(57)【要約】【課題】  高分子量のアセチレン系重合体を高収率で製造できるアセチレン系重合体の製造方法を提供する。【解決手段】  本発明のアセチレン系重合体の製造方法は、有機金属錯体触媒の存在下、置換基を有するアセチレン化合物を重合し、重合温度が−５０〜１０℃である。本発明のアセチレン系重合体の製造方法においては、有機金属錯体触媒が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることが好ましい。［ＭＬｍＬ’ｎ］ｐＸｑ（Ｉ）（一般式（Ｉ）中、Ｍは７から１０族の元素、Ｌは多重結合を有する化合物に由来する配位子、Ｌ’は孤立電子対を有する化合物に由来する配位子、Ｘは陰イオン、ｍは０〜７整数、ｎは０〜６の整数、ｐは１〜２の整数、ｑは０〜２の整数を示し、ｍ＋ｎは１以上の整数である。）【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機金属錯体触媒の存在下、置換基を有するアセチレン化合物を重合するアセチレン系重合体の製造方法において、
重合温度が−５０〜１０℃であることを特徴とするアセチレン系重合体の製造方法。
【請求項２】
有機金属錯体触媒が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることを特徴とする請求項１に記載のアセチレン系重合体の製造方法。
［ＭＬｍＬ’ｎ］ｐＸｑ  （Ｉ）
（一般式（Ｉ）中、Ｍは７から１０族の元素、Ｌは多重結合を有する化合物に由来する配位子、Ｌ’は孤立電子対を有する化合物に由来する配位子、Ｘは陰イオン、ｍは０〜７整数、ｎは０〜６の整数、ｐは１〜２の整数、ｑは０〜２の整数を示し、ｍ＋ｎは１以上の整数である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アセチレン系重合体を製造するためのアセチレン系重合体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
アセチレン系重合体を製造する方法として、有機金属錯体触媒を用いる方法は従来から知られている。
例えば、特許文献１には、ロジウムなどの有機金属錯体触媒存在下、重合反応時の温度（重合温度）として−３０〜１２０℃の広い範囲で重合することが記載されており、さらに、その実施例には４０℃で２４時間、重合反応を行うことが記載されている。
また、特許文献２には、イリジウム系有機金属錯体触媒存在下、重合温度−７８〜１３０℃の範囲で重合することが記載されており、その実施例には３０℃で重合したことが記載されている。
【特許文献１】特公平８−３２７４２号公報
【特許文献２】特開２００２−２１２２３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
アセチレン系重合体としては、機能性が高くなることから、高分子量のものが求められているが、従来のアセチレン系重合体の製造方法では、高分子量のアセチレン系重合体を得ることができない場合があった。例えば、重合温度を室温〜４０℃にした場合には、得られるアセチレン系重合体の分子量は小さかった上に、収率が充分に高いとはいえなかった。また、特許文献１，２には、高分子量のアセチレン系重合体を高収率で製造するための方法については記載されていない。
本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、高分子量のアセチレン系重合体を高収率で製造できるアセチレン系重合体の製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
従来、重合温度がアセチレン系重合体の分子量に影響を与えることは知られていなかったが、本発明者らが重合温度と分子量との相関性について調べたところ、意外にも重合温度と分子量とに相関性があることを発見した。そして、さらに検討した結果、重合温度を低くすることにより、高分子量のアセチレン系重合体を高収率で製造できることを見出し、以下のアセチレン系重合体の製造方法を発明した。
