(57)【要約】【課題】重合体の原料等として有用な新規な含フッ素エポキシ化合物、および該含フッ素エポキシ化合物を重合させた、短波長光に対して高い透明性を有する重合体を提供する。【解決手段】下式（１）で表される化合物（ただし、ＲＦ１およびＲＦ２は、それぞれ独立に、フッ素原子または炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基を示す。）、式ＣＦ２＝ＣＦＣＲＦ１ＲＦ２ＯＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２で表される化合物をエポキシ化反応させる下式（１）で表される化合物の製造方法、該化合物を重合させた重合体。【化１】2006193465.tif 000015【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（１）で表される化合物（ただし、ＲＦ１およびＲＦ２は、それぞれ独立に、フッ素原子または炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基を示す。）。
【化１】
2006193465.tif 000012
【請求項２】
下式（２）で表される化合物をエポキシ化反応させることを特徴とする下式（１）で表される化合物の製造方法。
ＣＦ２＝ＣＦＣＲＦ１ＲＦ２ＯＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２      （２）
【化２】
2006193465.tif 000013
【請求項３】
下式（１）で表される化合物を重合させた重合体。
【化３】
2006193465.tif 000014
【請求項４】
重量平均分子量が５００〜１００００００である請求項３に記載の重合体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、短波長光に対して高い透明性を有する重合体、および該重合体の原料等として有用な新規な含フッ素エポキシ化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体等の製造工程に用いるフォトリソグラフィ（露光処理）において、フォトマスクやレチクル（以下、これらをマスクパターン面という。）への異物付着を防止するために、ペリクルが用いられる。ペリクルとは、透明薄膜が接着剤を介して枠体に設置されたマスクパターン面上に一定の距離をおいて装着される光学物品である。
【０００３】
半導体の配線や配線間隔が微細化するに伴い、フォトリソグラフィにおける露光光源に発振波長が２００ｎｍ以下のエキシマレーザー光（たとえば、発振波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー光や発振波長が１５７ｎｍのＦ２エキシマレーザー光等。）の使用が検討されている。
【０００４】
該エキシマレーザー光を用いたフォトリソグラフィ用ペリクルの材料として、主鎖にエーテル性酸素原子を含み環構造を含まない含フッ素重合体（Ｑ）が提案されている。含フッ素重合体（Ｑ）としては、主鎖に式−ＯＣＦ２ＣＦ２−で表される繰返し単位と式−ＣＦ２Ｏ−で表される繰返し単位を含み、他の主鎖部分に環構造を含まない含フッ素重合体（Ｑ１）が提案されている（特許文献１参照。）。含フッ素重合体（Ｑ１）は、ＣＦ２＝ＣＦ２を酸素と光酸化反応させて得られる（特許文献２参照。）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２５５６４３号公報
【特許文献２】特表平０４−５０５１７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
含フッ素重合体（Ｑ１）中の繰返し単位は、ＣＦ２＝ＣＦ２の重合により形成されたモノマー単位ではなく、ＣＦ２＝ＣＦ２の酸化分解により形成される単位であると考えられた。そして含フッ素重合体（Ｑ１）中の繰返し単位の、割合および組み合せは限定されていた。また他の繰返し単位を含む含フッ素重合体（Ｑ）を得ようとしても、原料となる化合物の入手が困難であり得られる含フッ素重合体（Ｑ）の種類は限定されていた。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の発明を提供する。
