(57)【要約】      （修正有）【課題】複数の回路ブロックを接続して使用する、高周波モジュールなどとしても好適な回路デバイスを提供する。【解決手段】略中央にフレキシブル配線部１５を有し、領域ＢＬ１の最下層に電磁シールド層１４ｂ−１と、領域ＢＬ２の最下層にグリッドランド１４ｂ−２とを設けた４層フレックスリジッド基板１０の、領域ＢＬ１に電子部品２１ａ〜２１ｅを実装して高周波信号処理回路を形成した第１の回路ブロックと、領域ＢＬ２に電子部品２２ａ〜２２ｃを実装して中間周波信号処理回路を形成した第２の回路ブロックとを設けた後、電磁遮蔽効果を付与された封止樹脂２３を電子部品２１ａ〜２１ｅ，２２ａ〜２２ｃの実装面全面に塗布した後、フレキシブル配線部１５で折り畳み電磁シールド層が上面でグリッドランドが下面に配されるようにして加熱硬化し、電子部品間の相互干渉と外からの電磁的影響を受けにくい回路デバイスとした。【選択図】図１
2006073683.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の回路ブロックを有する回路デバイスにおいて、
フレキシブル性を有する絶縁シート上に、第１の配線パターンを形成し、該第１の配線パターンと電気的に接続され分割配置された複数のパターンからなる第２の配線パターンを形成し、
前記絶縁シートの他の面で前記第２の配線パターンと対応する領域に、複数のパターンからなる第３の配線パターンを形成するとともに、該第３の配線パターンと前記第２の配線パターンとを前記導通穴を介して電気的に接続し、
前記第３の配線パターン上に電子部品を実装することにより、分割配置された前記回路ブロックを形成し、
前記絶縁シートの前記電子部品の実装面の側を内側とし、前記第２の配線パターンを外側として回路ブロックを折り畳み重ね、
折り畳まれた複数の前記回路ブロックの間隙に電磁遮蔽効果を有する絶縁性樹脂を充填した
ことを特徴とする回路デバイス。
【請求項２】
請求項１に記載の回路デバイスにおいて、
前記回路ブロックを２つ有し、
前記第１の配線パターンが第１のフレキシブル配線部をなすとともに、
前記第２の配線パターンが外層配線パターンで、前記第３の配線パターンが内層配線パターンをなし、
２つの前記回路ブロックの前記電子部品の実装面の側を内側とし、前記第１のフレキシブル配線部を外側としＵの字状に折り畳む
ことを特徴とする回路デバイス。
【請求項３】
請求項２に記載の回路デバイスにおいて、
折り畳まれたとき、対向する前記回路ブロックの前記内層配線パターン同士を接続するとともに、所望の間隙を設ける導体スペーサを備えた
ことを特徴とする回路デバイス。
【請求項４】
請求項２に記載の回路デバイスにおいて、
２つの前記回路ブロックの前記外層配線パターン及び前記第１のフレキシブル配線部で電磁シールド層を形成した
ことを特徴とする回路デバイス。
【請求項５】
請求項２に記載の回路デバイスにおいて、
２つの前記回路ブロックが折り畳まれた状態で、前記第１のフレキシブル配線部の配設部とは反対側の２つの前記回路ブロックの端面同士を、低融点金属ろう材で接合した
ことを特徴とする回路デバイス。
【請求項６】
請求項２に記載の回路デバイスにおいて、
前記回路ブロックの端部に第２のフレキシブル配線部を形成し、
該第２のフレキシブル配線部の配線パターンに他の回路との接続端子を設けた
ことを特徴とする回路デバイス。
【請求項７】
請求項２に記載の回路デバイスにおいて、
前記回路ブロックの端部にグランド層を延長した第３のフレキシブル配線部を形成し、
該第３のフレキシブル配線部を前記電子部品の実装面の側に折り畳み、前記外層配線パターン及び前記第１のフレキシブル配線部による電磁シールド層を設けた
ことを特徴とする回路デバイス。
【請求項８】
複数の回路ブロックを有する回路デバイスの製造方法において、
絶縁シートに、第１の配線パターンを形成する工程と、
分割配置された回路ブロックを形成するための第２、第３の配線パターンを形成するための絶縁層と銅箔を積層する工程と、
前記第１、第２、第３の配線パターンの必要な箇所を接続する導通孔を形成する工程と、
前記第２、第３の配線パターンを形成する工程と前記第２の配線パターン上にソルダーレジストを形成する工程と、
前記第３の配線パターン上に電子部品を実装する工程と、により分割配置された前記第２の配線パターンと前記第３の配線パターンに複数の回路ブロックを形成し、
前記絶縁シートの前記電子部品の実装面の側を内側とし、前記第２の配線パターンを外側として折り畳む工程と、
折り畳まれた複数の前記回路ブロックの前記電子部品の実装面の側に、電磁遮蔽効果を有する絶縁性樹脂を充填する工程と、
該絶縁性樹脂を加熱硬化させる工程とからなることを特徴とする回路デバイスの製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の回路デバイスの製造方法において、
前記絶縁シートがポリイミド樹脂からなり、
電磁遮蔽効果を有する絶縁性樹脂がフェライトパウダー及びセラミックパウダーを分散させたエポキシ樹脂である