すなわち、本発明のアセチレン系重合体の製造方法は、有機金属錯体触媒の存在下、置換基を有するアセチレン化合物を重合するアセチレン系重合体の製造方法において、重合温度が−５０〜１０℃であることを特徴とする。
本発明のアセチレン系重合体の製造方法においては、有機金属錯体触媒が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることが好ましい。
［ＭＬｍＬ’ｎ］ｐＸｑ  （Ｉ）
（一般式（Ｉ）中、Ｍは７から１０族の元素、Ｌは多重結合を有する化合物に由来する配位子、Ｌ’は孤立電子対を有する化合物に由来する配位子、Ｘは陰イオン、ｍは０〜７整数、ｎは０〜６の整数、ｐは１〜２の整数、ｑは０〜２の整数を示し、ｍ＋ｎは１以上の整数である。）
【発明の効果】
【０００５】
本発明のアセチレン系重合体の製造方法によれば、高分子量のアセチレン系重合体を高収率で得ることができる。具体的には、一般的な重合温度である室温〜４０℃で得られたアセチレン系重合体に比べて３〜２０倍の高分子量体を得ることができる。しかも、アセチレン系重合体の収率も高く、使用する触媒の量を削減することができる。
したがって、本発明のアセチレン系重合体の製造方法は、アセチレン重合体を工業的に製造する方法として極めて有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明のアセチレン系重合体の製造方法は、有機金属錯体触媒の存在下、置換基を有するアセチレン化合物を重合する方法であり、重合温度が−５０〜１０℃、好ましくは５℃以下、更に好ましくは０℃以下、特に好ましくは−１０℃以下である。重合温度が上限を超えると重合反応後の分子量が高くならず、また重合温度が下限を下回るとアセチレン化合物の溶解度が低下して重合速度が低下し、重合時間が長くなる上に、収率が低下するため、工業的に実施することが困難となる。
重合温度を前記範囲に保つ方法としては、例えば、冷凍庫や冷却装置のある反応機などを用いる方法が挙げられる。
【０００７】
有機金属錯体触媒としては、下記一般式（Ｉ）で示される化合物が好ましい。上記一般式（Ｉ）で表される化合物を触媒として使用することに立体規則性の高い重合体を得ることができる。
[ＭＬｍＬ’ｎ]ｐＸｑ          （Ｉ）
（一般式（Ｉ）中、Ｍは７〜１０族の元素（ＩＵＰＡＣ周期表による）、Ｌは多重結合を有する化合物に由来する配位子、Ｌ’は孤立電子対を有する化合物に由来する配位子、Ｘは陰イオン、ｍは０〜７の整数、ｎは０〜６の整数、ｐは１〜２の整数、ｑは０〜２の整数を表す。なお、ｍ＋ｎは１以上の整数である。）
【０００８】
一般式（Ｉ）中のＭとしては、好ましくはロジウム、ルテニウム、レニウム、ニッケル、白金、パラジウム、イリジウムなどが挙げられ、特に好ましくはロジウムが用いられる。
【０００９】
一般式（Ｉ）において、Ｌは多重結合を有する化合物に由来する配位子を表す。多重結合を有する化合物としては、好ましくはオレフィン、アセチレン、ジエン、シクロオレフィン、一酸化炭素、アリル、フェニルアセチレンなどが挙げられ、特に好ましくはシクロオレフィン、アリル、一酸化炭素、フェニルアセチレンなどが挙げられ、より好ましくはシクロオレフィンが挙げられる。シクロオレフィンとしては、シクロオクタジエン、ノルボルナジエンが好ましく用いられる。
【００１０】
Ｌ’は孤立電子対を有する化合物に由来する配位子を表す。
孤立電子対を有する化合物としては、好ましくは窒素、リン、ヒ素、酸素、イオウなどの原子を有する配位子、ハロゲン原子などが挙げられる。特に好ましくはリンを有する配位子、ハロゲン原子が挙げられ、最も好ましくはハロゲン原子が挙げられる。