＜１＞：下式（１）で表される化合物（ただし、ＲＦ１およびＲＦ２は、それぞれ独立に、フッ素原子または炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基を示す。）。
【０００８】
【化１】
2006193465.tif 000002
【０００９】
＜２＞：下式（２）で表される化合物をエポキシ化反応させる式（１）で表される化合物の製造方法。
ＣＦ２＝ＣＦＣＲＦ１ＲＦ２ＯＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２      （２）
＜３＞：式（１）で表される化合物を重合させた重合体。
＜４＞：重量平均分子量が５００〜１００００００である＜３＞の重合体。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、新規な含フッ素エポキシ化合物が提供される。本発明の含フッ素エポキシ化合物は、１分子内に２個のエポキシ構造を有する特徴的な化合物である。本発明の含フッ素エポキシ化合物を重合させた重合体は、重合体の主鎖にエーテル性酸素原子を含み、２００ｎｍ以下の波長光に対して高い透明性を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）とも記す。他の式で表される化合物においても同様に記す。また、式（Ａ）で表わされるモノマー単位を単位（Ａ）と記す。モノマー単位とは、モノマーの重合により形成されるモノマーに由来する最大の繰り返し単位を意味する。
【００１２】
本発明は、下記化合物（１）を提供する（ただし、ＲＦ１およびＲＦ２は、前記と同じ意味を示す。以下同じ。）。
【００１３】
【化２】
2006193465.tif 000003
【００１４】
ＲＦ１およびＲＦ２は、同一であっても異なっていてもよい。炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基であるＲＦ１およびＲＦ２としては、トリフルオロメチル基が好ましい。ＲＦ１およびＲＦ２は、いずれもフッ素原子であるのが好ましい。
【００１５】
化合物（１）の具体例としては下記の化合物が挙げられる。
【００１６】
【化３】
2006193465.tif 000004
【００１７】
本発明の化合物（１）は、新規化合物である。化合物（１）は、下記化合物（２）をエポキシ化反応させて得られる。
ＣＦ２＝ＣＦＣＲＦ１ＲＦ２ＯＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２      （２）
エポキシ化反応は、酸化剤の存在下に行うのが好ましい。酸化剤としては、有機系酸化剤（たとえば有機過酸化物等。）、無機系酸化剤（たとえば次亜塩素酸ソーダ、ＫＨＳＯ５等。）が挙げられる。
【００１８】
反応の温度は、−１０℃〜＋１０℃が好ましく、−５℃〜＋５℃が特に好ましい。
反応の圧力は、０〜２ＭＰａ（ゲージ圧）が好ましく、０〜１ＭＰａ（ゲージ圧）が特に好ましい。
【００１９】
反応は、２相系反応で行うのが好ましく、相間移動触媒を用いた２相系反応で行うのが特に好ましい。相間移動触媒としては、塩化トリオクチルメチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム等が挙げられ、塩化トリオクチルメチルアンモニウムが好ましい。
【００２０】
化合物（２）は、ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨと下記化合物（９）をエーテル化反応させて下記化合物（８）を得て、該化合物（８）を式Ｒｆ−ＣＯＦで表される化合物とエステル化反応させて下記化合物（７）を得て、該化合物（７）をハロゲン化反応させて下記化合物（６）を得て、該化合物（６）をフッ素化反応させて下記化合物（５）を得て、該化合物（５）を熱分解反応させて下記化合物（４）を得て、該化合物（４）を熱分解反応させて下記化合物（３）を得て、該化合物（３）を脱ハロゲン化反応させる方法を用いて製造できる。
ＣＨ２＝ＣＨＣＲ１Ｒ２Ｘ                                            （９）
ＣＨ２＝ＣＨＣＲ１Ｒ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ                   （８）
