(57)【要約】【課題】基材上にメッシュ状の金属層を備えており、金属層に対して基材側を視認側としたときの視認性が良好な電磁波遮蔽材を提供する。【解決手段】基材１と、基材１上に設けられたメッシュ層４を備えてなり、メッシュ層４は、基材１側から順に黒褐色無機層２および金属層３が積層された積層体からなることを特徴とする電磁波遮蔽材。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材上に設けられたメッシュ層を備えてなり、
前記メッシュ層は、前記基材側から順に黒褐色無機層および金属層が積層された積層体からなることを特徴とする電磁波遮蔽材。
【請求項２】
前記黒褐色無機層が、酸化銅からなることを特徴とする請求項１記載の電磁波遮蔽材。
【請求項３】
前記金属層が、銅からなることを特徴とする請求項１または２に記載の電磁波遮蔽材。
【請求項４】
前記金属層の表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽材。
【請求項５】
基材上に黒褐色無機層を形成する工程と、該黒褐色無機層上に金属層を形成する工程と、エッチング法により前記黒褐色無機層および金属層をメッシュ状に加工する工程を有することを特徴とする電磁波遮蔽材の製造方法。
【請求項６】
前記黒褐色無機層を形成する方法として、蒸着法、化学反応蒸着法、またはスパッタリング法のいずれかを用いることを特徴とする請求項５記載の電磁波遮蔽材の製造方法。
【請求項７】
前記金属層を形成する方法として、メッキ法、蒸着法、化学反応蒸着法、またはスパッタリング法のいずれかを用いることを特徴とする請求項５または６に記載の電磁波遮蔽材の製造方法。
【請求項８】
前記黒褐色無機層および金属層をメッシュ状に加工する工程の後に、前記金属層を黒化処理する工程を有することを特徴とする請求項５〜７のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽材の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波遮蔽材およびその製造方法、ならびに該電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
電磁波遮蔽材は様々な分野で用いられているが、最近ではプラズマディスプレイなどの画面上に設ける用途が増えている。ディスプレイの画面上に設ける場合には、電磁波遮蔽性能だけでなく、良好な視認性を有することが重要である。
【０００３】
従来のディスプレイ用電磁波遮蔽材として、例えば、基材上に接着層を介して銅箔などの金属箔を貼り合わせた後、ケミカルエッチング法などにより金属箔に開口部を形成してメッシュ状に加工する方法が知られている（例えば、下記特許文献１）。前記金属箔は、コントラスト向上のために、予め表面が黒化処理されたものが好ましく用いられる。
【０００４】
しかしながら、黒化処理後の金属箔表面は粗面化されているため、接着層上に金属箔を積層した際に、金属箔表面の凹凸が接着層に転写される。したがって、金属箔をメッシュ状に加工した後の開口部内には、かかる凹凸が転写された接着層が露出することになる。このため開口部内を光が透過する際に散乱が生じ易く、その結果、開口部内でぎらつきが生じ、視認性の劣化を招くという不都合がある。
【０００５】
一方、基材上に接着層を介さずに金属層を形成し、該金属層をメッシュ状に加工する方法も提案されている（例えば下記特許文献２）。
具体的には、基材上に銅薄膜を蒸着法またはスパッタリングにより形成し、この銅薄膜上にめっき法により銅からなる層を形成する方法によれば、接着層を用いずに基材上に銅層を設けることができるので、上記のような接着層表面の凹凸による視認性の劣化は防止される。
【特許文献１】特許第３３８８６８２号公報
【特許文献２】特開平１１−８７９８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように基材上に接着層を介さずに銅層を形成した場合は、基材上に接着層を介して黒化処理された金属箔を設けた場合に比べて、コントラストが劣るという不都合がある。
