(57)【要約】【課題】  増感剤を併用しなくとも、エネルギー線、特に２５０から４５０ｎｍの波長領域の光に高い感度を有し、ラジカルを触媒とする重合反応、架橋反応などを利用した各種用途に効果的に使用しうる、ラジカル重合開始剤を提供することを目的とする。【解決手段】    下記一般式（１）で表記されるラジカル重合開始剤。  一般式（１）  【化１】2006206799.tif 000051 [式中、Ａは、ヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族環縮合基を表し、Ａｒ1は、基【化２】2006206799.tif 000052（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、水素原子などを表し）を表し、Ｒ1は、アルキル基などであり、Ｒ2は、Ｒ1と同じ意味などを表し、  Ｒ3およびＲ4は、、水素原子などを表す。]【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表記されるラジカル重合開始剤。
一般式（１）
【化１】
2006206799.tif 000045
[式中、Ａは、ヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族環縮合基を表し、Ａｒ1は、基
【化２】
2006206799.tif 000046
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、またはハロゲン原子を表す。また、Ｒ5〜Ｒ9は、一体となって芳香環を形成してもよい。）を表し、
Ｒ1は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、またはアルケニル基であり、
Ｒ2は、Ｒ1と同じ意味を表すか、またはＲ1と一緒になって置換もしくは未置換の、炭素原子数２〜８からなるアルキレン基、または炭素原子数３〜９の、オキサアルキレン基もしくはアザアルキレン基を表し、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、またはＣＯＲ10であるか、または、それらが一緒になって、炭素原子数２〜６のアルキレン基、炭素原子数２〜６の、オキサアルキレン基、チアアルキレン基もしくはアザアルキレン基を表し、
Ｒ10は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基を表す。]
【請求項２】
Ａが、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、または一般式（５）である請求項１記載のラジカル重合開始剤。
一般式（２）
【化３】
2006206799.tif 000047
一般式（３）
【化４】
2006206799.tif 000048
一般式（４）
【化５】
2006206799.tif 000049
一般式（５）
【化６】
2006206799.tif 000050
[式中、Ｙは−Ｏ−、−Ｓ−、＞Ｓ＝Ｏ、＞ＳＯ2、−Ｎ（Ｒ11）−、−ＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、炭素原子数２〜６のアルキリデン基もしくは直接結合を表し、
Ｚは、−Ｏ−、−Ｓ−、＞Ｓ＝Ｏ、＞ＳＯ2、−Ｎ（Ｒ11）−、−ＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、炭素原子数２〜６のアルキリデン基もしくは直接結合を表し、
Ｕは、−Ｏ−、−Ｓ−、または−Ｎ（Ｒ11）−を表し、
Ｖは、窒素原子を表し、
Ｗは、窒素原子を表し、
Ｒ11は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基を表す。]
【請求項３】
Ａが、一般式（２）である請求項２記載のラジカル重合開始剤。
【請求項４】
請求項１〜３いずれか記載のラジカル重合開始剤（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｂ）とを含んでなる重合性組成物。
【請求項５】
請求項４記載の重合性組成物に２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の光を含むエネルギー線を照射して重合させる、重合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は新規なラジカル重合開始剤、重合性組成物、および該重合性組成物を使用した重合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、エネルギー線、特に光の照射によりフリーラジカルを効率よく発生し、発生したラジカルを利用した重合反応あるいは架橋反応により重合性組成物を短時間に確実に重合させて良好な物性を有する重合物を得ることが可能な材料と方法に関し、さらには、成形樹脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カラープルーフ、カラーフィルター用レジスト、ブラックマトリクス用レジスト、液晶用フォトスペーサー、リアプロジェクション用スクリーン材料、光ファイバー、プラズマディスプレー用リブ材、ドライフィルムレジスト、プリント基板用レジスト、ソルダーレジスト、半導体用フォトレジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、マイクロマシン用部品製造用レジスト、エッチングレジスト、マイクロレンズアレー、絶縁材、ホログラム材料、光学スイッチ、導波路用材料、オーバーコート剤、粉末コーティング、接着剤、粘着剤、離型剤、光記録媒体、粘接着剤、剥離コート剤、マイクロカプセルを用いた画像記録材料のための組成物、各種デバイスなどの分野において良好な物性を持った重合物を得るための新規なラジカル重合開始剤、重合性組成物および該重合性組成物を使用した重合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＵＶ光の照射によって、アクリレート等の重合を引き起こす光重合開始剤は広い分野で用いられており、市販の光重合開始剤については、フォトポリマー懇話会編、「感光材料リストブック」、５５〜７２頁、１９９６年（ぶんしん出版）などにまとめられている。
【０００３】
近年、これら市販の光重合開始剤を上回る高い感度を持った光重合開始剤の研究が活発に行われており、その例として、α−アミノアセトフェノン誘導体がある（特許文献１）。上記化合物が、フェニル基の４位にイオウ原子もしくは酸素原子を含有する置換基を有する時、該化合物は、特に例えば、ＵＶ硬化性印刷インクのような顔料を含む光硬化系の光開始剤として適当であることが知られている（特許文献２、３）。フェニル基の４位にアミノ基を有するα−アミノアセトフェノン誘導体は芳香族カルボニル化合物類の光増感剤と合わせて使用されることも知られている（特許文献４）。上記α−アミノアセトフェノン誘導体のフェニル基がN−置換カルバゾール基であるα−アミノケトン誘導体も知られている（特許文献５）。上記α−アミノアセトフェノン誘導体を含む重合性組成物は、少ない光照射量で硬化し得る高感度な重合性組成物であることが知られている。しかし、近年のコストダウンや生産性の向上の観点から、より短時間でより少ない光照射量で硬化し得る高感度な重合性組成物が求められている中にあっては、上記α−アミノアセトフェノン誘導体と芳香族カルボニル化合物類の光増感剤とを合わせて使用した系でさえ、新しく提案される様々なプロセスに対応するには感度が十分とはいえなかった。そこで、高感度な光開始剤として、α位に少なくとも１種のアリル基もしくはアルアルキル基（アリールアルキル基）を含有するα−アミノアセトフェノンを含む重合性組成物が提案された（特許文献６）。また、高感度な光開始剤として、同一分子内に２つの官能基を含有するα−アミノアセトフェノン誘導体も提案された。同一分子内に２つの官能基を含有するα−アミノアセトフェノン誘導体は、高い活性度を示すだけでなく、さらに、揮発性物質を存在させないことも知られている（特許文献７）。しかし、これらのα位に少なくとも１種のアリル基もしくはアルアルキル基を含有するα−アミノアセトフェノン誘導体や同一分子内に２つの官能基を含有するα−アミノアセトフェノン誘導体でさえも、露光領域の大面積化に代表されるような、新しく提案される様々なプロセスに対応するには感度が十分とはいえず、重合開始剤のさらなる高感度化が求められている。
【０００４】
【特許文献１】特開昭５４−９９１８５号公報
【特許文献２】特開昭５８−１５７８０５号公報
【特許文献３】特開昭５９−１６７５４６号公報
【特許文献４】特開昭６０−８４２４８号公報
【特許文献５】特開昭６１−２１１０４号公報
【特許文献６】特開昭６３−２６４５６０号公報
【特許文献７】特表２００２−５３０３７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
これらの重合開始剤を含む重合性組成物は、各種用途において使用され得る。しかし、コストダウンや生産性の向上の観点から、少ない添加量かつ少ない光照射エネルギーで硬化しうる材料、すなわち高感度な材料が求められるようになり、従来公知のラジカル重合開始剤では必ずしも十分とはいえず、更に高感度な重合開始剤が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記の問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明に至った。すなわち本発明は、下記一般式（１）で表記されるラジカル重合開始剤に関する。
一般式（１）
【０００７】
【化１】
2006206799.tif 000002
[式中、Ａは、ヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族環縮合基を表し、Ａｒ1は、基
【０００８】
【化２】
2006206799.tif 000003
【０００９】
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、またはハロゲン原子を表す。また、Ｒ5〜Ｒ9は、一体となって芳香環を形成してもよい。）を表し、
Ｒ1は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、またはアルケニル基であり、
Ｒ2は、Ｒ1と同じ意味を表すか、またはＲ1と一緒になって置換もしくは未置換の、炭素原子数２〜８からなるアルキレン基、または炭素原子数３〜９の、オキサアルキレン基もしくはアザアルキレン基を表し、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、またはＣＯＲ10であるか、または、それらが一緒になって、炭素原子数２〜６のアルキレン基、炭素原子数２〜６の、オキサアルキレン基、チアアルキレン基もしくはアザアルキレン基を表し、
Ｒ10は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基を表す。]
【００１０】
また、本発明はＡが、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、または一般式（５）で表わされる上記されるラジカル重合開始剤に関する。
【００１１】
一般式（２）
【化３】
2006206799.tif 000004
【００１２】
一般式（３）
【化４】
2006206799.tif 000005
【００１３】
一般式（４）
【化５】
2006206799.tif 000006
【００１４】
一般式（５）
【化６】
2006206799.tif 000007
【００１５】
[式中、Ｙは−Ｏ−、−Ｓ−、＞Ｓ＝Ｏ、＞ＳＯ2、−Ｎ（Ｒ11）−、−ＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、炭素原子数２〜６のアルキリデン基もしくは直接結合を表し、
Ｚは、−Ｏ−、−Ｓ−、＞Ｓ＝Ｏ、＞ＳＯ2、−Ｎ（Ｒ11）−、−ＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、炭素原子数２〜６のアルキリデン基もしくは直接結合を表し、
Ｕは、−Ｏ−、−Ｓ−、または−Ｎ（Ｒ11）−を表し、
Ｖは、窒素原子を表し、
Ｗは、窒素原子を表し、
Ｒ11は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基を表す。]
【００１６】
また、本発明は、Ａが、一般式（２）である上記ラジカル重合開始剤に関する。
【００１７】
また、本発明は、上記ラジカル重合開始剤（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｂ）とを含んでなる重合性組成物に関する。
【００１８】
また、本発明は、上記重合性組成物に２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の光を含むエネルギー線を照射して重合させる、重合物の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のラジカル重合開始剤は、従来公知のα−アミノアセトフェノン誘導体のベンゼン環部位を特定の置換基、すなわちベンゾイル、トルオイル、ナフトイルなどの芳香族アシル基を有するヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる芳香族環縮合基に置き替えることにより、エネルギー線、特に２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域に良好な吸収特性を有するようになるとともに、該波長領域の光照射に対して、増感剤を併用しなくとも非常に高感度な光ラジカル発生剤として機能することが可能となっている。そのため、本発明の重合開始剤を使用すれば、従来公知のα−アミノアセトフェノン誘導体の重合開始剤から発生するラジカルを利用した重合反応、架橋反応などをより短時間に確実に実現することが可能となり、結果としてこれらの反応を応用した各種用途の大幅な高感度化や特性の向上を実現することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、詳細にわたって本発明の実施形態を説明する。
【００２１】
まず、本発明のラジカル重合開始剤について説明する。本発明のラジカル重合開始剤の特徴はα−アミノアセトフェノン誘導体のベンゼン環部位を芳香族アシル基により置換されたヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる芳香族基に置き替えた特徴的な構造を有することにより、エネルギー線、特に２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の光照射に対する大幅な高感度化を実現している。
【００２２】
本発明のラジカル重合開始剤は一般式（１）で表記される構造を有しており、α−アミノアセトフェノン誘導体のベンゼン環部位を、芳香族アシル基を有するヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる芳香族環縮合基に置き替えた特徴的な構造を有する。この芳香族環縮合基を導入することにより、本発明の化合物は２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域に好適な光の吸収特性を持つことができる。また、この構造を有することにより、本発明の化合物は該波長領域の光照射に対して、増感剤を併用しなくとも非常に効率的に分解するため、その結果、多量のラジカルを効率的に発生する高感度な材料として機能することが可能となっている。
