(57)【要約】【課題】  Ｎ重描画形式の描画装置において、描画ヘッドの画素アレイ中の画素列の角度誤差にバラツキがある場合でも、それに起因する描画画像のムラを軽減する。【解決手段】  ２次元状に配列された使用可能画素の画素列方向と描画ヘッド３０の描画面１２Ａに対する走査方向とが所定の設定傾斜角度をなす描画ヘッド３０に関し、使用画素指定部１４０や設定変更手段１５０等から構成される使用画素設定手段により、上記多数の使用可能画素のうちのＮ重描画に使用する使用画素を実働させるように、上記画素列の走査方向に対する傾き角のバラツキに応じて上記使用画素の設定を行なう。その後、露光ヘッド３０をステージ１４に対して相対移動させながら、上記設定により指定された使用画素を実動させて描画面１２Ａ上に描画を行なう。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎ重描画（Ｎは１以上の自然数）により、画像データが表す２次元パターンを該描画面上に形成する描画装置であって、
２次元状に配された多数の使用可能画素を有し前記画像データに応じて前記２次元パターンを構成する描画点群を発生させる画素アレイを備えた、１つまたは複数の描画ヘッドであって、前記使用可能画素の画素列方向と該描画ヘッドの相対的な走査方向が所定の設定傾斜角度をなすように、前記描画面に対して取り付けられた描画ヘッドと、
前記描画面に対して各々の前記描画ヘッドを前記走査方向に相対移動させる移動手段と、
各々の前記描画ヘッドについて、前記多数の使用可能画素のうちの前記Ｎ重描画に使用する使用画素を実働させるように、前記画素アレイ中の画素列の前記走査方向に対する傾き角のバラツキに応じて前記使用画素の設定を行なう使用画素設定手段を備えていることを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記使用画素設定手段が、前記描画点群が示す前記描画面上における実際の画素列方向と前記走査方向とがなす実傾斜角度とに基づいて前記使用画素を設定するものであることを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項３】
前記使用画素設定手段が、前記使用画素を指定する使用画素指定手段と、前記使用画素のみが実動するように設定を変更する設定変更手段とを備えていることを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項４】
前記設定傾斜角度θが、前記使用可能画素の各画素列をなす画素の個数ｓ、前記使用可能画素の前記画素列方向の画素ピッチｐ、および前記走査方向と直交する方向に沿った前記使用可能画素の画素列ピッチδに対し、
【数１】
2006306006.tif 000008
の関係を満たす角度であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の描画装置。
【請求項５】
前記使用画素指定手段が、前記描画点群が示す前記描画面上における実際の描画点列方向と前記走査方向とがなす実傾斜角度を各描画点列について特定し、当該実傾斜角度と前記設定傾斜角度との間の各誤差を吸収するように、前記使用画素を指定するものであることを特徴とする請求項３または４記載の描画装置。
【請求項６】
前記使用画素指定手段が、前記使用可能画素の画素列の中から選択された複数の画素列のそれぞれに対応する前記描画面上の描画点列を代表描画点列とし、該代表描画点列の各々について、該代表描画点列の方向と前記走査方向とがなす実傾斜角度を特定し、当該実傾斜角度と前記設定傾斜角度との間の各誤差を吸収するように、前記使用画素を指定するものであることを特徴とする請求項３または４記載の描画装置。
【請求項７】
前記各代表描画点列の実傾斜角度は、前記代表描画点列およびその近傍の描画点列の実傾斜角度の平均値、中央値、最大値および最小値のいずれかであることを特徴とする請求項６記載の描画装置。
【請求項８】
各々の前記描画ヘッドの前記画素アレイが、前記描画点群として光点群を発生させるものであることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項記載の描画装置。
【請求項９】
各々の前記描画ヘッドの前記画素アレイが、前記描画点群として光点群を発生させるものであり、
前記使用画素指定手段が、
各々の前記描画ヘッドについて、前記光点群を構成する光点の前記描画面上における位置を検出する位置検出手段と、
各々の前記描画ヘッドについて、前記位置検出手段による検出結果に基づいて、前記描画面上の、前記使用画素の画素列間のつなぎ部分による描画個所を少なくとも１つ含む代表領域を複数選択し、当該代表領域のそれぞれにおいて、理想的な前記Ｎ重描画となる様に、前記使用可能画素中の不使用画素を特定し、該不使用画素を除いた画素を前記使用画素として選択する選択手段を備えていることを特徴とする請求項３または４記載の描画装置。
【請求項１０】
前記位置検出手段が、複数の画素列について各画素列上の少なくとも２つの前記光点の位置を検出し、
前記選択手段が、前記検出結果に基づき、前記光点が示す前記描画面上に投影された実際の各画素列の方向と前記走査方向とがなす実傾斜角度を特定し、該実傾斜角度に基づいて前記不使用画素を特定するものであることを特徴とする請求項９記載の描画装置。
【請求項１１】
前記選択手段が、前記画素アレイの使用可能画素中の複数の画素列の各々に対応する前記描画面上の前記光点の列を代表光点列とし、複数の該代表光点列それぞれについて、代表光点列およびその近傍の光点列をなす光点のうち少なくとも２つの光点の位置の前記位置検出手段による検出結果に基づいて、前記実傾斜角度を特定するものであることを特徴とする請求項１０記載の描画装置。
【請求項１２】
前記選択手段が、前記使用可能画素の画素列のうちの複数に対応する前記描画面上の前記光点の複数の列を代表光点列とし、該代表光点列およびその近傍の光点列の各列方向と前記走査方向とがなす個別実傾斜角度を特定し、該個別傾斜角度の代表値を、前記各代表光点列の前記実傾斜角度とみなすものであることを特徴とする請求項１１記載の描画装置。
【請求項１３】
前記個別傾斜角度の代表値は、前記代表光点列およびその近傍の光点列の個別実傾斜角度の平均値、中央値、最大値および最小値のいずれかであることを特徴とする請求項１２記載の描画装置。
【請求項１４】
前記使用画素指定手段において前記使用画素を指定するため、各々の前記描画ヘッドについて、前記多数の使用可能画素のうち、前記Ｎが２以上の場合、（Ｎ−１）本おきの画素列を構成する画素のみを使用して、参照描画を行う参照描画手段をさらに備えていることを特徴とする請求項３または４記載の描画装置。
【請求項１５】
前記使用画素指定手段において前記使用画素を指定するため、各々の前記描画ヘッドについて、前記多数の使用可能画素のうち、前記Ｎが２以上の場合、該使用可能画素の全画素数の１／Ｎ画素数に相当する互いに隣接する画素行の群を構成する画素のみを使用して、参照描画を行う参照描画手段をさらに備えていることを特徴とする請求項３または４記載の描画装置。
【請求項１６】
前記画像データが表す前記２次元パターンの所定部分の寸法が、指定された前記使用画素により実現できる対応部分の寸法と一致するように、前記画像データを変換するデータ変換手段をさらに備えていることを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項記載の描画装置。
【請求項１７】
前記画素アレイが、光源からの光を前記画像データに応じて画素ごとに変調する空間光変調素子であることを特徴とする請求項１から１６のいずれか１項記載の描画装置。
【請求項１８】
前記Ｎが３以上７以下の自然数であることを特徴とする請求項１から１７のいずれか１項記載の描画装置。
【請求項１９】
２次元状に配された多数の使用可能画素を有し画像データに応じて該画像データが表す２次元パターンを構成する描画点群を発生させる画素アレイを備えた、１つまたは複数の描画ヘッドであって、前記使用可能画素の画素列方向と該描画ヘッドの相対的な走査方向が所定の設定傾斜角度をなすように、描画面に対して取り付けられた描画ヘッドを用いた描画方法であって、
各々の前記描画ヘッドについて、前記多数の使用可能画素のうちのＮ重描画（Ｎは１以上の自然数）に使用する使用画素を実働させるように、前記画素アレイ中の画素列の前記走査方向に対する傾き角のバラツキに応じて前記使用画素の設定を行なう工程と、
前記描画面に対して各々の前記描画ヘッドを前記走査方向に相対移動させながら、前記描画ヘッドを動作させ、前記２次元パターンを前記描画面上に形成する工程を含むことを特徴とする描画方法。
【請求項２０】
前記使用画素の設定を、前記描画点群が示す前記描画面上における実際の画素列方向と前記走査方向とがなす実傾斜角度とに基づいて行なうようにしたことを特徴とする請求項１９記載の描画方法。
【請求項２１】
前記使用画素が実働するように設定する工程が、使用画素を指定する工程と、前記使用画素のみが実動するように設定を変更する工程とを含むことを特徴とする請求項１９記載の描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画装置および描画方法に関し、特に、画像データが表す２次元パターンを多重描画により描画面上に形成する描画装置および描画方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、描画ヘッドにより、画像データが表す所望の２次元パターンを描画面上に形成する描画装置が種々知られている。その代表的な例としては、半導体基板や印刷版の作成のために、露光ヘッドにより所望の２次元パターンを感光材料等の露光面上に形成する露光装置が挙げられる。かかる露光装置の露光ヘッドは、一般的に、光源アレイや空間光変調素子といったような、多数の画素を有し所望の２次元パターンを構成する光点群を発生させる画素アレイを備えている。この露光ヘッドを、露光面に対して相対移動させながら動作させることにより、所望の２次元パターンを露光面上に形成することができる。
