(57)【要約】【課題】  撥水性、撥溶剤性、耐熱性及び基板密着性に優れた逆テーパー状の隔壁を有し、積層する有機層の内少なくとも一層を湿式塗布で形成された有機電界発光素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】  基板１０上に、複数の第１電極１２と第１電極１２に直交する複数の隔壁１６と有機物層１８と第２電極２０が形成されており、隔壁１６の材料には、フッ素置換基とエチレン性二重結合とを有する高分子化合物を使用した。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された第１の電極と、
前記第１の電極と交差するように形成され、断面形状が逆テーパー状である複数の隔壁と、
前記複数の隔壁により分離され、前記第１の電極の上に複数層形成されるとともに、それらの内少なくとも一層が低分子物質である有機物層と、
前記複数の隔壁により分離され、前記複数の有機物層の上に形成された第２の電極と、
を有し、前記複数の隔壁の材料にフッ素置換基とエチレン性二重結合とを有する高分子化合物を使用したことを特徴とする有機電界発光素子。
【請求項２】
前記隔壁の材料として、下記式１で示される含フッ素置換基と、エチレン性二重結合とを含む含フッ素ポリマーを使用したことを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
−ＣＦＸＲｆ  ・・・式１
ただし、Ｘは水素原子又はフッ素原子を示し、Ｒｆはフッ素原子、または水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素数１５以下のアルキル基、またはエーテル性の酸素原子を有し、炭素に結合した水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素数１５以下の原子団を示す。エーテル性酸素原子は、原子団の炭素−炭素結合間に存在してもよく、結合末端に存在してもよい。
【請求項３】
前記有機物層の内少なくとも一層を湿式塗布する前に、酸素ガスプラズマにより基板を洗浄することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項４】
前記酸素ガスプラズマによる洗浄は、減圧雰囲気下でプラズマ照射をすることを特徴とする請求項３に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項５】
前記酸素ガスプラズマによる洗浄は、大気圧雰囲気下でプラズマ照射をすることを特徴とする請求項３に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項６】
前記酸素ガスプラズマによる洗浄は、処理圧力中の酸素ガスの分圧が０．１％〜１００％であることを特徴とする請求項３から請求項５のいずれか一項記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項７】
前記有機物層の内少なくとも一層を湿式塗布する前に、波長２５４ｎｍの紫外線を照射することにより基板を洗浄することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項８】
前記有機物層の内少なくとも一層を湿式塗布する前に、波長１８５ｎｍの紫外線を照射することにより基板を洗浄することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッシブ駆動型の有機電界発光素子の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
パッシブ駆動の有機電界発光素子（以降、有機ＥＬ素子という）の製造は、基板上に設けられた複数の平行なストライプ状の第１電極の上に、これと直交する方向に複数の隔壁を所定間隔で設け、この隔壁の間の第１電極が露出する領域に、真空蒸着法により、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等の複数の有機物層を形成し、次いで金属膜を蒸着して第２電極を形成することにより行う。この第２電極を形成する際に、隣接する第２電極間の導通、短絡を防止することを目的として、上記隔壁を逆テーパー状に形成することが提案されている。
【０００３】
一方、真空蒸着法により複数の有機物層を形成すると、第１の電極上に散在する微小な異物、電極表面のキズ、凹部を被覆することができず、形成した有機物層に不均一な状態が発生する。そのため、第１・第２の電極間に電圧を印加する際に、これらの不均一な有機物層の部分に電界が集中し、電極間の短絡を誘発するという問題がある。
【０００４】
このような電極間の短絡を防ぐことを目的として、第１の電極表面に形成される有機物層を湿式塗布方法にて形成する方法が提案されている。
【０００５】
下記特許文献１には、垂直断面形状が逆テーパー状である有機ＥＬ素子の隔壁を形成するための感放射線性樹脂組成物が提案されている。
【０００６】
また、下記特許文献２には、逆テーパー状のレジストパターンを形成する材料として酸硬化型のレジスト材料を用いることが提案されている。
【特許文献１】特開２００２−８３６８８（請求項１、段落００５７〜００６２）
【特許文献２】特開２００１−２５５６６６（請求項１、段落００２４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上記従来の技術においては、湿式塗布法で使用される有機物層の材料の溶液が前述の逆テーパー構造を有する隔壁に接触すると、逆テーパー部分で毛細管現象が発現し、有機物層を形成しない領域まで上記溶液が流出するという問題があった。例えば、第２の電極と実装用配線を電気的に接続するコンタクト領域や、有機ＥＬ素子を外気から遮蔽保護するための封止用シール材料を塗布する領域に上記溶液が流入し、コンタクト抵抗の上昇、シールの接着能力の低下などの原因となる。
【０００８】
このような問題を克服するためには、隔壁に水や有機溶剤などをはじく性質、いわゆる撥水性、撥溶剤性が要求される。そこで、上述した特許文献１の段落００５７〜００６２に例示されているフッ素系あるいはシリコーン系の界面活性剤を隔壁の材料に添加すれば、撥水性、撥溶剤性が発現する可能性もある。しかし、例示の界面活性剤は、隔壁形成用組成物の構成材料と共有結合する反応性部位を有していないため、隔壁に安定的に固定されない。そのため、高温環境下に置かれると、界面活性剤が揮発してしまい、経時的に撥水性、撥溶剤性が低下するという問題がある。