そこで、基材上に接着層を介さずに設けられた銅層をメッシュ状に加工した後に黒化処理を行えば、基材に対して銅層側を視認側とするコントラストを向上させることはできるが、銅層の基材側の面は基材に密着していて黒化処理されないので、基材側を視認側とするコントラストが向上されず、視認性に劣るという問題がある。
ところで、基材上にメッシュ状の金属層を備えた構成を有する電磁波遮蔽材をディスプレイの画面上に適用する場合、金属層に対して基材側を視認側とし、金属層が画面側となるように配した方が、視認側に反射防止等の機能層を積層する際に基材の平滑性を活かして積層できるという利点がある。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、基材上にメッシュ状の金属層を備えた電磁波遮蔽材において、金属層に対して基材側を視認側としたときの視認性が良好な電磁波遮蔽材、およびその製造方法、ならびに該電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明の電磁波遮蔽材は、基材と、該基材上に設けられたメッシュ層を備えてなり、前記メッシュ層は、前記基材側から順に黒褐色無機層および金属層が積層された積層体からなることを特徴とする。
また本発明は、基材上に黒褐色無機層を形成する工程と、該黒褐色無機層上に金属層を形成する工程と、エッチング法により前記黒褐色無機層および金属層をメッシュ状に加工する工程を有することを特徴とする電磁波遮蔽材の製造方法を提供する。
また本発明は、本発明の電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムを提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の電磁波遮蔽材は、メッシュ層のうち、最も基材に近い部分が黒褐色無機層からなっているので、メッシュ層に対して基材側を視認側としたときのコントラストが良好で、優れた視認性が得られる。
本発明の電磁波遮蔽材の製造方法によれば、基材上に、メッシュ状の黒褐色無機層およびメッシュ状の金属層が順に積層されたメッシュ層が設けられており、メッシュ層に対して基材側を視認側としたときのコントラストが良好で、視認性に優れた電磁波遮蔽材が得られる。
本発明の電磁波遮蔽材はディスプレイ用フィルムに好適であり、基材側を視認側としたときのコントラストが良好で、視認性に優れたディスプレイ用フィルムが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
＜電磁波遮蔽材＞
図１は、本発明の電磁波遮蔽材の一実施形態を模式的に示した断面図である。図中符号１は基材、２は黒褐色無機層、３は金属層、４はメッシュ層、５は機能層をそれぞれ示す。メッシュ層４はメッシュ状の黒褐色無機層２とメッシュ状の金属層３の積層体からなっている。図中符号４ａはメッシュ層の開口部をそれぞれ示す。
図２は、本実施形態におけるメッシュ層４およびメッシュ層４の開口部４ａの平面形状を示した図であり、前記図１は図２中のＩ−Ｉ線に沿う断面図に相当する。
【００１１】
［基材］
基材１は透明な材料で構成される。視認性を妨げない範囲で着色していてもよい。基材１は可撓性を有することが好ましく、透明な樹脂フィルムまたは樹脂シートが好適に用いられる。基材１における可視光の透過率は８０％以上が好ましい。
基材１の材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡ（エチレン−酢酸ビニル共重合体）などのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、セルロース系樹脂などの樹脂が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレートが好ましい。
基材１は単層で構成されていてもよく、多層構造であってもよい。
基材１の厚さは特に限定されないが、例えば１２〜３００μｍ程度が好ましく、５０〜２００μｍ程度がより好ましい。基材１の厚さが上記範囲の下限値以上であれは、良好な取り扱い性が得られ、上記範囲の上限値以下とすることにより良好な可視光透過率を確保することができる。
【００１２】
［黒褐色無機層］
