(57)【要約】【課題】  アルミなどに対する非腐蝕性に優れた電子部品用洗浄剤を提供する。【解決手段】  アミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物（Ａ）を含有する電子部品用洗浄剤であって、該（Ａ）の重量に基づくアルカリ金属原子（Ｂ）の含有量が１ｐｐｍ以下である電子部品用洗浄剤である。（Ａ）は、特に、下記一般式（１）で表されるアルキレンオキサイド付加物であることが好ましい。【化３】2006306968.tif 000005式中、Ｒは炭素数１〜２４の炭化水素基、炭素数２〜４の末端ヒドロキシルアルキル基または水素原子、Ａは炭素数２〜１２のアルキレン基であり、ｍおよびｎは０または１〜１０の整数であって、ｍ+ｎは１〜２０の整数である。  【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物（Ａ）を含有する電子部品用洗浄剤であって、該（Ａ）の重量に基づくアルカリ金属原子（Ｂ）の含有量が１ｐｐｍ以下である電子部品用洗浄剤。
【請求項２】
（Ａ）が、下記一般式（１）で表されるアルキレンオキサイド付加物である請求項１記載の電子部品用洗浄剤。
【化１】
2006306968.tif 000004
〔式中、Ｒは炭素数１〜２４の炭化水素基、炭素数２〜４の末端ヒドロキシルアルキル基または水素原子、Ａは炭素数２〜１２のアルキレン基であり、ｍおよびｎは０または１〜１０の整数であって、ｍ+ｎは１〜２０の整数である。]
【請求項３】
電子部品用洗浄剤が、液晶パネル用洗浄剤、半導体用洗浄剤またはレジスト剥離用洗浄剤である請求項１〜３いずれか記載の電子部品用洗浄剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルや半導体の表面に付着している油脂類、樹脂、パーティクルなどを除去や配線パターン等の作成に用いられるレジストの剥離、レジスト残渣の洗浄など電子部品の洗浄用に用いられる洗浄剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、電子部品用洗浄剤の主成分としては、アルカリ金属化合物、第四級アンモニウムハイドロオキサイドまたは非イオン性界面活性剤などが提案されている。
しかしながら、アルカリ金属化合物は洗浄性には優れているが電子部品内のアルミ配線を腐蝕させることがあり導通不良や動作不良などを引きおこし易く、第四級アンモニウムハイドロオキサイドもアルミ配線を腐食させることがあった。
一方、非イオン性界面活性剤としては、アルコールもしくは脂肪酸ポリオキシアルキレンアルキルエーテルなどのアルキレンオキシド付加物（特許文献−１〜３）、およびアルキルアミンのアルキレンオキシド付加物の併用（特許文献−４）などが提案されているが、洗浄性が不足であるとともにアルミ配線の腐蝕による導通不良の問題もあった。
【特許文献−１】特開平５−１４８４９９号公報
【特許文献−２】特開平５−１７９２８９号公報
【特許文献−３】特開平５−３０２０９６号公報
【特許文献−４】特開平７−２１６３９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の課題は、優れた洗浄力を有し、かつ、アルミ配線などの導通不良を起こさない電子部品用洗浄剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、アミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物（Ａ）を含有する電子部品用洗浄剤であって、該（Ａ）の重量に基づくアルカリ金属原子（Ｂ）の含有量が１ｐｐｍ以下である電子部品用洗浄剤である。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の洗浄剤は、アルミ配線等などへの非腐蝕性に優れているため、例えば液晶パネル用ガラス基板のアルミ配線、カラーフィルター部材に、導通不良などのダメージを与えずに洗浄できる。
また、本発明の洗浄剤は、油分、指紋、樹脂およびパーティクルを除去する能力にも優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の電子部品用洗浄剤は、アミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物（Ａ）を含有し、該（Ａ）の重量に基づくアルカリ金属原子（Ｂ）の含有量が１ｐｐｍ以下、好ましくは０．３ｐｐｍ以下であることを発明の要旨とする（以下において、ｐｐｍは、重量ｐｐｍを表す）。
