(57)【要約】【課題】  基板の所定位置に複数の配線パターンを配置して露光する露光方法において、予め基板に設けられた複数の基準マークを検出して検出位置情報を取得し、その検出位置情報に基づいて基板上に配置された配線パターンの位置を補正して露光する露光方法において、配線パターンの補正量の算出時間を短縮する。【解決手段】  基準マーク位置情報に基づいて基板１２に予め設けられた基準マーク１２ａを検出してその基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得し、基板１２の所定位置に配置された配線パターンＰ１〜Ｐ４のうちの配線パターンＰ１〜Ｐ３の位置を示す描画位置情報１２ｃを、基準マーク１２ａの検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに応じて補正するとともに、配線パターンＰ１〜Ｐ３の描画位置情報１２ｃの補正量に基づいて配線パターンＰ４の補正量を取得し、その取得した補正量を用いて配線パターンＰ４を補正する。【選択図】          図８
2006251160.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画面の所定位置に複数の画像を配置して描画する描画方法において、
予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す前記描画面上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、
前記描画面の所定位置に配置された前記複数の画像のうちの一部の画像の位置を示す描画位置情報を、前記基準マークの前記検出位置情報と前記基準マーク位置情報とのずれに応じて補正するとともに、前記一部の画像の描画位置情報の補正量に基づいて前記一部以外の画像の前記描画面上における位置の補正量を取得し、該取得した補正量を用いて前記一部以外の画像の位置を補正し、
該補正後の前記描画面の位置に前記画像を描画することを特徴とする描画方法。
【請求項２】
前記一部の画像を複数とし、
該複数の一部の画像の各画像毎の前記補正量を取得し、該取得した各画像毎の補正量を用いて前記各画像の位置を個別に補正するとともに、前記各画像毎の補正量に基づいて前記一部以外の画像の前記描画面上における位置の補正量を取得し、該取得した補正量を用いて前記一部以外の画像の位置を補正することを特徴とする請求項１記載の描画方法。
【請求項３】
前記一部の画像の各画像毎の補正量の平均値を取得し、該平均値を用いて前記一部以外の画像の位置を補正することを特徴とする請求項２記載の描画方法。
【請求項４】
前記一部以外の画像が前記描画面の周縁部に配置されていることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の描画方法。
【請求項５】
描画面の所定位置に画像を配置して描画する描画装置において、
予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す前記描画面上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段と、
前記描画面の所定位置に配置された前記複数の画像のうちの一部の画像の位置を示す描画位置情報を、前記基準マークの前記検出位置情報と前記基準マーク位置情報とのずれに応じて補正するとともに、前記一部の画像の描画位置情報の補正量に基づいて前記一部以外の画像の前記描画面上における位置の補正量を取得し、該取得した補正量を用いて前記一部以外の画像の位置を補正する画像位置補正手段と、
該画像位置補正手段により補正された前記描画面の位置に前記画像を描画する描画手段を備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項６】
前記一部の画像が複数であり、
前記画像位置補正手段が、前記複数の一部の画像の各画像毎の前記補正量を取得し、該取得した各画像毎の補正量を用いて前記各画像の位置を個別に補正するとともに、前記各画像毎の補正量に基づいて前記一部以外の画像の前記描画面上における位置の補正量を取得し、該取得した補正量を用いて前記一部以外の画像の位置を補正するものであることを特徴とする請求項５記載の描画装置。
【請求項７】
前記画像位置補正手段が、前記一部の画像の各画像毎の補正量の平均値を取得し、該平均値を用いて前記一部以外の画像の位置を補正するものであることを特徴とする請求項６記載の描画装置。
【請求項８】
前記一部以外の画像が前記描画面の周縁部に配置されていることを特徴とする請求項５から７いずれか１項記載の描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画面の所定位置に複数の画像を配置して描画する描画方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板の基板に所定の配線パターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。
