(57)【要約】【課題】様々なフォトリソグラフィ製造要求に合うように費用効率よく調整されることができる、リソグラフィシステム内で使用するための能動ファセットミラーシステムを提供する。【解決手段】能動ファセットミラーシステムは、複数の能動ファセットミラーデバイスと、ベースプレート２０５と、複数のピン３４０とを有している。各能動ファセットミラーデバイスは、反射面を備えたミラー基板３１０と、支持孔３３０と、アクチュエータターゲット３１５と、宝石軸受３３５と、ミラー基板を支持するためのフレクシャ３２０とを有する。複数のファセット制御装置は、所望の照明効果を提供するために能動ファセットミラーデバイスの位置を制御する。【選択図】図３
2006140504.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
能動ファセットミラーシステムにおいて、
複数の能動ファセットミラーデバイスが設けられており、各能動ファセットミラーデバイスに、ミラー基板が設けられており、該ミラー基板が、該ミラー基板の裏側に配置されたミラー基板支持孔を有しており、前記ミラー基板の前側に配置された反射面が設けられており、前記ミラー基板の裏側に配置された少なくとも２つのアクチュエータターゲットが設けられており、
前記複数の能動ファセットミラーデバイスを取り付けるためのベースプレートが設けられており、該ベースプレートに、前記ミラー基板を位置決めするための前記複数の能動ファセットミラーデバイスのそれぞれのための前記少なくとも２つのアクチュエータターゲットに対応する少なくとも２つのアクチュエータが設けられており、複数のベースプレート支持孔が設けられており、
前記ミラー基板を支持するための手段が設けられており、該手段が前記ミラー基板と前記ベースプレートとに結合されており、
前記複数の能動ファセットミラーデバイスのそれぞれを取り付ける複数のピンが設けられており、前記複数のピンの中の１つのピンが、前記複数のベースプレート支持孔のそれぞれと、前記複数のミラー基板支持孔の対応するミラー基板支持孔とに位置決めされていることを特徴とする、能動ファセットミラーシステム。
【請求項２】
前記反射面が極紫外線反射面コーティングである、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項３】
前記ベースプレートに取り付けられた複数のファセット制御装置が設けられており、前記複数のファセット制御装置のそれぞれが、前記複数の能動ファセットミラーデバイスのうちの幾つかを制御するようになっている、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項４】
前記少なくとも２つのアクチュエータが磁気アクチュエータである、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項５】
前記少なくとも２つのアクチュエータがローレンツアクチュエータである、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項６】
前記ミラー基板支持孔のそれぞれが、前記ミラー基板支持孔の内部に溝を有しており、該溝は、ガス又は液体が前記ミラー基板支持孔とピンとの間に捕捉されるのを防止している、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項７】
前記複数のピンのうちのそれぞれのピンが溝を有しており、該溝は、ガス又は液体が前記ミラー基板支持孔と前記複数のピン内のそれぞれのピンとの間に捕捉されるのを防止している、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項８】
前記ミラー基板が、前記ミラー基板の前面から熱を散逸させる材料を含む、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項９】
前記ミラー基板が銀である、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項１０】
前記反射面がアーチ状である、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項１１】
前記反射面が矩形である、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項１２】
