(57)【要約】      （修正有）【課題】  同一原盤上に形成されるピット及びグルーブの形状を簡便にコントロールすることができる光記録媒体原盤の製造方法の提供。【解決手段】  （１）基盤上に第１フォトレジスト層、中間層、第２フォトレジスト層を順次積層して二層フォトレジスト原盤を作製する工程と、強度の異なる二種類の露光ビームにより潜像形成を行う露光工程と、フォトレジスト現像と中間層除去を順に二回行う現像工程からなり、一回目の中間層除去の前後に行うフォトレジスト現像の条件が異なるようにすることを特徴とする光記録媒体原盤の製造方法。（２）一回目の中間層除去前と中間層除去後に行う現像の現像時間あるいは現像液濃度が異なるようにする（１）記載の光記録媒体原盤の製造方法。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基盤上に第１フォトレジスト層、中間層、第２フォトレジスト層を順次積層して二層フォトレジスト原盤を作製する工程と、強度の異なる二種類の露光ビームにより潜像形成を行う露光工程と、フォトレジスト現像と中間層除去を順に二回行う現像工程からなり、一回目の中間層除去の前後に行うフォトレジスト現像の条件が異なるようにすることを特徴とする光記録媒体原盤の製造方法。
【請求項２】
一回目の中間層除去前に行う第１現像の時間と、中間層除去後に行う第２現像の時間が異なるようにすることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体原盤の製造方法。
【請求項３】
第１現像時間を第２現像時間より短くすることを特徴とする請求項２記載の光記録媒体原盤の製造方法。
【請求項４】
第１現像時間を第２現像時間より長くすることを特徴とする請求項２記載の光記録媒体原盤の製造方法。
【請求項５】
一回目の中間層除去前に行う第１現像の現像液濃度と、中間層除去後に行う第２現像の現像液濃度が異なるようにすることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体原盤の製造方法。
【請求項６】
第１現像の現像液濃度を第２現像の現像液濃度より高くすることを特徴とする請求項５記載の光記録媒体原盤の製造方法。
【請求項７】
第１現像の現像液濃度を第２現像の現像液濃度より低くすることを特徴とする請求項５記載の光記録媒体原盤の製造方法。
【請求項８】
一回目の中間層除去前に行う第１現像の時間と、中間層除去後に行う第２現像の時間が異なるようにすると共に、一回目の中間層除去前に行う第１現像の現像液濃度と、中間層除去後に行う第２現像の現像液濃度が異なるようにすることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体原盤の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体原盤、特にハイブリッドディスク用原盤の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
昨今における情報量の増大により、パーソナルコンピュータのインフラにおいて高密度かつ高速で大量のデータの記録再生が可能である光記録ドライブが標準装備となり普及してきている。これに伴いアプリケーションソフトウェアや音楽、画像（静止画、動画）、各種データなどの大容量の情報は、光記録媒体で配布・販売されるのが一般的になってきた。
これらの情報を記録する光記録媒体としては、ＣＤやＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ等の再生専用領域からなる光記録媒体が広く普及している。このような光記録媒体は一般的に直径１２０ｍｍあるいは８０ｍｍ、盤厚が１．２ｍｍの円盤状になっており、記録情報は予めピットとして基盤上に形成され、当該成形基盤上に反射層と保護層を積層した構造になっている。これに対して、記録可能領域からなるＣＤ−Ｒ（ＣＤ−Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）やＣＤ−ＲＷ（ＣＤ−ＲｅＷｒｉｔａｂｌｅ）等の記録用光記録媒体も広く普及している。この記録用光記録媒体は、時間情報が記録されたグルーブ（案内溝）が全面に形成されており、該グルーブが形成された成形基盤上に記録層（ＣＤ−Ｒでは有機色素等、ＣＤ−ＲＷでは無機相変化膜）、反射層、保護層を積層させた構造を有し、光記録ドライブでピットを書き込むことにより、時間情報とデータが記録された光記録媒体となる。
【０００３】
