(57)【要約】【課題】  所定パターンが容易かつ精度良く得られる電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板の現像装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】  電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板の現像装置及び電気光学装置の製造方法において、電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程と、樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、樹脂層に対して、現像液を膜状に連続的に供給しながら、所定パターンを形成する工程と、を含む。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
前記樹脂層に対して、現像液を膜状に連続的に供給し、所定パターンを形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項２】
前記電気光学装置用基板の基板外の領域で、前記現像液を膜状に形成した後、前記樹脂層に対して供給することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項３】
前記現像液を供給する際のビード時間を０．１秒以下の値とすることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項４】
前記現像液を所定方向から供給した後、１０〜１８０秒間、前記基板を静置することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項５】
前記現像液を膜状に供給する際に、所定方向に配列した複数の開口部を備えたノズルから現像液を基板上に連続的に滴下するとともに、当該ノズルを移動させることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項６】
前記現像液を膜状に供給する際に、所定方向に配列した複数の開口部を備えたノズルから現像液を基板上に連続的に滴下するとともに、当該基板を移動させることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項７】
前記現像液を膜状に供給する操作を複数回繰り返すことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項８】
前記現像液の濃度を０．０１〜５重量％の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項９】
前記ノズルから現像液を膜状に供給する前に、当該ノズルの開口部を、前記現像液の溜まり部を設けて、そこに収容した現像液と接触状態に保持しておくことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１０】
電気光学装置用基板上において、感光性材料を積層してなる樹脂層に所定パターンを形成するための現像装置であって、
所定方向に配列した複数の開口部が隣接する開口部と近接し、前記隣接する開口部から滴下する現像液どうしを互いに膜状に繋げて基板上に滴下するノズルと、
当該ノズル又は基板を相対的に移動させるための移動装置と、
を備えることを特徴とする電気光学装置用基板の現像装置。
【請求項１１】
電気光学装置用基板上において、感光性材料を積層してなる樹脂層に所定パターンを形成するための現像装置であって、
所定方向に配列した複数の開口部を所定方向に沿って連結させる溝部を有し、前記隣接する開口部から滴下する現像液どうしを互いに膜状に繋げて基板上に滴下するノズルと、
当該ノズル又は基板を相対的に移動させるための移動装置と、
を備えることを特徴とする電気光学装置用基板の現像装置。
【請求項１２】
前記複数の開口部の直径を１００〜１，０００μｍの範囲内の値とするとともに、
前記複数の開口部の間隔を２５０〜１，２００μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１０〜１１のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の現像装置。
【請求項１３】
一対の電気光学装置用基板を備えるとともに、その間に電気光学材料を保持した電気光学装置の製造方法であって、
前記電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して、樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
前記樹脂層に対して、現像液を膜状に供給し、所定パターンを形成する工程と、