【０００３】
なかでも近年、解像性の向上等のため画素が２次元状に配された画素アレイを備えた露光ヘッドを、各画素からの光線の走査線が別の画素からの光線の走査線と一致するようにして用い、露光面上の各点を実質的に複数回重ねて露光する形式の露光装置がいくつか提案され始めている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、高解像度で且つムラのない画像を得ることの可能な露光装置として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）の空間変調素子（マイクロミラー）の実際の傾斜角度を考慮して描画を制御する装置が提案されている。一般にＤＭＤは、制御信号に応じて反射面の角度が変化する多数のマイクロミラーがＬ行×Ｍ列の２次元状に配列された露光ヘッドを有するミラーデバイスであり、露光ヘッドを、露光面に沿った一定の方向に走査することで、実際の露光が行われる。特許文献１の装置では、マイクロミラーの２次元配列の、走査方向に対する傾斜角度の、設定角度からの誤差に応じて露光に使用する描画画素数を描画列ごとに制御することが開示されている。これによって、マイクロミラーによる露光ビームの走査軌跡の列間ピッチのずれを一定に制御することができ、その結果、ムラのない画像を得ることができる。
【特許文献１】特開２００４−１８１７２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１の装置では、マイクロミラーの傾斜角度の誤差が、マイクロミラーの２次元配列の全体にわたって一定であり、そのために露光ビームの走査軌跡の列間ピッチのずれが、描画面全体にわたって一定の値で生じることが前提となっている。従って、列間ピッチのずれが描画点列によって異なる値で生じる図形歪みが存在する場合には、画像のムラを十分に抑えることができず、画質の高い描画画像が得られないという問題があった。
【０００６】
このような問題を解決するために、露光ヘッドの取付角度の調整精度、画素の配置精度、および光学系の調整精度等を向上させることが考えられるが、これらの精度の向上を追求すると製造コストが非常に高くなってしまう。
【０００７】
同様の問題は、露光装置のみならず、たとえばインク滴を描画面に向けて吐出して描画を行うインクジェット記録ヘッドを備えたインクジェットプリンタ等、他の種類の描画装置においても生じ得る。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑み、描画ヘッドの取付角度誤差や描画画像のパターン歪みの影響による解像性や濃度のムラを軽減した、描画装置および描画方法を提供することを目的とするものである。特に、描画点列ごとに走査方向に対する傾き角の値が一定でなく、バラツキが生じている場合にも、描画画像上のムラを軽減することができる描画装置および描画方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
すなわち、本発明の描画装置は、Ｎ重描画（Ｎは１以上の自然数）により、画像データが表す２次元パターンを該描画面上に形成する描画装置であって、２次元状に配された多数の使用可能画素を有し前記画像データに応じて前記２次元パターンを構成する描画点群を発生させる画素アレイを備えた、１つまたは複数の描画ヘッドであって、前記使用可能画素の画素列方向と該描画ヘッドの相対的な走査方向が所定の設定傾斜角度をなすように、前記描画面に対して取り付けられた描画ヘッドと、前記描画面に対して各々の前記描画ヘッドを前記走査方向に相対移動させる移動手段と、各々の前記描画ヘッドについて、前記多数の使用可能画素のうちの前記Ｎ重描画に使用する使用画素を実働させるように、前記画素アレイ中の画素列の前記走査方向に対する傾き角のバラツキに応じて前記使用画素の設定を行なう使用画素設定手段を備えていることを特徴とするものである。
【００１０】
前記使用画素設定手段は、前記描画点群が示す描画面上における実際の画素列方向と前記走査方向とがなす実傾斜角度とに基づいて使用画素を設定するものとすることができる。
【００１１】
前記使用画素設定手段は、前記使用画素を指定する使用画素指定手段と、前記使用画素のみが実動するように設定を変更する設定変更手段とを備えたものとすることができる。
【００１２】
ここで、本発明において「画素列」とは、画素アレイ上に２次元状に配された画素の２つの並び方向のうち、走査方向となす角度がより小さい方向の並びを指すものとし、「画素行」とは、走査方向となす角度がより大きい方向の並びを指すものとする。なお、画素アレイ上の画素の配置は、必ずしも矩形格子状でなくてもよく、たとえば平行四辺形状の配置等であってもよい。
【００１３】
また、本発明において「Ｎ重描画」とは、描画面上の描画エリアの略すべての領域において、走査方向に平行な直線が、描画面上に投影されたＮ本の使用画素の画素列と交わるような設定による描画処理を指す。ここで、描画エリアの「略すべての領域」と述べたのは、各画素アレイの両側縁部では、画素列を傾斜させたことにより、走査方向に平行な直線と交わる使用画素の画素列の数が減るため、かかる場合に複数の描画ヘッドをつなぎ合わせるように使用したとしても、描画ヘッドの取付角度や配置等の誤差により、走査方向に平行な直線と交わる使用画素の画素列の数がわずかに増減することがあるため、また、各使用画素の画素列間のつなぎの、解像度分以下のごくわずかな部分では、取付角度や画素配置等の誤差により、走査方向と直交する方向に沿った画素ピッチが他の部分の画素ピッチと厳密に一致せず、走査方向に平行な直線と交わる使用画素の画素列の数が±１の範囲で増減することがあるためである。
【００１４】
一方、理想的なＮ重描画は、描画面上の描画エリアのすべての領域において、走査方向に平行な直線が、描画面上に投影されたＮ本の使用画素の画素列と過不足なく交わるような設定による描画処理を指す。
【００１５】
なお、以下の説明では、本発明の描画装置または描画方法を露光装置または露光方法として実施した形態について、「Ｎ重描画」に対応する用語として、「Ｎ重露光」という用語を用いるものとする。
【００１６】
さらに、本発明における「使用画素指定手段」は、手動による使用画素の指定を受け付けるものであってもよいし、後述する位置検出手段や選択手段等を含み、自動的に最適な使用画素を選択するものであってもよい。また、「前記画素アレイ中の画素列の前記走査方向に対する傾き角のバラツキ」とは、２次元画素アレイの画素列の傾き誤差がすべての列で一定ではなく、列ごとや複数の列ごとに異なる傾き誤差が生じている状態を指す。この傾き角のバラツキによって、描画画像には図形歪みが生じる。本発明における「使用画素指定手段」は、この図形歪みによる描画画像のムラを抑えるべく、自動的に描画に使用する２次元画素アレイの画素（すなわち「使用画素」）を選択したり、あるいは、手動により選択された使用画素の指定を受け付けるものである。
【００１７】
また、上記において「使用画素のみが実動するように設定を変更する」とは、たとえば使用可能画素のうち使用画素以外の画素をオフ設定とし動作しないようにする形態や、画像データのうち使用画素以外の画素に送られる部分を、オフ状態のデータ（すなわち描画しないことを示すデータ）とする形態であってもよいし、使用画素以外の使用可能画素も動作させるが、それらの画素からの光線やインクジェット等の描画媒体が描画面に到達しないように遮蔽等を行う形態であってもよい。
【００１８】
さらに、上記の本発明に係る描画装置において、上記の設定傾斜角度θは、上記の使用可能画素の各画素列をなす画素の個数ｓ、それら使用可能画素の画素列方向の画素ピッチｐ、および上記の走査方向と直交する方向に沿ったそれら使用可能画素の画素列ピッチδに対し、
【数１】
2006306006.tif 000003
【００１９】
の関係を満たす角度であることが好ましい。
【００２０】
また、前記使用画素指定手段が、前記描画点群が示す前記描画面上における実際の描画点列方向と前記走査方向とがなす実傾斜角度を各描画点列について特定し、当該実傾斜角度と前記設定傾斜角度との間の各誤差を吸収するように、前記使用画素を指定するものであってもよい。
【００２１】
また、前記の使用画素指定手段は、前記使用画素指定手段が、前記使用可能画素の画素列の中から選択された複数の画素列のそれぞれに対応する前記描画面上の描画点列を代表描画点列とし、該代表描画点列の各々について、該代表描画点列の方向と前記走査方向とがなす実傾斜角度を特定し、当該実傾斜角度と前記設定傾斜角度との間の各誤差を吸収するように、前記使用画素を指定するものであってもよい。
【００２２】
また、各実傾斜角度は、上記代表描画点列およびその近傍の描画列点の各方向と上記走査方向から特定された個別の実傾斜角度の平均値、中央値、最大値および最小値のいずれかを用いるものであってもよい。
【００２３】
また、各々の前記描画ヘッドの前記画素アレイは、前記描画点群として光点群を発生させるものとしてもよい。
【００２４】
前記描画装置は、各々の描画ヘッドの画素アレイが、描画点群として光点群を発生させるものとし、使用画素指定手段が、各々の描画ヘッドについて、光点群を構成する光点の描画面上における位置を検出する位置検出手段と、各々の描画ヘッドについて、位置検出手段による検出結果に基づいて、描画面上の、使用画素の画素列間のつなぎ部分による描画個所を少なくとも１つ含む代表領域を複数選択し、当該代表領域のそれぞれにおいて、理想的なＮ重描画となる様に、使用可能画素中の不使用画素を特定し、不使用画素を除いた画素を前記使用画素として選択する選択手段を備えたものとすることができる。
【００２５】
前記描画装置は、前記位置検出手段を、複数の画素列について各画素列上の少なくとも２つの前記光点の位置を検出するものとし、前記選択手段を、前記検出結果に基づき、前記光点が示す前記描画面上に投影された実際の各画素列の方向と前記走査方向とがなす実傾斜角度を特定し、該実傾斜角度に基づいて不使用画素を特定するものとすることができる。
【００２６】