アルカリ金属原子（Ｂ）が１ｐｐｍを超えると、導通不良または動作不良をおこし易い。
【０００７】
本発明におけるアルカリ金属原子（Ｂ）としては、リチウム、ナトリウムおよびカリウムなどが挙げられ、アルカリ金属原子は、通常、その化合物の形態で（Ａ）中に含まれる。アルカリ金属原子の化合物としては、具体的には水酸化リチウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩リン酸塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウムおよびトリポリリン酸カリウムなアルカリ金属リン酸塩、ケイ酸ナトリウムおよびケイ酸カリウムなどアルカリ金属ケイ酸塩、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、乳酸カリウム、乳酸ナトリウムなど有機酸アルカリ金属塩およびこれらの混合物などが挙げられ、アルキレンオキサイド（Ａ）のアルカリ金属アルコラートの形態で含まれていてもよい。
アルキレンオキサイド付加物（Ａ）中のアルカリ金属原子（Ｂ）の含有量は、原子吸光分析装置により測定することができる。
【０００８】
本発明におけるアミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物（Ａ）を構成するアミノ化合物は、アミノ基中に活性水素原子を有するアミノ化合物であり、１級および２級アミノ基を有する化合物が挙げられる。
１級アミノ基を有する化合物としては、炭素数１〜２４の脂肪族モノアルキルアミン、炭素数２〜２４のヒドロキシアルキルモノアミンおよび炭素数６〜２４の芳香族モノアミンなどが挙げられる。
２級アミノ基を有する化合物としては、アルキル基の炭素数１〜２４の脂肪族ジアルキルアミン、炭素数４〜２４のジ（ヒドロキシアルキル）アミンおよび総炭素数７〜２４のアルキルアリールアミンなどが挙げられる。
アミノ化合物のうち好ましいのは洗浄性の観点から１級アミノ基を有するアミノ化合物（以下、１級アミノ化合物と略記）である。
【０００９】
（Ａ）を構成するアルキレンオキサイドとしては、炭素数２〜１２、例えばエチレンオキシド（以下ＥＯと略記）、１，２−プロピレンオキシド（以下、ＰＯと略記）、ブチレンオキシド、１，２−ドデセンオキサイドおよびこれらのうちの２種以上の併用が挙げられる。
アルキレンオキサイドのうち好ましいのは、炭素数２〜８のもの、特にＥＯおよびＰＯであり、さらに好ましいのはＥＯ単独およびＥＯとＰＯのランダムもしくはブロック付加である。
アルキレンオキサイドの付加モル数は、洗浄性の観点から、好ましくは１〜５０モル、さらに好ましくは２〜４０モルである。
【００１０】
１級アミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物のうち、好ましいのは洗浄性の観点から一般式（１）で表される付加物である。
【００１１】
【化２】
2006306968.tif 000002
【００１２】
式中、Ｒは炭素数１〜２４の炭化水素基、炭素数２〜４の末端ヒドロキシルアルキル基または水素原子、Ａは炭素数２〜１２のアルキレン基であり、ｍおよびｎは０または１〜１０の整数であって、ｍ+ｎは１〜２０の整数である。
【００１３】
一般式（１）におけるＲのうち、炭素数１〜２４の炭化水素基としては、直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基などが挙げられる。
直鎖もしくは分岐の飽和炭化水素基としては、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−およびｔ−ブチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基並びにオクタデシル基など）；直鎖もしくは分岐の不飽和炭化水素基としては、アルケニル基（ビニル基、プロペニル基、アリル基およびブテニル基など）；脂環式炭化水素基としては、シクロアルキル基（シクロヘキシル基など）；芳香環含有炭化水素基としては、アリール基（フェニル基およびナフチル基など）、アラルキル基（ベンジル基およびフェネチル基など）、アルキルアリール基（メチルフェニル基、エチルフェニル基、ノニルフェニル基、メチルナフチル基およびエチルナフチル基など）等が挙げられる。
これらの炭化水素基の中では、洗浄性の観点から好ましいのはアルキル基、アルケニル基およびシクロアルキル基であり、さらに好ましいのは洗浄剤の外観安定性の観点から炭素数が２〜８のものである。
