(57)【要約】【課題】電源（２０）と、加工物（１４）から隙間（１２）を隔てて配置された電極（１０）とを有する電食アセンブリ（１００）内で機械加工を監視する方法を提供すること。【解決手段】この方法は、電圧波形のある点における電圧を、この電圧波形のパルス幅の半分の時間遅れｔｄ後に測定するステップを含む。この電圧波形の複数のパルスについてこの測定を繰り返して複数の電圧を取得する。これらの電圧はそれぞれ、それぞれのパルスにおけるある点に対応する。これらの電圧を平均して平均電圧を取得し、この平均電圧と少なくとも１つの閾電圧を比較して、機械加工が制御されているかどうかを判定する。この比較結果が、工程が制御されていないことを示す場合、電源の動作パラメータを調整するように構成された制御信号を生成する。この制御信号が生成された場合、それを電源に供給する。【選択図】図１
2006142476.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源（２０）と、加工物（１４）から隙間（１２）を隔てて配置された少なくとも１つの電極（１０）とを有する電食アセンブリ（１００）内で機械加工を監視する方法であって、前記電極は、複数のパルスオン期間中に、前記電極と前記加工物の電位差ΔＶを印加する前記電源によって通電され、前記方法は、
前記電食アセンブリについての電圧波形のある点における電圧を、前記電圧波形のパルス幅Δτの少なくとも約半分の指定時間遅れｔｄ後に測定するステップと、
前記電圧波形の複数のパルスについて前記測定を繰り返して複数の電圧を取得するステップとを含み、前記各電圧は、前記それぞれのパルスにおけるある点に対応し、前記方法はさらに、
前記電圧を平均して平均電圧を取得するステップと、
前記平均電圧と少なくとも１つの閾電圧Ｖｔｈを比較して、前記機械加工が制御されているかどうかを判定するステップと、
前記比較の結果が、前記工程が制御されていないことを示す場合、前記電源の少なくとも１つの動作パラメータを調整するように構成された少なくとも１つの制御信号を生成するステップと、
前記制御信号が生成された場合、前記電源に前記少なくとも１つの制御信号を供給するステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記複数のパルスはウィンドウ（３０２）に対応し、前記平均化は逐次平均化を含み、前記方法はさらに、ウィンドウサイズを選択するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記電食アセンブリは、パルス化電食アセンブリ（１００）であり、前記測定ステップは、パルスオン状態後の前記時間遅れ間隔ｔｄのところで開始され、パルスオフ状態で終了し、前記少なくとも１つの制御信号は、複数のパルスオフ期間の少なくとも１つの持続時間を長くする命令、前記パルスオン期間の少なくとも１つの持続時間を短くする命令、前記電食アセンブリに提供されるピーク電流密度を改変する命令、前記電源をオフにする命令、およびこれらの組合せからなる群から選択された前記電源（２０）への命令である、請求項１記載の方法。
【請求項４】
電源（２０）と、加工物（１４）から隙間（１２）を隔てて配置された少なくとも１つの電極（１０）とを有する電食アセンブリ（１００）内で機械加工を監視する方法であって、前記電極は、複数のパルスオン期間中に、前記電極と前記加工物の電位差ΔＶを印加する前記電源によって通電され、前記方法は、
前記電食アセンブリについての電圧波形のある点における電圧を、前記電圧波形のパルス幅Δτの少なくとも約半分の指定時間遅れｔｄ後に測定するステップと、
前記電圧波形の複数のパルスについて前記測定を繰り返して複数の電圧を取得するステップとを含み、前記各電圧は、前記それぞれのパルスにおけるある点に対応し、前記パルスはウィンドウ（３０２）に対応し、前記方法はさらに、
前記各電圧と少なくとも１つの閾電圧Ｖｔｈを比較して、前記各パルスを正常または異常な放電パルスとして分類するステップと、
前記比較の結果が、前記ウィンドウ内に少なくとも所定数の異常な放電パルスが存在することを示す場合、前記電源の少なくとも１つの動作パラメータを調整するように構成された少なくとも１つの制御信号を生成するステップと、
前記制御信号が生成された場合、前記電源に前記少なくとも１つの制御信号を供給するステップを含む、方法。
【請求項５】