【０００３】
上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、配線パターンを表す画像データに基づいて変調することにより配線パターンを形成する露光装置が提案されている。
【０００４】
ここで、上記のような露光装置により形成されるプリント配線板の配線パターンは、益々高精細化が進む傾向にあり、たとえば、多層プリント配線板を形成するような場合には、各層の配線パターンの位置合わせを高精度に行う必要がある。
【０００５】
上記のような位置合わせを行うため、各層の配線パターンは基板に対して予め設定された位置に露光されるが、多層プリント配線板を形成する際には、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えられ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、上記のように予め設定された位置に各層の配線パターンを露光したのでは各層の配線パターンの記録位置ずれが生じ、各層の配線パターンの高精度な位置合わせが困難となるおそれがある。
【０００６】
そこで、たとえば、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて、各層の基板の四隅に孔を設け、露光の際、この孔の位置を検出し、その検出された孔の検出位置情報と上記基準マーク位置情報とに基づいて基板の変形量を求め、その変形量に応じて配線パターンの配置を補正することによって、上記のような基板の変形に影響されることなく、高精度な位置合わせを行うことができる露光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−１２２３０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、たとえば、基板上に形成されるパターンとしては、回路の機能の一部として用いられるパターンだけでなく、たとえば、所定のコード、数字、マークもしくは基板をカットする際に用いられる線などといった回路の機能とは全く関係のないものもある。そして、このようなパターンについては、回路の機能の一部として用いられるパターンと比較すると、それ程高精度な位置合わせは必要なく、このようなパターンについてまで個別に補正量を算出して上記のように補正するようにしたのでは、その補正量の算出時間が無駄であり、処理効率が低下するおそれがある。一方、このようなパターンについても、全く位置合わせが必要ないというわけではなく、ある程度精度での位置合わせは必要である。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑み、上記露光装置のような位置合わせを行う描画方法および装置において、上記のような処理効率の低下を招くことなく、描画面上の画像の位置合わせを適切に行うことができる描画方法および装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の描画方法は、描画面の所定位置に複数の画像を配置して描画する描画方法において、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画面上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、描画面の所定位置に配置された複数の画像のうちの一部の画像の位置を示す描画位置情報を、基準マークの検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに応じて補正するとともに、上記一部の画像の描画位置情報の補正量に基づいて上記一部以外の画像の描画面上における位置の補正量を取得し、その取得した補正量を用いて上記一部以外の画像の位置を補正し、その補正後の描画面の位置に画像を描画することを特徴とする。
【００１１】
また、上記描画方法においては、上記一部の画像を複数とし、その複数の一部の画像の各画像毎の補正量を取得し、その取得した各画像毎の補正量を用いて各画像の位置を個別に補正するとともに、各画像毎の補正量に基づいて上記一部以外の画像の描画面上における位置の補正量を取得し、その取得した補正量を用いて上記一部以外の画像の位置を補正するようにすることができる。
【００１２】
また、上記一部の画像の各画像毎の補正量の平均値を取得し、その平均値を用いて上記一部以外の画像の位置を補正するようにすることができる。
【００１３】
また、上記一部以外の画像を描画面の周縁部に配置するようにすることができる。