ことを特徴とする回路デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コネクターを用いないで複数の回路ブロックを接続して使用する、特に高周波用として使用するのに好適な回路デバイス及び回路デバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば２つの回路ブロックを接続して使用する方法には、それぞれの回路ブロックが実装された２つの配線板上に設けられたコネクター同士をフレキシブルケーブル基板などで接続する方法と、コネクターを用いずフレキシブル部を有する配線基板上に２つの回路ブロックをそれぞれ実装しフレキシブル部の柔軟性を活用して製品内の狭いスペースに配設する方法などがあり、これらは電気製品の組立てにおいて一般的に行われる。後者の例としては、特許文献１に開示されているものが知られている。
また、例えば、セラミックパッケージなどの配線基板にＩＣチップなどが実装されて、所定の機能を実現するようになされている回路デバイスなどでは、複数個接続するとき、この回路デバイスを上下に重ね合わせ、はんだなどでそれぞれの回路デバイスに設けられている上下の端子同士を接続する形態のものが量産化されている。
【特許文献１】特開２００１−３５８４２２号公報（図５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、コネクターはコストがかかる上、配線板上に実装スペースを要するため小形化に不利であるだけでなく振動などに弱いという不都合があり、フレキシブルケーブルを用いた薄型のコネクターも有るが、コスト、スペース、接続信頼性の点で十分満足できるものではなかった。
また、フレキシブル部が一体に配線板の２つの回路ブロックと接続される構成では、回路ブロック間の接続信頼性の点では問題無いが、電磁的障害に敏感な回路などが実装されている場合、回路ブロック間の電磁干渉が問題となり、そのまま折り曲げて使用することはできず、シールドケースなどが必要となる。このシールドケースは面積と厚みを要するため小形化しにくく、また一般に採用される金属板によるシールドケースでは、熱吸収が良いためはんだ付け温度が十分上がらないことに起因するはんだ接続不良のおそれもあった。
【０００４】
本発明はかかる点に鑑み、コネクターを用いないで２つ以上の回路ブロックを接続して使用し、実装面積を狭小化された回路デバイス及び回路デバイスの製造方法を提案するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明は、複数の回路ブロックを有する回路デバイスにおいて、例えば折り曲げ可能なポリイミド樹脂による絶縁シートの一面に、第１の配線パターンを形成し、この第１の配線パターンと電気的に接続され回路ブロック毎に分割配置されたパターンからなる第２の配線パターンを形成し、絶縁シートの他の面で第２の配線パターンと対応する領域に、他のパターンと接続され分割配置されたパターンからなる第３の配線パターンを形成し、第３の配線パターン上に電子部品を実装することにより、分割配置された複数の回路ブロックを形成し、電子部品の実装面の側を内側として折り畳み、折り畳まれた複数の回路ブロックの間隙に電磁遮蔽効果を有する絶縁性樹脂、例えばフェライトパウダー及びセラミックパウダーを分散させたエポキシ系の樹脂を充填したものである。
【０００６】
このように構成した本発明の回路デバイスによれば、複数の回路ブロックがその間に配設される複数の第１の配線パターンにより電気的に接続され、第３の配線パターンに実装された電子部品を内側に配設させ、複数の回路ブロックを巻くようにして折り畳み、複数の回路ブロックの間隙に電磁遮蔽効果を有する絶縁性樹脂を充填して実装される電子部品の相互干渉を防止することができる。
また、電子部品を回路ブロックに実装した時点で動作などの性能検査を行うことができるので、折り畳んで回路デバイスとする前に不良を除去することができ、電子部品を内蔵させた回路デバイスを歩留り良く安価に生産することができる。
また、電子部品間がエポキシ樹脂を基材とした絶縁性樹脂で充填されるため、絶縁性が向上し、回路デバイスとしての信頼性が向上する。
さらに、絶縁性樹脂に窒化アルミニウムおよび窒化ホウ素などを含有した樹脂を用いる事により電子部品からの発熱を回路デバイス全体に拡散することができるので、熱放散特性を大幅に改善することができる。
【０００７】
また、本発明は上記記載の回路デバイスにおいて、回路ブロックを２つ有し、第１の配線パターンが第１のフレキシブル配線部をなすとともに、第２の配線パターンが外層配線パターンで、第３の配線パターンが内層配線パターンをなし、２つの回路ブロックの電子部品の実装面の側を内側とし、第１のフレキシブル配線部を外側としＵの字状に折り畳むようにしたものである。
【０００８】
