(57)【要約】【課題】  印刷法を用いた有機ＥＬ薄膜の形成において、隔壁を必要としない簡単な有機ＥＬ素子構成を提供し、発光部分の膜厚均一性に優れた有機ＥＬ発光装置を得る。また、その結果として、発光特性に優れた有機ＥＬ発光装置を安価に提供する。【解決手段】  基板上に形成された複数の薄膜ランジスタと、この薄膜トランジスタによって駆動される発光素子を備えたアクティブ型発光装置において、薄膜トランジスタが形成された領域と重ならない領域に、発光素子の下部電極を配置し、この下部電極の大きさが前記発光素子の発光層の大きさより小さく、かつ、この下部電極と前記薄膜トランジスタの電気的接続を当該下部電極の下において行う。【選択図】        図３
2006156427.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された複数の薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタによって駆動される発光素子を備えた発光装置において、
前記薄膜トランジスタが形成された領域と重ならない領域に、前記発光素子の下部電極を配置し、当該下部電極の大きさが前記発光素子の発光層の大きさより小さく、かつ、当該下部電極と前記薄膜トランジスタの電気的接続を当該下部電極の下において行うこと、
を特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１において、前記発光素子は有機薄膜からなる発光層を備えたエレクトロルミネッセンス素子であること、を特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項２において、前記有機薄膜の少なくとも1層は、液体材料を平面的に塗布して形成されたものであること、を特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項３において、前記有機薄膜の少なくとも1層は、複数の前記発光素子にまたがって塗布されたこと、を特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかにおいて、前記発光素子の発光層は、同一の発光色を有する発光層からなること、を特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１において、前記下部電極は、前記薄膜トランジスタ、および、前記発光素子の駆動用配線を形成した層を覆う絶縁膜の上に形成され、当該下部電極の下で接する前記絶縁膜に貫通されたコンタクトホールを介して、前記薄膜トランジスタと当該下部電極の電気的接続を行うこと、を特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項６において、前記薄膜トランジスタのソース／ドレイン電極より延長した導電性部材または配線と、前記コンタクトホール内に形成された導電性部材によって前記薄膜トランジスタとの電気的接続を行うこと、を特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項７において、前記コンタクトホール内に形成された導電性部材は、前記下部電極と同じ材料を含むこと、を特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載の発光装置を備えたこと、を特徴とするプリンタヘッド。
【請求項１０】
請求項９において、前記発光素子の下部電極を略円形状に形成し、発光点を円形にしたこと、を特徴とするプリンタヘッド。
【請求項１１】
請求項１から８のいずれか１項に記載の発光装置、あるいは、請求項９または１０に記載のプリンタヘッドのいずれかを搭載したこと、を特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた発光装置（以下、有機ＥＬ装置と略す）、それを用いたプリンタヘッド、及び、電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、自発光素子である有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を用いた表示装置、電子機器の開発が進められている。有機ＥＬ素子は、その発光に寄与する部分が有機薄膜であり、その膜厚は通常数１０ｎｍから１００ｎｍ程度である。係る有機薄膜の成膜方法としては、低分子の有機材料の場合には蒸着が一般的であるが、蒸着法では大面積で均一に成膜することが困難である。そのため、有機薄膜の材料として高分子材料を用い、液相法を用いて基板に塗布することが検討されている。有機薄膜を液相法で形成する例としては、例えば、特許文献１には印刷法と他の成膜法を組み合わせて用いることが記載されている。同じく特許文献２には、インクジェット印刷法を用いることが記載されている。
【特許文献１】特開２００１−１５５８５８号公報
【特許文献２】特開２０００−３５３５９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、液相法により有機薄膜を形成する場合、様々な問題がある。例えばスクリーン印刷法では、有機機能層に１μｍ以下の膜厚を得ることは困難である。また、スピンコート法およびディップコート法では、成膜後に不要箇所の膜を除去するという作業が追加されるため、材料の無駄が多く、かつ、製造工程も複雑になる。さらには、最も有望視されているインクジェット印刷では、隣接印刷領域の塗布材料が混じり合うのを防止するために、隔壁を設ける必要がある。
【０００４】
図１６は、インクジェット法を用いた有機ＥＬ装置の一例である。基板Ｐ上に設けられた薄膜トランジスタ１４３の上に、層間絶縁膜２４０を配し、さらにその上に画素電極１４１と隔壁１５０が設けられている。有機ＥＬ層１４０はインクジェット印刷法によって隔壁１５０内に形成され、その上をさらに共通電極１５４が覆っている。このような構成にある有機ＥＬ装置では、有機ＥＬ材料を選択的に配置するには都合が良いが、広い面積に渡って均一な膜厚を得ることは難しい。即ち、液体材料は、乾燥過程で隔壁に近い位置では膜厚が厚くなり、また、飛ばした液滴の不均一性によって、有機ＥＬ装置全体の膜厚均一性が得にくい。
【０００５】
同様の構成にある有機ＥＬ装置において、凸版印刷法を用いて有機ＥＬ材料を塗布した場合は、１ないし数ミクロンの隔壁の高さが障害になり、隔壁近傍では有機材料の塗布が不十分となる。その結果、各発光素子の発光輝度のばらつきを生じたり、ショートを起こしやすくなる。また、薄膜トランジスタの上や駆動用の配線がある所では、平坦な面が得られにくいので、有機材料の塗布膜厚にむらが出やすくなり、発光輝度のばらつきになる。
【０００６】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであり、印刷法を用いた有機ＥＬ薄膜の形成において、隔壁を必要としない簡単な有機ＥＬ素子構成を提供し、発光部分の膜厚均一性に優れた有機ＥＬ発光装置を得ることを目的としている。また、その結果として発光特性に優れた有機ＥＬ発光装置を、安価に提供することを他の目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために、基板上に形成された複数の薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタによって駆動される発光素子を備えた発光装置において、前記薄膜トランジスタが形成された領域と重ならない領域に、前記発光素子の下部電極を配置し、当該下部電極の大きさが前記発光素子の発光層の大きさより小さく、かつ、当該下部電極と前記薄膜トランジスタの電気的接続を当該下部電極の下において行うことを特徴とする。
【０００８】
