(57)【要約】【課題】  薄層で高遮光性能を有し、且つ、特に観察者側から見た時の反射率が低く、液晶表示装置等に適用した場合に、液晶セル内の光反射を抑え、光リーク電流による薄膜トランジスタの誤動作を抑制しうる、遮光画像付き基板、それを得るための感光性樹脂組成物及び転写材料、並びにカラーフィルター、それを用いた表示装置を提供である。【解決手段】  基板と、該基板の少なくとも一方の側の、少なくとも１部に遮光画像を有する遮光画像付き基板であって、該遮光画像が少なくとも２層からなり、該遮光画像を形成する層のうち、少なくとも１層が形状異方性金属微粒子を含む光吸収層であり、且つ、少なくとも１層が反射光吸収層であることを特徴とする遮光画像付き基板。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板の少なくとも一方の側の、少なくとも１部に遮光画像を有する遮光画像付き基板であって、該遮光画像が少なくとも２層からなり、該遮光画像を形成する層のうち、少なくとも１層が形状異方性金属微粒子を含む光吸収層であり、且つ、少なくとも１層が反射光吸収層であることを特徴とする遮光画像付き基板。
【請求項２】
前記遮光画像を形成する層のうち、少なくとも１層が樹脂層であることを特徴とする請求項１に記載の遮光画像付き基板。
【請求項３】
前記形状異方性金属微粒子が、平均粒子径１０〜１０００ｎｍの微粒子であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遮光画像付き基板。
【請求項４】
前記形状異方性金属微粒子のアスペクト比が、１．２〜１００であることを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項５】
前記形状異方性粒子は、粒度分布が、粒子の分布を正規分布近似して得られた数平均粒子の粒度分布幅（Ｄ９０／Ｄ１０）で１．２以上２０未満である金属微粒子群からなることを特徴とする請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項６】
前記光吸収層の波長５５５ｎｍにおける反射率が０．５〜３０％であることを特徴とする請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項７】
前記反射光吸収層の波長５５５ｎｍにおける透過光学濃度が、０．３〜３．０であることを特徴とする請求項１〜請求項６の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項８】
前記遮光画像の波長５５５ｎｍにおける透過光学濃度が、厚さ１μｍあたり４〜２０の範囲であることを特徴とする請求項１〜請求項７の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項９】
前記遮光画像の基板側から測定した場合の波長５５５ｎｍにおける反射率が、０．０１〜２％であることを特徴とする請求項１〜請求項８の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項１０】
前記遮光画像の総膜厚が、０．２〜０．８μｍであることを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項１１】
前記形状異方性金属微粒子が、銀、ニッケル、コバルト、鉄、銅、パラジウム、金、白金、スズ、亜鉛、アルミニウム、タングステン、及びチタンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項１〜請求項１０の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項１２】
前記形状異方性金属微粒子を含有する光吸収層の金属体積率が５〜３０％であることを特徴とする請求項１〜請求項１１の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項１３】
前記反射光吸収層が、マンガン、コバルト、鉄、及び銅からなる群より選ばれる少なくとも一種類の金属元素を含有する酸化物、及び／又は、カーボンブラックを含有することを特徴とする請求項１〜請求項１２の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項１４】
前記遮光画像が、少なくとも１層の補助層を有することを特徴とする請求項１〜請求項１３の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項１５】
前記遮光画像が、表示装置のブラックマトリックスであることを特徴とする請求項１〜請求項１４の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【請求項１６】
仮支持体上に少なくとも２層を有する転写材料であって、該仮支持体上に有する層のうち、少なくとも１層が反射光吸収層であり、少なくとも１層が形状異方性金属微粒子を含む光吸収層であることを特徴とする転写材料。
【請求項１７】
前記仮支持体上に有する層のうち、少なくとも１層が樹脂層であることを特徴とする請求項１６に記載の転写材料。
【請求項１８】
前記光吸収層が、形状異方性金属微粒子と、バインダーと、モノマー又はオリゴマーと、光重合開始剤又は光重合開始剤系と、を含有することを特徴とする請求項１６又は請求項１７に記載の転写材料。
【請求項１９】
前記反射光吸収層が、光吸収性物質と、バインダーと、モノマー又はオリゴマーと、光重合開始剤又は光重合開始剤系とを含有することを特徴とする請求項１６〜請求項１８の何れか１項に記載の転写材料。
【請求項２０】
前記反射光吸収層及び前記光吸収層とは別に、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を有することを特徴とする請求項１６〜請求項１９の何れか１項に記載の転写材料。
【請求項２１】
表示装置のブラックマトリックス形成に用いられることを特徴とする請求項１６〜請求項２０のいずれか１項に記載の転写材料。
【請求項２２】
請求項１〜請求項１５の何れか１項に記載の遮光画像付き基板における遮光画像形成に用いられることを特徴とする請求項１６〜請求項２０の何れか１項に記載の転写材料。
【請求項２３】
請求項１６〜請求項２２の何れか１項に記載の転写材料を用い、下記工程を含む方法で製造することを特徴とする遮光画像の形成方法。
ａ：仮支持体上の少なくとも２層の樹脂層を基板に転写する工程
ｂ：該樹脂層にパターン露光する工程
ｃ：パターン露光後の該樹脂層を現像し未露光部分を除去する工程
【請求項２４】
請求項１〜請求項１５の何れか１項に記載の遮光画像付き基板を用いて形成されたことを特徴とするカラーフィルター。
【請求項２５】
請求項１６〜請求項２２の何れか１項に記載の転写材料を用いて形成されたことを特徴とするカラーフィルター。
【請求項２６】
請求項１〜請求項１５の何れか１項に記載の遮光画像付き基板、及び、請求項２４又は請求項２５に記載のカラーフィルターを有することを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遮光画像付き基板及び遮光画像の形成方法、転写材料、カラーフィルター、並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明でいう「遮光画像」は、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の画素間の格子状やストライプ状の黒色の部、さらにＴＦＴ遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等、いわゆるブラックマトリックス（以下、「ＢＭ」ともいう。）の他に各種遮光画像を含む。遮光画像は、黒色材料用着色組成物により形成される。当該黒色材料用着色組成物は、印刷インク、インクジェットインク、エッチングレジスト、ソルダーレジスト、プラズマデイスプレイパネル（ＰＤＰ）の隔壁、誘電体パターン、電極（導体回路）パターン、電子部品の配線パターン、導電ペースト、導電フイルム、ブラックマトリックス等の遮光画像等に広く用いられている。
【０００３】
ＢＭは表示コントラストを向上させるため、また薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示装置の場合には光による電流リークによる画質低下を防止するために用いられており、高い遮光性（光学濃度ＯＤで３以上）が必要である。
【０００４】
一方で、近年は液晶表示装置がＴＶへ応用されるようになってきたが、ＴＶでは透過率が低く、かつ高い色純度カラーフィルターを使用して高輝度を得るため、バックライトの輝度が高くなる傾向にあり、コントラストの低下や、周辺額縁部分の透けを防止するため、ＢＭに高い遮光性が要求される。
【０００５】
更にＴＶは、太陽光が入射する部屋に長期間設置されることから、太陽光によるＴＦＴの劣化が懸念される。また、（１）ＯＤが高いことで画像の引締まり感がでること、つまりコントラストが高いこと、及び（２）外光での液晶の白さが目立たなくなることの意味でもＢＭに高い遮光性が要求される。
【０００６】
クロム等の金属膜を遮光層とするＢＭの形成方法としては、例えば、金属薄膜を蒸着法やスパッタリング法により作製し、該金属薄膜の上にフォトレジストを塗布し、次いでＢＭ用パターンをもつフォトマスクを用いてフォトレジスト層を露光現像し、その後露出した金属薄膜をエッチングし、最後に金属薄膜上のレジスト層を剥離することによりＢＭを形成する方法がある（例えば、非特許文献１参照）。
【０００７】
この方法は金属薄膜を用いるため、膜厚が小さくても高い遮光効果が得られるという利点がある。しかし、蒸着法やスパッタリング法という真空成膜工程やエッチング工程が必要となり、コストが高くなると共に環境に対する負荷も無視できないという問題がある。また、金属膜であるため反射率が高く、強い外光の下では表示コントラストが低いという問題もある。これに対して、上記金属薄膜として、低反射クロム膜（金属クロムと酸化クロムとの２層からなるもの等）を用いるという手段があるが、更にコストアップとなることは否めない。
【０００８】
また、他のＢＭ形成方法としては、遮光性顔料、例えば、カーボンブラックを含有する感光性樹脂組成物を用いる方法も知られている。該方法としては、例えば、透明基板にＲ、Ｇ、Ｂ画素を形成した後、この画素の上にカーボンブラック含有感光性樹脂組成物を塗布し、透明基板のＲ、Ｇ、Ｂ画素非形成面側から全面に露光する、セルフアライメント方式のＢＭ形成方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
上記方法は、上記金属膜のエッチングによる方法に比較して製造コストは低くなるものの、充分な遮光性を得るためには膜厚が厚くなるという問題がある。その結果、ＢＭとＲ、Ｇ、Ｂ画素との重なり（段差）が生じ、カラーフィルターの平坦性が悪くなって液晶表示素子のセルギャップムラが発生し、色ムラ等の表示不良につながることになる。
【０００９】
一方、透明基板上に親水性樹脂を含有する感光性レジスト層を形成し、ＢＭ用パターンを有するフォトマスクを介して露光・現像して透明基板上にレリーフを形成し、この透明基板を無電解メッキの触媒となる金属化合物の水溶液に接触させ、金属化合物をレリーフ中に含有させ乾燥した後、熱処理を施し、その後、上記透明基板上のレリーフを無電解メッキ液に接触させることにより、粒径０．０１〜０．０５μｍの遮光用の金属粒子がその内部に均一に分散されたＢＭを作製する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。上記金属粒子としてはニッケル、コバルト、鉄、銅、クロムが記載され、具体例としては唯一ニッケルが示されている。
しかしながら、この方法は、露光現像工程を含むレリーフ形成−無電解メッキ触媒の付与−熱処理−無電解メッキという、水を扱う煩瑣な処理工程が多い。そのため、低コストでのＢＭ製造を大きくは期待できない。
【００１０】
また、特許文献３には黒色パターンを作製する着色組成物に磁性フイラーを使った例があるが、これらの例は１０ミクロン以上の厚膜であり、単位膜厚辺りの濃度が低く、薄膜で遮光性能が高い遮光画像を低コストで作製することができない。
以上の様な問題から、薄膜で、高い遮光性を兼ね備えたＢＭが必要とされている。
【００１１】
また、ＢＭには以下の問題点より低反射であることが必須となっている。
ＢＭの観察者側の光反射率（カラーフィルターの透明基板側の可視光線反射率）が高い場合、強い外光下での表示コントラスト低下の原因となり、また、液晶セル内の光反射率が高い場合は、バックライトの反射光による光リーク電流が発生し、薄膜トランジスタの誤動作の原因となっている（特許文献４参照。）。
このように、高い表示品位の液晶表示装置を得るためには、液晶表示装置の内外両方からの光に対して低反射であることが、ＢＭには望まれている。
【００１２】
以上述べたごとく、環境負荷が小さく、薄膜で高遮光性、且つ、低反射であることがＢＭには求められているが、これらを満足するＢＭは提供されていないのが現状である。
【特許文献１】特開昭６２−９３０１号公報
【特許文献２】特許第３３１８３５３号公報
【特許文献３】特開２００１−１３６７８号公報
【特許文献４】特開平８−１４６４１０号公報（段落番号［０００５］）
【非特許文献１】共立出版（株）発行「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ」第２１８〜２２０頁（１９９７年４月１０日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
上記のように、従来用いられてきたクロム等のブラックマトリックスに代わる、環境負荷が小さく、薄層で、かつ高遮光性であって、液晶表示装置の誤作動を招く可能性のある光リーク電流を抑制し、表示コントラストの高い液晶表示装置を提供することが望まれている。
本発明は、前述のような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、薄層で高遮光性能を有し、且つ、特に観察者側から見た時の反射率が低く、液晶表示装置等に適用した場合に、液晶セル内の光反射を抑え、光リーク電流による薄膜トランジスタの誤動作を抑制しうる、遮光画像付き基板を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、薄層で高遮光性能を有し、かつ観察者側から見た時の反射率の低い遮光画像を得るための、転写材料を提供することにある。
更に、本発明の他の目的は、表示コントラストが高く平坦性に優れたカラーフィルター、それを用いた表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題は以下の手段によって解決される。
＜１＞  基板と、該基板の少なくとも一方の側の、少なくとも１部に遮光画像を有する遮光画像付き基板であって、該遮光画像が少なくとも２層からなり、該遮光画像を形成する層のうち、少なくとも１層が形状異方性金属微粒子を含む光吸収層であり、且つ、少なくとも１層が反射光吸収層であることを特徴とする遮光画像付き基板。
＜２＞  前記遮光画像を形成する層のうち、少なくとも１層が樹脂層であることを特徴とする前記＜１＞に記載の遮光画像付き基板。
【００１５】
＜３＞  前記形状異方性金属微粒子が、平均粒子径１０〜１０００ｎｍの微粒子であることを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載の遮光画像付き基板。
＜４＞  前記形状異方性金属微粒子のアスペクト比が、１．２〜１００であることを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
＜５＞    前記形状異方性粒子は、粒度分布が、粒子の分布を正規分布近似して得られた数平均粒子の粒度分布幅（Ｄ９０／Ｄ１０）で１．２以上２０未満である金属微粒子群からなることを特徴とする前記＜１＞〜＜４＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【００１６】
