(57)【要約】【課題】  コンピュータ等からのデジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、現像ラチチュードが広く、且つ高感度な平版印刷版原版を提供すること。【解決手段】  支持体上に、下記一般式（Ｉ）で表される高分子化合物、及び、赤外線吸収剤を含有する記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。一般式（Ｉ）中、Ｒ1は炭化水素基を表し、Ｒ2及びＲ3はヒドロキシ基の置換位置が互いに異なるヒドロキシフェニル基を表す。ａ＝５〜４０モル％、ｂ＝５〜６０モル％、ｃ＝５〜６０モル％、ｄ＝１〜２０モル％、ｅ＝５〜５０モル％である。    【化１】2006153980.tif 000024【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、下記一般式（Ｉ）で表される高分子化合物、及び、赤外線吸収剤を含有す
る記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。
【化１】
2006153980.tif 000023
［一般式（Ｉ）中、Ｒ1は炭化水素基を表し、Ｒ2及びＲ3はベンゼン環におけるヒドロ
キシ基の置換位置が互いに異なるヒドロキシフェニル基を表す。ａ＝５〜４０モル％、ｂ＝５〜６０モル％、ｃ＝５〜６０モル％、ｄ＝１〜２０モル％、ｅ＝５〜５０モル％である。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は平版印刷版原版に関し、より詳細には、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ光を走査することにより直接製版できる所謂ダイレクト製版が可能なポジ型平版印刷版原版に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年画像形成技術の発展に伴い、細くビームを絞ったレーザ光をその版面上に走査させ、文字原稿、画像原稿等を直接版面上に形成させ、フイルム原稿を用いず直接製版することが可能となった。
【０００３】
サーマルポジ型の平版印刷版原版は、レーザ光照射により記録層中で光熱変換を起こすことによって、記録層のアルカリ可溶化を引き起こし、ポジ画像を形成する画像形成材料である。このようなサーマルポジ型の平版印刷版原版においては、レーザ露光による記録層中のバインダーの分子間相互作用の微妙な変化を利用しているために、露光／未露光部分のアルカリ可溶性のディスクリミネーションが小さくなり、現像ラチチュード（使用条件による現像安定性）が不充分になるという問題があった。
【０００４】
上記のような問題に対し、例えば、特許文献１には、アセタール単位をペンダント基として有するポリビニルアルコールを主鎖としたポリマーを含むポジ型作用組成物が提案されている。しかし、このようなポリマーはアルカリ現像液溶解性が高く、当該ポジ型作用組成物をポジ型画像形成材料に適用した場合には、露光部のみならず未露光部のアルカリ溶解性も同時に高めてしまうことから、実質的に現像ラチチュードの向上効果はみられず、実用上問題となる場合があった。
【特許文献１】特表２００３−５３０５８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来の技術の欠点を考慮してなされた本発明の目的は、コンピュータ等からのデジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、現像ラチチュードが広く、且つ高感度な平版印刷版原版を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意研究の結果、記録層中に特定の構造を有する高分子化合物を含有させることにより、上記目的が達成されること見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、下記一般式（Ｉ）で表される高分子化
合物（以下、適宜「特定構造ポリマー」と称する。）、及び、赤外線吸収剤を含有する記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版である。
【化１】
2006153980.tif 000002
【０００７】
一般式（Ｉ）中、Ｒ1は炭化水素基を表し、Ｒ2及びＲ3はベンゼン環におけるヒドロ
キシ基の置換位置が互いに異なるヒドロキシフェニル基を表す。ａ＝５〜４０モル％、ｂ＝５〜６０モル％、ｃ＝５〜６０モル％、ｄ＝１〜２０モル％、ｅ＝５〜５０モル％である。
【０００８】
本発明の作用は明確にはなっていないが、以下のように推測される。
前記一般式（Ｉ）で表される高分子化合物（特定構造ポリマー）は、該特定構造ポリマ
ーを構成するアセタール構造を有する構造単位（ｂ）及び構造単（ｃ）の各々が、ベンゼン環の異なる位置にヒドロキシ基を有するフェニル基（ヒドロキシフェニル基）を有することが特徴である。本発明においては、特定構造ポリマー中の異なるヒドロキシフェニル基に起因してポリマー内部においても相互作用が形成されるとともに、ポリマー中の複数種のヒドロキシフェニル基や他の構造単位が有するヒドロキシ基などの酸基と記録層中に含まれる赤外線吸収剤等の他の成分と間に相互作用が形成されるため、これらの相互作用が相俟って高密度で強固な相互作用となり、未露光部の耐アルカリ可溶性が特異的に向上するものと推測される。その一方で、露光部は、記録層内の発熱により該相互作用は速やかに解除されアルカリ可溶性は高くなる。その結果、露光部分／未露光部分におけるアルカリ可溶性のディスクリミネーションは大きくなり、現像ラチチュードが広がったものと推測される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、現像ラチチュードが広く且つ高感度な平版印刷版原版を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、支持体上に、前記特定構造ポリマー、及び赤外線吸収剤を含有する記録層を有することを特徴とする。
【００１１】
［記録層］
本発明の平版印刷版原版に係る記録層は、特定構造ポリマー、及び赤外線吸収剤を必須成分として含有する。以下では、先ず、特定構造ポリマーについて詳細に説明する。
【００１２】
〔記録層の構成成分〕
（特定構造ポリマー）
本発明の平版印刷版原版において、記録層に用いられる特定構造ポリマーは、下記一般式（Ｉ）で表される高分子化合物である。なお特定構造ポリマーはアルカリ可溶性のポ
リマーである。
【００１３】
【化２】
2006153980.tif 000003
【００１４】
一般式（Ｉ）中、Ｒ1は炭化水素基を表し、Ｒ2及びＲ3はベンゼン環におけるヒドロキ
シ基の置換位置が互いに異なるヒドロキシフェニル基を表す。ａ＝５〜４０モル％、ｂ＝５〜６０モル％、ｃ＝５〜６０モル％、ｄ＝１〜２０モル％、ｅ＝５〜５０モル％である。
【００１５】
上記構造単位（ａ）中、Ｒ1は炭化水素基を表し、直鎖状、分岐状、環状のアルキル基が好適に挙げられる。
Ｒ1としては、炭素数１〜１２（好ましくは３〜１０）の直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシ基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボニル基が挙げられ、これらの中でも、炭素数が３〜１０のアルキル基がより好ましい。
一般式（Ｉ）中、構造単位（ａ）の共重合比であるａは、５〜４０モル％であり、１０
〜３５モル％であることがより好ましく、１５〜３０モル％であることがさらに好ましい。
一般式（Ｉ）で表される高分子化合物中、構造単位（ａ）は、同一のＲ1を有する構造単
位（ａ）のみを含んでいてもよく、異なるＲ1を有する構造単位（ａ）を複数含んでいてもよい。
【００１６】
上記構造単位（ｂ）及び構造単位（ｃ）中、Ｒ2及びＲ3はベンゼン環におけるヒドロキシ基の置換位置が互いに異なるヒドロキシフェニル基を表す。
ここで、特定構造ポリマー中の構造単位（ｂ）及び構造単位（ｃ）が有する、ヒドロキシ基の置換位置が互いに異なるヒドロキシフェニル基の具体的な態様としては、ｏ−ヒドロキシフェニル基とｍ−ヒドロキシフェニル基とを有する態様、ｏ−ヒドロキシフェニル基とｐ−ヒドロキシフェニル基とを有する態様、及び、ｍ−ヒドロキシフェニル基とｐ−ヒドロキシフェニル基とを有する態様の３態様がある。これらの中でも、特定構造ポリマーと他成分との相互作用をより強める観点からは、ｏ−ヒドロキシフェニル基とｍ−ヒドロキシフェニル基とを有する態様が好ましい。
【００１７】
