(57)【要約】【課題】  ウエハの表裏面を迅速かつ正確に判別することのできるウエハ表裏面の検査方法および検査装置を提供する。【解決手段】  本発明のウエハ表裏面の検査方法は、表面および裏面の両方にメサが形成されたウエハ表裏面の検査方法であって、ウエハ１の表面および裏面の少なくとも一方にレーザ光１３ａを照射する照射工程と、レーザ光１３ａの反射光１３ｂを受光する工程と、ウエハ１の表面および裏面に形成されたメサの形状を反映した反射光１３ｂの形状に基づいて、ウエハ１の表面および裏面を判別する判別工程とを備えている。【選択図】        図６
2006156895.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面および裏面の両方にメサが形成されたウエハ表裏面の検査方法であって、
前記ウエハの表面および裏面の少なくとも一方に光を照射する照射工程と、
前記ウエハの表面および裏面に形成された前記メサの形状を反映した反射光を受光する工程と、
前記反射光の形状に基づいて、前記ウエハの表面および裏面を判別する判別工程とを備える、ウエハ表裏面の検査方法。
【請求項２】
前記ウエハを薬液処理することで前記メサが形成される、請求項１に記載のウエハ表裏面の検査方法。
【請求項３】
前記判別工程の後で、オリエンテーションフラットおよびインデックスフラットを前記ウエハに形成する工程をさらに備える、請求項１または２に記載のウエハ表裏面の検査方法。
【請求項４】
前記照射工程の前に、前記ウエハに仮オリエンテーションフラットを形成する工程をさらに備え、
前記照射工程の際に、前記仮オリエンテーションフラットによって前記ウエハの位置決めを行なう、請求項１〜３のいずれかに記載のウエハ表裏面の検査方法。
【請求項５】
前記照射工程の前に、オリエンテーションフラットおよびインデックスフラットを前記ウエハの端部に形成する工程をさらに備える、請求項１または２に記載のウエハ表裏面の検査方法。
【請求項６】
表面および裏面の両方にメサが形成されたウエハ表裏面の検査装置であって、
前記ウエハの表面および裏面の少なくとも一方に光を照射するための照射装置と、
前記ウエハの表面および裏面に形成されたメサの形状を反映した反射光を受光するための受光装置と、
前記反射光の形状に関する情報を出力する出力装置とを備える、ウエハ表裏面の検査装置。
【請求項７】
前記ウエハを薬液処理することで前記メサが形成される、請求項６に記載のウエハ表裏面の検査装置。
【請求項８】
前記受光装置は、前記反射光の強度を測定するための測定部と、前記ウエハと前記測定部との間に配置されるスリットとを有する、請求項６または７に記載のウエハ表裏面の検査装置。
【請求項９】
前記ウエハの端部を加工するための加工装置をさらに備える、請求項６〜８のいずれかに記載のウエハ表裏面の検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエハ表裏面の検査方法および検査装置に関し、より特定的には、表面と裏面とで同様の処理が施されたウエハの検査方法および検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ（Large  scale  integrated  circuit）などの半導体チップを製造する各プロセスにおいて、ウエハに様々な処理を施す際には、その表裏面を完全な信頼度で判別しなければならない。通常、ウエハの表裏面は以下の方法により判別されている。すなわち、インゴットから切り出したウエハの表裏面に薬液処理（エッチング）を施した後で、ウエハの外径加工時に、ＯＦ（オリエンテーションフラット）およびＩＦ（インデックスフラット）と呼ばれる直線部分をウエハの端部に形成する。ＯＦは、ウエハの表面から見た場合にたとえば１２時の位置に形成され、ＩＦは、たとえば３時の位置に形成される。そして、その後の製造工程においては、ＯＦおよびＩＦの位置によってウエハの表裏面が判別されている。
【０００３】
しかしながら、ＯＦおよびＩＦを誤った位置に形成してしまい、これによってウエハの表裏面が誤って判別され、表裏面が逆になった状態で最終工程までウエハの処理工程（たとえばウエハの研磨工程など）が進み、不良品のウエハが製造されることがあった。