このように構成した本発明の回路デバイスによれば、内層配線パターン側となる２つの回路ブロックの電子部品実装面の側が対向配置され、この２つの回路ブロック間をＵの字状に折り曲げられた第１のフレキシブル配線部をなす第１の配線パターンで電気的に接続するとともに、外層配線パターンで回路ブロックを覆う構成とすることができ、また、２つの回路ブロック間に電磁遮蔽効果を有する絶縁性樹脂を充填し、実装されている電子部品間の相互干渉を効果的に防止することができる。
【０００９】
また、本発明は上記記載の回路デバイスにおいて、折り畳まれたとき、対向する回路ブロックの内層配線パターン同士を接続するとともに、所望の間隙を設ける導体スペーサを備えたものである。
【００１０】
このように構成した本発明の回路デバイスによれば、折り畳みの際、実装される電子部品と、この電子部品が実装される配線パターンの接続部とに余分な応力集中が発生しないだけでなく、２つの回路ブロック間の電気的接続を第１の配線パターン（第１のフレキシブル配線部）とは別に行うことができ、回路ブロックの回路設計や電子部品の実装設計が容易となる。
【００１１】
また、本発明は上記記載の回路デバイスにおいて、２つの回路ブロックの外層配線パターン及び第１のフレキシブル配線部で電磁シールド層を形成したものである。
【００１２】
このように構成した本発明の回路デバイスによれば、２つの回路ブロック間に充填された絶縁性で電磁遮蔽効果を有する樹脂により実装されている電子部品間の相互干渉を効果的に防止することに加え、回路ブロックの外部との電磁気的影響の授受を起こしにくくすることができ、高周波を扱う場合でも誤動作することのない回路ブロックとすることができる。
【００１３】
また、本発明は上記記載の回路デバイスにおいて、２つの回路ブロックが折り畳まれた状態で、第１のフレキシブル配線部の配設部とは反対側の２つの回路ブロックの端面同士を、低融点金属ろう材または導電接着剤で接合したものである。
【００１４】
このように構成した本発明の回路デバイスによれば、折り畳まれた２つの回路ブロック間に充填された樹脂のみの場合と比べ、外部の温度によっても外形の寸法安定性を確保することができる。
【００１５】
また、本発明は上記記載の回路デバイスにおいて、回路ブロックの端部に第２のフレキシブル配線部を形成し、この第２のフレキシブル配線部の配線パターンに他の回路との接続端子を設けたものである。
【００１６】
このように構成した本発明の回路デバイスによれば、２つの回路ブロック及び第１のフレキシブル配線部の作製と同時に回路ブロックの端部に延設した第２のフレキシブル配線部により、第２のフレキシブル配線部の先端あるいは途中の配線パターンの金属部により他の回路と電気的接続を行わせることができる。
【００１７】
また、本発明は上記記載の回路デバイスにおいて、回路ブロックの端部にグランド層を延長した第３のフレキシブル配線部を形成し、この第３のフレキシブル配線部を電子部品の実装面の側に折り畳み、外層配線パターン及び第１のフレキシブル配線部による電磁シールド層を設けたものである。
【００１８】
このように構成した本発明の回路デバイスによれば、２つの回路ブロック及び第１のフレキシブル配線部の作製と同時に回路ブロックの端部に延設した第３のフレキシブル配線部に電磁シールド層を設け、その第３のフレキシブル配線部で一方の回路ブロックを覆うように配設してから他方の回路ブロックを折り畳むことで、２つの回路ブロックのそれぞれに実装された電子部品間での電磁気的影響をさらに低減でき、しかも電源およびグランドの面積を広くする事ができるので、安定した動作を行なわせることができる。
【００１９】
複数の回路ブロックを有する回路デバイスの製造方法において、例えばポリイミド樹脂による絶縁シートに、第１の配線パターンを形成する工程と、分割配置された回路ブロックを形成するための第２、第３の配線パターンを形成するための絶縁層と銅箔を積層する工程と、第１、第２、第３の必要な箇所を接続する導通孔を形成する工程と、第２、第３の配線パターンを形成する工程と配線パターン上にソルダーレジストを形成する工程と、第３の配線パターン上に電子部品を実装する工程と、により分割配置された第２の配線パターンと第３の配線パターンに複数の回路ブロックを形成し、絶縁シートの電子部品の実装面の側を内側とし、第１の配線パターンを外側として折り畳む工程と、折り畳まれた複数の回路ブロックの電子部品の実装面の側に、電磁遮蔽効果を有する絶縁性樹脂、例えばフェライトパウダー及びセラミックパウダーを分散させたエポキシ樹脂を充填する工程と、この絶縁性樹脂を加熱硬化させる工程とからなるものである。
【００２０】