このような発光装置は、アクティブ駆動に必要な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成された領域と重ならない場所に、発光素子の下部電極を設けるため、ＴＦＴ形成部分の凸凹の影響を受けることなく発光素子を形成することができる。従って、膜厚均一性の良い輝度むらの無い発光層を得ることが出来る。また、ＴＦＴ上に形成される絶縁層の厚みを厚くして周辺との平坦化を図る必要が無いので、工程上長くなったり、特殊な製造方法、特殊な材料を加える必要がない。また、発光素子の下部電極の大きさを発光層より小さく形成し、しかも駆動用ＴＦＴとの接続を電極下で行うため、発光素子の非発光領域に対する更なる絶縁を必要としない。すなわち、簡単な構成で下部電極の大きさそのものが発光領域そのものとなり、下部電極以外の場所は全て非発光領域とすることが出来る。そのため画素電極の周辺部分、画素電極までの配線の絶縁などに必要な更なる絶縁層の被覆、あるいは、画素分離のための隔壁などが不要となる。この結果、凸版印刷によって広範に有機層を形成した場合でも、下地の凸凹に左右されない膜厚均一性に優れた有機薄膜を得ることが出来、すぐれた発光装置を提供できる。さらに本発明は、発光素子の構造簡単化により製造工程の簡素化が図れ、発光装置の低コスト化に寄与できる。
【０００９】
本発明に係る発光装置は、その発光素子が有機薄膜からなる発光層を備えたエレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする。
前述したように、本発明は下部電極周辺の余計な絶縁、隔壁による画素の区分を必要としない。従って、本発明による発光装置は有機材料を用いた発光素子に好適な構成と成膜条件を有している。すなわち、蒸着による低分子有機ＥＬ、印刷塗布が可能な高分子有機ＥＬにおいて、工程上１個１個の画素の分離成膜に注意を払う必要が無くなる。そして、ＥＬ装置内の有機ＥＬ薄膜の一括成膜が可能となる。特に、印刷法が使える高分子有機ＥＬでは、通常の印刷法である凸版、スクリーン、ダイコートなど簡便な方法が使えるようになる。
【００１０】
本発明の発光装置は、前記有機薄膜のうち少なくとも1層は、液体材料を平面的に塗布して形成されたものであることを特徴とする。
上述したように本発明の有機ＥＬ素子は、その有機薄膜が簡便な印刷法を用い、基板上の所定の領域に対して液体材料を平面的に塗布することで形成される。しかし、発光素子の下部電極は、駆動ＴＦＴによる凸凹面を避けた平坦面に形成されているので、例え通常の印刷法であっても、膜厚均一性の良い平坦膜が得られる。また、画素周辺には隔壁も無いので、印刷によって平坦性の良い塗布膜が形成される。従って、発光輝度の均一性に優れ、ショートなどの無い信頼性の高い発光素子が得られる。また、印刷法を用いた塗布では、液体材料が余分な領域に塗布されることなく形成される。従って、スピンコート法を用いる場合のような材料の無駄が生じるのを防止でき、材料コストの低下に繋がる。
【００１１】
また、本発明による発光装置は、前記有機薄膜の少なくとも1層は、複数の発光素子にまたがって塗布されていることを特徴とする。
印刷法によって成膜された有機ＥＬ装置の最大の長所は、素子の一括形成にある。短時間に広範囲の領域を、隣接画素との膜厚の不均一も無く成膜が可能である。従って、基板上に複数の有機ＥＬ素子が配設された装置においては、有機層を構成する薄膜の少なくとも１層以上が同時形成されれば、製造工程の短縮と品質向上に結びつく。また、印刷法は材料を必要な箇所に必要な量を塗布できるので、材料の無駄が無く、他の不要箇所を汚すことも無いので、低コストで信頼性の高い発光装置を提供できる。なお本発明は、発光素子の下部電極の電気的接続を電極下で行っているので、このような一括塗布によっても画素の分離が確実に行われる。
【００１２】
本発明の発光装置において、発光素子の発光層は、同一の発光色を有する発光層から形成されることが好ましい。
本発明における成膜法は、印刷法を用い平面的な材料塗布を行う。従って、広い面積に渡って同一の材料を塗布することが良い。後述するプリンタヘッドは、発光色が単一であって良く、印刷法との相性が良いことは云うまでもない。また、表示分野においても、フルカラーのテレビ等の動画表示以外は、エリアカラー、モノカラーの表示であっても充分機能する物は多々ある。本発明はこのような用途に最適であり、発光スペクトル、発光輝度の均一性に優れた発光装置を安価に提供できる。
【００１３】
本発明の発光装置において、発光素子の下部電極は、薄膜トランジスタ、および、発光素子の駆動用配線を形成した層を覆う絶縁膜の上に形成され、当該下部電極の下で前記絶縁膜に貫通されたコンタクトホールを介して、前記薄膜トランジスタと当該下部電極の電気的接続を行うことを特徴とする。
駆動用ＴＦＴを形成した後、その上には第２層間絶縁膜が被覆される。通常の半導体装置では、ソース／ドレイン電極端子の形成は、これらＴＦＴの真上の領域で行われ、当然配線もここから延びることになる。例えば、ＴＦＴと発光素子の接続は、ドレイン電極の近傍において第２層間絶縁膜にコンタクトホールを形成し、この穴を介してドレイン電極と発光素子の接続が行われる。しかし、発光領域が形成される領域までは再び延長の配線を施すか、あるいは、発光素子の電極を延長し接続をおこなう。しかし、これらの配線部分は発光に不要となるので再び絶縁膜を被覆し、配線部分が発光しないようにしなければならない。一方、このような配線の延長を行わない場合は、ＴＦＴ形成領域の上にも発光領域が残るので、ＴＦＴによる凸凹の影響が出て最良の発光特性は得られない。あるいは、これらの凸凹を解消するために、厚い層間絶縁膜を施し充分な平坦性が確保された後、発光素子の電極を形成しなければならない。従って、コンタクトホールの深さ、大きさも大きくならざるを得ない。
【００１４】
これに対し本発明の構成は、駆動用ＴＦＴのドレイン電極より直接配線を延ばし、第２層間絶縁膜上に形成された発光素子の電極下部に設けられたコンタクトホールを介して接続を行うため、上述した配線の再度の絶縁被覆は不要となる。また、絶縁膜の厚みもＴＦＴによる凸凹を気にしなくて良いので、薄くて穴の開け易いものとなる。その結果、発光装置の製造に負担の少ないシンプルな工程を組むことが可能となる。
【００１５】
本発明は、前記薄膜トランジスタのソース／ドレイン電極より延長した導電性部材または配線と、前記コンタクトホール内に形成された導電性部材によって前記薄膜トランジスタとの電気的接続を行うことを特徴とする。
上述したしたように、駆動用ＴＦＴと発光素子の電極接続は、ＴＦＴのドレイン電極から直接延長された導電性部材または配線材料と、コンタクトホール内に形成された導電性部材によって行われる。従って、接続を仲介する導電性部材にはドレイン電極を形成する部材、あるいは、配線を形成する部材と、発光素子の電極を形成する部材の両者に対する接続性の良い材料を選び、導通抵抗が低く、信頼性の高い物を選択することが出来る。その結果、表示品質が良好でかつ信頼性の高い発光装置が提供できる。
【００１６】
本発明は、前記コンタクトホール内に形成された導電性部材に、下部電極と同じ材料を含むことを特徴とする。
コンタクトホール内に詰める導電性材料は、前述したように低抵抗で信頼性の高いものが望ましい。しかし、過剰な品質は不要であるため、発光素子の下部電極材料が直接使える場合には、下部電極下にあるコンタクトホールを含めて電極の形成を行い、同時にＴＦＴとの接続を行えばよい。また、直接ではコンタクトの信頼性が不十分となるときは薄い仲介物を介して接続を行えばよい。本構成によって、表示品質が良好でかつ信頼性の高い発光装置が提供できる。
【００１７】
本発明に係るプリンタヘッドは、先に記載の発光装置を含むことを特徴としている。前述したように本発明に基づいた発光装置は、簡単な構成で、特に単一色の輝度均一性に優れた発光装置とすることが出来る。従って、量産性に優れたプリンタヘッドを大量かつ安価に提供できる。
本発明に係るプリンタヘッドは、発光素子の下部電極を略円形状に形成し、発光点を円形にすることが好適である。本発光装置の発光点形状は、下部電極の形状を自由に変えることによって変更が可能である。しかし、プリンタに用いるヘッドでは、印刷された文字、画像等の印刷結果に癖の無いものが必要とされる。従って、本発明をプリンタヘッドに適用する際は、電極形状そのものを略円形とし、斜めの直線も滑らかに表現できるようにすることが良い。
