(57)【要約】【課題】  ミスト状となった洗浄液の外部への漏れを防止でき、しかも、外部からのパーティクルの浸入を招くことがない基板処理装置を提供する。【解決手段】  回転軸４と一体的に回転するファン９を回転軸４に取り付け、カバー５の外側であって貫通孔５ａ近傍における気流を、回転軸４の延びる方向に直交する方向であって、回転軸４の周囲方向に向かう方向に発生させる。これにより、カバー５の外側の貫通孔５ａ近傍に存在するミスト状の洗浄液を、ケーシング６内壁に沿わせて案内し、ミスト状の洗浄液がケーシング６の貫通孔６ａから外部に漏れることを防止する。また、外部からカバー５の貫通孔５ａに向かって浸入しようとする空気も、回転軸４の周囲方向に向けて案内して、カバー５内へのパーティクル浸入を防止する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に回転体を作用させて基板を処理する基板処理装置であって、
前記回転体の駆動源に連結される前記回転体の回転軸と、
前記回転体及び当該回転体による処理中の基板が内部に配置され、前記回転軸が貫通する貫通孔を有するカバー部材と、
前記回転軸と一体的に回転駆動され、前記カバー部材の外側における前記貫通孔近傍の気流を、前記回転軸の延びる方向に直交する方向であって、前記回転軸の周囲方向に向かう方向に発生させる気流発生部材と
を備えた基板処理装置。
【請求項２】
前記カバー部材から突出された前記回転軸を貫通させる貫通孔が設けられ、前記カバー部材を覆うケース部材を備え、
前記気流発生部材は、前記ケース部材の内側であって、前記ケース部材の貫通孔近傍に配設され、前記ケース部材の内壁に沿って流れる気流を発生させる請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記カバー部材から突出された前記回転軸を貫通させる貫通孔が設けられ、前記カバー部材を覆うケース部材を備え、
前記気流発生部材は、前記ケース部材の外側に配設され、前記ケース部材の貫通孔近傍における気流を前記ケース部材の外壁に沿って発生させる請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記気流発生部材は、前記回転軸の外周に直交する姿勢で当該外周面に取り付けられる環状部材と、前記回転軸の長さ方向に延びる形状とされると共に、前記環状部材に直交させて取り付けられ、前記回転軸の延びる方向に直交する方向であって、前記回転軸からその周囲方向に向かう空気流を発生させる羽根部材とを備える請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記回転体及び基板が傾斜姿勢とされた請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板及びＰＤＰ（プラズマディスプレイ）用ガラス基板などの各種基板に対して処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ガラス基板等の基板に塵埃などの異物が付着すると、製造工程において液晶分子の配向ムラやシール不良等が発生するため、従来から、液晶表示板の各製造工程の前後で必要に応じて液晶ガラス基板を洗浄するようにしている。この基板洗浄は、基板にシャワー室で洗浄液を吹き付けた後、ブラシ洗浄室において回転ブラシで払拭洗浄し、液切り室で液晶ガラス基板に付着した処理液の液切りを行うようになっている。
【０００３】
このような基板洗浄では、ブラシ洗浄室において、回転ブラシの駆動部（モータ等）は洗浄槽の外部に配設されており、ブラシ回転軸は洗浄槽に設けられた貫通孔から洗浄槽の外部に出され、上記駆動部に連結されているが、ブラシ回転軸を伝って洗浄液が洗浄槽から外部に漏れることを防止するために、例えば、特許文献１に示されるブラシ洗浄装置のように、洗浄槽に設けられた貫通孔の近傍において、回転軸に水切り円板を取り付け、この水切り円板によって、外部への洗浄液の漏れの防止を図っている。
【特許文献１】実用新案登録公報第２６０１６６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のブラシ洗浄装置では、ブラシ回転軸を伝って外部へ流れ出す洗浄液を水切り円板で食い止めることはできるが、洗浄槽内でミスト状となった洗浄液が外部に漏れることまでは防止できない。ここで、ミスト状の洗浄液の外部への漏れを防止する方法として、洗浄槽内から外部への排気量を大きくして、洗浄槽に設けられた上記貫通孔を通して外部から洗浄槽内に向かう気流を作ることが考えられるが、洗浄槽内から外部への排気量を大きくするには、用力コストが高くなるという問題がある。また、このように洗浄槽の貫通孔から洗浄槽内に向かう気流を作ると、外部から洗浄槽内へのパーティクルの浸入を招くことになるため、基板製造の歩留まりが低下する虞がある。
