(57)【要約】      （修正有）【課題】安定性を有するものの、酸非存在下に熱により主鎖が切断し、低分子量まで分解して容易に除去可能で操作性に優れる熱分解性樹脂及又は樹脂組成物を提供すること。【解決手段】式（I）2006206650.tif 000020  （式中、Ｒ1、及びＲ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ7基、Ｓ（０）pＲ7基、Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ7）2基、Ｍ（Ｒ7）3基を表し、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は水素原子、有機基を表し、Ｒ6はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基を表し、Ｘ、Ｙは酸素原子、硫黄原子を表し、Ｒ7はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素オキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素チオ基、モノもしくはジＣ１〜Ｃ２０の炭化水素アミノ基を表し、Ｍは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、鉛原子を表し、ｍは１〜３、ｎは０または１〜３のいずれかの整数）で表される繰り返し単位を有する熱分解性樹脂。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（I）
【化１】
2006206650.tif 000019
（式中、Ｒ1、及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ7基、Ｓ（０）pＲ7基、Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ7）2基、Ｍ（Ｒ7）3基を表し、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5はそれぞれ独立に、水素原子、有機基を表し、Ｒ6はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基を表し、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子を表し、Ｒ7はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素オキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素チオ基、モノもしくはジＣ１〜Ｃ２０の炭化水素アミノ基を表し、Ｍは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、鉛原子を表し、ｍは１〜３のいずれかの整数を表し、ｎは０または１〜３のいずれかの整数を表し、ｍ＋ｎ≦５を表し、ｍが２以上の場合、Ｒ3同士、Ｒ4同士、Ｒ5同士、Ｘ同士、Ｙ同士は同一または相異なっていてもよく、ｎが２以上の場合、Ｒ6同士は同一または相異なっていてもよい。ｐは０、１、または２のいずれかを表す。）で表される繰り返し単位を有する熱分解性樹脂。
【請求項２】
式（I）で表される繰り返し単位を有する重合体の数平均分子量が、２，０００〜５０，０００であることを特徴とする熱分解性樹脂。
【請求項３】
式（I）で表される繰り返し単位を有する重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が、１．０１〜３．００の範囲であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の熱分解性樹脂。
【請求項４】
請求項１〜３記載の熱分解性樹脂を含有する樹脂組成物を、酸非存在下で加熱して分解することを特徴とする樹脂組成物の分解方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な熱分解性樹脂に関する。さらに詳しくは、安定性を有するものの、熱により主鎖が切断し、低分子量まで分解して容易に除去可能な熱分解性樹脂に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、高分子は、熱、光、放射線、化学試薬、微生物などの作用により分解し、モノマーあるいは低分子化合物を生成することが知られており、使用済みの高分子の廃棄、焼却といった、資源、公害問題に関連し、多くの方法が提案されている。また、熱分解性樹脂には、これを混ぜ込んで熱分解させ、樹脂を取り除き、目的のものを製造する（多孔質膜、セラミック焼成、プラズマディスプレイパネル用途）、熱分解性樹脂を層にして熱分解させ、樹脂を取り除く、熱分解性樹脂を分解させ、発泡させるというような用途もある。
【０００３】
従来の熱分解性樹脂は、非常に高い温度条件を必要としていた。これまでに、式（ＩＩ）中、ｒがメトキシ基である化合物においては、熱分解開始温度は約２００℃であり、重量減が９０％に至る温度は３００℃にもなる。また式（ＩＩ）中、ｒが水酸基である化合物においては、低い温度で分解するものの、それ自体が不安定であり、実用性には乏しい。
【０００４】
【化１】
2006206650.tif 000002
（式中、ｒは、水酸基、メトキシ基を表す）
一方、国際公開第０３／０６９４１２号パンフレットには、化１で表されるケテン、アルデヒド共重合体が酸で分解することが記載されている。
【特許文献１】国際公開第０３／０６９４１２号パンフレット
【非特許文献１】Ｅｎｄｏ、他４名、「マクロモレキュルズ（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）」  ２００２年，  ３５巻，  ｐ．  ６１４９−６１５３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は安定性を有するものの、酸非存在下に、より低い温度で主鎖が切断し、低分子量まで分解して容易に除去可能で操作性に優れる熱分解性樹脂及又は樹脂組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ケテン、置換ベンズアルデヒドから容易に合成することが可能な主鎖にエステル結合を有する重合体において、フェニル基にアセタール基を導入することで、酸非存在下に分解して上記課題を解決することができることを見い出し本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、次の（１）〜（５）である。
（１）  式（I）
【化２】
2006206650.tif 000003
