(57)【要約】【課題】基板の反処理面に被処理物を再析出・付着させずにウェット処理が行えるウェット装置を提供することである。【解決手段】現像装置２０は、ワーク１００上の未硬化レジストを除去させる第１処理液をワーク１００の被処理面側に噴出し使用後の第１処理液を回収して再び第１処理液として再使用する第１処理液再使用機構２３と、被処理面とは反対側の面である反処理面に対して未使用である第２処理液を噴出する第２処理液噴出機構２４とを有する。ワーク１００の被処理面側に噴出された第１処理液は、反処理面側に対して吹きかけられた第２処理液によってワーク１００の反処理面に回りこまない。このため、ワーク１００の反処理面に未硬化レジストを再析出・付着させずに現像処理が行える。  【選択図】 図２
2006032802.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された被処理物に対して、前記基板上から除去すべき部分の被処理物を除去させる第１処理液を前記基板の被処理面に供給するウェット装置において、
使用済の前記第１処理液を回収して再び当該第１処理液として再使用する第１処理液再使用手段と、
前記基板の前記被処理物が形成された被処理面とは反対側の面である反処理面に対して、未使用である第２処理液を吹きかける第２処理液噴出手段と、
を有することを特徴とするウェット装置。
【請求項２】
請求項１に記載のウェット装置において、
前記第２処理液噴出手段から前記反処理面へ吹きかけられた使用後の前記第２処理液を回収する第２処理液回収手段と、
前記処理液回収手段により回収された当該使用後の第２処理液を前記第１処理液として再利用する第２処理液再利用手段と、
を具備したことを特徴とするウェット装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のウェット装置において、
前記第１処理液を前記被処理面へ供給するとともに前記第２処理液を前記反処理面に吹きかける際に、前記基板を前記反処理面で接しながら搬送する搬送手段を備えた
ことを特徴とするウェット装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載のウェット装置において、
前記第２処理液噴出手段は、前記第２処理液を前記反処理面に対して吹きかけるとともに前記基板の搬送方向と交差する方向に並んだ複数個の第２処理液噴出ノズルを備え、
これらの第２処理液噴出ノズルのうち少なくとも両側端に配置された２個は、それぞれ先端が前記基板の搬送方向に平行となる端辺よりも前記基板の外側に向けて形成される
ことを特徴とするウェット装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載のウェット装置において、
前記第１処理液および第２処理液は、フォトリソグラフィ法で使用される現像液、エッチング処理液およびレジスト剥離液のうち一つを含む
ことを特徴とするウェット装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載のウェット装置を備えたディスプレイパネル製造装置であって、
前記ウェット装置は、ディスプレイパネルの基板上に電極パターンを形成する際に用いられる
ことを特徴とするディスプレイパネル製造装置。
【請求項７】
基板上に形成された被処理物に対して第１処理液を供給し、前記基板上から除去すべき部分の被処理物を除去するウェット処理方法において、
使用済の前記第1処理液を回収して再び当該第１処理液として再使用するとともに、
前記基板の前記被処理物が形成された被処理面とは反対側の面である反処理面に対して、未使用である第２処理液を吹きかける、
ことを特徴とするウェット処理方法。
【請求項８】
請求項７に記載のウェット処理方法において、
前記反処理面へ供給された使用後の前記第２処理液を回収し、当該使用後の第２処理液を前記第１処理液として再利用すること
を特徴とするウェット処理方法。
【請求項９】
請求項７または請求項８に記載のウェット処理方法において、
前記第１処理液を前記被処理面へ供給するとともに前記第２処理液を前記反処理面に吹きかける際に、前記基板を前記反処理面で接しながら搬送する
ことを特徴とするウェット処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェット装置、ディスプレイパネルの製造装置およびウェット処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、例えば、プラズマディスプレイパネルや液晶ディスプレイパネルなどのディスプレイパネルの製造工程において、ガラス基板上に電極パターンを形成する際、例えばフォトリソグラフィ法などが用いられている。このフォトリソグラフィ法は、（Ａ）薄膜形成工程、（Ｂ）現像処理工程、（Ｃ）エッチング処理工程および（Ｄ）レジスト剥離工程の４工程を順に経ることにより、基板上にパターンを形成する方法である。
【０００３】