＜６＞  前記光吸収層の波長５５５ｎｍにおける反射率が０．５〜３０％であることを特徴とする前記＜１＞〜＜５＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
＜７＞  前記反射光吸収層の波長５５５ｎｍにおける透過光学濃度が、０．３〜３．０であることを特徴とする前記＜１＞〜＜６＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
＜８＞  前記遮光画像の波長５５５ｎｍにおける透過光学濃度が、厚さ１μｍあたり４〜２０の範囲であることを特徴とする前記＜１＞〜＜７＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【００１７】
＜９＞  前記遮光画像の基板側から測定した場合の波長５５５ｎｍにおける反射率が、０．０１〜２％であることを特徴とする前記＜１＞〜＜８＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
＜１０＞  前記遮光画像の総膜厚が、０．２〜０．８μｍであることを特徴とする前記＜１＞〜＜９＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
＜１１＞  前記形状異方性金属微粒子が、銀、ニッケル、コバルト、鉄、銅、パラジウム、金、白金、スズ、亜鉛、アルミニウム、タングステン、及びチタンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする前記＜１＞〜＜１０＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【００１８】
＜１２＞  前記形状異方性金属微粒子を含有する光吸収層の金属体積率が５〜３０％であることを特徴とする前記＜１＞〜＜１１＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
＜１３＞  前記反射光吸収層が、マンガン、コバルト、鉄、及び銅からなる群より選ばれる少なくとも一種類の金属元素を含有する酸化物、及び／又は、カーボンブラックを含有することを特徴とする請求項１〜請求項１２の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
＜１４＞  前記遮光画像が、少なくとも１層の補助層を有することを特徴とする前記＜１＞〜＜１３＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
＜１５＞  前記遮光画像が、表示装置のブラックマトリックスであることを特徴とする前記＜１＞〜＜１４＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板。
【００１９】
＜１６＞  仮支持体上に少なくとも２層を有する転写材料であって、該仮支持体上に有する層のうち、少なくとも１層が反射光吸収層であり、少なくとも１層が形状異方性金属微粒子を含む光吸収層であることを特徴とする転写材料。
＜１７＞  前記仮支持体上に有する層のうち、少なくとも１層が樹脂層であることを特徴とする前記＜１６＞に記載の転写材料。
＜１８＞  前記光吸収層が、形状異方性金属微粒子と、バインダーと、モノマー又はオリゴマーと、光重合開始剤又は光重合開始剤系と、を含有することを特徴とする前記＜１６＞又は＜１７＞に記載の転写材料。
【００２０】
＜１９＞  前記反射光吸収層が、光吸収性物質と、バインダーと、モノマー又はオリゴマーと、光重合開始剤又は光重合開始剤系とを含有することを特徴とする前記＜１６＞〜＜１８＞の何れか１項に記載の転写材料。
＜２０＞  前記反射光吸収層及び前記光吸収層とは別に、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を有することを特徴とする前記＜１６＞〜＜１９＞の何れか１項に記載の転写材料。
【００２１】
＜２１＞  表示装置のブラックマトリックス形成に用いられることを特徴とする前記＜１６＞〜＜２０＞のいずれか１項に記載の転写材料。
＜２２＞  前記＜１＞〜＜１５＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板における遮光画像形成に用いられることを特徴とする前記＜１６＞〜＜２０＞の何れか１項に記載の転写材料。
【００２２】
＜２３＞  前記＜１６＞〜＜２２＞の何れか１項に記載の転写材料を用い、下記工程を含む方法で製造することを特徴とする遮光画像の形成方法。
ａ：仮支持体上の少なくとも２層の樹脂層を基板に転写する工程
ｂ：該樹脂層にパターン露光する工程
ｃ：パターン露光後の該樹脂層を現像し未露光部分を除去する工程
【００２３】
＜２４＞  前記＜１＞〜＜１５＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板を用いて形成されたことを特徴とするカラーフィルター。
＜２５＞  前記＜１６＞〜＜２２＞の何れか１項に記載の転写材料を用いて形成されたことを特徴とするカラーフィルター。
【００２４】
＜２６＞  前記＜１＞〜前記＜１５＞の何れか１項に記載の遮光画像付き基板、及び、前記＜２４＞又は＜２５＞に記載のカラーフィルターを有することを特徴とする表示装置。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、薄層で高遮光性能を有し、且つ、観察者側から見た時の反射率が低い遮光画像付き基板を提供できる。
また、本発明によれば、薄層で高遮光性能を有し、かつ特に観察者側から見た時の反射率が低い遮光画像を得るための転写材料を提供でき、更に、表示コントラストが高く平坦性に優れたカラーフィルター、それを用いた表示装置を提供できる。
【００２６】
さらに、本発明を適用した液晶装置は、アクティブマトリックス方式では液晶セル側の光線反射率を低く抑えられることにより、液晶内の迷光が低減し、ＴＦＴ誤動作の原因となる光リーク電流を抑制することができ、ＬＣＤの消費電力の低減、コントラスト比の向上という効果が得られる。また、本発明は、樹脂レリーフを用いているのでブラックマトリックスのパターン形成が容易であり、例えば感光性樹脂、電子線レジストを用いれば寸法精度を向上させうるという利点も有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
≪遮光画像付き基板≫
本発明の遮光画像付き基板は、基板と、該基板の少なくとも一方の側の、少なくとも１部に遮光画像を有する遮光画像付き基板であって、該遮光画像が少なくとも２層からなり、該遮光画像を形成する層のうち、少なくとも１層が形状異方性金属微粒子を含む光吸収層であり、且つ、少なくとも１層が反射光吸収層である。
本発明の遮光画像付き基板は、上記のごとく、遮光画像を反射光吸収層及び光吸収層を含む少なくとも２層の積層構造とし、かつ該光吸収層が形状異方性金属微粒子を含むことにより、高遮光性能を有する遮光画像を薄層に形成することができるとともに、特に観察者側から見た時の反射率が低いという優れた効果を発揮することができる。
本発明の遮光画像付き基板は、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限無く適用できる。
以下、本発明の遮光画像付き基板について説明する。
【００２８】
＜遮光画像＞
本発明における遮光画像は、少なくとも、形状異方性金属微粒子を含む光吸収層と、反射光吸収層とを有して形成されるが、その他の層を有することができる。また、遮光画像を形成する層のうち、少なくとも１層は、樹脂層であることが好ましい。
遮光画像は、前述のように液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の画素間の格子状やストライプ状の黒色の部、更にＴＦＴ遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等のＢＭとして使用できるが、これらのうち液晶表示装置に使用することが特に好ましい。
【００２９】
遮光画像の基板側から測定した場合の波長５５５ｎｍにおける反射率としては、０．０１〜２％とすることが好ましく、０．１〜１．５％とすることがより好ましく、０．７〜１．０％とすることが最も好ましい。遮光画像の反射率は低い方が好ましい。遮光画像の反射率が上記範囲内であると、遮光画像の形成がより容易であると共に、遮光画像を液用表示装置に備えた場合に、その表示の引き締まり感により優れ、外光により液晶の白さが目立つこともないため好ましい。
【００３０】
遮光画像の総膜厚としては、好ましくは０．２〜０．８μｍ、より好ましくは０．３〜０．６μｍ、最も好ましくは０．４〜０．５μｍの範囲である。遮光画像の厚さが上記範囲であると、遮光性に優れると共に、遮光画像の形成後に設けられる、赤、青、緑の画素の表面が平滑性、色むらの発生が低減する。また、粗大粒子の影響で面状欠陥が目立つことも防止しうる。
【００３１】
遮光画像の波長５５５ｎｍにおける透過光学濃度は、厚さ１μｍ当たり、好ましくは４〜２０、より好ましくは５〜１５、最も好ましくは８〜１２である。遮光画像の１μｍ当たりの透過光学濃度が上記範囲であると、コントラストがより高く、優れた表示品位が得られ、またバックライトによる額縁部分の透け等の問題の発生も防止しうる。コントラスト向上の点からは、透過光学濃度は高い方が好ましいが、透過光学濃度２０以上の遮光画像を作製することは、製造上困難な場合があるため、透過光学濃度が上記範囲となるように作製することが好ましい。
【００３２】
遮光画像は、一般的にカラーフィルターに要求される耐熱性、耐光性、耐薬品性、表面の平滑性、硬度などと同様の性能が求められ、これらの要求性能については、例えば、「カラーフィルターの成膜技術とケミカルズ（渡辺  順次監修、株式会社シーエムシー、１９９８年発行）」の１８９ページ、「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男著  工業調査会  １９９４年発行）」の１１７ページに記載されている。必要な性能は、従来公知のＢＭ同様、顔料／バインダー比、バインダー種、露光や熱処理条件などで制御することができる。
【００３３】
また、本発明の遮光画像付き基板における遮光画像は、後述する遮光画像の形成方法により形成されることが好ましい。
【００３４】
（光吸収層）
本発明における光吸収層は、光吸収能の高い形状異方性金属微粒子を含んでいることで、高い遮蔽効率を実現していると考えられる層である。この高い遮蔽効率の実現により、遮光画像の膜厚を薄くすることが可能であり、更に、その形状異方性効果、粒子サイズに分布を持たせることによって、より高い黒色度を達成させることが可能になったと考えられる。
【００３５】
本発明における光吸収層は、形状異方性金属微粒子を少なくとも一種含み、必要に応じて、顔料微粒子、バインダーとなるポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤、溶媒等を有してもよい。ここで、形状異方性とは、縦、横、高さの比の少なくとも一つが異なるものを指し、観察者が見る方向で形状の異なるもののことを指す。
形状異方性金属微粒子を含む層である光吸収層は、反射光吸収層と組み合わせて、その高い遮蔽性と黒色度により、フォトマスク作製材料、印刷用プルーフ作製用材料、エッチングレジスト、プラズマデイスプレイパネル（ＰＤＰ）の隔壁、誘電体パターン、電極（導体回路）パターン、電子部品の配線パターン、導電フイルム、ブラックマトリックス等の遮光画像等に用いることができるものである。好ましくはカラーフィルター及びこれに用いる表示装置カラー液晶表示装置等に用いるカラーフィルターの表示特性向上のために、着色パターンの間隔部、周辺部分、及びＴＦＴの外光側等に遮光画像を設けるために好適に用いられる。特に好ましくは、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の画素間の格子状やストライプ状の黒色の部、さらに好ましくはＴＦＴ遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等のブラックマトリックスとして好適に用いられる。
【００３６】
また、本発明における光吸収層は、観察者側から入射した光の吸収効率が高いのみならず、反射率が低いので、液晶表示装置に適用した場合に、バックライトの戻り光による光リーク電流の発生が小さいのでＴＦＴの誤作動がないとういう利点がある。
【００３７】
＜形状異方性金属微粒子＞
本発明における光吸収層は、形状異方性金属微粒子を含む。
本発明で使用できる形状異方性金属微粒子は、形状異方性を有する球状以外の形状であれば、特に限定されるものではない。より好ましい形状としては、あんパン状、ジャガイモ状等の不定形、棒状（針状、円柱形、直方体等の角柱形、ラグビーボール型等）、平板状（鱗片状、楕円板状、板状）、繊維状、金平糖状、コイル状等が挙げられる。粒子形状には特に制限は無いが、最も好ましいものは棒状（以下において「ロッド状」ということがある。）、不定形、板状である。
【００３８】
−金属微粒子−
本発明において「金属」は、「化学大辞典２ 縮刷版」、縮刷版第３８刷、共立出版（株）、２００３年１０月１日発行、に記載の「金属」において示されたものであり、一般にいわゆる金属光沢を有し、導電率、熱導電率が大で、強度が大きく、曲げても折れにくく、延性、展性が大であり、常温で固体で、比較的融解し難いものでる。
本発明で用いられる形状異方性金属微粒子は、上述のごとき形状異方性を有する金属微粒子であれば特に限定されず、いかなるものを用いてもよい。本発明における金属微粒子としては、この中でも、周期型周期表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の例えば、元素周期表の第４周期、第５周期、及び第６周期からなる群から選ばれる金属を主成分として含むことが好ましく、また、第２族、第４族、第６族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、及び第１４族からなる群から選ばれる金属を主成分として含むことが好ましい。これらの金属のうち、本発明における形状異方性金属微粒子としては、第３周期、第４周期、第５周期、又は第６周期の金属であって、第２族、第４族、第６族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、又は第１４族の金属がさらに好ましい。
金属微粒子の製造には、上記金属を２種以上組み合わせて用いてもよく、合金として用いることも可能である。
【００３９】
金属微粒子として分散金属微粒子の好ましい例は、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金、から選ばれる少なくとも一種を挙げることができる。さらに好ましい金属は、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、カルシウム、ロジウム、イリジウム又はこれらの合金、より好ましい金属は、銅、銀、金、白金、錫又はこれらの合金から選ばれる少なくとも一種である。その中でも金、銀、銅、スズが好ましく、とりわけ銀が好ましい。上記銀としては、棒状をした銀が好ましい。また、銀としてはコロイド銀が最も好ましい。
【００４０】
−金属化合物微粒子、複合微粒子−
また、本発明における形状異方性金属微粒子は、金属化合物の微粒子、金属化合物と金属との複合微粒子でもよい。
本発明で言う「金属化合物」とは、上記のごとき金属と金属以外の元素との化合物である。金属と他の元素の化合物としては、金属の酸化物、硫化物、硫酸塩、炭酸塩などがある。このうち硫化物が、色調や微粒子形成のしやすさから特に好ましい。これら金属化合物の例としては、酸化銅（II）、硫化鉄、硫化銀、硫化銅（II）、チタンブラックなどがある。硫化銀は、色調、微粒子形成のしやすさや安定性の観点から特に好ましい。