各能動ファセットミラーデバイスの傾斜配列が、前記ファセット制御装置によって生ぜしめられた制御信号によって構成されることができる、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項１３】
各能動ファセットミラーデバイスのそれぞれの動きが、二方向に限定されている、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項１４】
前記支持孔が、対応するミラー基板における孔であり、前記支持孔がベアリングを含む、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項１５】
前記支持孔が、対応するミラー基板に固定された支持面である、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項１６】
前記支持孔が、対応するミラー基板に直接に位置した支持面である、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項１７】
前記ミラー基板を支持するための前記手段がフレクシャである、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項１８】
前記ミラー基板を支持するための前記手段が少なくとも１つの戻しばねである、請求項１記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項１９】
前記能動ファセットミラーデバイスが、前記ファセット制御装置によって提供された制御信号に基づいて、調整可能な放射強度を備えた調整可能な形状を有する照明フィールドを形成するように電磁放射を方向転換させる、請求項３記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項２０】
照明フィールドが環状である、請求項１９記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項２１】
照明フィールドが四重極形である、請求項１９記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項２２】
照明フィールドがトップハット形である、請求項１９記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項２３】
トップハット形照明フィールドのシグマが変化させられることができる、請求項１９記載の能動ファセットミラーシステム。
【請求項２４】
請求項１記載の能動ファセットミラーシステムを含む照明システム内において照明フィールドを調整する方法において、
（ａ）照明フィールドのタイプのための要求を受け取り、
（ｂ）要求された照明フィールドに基づき前記能動ファセットミラーシステム内における各ミラーの所望の位置を計算し、
（ｃ）所望の位置を１つ又は２つ以上のアクチュエータ制御装置に送信し、
（ｄ）受け取られた所望位置情報に基づき各ミラーの位置を調整する
ことを特徴とする、照明フィールドを調整する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ、特に能動ファセットミラーシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィは、多くのデバイス、特に電子的及び半導体デバイス、フラットパネルディスプレイ、プリントヘッド、マイクロ／ナノ流体デバイス等の製造においてしばしば使用される。リソグラフィプロセスにおいて、像が感光性基板に投影される。感光性基板上にイメージングされることが望まれるエレメント又はフィーチャ寸法（以下フィーチャ寸法という）がより小さくなるに従い、技術的問題がしばしば生じる。これらの問題の１つは、像が感光性基板上に投影されることができるように照明を提供することである。半導体デバイスのフィーチャ寸法が小さくなるに従い、０．０６５マイクロメートル未満の解像度を提供するフォトリソグラフィシステムが必要とされている。これらの比較的小さなエレメント又はフィーチャ寸法のイメージングを行うために、像を感光性基板に投影するために、より短い波長の電磁放射が使用されなければならない。したがって、リソグラフィシステムはしばしば、１５７ｎｍ以下の極紫外（ＥＵＶ）波長において、１ナノメートル程度の軟Ｘ線波長まで動作することが必要である。
【０００３】
