(57)【要約】      （修正有）【課題】感光性樹脂が塗布された基板の露光方法において、パターンの高精度な３次元形状を基板全面にわたって均一に実現可能とする。【解決手段】マスクと基板間の空間を密閉空間とし、その密閉空間の空気を排気しつつ不活性ガスを注入することにより、不活性ガスの濃度を高くし、酸素濃度を確実に低くして、酸素による感光性樹脂の硬化阻害によるパターン精度の劣化を防止した露光を実現する。この露光方法は、給排気可能な密閉容器１０によって形成された密閉空間１１内の基板ホルダ１上に配置された基板２の主面から所定の間隔を持たせて露光用のマスク４を配置するマスク配置工程と、密閉空間１１内の雰囲気を不活性ガス雰囲気にするため、空気を排気しつつ不活性ガスを注入するパージ工程と、感光性樹脂３にマスク４を通して光Ｌを照射することによりパターニングする露光工程と、を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性樹脂が塗布された基板の露光方法であって、
給排気可能な密閉空間内において、感光性樹脂が塗布され該空間内に配置された基板の主面から所定の間隔を持たせて露光用のマスクを配置するマスク配置工程と、
前記密閉空間内の雰囲気を不活性ガス雰囲気にするため、その空間内の空気を排気しつつ不活性ガスを注入するパージ工程と、
前記基板の主面に塗布された感光性樹脂に前記マスクを通して光を照射することによりパターニングする露光工程と、を有することを特徴とする基板の露光方法。
【請求項２】
前記基板は平板状の基板ホルダに載置され、前記密閉空間は、前記基板ホルダと、前記基板ホルダに載置される基板の周囲を包囲するように基板ホルダに立設されるスペーサと、前記マスクと、で形成されることを特徴とする請求項１に記載の基板の露光方法。
【請求項３】
前記基板ホルダは、前記密閉空間内を給排気するための給排気路に連通する貫通孔が形成され、前記スペーサは、可撓性を有する材料で形成され、前記貫通孔より排気して前記密閉空間内を減圧することにより、前記スペーサの高さが低くなって前記基板と前記マスクとの間隔が小さくなることを特徴とする請求項２に記載の基板の露光方法。
【請求項４】
前記基板ホルダは、前記密閉空間を給排気するための給気路及び排気路にそれぞれ連通する給気孔及び排気孔が形成され、前記給気孔又は排気孔は、当該基板ホルダに載置される基板の周囲に略等間隔に複数個形成されていることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の基板の露光方法。
【請求項５】
前記パージ工程は、不活性ガスの注入を空気の排気よりも先に開始することを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の基板の露光方法。
【請求項６】
前記露光工程は、前記パージ工程が終了した後に行うこと特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の基板の露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂にマスクパターンを転写するための基板の露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、露光用マスクを介して感光性樹脂に光エネルギを与える露光を行うことにより、マスクパターンを感光性樹脂に転写するパターニング工法は、電気回路形成用エッチングマスクの形成のためレジストをパターニングする場合や、微細構造体形成用の微細金型を電鋳などで作るためのマスタ構造体を形成する場合などに、広く応用されている。感光性樹脂の使用形態には、粘度調整した液体樹脂を基材に均一塗布したり、フィルム状樹脂を基材に貼り付けたりする形態があり、感光性樹脂の材料特性や基材の種類に応じて使い分けられている。また、パターニングの結果、すなわちパターン形状の仕上がり具合は、感光性樹脂の特性に依存して露光中の条件により大きく影響される。
【０００３】