近年では、再生専用領域と記録可能領域の両方を同一媒体上に有する光記録媒体、いわゆるハイブリッドディスクが実用化されている。この媒体は、再生専用領域として存在する既存の情報に加えて、記録可能領域に新たな情報を付加することができる。例えばコンピューターソフトの古いコンテンツを、新しいバージョンにアップグレードさせることができる等、当該光記録媒体の使い勝手を向上することができる。
ＣＤフォーマットのハイブリッドＣＤ−Ｒ／ＲＷを例にとると、再生専用領域を形成するピットと記録可能領域を形成するグルーブでは、それぞれ深さがλ／４ｎ及びλ／８ｎ（λ：再生波長、ｎ：基盤の屈折率）であることが望ましい。このような光記録媒体を得るためには、光記録媒体原盤におけるフォトレジストのパターン形成もピットとグルーブで変える必要がある。
【０００４】
特許文献１〜２には、前記のようなピット及びグルーブ、二水準の深さを有する光記録媒体原盤及びその製造方法が開示されている。即ち、この原盤では、ガラス基盤上に第１フォトレジスト層、中間層、第２フォトレジスト層が順にそれぞれ厚さ３００〜２０００Å、３０〜３００Å、３００〜２０００Å積層され、中間層の熱伝導率を４０Ｗ／ｍＫ以上としている。ピット露光に際しては第１及び第２フォトレジスト層を、グルーブ露光に際しては第２フォトレジスト層のみを露光できるように、二水準の露光ビーム強度で潜像形成を行っており、中間層の膜厚によりピットを露光する露光ビームが中間層を８５％以上透過するようにしている。また第１フォトレジスト層の感度が、第２フォトレジスト層の感度より大きくなるような層構成の組合せとしている。これらにより、中間層の熱拡散効果により、底部の中心部分が盛り上がらないピットパターンの形成が可能となる。また第１フォトレジスト層が第２フォトレジスト層より高感度であることを利用することで、レジストの境界部分に段のないピットパターンを形成することができる。更に、二水準の露光ビーム強度で潜像を形成することにより、ピット及びグルーブを同一盤面上へ形成することができ、ピットの幅はハーフグルーブより広く形成することができる。
また、特許文献３には、前記二水準の露光ビーム強度を変える方法が記載されている。即ち強度が異なる二つの光源のＯＮ／ＯＦＦの切り替えやパワーの制御、スポット径の異なる光源の切り替え、光源の分離／非分離状態の切り替え、及び光源の波長の切り替えを行うことで、第１及び第２フォトレジスト層が露光されるパターン領域と、第２フォトレジスト層のみが露光されるパターン領域の切り替えを行うことができるので、同一盤面上にピットからなる領域とグルーブからなる領域の両方を形成することが可能になる。
【０００５】
光記録媒体のフォトレジスト原盤は、露光装置で露光された後、現像が行われることによりピットやグルーブが形成される。この工程は特許文献４に開示された装置及び方法によって行われる。即ち現像液を滴下し、その後、純水を吐出しリンスを行う。続いて前記リンス後の純水が半乾きな状態のうちに、中間層を除去するための酸溶解液を滴下する。このことにより、前記現像でパターン形成が中間層まで達した部分、即ちピット形成のため強度が高い露光ビームで潜像が形成された部分からなる領域の中間層を除去することができる。更に酸溶解液を純水でリンスした後、前記と同様に再び現像液の滴下、純水での現像液リンスを行うことで、一回目の現像でパターン形成が中間層まで達しなかった部分のパターンが中間層まで達し、既に中間層が除去されたピットパターンの形成はガラス基盤に達するため、ピット形成が完了する。同じく二回目の現像で中間層まで達した部分、即ちグルーブ形成のため強度が低い露光ビームで潜像が形成された部分は、続いて中間層を酸溶解液で除去後、純水でリンスを行うことでハーフグルーブの形成が完了するので、ピット及びグルーブを同一盤面上へ形成することができる。以上の一連の工程は、ターンテーブル上に設置した原盤を回転させながら現像液、純水及び酸溶解液の吐出を行うため、現像及び中間層除去の内外差が発生せず、それぞれ均一なピット及びグルーブ形状を得ることができる。
【０００６】
【特許文献１】特許第０３４７６６２１号公報
【特許文献２】特許第０３４７９４１３号公報
【特許文献３】特開２００３−６９４５号公報