【００１４】
本発明の描画装置は、描画面の所定位置に画像を配置して描画する描画装置において、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画面上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段と、描画面の所定位置に配置された複数の画像のうちの一部の画像の位置を示す描画位置情報を、基準マークの検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに応じて補正するとともに、上記一部の画像の描画位置情報の補正量に基づいて上記一部以外の画像の描画面上における位置の補正量を取得し、その取得した補正量を用いて上記一部以外の画像の位置を補正する画像位置補正手段と、画像位置補正手段により補正された描画面の位置に画像を描画する描画手段を備えたことを特徴とする。
【００１５】
また、上記描画装置においては、上記一部の画像を複数とし、画像位置補正手段を、複数の一部の画像の各画像毎の補正量を取得し、その取得した各画像毎の補正量を用いて各画像の位置を個別に補正するとともに、各画像毎の補正量に基づいて上記一部以外の画像の描画面上における位置の補正量を取得し、その取得した補正量を用いて上記一部以外の画像の位置を補正するものとすることができる。
【００１６】
また、画像位置補正手段を、上記一部の画像の各画像毎の補正量の平均値を取得し、その平均値を用いて上記一部以外の画像の位置を補正するものとすることができる。
【００１７】
また、上記一部以外の画像を描画面の周縁部に配置するようにすることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の描画方法および装置によれば、予め設定された複数の基準マーク位置情報の示す描画面上の位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、描画面の所定位置に配置された複数の画像のうちの一部の画像の位置を示す描画位置情報を、基準マークの検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに応じて補正するとともに、上記一部の画像の描画位置情報の補正量に基づいて上記一部以外の画像の描画面上における位置の補正量を取得し、その取得した補正量を用いて上記一部以外の画像の位置を補正するようにしたので、上記一部の画像については、高精度な補正を行うことができるとともに、上記一部以外の画像についてはある程度の精度で補正を行うことができる。そして、さらに、上記一部以外の画像について個別に補正量を取得することなく上記一部の画像の補正量を用いて上記一部以外の画像の補正量を取得するようにしたので、上記一部以外の画像の補正量の算出時間を短縮することができ、処理効率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の描画方法および装置の一実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図１は、本露光装置の概略構成を示す斜視図である。本露光装置は、多層プリント配線板の各層の配線パターンを露光する装置であって、その各層の配線パターンの位置合わせの方法に特徴を有するものであるが、まず、その概略構成を説明する。
【００２０】
本露光装置１０は、図１に示すように、基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。移動ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。
【００２１】
設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端および後端と、基板１２に予め設けられている円形状の複数（本実施形態では６個）の基準マーク１２ａの位置とを検知するための複数（本実施形態では３台）のカメラ２６が設けられている。
【００２２】
ここで、基板１２における基準マーク１２ａは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板１２上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドやヴィアやエッチングマークを用いてもよい。また、基準マーク１２ａは特定のパターンであってもよい。基準マーク位置情報については後で詳述する。
【００２３】
スキャナ２４およびカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびカメラ２６は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。
