(57)【要約】【課題】  ゴースト及びかぶりの双方を十分に抑制し、長期に亘って良好な画像品質を得ることが可能な電子写真感光体並びにこれを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。【解決手段】  上記課題を解決する電子写真感光体は、導電性支持体上に、金属酸化物微粒子を含む下引層と感光層とがこの順に設けられている電子写真感光体であって、感光層が、少なくとも電荷発生層及び電荷輸送層から構成され、電荷輸送層は、感光層の電荷移動度が電界強度２×１０５Ｖ／ｃｍにおいて７．０×１０−６ｃｍ２／Ｖ・ｓ以上３．２×１０−５ｃｍ２／Ｖ・ｓ以下となるように、電荷輸送材料を濃度４５質量％以下で含む。【選択図】  図１
2006251554.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に、金属酸化物微粒子を含む下引層と、感光層とがこの順に設けられている電子写真感光体であって、
前記感光層が、少なくとも電荷発生層及び電荷輸送層から構成され、
前記電荷輸送層は、前記感光層の電荷移動度が電界強度２×１０５Ｖ／ｃｍにおいて７．０×１０−６ｃｍ２／Ｖ・ｓ以上３．２×１０−５ｃｍ２／Ｖ・ｓ以下となるように、電荷輸送材料を濃度４５質量％以下で含むことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
前記感光層が、前記導電性支持体から最も遠い側に表面保護層をさらに有し、
前記表面保護層が、３次元架橋した樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記表面保護層が、電荷輸送能を有する３次元架橋したケイ素樹脂を含み、
前記ケイ素樹脂が、樹脂の構成成分として下記一般式（１）で表されるケイ素化合物を少なくとも１種含むことを特徴とする請求項２に記載の電子写真感光体。
Ｆ［−Ｄ−Ａ］ａ      ・・・（１）
［上記式（１）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｄは可撓性サブユニットを、Ａは−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ｂ）Ｑｂで示される加水分解性基を有する置換ケイ素基（Ｒ１は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｂは１〜３の整数を、示す。）を、ａは１〜４の整数を示す。］
【請求項４】
前記電荷発生層が、ガリウムフタロシアニンを含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、
帯電した前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、
前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写装置と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
前記電子写真感光体は、ドラム形状を有し、当該ドラム形状の中心軸を中心に、前記電子写真感光体表面の線速度が１００ｍｍ／秒以上になるように回転する、請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置、露光により形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、前記電子写真感光体上に残存するトナーを除去するクリーニング装置から選ばれる少なくとも１種と、
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
複写機、レーザービームプリンター等の電子写真装置においては、高速で且つ高品質の印字が得られる電子写真方式が利用されている。かかる電子写真装置に用いられる電子写真感光体としては、光導電性を有する有機材料を用いた有機感光体が主流となっている。また、基体上に感光層が設けられた感光体の構成も、性能面の観点で、電荷発生材料と電荷輸送材料との双方を含有する層を感光層に備える単層型感光体から、電荷発生材料を含有する層（電荷発生層）と電荷輸送材料を含有する層（電荷輸送層）とを別個に感光層に設けた機能分離型感光体へと変遷している。
【０００３】
また、機能分離型感光体の場合、基体から感光層への電荷の注入の防止等を目的として、基体と感光層との間に下引層を設けることが多い。
【０００４】
ところで、近年、電子写真装置の帯電装置としてはコロトロンに代わりオゾン発生が少ない接触帯電方式の帯電装置が用いられるようになっているが、接触帯電装置を用いた場合には感光体の帯電状態が不均一となりやすい。また、感光体に局所的な劣化部が存在すると、接触帯電時に局所的な高電場が劣化部に加わって電気的なピンホールを生じ、これが画質欠陥となりやすくなる。このピンホールリークは感光層の塗膜欠陥により発生する場合もあるが、それ以外に電子写真装置内から発生した導電性の異物（カーボンファイバー、キャリア粉等）が感光体中に接触又は感光体中に貫入して接触帯電装置と感光体基体との導電路を形成しやすくなっているために生じる場合もある。
【０００５】
そこで、接触帯電装置の使用に伴う上記の現象を回避すべく、下引層の構成材料や物性に関する検討がなされている。最近では、より高画質化を図るため、電荷のリーク防止性と電気特性とを両立させるべく、金属酸化物微粒子を含む下引層について盛んに検討されている。そして、かかる下引層を備える機能分離型感光体がいくつか提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１８６２１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記特許文献１に記載のものをはじめとする機能分離型感光体であっても、良好な画像品質を長期に亘って得るには未だ改善の余地がある。
【０００８】
より具体的には、金属酸化物微粒子を含む下引層を備えた機能分離型感光体の場合、ピンホール等の発生による電荷のリーク防止性の観点からは下引層の膜厚が厚いことが望ましいが、十分な電気特性を得るためには下引層の厚膜化に伴いその抵抗を低くする必要があり、その結果、基体から感光層への電荷の注入を防止するブロッキング性が弱くなってかぶりが発生しやすくなる。そのため、かぶりの発生が十分に抑制された感光体が要求されている。
【０００９】
また一方で、機能分離型感光体は除電後の残留電位が高くなる傾向にあり、前サイクルの情報が次サイクルに残留することに起因してゴーストが発生しやすくなる。特に、近時の画像形成装置の高速化に伴い、感光体の光感度、応答特性を向上させると、像露光により生成された電荷が、現像および転写工程後も感光体内部に残りやすくなり、次サイクルでの帯電後に感光体の表面電位が低下することにより、前サイクルでの像が浮き出やすくなる。したがって、ゴーストの発生が十分に抑制された感光体が要求されている。
【００１０】
しかしながら、ゴースト及びかぶりの双方を十分に抑制された感光体は得られていないのが実情である。
【００１１】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、ゴースト及びかぶりの双方を十分に抑制し、長期に亘って良好な画像品質を得ることが可能な電子写真感光体並びにこれを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、上記課題を解決するために、検討を行ったところ、ゴースト及びかぶりの双方を抑制するためには、帯電工程における表面電位の形成のしやすさと、感光層中での電荷の蓄積のしにくさとを両立することが重要であるが、電荷輸送材料の増量により電荷輸送層の電荷移動度を高めただけでは上記特性を両立することができないという知見を得た。より具体的には、帯電工程における表面電位の形成をしやすくするために電荷輸送材料を増量して感光体表面における残留電位の初期値を小さくしても、繰り返し使用によって残留電位が上昇する現象が生じる場合があることの知見を得た。
【００１３】
そこで、本発明者らは上記の知見に基づいてさらに検討した結果、感光層の電荷移動度が特定の範囲となるよう電荷輸送能の高い電荷輸送材料を少ない量で電荷輸送層に含有せしめた感光体が、ゴースト及びかぶりの双方を十分に抑制し、長期に亘って良好な画像品質を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
すなわち、本発明の電子写真感光体は、導電性支持体上に、金属酸化物微粒子を含む下引層と感光層とがこの順に設けられている電子写真感光体であって、感光層が、少なくとも電荷発生層及び電荷輸送層から構成され、電荷輸送層は、感光層の電荷移動度が電界強度２×１０５Ｖ／ｃｍにおいて７．０×１０−６ｃｍ２／Ｖ・ｓ以上３．２×１０−５ｃｍ２／Ｖ・ｓ以下となるように、電荷輸送材料を濃度４５質量％以下で含むことを特徴とする。
【００１５】
ここで、「感光層の電荷移動度」とは、ＸＴＯＦ（Ｘｅｒｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｔｉｍｅ  ｏｆ  Ｆｌｉｇｈｔ）法に準拠して測定される値を意味し、感光層全体の電荷移動度を示す。
【００１６】
本発明の電子写真感光体によれば、上記構成を有することにより、帯電工程における表面電位の形成のしやすさと、感光層中での電荷の蓄積のしにくさとを両立することができるため、感光体の残留電位の初期値は十分に低い値を示し、且つ当該残留電位の上昇が長期に亘って十分に抑制される。したがって、本発明の感光体を用いて画像形成プロセルを行うことによって、ゴースト及びかぶりの双方を十分に抑制し、長期に亘って良好な画像品質を得ることが可能となる。
【００１７】
このような効果が得られる理由は必ずしも明確ではないが、本発明者らは以下の通り推察する。すなわち、高い電荷輸送能を有する電荷輸送材料を少ない量で電荷輸送層に含有させることによって、電荷輸送材料による電荷のトラップを十分少なくできるとともに感光層の電荷移動度を所定の範囲に高めることが可能となり、感光層内部での局所的な電荷の蓄積のしにくさと表面電位の形成のしやすさとを両立する感光体が得られたものと考えている。そして、かかる感光体によって、ゴースト及びかぶりの双方を十分に抑制し、長期に亘って良好な画像品質を得ることが達成されたものと推察される。
【００１８】
なお、感光層の電荷移動度が、７．０×１０−６ｃｍ２／Ｖ・ｓを下回ると、残留電位の初期値を十分に低くすることができず、ゴーストの発生を十分に抑制することができない。一方、かかる電荷移動度が、３．２×１０−５ｃｍ２／Ｖ・ｓを超えると、かぶりの発生を十分に抑制することができない。かぶりの発生は、下引層でブロッキングされずにすり抜けた電荷が感光体表面に速く達して表面電位を落とすことに起因すると考えられる。また、上記の電荷移動度を達成するために含有させる電荷輸送材料の濃度が４５質量％を超える場合は、残留電位の上昇を長期に亘って十分に抑制することができず、かぶりの発生を十分に抑制することができない。
【００１９】
また、本発明の電子写真感光体によれば、上述のようにゴーストの発生を十分に抑制できるので、画像形成装置の高速化が有効に実現可能となる。
【００２０】
また、本発明の電子写真感光体において、上記感光層が、導電性支持体から最も遠い側に表面保護層をさらに有し、表面保護層が３次元架橋した樹脂を含むことが好ましい。
【００２１】
上述したように、近年、電子写真装置の帯電装置としては、エコロジーの観点から接触帯電方式の帯電装置が広く利用されているが、接触帯電方式の場合、コロトロンを用いた帯電方式の場合に比べて大幅に感光体の摩耗が増加してしまう。このような摺擦傷や磨耗の発生は、感光体の寿命を短くするだけでなく、感光体の感度低下による画像濃度の低下、帯電電位の低下によるかぶりの発生などの原因となる場合がある。そこで、機械的強度に優れた３次元架橋した樹脂を含む表面保護層を設けた感光体が利用されている。しかしながら、このような表面保護層を備える感光体は残留電位が高くなるなどの電気特性の低下が起こりやすく、ゴースト及びかぶりの双方を抑制することがさらに困難となる傾向にあった。
【００２２】
一方、本発明によれば、感光層が上記のような表面保護層を有する場合であっても、ゴースト及びかぶりの双方を十分に抑制することができる。したがって、感光体の電気特性を損なうことなく耐摩耗性を向上できるので、感光体の高画質化及び長寿命化がより有効に実現可能となる。
【００２３】
さらに、表面保護層が、電荷輸送能を有する３次元架橋したケイ素樹脂を含み、このケイ素樹脂が、樹脂の構成成分として下記一般式（１）で表されるケイ素化合物を少なくとも１種含むことが好ましい。
Ｆ［−Ｄ−Ａ］ａ      ・・・（１）
式（１）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｄは可撓性サブユニットを、Ａは−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ｂ）Ｑｂで示される加水分解性基を有する置換ケイ素基（Ｒ１は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｂは１〜３の整数を、示す。）を、ａは１〜４の整数を示す。
【００２４】
このようなケイ素樹脂を含むことにより、表面保護層における電荷の蓄積がより確実に防止されるとともに表面保護層が十分に優れた耐摩耗性を有することが可能となる。これにより、感光体の高画質化と長寿命化がより一層有効に実現可能となる。
【００２５】
