(57)【要約】【目的】  成膜性、溶解性、熱分解性に優れたヒートモード光学記録媒体の記録層形成用色素を提供すること。【構成】  下記一般式［Ｉ］で表されるヒートモード光学記録媒体の記録層形成用色素。【化１】2006142666.tif 000012（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立して、嵩高く、立体障害を起こしやすい置換基を有する芳香環基を表す。）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式［１］で表されるヒートモード光学記録媒体の記録層形成用色素。
【化１】
2006142666.tif 000011
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立して、嵩高く、立体障害を起こしやすい置換基を有する芳香環基を表す。）
【請求項２】
Ａｒ1及びＡｒ２が、それぞれ独立して、環状又は分岐状のアルキル基、環状又は分岐状のアルケニル基、環状又は分岐状のアルキニル基、環状又は分岐状のアルコキシ基、芳香環基、非芳香族複素環基、（ヘテロ）アリールオキシ基、（ヘテロ）アラルキルオキシ基、アシル基、環状又は分岐状の基でエステル化されているカルボキシ基、アミノ基、アミド基及びニトロ基からなる群から選ばれた置換基を有する芳香環基であることを特徴とする請求項１に記載の記録層形成用色素。
【請求項３】
Ａｒ1及びＡｒ２が、それぞれ独立して、分岐状アルキル基、分岐状アルコキシ基及びアミノ基からなる群から選ばれた置換基を有する芳香環基であることを特徴とする請求項１又は２に記載の記録層形成用色素。
【請求項４】
Ａｒ1及びＡｒ２が、それぞれ独立して、立体パラメーターが０．４以上の置換基を有する芳香環基であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の記録層形成用色素。
【請求項５】
分解温度が１５０〜３５０℃であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の記録層形成用色素。
【請求項６】
波長が３３０〜５５０ｎｍのレーザー光で記録するためのものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の記録層形成用色素。
【請求項７】
基板上に少なくとも請求項１〜６のいずれかに記載の色素を含む記録層を有することを特徴とするヒートモード光学記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学記録媒体の記録層に用いるシクロブテ−３−エン−１，２−ジオン系色素に関するものである。特に、本発明は青色レーザー光対応の光学記録材料に用いる色素に関するものである。
従来の技術
【背景技術】
【０００２】
近年、高密度での情報の記録保存／再生が可能なことから、レーザー光を用いた光学記録媒体、特に光ディスクについての開発が取り進められている。光ディスクの中でも最近注目を集めているものに、書き込み型コンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）がある。ＣＤ−Ｒは、通常、案内溝を有する円形のプラスチック基板上に、色素を主成分とする記録層、金属反射膜及び保護膜が順次積層された構造をしている。ＣＤ−Ｒへの情報の記録は、レーザー光を照射し、その照射エネルギーが記録層で吸収されることにより、レーザー光照射部分の記録層、反射層又は基板に分解、蒸発、溶解等の熱的変形を生じさせることにより行う方法（ヒートモード）や、レーザー光照射部分の記録層に含まれる色素の構造を可逆的に変化させる方法（フォトンモード）などにより行なわれる。また、記録された情報の再生は、レーザー光照射による変形・変化が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読み取ることにより行われる。従って、光学記録媒体の記録層はレーザー光のエネルギーを効率よく吸収する必要があり、記録層には一般的にレーザー光吸収色素が用いられている。
【０００３】
レーザー光吸収色素として有機色素を利用した光学記録媒体は、有機色素溶液を塗布するという簡単な方法で記録層を形成し得るため、安価な光学記録媒体として今後益々普及することが期待されている。
また、近年、記録の高密度化のため、記録に用いるレーザー光の波長を従来の半導体レーザーの発光波長である７８０ｎｍを中心としたものから、４０５ｎｍ前後以下の青色光領域へと短波長化することが検討されつつある。
【０００４】
レーザー光吸収色素としては、従来から各種の色素化合物が提案されている。例えば、ジヘテロアリルシクロブテン系色素は、フォトクロミック反応を起こしやすいという特徴を利用して、無色の色素から有色の色素へ可逆的に構造を変化させて記録を行うフォトンモード用色素として検討されている（特許文献１）。しかしながら、フォトクロミック反応を起こすジヘテロアリルシクロブテン系色素を用いる記録媒体は、ヒートモード及びフォトンモードのいずれにおいても、記録を再生する際の光によって次第に色素の構造が変化し、記録されていた信号が消えてしまう「再生劣化」が問題となっている。また、ヒートモード及びフォトンモードのいずれにおいても記録層の色素はアモルファスであることが必要と考えられているが、特許文献１で開示されているジヘテロアリルシクロブテン系色素は構造の平面性が高く結晶性がよいため、色素溶液を塗布して得られる塗布膜中で色素が結晶化し、アモルファス状態を保持できないという問題もある。