【００１８】
本発明の電子機器は、上記本発明に係る発光装置を用いた表示装置を備えたことを特徴としている。また、本発明の電子機器は、先に記載の発光装置を備えた画像形成装置であることを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
（実施例１）
[発光装置]
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説明をする。本発明に係わる発光装置は、有機機能材料からなる自発光素子を基板上に配列した有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ装置と略す）である。この発光装置は、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができる。
【００２０】
図１は、本実施例の有機ＥＬ装置の回路構成図である。図２は、同有機ＥＬ装置に備えられた各画素領域７１の平面構造を示す図である。図２（ａ）は、画素領域７１のうち主にＴＦＴ等の画素駆動部分の構成を示す図であり、図２（ｂ）は、画素駆動部分を層間絶縁膜２４０で被覆した後の電極を示す図である。また図３は、図２（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面構成を示す図である。
【００２１】
図１に示すように、有機ＥＬ装置７０は、透明の基板上に、複数の走査線１３１と、これら走査線１３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１３２と、これら信号線１３２に並列に延びる複数の共通給電線１３３とが、それぞれ配線されたものであり、走査線１３１、及び、信号線１３２の各交点毎に画素領域７１が設けられている。
【００２２】
信号線１３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路７２が設けられている。一方、走査線１３１に対しては、シフトレジスタ、及び、レベルシフタ等を備える走査側駆動回路７３が設けられている。また、画素領域７１の各々には、走査線１３１を介して走査信号が供給されるゲート電極を有するスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１４２と、このスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１４２を介して信号線１３２から供給される画像信号を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号によってゲートを開閉する駆動用ＴＦＴ１４３と、この駆動用ＴＦＴ１４３を介して共通給電線１３３から駆動電流が流れ込む画素電極１４１と、この画素電極１４１と共通電極１５４との間に挟まれた有機機能層１４０とが設けられている。前記画素電極１４１と共通電極１５４と、有機機能層１４０とによって構成された素子が発光素子である。
【００２３】
このような構成のもとに、走査線１３１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ１４２がオンとなると、そのときの信号線１３２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用ＴＦＴ１４３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１４３のチャネルを介して共通給電線１３３から画素電極１４１に電流が流れ、さらに発光部１４０を通じて共通電極１５４に電流が流れると、発光部１４０は流れる電流量に応じて輝度を変化させ発光するようになる。
【００２４】
次に、図２（ａ）に示す画素領域７１の平面構造をみると、画素領域７１は、平面視略矩形状の画素電極１４１の四辺が、信号線１３２、共通給電線１３３、走査線１３１及び他の画素電極用の走査線（図示しない）によって囲まれた配置となっている。また、図３に示す画素領域７１の断面構造をみると、基板Ｐ上に駆動用ＴＦＴ１４３が設けられており、駆動用ＴＦＴ１４３を覆って形成された複数の絶縁膜２３０、２４０上に、発光素子２００が形成されている。発光素子２００は、有機機能層１４０を主体として構成され、この有機機能層１４０を画素電極１４１と共通電極１５４との間に挟持した構成を備える。
【００２５】
図３に示すように、駆動用ＴＦＴ１４３は、半導体膜２１０に形成されたソース領域１４３ａとドレイン領域１４３ｂ、及びチャネル領域１４３ｃと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜２２０を介してチャネル領域１４３ｃに対向するゲート電極１４３Ａとから構成されている。半導体膜２１０及びゲート絶縁膜２２０上には、これらを覆う形で第１層間絶縁膜２３０が形成されており、この第１層間絶縁膜２３０を貫通して半導体膜２１０に達するコンタクトホール２３２，２３４がある。ドレイン電極２３６、ソース電極２３８はこれらのコンタクトホールを介して、各々ドレイン領域１４３ｂ、ソース領域１４３ａに導電接続されている。第１層間絶縁膜２３０上には、配線とこれを覆う絶縁膜（第２層間絶縁膜）２４０が形成されており、この第２層間絶縁膜２４０に貫通したコンタクトホール２４５ａに画素電極１４１の一部が接続されている。そして画素電極１４１とドレイン電極２３６とが導電接続されることで、駆動用ＴＦＴ１４３と画素電極１４１とが電気的に接続する。
【００２６】
発光素子２００は、画素電極１４１と、画素電極の上及び第２層間絶縁膜２４０の上を覆うように塗布された正孔注入層（電荷輸送層）１４０Ａと発光層１４０Ｂの２層の有機層と、この発光層１４０Ｂをさらに覆う共通電極１５４から構成されている。画素電極１４１の形、大きさは、そのまま発光部分の形、大きさとなり、駆動トランジスタ１４３との接続は画素電極１４１の下側のコンタクトホール２４５ａを通して行う。
【００２７】
基板Ｐは、いわゆるトップエミッション型の有機ＥＬ装置の場合、発光素子２００が配設された側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板のほか、不透明基板も用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、また、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム（プラスチックフィルム）などが挙げられる。
【００２８】
画素電極１４１は、基板Ｐを介して光を取り出すボトムエミッション型の場合には、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電材料により形成されるが、トップエミッション型の場合には透光性である必要はなく、金属材料等の適切な導電材料によって形成できる。また、有機ＥＬ装置がボトムエミッション型の場合、コンタクトホール２４５ａの位置が発光を遮ることとなるので、画素電極１４１の中でもＴＦＴ１４３寄りの所で、必要最小限の面積をもって接続する必要がある。
【００２９】
共通電極（上部電極）１５４は、発光層１４０Ｂの上面を覆った状態で形成される。この共通電極１５４の材料としては、トップエミッション型の場合、透明導電材料が用いられる。透明導電材料としてはＩＴＯが好適であるが、他の透光性導電材料であっても構わない。
【００３０】
共通電極１５４の上層側には、陰極保護層を形成してもよい。係る陰極保護層を設けることで、製造プロセス時に共通電極１５４が腐食されるのを防止する効果が得られる。この陰極保護層は、無機化合物、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン窒酸化物等のシリコン化合物により形成できる。共通電極１５４を無機化合物からなる陰極保護層で覆うことにより、共通電極１５４への酸素等の侵入を良好に防止することができる。なお、陰極保護層は１０ｎｍから３００ｎｍ程度の厚みに形成される。