歴史的に、これらの作動波長において感光性基板にレチクル又はマスクの像を投影するための所要の照明特性を提供することができる照明系はほとんどなかった。照明系は、１９９４年８月１６日にwhiteに発行された米国特許第５３３９３４６号明細書、“Device Fabrication Entailing Plasma-Derived X-Ray Delineation”に開示されており、これは引用により全体が本明細書に記載されたものとする。ここに開示されているのは、レーザポンプ式プラズマ源と共に使用するためのコンデンサであり、レーザポンプ式プラズマ源は、軸線を中心に対称的に配置されたファセット対を含むファセットコレクタレンズを有する。
【０００４】
別の照明系は、１９９７年１０月１４日にOshinoに発行された米国特許第５６７７９３９号明細書、“Illuminating Apparatus”に開示されており、これは引用により全体が本明細書に記載されたものとする。ここに開示されているのは、物体をアーチ状パターンで照明するための照明系である。系は、パラボラ円環状回転体を備えた反射ミラーと、経線方向で臨界照明を行うための反射面と、矢状方向でケーラー照明法を行うための反射面とを有する反射式光インテグレータとを有する。
【０００５】
別の照明系は、１９９６年４月３０日にSweattに発行された米国特許第５５１２７５９号明細書、“Condenser for Illuminating A Ring Field Camera with Synchrotron Emission Light”に開示されており、この明細書は引用により全体が本明細書に記載されたものとする。この明細書には、光ビームを集める凹面状及び凸面状の球面鏡と、光ビームをカメラの実際の入射ひとみに集束させかつ方向付ける平らなミラーと、抵抗性マスクを介して及びカメラの仮想入射ひとみ内へ本当の入射ひとみをイメージングするための球面鏡とを含むコンデンサが開示されている。
【０００６】
別の照明系は、１９９７年５月２０日にStanton他に発行された米国特許第５６３１７２１号明細書、“Hybrid Illumination System for Use in Photolithography”に開示されており、この明細書は引用により全体が本明細書に記載されたものとする。ここに開示されているのは、多段光学素子と、コンデンサと、回折光学素子のアレイとである。
【０００７】
幾つかの環境において、これらの従来の照明系は、所望の照明を提供せず、比較的複雑である。さらに、これらの系の多くは比較的大きく、多くの面を有しており、エネルギの損失を生じる。幾つかは、整合させるのが困難であり、調整を必要とする。
【０００８】
反射式蝿の目状コンデンサを使用する別の照明系が、２００１年２月２７日にKoch他に発行された米国特許第６１９５２０１号明細書、“Reflective Fly's Eye Condensor for EUV Lithography”に開示されており、この明細書は引用により全体が本明細書に記載されたものとする。この特許に開示された照明系は、フォトリソグラフィにおいて使用するための所望の放射照度及び角度分布、瞳フィル、又は放射強度を備えた所定のフィールド又は領域に亘って所望の放射照度を提供する極紫外線において使用するための改良された照明系及びコンデンサを提供することによって従来の系の欠点の幾つかを認識した。米国特許第６１９５２０１号明細書は、照明系内のファセットミラー又はミラーアレイとしても知られている反射式蝿の目を使用することによって既存の照明系を超えるこれらの改良の幾つかを達成した。
【０００９】
これらのファセットミラーは蝿の目と呼ばれる。なぜならば、ファセットミラーは、所望の反射を達成するためにベース上に精密に形成された多くの小さなミラーのセットから成っているからであり、これらのミラーはチクレットとも呼ばれる。フォトリソグラフィシステムにおいて使用するための照明系又はコンデンサは、電磁エネルギを第２のファセットミラーへ反射する第１のファセットミラーを照射する照明源から成ることができる。第１のファセットミラーは一般的にフィールドファセットミラーと呼ばれ、第２のファセットミラーは一般的に瞳ファセットミラーと呼ばれる。瞳ファセットミラーから反射された電磁エネルギは一般的に一連の光学素子を介して反射されることができ、これにより、レチクル又はマスク上に照明フィールドを形成する。
【００１０】