例えば、光エネルギを与えてラジカル重合による架橋を生成して硬化させるアクリル基をもつ感光性樹脂の場合、露光中に酸素が存在すると架橋反応が阻害され、その結果、硬化が不充分となる。基板に塗布され空気層と接している状態の感光性樹脂を露光すると表面のみが未硬化状態となる。この場合、露光工程の次の工程である未硬化部を除去する現像工程において、本来除去すべきでないパターンの表面部分が未硬化のため除去されてしまい、パターンの表層部が丸みをおびてしまう。パターン形状として、パターンが基板と接している部分の面状（２次元）のパターン精度の他に、感光性樹脂の厚み方向の３次元形状についても加工精度を必要とする場合、このパターン表層部の丸みはパターン形状の劣化として問題となる。例えば、光透過性の感光性樹脂を用いて光導波路を形成する場合、パターンの３次元形状が光導波路の形状であって光導波特性に直接影響するため、高精度の３次元形状が要求される。
【０００４】
上述のような、酸素による硬化阻害に対しては、感光性樹脂が空気層と接しない構成を取ることで解決できる。例えば、感光性樹脂層に露光用マスクを密着させた状態で露光する、いわゆるコンタクト露光の方法がある。しかしながら、コンタクト露光を適用する場合、感光後に感光性樹脂と露光用マスクとを容易に離せることが必要であり、マスクとの接着性がない硬化済み状態にある乾質の感光性樹脂を使わなければならない等の制約条件がある。そこで、酸素による硬化阻害が想定される光硬化性樹脂の露光方法として、空気を窒素等の不活性ガスによってパージすることにより露光雰囲気における酸素濃度を下げる方法が一般に行われている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
上述の不活性ガスでパージして露光する例を、図９を参照して説明する。開放空間におかれた基板ホルダ９１上に、感光性樹脂９３が塗布された基板９２が載置され、その上方には露光用マスク９４が配置されている。この状態で、基板９２の外周部に設けられた給気孔９６からバルブＶ１を介して窒素ガスを基板９２上に供給するとともに、同じく基板９２の外周部に設けられた排気孔９７からバルブＶ２を介して空気及び窒素ガスを排気する。所定時間経過の後に露光が行われる。
【特許文献１】特開平５−３３５２０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述したような特許文献１や図９に示されるような露光方法においては、開放空間において基板の周辺から窒素を吹き付けるような構成のため、大気中の酸素の流入の可能性があり、生産される製品品質の安定性に欠けるという問題がある。また、不完全なパージやパージに伴う気流などに起因する不活性ガスの濃度ムラの存在などにより、例えば、図９に示す給気孔９６の近傍と排気孔９７の近傍において露光条件に差ができ、露光現像の結果、図９に示すように、本来、同一断面形状のパターンが並んでいるはずの３次元形状に対して、基板上の場所によって形状がばらつくという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記課題を解消するものであって、露光されたパターンの高精度な３次元形状を基板前面にわたって均一に実現できる感光性樹脂が塗布された基板の露光方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を達成するために、請求項１の発明は、感光性樹脂が塗布された基板の露光方法であって、給排気可能な密閉空間内において、感光性樹脂が塗布され該空間内に配置された基板の主面から所定の間隔を持たせて露光用のマスクを配置するマスク配置工程と、前記密閉空間内の雰囲気を不活性ガス雰囲気にするため、その空間内の空気を排気しつつ不活性ガスを注入するパージ工程と、前記基板の主面に塗布された感光性樹脂に前記マスクを通して光を照射することによりパターニングする露光工程と、を有するものである。
【０００９】
請求項２の発明は、請求項１に記載の基板の露光方法において、前記基板は平板状の基板ホルダに載置され、前記密閉空間は、前記基板ホルダと、前記基板ホルダに載置される基板の周囲を包囲するように基板ホルダに立設されるスペーサと、前記マスクと、で形成されるものである。
【００１０】
請求項３の発明は、請求項２に記載の基板の露光方法において、前記基板ホルダは、前記密閉空間内を給排気するための給排気路に連通する貫通孔が形成され、前記スペーサは、可撓性を有する材料で形成され、前記貫通孔より排気して前記密閉空間内を減圧することにより、前記スペーサの高さが低くなって前記基板と前記マスクとの間隔が小さくなるものである。
