(57)【要約】      （修正有）【課題】アパーチャアレイによって構造化された粒子ビームを、ｘ座標方向及びｙ座標方向に連続的に移動するテーブル上の基板上で正確に位置決めすること。【解決手段】粒子ビームを生成する粒子ビーム源３０と、該粒子ビームによって面的に照射され、かつ該粒子ビームから、投射システムを介して基板上に投射されかつ該基板上にビームフットポイントを定める複数の個別ビームを生成するアパーチャプレート装置３４と、基板が載置されると共にレーザ距離測定システム２０を備えた、Ｘ座標方向及びＹ座標方向に可動のテーブル２１とを含んで構成された装置において、前記レーザ距離測定システムは、補正データ及びピクセルクロックの考慮のもとでマルチチャンネルビーム追従システムを介してＸ座標方向及びＹ座標方向において前記ビームフットポイントを位置決めする同期・制御装置に一定のクロックで位置データを供給する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
多重粒子ビームを基板に結像するための装置であって、
粒子ビームを生成する粒子ビーム源と、
該粒子ビームによって面的に照射され、かつ該粒子ビームから、投射システムを介して基板上に投射されかつ該基板上にビームフットポイントを定める複数の個別ビームを生成するアパーチャプレート装置と、
基板が載置されると共にレーザ距離測定システムを備えた、Ｘ座標方向及びＹ座標方向に可動のテーブルと
を含んで構成された装置において、
前記レーザ距離測定システム（２０）は、補正データ及びピクセルクロックの考慮のもとでマルチチャンネルビーム追従システムを介してＸ座標方向及びＹ座標方向において前記ビームフットポイントを位置決めする同期・制御装置に一定のクロックで位置データを供給すること
を特徴とする装置。
【請求項２】
開始時点ｔＳ以降、Ｘ座標方向及びＹ座標方向における前記ビームフットポイント（５５）の目標位置の高度に直線的なシフトを引き起こすよう構成された目標位置生成装置が、前記レーザ距離測定システム（２０）の前記クロックによって作動されること
を特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記目標位置生成装置は、加算論理装置（６３）を介して第１のマルチプレクサ（６１）及び第２のマルチプレクサ（６２）が前置されている目標値レジスタ（６０）を有すること
を特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記目標値レジスタ（６０）は、開始時点ｔＳ以降、前記第２のマルチプレクサ（６２）の切替により周期的にステップ値Δｎだけ増加可能な値を含むと共に、
前記目標値レジスタ（６０）は、露光の開始前に、前記第１のマルチプレクサ（６１）を介して、露光ストライプの開始位置（６４）を格納可能に構成されていること
を特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記同期・制御装置（５０）は、クロック同期的作動態様を有すると共に、クロック周波数ｆＳＮＦは、前記レーザ距離測定システムの最大測定速度に相応すること
を特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記同期・制御装置の出力端には、前記ビーム追従システムを制御するためのＤ／Ａ変換器が配されること
を特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
生成された目標位置と前記レーザ距離測定システムの位置データとの差から、前記ビーム追従システムを介して前記ビームフットポイントの実際位置と目標位置とのずれを補償してゼロにする補正値が生成されること
を特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記同期・制御装置は、デジタル関数発生器として構成された鋸波発生装置を有し、かつ前記基板上の前記ビームフットポイントをピクセル像の露光中一定に保持すること
を特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記鋸波発生装置は、ＤＤＳクロック発生器と、開始値レジスタ及びステップレジスタを有するフィードバックデジタル累算装置と、高速デジタル・アナログ変換器とを含んで構成されること
を特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記クロック発生器によって、基本周波数ｆＳと同期して、該基本周波数ｆＳの整数倍ｎのクロック信号が生成されること
を特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記鋸波発生装置にはデジタル減算器が組み込まれること、及び
前記開始時点ｔＳに、前記デジタル減算器は、前記開始レジスタの値ａ０から前記デジタル累算装置の実際値を減算すること
を特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記鋸波発生装置と前記ピクセルクロックの周期及び位相は同一であること
を特徴とする請求項１〜１１の何れか一項に記載の装置。
【請求項１３】
前記ビーム追従のクロック周波数ｆＳＮＦ及び更に前記ＤＤＳクロック発生器の入力周波数ｆＩＮを導き出す共通の水晶安定化マザークロック発生器を含むこと
を特徴とする請求項１〜１２の何れか一項に記載の装置。
【請求項１４】
アパーチャプレートシステムによって生成される複数の個別ビームから構成される多重粒子ビームの位置決め方法であって、
・  前記複数の個別ビームを投射システムによって基板上に投射し、該基板上にビームフットポイントを定める工程、
・  テーブルを予め設定された方向へ移動し、レーザ距離測定システムによってテーブル位置ｘ及びｙを求め、その値を、マルチチャンネルビーム追従システムと接続する制御装置に供給する工程、及び
・  前記制御装置によって、前記アパーチャプレートシステムのための予め設定された周波数ｆＳのシフトクロックを生成し、該クロックｆＳはピクセル像の精細位置決めにも考慮される工程
を含むこと
を特徴とする方法。
【請求項１５】
前記ビーム追従と前記レーザ距離測定システムに支援されて、前記粒子ビームのビームフットポイントと前記テーブルとの間の高度に直線的な連続的なシフトが生成されること
を特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記制御装置は目標値レジスタを有し、該目標値レジスタには、第１のマルチプレクサと第２のマルチプレクサが配されていること
を特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記目標値レジスタは、開始時点ｔＳ以降、前記第２のマルチプレクサの切替によって周期的にステップ値Δｎだけ増加される値を含むと共に、該目標値レジスタは露光の開始前に前記第１のマルチプレクサを介して露光ストライプの開始位置を格納すること
を特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記目標値レジスタは、フィードバック累算レジスタであること