具体的には、窒素を有する配位子としては、例えばピリジン、ビピリジル、エチレンジアミン、トリエチレンジアミン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデカ−７−エン、１，４−ジアザビシクロ[２．２．２]オクタン、フェナンスロリンなどが挙げられる。リンを有する化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリフェニルホスファイト、トリフェニルホスフェート、ビスジフェニルホスフィン、ｎ−ノニルフェニルホスフィン、エチレンビスフェニルホスフィンなどが挙げられ、トリフェニルホスフィンが特に好ましい。ヒ素を有する配位子としてはトリフェニルアルシンなどが挙げられる。酸素を有する配位子としてはジフェニルエーテル、アルコキシなどが挙げられる。イオウを有する配位子としては、ジフェニルチオエーテルなどが挙げられる。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、塩素が特に好ましい。
【００１１】
一般式（Ｉ）において、Ｘは陰イオンを表す。Ｘとしては、具体的には、ＰＦ６−、ＢＦ４−、ＣｌＯ４−、ＳＯ３ＣＦ３−などが挙げられ、ＰＦ６−が好ましく用いられる。
一般式（Ｉ）において、ｍは０以上、好ましくは１以上で、かつ、７以下、好ましくは６以下、より好ましくは２以下の整数を表す。ｎは０以上、好ましくは１以上で、かつ、６以下、好ましくは５以下、より好ましくは２以下の整数を表す。ただし、ｍ＋ｎは１以上の整数である。
ｐは１〜２の整数を表す。ｑは０以上、好ましくは１以上で、かつ、２以下の整数を表し、最も好ましくは２を表す。
【００１２】
一般式（Ｉ）で表される有機金属錯体触媒の具体例としては、[Ｒｈ(ＣＯＤ)Ｃｌ]２、[Ｒｈ(ＮＢＤ)Ｃｌ]２、[Ｒｈ(ＮＢＤ)（ＢＰｈ３）Ｐｈ]、[Ｒｈ(ＮＢＤ)ＯＣＨ３]２、[Ｒｈ(ＣＯＤ)ｂｉｐｙ]ＳＯ３ＣＦ３、[Ｒｈ(ＣＯＤ)ｂｉｐｙ]ＰＦ６、[Ｒｈ(ＮＢＤ)ｂｉｐｙ]ＰＦ６、[Ｒｈ(ＣＯＤ)ｂｉｐｙａｍ]ＰＦ６、[Ｒｈ(ＣＯＤ)(ＰＰｈ３)２]ＰＦ６、[Ｒｈ(ＣＯＤ)ＥＤＡ]Ｃｌ、[Ｒｈ(ＣＯＤ)ＴＥＤＡ]Ｃｌ、[Ｒｈ(ＣＯＤ)２]ＢＦ４、Ｒｅ(ＣＯ)５Ｚ、[Ｒｅ(ＣＯ)２Ｃｌ]２、[Ｒｅ(ＣＯ)４Ｃｌ]２、Ｒｅ(ＣＯ)４ (ＰＰｈ３)Ｃｌ、Ｒｅ(ＣＯ)３ (ＰＰｈ３)３Ｃｌ、Ｒｅ(ＣＯ)３ (ｂｉｐｙ)Ｃｌ、Ｒｅ(ＣＯ)５ (Ｃ≡ＣＰｈ)、Ｒｅ(ＣＯ)３ (Ｐｈ２ＰＣＨ２ＣＨ２ＰＰｈ２)Ｃｌ、Ｎｉ(ＣＯ)２ (ＰＰｈ３)２、Ｎｉ(ＰＰｈ３)２Ｚ２、Ｐｔ(ＰＰｈ３)３ (Ｃ≡ＣＰｈ)２、Ｐｔ(ＰＰｈ３)ＨＣｌ、Ｐｔ(ＰＰｈ３)３Ｃｌ２などが挙げられる。ただし、ＣＯＤはシクロオクタジエニル、ＮＢＤはノルボナジエニル、ｂｉｐｙはビピリジル、ｂｉｐｙａｍはビピラン、Ｐｈはフェニル、ＥＤＡはエチレンジアミン、ＴＥＤＡはトリエチレンジアミン、Ｚはハロゲン原子を示す。これらの触媒は単独で用いてもよいし、幾つかを組み合わせて用いてもよい。
中でも、本発明に用いられる有機金属錯体触媒としては、[Ｒｈ(ＣＯＤ)Ｃｌ]２、[Ｒｈ(ＮＢＤ)Ｃｌ]２、[Ｒｈ(ＮＢＤ)（ＢＰｈ３）Ｐｈ]、[Ｒｈ(ＮＢＤ)ＯＣＨ３]２、[Ｒｈ(ＣＯＤ)２]ＢＦ４などのロジウム金属錯体が立体規則性の高い高分子量の重合体を与えることから好ましく、特に、[Ｒｈ(ＮＢＤ)Ｃｌ]２、[Ｒｈ(ＮＢＤ)（ＢＰｈ３）Ｐｈ] 、[Ｒｈ(ＣＯＤ)２]ＢＦ４が好ましい。
【００１３】
本発明における置換基を有するアセチレン化合物（以下、置換アセチレン化合物という。）としては、分子内に三重結合を１つ以上有するものであれば特に制限されないが、炭素数が３〜２２、分子量が６００以下のアセチレン化合物が好ましい。