【００２４】
スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。
【００２５】
各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられており、ＤＭＤ３６はその画素列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０ごとに帯状の露光済み領域３４が形成される。
【００２６】
露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー単位でオン/オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラーに対応したドットパターン（黒/白）が露光される。図４に示すように、前述した帯状の露光済み領域３４は、２次元配列されたドットによって形成される。
【００２７】
二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。
【００２８】
なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラーは常にオフ状態となる。
【００２９】
また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔(露光エリアの長辺の自然数倍、本実施形態では１倍)ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。
【００３０】
次に、本露光装置１０における電気的構成について説明する。本露光装置１０は、図５に示すように、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置４０から出力された、露光対象の配線パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータをラスターデータ(ビットマップデータ)に変換するラスター変換処理部５０と、基準マーク位置情報と複数の配線パターンの描画位置情報とが設定される基準位置設定部５２と、カメラ２６により検出された基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報と上記基準マーク位置情報とに基づいて上記描画位置情報を補正する画像位置補正手段５４と、画像位置補正手段５４により補正された描画位置情報に基づいて配線パターンのラスターデータを補正して補正済画像データを生成する画像データ補正手段５６と、画像データ補正手段５６により変換された補正済画像データに基づいて露光ヘッド３０により露光されるよう露光ヘッド３０を制御する露光ヘッド制御部５８と、移動ステージ１４をステージ移動方向へ移動させる移動機構６０と、本露光装置全体を制御するコントローラ７０とを備えている。なお、上記描画位置情報およびその描画位置情報の補正方法については後で詳述する。また、移動機構６０は、移動ステージ１４をガイド２０に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。
【００３１】
次に、本露光装置１０の作用について図５を参照しながら説明する。
【００３２】
まず、データ作成装置４０において、基板１２に露光すべき配線パターンを含む画像パターン全体を表すベクトルデータが作成される。そして、そのベクトルデータはラスター変換処理部５０に入力され、ラスター変換処理部５０において、そのベクトルデータがラスターデータに変換されて画像データ補正手段５６に入力され、画像データ補正手段５６は入力されたラスターデータを一時記憶する。
【００３３】
また、上記のようにしてベクトルデータがラスター変換処理部５２に入力されると、露光装置１０全体の動作を制御するコントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０はその制御信号に応じて移動ステージ１４を図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、ステージ移動方向へ所望の速度で移動させる。
【００３４】
そして、上記のようにして移動するステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す画像データが画像位置補正手段５４に入力される。画像位置補正手段５４は、その画像データに基づきステージ１４上に載置された基板１２の基準マーク１２ａの位置を検出して検出位置情報を取得する。基準マーク１２ａの位置の検出方法については、たとえば、円形状の画像を抽出することにより検出するようにすればよいが、他の如何なる既知の検出方法を採用してもよい。また、上記基準マーク１２ａの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標値の原点は、たとえば、基板１２の撮影画像の４つの角のうちの１つの角のとしてもよいし、撮影画像における予め設定された所定の位置でもよいし、複数の基準マーク１２ａのうちの１つの基準マーク１２ａの位置としてもよい。ただし、上記のようにして設定した原点と、後述する基準マーク位置情報の座標値の原点とは一致させておく必要がある。なお、上記のように本実施形態においては、カメラ２６と画像位置補正手段５４とにより請求項における検出位置情報取得手段が構成されている。