前記選択手段は、画素アレイの使用可能画素中の複数の画素列の各々に対応する描画面上の光点の列を代表光点列とし、複数の該代表光点列それぞれについて、代表光点列およびその近傍の光点列をなす光点のうち少なくとも２つの光点の位置の位置検出手段による検出結果に基づいて、実傾斜角度を特定するものとすることができる。
【００２７】
前記選択手段は、使用可能画素の画素列のうちの複数に対応する描画面上の光点の複数の列を代表光点列とし、前記代表光点列およびその近傍の光点列の各列方向と前記走査方向とがなす個別実傾斜角度を特定し、前記個別傾斜角度の代表値を、前記各代表光点列の実傾斜角度とみなすものとすることができる。
【００２８】
前記個別傾斜角度の代表値は、代表光点列およびその近傍の光点列の個別実傾斜角度の平均値、中央値、最大値および最小値のいずれかとすることができる。
【００２９】
また、上記の本発明に係る描画装置は、上記の使用画素指定手段において上記の使用画素を指定するため、各々の描画ヘッドについて、上記の多数の使用可能画素のうち、上記のＮが２以上の場合に、（Ｎ−１）本おきの画素列を構成する画素のみを使用して、参照描画を行う参照描画手段をさらに備えているものであってもよい。
【００３０】
あるいは、上記の本発明に係る描画装置は、上記の使用画素指定手段において上記の使用画素を指定するため、各々の描画ヘッドについて、上記の多数の使用可能画素のうち、上記のＮが２以上の場合に、それら使用可能画素の全画素行数の１／Ｎ画素数に相当する互いに隣接する画素行の群を構成する画素のみを使用して、参照描画を行う参照描画手段をさらに備えているものであってもよい。ここで、使用可能画素の全画素数がＮで割り切れない数である場合には、上記の「使用可能画素の全画素数の１／Ｎ画素数に相当する互いに隣接する画素行の群」として、全画素数の１／Ｎに最も近い数、全画素数の１／Ｎ以下の最大の画素数または全画素数の１／Ｎ以上の最小の画素数のから構成される群等を選択してもよい。
【００３１】
また、上記の本発明に係る描画装置は、上記の画像データが表す２次元パターンの所定部分の寸法が、指定された使用画素により実現できる対応部分の寸法と一致するように、その画像データを変換するデータ変換手段をさらに備えているものであってもよい。
【００３２】
さらに、上記の本発明に係る描画装置において、上記の画素アレイは、光源からの光を上記の画像データに応じて画素ごとに変調する空間光変調素子であってもよい。ここで、上記の「光源」は、各描画ヘッド（露光ヘッド）の内部に組み込まれているものであってもよいし、各描画ヘッドの外部に設けられた、描画ヘッドごとのまたは複数の描画ヘッド間で共有される光源であってもよい。
【００３３】
前記Ｎは、３以上７以下の自然数とすることができる。
【００３４】
本発明に係る描画方法は、２次元状に配された多数の使用可能画素を有し画像データに応じて該画像データが表す２次元パターンを構成する描画点群を発生させる画素アレイを備えた、１つまたは複数の描画ヘッドであって、前記使用可能画素の画素列方向と該描画ヘッドの相対的な走査方向が所定の設定傾斜角度をなすように、描画面に対して取り付けられた描画ヘッドを用いた描画方法であって、各々の前記描画ヘッドについて、前記多数の使用可能画素のうち、Ｎ重描画（Ｎは１以上の自然数）に使用する使用画素を実働させるように、前記画素アレイ中の画素列の前記走査方向に対する傾き角のバラツキに応じて前記使用画素の設定を行なう工程と、前記描画面に対して各々の前記描画ヘッドを前記走査方向に相対移動させながら、前記描画ヘッドを動作させ、前記２次元パターンを前記描画面上に形成する工程を含むことを特徴とするものである。
【００３５】
前記使用画素の設定は、前記描画点群が示す前記描画面上における実際の画素列方向と前記走査方向とがなす実傾斜角度とに基づいて行なうようにすることができる。
【００３６】
前記使用画素が実働するように設定する工程は、使用画素を指定する工程と、前記使用画素のみが実動するように設定を変更する工程とを含むものとすることができる。
【００３７】
ここで、「描画面に対して各々の描画ヘッドを走査方向に相対移動させながら、描画ヘッドを動作させ」るとは、描画ヘッドを常に移動させながら連続的に描画を行う形態であってもよいし、描画ヘッドを段階的に移動させながら、各移動先の位置で描画ヘッドを静止させて描画動作を行う形態であってもよい。
【発明の効果】
【００３８】
本発明の描画装置および描画方法によれば、描画素子アレイの傾きローカリティーから生じる描画の歪みを、より良好に補正し、その結果、ムラの補正効果を高め、より高画質の描画を得ることができる。また、光学系の調整精度等の向上を追及せずに、２次元描画素子アレイの大きな図形歪みにも対応可能であるため、製造コストを低く抑えたまま、高画質の描画を得ることが可能である。
【００３９】
また、使用画素指定手段を、位置検出手段および選択手段を備えたものとした態様によれば、参照描画結果の目視による確認等により操作者が使用画素を手動で設定するといった熟練が要求される作業を必要とせず、自動的に、描画ヘッドの取付角度誤差や相対的なパターン歪みの影響が最小限に抑えられる数の使用画素を指定し、描画装置の設定を行うことができる。
【００４０】
さらに、Ｎが２以上の場合、（Ｎ−１）本おきの画素列を構成する画素、または使用可能画素の全画素数の１／Ｎに相当する互いに隣接する画素数の群を構成する画素のみを使用して、参照描画を行うことを可能とした態様によれば、参照描画により、多重描画のパターンよりも単純な略１重描画のパターンを得ることができるので、操作者の目視確認等による使用画素の指定が容易となり、最適な使用画素をより設定しやすくなる。
【００４１】
また、所定部分の寸法が一致するように画像データを変換する態様によれば、指定された使用画素により実現可能な所定部分の寸法に、画像データが示す２次元パターンの寸法を一致させ、所望の２次元パターンどおりの高精細なパターンを描画面上に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下、図面により、本発明の描画装置の１つの実施形態である露光装置について、詳細に説明する。
【００４３】
本実施形態に係る露光装置１０は、図１に示すように、シート状の感光材料１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。なお、この露光装置１０には、移動手段としてのステージ１４をガイド２０に沿って駆動するステージ駆動装置１２４が設けられている。
【００４４】
設置台１８の中央部には、ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には感光材料１２の先端および後端を検知する複数（たとえば２個）のセンサ２６が設けられている。スキャナ２４およびセンサ２６はゲート２２に各々取り付けられて、ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４、センサ２６、およびステージ駆動装置１２４等は、これら各部の動作やタイミングを制御するコントローラ１６０に接続されている。ここで、説明のため、ステージ１４の表面と平行な平面内に、図１に示すように、互いに直交するＸ軸およびＹ軸を規定する。
【００４５】
ステージ１４の走査方向に沿った上流側（以下、単に「上流側」ということがある）の端縁部には、Ｘ軸の方向に向かって開く「く」の字型に形成されたスリット２８が、等間隔で１０本形成されている。各スリット２８は、上流側に位置するスリット２８ａと下流側に位置するスリット２８ｂとからなっている。スリット２８ａとスリット２８ｂとは互いに直交するとともに、Ｘ軸に対してスリット２８ａは−４５度、スリット２８ｂは＋４５度の角度を有している。ステージ１４内部の各スリット２８の下方の位置には、それぞれ単一セル型の光検出器１２２が組み込まれている。各光検出器は、後述する位置特定部１２６に接続されており、位置特定部１２６は使用画素選択処理を行う選択手段である演算装置１３０に接続されている。
【００４６】
なお、スリット２８、光検出器１２２、および位置特定部１２６は位置検出手段である位置検出部１２０を構成するものである。そして、使用画素指定手段である使用画素指定部１４０が上記位置検出部１２０および演算装置１３０を備えている。
【００４７】
スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０を備えている。なお、以下において、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド３０ｍｎと表記する。
【００４８】
各露光ヘッド３０は、後述する内部のデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６の画素列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように、スキャナ２４に取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。ステージ１４の移動に伴い、感光材料１２には露光ヘッド３０ごとに帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、以下において、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドによる露光エリアを示す場合は、露光エリア３２ｍｎと表記する。
【００４９】
また、図３の（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔(露光エリアの長辺の自然数倍、本実施形態では２倍)ずらして配置されている。このため、１行目の露光エリア３２１１と露光エリア３２１２との間の露光できない部分は、２行目の露光エリア３２２１により露光することができる。
【００５０】
なお、各露光ヘッド３０の中心位置は、上記の１０個のスリット２８の位置と略一致させられている。また、各スリット２８の大きさは、対応する露光ヘッド３０による露光エリア３２の幅を十分覆う大きさとされている。
【００５１】