Ｒ2又はＲ3で表されるヒドロキシフェニル基は、ヒドロキシ基以外の置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、例えば、水素を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ１、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリ−ルウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基（以下、「スルホナト基」という。）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アリ−ルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＲ）3、Ｒはアルキル基を表す。）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＡｒ）3、Ａｒはアリール基を表す。）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、「ホスホナト基」という。）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｒ2、Ｒはアルキル基を表す。）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ａｒ2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アルキルホスホナト基」という。）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アリールホスホナト基」という。）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、「ホスホナトオキシ基」という。）、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｒ2、Ｒはアルキル基を表す。）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ａｒ2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基（例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等が挙げられる。）、アルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基等が挙げられる。）、アルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。）、アシル基、等が挙げられる。
【００１８】
また、Ｒ2又はＲ3で表されるヒドロキシフェニル基としては、更に置換基を有する態様である、以下に示す基であることが好ましい。
【００１９】
【化３】
2006153980.tif 000004
【００２０】
上記式中、Ｒ4は、−ＯＨ、−ＯＣＨ3、−Ｂｒ、又は−ＯＣＨ2−Ｃ≡ＣＨ3の何れかを表し、Ｒ5は−Ｂｒ又はＮＯ2を表す。
【００２１】
また、一般式（Ｉ）で表される高分子化合物は、構造単位（ｂ）及び（ｃ）として
、異なる構造のＲ2、Ｒ3を有する構造単位（ｂ）及び（ｃ）を複数種含んでいてもよい。
【００２２】
一般式（Ｉ）中、構造単位（ｂ）及び構造単位（ｃ）の共重合比であるｂ及びｃは、そ
れぞれ、５〜６０モル％であり、１０〜５５モル％であることがより好ましく、２０〜５０モル％であることがさらに好ましい。
【００２３】
一般式（Ｉ）中、構造単位（ｄ）の共重合比であるｄは、１〜２０モル％であり、
２〜１５モル％であることがより好ましく、３〜１０モル％であることがさらに好ましい。
また、構造単位（ｅ）の共重合比であるｅは、５〜５０モル％であり、１０〜４５モル％であることがより好ましく、１５〜４０モル％であることがさらに好ましい。
【００２４】
一般式（Ｉ）で表される高分子化合物は、上記構造単位（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）
及び（ｅ）以外の他の構造単位を含んでいてもよい。例えば、下記一般式（II）で表される高分子化合物であることがより好ましい。
【００２５】
【化４】
2006153980.tif 000005
【００２６】
一般式（II）中、構造単位（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）及び（ｅ）は、一般式（Ｉ）にお
ける構造単位（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）及び（ｅ）と同義であり、好ましい範囲も同様である。
構造単位（ｆ）中、Ｒ6は、−（ＣＨ2）x―ＣＯＯＨ、−Ｃ≡ＣＨ、又は以下に示す基を表す。Ｘは１以上の整数を表し、好ましくは１〜１２の整数を表す。ｑは０〜２０モル％である。
【００２７】
【化５】
2006153980.tif 000006
【００２８】
上記式中、Ｒ7は、−ＣＯＯＨ、―(ＣＨ2)XＣＯＯＨ、−Ｏ−(ＣＨ2)XＣＯＯＨを表す。Ｘは１以上の整数を表し、好ましくは１〜１２の整数を表す。
【００２９】
一般式（II）中、構造単位（ｆ）の共重合比であるｆは、０〜２０モル％であり、３〜１７モル％であることがより好ましく、５〜１５モル％であることがさらに好ましい。
【００３０】
一般式（II）で表される高分子化合物中、構造単位（ｆ）は、同一のＲ6を有する構
造単位（ｆ）のみを含んでいてもよく、異なる構造のＲ6を有する構造単位（ｆ）を複数含んでいてもよい。
【００３１】
特定構造ポリマーの平均分子量としては、２０００〜１２００００が好ましく、８０００〜５００００がより好ましい。
【００３２】
また、特定構造ポリマーの含有量としては、記録層を構成する全固形分に対して、１０〜９９質量％、好ましくは３０〜９５質量％、より好ましくは５０〜９０質量％である。
【００３３】
記録層は、特定構造ポリマー以外の他のアルカリ可溶性樹脂を含有してもよい。他のアルカリ可溶性樹脂としては、後述する（他のアルカリ可溶性樹脂）に記載されるものを好適に用いることができるが、これらに限定されない。なお、特定構造ポリマーと、他のアルカリ可溶性樹脂とが併用される場合の含有比としては、質量比で、１：９９〜９９：１が好ましく、１０：９０〜９５：５がより好ましい。
【００３４】
（他のアルカリ可溶性樹脂）
本発明において、上記特定構造ポリマー以外に記録層に含有される他のアルカリ可溶性樹脂は特に限定されないが、特定構造ポリマーとの相互作用性、及び、樹脂自体のディスクリミネーションが比較的高いという点からは、フェノール性ヒドロキシ基を有するアルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、ノボラック樹脂であることがより好ましい。
【００３５】
このようなアルカリ可溶性樹脂としては、以下のような樹脂を挙げることができる。
例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮合体、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合体、フェノールとクレゾール（ｍ−、ｐ−、ｏ−、ｍ−／ｐ−混合、ｍ−／ｏ−混合およびｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい。）とホルムアルデヒドとの縮合体等のノボラック樹脂、及びピロガロールとアセトンとの縮合体を挙げることができる。さらに、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いることができる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３６】
これらの他のアルカリ可溶性樹脂としては、重量平均分子量は１，５００以上、数平均分子量が３００以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が３，０００〜３００，０００で、数平均分子量が５００〜２５０，０００であり、分散度（重量平均分子量／数平均分子量）が１．１〜１０のものである。
【００３７】
上記以外の、好ましい他のアルカリ可溶性樹脂としては、下記（１）〜（５）に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び／又は側鎖中に有するものが挙げられる。
【００３８】
（１）スルホンアミド基（−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ）
（２）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド基」という。）
〔−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ〕
（３）カルボン酸基（−ＣＯ2Ｈ）
（４）スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）
（５）リン酸基（−ＯＰＯ3Ｈ2）
【００３９】
上記（１）〜（５）中、Ａｒは置換基を有していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
【００４０】
（１）スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましい。
【００４１】
（２）活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物を挙げることができる。
【００４２】
【化６】
2006153980.tif 000007
【００４３】
具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００４４】
（３）カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
（４）スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。
