(57)【要約】【課題】  透明性、電磁波シールド性、赤外線カット性のいずれもが優れる上に反射防止性にも優れた透明積層体、ディスプレイ用フィルタ、プラズマディスプレイを提供する。【解決手段】  透明基材と、酸化インジウムと酸化セリウムの複合酸化物からなる透明薄膜層と金属薄膜層とが交互に設けられ、金属薄膜層の数がｎ、透明薄膜層の数がｎ＋１（ただし、ｎは１以上の整数）であるシールド層とを有する透明積層体であって、該透明薄膜層の酸化セリウムの配合比が５〜５０ａｔ％の範囲内にあり、かつシールド層表面の面抵抗値が４Ω以下、可視光透過率が４０％以上かつ視感反射率が２％以下、８００ｎｍより長波長の領域の光線透過率が２０％以下であることを特徴とする透明積層体とするものである。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、酸化インジウムと酸化セリウムの複合酸化物からなる透明薄膜層と金属薄膜層とが交互に設けられ、金属薄膜層の数がｎ、透明薄膜層の数がｎ＋１（ただし、ｎは１以上の整数）であるシールド層とを有する透明積層体であって、該透明薄膜層の酸化セリウムの配合比が５〜５０ａｔ％の範囲内にあり、かつシールド層表面の面抵抗値が４Ω以下、可視光透過率が４０％以上かつ視感反射率が２％以下、８００ｎｍより長波長の領域の光線透過率が２０％以下であることを特徴とする透明積層体。
【請求項２】
金属薄膜層は、波長５５０ｎｍの光の屈折率が０．２以下、消衰係数が５．０以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明積層体。
【請求項３】
前記金属薄膜層が、銀−金−銅の合金からなり、該金の配合比が０．３〜１０ａｔ％の範囲、銅の配合比が０．３〜１０ａｔ％の範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の透明積層体。
【請求項４】
前記ｎが３であり、かつ各層の膜厚が、基材側から２０〜５０ｎｍ（透明薄膜層）、５〜２０ｎｍ（金属薄膜層）、４０〜１００ｎｍ（透明薄膜層）、５〜２０ｎｍ（金属薄膜層）、４０〜１００ｎｍ（透明薄膜層）、５〜２０ｎｍ（金属薄膜層）、２０〜５０ｎｍ（透明薄膜層）、であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項５】
シールド層中に保護層が設けられたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項６】
表面に防汚層が設けられたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項７】
防汚層とシールド層との間に保護層が設けられたことを特徴とする請求項６に記載の透明積層体。
【請求項８】
透明基材がアルカリ成分及び／又はハロゲン成分を１０ｐｐｍ以上含まないことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項９】
透明基材の片面に粘着層が設けられたことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項１０】
粘着層がアルカリ成分及び／又はハロゲン成分を１０ｐｐｍ以上含まないことを特徴とする請求項９に記載の透明積層体。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の透明積層体を具備することを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれかに記載の透明積層体又は請求項１１に記載のディスプレイ用フィルタを具備することを特徴とするプラズマディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイの前面板として使用される透明積層体、ディスプレイ用フィルタに関する。更には、プラズマディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大画面の薄型テレビ、薄型モニタなどの用途に適し、かつハイビジョン放送に対応可能なものとして、プラズマディスプレイが注目されている。このプラズマディスプレイは、その画像表示に放電現象を使用していることから、漏洩電磁界を発生することがあるが、近年、その漏洩電磁界が他の機器に影響を与える可能性があることが指摘されている。そのため、漏洩電磁界を所定の基準値以内に抑えることが求められている。
【０００３】
漏洩電磁界の基準値は、絶対値である放射電界強度（単位；ｄＢμＶ／ｍ）で示され、この放射電界強度について家庭用途ではＶＣＣＩのクラスＢの認定を、それ以外の用途ではクラスＡの認定を取得する必要がある。ここで、ＶＣＣＩクラスＢとは、測定距離１０ｍにおいて、３０〜２３０ＭＨｚの周波数範囲における放射電界強度が３０ｄＢμＶ／ｍ以下、２３０〜１０００ＭＨｚの周波数範囲における放射電界強度が３７ｄＢμＶ／ｍ以下のことである。また、クラスＡとは、測定距離１０ｍにおいて、３０〜２３０ＭＨｚの周波数範囲における放射電界強度が４０ｄＢμＶ／ｍ以下、２３０〜１０００ＭＨｚの周波数範囲における放射電界強度が４７ｄＢμＶ／ｍ以下のことである。