もう一方の基板を準備して、電気光学装置を組み立てる工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板の現像装置及び電気光学装置の製造方法に関する。より詳細には、所定パターンが容易かつ精度良く得られる電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板の現像装置及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型化や省電力化が図られることから、各種電子機器における画像表示装置として、液晶表示装置が広く用いられている。このような液晶表示装置は、一対のガラス基板の間に液晶材料を封入した状態で、シール材によって周囲を貼り合わせて構成されている。そして、一対のガラス基板を製造するにあたって、通常、フォトリソグラフィ法が用いられている。より具体的には、感光性材料からなる所定パターンが露光現像されて形成され、その所定パターンをそのままカラーフィルタとして使用したり、形成された所定パターンをもとに、金属材料等からなる導電パターンがさらにエッチング形成されたりしている。
ここで、このような感光性材料の露光現像に関して、従来、図１３（ａ）〜（ｂ）に示すように、シャワーノズル１３０´をスキャンしながら、当該シャワーノズル１３０´から現像液１２０´をスプレーすることにより、所定パターンを形成していた。
しかしながら、シャワーノズルからスプレーされた現像液を用いると、当該現像液がノズル先端から基板表面までに到達するまでのビード時間が必須であった。したがって、基板の端部においてビード時間がばらつくために、図１３（ａ）〜（ｂ）に示すように、現像むらが生じやすいという問題が見られた。
また、シャワーノズルから連続的に現像液を、多量にスプレーしたとしても、いわゆるカーテン切れ現象が生じて、ウォーターカーテンを形成することはできず、未だ現像ムラが生じやすいという問題が見られた。そして、特に高感度の感光性材料を使用した場合には、シャワーノズルからスプレーされた現像液によっては、現像むらがさらに生じやすいという問題が見られた。
【０００３】
そこで、シャワーノズルにかわるスリットノズルを用いた基板現像装置が開示されている（特許文献１参照）。
より具体的には、図１４に示すように、感光性樹脂が塗布されかつ所定のパターンに露光された角型基板を現像液により現像する基板現像装置であって、角型基板５０３を水平方向に保持し得る基板保持部５０４と、基板上面に沿って一方向に延びるスリットノズル５０７を有し、このスリットノズル５０７から現像液を基板に対して吐出する現像液供給部５０８、５０９と、基板保持部に対し現像液供給部を、基板上面に沿い、かつスリットノズルの一方向と交差する方向に相対移動させる相対移動手段と、を備えた基板現像装置とするものである。
【０００４】
また、同様に、スリットノズルを用いた基板現像装置であって、基板全面に現像液を無駄なく塗布することを目的とした基板現像装置が開示されている（特許文献２参照）。
より具体的には、図１５にスリットノズルを示すように、感光性樹脂が塗布されかつ所定のパターンに露光された基板を現像液により現像する基板現像装置であって、基板を水平に保持し得る基板保持部と、基板の上面に沿って延びかつその開口長さが、基板６０３の幅（Ｂ）より短い幅（Ａ）を有するノズル部６０４（スリットノズル部）と、このノズル部の両端においてその延長線上に配置された一対の平坦面部とを有し、現像液を基板に対して吐出する現像液供給部と、基板保持部に対し、現像液供給部を相対移動させる相対移動手段と、を備えた基板現像装置とするものである。
【特許文献１】特開平７−３６１９４号公報（特許請求の範囲、図１）
【特許文献２】特開平７−３７７８８号公報（特許請求の範囲、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１及び２に開示された基板現像装置においては、スリットノズルの開口長さを基板の幅よりも狭くし、かつ、スリットノズルの両端部には、円弧部や平端部を設けなければならず、スリットノズルの構成が複雑になりやすいという問題が見られた。
また、特許文献１及び２に開示された基板現像装置においては、移動フレーム等により、スリットノズルを進行方向に対して傾斜させた状態で、基板の始端よりやや中央によった位置からスキャンを開始しなければならないという実施上の制約が大きいという問題が見られた。
さらに、特許文献１及び２に開示された基板現像装置においては、基板の始端よりやや中央によった位置からスキャンするため、所定のビード時間を設けなければならない一方、現像液の濃度や粘度が変化したような場合に、端部をはじめ、それに起因して、基板全面において塗布厚さがばらつきやすいという問題が見られた。
したがって、従来の現像装置においては、いずれもウォーターカーテンを形成することはできず、また、所定のビード時間を設けなければならないために、特に高感度の感光性材料を使用した場合に、現像むらが生じやすいという問題が見られた。
【０００６】
そこで、本発明の発明者らは、以上の問題を鋭意検討した結果、現像液を膜状（カーテン状）に連続的に供給し、現像液のウォーターカーテンを用いることによって、例えば、高感度の感光性材料を使用した場合であっても、対称形状の所定パターンはもちろんのこと、非対称形状の所定パターンであっても容易かつ精度良く得られることを見出したものである。