【０００５】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、ミスト状となった洗浄液の外部への漏れを防止でき、しかも、外部からのパーティクルの浸入を招くことがない基板処理装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の請求項１に記載の発明は、基板の表面に回転体を作用させて基板を処理する基板処理装置であって、
前記回転体の駆動源に連結される前記回転体の回転軸と、
前記回転体及び当該回転体による処理中の基板が内部に配置され、前記回転軸が貫通する貫通孔を有するカバー部材と、
前記回転軸と一体的に回転駆動され、前記カバー部材の外側における前記貫通孔近傍の気流を、前記回転軸の延びる方向に直交する方向であって、前記回転軸の周囲方向に向かう方向に発生させる気流発生部材と
を備えたものである。
【０００７】
この構成では、気流発生部材が回転軸と一体的に回転し、カバー部材の外側であって貫通孔近傍における気流を、回転軸の延びる方向に直交する方向であって、回転軸の周囲方向に向かう方向に発生させるので、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、カバー部材外側の貫通孔近傍に存在するミスト状の洗浄液を、回転軸の延びる方向に直交する方向であって、回転軸の周囲方向に向かう方向へ案内することができ、ミスト状の洗浄液が気流発生部材よりも外側に漏れることを防止できる。また、気流発生部材によって発生される上記気流によって、外部からカバー部材の貫通孔に向かって流入しようとする空気も、上記回転軸の周囲方向に向けて案内することができるので、気流発生部材よりも内側（カバー部材側）にパーティクルが浸入することを防止できる。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置であって、前記カバー部材から突出された前記回転軸を貫通させる貫通孔が設けられ、前記カバー部材を覆うケース部材を備え、
前記気流発生部材は、前記ケース部材の内側であって、前記ケース部材の貫通孔近傍に配設され、前記ケース部材の内壁に沿って流れる気流を発生させるものである。
【０００９】
この構成では、気流発生部材がケース部材の内側で回転軸と一体的に回転し、カバー部材の貫通孔から出てくる空気を、ケース部材の内壁に沿って案内する気流を発生させるので、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、カバー部材の内側から貫通孔を通って漏れてくるミスト状の洗浄液を、ケース部材の内壁に沿わせて案内して、ミスト状の洗浄液がケース部材の貫通孔から外部に漏れることを防止できる。また、気流発生部材によってケース部材の内壁に沿って発生される上記気流によって、ケース部材の外部から浸入してくるパーティクルも、ケース部材の内壁に沿わせて案内できるので、ケース部材の貫通孔からケース部材の内部にパーティクルが浸入することを防止できる。
【００１０】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置であって、前記カバー部材から突出された前記回転軸を貫通させる貫通孔が設けられ、前記カバー部材を覆うケース部材を備え、
前記気流発生部材は、前記ケース部材の外側に配設され、前記ケース部材の貫通孔近傍における気流を前記ケース部材の外壁に沿って発生させるものである。
【００１１】
この構成では、気流発生部材がケース部材の外側で回転軸と一体的に回転し、ケース部材の貫通孔近傍における気流をケース部材の外壁に沿って発生させるので、ケース部材の外側における貫通孔近傍において、ケース部材の外壁に沿ったエアカーテンが生成される。そのため、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、このエアカーテンにより、ケース部材の貫通孔を通ってケース部材の外部に向かおうとするミスト状の洗浄液の流れを食い止めることができる。また、上記エアカーテンによって、ケース部材の貫通孔を通って外部からケース部材内に向かおうとする空気を、ケース部材の外壁に沿って案内することによって、当該空気がケース部材内部に入り込む量を低減できるので、この空気と共にケース部材内に入り込むパーティクルの浸入を低減できる。