黒褐色無機層２は黒褐色の無機材料で構成される。ここでいう黒褐色は、Ｍａｃｂｅｔｈ印刷色用反射濃度計（ＲＤ９１８）により、付属の白色校正板を用いてゼロ校正して測定した時の値（以下、黒濃度という）が、０．６〜２．５の範囲であるものをいう。好ましくは該黒濃度の値が１．０〜２．０の範囲である。
黒褐色無機層２の材料の具体例としては、酸化銅、酸化銀、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化アルミニウム等が挙げられる。特に、黒褐色無機層２の材料として導電性を有する材料を用いると、金属層３を電気めっき法で形成することができるので好ましい。導電性を有する黒褐色無機層２の材料としては、酸化銅、酸化銀、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化アルミニウム等が挙げられる。中でも酸化銅が好ましい。
黒褐色無機層２の厚さは特に限定されないが、例えば０．００１〜１０μｍ程度が好ましく、０．１〜５μｍ程度がより好ましい。黒褐色無機層２の厚さを上記範囲の下限値以上とすることにより良好な電磁波遮蔽効果が得られ、上記範囲の上限値以下とすると生産性等の点で好ましい。
【００１３】
黒褐色無機層２には開口部が形成されてメッシュ状になっている。該開口部の平面形状や大きさは特に限定されず、良好な視認性が得られるように適宜設定することができる。
例えば開口部の平面形状としては、正多角形や、その他の多角形から選ばれる１種または２種以上が好ましく用いられる。本実施形態では図２に示すような正方形となっている。
黒褐色無機層２は、開口部の周囲のライン状の枠部に相当するが、この枠部（黒褐色無機層２）の幅は、好ましくは０．５〜２００μｍ程度、より好ましくは５〜１００μｍ程度とされる。枠部（黒褐色無機層２）の幅を上記範囲の下限値以上とすることにより十分な導電性が得られ、上記範囲の上限値以下とすると良好な視認性を得ることができる。
開口率は、特に制限されないが、好ましくは７０％以上、より好ましくは８５％以上である。これ以下であると視認性が低下する。
【００１４】
［金属層］
金属層３は、導電性を有する金属材料で構成される。具体例としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン等が挙げられる。これらを２種以上組み合わせた合金でもよい。これらの中でも、銅、金、銀が好ましい。特に黒褐色無機層２に酸化銅を用いる場合、金属層３を銅で構成することが好ましい。
金属層３も開口部が形成されてメッシュ状になっている。該開口部の平面形状や大きさについては、前記黒褐色無機層２の開口部と同様である。黒褐色無機層２の開口部と金属層３の開口部の形状および大きさは互いに等しいことが好ましい。
金属層３の厚さは特に限定されないが、例えば１〜２０μｍ程度が好ましく、２〜１０μｍ程度がより好ましい。金属層３の厚さを上記範囲の下限値以上とすることにより良好な電磁波遮蔽効果が得られ、上記範囲の上限値以下とすることにより、開口部の形成加工がし易くなり、広い視野角を確保することができる。
【００１５】
金属層３の表面、すなわち金属層３の上面３ｂ（黒褐色無機層２と密着している面に対向する面）および／または金属層３の開口部の内壁面に黒化処理が施されていることが好ましい。
金属層３の開口部の内壁面に黒化処理が施されていると、これによりメッシュ層４に対して基材１側を視認側とするときのコントラストが向上する。
金属層３の上面３ｂ、すなわちメッシュ層４の上面に黒化処理が施されていると、これにより基材１に対してメッシュ層４側を視認側とするときのコントラストが向上する。
金属層３の上面３ｂおよび金属層３の開口部の内壁面の両方に黒化処理が施されていると、メッシュ層４側を視認側とするときのコントラストがより向上する。
【００１６】
［機能層］
基材１、およびメッシュ層４（黒褐色無機層２および金属層３）の他に、必要に応じて各種の機能を付与するための機能層５を任意に設けてもよい。
例えば、基材１上に、メッシュ層４が設けられた状態では、基材１に対してメッシュ層４が設けられている側の表面が平坦でないので、光透過性の材料からなる平坦化層（機能層５）を設けることが好ましい。
該メッシュ層４が設けられている側の表面上に、さらに他のフィルムやシートを積層する場合は光透過性材料からなる接着層（機能層５）を設けることが好ましい。
