(57)【要約】【課題】  本発明が解決しようとする課題は、工業的により安価かつ容易な水分量の少ない塩の製造方法を提供することである。【解決手段】  アニオン成分とカチオン成分からなる塩（Ａ）好ましくはアミジニウム塩、テトラアルキルアンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の塩と、２５℃での比誘電率が５以上である極性溶媒（Ｂ）好ましくはアルコール類の合計重量に対して、該（Ｂ）の濃度を０．０１〜５０重量％に保ちながら、該（Ａ）に該（Ｂ）を連続的又は断続的に加えると同時に、該（Ｂ）を蒸発除去することを特徴とする水分含量が５００ｐｐｍ以下である塩の製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アニオン成分とカチオン成分からなる塩（Ａ）と２５℃での比誘電率が５以上である極性溶媒（Ｂ）の合計重量に対して、該（Ｂ）の濃度を０．０１〜５０重量％に保ちながら、該（Ａ）に該（Ｂ）を連続的又は断続的に加えると同時に、該（Ｂ）を蒸発除去することを特徴とする水分含量が５００ｐｐｍ以下である塩の製造方法。
【請求項２】
前記極性溶媒（Ｂ）がアルコール類（Ｂ１）である請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記塩（Ａ）が一般式（１）又は（２）で表されるアミジニウム塩および一般式（３）で表されるテトラアルキルアンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の塩である請求項１又は２記載の製造方法。
【化１】
2006206440.tif 000005
【化２】
2006206440.tif 000006
［式中、Ｒ1は水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル結合を有する基及び／又はホルミル基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価炭化水素基又は水素原子であり、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル結合を有する基及び／又はホルミル基を有していてもよい炭素数１〜１０の１価炭化水素基であって、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の一部又は全部が結合して環を形成していてもよい。Ｘ-は、対アニオンを表す。］
【化３】
2006206440.tif 000007
［式中Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル結合を有する基及び／又はホルミル基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価炭化水素基であってＲ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9の一部又は全部が結合して環を形成していてもよい。Ｙ-は、対アニオンを表す。］
【請求項４】
前記アルコール類（Ｂ１）がメタノール及び／又は、エタノールである請求項２または３の記載の製造方法。
【請求項５】
前記極性溶媒（Ｂ）を蒸発除去するときの温度が５０〜１７０℃である請求項１〜４いずれか記載の製造方法。
【請求項６】
前記塩（Ａ）が四フッ化ホウ酸、過塩素酸、六フッ化リン酸、四フッ化アルミニウム酸、六フッ化ヒ酸、六フッ化アンチモン酸、パーフルオロアルカンスルホン酸、パーフルオロアルカンカルボン酸、パーフルオロアルカンスルホニルイミド、パーフルオロアルカンスルホニルメチドからなる群から選ばれる酸の塩である請求項１〜５いずれか記載の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６いずれか記載の製造方法で得られる塩を用いた非水電解液の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塩の製造方法に関する。さらに詳しくは、特に水分量の少ない塩が要求される、電気２重層キャパシター用電解液、電解コンデンサー用電解液、二次電池用電解液、色素増感太陽電池用電解液、反応用溶媒および触媒等に有用な塩の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、水分量の少ない塩の製造方法としては、アルコール類を添加した後、このアルコール類を蒸留により除去することに伴い水分を除去する方法が知られている（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特許３２４９４８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記製造方法ではアルコール類が多量に必要であり、しかも水分量を少なくするためには何度も操作を繰り返す必要があるため、工業的には高価であり多量のアルコール類が廃棄物になる等の問題点を有している。本発明が解決しようとする課題は、工業的により安価かつ容易な水分量の少ない塩の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。
すなわち本発明は、アニオン成分とカチオン成分からなる塩（Ａ）と２５℃での比誘電率が５以上である極性溶媒（Ｂ）の合計重量に対して、該（Ｂ）の濃度を０．０１〜５０重量％に保ちながら、該（Ａ）に該（Ｂ）を連続的又は断続的に加えると同時に、該（Ｂ）を蒸発除去することを特徴とする水分含量が５００ｐｐｍ以下である塩の製造方法である。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の方法によれば、工業的により安価かつ容易に水分量の少ない塩の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の製造方法の対象となる塩は、アニオン成分とカチオン成分からなる塩（Ａ）である。
アニオン成分として、無機酸、有機カルボン酸  モノおよびジアルキルリン酸エステル、フェノール類、トリアゾール、有機スルホン酸、フルオロカルボン酸、ホウ素錯体等が挙げられる。
【０００７】
カチオン成分としては以下のカチオンがあげられる。
（１）無機カチオン：リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン等のアルカリ金属イオン又は、カルシウムイオン、マグネシウムイオン等のアルカリ土類金属イオン、又は、鉄イオン、ニッケルイオン、アルミニウムイオン等の遷移金属イオン。
【０００８】
