(57)【要約】【課題】電子写真感光体の構成材料として用いた場合に、機械的強度と耐汚染物付着性との双方を電子写真感光体に付与することが可能なコーティング剤組成物を提供すること。【解決手段】本発明のコーティング剤組成物は、硬化膜を形成し得る光機能性有機化合物と、スルホン酸及び／又はその誘導体と、沸点２５０℃以下のアミンとを含有することを特徴とする。本発明のコーティング剤組成物を硬化させて電子写真感光体１の表面層７を形成することによって、機械的強度と耐汚染物付着性との双方を電子写真感光体１に付与することが可能となる。【選択図】図１
2006251771.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真感光体の構成材料として用いられるコーティング剤組成物であって、
硬化膜を形成し得る光機能性有機化合物と、
スルホン酸及び／又はその誘導体と、
沸点２５０℃以下のアミンと
を含有することを特徴とするコーティング剤組成物。
【請求項２】
前記スルホン酸及び／又はその誘導体の含有量と沸点２５０℃以下のアミンの含有量との比が、モル比で、１：０．５〜１：２であることを特徴とする、請求項１に記載のコーティング剤組成物。
【請求項３】
前記光機能性有機化合物が下記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）のうちのいずれかで表される構造を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載のコーティング剤組成物。
Ｆ［−（Ｘ１）ｎ−Ｒ１−Ｚ１Ｈ］ｍ      （Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基を、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、ｎは０又は１を、ｍは１〜４の整数を示す。］
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ］ｎ５    （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｚ２はアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｇはエポキシ基を示し、ｎ２、ｎ３及びｎ４はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｎ５は１〜４の整数を示す。］
Ｆ［−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａ］ｂ    （ＩＩＩ）
［式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｄは２価の基を示し、Ｒ３は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ａは１〜３の整数を示し、ｂは１〜４の整数を示す。］
【化１】
2006251771.tif 000082
［式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ７は１価の有機基を示し、ｍ２は０又は１を示し、ｎ６は１〜４の整数を示、Ｒ６とＲ７は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【化２】
2006251771.tif 000083
［式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｒ８は１価の有機基を示し、ｍ３は０又は１を示し、ｎ７は１〜４の整数を示す。］
【化３】
2006251771.tif 000084
［式（ＶＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｌはアルキレン基を示し、Ｒ９は１価の有機基を示し、ｎ８は１〜４の整数を示す。］
【請求項４】
フェノール樹脂を更に含有することを特徴とする、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載のコーティング剤組成物。
【請求項５】
硬化膜を形成し得る光機能性有機化合物と、スルホン酸及び／又はその誘導体と、沸点２５０℃以下のアミンとを含有するコーティング剤組成物の製造方法であって、
前記コーティング剤組成物を構成する材料のうち前記アミン以外の材料を混合する第１工程と、
前記第１工程で得られた混合物に前記アミンを添加して前記コーティング剤組成物を得る第２工程と
を備えることを特徴とするコーティング剤組成物の製造方法。
【請求項６】
硬化膜を形成し得る光機能性有機化合物と、スルホン酸及び／又はその誘導体と、沸点２５０℃以下のアミンとを含有するコーティング剤組成物の製造方法であって、
前記コーティング剤組成物を構成する材料のうち前記スルホン酸及び／又はその誘導体並びに前記アミン以外の材料を混合する第３工程と、
前記第１工程で得られた混合物に前記スルホン酸及び／又はその誘導体と前記アミンとを添加して前記コーティング剤組成物を得る第４工程と
を備えることを特徴とするコーティング剤組成物の製造方法。
【請求項７】
前記コーティング剤組成物がフェノール樹脂を更に含有することを特徴とする、請求項５又は６に記載のコーティング剤組成物の製造方法。
【請求項８】
導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層とを備え、
前記感光層が、前記導電性基体から遠い側に、請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載のコーティング剤組成物の硬化により得られる表面層を備えることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項９】
請求項８に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、
帯電した前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、
前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写装置と
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置、露光により形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、及び前記電子写真感光体上に残存するトナーを除去するクリーニング装置から選ばれる少なくとも１種と
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子写真感光体の構成材料として用いられるコーティング剤組成物、並びにそのコーティング剤組成物を用いた電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、定着手段を有する、いわゆるゼログラフィー方式の画像形成装置においては、各部材、システムの技術進展により一層の高速化、ロングライフ化が図られている。これに伴い、各サブシステムの高速対応性、高信頼性に対する要求が従来にまして高くなっている。特に、画像書き込みに使用される電子写真感光体は、電子写真感光体をクリーニングするクリーニング部材等との摺動によって他の部材に比べてストレスを多く受けやすいため、高速対応性、高信頼性の観点からは、画像欠陥の原因となる感光体の傷や磨耗の発生を抑制することが望ましい。
【０００３】
電子写真感光体の長寿命化を図る手段としては、機械的強度の高い材料を用いて電子写真感光体の感光層の表面をコーティングする方法があり、かかる表面層の構成材料として様々なコーティング剤が知られている。例えば、下記特許文献１には特定の光機能性有機ケイ素化合物を含有する溶液を固体触媒と接触させて反応を行った後、固体触媒を分離して得られる光機能性コーティング液が、また、下記特許文献２には特定の光機能性有機ケイ素化合物と有機金属化合物と多座配位子とを含有するケイ素含有コーティング剤が、それぞれ開示されている。
【特許文献１】特開２００１−８１４０１号公報
【特許文献２】特開２００１−３０２９７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１、２に開示されたコーティング剤を用いて表面層が設けられた電子写真感光体は、熱的、機械的強度に優れるものであり、表面層の摩耗等による劣化を著しく減少させることができるものである。しかしながら、これらの電子写真感光体の場合、帯電工程において発生する放電生成物などの汚染物に対する付着のしにくさ及び除去のしやすさ（以下、付着のしにくさ及び除去のしにくさを総括的に「耐汚染物付着性」という）が不十分となりやすい。なお、電子写真感光体の機械的強度がそれほど高くなければ、放電生成物が付着しても電子写真感光体の磨耗に伴い表面から除去されるが、上記特許文献１、２に開示されたコーティング剤を用いて表面層が設けられた電子写真感光体の場合は、機械的強度が高く、磨耗しにくいが故に、表面に付着した放電生成物が除去されにくく、放電生成物の吸湿などによる画像流れを生じやすい。
【０００５】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、電子写真感光体の構成材料として用いた場合に、機械的強度と耐汚染物付着性との双方を電子写真感光体に付与することが可能なコーティング剤組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、そのコーティング剤組成物を用いて得られる電子写真感光体、並びにその電子写真感光体を備える画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は、電子写真感光体の構成材料として用いられるコーティング剤組成物であって、硬化膜を形成し得る光機能性有機化合物と、スルホン酸及
び／又はその誘導体と、沸点２５０℃以下のアミンとを含有することを特徴とするコーティング剤組成物を提供する。
【０００７】
本発明によれば、スルホン酸及び／又はその誘導体と、沸点２５０℃以下のアミンとをコーティング剤組成物に含有せしめることによって、良好な硬化膜を安定的に形成することができるようになる。そして、当該コーティング剤組成物の硬化膜を電子写真感光体の表面層とすることで、機械的強度と耐汚染物付着性の双方を十分に向上させることができるようになり、電子写真感光体の高信頼性及び長寿命化が実現可能となる。
【０００８】
更に、本発明のコーティング剤組成物は、それ自体の安定性に優れているため、製造工程におけるポットライフの長寿命化の点でも有効である。
【０００９】
本発明のコーティング剤組成物により上述の効果が得られる理由は必ずしも明確ではないが、本発明者らは以下のように推察する。すなわち、従来のコーティング剤組成物が電子写真感光体の構成材料として不十分である原因が、光機能性有機化合物等に由来する未反応の加水分解性基（水酸基など）が硬化膜中に残存してしまうことにあると考えられる。これに対して、本発明のコーティング剤組成物の場合は、スルホン酸及び／又はその誘導体並びに沸点２５０℃以下のアミンの存在下で光機能性有機化合物を硬化させることによって、硬化反応が十分に進行し、加水分解性基の残存量が十分に低減するため、良好な硬化膜を安定的に得ることができるものと考えられる。
【００１０】
また、本発明者らの検討によれば、本発明による上述の効果は、スルホン酸及び／又はその誘導体と沸点２５０℃以下のアミンとの併用によって初めて奏されるものである。なお、スルホン酸及び／又はその誘導体は単独で用いた場合であっても硬化触媒として機能し得るが、この場合には、得られる硬化膜の特性の低下又は不安定化、更には、コーティング剤組成物の寿命の低下などの不具合が生じる。
【００１１】
本発明のコーティング剤組成物に含まれる光機能性有機化合物としては、硬化膜を形成可能なものであれば特に制限されないが、下記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）のうちのいずれかで表される構造を有することが好ましい。かかる光機能性有機化合物を用いることによって、シロキサン結合の強固な三次元ネットワークの形成による有機−無機ハイブリッド膜を有効に得ることができ、機械的強度と耐汚染物付着性の双方をより高水準で達成することができるようになる。
Ｆ［−（Ｘ１）ｎ−Ｒ１−Ｚ１Ｈ］ｍ      （Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基を、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、ｎは０又は１を、ｍは１〜４の整数を示す。］
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ］ｎ５    （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｚ２はアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｇはエポキシ基を示し、ｎ２、ｎ３及びｎ４はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｎ５は１〜４の整数を示す。］
Ｆ［−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａ］ｂ    （ＩＩＩ）
［式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｄは２価の基を示し、Ｒ３は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ａは１〜３の整数を示し、ｂは１〜４の整数を示す。］
【００１２】
【化１】
2006251771.tif 000003
【００１３】
［式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ７は１価の有機基を示し、ｍ２は０又は１を示し、ｎ６は１〜４の整数を示、Ｒ６とＲ７は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【００１４】
【化２】
2006251771.tif 000004
【００１５】
［式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｒ８は１価の有機基を示し、ｍ３は０又は１を示し、ｎ７は１〜４の整数を示す。］
【００１６】
【化３】
2006251771.tif 000005
【００１７】
［式（ＶＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｌはアルキレン基を示し、Ｒ９は１価の有機基を示し、ｎ８は１〜４の整数を示す。］
また、本発明のコーティング剤組成物は、フェノール樹脂を更に含有することが好ましい。当該コーティング剤組成物にフェノール樹脂を含有せしめることで、当該コーティング剤組成物の硬化膜を電子写真感光体の表面層とした場合に、機械的強度と耐汚染物付着性の双方を一層高水準で達成することができるようになる。また、本発明のコーティング剤組成物がフェノール樹脂を含有する場合、光機能性有機化合物はフェノール樹脂と反応し得る反応性官能基を有する電荷輸送性物質であることが好ましい。
【００１８】
また、本発明は、硬化膜を形成し得る光機能性有機化合物と、スルホン酸及び／又はその誘導体と、沸点２５０℃以下のアミンとを含有するコーティング剤組成物の製造方法であって、コーティング剤組成物を構成する材料のうち上記アミン以外の材料を混合する第１工程と、第１工程で得られた混合物に上記アミンを添加してコーティング剤組成物を得る第２工程とを備えることを特徴とするコーティング剤組成物の製造方法（以下、便宜的に「第１の製造方法」という。）を提供する。
【００１９】
ここで、第１の製造方法における「コーティング剤組成物を構成する材料のうち上記アミン以外の材料」とは、硬化物を形成し得る光機能性有機化合物、スルホン酸及び／又はその誘導体、あるいは必要に応じて添加されるフェノール樹脂などの樹脂、溶媒などを意味する。
【００２０】
また、本発明は、硬化膜を形成し得る光機能性有機化合物と、スルホン酸及び／又はその誘導体と、沸点２５０℃以下のアミンとを含有するコーティング剤組成物の製造方法であって、コーティング剤組成物を構成する材料のうち上記スルホン酸及び／又はその誘導体並びに上記アミン以外の材料を混合する第３工程と、第３工程で得られた混合物に上記スルホン酸及び／又はその誘導体と上記アミンとを添加して前記コーティング剤組成物を得る第４工程とを備えることを特徴とするコーティング剤組成物の製造方法（以下、便宜的に「第２の製造方法」という。）を提供する。
【００２１】
ここで、第２の製造方法における「コーティング剤組成物を構成する材料のうちスルホン酸及び／又はその誘導体並びに上記アミン以外の材料」とは、硬化物を形成し得る光機能性有機化合物、あるいは必要に応じて添加されるフェノール樹脂などの樹脂、溶媒などを意味する。
【００２２】
上記本発明の第１及び第２の製造方法は、後述する本発明者らの知見に基づいてなされたものである。
【００２３】
すなわち、コーティング剤組成物を調製する際に、沸点２５０℃以下のアミンを他の構成材料と共に最初から混合すると、アミンの熱分解、揮発による損失、アミンのスルホン酸等からの離脱などにより、アミンのキャップ剤としての機能が損なわれ、コーティング剤組成物の硬化時に反応温度が十分に上昇しきらないうちに硬化反応が開始し、様々な硬化反応が起こって硬化物中に相不均一な部分が多数生じてしまう。そして、当該硬化物を電子写真感光体の機能層に適用すると、機能層中に電荷のトラップサイトが形成され、光劣化を引き起こすことになる。
【００２４】
そこで、上記第１の製造方法においては、先ず上記アミン以外の構成材料を混合した後、その混合物に上記アミンを添加することによって、キャップ剤としてのアミンがコーティング剤組成物中で有効に機能し、反応温度が十分に上昇してから硬化反応を開始させることができる。そのため、理想的な架橋反応が進行し、得られる硬化物は相均一であり且つトラップサイトが少ないものとなり、光劣化を十分に抑制することができるようになる。
【００２５】
また、上記第２の製造方法においては、先ず上記スルホン酸及び／又はその誘導体並びに上記アミン以外の構成材料を混合した後、その混合物に上記スルホン酸及び／又はその誘導体とアミンとを添加することによって、キャップ剤としてのアミンがコーティング剤組成物中で有効に機能し、反応温度が十分に上昇してから硬化反応を開始させることができる。そのため、理想的な架橋反応が進行し、得られる硬化物は相均一であり且つトラップサイトが少ないものとなり、光劣化を十分に抑制することができるようになる。
【００２６】
上記第１及び第２の製造方法においては、上述した理由により、コーティング剤組成物がフェノール樹脂を更に含有することが好ましい。
【００２７】
また、本発明は、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層とを備え、感光層が、導電性基体から遠い側に、上記本発明のコーティング剤組成物の硬化により得られる表面層を備えることを特徴とする電子写真感光体を提供する。
【００２８】
本発明の電子写真感光体は、上記本発明のコーティング剤組成物の硬化膜を表面層として備えるものであるため、感光層の機械的強度と耐汚染物付着性との双方に優れている。したがって、本発明の電子写真感光体を用いて画像形成を行うことで、帯電工程時に生じる放電生成物や転写工程後の残留トナーの付着を十分に防止し、高品質の画像を長期にわたって安定的に得ることができるようになる。
【００２９】
また、本発明は、上記本発明の電子写真感光体と、電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電した電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、トナー像を被転写体に転写する転写装置とを備えることを特徴とする画像形成装置を提供する。
【００３０】
また、本発明は、上記本発明の電子写真感光体と、電子写真感光体を帯電させる帯電装置、露光により形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、及び電子写真感光体上に残存するトナーを除去するクリーニング装置から選ばれる少なくとも１種とを備えることを特徴とするプロセスカートリッジを提供する。
【００３１】
上記本発明の画像形成装置及びプロセスカートリッジによれば、機械的強度及び付着防止性に優れる本発明の電子写真感光体を備えることで、帯電工程時に生じる放電生成物や転写工程後の残留トナーの電子写真感光体への付着を十分に防止し、高品質の画像を長期にわたって安定的に得ることができるようになる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明のコーティング剤組成物によれば、電子写真感光体の機械的強度と耐汚染物付着性との双方を十分に向上されることができるようになる。また、当該コーティング剤組成物を構成材料とする本発明の電子写真感光体、並びに当該電子写真感光体を備える画像形成装置及びプロセスカートリッジによれば、帯電工程時に生じる放電生成物や転写工程後の残留トナーの電子写真感光体への付着を十分に防止し、高品質の画像を長期にわたって安定的に得ることができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
（コーティング剤組成物）
本発明のコーティング剤組成物は、硬化膜を形成し得る光機能性有機化合物と、スルホン酸及び／又はその誘導体と、沸点２５０℃以下のアミンとを含有する。
【００３４】
本発明で用いられる光機能性有機化合物としては、硬化膜を形成し得るものであれば特に制限されないが、機械的強度及び安定性の点から、下記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）のうちのいずれかで表される構造を有する化合物が好ましい。
Ｆ［−（Ｘ１）ｎ−Ｒ１−Ｚ１Ｈ］ｍ      （Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基を、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、ｎは０又は１を、ｍは１〜４の整数を示す。］
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ］ｎ５    （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｚ２はアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｇはエポキシ基を示し、ｎ２、ｎ３及びｎ４はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｎ５は１〜４の整数を示す。］
Ｆ［−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａ］ｂ    （ＩＩＩ）
［式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｄは２価の基を示し、Ｒ３は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ａは１〜３の整数を示し、ｂは１〜４の整数を示す。］
【００３５】
【化４】
2006251771.tif 000006
【００３６】