このように構成した本発明の回路デバイスの製造方法によれば、１枚の絶縁シートの両面にフォトリソグラフィ法や印刷法などにより、例えば銅めっきや導電性ペーストなどの導体による配線パターンを形成するとともに、両面の配線パターン間を電気的に接続したのち電子部品を実装して複数の回路ブロックを形成することができ、このとき回路ブロック間が絶縁シートの一面に配される第１の配線パターンにより電気的に接続されるとともに、この第１の配線パターンで複数の回路ブロックを折り畳み、複数の回路ブロック間に絶縁性で電磁遮蔽効果を有する樹脂を充填して硬化させ、実装される電子部品の相互作用の小さい回路デバイスを作製することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の回路デバイス及び回路デバイスの製造方法によれば、電子部品を回路ブロックに実装した時点で動作などの性能検査を行い、折り畳んで回路デバイスとする前に不良を除去することができるため、電子部品を内蔵させた回路デバイスを歩留り良く安価に生産することができる。また、電子部品間がエポキシ樹脂を基材とした絶縁性樹脂で充填されるため、絶縁性が向上し、回路デバイスとしての信頼性を向上させることができる。また、電子部品からの発熱を充填した樹脂および回路ブロックの配線パターンを介して回路デバイス全体に拡散することができるので、熱放散特性を大幅に改善することができる。
また、電磁シールドで回路デバイスを覆う構造が容易に採れるので、各回路ブロック間および外部に対しての電磁シールドが可能となり、余分なシールドケースなどが不要となるだけでなく他への影響もなく、電磁シールド対策を容易に行うことができる。
さらに、折り畳み重ね合わせた構造なので、３次元的に省スペースの回路デバイスとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明回路デバイス及び回路デバイスの製造方法を実施するための最良の形態の例を、図１を参照して説明する。
図１は本例の回路デバイスの製造工程の説明フロー図であり、４層フレックスリジッド基板をベース基材として構成したものである。
図１Ａは４層フレックスリジッド基板、図１Ｂは導電性ペースト塗布後、図１Ｃは電子部品実装後、図１Ｄは絶縁性樹脂塗布後、図１Ｅは折り畳んで加熱硬化し回路デバイスとした状態を示す断面図である。
【００２３】
図１Ａ〜Ｅにおいて、１０は４層フレックスリジッド基板、１１は絶縁性の基材となるポリイミド樹脂によるポリイミドシートであり、１２はポリイミドシート１１の両面に形成された配線パターン、１３は配線パターン１２の領域ＢＬ１と領域ＢＬ２を覆うように設けられるエポキシ樹脂による絶縁層、１４は絶縁層の上に形成された配線パターンである。
また、１５は領域ＢＬ１と領域ＢＬ２との境界部のポリイミドシート１１上に形成されエポキシ樹脂の絶縁層がない配線パターン１２ｂ-3でフレキシブル性を有するフレキシブル配線部である。２１は領域ＢＬ１に実装され例えば高周波信号処理回路を構成する電子部品であり、２２は領域ＢＬ２に実装され例えば中間周波信号処理回路を構成する電子部品である。また２３は電子部品実装面の全体をカバーコートする封止樹脂である。
ここで領域ＢＬ１は電子部品が実装されて高周波信号処理用回路ブロックが形成される配線基板の領域を示し、領域ＢＬ２は電子部品が実装されて中間周波信号処理用回路ブロックが形成される配線基板の領域を示しており両回路ブロックはフレキシブル配線部１５により電気的に接続される。
【００２４】
図１Ｅは最終工程における本例の回路デバイスの断面図であり、以下この回路デバイスの製造方法を、順を追って説明する。
先ず、図１Ａに示す、ベース基材となる４層フレックスリジッド基板１０を第1から第９の段階に分けて説明する。
【００２５】
本例のフレックスリジッド基板１０はポリイミドシート１１をベースとしたフレキシブル配線部（配線パターン１２ｂ-3）１５と、ガラスエポキシ樹脂を層間絶縁層（１３ａ-1，１３ａ-2，１３ｂ-1，１３ｂ-2）に採用し硬化によりリジッド基板とされた領域ＢＬ１と、領域ＢＬ２とから構成されている。すなわち、１つの配線基板の中に、折り曲げが可能なフレキ部（配線パターン１２ｂ-3）１５と、電子部品が搭載されるリジッド部（領域ＢＬ１と領域ＢＬ２）とを混在させたものである。 
【００２６】
すなわち、例えば第１段階として、図１Ａに示す薄いシート状のポリイミドシート１１の所定位置にレーザーあるいはプレス加工による打ち抜きにより貫導通穴を形成し、めっきによって導通を取る。
第２段階として、図１Ａに示すポリイミドシート１１の領域ＢＬ１に配線パターン１２a-1、１２ｂ-1、領域ＢＬ２に配線パターン１２a-1、１２ｂ-2、領域ＢＬ１と領域ＢＬ２との境界に配線パターン１２a-1と配線パターン１２a-2とを電気的に接続する配線パターン１２a-3を配線パターン１２ｂ-1と配線パターン１２ｂ-2とを電気的に接続する配線パターン１２ｂ-3を形成し、全面にカバーコートを形成する。
第３段階として、領域ＢＬ１及び領域ＢＬ２の上下を覆うようにガラスエポキシ樹脂と銅箔を積層し加熱成形する事により絶縁層１３a-1および１３a-2、１３ｂ-1及び１３ｂ-2を設ける。更に１２a-1１、２a-2、１２ｂ-１および１２ｂ-2との接続を形成するための導通孔をレーザー加工及びめっきによって形成する。
【００２７】
