(57)【要約】【課題】均一な幅および均一な厚さで塗布液を塗布できる塗布装置を提供することを課題とする。【解決手段】この発明の塗布装置は、被塗布面と接触する接触面５２Ａを有し、塗布液を浸透させて保持するスポンジ５２と、スポンジ５２の鉛直上方から塗布液を滴下するディスペンサー５３と、スポンジ５２を保持し、前面基板１０の周縁に沿って前面基板１０の内面に接触面５２Ａを一定の接触圧力で接触させながら、一定のスピードでスポンジ５２を移動させる移動機構とを備え、一定の幅、および一定の厚さの高抵抗膜２１を塗布できる。【選択図】      図４
2006007101.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布面に接触する接触面を有し、塗布液を浸透させて保持する浸透部材と、
前記浸透部材に、鉛直上方から前記塗布液を供給するディスペンサーと、
前記浸透部材を保持し、前記接触面を前記被接触面に接触させながら、前記被塗布面に沿って、前記浸透部材を移動させる移動機構と、
を備える塗布装置。
【請求項２】
前記浸透部材は、スポンジである請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記浸透部材は、フェルトである請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記ディスペンサーは、前記浸透部材と非接触に配置され、塗布液を前記浸透部材に滴下する請求項１ないし３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記ディスペンサーは、塗布液が滴下される上端部の反対側である下端部で、前記被接触面と接触する請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記移動機構は、前記浸透部材を鉛直方向に移動自在に保持し、前記浸透部材の自重により前記接触面を前記被塗布面に接触させる請求項１ないし５に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記接触面は、円形である請求項１ないし６に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、被塗布面に塗布液を塗布する塗布装置に係り、例えばＳＥＤの前面基板に高抵抗膜を塗布する塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、陰極線管（以下、ＣＲＴと称する）に代わる次世代の軽量、薄型の表示装置として様々な平面型の画像表示装置が注目されている。例えば、平面表示装置として用いられるフィールド・エミッション・ディスプレイ（以下、ＦＥＤと称する）の一種として、表面伝導型電子放出素子を電子源として備えた表示装置（以下、ＳＥＤと称する）の開発が進められている。
【０００３】
このＳＥＤは、所定の間隔をおいて対向配置された前面基板および背面基板を備え、これらの基板は矩形枠状の側壁を介して周辺部を互いに接合することにより真空外囲器を構成している。前面基板の内面には３色の蛍光体層が形成され、背面基板の内面には、蛍光体を励起発光させるための電子源として、各画素に対応する多数の電子放出素子が配列されている。各電子放出素子は、電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の電極等で構成されている。
【０００４】
上記ＳＥＤにおいて、側壁は、例えば、低融点金属等の封着材により、前面基板および背面基板の周縁部と接着されている。また、封着材の内側には、メタルバックと接続されている電極部分がある。このため、この電極部分と封着材との間で放電あるいは漏電が起こる虞がある。従来より、この電極部分と封着材との間に高抵抗膜を形成する技術が知られている。
【０００５】
例えば、五酸化アンチモンや、抵抗値調整された導電微粒子といった粉体固有抵抗値を制御した微粒子を主成分とする分散液を用いることにより、膜厚や 環境に対する依存性の低い、安定した帯電防止膜を得ることが可能となる帯電防止膜用材料及び帯電防止膜が知られている（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００２−０８０８２８号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、画面の有効領域をできるだけ広くとるため、電極部分と封着材との間は極めて狭く設計されており、スプレー等を利用して高抵抗膜を形成すると、噴射する圧力が変化して決められた塗布領域よりはみ出してしまう場合がある。このはみ出した塗布液と、上記電極部分あるいは封着材が連結してしまうと、種々の不具合を生じる。
【０００７】