加工物（１４）を機械加工する電食方法であって、
ａ）電源（２０）を使用して、電食アセンブリ（１００）の少なくとも１つの電極（１０）を、前記電極と前記加工物の電位差ΔＶを印加することによって通電するステップを含み、前記少なくとも１つの電極は、前記加工物に近接して位置決めされ、前記電極および前記加工物は隙間（１２）によって分離され、前記方法はさらに、
ｂ）前記電極と前記加工物の間の電圧を監視するステップを含み、前記監視するステップは、
前記電食アセンブリについての電圧波形のある点における前記電圧を、前記電圧波形のパルス幅Δτの少なくとも約半分の指定時間遅れｔｄ後に測定するステップと、
前記電圧波形の複数のパルスについて前記測定を繰り返して複数の電圧を取得するステップとを含み、前記各電圧は、前記それぞれのパルスにおけるある点に対応し、前記監視するステップはさらに、
前記電圧を平均して平均電圧を取得するステップと、
前記平均電圧と少なくとも１つの閾電圧Ｖｔｈを比較して、前記機械加工が制御されているかどうかを判定するステップと、
前記比較の結果が、前記工程が制御されていないことを示す場合、前記電源の少なくとも１つの動作パラメータを調整するように構成された少なくとも１つの制御信号を生成するステップと、
前記制御信号が生成された場合、前記電源に前記少なくとも１つの制御信号を供給するステップとを含む、方法。
【請求項６】
前記判定するステップは、前記平均電圧が、前記少なくとも１つの閾電圧未満の場合、前記機械加工が制御されていないことを示すステップを含む、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記電食アセンブリは、パルス化電食アセンブリ（１００）であり、前記測定ステップは、パルスオン状態後の前記時間遅れ間隔ｔｄのところで開始され、パルスオフ状態で終了し、前記少なくとも１つの制御信号は、複数のパルスオフ期間の少なくとも１つの持続時間を長くする命令、前記パルスオン期間の少なくとも１つの持続時間を短くする命令、前記電食アセンブリに提供されるピーク電流密度を改変する命令、前記電源をオフにする命令、およびこれらの組合せからなる群から選択された前記電源（２０）への命令である、請求項５記載の方法。
【請求項８】
電食アセンブリ（１００）であって、
少なくとも１つの電極（１０）を備え、前記電極（１０）は、前記電極と、隙間（１２）を隔てた加工物（１４）との電位差ΔＶが印加されたときに、前記加工物を機械加工するように構成され、前記電食アセンブリ（１００）はさらに、
前記電極（１０）に通電するように構成された電源（２０）と、
コントローラ（４０）とを備え、前記コントローラ（４０）は、
前記電食アセンブリについての電圧波形のある点における電圧を、前記電圧波形のパルス幅Δτの少なくとも約半分の指定時間遅れｔｄ後に測定し、
前記電圧波形の複数のパルスについて前記測定を繰り返して複数の電圧を取得するように構成され、前記各電圧は、前記それぞれのパルスにおけるある点に対応し、前記コントローラ（４０）はさらに、
前記電圧と少なくとも１つの閾電圧Ｖｔｈを比較して、機械加工工程が制御されているかどうかを判定し、
前記比較の結果が、前記機械加工工程が制御されていないことを示す場合、前記電源の少なくとも１つの動作パラメータを調整するように構成された少なくとも１つの制御信号を生成し、
前記制御信号が生成された場合、前記電源に前記少なくとも１つの制御信号を供給するように構成される、電食アセンブリ。
【請求項９】
前記コントローラ（４０）は、
前記電圧を平均して平均電圧を取得するステップと、
前記平均電圧と少なくとも１つの閾電圧Ｖｔｈｒｅｓｈｏｌｄを比較して、前記機械加工工程が制御されているかどうかを判定するステップとによって前記電圧を比較するように構成される、請求項８記載の電食アセンブリ（１００）。
【請求項１０】
電源（２０）と、加工物（１４）から隙間（１２）を隔てて配置された少なくとも１つの電極（１０）とを有する電食アセンブリ（１００）内で機械加工工程を監視する方法であって、前記電極は、複数のパルスオン期間中に、前記電極と前記加工物の電位差ΔＶを印加する前記電源によって通電され、前記方法は、
前記電食アセンブリについての電圧波形のパルスのある点における電圧を、前記パルスのパルスオン状態から、前記電圧波形のパルス幅Δτの少なくとも約半分の指定時間遅れｔｄ後に測定するステップと、