また、本発明の電子写真感光体において、上記電荷発生層が、ガリウムフタロシアニンを含有することが好ましい。かかる電荷発生層を備えることにより、高画質化がより有効に実現可能となる。これは、感光層においてガリウムフタロシアニンの正孔輸送性が高いことにより光感度が高くなるとともに、ガリウムフタロシアニンの環境特性が極めて安定であることにより、温度変化や湿度変化等による光感度の変化が十分に防止されることに起因すると考えられる。
【００２６】
また、本発明の画像形成装置は、上記本発明の電子写真感光体のいずれかと、電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電した電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、トナー像を被転写体に転写する転写装置とを備えることを特徴とする。
【００２７】
また、本発明のプロセスカートリッジは、上記本発明の電子写真感光体のいずれかと、電子写真感光体を帯電させる帯電装置、露光により形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、電子写真感光体上に残存するトナーを除去するクリーニング装置から選ばれる少なくとも１種とを備えることを特徴とする。
【００２８】
本発明の画像形成装置及びプロセスカートリッジでは、上記本発明の電子写真感光体を備えることから、長期に亘って高画質を提供することができる。
【００２９】
また、本発明の画像形成装置において、電子写真感光体は、ドラム形状を有し、当該ドラム形状の中心軸を中心に、電子写真感光体表面の線速度が１００ｍｍ／秒以上になるように回転することが好ましい。感光層表面の線速度が１００ｍｍ／秒以上であると、感光体の単位面積当たりの露光量が少なくなることで高感度な電子写真感光が可能となり、結果として画像形成装置の高速化を図ることができるようになる。そして、このような高速化を図る場合であっても、本発明の電子写真感光体を備える本発明の画像形成装置は、ゴースト及びかぶりが十分に抑制された良好な画像品質を得ることができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明よれば、ゴースト及びかぶりの双方を十分に抑制し、長期に亘って良好な画像品質を得ることが可能な電子写真感光体並びにこれを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００３２】
＜電子写真感光体＞
図１は、本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図１に示す電子写真感光体１００は、導電性支持体１と、導電性支持体１上に設けられた下引層５と、下引層５上に設けられた感光層４とを備えている。感光層４は、電荷発生材料を含有する層（電荷発生層２）と電荷輸送材料を含有する層（電荷輸送層３）とに機能が分離された積層型感光層の構造を有するとともに、表面保護層６をさらに有している。そして、図１に示すように、電荷発生層２、電荷輸送層３及び表面保護層６はこの順で下引層上に積層されて感光層４を構成している。
【００３３】
以下、本実施形態の電子写真感光体１００を構成する各要素について詳述する。
【００３４】
先ず、導電性支持体１について説明する。導電性支持体１の材質としては、導電性を有するものであれば特に制限されず、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類；アルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）等の薄膜を設けたプラスチックフィルム；導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙又はプラスチックフィルム、等が挙げられる。これらの導電性支持体の形状としては特に制限されないが、例えば、ドラム状、シート状、プレート状等の形状で使用される。
【００３５】
また、導電性支持体１として金属パイプを用いる場合、金属パイプは素管のまま用いてもよいが、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング、着色処理等の処理を施したものを用いることが好ましい。表面処理により基材表面を粗面化することで、レーザビームのような可干渉光源を用いた場合に発生しうる感光体内での干渉光による木目状の濃度斑を防止することができる。
【００３６】
次に、下引層５について説明する。下引層５は、積層構造を有する感光層４の帯電の際に、導電性支持体１から感光層４への電荷の注入を阻止するとともに、感光層４を導電性支持体１に対して一体的に接着保持せしめる接着層としての作用を有するものであり、場合によっては導電性支持体１の光の反射防止作用等示すことができる。
【００３７】
本実施形態の電子写真感光体において、下引層５は金属酸化物微粒子を含むことが必要である。このような下引層５は、例えば、金属酸化物微粒子及び結着樹脂を含んで構成される。これにより、電荷のリーク防止性と電気特性との両立を図ることが可能となる。
【００３８】
金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等の金属酸化物の粒子が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子の粒径については、下引層形成用塗布液中に分散が可能であり、その下引層形成用塗布液が導電性支持体の被塗布面上に塗布が可能であり、且つ、下引層５の層厚以下であればいかなる粒子径のものでも用いることができるが、分散性及び成膜性の観点から、平均粒子径が２０ｎｍ〜１２０ｎｍであることが好ましく、４０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましい。平均粒子径が２０ｎｍよりも小さいと、金属酸化物微粒子の分散性が悪化する傾向にあり、一方、平均粒子径が１２０ｎｍを超えると、塗布液の安定性及び塗膜の成膜性が悪化する傾向にある。なお、ここでいう平均粒子径とは、平均１次粒径を意味する。
【００３９】
また、上記の金属酸化物微粒子には表面処理を施すことができる。表面処理を施すことで、抵抗値の制御、分散性制御、感光体特性向上を図ることができる。表面処理剤としては、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。これらの化合物は単独あるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。中でもシランカップリング剤は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ない、画質特性に優れるなど性能上優れている。
【００４０】
シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。
【００４１】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００４２】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００４３】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００４４】
表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法あるいは湿式法を用いることができる。
【００４５】
乾式法により表面処理を施す場合、金属酸化物微粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、シランカップリング剤を直接又は有機溶媒に溶解させて滴下し、それらの混合物を乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって、均一な表面処理が行われる。シランカップリング剤の滴下及び混合物の噴霧は、使用する溶剤の沸点以下の温度で行うことが好ましい。滴下又は噴霧を溶剤の沸点以上の温度で行うと、均一に攪拌される前に溶剤が蒸発し、シランカップリング剤が局部的に凝集して均一な処理ができにくくなる傾向がある。
【００４６】
このようにして表面処理された金属酸化物微粒子について、更に１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法としては、金属酸化物微粒子を溶剤中に攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、シランカップリング剤溶液を添加して、攪拌又は分散した後、溶剤を除去することで均一に処理される。溶剤は蒸留により留去することが好ましい。なお、ろ過による除去方法では未反応のシランカップリング剤が流出しやすく、所望の特性を得るためのシランカップリング剤量をコントロールしにくくなる傾向がある。溶剤除去後には更に１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法においては金属酸化物微粒子含有水分除去法として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法等を用いることもできる。
【００４７】
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂化合物が挙げられる。これらの中でも上層（例えば、電荷発生層２）形成用塗布液に含まれる溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上の混合物若しくは複数の化合物の重縮合物で用いることができる。
【００４８】
また、下引層５には、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等をさらに含有させてもよく、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等をさらに含有させてもよい。これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。
【００４９】
特に、ジルコニウムキレート化合物、シランカップリング剤は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れていることから、金属酸化物微粒子とともに下引層５に含まれることが好ましい。
【００５０】
また、下引層５中には、光散乱性の向上等の目的により、各種の有機もしくは無機微粉末を混合することができる。かかる微粉末の好ましい例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料や、アルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料や、テフロン（登録商標）樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子等が挙げられる。これらの微粉末の粒径は、０．０１〜２μｍであることが好ましい。微粉末は必要に応じて添加される成分であるが、添加する場合の配合量は、下引層５に含まれる固形分に対して、質量比で１０〜８０質量％であることが好ましく、３０〜７０質量％であることがより好ましい。
【００５１】
下引層５は、例えば、金属酸化物微粒子及び結着樹脂を含む塗布液を導電性支持体１上に塗布することにより形成される。塗布液の溶媒としては、結着樹脂を溶解することが可能であれば特に制限なく使用することができ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独で又は２種以上混合して用いることができる。
【００５２】
電荷発生材料及び結着樹脂を溶媒に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができるが、この際、分散によって電荷発生材料の結晶型が変化しない条件で行うことが好ましい。また、この分散の際、電荷発生材料を好ましくは０．５μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。
【００５３】
また、下引層５の形成に用いられる塗布液（下引層形成用塗布液）には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いることができる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料等が挙げられる。
【００５４】
下引層形成用塗布液を調製するに際し、前述の導電性物質や光散乱物質等の微粉末を混入させる場合には、樹脂成分を溶解した溶液中に微粉末を添加して分散処理が行うことが好ましい。微粉末を樹脂中に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の方法を用いることができる。
【００５５】
また、下引層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００５６】
下引層５の膜厚は、好ましくは０．０１〜５０μｍ、より好ましくは０．０５〜３０μｍである。
【００５７】
次に、電荷発生層２について説明する。電荷発生層２は、電荷発生材料及び結着樹脂を含んで構成される。
【００５８】
かかる電荷発生材料としては、公知の電荷発生材料を特に制限なく使用することができるが、中でも金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましく用いられ、特定の結晶を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニンが特に好ましく用いられる。