（２）有機カチオン：アミジニウムカチオン（イミダゾリニウムカチオン類、イミダゾリウムカチオン類、グアニジウムカチオン類）、テトラアルキルアンモニウムカチオン類、ピリジニウムカチオン類、テトラアルキルホスホニウムカチオン類、ピロリジニウムカチオン類、ピペリジウムカチオン類、ヘキサメチレンイミニウムカチオン類、モルホリニウムカチオン類、ピペラジニウムカチオン類、テトラヒドロピリミジニウムカチオン類、ピコリニウムカチオン類、キノリニウムカチオン類、及びビピリジニウムカチオン類等。主な例として、以下の化合物があげられる。
・ピリジニウムカチオン類
Ｎ−メチルピリジニウムカチオン、Ｎ−エチルピリジニウムカチオン、Ｎ−メチル−４−ジメチルアミノピリジニウムカチオン、Ｎ−エチル−４−ジメチルアミノピリジニウムカチオンなど。
・テトラアルキルホスホニウムカチオン類
テトラメチルホスホニウムカチオン、テトラエチルホスホニウムカチオン、テトラブチルホスホニウムカチオン、ジメチルジエチルホスホニウムカチオン、メチルトリエチルホスホニウムカチオンなど。
・ピロリジニウムカチオン類
Ｎ，Ｎ−ジメチルピロリジニウムカチオン、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルピロリジニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルピロリジニウムカチオンなど。
・ピペリジウムカチオン類
Ｎ、Ｎ−ジメチルピペリジウムカチオン、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルピペリジウムカチオン、Ｎ、Ｎ−ジエチルピペリジウムカチオン、Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−メチルピペリジウムカチオン、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−ブチルピペリジウムカチオンなど
・ヘキサメチレンイミニウムカチオン類
Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキサメチレンイミニウムカチオン、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルヘキサメチレンイミニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヘキサメチレンイミニウムカチオンなど。
・モルホリニウムカチオン類
Ｎ，Ｎ−ジメチルモルホリニウムカチオン、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルモルホリニウムカチオン、Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルモルホリニウムカチオン、Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルモルホリニウムカチオンなど。
・ピペラジニウムカチオン類
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルピペラジニウムカチオン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチルピペラジニウムカチオン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペラジニウムカチオン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリエチル−Ｎ’−メチルピペラジニウムカチオン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルピペラジニウムカチオンなど。
・テトラヒドロピリミジニウムカチオン類
１，３−ジメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３−トリエチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，５−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、８−メチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムカチオン、５−メチル−１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネニウムカチオン、８−エチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムカチオン、５−エチル−１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネニウムカチオンなど。
・ピコリニウムカチオン類
Ｎ−メチルピリジニウムカチオン、Ｎ−エチルピリジニウムカチオン、Ｎ−メチル−４−ジメチルアミノピリジニウムカチオン、Ｎ−エチル−４−ジメチルアミノピリジニウムカチオンなど。
・キノリニウムカチオン類
Ｎ−メチルキノリニウムイオン、Ｎ−エチルキノリニウムイオンなど。
・ビピリジニウムカチオン類
Ｎ−メチル−２，２’−ビピリジニウムカチオン、Ｎ−エチル−２，２’−ビピリニウムカチオンなど。
【０００９】
これらのカチオン成分の中で、好ましくは下記一般式（１）又は（２）で表されるアミジニウムカチオン、下記一般式（３）で表されるテトラアルキルアンモニウムカチオンからなる群から選ばれる少なくとも一種のカチオンが挙げられる。
【００１０】
【化１】
2006206440.tif 000002
【００１１】
【化２】
2006206440.tif 000003
式中、Ｒ1は水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル結合を有する基及び／又はホルミル基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価炭化水素基又は水素原子であり、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル結合を有する基及び／又はホルミル基を有していてもよい炭素数１〜１０の１価炭化水素基であって、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の一部又は全部が結合して環を形成していてもよい。Ｘ-は、対アニオンを表す。
【００１２】
【化３】
2006206440.tif 000004
式中Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル結合を有する基及び／又はホルミル基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価炭化水素基であってＲ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9の一部又は全部が結合して環を形成していてもよい。Ｙ-は、対アニオンを表す。
