(57)【要約】【課題】  研削、ラップ、ポリッシング等の研磨加工後のウエーハを効率よく洗浄する。【解決手段】  洗浄装置本体（３）は、研磨加工後のウエーハ（１）を搬送するスライダ部（４）と、ウエーハを水中に浸漬保持するよう昇降可能に設けたストッカ部（５）と、該ストッカ部（５）から取り出したウエーハを洗浄するスクラブ洗浄部（６）を具備する。上記スライダ部は、上記ストッカ部（５）のウエーハ保持棚間に挿入することができ、研磨加工後のウエーハは、すべてストッカ部（５）に搬入されて水中に浸漬される。その後、上記ストッカ部（５）を上昇して上記スライダ部をストッカ部に挿入し、上段のウエーハから順次、上記スクラブ洗浄部へ送り出して洗浄する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨加工後のウエーハを搬送するスライダ部とウエーハを水中に浸漬保持するよう昇降可能に設けたストッカ部と該ストッカ部から取り出したウエーハを洗浄するスクラブ洗浄部を具備し、上記ストッカ部は上記スライダ部を挿入できる間隔をあけてウエーハを保持する保持棚を有することを特徴とするストッカ付ウエーハ洗浄装置。
【請求項２】
上記ストッカ部は、浸漬中のウエーハを超音波洗浄する超音波オーバーフロー洗浄槽内に設けられている請求項１に記載のストッカ付ウエーハ洗浄装置。
【請求項３】
上記スクラブ洗浄部は、両面をブラシ洗浄する両面スクラブ洗浄部である請求項１に記載のストッカ付ウエーハ洗浄装置。
【請求項４】
上記スライダ部は、ストッカ部へウエーハを送り込む送り込みコンベアと、該ストッカ部からウエーハを取り出す取り出しコンベアを含む請求項１に記載のストッカ付ウエーハ洗浄装置。
【請求項５】
上記送り込みコンベアと取り出しコンベアは、ウエーハの搬送方向が９０度相違している請求項４に記載のストッカ付ウエーハ洗浄装置。
【請求項６】
上記ストッカ部の保持棚は、ウエーハを傾斜状態に保持するよう傾斜して設けられている請求項１に記載のストッカ付ウエーハ洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコン、化合物半導体、石英等のウエーハの製造工程において、ウエーハ両面を研削盤、ラップ盤、ポリッシュ盤等により研磨加工した後にウエーハを洗浄する洗浄装置に関し、特に該研磨加工後のウエーハをストックするストッカを備えたストッカ付ウエーハ洗浄装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
シリコン、化合物半導体、石英等のウエーハの製造工程において、インゴットからスライスして得られたウエーハは、両面が平坦に加工されるが、この加工工程には研削、ラップ、エッチング、ポリッシュ等の加工処理が含まれている。そして、各加工処理においてウエーハには研磨剤や加工粉等が使用され、ウエーハに付着しているので、各処理通過後にウエーハを洗浄しなければならない。
【０００３】
ポリッシング等の処理後のウエーハに付着している研磨剤等は乾燥すると簡単に除去することができず、洗浄処理が面倒になるので、通常はバッチ処理したすべてのウエーハを水中カセットに収納し、その後該カセットを取り出して洗浄装置に運び、枚葉で洗浄している（例えば、特許文献１参照）。しかし、１度カセットに収納した後に、そのカセットを洗浄装置に運ぶ方法では、機械的にも、人員的にも、クリーンルームのフットプリントにも無駄があった。また、特許文献１に記載されているようにポリッシング後のウエーハを１枚づつ洗浄装置に供給してもよいが、１枚のウエーハの洗浄処理には所定の時間がかかり、その上ポリッシング等はバッチ処理で行うため、処理後に１０枚若しくは２０枚のウエーハが１度に取り出されてくるので、複数枚のウエーハに同時に対応するためには数
台の洗浄装置を用意しなければならず、効率が悪く、設備投資費用もかかることになる。
