(57)【要約】  【課題】  簡素な構成ながらも、回転軸の触れ回りを抑制でき且つハウジング内の環境を損なう恐れの少ないシール装置を提供する。  【解決手段】  回転軸３は、玉軸受１２ａ、１２ａと、これに対して隔置配置された玉軸受１３とにより回転自在に支持されているので、摩擦などの抵抗が少ない状態で、且つ振れ回りなどが少ない状態で、本体１１に対して回転可能となっている。また、周溝１１ｃ内が、コネクタ１４を介して不図示の排気ポンプにより吸引され、且つ周溝１１ｅ内が、コネクタ１７を介して不図示の排気ポンプにより吸引されるので、２段の差動排気シールのシール機能により、周溝１１ｃ、１１ｅに隣接する回転軸３の外周面と中央開口１１ｂ、１１ｄとの間隙（微少スキマ）を介して、外部から空気や異物がプロセス室Ｐ内に侵入することを防止できる。【選択図】  図１
2006090503.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジングに対して取り付けられ、前記ハウジングの開口を介して延在する回転軸を回転自在に支持すると共に、前記ハウジングに対して前記回転軸をシールするシール装置において、
前記ハウジングに取り付けられる本体と、
前記本体に対して前記回転軸を回転自在に支持する第１及び第２の転がり軸受と、
差動排気シール部と、を有し、
前記第１の転がり軸受と前記第２の転がり軸受とは隔置配置されており、且つ前記第１の転がり軸受と前記第２の転がり軸受との間において、前記回転軸と前記本体との間には微少スキマが形成されていることを特徴とするシール装置。
【請求項２】
前記ハウジング内は、大気圧に対して低圧に維持されており、前記第１の転がり軸受と前記第２の転がり軸受の少なくとも一方は、真空用グリースまたは真空用オイルに潤滑され、或いは摺動部位が官能基付き含フッ素重合体−フッ素油混合被膜により被覆されることを特徴とする請求項１に記載のシール装置。
【請求項３】
前記差動排気シールが複数の差圧室を含む場合、前記差圧室間もしくは前記差圧室に転がり軸受を配置したことを特徴とする請求項１または２に記載のシール装置。
【請求項４】
前記第１の転がり軸受と前記第２の転がり軸受との間には、その内輪同士が当接する内輪間座と、その外輪同士が当接する外輪間座が配置されており、前記微少スキマは、前記内輪間座と前記外輪間座との間に形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のシール装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シール装置に関し、たとえば外部環境から隔離されたハウジング内に対して回転力を伝達する回転軸をシールするシール装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置などにおいては、真空や特殊ガス雰囲気に維持したプロセス室内で、ワークをステージに載置して移動させて加工処理することが行われている。ここで、プロセス室内のワークを加工するために、ワークもしくは工具を移動させる必要がある。
【０００３】
そこで、例えばプロセス室の外部に駆動源を設け、それに連結した回転軸をハウジングの開口を介してプロセス室内へと延在させ、かかる回転軸を介して駆動力をワークや工具に伝達することが考えられる。ここで、プロセス室内における大気とは異なる特殊な環境をどのように維持するかが問題となる。特許文献１には、静圧軸受と差動排気シールとを備えた駆動装置が開示されている。