前記測定電圧と少なくとも１つの閾電圧Ｖｔｈｒｅｓｈｏｌｄを比較して、前記機械加工工程が制御されているかどうかを判定するステップと、
前記比較の結果が、前記工程が制御されていないことを示す場合、前記電源の少なくとも１つの動作パラメータを調整するように構成された少なくとも１つの制御信号を生成するステップと、
前記制御信号が生成された場合、前記電源に前記少なくとも１つの制御信号を供給するステップとを含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に電食に関し、より詳細には、電食工程を監視し制御するシステムおよび方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＥＣＭ（電解加工）およびＥＤＭ（放電加工）は、ガスタービンの構成要素などの物体内の材料を機械加工する従来方式の工程である。ＥＣＭ工程では一般に、１つ（または複数）の電極と加工物の隙間に電流を流して加工物上の材料を大量に精確に除去し、それによって、表面がほぼ滑らかな状態でその加工物の最終的な所望の形状が得られる。ＥＤＭ工程では、１つ（または複数）の電極と加工物の間で誘電性液体を循環させ、この電極と加工物の隙間に放電を生成する。例えば、ＥＤＭを利用して、タービンのロータブレードおよびノズルベーンの表面を貫通して、膜を冷却する小さな穴を穿孔する。
【０００３】
ＥＣＭおよびＥＤＭの工程はともに、ＤＣ（直流）電圧による電流を利用して、加工物から材料を除去する電力を供給する。ただし、ＥＣＭでは、１つ（または複数）の電極と加工物の間で電解液（導電性の液体）を循環させて、加工物材料を電気化学的に溶解させるだけでなく、電極と加工物の間の隙間領域を冷却し洗い流す。これに対してＥＤＭ工程では、隙間内で非導電性（誘電性）液体を循環させてこの隙間内で放電を発生させ、それによって加工物材料が除去される。本明細書で用いる「電食」という用語は、１つ（または複数）の電極と加工物の隙間で電解液（導電性の液体）を循環させ、高速で材料を除去し、加工物への熱的な損傷を小さくし得るこれらの電気機械加工工程に適用されると理解すべきである。
【０００４】
有益には、電食工程では、より迅速に機械加工が行われ、例えばブリスクの粗削りおよび機械加工など、様々な応用例において他の電気機械加工法に比べて効率が高い。一般に、電食アセンブリを利用する工程では、電極と被加工物の隙間の両端間で電位が形成され、その結果、この隙間内で放電が生じる。電食工程の物理的な過程によれば、機械加工用の電極（カソード）が、隙間で分離された加工物（アノード）の表面に近づくと、電極とアノードである加工物の間の電圧のために、この隙間を介して放電が生じる。機械加工ゾーンを構成するこの隙間に、導電率が中位から低い液体電解質媒体を充填し、この隙間の電解液を流動させる。それによって、電食に用いる放電または火花発生に適した媒体が得られるのに加えて、この隙間から腐食粒子が除去される。この隙を横切る「正常な」放電により、加工物の望ましい機械加工が行われる。一方、「異常な」放電では、機械加工に際して望ましくない障害が生じ、それによって、機械加工される加工物の表面仕上げが直接影響を受けることがある。効果的な制御がなされないことにより短絡が生じ、そのため、加工物または電食アセンブリが損傷を受けることがある場合もある。
【０００５】
このような障害は、放電パターンをタイミングよく正確に監視し、異常な放電を検出し、それに従って是正措置を講じることによってなくすことができる。しかし、放電パターンを監視するのにＥＤＭで現在採用されているシステムは一般に、電食工程を監視するのに不十分かつ／または不適切であり、一般に、放電のタイプを検出する際に誤差が生じる。この誤差が累積して、正常な放電を異常と、またその逆に誤って分類することがあり、そのため、電食工程は、先に述べた危険を被りやすくなる。例えば、多くの従来型ＥＤＭアセンブリは、放電の正常／異常を判定するのに点弧遅れ検出法を採用している。点弧遅れ検出法では、点弧遅れを伴う放電は正常とみなされ、点弧遅れを伴わない放電は異常とみなされる。しかし、先に述べたように、電食工程は、典型的なＥＤＭ工程で使用する誘電性液体の代わりに電解液を使用する。したがって、電食工程では、点弧遅れを伴わないかなりのパルスは正常な放電であり、電食工程を監視するのに従来の点弧遅れ検出法を利用すると、多くの正常な放電が異常と誤って分類される。