【００１３】
塩（Ａ）としては無機塩および有機塩が挙げられ、好ましくは一般式（１）又は（２）で表されるアミジニウム塩、一般式（３）で表されるテトラアルキルアンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の塩（Ａ１）である。
【００１４】
一般式（１）及び（２）のカチオン成分について説明する。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5が互いに環を形成していない場合、Ｒ1のうち、水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル結合を有する基及び／又はホルミル基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価炭化水素基としては、直鎖脂肪族炭化水素基、分岐脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基等が含まれる。
直鎖脂肪族炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−デシル、ｎ−オクタデセニル、ｎ−エイコシル、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル及び２−ヒドロキシエチル、アミノメチル、アミノエチル、ニトロメチル、ニトロエチル、シアノメチル、シアノエチル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、メトキシメチル、メトキシエチル、ホルミルメチル及びホルミルエチル等が挙げられる。
分岐脂肪族炭化水素基としては、ｉｓｏ−プロピル、２−メチルプロピル、１−メチルプロピル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、２−エチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、３−エチルブチル、４−エチルブチル、２−エチルヘキシル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチル−ｎ−オクチル、２−エチル−ｎ−ヘキサデセニル、２−エチル−ｎ−オクタデセニル、２−ヒドロキシ−ｉｓｏ−プロピル及び１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル、２−アミノ−ｉｓｏ−プロピル、１−アミノ−２−メチルプロピル、２−ニトロ−ｉｓｏ−プロピル、１−ニトロ−２−メチルプロピル、２−シアノ−ｉｓｏ−プロピル、１−シアノ−２−メチルプロピル、２−カルボキシ−ｉｓｏ−プロピル、１−カルボキシ−２−メチルプロピル、２−メトキシ−ｉｓｏ−プロピル、１−メトキシ−２−メチルプロピル、２−ホルミル−ｉｓｏ−プロピル及び１−ホルミル−２−メチルプロピル等が挙げられる。
環式炭化水素基としては、シクロヘキシル、１−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシル、１−ヒドロキシヘキシル、２−ヒドロキシヘキシル、３−ヒドロキシヘキシル及び４−ヒドロキシヘキシル、１−メトキシ−ヘキシル、２−メトキシヘキシル、３−メトキシヘキシル、４−メトキシヘキシル、１−ホルミル−ヘキシル、２−ホルミルヘキシル、３−ホルミルヘキシル及び４−ホルミルヘキシル等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル、トルイル及びベンジル等が挙げられる。
これらＲ1のうち、水素原子、直鎖脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基が好ましく、さらに好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、メトキシエチル基、ｎ−ブチル基、フェニル基及びベンジル基、特に好ましくは水素原子、メトキシエチル基及びメチル基、最も好ましくはメチル基である。
【００１５】
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル結合を有する基もしくはホルミルを有していてもよい炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、環を形成していない場合、直鎖脂肪族炭化水素基、分岐脂肪族炭化水素基、環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基等が含まれる。
直鎖脂肪族炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−デシル、アミノメチル、アミノエチル、ニトロメチル、ニトロエチル、シアノメチル、シアノエチル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、メトキシメチル、メトキシエチル、ホルミルメチル及びホルミルエチル等が挙げられる。
分岐脂肪族炭化水素基としては、ｉｓｏ−プロピル、２−メチルプロピル、１−メチルプロピル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、２−エチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、３−エチルブチル、４−エチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチル−ｎ−オクチル、２−アミノ−ｉｓｏ−プロピル、１−アミノ−２−メチルプロピル、２−ニトロ−ｉｓｏ−プロピル、１−ニトロ−２−メチルプロピル、２−シアノ−ｉｓｏ−プロピル、１−シアノ−２−メチルプロピル、２−カルボキシ−ｉｓｏ−プロピル、１−カルボキシ−２−メチルプロピル、２−メトキシ−ｉｓｏ−プロピル、１−メトキシ−２−メチルプロピル、２−ホルミル−ｉｓｏ−プロピル及び１−ホルミル−２−メチルプロピル等が挙げられる。
環式炭化水素基としては、シクロヘキシル、１−メチル−ヘキシル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシル、１−アミノ−ヘキシル、２−アミノヘキシル、３−アミノヘキシル、４−アミノヘキシル、１−シアノ−ヘキシル、２−シアノヘキシル、３−シアノヘキシル、４−シアノヘキシル、１−カルボキシ−ヘキシル、２−カルボキシヘキシル、３−カルボキシヘキシル、４−カルボキシヘキシル、１−メトキシ−ヘキシル、２−メトキシヘキシル、３−メトキシヘキシル、４−メトキシヘキシル、１−ホルミル−ヘキシル、２−ホルミルヘキシル、３−ホルミルヘキシル及び４−ホルミルヘキシル等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル、トルイル及びベンジル等が挙げられる。