すなわち、本発明は、所定の現像装置及び現像方法を用いることによって、所定パターンが容易かつ精度良く得られる電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板の現像装置及び電気光学装置の製造方法をそれぞれ提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、電気光学装置用基板の製造方法であって、
電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程と、
樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
樹脂層に対して、現像液を膜状に連続的に供給し、所定パターンを形成する工程と、を含む電気光学装置用基板の製造方法が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、このように電気光学装置用基板を製造することにより、現像むらが少なくなり、感光性材料からなる樹脂層に対して、例えば、対称形状の所定パターンはもちろんのこと、非対称形状の所定パターンであっても容易かつ精度良く形成することができる。したがって、例えば、凹凸パターンの上にさらに反射膜を形成することにより、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板を容易かつ精度良く得ることができる。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、電気光学装置用基板の基板外の領域で、現像液を膜状に形成した後、樹脂層に対して供給することが好ましい。
このように実施することにより、ビード時間を実質的になくすことができ、基板端部における現像ムラを効果的に抑制することができる。
また、このように実施することにより、予め形成したウォーターカーテンの検査が可能となり、仮に不十分な場合には、基板に影響を及ぼさない位置において、完全なウォーターカーテンが形成されように現像液の吐出量等を調節することができる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、現像液を供給する際のビード時間を０．１秒以下の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、ビード時間が仮に一部生じたとしても、基板端部における現像ムラを効果的に抑制することができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、現像液を所定方向から供給した後、１０〜１８０秒間、基板を静置することが好ましい。
このように実施することにより、現像液の溜まりを利用したいわゆるパドル現像を行うことができ、現像液が所定方向から樹脂層に対して選択的に浸透するため、例えば、非対称形状の凹凸パターンを精度良く形成することができる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、現像液を膜状に供給する際に、所定方向に配列した複数の開口部を備えたノズルから現像液を基板上に連続的に滴下するとともに、当該ノズルを移動させることが好ましい。
このように実施することにより、現像液が所定方向から樹脂層に対して選択的に浸透しやすくなり、例えば、非対称形状の凹凸パターンをさらに精度良く形成することができる。また、このような複数の開口部を有するノズルを含む現像装置を用いることにより、基板を移動させる必要がなくなり、大型の基板上であっても、例えば、非対称形状の凹凸パターンを効率的に形成することができる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、現像液を膜状に供給する際に、所定方向に配列した複数の開口部を備えたノズルから現像液を基板上に連続的に滴下するとともに、当該基板を移動させることが好ましい。
このように実施することにより、現像液が所定方向から樹脂層に対して選択的に浸透しやすくなり、例えば、非対称形状の凹凸パターンをさらに精度良く形成することができる。また、このような基板の移動手段を含む現像装置を用いることにより、現像液の供給装置を移動させる必要がなくなり、簡易かつ小規模な現像装置の構成でありながら、凹凸パターンをさらに効率的に形成することができる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、現像液を膜状に供給する操作を複数回繰り返すことが好ましい。
このように実施することにより、感光性材料からなる樹脂層の現像程度、すなわち、パターンの形成精度をさらに極め細かく制御することができる。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、現像液の濃度を０．０１〜５重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、高感度の感光性材料からなる樹脂層に対しても現像程度の制御が容易となり、例えば、対称形状の所定パターンはもちろんのこと、非対称形状の所定パターンであっても容易かつ精度良く形成することができる。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、ノズルから現像液を膜状に供給する前に、当該ノズルの開口部を、現像液の溜まり部を設けて、そこに収容した現像液と接触状態に保持しておくことが好ましい。