【０００６】
したがって、電食工程において電圧の放電を正確に検出し分類することが求められている。そのため、電食が正確に監視され制御される工程およびシステムも望まれている。
【特許文献１】米国特許  ６５６２２２７
【特許文献２】米国特許  ５８７２３４７
【特許文献３】米国特許  ５４５４５９３
【特許文献４】米国特許  ４７０３１４４
【特許文献５】米国特許  ４６３４８２７
【特許文献６】欧州特許  ０  ００９  ９２８
【特許文献６】欧州特許  ０  ６４９  ６９６
【特許文献６】欧州特許  ０  ８１２  ６４３
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の態様は、電源と、加工物から隙間を隔てて配置された電極とを有する電食アセンブリ内で機械加工を監視する方法に属するものである。この電源は、複数のパルスオン期間中に、電極と加工物の電位差を印加することによって電極に通電する。この方法は、電圧波形のある点における電圧を、この電圧波形のパルス幅Δτの半分の時間遅れｔｄ後に測定するステップを含む。この電圧波形の複数のパルスについてこの測定を繰り返して複数の電圧を取得する。これらの電圧はそれぞれ、それぞれのパルスにおけるある点に対応する。次いで、これらの電圧を平均して平均電圧を取得する。この平均電圧と少なくとも１つの閾電圧Ｖｔｈを比較して、機械加工が制御されているかどうかを判定する。この比較結果が、工程が制御されていないことを示す場合、電源の動作パラメータを調整するように構成された制御信号を生成する。この制御信号が生成された場合、それを電源に供給する。
【０００８】
本発明の別の態様は、電源と、加工物から隙間を隔てて配置された電極とを有する電食アセンブリ内で機械加工を監視する別の方法に属するものである。電圧波形のある点における電圧を、この電圧波形のパルス幅Δτの半分の時間遅れｔｄ後に測定する。この電圧波形の複数のパルスについてこの測定を繰り返して複数の電圧を取得する。これらの電圧はそれぞれ、それぞれのパルスにおけるある点に対応し、これらのパルスはあるウィンドウに対応する。これらの電圧と閾電圧Ｖｔｈを比較して、これらのパルスを正常または異常な放電パルスとして分類する。この比較結果が、このウィンドウ内に所定数の異常な放電パルスが存在することを示す場合、制御信号を生成する。この制御信号は、電源の動作パラメータを調整するように構成される。この制御信号が生成された場合、それを電源に供給する。
【０００９】
本発明の別の態様は、電極から隙間を隔てて配置された加工物を機械加工するように構成された電極を含む電食アセンブリに属するものである。この機械加工は、電極と加工物の電位差が印加されたときに実現される。電源は、この電極に通電するように構成され、やはり電食アセンブリに含まれる。この電食アセンブリはさらに、電圧波形のある点における電圧を、この電圧波形のパルス幅Δτの半分の指定時間遅れｔｄ後に測定するように構成されたコントローラを含む。このコントローラは、複数のパルスについてこの測定を繰り返して複数の電圧を取得するようにも構成される。これらの電圧はそれぞれ、それぞれのパルスにおけるある点に対応する。次いで、このコントローラは、これらの電圧と閾電圧Ｖｔｈを比較して、機械加工工程が制御されているかどうかを判定する。このコントローラは、この比較結果が、機械加工工程が制御されていないことを示す場合、電源の動作パラメータを調整するように構成された制御信号を生成する。この制御信号が生成された場合、それを電源に供給する。
【００１０】
本発明の上記その他の特徴、態様、および利点は、以下の詳細な説明を添付の図面と併せ読めばよりよく理解されよう。図面では、同じ文字は、これらの図面を通じて同じ部分を表す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１に、本発明の実施形態による電食アセンブリ１００を示す。電食アセンブリ１００は、機械加工すべき加工物１４から隙間１２を隔てて配置され、機械加工を行うように構成された電極１０を備える。隙間１２および電極の少なくとも一部ならびに加工物は、（図示しない）電解質媒体に浸される。電源２０は、加工物を機械加工する放電を生成するように構成される。典型的には、この放電により、加工物の機械加工部位における粒子が加工物から分離して、加工物１４が機械加工される。