蝿の目ミラーの使用は、ＥＵＶフォトリソグラフィシステムにおいて電磁エネルギを方向付けるための正確な機構を提供するための潜在性を有するが、蝿の目ミラーを使用する現在の照明系は大きな欠点を有する。考えられている蝿の目ミラーを使用する照明系は一般的に極めて高価なリソグラフィシステムに含まれる。これらのリソグラフィシステムを使用する顧客は、広範囲の特性を有する半導体デバイスを製造する必要があり、広範囲の照明要求を支持することができるリソグラフィツールを要求する。考えられている蝿の目ミラーを使用する現在の照明系は、これらの広範囲な要求を有効に支持することができない。蝿の目ミラーの寸法及び複雑さにより、種々異なる製造要求に合うように与えられたシステム内のミラーを変更又は調整することは困難である。同様に、蝿の目ミラーの種々異なる組み合わせを有するリソグラフィシステムは高価である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
必要とされているのは、様々なフォトリソグラフィ製造要求に合うように費用効率よく調整されることができる、リソグラフィシステム内で使用するための能動ファセットミラーシステムである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、電磁エネルギが送信され、電磁エネルギを反射するために反射面が使用される、リソグラフィツール及びその他の用途において使用するための能動ファセットミラーシステムに関する。能動ファセットミラーシステムは、能動ファセットミラーデバイスと、ベースプレートと、能動ファセットミラーデバイスをベースプレートに取り付けるためのピンとを有している。
【００１３】
各能動ファセットミラーデバイスは、前側に反射面を備え、後側に取付けのための支持孔を備えたミラー基板を有する。さらに、各能動ファセットミラーデバイスは、ミラー基板の後側に配置された少なくとも２つのアクチュエータターゲットと、支持孔内に配置された宝石軸受と、跳ね返り特性を備えたフレクシャ又はミラー基板を支持するための戻しばねとを有している。ベースプレートは、能動ファセットミラーを取り付けるための一連の支持孔と、ベースプレートに取り付けられた各能動ファセットミラーデバイスのための少なくとも２つのアクチュエータとを有している。
【００１４】
制御装置は、各能動ファセットミラーデバイスのための各アクチュエータに位置決め命令を送信する。これらの命令を受け取ると、アクチュエータはミラー基板の位置を調整し、所望の照明フィールドを形成する。
【００１５】
ここに開示された能動ファセットミラーシステムに関連して多数の利点がある。特に、能動ファセットミラーシステムを使用することにより、設計の柔軟性が高まり、使いやすくなる。なぜならば、照明フィールドは、種々異なるミラーを備えたデバイスをレトロフィットするのではなく、個々の能動ファセットミラーデバイスの位置を電子的に調整することによって容易に提供されるからである。概して、ここに開示された能動ファセットミラーシステムは、リソグラフィシステム内で使用された場合、様々なフォトリソグラフィ製造要求に合うように費用効率よく調整されることができる。
【００１６】
発明の別の実施形態、特徴及び利点並びに発明の様々な実施形態の構造及び動作を添付図面を参照して以下に詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
添付図面を参照に発明を説明する。図面においては同じ参照符号は同一又は機能的に類似の要素を表す。その要素が最初に示された図面の番号は、対応する参照符号の左側の数字によって示されている。
【００１８】
本発明の、特定の用途のための例示的な実施態様に関してここで説明されているが、発明はそれに限定されないことが理解されるべきである。ここに提供された教えに接近した当業者は、本発明の範囲内の付加的な変更、用途及び実施形態、及び本発明が著しく有益である付加的な分野を認識するであろう。
【００１９】
図１は、蝿の目ミラーを使用した照明系１００を示している。照明系１００は、照明源１０５と、フィールドファセットミラー１１０と、瞳ファセットミラー１３０と、選択的な第１の反射素子１４０と、第２の反射素子１５０とを有している。
【００２０】