【００１２】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記気流発生部材は、前記回転軸の外周に直交する姿勢で当該外周面に取り付けられる環状部材と、前記回転軸の長さ方向に延びる形状とされると共に、前記環状部材に直交させて取り付けられ、前記回転軸の延びる方向に直交する方向であって、前記回転軸からその周囲方向に向かう空気流を発生させる羽根部材とを備えるものである。
【００１３】
この構成では、環状部材が回転軸と一体的に回転すると、羽根部材が、回転軸の延びる方向に直交する方向であって、回転軸からその周囲方向に向かう空気流を発生させるようになっている。これにより、簡単な構成で、気流発生部材を組み立てることが可能となり、また、回転軸への気流発生部材の取り付けも容易に行うことができる。
【００１４】
また、請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記回転体及び基板が傾斜姿勢とされたものである。
【００１５】
この構成では、回転体及び基板が傾斜姿勢とされているので、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、基板に対して供給された洗浄液を上記傾斜によって一定方向に流れていくように案内できるので、基板表面全域における均一な洗浄液の供給、及び円滑な洗浄液の排除が可能となる。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１に記載の発明によれば、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、ミスト状の洗浄液が気流発生部材よりも外側に漏れることを防止できる。また、気流発生部材よりも内側（カバー部材側）にパーティクルが浸入することを防止できる。
【００１７】
請求項２に記載の発明によれば、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、ミスト状の洗浄液がケース部材の貫通孔から外部に漏れることを防止できる。また、ケース部材の貫通孔からケース部材の内部にパーティクルが浸入することを防止できる。
【００１８】
請求項３に記載の発明によれば、ケース部材の外側における貫通孔近傍において、ケース部材の外壁に沿ったエアカーテンが生成されるので、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、このエアカーテンにより、ケース部材の貫通孔を通ってケース部材の外部に向かおうとするミスト状の洗浄液の流れを食い止めることができる。また、上記エアカーテンによって、ケース部材の貫通孔を通って外部からケース部材内に向かおうとする空気を、ケース部材の外壁に沿って案内することによって、当該空気がケース部材内部に入り込む量を低減できるので、この空気共にケース部材内に入り込むパーティクルの浸入を低減できる。
【００１９】
請求項４に記載の発明によれば、簡単な構成で、気流発生部材を組み立てることが可能となり、また、回転軸への気流発生部材の取り付けも容易に行うことができる。
【００２０】
請求項５に記載の発明によれば、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合に、基板に対して供給された洗浄液を、上記回転体及び基板の傾斜によって、一定方向に流れていくように案内できるので、基板表面全域における均一な洗浄液の供給、及び円滑な洗浄液の排除が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の実施形態について図面を用いて説明する。図１は、本発明に係る基板処理装置の第１実施形態である基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。本発明に係る基板処理装置の第１実施形態である基板洗浄装置１は、半導体ウェハ、液晶表示装置用ガラス基板及びＰＤＰ（プラズマディスプレイ）用ガラス基板などの基板Ｗに付着した塵埃などの異物を除去するために洗浄を行うものである。基板洗浄装置１は、基板を搬送させつつブラシ洗浄するものであり、基板に洗浄液を供給しながらブラシ洗浄したり、又は洗浄液が付着している基板をブラシ洗浄するものである。
【００２２】