【０００４】
ここで、ウエハの表面と裏面とでは表面のメサの状態が異なっている。そこで、ウエハの外径加工前にメサの状態を顕微鏡で観察し、ウエハ表裏面を確認しておくことで、ＯＦおよびＩＦが誤った位置に形成されることを防止する方法も考えられる。
【０００５】
また、たとえば特開昭６３−１１０６５１号公報（特許文献１）には、エッチング、鏡面研磨、洗浄処理、および酸化膜形成などの処理が表面のみ施されており、裏面には施されていないウエハについて、レーザ光の反射率の違いを利用した表裏判別方法が開示されている。具体的には、ウエハに対してレーザ光を照射し、ウエハ表面または裏面からの反射光（散乱光）強度に対応する電気信号を処理して、表面または裏面からの反射光強度に夫々対応する処理値を求める。そして、この処理値の差異に基づいてウエハの表裏面を決定している。
【０００６】
さらに、たとえば特開２００１−１５６１５２号公報（特許文献２）には、両面ポリッシュ後の半導体ウエハのワープ形状を測定し、その測定結果と、所定の表面形状あるいは裏面形状の測定結果とを比較し、比較結果から表面あるいは裏面を判別する半導体ウエハの表裏判別方法が記載されている。
【特許文献１】特開昭６３−１１０６５１号公報
【特許文献２】特開２００１−１５６１５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、ウエハの外径加工前にメサの状態を顕微鏡で観察する方法では、ウエハ一枚一枚について表面または裏面を顕微鏡で観察する必要があり、ウエハの表裏面の判別に時間がかかるという問題があった。
【０００８】
また、ＯＦおよびＩＦを形成する直前のウエハには、表面と裏面とで同様の処理が施されている。このため、特許文献１および２の技術を用いても、ウエハの表面の反射光強度とウエハの裏面の反射光強度との間に差異は生じず、ＯＦおよびＩＦを誤った位置に形成するおそれが依然としてあった。その結果、ウエハの表裏面が誤って判別されるという問題があった。また、特許文献２の技術では、ワープ形状を走査する必要があり、ウエハの表裏面の判別に時間がかかるという問題があった。
【０００９】
したがって、本発明の目的は、ウエハの表裏面を迅速かつ正確に判別することのできるウエハ表裏面の検査方法および検査装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のウエハ表裏面の検査方法は、表面および裏面の両方にメサが形成されたウエハ表裏面の検査方法であって、ウエハの表面および裏面の少なくとも一方に光を照射する照射工程と、ウエハの表面および裏面に形成されたメサの形状を反映した反射光を受光する工程と、反射光の形状に基づいて、ウエハの表面および裏面を判別する判別工程とを備えている。
【００１１】
本発明のウエハ表裏面の検査方法では、ウエハの表面および裏面にはそれぞれ特有の形状を持ったメサが形成される性質を利用する。メサの形状は反射光の形状に反映されるので、反射光の形状からウエハの表裏面を判別することができる。したがって、表面と裏面とで同様の処理が施されていても、ウエハの表裏面を正確に判別することができる。また、ウエハ１枚１枚について表面または裏面を顕微鏡で観察する場合よりもウエハの表裏面を迅速に判別することができる。
【００１２】
上記検査方法において好ましくは、ウエハを薬液処理することでメサが形成される。これにより、ウエハの表面および裏面にそれぞれ特有の形状を持ったメサを形成することができる。
【００１３】
上記検査方法において好ましくは、判別工程の後で、ＯＦおよびＩＦをウエハに形成する工程をさらに備えている。
【００１４】
これにより、ウエハの表裏面を正確に判別した後にＯＦおよびＩＦを形成することができる。したがって、その後の工程において、ＯＦおよびＩＦの位置を手がかりにしてウエハの表裏面を容易かつ正確に判別することができる。
【００１５】
上記検査方法において好ましくは、照射工程の前に、ウエハに仮ＯＦを形成する工程をさらに備えており、照射工程の際に、仮ＯＦによってウエハの位置決めを行なう。
【００１６】
