(57)【要約】【課題】高度な洗浄性と共に残留しにくい、 ＬＣＤ 製造工程等において基板表面の有機もしくは無機薄膜を成膜後の洗浄に使用する洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】  アミノカルボン酸アンモニュウム塩を一種又は二種とアルコール又はポリオキシアルキレンアルキルエーテル及び、水を組成物とする水系洗浄剤であって、基板表面に有機もしくは無機薄膜を成膜した後の表面を洗浄処理するための洗浄剤組成物。【特許請求の範囲】
【請求項１】
LCD基板表面に有機もしくは無機薄膜を成膜した配向膜表面にRubbingを施した表面を洗浄処理するための洗浄剤組成物であって、アミノカルボン酸アンモニュウム塩を一種又は二種以上含むことを特徴とする洗浄剤組成物。
【請求項２】
LCD基板表面に成膜したカラ−フィルター、ブラックマトリックス及びオーバーコート表面を洗浄処理するための洗浄剤組成物であって、アミノカルボン酸アンモニュウム塩を一種又は二種以上含むことを特徴とする洗浄剤組成物。
【請求項３】
LCD基板表面に有機もしくは無機薄膜を成膜した表面を洗浄処理するための洗浄剤組成物であって、下記成分Aの一般式（１）〜（６）で表わされる化合物から選択されるアミノカルボン酸アンモニュウム塩を一種又は二種以上及び水を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。
【化１】
2006306993.tif 000003
【請求項４】
上記成分Aの一般式（１）〜（６）で表わされる化合物から選ばれるアミノカルボン酸アンモニュウム塩を一種又は二種以上含み、かつ成分Bの一般式（７）〜（１０）で表される化合物から選択されるアルコール又はポリオキシアルキレンアルキルエーテルを一種又は二種以上含む洗浄剤組成物。
【化２】
2006306993.tif 000004
【請求項５】
上記成分Aの一般式（１）〜（６）で表わされる化合物から選択されるアミノカルボン酸アンモニュウム塩を０．０１（％）〜１００（％）の濃度範囲で用いることを特徴とする請求項３記載の洗浄剤組成物。
【請求項６】
上記成分Ａと成分Bを混合した水溶液の成分Ｂは、０．０１（％）〜５０（％）の濃度範囲で用いることを特徴とする請求項４記載の洗浄剤組成物。
【請求項７】
請求項３又は請求項４記載の洗浄剤組成物を５００倍以下に希釈した水溶液として用いることを特徴とする洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、 ＬＣＤ 製造工程等で、基板表面に有機もしくは無機薄膜を成膜した後に前記基板表面を洗浄処理するのに有効な精密洗浄用の洗浄剤組成物ならびに該洗浄剤を用いた洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ 製造工程等において基板上にコートされたポリイミドなどの高分子膜は、液晶配向のためラビング処理される。ラビング後のポリイミド表面にはポリイミド片、ラビング布片、人体剥離片、イオンおよびその溶出油脂等が残留しているため精密洗浄が必要である。従来はＩＰＡ等の溶剤洗浄、純水および非イオン界面活性剤を用いた洗浄を行っていた。しかしながら、溶剤洗浄ではそれぞれ環境負荷、引火性に問題がある。また、純水では十分な洗浄性が得られないし、非イオン界面活性剤を添加するとポリイミド膜表面への残留が歩留まりを低下させるという弊害がある。現在、更なる歩留まり向上のために残留しにくく、且つ粒子、イオン等の洗浄性が高い界面活性剤の要求が高まってきている。 また、カラ−フィルター、ブラックマトリックス及びオーバーコート成膜後の表面洗浄では、アルカリイオン等を除去する要求が高まってきている。
【０００３】
例えば、特開平３−６２０１８号公報によると純水で超音波洗浄することにより洗浄を行うと共に安定したプレチルト角を得る方法が提案されているが、その洗浄性については近年の要求清浄度に追随出来ていない。
【特許文献１】特開平３−６２０１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、高度な洗浄性と共に残留しにくい性能を有し、 ＬＣＤ 製造工程等において基板表面に有機もしくは無機薄膜を成膜した後に、前記基板表面を洗浄処理する洗浄剤組成物であって、液晶、半導体及びその周辺部品等の歩留まりを向上させる洗浄剤を提供することを目的とする。現在、更なる歩留まり向上のために残留しにくく、且つ粒子、イオン等の洗浄性が高い界面活性剤の要求が高まってきている。 また、カラ−フィルター、ブラックマトリックス及びオーバーコート成膜後の表面洗浄では、アルカリイオン等を除去する要求が高まってきている。本発明は前記洗浄剤組成物を用いた、残留性の低い高度な洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、アミノカルボン酸塩と、アルコール又は、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルのノニオン化合物の併用物で上記課題を解決できるとの知見に基づいてなされたのである。