（式中、Ｒ1、及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ7基、Ｓ（０）pＲ7基、Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ7）2基、Ｍ（Ｒ7）3基を表し、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5はそれぞれ独立に、水素原子、有機基を表し、Ｒ6はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基を表し、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子を表し、Ｒ7はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素オキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素チオ基、モノもしくはジＣ１〜Ｃ２０の炭化水素アミノ基を表し、Ｍは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、鉛原子を表し、ｍは１〜３のいずれかの整数を表し、ｎは０または１〜３のいずれかの整数を表し、ｍ＋ｎ≦５を表し、ｍが２以上の場合、Ｒ3同士、Ｒ4同士、Ｒ5同士、Ｘ同士、Ｙ同士は同一または相異なっていてもよく、ｎが２以上の場合、Ｒ6同士は同一または相異なっていてもよい。ｐは０、１、または２のいずれかを表す。）で表される繰り返し単位を有する熱分解性樹脂。
（２）式（I）で表される繰り返し単位を有する重合体の数平均分子量が、２，０００〜５０，０００であることを特徴とする熱分解性樹脂。
（３）式（I）で表される繰り返し単位を有する重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が、１．０１〜３．００の範囲であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の熱分解性樹脂。
（４）請求項１〜３記載の熱分解性樹脂を含有する樹脂組成物を、酸非存在下で加熱して分解することを特徴とする樹脂組成物の分解方法。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明に用いられる式（I）で表される繰り返し単位中、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ4基、Ｓ（０）nＲ4基、Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ4）2基、Ｍ（Ｒ4）3基を表し、Ｒ3はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、ヘテロ環基を表し、Ｒ4はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素オキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素チオ基、モノもしくはジＣ１〜Ｃ２０の炭化水素アミノ基を表し、Ｍは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、鉛原子を表し、ｎは０、１、または２のいずれかを表す。Ｒ1、Ｒ2として具体的には、水素原子、フッ素原子、クロ原子、ブロム原子、ヨウ素原子であるハロゲン原子、メチル基、エチル基、ｎ−ブロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｓ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｓ−ヘキシル基、ｓ−ヘキシル基、１，１−ジメチル−ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基等Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、４−オクテニル基等のＣ２〜Ｃ２０のアルケニル基、エチニル基、プロパルギル基、１−メチル−プロピニル基等のＣ２〜Ｃ２０のアルキニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、１−メチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−アダマンチル基、１−メチルアダマンチル基、２−アダマンチル基、２−メチル−２−アダマンチル基、ノルボルニル基等のＣ３〜Ｃ２０の脂環式炭化水素基、フェニル基、１−ナフチル基、９−アントラセニル基等のＣ６〜Ｃ２０の芳香族炭化水素基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−フラニル基、２−チエニル基、３−チエニル基、１−ピロロ基、２−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、２−チアゾリル基、３−イソチアゾリル基、１−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−イミダゾリル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，４−チアジアゾール−５−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、１，２，３−チアジアゾール−５−イル、１，２，３−トリアゾール−４−イル、１，２，３，４−テトラゾール−５−イル、ピリミジン−２−イル、ピリミジン−４−イル、ピラジン−２−イル、ピリダジン−３−イル、１，２，４−トリアジン−６−イル、１，３，５−トリアジン−２−イル、１−ピロリジニル基、１−ピペリジル基、４−モルホリニル基、２−テトラヒドロフラニル基、４−テトラヒドロピラニル基等のヘテロ環基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシカルボニル基、メチルチオカルボニル基等のＣ１〜Ｃ２０のアルキルチオカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基等の置換または無置換カルバモイル基、メチルスルフェニル基、フェニルスルフェニル基、メチルスルフィニル基、フェニルスルフ���ニル基、メチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、メチルスルフリル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基等の置換または無置換スルファモイル基、ジメチルホスホリル基、ビスメチルチオホスホニル基、テトラメチルアミノホスホニル基等のホスホニル基、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基、トリメチルスタンニル基、トリフェニルプランバンニル基等を例示することができる。
【０００９】