このように実施することにより、ノズルの開口部を常に現像液と接触させることができ、現像液との間の親和性が向上し、現像液からなるウォーターカーテンの形成を精度良く行なうことができる。
【００１６】
また、本発明の別の態様は、電気光学装置用基板上において、感光性材料を積層してなる樹脂層に所定パターンを形成するための現像装置であって、
所定方向に配列した複数の開口部が隣接する開口部と近接し、隣接する開口部から滴下する現像液どうしを互いに膜状に繋げて基板上に滴下するノズルと、
ノズル又は基板を相対的に移動させるための移動装置と、
を備えることを特徴とする電気光学装置用基板の現像装置である。
すなわち、このような現像装置によって電気光学装置用基板を製造することにより、現像むらが少なくなり、感光性材料からなる樹脂層に対して、例えば、対称形状の所定パターンはもちろんのこと、非対称形状の所定パターンであっても容易かつ精度良く形成することができる。したがって、例えば、凹凸パターンの上にさらに反射膜を形成することにより、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板を容易かつ精度良く得ることができる。
【００１７】
また、本発明の別の態様は、電気光学装置用基板上において、感光性材料を積層してなる樹脂層に所定パターンを形成するための現像装置であって、
所定方向に配列した複数の開口部を所定方向に沿って連結させる溝部を有し、隣接する開口部から滴下する現像液どうしを互いに膜状に繋げて基板上に滴下するノズルと、
ノズル又は基板を相対的に移動させるための移動装置と、
を備えることを特徴とする電気光学装置用基板の現像装置である。
すなわち、このような現像装置によって電気光学装置用基板を製造することにより、現像液からなるウォーターカーテンの形成を精度良く行なうことができ、結果として、現像ムラの発生を著しく低下することができる。
【００１８】
また、本発明の電気光学装置用基板の現像装置を構成するにあたり、複数の開口部の直径を１００〜１，０００μｍの範囲内の値とするとともに、複数の開口部の間隔を２５０〜１，２００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、いわゆるカーテン切れを生じることが少なくなり、言い換えれば、現像液からなるウォーターカーテンの形成を精度良く行なうことができ、結果として、現像ムラの発生を著しく低下することができる。
なお、複数の開口部の間隔とは、隣接する開口部において、一方の開口部の縁から、もう一方の開口部の縁までの直線距離を意味する。
【００１９】
また、本発明の別の態様は、一対の電気光学装置用基板を備えるとともに、その間に電気光学材料を保持した電気光学装置の製造方法であって、
電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して、樹脂層を形成する工程と、
樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
樹脂層に対して、現像液を膜状に供給し、所定パターンを形成する工程と、
もう一方の基板を準備して、電気光学装置を組み立てる工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
すなわち、このように電気光学装置を製造することにより、現像むらが少なく、感光性材料からなる樹脂層に対して、例えば、対称形状の所定パターンはもちろんのこと、非対称形状の所定パターンであっても精度良く形成された電気光学装置用基板を使用することができる。したがって、例えば、凹凸パターンの上にさらに反射膜が形成され、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板を使用した電気光学装置を効率的に得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００２１】
［第１実施形態］
第１実施形態は、電気光学装置用基板の製造方法であって、
電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程と、
樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
樹脂層に対して、現像液を膜状に連続的に供給しながら、所定パターンを形成する工程と、を含む電気光学装置用基板の製造方法である。
以下、高感度の感光性材料からなる樹脂層に、反射防止膜用の非対称形状の凹凸パターンを備えた電気光学装置用基板を製造する場合を例に採り、樹脂層形成工程、露光工程、現像工程及び光反射膜形成工程等の各工程に分けて、電気光学装置用基板の製造方法について具体的に説明する。
また、電気光学装置がカラー液晶表示装置である場合、便宜上、光反射膜を備えた電気光学装置用基板をカラーフィルタ基板（又は第１の基板）と称し、もう一方の基板を素子基板（又は第２の基板）と称する場合がある。
