(57)【要約】【課題】  比較的小型の機構を用いて駆動部の発熱量を低減できるとともに、駆動時の反力を低減できる駆動装置を提供する。【解決手段】  Ｚ軸ガイド５５Ａに沿って移動自在にスライダ５３Ａ及び５８Ａを装着し、スライダ５３Ａにブラインド２１及び可動子５４Ａを固定し、スライダ５８Ａで固定子６０Ａを支持し、半径比の異なる滑車４８Ａ及び４９Ａを含むバランスホイール機構５１Ａにそれぞれベルト６２Ａ及び６３Ａを介してスライダ５３Ａ及び固定子６０Ａを連結する。可動子５４Ａ及び固定子６０Ａよりなるリニアモータ６１Ａでブラインド２１を鉛直線に沿って駆動する。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１物体を実質的に鉛直線に沿って駆動する駆動装置において、
前記第１物体のＭ倍（Ｍは１よりも大きい実数）の質量を持つ第２物体と、
前記第１物体と前記第２物体とを実質的にＭ：１の速度比で前記鉛直線に沿って相対的に逆方向に駆動する相対駆動装置とを備えたことを特徴とする駆動装置。
【請求項２】
前記第１物体と前記第２物体とが静的に釣り合うように前記第１物体と前記第２物体とを連結する連結機構を備えたことを特徴とする請求項１に記載の駆動装置。
【請求項３】
前記相対駆動装置は、
前記第１物体と前記第２物体とを実質的にＭ：１の速度比で前記鉛直線に沿って相対的に逆方向に移動できるように連結する連結機構と、
前記第１物体と前記第２物体とを前記連結機構に拘束された状態で前記鉛直線に沿って相対的に逆方向に駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項１に記載の駆動装置。
【請求項４】
第１物体を駆動する駆動装置において、
前記第１物体のＭ倍（Ｍは１よりも大きい実数）の質量を持つ第２物体と、
前記第１物体と前記第２物体とを実質的にＭ：１の速度比で相対的に逆方向に移動できるように連結する連結機構と、
前記第１物体と前記第２物体とを前記連結機構に拘束された状態で相対的に逆方向に駆動する駆動部とを有することを特徴とする駆動装置。
【請求項５】
前記連結機構は、半径比がＭ：１で同軸に回転する２つの滑車と、前記２つの滑車の外周に巻回されて前記第１物体及び前記第２物体に連結される連結部材とを有することを特徴とする請求項３又は４に記載の駆動装置。
【請求項６】
前記連結機構は、
外周部に半径方向に複数の溝が形成されて回転軸が前記第２物体に連結されたホイール部と、
前記複数の溝に沿って移動自在に配置された複数のフォロワー部と、
該複数のフォロワー部に拘束されて前記ホイール部の回転軸の周りを回転するとともに回転軸が前記第１物体に連結されたマウント部とを有することを特徴とする請求項３又は４に記載の駆動装置。
【請求項７】
前記駆動部は、前記第１物体に連結された可動子と、前記第２物体に連結された固定子とを有するリニアモータであることを特徴とする請求項３から６のいずれか一項に記載の駆動装置。
【請求項８】
前記可動子はコイルを含み、前記固定子は複数の磁石を含むことを特徴とする請求項７に記載の駆動装置。
【請求項９】
前記第１物体及び前記第２物体のうちの少なくとも一方の位置情報を計測する位置検出装置と、
前記位置検出装置の検出結果をフィードバックするとともに、前記第１物体又は前記第２物体の目標位置の情報をフィードフォワードして前記駆動部を駆動する制御部とをさらに備えたことを特徴とする請求項３から８のいずれか一項に記載の駆動装置。
【請求項１０】
照明系からの露光ビームでパターンの一部を照明し、前記露光ビームで前記パターン及び投影系を介して基板を露光した状態で、前記パターンと前記基板とを相対的に移動して、前記パターンを前記基板上に転写する露光装置において、
前記照明系は、前記露光ビームによる照明領域を規定する固定視野絞りと、前記固定視野絞りによって規定される照明領域をさらに制限する可動視野絞りと、請求項１から９のいずれか一項に記載の駆動装置とを備え、
前記駆動装置によって前記可動視野絞りを駆動することを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
前記パターンの形成されたマスクを移動するマスクステージと、
前記マスクステージのガイド面を有するマスクベースとを備え、
前記駆動装置を前記マスクベース上に設置したことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記パターンの形成されたマスクを移動するマスクステージと、
前記マスクステージのガイド面を有するマスクベースと、
前記マスクベースとは防振装置を介して分離されたコラム機構とを備え、
前記駆動装置を前記コラム機構で支持することを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記駆動装置を２つ備え、
前記可動視野絞りは、前記パターンと前記基板との相対移動の方向に対応する方向に沿って互いに独立に移動自在の２枚のブラインド部材を備え、
前記２枚のブラインド部材をそれぞれ別の前記駆動装置によって駆動することを特徴とする請求項１０から１２のいずれか一項に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物体を駆動するための駆動装置に関し、例えば半導体デバイス、ＣＣＤ撮像素子、液晶ディスプレイ、又は薄膜磁気ヘッド等の各種デバイスを製造する際に、所定パターンを基板上に転写するために使用される露光装置において露光ビームの照明領域を規定するための可動ブラインド機構に使用して好適なものである。さらに、本発明は、その駆動装置を備えた露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体デバイスの製造工程の一つであるリソグラフィ工程においては、マスクとしてのレチクル（又はフォトマスク等）に形成されているパターンを基板（感応基板）としてのフォトレジストが塗布されたウエハ（又はガラスプレート等）上に転写露光するために、露光装置が使用されている。露光装置としては、ステッパー等の一括露光型（静止露光型）の投影露光装置やスキャニングステッパー等の走査露光型の投影露光装置（走査型露光装置）などが使用されている。これらの露光装置の照明光学系においては、露光ビームのレチクル上での照明領域を規定するために視野絞りとしてのブラインド機構が備えられている。
【０００３】
また、走査型露光装置においては、走査露光時に不要なパターンの露光を防止するために、ウエハ上の各ショット領域への走査露光に際して、レチクルの走査方向に対応する方向においてその照明領域を次第に開閉する必要がある。そこで、走査型露光装置のブラインド機構には、その照明領域を開閉する可動ブラインド機構が組み込まれている。従来の可動ブラインド機構は、平行な１対のガイドに沿って移動自在に配置された２枚のブラインド（遮光板）と、この２枚のブラインドをそのガイドに沿って駆動するためのリニアモータ等の駆動部とを備えていた。
【０００４】
最近は、解像度をより高めるために露光ビームがＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）からＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）のような実質的に真空紫外域の光へと短波長化してきている。このような真空紫外域の露光ビームを用いる場合に、利用効率を高く維持するためには、そのブラインド機構の開口部を含む光路には窒素ガスや不活性ガス等の高透過率の気体を供給することが望ましい。そこで、その２枚のブラインドをそのガイドに沿って円滑に移動するために用いられる気体軸受けの潤滑気体として、その高透過率の気体を用いるようにした可動ブラインド機構も知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特許第３３８７８０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述の如く、従来の可動ブラインド機構は、２枚のブラインドをガイドに沿って駆動する方式であった。これに関して、走査型露光装置の通常の照明光学系では、その可動ブラインド機構は、その２枚のブラインドの移動方向が鉛直方向となる配置である縦置き方式で設置することが望ましい。しかしながら、従来の可動ブラインド機構を縦置きに設置すると、その２枚のブラインドが自重で落下するため、その落下を防止するためには、駆動部で常時上方への推力を発生している必要があった。そのため、その駆動部での発熱量が大きくなり、その熱の影響が照明光学系中の他の光学部材やレチクル等にも及ぶ恐れがあった。
【０００６】
さらに、その駆動部で常時上方への推力を発生している状態では、走査露光時にその２枚のブラインドを開閉するときの応答速度を高めるには、駆動部をより大型化して推力を高める必要があり、さらに発熱量が大きくなるという不都合もあった。
また、従来の可動ブラインド機構では、走査露光時にその２枚のブラインドを駆動する際の反力によって振動が生じ、この振動がレチクルステージ等に伝わって、同期精度や重ね合わせ精度等の露光精度を低下させる恐れがあった。この問題は、その可動ブラインド機構を横置きに設置した場合にも生じる。なお、例えばレチクルステージ等のステージをリニアモータで駆動する場合には、その反力を相殺するために、駆動部のガイド軸を逆方向に移動できるようにしたカウンターバランス機構が用いられることがある。しかしながら、そのようなカウンターバランス機構をそのまま可動ブラインド機構に設けると、可動ブラインド機構が大型化して、照明光学系中に組み込むことが困難になる。
