(57)【要約】【課題】  部品交換やメンテナンス等の作業の時間を短縮できる、または設置面積が小さい試料処理装置を提供する。【解決手段  】内部を処理対象の試料が搬送される略多角形状の搬送チャンバの隣り合う辺の各々に取り付けられた複数の容器３を備えた試料処理装置であって、各々の容器は、搬送室側のヒンジ９で支持された、その上部を開閉する蓋部材１を有し、この蓋部材１が、最大開角度位置、および、閉位置と最大開角度位置との間の開角度位置で位置固定される試料処理装置。【選択図】        図６
2006140292.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を処理対象の試料が搬送される略多角形状の搬送チャンバの隣り合う辺の各々に取り付けられた複数の容器を備えた試料処理装置であって、各々の容器は、搬送室側のヒンジで支持された、その上部を開閉する蓋部材を有し、この蓋部材が、最大開角度位置、および、閉位置と最大開角度位置との間の開角度位置で位置固定される試料処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の試料処理装置であって、前記ヒンジは、軸受に保持されるピンを有し、また、前記処理容器の前記蓋がその側面に穴を備え、前記ピンがこの穴に入り、前記蓋の開角度が固定される試料処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の試料処理装置であって、前記軸受に保持される前記ピンが弾性部材により前記蓋側面への押し付け力が与えられて、開閉蓋を開閉するに伴って、ピンが前記蓋側面の穴に入り、前記蓋の開角度が固定される試料処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の試料処理装置であって、前記ピンが挿入される前記蓋側面の穴を複数箇所有し、複数の開角度で前記蓋が固定される試料処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の処理装置であって、前記ピンが挿入される前記蓋側面の穴は、前記ピンが深さ方向の異なる位置で止められる複数の段差を有し、各々の段差で前記ピンが止められた状態で、前記蓋の開度が止められる試料処理装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の処理装置であって、前記ピンが前記複数の段差の浅い段差から深い段差に移動自在に構成された試料処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造装置等の処理容器内部で試料を処理する試料処理装置に係り、特に、処理容器をヒンジ等の支持部を用いて上方に開放して開閉する手段を備えた試料処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置などの試料処理装置は、高度な真空状態にされた内部を試料が搬送される搬送室に少なくとも１つの処理容器が連結された構成が一般的である。このような試料処理装置において、試料は搬送室内に格納された搬送ロボットによって処理容器内に配置された処理室内に搬送される。この処理室内において試料の処理が完了すると、再び搬送ロボットによって処理室から取り出される。
【０００３】
この処理容器は、処理室内と連通して配置された排気手段により処理室内が排気され、内部が処理を行う際に高度な真空状態に維持される。処理容器は、このような高真空にされる内部と外部の大気の圧力との圧力差による外力に耐えられるような真空容器により構成される。このような試料処理装置において、容器内の処理室内では、処理が進行するにつれて、例えば、内部の部品に反応生成物が付着する。ひいては付着した反応生成物が剥離あるいは解離し、異物として被処理物表面に付着して歩留まりが低下するといった問題が生じていた。このため、定期的に付着物の付着した内部部品を交換したり、ウェットクリーニングと呼ばれる清掃作業を行ったりするために、処理室内部を開放する必要があった。
【０００４】
このような構成を開示する従来の技術として、真空容器の上部壁の一部がヒンジを中心に上方へ開閉移動可能に構成され、処理室内部のメンテナンスや部品の交換を行う際に上部壁がプラズマ処理装置の部品の一部を保持した状態で、上向きに開放可能に構成されたプラズマ処理装置が提案されている（例えば、特許文献１および２参照）。