【００２２】
１．樹脂層形成工程
樹脂層形成工程は、電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程である。すなわち、図１（ａ）に示すように、例えば、スピンコーター等の塗布装置を用いて、凹凸パターンを構成する感光性樹脂を、電気光学装置用基板の基板１３上に均一に塗布して、樹脂層１０７を形成する。そして、例えば、スピンコーターを用いた場合、６００〜２、０００ｒｐｍの回転数で、５〜２０秒の塗布時間とし、厚さ１〜１０μｍの樹脂層とすることが好ましい。
次いで、図示しないものの、解像度や密着性を向上させるために、電気光学装置用基板の基板１３上に形成した樹脂層１０７をプリベークする。その場合、例えば、ホットプレートを用いて、８０〜１２０℃、１〜１０分のプリベーク条件とすることが好ましい。
ここで、樹脂層を構成する感光性材料の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセタン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、精度良く、非対称形状の凹凸パターンが形成できるように、感光性材料中に、シリカ粒子、酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化アルミニウム等の無機フィラーを添加しておくことも好ましい。
また、感光性材料としては、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所が硬化し、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用することができる。
なお、以下の説明では、ポジ型の感光性材料を使用した場合を例に採って説明する。
【００２３】
２．露光工程
次いで、露光工程は、樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程である。すなわち、図１（ｂ）に示すように、均一に塗布された感光性樹脂からなる樹脂層１０７の所定位置にフォトマスク１１９を載置した後、記号Ｌで示されるｉ線等のエネルギー線を照射して、パターン露光を実施する。その場合、感光性樹脂の種類等にもよるが、通常、ｉ線等の露光量を５０〜３００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましい。
また、使用するフォトマスクの態様は特に制限されるものではないが、例えば、光透過部又は光不透過部を独立した円や多角形からなる平面形状とするとともに、当該光透過部又は光不透過部を画素の３ドット、６ドット、又は１２ドットを一単位として、平面方向にランダムに配列されたマスクパターンを有するフォトマスクを使用することが好ましい。この理由は、このようなマスクパターンを有するフォトマスクを使用して得られた光反射膜であれば、液晶表示装置等に使用した場合に、干渉縞の発生を効果的に抑制することができるためである。
一方、フォトマスクにおけるマスクパターンの平面形状を予め非対称形状パターンとすることも好ましい。この理由は、次工程の現像工程において、現像条件等が多少ばらついた場合であっても、所望の非対称形状の凹凸パターンを精度良く形成することができるためである。
【００２４】
３．現像工程
次いで、現像工程は、現像液を膜状に連続的に供給するとともに、樹脂層に対して現像液を所定方向から供給しながら、樹脂層の露光部を含めて現像し、所定パターンを形成する工程である。すなわち、図１（ｃ）に示すように、現像液１２０を所定方向から供給し、例えば、フォトマスク１１９の光透過部１１９ｂを透過した光が照射された部分、すなわち、露光部１０７ａ及び非露光部１０７ｂを含めて、選択的に現像することにより、独立した非対称形状を有するとともに、複数の凸部又は凹部からなる凹凸パターン１１２を形成することができる。
【００２５】
ここで、現像液を膜状に連続的に供給するとは、いわゆるカーテン切れを起こすことなく現像液を連続的に滴下して、現像むらが生じることなく、樹脂層を精度良くパターン化する態様を意味する。
すなわち、現像液のシャワー現像やスリットノズルを用いた現像方法と異なり、現像むらが少なくなるとともに、ビード時間が不要となって、例えば、感光性材料からなる樹脂層に対しても、非対称形状の凹凸パターンを容易かつ精度良く形成することができる。
したがって、後述するように、例えば、形成された非対称形状の凹凸パターンの上にさらに反射膜を形成することにより、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板を容易かつ精度良く得ることができる。
【００２６】
また、パターン露光した樹脂層を現像するに際して、現像液を供給する際のビード時間を０．１秒以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるビード時間が仮に一部生じたとしても、０．１秒以下の値とすることにより、基板端部における現像ムラの生成を実質的に低下することができるためである。