【０００７】
本発明は斯かる点に鑑み、物体を駆動する場合に、比較的小型の機構を用いて駆動部の発熱量を低減できるとともに、駆動時の反力を低減できる駆動技術を提供することを第１の目的とする。
また、本発明は、物体をほぼ鉛直線に沿って縦置きで駆動する場合に、比較的小型で発熱量の少ない機構を用いてその物体の自由落下を防止できるとともに、駆動時の反力を低減できる駆動技術を提供することを第２の目的とする。
【０００８】
また、本発明は、その駆動技術を可動ブラインド機構に用いて、高い露光精度が得られる露光技術を提供することをも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明による第１の駆動装置は、第１物体（２１，５３Ａ，５４Ａ）を実質的に鉛直線に沿って駆動する駆動装置において、その第１物体のＭ倍（Ｍは１よりも大きい実数）の質量を持つ第２物体（５８Ａ，５９Ａ，６０Ａ）と、その第１物体とその第２物体とを実質的にＭ：１の速度比でその鉛直線に沿って相対的に逆方向に駆動する相対駆動装置（５１Ａ，６１Ａ，６２Ａ，６３Ａ）とを備えたものである。
【００１０】
斯かる本発明によれば、その第１物体及びその第２物体の質量比と速度比とは実質的に逆の関係であり、その第１物体とその第２物体とはほぼ駆動反力が相殺されるようにほぼ鉛直線に沿って逆方向に駆動される。従って、その相対駆動装置では軽い負荷でその第１物体（及び第２物体）を駆動できるため、発熱量を低減できる。また、その第２物体がカウンターマスとして作用するとともに、その第２物体の移動量はその第１物体の移動量のほぼ１／Ｍに小さくなるため、機構部を大型化することなく、駆動時の反力（反力の外部への漏れ量）を低減できる。
【００１１】
本発明において、その第１物体とその第２物体とが静的に釣り合うようにその第１物体とその第２物体とを連結する連結機構（５１Ａ，６２Ａ，６３Ａ）を備えてもよい。その連結機構によって、その第１物体の自由落下を防止できる。
また、一例として、その相対駆動装置は、その第１物体とその第２物体とを実質的にＭ：１の速度比でその鉛直線に沿って相対的に逆方向に移動できるように連結する連結機構（５１Ａ，６２Ａ，６３Ａ）と、その第１物体とその第２物体とをその連結機構に拘束された状態でその鉛直線に沿って相対的に逆方向に駆動する駆動部（６１Ａ）とを有する。このように連結機構と駆動部とに分離することで、機構部の構造を単純化でき、メンテナンスも容易になる。
【００１２】
また、本発明による第２の駆動装置は、第１物体（２１，５３Ａ，５４Ａ）を駆動する駆動装置において、その第１物体のＭ倍（Ｍは１よりも大きい実数）の質量を持つ第２物体（５８Ａ，５９Ａ，６０Ａ）と、その第１物体とその第２物体とを実質的にＭ：１の速度比で相対的に逆方向に移動できるように連結する連結機構（５１Ａ，６２Ａ，６３Ａ）と、その第１物体とその第２物体とをその連結機構に拘束された状態で相対的に逆方向に駆動する駆動部（６１Ａ）とを有するものである。
【００１３】
斯かる本発明によれば、その第１物体及びその第２物体の質量比と速度比とは実質的に逆の関係であり、その第１物体とその第２物体とはほぼ駆動反力が相殺されるように逆方向に駆動される。従って、その駆動部では軽い負荷でその第１物体（及び第２物体）を駆動できるため、発熱量を低減できる。また、その第２物体がカウンターマスとして作用するとともに、その第２物体の移動量はその第１物体の移動量のほぼ１／Ｍに小さくなるため、機構部を大型化することなく、駆動時の反力（反力の外部への漏れ量）を低減できる。
【００１４】
上記の本発明において、その連結機構は、一例として半径比がＭ：１で同軸に回転する２つの滑車（４８Ａ，４９Ａ）と、その２つの滑車の外周に巻回されてその第１物体及びその第２物体に連結される連結部材（６２Ａ，６３Ａ）とを有する。このように滑車機構を用いることで、特に構成が簡素化できる。
また、その連結機構は、別の例として外周部に半径方向に複数の溝（６９ａ，６９ｂ）が形成されて回転軸がその第２物体に連結されたホイール部（６９）と、その複数の溝に沿って移動自在に配置された複数のフォロワー部（７４Ａ，７４Ｂ）と、この複数のフォロワー部に拘束されてそのホイール部の回転軸の周りを回転するとともに回転軸がその第１物体に連結されたマウント部（７３）とを有する。この構成によって、その第１物体の駆動軸とその第２物体の駆動軸との間隔を短くできるため、モーメントの発生量を小さくできる。
【００１５】
また、一例として、その駆動部は、その第１物体に連結された可動子（５４Ａ）と、その第２物体に連結された固定子（６０Ａ）とを有するリニアモータである。これによって、その駆動部はその第１物体とその第２物体とを非接触で駆動できる。
この場合、その可動子はコイルを含み、その固定子は複数の磁石を含んでもよい。このようにそのリニアモータをムービングマグネット方式とすることで、その第２物体に連結される固定子の方が重くなるため、その第１物体とその第２物体との質量比を容易に１：Ｍにすることができる。
【００１６】
また、その第１物体及びその第２物体のうちの少なくとも一方の位置情報を計測する位置検出装置（６６Ａ）と、その位置検出装置の検出結果をフィードバックするとともに、その第１物体又はその第２物体の目標位置の情報をフィードフォワードしてその駆動部を駆動する制御部（２０）とをさらに備えてもよい。これによって、その第１物体の移動を高精度に、かつ高速に行うことができる。
【００１７】
また、本発明による露光装置は、照明系（１３）からの露光ビームでパターンの一部を照明し、その露光ビームでそのパターン及び投影系（ＰＬ）を介して基板（Ｗ）を露光した状態で、そのパターンとその基板とを相対的に移動して、そのパターンをその基板上に転写する露光装置において、その照明系は、その露光ビームによる照明領域を規定する固定視野絞り（９）と、その固定視野絞りによって規定される照明領域をさらに制限する可動視野絞り（２１，２２，２３Ａ，２３Ｂ）と、本発明の駆動装置とを備え、その駆動装置によってその可動視野絞りを駆動するものである。
【００１８】
本発明の駆動装置は発熱量が少なく、発生する振動も少ないため、高い露光精度（同期精度、重ね合わせ精度等）が得られる。また、その可変視野絞りを縦置きに配置した場合でも、発熱量及び振動量を低減できる。
この場合、そのパターンの形成されたマスク（Ｒ）を移動するマスクステージ（ＲＳＴ）と、そのマスクステージのガイド面を有するマスクベース（２７）とを備え、その駆動装置をそのマスクベース上に設置してもよい。これによって、露光装置全体を小型化できる。
【００１９】
また、そのパターンの形成されたマスク（Ｒ）を移動するマスクステージ（ＲＳＴ）と、そのマスクステージのガイド面を有するマスクベース（２７Ａ）と、そのマスクベースとは防振装置（４３Ｂ）を介して分離されたコラム機構（ＣＬＢ）とを備え、その駆動装置をそのコラム機構で支持してもよい。これによって、その駆動装置から漏れ出る振動の影響をより低減できる。
【００２０】
また、その駆動装置を２つ備え、その可動視野絞りは、そのパターンとその基板との相対移動の方向に対応する方向に沿って互いに独立に移動自在の２枚のブラインド部材（２１，２２）を備え、その２枚のブラインド部材をそれぞれ別のその駆動装置によって駆動してもよい。このように２枚のブラインド部材を独立に駆動することで、その可動視野絞りの駆動機構（可動ブラインド機構）を小型化できる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の駆動装置によれば、第１物体と第２物体とを所定の速度比で相対的に逆方向に駆動することによって、その第１物体を駆動する場合に、比較的小型の機構を用いて駆動部の発熱量を低減できるとともに、駆動時の反力を低減できる。
また、本発明において、その第１物体とその第２物体とを実質的に鉛直線に沿って相対的に逆方向に駆動するとともに、その第１物体とその第２物体とが静的に釣り合うようにその第１物体とその第２物体とを連結する連結機構を備えた場合には、その第１物体を鉛直線に沿って縦置きで駆動できるとともに、その第１物体の自由落下を防止できる。
【００２２】
また、本発明の露光装置によれば、本発明の駆動装置を可動ブラインド機構に用いることによって、高い露光精度が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
［第１の実施形態］
以下、本発明の好ましい第１の実施形態につき図１〜図１３を参照して説明する。
図１は、本例のスキャニングステッパーよりなる走査露光型の投影露光装置（露光装置）の概略構成を示し、この図１において、その投影露光装置は、露光光源１、照明光学系１３（照明系）、レチクルステージ系、投影光学系ＰＬ（投影系）、ウエハステージ系、及びこれらの機構を支持するコラム機構（不図示）を備えている。先ず、露光ビームとしての露光光（露光用の照明光）ＩＬを発生する露光光源１としては、ＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）が使用されている。なお、露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、Ｆ2 レーザ（波長１５７ｎｍ）、ＹＡＧレーザの高調波発生光源、固体レーザ（半導体レーザなど）の高調波発生装置、又は水銀ランプなども使用することができる。
