(57)【要約】【課題】レーザービーム切り替え装置及びレーザー加工装置。【解決手段】本発明は、入力レーザービーム（１１０）を選択的に第１の出力レーザービーム（１４０ａ）及び／又は第２の出力レーザービーム（１４０ｂ）に導くための装置を提供する。この装置は、入力レーザービーム（１１０）を第１の部分ビーム（１２０ａ）と第２の部分ビーム（１２０ｂ）に空間的に分離するように設置されたビーム分離素子（１１５）と、２つの部分ビーム（１２０ａ、１２０ｂ）を空間的かつ可干渉的に重ねて２つの部分ビーム（１２０ａ、１２０ｂ）を第１の出力レーザービーム（１４０ａ）及び／又は第２の出力レーザービーム（１４０ｂ）に変換するように設置及び配置されたビーム重合素子（１３５）と、を具備する。また、本発明は、さらにレーザー光源（１０５）と、上記装置（１００）と、第１の偏向装置（１８０ａ）と、第２の偏向装置（１８０ｂ）とを有する、加工対象物を加工するためのレーザー加工装置を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力レーザービーム（１１０）を第１の出力レーザービーム（１４０ａ）及び／又は第２の出力レーザービーム（１４０ｂ）に選択的に導くための装置であって、
前記入力レーザービーム（１１０）を第１の部分ビーム（１２０ａ）と第２の部分ビーム（１２０ｂ）に空間的に分離するように設置されたビーム分離素子（１１５）と、
前記２つの部分ビーム（１２０ａ、１２０ｂ）を空間的に重ね、前記２つの部分ビーム（１２０ａ、１２０ｂ）を前記第１の出力レーザービーム（１４０ａ）及び／又は前記第２の出力レーザービーム（１４０ｂ）に変換するよう設置及び配置されたビーム重合素子（１３５）と、を有し、
前記２つの出力レーザービーム（１４０ａ、１４０ｂ）の強度が、前記ビーム重合素子（１３５）における前記２つの部分ビーム（１２０ａ、１２０ｂ）の間の相対的位相シフトに依存し、
さらに、前記第１の部分ビーム（１２０ａ）の中に設けられ、前記第１の部分ビーム（１２０ａ）の光路長が前記ビーム分離素子（１１５）と前記ビーム重合素子（１３５）の間で変化するよう設置された光学作動素子（１７０）を有することを特徴とするレーザービーム切り替え装置。
【請求項２】
さらに、前記第１の出力レーザービーム（１４０ａ）と光学的に結合し、第１の出力レーザービーム（１４０ａ）の強度を制御する目的で前記作動素子（１７０）と接続した第１の受光器（１５０ａ）を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
さらに、前記第２の出力レーザービーム（１４０ｂ）と光学的に結合し、第２出力レーザービーム（１４０ｂ）の強度を制御する目的で前記作動素子（１７０）と接続した第２の受光器（１５０ｂ）を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記作動素子（１７０）は、機械的に調整可能なミラー（１２１ａ）を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一つに記載の装置。
【請求項５】
前記作動素子（１７０）は、機械的に調整可能な屈折光学素子を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一つに記載の装置。
【請求項６】
前記作動素子（１７０）は、圧電駆動部（１７１）を有することを特徴とする請求項４または５に記載の装置。
【請求項７】
加工対象物を加工するための、特に電子回路キャリアを穿孔及び／又は形成するためのレーザー加工装置であって、
入力レーザービーム（１１０）を発生させるためのレーザー光源（１０５）と、
前記入力レーザービーム（１１０）を第１の出力レーザービーム（１４０ａ）及び／又は第２の出力レーザービーム（１４０ｂ）に選択的に導くための、請求項１乃至６のいずれか一つに記載の装置（１００）と、
前記出力レーザービーム（１４０ａ）の光路に設けられた第１の偏向装置（１８０ａ）と、
前記出力レーザービーム（１４０ｂ）の光路に設けられた第２の偏向装置（１８０ｂ）と、を有し、