露光ヘッド３０の各々は、図４および図５に示すように、入射された光を画像データに応じて各画素部ごとに変調する空間光変調素子として、米国テキサス・インスツルメンツ社製のＤＭＤ３６を備えている。このＤＭＤ３６は、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えたコントローラ１６０に接続されている。このコントローラ１６０のデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド３０ごとに、ＤＭＤ３６上の使用領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。また、ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド３０ごとにＤＭＤ３６の各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。
【００５２】
図４に示すように、ＤＭＤ３６の光入射側には、光ファイバの出射端部（発光点）が露光エリア３２の長辺方向と一致する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源３８、ファイバアレイ光源３８から出射されたレーザ光を補正してＤＭＤ上に集光させるレンズ系４０、このレンズ系４０を透過したレーザ光をＤＭＤ３６に向けて反射するミラー４２がこの順に配置されている。なお図４では、レンズ系４０を概略的に示してある。
【００５３】
上記レンズ系４０は、図５に詳しく示すように、ファイバアレイ光源３８から出射されたレーザ光を平行光化する１対の組合せレンズ４４、平行光化されたレーザ光の光量分布が均一になるように補正する１対の組合せレンズ４６、および光量分布が補正されたレーザ光をＤＭＤ３６上に集光する集光レンズ４８で構成されている。
【００５４】
また、ＤＭＤ３６の光反射側には、ＤＭＤ３６で反射されたレーザ光を感光材料１２の描画面である露光面１２Ａに結像させるレンズ系５０が配置されている。レンズ系５０は、ＤＭＤ３６と感光材料１２の露光面１２Ａ（以後、符号１２Ａの表記は省略する）とが共役な関係となるように配置された、２枚のレンズ５２および５４からなる。
【００５５】
本実施形態では、ファイバアレイ光源３８から出射されたレーザ光は、実質的に５倍に拡大された後、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラーからの光線が上記のレンズ系５０によって約５μｍに絞られるように設定されている。
【００５６】
ＤＭＤ３６は図６に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）５６上に、各々画素（ピクセル）を構成する多数のマイクロミラー５８が格子状に配列されてなるミラーデバイスである。本実施形態では、１０２４列×７６８行のマイクロミラー５８が配されてなるＤＭＤ３６を使用するが、このうちのＤＭＤ３６に接続されたコントローラ１６０により駆動可能すなわち使用可能なマイクロミラー５８は、多数の使用可能画素からなる画素アレイを構成する１０２４列×２５６行のみとする。ＤＭＤ３６のデータ処理速度には限界があり、使用するマイクロミラー数に比例して１ライン当りの変調速度が決定されるので、このように一部のマイクロミラーのみを使用することにより１ライン当りの変調速度が速くなる。各マイクロミラー５８は支柱に支えられており、その表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、本実施形態では、各マイクロミラー５８の反射率は９０％以上であり、その配列ピッチは縦方向、横方向ともに１３．７μｍである。ＳＲＡＭセル５６は、ヒンジおよびヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのものであり、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。
【００５７】
ＤＭＤ３６のＳＲＡＭセル５６に、所望の２次元パターンを構成する各点の濃度を２値で表した画像信号が書き込まれると、支柱に支えられた各マイクロミラー５８が、対角線を中心としてＤＭＤ３６が配置された基板側に対して±α度（たとえば±１０度）のいずれかに傾く。図７（Ａ）は、マイクロミラー５８がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図７（Ｂ）は、マイクロミラー５８がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。したがって、画像信号に応じて、ＤＭＤ３６の各ピクセルにおけるマイクロミラー５８の傾きを、図６に示すように制御することによって、ＤＭＤ３６に入射したレーザ光Ｂはそれぞれのマイクロミラー５８の傾き方向へ反射される。
【００５８】
なお図６には、ＤＭＤ３６の一部を拡大し、各マイクロミラー５８が＋α度または−α度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー５８のオンオフ制御は、ＤＭＤ３６に接続された上記コントローラ１６０によって行われる。また、オフ状態のマイクロミラー５８で反射したレーザ光Ｂが進行する方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。
【００５９】
ファイバアレイ光源３８は、図８に示すように、複数（たとえば１４個）のレーザモジュール６０を備えており、各レーザモジュール６０には、マルチモード光ファイバ６２の一端が結合されている。マルチモード光ファイバ６２の他端には、マルチモード光ファイバ６２より小さいクラッド径を有するマルチモード光ファイバ６４が結合されている。図９に詳しく示すように、マルチモード光ファイバ６４のマルチモード光ファイバ６２と反対側の端部は走査方向と直交する方向に沿って７個並べられ、それが２列に配列されてレーザ出射部６６が構成されている。
【００６０】
マルチモード光ファイバ６４の端部で構成されるレーザ出射部６６は、図９に示すように、表面が平坦な２枚の支持板６８に挟み込まれて固定されている。また、マルチモード光ファイバ６４の光出射端面には、その保護のために、ガラス等の透明な保護板が配置されるのが望ましい。マルチモード光ファイバ６４の光出射端面は、光密度が高いため集塵しやすく劣化しやすいが、上述のような保護板を配置することにより、端面への塵埃の付着を防止し、また劣化を遅らせることができる。
【００６１】
次に、２次元画素アレイの傾き角のバラツキと、その影響について説明する。
【００６２】
図１０（Ａ）は、画素アレイの画素列ごとの傾き角が設定傾斜角度と同一で誤差がない場合の露光面上の画像（描画画像）を示している。画素アレイは走査方向に対して予め、設定傾斜角度θ０だけ傾くように設定されている。実際の傾き角が設定傾斜角度と同じθ０であれば、２次元画素アレイの走査方向に延びる一列（スワス）と隣り合う一列との間（スワスつなぎ部）には、隙間や重なりが生じず、描画画像にムラは生じない。一方で、図１０（Ｂ）のように画素アレイの傾き角がθ１（＜θ０）であるとき、スワスつなぎ部には隙間が生じてしまい、描画画像にはムラが生じる。また、図１０（Ｃ）のように、描画アレイの角度がθ２（＞θ０）であるとき、スワスとスワスの間（スワスつなぎ部）に重なりが生じ、描画画像にはムラが生じてしまう。尚、図１０（Ｂ）も図１０（Ｃ）も、画素アレイ全体にわたって傾き角が一定であり、すなわち、設定傾斜角度との誤差が画素アレイ全体にわたって一定である場合を示している。
【００６３】
しかし、図１０（Ｂ）や図１０（Ｃ）のように、画素アレイの傾き角が一定で、設定傾斜角度からの誤差が一定の値で生じるという状況以外にも、誤差が一定ではない場合も十分に生じうる。例えば、図１１に示すように、描画アレイの角度誤差がθMAX（＞θ０）からθMIN（＜θ０）までのばらつきがあるような場合、スワスつなぎ部には、「重なり」あるいは「隙間」が生じるため、一つの描画画像に表れるムラの原因は、一つに特定されるものではない。
【００６４】
より具体的には、スワスつなぎ部のムラは、描画画像において図１２に示すように線幅のバラツキとして現れる。
【００６５】
このような傾き角の歪みの要因としては、ＤＭＤ３６と露光面の間の光学系の各種収差やアラインメントずれ、および、ＤＭＤ３６自体の歪みやマイクロミラーの配置誤差等が挙げられる。
【００６６】
本実施形態では、Ｎ＝１の１重露光において、上記のムラを抑えるための装置・方法について説明する。
【００６７】
各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の上記の設定傾斜角度θとしては、露光ヘッド３０の取付角度誤差等がない設計通りの理想的な状態であれば、使用可能な１０２４列×２５６行のマイクロミラー５８を使用してちょうど１重露光となる角度θidealよりも若干大きい角度を採用するものとする。この角度θidealは、Ｎ重露光の数Ｎ、使用可能なマイクロミラー５８の各画素列をなすマイクロミラー５８の個数ｓ、使用可能なマイクロミラー５８の画素列方向の画素ピッチｐ、および走査方向と直交する方向に沿った使用可能なマイクロミラー５８の画素列ピッチδに対し、
【数２】
2006306006.tif 000004
【００６８】
により与えられる。本実施形態におけるＤＭＤ３６は、上記のとおり、縦横の配置ピッチが等しい多数のマイクロミラー５８が矩形格子状に配されたものであるので、
【数３】
2006306006.tif 000005
【００６９】
であり、上記の式（１）は、
【数４】
2006306006.tif 000006
【００７０】
となる。
【００７１】
上述した露光面上に現れるムラを軽減するために、本実施形態では、上述の位置検出部１２０を構成する上述のスリット２８および光検出器１２２の組と位置特定部１２６を用いて、露光ヘッド３０ごとに、露光面上に投影された光点すなわち描画面上に描画された画素描画点の位置を検出し、その後、位置特定部１２６に接続された演算装置１３０が、上記光点すなわち画素描画点からなる描画列の実傾斜角度θ’を特定するとともにその実傾斜角度θ’に基づいて実際に本露光処理に使用するマイクロミラーを選択する使用画素選択処理を行う。以下、図１３，１４を用いて、実傾斜角度θ’の特定および、使用画素選択処理について説明する。