これにより、ウエハの位置決めをした状態でウエハに光を照射することができるので、各ウエハにおける表面のメサの形状および裏面のメサの形状を揃えることができる。したがって、ウエハの表裏面を判別しやすくなる。
【００１７】
上記検査方法において好ましくは、照射工程の前に、ＯＦおよびＩＦをウエハの端部に形成する工程をさらに備えている。
【００１８】
これにより、ＯＦおよびＩＦが形成されたウエハについて、ＯＦおよびＩＦの位置と、反射光の形状とを対比させて、ＯＦおよびＩＦが正しくウエハの表裏面を示しているかについて検査することができる。
【００１９】
本発明のウエハ表裏面の検査装置は、表面および裏面の両方にメサが形成されたウエハ表裏面の検査装置であって、ウエハの表面および裏面の少なくとも一方に光を照射するための照射装置と、ウエハの表面および裏面に形成されたメサの形状を反映した反射光を受光するための受光装置と、反射光の形状に関する情報を出力する出力装置とを備えている。
【００２０】
本発明のウエハ表裏面の検査装置によれば、メサの形状は反射光の形状に反映されるので、反射光の形状に関する情報からウエハの表裏面を判別することができる。したがって、表面と裏面とで同様の処理が施されていても、ウエハの表裏面を正確に判別することができる。また、ウエハ１枚１枚について表面または裏面を顕微鏡で観察する場合よりもウエハの表裏面を迅速に判別することができる。
【００２１】
上記検査装置において好ましくは、ウエハを薬液処理することでメサが形成される。これにより、ウエハの表面および裏面にそれぞれ特有の形状を持ったメサを形成することができる。
【００２２】
上記検査装置において好ましくは、受光装置は、反射光の強度を測定するための測定部と、ウエハと測定部との間に配置されるスリットとを有している。
【００２３】
これにより、スリットを通って測定部で測定される反射光の強度は、反射光の形状によって変化するので、反射光の形状を強度に置き換えて出力することができる。その結果、測定部で測定される反射光の強度によってウエハの表面および裏面を判別することができる。
【００２４】
上記検査装置において好ましくは、ウエハの端部を加工するための加工装置をさらに備えている。
【００２５】
これにより、ウエハの表裏面を正確に判別した後にウエハの端部を加工し、たとえばＯＦおよびＩＦなどを形成することができる。したがって、その後の工程において、たとえばＯＦおよびＩＦの位置によってウエハの表裏面を容易かつ正確に判別することができる。
【００２６】
なお、本明細書中において「仮オリエンテーションフラット」とは、オリエンテーションフラットを形成するウエハの端部の位置に予め形成しておく直線部分やノッチなどを含む意味である。
【発明の効果】
【００２７】
本発明のウエハ表裏面の検査方法および検査装置によれば、ウエハの表裏面を迅速かつ正確に判別することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について、図に基づいて説明する。
【００２９】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１におけるウエハの製造方法の一部を示すフロー図である。図１を参照して、始めに、たとえばＩｎＰ（インジウムリン）やＧａＡｓ（ガリウム砒素）など、ＩＩＩ―Ｖ族よりなる化合物半導体のインゴット１０の所定の位置に仮ＯＦ２ａを形成する（ステップＳ１）。仮ＯＦ２ａの位置はインゴットの結晶方位に基づいて決められる。続いて、たとえばワイヤなどを用いてインゴット１０からウエハ１を切り出す（ステップＳ２）。インゴットからウエハを切り出す様子を模式的に示す斜視図を図２に示す。また、インゴットから切り出された直後のウエハの平面図を図３に示す。
【００３０】
続いて、ウエハ１の表面と裏面とを薬液処理する（ステップＳ３）。この薬液処理は、ウエハ１の反りを緩和し、ウエハ１の表面と裏面とを洗浄する目的で行なわれる。具体的には、たとえばＩｎＰ（インジウムリン）の場合は硫酸と過酸化水素を用いて、ＧａＡｓ（ガリウム砒素）の場合はアンモニア溶液と過酸化水素を用いて、ウエハ１の表面と裏面とをウエットエッチングする。
【００３１】