【特許文献１】特開２００２−３０３３２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、静圧軸受を転がり軸受に置き換えることで、駆動装置の構成を簡素化できる。しかるに、ハウジングから離れた位置で回転軸を転がり軸受により点接触的に支持すると、ラジアル剛性が悪くなり、振れ回りなどの問題が生じる恐れがある。特に、差動排気シール用の配管を設けるスペースを確保したり、プロセス室内の高真空状態に対応すべくハウジングの剛性確保のために側壁の厚さを増大させたりすると、回転軸が長くなる傾向があるが、それにより振れ回りなどが顕著に生じやすくなる。又、ハウジング内を高真空状態にするに当たって、転がり軸受を潤滑する潤滑剤が、真空環境を汚染する恐れもある。
【０００５】
そこで本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み、簡素な構成ながらも、回転軸の触れ回りを抑制でき且つハウジング内の環境を損なう恐れの少ないシール装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述の目的を達成するために、本発明のシール装置は、ハウジングに対して取り付けられ、前記ハウジングの開口を介して延在する回転軸を回転自在に支持すると共に、前記ハウジングに対して前記回転軸をシールするシール装置において、
前記ハウジングに取り付けられる本体と、
前記本体に対して前記回転軸を回転自在に支持する第１及び第２の転がり軸受と、
差動排気シール部と、を有し、
前記第１の転がり軸受と前記第２の転がり軸受とは隔置配置されており、且つ前記第１の転がり軸受と前記第２の転がり軸受との間において、前記回転軸と前記本体との間には微少スキマが形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明のシール装置によれば、前記第１の転がり軸受と前記第２の転がり軸受とは隔置配置されているので、前記回転軸の支持スパンを広げることで、ラジアル剛性を高めてその振れ周りなどを回避している。又、前記第１の転がり軸受と前記第２の転がり軸受との間において、前記回転軸と前記本体との間には微少スキマが形成されているので、回転軸に不要なフリクションを生ずることなく、前記ハウジング内が大気と違う環境であったとしても、両者間の気体の流通を極力抑制することで、その環境を隔離できる。尚、本明細書において「微少スキマ」とは、数十μｍ以下（好ましくは５〜１０μｍ程度）のスキマをいうものとする。
【０００８】
本発明のシール装置において、前記ハウジング内は、大気圧に対して低圧に維持されており、前記第１の転がり軸受と前記第２の転がり軸受の少なくとも一方は、真空用グリース（フッ素グリース、シリコングリース等）または真空用オイル（フッ素オイル、シリコンオイル等）に潤滑され、或いは摺動部位が官能基付き含フッ素重合体−フッ素油混合被膜により被覆されると、前記軸受の潤滑剤による前記ハウジング内の環境汚染を抑制できるのでより好ましい。
【０００９】
官能基付き含フッ素重合体−フッ素油混合被膜は、金属に対する親和性の高い官能基を有する含フッ素重合体と、フッ素油（例えばＰＦＰＥ（パーフルオロポリエーテル））との混合物からなる潤滑膜であり、極めて高い粘性を有するものである。官能基を有する含フッ素重合体は官能基の働きで極めて強く金属表面に吸着する。一方、フッ素油の分子も、たとえ一旦切り離されてもすぐに再付着する性質があり、逸散し難い。官能基付き含フッ素重合体−フッ素油混合被膜は、このような性質により、更にアウトガスの抑止も図れ、特殊フッ素樹脂被膜や軟質金属と同等の高い性能を示し、発塵も抑えられる。しかも、特殊フッ素樹脂被膜や金属被膜の場合は、被膜処理に手間がかかるため処理コストが嵩むのに対し、官能基付き含フッ素重合体−フッ素油混合被膜は、極めて容易に、かつ同時に大量の被処理物に対して被膜処理を行えるという特長もあり、したがって、処理コストも低くて済む。
【００１０】