【特許文献１】特開２０００−２６９１８３号公報
【特許文献２】特開２００４−２００２５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような従来技術において、上記作業中には、作業対象の処理室での試料の処理は停止せざるを得ないので、試料処理装置の稼働効率は低下することになる。
【０００６】
さらに、近年では、試料処理装置のスループット向上のため、一つの搬送室に対して複数の処理室が取り付けられた、所謂マルチチャンバの構成が採用され、また試料の大径化による処理室の大型化が進み、それに伴い、処理容器周囲における保守・点検等のメンテナンスのための空間が１つの処理室を有する従来技術に比較して減少してしまい、処理容器の間での作業の効率が低下してしまうという問題が生じていた。
【０００７】
また、上記のような作業を行うために処理室内を開放するとき、例えば、上面に開口部を有し、その開口部を蓋によって閉じられる処理容器について、ヒンジ構造を用いて重量の大きな蓋等の部材を開閉する構成では、リフター等の容器開閉用の装置のための付けスペースは小さくなり試料処理装置の接地面積の低減やメンテナンススペースの拡大ができ、取り外し後の蓋を台や床の上などに置く必要がなく取り扱いが容易となる一方、開閉する部材が真空容器の上部を構成する蓋である場合にはその重量や径が大きくなり、ガススプリングやエアーシリンダ等を用いてこれらに開閉作業の際に必要な部材の支持力の補助をさせようとすると、これらの配置空間によりメンテナンスや部品交換作業用の領域が低下してしまうという問題がある。
【０００８】
さらに、スワップ部品の交換とウェットクリーニングとの２つのメンテナンスを行うとき、ウェットクリーニングにかかる作業時間に対してスワップ部品の交換にかかる作業時間の方が短いため、近年は、処理室内の部品を出来る限り交換可能に構成し、ウェットクリーニングを行う部品数を減らすことにより作業に必要な時間を低減する技術が知られている。
【０００９】
しかし、このような試料処理装置では、ウェットクリーニングに時間が掛かる部品は必然的に表面積や大きさが大きな部品であり、ヒンジ機構を用いて処理容器の蓋を開いて処理容器の内部をメンテナンスするとき、スワップ部品の交換をする為に、処理室間距離を大きくとることになり、装置床面積が増大することが問題になっていた。
【００１０】
つまり、隣り合って取り付けられた複数の容器の各々が搬送室側のヒンジで支持された処理容器の蓋を有しており、これを開いた状態で部品の交換およびウェットクリーニングを行う場合、その上部を開閉する開閉蓋を同時に開けようとするとき、互いの蓋部材同士が干渉しないように処理容器間の距離や処理容器間に作業者が居ることのできる空間を十分に確保しなければならず、試料処理装置が設置される床面の面積（設置面積）が大きくなってしまうという問題が生じていた。
【００１１】
一方、このような試料処理装置で設置面積が大きくなることを抑制しようとして処理室間の距離を小さくすると、部品交換やメンテナンス等の作業のためのスペースが十分確保されず作業の時間が増大してしまう。このように、上記のような複数の処理容器を備えた構成を有する試料処理装置においては、部品交換やメンテナンス等の作業時間の短縮と設置面積の低減との両立が困難であった。
【００１２】
特に、近年は、試料である半導体ウエハの径の大径化に伴い処理容器内の部品の大型化が進み、部品の交換をするときに、ウェットクリーニングするときに比べて、より大きく処理室の開閉蓋を開かねばならず、上記のような課題がより顕著になってきていた。また、隣り合って複数の処理室が配置された試料処理装置の構成において、上記作業の効率や安全性を向上させる構成について十分に考慮されていなかった。
【００１３】
上記の従来技術では、このような問題点について考慮されていなかった。
【００１４】
本発明の目的は、部品交換やメンテナンス等の作業の時間を短縮できる、または設置面積が小さい試料処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するため、略多角形状搬送チャンバの隣り合う辺の各々に取り付けられた処理室について、ウェットクリーニングするために必要な開角度まで処理室の開閉蓋を同時に開くことが出来るが、スワップ部品を交換するために必要な開角度まで処理室の開閉蓋を同時に開くことは出来ない構造とする。
【００１６】