【００３５】
一方、基準位置設定部５２には、上記プレスエ程を経ていない標準的な基板１２における基準マーク１２ａの基準マーク位置情報が予め設定されている。この基準マーク位置情報は設計値であり、基板１２に基準マーク１２ａを設ける際に予め定められた値である。また、この基準マーク位置情報は、ユーザーにより設定されるようにしてもよいし、たとえば、上記のような標準的な基板１２を、上記と同様にしてカメラ２６により撮影することによって取得して設定するようにしてもよい。上記基準マーク位置情報も座標値として設定されるものである。
【００３６】
さらに、基準位置設定部５２には、複数の配線パターンの位置を示す描画位置情報が予め設定されている。図６に、基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃと複数の配線パターンＰ１，Ｐ２，Ｐ３およびＰ４との位置関係の一例を示す。図６における斜線黒丸が基準マーク位置情報１２ｂの位置を示し、白丸が描画位置情報１２ｃを示しており、直線で囲まれた図形が実際に基板上に露光される配線パターンを示している。
【００３７】
本実施形態においては、図６に示すように、基板１２における基準マーク位置情報１２ｂを結ぶ点線で囲まれる領域内に配線パターンＰ１、Ｐ２およびＰ３が配置され、上記領域外の基板１２の周縁部１２ｅに配線パターンＰ４が配置されており、これらの配線パターンに対応した描画位置情報が、それぞれ基準位置設定部５２に設定されている。
【００３８】
なお、上記描画位置情報１２ｃも座標値として設定されるものであり、その座標値の原点は、上記検出位置情報および上記基準マーク位置情報と同じである。描画位置情報１２ｃは、基板１２上における複数の配線パターンの配置の仕方によって任意に設定されるものであり、ユーザーにより設定されるものである。
【００３９】
また、本実施形態においては、配線パターンＰ１、Ｐ２およびＰ３については、配線パターンが形成される長方形の矩形領域の長辺方向の中心軸上にある、矩形領域の短辺に外接する点を描画位置情報１２ｃとして設定するようにしている。
【００４０】
なお、本実施形態においては、上記のようにして描画位置情報１２ｃを設定するようにしたが、その他の方法により設定するようにしてもよい。また、本実施形態においては、配線パターンＰ１と配線パターンＰ２とを同じ大きさおよび形としたが、これらを異なるものとしてもよい。
【００４１】
また、上記説明においては、全て配線パターンと称しているが、ここでいう配線パターンとは必ずしも回路の一部として機能する配線のパターンのみを意味するものではなく、その他マーキング、コード、数字なども含むものとする。
【００４２】
そして、本実施形態においては、配線パターンＰ１、Ｐ２およびＰ３を、回路の一部として機能する配線を含む配線パターンとし、配線パターンＰ４を、上記のような配線を含まないパターンであって、所定のマーキングやコードや数字もしくは基板をカットするための線などから構成されるパターンとしている。
【００４３】
そして、配線パターンＰ４についても、図示省略しているが、配線パターンＰ１〜Ｐ３と同様に予め描画位置情報が設定されており、その描画位置情報によって示された位置に配置されている。描画位置情報の設定の仕方については、配線パターンＰ４を１つの配線パターンとして考え、その１つの配線パターンの位置を示すように、たとえば配線パターンＰ４の４隅などに設定するようにしてもよいし、配線パターンＰ４の中のマーキングやコードや数字やカット線などに対して個々に描画位置情報を設定するようにしてもよい。
【００４４】
そして、上記のようにして予め設定された基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃの座標値が基準位置設定部５２から画像位置補正手段５４に出力される。
【００４５】
そして、画像位置補正手段５４は、上記のようにして実際にカメラ２６により撮影した基板１２の基準マーク１２ａの検出位置情報と基準位置設定部５２から出力された基準マーク位置情報１２ｂとのずれに基づいて、配線パターンＰ１〜Ｐ３の描画位置情報１２ｃについての補正量を取得する。
【００４６】
図６に示す複数の描画位置情報のうち、たとえば、一番上の右側にある１つの描画位置情報ｂの補正量を算出する方法を、図７を参照して具体的に説明する。