これらのうち、直鎖脂肪族炭化水素基が好ましく、さらに好ましくはメチル基、メトキシエチル基及びエチル基、特に好ましくはメチル基及びエチル基である。
【００１６】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の一部又は全部が互いに結合して環を形成する場合、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の一部又は全部が結合して形成される環としては、イミダゾリン環、イミダゾール環、ピリミジン環及びテトラヒドロピリミジン環等が含まれる。これらのうち、イミダゾリン環及びイミダゾール環がより好ましく、さらに好ましくはイミダゾール環である。
【００１７】
一般式（１）又は（２）で表されるアミジン塩に含まれるカチオン成分、すなわち、塩（Ａ１）を構成するアミジニウムカチオンとしては、次のカチオン等が含まれる。
（ｉ）イミダゾリニウムカチオン
１，２，３−トリメチルイミダゾリニウム、１，２，３，４−テトラメチルイミダゾリニウム、１，３，４−トリメチル−２−エチルイミダゾリニウム、１，３−ジメチル−２，４−ジエチルイミダゾリニウム、１，２−ジメチル−３，４−ジエチルイミダゾリニウム、１−メチル−２，３，４−トリエチルイミダゾリニウム、１，２，３，４−テトラエチルイミダゾリニウム、１，３−ジメチル−２−エチルイミダゾリニウム、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリニウム、１，２，３−トリエチルイミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−ヘプチルイミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−（−２’ヘプチル）イミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−（−３’ヘプチル）イミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−（−４’ヘプチル）イミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−ドデシルイミダゾリニウム、１，１−ジメチルイミダゾリニウム、１，１，２−トリメチルイミダゾリニウム、１，１，２，４−テトラメチルイミダゾリニウム、１，１，２，５−テトラメチルイミダゾリニウム、２，３-ジヒドロ-１Ｈ-ピロロイミダゾリニウム及び１，１，２，４，５−ペンタメチルイミダゾリニウム等。
【００１８】
（ｉｉ）イミダゾリウムカチオン
１，３−ジメチルイミダゾリウム、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、１，３−ジエチルイミダゾリウム、１，２，３−トリメチルイミダゾリウム、１，２，３，４−テトラメチルイミダゾリウム、１，３，４−トリメチル−２−エチルイミダゾリウム、１，３−ジメチル−２，４−ジエチルイミダゾリウム、１，２−ジメチル−３，４−ジエチルイミダゾリウム、１−メチル−２，３，４−トリエチルイミダゾリウム、１，２，３，４−テトラエチルイミダゾリウム、１，３−ジメチル−２−エチルイミダゾリウム、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム、１，２，３−トリエチルイミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−ヘプチルイミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−（−２’ヘプチル）イミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−（−３’ヘプチル）イミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−（−４’ヘプチル）イミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−ドデシルイミダゾリウム、１，１−ジメチルイミダゾリウム、１，１，２−トリメチルイミダゾリウム、１，１，２，４−テトラメチルイミダゾリウム、１，１，２，５−テトラメチルイミダゾリウム、２，３-ジヒドロ-１Ｈピロロイミダゾリウム及び１，１，２，４，５−ペンタメチルイミダゾリウム等。
【００１９】
（ｉｉｉ）ピリミジニウムカチオン
１，３−ジメチルピリミジニウム、１−エチル−３−メチルピリミジニウム、１，３−ジエチルピリミジニウム、１，２，３−トリメチルピリミジニウム、１，２，３，４−テトラメチルピリミジニウム、１，３，４−トリメチル−２−エチルイミダゾリウム、１，３−ジメチル−２，４−ジエチルピリミジニウム、１，２−ジメチル−３，４−ジエチルピリミジニウム、１−メチル−２，３，４−トリエチルピリミジニウム、１，２，３，４，５−ヘキサメチルイミダゾリウム等。
【００２０】
（ｉｖ）テトラヒドロピリミジニウムカチオン
１，３−ジメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、１，２，３−トリメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、１，２，３，４−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、１，２，３，５−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、８−メチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウム、５−メチル−１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネニウム、８−エチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウム及び５−エチル−１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネニウム等。
【００２１】