を特徴とする請求項１５〜１７の何れか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記制御装置はクロック同期的作動態様を有し、クロック周波数ｆＳＮＦは前記レーザ距離測定システムの最大測定速度に相応すること
を特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
前記制御装置の出力端には、前記ビーム追従システムを制御するためのＤ／Ａ変換器が配されること
を特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項２１】
前記Ｄ／Ａ変換器は積分器として構成されること
を特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記Ｄ／Ａ変換器には、実際のテーブル位置（実際値）と目標値レジスタの前記値との間の差に応じて、１／ｆＳＮＦの積分時間後前記測定された偏差を前記ビーム偏向システムを介して補正を行う電流が正確に供給されること
を特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記制御ユニットの内部に、デジタル関数発生器として構成された鋸波発生装置が配されること
を特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項２４】
前記鋸波発生装置は、ＤＤＳクロック発生器と、開始値レジスタ及びステップレジスタを有するフィードバックデジタル累算装置と、高速デジタル・アナログ変換器とを含んで構成されること
を特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記ＤＤＳクロック発生器は、基本周波数ｆＳと同期して、該基本周波数ｆＳの整数倍ｎのクロック信号を生成すること
を特徴とする請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記鋸波発生装置は、前記累算装置のデジタルワードをＤ／Ａ変換することにより鋸波信号を生成し、該鋸波信号は、ピクセルクロックｆＳの個々の正のエッジにおいて開始レジスタの値ａ０にセットされ、前記整数倍クロックｎｆＳの個々の次のエッジにおいてステップレジスタの値Δａが蓄積されること
を特徴とする請求項１４〜２５の何れか一項に記載の方法。
【請求項２７】
前記テーブルの走行方向に応じて上昇又は下降する鋸波が生成され、この鋸波生成はΔａのための正又は負の値の調整によって可能とされること、及び
そこから、ピクセルシフト周波数に正確に同期しｎ段を有する階段信号が生成され、該階段信号は、ｎ＞１０の場合、極めて正確に鋸波信号に近似すること
を特徴とする請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記値Δａの選択により、前記信号の振幅は極めて正確にデジタル的に調整されること
を特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記ビーム追従のクロック周波数ｆＳＮＦ及び更に前記ＤＤＳクロック発生器の入力周波数ｆＩＮを導出させる共通の水晶安定化マザークロック発生器が配されること
を特徴とする請求項１４〜２８の何れか一項に記載の方法。
【請求項３０】
前記鋸波発生装置にはデジタル減算器が組み込まれること、及び
前記開始時点ｔＳに、前記デジタル減算器は、前記開始レジスタの値ａ０から前記デジタル累算装置の実際値を減算すること
を特徴とする請求項１４〜２９の何れか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多重粒子ビームを基板に結像するための装置に関する。この装置は、とりわけ、粒子ビームを生成する粒子ビーム源と、アパーチャプレート装置と、Ｘ座標方向及びＹ座標方向に可動のテーブルとを含んで構成される。アパーチャプレート装置は、コンデンサ光学系を介して粒子ビームによって面的に（面状に）照射され、該粒子ビームから複数の個別ビームを生成する。これら個別ビームは、投射システムによって基板に投射され、基板の表面上の（各）ビーム束（各個別ビーム）の中心が（それぞれ）ビームフットポイント（ビーム照射点）を定める（規定する）。基板自身は上記可動テーブルに載置されるが、当該可動テーブルは、レーザ距離測定（測長）システムによって監視（モニタ）される。
【０００２】
更に、本発明は、アパーチャプレートによって形成され、複数の個別ビームから構成される多重粒子ビームの位置決め方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
リソグラフィに使用されるマスクレス粒子投射（投影）システム（電子ビーム又はイオンビーム描画装置）は、解像度が大きいという利点は有するものの、現在の構造レベルでは、スループットが小さいという欠点がある。この欠点は、１本の粒子ビームによる連続移動（走査）的描画過程に起因する。このため、より多くの数の粒子ビームを同時並行的に使用することによって粒子投射システムの総スループットを向上しようとする努力が多々試みられた。最も有望な措置は、一緒に（並行的に）基板に投射される多数の（〜数百万の）部分ビームを偏向するための制御可能なアパーチャプレート装置を使用することである。
【０００４】
【特許文献１】米国特許ＵＳ６，４０３，９７３
【特許文献２】米国特許ＵＳ４，８５３，８７０
【特許文献３】米国特許ＵＳ４，４７７，７２９
【特許文献４】米国特許ＵＳ４，１４７，９３７
【特許文献５】米国特許ＵＳ４，１５３，８４３
【特許文献６】米国特許ＵＳ５，１４４，１４２
【特許文献７】米国特許出願ＵＳ２００３／０１５５５３４ Ａ１
【非特許文献１】Berry et al.,“Programmable Aperture Plate for Maskless High-Throughput Nanolithography”, J. Vac. Sci. Technol. B 15(6), Nov/Dec 1997; ２３８２頁〜２３８６頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
電子ビーム露光方法及び該方法に適する装置について記載した文献がある（上掲特許文献１参照）。この方法及び装置では、露光されるべき基板は、連続的に運動するテーブルに載置される。そして、テーブル位置及び必要なビーム位置が（同時）並行的に求められ、場合により２つのステップ間のずれ（Abweichungen）を計算的に除去する（打ち消す：verrechnen）ことにより、基板上における個々の露光位置決めの高度に正確なエラーフリーの（glitchfrei）調整が可能であるとされている。しかしながら、この装置は、ただ１本の電子ビームのみを用いて作動する。個々の電子ビームからそれぞれ多数の部分ビームを生成するためのアパーチャプレートは備えていない。更に、露光は、連続的に実行されるのではなく、短時間のワンショット露光を複数回連続して行うことにより実行される。
【０００６】