【０００９】
また、上記特許文献２に記載された酸硬化型のレジスト材料を用いる場合、露光機として汎用的に用いられている超高圧水銀灯で露光を行うと、Ｉ線の３６５ｎｍよりも長波長領域に吸収を有する光酸発生剤は塩素イオンを含んだ化合物となる。このため、塩素イオンが隔壁に残留し、熱等のドライビングフォースが加わると、発光層へのマイグレーションが起こって発光層の寿命を低下させるという問題がある。
【００１０】
さらに、有機ＥＬ素子は種々の用途に適用が考えられているが、特に高い耐久性が求められる自動車のインパネ部分やカーナビゲーション等の車載用途に用いられることも多い。このような車載用途に求められる耐久性のうち、特に耐熱性が厳しい試験項目であり、高温条件にさらされた場合に劣化の少ないことが要求されている。
【００１１】
本発明は、上記従来の課題に鑑みなされたものであり、その目的は、撥水性、撥溶剤性、耐熱性及び基板密着性に優れた逆テーパー状の隔壁を有し、積層する有機層の内少なくとも一層を湿式塗布で形成された有機電界発光素子及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明は、有機電界発光素子であって、基板上に形成された第１の電極と、前記第１の電極と交差するように形成され、断面形状が逆テーパー状である複数の隔壁と、前記複数の隔壁により分離され、前記第１の電極の上に複数層形成されるとともに、それらの内少なくとも一層が低分子物質である有機物層と、前記複数の隔壁により分離され、前記複数の有機物層の上に形成された第２の電極と、を有し、前記複数の隔壁の材料にフッ素置換基とエチレン性二重結合とを有する高分子化合物を使用したことを特徴とする。
【００１３】
また、上記隔壁の材料として、下記式１で示される含フッ素置換基と、エチレン性二重結合とを含む含フッ素ポリマーを使用したことを特徴とする。
−ＣＦＸＲｆ  ・・・式１
【００１４】
ただし、Ｘは水素原子又はフッ素原子を示し、Ｒｆはフッ素原子、または水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素数１５以下のアルキル基、またはエーテル性の酸素原子を有し、炭素に結合した水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素数１５以下の原子団を示す。エーテル性酸素原子は、原子団の炭素−炭素結合間に存在してもよく、結合末端に存在してもよい。
【００１５】
また、本発明は、有機電界発光素子の製造方法であって、有機物層の内少なくとも一層を湿式塗布する前に、酸素ガスプラズマにより基板を洗浄することを特徴とする。
【００１６】
また、上記酸素ガスプラズマによる洗浄は、減圧雰囲気下または大気圧雰囲気下でプラズマ照射をすることを特徴とする。
【００１７】
また、上記酸素ガスプラズマによる洗浄は、処理圧力中の酸素ガスの分圧が０．１％〜１００％であることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明は、有機電界発光素子の製造方法であって、有機物層の内少なくとも一層を湿式塗布する前に、波長２５４ｎｍの紫外線または波長１８５ｎｍの紫外線を照射することにより基板を洗浄することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、撥水性、撥溶剤性、耐熱性及び基板密着性に優れた逆テーパー状の隔壁が得られる。また、これらの隔壁材料を使用した有機電界発光素子では、湿式塗布による発光層の形成技術を使用することができ、電極間短絡が無く、高い信頼性を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、実施形態という）を、図面に従って説明する。
【００２１】
なお、本明細書の化合物名において（メタ）アクリレートとは、アクリレート及び／又はメタクリレートを意味する。同様に、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及び／又はメタクリル酸を意味し、（メタ）アクリルアミドとは、アクリルアミド及び／又はメタクリルアミドを意味する。また、本明細書において、特に説明しない場合、％は質量％を表す。
【００２２】
図１には、本発明にかかる有機ＥＬ素子の構成の断面図が示される。図１において、ガラス等の基板１０上に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の複数の透明な第１電極１２が平行なストライプ状に形成され、この第１電極１２の上に、これと直交する方向に複数の開口絶縁膜１４及び隔壁１６が形成されている。複数の開口絶縁膜１４及び隔壁１６の間で、第１電極１２が露出する領域に、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等の複数の有機物層１８が形成され、有機物層１８の上にアルミニウム等の第２電極２０が形成されている。
【００２３】
上記有機物層１８の内、少なくとも第１電極１２に接着する一層は、溶媒に溶解させた液状材料を第１電極１２の表面に塗布する湿式塗布方式により形成される。これにより、第１の電極１２上に散在する微小な異物、電極表面のキズ、凹部を被覆することができ、第１の電極１２間の短絡を抑制することが可能である。
【００２４】
有機物層１８を湿式塗布方式により形成するには、例えば有機物層１８の材料を有機溶剤等の溶媒に溶解し、マスクスプレー法、インクジェット法、印刷法などにより所望の領域のみに有機物層１８を形成する。
【００２５】
また、上記有機物層１８の内、少なくとも一層は低分子物質となっている。ここで、低分子物質は、低分子系の有機ＥＬ素子に一般的に使用される低分子量の有機材料である。例えば、発光層あるいは電子輸送層としては、アルミニウムキノリノール錯体（Ａｌｑ）等がある。また、色素ドープ用の材料としては、ルブレン、クマリン誘導体、キナクリドン誘導体、上記のＤＣＭ１やＤＣＭ２、ペリレン誘導体、ジスチリル誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、オキサゾール系色素、シアニン系色素、アントラセン誘導体、テトラフェニルブタジエン、スチルベン系色素、アクリジン系色素、ローダミン系色素、希土類錯体等がある。さらに、発光層兼正孔輸送層としては、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（以下、α−ＮＰＤと呼ぶ。）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−４，４’−ジアミノビフェニル、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）等がある。