Ｒの炭素数が２４以下であれば洗浄性が優れている。
【００１４】
一般式（１）におけるＲのうち、炭素数２〜４の末端ヒドロキシルアルキル基としては、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドキシブチルなどが挙げられ、好ましいのはヒドロキシエチルである。
【００１５】
一般式（１）におけるＡは、炭素数２〜１２のアルキレン基、例えばエチレン基、１，２−プロピレン基、ブチレン基および１，２−ドデシレン基などが挙げられる。
Ａの炭素数が２〜８であれば、さらに洗浄性が良好に発揮できる。
ｍおよびｎは０または１〜１０の整数であり、ｍ+ｎは１〜２０の整数でありｍ+ｎが２０以下であれば洗浄性が良好である。
【００１６】
本発明におけるアミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物（Ａ）の製造方法は、触媒の存在下または非存在下にアミノ化合物にアルキレンオキサイドを開環反応させる方法である。触媒としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどが挙げられる。反応温度は８０℃から１８０℃、圧力は０〜５気圧である。
本発明のアルキレンオキサイド付加物（Ａ）の重量に基づくアルカリ金属原子（Ｂ）の含有量を１ｐｐｍ以下とするためには、触媒の非存在下に反応させることが好ましい。
また、触媒としてアルカリ金属化合物を使用した場合は、反応後に吸着剤等でアルカリ金属化合物を除去して１ｐｐｍ以下とすることが好ましい。
吸着剤としては、キョーワード（協和化学（株）製）などが挙げられる。
【００１７】
本発明の洗浄剤の重量に基づく（Ａ）の含有割合は、１０重量％以上、好ましくは２０％以上（以下において、特に限定しない限り、％は重量％を表す）、さらに好ましくは３０％以上である。
【００１８】
本発明の洗浄剤には、（Ａ）および（Ｂ）以外に、必要によりさらに他の界面活性剤（Ｃ）、アミド基含有親水性溶剤（Ｄ）、他の添加剤（Ｅ）および／または水を含有することができる。
他の界面活性剤（Ｃ）としては、非イオン界面活性剤（Ｃ１）、アニオン界面活性剤（Ｃ２）、カチオン界面活性剤（Ｃ３）、両性界面活性剤（Ｃ４）およびこれらの混合物が挙げられる。
【００１９】
（Ｃ１）としては、例えば、アルキレンオキシド付加型非イオン界面活性剤［高級アルコール（炭素数８〜１８）、アルキルフェノール（炭素数１０〜２４）、高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）に直接アルキレンオキシド［炭素数２〜４、例えばＥＯ、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、以下同じ］を付加させたもの（Ｍｎ１５８〜２００，０００）；ポリオキシアルキレングリコール（Ｍｎ１５０〜６，０００）に高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）などを反応させたもの；ジオールまたは３〜８価の多価アルコールなどの水酸基含有化合物に高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）を反応させて得られたエステル化物にアルキレンオキシドを付加させたもの（Ｍｎ２５０〜３０，０００）、高級脂肪酸（炭素数８〜２４）アミドにアルキレンオキシドを付加させたもの（Ｍｎ２００〜３０，０００）、多価アルコール（前記のもの）アルキル（炭素数８〜６０）エーテルにアルキレンオキシドを付加させたもの（Ｍｎ１２０〜３０，０００）など］、および多価アルコール（炭素数３〜２０）型非イオン界面活性剤［多価アルコール脂肪酸（炭素数８〜６０）エステル、多価アルコールアルキル（炭素数８〜６０）エーテル、脂肪酸（炭素数８〜６０）アルカノールアミドなど］などが挙げられる。
【００２０】