【００７２】
図１３は、１つのＤＭＤ３６による露光エリア３２と、対応するスリット２８との位置関係を上方から見た様子を示す平面図である。既に述べたように、スリット２８の大きさは、露光エリア３２の幅を十分覆う大きさとされている。
【００７３】
本実施形態では、露光エリア３２を略３等分した領域の略中心に位置する列（１７０列目、５１２列目、８５４列目）の、計３つの描画点列を代表描画点列とする。尚、代表描画点列として選択される描画点列の数は、３つに限定されるものではない。また、露光ヘッドの画素アレイ中の画素列を適宜選択し、それらに対応する露光面上の描画点列を代表描画点列とするものでもよい。
【００７４】
尚、描画点列は、画素アレイの一のミラーをＯＮ状態にして露光面上に光点をうつして、その光点の位置を「描画点になる位置」とし、同一の画素列上の他の一のミラーについても同様に光点の位置を求めることで、両光点を結ぶラインである光点列として求めてもよい。露光ヘッド３０により描画面上に描画された画素描画点である露光面上に投影された光点で構成される光点列は、すなわち、「実際に描画が行われれば、描画点列となる列」であると言える。以下では、描画点列を光点列として求める手法を用いて説明する。
【００７５】
本実施形態では、上述の各代表描画点列の方向と、露光ヘッドの走査方向とがなす角を、それぞれ実傾斜角度θ１’、θ２’ θ３’として測定する。具体的には、ＤＭＤ３６上の１行目１７０列目と２５６行目１７０列目のマイクロミラーをＯＮ状態とし、それぞれに対応する露光面上の光点の位置ＰＡ１（１，１７０）とＰＡ２（２５６，１７０）の位置を検出し、それらの光点を結ぶ直線と、前記走査方向とのなす角を実傾斜角度θ１’として特定する。同様に、ＰＢ１（１，５１２）とＰＢ２（２５６，５１２）の位置を検出し、実傾斜角度θ２’を特定する。同じく、ＰＣ１（１，８５４）とＰＣ２（２５６，８５４）の位置を検出し、実傾斜角度θ３’を特定する。
【００７６】
図１４は、光点ＰＢ２（２５６，５１２）の位置の検出手法を説明した図である。まず、画素アレイの（２５６，５１２）の位置にあるミラーを点灯させた状態で、ステージ駆動装置１２４の駆動によりステージ１４をゆっくり移動させる。相対的に、スリット２８はＹ方向に移動して、光点ＰＢ２（２５６，５１２）が上流側のスリット２８ａと下流側のスリット２８ｂとの間にくるような任意の位置にスリット２８を置き、このときにスリット２８ａとスリット２８ｂの交点の座標を（Ｘ０，Ｙ０）とする。この座標（Ｘ０，Ｙ０）の値は、ステージ１４に与えられた駆動信号が示す上記の位置までのステージ１４の移動距離、および、既知であるスリット２８のＸ方向の位置から決定され記録される。
【００７７】
続いて、ステージ１４を移動させて、スリット２８を図１４におけるＹ軸の右方向に相対的に移動させる。そして、図１４において二点鎖線で示すように、光点ＰＢ２（２５６，５１２）の光が左側のスリット２８ｂを通過して光検出器で検出されたところでステージ１４を停止させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂの交点の座標を（Ｘ０，Ｙ１）として記録する。
【００７８】
今度は、ステージ１４を移動させて、スリット２８を図１４におけるＹ軸の左方向に相対的に移動させる。そして、図１４において二点鎖線で示すように光点ＰＢ２（２５６，５１２）の光が右側のスリット２８ａを通過して光検出器で検出されたところでステージ１４を停止させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標を（Ｘ０，Ｙ２）として記録する。
【００７９】
以上の測定結果から、光点ＰＢ２（２５６，５１２）の座標（Ｘ，Ｙ）をＸ＝Ｘ０＋（Ｙ１−Ｙ２）／２、Ｙ＝（Ｙ１＋Ｙ２）／２の計算により決定する。同様の計算により、光点ＰＢ１（１，５１２）の座標も決定し、光点ＰＢ１（１，５１２）と光点ＰＢ２（２５６，５１２）を結ぶ直線（実際に描画されれば「代表描画点列」となる光点列で、以下「代表光点列」と呼ぶ）の方向と走査方向とのなす角を導出して、実傾斜角度θ２’を特定する。同様にして、実傾斜角度θ１’とθ３’も特定する。
【００８０】
なお、上記光点ＰＢ１、光点ＰＢ２等の各光点の位置の検出は、光検出器１２２に接続された位置特定部１２６によって行なわれる。すなわち、位置特定部１２６が、光検出器１２２の上記各光点を検出したことを示す情報と、各光点を検出したときのステージ１４の位置を示すコントローラ１６０から入力された情報とに基づいて上記のような手法により各光点の位置を求める。
【００８１】
その後、演算装置１３０が、上記各光点の位置を示す情報を入力し上記実傾斜角度θ’を特定する。そして、この演算装置１３０は、後述するように、さらに、上記特定された実傾斜角度θ’に基づいて実際に本露光処理に使用するマイクロミラーを選択する使用画素選択処理を行う。
【００８２】
なお、位置検出部１２０による位置検出では、コントローラ１６０の制御によるステージ駆動装置１２４の駆動によりステージ１４をガイド２０に沿って移動させるので、上記ステージ駆動装置１２４、ガイド２０、ステージ１４、およびコントローラ１６０等も、位置検出部１２０を構成する構成要素に含まれるものである。
【００８３】
上記演算装置１３０は、上記特定した実傾斜角度θ’を用い、
【数５】
2006306006.tif 000007
【００８４】
の関係を満たす値tnに最も近い自然数Ｔnを導出する。例えば、実傾斜角度θ２’に対しては、自然数Ｔ２が導出される。ＤＭＤ３６上の１行目からＴ行目までのマイクロミラーを、対応する代表光点列の近傍の領域の露光時に実際に使用するマイクロミラーとして選択する処理を行う。例えば、本実施形態においては、光点ＰＢ１（１，５１２）と光点ＰＢ２（２５６，５１２）を結ぶ代表光点列を中心とする領域である、３４２列目から６８３列目の領域では、１行目からＴ２行目までのマイクロミラーを露光に使用するものとして選択する。
【００８５】
同様に、実傾斜角度θ１’から、Ｔ１を導出し、光点ＰＡ１（１，１７０）と光点ＰＡ２（２５６，１７０）を結ぶ代表光点列を中心とする領域（１列目から３４１列目）では、１行目からＴ１行目までのマイクロミラーを露光に使用するものとして選択する。
【００８６】
また、実傾斜角度θ３’から、Ｔ３を導出し、光点ＰＣ１（１，８５４）と光点ＰＣ２（２５６，８５４）を結ぶ代表光点列を中心とする領域（６８４列目から１０２４列目）では、１行目からＴ３行目までのマイクロミラーを露光に使用するものとして選択する。
【００８７】
選択されたマイクロミラー以外のものは、露光の際に使用されないように設定される。具体的には、使用されないマイクロミラーには、常にＯＦＦ状態の角度に設定する信号が送られる。
【００８８】
例えば、本実施例での実傾斜角度θ１’、 θ２’、 θ３’が、設定傾斜角度θ０との間で、θ２’＞θ０，θ２’＝θ０，θ３’＜θ０のような関係にあれば、図１５に示すような領域が不使用画素として設定される。
【００８９】
すなわち、演算装置１３０によって選択した実際に使用するマイクロミラーを示す情報（不使用画素を示す情報でもある）が、設定変更手段１５０に入力され、上記設定変更手段１５０により、実際に使用するマイクロミラーとして選択されたマイクロミラーのみを実動させるようにコントローラ１６０の設定を変更した後、その設定の変更されたコントローラ１６０の制御により露光が行われる。これによって、描画列の傾きが一定でない場合でも、描画列に対して適切な使用画素が選択されるので、露光面の歪みの影響が抑えられる。
【００９０】
なお、使用可能な画素のうち、使用画素が実動するように設定する使用画素設定手段として、使用画素指定部１４０と設定変更手段１５０とを一体的に構成してもよい。
【００９１】
また、代表光点列をより多く選択し、それぞれについて実傾斜角度を特定すれば、描画画像の歪みの補正は、より精度が向上する。
【００９２】
尚、代表光点列の実傾斜角度を求める方法としては、以下の方法であってもよい。すなわち、代表光点列の近傍の領域を代表領域とすると、その代表領域内の一部、あるいはすべての光点列について実傾斜角度（個別実傾斜角度と呼ぶ）を特定し、当該個別実傾斜角度の平均値を、当該代表領域に実傾斜角度とみなすという方法である。光点列は、列上の少なくとも２点の光点の位置を測定することによって得られるものである。他にも、前記個別実傾斜角度の中央値、最大値、最小値のいずれかを実傾斜角度とみなす方法であってもよい。例えば、ある代表領域において個別実傾斜角度の最小値を、実傾斜角度とすれば、当該代表領域内においては、スワスのつなぎ部の隙間によるムラを抑えることに、より高い効果が得られる。また、逆に個別実傾斜角度の最大値を、実傾斜角度とすれば、当該代表領域においては、スワスのつなぎ部の重なりによるムラを押さえることに、より高い効果が得られる。
【００９３】
さらに、上記の実施形態では、スリット２８と光検出器１２２の組と位置特定部１２６による光点の位置検出結果を入力した演算装置１３０が複数の実傾斜角度を求め、さらに、この演算装置１３０がその実傾斜角度に基づいて使用画素を選択するという、使用画素指定手段である使用画素指定部１４０の作用を示したが、上記使用画素指定手段は、実傾斜角度の導出を介さずに使用可能なマイクロミラーのうちのＮ重描画に使用する使用画素を指定する形態としてもよい。さらには、たとえば使用可能なマイクロミラーを用いた後述する参照露光を行い、参照露光結果の目視による解像性や濃度のむらの確認等により、操作者が使用するマイクロミラーを手動で指定する使用画素指定手段の形態も、本発明の範囲に含まれるものである。
【００９４】
