(57)【要約】【課題】輝点を暗点化して不良率を最小化することによって収率を向上させることのできる液晶表示パネル及びそのリペア方法を提供する。【解決手段】本発明の液晶表示パネルは、基板と、基板上から輝点が表れる領域と対応する位置に形成されたホールと、ホールに満たされた不透明物質とを備えており、上記不透明物質はホールの下部に部分的に満たされることを特徴とする。また、本発明の液晶表示パネルは、ホールの上部に満たされた透明物質を更に備えることとしてもよい。【選択図】図４Ａ
2006350286.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上から輝点が表れる領域と対応する位置に形成されたホールと、
前記ホールに満たされた不透明物質と、を備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記不透明物質は前記ホールの下部に部分的に満たされることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記ホールの上部に満たされた透明物質を更に備えることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記基板は液晶を介して合着される上部基板と下部基板とを含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記上部基板上に形成されるブラックマトリクス及びカラーフィルターを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
前記不透明物質は有色顔料を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
前記有色顔料は、前記輝点が表れる領域と対応する領域に位置するカラーフィルターと同一な色を具現する物質を含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示パネル。
【請求項８】
前記有色顔料は、前記輝点が表れる領域と対応する領域に位置するカラーフィルターと同一な物質であることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示パネル。
【請求項９】
前記有色顔料は、黒色及び灰色を具現することのできる物質を含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示パネル。
【請求項１０】
前記不透明物質は有色電極物質を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項１１】
前記有色電極物質はブラックマトリクスと同一な物質であることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示パネル。
【請求項１２】
前記ホールの直径は２０〜５００μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項１３】
基板を準備する段階と、
前記基板に輝点が表れる領域を判断する段階と、
前記輝点が表れる領域と対応する前記基板上にホールを形成する段階と、
前記ホールに不透明物質を満たす段階と、を含むことを特徴とする液晶表示パネルのリペア方法。
【請求項１４】
前記ホールは、マイクロドリル、マイクロミーリング、及びレーザーの中少なくとも何れか一つを用いて形成されることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示パネルのリペア方法。
【請求項１５】
前記レーザーの波長は５０〜３００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示パネルのリペア方法。
【請求項１６】
前記ホールに不透明物質を満たす段階は、前記ホールの下部に前記不透明物質を満たす段階を含むことを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示パネルのリペア方法。
【請求項１７】
前記ホールの下部に前記不透明物質を満たす段階は、前記ホールの全体に不透明物質を塗布する段階と、
エッチャントを用いて前記不透明物質を部分的に除去する段階と、を含むことを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示パネルのリペア方法。
【請求項１８】
前記ホールの上部に透明物質を満たす段階を更に含むことを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示パネルのリペア方法。
【請求項１９】