【特許文献１】特開平４−１３４６０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであって、塗布溶媒への溶解性に優れ、塗布膜中で結晶化が起こりにくく、また、夏場の車内等の高温状態でも安定であり、しかも低エネルギーでレーザー書き込みが可能な、フォトクロミック反応を起こさず青色レーザー光にも対応可能な記録媒体用のシクロブテン系色素を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の一般式［Ｉ］に示す構造を有する化合物が溶解性及び成膜性に優れ、かつこれを記録層に用いた光学記録材料が、青色レーザー光で良好に記録できることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明の要旨は、下記一般式［１］で表されるヒートモード光学記録媒体の記録層形成用色素に存する。
【化１】
2006142666.tif 000002
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立して、嵩高く、立体障害を起こしやすい置換基を有する芳香環基を表す。）
【発明の効果】
【０００７】
本発明に係るヒートモード光学記録媒体の記録層形成用色素は、成膜性、溶解性、熱分解性に優れている。これを記録層に用いれば、安価で成膜性に優れた高密度記録媒体が提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更して実施することができる。
本発明に係るヒートモード光学記録媒体の記録層形成用色素は下記一般式［１］で表される。
【０００９】
【化２】
2006142666.tif 000003
【００１０】
式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立して、特定の置換基を有する芳香環基を表す。本発明において芳香環とは、芳香族性を有する環、すなわち（４ｎ＋２）π電子系（ｎは自然数）を有する環を意味する。
Ａｒ1及びＡｒ２で表される芳香環基の骨格構造は、通常、5または6員環の、単環または２〜３縮合環である。芳香環が芳香族複素環である場合、芳香族複素環を構成するヘテロ原子は、通常、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｐ、Ｓなどであり、好ましくは、Ｏ、Ｓ、Ｎである。芳香族複素環がヘテロ原子を２個以上含む場合、複数のヘテロ原子は同一であっても異なっていてもよい。
【００１１】
芳香環の骨格構造の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ナフタセン環、ペリレン環、アズレン環、フェロセン環等の芳香族炭化水素環、ピリジン環、ピラジン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾピロール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、ベンゾフラン環、カルバゾール環、チアゾール環、ジベンゾチオフェン環等の芳香族複素環等が挙げられる。
【００１２】
本発明で用いる色素は一般的にフォトクロミック反応を起こしにくいが、シクロブテン環に直接結合する芳香環が５員環の場合と６員環の場合とを比較すると、前者の方がフォトクロミック反応を起こしやすいので、シクロブテン環に直接結合する芳香環は６員環のものが好ましく、また、シクロブテン環に直接結合する６員の芳香環はヘテロ原子をもたないものが好ましい。芳香環が縮合環の場合には、シクロブテン環に直接結合する芳香環に縮合している環は５員環でも６員環でもよく、また、ヘテロ原子を含んでいてもよい。これらのなかでも、溶媒への溶解性の点から単環、特にベンゼン環が好ましい。
【００１３】
これらＡｒ１及びＡｒ２で表される芳香環は、環状又は分岐状のアルキル基、環状又は分岐状のアルケニル基、環状又は分岐状のアルキニル基、環状又は分岐状のアルコキシ基、芳香環基、非芳香族複素環基、（ヘテロ）アリールオキシ基、（ヘテロ）アラルキルオキシ基、アシル基、環状又は分岐状の基でエステル化されているカルボキシ基、アミノ基、アミド基、ニトロ基等の嵩高く、立体障害を起こしやすい置換基を有していることが必要である。
【００１４】
環状又は分岐状のアルキル基としては、ｉｓｏ−プロピル基、シクロプロピル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの炭素数が通常３〜２０、好ましくは３〜１０のもの等が挙げられる。
【００１５】
環状又は分岐状のアルケニル基としては、２−メチル−１−プロペニル基、３−メチル−２−ブテニル基、３−メチル−２−オクテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、ビシクロ［２．２．２］オクト−２−エン−２−イル基などの炭素数が通常４〜２０、好ましくは４〜８のもの等が挙げられる。
環状又は分岐状アルキニル基としては、２−ブチン−３−イル基、３−メチル−１−ブチン−３−イル基、シクロヘプチン−３−イル基などの炭素数が通常５〜２０、好ましくは５〜８のもの等が挙げられる。