これらのうち、（ｉｉ）イミダゾリウムカチオンが好ましく、さらに好ましくは１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、１，３−ジメチルイミダゾリウム、１，３−ジエチルイミダゾリウム、１，２，３−トリメチルイミダゾリウム、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム及び１，２，３，４−テトラメチルイミダゾリウム、２−エチル−１，３−ジメチルイミダゾリウム、４−エチル−１，３−ジメチルイミダゾリウム、３−エチル−１，４−ジメチルイミダゾリウム、３−エチル−１，５−ジメチルイミダゾリウム、１，２，４，５−テトラメチルイミダゾリウム、特に好ましくは１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、１，２，３−トリメチルイミダゾリウム及び１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム、最も好ましくは１−エチル−３−メチルイミダゾリウム及び１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムである
【００２２】
一般式（３）のカチオン成分について説明する。
Ｒ6〜Ｒ9には水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル結合を有する基及び／又はホルミル基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価炭化水素基としては、直鎖脂肪族炭化水素基、分岐脂肪族炭化水素基脂、環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基等が含まれる。
直鎖脂肪族炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−デシル、ｎ−オクタデセニル、ｎ−エイコシル、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル及び２−ヒドロキシエチル、アミノメチル、アミノエチル、ニトロメチル、ニトロエチル、シアノメチル、シアノエチル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、メトキシメチル、メトキシエチル、ホルミルメチル及びホルミルエチル等が挙げられる。
分岐脂肪族炭化水素基としては、ｉｓｏ−プロピル、２−メチルプロピル、１−メチルプロピル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、２−エチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、３−エチルブチル、４−エチルブチル、２−エチルヘキシル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチル−ｎ−オクチル、２−エチル−ｎ−ヘキサデセニル、２−エチル−ｎ−オクタデセニル、２−ヒドロキシ−ｉｓｏ−プロピル及び１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル、２−アミノ−ｉｓｏ−プロピル、１−アミノ−２−メチルプロピル、２−ニトロ−ｉｓｏ−プロピル、１−ニトロ−２−メチルプロピル、２−シアノ−ｉｓｏ−プロピル、１−シアノ−２−メチルプロピル、２−カルボキシ−ｉｓｏ−プロピル、１−カルボキシ−２−メチルプロピル、２−メトキシ−ｉｓｏ−プロピル、１−メトキシ−２−メチルプロピル、２−ホルミル−ｉｓｏ−プロピル及び１−ホルミル−２−メチルプロピル等が挙げられる。
環式炭化水素基としては、シクロヘキシル、１−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシル、１−ヒドロキシヘキシル、２−ヒドロキシヘキシル、３−ヒドロキシヘキシル及び４−ヒドロキシヘキシル、１−メトキシ−ヘキシル、２−メトキシヘキシル、３−メトキシヘキシル、４−メトキシヘキシル、１−ホルミル−ヘキシル、２−ホルミルヘキシル、３−ホルミルヘキシル及び４−ホルミルヘキシル等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル、トルイル及びベンジル等が挙げられる。
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は水素原子、直鎖脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基が好ましく、さらに好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、メトキシエチル基、ｎ−ブチル基、フェニル基及びベンジル基、特に好ましくは、メチル基、エチル基及びメトキシエチル基である。
【００２３】
一般式（３）で表されるテトラアルキルアンモニウム塩に含まれるカチオン成分、すなわち、塩（Ａ１）を構成するテトラアルキルアンモニウムカチオンとしては、次のカチオン等が含まれる。
テトラメチルアンモニウム、エチルトリメチルアンモニウム、ジエチルジメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、トリメチル−ｎ−プロピルアンモニウム、トリメチルイソプロピルアンモニウム、エチルジメチル−ｎ−プロピルアンモニウム、エチルジメチルイソプロピルアンモニウム、ジエチルメチル−ｎ−プロピルアンモニウム、ジエチルメチルイソプロピルアンモニウム、ジメチルジ−ｎ−プロピルアンモニウム、ジメチル−ｎ−プロピルイソプロピルアンモニウム、ジメチルジイソプロピルアンモニウム、トリエチル−ｎ−プロピルアンモニウム、ｎ−ブチルトリメチルアンモニウム、イソブチルトリメチルアンモニウム、ｔ−ブチルトリメチルアンモニウム、トリエチルイソプロピルアンモニウム、エチルメチルジ−ｎ−プロピルアンモニウム、エチルメチル−ｎ−プロピルイソプロピルアンモニウム、エチルメチルジイソプロピルアンモニウム、ｎ−ブチルエチルジメチルアンモニウム、イソブチルエチルジメチルアンモニウム、ｔ−ブチルエチルジメチルアンモニウム、ジエチルジ−ｎ−プロピルアンモニウム、ジエチル−ｎ−プロピルイソプロピルアンモニウム、ジエチルジイソプロピルアンモニウム、メチルトリ−ｎ−プロピルアンモニウム、メチルジ−ｎ−プロピルイソプロピルアンモニウム、メチル−ｎ−プロピルジイソプロピルアンモニウム、ｎ−ブチルトリエチルアンモニウム、イソブチルトリエチルアンモニウム、ｔ−ブチルトリエチルアンモニウム、ジ−ｎ−ブチルジメチルアンモニウム、ジイソブチルジメチルアンモニウム、ジ−ｔ−ブチルジメチルアンモニウム、ｎ−ブチルイソブチルジメチルアンモニウム、ｎ−ブチル−ｔ−ブチルジメチルアンモニウム、イソブチル−ｔ−ブチルジメチルアンモニウム、ジエチルメチルメトキシエチルアンモニウム、エチルジメチルメトキシエチルアンモニウム、（１−ヒドロキシヘキシル）トリメチルアンモニウム、（１−ヒドロキシヘキシル）トリエチルアンモニウム、（１−ヒドロキシヘキシル）ジメチルエチルアンモニウム、（１−ヒドロキシヘキシル）メチルジエチルアンモニウム、（１−メトキシヘキシル）トリメチルアンモニウム、（１−メトキシヘキシル）トリエチルアンモニウム、（１−メトキシヘキシル）ジメチルエチルアンモニウム、（１−メトキシヘキシル）メチルジエチルアンモニウム、（１−ヒドロキシ−３−メチルペンチル）トリメチルアンモニウム、（１−ヒドロキシ−３−メチルペンチル）トリエチルアンモニウム、（１−ヒドロキシ−３−メチルペンチル）ジメチルエチルアンモニウム、（１−ヒドロキシ−３−メチルペンチル）メチルジエチルアンモニウム、（１−メトキシ−３−メチルペンチル）トリメチルアンモニウム、（１−メトキシ−３−メチルペンチル）トリエチルアンモニウム、（１−メトキシ−３−メチルペンチル）ジメチルエチルアンモニウム、（１−メトキシ−３−メチルペンチル）メチルジエチルアンモニウム等が挙げられる。