【００３１】
上記構成を備えた本実施例の有機ＥＬ装置７０は、広範囲に渡って膜厚の均一性が良い発光層が得られるので、ムラのない発光が得られる。また、隔壁を排除し簡単な構成としたので、製造工程の短縮が図れる。
【００３２】
[発光装置の製造]
以下、本発明に係る有機ＥＬ素子を用いた発光装置の製造方法について、図４、図５を参照しながら説明する。本実施例では、図１から図３に示した構成を備えた有機ＥＬ装置７０を、フレキソ印刷機を用いて製造する方法を例示して説明する。なお、図４、図５には、説明を簡略化するために単一の画素領域７１についてのみ図示しているが、各画素において共通の構成を有しているものとする。本発明に係る有機ＥＬ装置では、発光素子の光を基板側から取り出す構成（ボトムエミッション）、及び基板と反対側から取り出す構成（トップエミッション）のいずれも採用できる。本実施例は、トップエミッション型の有機ＥＬ装置として説明する。
【００３３】
まず、図４（ａ）に示すように、基板Ｐ上に駆動用ＴＦＴ１４３を形成する。トップエミッション型では、基板は不透明であってもよいため、アルミナ等のセラミックス、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂なども用いることができる。また、従来から液晶装置等に用いられてきたガラス基板であってもよい。次に、上記駆動用ＴＦＴ１４３の作製手順を例示する。
【００３４】
まず、基板Ｐに対し、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）、酸素ガスなどを原料としてプラズマＣＶＤ法により厚さ約２００〜５００ｎｍのシリコン酸化膜からなる下地保護膜（図示せず）を形成しておく。その後、基板温度を３５０℃程度に加熱して基板Ｐ表面にプラズマＣＶＤ法による厚さ約３０〜７０ｎｍのアモルファスシリコン膜を形成、公知のフォトリソグラフィ技術を用いて半導体膜２１０をパターン化する。そしてこの半導体膜２１０を、レーザアニールまたは固相成長法などによる結晶化工程に供することでポリシリコン膜とする。レーザアニール法では、例えばエキシマレーザのビーム長寸が４００ｍｍのラインビームを用いることができ、その出力強度は２００ｍＪ／ｃｍ2である。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の９０％に相当する部分が、各走査領域毎に重なるようにラインビームを走査する。
【００３５】
次いで、半導体膜２１０及び基板Ｐの表面に、ＴＥＯＳ、酸素ガスなどを原料としてプラズマＣＶＤ法により厚さ約６０〜１５０ｎｍのシリコン酸化膜、または、窒化膜からなるゲート絶縁膜２２０を形成する。なお、半導体膜２１０は、図３に示した駆動用ＴＦＴ１４３のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となるものであり、同時に他の位置においてはスイッチング用ＴＦＴ１４２のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となる半導体膜ともなる。つまり、図４（ａ）に示す駆動用ＴＦＴ１４３を作製する工程では、２種類のトランジスタ１４２、１４３が同時に作製される。
【００３６】
次に、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属膜、あるいは、これらの積層膜からなる導電膜をスパッタ法等により形成した後、パターニングすることでゲート電極１４３Ａを形成する。続いて、半導体膜２１０に対して高濃度のリンイオンを打ち込むことで、ゲート電極１４３Ａに対して自己整合的にソース・ドレイン領域１４３ａ、１４３ｂを形成する。このとき、ゲート電極１４３Ａにより遮蔽されて不純物が導入されなかった部分がチャネル領域１４３ｃとなる。その後、半導体膜２１０及び基板Ｐ表面を覆う層間絶縁膜２３０を形成する。
【００３７】
次に、層間絶縁膜２３０を貫通するコンタクトホール２３２及び２３４を形成し、これらコンタクトホール２３２及び２３４を介してドレイン電極２３６及びソース電極２３８を形成し、駆動用ＴＦＴ１４３を得る。ここで、層間絶縁膜２３０上においてソース電極２３８に接続するように、共通給電線（配線）や走査線（図示せず）も形成しておく。さらに、層間絶縁膜２３０、及び各配線の上面を覆うように第２層間絶縁膜２４０を形成し、この第２層間絶縁膜２４０を貫通してドレイン電極２３６からの配線に達するコンタクトホール２４５ａを貫設する。コンタクトホール２４５ａの位置は、画素電極１４１の下部であればどこにでも設置することが出来る。また、導電性を考え複数箇所設けても良い。
【００３８】
次に、図４（ｂ）に示すように、駆動用ＴＦＴ１４３と重ならない位置であって、かつ、コンタクトホール２４５ａを含む領域に、公知のフォトリソグラフィ技術を用いて画素電極１４１をパターン形成する。これにより、図２（ａ）に示したような信号線、共通給電線、及び走査線に囲まれた位置に、画素電極１４１が形成される。なお、ドレイン電極２３６からの延長部分と画素電極１４１のコンタクトは、この電極１４１の薄膜形成と同時に進行し、コンタクトホール内が電極材料によって充填されることによって成立する。また、接続の信頼性の観点から、仲介となる導電性材料、例えば違う材料によってメタライズしてから、接続を取っても良い。トップエミッション型の場合は、ドレイン電極、配線、画素電極全てが金属系となるので、問題なく接続が出来る。また、ボトムエミッション型場合には、画素電極が透明なインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などになるが、メタル配線材料との相性は良い。
【００３９】
本実施例（トップエミッション型）の場合、画素電極１４１は透明導電膜である必要はなく、金属材料により形成することができる。画素電極１４１をアルミニウムや銀等の光反射性の金属膜で構成すれば、この画素電極に入射した光を反射させて観察者側へ射出できるようになる。本有機ＥＬ装置７０では、画素電極１４１は陽極として機能するので、仕事関数が４．８ｅＶ以上の材料で形成することが好ましく、具体例を挙げるならば、ＩＴＯ／Ａｌの積層膜、Ａｕ、Ｐｔ等からなる金属膜で形成するのがよい。なお、この画素電極１４１の形成に先立って、第２層間絶縁膜２４０の表面を清浄化する処理（例えば酸素プラズマ処理、ＵＶ照射処理、オゾン処理等）を施しておいてもよい。これにより、画素電極１４１と第２層間絶縁膜２４０との密着性を向上させることができる。
【００４０】
次に、図４（ｃ）に示すように、正孔注入層形成材料を含む液体材料１４０ａをフレキソ印刷装置によって塗布位置に選択的に塗布する。正孔注入層形成材料としては、例えばポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体、または、これらのドーピング体などを用いることができる。具体的には、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれに水を分散させた水溶液などを用いる。
【００４１】
上記液体材料１４０ａの塗布後は、図５（ａ）に示すように、基板Ｐの下面に設置された加熱手段（ヒータ等）３００により基板Ｐを加熱し、液体材料１４０ａを乾燥固化させる。乾燥条件の一例を挙げると、大気環境下又は窒素ガス雰囲気下において２００℃、１０分程度の焼成を行う。あるいは、大気圧より低い圧力環境下（減圧環境下）に設置することで溶媒の除去を促進してもよい。
【００４２】
続いて、図５（ｂ）に示すように、前記同様に発光層形成材料と溶媒を含む液体材料１４０ｂを、正孔注入層１４０Ａ上に選択的に塗布する。この発光層形成材料としては、例えば共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための蛍光色素とを含んでいるものを好適に用いることができる。共役系高分子有機化合物の前駆体は、蛍光色素等とともに薄膜に成形された後、加熱硬化されることによって共役系高分子有機ＥＬ層となる。