【０００４】
一般的に、プラズマディスプレイの放射電界強度は２０〜１００ＭＨｚ帯域内において、対角２０インチ型程度で４０ｄＢμＶ／ｍ、対角４０インチ型程度で５０ｄＢμＶ／ｍを越えるため、そのままで家庭用途に使用することはできない。
【０００５】
よって、例えば、プラズマディスプレイの放射電界強度が５０ｄＢμＶ／ｍである場合には、クラスＡ認定では１０ｄＢ以上、クラスＢ認定では２０ｄＢ以上のシールド効果を有する電磁波シールド体が必要となる。
【０００６】
ここで、シールド効果（ＳＥ）とは、電磁波エネルギーの減衰の程度を表す値（単位；ｄＢ）である。このシールド効果は、下記式（１）で表される相対評価であり、この数値が大きいほどシールド効果があるといえる。式中、Ｅｉは入射電界強度、Ｅｔは伝送電界強度つまりシールド体を透過した電磁波の電界強度を示し、いずれも単位はＶ／ｍである。
【０００７】
ＳＥ＝２０Ｌｏｇ（Ｅｉ／Ｅｔ）            （１）
また、プラズマディスプレイは、ガス種の励起に起因して強い近赤外線光を発し、その近赤外線光がテレビやビデオ等の赤外線リモートコントローラに作用して誤動作を引き起こすことがある。そのため、プラズマディスプレイでは、家庭用のビデオやテレビの赤外線リモートコントローラに使用されている８００〜１０００ｎｍの波長領域の光が漏洩しにくいことが求められる。
【０００８】
このように、プラズマディスプレイにおいては、それより放射される電磁波及び近赤外線の漏洩を抑制することが求められるため、そのディスプレイ前面には電磁波シールド性及び近赤外線カット性を有するフィルタが取り付けられている。このフィルタは、当然のことながら、可視光領域に対して透明性に優れていなければならない。
【０００９】
近赤外線をカットする方法としては、近赤外線吸収色素を含む近赤外吸収フィルタを設けることが知られているが、一般に、近赤外線吸収色素は、湿度、熱、光といった環境による劣化が生じるため、経時とともに近赤外線カット性やフィルタの色調といった光学特性の変化が生じるという問題があった。
【００１０】
また、プラズマディスプレイは、近赤外線を近赤外線波長領域の全域に渡って高い強度で発するため、広い波長領域に渡って近赤外線を吸収できる近赤外吸収フィルタを使用する必要がある。しかし、他の機器に影響を及ぼさない程度まで近赤外線の透過率を下げるためには、フィルタに含有させる色素の種類や量を増やさなければならず、それに伴う可視光線透過率の低下やコストの増加が問題になった。
【００１１】
漏洩電磁界（電磁波）をシールドする方法としては、導電性の高い物体で覆う方法が知られている。その方法では、一般的には金属メッシュ、又は金属繊維又は合成樹脂のメッシュに金属被覆したものが用いられる。しかし、これらでディスプレイを覆った場合には、プラズマディスプレイから発する光を透過しない部分の発生、モワレ縞の発生、歩留りの悪さによるコスト高などが問題になった。
【００１２】
そこで、金属薄膜やＩＴＯ等の酸化物半導体薄膜などの透明導電膜を電磁波シールド層に用いることが検討されている。
【００１３】
透明導電膜として金属薄膜を用いた場合には、導電性が高くなり、電磁波シールド性が高くなるものの、広い波長領域に渡って金属が光を反射又は吸収するため、可視光線透過率の高いものを得ることは難しかった。
【００１４】
透明導電膜として酸化物半導体薄膜を用いた場合には、金属薄膜を用いた場合に比べて透明性に優れるが、面抵抗が１０〜１０００Ωであり導電性に劣る上に、近赤外線の透過率が比較的高いという問題があった。更には、ＩＴＯからなる透明導電膜では、プラズマディスプレイが発する非常に高い強度の電磁波を遮蔽するほどに低抵抗なものは得られていないのが実情であった。
【００１５】
これらのことから、透明薄膜層と金属薄膜層とを交互に積層した多層薄膜を用いることが提案されている（例えば、特許文献１，２参照）。透明薄膜層と金属薄膜層とを交互に積層した多層薄膜では、銀などの金属薄膜層が導電性及び光学的特性を発揮し、透明薄膜層が特定波長領域における金属による光の反射を防止することで、導電性、近赤外線カット性、可視光線透過性のいずれもが優れる。
【特許文献１】特公平８−３２４３６号公報
【特許文献２】特開２０００−０３１６８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
しかしながら、特許文献１に記載のものは、プラズマディスプレイから発せられる強い電磁波、近赤外線を遮蔽するほどの性能を有しておらず、しかも、ディスプレイ用フィルタとしての用途が想定されていないため反射防止性が低かった。したがって、照明などの映り込みが問題となった。