前記２つの偏向装置（１８０ａ、１８０ｂ）は、前記２つのレーザービーム（１４０ａ、１４０ｂ）を所定の目標位置に合わせるため、少なくとも１つの加工対象物上に設けられることを特徴とするレーザー加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入力レーザービームを選択的に第１出力レーザービーム及び／又は第２出力レーザービームを照射するための装置に関する。更に、本発明は、上記のレーザービーム変換装置からなるレーザー加工装置を用いて、加工対象物を加工するための、特に電子回路キャリアを穿孔及び／又は形成するための、レーザー加工装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、小型化しつつある電子アッセンブリは、しばしば多層回路キャリア、特に多層回路基板上に構成される。その際、回路基板の特定の導電層を接触させる必要がある。これは、層に止まり穴又はスルーホールを開けて接触させ、その後導電性金属化で穴を被覆することによって実現される。このようにして、電子アッセンブリに要するスペースがかなり減少されるように、回路パスは、二次元のみならず三次元的にも形成可能である。
【０００３】
通常、電子回路基板は、エレクトロニクス分野向けの特殊なレーザー加工装置におけるパルス状レーザー放射によって穿孔される。通常、Ｎｄ：ＹＡＧ又はＮｄ：ＹＶＯ４などのＣＯ２又は固体レーザーが、レーザー光源として使用される。競争力のあるレーザー加工装置の重要な特徴は、一方ではスループット、すなわち特定の時間内に開けられる穴の数であり、もう一方ではレーザー加工装置の購入価格である。従って、１つのレーザー源から放射されるレーザービームが、光学スイッチ素子によって２つの出力光路のうちの一方に選択的に向けられるようなレーザー加工装置が開発されてきた。各出力光路に偏向装置と結像光学系が設けられ、それらによって各出力ビームは、１つ又は数個の加工対象物上の異なる目標位置に照射される。いくつかのレーザービームを使って回路基板に相互に穴を開けるための対応する装置は、例えば日本国公開特許２００２−１１５８４号により公知である。
【０００４】
また、空間的に離れた種々の光路にレーザービームを選択的に照射する、機械的に旋回可能な反射器も公知である。この工程で、入力レーザービームは、反射器のそれぞれの傾斜に応じて、異なった方向に偏向される。このような機械的旋回反射器は、反射器の質量慣性のため、切り替え時間が比較的長いという点で不利である。一般的には少なくとも１００μｓで、既に１０ｋＨｚのパルス繰り返し周波数で、２つの出力レーザービームの間の決められた切り替えが２つの連続するレーザーパルスの間の時間では不可能になる。
【０００５】
日本国公開特許２００３−５３５７６号は、レーザービームが音響光学変調器（ＡＯＭ）によって種々の方向へ偏向される装置及び方法を開示している。ここで、定在音波が水晶の中で発生し、水晶上のレーザービーム入射の回折格子として機能する。ＡＯＭは、水晶の堅牢性と寿命が限られている点と、通常は小さい偏向角しか発生できない点で、不利である。もう１つの短所は、レーザービームの強度が、特定の回折次数に対応する特定の方向に、完全には偏向されないことである。むしろ、無視すべきでないレーザー放射強度が常に異なった回折次数に向けられることである。
【０００６】
日本国公開特許２００３−１２６９８２号は、ビーム切り替え素子としての電気光学変調器（ＥＯＭ）からなるレーザー加工装置を開示しており、このＥＯＭは偏光依存反射器と共同で機能する。ＥＯＭが同様に電気的に起動すると、レーザービームが偏光依存反射器の下流に接続された２つの光路のうちの１つに選択的に向けられるように、偏光依存反射器に当たるレーザービームの偏光方向は意図的に影響される。しかし、ＥＯＭに当たるレーザー放射は決して完全に線形に偏光されず、さらにはＥＯＭによって作られた偏光方向の回転角度はいつも特定量だけぼやけるので、残りの強度のいくらかは必ず、はみ出したレーザービームの光路に入る。更に、ＥＯＭの使用は、（ａ）ＥＯＭの動作には比較的高い電圧が必要である点、（ｂ）ＥＯＭの予想耐用年数が、特に偏向されるレーザービームの出力密度が高い場合、未知である点、（ｃ）ＥＯＭは比較的高価な光学部品である点、において不利である。