【００２６】
また、上記隔壁１６は、隣接する第２電極２０間の導通、短絡を防止することを目的として、断面形状が、底辺が上辺より短い台形状である逆テーパー状に形成されている。このような本発明の隔壁１６は、ネガ型感光性樹脂組成物により形成されている。
【００２７】
本発明にかかるネガ型感光性樹脂組成物は、含フッ素ポリマー（Ａ）を含む。含フッ素ポリマー（Ａ）は、下記式１で表される基（ｐ）と、エチレン性二重結合（ｑ）とを含む。
−ＣＦＸＲｆ  ・・・式１
【００２８】
ただし、Ｘは水素原子又はフッ素原子を示し、Ｒｆはフッ素原子、または水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素数１５以下のアルキル基、またはエーテル性の酸素原子を有し、炭素に結合した水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素数１５以下の原子団を示す。エーテル性酸素原子は、原子団の炭素−炭素結合間に存在してもよく、結合末端に存在してもよい。
【００２９】
含フッ素ポリマー（Ａ）における式１で表される基（ｐ）は、形成される隔壁１６に撥水性、撥溶剤性を付与する。式１で表される基（ｐ）は表面移行性を有しているので、プリベーク（塗膜の乾燥）の際に含フッ素ポリマー（Ａ）が塗膜表面近傍に移行する。したがって、少量の含フッ素ポリマー（Ａ）の添加であっても、プリベーク時には、塗膜表面に充分な撥水性、撥溶剤性を付与できる。
【００３０】
さらに、プリベークの際に含フッ素ポリマー（Ａ）が塗膜表面近傍に移行することによって、基板１０付近の含フッ素ポリマー（Ａ）の濃度が相対的に減少するので、隔壁１６との開口絶縁膜１４との密着性の低下を防止できる。この結果、隔壁１６の開口絶縁膜１４を介した基板密着性を向上できる。
【００３１】
また、含フッ素ポリマー（Ａ）はエチレン性二重結合（ｑ）を有している。したがって、光照射により含フッ素ポリマー（Ａ）はネガ型感光性樹脂組成物の他の構成成分と共有結合するので隔壁１６に固定され、撥水性、撥溶剤性の持続性すなわち耐熱性が高くなる。
【００３２】
上記式１で表される基（ｐ）に含まれるＲｆの具体例としては、
・Ｒｆが、水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素数１５以下のアルキル基の場合：
−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、
−（ＣＦ２）２ＣＦ３、−（ＣＦ２）３ＣＦ３、−（ＣＦ２）４ＣＦ３、−（ＣＦ２）５ＣＦ３、
−（ＣＦ２）６ＣＦ３、−（ＣＦ２）７ＣＦ３、−（ＣＦ２）８ＣＦ３、−（ＣＦ２）９ＣＦ３、
−（ＣＦ２）１１ＣＦ３、−（ＣＦ２）１４ＣＦ３、
・Ｒｆが、エーテル性の酸素原子を有し、炭素に結合した水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素数１５以下の原子団の場合（エーテル性酸素原子は、炭素−炭素結合間に存在）：
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ３  （ｎは０〜６）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ（ＣＦ２）５ＣＦ３（ｎは０〜２）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ（ＣＦ２）２ＣＦ３（ｎは０〜３）
・Ｒｆが、エーテル性の酸素原子を有し、炭素に結合した水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素数１５以下の原子団の場合（エーテル性酸素原子は、結合末端に存在）：
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＯＣＦ３  （ｎは０〜６）、
等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３３】
上記具体例に示されるように、式１で表される基（ｐ）としては、パーフルオロアルキル基又は水素原子１個を含むポリフルオロアルキル基であることが好ましく、パーフルオロアルキル基が特に好ましい。また、上記アルキル基の代わりに、エーテル性酸素原子を含む原子団であってもよい。これによって、含フッ素ポリマー（Ａ）は良好な撥水性、撥溶剤性を奏する。また、式１で表される基（ｐ）の全炭素数は１５以下であることが好ましい。これによって、含フッ素ポリマー（Ａ）は良好な撥インク性、特に撥有機溶剤性を奏する。また、本発明の含フッ素ポリマー（Ａ）を、式１で表される基（ｐ）を有する単量体と他の共重合成分である単量体との共重合によって合成する場合に両単量体の相溶性が良好となる。
【００３４】
また、含フッ素ポリマー（Ａ）に含まれるエチレン性二重結合（ｑ）を有する基の例としては、アクリル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基等の付加重合性の不飽和基等が挙げられる。それらの基の水素原子の一部又はすべてが、炭化水素基により置換されていてもよい。炭化水素基としては、メチル基が好ましい。
【００３５】
また、含フッ素ポリマー（Ａ）は、酸性基（ｒ）を有することが好ましい。これにより、現像性が良好になるので、より微細なパターン形成が可能となる。
【００３６】
上記酸性基（ｒ）としては、カルボキシル基、スルホン酸基、及びフェノール性水酸基の群から選ばれる少なくとも１つの酸性基又はその塩が挙げられる。
【００３７】
含フッ素ポリマー（Ａ）は、式１で表される基（ｐ）を有する単量体、反応部位を有する単量体（好ましくは、酸性基（ｒ）を有する単量体を含み、その他の単量体を含んでいてもよい）を共重合させてなる重合体の前記反応部位に、エチレン性二重結合（ｑ）を有する化合物を反応させて得られる重合体であることが好ましい。
【００３８】