【特許文献４】特開平９−３２０１２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記したような従来技術により、同一盤面上にピットからなる領域とグルーブからなる領域の両方が形成された所望の光記録媒体原盤を得ることができる。しかしながら従来の技術では、ピット及びグルーブの形状をコントロールできる手段が露光時のビーム強度のみである。ビーム強度はその光源の使用状況や光源を含めた露光装置の設置環境の変動、ビーム光軸のずれなどにより変化するため、毎回同じ設定で露光しても同じピット及びグルーブ形状になるとは限らない。特にグルーブのパターン形成においては、グルーブ潜像形成用の露光ビーム強度がピット潜像形成用の露光ビーム強度より弱いとはいえ、露光ビーム強度が所定より大きくシフトしてしまうと、一回目の現像時にパターン形成が中間層まで達する部分が発生する。このため一連の現像・中間層除去工程終了後、グルーブの一部がピットの深さまで落ちている箇所が発生するため、該当部分はディスク化・記録後の信号特性が悪化する。
またＤＶＤフォーマットのような狭いピッチで露光を行うためには、ピット及びグルーブの幅も併せて狭くする必要があるが、現像条件が固定されている場合は露光ビーム強度を変えるだけでは所望の形状を得られない場合がある。即ち光記録媒体のフォトレジスト原盤で使用しているフォトレジスト材料そのものを変更しなければならないことになるため、作製する媒体の品種、例えばＣＤフォーマットとＤＶＤフォーマットそれぞれ別々で、使用するフォトレジスト材料及び第１フォトレジスト層と第２フォトレジスト層の組み合わせを変えなければならず、プロセスにおいて手間やコストがかかる。
本発明は上記の問題を解消し、露光ビーム強度及びフォトレジスト材料の変更以外で、同一原盤上に形成されるピット及びグルーブの形状を簡便にコントロールすることができる手段を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は次の１）〜８）の発明（以下、本発明１〜８という）によって解決される。
１）  基盤上に第１フォトレジスト層、中間層、第２フォトレジスト層を順次積層して二層フォトレジスト原盤を作製する工程と、強度の異なる二種類の露光ビームにより潜像形成を行う露光工程と、フォトレジスト現像と中間層除去を順に二回行う現像工程からなり、一回目の中間層除去の前後に行うフォトレジスト現像の条件が異なるようにすることを特徴とする光記録媒体原盤の製造方法。
２）  一回目の中間層除去前に行う第１現像の時間と、中間層除去後に行う第２現像の時間が異なるようにすることを特徴とする１）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
３）  第１現像時間を第２現像時間より短くすることを特徴とする２）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
４）  第１現像時間を第２現像時間より長くすることを特徴とする２）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
５）  一回目の中間層除去前に行う第１現像の現像液濃度と、中間層除去後に行う第２現像の現像液濃度が異なるようにすることを特徴とする１）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
６）  第１現像の現像液濃度を第２現像の現像液濃度より高くすることを特徴とする５）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
７）  第１現像の現像液濃度を第２現像の現像液濃度より低くすることを特徴とする５）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
８）  一回目の中間層除去前に行う第１現像の時間と、中間層除去後に行う第２現像の時間が異なるようにすると共に、一回目の中間層除去前に行う第１現像の現像液濃度と、中間層除去後に行う第２現像の現像液濃度が異なるようにすることを特徴とする１）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
【０００９】
以下、上記本発明の実施の形態について詳しく説明する。
本発明で使用する二層レジスト原盤の断面構成は図１に示す通りであり、基盤１の上に第１フォトレジスト層２、中間層３、第２フォトレジスト層４が積層されている。基盤には通常ガラスを用いる。第１及び第２フォトレジスト層には、通常ポジ型フォトレジスト材料を用い、潜像部分はアルカリ水溶液に可溶である。フォトレジスト層の積層には通常スピンコート法を用い、膜厚はそれぞれ３００〜２０００Åに設定する。各フォトレジスト層は塗布後にプリベークを行うが、第１フォトレジスト層のプリベーク温度は第２フォトレジスト層のプリベーク温度及び現像後のポストベーク温度より高く設定することが好ましい。これは第２フォトレジスト層のプリベーク時及び現像後のポストベーク時に、第１フォトレジスト層からの溶媒の蒸発によるガスの発生を防ぐためで、ガスが集中する部分の盛り上がりによる欠陥の発生がなく、良好な信号品質を得られる。また第１フォトレジスト層が第２フォトレジスト層より高感度である方が、レジストの境界部分に段のないピットパターンを形成することができるので好適である。
