(57)【要約】【課題】  ２系列の現像液配管を擁する現像装置に適用して効果的な温度調整機構を提供する。【解決手段】  温度調整機構６のジャケット１０内は一端が開放された仕切板１４によって内部を２つの流路１０ａ、１０ｂに分割し、これら流路１０ａ、１０ｂは仕切板１４の開放された端部の箇所でつながっている。仕切板１４の開放されていない側の一方のジャケット１０端部には温調水流入口１５が、また同じ端部の下側には温調水排出口１６が設けられている。そして、仕切板１４によって２分割されて形成された夫々の流路１０ａ、１０ｂには、前記薬液配管１１，１２が貫通している。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
温調用液体が流れるジャケットに薬液が流れる配管を貫通せしめた温度調整機構において、前記ジャケット内は仕切板にて２つの温調用液体用の流路に分けられ、これら温調用液体用の流路はジャケット内の一端にて連通し、夫々の温調用液体用の流路には薬液が流れる薬液配管が貫通し、また前記ジャケットの一端には一方の温調用液体用の流路に温調用液体を供給する供給口と、他方の温調用液体用の流路から温調用液体を排出する排出口が設けられていることを特徴とする温度調整機構。
【請求項２】
請求項１に記載の温度調整機構において、前記仕切板は柔軟性の有る材料から構成されることを特徴とする温度調整機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばホトレジストを現像処理するために２系列の現像液を同時に使用する現像装置に適用する温度調整機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェーハ等の被処理基板にホトレジストを塗布し、ホトリソグラフィ技術を用いることで回路パターンをホトレジストに転写して、更に潜像パターン形成面に現像液を供給することにより、塗布レジスト膜を現像して被処理基板の表面に顕像パターンを形成して回路を形成することが知られている。
【０００３】
現像装置としては、現像液中に被処理基板を浸漬する現像装置、現像液を被処理基板表面にシャワー状に流す現像装置、および被処理基板表面のホトレジストの上に現像液を盛り付け、所定時間経過後に被処理基板を回転させて現像液を振り切るパドル型現像装置がある。この現像液を、例えば３０℃〜６０℃の範囲のうち、４０℃、５０℃のように特定の温度に保つことができれば、ホトレジストの上に散布した現像液を少量で効率良く私用することができる。現像液を均一温度に保つための温度調整機構は、例えば特許文献１および特許文献２の図５に温水を使用したものが記載されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２４２７８号公報
【特許文献２】特開２００４−２７４０２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記現像液を送液するための配管を２系列配備しておくと、一方の現像液配管のメンテナンスを行ないながら他方の現像液配管を交代使用できるため、現像装置を連続運転できるという利点がある。しかし、２系列の現像液配管それぞれに特許文献１あるいは２に記載される保温機構を設けると、その分、メンテナンス用スペースを広くしなければならず、結果として装置全体が大きくなるという問題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決すべく本発明に係る温度調整機構は、温調用液体が流れるジャケットに薬液が流れる配管を貫通せしめ、該ジャケット内は仕切板にて２つの温調用液体用の流路に分けられ、これら温調用液体用の流路はジャケット内の一端にて連通し、夫々の温調用液体用の流路には薬液が流れる薬液配管が貫通し、また前記ジャケットの一端には一方の温調用液体用の流路に温調用液体を供給する供給口と、他方の温調用液体用の流路から温調用液体を排出する排出口が設けられた構成とした。このような構成とすることで、温度調整機構がコンパクトになる。
【０００７】
また、前記仕切板をテフロン（登録商標)シートなどの柔軟性の有る材料から構成することで、２つの温調用液体用の流路間に圧力差が生じてもそれが吸収され、温調用液体がスムーズに流れる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る温度調整機構によれば、例えば２系列の現像液配管（薬液配管）を同時に温度制御可能なため、一方の現像液配管のメンテナンスを行ないながら他方の現像液配管を使用して現像装置を連続運転することができる。
【０００９】