［式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ７は１価の有機基を示し、ｍ２は０又は１を示し、ｎ６は１〜４の整数を示、Ｒ６とＲ７は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【００３７】
【化５】
2006251771.tif 000007
【００３８】
［式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｒ８は１価の有機基を示し、ｍ３は０又は１を示し、ｎ７は１〜４の整数を示す。］
【００３９】
【化６】
2006251771.tif 000008
【００４０】
［式（ＶＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｌはアルキレン基を示し、Ｒ９は１価の有機基を示し、ｎ８は１〜４の整数を示す。］
上記一般式（Ｉ）中、２価の基Ｄは、光電特性を付与するためのＦの部位と、３次元的な無機ガラス質ネットワークの構築に寄与する置換ケイ素基とを結びつける働きを担う２価の基である。また、２価の基Ｄは、堅い反面脆さも有する無機ガラス質ネットワークの部分に適度な可とう性を付与し、膜としての機械的強靱さを向上させる働きを担う有機基構造を表す。Ｄとして具体的には、−ＣαＨ２α−、−ＣβＨ２β−２−、−ＣγＨ２γ−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、αは１〜１５の整数を表し、βは２〜１５の整数を表し、γは３〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ６Ｈ４）−（Ｃ６Ｈ４）−、及び、これらの特性基を任意に組み合わせた構造を有する特性基、更にはこれらの特性基の構成原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。また、上記加水分解性基Ｑとしては、アルコキシ基が好ましく、炭素数１〜１５のアルコキシ基がより好ましい。
【００４１】
また、一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）中の有機基Ｆとしては、下記一般式（ＶＩＩ）で表される構造を有する有機基が好ましい。
【００４２】
【化７】
2006251771.tif 000009
【００４３】
一般式（ＩＶ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つＡｒ１〜Ａｒ５のうち２〜４個は一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）における下記一般式（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）、（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）で示される１価の有機基との結合手を有する。
−（Ｘ１）ｎ−Ｒ１−Ｚ１Ｈ    （ＶＩＩＩ）
［式（ＶＩＩＩ）中、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基を、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、ｎは０又は１を示す。］
−（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ２）ｎ３Ｇ    （ＩＸ）
［式（ＶＩＩＩ）中、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ２はアルキレン基を、Ｚ２は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、Ｇはエポキシ基を、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に０又は１を示す。］
−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３-ａ）Ｑａ    （Ｘ）
｛式（ＩＸ）中、Ｄは可とう性を有する２価の基を、Ｒ３は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ａは１〜３の整数を示す。｝
【００４４】
【化８】
2006251771.tif 000010
【００４５】
［式（ＸＩ）中、Ｔは２価の基を、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を、Ｒ７は１価の有機基を、ｍ２は０又は１を、それぞれ示す。但し、Ｒ６とＲ７は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【００４６】
【化９】
2006251771.tif 000011
【００４７】
［式（ＸＩＩ）中、Ｔは２価の基を、Ｒ８は１価の有機基を、ｍ３は０又は１を、それぞれ示す。］
【００４８】
【化１０】
2006251771.tif 000012
【００４９】
［式（ＸＩＩＩ）中、Ｌはアルキレン基を、Ｒ９は１価の有機基を、ｎ８は１〜４の整数を、それぞれ示す。］
一般式（ＶＩＩ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４で示される置換又は未置換のアリール基としては、具体的には、下記表１に示す一般式（ＶＩＩ−１）〜（ＶＩＩ−７）で表されるアリール基が好ましい。なお、一般式（ＶＩＩ−１）〜（ＶＩＩ−７）において、Ｒ１０は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基を、Ｒ１１〜Ｒ１３はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を、Ｘは一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）中の一般式（ＶＩＩＩ）〜（ＸＩＩＩ）で示される部位を示す。また、ｍ及びｓはそれぞれ独立に０又は１を、ｔは１〜３の整数を示す。
【００５０】
【表１】
2006251771.tif 000013
【００５１】
上記一般式（ＶＩＩ−７）で示されるアリール基におけるＡｒとしては、下記式（ＶＩＩ−８）又は（ＶＩＩ−９）で示されるアリール基が好ましい。なお、一般式（ＶＩＩ−８）及び（ＶＩＩ−９）において、Ｒ１４及びＲ１５はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を、Ｘは一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）中の一般式（ＶＩＩＩ）〜（ＸＩＩＩ）で示される部位を示す。また、ｔは１〜３の整数を示す。
【００５２】
【表２】
2006251771.tif 000014
【００５３】
また、上記式（ＶＩＩ−７）で示されるアリール基におけるＺとしては、下記式（ＶＩＩ−１０）〜（ＶＩＩ−１７）で示される２価の基が好ましい。なお、一般式（ＶＩＩ−１０）〜（ＶＩＩ−１７）において、Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を示す。また、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１〜１０の整数を、ｔは１〜３の整数を示す。
【００５４】
【表３】
2006251771.tif 000015
【００５５】
また、一般式（ＶＩＩ−１６）〜（ＶＩＩ−１７）中、Ｗは下記表４中の一般式（ＶＩＩ−１８）〜（ＶＩＩ−２６）で示される２価の基を示す。なお、一般式（ＶＩＩ−２５）中、ｕは０〜３の整数を示す。
【００５６】
【表４】
2006251771.tif 000016
【００５７】
また、上記一般式（ＶＩＩ）におけるＡｒ５の具体的構造としては、ｋ＝０のときは上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｍ＝１の構造が、ｋ＝１の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｍ＝０の構造が挙げられる。
一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、下記表５〜表１０に示す化合物を挙げることができる。下記表５〜表１０中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を示す。
【００５８】
【表５】
2006251771.tif 000017
【００５９】
【表６】
2006251771.tif 000018
【００６０】
【表７】
2006251771.tif 000019
【００６１】
【表８】
2006251771.tif 000020
【００６２】
【表９】
2006251771.tif 000021
【００６３】
【表１０】
2006251771.tif 000022
【００６４】
また、一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例としては、下記表１１〜２４に示す化合物が挙げられる。なお、下記表１１〜２４中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【００６５】
【表１１】
2006251771.tif 000023
【００６６】
【表１２】
2006251771.tif 000024
【００６７】
【表１３】
2006251771.tif 000025
【００６８】
【表１４】
2006251771.tif 000026
【００６９】
【表１５】
2006251771.tif 000027
【００７０】
【表１６】
2006251771.tif 000028
【００７１】
【表１７】
2006251771.tif 000029
【００７２】
【表１８】
2006251771.tif 000030
【００７３】
【表１９】
2006251771.tif 000031
【００７４】
【表２０】
2006251771.tif 000032
【００７５】
【表２１】
2006251771.tif 000033
【００７６】
【表２２】
2006251771.tif 000034
【００７７】
【表２３】
2006251771.tif 000035
【００７８】
【表２４】
2006251771.tif 000036
【００７９】
また、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、以下の表２５〜３２に示す化合物を挙げることができる。なお、表２４〜３１中に示した化合物はいずれも有機基Ｆとして一般式（ＶＩＩ）で表される構造を有するものであり、表２４〜３１中のＡｒ１〜Ａｒ５及びｋは一般式（ＶＩＩ）中のＡｒ１〜Ａｒ５及びｋを示している。また、表２４〜３１中のＳは一般式（ＩＩＩ）中の−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３-ａ）Ｑａ］を示している。また、表２４〜３１中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基をそれぞれ示している。
【００８０】
【表２５】
2006251771.tif 000037
【００８１】
【表２６】
2006251771.tif 000038
【００８２】
【表２７】
2006251771.tif 000039
【００８３】
【表２８】
2006251771.tif 000040
【００８４】
【表２９】
2006251771.tif 000041
【００８５】
【表３０】
2006251771.tif 000042
【００８６】
【表３１】
2006251771.tif 000043
【００８７】
【表３２】
2006251771.tif 000044
【００８８】
また、上記一般式（ＩＶ）で表される化合物の具体例としては、下記表３３〜４２に示す化合物を挙げることができる。なお、下記表３３〜４２中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【００８９】
【表３３】
2006251771.tif 000045
【００９０】
【表３４】
2006251771.tif 000046
【００９１】
【表３５】
2006251771.tif 000047
【００９２】
【表３６】
2006251771.tif 000048
【００９３】
【表３７】
2006251771.tif 000049
【００９４】
【表３８】
2006251771.tif 000050
【００９５】
【表３９】
2006251771.tif 000051
【００９６】
【表４０】
2006251771.tif 000052
【００９７】
【表４１】
2006251771.tif 000053
【００９８】
【表４２】
2006251771.tif 000054
【００９９】
また、上記一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例としては、下記表４３〜５１に示す化合物を挙げることができる。なお、下記表４３〜５１中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を示す。
【０１００】
【表４３】
2006251771.tif 000055
【０１０１】
【表４４】
2006251771.tif 000056
【０１０２】
【表４５】
2006251771.tif 000057
【０１０３】
【表４６】
2006251771.tif 000058
【０１０４】
【表４７】
2006251771.tif 000059
【０１０５】
【表４８】
2006251771.tif 000060
【０１０６】
【表４９】
2006251771.tif 000061
【０１０７】
【表５０】
2006251771.tif 000062
【０１０８】
【表５１】
2006251771.tif 000063
【０１０９】
また、上記一般式（ＶＩ）で表される化合物の具体例としては、下記表５２〜５５に示す化合物を挙げることができる。なお、下記表５２〜５５中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示す。
【０１１０】
【表５２】
2006251771.tif 000064
【０１１１】
【表５３】
2006251771.tif 000065
【０１１２】
【表５４】
2006251771.tif 000066
【０１１３】
【表５５】
2006251771.tif 000067
【０１１４】
また、本発明のコーティング剤組成物は、上記の光機能性有機化合物に加えて、スルホン酸及び／又はその誘導体、並びに沸点２５０℃以下のアミンを含有する。ここで、スルホン酸及び／又はその誘導体は光機能性有機化合物の硬化触媒として機能し、一方、沸点２５０℃以下のアミンはスルホン酸及び／又はその誘導体のブロック化剤として機能しているものと本発明者らは考える。
【０１１５】
スルホン酸としては、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−ＴＳＡ）、ジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）、ジノニルナフタレンジスルホン酸（ＤＮＮＤＳＡ）、ドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＤＢＳＡ）などが挙げられ、中でもｐ−ＴＳＡ、ＤＮＮＳＡ及びＤＤＢＳＡが触媒の活性が高く好ましい。また、スルホン酸の誘導体としては、スルホン酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩などの中和物、あるいはスルホン酸骨格が高分子鎖中に導入された高分子化合物（ポリビニルスルホン酸等）などが挙げられる。
【０１１６】
また、本発明で用いられるアミンの沸点は、上述の通り２５０℃以下であり、好ましくは３０〜２５０℃、より好ましくは８０〜１５０℃である。アミンの沸点が２５０℃を超えると、製膜時の加熱でブロック化剤としてのアミンがスルホン酸及び／又はその誘導体から外れにくくなり、硬化が不十分となる。また、アミンの沸点が２５０℃を超えると、成膜時に硬化膜中に残存しやすくなり、硬化膜の特性に悪影響を及ぼすことになる。一方、アミンの沸点が３０℃未満の場合、コーティング剤組成物の保管時の安定性が低下し、製膜時の欠陥が増えるなどの不都合が生じやすくなる。
【０１１７】
本発明で用いられるアミンは、沸点が２５０℃以下であれば１級、２級又は３級のいずれであってもよいが、硬化膜中に電荷トラップを形成しにくく、硬化膜の電気特性の低下を防止できる点から２級又は３級のアミンが好ましい。さらに、スルホン酸及び／又はその誘導体のブロック化剤としての機能と硬化膜の電気特性とを高水準で両立できる点から、２級アミンが特に好ましい。
【０１１８】
沸点２５０℃以下の２級アミンとしては、例えばジエチルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジｔ−ブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−イソプロピルＮ−イソブチルアミン、ジ−２−エチルヘキシルアミン、ジセカンダリーブチルアミン、ジアリルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２，４−ルペチジン、２，６−ルペチジン、３，５−ルペチジン、モルホリン、Ｎ−メチルベンジルアミンなどが用いられ、３級アミノ基を有するアミンとしては、例えばＮ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ−メチルジアリルアミン、トリアリルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，２−ジアミノエタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアリル−１，４−ジアミノブタン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−エチルピリジン、トリプロピルアミン、Ｎ−ピロピルジアリルアミン、３−ジメチルアミノプロパノール、２−エチルピラジン、２，３−ジメチルピラジン、２，５−ジメチルピラジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、２，４，６−コリジン、２−メチル−４−エチルピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルヘキサメチレンジアミン、Ｎ−エチル−３−ヒドロキシピペリジン、３−メチル−４−エチルピリジン、３−エチル−４−メチルピリジン、４−（５−ノニル）ピリジン、イミダゾールなどが挙げられる。また、沸点２５０℃以下の３級アミンとしては、Ｎ−メチルピペラジンなどが挙げられる。
【０１１９】
本発明においては、沸点２５０℃以下のアミンの１種を単独で用いてもよく、また、２種以上を併用してもよい。
【０１２０】
本発明のコーティング剤組成物におけるスルホン酸及び／又はその誘導体の含有量と沸点２５０℃以下のアミンの含有量の比は、モル比で、１：０．５〜１：２であることが好ましく、１：０．８〜１：１．５であることがより好ましい。スルホン酸及び／又はその誘導体１モルに対してアミンが０．５モル未満の場合、コーティング剤組成物のポットライフが短くなり、その硬化膜の特性が不安定化する傾向にある。また、スルホン酸及び／又はその誘導体１モルに対してアミンが２モルを超えると、成膜時に硬化膜中にアミンが残存しやすくなり、硬化膜の特性が低下する傾向にある。
【０１２１】
本発明のコーティング剤組成物は、上記の光機能性有機化合物とスルホン酸及び／又はその誘導体と沸点２５０℃以下のアミンとからなるものであってもよいが、その特性を更に向上させるために、以下に示す各種成分を更に含有することができる。
【０１２２】
本発明のコーティング剤組成物は、得られる硬化膜の機械的強度、電気抵抗、摩擦力、付着性、可とう性などの種々の物性をコントロールするために、下記一般式（Ｖ）で表される化合物を更に含有することが好ましい。
Ｓｉ（Ｒ１８）（４−ｅ）Ｑｅ    （ＸＩＶ）
［一般式（ＸＩＶ）中、Ｒ１８は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を示す。また、ｅは１〜４の整数を示す。］
一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の具体例としては以下のようなシランカップリング剤が挙げられる。テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の４官能性アルコキシシラン（ｅ＝４）；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の３官能性アルコキシシラン（ｅ＝３）；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の２官能性アルコキシシラン（ｅ＝２）；トリメチルメトキシシラン等の１官能アルコキシシラン（ｃ＝１）等をあげることができる。膜の強度を向上させるためには３及び４官能のアルコキシシランが好ましく、可とう性、製膜性を向上させるためには２及び１官能のアルコキシシランが好ましい。
【０１２３】
また、本発明のコーティング剤組成物は、上記カップリング剤より作製されるシリコン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）などが挙げられる。
【０１２４】
また、本発明のコーティング剤組成物は、その強度を高めるために、下記一般式（ＸＶ）で表される化合物のような２つ以上のケイ素原子を有する化合物を更に含有することが好ましい。
Ｂ−［Ｓｉ（Ｒ１９）（３−ｆ）Ｑｆ］２    （ＸＶ）
［一般式（ＸＶ）中、Ｂは２価の有機基を、Ｒ１９は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を示す。また、ｆは１〜３の整数を示す。］
一般式（ＸＶ）で表される化合物としては、具体的には、下記表５６に示す化合物を好ましいものとして挙げることができる。
【０１２５】
【表５６】
2006251771.tif 000068
【０１２６】
また、本発明のコーティング剤組成物は、フェノール樹脂を更に含有することが好ましい。この場合、光機能性有機化合物としては、用いるフェノール樹脂と相溶するものが好ましく、更に、用いるフェノール樹脂と化学結合を形成するものがより好ましい。
【０１２７】
フェノール樹脂としては、レゾルシン、ビスフェノール等、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノール等の水酸基を１個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン等の水酸基を２個含む置換フェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ等のビスフェノール類、ビフェノール類等、フェノール構造を有する化合物と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等とを、酸又はアルカリ触媒下で反応させ、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類、トリメチロールフェノール類のモノマー、及びそれらの混合物、又はそれらをオリゴマー化されたもの、およびモノマーとオリゴマーの混合物を作製する。このうち、分子の構造単位の繰り返しが２〜２０程度の比較的大きな分子がオリゴマー、それ以下のものがモノマーである。