【００２３】
一般式（１）
【化７】
2006206799.tif 000008
[式中、Ａは、ヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族環縮合基を表し、Ａｒ1は、基
【化８】
2006206799.tif 000009
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、またはハロゲン原子を表す。また、Ｒ5〜Ｒ9は、一体となって芳香環を形成してもよい。）を表し、
Ｒ1は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、またはアルケニル基であり、
Ｒ2は、Ｒ1と同じ意味を表すか、またはＲ1と一緒になって置換もしくは未置換の、炭素原子数２〜８からなるアルキレン基、または炭素原子数３〜９の、オキサアルキレン基もしくはアザアルキレン基を表し、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、またはＣＯＲ10であるか、または、それらが一緒になって、炭素原子数２〜６のアルキレン基、炭素原子数２〜６の、オキサアルキレン基、チアアルキレン基もしくはアザアルキレン基を表し、
Ｒ10は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基を表す。]
【００２４】
本発明の、ラジカル重合開始剤の具体例の１つを化合物（１）として示した。
【００２５】
化合物（１）
【化９】
2006206799.tif 000010
【００２６】
また、化合物（１）のアセトニトリル中の吸収スペクトルを図１に示した。また、比較化合物として従来のα−アミノアセトフェノン誘導体、化合物（１６）の吸収スペクトルも併せて図１に示した。
【００２７】
化合物（１６）
【化１０】
2006206799.tif 000011
【００２８】
図１からわかるように、化合物（１）は、化合物（１６）に比べて、２５０から４５０ｎｍの波長領域に満遍なく吸収特性を持っている。そのため、化合物（１）は化合物（１６）に比べて、２５０から４５０ｎｍの波長領域の照射光を、より多く吸収することができる。
【００２９】
また、本発明のラジカル重合開始剤である化合物（１）は、例えば水銀ランプの輝線の１つに相当する３６５ｎｍにおいてはモル吸光係数が約４２００である比較的透明な材料であるが、該波長の光を照射した場合、α−アミノアセトフェノン誘導体（１６）を単独または増感剤を併用して使用した場合を大幅に凌駕するラジカル発生剤として革新的な機能を有する材料である。
【００３０】
現時点では、光照射に対する大幅な高感度化を実現している機構の詳細は明らかではないが、光照射に対する大幅な高感度化を実現している理由として、以下の２点を考えている。１点目は、ラジカル重合開始剤（Ａ）に対して紫外線領域の光を照射すると、励起〜ラジカル発生のプロセスが、公知のα−アミノアセトフェノン誘導体に比べて、高効率に行われていることである。２点目は、本発明の開始剤の吸収特性である。光照射する光源の波長領域に満遍なく吸収特性を持っているため、ラジカルを発生するために必要な光エネルギーを大量に吸収できるのである。
【００３１】
本発明のラジカル重合開始剤（Ａ）からラジカルを発生するために使用するエネルギー線源は特に限定されないが、特に好適な感度を発現する２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の光を照射できる光源が好ましく、上記波長領域の光と同時に他のエネルギー線を発していても良い。特に好ましい光源としては、２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域に発光の主波長を有する光源であり、具体例としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ、キセノンランプ、パルス発光キセノンランプ等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、重水素ランプ、蛍光灯、Ｎｄ−ＹＡＧ３倍波レーザー、Ｈｅ−Ｃｄレーザー、窒素レーザー、Ｘｅ−Ｃｌエキシマレーザー、Ｘｅ−Ｆエキシマレーザー、半導体励起固体レーザー等の２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域に発光波長を有するレーザーも好適なエネルギー線源として使用することができる。本発明の重合開始剤（Ａ）はいずれも２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域に好適な吸収を有しており置換基によって吸収特性がやや異なるが、上記した光源を適宜選択することにより、非常に高感度なラジカル重合開始剤として機能することが可能である。また、これらの光源は適宜、フィルター、ミラー、レンズ等の光学機器を介して照射することも可能である。
【００３２】
次に、本発明のラジカル重合開始剤の構造について詳細に説明する。
【００３３】
本発明のラジカル重合開始剤はその特性を阻害しない範囲において、一般式（１）に示したように、各種の置換基を導入することが可能である。置換基の導入により、本発明のラジカル重合開始剤は吸収極大波長や透過率などのエネルギー線の吸収特性、併用する樹脂や溶剤に対する溶解度を適当に調整して用いることができる。
【００３４】
一般式（１）における置換基Ｒ1は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、またはアルケニル基であり、詳しくは、炭素原子数１〜１８の線状もしくは枝分かれもしくは環状のアルキル基、またはアルケニル基、炭素原子数４〜１８のアリール基である。
【００３５】
一般式（１）中の置換基Ｒ1における炭素原子数１〜１８の線状もしくは枝分かれもしくは環状のアルキル基としては、炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、４−デシルシクロヘキシル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００３６】
一般式（１）中の置換基Ｒ1における炭素原子数４〜１８のアリール基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素原子数４〜１８の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、１ーナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、１−アセナフチル基、２−フラニル基、２−ピロリル基、９−フルオレニル基、２−フリル基、２−チエニル基、２−インドリル基、３−インドリル基、６−インドリル基、２−ベンゾフリル基、２−ベンゾチエニル基、４−キノリニル基、４−イソキノリル基、２−カルバゾリル基、３−カルバゾリル基、４−カルバゾリル基、９−アクリジニル基、３−フェノチアジニル基、２−フェノキサチイニル基、３−フェノキサジニル基、３−チアントレニル基などが挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００３７】
一般式（１）中の置換基Ｒ1における炭素原子数１〜１８の線状もしくは枝分かれもしくは環状のアルケニル基としては、炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルケニル基が挙げられ、それらは構造中に複数の炭素−炭素二重結合を有していてもよく、具体例としては、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソプロペニル基、イソブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、１，３−ブタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロペンタジエニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
上記置換基のうち、Ｒ1としては合成の難易度の面や、ラジカル発生剤としての感度の点で、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、ベンジル基、ｐ−メチルベンジル基、または２−プロペニル基が特に好ましい。
【００３９】
一般式（１）における置換基Ｒ2は、Ｒ1と同じ意味を表すか、またはＲ1と一緒になって置換もしくは未置換の、炭素原子数２〜８からなるアルキレン基、または炭素原子数３〜９の、オキサアルキレン基もしくはアザアルキレン基である。
【００４０】
一般式（１）中の置換基Ｒ2がＲ1と一緒になって置換もしくは未置換の、炭素原子数２〜８からなるアルキレン基である場合のアルキレン基としては、Ｒ2がＲ1と、それらが結合している炭素原子と一緒になって、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環などを形成することを例として挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４１】
一般式（１）中の置換基Ｒ2がＲ1と一緒になって置換もしくは未置換の、炭素原子数３〜９の、オキサアルキレン基もしくはアザアルキレン基である場合のオキサ−もしくはアザアルキレン基としては、Ｒ2がＲ1と、それらが結合している炭素原子と一緒になって、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、ピペリジン環などを形成することを例として挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
一般式（１）中の置換基Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、またはＣＯＲ10であるか、または、それらが一緒になって、炭素原子数２〜６のアルキレン基、炭素原子数２〜６の、オキサアルキレン基、チアアルキレン基もしくはアザアルキレン基である。
【００４３】
一般式（１）中の置換基Ｒ3およびＲ4における置換もしくは未置換のアルキル基としては、置換基Ｒ1におけるアルキル基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００４４】
一般式（１）中の置換基Ｒ3およびＲ4における置換もしくは未置換のアリール基としては、置換基Ｒ1におけるアリール基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００４５】
一般式（１）中の置換基Ｒ3およびＲ4における置換もしくは未置換のアルケニル基としては、炭素原子数１〜１８の線状もしくは枝分かれもしくは環状のアルケニル基であり、炭素原子数１〜１８の線状もしくは枝分かれのアルケニル基としては、炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルケニル基が挙げられ、それらは構造中に複数の炭素−炭素二重結合を有していてもよく、具体例としては、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソプロペニル基、イソブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、１，３−ブタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロペンタジエニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４６】
一般式（１）中の置換基Ｒ10は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基である。
【００４７】
一般式（１）中の置換基Ｒ10における置換もしくは未置換のアルキル基としては、置換基Ｒ1におけるアルキル基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００４８】
一般式（１）中の置換基Ｒ10における置換もしくは未置換のアリール基としては、置換基Ｒ1におけるアリール基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００４９】
一般式（１）中の置換基Ｒ10における置換もしくは未置換のアルケニル基としては、置換基Ｒ1におけるアルケニル基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００５０】
一般式（１）中の置換基Ｒ10における置換もしくは未置換のアルコキシ基としては、炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルコキシ基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、４−デシルシクロヘキシルオキシ基、２−テトラヒドロフラニルオキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５１】
一般式（１）中の置換基Ｒ10における置換もしくは未置換のアリールオキシ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素原子数４〜１８の単環または縮合多環アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、１ーナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、９−アンスリルオキシ基、９−フェナントリルオキシ基、１−ピレニルオキシ基、５−ナフタセニルオキシ基、１−インデニルオキシ基、２−アズレニルオキシ基、１−アセナフチルオキシ基、９−フルオレニルオキシ基、２−フラニルオキシ基、２−チエニルオキシ基、２−インドリルオキシ基、３−インドリルオキシ基、２−ベンゾフリルオキシ基、２−ベンゾチエニルオキシ基、２−カルバゾリルオキシ基、３−カルバゾリルオキシ基、４−カルバゾリルオキシ基、９−アクリジニルオキシ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５２】
一般式（１）中の置換基Ｒ3およびＲ4が、一緒になって炭素原子数２〜６のアルキレンである場合のアルキレン基としては、Ｒ3がＲ4と、それらが結合している窒素原子と一緒になって、プロピレンイミン環、ピロリジン環、ピペリジン環、またはピペコリン環などを形成することを例として挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５３】
一般式（１）中の置換基Ｒ3およびＲ4が、一緒になって炭素原子数２〜６の、オキサアルキレン基、チアアルキレン基もしくはアザアルキレン基である場合のオキサアルキレン、チアアルキレンもしくはアザアルキレン基としては、Ｒ3がＲ4と、それらが結合している窒素原子と一緒になって、モルホリン環、チオモルホリン環、チアゾリジン環、ピペラジン環、またはホモピペラジン環などを形成することを例として挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５４】