第４段階として、最外層となる配線パターン１４a-1,１４ｂ-1を領域ＢＬ１に形成し、配線パターン１４a-2、１４ｂ-2を領域ＢＬ２に形成する。ここでは、配線パターン１４ｂ-1は、領域ＢＬ１の略全面を覆い電磁シールド層をなすように形成され、配線パターン１４ｂ-2は、回路デバイス（図１Ｅの形態）において、ほかの配線基板などと電気的に接続するための略格子状に配設されたグリッドランドをなすように形成される。
【００２８】
次に、図１Ｂに示すように、４層フレックスリジッド基板１０の図に示す上面で電子部品が実装される位置に導電性ペースト１６，１６，…を印刷法やディスペンス法などにより設ける。
次に、図１Ｃに示すように、４層フレックスリジッド基板１０に電子部品を実装する。このとき、領域ＢＬ１に高周波信号処理回路を構成する電子部品２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅが実装されて第１の回路ブロックが作製され、領域ＢＬ２に中間周波信号処理回路を構成する電子部品２２ａ，２２ｂ，２２ｃが実装され第２の回路ブロックが作製される。このとき、４層フレックスリジッド基板１０に電子部品が実装された状態で、回路ブロック単位で動作などの性能検査を行うことができる。
【００２９】
次に、図１Ｄに示すように、４層フレックスリジッド基板１０の電子部品２１ａ〜２１ｅ，２２ａ〜２２ｃの実装面の側全体に、電磁遮蔽効果を付与するため電気絶縁性に優れたエポキシ樹脂に、フェライトパウダー及びセラミックパウダーを分散させた封止樹脂２３を塗布し、仮乾燥する。
次に、図１Ｅに示すように、第１の回路ブロック（領域ＢＬ１）と第２の回路ブロック（領域ＢＬ２）の間に配設され配線パターン１２a-3,１２ｂ-3を有するフレキシブル配線部１５を、封止樹脂２３の塗布面を内側とし、配線パターン１２ｂ-3の導体を外側とするようにし、第１の回路ブロックを第２の回路ブロックに重ねるようにＵの字状に折り曲げる。これにより、配線パターン１４ｂ-1による電磁シールド層が上面に、また、配線パターン１４ｂ-2によるグリッドランドが下面に配設される。
最後に、図１Ｅに示す形態を保つように、例えば図示しない治具に収納した状態で所定の厚みに保持し加熱して硬化し、本例の回路デバイスとする。
【００３０】
図１例の回路デバイス及び回路デバイスの製造方法によれば、電子部品２１ａ〜２１ｅ，２２ａ〜２２ｃを第１及び第２の回路ブロックに実装した時点で動作などの性能検査を行い、折り畳んで回路デバイスとする前に不良を除去することができるため、電子部品２１ａ〜２１ｅ，２２ａ〜２２ｃを内蔵させた回路デバイスを歩留り良く安価に生産することができる。
また、高周波信号処理回路用の電子部品２１ａ〜２１ｅと、中間周波処理回路用の電子部品２２ａ〜２２ｃとの間がエポキシ樹脂を基材とした絶縁性で電磁遮蔽効果を有する樹脂で充填されるため、絶縁性が向上するとともに、電子部品間の相互干渉が大幅に改善でき、回路デバイスとしての信頼性を向上させることができる。
【００３１】
また、電磁シールドで回路デバイスを覆う構造が容易に採れるので、各回路ブロック間および外部に対しての電磁シールドが完全となり、余分なシールドケースなどが不要となるだけでなく他への影響もなく、電磁シールド対策を容易に行うことができる。
また、電子部品からの発熱を回路デバイス全体に拡散することができるので、熱放散特性を大幅に改善することができる。
さらに、折り畳み重ね合わせた構造とすることで、３次元的に省スペースの回路デバイスとすることができる。
【００３２】
本発明回路デバイス及び回路デバイスの製造方法を実施するための最良の形態のほかの例を図２を参照して説明する。
【００３３】
図２例の回路デバイスは、図１例に対して、電子部品を実装すると同時に高さ調整ピンを設けたことと封止樹脂２３の充填を折り畳み後に行うようにしたものである。以下では、この図２を説明するに図１に対応する部分には同一の符号を付し説明する。
本例の回路デバイスも図１例と同様、４層フレックスリジッド基板をベース基材として構成したものであり、図２Ａ〜Ｅは本例の回路デバイスの製造工程の説明フロー図である。
図２Ａは４層フレックスリジッド基板、図２Ｂは導電性ペースト塗布後、図２Ｃは電子部品と間隙確保用のピン実装後、図２Ｄは折り畳み後、図２Ｄは絶縁性樹脂を充填し加熱硬化し回路デバイスとした状態を示す断面図である。
【００３４】
先ず、図２Ａに示すように、図１Ａに示したと同一構成の４層フレックスリジッド基板１０を用意する。
次に、図２Ｂに示すように、図１Ｂでの説明と同様に、４層フレックスリジッド基板１０の図に示す上面で電子部品が実装される位置に導電性ペースト１６，１６，…を印刷法やディスペンス法などにより設ける。
【００３５】
次に、図２Ｃに示すように、図１Ｃでの説明と同様に、４層フレックスリジッド基板１０に電子部品を実装する。このとき、領域ＢＬ１にアナログ信号処理回路を構成する電子部品２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅが実装されて第１の回路ブロックが作製され、領域ＢＬ２にデジタル信号処理回路を構成する電子部品２２ａ，２２ｂが実装され第２の回路ブロックが作製される。そして、第２の回路ブロック上の例えば４隅に良導体の銅のピンなどによるピン２５，２５，…を導電性ペーストなどで立設する。