本発明で言う金属化合物と金属との複合微粒子とは、金属と金属化合物が結合して1つの粒子になったものをいう。複合粒子の形状には特に制限はない。例えば、粒子の内部と表面で組成の異なるもの、２種類の粒子が合一したもの等を挙げることができる。また、金属化合物と金属は、それぞれ１種でも２種以上であってもよい。金属化合物と金属との複合微粒子の具体例としては、銀と硫化銀の複合微粒子、銀と酸化銅（II）との複合微粒子などがある。
【００４１】
−コアシエル型の複合粒子−
さらに、本発明の形状異方性金属粒子は、コア・シェル型の複合粒子であってもよい。コア・シェル型の複合粒子とは、コア材料の表面をシェル材料でコートしたものである。コア・シェル型の複合粒子を形成するシェル材料としては、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、ＡｌＳｂ、ＩｎＰ、Ｇａ、Ａｓ、ＧａＰ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ、Ｓｅ、Ｔｅ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＴｌＣｌ、ＴｌＢｒ、ＴｌＩ、これらの固溶体、又はこれらを９０ｍｏｌ％以上含む固溶体から選ばれる少なくとも一種の半導体、或いは、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金、から選ばれる少なくとも一種の金属を用いることができる。
好ましいシェル材料としては、銅、銀、金、パラジウム、ニッケル、錫、ビスマス、アンモチン、鉛、又はこれらの合金から選ばれる少なくとも一種を挙げることができる。
シェル材料は、反射率を低下させる目的で屈折率の調整剤としても好適に用いられる。
【００４２】
また、コア・シェル型の複合粒子のコア材料としては、例えば、銅、銀、金、パラジウム又はこれらの合金、から選ばれる少なくとも一種の金属を用いることができる。
【００４３】
コア・シェル型の複合粒子の作製方法に特に制限はなく、代表的な方法としては、以下の（１）及び（２）が挙げられる。
（１）公知の方法で作製した金属微粒子の表面に、酸化、硫化などにより、金属化合物のシェルを形成する方法であり、例えば、金属微粒子を水などの分散媒に分散させて、硫化ナトリウムや硫化アンモニウムなどの硫化物を添加する方法がある。この方法により粒子の表面が硫化されてコアシェル複合粒子が形成される。
この場合、用いる金属微粒子は、気相法、液相法などの公知の方法で作製することができる。金属微粒子の作製方法については、例えば「超微粒子の技術と応用における最新動向ＩＩ（住友テクノリサーチ（株）、２００２年発行）」に記載されている。
（２）金属微粒子を作製する過程で連続的に表面に金属化合物のシェルを形成する方法であり、例えば、金属塩溶液に還元剤を添加して、金属イオンの一部を還元して金属微粒子を作製し、次いで硫化物を添加して、作製した金属微粒子の周囲に金属硫化物を形成する方法がある。
【００４４】
−形状異方性金属粒子の作製−
形状異方性金属粒子は、市販のものを用いることができる他、金属イオンの化学的還元法、無電解メッキ法、金属の蒸発法等により調製することが可能である。
特に、ロッド状の銀微粒子は、球形銀微粒子を種粒子としてその後、銀塩をさらに添加し、CTAB（セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）等の界面活性剤の存在下で、アスコルビン酸など比較的還元力の弱い還元剤を用いることにより銀ロッドやワイヤーが得られることがＡｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００２，１４，８０−８２に記載されている。また、同様の記載がＭａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．２００４，８４，１９７−２０４、Ａｄｖ．Ｆｕｎｃｔ．Ｍａｔｅｒ．２００４，１４，１８３−１８９になされている。
電気分解を用いた方法として、Ｍａｔｅｒ．Ｌｅｔｔ．２００１，４９，９１−９５やマイクロ波を照射することにより銀ロッドを生成する方法が、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．２００４，１９，４６９−４７３に記載されている。逆ミセルと超音波の併用した例として、Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｂ，２００３，１０７，３６７９−３６８３が挙げられる。
金に関しても、同様にＪ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｂ  １９９９，１０３、３０７３−３０７７及びＬａｎｇｍｕｉｒ１９９９，１５，７０１−７０９、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００２，１２４，１４３１６−１４３１７に記載されている。
ロッド状の粒子の形成方法は、上記記載の方法を改良（添加量調整、ｐH制御）しても調製できる。
【００４５】
−不定形粒子、平板粒子の作製−
形状異方性金属微粒子として、不定形粒子、平板粒子が使用される場合、当該粒子の作製方法としては、水溶液中還元方法（金属イオンの化学的還元法）が主に用いられる。その他、無電解メッキ法、金属の蒸発法等により調製することが可能である。例えば、銀微粒子（コロイド銀）の場合は、従来から知られている方法、例えば、米国特許第２，６８８，６０１号明細書に開示されているゼラチン水溶液中で可溶性銀塩をハイドロキノンによって還元する方法、ドイツ特許第１，０９６，１９３号明細書に記載されている難溶性銀塩をヒドラジンによって還元する方法、米国特許第２，９２１，９１４号明細書に記載されているタンニン酸により銀に還元する方法のごとく銀イオンを溶液中で化学的に還元する方法や、特開平５−１３４３５８号公報に記載されている無電解メッキによって銀粒子を形成する方法、バルク金属をヘリウムなどの不活性ガス中で蒸発させ、溶媒でコールドトラップするガス中蒸発法等の方法を用いることが可能である。
以下に、不定形粒子、平板粒子を調製する場合の実施態様の一例を挙げる。
・異方性コロイド銀微粒子分散液の調製
米国特許第２６８８６０１号明細書の実施例を基本として、銀塩還元時のｐＨ、分散剤溶液の濃度、水溶性カルシウム塩の使用量を増減することにより、各種平均粒径及び不定形・平板状の銀微粒子が分散する液を得ることができる。分散剤としては、エフカアデイテイブス（株）製のＥＦＫＡ４５５０を使用することができる。
【００４６】
−粒子径と形状−
本発明における形状異方性金属微粒子径は三軸径とする。すなわち、１個の金属微粒子がちょうど（きっちりと）収まるような箱（直方体）を考え、この箱の長さＬ、幅ｂ、高さ又は厚みｔをもってこの金属微粒子の寸法と定義する仕方である。金属微粒子を箱に収める場合いくつかの仕方があるが、本発明では以下の方法を採用する。
まず、平面上に、金属微粒子を、最も重心が低くて安定に静止するように置く。次に、平面に対し直角に立てた２枚の平行な平板により金属微粒子を挟み、その平板間隔が最も短くなる位置の平板間隔を「幅ｂ」とする。次に、前記幅ｂを決する２枚の平板に対し直角で前記平面に対しても直角の２枚の平行な平板により金属微粒子を挟み、この２枚の平板間隔を「長さＬ」とする。最後に金属微粒子の最も高い位置に接触するように天板を前記平面に平行に載せ、天板と平面との間隔を高さ又は厚みｔとする。（この方法により平面、各２枚の平板及び天板によって画される直方体が形成される。）
また、金属微粒子の三軸径ｂ、Ｌ及びｔの最も長いものに該当する軸を「長軸」と定義し、長軸方向における長さを「長軸長」と、また、長軸に平行な光を金属微粒子に照射して得られる投影面積を真円換算した場合の直径を「短軸長」と定義する。
【００４７】
本発明における形状異方性金属微粒子の数平均粒径は、膜厚を超えない限り特に制限はないが、１０〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、１０〜５００ｎｍの範囲がより好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲が更に好ましい。形状異方性金属微粒子の数平均粒径が、１０ｎｍ以上であると、その生成がし易く、このような数平均粒径の金属微粒子を用いて作製されたカラーフィルターは、目視で茶褐色に見えること（黒色にはならない）がなく好ましい。また、粒子を分散した分散物の安定性と遮光性向上の観点からは、数平均粒径１０００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４８】
なお、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像の投影面積を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値を言う。
【００４９】
本発明において、形状異方性金属微粒子を含有する層の金属体積率（％）は、「（金属体積／層体積）×１００＝金属体積率（％）」で求める。例えば、光吸収層中の金属銀微粒子の金属体積率であれば、比重１０．５として金属銀の体積を求め、光吸収層の全体積で除した割合となる。
形状異方性金属微粒子を含有する光吸収層の金属体積率（％）は、金属により若干異なるが、光反射率の低減、光吸収層の薄膜化、及び遮光性の観点からは、好ましくは５〜３０％、より好ましくは１０〜２８％、最も好ましくは１５〜２５％である。
【００５０】
−アスペクト比−
本発明において、形状異方性金属微粒子の「アスペクト比」とは、形状異方性金属微粒子の前記のごとく定義した長軸長を短軸長で割った値を意味し、１００個の形状異方性金属微粒子について測定した値の平均値と定義する。
なお、粒子の投影面積は電子顕微鏡写真上での面積を測定し、撮影倍率を補正することにより得られる。
【００５１】
形状異方性金属微粒子のアスペクト比（粒子の長軸長／粒子の短軸長の比）は、１．２以上であることが好ましく、１．５以上であることがより好ましい。アスペクト比の上限は、１００程度である。アスペクト比は、黒色粒子を得る観点からは、１．２以上であることが好ましく、また、可視光域の吸収を低下させない観点からは大きすぎないことが好ましい。
形状異方性金属微粒子の短軸長は、４〜５０ｎｍであることが好ましく、１５〜５０ｎｍであることがより好ましく、１５〜３０ｎｍであることが最も好ましい。
また、形状異方性金属微粒子の長軸長（最大長）は、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１００〜１０００ｎｍであることがより好ましく、４００〜８００ｎｍであることがさらにまた好ましい、塗設膜厚以上にならないことが最も好ましい。
【００５２】
本発明における形状異方性金属微粒子は、アスペクト比を調整することによって、吸収スペクトル制御でき、色相を無彩色に近づけることもできる。アスペクト比の調整は、異なるアスペクト比の粒子を混合することにより行われる。例えば、無彩色に近づけるためには、色々な種類のアスペクト比をもつ粒子を組み合わせることにより得ることもできる。また、水溶液還元法が適用される場合においては、ｐＨや、還元剤の、種類、反応温度、添加のタイミングによりアスペクト比調製が可能である。
【００５３】
なお、本発明は、金属微粒子の形状を球形から、例えば、ロッド状へ変化させることにより、透過濃度を稼ぐことが可能なことを見い出し、これにより遮光層（遮光画像）の薄膜化を行うことが可能となったものである。
【００５４】
−粒度分布−
本発明における形状異方性金属微粒子の粒度分布は、粒子の分布を正規分布近似し、その数平均粒子径の、粒度分布幅Ｄ９０／Ｄ１０が、１．２以上２０未満であることが好ましい。ここで、Ｄ９０は粒子の９０％が見出される最大直径であり、Ｄ１０は粒子の１０％が見出される最大直径である。粒度分布幅は色調の観点からさらに好ましくは２以上１５以下である。さらに好ましくは、４以上１０以下である。分布幅が２以下だと色調が単色に近くなる場合があり、２０以上となると、粗大粒子による散乱による濁りが生じる場合がある。
粒度分布の測定は、動的光散乱法／レーザードップラー法（日機装（株）製のナノトラックＵＰＡ−ＥＸ２５０ 粒度分布測定装置、コールター（株）製のコールターＮ４プラス サブミクロン粒度分布測定装置、等）、ディスク高速遠心沈降法（日機装（株）製のＢＩ−ＤＣＰ粒度分布測定装置、等）、レーザー回折散乱方法（日機装（株）製のマイクロトラックＭＴ３３００粒度分布測定装置、（株）島津製作所製のレーザー回折式粒度分布測定装置ＳＡＬＤ−７０００、等）により測定できるが、ナノサイズの粒子測定には、動的光散乱法／レーザードップラー法が好ましい。
【００５５】
＜反射率＞
本発明では、目の感度のピーク波長付近の５５５ｎｍでの反射率を用いる。
反射率の具体的な測定方法は、法線に対し５°傾いた方向から光を入射させ、法線と反対側の反射方向（角度、法線に対して５°）で光の強度を計測して入射強度Ｉ0と反射強度Ｉの比率「（Ｉ／Ｉ0）×１００（％）」より計算する。但し、基板表面の反射の影響がある場合は、予め基板を測定し、基板の反射を差し引いた値を用いる。また、光吸収層の反射率は、基板上に単独で形成後、基板と反対の側から測定する。
光吸収層の反射率は、該層に含まれる形状異方性金属微粒子同士が電子の受け渡しができる程度に接近するか、接触するほど高くなる傾向がある。例えば、小さく揃った粒径（１０ｎｍ）のものは、２００℃前後の比較的低い熱処理温度でも粒子同士が融着し反射率が高くなる。また、大小様々な粒径の混合物（２〜８０ｎｍ）では、粒子同士が膜形成の段階で接近又は接触し反射率が高い傾向があるので、融着を防ぎ、反射率を上げないことが好ましい。
本発明における光吸収層の低反射率は、波長５５５ｎｍにおいて、０．５〜３０％程度の反射率であり、より好ましくは１．０〜３０％、最も好ましくは２．０〜２５％である。反射率が３０％を越える高反射率となると、液晶装置等に適用した場合に、バックライトの光の反射により光リーク電流が発生し、薄膜トランジスタの誤作動を引き起こしやすくなるため好ましくない。
【００５６】
本発明における光吸収層は、フォトリソ法など環境負荷の小さな方法でパターン状に形成することが好ましく、光吸収層を構成する樹脂成分を含有する感光性樹脂組成物によって形成される。この感光性樹脂組成物については後述する。
【００５７】
（反射光吸収層）
本発明における反射光吸収層は、光吸収機能を有し、反射光吸収層側から入射された光が反射光吸収層と光吸収層との界面（間に補助層を有する場合を含む。以下同じ。）で反射した光を吸収する役割を持つ層である。基板／反射光吸収層／光吸収層の層構成である場合には、基板側から入射する光（外光）が反射光吸収層を通して通過し、反射光吸収層／光吸収層の界面で反射した光が反射光吸収層内で吸収される。基板／光吸収層／反射光吸収層の層構成である場合には、バックライト側から入射する光（バックライト光、外光が遮光層以外の部分、例えば画素を通過して対抗する基板側にて反射した光）が、反射光吸収層を通して通過し、反射光吸収層／光吸収層の界面で反射した光が反射光吸収層内で吸収される。バックライト光のバックライト側への戻り光を抑えることで輝度の低減にも効果がある。通常、反射光吸収層の光学透過濃度は、マクベス濃度計（マクベス社製、ＴＤ−９０４、ビジュアルフィルター使用）で測定することができる。
【００５８】
反射光吸収層の膜厚は、光吸収性及びカラーフィルター形成性の観点から、０．０５〜０．６μｍが好ましく、更に０．１〜０．３μｍが総膜厚の観点より好ましい。
また、透過光学濃度が０．３〜３．０の範囲であり、好ましくは０．３〜２．０であり、より好ましくは０．５〜１．２であり、特に好ましくは０．６〜１．０である。
【００５９】