【０１２８】
また、本発明のコーティング剤組成物は、膜特性のコントロールなどのため、上記フェノール樹脂の他に、アルコール系、ケトン系溶剤に可溶な樹脂を更に含有してもよい。このような樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（例えば積水化学社製エスレックＢ、Ｋなど）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂などが挙げられる。特に、電気特性上ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。また、放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度コントロール、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などの目的で種々の樹脂を添加することができる。特にシロキサン系の樹脂の場合はアルコールに溶解する樹脂を加えることが好ましい。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋなど）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、フェノール樹脂などが挙げられる。特に、電気特性上ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。上記樹脂の粘度平均分子量は、２０００〜１０００００が好ましく、５０００〜５００００がさらに好ましい。粘度平均分子量が２０００未満であると所望の効果が得られなくなる傾向にある。また、粘度平均分子量が１０００００を超えると溶解度が低くなり添加量が限られてしまったり、塗布時に製膜不良の原因になったりする。添加量は１〜４０％が好ましく、さらに好ましくは１〜３０％であり、５〜２０％が最も好ましい。１％よりも少ない場合は所望の効果が得られにくくなり、４０％よりも多くなると高温高湿下での画像ボケが発生しやすくなる恐れがある。また、それらの樹脂は単独で用いてもよいが、それらを混合して用いてもよい。
【０１２９】
また、本発明のコーティング剤組成物は、膜特性のコントロールのため、下記一般式（ＸＶＩ）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物、もしくはその化合物からの誘導体を更に含有することができる。
【０１３０】
【化１１】
2006251771.tif 000069
【０１３１】
［一般式（ＸＶＩ）中、Ａ1及びＡ2はそれぞれ独立に一価の有機基を示す。］
一般式（ＸＶＩ）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンを挙げることができる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサンなどのヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサンなどのビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等を挙げることができる。これらの環状シロキサン化合物は１種を単独で用いても良く、また、２種以上を混合して用いても良い。
【０１３２】
また、本発明のコーティング剤組成物は、その硬化膜の耐汚染物付着性及び潤滑性を更に改善するために、各種微粒子を更に含有することができる。微粒子は、１種を単独で用いてもよく、また、２種以上を併用してもよい。微粒子の一例として、ケイ素含有微粒子を挙げることができる。ケイ素含有微粒子とは、構成元素にケイ素を含む微粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン微粒子等が挙げられる。ケイ素含有微粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒子径１〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜３０ｎｍの粒子を、酸性もしくはアルカリ性の水、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させた分散液から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。表面層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、本発明のコーティング剤組成物を硬化させて得られる膜の全質量を基準として、０．１〜５０質量％の範囲、好ましくは０．１〜３０質量％の範囲で用いられる。
【０１３３】
ケイ素含有微粒子として用いられるシリコーン微粒子は、球状で、平均粒子径１〜５００ｎｍ、好ましくは１０〜１００ｎｍの、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。シリコーン微粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状を改善することができる。すなわち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐摩耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。シリコーン微粒子の含有量は、本発明のコーティング剤組成物を硬化させて得られる膜の全質量を基準として、０．１〜３０質量％の範囲であり、好ましくは０．５〜１０質量％の範囲である。
【０１３４】
また、その他の微粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系微粒子、「第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集、ｐ８９」に示されるような前記フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーとを共重合させた樹脂からなる微粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物を挙げることができる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。シリコーンオイルとしては、たとえば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等を挙げることができる。
【０１３５】
また、本発明のコーティング剤組成物は、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を更に含有することもできる。
【０１３６】
可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。
【０１３７】
また、酸化防止剤としては、ヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤が挙げられ、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基などの置換基で変性してもよい。これらの酸化防止剤は環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的であり、中でもヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が好ましい。
【０１３８】
ヒンダートフェノール系酸化防止剤としては、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＨＴ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＭＤＰ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＢＭ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＷＸ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＮＷ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−７６」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−１０１」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＭ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＳ」（以上住友化学社製）、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」（以上チバスペシャリティーケミカルズ社製）、「アデカスタブＡＯ−２０」、「アデカスタブＡＯ−３０」、「アデカスタブＡＯ−４０」、「アデカスタブＡＯ−５０」、「アデカスタブＡＯ−６０」、「アデカスタブＡＯ−７０」、「アデカスタブＡＯ−８０」、「アデカスタブＡＯ−３３０」（以上旭電化製）などが挙げられる。また、ヒンダートアミン系酸化防止剤として「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」以上三共ライフテック社製、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」以上旭電化製、「スミライザーＴＰＳ」以上住友化学社製、チオエーテル系として「スミライザーＴＰ−Ｄ」以上住友化学社製、ホスファイト系として「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ・８」、「マークＰＥＰ・２４Ｇ」、「マークＰＥＰ・３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ・１０」以上旭電化製が挙げられる。
【０１３９】
また、本発明のコーティング剤組成物は、スルホン酸及び／又はその誘導体並びに沸点２５０℃以下のアミン以外の触媒（以下、便宜的に「その他の触媒」という）を含有してもよい。あるいは、コーティング剤組成物の構成成分の一部についてその他の触媒を用いて所定の反応（例えば、加水分解性基の保護基交換、脱保護反応、加水分解、縮合反応など）を行い、その反応液を、必要に応じて触媒を分離除去した後で、コーティング剤組成物の調製に供してもよい。
【０１４０】
その他の触媒としては、塩酸、酢酸、硫酸などの無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸などの有機酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニアなどのアルカリ触媒などが挙げられる。
【０１４１】
また、系に不溶な固体触媒を用いることもできる。「系に不溶な固体触媒」とは、本発明のコーティング剤組成物の構成成分（光機能性有機化合物、スルホン酸及び／又はその誘導体、沸点２５０℃以下のアミン、反応生成物、あるいは更にその他の添加剤や溶剤等）に不溶な固体触媒を意味する。系に不溶な固体触媒を用いると、コーティング剤組成物の調製の際に、コーティング剤組成物の安定性が向上する傾向にある。
【０１４２】
系に不溶な固体触媒としては、アンバーライト１５、アンバーライト２００Ｃ、アンバーリスト１５Ｅ（以上、ローム・アンド・ハース社製）；ダウエックスＭＷＣ−１−Ｈ、ダウエックス８８、ダウエックスＨＣＲ−Ｗ２（以上、ダウ・ケミカル社製）；レバチットＳＰＣ−１０８、レバチットＳＰＣ−１１８（以上、バイエル社製）；ダイヤイオンＲＣＰ−１５０Ｈ（三菱化成社製）；スミカイオンＫＣ−４７０、デュオライトＣ２６−Ｃ、デュオライトＣ−４３３、デュオライト−４６４（以上、住友化学工業社製）；ナフィオン−Ｈ（デュポン社製）などの陽イオン交換樹脂；アンバーライトＩＲＡ−４００、アンバーライトＩＲＡ−４５（以上、ローム・アンド・ハース社製）などの陰イオン交換樹脂；Ｚｒ（Ｏ３ＰＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ）２、Ｔｈ（Ｏ３ＰＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）２などのプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体；コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸などのヘテロポリ酸；ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸などのイソポリ酸；シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、ＣａＯ、ＭｇＯなどの単元系金属酸化物；シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類など複合系金属酸化物；酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイトなどの粘土鉱物；ＬｉＳＯ４、ＭｇＳＯ４などの金属硫酸塩；リン酸ジルコニア、リン酸ランタンなどの金属リン酸塩；ＬｉＮＯ３、Ｍｎ（ＮＯ３）２などの金属硝酸塩；シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体などのアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体；アミノ変性シリコーン樹脂などのアミノ基を含有するポリオルガノシロキサンなどが挙げられる。
【０１４３】
系に不溶な固体触媒の使用量は特に制限されないが、加水分解性基を有する化合物の合計１００質量部に対して０．１〜１００質量部が好ましい。また、これらの固体触媒は、前述の通り、系に不溶であるため、反応後、常法にしたがって容易に除去することができる。
【０１４４】
系に不溶な固体触媒を用いて所定の反応を行うに際し、その反応温度及び反応時間は原料化合物や固体触媒の種類及び使用量に応じて適宜選択される。反応温度は通常０〜１００℃、好ましくは１０〜７０℃、より好ましくは１５〜５０℃であり、反応時間は好ましくは１０分〜１００時間である。反応時間が前記上限値を超えるとゲル化が起こりやすくなる傾向にある。
【０１４５】
また、系に不溶な触媒を用いた場合は、強度、液保存安定性などを向上させる目的で、さらに系に可溶な触媒を併用することが好ましい。系に可溶な触媒としては、前述のものに加え、アルミニウムトリエチレート、アルミニウムトリイソプロピレート、アルミニウムトリ（ｓｅｃ−ブチレート）、モノ（ｓｅｃ−ブトキシ）アルミニウムジイソプロピレート、ジイソプロポキシアルミニウム（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノアセチルアセトネート、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムジイソプロポキシ（アセチルアセトネート）、アルミニウムイソプロポキシ−ビス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（トリフルオロアセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（ヘキサフルオロアセチルアセトネート）等の有機アルミニウム化合物を使用することができる。
【０１４６】
また、有機アルミニウム化合物以外には、ジブチルスズジラウリレート、ジブチルスズジオクチエート、ジブチルスズジアセテート等の有機ズズ化合物；チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトネート）等の有機チタニウム化合物；ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のジルコニウム化合物；等も使用することができるが、安全性、低コスト、ポットライフ長さの観点から、有機アルミニウム化合物を使用するのが好ましく、特にアルミニウムキレート化合物がより好ましい。これらの触媒の使用量は特に制限されないが、加水分解性基を有する化合物の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部が好ましく、０．３〜１０質量部が特に好ましい。
【０１４７】
また、本発明において有機金属化合物を触媒として用いた場合は、ポットライフ、硬化効率の面から、多座配位子を添加することが好ましい。このような多座配位子としては、以下に示すようなもの及びそれらから誘導されるものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４８】
多座配位子としては、具体的には、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジピバロイルメチルアセトン等のβ−ジケトン類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル類；ビピリジン及びその誘導体；グリシン及びその誘導体；エチレンジアミン及びその誘導体；８-オキシキノリン及びその誘導体；サリチルアルデヒド及びその誘導体；カテコール及びその誘導体；２-オキシアゾ化合物等の２座配位子；ジエチルトリアミン及びその誘導体；ニトリロトリ酢酸及びその誘導体等の３座配位子；エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及びその誘導体等の６座配位子；等を挙げることができる。さらに、上記のような有機系配位子の他、ピロリン酸、トリリン酸等の無機系の配位子を挙げることができる。多座配位子としては、特に２座配位子が好ましく、具体例としては、上記の他、下記一般式（ＸＶＩＩ）で表される２座配位子が挙げられる。また、２座配位子の中でも、下記一般式（ＸＶＩＩ）で表される２座配位子がより好ましく、下記一般式（ＸＶＩＩ）中のＲ２０とＲ２１とが同一の基である化合物が特に好ましい。Ｒ２０とＲ２１とを同一とすることで、室温付近での配位子の配位力が強くなり、コーティング剤のさらなる安定化を図ることができる。
【０１４９】
【化１２】
2006251771.tif 000070
【０１５０】
［式中、Ｒ２０及びＲ２１はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のフッ化アルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。］
多座配位子の配合量は、任意に設定することができるが、用いる有機金属化合物の１モルに対し、０．０１モル以上、好ましくは０．１モル以上、より好ましくは１モル以上とするのが好ましい。
【０１５１】
本発明のコーティング剤組成物の調製は無溶媒下で行うこともできるが、必要に応じて溶剤を用いて調製を行ってもよい。本発明のコーティング剤組成物に用いられる溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類；などの種々の溶剤が挙げられ、沸点が１００℃以下のものが好ましく用いられる。これらの溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用することができる。本発明のコーティング剤組成物中の溶剤の含有量は任意に設定できるが、少なすぎると有機化合物が析出しやすくなるため、有機化合物１質量部に対して、０．５〜３０質量部とするのが好ましく、１〜２０質量部とするのがより好ましい。
【０１５２】
また、本発明のコーティング剤組成物を調製するに際し、スルホン酸及び／又はその誘導体と沸点２５０℃以下のアミンとは、それぞれ別個に添加してもよく、予めスルホン酸及び／又はその誘導体をアミンでブロック化したもの（ブロック化硬化触媒）を添加してもよい。ブロック化硬化触媒は、スルホン酸及び／又はその誘導体と沸点２５０℃以下のアミンとを混合した後、室温で数十分間撹拌することで容易に得ることができる。また、ブロック化硬化触媒は市販のものを用いてもよい。
【０１５３】
また、コーティング剤組成物の調製工程におけるスルホン酸及び／又はその誘導体並びに沸点２５０℃以下のアミンの添加のタイミングは特に制限されず、例えば、スルホン酸及び／又はその誘導体並びに沸点２５０℃以下のアミンを他の材料と共に最初から混合してもよく、あるいはスルホン酸及び／又はその誘導体あるいは沸点２５０℃以下のアミンのいずれか一方を他の材料に添加し、熟成した後で残りの一方を加えてもよい。前者の場合液状態で重合が進むことを抑制することができ、後者の場合は所望の状態まで重合を進めることができる。また、理由は明らかになっていないが、後者の方が電気特性等の電子写真特性が良化する場合がある。
【０１５４】
また、スルホン酸及び／又はその誘導体並びに沸点２５０℃以下のアミン以外の材料の全てを混合した後、その混合物にスルホン酸及び／又はその誘導体と沸点２５０℃以下のアミンとを加えてもよい。この場合にも前述のように所望の状態まで重合を進めることができる。また、理由は明らかになっていないが、電気特性等の電子写真特性が良化する場合がある。
【０１５５】
さらに、コーティング剤組成物の硬化物における光劣化（例えば昼白色光に対する疲労現象）の抑制の観点からは、下記（ｉ）又は（ｉｉ）に示す方法によりコーティング剤組成物を調製することが好ましい。
（ｉ）コーティング剤組成物を構成する材料のうち沸点２５０℃以下のアミン以外の材料を混合し、得られた混合物に上記アミンを添加してコーティング剤組成物を得る。
（ｉｉ）コーティング剤組成物を構成する材料のうちスルホン酸及び／又はその誘導体並びに沸点２５０℃以下のアミン以外の材料を混合し、得られた混合物にスルホン酸及び／又はその誘導体と沸点２５０℃以下のアミンとを添加してコーティング剤組成物を得る。
【０１５６】
上記（ｉ）に示す方法においては、沸点２５０℃以下のアミン以外の材料を混合する際の温度は０〜１００℃であることが好ましい。更に、室温よりも高い温度下で混合した場合は、混合物を室温まで冷却した後で沸点２５０℃以下のアミンを添加することが好ましい。
【０１５７】
また、上記（ｉｉ）に示す方法においては、スルホン酸及び／又はその誘導体並びに沸点２５０℃以下のアミン以外の材料を混合する際の温度は０〜１００℃であることが好ましい。更に、室温よりも高い温度下で混合した場合は、混合物を室温まで冷却した後でスルホン酸及び／又はその誘導体並びに沸点２５０℃以下のアミンを添加することが好ましい。
【０１５８】
本発明のコーティング剤組成物を硬化させる際の反応温度及び反応時間は特に制限されないが、得られる硬化膜の機械的強度及び化学的安定性の点から、反応温度は好ましくは６０℃以上、より好ましくは８０〜２００℃であり、反応時間は好ましくは１０分〜５時間である。また、得られる硬化膜を高湿度状態に保つことは、硬化膜の特性の安定化を図る上で有効である。さらには、用途に応じてヘキサメチルジシラザンやトリメチルクロロシランなどを用いて硬化膜に表面処理を施して疎水化することもできる。
（電子写真感光体）
図１は本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を模式的に示す要部断面図である。図１に示した電子写真感光体１は導電性基体２上に感光層３を備えるもので、感光層３においては導電性基体２に近い側から順に下引き層４、電荷発生層５、電荷輸送層６及び保護層７が設けられている。ここで、導電性基体２から遠い側に設けられた保護層７は、本発明のコーティング剤組成物の硬化により得られる表面層である。
【０１５９】
以下、電子写真感光体１の構成要素それぞれについて詳述する。