このピン２５は、第１の回路ブロック（領域ＢＬ１）と第２の回路ブロック（領域ＢＬ２）とが折り畳まれたときの両回路ブロック間の間隙を所定寸法に保つとともに、両ブロックを接着固定して形状の安定化に寄与し、さらに必要に応じて、領域ＢＬ１で電子部品２１ａ〜２１ｅの実装面の側の配線パターン１２ａ-1，１４ａ-1と、領域ＢＬ２で電子部品２２ａ，２２ｂの実装面の側の配線パターン１２ａ-2，１４ａ-2とを適宜電気的に接続させるものである。
【００３６】
次に、図２Ｄに示すように、第１の回路ブロック（領域ＢＬ１）と第２の回路ブロック（領域ＢＬ２）の間に配設され配線パターン１２a-3,１２ｂ-3を有するフレキシブル配線部１５を、電子部品２１ａ〜２１ｅ，２２ａ，２２ｂが実装されている側を内側とし、配線パターン１２ｂ-3の導体を外側とするようにし、第１の回路ブロックを第２の回路ブロックに重ねＵの字状に折り曲げる。これにより、配線パターン１４ｂ-1による電磁シールド層が上面に、また、配線パターン１４ｂ-2によるグリッドランドが下面に配設され、ピン２５，２５，…により両ブロック間の間隙が所定寸法とされる。
【００３７】
次に、図２Ｅに示すように、Ｕの字状に折り曲げられた第１の回路ブロックと第２の回路ブロックの間隙に、電磁遮蔽効果を付与するため電気絶縁性に優れたエポキシ樹脂に、フェライトパウダー及びセラミックパウダーを分散させた封止樹脂２３を充填し、図に示す形態を保つように、例えば治具に収納した状態で所定の厚みに保持し加熱して硬化し、本例の回路デバイスとする。
【００３８】
図２例の回路デバイス及び回路デバイスの製造方法においても上述の図１例と同様の作用効果を得ることができることは容易に理解できよう。
さらに、図２例においては、ピン２５，２５，…を立設して第１の回路ブロック（領域ＢＬ１）と第２の回路ブロック（領域ＢＬ２）とを導電性ペーストで接着固定するようにしたので、両ブロック間を所定寸法に保たせ、折り畳みの際、実装される電子部品と、この電子部品が実装される配線パターンの接続部とに余分な応力集中が発生させないようにできるだけでなく、両ブロックを接着固定して形状の安定化に寄与することができ、さらに必要に応じて、折り畳まれ対向配置される配線パターン１２ａ-1，１４ａ-1と、配線パターン１２ａ-2，１４ａ-2とを適宜電気的に接続させることができ、回路ブロックの回路設計や電子部品の実装設計が容易となる。
【００３９】
本発明回路デバイス及び回路デバイスの製造方法を実施するための最良の形態のほかの例を、図３を参照して説明する。
【００４０】
図３例の回路デバイスは、図１例に対して、第２の回路ブロックの端部にポリイミドシート１１を延長配設するとともに先端部に導体の配線パターンによるコネクターを設け、封止樹脂２３の充填を図２例のように折り畳んだ後に行なうようにしたものである。以下では、この図３を説明するに図１に対応する部分には同一の符号を付し説明する。
本例の回路デバイスも４層フレックスリジッド基板をベース基材として構成したものであり、図３Ａ〜Ｄは本例の回路デバイスの製造工程の説明フロー図である。
図３Ａはフレキシブルコネクターを有する回路ブロック、図３Ｂは折り畳み状態、図３Ｃは絶縁性樹脂を充填し硬化し回路デバイスとした状態の断面図であり、図３Ｄはフレキシブルコネクター先端の拡大斜視図である。
【００４１】
先ず、図３Ａに示す、電子部品が実装された回路ブロック１０を形成する。
図３Ａに示す回路ブロック１０は、図１Ａに示したポリイミドシート１１の領域ＢＬ２の図に示す左側に、さらにポリイミドシート１１を延長し、この延長したポリイミドシート１１の上面１１ａに配線パターン１２ａ-4、下面１１ｂに配線パターン１２ｂ-4を形成しフレキシブルコネクター部１７とする。そして、図３Ａに示すように、上述図１例と同様所定位置に導電性ペーストを設けた後、領域ＢＬ１に電子部品２１ａ〜２１ｅを実装し、領域ＢＬ２に電子部品２１ａ，２１ｂを実装したものである。
このときフレキシブルコネクター部１７を構成する延設されたポリイミドシート１１の上面１１ａの配線パターン１２ａ-4の先端部の形状は、図３Ｄに示す拡大斜視図のように、略矩形状の導通パッドが配設されるようになされる。また、ポリイミドシート１１の下面１１ｂの配線パターン１２ｂ-4はグランドとして形成される。
【００４２】
次に、図３Ｂに示すように、第１の回路ブロック（領域ＢＬ１）と第２の回路ブロック（領域ＢＬ２）の間に配設され配線パターン１２a-3,１２b-3を有するフレキシブル配線部１５を、電子部品２１ａ〜２１ｅ，２２ａ，２２ｂが実装されている側を内側とし、配線パターン１２b-3の導体を外側とするようにし、第１の回路ブロックを第２の回路ブロックに重ねるようにＵの字状に折り曲げる。そして、さらに延長されたフレキシブルコネクター部１７の第２の回路ブロック（領域ＢＬ２）に近い部分を折り曲げ、第１の回路ブロックと第２の回路ブロックとの開口部分を略覆うようにする。