上記置換基のうち、置換基Ｒ3およびＲ4としては合成の難易度の面や、ラジカル発生剤としての感度の点で、アルキル基、アルケニル基、置換基Ｒ3およびＲ4が、一緒になって炭素原子数２〜６のアルキレン基、または一緒になって炭素原子数２〜６の、オキサアルキレン基、チアアルキレン基もしくはアザアルキレン基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、またはピペラジノ基が特に好ましい。
【００５５】
一般式（１）中のＡｒ1は、基
【化１１】
2006206799.tif 000012
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、またはハロゲン原子を表す。また、Ｒ5〜Ｒ9は、一体となって芳香環を形成してもよい。）である。
【００５６】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基、またはハロゲン原子である。
【００５７】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアルキル基としては、置換基Ｒ1におけるアルキル基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００５８】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアリール基としては、置換基Ｒ1におけるアリール基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００５９】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアルケニル基としては、置換基Ｒ1におけるアルケニル基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００６０】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアシル基としては、水素原子または炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニル基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数４〜１８の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニル基が挙げられ、それらは構造中に不飽和結合を有していてもよく、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、シンナモイル基、３−フロイル基、２−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、９−アンスロイル基、５−ナフタセノイル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００６１】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアルコキシ基としては、置換基Ｒ10におけるアルコキシ基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００６２】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアリールオキシ基としては、置換基Ｒ10におけるアリールオキシ基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００６３】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアシルオキシ基としては、水素原子または炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族基が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数４から１８の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、１−ナフトイルオキシ基、２−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、３−フロイルオキシ基、２−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、９−アンスロイルオキシ基、５−ナフタセノイルオキシ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００６４】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアルコキシカルボニルオキシ基としては、炭素原子数１〜１２の炭酸エステル基が挙げられ、具体例としてはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニルオキシ基、１，１−ジエチルプロピルオキシカルボニルオキシ基、１−エチル−２−シクロペンテニルオキシカルボニルオキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシカルボニルオキシ基、１−エチルシクロペンチルオキシカルボニルオキシ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００６５】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアルキルチオ基としては、炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００６６】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアリールチオ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素原子数４〜１８の単環または縮合多環アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、１−ナフチルチオ基、２−ナフチルチオ基、９−アンスリルチオ基、９−フェナントリルチオ基、２−フリルチオ基、２−チエニルチオ基、２−ピロリルチオ基、６−インドリルチオ基、２−ベンゾフリルチオ基、２−ベンゾチエニルチオ基、２−カルバゾリルチオ基、３−カルバゾリルチオ基、４−カルバゾリルチオ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００６７】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、ドデシルアミノ基、オクタデシルアミノ基、イソプロピルアミノ基、イソブチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ｓｅｃ−ペンチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ペンチルアミノ基、ｔｅｒｔ−オクチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、シクロブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、シクロヘプチルアミノ基、シクロオクチルアミノ基、シクロドデシルアミノ基、１−アダマンタミノ基、２−アダマンタミノ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００６８】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基、ジドデシルアミノ基、ジオクタデシルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジイソペンチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、メチルブチルアミノ基、メチルイソブチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００６９】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアリールアミノ基としては、Ｎ−アリールアミノ基、アニリノ基、１−ナフチルアミノ基、２−ナフチルアミノ基、ｏ−トルイジノ基、ｍ−トルイジノ基、ｐ−トルイジノ基、２−ビフェニルアミノ基、３−ビフェニルアミノ基、４−ビフェニルアミノ基、１−フルオレンアミノ基、２−フルオレンアミノ基、２−チアゾールアミノ基、ｐ−ターフェニルアミノ基、インドリノ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００７０】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるジアリールアミノ基としては、ジアリールアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミノ基、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミノ基、イミダゾール基、インドール基、カルバゾール基、ピロール基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００７１】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアルキルアリールアミノ基としては、Ｎ−メチルアニリノ基、Ｎ−メチル−２−ピリジノ基、Ｎ−エチルアニリノ基、Ｎ−プロピルアニリノ基、Ｎ−ブチルアニリノ基、Ｎ−イソプロピル、Ｎ−ペンチルアニリノ基、Ｎ−エチルアニリノ基、Ｎ−メチル−１−ナフチルアミノ基、メチルインドリノ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００７２】
一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。
【００７３】
上記置換基のうち、置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9としては合成の難易度の面や、ラジカル発生剤としての感度の点で、置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9全てが同時に水素原子、置換基Ｒ5がメチル基で置換基Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、およびＲ9が同時に水素原子、置換基Ｒ9がメチル基で置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、およびＲ8が同時に水素原子、置換基Ｒ7がメチル基で置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ8、およびＲ9が同時に水素原子、である場合が特に好ましい。
【００７４】
つまり、一般式（１）中のＡｒ1のうち特に好ましい構造としては、下記構造の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9全てが同時に水素原子、置換基Ｒ5がメチル基で置換基Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、およびＲ9が同時に水素原子、置換基Ｒ9がメチル基で置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、およびＲ8が同時に水素原子、置換基Ｒ7がメチル基で置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ8、およびＲ9が同時に水素原子、である。
【化１２】
2006206799.tif 000013
【００７５】
一般式（１）中のＡｒ1がアルキル基である場合は、本発明のラジカル重合開始剤に比べて、感度の面で劣る。つまり、高感度化のためには、本発明のように、Ａｒ1が芳香族基であることが必要である。
【００７６】
一般式（１）中のＡは、ヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族環縮合基である。
【００７７】
本発明において、芳香族環縮合基とは、２つ以上の環が縮合したものであって、少なくとも１つの環が芳香族環であるものを示す。特に、前記芳香族環は、一般式（１）の２つのカルボニル基のうちの少なくとも一方と共役するように結合していることが好ましい。
一般式（１）中のＡにおけるヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族環縮合基としては、特に限定はなく、ヘテロ原子の種類、ヘテロ原子の数、ヘテロ原子の置換位置についても特に限定はない。
【００７８】
一般式（１）中のＡにおけるヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族基におけるヘテロ原子の種類は、特に限定はないのだが、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましい。
【００７９】
一般式（１）中のＡにおけるヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族基におけるヘテロ原子の数は、特に限定はないのだが、０〜４個が好ましい。
【００８０】
一般式（１）中のＡにおけるヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族基におけるヘテロ原子の置換位置は、特に限定はないのだが、Ａの含む芳香族環と一般式（１）の２つのカルボニル基のうちの少なくとも一方との共役を遮らないように結合していることが好ましい。
【００８１】
一般式（１）中のＡにおけるヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントレニル基、ナフタセニル基、ピレニル基、フェニルナフチル基、インデニル基、アズレニル基、アセナフチレニル基、アセナフテニル基、フラニル基、ピロリル基、チエニル基、インドリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、インデニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基、フルオレニル基ジベンゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジオキシニル基、フェノキサチイニル基、フェノチアジニル基、チアントレニル基、キサンテニル基、チオキサンテニル基、フェノキサジニル基、フェナジニル基、アクリジニル基、キサントニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズイミダゾリル基、インダゾリル基、１，２−ベンズイソキサゾリル基、フェナナントリジニル基、フェナントロリニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、イミノスチルベニル基、アクリドニル基、トリフェニルアミン基、Ｎ−フェニルピロリル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００８２】