【０００７】
【特許文献１】日本国公開特許２００２−１１５８４号公報
【特許文献２】日本国公開特許２００３−５３５７６号公報
【特許文献３】日本国公開特許２００３−１２６９８２号公報
【発明の開示】
【０００８】
本発明の目的は、入力レーザービームを選択的に第１の出力レーザービーム及び／又は第２の出力レーザービームに導くための装置であって、単純な方法で精密に、両方の出力レーザービームの間で迅速に同時にレーザービームの切り替えが出来る装置を提供することである。更に、本発明の目的は、加工対象物を迅速かつ精密に加工するために有利な方法で、上記のレーザービーム変換装置を使用する、レーザー加工装置を提供することである。
【０００９】
この目的は、独立請求項１に記載の特徴を有する、入力レーザービームを選択的に第１の出力レーザービーム及び／又は第２の出力レーザービームに導くための装置によって達成される。本発明の装置は、入力レーザービームを第１の部分ビームと第２の部分ビームに空間的に分離するように設置されたビーム分離素子と、２つの部分ビームを空間的に重ね、２つの部分ビームを第１の出力レーザービーム及び／又は第２の出力レーザービームに変換するように設置及び配置されたビーム重合素子と、を有する。２つの部分ビームは、２つの出力レーザービームの強度がビーム重合素子での２つの部分ビームの間の相対的位相シフトに依存するように、重ねられる。これは、本発明の装置が、部分ビームの光路長を波長の半分だけ変更することによって両方の出力レーザービームの間の強度分布が自由に調整可能な干渉計をなすように、両方の部分ビームが可干渉的に重ねられることで実現される。本発明によれば、光路長が、第１の部分ビームに設けられ、第１の部分ビームの光路長がビーム分離素子とビーム重合素子の間で変化するように設置された光学駆動素子によって変化する。
【００１０】
本発明は、干渉計を使って２つの部分ビームを可干渉的に重ねることにより、２つの出力光路の間の強度分布を自由に調整することが可能であるという認識に基づく。例えば、両方の部分ビームの間の干渉性重合は、それらが全く同じ長さの光路長を有する限り、入力レーザービームを第１の出力レーザービームに導く。２つの部分ビームはこの方向で互いに破壊的に干渉するので、第２の出力レーザービームに導かれる強度はない。第１の部分ビームの光路長が波長の半分だけ変化するなら、破壊的干渉のため、両方の部分ビームの干渉性重合は第１の出力レーザービームに対していかなる出力も発生しない。入力レーザービームの全体の強度が第２の出力レーザービームに移動するように、建設的干渉が、第２の出力レーザービームの方向で、両方の部分ビームの間に発生する。
【００１１】
なお、もちろん、２つの部分ビームの干渉性重合は、２つの部分ビームの光路長の差がレーザービームの干渉の長さよりも小さい場合にのみ可能である。
【００１２】
なお、更に、本発明による装置は、入力レーザービームを２つより多い出力レーザービームに選択的に導くためにも使用できる。これは、カスケードに直列に接続された、いくつかの本発明の転換装置（切り替え装置）の協調作用によって達成される。このように、入力レーザービームを意図的に３つ、４つ、又はそれ以上の出力レーザービームに導くことが可能である。
【００１３】
請求項２によれば、第１の出力レーザービームと光学的に接続した第１の受光器が、さらに設けられる。第１の出力レーザービームの強度を調整する目的で、受光器は更に、例えば電線を経由して、作動素子と接続する。第１の出力レーザービームとの光学的結合は、第１の出力レーザービームの強度のほんの少しだけを受光器に導くビーム分離素子を経由してなされることが好ましい。受光器は、例えば、従来のフォトダイオードである。好適には、受光器と作動素子との接続は、受光器の電気的出力を経由して実行され、この出力は、受光器の動作中に出力電圧を放出し、そのレベルは、受光器に現在当たっている光の強度に直接的に比例する。
【００１４】