同様に、露光の際にテーブルの位置を考慮し、かつ電子ビームの２段階的偏向によってテーブルの生じ得る偏差ないしずれ（Ablage）を相応に補正する電子ビーム露光システムについて記載した文献もある（上掲特許文献２参照）。このシステムの場合も、同様に、１本の電子ビームのみを用い、該ビームの照射のオン・オフにより、複数回連続して行われるワンショット露光が実行される。
【０００７】
連続的描画方式で作動する電子ビーム露光システムについて記載した文献もある（上掲特許文献３参照）。このシステムでは、形成されるべき構造ないしパターンは互いに隣り合う複数の部分構造の列（Folge）として露光されるが、テーブルの目標位置は、該複数の部分構造の互いに近接して存在する基準位置の相応の列（Folge）によって与えられる。このシステムの場合も同様に、実際のテーブル位置と電子ビームの実際の描画位置の相応の計算的除去（Verrechnung）が行われる。しかしながら、ある部分作業領域から次の（隣の）部分作業領域への（引き続き行われる）移動は、微粒子ビームのブランキングを前提としている。更に、このシステムにおいても、１本の微粒子ビームのみで描画が実行される。
【０００８】
１本の電子ビームを使用する他の露光装置及び方法について記載した文献もある（上掲特許文献４参照）。この装置も同様に、位置測定システムに基づき、ビーム対テーブル位置の追従（制御）によって作動する。しかしながら、露光は、ステップ・アンド・ゴー・モード（Step ＆ Go-Modus）において予め設定された目標位置（複数）への到達によって実行される。
【０００９】
複数のビームを使用する露光システムについて記載した文献もある（上掲特許文献５参照）。このため、電子ビーム露光システムのビーム路に、複数の開口を有する２次元アレイが配されている。このアレイは、（１つの）電子ビームによって面的に（flaechig）照射され、縮小されて基板上に結像される。相応の個別ビーム（複数）は、基板に到達しないようにするために、アパーチャプレート装置によって遮断される。そのため、アパーチャプレート（装置）によって、とりわけ電子ビームが指向された各位置において、基板上の電子量の制御が可能とされるため、近接効果の補正が可能とされる。テーブル偏差（Tischablage）の補正及びそれに基づく電子ビームの相応の制御については、この文献には開示されていない。
【００１０】
相応の部分ビームを生成可能とするためにアパーチャプレート装置を有する微粒子ビームシステムについて記載した文献もある（上掲特許文献６参照）。このアパーチャプレートアレイは、基板上に２次元的に配列されたｎ行×ｍ列の開口を有する。開口の各々には、一対の偏向電極が配されている。更に、パターンデータに相応する偏向電圧を各列のｍ対の電極に印加するための、ｎｍビット長のシフトレジスタが基板上に配される。露光は、アパーチャアレイによるパターンデータのシフトと同時にビーム束の偏向（Auslenkung）を行うことにより実行される。その際、レーザ干渉計によって求められた実際のテーブル位置はデータ目標位置と対比され、その差は上記偏向の際に考慮される。しかしながら、アパーチャプレートにおけるシフトとテーブルシステムとを同期するための装置はこの文献には開示されていない。
【００１１】
粒子ビーム（複数）のためのマスクレス露光システムについて記載した文献もある（上掲特許文献７参照）。複数のアパーチャプレートの積層体によって多重ビームが形成されるが、シフトレジスタ論理回路及び記憶論理回路が組み込まれたブランキングプレートは、テーブルシステムのスキャン運動に同期した各部分ビームのオン・オフ制御を可能とする。運動する基板上において露光中ピクセル像（複数）を固定するために、鋸波電圧によって制御される偏向システムが提案されている。しかしながら、この文献には、ブランキングプレート内のシフトを伴うテーブル運動と多重粒子ビームの偏向運動とを同期するための技術的解決手段は開示されていない。
【００１２】
３０００×３０００のアパーチャを有するプログラム可能なアパーチャアレイについて記載した文献もある（上掲非特許文献１参照）。これらアパーチャの各々は、個別に電子的に制御可能に従ってオン・オフ切替可能に構成されているため、ビーム通過をダイナミックに（動的に）制御可能にされている。露光されるべきパターンは、一方の（面）側から、順次、アパーチャアレイに供給され、組み込まれたシフトステップ（Schiebestufen）によって他方の側へ（面）押し出される。このため、描画されるべきウェハは同期して運動する。実際のテーブル位置のコントロールないし補償についてはこの文献には開示されていない。
【００１３】
テーブル位置を求めるためのレーザ距離測定システムを基礎とするビーム追従（制御）を取り扱っている既知の文献は全て、固定的な描画領域の原理を出発点としている。この場合、ビーム追従（制御）は、レーザ距離測定（測長）システムによって与えられる実際のテーブル位置と予め設定される目標位置とのずれ（Abweichung）を補償し、もって実際の描画領域の中心（点）を定める。粒子光学系の結像誤差のため描画領域の最大の大きさは制限されるため、基板面は、互いに並び合う多数の描画領域によって（場合によっては重畳的に）露光される。描画領域（複数）の再位置決め（Neupositionierung）のためには、ビーム全体のブランキングが必要とされる。そのため、基板全体に亘るストライプ（Streifen）の無中断的描画は不可能である。
【００１４】
アパーチャプレートアレイについて言及する文献は、ビーム対テーブル位置決めの問題については詳細に検討していないか、或いはアパーチャアレイにおけるピクセルシフトには依存しないで作動するビーム追従（制御）を想定している。後者の場合、まさに今説明したようなアパーチャアレイによっては、固定的な描画領域の幅（方向）にわたるスキャニングしかできない。それ以外の場合では、テーブルシステムとアパーチャプレートシステムの間には同期が欠缺しているため系統的な位置誤差が生じる。
【００１５】
運動するテーブルシステムの実際の位置値からシフトクロック（Shift-Takt）を導き出すことは、即ち直ぐ次の目標位置に到達したときアパーチャアレイが１クロックだけ更に切替えられることは、何の問題の解決にもならない。というのは、正確でないテーブル運動経過（Tischablauf）によって、許容不能な時間変動従って投与量（照射量）変動が生じるからである。
【００１６】
それゆえ、本発明の第１の課題は、アパーチャアレイによって構造化された粒子ビームを、ｘ座標方向及びｙ座標方向に連続的に移動されるテーブル上に存在する基板上で正確に位置決めすることである。
【００１７】
