(57)【要約】【課題】  複数図柄のいずれもが、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ（柄ヌケ）」がなく、光輝性に優れる複数光輝性図柄を有し、基材が１枚でよく省資源であり、総厚さが極めて薄く、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れる光輝性フィルム、及びそれを用いた光輝性図柄形成物を提供する。【解決手段】  レリーフ形成層と金属薄膜層とを１組の光輝性図柄層として、プライマ層を介して、２組又はそれ以上の組の光輝性図柄層を有し、好ましくは、少なくとも２つの光輝性図柄が表側及び裏面からそれぞれ視認でき、上記プライマ層のガラス転移温度が１３０℃以下であることも特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レリーフ形成層と金属薄膜層とを１組の光輝性図柄層として、プライマ層を介して、２組又はそれ以上の組の光輝性図柄層を有することを特徴とする光輝性フィルム。
【請求項２】
少なくとも２種の光輝性図柄を有していることを特徴とする請求項１記載の光輝性フィルム。
【請求項３】
上記の光輝性図柄がヘアライン柄、万線柄、ホログラム及び／又は回折格子であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の光輝性フィルム。
【請求項４】
少なくとも第１金属薄膜層、第１光輝性図柄を有する第１レリーフ形成層、プライマ層、第２光輝性図柄を有する第２レリーフ形成層、及び第２金属薄膜層からなることを特徴とする１〜３のいずれかに記載の光輝性フィルム。
【請求項５】
少なくとも２つの光輝性図柄が、表側及び裏面から、それぞれ視認できることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光輝性フィルム。
【請求項６】
上記プライマ層のガラス転移温度が１３０℃以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光輝性フィルム。
【請求項７】
全体厚さが５〜２０μｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光輝性フィルム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の光輝性フィルムを用いて、少なくとも１部に光輝性図柄を設けてなることを特徴とする光輝性図柄形成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光輝性フィルムに関し、さらに詳しくは、少なくとも２つの光輝性図柄を有し、特異な意匠性及び／又はセキュリティ性を有する光輝性フィルム、及びそれを用いた光輝性図柄形成物に関するものである。
【０００２】
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。
また、「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
【背景技術】
【０００３】
（主なる用途）本発明の光輝性フィルム、及び該光輝性フィルムを用いて、該複数光輝性図柄の少なくとも１部を、被転写体へ貼着や漉き込みなどで移行させた光輝性図柄形成物の主なる用途としては、例えば、紙幣、株券、証券、証書、商品券、小切手、手形、入場券、通帳類、ギフト券、乗車券、車馬券、印紙、切手、鑑賞券、入場証、通行証、チケット等の金券類、キャッシュカード、クレジットカード、ＩＤカード、プリペイドカード、メンバーズカード、ＩＣカード、光カードなどのカード類、グリーティングカード、ハガキ、名刺、運転免許証、パスポート等の各種証明書やその証明写真類、カートン、ケース、軟包装材などの包装材類、バッグ類、帳票類、封筒、タグ、パスポート、化粧品、腕時計、ライター等のブランド装身具などがある。しかしながら、光輝性を有する特異な意匠性、及び／又はセキュリティ性を必要とする用途であれば、特に限定されるものではない。
【０００４】
（背景技術）従来、金券類、カード類、及び各種証明書類などのは、資格証明や一定の経済的価値や効果を持つため、不正に偽造、変造、不正使用することが絶えない。特に、カラーコピー機の精度向上が著しく、各種の媒体類の偽造を容易にしている。
これを防止するため各種の偽造防止手段が施されている。光輝性、特にホログラム、回折格子などのレリーフ形状を有する転写箔は、特異な装飾像や立体像を表現できる意匠性と、これらホログラムや回折格子は高度な製造技術を要し、容易に製造できないことから、偽造防止としてセキュリティー性の向上に利用されている。
しかしながら、これらの光輝性は片側のみであり、さらなる意匠性とセキュリティ性を向上するために、光輝性に優れた複数の図柄を有し、かつ、総厚さが極めて薄くて、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れ、さらに、省資源で、製造が容易であることが求められている。
【０００５】
（先行技術）従来、片面に金属蒸着膜を形成したホログラフィックフイルムを２枚、この金属蒸着膜を内側にして接着剤を用いて貼合わせた積層フイルムを細幅に裁断する両面光輝性ホログラム装飾糸が知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、表裏の発色性及び立体感の差をなくし、また、金属薄膜の腐食を防止するために、本願の課題とは全く異なる課題を解消するために、単一図柄の２枚のフィルムを背中合わせに貼合して、金属薄膜がフィルムで挟んだ両面光輝性ホログラム装飾糸であり、実施例からも同一図柄の２枚を用いており、同じ図柄を用いていることは明らかである。
さらに、片側に２層のレリーフ形成層を有する転写箔が知られている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、同一面に異なるパターンで２回エンボスする転写箔の製造方法に関する特許であり、両面光輝性という事に関する記載はない。
さらにまた、本出願人も、光輝性スレッドを基紙から間欠的に露出する表出部と被覆部とを設ける偽造防止用紙を開示している（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、用紙の端面を見なくても偽造品であるかどうかを判断でき、同時に光輝性スレッドが基紙から剥がれにくくするためのものである。
エンボス加工は片面エンボスで十分であるが、両面エンボスでもよいとの記載が知られている（例えば、特許文献４参照。）。しかしながら、両面エンボスに関してこれ以上の具体的な説明はなされておらず、また、エンボスする絵柄に関してはなんら示唆されていない。両面エンボスの明確な意味は記載されておらず、両面にレリーフパターンが形成されているか明確ではない。
いずれの先行技術も、表裏面に異なる図柄の光輝性図柄を有することについては記載も示唆もされていない。また、総厚さも厚く、偽造防止用紙としての一体感に欠けるものであった。
【０００６】
【特許文献１】特開平０６−２５７０２８号公報
【特許文献２】特開平０７−１９９７８１号公報
【特許文献３】特開平１０−７１７５９号公報
【特許文献４】特開２００１−３１７２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、複数図柄のいずれもが、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ（柄ヌケ）」を起こさない光輝性に優れる複数光輝性図柄を有し、基材が１枚でよく省資源であり、総厚さが極めて薄く、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れた光輝性フィルム、及びそれを用いた光輝性図柄形成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わる光輝性フィルムは、レリーフ形成層と金属薄膜層とを１組の光輝性図柄層として、プライマ層を介して、２組又はそれ以上の組の光輝性図柄層を有するように、したものである。
請求項２の発明に係わる光輝性フィルムは、少なくとも２種の光輝性図柄を有しているように、したものである。
請求項３の発明に係わる光輝性フィルムは、上記の光輝性図柄がヘアライン柄、万線柄、ホログラム及び／又は回折格子であるように、したものである。