一般式（１）中のＡにおけるヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族基の好ましい例としては、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、または一般式（５）である。
【００８３】
一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、または一般式（５）中の置換基Ｒ11は、置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基である。
【００８４】
一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、または一般式（５）中の置換基Ｒ11における置換もしくは未置換の、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基としては、置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。
【００８５】
一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、または一般式（５）としては、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、インデニル基、カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基、フルオレニル基ジベンゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジオキシニル基、フェノキサチイニル基、フェノチアジニル基、チアントレニル基、キサンテニル基、チオキサンテニル基、フェノキサジニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズイミダゾリル基、インダゾリル基、１，２−ベンズイソキサゾリル基、イミノスチルベニル基、キサントニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００８６】
一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、または一般式（５）のうち、合成の難易度の面や、ラジカル発生剤としての感度の点で、カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基、フルオレニル基ジベンゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジオキシニル基、フェノキサチイニル基、フェノチアジニル基、チアントレニル基、キサンテニル基、チオキサンテニル基、フェノキサジニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズイミダゾリル基、インダゾリル基である場合が特に好ましい。
【００８７】
つまり、一般式（１）中のＡにおけるヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族基の特に好ましい例としては、カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基、フルオレニル基ジベンゾ〔ｂ，ｅ〕〔１，４〕ジオキシニル基、フェノキサチイニル基、フェノチアジニル基、チアントレニル基、キサンテニル基、チオキサンテニル基、フェノキサジニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズイミダゾリル基、インダゾリル基である。
【００８８】
上述した一般式（１）中の置換基Ｒ1Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、およびＲ11における置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよく、そのような他の置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基などを挙げることができる。
【００８９】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基としては炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、４−デシルシクロヘキシル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９０】
アリール基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素原子数４〜１８の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、１ーナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、１−アセナフチル基、２−フラニル基、２−ピロリル基、９−フルオレニル基、２−フリル基、２−チエニル基、２−インドリル基、３−インドリル基、６−インドリル基、２−ベンゾフリル基、２−ベンゾチエニル基、４−キノリニル基、４−イソキノリル基、２−カルバゾリル基、３−カルバゾリル基、４−カルバゾリル基、９−アクリジニル基、３−フェノチアジニル基、２−フェノキサチイニル基、３−フェノキサジニル基、３−チアントレニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９１】
アシル基としては、水素原子または炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニル基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数４〜１８の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニル基が挙げられ、それらは構造中に不飽和結合を有していてもよく、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、シンナモイル基、３−フロイル基、２−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、９−アンスロイル基、５−ナフタセノイル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９２】
アルコキシ基としては、炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルコキシ基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、４−デシルシクロヘキシルオキシ基、２−テトラヒドロフラニルオキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９３】
アリールオキシ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素原子数４〜１８の単環または縮合多環アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、１ーナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、９−アンスリルオキシ基、９−フェナントリルオキシ基、１−ピレニルオキシ基、５−ナフタセニルオキシ基、１−インデニルオキシ基、２−アズレニルオキシ基、１−アセナフチルオキシ基、９−フルオレニルオキシ基、２−フラニルオキシ基、２−チエニルオキシ基、２−インドリルオキシ基、３−インドリルオキシ基、２−ベンゾフリルオキシ基、２−ベンゾチエニルオキシ基、２−カルバゾリルオキシ基、３−カルバゾリルオキシ基、４−カルバゾリルオキシ基、９−アクリジニルオキシ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９４】
アシルオキシ基としては、水素原子または炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数４〜１８の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、１−ナフトイルオキシ基、２−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、３−フロイルオキシ基、２−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、９−アンスロイルオキシ基、５−ナフタセノイルオキシ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９５】
アルキルチオ基としては、炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９６】
アリールチオ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素原子数４〜１８の単環または縮合多環アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、１−ナフチルチオ基、２−ナフチルチオ基、９−アンスリルチオ基、９−フェナントリルチオ基、２−フリルチオ基、２−チエニルチオ基、２−ピロリルチオ基、６−インドリルチオ基、２−ベンゾフリルチオ基、２−ベンゾチエニルチオ基、２−カルバゾリルチオ基、３−カルバゾリルチオ基、４−カルバゾリルチオ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９７】
アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、ドデシルアミノ基、オクタデシルアミノ基、イソプロピルアミノ基、イソブチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ｓｅｃ−ペンチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ペンチルアミノ基、ｔｅｒｔ−オクチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、シクロブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、シクロヘプチルアミノ基、シクロオクチルアミノ基、シクロドデシルアミノ基、１−アダマンタミノ基、２−アダマンタミノ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９８】
ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基、ジドデシルアミノ基、ジオクタデシルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジイソペンチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、メチルブチルアミノ基、メチルイソブチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００９９】
アリールアミノ基としては、Ｎ−アリールアミノ基、アニリノ基、１−ナフチルアミノ基、２−ナフチルアミノ基、ｏ−トルイジノ基、ｍ−トルイジノ基、ｐ−トルイジノ基、２−ビフェニルアミノ基、３−ビフェニルアミノ基、４−ビフェニルアミノ基、１−フルオレンアミノ基、２−フルオレンアミノ基、２−チアゾールアミノ基、ｐ−ターフェニルアミノ基、インドリノ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１００】
ジアリールアミノ基としては、ジアリールアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミノ基、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミノ基、イミダゾール基、インドール基、カルバゾール基、ピロール基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０１】
アルキルアリールアミノ基としては、Ｎ−メチルアニリノ基、Ｎ−メチル−２−ピリジノ基、Ｎ−エチルアニリノ基、Ｎ−プロピルアニリノ基、Ｎ−ブチルアニリノ基、Ｎ−イソプロピル、Ｎ−ペンチルアニリノ基、Ｎ−エチルアニリノ基、Ｎ−メチル−１−ナフチルアミノ基、メチルインドリノ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０２】
以下に具体的な構造を示すが、本発明のラジカル重合開始剤の構造はそれらに限定されるものではない。
【０１０３】
【化１３】
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【０１０４】
【化１４】
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【０１０５】
【化１５】
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【０１０６】
【化１６】
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【０１０７】
【化１７】
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【０１０８】
【化１８】
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【０１０９】
【化１９】
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【０１１０】
【化２０】
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【０１１１】
【化２１】
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【０１１２】
【化２２】
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【０１１３】
【化２３】
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【０１１４】
【化２４】
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【０１１５】
【化２５】
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【０１１６】
【化２６】
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【０１１７】