更に、本発明の第２の課題は、アパーチャアレイによって構造化されたピクセルビーム（Pixelstrahl：基板上にパターンを形成する複数の個別ビーム）を、ｘ座標方向及びｙ座標方向に連続的に移動されるテーブルに載置され運動する基板上で正確に位置決めすることを可能とする方法を創出することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記の第１の課題を解決するために、本発明の第１の視点により、多重粒子ビームを基板に結像するための装置であって、粒子ビームを生成する粒子ビーム源と、該粒子ビームによって面的（面状）に（flaechig）照射され、かつ該粒子ビームから、投射システムを介して基板上に投射されかつ該基板上にビームフットポイント（ビーム照射点）（Strahlfusspunkt）を定める（festlegen）複数の個別ビームを生成するアパーチャプレート装置と、基板が載置されると共にレーザ距離測定システムを備えた、Ｘ座標方向及びＹ座標方向に可動のテーブルとを含んで構成された装置が提供される。この装置において、前記レーザ距離測定システムは、補正データ及びピクセルクロック（Pixeltakt：ピクセルが供給される速度）の考慮のもとでマルチチャンネルビーム追従（制御）システム（Strahlnachfuehrsystem）を介してＸ座標方向及びＹ座標方向において前記ビームフットポイントを位置決めする同期・制御装置に一定のクロックで位置データを供給することを特徴とする（形態１・基本構成１）。
【００１９】
上記第２の課題を解決するために、本発明の第２の視点により、アパーチャプレートシステムによって生成される複数の個別ビームから構成される多重粒子ビームの位置決め方法が提供される。この方法において、・前記複数の個別ビームを投射システムによって基板上に投射し、該基板上にビームフットポイント（ビーム照射点）（Strahlfusspunkt）を定める（festlegen）工程、・テーブルを予め設定された方向へ移動し、レーザ距離測定システムによってテーブル位置ｘ及びｙを求め、その（位置）値を、マルチチャンネル（多段）ビーム追従（制御）システムと接続する制御装置に供給する工程、及び・前記制御装置によって、前記アパーチャプレートシステムのための予め設定された周波数ｆＳのシフトクロック（Verschiebetakt）を生成し、該クロックｆＳはピクセル像（Pixelbilder：基板上における各アパーチャの像）の精細位置決めにも考慮される工程を含むことを特徴とする（形態１４・基本構成２）。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の装置に係る独立請求項１及び方法に係る独立請求項１４により、上記課題に対応した効果がそれぞれ達成される。即ち、本発明の装置により、アパーチャアレイによって構造化された粒子ビームを、ｘ座標方向及びｙ座標方向に連続的に移動されるテーブル上に存在する基板上で正確に位置決めすることが可能となる。更に、本発明の方法により、アパーチャアレイによって構造化されたピクセルビーム（Pixelstrahl）を、ｘ座標方向及びｙ座標方向に連続的に移動されるテーブルに載置され運動する基板上で正確に位置決めすることが可能となる。
更に、各従属請求項に係る発明により、付加的な効果がそれぞれ達成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に、本発明の好ましい実施の形態を、上記基本構成１及び２をそれぞれ形態１及び１４として示すが、これらは従属請求項の対象でもある。
（形態１）上掲。
（形態２）上記形態１の装置において、開始時点ｔＳ以降、Ｘ座標方向及びＹ座標方向における前記ビームフットポイントの目標位置の高度に直線的な（Hochlinear）シフトを引き起こすよう構成された目標位置生成装置が、前記レーザ距離測定システムの前記クロックによって作動されることが好ましい。
（形態３）上記形態２の装置において、前記目標位置生成装置は、第１のマルチプレクサ及び第２のマルチプレクサが加算論理装置を介して前置されている目標値レジスタを有することが好ましい。
（形態４）上記形態３の装置において、前記目標値レジスタは、開始時点ｔＳ以降、前記第２のマルチプレクサの切替（動作）により周期的（サイクル的）に（zyklisch）ステップ値（Schrittwert）Δｎだけ増加可能な値を含むと共に、前記目標値レジスタは、露光の開始前に、前記第１のマルチプレクサを介して、露光ストライプ（Belichtungsstreifen）の開始位置を格納（読込）可能に構成されていることが好ましい。
（形態５）上記形態１〜４の装置において、前記同期・制御装置は、クロック同期的（taktsynchron）作動態様を有すると共に、クロック周波数ｆＳＮＦは、前記レーザ距離測定システムの最大測定速度に相応することが好ましい。
（形態６）上記形態１の装置において、前記同期・制御装置の出力端には、前記ビーム追従システムを制御するためのＤ／Ａ変換器が配されることが好ましい。
（形態７）上記形態６の装置において、生成された目標位置と前記レーザ距離測定システムの位置データとの差から、前記ビーム追従システムを介して前記ビームフットポイントの実際位置と目標位置とのずれを補償してゼロにする補正値が生成されることが好ましい。
（形態８）上記形態１の装置において、前記同期・制御装置は、デジタル関数発生器として構成された鋸波発生装置を有し、かつ前記基板上の前記ビームフットポイントを（１つの）ピクセル像（Pixelbild）の露光中一定に保持することが好ましい。
（形態９）上記形態８の装置において、前記鋸波発生装置は、ＤＤＳクロック発生器と、開始値レジスタ及びステップレジスタ（Stufenregister）を有するフィードバック（rueckgekoppelt）デジタル累算装置と、高速デジタル・アナログ変換器とを含んで構成されることが好ましい。
（形態１０）上記形態９の装置において、前記クロック発生器によって、基本周波数ｆＳと同期して、該基本周波数ｆＳの整数倍ｎのクロック信号（Taktsignal）が生成されることが好ましい。
（形態１１）上記形態９の装置において、前記鋸波発生装置にはデジタル減算器が組み込まれること、及び前記開始時点ｔＳに、前記デジタル減算器は、前記開始レジスタの値ａ０から前記デジタル累算装置の実際値を減算することが好ましい。
（形態１２）上記形態１〜１１の装置において、前記鋸波発生装置と前記ピクセルクロックの周期及び位相は同一であることが好ましい。
（形態１３）上記形態１〜１２の装置において、（前記）ビーム追従のクロック周波数ｆＳＮＦ及び更に前記ＤＤＳクロック発生器の入力周波数ｆＩＮを導き出す（派生する）共通の水晶安定化マザー（マスター）クロック発生器を含むことが好ましい。
（形態１５）上記形態１４の方法において、前記ビーム追従による前記レーザ距離測定システムに支援されて、前記粒子ビームのビームフットポイントと前記テーブルとの間の高度に直線的な（Hochlinear）連続的な（stetig）シフトが生成されることが好ましい。
（形態１６）上記形態１５の方法において、前記制御装置は目標値レジスタを有し、該目標値レジスタには、第１のマルチプレクサと第２のマルチプレクサが配されていることが好ましい。
（形態１７）上記形態１６の方法において、前記目標値レジスタは、開始時点ｔＳ以降、前記第２のマルチプレクサの切替（Umschalten）によって周期（サイクル）的にステップ値（Schrittwert）Δｎだけ増加される値を含むと共に、該目標値レジスタは露光の開始前に前記第１のマルチプレクサを介して露光ストライプ（露光掃引軌道）の開始位置を格納する（読み込む）ことが好ましい。
（形態１８）上記形態１５〜１７の方法において、前記目標値レジスタは、フィードバック（rueckgekoppelt）累算レジスタであることが好ましい。