前記不透明物質は、ブラックマトリクス及びカラーフィルターの中何れか一方と同一な物質であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示パネルのリペア方法。
【請求項２０】
前記不透明物質は、前記輝点が表れる領域と対応する領域に位置する前記カラーフィルターと同一な色を具現する物質を含むことを特徴とする請求項１９に記載の液晶表示パネルのリペア方法。
【請求項２１】
前記不透明物質は、有色顔料及び有色電極物質の中何れか一つを含むことを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示パネルのリペア方法。
【請求項２２】
前記ホールに形成された不透明物質は、真空蒸着方式、スプレイ噴射方式及びスパッタリングの中何れか一つの工程によって形成されることを特徴とする請求項２１に記載の液晶表示パネルのリペア方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネル及びそのリペア方法に係り、特に、輝点を暗点化して不良率を最小化することによって収率を向上させることのできる液晶表示パネル及びそのリペア方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶表示装置（ＬＣＤ）はビデオ信号に従って液晶の光透過率を調節することによって画像を表示する。このために、液晶表示装置は液晶セルがマトリクス状に配列された液晶表示パネルと、液晶表示パネルを駆動するための駆動回路とを備える。
【０００３】
このような液晶表示装置は液晶を駆動させる電界方向に従って、垂直方向の電界を用いるＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードと水平電界を用いるＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎ  Ｓｗｉｔｃｈ）モードとに大別される。
【０００４】
ＴＮモードは、上部基板に対向して配置される画素電極と共通電極との間の垂直電界によって液晶を駆動するモードであって、開口率が大きいという利点を有する反面、視野角が狭いという問題点を有する。一方、ＩＰＳモードは、下部基板上に並べて配置された画素電極と共通電極との間の水平電界によって液晶を駆動するモードであって、視野角が広いという利点を有する反面、開口率が小さいという問題点を有する。
【０００５】
図１は、従来のＴＮモード液晶表示パネルを示す断面図である。
【０００６】
図１を参照すると、従来のＴＮモード液晶表示パネルは、上部基板２上に順次形成されたブラックマトリクス４と、カラーフィルター６と、共通電極１８及び上部配向膜８から構成される上部アレイ基板（カラーフィルターアレイ基板）と、下部基板３２上に形成された薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」という。）と、画素電極１６及び下部配向膜３８から構成される下部アレイ基板と、上部アレイ基板と下部アレイ基板との間の内部空間に注入された液晶５２とを備える。
【０００７】
一方、ＩＰＳモード液晶表示パネルには、共通電極１８が下部基板３２上に形成され、上部基板２上にカラーフィルター６の段差を補償するための平坦化層（未図示）が形成される。
【０００８】
上部アレイ基板において、ブラックマトリクス４が、下部アレイ基板のＴＦＴ領域と、未図示のゲートライン及びデータラインの領域とに対応するように上部基板２上に形成され、カラーフィルター６が形成されたセル領域が形成される。ブラックマトリクス４は、光漏れを防ぐと共に、外部光を吸収してコントラストを高める役割をする。カラーフィルター６は、ブラックマトリクス４によって分離されたセル領域及びブラックマトリクス４にわたって形成される。カラーフィルター６は、Ｒ、Ｇ、Ｂ別に形成され、Ｒ、Ｇ、Ｂ色をそれぞれ具現する。共通電極１８には液晶の動きを制御するための共通電圧が供給される。パターンスペーサー１３は、上部アレイ基板と下部アレイ基板との間のセルギャップを維持する役割をする。
【０００９】
下部アレイ基板において、ＴＦＴは、ゲートラインと共に下部基板３２上に形成されるゲート電極９と、ゲート電極９とゲート絶縁膜４４とを介して重畳される半導体層１４、４２と、半導体層１４、４２を介してデータライン（未図示）と共に形成されるソース・ドレイン電極４０、４７とが備えられている。このようなＴＦＴは、ゲートラインからのスキャン信号に応じてデータラインからの画素信号を画素電極１６に供給する。画素電極１６は、光透過率の高い透明導電性物質であり、保護膜５０を介してＴＦＴのドレイン電極４７に接触される。液晶配向のための上・下部配向膜８、３８は、ポリイミド等の配向物質を塗布した後、ラビング工程を行うことによって形成される。
【００１０】