上述した、式１で表される基（ｐ）を有する単量体としては、
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ５［ｐ］、
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ６ＮＲ４ＳＯ２［ｐ］、
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ６ＮＲ４ＣＯ［ｐ］、
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）Ｒ５［ｐ］、
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＲ４＝ＣＦ［ｐ］
等が挙げられる。ただし、Ｒ４は水素原子又はメチル基を、Ｒ５は単結合又は炭素数１〜６の２価有機基を、Ｒ６は炭素数１〜６の２価有機基を、［ｐ］は式１で表される基（ｐ）を、それぞれ示す。
【００３９】
上記Ｒ５、Ｒ６の具体例としては、
ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ３）、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、Ｃ（ＣＨ３）２、ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）
等が挙げられる。Ｒ５は単結合であってもよい。
【００４０】
上記反応部位を有する単量体に含まれる、酸性基（ｒ）を有する単量体のうち、カルボキシル基を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。
【００４１】
また、スルホン酸基を有する単量体としては、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アリルオキシプロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸−２−スルホエチル、（メタ）アクリル酸−２−スルホプロピル、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、もしくはそれらの塩等が挙げられる。
【００４２】
さらに、フェノール性水酸基を有する単量体としては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。また、これらのベンゼン環の１個以上の水素原子が、メチル、エチル、ｎ−ブチル等のアルキル基、メトキシ、エトキシ、ｎ−ブトキシ等のアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基の１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基に置換された化合物等が挙げられる。
【００４３】
エチレン性二重結合（ｑ）の含フッ素ポリマー（Ａ）への導入方法としては、１）水酸基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にエチレン性二重結合（ｑ）を有する酸無水物を反応させる方法、２）水酸基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にイソシアネート基とエチレン性二重結合（ｑ）を有する化合物を反応させる方法、３）水酸基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後に塩化アシル基とエチレン性二重結合（ｑ）を有する化合物を反応させる方法、４）エチレン性二重結合（ｑ）を有する酸無水物をあらかじめ共重合させ、後に水酸基とエチレン性二重結合（ｑ）を有する化合物を反応させる方法、５）カルボキシル基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にエポキシ基とエチレン性二重結合（ｑ）を有する化合物と反応させる方法、６）エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にカルボキシル基とエチレン性二重結合（ｑ）を有する化合物を反応させる方法、が挙げられる。
【００４４】
なお、含フッ素ポリマー（Ａ）は、式１で表される基（ｐ）、酸性基（ｒ）を有する単量体以外の単量体（その他の単量体）に基づく単量体単位を有していてもよい。
【００４５】
その他の単量体としては、炭化水素系オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルエステル類、アリルエステル類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン類、共役ジエン類が挙げられる。これらの化合物には、官能基が含まれていてもよく、例えば水酸基、カルボニル基、アルコキシ基等が挙げられる。特に（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類が、ネガ型感光性樹脂組成物から形成される塗膜の耐熱性に優れるので好ましい。また、イソボニル（メタ）アクリレートやシクロヘキシル（メタ）アクリレート等のかさ高い基を有する単量体は、含フッ素ポリマー（Ａ）の重合時におけるカルボキシル基に起因する水素結合による会合を防ぐことができ好ましい。
【００４６】
含フッ素ポリマー（Ａ）におけるフッ素原子含有量は、５〜２５％が好ましく、１２〜２０％がより好ましい。当該範囲であると、含フッ素ポリマー（Ａ）は、形成される隔壁１６の表面張力を下げる効果に優れ、隔壁１６に高い撥水性、撥溶剤性を付与することができる。また、含フッ素ポリマー（Ａ）を基板１０に塗布した際の塗膜が白濁することがなく、ネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好となり、隔壁１６と開口絶縁膜１４を介した基板１０との密着性が高くなる。
【００４７】
また、含フッ素ポリマー（Ａ）の酸価は１０〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が好ましく、２０〜８０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）がより好ましい。当該範囲であると、含フッ素ポリマー（Ａ）のアルカリ溶解性、ネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【００４８】