（形態１９）上記形態１４の方法において、前記制御装置はクロック同期的（taktsynchron）作動態様を有し、クロック周波数ｆＳＮＦは前記レーザ距離測定システムの最大測定速度に相応することが好ましい。
（形態２０）上記形態１４の方法において、前記制御装置の出力端には、前記ビーム追従システムを制御するためのＤ／Ａ変換器が配されることが好ましい。
（形態２１）上記形態２０の方法において、前記Ｄ／Ａ変換器は積分器として構成されることが好ましい。
（形態２２）上記形態２１の方法において、前記Ｄ／Ａ変換器には、実際のテーブル位置（実際値）と目標値レジスタの前記値との間の差に応じて、１／ｆＳＮＦの積分時間後前記測定された偏差（Ablage）を前記ビーム偏向（コントロール）システム（Strahlablenksystem）を介して補正を行う電流が正確に供給されることが好ましい。
（形態２３）上記形態１４の方法において、前記制御ユニット（装置）の内部に、デジタル関数発生器として構成された鋸波発生装置が配されることが好ましい。
（形態２４）上記形態２３の方法において、前記鋸波発生装置は、ＤＤＳクロック発生器と、開始値レジスタ及びステップレジスタ（Stufenregister）を有するフィードバック（rueckgekoppelt）デジタル累算装置と、高速デジタル・アナログ変換器とを含んで構成されることが好ましい。
（形態２５）上記形態２４の方法において、前記ＤＤＳクロック発生器は、基本周波数ｆＳと同期して、該基本周波数ｆＳの整数倍ｎのクロック信号（Taktsignal）を生成することが好ましい。
（形態２６）上記形態１４〜２５の方法において、前記鋸波発生装置は、前記累算装置のデジタルワード（Digitalwort）をＤ／Ａ変換することにより鋸波信号を生成し、該鋸波信号は、（前記）ピクセルクロックｆＳの個々の正のエッジ（立ち上がり）において開始レジスタの値ａ０にセットされ、前記整数倍クロックｎｆＳの個々の次のエッジにおいてステップレジスタの値Δａが蓄積されることが好ましい。
（形態２７）上記形態２６の方法において、前記テーブルの走行方向に応じて、上昇（steigend）又は下降（fallend）する鋸波が生成され、この鋸波生成はΔａのための正又は不の値の調整によって可能とされること、及びそこから、ピクセルシフト周波数に正確に同期しｎ段を有する階段信号（Treppensignal）が生成され、該階段信号は、ｎ＞１０の場合、極めて正確に鋸波信号（の形状）に近似することが好ましい。
（形態２８）上記形態２７の方法において、前記値Δａの選択により、前記信号の振幅は極めて正確にデジタル的に調整されることが好ましい。
（形態２９）上記形態１４〜２８の方法において、（前記）ビーム追従のクロック周波数ｆＳＮＦ及び更に前記ＤＤＳクロック発生器の入力周波数ｆＩＮを導き出す共通の水晶安定化マザークロック発生器が配されることが好ましい。
（形態３０）上記形態１４〜２９の方法において、前記鋸波発生装置にはデジタル減算器が組み込まれること、及び前記開始時点ｔＳに、前記デジタル減算器は、前記開始レジスタの値ａ０から前記デジタル累算装置の実際値を減算することが好ましい。
【００２２】
本発明は、一方では、本発明の装置及び方法によって、テーブルの（運動）過程誤差（Ablauffehler）を補正することができるという特徴を有する。更に、潜在的なピクセル像（Pixelbild）を列に関し（Spaltenweise）シフト周波数ｆＳによってピクセルラスタ（画素の格子Pixelraster：１つのピクセル分のビームの運動）のピッチΔｐだけ更に描画するアパーチャアレイの作動原理は、基板上のビーム位置の階段状変化を要する。テーブルの２５０ｍｍの走行距離及びΔｐ＝２５ｎｍのピクセルラスタの場合、１０７段の階段経過（Treppenverlauf）は、進行中の露光を中断することなくかつナノメートルレベルでの絶対的な正確性をもって生成されるべきである。このことは、本発明によって保証される。更に、必要な露光量を達成するために、シフト周波数ｆＳは、位置正確性又は同期性に関する本発明の装置の機能を損なうことなく、極微細段状に数１０ＭＨｚの領域まで調整することができる。
【００２３】
多重粒子ビームを基板に結像するための装置は、粒子ビーム源、コンデンサ光学系、（１つの）粒子ビームによって面的に（flaechig）照射されかつ該粒子ビームから複数（多数）の個別ビームを生成するよう構成されたアパーチャプレートシステム（Aperturplattensystem）、及び粒子ビーム（複数）を縮小して基板に結像しかつそこでビームフットポイント（ビーム照射点）（Strahlfusspunkt）を定める（規定する）投射システムとを含んで構成される。基板自体はｘ座標方向及びｙ座標方向に可動のテーブルに載置されるが、このテーブルの位置はレーザ距離測定（測長）システムによって決定ないし監視（モニタ）される。レーザ距離測定システムは、一定の（固定的な）クロックで位置データを同期・制御装置に供給するが、この同期・制御装置は、補正データ及びピクセルクロックを考慮し、マルチチャンネルビーム追従（偏向制御）システムを介して、ｘ座標方向及びｙ座標方向においてビームフットポイントの位置決めを行う。
【００２４】
レーザ距離測定システムのクロックによって、開始時点ｔＳから、ｘ座標方向及びｙ座標方向におけるビームフットポイントの目標位置の高度に線形の（Hochlinear）シフトを予め設定する目標位置生成器が作動される。目標位置生成器は、目標値レジスタを含むが、この目標値レジスタの前段には、第１のマルチプレクサ及び第２のマルチプレクサが加算論理器を介して配置（前置接続）される。目標値レジスタには、第１のマルチプレクサを介して、露光の開始前に、露光ストライプ（Belichtungsstreifen）の開始位置が格納される。開始時点ｔＳから、第２のマルチプレクサの切替（Umschalten）によって、目標値レジスタは周期的にステップ値（Schrittwert）Δｎだけインクリメントされる。
【００２５】
同期・制御装置は、クロック同期的（Taktsynchron）に作動するが、クロック周波数ｆＳＮＦは、レーザ距離測定システムの最大測定速度に相応する。同期・制御装置の出力端には、ビーム追従システムを制御するためのグリッチフリー（glitchfrei）のＤＡ変換器が配される。生成された目標位置とレーザ距離測定システムの位置データとの差から、ビーム追従システムを介してアナログに変化され、ビームフットポイントの実際（現在）位置の目標位置からのずれをゼロに補償する補正値が得られる。
【００２６】
同期・制御装置は、更に、デジタル関数生成器として構成されかつビームフットポイントを基板上において（１つの）ピクセルの露光中時間１／fＳの間一定に保持する鋸波発生器を含む。鋸波発生器は、ＤＤＳクロック発生器と、開始値レジスタ及びステップレジスタ（Stufenregister）を有するフィードバックデジタル累算器（Akkumulator）と、高速デジタル・アナログ変換器とを含んで構成される。クロック発生器から、基本周波数ｆＳと同期して、該基本周波数ｆＳの整数倍ｎ（ｎ倍）のクロック信号（Taktsignal）が供給される。鋸波発生器は、累算器内のデジタルワード（Digitalwort）のＤ／Ａ変換によって、鋸波信号を生成する。この鋸波信号は、ピクセルクロックｆＳの各々の正のエッジ（立ち上がり）において（その都度）開始レジスタの値ａ０にセットされ、前記整数倍クロックｎｆＳの各々の次のエッジにおいて（その都度）ステップレジスタの値Δａが蓄積される。鋸波発生器には、更に、露光の開始時間に、累算器の実際の（現在の）値を、開始値レジスタ内の値ａ０から減算するデジタル減算器が組み込まれている。