あるいは、赤外吸収機能を有する層、紫外線吸収機能を有する層、反射防止機能を有する層、特定波長の光を選択的に吸収して色調を補正する機能を有する層、防汚機能を有する層、耐擦傷機能を有する層など、ディスプレイ用フィルムを構成する層として知られている各種の機能を有する層（機能層５）を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜設けることができる。機能層５は一層でもよく複数層が積層されていてもよい。また一層で複数の機能を兼ね備えた層を含んでもよい。
また図示していないが、基材１のメッシュ層４側とは反対側に、上記の機能層を設けてもよく、基材１の表裏両側に機能層を設けてもよい。
基材１に密着して設けられる機能層５は、基材１と屈折率が略等しい材料を用いて形成することが好ましい。
【００１７】
＜製造方法＞
本実施形態の電磁波遮蔽材は、好ましくは以下の方法で製造される。
まず、基材１上の全面に黒褐色無機層２を形成する。その形成方法は基材１上に黒褐色無機層２を密着させて形成できる方法であればよく、特に限定されないが、例えば蒸着法、化学反応蒸着法（ＣＶＤ法）、イオンプレーティング、またはスパッタリング法が好適である。２以上の方法を組み合わせることもできる。中でも、反応性スパッタリング法がより好ましい。
続いて、黒褐色無機層２の全面上に金属層３を形成する。その形成方法は黒褐色無機層２上に所望の膜厚の金属層３を密着させて形成できる方法であればよく、特に限定されないが、例えばメッキ法、蒸着法、化学反応蒸着法（ＣＶＤ法）、またはスパッタリング法が好適である。２以上の方法を組み合わせることもできる。中でもメッキ法は、金属層３の厚膜化が容易にできるのでより好ましい。
【００１８】
次いで、フォトリソグラフ法を用い、黒褐色無機層２および金属層３に対してエッチング処理を施してこれらの一部を除去することにより、黒褐色無機層２および金属層３をメッシュ状に加工する。すなわち黒褐色無機層２の開口部および金属層３の開口部を形成してメッシュ層４を形成する。好ましくは黒褐色無機層２および金属層３に対して一括的にエッチング処理を施して、黒褐色無機層２の開口部および金属層３の開口部を同時に形成する。
【００１９】
この後、金属層３に黒化処理を施すことが好ましい。
金属層３の黒化処理方法は特に制限されず、既知の手法を適宜用いることができる。例えば、酸化処理による方法を用いることができる。具体的には、金属層３を、酸化剤を含有する処理液に接触させることにより酸化処理する方法を用いることができる。この場合の酸化剤の例としては亜塩素酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、リン酸三ナトリウムから選ばれる１種以上を含有する水溶液等が挙げられる。
このように、黒褐色無機層２および金属層３をメッシュ状に加工した後に黒化処理を施すことにより、金属層３の露出している表面、すなわち金属層３の上面３ｂおよび開口部の内壁面を同時に黒化処理することができる。このとき、黒褐色無機層２の露出している表面、すなわち黒褐色無機層２の開口部の内壁面はすでに黒褐色であるので、さらに黒化処理する必要はないが、該黒褐色無機層２の表面が金属層３と同時に黒化処理されても差し支えない。
こうして基材１上にメッシュ層４が形成され、黒化処理が施された積層体は、このまま電磁波遮蔽材として用いることもできるが、メッシュ層４上に適宜の機能層５を設けたものを電磁波遮蔽材として用いることが好ましい。
【００２０】
尚、黒化処理は、金属層３を形成した後、黒褐色無機層２および金属層３をメッシュ状に加工する前に行うこともできる。この場合は、黒化処理後に、黒褐色無機層２および金属層３がメッシュ状に加工されるので、金属層３の上面３ｂのみが黒化処理され、金属層３の開口部の内壁面は黒化されていない状態となる。視認性の点からは金属層３の開口部の内壁面が黒化処理されている方が好ましいので、必要であれば、さらに金属層３の開口部の内壁面を黒化処理してもよい。
【００２１】
＜ディスプレイ用フィルム＞