例えばフォトリソグラフィ法によりディスプレイパネルのガラス基板上に電極パターンを形成する場合、（Ａ）薄膜形成工程では、ガラス基板上の全領域にパターニングしたい電極材料の薄膜をスパッタリングなどの方法により形成し、さらに感光性材料であるレジスト層を一様に形成する。（Ｂ）現像処理工程では、前工程で形成されたレジストに所望のパターンのUV光を照射・露光し、感光せずに硬化しないまま基板上に残ったレジストのみを現像液で除去することによって現像する。これらの現像されたレジストパターンは、水洗、乾燥した後、基板とレジストとの密着性を向上させるためにポストベーク処理が施される。さらに、（Ｃ）エッチング処理工程では、前工程で形成したレジストパターンをマスクとして、電極材料薄膜をエッチング処理液により除去する。レジストはこのエッチング処理液に対して耐性を有するため、電極材料薄膜のレジストパターンに被覆されていない部分のみが除去され、ガラス基板が剥き出しになる。水洗、乾燥後に、（Ｄ）レジスト剥離工程では、前工程で残されたレジストパターンがレジスト剥離液により除去され、水洗、乾燥処理が行われる。これにより、ガラス基板上には所望の電極材料のパターンのみが形成される。
【０００４】
従来、このフォトリソグラフィ法における現像処理工程、エッチング処理工程およびレジスト剥離工程では、基板上の被処理物を除去するために処理液を噴出するウェット処理が施されている。このウェット処理は、例えば特許文献１に示すようなウェット装置によって行われている。すなわちこの装置では、被処理物に被覆された基板を搬送機構上に載置し、基板が搬送されると同時に、被処理物が被覆されている被処理面側に向けて上から処理液が噴出され、被処理物が除去される。この時、この処理液は省資源化の観点から一度使用した処理液をフィルタリングによりパーティクルを除去して再利用されるという構成が採られている。
【０００５】
また、上述の特許文献１に示されたウェット装置の他にも、例えば特許文献２に示すウェット装置が知られている。すなわち、この装置では、被処理物に被覆された基板を搬送機構上に載置して、この基板が搬送されると同時に、被処理面側に向けて上から処理液が噴出され、被処理面とは反対側の反処理面側に向けても処理液が噴出される。この時、特許文献１に示すウェット処理装置と同様に、一度使用した処理液はフィルタリングによりパーティクルを除去して再利用されるという構成を採る。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１８２５１８号公報
【特許文献２】特開平１０−７９３７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に示すようなウェット処理装置では、被処理面とは反対側の反処理面に処理液が回り込み易く、また、再利用された処理液には被処理物が溶解しており、このため、ウェット処理の際に反処理面側に被処理物が再析出・付着してしまう等の問題が一例として挙げられる。
【０００８】
また、特許文献２に示すウェット処理装置の場合、基板に対して上下両方向から再使用の処理液が噴出されるため、反処理面に被処理物が再析出・付着してしまうことが軽減されるが、反処理面側に噴出する処理液にも再使用の処理液を用いるため、反処理面にはどうしても被処理物が再析出・付着してしまう問題が一例として挙げられる。
【０００９】
このようにウェット処理の過程において、一度基板の反処理面に再析出・付着した被処理物は、いったん乾燥されて固化してしまうと、除去することが困難である。プラズマディスプレイパネルなどのディスプレイパネルを製造する場合、これらの反処理面に被処理物が再析出・付着した汚れは修正の対象となり、このため製造ラインの稼働率が低下してしまう。汚れの程度によっては、基板自体が不良品となり、歩留まりが低下してしまう問題がある。また、反処理面が汚れた基板が次の工程に流れていくことにより、次工程の装置を汚染してしまい、装置寿命が低下してしまう問題がある。
【００１０】
ここで、本発明の目的は、基板の反処理面に被処理物を再析出・付着させずにウェット処理が行えるウェット装置、ディスプレイパネルの製造装置およびウェット処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１に記載された本発明のウェット装置は、基板上に形成された被処理物に対して、前記基板上から除去すべき部分の被処理物を除去させる第１処理液を前記基板の被処理面に供給するウェット装置において、使用済の前記第１処理液を回収して再び当該第1処理液として再使用する第１処理液再使用手段と、前記基板の前記被処理物が形成された被処理面とは反対側の面である反処理面に対して、未使用である第２処理液を吹きかける第２処理液噴出手段と、を有することを特徴とする。
【００１２】
請求項６に記載された本発明のディスプレイパネル製造装置は、請求項１から請求項５のいずれかに記載のウェット装置を備えたディスプレイパネル製造装置であって、前記ウェット装置は、ディスプレイパネルの基板上に電極パターンを形成する際に用いられる
ことを特徴とする
【００１３】