【００２４】
上記塩（Ａ）のアニオン成分としての無機酸、有機カルボン酸  モノおよびジアルキルリン酸エステル、フェノール類、トリアゾール、有機スルホン酸、フルオロカルボン酸、ホウ素錯体等の中で、上記の式（１）、式（２）及び式（３）のアニオン成分が好ましい。これらについて説明する。
Ｘ-はＰＦ6-、ＢＦ4-、ＡｓＦ6-、Ｆ-、Ｃｌ-、ＰＣｌ6-、ＢＣｌ4-、ＡｓＣｌ6-、ＳｂＣｌ6-、ＴａＣｌ6-、ＮｂＣｌ6-、ＰＢｒ6-、ＢＢｒ6-、ＡｓＢｒ6-、ＡｌＢｒ4-、ＴａＢｒ6-、ＮｂＢｒ6-、ＰＣｌ6-、ＳｂＦ6-、ＡｌＦ4-、ＣｌＯ4-、ＡｌＣｌ4-、ＴａＦ6-、ＮｂＦ6-、ＳｉＦ6-、ＣＮ-、Ｆ（ＨＦ）n-、Ｎ（ＲｆＳＯ3）2-、Ｃ（ＲｆＳＯ3）3-、ＲｆＳＯ3-、ＲｆＣＯ2-（Ｒｆは炭素数１〜１２のフルオロアルキル基）、（当該式中、ｎは１以上４以下の数値を表す）が好ましく、さらに好ましくは、電気化学的安定性の観点等から、ＰＦ6-、ＢＦ4-又はＮ（ＲｆＳＯ3）2-で表される対アニオン、特に好ましくはＰＦ6-又はＢＦ4-で表される対アニオン、最も好ましくはＢＦ4-で表される対アニオンである。  Ｎ（ＲｆＳＯ3）2-、Ｃ（ＲｆＳＯ3）3-、ＲｆＳＯ3-又はＲｆＣＯ2-で表されるアニオンに含まれるＲｆは、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基を表し、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル及びノナフルオロブチルなどが挙げられる。これらのうち、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル及びヘプタフルオロプロピルが好ましく、さらに好ましくはトリフルオロメチル及びペンタフルオロエチル、特に好ましくはトリフルオロメチルである。Ｙ-はＸ-と同様である。
【００２５】
塩（Ａ）として好ましいものを例示すると、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１，３−ジエチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１，２，３−トリメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１，２，３，４−テトラメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、２−エチル−１，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、４−エチル−１，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、３−エチル−１，４−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、３−エチル−１，５−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１，２，４，５−テトラメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、トリエチルメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート、エチルジメチルメトキシエチルアンモニウムテトラフルオロボレート等が挙げられるが、これらに限定されない。なお、これらの電解質のうち、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１，２，３−トリメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート及び１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートが特に好ましい。
【００２６】
本発明の塩の製造方法は塩（Ａ）を主成分とし水分が含まれる塩において系の極性溶媒（Ｂ）の濃度を０．０１〜５０重量％に制御しながら、（Ｂ）を連続的又は断続的に仕込むと同時に蒸発除去する処理により、水分を除去する工程である。
【００２７】
本発明で使用される極性溶媒（Ｂ）の２５℃での比誘電率は５以上であり、好ましくは、１０〜６０、さらに好ましくは２０〜６０である。２５℃での比誘電率が５未満の場合は塩（Ａ）に対する溶解性が低く適さない。
２５℃での比誘電率が５以上である極性溶媒（Ｂ）としてはアルコール類（Ｂ１）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、アルデヒド類（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ペンチルアルデヒド、ベンズアルデヒド）、チオール類（エタンチオール等）、フェノール類（フェノール等）、エーテル類（ジメチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジエチルエーテル等）、アミド類（ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド等）、カルボン酸類（ギ酸、酢酸、アクリル酸、メタクリル酸、安息香酸等）が挙げられる。これらの中でアルコール類（Ｂ１）（２５℃での比誘電率１０〜６０）が好ましく、以下のものが挙げられる。
１価アルコール：炭素数１〜４の一価のアルコール（メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール等）；炭素数５〜８の一価のアルコール（１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、ベンジルアルコール等）。２〜３価またはそれ以上の多価アルコール：エチレングリコール、グリセリン等。ジアルキレングリコールモノアルキルエーテル：エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等及び上記２種以上の混合物。