【００４３】
このような共役系高分子有機化合物は固体で強い蛍光を持ち、均質な固体超薄膜を形成することができる。しかもＩＴＯ電極との密着性も高い。さらに、加熱硬化前においては前駆体溶液を塗布に最適な粘度に調整することができ、簡便かつ短時間で薄膜形成を行うことができる。
【００４４】
上記前駆体としては、例えばＰＰＶ（ポリパラ−フェニレンビニレン）またはその誘導体の前駆体が好ましい。ＰＰＶまたはその誘導体の前駆体は、水あるいは有機溶媒に可溶であり、また、ポリマー化が可能であるため、光学的にも高品質の薄膜を得ることができる。さらに、ＰＰＶは強い蛍光を持ち、また二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在導電性高分子でもあるため、高性能の発光素子を得ることができる。
【００４５】
ＰＰＶまたはＰＰＶ誘導体の前駆体は、前述したように水に可溶であり、成膜後の加熱により高分子化してＰＰＶ層を形成する。前記ＰＰＶ前駆体に代表される前駆体の含有量は、液体材料組成物全体に対して０．０１〜１０．０ｗｔ％が好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％がさらに好ましい。前駆体の添加量が少な過ぎると共役系高分子膜を形成するのに不十分であり、多過ぎると液体材料組成物の粘度が高くなり、印刷塗布による精度の高いパターニングに適さない場合がある。
【００４６】
さらに、発光層形成材料としては、少なくとも１種の蛍光色素を含むことが好ましい。これにより、発光層の発光特性を変化させることができ、例えば、発光層の発光効率の向上、または光吸収極大波長（発光色）を変えるための手段となる。
【００４７】
蛍光色素としては、赤色発光層を形成する場合、赤色に発光するローダミンまたはローダミン誘導体を用いることができる。緑色発光層を形成する場合、緑色に発光するキナクリドンおよびその誘導体を用いることができる。さらに、青色発光層を形成する場合、青色に発光するジスチリルビフェニルおよびその誘導体を用いることができる。これらの蛍光色素は低分子であるため水・アルコール混合溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。以上の蛍光色素は、各色１種のみを用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。
【００４８】
これらの蛍光色素は、前記共役系高分子有機化合物の前駆体固型分に対し、０．５〜１０ｗｔ％添加するのが好ましく、１．０〜５．０ｗｔ％添加するのがより好ましい。蛍光色素の添加量が多過ぎると発光層の耐候性および耐久性の維持が困難となり、一方、添加量が少なすぎると、前述したような蛍光色素を加えることによる効果が十分に得られない。
【００４９】
また、前記前駆体および蛍光色素については、極性溶媒に溶解または分散させて液体材料とし、この液体材料を印刷塗布に用いるのが好ましい。極性溶媒は、前記前駆体、蛍光色素等を容易に溶解、または均一に分散させることができる。このような極性溶媒として具体的には、水、メタノールおよびエタノール等の水と相溶性のあるアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルイミダゾリン（ＤＭＩ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン等の有機溶媒または無機溶媒が挙げられ、これらの溶媒を２種以上適宜混合したものであってもよい。
【００５０】
このようにして各色の発光層形成材料を含む液体材料１４０ｂを塗布したならば、先の正孔注入層１４０Ａの形成工程と同様にして、液体材料１４０ｂ中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図５（ｃ）に示すように正孔注入層１４０Ａ上に固形の発光層１４０Ｂが形成され、これにより正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとからなる有機機能層１４０が得られる。なお、発光材料を含む液体材料１４０ｂ中の溶媒の蒸発については、必要に応じて、加熱あるいは減圧等の処理を行う。
【００５１】
次に、図５（ｃ）に示すように、基板Ｐの最上面全体に、あるいはストライプ状に、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる共通電極１５４を形成する。なおＩＴＯは、仕事関数が大きく電子注入性が乏しいので、ＩＴＯ界面にマグネシウムやリチウムなどの薄い膜をつけて陰極の処理をする。ＩＴＯ自身は蒸着、イオンプレーティング、スパッタなどの方法によって形成する。このようにして、発光素子２００ができる。なお、本実施例における発光素子２００は、画素電極（陽極）１４１と正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂと共通電極（陰極）１５４から構成されているが、この他に正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層を設けても良い。
【００５２】
なお、本発明をボトムエミッション構造に適用する際には、画素電極１４１とドレイン電極２３６をつなぐ配線と、コンタクトホール２４５ａの位置に工夫が必要である。すなわち、配線およびコンタクトホールが発光を遮らない場所に設置する必要がある。画素電極１４１の周辺および近傍が妥当な位置と思われる。
【００５３】
また上記実施例では、有機機能層の形成にフレキソ印刷機を用いると記述したが、この他に液滴吐出装置を用いた液滴吐出法、スリットコート（或いはカーテンコート）法、ダイコート法など他の塗布方法を用いることもできる。また、液体材料の生成工程や成膜工程は大気環境下で行ってもよいし、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。なお、液体材料の調整や印刷工程はクリーンルーム内でパーティクル及び化学的にクリーン度を維持された環境下で行うのが望ましい。
【００５４】
以上述べたように、本発明は下部電極の構造を変えることによって隔壁を不要とした。また、隔壁が無くなることによって、印刷塗布による有機薄膜（１４０Ａ，１４０Ｂ）の形成が可能となり、広範囲に渡る膜厚ばらつきが無い発光層を得ることが出来る。その結果、輝度ムラのない発光特性に優れた有機ＥＬ装置、例えば表示装置を得ることが出来る。さらには、本発明の発光装置の発光領域は、画素電極の形状・大きさによって決まるため、発光点の形状を自在に変えられる有機ＥＬ装置が実現される。
【００５５】
[有機機能層の印刷装置]
図６は、上記実施例１に用いたフレキソ印刷装置の構成図である。図６に示したフレキソ印刷装置６０Ａは、いわゆるドクターロール方式のフレキソ印刷装置であり、フレキソ刷版６１ａを周面に支持した刷版ロール６１と、フレキソ刷版６１ａに対して液体材料の塗布を行うアニロックスロール６２と、アニロックスロール６２の周面に液体材料を塗布するドクターロール６３とから構成されている。本フレキソ印刷装置６０Ａにより基板１１への液体材料の塗布を行うには、まず、上記３つのロール６１〜６３を回転させつつドクターロール６３とアニロックスロール６２との間に液体材料１３ａを供給する。すると、ドクターロール６３とアニロックスロール６２との間隙から少量ずつの液体材料１３ａがアニロックスロール６２周面に供給され、このアニロックスロール６２からフレキソ刷版６１ａに対して液体材料１３ａが塗布される。そして、このような運転状態で刷版ロール６１の周面に近接する位置に基板１１を通過させると、フレキソ刷版６１ａの表面に保持されている液体材料１３ａが基板１１上に転写される。この印刷装置６０Ａによれば、フレキソ刷版６１ａの平面形状に応じたパターンにて基板１１上に液体材料１３ａを塗布することができる。