【化２７】
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【０１１８】
【化２８】
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【０１１９】
【化２９】
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【０１２０】
【化３０】
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【０１２１】
【化３１】
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【０１２２】
【化３２】
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【０１２３】
【化３３】
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【０１２４】
【化３４】
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【０１２５】
【化３５】
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【０１２６】
【化３６】
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【０１２７】
【化３７】
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【０１２８】
本発明のラジカル重合開始剤を得るための合成方法は特に限定されず、従来公知の化学反応、後処理方法、精製方法および分析方法を適宜、組み合わせることにより、容易に合成して構造確認することが可能である。α−アミノアセトフェノン誘導体の合成方法は、ヨーロッパ特許出願公開第３００２号明細書、特開昭５８−１５７８０５号公報、特開昭６３−２６４５６０号公報などに記載の方法などが挙げられ、これらに記載の合成に使用されている原料を適宜、置き換えることにより、本発明のラジカル重合開始剤を合成することが可能である。
【０１２９】
本発明のラジカル重合開始剤はエネルギー線、特に２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の光照射により、非常に高感度なラジカル重合開始剤として機能するため、従来公知のα−アミノアセトフェノン誘導体系ラジカル重合開始剤を用いる重合反応、架橋反応などをより短時間に確実に実現することが可能となり、結果としてこれらの反応を応用した各種用途の大幅な高感度化や特性の向上を実現することが可能となる。以下に本発明のラジカル重合開始剤の利用方法について記述する。
【０１３０】
本発明のラジカル重合開始剤（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｂ）とを含む組成物はエネルギー線、特に２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の光の照射により、迅速かつ確実に硬化し、良好な特性を有する硬化物を得ることが可能な重合性組成物として使用することができる。
【０１３１】
本発明の重合性組成物に用いるラジカル重合性化合物（Ｂ）について説明する。本発明におけるラジカル重合性化合物（Ｂ）とは、分子中にラジカル重合可能な骨格を少なくとも一つ以上を有する化合物を意味する。また、これらは、いずれも常温、常圧で液体ないし固体のモノマー、オリゴマーないしポリマーの化学形態を持つものである。
【０１３２】
このようなラジカル重合性化合物（Ｂ）の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸およびそれらの塩、エステル、酸アミドや酸無水物があげられ、さらには、ウレタンアクリレート、アクリロニトリル、スチレン誘導体、種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウレタンなどがあげられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下に、本発明におけるラジカル重合性化合物（Ｂ）の具体例をあげる。
【０１３３】
アクリレート類の例：
単官能アルキルアクリレート類の例：
メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、イソアミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート。
【０１３４】
単官能含ヒドロキシアクリレート類の例：
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アリルオキシプロピルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート。
【０１３５】
単官能含ハロゲンアクリレート類の例：
２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、１Ｈ−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、２，６−ジブロモ−４−ブチルフェニルアクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチルアクリレート、２，４，６−トリブロモフェノール３ＥＯ付加アクリレート。
【０１３６】
単官能含エーテル基アクリレート類の例：
２−メトキシエチルアクリレート、１，３−ブチレングリコールメチルエーテルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコール＃４００アクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキシトリプロピレングリコールアクリレート、メトキシポリプロピレングリコールアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、クレジルポリエチレングリコールアクリレート、ｐ−ノニルフェノキシエチルアクリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、グリシジルアクリレート。
【０１３７】
単官能含カルボキシルアクリレート類の例：
β−カルボキシエチルアクリレート、こはく酸モノアクリロイルオキシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート。
【０１３８】
その他の単官能アクリレート類の例：
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリレート、モルホリノエチルアクリレート、トリメチルシロキシエチルアクリレート、ジフェニル−２−アクリロイルオキシエチルホスフェート、２−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性−２−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート。
【０１３９】
二官能アクリレート類の例：
１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール＃２００ジアクリレート、ポリエチレングリコール＃３００ジアクリレート、ポリエチレングリコール＃４００ジアクリレート、ポリエチレングリコール＃６００ジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコール＃４００ジアクリレート、ポリプロピレングリコール＃７００ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールビス（２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピル）エーテル、ビス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノベンゾエート、ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、水素化ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性水素化ビスフェノールＡジアクリレート、ＰＯ変性水素化ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＦジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ＥＯ変性テトラブロモビスフェノールＡジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート。
【０１４０】
三官能アクリレート類の例：
グリセリンＰＯ変性トリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ε−カプロラクトン変性トリアクリレート、１，３，５−トリアクリロイルヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレートトリプロピオネート。
【０１４１】
四官能以上のアクリレート類の例：
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルテトラアクリレート、トリス（アクリロイルオキシ）ホスフェート。
【０１４２】
メタクリレート類の例：
単官能アルキルメタクリレート類の例：
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソアミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、デシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート。
【０１４３】
単官能含ヒドロキシメタクリレート類の例：
２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アリルオキシプロピルメタクリレート、２−メタクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート。
【０１４４】
単官能含ハロゲンメタクリレート類の例：
２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、１Ｈ−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、２，６−ジブロモ−４−ブチルフェニルメタクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチルメタクリレート、２，４，６−トリブロモフェノール３ＥＯ付加メタクリレート。
【０１４５】
単官能含エーテル基メタクリレート類の例：
２−メトキシエチルメタクリレート、１，３−ブチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール＃４００メタクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、メトキシトリプロピレングリコールメタクリレート、メトキシポリプロピレングリコールメタクリレート、エトキシジエチレングリコールメタクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、クレジルポリエチレングリコールメタクリレート、ｐ−ノニルフェノキシエチルメタクリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、グリシジルメタクリレート。
【０１４６】
単官能含カルボキシルメタクリレート類の例：
β−カルボキシエチルメタクリレート、こはく酸モノメタクリロイルオキシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレート、２−メタクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−メタクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−メタクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−メタクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート。
【０１４７】
その他の単官能メタクリレート類の例：
ジメチルアミノメチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、モルホリノエチルメタクリレート、トリメチルシロキシエチルメタクリレート、ジフェニル−２−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、２−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性−２−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート。
【０１４８】
二官能メタクリレート類の例：
１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコール＃２００ジメタクリレート、ポリエチレングリコール＃３００ジメタクリレート、ポリエチレングリコール＃４００ジメタクリレート、ポリエチレングリコール＃６００ジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコール＃４００ジメタクリレート、ポリプロピレングリコール＃７００ジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル）エーテル、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモノベンゾエート、２,２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＡジメタクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、水素化ビスフェノールＡジメタクリレート、ＥＯ変性水素化ビスフェノールＡジメタクリレート、ＰＯ変性水素化ビスフェノールＡジメタクリレート、ビスフェノールＦジメタクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジメタクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＦジメタクリレート、ＥＯ変性テトラブロモビスフェノールＡジメタクリレート、トリシクロデカンジメチロールジメタクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジメタクリレート。
【０１４９】
三官能メタクリレート類の例：