以上のように、本発明の用途からすれば、官能基付き含フッ素重合体−フッ素油混合被膜が最も優れていると言えるが、それに限られるわけではない。官能基付き含フッ素重合体−フッ素油混合被膜の被膜処理方法は、フッ素系溶媒に数％程度に前記混合物を希釈した液体中に被処理物を浸漬し、その後乾燥するだけでよい。乾燥を速めるために適宜加熱してもよい。官能基を有する含フッ素重合体やフッ素油は、例えばデュポン社、モンテカチーニ社などより上市された各種のものがある。
【００１１】
本発明のシール装置において、前記差動排気シールが複数の差圧室を含む場合、前記差圧室間もしくは前記差圧室に転がり軸受を配置すると、前記ハウジング内の環境汚染を更に抑制できるのでより好ましい。
【００１２】
本発明のシール装置において、前記第１の転がり軸受と前記第２の転がり軸受との間には、その内輪同士が当接する内輪間座と、その外輪同士が当接する外輪間座が配置されており、前記微少スキマは、前記内輪間座と前記外輪間座との間に形成されると、前記回転軸の長さを長くすることなく、差動排気シールの効果を与えることができるのでより好ましい。
【００１３】
本明細書中で用いる差動排気シールとは、例えば対向する２面間の微小な間隙にある気体を前記２面間に設けられた差圧室を介して排気することにより、非接触の状態で、対向面を挟む両側の雰囲気（例えば大気圧と高真空）を一定の状態に保つように機能するものをいう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。図１は、第１の実施の形態にかかるシール装置の断面図であり、プロセス室を覆うハウジングに取り付けた状態で示している。
【００１５】
図１において、内部が高真空状態に維持されるプロセス室Ｐを有するハウジング２の一面に設けられた開口２ａに、回転軸３が挿入されている。開口２ａを覆うようにして、ハウジング２の大気側の外壁にシール装置１０が取り付けられている。回転軸３は、シール装置１０に支持されている。
【００１６】
シール装置１０は、Ｏ−リング１６を介してインロー嵌めで直列に連結された円筒部材１１Ａ、１１Ｂからなる本体１１と、第１の転がり軸受である玉軸受１２ａ、１２ａを有する軸受ユニット１２と、第２の転がり軸受である玉軸受１３とを有する。円筒部材１１Ａは、ハウジング２に対してボルト止めされる鍔部１１ａを有しており、更に回転軸３を挿通させた中央開口１１ｂを有しており、また差圧室となる周溝１１ｃを有している。一方、図で左端に軸受ユニット１２を取り付け右端に玉軸受１３を取り付けた円筒部材１１Ｂは、回転軸３を挿通させた中央開口１１ｄを有し、その中程に差圧室となる周溝１１ｅを有している。尚、回転軸３の外周面と中央開口１１ｂ、１１ｄとのスキマは、５〜１０μｍが好ましい。
【００１７】
円筒部材１１Ａには、周溝１１ｃから半径方向外方に延在する貫通路１１ｆが形成されている。貫通路１１ｆの外方端を覆うようにして、円筒部材１１Ａの外周面にコネクタ１４が、Ｏ−リング１５を介して気密状態で取り付けられている。コネクタ１４は、配管等を介して不図示の排気ポンプに接続されている。
【００１８】
一方、円筒部材１１Ｂには、周溝１１ｅから半径方向外方に延在する貫通路１１ｇが形成されている。貫通路１１ｇの外方端を覆うようにして、円筒部材１１Ｂの外周面にコネクタ１７が、Ｏ−リング１８を介して気密状態で取り付けられている。コネクタ１７は、配管等を介して不図示の排気ポンプに接続されている。
【００１９】