置換アセチレン化合物の中でも、立体規則性の高いシス体構造を有するアセチレン系重合体が得られ、機能性が高くなることから、一置換のアセチレン化合物が好ましい。一置換のアセチレン化合物としては、置換基を有していてもよい炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基、アミノ基、アミド基、アセチル基、アセトキシ基、シアノ基、スルホン基、ニトロ基などの電子供与基あるいは電子吸引基で置換されたアセチレン化合物が好ましく、さらには、芳香族基、脂肪族基、脂環族基から選ばれる少なくとも１種の置換アセチレン化合物がより好ましい。なお、芳香族基、脂肪族基、脂環族基は不斉中心を有していてもよい。また、一置換アセチレン化合物としては、酸素または硫黄などのヘテロ原子を有する複素環基で置換されたアセチレン化合物も好ましい。
【００１４】
置換基として脂肪族基を有するアセチレン化合物としては、例えば、メチルプロピオレート、エチルプロピオレート、プロピルプロピオレート、ｎ−ヘキシルプロピオレート、２−ヘキシルプロピオレート、ｎ−オクチルプロピオレート、２−オクチルプロピオレート、３−メチルペンチルプロピオレート等のプロピオール酸のアルキルエステル（アルキルは直鎖状でも枝分れを有してもよいアルキル基）、置換されていてもよいフェニルプロピオレート等のプロピオール酸の芳香族エステル、プロピオール酸アミド、プロパルギルエステル、プロパルギルアミド、ブチノイック酸エステル、ブチノイック酸アミド、ペンチノイック酸エステル、ペンチノイック酸アミド、２−プロピン−オール、安息香酸、酢酸などのプロピニルエステル等が挙げられる。
【００１５】
また、一置換アセチレン化合物としては、下記一般式（II）で表される化合物も好ましい。
ＣＨ≡Ｃ−Ｚ    （II）
一般式（II）中のＺは、アリール基、直鎖、分岐、環状のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基を示す。
ここで、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ピレニル基が挙げられる。このアリール基は置換されていてもよく、その置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。置換されていてもよいアリール基としては、２−メトキシフェニル基、２−クロロフェニル基が好ましい。
直鎖、分岐、環状のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基が挙げられる。このアルコキシカルボニル基は置換されていてもよい。
フェノキシカルボニル基としては、フェニルカルボニル基が挙げられる。フェノキシカルボニル基は置換されていてもよく、その置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。置換されていてもよいフェノキシカルボニル基としては、４−メトキシフェニルカルボニル基が好ましい。
【００１６】
一般式（II）のアセチレン化合物の具体例としては、フェニルアセチレン、ジフェニルアセチレン、シクロヘキシルアセチレン、ｔ−ブチルアセチレン、１−ｔ−ブチル−２−クロロアセチレン、２−アセチル−１−ｎ−プロピルアセチレンアセチレン、１−ニトロ−２−アミノアセチレン、１−シアノ−２−メトキシアセチレン、あるいは置換フェニルアセチレン、例えば２−メトキシフェニルアセチレンなどの２−アルコキシフェニルアセチレン、２−ニトロフェニルアセチレン、２−クロロフェニルアセチレン、３−メトキシフェニルアセチレンなどの３−アルコキシフェニルアセチレン、３，５−ジメトキシフェニルアセチレン、あるいはｐ−クロロフェニルアセチレン、２，４，６−トリメトキシフェニルアセチレン、２，４，６−トリクロロフェニルアセチレン、４−メチル−２，６−ジメトキシフェニルアセチレン、４−ジメチルアミノフェニルアセチレン、ｐ−ニトロフェニルアセチレン、ｐ−シアノフェニルアセチレン、２，４，６−トリシアノフェニルアセチレン、１−メチル−２−ｐ−フルオロフェニルアセチレン、４−ニトロ−２−メチルフェニルアセチレン、２，６−ジメトキシ−４−ニトロフェニルアセチレン等のパラ置換フェニルアセチレンが挙げられる。