ここで、ウエハ１がたとえばＧａＡｓ（ガリウム砒素）からなっている場合に、これをアンモニア溶液と過酸化水素でエッチングすると、内部の結晶構造に基づいて、急速にエッチングされる面とほとんどエッチングされない面が存在する。また、ウエハ１が他のＩＩＩ―Ｖ族の化合物半導体よりなる場合にも、同様にエッチングされやすい面が存在する。このように、ウエハ１にはエッチングされやすい面（方向）があることから、ウエハ１を薬液処理すると、その面が急速にエッチングされ、ウエハ１の表面および裏面にはメサ（凹凸）が形成される。メサは、たとえば台形の断面形状を有している。ウエハ表面、裏面のエッチング量としては、片面で０．５〜５０μｍ程度が好ましい。
【００３２】
図４は、ウエハの表面に形成されたメサを模式的に示す平面図である。図４を参照して、ウエハの表面１ａには、たとえば仮ＯＦ２ａに対して垂直な方向に細長いような平面形状を有する複数の凹部５ａが形成される。この複数の凹部５ａが表面１ａに形成されたメサである。
【００３３】
図５は、ウエハの裏面に形成されたメサを模式的に示す平面図である。図５を参照して、ウエハの裏面１ｂには、たとえば仮ＯＦ２ａに対して平行な方向に細長いような平面形状を有する複数の凹部５ｂが形成される。この複数の凹部５ｂが裏面１ｂに形成されたメサである。つまり、裏面１ｂのメサは、表面１ａのメサを９０°回転したような形状となっている。
【００３４】
なお、本実施の形態では、裏面１ｂのメサが、表面１ａのメサを９０°回転したような形状となっている場合について示したが、本発明において、ウエハ裏面のメサとウエハ表面のメサとの関係はこのような場合に限定されるものではない。
【００３５】
次に、図１を参照して、表面および裏面の両方にメサが形成されたウエハ１について、表裏面の検査を行なう（ステップＳ４）。本実施の形態では、以下の方法によってウエハ１の表裏面の検査を行なう。
【００３６】
図６は、本発明の実施の形態１におけるウエハ表裏面の検査装置の構成を模式図に示す図である。図６を参照して、本実施の形態のウエハ表裏面の検査装置は、照射装置としてのレーザ光照射ユニット１１と、受光装置としての赤外線カメラ１２と、出力装置としてのモニタ１４と、テーブル１５とを備えている。赤外線カメラ１２とモニタ１４とは互いに電気的に接続されている。
【００３７】
まず、ウエハ１をテーブル１５上に配置する。このとき、仮ＯＦ２ａを所定の位置に配置することでウエハ１の位置決めを行なう。図６では、仮ＯＦ２ａをテーブル１５の一辺１５ａに平行になるような位置に配置している。なお、ウエハ１の位置決め精度は、ＯＦ２ａと辺１５ａとのなす角で表わせば、±２０°以内であることが好ましい。
【００３８】
次に、レーザ光照射ユニット１１からウエハ１の一方の面（表裏面いずれであるのかは不明）へレーザ光１３ａを照射し、その反射光１３ｂを赤外線カメラ１２で受光する。この反射光１３ｂは反射した面のメサの形状を反映している。すなわち、メサの延びている方向（図４中縦方向または図５中横方向）とレーザ光１３ａとの関係によって、反射光１３ｂの形状が決まる。赤外線カメラ１２で受光した反射光の形状のデータは、モニタ１４に送られ、モニタ１４に映し出される。
【００３９】
図７は、反射光がウエハの表面で反射した場合に、モニタに映し出される反射光の形状を模式的に示す図である。図４および図７を参照して、ウエハ１の表面１ａにレーザ光１３ａ照射された場合には、たとえば図７中縦方向に細長い形状の反射光１３ｂが受光される。
【００４０】
図８は、反射光がウエハの裏面で反射した場合に、モニタに映し出される反射光の形状を模式的に示す図である。図５および図８を参照して、ウエハ１の裏面１ｂにレーザ光１３ａ照射された場合には、たとえば図８中横方向に細長い形状の反射光１３ｂが受光される。
【００４１】
このように、メサの形状を反映した反射光１３ｂの形状に関する情報がモニタ１４に出力されるので、この形状に基づいて、レーザ光１３ａを照射した面が表面１ａであるか裏面１ｂであるかを判別する。以上の方法によって、ウエハ１の表裏面の検査を行なう。
【００４２】
なお、たとえば裏面１ｂであると判別された場合には、ウエハ１をひっくり返して、表面１ａが上になるようにウエハ１を配置し直してもよい。これによって、全てのウエハ１についての表裏面の向きを揃えることができる。