以上、Ｎ＝１の１重露光を実施した場合の、本発明の露光装置の一つの形態および変形例について、詳細に説明したが、つづいて、上述した使用画素の設定方法を、Ｎ＝２の２重露光に適用した場合の効果について説明する。また、Ｎが２以上のいわゆる多重露光において、描画画像のムラを抑えるためのより効果的な露光装置の変形例についても説明する。以下の説明で用いる露光装置は、特に断りがない限り、１重露光での説明に用いた露光装置１０と同じ構成のものを用い、また、式（１）〜（４）の関係は、以下の多重露光においても成り立つものとする。
【００９５】
尚、２重露光においては、奇数列による露光パターンと、偶数列による露光パターンが重ねあわされて、一つの描画画像が形成される。
【００９６】
すでに、１重露光を行う場合を例にとって、ＤＭＤ３６上のマイクロミラー５８の列方向の傾き角度の誤差に起因するいわゆる「角度歪み」を解消するために、マイクロミラーの使用画素を選択する手法について説明した。その、使用画素選択の一例として、３つの代表光点列を選択し、それらの実傾斜角度を特定し、特定された実傾斜角度から、前記代表光点列の近傍の代表領域それぞれについて、使用する画素の行を指定することを説明した。このような手法において、代表光点列の選択数が少なければ少ないほど使用する画素の指定までの計算量は少なくて済むものの、それに対応する代表領域内での傾き角のバラツキによる描画上の歪みの影響を十分に軽減することができない場合がある。
【００９７】
例えば図１６に示すある代表領域内について検討すると、特に使用画素を指定しなければスワスつなぎ部に隙間がある箇所と重なりがある箇所ができてしまう。この代表領域に対して、図１７に示すような「不使用画素領域」を設定すると角度歪みによる描画画像のムラが軽減されるものの、奇数列による露光パターンと偶数列の露光パターンのそれぞれにおいて、「露光が不足となる部分（スワスつなぎ部に隙間が生じる領域）」と「露光が冗長な部分（スワスつなぎ部に重なりが生じる領域）」とが、わずかに生じてしまう。図１７の場合は、代表領域の略中央の光点列を代表光点列とし、その実傾斜角度から使用画素の行数を求めて、当該代表領域内で一定の行数の不使用画素領域を決定している。そのため、中央の光点列から離れた代表領域の両端近くで、スワスつなぎ部のムラがわずかに生じているのである（図１７の左方と右方の各露光パターン）。
【００９８】
上述したように、１回の露光を行うだけでは、このわずかなムラが残ってしまう可能性がある。しかし２重露光処理では、上述の奇数列の露光パターンと偶数列の露光パターンが重ね合わせられるので、奇数列の露光パターンと偶数列の露光パターンとが互いに補完しあい、いずれのスワスつなぎ部のムラも均されて目立たなくなる。よって、使用画素の選択の際に代表光点列を少なく選択すれば、使用画素の選択のための計算量が少なく抑えられる。そして、使用画素の選択によるムラの軽減の効果に加えて多重露光の重ね合わせによるムラの軽減の効果が得られ、高品質の描画画像を得ることができる。
【００９９】
すなわち、多重露光においても、図形歪みがある場合にその歪みの影響を十分に抑制できない場合があり（図１７）、その際に、１重露光と同様に実傾斜角度に応じた使用画素行の選択を行うことで、より高精度な画像を得ることができる。具体的には、図１８に示すように、実傾斜角度がθ１’（＞θ０）、 θ２’（＝θ０）、 θ３’（＜θ０）のような場合、その実傾斜角度のバラツキに応じて使用画素数を選択すれば、各位相（例えば奇数列パターンと偶数列パターンのそれぞれ）において描画された画像上でのスワスつなぎ部のムラや隙間が解消されることとなる。従って、各位相の描画を重ね合わせる多重露光では、より高精度な画像を得ることができる。
【０１００】
尚、代表光点列をより多く選択して使用画素を決定し、さらに多重露光を行えば、得られる描画画像の品質は、より高いものとなる。
【０１０１】
次に、上述の角度歪み以外の原因による描画画像のムラの軽減について説明する。
【０１０２】
描画画像のムラの原因としては、他に、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラー５８からの光線が、異なる倍率で露光面上の露光エリア３２に到達してしまう「倍率歪み」の形態が考えられる（図１９（Ａ））。また、別の原因としては、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラー５８からの光線が、異なるビーム径で露光面上に到達してしまう「ビーム径ローカリティ」の形態も考えられる（図１９（Ｂ））。これらの倍率歪みおよびビーム径ローカリティは、主として、ＤＭＤ３６と露光面の間の光学系の各種収差や、アラインメントずれに起因して生じるものである。さらに別の例としては、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラー５８からの光線が、異なる光量で露光面上の露光エリア３２に到達してしまう「光量ローカリティ」の形態も考えられる。この光量ローカリティは、各種収差やアラインメントずれのほか、ＤＭＤ３６と露光面の間の光学要素(例えば１枚のレンズである図５のレンズ５２および５４)の透過率の位置依存性や、ＤＭＤ３６を照明する照明光量のローカリティに起因して生じる。
【０１０３】
これらの歪みによる描画画像のムラも、使用画素の選択による効果の他に、２重露光による露光パターンの重ね合わせの効果によって、均すことが可能である。
【０１０４】
また、上記の露光装置１０の変更例として、Ｎが２以上の場合に、使用可能なマイクロミラーのうち、（Ｎ−１）本おきの画素列を構成するマイクロミラー、または全画素数の１／Ｎ画素数に相当する互いに隣接する画素の群を構成するマイクロミラーのみを使用して、理想的な１重露光に近い状態を実現できるように露光する参照露光を行い、上記参照露光に使用されたマイクロミラー中の、本露光に使用しないマイクロミラーを特定することとしてもよい。すなわち、本露光に使用しないマイクロミラーを特定することにより、上記参照露光に使用された画素であるマイクロミラーのうちの本露光に使用するマイクロミラーを特定することができる。
【０１０５】
図２０は、Ｎが２以上の場合に、（Ｎ−１）本おきの画素列を構成するマイクロミラーのみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。この例では、本露光は２重露光とするものとし、したがってＮ＝２である。まず、図２０の（Ａ）に実線で示した奇数列目の光点列に対応するマイクロミラーのみを使用して、参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。出力された参照露光結果に対し、操作者は、目視により解像性や濃度のむらを確認したり、実傾斜角度を推定したりすることで、解像性や濃度のむらを最小限に抑えた本露光が実現できるように、本露光において使用するマイクロミラーを指定することができる。たとえば、図２０の（Ｂ）に斜線で覆って示す光点列に対応するもの以外のマイクロミラーが、奇数列目の画素列を構成するマイクロミラーのうち本露光において実際に使用されるものとして指定され得る。偶数列目の画素列については、別途同様に参照露光を行って、本露光に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、奇数列目の画素列に対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。このようにして本露光に使用するマイクロミラーを指定することにより、奇数列目および偶数列目の双方のマイクロミラー列を使用した本露光においては、理想的な２重露光に近い状態が実現できる。なお、参照露光結果の分析は、操作者の目視によるものに限らず、機械的な分析であってもよい。
【０１０６】
図２１は、Ｎが２以上の場合に、全画素数の１／Ｎ本に相当する互いに隣接する画素行の群を構成するマイクロミラーのみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。この例では、本露光は２重露光とするものとし、したがってＮ＝２である。まず、図２１の（Ａ）に実線で示した１行目から１２８（＝２５６／２）行目の光点に対応するマイクロミラーのみを使用して、参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。出力された参照露光結果に対し、操作者は、目視により解像性や濃度のむらを確認したり、実傾斜角度を推定したりすることで、解像性や濃度のむらを最小限に抑えた本露光が実現できるように、本露光において使用するマイクロミラーを指定することができる。たとえば、図２１の（Ｂ）に斜線で覆って示す光点列に対応するもの以外のマイクロミラーが、１行目から１２８行目のマイクロミラーのうち本露光において実際に使用されるものとして指定され得る。１２９行目から２５６行目のマイクロミラーについては、別途同様に参照露光を行って、本露光に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、１行目から１２８行目のマイクロミラーに対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。このようにして本露光に使用するマイクロミラーを指定することにより、全体のマイクロミラーを使用した本露光においては、理想的な２重露光に近い状態が実現できる。なお、参照露光結果の分析は、操作者の目視によるものに限らず、機械的な分析であってもよい。
【０１０７】
以上の実施形態および変更例は、いずれも本露光を２重露光とする場合について説明したが、これに限られず、２重露光以上のいかなる多重露光としてもよい。特に３重露光から７重露光程度とすることにより、高解像性の確保と、解像性および濃度のむらの軽減の効果のバランスがよい露光とすることができる。
【０１０８】
また、上記の実施形態および変更例に係る露光装置には、さらに、画像データが表す２次元パターンの所定部分の寸法が、選択された使用画素により実現できる対応部分の寸法と一致するように、画像データを変換する機構が設けられていることが好ましい。そのように画像データを変換することによって、所望の２次元パターンどおりの高精細なパターンを露光面上に形成することができる。