さらに、２，６−ジメチル−４−ニトロフェニルアセチレン、４−メトキシ−２−ニトロフェニルアセチレン、１−ナフチルアセチレン、２−ナフチルアセチレン、１−アントラセニルアセチレン、１−フェナンチルアセチレン、４−アセチレニルピリジン、４−アセチレニン−３，５−ジメチルピリジン、４−アセチレニルキノリン、１，２−ジ−γ−ピリジノエチン、３−アセチレニルイソキノリン、４−アセチレニルコリジン、２−アセチレニルトリアジン、２−アセチレニルピロール、２−アセチレニルフラン、２−アセチレニルチオフェンが挙げられる。
上記置換アセチレン化合物は単独で用いて単独重合体としてもよいし、２種以上組み合わせて共重合体としてもよい。
【００１７】
重合時には溶媒を使用することができる。溶媒としては、有機金属錯体触媒及び置換アセチレン化合物と反応せず、重合時に凍結しないものであれば特に制限されず、例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素系化合物、クロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼンなどの含ハロゲン炭化水素系化合物、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジエチルアミノエタノールなどの含窒素炭化水素、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、テトラヒドロフラン、ジグライム、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、炭酸プロピレンなどの含酸素炭化水素などが好適に用いられる。これら溶媒の中でも、トルエンが好ましい。
【００１８】
上記溶媒に溶解する置換アセチレン化合物の濃度は０．０１〜１０ｍｏｌ／Ｌであることが好ましく、０．１〜５ｍｏｌ／Ｌであることがより好ましい。
また、有機金属錯体触媒の濃度は１×１０−１０〜１ｍｏｌ／Ｌであることが好ましく、１×１０−５〜１×１０−１ｍｏｌ／Ｌであることがより好ましい。
さらに、置換アセチレン化合物量に対する有機金属錯体触媒の添加量は、置換アセチレン化合物／有機金属錯体触媒＝１×１０１２〜１×１０−２ｍｏｌ／ｍｏｌであることが好ましく、５×１０５〜１ｍｏｌ／ｍｏｌであることがより好ましい。
【００１９】
重合反応では、必要に応じて助触媒を添加してもよい。
助触媒として窒素、リン、ヒ素、酸素、イオウなどの原子を有する化合物が挙げられる。具体的には、窒素を有する化合物としては、例えば、ピリジン、ビピリジル、エチレンジアミン、トリエチレンジアミン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ウンデカ−７−エン、１，４−ジアザビシクロ[２．２．２]オクタン、フェナンスロリンなどが挙げられる。リンを有する化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリフェニルホスファイト、トリフェニルホスフェート、ビスジフェニルホスフィン、ｎ−ノニルフェニルホスフィン、エチレンビスフェニルホスフィンなどが挙げられ、トリフェニルホスフィンが特に好ましい。ヒ素を有する化合物としては、例えば、トリフェニルアルシンなどが挙げられる。酸素を有する化合物としては、例えば、ジフェニルエーテル、アルコキシなどが挙げられる。イオウを有する化合物としては、例えば、ジフェニルチオエーテルなどが挙げられる。
【００２０】
上記のように重合して得たアセチレン系重合体は、必要に応じて精製することができる。精製法としては、例えば、溶媒により洗浄する方法、重合体を溶解後、再沈殿する方法などが挙げられる。このように精製することにより、残存置換アセチレン化合物及び残存有機金属錯体触媒等の不純物を減らすことができる。不純物が少なければ、アセチレン系重合体の品質が高くなる。
【００２１】
