部分の面積の総和には、窪みの深さが凸部高さの５〜30％の深さを有する部分の凸部上面位置の開口面積のみを算入するものとする。図中５％、30％は、凸部上面位置からの距離（深さ）を凸部高さに対する割合で示したものである。
【００５３】
図１１（ａ）〜（ｄ）の窪み部は、いずれもトラック方向に略垂直な方向に延びる開口を有する溝であり、（ａ）は矩形、（ｂ）は半円、（ｃ）は二等辺三角形、（ｄ）は階段状の断面をそれぞれ有している。図１１（ｃ）の二等辺三角形の角部、同図（ｄ）の浅い段の部分は深さが５％に満たないため、この部分に対応する凸部上面位置の面積はここでいう開口面積には算入されない。
【００５４】
窪み部としては、図１１（ａ）〜（ｄ）に示すような一本の溝のみならず、同図（ｅ）い示す多数本の溝としてもよい。また、同図（ｆ）のように凸部の中央部に設けられた凹部であってもよい。トラック方向に垂直な溝のみならず、同図（ｇ）に示すようなトラック方向に沿った溝であってもよいし、同図（ｈ）に示すような異なる方向に延びる溝を組み合わせて構成された十字の溝であってもよい。さらに、同図（ｉ）に示すような円形の複数の凹部であってもよい。
【００５５】
なお、窪み部として溝を備えている場合、該溝の延びる方向は、トラック方向、トラック方向に垂直な方向に限るものではなく、図１１（ｊ）に示すようにトラック方向ｔに角度θを有する方向に延びるものであってもよい。但し、面内磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体の凸部に設けられる窪み部として溝を設ける場合には、トラック方向に３０°以上の傾き（図１１（ｊ）においてθ≧30°）を有する方向に延びる溝であることが望ましい。
【００５６】
上述の各実施形態の磁気転写用マスター担体30、40の構成についてより具体的に図１２を参照して説明する。図１２はマスター担体の断面の一部を示すものである。マスター担体としては、図１２（ａ）に示すように表面に凹凸パターンを有する強磁性基板61のみからなるもの、同図（ｂ）、（ｃ）のように、表面に凹凸パターンを有する基板71、81と、該基板71、81上に配された磁性層72、82とからなるもの、および同図（ｄ）のように、平板基板91と、該基板91上に配された、表面に凹凸パターンを有する磁性層92とからなるもの等が挙げられる。同図（ａ)〜（ｄ）において、Ｈは、それぞれの構成のマスター担体における凸部の高さを示すものである。
【００５７】
図１２（ａ）の強磁性基板61のみからなるマスター担体の場合には、その表面の凹凸パターンの凸部63に窪み部64が設けられる。
【００５８】
図１２（ｂ）および（ｃ）のように表面に凹凸パターンを有する基板71、81および磁性層72、82からなるマスター担体の場合、同図（ｂ）のように、基板71の凸部73に窪み部74を設け、それに沿って磁性層72を形成することによりマスター担体表面の凹凸パターンの凸部に窪み部75を備えるものであってもよいし、同図（ｃ）のように、基板81の凸部83には窪み部を設けず、基板81の凸部83上の磁性層82に窪み部84を設けてもよい。
【００５９】
図１２（ｄ）のように平板基板91と表面に凹凸パターンを有する磁性層92とからなるマスター担体の場合には、磁性層92の凸部93に窪み部94を設ければよい。
【００６０】
なお、表面に凹凸パターンを有する基板の作製は、スタンパー法、フォトリソグラフィー法等を用いて行うことができる。基板の材料としては、ＮｉもしくはＮｉ合金等が特に好ましい。基板の凸部高さ（凹凸パターンの深さ）は、例えば20〜800ｎｍであり、凹凸パターンの凸部の半径方向の長さは50ｎｍ〜５μｍ、円周方向の長さは50ｎｍ〜5μｍである。
【００６１】
基板上に磁性層を設ける場合、この磁性層の磁性材料としては、飽和磁化（Ｍｓ）の高いものが好ましく、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）が挙げられる。磁性層32としては、主として軟磁性もしくは半硬質磁性等の保磁力の小さい磁性層が用いられている。なお、磁性層の厚みは、50〜500ｎｍである。
【００６２】