【００４３】
また、本実施の形態のウエハ表裏面の検査装置では、レーザ光１３ａを照射する場合について示したが、本発明はレーザ光を照射する場合に限定されるものではなく、ウエハの表面および裏面に形成されたメサの形状を反映した反射光が得られる光を照射すればよい。
【００４４】
なお、本実施の形態では、赤外線カメラ１２とモニタ１４を用いる場合について示したが、本発明のウエハ表裏面の検査方法はこのような場合に限定されるものではなく、反射光の形状を直接人間が見て、ウエハの表面および裏面を判別してもよい。
【００４５】
次に、図１を参照して、ウエハ１の端部を面取り加工し、ＯＦおよびＩＦをウエハ１に形成する（ステップＳ５）。図９は、本発明の実施の形態１における加工装置の構成を模式的に示す平面図である。図９を参照して、加工装置１８は、回転可能な吸着テーブル１７と、図９中上下左右方向に移動可能な円柱形状の砥石１６とを有している。テーブル１５上から吸着テーブル１７上へウエハ１を移動し、吸着テーブル１７の上面に開口された図示しない孔を通じてウエハ１を吸引することで、ウエハ１を吸着テーブル１７上に固定する。そして、砥石１６を回転させた状態で吸着テーブル１７を回転することによって、ウエハ１の円周部分の端部を面取り加工する。また、砥石１７を回転させた状態で左右方向に移動させることにより、ウエハ１の所定の位置にＯＦ２およびＩＦ３を形成する。具体的には、仮ＯＦ２ａが形成されていた位置にＯＦ２を形成し、ウエハ１の表面においてＯＦ２をウエハ１の１２時の位置に持ってきた場合に、３時の位置にＩＦ３を形成する。なお、上記工程は本発明に必須の工程ではない。
【００４６】
次に、研磨処理などの工程を行ない、たとえば半導体チップが製造されるが、この後の工程については省略する。
【００４７】
本実施の形態のウエハ表裏面の検査方法は、表面１ａおよび裏面１ｂの両方にメサが形成されたウエハ表裏面の検査方法であって、ウエハ１の表面１ａおよび裏面１ｂの少なくとも一方にレーザ光１３ａを照射する照射工程と、ウエハ１の表面１ａおよび裏面１ｂに形成されたメサの形状を反映した反射光１３ｂを受光する工程と、反射光１３ｂの形状に基づいて、ウエハ１の表面１ａおよび裏面１ｂを判別する判別工程とを備えている。
【００４８】
本実施の形態のウエハ表裏面の検査方法では、ウエハ１の表面１ａおよび裏面１ｂには、それぞれ特有の形状を持ったメサが形成される性質を利用する。すなわち、ウエハ１の表面１ａおよび裏面１ｂの各々は特定の結晶面を構成しているので、たとえば薬液処理などに付した場合には各面における結晶の方向性に応じてエッチング速度に差が現れ、ウエハ１の表面１ａおよび裏面１ｂには、それぞれ特有の方向を持ったメサが形成される。メサの形状は反射光１３ｂの形状に反映されるので、反射光１３ｂの形状からウエハ１の表裏面を判別することができる。したがって、表面１ａと裏面１ｂとで同様の処理が施されていても、ウエハ１の表裏面を正確に判別することができる。また、ウエハ１枚１枚について表面または裏面を顕微鏡で観察する場合よりもウエハの表裏面を迅速に判別することができる。
【００４９】
上記検査方法においては、ウエハ１を薬液処理することでメサが形成される。これにより、ウエハ１の表面１ａおよび裏面１ｂにそれぞれ特有の形状を持ったメサを形成することができる。
【００５０】
上記検査方法においては、判別工程の後で、ＯＦ２およびＩＦ３をウエハ１に形成する工程をさらに備えている。
【００５１】
これにより、ウエハ１の表裏面を正確に判別した後にＯＦ２およびＩＦ３を形成することができる。したがって、その後の工程において、ＯＦ２およびＩＦ３の位置を手がかりにしてウエハ１の表裏面を容易かつ正確に判別することができる。
【００５２】
上記検査方法においては、照射工程の前に、ウエハ１に仮ＯＦ２ａを形成する工程をさらに備えており、照射工程の際に、仮ＯＦ２ａによってウエハ１の位置決めを行なう。
【００５３】
これにより、ウエハ１の位置決めをした状態でウエハ１にレーザ光１３ａを照射することができるので、各ウエハ１における表面１ａのメサの形状および裏面１ｂのメサの形状を揃えることができる。したがって、ウエハ１の表裏面を判別しやすくなる。