（５）リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
【００４５】
前記（１）〜（５）より選ばれる酸性基を有する最小構成単位は、特に１種類のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を２種以上、または異なる酸性基を有する最小構成単位を２種以上共重合させたものを用いることもできる。また最小構成単位としてフェノール性ヒドロキシ基を有する構成単位を用いてもよい。
【００４６】
前記共重合体は、共重合させる（１）〜（５）より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中に１０モル％以上含まれているものが好ましく、２０モル％以上含まれているものがより好ましい。１０モル％未満であると、現像ラチチュードを充分に向上させることができない傾向がある。
【００４７】
上記（１）〜（５）より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、（１）スルホンアミド基および（２）活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、（１）スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を充分に確保する点から最も好ましい。
【００４８】
（赤外線吸収剤）
本発明に係る記録層に含まれる赤外線吸収剤は、７００ｎｍ以上、好ましくは７５０〜１２００ｎｍの赤外域に光吸収域を有し、この範囲の波長域の光により、光／熱変換能を発現する物質を指す。具体的には、上記波長域の光を吸収し熱を発生する種々の染料または顔料を用いることができる。
【００４９】
染料としては、市販の染料、例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレ−ト錯体、オキソノ−ル染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。
【００５０】
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【００５１】
また、米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリ−ルベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
【００５２】
また、染料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【００５３】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノ−ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレ−ト錯体が挙げられる。さらに、下記一般式（ａ）〜一般式（ｅ）で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式（ａ）で示されるシアニン色素は、本発明に係る記録層で使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
【００５４】
【化７】
2006153980.tif 000008
【００５５】
一般式（ａ）中、Ｘ1は、水素原子、ハロゲン原子、−ＮＰｈ2、Ｘ2−Ｌ1又は以下に示す基を表す。ここで、Ｘ2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、Ｌ1は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅを示す。
【００５６】
【化８】
2006153980.tif 000009
【００５７】
前記式中、Ｘａ-は、後述するＺａ-と同様に定義され、Ｒａは、水素原子、アルキル基、アリ−ル基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、Ｒ1及びＲ2は、炭素原子数２個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、Ｒ1とＲ2とは互いに結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に好ましい。
【００５８】
Ａｒ1、Ａｒ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基が挙げられる。Ｙ1、Ｙ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ3、Ｒ4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚａ-は、対アニオンを示す。但し、一般式（ａ）で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはＺａ-は必要ない。好ましいＺａ-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレ−トイオン、ヘキサフルオロホスフェ−トイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェ−トイオン、及びアリ−ルスルホン酸イオンである。
【００５９】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ａ）で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開２００１−１３３９６９号公報の段落番号［００１７］〜［００１９］、特開２００２−４０６３８号公報の段落番号［００１２］〜［００３８］、特開２００２−２３３６０号公報の段落番号［００１２］〜［００２３］に記載されたものを挙げることができる。
【００６０】
【化９】
2006153980.tif 000010
【００６１】
【化１０】
2006153980.tif 000011
【００６２】
【化１１】
2006153980.tif 000012
【００６３】
【化１２】
2006153980.tif 000013
【００６４】
一般式（ｂ）中、Ｌは共役炭素原子数７以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ｚｂ+は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨ−ドニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン（Ｎａ+、Ｋ+、Ｌｉ+）などが挙げられる。Ｒ9〜Ｒ14及びＲ15〜Ｒ20は互いに独立に水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを２つ若しくは３つ組合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ここで、前記一般式（ｂ）中、Ｌが共役炭素原子数７のメチン鎖を表すもの、及び、Ｒ9〜Ｒ14及びＲ15〜Ｒ20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。
【００６５】
【化１３】
2006153980.tif 000014
【００６６】
一般式（ｃ）中、Ｙ3及びＹ4は、それぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Ｍは、共役炭素数５以上のメチン鎖を表す。Ｒ21〜Ｒ24及びＲ25〜Ｒ28は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Ｚａ-は対アニオンを表し、前記一般式（ａ）におけるＺａ-と同義である。
【００６７】
【化１４】
2006153980.tif 000015
【００６８】
一般式（ｄ）中、Ｒ29ないしＲ31は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリ−ル基を示す。Ｒ33及びＲ34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に０ないし４の整数を示す。Ｒ29とＲ30、又はＲ31とＲ32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またＲ29及び／又はＲ30はＲ33と、またＲ31及び／又はＲ32はＲ34と結合して環を形成してもよく、さらに、Ｒ33或いはＲ34が複数存在する場合に、Ｒ33同士あるいはＲ34同士は互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ2及びＸ3は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリ−ル基であり、Ｘ2及びＸ3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Ｑは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、２価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Ｚｃ-は対アニオンを示し、前記一般式（ａ）におけるＺａ-と同義である。
【００６９】
【化１５】
2006153980.tif 000016