環状又は分岐状アルコキシ基としては、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｉｓｏ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基などの炭素数が通常３〜９、好ましくは３〜５のもの等が挙げられる。
【００１６】
芳香環基としては、Ａｒ１、Ａｒ２として例示された芳香環基と同様のもの等が挙げられる。
非芳香族複素環としては、５又は６員の単環又は２〜３縮合環であり、ヘテロ原子としては、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ、Ｐなどであり、好ましくは、Ｏ、Ｓ、Ｎのもの等が挙げられる。非芳香族複素環がヘテロ原子を２個以上含む場合、複数のヘテロ原子は同一であっても異なっていてもよい。具体的には、チオフェン環、フラン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、オクタヒドロキノリン環などが挙げられる。
【００１７】
（ヘテロ）アリールオキシ基とは、アリールオキシ基とヘテロアリールオキシ基の総称であり、具体的には、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、２−チエニルオキシ基、２−フリルオキシ基、２−キノリルオキシ基、２−オキサジアゾリルオキシ基、５-テトラゾリル基などの炭素数が通常６〜１８、好ましくは６〜１０のもの等が挙げられる。
（ヘテロ）アラルキルオキシ基とは、アラルキルオキシ基とヘテロアラルキルオキシ基の総称であり、具体的には、メトキシ基やエトキシ基に（ヘテロ）アリール基が結合したもので、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ナフチルメトキシ基、２−チエニルメトキシ基、２−フリルメトキシ基、２−キノリルメトキシ基、５-テトラゾリルメトキシ基などの炭素数が通常７〜１８、好ましくは７〜１１のもの等が挙げられる。
【００１８】
アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、シンナモイル基、テノイル基などの炭素数１〜１０のもの等が挙げられるが、分岐状アルキル基又は芳香環基を有するものが好ましい。
環状又は分岐状の基でエステル化されているカルボキシル基としては、環状又は分岐状アルコキシカルボニル基、環状又は分岐状アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基などが挙げられる。
【００１９】
アミノ基としては、モノアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、モノヘテロアリールアミノ基（以下、モノアリールアミノ基とモノヘテロアリールアミノ基をまとめてモノ（ヘテロ）アリールアミノ基と略記することがある）、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基（以下、ジアリールアミノ基とジヘテロアリールアミノ基をまとめてジ（ヘテロ）アリールアミノ基と略記することがある。）、アルキルアリールアミノ基、アルキルヘテロアリールアミノ基（以下、アルキルアリールアミノ基、アルキルヘテロアリールアミノ基をまとめてアルキル（ヘテロ）アリールアミノ基と略記することがある。）等の置換アミノ基等が挙げられる。好ましくは、ジアルキルアミノ基、ジ（ヘテロ）アリールアミノ基アルキル（ヘテロ）アリールアミノ基、特に好ましくは、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基が好ましい。
【００２０】
モノアルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基などのアルキル基の炭素数が通常１〜２０、好ましくは２〜１０のもの等が挙げられる。
モノ（ヘテロ）アリールアミノ基としては、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、トリルアミノ基、２−チエニルアミノ基、２−フリルアミノ基などの（ヘテロ）アリール基の炭素数が通常６〜３０のもの等が挙げられる。
【００２１】
ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基などのアルキル基の炭素数が通常１〜２０、好ましくは２〜１０のもの等が挙げられる。
ジ（ヘテロ）アリールアミノ基としては、ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基、ナフチルフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ジ（２−チエニル）アミノ基、ジ（２−フリル）アミノ基、フェニル（２−チエニル）アミノ基などの（ヘテロ）アリール基の炭素数が通常６〜３０のもの等が挙げられる。
アルキル（ヘテロ）アリールアミノ基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基などのアルキル基の炭素数が１〜１０、（ヘテロ）アリール基の炭素数が４〜１０のもの等が挙げられる。
【００２２】
置換アミド基としては、ジアルキルアミノカルボニル基、アルキルアリールアミノカルボニル基などの置換基の炭素数が３〜１５のもの等の置換アミド基等が挙げられる。
【００２３】