すると、ウェットクリーニングとスワップ部品の交換との両方の作業をするために必要な開角度で上記のような複数の処理室の開閉蓋を同時に開くことが出来る構造に比べて、処理室間の距離を小さく出来るため、装置床面積を縮小できる。このとき、メンテナンス中に占めるスワップ部品の交換にかかる時間はウェットクリーニングにかかる時間より大幅に短いため、隣接する処理室のスワップ部品の交換は、同時に行わず、順次作業してもメンテナンス全体にかかる時間はほとんど変化ないとみなすことができるので、メンテナンス時間を増やすことなく、試料処理装置の縮小化を図ることが可能となる。
【００１７】
本発明は、半導体製造装置などの試料処理装置において、スワップ部品の交換、あるいはウェットクリーニングなどをするために処理室の開閉蓋をヒンジ機構によって開閉するときに、最大開角度位置、および、閉位置と最大開角度位置の間の位置で、開閉蓋を固定できる試料処理装置とした。
【００１８】
本発明の他の特徴は、軸受に保持されるピンが処理容器の開閉蓋の側面に開けられた穴に入ることによって開閉蓋の開角度が固定される機構を持つことにある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の実施の形態について、以下、図面を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の実施例に係る試料処理装置である真空処理装置の全体構成を示す平面図である。
【００２０】
本実施の形態に係る試料処理装置（真空処理装置）は、図面上方を前方、下方を後方とすると、装置前方側には、試料収納カセット２０をその前面側に配置した大気側試料搬送室２２が備えられている。この後方側には、試料が内部に配置された状態で密封されて内部が大気圧から真空まで圧力が調節されるロック室２３およびロック室２４が配置される。これらロック室２３，２４は真空側試料搬送室８と接続され、この真空側試料搬送室８内の図示しないロボットアームにより真空下で試料が真空側試料搬送室８とやりとりされる。真空側試料搬送室８の外周には、隣り合って複数の処理ユニット１９−１〜９−４が真空側試料搬送室８内と連通可能に取り付けられている。
【００２１】
このような試料処理装置は、次のように処理室ユニット内において試料の処理を行う。
【００２２】
まず、カセット２０に収納された試料は、一枚ずつ大気側試料搬送室２２に格納された図示しない搬送ロボットによりロック室２３に運ばれる。ロック室２３の前後（大気側試料搬送室２２側及び真空側試料搬送室８側）にはロック室内部を密閉するゲートバルブが備え付けられており、大気圧状態で試料が収納された後、ゲートバルブを閉めてロック室２３内部を減圧する。ロック室２３の内部が真空状態になった後、真空側試料搬送室８側のゲートバルブを開放し真空側試料搬送室８内に格納された搬送ロボットにより試料を処理ユニット１９−１〜１９−４のいずれかに搬送し、処理ユニット１９内に形成された処理室内に配置された試料台上に試料を載置した後、処理室を密封してこの室内に処理用のガスを供給しつつ内部を所定の圧力に維持してガスを用いたプラズマによって試料の処理が行われる。処理が終了すると、処理室は開放され試料が再び真空側試料搬送室８内の搬送ロボットによりを真空状態であるロック室２４内に搬送される。真空側試料搬送室８側のゲートバルブを閉塞して内部を密閉し、加圧して大気状態にされた後、大気側試料搬送室２２側のゲートバルブが開放され試料が搬送ロボットによりカセット２８へ戻される。上記ロック室２３，２４はいずれにおいても大気圧から真空状態、真空状態から大気圧までのいずれの圧力変更も可能に構成されているので、試料のやりとりはいずれのロック室２３，２４においても可能となっている。
【００２３】
上記のように試料に処理を施す試料処理装置において、処理ユニット１９−１〜１９−４近傍の構成について図２を用いて説明する。図２は、その平面形状が略多角形状の試料搬送室８の隣り合う辺の各々に取り付けられた２つの処理容器を処理ユニット１９の後方側から見たときの構成の概略を示す後面図である。この図において、処理ユニット１９−２，１９−３の各々は、処理容器３の上部に開口を有する構造であり、それら開口部は本実施の形態では処理容器３の上面に構成され開閉蓋１により開閉される。開閉蓋１の上部には処理室内に処理室３で試料を処理するために必要な磁場を発生させるためのコイルを外部に設けた放電室２が配置されている。部品交換やメンテナンス等の作業を真空容器３の内部に施すとき、コイルを外部に設けた放電室２および開閉蓋１を処理容器３の上面から移動させ、真空容器３上に配置された開口部を開放しなければならない。このために開閉蓋１は、処理容器３の試料搬送室８側に設置されたヒンジ機構を介して上方に回転するように移動される。