【００１７】
また、特許文献２には、ディスプレイ用途に使用する積層体が開示されているが、この積層体は最表面に取り付けることが想定されておらず、積層体上には更に反射防止層が別途設けられる。そのため、積層体自身の反射光やコストが問題になった。
【００１８】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、透明性、電磁波シールド性、赤外線カット性のいずれもが優れる上に、反射防止性にも優れた透明積層体、ディスプレイ用フィルタ、プラズマディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
請求項１の発明は、透明基材と、酸化インジウムと酸化セリウムの複合酸化物からなる透明薄膜層と金属薄膜層とが交互に設けられ、金属薄膜層の数がｎ、透明薄膜層の数がｎ＋１（ただし、ｎは１以上の整数）であるシールド層とを有する透明積層体であって、該透明薄膜層の酸化セリウムの配合比が５〜５０ａｔ％の範囲内にあり、かつシールド層表面の面抵抗値が４Ω以下、可視光透過率が４０％以上かつ視感反射率が２％以下、８００ｎｍより長波長の領域の光線透過率が２０％以下であることを特徴とする透明積層体である。
【００２０】
請求項２の発明は、金属薄膜層は、波長５５０ｎｍの光の屈折率が０．２以下、消衰係数が５．０以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明積層体である。
【００２１】
請求項３の発明は、前記ｎが３であり、かつ各層の膜厚が、基材側から２０〜５０ｎｍ（透明薄膜層）、５〜２０ｎｍ（金属薄膜層）、４０〜１００ｎｍ（透明薄膜層）、５〜２０ｎｍ（金属薄膜層）、４０〜１００ｎｍ（透明薄膜層）、５〜２０ｎｍ（金属薄膜層）、２０〜５０ｎｍ（透明薄膜層）、であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明積層体である。
【００２２】
請求項４の発明は、金属薄膜層の数ｎが１であり、透明基材に近い方の透明薄膜層の波長５５０ｎｍの光における光学膜厚が、透明薄膜層の屈折率＞透明基材の屈折率の場合、４５〜９０ｎｍ、透明薄膜層の屈折率＜透明基材の屈折率の場合、１４０〜２７０ｎｍの範囲にあり、透明基材から遠い方の透明薄膜層の光学膜厚が４５〜９０ｎｍの範囲にあり、金属薄膜層の物理的膜厚が５〜２０ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明積層体である。
【００２３】
請求項５の発明は、シールド層中に保護層が設けられたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層体である。
【００２４】
請求項６の発明は、表面に防汚層が設けられたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の透明積層体である。
【００２５】
請求項７の発明は、防汚層とシールド層との間に保護層が設けられたことを特徴とする請求項６に記載の透明積層体である。
【００２６】
請求項８の発明は、透明基材がアルカリ成分及び／又はハロゲン成分を１０ｐｐｍ以上含まないことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の透明積層体である。
【００２７】
請求項９の発明は、透明基材の片面に粘着層が設けられたことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の透明積層体である。
【００２８】
請求項１０の発明は、粘着層がアルカリ成分及び／又はハロゲン成分を１０ｐｐｍ以上含まないことを特徴とする請求項９に記載の透明積層体である。
【００２９】
請求項１１の発明は、請求項１〜１０のいずれかに記載の透明積層体を具備することを特徴とするディスプレイ用フィルタである。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の透明積層体および本発明のディスプレイ用フィルタは、透明性、電磁波シールド性、赤外線カット性のいずれもが優れる上に、反射防止性にも優れる。よって、本発明の透明積層体および本発明のディスプレイ用フィルタを用いた場合には、反射防止層を別途設ける必要がない。
【００３１】
また、本発明のプラズマディスプレイは、反射防止層を設ける必要がないから、その分のコストを省くことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
本発明の一実施形態例について説明する。
【００３３】
図１に、本実施形態例の透明積層体の断面図を示す。この透明積層体１は、透明基材１