【００７０】
一般式（ｅ）中、Ｒ35〜Ｒ50はそれぞれ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示す。Ｍは、２つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のＩＡ、ＩＩＡ、ＩＩＩＢ、ＩＶＢ族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。
【００７１】
顔料としては、市販の顔料またはカラ−インデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）および「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。
【００７２】
顔料の種類としては、例えば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、ポリマ−結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレ−キ顔料、縮合アゾ顔料、キレ−トアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレ−キ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カ−ボンブラックを用いることができる。
【００７３】
これらの顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コ−トする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネ−ト）を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）および「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【００７４】
顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、顔料分散物の塗布液中での安定性、記録層の均一性の観点から、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。
【００７５】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナ−製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライタ−、パ−ルミル、ス−パ−ミル、ボ−ルミル、インペラ−、デスパ−ザ−、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロ−ルミル、加圧ニ−ダ−等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【００７６】
これらの顔料又は染料は、感度、記録層の均一性及び耐久性の観点から、記録層を構成する全固形分に対し０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜１０質量％である。特に、染料の場合には、０．５〜１０質量％の割合で含有するすることが好ましく、顔料の場合には、０．１〜１０質量％の割合で含有することが好ましい。
【００７７】
（その他の成分）
本発明に係る記録層には、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
例えば、記録層の溶解性を調節するために、他のオニウム塩、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化合物等、添加するとアルカリ水可溶性高分子（アルカリ可溶性樹脂）の現像液への溶解阻止機能を向上させるいわゆる溶解抑止剤を添加することが好ましく、中でも、オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で好ましい。
【００７８】
本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えばＳ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）、特開平５−１５８２３０号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１４０１４０号の明細書に記載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第５，０４１，３５８号、同第４，４９１，６２８号、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０２，１１４号、同５，０４１，３５８号、同４，４９１，６２８号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号に記載のスルホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
これらのオニウム塩の中でも、溶解阻止能や熱分解性の観点から、ジアゾニウム塩及び４級アンモニウム塩が特に好ましい。特に、ジアゾニウム塩としては、特開平５−１５８２３０号公報に記載の一般式（Ｉ）で示されるジアゾニウム塩や特開平１１−１４３０６４号公報に記載の一般式（１）で示されるジアゾニウム塩が好ましく、可視光領域の吸収波長が小さい特開平１１−１４３０６４号公報に記載の一般式（１）で示されるジアゾニウム塩が最も好ましい。また４級アンモニウム塩としては、特開２００２−２２９１８６号公報に記載［化５］［化６］中の（１）〜（１０）に示される４級アンモニウム塩が好ましい。
【００７９】
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
【００８０】
好適なキノンジアジド類としてはｏ−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物は、少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、ｏ−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、ｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ．Ｉｎｃ．）第３３９〜３５２頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されているようなベンゾキノン（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第３，０４６，１２０号及び同第３，１８８，２１０号に記載されているベンゾキノン−（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
【００８１】
さらに、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なｏ−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば、特開昭４７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公昭４９−１７４８１号、米国特許第２，７９７，２１３号、同第３，４５４，４００号、同第３，５４４，３２３号、同第３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４９５号、同第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２２７，６０２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，２６７，００５号、同第１，３２９，８８８号、同第１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４，８９０号などの各明細書中に記載されているものをあげることができる。
【００８２】
分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び／または、ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは記録層の全固形分に対し、１〜１０質量％、更に好ましくは１〜５質量％、特に好ましくは１〜２質量％の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
【００８３】
ｏ−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは０．１〜５質量％、更に好ましくは０．１〜２質量％、特に好ましくは０．１〜１．５質量％である。本発明に係る添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。
【００８４】
また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平１０−２６８５１２号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平１１−１９０９０３号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開２０００−１０５４５４号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。