本発明により得られるアセチレン系重合体は、数平均分子量Ｍｎが５０００以上であることが好ましく、４００００以上であることがより好ましく、かつ、５００００００以下であることが好ましく、３０００００以下であることが好ましい。また、アセチレン系重合体の繰り返し単位は、５０以上であることが好ましく、１００以上であることがより好ましく、かつ、５００００以下であることが好ましく、３０００以下であることがより好ましい。
【００２２】
また、得られたアセチレン系重合体は、分解を防止するために、光を遮断した状態で保存することが好ましい。さらには、不活性ガス存在下で保存することが好ましい。
【００２３】
以上説明したアセチレン系重合体の製造方法では、置換アセチレン化合物を重合温度−５０〜１０℃という低温で重合することにより、高分子量のアセチレン系重合体を得ることができる。しかも、−５０〜１０℃であっても、置換アセチレン化合物の重合における重合速度は充分に速いため、高収率でアセチレン系重合体を得ることができる。
【実施例】
【００２４】
以下、本発明を実施例より更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
重合缶に２ｍｍｏｌのトリエチルアミンと０．０２ｍｍｏｌの［Ｒｈ（ＮＢＤ）Ｃｌ］２を添加し、１４．４ｍｌのトルエンに溶解した後、重合缶内をアルゴンガスで置換した。次いで、重合缶にトルエン１０ｍｌに溶解した４．９ｍｍｏｌのフェニルアセチレンを添加し、重合缶内を冷却装置により−２０℃に冷却し、その温度を保って４時間反応させた。そして、反応終了後、得られたアセチレン系重合体を一旦メタノールに分散させ洗浄し、濾過後減圧下で乾燥した。
乾燥したアセチレン系重合体をクロロホルムに溶解し、ポリスチレン換算のＧＰＣ（ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ−８０６Ｌカラム使用）にて分子量を測定した。その結果を表１に示す。
【００２５】
【表１】
2006290992.tif 000002
【００２６】
（実施例２，３、比較例１）
重合温度を、−１０℃（実施例２）、５℃（実施例３）、４０℃（比較例１）にそれぞれ変更したこと以外は実施例１と同様にしてアセチレン系重合体を得て、実施例１と同様に分子量を測定した。その結果を表１に示す。
【００２７】
（実施例４〜６、比較例２）
［Ｒｈ（ＮＢＤ）Ｃｌ］２の代わりに、 [Ｒｈ(ＮＢＤ)（ＢＰｈ３）Ｐｈ]を１４．４ｍｌ使用したこと以外は、それぞれ実施例１〜３、比較例１と同様にしてアセチレン系重合体を得て、実施例１と同様に分子量を測定した。その結果を表２に示す。
【００２８】
【表２】
2006290992.tif 000003
【００２９】
（実施例７〜９、比較例３）
［Ｒｈ（ＮＢＤ）Ｃｌ］２の代わりに、 [Ｒｈ(ＣＯＤ)２]ＢＦ４を１４．４ｍｌ使用したこと以外は、それぞれ実施例１〜３、比較例１と同様にしてアセチレン系重合体を得て、実施例１と同様に分子量を測定した。その結果を表３に示す。
【００３０】
【表３】
2006290992.tif 000004
【００３１】
重合温度が−５０〜１０℃の範囲内にあった実施例１〜９の製造方法によれば、高分子量のアセチレン系重合体を高収率で得ることができた。
これに対し、重合温度が１０℃を超えていた比較例１〜３の製造方法では、分子量の低いアセチレン系重合体しか得られなかった上に、その収率は低かった。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明で得られるアセチレン系重合体は、リチウムイオン電池や太陽電池等の電池材料、レジスト材料、有機半導体等の導電材料、ＤＤＳや光学分割剤等の医薬材料、液晶材料や有機ＥＬや有機ＬＥＤ等のディスプレイ材料、非線形材料、光応答高分子材料、有機磁性体、高分子反応試薬、線種線量計材料、誘電材料、コンタクトレンズ材料等に応用でき、特に有機半導体材料や医薬関連材料に有用である。