この目的のため、本発明における反射光吸収層は、光吸収性物質（顔料、染料等の着色材料）を含有することが好ましく、光吸収性物質を樹脂に分散して用いることがより好ましい。
該光吸収性物質としては、カーボンブラック、黒色顔料、顔料の混合物、又は、マンガン、コバルト、鉄、及び銅からなる群より選ばれる少なくとも一種類の金属元素を含有する酸化物が挙げられ、カーボンブラック、顔料の混合物、又は、マンガン、コバルト、鉄、及び銅からなる群より選ばれる少なくとも１種類の金属元素を含有する酸化物の１以上を含有することが好ましく、より好ましくはマンガン、コバルト、鉄、銅の少なくとも１種類の金属元素を含有する酸化物、及び／又は、カーボンブラック、を含有することである。カーボンブラックは、適宜表面処理して用いることができる。
染料の好適な例としては、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）、カーボン、マンガンやコバルトの酸化物（Ｍｎ3Ｏ4、Ｃｏ3Ｏ4）、鉄や銅などの金属酸化物、チタンブラックが挙げられる。
【００６０】
本発明における反射光吸収層に用いられる光吸収性物質は、樹脂層中に実質的に均一に分散されていることが好ましく、５μｍ以下の粒径であることが好ましく、１μｍ以下の粒径であることがより好ましい。カラーフィルターの作製に当たっては、分散性の安定性の観点から、０．５μｍ以下の粒径のものが特に好ましい。
【００６１】
前記光吸収性物質を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、ニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル、等の公知の分散機が挙げられる。
【００６２】
本発明における反射光吸収層の光学濃度は、前記光吸収層濃度との兼ね合いで決めることが好ましい。
【００６３】
なお、本発明における反射光吸収層を最も基板に近い側に転写法で形成する場合は、本発明における反射光吸収層を形成するための転写材料が、少なくとも１５０℃以下の温度で軟化する熱可塑性若しくは粘着性になることが好ましい。公知の光重合性組成物を用いた層の大部分はこの性質を有するが、そうでない層の１部は熱可塑性結合剤の添加或いは相溶性の可塑剤の添加によって更に改質することができる。
本発明において、反射光吸収層に含まれる樹脂成分としては、例えば、特開平３−２８２４０４号公報に記載の公知の感光性樹脂の全てを用いることができる。
具体的には、ネガ型ジアゾ樹脂とバインダーからなる感光性樹脂組成物、光重合性樹脂組成物、アジド化合物とバインダーとからなる感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成物等が挙げられる。その中でも、特に好ましくは光重合性樹脂組成物である。
上記光重合性樹脂組成物としては、光重合開始剤、光重合性モノマー及びバインダーを基本構成要素として含む。
また、ここで述べた上記光重合性樹脂組成物は、樹脂組成物を基板に直接塗布する場合にも、塗布膜が安定に基板に密着する意味で含有することが好ましい。更に、ここで述べた樹脂成分は、本発明における反射光吸収層や補助層にも用いることができる。
【００６４】
−反射光吸収層と光吸収層の位置関係−
反射光吸収層は、観察者側から見た時の反射を抑制する効果を有効に発揮するために、光吸収層に対して観察者側に位置するよう設けることが好ましく、基板上に、反射光吸収層、光吸収層の順に形成させることが好ましい。
基板／反射光吸収層／光吸収層の層構成の場合には、反射光吸収層はガラス基板側から入射した光の吸収の効果もあり、反射光吸収層では外光の吸収が２回行われるので、通常の単層膜よりも薄くてすむ利点がある。
【００６５】
（基板）
本発明の遮光画像付き基板に用いられる基板としては、例えば、透明基板が用いられ、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いは、プラスチックフィルム等を挙げることができる。
【００６６】
（補助層）
本発明における補助層とは、以下に記述するいずれかの１以上の機能を有する層であり、耐衝撃性、耐薬品性、耐溶剤性の観点から、遮光画像層中に設けることが好ましい。
【００６７】
１．基板と、本発明における遮光画像層との間の密着力を増すために、この界面に形成される層。
２．基板と本発明における樹脂層との間、又は本発明における遮光画像層と本発明における別の層との間、に設けられ界面での反射を防止する層。
３．本発明における光吸収層と反射光吸収層との間の密着力を増すために、この界面に設けられる層。
４．本発明における遮光画像層上を保護するために設けられる層。
５．本発明における遮光画像層をフォトリソ法によりパターニングするために設けられる層。
【００６８】
本発明における補助層を用いた具体的な層構成の例としては、基板側より、反射光吸収層／光吸収層／補助層、反射光吸収層／補助層／光吸収層／補助層、補助層／反射光吸収層／光吸収層／補助層などが挙げられるが、特に限定されるものではない。
【００６９】
≪感光性樹脂組成物≫
本発明における光吸収層、反射光吸収層、補助層を形成することができる感光性樹脂組成物について説明する。
本発明における光吸収層を塗布形成する場合、光吸収層用感光性樹脂組成物を用いることができる。
【００７０】
＜光吸収層用感光性樹脂組成物＞
光吸収層用感光性樹脂組成物は、形状異方性金属微粒子と、光重合性組成物（バインダー、モノマー又はオリゴマー、光重合開始剤又は光重合開始剤系）を少なくとも含有することが好ましい。
該感光性樹脂組成物を公知の方法により基板に塗布することにより光吸収層を形成できる。また、該感光性樹脂組成物を公知の方法で仮支持体に塗布することにより、本発明の転写材料の光吸収層を形成することができる。
感光性樹脂組成物として用いることのできる光重合性樹脂組成物（以下、「光重合性樹脂組成物」ともいう。）としては、アルカリ水溶液により現像可能なものと、有機溶剤により現像可能なものが知られているが、公害防止、労働安全性の確保の観点からアルカリ水溶液現像可能な光重合性組成物が好ましい。
以下、形状異方性金属微粒子、光重合性組成物、界面活性剤について詳細に説明する。
【００７１】
−形状異方性金属微粒子−
光吸収層用感光性樹脂組成物は、形状異方性金属微粒子を含有する。該金属成分としては、前記遮光画像の項の金属と同様であり、好ましい例も同様である。
光吸収層用感光性樹脂組成物において、形状異方性金属微粒子の粒子濃度（金属微粒子体積率％）は、塗布性、乾燥負荷、及び保存安定性の観点から、０．０１〜７０質量％、より好ましくは０．１〜４０質量％の範囲が望ましい。
金属微粒子の粒径としては、金属微粒子の１次粒子径がそのまま塗布液での粒径となっていることが、塗布液安定性の観点より好ましい。
【００７２】
光吸収層用感光性樹脂組成物中においては、形状異方性金属微粒子は、分散されていることが望ましい。分散時における形状異方性金属微粒子の存在状態は特に限定されないが、形状異方性金属微粒子が安定な分散状態で存在していることが好ましく、例えば、コロイド状態であることがより好ましい。コロイド状態の場合には、例えば、形状異方性金属微粒子が実質的に形状異方性の微粒子状態で分散されていることが好ましい。
ここで、分散剤として、チオール基含有化合物、アミノ酸又はその誘導体、ペプチド化合物、多糖類及び多糖類由来の天然高分子、合成高分子及びこれらに由来するゲルなどを用いることができる。
ここで用いるチオール基含有化合物の種類は特に限定されず、１個又は２個以上のチオール基を有する化合物であればいかなるものでもよい。チオール基含有化合物としては、例えば、アルキルチオール類（例えば、メチルメルカプタン、エチルメルカプタンなど）、アリールチオール類（例えば、チオフェノール、チオナフトール、ベンジルメルカプタンなど）、アミノ酸又はその誘導体（例えば、システイン、グルタチオンなど）、ペプチド化合物（例えば、システイン残基を含むジペプチド化合物、トリペプチド化合物、テトラペプチド化合物、５以上のアミノ酸残基を含むオリゴペプチド化合物など）、又は蛋白質（例えば、メタロチオネインやシステイン残基が表面に配置された球状蛋白質など）などを挙げることができるが、これらに限定されることはない。
【００７３】
分散剤に用いられる高分子類としては、保護コロイド性のあるポリマーでゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプルピルセルロース、ポリアルキレンアミン、ポリアクリル酸の部分アルキルエステル、PVP及びPVP共重合体などがある。分散剤として用いることができるポリマーについては例えば「顔料の事典」（伊藤征司郎編、（株）朝倉書院発行、２０００年）に記載されている。
【００７４】
また、分散液には、親水性高分子、界面活性剤、防腐剤、又は安定化剤などを適宜配合してもよい。親水性高分子としては、水に溶解でき、希薄状態において実質的に溶液状態を維持できるものであればいかなるものを用いてもよい。例えば、ゼラチン、コラーゲン、カゼイン、フィブロネクチン、ラミニン、エラスチンなどのタンパク質及びタンパク質由来の物質；セルロース、デンプン、アガロース、カラギーナン、デキストラン、デキストリン、キチン、キトサン、ペクチン、マンナンなどの多糖類及び多糖類由来の物質などの天然高分子；ポバール、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルアミンなどの合成高分子；又はこれらに由来するゲルなどを用いることができる。ゼラチンを用いる場合には、ゼラチンの種類は特に限定されず、例えば、牛骨アルカリ処理ゼラチン、豚皮膚アルカリ処理ゼラチン、牛骨酸処理ゼラチン、牛骨フタル化処理ゼラチン、豚皮膚酸処理ゼラチンなどを用いることができる。
【００７５】
上記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、ベタイン系界面活性剤のいずれも使用でき、アニオン系及びノニオン系界面活性剤が特に好ましい。界面活性剤のＨＬＢ値は塗布液の溶媒が水系か有機溶剤系かにより一概に言えないが、溶媒が水系の場合は８〜１８程度のものが好ましく、有機溶剤系の場合は３〜６程度のものが好ましい。
【００７６】
なお、上記ＨＬＢ値については、例えば「界面活性剤ハンドブック」（吉田時行、進藤信一、山中樹好編、工学図書（株）発行昭和６２年）に記載されている。上記界面活性剤の具体例としては、プロピレングリコールモノステアリン酸エステル、プロピレングリコールモノラウリン酸エステル、ジエチレングリコールモノステアリン酸エステル、ソルビタンモノラウリル酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリル酸エステルなどがある。界面活性剤の例についても前述の「界面活性剤ハンドブック」に記載されている。
該界面活性剤の含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分量（質量）に対して、０．１〜２０質量％が一般的であるが、層間密着力、泡立ち、塗布面状適性上の観点から、０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．２〜５質量％であることが更に好ましい。
【００７７】
−光重合性組成物−
光吸収層用感光性樹脂組成物に、前記形状異方性金属微粒子と共に含有することができる、アルカリ水溶液現像可能な光重合性組成物は、バインダー、モノマー又はオリゴマー、光重合開始剤又は光重合開始剤系を含有する。
【００７８】
−バインダー−
バインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。この他に水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。
【００７９】
光吸収層用感光性樹脂組成物に用いるバインダーとしては、現像性、及び有機溶媒に対する溶解度の観点から、通常、５０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲の酸価を有するものが好ましい。
【００８０】
−モノマー又はオリゴマー−
モノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
【００８１】
更に、特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報及び特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとしてあげることができる。
【００８２】
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、感光性樹脂組成物の金属を除く全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。
【００８３】
また、モノマー又はオリゴマーと、バインダーとの合計含有量が、金属を除く全固形分に対して、３０〜９０質量％であることが好ましく、４０〜８０質量％がより好ましく、５０〜７０質量％が特に好ましい。なお、モノマー又はオリゴマー／バインダー比は、質量比で、０．５〜１．２が好ましく、０．５５〜１．１がより好ましく、０．６〜１．０が特に好ましい。
【００８４】
−光重合開始剤又は光重合開始剤系−
光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、ハロメチルオキサジアゾール系化合物又はハロメチル−ｓ−トリアジン系化合物を含有する組成物を挙げることができる。
本発明における光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。
これらの光重合開始剤又は光重合開始剤系は、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、特に２種類以上を用いることが好ましい。また、感光性樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【００８５】
露光感度が高く、黄ばみなどの着色が少なく、表示特性の良い例としては、ジアゾール系光重合開始剤と、トリアジン系光重合開始剤の組み合わせが挙げられ、中でも、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾールと、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−プロモフェニル］−ｓ−トリアジンの組み合わせが最も良い。
これらの光重合開始剤の比率は、ジアゾール系／トリアジン系の質量比率で、好ましくは９５／５から２０／８０、より好ましくは９０／１０から３０／７０、最も好ましくは８０／２０から６０／４０である。
これらの光重合開始剤は、特開平１−１５２４４９号公報、特開平１−２５４９１８号公報、特開平２−１５３３５３号公報に記載されている。
更に、好適な例としてはベンゾフェノン系も挙げられる。
【００８６】
感光性樹脂組成物の固形分全体に占める顔料の割合が１５から２５質量％付近の場合、上記光重合開始剤に、クマリン系化合物を混合することによっても、同様の効果が得られる。クマリン系化合物としては、７−［２−［４−（３−ヒドロキシメチルビペリジノ）−６−ジエチルアミノ］トリアジニルアミノ］−３−フェニルクマリンが最も良い。
これらの光重合開始剤とクマリン系化合物の比率は、光重合開始剤／クマリン系化合物の質量比率で、好ましくは２０／８０から８０／２０、より好ましくは３０／７０から７０／３０、最も好ましくは４０／６０から６０／４０である。
またそれぞれの成分の好ましい含有量は、全固形分中の質量％で表すと、顔料は１０〜５０％、多宮能アクリレートモノマーは１０〜５０％、カルボン酸基含有バインダーは２０〜６０％、光重合開始剤は１〜２０％である。但し、本発明に使用できる光重合性組成物はこれらに限定されるものではなく、公知のものの中から適宜選択することできる。
【００８７】