また、含フッ素ポリマー（Ａ）において、その他の単量体から形成される単量体単位の割合は９０％以下が好ましく、７０％以下がより好ましい。当該範囲であるとネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【００４９】
また、含フッ素ポリマー（Ａ）の重量平均分子量は、１０００以上２００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満がより好ましい。当該範囲であると、露光によるコントラストの変化が大きく、光に対する感度が高くなる。また、現像液に対する溶解性が高く、非露光部における溶解残渣の発生を防止できるという利点がある。
【００５０】
ネガ型感光性樹脂組成物の全固形分における含フッ素ポリマー（Ａ）の割合は、０．０１〜２０％が好ましく、０．０５〜１５％がより好ましい。当該範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好となり、形成される隔壁１６は良好な撥水性、撥溶剤性を有し、隔壁１６の基板密着性が良好となる。
【００５１】
また、ネガ型感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶の感光性樹脂（Ｂ）を含む。アルカリ可溶の感光性樹脂（Ｂ）は、エチレン性二重結合（ｑ）と、酸性基（ｒ）とを有する。但し、前記式１で表される基（ｐ）を有しない。アルカリ可溶の感光性樹脂（Ｂ）は、ネガ型感光性樹脂組成物の現像性及びネガ型感光性樹脂組成物から形成される隔壁１６の基板密着性を向上させる。エチレン性二重結合（ｑ）、酸性基（ｒ）は、含フッ素ポリマー（Ａ）において説明したものと同様である。
【００５２】
上記アルカリ可溶の感光性樹脂（Ｂ）の例としては、酸性基（ｒ）を有する単量体、反応部位を有する単量体を共重合させてなる重合体の前記反応部位に、エチレン性二重結合（ｑ）を有する化合物を反応させて得られる重合体（Ｂ１）、エチレン性二重結合（ｑ）を導入したノボラック樹脂（Ｂ２）が挙げられる。
【００５３】
なお、上記酸性基（ｒ）及びエチレン性二重結合（ｑ）については、含フッ素ポリマー（Ａ）において説明したものと同様である。
【００５４】
次に、エチレン性二重結合（ｑ）を導入したノボラック樹脂（Ｂ２）について説明する。ノボラック樹脂は、フェノール類をアルデヒド類と重縮合して得られるものであり、例えば、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、フェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共縮合樹脂等が挙げられる。
【００５５】
上記ノボラック樹脂に、エチレン性二重結合（ｑ）を導入する方法としては、例えば、１）フェノール性水酸基の一部をエポキシ基を有する単量体と反応させる方法、２）フェノール性水酸基の一部又はすべてをエピクロロヒドリンと反応させて、ノボラック樹脂にエポキシ基を導入した後に、該エポキシ基とカルボキシル基を有する単量体を反応させる方法が挙げられる。なお、この反応で生成した水酸基と酸無水物とを反応させ、分子内にさらにカルボキシル基を導入することもできる。
【００５６】
酸性基（ｒ）及びエチレン性二重結合（ｑ）を有するノボラック樹脂の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＣＲ−１０６９、Ｋ−４８Ｃ、ＣＣＲ−１１０５、ＣＣＲ−１１１５、ＴＣＲ−１０２５、ＴＣＲ−１０６４、ＴＣＲ−１２８６、ＺＦＲ−１１２２、ＺＦＲ−１１２４、ＺＦＲ−１１８５（以上、日本化薬社製）等が挙げられる。
【００５７】
アルカリ可溶の感光性樹脂（Ｂ）の酸価は、１０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。当該範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【００５８】
アルカリ可溶の感光性樹脂（Ｂ）の重量平均分子量は、５００以上２００００未満が好ましく、２０００以上１５０００未満がより好ましい。当該範囲であると、露光によるコントラストの変化が大きく、光に対する感度が高くなる。また、現像液に対する溶解性が高く、非露光部における溶解残渣の発生を防止できるという利点がある。
【００５９】
ネガ型感光性樹脂組成物の全固形分におけるアルカリ可溶の感光性樹脂（Ｂ）の割合は、３０〜９０％が好ましく、５０〜８５％がより好ましい。当該範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【００６０】
ネガ型感光性樹脂組成物は、架橋剤（Ｃ）を含む。架橋剤（Ｃ）は、エチレン性二重結合（ｑ）を２個以上有し、かつ酸性基（ｒ）を有しない。また、前記式１で表される基（ｐ）を有しない。架橋剤（Ｃ）は、ネガ型感光性樹脂組成物の光硬化性を向上させる。エチレン性二重結合（ｑ）及び酸性基（ｒ）は、前記含フッ素ポリマー（Ａ）において説明したものと同様である。
【００６１】
架橋剤（Ｃ）の具体例としては、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６２】
ネガ型感光性樹脂組成物の全固形分における架橋剤（Ｃ）の割合は、２０〜７０％が好ましく、３０〜６０％がより好ましい。当該範囲であると、含フッ素ポリマー（Ａ）は良好な撥水性、撥溶剤性を奏し、ネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【００６３】
ネガ型感光性樹脂組成物は、ラジカル開始剤（Ｄ）を含む。ラジカル開始剤（Ｄ）は、光によりラジカルを発生する化合物である。
【００６４】
ラジカル開始剤（Ｄ）としては、例えば、ベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、アセトフェノン、２−（４−トルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。
【００６５】
ネガ型感光性樹脂組成物の全固形分におけるラジカル開始剤（Ｄ）の割合は、ネガ型感光性樹脂組成物中の固形分に対し、０．１〜３０％が好ましく、１〜２０％がより好ましい。当該範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【００６６】