グリセリンＰＯ変性トリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリメタクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリメタクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリメタクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ε−カプロラクトン変性トリメタクリレート、１，３，５−トリメタクリロイルヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレートトリプロピオネート。
【０１５０】
四官能以上のメタクリレート類の例：
ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、オリゴエステルテトラメタクリレート、トリス（メタクリロイルオキシ）ホスフェート。
【０１５１】
アリレート類の例：
アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、イソシアヌル酸トリアリレート。
【０１５２】
酸アミド類の例：
アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、ジアセトンメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、メタクリロイルモルホリン。
【０１５３】
スチレン類の例：
スチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニルスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン。
【０１５４】
他のビニル化合物の例：
酢酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバル酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、アジピン酸ジビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニル、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなど。
【０１５５】
上記のラジカル重合性化合物（Ｂ）は、以下に示すメーカーの市販品として、容易に入手することができる。例えば、共栄社油脂化学工業（株）社製の「ライトアクリレート」、「ライトエステル」、「エポキシエステル」、「ウレタンアクリレート」および「高機能性オリゴマー」シリーズ、新中村化学（株）社製の「ＮＫエステル」および「ＮＫオリゴ」シリーズ、日立化成工業（株）社製の「ファンクリル」シリーズ、東亞合成化学（株）社製の「アロニックスＭ」シリーズ、大八化学工業（株）社製の「機能性モノマー」シリーズ、大阪有機化学工業（株）社製の「特殊アクリルモノマー」シリーズ、三菱レイヨン（株）社製の「アクリエステル」および「ダイヤビームオリゴマー」シリーズ、日本化薬（株）社製の「カヤラッド」および「カヤマー」シリーズ、（株）日本触媒社製の「アクリル酸／メタクリル酸エステルモノマー」シリーズ、日本合成化学工業（株）社製の「ＮＩＣＨＩＧＯ−ＵＶ紫光ウレタンアクリレートオリゴマー」シリーズ、信越酢酸ビニル（株）社製の「カルボン酸ビニルエステルモノマー」シリーズ、（株）興人社製の「機能性モノマー」シリーズなどがあげられる。
【０１５６】
また以下に示す環状化合物もラジカル重合性化合物（Ｂ）としてあげられる。
三員環化合物の例：
ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション（J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.）、第１７巻、３１６９頁（１９７９年）記載のビニルシクロプロパン類、マクロモレキュラー・ケミー・ラピッド・コミュニケーション（Makromol.Chem.Rapid Commun.）、第５巻、６３頁（１９８４年）記載の１−フェニル−２−ビニルシクロプロパン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション（J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.）、第２３巻、１９３１頁（１９８５年）およびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション（J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.）、第２１巻、４３３１頁（１９８３年）記載の２−フェニル−３−ビニルオキシラン類、日本化学会第５０春期年会講演予稿集、１５６４頁（１９８５年）記載の２，３−ジビニルオキシラン類。
【０１５７】
環状ケテンアセタール類の例：
ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション（J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.）、第２０巻、３０２１頁（１９８２年）およびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション（J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.）、第２１巻、３７３頁（１９８３年）記載の２−メチレン−１，３−ジオキセパン、ポリマー・プレプレプリント（Polym.Preprints）、第３４巻、１５２頁（１９８５年）記載のジオキソラン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション（J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.）、第２０巻、３６１頁（１９８２年）、マクロモレキュラー・ケミー（Makromol.Chem.）、第１８３巻、１９１３頁（１９８２年）およびマクロモレキュラー・ケミー（Makromol.Chem.）、第１８６巻、１５４３頁（１９８５年）記載の２−メチレン−４−フェニル−１，３−ジオキセパン、マクロモレキュルズ（Macromolecules）、第１５巻、１７１１頁（１９８２年）記載の４，７−ジメチル−２−メチレン−１，３−ジオキセパン、ポリマー・プレプレプリント（Polym.Preprints）、第３４巻、１５４頁（１９８５年）記載の５，６−ベンゾ−２−メチレン−１，３−ジオセパン。
【０１５８】
さらに、ラジカル重合性化合物（Ｂ）は、以下に示す文献に記載のものもあげることができる。例えば、山下晋三ら編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年、大成社）や加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」、（１９８５年、高分子刊行会）、ラドテック研究会編、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技術」、（１９８７年、シーエムシー）、遠藤剛編、「熱硬化性高分子の精密化」、（１９８６年、シーエムシー）、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）、ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、（２００２年、シーエムシー）があげられる。
【０１５９】
本発明のラジカル重合性化合物（Ｂ）は、ただ一種のみ用いても、所望とする特性を向上するために任意の比率で二種以上混合したものを用いても構わない。
【０１６０】
さらに本発明の重合性組成物は、いわゆるアルカリ現像型のフォトレジスト材料として画像形成用に用いる等の目的のために、下記に示すカルボキシル基含有ポリマー（Ｃ）を添加して用いても良い。カルボキシル基含有ポリマー（Ｃ）はアルカリ水溶液に対する溶解性を有するため、本発明の光重合性組成物を用いて作成した膜を部分的に硬化すれば、アルカリ水溶液に対する溶解度の違いから、いわゆるネガ型レジストのパターンを形成することが可能である。ここでカルボキシル基含有ポリマー（Ｃ）とは、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルとアクリル酸との共重合体、メタアクリル酸エステルとメタアクリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとの共重合体が挙げられる。これらの共重合体は単独であるいは２種以上混合しても差し支えない。
【０１６１】
ここで、メタアクリル酸エステルとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルへキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレートなどが挙げられる。
【０１６２】
メタアクリル酸エステルとメタアクリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとしては、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、テトラヒドリフルフリルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、アクリルアミド、スチレンなどが挙げられる。
【０１６３】
本発明の重合開始剤（Ａ）は、ラジカル重合性化合物（Ｂ）１００重量部に対して０．０１から６０重量部の範囲で用いるのが好ましい。またカルボキシル基含有ポリマー（Ｃ）は、ラジカル重合性化合物（Ｂ）１００重量部に対して２０から５００重量部の範囲で用いるのが好ましく、さらに５０から１５０重量部の範囲で用いるのがより好ましい。
【０１６４】
本発明の重合性組成物は、成膜性を高めるため有機高分子重合体等のバインダーと混合し、ガラス板やアルミニウム板、その他の金属板、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンなどのポリマーフィルムに塗布して使用することが可能である。
【０１６５】
本発明の重合性組成物と混合して使用可能なバインダーとしては、ポリアクリレート類、ポリ−α−アルキルアクリレート類、ポリアミド類、ポリビニルアセタール類、ポリホルムアルデヒド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビニルエステル類等の重合体、共重合体があげられ、さらに具体的には、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセテート、ノボラック樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂その他、赤松清監修、「新・感光性樹脂の実際技術」、（シーエムシー、１９８７年）や「１０１８８の化学商品」、６５７〜７６７頁（化学工業日報社、１９８８年）記載の業界公知の有機高分子重合体があげられる。
【０１６６】
本発明の重合性組成物は、粘度調整をはじめとする塗工適正の向上等を目的として、必要に応じて溶媒を添加して使用することも可能である。本発明の重合性組成物に添加して使用することのできる溶媒は特に限定されず、本発明の重合性組成物と均一に混合することのできる溶媒であればいかなるものも使用可能である。例えば、アルコール系、ケトン系、エステル系、芳香族系、炭化水素系、ハロゲン化炭化水素系などの公知の溶媒などがあげられるが、これらに限定されるものではない。
【０１６７】
また、本発明の重合性組成物は他の増感剤を用いなくとも十分な感度を有しているが、さらに感度向上や硬化後の膜特性を向上させる目的で、増感剤や他の光重合開始剤と併用することが可能である。
【０１６８】
本発明の重合性組成物と混合して併用可能な増感剤としては、ベンゾフェノン類、カルコン誘導体やジベンザルアセトンなどに代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノンなどに代表される１，２−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ−ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体などが挙げられ、その他さらに具体例には大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１９８６年、講談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化学」（１９８１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」（１９８６年、シーエムシー）に記載の色素および増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す色素や増感剤が挙げられ、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いてもかまわない。上記、増感剤の中でチオキサントン誘導体としては、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどを挙げることができ、ベンゾフェノン類としては、ベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４，４’−ジメチルベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどを挙げることができ、クマリン類としては、クマリン１、クマリン３３８、クマリン１０２などを挙げることができ、ケトクマリン類としては、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１６９】