−熱重合開始剤又は熱重合開始剤系−
光吸収層用感光性樹脂組成物は、上記成分の他に、更に熱重合開始剤又は熱重合開始剤系を含むことができる。
熱重合開始剤又は熱重合開始剤系として、過酸化ベンゾイル、２，２’−アゾビスイソブチルニトリル等のラジカル開始剤、ｎ−ブチルリチウム等のアニオン重合開始剤、ＳｎＣｌ2 等のカチオン重合開始剤を挙げることができる。
熱重合開始剤又は熱重合開始剤系の含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分中、０．５〜３０質量％が好ましく、１．０〜２０質量％がより好ましく、１．０〜１０質量％が更に好ましい。
【００８８】
−熱重合防止剤−
光吸収層用感光性樹脂組成物は、上記成分の他に、更に熱重合防止剤を含むことができる。
熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、−２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
光吸収層用感光性樹脂組成物の全固形分に対する熱重合防止剤の含有量は、０．０１から１質量％が一般的であり、０．０２から０．７質量％が好ましく、０．０５から０．５質量％が特に好ましい。
【００８９】
−溶媒−
光吸収層用感光性樹脂組成物は、溶媒を含むことができる。この溶媒としては特に制限はなく、水、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、メチルアルコール、Ｎ−プロピルアルコール、１−プロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等種々のものを用いることができる。
【００９０】
光吸収層用感光性樹脂組成物には、必要に応じて、その他の添加剤などを添加してもよい。
【００９１】
−その他の添加剤−
光吸収層用感光性樹脂組成物（及び、後述する反射光吸収層用及び補助層用の感光性樹脂組成物）は、必要に応じて、更に、黒色又は黒色以外の顔料、黒色又は黒色以外の染料、などを添加することができる。
顔料を用いる場合には、感光性樹脂組成物中に均一に分散されていることが望ましく、そのため粒径が０．１μｍ以下、特には０．０８μｍ以下であることが好ましい。
【００９２】
上記黒色又は黒色以外の、顔料及び染料としては、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８等が挙げられる。
【００９３】
光吸収層用感光性樹脂組成物は、顔料の分散性及び安定性アップのため分散剤を添加することができる。
分散剤としては、ポリビニルアルコール、アクリルアミド、ポリアクリル酸ナトリウム、アルギン酸ナトリウム、アクリルアミド／アクリル酸共重合物、スチレン／無水マレイン酸共重合体などの公知の分散剤を使用できる。また、ステアリン酸銀のような脂肪族銀化合物も公的に用いることができる。分散剤については例えば「顔料分散技術、技術情報協会（株）１９９９年発行）」に記載されているものを用いることができる。
【００９４】
（反射光吸収層用感光性樹脂組成物）
反射光吸収層用感光性樹脂組成物は、前記光吸収層用感光性樹脂組成物における形状異方性金属微粒子の代わりに、光吸収性物質を添加する以外は同様であり、好ましい成分、組成も同様である。更に、必要に応じて、その他の添加物を添加することができる。
【００９５】
また、本発明における反射光吸収層は、反射光を吸収するのであれば特に限定されないことから、反射光吸収層の作製方法としては、上記の反射光吸収層用感光性樹脂組成物を用いる方法以外にも、物理又は化学蒸着法等の手段によって多層構成とする低反射膜作製方法や、特開平６−４３３０２号公報の段落番号［００１４］に記載の無機系微粒子を用いた膜作製方法も採用できる。
【００９６】
（補助層用感光性樹脂組成物）
補助層用感光性樹脂組成物は、前記光吸収層用感光性樹脂組成物において、形状異方性金属微粒子を添加しない以外は、同様であり、好ましい成分、組成も同様である。
更に、必要に応じて、その他の添加物を加えることができる。
【００９７】
こうして得られた感光性樹脂組成物を塗布液として、基板や仮支持体に塗布し乾燥して、少なくとも光吸収層及び反射光吸収層を含む感光性樹脂層が形成され、その後の工程を経て、本発明における遮光画像が形成される。
【００９８】
本発明において、感光性樹脂組成物は、遮光画像の形成に用いることができるが、前述のように液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の画素間の格子状やストライプ状の黒色の部、更にＴＦＴ遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等のブラックマトリックスとして使用出来、このうち液晶表示装置に使用することは特に好ましい。
【００９９】
感光性樹脂組成物としては、光や電子線などの放射線を受容する部分が硬化するネガ型を上に示したが、放射線未受容部が硬化するポジ型でもよい。
【０１００】
ポジ型感光性樹脂組成物にはノボラック系の樹脂を用いたものが挙げられる。例えば、特開平７−４３８９９号公報記載のアルカリ可溶性ノボラック樹脂系を使用することができる。また、特開平６−１４８８８８号公報記載の、ポジ型感光性樹脂層、即ち、該公報記載のアルカリ可溶性樹脂と感光剤として１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルと該公報記載の熱硬化剤の混合物を含む感光性樹脂層を用いることができる。さらに、特開平５−２６２８５０号公報記載の組成物も活用可能である。
【０１０１】
≪転写材料≫
本発明の転写材料は、仮支持体上に少なくとも２層を有する転写材料であって、該仮支持体上に有する層のうち、少なくとも１層が反射光吸収層であり、少なくとも１層が形状異方性金属微粒子を含む光吸収層であることを特徴とする。
本発明の転写材料においては、仮支持体上に有する上記層のうち、少なくとも１層が樹脂層であることが好ましい。
本発明の転写材料は、転写層（光吸収層、反射光吸収層）の転写性や感度改良に有効との観点より、熱可塑性樹脂層、中間層を設けることが好ましい。更に、保護層（保護フィルム）、剥離層などを設けてもよい。
【０１０２】
（仮支持体）
本発明の転写材料に用いる仮支持体としては、ポリエステル、ポリスチレン等の公知の支持体を利用できる。中でも２軸延伸したポリエチレンテレフタレートは強度、寸法安定性、耐薬品性、コストの観点から好ましい。
該仮支持体の厚みは、１５〜２００μｍ、より好ましくは３０〜１５０μｍの範囲が望ましい。厚みが大きすぎるとコスト上不利であり、厚みが小さすぎると塗布後の乾燥工程やラミネーション工程の熱により仮支持体が変形するという不都合を生じる場合がある。
また、仮支持体は、可撓性を有し、加圧若しくは加圧及び加熱下においても著しい変形、収縮若しくは伸びを生じないことが好ましく、そのような支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることが出来、中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【０１０３】
（保護フイルム）
転写材料の該感光性樹脂層は、貯蔵の際の汚染や損傷に対して保護するために、仮支持体から最も遠い側の外側に、例えば、反射光吸収層上に、薄い保護フィルムを有する事ができる。
保護フィルムは、仮支持体と同一か又は同様の材料からなっても良いが、反射光吸収層（光性樹脂層）から容易に分離されねばならないとの観点から、保護フィルム材料としては、シリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオルエチレンシートが好ましく、中でも、ポリエチレン又はポリプロピレンフィルムが特に好ましい。
保護シートの厚みは、約５〜１００μｍが好ましく、特に好ましくは１０〜３０μｍである。
【０１０４】
（転写層）
−光吸収層、反射光吸収層、補助層を構成する成分−
本発明の転写材料は、前記の通り、光吸収層、反射光吸収層の少なくとも２層を有するが、更に、必要に応じてその他の層として補助層を含むことができる。
該転写層の含有成分及び添加量としては、前記感光性樹脂組成物の項の場合と同様であり、好ましい例も同様である。
こうして得られた感光性樹脂組成物を塗布液として、基板や仮支持体に塗布し乾燥して、少なくとも光吸収層及び、反射光吸収層を含む感光性樹脂層が形成され、その後の工程を経て、本発明における遮光画像が形成される。
−塗布、乾燥−
感光性樹脂組成物の塗布は、公知の塗布装置等によって行うことができる。
塗布方法としては特に制限されるものではなく、例えば、特開平５−２２４０１１号公報記載のスピンコート法、特開平９−３２３４７２号公報記載のダイコート法などを用いることができる。また、例えば「コーティング工学（原崎  勇次著、朝倉書店、昭和４７等発行）」に記載されている方法も用いることができる。
これらの中でも、本発明においては、液が吐出する部分にスリット状の穴を有するスリット状ノズルを用いた塗布装置（スリットコータ）によって行うことが好ましい。
具体的には、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６８号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリット状ノズル、及びスリットコーターが好適に用いられる。
これらのノズルやコーターにより、仮支持体に本発明の感光性樹脂組成物を塗布することにより、本発明の転写材料を得ることができる。
【０１０５】
（熱可塑性樹脂層）
本発明の転写材料は、熱可塑性樹脂層を設けることが好ましい。
熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。
具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体．ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【０１０６】
これらの樹脂は、以下のように２種頬（樹脂Ａと樹脂Ｂ）を混合して用いる事が好ましい。
樹脂Ａとしては、重量平均分子量が５万〜５０万で、且つガラス転移温度（Ｔｇ）が０〜１４０℃の範囲、更に好ましくは重量平均分子量が６万〜２０万で、且つガラス転移温度（Ｔｇ）が３０〜１１０℃の範囲の樹脂が好ましい。
これらの樹脂の具体例としては、特開昭６３−１４７１５９号公報に記載されたメタクリル酸−２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メチルメタクリレート共重合体を挙げることができる。
樹脂Ｂとしては、重量平均分子量が３千〜３万で、且つガラス転移温度（Ｔｇ）が３０〜１７０℃の範囲、更に好ましくは重量平均分子量が４千〜２万で、且つガラス転移温度（Ｔｇ）が６０〜１４０℃の範囲の樹脂が好ましい。
好ましい具体例として、特開平５−２４１３４０号公報に記載のスチレン／（メタ）アクリル酸共重合体が挙げられる。
【０１０７】
熱可塑性樹脂層を構成する樹脂Ａの重量平均分子量が５万未満、又はガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃未満では、レチキュレーションの発生や、転写中に熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して仮支持体を汚染する場合がある。
また、樹脂Ａの重量平均分子量が５０万を越え、又はガラス転移温度（Ｔｇ）が１４０℃を越えるとラミネート適性が低下する場合がある。
熱可塑性樹脂の厚みは、１〜５０μｍが好ましく、２〜２０μｍの範囲がより好ましい。
厚みが１μｍ未満であるとラミネート適性が低下し、５０μｍを超えるとコスト、製造適性の観点から好ましくないことがある。
【０１０８】
本発明における熱可塑性樹脂層の塗布液としては、この層を構成する樹脂を溶解する限り特に制限なく使用出来、例えばメチルエチルケトン、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等を使用できる。
【０１０９】
（中間層＜酸素遮断層＞）
本発明の転写材料は、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層（例えば、光吸収層）の間に、塗布時の両層の層混合を防止するためのアルカリ可溶な中間層を設けることが好ましい。また、この層は、光重合性組成物の光重合のために、酸素遮断機能を有することが好ましく、それにより開始効率が上がり感度アップさせる機能も有することから「酸素遮断層」ともいう。
中間層を構成する樹脂としては、アルカリ可溶であれば特に制限はない。
このような樹脂の例としては、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂及びこれらの共重合体を挙げることができる。また、ポリエステルのように通常はアルカリ可溶性でない樹脂に、カルボキシル基やスルホン酸基を持つモノマーを共重合してアルカリ可溶性にした樹脂も用いることができる。
これらの中で好ましいものは、ポリビニルアルコールである。ポリビニルアルコールとしては鹸化度が８０％以上のものが好ましく、８３〜９８％のものが更に好ましい。
【０１１０】
中間層を構成する樹脂は、２種類以上を混合して使用することが好ましく、特にポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを混合して使用することが好ましい。両者の質量比はポリビニルピロリドン／ポリビニルアルコール＝１／９９〜７５／２５が好ましく、更に好ましくは１０／９０〜５０／５０の範囲内である。上記質量比が１／９９未満であると、中間層の面状の悪化や、中間層上に塗設する光反射層との密着不良といった問題が生じる場合がある。また、上記質量比が７５／２５を超えると、中間層の酸素遮断性が低下して感度が低下する場合がある。
【０１１１】
中間層の厚みは、０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜３μｍの範囲内が更に好ましい。上記厚みが０．１μｍ未満であると酸素遮断性が低下する場合があり、上記厚みが５μｍを超えると現像時の中間層除去時間が増大してしまう。
【０１１２】
中間層の塗布溶媒としては、上記の樹脂を溶解することが出来れば特にその他の限定はないが、水を用いるのが好ましく、水に水混和性有機溶剤（例えば、アルコール類、類等）を混合した混合溶媒も好ましい。
中間層の塗布溶媒として好ましい具体例としては、次のようなものがある。水、水／メタノール＝９０／１０、水／メタノール７０／３０、水／メタノール＝５５／４５、水／エタノール＝７０／３０、水／１−プロパノール＝７０／３０、水／アセトン＝９０／１０、水／メチルエチルケトン＝９５／５（質量比）である。
【０１１３】
（転写材料の作製方法）
本発明の好ましい転写材料（感光性樹脂転写材料）は、仮支持体上に前記熱可塑性樹脂層の添加剤を溶解した塗布液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥することにより熱可塑性樹脂層を設け、その後熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥し、その後感光性樹脂層（感光性樹脂層塗布液）を中間層を溶解しない溶剤からなる感光性樹脂層用塗布液で塗布、乾燥して設けることにより作製することができる。
【０１１４】
また、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層と中間層を設けたシート、及び保護フィルム上に感光性樹脂層（光吸収層、反射光吸収層）を設けたシートを用意し、中間層と感光性樹脂層が接するように相互に貼り合わせることによっても作製することができる。