請求項７に記載された本発明のウェット処理方法は、基板上に形成された被処理物に対して第１処理液を供給し、前記基板上から除去すべき部分の被処理物を除去するウェット処理方法において、使用済の前記第1処理液を回収して再び当該第1処理液として再使用するとともに、前記基板の前記被処理物が形成された被処理面とは反対側の面である反処理面に対して、未使用である第２処理液を吹きかける、ことを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
〔現像処理装置１の構成〕
以下、本発明の一実施形態であるウェット処理装置を図面に基づいて説明する。このウェット処理装置は、フォトリソグラフィ法の現像処理工程における現像装置として使用されるものである。図１は、本実施形態の現像処理装置１の概略構成図が示されている。図２は、前記実施形態の現像処理装置１の要部を構成する現像装置２０の概略構成図である。図３は、前記現像装置２０の一部を基板の進行方向から見た場合の概略構成図である。なお、図１および図２とも現像装置２０が示されているが、図１では図２に示す現像装置２０の一部が省略されて示されている。図１において、本実施形態の現像処理装置１は、フォトリソグラフィ法における現像処理を行う装置であり、処理工程の順に露光装置１０、現像装置２０および水洗装置３０が連続的に配置されている。露光装置１０の前工程側には、ガラス基板に電極材料薄膜およびレジスト層を形成する装置である薄膜形成処理装置が配置され、水洗装置３０の後工程側には、エッチング処理装置およびレジスト剥離装置が順に配置されている。
【００１５】
〔露光装置１０の構成〕
露光装置１０は、前処理工程でガラス基板上に電極材料層およびレジスト層が順に形成されたワーク１００に、その電極材料層およびレジスト層が形成された処理面に所望のパターンの紫外光を照射・露光し、所定の部位のレジスト層を硬化させる装置である。この露光装置１０は装置本体である処理容器１１を備え、その処理容器１１の内部には搬送機構１２および露光機構１３が設けられている。処理容器１１は、ワーク１００が搬入される部位に搬入窓１１０が形成され、ワーク１００が搬出される部位に搬出窓１１１が形成されている。これら搬入窓１１０および搬出窓１１１は、露光処理が施されている間は閉じる機構を有している。
【００１６】
搬送機構１２は、複数の搬送ロール１２０、図示しないベルトおよび図示しないモータを備えている。これら複数の搬送ロール１２０は、水平面において図１中のＸ方向と直交する方向に対して平行に所定の間隔で配置され、これら搬送ロール１２０によって基板をＸ方向に搬送する搬送路が形成される。この搬送路は搬入窓１１０および搬出窓１１１を貫通してＸ方向に沿って水平に延びている。複数の搬送ロール１２０のそれぞれの一端は図示しないベルトに連結され、さらにこのベルトは図示しないモータに連結されており、また、搬送ロール１２０のもう一端はそれぞれ図示しない軸受に連結されている。このため、それぞれの搬送ロール１２０は、モータの駆動力がベルトに伝わることによって一方向に連動して回転運動する。露光機構１３は、所望のパターンに対応した露光マスク（図示しない）を有しており、この露光マスクを介して所望のパターンの露光が行える。なお、この露光の条件は、使用するレジストの種類によって異なる。
【００１７】
〔現像装置２０の構成〕
現像装置２０は、露光装置１０で露光処理が施されたワーク１００の被処理面側に現像液を噴出し、感光せず硬化しないまま残された未硬化レジストを溶解しワーク１００上から除去する装置である。図２において、この現像装置２０は、処理容器２１、第１処理液再使用機構２３、第２処理液噴出機構２４および搬送機構２２を有している。処理容器２１は、その内部は使用する現像液に対して耐性を示す材料で被覆されており、処理容器２１のワーク１００が搬入される部位には搬入窓２１０が形成され、ワーク１００が搬出される部位には搬出窓２１１が形成されている。これら搬入窓２１０および搬出窓２１１は、現像処理が施されている間は閉じる機構を有している。処理容器２１の底部２１２は、略漏斗型の構造となっており、使用された現像液を回収する。この底部２１２の最低部には、廃液口２１３が設けられている。
【００１８】
搬送機構２２は、露光装置１０における搬送機構１２と同様に、複数の搬送ロール２２０、図示しないベルトおよび図示しないモータを備えており、搬送ロール２２０上に載置されたワーク１００をＸ方向に搬送する。これら複数の搬送ロール２２０は、水平面において図１中のＸ方向と直交する方向に対して平行に所定の間隔で配置され、これら搬送ロール２２０によって基板をＸ方向に搬送する搬送路が形成される。この搬送路は、露光装置１０の搬送機構１２の搬送路と連続しており、搬入窓２１０および搬出窓２１１を貫通してＸ方向に沿って水平に延びている。複数の搬送ロール２２０のそれぞれの一端は図示しないベルトに連結され、さらにこのベルトは図示しないモータに連結されており、また、搬送ロール２２０のもう一端はそれぞれ図示しない軸受に連結されている。このため、それぞれの搬送ロール２２０は、モータの駆動力がベルトに伝わることによって一方向に連動して回転運動する。
【００１９】