【特許文献１】特許第２５４３００７号公報（０００６、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の解決課題は、研削、ラップ、ポリッシュ等の研磨加工後のウエーハを洗浄する際に、従来のように１度水中カセットに収納した後に該カセットを水中から取り出して洗浄装置に運ぶという手間を不要にし、研磨加工後のウエーハを洗浄装置に直接的に供給して枚葉で洗浄できるようにしたストッカ付ウエーハ洗浄装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明によれば、研磨加工後のウエーハを搬送するスライダ部とウエーハを水中に浸漬保持するよう昇降可能に設けたストッカ部と該ストッカ部から取り出したウエーハを洗浄するスクラブ洗浄部を具備し、上記ストッカ部は上記スライダ部を挿入できる間隔をあけてウエーハを保持する保持棚を有することを特徴とするストッカ付ウエーハ洗浄装置が提供され、上記課題が解決される。
【０００６】
また、本発明によれば、上記ストッカ付ウエーハ洗浄装置のストッカ部は、浸漬中のウエーハを超音波洗浄する超音波オーバーフロー洗浄槽内に設けられ、スライダ部はウエーハを送り込む送り込みコンベアとウエーハを取り出す取り出しコンベアを含み、ウエーハを上記ストッカ部で傾斜状態で保持し、洗浄部で両面スクラブ洗浄するようにした上記ストッカ付ウエーハ洗浄装置が提供される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明は上記のように構成され、研磨加工後のウエーハを搬送するスライダ部とウエーハを水中に浸漬保持するよう昇降可能に設けたストッカ部と該ストッカ部から取り出したウエーハを洗浄するスクラブ洗浄部を具備し、上記ストッカ部は上記スライダ部を挿入できる間隔をあけてウエーハを保持する保持棚を有するから、上記ストッカ部を上昇させて最下段の保持棚に向けてスライダ部を挿入すれば、研磨加工後のウエーハを該保持棚に収納することができ、該スライダ部を後退した後上記ストッカ部を一段降下し、次のウエーハを同様にして上段の保持棚に収納し、以下順次ストッカ部を降下して収納するようにすれば、バッチ処理によりポリッシュ盤等から取り出されたすべてのウエーハをストッカ部に収納して水中に浸漬することができ、研磨剤等が乾燥しないようにできる。
【０００８】
そして、上記ストッカ部を収納した洗浄槽に超音波を作用させると、ウエーハを超音波洗浄することができると共に所定時間浸漬したら、上記ストッカ部を上昇し最上段の保持棚に向けてスライダ部を挿入し、該保持棚に保持されているウエーハを該スライダ部によりスクラブ洗浄部方向へ取り出せば、該スクラブ洗浄部でブラシ洗浄することができ、以下順次ストッカ部を上昇させてストッカ部からウエーハを取り出してスクラブ洗浄部へ送り出し、すべてのウエーハを洗浄することができる。
【０００９】
また、上記ストッカ部の保持棚を傾斜させ、ウエーハを傾斜状態で保持することにより、上記ストッカ部を水中で上下動させる際にウエーハが保持棚に支持された状態で泳ぐことがなく、安定状態で保持することができ、その上、上記スライダ部に９０度方向に搬送方向を異ならせた送り込みコンベアと取り出しコンベアを設けると、構成が簡単でフットプリントを小さくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
図１は、本発明の一実施例を示す平面からみた説明図であり、説明の都合上、小さく記載されている複数枚のウエーハ（１）をバッチ処理で研磨加工をするラップ盤、ポリッシュ盤等の加工盤（２）に隣接して洗浄装置本体（３）を設けてある。該装置本体（３）は、ウエーハを搬送するスライダ部（４）とウエーハを水中に浸漬するよう昇降可能に設けたストッカ部（５）と該ストッカ部から取り出したウエーハを洗浄するスクラブ洗浄部（６）を具備し、洗浄後のウエーハを収納するカセット（７）を載置するアンローダ部（８）が端部に設けられている。
【００１１】
上記スライダ部（４）は、図２に示すように適宜の昇降駆動手段（図示略）で昇降される昇降可能な支持台（９）と、該支持台（９）上に設けた案内ロッド（１０）に案内されて摺動するスライダ本体（１１）を有し、図２に示すようなベルト若しくは適宜の流体圧シリンダやモーターシリンダ等の支持台駆動手段（１２）をスライダ本体に連結することにより上記スライダ本体（１１）を上記ストッカ部（５）へ挿入し若しくは該ストッカ部（５）から後退させるよう構成されている。
