(57)【要約】【課題】レーザービームプリンタや複写機等で、レーザースキャニングに利用されるポリゴンミラースキャナモータにおいて、回転体が回転した場合に発生する、バランス修正用パテ近傍の圧力変動による騒音、振動を低下させることを目的とする。【解決手段】前記従来の課題を解決するために、本発明のポリゴンミラースキャナモータは、ロータフレーム天面１２の開放空間に塗布するバランス修正用パテ１１の高さを、１ｍｍ以下とする。【選択図】図２
2006060903.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロータフレーム天面の開放空間に高さを１ｍｍ以下の範囲にバランス修正用パテを塗布することによりバランス修正を施してなるポリゴンミラースキャナモータ。
【請求項２】
圧力変動の閾値を６．２Ｐａ以下とし、Ｙを回転体の周速、Ｘをバランス修正用パテ高さとすると、６．２Ｐａ≧（Ｙ＋Ｘ＋０．４０７５）／３．１８９４の式によりバランス修正用パテ高さを定めて形成した請求項１に記載のポリゴンミラースキャナモータ。
【請求項３】
バランス修正用パテの比重は１以上とするように形成した請求項１に記載のポリゴンミラースキャナモータ。
【請求項４】
バランス修正用パテの塗布量をＱ、バランス修正用パテの塗布長さをＬとすると、Ｌ≧０．８Ｑ＋１の式によりバランス修正用パテの塗布長さを定めて形成した請求項１に記載のポリゴンミラースキャナモータ。
【請求項５】
ポリゴンミラーの外接円を、ロータフレーム天面のバランス修正用パテを塗布する円周上よりも小さく形成した請求項１に記載のポリゴンミラースキャナモータ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレーザービームプリンタや複写機等で使用され、レーザースキャニングに利用される高速回転を有するポリゴンミラースキャナモータに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のポリゴンミラースキャナモータには、回転することによって生じる回転体の不釣合いからもたらされる騒音、振動を抑えるために、バランス修正用パテを塗布している。また、バランス修正用パテを固着するためにロータフレーム天面に凹形状をしたバランス修正溝を設けている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
図９は、前記特許文献１に記載された従来のポリゴンミラースキャナモータを示すものである。図９において、ロータ１４には、バランス修正用パテを固着するための凹形状のバランス溝１３が設けられており、バランス溝１３にバランス修正用パテを塗布することにより、回転体の不釣合いからもたらされる騒音、振動を抑える構成としていた。
【特許文献１】特開平７−３３６９７０号公報（第３頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来の構成では、回転体が回転した場合、凹形状をしたバランス修正溝内部で、バランス修正の為に塗布されたパテ近傍には回転体の周速により圧力変動が生じ、その結果、騒音、振動を発生させる原因となるという新たな課題を有している事が判明した。
【０００５】
本発明は、前記従来の課題を解決するものであり、回転体が回転した場合に発生するパテ近傍の圧力変動による騒音、振動を低下させることができるポリゴンミラースキャナモータを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記従来の課題を解決するために、本発明のポリゴンミラースキャナモータは、ロータフレーム天面の開放空間にバランス修正用パテを塗布する場合、パテ高さを１ｍｍ以下とすることにより、回転時におけるパテ近傍の圧力変動を低減する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明のポリゴンミラースキャナモータによれば、回転体が回転した場合に発生するパテ近傍の圧力変動による騒音、振動を低下させることができるという有利な効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら説明する。
【０００９】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの断面図である。
【００１０】
図１において、回転軸１が焼きバメにより固定されたロータボス２に、ロータマグネット３を有するロータフレーム４をカシメにより固定し、ポリゴンミラー５はロータボス２に設置され押さえバネ６によって固定され、回転体を構成している。
【００１１】