【００５６】
図７に示すフレキソ印刷装置６０Ｂは、いわゆるドクターブレード方式のフレキソ印刷装置であり、図６に示したフレキソ印刷装置６０Ａのドクターロール６３に代えて、ドクターブレード６４を具備したものである。係るフレキソ印刷装置６０Ｂでは、アニロックスロール６２の周面への液体材料１３ａの供給に際して、先端部をアニロックスロール６２の周面に近接させて配置したドクターブレード６４を用いる以外はフレキソ印刷装置６０Ａと同様であり、係る印刷装置６０Ｂを用いた場合にも、基板１１上に所定平面パターンにて液体材料１３ａを塗布することが可能である。
【００５７】
図８に示すダイコータ（塗布装置）５０は、ダイ５１と、液体材料供給部５２とを主体として構成されている。液体材料供給部５２は、例えば、液体材料を貯留する材料容器と、この材料容器から液体材料をダイ５１に搬送するポンプとから構成される。この他に、液体材料の流量調整を行うバルブや、液体材料の供給圧力を一定に保持するためのバッファを備えていてもよい。このような構成のもと、ダイコータ５０は、ダイ５１の先端部を基板１１に近接させて配置し、基板１１を図示矢印方向に移動させながら液体材料供給部５２からダイ５１の内部に設けられたノズル部５１ａに液体材料を供給することで、一定量の液体材料１３ａを基板１１上に塗布することができる。さらに、基板１１の搬送動作とダイ５１からの液体材料の供給／停止動作を組み合わせることで、基板１１上に所定平面パターンにて液体材料１３ａを塗布できるようになる。
【００５８】
図９は、基板１１に対する液体材料１３ａの塗布形態例を示す平面構成図である。図９（ａ）に示す基板１１には、有機ＥＬ素子を構成する陽極１２が平面視矩形状に形成されており、この陽極１２を覆うように液体材料１３ａが塗布されている。また、基板１１上には、液体材料１３ａが塗布されていない領域（非塗布領域）１３ｘ、１３ｙが存在しており、これらの非塗布領域は、例えば有機ＥＬ素子の陰極１４と電気的に接続される端子部や、有機ＥＬ素子と外部回路とを接続する端子部等が形成される領域とされる。
【００５９】
また、図９（ｂ）に示すように複数の有機ＥＬ素子を形成するべく基板１１上に複数の陽極１２が配列形成されている場合にも、これら複数の陽極１２を覆うように一括に液体材料１３ａを塗布し、塗布領域のｙ方向両側の非塗布領域１３ｘ１、１３ｘ２には液体材料１３ａが触れないようにして有機薄膜の形成を行う。
【００６０】
このように本実施例に用いた印刷機は、基板１１上に有機ＥＬ素子を形成するに際して、有機ＥＬ層を構成する有機薄膜の液体材料１３ａを、基板１１上の領域のうち、当該有機薄膜が形成されるべき領域にのみ選択的に塗布して前記有機薄膜を形成する。従って、基板上の全面に有機薄膜を形成した後パターニングを行う場合のように、余分の有機薄膜を除去して捨ててしまうことがなく、高効率に材料を使用して有機ＥＬ装置を製造することができる。また、有機薄膜が不要な基板上の領域に対しては、予め液体材料を塗布しないようにするので、同領域に端子等が形成されていても、それらの接続信頼性を損なったり、端子部が損傷したりすることがない。このように印刷による成膜は、高歩留まりかつ高信頼性を有する有機ＥＬ装置に適している。
【００６１】
また本発明では、図６から図８に示すような市販の塗布装置を用いて液体材料の塗布を行うので、大面積の基板上にも良好な均一性を持って液体材料を塗布することができる。そして、均一な膜厚の有機薄膜を形成できることで、有機ＥＬ素子の発光効率向上にも寄与し得る。
【００６２】
（実施例２）
［プリンタヘッド］
次に、上記実施例１の有機ＥＬ素子を用いた発光装置（以下、有機ＥＬ装置と略す）を好適に利用できるプリンタヘッドについて図１０から図１２を参照して説明する。なお、本実施例はトップエミッション型の有機ＥＬ装置を用いて説明を行うが、ボトムエミッション型の有機ＥＬ装置を用いても良い。
【００６３】
図１０は、本発明に係る有機ＥＬ装置を適用したプリンタヘッドを模式的に示す図である。図１０（ａ）は平面図であり、図１０（ｂ）は側面図である。プリンタヘッド１は、後述する画像形成装置の露光手段として用いられるものであり、その構成は、細長い矩形形状の素子基板２上に、複数の有機ＥＬ素子３を一列ないしは数列配列してなる単一色の発光素子列３ａと、有機ＥＬ素子３を駆動する駆動素子４と、これら駆動素子を制御する制御回路５とを一体形成したものである。従って、実施例１で説明をした二次元の配列を有する有機ＥＬ装置の単純な場合に相当する。なお、一次元配列の場合であっても、図１２のように千鳥配置にすることによって、画素間の間隔を狭めることも行われる。
【００６４】
次に、図１０（ｂ）に示すように、素子基板２の表面には、有機ＥＬ素子３を封止するための封止基板６があり、これは透明性の接着剤によって接着されている。本実施例はトップエミッション型であるため、封止基板６はガラス等の透明性基板からなる。また、プリンタヘッド１は、素子基板２の裏面側に、例えばアルミニウム等の金属からなる放熱板７を備える。この放熱板７は、有機ＥＬ素子３の周辺温度の上昇を抑え、有機ＥＬ素子３の発光効率及び寿命の低下を防止するものである。
【００６５】
図１０（ａ）に示すように、素子基板２上に形成された駆動用ＴＦＴ４には、電源線８，９が接続されており、これら電源線８，９を介して電源（図示せず）から駆動用ＴＦＴ４のソースに電圧が印加されるようになっている。有機ＥＬ素子３は、制御回路５によって制御される駆動用ＴＦＴ４により、その発光動作が制御されるようになっている。また、プリンタヘッド１上には、発光素子列３ａ、または、その近傍の温度を測定するための温度測定部を備えていてもよい。
【００６６】
プリンタヘッド１の各単位構成についてさらに詳細を説明する。図１１はプリンタヘッド１の要部構成を示す平面図である。図１１では陰極１５４の外形のみを示し、中間部分はその下部を透視した図となっている。なお、断面図は図３と同様となるため、対応する番号を図１１内に括弧を用いて付した。
【００６７】
図１１において、電源線８は駆動用ＴＦＴ４のソース電極に接続されており、電源線９は配線３０を経由して有機ＥＬ素子３の陰極１５４に接続される。図３に示した第２層間絶縁膜２４０（図では透明）は、これらの駆動用ＴＦＴ４及び駆動用の配線を覆うように形成されている。画素電極１４１は、本実施例の場合略円形であり、その電極下部で駆動用ＴＦＴ４のドレイン電極から来た配線とコンタクトホールを介して接続されている。画素電極１４１と、その周辺の層間絶縁膜上には、正孔注入層及び発光層の２層からなる有機薄膜が積層され、これらは上述した印刷法によって画素電極１４１を完全に覆うように塗布される。その塗布領域は、陰極１５４とほぼ同一であってよい。即ち、印刷によって平面的に形成された正孔注入層および発光層は、図のようにストライプ状に形成されており、更にその上を陰極１５４が覆う形になる。陰極１５４は、層間絶縁膜の上、あるいは、層間絶縁膜から外れた位置にある配線３０を介して電源線９と接続される。本実施例では発光の形状を、画素電極１４１と同じ円形のスポットとし、ラインプリンタヘッドに最適な形状とした。
【００６８】
図１２は、発光部分を千鳥配置にしたものである。図１１と構造的にはほぼ同一である。異なる点は、発光部分を千鳥配置にしたため駆動用ＴＦＴ４のドレイン電極から延びる配線が隣接する発光素子３間で異なることにある。即ち、駆動用ＴＦＴ４から、各発光素子３の画素電極１４１に到る接続配線は、画素電極１４１の位置まで自由に延長した後、画素電極１４１の下部でコンタクトを取っている。また、図の１２では、発光素子３の陰極１５４を、駆動用ＴＦＴ４の上部まで被覆することは止めてある。印刷によって形成された正孔注入層と発光層の２層の有機層は、同様にこの陰極１５４と同じ大きさか、小さめの帯状としてある。また、陰極からはみ出した形状であっても問題はない。陰極１５４は、配線３０を経由して電源線９と接続されている。
【００６９】