このような従来の液晶表示パネルの上部アレイ基板及び下部アレイ基板の各薄膜に不良が発生する場合には、液晶表示パネルは上部アレイ基板と下部アレイ基板とを合着する前にリワーク（Ｒｅｗｏｒｋ）またはレーザー等を用いたリペアが可能である。しかし、上部アレイ基板の薄膜と下部アレイ基板とが合着された液晶表示パネルの薄膜の間に異物が安着する場合には、リワーク及びレーザー等による液晶表示パネルのリペアが不可能である。
【００１１】
図２は工程中に挿入された異物によって発生する配向の不良を説明するための断面図であり、図３は異物によって画像の具現の際に表れる輝点を示す図面である。
【００１２】
一般的に、液晶表示パネルの製造工程中に所定の薄膜を形成するチャンバー内に、または他の薄膜を形成するための別途のチャンバーまたは第３の所に移動する場合、薄膜と薄膜、例えば図２に示したように、共通電極１８と上部配向膜８との間に異物５５等が安着されることが頻繁に発生する。このような異物５５と対応して位置する配向膜は、異物５５によってラビング工程の際に均一にラビングされなくなることによって、液晶表示パネルには不均一な配向領域Ａが発生する。また、カラーフィルターの形成の際、工程上の欠陥等によってカラーフィルターの一部が剥される現象等によって異物５５等が混入される問題も頻繁に発生される。
【００１３】
液晶表示パネルには、このような不均一な配向領域Ａによって光漏れが発生し、このような光漏れが、液晶の光透過率を妨げることによって図３に示したような液晶表示パネルの輝点を生じさせる。一般的に、高いグレーを具現する場合、光漏れによって一領域が暗く見えることを暗点といい、低いグレーを具現する場合、光漏れによって一領域が明るく見えることを輝点という。ここで、人の目は暗点よりは輝点に相対的に敏感であるので、パネルの良不判定の際、暗点よりは輝点の不良に更に厳格な基準を与えるようになっている。これに従って、輝点発生によるパネルの不良率を最小化するための方案が要求されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
従って、本発明の目的は、輝点を暗点化して不良率を最小化することによって収率を向上させることのできる液晶表示パネル及びそのリペア方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前上目的を達成するために、本発明の液晶表示パネルは、基板と、基板上から輝点が表れる領域と対応する位置に形成されたホールと、ホールに満たされた不透明物質とを備えることを特徴とする。
【００１６】
上記不透明物質はホールの下部に部分的に満たされることを特徴とする。
【００１７】
本発明の液晶表示パネルは、ホールの上部に満たされた透明物質を更に備えることを特徴とする。
【００１８】
上記基板は、液晶を介して合着される上部基板と下部基板とを含むことを特徴とする。
【００１９】
本発明の液晶表示パネルは、上部基板上に形成されたブラックマトリクス及びカラーフィルターを更に含むことを特徴とする。
【００２０】
上記不透明物質は有色顔料を含むことを特徴とする。
【００２１】
この有色顔料は、輝点が表れる領域と対応する領域に位置するカラーフィルターと同一な色を具現する物質を含むことを特徴とする。
【００２２】
この有色顔料は、輝点が表れる領域と対応する領域に位置するカラーフィルターと同一な物質であることを特徴とする。
【００２３】
この有色顔料は、黒色及び灰色を具現することのできる物質を含むことを特徴とする。
【００２４】
上記不透明物質は有色電極物質を含むことを特徴とする。
【００２５】
この有色電極物質はブラックマトリクスと同一な物質であることを特徴とする。
【００２６】
上記ホールの直径は２０〜５００μｍの範囲内であることを特徴とする。
【００２７】
本発明の液晶表示パネルのリペア方法は、基板を設ける段階と、基板に輝点が表れる領域を判断する段階と、輝点が表れる領域と対応する基板上にホールを形成する段階と、ホールに不透明物質を満たす段階とを含むことを特徴とする。
【００２８】
このホールは、マイクロドリル、マイクロミーリング
及びレーザーの中少なくとも何れか一つを用いて形成されることを特徴とする。
【００２９】
このレーザーの波長は５０〜３００ｎｍの範囲内であることを特徴とする。
【００３０】
ホールに不透明物質を満たす段階は、ホールの下部に不透明物質を満たす段階を含むことを特徴とする。
【００３１】
ホールの下部に不透明物質を満たす段階は、ホールの全体に不透明物質を塗布する段階と、エッチャントを用いて不透明物質を部分的に除去する段階とを含むことを特徴とする。
【００３２】
本発明の液晶表示パネルのリペア方法は、ホールの上部に透明物質を満たす段階を更に含むことを特徴とする。
【００３３】