軸受ユニット１２は、不図示のボルトを用いて本体１１の外方端に取り付けられ、アンギュラコンタクトタイプの転がり軸受である玉軸受１２ａ、１２ａを介して、回転軸３を軸線方向移動不能且つ回転自在に支持している。より具体的には、ベアリングブロック１２ｂに収容された玉軸受１２ａ、１２ａの外輪が、外輪抑え１２ｃによりベアリングブロック１２ｂに固定され、一方、回転軸３に形成された大径部３ａに、玉軸受１２ａ、１２ａの内輪が当接した状態で、内輪抑え１２ｄを回転軸３のねじ部３ｂに螺合させることで、その内輪が回転軸３に固定されるようになっている。又、回転軸３は、円筒部材１１Ｂの他端で玉軸受１３により支持されている。尚、玉軸受１２ａ、１２ａ、１３は、真空用グリースまたは真空用オイルに潤滑され、或いは摺動部位を官能基付き含フッ素重合体−フッ素油混合被膜により被覆されている。
【００２０】
尚、本体１１の端面と、ハウジング２の外壁との間にはＯ−リング１９が配置されているが、これは両者間を気密する機能を有している。ボルト止めされた本体１１とハウジング２との相対変位は生じない。
【００２１】
次に、本実施の形態に係るシール装置の動作について説明する。回転軸３の図で左端部は、モータ等の駆動源（不図示）に接続されており、回転軸３を回転駆動するようになっている。このとき、回転軸３は、玉軸受１２ａ、１２ａと、これに対して隔置配置された玉軸受１３とにより回転自在に支持されているので、摩擦などの抵抗が少ない状態で、本体１１に対して回転可能となっている。特に、軸受ユニット１２（玉軸受１２ａ、１２ａ）と、玉軸受１３とを隔置配置して回転軸３の支持スパンを広げ、ラジアル剛性を高めており、回転軸３の振れ回り防止、微少スキマ部のスキマの維持、回転軸３へのラジアル負荷容量の向上が達成されている。
【００２２】
また、周溝１１ｃ内が、コネクタ１４を介して不図示の排気ポンプにより吸引され、且つ周溝１１ｅ内が、コネクタ１７を介して不図示の排気ポンプにより吸引されるので、２段の差動排気シールのシール機能により、周溝１１ｃ、１１ｅに隣接する回転軸３の外周面と中央開口１１ｂ、１１ｄとの間隙（微少スキマ）を介して、外部から空気や異物がプロセス室Ｐ内に侵入することを防止できる。特に、回転軸３の外周面と中央開口１１ｄとの微少スキマは、玉軸受１２ａ、１２ａと玉軸受１３との間に位置する。このような構成よって、ハウジング２内のプロセス室Ｐを高真空状態にしても、外部からの気体の流入などを極力抑制することができる。
【００２３】
図２は、第２の実施の形態にかかるシール装置の断面図である。第２の実施の形態が、図１に示す実施の形態に対して主として異なる点は、差動排気シールを１段（差圧室を１つ）とした点、及び２つの玉軸受で回転軸を支持している点である。
【００２４】
図２において、内部が高真空状態に維持されるプロセス室Ｐを有するハウジング２の一面に設けられた開口２ａに、回転軸３が挿入されている。開口２ａを覆うようにして、ハウジング２の大気側の外壁にシール装置２０が取り付けられている。回転軸３は、シール装置２０に支持されている。
【００２５】
シール装置２０は、円筒状の本体２１と、第１の転がり軸受である玉軸受２２２と、第２の転がり軸受である玉軸受２３とを有する。本体２１は、ハウジング２に対してボルト止めされる鍔部２１ａを有しており、更に回転軸３を挿通させた中央開口２１ｂを有しており、また差圧室となる周溝２１ｃを有している。尚、回転軸３の外周面と中央開口２１ｂとのスキマは、５〜１０μｍが好ましい。
【００２６】
本体２１には、周溝２１ｃから半径方向外方に延在する貫通路２１ｆが形成されている。貫通路２１ｆの外方端を覆うようにして、本体２１の外周面にコネクタ２４が、Ｏ−リング２５を介して気密状態で取り付けられている。コネクタ２４は、配管等を介して不図示の排気ポンプに接続されている。
【００２７】