基板洗浄装置１は、回転しながら基板Ｗの表面に接触し、基板Ｗの表面上に付着している異物を除去するロール状のブラシ（回転体）２を有する。なお、このブラシ２による基板Ｗの洗浄は、ブラシ２が基板Ｗの表面に接触せず、僅かに離間した状態で高速に回転して、ブラシ２の表面と、基板Ｗの表面との間に介在する純水や薬液等の洗浄液によって、いわゆるハイドロプレーン現象を利用して行うものであってもよい。
【００２３】
ブラシ２は、ブラシ２を回転させるための駆動源であるモータ３に連結された回転軸４に取り付けられている。ブラシ２及び基板Ｗは、洗浄時における洗浄液の周囲への飛散を防止するためにカバー（カバー部材）５に覆われている。回転軸４は、カバー５の両側部に設けられている貫通孔５ａを貫通してカバー５の外側まで突出され、軸受部４１が図略の支持部材に支持されている。
【００２４】
カバー５の外側は、更にケーシング（ケース部材）６で覆われている。このケーシング６の両側部には、カバー５から突出している回転軸４を貫通させる貫通孔６ａが設けられている。このケーシング６の外側における貫通孔６ａの周囲は、外部カバー７によって更に覆われている。この外部カバー７の両側部にも、ケーシング６から突出される回転軸４を貫通させる貫通孔７ａが設けられている。この外部カバー７の外側において、外部カバー７から突出された回転軸４とモータ３とが連結されている。また、ケーシング６側面の上部には、ケーシング６内の空気を外部に排出するための排気口６ｂが設けられている。
【００２５】
カバー５の外側における各貫通孔５ａの近傍には、貫通孔５ａを通して回転軸４を伝ってカバー５内部から洗浄液が外部に漏れることを防止するための水切板８が、回転軸４の周面に取り付けられている。この水切板８は、回転軸４と一体的に回転する。さらに、この水切板８よりも外部寄りであって、ケーシング６の内部領域の貫通孔６ａ近傍には、回転軸４の周面に、回転軸４と一体的に回転するファン（気流発生部材）９が取り付けられている。ファン９は、カバー５の両側部の回転軸４にそれぞれ取り付けられている。
【００２６】
ファン９の構成を説明する。図２はファン９の正面図、図３はファン９の側面図、図４はファン９の斜視図である。図２、図３に示すように、ファン９は、正面視で中心部に開口部９１を有する。開口部９１の内側には、回転軸４が貫通し、内壁が回転軸４の周面に当接して状態で固定される固定部９２が設けられている。また、ファン９は、２つの環状部材９３１，９３２を有している。この環状部材９３１，９３２は、回転軸４の外周面に直交する姿勢とされている。
【００２７】
固定部９２及び環状部材９３１，９３２は、その一部が切断された形状とされ、図２の矢印ｂ方向に若干拡げることが可能とされている。固定部９２には、ネジ締結部９２１が設けられており、このネジ締結部９２１のネジ９２２を締め付けることによって、ファン９を回転軸４に対して移動不可能な状態で固定することができ、また、ネジ９２２の締め付けを緩めることによって、ファン９を回転軸４に対して移動可能な状態とすることができるようになっている。
【００２８】
環状部材９３１の開口部９１は、回転軸４の径よりも大きい径とされている。これにより、回転軸４（固定部９２）の周面と開口部９１の内縁との間の隙間から、回転軸４の長さ方向におけるファン９の中心部に向かって（固定部９２方向）、空気を入り込ませるようになっている。一方、環状部材９３２には、固定部９２のみが設けられ、この固定部９２の内壁が回転軸４の周面に密着するようになっている。環状部材９３２は、回転軸４を貫通させるための孔を有しているが、開口部９１は有していない。回転軸４にファン９を取り付けた状態（ネジ締結部９２１のネジ９２２を締め付けた状態）では、環状部材９３１は開口部９１により回転軸４の周面との間に隙間が生じ、環状部材９３２及び固定部９２の内壁は回転軸４の周面に密着する。
【００２９】
環状部材９３１，９３２の間には、複数の羽根部材９４が設けられている。羽根部材９４は、回転軸４の長さ方向における各端部が環状部材９３１又は環状部材９３２に取り付けられ、また、図２に示すように環状部材９３１，９３２の縁部から固定部の外縁にかけて設けられている。この羽根部材９４は、図２に示すように、環状部材９３１，９３２に対する取り付け角度αが、ファン９が回転軸４と共に図２に示す矢印ａ方向に回転した場合に、回転軸４の周面に直交する方向であって、回転軸４からその周囲方向に向かう空気流を発生させることが可能な角度に設定されている。
【００３０】
かかる構成でなるファン９は、開口部９１を有する環状部材９３１側を、カバー５に対向させた状態で、回転軸４に取り付けられている。このファン９が回転軸４と一体的に回転駆動されることによって、カバー５の外側における貫通孔５ａ近傍の気流を、回転軸４の延びる方向に直交する方向であって、回転軸４の周囲方向に向かう方向に発生するようになっている。