【００１１】
請求項４の発明は、請求項２又は請求項３に記載の基板の露光方法において、前記基板ホルダは、前記密閉空間を給排気するための給気路及び排気路にそれぞれ連通する給気孔及び排気孔が形成され、前記給気孔又は排気孔は、当該基板ホルダに載置される基板の周囲に略等間隔に複数個形成されているものである。
【００１２】
請求項５の発明は、請求項３又は請求項４に記載の基板の露光方法において、前記パージ工程は、不活性ガスの注入を空気の排気よりも先に開始するものである。
【００１３】
請求項６の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の基板の露光方法において、前記露光工程は、前記パージ工程が終了した後に行うものである。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１の発明によれば、密閉空間内の酸素濃度を低くし結果的に不活性ガスの濃度を高めることで、感光性樹脂がマスクを通した光照射により硬化する際に、基板全体において感光性樹脂表層が架橋反応を阻害されることがなくなり、パターン精度の劣化を防止できる。特に、基板面の２次元的なパターン精度（ライン＆スペース）だけでなく、感光性樹脂層の断面方向の３次元的な精度が確保される。光導波路の形成には光の伝搬方向に対して等方的形状であるほど伝搬損失を小さくすることができ、感光性樹脂層を光導波路としてリッジ状に形成した場合、表層付近のコーナー部に至るまで３次元的な精度が求められる。従って、本発明により、光導波路となる感光性樹脂層の表層付近を十分に露光時に光硬化させることができ、導波路コア形状として伝搬損失を小さくできる。また、光導波路の設計を３次元的にシュミレーションにより行う場合、マスクは２次元であることから、実際の加工された３次元形状と差異が生じやすいが、本発明により事前にシュミレーション設計したマスク通りのパターニングを行うことができる。また、一般に基板面内で相応の面積（距離）に渡り均一な形状を前提として配置されている光導波路に対し、本発明は、、その前提を満足して基板全面の領域においてパターニング加工の均一性を得ることができる。このように、マスクと基板間の感光性樹脂の存在する空間を密閉空間とし、その密閉空間の空気を排気しつつ不活性ガスを注入することにより、不活性ガスの濃度を従来例と比較して高くし、酸素による感光性樹脂の硬化阻害を防止して高精度のパターン形状を形成できる。
【００１５】
請求項２の発明によれば、密閉空間を小さい領域で形成できるので、パージ工程をより高速化することができる。
【００１６】
請求項３の発明によれば、基板とマスク間のギャップを調整するための特段の制御機構を必要とすることなく、パージ工程に連動して露光時に基板とマスクをより近接させて露光の精度を向上させることができる。
【００１７】
請求項４の発明によれば、複数の給気孔から不活性ガスを注入することにより、密閉空間内の流れの偏りを少なくできるので、不活性ガスの濃度ムラを少なくでき、パターンの高精度な３次元形状を基板前面にわたって均一に実現できる。また、各給気孔と排気孔の給気量及び排気量を個別に調整できるので、さらに不活性ガスの濃度ムラを低減できる。
【００１８】
請求項５の発明によれば、不活性ガスが密閉空間内全体を少し満たしてから排気を開始することになるので、不活性ガスの濃度ムラを少なくでき、パターンの高精度な３次元形状を基板前面にわたって均一に実現できる。
【００１９】
請求項６の発明によれば、密閉空間内のガスの流れによる不活性ガスの濃度ムラが少なくなるので、露光ムラが少なくなり、パターンの高精度な３次元形状を基板前面にわたって均一に実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態に係る感光性樹脂が塗布された基板の露光方法について、図面を参照して説明する。図１は、本発明の露光方法に用いられる露光装置を示し、図２はその露光方法のフローチャートを示す。本発明の露光方法は、給排気可能な密閉容器１０によって形成された密閉空間１１内において、感光性樹脂３が塗布され空間１１内の基板ホルダ１上に配置された基板２の主面（図の上方の面）から所定の間隔を持たせて露光用のマスク４を配置するマスク配置工程（Ｓ１）と、密閉空間１１内の雰囲気を不活性ガス雰囲気にするため、その空間１１内の空気を排気しつつ不活性ガスを注入するパージ工程（Ｓ２）と、基板２の主面に塗布された感光性樹脂３にマスク４を通して光Ｌを照射することによりパターニングする露光工程（Ｓ３）と、を有している。次に各工程の詳細を述べる。