第１処理液再使用機構２３は、第１処理液収納タンク２３０、フィルター２３１、第１処理液用ポンプ２３２、第１処理液供給配管２３３および噴出ノズル２３５から構成されており、現像液をワーク１００の被処理面側に噴出し、使用後の現像液を回収、濾過し、再び現像液としてワーク１００の被処理面側に噴出する機構である。ここで、この第１処理液再使用機構２３の噴出ノズル２３５から噴出される再使用の現像液を、第１処理液と定義する。
なお、使用される現像液（例えば、希炭酸ナトリウム水溶液）は、ワーク１００の被処理面に形成された未硬化レジスト（例えば、商品名NIT２００  日本合成化学社製）を溶解する性質を有するため、現像処理後の第１処理液中には、未硬化レジストの一部が溶解し、あるいはその一部は塊状体のまま溶液中に残存する。この塊状体の未硬化レジストをフィルター２３１で除去することによって、第１処理液が循環的に再使用されることとなる。
【００２０】
第１処理液収納タンク２３０は、処理容器２１の下方において、処理容器２１の廃液口２１３と連結されており、使用後の第１処理液は、処理容器２１の底部２１２によって回収された後、廃液口２１３から流出して第１処理液収納タンク２３０に収納される。フィルター２３１の片側は第１処理液収納タンク２３０に連結され、もう一方側は第１処理液用ポンプ２３２に連結されている。使用後の第１処理液中に残存した未硬化レジストの塊状体は、このフィルター２３１により除去される。なお、このフィルター２３１は、第１処理液収納タンク２３０の内部もしくは外部のいずれに設けられても構わない。第１処理液用ポンプ２３２は、処理容器２１の外部に設けられ、その吸引側はフィルター２３１に連結され、その吐出側は第１処理液供給配管２３３に連結されている。この第１処理液用ポンプ２３２により、第１処理液収納タンク２３０内に収納された使用後の第１処理液は、フィルター２３１を通過して第１処理液として使用可能な状態となり、図２中のP１方向に供給される。
【００２１】
第１処理液供給配管２３３は、用いる現像液に対して耐性を示す材料からなるパイプであり、その一端側は処理容器２１外部において第１処理液用ポンプ２３２に連結されており、もう一端側は処理容器２１内部の上側において３列のパイプ２３４に分岐されている。図２および図３において、この分岐された３列のパイプ２３４はそれぞれ、処理容器２１内部において同一水平面上でＸ方向に沿って平行に延びており、その中央の列のパイプ２３４Ａは、ワーク１００の幅方向の中心上を通るように配置され、他の２列のパイプ２３４Ｂは、この中心となるパイプ２３４Ａの両側にそれぞれ所定の間隔をおいて配置されている。複数個の噴出ノズル２３５は、３列のパイプ２３４のそれぞれに、Ｘ方向に沿って所定の間隔でワーク１００の被処理面側に対向するように形成されている。第１処理液は、これら噴出ノズル２３５からワーク１００の被処理面側に向かってシャワー状に噴出され、それぞれ隣り合うシャワーは互いにオーバーラップする。噴出された第１処理液は、上述のように未硬化レジストをワーク１００上から除去した後、処理容器２１の底部２１２によって回収され、フィルター２３１によって第１処理液内の未硬化レジストの塊状体が取り除かれ、再び第１処理液として使用される。
【００２２】
第２処理液噴出機構２４は、第２処理液収納タンク２４０、第２処理液用ポンプ２４１、第２処理液供給配管２４２および噴出ノズル２４４を備えており、未使用の現像液である第２処理液をワーク１００の被処理面と反対側の反処理面に向かって噴出する機構である。
【００２３】
第２処理液収納タンク２４０は、未使用の現像液である第２処理液を収納しておくものであり、処理容器２１の外部に設けられている。第２処理液用ポンプ２４１は、処理容器２１の外部に設けられ、その吸引側は第２処理液収納タンク２４０に連結され、吐出側は第２処理液供給配管２４２に連結されている。この第２処理液用ポンプ２４１により、第２処理液収納タンク２４０内に収納された第２処理液は、図２中のP２方向に供給される。
【００２４】
第２処理液供給配管２４２は、第１処理液供給配管２３３と同様に、用いる現像液に対して耐性を示す材料からなるパイプであり、その一端側は処理容器２１外部において第２処理液用ポンプ２４１に連結されており、もう一端側は処理容器２１内部の搬送ロール２２０よりも下側において、３列のパイプ２４３に分岐されている。図２および図３において、この分岐された３列のパイプ２４３はそれぞれ、処理容器２１内部において同一水平面上でＸ方向に沿って平行に延びており、そのうち１列のパイプ２４３Ａは、ワーク１００の幅方向の中心上を通るように配置され、他の２列のパイプ２４３Ｂは、この中心となるパイプ２４３Ａの両側にそれぞれ所定の間隔をおいて配置されている。中央のパイプ２４３Ａには、複数個の噴出ノズル２４４ＡがＸ方向に沿って所定の間隔でワーク１００の反処理面側に対向するように形成されている。また、中央のパイプ２４３Ａを挟んで両側２列のパイプ２４３Ｂには、複数個の噴出ノズル２４４Ｂが、Ｘ方向に沿って所定の間隔でワーク１００の反処理面に対して傾いて取り付けられている。これら噴出ノズル２４４Ｂの傾きは、ワーク１００のＸ方向に平行する辺よりもワーク１００の外側に向けられており、これらの傾きはワーク１００のサイズに合わせて適宜調整できる。なお、これら噴出ノズル２４４Ａ、２４４Ｂは、搬送ロール２２０と干渉しない位置に配置される。このため、噴出ノズル２４４からシャワー状に噴出された第２処理液は、それぞれ隣り合うシャワーどうしがオーバーラップしながら、搬送ロール２２０の間を通過してワーク１００の反処理面上に到達し、ワーク１００の上面から反処理面に回り込んで来る第１処理液をワーク１００の外側に押し出す。