以上のように、示したＲ1〜Ｒ3の置換基各々は、適当な炭素上の位置さらに置換基を有することができる。その置換基としては、フッ素原子、クロ原子、ブロム原子、ヨウ素原子であるハロゲン原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メトキシフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基等の置換フェニル基、プロパルギル基、２−ヒドロキシ−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル基、２−（エトキシメトキシ）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル基等の炭化水素基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、フェノキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、トリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ基等のアルコキシ基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基等のアミノ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、２−ピリジルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基等のアルキル、アリール、もしくはヘテロ環チオ基またはその酸化体、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ１〜Ｃ２０のアルコキシカルボニル基、アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、２−ピリジルカルボニル基等のＣ２〜Ｃ２０のアシル基、シアノ基、ニトロ基等を例示することができる。
【００１０】
これら置換基を有するＲ1〜Ｒ3の具体例としては、クロロメチル基、フルオロメチル基、ブロモメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、ジブロモメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリブロモメチル基、トリクロロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピル基等のハロアルキル基、テトラフルオロエテニル基、２，２−ジフロロエテニル基等のハロアルケニル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、フェノキシメチル基等のアルコキシアルキル基、メチルチオメチル基、フェニルチオメチル基等のアルキルチオアルキル基またはアリールチオアルキル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基、トリチル基、フェネチル基等のアラルキル基、ベンゾイルメチル基、アセチルメチル基等のアシルアルキル基、シアノメチル基等を例示することができる。
【００１１】
また、Ｒ1〜Ｒ3で表される各置換基は、式（I）で表される各繰り返し単位全てにおいて同一である必要はなく、適宜２種以上を混合して用いることができる。
【００１２】
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ独立して、は水素原子、有機基を表す。
有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等のアルキル基；フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基等の置換基を有していてもよいフェニル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基；メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等のアルキルスルホニル基；フェニルスルホニル基、４−クロロフェニルスルホニル基等のアリールスルホニル基；等が挙げられる。これらの中でも、前記Ｒ3〜Ｒ5は、それぞれ独立してＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基であるのが好ましい。
【００１３】
本発明における式（I）で表される繰り返し単位を有する重合体とは、式（I）で表される繰り返し単位のみからなる重合体、並びに式（I）で表される繰り返し単位及び式（I）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位からなる重合体を意味する。
【００１４】
式（I）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位として、具体的には、式（III）で表される繰り返し単位等を例示することができる。
【００１５】
【化３】
2006206650.tif 000004
【００１６】
式中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、Ｃ１〜Ｃ２０直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基またはフッ素化されたアルキル基を表し、Ｒ34は、水酸基、またはアルコキシ基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２０の芳香族炭化水素基、またはＣＯ2Ｒ35基を表し、Ｒ35は、Ｃ１〜Ｃ２０炭化水素基を表し、好ましくは熱不安定基を表す。
【００１７】
この場合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、ｎ−オクチル基等を例示でき、特に炭素数１〜１２、とりわけ炭素数１〜１０のものが好ましい。なお、フッ素化されたアルキル基は、上記アルキル基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたものであり、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピル基などが挙げられる。
【００１８】
Ｒ34は、水酸基、または水素か置換された水素基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２０の芳香族炭化水素基であり、具体的には、下記式（IV）で表される置換基を例示することができる。
【００１９】
【化４】
2006206650.tif 000005
【００２０】
式中、Ｒ40は炭素数１〜１４の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化されたアルキル基を示し、その具体例は、上記Ｒ31で例示した具体例と同様の置換基を例示することができ、Ｘはフッ素原子、Ｒ41はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０または１〜５の整数を表し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは０〜５いずれかである。