【００４３】
次に、図３Ｃに示すように、第１の回路ブロックと第２の回路ブロックとの間隙と折り曲げられたフレキシブルコネクター部１７とで形成される空間に、電磁遮蔽効果を付与するため電気絶縁性に優れたエポキシ樹脂に、フェライトパウダー及びセラミックパウダーを分散させた封止樹脂２３を充填し、図に示す形態を保つように、例えば治具に収納した状態で所定の厚みに保持し加熱して硬化し、本例の回路デバイスとする。
【００４４】
本図３例の回路デバイス及び回路デバイスの製造方法においても上述の図１例と同様の作用効果を得ることができることは容易に理解できよう。
さらに、図３Ａ〜Ｄ例においては、４層フレックスリジッド基板を作製するときに、容易にフレキシブルコネクター部１７を延設した形態に形成することができ、必要に応じて上面１１ａの配線パターン１２ａ-4、あるいは下面１１ｂの配線パターン１２ｂ-4の何れかを電磁シールド層として、この電磁シールド層を筒状に構成することができるためより大きなシールド効果を得ることができる。
【００４５】
本発明回路デバイス及び回路デバイスの製造方法を実施するための最良の形態のほかの例を、図４を参照して説明する。
【００４６】
図４例の回路デバイスは、図３例が第２の回路ブロックの端部に延設した配線パターンを有するポリイミドシート１１をフレキシブルコネクター部として用いるのに対し、第１の回路ブロックと第２の回路ブロックの間に配設するようにしたものである。
以下では、この図４を説明するに図１に対応する部分には同一の符号を付し説明する。
本例の回路デバイスも４層フレックスリジッド基板をベース基材として構成したものであり、図４は本例の回路デバイスの製造工程の説明フロー図で、図３例の図３Ａに示すフレックスリッジド基板１０の作製につづく工程を示したものである。
図４Ａはフレキシブル配線部が第１の回路ブロックと第２の回路ブロックの間に配設後、図４Ｂは第１の回路ブロックと第２の回路ブロックの間に絶縁性樹脂を充填し硬化し回路デバイスとした状態を示す断面図である。
【００４７】
図４例の回路ブロックの形成は、上述図３Ａにおいて説明したと同様に形成されたフレキシブル基板部が延設された４層フレックスリジド基板に、電子部品が実装されることにより行われる。このとき、図３例においては、この延設部がコネクターをなすフレキシブル配線部１５とされるのに対し、本例では電磁シールド層をなすフレキシブル配線部１７に形成される。
そして、フレキシブル配線部１７は、図４Ａに示すように、先ず第２の回路ブロックの電子部品実装面に折り畳まれ、その後第１の回路ブロックが覆い被せるように配設される。
そして図４Ｂに示すように、第１の回路ブロックとフレキシブル配線部１７と第２の回路ブロックとの間隙に、電磁遮蔽効果を付与するため電気絶縁性に優れたエポキシ樹脂に、フェライトパウダー及びセラミックパウダーを分散させた封止樹脂２３を充填し、図に示す形態を保つように、例えば治具に収納した状態で所定の厚みに保持し加熱して硬化し、本例の回路デバイスとする。
【００４８】
図４例の回路デバイス及び回路デバイスの製造方法においても上述の図１例と同様の作用効果を得ることができることは容易に理解できよう。
さらに、図４例においては、第１の回路ブロックと第２の回路ブロックとに配されるそれぞれの回路が、電磁シールド層で完全に分離されるため、電子部品間の相互干渉を略完全になくすることができ、回路デバイスとしての安定動作に大きく寄与させることができる。
【００４９】
また、上述図１例〜図４例では、回路ブロックが２つで、この回路ブロック間を電気的に接続するフレキシブル配線部１５を１箇所設けた例で説明したが、これに限らず回路ブロックが３つ以上で２箇所以上のフレキシブル配線部１５により接続され、これらが折り畳まれてブロック間に封止樹脂２３が充填され、加熱硬化されたものでも上述例と同様の作用効果を得ることができることは容易に理解できよう。
また、図４例同様にフレキシブル配線部を周辺部へ延長し、回路デバイスの側面を覆う形にすると回路ブロックからの外への電磁波の漏れをより押さえられる事も容易に理解できよう。
【００５０】
なお、上述図１例〜図４例では、単一の回路デバイスを作成する例で説明したが、多数個取り配線板として製造することもできる。
この場合、図１例の回路デバイスを複数個一括で作製するとき、先ず図１Ａに示すフレックスリジッド基板を複数並べた構成の多数個取り用の配線板を作製する。すなわち、第１の回路ブロックと第２の回路ブロックとフレキシブル配線部１５とで構成される配線基板部を１単位とし、これを第１の回路ブロック同士、第２ブロック同士、フレキシブル配線部１５同士を複数並べて多数個取り配線板とする。次に、電子部品を実装後、封止樹脂２３を電子部品を覆うように設けてから折り畳む。次に、例えば図５Ａ（本図では回路デバイス1０’-１〜-6の6個取りの例を示す）及びＢに示す加熱治具５０の下型５０ｂに収納して加熱硬化するとともに、加熱治具の拡大断面図５Ｂに示す上型５０ａで加圧し、所定厚さに成形し複数の回路デバイスが一体に棒状に形成されるようにする。次に、複数の回路デバイスからなる成形体を切断分割して図５Ｃに示すように、個片化する。