【００２４】
図３に、処理容器３の開閉蓋１を上方に開放した状態を示す。図３は、前記試料搬送室８の隣り合う各々の辺に取り付けられた２つの処理容器３の上部の開閉蓋１を各々回転して開放した状態を示す図であり、図３（ａ）はその上面図を、図３（ｂ）は後面図を示す。
【００２５】
この図において、開閉蓋１を大きく開く程、真空容器３の開口部が大きく開放されるとともに、処理容器３の周囲に位置して処理容器３内に作業を施す作業者の利用可能な空間が大きくなり、作業性が向上する。前記真空側試料搬送室８の隣り合う各々の辺に取り付けられた２つの処理容器３の開閉蓋１を同時に開く場合には、その開放する角度が大きいほど、特に、９０°を越えて開放する角度が大きい程、各々の開閉蓋１が干渉せずに同時に開放可能とするためは処理室間の距離が大きくする必要があり、装置が設置される床面積あるいはメンテナンス等の作業を行うために必要な作業スペースを含めた設置スペースが増大することになる。これらの設置面積あるいは設置スペースの増大を抑制しつつ、作業を効率よく行うための構成の工夫が必要となる。
【００２６】
本実施の形態の試料処理装置では、処理室内部にある作業を施す際に蓋の閉状態から回転して開き所定の第１の角度で開閉蓋１を位置固定し、さらに処理室内部の部品の交換等特定の作業を行うために第２の角度で開閉蓋１を位置固定する構成とした。特に、前記真空側試料搬送室８の隣り合う辺の各々に取り付けられた処理ユニットの処理容器３について、第１の角度までは各々の開閉蓋１が同時に開放可能であり、これを越えた第２の角度では処理室の開閉蓋を同時に開放しようとすると両者が干渉する構成であり何れか一方の開閉蓋１のみを第１の角度以上に開放し第２の角度で位置固定可能な構成としている。図３以下に示す実施の形態では、第１の角度を７５°、第２の角度を９０°にした例を示した。
【００２７】
図３では、第１の角度である７５°の位置で開閉蓋１が固定されている状態を示している。この状態で、開閉蓋１は、それぞれの容器３下方に配置され容器３を下方から支持する３本の支柱のうち隣り合う容器と反対の側に配置された２本の支柱６に取り付けられた棒状のガススプリング１５と連結されている。
【００２８】
本図に示すとおり、前記真空側試料搬送室８の隣り合う辺の各々に取り付けられた処理容器３の各開閉蓋１を第１の角度である７５°まで開いても開閉蓋１同士はその部材が衝突して干渉することがないので、隣接する処理容器３の処理室内を同時にウェットクリーニングや小さな部品の交換等の所定の作業をすることができる。また、処理容器３同士の間の空間にはガススプリング１５は配置されておらず、この空間を作業者が作業を行うためのスペースとして利用可能にされており、さらにこのスペースで作業者がガススプリング１５の位置を気にせず作業を行うことができるように構成されている。
【００２９】
また、処理容器３の側方に配置されたガススプリング１５は、後述のように、開閉蓋１の真空側試料搬送室８の側に配置されたヒンジ部にできるだけ接近して配置されており、この側で作業を行う作業者の作業スペースが大きくされ、また作業時にガススプリング１５の位置を気にせず作業を行うことができるように構成されている。
【００３０】
なお、本実施の形態では、それぞれの処理容器３の下方には、処理室内を排気して真空にするための真空ポンプ５と、この真空ポンプ５と処理容器３との間に配置され真空ポンプ５による排気を調節するバルブ４とを有している。このバルブ４と真空ポンプ５とは処理容器３内の処理室の略中心部を通る上下方向の軸に沿うように配置されている。これらの周囲に前記支柱６，７が配置されて処理容器３を下方から支持しているが、支柱６，７は図示していない下方の平板形状の架台状に取り付けられて位置決めされている。作業者はこの架台上面に乗載して前記スペースにて作業を行える。
【００３１】
図４乃至図６を用いて、各処理ユニットでの開閉蓋の各開位置での状態を説明する。図４は、開閉蓋の各位置での処理容器近傍の構成の概略を示す図である。ここで、図４（ａ）は、開閉蓋１を閉じているときの処理室の上面図、図４（ｂ）はその側面図である。図５（ａ）は、開閉蓋１を９０°開いたときの真空処理室の上面図を示し、図５（ｂ）はその側面図を示す。図６（ａ）は、開閉蓋１を７５°開いたときの処理室の上面図を、図６（ｂ）はその側面図である。