【００８５】
また、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することができる。また、後述する界面活性剤、画像着色剤、および可塑剤も、本発明のポジ型記録層に使用することができる。
環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−４−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４'−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，４'，４"−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，４'，３"，４"−テトラヒドロキシ−３，５，３'，５'−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２号、特開平２−９６７５５号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類、及びカルボン酸類などが挙げられる。
上記の環状酸無水物、フェノール類、及び有機酸類の記録層中に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
【００８６】
これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には特開平８−２７６５５８号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物及び本発明者らが先に提案した特開平１１−１６０８６０号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。
【００８７】
また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平１１−２８８０９３号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名「アモーゲンＫ」：第一工業（株）製）等が挙げられる。
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、（株）チッソ社製、ＤＢＥ−２２４，ＤＢＥ−６２１，ＤＢＥ−７１２，ＤＢＰ−７３２，ＤＢＰ−５３４、独Ｔｅｇｏ社製、Ｔｅｇｏ  Ｇｌｉｄｅ１００等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることが出来る。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の感光性組成物中に占める割合は、０．０５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。
【００８８】
また、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６４４号及び同６３−５８４４０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
【００８９】
画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、記録層全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で記録層中に添加することができる。
【００９０】
更に、本発明に係る記録層には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
【００９１】
＜記録層の層構成＞
本発明の平版印刷版原版の記録層は、単層型、相分離型、又は重層型のいずれであってもよい。
単層型記録層としては、例えば特開平７−２８５２７５号公報、国際公開９７／３９８９４号パンフレット記載の感光層の構成を同様に適用することができる。相分離型記録層としては、例えば、特開平１１−４４９５６号公報記載の感光層の構成を同様に適用することができる。また、重層型記録層としては、例えば、特開平１１−２１８９１４号公報、米国特許第６３５２８１２Ｂ１号、米国特許第６３５２８１１Ｂ１号、米国特許第６３５８６６９Ｂ１号、米国特許第６５３４２３８Ｂ１号、欧州特許第８６４４２０Ｂ１号明細書記載の感光層の構成を同様に適用することができる。しかしながら、本発明における記録層の構成は、これらに限定されるものではない。
なお、記録層を重層構型記録層として構成する場合、一方の層には必須成分である特定構造ポリマーを含有し、他方の層に上述した他のアルカリ可溶性樹脂を含有する態様が採られる。層全体のディスクリミネーションを広げるという観点からは、下層に特定構造ポリマーを含有し、最上層に他のアルカリ可溶性樹脂を有することが好ましく、下層には特定構造ポリマーを含有し、最上層にはノボラック樹脂を含有することがさらに好ましい。
【００９２】
〔記録層の形成方法〕
本発明に係る記録層は、記録層を構成する成分を溶媒に溶かして記録層塗布液を調製し、適当な支持体上に塗布し、乾燥することによ形成することができる。また、目的に応じて設けられる、後述する保護層、樹脂中間層、バックコート層なども同様にして形成することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。
溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。
また、塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般に、乾燥後の塗膜量が、０．１〜１０．０ｇ／ｍ2が好ましく、０．３〜５．０ｇ／ｍ2がさらに好ましい。また、記録層が、重層型構造である場合は、下層としては、０．１〜５．０ｇ／ｍ2が好ましく、０．２〜３．０ｇ／ｍ2がさらに好ましい。また、最上層としては、０．０１〜５．０ｍｇ／ｍ2となる量が好ましく、０．０５〜２．０ｍｇ／ｍ2となる量がより好ましい。
【００９３】
記録層塗布液を塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。
【００９４】
また、本発明に係る記録層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、記録層全固形分中０．０１〜１質量％、さらに好ましくは０．０５〜０．５質量％である。
【００９５】
［支持体］
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフイルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフイルム等が挙げられる。
【００９６】
本発明に適用し得る支持体としては、ポリエステルフイルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフイルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々１０質量％以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
【００９７】
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。
【００９８】
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組合せた方法も利用することができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
【００９９】
陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が１〜８０質量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版原版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７３４号及び第３，９０２，７３４号に開示されているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６８９，２７２号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
【０１００】
［下塗層］
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に先述したような記録層を設けたものであるが、必要に応じて支持体と記録層との間に下塗層を設けることができる。
この下塗層を設けることで、支持体と記録層との間の下塗層が断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることから、高感度化が図れるという利点を有する。また、本発明に係る記録層は、この下塗層を設ける際にも、露光面或いはその近傍に位置するため、赤外線レーザに対する感度は良好に維持される。
また、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である画像記録層自体が下塗層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像を形成することができ、且つ経時的な安定性も確保されるものと考えられる。