（Ｂ１）の中で、沸点が６０〜１２０℃、水に対する溶解度が２０重量％以上である、炭素数１〜４の１価のアルコールがさらに好ましく、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール等が挙げられる。特に好ましくはメタノール及び／又は、エタノールである。
【００２８】
上記塩（Ａ）に極性溶媒（Ｂ）を連続的に仕込む時、系の（Ｂ）の濃度は０．０１〜５０重量％、好ましくは０．０５〜１０重量％、特に好ましくは０．１〜５重量％、極めて好ましくは０．５〜３重量％に保つ。０．０１重量％未満では水分を除去するために長時間を要し、また５０重量％を超えると仕込んだ（Ｂ）に対して水分除去の効率が悪くなる。（Ｂ）の使用量は特に制約はないが、（Ａ）の重量に対して、通常０．０１〜３．０倍程度、好ましくは０．０５〜２．０倍程度、より好ましくは０．１〜１．０倍程度である。蒸発除去するための処理温度は好ましくは５０〜１８０℃、より好ましくは７０〜１６０℃であり、特に好ましくは９０〜１４０℃である。                                    （Ｂ）を蒸発除去するための絶対圧力は、（Ｂ）の種類によるが、好ましくは０ｋＰａ〜１０１ｋＰａ、さらに好ましくは０ｋＰａ〜５０ｋＰａであり、処理時間は通常１〜５０時間、好ましくは２〜３０時間であるが、要求される水分量によりさらに延長してもよい。通常、水分を除去した後、（Ｂ）を除去するために、（Ｂ）の仕込みを停止し、さらに同様の条件で（Ｂ）の蒸発除去が行われる。
【００２９】
本発明の製造方法により得られた水分が５００ｐｐｍ以下の塩（Ａ）を塩（Ｃ）と呼ぶものとする。
塩（Ｃ）に求められる水分量は電気２重層キャパシター用電解液、電解コンデンサー用電解液、二次電池用電解液、色素増感太陽電池用電解液、反応用溶媒および触媒等において通常５００ｐｐｍ以下が求められる。特に電気二重層コンデンサ用電解液又は二次電池用電解液では、耐電圧の低下、長期信頼性の低下の観点から好ましくは３００ｐｐｍ以下、より好ましくは１００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５０ｐｐｍ以下、特に好ましくは３０ｐｐｍ以下が求められる。塩（Ｃ）中のアルコール類の残存量は好ましくは３０００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５００ｐｐｍ以下、特に好ましくは１００ｐｐｍ以下である。  
【００３０】
本発明の製造方法により得られる塩（Ｃ）を用いる非水電解液の製造方法としては、得られた塩（Ｃ）を有機溶媒に溶解させる方法、塩（Ａ）を有機溶媒に溶解させた後、水分を除去する方法が挙げられる。有機溶媒の具体例としては以下のものが挙げられる。これらのうち２種類以上を併用することも可能である。
【００３１】
・エーテル類：鎖状エーテル［炭素数２〜６（ジエチルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなど）；炭素数７〜１２（ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルなど）］、環状エーテル［炭素数２〜４（テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサンなど）；炭素数５〜１８（４−ブチルジオキソラン、クラウンエーテルなど）］。
・アミド類：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、ヘキサメチルホスホリルアミド、Ｎ−メチルピロリドンなど。
・カルボン酸エステル類：酢酸メチル、プロピオン酸メチルなど。
・ラクトン類：γ−ブチロラクトン、α−アセチル−γ−ブチロラクトン、β−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトンなど。
・ニトリル類：アセトニトリル、グルタロニトリル、アジポニトリル、メトキシアセトニトリル、３−メトキシプロピオニトリル、アクリロニトリルなど。
・カーボネート類：エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ビニレンカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、ジエチルカーボネートなど。
・スルホキシド類：ジメチルスルホキシド、スルホラン、３−メチルスルホラン、２，４−ジメチルスルホランなど。
・ニトロ化合物：ニトロメタン、ニトロエタンなど。
・複素環式溶媒：Ｎ−メチル−２−オキサゾリジノン、３，５−ジメチル−２−オキサゾリジノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリジノンなど。
・ケトン類：アセトン、２，５ヘキサンジオン、シクロヘキサンなど。
・リン酸エステル類：トリメチルリン酸、トリエチルリン酸、トリプロピルリン酸など。
これらのうち好ましいのはカーボネート類およびスルホキシド類であり、特に好ましくはエチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、スルホランである。
電解液中に占める電解質塩の濃度は、電解液の電気伝導度、内部抵抗の観点から好ましくは０．１モル／リットル以上、さらに好ましくは０．５モル／リットル以上、低温時の塩析出の観点から好ましくは４モル／リットル以下、さらに好ましくは３モル／リットル以下である。電解液中の含水量は電気化学的安定性の観点から３００ｐｐｍ以下が好ましく、さらに好ましくは１００ｐｐｍ以下、特に好ましくは５０ｐｐｍ以下である。
【００３２】
実施例
次に本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。例の中で、部は重量部を示す。
下記実施例において、塩の水分量はカールフィッシャー水分測定装置により測定した。水分測定装置：平沼産業株式会社製、ＡＱ−７。塩を露点−５０℃以下雰囲気下で２ｍｌ注射器に採取し、水分測定装置に注入し、注入量と電量滴定量から水分測定値を算出した。
極性溶媒（Ｂ）の残存量はガスクロマトグラフィーにより測定した。ガスクロマトグラフィーの条件は次に示す条件で行った。カラム：ＤＢ−ＷＡＸ（ジーエルサイエンス社製）、キャリアーガス：ヘリウム、カラム温度：５０℃〜２３０℃（昇温速度１０℃／分）、注入口温度：２３０℃、検出器温度：２３０℃、検出器：ＦＩＤ、サンプル注入量：１マイクロリットル。アルコール類残存量は、濃度既知のアルコール類をあらかじめガスクロマトグラフィーによって測定し、検量線作成後、定法に従い定量した。