請求項４の発明に係わる光輝性フィルムは、少なくとも第１金属薄膜層、第１光輝性図柄を有する第１レリーフ形成層、プライマ層、第２光輝性図柄を有する第２レリーフ形成層、及び第２金属薄膜層からなるように、したものである。
請求項５の発明に係わる光輝性フィルムは、少なくとも２つの光輝性図柄が、表側及び裏面から、それぞれ視認できるように、したものである。
請求項６の発明に係わる光輝性フィルムは、上記プライマ層のガラス転移温度が１３０℃以下であるように、したものである。
請求項７の発明に係わる光輝性フィルムは、全体厚さが５〜２０μｍであるように、したものである。
請求項８の発明に係わる光輝性図柄形成物は、請求項１〜７のいずれかに記載の光輝性フィルムを用いて、少なくとも１部に光輝性図柄を設けてなるように、したものである。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１の本発明によれば、複数図柄のいずれもが、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ（柄ヌケ）」を起こさない複数光輝性図柄を有し、基材が１枚でよく省資源であり、総厚さが極めて薄く、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れた光輝性フィルムが提供される。
請求項２の本発明によれば、異なる複数図柄のいずれもが、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ（柄ヌケ）」を起こさない光輝性に優れる光輝性フィルムが提供される。
請求項３の本発明によれば、光輝性を有する特異な意匠性、及び／又はセキュリティ性に優れる光輝性フィルムが提供される。
請求項４の本発明によれば、請求項１〜３の効果に加えて、基材の両側に光輝性に優れる複数光輝性図柄を有する光輝性フィルムが提供される。
請求項５の本発明によれば、表側及び裏面からそれぞれ視認できる光輝性に優れる複数光輝性図柄を有する光輝性フィルムが提供される。
請求項６の本発明によれば、プライマ層の接着作用により、ロングラン複製を行っても、両方の図柄の光輝性に優れる光輝性フィルムが提供される。
請求項７の本発明によれば、光輝性図柄形成物とした場合でも、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れる光輝性フィルムが提供される。
請求項８の本発明によれば、複数図柄のいずれもが光輝性に優れる複数光輝性図柄を有し、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れる光輝性図柄形成物が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの断面図
図２は、本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの断面図
図３は、本発明の１実施例を示す光輝性図柄形成物の断面図
図４は、本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの断面図
図５は、本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの断面図
図６は、本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
図７は、本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
図８は、本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
図９は、本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
図１０は、本発明の１実施例を示す光輝性図柄形成物の平面図、及び断面図
【００１１】
（版取られ）光輝性図柄層２０は、レリーフ形成層１５と、該レリーフ形成層１５形成されたレリーフ面に接して設けた金属薄膜層１７とからなり、レリーフは微細な凹凸で金属薄膜層１７と相まって、光を回折、拡散、及び／又は乱反射などで光輝性を発現する。
レリーフは、例えばホログラムの場合には、凹凸の高さ及び凸と凸の間隔は、通常０．００５ｍｍ以下程度と極めて微細であり、該レリーフ（凹凸）の賦型は版の製造とともに高度な技術を要する。
即ち、無理やり１枚の基材１１へ複数図柄の形成をすると、最初の第１光輝性図柄層２０Ａはレリーフの賦型は光輝性に優れ「レリーフ層形成樹脂が版に取られる現象」、いわゆる「版取られ（柄ヌケ）」の発生はないが、次の第２光輝性図柄層２０Ｂの賦型を行う際に、再び熱エンボスされるので、第１金属薄膜層１７Ａと第２レリーフ形成層１５Ｂの接着が十分ではなく、第２光輝性図柄２０Ｂを形成する際に第１金属薄膜層１７Ａと第２レリーフ層１５Ｂの間で「レリーフ層形成樹脂が版に取られる現象」、いわゆる「版取られ（柄ヌケ）」が発生してしまう。従って、片方図柄の意匠性が劣るものしか得られなかった。
【００１２】
そこで、本発明者らは、さらに鋭意研究を進め、複数の光輝性図柄を有していても、複数図柄のいずれもが、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ（柄ヌケ）」を起こさないことに注目し、本発明では、第１光輝性図柄層と第２光輝性図柄との間にプライマ層を設けることにより、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ（柄ヌケ）」を解決し、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れ、さらに、基材が１枚でよいので省資源も可能とするに到った。
従来は、第１光輝性図柄層２０Ａの第１光輝性フィルム１０Ａと、第２光輝性図柄層２０Ｂの第２光輝性フィルム１０Ｂと、２種類の別の光輝性フィルム１０を作製しておいて、これを積層するしかなかったが、厚さを薄くすることに限界があり、基材を２枚使用するので、資源の無駄遣いでもあった。
【００１３】
そこで、第１光輝性図柄層２０Ａと、第２光輝性図柄層２０Ｂとの間へ、プライマ層２１を設け、該プライマ層２１のガラス転移温度（Ｔｇ）を、レリーフ形成層１５ＡのＴｇより低い１３０℃以下とすることで、該プライマ層２１の接着作用で、エンボス工程においても「版取られ（柄ヌケ）」が発生せず、光輝性が保持される。また、基材１１は１枚でよいので、総厚さを極めて薄く、例えば５〜２０μｍとすることができる。総厚が極めて薄いと、スレッドとして基紙へ抄き込んでも、違和感がなく一体感に優れている。
【００１４】
（光輝性フィルム）本発明の光輝性フィルム１０は、第１レリーフ形成層１５Ａと第１金属薄膜層１７Ａとからなる第１光輝性図柄層２０Ａと、第２レリーフ形成層１５Ｂと第２金属薄膜層１７Ｂとからなる第２光輝性図柄層２０Ｂとが、プライマ層２１Ｂを介して積層されていればよい。
図１に示す例では、基材１１の一方の面へ、第１レリーフ形成層１５Ａと第１金属薄膜層１７Ａとからなる第１光輝性図柄層２０Ａが、プライマ層２１Ｂを介して、第２レリーフ形成層１５Ｂと第２金属薄膜層１７Ｂとからなる第２光輝性図柄層２０Ｂと基材に対して同一面に、積層されている。
図２に示す例は、図１で示した光輝性フィルム１０の第２金属薄膜層の上に、保護層２５を設けたものである。また図３は、基材１１の一方の面に、第１レリーフ形成層１５Ａ、第１金属薄膜層１７Ａ、プライマー層２１Ｂ、第２レリーフ形成層１５Ｂ、第２金属薄膜層１７Ｂ、接着層３１を順次に設けた光輝性フィルム１０が、基材（基紙）１０１に対して接着層３１により、接着したものであり、光輝性図柄形成物が得られる。  また、基材に対して反対面に、第３光輝性図柄層２０Ｃが設けると、図４の例となり、さらに、第４光輝性図柄層２０Ｄを設けてもよく、図４の例の書面表示で下部分へ設けると、図５に示す例となる。図５に示すように、第３光輝性図柄層２０Ｃと第４光輝性図柄層２０Ｄとが接する場合には、この間にもプライマ層２１Ｄを設けることが好ましい。
【００１５】
３以上の光輝性図柄層２０を設ける場合には、内側となった光輝性図柄が外側の光輝性図柄の金属薄膜層で隠されてしまうので、外側の金属薄膜層を透明金属薄膜層とすればよい。ここで外側の光輝性図柄とは、その光輝性図柄の少なくても一方に他の光輝性図柄がないような光輝性図柄のことであり、内側の光輝性図柄とは、その光輝性図柄の両側に他の光輝性柄図柄が２組以上存在するような光輝性図柄のことである。すべての金属薄膜層が透明金属薄膜層でもよい。