（Ｃ２）としては、例えば、カルボン酸（炭素数８〜２２の飽和または不飽和脂肪酸）塩、カルボキシメチル化物の塩［炭素数８〜１６の脂肪族アルコールおよび／またはそのＥＯ（１〜１０モル）付加物などのカルボキシメチル化物の塩など］、硫酸エステル塩［高級アルコール硫酸エステル塩（炭素数８〜１８の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩など）など］、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩［炭素数８〜１８の脂肪族アルコールのＥＯ（１〜１０モル）付加物の硫酸エステル塩］、硫酸化油（天然の不飽和油脂または不飽和のロウをそのまま硫酸化して中和した塩）、硫酸化脂肪酸エステル（不飽和脂肪酸の低級アルコールエステルを硫酸化して中和した塩）、硫酸化オレフィン（炭素数１２〜１８のオレフィンを硫酸化して中和した塩）、スルホン酸塩［アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジエステル型、α−オレフィン（炭素数１２〜１８）スルホン酸塩、イゲポンＴ型など］およびリン酸エステル塩［高級アルコール（炭素数８〜６０）リン酸エステル塩、高級アルコール（炭素数８〜６０）ＥＯ付加物リン酸エステル塩、アルキル（炭素数４〜６０）フェノールＥＯ付加物リン酸エステル塩など］が挙げられる。
上記の塩としては、アルカリ金属（ナトリウム、カリウムなど）塩、アルカリ土類金属（カルシウム、マグネシウムなど）塩、アンモニウム塩、アルキルアミン（炭素数１〜２０）塩およびアルカノールアミン（炭素数２〜１２、例えばモノー、ジ−およびトリエタノールアミン）塩などが挙げられる。
【００２１】
（Ｃ３）としては、第４級アンモニウム塩型［テトラアルキル（炭素数４〜１００）アンモニウム塩、例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド；トリアルキル（炭素数３〜８０）ベンジルアンモニウム塩、例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド（塩化ベンザルコニウム）；アルキル（炭素数２〜６０）ピリジニウム塩、例えばセチルピリジニウムクロライド；ポリオキシアルキレン（炭素数２〜４）トリアルキルアンモニウム塩、例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド；サパミン型第４級アンモニウム塩、例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート］、アミン塩型［脂肪族高級アミン（炭素数１２〜６０、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミン、ロジンアミンなど）の無機酸（塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸など）塩または有機酸（炭素数２〜２２、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸）塩；低級アミン（炭素数１〜１１）の高級脂肪酸（炭素数１２〜２４、例えばステアリン酸、オレイン酸）塩；脂肪族アミン（炭素数１〜３０）のＥＯ付加物などの無機酸（前記のもの）塩または有機酸（前記のもの）塩；３級アミン類（トリエタノールアミンモノステアレート、ステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミンなど）の無機酸（前記のもの）塩または有機酸（前記のもの）塩など］などが挙げられる。
【００２２】
（Ｃ４）としては、アミノ酸型両性界面活性剤［高級アルキルアミン（炭素数１２〜１８）のプロピオン酸ナトリウムなど］、ベタイン型両性界面活性剤［アルキル（炭素数１２〜１８）ジメチルベタイン、アルキル（炭素数１２〜１８）ジヒドロキシエチルベタイン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタインなど］、硫酸エステル塩型両性界面活性剤［高級アルキル（炭素数８〜１８）アミンの硫酸エステルナトリウム塩、ヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステルナトリウム塩など］、スルホン酸塩型両性界面活性剤（ペンタデシルスルフォタウリン、イミダゾリンスルホン酸など）、リン酸エステル塩型両性界面活性剤［グリセリン高級脂肪酸（炭素数８〜２２）エステル化物のリン酸エステルアミン塩］などが挙げられる。
【００２３】
（Ｃ１）〜（Ｃ４）の中では、洗浄性と非腐蝕性の観点から好ましいのは（Ｃ１）および（Ｃ２）、さらに好ましいのは（Ｃ１）である。（Ｃ）の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、３０％以下、好ましくは１〜２０％である。
【００２４】