【００２１】
Ｒ41中、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基としては、Ｒ1で例示した置換基と同様の置換基を例示することができる。熱不安定基としては種々選定されるが、具体的には下記式（V）、（VI）、もしくは（VII）で表される基、各アルキル基の炭素数１〜６のトリアルキルシリル基、炭素数４〜２０のオキソアルキル基等を例示することができる。
【００２２】
【化５】
2006206650.tif 000006
【００２３】
式（V）、（VI）においてＲ51、Ｒ54は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基等の１価炭化水素基であり、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、フッ素原子等のヘテロ原子を含んでもよい。
【００２４】
Ｒ52、Ｒ53は水素原子又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であり、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、フッ素原子などのヘテロ原子を含んでもよい。また、Ｒ52とＲ53、Ｒ52とＲ54、Ｒ53とＲ54はそれぞれ結合して環を形成してもよい。ａは０または１〜１０のいずれかの整数を表す。
【００２５】
より好ましくは、Ｒ51〜Ｒ54は下記の基であることがよい。Ｒ51は炭素数４〜２０、好ましくは４〜１５の三級アルキル基、各アルキル基がそれぞれ炭素数１〜６のトリアルキルシリル基、炭素数４〜２０のオキソアルキル基又は上記一般式（VII）で示される基を示し、三級アルキル基として具体的には、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、１，１−ジエチルプロピル基、１−エチルシクロペンチル基、１−ブチルシクロペンチル基、１−エチルシクロヘキシル基、１−ブチルシクロヘキシル基、１−エチル−２−シクロペンテニル基、１−エチル−２−シクロヘキセニル基、２−メチル−２−アダマンチル基等が挙げられ、トリアルキルシリル基として具体的には、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基等が挙げられ、オキソアルキル基として具体的には、３−オキソシクロヘキシル基、４−メチル−２−オキソオキサン−４−イル基、５−メチル−５−オキソオキソラン−４−イル基等が挙げられる。ａは０〜６のいずれかの整数である。
【００２６】
Ｒ52、Ｒ53は水素原子又は炭素数１〜１８、好ましくは１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示し、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、ｎ−オクチル基等を例示できる。Ｒ9は炭素数１〜１８、好ましくは１〜１０の酸素原子等のヘテロ原子を有してもよい一価の炭化水素基を示し、直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、これらの水素原子の一部が水酸基、アルコキシ基、オキソ基、アミノ基、アルキルアミノ基等に置換されたものを挙げることができ、具体的には、４−ヒドロキシブチル基、２−ブトキシエチル基、４−ヒドロキシメチル−１−シクロヘキシルメチル基、２−ヒドロキシエトキシ−２−エチル基、６−ヒドロキシヘキシル基、１，３−ジオキソラン−２−オン−４−メチル基等の置換アルキル基等が例示できる。
【００２７】
Ｒ52とＲ53、Ｒ52とＲ54、Ｒ53とＲ54はそれぞれ結合して環を形成してもよく、環を形成する場合にはＲ52、Ｒ53、Ｒ54はそれぞれ炭素数１〜１８、好ましくは１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を表す。
【００２８】
上記式（V）としては、具体的にはｔ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、ｔ−アミロキシカルボニル基、ｔ−アミロキシカルボニルメチル基、１，１−ジエチルプロピルオキシカルボニル基、１，１−ジエチルプロピルオキシカルボニルメチル基、１−エチルシクロペンチルオキシカルボニル基、１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルメチル基、１−エチル−２−シクロペンテニルオキシカルボニル基、１−エトキシエトキシカルボニルメチル基、２−テトラヒドロピラニルオキシカルボニルメチル基、２−テトラヒドロフラニルオキシカルボニルメチル基等が例示できる。
【００２９】
上記式（VI）で示される熱不安的基のうち直鎖状又は分岐状のものとしては、具体的には、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−プロポキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、１−エトキシ−エチル基、１−メトキシ−プロピル基、１−メトキシ−ブチル基、１−エトキシ−プロピル基、１−ｎ−プロポキシ−エチル基、１−ｎ−プロポキシ−プロピル基、１−ｎ−ブトキシ−ブチル基、１−ｎ−プロポキシ−ブチル基、１−シクロペンチルオキシ−エチル基、１−シクロヘキシルオキシ−エチル基、２−メトキシ−２−プロピル基、２−エトキシ−２−プロピル基等を例示することができる。
【００３０】
上記式（VI）で示される熱不安定基のうち環状のもとしては、具体的にはテトラヒドロフラン−２−イル基、２−メチルテトラヒドロフラン−２−イル基、テトラヒドロピラン−２−イル基、２−メチルテトラヒドロピラン−２−イル基等が例示できる。式（４）としては１−エトキシ−エチル基、１−ｎ−ブトキシ−エチル基、１−エトキシ−ｎ−プロピル基が好ましい。
【００３１】
式（VII）においてＲ55、Ｒ56、Ｒ57は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基等の
一価炭化水素基であり、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子、フッ素原子等を含んでもよく、Ｒ55とＲ56、Ｒ55とＲ57、Ｒ56とＲ57とは互いに結合して環を結合してもよい。
【００３２】
式（VII）に示される三級アルキル基としては、ｔ−ブチル基、１，１−ジエチル−ｎ−プロピル基、１−エチルノルボニル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロペンチル基、２−（２−メチル）アダマンチル基、２−（２−エチル）アダマンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基等を挙げることができる。
【００３３】
また、式（VII）で表される三級アルキル基としては、下記に示す官能基を具体的に例示することができる。
【００３４】
【化６】
2006206650.tif 000007