【００４７】
画像位置補正手段５４は、上記描画位置情報ｂの座標値とその描画位置情報ｂの周囲の４つの基準マーク位置情報Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの座標値とに基づいて、図７に示すような４つの分割領域の面積Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄを求める。そして、下式に上記４つの基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄのそれぞれに対応する検出位置情報Ｇ,Ｈ,Ｉ,Ｊの座標値を代入することにより、補正された描画位置情報ｂ’の座標値を算出する。
【００４８】
ｂ’（ｘ，ｙ）＝（Ｓａ×Ｇ（ｘ，ｙ）＋Ｓｂ×Ｈ（ｘ，ｙ）＋Ｓｃ×Ｉ（ｘ，ｙ）＋Ｓｄ×Ｊ（ｘ，ｙ））/（Ｓａ＋Ｓｂ＋Ｓｃ＋Ｓｄ）
ただし、Ｓａ＝ｘ２×ｙ２，Ｓｂ＝ｘ１×ｙ２，Ｓｃ＝ｘ２×ｙ１，Ｓｄ＝ｘ１×ｙ１
そして、上記と同様にして、その他の描画位置情報ａ,ｃ〜ｆについて、補正後の座標値を取得する。なお、このとき、配線パターンＰ１と配線パターンＰ２の描画位置情報ａ〜ｄについては、配線パターンＰ１と配線パターンＰ２とを囲む４つの共通の基準マーク位置情報Ａ,Ｂ,Ｃ,Ｄとその検出位置情報とを用いて補正し、配線パターンＰ３の描画位置情報ｅ,ｆについては、配線パターンＰ３を囲む４つの基準マークの基準マーク位置情報Ｃ,Ｄ,Ｅ,Ｆ,Ｇとその検出位置情報とを用いて補正することが望ましい。
【００４９】
また、本実施形態においては、上記のように各描画位置情報ａ〜ｆの座標値を予め設定するようにしたが、必ずしも各描画位置情報ａ〜ｆの座標値を予め設定するようにする必要はなく、たとえば、上記のように基準マーク位置情報１２ｂと描画位置情報１２ｃとの関係（上式の場合、Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの面積比）を示す関数だけを予め設定しておき、その関数に検出位置情報を代入することによって補正後の描画位置情報ａ’〜ｆ’の座標値を算出するようにしてもよい。基準マーク位置情報１２ｂと各描画位置情報ａ〜ｆとの関係を示す関数としては、上記のようなＳａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの面積比に基づくものだけでなく、たとえば、基準マーク位置情報１２ｂと各描画位置情報ａ〜ｆと距離に基づくものでもよい。また、基準マーク位置情報１２ｂと各描画位置情報ａ〜ｆとの関係を示す関数を設定しておき、検出位置情報に基づいて上記関数自体を補正し、その補正された関数に基準マーク位置情報１２ｂを代入することにより補正後の描画位置情報ａ’〜ｆ’の座標値を算出するようにしてもよい。
【００５０】
そして、上記のようにして算出された補正後の描画位置情報ａ’〜ｆ’の座標値に基づいて、配線パターンＰ１〜Ｐ３の補正量が算出される。具体的には、配線パターンＰ１については、補正前の描画位置情報ａ,ｃの座標値と、補正後の描画位置情報ａ’,ｃ’の座標値とから、補正前の描画位置情報ａと描画位置情報ｃとを結ぶベクトルａ−ｃと補正後の描画位置情報ａ’と描画位置情報ｃ’とを結ぶベクトルａ’−ｃ’と求められ、ベクトルａ’−ｃ’のベクトルａ−ｃに対するＸ方向へのシフト量Δｘ１およびＹ方向へのシフト量Δｙ１、および回転量Δθ１が算出され、配線パターンＰ２については、補正前の描画位置情報ｂ,ｄの座標値と、補正後の描画位置情報ｂ’,ｄ’の座標値とから、補正前の描画位置情報ｂと描画位置情報ｄとを結ぶベクトルｂ−ｄと補正後の描画位置情報ｂ’と描画位置情報ｄ’とを結ぶベクトルｂ’−ｄ’と求められ、ベクトルｂ’−ｄ’のベクトルｂ−ｄに対するＸ方向へのシフト量Δｘ２およびＹ方向へのシフト量Δｙ２、および回転量Δθ２が算出され、配線パターンＰ３については、補正前の描画位置情報ｅ,ｆの座標値と、補正後の描画位置情報ｅ’,ｆ’の座標値とから、補正前の描画位置情報ｅと描画位置情報ｆとを結ぶベクトルｅ−ｆと補正後の描画位置情報ｅ’と描画位置情報ｆ’とを結ぶベクトルｅ’−ｆ’と求められ、ベクトルｅ’−ｆ’のベクトルｅ−ｆに対するＸ方向へのシフト量Δｘ３およびＹ方向へのシフト量Δｙ３、および回転量Δθ３が算出され、これらの算出された補正量Δｘ１〜３、Δｙ１〜３、Δθ１〜３が画像データ補正手段５６に出力される。そして、画像データ補正手段５６は、入力された補正量Δｘ１〜３、Δｙ１〜３、Δθ１〜３に基づいて、予め一時記憶されたラスターデータに回転、シフト、変倍などの処理を施して各配線パターンＰ１〜Ｐ３のラスターデータを補正する。なお、本実施形態の露光装置においては、データ作成装置４０で作成されたベクトルデータをラスターデータに変換し、そのラスターデータに対して補正を施すようにしたが、必ずしもラスターデータに変換した後に補正を施す必要はなく、ラスターデータに変換する前のベクトルデータに補正を施した後、その補正後のベクトルデータをラスターデータに変換するようにしてもよい。