【００５９】
電荷発生層２において好ましく用いられる電荷発生材料は、公知の方法で製造される顔料結晶を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、及びニーダー等を用いて機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、及びニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
【００６０】
湿式粉砕処理において使用される溶剤は、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、又はこれらの数種の混合系、あるいは水とこれら有機溶剤との混合系が挙げられる。
【００６１】
これら溶剤の使用量は、顔料結晶１質量部に対して１〜２００質量部、好ましくは１０〜１００質量部が望ましい。また、湿式粉砕処理における処理温度は、０℃以上溶剤の沸点以下、好ましくは１０〜６０℃である。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いてもよい。磨砕助剤は、顔料に対して０．５〜２０倍、好ましくは１〜１０倍（いずれも質量換算値）用いればよい。
【００６２】
また、公知の方法で製造される顔料結晶について、アシッドペースティング又はアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕又は湿式粉砕との組み合わせによって結晶制御することもできる。アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、この硫酸の濃度は７０〜１００％、好ましくは９５〜１００％の濃度のものが使用される。この濃硫酸の量は、顔料結晶の質量に対して、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍（いずれも質量換算値）の範囲に設定される。また、溶解温度は、−２０〜１００℃、好ましくは０〜６０℃の範囲に設定される。結晶を酸から析出させる際の溶剤としては、水、或いは水と有機溶剤の混合溶剤を任意の量で使用できる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。
【００６３】
これらの電荷発生材料は、加水分解性基を有する有機金属化合物又はシランカップリング剤で被覆処理してもよい。かかる被覆処理によって電荷発生材料の分散性や電荷発生層用塗布液の塗布性が向上し、平滑で分散均一性の高い電荷発生層２を容易に且つ確実に成膜することができ、その結果、カブリやゴースト等の画質欠陥が防止され、画質維持性を向上させることができる。また、電荷発生層用塗布液の保存性も著しく向上するので、ポットライフの延長の点でも効果的であり、感光体のコストダウンも可能となる。
【００６４】
上記加水分解性基を有する有機金属化合物は、下記一般式（Ｉ）；
Ｒｐ−Ｍ−Ｙｑ      ・・・（Ｉ）
で表される化合物である。なお、式中、Ｒは有機基を表し、Ｍはアルカリ金属以外の金属原子又はケイ素原子を表し、Ｙは加水分解性基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ１〜４の整数であり、ｐとｑとの和はＭの原子価に相当する。
【００６５】
一般式（Ｉ）中、Ｒで表される有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアリールアルキル基、スチリル基等のアリールアルケニル基、フリル基、チエニル基、ピロリジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基等の複素環残基等が挙げられる。これらの有機基は１種または２種以上の各種の置換基を有していてもよい。
【００６６】
また、一般式（Ｉ）中、Ｙで表される加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基、ベンジロキシ基等のエーテル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、ベンゾイルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ベンジロキシカルボニル基等のエステル基、塩素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。
【００６７】
また、一般式（Ｉ）中、Ｍはアルカリ金属以外であれば特に制限されるものではないが、好ましくはチタン原子、アルミニウム原子、ジルコニウム原子又はケイ素原子である。すなわち、本発明に係る感光体においては、上記の有機基や加水分解性の官能基を置換した有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物、有機ジルコニウム化合物、さらにはシランカップリング剤が好ましく用いられる。
【００６８】
また、上記シランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００６９】
これらの中でも、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランがより好ましい。
【００７０】
また、上記の有機金属化合物及びシランカップリング剤の加水分解生成物も使用することができる。この加水分解生成物としては、上記一般式（Ｉ）で示される有機金属化合物のＭ（アルカリ金属以外の金属原子又はケイ素原子）に結合するＹ（加水分解性基）やＲ（有機基）に置換する加水分解性基が加水分解したものが挙げられる。なお、有機金属化合物及びシランカップリング剤が加水分解性基を複数含有する場合は、必ずしも全ての官能基を加水分解する必要はなく、部分的に加水分解された生成物であってもよい。また、これらの有機金属化合物及びシランカップリング剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上混合して使用してもよい。
【００７１】
上記の加水分解性基を有する有機金属化合物及び／又はシランカップリング剤（以下、単に「有機金属化合物」という）を用いてフタロシアニン顔料を被覆処理する方法としては、フタロシアニン顔料の結晶を整える過程で該フタロシアニン顔料を被覆処理する方法、フタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法、フタロシアニン顔料の結着樹脂への分散時に有機金属化合物を混合処理する方法、フタロシアニン顔料の結着樹脂への分散後に有機金属化合物で更に分散処理する方法等が挙げられる。
【００７２】
より具体的には、顔料の結晶を整える過程で予め被覆処理する方法としては、有機金属化合物と結晶が整う前のフタロシアニン顔料とを混合した後加熱する方法、有機金属化合物を結晶が整う前のフタロシアニン顔料に混合し機械的に乾式粉砕する方法、有機金属化合物の水または有機溶剤中の混合液を結晶が整う前のフタロシアニン顔料に混合し湿式粉砕処理方法等が挙げられる。
【００７３】
また、フタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法としては、有機金属化合物、水又は水と有機溶剤との混合液、並びにフタロシアニン顔料を混合して加熱する方法、有機金属化合物をフタロシアニン顔料に直接噴霧する方法、有機金属化合物をフタロシアニン顔料と混合しミリングする方法等がある。
【００７４】
また、分散時に混合処理する方法としては、分散溶剤に有機金属化合物、フタロシアニン顔料、結着樹脂を順次添加しながら混合する方法、これらの電荷発生層２形成成分を同時に添加し混合する方法等が挙げられる。
【００７５】
また、フタロシアニン顔料を結着樹脂中に分散した後に有機金属化合物で更に分散処理する方法としては、例えば溶剤で希釈した有機金属化合物を分散液に添加し攪拌しながら分散する方法が挙げられる。また、かかる分散処理の際、より強固にフタロシアニン顔料に付着させるために、触媒として硫酸、塩酸、トリフルオロ酢酸等の酸を添加してもよい。
【００７６】
これらの中でも、フタロシアニン顔料の結晶を整える過程で予め被覆処理する方法、又はフタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法が好ましい。
【００７７】
電荷発生層２に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸との重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独で又は２種以上を混合して用いることができる。電荷発生材料と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
【００７８】
電荷発生層２は、例えば、電荷発生材料及び結着樹脂を含む塗布液の塗布により形成される。塗布液の溶媒としては、結着樹脂を溶解することが可能であれば特に制限なく使用することができ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独で又は２種以上混合して用いることができる。
【００７９】
電荷発生材料及び結着樹脂を溶媒に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができるが、この際、分散によって電荷発生材料の結晶型が変化しない条件で行うことが好ましい。また、この分散の際、電荷発生材料を好ましくは０．５μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。
【００８０】
また、かかる塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法が挙げられる。
【００８１】
電荷発生層２の膜厚は、好ましくは０．１〜５μｍ、より好ましくは０．１〜２．０μｍである。
【００８２】
次に、電荷輸送層３について説明する。電荷輸送層３は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含んで構成されるものである。また、本発明においては、電荷輸送層３が、感光層４の電荷移動度が電界強度２×１０５Ｖ／ｃｍにおいて７．０×１０−６ｃｍ２／Ｖ・ｓ以上３．２×１０−５ｃｍ２／Ｖ・ｓ以下となるように、電荷輸送材料を濃度４５質量％以下で含むことが必要である。ここで、感光層４の電荷移動度とは、ＸＴＯＦ（Ｘｅｒｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｔｉｍｅ  ｏｆ  Ｆｌｉｇｈｔ）法に準拠して測定される値を意味し、感光層全体の電荷移動度を示す。
【００８３】
電荷輸送層３に含まれる電荷輸送材料としては、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体等の正孔輸送物質；クロラニル、ブロアントラキノン等のキノン系化合物、テトラアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質；あるいは上記化合物から水素原子等を除いた残基を主鎖又は側鎖に有する重合体等が挙げられる。これらのうち、ゴースト及びかぶりの双方をより確実に抑制する観点から、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物を用いることが特に好ましい。また、上記の電荷輸送材料は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００８４】
結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリエステル樹脂、ビスフェノールＡタイプ或いはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポリアミド、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、およびポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００８５】
また、電荷輸送層３における電荷発生材料の濃度は４５質量％以下であることが必要であるが、ゴースト及びかぶりの双方をより確実に抑制する観点から、３０質量％以上であることが好ましく、３５〜４５質量％であることがより好ましい。
【００８６】
電荷輸送層３は、上記の電荷輸送材料及び結着樹脂を所定の溶媒に溶解及び／又は分散させた塗布液を塗布し乾燥することによって形成することができる。塗布液に用いる溶媒としては、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ―ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状又は直鎖状エーテル系溶剤、あるいはこれらの混合溶剤等を用いることができる。
【００８７】
このような塗布液を塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、スプレー塗布法、ロールコータ塗布法、グラビアコータ塗布法等が挙げられる。また、電荷輸送層３の膜厚は、５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜３５μｍであることがより好ましい。
【００８８】