【００３２】
図４に示す通り、平板上の開閉蓋１が閉状態では処理容器３の上面にその一部が接して処理容器３内の処理室の上方を覆うように配置されて、開閉蓋１の下面の一部が処理容器内の処理室の天面の一部を構成するように配置されている。また、本実施例では開閉蓋１の中央部には略円形の開口部が形成されており、この開口部上に処理ユニット１９の真空容器の一部をなす略円筒形状の放電室２が配置される。試料の処理の際にはこの放電室２内に処理用のガスが供給され、放電室２の周囲或いは上方に配置されたコイル、電波源から供給される電界、磁界により放電室２内あるいはその下方の処理室内にプラズマが形成される。
【００３３】
開閉蓋１の図上左側である真空側試料搬送室８の側には、ヒンジ９が配置され、各処理容器内部に作業を施す際にはこのヒンジ９を中心に開閉蓋１が上方、下方に回転して、処理容器３の上部を開放、閉塞可能に構成されている。
【００３４】
この開放、閉塞の回転動作において、開閉蓋１を下方から支持するため、開閉蓋１の側部には、アーム１６とこれに連結された棒状のガススプリング１５が配置されている。アーム１６は平面形状が略多角形状の側面で、略円形の開口部の中心の側方か所定距離だけ図上右側である処理容器３の先端側（真空側試料搬送室８と反対側）となる位置で、蓋部材１と連結され、その図上左側（真空側試料搬送室８側、ヒンジ９側）に延びている端部において、ガススプリング１５の一端部と連結されている。
【００３５】
棒状のガススプリング１５は、アーム１６の連結部から下方に位置しており、その他端部は２つの支柱６に取り付けられた梁に接続されたブラケット１８と連結されている。開閉蓋１が閉状態でガススプリング１５は略垂直な状態でアーム１６を介して開閉蓋１及び支柱６と連結され処理容器３内の処理室の中心部よりも真空側試料搬送室８側に位置している。この位置が真空側試料搬送室８から遠い（処理容器３の先端側の）位置であり、作業者が処理容器３の側面側に位置して作業が容易にできる空間をより大きくしている。
【００３６】
上記ガススプリング１５は、開閉蓋１が閉状態で最も押し縮められ、その反発力が最大になっている。つまり、開閉蓋１はその重力によるモーメントがガススプリング１５の反発力のモーメントを上回っているため閉状態を維持しているが、反発力が最大となっているので、開閉蓋１を開くために必要な作業者の力を低減している。
【００３７】
本実施の形態では、ガススプリング１５の反発力は、開閉蓋１が閉状態から開角度が増大するにつれて減少するように構成されている。また、この反発力によるモーメントと開閉蓋１の重力によるモーメントとの大きさの差は、開閉蓋１の開角度が大きくなるにつれて小さくなるように構成されている。
【００３８】
また、本実施の形態では、ヒンジ９は、処理容器３の真空側試料搬送室８側の端部において両側２箇所に配置され、対向する側のそれぞれの面に略同軸の穴が形成されている。これら穴内にヒンジ軸１４が嵌入されて支持され、このヒンジ軸１４を中心にして開閉蓋１が回転運動し、ヒンジ９の軸受によりヒンジ軸１４が支持されるとともに、開閉蓋１が支持される。開閉蓋１は、ヒンジ側の端部において両側の箇所で突出した部分を備え、これら突出部に略同軸の貫通孔が形成され、これらの貫通孔を貫通してヒンジ軸１４が配置される。
【００３９】
ヒンジ９には、ピン１３を受ける軸受１０が固定されており、軸受１０の貫通穴にはつまみ部１１を有し開閉蓋１の開角度を固定するピン１３が挿通されている。ピン１３は、バネ１２によって開閉蓋の内側に付勢されている。開閉蓋１には、ピン１３を案内するプレート１７が固定されている。
【００４０】
さらに、図５に示されるように大型の部品２１を交換する時は開閉蓋１を９０°まで開かなければならない。ただし、前記搬送室８の隣り合う辺の各々に取り付けられた処理室の各開閉蓋を同時に９０°付近まで開くことは出来ないので、順次、交換作業を行う。
【００４１】
図５に示すように、交換される部品としては、処理容器３内の処理室の内側側壁面を構成する円筒形状の壁部材のように大型の部品２１が挙げられる。本実施例では、この部品２１の上部は、開閉蓋１が閉状態でこの開閉蓋１からの押圧力が伝達されて下方に押し付けられて位置固定されている。