０と、透明基材１０の一方の面に接するハードコート層２０と、ハードコート層２０に接
する無機物層３０と、無機物層３０に接するシールド層４０と、シールド層４０に接する
防汚層５０と、透明基材１０の他方の面に接する粘着層６０とを有するものである。更に
、シールド層４０は、透明基材１０側から透明薄膜層４１ａと、保護層４２ａと、金属薄
膜層４３ａと、透明薄膜層４１ｂと、金属薄膜層４３ｂと、透明薄膜層４１ｃと、金属薄
膜層４３ｃと、透明薄膜層４１ｄと、金属薄膜層４３ｄと、保護層４２ｂと、透明薄膜層
４１ｅとが設けられたものである。
【００３４】
透明基材１０としては、ガラス、石英等の無機化合物成形物や透明な有機高分子成形物が挙げられるが、プラズマディスプレイ表面に貼付することを考慮すると、軽くて割れにくい上に柔軟性も有している有機高分子成形物が好ましい。なお、ここでいう成形物とは、表面が平滑であれば板（シート）状であってもよいしフィルム状であってもよい。
【００３５】
有機高分子成形物は可視波長領域において透明であればよく、その材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド等が挙げられる。
【００３６】
更に、有機高分子成形物を構成する有機高分子に、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が含まれていてもよい。
【００３７】
ただし、金属薄膜層の劣化防止の観点から、透明基材１０は、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ、および、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンのそれぞれを１０ｐｐｍ以上含まないことが好ましく、５ｐｐｍ以上含まないことがより好ましく、全く含まないのが特に好ましい。低アルカリ含量及び低ハロゲン含量の透明基材は市販されている。
【００３８】
有機高分子成形物の中でも、可撓性の高い有機高分子フィルムを用いることが好ましい。有機高分子フィルムを用いた場合には、透明導電層をロール・ツー・ロール法で連続的に形成することができるため製造効率が高く、長尺大面積の透明積層体を簡便に生産できる。しかも、得られる透明積層体もフィルム状になり、ディスプレイのガラスに貼り付けた場合にはガラス破損時の飛散防止効果を発揮する。
【００３９】
有機高分子フィルムの厚さは通常１０〜２５０μｍである。該フィルムの厚さが１０μｍ未満では、基材としての機械的強度が不足し、厚さが２５０μｍを超えると可撓性が不足するためフィルムをロールで巻き取って利用するのに適さない。
【００４０】
透明基材１０には、その表面に予めスパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理や、下塗り処理が施されていることが好ましい。透明基材１０の表面に前記処理が施されていれば、隣接する他の層に対する密着性を向上させることができる。
【００４１】
また、必要に応じて、透明基材１０は、表面に溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理が施されていてもよい。
【００４２】
ハードコート層２０は、透明基材１０表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、透明基材１０の屈曲によるシールド層４０のクラック発生を抑制して透明積層体１の機械的強度を高める層である。
【００４３】
ハードコート層２０は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合物からなる。多官能性モノマーとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピオネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。特に紫外線硬化型であるアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系や、有機珪素系の樹脂、熱硬化型のポリシロキサン樹脂等が好適である。前記多官能性モノマーは、１種類のみを使用してもよいし、２種類以上を併用してもよい。また、必要で有れば単官能モノマーが共重合していてもよい。
【００４４】
また、ハードコート層２０は、透明積層体１の透明性を確保するために、透明基材１０と屈折率が同等若しくは近似していることが好ましい。
【００４５】
ハードコート層２０の厚さは３〜２０μｍの範囲であれば充分な機械強度が発現するが、透明性、塗工精度、取り扱い性から、好ましくは５〜１５μｍの範囲である。
【００４６】