玉軸受２２は、本体２１の内孔２１ｐの奥段部に外輪右端を当接するようにし、且つ差圧室２１ｃ内に配置された回転軸３の大径部３ａに内輪右端を当接するようにして挿入されている。更に玉軸受２２の外輪左端は、内孔２１ｐの内周に嵌合する外輪間座２６に当接し、玉軸受２２の内輪左端は、回転軸３の外周に嵌合する内輪間座２７に当接している。又、外輪間座２６に外輪右端を当接させ、内輪間座２７に内輪右端を当接させるようにして、内孔２１ｐ内に玉軸受２３が挿入されている。玉軸受２３の外輪左端は、本体２１の内孔２１ｐに螺合する外輪抑え２８ａにより当接固定され、玉軸受２３の内輪左端は、回転軸３のねじ部３ｂに螺合する内輪抑え２８ｂにより当接固定されている。尚、外輪間座２６と内輪間座２７とのスキマは、５〜１０μｍが好ましいが、外輪間座２６と内輪間座２７とのスキマを、このような値とするのは製作上、困難を伴う。しかし、本実施の形態においては、回転軸３の支持スパンを広げ、ラジアル剛性を高めるため、玉軸受２２と玉軸受２３とを隔置配置している。また同時に、このことにより、外輪間座２６と内輪間座２７とのスキマ部の軸方向長さを長く設定できている。このため、回転軸３と中央開口２１ｂとのスキマに比べ、外輪間座２６と内輪間座２７とのスキマを広めに設定しても差圧室２１ｃからの排気によるシール性能として十分な性能を確保できる。具体的には、外輪間座２６と内輪間座２７とのスキマは、数十μｍ程度としても良い。玉軸受２２、２３は、真空用グリースまたは真空用オイルに潤滑され、或いは摺動部位を官能基付き含フッ素重合体−フッ素油混合被膜により被覆されている。
【００２８】
尚、本体２１の端面と、ハウジング２の外壁との間にはＯ−リング２９が配置されているが、これは両者間を気密する機能を有している。ボルト止めされた本体２１とハウジング２との相対変位は生じない。
【００２９】
次に、本実施の形態に係るシール装置の動作について説明する。上述の実施の形態と同様に、回転軸３の図で左端部は、モータ等の駆動源（不図示）に接続されており、回転軸３を回転駆動するようになっている。このとき、回転軸３は、隔置配置された玉軸受２２、２３とにより回転自在に支持されているので、摩擦などの抵抗が少ない状態で、且つ振れ回りなどが少ない状態で、本体２１に対して回転可能となっている。特に、玉軸受２２と玉軸受２３とを隔置配置して回転軸３の支持スパンを広げ、ラジアル剛性を高めており、回転軸３の振れ回り防止、微少スキマ部のスキマの維持、回転軸３へのラジアル負荷容量の向上が達成されている。
【００３０】
また、周溝２１ｃ内が、コネクタ２４を介して不図示の排気ポンプにより吸引されるので、差動排気シールのシール機能により、周溝２１ｃに隣接する回転軸３の外周面と中央開口２１ｂとの間隙（微少スキマ）を介して、外部から空気や異物がプロセス室Ｐ内に侵入することを防止できる。更に、玉軸受２２と玉軸受２３との間において、外輪間座２６と内輪間座２７との間における間隙を微少スキマとし、ハウジング２内のプロセス室Ｐを高真空状態にしても、外部からの気体の流入などを極力抑制することができる。
【００３１】
図３は、第３の実施の形態にかかるシール装置の断面図である。第３の実施の形態が、図１に示す実施の形態に対して主として異なる点は、差動排気シールを３段（差圧室を３つ）とした点である。
【００３２】
図３において、内部が高真空状態に維持されるプロセス室Ｐを有するハウジング２の一面に設けられた開口２ａに、回転軸３が挿入されている。開口２ａを覆うようにして、ハウジング２の大気側の外壁にシール装置３０が取り付けられている。回転軸３は、シール装置３０に支持されている。
【００３３】
シール装置１０は、Ｏ−リング３６を介してインロー嵌めで直列に連結された円筒部材３１Ａ、３１Ｂからなる本体１１と、玉軸受３２、３３，３４とを有する。玉軸受３２，３３，３４の一つが第１の転がり軸受を構成し、別の一つが第２の玉軸受を構成する。円筒部材３１Ａは、ハウジング２に対してボルト止めされる鍔部３１ａを有しており、更に回転軸３を挿通させた中央開口３１ｂを有しており、また差圧室となる周溝３１ｃを有している。一方、円筒部材３１Ｂは、回転軸３を挿通させた中央開口３１ｄを有し、またそれぞれ差圧室となる周溝３１ｅ、３１ｊを有している。尚、回転軸３の外周面と中央開口３１ｂ、３１ｄとのスキマは、５〜１０μｍが好ましい。