なお、各マスター担体の表面には、40ｎｍ以下好ましくは10ｎｍ以下の厚みのダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護膜を設けることが望ましい。
【００６３】
スタンパー作成法を用いマスター基板を作製する場合に、上述のパターン上の窪み部は以下のような方法で作製する。原盤上のレジストを電子線、あるいは光で露光する際に、通常では凹部（最終基板では凸部）となる部位の全領域にビーム照射を行って感光させることで、この凹部の底全体を平坦に形成するが、この凹部の露光部位を分割し、最終的に窪み部となる部位の露光を低減し、部分的な露光を行うことにより、現像後のレジスト凹部の底部には微小凸部が形成でき、このレジスト形状を元に電鋳等を施してマスター基板を作製すると、パターン凸部の上面に微小凸部が反転した窪み部を有する所望のパターンが形成できる。パターン形状を微妙に調整するには、露光ビーム径、パワー、未露光領域の長さなどを調整する。また、磁性層上に窪み部を形成する場合には、マスター基板に対して斜め入射スパッタを行って磁性層を形成することが可能である。また、ＦＩＢ（収束イオンビーム加工）、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）などを用いた微細加工で形成してもよい。
【実施例】
【００６４】
次に、本発明の実施例および比較例の磁気転写用マスター担体を作製し、評価を行った結果を説明する。
【００６５】
まず、垂直磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体の実施例および比較例について説明する。
【００６６】
実施例１の垂直磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体は、基板としてスタンパー作製法を用いて作製した円盤状のＮｉ基板を備えてなるものとした。Ｎｉ基板には、円盤中心から半径方向20〜40ｍｍの範囲に、トラック幅0.3μｍ、トラックピッチ0.32μｍ、最内周である半径方向20ｍｍ位置でビット長が0.15μｍ、凸部高さ（凹部深さ）0.1μｍである凹凸パターン信号を形成した。また、さらに、凹凸パターンの凸部中央部に上面開口が矩形、深さが0.02μｍ、トラック方向幅が凸部のトラック方向の30％の幅の溝を形成した。
【００６７】
パターン化基板上に磁性層ＦｅＣｏ30ａｔ％、100ｎｍを積層した。ＤＬＣ等の保護膜は形成していない。磁性層は真空蒸着装置（芝浦メトロニクス:Octavaスパッタ装置）により形成した。磁性層形成は、雰囲気を1.33×10-5Pa(10-7Torr)まで減圧した状態で、Ａｒスパッタ圧1.5×10-1Ｐａ（1.08mTorr）とし、投入電力2.80Ｗ／cm2の条件で行った。
【００６８】
比較例１は、凸部中央部に溝を形成しなかった点以外は実施例１と同様な磁気転写用マスター担体とした。
【００６９】
比較例２は、ＤＬＣ膜を60ｎｍ形成した点以外は実施例１と同様な磁気転写用マスター担体とした。
【００７０】
次に、面内磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体の実施例および比較例について説明する。
【００７１】
実施例２の面内磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体は、最小ビット長の１０倍の長さを有する凸パターンを有し、この凸パターンに窪み部を形成したもので、スレーブ媒体として面内記録媒体、転写磁界を面内方向に印加した点を除き、実施例１と同様である。
【００７２】
比較例３は、凸パターン上に窪み部を形成しない点を除き、実施例２と同様な磁気転写用マスター担体とした。
【００７３】
実施例１、２および比較例１〜３の磁気転写用マスター担体について、それぞれ走査型磁気力顕微鏡により転写磁界印加時のマスター担体表面の磁気力分布を測定し、それぞれΔＨａ／ΔＨｂ、ΔＨｂ／ΔＨｃを測定した。
【００７４】
また、それぞれのマスター担体を用いてスレーブ媒体に対して磁気転写を行い、後述の信号品位測定および評価を行った。
【００７５】