【０００６】
上記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含有することを特徴とする洗浄剤組成物を提供する。更に、本発明は、前記洗浄剤組成物を所定の濃度に希釈した後、基板表面を洗浄する方法を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の洗浄剤組成物はその優れた洗浄性により洗浄性能が飛躍的に改善され、粒子、イオン残留による歩留まりの低下を抑えることが可能で液晶配向膜表面に使用した場合に効果が現れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明で（Ａ）成分として用いられる一般式（１）〜(６)は、アンモニウム塩構造をとる。アミノカルボン酸酸、及びアミノカルボン酸アンモニウム塩として、それぞれ単独又は2種以上の混合物として用いることができる。
また、一般式（７）のアルコールは炭素数１〜４のアルコールが用いられ、一般式（８）のポリオキシアルキレンアルキルエーテル付加物が用いられる。一般式（９）及び（１０）は分岐鎖を持つ分子構造を好適に用いる。
【０００９】
一般式（１）〜（６）で表される化合物から一種類又は、二種以上選択しても構わないし、一般式（７）〜（１０）の化合物から二種以上選択しても構わない。また、（A）成分及び（B）成分を任の割合で配合することができる。
【００１０】
洗浄に際しては、この洗浄剤組成物を水で 希釈して用い、有機もしくは無機薄膜を成膜した後の基板表面を該洗浄液中に浸漬させて洗浄するが、超音波を作用させて洗浄処理することより洗浄効果が良好となる。洗浄後はイオン交換水で基板表面を清浄化する。また、被洗浄物の乾燥にはホットプレート、熱風、IR（赤外線）などの熱源を与え、５０℃〜２００℃の範囲で乾燥させる。
本発明の洗浄剤組成物は、金属不純物ができる限り少ないことが望ましく、金属不純物は１ｐｐｍ以下（Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｇ，Ａｌ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｐｂ等）であることが好ましい。
【実施例】
【００１１】
評価は以下の方法で行い、その結果を表−１に示した。（１）洗浄性評価基板として、 ポリイミド膜を形成したＬＣＤ ガラス板を水道水で洗浄し、粒子、イオンを付着させた物をテストピースとした。
トリカルボン酸アンモニュウム塩及び（A）成分から選択した材料に（B）成分から選ばれた１種類の材料を混合して洗浄液を作成した。２５℃に調製した洗浄液中に上記テストピースを浸漬して１分間超音波洗浄を行い、更に１分間イオン交換水の流水でリンスを行った。 上記テストピースの洗浄性を以下の方法にて評価した。
濡れ性による汚垢洗浄性評価
表面の濡れ性より下記の基準で評価した。
A：十分洗浄されており、テストピース面全体が水に濡れている。
B：一部洗浄不良をおこしており、テストピース面の一部が撥水をしている。
C：一部しか洗浄されておらず、テストピース面のほとんどが撥水をしている。
D：洗浄されておらず、テストピース面全体が撥水をしている。
粒子状汚垢
顕微鏡によリ粒子状汚垢洗浄性を評価した。
A：顕微鏡でダストを確認できない。
B：１ｃｍ 2 当たり数個の粒子が確認できる。
C：半分程度の粒子が確認できる。
D：初期状態と同程度の粒子が確認出来る。
表面イオン除去性評価
Naイオンの変化割合を求め、０〜１００％の範囲で除去率を評価した。
腐食性評価
Al基板を２５℃の条件で２４時間浸漬して腐食性を確認した。
A：腐食は認められない。
B：やや光沢を失う。
C：黒く変色する。
【００１２】
【表１】
2006306993.tif 000002
（洗浄試験結果）による濡れ性試験の結果はNTA・３（NH4）,EDTA・Ｈ・３（NH4）, EDTA・4（NH4）が良い濡れ性を示した。粒子状汚垢はEDTA・Ｈ・３（NH4）, EDTA・4（NH4）が良い結果を示した。Ion除去率はEDTA・Ｈ・３（NH4）, EDTA・4（NH4）で良い結果が得られた。腐食性に至ってはNTA・３（NH4）,EDTA・Ｈ・３（NH4）, EDTA・4（NH4）でよい結果が得られた。