ＣＨ２＝ＣＨＣＲ１Ｒ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）Ｒｆ          （７）
ＣＨ２ＺＣＨＺＣＲ１Ｒ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）Ｒｆ     （６）
ＣＦ２ＺＣＦＺＣＲＦ１ＲＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣ（Ｏ）Ｒｆ   （５）
ＣＦ２ＺＣＦＺＣＲＦ１ＲＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＦ               （４）
ＣＦ２ＺＣＦＺＣＲＦ１ＲＦ２ＯＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２                     （３）
ＣＦ２＝ＣＦＣＲＦ１ＲＦ２ＯＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２                          （２）
ただし、Ｒ１およびＲ２は、それぞれＲＦ１とＲＦ２に対応する基であり、Ｒ１はＲＦ１と同一の基またはフッ素化反応によりＲＦ１となる基であり、Ｒ２はＲＦ２と同一の基またはフッ素化反応によりＲＦ２となる基である。Ｒ１およびＲ２は、それぞれ水素原子または炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。
【００２１】
Ｘは、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましい。
Ｚは、塩素原子または臭素原子である。
Ｒｆは炭素数１〜２０のペフルオロアルキル基または炭素数２〜２０のエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキル基である。
【００２２】
化合物（９）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２Ｃｌ、
ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２Ｂｒ、
ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２Ｉ、
ＣＨ２＝ＣＨＣＨ（ＣＨ３）Ｃｌ、
ＣＨ２＝ＣＨＣ（ＣＨ３）２Ｃｌ、
ＣＨ２＝ＣＨＣＨ（Ｃ２Ｈ５）Ｃｌ。
【００２３】
化合物（２）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
【００２４】
【化４】
2006193465.tif 000005
【００２５】
エーテル化反応、エステル化反応、ハロゲン化反応、フッ素化反応、エステル分解反応および脱ハロゲン化反応は、公知の方法にしたがって実施できる。
【００２６】
本発明の化合物（１）は、それぞれ分子中に２個の重合性のエポキシ構造を有する化合物である。化合物（１）を重合させることにより下記単位から選ばれる１種以上のモノマー単位を含む重合体（Ａ）を得ることができる。
【００２７】
【化５】
2006193465.tif 000006
【００２８】
化合物（１）の重合反応の種類は、特に限定されず、アニオン重合法、カチオン重合法等のイオン重合法、ラジカル重合法等が挙げられる。重合性が良好である観点から、アニオン重合法が好ましい。また重合反応の方法は、特に限定されず、塊状重合法、懸濁重合法、溶液重合法等の方法が採用できる。
【００２９】
アニオン重合法で実施する場合には、アニオン開始剤の存在下に行うのが好ましい。アニオン開始剤としては、ＣｓＦが好ましい。
重合体（Ａ）の重量平均分子量は、５００〜１００００００が好ましく、５００〜５０００００が特に好ましく、５００〜３０００００がとりわけ好ましい。
【００３０】
本発明の重合体は、屈折率が低く、透明性、撥水撥油性等に優れることから、光ファイバー材料（光ファイバーのコア材料およびクラッド材料。）、光導波路材料（光導路材料のコア材料およびクラッド材料。）、ペリクル材料、レンズ材料（眼鏡レンズ、光学レンズ、光学セルなど。）等の光学材料；素子（発光素子、太陽電池素子など。）封止材料、層間絶縁膜（半導体素子用、液晶表示体用、多層配線板用など。）、バッファーコート膜、パッシベーション膜、α線遮蔽膜、高密度実装基板用層間絶縁膜、高周波素子（ＲＦ回路素子、ＧａＡｓ素子、ＩｎＰ素子など。）保護膜、ディスプレイ（ＰＤＰ、ＬＣＤ、ＣＲＴ、ＬＣＤなど。）表面保護膜等の電子材料；モーター流体軸受装置における軸受部分等のオイルシール剤；注射器、水素吸蔵合金、バイオセンサー用測定チップ、通気性布帛等の表面改質剤、として有用である。