【０１６０】
導電性基体２としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、ＩＴＯ等の薄膜を設けたプラスチックフィルム等、あるいは導電性付与剤を塗布、または含浸させた紙、及びプラスチックフィルム等が挙げられる。導電性基体２の形状はドラム状の他、シート状、プレート状としてもよい。
【０１６１】
導電性基体として金属パイプを用いる場合、金属パイプは素管のままであってもよいが、感光ドラムがレーザープリンターに使用される場合には、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性基体の表面を粗面化することが好ましい。粗面化後の表面粗さとしては、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ〜０．５μｍに粗面化することが好ましい。Ｒａが０．０４μｍ未満であると、鏡面に近くなるので干渉防止効果が不十分となる傾向にある。また、Ｒａが０．５μｍを超えると、画質が粗くなる傾向にある。
【０１６２】
粗面化の方法は特に制限されないが、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、あるいは、回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化、有機または無機の半導電性微粒子を含有する層を作成することなどが好ましい。
【０１６３】
陽極酸化処理はアルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、そのままの多孔質陽極酸化膜は化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行う。
【０１６４】
陽極酸化膜の膜厚は０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分でない。また、１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招く。
【０１６５】
リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のように実施される。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が、１０〜１１質量％の範囲、クロム酸が３〜５質量％の範囲、フッ酸が０．５〜２質量％の範囲であって、これらの酸全体の濃度は、１３．５〜１８質量％の範囲が好ましい。処理温度は、４２〜４８℃であるが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜を形成することができる。被膜の膜厚については０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分でない。また、１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招く。
【０１６６】
ベーマイト処理は、９０〜１００℃の純水中に５〜６０分間浸漬するか、９０〜１２０℃の加熱水蒸気に５〜６０分間接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚については０．１〜５μｍが好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩などの皮膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【０１６７】
なお、非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、基材の表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
【０１６８】
下引き層４は、干渉縞の防止、電気的リークの防止等を目的として、必要に応じて設けられる層である。特に、導電性基体２として酸性溶液処理、ベーマイト処理等を行った基体を用いる場合は、基体の欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引き層４を設けることが好ましい。
【０１６９】
下引き層４に用いられる材料としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤などの有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤などの有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤などの有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物、などの有機金属化合物、特に有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物は残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、好ましく使用される。
【０１７０】
また、下引き層４は、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス２メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含んで構成することができる。
【０１７１】
また、下引き層４は、結着樹脂を含んで構成することができる。かかる結着樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。
【０１７２】
また、下引き層４は、電子輸送性顔料を含んで構成することができる。電子輸送性顔料としては、特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が上げられる。これらの顔料の中ではペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料と多環キノン顔料、酸化亜鉛、酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、バインダーなどで表面処理しても良い。電子輸送性顔料は多すぎると下引き層４の強度が低下し、塗膜欠陥を生じるため９５質量％以下、好ましくは９０質量％以下で使用される。
【０１７３】
下引き層４は、上記の構成材料を所定の溶剤に混合／分散した塗布液を導電性基体２上に塗布し、乾燥させることによって形成される。塗布液に用いられる溶剤としては、有期金属化合物や樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合／分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであれば如何なるものでも使用でき、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の有機溶剤が挙げられる。これらの溶剤は１種を単独で用いてもよく、また、２種以上混合して用いてもよい。また、下引き層４用塗布液を調製する際の混合／分散方法としては、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等を用いる常法が適用可能である。また、下引き層４用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。また、塗膜の乾燥は、溶剤を蒸発させ、製膜可能な温度で行われる。下引き層４の膜厚は、好ましくは０．１〜３０μｍ、より好ましくは０．２〜２５μｍである。
【０１７４】
電荷発生層５は、電荷発生材料及び結着樹脂を含んで構成される。
【０１７５】
電荷発生材料としては、ビスアゾ化合物、トリスアゾ化合物などのアゾ顔料、ジブロモアントアントロンなどの縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等の有機顔料や、三方晶セレン、酸化亜鉛などの無機顔料など既知のもの全て使用することができるが、特に３８０ｎｍ〜５００ｎｍの露光波長を用いる場合には無機顔料が好ましく、７００ｎｍ〜８００ｎｍの露光波長を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましい。その中でも、特開平５−２６３００７及び、特開平５−２７９５９１に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２及び、特開平５−１４０４７３に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３及び、特開平５−４３８１３開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
【０１７６】
また、結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂をあげることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。電荷発生層５における電荷発生材料と結着樹脂との含有量の比（質量比）は１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
【０１７７】
電荷発生層５は、電荷発生材料及び結着樹脂を所定の溶剤に混合／分散した塗布液を下引き層４上に塗布し、乾燥させることによって形成される。塗布液に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらの溶剤は１種を単独で又は２種以上混合して用いることができる。また、電荷発生材料を塗布液中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができるが、この際、分散によって該の結晶型が変化しない条件で分散処理を行うことが好ましい。更に、分散の際、粒子を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。また、電荷発生層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。電荷発生層５の膜厚は、好ましくは０．１〜５μｍ、より好ましくは０．２〜２．０μｍである。
【０１７８】
電荷輸送層６は、電荷輸送材料と結着樹脂とを含んで構成されるか、あるいは高分子電荷輸送材を含んで構成される。
【０１７９】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物が挙げられるが、特にこれらに限定されない。これらの電荷輸送材料は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【０１８０】
また、電荷輸送材料としては、モビリティーの観点から、下記一般式（ＸＶＩＩＩ−１）、（ＸＶＩＩＩ−２）又は（ＸＶＩＩＩ−３）で示される化合物が好ましい。
【０１８１】
【化１３】
2006251771.tif 000071
【０１８２】
ここで、上記式（ＸＶＩＩＩ−１）中、Ｒ２２は、水素原子又はメチル基を、ｋは１又は２を、Ａｒ６及びＡｒ７はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ２３）＝Ｃ（Ｒ２４）（Ｒ２５）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数１〜３のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。Ｒ２３、Ｒ２４及びＲ２５はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。
【０１８３】
【化１４】
2006251771.tif 000072
【０１８４】
ここで、上記式（ＸＶＩＩＩ−２）中、Ｒ２６及びＲ２７はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ２３）＝Ｃ（Ｒ２４）（Ｒ２５）、又は、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を、ｐ、ｑ、ｒ及びｓはそれぞれ独立に０〜２の整数を示す。Ｒ１９、Ｒ２０及びＲ２１はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。
【０１８５】
【化１５】
2006251771.tif 000073
【０１８６】
ここで、上記式（ＸＶＩＩＩ−３）中、Ｒ３２は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を示す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を示す。Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５及びＲ３６はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
【０１８７】
電荷輸送層６に用いられる結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：５が好ましい。
【０１８８】
高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、特に好ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層６の構成材料として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【０１８９】
電荷輸送層６は、上記構成材料を含有する塗布液を電荷発生層５上に塗布し、乾燥させることによって形成される。電荷輸送層６の塗布液に用いられる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。電荷輸送層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。電荷輸送層６の膜厚は、好ましくは５〜５０μｍ、より好ましくは１０〜３０μｍである。
【０１９０】
保護層７は、本発明のコーティング剤組成物を硬化させて得られる表面層である。保護層７を形成するに際し、本発明のコーティング剤組成物を電荷輸送層６上に塗布する方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。また、電荷輸送層６上に塗布されたコーティング剤組成物を硬化させる際の反応温度及び反応時間は適宜選定可能であるが、得られる硬化膜の機械的強度及び化学的安定性の点から、反応温度は好ましくは６０℃以上、より好ましくは８０〜２００℃であり、反応時間は好ましくは１０分〜５時間である。また、硬化膜（保護層７）を高湿度状態に保つことは、硬化膜の特性の安定化を図る上で有効である。さらには、用途に応じてヘキサメチルジシラザンやトリメチルクロロシランなどを用いて硬化膜に表面処理を施して疎水化することもできる。保護層７の膜厚は、好ましくは０．１〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍである。なお、１回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なっても良いし、複数回重ね塗布した後でも良い。
【０１９１】
また、感光層３を構成する各層においては、複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による電子写真感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させることができる。本発明の感光体に使用可能な電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等や、一般式（Ｉ）で示される化合物を挙げることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や−Ｃｌ，−ＣＮ，−ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【０１９２】
なお、本発明の電子写真感光体は上記の実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態にかかる電子写真感光体１の感光層３は、導電性基体２から遠い側に設けられる表面層として保護層７を有するものであるが、保護層を設けずに電荷輸送層を表面層としてもよい。この場合、本発明のコーティング剤組成物の硬化膜は優れた機械的強度を有する上に十分な光電特性をも有するため、当該硬化膜をそのまま電荷輸送層とすることができる。あるいは、上記電荷輸送層６の説明において例示された電荷輸送材料、結着樹脂、高分子電荷輸送材等を本発明のコーティング剤組成物に含有せしめて塗布液とし、その塗布液を用いて電荷輸送層を形成してもよい。
【０１９３】
また、上記実施形態にかかる電子写真感光体１は下引き層４を備えるものであるが、本発明の電子写真感光体は下引き層を備えていなくともよい。
【０１９４】
また、上記実施形態にかかる電子写真感光体１は電荷発生層５と電荷輸送層６とが別個に設けられた機能分離型感光体であるが、本発明の電子写真感光体は電荷発生材料と電荷輸送材料（高分子電荷輸送材を含む）との双方を含有する層を備える単層型感光体であってもよい。電荷発生材料と電荷輸送材料との双方を含有する層において、電荷発生材料の含有量は、好ましくは１０〜８５質量％、より好ましくは２０〜５０質量％である。また、電荷輸送材料の含有量は５〜５０質量％とすることが好ましい。膜厚は５〜５０μｍ程度が好ましく、１０〜４０μｍとするのがさらに好ましい。なお、単層型感光体が保護層を有さない場合、すなわち電荷発生材料と電荷輸送材料との双方を含有する層が表面層となる場合、当該層は、電荷発生材料と、電荷輸送材料と、必要に応じて結着樹脂とを本発明のコーティング剤組成物に含有せしめた塗布液を用いて形成される。また、単層型感光体が基体から遠い側に本発明のコーティング剤組成物の硬化膜である保護層を有する場合には、電荷発生材料と電荷輸送材料との双方を含有する層を形成する際に本発明のコーティング剤組成物を用いなくてもよい。塗布液に用いる溶剤や塗布方法は、上記と同様である。
（画像形成装置）
図２は、本発明の電子写真装置の好適な一実施形態を示す概略構成図である。図２に示す電子写真装置２００は、本発明の電子写真感光体１と、電子写真感光体１を接触帯電方式により帯電させる帯電装置２０８と、帯電装置２０８に接続された電源２０９と、帯電装置２０８により帯電される電子写真感光体２０７を露光して静電潜像を形成する露光装置２１０と、露光装置２１０により形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置２１１と、現像装置２１１により形成されたトナー像を被転写媒体に転写する転写装置２１２と、クリーニング装置２１３と、除電器２１４と、定着装置２１５とを備える。なお、図２には示していないが、トナーを現像装置２１１に供給するトナー供給装置も備えている。また、本実施形態とは別の実施形態において、除電器２１４が設けられていなくてもよい。
【０１９５】
帯電装置２０８は、感光体１の表面に導電性部材（帯電ロール）を接触させて感光体に電圧を均一に印加し、感光体表面を所定の電位に帯電させるものである。なお、本発明の画像形成装置が備える帯電装置は、コロトロン、スコロトロンによる非接触方式のものでもあってもよいが、本発明の電子感光体は機械的強度に優れているため、電子写真感光体へのストレスが大きい接触帯電を用いた場合に、従来の電子写真感光体と比較して、特に優れた耐久性を示す。
【０１９６】
導電性部材としては、芯材の外周面に弾性層、抵抗層、保護層等を設けたものが好適に用いられる。導電性部材の形状は、ブラシ状、ブレード状、ピン電極状、あるいはローラー状等のいずれであってもよい。
【０１９７】
芯材の材質としては、導電性を有するもの、例えば、鉄、銅、真鍮、ステンレス、アルミニウム若しくはニッケル等が用いられる。また、導電性粒子等を分散した樹脂成形品等を用いることができる。
【０１９８】
弾性層の材質としては、導電性あるいは半導電性を有するもの、例えば、ゴム材に導電性粒子あるいは半導電性粒子を分散したものが使用可能である。ゴム材としてはＥＰＤＭ、ポリブタジエン、天然ゴム、ポリイソブチレン、ＳＢＲ、ＣＲ、ＮＢＲ、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＳ、熱可塑性エラストマー、ノルボーネンゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンオキシドゴム等が用いられる。導電性粒子あるいは半導電性粒子としてはカーボンブラック、亜鉛、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、クロム、チタニウム等の金属、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ若しくはＭｇＯ等の金属酸化物が用いることができる。これらの材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【０１９９】
抵抗層及び保護層の材質としては結着樹脂に導電性粒子あるいは半導電性粒子を分散し、その抵抗を制御したものである。結着樹脂としてはアクリル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、メトキシメチル化ナイロン、エトキシメチル化ナイロン、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリビニル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリチオフェン樹脂、ＰＦＡ、ＦＥＰ若しくはＰＥＴ等のポリオレフィン樹脂、又はスチレン−ブタジエン樹脂等が用いられる。導電性粒子あるいは半導電性粒子としては弾性層と同様のカーボンブラック、金属若しくは金属酸化物が用いられる。また、必要に応じてヒンダードフェノール、ヒンダードアミン等の酸化防止剤、クレー、カオリン等の充填剤や、シリコーンオイル等の潤滑剤を添加することができる。これらの層を形成する手段としてはブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等を用いることができる。
【０２００】
これらの導電性部材を用いて感光体１を帯電させる際には、導電性部材に電圧が印加されるが、かかる印加電圧は直流電圧、直流電圧に交流電圧を重畳したもののいずれでもよい。なお、本実施形態において示した帯電ロールの他、帯電ブラシ、帯電フィルム若しくは帯電チューブなどを用いて接触帯電方式による帯電を行ってもよい。また、コロトロン若しくはスコロトロンを用いた非接触方式による帯電を行ってもよい。
【０２０１】
露光装置２１０としては、電子写真感光体１の表面に、半導体レーザー、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）、液晶シャッター等の光源を所望の像様に露光できる光学系装置等を用いることができる。これらの中でも、非干渉光を露光可能な露光装置を用いると、電子写真感光体１の導電性基体と感光層との間での干渉縞を防止することができる。
【０２０２】