照明源１０５は、レーザプラズマ源、毛管放電管、又はシンクロトロン等のＥＵＶ源であることができる。当業者によって知られるように、非ＥＵＶ源を含むその他の形式の光源を使用することができる。照明源１０５からの電磁放射はフィールドファセットミラー１１０によって収集される。フィールドファセットミラー１１０から反射された電磁放射は瞳ファセットミラー１３０によって収集される。フィールドファセットミラー１１０は、チクレット又はミラーファセットと呼ばれる複数の反射素子又はミラーを有しており、これらの反射素子又はミラーは瞳ファセットミラー１３０における対応するファセットの近傍に複数のソース像を形成するために使用される。瞳ファセットミラー１３０から反射された電磁放射は、第１の反射光学素子１４０と第２の反射光学素子１５０とによって像面又は照明フィールド１７０へ中継される。リソグラフィシステムにおいて、第１及び第２の反射光学素子１４０及び１５０の組み合わせは、瞳ファセットミラー１３０の近傍に配置された開口絞り（図示せず）の像を投影光学系の瞳内に中継する。
【００２１】
図２は、本発明の実施形態による、能動ファセットミラーシステム２００の図を示している。能動ファセットミラーシステム２００は、照明系１００内のフィールドファセットミラー１１０及び／又は瞳ファセットミラー１３０のために使用されることができる。このことは、能動ファセットミラーシステム２００の使用が例示のためであって、発明の範囲を限定しようとするものではないことを提案する。ここでの説明に基づいて当業者によって知られるように、能動ファセットミラー系２００は、広範囲のリソグラフィ用途及び、電磁波伝達を含むその他の用途において使用されることができる。
【００２２】
能動ファセットミラーシステム２００は、ベースプレート２０５と、能動ファセットミラーデバイス２１０Ａ〜２１０Ｅ等の能動ファセットミラーデバイスを有している。実施形態において、全ての残りの正方形も能動ファセットミラーデバイスである。その他の実施形態において、定置のミラー又は反射面と能動ファセットミラーデバイスとの混合を使用することができる。図４に関してより完全に示されているように、ベースプレート２０５は能動ファセットミラーデバイスを取り付けるための基部を提供する。能動ファセットミラーデバイス２１０Ａ等の各能動ファセットミラーデバイスは、能動ファセットミラーデバイスをベースプレート２５０に取り付けるための手段（図示せず）をその後側に有している。前側には、能動ファセットミラーデバイスは、以下に説明される、光又はその他のタイプの電磁放射を反射するための反射面を有している。能動ファセットミラーデバイスの数は、ここでの説明に基づき当業者によって知られるように、特定の用途に応じて広範囲に亘って変化することができる。
【００２３】
図３は、本発明の実施形態による能動ファセットミラーデバイス２１０の後面図を示している。後面図が示しているように、能動ファセットミラーデバイス２１０は、ミラー基板３１０と、３つのアクチュエータターゲット３１５Ａ，３１５Ｂ及び３１５Ｃと、フレクシャ３２０と、フレクシャパッド３２５と、支持孔３３０と、宝石軸受３３５と、マウンティングピン３４０とを有している。択一的な実施形態において、アクチュエータターゲット３１５Ａ等の２つのアクチュエータターゲットを使用することができる。これらのアクチュエータターゲットは、フレクシャ３２０又は戻しばねに関連して能動ファセットミラーデバイスのための安定性及び動きを提供するために配置されている。２つのアクチュエータの特定の配置は、ここでの説明及び明細書用途に基づき当業者によって知られるであろう。
【００２４】
ミラー基板３１０は、アクチュエータターゲット３１５Ａ，３１５Ｂ及び３１５Ｃ及びフレクシャ３２０等の位置決め制御エレメントを取り付けるための基板を提供する。ミラー基板３１０は、ミラー基板３１０の中央に配置された支持孔３３０を有している。ミラー基板３１０の前側は、反射面が配置されることができる基板をも提供している。反射面は、当業者によって知られるように、ミラー、反射性コーティング又は光反射コーティングの層を含むことができる。反射面及び位置決めエレメントのための構造的支持を提供することに加えて、ミラー基板３１０は、反射面に蓄積した熱を散逸させるためにも働く。銀等の、高い放熱特性を備える材料は、散逸を促進するためにミラー基板３１０のために使用されることができる。
【００２５】
ミラー基板３１０のサイズ及び寸法は特定の用途に基づいて変化することができる。ミラー基板３１０における反射面のための典型的な面積は１ｃｍ２である。瞳ファセットミラーとして使用される場合、反射面は通常は正方形である。フィールドファセットミラーとして使用される場合、反射面は通常は、幅の５倍の長さを備える矩形である。これらの寸法は典型であり、発明の範囲を限定しようとしない。択一的な実施形態において、反射面はアーチ状であることができる。