【００１２】
上記スライダ本体（１１）には、ウエーハ（１）を上記ストッカ部（５）へ送り出す送り出しコンベア（１３）と、ストッカ部（５）からウエーハを取り出す取り出しコンベア（１４）が設けられ、該送り出しコンベア（１３）と取り出しコンベア（１４）はウエーハの搬送方向が９０度異なっている。また、図３に示すように、上記送り出しコンベア（１３）及び取り出しコンベア（１４）は、それぞれプーリ（１５）、（１６）にベルト（１７）、（１８）を巻回して構成されているが、各ベルトは、円周の半分の長さで厚みが変化しており、それぞれ取り出しコンベア側のベルト面若しくは送り出しコンベア側のベルト面より上方に突出可能な肉厚部（１９）、（２０）を有している。なお、図２、図３においては、説明の都合上、上記各コンベア（１３）、（１４）を駆動するモーターや回転軸等は省略されている。
【００１３】
上記ストッカ部（５）は、図４に示すように片側の上辺を低くしたオーバーフロー洗浄槽（２１）内に設けられ、上下動モーター、ボールねじ等を含むエレベーター手段（２２）により昇降可能に設けられている。このようなエレベーター手段として公知の種々の装置が知られており、公知のこれらの装置を適宜用いることができ、また、図５に示すように、該洗浄槽（２１）内の適宜位置には、超音波洗浄するための超音波装置（２３）が設けられている。
【００１４】
上記ストッカ部（５）は、ウエーハを保持する保持棚（２４）を対向面にそれぞれ形成したストッカ板（２５）、（２６）を有している。該ストッカ板（２５）、（２６）は、連結ロッド（２７）で対向状態に固定され、該連結ロッド（２７）部分を上記エレベーター手段（２２）の保持アーム（図示略）に吊り下げるようにしてある。該保持棚（２４）の上下方向の間隔は、上記スライダ部（４）のスライダ本体（１１）を挿入できる間隔を少なくとも有し、その間隔に合わせて上記エレベーター手段で１ピッチづつ上下動するようにしてある。
【００１５】
上記保持棚（２４）は、スライダ部（４）に載置したウエーハ（１）をストッカ板（２５）、（２６）間に挿入できるようスライダ部方向に開口する入口（２８）を有し、該入口（２８）に続く溝部（２９）を通ってウエーハを所定位置まで挿入してスライダ本体（１１）を降下させた際ウエーハ（１）の周縁の一部が載置されるよう支持凹部（３０）が形成されている。該支持凹部（３０）を形成する一方の棚縁にはウエーハ（１）を定位置に案内するための傾斜案内面（３１）を設けてある。なお、上記支持凹部（３０）の支持面は、両ストッカ板（２５）、（２６）間に支持したウエーハ（１）が水平状態よりも少し傾斜状態になるようゆるやかな傾斜面に形成してあるが、両側のストッカ板（２５）、（２６）の支持凹部（３０）、（３０）の高さを若干相違させることによりウエーハが傾斜状態になるようにしてもよい。
【００１６】
また、一方のストッカ板（２５）には、上記スクラブ洗浄部（６）方向へウエーハを取り出すことができるようウエーハの直径よりも少し大きく開口する出口（３２）が形成されている。なお、上記ストッカ板（２５）、（２６）の対向間隙のほぼ中央部には、ウエーハ（１）の前進端を規制するよう適宜のストップ片（３３）が設けられている。
【００１７】
上記スクラブ洗浄部（６）としては、ウエーハ（１）を２本の筒状の洗浄ブラシで挾み、端縁に当接した回転ローラ（３４）で回転させながら両面をブラシ洗浄する両面スクラブ洗浄部が好適に用いられる。また、該スクラブ洗浄部（６）と上記ストッカ部（５）の間及びアンローダ部（８）の間には、ウエーハ（１）の搬送を案内するガイドコンベア（３５）、（３６）を設けてある。
【００１８】