【００２４】
露光時に露光光源１から出力された露光光ＩＬは、光路を上方に折り曲げるミラー２、不図示のビーム整形光学系、第１レンズ系３Ａ、光路をほぼ水平方向に折り曲げるミラー４、及び第２レンズ系３Ｂを経て断面形状が所定形状に整形されて、オプティカル・インテグレータ（ユニフォマイザ又はホモジナイザ）としてのフライアイレンズ５に入射して、照度分布が均一化される。フライアイレンズ５の射出面（照明光学系１３の瞳面）には、露光光の光量分布を円形（通常照明）、複数の偏心領域（２極、４極照明等の変形照明）、輪帯（輪帯照明）、又は小さい円形（コヒーレンスファクタ（σ値）の小さい小σ照明）などに設定して照明条件を決定するための開口絞り（σ絞り）１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ等を有する照明系開口絞り部材６が、駆動モータ１５によって回転自在に配置されている。装置全体の動作を統轄制御するコンピュータよりなる主制御系１８が、駆動モータ１５を介して照明系開口絞り部材６を回転して照明条件を設定する。
【００２５】
照明系開口絞り部材６中の一つの開口絞りを通過した露光光ＩＬは、反射率の小さいビームスプリッタ７及びリレーレンズ系８Ａを経て、固定視野絞りとしての固定ブラインド９の開口９ａ及び可変視野絞りとしてのブラインド２１，２２，２３Ａ，２３Ｂによって設定される開口を順次通過する。本例のブラインド２１，２２，２３Ａ，２３Ｂは、可動ブラインド機構１０（駆動装置）の一部である。固定ブラインド９は、マスクとしてのレチクルＲのパターン面（レチクル面）の照明領域２６ＲをレチクルＲの走査方向に直交する非走査方向に細長い矩形又はスリット状の領域に規定するために使用される。一例として、固定ブラインド９の開口９ａは、平板状部材に形成された非走査方向に対応する方向に細長い矩形開口である。
【００２６】
一方、可動ブラインド機構１０中の１対の走査方向用のブラインド２１及び２２（ブラインド部材）は、一例としてレチクルＲの走査方向に対応する方向に互いに独立に移動自在な１対の矩形の遮光板であり、非走査方向用のブラインド２３Ａ及び２３Ｂは、一例としてレチクルＲの非走査方向に対応する方向に互いに独立に移動自在な１対の矩形の遮光板である。可動ブラインド機構１０は、ブラインド２１，２２，２３Ａ，２３Ｂを駆動する機構（図１では不図示）を備えている。
【００２７】
この構成において、前者の走査方向用のブラインド２１及び２２の駆動によって、ウエハ上の露光対象の各ショット領域への走査露光の開始時及び終了時に不要な部分への露光が行われないように、照明領域２６Ｒが走査方向に開閉される。そして、後者の非走査方向用のブラインド２３Ａ及び２３Ｂの位置制御によって、照明領域２６Ｒの非走査方向の中心及び幅が規定される。
【００２８】
この場合、一例として、ブラインド２１，２２，２３Ａ，２３Ｂによって規定される開口（以下、「可動ブラインド機構１０の開口」とも言う。）は、レチクル面とほぼ共役な面に配置され、固定ブラインド９の開口９ａは、そのレチクル面との共役面から僅かにデフォーカスされた面に配置されている。なお、固定ブラインド９を例えばレチクルＲの近傍に配置することも可能である。また、本例では、可動ブラインド機構１０中の走査方向用のブラインド２１及び２３の移動方向は、後述のように鉛直線に沿った方向（重力が作用する方向に平行）である。言い換えると、可動ブラインド機構１０は「縦置き方式」で設置されている。
【００２９】
固定ブラインド９の開口及び可動ブラインド機構１０の開口を通過した露光光ＩＬは、サブコンデンサレンズ系８Ｂ、光路をほぼ下方に折り曲げるミラー１１、及びメインコンデンサレンズ系１２を経て、マスクとしてのレチクルＲの照明領域２６Ｒ（より正確には、さらに可動ブラインド機構１０の開口によって制限される領域）を均一な照度分布で照明する。ミラー２、第１レンズ系３Ａ、ミラー４、第２レンズ系３Ｂ、フライアイレンズ５、照明系開口絞り部材６、ビームスプリッタ７、リレーレンズ系８Ａ、固定ブラインド９、可動ブラインド機構１０、サブコンデンサレンズ系８Ｂ、ミラー１１、及びメインコンデンサレンズ系１２を含んで照明光学系１３（照明系）が構成されている。
【００３０】
本例の照明光学系１３は、光路をそれぞれ９０°折り曲げるためのミラー４及び１１を用いることによって、コンパクトに構成されている。さらに、投影露光装置の設置面積（フットプリント）を小さくするための配置の一つが、ミラー４とミラー１１との間の照明光学系１３の光軸に平行にレチクルＲの走査方向を設定することである。本例ではさらに、レチクルＲが移動するときのガイド面を水平面に平行であるとして、レチクルＲに入射する際の露光光ＩＬの光軸はレチクル面（ガイド面に平行）に垂直であるとする。このとき、ミラー１１での露光光ＩＬの反射を考慮すると、レチクルＲの照明領域２６Ｒを走査方向に開閉するための１対の走査方向用のブラインド２１及び２２の移動方向は、レチクルＲのガイド面に垂直な方向、即ち実質的に鉛直線に沿った方向（重力が作用する方向に平行）となる。そこで、本例の走査方向用のブラインド２１及び２３の移動方向は、鉛直線に沿った方向に設定されている。これによって、照明光学系１３をコンパクトに配置できるとともに、投影露光装置の設置面積も小さくすることができる。
【００３１】
また、ビームスプリッタ７で反射された露光光は、集光レンズ１６を介して光電センサよりなるインテグレータセンサ１７に受光される。インテグレータセンサ１７の検出信号は露光量制御系１９に供給され、露光量制御系１９は、その検出信号と予め計測されているビームスプリッタ７から基板（感応基板又は感光体）としてのウエハＷまでの光学系の透過率とを用いてウエハＷ上での露光エネルギーを間接的に算出する。露光量制御系１９は、その算出結果の積算値及び主制御系１８からの制御情報に基づいて、ウエハＷ上で適正露光量が得られるように露光光源１の発光動作（発光期間、発光周波数、出力（パルス毎のエネルギー）、波長、波長の半値幅等）を制御する。
【００３２】
露光光ＩＬのもとで、レチクルＲの照明領域２６Ｒ内のパターンは、投影光学系ＰＬ（投影系）を介して投影倍率β（βは１／４，１／５等）で、フォトレジストが塗布されたウエハＷ上の一つのショット領域ＳＡ上の非走査方向に細長いスリット状の露光領域２６Ｗに投影される。ウエハＷは、例えば半導体（シリコン等）又はＳＯＩ(silicon on insulator)等の直径が２００〜３００ｍｍ程度の円板状の基板である。レチクルＲのパターン面（レチクル面）及びウエハＷの表面（ウエハ面）がそれぞれ投影光学系ＰＬの物体面及び像面に対応している。以下、図１において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内で走査露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向に直交する非走査方向に沿ってＸ軸を取り、その走査方向に沿ってＹ軸を取って説明する。この座標系では、Ｚ軸に平行な方向が鉛直線に沿った方向で、−Ｚ方向が重力が作用する方向であり、Ｘ軸及びＹ軸を含む平面（ＸＹ面）が水平面に平行である。
【００３３】
このとき、レチクルＲはレチクルステージ（マスクステージ）ＲＳＴ上に吸着保持され、レチクルステージＲＳＴはレチクルベース２７（マスクベース）のガイド面上をＹ方向に一定速度で移動するとともに、同期誤差を補正するようにＸ方向、Ｙ方向、及びＺ軸の周りの回転方向に微動して、レチクルＲの走査を行う。レチクルステージＲＳＴのＸ方向の位置は、Ｘ軸のレーザ干渉計２８Ｘによって計測され、レチクルステージＲＳＴのＹ方向の位置及び回転角は、Ｙ軸のレーザ干渉計２８Ｙ（実際にはＸ方向に離れた２軸のレーザ干渉計から構成されている）によって計測されている。この計測値及び主制御系１８からの制御情報に基づいて、ステージ駆動系２０は不図示の駆動機構（リニアモータなど）を介してレチクルステージＲＳＴの位置及び速度を制御する。レチクルステージＲＳＴ、レチクルベース２７、及びその不図示の駆動機構等からレチクルステージ系が構成されている。
【００３４】
また、レチクルステージＲＳＴの周辺部の上方には、ミラー等を介してレチクルＲのアライメントマークの位置を検出するためのレチクルアライメント顕微鏡２９Ａ，２９Ｂが配置されている。これを用いてレチクルＲのアライメントが行われる。
一方、ウエハＷは、ウエハホルダ３０を介してウエハステージＷＳＴ（基板ステージ）上に吸着保持され、ウエハステージＷＳＴはウエハベース３３のガイド面上でＹ方向に一定速度で移動するとともに、Ｘ方向及びＹ方向にステップ移動するＸＹステージ３２と、Ｚチルトステージ３１とを備えている。Ｚチルトステージ３１は、不図示のオートフォーカスセンサによるウエハＷのＺ方向の位置の計測値に基づいて、ウエハＷのフォーカシング及びレベリングを行う。ウエハステージＷＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置、並びにＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の周りの回転角はレーザ干渉計３５Ｘ及び３５Ｙによって計測され、この計測値及び主制御系１８からの制御情報に基づいて、ステージ駆動系２０は不図示の駆動機構（リニアモータなど）を介してウエハステージＷＳＴの動作を制御する。ウエハステージＷＳＴ、ウエハベース３３、及びその不図示の駆動機構等からウエハステージ系が構成されている。