【００２６】
アクチュエータターゲット３１５Ａ，３１５Ｂ及び３１５Ｃは、ミラー基板３１０のエッジに沿って支持孔３３０の中心に関して互いから約１２０度離れて位置決めされている。選択的に２つのアクチュエータのみが使用されている場合、フレクシャ３２０は２つのアクチュエータに対する戻しばねとして作用することができるか又は、２つのアクチュエータに対抗するために専用ばねが加えられることができる。アクチュエータターゲットは表面を提供し、この表面において、図４に関して説明されるアクチュエータは能動ファセットミラーデバイス２１０の動きを容易にすることができる。
【００２７】
フレクシャ３２０は、能動ファセットミラーデバイス２１０の動きを制限及び制御するための手段を提供する。通常はフレクシャ３２０の直径はミラー基板３１０の幅又は長さよりも小さい。通常はフレクシャ３２０の直径は、最大限の横方向安定性を提供するためにミラー基板３１０の幅又は長さの小さい方よりも僅かに小さい。フレクシャ３２０は、アクチュエータターゲット３１５Ａの下の一箇所においてミラー基板３１０に結合されている。実施形態において、ミラー基板３１０に結合された領域はフレクシャ３２０の面積の約２〜５％である。フレクシャ３２０はフレクシャパッド３２５も有する。フレクシャパッド３２５は、フレクシャ３２０をベースプレート、例えばベースプレート２０５に結合するために使用されている。フレクシャ３２０及びフレクシャパッド３２１は、銀、シリコン、又はミラー基板３１０から熱を逃がすために使用されることもできるその他の高応力降伏材料から形成されている。ここでの説明に基づき、当業者に知られるように、同様の特性を備えたその他の材料が使用されることができる。
【００２８】
前記のように、ミラー基板３１０は支持孔３３０を有している。支持孔３３０は、ミラー基板３１０を支持しかつミラー基板の動きを許容するために働くピンを挿入できるようにするための、ミラー基板３１０の後側の小さな穴である。より滑らかな動作を促進し、ミラー基板３１０における支持孔３３０における磨耗を低減するために、宝石軸受３３５が支持孔３３０に糊付けされている又は押し込まれている。当業者によって知られるその他の固定技術が使用されることができる。宝石軸受３３５は、合成ルビー、合成サファイア、セラミックス又は炭化珪素等の、あらゆる耐摩耗性の低摩擦材料から形成されることができるが、これらに限定されない。ピン３４０は宝石軸受３３５に挿入されている。ピン３４０は例えば炭化珪素又はステンレス鋼から形成されることができる。ピン３４０、宝石軸受３３５及び支持孔３３０の配置及び使用を図４及び図５を参照してより詳しく説明する。その他の実施形態において、支持孔３２０はミラー基板３１０に固定された支持面である。択一的に、支持孔３２０は、ミラー基板３１０に直接に位置する支持面である。
【００２９】
図４は、本発明の実施形態による、能動ファセットミラーデバイス２１０を強調した能動ファセットミラーシステムの一部の断面図である。図４は、図３に示された断面Ａに沿って見た断面図を示しており、図１に示したように能動ファセットミラーデバイスがベースプレート２０５に取り付けられている。断面は、ピン３４０がどのようにベースプレート２０５及びミラー基板３１０に位置しているかを示している。前記のように、ピン３４０は、宝石軸受３３５が例えばミラー基板３１０に押し込まれるように位置決めされている。同様に、ベースプレート２０５は支持孔４１０を有している。宝石軸受３３５内に位置決めされた端部とは反対側のピン３４０の端部は、支持孔４１０内に糊付けされているか又は押し込まれている。
【００３０】
ピン３４０の長さは、用途及びミラー基板の寸法に応じて変化する。通常はピン３４０の長さは、ミラー基板３１０とベースプレート２０５との間の距離がミラー基板３１０の幅の約０．２５〜０．５０であるようになっている。この範囲は典型的であり、発明を限定しようとしない。
【００３１】
フレクシャ３２０はミラー基板３１０の一方の側から、フレクシャ３２０がミラー基板３１０に結合されているところとは反対側にあるミラー基板３１０上の点の下方に位置したベースプレート２０５上の点まで、延びている。当業者によって知られるように、フレクシャ３２０は、ベースプレート２５０及びミラー基板３１０にねじ留め、糊付け、ろう接又はブレイズされることができる。
【００３２】