このような構成からなるプリンタヘッドにおいて、その発光色は、発光波長帯域が赤色に対応した単一色の発光が好適に採用される。しかし、もちろん発光波長帯域が緑色や青色に対応した発光色を採用してもよい。要は、後述する画像形成装置の感光体の最良感度波長域に適合させた発光色にすればよい。
【００７０】
この他本実施例のプリンタヘッドでは、上記有機薄膜の非塗布領域に電源配線８、９の引き回し、及び、これらに接続される入力端子部を設けることが出来る。このように、本実施例に係るプリンタヘッドは、正孔注入層、発光層の形成に際して簡単な帯状の印刷成膜が可能であるとともに、その外部に配した電源線や端子部と、有機薄膜層を形成するための液体材料とが接触しないので、有機薄膜の残渣による電源線や端子部の信頼低下を生じることがない。したがって、本発明によって信頼性に優れたプリンタヘッドを低コストに提供することができる。
【００７１】
（実施例３）
［画像形成装置１］
次に、本発明のプリンタヘッド１が設けられる画像形成装置について説明する。図１３は、本発明に係る電子機器の一実施例である画像形成装置の構成を示す図である。図１３に示す画像形成装置８０は、上記実施例のプリンタヘッド８１Ｋ、８１Ｃ、８１Ｍ、８１Ｙを、同様な構成である４個の感光体ドラム（像担持体）８２Ｋ、８２Ｃ、８２Ｍ、８２Ｙの露光装置にそれぞれ配置したものであり、タンデム方式と呼ばれる。
【００７２】
この画像形成装置８０は、駆動ローラ８３と従動ローラ８４とテンションローラ８５とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト８６を、図１３中の矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト８６に対して、感光体８２Ｋ、８２Ｃ、８２Ｍ、８２Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光体８２Ｋ、８２Ｃ、８２Ｍ、８２Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
【００７３】
ここで、上記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。尚、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体８２Ｋ、８２Ｃ、８２Ｍ、８２Ｙは、中間転写ベルト８６の駆動と同期して、図１３中矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。
【００７４】
各感光体８２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体８２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）８７（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段８７（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体８２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する本発明の有機ＥＬプリンタヘッド８１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００７５】
また、この有機ＥＬプリンタヘッド８１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に、現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置８８（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この現像装置８８（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を、一次転写対象である中間転写ベルト８６に順次転写する一次転写ローラ８９（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、転写された後に感光体８２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング装置９０（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００７６】
各有機ＥＬプリンタヘッド８１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、それぞれの発光点方向が感光体ドラム８２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の母線に沿うように設置されている。そして、各有機ＥＬプリンタヘッド８１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エネルギーピーク波長と、感光体８２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。尚、上記の各有機ＥＬプリンタヘッド８１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、画像形成装置８０に対し、支持部材によって支持され、取り付けられている。
【００７７】
現像装置８８（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を、例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体８２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させ、あるいは押圧することにより、感光体８２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
【００７８】
このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンダ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ８９（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト８６上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト８６上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ９１において用紙等の記録媒体Ｐに二次転写され、さらに定着部である定着ローラ対９２を通ることで記録媒体Ｐ上に定着される。その後、排紙ローラ対９３によって装置上部に形成された排紙トレイ９４に排出される。
【００７９】
尚、図１３中の符号９５は多数枚の記録媒体Ｐが積層保持されている給紙カセット、９６は給紙カセット９５から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラ、９７は二次転写ローラ９１の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ対、９１は中間転写ベルト８６との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラ、９８は二次転写後に中間転写ベルト８６の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。以上の通り、図１２の画像形成装置は、露光手段（書き込み手段）として有機ＥＬプリンタヘッド８１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）を用いているので、例えばレーザ走査光学系を用いた場合に比べ、装置の小型化を図ることができる。
【００８０】
［画像形成装置２］