【００３１】
上記構成でなる基板洗浄装置１におけるファン９の作用を、従来の基板洗浄装置と比較して説明する。図５は、従来の基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。図５に示す従来の基板洗浄装置１００には、ファン９は配設されておらず、カバー５の外側における貫通孔５ａ近傍、及びケーシング６の外側における貫通孔６ａ近傍に水切板８が設けられた構成である。
【００３２】
本発明に係る基板洗浄装置１によって、ブラシ２及び回転軸４を回転させて基板Ｗを洗浄する場合、まず、この基板Ｗの洗浄時にカバー５内から回転軸４を伝って漏れ出す洗浄液は、水切板８によって、それよりも外側への漏れが食い止められる。
【００３３】
また、ブラシ２の回転時にミスト状となった洗浄液は、カバー５の貫通孔５ａを通ってカバー５の外部に漏れ出すが、ファン９が回転軸４と共に回転しているので、ケーシング６内部におけるファン９の周囲では、回転軸４からその周囲方向に向かう空気流、すなわち、ケーシング６の内壁に沿って流れる空気流が発生している。そのため、ミスト状の洗浄液は、環状部材９３１の開口部９１からファン９の内部に入り込み、羽根部材９４により、ケーシング６の内壁に沿って、回転軸４及びケーシング６の貫通孔６ａの周囲に向かう方向（図１の矢印ｆ方向）に案内される。
【００３４】
これにより、カバー５の貫通孔５ａから漏れ出してきたミスト状の洗浄液は、ケーシング６の貫通孔６ａに向かうことなく、ケーシング６の内壁に沿って貫通孔６ａの上方又は下方に向かうことになる。そのため、ケーシング６内部から排気口６ｂを通って外部に空気を排出する排気量が小さくても、当該ミスト状の洗浄液を排気口６ｂから効率よくケーシング６の外部に排出でき、また、貫通孔６ａから外部に漏れ出すことも防止できる。
【００３５】
また、排気口６ｂからの排気量が少ないと、ケーシング６の貫通孔６ａから流入する空気量ｇが少なくなり、外部からパーティクルが浸入し難くなる。さらに、ファン９によって生成される上記空気流によって、この貫通孔６ａを通って外部から浸入してきた空気は、図１に示す矢印ｆ方向に案内されるため、外部から流入してきたパーティクルを、カバー５の貫通孔５ａからカバー５内に浸入することを防止することができる。
【００３６】
これに対して、従来の基板洗浄装置１００は、図５に示すように、ファン９が無いため、ケーシング６内において、本発明に係る基板洗浄装置１のような上記空気流の生成ができない。そのため、カバー５から漏れ出してきたミスト状の洗浄液が、ケーシング６の貫通孔６ａから外部に漏れることを防止するには、ケーシング６の排気口６ｂから外部に排出する排気量を大きくして、貫通孔６ａケーシング６内に流入する外部からの空気流ｈの流量を大きくしてやらなければならないが、この場合、排気口６ｂからの排気量を大きくするための用力コストが大きくなってしまう。また、上記空気流ｈにより、外部からパーティクルが浸入しやすい環境を作ってしまうことになる。本発明に係る基板洗浄装置１は、このような大きな用力コストを要しない点、及び、外部からパーティクルが浸入しやすい環境を作らない点において、従来の基板洗浄装置１００に対して有利な効果を奏する。
【００３７】
図６は、ファン９と円盤状部材の排気静圧を比較するグラフを示した図である。上記基板洗浄装置１のように、回転軸４にファン９を設けた場合は、単に円盤状部材（羽根部材９４を有しない部材、例えば、上記水切板８等）を回転軸４に設けた場合と比較すると、図６に示すように、ファン９又は円盤状部材とカバー５の外壁との距離が所定距離（例えば、15mm）以内であれば、ファン９を回転軸４に取り付けた方が、円盤状部材を取り付けた場合よりも排気静圧が高くなり、ファン９によって生成される気流の影響で排気抵抗が大きくなる。これにより、ファン９を回転軸４に取り付けることによって、ケーシング６内から排気口６ｂを通して外部に排出する排気量を低減することが可能となる。ファン９の回転軸４への取り付け位置を、カバー５の外壁に近い位置に設定すれば、静圧向上に効果的である。また、カバー５の組み立て誤差や設計上の都合等により、カバー５の外壁とファン９との距離を小さくすることができない場合であっても、上記構成でなるファン９を用いることで、若干は静圧を向上させることが可能となる。
【００３８】