また、塗布液を塗布し乾燥することによって電荷輸送層を形成する場合、乾燥温度を高くする、或いは乾燥時間を長くすると、電荷移動度が高くなり残留電位が低下する傾向にある。一方、乾燥温度を低くする、或いは乾燥時間を短くすると、電荷移動度が高くなり残留電位が上昇する傾向にある。したがって、感光体の生産性及び感光体の特性を損なわない範囲で、乾燥温度及び乾燥時間を適宜設定することが好ましい。
【００８９】
次に、表面保護層６について説明する。表面保護層６は、電子写真感光体表面の耐摩耗性を向上させ、感光体の帯電時における感光層の化学変化を防止するために、必要に応じて設けられる。本実施形態の電子写真感光体によれば、このような表面保護層を備えることにより、ゴースト及びかぶりの双方を十分に抑制しつつ耐摩耗性をさらに向上させることが可能となり、良好な画質を極めて長期に亘って維持することができる。
【００９０】
表面保護層６は、電荷輸送性化合物を少なくとも一種以上含有する三次元架橋したケイ素樹脂からなるものであることが好ましい。このような表面保護層としては、例えば、下記一般式（１）で表される電荷輸送性の有機ケイ素化合物の１種以上を硬化させて形成される硬化膜の層が挙げられる。
Ｆ［−Ｄ−Ａ］ａ      ・・・（１）
式（１）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を、Ｄは可撓性サブユニットを、Ａは−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ｂ）Ｑｂで示される加水分解性基を有する置換ケイ素基（Ｒ１は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｂは１〜３の整数を、示す。）を、ａは１〜４の整数を示す。
【００９１】
一般式（１）中の、−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ｂ）Ｑｂで示される加水分解性基を有する置換ケイ素基を表すＡの部分は、置換ケイ素基が互いに架橋反応を起こして三次元的なＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合、すなわち、無機ガラス質ネットワークを形成する役割を担うものである。また、加水分解性基Ｑとしては、例えば、−ＯＲ２（ここでＲ２は、水素原子、アルキル基、又は、トリアルキルシリル基を表す）で示される基が挙げられる。
【００９２】
また、一般式（１）中、Ｆは、光電特性を付与するためのものであり、具体的には光キャリア輸送特性を有するユニットを表す。このＦは、従来電荷輸送物質として知られている構造であってもよく、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、などの正孔輸送性を有する化合物骨格、およびキノン系化合物、フルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物、などの電子輸送性を有する化合物骨格とすることができる。
【００９３】
また、一般式（１）中、Ｄは、可とう性サブユニットを示すが、具体的には、光電特性を付与するためのＦ部位と、三次元的な無機ガラス質ネットワークの構築に寄与するＡ部位とを結びつける働きを担う２価の基である。また、Ｄは、堅い反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークの部分に適度な可とう性を付与し、膜としての強靱さを向上させるという働きを担う有機基構造を表す。Ｄとして具体的には、ｎは１〜１５の整数とした場合の−ＣｎＨ２ｎ−、−ＣｎＨ（２ｎ−２）−、−ＣｎＨ（２ｎ−４）−で表わされる２価の炭化水素基、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ６Ｈ４）−（Ｃ６Ｈ４）−、及びこれらの組み合わせたものや置換基を導入したものなどが挙げられる。
【００９４】
一般式（１）中、ｂは、２以上であることが好ましい。ｂは２以上であると、一般式（１）で表される光機能性有機ケイ素化合物中にＳｉ原子を２つ以上含むことになり、無機ガラス質ネットワークを形成し易くなり、機械的強度が向上する。
【００９５】
上記一般式（１）で示される化合物における有機基Ｆとしては、下記一般式（２）で示される化合物が好ましい。
【００９６】
【化１】
2006251554.tif 000003
ここで、式（２）中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つＡｒ１〜Ａｒ５のうち１〜４個は、上記一般式（１）で示される化合物における［−Ｄ−Ａ］で示される部位と結合手を有する。
【００９７】
一般式（２）で示される化合物におけるＡｒ１〜Ａｒ４で示される置換又は未置換のアリール基としては、具体的には、下記式（２−１）〜（２−７）に示されるアリール基が好ましい。
【００９８】
【表１】
2006251554.tif 000004
【００９９】
上記式（２−７）で示されるアリール基におけるＡｒとしては、下記式（２−８）又は（２−９）で示されるアリール基が好ましい。
【０１００】
【表２】
2006251554.tif 000005
【０１０１】
また、上記式（２−７）で示されるアリール基におけるＺとしては、下記式（２−１０）〜（２−１７）で示される２価の基が好ましい。
【０１０２】
【表３】
2006251554.tif 000006
【０１０３】
ここで、上記式（２−１）〜（２−１７）中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基を、Ｒ７〜Ｒ１３はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を、ｍ及びｓはそれぞれ独立に０又は１を、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１〜１０の整数を、ｔはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。
【０１０４】
また、上記式（２−１）〜（２−７）中、Ｘは上記式（１）で示される化合物における−［Ｄ−Ａ］ａで示される部位と結合手を有する。
【０１０５】
また、上記式（２−１６）〜（２−１７）中、Ｗは下記式（２−１８）〜（２−２６）で示される２価の基を示す。なお、式（２−２５）中、ｕは０〜３の整数を示す。
【０１０６】
【表４】
2006251554.tif 000007
【０１０７】
また、上記一般式（２）におけるＡｒ５の具体的構造としては、ｋ＝０の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｍ＝１の構造が、ｋ＝１の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｍ＝０の構造が挙げられる。
【０１０８】
また、一般式（２）で表される化合物の具体例としては、例えば、特開２００１−８３７２８号公報における表１〜表５５に記載の化合物番号１〜２７４のものが使用できる。
【０１０９】
一般式（２）で表される化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【０１１０】
一般式（２）で表される化合物と共に、硬化膜の機械的強度をさらに向上させる目的で、下記一般式（３）で表される化合物を併用してもよい。
Ｂ（−Ａ）ｇ      ・・・（３）
式（３）中、Ａは一般式（１）中のＡと同一の定義内容を示し、Ｂは、枝分かれを含んでもよいｇ価の炭化水素基、ｇ価のフェニル基、又は−ＮＨ−、或いはこれらの２種以上の組み合わせから構成されるｇ価の基を示し、ｇは２以上の整数を示す。
【０１１１】
上記一般式（３）で表される化合物は、Ａ部位、すなわち、−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ｂ）Ｑｂで表される加水分解性基を有する置換ケイ素基を有している化合物である。この一般式（３）で表される化合物は、Ａ部位に含まれるＳｉ基の部分が一般式（１）で表される化合物或いは一般式（３）で表される化合物自身と反応し、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合となって３次元的な架橋硬化膜を形成する。一般式（１）で表される化合物も同様のＳｉ基を有しているので、それのみで硬化膜を形成することも可能であるが、一般式（３）で表される化合物は２個以上のＡ部位分子構造の両端にアルコキシシリル基を有しているので硬化膜の架橋構造が３次元的になり易く、より強い機械強度を有するようになると考えられる。また、一般式（１）で表される化合物におけるＤ部分と同様、硬化膜に適度な可とう性を与える役割もある。
【０１１２】
上記一般式（３）で表される化合物としては、下記一般式（３−１）〜（３−５）で表されるものが好ましい。
【０１１３】
【表５】
2006251554.tif 000008
【０１１４】
上記式（３−１）〜（３−５）中、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に、枝分かれしていてもよい２価又は３価の炭化水素基を示す。また、Ａは、−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ｂ）Ｑｂで表される加水分解性を有する置換ケイ素基を示す。ｈ、ｉ、ｊはそれぞれ独立に１〜３の整数をし、且つ、分子内のＡの数が２以上となるように選ばれる。
【０１１５】
上記一般式（３）で表される化合物の好ましい例を表６に示す。なお、表６中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、Ｐｒはプロピル基を示す。
【０１１６】
【表６】
2006251554.tif 000009
【０１１７】
また、上記一般式（１）で表される化合物と共に、更に架橋反応可能な他の化合物を併用してもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤等を用いることができる。
【０１１８】
シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【０１１９】
市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、ＣＲ−３９、Ｘ−１２−２２０８、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４１−１００７、ＫＮＳ−５３００、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が挙げられる。
【０１２０】
また、表面保護層６には、表面潤滑性を付与する目的でフッ素含有化合物を添加できる。表面潤滑性を向上させることによりクリーニング部材との摩擦係数が低下し、耐摩耗性を向上させることができる。また、感光体表面に対する放電生成物、現像剤および紙粉などの付着を防止する効果も有し、感光体の寿命向上に役立つ。
【０１２１】
フッ素含有化合物としては、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素原子含有ポリマーをそのまま添加するか、あるいはそれらポリマーの微粒子を添加することができる。また、上記一般式（４）で表される化合物により形成される硬化膜の場合、フッ素含有化合物としては、アルコキシシランと反応できるものを添加し、架橋膜の一部として構成することが望ましい。そのようなフッ素含有化合物の例として、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１２２】
フッ素含有化合物の含有量は、表面保護層６全量を基準として２０質量％以下とすることが好ましい。フッ素含有化合物の含有量が２０質量％を超えると、架橋硬化膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０１２３】
上記化合物を含む表面保護層６は十分な耐酸化性を有しているが、更に強い耐酸化性を付与する目的で、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の含有量としては、表面保護層６全量を基準として１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。
【０１２４】
ここで、ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０１２５】
また、表面保護層６には公知の塗膜形成に用いられる添加剤を添加することも可能であり、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、界面活性剤、など公知の添加剤を添加することができる。
【０１２６】
表面保護層６は、上記化合物を含有する塗布液を電荷輸送層３上に塗布し、加熱処理することで形成することができる。これにより、上記一般式（１）で表される化合物等が３次元的に架橋硬化反応を起こし、強固な硬化膜が形成される。加熱処理の温度は、表面保護層６が形成される電荷輸送層３等、下層に影響しなければ特に制限はないが、好ましくは室温〜２００℃、より好ましくは１００〜１６０℃である。
【０１２７】
架橋硬化反応は、無触媒で行なってもよく、また、適切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、等の酸触媒、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクトエート、オクエ酸第一スズ等の有機スズ化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩、アルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