本実施形態の電磁波遮蔽材は、該電磁波遮蔽材単独で、またはその他の必要に応じた部材が付加されて、ディスプレイ用フィルムを構成することができる。ディスプレイ用フィルムは、例えばプラズマディスプレイなどの画面上に接着一体化して使用される。
ディスプレイ用フィルムとして用いられる場合、画面側の最外層は接着機能を有する層であることが好ましい。また基材１に対してメッシュ層４が設けられている側を表面とすると、表面が画面側で裏面が視認側でもよく、その反対に表面が視認側で裏面が画面側であってもよい。特に、表面（メッシュ層４側）が画面側で、裏面（基材１側）が視認側となるように配した場合に、画面から発生する電磁波をより低減させることができるので好ましい。
【００２２】
本実施形態によれば、メッシュ層４のうち、最も基材１に近い部分が黒褐色無機層２からなっているので、これによりメッシュ層４に対して基材１側を視認側としたときのコントラストが向上し、良好な視認性が得られる。メッシュ層４に対して基材１側が視認側となるように配すると、基材１側が画面側である場合よりも、画面から発生する電磁波を低減させる効果が高いという利点も得られる。
また、メッシュ層４は、接着層を介さずに基材１上に直接形成されているので、従来のメッシュ層の開口部内において接着層の粗面が露出している構成に比べて、メッシュ層４の開口部４ａにおける光透過性が高く、視認性が良い。
また、黒化処理を行わない状態でも、基材１側を視認側としたときの良好な視認性が得られるので、黒化処理を省略して生産性を向上させることができる。
さらに、金属層３の表面に黒化処理を施して開口部の内壁面を黒化すると、基材１側を視認側としたときのコントラストがより向上し、さらに良好な視認性が得られる。またメッシュ層４の上面（金属層３の上面３ｂ）も黒化した場合には、メッシュ層４側を視認側としたときのコントラストが向上し、良好な視認性が得られる。
【実施例】
【００２３】
以下、本発明の実施例について具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
（実施例１）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムからなる基材１の一面上に、反応性スパッタリング法により酸化銅からなる黒褐色無機層２を形成した後、スパッタリング法により銅からなる金属層３を形成した。
具体的には、まず、スパッタリング装置の真空チャンバー内に基材１（ＰＥＴフィルム）を配置した。真空チャンバー内において、基材１に対向して銅からなる放電電極が設けられている。この放電電極（銅）はスパッタリングターゲットとしても機能する。
次いで、真空チャンバー内を１×１０−３Ｐａ以下まで排気した後、放電用およびスパッタ用ガスとしてのアルゴンガスを１００ｓｃｃｍの流量で導入し、圧力を０．３Ｐａにした。さらに反応ガスとしての酸素を１０ｓｃｃｍの流量で導入した後、高周波（１３．５６ＭＨｚ）を放電電極（スパッタリングターゲット）に印加して放電を発生させることにより、基材１上に厚さ約０．１μｍの酸化銅層（黒褐色無機層２）を形成した。この酸化銅層（黒褐色無機層２）の黒濃度の値は１．５であった。
この後、酸素の導入を止め、引き続き放電を行うことにより、前記で形成した酸化銅層（黒褐色無機層２）上に銅からなる金属層３を形成した。金属層３の厚さは、黒褐色無機層２と金属層３の膜厚の合計が５μｍとなるようにした。
【００２４】
次いで、金属層３の上面全面にドライレジストフィルムを貼り合わせることによりレジスト層を形成し、このレジスト層に対してマスクを介して露光した。露光量は１５０ｍＪ／ｃｍ２とした。露光後、濃度が１質量％のＮａ２ＣＯ３溶液からなる現像液で現像を行い、乾燥させることにより、金属層３上にレジストパターンを形成した。
次いで、該レジストパターンをマスクとして、金属層３および黒褐色無機層２を一括的にエッチング処理することにより、黒褐色無機層２の開口部および金属層３の開口部を同時に形成し、メッシュ層４を形成した。
上記エッチング処理では、具体的には、塩化第二鉄溶液（比重；１．５２、温度；４０℃、浸漬時間；約２分間）を用いてシャワーエッチングを行った後、水洗した。この後、濃度が１ｍｏｌ／リットルのＮａＯＨ溶液でレジストパターンを除去して、水洗、乾燥を行った。
【００２５】