【００３４】
円筒部材３１Ａには、周溝３１ｃから半径方向外方に延在する貫通路３１ｆが形成されている。貫通路３１ｆの外方端を覆うようにして、円筒部材３１Ａの外周面にコネクタ４１が、Ｏ−リング４２を介して気密状態で取り付けられている。コネクタ４１は、配管等を介して不図示の排気ポンプに接続されている。
【００３５】
円筒部材３１Ｂには、周溝３１ｅから半径方向外方に延在する貫通路３１ｇが形成されている。貫通路３１ｇの外方端を覆うようにして、円筒部材３１Ｂの外周面にコネクタ４３が、Ｏ−リング４４を介して気密状態で取り付けられている。コネクタ４３は、配管等を介して不図示の排気ポンプに接続されている。
【００３６】
更に、円筒部材３１Ｂには、周溝３１ｊから半径方向外方に延在する貫通路３１ｋが形成されている。貫通路３１ｋの外方端を覆うようにして、円筒部材３１Ｂの外周面にコネクタ４５が、Ｏ−リング４６を介して気密状態で取り付けられている。コネクタ４５は、配管等を介して不図示の排気ポンプに接続されている。
【００３７】
玉軸受３３は、本体３１の内孔３１ｐの奥段部に外輪右端を当接するようにし、且つ差圧室３１ｊ内に配置された回転軸３の大径部３ａに内輪右端を当接するようにして挿入されている。更に玉軸受３３の外輪左端は、内孔３１ｐの内周に嵌合する外輪間座３６に当接し、玉軸受３３の内輪左端は、回転軸３の外周に嵌合する内輪間座３７に当接している。又、外輪間座３６に外輪右端を当接させ、内輪間座３７に内輪右端を当接させるようにして、内孔３１ｐ内に玉軸受３４が挿入されている。玉軸受３４の外輪左端は、本体３１の内孔３１ｐに螺合する外輪抑え３８ａにより当接固定され、玉軸受３４の内輪左端は、回転軸３のねじ部３ｂに螺合する内輪抑え３８ｂにより当接固定されている。尚、外輪間座３６と内輪間座３７とのスキマは、５〜１０μｍが好ましいが、外輪間座３６と内輪間座３７とのスキマを、このような値とするのは製作上、困難を伴う。しかし、本実施の形態においては、回転軸３の支持スパンを広げ、ラジアル剛性を高めるため、玉軸受３３と玉軸受３４とを隔置配置している。また同時に、このことにより、外輪間座３６と内輪間座３７とのスキマ部の軸方向長さを長く設定できている。このため、回転軸３と中央開口３１ｄとのスキマに比べ、外輪間座３６と内輪間座３７とのスキマを広めに設定しても差圧室３１ｊからの排気によるシール性能として十分な性能を確保できる。具体的には、外輪間座３６と内輪間座３７とのスキマは、数十μｍ程度としても良い。又、回転軸３は、円筒部材１１Ｂの他端で玉軸受３２により支持されている。玉軸受３２、３３、３４は、真空用グリースまたは真空用オイルに潤滑され、或いは摺動部位を官能基付き含フッ素重合体−フッ素油混合被膜により被覆されている。
【００３８】
尚、本体１１の端面と、ハウジング２の外壁との間にはＯ−リング３９が配置されているが、これは両者間を気密する機能を有している。ボルト止めされた本体３１とハウジング２との相対変位は生じない。
【００３９】
次に、本実施の形態に係るシール装置の動作について説明する。回転軸３の図で左端部は、モータ等の駆動源（不図示）に接続されており、回転軸３を回転駆動するようになっている。このとき、回転軸３は、互いに隔置配置された玉軸受３２，３３，３４により回転自在に支持されているので、摩擦などの抵抗が少ない状態で、且つ振れ回りなどが少ない状態で、本体１１に対して回転可能となっている。特に、玉軸受３２と玉軸受３３，玉軸受３３と玉軸受３４とを隔置配置して回転軸３の支持スパンを広げ、ラジアル剛性を高めており、回転軸３の振れ回り防止、微少スキマ部のスキマの維持、回転軸３へのラジアル負荷容量の向上が達成されている。本実施の形態では、差動排気シールを３段としたことにより高いシール性能を得ることができるが、同時にシール装置３０の長さを長くせざるを得ない。それによる回転軸３のラジアル剛性低下が懸念されるところを、上記のように支持することにより、高いシール性能と回転軸３のラジアル剛性の向上とを両立させている。