【００２１】
（マスク配置工程Ｓ１）
図１における基板２は、例えば、シリコン基板やガラス等の平滑な基板であり、基板２上の感光性樹脂３は、例えばスピンコート法、スプレーコート法、浸漬法等の塗布方法を用いて塗布形成されたものである。本発明における露光の対象となる感光性樹脂３の材料として、アクリル系、エポキシ系、シリコーン系、ポリィミド系などの高分子樹脂材料、又はそれらにＳｉＯ２等の高透光性無機材料のネットワークを取り入れた複合樹脂材料を用いることができる。また、感光性樹脂３の厚みを制御するために、溶剤により粘度調整を行ってもよい。このような感光性樹脂３が塗布された基板２を基板ホルダ１上に載置し、基板２とマスク４とを所定のギャップを備えるよう配置する。
【００２２】
（パージ工程Ｓ２）
次に、バルブＶ２を備えた配管系を介して、図示しない排気ポンプにより密閉空間１１内を排気しつつ、バルブＶ１を備えた配管系から窒素ガスＮ２等の不活性ガスを注入し、感光性樹脂３の硬化阻害を引き起こす酸素Ｏ２濃度を減少させる。この際、排気系における流量計１４と不活性ガス供給系における流量計１２を用いることにより、密閉空間１１内を、例えば略大気圧に保った状態で、空気を不活性ガスによって置換する。不活性ガスへの置換は、空間１１の容積によるが、例えば、直径１５０ｍｍ×高さ１０ｍｍ程度であれば約５ｍｉｎ以内で十分に置換可能である。排気系に設けた酸素濃度計１３を用いて排気中の酸素濃度を監視することにより、より確実な置換の判断ができる。
【００２３】
（露光工程Ｓ３）
密閉空間１１において、パージ工程Ｓ２により酸素が不活性ガスに置換された状態の基板に露光を実施する。このように、マスク４と基板２間の空間を密閉空間１１とし、その密閉空間１１の空気を排気しつつ不活性ガスを注入することにより、不活性ガスの濃度を従来例と比較して高くし、従って酸素濃度を確実に低くして、酸素による感光性樹脂の硬化阻害によるパターン精度の劣化を防止した露光を実施できる。
【００２４】
上述の露光工程Ｓ３は、パージ工程Ｓ２の後に基板２とマスク４とのギャップを小さくする工程を行ってその後に行うようにするのが好ましい。これは次の理由による。パージ工程Ｓ２における不活性ガス置換の際には、感光性樹脂３が塗布された基板２とマスク４のギャップは、ガスの置換不足を防止するため、５０μｍ以上設けることが望ましい。一方、基板２とマスク４のギャップは、例えば、波長λ＝３５０〜４５０ｎｍの紫外線光を用いて１０μｍ以下のパターンを形成する場合、５０μｍ以下のギャップとすることが望ましい。そこで、大きなギャップのもとでパージ工程を行い、小さなギャップのもとで露光工程を行うことにより、効率的なパージ工程と、パターン精度の向上する露光工程とを行うことができる。
【００２５】
次に、図３（ａ）（ｂ）、図４を参照して、本発明の露光方法の他の例を説明する。この露光方法では、図３（ａ）（ｂ）に示すように、基板２は平板状の基板ホルダ１に載置され、密閉空間１１は、基板ホルダ１と、基板ホルダ１に載置される基板２の周囲を包囲するように基板ホルダ１に立設されるスペーサ５と、マスク４と、で形成される。不活性ガスの供給は、基板ホルダ１に設けられた給気孔６から行われ、空間１１の排気は排気孔７から行われる。このような装置を用いた露光方法のマスク配置工程Ｓ１では、感光性樹脂３を形成した基板２を基板ホルダ１にセットし、所定のギャップとなるように基板ホルダ１の上にスペーサ５を設置し、スペーサ５の上にマスク４を設置することで、密閉された露光空間１１が形成される。その後、上述と同様に、パージ工程Ｓ２と露光工程Ｓ３が行われる。密閉空間１１をこのような構成により形成すると、小さい密閉空間１１を形成できるので、パージ工程を高速化することができる。なお、図４に示すように、不活性ガスの給気孔６と排気孔７を、スペーサ５に設けてもよい。また、マスク４に給気孔６、排気孔７を設けてもよい。
【００２６】