【００５４】
本実施の形態におけるウエハ表裏面の検査装置は、表面１ａおよび裏面１ｂの両方にメサが形成されたウエハ表裏面の検査装置であって、ウエハ１の表面１ａおよび裏面１ｂの少なくとも一方にレーザ光１３ａを照射するためのレーザ光照射ユニット１１と、ウエハ１の表面１ａおよび裏面１ｂに形成されたメサの形状を反映した反射光１３ｂを受光するための赤外線カメラ１２と、反射光１３ｂの形状に関する情報を出力するモニタ１４とを備えている。
【００５５】
本実施の形態のウエハ表裏面の検査装置によれば、メサの形状は反射光１３ｂの形状に反映されるので、反射光１３ｂの形状に関する情報からウエハ１の表裏面を判別することができる。したがって、表面１ａと裏面１ｂとで同様の処理が施されていても、ウエハ１の表裏面を正確に判別することができる。また、ウエハ１枚１枚について表面または裏面を顕微鏡で観察する場合よりもウエハ１の表裏面を迅速に判別することができる。
【００５６】
上記検査装置においては、ウエハ１を薬液処理することでメサが形成される。これにより、ウエハ１の表面１ａおよび裏面１ｂにそれぞれ特有の形状を持ったメサを形成することができる。
【００５７】
上記検査装置において好ましくは、ウエハ１の端部を加工するための加工装置１８をさらに備えている。
【００５８】
これにより、ウエハ１の表裏面を正確に判別した後にウエハ１の端部を加工し、たとえばＯＦ２およびＩＦ３などを形成することができる。したがって、その後の工程において、たとえばＯＦ２およびＩＦ３の位置によってウエハ１の表裏面を容易かつ正確に判別することができる。
【００５９】
（実施の形態２）
図１０は、本発明の実施の形態２におけるウエハの製造方法の一部を示すフロー図である。図１０を参照して、本実施の形態では、ウエハの表面と裏面とを薬液処理し（ステップＳ３）た後で、仮ＯＦの位置を基準として、ＯＦおよびＩＦをウエハに形成する（ステップＳ１４）。続いて、表面および裏面の両方にメサが形成されたウエハについて、実施の形態１と同様の方法を用いて表裏面の検査を行なう（ステップＳ１５）。
【００６０】
図１１は、ウエハの表面に形成されたメサと、ＯＦおよびＩＦとの関係を模式的に示す平面図である。図１１を参照して、ウエハの表面１ａに形成されたメサを構成する複数の凹部５ａは、たとえばＯＦ２に対して垂直な方向であってＩＦ３に平行な方向に細長いような平面形状を有している。
【００６１】
図１２は、ウエハの裏面に形成されたメサと、ＯＦおよびＩＦとの関係を模式的に示す平面図である。図１２を参照して、ウエハの裏面１ｂに形成されたメサを構成する複数の凹部５ｂは、たとえばＯＦ２に平行な方向であってＩＦ３に対して垂直な方向に細長いような平面形状を有している。
【００６２】
実施の形態１で述べたように、反射光１３ｂはメサの形状を反映している。したがって、反射光１３ｂ（図７および図８）の形状から、ＯＦ２およびＩＦ３の位置と、メサの形状とを対比させて、図１１および図１２に示すような関係になっているかについて確認することでき、ＯＦおよびＩＦが正しくウエハの表裏面を示しているかについて検査することができる。なお、検査の結果、ＯＦ２およびＩＦ３が正しくウエハの表裏面を示していない場合には、不良品としてそのウエハを除去する。
【００６３】
なお、これ以外のウエハ表裏面の検査方法および検査装置については、実施の形態１の場合と同様であるので、その説明は省略する。
【００６４】
本実施の形態のウエハ表裏面の検査方法においては、ウエハの表面および裏面の少なくとも一方に光を照射する前に、ＯＦ２およびＩＦ３をウエハの端部に形成する。
【００６５】
これにより、ＯＦ２およびＩＦ３が形成されたウエハについて、ＯＦ２およびＩＦ３の位置と、反射光１３ｂの形状とを対比させて、ＯＦ２およびＩＦ３が正しくウエハの表裏面を示しているかについて検査することができる。
【００６６】
（実施の形態３）
本実施の形態では、ウエハ表裏面の検査装置の構成が図６に示すウエハ表裏面の検査装置の構成と異なっている。以下、本実施の形態のウエハ表裏面の検査装置について説明する。
【００６７】