而して、上記加工盤（２）から取り出されたウエーハ（１）は、手動または適宜のロボット等の移載手段（図示略）により上記スライダ部（４）の送り出しコンベア（１３）上に載置される。このとき、上記スライダ部（４）の支持台（９）は上記昇降駆動手段により上昇位置にあり、送り出しコンベア（１３）は肉厚部（１９）が上面側に位置し、取り出しコンベア（１４）の肉厚部（２０）は下面側に位置するよう制御されている。したがって、送り出しコンベア（１３）上に載置されたウエーハ（１）が取り出しコンベア（１４）に接することはないので、支持台駆動手段（１２）により上記スライダ本体（１１）をストッカ部（５）方向へ移動させると、ウエーハ（１）をストッカ部（５）の保持棚（２４）に挿入し、所定位置まで挿入したとき支持台（９）を降下させると、該ウエーハ（１）を保持棚（２４）の支持凹部（３０）、（３０）に載置させることができる。なお、スライダ本体（１１）をストッカ部方向へ移動すると同時に、上記送り出しコンベア（１３）を駆動することにより、上記ウエーハ（１）を短時間で上記所定位置へ移動させることができる。
【００１９】
その後、上述と逆の手順で上記スライダ本体（１１）は、ストッカ部（５）から後退し、上記ストッカ部（５）は上記支持凹部（３０）に載置したウエーハが水中に没する位置まで降下される。以下同様にして加工盤（２）から取り出したすべてのウエーハ（１）を上記ストッカ部（５）に収納して水中に浸漬する。
【００２０】
超音波装置（２３）を作動させてウエーハを超音波洗浄したら、上記ストッカ部を一段上昇させ、最上段の保持棚を水面上に露出させる。そして、支持台（９）を降下させた状態でスライダ本体（１１）をストッカ部（５）に挿入する。このとき、上記送り出しコンベア（１３）の肉厚部（１９）が下面側に位置し、取り出しコンベア（１４）の肉厚部（２０）が上面側に位置するように制御しておく。
【００２１】
上記ウエーハ（１）の下方に取り出しコンベア（１４）が対向したとき、上記支持台（９）を上昇させると、ウエーハ（１）は上記送り出しコンベア（１３）に接することなく、上記取り出しコンベア（１４）上に載置される。そして、該取り出しコンベア（１４）を駆動すると、上記出口（３２）を通ってストッカ部（５）からウエーハ（１）が取り出され、上記スクラブ洗浄部（６）へ送られ、ウエーハは洗浄される。
【００２２】
洗浄後は、適宜両面リンスしたり、エアブロー乾燥したりしてウエーハはアンローダ部（８）に送られてカセット（７）に収納される。以下同様にして、ストッカ部（５）に収納したウエーハを１枚づつスクラブ洗浄部（６）へ取り出して枚葉洗浄することができる。
【００２３】
図６は他の実施例を示し、基本的には図１に示す実施例と変わらないが、ストッカ部（３７）は、入口（３８）と出口（３９）を一直線上に有している。この構成によれば、スライダ部（４０）には、送り出しコンベアと取り出しコンベアを兼用する１つのコンベア（４１）を設ければよい。すなわち、該コンベア（４１）で研磨加工後のウエーハをストッカ部（５）へ送り込み、浸漬後、該コンベア（４１）でウエーハを１枚づつスクラブ洗浄部（６）へ取り出して洗浄し、その後適宜両面リンスしたり、エアブロー乾燥してアンローダ部へ送ればよい。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施例を示す平面からみた説明図。
【図２】スライダ部を正面からみた説明図。
【図３】スライダ部のコンベアを示し、（Ａ）は送り出しコンベアを断面した状態、（Ｂ）は取り出しコンベアを断面した状態の説明図。
【図４】ストッカ部の斜視図。
【図５】ストッカ部の断面図。
【図６】他の実施例を示す平面からみた説明図。
【符号の説明】
【００２５】
１    ウエーハ
２    加工盤
３    洗浄装置本体
４    スライダ部
５    ストッカ部
６    スクラブ洗浄部
８    アンローダ部
９    支持台
１１    スライダ本体
１３    送り出しコンベア
１４    取り出しコンベア
１９、２０    肉厚部
２１    オーバーフロー洗浄槽
２４    保持棚
２５、２６    ストッカ板
３０    支持凹部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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