また、第１〜ｎの光輝性図柄層２０の図柄は、同じでも異なっていてもよい。例えば、第１光輝性図柄と第２光輝性図柄を同じ図柄とすれば、表側及び裏面からそれぞれ同一画像を視認することができる。図５に示す例で、第１金属薄膜層及び第３金属薄膜層を不透明金属薄膜層とし、第２金属薄膜層及び第４金属薄膜層を透明金属薄膜層とすれば、表側及び裏面からそれぞれ２図柄、合計４つの図柄を視認することができるので、極めて特異な意匠性、及び／又はセキュリティ性が得られる。
【００１６】
（材料と層形成）次に、基材や層の材料、層の形成について、説明するが、第１レリーフ形成層１５Ａ、第２レリーフ形成層１５Ｂ、第３レリーフ形成層１５Ｃ及び第４レリーフ形成層１５Ｄ（合わせてレリーフ形成層１５）、第１金属薄膜層１７Ａ、第２金属薄膜層１７Ｂ、第３金属薄膜層１７Ｃ及び第４金属薄膜層１７Ｄ（合わせて金属薄膜層１７）、保護層２５、プライマ層２１Ｂ及びプライマ層２１Ｄ（合わせてプライマ層２１）は、層が異なるのみで材料や形成法は同様であり、第１〜ｎに読み替えればよい。第１〜ｎのレリーフ形成層及び金属薄膜層層は、同じ材料、形成法及び厚さでもよく、異なるものでもよい。
【００１７】
（基材）基材１１の材料としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。
例えば、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト、ポリエチレンテレフタレート‐イソフタレート共重合体、又はテレフタル酸‐シクロヘキサンジメタノール‐エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン（商品名）６、ナイロン（商品名）６６、ナイロン（商品名）６１０、又はナイロン（商品名）１２などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、又はポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリノルボネンなどの環状ポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリアクリレート、ポリメタアクリレート、又はポリメチルメタアクリレートなどの（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン、高衝撃ポリスチレン、ＡＳ樹脂、又はＡＢＳ樹脂などのスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、又はエチレン−ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アセタール系樹脂、などがある。該基材１１は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイでを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。また、該基材１１は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材１１は、これら樹脂の少なくとも１層からなるフィルム、シート、ボード状として使用する。
【００１８】
本発明の光輝性フィルム１０の全体の総厚さとしては特に限定されない。例えば１〜２００μｍ程度厚みとすることができる。また、細幅に裁断しスレッドとして紙基材へ抄き込んだ用紙とする場合には、スレッドの厚さを極わめて薄くする必要があり、３〜４０μｍ程度、好ましくは４〜３０μｍ、さらに好ましくは５〜２０μｍである。３μｍ未満では、機械的な強度が不足して、裁断時や抄紙時にスレッドが切断したり、低歩留まりや低生産性、である。４０μｍ以上では、抄紙された用紙に凹凸が生じたり、スレッドが紙基材から容易に剥離したり、また、用紙としての一体感がないので、別の用紙へ別の光輝性物を貼着されるなどの偽造をされ易いという欠点がある。
【００１９】
光輝性フィルム１０の総厚さの大部分は基材１１の厚さであり、従来、複数の光輝性図柄の形成する場合には、通常２枚の基材を用いねばならなかった。このため、総厚さを減ずるには極薄に基材を使用せねばならず、塗布による層形成工程やレリーフの賦型工程では、良精度な設備、繊細な操作、しかもロスが多く、低歩留まりでコストがかかっていた。
本発明では、１枚の基材１１でよいので、良加工適性で、安価で、汎用な基材を使用することができる。機械的強度がよく、耐熱性もよいポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好適で、例えば、厚さ１〜２００μｍ程度の基材を使用することができる。また、スレッドとする場合には、厚さ２〜３８μｍの基材好ましく４〜１８μｍを使用することができる。該基材を用いると、従来設備、通常操作で、容易に製造でき、しかも低コストである。
【００２０】
（易接着層）また、該基材１１は、レリーフ層を形成する面側に、層間の密着力を向上させるために、必要に応じて易接着層、またはコロナ放電処理、プラズマ処理、オゾンガス処理、フレーム処理、予熱処理、除塵埃処理、アルカリ処理などなどの易接着処理を施してもよい。特に好ましくは、易接着層（図示せず）を設けておくことで、基材１１とレリーフ層との接着性を向上し、複製のランニング時の版取られをより抑制できる。また、易接着層は、基材１１と相乗して、熱及び／又は圧力の負荷がかかっても、柔軟性があり、そのクッション作用で、レリーフ形成層１５への負荷を減じて、既に賦型されているレリーフ形状の劣化を防止し、その結果、既に賦型されているレリーフの光輝性が保持される。
該易接着層は、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、酸変性ポリオレフィン系樹脂、エチレンと酢酸ビニル或いはアクリル酸などとの共重合体、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ゴム系化合物、石油系樹脂、アルキルチタネ−ト系化合物、ポリエチレンイミン系化合物、イソシアネ−ト系化合物、澱粉、カゼイン、アラビアゴム、セルロ−ス誘導体、ワックス類などを使用することができる。
【００２１】
（レリ−フの賦型）レリーフ形成層１５面へレリーフ形状を賦形（複製とも呼称する）する。該賦形方法としては、当業者が呼称する「熱圧法」が適用できる。まず、熱圧法は、基材１１へレリーフ形成層１５を形成した後に、該レリーフ形成層１５の表面に、レリーフが形成されているスタンパ（金属版、又は樹脂版）を圧着（所謂エンボス）をして、該レリーフをレリーフ形成層１５へ賦型し複製した後に、スタンパを剥離する方法である。
なお、レリーフの賦形は、層が異なるのみで材料や形成法は同様であり、第１〜ｎに読み替えればよい。第１〜ｎのレリーフは同じでも異なるものでもよい。
【００２２】
（レリーフ形成層）熱圧法に用いるレリーフ形成層１５の材料としては、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例、ポリメチルメタアクリレート）、ポリスチレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、そして、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ウレタンなどの熱硬化性樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系アクリレート等の電離放射線硬化性樹脂、或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂、もしくは、電離放射線硬化性樹脂の混合物が使用可能である。
通常、これらの硬化性樹脂混合物は未硬化、もしくは半硬化の状態で塗工により形成され、製造工程全体において最も適切な工程でエンボス加工され、その後、電離放射線照射や、熱処理により完全硬化される。しかしながら、エンボス設備、その他の製造設備、製造条件を最適化することで、比較的硬化の進んだこれらの硬化性樹脂混合物にエンボスすることもよい。
特に耐薬品性、耐光性及び耐候性等の耐久性に優れた熱硬化性樹脂、紫外線や電子線などの電離放射線で硬化する硬化性樹脂が好ましい。好ましくは、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の電離放射線硬化性樹脂が適用でき、特に好ましくはウレタン変性アクリレート樹脂である。