図１３は、本発明の実施の形態３におけるウエハ表裏面の検査装置の構成を模式図に示す図である。図１３を参照して、本実施の形態のウエハ表裏面の検査装置において、受光装置２３は、測定部２２と、スリット２１とを有している。測定部２２はモニタ１４に電気的に接続されており、ウエハ１と測定部２２との間にスリット２１が配置されている。スリット２１には、たとえば図１３中縦方向のスリットが形成されている。
【００６８】
なお、これ以外のウエハ表裏面の検査装置については、実施の形態１の場合と同様であるので、その説明は省略する。
【００６９】
本実施の形態のウエハ表裏面の検査装置においては、スリット２１を通過した反射光１３ｂを測定部２２で受光し、その強度を測定する。そして、測定された強度をモニタ１４に数値で出力する。この数値に基づいて反射光１３ｂの形状を特定し、ウエハ１の表面および裏面を判別する。これについて具体的に説明する。
【００７０】
図１４は、反射光がウエハの表面で反射した場合に、反射光がスリットを通過する様子を模式的に示す図である。図１３および図１４を参照して、ウエハ１の表面にレーザ光１３ａが照射された場合には、たとえば図１４中縦方向に細長い形状の反射光１３ｂとなる。このような形状の反射光１３ｂはスリット２１を通過するので、測定部２２で測定される反射光１３ｂの強度は大きくなる。
【００７１】
図１５は、反射光がウエハの裏面で反射した場合に、反射光がスリットを通過する様子を模式的に示す図である。図１３および図１５を参照して、ウエハ１の裏面にレーザ光１３ａが照射された場合には、たとえば図１５中横方向に細長い形状の反射光１３ｂとなる。このような形状の反射光１３ｂの大部分はスリット２１に遮られるため、測定部２２で測定される反射光１３ｂの強度は小さくなる。
【００７２】
モニタ１４では、上記のような反射光１３ｂの強度の大小が数値で出力されるので、その数値に基づいて反射光１３ｂの形状を特定する。そして、レーザ光１３ａを照射した面がウエハ１の表面であるか裏面であるかを判別する。
【００７３】
なお、これ以外のウエハ表裏面の検査装置の構成については、実施の形態１の場合と同様であるので、その説明は省略する。
【００７４】
ここで、本実施の形態のウエハ表裏面の検査装置の具体的構成を以下に示す。図１６は、本発明の実施の形態３におけるウエハ表裏面の検査装置の具体的構成を示す斜視図である。図１６を参照して、ロボットアーム１９によって加工装置（図９）へウエハ１を搬送する際に、加工装置に取り付けたウエハ表裏面の検査装置３０によって表裏面を検査する。ウエハ表裏面の検査装置３０は、固定具３１と、レバー３２と、スライド板３３と、筐体３４とにより構成されている。
【００７５】
固定具３１は、ウエハ表裏面の検査装置３０をネジなどで固定するための固定部３１ａと固定部から高さ方向へ伸びた柱部３１ｂと、柱部３１ｂから水平方向に伸びた突出部３１ｃとを有している。スライド板３３は突出部３１ｃに保持されており、レバー３２の操作によって上下スライド可能となっており、鉛直軸を中心として回転可能となっている。
【００７６】
スライド板３３の下部には筐体３４が設置されている。筐体３４は、その内部にレーザ光照射ユニット１１（図１３）と、測定部２２（図１３）と、モニタ１４（図１３）とを有している。また、筐体３４の下面にはスリット２１（図１３）が設けられている。筐体３４は水平軸を中心として回転可能とされている。
【００７７】
なお、筐体３４としてはたとえばＳＵＰＥＲ  ＲＧＢセンサ（キーエンス社製）が適している。また、ウエハ１とレーザ光照射ユニット１１との距離はたとえば１００±２０ｍｍであり、ウエハ１の表面に対する筐体３４の下面の角度はたとえば０°〜２０°である。上記条件で本実施の形態のウエハ表裏面の検査装置３０を用いた場合、裏面１ｂからの反射光１３ｂの強度は、表面１ａからの反射光１３ｂの強度の２０％程度にまで減少した。
【００７８】
本実施の形態のウエハ表裏面の検査装置において、受光装置２３は、反射光１３ｂの強度を測定するための測定部２２と、ウエハ１と測定部２２との間に配置されるスリット２１とを有している。
【００７９】