次に、図５（ａ）（ｂ）を参照して、本発明の露光方法のさらに他の例を説明する。この露光方法では、基板ホルダ１は、図５（ａ）に示すように、密閉空間１１内を給排気するための給排気路に連通する貫通孔（給気孔６と排気孔７）が形成され、高さｄ１のスペーサ５は、可撓性を有する材料で形成されており、排気孔７より排気して密閉空間１１内を減圧することにより、図５（ｂ）に示すように、大気圧Ｐによって圧力を受けたスペーサ５の高さが、低くなって高さｄ２（ｄ２＜ｄ１）となり、基板２とマスク４との間隔（ギャップ）が小さくされる。つまり、密閉空間１１内圧力変化によるギャップ調整が行われる。
【００２７】
このような装置を用いた露光方法のマスク配置工程Ｓ１において、感光性樹脂３を形成した基板２が基板ホルダ１にセットされ、可撓性を有する材料で形成されてスペーサ５が設置される。さらに、スペーサ５の上にマスク４を設置することにより、密閉された露光空間１１を形成する。給気孔６からの不活性ガスの供給量、及び排気孔７からの排気量を、それぞれ流量計１２，１４を参照して調整することにより、密閉空間１１内の圧力を適宜低下させ、スペーサ５の高さをｄ２として、基板２とマスク４を所定のギャップまで近づける。このような方法によると、ギャップを調整するための特段の制御機構を用いることなく、空間１１内の圧力調整によって基板２とマスク４がより近接した所望のギャップを実現して、パターン精度を向上させることができる。この場合、スペーサ５に隣接した位置に、所定の高さｄ２を有する剛体からなる高さ固定用の第２のスペーサ（不図示）を援用してもよい。
【００２８】
次に、図６、図７を参照して本発明におけるパージ工程を説明する。パージ工程において密閉空間内に供給される不活性ガス又は密閉空間から排気される気体の流れに偏りが有ると、図６（ａ）に示す領域Ｄのように、不活性ガスの濃度ムラが発生する。このような不活性ガスの濃度ムラは、感光性樹脂に形成されるパターン形状に形状不良や形状不均一性を発生させる。このような濃度ムラを低減するため、図６（ｂ）に示すように、密閉空間を給排気するための給気路及び排気路にそれぞれ連通する給気孔６及び排気孔７のうち、給気孔６を基板ホルダ１に載置される基板２の周囲に略等間隔に複数個形成し、これらの複数の不活性ガス給気孔６を用いて密閉空間に不活性ガスを注入する。これにより、濃度ムラを低減してパターン形状精度を向上することができる。
【００２９】
また、給気孔６の給気流量を調整することにより、密閉空間内の不活性ガスの濃度ムラをさらに低減できる。その方法として、給気孔６それぞれに流量計を設置して個別にバルブ開閉を行って随時個別に流量調整を行う他、給気孔６の配管径の大小を事前に設定しておき、これにより流量調整を行うことができる。この場合、気流の流れを予めシミュレーションにより求めて、その結果を参考にすることが有効である。これらのことは、排気孔７についても同様に行って不活性ガスの濃度ムラを低減することができる。
【００３０】
また、密閉空間内の雰囲気を不活性ガス雰囲気にするために、図７の左に示すように、空間内の空気を排気孔７から排気しつつ給気孔６から不活性ガスを給気し、かつ、図７の右に示すように、その排気孔７と給気孔６とを順次切換えることが有効である。このように、排気孔７と給気孔６の位置を順次切換えることにより、密閉空間内の気体の流れの偏りを少なくでき、不活性ガスの濃度ムラを低減できる。
【００３１】
次に、上述した何れかの給気孔６及び排気孔７の構成と密閉空間の構成のもとで行う露光方法について、高精度のパターン形状を得るために有効なパージ工程に関連する事項を説明する。例えば、パージ工程において、不活性ガスの注入を空気の排気よりも先に開始する。この方法によると、不活性ガスが密閉空間内全体を少し満たしてから排気が開始されるので、不活性ガスの濃度ムラを少なくできる。また、露光工程を、パージ工程が終了した後に行う。パージ工程を停止する際は、不活性ガスの給気停止よりも空気の排気停止を先に行うことが望ましい。これにより、不活性ガスの注入を先に停止したとき発生する密閉空間内の急激な圧力低下とこれに伴う外部からの汚染物質の混入を防止することができる。
【００３２】