アクチュエータ３５０Ａ及び３５０Ｂはベースプレート２０５に取り付けられている。アクチュエータ３５０Ａはアクチュエータターゲット３１５Ａの下側に位置決めされているのに対し、アクチュエータ３５０Ｂはアクチュエータターゲット３１５Ｂの下側に位置決めされている。図４には示されていない第３のアクチュエータは、アクチュエータターゲット３１５Ｃの下側に位置決めされるように、ベースプレート２５０に配置されている。アクチュエータ３５０は磁気アクチュエータであることができる。磁気アクチュエータが使用される場合、電流がアクチュエータの１つ又は２つ以上に提供され、これにより、ミラー基板３１０を上下に移動させることによってミラー基板を位置決めする。
【００３３】
択一的な実施形態において、磁気アクチュエータは自己検出磁気ベアリングであることができる。ここでの説明に基づいて当業者によって知られるように、自己検出磁気ベアリングは、制御装置に信号を提供することができ、制御装置により、アクチュエータとアクチュエータターゲットとの間の距離が決定される。この形式で、各能動ファセットミラーデバイスの位置が評価され、必要に応じて調整されることができる。択一的な実施形態において、アクチュエータ３５０のためにローレンツアクチュエータを使用することができる。
【００３４】
反射面４０５はミラー基板３１０の前側にコーティングされている。実施形態において、反射面４０５はＥＵＶ反射面であることができる。
【００３５】
図５は、本発明の実施形態による、宝石軸受３３５内のピン３４０の断面を示している。図４に関して説明したように、宝石軸受３３５はミラー基板３１０内の支持孔３３０に押し込まれることができる。実施形態において、ピン３４０は丸い面を有している。同様に、能動ファセットミラーデバイスの滑らかな動きを提供するために、宝石軸受３３５の内面は丸み付けられている。図５は、ミラー基板３１０に溝５１０が形成されている択一的な実施形態を示している。溝５１０は、ミラー基板３１０の支持孔３３０と宝石軸受３３５との間に捕捉されるおそれのあるガス又は凝縮物の解放のための経路を提供する。溝の寸法は、ミラー３１０の位置決め制御を損なわないように十分に小さいが、ガス又は湿気を逃がすことができるように十分に大きい。ここでの説明に基づいて広範囲な溝構成及び溝寸法が当業者に知られるであろう。
【００３６】
図６は、本発明の実施形態による、ファセット制御装置によって制御される複数の能動ファセットミラーデバイスの図を示している。再び図２を参照すると、図６は、能動ファセットミラーデバイス２１０Ｂ，２１０Ｃ，２１０Ｄ及び２１０Ｅを含む能動ファセットミラーデバイスを示している。図２に関して説明したように、これらの能動ファセットミラーデバイスはベースプレート２０５に固定されている。ファセットの位置の制御は様々な方法で行うことができる。概して、反射面の傾斜配列は、ファセット制御装置によって生ぜしめられる制御信号によって構成されることができる。実施形態において、反射面の動きは二方向に限定されることができる。
【００３７】
１つの実施形態（図示せず）において、全ての能動ファセットミラーデバイスのための全てのアクチュエータを制御するために外部制御装置を使用することができる。外部制御装置が使用される場合、各アクチュエータは外部制御装置に接続されなければならない。接続は、電気的導線又はワイヤ、光接続、ワイヤレス又は電子チャネルを含むことができる。
【００３８】
図６は、ファセット制御装置６１０等の内部ファセット制御装置が使用されている択一的なアプローチを示している。この実施形態において、ファセット制御装置６１０は、複数の能動ファセットミラーデバイスを担当するように能動ファセットミラーデバイスの中間でベースプレート２０５に固定又は埋設されている。例えば、ファセット制御装置６１０は能動ファセットミラーデバイス２１０Ｂ，２１０Ｃ，２１０Ｄ及び２１０Ｅを制御する。ファセット制御装置によって担当される能動ファセットミラーデバイスの数は変化することができ、典型的な数は４から１６までの範囲にある。この範囲は典型的であり、発明を限定しようとするものではない。
【００３９】
電気的接続６２０等の電気的接続は、ファセット制御装置６１０から、ファセット制御装置６１０によって担当される全ての能動ファセットミラーデバイスのための各アクチュエータまで延びている。別の実施形態において、光学的結合、ワイヤレス又は電子チャネル接続を使用することができる。ファセット制御装置６１０等の内部ファセット制御装置を使用することによって、配線配列を単純にすることができる。次いで、各ファセット制御装置は、各ファセット制御装置に位置決め命令を提供するマスタ制御装置によって制御されることができる。