請求項３によれば、第２の出力レーザービームと光学的に結合し、第２の出力レーザービームの強度を調整する目的で作動素子と接続した、第２の受光器が、さらに設けられる。これにより、作動素子を特に精密に調整し、それにより、明確に定義された方法で、２つの異なる動作条件の間を切り替えることが可能になる。第１の動作条件では、入力レーザービームの強度全体は第１の出力レーザービームに導かれ、第２の出力レーザービームの強度は少なくともゼロに近づく。第２の動作条件では、第１の出力レーザービームの強度はほぼゼロで、入力レーザービームの全体の強度は第２の出力レーザービームに導かれる。
【００１５】
請求項４によれば、作動素子は、機械的に調整可能なミラーからなる。先に説明したように、レーザー波長に比べて非常に小さいミラーの動きのみが、２つの空間的に分離した出力レーザービームの光路の間で入力レーザービームを切り替えるために必要となる。これは、ミラーの移動シフトの場合、２つの部分ビームが、更に、ミラーの現在位置とは無関係に、２つの部分ビームの間の干渉性重合が確実になる程度まで互に空間的に重複されるので、ミラーの動きに関連した第１の部分ビームのビームシフトは非常に小さい（ほとんどない）ことを意味している。従って、良い接近においてはビームシフトを無視することができる。
【００１６】
請求項５によれば、作動素子は、２つの部分ビームの間の相対的位相シフトが、光透過性屈折媒体が第１の部分ビームの光路に置かれることによって発生する、機械的に調整可能な屈折光学素子である。これは、例えば、両方の部分ビームの間の関連する位相調整を、光学素子の移動又は回転によって調節できるように、異なる厚さになっていてもよい。光学素子が、光学素子の出力面のみならず入力面も必ず第２の部分ビームの光路に対して垂直になるような形状である限り、第１の部分ビームの光路が光学素子によって影響されることなく、位相シフトを実行することができる。このように、ビーム重合素子における２つの部分ビームの空間干渉が、光学素子の調整によって全く影響されないように、装置が完璧に調整されていれば、両方の部分ビームは完全に重複できる。従って、入力レーザービームを意図的に高精度で１つだけの出力レーザービームに、又は正確に定義された強度分布で両方の出力レーザービームに、導くことができる。
【００１７】
請求項６によれば、作動素子は、作動素子を特に高速で調整できるようにする、圧電駆動部からなる。従って、入力レーザービームの繰り返し率が高くても、出力レーザービームの強度を２つの連続するパルスの間の２つの光路の間で切り替えることができる。
【００１８】
第２の目的は、加工対象物を加工するための、特に電子回路キャリアを穿孔及び／又は形成するための、独立請求項７に記載の特徴を有するレーザー加工装置によって達成される。本発明によるレーザー加工装置は、入力レーザービームを発生するためのレーザー光源と、入力レーザービームを第１の出力レーザービーム及び／又は第２の出力レーザービームに選択的に導くための、請求項１乃至６のいずれかに記載のレーザービーム転換装置（切り替え装置）と、第１の出力光路に設けられた第１の偏向装置と、第２の出力光路に設けられた第２の偏向装置と、を有する。２つの偏向装置は、２つの出力レーザービームを所定の目標位置に合わせるために、少なくとも１つの加工対象物上に設けられる。
【００１９】
本発明によるレーザー加工装置は、２つの加工位置における材料の相互加工を可能にする。第１の出力レーザービームによる加工の間、第２の偏向装置は、レーザービーム転換装置の切り替えによって第１の出力レーザービームによる加工が完了した直後に第２の出力レーザービームが到達する目標位置に合わせられる。第１の出力レーザービームの光路と第２の出力レーザービームの光路の間で出力強度を切り替えるには、入力レーザービームの光波長での光学作動素子の短いシフトのみが必要なので、光学作動素子に好適な駆動部が使用されれば、パルス状レーザー発振器の２つの連続するパルスの間でのビーム切り替えが達成できる。このように、２次的処理時間が、様々な間隔の空いた目標位置の間の偏向装置のジャンプ移動によって起こるが、これは、材料加工においては完全に排除できる。
【００２０】