【００２３】
レリーフ形成層１５の好ましい１つとしては、一般式（ａ）で表されるウレタン変性アクリル系樹脂を主成分とする未硬化の電離放射線硬化性樹脂組成物である。具体的には、本出願人が特開２０００−２７３１２９号公報で開示している光硬化性樹脂組成物などが適用でき、前記明細書に記載の光硬化性樹脂組成物Ｓを本明細書の実施例でも使用し、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓ」と表記している。
【００２４】
【化１】
2006306085.tif 000003
（ここで、６個のＲ1は夫々互いに独立して水素原子またはメチル基を表わし、Ｒ2は炭素数が１〜２０個の炭化水素基を表わす。ｌ、ｍ、ｎ、ｏ及びｐの合計を１００とした場合に、ｌは２０〜９０、ｍは０〜８０、ｎは０〜５０、ｏ＋ｐは１０〜８０、ｐは０〜４０の整数である。ＸおよびＹは直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基を表わし、Ｚはウレタン変性アクリル樹脂を改質するための基を表し、好ましくは嵩高い環状構造の基を表わす。）
【００２５】
レリーフ形成層１５の好ましい他の１つとしては、融点が４０℃以上のイソシアネート化合物と、イソシアネート基と反応し得る（メタ）アクリル化合物との反応生成物であって、軟化点が４０℃以上のものを含有する樹脂である。
【００２６】
即ち、（１）融点が４０℃以上のイソシアネート化合物と、（メタ）アクリロイル基を有していて且つイソシアネート基と反応し得る（メタ）アクリル化合物との反応生成物であって、軟化点が４０℃以上のものを含有するか、（２）融点が４０℃以上のイソシアネート化合物と、（メタ）アクリロイル基を有していて且つイソシアネート基と反応し得る（メタ）アクリル化合物及び（メタ）アクリロイル基を有しておらず且つイソシアネート基と反応し得る化合物との反応生成物であって、軟化点が４０℃以上のものを含有する電離放射線硬化性樹脂である。また、イソシアネート化合物が、非芳香族性炭化水素環に結合したイソシアネート基を有するもの、イソホロンジイソシアネートの三量体、又はイソホロンジイソシアネートと活性水素含有化合物との反応生成物であり、さらに、（メタ）アクリル化合物が、（メタ）アクリル酸、水酸基を有する（メタ）アクリレートであることが好ましい。具体的には、特開２００１−３２９０３１号公報で開示されている光硬化性樹脂が適用できる。（電離放射線硬化性組成物Ｍとして、詳細を実施例に別途記載する。）
【００２７】
（レリーフ形成層の形成）レリーフ形成層１５を設ける方法としては、前述した材料、例えば、ウレタン変性アクリル系樹脂の電離放射線硬化性樹脂には、必要に応じて、光重合開始剤、光増感剤、光重合促進剤、多官能のモノマーやオリゴマー、離型剤、重合防止剤、粘度調節剤、界面活性剤、消泡剤等の各種助剤、また、シリコーン、スチレン−ブタジエンラバー等の高分子体などを配合してもよく、これらを有機溶媒へ溶解又は分散させるか、又は溶媒を加えずノンソルベント状の、レリーフ形成層１５組成物（インキ）とする。該レリーフ形成層１５組成物（インキ）を、例えば、ロ−ルコ−ト法、グラビアコ−ト法、その他公知のコーティング法又は印刷法で、塗布し、必要に応じて乾燥すればよい。該レリーフ形成層１５の厚さは、通常は０．１〜１０μｍ程度、好ましくは０．２〜５μｍ、さらに好ましくは０．５〜２μｍである。０．５μｍ未満では光輝性（輝度）が著しく低下し、２μｍを超えても輝度は十分であり、コスト的に不利である。
【００２８】
（レリーフ形状）レリーフ形状は凹凸形状であり特に限定されるものではないが、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものが好ましく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターン、なし地柄などでもよい。光回折凹凸パターンとしては、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞が凹凸模様で記録されたホログラムや回折格子が適用できる。ホログラムとしては、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。
本明細書記載の図柄とは、これらの各種凹凸パターンを１種もしくは２種以上組み合わせて形成される絵柄をいい、例えば、「ａｂｃ」や「Ｓｅｃｕｒｉｔｙ」といったテキストパターンや、スナメ柄、水玉柄と呼ばれる幾何学パターン、さらには、花や鳥などの図柄を模擬して作製された絵画パターンなどの組み合わせで形成された絵柄を、上記したホログラムや回折格子からなる光回折凹凸パターンの組み合わせで可視化した絵柄をいう。また、複数図柄とは、これらの図柄を１種かつ１回用いたのみでは形成されない図柄をいい、通常２種以上の図柄を複数回用いて作製される図柄をいう。ただし、例えば、基材面から「Ｓｅｃｕｒｉｔｙ」と観測される図柄の作製された光輝性フィルムの蒸着面同士を貼り合せることで表裏からともに「Ｓｅｃｕｒｉｔｙ」を観察可能な場合も本発明の複数図柄光輝性フィルムである。
【００２９】
回折格子としては、ホログラム記録手段を利用したホログラフィック回折格子があげられ、その他、電子線描画装置等を用いて機械的に回折格子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折光が得られる回折格子をあげることもできる。また、機械切削法でもよい。これらのホログラム及び／又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画法、機械切削法などが適用できる。
【００３０】
（レリ−フの賦型）該レリーフ形成層１５面へ上記のレリーフ形状を賦形（複製とも呼称する）する。熱圧法での賦形は、レリーフ形成層１５の表面に、レリーフが形成されているスタンパ（金属版、又は樹脂版）を圧着（所謂エンボス）をして、該レリーフをレリーフ形成層１５へ賦型し複製した後に、スタンパを剥離することで行う。また、レリーフ形成層１５表面に、さらに金属薄膜層１７を形成後、この表面にスタンパを圧着して賦型することも可能である。レリーフ形成層の材料によってはエンボス中に電離放射線を照射してからスタンパを剥離することでレリーフを複製する。商業的な複製は、長尺状で行うことで連続な複製作業ができる。また、シリンダーにスタンパをとりつけたり、シリンダーに直接レリーフを刻むなどして作製されたシリンダー状のスタンパを用いて、より商業的にレリーフを複製することができる。本レリーフ形成層はロール式連続複製方式でも有効であった。
【００３１】
（レリーフの硬化）レリーフ形成層１５として電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化（反応）させると電離放射線硬化樹脂（レリーフ形成層１５）となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶＡ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線などが適用できるが、紫外線（ＵＶ）が好適であり、波長３００〜４００ｎｍの紫外線が最適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び／又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。レリーフ形成層１５として、熱硬化性樹脂を用いた場合には、使用する熱硬化性樹脂の硬化条件に応じた温湿度環境下で、エージングを行い硬化させればよい。
【００３２】
（金属薄膜層）金属薄膜層１７Ａ及び金属薄膜層１７Ｂ（金属薄膜層１７）は、所定のレリーフ構造を設けたレリーフ形成層１５面のレリーフ面へ、金属薄膜層１７を設けることにより、レリーフの反射及び／又は回折効果を高めるので、レリーフ形成層１５の反射率より高れば、特に限定されず、例えば金属、または屈折率に差のある透明金属化合物が適用できる。この金属薄膜１７はレリーフ構造を設ける前に、レリーフ形成層１５へ形成することも可能である。すなわち、各層の材料、スタンパを適宜選定することで、金属薄膜層１７形成後にレリーフ形成することも可能である。