【００５１】
そして、次に、画像位置補正手段５４は、配線パターンＰ４の補正量を算出するが、このとき、画像位置補正手段５４は、配線パターンＰ４の補正量を、配線パターンＰ１〜Ｐ３の補正量Δｘ１〜３、Δｙ１〜３、Δθ１〜３に基づいて算出する。
【００５２】
具体的には、配線パターンＰ４のＸ方向のシフト量については、Δｘ１, Δｘ２およびΔｘ３の平均値Δｘａｖｅを算出する。また、配線パターンＰ４のＹ方向のシフト量については、Δｙ１, Δｙ２およびΔｙ３の平均値Δｙａｖｅを算出する。さらに、配線パターンＰ４の回転量については、Δθ１,Δθ２およびΔθ３の平均値Δθａｖｅを算出する。
【００５３】
そして、上記のようにして算出したΔｘａｖｅ、ΔｙａｖｅおよびΔθａｖｅを配線パターンＰ４の補正量とする。
【００５４】
そして、上記のようにして求められたΔｘａｖｅ、ΔｙａｖｅおよびΔθａｖｅが画像データ補正手段５６に出力され、画像データ補正手段５６は、上記Δｘａｖｅ、ΔｙａｖｅおよびΔθａｖｅに基づいて予め一時記憶されたラスターデータに回転、シフト、変倍などの処理を施して配線パターンＰ４のラスターデータを補正する。なお、このとき配線パターンＰ４を１つの配線パターンとして考え、その１つの配線パターンを表わすラスターデータ全体に上記補正を施すようにしてもよいし、配線パターンＰ４の中のマーキングやコードや数字やカット線などの個々のラスターデータに対してそれぞれ上記補正を施すようにしてもよい。また、上述したように配線パターンＰ４のラスターデータではなく、ラステーデータに変換する前のベクトルデータに上記補正を施すようにしてもよい。そして、たとえば、上記のように配線パターンＰ４を１つの配線パターンとして考えて補正を行う際には、ラスターデータのデータ形式として補正を施すことが望ましく、一方、配線パターンＰ４の中のマーキングやコードや数字やカット線などの個々のパターンに補正を施す際には、ベクトルデータのデータ形式のまま補正を施すことが望ましい。
【００５５】
なお、説明の都合上、本実施形態においては、上記のように画像位置補正手段５４と画像データ補正手段５６とを別々に示してあるが、画像位置補正手段５４と画像データ補正手段５６との両方が請求項における画像位置補正手段に対応する構成である。
【００５６】
図８に、補正前の描画位置情報１２ｃ、補正後の描画位置情報１２ｃ、標準的な基板１２の基準マーク１２ａ、変形後の基準マーク１２ａ、補正後の配線パターンＰ１〜Ｐ４の位置関係の一例の模式図を示す。なお、図８においては、図８における点線の白丸が補正前の描画位置情報１２ｃ、実線の白丸が補正後の描画位置情報１２ｃ、点線の斜線丸が標準的な基板１２の基準マーク１２ａ、実線の斜線丸が変形後の基準マーク１２ａである。また、説明の都合上、基準マーク１２ａと描画位置情報１２ｃを同一平面上に示しているが、描画位置情報１２ｃは基板１２上に設けられるものではない。
【００５７】
そして、上記のようにして補正済ラスターデータまたは補正済ベクトルデータが算出されるとともに、移動ステージ１４が、図１に示す下流側の位置から上流側へ所望の速度で移動させられる。
【００５８】
そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、上記のようにして算出された補正済ラスターデータ（補正済ベクトルデータをラスター変換したものも含む）が露光ヘッド制御部５８に出力され、露光ヘッド制御部５８は入力された補正済ラスターデータに基づいてスキャナ２４の各露光ヘッド３０に制御信号を出力し、露光ヘッド３０はその制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて補正済ラスターデータに応じた配線パターンＰ１〜Ｐ４を基板１２上に露光する。
【００５９】
そして、移動ステージ１４の移動にともなって順次各露光ヘッド３０に制御信号が出力されて露光が行われ、基板１２の後端がカメラ１２により検出されると露光が終了する。
【００６０】