【００４２】
本実施の形態では、アーム１６は、ヒンジ９側に延びるとともに開閉蓋１の下面方向にも延びており、これにより図５に示す状態で、開閉蓋１に対するガススプリング１５の反発力は、アーム１６の開閉蓋１との取り付け位置よりも蓋部材１の先端側（ヒンジ９と反対の側）に向って働くことになり、ガススプリング１５の反発力のモーメントは開閉蓋１を開放するように回転させる向きに働く。このことにより、開閉蓋１に外力が働いても不用意に閉方向に回転して作業者に危険が及ぶことを抑制している。
【００４３】
前述のとおり、前記真空側試料搬送室８の隣り合う辺の各々に取り付けられた処理容器３の各開閉蓋１を第１の角度である７５°まで開いても開閉蓋１同士はその部材が衝突して干渉することがないので、隣接する処理容器３の処理室内を同時にウェットクリーニングや小さな部品の交換等の所定の作業をすることができる。
【００４４】
図６に示す状態では、小型の部品の交換やメンテナンスのように、開閉蓋１の大きな開角度による大きな空間が必要とならない作業を行うことができる。あるいは、ウェットクリーニングのように作業時間が相対的に長く必要であるが、開閉蓋１の大きな開角度による大きな空間が必要とならない作業を行うことができる。このような作業を行う際には、並列して配置された処理容器３の開閉蓋１を同時に開放して処理容器３内に作業を施すことで、作業時間を短縮して作業効率を向上することができる。
【００４５】
また、これら処理容器３同士の間隔は、それぞれの開閉蓋１を並列して開放して作業に必要な開角度で位置固定することができるだけ、接近させて配置することができ、試料処理装置の設置面積を小さく抑えることができる。また、平面形状が略多角形状の真空側試料搬送室８のそれぞれの辺に取り付けられた処理容器３同士の間の空間に作業者が作業を行うためのスペースが確保され、この空間において作業する作業者は、両側に位置する処理容器３に作業を並行して施すことができ、この点でも作業性や作業効率が向上する。
【００４６】
本実施の形態では、図６に示す開閉蓋１の第１の角度の開角度において、開閉蓋１の重力によるモーメントとガススプリング１５の反発力によるモーメントとが略釣り合いとなり、開閉蓋１に外力が加わらなければ、その位置の変動が抑えられるように構成されている。また、開閉蓋１は閉方向に回転してその位置が変動すると、ガスプリング１５からの反発力が増大していくことになり、開閉蓋１を開放する方向に反発力のモーメントが働く。このような構成により、作業者の作業中に開閉蓋１の開角度の変動とその増大が抑制され、次第に開閉蓋１が閉方向に回転して作業者に危険が及ぶことが低減される。
【００４７】
上記のように、処理室内について作業を施す場合には、まず、開閉蓋１を最大開角度９０°の位置で固定してスワップ部品の交換を行った後、開閉蓋１を開角度７５°の位置に固定してウェットクリーニングを行うことができる。本実施の形態に係る試料処理装置では、この際にそれぞれの開角度で開閉蓋１を位置固定する構成をヒンジ９とその近傍に配置している。開閉蓋を閉状態と最大開角度との間の開角度で固定するための構成について図７乃至図９を用いて説明する。
【００４８】
図７は、開閉蓋１が閉状態のヒンジ近傍の構成を示す図であり、図７（ａ）は側面図を、図７（ｂ）は背面図を示す。図８は、開閉蓋１を開角度９０°の位置で固定した状態でのヒンジ近傍の構成を示す図であり、図８（ａ）は側面図を、図８（ｂ）は背面図を示す。図９は、開閉蓋を開角度７５°の位置で固定した状態でのヒンジ近傍の構成を示す図であり、図９（ａ）は側面図を、図９（ｂ）背面図を示す。
【００４９】
これらの図に示されるようにヒンジ９に配置されるヒンジ軸１４を受ける軸受の上方に開閉蓋固定ピン用の別の軸受１０が配置されている。この軸受１０の両端部に設けられた略同軸の貫通孔には開閉蓋を固定するピン１３が貫通されて支持されている。ピン１３のこれら貫通孔の間の箇所の外周にはバネ１２が、その一端が軸受け１０の壁面に接し他端が開閉蓋固定ピン１０の中間に設けたつば部に接して配置されて、このバネ１２の付勢力によって常に開閉蓋１の中央側にピン１３を押し付けるように力が加えられている。なお、ピン１３の他端部には、作業者がこのピン１３を保持して作動させることができるよう、つまみ部１１が配置されている。
【００５０】