上述の嵩高く、立体障害を起こしやすい置換基は、本発明の優れた効果を大幅に損なわなければ、更に置換基を有していても良い。ハロゲン原子で置換されている場合、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、なかでもフッ素原子が好ましい。
上述の芳香環の置換基が更に有する置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基などが挙げられる。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、オクチル基等の炭素数１〜８のアルキル基等が挙げられ、アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、オクチルオキシ基等の炭素数１〜８のアルコキシ基等が挙げられる。
【００２４】
これらのなかでもＡｒ1、Ａｒ２で表される芳香環が有する置換基としては、溶媒への溶解性、フォトクロミック反応の起こりにくさから、分岐状又は環状のアルキル基、分岐状又は環状のアルコキシ基、置換基を有していてもよい芳香環基、置換アミノ基、ニトロ基が好ましい。なかでも分岐状アルキル基、分岐状アルコキシ基、置換アミノ基、特に分岐状アルキル基が好ましい。
【００２５】
なお、Ａｒ1、Ａｒ２で表される芳香環が有する置換基の評価法の一つとして、立体パラメーター（−Ｅｓ）を用いることもできる。本発明においては、Ａｒ１、Ａｒ２は立体パラメーターの大きい置換基を有しているのが好ましい。具体的には置換基の立体パラメーターは０．４以上であるのが好ましい。なかでも立体パラメーターが０．７以上、特に１．０以上のものが好ましい。このような置換基としては、例えば、イソプロピル（立体パラメーター０．４８）、シクロペンチル（立体パラメーター０．４２）、イソブチル（立体パラメーター０．９３）、ターシャリーブチル（立体パラメーター１．４３）、セカンダリーブチル（立体パラメーター１）。置換基の立体パラメーターの値は、J.Org.Chem.,Vol64,No.21,1999,7707-7716、Tetrahedron,Vol.34,1978,3553-3562などに開示されている。
【００２６】
Ａｒ１及びＡｒ２で表される芳香環基に置換している置換基の数は、１でもよいが、２以上、特に３以上が好ましい。置換基が多い方がフォトクロミック反応が起きにくく、また、溶媒への溶解性が良い。置換基の結合位置は特に制限されないが、Ａｒ１、Ａｒ２の骨格がベンゼン環の場合、Ａｒ１、Ａｒ２相互の芳香環が平行に並びやすく、フォトクロミック反応が阻害されやすい点から、少なくともオルト位またはメタ位に置換基を有するのが好ましい。また、置換基が２つの場合には、その結合位置は２位と６位、２位と５位、３位と５位などが好ましい。しかし、これらのうち３位と５位の組合わせ以外は合成が困難である。合成が容易な点からは４位又は４位と他の位置とに置換基を有するものを用いるのが有利である。
Ａｒ１及びＡｒ２で表される芳香環基に置換している置換基が複数ある場合、置換基は互いに同一でも異なっていても良いが、合成の点からは互いに同一のものが好ましい。
【００２７】
また、Ａｒ1またはＡｒ２が２つ以上の置換基を有する芳香環基の場合、該置換基同士が結合して環状構造を形成していてもよい。例えば、Ａｒ1の芳香環の骨格がベンゼン環の場合、該ベンゼン環が有する置換基同士が結合して環状構造を形成している例として、以下に表されるフェノキサチン、フェノキサジン、フェノチアジンなどの隣接する基同士が結合している構造が挙げられる。
【００２８】
【化３】
2006142666.tif 000004
【００２９】
Ａｒ１とＡｒ２とは、同じでも異なっていてもよいが、同じもののほうが合成がしやすい。
【００３０】
一般式［１］で表わされる化合物の具体例を以下に例示する。
【００３１】
【化４】
2006142666.tif 000005
【００３２】
【化５】
2006142666.tif 000006
【００３３】
【化６】
2006142666.tif 000007
【００３４】
一般式［１］で表わされる化合物は、単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
一般式［１］で表わされる構造を有する化合物は、例えば、以下の方法で合成することができる。以下に合成方法の好ましい一例を説明する。一般式［１］においてＡｒ1とＡｒ２が同一（Ａｒ）である次式で表される化合物について説明する。
【００３５】
【化７】
2006142666.tif 000008
無水条件下、下式［２］で示されるスクアリン酸クロリドと塩化アルミニウム等のルイス酸化合物とを含むジクロロメタン溶液に、下式［３］で示される芳香族化合物を−２０〜３５℃で加え、氷冷下〜還流下で３０分間から２４時間撹拌し、精製水に投じ、有機溶媒で抽出するにより反応液から回収し、目的化合物を得ることができる。
【００３６】
【化８】
2006142666.tif 000009
【００３７】
【化９】
2006142666.tif 000010
【００３８】
このようにして得られる本発明に係る記録層形成用色素は、フォトクロミック反応を起こしにくいという特徴がある。なお、フォトクロミック反応を起こしにくいとは、色素の塗膜に色素の最大吸収波長付近の光を１分間照射しても、吸光度の変化率が１％未満である事が変化しないことを意味する。