次に、本発明における隔壁１６について説明する。隔壁１６の断面形状が順テーパーや矩形であるとき、すなわち隔壁１６の断面の側辺と底辺とがなす角度であるテーパー角が９０度以下であるとき、当該隔壁パターンを有する基板１０の有機物層１８上に第２電極２０としての陰極材料を蒸着すると、形成された蒸着膜が連続となり、短絡しやすくなるため好ましくない。そこで蒸着膜を非連続とし絶縁性を確保するために、隔壁１６の断面形状は逆テーパー状、つまりテーパー角が９０度より大きいことが好ましく、より好ましくは１１０度以上である。
【００６７】
逆テーパー形状をつくるための手法としては、ネガ型感光性樹脂組成物を基板１０上に塗布し、照射された光を塗膜表面で吸収させることにより行う。つまり、塗膜表面から深部にかけて到達する光の量が徐々に少なくなるようにし、深部ほど硬化が進まないように制御する。そのように制御することで、深部ほど側壁が現像液に溶解するため、形成された隔壁１６の断面形状が逆テーパー状となる。
【００６８】
ネガ型感光性樹脂組成物は、光吸収剤（Ｅ）を含む。光吸収剤（Ｅ）は、露光機から発光される光を吸収する化合物であって、添加によって塗膜の光透過率を実質的に低下させるものである。ただし、光吸収剤（Ｅ）には、前記ラジカル開始剤（Ｄ）を含まない。
【００６９】
露光機から発光される光の波長は、露光機の種類により異なるが、１００〜６００ｎｍの範囲にある。現在汎用的に広く用いられている露光機の発光波長であるＩ線（３６５ｎｍ）やＧ線（４３６ｎｍ）を吸収する材料としては、増感剤又は紫外線吸収剤が挙げられる。
【００７０】
増感剤としては、例えばフラボン類、ジベンジルアセトン類、ジベンジルシクロヘキサン類、カルコン類、キサントン類、チオキサントン類、ポルフィリン類、フタロシアニン類、アクリジン類、アントラセン類、ベンゾフェノン類、クマリン類等を挙げることができる。
【００７１】
具体的には、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジエチルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、２−エチルヘキシル−１，４−ジメチルアミノベンゾエート、２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４−（ジエチルアミノ）カルコン、ジエチルチオキサントン等を挙げることができる。これらの中でも特に吸光度が高く、量子効率が低いベンゾフェノン系のものやクマリン類が好ましい。
【００７２】
紫外線吸収剤としては、合成樹脂用紫外線吸収剤として通常使用されているようなベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤などが好ましい。
【００７３】
紫外線吸収剤の具体例としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジーｔ−ペンチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、オクチル
３−｛３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル｝プロピオネート、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル−３−｛３−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル｝プロピオネート等が挙げられる。
【００７４】
本発明においては、上述した紫外線吸収剤のうち、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル−３−｛３−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル｝プロピオネートなどの分子内に光重合性の官能基を有するものが特に好ましい。
【００７５】
ネガ型感光性樹脂組成物の全固形分における光吸収剤の割合は、０．５〜４０％であることが好ましい。光吸収剤の含有量が少なすぎると、ネガ型感光性樹脂組成物の塗膜上部における光の吸収が小さいために、塗膜深部まで光が到達して十分に硬化するため、隔壁１６の断面の形状が逆テーパー状になりにくい。一方、光吸収剤の含有量が多過ぎると、塗膜上部における光の吸収が大きすぎて、塗膜深部の硬化が起きないために、現像中に隔壁１６が剥離するおそれがある。
【００７６】
また、ネガ型感光性樹脂組成物においては、必要に応じてシランカップリング剤（Ｆ）を使用することができる。シランカップリング剤を使用すると、ネガ型感光性樹脂組成物から形成される隔壁１６の基板密着性が向上する。
【００７７】
シランカップリング剤（Ｆ）の具体例としては、テトラエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、へプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、ポリオキシアルキレン鎖含有トリエトキシシラン等が挙げられる。
【００７８】
また、ネガ型感光性樹脂組成物においては、希釈剤（Ｇ）を使用することができる。希釈剤（Ｇ）の具体例としては、例えばアルコール類、ケトン類、セルソルブ類、カルビトール類、エステル類、鎖式炭化水素、環式飽和炭化水素、芳香族炭化水素、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が挙げられる。
【００７９】
さらに、ネガ型感光性樹脂組成物においては、必要に応じて増粘剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、ハジキ防止剤等を使用することができる。
【００８０】
以下、ネガ型感光性樹脂組成物を使用したフォトリソグラフィー工程を述べる。
【００８１】
まず、基板１０にネガ型感光性樹脂組成物を塗布する。基板１０の材質は特に限定されるものではないが、例えば、各種ガラス板、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフイン等、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリスルホンの熱可塑性プラスチックシート、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、等の熱硬化性プラスチックシート等を挙げることができる。特に、耐熱性の点からガラス板、ポリイミド等の耐熱性プラスチックが好ましく用いられる。塗布方法としては、通常用いられる方法が特に限定なく採用でき、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法などが挙げられる。