図７（ａ）のように開閉蓋１が閉状態では、ピン１３はバネ１２の付勢力により、開閉蓋１のヒンジ９側の端部の上面に配置され軸受１０の開閉蓋１の中央部側の貫通孔に面する位置に設けられた部材であるプレート１７端部の側面に押し付けられている。
【００５１】
プレート１７のピン１３が接する側面と開閉蓋１のヒンジ９側端部の側面とは略同一の面となるように連なって構成されており、開閉蓋１がヒンジ９のヒンジ軸１４を中心とする回転移動により開閉動作をするに伴い、ピン１３の接触箇所は、プレート１７の側面から開閉蓋１の側面との間を移動する。
【００５２】
また、この開閉蓋１のヒンジ９側端部の側面には穴２５が設けられており、この穴２５は開閉蓋１が閉状態から回転移動して開かれて開角度が大きくなると、ある角度でこの側面の穴２５にピン１３の開閉蓋１側に押し付けられている端部が嵌入する位置に配置されている。すなわち、この穴２５は軸受１０の貫通孔に支持されたピン１３の先端部の位置と重なるとき、ピン１３が開閉蓋側面の穴２５に入りこむことで開閉蓋１の開角度が固定される。穴２５の大きさはピン１３の径よりも僅かに大きく形成されて内部に入り込んだピン１３の位置が大きくずれることがないように構成されている。
【００５３】
開閉蓋１の側面には上記のピン１３が貫入する穴２５が二箇所あるいは複数位置に設けられており、それぞれの穴２５−１，２５−２あるいは位置にピン１３が挿入され、２種類の異なる開角度で開閉蓋１の開角度位置が固定されるように構成されている。
【００５４】
特に、図７に示すように、本実施の形態の穴２５は、深い穴２５−１と浅い穴２５−２、あるいは１つの穴２５に深い段２５−１と浅い段２５−２との２つの深さとこれらを連結する段差を有しており、開閉蓋１が閉状態で深い穴２５−１が浅い穴２５−２の上方に位置するように構成され、開閉蓋１の開方向に浅い穴、深い穴の順に配置されている。
【００５５】
また、これらの各穴の底面同士は段差を有しており、段差の面でその面が連なっている。各穴（段）の底面とピン１３の先端部が接触して、穴２５の側面あるいは段差の面と各穴（段）の底面とでピン１３が位置固定され、穴２５の各深さの段の位置に対応する複数の開閉蓋１の開角度で開閉蓋１が位置固定される。
【００５６】
本実施例では、開閉蓋１が第１の角度である７５°開いたときにピン１３が挿入される穴２５−１と開閉蓋１が第２の角度である９０°開いたときにピン１３が挿入される穴２５−２とはその配置位置は連結されピン１３が移動可能に構成される。図９（ａ）に示すように、開閉蓋１が７５°開いたときにピン１３が挿入される穴（段）２５−１は深く、図８（ａ）に示すように、開閉蓋１が９０°開いたときにピン１３が挿入される穴２５−２は浅く設けられており、これら二つの穴の境界で段差を有している。
【００５７】
図７（ａ）、（ｂ）に示されるように開閉蓋１が閉じているとき、ピン１３は開閉蓋１の上方にあり、プレート１７の側面に接している。開閉蓋１を開いていくと、図９（ａ），（ｂ）に示すように開閉蓋側面に設けられた深穴２５−１の位置がピン１３の位置と重なるとき、開閉蓋１の開角度は約７５°となり、ピン１３がバネ１２の付勢力によって開閉蓋１側面の穴２５の深穴（段）２５−１に挿入され、開閉蓋１の開角度が固定される。このとき、開閉蓋１には、開閉蓋１の自重により閉まろうとする力のモーメント或いはガススプリングの反力により開閉蓋１を押し開こうとする力のモーメントが働いたとしても、ピン１３が開閉蓋１側面の深穴に挿入されてその位置が固定されているので、その開閉の回転移動が抑制されている。
【００５８】
次に、開閉蓋１を最大開角度である第２の角度の９０°まで開くには、開閉蓋１が第１の角度である７５°開いた位置で固定された状態で、つまみ１１を手前に引っ張り、ピン１３を開閉蓋１側面の深穴（段）２５−１から抜き出した後、開閉蓋１を押し上げてその開角度を大きくしていく。図９（ａ），（ｂ）に示すように開閉蓋１の開角度が略９０°となるとき、ピン１３が開閉蓋１側面に開けられた浅穴（段）２５−２に嵌入してその底面と接するとともに、穴２５の側面と接触してその位置変動が抑制され、開閉蓋１の開閉移動が抑制される。
【００５９】
このとき開閉蓋１の自重による回転モーメントの大きさは非常に小さく、ガススプリング１５の反力による回転モーメントの大きさの方が確実に大きくなるため、開閉蓋１をさらに開こうとする力が働くが、上記のようにピン１３が開閉蓋側面の浅穴の側面に当たり、９０°以上開くことを許さないので、開閉蓋は開角度９０°の位置で固定される。
【００６０】