この発明は、以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、均一な幅および均一な厚さで塗布液を塗布できる塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の塗布装置は、被塗布面に接触する接触面を有し、塗布液を浸透させて保持する浸透部材と、前記浸透部材に、鉛直上方から前記塗布液を供給するディスペンサーと、前記浸透部材を保持し、前記接触面を前記被接触面に接触させながら、前記被塗布面に沿って、前記浸透部材を移動させる移動機構とを備えている。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によると、塗布液を浸透部材に浸透させて保持したため、均一な幅および均一な厚さで塗布液を塗布できる。このため、塗布液のはみ出しによる製造不良を防止し、歩留りを向上できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照しながら、この発明の実施の形態について詳細に説明する。ここでは、本発明の実施の形態に係る表示装置の一例として、ＳＥＤについて説明する。
【００１１】
図１は、ＳＥＤの表示パネル１の概略斜視図である。図１に示すとおり、ＳＥＤの表示パネル１は、それぞれ矩形状のガラス板からなる前面基板１０および背面基板１２を備え、これらの基板は一定の間隔を有する隙間をおいて対向配置されている。この基板間の距離は、約１．０〜２．０ｍｍ程度に設定されている。そして、前面基板１０および背面基板１２は、ガラスからなる矩形枠状の側壁１４を介して周縁部どうしが接合され、内部が真空の扁平な真空外囲器を構成している。
【００１２】
図２は、図１に示した表示パネル１の断面的な概略図であり、図３は、図１および図２に示す背面基板１２と接合される前の前面基板１０の概略図である。
【００１３】
図２に示すとおり、前面基板１０の内面には蛍光体スクリーン１６が形成されている。この蛍光体スクリーン１６は、赤、緑、青の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂ、および遮光層１１を並べて構成され、これらの蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂはストライプ状あるいはドット状に形成されている。また、蛍光体スクリーン１６上には、アルミニウム等からなるメタルバック１７が形成されている。メタルバック１７は、電極１７Ａと接続されている。例えば、電極１７Ａは、図３に示すとおり、メタルバック１７の３辺の外側に形成されている。
【００１４】
背面基板１２の内面には、蛍光体スクリーン１６の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂを励起発光させるための電子ビームを放出する多数の表面伝導型の電子放出素子１８が設けられている。これらの電子放出素子１８は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列されている。各電子放出素子１８は、図示しない電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極等で構成されている。
【００１５】
また、背面基板１２の内面上には、電子放出素子１８に電圧を供給する多数本の配線２１がマトリックス状に設けられ、その端部は表示パネル１の外部に引出されている。
【００１６】
接合部材として機能する側壁１４は、例えば、低融点ガラス、低融点金属等の封着材２０により、前面基板１０の周縁部および背面基板１２の周縁部に封着され、これらの基板どうしを接合している。本実施の形態では、背面基板１２と側壁１４は、フリットガラスによって封着され、前面基板１０と側壁１４は、インジウムによって封着されている。
【００１７】
前面基板１０の電極１７Ａと封着材２０との間には、環状に閉じた高抵抗膜２１が形成されている。高抵抗膜２１は、例えば幅６ｍｍ、厚さ０．４μｍに形成されている。
【００１８】
また、表示パネル１は、前面基板１０および背面基板１２の間に配設された矩形板状のスペーサ２２を備えている。スペーサ２２は、ストライプ状に配置され、各電子放出素子１８および蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂに干渉しないように前面基板１０および背面基板１２の内面に当接して、これらの基板に作用する大気圧荷重を支持し、基板間の間隔を所定値に維持している。なお、スペーサの形状はこれに限らず、たとえば、多数の柱状のスペーサであってもよい。
【００１９】
画像を表示する場合、配線２１を介して電子放出素子１８を駆動し、任意の電子放出素子から電子ビームを放出するとともに、電極１７Ａを介してメタルバック１７にアノード電圧を印加する。電子放出素子１８から放出された電子ビームは、アノード電圧により加速され、蛍光体層１６に衝突する。これにより、蛍光体スクリーン１６の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂが励起されて発光し、画像を表示する。
【００２０】
次に、図４および図５を用いて、前面基板１０に高抵抗膜２１を塗布する塗布装置５０について説明する。