ハードコート層２０中には、平均粒径０．０１〜３μｍの無機物微粒子あるいは有機物微粒子を混合分散させてもよい。ハードコート層２０中にこれら微粒子を混合して表面を凹凸状にすることでアンチグレアと呼ばれる光拡散性処理を施すことができる。これらの微粒子は透明であれば特に限定されるものではないが、低屈折率材料が好ましく、特に安定性、耐熱性等に優れる点で、酸化珪素、フッ化マグネシウムが好ましい。中でも、中空の酸化珪素は屈折率が特に低いのでより好ましい。
【００４７】
また、ハードコート層２０中には屈折率調整剤として、酸化チタン粒子などを添加することができる。
【００４８】
ハードコート層２０は表面処理が施されていることが好ましい。表面処理が施されていることにより、隣接する他の層との密着性を向上させることができる。
【００４９】
ハードコート層２０の表面処理としては、例えば、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、蒸着法、スパッタリング法、アルカリ処理法、酸処理法、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられる。これらの中でも、アルカリ処理が好ましい。
【００５０】
アルカリ処理法に使用するアルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液、それらに更にアルコール等の各種有機溶媒を加えたアルカリ水溶液等が挙げられる。アルカリ処理の条件は、例えば、水酸化ナトリウム水溶液を用いた場合、０．１〜１０Ｎ、好ましくは１〜２Ｎの濃度の水溶液として使用するのがよい。また、アルカリ水溶液の温度は、０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃である。アルカリ処理の時間は、０．０１〜１０時間、好ましくは０．１〜１時間である。ただし、このようなアルカリ洗浄を行った場合にはアルカリ成分が残留しないように充分に洗浄する必要がある。
【００５１】
また、ハードコート層についても基材と同様、金属薄膜層の劣化防止の観点から、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ、および、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンのそれぞれを１０ｐｐｍ以上含まないことが好ましく、５ｐｐｍ以上含まないことがより好ましく、全く含まないのが特に好ましい。
【００５２】
無機物層３０は、ハードコート層２０とシールド層４０との密着力を増強させるための層である。無機物層３０の材質としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、金、銀、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金、酸化物等が挙げられる。無機物層３０の厚さは、透明性を損なわない程度の厚さであればよく、好ましくは０．２ｎｍ〜１０ｎｍ程度である。無機物層３０の厚さが薄すぎると密着力が充分に向上せず、厚すぎると透明性が損なわれる。
【００５３】
なお、無機物層３０に接するシールド層４０の透明薄膜層４１ａが酸化物である場合には、無機物層３０の金属の一部又は全部が金属酸化物に変質することがあるが、密着力向上の効果に問題はない。
【００５４】
シールド層４０における透明薄膜層４１ａ〜４１ｅは、可視光に対して透明性を有する層であって、金属薄膜層との屈折率差によって金属薄膜層における可視域の光線反射を防止する層である。
【００５５】
透明薄膜層４１ａ〜４１ｅを形成する材料としては、その厚みを薄くするため屈折率の高い材料であることが好ましく、また金属薄膜層の安定性を向上させるため、アモルファス（非晶質）構造をとる材料であることが好ましい。
【００５６】
このようなものとして、酸化インジウムと酸化セリウムを含む複合酸化物（ＩＣＯ：屈折率２．１〜２．３）が挙げられる。酸化インジウムと酸化セリウムの複合酸化物のうち、酸化セリウムの配合比は、５〜５０ａｔ％の範囲内である。なお、焼結などのために錫やチタンなどの元素を１％以下の割合で添加しても構わない。
【００５７】
酸化セリウムの配合比がこれより低い場合は、屈折率が低下し、かつ結晶質になるため、好ましくない。また、酸化セリウムの配合比がこれより多い場合は、導電性が低下し、導電性が低下し、ＤＣスパッタリングを用いた場合、安定した成膜ができなくなり、好ましくない。
【００５８】
透明薄膜層４１ａ〜４１ｅの形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等の従来公知の方法を採用できる。中でも生産性の高いＤＣスパッタリング法を用いることができ好ましい。
【００５９】
シールド層４０における金属薄膜層４３ａ〜４３ｄは金属からなる薄膜であるが、波長
５５０ｎｍの光の屈折率が０．２以下、消衰係数が５．０以下であることが好ましい。波