これにより、スリット２１を通って測定部２２で測定される反射光１３ｂの強度は、反射光１３ｂの形状によって変化するので、反射光１３ｂの形状を強度に置き換えることができる。その結果、測定部２２で測定される反射光１３ｂの強度によってウエハ１の表面および裏面を判別することができる。
【００８０】
以上に開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は、以上の実施の形態ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正や変形を含むものと意図される。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明は、表面と裏面とで同様の処理が施されたウエハの検査方法および検査装置に適している。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明の実施の形態１におけるウエハの製造方法の一部を示すフロー図である。
【図２】インゴットからウエハを切り出す様子を模式的に示す斜視図である。
【図３】インゴットから切り出された直後のウエハの平面図である。
【図４】ウエハの表面に形成されたメサを模式的に示す平面図である。
【図５】ウエハの裏面に形成されたメサを模式的に示す平面図である。
【図６】本発明の実施の形態１におけるウエハ表裏面の検査装置の構成を模式図に示す図である。
【図７】反射光がウエハの表面で反射した場合に、モニタに映し出される反射光の形状を模式的に示す図である。
【図８】反射光がウエハの裏面で反射した場合に、モニタに映し出される反射光の形状を模式的に示す図である。
【図９】本発明の実施の形態１における加工装置の構成を模式的に示す平面図である。
【図１０】本発明の実施の形態２におけるウエハの製造方法の一部を示すフロー図である。
【図１１】ウエハの表面に形成されたメサと、ＯＦおよびＩＦとの関係を模式的に示す平面図である。
【図１２】ウエハの裏面に形成されたメサと、ＯＦおよびＩＦとの関係を模式的に示す平面図である。
【図１３】本発明の実施の形態３におけるウエハ表裏面の検査装置の構成を模式図に示す図である。
【図１４】反射光がウエハの表面で反射した場合に、反射光がスリットを通過する様子を模式的に示す図である。
【図１５】反射光がウエハの裏面で反射した場合に、反射光がスリットを通過する様子を模式的に示す図である。
【図１６】本発明の実施の形態３におけるウエハ表裏面の検査装置の具体的構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００８３】
１  ウエハ、１ａ  ウエハ表面、１ｂ  ウエハ裏面、２  ＯＦ、２ａ  仮ＯＦ、３  ＩＦ、５ａ，５ｂ  凹部、１０  インゴット、１１  レーザ光照射ユニット、１２  赤外線カメラ、１３ａ  レーザ光、１３ｂ  反射光、１４  モニタ、１５  テーブル、１５ａ  テーブルの辺、１６  砥石、１７  吸着テーブル、１８  加工装置、１９  ロボットアーム、２１  スリット、２２  測定部、２３  受光装置、３０  ウエハ表裏面の検査装置、３１  固定具、３１ａ  固定部、３１ｂ  柱部、３１ｃ  突出部、３２  レバー、３３  スライド板、３４  筐体。
【図１】
2006156895.tif 000003
【図２】
2006156895.tif 000004
【図３】
2006156895.tif 000005
【図４】
2006156895.tif 000006
【図５】
2006156895.tif 000007
【図６】
2006156895.tif 000008
【図７】
2006156895.tif 000009
【図８】
2006156895.tif 000010
【図９】
2006156895.tif 000011
【図１０】
2006156895.tif 000012
【図１１】
2006156895.tif 000013
【図１２】
2006156895.tif 000014
【図１３】
2006156895.tif 000015
【図１４】
2006156895.tif 000016
【図１５】
2006156895.tif 000017
【図１６】
2006156895.tif 000018