【００４０】
また、周溝３１ｃ内が、コネクタ４１を介して不図示の排気ポンプにより吸引され、周溝３１ｅ内が、コネクタ４３を介して不図示の排気ポンプにより吸引され、周溝３１ｊ内が、コネクタ４５を介して不図示の排気ポンプにより吸引されるので、３段の差動排気シールのシール機能により、周溝３１ｃ、３１ｅ、３１ｊに隣接する回転軸３の外周面と中央開口３１ｂ、３１ｄとの間隙（微少スキマ）を介して、外部から空気や異物がプロセス室Ｐ内に侵入することを防止できる。更に、玉軸受３３と玉軸受３４との間において、外輪間座３６と内輪間座３７との間における間隙を微少スキマとし、玉軸受の外輪側より排気することで、ハウジング２内のプロセス室Ｐを高真空状態にしても、外部からの気体の流入などを極力抑制することができる。
【００４１】
以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であることはもちろんである。以上の実施の形態では、半径方向に微少スキマを形成した例を示したが、軸線方向に微少スキマを設けることもできる。更に、転がり軸受としては、直道タイプも適用が可能である。更に、シール装置の軸受としては、大気圧側に固定とし、真空側で支持する例を示したが、逆に真空側に固定とし、大気圧側で支持する構成としても良い。ただし、真空側に転がり軸受が少ない方が、発塵やアウトガスを抑制できるので好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】第１の実施の形態にかかるシール装置の断面図である。
【図２】第２の実施の形態にかかるシール装置の断面図である。
【図３】第３の実施の形態にかかるシール装置の断面図である。
【符号の説明】
【００４３】
２ ハウジング
３ 回転軸
３ａ 大径部
３ｂ ねじ部
１０ シール装置
１１ 本体
１１Ａ 円筒部材
１１Ｂ 円筒部材
１１ａ 鍔部
１１ｂ 中央開口
１１ｃ 周溝
１１ｄ 中央開口
１１ｅ 周溝
１１ｆ 貫通路
１１ｇ 貫通路
１２ 軸受ユニット
１２ａ 玉軸受
１２ｂ ベアリングブロック
１２ｃ 外輪抑え
１２ｄ 内輪抑え
１３ 玉軸受
１４ コネクタ
１５ Ｏ−リング
１６ Ｏ−リング
１７ コネクタ
１８ Ｏ−リング
１９ Ｏ−リング
２０ シール装置
２１ 本体
２１ａ 鍔部
２１ｂ 中央開口
２１ｃ 周溝
２１ｆ 貫通路
２１ｐ 内孔
２２ 玉軸受
２３ 玉軸受
２４ コネクタ
２５ Ｏ−リング
２６ 外輪間座
２７ 内輪間座
２８ａ 外輪抑え
２８ｂ 内輪抑え
２９ Ｏ−リング
３０ シール装置
３１ 本体
３１Ａ 円筒部材
３１Ｂ 円筒部材
３１ａ 鍔部
３１ｂ 中央開口
３１ｃ 周溝
３１ｄ 中央開口
３１ｅ 周溝
３１ｆ 貫通路
３１ｇ 貫通路
３１ｊ 周溝
３１ｋ 貫通路
３１ｐ 内孔
３２ 玉軸受
３３ 玉軸受
３４ 玉軸受
３６ Ｏ−リング
３６ 外輪間座
３７ 内輪間座
３８ａ 外輪抑え
３８ｂ 内輪抑え
３９ Ｏ−リング
４１ コネクタ
４２ Ｏ−リング
４３ コネクタ
４４ Ｏ−リング
４５ コネクタ
４６ Ｏ−リング
Ｐ プロセス室
【図１】
2006090503.tif 000003
【図２】
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【図３】
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