長５５０ｎｍの光の屈折率が０．２以下であれば透明性がより高くなり、消衰係数が５．
０以下であれば多層構成とした場合でも高い透明性を確保できる。また、金属薄膜層４３
ａ〜４３ｄ中の金属原子は、導電性等の観点から、集合状態が島状構造ではなく連続構造
であることが好ましい。
【００６０】
このような屈折率及び消衰係数にできる材料としては、銀と金と銅を含む化合物が挙げられる。銀は、導電性、赤外線反射性、多層積層した際の可視光線透過性に優れる。しかし、銀は、銀の化学的安定性及び物理的安定性を高め、環境中の汚染物質、水、酸素、アルカリ、ハロゲン、硫黄、熱、光等による劣化、凝集をするため、金や銅を添加することによって安定性向上が可能となる。
【００６１】
銀−金−銅化合物における金の含有率は、銀自体の導電性、光学特性を維持しつつ、安定性を向上させるため、０．３〜１０ａｔ％の範囲にすることが好ましい。また、銀−金−銅化合物における金の含有率は、銀自体の導電性、光学特性を維持しつつ、安定性を向上させるため、銅の配合比が０．３〜１０ａｔ％の範囲であることが好ましい。
【００６２】
金属薄膜層４３ａ〜４３ｄの形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００６３】
なお、金属薄膜層４３ａ〜４３ｄに隣接する透明薄膜層によって、金属薄膜層４３ａ〜４３ｄの金属の一部が金属酸化物に変質することがある。しかしながら、金属薄膜層４３ａ〜４３ｄにおけるこのような金属酸化物の領域は、非常に薄いため光学設計及び成膜上において問題にはならない。
【００６４】
シールド層４０において、透明薄膜層４１ａ〜４１ｅおよび金属薄膜層４３ａ〜４３ｄの厚さは、以下の通りに特定される。なお、以下に記載の光学膜厚とは、（屈折率）×（物理的膜厚）で表される厚さのことである。
【００６５】
透明基材１０に最も近い透明薄膜層４１ａの波長５５０ｎｍの光における光学膜厚は、
（可視光の中心波長５５０ｎｍ／８）±３０％程度、すなわち、４０〜９５ｎｍの範囲にある。
【００６６】
なお、上記範囲に５５０ｎｍ／２（２７５ｎｍ）を加えた範囲でも上記範囲にしたときと同じ効果を発揮することがある。
【００６７】
また、透明基材１０から最も遠い透明薄膜層４１ｅの光学膜厚は、（可視光の中心波長５５０ｎｍ／８）±３０％程度、すなわち、４０〜９５ｎｍの範囲にあり、その他の各透明薄膜層４１ｂ，４１ｃ，４１ｄの光学膜厚は、（可視光の中心波長５５０ｎｍ／４）±３０％程度、すなわち、９５〜１８５ｎｍの範囲にある。
【００６８】
更に、各金属薄膜層４３ａ〜４３ｄの物理的膜厚は５〜２０ｎｍ、金属薄膜層の合計の物理的膜厚は２０〜７０ｎｍ、好ましくは３５〜５５ｎｍの範囲にある。
【００６９】
金属薄膜層及び透明薄膜層が前記範囲にあることで、反射防止性を発揮する上に、電磁波シールド性、赤外線カット性、透明性を確保できる。
【００７０】
保護層４２ａ，４２ｂの材質としては、例えば、シリコン、クロム、金、アンチモン、銅、白金、チタン、パラジウム、ビスマス等の金属材料や酸化珪素、酸化チタン等の酸化物、窒化珪素、窒化チタン等の窒化物及びこれらの組み合わせ等が挙げられる。
【００７１】
保護層４２ａ，４２ｂの厚さは、透明性を損なわない程度の厚さであればよく、好ましくは０．２ｎｍ〜１０ｎｍ程度である。
【００７２】
このような保護層４２ａ，４２ｂを設けることにより、透明薄膜層と金属薄膜層との界面への酸素、水、アルカリ、ハロゲンなどの侵入を遮断して金属薄膜層の劣化を抑えることができる。また、保護層４２ａ，４２ｂにより、透明薄膜層の成膜時における金属薄膜層の劣化を抑えることもできる。
【００７３】
防汚層５０は、撥水性、撥油性、低摩擦性を有する層であり、透明積層体１の表面に設けられる層である。防汚層５０の材質としては、例えば、ケイ素酸化物、フッ素含有ケイ素化合物、フルオロアルキルシラザン、フルオロアルキルシラン、フッ素含有シラン化合物、パーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤等が使用される。
【００７４】
プラズマディスプレイ表面には、防汚性、耐擦傷性を高めるために強化ガラスを取り付けていたが、映り込みの原因となるために近年では取り付けない傾向にある。強化ガラスを取り付けない場合には、本実施形態例のような防汚層５０を有する透明積層体は好適である。
【００７５】
粘着層６０の材質は、波長５００〜６００ｎｍの光の屈折率が１．４５〜１．７程度、消光係数がほぼ０のものであって、粘着性を有するものである。そのようなものとしては、例えば、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等が挙げられる。
【００７６】