【００８２】
次いで塗膜は、加熱される（プリベークという）。プリベークによって、溶媒が揮発し、流動性のない塗膜が得られる。加熱条件は、各成分の種類、配合割合などによっても異なるが、好ましくは５０〜１５０℃、１０〜２０００秒間程度の幅広い範囲が採用できる。
【００８３】
次に、加熱された塗膜に所定パターンのマスクを介して露光を行う。使用される光は、１００〜６００ｎｍの範囲に分布を有する電磁波が好ましく、具体的には可視光、紫外線、遠紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２エキシマレーザー等のレーザー光等が挙げられる。但し、波長の短い光を照射する場合、そのエネルギーが強いため、照射時間によっては、露光された部分の組成物材料が分解する可能性がある。したがって、紫外線波長以上の光であることが好ましく、例えばそのような光源としては、露光装置用途に汎用的に広く用いられている超高圧水銀灯が挙げられる。
【００８４】
その後、現像液により現像し、未露光部分を除去する。現像液としては、例えば無機アルカリ類、アミン類、アルコールアミン類、第四級アンモニウム塩等のアルカリ類からなるアルカリ水溶液を用いることができる。
【００８５】
現像時間は、３０〜１８０秒間が好ましい。また現像方法は液盛り法、ディッピング法などのいずれでもよい。現像後、流水洗浄を行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、基板上の水分を除去する。続いて、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置により、好ましくは１２０〜２５０℃で、５〜９０分間加熱処理（以下、ポストベーク処理と呼ぶ）をすることによって、逆テーパー形状の隔壁１６が形成される。
【００８６】
撥水性、撥溶剤性は、水及び有機溶媒の接触角で見積もることができ、水の接触角は８０度以上が好ましく、９０度以上がより好ましい。有機溶媒の接触角は２５度以上が好ましく、４０度以上がより好ましい。
【００８７】
次に、逆テーパー状の隔壁１６が形成された基板１０に、溶剤または水に溶解した有機材料を塗布する工程を説明する。アルカリ成分の現像液で現像された隔壁１６及びポストベークにて焼成された隔壁１６の近傍には、添加された發溶剤性成分が飛散しており、有機ＥＬ素子の有機物層１８に電気を供給する第１の電極１２としての陽極電極の最上層に、薄膜として付着している場合が多い。ポストベークにより固着した薄膜層は、一般的に用いられている純水、界面活性剤等を添加した純水などでは完全に除去することは難しい。形成された薄膜は、發溶剤性を有する低分子成分の混合膜であるため、本来有機材料の薄膜を形成したい領域に發溶剤性の薄膜が形成されてしまい、有機ＥＬ素子の有機物層１８として均一な有機材料薄膜を形成するのが困難となる。
【００８８】
そこで、發溶剤性の薄膜を除去するための洗浄方法を検討した結果、溶剤等のウェット洗浄方法よりも、プラズマ等を活用したドライ洗浄を用いることで効果的に陽極電極上の發溶剤性物質を除去することができることを見出した。
【００８９】
プラズマによる基板１０の洗浄は、酸素ガスプラズマを使用するのが好適である。また、プラズマ照射は、減圧雰囲気下及び大気圧雰囲気下のいずれであってもよい。さらに、プラズマ照射を行う際の処理圧力中の酸素ガスの分圧は、０．１％〜１００％とするのが好適である。
【００９０】
また、基板１０の洗浄は、酸素ガスプラズマの他、紫外線を使用してもよい。例えば、波長２５４ｎｍの紫外線または波長１８５ｎｍの紫外線を照射することにより基板を洗浄するのが好適である。
【００９１】
陽極電極上の發溶剤薄膜を除去すると同時に隔壁１６の表面も洗浄されるが、これまで説明したように、隔壁１６は發溶剤性の材料で形成されているため、洗浄された表面層には發溶剤性性分が残留するので有機材料を溶解した溶液をはじく能力を十分維持できる。
【００９２】
以上に述べた本発明のネガ型感光性樹脂組成物によれば、インクを弾く性質が必要とされる隔壁１６の形成に使用できる。例えば、液晶ディスプレイ用カラーフルター又は有機ＥＬディスプレイ等の隔壁、半導体装置又は電気回路における配線パターン形成用の隔壁の形成に好適に用いられる。
【実施例】
【００９３】
以下に本発明の実施例について説明するが、本発明は本実施例に限定されるものではない。また、本実施例においては、特に断らない限り、部及び％は質量基準である。
【００９４】
以下に、本実施例において用いた化合物の略号を示す。
Ｃ６ＦＭＡ：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
ＩＢＭＡ：イソボルニルメタクリレート
ＤＳＨ：ｎ−ドデシルメルカプタン
Ｖ−７０：２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬社製、商品名Ｖ−７０）
ＭＯＩ：２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート
ＤＢＴＤＬ：ジブチル錫ジラウレート
ＢＨＴ：２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール
サイクロマーＰ：感光性樹脂（ダイセル化学社製、サイクロマーＰ（ＡＣＡ）２５０）
Ｄ３１０：ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬社製、商品名ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３１０）
ＩＲ９０７：光重合開始剤（チバ−ガイギー社製、商品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７）
ＤＥＡＢ：４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
ＫＢＭ４０３：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製、商品名ＫＢＭ−４０３）
