(57)【要約】      （修正有）【課題】ノズルからの噴射液が基板の表面に万遍なく掛かるようにする搬送用ローラの提供。【解決手段】スケルトン構造の円筒状基板支持面４２と、該基板支持面４２を支える斜めのスポーク４４とを備え、前記スポークを交互に反対の斜め方向として、ノズルからの液がより均一に基板にかかるようにしたことを特徴とする基板搬送用ローラ４０を用いる。前記基板搬送用ローラを耐熱プラスチック製として、常温での現像、洗浄、酸洗い等から乾燥まで、同じローラを用いて円滑に搬送する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スケルトン構造の円筒状基板支持面と、
該基板支持面を支える斜めのスポークと、
を備えたことを特徴とする基板搬送用ローラ。
【請求項２】
前記スポークが交互に反対の斜め方向とされている請求項１に記載の基板搬送用ローラ。
【請求項３】
耐熱プラスチック製であることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板搬送用ローラ。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の基板搬送用ローラを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板搬送用ローラ、及び、基板処理装置に係り、特に、フィルム状のフレキシブルプリント配線基板を搬送する際に用いるのに好適な基板搬送用ローラ、及び、これを用いた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１（全体図）及び図２（搬送用ローラ部分の平面図）に例示する如く、基板１０を、搬送用ローラ１２及び抑え用ローラ１３（搬送用ローラと総称する）を用いて搬送しつつ、該基板１０の上下面に液をスプレーして処理する基板処理装置が知られている。図において、１４は、ローラ１２、１３を構成するディスク（図２参照）、２０は、基板１０の上下面に現像液を吹き付けるための、例えばフルコーンタイプのノズル２２を備えた現像チャンバ、２４はリンス用のノズル、２６は液切ロール、２８は、水洗用の、例えばフラットタイプのノズル、３０は酸洗用のノズル、３２は、水分を吹飛ばすためのエアースリット、３４は高温乾燥機、３６は、その送風ノズルである。
【０００３】
このような基板処理装置内でフレキシブルプリント配線基板のような、例えば厚さ３０μｍ程度の薄いフィルム状の基板１０を搬送する場合、基板１０の上からも現像液、洗浄液、酸等を噴射すると、その重みで基板１０が撓んで跡がついてしまうという問題点を有する。
【０００４】
このような問題点を解消するべく、特許文献１に記載されているように、図２に示した如く、搬送用ローラ１２のディスク１４を相互に入り込ませて交互に配置したり、あるいは特許文献２に記載されているように、図３に示す如く、ディスクをローラの配列方向に沿って千鳥状に配置して、あるローラとその近傍に存在する他のローラが、配列方向に延びる同一の直線上に載らないように互いにずらして配置することが提案されている。図３において、２２はノズルである。
【０００５】
又、特許文献３には、図４に示す如く、基板搬送用ローラ１２のディスク１４の外周に、穴１６Ａを設けた円筒状支持面１６を設けることが記載されている。図４において、１８は、ディスク１４を支持するための、回転軸を兼ねたボスである。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３１５９２３号公報
【特許文献２】特開平８−２６８５１９号公報
【特許文献３】実用新案登録第３１０５３３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来のローラは、いずれも円盤状のディスク１４を有していたため、図５に示す如く、上下のノズル２２から斜め方向に噴射された液が該ディスク１４に当たり、陰が出来て、基板１０の上下面に上手く掛からないという問題点を有していた。
【０００８】
又、図１に例示した如く、常温での現像／水洗／酸洗から高温乾燥までを一気に行なう基板処理装置においては、常温から高温まで耐えるローラが無かったため、例えば現像／水洗／酸洗工程で使われているプラスチック製のローラを、乾燥工程ではフッ素樹脂製に変える必要があり、ローラの変更箇所で円滑に搬送できないという問題点も有していた。
【０００９】
本発明は、前記従来の問題点を解消するべくなされたもので、薄い基板を撓ませることなく、ローラ近傍から噴射される液を確実に基板に掛けることが可能な基板搬送用ローラを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、スケルトン構造の円筒状基板支持面と、該基板支持面を支える斜めのスポークと、を備えたことを特徴とする基板搬送用ローラにより、前記課題を解決したものである。