【００２７】
同期・制御装置全体は、ビーム追従（システム）のクロック周波数ｆＳＮＦ及び更にはＤＤＳクロック発生器の入力周波数ｆＩＮが導出される水晶安定化マザークロック発生器によって作動される。
【００２８】
アパーチャプレート装置によって生成され複数の（多数の）個別ビームから構成される多重粒子ビームの位置決め方法は以下の工程を含むと有利である：
【００２９】
複数の（多数の）個別ビームを投射システムによって基板上に投射し、該基板上にビームフットポイント（ビーム照射点）を定める（規定するfestlegen）（工程）；
【００３０】
テーブルを予め設定された方向に移動し、レーザ距離測定（測長）システムによってテーブル位置（複数）ｘ及びｙを求め、（レーザ距離測定システムによって）その値（複数）を多段階（マルチチャンネル）ビーム追従システムが接続されている制御装置へ転送する（工程）。レーザ距離測定システムの支援の下で、粒子ビームのビームフットポイントとテーブルとの間の高度に線形な（Hochlinear）連続的な（stetig）シフトを生成する（工程）。
【００３１】
アパーチャプレートシステムのためのシフトクロック（Verschiebetakt）を生成する（工程）。その（シフトクロックの）周波数ｆＳは、ＤＤＳ回路によって広範囲かつ高度な正確性で選択することができる。
【００３２】
高速Ｄ／Ａ変換器を介しかつビーム追従システムの段を介し、ピクセル像の露光時間１／ｆＳの間基板上のビームフットポイントが不動である（固定されるfeststehen）よう多重ビームを偏向するデジタル鋸波発生器によって正確に同じ周波数ｆＳの鋸波信号を生成する（工程）。
【００３３】
露光開始時点ｔＳに鋸波発生器の開始値からの実際の（現在の）累算器値の減算による鋸波信号のオフセットを調整し、もってビーム追従クロックｆＳＮＦとシフトクロックｆＳとの間の位相シフトを補償しかつ第１のピクセル像の正確な位置決めを実行する（工程）。
【００３４】
以下に、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の実施例は発明の理解の容易化のためのものに過ぎず、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲において当業者により実施可能な付加・置換等の適用を排除することは意図しない。また、特許請求の範囲に付した図面参照符号も発明の理解の容易化のためのものに過ぎず、本発明を図示の態様に限定することも意図しない。これらの点に関しては、補正・訂正後においても同様である。
【実施例】
【００３５】
図１は、粒子（ビーム）投射（投影）システム２のビーム路の典型例を示す。以下、粒子投射システム２について説明する。図示の粒子投射システム２では、投射される粒子は電子である。尤も、これは単なる一例に過ぎず、本発明の投射粒子を電子に限定して解すべきではない。即ち、本発明は、電子以外の他の微粒子によって実施することも可能である。電子ビーム３１は、電子銃３０から発生し、電子光学軸３２の方向に拡開される。電子銃３０から出射する電子は、ソース（電子放射源）−クロスオーバー３１０を有する。電子銃３０には、電子ビーム３１を電子光学軸３２に関して対称的に揃えるビーム中心合せ（センタリング）装置３３が後置される。ビーム中心合せ装置３３を通過した後、電子ビーム３１は、最初に拡散（拡開）された電子ビームを平行なビームに整形する照明コンデンサ１０を通過する。照明コンデンサ１０によって整形された電子ビームでは、その直径にわたって強度（電子密度）が一様に分布している。照明コンデンサ１０には、（互いに）平行な多数のビーム束３６を生成するための多数の開口を有するアパーチャプレート装置３４が後置されている。標的６に向かうビーム束３６の伝播方向には、多数のビーム偏向ユニットを有する偏向プレート装置３５が（アパーチャプレート装置３４に）続いて配置される。偏向プレート装置３５の後に続いて、電子ビーム３１の電子のエネルギを増大し、次いでアパーチャ絞り３８の位置にクロスオーバー３１０の第１の中間像３１１を生成する加速レンズ３９が配置される。部分ビーム束３６の各々のクロスオーバーは全てほぼ同じ位置即ちアパーチャ絞り３８の絞り開口部に生成する。この場合、アパーチャ絞り３８の開口の直径は、（偏向プレート装置３５において）偏向作用を受けないビーム束３６のほぼ全ての電子がアパーチャ絞り３８（の開口）を通過できるように選択される。偏向プレート装置３５によって各個別に方向変化を受けた個別ビーム３７は、そのクロスオーバー像がアパーチャ絞りの開口の位置に生じないので、アパーチャ絞り３８において進行阻止される。（アパーチャ絞り３８から）ビーム進行方向に更に進んだ位置には、アパーチャプレート装置３４を標的６上に縮小して結像するための少なくとも１つの電磁（磁界）レンズ４０が配置される。図１に示した実施例では、電磁（磁界）レンズ４０は２つ配置されている。結像に際しては、クロスオーバー３１０の第２の中間像３１２が生じる。偏向を受けなかったビーム束（複数）３６が標的６（例えばウェハ等）に衝突する前に、該ビーム束３６は対物レンズ４１を通過する。対物レンズ４１は、複数の構成要素から構成される。電子ビーム３１の第２のクロスオーバー像３１２の前後には、２つの偏向装置４５及び４６が配置される。偏向装置４５、４６は、電子ビーム３１ないし多数の非偏向ビーム束３６の標的６における露光（照射）列（ストライプ）変更及び位置決定に利用される。（互いに）独立に制御可能な２つの偏向装置システム４５、４６は、低速及び高速偏向プロセスの各別の適切な実行に有利に使用される。メガヘルツからギガヘルツの周波数領域における高速偏向プロセスは、例えば、鋸歯状偏向操作によって、一様に（規則的に）移動される標的６上における縮小されたアパーチャプレート装置３４の（結像）位置を露光工程の持続時間の間一定に維持し、次いでごく短時間の後に次の露光点に跳躍的に移動するために必要とされる。隣り合うピクセル間の典型的な間隔（距離ないしピッチ）は１００ナノメートル未満であるので、高速偏向システム４６は、静電型システムとして構成されると都合がよい。数マイクロメートルの範囲での標的６の一様な運動からの低周波の（低頻度の）位置ずれを補償するためには、低速ではあるが高精度の磁界型（磁気的）偏向システム４５を使用するのが好ましい。更に、（電子）光学的カラム（鏡筒）内に製造公差及び調整誤差によって引き起こされる非点収差及び歪曲収差（Verzeichnungen）を補正するための好ましくは多段階（mehretagig）電磁（磁界）コイルシステムとして構成される（複数の）収差補正装置（Stigmatoren）４４が配設される。対物レンズ４１は、標的６における電子ビームの到達（照射）点ないしビームフットポイント（Strahlfusspunkt）の付近に走査型高さ測定システム４２を有する。高さ測定システム４２は、標的６（例えばウェハ）の凹凸（高さ不均一性）や摺動テーブルによって引き起こされ得る高さ変動の検出に利用される。標的６によって後方散乱された粒子の検出器は、ビームフットポイントの付近に配される。この検出器は、複数の露光面ないし領域（Belichtungsebene）をカバー（Ueberdeckung）するための又は露光装置の制御要素の較正のための標的６上の標識マークの位置検出に利用される。更に、粒子光学的カラム（鏡筒）の投射システムの下部領域に、３つの補正レンズ対２３、２４、２５が配設される。補正レンズ２３、２４、２５は、連続的に移動される標的６の露光中に合焦スポット、像フィールド大きさ（Bildfeldgroesse）及び像フィールド回転（Bildfeldrotation）を動的に（ダイナミックに）補正するために利用される。補正レンズシステム２３、２４、２５は、標的の高さ変動によって及びカラム（鏡筒）内の空間電荷の変化によって引き起こされる誤差ないし収差の補正を可能にする。