【０１２８】
表面保護層６を形成するための塗布液に用いる溶剤としては、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジメチルエーテル、ジブチルエーテル等の通常の有機溶剤を用いることができる。これらは単独であるいは２種以上を混合して用いることができるが、この塗布液が塗布される電荷輸送層３を溶解しにくい溶剤を用いることが好ましい。
【０１２９】
表面保護層６を形成するための塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１３０】
表面保護層６の膜厚は、０．５〜２０μｍであることが好ましく、２〜５μｍであることがより好ましい。
【０１３１】
また、表面保護層６は、感光層４において電荷輸送層としての機能も有しているので、表面保護層の磨耗に起因する電位変動、感度変動を抑制する観点から、本実施形態においては、磨耗レートが１０ｎｍ／１０００サイクル以下に制御されることが好ましく、５ｎｍ／１０００サイクル以下に制御されることがより好ましい。
【０１３２】
＜画像形成装置＞
次に、本発明の画像形成装置について説明する。
【０１３３】
図２は、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図２に示す画像形成装置２００は、帯電装置４０２ａ〜４０２ｄが接触帯電装置であり、転写装置が中間転写方式を採用する構成を有しており、且つ、帯電装置４０２ａ〜４０２ｄ、露光装置４０３、及び現像装置４０４ａ〜４０４ｄを少なくとも備える画像形成ユニットを２以上有するタンデム式画像形成装置である。
【０１３４】
より具体的には、このタンデム式画像形成装置２００は、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ（例えば、電子写真感光体４０１ａがイエロー、電子写真感光体４０１ｂがマゼンタ、電子写真感光体４０１ｃがシアン、電子写真感光体４０１ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である）が中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。また、この画像形成装置２００には、さらに、クリーニング手段４１５ａ〜４１５ｄが備わっている。ここで、画像形成装置２００に搭載されている電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、それぞれ先に述べた本発明の電子写真感光体の構成を有するものである。
【０１３５】
電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ（電子写真感光体を帯電させる接触帯電装置）、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ（露光装置により形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置）、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ｛現像装置により形成されたトナー像を後述の中間転写ベルト４０９（中間転写体）に１次転写するための転写装置｝、クリーニングブレード４１５ａ〜４１５ｄ（クリーニング手段）が配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれにはトナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーが供給可能であり、また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９（１次転写像を被転写媒体５００に転写する中間転写体）を介して電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。
【０１３６】
更に、ハウジング４００内の所定の位置にはレーザ光源となる露光装置４０３（帯電装置により帯電される電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光装置）が配置されており、レーザ光源４０３から出射されたレーザ光を帯電後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射することが可能となっている。
【０１３７】
これにより、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
【０１３８】
上記帯電装置（帯電用部材）４０２ａ〜４０２ｄは、ローラ状置され、感光体に電圧を均一に印加し、感光体表面を所定の電位に帯電させるものである。帯電装置にはアルミニウム、鉄、銅等の金属、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン等の導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレンーブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料にカーボンブラック、沃化銅、沃化銀、硫化亜鉛、炭化ケイ素、金属酸化物等の金属酸化物微粒子を分散したもの等を用いることができる。
【０１３９】
この金属酸化物の例としてはＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＭｏＯ３等、あるいはこれらの複合酸化物が挙げられる。また、帯電装置４０２ａ〜４０２ｄにはエラストマー材料中に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与したものを使用しても良い。
【０１４０】
更に、帯電装置４０２ａ〜４０２ｄにはその表面に被覆層を設けてもよい。被覆層を形成する材料としては、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が単独、あるいは併用して用いられる。また、エマルジョン樹脂系材料、たとえば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることも出来る。
【０１４１】
これらの樹脂にはさらに抵抗率を調整するために、導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止するために酸化防止剤を含有させることもできる。また、被覆層を形成する時の成膜性を向上させるために、エマルジョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有させることもできる。また、この接触帯電用部材の形状としては、ローラ状、ブレード状、ベルト状、ブラシ状等が挙げられる。
【０１４２】
更に、帯電装置４０２ａ〜４０２ｄの電気抵抗値は、好ましくは１０２〜１０１４Ωｃｍ、さらに好ましくは１０２〜１０１２Ωｃｍの範囲が良い。また、この接触帯電用部材への印加電圧は、直流、交流いずれも用いることができる。又、直流＋交流の形（直流電圧と交流電圧とを重畳したもの）で印加することもできる。
【０１４３】
また、転写装置４１０ａ〜４１０ｄとしては、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等、が挙げられる。
【０１４４】
また、上記現像装置４０４ａ〜４０４ｄとしては、一成分系、二成分系等の正規または反転現像剤を用いた従来公知の現像装置等を用いることができる。このような現像剤のうち画質の向上という理由から、二成分現像剤を用いる二成分現像方式を用いて行うことが好ましい。この場合、静電潜像の可視化のために用いる現像剤は、トナーとキャリアとで構成される。また、使用されるトナーの形状は特に制限されず、例えば粉砕法による不定形トナーや重合法による球形トナーが好適に使用される。
【０１４５】
また、上記クリーニング手段４１５ａ〜４１５ｄは、転写工程後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に付着する残存トナーを除去するためのもので、これにより清浄面化された電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは上記の画像形成プロセスに繰り返し供される。クリーニング手段４１５ａ〜４１５ｄとしては、クリーニングブレード、ブラシクリーニング、ロールクリーニング等を用いることができるが、これらの中でもクリーニングブレードを用いることが好ましい。また、クリーニングブレードの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。
【０１４６】
また、上記中間転写ベルト４０９は以下の手順で製造することができる。すなわち、略等モルのテトラカルボン酸二無水物或いはその誘導体とジアミンとを所定の溶媒中で重合反応させてポリアミド酸溶液を得る。このポリアミド酸溶液を円筒状金型に供給・展開して膜（層）形成を行った後、さらにイミド転化を行うことによって、ポリイミド樹脂からなる中間転写ベルト４０９を得ることができる。
【０１４７】
かかるテトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物等が例示される。
【０１４８】
また、ジアミンの具体例としては、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジクロロベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン、１，５−ジアミノナフタレン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、３，３’−ジメチル４，４’−ビフェニルジアミン、ベンジジン、３，３’−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、２，４−ビス（β−アミノ第三ブチル）トルエン、ビス（ｐ−β−アミノ−第三ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−β−メチル−δ−アミノフェニル）ベンゼン、ビス−ｐ−（１，１−ジメチル−５−アミノ−ベンチル）ベンゼン、１−イソプロピル−２，４−ｍ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、ジ（ｐ−アミノシクロヘキシル）メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノプロピルテトラメチレン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、２，１１−ジアミノドデカン、１，２−ビス−３−アミノプロボキシエタン、２，２−ジメチルプロピレンジアミン、３−メトキシヘキサメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、５−メチルノナメチレンジアミン、２，１７−ジアミノエイコサデカン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，１０−ジアミノ−１，１０−ジメチルデカン、１２−ジアミノオクタデカン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、ピペラジン、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）ＮＨ２、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｓ（ＣＨ２）３ＮＨ２、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｎ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＮＨ２等が挙げられる。
【０１４９】
テトラカルボン酸二無水物とジアミンを重合反応させる際の溶媒としては、溶解性等の点から極性溶媒が好ましい。極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド類が好ましく、中でもＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、テトラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン等の低分子量のものがより好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１５０】
また、中間転写ベルト４０９の膜抵抗を調整するために、ポリイミド樹脂中にカーボンを分散してもよい。カーボンの種類は特に限定されないが、カーボンブラックの酸化処理によりその表面に酸素含有官能基（カルボキシル基、キノン基、ラクトン基、水酸基等）が形成された酸化処理カーボンブラックを用いることが好ましい。ポリイミド樹脂中に酸化処理カーボンブラックを分散すると、電圧を印可したときに酸化処理カーボンブラックに過剰な電流が流れるため、ポリイミド樹脂が繰返しの電圧印加による酸化の影響を受けにくくなる。また、酸化処理カーボンブラックはその表面に形成された酸素含有官能基によりポリイミド樹脂中への分散性が高いので、抵抗バラツキを小さくすることができると共に電界依存性も小さくなり、転写電圧による電界集中が起こりにくくなる。従って、転写電圧による抵抗低下を防止し、電気抵抗の均一性を改善し、電界依存性が少なく、さらに環境による抵抗の変化の少ない、用紙走行部が白く抜けること等の画質欠陥の発生が抑制された高画質を得ることができる中間転写ベルトを得ることができる。