ＤＥＧＤＭ：ジエチレングリコールジメチルエーテル
【００９５】
［含フッ素ポリマー（Ａ）の合成］
合成例１
撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、アセトン（５５５．０ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（９６．０ｇ）、ＭＡＡ（７２．０ｇ）、ＨＥＭＡ（７２．０ｇ）、連鎖移動剤ＤＳＨ（９．７ｇ）及び重合開始剤Ｖ−７０（５．０ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、４０℃で１８時間重合反応を行い、重合体１の溶液を得た。得られた重合体のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、再度アセトン溶液に石油エーテルを加え再沈精製し、真空乾燥し、重合体１の２４０ｇを得た。
【００９６】
次に、温度計、撹拌機、加熱装置を備えた内容量３００ｍＬのガラス製フラスコに、重合体１（１００ｇ）、ＭＯＩ（３６．２ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．１５ｇ）、ＢＨＴ（１．８ｇ）及びアセトン（１００ｇ）を仕込み、撹拌しながら、３０℃で１８時間反応を行い、樹脂１の溶液を得た。この樹脂１は、重合体１にエチレン性二重結合（ｑ）が導入されたものである。得られた樹脂１のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、再度アセトン溶液に石油エーテルを加え再沈精製し、真空乾燥し、樹脂Ａ（１３５ｇ）を得た。
【００９７】
合成例２
撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、アセトン（５５５．０ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（７２．０ｇ）、ＭＡＡ（４８．０ｇ）、ＩＢＭＡ（１２０．０ｇ）、連鎖移動剤ＤＳＨ（２４．２ｇ）及び重合開始剤Ｖ−７０（５．０ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、４０℃で１８時間重合反応を行い、樹脂２の溶液を得た。得られた樹脂２のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、再度アセトン溶液に石油エーテルを加え再沈精製し、真空乾燥し、樹脂Ｂ（２４０ｇ）を得た。
【００９８】
以上に述べた樹脂Ａ及び樹脂Ｂの合成に使用した原料の配合量及び分子量、酸価、フッ素原子含有量の値を表１に示す。
【００９９】
【表１】
2006185869.tif 000003
【０１００】
表１において、重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレンを標準物質として重量平均分子量を測定した値である。また、各樹脂の酸価、フッ素原子の含有量は、表１の原料の配合量から計算される理論値を示した。なお、酸価は樹脂１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量（単位ｍｇ）である。
【０１０１】
［ネガ型感光性樹脂組成物の評価］
上記の樹脂Ａ、Ｂを用い、以下の表２に示した例ａ、例ｂの条件でネガ型感光性樹脂組成物を得てパターンを形成し、現像性、隔壁の撥水性、撥溶剤性、テーパー角及び耐熱性を評価した。
【０１０２】
【表２】
2006185869.tif 000004
【０１０３】
パターン形成
上記表２に示す割合で含フッ素ポリマー（Ａ）、アルカリ可溶の感光性樹脂（Ｂ）、架橋剤（Ｃ）、ラジカル開始剤（Ｄ）、光吸収剤（Ｅ）、シランカップリング剤（Ｆ）、希釈剤（Ｇ）を配合して例ａ〜ｂのネガ型感光性組成物を得た。
【０１０４】
得られた組成物をガラス基板にスピンコート法により塗工し（ウェット厚み１０μｍ）、１００℃のオーブンで２分間乾燥を行った。その後、空気雰囲気中、塗膜とマスク（ライン／スペ−ス＝２０μｍ／２０μｍ）のギャップを２０μｍに固定し、超高圧水銀灯により１５０ｍＪ／ｃｍ２の照射を行った。次いで未露光部分を１％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に１分間浸漬し現像し、純水でリンスし、乾燥させた。次いで、ホットプレート上、２２０℃で１時間加熱することにより、パターンの形成されたガラス基板を得た。
【０１０５】
パターンの形成されたガラス基板について、下記方法で現像性、撥水性、撥溶剤性、耐熱性の評価を行った。その結果を表２にまとめて示した。
【０１０６】
現像性
現像できたもの（ライン／スペ−スのパターンが形成できたもの）を○で示した。例ａ、例ｂとも現像ができた。
【０１０７】
撥水性、撥溶剤性
撥水性、撥溶剤性は、水及びキシレンの接触角で見積もることができる。ガラス基板に形成されたパターンの塗膜部分表面の水及びキシレンの接触角（度）を測定した。接触角とは、固体と液体が接触する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義する。この角度が大きいほど塗膜の撥水性、撥溶剤性が優れることを意味する。
【０１０８】
テーパー角
ガラス基板に形成された隔壁を垂直切断し、その断面形状をＳＥＭにより観察した。隔壁断面の側辺と底面とがなす角度を読み取った。
【０１０９】
耐熱性
パターンの形成されたガラス基板を９０℃の恒温層に５００時間入れて、隔壁の経時的な撥水性、撥溶剤性の変化及び形状の変化を調べた。撥水性、撥溶剤性の変化は水及びキシレンの接触角の変化で見積もることができる。接触角の変化が少ないほど耐熱性が優れていることを意味する。例ａでは耐熱性が良好であったが、例ｂでは接触角の変化が大きく、熱劣化が起こっていることがわかる。これは、例ｂの原料である樹脂２が表１に示す変成反応を行っておらず、エチレン性二重結合が導入されていないからである。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】本発明にかかる有機ＥＬ素子の断面模式図である。
【符号の説明】
【０１１１】
１０  基板、１２  第１電極、１４  開口絶縁膜、１６  隔壁、１８  有機物層、２０  第２電極。
【図１】
2006185869.tif 000005