したがって、現像液を供給する際のビード時間を０．０５秒以下の値とすることがより好ましく、０．０１秒以下の値とすることがさらに好ましい。
【００２７】
また、パターン露光した樹脂層を現像するに際して、現像液を所定方向から供給した後、１０〜１８０秒間、パターン露光した樹脂層１０７´を備えた基板を静置することが好ましい。すなわち、図１（ｃ）に示す工程の後、図１（ｄ）に示す工程前に、パターン露光した樹脂層１０７´（１０７ａ、１０７ｂ）に対して、現像液１２０を所定方向から供給した後、所定時間基板１３を移動させずに、現像液１２０の溜まりを形成することが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、現像液の溜まりを介して、所定方向から樹脂層に対してさらに選択的に浸透するため、例えば、高感度の感光性樹脂からなる樹脂層において、非対称形状となる凹凸パターンをさらに精度良く形成することができるためである。すなわち、現像液の溜まりを部分的に作って、そのまま所定時間静置するため、そこから現像液がさらに選択的に浸透しやすくなり、いわゆるパドル現像が可能となって、非対称形状となる凹凸パターンをさらに精度良く形成することができるためである。
したがって、現像液の種類や供給量等にもよるが、非対称形状となる凹凸パターンの形成における再現性や生産性のバランスがより良好となることから、現像液を所定方向から供給した後、２０〜１２０秒間基板を静置することがより好ましく、３０〜６０秒間基板を静置することがさらに好ましい。
【００２８】
また、パターン露光した樹脂層を現像するに際して、現像液を所定方向から供給する際に、列状に並んだ複数の開口部を有するノズルから現像液を膜状に連続的に滴下しながら、ノズルを所定方向に走査することが好ましい。より具体的には、図１（ｃ）及び図２（ａ）にそれぞれ示すように、パターン露光した樹脂層１０７´を有する基板１３を固定したまま、ノズル１３０をノズルの駆動装置１３２によって、記号Ａで示す方向に移動させ、現像液１２０を所定方向から、ウォーターカーテンとして連続的に供給するものである。
この理由は、このようにノズルを移動させながら現像液を供給することにより、現像液が所定方向から樹脂層に対して選択的に浸透しやすくなり、例えば、非対称形状となる凹凸パターンをさらに精度良く形成することができるためである。また、このようなノズルを含む現像装置を用いることにより、簡易な構成でありながら、非対称形状となる凹凸パターンをさらに効率的に形成することができるためである。
【００２９】
また、パターン露光した樹脂層を現像するに際して、図２（ｂ）に示すように、現像液１２０を所定方向から供給する際に、パターン露光した樹脂層１０７´を有する基板１３を所定方向に移動させながら、現像液１２０を供給することが好ましい。より具体的には、パターン露光した樹脂層１０７´を有する基板１３を、基板の駆動装置１４０によって、記号Ａ´で示す方向に移動させながら、位置固定したノズル１３０から、現像液１２０を供給するものである。
この理由は、このように実施することにより、現像液が所定方向から樹脂層に対して選択的に浸透しやすくなり、非対称形状となる凹凸パターンをさらに精度良く形成することができるためである。また、このような基板の移動手段を含む現像装置を用いることにより、簡易な構成でありながら、非対称形状となる凹凸パターンをさらに効率的に形成することができるためである。
【００３０】
また、図３（ａ）〜（ｃ）に示すように、現像液１２０を膜状に連続的に供給するに際して、電気光学装置用基板１３の基板外領域で、現像液１２０を膜状に予め形成した後、樹脂層（図示せず）に対して供給することが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、基板端部における現像ムラの生成を実質的に低下することができるためである。
また、このように実施することにより、現像液の一部が無駄となるものの、予め形成したウォーターカーテンが不十分な場合には、基板に影響を及ぼさない位置において、完全なウォーターカーテンが形成されるまで調節することができるためである。
なお、電気光学装置用基板の基板外領域ではあるが、その近傍で膜状に予め形成することにより、無駄となる現像液の消費量を少なくすることができる一方、現像時の歩留りが向上するため、全体として見れば、現像液の消費量を却って少なくすることができる。
【００３１】
また、パターン露光した樹脂層を現像するに際して、現像液を所定方向から供給する操作を複数回繰り返すことが好ましい。より具体的には、図２（ａ）に示す構成の場合には、列状に並んだ開口部１３０ａを有するノズル１３０から現像液１２０を膜状に滴下しながら、移動装置（レールバー）１３２によって、ノズル１３０を所定方向に走査する操作を繰り返し行うものである。また、図２（ｂ）に示す構成の場合には、別な移動装置（ロール）１４０によって、パターン露光した樹脂層１０７´を有する基板１３を記号Ａ´で示す方向に移動させる操作を繰り返し行うものである。
すなわち、このように現像液を所定方向から供給する操作を複数回実施することにより、例えば、非対称形状となる凹凸パターンの精度をさらに極め細かく制御することができる。