【００３３】
実施例１
ガラス製オートクレーブに純度９９．６％、水分４０００ｐｐｍの１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートを１００部仕込んだ。撹拌下、メタノールを５部／時間の速度で連続滴下しながら、温度１１０℃、圧力３ｋＰａの条件でメタノールを蒸発除去させる操作を６時間行った。この時の系のメタノール濃度は約０．５重量％であった。処理物から温度１１０℃、圧力２ｋＰａ、１時間で残存するメタノールを除去して、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート（Ｃ−１）を９９．５部得た。（Ｃ−１）の水分量は２５ｐｐｍであり、メタノールの残存量は２２０ｐｐｍであった。メタノールの使用量は３０部であった。
【００３４】
実施例２
ガラス製オートクレーブに純度９９．４％、水分６０００ｐｐｍの１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートを１００部仕込んだ。撹拌下、メタノールを５部／時間の速度で連続滴下しながら、温度１２５℃、圧力１０ｋＰａの条件でメタノールを蒸発除去させる操作を３時間行った。この時の系のメタノール濃度は約０．７重量％であった。処理物から温度１２５℃、圧力３ｋＰａ、１時間で残存するメタノールを除去して、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート（Ｃ−２）を９９．４部得た。（Ｃ−２）の水分量は４０ｐｐｍであり、メタノールの残存量は８０ｐｐｍであった。メタノールの使用量は１５部であった。
【００３５】
実施例３
ガラス製オートクレーブに純度９９．２％、水分７０００ｐｐｍの１−エチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェートを１００部仕込んだ。撹拌下、メタノールを１０部／時間の速度で連続滴下しながら、温度９０℃、圧力４ｋＰａの条件でメタノールを蒸発除去させる操作を６時間行った。この時の系のメタノール濃度は約１．２重量％であった。処理物から温度９０℃、圧力２ｋＰａ、１時間で残存するメタノールを除去して、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート（Ｃ−３）を９９．１部得た。（Ｃ−３）の水分量は３０ｐｐｍであり、メタノールの残存量は４００ｐｐｍであった。メタノールの使用量は６０部であった。
【００３６】
実施例４
ガラス製オートクレーブに純度９９．５％、水分５０００ｐｐｍの１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネートを１００部仕込んだ。撹拌下、イソプロパノールを１５部／時間の速度で連続滴下しながら、温度１３０℃、圧力１０ｋＰａの条件でイソプロパノールを蒸発除去させる操作を５時間行った。この時の系のイソプロパノール濃度は約２．５重量％であった。処理物から温度１３０℃、圧力３ｋＰａ、１時間で残存するイソプロパノールを除去して、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート（Ｃ−４）を９９．４部得た。（Ｃ−４）の水分量は９０ｐｐｍであり、イソプロパノールの残存量は８００ｐｐｍであった。イソプロパノールの使用量は７５部であった。
【００３７】
実施例５
ガラス製オートクレーブに純度９９．５％、水分５０００ｐｐｍの１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートを５０部、純度９９．７％、水分３０００ｐｐｍのトリエチルメチルアンモニウムテトラフルオロボレートを５０部仕込んだ。撹拌下、エタノールを３部／時間の速度で連続滴下しながら、温度１２０℃、圧力５ｋＰａの条件でエタノールを蒸発除去させる操作を７時間行った。この時の系のエタノール濃度は約０．５重量％であった。処理物から温度１２０℃、圧力２ｋＰａ、１時間で残存するエタノールを除去して、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート及び、トリエチルメチルアンモニウムテトラフルオロボレート（Ｃ−５）を９９．５部得た。（Ｃ−５）の水分量は７０ｐｐｍであり、エタノールの残存量は５００ｐｐｍであった。エタノールの使用量は２１部であった。
【００３８】
実施例６
ガラス製オートクレーブに純度９９．６％、水分４０００ｐｐｍのエチルジメチルメトキシエチルアンモニウムテトラフルオロボレートを１００部仕込んだ。撹拌下、メタノールを５部／時間の速度で連続滴下しながら、温度９０℃、圧力６ｋＰａの条件でメタノールを蒸発除去させる操作を６時間行った。この時の系のメタノール濃度は約１．４重量％であった。処理物から温度９０℃、圧力２ｋＰａ、１時間で残存するメタノールを除去して、エチルジメチルメトキシエチルアンモニウムテトラフルオロボレート（Ｃ−６）を９９．５部得た。（Ｃ−６）の水分量は４０ｐｐｍであり、メタノールの残存量は３００ｐｐｍであった。メタノールの使用量は３０部であった。
【００３９】
比較例１
ガラス製オートクレーブに純度：９９．６％、水分４０００ｐｐｍの１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート１００部、メタノールを１００部仕込んだ。撹拌下、温度１１０℃まで昇温し、徐々に減圧しながら、温度１１０℃、圧力２ｋＰａ、１時間でメタノールを完全に除去して塩を９９．６部を得た。塩の水分量は７００ｐｐｍであり、メタノールの残存量は２８０ｐｐｍであった。メタノールの使用量は１００部であり、アルコールの使用量は実施例２より多く使用しているが、塩の水分量は多かった。
【００４０】
比較例２
ガラス製オートクレーブに純度：９９．４％、水分６０００ｐｐｍの１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート１００部、メタノールを１００部仕込んだ。撹拌下、温度１２０℃まで昇温し、徐々に減圧しながら、温度１２０℃、圧力２ｋＰａ、１時間でメタノールを完全に除去して塩を９９．４部を得た。塩の水分量は８００ｐｐｍであり、メタノールの残存量は１１０ｐｐｍであった。メタノールの使用量は１００部であり、アルコールの使用量は実施例２より多く使用しているが、塩の水分量は多かった。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明の製造方法によれば、水分量の少ない塩を工業的に安価に製造することができる。水分量の少ない塩が要求される、電気２重層キャパシター用電解液、電解コンデンサー用電解液、二次電池用電解液、色素増感太陽電池用電解液、反応用溶媒および触媒等に特に有用である。