【００１１】
又、前記スポークを、交互に反対の斜め方向として、ノズルからの液がより均一に基板に掛かるようにしたものである。
【００１２】
又、前記基板搬送用ローラを耐熱プラスチック製として、常温での現像／洗浄／酸洗等から高温での乾燥等まで、同じローラを用いて円滑に搬送することができるようにしたものである。
【００１３】
本発明は、又、前記の基板搬送用ローラを備えたことを特徴とする基板処理装置を提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、図６に例示する如く、ローラ４０の基板支持面４２をスケルトン構造とし、該基板支持面４２を、斜めのスポーク４４で支えるようにしたので、図７に例示する如く、ノズル２２から噴射される液を、方向性や癖を生じさせることなく、万遍なく基板１０に当てることができる。又、基板支持面４２が広いので、薄いフィルム状のフレキシブルプリント配線基板であっても撓むことが無い。
【００１５】
特にローラ４０を耐熱プラスチック製とした場合には、常温での現像／水洗／酸洗等から高温での乾燥等まで同じローラを用いて円滑に搬送することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００１７】
本実施形態は、図１に示したような基板処理装置のローラ１２、１３として、図６に示したようなローラ４０を用いたものである。
【００１８】
前記基板支持面４２は、図８（Ａ）に模式的に示す如く、平行に配置された２本のリング４２Ａと、その間に互いに平行に渡されたバー４２Ｂで、はしご状に構成されている。なお、基板支持面４２のスケルトン構造は、図８（Ａ）に示したものに限定されず、例えば図８（Ｂ）に示す如く、バー４２Ｂの間に斜めのバー４２Ｃを追加したり、図８（Ｃ）に示す如く、ジグザグに配置した斜めのバー４２Ｃのみでリング４２Ａを連結するように構成しても良い。
【００１９】
前記斜めのスポーク４４は、図９（Ａ）（Ｂ）に示す如く、直線状とされ、交互に反対の斜め方向にボス４６に植立されている。なお、スポーク４４の形状は、これに限定されず、例えば図１０（Ａ）（Ｂ）に示す如く、くの字状のスポーク４４’を交互に逆向きに植立して、全体としてＹ字状に基板支持面４２を支えるように構成したり、図１１（Ａ）（Ｂ）に示す如く、曲線状のスポーク４４”を用いて構成することもできる。
【００２０】
前記ローラ４０のボス４６は、図７に示した如く、相互に連結可能な形状とされており、図７に示したように、別体の回転軸を設けることなくローラ４０を相互に連結するだけでローラ１２、１３を構成できる。
【００２１】
本実施形態においては、スポーク４４、４４’、４４”を交互に反対の斜め方向としたので、ノズル２２から噴射される液を、より万遍なく基板１０に当てることができる。なお、スポークの方向は、必ずしも交互に反対の斜め方向とする必要は無く、例えば複数本毎に方向を変えたり、全部同じ方向とすることもできる。
【００２２】
なお、前記実施形態においては、本発明が図１に例示したような基板処理装置が適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定されず、他の化学的な処理や物理的な処理等を行なう基板処理装置一般に適用できる。
【００２３】
又、高温乾燥工程のような高温の処理工程が存在しない基板処理装置の場合には、基板搬送ローラを耐熱プラスチック製でなく、他の材料で構成することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の適用対象である基板処理装置の一例を示す側面図
【図２】同じく搬送用ローラ部分の平面図
【図３】特許文献２に記載されたローラの配置を示す平面図
【図４】特許文献３に記載されたローラの形状を示す斜視図
【図５】従来技術の問題点を説明するための正面図
【図６】本発明に係る搬送用ローラの実施形態を示す斜視図
【図７】同じく連結した状態を示す正面図
【図８】同じくローラの基板支持面の形状を模式的に示す斜視図
【図９】同じく斜めスポークを示す（Ａ）正面図及び（Ｂ）配置図
【図１０】同じく斜めスポークの変形例を示す（Ａ）正面図及び（Ｂ）配置図
【図１１】同じく斜めスポークの他の変形例を示す（Ａ）正面図及び（Ｂ）配置図
【符号の説明】
【００２５】
１０…基板
１２…搬送用ローラ
１３…押え用ローラ
２２…ノズル
４０…ローラ
４２…基板支持面
４４、４４’、４４”…スポーク
４６…ボス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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