現像装置２１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行うことができる。そのような現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体１に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。なお、本発明の画像形成装置が備える電子写真感光体は機械的強度に優れるものであるため、電子写真感光体を２０００００サイクル以上、さらに、２５００００サイクル、あるいは、３０００００サイクル以上も使用可能である。そのため、現像装置としては、プリント当たりの単価を安価にすることができることから、トナー又は現像剤のみを単独に補給できる機構を有するものが好ましい。
【０２０３】
以下、現像装置２１１に使用されるトナーについて説明する。
【０２０４】
本実施形態の画像形成装置に用いられるトナーは、高い現像性及び転写性並びに高画質を得る観点から、平均形状係数（ＭＬ２／Ａ）が１００〜１５０であることが好ましく、１０５〜１４５であることがより好ましく、１１０〜１４０であることがさらに好ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が３〜１２μｍであることが好ましく、３．５〜１０μｍであることがより好ましく、４〜９μｍであることがさらに好ましい。このような平均形状係数及び体積平均粒子径を満たすトナーを用いることにより、現像性及び転写性が高まり、いわゆる写真画質と呼ばれる高画質の画像を得ることができる。
【０２０５】
トナーは、上記平均形状係数及び体積平均粒子径を満足する範囲のものであれば特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
【０２０６】
また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法を使用することができる。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が好ましく、乳化重合凝集法が特に好ましい。
【０２０７】
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤及び離型剤からなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を含有して構成される。
【０２０８】
トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体及び共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０２０９】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等を挙げることもできる。
【０２１０】
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示することができる。
【０２１１】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示することができる。
【０２１２】
また、帯電制御剤としては、公知のものを使用することができるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤を用いることができる。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用することが好ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナー及び磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０２１３】
現像装置２１１に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造することができる。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。
【０２１４】
現像装置２１１に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等のような脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等のような植物系ワックス、ミツロウのような動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等のような鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用できる。これらは、１種を単独で、又は２種以上を併用して使用できる。但し、平均粒径としては０．１〜１０μｍの範囲が好ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は好ましくは０．０５〜２．０質量％、より好ましくは０．１〜１．５質量％の範囲である。
【０２１５】
現像装置２１１に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機微粒子、有機微粒子、該有機微粒子に無機微粒子を付着させた複合微粒子等を加えることができる。
【０２１６】
無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０２１７】
また、上記無機微粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも好ましく使用される。
【０２１８】
有機微粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等を挙げることができる。
【０２１９】
粒子径としては、個数平均粒子径で好ましくは５〜１０００ｎｍ、より好ましくは５〜８００ｎｍ、さらに好ましくは５〜７００ｎｍでのものが使用される。平均粒子径が、上記下限値未満であると、研磨能力に欠ける傾向があり、他方、上記上限値を超えると、電子写真感光体表面に傷を発生しやすくなる傾向がある。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが好ましい。
【０２２０】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等の為、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御の為、それより大径の無機酸化物を添加することが好ましい。これらの無機酸化物微粒子は公知のものを使用できるが、精密な帯電制御を行う為にはシリカと酸化チタンを併用することが好ましい。また、小径無機微粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも放電精製物を除去するために好ましい。
【０２２１】
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉又はそれ等の表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、適宜設定することができる。
【０２２２】
転写装置２１２としては、ローラー状の接触帯電部材の他、ベルト、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、あるいはコロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等が挙げられる。
【０２２３】
クリーニング装置２１３は、転写工程後の電子写真感光体の表面に付着した残存トナーを除去するためのもので、これにより清浄面化された電子写真感光体は上記の画像形成プロセスに繰り返し供される。クリーニング装置としては、図示したクリーニングブレードを用いたものの他、ブラシクリーニング、ロールクリーニング等の手法を用いることができるが、これらの中でもクリーニングブレードを用いることが好ましい。また、クリーニングブレードの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。
【０２２４】
また、本実施形態の電子写真装置は、図２に示したように、除電器（イレーズ光照射装置）２１４、像定着装置２１５等の除電装置をさらに備える。これにより、電子写真感光体が繰り返し使用される場合に、電子写真感光体の残留電位が次の画像形成サイクルに持ち込まれる現象が防止されるので、画像品質をより高めることができる。
【０２２５】
図３は本発明の電子写真装置について、他の実施形態の基本構成を示す概略構成図である。図３に示す電子写真装置２２０は中間転写方式の電子写真装置であり、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ（例えば、電子写真感光体４０１ａがイエロー、電子写真感光体４０１ｂがマゼンタ、電子写真感光体４０１ｃがシアン、電子写真感光体４０１ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である）が中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。
【０２２６】
ここで、電子写真装置２２０に搭載されている電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、それぞれ本発明の電子写真感光体（例えば電子写真感光体１）である。
【０２２７】
電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ、クリーニングブレード４１５ａ〜４１５ｄが配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれにはトナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーが供給可能であり、また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９を介して電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。
【０２２８】
さらに、ハウジング４００内の所定の位置にはレーザー光源（露光装置）４０３が配置されており、レーザー光源４０３から出射されたレーザー光を帯電後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射することが可能となっている。これにより、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
【０２２９】
中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９は、例えば駆動ロール４０６の近傍に配置されたクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０２３０】
また、ハウジング４００内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙などの被転写媒体４１７が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排紙される。
【０２３１】
なお、上述の説明においては中間転写体として中間転写ベルト４０９を使用する場合について説明したが、中間転写体は、上記中間転写ベルト４０９のようにベルト状であってもよく、ドラム状であってもよい。ベルト状とする場合中間転写体の基材として用いる樹脂材料としては、従来公知の樹脂を用いることができる。例えば、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリアルキレンテレフタレート（ＰＡＴ）、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）／ＰＣ、ＥＴＦＥ／ＰＡＴ、ＰＣ／ＰＡＴのブレンド材料、ポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド等の樹脂材料及びこれらを主原料としてなる樹脂材料が挙げられる。さらに、樹脂材料と弾性材料をブレンドして用いることができる。
【０２３２】
弾性材料としては、ポリウレタン、塩素化ポリイソプレン、ＮＢＲ、クロロピレンゴム、ＥＰＤＭ、水素添加ポリブタジエン、ブチルゴム、シリコーンゴム等を１種類、又は２種類以上をブレンドしてなる材料を用いることができる。これらの基材に用いる樹脂材料及び弾性材料に、必要に応じて、電子伝導性を付与する導電剤やイオン伝導性を有する導電剤を１種類又は２種類以上を組み合わせて添加する。この中でも、機械強度に優れる点で、導電剤を分散させたポリイミド樹脂を用いることが好ましい。上記の導電剤としては、カーボンブラック、金属酸化物、ポリアニリン等の導電性ポリマーを用いることができる。中間転写体として中間転写ベルト４０９のようなベルトの形状の構成を採用する場合、一般にベルトの厚さは５０〜５００μｍが好ましく、６０〜１５０μｍがより好ましいが、材料の硬度に応じて適宜選択することができる。
【０２３３】
例えば、導電剤を分散させたポリイミド樹脂からなるベルトは、特開昭６３−３１１２６３号公報に記載されているように、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸の溶液中に導電剤として５〜２０質量％のカーボンブラックを分散させ、分散液を金属ドラム上に流延して乾燥した後、ドラムから剥離したフィルムを高温下に延伸してポリイミドフィルムを形成し、さらに適当な大きさに切り出してエンドレスベルトとすることにより製造することができる。
【０２３４】
上記フィルム成形は、一般には、導電剤を分散したポリアミド酸溶液の成膜用原液を円筒金型に注入して、例えば、１００〜２００℃に加熱しつつ５００〜２０００ｒｐｍの回転数で円筒金型を回転させながら、遠心成形法によりフィルム状に成膜し、次いで、得られたフィルムを半硬化した状態で脱型して鉄芯に被せ、３００℃以上の高温でポリイミド化反応（ポリアミド酸の閉環反応）を進行させて本硬化させることにより行うことができる。また、成膜原液を金属シート上に均一な厚みに流延して、上記と同様に１００〜２００℃に加熱して溶剤の大半を除去し、その後３００℃以上の高温に段階的に昇温してポリイミドフィルムを形成する方法もある。また、中間転写体は表面層を有していてもよい。
【０２３５】
また、中間転写体としてドラム形状を有する構成を採用する場合、基材としては、アルミニウム、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、銅等で形成された円筒状基材を用いることが好ましい。この円筒状基材上に、必要に応じて弾性層を被覆し、該弾性層上に表面層を形成することができる。
【０２３６】
なお、本発明にかかる被転写媒体とは、電子写真感光体上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体から直接、紙等の被転写媒体に転写する場合は、紙等が被転写媒体である。また、中間転写体を用いる場合には、中間転写体が被転写媒体である。
【０２３７】
図４は、本発明の電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ４００は、電子写真感光体１とともに、帯電装置２０８、現像装置２１１、クリーニング装置（クリーニング手段）２１３、露光のための開口部２１７、及び、除電露光のための開口部２１８に取り付けレール２１９を用いて組み合わせ、そして一体化したものである。なお、現像装置２１１は電子写真感光体１を含むカートリッジと分離されていてもよい。
【０２３８】
そして、このプロセスカートリッジ４００は、転写装置２１２と、定着装置２１５と、図示しない他の構成部分とからなる電子写真装置本体に対して着脱自在としたものであり、電子写真装置本体とともに電子写真装置を構成するものである。
【０２３９】
上述した電子写真装置２００、２２０及びプロセスカートリッジ４００においては、本発明の電子写真感光体を備えることによって、帯電工程時に生じる放電生成物や転写工程後の残留トナーの電子写真感光体への付着を十分に防止し、高品質の画像を長期にわたって安定的に得ることができるようになる。
【実施例】
【０２４０】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
［実施例１−１］
（電子写真感光体の作製）
円筒状のアルミニウム製基体の外周面をセンタレス研磨装置により研磨し、表面粗さをＲａ＝０．６μｍとした。このアルミニウム製基体の洗浄工程として、脱脂処理、２質量％水酸化ナトリウム溶液を用いた１分間のエッチング処理、中和処理、更に純水洗浄を順に行った。次に、１０質量％硫酸溶液を用いて陽極酸化処理工程を行い（電流密度１．０Ａ／ｄｍ２）、水洗後、８０℃の１質量％酢酸ニッケル溶液に２５分間浸漬して封孔処理を行った。更に、純水洗浄、乾燥処理を行い、アルミニウム製基体の外周面に膜厚８μｍの陽極酸化膜を形成した。
【０２４１】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンの１質量部をポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）１質量部及び酢酸ｎ−ブチル１００質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記アルミニウム製基体の外周面（陽極酸化膜）上に浸漬塗布し、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０２４２】
次に、下記式（ＣＴ−１）で示されるベンジジン化合物２質量部及び下記式（Ｂ−１）で示される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量３９，０００）３質量部をクロロベンゼン２０質量部に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１１０℃、４０分の加熱を行い膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２４３】
【化１６】
2006251771.tif 000074
【０２４４】
【化１７】
2006251771.tif 000075
【０２４５】
次に、表２７中の化合物（ＩＩＩ−１６）２質量部、テトラメトキシシラン０．５質量部、コロイダルシリカ０．３質量部、表５６中の化合物（ＸＶ−３）１質量部、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）メチルジメトキシシラン０．１質量部、ヘキサメチルシクロトリシロキサン０．５質量部、メタノール６質量部、及びイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）０．７質量部を混合し、室温で攪拌することにより５時間保護基の交換反応を行った。その後、ｎ−ブタノール１０質量部、蒸留水０．３質量部を添加し、室温（約２５℃）にて３０分加水分解を行った。
【０２４６】
加水分解後の反応混合物からイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、パラトルエンスルホン酸０．２質量部、ジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１２質量部を加え、室温にて３０分攪拌した。更に、ブチラール樹脂（商品名：ＢＸ−Ｌ、積水化学製）０．５質量部を加えて溶解させた後、０．５μｍのフィルターで濾過してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１」という）を得た。
【０２４７】
得られたコーティング液−１を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１４０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１」という）を得た。得られた感光体−１の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例１−２］
先ず、実施例１−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２４８】
次に、実施例１−１と同様にしてコーティング液−１を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−１を用いて、実施例１−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥が僅かに認められたが、プリントテストを行ったところ画質欠陥は認められず、実用上は問題ないレベルであった。
［実施例２−１］
先ず、外周面にホーニング処理を施した円筒状のアルミニウム製基体を用意した。
【０２４９】
次に、ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ５４０、マツモト製薬社製）１００質量部、シラン化合物（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー社製）１０質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）３質量部、イソプロパノール４００部、及びブタノール２００質量部を混合し、下引き層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記アルミニウム製基体の外周面上に浸漬塗布法により塗布し、１５０℃にて、１０分間加熱乾燥し、膜厚０．１５μｍの下引き層を形成した。
【０２５０】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、２７．２°に強い回折ピークを持つチタニルフタロシアニン１質量部をポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学）１質量部及び酢酸ｎ−ブチル１００質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散し、電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記下引き層上に浸漬塗布し、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０２５１】
次に、下記式（ＣＴ−２）で表される電荷輸送性化合物２質量部及び下記式（Ｂ−２）で表される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量５８，０００）３質量部をクロロベンゼン３０部に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１１０℃、４０分の加熱乾燥を行い膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２５２】
【化１８】
2006251771.tif 000076
【０２５３】
【化１９】
2006251771.tif 000077
【０２５４】
次に、表２７中の化合物（ＩＩＩ−１６）２質量部、メチルトリメトキシシラン２質量部、表５６中の化合物（ＸＶ−４）０．５質量部、ヘキサメチルシクロトリシロキサン０．３質量部、メタノール５質量部、及びイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）０．５質量部を混合し、室温で攪拌することにより２４時間保護基の交換反応を行った。その後、ｎ−ブタノール１０質量部、蒸留水０．３質量部を添加し、室温（約２５℃）にて３０分加水分解を行った。
【０２５５】