【００２１】
図４および図５に示すとおり、塗布装置５０は、支持台５１と、浸透部材５２、ディスペンサー５３、移動機構５４を有する。
【００２２】
支持台５１は、移動機構５４を搭載し、前面基板１０を支持するワークスペース５５と、ワークスペース５５内の所定位置に前面基板１０を位置決めするためのワーク位置決め機構５６とを有する。
【００２３】
浸透部材５２は、塗布液を浸透させて内部に保持できる材質からなり、例えば、スポンジ等の発泡体、あるいは繊維素材を圧縮させたフェルト状部材が利用できる。本実施の形態では、浸透部材５２としてスポンジを利用した。スポンジ５２は、前面基板１０の内面（被塗布面）と接触する接触面５２Ａを有する。本実施の形態では、接触面５２Ａは、スポンジ５２の下端面に形成され、前面基板１０の高抵抗膜２１が塗布される塗布領域の幅と一致する幅を有する。具体的には、スポンジ５２は、円柱状に形成され、直径が高抵抗膜２１の幅と一致する円形の接触面５２Ａを有する。
【００２４】
また、スポンジ５２は、ディスペンサー５３が固定されている保持部材５７に、上下方向（図５に示す矢印Ｚ方向）に移動可能に保持されている。従って、スポンジ５２は、自重に応じた一定の接触圧で、前面基板１０と接触できる。
【００２５】
ディスペンサー５３は、高抵抗膜２１を形成するための塗布液（例えば五酸化アンチモンを含む分散液）を収容し、塗布液をスポンジ５２の鉛直上方から滴下する。このため、ディスペンサー５３は、塗布液を滴下するディスペンサー先端部５３Ａが、スポンジ５２の鉛直上方にくるように、かつ、スポンジ５２と非接触になるように、保持部材５７に固定されている。
【００２６】
また、ディスペンサー５３は、ディスペンサー制御部５３Ｂと電気的に接続されている。ディスペンサー制御部５３Ｂは、スポンジ５２に含浸される塗布液が一定量以下にならないように、塗布液の滴下量と滴下タイミングを制御する。本実施の形態において、ディスペンサー制御部５３Ｂは、前面基板１０に塗布された塗布液の量を、スポンジ５２が移動した移動量（距離）に基づき算出し、この結果に応じた量の塗布液を、常時、滴下するように、ディスペンサー５３を制御している。
【００２７】
移動機構５４は、スポンジ５２とディスペンサー５３を保持する保持部５７を、図４に示す矢印Ｚ方向、すなわち塗布液がスポンジ５２に滴下される方向（鉛直方向）に移動可能なＺ軸ロボット５８と、このＺ軸ロボット５８を保持し、スポンジ５２およびディスペンサー５３を、図４に示す矢印Ｘ方向および矢印Ｙ方向に移動可能なＸＹ軸ロボット５９を有する。この矢印Ｘ方向および矢印Ｙ方向は、前面基板１０の内面と平行であって、お互いが直角に交わっている。Ｚ軸ロボット５８およびＸＹ軸ロボット５９は、制御部６０と電気的に接続されている。制御部６０は、前面基板１０の高抵抗膜２１が塗布される塗布領域に沿って、スポンジ５２を移動するように、Ｚ軸ロボット５８およびＸＹ軸ロボット５９を制御する。
【００２８】
前面基板１０の内面に高抵抗膜２１を塗布する場合、塗布装置５０のワークスペース５５にワーク位置決め機構５６によって前面基板１０が位置決めされ、塗布液を含浸したスポンジ５２が、ＸＹ軸ロボット５９により前面基板１０の塗布領域の上方に移動される。Ｚ軸ロボット５８は、保持部材５７を一定量だけ下方に移動させ、スポンジ５２の接触面５２Ａを前面基板１０に接触させる。ＸＹ軸ロボット５９は、塗布領域に沿って、スポンジ５２を移動させ、接触面５２Ａを前面基板１０の周縁に沿って一周させる。スポンジ５２は、一定の速度で移動され、かつ、自重により一定の接触圧で接触面５２Ａに接触している。このため、前面基板１０の塗布領域には、一定の幅と、一定の厚さの高抵抗膜２１が塗布される。
【００２９】
なお、上述した本実施の形態に限られず、本発明は、スポンジ５２が、バネ等から提供される圧力により、一定の接触圧で、前面基板１０と接触する構成であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】この発明の一実施の形態である表示パネルの一例を示す概略図。
【図２】図１に示した表示パネルの断面的な概略図。
【図３】この発明の一実施の形態である前面基板の一例を示す概略図。
【図４】この発明の一実施の形態である塗布装置の一例を示す概略図。
【図５】図４に示した塗布装置の浸透部材が保持される部分を説明する概略図。
【符号の説明】
【００３１】
１０…前面基板、
１７…メタルバック、
１７Ａ…電極、
２０…封着材、
２１…高抵抗膜、
５０…塗布装置、
５１…支持機構、
５２…浸透部材（スポンジ）、
５３…ディスペンサー、
５４…移動機構。
【図１】
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【図２】
2006007101.tif 000004
【図３】
2006007101.tif 000005
【図４】
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【図５】
2006007101.tif 000007