【００３５】
さらに、ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷの近傍には、アライメント用の基準マークの形成された基準マーク部材３４が固定され、投影光学系ＰＬの側面には、ウエハアライメント用のオフ・アクシス方式のアライメントセンサ３６が配置されている。この検出結果に基づいて主制御系１８はウエハＷのアライメントを行う。
露光時には、レチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＷＳＴを駆動して、露光光ＩＬを照射した状態でレチクルＲとウエハＷ上の一つのショット領域とをＹ方向に同期走査する動作と、ウエハステージＷＳＴを駆動してウエハＷをＸ方向、Ｙ方向にステップ移動する動作とが繰り返される。また、その同期走査時にステージ駆動系２０は、レチクルステージＲＳＴのＹ方向の動作に同期して、可動ブラインド機構１０の走査方向のブラインド２１及び２３の動作を制御する（詳細後述）。これによって、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ上の各ショット領域にレチクルＲのパターン像が露光される。
【００３６】
次に、本例の投影露光装置のコラム機構の一例につき図２を参照して説明する。
図２において、例えば半導体デバイス製造工場のクリーンルーム内の床（設置面）上に平板状のペデスタル（台座）４１が設置され、ペデスタル４１上に３箇所又は４箇所の防振装置４２を介してウエハベース３３が設置され、ウエハベース３３上にウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴがエアーベリングを介して移動自在に載置されている。また、ペデスタル４１上にウエハベース３３を囲むように３箇所又は４箇所に防振装置４３が設置され、防振装置４３上に平板状の支持板４４が設置され、支持板４４の中央の開口部に投影光学系ＰＬが設置されている。防振装置４２及び４３は、それぞれエアーダンパ等の受動型のダンパとボイスコイルモータ等の応答性に優れたアクチュエータとを含む能動型の防振装置である。なお、ウエハステージＷＳＴが６自由度で駆動される場合には、防振装置４２を省略してもよい。
【００３７】
また、支持板４４上に投影光学系ＰＬを囲むように固定された３本のコラムを介してレチクルベース２７が設置され、レチクルベース２７上のガイド面にレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴがエアーベアリングを介して移動自在に載置されている。さらに、レチクルベース２７の上面に照明系支持コラム４５が固定され、照明系支持コラム４５上に図１の照明光学系１３が収納されたサブチャンバ４６が設置され、照明光学系１３内に図１の可動ブラインド機構１０が配置されている。照明系支持コラム４５の中央部には露光光ＩＬを通すための開口が形成されている。支持板４４、レチクルベース２７、及び照明系支持コラム４５を含んでコラム構造体ＣＬが構成されている。また、本例の投影露光装置はさらに不図示のチャンバ内に収納され、このチャンバ内に露光光ＩＬに対して高透過率の気体（ドライエアー、窒素ガス、不活性ガス等）が供給されている。
【００３８】
本例では、レチクルベース２７上に照明系支持コラム４５を介して可動ブラインド機構１０を含む照明光学系１３が支持されているため、投影露光装置の構成を簡素化できるとともに、投影露光装置をコンパクトに構成できる。なお、この構成では、走査露光時にレチクルステージＲＳＴに同期して可動ブラインド機構１０が駆動されることによって発生する振動がレチクルステージＲＳＴに伝わり易い。しかしながら、本例の可動ブラインド機構１０は後述のように殆ど振動が発生しない構成であるため、可動ブラインド機構１０の振動の影響は極めて少ない。
【００３９】
次に、図１中の可動ブラインド機構１０の構成及びその動作につき詳細に説明する。ただし、図１中の非走査方向用のブラインド２３Ａ及び２３Ｂは、特に高速に駆動する必要はなく、さらに本例では水平方向に移動するように配置されており自由落下する恐れもないため、例えばボールねじとロータリモータとを組み合わせた駆動機構又はリニアモータを含む駆動機構によって容易に駆動することができる。そこで、以下では、非走査方向用のブラインド２３Ａ及び２３Ｂを駆動する機構についての説明は省略する。
【００４０】
図３は、図１中の縦置き方式の可動ブラインド機構１０（駆動装置）の構成を示す斜視図であり、この図３において、Ｚ軸は鉛直線に平行で、−Ｚ方向が重力の作用する方向であり、１対の走査方向用のブラインド２１及び２２（ブラインド部材）の移動方向は鉛直線に沿った方向（Ｚ軸に平行）である。先ず、装置全体のベース部材に相当する四角形の平板状のベースプレート４７が、Ｚ軸とＸ軸とを含む平面（ＺＸ平面）に平行になるように、不図示のコラムに支持されている。ベースプレート４７の中央部には、Ｘ方向（レチクルＲの非走査方向に対応する方向）に細長い矩形の開口４７ａが形成されている。本例では、ベースプレート４７は図１の固定ブラインド９を兼用しており、ベースプレート４７中の開口４７ａが固定ブラインド９の開口９ａに対応している。ただし、開口４７ａを大きく形成して、ベースプレート４７とは別に固定ブラインド９を配置してもよい。
【００４１】
その開口４７ａをＸ方向に挟むように、それぞれＺ軸に平行に２つの四角柱状のＺ軸ガイド５５Ａ及び５５Ｂが配置され、右側（＋Ｘ方向）のＺ軸ガイド５５Ａは両端部でスペーサ５６Ａ及び５７Ａを介してベースプレート４７に固定され、左側（−Ｘ方向）のＺ軸ガイド５５Ｂは両端部でスペーサ５６Ｂ及び５７Ｂを介してベースプレート４７に固定されている。また、右側のＺ軸ガイド５５Ａには、それぞれ枠状の第１スライダ５３Ａ及び第２スライダ５８ＡがＺ方向に移動自在に装着されている。同様に、左側のＺ軸ガイド５５Ｂにも、スライダ５３Ａ及び５８Ａとそれぞれ同じ形状の第１スライダ５３Ｂ及び第２スライダ５８ＢがＺ方向に移動自在に装着されている。この場合、第２スライダ５８Ａ，５８Ｂはそれぞれ第１スライダ５３Ａ，５３Ｂよりも下方（−Ｚ方向）に配置されている。また、右側のＺ軸ガイド５５Ａの外面とスライダ５３Ａ及び５８Ａの内面との間にはそれぞれエアーベアリングが配置されており、スライダ５３Ａ及び５８ＡはＺ軸ガイド５５Ａに沿ってＺ方向に円滑に移動することができる。同様に、左側のＺ軸ガイド５５Ｂとスライダ５３Ｂ及び５８Ｂとの間にもエアーベアリングが配置されている。
【００４２】
図４は、図３の可動ブラインド機構１０を＋Ｙ方向に見た正面図であり、この図４に示すように、１対の走査方向用のブラインド２１及び２２は、それぞれＸ方向に細長く開口４７ａ（開口９ａ）を覆うことができる大きさの平板であり、かつブラインド２１及び２２は、開口４７ａの前面を横切るように互いに独立にＺ方向（レチクルＲの走査方向に対応する方向）に移動できるように配置されている。そして、右側のＺ軸ガイド５５ＡのＺ方向の位置は左側のＺ軸ガイド５５Ｂよりも−Ｚ方向に低くなっている。これは、Ｚ軸ガイド５５Ａ，５５Ｂの長さを必要最小限にして、右側のＺ軸ガイド５５Ａに沿って下方（−Ｚ方向）のブラインド２１を駆動し、左側のＺ軸ガイド５５Ｂに沿って上方（＋Ｚ方向）のブラインド２２を駆動するためである。
【００４３】
図３に戻り、下方のブラインド２１の＋Ｘ方向の端部は、第１スライダ５３Ａに固定され、第１スライダ５３Ａの外側（＋Ｘ方向）の側面にはコイルを含む可動子５４Ａが固定されている。また、第２スライダ５８Ａの外側に支持部材５９Ａを介して、断面形状が内側に開いたＵ字型でＺ方向に細長い固定子６０Ａが固定され、固定子６０Ａの内面に可動子５４Ａが非接触に収納されている。固定子６０Ａの内面にはＺ方向に所定ピッチで複数の永久磁石が固定されており、可動子５４Ａと固定子６０Ａとから、Ｚ軸ガイド５５Ａに沿って第１スライダ５３Ａを介して下方のブラインド２１をＺ方向に駆動するためのムービングコイル式の第１リニアモータ６１Ａ（駆動部）が構成されている。なお、本例では固定子６０Ａも第２スライダ５８Ａを介してＺ軸ガイド５５Ａに沿って移動できるため、第１リニアモータ６１Ａで第１スライダ５３Ａ（可動子５４Ａ及びブラインド２１）をＺ方向に駆動すると、その反力を相殺するように第２スライダ５８Ａ（固定子６０Ａ）が逆方向に移動する。この際に、後述のように第２スライダ５８Ａの移動量は第１スライダ５３Ａの移動量よりも少ないため、移動量が相対的に少ない部材を固定子６０Ａと呼び、移動量が相対的に多い部材を可動子５４Ａと呼んでいる。
【００４４】
また、本例では固定子６０Ａの上方（＋Ｚ方向）に、第１バランスホイール機構５１Ａが回転軸受５２Ａを介してＹ軸に平行な回転軸の周りに回転自在にベースプレート４７に固定されている。第１バランスホイール機構５１Ａは、大きい半径の滑車４８Ａを２つのそれぞれ小さい同じ半径の滑車４９Ａ及び５０Ａで挟み込むようにして構成されている。なお、大きい半径の滑車４８Ａの外周部の一部が切り欠かれているが、これは装置構成を小型軽量化するためである。そして、大きい滑車４８Ａの外周面に連結部材としてのスチール製の薄いベルト６２Ａが巻回され、ベルト６２Ａの一端はその外周面に固定され、ベルト６２Ａの他端（開放端）が第１スライダ５３Ａに連結されている。また、小さい滑車４９Ａの外周面に同様に連結部材としてのスチール製の薄いベルト６３Ａが巻回され、ベルト６３Ａの一端はその外周面に固定され、ベルト６３Ａの他端（開放端）が、固定子６０Ａの上端の連結部６０Ａａの一端に固定されている。