円筒状の軸受７がカシメにより固定されている鉄基板８には巻線１０を巻装するコア９が取り付けられ回転軸１を軸受７が軸支することにより回転を可能にしている。
【００１２】
図２は、本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータのバランス修正用パテ１１を塗布するロータフレーム天面１２の断面図である。図１と同じ構成要素については同じ符号を用い、説明を省略する。図２において、バランス修正用パテ１１の塗布は、ロータフレーム天面１２の最外径に施されている。
【００１３】
図３は、本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの回転時における騒音レベルをパテ近傍の圧力変動別に表記したグラフである。図３において、横軸にパテ近傍の圧力変動、縦軸に騒音をとると、騒音はパテ近傍の圧力変動に対し、比例して増加していることが伺える。これにより、パテ近傍の圧力変動と騒音の関係が明白となった。
【００１４】
この様に、回転体が回転した場合、バランス修正用パテ近傍には、回転体の周速による圧力変動が生じ、騒音、振動の原因となる事が判明したので、このバランス修正用パテ近傍における回転体の周速による圧力変動とバランス修正用パテ高さの関係に着目して種々検討を行った結果、以下のことが究明された。
【００１５】
図４は、本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの回転時におけるバランス修正用パテ高さをパテ近傍の圧力変動別に表記したグラフである。図４において、横軸にパテ近傍の圧力変動、縦軸にバランス修正用パテ高さをとると、パテ近傍の圧力変動はバランス修正用パテ高さに対し、比例して増加していることが伺える。これにより、パテ近傍の圧力変動とバランス修正用パテ高さとの関係が明白となった。
【００１６】
図５は、本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの回転時における回転体の周速を、パテ近傍の圧力変動別に表記したグラフである。図５において、横軸にパテ近傍の圧力変動、縦軸に回転体の周速をとると、回転体の周速はパテ近傍の圧力変動に対し、２次曲線的に比例して増加していることが伺える。これにより、パテ近傍の圧力変動と回転体の周速との関係が明白となった。
【００１７】
図６は、本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの回転時における回転体の周速を、バランス修正用パテ高さ別に表記したグラフである。図６において、横軸にバランス修正用パテ高さ、縦軸に回転体の周速をとると、回転体の周速はバランス修正用パテ高さに対し、２次曲線的に比例して増加していることが伺える。これにより、バランス修正用パテ高さと回転体の周速との関係が明白となった。
【００１８】
本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの騒音レベルを、現時点におけるレーザービームプリンタや複写機等のセット側から許容される要求レベルである３０ｄＢ以下に抑えることを前提とすると、
（１）前記図３の結果より、騒音レベルを３０ｄＢ以下にするためには、パテ近傍の圧力変動の閾値を６．２Ｐａ以下としなければならない。
（２）前記図４の結果より、圧力変動の閾値を６．２Ｐａ以下とすると、回転体の周速を１８．４ｍ／ｓ以下としなければならない。
（３）前記図５の結果より、圧力変動の閾値を６．２Ｐａ以下とすると、バランス修正用パテ高さを１．０ｍｍ以下としなければならない。
（４）前記図３及び図４及び図５の結果より、圧力変動の閾値を６．２Ｐａ以下とすると、バランス修正用パテ高さは１．０ｍｍ以下とすることにより、騒音レベルを３０ｄＢ以下に抑えることができる。
【００１９】
また回転体の周速をＹ、バランス修正用パテ高さをＸとすると、両者の関係は、圧力変
動の閾値を６．２Ｐａ以下とした場合、６．２Ｐａ≧（Ｙ＋Ｘ＋０．４０７５）／３．１８９４の式で表される。
【００２０】
図７は、本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの回転時における振動成分をバランス修正用パテ高さ別に表記したグラフである。図７において、横軸に振動成分、縦軸にパテ近傍の圧力変動をとると、各振動成分にて、それぞれのバランス修正用パテ高さに対するパテ近傍の圧力変動は比例して増加していることが伺える。これにより、振動成分とバランス修正用パテ高さとの関係が明白となった。
【００２１】
前記図７において、ｗ１〜ｗ１０までの定格の振動成分を記載しているが、ｗ１成分（アンバランスによって生じる成分）を除き、例えば、パテを２ヶ所塗布するとｗ２の成分が悪化し、パテを３ヶ所塗布するとｗ３の成分が悪化するといった具合にバランス修正用パテ１１の塗布数に対応した周波数成分が悪化する傾向にある。前記図７はロータフレーム天面１２に１ヶ所塗布した場合である。