【００３６】
図２は、増加／減少するランプ状（傾斜勾配）信号５と高速な鋸波信号７とを重ね合わせることにより階段状の曲線推移（階段信号）３を生成することができることを示す基本原理を示す。この場合、ランプ状信号５は、該信号の一体的な線形ないし一次関数（部分）を規定するが、小さい帯域幅を有するだけでよい。より大きい周波数の鋸波信号７は、階段（信号）の段差（の大きさ）を正確に規定するが、その振幅１２は、階段（信号）３の全高１１と比べるとより小さいものに過ぎない。階段状曲線推移３は、基板ないし標的６におけるビーム（照射）位置の所望の変化を描写する。テーブルの走行ストロークが凡そ２５０ｍｍでピクセルラスタ（画素格子Pixelraster）のピッチΔｐ＝２５ｎｍの場合、進行中の露光を中断することなくかつナノメートルレベルの絶対精度で１０７段の階段状曲線推移３を生成することが必要とされる。アパーチャプレート３４の進行するピクセル像を位置決めするために、図２に示したように、これらを二段階的に実現する可能性（手段）がもたらされる。第一（段階）は、レーザ距離測定システム２０の支援のもとで高度に直線的な（Hochlinear）連続的な（stetig）ビーム対テーブル間の相対シフトを生成すると共にビーム追従（偏向制御）（システム）を含むテーブルシステムによって（実現される）。この高度に直線的な連続的なビーム対テーブル間の相対シフトは、図２には、増加／減少するランプ状信号５として示されている。第二段階は、ピクセルクロックに同期して僅かなラスタステップ（格子ピッチRasterschritte）Δｐだけの鋸歯状偏向（進路変更）制御（Auslenkung）を可能とする高速な補正偏向システムによって実現される。この鋸歯状偏向は、図２に示した鋸波信号７によって示されている。
【００３７】
図３は、ｘ座標方向及びｙ座標方向に可動のテーブル２１が基板６を担持し、かつｘ座標方向及びｙ座標方向に可動のテーブル２１の位置がレーザ距離測定システム２０によって測定されるように構成された粒子投射（投影）システム２の一例を示す。レーザ距離測定システム２０は、テーブルの位置データを一定のクロックで同期・制御装置５０に供給する。同期・制御装置５０では、多段階ビーム追従（偏向制御）システム４５、４６のための制御値が計算される。粒子投射システム２に含まれるアパーチャプレート装置３４は、同様に、同期・制御装置５０によって制御される。電子ビーム源３０は、ソース（電子放射源）−クロスオーバー３１０を有する電子ビーム３１を送出する。電子ビームは、光軸３２に沿って拡開する。照明コンデンサ１０は、最初に拡開された電子ビーム３１を平行電子ビームに整形ないし変換する。平行電子ビームは、多数の平行ビーム束３６を生成するための多数の開口を有するアパーチャプレート装置３４に入射する。粒子ビーム光学結像システム５２は、少なくとも２つの電磁（磁界）レンズ４０と１つの対物レンズ４１を含んで構成される。標的６ないし基板の露光に際して重要なことは、結像される粒子ビームによって生成されるビームフットポイント５５を予め設定された方向に一定の速度を有する基板上で運動させることである。ビームフットポイント５５のこの運動は、ｘ座標方向及びｙ座標方向に可動のテーブル２１の線形運動と調整されるべきである。このため、同期・制御装置５０が設けられる。
【００３８】
図４は、同期・制御装置５０の構成の一例を示す。レーザ距離測定システム２０のクロックによって、開始時点ｔＳからｘ座標方向及びｙ座標方向におけるビームフットポイント５５の目標位置の高度に線形のシフトを予め設定する目標位置生成器が作動される。目標位置生成器は目標値レジスタ６０を有するが、目標値レジスタ６０の前段には、第１のマルチプレクサ６１及び第２のマルチプレクサ６２が加算論理器６３を介して配置されている。目標値レジスタ６０には、露光の開始前に、標的６上における露光ストライプの開始位置６４が第１のマルチプレクサ６１を介して格納される。開始時点ｔＳから、第２のマルチプレクサ６２の切替（Umschalten）により、目標値レジスタ６０は、周期的（サイクル的）にステップ値Δｎでインクリメントされる。ｘ座標方向及びｙ座標方向に可動のテーブル２１の実際の（現在の）位置は、レーザ距離測定システム２０から実際値（現在値）レジスタ６５に供給される。実際値レジスタ６５の内容及び目標値レジスタ６０の内容は減算論理器６６に供給される。減算論理器６６は、積分器として構成されるデジタル−アナログ変換器６７と接続される。実際値レジスタ６５に記憶されている実際のテーブル位置と目標値レジスタ６０内の値との差に依存して、ビーム追従システムの制御のために、１／ｆＳＮＦの積分時間後、測定された偏差（Ablage）をビーム追従−偏向システムを介して補正する電流が供給される。ビーム追従のために絶対的に必要とされることは、同期・制御装置５０がクロック同期的な（taktsynchron）作動態様（Arbeitsweise）を有すると共に、クロック周波数ｆＳＮＦがレーザ距離測定システム２０の最大測定速度に相応することである。ステップ値Δｎは、レーザ距離測定システム２０のレーザ距離測定インクリメント（Laserwegmessinkrementen）の数を正確に表すが、このインクリメント（の数）は、理想的な場合では、ｘ座標方向及びｙ座標方向に可動のテーブル２１の速度が予め設定されている場合、時間間隔１／ｆＳＮＦのうちに到達している（einlaufen）必要がある。誤差の累積を回避するためには、大きな正確性即ち小数点以下多数桁の値を有するΔｎをデジタル計算にかける必要がある。
【００３９】