電源２０は、電位差ΔＶのパルスを印加することによって電極１０に通電して、電極１０と加工物１４を横切る隙間１２内でこのような放電を生成する。パルス幅がΔτの複数の印加パルスにより、複数のパルスオン状態およびパルスオフ状態を有する印加電圧波形が得られる。この印加電圧波形に応答して、隙間１２内の放電から、隙間１２内の電圧を表す電圧波形が生成される。この電圧波形は、複数の放電パルスを含む。この（印加パルスを有する）印加波形と（放電パルスまたは「パルス」を有する）電圧波形は別個のものであることを理解されたい。アセンブリ１００内の機械的な動きを制御するサーボコントローラ３０が設けられる。この制御は、隙間１２、すなわち電極１０と加工物１４の相対的な動きを制御して位置合わせを行うことを含む。電食工程を監視し制御する、すなわち、電食アセンブリ１００を使用して機械加工を行うコントローラ４０が設けられる。コントローラ４０は、電源２０、サーボコントローラ３０、電極１０、および加工物１４に接続される。
【００１２】
コントローラ４０は一般に、他の機能の中でもとりわけ、電極１０と加工物１４の電位差ΔＶのパルスを印加するように電源２０に指示し、隙間１２の両端間の電圧を測定し、選択可能な時間間隔を生成し、ある時間間隔（または時間遅れ）が経過した後で測定を開始し、電圧値を平均し、電圧値を比較し、電源２０を調整する制御信号を生成するように構成される。
【００１３】
コントローラ４０は、とりわけ、マイクロプロセッサまたは別の計算装置、電圧測定装置、時間調整装置、パルス発生装置、電圧比較装置、データ記憶装置を含み得るが、これらに限定されるものではない。このような装置はすべて、当技術分野では周知のものであり、本発明の範囲から逸脱することなく、任意の適切なこのような装置を使用することができる。
【００１４】
図２に、本発明の実施形態による、電食アセンブリ１００での機械加工を監視する方法を示す。方法Ｓ１００によれば、機械加工が開始された後で（Ｓ１１０）、印加電圧波形の印加パルスのパルスオン状態から、印加パルス幅Δτの少なくとも半分である指定時間遅れｔｄ後の点で、電圧が測定される（Ｓ１２０）。時間遅れｔｄは、例えば印加パルス幅Δτの２／３まで変化することがある。本発明の範囲は、このような変動を含む。上記の電圧測定を、この電圧波形の複数のパルスについて繰り返す（Ｓ１３０）。各測定は、印加波形の印加パルスのパルスオン状態から指定時間遅れ後に完了する。複数電圧測定の数は、例えば４回の電圧測定とするなど、所定の数に設定し得る。このように測定した複数の電圧を平均して（Ｓ１４０）、平均電圧Ｖａｖｇが得られる。次いで、平均電圧Ｖａｖｇと閾電圧Ｖｔｈを比較して（Ｓ１５０）、機械加工が制御されているかどうかを判定する。ある実施形態では、この判定は、ＶａｖｇがＶｔｈ未満の場合、機械加工が「制御されていない」ことを示すことを含む。機械加工が「制御されていない」と示される場合、制御信号を生成して（Ｓ１６０）、電源２０の少なくとも１つの動作パラメータを調整する。電源の動作パラメータは、とりわけ、印加パルスのパルスオン状態またはパルスオフ状態の持続時間、印加パルスの電圧、印加パルスに与えられる電流を含む。この制御信号が生成される場合には、それを電源に供給する（Ｓ１７０）。
【００１５】
この平均化は、とりわけ、単純平均、逐次平均など、様々な平均化技術のいずれかを利用して実施し得るが、これらの例に限定されるものではないことを理解されたい。例えば、上記の電圧測定を所定の数だけ繰り返し、これらの測定値を平均することができる。（図５〜図７では数字３０２でも示す）いくつかのパルスを含み得る所定の間隔をウィンドウと称する。一実施例では、このウィンドウは、６つのパルス、すなわち６つの印加パルス幅（６×Δτ）に等しい間隔に相当する。この実施例は例示的なものであり、本発明は、なんらかの特定数のパルスに対応するウィンドウに限定されるものではない。別の実施形態では、このウィンドウは、固定されていないウィンドウであり、可変数のパルスを含むように構成された可変間隔である。有利には、この固定されていないウィンドウにより、測定パルス数を増減することによって、工程を柔軟に監視することができる。
【００１６】