該金属薄膜層１７に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ等の金属の薄膜が適用できる。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。金属薄膜層１７の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。
【００３３】
また、該金属薄膜層１７として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がレリーフ形成層のそれとは異なる金属化合物を用いることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムなどの光輝性フィルムを作製することができる。
透明な金属又は金属化合物としては、例えば、レリーフ形成層１５よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｓ3、ＳｉＯ、ＳｎＯ2、ＩＴＯ等があり、後者の例としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＡｌＦ3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ａｕ等の酸化物又は窒化物他はそれらを２種以上を混合したもの等が挙げられる。
またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが２００Å以下になると、透明性が出て使用できる。透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、レリーフ形成層１５のレリーフ面に、１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤなどの真空薄膜法などにより設ければよい。さらには、レリーフ形成層１５と光の屈折率の異なる透明な合成樹脂を使用してもよく、接着層３１や保護層２５材料とレリーフ形成層１５材料の屈折率が十分に異なる場合には、接着層３１や保護層２５が金属薄膜層（反射層）１７を兼ねることもできる。
【００３４】
特に、例えば、図５のように、第１光輝性図柄層２０Ａと第３光輝性図柄層２０Ｃとの２つの図柄を有する場合には、一方の金属薄膜層１７を透明薄膜とすれば、基材の一方の面から見たとき、２つの光輝性図柄を同時に視認することができる。しかしながら、必須ではなく、両方の金属薄膜層１７を不透明な金属薄膜でもよく、破壊しての視認や、一方を脆質化することによるセキュリティ性の向上なども図れる。
【００３５】
（プライマ層）プライマ層２１の材料としては、金属薄膜層形成材料とレリーフ材料の接着性を向上する材料であればよく、好ましくは、レリーフ形成層１５ＡのＴｇより低い材料である。通常のレリーフ形成層１５の硬化前Ｔｇ１３０℃以下より低くすることで、金属薄膜層とレリーフ層との接着性を向上し、ランニング時の版取られを抑制できる。蒸着層とレリーフ形成層１５のＴｇに下限はないが、プライマ塗工物の巻取り保管の必要性等を考慮したとき、常温より高いことが好ましい。また、金属薄膜層形成材料との接着性に優れたプライマ層と、レリーフ層材料との接着性に優れたプライマ層など、２つ以上のプライマ層からなっていてもよい。
また、プライマ層２１は、熱及び／又は圧力の負荷がかかっても、レリーフ形成層１５のＴｇより低いので、柔軟性があり、そのクッション作用で、レリーフ形成層１５への負荷を減じて、既に賦型されているレリーフ形状の劣化を防止し、その結果、既に賦型されているレリーフの光輝性が保持される。
【００３６】
プライマ層２１の材料としては、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、酸変性ポリオレフィン系樹脂、エチレンと酢酸ビニル或いはアクリル酸などとの共重合体、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ゴム系化合物、石油系樹脂、アルキルチタネ−ト系化合物、ポリエチレンイミン系化合物、イソシアネ−ト系化合物、澱粉、カゼイン、アラビアゴム、セルロース誘導体、ワックス類などを使用することができる。ポリエチレン樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）樹脂、アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂、酢酸セルロース樹脂、アイオノマー樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、これらの樹脂は１種または２種以上を併用して用いることができる。イソシアネートなどの架橋剤を適宜添加し、接着性を向上させてもよい。
【００３７】
プライマ層形成に加え、必要に応じて、コロナ放電処理、プラズマ処理などの表面処理により、基材とレリーフ層の密着性をあげるのもよい。すなわち、レリーフ層を形成する面側に、層間の密着力を向上させるために、必要に応じてコロナ放電処理、プラズマ処理、オゾンガス処理、フレーム処理、予熱処理、除塵埃処理、アルカリ処理などなどの易接着処理を施してもよい。
プライマ層２１は、公知の方法で、溶融又は溶液として塗布しても、一旦フィルム化してから貼合してもよい。
【００３８】
（光輝性図柄の複数化）以上説明してきた各層の形成、賦型を繰り返して、本発明の光輝性フィルム１０が得られる。
図１に示す本発明の光輝性フィルム１０では、基材１１の一方の面へ、第１レリーフ形成層１５Ａを形成し、第１光輝性図柄を賦型し、第１金属薄膜層１７Ａを形成し、さらに、第１金属薄膜層１７Ａの表面へ、プライマ層２１Ｂを形成し、第２レリーフ形成層１５Ｂを形成し、第２光輝性図柄を賦型し、第２金属薄膜層１７Ｂを形成すればよい。
また、図１に示す本発明の光輝性フィルム１０の、第１金属薄膜層１７Ａと基材１１に関して反対となる面へ、さらに第３レリーフ形成層１５Ｃを形成し、第３光輝性図柄を賦型し、第３金属薄膜層１７Ｃを形成すれば、図４に示す光輝性フィルム１０となり、３つの光輝性図柄を有する。
さらに、図４に示す光輝性フィルム１０の、第３金属薄膜層１７Ｃ面へ、さらにプライマ層２１Ｄを形成し、第４レリーフ形成層１５Ｄを形成し、第４光輝性図柄を賦型し、透明な第４金属薄膜層１７Ｄを形成すれば、図５に示す光輝性フィルム１０となり、４つの光輝性図柄を有する。
【００３９】
上記の複数図柄化についてさらに説明すると、以上のようにして、光輝性フィルム１０Ａ及び１０Ｂが得られる。また、本発明では、層の構成に従って、レリーフ形成層１５、レリーフ形状１６及び金属薄膜層１７を作製する工程を繰り返すことで、複数図柄を有する複数図柄光輝性フィルムを作製し、この複数図柄光輝性フィルムを適宜スリットすることで本発明の複数図柄光輝性スレッド１０を得ることができる。
このように、１つの基材に対してレリーフ形成層１５、レリーフ形状１６及び金属薄膜層１７を作製する工程を繰り返すことで複数図柄を有する複数図柄光輝性フィルムを作製する際には、後からレリーフ形成層にレリーフ形状１６を作製する工程で、先に作製したレリーフ形状１６を破壊しないことが必要となる。
このため先に形成された第１レリーフ形成材料のガラス転移温度をＴｇ１（ｕ）、この材料の硬化後のガラス転移温度をＴｇ１（ｈ）、後から形成された第２レリーフ形成層を作製する材料のガラス転移温度をＴｇ２（ｕ）、この材料の硬化後のガラス転移温度をＴｇ２（ｈ）とするとき、第１レリーフ形成層は第２レリーフ形成層のレリーフが賦型される前に硬化されるとともに、Ｔｇ１（ｈ）＞Ｔｇ２（ｕ）の関係があることが好ましい。
また、第１レリーフ形成層の材料、第２レリーフ形成層の材料として一般的な熱可塑性樹脂を使用する場合には、Ｔｇ１（ｕ）＝Ｔｇ１（ｈ）＝Ｔｇ１、さらに、Ｔｇ２（ｕ）＝Ｔｇ２（ｈ）＝Ｔｇ２とすると、Ｔｇ１＞Ｔｇ２の関係があることが好ましい。第３、第４とさらに複数個のレリーフ形成層を有する場合は、Ｔｇ１＞Ｔｇ２＞Ｔｇ３＞Ｔｇ４、すなわち、Ｔｇ１（ｕ）＞Ｔｇ２（ｕ）＞Ｔｇ３（ｕ）＞Ｔｇ４（ｕ）の関係があることが好ましい。