中間層には、電気抵抗の小さい導電性膜であるＩｎ２Ｏ３やＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３９５重量％−ＳｎＯ２５重量％）を用いると、熱拡散効果により中間層膜質の変化を抑制できるため、ピットの中心部分が盛り上がらない平らな形状のピットを形成することができる。中間層の熱伝導率は４０Ｗ／ｍＫ以上であることが望ましい。中間層の積層には通常スパッタ法が用いられ、ピットを露光するビームが中間層を８５％以上透過するように、膜厚は３０〜３００Åの範囲で設定する。
【００１０】
上記の方法で作製した二層レジスト原盤は、露光装置でＣＤやＤＶＤ等の所望のフォーマットに従って露光される。このとき、第１及び第２フォトレジスト層、即ちピットを露光する強度の第１露光ビーム〔図２−１（ａ）の５〕と、第２フォトレジスト層のみ、即ちグルーブを露光する、第１露光ビームより強度の弱い第２露光ビーム〔図２−１（ａ）の６〕の、二水準の強度のビームを用いて露光を行うことで、深さの浅いグルーブの潜像、及び深さの深い、かつ前記グルーブより幅の広いピットの潜像が形成され、同一盤面上に両パターンの潜像が形成された二層レジスト原盤を得ることができる。
上記第１露光ビームと第２露光ビームは、複数の異なる光源そのもののＯＮ／ＯＦＦや光源の波長、スポット径、光源の分離／非分離状態の切り替え及びパワー制御によって強度を変えており、これによってピットパターンからなる領域とグルーブパターンからなる領域の切り替えを実施することができる。
【００１１】
露光された二層レジスト原盤は、現像及び中間層の除去により、ピットやグルーブが形成される。一連の現像工程におけるパターン形成の例を図２−１および図２−２に示す。まず現像液を二層レジスト原盤〔図２−１（ａ）参照〕上に滴下し、その後、純水を吐出してリンスを行う。これにより第１露光ビームで露光された部分、即ちピット形成のための強度が高いビームで潜像が形成された部分は、パターン形成が中間層まで達し、第２露光ビームで露光された部分、即ちグルーブ形成のための強度が低いビームで潜像が形成された部分のパターン形成は、第２フォトレジスト層内で止まる〔図２−１（ｂ）参照〕。続いて前記リンス後の純水が半乾きな状態のうちに、中間層を除去するための酸溶解液を滴下する。このことにより、前記現像でパターン形成が中間層まで達した部分の中間層を除去することができる〔図２−１（ｃ）参照〕。更に酸溶解液を純水でリンスした後、前記と同様に、再び現像液の滴下、純水での現像液リンスを行うことで、一回目の現像でパターン形成が中間層まで達しなかった部分のパターンが中間層まで達し、既に中間層が除去された領域ではパターンの形成が基盤に達するため、ピットの形成が完了する〔図２−２（ｄ）参照〕。同時に二回目の現像で中間層まで達した部分は、続いて中間層を酸溶解液で除去し、純水でリンスを行うことでグルーブの形成が完了するので、ピット及びグルーブを同一盤面上へ形成することができる〔図２−２（ｅ）参照〕。
【００１２】
以上の一連の工程は、ターンテーブル上に設置した二層レジスト原盤を回転させながら現像液、純水及び酸溶解液の吐出を行うと、現像及び中間層除去の内外差が発生せず、均一なピット及びグルーブ形状を得ることができるため好適である。
上記のピット及びグルーブの形成では、一回目の中間層除去の前後に現像工程がある。この二回の現像工程において、二層のフォトレジスト層の厚さや物性に合わせて、異なる現像条件で現像することが、同一原盤上でのピット及びグルーブ形成時の形状制御を簡便に行うのに有効である。通常の場合、現像条件としては、露光パワー、現像時間、現像液濃度があるが、例えば、二回の現像工程において、現像時間あるいは現像液濃度が異なるようにすることが、同一原盤上でのピット及びグルーブ形成時の形状制御を容易に実施するのに効果的である。
具体的には、第１現像時間を第２現像時間よりも短くしたり長くしたりする方法や第１現像の現像液濃度を第２現像の現像液濃度よりも濃くしたり薄くしたりする方法がある。現像時間と現像液濃度を両方変えてもよく、例えば第１現像の現像時間を長くし現像液濃度を濃くすれば、相乗効果により潜像部分の現像（レジストの溶解）はより速く進むから、第１現像でのパターンを中間層まで形成することが容易になる。即ち、より弱い露光ビーム強度でピットを形成することが可能となる。