制御信号は、いくつかのやり方で電源２０を調整するように構成し得る。図５に示す一実施形態によれば、この制御信号は、印加パルス間のパルスオフ期間３００の持続時間を増加させて、持続時間がより長いパルスオフ期間３１０にするように電源２０に指令する。時点３０４は、制御信号が供給される時間を示し、図６および図７についてもそれぞれ類似の点が示されている。図５の実施形態では、制御信号は時点３０４で供給され、この制御信号により、この制御信号が供給される前の２つの同時パルス間のパルスオフ持続期間３００が、この制御信号が供給された後で増加されて、より長いパルスオフ持続期間３１０になるように示されている。図６で示す別の実施形態によれば、この制御信号は、印加パルスのパルスオン期間３２０の持続時間を減少させて、持続時間がより短いパルスオン期間３３０にするように電源２０に指令する。図７に示す別の実施形態によれば、この制御信号は、電食アセンブリ１００に供給されるピーク電流密度を改変するように電源２０に指令する。この改変は、ピーク電流が、数字３４０で示すピーク電流閾制限値に達したときに、機械加工部位に供給されるピーク電流密度を減少させることを含む。他のパラメータの中でもとりわけ、上記で論じた様々なパルスオンまたはパルスオフの持続時間、閾制限の値は、個々の機械加工条件および所望の機械加工品質に応じて改変し得る。当業者には直ちに想起されるこのような様々な値は、本発明の範囲および趣旨に含まれる。
【００１７】
有利には、これらの技術は、機械加工工程を正常な状態に戻す助けとなり、機械加工部位に供給するエネルギーも少なくし、それによって、電極および加工物への損傷が最小限に抑えられる。別の実施形態によれば、この制御信号は、機械加工工程が制御されない状態になったときに電源をオフにするように電源２０に指令する。ここで、制御信号を適切に構成することによって、上記の戦略のいずれか１つ、または代替戦略、あるいは上記戦略の様々な組合せを採用し得ることを理解されたい。
【００１８】
ある例では、機械加工工程は、「制御されていない状態」になることがある。これは、制御をかけた後でさえ正常な状態に戻らない「制御されていない」放電が連続して発生することを意味し得る。このような「制御されていない状態」の例は、例えば、とりわけ、電極の歪み、循環アーク放電、電解液フラッシング状態の不良、電解液の不足による是正不可能なアーク放電に関して生じることがある。このような例は、例えば電源をオフにするなど、上記で論じた戦略によって制御することもできる。次いで、適切な時間間隔の後で、または別の適切な是正措置を講じた後で、機械加工を再開することができる。
【００１９】
さらに、これらの放電パルスを正常または異常と分類して、放電の正常性を示し得ることに留意されたい。「正常」および「異常」の２つの範疇はそれぞれ、所望の機械加工性能および望ましくない機械加工性能に対応する。ある種の例では、異常な放電パルスが接近して発生する状態が、「制御されていない」工程に対応することがある。他のある種の例では、複数の異常放電パルスが連続して発生する状態が、「制御されていない」工程に対応することがある。正常な機械加工状態では、正常なパルスの数は、異常なパルスの数よりもかなり多い。正常な放電では、放電によって放出されるエネルギーは、加工物材料を粒子として除去する爆発性エネルギーとして使用される。正常な放電の例は、点弧遅れを伴う正常な放電２１０および点弧遅れを伴わない正常な放電２２０を含むが、これらに限定されるものではない。図４に、これらの例を示す。放電の「アーク」状態または「短絡」状態を含む異常放電では、大量の電流が生成されることがあり、それによって大量のエネルギーが生成される。しかし、異常放電で放出されるエネルギーの大部分は、電極１０または加工物１４に損傷を与え得る余剰熱エネルギーに変換され、ある場合には、加工物表面の望ましくない変形が生じる。例えば図４に、とりわけ、点弧遅れを伴うアーク２３０、点弧遅れを伴わないアーク２４０、アークと放電が組み合わされたもの２５０（短絡および変形した波のパターン）を含む異常放電の例を示す。図４には、閾電圧Ｖｔｈを示す。測定のある点における（時間遅れｔｄの後の）Ｖｔｈよりも大きい放電電圧値は正常な放電を示し、Ｖｔｈよりも小さい放電電圧値は異常な放電を示す。閾電圧値Ｖｔｈは、正常放電と異常放電が区別されるように選択し、個々の電食アセンブリの設定に対して実験的に求めることができる。閾電圧値Ｖｔｈは、例えば、機械加工される材料および使用する電極など、機械加工条件に基づいて変化する。一実施形態では、閾電圧値Ｖｔｈは約１４．３ボルトである。ここで、図４にＶｔｈで示す電圧レベルは指示的なものであり、原寸に比例していないことを理解されたい。