また、分解温度は、常圧で、通常は１５０〜３５０℃の範囲であり、Ａｒ１、Ａｒ２の選択により上限を３００℃、下限を２００℃とすることも容易である。従って、本発明に係る色素を用いた記録媒体は小さいエネルギーでレーザー書き込みが可能であり、かつ下記に車内等に放置しても色素が分解して記録が消失する恐れがない。
【００３９】
また、記録層の形成が容易な点からして本発明に係る色素を用いた記録層を形成する際は、溶媒、特に、テトラフルオロプロパノール、メチルシクロヘキサン、ジクロロメタンのように光学記録媒体の記録層の製膜に用いる溶媒に対する溶解性が良好なものを用いるのが好ましい。溶解性が良好であるとは、室温（通常、１５〜３０℃）で、溶媒１０００ｃｍ3に対して、１０ｇ以上溶解する（目視で沈殿が無い）ことをいう。
【００４０】
本発明に係る色素で記録層を形成するには、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の一般に行われている薄膜形成法を用いることができる。量産性、コスト面からスピンコート法が好ましい。スピンコート法により記録層を製膜する場合、回転数は５００〜５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコート後、必要に応じて、加熱又は溶媒蒸気にさらす等の処理を行ってもよい。記録層の膜厚は、特に限定されないが、通常１００Å〜５μｍ、好ましくは７００Å〜３μｍである。
【００４１】
記録層は製膜性を向上させるためにバインダーを含有していてもよい。バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ケトン樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート等既知のものが用いられる。記録層に占めるバインダーの割合が高すぎると記録感度が著しく低下するので、バインダーを用いる場合、一般式［１］で表わされる色素が記録層に占める割合は、通常１０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上となるようにすべきである。
【００４２】
また、記録層は、安定性や耐光性向上のための一重項酸素クエンチャーや記録感度向上剤などを含有していてもよい。
一重項酸素クエンチャーとしては、アセチルアセトナート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等と遷移金属とのキレート化合物などが挙げられる。
【００４３】
記録感度向上剤としては、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれる金属系化合物等が挙げられ、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体のような有機金属化合物などが挙げられる。金属原子の種類は特に限定されないが、遷移金属が好ましい。
【００４４】
記録層は、本発明の効果を損なわない範囲で一般式［１］で表わされる色素以外の色素を含有していても良い。一般式［１］で表わされる色素以外の色素としては、記録用のレーザー光波長域に吸収を有し、照射されたレーザー光のエネルギーを吸収して、照射部分の記録層、反射層又は基板に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形を伴うピットを形成させるものが好ましい。また、ＣＤ−Ｒ向けの７７０〜８３０ｎｍの範囲から選ばれた波長の近赤外レーザー光やＤＶＤ−Ｒ向けの６２０〜６９０ｎｍの範囲から選ばれた赤色レーザー光での記録に適する色素を併用して、複数の波長域のレーザー光での記録に対応する光学記録材料とすることもできる。このような色素としては、具体的には、含金属アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。
【００４５】
記録層をドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等により形成する場合には、一般式［１］で表わされる色素、バインダー、一重項酸素クエンチャー、記録感度向上剤及び他の色素等を溶媒に溶解させ、塗布液を作成する。溶媒としては、基板を侵さない溶媒であれば、特に限定されないが、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素系溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシエステル系溶媒等が挙げられる。
【００４６】
光学記録媒体の基板としては、ガラスや種々のプラスチックなど、使用するレーザー光に対して透明なものが好ましく用いられる。プラスチックとしては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられるが、生産性、コスト、耐吸湿性などの点からポリカーボネート樹脂を射出成形するのが好ましい。
【００４７】
通常、基板上には、必要に応じて更に、反射層、保護層、下引き層などの記録層以外の層が設けられ、光学記録媒体として使用される。反射層としては、金、銀、アルミニウム又はそれらの合金のような金属からなるもの等が挙げられるが、５５０ｎｍ以下の波長のレーザー光に対する反射率から、金やアルミニウムより、銀の方が好ましい。金属反射層は、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などによって記録層上に製膜される。ここで、金属反射層と記録層との間に層間の密着力を向上させるため、又は、反射率を高める等の目的で中間層を設けてもよい。反射層の上に形成する保護層の材料としては、例えば、紫外線硬化型樹脂組成物などが挙げられる。