粘着層６０に含まれるナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリや、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンは金属薄膜層の劣化の原因になりうる。そのため、粘着剤層６０は、アルカリおよびハロゲンのそれぞれを１０ｐｐｍ以上含まないことが好ましく、５ｐｐｍ以上含まないことがより好ましく、全く含まないのが特に好ましい。
【００７７】
上記構成の透明積層体１は、シールド層表面の面抵抗値が４Ω以下、好ましくは２Ω以下、更に好ましくは１．５Ω以下である。このような高い導電性を有していれば、充分な電磁波シールド性を高くできる。
【００７８】
ここで、シールド層４０表面とは、本実施形態例では、無機物層３０又は防汚層５０に接するシールド層４０の面のことであり、この面を導電面ということもある。また、面抵抗値は、四端子四探針法抵抗率計ロレスタＧＰ（ダイアインスツルメンツ製）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１９４に準拠した手法により測定された値である。
【００７９】
透明積層体１の可視光透過率は４０％以上、好ましくは６０％以上、更に好ましくは７０％以上である。可視光透過率が４０％以上であることで、この透明積層体１をディスプレイに取り付けた際に画像の鮮明さを低下させない。
【００８０】
また、透明積層体１の視感反射率が２％以下、好ましくは１．５％以下、より好ましくは１．０％以下である。このような反射率であれば反射防止性が充分に高いといえるので、反射防止層を別途設けなくてもディスプレイへの照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなることを防止する。
【００８１】
なお、本発明における可視光線透過率、視感反射率とは、透過率及び反射率の波長依存性から、ＪＩＳ  Ｒ−３１０６に従って計算された値である。
【００８２】
透明積層体１は、８００ｎｍより長波長の領域における光線透過率が２０％以下である。このように８００ｎｍより長波長の領域における光線透過率が２０％以下であることで、プラズマディスプレイが８００〜１０００ｎｍの波長領域の全域に渡って近赤外線を発しても実用上問題とならない程度にカットできる。ここで、８００ｎｍより長波長の領域における光線透過率は、分光光度計Ｕ−４０００（日立ハイテクノロジー製）を用い、波長８００〜１０００ｎｍの範囲で測定された値である。なお、波長範囲以外はＪＩＳ  Ｒ１６２５に準拠した。
【００８３】
上記光線透過率にするために、透明積層体１に近赤外線吸収色素を含有させてもよく、透明積層体１に近赤外線吸収色素を含有させた場合には、シールド層４０の近赤外線カット性が要求性能より低くてもよい。ただし、近赤外線吸収色素の含有量が多すぎる場合には、可視光透過率の減少を招く。
【００８４】
なお、近赤外線をカットする方法としては、金属の自由電子による反射を利用する方法も考えられるが、金属薄膜層を厚くすると可視光透過率が低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなるので実用的ではない。
【００８５】
以上説明した透明積層体は、金属薄膜層と透明薄膜層とが交互に設けられたシールド層を有し、シールド層表面の面抵抗値が４Ω以下になっており、導電性が高く、電磁波を充分に吸収できるので、電磁波シールド性が高い。また、シールド層によって近赤外線吸収色素を用いなくても近赤外線を全域に渡って吸収するので近赤外線カット性を確保できる。更に、高い電磁波シールド性及び近赤外線カット性を有しているにもかかわらず、各金属薄膜層及び金属薄膜層の合計の膜厚が薄く、さらに近赤外線吸収色素を用いていないので、可視光透過率が４０％以上になっており、透明性が高い。
【００８６】
しかも、シールド層においては、透明薄膜層および金属薄膜層が特定の膜厚になっているために、電磁波シールド性や近赤外線カット性だけでなく、反射防止性をも発揮する。      
【００８７】
なお、本発明は、上述した実施形態例に限定されない。上述した実施形態例では、ハードコート層、無機物層、粘着層が設けられていたが、これらは必須のものではない。
【００８８】
また、上述した実施形態例では、金属薄膜層の数ｎが４（透明薄膜層の数が５）であったが、４以外であってもよい。
【００８９】
ただし、金属薄膜層の数ｎは１〜８であることが好ましく、更に３〜５であることがより好ましい。ｎが２以下であると、近赤外線カット性、反射防止性、電磁波シールド性を同時に確保することが難しくなり、ｎが６以上であると生産装置の制限、生産性の問題が大きくなり、また、可視光線透過性が低くなることがある。
【００９０】
透明薄膜層は金属薄膜層より必ず１つ多く、かつ、透明薄膜層と金属薄膜層は交互に設けられるから、他の実施形態例においてもシールド層の両側の表層には透明薄膜層が必ず位置する。
【００９１】