【００２０】
図３に、電食アセンブリ内で機械加工を監視する方法Ｓ２００の実施形態を示す。機械加工が開始された後で（Ｓ２１０）、印加電圧波形の印加パルスのパルスオン状態から、印加パルス幅Δτの少なくとも半分である指定時間遅れｔｄ後の点で、電圧が測定される（Ｓ２２０）。時間遅れｔｄは、例えば印加パルス幅Δτの２／３まで変化することがあるが、このような変動は、本発明を限定するものではない。上記の電圧測定を、この電圧波形の複数のパルスについて繰り返す（Ｓ２３０）。各測定は、印加波形の印加パルスのパルスオン状態から指定時間遅れ後に実施する。Ｓ２３０における複数の測定パルスは、所定の間隔であるウィンドウに対応する。一実施形態では、このウィンドウは、固定されていないウィンドウである。次いで、複数のパルスに対応するこれら複数の測定電圧と少なくとも１つの閾電圧Ｖｔｈを比較して（Ｓ２４０）、このウィンドウ内の各放電パルスを、正常または異常に分類する。先に論じたように、この判定は、このパルスについての測定電圧がＶｔｈ未満の場合、このパルスを異常として示すことを含む。この比較結果が、ウィンドウ内の所定数のパルスを異常として示した場合、制御信号を生成して（Ｓ２５０）、電源２０の少なくとも１つの動作パラメータを調整する。ある実施例では、制御信号を生成するのに必要とされる異常パルスの所定数を６に設定する。ただし、この数は単なる例であり、このウィンドウは、特定のいかなる数のパルスにも限定されるものではない。制御信号が生成される場合、それを電源に供給する（Ｓ２６０）。
【００２１】
この制御信号は、やはり先に論じたように、電源２０の動作パラメータを調整することによる制御戦略のいずれか１つまたはそれらの組合せを採用するように構成される。ここで、パルス電圧測定値を１つ測定して、制御信号を生成し得ることに留意されたい。さらに、Ｖｔｈに類似の、比較用の複数の閾電圧値が存在し得ることに留意されたい。例えば、（図示しない）第２閾値Ｖｔｈ２を含めることができ、測定電圧がＶｔｈ２よりも大きい場合には、パルスは異常と分類される。当業者が想起するであろうこのような様々な適切な電圧閾値は、本発明を限定するものではない。
【００２２】
有利には、上記の技術およびシステムを用いると、機械加工工程を良好に監視し制御することができる。他の利益の中でもとりわけ、ときには元に戻らない、または処置不可能なことがある加工物の不慮の損傷が最小限に抑えられ、それによって、コストが低減し、ある場合には、様々な構成要素の製作サイクルタイムが短くなる。ここで開示した方法およびシステムにより、電食工程用改良型オンライン監視システムも提供される。
【００２３】
本明細書では、本発明のある種の特徴しか示し説明しなかったが、当業者には多くの改変および変更が想起されよう。したがって、添付の特許請求の範囲では、このような改変および変更がすべて本発明の真の趣旨に含まれることが意図されていることを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施形態による電食アセンブリの概略図である。
【図２】電食アセンブリを使用して機械加工を監視し制御する方法の流れ図である。
【図３】電食アセンブリを使用して機械加工を監視し制御する別の方法の流れ図である。
【図４】電食アセンブリを使用して機械加工を行う際の様々なタイプの放電を特徴づけるグラフである。
【図５】印加制御信号の例を示す波形の図である。
【図６】印加制御信号の別の例を示す波形の図である。
【図７】印加制御信号の別の例を示す波形の図である。
【符号の説明】
【００２５】
１０  電極
１２  隙間
１４加工物
２０  電源
３０  サーボコントローラ
４０  コントローラ
１００  電食アセンブリ
２１０  点弧遅れを伴う正常放電
２２０  点弧遅れを伴わない正常放電
２３０  点弧遅れを伴うアーク
２４０  点弧遅れを伴わないアーク
２５０  アークと放電を組み合わせたもの
３００  パルスオフ期間
３１０  パルスオフ期間
３２０  パルスオン期間
３３０  パルスオン期間
３４０  ピーク電流閾制限値
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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