【００５１】
また、図１例の回路デバイスに対して、第１の回路ブロック又は第２の回路ブロックの一端に別のフレキシブル配線部を設け、回路ブロックを折り畳んだ状態でこの別のフレキシブル配線部により、第１の回路ブロック又は第２の回路ブロックの他端にはんだなどで接続し、筒状にして封止樹脂をこの中に充填し、外形を保持した状態で加熱成形するようにして、強度と電磁シールド特性を確保するようにしてもよい。
【００５２】
また、上述例では４層フレックスリジッド基板で説明したが、他の基板の例として、３，４層が、ポリイミド両面配線基板で、その上にポリイミドからなるカバーレイが形成され、その上にガラスエポキシ樹脂からなる層を介して、１，２，５，６層を形成したフレックスリジッド基板でもよく、３，４層がポリイミド両面配線基板で、その上にポリイミドからなるカバーレイが形成され、その上に同じポリイミド樹脂からなる層を積層して、１，２，５，６層を形成したフレックス多層基板でもよい。
また、１，２層がポリイミド両面配線板で、３，４，５，６層がリジッド基板となるべく、リジッド基板にポリイミド基板を接合させて形成されたフレックスリジッド基板でもよい。
【００５３】
また、上述で説明した電気絶縁性を有し電磁遮蔽効果が付与された封止樹脂２３は、主剤となるエポキシ樹脂としては、例えば、商品名WE-20/HV-19（日本ペルノックス社製）、商品名EX-690/H-369（サンユレック社製）、商品名エピコート828/エピキュア113（ジャパンエポキシレジン社製）などがあり、分散剤としては、例えば、商品名ＳＮディスパーサント9228（サンノプコ社製）、商品名ソルスパース（アビシア社製）などがある。
また、フェライトとしては例えば、比重４．９のニッケル亜鉛フェライトを用いることができ、セラミックとしては、アルミナパウダーあるいは窒化アルミニウムパウダーを用いることができ、アルミナパウダーとしては例えば粒径φ５〜３０μｍで、窒化アルミニウムパウダーとしては例えば粒径φ５〜３０μｍのものが使用できる。
【００５４】
そして、１）エポキシ樹脂３０wt％＋フェライト50wt％＋アルミナ20wt％＋分散剤1wt％以下、２）エポキシ樹脂３０wt％＋フェライト50wt％＋窒化アルミ20wt％＋分散剤1wt％以下、３）エポキシ樹脂５０wt％＋フェライト20wt％＋アルミナ30wt％＋分散剤1wt％以下とした封止樹脂２３が用いられる。ここで、窒化アルミニウムは熱伝導性が高いため消費電力の大きい半導体デバイスが実装されているときなどに用いられる。
【００５５】
本発明の回路デバイス及び回路デバイスの製造方法は、上述例に限ることなく本発明の要旨を逸脱することなく、その他種々の構成をとりうることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の一実施の形態の例による回路デバイスの製造工程説明フロー図であり、Ａは４層フレックスリジッド基板、Ｂは導電性ペースト塗布後、Ｃは電子部品実装後、Ｄは絶縁性樹脂塗布後、Ｅは折り畳んで硬化し回路デバイスとした状態の断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態の他の例による回路デバイスの製造工程説明フロー図であり、Ａは４層フレックスリジッド基板、Ｂは導電性ペースト塗布後、Ｃはスペーサ用のピン立設後、Ｄは折り畳み後、Ｄは絶縁性樹脂を充填し硬化し回路デバイスとした状態の断面図である。
【図３】本発明の一実施の形態の他の例による回路デバイスの製造工程説明フロー図であり、Ａはフレキシブルコネクターを有する回路ブロック、Ｂは折り畳み状態、Ｃは絶縁性樹脂を充填し硬化し回路デバイスとした状態の断面図であり、Ｄはフレキシブルコネクター先端の拡大斜視図である。
【図４】本発明の一実施の形態の他の例による回路デバイスの製造工程フロー説明図であり、Ａはフレキシブル配線部が回路ブロック間に配設後、Ｂは回路ブロック間に絶縁性樹脂を充填し硬化し回路デバイスとした状態の断面図である。
【図５】図１例の回路デバイスの他の製造方法を説明するもので、Ａは複数個取り基板が加熱治具に装着された状態、Ｂは治具に折り畳まれ装着された状態のＳ−Ｓ断面の拡大図、Ｃは個片化された回路デバイスを示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５７】
１０…４層フレックスリジッド基板、１５…フレキシブル配線部、２１ａ〜２１ｅ…電子部品（高周波信号処理回路用）、２２ａ〜２１ｃ…電子部品（中間周波信号処理回路用）、２３…封止樹脂、ＢＬ１，ＢＬ２…領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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