図５は、修正されたビーム追従の作動態様を示す。この場合、ｘ座標方向及びｙ座標方向に可動のテーブル２１が、加速段階後、一定の速度を有するビーム追従の捕捉（キャッチ）領域において、露光の開始点（Anfangspunkt）に移動することから出発する。開始点（Startpunkt）の絶対位置は、目標値レジスタ６０に記憶されている。この位置に到達する前には、ビーム追従は既知の態様で実行される。ビーム追従は、ビームを開始点（Startpunkt）に位置付けることを試みるが、追随して行われる補正に基づき、Δｎのシステム上の偏差（Ablage）が残留する。開始点（Startpunkt）７０が時間ｔＳに到達又は超過されると、第２のマルチプレクサの切替（Umschalten）によって同期・制御装置５０の累算操作（Akkumulationsbetrieb）を活性化する開始信号が生成される。目標値にΔｎを連続的に加算することにより、システム上の偏差（Ablage）は除去される。ビーム追従は、ｔＳ後のサイクルにおいて、更に、開始時点のテーブル２１の位置誤差を補正し、その後は、その偏向は、最早変化されないか、或いはｘ座標方向及びｙ座標方向に可動のテーブル２１の進行経路（Ablauf）が理想的な線形（直線）的走行曲線から逸れた場合にのみ変化される。このため、同時に２つの目的が達成される：即ち、１つは、レーザ距離測定システム２０によって高度に線形なビーム対テーブル間の相対シフトが達成されることであり、もう１つは、このシフトの開始点（Anfangspunkt）が標的６の露光の予め設定される開始点（Startpunkt）に調整されることである。
【００４０】
作動態様の他の一変形例は、位置調整方向に運動しないテーブル２１の場合に見られる。この場合、ビーム追従は、まず、開始位置からの測定された偏差（Ablage）を静的に（statisch）補正し、開始時点ｔＳからレーザ距離測定支援スキャンジェネレータとして作動する。
【００４１】
図６は、鋸波発生器８０のブロック回路図を示す。同期・制御装置５０は、デジタル関数生成器として構成されかつビームフットポイントを基板上でピクセル像の露光中一定に維持する鋸波発生器８０を含む。ピクセル像の露光の時間１／ｆＳの間に、ビーム位置をテーブルに対し相対的に変化させないようにするために、高速補正システムの制御のために必要な鋸波発生器８０に、２つの主要な要求が提起される。即ち、第１の要求は、鋸波の周波数がアパーチャアレイ３４において正確にピクセルシフト周波数ｆＳに一致することである。第２の要求は、振幅が、偏向システムを介して、正確にピッチΔｐのビーム偏向（Strahlauslenkung）を引き起こすことである。ピクセルシフト周波数ｆＳは、周波数領域、調節正確性及び安定性に関する要求に応じて、現在の技術水準では、直接デジタル合成（Direct Digital Synthesis：ＤＤＳ）の原理に応じて作動するデジタルクロック発生器によって生成される。即ち、鋸波発生器８０は、フィードバックデジタル累算器８２と接続するＤＤＳクロック発生器８１を含んで構成される。更に、鋸波発生器８０は、開始値レジスタ８３とステップレジスタ（Stufenregister）８４とを含む。ステップレジスタは、加算論理器８５へ接続する。開始値レジスタ８３は、マルチプレクサ８６を介して加算論理器８５と接続する。鋸波発生器８０は、更に、高速デジタル−アナログ変換器８８を有する。ＤＤＳクロック発生器８１は、基本周波数ｆＳと同期してその整数倍ｎｆＳ（の周波数）を有するクロック信号を供給する。鋸波信号は、累算器８２内のデジタルワードのＤ／Ａ変換によって生成し、これは、ピクセルクロックｆＳの正のエッジ（立ち上がり）においてその都度開始値レジスタ８３の値ａ０にセットされ、整数倍クロックｎｆＳの次のエッジにおいてその都度ステップレジスタ８４の値Δａが蓄積される。テーブル２１の走行方向に応じて、上昇又は下降する鋸波が生成される必要があるが、これは、Δａに対し正又は負の値を調整することによって達成される。ピクセルシフト周波数に対し正確に同期する階段信号（ｎ段）が生成されるが、この階段信号は、ｎ＞１０の場合、極めて正確に鋸波信号に近似する。ステップ高さ（Stufenhoehe）Δａを選択することにより、この信号の振幅は、極めて正確にデジタル的に調整することができる。ビーム追従のアップデート速度（Update-Rate）ｆＳＮＦもＤＤＳクロック発生器８１の入力周波数ｆＩＮも共通の水晶安定化マザージェネレータによって生成される。このため、標的６上での（１つの）ストライプの露光の際に周波数ずれないし位相ずれによって引き起こされる位置シフトは生じ得ないということが保証される。２つの周波数ｆＳＮＦ及びｆＳは、互いに異なる周波数を有する。このため、開始時点ｔＳにピクセルクロック及び従って同様に鋸波が任意の位相を有することが可能となる。この状況により、標的上で多数（複数）のストライプをシーケンシャルに描画する際、Δｐの大きさのレベルでストライプ開始点の許容不能な位置ジッタが生成し得る。適応性の（調整可能な：adaptiv）位相補償の目的で、鋸波発生器８０には、開始時点ｔＳに開始レジスタ８３の値ａ０から累算器８２の実際値（現在値）を減算するデジタル減算器８７が組み込まれる。この新たな値ａ０は、ピクセルシフトクロックの次のエッジにおいて、鋸歯状曲線にゼロ点を与えるため、鋸歯状曲線は所定のオフセット量だけシフトする。
【００４２】
図７は、適応的（adaptiv）位相補償の原理を示すが、図示の場合、開始値ａ０は、最初、ゼロであることが前提とされている。新たな値ａ０はピクセルシフトクロックの次のエッジにおいて鋸歯状曲線に開始点（Startpunkt）を与えるため、この鋸歯状曲線は、所定のオフセット量ａ０neuだけシフトする。その結果、累算器値ゼロがｆＳの位相位置すべてにおいて常に同一の時点に達成され、もって標的上でのストライプ開始が実際にインラインで位置付けられることが達成される。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】電子ビームリソグラフィのためのシステム全体の構成の一例の模式図。
【図２】階段状曲線推移生成の一例の模式図。
【図３】テーブルシステムとビーム追従（システム）とを含むアパーチャ絞りアレイの一例を有する露光装置の一例。
【図４】修正されたビーム追従（システム）の一例のブロック線図。
【図５】ビーム対基板位置決めの過程の一例。
【図６】本発明の鋸波発生器の一例のブロック線図。
【図７】適応性（adaptiv）位相補償（平衡）の原理の模式図。
【符号の説明】
【００４４】
２  粒子投射（照射）システム
６  基板
１０  照明コンデンサ
２０  レーザ距離測定（測長）システム
２１  可動テーブル
３０  電子ビーム源
３１  電子ビーム
３２  電子光学軸
３４  アパーチャプレート装置
３６  ビーム束
４０  電磁（磁界）レンズ
４１  対物レンズ
４５  ビーム追従（偏向制御）システム
４６  ビーム追従（偏向制御）システム
５０  同期・制御装置
５２  結像システム
５５  ビームフットポイント（ビーム照射点）
６０  目標値レジスタ
６１  第１のマルチプレクサ
６２  第２のマルチプレクサ
６３  加算論理器
６４  開始位置
６５  実際（現在）値レジスタ
６６  減算論理器
６７  デジタル−アナログ変換器
８０  鋸波発生器
８１  ＤＤＳクロック発生器
８２  累算器
８３  開始値レジスタ
８４  ステップレジスタ（Stufenregister）
８５  加算論理器
８６  高速デジタル−アナログ変換器
８７  減算器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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