【００４５】
図５は、図３の下方のブラインド２１を駆動する機構を−Ｘ方向に見た側面図であり、この図５において、内側の小さい滑車５０Ａの外周面に同様に連結部材としてのスチール製の薄いベルト６４Ａが巻回され、ベルト６４Ａの一端はその外周面に固定され、ベルト６４Ａの他端（開放端）が、固定子６０Ａの連結部６０Ａａの他端に固定されている。このように２本のベルト６３Ａ及び６４Ａを用いることで、滑車４９Ａ及び５０Ａと固定子６０Ａとを安定に連結できる。また、滑車４８Ａ，４９Ａ，５０Ａの回転軸をベースプレート４７に固定するために、その回転軸にナット６７Ａが装着されている。なお、説明の便宜上、以下の説明では２つの滑車４９Ａ及び５０Ａを代表して滑車４９Ａを用い、２つのベルト６３Ａ及び６４Ａを代表してベルト６３Ａを用いる。また、ベルト６２Ａ，６３Ａの代わりに、スチール製のワイヤ等を用いることも可能である。
【００４６】
図３に戻り、本例では、ブラインド２１、第１スライダ５３Ａ、及び可動子５４Ａよりなる部分（以下、「第１移動体」と呼ぶ。）が駆動対象の第１物体に対応し、第２スライダ５８Ａ、支持部材５９Ａ、及び固定子６０Ａよりなる部分（以下、「第２移動体」と呼ぶ。）が第２物体に対応している。そして、バランスホイール機構５１Ａ、ベルト６２Ａ、及びベルト６３Ａから、その第１物体とその第２物体とを静的に釣り合うように連結する連結機構が構成され、その連結機構と第１リニアモータ６１Ａ（駆動部）とからその第１物体とその第２物体とを相対的に逆方向に駆動する相対駆動装置が構成されている。
【００４７】
そして、上方のブラインド２２を駆動する機構は、下方のブラインド２１を駆動する機構と対称に構成されている。即ち、上方のブラインド２２の−Ｘ方向の端部は、第１スライダ５３Ｂに固定され、第１スライダ５３Ｂの外側（−Ｘ方向）の側面にはコイルを含む可動子５４Ｂが固定されている。また、第２スライダ５８Ｂの外側に支持部材５９Ｂを介して、固定子６０Ａに対称な構造の永久磁石を含む固定子６０Ｂが固定され、固定子６０Ｂの内面に可動子５４Ｂが非接触に収納されている。可動子５４Ｂと固定子６０Ｂとから、左側のＺ軸ガイド５５Ｂに沿って第１スライダ５３Ｂを介して上方のブラインド２２をＺ方向に駆動するためのムービングコイル式の第２リニアモータ６１Ｂ（駆動部）が構成されている。この場合にも、第２リニアモータ６１Ｂで第１スライダ５３ＢをＺ方向に駆動すると、その反力を相殺するように第２スライダ５８Ｂ（固定子６０Ｂ）が逆方向に移動する。なお、第２スライダ５８Ｂの前面の高さは第１スライダ５３Ｂの前面の高さよりも低くされている。これによって、下方のブラインド２１と第２スライダ５８Ｂとの機械的な干渉が防止される。
【００４８】
また、固定子６０Ｂの上方に、第１バランスホイール機構５１Ａと対称な構造の第２バランスホイール機構５１Ｂ（大きい半径の滑車４８Ｂを小さい同じ半径の滑車４９Ｂ及び５０Ｂで挟み込む構造）が、回転軸受５２Ｂを介してＹ軸に平行な回転軸の周りに回転自在にベースプレート４７に固定されている。そして、大きい滑車４８Ｂの外周面と第１スライダ５３Ｂとがスチール製のベルト６２Ｂで連結され、小さい滑車４９Ｂ及び５０Ｂの外周面と固定子６０Ｂの上端の連結部６０Ｂａとがスチール製のベルト６３Ｂ及び不図示のベルトを介して連結されている。
【００４９】
この上方のブラインド２２を駆動する機構においても、ブラインド２２、第１スライダ５３Ｂ、及び可動子５４Ｂよりなる第１移動体が駆動対象の第１物体に対応し、第２スライダ５８Ｂ、支持部材５９Ｂ、及び固定子６０Ｂよりなる第２移動体が第２物体に対応している。そして、バランスホイール機構５１Ｂ及びベルト６２Ｂ等から、その第１物体とその第２物体とを連結する連結機構が構成され、その連結機構と第２リニアモータ６１Ｂ（駆動部）とからその第１物体とその第２物体とを相対的に逆方向に駆動する相対駆動装置が構成されている。
【００５０】
また、Ｚ軸ガイド５５Ａ及び５５Ｂの一側面の一部にそれぞれリニアエンコーダ用のスケール６５Ａ及び６５Ｂが固定され、これらに対向するように第１スライダ５３Ａ及び５３Ｂの内面にそれぞれ検出器６６Ａ及び６６Ｂ（位置検出装置）が固定され、検出器６６Ａ及び６６Ｂの検出信号がステージ駆動系２０（制御装置）に供給されている。検出器６６Ａ及び６６Ｂは例えば静電容量式又は光学式等の分解能が１μｍ程度のエンコーダである。これに対して、図１のレチクルステージＲＳＴ用のレーザ干渉計２８Ｘ，２８Ｙは、分解能が１ｎｍ程度の位置検出装置であり、レチクルステージＲＳＴに比べると、ブラインド２１及び２２の位置決め精度はかなり粗くてよい。また、予め下方のブラインド２１の上部エッジが開口４７ａの中央にあるとき、及び上方のブラインド２２の下部エッジが開口４７ａの中央にあるときにそれぞれ検出器６６Ａ及び６６Ｂの検出結果が例えば０になるようにオフセット補正が行われている。その際に、第１スライダ５３Ａ及び５３Ｂの原点位置を特定するための非接触方式のリミットスイッチ（不図示）を用いてもよい。さらに、第２スライダ５８Ａ及び５８Ｂはそれぞれバランスホイール機構５１Ａ及び５１Ｂを介して第１スライダ５３Ａ及び５３Ｂに連結されているため、第２スライダ５８Ａ及び５８Ｂの位置は、第１スライダ５３Ａ及び５３Ｂの位置から計算によって求めることができる。
【００５１】
そこで、ステージ駆動系２０は、検出器６６Ａ及び６６Ｂの検出信号を処理することによって、開口４７ａの中心位置を基準として、走査方向用のブラインド２１及び２２（第１スライダ５３Ａ及び５３Ｂ）のＺ方向の位置、並びに第２スライダ５８Ａ及び５８ＢのＺ方向の位置を求めることができる。このようにして求められた位置に基づいて、ステージ駆動系２０は、可動子５４Ａ及び５４Ｂのコイルに流れる電流を制御してリニアモータ６１Ａ及び６１Ｂの推力を制御することによって、走査方向用の２つのブラインド２１及び２２のＺ方向の位置及び速度を制御する。この際に、ステージ駆動系２０内部のリニアモータ６１Ａ及び６１Ｂの駆動部では、実際のブラインド２１及び２２の計測されたＺ方向の位置とそれらの目標位置との差分情報をフィードバックするとともに、そのブラインド２１及び２２の目標位置の情報をフィードフォワードすることによってそのコイルに流す電流を制御する。本例のブラインド２１及び２２は周期的に＋Ｚ方向及び−Ｚ方向へと変位して、その動きが正確に予測できるため、そのフィードフォワード制御によって、ブラインド２１及び２２の位置精度を高めることができる。
【００５２】
なお、ブラインド２１及び２２の位置検出を行うためには、第２スライダ５８Ａ及び５８Ｂ（第２移動体の一部）のＺ方向の位置を検出してもよい。本例では第２スライダ５８Ａ及び５８Ｂの移動量は第１スライダ５３Ａ及び５３Ｂの移動量よりも少ないため、エンコーダのスケールを短くすることができる。また、ブラインド２１及び２２用の位置検出装置としては、検出器６６Ａ及び６６Ｂを含むリニアエンコーダの代わりに、例えばバランスホイール機構５１Ａ及び５１Ｂの回転角を検出するロータリエンコーダを用いることも可能である。
【００５３】
次に、図３の第１バランスホイール機構５１Ａの作用について説明する。これは第２バランスホイール機構５１Ｂについても同様である。
図６は、図３の第１バランスホイール機構５１Ａ及びこれによって連結される部材を単純化して示す図であり、この図６において、大きい滑車４８Ａの半径をＲ１、小さい滑車４９Ａの半径をＲ２（＜Ｒ１）とする。また、大きい滑車４８Ａにベルト６２Ａを介して連結される第１移動体（ブラインド２１、第１スライダ５３Ａ、可動子５４Ａ）の質量をＭ１、小さい滑車４９Ａにベルト６３Ａを介して連結される第２移動体（第２スライダ５８Ａ、支持部材５９Ａ、固定子６０Ａ）の質量をＭ２（＞Ｍ１）として、ベルト６２Ａ及び６３Ａの質量は無視して考える。
【００５４】
このとき、その質量比とその滑車の半径比とは次のように逆の関係となるように、質量Ｍ１，Ｍ２及び半径Ｒ１，Ｒ２が設定されている。
Ｍ１：Ｍ２＝Ｒ２：Ｒ１    …（１）
この（１）式より、第１移動体の質量Ｍ１に対する第２移動体の質量Ｍ２の倍率Ｍは次のように１より大きい実数となる。
【００５５】
Ｍ＝Ｍ２／Ｍ１＝Ｒ１／Ｒ２＞１  …（２）
一例として、そのブラインド２１を含む第１移動体の質量は１ｋｇ程度以下であり、倍率Ｍは５倍程度、即ち半径Ｒ１は半径Ｒ２の５倍程度に設定される。また、その倍率Ｍの実用的な範囲は、一例として２倍〜１０倍程度である。
本例では、第２移動体には永久磁石を含む固定子６０Ａが含まれており、固定子６０Ａはコイルを含む可動子５４Ａよりも数倍重くなるため、（２）式の条件は容易に満たすことができる。（２）式の条件を満たすことによって、第１移動体と第２移動体とが静的に釣り合うため、可動子５４Ａと固定子６０Ａとを含むリニアモータで推力を発生しない状態でも、ブラインド２１が−Ｚ方向に自由落下することがなく、そのリニアモータの発熱量を最小限に抑制できる。このように静的に釣り合う状態では、ブラインド２１は小さい推力で駆動できるため、例えばブラインド２１を含む第１移動体を８Ｇ程度の加速度で駆動しても、そのリニアモータの発熱量は低く抑えることができる。