また、更には、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設けたシート、及び保護フィルム上に感光性樹脂層及び中間層を設けたシートを用意し、熱可塑性樹脂層と中間層が接するように相互に貼り合わせることによっても、作製することができる。
【０１１５】
本発明の転写材料は、種々の用途に用いることができるが、中でも前記遮光画像、後述の表示装置のブラックマトリックスの作製、後述のカラーフィルターに好適に用いられる。
【０１１６】
≪遮光画像の形成方法≫
＜転写材料を用いた遮光画像の形成方法＞
本発明の遮光画像の形成方法のうち、本発明の転写材料を基板に転写する方法について述べる。
本発明の遮光画像の形成方法は、前記本発明の転写材料を用い、下記工程を含む方法で製造することを特徴とする。
ａ：仮支持体上の少なくとも２層の樹脂層を基板に転写する工程
ｂ：該樹脂層にパターン露光する工程
ｃ：パターン露光後の該樹脂層を現像し未露光部分を除去する工程
以下、転写材料を用いた遮光画像の形成方法について、具体的に説明する。
【０１１７】
（転写）
転写は、仮支持体上の少なくとも２層の樹脂層（光吸収層、反射光吸収層）を基板を密着させてラミネートする方法が好ましい。
ラミネートは公知の方法を用いることができる。例えば、ラミネーター、真空ラミネーターなどを使い６０〜１５０℃の温度、０．２〜２０Ｋｇ／ｃｍ2の圧力、０．０５〜１０ｍ／分のライン速度の範囲で行うことができる。本発明ではラミネートの後、仮支持体を剥離することが好ましい。
【０１１８】
−ラミネーターによる貼り付け−
前述の感光性樹脂転写材料を用い、フイルム状に形成した感光性樹脂層を、後述する基板上に、加熱及び／又は加圧したローラー、又は平板で圧着又は加熱圧着することによって、貼り付けることができる。
具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
【０１１９】
（基板）
本発明の製造方法に使用される基板としては、前述の遮光画像中期基板にて説明したものが同様に適用される。
また、上記基板は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光性樹脂転写材料との密着を良好にすることができる。
該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３記載の方法が好適に用いられる。
【０１２０】
（露光）
本発明における遮光画像作成における露光は、感光性樹脂層上に更に酸素遮断機能のある中間層を設けた状態で露光することが好ましく、これにより、露光感度をアップすることができる。
露光に使用される光源は、遮光性の転写層（光吸収層、反射光吸収層）の感光性に応じて選択される。例えば、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、アルゴンレーザー等の公知の光源を使用することができる。特開平６−５９１１９号公報に記載のように、４００ｎｍ以上の波長の光透過率が２％以下である光学フィルター等を併用してもよい。
露光方法は、基板全面を１回で露光する一括露光でもよいし、また、基板を分割して何回かに分けて露光する分割露光でもよい。更に、レーザーを用いて基板表面をスキャンしながら行う露光方法も用いることができる。また、画像パターンを有する石英露光マスク等の露光マスクを用いることが好ましい。
【０１２１】
（現像）
現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液を使用することができるが、更に、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものを用いてもよい。
適当なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド類（例、テトラメチルアンモニウムヒドロキンド）又は燐酸三ナトリウムを挙げることができる。
アルカリ性物質の濃度は、０．０１質量％〜３０質量％であり、ｐＨは８〜１４が好ましい。
また、転写層（光吸収層、反射光吸収層）の酸化等の性質に応じて、例えば、現像液のｐＨ等を変化させて、本発明の膜状脱離による現像を行えるように調整することができる。
上記水と混和性のある好適な有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンを挙げることができる。水と混和性の有機溶剤の濃度は、０．１〜３０質量％が一般的である。
【０１２２】
現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１〜１０質量％が好ましい。
現像液は、溶液としても、或いは噴霧液としても用いることができる。転写層の未硬化部分を固形状（好ましくは膜状）で除去するには、現像液中に回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法、或いは現像液を噴霧した際の噴霧圧を利用する方法が好ましい。
現像液の温度は、通常室温付近から４０℃の範囲が好ましい。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
熱可塑性樹脂層の処理液と感光性樹脂層の現像液が周一である必要はなく、処方が異なっていてもよい。
【０１２３】
（ベーク）
現像工程の後、必要に応じて加熱処理を行ってもよい。この処理により、露光により硬化した感光性樹脂層（遮光層）を加熱して硬化を進め、耐溶剤性や耐アルカリ性を高めることができる。
加熱方法は、現像後の基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する方法、赤外線ランプで加熱する方法などが挙げられる。加熱温度や加熱時間は、感光性樹脂層（遮光層）の組成や厚みによるが、１２０℃〜３００℃で１０〜３００分間、１２０℃〜２５０℃で１０〜３００分間、より好ましくは１８０〜２４０℃で３０〜２００分間の範囲が好ましい。
【０１２４】
（ポスト露光）
また、現像工程の後、加熱処理をする前に、硬化促進のため露光を行ってもよい。この露光も前述の１回目の露光と同様の方法で行うことができる。
【０１２５】
（パターニング）
本発明では、遮光画像もしくは画素の形状を得ることをパターニングと呼び、感光性樹脂層を露光、現像により行われる。このようなパターニング方法は、フォトリソグラフィー又はフォトリソ法と呼ぶ。
【０１２６】
また、反射光吸収層用感光性樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥し、更に、光吸収層の感光性樹脂組成物を前記反射光吸収層上に塗布して、少なくとも２層の樹脂層（反射光吸収層、光吸収層）を形成する。続いて、該樹脂層に露光マスクを用いて画像パターン露光し、画像パターン露光後の樹脂層を現像して未露光部分を除去して遮光画像を基板上に形成する方法でもよい。
ここで、基板、露光、現像等については、前記転写材料を用いた場合に記載した内容と同様である。また、塗布、乾燥については、転写材料の作製方法における条件等を採用することができる。
【０１２７】
≪カラーフィルター≫
本発明のカラーフィルターは、前記遮光画像付き基板に、更に２色以上の色を呈する画素群、例えば赤、青及び緑色の画素群、を設けたものである。
画素群の形成方法には、特に制限はない。フォトリソ法、エッチング法、印刷法などの公知の方法を用いることができる。これらの方法については例えば「カラーフィルターの成膜技術とケミカルズ（渡辺  順次監修、株式会社シーエムシー、１９９８年発行）」に記載されている。
これらの方法のうちフォトリソ法は好ましい。具体的な方法としては次のようなものがある。
第１は、顔料や染料を含有する感光性樹脂組成物（レジスト液）を用いる方法である。
まず、感光性樹脂組成物（レジスト液）を基板に塗布、乾燥した後、フォトマスクを介して露光してから現像する操作を、目的の色相数の数だけ繰り返して、カラーフィルターを作成する。
第２は、顔料や染料を含有する感光性樹脂層（転写層）を有する転写材料を用いる方法である。
この方法ではまず、転写材料を基板にラミネートした後フォトマスクを介して露光してから現像する操作を、目的の色相数の数だけ繰り返して、カラーフィルターを作製する。
本発明のカラーフィルターの画素群の配置方法（ＲＧＢ画素パターン）には特に制限はなく、ストライプ型、ブロック型、市松型などの配置方法を用いることができる。また、該画素の形成方法は、凹凸の形状であるＴＦＴ型にも使用できる。これらの配置方法については、例えば前述の「カラーフィルターの成膜技術とケミカルズ（渡辺  順次監修、株式会社シーエムシー、１９９８年発行）」の１４ページに記載されている。
【０１２８】
本発明のカラーフィルターの色度域についても、従来のカラーフィルターと同様である。色度域及びこれに関係するバックライトについても例えば前述の「カラーフィルターの成膜技術とケミカルズ（渡辺  順次監修、株式会社シーエムシー、１９９８年発行）」の１５ページに記載されている。
本発明のカラーフィルターの場合も、遮光画像のところで述べた耐熱性、耐光性、耐薬品性、表面の平滑性、硬度などの性能が必要である。
本発明のカラーフィルターの作製の具体例としては、特開２００４−３１７８９８号公報、特開２００４−３１７８９９号公報、特開２００４−２４００３９号公報、特開２００４−２１９８０９号公報、特開２００４−３４７８３１号公報に記載されているものの中から選ぶことができる。
【０１２９】
≪表示装置≫
本発明の表示装置は、前述した本発明の遮光画像付き基板、及び、本発明のカラーフィルターを有する表示装置である。
本発明の表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などを言う。
表示装置の定義や各表示装置の説明は、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、隅工業調査会  １９９０毎発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順幸著、産業図書側  平成元年発行）」などに記載されている。
本発明の表示装置は、液晶表示装置であることが特に好ましい。液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、側工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。本発明の表示装置（液晶表示装置）には特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらの中でも、特にカラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。
カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。更に本発明はもちろんＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【０１３０】
本発明の表示装置は、前記カラーフィルター以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ．視野角補償フィルム、反射防止フィルム、光拡散フィルム、防眩フィルムなどさまざまな部材から一般的に構成される。本発明における遮光画像はこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎  （株）シーエムシー  １９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表良吉  （株）富士キメラ総研  ２００３等発行）」に記載されており、ＬＣＤの種類としては、ＳＴＮ、ＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＯＣＳ、及びＲ−ＯＣＢ等が挙げられる。
【実施例】
【０１３１】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、以下において「部」及び「％」は「質量部」及び「質量％」を表す。
【０１３２】
［実施例１］
≪遮光画像付き基板の作製≫
＜転写材料の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥厚みが５μｍになるように下記の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層塗布液を塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。
次に、下記処方Ｐ１から成る中間層塗布液を上記で作製した熱可塑性樹脂層の上に乾燥厚みが１．５μｍになるようにスリットコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。
更に、下記処方Ａ１より得られる金属微粒子を内部に含有する光吸収層塗布液を光学濃度が３．８になるようにスリットコーターを用いて上記で作製した中間層の上に塗布して、更にその上に下記処方Ｂ１より得られる反射光吸収層塗布液を光学濃度が０．６となるようにスリットコーターを用いて塗布を行い、１００℃で３分間乾燥した。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層、中間層（酸素遮断膜）、光吸収層と反射光吸収層が一体となったフィルムを作成し、その上に保護フイルム（厚さ１２μｍのポリプロピレンフィルム）を圧着させ、転写材料とした。
【０１３３】
熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１
・メタノール                                                      １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                ６．３６部
・メチルエチルケトン                                              ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル
メタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、
重量平均分子量＝９万、Ｔｇ≒７０℃）                      ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、
重量平均分子量＝８万、Ｔｇ≒１００℃）                        １３．６部
・ビスフェノールＡにペンタエチレングリコールモノメタクリートを
２当量脱水縮合した化合物（ＢＰＥ−５００、新中村化学（株）製）  ９．１部
・界面活性剤１
（メガファックＦ−７８０−Ｆ、大日本インキ化学工業（株）製）    ０．５４部
【０１３４】
中間層用塗布液：処方Ｐ１
・ポリビニルアルコール                                              ４．３部
（商品名：ＰＶＡ１０５、（株）クラレ製）
・蒸留水                                                          ５０．７部
・メチルアルコール                                                ４５．０部
【０１３５】
光吸収層塗布液処方：Ａ１
・異方性コロイド銀微粒子分散液（粒子径８０ｎｍ、下記により調製）    ６．０部
・ｎ−プロピルアルコール                                          １８．０部
・メチルエチルケトン                                                ６．０部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）                ０．２０９部