【００３５】
ここで、Ｒ61、Ｒ64は、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示し、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基等を例示できる。Ｒ62は水素原子、炭素数１〜６のヘテロ原子を介してもよいアルキル基等の一価炭化水素基を示す。ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子を挙げることができ、―ＯＨ、―ＯＲ（Ｒは炭素数１〜２０、特に１〜１６のアルキル基、以下同じ）、−Ｏ−、−Ｓ−。−Ｓ（＝Ｏ）−，−ＮＨ2、−ＮＨＲ、−ＮＲ2−、−ＮＨ−、−ＮＲ−として含有又は介在することができる。
【００３６】
Ｒ63としては、水素原子、又は炭素数１〜２０、特に１〜１６のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基又はアルコキシアルキル基などを挙げることができ、これらは直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。具体的には、メチル基、ヒドロキシメチル基、エチル基、ヒドロキシエチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、メトキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等を例示できる。
【００３７】
炭素数４〜２０のオキソアルキル基としては、３−オキソシクロヘキシル基、下記式で示される基が挙げられる。
【００３８】
【化７】
2006206650.tif 000008
【００３９】
更に、上記Ｒ4の熱不安定基は、下記式（VIII）または（IX）で表されるアセタール架橋基であってもよい。
【００４０】
【化８】
2006206650.tif 000009
【００４１】
式中、Ｒ71、Ｒ72は水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基を示す。又は、Ｒ71とＲ72は結合して環を形成していてもよく、環を形成する場合には、Ｒ71、Ｒ72は炭素数１〜８の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示す。Ｒ73は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、ｅは１〜７の整数、ｆ、ｇは０または１〜１０の整数である。Ａは、（ｅ＋１）価の炭素数１〜５０の脂肪族もしくは脂環式飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基又はヘテロ環基を示し、これらの基はヘテロ原子を介在してもよく、又はその炭素原子に結合する水素原子の一部が水酸基、カルボキシル基、カルボニル基又はフッ素原子によって置換されていてもよい。Ｂは−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨＣＯ−Ｏ−又は−ＮＨＣＯＮＨ−を示す。
【００４２】
式（VIII）、（IX）に示される架橋形アセタールは、具体的には下記式のものを例示することができる。
【００４３】
【化９】
2006206650.tif 000010
【００４４】
式（IV）で表される官能基を有する繰り返し単位（III）として、具体的には、スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、１，１−ジフェニルエチレン、スチルベン、４−ヒドロキシスチレン、４−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、４−ヒドロキシ−３−メチル−スチレン、４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−スチレン、４−テトラヒドロピラニルオキシ−スチレン、４−フェノキシエトキシ−スチレン、４−トリメチルシリルオキシ−スチレン、４−トリメチルシリルオキシ−スチレン、４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ−スチレン、４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−スチレン、２，３−ジフルオロ−４−ヒドロキシスチレン、２，３−ジフルオロ−４−ｔ−ブトキシ−スチレン、２，６−ジフルオロ−４−ヒドロキシ−スチレン、２，６−ジフルオロ−４−ｔ−ブトキシ−スチレン、３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシ−スチレン、３，５−ジフルオロ−４−ｔ−ブトキシ−スチレン、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−ヒドロキシ−スチレン、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−ｔ−ブトキシ−スチレン、２−トリフルオロメチル−４−ヒドロキシ−スチレン、２−トリフルオロメチル−４−ｔ−ブトキシ−スチレン、２−トリフルオロメチル−６−フルオロ−４−ヒドロキシ−スチレン、２−トリフルオロメチル−６−フルオロ−４−ｔ−ブトキシ−スチレン、３−トリフルオロメチル−５−フルオロ−４−ヒドロキシ−スチレン、３−トリフルオロメチル−５フルオロ−４−ｔ−ブトキシスチレン、４−（１−エトキシエトキシ）−スチレン、４−（２−ヒドロキシ−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）−スチレン、４−（２−エトキシメトキシ−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）−スチレン、２，３−ジフルオロ−４−ヒドロキシスチレン、２，３−ジフルオロ−４−ｔ−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、２，６−ジフルオロ−４−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、２，６−ジフルオロ−４−ｔ−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、３，５−ジフルオロ−４−ｔ−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−ｔ−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、２−トリフルオロメチル−４−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、２−トリフルオロメチル−４−ｔ−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、２−トリフルオロメチル−６−フルオロ−４−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、２−トリフルオロメチル−６−フルオロ−４−ｔ−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、３−トリフルオロメチル−５−フルオロ−４−ヒドロキシ−α−フルオロ−スチレン、３−トリフルオロメチル−５−フルオロ−４−ｔ−ブトキシ−α−フルオロ−スチレン、４−（１−エトキシエトキシ）−α−メチル−スチレン、４−（２−ヒドロキシ−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）−α−フルオロ−スチレン、４−（２−エトキシメトキシ−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）−α−フルオロ−スチレン等を例示することができる。