【００５６】
この場合、そのリニアモータを駆動して、バランスホイール機構５１Ａを時計周りに回転させて、図６に２点鎖線で示すように、ブラインド２１（第１移動体）が＋Ｚ方向に位置Ｐ１までＺ１だけ変位すると、固定子６０Ａ（第２移動体）は−Ｚ方向に位置Ｐ２までＺ２だけ変位する。このとき、変位Ｚ１，Ｚ２の比は、次のように滑車４８Ａ，４９Ａの半径Ｒ１，Ｒ２の比と同じである。
【００５７】
Ｚ１：Ｚ２＝Ｒ１：Ｒ２  …（３）
（２）式の倍率Ｍを用いると、（３）式は次のようになる。
Ｚ２＝Ｚ１（Ｒ２／Ｒ１）＝Ｚ１／Ｍ  …（４）
これは、より質量の大きい第２移動体（第２スライダ５８Ａを含む部分）の変位Ｚ２は、第１移動体（第１スライダ５３Ａを含む部分）の変位Ｚ１に比べて１／Ｍに小さくなることを意味している。また、変位は速度に比例するため、バランスホイール機構５１Ａを所定（Ｍ２：Ｍ１）の減速比で２つの物体の速度比を設定する減速機構とみなすこともできる。これによって、構成を簡素化するために第１スライダ５３Ａと第２スライダ５８Ａとを直列に配置しても、両者のＺ方向の移動ストロークの合計は第１スライダ５３Ａの移動ストロークの（１＋Ｍ）／Ｍ倍程度であり、２倍よりもかなり小さくできるため、駆動機構を小型化できる。
【００５８】
また、そのリニアモータにおいては、可動子５４Ａに＋Ｚ方向（又は−Ｚ方向）の推力が作用すると、固定子６０Ａにはその反力として逆方向である−Ｚ方向（又は＋Ｚ方向）の推力が作用する。この際に可動子５４Ａを含む第１移動体と固定子６０Ａを含む第２移動体との質量比はＭ１：Ｍ２であるため、外力が全く作用しないとすると、その推力による可動子５４Ａの移動量（ほぼ加速度又は速度に比例すると想定する）Ｚ１’と、固定子６０Ａの逆方向への移動量Ｚ２’との比は次のように質量比の逆になる。
【００５９】
Ｚ１’：Ｚ２’＝Ｍ２：Ｍ１  …（５）
（１）式、（３）式、（５）式から、第１バランスホイール機構５１Ａが回転することによる可動子５４Ａ及び固定子６０Ａの変位の比（Ｚ１：Ｚ２）と、そのリニアモータのみを作用させた場合の可動子５４Ａ及び固定子６０Ａの変位の比（Ｚ１’：Ｚ２’）とは、次のように等しくなる。
【００６０】
Ｚ１：Ｚ２＝Ｚ１’：Ｚ２’  …（６）
このように本例のバランスホイール機構５１Ａを用いることによって、ブラインド２１を含む第１移動体と固定子６０Ａを含む第２移動体とを静的に釣り合わせると同時に、可動子５４Ａ及び固定子６０Ａよりなるリニアモータを駆動する反力をほぼ完全に相殺することができる。従って、そのリニアモータの駆動によって発生する反力の外部への漏れ量を極めて少なくすることができる。
【００６１】
図４に戻り、ベルト６２Ａは、第１移動体（ブラインド２１、第１スライダ５３Ａ、可動子５４Ａ）の重心を通りＺ軸に平行な直線上に位置しており、ベルト６３Ａは、第２移動体（第２スライダ５８Ａ、支持部材５９Ａ、固定子６０Ａ）の重心を通りＺ軸に平行な直線上に位置している。これによって、その第１移動体及び第２移動体にはそれぞれベルト６２Ａ及び６３Ａによるモーメントが作用することがなく、安定な状態でＺ方向に移動する。ただし、本例では、第１スライダ５３Ａを引くベルト６２Ａと固定子６０Ａを引くベルト６３Ａとの間隔（Ｘ方向の間隔）Δ１は、滑車４８Ａ及び４９Ａの半径Ｒ１，Ｒ２を用いて（Ｒ１＋Ｒ２）となる。また、例えば第１スライダ５３Ａを＋Ｚ方向に駆動している際には、ベルト６２Ａの張力は大きくなる一方で、固定子６０Ａは−Ｚ方向に落下してベルト６３Ａの張力は小さくなるため、バランスホイール機構５１Ａにはその間隔Δ１にほぼ比例するモーメントが作用する。この駆動装置内部で発生するモーメントは、バランスホイール機構５１Ａの回転軸を介してベースプレート４７の振動等を起こす恐れがある。そこで、内部で発生するモーメントを低減するには、その間隔Δ１をできるだけ小さくすることが望ましい。そのためには、（１）式の条件を満たす範囲で、滑車４８Ａ及び４９Ａを小型化すればよい。
【００６２】
次に、走査露光時の図１及び図４の走査方向用の２つのブラインド２１及び２２の動きの一例につき説明する。説明の便宜上、ブラインド２１及び２２の配置されている面での＋Ｚ方向が、レチクルＲの配置面で−Ｙ方向に対応するものとして、かつレチクルＲを最初に−Ｙ方向に走査するものとする。
図７（Ａ）は走査開始時点での図１のレチクルＲ及び照明領域２６Ｒを示し、この図７（Ａ）において、図１の走査方向用のブラインド２１及び２２の投影像をそれぞれ像２１Ｒ及び２２Ｒで表している。レチクルＲの転写すべきパターンの形成されたパターン領域ＰＡは例えば１００μｍ程度以上の所定幅の枠状の遮光帯２４で囲まれており、ブラインド２１及び２２の像２１Ｒ，２２Ｒの位置決め精度はその遮光帯２４の幅よりも小さい値である。この時点では、上方のブラインド２２の像２２Ｒによって照明領域２６Ｒ（図１の固定ブラインド９の開口９ａの像）が遮光されており、レチクルＲが−Ｙ方向に移動を開始する。
【００６３】
図８（Ａ）は、図７（Ａ）の状態に対応する図４の可動ブラインド機構１０の状態を示し、図８（Ａ）においては、上方のブラインド２２が開口４７ａ（図１の開口９ａに対応している）を覆っている。
次に、図７（Ａ）の状態からレチクルＲの遮光帯２４の右辺がブラインド２２の像２２Ｒの左側のエッジに達すると、レチクルＲに同期して図８（Ａ）においてブラインド２２が矢印Ａ１で示す＋Ｚ方向に移動を開始し、それに応じて図７（Ａ）の像２２Ｒは−Ｙ方向に移動する。その状態で、図７（Ｂ）に示すように、レチクルＲと像２２Ｒとは同期して移動する。像２２Ｒが照明領域２６Ｒを完全に横切った後、所定の減速期間を経て像２２Ｒは停止する。次に、図７（Ｃ）に示すように、完全に開いた照明領域２６Ｒによって照明された状態で、レチクルＲのみが−Ｙ方向に移動する。
【００６４】
図８（Ｂ）は、そのように上方のブラインド２２が停止した状態を示し、図８（Ｂ）において、ブラインド２２のＺ方向への移動ストロークをＬＳとする。また、ブラインド２２の移動を開始して一定速度に達するための助走距離をＬ１、開口４７ａの走査方向の幅（図７（Ａ）の照明領域２６Ｒの走査方向の幅（露光幅）に投影倍率の逆数を乗じた値）をＬ２、ブラインド２２を停止させるまでの減速距離をＬ３とすると、次のように移動ストロークＬＳはＬ１〜Ｌ３の和である。なお、簡単のため、減速距離Ｌ３をほぼ助走距離Ｌ１と等しいとみなしている。この移動ストロークＬＳは、下方のブラインド２１の移動ストロークと同じ長さである。
【００６５】
ＬＳ＝Ｌ１＋Ｌ２＋Ｌ３＝２・Ｌ１＋Ｌ２  …（７）
この移動ストロークＬＳは、一例として、露光幅Ｌ２の３倍程度の短い長さとなる。
その後、図７（Ｃ）の状態から、レチクルＲの遮光帯２４の左辺がブラインド２１の像２１Ｒの右側のエッジに達すると、レチクルＲに同期して図８（Ｂ）においてブラインド２１が矢印Ａ２で示す＋Ｚ方向に移動を開始し、それに応じて図７（Ｄ）に示すように、レチクルＲとブラインド２１の像２１Ｒとは同期して−Ｙ方向に移動する。像２１Ｒが照明領域２６Ｒを完全に覆った状態で、像２１Ｒ及びレチクルＲは停止する。これによって、ウエハ上の一つのショット領域にレチクルＲのパターン像が露光される。
【００６６】
図９（Ａ）は、そのように像２１Ｒが停止した状態に対応する図４の可動ブラインド機構１０の状態を示し、図９（Ａ）においては、下方のブラインド２１が開口４７ａ（図１の開口９ａに対応している）を覆っている。その後、これまでの動作を逆にしてレチクルＲを＋Ｙ方向に走査するのに同期して、矢印Ａ３で示すように下方のブラインド２１が−Ｚ方向への移動を開始して、ブラインド２１は開口４７ａの前面を横切ってから停止する。その後、図９（Ｂ）に矢印Ａ４で示すように上方のブラインド２２が−Ｚ方向へ移動して、可動ブラインド機構１０は図８（Ａ）の状態に戻る。これによって、ウエハ上の次のショット領域への露光が行われる。これ以降は、以上の走査露光動作が繰り返される。
【００６７】
このように、２つの走査方向用のブラインド２１及び２２を独立に駆動してレチクルＲに対する照明領域２６Ｒを開閉することによって、ブラインド２１及び２２の移動ストロークを短くすることができ、可動ブラインド機構１０を小型化できる。
次に、図４の可動ブラインド機構１０の駆動特性のシミュレーション結果の一例を示す。先ず、下方のブラインド２１、第１スライダ５３Ａ、及び可動子５４Ａを含む第１移動体の質量を１ｋｇ、その第１移動体の走査露光時の一定速度を２．４ｍ／ｓｅｃ、加速度を８Ｇ、帯域を約７０Ｈｚとして図８（Ｂ）又は図９（Ａ）に示すように駆動した場合の、その第１移動体の応答特性（振幅（ｄＢ）及び位相（degree））を図１０に示す。図１０において横軸は周波数（Ｈｚ）である。
【００６８】
次に、第１スライダ５３Ａと滑車４８Ａとを連結するベルト６２Ａの張力の変化の一例を図１１に示す。図１１において、横軸は時間（ｓｅｃ）で縦軸は張力（Ｎ）であり、折れ線Ｂ１は、ブラインド２１を＋Ｚ方向に駆動する際の張力変化を示し、折れ線Ｂ２は、ブラインド２１を−Ｚ方向に駆動する際の張力変化を示している。また、時間がほぼ０．０４５〜０．０５９ｓｅｃの間は、ブラインド２１がほぼレチクルＲに同期して移動している期間である。図１１の結果より、ベルト６２Ａの張力の変化幅はほぼ１Ｎ程度であり、ベルト６２Ａには緩み等が生じないことが分かる。なお、ベルト６２Ａの張力の変化幅は、バランスホイール機構５１Ａの滑車４８Ａの半径（ひいてはバランスホイール機構５１Ａのイナーシャ）によって変化する。