・ビス［４−［Ｎ−［４−（４、６−ビストリクロロメチル−ｓ−
トリアジン−２−イル）フェニル］
カルバモイル］フェニル］セバケート                              ０．０１部
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体
（モル比＝２０／８０、重量平均分子量４００００）                ０．１１部
・フッ素系界面活性剤
（商品名：メガファックＦ−７８０−Ｆ、
大日本インキ化学工業（株）製）                            ０．０８５部
【０１３６】
＜異方性コロイド銀微粒子分散液の調製＞
実施例１に用いた異方性コロイド銀微粒子分散液は以下のように調製した。
米国特許第２６８８６０１号明細書の実施例を基本として、銀塩還元時のｐＨ、分散剤溶液の濃度、水溶性カルシウム塩の使用量を増減することにより、平均粒径が８０ｎｍの銀微粒子が分散する液を得た。得られた液中の銀の含有量はいずれも１０質量％であった。次に、その後遠心分離（４０００ｒｐｍ、３０分）を行い、上澄み液を捨て、これにｎ−プロピルアルコールを添加し、ペイントシェーカーで再度分散し、銀の含有量２０質量％で分散剤が２質量％水分１１質量％及びｎ−プロピルアルコール６７質量％の銀微粒子分散液を得た。
分散剤としては、エフカアデイテイブス（株）製ＥＦＫＡ４５５０を使用した。銀粒子分散液中に含まれる銀微粒子の形状は、不定形と平板状との割合が、７：３であった。
なお、後述する実施例７〜１２、１４〜１９において用いた異方性コロイド銀微粒子分散液（銀微粒子の平均粒径、及び不定形と平板状との割合が、実施例１とは異なるもの）についても、上記調製方法に準じて調製を行った。
【０１３７】
反射光吸収層塗布液処方：Ｂ１
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（モル比＝７３／２７、粘度＝０．１２、重量平均分子量３８０００）  ３７．９部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                          ２９．１部
・ビス［４−［Ｎ−［４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−
トリアジン−２−イル）フェニル］カルバモイル］フェニル］セバケート  １．７部
・カーボンブラック（黒色）（ＮＩＰＸ３５、デグサ社製）              ３０．１部
・メチルセロソルブアセテート                                          ５６０部
・メチルエチルケトン                                                  ２８０部
【０１３８】
＜転写材料を用いた転写による遮光画像付き基板の作製（転写法）＞
上記で得られた転写材料の保護フイルムを剥離した後、転写材料の反射光吸収層がガラス基板（厚さ１．１ｍｍ）と接するように、ガラス基板と重ね合わせ、ラミネーター（株式会社日立インダストリイズ製（Ｌａｍｉｃ ＩＩ型）を用いて圧力０．８Ｐａ、温度１３０℃で貼り合わせた。次いで、ポリエチレンテレフタレート仮支持体を剥離した。
続いて、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング製）で、マスク（画像パターンを有す石英露光マスク）とマスク側が熱可塑性樹脂層となるようにガラス基板とを並行に垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂層（反射光吸収層／光吸収層）の間の距離を２００μｍに設定し、塗布面側から露光量３００ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
【０１３９】
次に、トリエタノールアミン系現像液にて３０℃５８秒、フラットノズル圧力６．１５／０．０２ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂と中間層とを除去した。
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、光吸収層の表面を均一に湿らせた後、１００倍に希釈したＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムアーチ社製）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。
引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、遮光画像を得た。引き続き、２２０℃で３０分間熱処理して、遮光画像付き基板を得た。ブラックマトリックスパターンは、画面サイズ１０インチで、画素数は４８０×６４０であった。また、ブラックマトリックス幅は、２４μｍで画素部の開口は８６μm×３０４μmであった。
【０１４０】
［実施例２］
実施例１において、遮光画像の形成方法を以下の方法に変更し、反射光吸収層の光学濃度が０．８になるように膜厚を変更した以外は、実施例１と同じ処方、工程で遮光画像付き基板を作製した。
【０１４１】
＜スリット＆スピンコーターを用いる塗布方法による遮光画像付き基板の作製＞
まず、スリットノズルから上記処方Ｂ１の塗布液をガラス基板に塗布した後、このガラス基板を回転させて膜厚を均一にし、乾燥して塗布層の流動性を無くした後、不要な塗布液を除去し、１２０℃３分間プリベークして反射光吸収層を形成した。
続いて、前記処方Ａ１から成る光吸収層塗布液を、上記で作製した反射光吸収層の上に乾燥厚みが０．２４μｍになるようにスリット＆スピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。
更に、続いて、前記処方Ｐ１から成る中間層（酸素遮断層）塗布液を上記で作製した反射光吸収層の上に乾燥厚みが１．６μｍになるようにスリット＆スピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。
【０１４２】
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂層（光吸収層）の間の距離を２００μｍに設定し、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
【０１４３】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂層（光吸収層）の表面を均一に湿らせた後、１００倍に希釈したＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、遮光画像を得た。引き続き、２２０℃で３０分間熱処理して、遮光画像付き基板を得た。このときの遮光画像の膜厚は０．５８μｍであった。
【０１４４】
［実施例３］
実施例２において、遮光画像の形成方法を以下の方法に変更し、反射光吸収層の光学濃度が１．０になるように膜厚を変更した以外は、実施例２と同じ処方、工程で遮光画像付き基板を形成した。
【０１４５】
＜スリット状ノズルを用いた塗布法による遮光画像付き基板の作製＞
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水中で超音波洗浄した。該基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
該基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有するガラス基板用ローター（エフ・エー・エス・ジャパン社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、前記反射光吸収層塗布液Ｂ１を塗布して、該当する反射光吸収層を作製した。
引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化社製）で３０秒間、溶媒の１部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、ＥＢＲ（エッジ・ビード・リムーバー）にて基板周囲の不要な塗布液を除去し、１２０℃３分間プリベークして、更に前記光吸収層塗布液Ａ１を前記反射光吸収層塗布液Ｂ１と同様に行って光吸収層を形成し、感光性樹脂基板を作製した。
【０１４６】
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層（光吸収層）の間の距離を２００μｍに設定し、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光し、遮光パターン画像を得た。
【０１４７】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂層（光吸収層）の表面を均一に湿らせた後、１００倍に希釈したＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、遮光画像を得た。引き続き、２２０℃で３０分間熱処理して、遮光画像付き基板を得た。遮光画像の膜厚は０．６７μｍであった。
【０１４８】
［実施例４］
実施例１において、下記の反射防止層用塗布液Ｃ１により形成した反射防止層（補助層）を光吸収層の上に設け、反射光吸収層、光吸収層の光学濃度を表１に記載の値になるように膜厚を変更した以外は、実施例１と同じ処方、工程で遮光画像付き基板（基板／反射光吸収層／光吸収層／反射防止層の順）を作製した。
【０１４９】
反射防止層用塗布液（補助層用塗布液）処方：Ｃ１
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（モル比＝７３／２７、粘度＝０．１２）                              ３７．９部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                          ２９．１部
・ビス［４−［Ｎ−［４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−
トリアジン−２−イル）フェニル］カルバモイル］フェニル］セバケート  １．７部
・カーボンブラック（黒色）                                          ３０．１部
・メチルセロソルブアセテート                                          ５６０部
・メチルエチルケトン                                                  ２８０部
【０１５０】
［実施例５］
実施例１において、反射光吸収層用塗布液Ｂ１のカーボンブラック添加量を２倍にし、反射光吸収層、光吸収層の光学濃度が表１に記載の値になるように膜厚を変更した以外は、実施例１と同じ処方、工程で遮光画像付き基板を作製した。
【０１５１】
［実施例６］
実施例１において、反射光吸収層用塗布液Ｂ１のカーボンブラックを、ナノテックＭｎ酸化物（シーアイ化成株式会社製）に変更し、反射光吸収層、光吸収層の光学濃度が表１に記載の値になるように膜厚を変更した以外は、実施例１と同じ処方、工程で遮光画像付き基板を作製した。
【０１５２】
［実施例７］
実施例１において、光吸収層用塗布液Ａ１中の異方性コロイド銀微粒子分散液に含有される銀粒子の粒子径及び形状を、表１に記載の銀粒子に変更し、中間層を設けなかった以外は、実施例１と同じ処方、工程で遮光画像付き基板を作製した。
【０１５３】
［実施例８〜１１］
実施例１において、光吸収層用塗布液Ａ１中の異方性コロイド銀微粒子分散液については含有される銀粒子の粒子径及び形状を、表１又は表２に記載の銀粒子に変更し、反射光吸収層、光吸収層の光学濃度が表１又は表２に記載の値になるように膜厚を変更した以外は、実施例１と同じ処方、工程で遮光画像付き基板を作製した。
［実施例１２］
実施例１において、光吸収層用塗布液Ａ１中の異方性コロイド銀微粒子分散液を、下記の処方で作製した円柱コロイド銀微粒子分散液に変更し、反射光吸収層、光吸収層の光学濃度が表１に記載の値になるように膜厚を変更した以外は、実施例１と同じ処方、工程で遮光画像付き基板を作製した。
【０１５４】
＜円柱コロイド銀微粒子分散液の調製＞
前記ロッド状銀微粒子は、「Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．」、２００４，８４，ｐｐ１９７−２０４に記載されている微粒子の調製方法を基本として、銀塩還元時のｐＨ、反応温度を変化させることにより、各種アスペクト比をもつロッド状銀微粒子の分散液として調製し、得られた分散液に遠心分離処理（１００００ｒｐｍ、２０分）を行い、上澄み液を捨て、適宜、濃縮を行ってロッド状銀微粒子を得た。
また、ロッド状微粒子のアスペクト比の調節は、種粒子と金属塩の比を調節することにより行った。平均アスペクト比３、（短軸６０ｎｍ、長軸１８０ｎｍ）のロッド状銀微粒子に、ｎ−プロピルアルコールを添加し、超音波分散機（商品名：Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  ｇｅｎｅｒａｔｏｒ  ｍｏｄｅｌ  ＵＳ−６０００  ｃｃｖｐ、ｎｉｓｓｅｉ社製）を用いて再度分散し、銀の含有量２０質量％で分散剤が２質量％水分１１質量％及びｎ−プロピルアルコール６７質量％の銀微粒子分散液を得た。分散剤としては、エフカアデイテイブス（株）製のＥＦＫＡ４５５０を使用した。
【０１５５】
［実施例１３〜１７］
実施例１において、光吸収層用塗布液Ａ１中の異方性コロイド銀微粒子分散液の粒子径を、表２に記載の銀粒子に変更し、反射光吸収層、光吸収層の光学濃度が表２に記載の値になるように膜厚を変更した以外は、実施例１と同じ処方、工程で遮光画像付き基板を作製した。
【０１５６】
［比較例ｌ］
実施例１において反射光吸収層を設け、銀体積を６０％にして、他の素材については比例させて用いた以外は、実施例１と同じ処方、工程で遮光画像付き基板を作製した。
【０１５７】
［実施例１８］：  液晶表示装置
実施例１と同様にして遮光画像付き基板を得ると共に、得られた遮光画像付き基板を用いて以下のようにして液晶表示装置を作製した。
なお、遮光画像付き基板におけるブラックマトリクスのパターンは、画素サイズ１０インチ、画素数４８０×６４０であった。また、ブラックマトリクス幅は２４μｍであり、画素部の開口は８６μｍ×３０４μｍであった。
【０１５８】
＜感光性転写材料の作製＞
下記表１に示す組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１を調製し、実施例１で用いた光低反射層用塗布液及び光吸収層用塗布液を、着色感光性樹脂組成物Ｒ１，Ｇ１，又はＢ１に代えたこと以外、実施例１と同様にして、ＰＥＴ仮支持体上／熱可塑性樹脂層／中間層／感光層（Ｒ１，Ｇ１，又はＢ１）／保護フィルムの積層構造に構成された、赤色画素形成用の感光性転写材料Ｒ１、緑色画素形成用の感光性転写材料Ｇ１、及び青色画素形成用の感光性転写材料Ｂ１を作製した。
【０１５９】
【表１】
2006251237.tif 000002
【０１６０】
＜液晶表示装置の作製＞
−レッド（Ｒ）画像の形成−
実施例１の＜転写材料を用いた転写による遮光画像付き基板の作製（転写法）＞「転写による遮光膜付基板の作製」において、感光性転写材料を上記より得た感光性転写材料Ｒ１に代えたこと以外、実施例１と同様にして転写、露光、現像、ベークの各工程を行ない、遮光膜付基板のブラックマトリクスが設けられている側に赤色画素（Ｒ画素）を形成した。但し、露光工程での露光量は４０ｍＪ／ｃｍ 2 とし、現像工程での現像処理は３５℃で３５秒間とし、ベーク工程では２２０℃で２０分間とした。