アミド基含有親水性溶剤（Ｄ）は、２０℃における水に対する溶解度（ｇ／１００ｇＨ２Ｏ）が３以上であって、分子中にアミド基を１個以上含有するおよび水溶性アミドであり、２−ピロリドンおよびＮ−アルキル（炭素数１〜３）−２−ピロリドンなどが挙げられる。これらのうち、洗浄性とリンス性の観点から好ましいのはＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ−ｎ−プロピル−２−ピロリドンおよびＮ−イソプロピル−２−ピロリドン、更に好ましいのはＮ−メチル−２−ピロリドンである
（Ｄ）の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、洗浄性、リンス性および耐腐蝕性の観点から、好ましくは３０％以下、さらに好ましくは１〜２０％である。
【００２５】
その他の添加剤（Ｅ）としては、防錆剤［クロム酸塩、亜硝酸塩、アミン（炭素数６〜３０）の高級脂肪酸（炭素数８〜３０）塩、ジカルボン酸（炭素数１２〜２４）のアルカリ金属（ナトリウム、カリウムなど）塩、ジカルボン酸（炭素数１２〜２４）のアルカノールアミド（例えば、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミド）、ジカルボン酸（炭素数１２〜２４）のアルカノールアミドアルカリ金属塩（例えば、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドナトリウム塩）など］、酸化防止剤［フェノール化合物（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールなど）、含硫化合物（ジラウリルチオジプロピオネートなど）、アミン化合物（オクチル化ジフェニルアミンなど）、リン化合物（トリフェニルホスファイトなど）など］、金属イオン封鎖剤（エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムなど）などが挙げられる。
（Ｅ）の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、防錆剤は通常２０％以下、好ましくは０．５〜１０％、酸化防止剤は通常５％以下、好ましくは０．１〜１％、金属イオン封鎖剤は通常２０％以下、好ましくは０．５〜１０％である。
【００２６】
水の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、洗浄性、リンス性および非腐蝕性の観点から、好ましくは９０％以下、さらに好ましくは１〜８０％、特に好ましくは２〜７０％である。
【００２７】
本発明の洗浄剤の重量に基づく、（Ｃ）、（Ｄ）および（Ｅ）の合計の含有量は、４０％以下、好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２０％以下である。
【００２８】
本発明の洗浄剤の２５℃における粘度は、通常２〜３００ｍｍ2／ｓ、洗浄性およびリンス性の観点から、好ましくは３〜１００ｍｍ2／ｓ、更に好ましくは４〜５０ｍｍ2／ｓである。粘度はオストワルドまたはウベローデなどの粘度計にて測定できる。
本発明の洗浄剤のｐＨ（１０％水溶液）は通常８〜１４、洗浄性および非腐蝕性の観点から、好ましくは９〜１３である。
【００２９】
本発明の洗浄剤は、通常、電子部品の洗浄に使用され、特にアルミニウムが部品の一部または全部に使用されている電子部品の洗浄用として幅広く用いることができる。例えば液晶パネル用ガラス基板（配向膜パターン化の前の洗浄、不具合配向膜の剥離洗浄）、プリント基盤、プラズマディスプレイガラス基板、半導体集積回路、サーマルヘッドなどの電子部品等が挙げられる。また、洗浄の対象物（汚れ）は、油分、指紋、レジスト樹脂、有機パーティクルなどの有機物、無機パーティクル（例えば、ガラス粉、セラミック粉、金属粉など）などの無機物が挙げられる。
【００３０】
本発明の洗浄剤を用いて、例えば液晶パネル用ガラス基板を洗浄する方法としては、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬、浸漬揺動およびこれらの組み合わせによる洗浄方法が適用できる。
洗浄時の本発明の洗浄剤は、必要によりさらに水で稀釈されて使用されていてもよいが、好ましいのは上記の水の含有量の範囲内である。
【００３１】
洗浄温度は、通常１０〜７０℃、好ましくは１５〜６０℃程度である。洗浄時間は通常０．２〜１２０分、好ましくは０．５〜３０分である。水によるリンス温度は、通常５〜９０℃、好ましくは１０〜７０℃であり、リンス方法としては上記洗浄方法と同じ方法が適用できる。リンス後通常５０〜１５０℃、好ましくは６０〜１００℃で通常１〜１２０分間、好ましくは３〜６０分間加熱乾燥することにより清浄な液晶パネル用ガラス基板が得られる。