このとき、スレーブ媒体としては、Ａｌ基板上に、飽和磁化Ｍｓ：5.7Ｔ（4500Gauss)、保磁力Ｈｃ：199ｋＡ／ｍ（2500Oe）の垂直もしくは面内磁気記録層を備えた3.5インチ型の円盤状磁気記録媒体を用いた。
【００７６】
垂直磁気記録媒体用マスター担体である実施例１、比較例１および２については、垂直磁気記録媒体であるスレーブ媒体に対して、既述の垂直磁気記録媒体用の磁気転写方法により磁気転写を行い、面内磁気記録媒体用マスター担体である実施例２および比較例３については、面内磁気記録媒体であるスレーブ媒体に対して、既述の面内磁気記録媒体用の磁気転写方法により磁気転写を行った。
【００７７】
＜信号品位評価方法＞
電磁変換特性測定装置（協同電子製SS-60）を用いてスレーブ媒体の転写信号の評価を行った。ヘッドとしては、再生ヘッドギャップ：0.12μｍ、再生トラック幅0.6μｍ、記録ヘッドギャップ0.18μｍ、記録トラック幅0.75μｍであるＧＭＲヘッドを使用した。読み込み信号をスペクトロアナライザーで周波数分解し、１次信号のピーク強度（Ｃ）と外挿して求めた媒体ノイズ（Ｎ）の差（Ｃ／Ｎ）を測定した。ヘッド記録信号のＣ／Ｎ値を０ｄＢとし、相対値ΔＣ／Ｎを求め、評価を行った。ΔＣ／Ｎが−3.0ｄＢ未満であれば良好（○）、−3.0ｄＢ以上であれば不良（×）と評価した。
【００７８】
測定および評価結果を表１に示す。
【表１】
2006073050.tif 000003
【００７９】
表１に示すとおり、本発明の垂直磁気記録媒体用のマスター担体である実施例１は、ΔＨａ/ΔＨｂ、ΔＨｂ/ΔＨｃについて好ましい範囲の値が得られ、信号品位も良好であるとの評価が得られたが、一方、比較例１および２については好ましい磁気力分布が得られず、信号品位も不良の評価となった。
【００８０】
また、本発明の面内磁気記録媒体用のマスター担体である実施例２は、ΔＨａ/ΔＨｂ、ΔＨｂ/ΔＨｃについて好ましい範囲の値が得られ、信号品位も良好であるとの評価が得られたが、一方、比較例３については好ましい磁気力分布が得られず、信号品位も不良の評価となった。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】走査型磁気力顕微鏡の概略構成を示す図
【図２】別の図１の査型磁気力顕微鏡の概略構成を示す図
【図３】マスター担体表面の磁気力分布を示す図
【図４】本実施形態の磁気転写用マスター担体の斜視図
【図５】本実施形態の垂直磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体の一部の断面図およびＭＦＭ強度分布
【図６】ＭＦＭ強度分布の模式図
【図７】垂直磁気記録媒体への磁気転写方法の基本工程を示す図
【図８】本実施形態の面内磁気記録媒体用の磁気転写用マスター担体の一部の断面図およびＭＦＭ強度分布
【図９】ＭＦＭ強度分布の模式図
【図１０】面内磁気記録媒体への磁気転写方法の基本工程を示す図
【図１１】マスター担体の凸部に設けられる窪み部の例示
【図１２】マスター担体の構成例を示す断面図
【符号の説明】
【００８２】
１，１’    走査型磁気力顕微鏡
２，２’    サンプル台
３    プローブ
４    制御測定部
10    筐体
11，21    永久磁石
12    可変つまみ
20，50    スレーブ媒体
30，40    磁気転写用パターンドマスター担体
31，41    凸部
32，42    凸部上面
34，44    窪み部
【図１】
2006073050.tif 000004
【図２】
2006073050.tif 000005
【図３】
2006073050.tif 000006
【図４】
2006073050.tif 000007
【図５】
2006073050.tif 000008
【図６】
2006073050.tif 000009
【図７】
2006073050.tif 000010
【図８】
2006073050.tif 000011
【図９】
2006073050.tif 000012
【図１０】
2006073050.tif 000013
【図１１】
2006073050.tif 000014
【図１２】
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