また、仕切板によって２分割された温調管内のそれぞれに現像液配管（薬液配管）を貫通させ、２系列の現像液の温度制御を行うことが可能なため、温度調整機構そのものがコンパクトであり、メンテナンス用のスペースも、従来の１系列型温度調整機構を１つ設置した場合とさほど変わらない程度に納めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。図１は本発明に係る温度調整機構を適用した現像装置の全体配管図である。
現像装置１はケース２内にチャック装置３を配置し、現像装置１外にホットプレート（加熱装置）４、送風機５及び温度調整機構６を配置している。ホットプレート４は処理前の被処理基板Ｗの予備加熱を行い、送風機５は３０℃以上６０℃未満に調整されたエアを送風管７、フィルター８を介して現像装置１内に送り込む。
【００１１】
温度調整機構６のジャケット１０からは２系列の薬液供給管１１，１２が導出され、これら薬液供給管１１，１２の先端にはノズル１１ａ、１２ａが取り付けられ、基板Ｗ表面に異なる成分或いは濃度の現像液を選択的に供給できるようにしている。または同じ現像液を交互にノズル１１ａ、１２ａから噴出するようにすることもできる。
【００１２】
また、ジャケット１０には３０℃以上６０℃未満の範囲で適宜調整された温調水の循環経路が接続されている。更に、ジャケット１０の外側には更に保温部材を設けてもよい。
【００１３】
図２は本発明の温度調整機構の一例を示す正面断面図である。温度調整機構６のジャケット１０は、ボックス状或いは両端を閉じた円筒状をなし、断熱性に優れた材料によって構成されている。またジャケット１０内は一端が開放された仕切板１４によって内部を２つの流路１０ａ、１０ｂに分割し、これら流路１０ａ、１０ｂは仕切板１４の開放された端部の箇所でつながっている。
【００１４】
仕切板１４の材料としての制限はないが、例えば適度に柔軟性のあるポリテトラフルオロエチレン製等のポリマーシートが、汚れがつきにくく交換も容易であるため好ましい。
【００１５】
また、仕切板１４の開放されていない側の一方のジャケット１０端部には温調水流入口１５が、また同じ端部の下側には温調水排出口１６が設けられている。そして、仕切板１４によって２分割されて形成された夫々の流路１０ａ、１０ｂには、前記薬液配管１１，１２が貫通している。
【００１６】
上記２系列の薬液配管１１，１２は、例えば連続運転用として一方を使用し、他方を洗浄して交代用に整備しておく使い方があるが、その他に、図１に示すケース内にチャック装置とノズル装置とをそれぞれ２系列設け、デュアル方式でスピンコーティングを行うことも可能である。
【００１７】
本発明の温度調整機構６を使用する場合、温調水を温調水流入口１５から流し込み、温調水排出口１６から排出させることでジャケット１０内を一定の温度に保つことができる。このため、ジャケット１０内を貫通する薬液配管１１，１２内を流れる現像液が温度調整機構６から出て行くときには、常に一定の温度に調整されている。
【００１８】
（実施例）
以下に、本発明の温度調整機構を使用した実施例を示す。
本発明に係るジャケットに４０℃の温調水を通すことで、現像液配管内の現像液を４０℃に保っておいた。そして、１分間ごとに７０ｃｃの現像液を抜き取りウェーハ上に滴下した。これを２０分（合計２１回）繰り返し、次に、１０分置いた後の現像液を同様にウェーハ上に滴下した。上記２０分のときの現像液温度を測定したところ４０．０℃、さらに上記１０分置いた後の温度は３９．７℃であった。以上から本発明の温度調整機構を使用すれば、安定した温度を保った現像液を供給できることが判った。
【００１９】
（比較例）
上記２０分経過後にはジャケット内への温水供給を止めて１０分置いた以外は実施例と同様の操作を行った。この結果、上記２０分のときの現像液温度は３９．８℃であったが、さらに１０分置いた後の温度は３９．２℃と低下していた。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係る温度調整機構を適用した現像装置の全体配管図
【図２】本発明の温度調整機構の一例を示す正面断面図
【符号の説明】
【００２１】
１…現像装置、２…ケース、３…チャック、４…ホットプレート、５…送風機、６…温度調整機構、７…送風管、８…フィルター、１０…ジャケット、１０ａ,１０ｂ…温調水の流路、１１，１２…薬液供給管、１１ａ，１２ａ…ノズル、１４…仕切板、１５…温調水流入口、１６…温調水排出口、Ｗ…基板。
【図１】
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【図２】
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