【実施例】
【００３１】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。以下においては、Ｍｗを重量平均分子量、ゲルパーミエーションクロマトグラフ法をＧＰＣ法、ＣＣｌ２ＦＣＣｌＦ２をＲ−１１３、ジクロロペンタフルオロプロパンをＲ−２２５、−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３Ｆ基を−Ｒｆ１基と、記す。また圧力は、特に表記しない限り、絶対圧で示す。
【００３２】
Ｍｗは、特開２０００−７４８９２号公報に記載のＧＰＣ法を用いて測定した。具体的には、Ｒ−２２５（旭硝子社製、商品名：アサヒクリンＡＫ−２２５ＳＥＣグレード１）／ヘキサフルオロイソプロピルアルコール（ＨＦＩＰ）の容量比が９９／１である混合溶媒を移動相として用い、ＰＬｇｅｌ  ＭＩＸＥＤ−Ｅカラム（ポリマーラボラトリーズ社製）を２本直列に連結して分析カラムとした。分子量測定用標準試料としてペルフルオロポリエーテルの５種を用いた。移動相流速を１．０ｍＬ／分、カラム温度を３７℃とし、検出器としては蒸発光散乱検出器を用いた。
【００３３】
［例１（合成例）］化合物（２１）の製造例
【００３４】
【化６】
2006193465.tif 000007
【００３５】
（例１−１）化合物（８１）の製造例
水浴下、フラスコにＨＯ（ＣＨ２）４ＯＨ（４８．５ｇ）を投入し、ＫＯＨ（１６．３ｇ）を撹拌しながら投入した。撹拌を続けながら、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２Ｂｒ（３２．０ｇ）をフラスコに１．５時間かけて滴下した。さらに２５℃で２４時間撹拌してから静置して、有機相および水相に分離した２相分離液を得た。つぎに有機相と取り出し、さらに水相を塩酸（１ｍｏｌ／Ｌ）で酸性にしてからトルエン（５０ｍＬ）で３回抽出したトルエン抽出液を得た。有機相とトルエン抽出液をあわせ、つぎに飽和食塩水（２０ｍＬ）で３回洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥してから、エバポレータで濃縮して濃縮物を得た。濃縮物をＮＭＲで分析した結果、標記化合物の生成を確認した（収率８５．３％）。
【００３６】
（例１−２）化合物（７１）の製造例
フラスコに、ＮａＦ（１６．８ｇ）、Ｒ−２２５（１００ｇ）および例１−１で得た化合物（８１）（２９．４ｇ）を投入した。つぎに、フラスコの内温を０〜１０℃に保持し、フラスコを撹拌しながら式Ｒｆ１−ＣＯＦで表される化合物（１１０．８ｇ）を４時間かけて滴下した。オートクレーブを２５℃で４時間撹拌してから、フラスコの内温を１５℃以下にして、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）を投入して水溶液を得た。水溶液をＲ−２２５（２００ｍＬ）で３回抽出して得た抽出液を、硫酸マグネシウムで乾燥してからエバポレータで濃縮して濃縮物を得た。濃縮物をＮＭＲで分析した結果、標記化合物の生成を確認した（収率９５．３％）。
【００３７】
（例１−３）化合物（６１）の製造例
フラスコに、例１−２で得た化合物（７１）（５０．０ｇ）とＣＣｌ４（５０ｍＬ）を投入した。つぎに、フラスコの内温を−１５℃に保持して、フラスコに塩素ガスを２．２７Ｌ／ｈで２時間導入した。フラスコに窒素ガスを２時間導入して塩素ガスを除いてから、フラスコの内溶液を濃縮して濃縮物を得た。濃縮物をＮＭＲで分析した結果、標記化合物の生成を確認した（収率７７％）。
【００３８】
（例１−４）化合物（５１）の製造例
オートクレーブ（内容積５００ｍＬ、ニッケル製）に、Ｒ−１１３（３１２ｇ）を加えて２５℃で撹拌した。オートクレーブガス出口には、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。−１０℃に保持した冷却器からは、凝縮液をオートクレーブに戻すための液体返送ラインを設置した。オートクレーブに窒素ガスを１時間導入した後、窒素ガスで２０体積％に希釈したフッ素ガス（以下、２０％フッ素ガスという。）を、１０．８Ｌ／ｈで１時間導入した。