さらに、下塗層はアルカリ可溶性高分子を主成分とした層であり、現像液に対する溶解性が極めて良好な層であることから、このような下塗層を支持体に隣接して設けることにより、例えば活性の低下した現像液などを用いた場合であっても、露光により溶解抑制能が解除された感光層の成分が現像液に溶解・分散する際に、残膜などが発生することなく速やかに露光部が除去される。このことが現像性の向上にも寄与するものと考えられる。以上の理由から下塗層は有用であると考えられる。
【０１０１】
下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、２種以上混合して用いてもよい。
【０１０２】
下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の０．００５〜１０質量％の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨ１〜１２の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
下塗層の被覆量は、耐刷性の観点から、２〜２００ｍｇ／ｍ2が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2である。
【０１０３】
〔平版印刷版原版の製版処理〕
（露光）
本発明の平版印刷版原版は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長７００〜１２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
【０１０４】
レーザの出力は１００ｍＷ以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、１画素あたりの露光時間は２０μ秒以内であることが好ましく、記録材料に照射されるエネルギーは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましい。
【０１０５】
本発明の平版印刷版原版に適用することのできる現像液は、ｐＨが９．０〜１４．０の範囲、好ましくは１２．０〜１３．５の範囲にある現像液である。現像液（以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ）には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０６】
上記のアルカリ水溶液の内、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、所謂「シリケート現像液」と呼ばれるｐＨ１２以上の水溶液で、もう一つは、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖（緩衝作用を有する有機化合物）と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」である。
【０１０７】
前者においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素ＳｉＯ2とアルカリ金属酸化物Ｍ2Ｏの比率（一般に〔ＳｉＯ2〕／〔Ｍ2Ｏ〕のモル比で表す）と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭５４−６２００４号公報に開示されているような、ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏのモル比が１．０〜１．５（即ち〔ＳｉＯ2〕／〔Ｎａ2Ｏ〕が１．０〜１．５）であって、ＳｉＯ2の含有量が１〜４質量％のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭５７−７４２７号公報に記載されているような、〔ＳｉＯ2〕／〔Ｍ〕が０．５〜０．７５（即ち〔ＳｉＯ2〕／〔Ｍ2Ｏ〕が１．０〜１．５）であって、ＳｉＯ2の濃度が１〜４質量％であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも２０％のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。
【０１０８】
前記現像液及び補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散または、印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が好ましい。更に、前記現像液及び補充液には、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤等を加えることができる。
【０１０９】
前記現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版原版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。前記平版印刷版原版を使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【０１１０】
更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量のＰＳ版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤があげられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
前記現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の印刷版原版の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
【０１１１】
近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【０１１２】
本発明の平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び／又はリンス及び／又はガム引きして得られた平版印刷版原版に不必要な画像部（例えば原画フイルムのフイルムエッジ跡など）がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平２−１３２９３号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平５９−１７４８４２号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。
【０１１３】
以上のようにして得られた平版印刷版は、所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができる。より一層の高耐刷力平版印刷版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
平版印刷版原版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版原版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
【０１１４】
整面液の塗布量は、一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ2（乾燥質量）が適当である。整面液が塗布された平版印刷版原版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー（たとえば富士写真フイルム（株）より販売されているバーニングプロセッサー：「ＢＰ−１３００」）などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分の範囲が好ましい。
【０１１５】
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この様な処理によって得られた平版印刷版原版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【実施例】
【０１１６】
以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
［実施例１〜３、比較例１］
〔支持体の作製〕
厚さ０．３ｍｍのＪＩＳ−Ａ−１０５０アルミニウム板を用いて、下記に示す工程を経て処理することで支持体を作製した。
【０１１７】
（ａ）機械的粗面化処理
比重１．１２の研磨剤（ケイ砂）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は８μｍ、最大粒径は５０μｍであった。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロン、毛長５０ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであった。ナイロンブラシはφ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は２００ｒｐｍであった。
【０１１８】