【００６９】
さらに、図１１に対応させて図４のブラインド２１の時間（ｓｅｃ）に対する位置誤差（μｍ）を求めた結果を図１２に示す。このシミュレーションに際しては、リニアモータ６１Ａを駆動するために目標値のフィードフォワードは行っていない。この場合でも、位置誤差は２０μｍ以内であり、ブラインド２１の像のエッジ部を図７（Ａ）のレチクルＲの遮光帯２４の幅内に正確に収めた状態で、ブラインド２１を駆動することができる。
【００７０】
また、図１２に対して、さらにリニアモータ６１Ａを駆動するために目標値のフィードフォワードを行った場合にブラインド２１の位置誤差を求めた結果を図１３に示す。そのフィードフォワードによって、位置誤差は０．０２μｍ程度に改善される。このように位置誤差を０．１μｍ以下にする場合には、図３の検出器６６Ａ，６６Ｂの代わりに、レーザ干渉計のようなより高精度で分解能の高い計測装置を使用する必要がある。また、ブラインド２１及び２２の位置精度をこのように高精度に行う場合には、可動ブラインド機構１０で図１の固定ブラインド９を兼用することも可能になる。
【００７１】
ここで、本例の図３の縦置き方式の可動ブラインド機構１０の構成及び動作をまとめると次のようになる。以下では下方のブラインド２１を駆動する機構につき説明するが、これは上方のブラインド２２を駆動する機構についても同様である。
１）バランスホイール機構５１Ａが、半径比が質量比の逆の関係になっている２つの滑車を用いることによって、ブラインド２１を含む第１移動体と固定子６０Ａを含む第２移動体とを重力に対して静的に釣り合うように支持している。つまり、固定子６０Ａを含む第２移動体が第１移動体の重力補償機能を兼ねているため、リニアモータ６１Ａが推力を発生させない状態でも、ブラインド２１が落下しない。従って、リニアモータ６１Ａの発熱量が少なく、ブラインド２１を小さい推力（ひいては小さい反力）で駆動できるとともに、駆動する際の応答速度が高い。
【００７２】
２）固定子６０Ａを含む第２移動体がブラインド２１を含む第１移動体のカウンターマスになっている。即ち、第２移動体と第１移動体とが互いに作用、反作用の力を及ぼして加減速したとき、ベルト６２Ａ及び６３Ａの張力に変化は殆どなく、バランスホイール機構５１Ａの回転軸のラジアル方向には力がかからない。つまり、反力が外部へ漏れることが殆どない。
【００７３】
３）固定子６０Ａを含む第２移動体（カウンターマス）とブラインド２１を含む第１移動体とは、バランスホイール機構５１Ａからベルト６３Ａ及び６２Ａを介して重力が作用する方向に釣り下げられているので、常にお互いの位置が一意的に決まる。従って、水平方向にカウンターマスを配置した場合に必要なトリムモータ（カウンターマスの位置を調整するためのモータ）が不要になり、構造が単純化でき、低コスト化が図られる。
【００７４】
４）ブラインド２１を含む第１移動体は、小型で軽量化（例えば１ｋｇ程度以下）できるとともに、本例ではブラインド２１は走査露光の始めと終わりの期間のみに駆動されるため、リニアモータ６１Ａのデューティ（全体の時間中で推力を発生している時間の割合）が小さく、ブラインド２１を８Ｇの加速度で加減速しても、リニアモータ６１Ａの発熱量が少ない。従って、高い露光精度（同期精度、重ね合わせ精度等）が得られる。
【００７５】
［第２の実施形態］
以下、本発明の第２の実施形態につき図１４を参照して説明する。本例の投影露光装置の基本的な構成は図１の第１の実施形態と同様であるが、そのコラム機構が図２とは異なっている。以下、図１４において、図１及び図２に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。
【００７６】
図１４は、本例の投影露光装置のコラム機構を示し、この図１４において、ペデスタル４１上にウエハベース３３を囲むようにコラムＣＬＡが設置され、コラムＣＬＡの内側の段差部に３箇所又は４箇所の防振装置４３Ａを介して投影光学系ＰＬを保持する支持板４４Ａが設置されている。また、コラムＣＬＡの上端部に３箇所又は４箇所の防振装置４３Ｂを介してレチクルベース２７Ａが設置され、レチクルベース２７Ａ上のガイド面にレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴがエアーベアリングを介して移動自在に載置されている。防振装置４３Ａ及び４３Ｂはそれぞれ図２の防振装置４３と同様の能動型の防振装置である。
【００７７】
さらに、コラムＣＬＡの側面にＬ字型の照明系支持コラムＣＬＢが固定され、照明系支持コラムＣＬＢ上に図１の照明光学系１３が収納されたサブチャンバ４６が設置され、照明光学系１３内に図１の可動ブラインド機構１０が配置されている。これ以外の構成は図１の投影露光装置と同様である。
本例では、レチクルベース２７Ａと可動ブラインド機構１０を含む照明光学系１３とは、防振装置４３Ｂを介して独立に支持されている。従って、可動ブラインド機構１０の振動の影響がさらに軽減されている。また、可動ブラインド機構１０の駆動部で発生する熱の影響も軽減されている。
【００７８】
［第３の実施形態］
以下、本発明の第３の実施形態につき図１５を参照して説明する。本例の投影露光装置の基本的な構成は図１の第１の実施形態と同様であるが、その中の可動ブラインド機構１０（図４参照）の構成が異なっている。以下、図１５において、図４に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。
【００７９】
図１５は、本例の縦置き方式の可動ブラインド機構１０Ａ（駆動装置）の構成を示し、この可動ブラインド機構１０Ａは、図１中の可動ブラインド機構１０の代わりに照明光学系１３中に装着される。図１５において、Ｚ軸は鉛直線に平行で、−Ｚ方向が重力の作用する方向であり、走査方向用のブラインド６８（ブラインド部材）の移動方向は鉛直線に沿った方向である。本例のブラインド６８は、走査方向に対応する方向（Ｚ方向）に間隔Ｌ４だけ離れた２箇所のＸ方向に細長い矩形の遮光部６８ａ及び６８ｂを備えている。その間隔Ｌ４は、一例として図７（Ａ）のレチクルＲのパターン領域ＰＡの走査方向の長さ（より正確には遮光帯２４の左辺中央と右辺中央との間の長さ）に対応する長さである。
【００８０】
図１５において、ベースプレート４７の開口４７ａ（図１の開口９ａに対応している）の右側（＋Ｘ方向）にＺ軸に平行にＺ軸ガイド５５Ａが配置され、Ｚ軸ガイド５５Ａは両端部でスペーサ（不図示）を介してベースプレート４７に固定されている。また、Ｚ軸ガイド５５Ａには、第１スライダ５３Ａ及び第２スライダ５８ＡがＺ方向に移動自在に装着され、第１スライダ５３Ａに図４のブラインド２１の代わりにブラインド６８が固定されている。本例では図４の上方のブラインド２２の駆動機構が存在しないが、その他の構成は図４と同様である。
【００８１】
即ち、第１スライダ５３Ａに固定された可動子５４Ａと第２スライダ５８Ａに固定された固定子６０Ａとからリニアモータ６１Ａ（駆動部）が構成され、ブラインド６８、第１スライダ５３Ａ、及び可動子５４Ａよりなる第１移動体（第１物体）と、第２スライダ５８Ａ、支持部材５９Ａ、及び固定子６０Ａよりなる第２移動体（第２物体）とが、バランスホイール機構５１Ａ、ベルト６２Ａ、及びベルト６３Ａよりなる連結機構によって静的に釣り合うように連結されている。
【００８２】
本例では、例えば図７（Ａ）のレチクルＲを−Ｙ方向に走査してそのパターンを露光する場合、レチクルＲの移動に同期して図１５のブラインド６８は＋Ｚ方向に位置Ｐ３まで移動する。次に、レチクルＲが逆方向に走査されるときには、ブラインド６８は−Ｚ方向に移動し、ブラインド６８はそれ以降交互に＋Ｚ方向、−Ｚ方向に移動する。従って、ブラインド６８のＺ方向の移動ストロークは図４のブラインド２１に比べると長くなるが、制御が簡単である。
【００８３】
［第４の実施形態］
以下、本発明の第４の実施形態につき図１６を参照して説明する。本例の投影露光装置の基本的な構成は図１の第１の実施形態と同様であるが、その中の可動ブラインド機構１０（図４参照）の構成が異なっている。以下、図１６において、図４に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。
【００８４】
図１６は、本例の縦置き方式の可動ブラインド機構（駆動装置）の要部の構成を示し、この可動ブラインド機構は、図４の可動ブラインド機構１０のうちのブラインド２１の駆動機構として使用できるものである。図１６において、Ｚ軸は鉛直線に平行で、−Ｚ方向が重力の作用する方向であり、走査方向用のブラインド２１（ブラインド部材）の移動方向は鉛直線に沿った方向である。
【００８５】
図１６において、ブラインド２１とこれに連結された可動子５４Ａとは、不図示のＺ軸ガイドに沿ってＺ方向に移動自在であり、可動子５４Ａとともに第１リニアモータ６１Ａを構成する固定子６０Ａも不図示のＺ軸ガイドに沿ってＺ方向に移動自在である。