通常、偏向装置は、２つのガルバノミラーを経由して導かれるレーザービームが加工領域内のいかなる目標位置にも導かれるように、相互に垂直な軸の周囲に回転可能に支持された２つのガルバノミラーが動かされる、いわゆるガルボ・システムである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の更なる利点と特徴は、好適な実施の形態における下記の例示的説明から得られる。
【００２２】
図示された本実施の形態によるレーザー加工装置は、近紫外スペクトル領域、可視スペクトル領域、又は近赤外スペクトル領域などにおいて、好適なパルス状入力レーザービーム１１０を出射するレーザー光源１０５を有する。赤外レーザービームの場合、レーザー光源としてはＣＯ２レーザーが特に好ましく、可視又は近紫外スペクトル領域で放射するレーザー光源の場合、レーザー光源１０５に実装された非線形結晶によって公知の方法で基本波長が周波数逓倍に変更されるダイオード励起固体レーザーが好適に使われる。
【００２３】
更に、レーザー加工装置は、入力レーザービーム１１０を選択的に第１の出力レーザービーム１４０ａの光路及び／又は第２の出力レーザービーム１４０ｂの光路に導く可干渉性ビーム切り替え装置１００を有する。可干渉性ビーム切り替え装置１００は、入力レーザービーム１１０が、入力レーザービーム１１０を第１の部分ビーム１２０ａと第２の部分ビーム１２０ｂの２つの部分ビームに分離するビームスプリッタ１１５に当たる（入射する）ように、レーザー光源１０５に関連して設けられる。２つの部分ビームの強度はほぼ同じである。第２の部分ビーム１２０ｂは、静止ミラー１２１ｂを経由して更なるビームスプリッタ１３５に入射される。第１の部分ビーム１２０ａもまた、可動ミラー１２１ａを経由して更なるビームスプリッタ１３５に入射される。ビームスプリッタ１３５において、２つの部分ビーム１２０ａと１２０ｂは可干渉的に重ね合わされ、２つの部分ビーム１２０ａと１２０ｂの間の位相関係によって、重ね合わされたレーザービームが第１の出力レーザービーム１４０ａの光路及び／又は第２の出力レーザービーム１４０ｂの光路に導かれる。
【００２４】
入力レーザービーム１１０を２つの部分ビーム１２０ａと１２０ｂに分離すること、および続いて２つの部分ビーム１２０ａと１２０ｂを可干渉的に重ね合わせることは、マッハ・ツェンダー干渉計におけるビーム分離及びビーム結合に対応する。第１の部分ビーム１２０ａの光路長は、可動ミラー１２１ａと共に光学作動素子１７０を代表する圧電駆動部１７１により、可動ミラー１２１ａを移動することによって、変化される。光路長の変動は、２つの部分ビーム１２０ａと１２０ｂの間の相対的位相関係を自動的に変化し、結果的に、第１の出力レーザービーム１４０ａの光路と第２の出力レーザービーム１４０ｂの光路との間に干渉計を置くことによって、レーザー放射の強度分布を自由に調整できる。
【００２５】
ここに記載されている装置では、２つの出力レーザービームが、２つの部分ビーム１２０ａと１２０ｂが可干渉的に重ね合わされるビームスプリッタ１３５の直後において互に直角に走るように、２つの部分ビーム１２０ａと１２０ｂの各部はそれぞれペアになって平行に走る。レーザー加工装置全体を簡単な方法で調整できるようにするため、第２の出力レーザービーム１４０ｂは静止ミラー１４１ｂで反射される。これにより、２つの出力レーザービーム１４０ａと１４０ｂは、互に平行な光路における偏向装置１８０ａと１８０ｂに、それぞれ、当てられる（入射される）。
【００２６】
偏向装置１８０ａと１８０ｂの後にはそれぞれ、光学系（図示せず）、特にいわゆるｆθ光学系が設けられる。これらによって、偏向装置１８０ａと１８０ｂによって偏向された出力レーザービーム１４０ａ、１４０ｂが、加工対象物（図示せず）の対応する目標位置に集束されることになる。材料の加工中、第１の出力レーザービーム１４０ａと第２の出力レーザービーム１４０ｂの間の相互のレーザー加工によって、他のレーザービームに関係する偏向装置を、必要であれば、第１の目標位置から離れた新たな第２の目標位置に前もって調整しておくことができる。このように、他の出力レーザービームによる更なるレーザー加工のためには、一方の出力レーザービームによる材料加工の完了後に、一方の出力レーザービームの強度がゼロに減少し、他方の出力レーザービームが最大値まで上昇するように、２つの部分ビーム１２０ａと１２０ｂの間の位相関係のみを変化させる必要がある。非常に短い通過路のみが、要求された位相シフトを発生させるために要求されるので、数メガヘルツ範囲での繰り返し率でレーザー照射を放射するパルスレーザーにおいて２つの連続するパルスの間でも切り替えを実行することができる。