加水分解後の反応混合物からイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、ジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）０．２質量部、ジイソプロピルアミン０．４３質量部（沸点８４℃、メルク社製）を加え、室温にて３０分攪拌した後、０．５μｍのフィルターで濾過してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２」という）を得た。
【０２５６】
得られたコーティング液−２を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２」という）を得た。得られた感光体−２の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例２−２］
先ず、実施例２−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２５７】
次に、実施例２−１と同様にしてコーティング液−２を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−２を用いて、実施例２−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥が僅かに認められたが、プリントテストを行ったところ画質欠陥は認められず、実用上は問題ないレベルであった。
［実施例３−１］
先ず、実施例１−１と同様に、円筒状のアルミニウム製基体の外周面をセンタレス研磨装置により研磨し、表面粗さをＲａ＝０．６μｍとした。このアルミニウム製基体の洗浄工程として、脱脂処理、２質量％水酸化ナトリウム溶液を用いた１分間のエッチング処理、中和処理、更に純水洗浄を順に行ったものをアルミニウム製基体として用意した。
【０２５８】
酸化亜鉛（商品名：ＳＭＺ−０１７Ｎ、テイカ社製）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー社製）２質量部を添加し、５時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で２時間焼き付けを行った。得られた表面処理酸化亜鉛を蛍光Ｘ線により分析した結果、Ｓｉ元素強度は亜鉛元素強度の１．８×１０−４であった。
【０２５９】
上記の表面処理を施した酸化亜鉛３５質量部、硬化剤（ブロック化イソシアネート、商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１５質量部、ブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学社製）６質量部、及びメチルエチルケトン４４質量部を混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行った。得られた分散液に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、シリコーン樹脂微粒子（商品名：トスパール１３０、ＧＥ東芝シリコーン社製）１７質量部を添加し、下引き層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて上記アルミニウム製基体の外周面上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い膜厚２０μｍの下引き層を形成した。下引き層の表面粗さを、東京精密社製表面粗さ形状測定器サーフコム５７０Ａを使用し、測定距離２．５ｍｍ、走査速度０．３ｍｍ／ｓｅｃで測定し、Ｒｚ値０．２４であった。
【０２６０】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニンの１質量部をポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）１質量部及び酢酸ｎ−ブチル１００質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０２６１】
次に、上記式（ＣＴ−１）で表されるベンジジン化合物２質量部及び上記式（Ｂ−１）で表される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量５９，０００）２．５質量部をクロロベンゼン３５部に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１１０℃、４０分の加熱を行い、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２６２】
次に、表２６中の化合物（ＩＩＩ−１１）２質量部、メチルトリメトキシシラン０．５質量部、コロイダルシリカ０．３質量部、表５６中の化合物（ＸＶ−４）０．５質量部、ヘキサメチルシクロトリシロキサン０．５質量部、メタノール６質量部、及びイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）０．７質量部を混合し、室温で攪拌することにより５時間保護基の交換反応を行った。その後、ｎ−ブタノール１０質量部、蒸留水０．３質量部を添加し、室温（約２５℃）にて３０分加水分解を行った。
【０２６３】
加水分解後の反応混合物からイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、ジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）０．３質量部、ジヘキシルアミン０．０１５質量部（沸点８４℃、メルク社製）を加え、室温にて３０分攪拌した後、０．５μｍのフィルターで濾過してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−３」という）を得た。
【０２６４】
得られたコーティング液−３を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３」という）を得た。得られた感光体−３の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例３−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２６５】
次に、実施例３−１と同様にしてコーティング液−３を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−３を用いて、実施例３−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥が僅かに認められたが、プリントテストを行ったところ画質欠陥は認められず、実用上は問題ないレベルであった。
［実施例４−１］
実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２６６】
次に、表５中の化合物（Ｉ−１）２質量部、テトラメトキシシラン０．５質量部、コロイダルシリカ０．３質量部、表５６中の化合物（ＸＶ−４）１質量部、メタノール６質量部、及びイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）０．５質量部を混合し、室温で攪拌することにより５時間保護基の交換反応を行った。その後、ｎ−ブタノール１０質量部、蒸留水０．３部を添加し、室温（約２５度）にて３０分加水分解を行った。
【０２６７】
加水分解後の反応混合物からイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、ドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＤＢＳＡ）０．３質量部、ジイソブチルアミン（沸点１２９℃、東京化成社製）０．０６７質量部を加え、室温にて３０分攪拌した後、０．５μｍのフィルターで濾過してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−４」という）を得た。
【０２６８】
得られたコーティング液−４を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−４」という）を得た。得られた感光体−４の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例４−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２６９】
次に、実施例４−１と同様にしてコーティング液−４を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−４を用いて、実施例４−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥が僅かに認められたが、プリントテストを行ったところ画質欠陥は認められず、実用上は問題ないレベルであった。
［実施例５−１］
実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２７０】
次に、表２５中の化合物（ＩＩＩ−１）２質量部、メチルトリメトキシシラン２質量部、表５６中の化合物（ＸＶ−４）０．７質量部、及びヘキサメチルシクロトリシロキサン０．３０．３質量部を、ｎ−ブチルアルコール１０質量部及び蒸留水０．３質量部の混合液に溶解させた後、イオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）０．５質量部を加えて室温（約２５度）にて３０分加水分解を行った。
【０２７１】
加水分解後の反応混合物からイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）３）０．１質量部、アセチルアセトナート０．１質量部、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、ドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＤＢＳＡ）０．３質量部、ジイソプロピルアミン０．０５部（沸点８４℃、メルク社製）を加え、室温にて３０分攪拌した後、０．５μｍのフィルターで濾過してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−５」という）を得た。
【０２７２】
得られたコーティング液−５を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−５」という）を得た。得られた感光体−５の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例５−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２７３】
次に、実施例５−１と同様にしてコーティング液−５を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−５を用いて、実施例５−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［比較例１−１］
実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−６」という）を得た。
［比較例２−１］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２７４】
次に、コーティング液−５におけるジイソプロピルアミン０．０５質量部の代わりにジフェニルアミン０．１質量部（２５０℃で液体、東京化成社製）を用いた以外は実施例５と同様にして、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−７」）を調製した。
【０２７５】
得られたコーティング液−７を電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１４０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−７」という）を得た。得られた感光体−６の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［比較例２−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２７６】
次に、比較例２−１と同様にしてコーティング液−７を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−７を用いて、比較例２−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を観察したところ、目視で塗膜欠陥が認められ、実用上問題になることがわかった。
［比較例３−１］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２７７】
次に、コーティング液−５におけるジイソプロピルアミン０．０５質量部の代わりにジオクチルアミン０．１質量部（沸点２９７℃、東京化成社製）を用いた以外は実施例５と同様にして、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−８」）を調製した。
【０２７８】
得られたコーティング液−８を電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１４０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−８」という）を得た。得られた感光体−６の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［比較例３−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２７９】
次に、比較例３−１と同様にしてコーティング液−８を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−８を用いて、比較例３−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥が僅かに認められたが実用上は問題ないレベルであった。
［比較例４−１］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２８０】
次に、コーティング液−５におけるＤＤＢＳＡ０．３質量部及びジイソプロピルアミン０．０５部を除いた組成とした以外は実施例５と同様にして、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−９」という）を調製した。
【０２８１】
得られたコーティング液−９を電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１４０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−９」という）を得た。得られた感光体−６の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥が認められ、更に、プリントテストを行ったところ、画質欠陥が認められた。
［比較例４−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２８２】
次に、比較例４−１と同様にしてコーティング液−９を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−９を用いて、比較例３−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥が認められ、更に、プリントテストを行ったところ、画質欠陥が認められた。
［比較例５−１］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２８３】
次に、コーティング液−５におけるジイソプロピルアミン０．０５部を除いた組成とした以外は実施例５と同様にして、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１０」という）を調製した。
【０２８４】
得られたコーティング液−１０を電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１４０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１０」という）を得た。得られた感光体−６の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、目視で塗膜欠陥が認められ、実用上問題になることがわかった。
［比較例５−２］
比較例５−１と同様にしてコーティング液−１０を調製し、密閉状態で４０℃にて保管したところ、保管開始から２０日経過後でコーティング液−９のゲル化が生じた。
［実施例６−１］
実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２８５】
次に、表１５中の化合物（ＩＩ−１６）２質量部及びフェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）２．２質量部をｎ−ブチルアルコール１０質量部に溶解させた後、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、ドデシルベンゼンジスルホン酸（ＤＤＢＳＡ）０．３質量部、ジイソプロピルアミン０．０５質量部（沸点８４℃、メルク社製）を加え、室温にて３０分攪拌した後、０．５μｍのフィルターで濾過してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１１」という）を得た。
【０２８６】
得られたコーティング液−１１を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１５０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１１」という）を得た。得られた感光体−１１の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例６−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２８７】
次に、実施例６−１と同様にしてコーティング液−１１を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−１１を用いて、実施例６−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例７−１］
実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２８８】
次に、表３３中の化合物（ＩＶ−１）２質量部、メチルトリメトキシシラン２質量部、表５６中の化合物（ＸＶ−４）０．７質量部、及びヘキサメチルシクロトリシロキサン０．３質量部を、ｎ−ブチルアルコール１０質量部及び蒸留水０．３質量部の混合液に溶解させた後、イオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）０．５質量部を加えて室温（約２５℃）にて３０分加水分解を行った。
【０２８９】
加水分解後の反応混合物からイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）３）０．１質量部、アセチルアセトナート０．１質量部、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、ドデシルベンゼンジスルホン酸（ＤＤＢＳＡ）０．３質量部、ジイソプロピルアミン０．０５質量部（沸点８４℃、メルク社製）を加え、室温にて３０分攪拌した後、０．５μｍのフィルターで濾過してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１２」という）を得た。
【０２９０】
得られたコーティング液−１２を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１２」という）を得た。得られた感光体−１２の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例７−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２９１】
次に、実施例７−１と同様にしてコーティング液−１２を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−１２を用いて、実施例７−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例８−１］
実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２９２】
次に、コーティング−１１における化合物（ＩＩ−１６）の代わりに表４３中の化合物（Ｖ−６）を用いたこと以外は実施例６−１と同様にして、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１３」という）を調製した。
【０２９３】
得られたコーティング液−１３を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１５０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１３」という）を得た。得られた感光体−１３の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例８−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２９４】
次に、実施例８−１と同様にしてコーティング液−１３を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−１３を用いて、実施例８−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例９−１］
実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２９５】
次に、コーティング液−１１における化合物（ＩＩ−１６）の代わりに表５２中の化合物（ＶＩ−３）を用いたこと以外は実施例６−１と同様にして、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１４」という）を調製した。
【０２９６】
得られたコーティング液−１４を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１５０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１４」という）を得た。得られた感光体−１４の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例９−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２９７】
次に、実施例９−１と同様にしてコーティング液−１４を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−１４を用いて、実施例９−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例１０−１］
実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０２９８】