【０１５１】
酸化処理カーボンブラックは、カーボンブラックを高温雰囲気下で空気と接触、反応させる空気酸化法、常温下で窒素酸化物やオゾン等と反応させる方法、高温下での空気酸化後、低温下でオゾン酸化する方法等により得ることができる。
【０１５２】
また、酸化処理カーボンとしては、三菱化学製のＭＡ１００（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同，ＭＡ１００Ｒ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同ＭＡ１００Ｓ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同＃９７０（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同ＭＡ１１（ｐＨ３．５、揮発分２．０％）、同＃１０００（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同＃２２００（ｐＨ３．５，揮発分３．５％）、同ＭＡ２３０（ｐＨ３．０、揮発分１．５％）、同ＭＡ２２０（ｐＨ３．０、揮発分１．０％）、同＃２６５０（ｐＨ３．０、揮発分８．０％）、同ＭＡ７（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＭＡ８（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＯＩＬ７Ｂ（ｐＨ３．０、揮発分６．０％）、同ＭＡ７７（ｐＨ２．５、揮発分３．０％）、同＃２３５０（ｐＨ２．５、揮発分７．５％）、同＃２７００（ｐＨ２．５、揮発分１０．０％）、同＃２４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）；デグサ社製のプリンテックス１５０Ｔ（ｐＨ４．５、揮発分１０．０％）、同スペシャルブラック３５０（ｐＨ３．５、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック１００（ｐＨ３．３、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック２５０（ｐＨ３．１、揮発分２．０％）、同スペシャルブラック５（ｐＨ３．０、揮発分１５．０％）、同スペシャルブラック４（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック４Ａ（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック５５０（ｐＨ２．８、揮発分２．５％）、同スペシャルブラック６（ｐＨ２．５、揮発分１８．０％）、同カラーブラックＦＷ２００（ｐＨ２．５、揮発分２０．０％）、同カラーブラックＦＷ２（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）、同カラーブラックＦＷ２Ｖ（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）；キャボット社製ＭＯＮＡＲＣＨ１０００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、同ＭＯＮＡＲＣＨ１３００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、同ＭＯＮＡＲＣＨ１４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）、同ＭＯＧＵＬ−Ｌ（ｐＨ２．５、揮発分５．０％）、同ＲＥＧＡＬ４００Ｒ（ｐＨ４．０、揮発分３．５％）、等の市販品を用いてもよい。また、このような酸化処理カーボンとしては、ｐＨ４．５以下であり、揮発分１．０％以上であるものが好ましい。
【０１５３】
上記の酸化処理カーボンは、例えば酸化処理の度合い、ＤＢＰ吸油量、窒素吸着を利用したＢＥＴ法による比表面積等の物性の相違により導電性が異なるがこれらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよいが、実質的に導電性の異なるものを２種以上組み合わせて用いることが好ましい。このように物性の異なる２種類以上のカーボンブラックを添加する場合、例えば高い導電性を発現するカーボンブラックを優先的に添加した後、導電率の低いカーボンブラックを添加して表面抵抗率を調整すること等が可能である。
【０１５４】
これら酸化処理カーボンブラックの含有量は、ポリイミド樹脂に対して１０〜５０質量％が好ましく、より好ましくは１２〜３０質量％である。当該含有量が１０質量％未満であると、電気抵抗の均一性が低下し、耐久使用時の表面抵抗率の低下が大きくなる場合があり、一方、５０質量％を超えると、所望の抵抗値が得られにくく、また、成型物として脆くなるため好ましくない。
【０１５５】
２種類以上の酸化処理カーボンブラックを分散させたポリアミド酸溶液の製造方法としては、溶媒中に２種類以上の酸化処理カーボンブラックを予め分散した分散液中に上記酸二無水物成分及びジアミン成分を溶解・重合する方法、２種類以上の酸化処理カーボンブラックを各々溶媒中に分散させ２種類以上のカーボンブラック分散液を作製し、この分散液に酸無水物成分及びジアミン成分を溶解・重合させた後、各々のポリアミド酸溶液を混合する方法、等が挙げられる。
【０１５６】
中間転写ベルト４０９は、このようにして得られたポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給・展開して被膜とし、加熱によりポリアミド酸をイミド転化させることにより得られる。かかるイミド転化の際には、所定の温度で０．５時間以上保持することによって、良好な平面度を有する中間転写ベルトを得ることができる。
【０１５７】
ポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給する際の供給方法としては、ディスペンサーによる方法、ダイスによる方法等が挙げられる。ここで、円筒上金型としては、その内周面が鏡面仕上げされたものを用いることが好ましい。
【０１５８】
また、金型に供給されたポリアミド酸溶液から被膜を形成する方法としては、加熱しながら遠心成形する方法、弾丸状走行体を用いて成形する方法、回転成形する方法等が挙げられ、これらの方法により均一な膜厚の被膜が形形成される。
【０１５９】
このようにして形成された被膜をイミド転化させて中間転写ベルトを成形する方法としては、（ｉ）金型ごと乾燥機中に入れ、イミド転化の反応温度まで昇温する方法、（ｉｉ）ベルトとして形状を保持できるまで溶媒の除去を行った後、金型内面から被膜を剥離して金属製シリンダ外面に差し替えた後、このシリンダごと加熱してイミド転化を行う方法等が挙げられる。本発明においては、得られる中間転写ベルトの表面のダイナミック硬度が上記の条件を満たせば上記（ｉ）、（ｉｉ）のいずれの方法でイミド転化を行ってもよいが、方法（ｉｉ）によりイミド転化を行うと、平面度及び外表面精度が良好な中間転写体を効率よく且つ確実に得ることができるので好ましい。以下、方法（ｉｉ）について詳述する。
【０１６０】
方法（ｉｉ）において、溶媒を除去する際の加熱条件は、溶媒を除去できれば特に制限されないが、加熱温度は８０〜２００℃であることが好ましく、加熱時間は０．５〜５時間であることが好ましい。このようにしてベルトとしてそれ自身形状を保持することができるようになった成形物は金型内周面から剥離されるが、かかる剥離の際に金型内周面に離型処理を施してもよい。
【０１６１】
次いで、ベルト形状として保持できるまで加熱・硬化させた成形物を、金属製シリンダ外面に差し替え、差し替えたシリンダごと加熱することにより、ポリアミド酸のイミド転化反応を進行させる。かかる金属製シリンダとしては、線膨張係数がポリイミド樹脂よりも大きいものが好ましく、また、シリンダの外径をポリイミド成形物の内径より所定量小さくすることで、ヒートセットを行うことができ均一な膜厚でムラのない無端ベルトを得ることができる。また、金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）は、１．２〜２．０μｍであることが好ましい。金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が１．２μｍ未満であると、金属製シリンダ自身が平滑過ぎるため、得られる中間転写ベルトにおいてベルトの軸方向に対する収縮による滑りが発生しないため、延伸がこの工程で行われ、膜厚のバラツキや平面度の精度の低下が発生する傾向にある。また、金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が２．０μｍを超えると、金属製シリンダ外面がベルト状中間転写体の内面に転写し、さらには外面に凹凸を発生させ、これにより画像不良が発生しやすくなる傾向にある。なお、本実施形態でいう表面粗度とはＪＩＳ  Ｂ６０１に準じて測定されるＲａをいう。
【０１６２】
また、イミド転化の際の加熱条件としては、ポリイミド樹脂の組成にもよるが、加熱温度が２２０〜２８０℃、加熱時間０．５〜２時間であることが好ましい。このような加熱条件でイミド転化を行うと、ポリイミド樹脂の収縮量がより大きくなるため、ベルトの軸方向についての収縮を緩やかに行うことにより、膜厚バラツキや平面度の精度の低下を防ぐことができる。
【０１６３】
このようにして得られたポリイミド樹脂からなる中間転写ベルトの外面の表面粗度（Ｒａ）は、１．５μｍ以下であることが好ましい。中間転写体の表面粗度（Ｒａ）が１．５μｍを超えるとがさつき等の画像欠陥が発生しやすくなる傾向にある。なお、がさつきの発生は、転写の際に印加される電圧や剥離放電による電界がベルト表面の凸部に局所的に集中して凸部表面が変質することによって、新たな導電経路の発現により抵抗が低下し、その結果得られる画像の濃度低下が起こることに起因すると本発明者らは推察する。
【０１６４】
このようにして得られる中間転写ベルト４０９はシームレスベルトであることが好ましい。このシームレスベルトの場合、中間転写ベルト４０９の厚さはその使用目的に応じて適宜決定しうるが、強度や柔軟性等の機械的特性の点から、２０〜５００μｍが好ましく、５０〜２００μｍがより好ましい。また、中間転写ベルト４０９の表面抵抗は、その表面抵抗率（Ω／□）の常用対数値が８〜１５（ｌｏｇΩ／□）であることが好ましく、１１〜１３（ｌｏｇΩ／□）であることがより好ましい。なお、ここでいう表面抵抗率とは、２２℃、５５％ＲＨ環境下で１００Ｖの電圧を印加し、電圧印可開始時から１０秒後に測定される電流値に基づいて得られる値をいう。ここで、「表面抵抗［Ω／□］」とは、「薄膜ハンドブック（オーム社刊）」ｐ．８９６に記載の「表面抵抗」と同義であり、面状の抵抗体を正方形に切り出して対向する２辺間の抵抗で表わしたものを示す。この表面抵抗は、抵抗分布が一様ならば正方形の寸法に無関係である。
【０１６５】
中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって指示されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９はクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０１６６】
また、ハウジング４００内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙等の被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排紙される。
【０１６７】
このように電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において、帯電、露光、現像、転写、クリーニングの各工程を順次行うことによって画像形成が繰り返し行われる。ここで、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、上述した電子写真感光体１００であり、耐摩耗性及び電気特性が十分に高水準で達成されたものであるため、接触帯電装置４０２ａ〜４０２ｄと共に用いた場合であってもゴースト及びかぶり等の画質欠陥を生じることなく良好な画像品質を得ることが可能となる。従って、本実施形態により、長期にわたり繰り返し使用される場合であっても、感光体におけるゴースト及びかぶりの発生が十分に防止され、画像品質の優れたカラー画像を高速で形成できる画像形成装置２００が実現される。
【０１６８】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、図２に示した装置は、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄと接触帯電装置４０２ａ〜４０２ｄとを含んで構成されるプロセスカートリッジを備えるものであってもよい。かかるプロセスカートリッジを用いることによって、メンテナンスをより簡便に行うことができる。
【０１６９】
また、本発明の画像形成装置はイレース光照射装置等の除電装置をさらに備えていてもよい。これにより、電子写真感光体が繰り返し使用される場合に、電子写真感光体の残留電位が次のサイクルに持ち込まれる現象がより確実に防止されるので、画像品質をより高めることができる。