【００４５】
さらに、Ｒ34が、ＣＯ2Ｒ35基の場合において、Ｒ35は、Ｒ4で例示した置換基と同様の置換基を例示することができる。また、この場合、Ｒ31〜Ｒ33の組み合わせとして、下記式に示すような組み合わせを好ましく用いることができる。（下記化合物を重合したとき得られる繰り返し単位を表す。）
【００４６】
【化１０】
2006206650.tif 000011
【００４７】
ＣＯ2Ｒ35基を有する繰り返し単位として、具体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸アミル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸エチルシクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−ｔ−オクチル、クロルエチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２，２−ジメチル−３−エトキシプロピルアクリレート、５−エトキシペンチルアクリレート、１−メトキシエチルアクリレート、１−エトキシエチルアクリレート、１−メトキシプロピルアクリレート、１−メチル−１−メトキシエチルアクリレート、１−（イソプロポキシ）エチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等のアクリルエステル類、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、４−メトキシブチルメタクリレート、５−メトキシペンチルメタクリレート、２，２−ジメチル−３−エトキシプロピルメタクリレート、１−メトキシエチルメタクリレート、１−メチル−１−メトキシエチルメタクリレート、１−（イソプロポキシ）エチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類、
【００４８】
クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、クロトン酸プロピル、クロトン酸アミル、クロトン酸シクロヘキシル、クロトン酸エチルヘキシル、クロトン酸オクチル、クロトン酸−ｔ−オクチル、クロルエチルクロトネート、２−エトキシエチルクロトネート、２，２−ジメチル−３−エトキシプロピルクロトネート、５−エトキシペンチルクロトネート、１−メトキシエチルクロトネート、１−エトキシエチルクロトネート、１−メトキプロピルクロトネート、１−メチル−１−メトキシエチルクロトネート、１−（イソプロポキシ）エチルクロトネート、ベンジルクロトネート、メトキシベンジルクロトネート、フルフリルクロトネート、テトラヒドロフルフリルクロトネート等のクロトン酸エステル類、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジプロピル、イタコン酸ジアミル、イタコン酸ジシクロヘキシル、イタコン酸ビス（エチルヘキシル）、イタコン酸ジオクチル、イタコン酸−ジ−ｔ−オクチル、ビス（クロルエチル）イタコネート、ビス（２−エトキシエチル）イタコネート、ビス（２，２−ジメチル−３−エトキシプロピル）イタコネート、ビス（５−エトキシペンチル）イタコネート、ビス（１−メトキシエチル）イタコネート、ビス（１−エトキシエチル）イタコネート、ビス（１−メトキシプロピル）イタコネート、ビス（１−メチル−１−メトキシエチル）イタコネート、ビス（１−（イソプロポキシ）エチル）イタコネート、ジベンジルイタコネート、ビス（メトキシベンジル）イタコネート、ジフルフリルイタコネート、ジテトラヒドロフルフリルイタコネート等のイタコン酸エステル類等から誘導される繰り返し単位を例示することができる。さらに、下記式で表される繰り返し単位を例示することができる。
【００４９】
【化１１】
2006206650.tif 000012
【００５０】
【化１２】
2006206650.tif 000013
【００５１】
【化１３】
2006206650.tif 000014
【００５２】
さらに、式（I）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位として、式（VII）で表される化合物を例示することができる。
【００５３】
【化１４】
2006206650.tif 000015
【００５４】
式中、Ｒ81、及びＲ82はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ２０の炭化水素基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ7基、Ｓ（＝Ｏ）pＲ7基、Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ7）2基、Ｍ（Ｒ7）3基を表し、具体的には、Ｒ1で例示した置換基と同様の置換基を例示することができる。
【００５５】
本発明における式（I）で表される繰り返し単位を有する重合体は、先に記載したように、式（I）で表される繰り返し単位のみからなる重合体、並びに式（I）で表される繰り返し単位および式（I）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位からなる重合体を意味しており、式（I）で表され繰り返し単位とそれ以外の繰り返し単位の重合形式は特に限定されず、ランダム重合形式、ブロック重合形式、部分ブロック重合形式、交互重合形式のいずれの形式をもとることができる。
また、式（I）で表され繰り返し単位とそれ以外の繰り返し単位の混合比率は、特に限定されず、モル比で９９／１〜１／９９の範囲で任意に設定することができる。
【００５６】
式（I）で表される繰り返し単位を有する重合体の数平均分子量は、特に制限されないが、分解前、分解後の物性に顕著な差を見出すことを考慮すると、２，０００〜５０，０００の範囲が好ましい。また重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比である分子量分布も、特に制限はされないが、１．０１〜３．００の範囲、さらには１．０１〜１．５０の範囲が好ましい。
【００５７】