ホールに形成された不透明物質は、真空蒸着方式、スプレイ噴射方式及びスパッタリングの中何れか一つの工程によって形成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３４】
前述のように、本発明の液晶表示パネル及びそのリペア方法は、液晶表示パネルの製造工程中に工程上の問題によって輝点が発生する場合、この輝点が発生した領域と対応する上部基板及び下部基板の中何れか一つの基板上にマイクロホールを形成し、形成したマイクロホールに不透明物質を満たすによって輝点が発生した領域を暗点化することができる。これに従って、液晶表示パネルの不良率が最小化される等、液晶表示パネルの収率が向上される。
【００３５】
以上、説明した内容を通じて、当業者なら本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で、多様な変更及び修正ができることが分かる。従って、本発明の技術的範囲は明細書の詳細な説明に記載された内容に限られるのでなく、特許請求の範囲によって決められるべきである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
上記目的の外に、本発明の他の目的及び特徴は添付図面を参照した実施形態についての説明を通じて明らかに表れるはずである。
【００３７】
以下、図４Ａ乃至図９を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。
【００３８】
図４Ａ及び図４Ｂは、本実施形態の液晶表示パネルを示す断面図である。
【００３９】
図４Ａ及び図４Ｂを参照すると、本実施形態の液晶表示パネル１７０は、上部基板１０２上に順次形成されたブラックマトリクス１０４、カラーフィルター１０６、共通電極１１８、パターンスペーサー１１３及び上部配向膜１０８から構成された上部アレイ基板（カラーフィルターアレイ基板）と、下部基板１３２上に形成されたＴＦＴと、画素電極１１６及び下部配向膜１３８から構成された下部アレイ基板（薄膜トランジスタ基板）と、上部アレイ基板と下部アレイ基板との間の内部空間に注入された液晶１５２とを備えている。
【００４０】
上部アレイ基板において、ブラックマトリクス１０４は、下部基板１３２上のＴＦＴ領域と、未図示のゲートライン及びデータラインの領域とに対応するように上部基板１０２上に形成され、カラーフィルター１０６が形成されたセル領域を形成している。ブラックマトリクス１０４はカルボン系の顔料が混合されたポリイミドにより形成され、光漏れを防ぐと共に外部光を吸収してコントラストを高める役割をする。カラーフィルター１０６は、ブラックマトリクス１０４によって分離されたセル領域及びブラックマトリクス１０４にわたって形成される。カラーフィルター１０６は、Ｒ、Ｇ、Ｂ別に形成され、Ｒ、Ｇ、Ｂ色をそれぞれ具現する。共通電極１１８には液晶の動きを制御するための共通電圧が供給される。パターンスペーサー１１３は、上部アレイ基板と下部アレイ基板との間のセルギャップを維持する役割をする。
【００４１】
下部アレイ基板において、ＴＦＴは、ゲートラインと共に下部基板１３２上に形成されたゲート電極１０９と、ゲート絶縁膜１４４を介してゲート電極１０９と重畳された半導体層１１４、１４７と、半導体層１１４、１４７を介してデータライン（未図示）と共に形成されたソース/ドレイン電極１４０、１４２とを備える。このようなＴＦＴは、ゲートラインからのスキャン信号に応じてデータラインからの画素信号を画素電極１１６に供給する。
【００４２】
画素電極１１６は、光透過率の高い透明導電性物質であり、保護膜１５０を介してＴＦＴのドレイン電極１４２と接触している。液晶配向のための上・下部配向膜１０８、１３８は、ポリイミド等のような配向物質を塗布した後、ラビング工程を行うことによって形成される。一方、ＩＰＳモード液晶表示パネルには、共通電極１１８が下部基板１３２上に形成され、上部基板１０２上のカラーフィルター１０６の上にカラーフィルター１０６の段差を補償するための平坦化層（未図示）が形成される。
【００４３】
本実施形態の液晶表示パネル１７０は、液晶表示パネル１７０に混入された異物１５５等による配向の不良によって液晶表示パネル１７０の配向の不良が発生された領域に輝点が発生した場合、輝点が発生した領域に対応する上部基板１０２及び下部基板１３２の中何れか一方にマイクロホール１６５が形成され、形成されたマイクロホール１６５の内部には不透明物質２６０が満たされる。下部に不透明物質２６０が満たされたマイクロホール１６５の上部には透明物質２７０を満たすこととしてもよい。
【００４４】