【００４０】
この制御により、各能動ファセットミラーデバイスは、特定の照明フィールドを提供するように制御されることができる。特に、能動ファセットミラーシステム２００は、各能動ファセットミラーデバイスにファセット制御装置によって提供される制御信号に基づいて調整可能な放射強度で調整可能な形状を有する照明フィールドを形成するように、電磁放射を方向転換させることができる。照明フィールドは、環状、四重極形、トップハット形、様々なシグマを備えたトップハット形を含むことができるがこれらに限定されない。
【００４１】
図７は、本発明の実施形態による、能動ファセットミラーシステム２００等の１つ又は２つ以上の能動ファセットミラーシステムを含む照明系内の照明フィールドを調整するための方法７００のフローチャートを示している。
【００４２】
方法７００はステップ７１０において開始する。ステップ７１０において、マスタ制御装置は、照明フィールドのタイプのための要求を受け取る。ステップ７２０において、マスタ制御装置は、要求された照明フィールドに基づいて、能動ファセットミラーシステム２００等の能動ファセットミラーシステム内の各能動ファセットミラーデバイスのための所望の位置を計算する。択一的に、マスタ制御装置は、所望の照明フィールドに対応する個々のミラーのための予め計算された位置のテーブルを調べる。ステップ７３０において、マスタ制御装置は、ファセット制御装置６１０等の各ファセット制御装置に所望の位置を送信する。ステップ７４０において、ファセット制御装置は、所望の位置決め情報に基づいて各能動ファセットミラーデバイスの位置を調整する。択一的な実施形態において、マスタ制御装置は、能動ファセットミラーシステム２００が照明系１００におけるフィールドファセットミラー１１０及び瞳ファセットミラー１３０のために使用されるならば、多数の能動ファセットミラーシステムを制御することができる。次いで、マスタ制御装置は、所望の照明フィールド又はその他の効果を達成するように、両能動ファセットミラーシステム内のファセット制御装置を命令するようにプログラムされる。
【００４３】
結論
本発明の典型的な実施形態が説明された。本発明はこれらの実施例に限定されない。これらの例は、例示のためであり、限定のために示されていない。択一例（ここに説明されているものの均等物、拡大、変更、逸脱等を含む）は、ここに含まれた説明に基づいて当業者に明らかになるであろう。このような択一例は発明の範囲及び精神に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】照明系を示す図である。
【図２】本発明の実施形態による、能動ファセットミラーシステムを示す図である。
【図３】本発明の実施形態による、能動ファセットミラーシステムの後側を示す図である。
【図４】本発明の実施形態による、１つの能動ファセットミラーデバイスを強調した、能動ファセットミラーシステムの断面図である。
【図５】本発明の実施形態による、ミラー基板に設けられた支持孔内の宝石軸受内の取付けピンを示す図である。
【図６】本発明の実施形態による、アクチュエータ制御装置によって制御される能動ファセットミラーデバイスを示す図である。
【図７】本発明の実施形態による、１つ又は２つ以上の能動ファセットミラーシステムを使用するリソグラフィツール内の照明フィールドを調整するための方法のフローチャートである。
【符号の説明】
【００４５】
１００  照明系、  １０５  照明源、  １１０  フィールドファセットミラー、  １３０  瞳ファセットミラー、  １４０，１５０  反射素子、  １７０  照明フィールド、  ２００  能動ファセットミラーシステム、  ２０５  ベースプレート、  ２１０  能動ファセットミラーデバイス、  ３１０  ミラー基板、  ３１５  アクチュエータターゲット、  ３２０  フレクシャ、  ３２５  フレクシャパッド、  ３３０  支持孔、  ３３５  宝石軸受、  ３４０  マウンティングピン、  ４０５  反射面、  ４１０  支持孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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