次に、コーティング液−１１における化合物（ＩＩ−１６）の代わりに表５２中の化合物（ＶＩ−５）を用いたこと以外は実施例６−１と同様にして、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１５」という）を調製した。
【０２９９】
得られたコーティング液−１５を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１５０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１５」という）を得た。得られた感光体−１５の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例１０−２］
先ず、実施例３−１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３００】
次に、実施例１０−１と同様にしてコーティング液−１５を調製し、密閉状態で４０℃にて保管した。保管開始から２０日経過後のコーティング液−１５を用いて、実施例１０−１と同様にして電荷輸送層上に保護層を形成して電子写真感光体を得た。得られた電子写真感光体の保護層表面を顕微鏡により観察したところ、塗膜欠陥は認められなかった。
［実施例１１〜３０、比較例６〜９］
実施例１１〜３０及び比較例６〜９においては、感光体−１〜１５と現像剤１（ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  ｃｏｌｏｒ  ５００用現像剤）又は現像剤２（ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  ｃｏｌｏｒ  ４００ＣＰ用現像剤）とを表５７又は表５８に示す組合せで用いて画像形成装置を作製した。なお、電子写真感光体及び現像剤以外の要素は富士ゼロックス製プリンターＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  ｃｏｌｏｒ  ５００と同様のものを用いた。
【０３０１】
次に、得られた各画像形成装置を用いてプリント試験を実施した。本試験においては、ノーペーパー単色モードにて、高温高湿（２８℃、８０％ＲＨ）の環境下で５０００枚のプリントを行い、次いで、低温低湿（１０℃、２０％ＲＨ）の条件下５０００枚のプリントを行い、各環境下での初期及び５０００枚目の画質、各環境下でのトナーのクリーニング性、並びに試験後の電子写真感光体表面の傷及び付着物の有無を評価した。
【０３０２】
画質については、拡大顕微鏡を用いて画像を観察し、スジ状欠陥、ゴースト、画像抜け等の有無を評価した。得られた結果を表５７及び表５８に示す。
【０３０３】
また、クリーニング性については、目視にて画像を観察し、以下の評価基準：
Ａ：良好
Ｂ：部分的にスジ等の画質欠陥が認められるが、実用上は問題ない
Ｃ：広範囲に画質欠陥があり、画質上問題がある
に基づいて評価した。得られた結果を表５７及び表５８に示す。
【０３０４】
また、電子写真感光体表面の傷の有無については、目視にて電子写真感光体表面を観察し、以下の評価基準：
Ａ：傷が認められない
Ｂ：部分的に傷が認められるが、画質上は問題ない
Ｃ：傷が認められ、画質上問題がある
に基づいて評価した。得られた結果を表５７及び表５８に示す。
【０３０５】
また、電子写真感光体表面の付着物の有無については、目視にて電子写真感光体表面を観察し、以下の評価基準：
Ａ：付着物が認められない
Ｂ：部分的に付着物が認められるが、画質上は問題ない
Ｃ：付着物が認められ、画質上問題がある
に基づいて評価した。得られた結果を表５７及び表５８に示す。
【０３０６】
【表５７】
2006251771.tif 000078
【０３０７】
【表５８】
2006251771.tif 000079
【０３０８】
［実施例３１］
先ず、外周面にホーニング処理を施した円筒状のアルミニウム製基体を用意した。
【０３０９】
次に、ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ５４０、マツモト製薬社製）１００質量部、シラン化合物（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー社製）１０質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）３質量部、イソプロパノール４００部、及びブタノール２００質量部を混合し、下引き層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記アルミニウム製基体の外周面上に浸漬塗布法により塗布し、１５０℃にて、１０分間加熱乾燥し、膜厚０．１５μｍの下引き層を形成した。
【０３１０】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニンの１質量部をポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）１質量部及び酢酸ｎ−ブチル１００質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１８μｍの電荷発生層を形成した。
【０３１１】
次に、上記式（ＣＴ−１）で示されるベンジジン化合物２質量部及び上記式（Ｂ−１）で示される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量５９，０００）３質量部をクロロベンゼン２０質量部に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１４０℃、４０分の加熱を行い膜厚１０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０３１２】
次に、表２７中の化合物（ＩＩＩ−１６）２質量部、テトラメトキシシラン０．５質量部、コロイダルシリカ０．３質量部、表５６中の化合物（ＸＶ−３）１質量部、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）メチルジメトキシシラン０．１質量部、ヘキサメチルシクロトリシロキサン０．５質量部、メタノール６質量部、及びイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）０．７質量部を混合し、室温で攪拌することにより５時間保護基の交換反応を行った。その後、ｎ−ブタノール１０質量部、蒸留水０．３質量部を添加し、室温（約２５℃）にて３０分加水分解を行った。
【０３１３】
加水分解後の反応混合物からイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、パラトルエンスルホン酸０．２質量部、ジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１２質量部を加え、室温にて３０分攪拌した。更に、ブチラール樹脂（商品名：ＢＸ−Ｌ、積水化学製）０．５質量部を加えて溶解させた後、０．５μｍのフィルターで濾過してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１６」という）を得た。
【０３１４】
得られたコーティング液−１６を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１６」という）を得た。
【０３１５】
次に、感光体−１６を用いて画像形成装置を作製し、実施例１１〜３０と同様のプリント試験を実施した。なお、電子写真感光体以外の要素は富士ゼロックス製プリンターＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  ｃｏｌｏｒ  ５００と同様のものを用いた。得られた結果を表５９に示す。
【０３１６】
また、感光体−１６に対して、以下のようにして光劣化試験を実施した。すなわち、感光体−１６に対して蛍光灯（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ  ｏｓｒａｍ  ルピカ  ＦＬ１５ＥＸ−Ｎ−Ｔ  ＨＬ１５Ｗ  ３波長型昼白色蛍光灯）を用いて１０分間光照射を行った。このとき、光照射部の光量が約１０００ルクスとなるようにした。光照射後の電子写真感光体を、富士ゼロックス社製プリンターＤｏｃｕｃｅｎｔｒｅ  ５００に搭載し、２０％ハーフトーンの画像形成を行った。光照射後の画像形成は１０分後、３０分後、６０分後の３回行ない、得られた画像における感光体の光照射部に対応する部分の濃度変化を観察し、以下の評価基準：
Ａ：１０分後濃度変化が認められない
Ｂ：１０分後濃度変化が僅かに認められるが３０分後には認められない（実用上問題ない）
Ｃ：３０分後濃度変化が僅かに認められるが６０分後には認められない（実用上問題になることがある）
Ｄ：６０分後濃度変化が認められる（実使用上問題あり）
に基づいて光劣化の度合いを評価した。得られた結果を表５９に示す。
［実施例３２］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３１７】
次に、表１０中の化合物（Ｉ−２５）４．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）５．５質量部をブタノール２０質量部に溶解させた後、４５℃で１時間撹拌混合を行い、パラトルエンスルホン酸０．２質量部、ジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１２質量部を加えてコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１７」という）を得た。
【０３１８】
得られたコーティング液−１７を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１７」という）を得た。
【０３１９】
次に、感光体−１７を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
［実施例３３］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３２０】
次に、表１５中の化合物（ＩＩ−１６）４．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＲ−５３１２３、住友化成社製）５．５質量部をブタノール２０質量部に溶解させた後、４５℃で１時間撹拌混合を行い、ドデシルベンゼンスルホン酸０．２質量部及びジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１５質量部を加えてコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１８」という）を得た。
【０３２１】
得られたコーティング液−１８を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１８」という）を得た。
【０３２２】
次に、感光体−１８を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
［実施例３４］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３２３】
次に、表３４中の化合物（ＩＶ−６）３質量部、レゾール型フェノール樹脂（フェノライト５０１０、大日本インキ化学社製）３質量部をブタノール２０質量部に溶解させた後、４５℃で１時間撹拌混合を行い。ドデシルベンゼンスルホン酸０．２質量部を加え、ジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１５質量部を加えてコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−１９」という）を得た。
【０３２４】
得られたコーティング液−１９を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１９」という）を得た。
【０３２５】
次に、感光体−１９を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
［実施例３５］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３２６】
次に、表３３中の化合物（Ｖ−６）３質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−２２１１、群栄化学社製）３質量部をブタノール２０質量部に溶解させた後、４５℃で１時間撹拌混合を行い、パラトルエンスルホン酸０．２質量部及びジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１２質量部を加えてコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２０」という）を得た。
【０３２７】
得られたコーティング液−２０を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２０」という）を得た。
【０３２８】
次に、感光体−２０を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
［実施例３６］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３２９】
次に、表３４中の化合物（Ｖ−１１）３質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）３質量部をブタノール２０質量部に溶解させた後、４５℃で１時間撹拌混合を行い、ドデシルベンゼンスルホン酸０．２質量部及びジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１５質量部を加えてコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２１」という）を得た。
【０３３０】
得られたコーティング液−２１を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２１」という）を得た。
【０３３１】
次に、感光体−２１を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
［実施例３７］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３３２】
次に、表２７中の化合物（ＩＩＩ−１６）２質量部、テトラメトキシシラン０．５質量部、コロイダルシリカ０．３質量部、表５６中の化合物（ＸＶ−３）１質量部、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）メチルジメトキシシラン０．１質量部、ヘキサメチルシクロトリシロキサン０．５質量部、メタノール６質量部、及びイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）０．７質量部を混合し、室温で攪拌することにより５時間保護基の交換反応を行った。その後、ｎ−ブタノール１０質量部、蒸留水０．３質量部を添加し、室温（約２５℃）にて３０分加水分解を行った。
【０３３３】
加水分解後の反応混合物からイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、パラトルエンスルホン酸０．２質量部、ジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１２質量部を加え、４５℃で１時間撹拌混合を行い、更に、ブチラール樹脂（商品名：ＢＸ−Ｌ、積水化学製）０．５質量部を加えて溶解させた後、０．５μｍのフィルターで濾過してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２２」という）を得た。
【０３３４】
得られたコーティング液−２２を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２２」という）を得た。
【０３３５】
次に、感光体−２２を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
［実施例３８］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３３６】
次に、表１０中の化合物（Ｉ−２５）４．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）５．５質量部をブタノール２０質量部に溶解させた後、パラトルエンスルホン酸０．２質量部及びジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１２質量部を加え、４５℃で１時間撹拌混合を行い、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２３」という）を得た。
【０３３７】
得られたコーティング液−２３を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２３」という）を得た。
【０３３８】
次に、感光体−２３を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
［実施例３９］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３３９】
次に、表４３中の化合物（Ｖ−６）３質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−２２１１、群栄化学社製）３質量部をブタノール２０質量部に溶解させた後、パラトルエンスルホン酸０．２質量部及びジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１２質量部を加え４５℃で１時間撹拌混合を行い、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２４」という）を得た。
【０３４０】
得られたコーティング液−２４を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２４」という）を得た。
【０３４１】
次に、感光体−２４を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
［比較例１０］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３４２】
次に、表１５中の化合物（ＩＩ−１６）４．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＲ−５３１２３、住友化成社製）５．５質量部をブタノール２０質量部に溶解させた後、ドデシルベンゼンスルホン酸０．２質量部及びジオクチルアミン（沸点２９７℃、東京化成社製）０．１５質量部を加え４５℃で１時間撹拌混合を行い、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２５」という）を得た。
【０３４３】
得られたコーティング液−２５を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２５」という）を得た。
【０３４４】
次に、感光体−２５を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
［比較例１１］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３４５】
次に、表３４中の化合物（ＩＶ−６）３質量部、レゾール型フェノール樹脂（フェノライト５０１０、大日本インキ化学社製）３質量部をブタノール２０質量部に溶解させた後、ドデシルベンゼンスルホン酸０．２質量部及びジオクチルアミン（沸点２９７℃、東京化成社製）０．１５質量部を加え４５℃で１時間撹拌混合を行い、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２６」という）を得た。
【０３４６】
得られたコーティング液−２６を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２６」という）を得た。
【０３４７】
次に、感光体−２６を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
［比較例１２］
実施例３１と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３４８】
次に、表４４中の化合物（Ｖ−１１）３質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）３質量部をブタノール２０質量部に溶解させた後、ドデシルベンゼンスルホン酸０．２質量部及びジオクチルアミン（沸点２９７℃、東京化成社製）０．１５質量部を加え４５℃で１時間撹拌混合を行い、コーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２７」という）を得た。
【０３４９】
得られたコーティング液−２７を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で１０分風乾した後、１４５℃で４０分間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２７」という）を得た。
【０３５０】
次に、感光体−２７を用いたこと以外は実施例３１と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表５９に示す。
【０３５１】
【表５９】
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【０３５２】
［実施例４０］
先ず、ホーニング処理を施した外径３０ｍｍの円筒状のアルミニウム製基体を用意した。
【０３５３】
次に、ジルコニウム化合物（商品名：オルガノチックスＺＣ５４０、マツモト製薬社製）２０質量部、シラン化合物（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー社製）２．５質量部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）２０質量部及びブタノール４５質量部を混合して下引き層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記アルミニウム製基体の外周面上に浸漬コーティング法で塗布し、１５０℃において１０分間加熱乾燥し膜厚１．０μｍの下引き層を形成した。
【０３５４】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°に回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニンの１５質量部を、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、酢酸ｎ−ブチル３００質量部と混合し、ガラスビーズとともに横型サンドミルで０．５時間分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０３５５】
次に、上記式（ＣＴ−１）で示されるベンジジン化合物２質量部、及び、式（Ｂ−１）で示される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量：３９，０００）３質量部をテトラヒドロフラン１５質量部クロロベンゼン５質量部の混合溶剤に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１３０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０３５６】