この後、基材１上にメッシュ層４が形成された積層物全体を、酸化剤含有処理液に浸漬させることにより金属層３の表面を黒化処理した。
上記酸化剤含有処理液としては、亜塩素酸ナトリウム３０ｇ、水酸化ナトリウム１５ｇ、リン酸三ナトリウム１０ｇを１リットルの水に溶解した混合溶液を用いた。
次いで、メッシュ層４上に、下記組成の塗布液を塗布した後、乾燥させることにより機能層５を形成して、電磁波遮蔽材を得た。
塗布液の組成；熱可塑性ポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製、商品名；バイロン２００）を１００質量部、近赤外線吸収色素としてフタロシアニンを１．０質量部、色調補正剤を０．５質量部、溶剤としてトルエンを１００質量部含有する混合溶液。
【００２６】
（実施例２）
実施例１においては金属層３をスパッタリング法で形成したが、本実施例ではこれをメッキ法に変更して電磁波遮蔽材を製造した。
すなわち、実施例１と同様の基材１上に、実施例１と同様にして反応性スパッタリング法により厚さ約０．１μｍの酸化銅からなる黒褐色無機層２を形成した。
次いで、硫酸銅溶液を用いた電気メッキ法により、該黒褐色無機層２上に銅からなる金属層３を形成した。金属層３の厚さは、黒褐色無機層２と金属層３の膜厚の合計が５μｍとなるようにした。
次いで、実施例１と同様にして黒褐色無機層２と金属層３をエッチング処理してメッシュ層４を形成した後、金属層３の表面を黒化処理し、さらにメッシュ層４上に機能層５を形成して電磁波遮蔽材を得た。
【００２７】
（比較例１）
実施例１において、黒褐色無機層２を設けず、基材１上に厚さ５μｍの銅からなる金属層３を形成した他は同様にして電磁波遮蔽材を製造した。
すなわち、実施例１におけるスパッタリング法において、酸素を供給せずに放電を行うことによって、基材１上に直接、銅からなる金属層３を形成した。この後、実施例１と同様にして該金属層３をメッシュ状に加工し、黒化処理し、その上に機能層５を形成した。
【００２８】
（比較例２）
実施例２において、黒褐色無機層２に代えて、基材１上に厚さ約０．１μｍの銅からなる金属層３を用いた他は同様にして電磁波遮蔽材を製造した。
すなわち、実施例２では、まず基材１上に反応性スパッタリング法により黒褐色無機層２を形成したが、本実施例では、この際に酸素を供給せずにスパッタリングを行うことによって、基材１上に直接、銅からなる厚さ約０．１μｍの金属層３を形成した。
この後、実施例２と同様にしてメッキ法により金属層３を形成することにより、基材１上に、直接厚さ５μｍの金属層３が形成された積層物を得た。さらに実施例２と同様にして該金属層３をメッシュ状に加工し、黒化処理した後、その上に機能層５を形成した。
【００２９】
（比較例３）
比較例２において、金属層３の黒化処理を行わない他は同様にして電磁波遮蔽材を製造した。
【００３０】
（評価）
上記実施例および比較例で得られた電磁波遮蔽材について、
（１）メッシュ層に対して、基材側を視認側としたときのコントラストおよび視認性、
（２）基材に対して、メッシュ層側を視認側としたときのコントラストおよび視認性を評価した。
その場合のコントラスト評価は、実際に白色にしたディスプレイ表面に貼った場合と、黒色ディスプレイ面に貼った場合のコントラスト差を目視にて評価し、コントラストが高い（ハッキリ）している場合を○、コントラストが低い場合を×とした。
また、視認性については、電磁波遮蔽材の基材側をアクリル板に貼り、この積層体のアクリル板側を０．５ｍ離れた場所から目視して、黒褐色無機層２あるいは金属層３で形成されているメッシュ形状が認識できないものを○（良）、認識できるもの×（不良）として評価した。
これらの評価結果を下記表１に示す。
【００３１】
【表１】
2006140205.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の電磁波遮蔽材の一実施形態を模式的に示した断面図である。
【図２】本発明の電磁波遮蔽材の一実施形態を模式的に示した平面図である。
【符号の説明】
【００３３】
１…基材、２…黒褐色無機層、３…金属層、４…メッシュ層、
４ａ…メッシュ層の開口部。
【図１】
2006140205.tif 000004
【図２】
2006140205.tif 000005