上記実施形態の露光装置１０によれば、基準マーク位置情報の示す基板１２の位置に予め設けられた基準マーク１２ａを検出してその基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得し、基板１２の所定位置に配置された配線パターンＰ１〜Ｐ４のうちの配線パターンＰ１〜Ｐ３の位置を示す描画位置情報を、基準マークの検出位置情報と基準マーク位置情報とのずれに応じて補正するとともに、配線パターンＰ１〜Ｐ３の描画位置情報の補正量Δｘ１〜３、Δｙ１〜３、Δθ１〜３に基づいて配線パターンＰ４の補正量Δｘａｖｅ、ΔｙａｖｅおよびΔθａｖｅを取得し、その取得した補正量Δｘａｖｅ、ΔｙａｖｅおよびΔθａｖｅを用いて配線パターンＰ４を補正するようにしたので、配線パターンＰ１〜Ｐ３については、高精度な補正を行うことができるとともに、配線パターンＰ４についてはある程度の精度で補正を行うことができる。そして、さらに、配線パターンＰ４について個別に補正量を取得することなく配線パターンＰ１〜Ｐ３の補正量を用いて配線パターンＰ４の補正量を取得するようにしたので、配線パターンＰ４の補正量の算出時間を短縮することができ、処理効率を向上させることができる。
【００６１】
また、３つの配線パターンＰ１〜Ｐ３の補正量を用いて配線パターンＰ４の補正量を取得するようにしたので、たとえば、１つの配線パターンＰ１の補正量を用いて配線パターンＰ４の補正量を取得する場合と比較すると、配線パターンＰ４についてより高精度な補正を行うことができる。
【００６２】
また、配線パターンＰ４の補正量として平均値を使用するようにしたので、より簡易な演算により配線パターンＰ４の補正量を取得することができる。
【００６３】
また、上記実施形態においては、配線パターンＰ１〜Ｐ３の補正後の描画位置情報の座標値を用いて配線パターンＰ４の補正量を求めるようにしたが、必ずしも配線パターンＰ１〜Ｐ３の全ての補正後の描画位置情報を用いる必要はなく、たとえば、配線パターンＰ１と配線パターンＰ２の補正後の描画位置情報の座標値のみを用いて配線パターンＰ４の補正量を求めるようにしてもよいし、配線パターンＰ１と配線パターンＰ３の補正後の描画位置情報の座標値のみを用いて配線パターンＰ４の補正量を求めるようにしてもよいし、配線パターンＰ２と配線パターンＰ３の補正後の描画位置情報の座標値のみを用いて配線パターンＰ４の補正量を求めるようにしてもよい。また、配線パターンＰ１、配線パターンＰ２または配線パターンＰ３の補正後の描画位置情報の座標値のみを用いて配線パターンＰ４の補正量を求めるようにしてもよい。
【００６４】
また、上記実施形態においては、配線パターンＰ４の補正量を算出する際、配線パターンＰ１〜Ｐ３の各補正量の平均値を求めるようにしたが、必ずしも平均値を求める必要はなく、たとえば、配線パターンＰ１〜Ｐ３の各補正量に重み付けをして配線パターンＰ４の補正量を算出するようにしてもよい。
【００６５】
また、上記実施形態のように、基板１２における基準マーク位置情報１２ｂを結ぶ点線で囲まれる領域内に配置された配線パターンＰ１〜Ｐ３の補正量を用いて、基板１２の周縁部１２ｅに配置された配線パターンＰ４の補正量を算出した場合には、配線パターンＰ４の補正量に基板１２全体の補正量を反映させることができるので、より精度の高い補正を行うことができる。
【００６６】
また、本発明の描画方法および装置は、上記のような露光装置だけでなく、たとえばインクジェットプリンタやインクジェット方式のプリント方法に用いることができる。すなわち、吐出される液滴の打点によって描画を行う装置にも、本実施形態の補正方法を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の描画方法および装置の一実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図
【図２】図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図
【図３】（Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図
【図４】図１の露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図
【図５】図１の露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図
【図６】基準マーク位置情報と描画位置情報と複数の配線パターンの位置関係の一例を示す図
【図７】描画位置情報の補正方法を説明するための図
【図８】補正前の描画位置情報、補正後の描画位置情報、標準的な基板の基準マーク、変形後の基板の基準マーク、および補正後の配線パターンの位置関係を模式的に示す図
【符号の説明】
【００６８】
１０    露光装置
１２    基板
１２ａ    基準マーク
１２ｂ    基準マーク位置情報
１２ｃ    描画位置情報
１４    移動ステージ
１８    設置台
２０    ガイド
２２    ゲート
２４    スキャナ
２６    カメラ
３０    露光ヘッド
３２    露光エリア
３６    ＤＭＤ
Ｐ１〜Ｐ４    配線パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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