ここで、もし、ガススプリングの不良等により、その反力が失われて開閉蓋１が不意に閉じ始めたり、作業者との接触等による外力が作用して閉回転を行ったとしても、穴２５の深穴２５−１と浅穴２５−２の間でピン１３は移動自在であり、ピン１３は各段の底面の方向にバネ１２により付勢されているため、開閉蓋１の開角度が略７５°になる位置で、ピン１３がバネ１２の力によって自動的に開閉蓋１の側面に開けられた深穴（段）に挿入され、それ以上の開閉蓋１の閉方向の回転を抑制するように構成されている。
【００６１】
上記実施例では、開閉蓋１の側面に設けられた穴２５は、開角度７５°で深い穴２５−１に、開角度９０°で浅い穴２５−２に挿入されるように構成したが、この関係を逆に、すなわち、開角度７５°で浅い穴に、開角度９０°で深い穴に挿入されるように構成してもよく、この場合には、開閉蓋１を開角度７５°まで開いて固定した後にそのまま開角度を大きくすることによって開角度９０°に固定することができる。さらに、穴２５−１と穴２５−２を別の穴として構成することができる。
【００６２】
上記の通り、ウェットクリーニングと部品の交換といった複数の種類の所定の作業をする上で適切な複数の開角度で複数の処理室の開閉蓋を同時に開くことができる。また、ウェットクリーニングのように作業時間がより長く必要であるが大きな部品の交換程に開閉蓋の開角度を必要としない作業の際には、隣り合った容器の開閉蓋を同時に開放して作業に適切な開角度で位置固定される。このため、作業者は隣り合った複数の処理容器内部に対して連続してあるいは並列に作業を施すことが可能となり、作業時間を小さく抑えて作業効率が向上する。
【００６３】
また、大型の部品の交換には順次処理容器の開閉蓋をより大きい開角度で位置固定して作業を行うことができる。この際、このとき、メンテナンス中に占めるスワップ部品の交換にかかる時間はウェットクリーニングにかかる時間より短いことから、隣接する処理室の部品の交換は、順次作業しても試料処理装置の保守、点検作業の時間への影響は小さく抑えることができ、上記の作業時間の短縮も併せて作業の効率が向上され、試料処理装置の稼働効率やスループットが向上する。
【００６４】
さらに、処理容器同士の距離が小さく抑え装置の設置面積を小さく抑えることができる。また、作業者の作業用の空間を十分に確保することができ、作業の効率が向上する。このように、作業の効率が向上し、また、装置の設置面積が小さく抑えられる。
【００６５】
以上の通り、上記本実施の形態によれば、試料処理装置のメンテナンスにかかる時間を短くしてスループットを向上させることができる。また、設置床面積を小さくして、広くメンテナンススペースを確保できる試料処理装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の実施例に係る試料処理装置の全体構成を示す平面図。
【図２】真空側試料搬送室の隣り合う辺の各々に取り付けられた処理容器を後方側から見たときの構成の概略を示す後面図。
【図３】図２に示す２つの処理容器の上部の開閉蓋を各々回転して開放した状態を示す図。
【図４】図２に示す処理容器の開閉蓋の閉状態での処理容器近傍の構成の概略を示す図。
【図５】図２に示す処理容器の開閉蓋を９０°まで開いたときの状態での処理容器近傍の構成の概略を示す図。
【図６】図２に示す処理容器の開閉蓋を７５°まで開いたときの状態での処理容器近傍の構成の概略を示す図。
【図７】図４に示す処理容器の開閉蓋の開閉蓋を閉じているときのヒンジ近傍の構成を示す図。
【図８】図４に示す処理容器の開閉蓋の開閉蓋を開角度９０°まで開いたときのヒンジ近傍の構成を示す図。
【図９】図４に示す処理容器の開閉蓋の開閉蓋を開角度７５°まで開いたときのヒンジ近傍の構成を示す図。
【符号の説明】
【００６７】
１…開閉蓋、２…放電室、３…処理容器、４…バルブ、５…真空ポンプ、６…支柱、７…支柱、８…真空側試料搬送室、９…ヒンジ、１０…軸受、１１…つまみ部、１２…バネ、１３…開閉蓋固定ピン、１４…ヒンジ軸、１５…ガススプリング、１６…ア−ム、１７…プレート、１８…ブラケット、１９…処理ユニット、２０…カセット、２１…部品、２２…大気側試料搬送室、２３…ロック室、２４…ロック室、２５…穴
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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