本発明に係る基板洗浄装置１の第２実施形態を説明する。図７は、本発明に係る基板処理装置の第２実施形態に係る基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。この第２実施形態に係る基板洗浄装置１０は、ファン９が、ケーシング６の外側における貫通孔６ａの近傍であって外部カバー７の内部に回転軸４に取り付けられている。この第２実施形態に係る基板洗浄装置１０のファン９は、開口部９１を有する環状部材９３１を外側方向（カバー５及びケーシング６とは反対側方向）に向けて取り付けられる。すなわち、環状部材９３１の開口部９１が外部カバー７の貫通孔７ａに対向する状態で、ファン９が回転軸４に取り付けられている。
【００３９】
上記のようにして回転軸４に取り付けられたファン９は、外部カバー７の貫通孔７ａから外部空気が浸入してくると、図７に示す方向に向かう空気流ｉを発生させる。この基板洗浄装置１０の場合、ファン９がケーシング６の外側で回転軸４と一体的に回転し、ケーシング６外側における貫通孔６ａ近傍の空気を、ケーシング６の外壁に沿って回転軸４の周囲に向かわせる気流を発生させるので、ケーシング６の外側における貫通孔６ａ近傍において、ケーシング６の外壁に沿って流れるエアカーテンが生成される。そのため、外部カバー７の貫通孔７ａを通って浸入してきた外部空気を、上記エアカーテンによって、空気流ｉとしてケーシング６の外壁に沿って案内できるので、ケーシング６内部に入り込む外部空気流ｊの量を低減でき、ケーシング６内に入り込むパーティクルの量を低減できる。また、ケーシング６の貫通孔６ａを通ってケーシング６の外部に向かおうとするミスト状の洗浄液は、その進行が上記エアカーテンに遮られるため、ケーシング６から外部へのミスト状洗浄液の漏れを低減することができる。
【００４０】
なお、本発明は上記実施の形態の構成に限られず種々の変形が可能である。例えば、上記各実施形態では、回転軸４及びブラシ２が水平方向に延びるようにして設けられているが、回転軸４及びブラシ２を傾斜させた姿勢で設けるようにしてもよい。すなわち、回転軸４の一方端側の高さと、他方端側の高さとを異ならせてもよい。これによれば、基板Ｗに対して供給された洗浄液を、上記傾斜によって一定方向（基板Ｗの低い方）に流れるように案内できるので、基板Ｗの表面全域における均一な洗浄液の供給、及び円滑な洗浄液の排除が可能となる。この場合、傾斜姿勢となっている回転軸４及びブラシ２の下方側となる端部付近にミスト状洗浄液が集まりやすくなるが、上述したファン９による空気流の案内により、外部へのミスト状洗浄液の漏れを低減できるため、シール性を向上させることができる。
【００４１】
また、上記実施形態では、ブラシ２をロールブラシとしているが、ブラシ２を片持ちのディスクブラシからなるものとしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係る基板処理装置の第１実施形態である基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】ファンの正面図である。
【図３】ファンの側面図である。
【図４】ファンの斜視図である。
【図５】従来の基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。
【図６】ファンと円盤状部材の排気静圧を比較するグラフを示した図である。
【図７】本発明に係る基板処理装置の第２実施形態に係る基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。
【符号の説明】
【００４３】
１，１０  基板洗浄装置
２        ブラシ
３        モータ
４        回転軸
５        カバー
５ａ      貫通孔
６        ケーシング
６ａ      貫通孔
６ｂ      排気口
７        外部カバー
７ａ      貫通孔
８        水切板
９        ファン
９１      開口部
９２      固定部
９２１    ネジ締結部
９２２    ネジ
９３１，９３２  環状部材
９４      羽根部材
１００    従来の基板洗浄装置
Ｗ        基板
【図１】
2006073938.tif 000003
【図２】
2006073938.tif 000004
【図３】
2006073938.tif 000005
【図４】
2006073938.tif 000006
【図５】
2006073938.tif 000007
【図６】
2006073938.tif 000008
【図７】
2006073938.tif 000009