また、パージ工程は、密閉空間内の雰囲気を不活性ガス雰囲気にするために、空間内の空気を排気しつつ複数の給気孔から不活性ガスを給気して行う。このとき、各給気孔は、互いに均一な配管径を有し、かつ各給気孔からの配管距離が略等しい位置にあるガス溜め部（バッファー）に接続されており、このガス溜め部を介して給気を行うものとする。このような給気方法によるパージ工程では、給気する不活性ガスの流量を各給気孔間で均一にすることができ、従って、不活性ガスの濃度ムラを低減することができる。
【００３３】
次に、上述した本発明の何れかの露光方法を用いて光導波路を形成する例を説明する。光導波路板は、クラッド材そのものからなるクラッド基板、又はシリコン基板やガラス基板等の平滑な基板上にクラッド材を層形成したクラッド基板を用いて形成される。クラッド材の厚みは、コア材との屈折率差にもよるが、偏波依存損失を小さくするため１０μｍ以上が望ましい。準備されたクラッド基板上に、導波路となるコアを形成するためのコア層を感光性樹脂によって形成する。波長１．３〜１．６μｍの光をシングルモードでコア内を伝搬させるには、コアの高さ及び幅は３〜１０μｍ程度が良い。より安定な光の伝搬には、伝搬方向の中心軸に対して等方向なコア形状で、例えば矩形の場合、コアの縦横比が１であることが望ましいが、必要とする光回路パターンによりその限りではない。上述のコア層を形成したクラッド基板を、基板ホルダにセットする。その後、上述のマスク配置工程（Ｓ１）、パージ工程（Ｓ２）、及び露光工程（Ｓ３）を経て、露光されて導波路コアの形状にパターニングされたコア層を有するクラッド基板を得る。その後、コア層の可溶部位をエッチング等により除去して、光導波路としてのコア部が形成され、良好な矩形形状の導波路コアを有する光導波路板が得られる。図８は、導波路コアの光軸に直交する面における導波路コア断面の例を示す。図の中央の矩形形状がコア部であり、コア部の下はクラッド材からなる基板である。基板上のいずれの場所においてもこのように良好な断面形状の導波路コアが形成されている。参考のため、６μの寸法スケールが添えられている。本発明の露光方法によると、基板面内で偏りのない２次元的なパターン形状の精度に加えて、導波路コアの断面形状つまり３次元の形状精度を保って、設計形状に近い導波路コアを作製することができるので、光損失の少ない良好な光導波路板を得ることができる。なお、本発明は、上記構成に限られることなく種々の変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明に係る基板の露光方法に用いられる露光装置の断面図。
【図２】同上露光方法を示すフローチャート。
【図３】（ａ）は本発明の露光方法の他の例に用いられる露光装置のマスクを外した状態の平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図。
【図４】本発明の露光方法のさらに他の例に用いられる露光装置の断面図。
【図５】（ａ）は本発明の露光方法のさらに他の例に用いられる露光装置のパージ工程前の状態の断面図、（ｂ）は同露光装置のパージ工程後の断面図。
【図６】（ａ）は本発明の露光方法のさらに他の例におけるパージ工程を説明する露光装置の内部平面図、（ｂ）はパージ工程の不具合を説明する露光装置の内部平面図。
【図７】本発明の露光方法のさらに他の例におけるパージ工程を時系列で示した露光装置の内部平面図。
【図８】本発明の露光方法により露光して現像した感光性樹脂の断面を拡大撮像して示した図。
【図９】従来の露光方法を示す露光装置の断面図とその露光方法により露光して現像した感光性樹脂の断面を拡大撮像して示した図。
【符号の説明】
【００３５】
１    基板ホルダ
２    基板
３    感光性樹脂
４    マスク
５    スペーサ
６、６ａ    給気孔
７、７ａ    排気孔
１１    密閉空間
【図１】
2006156507.tif 000003
【図２】
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【図３】
2006156507.tif 000005
【図４】
2006156507.tif 000006
【図５】
2006156507.tif 000007
【図６】
2006156507.tif 000008
【図７】
2006156507.tif 000009
【図８】
2006156507.tif 000010
【図９】
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