【０１０９】
なお、上記実施の形態の説明においては、移動手段等、各部の駆動機構は省略しているが、これらの駆動機構としては従来より知られているものを用いることができ、例えば、スライド機構としてはレール上に移動台を移動させるボール・レールシステム、あるいはエアスライドシステム等を採用することができ、回転機構としてはボールベアリング、空気軸受等を採用することができ、駆動力伝達機構としては、カム機構、リンク機構、ラック・ピニオン機構、ボールネジ・ボールブッシュ機構、エアスライド機構、あるいはピストン・シリンダ機構等を採用することができる。また、駆動原としては、モータ、油圧アクチュエータ、空圧アクチュエータ等を採用することができる。
【０１１０】
上記露光装置１０は本発明の描画装置の１例であり、本発明の描画装置は、描画面をＮ重描画（Ｎは２以上の自然数）により描画し、画像データが表す２次元パターンを該描画面上に形成するものであって、２次元状に配された多数の使用可能画素を有し前記画像データに応じて前記２次元パターンを構成する描画点群を発生させる画素アレイ、すなわち上記描画面上に上記２次元パターンを表す画素描画点を描画するための画素アレイを備えた、描画ヘッドであって、前記使用可能画素の画素列方向と上記描画ヘッドの走査方向が所定の設定傾斜角度をなす描画ヘッドを有するものであり、上記描画装置は、さらに、前記描画ヘッドに対して前記描画面を前記走査方向に相対移動させる移動手段と、前記描画ヘッドが有する前記多数の使用可能画素のうち、前記Ｎ重描画に使用する使用画素を指定する使用画素指定手段と、前記描画ヘッドの有する前記使用可能画素のうちの前記指定した使用画素のみを実動させるように設定を変更する設定変更手段とを備えている。
【０１１１】
なお、描画点群を発生させる画素アレイは、ＤＭＤ中に配列された多数のマイクロミラーとすることができ、上記配列された多数のマイクロミラーが、各マイクロミラーの露光・非露光状態に応じて、これらのマイクロミラーから描画点群である光束群を射出し露光面を露光する、すなわち描画面上に画素描画点を描画する。また、本実施の形態とは異なる画素アレイとしては、インクジェット方式用に配列された多数のノズルを挙げることができる、上記配列された多数のノズルが、各ノズルの描画・非描画状態に応じて、これらのノズルから描画点群であるインク粒子群を噴射し描画面を描画する、すなわち描画面上に画素描画点を描画する。
【０１１２】
なお、前記「使用可能画素の画素列方向と描画ヘッドの走査方向が所定の設定傾斜角度をなす」とは、「使用可能画素の画素列方向と描画ヘッドに対する描画面の相対的な走査方向とのなす角度が所定の設定傾斜角度をなすこと」を意味するものであり、上記所定の設定傾斜角度は、上記画素列を構成する各画素を介して描画面上に描画した各画素描画点からなる画素描画点列の延びる方向と上記描画ヘッドに対する上記描画面の走査方向との成す角度によって示すことができる。
【０１１３】
また、描画ヘッドの画素アレイは、上記描画面上に２次元パターンを表す画素描画点を描画するための各光束を、上記画素アレイを構成する各画素に対応させて描画面に向けて射出させるためのものとすることができる。この場合、使用画素指定手段は、前記各光束の照射を受けて描画面上に形成された画素描画点の位置の検出に基づいて上記画素アレイ中の画素の位置を取得する。
【０１１４】
また、使用画素指定手段は、位置検出手段と選択手段とを備えたものとすることができる。そして、前記位置検出手段は、予め定められた設計上のＮ重描画を行なったときに、画素アレイを構成する各画素列間のつなぎ部分に対応する描画が冗長となった部分、あるいは上記各画素列間のつなぎ部分に対応する描画が不足となった部分を特定するものとすることができる。また、前記選択手段は、上記特定された描画冗長分および描画不足分に対応する画素を特定し、描画冗長分の画素を除去したり描画不足分の画素を補填したりして上記描画冗長分および描画不足分が無くなるように、画素アレイ中の本露光に使用する使用画素を使用可能画素の中から選択するものとすることができる。
【０１１５】
また、上記前記選択手段は、前記描画冗長分の画素描画点の数が最小となり、前記描画不足分の画素描画点が無くなるように、画素アレイ中の本露光に使用する画素である使用画素を選択するものとすることもできる。
【０１１６】
また、上記前記選択手段は、前記描画冗長分の画素描画点が無くなり、前記描画不足分の画素描画点の数が最小となるように、画素アレイ中の本露光に使用する画素である使用画素を選択するものとすることもできる。
【０１１７】
ここで、上述の実傾斜角度θ’の導出を介さずに使用可能なマイクロミラーのうちのＮ重描画に使用する使用画素を指定する使用画素指定手段の形態について説明する。
【０１１８】
以下に説明する使用画素指定手段の形態は、使用可能なマイクロミラーのうち、（Ｎ−１）本おきの画素列を構成するマイクロミラー、または全画素行数の１／Ｎ本に相当する互いに隣接する画素行の群を構成するマイクロミラーのみを使用して、理想的な１重露光に近い状態を実現できるように露光する参照露光を行い、上記参照露光に使用したマイクロミラーのうちの本露光に使用しないマイクロミラーを指定する場合等に適用することができる。
【０１１９】
なお、以下の説明においては、露光面上に投影された光点であって、実際に描画が行われれば描画点となる点を画素描画点と表記して説明する。
【０１２０】
図２２はつなぎ部ずれ量を取得する際に露光面上へ描画した画素描画点によって形成したＸ方向に延びる直線を示す図であり、図２２（ａ）は上記つなぎ部ずれ量が生じていない状態を示す図、図２２（ｂ）は上記つなぎ部ずれ量が生じ描画が冗長となった状態を示す図、図２２（ｃ）は上記つなぎ部ずれ量が生じ描画が不足している状態を示す図である。また、図２３は画素アレイ中の互いに隣り合う画素列を構成するマイクロミラーのつなぎ部ずれ量を取得する際の画素列の状態と上記画素列によって描画された直線との対応を示す図、図２４はつなぎ部ずれ量を取得する際に露光したＸ軸方向に延びる直線の一部を示図、図２５はリファレンススケールを示す図である。なお、図２３はつなぎ部ずれ量が生じていない状態を示す図である。
【０１２１】
上記実傾斜角度θ’の導出を介さずに使用するマイクロミラーを指定する方式は、Ｎ重露光に使用する設計通りの理想的に配列された画素で構成される画素アレイ中の互いに隣り合う画素列間のつなぎ部分を基準とした、実際の画素列間のつなぎ部分のずれ量であるつなぎ部ずれ量を得、このつなぎ部ずれ量に基づいて使用するマイクロミラー（すなわち使用画素）を指定するものである。上記つなぎ部ずれ量は、描画が冗長となる分の画素描画点の数、あるいは描画が不足となる分の画素描画点の数に応じて定めることができる。
【０１２２】
上記つなぎ部ずれ量を取得する際には、露光ヘッド中のＮ重露光に使用する設計上の画素のうちの、（Ｎ−１）本おきに画素列を構成するマイクロミラーのみを使用して、露光面上に露光される画素描画点が上記走査方向（Ｙ軸方向）と直交するＸ軸方向に並ぶ直線を形成するように露光を行う。上記露光面上に露光するＸ軸方向に延びる直線は、画素描画点１つ分の太さであってもよいし。画素描画点２つ分以上の太さであってもよい。なお、上記Ｎ重露光において（Ｎ−１）本おきの画素列を構成するマイクロミラーのみを使用する露光方式を以下「間引き参照露光」という。以下、間引き参照露光を行うものとして説明する。
【０１２３】
また、露光ヘッドによる描画については、描画が冗長となる部分に対して想定される最大のつなぎ部ずれ量（以下「想定つなぎ部ずれ量」という）分の画素描画点の数を超える数のマイクロミラーを使用しないように、すなわち非露光状態にして露光を行う。上記想定つなぎ部ずれ量分のマイクロミラーの数とは、Ｎ重露光に使用する互いに隣接する画素列を構成する画素によって、露光面上の走査方向に重複描画されると想定される画素描画点の数に対応するものである。
【０１２４】
以下、上記互いに隣接する画素列によって描画された画素描画点に基づいて実際のつなぎ部ずれ量を取得する場合について、上記図２２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、および、図２３を参照して説明する。
【０１２５】
互いに異なる描画単位である画素列Ｓａ、Ｓｂのつなぎ部ずれ量を測定する場合には、描画単位である各画素列Ｓａ、Ｓｂそれぞれの縁Ｆａ、Ｆｂを間に挟んで互いに隣接するように描画されるべき各画素列Ｓａ、Ｓｂ中のそれぞれの画素のうちの少なくともいずれか一方を含み上記画素列に沿って並ぶ予め定められた数の連続する画素からなる空白画素Ｓａ（１６，ｅ）〜Ｓａ（２０，ｅ）による５画素分描画を行うことなく、上記空白画素Ｓａ（１６，ｅ）〜Ｓａ（２０，ｅ）の両側に隣接する空白隣接画素Ｓａ（１５，ｅ）およびＳｂ（１，ｅ＋１）による描画を行なう。そして、露光面上に描画された各空白隣接画素にＳａ（１５，ｅ）およびＳｂ（１，ｅ＋１）よって描画された画素描画点Ｑａ（１５，ｅ）およびＱｂ（１，ｅ＋１）間に挿入可能な画素描画点の数と前記空白画素Ｓａ（１６，ｅ）〜Ｓａ（２０，ｅ）の数とを比較して、画素列Ｓａおよび画素列Ｓｂ間におけるつなぎ部ずれ量を得るものである。
【０１２６】
なお、図２２（ａ）に示すつなぎ部の状態が図２３に示すつなぎ部の状態に対応しており、両者共につなぎ部にずれが生じていない状態を示す図である。また、図２２（ｂ）は描画が冗長となる状態でつなぎ部にずれが生じた様子を示しており、図２２（ｃ）は描画が不足となる状態でつなぎ部にずれが生じた様子を示している。
【０１２７】
上記予め定められた数の画素からなる空白画素Ｓａ（１６，ｅ）〜Ｓａ（２０，ｅ）は、上記想定つなぎ部ずれ量を少し超える画素数によって構成されるものである。なお、図２３の画素列Ｓａ中の白丸の画素はその画素（マイクロミラー）により露光面上に露光が行われない状態であることを示しており、他の黒丸の画素はその画素（マイクロミラー）により露光面上に露光が行われる状態であることを示している。
【０１２８】