更に、接着層を介して２枚の光学記録媒体を貼りあわせ、両面記録型光学記録媒体としてもよいし、記録層を基板の両面に設けてもよいし、片面に設けてもよい。
【００４８】
上述のようにして得られた光学記録媒体への情報の記録は、通常、記録層に０．４〜０．６μｍ程度に集束したレーザー光を照射することにより行う。記録層がレーザー光のエネルギーを吸収すると、レーザー光照射部分では、分解、発熱、溶融等の熱的変形が起こる。記録された情報の再生は、レーザー光による上記熱的変形が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読み取ることにより行う。
【００４９】
高密度記録のためには、使用するレーザー光の波長が短いほど好ましく、特に、波長３３０ｎｍ〜５５０ｎｍのレーザー光が好ましい。かかるレーザー光の代表例としては、例えば、中心波長４０５nm、４１０ｎｍなどの青色レーザー光、中心波長５１５ｎｍの青緑色の高出力半導体レーザー光が挙げられる。これら以外にも（ａ）基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な半導体レーザー光、又は（ｂ）半導体レーザー光によって励起されかつ基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な固体レーザー光のいずれかを、第二高調波発生素子（ＳＨＧ）により波長変換することによって得られる光なども挙げられる。
【００５０】
上記のＳＨＧとしては、反射対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、ＫＤＰ、ＡＤＰ、ＢＮＮ、ＫＮ、ＬＢＯ、化合物半導体などが好ましい。第二高調波の具体例としては、基本発振波長が８６０ｎｍの半導体レーザーの場合は、その倍波の波長４３０ｎｍ、また半導体レーザー励起の固体レーザーの場合は、ＣｒドープしたＬｉＳｒＡｌＦ6結晶（基本発振波長８６０ｎｍ）からの倍波の波長４３０ｎｍなどが挙げられる。
【００５１】
本発明に係る記録層形成用色素を用いた光学記録媒体の吸光特性は、記録層に用いる一般式［１］で表される色素の有する共役系の長さなどの電子状態等に依存する。一般式［１］で表される色素のうち好ましいものは、最大吸収波長（λmax）におけるモル吸光係数（ε）が１００００以上、更に好ましいものは、εが３００００以上である。光学記録材料として好ましい吸光特性、特に、λmaxは、記録に用いるレーザー光の種類に依存して異なる。開発が進められつつある３３０〜５５０ｎｍを中心波長とする青色レーザー光に対応させるためには、λmaxが４０５±７０ｎｍの領域にある化合物が好ましい。
【実施例】
【００５２】
以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００５３】
（実施例１）
＜３，４−ビスー（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）シクロブテ−３−エン−１，２−ジオンの合成＞
塩化アルミニウム（２．２ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に懸濁させ、これに、３，４−ジクロロシクロブテ−３−エン−１，２−ジオン（１．０ｇ，６．６２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（１０ｍＬ）を氷冷下で滴下した。滴下終了後、１，３−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン（３．１５ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（１０ｍＬ）を氷冷下で滴下した。滴下終了後、室温下で２時間撹拌し、さらに２時間加熱還流した。
【００５４】
この反応混合物を氷水に注ぎ塩化メチレンで抽出し、有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに処し３，４−ビスー（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）シクロブテ−３−エン−１，２−ジオン（５７０ｍｇ、収率４６％）を得た。同定は核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）及び質量分析により行った。
【００５５】
＜光学記録媒体の作製＞
得られた３，４−ビスー（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）シクロブテ−３−エン−１，２−ジオンを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに１重量％となるように溶解した後、濾過し、塗布液とした。この塗布液を厚さ６ｍｍのポリカーボネート板上に、スピンコート法により塗布した後、１００℃で３０分間乾燥して、厚さ５０ｎｍの記録層を作成した。記録層はアモルファス状であった。
得られた光学記録媒体に中心波長４０５ｎｍの半導体レーザー光を照射したところ、良好な記録ピットの形成が確認された。