【００２５】
噴出ノズル２４４から噴出された第２処理液は、現像処理の過程において使用後の第１処理液と混合され、処理容器２１の底部２１２によって回収され、第１処理液収納タンク２３０に収納され、再び第１処理液として使用される。すなわち、処理容器２１の底部２１２は、使用後の第１処理液および使用後の第二処理液を回収する手段となり、また、第１処理液再使用機構２３は、使用後の第２処理液を再使用する第２処理液再利用手段としての機能を兼ね備えている。
【００２６】
〔水洗装置３０の構成〕
水洗装置３０は、現像処理工程において現像液および未硬化レジストの塊状体が付着したワーク１００を水洗する装置であり、処理容器３１、水洗機構３３および搬送機構３２を備えている。処理容器３１には、ワーク１００が出入りする部位に搬入窓３１０および搬出窓３１１が形成されており、これら搬入窓３１０、搬出窓３１１は、水洗処理の間は閉じる機構を有している。
【００２７】
搬送機構３２は、搬送機構１２および搬送機構２２と同様に、複数の搬送ロール２２０、図示しないベルトおよび図示しないモータを備えており、搬送ロール３２０上に載置されたワーク１００をＸ方向に搬送する。これら複数の搬送ロール３２０は、水平面において図１中のＸ方向と直交する方向に対して平行に所定の間隔で配置され、これら搬送ロール３２０によって基板をＸ方向に搬送する搬送路が形成される。この搬送路は、露光装置１０の搬送機構１２の搬送路および現像装置２０の搬送機構２２の搬送路と連続しており、搬入窓３１０および搬出窓３１１を貫通してＸ方向に沿って水平に延びている。複数の搬送ロール３２０のそれぞれの一端は図示しないベルトに連結され、さらにこのベルトは図示しないモータに連結されており、また、搬送ロール３２０のもう一端はそれぞれ図示しない軸受に連結されている。このため、それぞれの搬送ロール３２０は、モータの駆動力がベルトに伝わることによって一方向に連動して回転運動する。水洗機構３３からは、ワーク１００に向かって洗浄用水が噴出される。
【００２８】
〔現像処理動作〕
次に、前記現像処理装置１による現像処理動作について図面に基づいて説明する。ここでは、プラズマディスプレイパネルの基板上にＡｌの電極パターン（例えばアドレス電極）を形成する場合について説明する。まず、（Ａ）薄膜形成工程において、ガラス基板上にＡｌ電極薄膜をスパッタリングなどの方法により形成し、その上にレジスト（例えば商品名NIT２００  日本合成化学社製）層を設け、ワーク１００を作製する。
【００２９】
上述の薄膜形成工程が終わると、作業は（Ｂ）現像処理工程の露光処理工程へと移行する。図１に示す露光装置１０おいて、ワーク１００が搬送ロール１２０上に水平に載置され搬入窓１１０から処理容器１１内に供給されると、搬入窓１１０が閉じる。ワーク１００が所定の露光位置に配置されると、露光機構１３は、所望のパターンに対応した露光マスクを介して、ワーク１００の被処理面に対して紫外光を照射する。紫外光が照射されたワーク１００上のレジストは硬化し、紫外光が未照射の部位のレジストは硬化せず、この未硬化のレジストが現像処理により除去されることになる。露光処理が終了すると搬出窓１１１が開き、ワーク１００は、搬送機構１２により現像装置２０へと搬送される。
【００３０】
次に、ワーク１００は、露光装置１０の搬送ロール１２０から現像装置２０の搬送ロール２２０に移動され、現像装置２０の搬入窓２１０から処理容器２１内に取り込まれる。ワーク１００が処理容器２１内に取り込まれると搬入窓２１０が閉じ、ワーク１００への現像処理が可能な状態となる。そして、第１処理液再使用機構２３、第２処理液噴出機構２４および搬送機構２２が同時に稼動することによって、現像処理が開始される。
【００３１】
搬送機構２２において、ワーク１００への現像処理が可能な状態になると、搬送機構２２はワーク１００を搬送ロール２２０に載置した状態でＸ方向に移動する。この間、ワーク１００の被処理面側には第１処理液が噴出され、ワーク１００の反処理面側には第２処理液が噴出される。このため、ワーク１００の反処理面に使用後の第１処理液が回り込むことなく、ワーク１００上から未硬化レジストが取り除かれる。
【００３２】