【０１７０】
＜プロセスカートリッジ＞
次に、本発明のプロセスカートリッジについて説明する。
【０１７１】
図３は、本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体３０７とともに、帯電装置３０８、現像装置３１１、中間転写体３２０（中間転写装置）、クリーニング装置３１３、露光のための開口部３１８、及び、除電露光のための開口部３１７を取り付けレール３１６を用いて組み合わせ、そして一体化したものである。また、プロセスカートリッジ３００は、転写装置３１２の転写方式が、トナー像を中間転写体３２０を介して被転写媒体５００に転写する中間転写方式を採用する構成を有している。なお、電子写真感光体３０７は、上述した本発明にかかる電子写真感光体の構成を有するものである。
【０１７２】
そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写装置３１２と、定着装置３１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【０１７３】
なお、本発明のプロセスカートリッジにおいて、帯電装置３０８（帯電用部材）は、帯電ロール、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電チューブ等による接触帯電方式を採用することができる。接触帯電方式は、感光体表面に接触させた導電性部材に電圧を印加することにより感光体表面を帯電させるものである。導電性部材の形状はブラシ状、ブレード状、ピン電極状、或いはローラ状等何れでもよいが、特にローラ状部材が好ましい。通常、ローラ状部材は外側から抵抗層とそれらを支持する弾性層と芯材から構成される。更に必要に応じて抵抗層の外側に保護層を設けることができる。
【０１７４】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用される現像装置３１１について具体的に説明すると、現像装置３１１としては、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用い接触或いは非接触させて現像する公知の現像器等が挙げられる。また、トナーとしては、機械的な粉砕方や化学重合で作られる。トナーの形状としては不定形なものから球形のものが挙げられる。
【０１７５】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用される中間転写装置３２０について具体的に説明すると、中間転写装置３２０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。これらの中でも、転写帯電補償能力に優れる点で接触型転写帯電器が好ましい。なお、本発明においては、上記転写帯電器の他、剥離帯電器等を併用することもできる。
【０１７６】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用されるクリーニング装置３１３について具体的に説明すると、クリーニング装置３１３としては、特に制限はなく、それ自体公知のクリーニング装置等を用いればよい。例えば、ウレタン製のブレードやクリーニングブラシ等が挙げられる。
【０１７７】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用される除電装置（光除電装置）について具体的に説明すると、光除電装置としては、例えば、タングステンランプ、ＬＥＤ等が挙げられ、該光除電プロセスに用いる光質としては、例えば、タングステンランプ等の白色光、ＬＥＤ光等の赤色光等が挙げられる。該光除電プロセスにおける照射光強度としては、通常、電子写真感光体の半減露光感度を示す光量の数倍乃至３０倍程度になるよう出力設定される。本実施形態においては、開口部３１７からこのような光除電装置からの光を取り込み、感光体を除電する。
【０１７８】
このような本発明のプロセスカートリッジは、先に述べた画像形成装置に装着されるものであり、上記電子写真感光体を搭載していることにより、傷や磨耗に対する耐久性に十分優れているとともにゴースト及びかぶり等が十分抑制された良好な画質を長期に亘って得ることができ、感光体の長寿命化を達成することができる。
【実施例】
【０１７９】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１８０】
＜感光体の作製＞
（ベース感光体）
先ず、酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ、テイカ社製試作品）を１００質量部及びトルエンを５００質量部攪拌混合し、シランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学社製）を１．５質量部添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１５０℃で２時間焼き付けを行った。
【０１８１】
表面処理を施した酸化亜鉛を６０質量部、硬化剤としてブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）を１５質量部、ブチラール樹脂を（商品名：ＢＭ−１、積水化学社製）を１５質量部、及びメチルエチルケトンを８５質量部混合して混合液を得た。得られた混合液３８質量部と、メチルエチルケトン２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレートを０．００５質量部添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を、浸漬塗布法にてアルミニウム基材（直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍ、円筒状）上に塗布し、１６０℃で１００分の乾燥硬化を行い、膜厚２０μｍの下引層を形成した。
【０１８２】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．３°、１６．０°、２４．９°及び２８．０°に回折ピークを示すヒドロキシガリウムフタロシアニンを１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合樹脂（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）を１０質量部、及び酢酸ｎ−ブチルを３００質量部混合し、ガラスビーズとともに横型サンドミルで０．５時間処理して分散させ、電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を、上記で形成した下引き層上に浸漬コートして１００℃で１０分間加熱乾燥し、膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。このように、アルミニウム基材上に、下引層及び電荷発生層が形成された感光体を「ベース感光体」とした。
【０１８３】
（実施例１〜９、及び比較例１〜２１）
ベース感光体の電荷発生層上に、下記の電荷輸送層１〜１０のいずれかの方法に基づいて電荷輸送層を形成し、次いで、下記の表面保護層１〜３のいずれかの方法に基づいて表面保護層を形成することにより、実施例１〜９、及び比較例１〜２１の感光体を得た。なお、実施例１〜９、及び比較例１〜２１の感光体における、ベース感光体、電荷輸送層及び表面保護層の組み合わせは、表７〜９に示すとおりである。
【０１８４】
【表７】
2006251554.tif 000010
【０１８５】
【表８】
2006251554.tif 000011
【０１８６】
【表９】
2006251554.tif 000012
【０１８７】
（電荷輸送層−１）
下記一般式（ａ）で表される化合物２質量部、及び下記一般式（ｂ）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）３質量部を、テトラヒドロフラン１５質量部とクロロベンゼン５質量部との混合溶剤に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０１８８】
【化２】
2006251554.tif 000013
【０１８９】
【化３】
2006251554.tif 000014
【０１９０】
得られた塗布液を、上記ベース感光体の電荷発生層上に浸漬コートして１３５℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２９μｍの電荷輸送層を形成し、この電荷輸送層を「電荷輸送層−１」とした。なお、電荷輸送層−１中の上記一般式（ａ）で表される化合物の濃度は、４０質量％であった。
【０１９１】
（電荷輸送層−２）
上記一般式（ａ）で表される化合物２．２５質量部、及び上記一般式（ｂ）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）２．７５質量部を、テトラヒドロフラン１５質量部とクロロベンゼン５質量部との混合溶剤に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０１９２】
得られた塗布液を、上記ベース感光体の電荷発生層上に浸漬コートして１３５℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２９μｍの電荷輸送層を形成し、この電荷輸送層を「電荷輸送層−２」とした。なお、電荷輸送層−２中の上記一般式（ａ）で表される化合物の濃度は、４５質量％であった。
【０１９３】
（電荷輸送層−３）
上記一般式（ａ）で表される化合物２．５質量部、及び上記一般式（ｂ）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）２．５質量部を、テトラヒドロフラン１５質量部とクロロベンゼン５質量部との混合溶剤に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０１９４】
得られた塗布液を、上記ベース感光体の電荷発生層上に浸漬コートして１３５℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２９μｍの電荷輸送層を形成し、この電荷輸送層を「電荷輸送層−３」とした。なお、電荷輸送層−３中の上記一般式（ａ）で表される化合物の濃度は、５０質量％であった。
【０１９５】
（電荷輸送層−４）
下記一般式（ｃ）で表される化合物２質量部、及び上記一般式（ｂ）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）３質量部を、テトラヒドロフラン１５質量部とクロロベンゼン５質量部との混合溶剤に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０１９６】
【化４】
2006251554.tif 000015
【０１９７】
得られた塗布液を、上記ベース感光体の電荷発生層上に浸漬コートして１３５℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２９μｍの電荷輸送層を形成し、この電荷輸送層を「電荷輸送層−４」とした。なお、電荷輸送層−４中の上記一般式（ｃ）で表される化合物の濃度は、４０質量％であった。
【０１９８】
（電荷輸送層−５）
上記一般式（ｃ）で表される化合物２．２５質量部、及び上記一般式（ｂ）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）２．７５質量部を、テトラヒドロフラン１５質量部とクロロベンゼン５質量部との混合溶剤に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０１９９】
得られた塗布液を、上記ベース感光体の電荷発生層上に浸漬コートして１３５℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２９μｍの電荷輸送層を形成し、この電荷輸送層を「電荷輸送層−５」とした。なお、電荷輸送層−５中の上記一般式（ｃ）で表される化合物の濃度は、４５質量％であった。
【０２００】
（電荷輸送層−６）
上記一般式（ｃ）で表される化合物２．５質量部、及び上記一般式（ｂ）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）２．５質量部を、テトラヒドロフラン１５質量部とクロロベンゼン５質量部との混合溶剤に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０２０１】
得られた塗布液を、上記ベース感光体の電荷発生層上に浸漬コートして１３５℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２９μｍの電荷輸送層を形成し、この電荷輸送層を「電荷輸送層−６」とした。なお、電荷輸送層−６中の上記一般式（ｃ）で表される化合物の濃度は、５０質量％であった。
【０２０２】
（電荷輸送層−７）
下記一般式（ｄ）で表される化合物２質量部、及び上記一般式（ｂ）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）３質量部を、テトラヒドロフラン１５質量部とクロロベンゼン５質量部との混合溶剤に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０２０３】
【化５】
2006251554.tif 000016
【０２０４】