なお、感光層Ｒ１厚みは２．０μｍであり、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．）２５４、Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．１７７の塗布量はそれぞれ０．８８ｇ／ｍ2、０．２２ｇ／ｍ2であった。
その後、Ｒ画素が形成された遮光膜付基板を再び、上記のように洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、純水でシャワー洗浄した後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。
【０１６１】
−グリーン（Ｇ）画像の形成−
次に、上記のＲ画像を形成する場合と同様に、感光性転写材料Ｇ１を用いて転写、露光、現像、ベークの各工程を行ない、遮光膜付基板のブラックマトリクス及びＲ画素が設けられている側に緑色画素（Ｇ画素）を形成した。但し、露光工程での露光量は４０ｍＪ／ｃｍ 2 とし、現像工程での現像処理は３４℃で４５秒間とし、ベーク工程では２２０℃で２０分間とした。
なお、感光層Ｇ１厚みは２．０μｍであり、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｇ．）３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．）１５０の塗布量はそれぞれ１．１２ｇ／ｍ2、０．４８ｇ／ｍ2であった。
その後、Ｒ画素及びＧ画素が形成された遮光膜付基板を再び、上記のように洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、純水でシャワー洗浄した後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。
【０１６２】
−ブルー（Ｂ）画像の形成−
次に、前記Ｒ画像及びＧ画素を形成する場合と同様に、感光性転写材料Ｂ１を用いて転写、露光、現像の各工程（ベーク工程は除く。）を行ない、遮光膜付基板のブラックマトリクス並びにＲ画素及びＧ画素が設けられている側に青色画素（Ｂ画素）を形成した。但し、露光工程での露光量は３０ｍＪ／ｃｍ 2 とし、現像工程での現像処理は３６℃で４０秒間とした。
なお、感光層Ｂ１厚みは２．０μｍであり、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．）１５：６及びＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｖ．）２３の塗布量はそれぞれ０．６３ｇ／ｍ2、０．０７ｇ／ｍ2であった。
その後、Ｒ、Ｇ，Ｂの各画素が形成された遮光膜付基板を再び、上記のように洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、純水でシャワー洗浄した後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。
【０１６３】
Ｂ画素形成の後、Ｒ、Ｇ，Ｂの各画素が形成された遮光膜付基板を更に２４０℃で５０分間熱処理し、目的とするカラーフィルタ基板を得た。
【０１６４】
ここで、前記表１に記載の着色感光性樹脂組成物Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１の調製についてそれぞれ説明する。
〈着色感光性樹脂組成物Ｒ１の調製〉
着色感光性樹脂組成物Ｒ１は、前記表１に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌し、次いで、前記表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ＤＰＨＡ液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌し、次いで前記表１に記載の量のＥＤ１５２をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で２０分間攪拌した。更に、前記表１に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得た。
【０１６５】
なお、前記表１に記載の組成物中の各組成Ｒ１の詳細は以下の通りである。
＊Ｒ顔料分散物１の組成
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４…８．０部
・Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−ジエチルアミノプロピル）−５−｛４−［２−オキソ−１−（２−オキソ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−イルカルバモイル）−プロピルアゾ］−ベンゾイルアミノ｝−イソフタルアミド…０．８部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物（重量平均分子量３７，０００）〕…８部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…８３．２部
【０１６６】
＊Ｒ顔料分散物２の組成
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７…１８部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物（重量平均分子量３７，０００）〕…１２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７０部
＊バインダー２の組成
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート（＝３８／２５／３７[モル比]）のランダム共重合物（重量平均分子量３０，０００）…２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７３部
＊ＤＰＨＡ液の組成
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱを５００ｐｐｍ含有、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）…７６部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル…２４部
＊界面活性剤１の組成
・Ｃ6Ｆ13ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2（４０部）とＨ（Ｏ（ＣＨ3）ＣＨＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2（５５部）とＨ（ＯＣＨ2ＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2（５部）との共重合体（重量平均分子量３０，０００）…３０部
・メチルイソブチルケトン…７０部
＊ＥＤ１５２
ＨＩＰＬＡＡＤ  ＥＤ１５２（楠本化成（株）製）
【０１６７】
〈着色感光性樹脂組成物Ｇ１の調製〉
着色感光性樹脂組成物Ｇ１は、前記表１に記載の量のＧ顔料分散物１、Ｙ顔料分散物１、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌し、次いで、前記表１に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダー１、ＤＰＨＡ液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌し、更に、前記表１に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ.ｐ.ｍ.で５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得た。
【０１６８】
なお、前記表１に記載の組成物Ｇ１中の各組成の詳細は以下の通りである。
＊Ｇ顔料分散物１の組成
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６…１８部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物（重量平均分子量３７，０００）〕…１２部
・シクロヘキサノン…３５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…３５部
＊Ｙ顔料分散物１
商品名：ＣＦイエローＥＸ３３９３（御国色素社製）
＊バインダー１の組成
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７８／２２[モル比]）のランダム共重合物（重量平均分子量４４，０００）…２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７３部
【０１６９】
〈着色感光性樹脂組成物Ｂ１の調製〉
着色感光性樹脂組成物Ｂ１は、前記表１に記載の量のＢ顔料分散物１、Ｂ顔料分散物２、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌し、次いで、前記表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー３、ＤＰＨＡ液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌し、更に、前記表１に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ.ｐ.ｍ.で５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得た。
【０１７０】
なお、前記表１に記載の組成物Ｂ１中の各組成の詳細は以下の通りである。
＊Ｂ顔料分散物１
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３５７（御国色素社製）
＊Ｂ顔料分散物２
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３８３（御国色素社製）
＊バインダー３の組成
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート（＝３６／２２／４２[モル比]）のランダム共重合物（重量平均分子量３０，０００）…２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７３部
【０１７１】
−液晶表示装置の作製−
上記より得たカラーフィルタ側基板に対して、駆動側基板及び液晶材料を組み合わせることにより液晶表示素子を作製した。即ち、駆動側基板としてＴＦＴと画素電極（導電層）とが配列形成されたＴＦＴ基板を準備し、該ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面と、前記より得たカラーフィルター側基板の表面とが対向するように配置し、この間隙に液晶材料を封入し、画像表示を担う液晶層を設けた。このようにして得た液晶セルの両面に、（株）サンリツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、赤色（Ｒ）ＬＥＤとしてＦＲ１１１２Ｈ（スタンレー（株）製のチップ型ＬＥＤ）、緑色（Ｇ）ＬＥＤとしてＤＧ１１１２Ｈ（スタンレー（株）製のチップ型ＬＥＤ）、青色（Ｂ）ＬＥＤとしてＤＢ１１１２Ｈ（スタンレー（株）製のチップ型ＬＥＤ）を用いてサイドライト方式のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置した。
【０１７２】
≪評価≫
上記により得られた実施例及び比較例について、以下の評価を行った。結果を表２及び表３に示す。
【０１７３】
＜膜厚測定＞
膜厚は、非接触式表面粗さ計Ｐ−１０（ＴＥＮＣＯＲ社製）を用いて、ベーク後の形成されたそれぞれの画像について測定した。
【０１７４】
＜透過光学濃度測定＞
膜（反射光吸収層、光吸収層、又は反射光吸収層＋光吸収層）の透過光学濃度は以下の方法で測定した。
まず、ガラス基板上に塗設された感光性遮光層（反射光吸収層、光吸収層、又は反射光吸収層＋光吸収層）に、前記超高圧水銀灯を用いて塗布面側から５００ｍＪ／ｃｍ2の露光を行った。次いで、この光学濃度（Ｏ．Ｄ．）をマクベス濃度計（商品名：ＴＤ−９０４、マクベス社製）を用いて測定した。別途、ガラス基板の光学濃度（ＯＤ0）を同様の方法で測定し、上記Ｏ．Ｄ．からＯＤ0を差し引いた値を膜の透過光学濃度とした。
【０１７５】
＜色調＞
試料をガラス基板側（塗布膜の形成されている面の反対側）から室内蛍光灯下で目視観察した。
【０１７６】
＜反射率測定＞
スペクトロフォトメーターＶ−５６０（日本分光（株）製）と組み合わせた、絶対反射率測定装置ＡＲＶ−４７４（日本分光（株）製）を用いて、全体の基板の反射率はガラス基板側（塗布膜の形成されている面の反対側）の絶対反射率を測定した。また、光吸収層の反射率は、基板の反対側（塗布膜の形成されている面側）の絶対反射率を測定した。
測定角度は、垂直方向から５度、波長は５５５ｎｍである。
【０１７７】
＜形状異方性金属微粒子＞
−粒度分布（Ｄ９０／Ｄ１０）測定−
コールター（株）製のコールターＮ４プラス、サブミクロン粒度分布測定装置を用い、粒度分布ヒストグラム解析のユニモーダル平均（正規分布近似）より、粒子径の数平均値を算出し、その中心から９０％の粒子を含む最大直径をＤ９０とし、同様にＤ１０を出し、Ｄ９０／Ｄ１０を算出した。
―アスペクト比測定−
１００個の形状異方性金属微粒子について、電子顕微鏡写真により観察し、長軸長を短軸で割った値の平均値で算出した。
―粒子径（ｎｍ）測定−
透過型電気顕微鏡（ＴＥＭ（ＪＥＭ−２０１０）、倍率２０００００倍、日本電子（株）製）により、１００個の粒子を測定し、投影面積同面積の円として換算し、その直径を粒子径として、平均値をその値とした。
−金属体積率測定−
金属体積率は、銀の比重を１０．５として計算し、（金属体積／全体体積）＊１００＝金属体積率（％）で計算を行った。
【０１７８】
＜表示装置の誤作動＞
ＬＣＤのバックライトの一部がブラックマトリックス層表面で反射し、ＴＦＴへの入射光となり、黒色表示時のモレ光となる。このモレ光があることを誤作動として評価した。表２及び表３中にその有無を示す。モレ光については、暗所で確認を行うことで評価した。
【０１７９】
【表２】
2006251237.tif 000003
【０１８０】
【表３】
2006251237.tif 000004
【０１８１】
表２及び３の結果から明らかなように、２層構成であって、１層に形状異方性金属微粒子を含む遮光画像を有する実施例の遮光画像付きの基板（実施例１〜１７）は、薄層であっても高遮光性能を有し、且つ、観察者側から見た時の反射率が低いものであった。
また、実施例の遮光画像付きの基板は、ＴＦＴ側、且つ、ガラス基板側への反射率が共に低いので、該遮光画像付きの基板を備えた液晶表示装置は、コントラストが高く、表示特性に優れたものであった。
特に、単位膜厚当たりの光学濃度が４．０以上、反射率が１％以下の遮光画像(実施例１〜１３)は、遮光画像付きの基板としては優れたものであり、中でも、実施例５は基板側の波長５５５ｎｍにおける反射率が１％以下、単位膜厚当たりの光学濃度が１１．９と極めて良好であった。
【０１８２】
一方、比較例１の遮光画像付き基板は、遮光画像に球形の銀微粒子を用いたため、これを液晶表示装置に適用した際に、ＴＦＴ側へのバックライトの反射率が高いため光リーク電流が発生し、さらに、反射光吸収層を設けていないので観察者側への反射率も高くなり、コントラストが低く、液晶表示装置の誤動作も起こった。
また、比較例１のごとく、液晶セル側の５５５ｎｍでの光線反射率が３０％を超えるような光学特性を有するＢＭは、ＴＦＴ誤動作原因となる光リーク電流を抑制し、かつ干渉色の認められない低反射ブラックマトリックス基板としては不充分なものであった。