本発明の重合性組成物と混合して併用可能な他の重合開始剤としては、イルガキュアー６５１、イルガキュアー１８４、ダロキュアー１１７３、イルガキュアー５００、イルガキュアー１０００、イルガキュアー２９５９、イルガキュアー９０７、イルガキュアー３６９、イルガキュアー３７９、イルガキュアー１７００、イルガキュアー１４９、イルガキュアー１８００、イルガキュアー１８５０、イルガキュアー８１９、イルガキュアー７８４、イルガキュアー２６１、イルガキュアーＯＸＥ−０１（ＣＧＩ１２４）、ＣＧＩ２４２（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社）、アデカオプトマーＮ１４１４、アデカオプトマーＮ１７１７（旭電化社）、Ｅｓａｃｕｒｅ１００１Ｍ（Lamberti社）、特公昭５９−１２８１号公報、特公昭６１−９６２１号公報ならびに特開昭６０−６０１０４号公報記載のトリアジン誘導体、特開昭５９−１５０４号公報ならびに特開昭６１−２４３８０７号公報記載の有機過酸化物、特公昭４３−２３６８４号公報、特公昭４４−６４１３号公報、特公昭４７−１６０４号公報ならびにＵＳＰ第３５６７４５３号明細書記載のジアゾニウム化合物公報、ＵＳＰ第２８４８３２８号明細書、ＵＳＰ第２８５２３７９号明細書ならびにＵＳＰ第２９４０８５３号明細書記載の有機アジド化合物、特公昭３６−２２０６２号公報、特公昭３７−１３１０９号公報、特公昭３８−１８０１５号公報ならびに特公昭４５−９６１０号公報記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２号公報、特開昭５９−１４０２０３号公報ならびに「マクロモレキュルス(MACROMOLECULES)」、第１０巻、第１３０７頁（１９７７年）記載のヨードニウム化合物をはじめとする各種オニウム化合物、特開昭５９−１４２２０５号公報記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４０号公報、ヨーロッパ特許第１０９８５１号明細書、ヨーロッパ特許第１２６７１２号明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス(J.IMAG.SCI.)」、第３０巻、第１７４頁（１９８６年）記載の金属アレン錯体、特開昭６１−１５１１９７号公報記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(COORDINATION CHEMISTRY REVIEW)」、第８４巻、第８５〜第２７７頁（１９８８年）ならびに特開平２−１８２７０１号公報記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平３−２０９４７７号公報記載のアルミナート錯体、特開平２−１５７７６０号公報記載のホウ酸塩化合物、特開昭５５−１２７５５０号公報ならびに特開昭６０−２０２４３７号公報記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、四臭化炭素や特開昭５９−１０７３４４号公報記載の有機ハロゲン化合物、特開平５−２１３８６１号公報、特開平５−２５５３４７号公報、特開平５−２５５４２１号公報、特開平６−１５７６２３号公報、特開２０００−３４４８１２号公報、特開２００２−２６５５１２号公報、特願２００４−０５３００９号公報、ならびに特願２００４−２６３４１３号公報記載のスルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体、特開２００１−２６４５３０号公報、特開２００１−２６１７６１���公報、特開２０００−８００６８号公報、特開２００１−２３３８４２号公報、ＵＳＰ３５５８３０９号明細書（１９７１年）、ＵＳＰ４２０２６９７号明細書（１９８０年）、特開昭６１−２４５５８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、ならびに特開２００４−３５９６３９号公報記載のオキシムエステル化合物、特表２００２−５３０３７２号公報記載のニ官能性光開始剤などが挙げられ、これらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物１００重量部に対して０．０１から４０重量部の範囲で含有されるのが好ましい。
【０１７０】
また、本発明の重合性組成物は保存時の重合を防止する目的で熱重合防止剤を添加することが可能である。
【０１７１】
本発明の重合性組成物に添加可能な熱重合防止剤の具体例としては、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジンなどをあげることができ、これらの熱重合防止剤は、ラジカル重合性化合物（Ｂ）１００重量部に対して０．００１から５重量部の範囲で添加されるのが好ましい。
【０１７２】
また、本発明の重合性組成物はさらに重合を促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィドなどに代表される重合促進剤や連鎖移動触媒を添加することが可能である。
【０１７３】
本発明の重合性組成物に添加可能な重合促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、Ｎ−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のアミン類、ＵＳＰ第４４１４３１２号明細書や特開昭６４−１３１４４号公報記載のチオール類、特開平２−２９１５６１号公報記載のジスルフィド類、ＵＳＰ第３５５８３２２号明細書や特開昭６４−１７０４８号公報記載のチオン類、特開平２−２９１５６０号公報記載のＯ−アシルチオヒドロキサメートやＮ−アルコキシピリジンチオン類があげられる。
【０１７４】
本発明の重合性組成物はさらに目的に応じて、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ防止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、界面活性剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、色素前駆体、紫外線吸収剤、発砲剤、防カビ剤、帯電防止剤、磁性体やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈溶剤などと混合して使用しても良い。
【０１７５】
本発明の重合性組成物は重合反応に際して、紫外線や可視光線、近赤外線等、電子線等によるエネルギーの付与により重合し、目的とする重合物を得ることが可能であるが、エネルギーの付与をする光源として、２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域に発光の主波長を有する光源が好ましい。２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域に発光の主波長を有する光源の例としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ、キセノンランプ、パルス発光キセノンランプ、重水素ランプ、蛍光灯、Ｎｄ−ＹＡＧ３倍波レーザー、Ｈｅ−Ｃｄレーザー、窒素レーザー、Ｘｅ−Ｃｌエキシマレーザー、Ｘｅ−Ｆエキシマレーザー、半導体励起固体レーザーなどの各種光源が挙げられる。なお本明細書でいう、紫外線や可視光、近赤外線などの定義は久保亮五ら編「岩波理化学辞典第４版」（１９８７年、岩波）によった。
【０１７６】
故に、バインダーその他とともに基板上に塗布して各種インキ、各種刷版材料、フォトレジスト、電子写真、ダイレクト刷版材料、光ファイバー、ホログラム材料等の感光材料やマイクロカプセル等の各種記録媒体、さらには接着剤、粘着剤、粘接着剤、剥離コート剤、封止剤および各種塗料に応用することが可能である。
【０１７７】
本発明のラジカル重合開始剤（Ａ）は、２５０ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の照射光に対して鋭敏なラジカル重合開始剤として機能する。本発明のラジカル重合開始剤（Ａ）が公知のα−アミノアセトフェノン誘導体より高感度になる理由については、今のところ明らかではないが、1)本発明のラジカル重合開始剤（Ａ）に対して紫外線領域の光を照射すると、励起〜ラジカル発生のプロセスが、公知のα−アミノアセトフェノン誘導体に比べて、高効率に行われる、または、2)本発明のラジカル重合開始剤（Ａ）は、光照射する光源の波長領域に満遍なく吸収特性を持っているため、ラジカルを発生するために必要な光エネルギーを大量に吸収できる、という1)と2)の両方、またはどちらか、によるためだと考えられる。
【実施例】
【０１７８】
以下、実施例にて本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例のみに、なんら限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、例中、部とは重量部を示す。まず、実施例に先だって、上述した本発明のラジカル重合開始剤（Ａ）の合成例のいくつかを示す。
【０１７９】
【化３８】
2006206799.tif 000039
【０１８０】
【化３９】
2006206799.tif 000040
【０１８１】
【化４０】
2006206799.tif 000041
【０１８２】
【化４１】
2006206799.tif 000042
【０１８３】
合成例（１）
化合物（１）の合成
【０１８４】
Ｎ−エチル−３−ベンゾイル−カルバゾールの合成
Ｎ−エチル−カルバゾール１００．０ｇをベンゼン１２８０ｍｌに溶解し、さらに塩化アルミニウム７３．４ｇを添加して０℃にて攪拌下、ベンゾイルクロライド６８．４ｇをベンゼン１２０ｍｌに溶解した溶液を３０分かけて添加した。添加終了後、２５℃で４時間攪拌した。反応液を氷水４０００ｇにあけ、ベンゼン４０００ｍｌにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離剤：クロロホルム)で精製後、酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、Ｎ−エチル−３−ベンゾイル−カルバゾールを９３．６ｇ得た（収率６１％）。
【０１８５】
２−ブロモ−２−メチル−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−プロパン−１−オンの合成
Ｎ−エチル−３−ベンゾイル−カルバゾール５８．０ｇをジクロロメタン２００ｍｌに溶解し、さらに塩化アルミニウム２８．０ｇを添加して０℃にて攪拌下、２−ブロモイソブチリルブロマイド５０．５ｇをジクロロメタン１００ｍｌに溶解した溶液を３０分かけて添加した。添加終了後、２５℃で４時間攪拌した。反応液を氷水８００ｇにあけ、クロロホルム２００ｍｌにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離剤：クロロホルム)で精製後、酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、２−ブロモ−２−メチル−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−プロパン−１−オンを６２．５ｇ得た（収率７２％）。
【０１８６】
２,２−ジメチル−１−メトキシ−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−オキシランの合成
２−ブロモ−２−メチル−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−プロパン−１−オン１８．０ｇをＴＨＦ５０ｍｌに溶解して、ナトリウムメトキシド２８％メタノール溶液３．０ｇを添加し、室温にて５時間攪拌した。この溶液を氷水３００ｍｌ添加し、水溶液中に析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥し、白色結晶として２,２−ジメチル−１−メトキシ−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−オキシラン１５.２ｇを得た（収率９５％）。
【０１８７】
２−メチル−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（化合物（１））の合成
２,２−ジメチル−１−メトキシ−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−オキシラン１３．４ｇ、モルホリン２９．４ｇ、アセトニトリル１０ｍＬからなる溶液を攪拌しながら６０℃加熱し、この溶液に無水リチウム・パークロレート１８．２ｇとモルホリン２９．４ｇからなる溶液を加え、６０℃にて窒素中で、６時間攪拌した。この反応混合物を冷却し、水で希釈し、トルエンで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、０℃に冷却してヘキサンを滴下した。生成した結晶をろ過し、ヘキサンで洗浄後、乾燥して２−メチル−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（化合物（１））を白色結晶として１３．２ｇ得た（収率８７％）。
【０１８８】
（合成例２）
化合物（２）の合成
【０１８９】
２−メチル−[Ｎ−エチル−６−（ｏ−トルオイル）−カルバゾール−３−イル]−２−モルホリノプロパン−１−オン（化合物（２））の合成
（合成例１）のベンゾイルクロライドをｏ−トルオイルクロライドに置き替えた他は（合成例１）と同様の方法で、目的の２−メチル−[Ｎ−エチル−６−（ｏ−トルオイル）−カルバゾール−３−イル]−２−モルホリノプロパン−１−オン（化合物（２））を得た。
【０１９０】
（合成例３）
化合物（３）の合成
Ｎ−２−（２−メトキシエトキシ）エチル−カルバゾールの合成
トルエン２０ｍｌ中のカルバゾール１３．０ｇの懸濁液にトリメチルベンジルアンモニウムクロライド０．５ｇ、５０％ＮａＯＨ水溶液５０ｍｌを加え、次に、１−ブロモ−２−（２−メトキシエトキシ）エタン２０．０ｇ加えて８０℃で２時間攪拌した。冷却後、クロロホルムで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離剤：クロロホルム)で精製して、Ｎ−２−（２−メトキシエトキシ）エチル−カルバゾールを１６．３ｇ得た（収率８０％）。
【０１９１】
２−メチル−[Ｎ−２−（２−メトキシエトキシ）エチル−カルバゾール−３−イル]−２−モルホリノプロパン−１−オン（化合物（３））の合成
（合成例１）のＮ−エチル−カルバゾールをＮ−２−（２−メトキシエトキシ）エチル−カルバゾールに置き替えた他は（合成例１）と同様の方法で、目的の２−メチル−[Ｎ−２−（２−メトキシエトキシ）エチル−カルバゾール−３−イル]−２−モルホリノプロパン−１−オン（化合物（３））を得た。
【０１９２】
（合成例４）
化合物（４）の合成
【０１９３】
２−メチル−（２−ベンゾイル−フェノキサチイン−７−イル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（化合物（４））の合成
（合成例１）のＮ−エチル−カルバゾールをＮ−２−（２−メトキシエトキシ）エチル−カルバゾールに置き替えた他は（合成例１）と同様の方法で、目的の２−メチル−（２−ベンゾイル−フェノキサチイン−７−イル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（化合物（４））を得た。
【０１９４】
（合成例５）
化合物（６）の合成
１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ブロモブタン−１−オンの合成
遮光下、化合物（１）の合成の項で合成したＮ−エチル−３−ベンゾイル−カルバゾール３３．７ｇをジクロロメタン１５０ｍｌに溶解し、さらに塩化アルミニウム３３．７ｇを添加して０℃にて攪拌下、２−ブロモブチリルブロマイド３０ｇをジクロロメタン３０ｍｌに溶解した溶液を３０分かけて添加した。添加終了後、２５℃で４時間攪拌した。反応液を氷水３００ｇにあけ、クロロホルム１００ｍｌにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離剤：クロロホルム)で精製後、クロロホルム−ヘキサンから再結晶して、１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ブロモブタン−１−オンを４６．９ｇ得た（収率９３％）。
【０１９５】
１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−ブタン−１−オンの合成