しかしながら、硬化性樹脂を使用する場合にはこの式（Ｔｇ１＞Ｔｇ２）の関係が成立することが特に好ましいわけではない。先にレリーフ形成される樹脂として硬化性樹脂を使用すると、硬化前のＴｇ１（ｕ）が低くても、レリーフ形成後にこの樹脂を硬化することで、後から第２レリーフ形成層にレリーフを賦型する時点においてＴｇ１（ｈ）を十分に高くすることが容易なため好ましい。逆に、後からレリーフ形成する樹脂として硬化性樹脂を使用すれば、第２レリーフ形成層にレリーフを賦型する温度を十分に低くするとともに、第２レリーフ形成後にこの樹脂をＴｇ２（ｈ）まで硬化することで製品の耐久性を十分に高くすることができるので好ましい。すなわちレリーフ賦型時には硬化しておらず、レリーフ賦型後硬化可能な硬化性樹脂を使用することで、未硬化時の樹脂のガラス転移温度がＴｇ１（ｕ）＝Ｔｇ２（ｕ）、もしくは、Ｔｇ１（ｕ）＜Ｔｇ２（ｕ）の関係にあっても、Ｔｇ１（ｈ）＞Ｔｇ２（ｕ）の関係を成立することができ、先に形成されたレリーフの形状を破壊することなく後に形成するレリーフを作製することができる。このようなレリーフ樹脂の硬化を、全工程中、最適な工程で行うためには、レリーフ形成材料としては、電離放射線硬化性樹脂が特に好ましい。３層以上の複数図柄を有する際にも同様である。
上記に示したガラス転移温度の関係を満足しないと、レリーフ形状の形状維持が困難となり、ひび割れ、白化等が生じ、光輝性複数図柄としての十分な輝度が得られなくなってしまう。
但し、上記のガラス転移温度は、動的粘弾性測定における損失正接（ｔａｎδ）が最大値をとる温度を当該樹脂のガラス転移温度としたものである。粘弾性の測定方法は、測定機器としてレオメトリックス製ＡＲＥＳを用い、測定条件は、パラレルプレート１０ｍｍΦ、歪み１％、振幅１Ｈｚ、昇温速度２℃／ｍｉｎ．で、試料の樹脂の温度を３０℃から２００℃に昇温させることにより行う。また、一般に貯蔵弾性率Ｇ′は弾性成分で、高分子中でのコイルの振動や凝集体構造などの構造が生じることによって発生し、損失弾性率Ｇ″は粘性成分であり、静的の剪断応力と等価なものである。ｔａｎδはＧ″／Ｇ′により求められ、材料が変形する際にどれくらいのエネルギーを吸収するかの指標となる。
本発明の光輝性フィルム１０は、複数の光輝性図柄を有し、該複数図柄のいずれもが光輝性に優れ、基材が１枚でよく省資源であり、総厚さが極めて薄くできる。光輝性フィルム１０は、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れている。コストの低減も可能である。
【００４０】
（他の層）また、本発明の光輝性フィルム１０には、光輝性図柄が観察できる範囲で、必要に応じて、層構成の層間及び／又は表面に、保護層、着色層、磁気印刷、及び／又は樹脂層などの他の層、並びに／又は印刷、易接着層などを設けてもよい。さらに、光輝性フィルム１０の少なくともいずれかの表面に、易接着層を設けてもよく、該易接着層の材料としては、親水性の材料、例えばポリビニルアルコール系樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂などが好ましい。
上記の保護層としては、前記のレリーフ形成層で説明した構成樹脂と同様に、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂、そして、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシウレタン（メタ）アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたもの、不飽和エチレン系モノマーと不飽和エチレン系オリゴマーを適宜混合したものに増感剤を添加した組成物等の紫外線硬化性樹脂を硬化させたもの、或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合物やラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能である。特に耐薬品性、耐光性及び耐候性等の耐久性に優れた熱硬化性樹脂、紫外線や電子線などの電離放射線硬化性樹脂が好ましい。
（他の支持基材）以上のようにして得られた本発明の複数図柄光輝性フィルムへは、さらに、別の基材や層を設けてもよい。例えば図３に示すように、金属薄膜層１７Ｂの表面に接着層３１を介して支持基材１０１を設けることで、金属表面を保護することができる。支持基材としては、基材１１に関して記載した材料が使用される。これらの合成樹脂フィルムや紙基材などを、ドライラミネーション法、押出ラミネーション法、粘着剤ラミネーション法、熱ラミネーション法などの公知の方法で積層すればよい。また、この支持基材として離型処理した支持基材を用いることで、意匠性、セキュリティー性に優れた粘着ラベルとすることができる。
（接着剤）接着層３１に使用する接着剤としては、上記した従来公知の積層方法に順じて適宜材料を選定すればよい。例えば、ドライラミネーション法にて、積層する場合、熱、または紫外線・電子線などの電離放射線で硬化する接着剤が適用できる。熱硬化接着剤としては、２液硬化型ウレタン系接着剤、ポリエステルウレタン系接着剤、ポリエ−テルウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤、エボキシ系接着剤、ゴム系接着剤などが適用できる。なかでも２液硬化型ウレタン系接着剤が好適である。溶媒へ分散または溶解した接着剤を塗布し乾燥させて、基材と光輝性フィルムを重ねて積層した後に、３０〜１２０℃で数時間〜数日間エージングすることで、接着剤を硬化させるとよい。既に形成されたレリーフ形状を破壊することがないよう、できるだけ低温で硬化できる接着剤、好ましくは賦型されたレリーフ形成層材料のガラス転移温度Ｔｇ（ｈ）より低い温度で硬化できる接着剤、さらに好ましくはＴｇ（ｕ）より低い温度で硬化できる接着剤、が特に好ましく使用される。該接着層の膜厚としては、０．１〜２０μｍ（乾燥状態）程度、好ましくは１．０〜５．０μｍである。
【００４１】
（複数の光輝性図柄形成物）本発明の光輝性図柄形成物１００は、本発明の光輝性フィルム１０を用いて、該光輝性図柄の少なくとも１部を、被転写体へ貼着、接着、や漉き込みなどで移行させ、抄込みによる抄紙法で作製することができ、光輝性に優れた複数の図柄を有し、特異な意匠性、セキュリティ性を持たせることができる。
【００４２】
図１０に本発明の光輝性図柄形成物１００の１実施例として、本発明の光輝性フィルム１０を細巾にスリットしてなるスレッドを、基紙の少なくとも一方の面の表面に抄き込んで偽造防止用紙とし、該偽造防止用紙を使用した商品券の例を示す。スレッドの総厚さが極めて薄くて、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れ、さらに、省資源で、製造が容易である。該偽造防止用紙に用いるスレッドは１本でも複数本でもよい。
また、図１０（Ｂ）は有価証券印刷部と同じ面に設けた場合、図１０（Ｃ）は有価証券印刷部と反対面に設けた場合、の片面のみの例で、もちろん両面に設けてもよい。
【００４３】
（抄紙法）次に、抄紙法について説明する。本発明の光輝性フィルム１０が細幅のストライプ状の形状となった場合に、製紙業の当業者はスレッドと称する。本発明の光輝性フィルム１０を幅が０．５〜３０ｍｍ程度、好ましくは１〜１０ｍｍの狭い幅にスリットして、該スレッドを基紙１０１へ抄き込む。
【００４４】
（基紙）該偽造防止用紙の基紙１０１としては、表面平滑性および耐熱性に優れ、適当な強度、厚さを有するものであれば、特に制限はないが、上質紙等の洋紙、薄手の板紙、カード紙等の紙が適用できる。１００〜２００ｇ／ｍ2の坪量で、印字、転写適性に優れる上質紙、コート紙が好ましい。該基紙１０１へ、幅が０．５〜３０ｍｍ程度、好ましくは１〜１０ｍｍの、狭い幅にスリットしたスレッドを抄き込んで製造する。即ち、針葉樹晒クラフトパルプ（ＮＢＫＰ）、広葉樹晒クラフトパルプ（ＬＢＫＰ）、針葉樹晒サルファィトパルプ（ＮＢＳＰ）、サーモメカニカルパルプ（ＴＭＰ）等の木材パルプや麻、綿、藁を原料とした非木材パルプ等を適宜混合して叩解し、これに填料、乾燥紙力増強剤、湿潤紙力増強剤、サイズ剤、定着剤、歩留り向上剤、濾水性向上剤、消泡剤、染料、着色顔料、蛍光剤などを適宜添加し、通常フリーネス４００〜２５０ｍｌＣ．Ｓ．Ｆ．に調整した紙料を調製する。該紙料へ、狭い幅のスレッドを繰り出しながら、長網抄紙機や円網抄紙機などの公知の抄紙機を使用して抄き込んで製造し、必要に応じてマシンカレンダー、スーパーカレンダー処理をする。
【００４５】