上記空白画素描画点群は、画素描画点列Ｑａ中にのみ配置されるようにしてもよいし、画素描画点列Ｑｂ中にのみ配置されるようにしてもよい。あるいは、画素描画点列Ｑａと画素描画点列Ｑｂとに亘って配置されるようにしてもよい。
【０１２９】
図２３の下部および図２４に上記のようにして露光面上に描画したＸ軸方向に延びる直線を示す。直線部分Ｌａが画素アレイ中の画素列Ｓａにより露光された領域であり、直線部分Ｌｂが画素アレイ中の画素列Ｓｂにより露光された領域である。直線部分Ｌｅは想定つなぎ部ずれ量に対応した画素数のマイクロミラー、すなわち空白画素Ｓａ（１６，ｅ）〜Ｓａ（２０，ｅ）に対応するマイクロミラーによる非露光の直線部分を示している。すなわち、直線部分Ｌｅは図２２に示す空白画素描画点群Ｊに対応するものである。
【０１３０】
そして、上記のように想定つなぎ部ずれ量に対応したマイクロミラーを非露光状態にして露光面を露光するとともに、別途、露光ヘッドによって、図２５に示すような、リファレンススケールＬｓを露光する。リファレンススケールＬｓは、画素アレイ中の１つの画素列を構成するマイクロミラーによって露光したＸ軸方向に延びる直線であって、ｎ個、ｎ＋１個、ｎ＋２個、ｎ＋３個、ｎ−１個、ｎ−２個およびｎ−３個からなる画素（マイクロミラー）を非露光状態とし、上記非露光状態の画素（マイクロミラー）に隣接する画素（マイクロミラー）を露光状態にした描画により非露光の直線部分Ｌ（ｎ）、Ｌ（ｎ＋１）、Ｌ（ｎ＋２）、Ｌ（ｎ＋３）、Ｌ（ｎ−１）、Ｌ（ｎ−２）およびＬ（ｎ−３）を形成したものである。
【０１３１】
そして、リファレンススケールＬｓにおける各直線部分Ｌ（ｎ）の画素描画点の数（ｎ）は、想定つなぎ部ずれ量に対応したマイクロミラーの数（ここではｎ＝５）と同じ数に設定されており、直線部分Ｌｅの長さとリファレンススケールＬｓ中の各直線部分Ｌ（ｎ−３）〜Ｌ（ｎ＋３）とを比較することにより上記つなぎ部ずれ量に対応するマイクロミラーの数を取得することができる。
【０１３２】
例えば、直線部分Ｌｅの長さが直線部分Ｌ（ｎ）と同じ長さであれば、上記つなぎ部ずれ量は０である。そして、直線部分Ｌｅの長さが直線部分Ｌ（ｎ−３）と同じ長さであれば、上記つなぎ部ずれ量に対応するマイクロミラーの数は−３個である。すなわち、画素列Ｓａと画素列Ｓｂとがマイクロミラー３個分、すなわち３画素分重複していることになる。したがって、画素列Ｓａおよび画素列Ｓｂのうちのつなぎ部分における３個分のマイクロミラーを非露光状態とし使用しないように使用画素を指定して露光を行なうことにより、上記画素描画点列間のつなぎ部分のむらを抑制することができる。
【０１３３】
また、例えば、直線部分Ｌｅの長さが直線部分Ｌ（ｎ＋２）と同じ長さであれば、上記つなぎ部ずれ量に対応するマイクロミラーの数は+２個であり、画素列Ｓａと画素列Ｓｂとがマイクロミラー２個分離れており、２画素分が不足していることになる。したがって、画素列Ｓａおよび画素列Ｓｂのうちのつなぎ部分に２画素分加えるように、２個分のマイクロミラーを新たに使用画素に指定して露光を行なうことにより、上記画素描画点列間のつなぎ部分のむらを抑制することができる。
【０１３４】
上記のように、上記各画素列間のつなぎ部分に対応する描画が冗長となった部分あるいは上記予め定められた設計上のＮ重描画を行なったときに描画が不足となった部分を示す上記各直線部分Ｌａ（Ｌｅ）、Ｌｂ，Ｌ（ｎ）の画像、および、リファレンススケールを構成する各直線部分Ｌ（ｎ±１）・・・の画像を取得する。
【０１３５】
そして、上記各直線部分の画像を示す情報に基づいて、描画が冗長となった部分あるいは描画が不足となった部分におけるつなぎ部ずれ量を取得し、上記描画冗長分および描画不足分が補償されるように、画素アレイ中の本露光に使用する画素である使用画素を使用可能画素の中から選択する。すなわち、つなぎ部分にムラが生じないように、使用可能画素中の不使用画素を特定し、上記特定された不使用画素を除いた画素を使用画素として選択する。
【０１３６】
そして、上記使用画素（不使用画素）を示す情報に基づいて、使用可能画素のうちの上記選択した使用画素のみを実動させるように設定する。その後、上記設定により上記本露光を実行する。
【０１３７】
なお、上記直線部分Ｌｅの長さと直線部分Ｌ（ｎ）、Ｌ（ｎ±１）・・・の長さの比較は目視で行うようにしてもよいし、あるいは、上記とは異なる形式の所定の装置により行なうようにしてもよい。
【０１３８】
さらに、上記の実施形態、および変更例に係る露光装置では、光源からの光を画素ごとに変調するＤＭＤを画素アレイとして用いたが、これに限られず、ＤＭＤ以外の液晶アレイ等の光変調素子や、光源アレイ（たとえば、ＬＤアレイ、ＬＥＤアレイ、有機ＥＬアレイ等)を使用してもよい。
【０１３９】
また、上記の実施形態、および変更例に係る露光装置の動作形態は、露光ヘッドを常に移動させながら連続的に露光を行う形態であってもよいし、露光ヘッドを段階的に移動させながら、各移動先の位置で露光ヘッドを静止させて露光動作を行う形態であってもよい。
【０１４０】
さらに、本発明は、露光装置および露光方法に限らず、描画面をＮ重描画（Ｎは１以上の自然数）により描画し、画像データが表す２次元パターンを描画面上に形成する描画装置および描画方法であれば、いかなる装置および方法にも適用可能である。一例としては、たとえばインクジェットプリンタやインクジェット方式のプリント方法が挙げられる。すなわち、一般にインクジェットプリンタのインクジェット記録ヘッドには、記録媒体(たとえば記録用紙やＯＨＰシートなど)に対向するノズル面に、インク滴を吐出するノズルが形成されているが、インクジェットプリンタのなかには、このノズルを格子状に複数配置し、ヘッド自体を走査方向に対して傾斜させて、Ｎ重描画により画像を記録可能なものがある。このような２次元配列が採用されたインクジェットプリンタにおいて、ヘッド自体の実際の傾斜角度が理想の傾斜角度からずれていたり、ノズル自体の配置誤差等によってパターン歪みが存在しても、本発明を適用することにより、ヘッドの取付角度誤差やパターン歪みの影響が最小限に抑えられる数のノズルを実際に使用するノズルとして指定することで、描画画像上のムラを軽減することができる。さらに、２重以上の多重描画を実施すれば、多重露光による埋め合わせの効果で、他の要因によるムラを均すことができるので、記録画像に生じる解像性や濃度のムラをさらに軽減することができる。
【０１４１】
また、上記において詳細に説明した本発明の各実施形態は例示的なものに過ぎず、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲のみによって定められるべきものであることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【０１４２】
【図１】本発明の描画装置の一実施形態である露光装置の外観を示す斜視図
【図２】図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図
【図３】（Ａ）は感光材料の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図
【図４】図１の露光装置の露光ヘッドの概略構成を示す斜視図
【図５】図１の露光装置の露光ヘッドの詳細な構成を示す平面図および側面図
【図６】図１の露光装置のＤＭＤ構成を示す部分拡大図
【図７】ＤＭＤの動作を説明するための斜視図
【図８】ファイバアレイ光源の構成を示す斜視図
【図９】ファイバアレイ光源のレーザ出射部における発光点の配列を示す正面図
【図１０】画素アレイ中の画素列の走査方向に対する傾き角の誤差と描画画像に表れるムラについて説明した図であって、（Ａ）は傾き角の誤差がない場合、（Ｂ）は傾き角が設定傾斜角度より小さい場合、（Ｃ）は傾き角が設定傾斜角度よりも大きい場合、それぞれ示す説明図
【図１１】画素アレイ中の画素列の走査方向に対する傾き角にバラツキがある場合に、描画画像に現われるムラについての説明図
【図１２】スワスムラの現われ方の詳細の説明図
【図１３】１つのＤＭＤによる露光エリアと、対応するスリットとの位置関係を示す図
【図１４】露光面上の光点の位置を、スリットを用いて測定する方法の説明図
【図１５】選択された使用画素のみが実働され、露光面上のパターンに生じるムラが改善された状態を示す説明図
【図１６】２重露光を実施する場合の、ある代表領域での描画画像に現われるムラの一例を示す説明図
【図１７】図１６の代表領域に対して選択された使用画素のみが実働されたときの、露光面上のパターンに生じるムラを示す説明図
【図１８】多重露光において、選択された使用画素のみが実働され、露光面上のパターンに生じるムラが改善された状態を示す説明図
【図１９】種々のパターン歪みの例を示した説明図であって、（Ａ）は倍率歪みの例を、（Ｂ）はビーム径歪みの例を示す説明図
【図２０】参照露光の一例を示した説明図
【図２１】参照露光の一例を示した説明図
【図２２】つなぎ部ずれ量を取得する際に露光面上へ描画された画素描画点によって形成された直線を示す図
【図２３】つなぎ部ずれ量を取得する際のマイクロミラーの状態と画素描画点で形成された直線部分との対応を示す図、
【図２４】つなぎ部ずれ量を取得する際に露光したＸ軸方向に延びる直線部分を示す図
【図２５】リファレンススケールを示す図
【符号の説明】
【０１４３】
１０    露光装置
１２    感光材料
１４    移動ステージ
１８    設置台
２０    ガイド
２２    ゲート
２４    スキャナ
２６    センサ
２８    スリット
３０    露光ヘッド
３２    露光エリア
３６    ＤＭＤ
３８    ファイバアレイ光源
１４０  使用画素指定手段
１５０  設定変更手段
１６０  コントローラ
【図１】
2006306006.tif 000009
【図２】
2006306006.tif 000010
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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