マイクロホール１６５に満たされた不透明物質２６０は、図５Ａに示したように、下部アレイ基板の後面に配置されたバックライトユニット１２０から液晶表示パネル１７０に照射される光を遮断するによって、液晶表示パネル１７０に配向の不良が発生した領域、即ち、輝点が発生した領域を暗点化させる。その結果、液晶表示パネル１７０の不良率を最小化させる等、液晶表示パネル１７０の収率を向上させる。
【００４５】
この際、マイクロホール１６５の内部に満たされた不透明物質２６０は、マイクロホール１６５と隣接したセルの開口率の減少を防ぐためにマイクロホール１６５の下部にだけ満たされる。
【００４６】
図５Ｂに示したように、マイクロホール１６５に不透明物質２６０が一杯満たされた場合、マイクロホール１６５に一杯満たされた不透明物質２６０によってバックライトユニット１２０から輝点が発生した領域に照射される光は勿論、マイクロホール１６５と隣接したセルに照射される光まで遮断することによってマイクロホール１６５と隣接したセルの開口率が減少する。即ち、それを防ぐために不透明物質２６０はマイクロホール１６５の下部にだけ満たされるようにする。
【００４７】
このようなマイクロホール１６５は、マイクロドリルを通じて形成され、マイクロホール１６５は液晶表示パネル１７０のサイズ及び混入された異物１５５によって発生した光漏れの程度によって２０〜５００μｍの範囲内で形成される。
【００４８】
マイクロドリルとしては、混入された異物１５５の形態に従って、丸い形態のマイクロホール１６５や直線の形態のマイクロホール１６５を形成することのできるエンドドリルが使用される。ここで、マイクロホール１６５を形成するための装置としてマイクロドリルの外にマイクロミーリングを用いることもできる。マイクロミーリングはマイクロドリルより更に精密で多様な形象のマイクロホール１６５を形成することができる。
【００４９】
以下、図６Ａ乃至図６Ｄを参照して本発明の第１実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を説明すると次のようである。
【００５０】
本実施形態のマイクロホール１６５の形成は、前述のマイクロドリル及びマイクロミーリングの中マイクロドリルを用いたマイクロホール１６５の形成のみを説明することにし、マイクロミーリングを用いたマイクロホール１６５の形成はマイクロドリルを用いた場合と同一であるため省略する。
【００５１】
また、本実施形態の液晶表示パネル１７０のリペアは、液晶表示パネル１７０の上部基板１０２及び下部基板１３２の中何れか一方１０２、１３２に形成されたマイクロホール１６５を用いるが、本実施形態の液晶表示パネル１７０のリペアは、下部基板１３２に形成されたマイクロホール１６５を用いた液晶表示パネル１７０のリペアのみを説明することにし、上部基板１０２に形成されるマイクロホール１６５を用いた液晶表示パネル１７０のリペアは下部基板１３２に形成されるマイクロホール１６５を用いた液晶表示パネル１７０のリペアと同一であるので省略する。
【００５２】
図６Ａを参照すると、例えば共通電極１１８と上部配向膜１０８との間に混入された異物１５５等によって液晶表示パネル１７０に輝点が発生した場合、マイクロドリル１６０を用いて輝点が発生した領域に対応する下部基板１３２にマイクロホール１６５を形成する。
【００５３】
続いて、図６Ｂに示したように、形成されたマイクロホール１６５に有色顔料４１０、特に黒色または灰色顔料をインクジェット等を用いて下部基板１３２上に形成されたマイクロホール１６５に落としてマイクロホール１６５の下部を満たす。ここで、有色顔料４１０の材料としては、異物１５５が混入された領域に対応するカラーフィルター１０６と同一な物質または同一な色を具現する物質等が利用される場合もある。
【００５４】
次いで、その下部に有色顔料４１０が満たされたマイクロホール１６５の上部には図６Ｃ及び図６Ｄに示したように透明顔料４２０を満たす。
【００５５】
このように、本発明の第１実施形態の液晶表示パネルのリペア方法は、液晶表示パネル１７０に輝点が発生した場合、液晶表示パネル１７０の輝点が発生した領域に対応する下部基板１３２にマイクロドリル１６０またはマイクロミーリングを用いてマイクロホール１６５を形成し、形成されたマイクロホール１６５に有色顔料４１０を満たして輝点が発生した領域を暗点化させることによって、バックライトユニット（未図示）から出射された光が外部へと通過しないようにして輝点の発生を減少させることができる。これに従って、液晶表示パネル１７０の不良率を最小化させる等、液晶表示パネル１７０の収率が向上する。
【００５６】
図７Ａ乃至図７Ｄは、本発明の第２実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に示す断面図である。
【００５７】