【００１３】
一般に、露光パワーが強く、現像時間が長く、現像液濃度が濃い場合に潜像部分の現像はより速く進むが、この進み具合は、前記３つの要件だけでなく、使用するレジスト材料によっても変わるので、時間や濃度を数値的に限定することは容易でない。しかし、第１現像において、グルーブ用に露光・潜像化した部分の現像が中間層に達しない条件を選択することが重要である。元々、グルーブ用の露光ビーム強度はピット用よりも弱く設定されるが、それでも過剰な第１現像時間や現像液濃度を選択すると、第１現像でパターンが中間層まで達するので、最終的にグルーブ（の一部）がピットの深さまでパターン形成されてしまう「グルーブ落ち」が発生することになる。従って、まず第１フォトレジスト層の厚さや物性などを考慮してパターンが中間層まで達しないような露光ビーム強度と第１現像条件を設定し、次いで、第２フォトレジスト層の厚さや物性などを考慮して露光ビーム強度と第１現像条件を設定する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明１、２、５、８によれば、同一原盤上に形成されるピット及びグルーブの形状のコントロールを簡便に行うことができる。
更に本発明３、７によれば、より幅の広いピットの形成を容易に行うことができる。
更に本発明４、６によれば、より幅の狭いピットの形成を容易に行うことができる。
【実施例】
【００１５】
以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。
【００１６】
実施例１〜２、比較例１
ガラス基盤上に、第１フォトレジスト層となるフォトレジスト材料Ａ（Ｓｈｉｐｌｅｙ製：ＳＰＲ６８０９）をスピンコート法で厚さ１４００Å積層し、１３５℃で３０分間プリベークしたのち、スパッタ法で中間層となるＩｎ２Ｏ３を厚さ４０Å積層した。更に第２フォトレジスト層となる、前記フォトレジスト材料Ａより感度の低いフォトレジスト材料Ｂ（Ｓｈｉｐｌｅｙ製：ＵＬＴＲＡ−ｉ１２３）を、スピンコート法で厚さ１６００Å積層し、９０℃で３０分間プリベークして、二層フォトレジスト原盤を作製した。
この原盤に対し、図３に示すような露光装置を用いて、トラックピッチ０．７４μｍのＤＶＤフォーマットに従い、ピットからなる第１の領域及びグルーブからなる第２の領域の潜像形成を行った。露光装置は、波長が４１３ｎｍのＫｒガスレーザーの強度をＥＯＭ（電子光学素子）で制御しており、第１の領域を露光する時には、大きい露光ビーム強度〔第１露光ビーム、図２−１（ａ）の５〕でＯＮ／ＯＦＦを切り替えて照射し、ピットの潜像を形成した。また、第２の領域を露光する時には、小さい露光ビーム強度〔第２露光ビーム、図２−１（ａ）の６〕で連続照射し、グルーブの潜像を形成した〔図２−１（ａ）参照〕。
露光後、５０％希釈現像液で第２フォトレジスト層の現像を行い〔図２−１（ｂ）参照〕、０．１６％硝酸水溶液で中間層の除去を行い〔図２−１（ｃ）参照〕、再び前記現像液及び硝酸水溶液で第１フォトレジスト層と第２フォトレジスト層の現像〔図２−２（ｄ）参照〕及び中間層除去を行い〔図２−２（ｅ）参照〕、ピット及びグルーブのパターニングを行った。
一回目の中間層除去の前後に行われる二回の現像時間の合計は３０秒とし、第１・第２現像時間配分を、それぞれ１０秒・２０秒（実施例１）、２０秒・１０秒（実施例２）、１５秒・１５秒（比較例１）の三通りで行ったところ、深さ約３０００Åのピットからなる第１の領域と、深さ約１６００Åのグルーブからなる第２の領域が形成された。このとき、ピット形成可能な露光パワー及びピットの開口幅・底部幅は、次の表１に示す通りの結果となった。
【００１７】
【表１】
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実施例１では比較例１より第１現像時間を５秒短く、第２現像時間を５秒長くしたことにより、ピット形成が可能になる露光パワーが上昇し、その時のピット幅は開口、底部共に比較例１より広がった。これは第１現像時間が短くなったことにより、ピットの潜像を形成する第１露光ビーム強度が十分でないと、第１現像ではパターン形成が中間層まで達せず、第２フォトレジスト層内で形成が止まるためである。即ち、第２現像まで行ってもグルーブが形成されることになる。ピット及びグルーブの幅は露光ビーム強度に比例するので、第１現像でパターン形成が中間層まで達するのは、より高い露光ビームで露光された領域になる。また第１現像と第２現像の合計時間は比較例１と等しいため、グルーブの幅は変わらない。よって、グルーブの形状を変えることなく、より幅の広いピットを形成することができる（本発明３に相当）。