得られた塗布液を、上記ベース感光体の電荷発生層上に浸漬コートして１３５℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２９μｍの電荷輸送層を形成し、この電荷輸送層を「電荷輸送層−７」とした。なお、電荷輸送層−７中の上記一般式（ｄ）で表される化合物の濃度は、４０質量％であった。
【０２０５】
（電荷輸送層−８）
上記一般式（ｄ）で表される化合物２．２５質量部、及び上記一般式（ｂ）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）２．７５質量部を、テトラヒドロフラン１５質量部とクロロベンゼン５質量部との混合溶剤に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０２０６】
得られた塗布液を、上記ベース感光体の電荷発生層上に浸漬コートして１３５℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２９μｍの電荷輸送層を形成し、この電荷輸送層を「電荷輸送層−８」とした。なお、電荷輸送層−８中の上記一般式（ｄ）で表される化合物の濃度は、４５質量％であった。
【０２０７】
（電荷輸送層−９）
上記一般式（ｄ）で表される化合物２．５質量部、及び上記一般式（ｂ）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）２．５質量部を、テトラヒドロフラン１５質量部とクロロベンゼン５質量部との混合溶剤に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０２０８】
得られた塗布液を、上記ベース感光体−１又はベース感光体−２の電荷発生層上に浸漬コートして１３５℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２９μｍの電荷輸送層を形成し、この電荷輸送層を「電荷輸送層−９」とした。なお、電荷輸送層−９中の上記一般式（ｄ）で表される化合物の濃度は、５０質量％であった。
【０２０９】
（電荷輸送層−１０）
上記一般式（ｅ）で表される化合物２．２５質量部、及び上記一般式（ｂ）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９０００）２．７５質量部を、テトラヒドロフラン１５質量部とクロロベンゼン５質量部との混合溶剤に溶解させて、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０２１０】
【化６】
2006251554.tif 000017
【０２１１】
得られた塗布液を、上記ベース感光体−１又はベース感光体−２の電荷発生層上に浸漬コートして１３５℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２９μｍの電荷輸送層を形成し、この電荷輸送層を「電荷輸送層−１０」とした。なお、電荷輸送層−１０中の上記一般式（ｅ）で表される化合物の濃度は、４５質量％であった。
【０２１２】
（表面保護層−１）
下記一般式（ｆ）で表される化合物を２質量部、下記一般式（ｇ）で表される化合物を２質量部、イソプロピルアルコールを５質量部、テトラヒドロフランを３質量部、イオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）を０．０５質量部、及び蒸留水を０．３質量部混合し、室温で撹拌し２４時間加水分解を行った。
【０２１３】
【化７】
2006251554.tif 000018
【０２１４】
【化８】
2006251554.tif 000019
【０２１５】
加水分解後の反応液からイオン交換樹脂をろ過分離し、このろ液２質量部に、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）３）を０．０４質量部混合して溶解し、保護層形成用塗布液を得た。
【０２１６】
得られた塗布液を、電荷輸送層１〜１０のいずれかが形成された感光体ベースの電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、室温で１０分間風乾した後、１４０℃で４０分間熱処理して硬化させ、膜厚約３μｍの表面保護層を形成した。この表面保護層を「表面保護層−１」とした。
【０２１７】
（表面保護層−２）
下記一般式（ｈ）で表される化合物を２質量部、下記一般式（ｉ）で表される化合物を２質量部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−Ｌ、積水化学社製）を１質量部、イソプロピルアルコールを５質量部、テトラヒドロフランを３質量部、イオン交換樹脂（商品名：アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）を０．０５質量部、及び蒸留水を０．３質量部混合し、室温で撹拌し２４時間加水分解を行った。
【０２１８】
【化９】
2006251554.tif 000020
【０２１９】
【化１０】
2006251554.tif 000021
【０２２０】
加水分解後の反応液からイオン交換樹脂をろ過分離し、このろ液２質量部に、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）３）を０．０４質量部混合して溶解し、保護層形成用塗布液を得た。
【０２２１】
得られた塗布液を、電荷輸送層１〜１０のいずれかが形成された感光体ベースの電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、室温で１０分間風乾した後、１４０℃で４０分間熱処理して硬化させ、膜厚約３μｍの表面保護層を形成した。この表面保護層を「表面保護層−２」とした。
【０２２２】
（表面保護層−３）
下記一般式（ｊ）で表される化合物を２質量部、上記一般式（ｇ）で表される化合物を２質量部、イソプロピルアルコールを５質量部、テトラヒドロフランを３質量部、イオン交換樹脂（商品名：アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）を０．０５質量部、及び蒸留水を０．３質量部混合し、室温で撹拌し２４時間加水分解を行った。
【０２２３】
【化１１】
2006251554.tif 000022
【０２２４】
得られた塗布液を、電荷輸送層１〜１０のいずれかが形成された感光体ベースの電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、室温で１０分間風乾した後、１４０℃で４０分間熱処理して硬化させ、膜厚約３μｍの表面保護層を形成した。この表面保護層を「表面保護層−３」とした。
【０２２５】
上記の方法により得られた実施例１〜９、及び比較例１〜２１の感光体について、下記の方法により感光体の電荷移動度を測定した。得られた結果を表７〜９に示す。
【０２２６】
（電荷移動度の測定）
感光体の電荷移動度は、２４℃、４０％ＲＨの条件下、ＸＴＯＦ（Ｘｅｒｏｇｒａｐｈｉｃ  ＴＯＦ）法を用いて測定した。具体的には、感光体に対して、２×１０５Ｖ／ｃｍの電界強度になるようにスコロトロン帯電器を用いて電圧を印加した後、キセノンフラッシュランプによるパルス光照射を行い電荷発生層から電荷を発生させ、感光体表面電位の変化を電位プローブ、電位計アンプ、デジタルオシロスコープを用いて測定した。走行時間の判定には、時間変化と表面電位の時間微分との関係を対数変換し、得られた波形の折れ曲がり点から求める方法を用いた。得られた結果を表７及び８に示す。
【０２２７】
［感光体の評価］
実施例１〜９、及び比較例１〜２１の感光体の、残留電位、電気特性維持、及び画質について、下記の方法により評価した。
【０２２８】
（残留電位の測定及び評価）
低温低湿（１０℃、１５％ＲＨ）環境下、グリッド印加電圧−７００Ｖのスコロトロン帯電器で感光体を帯電した。次に、帯電させてから１秒後の感光体に、７８０ｎｍの半導体レーザーを用いて、１０ｍＪ/ｍ２の光を照射して放電を行わせた。続いて、放電させてから３秒後の感光体に５０ｍＪ/ｍ２の赤色ＬＥＤ光を照射して除電を行った。そして、このときの感光体の表面の電位（Ｖ）を測定し、この値を残留電位の値とした。得られた結果を表７〜９の「残留電位初期（Ｖ）」の欄に示す。
【０２２９】
さらに、上記で測定した残留電位が５０Ｖ以下であるときを、初期の残留電位が十分に低いものとして、表７〜９の残留電位（初期）を示した欄の右欄に記号「○」で示し、残留電位が５０Ｖを越えるが８０Ｖ以下であるときを、初期の残留電位がやや高いが実用レベルにあるものとして記号「△」で示し、残留電位が８０Ｖを越えるときを、初期の残留電位が高いものとして、記号「×」で示した。
【０２３０】
（電気特性維持の評価）
上記残留電位の測定方法で残留電位を測定した後の感光体を、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）環境下、グリッド印加電圧−７００Ｖのスコロトロン帯電器で帯電させた。続いて、帯電させてから３秒後の感光体に５０ｍＪ/ｍ２の赤色ＬＥＤ光を照射して除電を行った。これらの操作を２０万回繰り返した後、再度感光体の残留電位を上記と同様の方法で測定した。この残留電位から、上記初期の残留電位を引いた値を２０万サイクル後変化量（Ｖ）とした。得られた結果を表７〜９の「電気特性維持２０万サイクル後変化量（Ｖ）」の欄に示す。
【０２３１】
さらに、表７〜９中の２０万サイクル後変化量を示した欄の右欄に、上記で測定した変化量が５０Ｖ以下であるときを、電気特性維持が十分であるとして記号「○」を示し、変化量が５０Ｖを越えるが１００Ｖ以下であるときを、電気特性維持がやや低いが実用レベルにあるものとして記号「△」で示し、変化量が１００Ｖを越えるときを、電気特性維持が不十分であるとして記号「×」を示した。
【０２３２】
（画質の評価）
実施例１〜９、及び比較例１〜２１の感光体を、カラータンデム複写機（ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  Ｃ４００、富士ゼロックス社製）に装着して、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）の環境下で白べたを出力した。なお、出力の際、印字速度が最も遅くなるフルカラー、手差し、厚紙プリントモードを選択して画質出力を行った。
【０２３３】
１枚目のプリントを目視で観察し、かぶりが全く見られなかった場合を、かぶりの発生なしとして、表７〜９の画質（かぶり）の欄に「なし」を記し、かぶりが見られた場合を、かぶりが発生したとして、同欄に「発生」を記した。また、軽微なかぶりの発生が見られた場合「軽微」を記した。
【０２３４】
また、実施例１〜９、及び比較例１〜２１の感光体を、カラータンデム複写機（ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  Ｃ４００、富士ゼロックス社製）に装着して、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）の環境下でゴーストチャートを出力した。ゴーストチャートは感光体ドラムの１周目にあたる部分に一定の画像パターンを記録し、２周目にあたる部分にハーフトーンを記録するチャートを用いた。なお、出力の際、印字速度をフルカラー通常速に設定し、フルカラー、手差し、普通紙プリントモードを選択して画質出力を行った。
【０２３５】
１枚目のプリントを目視で観察し、ゴーストが見られなかった場合を、ゴーストの発生なしとして、表７〜９の画質（ゴースト）の欄に「なし」を記し、ゴーストが見られた場合を、ゴーストが発生したとして、同欄に「発生」を記した。
【０２３６】
表７に示すように、実施例１〜９の感光体は、残留電位の初期値が十分に低く、残留電位の上昇が長期に亘って十分に抑制されており、ゴースト及びかぶりの発生が十分に防止されていることが明らかとなった。したがって、実施例１〜９の感光体は、長期に亘って良好な画質品質を維持可能であることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０２３７】
【図１】本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。
【図３】本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態を示す模式図である。
【符号の説明】
【０２３８】
１…導電性支持体、２…電荷発生層、３…電荷輸送層、４…感光層、５…下引層、６…表面保護層、１００…電子写真感光体、２００…画像形成装置、３００…プロセスカートリッジ、３０７…電子写真感光体、３０８…帯電装置、３１１…現像装置、３１２…中間転写装置、３１３…クリーニング装置、３１５…定着装置、３１６…取り付けレール、３１７…除電露光のための開口部、３１８…露光のための開口部、４００…ハウジング、４０１ａ〜４０１ｄ…電子写真感光体、４０２ａ〜４０２ｄ…帯電装置、４０３…露光装置、４０４ａ〜４０４ｄ…現像装置、４０５ａ〜４０５ｄ…トナーカートリッジ、４０６…駆動ロール、４０７…テンションロール、４０８…バックアップロール、４０９…中間転写ベルト、４１０ａ〜４１０ｄ…１次転写ロール、４１１…トレイ（被転写体トレイ）、４１２…移送ロール、４１３…２次転写ロール、４１４…定着ロール、４１６…クリーニングブレード、５００…被転写媒体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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