図７Ａ及び図７Ｂを参照すると、本実施形態の液晶表示パネル１７０のリペア方法は、液晶表示パネル１７０に輝点が発生した領域に対応する領域に形成されたマイクロホール１６５に有色顔料４１０、特に黒色または灰色顔料を落としてマイクロホール１６５を満たす。ここで、有色顔料４１０の材料としては、異物１５５が混入された領域に対応するカラーフィルター１０６と同一な物質または同一な色を具現する物質等が利用される場合もある。
【００５８】
次いで、有色顔料４１０が満たされたマイクロホール１６５の上部に有色顔料４１０を除去するエッチャントを図７Ｃのように塗布し、塗布したエッチャントを用いて図７Ｄに示したようにマイクロホール１６５の下部を除いた領域に塗布された有色顔料４１０を除去する。ここで、マイクロホール１６５の下部に塗布された有色顔料４１０は、マイクロホール１６５が下部基板１３２を貫通しないことによって、エッチャント等によって容易に除去されない。但し、下部基板１３２上に塗布された有色顔料４１０及びマイクロホール１６５の上部に塗布された有色顔料４１０はエッチャントによって容易に除去される。
【００５９】
この際、エッチャントによって有色顔料４１０が除去されたマイクロホール１６５の上部には、図６Ｄのように透明顔料４２０を満たすこともできる。
【００６０】
このように、本発明の第２実施形態の液晶表示パネルのリペア方法は、液晶表示パネル１７０に輝点が発生した場合、液晶表示パネル１７０の輝点が発生した領域に対応する下部基板１３２にマイクロドリル１６０またはマイクロミーリングを用いてマイクロホール１６５を形成し、形成されたマイクロホール１６５に有色顔料４１０を満たして輝点が発生した領域を暗点化させることによって、バックライトユニットから出射された光が外部へと通過しないようにして輝点の発生を減少させることができる。これに従って、液晶表示パネルの不良率を最小化させる等、液晶表示パネルの収率が向上する。
【００６１】
図８Ａ乃至図８Ｄは、本発明の第３実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【００６２】
図８Ａを参照すると、本実施形態の液晶表示パネル１７０のリペア方法は、液晶表示パネル１７０の輝点が発生した領域に対応する領域にマイクロホール１６５が形成され、次いで、有色電極物質５１０、特にクロム（Ｃｒ）またはモリブデン（Ｍｏ）等の黒色の電極物質を真空蒸着等の蒸着方法を用いてマイクロホール１６５が形成された下部基板１３２に蒸着する。
【００６３】
その次に、下部基板１３２に有色電極物質５１０を除去するエッチャントを図８Ｂのように塗布し、塗布したエッチャントを用いて図８Ｃに示したように、マイクロホール１６５の下部を除いた領域に形成された有色電極物質５１０を除去する。ここで、下部基板１３２上に形成されたマイクロホール１６５は下部基板１３２を貫通していないことによって、マイクロホール１６５内に満たされた有色電極物質５１０はエッチャント等によって容易に除去されない。但し、下部基板１３２上に蒸着された有色電極物質５１０はエッチャントによって容易に除去される。
【００６４】
この際、エッチャントによって有色電極物質５１０が除去されたマイクロホール１６５の上部には、図８Ｄのように透明顔料５２０を満たすこともできる。
【００６５】
尚、本実施形態では、真空蒸着等の蒸着方法を用いてマイクロホール１６５内に有色電極物質５１０を満たす場合のみを説明したが、真空蒸着等の蒸着方法を用いてマイクロホール１６５内に前述の有色顔料等を満たすこともできる。
【００６６】
このように、本発明の第３実施形態の液晶表示パネルのリペア方法は、液晶表示パネル１７０に輝点が発生した場合、液晶表示パネル１７０の輝点が発生した領域に対応する下部基板１３２にマイクロドリルまたはマイクロミーリングを用いてマイクロホール１６５を形成し、形成されたマイクロホール１６５に有色電極物質５１０を満たして輝点が発生した領域を暗点化させるによって、バックライトユニットから出射された光が外部へと通過しないようにして輝点の発生を減少させることができる。これに従って、液晶表示パネル１７０の不良率を最小化させる等、液晶表示パネル１７０の収率が向上される。
【００６７】
また、図９に示した本発明の液晶表示パネルは、液晶表示パネル１７０に混入された異物等による配向の不良によって輝点が発生した場合、輝点が発生した領域に対応する下部基板１３２にレーザー１６１を用いてマイクロホール１６５を形成し、形成されたマイクロホール１６５に前述のリペア方法と同一な方法により不透明物質２６０を満たすことによって輝点が発生した領域を暗点化させることもできる。ここで、マイクロホール１６５を形成するために使用するレーザー１６１は２６６ｎｍの波長を有するＮＤ  ＹＡＧレーザーを含み、５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の波長を有する他のレーザーも含まれる。
【００６８】