【００３９】
つぎに、オートクレーブに２０％フッ素ガスを同じ流量で導入しながら、例１−３で得た化合物（６１）（５ｇ）をＲ−１１３（１００ｇ）に溶解した溶液を、４時間かけて注入した。オートクレーブの出口バルブを閉め、２０％フッ素ガスを同じ流量で導入しながら、ベンゼン濃度が０．０１ｇ／ｍＬであるＲ−１１３溶液（９ｍＬ）を２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入した。つぎにオートクレーブのベンゼン注入口を閉め、圧力が０．２０ＭＰａになってからオートクレーブのフッ素ガス入り口バルブを閉めて、０．４時間撹拌を続けた。さらに同様の操作を２回繰り返した。ベンゼンの総注入量は０．２１ｇ、Ｒ−１１３の総注入量は２１ｍＬであった。
【００４０】
つぎに、オートクレーブに窒素ガスを１時間導入してフッ素ガスを除いてから、オートクレーブの内溶液をデカンテーションして反応粗液を得た。反応粗液を濃縮して得た濃縮物をＮＭＲで分析した結果、標記化合物の生成を確認した（収率９５％）。
【００４１】
（例１−５）化合物（４１）の製造例
蒸留塔を備えたフラスコに、例１−４と同様の方法で得た濃縮物（１４４．１ｇ）とＫＦ粉末（２．１ｇ）を投入した。フラスコを、１００℃に加熱して４時間撹拌してから減圧すると、６５℃／１３．３３ｋＰａ（絶対圧）の留分が得られた。留分をＮＭＲで分析した結果、標記化合物の生成を確認した（収率６３％）。
【００４２】
（例１−６）化合物（３１）の製造例
フラスコに、例１−５で得た化合物（４１）（２３．９ｇ）を投入し、さらに１質量％のフェノールフタレイン数滴を加えて撹拌すると、フラスコ内溶液が青色に呈色した。つぎに、フラスコを撹拌しながら、１０質量％のＮａＯＨを含むエタノール溶液をフラスコの内容液が赤色になるまで滴下した。
【００４３】
該内溶液を、エバポレーターで濃縮し、真空乾燥器（８０℃）を用いて２４時間乾燥した結果、ＣＦ２ＣｌＣＦＣｌＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）３ＣＯＯＮａ（２４．８ｇ）を得た。つぎに、メタノール−ドライアイストラップ、液体窒素トラップを順に塔頂部に設置した蒸留塔を備えたフラスコに、ＣＦ２ＣｌＣＦＣｌＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）３ＣＯＯＮａ（２４．８ｇ）を投入した。フラスコ内を減圧にし、２５０℃で６時間加熱すると、メタノール−ドライアイストラップと液体窒素トラップに留出液が溜まった。留出液をＮＭＲで分析した結果、標記化合物の生成を確認した（収率８７％）。
【００４４】
（例１−７）化合物（２１）の製造例
還流液を捕集する容器を備えた還流コンデンサー、および滴下漏斗を備えたフラスコに、亜鉛（４．５ｇ）およびジメチルホルムアミド（３ｍＬ）を入れた。つぎにフラスコ内を３３．３ｋＰａ（絶対圧）に減圧して、フラスコの内温を７０〜７５℃に保持した。つづいて例１−６で得た化合物（２１）（５．７ｇ）をジメチルホルムアミド（２７ｇ）に溶解した溶液を、滴下漏斗からフラスコへゆっくりと滴下すると該容器に液体が留出した。留出が停止するまで捕集した液体（３．４ｇ）をＮＭＲで分析した結果、収率７３％で標記化合物を得た。標記化合物の純度は７４％であった。さらに液体を精留した結果、純度９９％の標記化合物を得た。
【００４５】
化合物（２１）の１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７２．１（４Ｆ）、−９１．７（２Ｆ）、−１０４．９（２Ｆ）、−１９０．０（２Ｆ）。
【００４６】
［例２（参考例）］化合物（ｅｐｏ）の製造例
【００４７】
【化７】
2006193465.tif 000008
【００４８】
還流コンデンサーを備えたフラスコに、１２質量％の次亜塩素酸ナトリウムを含む水溶液（１５０ｍＬ）とアセトニトリル（２５ｍＬ）を加えた。つづいて内温を０℃に保持しながら化合物（ｅｐｏ１）（１６．３ｇ）を加え、５時間撹拌した。つぎに塩化トリオクチルメチルアンモニウム１０滴を加え、さらに０℃で１７時間撹拌した。つぎに０℃のまま静置した。静置後、上相を抜き出し、下相を飽和重曹水で洗浄した。洗浄後、上相の飽和重曹水を抜き出した。続いて、減圧留去することにより化合物（ｅｐｏ）（１．０３ｇ）を得た。生成物をＮＭＲで分析した結果、標記化合物の生成を確認した（収率３．３％）。