式（I）で表される繰り返し単位を有する重合体の製造方法として、具体的には、下記式（X）で表されるケテンおよび式（XI）で表されるアルデヒドを、アニオン重合開始剤存在下、アニオン重合を行う方法を例示することができる。
【００５８】
【化１５】
2006206650.tif 000016
【００５９】
式中、Ｒ91はＲ1、Ｒ92はＲ2、Ｒ93はＲ3にそれぞれ対応しており、アニオン重合を行う上で、障害となる置換基、例えば、活性水素原子を有する置換基、アニオン重合開始剤と反応性を有する置換基等を除外した置換基を表す。
アニオン重合に用いられる溶媒は、重合反応に関与せず、かつ重合体と相溶性のある極性溶媒であれば、特に制限されず、具体的には、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、シクロペンタン等の脂環族炭化水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル類の他、アニソール、ヘキサメチルホスホルアミド等のアニオン重合において通常使用される有機溶媒を挙げることができる。また、これらの溶媒は、１種単独で、または２種以上の混合溶媒として用いることができる。
【００６０】
アニオン重合開始剤として、アルカリ金属又は有機アルカリ金属を例示することができ、アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、ナトリウム−カリウム合金等を例示することができ、有機アルカリ金属としては、上記アルカリ金属のアルキル化物、アリル化物、アリール化物等を使用することができ、具体的には、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、エチルナトリウム、リチウムビフェニル、リチウムナフタレン、リチウムトリフェニル、ナトリウムナフタレン、カリウムナフタレン、α−メチルスチレンナトリウムジアニオン、１，１−ジフェニルヘキシルリチウム、１，１−ジフェニル−３−メチルペンチルリチウム、１，１−ジフェニルメチルカリウム、１，４−ジリチオ−２−ブテン、１，６−ジリチオヘキサン、ポリスチリルリチウム、クミルカリウム、クミルセシウム等を挙げることができこれらの化合物は、１種単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
【００６１】
反応は、通常、アニオン重合開始剤に、（X）および（XI）で表される化合物を添加し、アニオンリビング重合を行う。これらの一連の反応は、アルゴンまたは窒素等の不活性ガス化、もしくは高真空化、−１００℃〜０℃、好ましくは、−７０℃〜−２０℃の範囲で行われる。用いる式（X）で表されるケテンと式（XI）で表されるアルデヒドのモル比は特に制限されないが、９９／１〜５０／５０の範囲で用いるのが好ましい。また、先にも述べたように、式（III）で表されるケテンおよび式（IV）で表されるアルデヒドは、それぞれ一種単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
【００６２】
式（I）で表される繰り返し単位を有する重合体は、実施例において述べるように熱により容易に主鎖が開裂する性質を有することから、熱分解性樹脂として用いることができる。なお本発明の分解性樹脂の分解から生じた成分は、次式（XII）で表される構造である。したがって、分解された成分は二重結合等を利用することができる。
【００６３】
【化１６】
2006206650.tif 000017
式中、Ｒ101はＲ1、Ｒ102はＲ2、Ｒ103はＲ3にそれぞれ対応しており、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3で例示したのと同様の置換基を例示することができる。
【００６４】
本発明の分解性樹脂はそのままで、もしくは、本発明の効果を損なわない範囲において、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリビニルエーテル樹脂等の汎用熱可塑性樹脂と本発明の分解性樹脂と混合して使用することもできる。
【００６５】
以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明の範囲は実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００６６】
本発明の実施例に使用した試薬の精製法について以下に述べる。
ケテン類は、酸クロライドにトリエチルアミンをＴＨＦ中室温で反応後、減圧下で蒸留した。アルデヒド類は、ＣａＨ2を添加後、減圧下で蒸留した。
ｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）は、市販のｎ−ＢｕＬｉヘキサン溶液（１．６ｍｏｌ／ｌ）をそのまま用いた。テトラヒドロフランは、市販の脱水溶媒を使用した。
【００６７】
合成例１エチルフェニルケテン（ＥＰＫ）の合成
窒素雰囲気下において、トリエチルアミン  ９１ｇ（０．９モル）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）混合液に、２−フェニルブチリルクロライド５５ｇ（０．３モル）のＴＨＦ溶液を滴下した。一時間後析出したトリエチルアミン・塩酸塩をろ別除去した後、ろ液を減圧蒸留して、ＥＰＫを得た（６０〜７０℃／４ｍｍＨｇ）。収量  ３０ｇ  （収率７０％）。
【００６８】
合成例２  ４−（１’−エトキシエトキシ）ベンズアルデヒド（ＥＥＢＡ）の合成
窒素雰囲気下において、４−ヒドロキシベンズアルデヒド  １００ｇ（０．８２モル）をＴＨＦ（５００ｍｌ）に溶解後、ビニルエチルエーテル２３６ｇ（３．３モル）、４Ｍ  ＨＣｌジオキサン溶液４ｍｌ（１６ｍｍｏｌ）を加え、室温で一夜攪拌した。Ｎａ2ＣＯ3水溶液を加え中和後、分液し、上層をｐＨ＝７になるまで水洗した。有機層をＭｇＳＯ4で脱水濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣を減圧蒸留しＥＥＢＡ（８３〜８５℃、０．０４ｍｍＨｇ）を無色油状物質として得た。収量１２９ｇ（収率８１％）。
実施例１
【００６９】
重合体（ａ）の合成（式（Ｉ）で、Ｒ1＝エチル基、Ｒ2＝フェニル基、Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝メチル基、Ｒ5＝エチル基、Ｘ＝Ｙ＝酸素原子、ｍ＝１、ｎ＝０、アセタール基はパラ位である熱分解性重合体：ＥＰＫとＥＥＢＡの共重合体）
窒素雰囲気下、塩化リチウム０．６４ｇ（１５ミリモル）ＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液を−４０℃まで冷却した。更にＥＥＢＡ３２ミリモル  とＥＰＫ４．４ｇ（３０ミリモル）を添加した後、ｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液  ０．３１ｍｌ  （０．５ミリモル）を加え、−４０℃で３０分間反応を継続した。メタノールを加えて反応を停止した後、大量のメタノールに加えて再沈殿し、生じた沈殿をろ過、減圧乾燥することにより、白色粉末状のポリマー（ａ）を得た。ポリマー（ａ）をゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と略す）分析したところ、Ｍｎ＝４８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２５の単分散ポリマーであった。