【００２７】
可動ミラー１２１ａの精密な調整を確実にするため、分離ビームスプリッタ１４５ａと１４５ｂは、２つの出力レーザービーム１４０ａと１４０ｂのそれぞれに設けられ、これはいずれの場合も、各出力レーザービームの強度のほんの一部を光検出器１５０ａと１５０ｂのそれぞれに導く。２つの光検出器１５０ａ、１５０ｂは、例えばいわゆるフォトダイオードであり、フォトダイオードの受光面に当たる光の強度に比例した出力信号を供給する。２つの光検出器１５０ａと１５０ｂはそれぞれ信号線１５１ａと１５１ｂを経由して比較回路１６０に結合（接続）し、ここで２つの光検出器１５０ａと１５０ｂの出力信号の間の差が、アナログ回路によって得られる。信号線１６１を経由して、増幅器１６５は比較回路１６０の下流に接続され、この増幅器は別の信号線１６６を経由して圧電駆動部１７１と結合（接続）する。入力レーザービーム１１０の強度の第１の出力レーザービーム１４０ａ又は第２の出力レーザービーム１４０ｂへの選択的切り替えを可能にするため、光検出器１５０ａの検出信号と光検出器１５０ｂの検出信号の差ができるだけ大きくなるように、圧電駆動部１７１が増幅器１６５によって作動される。これは、２つの出力レーザービームのうち１つの強度が最大であると同時に、別の出力レーザービームの強度が最小、好ましくはゼロ、の場合に、正確に得られる。
【００２８】
このように、２つの光検出器１５０ａと１５０ｂ、比較回路１６０、増幅回路１６５、及び圧電駆動部１７１は、対応する信号線と共に、第１の出力レーザービーム１４０ａと第２の出力レーザービーム１４０ｂへの入力レーザービーム１１０の強度の分配を所定の値に調整する制御ループをなす。
【００２９】
要約すると、以下の通りとなる。
【００３０】
２つの出力レーザービーム１４０ａと１４０ｂの強度を最適に適合させるためのマッハ・ツェンダー干渉計と制御ループからなる可干渉ビーム切り替え装置１００により、簡単な方法で、迅速かつ正確に、レーザー光源１０５によって放射された入力レーザービーム１１０を第１の偏向装置１８０ａ及び／又は第２の偏向装置１８０ｂに転換（切り替え）することが可能になる。マッハ・ツェンダー干渉計は、２つのビームスプリッタ１１５と１３５の他に、２つの反射器、静止反射器１２１ｂと可変反射器１２１ａを備える。制御ループは、２つの分離ビームスプリッタ１４５ａと１４５ｂ、２つの光検出器１５０ａと１５０ｂ、適切な信号線１５１ａ、１５１ｂ、１６１及び１６６を備えた電子回路１６０と１６５、並びに可変反射器１２１ａを正確に動かすための駆動部１７１を備える。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】単一の図１は、マッハ・ツェンダー（Ｍａｃｈ  Ｚｅｈｎｄｅｒ）干渉計の２つの部分ビームが可干渉的に重ね合わされ、第１出力レーザービームおよび／または第２出力レーザービームに選択的に導かれる、ビーム切り替え装置を有するレーザー加工装置を概略的に示す図である
【符号の説明】
【００３２】
１００…可干渉ビーム切り替え装置、１０５…レーザー光源、１１０…入力レーザービーム、１１５…ビームスプリッタ、１２０ａ…第１の部分ビーム、１２０ｂ…第２部分ビーム、１２１ａ…可動ミラー、１２１ｂ…静止ミラー、１３５…ビームスプリッタ、１４０ａ…第１の出力レーザービーム、１４０ｂ…第２出力レーザービーム、１４５ａ…分離ビームスプリッタ、１４５ｂ…分離ビームスプリッタ、１５０ａ…光検出器、１５０ｂ…光検出器、１５１ａ…信号線、１５１ｂ…信号線、１６０…比較回路、１６１…信号線、１６５…増幅器、１６６…信号線、１７０…光学作動素子、１７１…圧電駆動部、１８０ａ…偏向装置、１８０ｂ…偏向装置。
【図１】
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