（観察）本発明の光輝性図柄形成物１００は、先の構成に加えて、印刷絵柄などを設けたりしてもよい。また、スレッドは、基紙中へ埋没させてもよく、また、半分埋め込みや、十分に接着していれば表面上でもよい。また、基紙の表面に部分的に露出させてもよい。さらに基紙を部分的に薄くして埋め込んでもよく、特に、半分埋め込みや部分的に薄い該基紙１０１では、本発明の光輝性フィルム１０の両側の光輝性図柄を十分に視認できる。また、埋没や半分埋め込みでは、少なくとも一方の光輝性図柄が視認できなかったり、視認しにくいが、必要に応じて、剥離して観察することで視認できるので、本発明の範囲である。
【００４６】
（製造）本発明の光輝性フィルム１０の製造は、いずれの工程も既存の設備、技術を用いることができるので、製造が容易で低コストに製造することができる。また、本発明の光輝性図柄形成物１００の製造も、いずれの工程も既存の設備、技術を用いることができるので、製造が容易で低コストに製造することができる。
【実施例】
【００４７】
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
また、以下の実施例では、表裏からの視認状況を説明しやすいようネガパターン、ポジパターンの明確な文字列「ａｂｃ」、「ｘｙｚ」等の文字を引用したが、どちらのパターンが視認されようとも、表裏から目視した際、２種以上の図柄が視認できれば本発明の範囲内である。
なお、以下の実施例においては、例えば文字列「ａｂｃ」を空気界面から見た時、通常の文字列「ａｂｃ」として解読可能な文字列パターンをポジパターンと呼ぶ。逆に、通常の文字列「ａｂｃ」として解読不可能な文字列パターンをネガパターンと呼ぶ。
【００４８】
（実施例１）
（電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍの作製）まず、反応生成物（Ａ）は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル２０６．１ｇ及びイソホロンジイソシアネートの三量体（ＨＵＬＳ社製品、ＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｔ１８９０、融点１１０℃）１３３．５ｇを仕込み、８０℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．３８ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製品、ビスコート３００）２４９．３ｇ及びジブチル錫ジラウレート０．３８ｇを仕込んだ。８０℃で５時間反応させたのち酢酸エチル６８８．９ｇを添加して冷却した。得られた反応生成液は赤外吸収スペクトル分析の結果、イソシアネート基の吸収が消滅していることを確認した。反応生成液から酢酸エチルを留去したものの軟化温度は４３℃であった。
該反応生成物（Ａ）と、造膜性樹脂、光重合開始剤、及び溶媒から下記の組成で添加して電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍを調製した。
・＜電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ＞
反応生成物（Ａ）                                          ２４重量部
造膜性樹脂（メタクリル樹脂：クラレ社製品  パラペットＧＦ）  ６重量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４）                      ０．９重量部
酢酸エチル                                                ７０重量部
基材１１として厚さ６μｍのルミラー６ＣＦ５３（東レ社製、ＰＥＴフィルム商品名）を用いた。該基材１１の一方の面へ、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍをグラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ１μｍのレリーフ形成層１５Ａを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、２光束法によるレインボウホログラム（柄１：文字列「ａｂｃ」の繰り返しパターン（ネガパターン））から２Ｐ法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。レリーフ形成層１５Ａのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが５００ｎｍのアルミニウム薄膜を形成して金属薄膜層１７Ａとした。
該金属薄膜層１７Ａ面へ、バイロン２００（東洋紡績（株）社製、ポリエステル樹脂商品名）をグラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ０．５μｍのプライマ層層２１Ｂを形成し、該プライマ層層２１Ｂ面へさらに、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍをグラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ１μｍのレリーフ形成層１５Ｂを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、２光束法によるレインボウホログラム（柄２：文字列「ｘｙｚ」の繰り返しパターン（ポジパターン））から２Ｐ法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。レリーフ形成層１５Ｂのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが５００ｎｍのアルミニウム薄膜（金属薄膜層１７Ｂ）とした。このようにして、実施例１の光輝性フィルム１０を得た。
【００４９】
（実施例２）基材として、１２μｍのＰＥＴフィルムを用いる以外は、実施例１と同様にして、光輝性フィルム１０を得た。
【００５０】
（実施例３）基材として、１６μｍのＰＥＴフィルムを用いる以外は、実施例１と同様にして、光輝性フィルム１０を得た。
【００５１】
（実施例４）電離放射線硬化性樹脂組成物として、電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓを用いる以外は、実施例１と同様にして、光輝性フィルム１０を得た。
【００５２】
（実施例５）基材として、１２μｍのＰＥＴフィルムを用いる以外は、実施例４と同様にして、光輝性フィルム１０を得た。
【００５３】
（実施例６）基材として１６μｍのＰＥＴフィルムを用いる以外は、実施例４と同様にして、光輝性フィルム１０を得た。
（実施例７）実施例１の光輝性フィルム１０の金属薄膜層１７Ｂ面へ前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓをグラビアリバースコーターで塗工し、１００℃で乾燥させて、厚さ０．５μｍの保護層２５を形成した。
（実施例８）実施例１の光輝性フィルム１０の金属薄膜層１７Ｂ面へグラビアコート法で２液硬化性ポリウレタン系接着剤を乾燥後の厚さが１．５μｍになるように塗布し乾燥した後に、基材１０１として厚さ６μｍのルミラー６ＣＦ５３（東レ社製、ＰＥＴフィルム商品名）を用い、基材１０１と前記のポリウレタン系接着剤とを重ね合わせて加圧し、その後４０℃で３日間放置し、実施例８の光輝性フィルムを得た。
【００５４】
（評価）実施例１〜８の光輝性フィルム１０を基材（ＰＥＴフィルム）越しに観察すると、いずれも、図６のように、文字列「ａｂｃ」の繰り返しパターン（ポジパターン）が観察された。また、その反対側から観察すると文字列「ｘｙｚ」の繰り返しパターン（ポジパターン）が観察された。版取られもなく、良好な複製品が得られた。
【００５５】
（実施例９）基材１１として厚さ６μｍのルミラー６ＣＦ５３（東レ社製、ＰＥＴフィルム商品名）を用いた。該基材１１の一方の面へ、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍをグラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ１μｍのレリーフ形成層１５Ａを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、２光束法によるレインボウホログラム（柄１：文字列「ａｂｃ」の繰り返しパターン（ネガパターン））から２Ｐ法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。レリーフ形成層１５Ａのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが５００ｎｍのアルミニウム薄膜を形成して金属薄膜層１７Ａとした。