次に、表２７中の化合物（ＩＩＩ−１６）５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＬ−４８５２、群栄化学工業（株）製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにパラトルエンスルホン酸０．２質量部を加え、２４℃で１時間攪拌、混合した。その後、ジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１質量部を加え、２４℃で５分間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２８」という）を得た。
【０３５７】
得られたコーティング液−２８を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷輸送層上に浸漬コーティング法で塗布し、１４５℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２８」という）を得た。
【０３５８】
次に、得られた感光体−２８を用いて画像形成装置を作製し、実施例１１〜３０と同様のプリント試験を実施した。なお、電子写真感光体以外の要素は富士ゼロックス製プリンターＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  ｃｏｌｏｒ  ４００ＣＰと同様のものを用いた。得られた結果を表６０に示す。
【０３５９】
また、感光体−２８に対して、以下のようにして光劣化試験を実施した。すなわち、感光体−１８の画像形成領域の半分を遮光紙で覆い、１０００Ｌｕｘの白色光を５分間照射した。次に、光照射後の感光体−１８を上記画像形成装置に搭載し、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）の環境下でハーフトーンの画像を形成し、光照射部及び非光照射部それぞれに対応する画質を比較し、以下の評価基準：
Ａ：光照射部に濃度低下が認められない
Ｂ：光照射部に極軽微な濃度低下が認められるが、実用上問題はない
Ｃ：光照射部に濃度低下が認められ、実用上問題がある
Ｄ：光照射部に強い濃度低下
に基づいて光劣化の度合いを評価した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例４１］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３６０】
次に、表５中の化合物（Ｉ−１）５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＲ−５３１２３、住友ベークライト（株）製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにドデシルベンゼンジスルホン酸０．２質量部を加え、３０℃で１時間攪拌、混合した。その後、ジイソプロピルアミン（沸点８４℃、メルク社製）を０．２質量部加え、２４℃で５分間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−２９」という）を得た。
【０３６１】
得られたコーティング液−２９を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１５０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２９」という）を得た。
【０３６２】
次に、感光体−２９を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例４２］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３６３】
次に、表１１中の化合物（ＩＩ−１）５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：フェノライト５０１０、ＤＩＣ社製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにフェノールスルホン酸０．３質量部を加え、２５℃で１時間攪拌、混合した。その後、ジヘキシルアミン（沸点８４℃、メルク社製）を０．２質量部加え、２４℃で５分間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−３０」という）を得た。
【０３６４】
得られたコーティング液−３０を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１４０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３０」という）を得た。
【０３６５】
次に、感光体−３０を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例４３］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３６６】
次に、表１３中の化合物（ＩＩ−１４）５．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＬ−２２１１、群栄化学工業（株）製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにパラトルエンスルホン酸０．２質量部を加え、３０℃で１時間攪拌、混合した。その後、ジイソブチルアミン（沸点１２９℃、東京化成社製）を０．１５質量部加え、３０℃で５分間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−３１」という）を得た。
【０３６７】
得られたコーティング液−３１を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１５０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３１」という）を得た。
【０３６８】
次に、感光体−３１を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例４４］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３６９】
次に、表４３中の化合物（Ｖ−６）５．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＬ−４８５２、群栄化学工業（株）製）５質量部をシクロヘキサノン７質量部、ブチルアルコール２０質量部の溶剤に溶解させ、さらにドデシルベンゼンジスルホン酸０．２質量部を加え、４０℃で１時間攪拌、混合した。室温まで冷却した後、ジイソプロピルアミン（沸点８４℃、メルク社製）を０．１質量部加え、２５℃で５分間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−３２」という）を得た。
【０３７０】
得られたコーティング液−３２を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１５０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３２」という）を得た。
【０３７１】
次に、感光体−３２を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例４５］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３７２】
次に、表５１中の化合物（Ｖ−５６）６質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＬ−４８５２、群栄化学工業（株）製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにドデシルベンゼンジスルホン酸０．１５質量部を加え、４０℃で１時間攪拌、混合した。室温まで冷却した後、ジイソブチルアミン（沸点１２９℃、東京化成社製）を０．１質量部加え、２５℃で５分間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液―３３」という）を得た。
【０３７３】
得られたコーティング液−３３を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１５０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３３」という）を得た。
【０３７４】
次に、感光体−３３を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例４６］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３７５】
次に、表２７中の化合物（ＩＩＩ−１６）５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＬ−４８５２、群栄化学工業（株）製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにパラトルエンスルホン酸０．２質量部及びジｎ−ブチルアミン（沸点１５９℃、東京化成社製）０．１質量部を加え、２４℃で１時間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−３４」という）を得た。
【０３７６】
得られたコーティング液−３４を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１４０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３４」という）を得た。
【０３７７】
次に、感光体−３４を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例４７］
実施例３９と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３７８】
次に、表５中の化合物（Ｉ−１）５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＲ−５３１２３、住友ベークライト（株）製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）０．２質量部及びジイソプロピルアミン（沸点８４℃、メルク社製）０．１５質量部を加え、３０℃で１時間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−３５」という）を得た。
【０３７９】
得られたコーティング液−３５を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１４５℃で６０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３５」という）を得た。
【０３８０】
次に、感光体−３５を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例４８］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３８１】
次に、表１２中の化合物（ＩＩ−５）５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：フェノライト５０１０、ＤＩＣ社製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）０．３質量部及びジヘキシルアミン（沸点８４℃、メルク社製）０．２質量部を加え、２５℃で１時間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−３６」という）を得た。
【０３８２】
得られたコーティング液−３６を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１５０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３６」という）を得た。
【０３８３】
次に、感光体−３６を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例４９］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３８４】
次に、表１７中の化合物（ＩＩ−２３）５．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＬ−２２１１、群栄化学工業（株）製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）０．２質量部及びジイソブチルアミン（沸点１２９℃、東京化成社製）０．１５質量部を加え、３５℃で１時間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−３７」という）を得た。
【０３８５】
得られたコーティング液−３８を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１３０℃で６０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３７」という）を得た。
【０３８６】
次に、感光体−３７を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例５０］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３８７】
次に、表４３中の化合物（Ｖ−６）５．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＬ−４８５２、群栄化学工業（株）製）５質量部をシクロヘキサノン７質量部、ブチルアルコール２０質量部の溶剤に溶解させ、さらにドデシルベンゼンジスルホン酸０．２質量部及びジイソプロピルアミン（沸点８４℃、メルク社製）０．１５質量部を加え４５℃で１時間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−３８」という）を得た。
【０３８８】
得られたコーティング液−３８を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１４０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３８」という）を得た。
【０３８９】
次に、感光体−３８を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［実施例５１］
実施例３９と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３９０】
次に、表５１中の化合物（Ｖ−５６）６質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＬ−４８５２、群栄化学工業（株）製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにドデシルベンゼンジスルホン酸０．２質量部及びジイソブチルアミン（沸点１２９℃、東京化成社製）０．２質量部を加え、４５℃で１時間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−３９」という）を得た。
【０３９１】
得られたコーティング液−３９を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１５０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３９」という）を得た。
【０３９２】
次に、感光体−３９を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［比較例１３］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３９３】
次に、表４３中の化合物（Ｖ−６）５．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＬ２２１１、群栄化学工業（株）製）５質量部をシクロヘキサノン７質量部、ブチルアルコール２０質量部の溶剤に溶解させ、さらにドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＤＢＳＡ）０．２質量部を加え、４０℃で１時間攪拌、混合した。室温まで冷却した後、ジフェニルアミン（２５０℃で液体、東京化成社製）０．１質量部を加え、２５℃で５分間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−４０」という）を得た。
【０３９４】
得られたコーティング液−４０を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１４５℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−４０」という）を得た。
【０３９５】
次に、感光体−４０を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［比較例１４］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３９６】
次に、表５１中の化合物（Ｖ−５６）６質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＲ５３１２３、住友ベークライト（株）製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにドデシルベンゼンジスルホン酸０．２５質量部を加え、３５℃で１ｈｒ攪拌、混合した。室温まで冷却した後、ジオクチルアミン（沸点２９７℃、東京化成社製）を０．１質量部加え、２５℃で５分間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−４１」という）を得た。
【０３９７】
得られたコーティング液−４１を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１５０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−４１」という）を得た。
【０３９８】
次に、感光体−４１を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［比較例１５］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０３９９】
次に、表４３中の化合物（Ｖ−６）５．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：フェノライト５０１０、ＤＩＣ社製）５質量部をシクロヘキサノン７質量部、ブチルアルコール２０質量部の溶剤に溶解させ、さらにドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＤＢＳＡ）０．２質量部を加え、４０℃で１時間攪拌、混合した。室温まで冷却した後、ジフェニルアミン（２５０℃で液体、東京化成社製）０．２質量部を加え、２５℃で５分間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−４２」という）を得た。
【０４００】
得られたコーティング液−４２を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１４５℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体（以下、「感光体−４２」という）を得た。
【０４０１】
次に、感光体−４２を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
［比較例１６］
実施例４０と同様にして、アルミニウム製基体の外周面上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０４０２】
次に、表５１中の化合物（Ｖ−５６）６質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：ＰＲ５３１２３、住友ベークライト（株）製）５質量部をブチルアルコール２７質量部の溶剤に溶解させ、さらにドデシルベンゼンジスルホン酸０．２質量部及びジオクチルアミン（沸点２９７℃、東京化成社製）０．１５質量部を加え、３５℃で１時間攪拌、混合してコーティング剤組成物（以下、「コーティング液−４３」という）を得た。
【０４０３】
得られたコーティング液−４３を、温度２４℃の塗布室で、前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、次いで１４０℃で４０分熱風乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成して目的の電子写真感光体を得た。
【０４０４】
次に、感光体−４３を用いたこと以外は実施例４０と同様にして画像形成装置を作製し、プリント試験及び光劣化試験を実施した。得られた結果を表６０に示す。
【０４０５】
【表６０】
2006251771.tif 000081
【図面の簡単な説明】
【０４０６】
【図１】本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す要部断面図である。
【図２】本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す概略構成図である。
【図３】本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す概略構成図である。
【図４】本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【０４０７】
１、４０１ａ〜４０１ｄ…電子写真感光体、２…導電性基体、３…感光層、４…下引き層、５…電荷発生層、６…電荷輸送層、７…保護層、２００、２２０…電子写真装置、２０８…帯電装置、２０９…電源、２１０…露光装置、２１１…現像装置、２１２…転写装置、２１３…クリーニング装置、２１４…除電器、２１５…定着装置、２１６…トナー供給装置、２１７…露光のための開口部、２１８…除電露光のための開口部、２１９…取り付けレール、３００…プロセスカートリッジ、４００…ハウジング、４０２ａ〜４０２ｄ…帯電ロール、４０３…レーザー光源（露光装置）、４０４ａ〜４０４ｄ…現像装置、４０５ａ〜４０５ｄ…トナーカートリッジ、４０６…駆動ロール、４０７…テンションロール、４０８…バックアップロール、４０９…中間転写ベルト、４１０ａ〜４１０ｄ…１次転写ロール、４１１…トレイ（被転写媒体トレイ）、４１２…移送ロール、４１３…２次転写ロール、４１４…定着ロール、４１５ａ〜４１５ｄ…クリーニングブレード、４１６…クリーニングブレード、４１７、５００…被転写媒体。
【図１】
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【図２】
2006251771.tif 000086
【図３】
2006251771.tif 000087
【図４】
2006251771.tif 000088