【００７０】
比較例１
重合体（ｂ）の合成（式（ＩＩ）で、ｒ＝メトキシ基である重合体：ＥＰＫと４−メトキシベンズアルデヒド（ＭＢＡ）の共重合体）
窒素雰囲気下、塩化リチウム０．６４ｇ（１５ミリモル）ＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液を−４０℃まで冷却した。更にＭＢＡ  ４．４ｇ（３２ミリモル）とＥＰＫ４．４ｇ（３０ミリモル）を添加した後、ｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液  ０．３１ｍｌ（０．５ミリモル）を加え、−４０℃で３０分間反応を継続した。メタノールを加えて反応を停止した後、大量のメタノールに加えて再沈殿し、生じた沈殿をろ過、減圧乾燥することにより、白色粉末状のポリマー（ｂ）を８．５ｇ得た。ポリマー（ｂ）をＧＰＣにより分析したところ、Ｍｎ＝４７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１６の単分散ポリマーであった。
【００７１】
比較例２
重合体（ｇ）の合成
ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）［日本曹達製ＶＰ−８０００、Ｍｎ＝１００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１３］５０ｇを窒素雰囲気下で酢酸エチル２００ｍｌに溶解後、エチルビニルエーテル  ５８ｇと濃塩酸０．３ｍｌを加えて、室温で１日攪拌した。次いで、反応液に炭酸ナトリウムを加えて分液後、中性になるまで洗浄を繰り返した。有機層を減圧濃縮後、大量のメタノール中に投入してポリマーを析出させ、濾過、洗浄後、真空乾燥してポリマー（ｇ）を得た。ポリマー（ｇ）のＧＰＣ分析を行ったところ、Ｍｎ＝１３５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１３であった。
【００７２】
比較例３
重合体（ｇ）の合成（式（ＩＩ）で、ｒ＝水酸基である重合体：ポリマー（ｂ）  のアセタール基脱離体）
ポリマー（ｂ）５ｇをＴＨＦ１０ｍｌに溶解後、濃塩酸  ０．１ｍｌを加えて室温で一時間攪拌した。半応液を大量のメタノールに加えて再沈殿し、生じた沈殿を濾過、減圧乾燥して白色粉末状のポリマー（ｃ）を４ｇ得た。ポリマー（ｃ）をＧＰＣ分析したところ、Ｍｎ＝３２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２５の単分散ポリマーであり、ＮＭＲ分析よりアセタール基が完全に脱離しフェノール基に変換したことを確認した。
【００７３】
実施例２
ポリマー（ａ）１００ｍｇをＴＨＦ２ｍｌに溶解し、キャストし約１０μｍの膜を得た。得られた膜を１９０℃で１５分間加熱した。分解前のＧＰＣチャート（図１）および分解後のＧＰＣを（図２）に示す。その結果、ポリマー（ａ）は、Ｍｐ＝２６５（ポリスチレン換算）を示す低分子量化合物にまでほぼ完全に低分子量化した。さらにこの分解物のＬＣ／ＭＳ（化学イオン化法）測定を行ったところ、主生成物は、Ｍ＋１＝２２４を示した。この主生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）で分離し、1Ｈ−ＮＭＲ測定を行った。その結果、このポリマーの分解物は、４−（２−フェニルブテニル）フェノールのＥ、Ｚ混合物であることを確認した。
【００７４】
試験例１
得られたポリマー（ａ）、（ｂ）、（ｇ）のＴｇ−ＤＴＡ測定を行った。測定は、株式会社リガク社製  （ＴＧ８１２０）装置を用い、測定条件を昇温速度；２０℃／ｍｉｎ、窒素流量；５００ｍｌとして行った。その分析結果を表１に示す。
【００７５】
【表１】
2006206650.tif 000018
【００７６】
表１の結果から、本発明の熱分解性（ａ）は、一般的な樹脂（ｇ）と比較し、低い温度で分解させることができ、ポリマー（ｂ）より低い温度で分解することがわかった。
【００７７】
試験例２
ポリマー（ａ）、（ｃ）のＴｇ−ＤＴＡ測定を別条件にて行った。測定は、株式会社リガク社製（ＴＧ８１２０）装置を用い、測定条件を昇温速度；１０℃／ｍｉｎ、窒素流量；５００ｍｌとし、２００℃まで昇温後、一時間２００℃に保ち、重量変化を測定した。その分析結果を図３、図４に示した。
【００７８】
その結果、ポリマー（ｃ、図４）は、昇温中に５％の重量減が観測され、昇温中にある程度分解しており、実用上好ましくない。これに対し、今回発明したポリマー（ａ、図３）は重量減が観測されず、一度に分解反応が進行していることが明らかとなった。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
本発明の熱分解性樹脂及又は樹脂組成物は、一定の温度までは、熱に対し安定であるものの、分解開始温度を超えると瞬時に分解が進行し、その分解温度は一般的な樹脂に比べ、低温である。本発明の熱分解性樹脂及又は樹脂組成物は、安定性を有するものの、酸非存在下に熱により主鎖が切断し、低分子量まで分解して容易に除去可能で操作性に優れるので、解体性接着剤として使用すれば製品のリサイクルに好都合であり、また、これを混ぜ込んで熱分解させ、樹脂を取り除き、目的のものを製造する（多孔質膜、セラミック焼成、プラズマディスプレイパネル用途）、熱分解性樹脂を層にして熱分解させ、樹脂を取り除く、熱分解性樹脂を分解させ、発泡させるというような用途もある。また、本発明の熱分解性ポリマーは、ナノメートルオーダーの微細構造を有する成形体を形成することもできる。すなわち、本発明の熱分解性ポリマーまたはブロックコポリマーのミクロ相分離を利用して、ミクロ相分離構造の特定の１相を選択的に除去して、繊維状構造、薄膜状構造、多孔質構造を有する成形体を形成したり、基板上に成膜したミクロ相分離膜の１相を選択的に除去して多孔質膜やアレイ状に配列したドットとして、この多孔質膜やドットアレイをエッチングマスクとして基板の微細加工などを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】実施例１で合成したポリマー（ａ）の分解前のＧＰＣチャート
【図２】実施例１で合成したポリマー（ａ）の熱分解後のＧＰＣチャート
【図３】実施例１で合成したポリマー（ａ））のＴｇ−ＤＴＡチャート
【図４】比較例３で合成したポリマー（ｃ）のＴｇ−ＤＴＡチャート
【図１】
2006206650.tif 000021
【図２】
2006206650.tif 000022
【図３】
2006206650.tif 000023
【図４】
2006206650.tif 000024