また、第１リニアモータ６１Ａの上方（＋Ｚ方向）に回転軸７１の周りに回転自在に大きい半径のカム機構としてのホイール６９（ホイール部）が固定され、ホイール６９の半径方向に９０°間隔で４つの溝６９ａ，６９ｂ，６９ｃ，６９ｄが形成され、ホイール６９の裏面には半径がホイール６９の１／２のサブホイール７２が固定され、その回転軸７１と固定子６０Ａとがベルト６３Ａで連結されている。また、ホイール６９の溝６９ａ〜６９ｄ中に２つのフォロワー７４Ａ，７４Ｂ（フォロワー部）が半径方向に移動自在に収納され、そのフォロワー７４Ａ，７４Ｂの底面側の軸は、フォロワーマウント７３（マウント部）の外周面に接触している。フォロワーマウント７３は、ホイール６９の底面に回転軸７０の周りに回転自在に配置されており、その回転軸７０はサブホイール７２の外周面に沿って移動するとともに、その回転軸７０と可動子５４Ａ（ブラインド２１）とがベルト６２Ａを介して連結されている。
【００８６】
このようなカム機構では、図１６（Ｂ）及び図１６（Ｃ）に示すように、ホイール６９が回転すると、フォロワー７４Ａ，７４Ｂの運動によってフォロワーマウント７３はサブホイール７２（半径がホイール６９の１／２）の周囲を移動するが、２つの回転軸７０及び７１の位置はほぼＺ軸に平行な直線上に維持される。従って、ホイール６９とフォロワーマウント７３との回転比、つまり減速比は１：２になる。言い換えると、回転軸７０及び７１の半径が同じとすると、ブラインド２１（第１移動体）のＺ方向への移動速度に対して固定子６０ＡのＺ方向への移動速度は逆方向で、かつ１／２となるため、連結機構（又は相対駆動装置）の減速比は２：１になる。そのため、ブラインド２１及び可動子５４Ａを含む第１移動体の質量に対して、固定子６０Ａを含む第２移動体の質量を２倍にすることによって、静的な釣り合いと、駆動の反力を相殺する駆動とを両立することができる。
【００８７】
また、本例でも、ベルト６２Ａはブラインド２１を含む第１移動体の重心位置を通りＺ軸に平行な直線上に配置され、ベルト６３Ａは固定子６０Ａを含む第２移動体の重心位置を通りＺ軸に平行な直線上に配置されている。さらに、２つのベルト６２Ａ及び６３Ａの間隔Δ２を図４の場合のΔ１に比べて小さくすることができ、内部のモーメントを小さくすることができるため、より振動を低減できる。
【００８８】
また、図１６（Ａ）においては、間隔Δ２は回転軸７０及び７１の直径に等しいが、例えばフォロワーマウント７３の回転軸７０をさらに右にずらすことによって、２つのベルト６２Ａ及び６３Ａを実質的に同軸にして、間隔Δ２をほぼ０にすることも可能になる。このような配置によって、ほぼ完全な重心支持と重心駆動とが可能になり、内部のモーメントに起因する振動をほぼなくすことができる。
【００８９】
なお、本例において、ホイール６９は完全な円形である必要はなく、イナーシャをできるだけ小さくするためには、必要なカム部分（溝６９ａ〜６９ｄ及びサブホイール７２に相当する部分）だけがあればよい。また、ホイール６９の溝６９ａ〜６９ｄの幅とフォロワー７４Ａ，７４Ｂの直径との或る程度の誤差（隙間）は、可動子５４Ａと固定子６０Ａとの横方向の位置ずれを生じる恐れがある。しかしながら、本例の可動子５４Ａ及び固定子６０Ａは不図示のＺ軸ガイドに沿って移動しているため、横方向の位置ずれは生じない。
【００９０】
なお、上記の実施形態では、可動ブラインド機構１０又は１０Ａ等は縦置き方式で設置されているが、可動ブラインド機構１０又は１０Ａ等を横置き方式で、即ちブラインド２１及び２２（又はブラインド６８）の移動方向が水平方向となるように設置することも可能である。この場合には、例えば図４において、第１スライダ５３Ａ及び固定子６０Ａの−Ｚ方向にバランスホイール機構５１Ａと対称に別のバランスホイール機構を配置して、このバランスホイール機構と第１スライダ５３Ａ及び固定子６０Ａとをそれぞれベルトで連結してもよい。又は、その別のバランスホイール機構を用いる代わりに、第１スライダ５３Ａ及び第２スライダ５８Ａを−Ｚ方向に付勢する機構（磁石の吸引力や反発力を用いる機構等）を設けてもよい。
【００９１】
また、可動ブラインド機構１０又は１０Ａ等と同様の駆動装置は、可動ブラインド機構のみならず、例えば図１の投影露光装置のレチクルステージＲＳＴ（第１物体）の駆動機構などにも使用することが可能である。
なお、上述の実施形態の投影露光装置は、複数のレンズから構成される照明光学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整をして、多数の機械部品からなるレチクルステージやウエハステージを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより製造することができる。なお、その投影露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００９２】
また、上記の実施形態の投影露光装置を用いて半導体デバイスを製造する場合、この半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、このステップに基づいてレチクルを製造するステップ、シリコン材料からウエハを形成するステップ、上記の実施形態の投影露光装置によりアライメントを行ってレチクルのパターンをウエハに露光するステップ、エッチング等の回路パターンを形成するステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、及び検査ステップ等を経て製造される。
【００９３】
なお、本発明は、走査型露光装置のみならず、ステッパーのような一括露光型（静止露光型）の投影露光装置の駆動装置としても適用できる。また、本発明は、例えば国際公開（ＷＯ）第９９／４９５０４号などに開示される液浸型露光装置にも適用することができる。また、本発明は、波長数ｎｍ〜１００ｎｍ程度の極端紫外光（ＥＵＶ光）を露光ビームとして用いる投影露光装置の可変視野絞り等にも適用できる。
【００９４】
また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグフィ工程を用いて製造する際の、露光工程（露光装置）にも適用することができる。
【００９５】
なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明の露光装置によれば、本発明の駆動装置で可変視野絞りを駆動することによって、その可変視野絞りを縦置きに設置した場合でも、その駆動装置での発熱量及び振動量が減少するため、高い露光精度が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の実施形態の投影露光装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の投影露光装置のコラム構造を示す一部を切り欠いた図である。
【図３】図１中の可動ブラインド機構１０を示す斜視図である。
【図４】図３の可動ブラインド機構１０を＋Ｙ方向に見た正面図である。
【図５】図３の可動ブラインド機構１０のうちのブラインド２１の駆動機構を示す一部を切り欠いた側面図である。
【図６】図３の第１バランスホイール機構５１Ａ及びこれによって連結される部材を単純化して示す図である。
【図７】走査露光時における図１のレチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲと照明領域２６Ｒとの位置関係の変化を示す図である。
【図８】走査露光時における図４の走査方向用のブラインド２１及び２２の位置の変化を示す図である。
【図９】走査露光時における図４の走査方向用のブラインド２１及び２２の図８に続く位置の変化を示す図である。
【図１０】図４の可動ブラインド機構１０のブラインド２１を含む第１移動体の応答特性のシミュレーション結果の一例を示す図である。
【図１１】走査露光時における図４のベルト６２Ａの張力の変化の一例を示す図である。
【図１２】走査露光時における図４のブラインド２１の位置決め誤差の一例を示す図である。
【図１３】フィードフォワード制御を行った場合の、走査露光時における図４のブラインド２１の位置決め誤差の一例を示す図である。
【図１４】本発明の第２の実施形態の投影露光装置のコラム構造を示す一部を切り欠いた図である。
【図１５】本発明の第３の実施形態の可動ブラインド機構１０Ａを示す図である。
【図１６】（Ａ）は本発明の第４の実施形態の可動ブラインド機構の要部を示す図、（Ｂ）は図１６（Ａ）の状態からホイール６９が回転した状態を示す図、（Ｃ）は図１６（Ｂ）の状態からさらにホイール６９が回転した状態を示す図である。
【符号の説明】
【００９８】
Ｒ…レチクル、Ｗ…ウエハ、ＰＬ…投影光学系、ＲＳＴ…レチクルステージ、９…固定ブラインド、１０，１０Ａ…可動ブラインド機構、１３…照明光学系、２０…ステージ駆動系、２１，２２…走査方向用のブラインド、２７…レチクルベース、５１Ａ，５１Ｂ…バランスホイール機構、５３Ａ，５３Ｂ…第１スライダ、５４Ａ，５４Ｂ…可動子、５５Ａ，５５Ｂ…Ｚ軸ガイド、５８Ａ，５８Ｂ…第２スライダ、６０Ａ，６０Ｂ…固定子、６１Ａ，６１Ｂ…リニアモータ、６２Ａ，６２Ｂ，６３Ａ，６３Ｂ…ベルト、６６Ａ，６６Ｂ…検出器、６８…ブラインド、６９…ホイール、７０，７１…回転軸、７２…サブホイール、７３…フォロワーマウント、７４Ａ，７４Ｂ…フォロワー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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