また、中でも前記ｎが３であり、かつ各層の膜厚が、物理膜厚で示すと、基材側から２０〜５０ｎｍ（透明薄膜層）、５〜２０ｎｍ（金属薄膜層）、４０〜１００ｎｍ（透明薄膜層）、５〜２０ｎｍ（金属薄膜層）、４０〜１００ｎｍ（透明薄膜層）、５〜２０ｎｍ（金属薄膜層）、２０〜５０ｎｍ（透明薄膜層）、であると特に、近赤外線カット性、反射防止性、電磁波シールド性を同時に確保する点で好ましい。
【００９２】
図２には、他の実施形態例のうち、金属薄膜層の数ｎが１であり、ハードコート層、無機物層、防汚層、粘着層が設けられていない最も単純な構成の透明積層体を示す。この透明積層体２は、透明基材１０とシールド層４０とを有し、シールド層４０が、透明薄膜層４５ａと金属薄膜層４６と透明薄膜層４５ｂとからなるものである。
【００９３】
この透明積層体２において、透明基材１０に近い方の透明薄膜層４５ａの波長５５０ｎｍの光における光学膜厚は、
（可視光の中心波長５５０ｎｍ／８）±３０％程度、すなわち、４０〜９５ｎｍ７０ｎｍの範囲にある。
【００９４】
なお、上記範囲に５５０ｎｍ／２（２７５ｎｍ）を加えた範囲でも上記範囲にしたときと同じ効果を発揮することがある。
【００９５】
また、透明基材１０から遠い方の透明薄膜層４５ｂの光学膜厚が、（可視光の中心波長５５０ｎｍ／８）±３０％程度、すなわち、４０〜９５ｎｍの範囲にあり、金属薄膜層４６の物理的膜厚が５〜２０ｎｍの範囲にある。
【００９６】
また、上述した実施形態例では、図１に示すように、透明基材１０に最も近い透明薄膜層４１ａと金属薄膜層４３ａとの間、透明基材１０から最も遠い透明薄膜層４１ｅと金属薄膜層４３ｄとの間に保護層４２ａ，４２ｂが設けられていたが、本発明では、いずれか一方のみに設けられていてもよいし、全ての透明薄膜層と金属薄膜層との間に設けられていてもよい。
【００９７】
さらには、防汚層とシールド層との間に保護層が設けられていてもよい。この場合の保護層は、シールド層全体を保護するものになる。
【００９８】
本発明のディスプレイ用フィルタは、上記透明積層体に、他の層を設けたものである。
他の層としては、防眩性を確保するアンチグレア層、ニュートンリングの発生を抑制するアンチニュートンリング層などが挙げられる。これら他の層は周知の方法で形成できる。
【００９９】
また、本発明のプラズマディスプレイは、上記透明積層体又は上記ディスプレイ用フィルタを具備するものである。プラズマディスプレイに上記透明積層体又は上記ディスプレイ用フィルタが備えられることによって、電磁波シールド性、赤外線カット性を付与できる上に、反射防止性を付与できるので、別途反射防止層を設ける必要がなく、コストダウンが可能になる。
【実施例】
【０１００】
ポリエチレンテレフタレート基材（透明基材）上に、アルカリ成分及びハロゲン成分を全く含まないトリエチレングリコール（メタ）アクリレートの重合物からなるハードコート層を設け、その上に、ＤＣスパッタリング法により、酸化インジウムと酸化セリウムからなる透明薄膜層（以下ＩＣＯと略す）：３９．５ｎｍ、銀−金−銅合金層からなる金属薄膜層（以下ＡｇＡｕＣｕと略す）：７．２ｎｍ、ＩＣＯ層：７６．８ｎｍ、ＡｇＡｕＣｕ層：９．３ｎｍ、ＩＣＯ層：７２．８ｎｍ、ＡｇＡｕＣｕ層：１０．２ｎｍ、ＩＣＯ層：７５．８ｎｍ、ＡｇＡｕＣｕ層：１１．８ｎｍ、ＩＣＯ層：３７．６ｎｍ（各膜厚は物理的膜厚）の順に成膜し、最表面に、フルオロアルキルシラザンからなる防汚層を設けて透明積層体を得た。
【０１０１】
この透明積層体の面抵抗値、可視光（波長５００ｎｍ）の透過率、視感反射率、近赤外線（波長８５０ｎｍ）における透過率を測定したところ、可視光透過率６５．８％、視感反射率０．２６％、近赤外線透過率４．２％であり、反射防止能、可視光透過性（透明性）、近赤外線カット性の全てを満足していることを確認した。また、面抵抗値が１．８Ωであり、１ＧＨｚにおけるシールド効果が３５ｄＢ以上と充分な電磁波シールド性を有していることも確認できた。
【産業上の利用可能性】
【０１０２】
本発明の透明積層体は、プラズマディスプレイに限らず、透明性、反射防止性、電磁波シールド性、赤外線カット性のいずれもが要求されるものに対して好適に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】本発明に係る一実施形態例の透明積層体を示す断面図である。
【図２】本発明に係る他の実施形態例の透明積層体を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１０４】
１，２    透明積層体
１０    透明基材
４０    シールド層
４１ａ〜４１ｅ，４５ａ，４５ｂ    透明薄膜層
４２ａ，４２ｂ    保護層
４３ａ〜４３ｄ，４６    金属薄膜層
５０    防汚層
６０    粘着層
【図１】
2006066774.tif 000003
【図２】
2006066774.tif 000004