第１処理液再使用機構２３において、ワーク１００への現像処理が可能な状態になると、第１処理液用ポンプ２３２が起動し、第１処理液収納タンク２３０に収納された現像液（例えば希炭酸ナトリウム溶液）は、フィルター２３１を透過してからＰ１方向へと運ばれる。第１処理液用ポンプ２３２によりＰ１方向に運ばれた第１処理液は、第１処理液供給配管２３３を通過して処理容器２１内に到達すると、３本の分岐したパイプ２３４にそれぞれ均等に分割され、複数の噴出ノズル２３５からワーク１００の処理面側に向かってそれぞれ一斉に噴出される。ワーク１００上の未硬化レジストは、噴出された第１処理液中に溶解し、またその一部は塊状体となってワーク１００から剥離される。なお、隣り合う噴出ノズル２３５からそれぞれ噴出された第１処理液のシャワーは、互いにオーバーラップするため、ワーク１００を漏れなく現像処理することができる。未硬化レジストがワーク１００上から取り除かれると、ワーク１００上には露光により硬化したレジストパターンおよびＡｌ電極薄膜がガラス基板上に残される。そして、使用後の第１処理液は処理容器２１の底部２１２によって回収され、廃液口２１３から排出される。廃液口２１３より排出された使用後の第１処理液は、第１処理液収納タンク２３０に収納され、フィルター２３１によって未硬化レジストの塊状体が除去された後、再度第１処理液として現像処理に用いられる。
【００３３】
第２処理液噴出機構２４において、ワーク１００への現像処理が可能な状態になると、第２処理液用ポンプ２４１が起動し、第２処理液収納タンク２４０に収納された第２処理液がＰ２方向へと運ばれる。第２処理液は、第２処理液供給配管２４２を通過して処理容器２１内に到達すると、３本の分岐したパイプ２４３にそれぞれ均等に分割され、複数の噴出ノズル２４４からワーク１００の反処理面側に向かってそれぞれ一斉に噴出される。
【００３４】
図３において、第１処理液は、噴出ノズル２３５からワーク１００の処理面側に噴出されると、ワーク１００の処理面上から端部に向かって流れ、端部からワーク１００の外側に流れ落ちる。一方、第２処理液は、噴出ノズル２４４からワーク１００の反処理面側に向かって噴出される。噴出ノズル２４４Ａから噴出される第２処理液は、ワーク１００の移動に伴ってワーク１００の幅方向から回り込んでくる第１処理液を、ワーク１００の外側に押し出し、使用後の第１処理液が反処理面側に回りこむのを防ぐ。また、噴出ノズル２４４Ｂから噴出される第２処理液は、ワーク１００の長さ方向から回り込んでくる第１処理液をワーク１００の両外側に押し出し、使用後の第１処理液が反処理面側に回り込むのを防ぐ。なお、噴出ノズル２４４からワーク１００の反処理面側に向かって噴出された第２処理液のシャワーは、隣り合うシャワーどうしが互いにオーバーラップしているため、使用後の第１処理液が反処理面に回り込むのを確実に防ぐことができる。また、第１処理液と第２処理液の噴出量の比は、使用後の第１処理液が反処理面に回り込むのを防げる程度にその噴出量を調整でき、例えば、３対２から２対１の噴出量比であれば良い。
【００３５】
使用後の第２処理液は使用後の第１処理液と混合され、これら処理液は、処理容器２１の底部２１２によって回収され、廃液口２１３から排出される。廃液口２１３より排出された使用後の第１処理液および第２処理液は、第１処理液収納タンク２３０に収納され、フィルター２３１によって未硬化レジストの塊状体が除去された後、再度第１処理液として現像処理に用いられる。つまり、使用後の第２処理液も再度、第１処理液として循環して再使用される。
【００３６】
未硬化レジストが完全に除去されると、第１処理液再使用機構２３、第２処理液噴出機構２４が停止することにより、現像処理が終了する。この後、搬出窓２１１が開き、搬送機構２２によってワーク１００が処理容器２１の外に搬出され、水洗装置３０へと搬送される。
【００３７】
現像処理後のワーク１００は、現像装置２０の搬送ロール２２０から水洗装置３０の搬送ロール３２０に移動され、搬入窓３１０から処理容器３１内に取り込まれると、搬入窓３１０が閉じる。ワーク１００への水洗処理が可能な状態になると、搬送機構３２によってワーク１００が移動され、同時に水洗機構３３から洗浄用水が噴出される。このため、現像処理においてワーク１００に付着した現像液などが、十分に洗浄される。ワーク１００の洗浄後、搬出窓３１１が開き、ワーク１００は搬送機構３２によって処理容器３１の外へと搬出される。
【００３８】
この後、次工程である（Ｃ）エッチング処理工程において、エッチング処理液（例えば混酸／ＨＮＯ3＋Ｈ3ＰＯ4＋ＣＨ3ＣＯＯＨ）によってレジストに被覆されていないＡｌ電極薄膜が除去される。さらに、（Ｄ）レジスト剥離工程において、レジスト剥離液（例えばＮａＯＨ）によって硬化レジストが剥離され、ガラス基板上にＡｌの電極パターンのみが残される。
【００３９】
〔作用効果〕
本実施形態の現像処理装置１によれば、以上の構成より次に挙げる作用効果が期待できる。
【００４０】
（１）現像装置２０において、現像処理の間、第２処理液噴出機構２４によってワーク１００の反処理面側に第２処理液を噴出するため、ワーク１００の被処理面側に噴出された第１処理液がワーク１００の端部から反処理面に回りこむことを防げる。これにより、ワーク１００の反処理面に、現像液中に溶解したレジストが再析出・付着する問題が解消される。したがって、ディスプレイパネル製造ラインの稼働率が低下することもなく、歩留まりが低下することもない。また、現像処理後のワーク１００が次の工程に搬送されても、次工程の装置を汚染し装置寿命を低下させることはない。