化合物（ｅｐｏ）の１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−８１．３（２Ｆ）、−９５．０（２Ｆ）、−１８２．４（２Ｆ）。
【００４９】
［例３（実施例）］化合物（１１）の製造例
フラスコに、化合物（２１）（７０．０ｇ）と（ＣＦ３）３Ｎ（３１６．６ｇ）を加えた。フラスコの内温を０℃保持しながら、１２質量％の次亜塩素酸ソーダを含む水溶液（４００ｇ）と塩化トリオクチルメチルアンモニウム（０．５０ｇ）を加え２相系溶液を得た。
【００５０】
つぎにフラスコ内を４時間撹拌してから、フラスコを静置しフラスコ内溶液の上相を抜き出した。つづいてフラスコに１２質量の％次亜塩素酸ソーダを含む水溶液（１２０ｇ）と塩化トリオクチルメチルアンモニウム（０．１０ｇ）を加え、フラスコ内を１時間撹拌する操作を行った。さらに該操作を９回行った。
【００５１】
つづいてフラスコを静置し、フラスコ内溶液の下相の液を抜き出して飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）で洗浄した。さらに減圧留去して粗生成物（５１．５ｇ）を得た。粗生成物を１９Ｆ−ＮＭＲで分析した結果、下記化合物（１１）の生成を確認した（収率６０％）。粗生成物をさらに精留して高純度な化合物（１１）を得た。
【００５２】
【化８】
2006193465.tif 000009
【００５３】
化合物（１１）の１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−６８．９（４Ｆ）、−１１７．９（２Ｆ）、−１２８．５（２Ｆ）、−１５３．５（２Ｆ）。
【００５４】
［例４（実施例）］重合体（Ａ）の製造例
耐圧反応器（ガラス製、内容積２０ｍＬ）に、化合物（１１）（５．６ｇ）、ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４ＣＨ３（２ｇ）、テトラヒドロフラン（４ｇ）およびＣｓＦ（０．００７ｇ）を仕込んでから、反応器内を凍結脱気した。つぎに反応器の内温を−３０℃に保持しながら２４時間重合を行い、さらに内温を−１０℃に保持しながら２０時間重合を行った。反応器内容物を回収しその結果、グリース状の重合体（３．４ｇ、以下、重合体（Ａ）という。）を得た。
【００５５】
重合体（Ａ）を１９Ｆ−ＮＭＲを用いて解析した結果、化合物（１１）のエポキシ構造に起因するフッ素原子のピークは完全に消失しており、重合体（Ａ１）は下記単位（Ａ１１）、下記単位（Ａ２１）および下記単位（Ａ３１）を含む重合体であることを確認した。重合体（Ａ）のＭｗは１０００であった。また、膜厚０．８５μｍの重合体（Ａ）の１９３ｎｍの波長光に対する透過率は、約９０％であった。
【００５６】
【化９】
2006193465.tif 000010
【００５７】
［例５（実施例）］化合物（１１）と化合物（ｅｐｏ）の共重合反応による共重合体（Ａ）の製造例
耐圧反応器（ガラス製、内容積２０ｍＬ）に、化合物（１１）（１．１ｇ）、化合物（ｅｐｏ）（０．７ｇ）、ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４ＣＨ３（０．３ｇ）、テトラヒドロフラン（０．６ｇ）、ＣｓＦ（４．４ｍｇ）を仕込んでから反応器内を凍結脱気した。つぎに内温を−３０℃に保持しながら２４時間重合を行い、さらに内温を−１０℃に保持しながら２０時間重合を行った。反応器内容物を回収しその結果、グリース状の重合体（１．０ｇ、以下、共重合体（Ａ）という。）を得た。
【００５８】
共重合体（Ａ）を１９Ｆ−ＮＭＲを用いて解析した結果、化合物（１１）および化合物（ｅｐｏ）のエポキシ構造に起因するフッ素原子のピークは完全に消失しており、共重合体（Ａ）は単位（Ａ１１）、単位（Ａ２１）、単位（Ａ３１）および下記単位（Ｅｐｏ）を含む重合体であることを確認した。重合体（Ａ）のＭｗは１０００であった。
【００５９】
【化１０】
2006193465.tif 000011
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明の化合物は、重合性の化合物として有用である。本発明の化合物を重合させた重合体は、特に短波長光に対する透明性に優れることから、ペリクル材料等の光学材料として有用である。