次に、本発明に係る他の実施例である画像形成装置について説明する。図１４は、画像形成装置の他の実施例を示す縦断側面図である。図１４において、画像形成装置１００には主要構成部材として、ロータリ構成の現像装置１０１、像担持体として機能する感体ドラム１０５、上記有機ＥＬプリンタヘッドが設けられてなる像書込手段（露光手段）１０７、中間転写ベルト１０９、用紙搬送路１１４、定着器の加熱ローラ１１２、給紙トレイ１１８が設けられている。
【００８１】
現像装置１０１は、現像ロータリ１０１ａが軸１０１ｂを中心として、矢印Ａ方向に回転するよう構成されたものである。現像ロータリ１０１ａの内部は４分割されており、それぞれイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）、ブラック（Ｋ）の４色の像形成ユニットが設けられている。１０２ａ〜１０２ｄは、上記４色の各像形成ユニットに配置されており、矢印Ｂ方向に回転する現像ローラ１０３ａ〜１０３ｄは、矢印Ｃ方向に回転するトナー供給ローラである。また、１０４ａ〜１０４ｄはトナーを所定の厚さに規制する規制ブレードである。
【００８２】
図１４中符号１０５は、上記のように像担持体として機能する感光体ドラム、１０６は一次転写部材、１０８は帯電器である。また、１０７は本発明における露光手段となる像書込器であり、本発明の有機ＥＬプリンタヘッドを備えてなるものである。感光体ドラム１０５は、図示を省略した駆動モータ、例えばステップモータにより、現像ローラ１０２ａとは逆の方向となる矢印Ｄ方向に回転駆動されるようになっている。尚、像書込手段１０７を構成する有機ＥＬプリンタヘッドは、これと結像レンズ（図示せず）や感光ドラム１０５との間で位置合わせ（光軸合わせ）がなされた状態に配設されている。
【００８３】
中間転写ベルト１０９は、駆動ローラ１１０ａと従動ローラ１１０ｂとの間に張架されたものである。駆動ローラ１１０ａは、上記感光体ドラム１０５の駆動モータに連結されたもので、中間転写ベルト１０９に動力を伝達するようになっている。すなわち、該駆動モータの駆動により、中間転写ベルト１０９の駆動ローラ１１０ａは感光体ドラム１０５とは逆の方向となる矢印Ｅ方向に回動するようになっている。
【００８４】
用紙搬送路１１４には、複数の搬送ローラと排紙ローラ対１１６等が設けられており、用紙が搬送されるようになっている。中間転写ベルト１０９に担持されている片面の画像（トナー像）が、二次転写ローラ１１１の位置で用紙の片面に転写されるようになっている。二次転写ローラ１１１は、クラッチによって中間転写ベルト１０９に離当接されるようになっており、クラッチオンで中間転写ベルト１０９に当接され、用紙に画像が転写されるようになっている。
【００８５】
上記のようにして画像が転写された用紙は、次に、定着ヒータＨを有する定着器で定着処理がなされる。定着器には、加熱ローラ１１２、加圧ローラ１１３が設けられている。定着処理後の用紙は、排紙ローラ対１１６に引き込まれて矢印Ｆ方向に進行する。この状態から排紙ローラ対１１６が逆方向に回転すると、用紙は方向を反転して両面プリント用搬送路１１５を矢印Ｇ方向に進行する。１１７は電装品ボックス、１１８は用紙を収納する給紙トレイ、１１９は給紙トレイ１１８の出口に設けられているピックアップローラである。
【００８６】
用紙搬送路において、搬送ローラを駆動する駆動モータとしては、例えば低速のブラシレスモータが用いられている。また、中間転写ベルト１０９については、色ずれ補正等が必要となるためステップモータが用いられている。これらの各モータは、図示を省略した制御手段からの信号によって制御されるようになっている。
【００８７】
図１４に示した状態で、イエロー（Ｙ）の静電潜像が感光体ドラム１０５に形成され、現像ローラ１０２ａに高電圧が印加されることにより、感光体ドラム１０５にはイエローの画像が形成される。イエローの裏側及び表側の画像がすべて中間転写ベルト１０９に担持されると、現像ロータリ１０１ａが矢印Ａ方向に９０度回転する。
【００８８】
中間転写ベルト１０９は１回転して感光体ドラム１０５の位置に戻る。次に、シアン（Ｃ）の２面の画像が感光体ドラム１０５に形成され、この画像が中間転写ベルト１０９に担持されているイエローの画像に重ねて担持される。以下、同様にして現像ロータリ１０１の９０度回転、中間転写ベルト１０９への画像担持後の１回転処理が繰り返される。
【００８９】
４色のカラー画像担持には中間転写ベルト１０９は４回転して、その後さらに回転位置が制御されて二次転写ローラ１１１の位置で用紙に画像を転写する。給紙トレー１１８から給紙された用紙を搬送路１１４で搬送し、二次転写ローラ１１１の位置で用紙の片面に上記のカラー画像を転写する。片面に画像が転写された用紙は上記のように排紙ローラ対１１６で反転されて、搬送径路で待機している。その後、用紙は適宜のタイミングで二次転写ローラ１１１の位置に搬送されて、他面に上記のカラー画像が転写される。ハウジング１２０には、排気ファン１２１が設けられている。
【００９０】
以上、本発明の電子機器の実施例として有機ＥＬプリンタヘッドを具備した画像形成装置について説明したが、本発明のプリンタヘッドを備えた画像形成装置は、上述した実施形態に限定されることなく、種々の変形が可能である。
【００９１】
（他の電子機器）
図１５は、上記実施例の発光装置を表示部に備えた電子機器である携帯電話機を示す斜視図である。携帯電話機１３００は、表示部１３０１と、操作部１３０２と、受話部１３０３と、送話部１３０４とを主体として構成されており、表示部１３０１に前記実施例に係る有機ＥＬ装置を具備したものである。この携帯電話機は、表示部において明るい自発光の表示が得られ、読み取りやすい優れた携帯電話機となる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】実施例に係る有機ＥＬ装置の基本回路構成図である。
【図２】（ａ）は、画素領域の構成を示す平面図、（ｂ）は、画素電極を示す平面図である。
【図３】図２（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図４】本発明の実施例に係る成膜工程を示す工程断面図である。
【図５】本発明の実施例に係る成膜工程を示す工程断面図（続き）である。
【図６】成膜工程に用いる印刷装置の構成図である。
【図７】成膜工程に用いる他の印刷装置の構成図である。
【図８】成膜工程に用いる他の印刷装置の構成図である。
【図９】実施例に係る成膜の状態を示す平面図である。
【図１０】（ａ）は、実施例に係るプリンタヘッドの平面図、（ｂ）は、同側面図である。
【図１１】実施例に係るプリンタヘッドの部分構成を示す平面図である。
【図１２】実施例に係る他のプリンタヘッドの部分構成を示す平面図である。
【図１３】実施例に係る画像形成装置の構成図である。
【図１４】実施例に係る他の画像形成装置の構成図である。
【図１５】電子機器の一例を示す斜視構成図である。
【図１６】従来の技術による有機ＥＬ装置の構成断面図である。
【符号の説明】
【００９３】
１  プリンタヘッド、２  素子基板（基板）、３  有機ＥＬ素子、４  駆動用ＴＦＴ、５  制御回路、６  封止基板、７  放熱板、１１  基板、１２  陽極、１３  有機ＥＬ層、７０  有機ＥＬ装置、７１  画素領域、７２  データ側駆動回路、７３  捜査側駆動回路、１３１  走査線、１３２  信号線、１３３  給電線、１４０  有機機能層、  １４１  画素電極、１４２  スイッチング用ＴＦＴ、１４３  駆動用ＴＦＴ、１５４  共通電極、  ２００  発光素子、２１０  半導体膜、２２０  ゲート絶縁膜、２３０  第１層間絶縁膜、２３６  ドレイン電極、２３８  ソース電極、２４０  第２層間絶縁膜、２４５ａ  コンタクトホール。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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