【００４１】
（２）現像装置２０において、第２処理液には、再使用した現像液を使用するのではなく、未使用の現像液を用いるため、ワーク１００の反処理面に現像液中に溶解した未硬化レジストが再析出・付着することがない。
【００４２】
（３）本実施形態の現像処理装置１では、第１処理液再使用機構２３によって、第１処理液を循環して再使用するために、省資源化が図れる。また、第２処理液においても同様に、第１処理液再使用機構２３によって、第１処理液として再使用されるため、省資源化が図れる。
【００４３】
（４）第１処理液再使用機構２３は、第２処理液噴出機構２４より噴出された第２処理液を回収、再使用し、第２処理液再使用機構としての機能を兼ね備えている。このため、現像装置２０の構造は単純であり、従来の現像装置に第２処理液噴出機構２４を設置すれば、従来の現像装置においても本実施形態と同様の作用効果が期待できる。
【００４４】
（５）本実施形態の現像処理装置１では、ワーク１００は、搬送機構２２によってＸ方向に移動され、この間、ワーク１００の被処理面側には第１処理液が噴出されるとともにワーク１００の反処理面側には第２処理液が噴出される。第１処理液および第２処理液がシャワー状に噴出された空間をワーク１００が移動することにより、ワーク１００上から未硬化レジストを十分に除去することができ、また、ワーク１００の反処理面に使用後の第１処理液が回り込むこともない。
【００４５】
（６）第２処理液噴出機構における複数の噴出ノズル２４４において、中央のパイプ２４３Ａに取り付けられた噴出ノズル２４４Ａは、ワーク１００の反処理面側に対向して形成されており、また、中央のパイプ２４３Ａを挟んで両側２列のパイプ２４３Ｂに取り付けられた複数個の噴出ノズル２４４Ｂは、ワーク１００のＸ方向に平行する辺よりもワーク１００の外側に向けられて形成されている。このため、噴出ノズル２４４Ａから噴出される第２処理液は、ワーク１００の移動に伴ってワーク１００の幅方向から回り込んでくる第１処理液を、ワーク１００の外側に押し出し、使用後の第１処理液がワーク１００の反処理面に回りこむのを防ぐことができる。また、噴出ノズル２４４Ｂから噴出される第２処理液は、ワーク１００の長さ方向から回り込んでくる第１処理液をワーク１００の両外側に押し出し、使用後の第１処理液がワーク１００の反処理面に回り込むのを防ぐことができる。
【００４６】
（７）第１処理液再使用機構２３において、複数の噴出ノズル２３５からそれぞれ噴出された第１処理液のシャワーは、隣り合うシャワーどうしが互いにオーバーラップするため、ワーク１００を漏れなく現像処理することができる。また、第２処理液噴出機構２４においても同様に、噴出ノズル２４４からワーク１００の反処理面側に向かって噴出された第２処理液のシャワーは、隣り合うシャワーどうしが互いにオーバーラップしているため、使用後の第１処理液が反処理面に回り込むのを確実に防ぐことができる。
【００４７】
（８）第２処理液噴出機構における複数の噴出ノズル２４４において、中央のパイプ２４３Ａを挟んで両側２列のパイプ２４３Ｂに取り付けられた複数個の噴出ノズル２４４Ｂは、その傾きを自在に変更できるため、処理するワーク１００のサイズに合わせてノズル２４４Ｂの傾きを適宜調整することによって、様々なサイズのワーク１００に対して現像処理を行うことができる。
【００４８】
（９）本実施形態の現像処理装置１において、露光装置１０の搬送ロール１２０、現像装置２０の搬送ロール２２０および水洗装置３０の搬送ロール３２０は、同一水平面上において連続して設置されている。このため、作業効率が向上され、ディスプレイパネル製造の連続操業が可能となる。
【００４９】
〔実施形態の変形〕
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態ではウェット装置をフォトリソグラフィ法における現像処理装置として用いたが、本発明ではこれに限らず、基板上に形成された被処理物のうち除去すべき被処理物を薬液を使って除去する装置であれば構わない。
例えば、本発明をフォトリソグラフィ法におけるエッチング処理装置に用いた場合、ワーク１００の上面から再使用のエッチング処理液を噴射し、裏面に未使用のエッチング処理液を噴出する以外は前記実施形態と同様の構成である。
また、本発明をフォトリソグラフィ法におけるレジスト剥離装置に用いた場合、ワーク１００の上面から再使用のレジスト剥離液を噴射し、裏面に未使用のレジスト剥離液を噴出する以外は前記実施形態と同様の構成である。
【００５０】
本実施形態で製造できるディスプレイパネルはプラズマディスプレイパネルに限らず、本実施形態は、液晶ディスプレイパネル、ＬＥＤ（Light  Emitting  Diode）ディスプレイパネルなどのディスプレイパネルも製造でき、ディスプレイパネルのサイズの大小を問わず、基板上に電極のパターンを形成するタイプのディスプレイパネルであれば製造可能である。また、前記実施形態ではプラズマディスプレイパネルのＡｌの電極パターンのみについて説明したが、これに限らず、フォトリソグラフィ法で形成できるパターンであればいずれのパターンでも構わない。例えば、プラズマディスプレイパネルの透明電極パターン、バス電極パターンや隔壁（リブ）パターンなどが挙げられる。