（ｂ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に温度７０℃のＮａＯＨ水溶液（濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％）をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を６ｇ／ｍ2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１１９】
（ｃ）デスマット処理
温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【０１２０】
（ｄ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／リットル）、温度５０℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ＤＵＴＹ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ2であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１２１】
（ｅ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１２２】
（ｆ）デスマット処理
温度３０℃の硫酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【０１２３】
（ｇ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸７．５ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／リットル含む）、温度３５℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１２４】
（ｈ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．１０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１２５】
（ｉ）デスマット処理
温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１２６】
（ｊ）陽極酸化処理
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度１７０ｇ／リットル（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度は４３℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約３０Ａ／ｄｍ2であった。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ2であった。
【０１２７】
＜支持体Ａ＞
上記（ａ）〜（ｊ）の各工程を順に行い（ｅ）工程におけるエッチング量は３．４ｇ／ｍ2となるようにして支持体Ａを作製した。
＜支持体Ｂ＞
上記工程のうち（ｇ）（ｈ）（ｉ）の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Ｂを作製した。
【０１２８】
＜支持体Ｃ＞
上記工程のうち（ａ）及び（ｇ）（ｈ）（ｉ）の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Ｃを作製した。
＜支持体Ｄ＞
上記工程のうち（ａ）及び（ｄ）（ｅ）（ｆ）の工程を省略した以外は各工程を順に行い、（ｇ）工程における電気量の総和が４５０Ｃ／ｄｍ2となるようにして支持体Ｄを作製した。
上記によって得られた支持体Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄには、引き続き下記の親水処理、下塗り処理を行った。
【０１２９】
（ｋ）アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度３０℃の３号ケイ酸ソーダの１質量％水溶液の処理層中へ、１０秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理（シリケート処理）を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。その際のシリケート付着量は３．６ｍｇ／ｍ2であった。
【０１３０】
〔下塗り処理〕
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗り液を塗布し、８０℃で１５秒間乾燥することにより下塗層を形成した。乾燥後の被覆量は１５ｍｇ／ｍ2であった。
【０１３１】
（下塗り液）
・下記高分子化合物（下記Ｉ又はII）         ０．３ｇ
・メタノール                              １００ｇ
・水                                            １ｇ
【０１３２】
【化１６】
2006153980.tif 000017
【０１３３】
〔記録層の形成〕
次に、上記で得られた下塗層付き支持体（支持体の種類については、下記表１に示す。）に、下記組成の下層用塗布液Ａを、ワイヤーバーで塗布したのち、１４０℃の乾燥オーブンで５０秒間乾燥して塗布量を０．８５ｇ／ｍ2とした。
得られた下層付き支持体に、下記組成の最上層用塗布液Ｂをワイヤーバーで塗布した。塗布後１４０℃６０秒間の乾燥を行い、総塗布量を１．０７ｇ／ｍ2として実施例１〜３、及び比較例１のポジ型平版印刷版原版を得た。
【０１３４】
＜下層用塗布液Ａ＞
・下記表１に記載の特定構造ポリマー又は比較用ポリマー          ２．１３ｇ
・シアニン染料Ｐ（下記構造）                                  ０．１３４ｇ
・ビス−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホン                        ０．１２６ｇ
・テトラヒドロ無水フタル酸                                    ０．１９ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸                                      ０．００８ｇ
・２−メトキシ−４−（N−フェニルアミノ）
ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート          ０．０３２ｇ
・エチルバイオレット６−ナフタレンスルホン酸                  ０．０７８ｇ
・フッ素系界面活性剤
（メガファックＦ−７８０、大日本インキ化学工業（株）製）    ０．０２３ｇ
・γ―ブチロラクトン                                        １３．１６ｇ
・メチルエチルケトン                                        ２５．３９ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                            １２．９５ｇ
【０１３５】
＜最上層用塗布液Ｂ＞
・フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールノボラック樹脂
（モル比６０：４０、重量平均分子量５，０００）              ０．３４１ｇ
・シアニン染料Ｐ（下記構造）                                  ０．０１９ｇ
・下記構造ポリマーＱ／ＭＥＫ３０％溶液（下記構造）            ０．１４ｇ
・メチルエチルケトン                                          ２．６３ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                              ５．２７ｇ
【０１３６】
【化１７】
2006153980.tif 000018
【０１３７】
【化１８】
2006153980.tif 000019
【０１３８】
［実施例４〜６、比較例２］
実施例１〜３と同様の方法で得られた下塗層付き支持体（支持体の種類については、下記表１に示す。）に、下記組成の記録層塗布液Cをワイヤーバーで塗布した。塗布後１４０℃６０秒間の乾燥を行い、総塗布量を１．８０ｇ／ｍ2として、実施例４〜６、及び比較例２のポジ型平版印刷版原版を得た。
【０１３９】
＜記録層塗布液Ｃ＞
・下記表１記載の特定構造ポリマー又は比較用ポリマー              ０．７５ｇ
・フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールノボラック樹脂
（モル比６０：４０、重量平均分子量５，０００）                ０．２５ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸                                        ０．００３ｇ
・テトラヒドロ無水フタル酸                                      ０．０３ｇ