１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ブロモブタン−１−オン５ｇをＴＨＦ３５ｍｌに溶かした。この溶液を０℃でＴＨＦ３５ｍｌ中のジメチルアミン３．０ｇの混合物にゆっくりと滴下した。この混合物を０℃で１２時間攪拌後、過剰のジメチルアミンを室温でＮ2を吹きつけることにより室温で除去し、この懸濁液を氷水２００ｍｌにあけ、酢酸エチル２００ｍｌにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物を酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−ブタン−１−オンを４．３ｇ得た（収率９２％）。
【０１９６】
１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン（化合物（６））の合成
１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−ブタン−１−オン１０．０ｇを酢酸エチル１００ｍｌに溶かし、ベンジルブロマイド８．５ｇをゆっくり滴下した。１２時間攪拌後、溶媒を溜去し、残留物をＤＭＦ３５ｍｌに溶かし、この溶液を６０℃に加熱した。この温度で、３４％ＮａＯＨ水溶液５．４ｇを滴下し、滴下後、５時間攪拌した。この混合溶液を氷水２００ｍｌにあけ、析出物をろ過した。得られた析出物をアルミナカラムクロマトグラフィー(溶離剤：酢酸エチル／トルエン＝１:４)で精製後、酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン（化合物（６））を９．２ｇ得た（収率７５％）。
【０１９７】
（合成例６）
化合物（７）の合成
【０１９８】
１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−モルホリノ−ブタン−１−オンの合成
（合成例５）の合成の項で合成した１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ブロモブタン−１−オン５．０ｇをＴＨＦ２５ｍＬに溶解し、この溶液にモルホリン７．２ｇを滴下後、室温にて時間攪拌した。反応液を氷水１００ｇにあけ、酢酸エチル１５０ｍｌにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物を酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−モルホリノ−ブタン−１−オンを４．９ｇ得た（収率９７％）。
【０１９９】
１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−モルホリノ−２−エチルペンテ−４−エン−１−オン（化合物（７））の合成
へキサン１０ｍｌ中の５５％水素化ナトリウム０．３ｇの分散剤をＤＭＦ１０ｍｌで希釈し、ＤＭＦ１０ｍｌ中の１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−モルホリノ−ブタン−１−オン３．０ｇの溶液を攪拌しながら３０分かけて滴下した。１時間攪拌後、アリルブロマイド０．９ｇを室温で３０分かけて滴下し、出発物質がサンプル中で薄層クロマトグラフィーにより見つけることができなくなるまで反応混合物を１１０℃で攪拌した。冷却後、反応混合物を氷水１００ｍｌに注ぎ、トルエンで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をトルエン−ヘキサンから再結晶して、１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−モルホリノ−２−エチルペンテ−４−エン−１−オン（化合物（７））を１．７ｇ得た（収率５２％）。
【０２００】
（合成例７）
化合物（８）の合成
【０２０１】
２−ブロモ−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−エチル−１−オンの合成
化合物（１）の合成の項で合成したＮ−エチル−３−ベンゾイル−カルバゾール９．５ｇをジクロロメタン５０ｍｌに溶解し、さらに塩化アルミニウム９．１ｇを添加して０℃にて攪拌下、ブロモアセチルブロマイド７．２ｇをジクロロメタン５０ｍｌに溶解した溶液を３０分かけて添加した。添加終了後、２５℃で４時間攪拌した。反応液を氷水２００ｇにあけ、クロロホルム１５０ｍｌにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離剤：クロロホルム)で精製後、クロロホルム−ヘキサンから再結晶して、２−ブロモ−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−エチル−１−オンを１２．４ｇ得た（収率９３％）。
【０２０２】
１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−エタン−１−オンの合成
（合成例５）の１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ブロモブタン−１−オンを−ブロモ−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−エチル−１−オンに置き替えた他は（合成例５）と同様の方法で、目的の１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−エタン−１−オンを得た。
【０２０３】
２−ジメチルアミノ−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−４−ペンテン−１−オンの合成
１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−エタン−１−オン４．０ｇをＴＨＦ３０ｍＬに溶解し、この溶液にアリルブロマイド１．５ｇを約２５℃で、ゆっくりと滴下した。滴下後、反応混合物を１２時間室温で攪拌した。溶媒を留去し、残留物を６０℃のＤＭＦに溶解させた。この溶液に３４％ＮａＯＨ水溶液１．６ｇをゆっくりと添加し、室温に冷却した後、該混合物を氷水にあけ、析出してきた固形物をろ過することで２−ジメチルアミノ−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−４−ペンテン−１−オンを２．２ｇ得た（収率５０％）。
【０２０４】
２−ジメチルアミノ−２−アリル−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−４−ペンテン−１−オン（化合物（８））の合成
２−ジメチルアミノ−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−４−ペンテン−１−オン２．５ｇをＴＨＦ２５ｍＬに溶解し、この溶液にアリルブロマイド１．０ｇを約２５℃で、ゆっくりと滴下した。滴下後、反応混合物を１２時間室温で攪拌した。溶媒を留去し、残留物を６０℃のＤＭＦ３０ｍｌに溶解させた。この溶液に３４％ＮａＯＨ水溶液１．５ｇをゆっくりと添加し、室温に冷却した後、該混合物を氷水にあけ、トルエンにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をアルミナカラムクロマトグラフィー(溶離剤：酢酸エチル／トルエン＝１:４)で精製して、２−ジメチルアミノ−２−アリル−１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−４−ペンテン−１−オン（化合物（５））を０．９ｇ得た（収率３３％）。
【０２０５】
（合成例８）
化合物（１０）の合成
１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−２−フェナシル−ブタン−１−オン（化合物（１０））の合成
（合成例５）で合成した１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−ブタン−１−オン７．０ｇを酢酸エチル１２０ｍＬに溶かした溶液に、フェナシルブロマイド６．８ｇを酢酸エチル３０ｍＬに溶かした溶液を、室温でゆっくり滴下した。６０℃で８時間攪拌後、冷却し、混合溶液にジエチルエーテル１５０ｍｌを滴下し、析出物をろ取した。得られた固形分ををＤＭＦ５０ｍＬに溶かし、約６０℃で攪拌した。混合溶液に３４％ＮａＯＨ水溶液３．０ｇをゆっくり滴下し、約６０℃で５時間攪拌した。反応液を氷水にあけ、析出した固形物をろ過し、トルエン−へキサンから再結晶して、１−（Ｎ−エチル−６−ベンゾイル−カルバゾール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−２−フェナシル−ブタン−１−オン（化合物（１０））を２．７ｇ得た（収率３０％）。
【０２０６】
（合成例９）
Ｎ−メチル−２−ベンゾイル−インドールの合成
Ｎ−メチル−インドール２４ｇをジクロロメタン５０ｍｌに溶解し、さらに塩化アルミニウム２４．４ｇを添加して０℃にて攪拌下、ベンゾイルクロライド２４．９ｇをジクロロメタン５０ｍｌに溶解した溶液を２時間かけて添加した。添加終了後、２５℃で４時間攪拌した。反応液を氷水２００ｇにあけ、クロロホルム２００ｍｌにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離剤：トルエン)で精製後、酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、Ｎ−メチル−２−ベンゾイル−インドールを９．１ｇ得た（収率２２％）。
【０２０７】
（合成例１０〜合成例１５）
上記した合成例１から合成例８の方法を応用することにより、本発明のラジカル重合開始剤である化合物（５）、化合物（９）、化合物（１１）を得ることができた。また、比較例として、化合物（１２）〜化合物（１５）も得ることができた。
【０２０８】
上記合成例１〜合成例１５で合成した本発明のラジカル重合開始剤の元素分析の結果を表１として示した。
【０２０９】
【表１】
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【０２１０】
（実施例１）
本発明のラジカル重合開始剤である化合物（１）５重量部と、ラジカル重合性化合物としてペンタエリスリトールトリアクリレート１００重量部と、バインダーとしてポリメチルメタクリレート５０重量部と、溶剤としてシクロヘキサノン３２５重量部とからなる重合性組成物を、第２表に示す組成にて配合し、塗工液を調整した。この塗工液をスピンコーターを用いてステンレス板上に塗工し、オーブン中４０℃で１０分間乾燥した。乾燥により溶媒を除去した後の膜厚は約１.５μｍであった。この塗工膜に、高圧水銀ランプの光を３６５ｎｍの光のみを選択的に透過するバンドパスフィルターおよび光量調節のためのＮＤフィルターを介して９．０ｍＷ／ｃｍ2の強度にて照射した。この光照射の間、反射式のＩＲを使用して、ステンレス板上の塗工膜のアクリル基の特性吸収に相当する８１０ｃｍ-1の吸収強度をモニターした。この吸収強度の経時変化から、光照射前の上記特性吸収の強度を基準とした場合のアクリルモノマー消費率を算出したところ、光照射１０秒後ではアクリルモノマー消費率１３％、光照射３０秒後では同１７％の消費率であった。
【０２１１】
（実施例２〜１０および比較例１〜９）
実施例１では、化合物（１）をラジカル重合開始剤として用いたが、それを、化合物（２）〜（１７）に置き替えた以外は、実施例１と同様にして、実験を行った。その結果を表２にまとめた。用いた開始剤系の感度を、アクリルモノマー消費率で表した。アクリルモノマー消費率が大きいほど、試験した系の感度が高い。比較例７〜１２では、増感剤として、化合物（１８）、化合物（１９）、化合物（２０）、または化合物（２１）も添加した。
【０２１２】
【表２】
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【０２１３】
本発明の実施例１〜１１は、３６５ｎｍの光照射により、増感剤を用いなくとも重合に関与するラジカルを発生し、アクリル基を消費させている。実施例１〜５、１１と比較例１〜３、５との比較、また、実施例６、９と比較例４、６との比較より、α−アミノケトン骨格が同じ骨格である場合、本発明のラジカル重合開始剤は、本発明以外の公知のラジカル重合開始剤に比べ、３６５ｎｍの光照射による感度が明らかに高い。また、実施例１と比較例２との比較、実施例６と比較例４との比較、より、芳香族アシル基により置換された化合物（１）、化合物（６）の方が、アルカノイル置換された化合物（１３）、化合物（１５）より、明らかに高感度である。また、実施例１〜１１と比較例３との比較より、本発明の化合物（１）〜（１１）の方が、公知の（同一分子内に２つの官能基を含有する）α−アミノアセトフェノン誘導体より、明らかに高感度である。比較例７〜１２より、カルバゾールまたはフェノキサチインを増感剤として併用しても、本発明のように増感剤一体型ラジカル重合開始剤と比較して、結果は著しく劣る。よって本発明のラジカル重合開始剤は効果が大きい。
【０２１４】
本発明のラジカル重合開始剤を用いた場合、公知のα−アミノアセトフェノン誘導体を重合開始剤として用いた場合よりも感度が向上していることがわかる。また、公知のα−アミノアセトフェノン誘導体を増感剤と併用して重合開始剤として用いた場合よりも感度が向上していることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０２１５】
本発明はエネルギー線の照射、特に２５０から４５０ｎｍの光の照射に対して非常に高感度なラジカル発生剤として機能するラジカル重合開始剤を提供するものである。従って本発明のラジカル重合開始剤は、従来より用いられてきたエネルギー線の照射により発生するラジカルを触媒とした重合、架橋反応などを迅速かつ確実に進行させることができ、その結果として各種用途のエネルギー線に対する高感度化、あるいは反応が十分進行することによる各種用途の特性向上等が期待できる。本発明により、高感度化や特性向上が期待できる用途の例としては、重合あるいは架橋反応を利用した成形樹脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カラープルーフ、カラーフィルター用レジスト、ブラックマトリクス用レジスト、液晶用フォトスペーサー、リアプロジェクション用スクリーン材料、光ファイバー、プラズマディスプレー用リブ材、ドライフィルムレジスト、プリント基板用レジスト、ソルダーレジスト、半導体用フォトレジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、マイクロマシン用部品製造用レジスト、エッチングレジスト、マイクロレンズアレー、絶縁材、ホログラム材料、光学スイッチ、導波路用材料、オーバーコート剤、粉末コーティング、接着剤、粘着剤、離型剤、光記録媒体、粘接着剤、剥離コート剤、マイクロカプセルを用いた画像記録材料のための組成物、各種デバイスなどが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【０２１６】
【図１】化合物（１）、化合物（１６）の吸収スペクトル（アセトニトリル）
【図１】
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