【００３２】
＜実施例＞
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部は重量部を示す。
【００３３】
実施例１
１Ｌのステンレス製オートクレーブにシクロヘキシルアミン２９７ｇ（３モル）を仕込み、８０〜１８０℃の範囲でＥＯ２６４ｇを滴下し反応させシクロヘキシルアミンＥＯ２モル付加物を得た。原子吸光分析でアルカリ金属原子含有量を測定した結果、ナトリウムを０．００２ｐｐｍ含有していた。この生成物を、実施例１の洗浄剤（Ａ−１）とした。
【００３４】
実施例２
市販品のジエタノールアミン（和光純薬製）のアルカリ金属原子含有量を測定した結果1．２５ｐｐｍであった。
該ジエタノールアミンに、処理剤としてキョウワード６００を２％添加して、７０〜１２０で窒素通気下の条件で処理して、濾過した結果、アルカリ金属原子含有量がカリウムとして０．０４ｐｐｍの精製物が得られた。この精製物を実施例２の洗浄剤（Ａ−２）とした。
【００３５】
実施例３
触媒として水酸化カリウム１６０ｐｐｍを使用したこと以外は実施例１と同様の方法で粗シクロヘキシルアミンＥＯ２モル付加物を得た。この粗シクロヘキシルアミンＥＯ２モル付加物に処理剤としてキョウワード６００を２％添加して、７０〜１２０で窒素通気下の条件で処理して、濾過することを３回繰り返し行った結果、アルカリ金属原子含有量がカリウムとして０．１５ｐｐｍの精製物が得られた。この精製物を実施例３の洗浄剤（Ａ−３）とした。
【００３６】
比較例１
市販品のジエタノールアミン（アルカリ金属原子含有量を測定した結果１．２５ｐｐｍであった。）を比較例の洗浄剤（Ｂ−１）とした。
【００３７】
比較例２
市販品のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド５水和物（アルカリ金属原子含有量を測定した結果０．０１ｐｐｍであった。）を比較例の洗浄剤（Ｂ−２）とした。
【００３８】
実施例および比較例で得られた洗浄剤の評価試験方法を以下に示し、評価結果を表１に示す。
【００３９】
１．ガラス基板洗浄性
ガラス基板（２５×２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍ）を試験片とした。試験片を固形分濃度（固形分とは、水以外の成分を言う。以下同様。）として４０％となるよう調整した洗浄剤希釈液（２５℃）に３分間浸漬後、試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で１分間シャワーリンスし、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、試験片を７０℃の循風乾燥機中で１０分間乾燥後、顕微鏡で観察して１ｃｍ2あたりのパーティクルの数を確認し除去性を次の５段階で評価した。洗浄前のパーティクルはいずれも１００〜１２０個であった。
＜評価基準＞
５：ガラス基板面にパーティクルが全くなし。
４：ガラス基板面にパーティクルが1〜５個程度残っている。
【００４０】
２．導通性
アルミ配線（膜厚０．１μｍ  線巾１０μｍ）を蒸着したガラス基板試験片（２５×２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍ、線数1０本）を固形分濃度として４０％となるよう調整した洗浄剤希釈液（４０℃）に３分間浸漬し試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で１分間シャワーリンスし、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、試験片を７０℃の循風乾燥機中で１０分間乾燥後、アルミ配線について導通を確認し、表中に（導通のあった配線数／総配線数）を記載した。
【００４１】
【表１】
2006306968.tif 000003
【００４２】
表１の比較例１に示されるようにアルカリ金属原子含量が１ｐｐｍを超えると、またアルカリ成分として第四級アンモニウムを使用した場合では導通不良を起こす配線が認められたが、本発明の洗浄剤（実施例１〜３）は、すべてのアルミ配線で導通不良が認められなかった。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明の洗浄剤は、導通不良を引き起こさず、かつ、油分、指紋、樹脂およびパーティクルを除去する能力にも優れているので、液晶パネル用ガラス基板などの電子部品の洗浄用途に適用が可能であり極めて有用性が高い。