一方、実施例２では逆に、比較例１より第１現像時間を５秒長く、第２現像時間を５秒短くしたことにより、ピット形成が可能になる露光パワーが減少し、その時のピット幅は開口、底部共に比較例１より狭くなった。これは第１現像時間が長くなったことにより、ピットの潜像を行う第１露光ビーム強度が小さくても、第１現像でパターンを中間層まで形成することができるためである。また第１現像と第２現像の合計時間は比較例１と等しいため、グルーブの幅は変わらない。よって、より低いパワーのビームで露光された領域でもピットを形成することができ、グルーブの形状を変えることなく、より幅の狭いピットを形成することができる（本発明４に相当）ため、ＤＶＤフォーマットに一層対応し易い光記録媒体原盤も提供することができる。
【００１８】
実施例３〜４、比較例２
実施例１と同じプロセスで作製した二層フォトレジスト原盤に対し、実施例１と同様な方法で潜像形成を行った。露光後も同様に、第２フォトレジスト層の現像、硝酸水溶液での中間層の除去、第１フォトレジスト層と第２フォトレジスト層の現像及び中間層除去の順で、ピット及びグルーブのパターニングを行った。
一回目の中間層除去の前後に行われる二回の現像時間の合計を３０秒とし、第１・第２現像時間配分は、それぞれ１５秒ずつとした。このとき第１現像及び第２現像で使用する現像液濃度の組み合わせを、７０％・３０％（実施例３）、３０％・７０％（実施例４）、５０％・５０％（比較例２）の三通りで行ったところ、深さ約３０００Åのピットからなる第１の領域と、深さ約１６００Åのグルーブからなる第２の領域が形成された。このとき、ピット形成可能な露光パワー及びピットの開口幅・底部幅は、次の表２に示す通りの結果となった。
【表２】
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実施例３では比較例２より第１現像の現像液濃度を２０％高く、第２現像の現像液濃度を２０％低くしたことにより、ピット形成が可能になる露光パワーが減少し、その時のピット幅は開口、底部共に比較例２より狭くなった。これは第１現像の現像液濃度が高くなったことにより、ピットの潜像を行う第１露光ビーム強度が小さくても、第１現像でパターンを中間層まで形成することができるためである。よって、より低いパワーのビームで露光された領域でもピットを形成することができ、当該ピットの幅は、より狭くなる（本発明６に相当）。
一方、実施例４では逆に、比較例１より第１現像の現像液濃度を２０％低く、第２現像時間を２０％高くしたことにより、ピット形成が可能になる露光パワーが上昇し、その時のピット幅は開口、底部共に比較例２より広がった。これは第１現像時間が短くなったことにより、ピットの潜像を行う第１露光ビーム強度が十分でないと、第１現像ではパターン形成が中間層まで達せず、第２フォトレジスト層内で形成が止まるためである。即ち、第２現像まで行ってもグルーブが形成されることになる。従って、より高いパワーのビームで露光された領域でピット形成されるため、より幅の広いピットを形成することができる（本発明７に相当）。
【００１９】
上記の通り、一回目の中間層除去前後で行われる二回の現像工程において、異なる現像時間あるいは現像液濃度を利用すれば、ピット及びグルーブの形成及び形状制御を簡便に行うことができるが、異なる現像時間を利用する方が、グルーブの幅を変えることなくピット幅を制御できること、ピット幅の変動が大きいこと、及び現像機プログラムの変更のみで実施できることから、より容易に形状制御を実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明で使用される二層レジスト原盤の断面構成を示す説明図である。
【図２−１】光記録媒体原盤の製造工程における、潜像及びパターン形成の変遷を示す説明図である。（ａ）潜像形成工程、（ｂ）第２フォトレジスト層現像工程、（ｃ）中間層除去工程（ピット形成部）
【図２−２】（ｄ）第１及び第２フォトレジスト層現像工程、（ｅ）中間層除去工程（グルーブ形成部）
【図３】光記録媒体原盤用露光装置の模式図である。
【符号の説明】
【００２１】
１  基盤
２  第１フォトレジスト層
３  中間層
４  第２フォトレジスト層
５  第１露光ビーム
６  第２露光ビーム
７  ピット
８  グルーブ
【図１】
2006073115.tif 000005
【図２−１】
2006073115.tif 000006
【図２−２】
2006073115.tif 000007
【図３】
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