・シアニン染料Ｐ（前記構造）                                    ０．０１７ｇ
・ビクトリアピュアブルー（ＢＯＨの対アニオンを
１−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料）                ０．０１５ｇ
・フッ素系界面活性剤
（メガファックＦ−７８０、大日本インキ化学工業（株）製）      ０．０２３ｇ
・γ−ブチルラクトン                                          １０ｇ
・メチルエチルケトン                                          １０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                                １ｇ
【０１４０】
［実施例７〜９、比較例３］
実施例１〜３と同様の方法で得られた支持体（支持体の種類については、下記表１に示す。）に、下記組成の記録層塗布液Ｄをワイヤーバーで塗布した。塗布後１２０℃１８０秒間の乾燥を行い、総塗布量を２．５０ｇ／ｍ2として実施例７〜９、及び比較例３のポジ型平版印刷版原版を得た。
【０１４１】
＜記録層塗布液Ｄ＞
・下記表１記載の特定構造ポリマー又は比較用ポリマー                  １．２００ｇ
・シアニン染料Ｐ（前記構造）                                        ０．０１２ｇ
・クリスタルバイオレット                                            ０．０１５ｇ
・フッ素系界面活性剤
（ＦＣ−４３０、Minnesota Mining and Manufacturing Co.社製）        ０．００３ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                                    ８．７８ｇ
【０１４２】
［平版印刷版原版の評価］
次に、実施例１〜９、及び、比較例１〜３のポジ型平版印刷版原版の性能評価を行った。なお、評価試験は塗布後、２５℃で３０日間保存したものについて行った。
【０１４３】
（現像ラチチュードの評価）
得られた実施例１〜９、比較例１〜３のポジ型平版印刷版原版を、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ８００にて、ビーム強度１０．０Ｗ、ドラム回転速度２５０ｒｐｍの条件でテストパターンの画像状に描き込み（露光）を行った。
次に、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−２Ｒの水希釈（１：９）にて、電導度が３７ｍＳ／ｃｍになるまで炭酸ガスを吹き込んだ液及び富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦG−１の水希釈（１：１）液を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサーＬＰ−９４０ＨIIを用い、液温を３０℃に保って現像時間１２秒で現像した。その後、現像液にＤＴ−２Ｒの水希釈(１：９)液を適量加え、電導度を３９ｍＳ／ｃｍに調整し、先ほどと同じくテストパターンを画像状に描き込んだ平版印刷版原版を現像した。更に電導度を２ｍＳ／ｃｍずつ上げ、画像の現像による膜減りが顕著に観察されるまでこの作業を続けた。
【０１４４】
これら現像後の実施例及び比較例の版において、各電導度で現像した版を、現像不良の非画像部残膜に起因する汚れや着色がないかを５０倍のルーペで確認し、良好に現像が行えた現像液の電導度を決定した。次に、未露光部の現像膜減りが起こらない電導度、具体的には、現像前のベタ部の画像濃度をＧＲＥＴＡＧ反射濃度計Ｄ１９６（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）で測定して、この画像濃度から０．１０以上少ない画像濃度となるベタ部が形成された現像液の電導度を決定した。
現像が良好に行えた現像液の電導度と現像膜減りが維持される限界の電導度との幅を現像ラチチュードとした。この数値が大きいほど現像ラチチュードが広いことを表す。結果を表１に示す。
【０１４５】
（感度の評価）
得られた実施例１〜９、及び比較例１〜３のポジ型平版印刷版原版を、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ８００にて、ドラム回転速度２５０ｒｐｍとし、ビーム強度を５Ｗから１５Ｗまで段階的に変えて、テストパターンを画像状に書き込みを行った。その後、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−２の水希釈液（１：８）により電導度が４５ｍＳ／ｃｍとなった液をし込んだ、富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサーＬＰ９４０ＨIIを用いて、液温３０℃に保ち現像時間１２秒で現像した。この現像液で非画像部が現像できる最小ビーム強度（Ｗ）を測定し、感度とした。この数値が小さいほど高感度であることを示す。結果を表１に示す。
【０１４６】
【表１】
2006153980.tif 000020
【０１４７】
表１中の特定構造ポリマー（ａ）〜（ｇ）の詳細は、以下の通りである。
【０１４８】
【化１９】
2006153980.tif 000021
【０１４９】
・特定構造ポリマー（ａ）：（ａ／ｂ／ｃ／ｄ／ｅ／ｆ＝３５／１９／１９／２／２５／０；Ｍｗ：１６０００）
Ｒ1＝ｎ−ブチル基
Ｒ2＝ｐ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ3＝ｍ−ヒドロキシフェニル基
・特定構造ポリマー（ｂ）：（ａ／ｂ／ｃ／ｄ／ｅ／ｆ＝１１／２５／２５／１７／２２／０；Ｍｗ：１４０００）
Ｒ1＝ｎ−ブチル基
Ｒ2＝ｍ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ3＝ｏ−ヒドロキシフェニル基
・特定構造ポリマー（ｃ）：（ａ／ｂ／ｃ／ｄ／ｅ／ｆ＝２９／２０／２０／２／２０／９；Ｍｗ：１８０００）
Ｒ1＝ｎ−ブチル基
Ｒ2＝ｐ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ3＝ｏ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ6＝グリオキシル基
・特定構造ポリマー（ｄ）：（ａ／ｂ／ｃ／ｄ／ｅ／ｆ＝２０／２２／２２／２／２４／１０；Ｍｗ：１６０００）
Ｒ1＝ｎ−ブチル基
Ｒ2＝ｐ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ3＝ｍ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ6＝プロパルギル基
・特定構造ポリマー（ｅ）：（ａ／ｂ／ｃ／ｄ／ｅ／ｆ＝３８／２１／２１／２／１８／０；Ｍｗ：１８０００）
Ｒ1＝ｎ−ブチル基
Ｒ2＝ｐ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ3＝ｏ−ヒドロキシフェニル基
・特定構造ポリマー（ｆ）：（ａ／ｂ／ｃ／ｄ／ｅ／ｆ＝２５／１９／１９／１２／２６／０；Ｍｗ：１６０００）
Ｒ1＝ｎ−ブチル基
Ｒ2＝ｐ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ3＝ｏ−ヒドロキシフェニル基
・特定構造ポリマー（ｇ）：（ａ／ｂ／ｃ／ｄ／ｅ／ｆ＝１６／５／５／１２／４４／１８；Ｍｗ：１８０００）
Ｒ1＝ｎ−イソバレル基
Ｒ2＝ｐ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ3＝ｍ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ6＝４−ホルミルフェノキシル基
・特定構造ポリマー（ｈ）：（ａ／ｂ／ｃ／ｄ／ｅ／ｆ＝１４／２４／２０／２／４０／０；Ｍｗ：１６０００）
Ｒ1＝ｎ−ブチル基
Ｒ2＝３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル基
Ｒ3＝ｍ−ヒドロキシフェニル基
【０１５０】
表１中の比較用ポリマー（あ）〜（う）の詳細は、以下の通りである。
【０１５１】
【化２０】
2006153980.tif 000022
【０１５２】
・比較用ポリマー（あ）：（ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝３６／３７／２／２５／０；Ｍｗ：１６０００）
Ｒ1＝ｎ−ブチル基
Ｒ2＝ｐ−ヒドロキシフェニル基
・比較用ポリマー（い）：（ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝１２／４９／１７／２２／０；Ｍｗ：１４０００）
Ｒ1＝ｎ−ブチル基
Ｒ2＝ｍ−ヒドロキシフェニル基
・比較用ポリマー（う）：（ｍ／ｎ／ｏ／ｐ／ｑ＝３０／４１／２／２０／７；Ｍｗ：１８０００）
Ｒ1＝ｎ−ブチル基
Ｒ2＝ｏ−ヒドロキシフェニル基
Ｒ6＝グリオキシル基
【０１５３】
表１に示されるように、本発明に係る特定構造ポリマーを記録層中に含有する実施例１〜９の平版印刷版原版は、現像ラチチュードが広く、且つ高感度な平版印刷版原版であるることが分かった。