【００２２】
また本発明は、騒音レベルを３０ｄＢ以下として記載しているが、圧力変動の閾値を変更することにより、各種の騒音レベルに対するバランス修正用パテ高さを設定することができる。この時、バランス修正用パテ高さを１ｍｍ以下にしやすくするためには出来るだけ少量の塗布でバランス修正を行なう必要があるので、バランス修正用パテの比重は１以上とする。
【００２３】
図８は、本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータのバランス修正用パテ塗布長さを、バランス修正用パテ塗布量別に表記したグラフである。図８において、バランス修正用パテ高さを１ｍｍ以下とした場合、横軸にバランス修正用パテ塗布量、縦軸にバランス修正用パテ塗布長さをとると、必然的にバランス修正用パテ塗布長さはバランス修正用パテ塗布量に対し、比例して増加していることが分かる。
【００２４】
前記図８において、バランス修正用パテ塗布高さを１ｍｍ以下とするためには、バランス修正用パテを浅く広く塗布する必要がある。また、バランス修正用パテ塗布長さをＬ、バランス修正用パテ塗布量をＱとすると、両者の関係は、バランス修正用パテ高さを１ｍｍ以下とした場合、Ｌ≧０．８Ｑ＋１の式で表される。
【００２５】
以上のように構成されたポリゴンミラースキャナモータでは、ロータフレーム天面１２にバランス修正用パテ１１を塗布するために、ポリゴンミラーの外接円はバランス修正用パテ１１を塗布する円周上よりも小さくする必要がある。
【００２６】
上記実施の形態より、バランス修正用パテ高さを１ｍｍ以下とすることにより、回転体の周速によって生じるパテ近傍の圧力変動による騒音、振動を低下させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００２７】
本発明にかかる、ポリゴンミラースキャナモータは回転体の周速によるパテ近傍の圧力変動による騒音、振動を低下させることが可能になるのでレーザービームプリンタや複写機等の用途に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの断面図
【図２】本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータのロータフレームの断面図
【図３】本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの騒音と圧力変動の図
【図４】本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの圧力変動とバランス修正用パテ高さの図
【図５】本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの周速と圧力変動の図
【図６】本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータのバランス修正用パテ高さと周速の図
【図７】本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータの振動成分と圧力変動の図
【図８】本発明の実施の形態におけるポリゴンミラースキャナモータのバランス修正用パテ塗布長さとバランス修正用パテ塗布量の図
【図９】従来のポリゴンミラースキャナモータの断面図
【符号の説明】
【００２９】
１  回転軸
２  ロータボス
３  ロータマグネット
４、１４  ロータフレーム
５  ポリゴンミラー
６  押さえバネ
７  軸受
８  鉄基板
９  コア
１０  巻線
１１  バランス修正用パテ
１２  ロータフレーム天面
１３  バランス溝
Ｌ  バランス修正用パテ塗布長さ
Ｑ  バランス修正用パテ塗布量
Ｗ  振動成分
Ｘ  バランス修正用パテ高さ
Ｙ  回転体の周速
【図１】
2006060903.tif 000003
【図２】
2006060903.tif 000004
【図３】
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【図４】
2006060903.tif 000006
【図５】
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【図６】
2006060903.tif 000008
【図７】
2006060903.tif 000009
【図８】
2006060903.tif 000010
【図９】
2006060903.tif 000011