【００５１】
また、本実施形態の現像装置２０では、第１処理液は噴出ノズル２３５からワーク１００に向けてシャワー状に噴出されるが、これに限らず、十分に現像処理が行える程度にワーク１００に現像液が供給される構成であれば良い。例えば、パイプ２３４に円形の吐出孔を設け、現像液を吐出する構成などが挙げられる。
【００５２】
本実施形態では、噴出ノズル２４４Ｂの傾きは、ワーク１００のサイズに合わせて適宜調整できる構成であるが、噴出ノズル２４４の傾きが固定された構成であっても構わない。また、噴出ノズル２３５および噴出ノズル２４４の位置または個数もそれぞれ任意であり、本発明の効果が得られるのであれば、適宜変更しても構わない。第１処理液再使用機構における分岐したパイプ２３４および第２処理液噴出機構２４における分岐したパイプ２４３においても、本実施形態ではパイプの本数を３本ずつとしたが、これに限らず、それぞれのパイプの本数は任意であり何本でも構わない。また、これらパイプの配置も任意である。
【００５３】
また、前記実施形態では、第２処理液供給配管２４２において、分岐された３列のパイプ２４３のうち中央１列のパイプ２４３Ａは、ワーク１００の幅方向の中心上を通るように配置され、他の２列のパイプ２４３Ｂは、この中心となるパイプ２４３Ａの両側にそれぞれ所定の間隔をおいて配置されており、中央のパイプ２４３Ａには、複数個の噴出ノズル２４４ＡがＸ方向に沿って所定の間隔でワーク１００の反処理面側に対向するように形成され、また、中央のパイプ２４３Ａを挟んで両側２列のパイプ２４３Ｂには、複数個の噴出ノズル２４４Ｂが、ワーク１００のＸ方向に平行する辺よりもワーク１００の外側に向けられて形成されている構成としたが、本発明は、この構成に限らない。
例えば、第２処理液供給配管２４２は、そのパイプ２４３が分岐しておらず１本であって、このパイプに複数個の噴出ノズル２４３がＸ方向に沿って所定の間隔で設けられる構造でもよい。この場合、前記実施形態の同様の効果を奏するため、これらの噴出ノズル２４３のうち一部のノズル先端をワーク１００のＸ方向に平行する一方の片側の辺のよりもワーク１００の外側に向けて形成し、残りのノズル先端をワーク１００のＸ方向に平行する他方の片側の辺のよりもワーク１００の外側に向けて形成するものでもよく、さらには、これらの噴出ノズル２４３のノズル先端の向きを交互に変更するものでもよい。
これにより、第２処理液供給配管２４２のパイプ２４３を分岐させずに、１本のパイプ２４３でワーク１００の反処理面側へ回り込む第１処理液をワーク１００の外側へ押し出すことができる。
【００５４】
本実施形態の露光装置１０の搬送機構１２、現像装置２０の搬送機構２２および水洗装置３０の搬送機構３２においては、基板の搬送手段として搬送ロールが用いられているが、基板を搬送し、第２処理液の噴出を阻害しない構成であれば搬送ロールに限らない。例えば、幅の狭い搬送ベルトを複数利用して搬送する構成でも良い。また、現像装置２０の搬送機構２２および水洗装置３０の搬送機構３２においては、Ｘ方向のみに基板を移動する構成であるが、これに限らず、基板をＸ方向に往復移動する構成であっても良い。これによって、短い搬送ラインで現像処理および水洗処理を確実に行うことができるの。すなわち製造装置の小型化が図れる。
【００５５】
〔実施形態の作用効果〕
本発明の現像処理装置１は、ワーク１００上の未硬化レジストを除去させる第1処理液をワーク１００の被処理面側に噴出し、使用後の第１処理液を回収して再び第1処理液として再使用する第1処理液再使用機構２３と、被処理面とは反対側の反処理面に対して、未使用である第２処理液を吹きかける第２処理液噴出機構２４とを有することを特徴とするため、ワーク１００の反処理面に使用後の第１処理液が回り込むことを防ぎ、ワーク１００の反処理面にレジストを再析出・付着させずに現像処理が行える。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本実施形態である現像処理装置の概略構成図。
【図２】前記現像処理装置の要部を構成する現像装置の概略構成図。
【図３】前記現像装置の一部を基板の進行方向から見た場合の概略構成図。
【符号の説明】
【００５７】
１   現像処理装置
１０ 露光装置
２０ 現像装置
２１ 処理容器
２２ 搬送機構
２３ 第１処理液再使用機構
２４ 第２処理液噴出機構
３０ 水洗装置
１００ ワーク
２２０ 搬送ロール
２３０ 第１処理液収納タンク
２３１ フィルター
２３２ 処理液用ポンプ
２３３ 第１処理液供給配管
２３５ 噴出ノズル
２４０ 第１処理液収納タンク
２４１ 第１処理液用ポンプ
２４２ 処理液供給配管
２４４ 噴出ノズル
Ｘ   基板の搬送方向
【図１】
2006032802.tif 000003
【図２】
2006032802.tif 000004
【図３】
2006032802.tif 000005