該金属薄膜層１７Ａ面へ、バイロン２００（東洋紡績（株）社製、ポリエステル樹脂商品名）をグラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ０．５μｍのプライマ層２１Ｂを形成し、該プライマ層２１Ｂ面へさらに、電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓをグラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ１μｍのレリーフ形成層１５Ｂを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、２光束法によるレインボウホログラム（柄２：文字列「ｘｙｚ」の繰り返しパターン（ポジパターン））から２Ｐ法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフ（ポジパターン）を賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。レリーフ形成層１５Ｂのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが３００ｎｍの酸化チタン薄膜を形成し金属薄膜層１７Ｂとした。このようにして、実施例９の光輝性フィルム１０を得た。
（評価）実施例９の光輝性フィルム１０を基材（ＰＥＴ）越しに観察すると、図７のように、文字列「ａｂｃ」の繰り返しパターン（ポジパターン）が観察された。また、その反対側から観察すると、文字列「ｘｙｚ」の繰り返しパターン（ポジパターン）越しに、文字列「ａｂｃ」の繰り返しパターン（ネガパターン）が観察された。表２柄、裏１柄が観察され、非常に意匠性の高いホログラムであった。版取られもなく、良好な複製品が得られた。
【００５６】
（実施例１０）さらに、実施例９の光輝性フィルム１０の基材１１において、第１金属薄膜層１７Ａの反対側のＰＥＴ面に、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍをグラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ１μｍの第３レリーフ形成層１５Ｃを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、２光束法によるレインボウホログラム（柄３：文字列「ｇｈｉ」の繰り返しパターン（ポジパターン））から２Ｐ法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターン（ポジパターン）からなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。第３レリーフ形成層１５Ｃのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが５００ｎｍのアルミニウム薄膜を形成して金属薄膜層１７Ｃとした。
（評価）実施例１０の光輝性フィルム１０を第３レリーフ形成層１５Ｃ側から観察すると、図８のように、文字列「ｇｈｉ」の繰り返しパターン（ポジパターン）が観察された。また、その反対側から観察すると文字列「ｘｙｚ」の繰り返しパターン（ポジパターン）越しに、文字列「ａｂｃ」の繰り返しパターン（ネガパターン）が観察された。版取られもなく、良好な複製品が得られた。
【００５７】
（実施例１１）実施例１０の光輝性フィルム１０の第３金属薄膜層１７Ｃ面へ、バイロン２００（東洋紡績（株）社製、ポリエステル樹脂商品名）をグラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ０．５μｍの第２プライマ層２１Ｄを形成し、該第２プライマ層２１Ｄ面へさらに、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍをグラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ１μｍの第４レリーフ形成層１５Ｄを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、２光束法によるレインボウホログラム（柄４：絵柄「星型」の繰り返しパターン）から２Ｐ法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。第４レリーフ形成層１５Ｄのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが３００ｎｍの透明な酸化チタン薄膜を形成して第４金属薄膜層１７Ｄとした。
（評価）実施例１１の光輝性フィルム１０を、第４レリーフ形成層１５Ｄ側から観察すると、図９のように、絵柄「星型」の繰り返しパターン越しに、文字列「ｇｈｉ」の繰り返しパターン（ポジパターン）が観察された。また、その反対側から観察すると文字列「ｘｙｚ」の繰り返しパターン（ポジパターン）越しに、文字列「ａｂｃ」の繰り返しパターン（ネガパターン）が観察された。版取られもなく、良好な複製品が得られた。
【００５８】
（実施例１２〜２０）実施例１〜１１で得られた光輝性フィルム１０を紙料へ抄き込む。ＮＢＫＰ２０質量部、ＬＢＫＰ８０質量部を叩解し、白土１０質量部、紙力増強剤０．３質量部、サイズ剤１．０質量部、硫酸バンドを適量加えて、紙料を調製した。該紙料を用いて、２槽式円網抄紙機で抄紙速度５０ｍ／分で２層抄合わせる。この際に、上記で製造したスレッドをホログラム面を表面にして所定の位置に流した。次いで、公知の一般的な方法に従い湿紙を脱水し、ドライヤーで乾燥することで、スレッドは基紙１０１へ接着し、本発明の光輝性図柄形成物１００である偽造防止用紙を製造した。
得られた偽造防止用紙は、スレッドの表面は露出した状態で、用紙の流れ方向にスレッドが基紙層へ埋設されていた。無理に剥離したところ該偽造防止用紙のスレッド表面は各実施例で説明した両面で異なる光輝性図柄が明確に観察できた。さらに、カラーコピー機でコピーしたところ、一方のホログラム特有の輝きはなく、スレッドのホログラムとコピーとは全く異なり、両側の面ともに一目で真贋が判断できた。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの断面図
【図２】本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの断面図
【図３】本発明の１実施例を示す光輝性図柄形成物の断面図
【図４】本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの断面図
【図５】本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの断面図
【図６】本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
【図７】本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
【図８】本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
【図９】本発明の１実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
【図１０】本発明の１実施例を示す光輝性図柄形成物の平面図、及び断面図
【符号の説明】
【００６０】
１０：光輝性フィルム
１１：基材
１５：レリーフ形成層
１５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃ、１５Ｄ：第１〜ｎレリーフ形成層
１７：金属薄膜層
１７Ａ、１７Ｂ、１７Ｃ、１７Ｄ：第１〜ｎ金属薄膜層
２１、２１Ｂ、２１Ｄ：プライマ層
２５：保護層
３１：接着層
１００：光輝性図柄形成物
１０１：基紙
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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