このように、輝点が発生した領域に対応する上部基板１０２及び下部基板１３２の中何れか一方にマイクロホール１６５を形成し輝点が発生した領域を暗点化する方式は、ＩＰＳモードの液晶表示パネル及びＴＮモードの液晶表示パネルだけでなく、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、それにＶＡ（垂直配向）モードの液晶表示パネルにも容易に適用される。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】従来の液晶表示パネルを示す断面図である。
【図２】工程中に挿入された異物によって発生した配向の不良を説明するための断面図である。
【図３】異物によって画像の具現の際に表れる輝点を示す図面である。
【図４Ａ】本発明の実施形態の液晶表示パネルを示す断面図である。
【図４Ｂ】本発明の実施形態の液晶表示パネルを示す断面図である。
【図５Ａ】バックライトユニットからマイクロホールに照射される光を示す図面である。
【図５Ｂ】バックライトユニットからマイクロホールに照射される光を示す図面である。
【図６Ａ】本発明の第１実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図６Ｂ】本発明の第１実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図６Ｃ】本発明の第１実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図６Ｄ】本発明の第１実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図７Ａ】本発明の第２実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図７Ｂ】本発明の第２実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図７Ｃ】本発明の第２実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図７Ｄ】本発明の第２実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図８Ａ】本発明の第３実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図８Ｂ】本発明の第３実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図８Ｃ】本発明の第３実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図８Ｄ】本発明の第３実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を段階的に説明するための断面図である。
【図９】本発明の他の実施形態の液晶表示パネルのリペア方法を示す断面図である。
【符号の説明】
【００７０】
２、１０２：上部基板              
４、１０４：ブラックマトリクス
６、１０６：カラーフィルター      
８、１０８：上部配向膜
９、１０９：ゲート電極            
１３、１１３：パターンスペーサー
１４、１１４：半導体層            
１６、１１６：画素電極
１８、１１８：共通電極            
３２、１３２：下部基板
３８、１３８：下部配向膜          
４０、１４０：ソース電極
４２、１４２：オーミック接触層    
４４，１４４：ゲート絶縁膜
４７、１４７：ドレイン電極        
５５、１５５：異物
１２０：バックライトユニット      
１６０：マイクロドリル
１６１：レーザー                  
１６５：マイクロホール
２６０：不透明物質                
２７０：透明物質
４１０：有色顔料                  
４２０、５２０：透明顔料
５１０：有色電極物質
【図１】
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【図２】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
2006350286.tif 000008
【図６Ａ】
2006350286.tif 000009
【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図９】
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【図３】
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