なお、現像液を所定方向から供給するにあたり、現像液の噴射角度や方向等を、現像工程の途中で段階的に変えることにより、パターン露光した樹脂層をさらに選択的かつ任意的形状に現像することができる。
【００３２】
また、図１（ｃ）に示すように、現像液１２０を所定方向から供給して凹凸パターン１１２を形成するにあたり、現像液を供給するためのノズルの走査速度、ノズルの走査方向、ノズルの形態、現像液の供給時間、現像液の供給量、現像液の濃度、現像液のｐＨ、現像液の温度、現像液の種類等を適宜変更し、現像工程途中で段階的に変えることにより、露光部をさらに選択的かつ任意的形状に現像することができる。
ただし、これらの現像工程における影響因子の中でも、樹脂層の膜減り率により影響し、凹凸パターン１１２における斜面１１２ａ、１１２ｂの傾斜角度により影響することから、現像液を供給するためのノズルの走査速度、現像液の供給時間、及び現像液の供給量の少なくとも一つを所定範囲に制限することがより好ましい。
【００３３】
すなわち、図１（ｃ）においては、矢印Ａの方向に所定のノズルを移動させながら、当該ノズルより矢印Ｂの方向に現像液を供給している。したがって、非露光部１０７ｂにおいて斜線部分で表される二つの非露光部１１２ｃ、１１２ｄのうち、左側に位置する非露光部１１２ｄよりも、右側に位置する非露光部１１２ｃを、現像液１２０の供給量等を変えて、樹脂層の膜減り率を調整し、より選択的に現像することができる。よって、非露光部１１２ｃが、露光部１０７ａとともに選択的に現像され、凹凸パターン１１２における左右の斜面１１２ａ、１１２ｂの傾斜角度をそれぞれ所望の値、例えば、平均傾斜角を３〜６°未満と、６°〜１３°の範囲内の値にそれぞれ調整することができる。
したがって、通常、長さ４７０ｍｍ、幅３７０ｍｍの基板１枚を現像するにあたり、現像温度を２０〜４０℃としたり、現像液の供給時間を５〜１００秒の範囲内の値としたり、現像液の供給量を１〜１００ｍｌ／分の範囲内の値としたり、基板あるいはノズルの移動速度を１００〜１２０ｍｍ／分の範囲内の値としたりすることが好ましい。
【００３４】
４．加熱工程
次いで、図１（ｄ）に示すように、加熱工程を設けて、現像処理された樹脂層を加熱し、樹脂層に形成した所定の凹凸パターンの形状を固定することが好ましい。すなわち、凹凸パターンを形成した後であって、光反射膜を形成する前に、樹脂層を加熱し、焼成（本焼成）することにより、樹脂層に形成した所定の凹凸パターンの形状を固定することができる。
【００３５】
このとき、上述した本焼成を実施する前に、現像された樹脂層に対して本焼成の温度よりも低い温度条件で加熱して、凹凸パターンの表面をなだらかにする工程をさらに含むことが好ましい。より具体的には、図１（ｃ）に示す現像工程の後に、樹脂層を本焼成の温度よりも低い温度条件で加熱し、仮焼成することにより、凹凸パターン１１２の形状を、あらかじめ所望の形状となるように調整することが好ましい。
この理由は、現像後においては、樹脂層における凹凸パターンの形状がやや角張った外形を有する場合があるが、かかる仮焼成を実施することにより、表面をなだらかにすることができるためである。したがって、凹凸パターンに対して、光反射膜を均一かつ密着させて形成することができ、得られる光反射膜において、光散乱性と、光指向性とのバランスをさらに良好なものとできるためである。また、このように加熱することにより、凹凸パターンが形成された樹脂層中の水分や低分子量物を除去したり、あるいは、基板と、凹凸パターンが形成された樹脂層との間の密着性も向上させたりすることもできるためである。
なお、かかる加熱工程における凹凸パターンが形成された樹脂層の本焼成の条件としては、通常、２００〜２５０℃、３０〜１２０分の範囲とするとともに、仮焼成の条件としては、通常、１１０〜１４０℃、１〜３分の範囲とすることが好ましい。
【００３６】
５．光反射膜形成工程
次いで、図１（ｅ）に示す光反射膜形成工程は、凹凸パターン１１２が形成された樹脂層１０７´の表面に、適度に光散乱及び光反射させるように、滑らかな曲面を有する光反射膜１１６を形成する工程である。
ここで、凹凸パターン１１２が形成された樹脂層１０７´の表面に形成する光反射膜１１６の厚さを０．０５〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる光反射膜の厚さが０．０５μｍ未満の値になると、反射効果が著しく乏しくなる場合があるためである。一方、かかる光反射膜の厚さが５μｍを越えると、得られる光反射膜のフレキシブル性が低下したり、製造時間が過度に長くなったりする場合があるためである。
したがって、かかる光反射膜の厚さを０．０７〜１μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．１〜０．３μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３７】
また、光反射膜の構成材料は特に制限されるものでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｗ）及びニッケル（Ｎｉ）等の導電性や光反射性に優れた金属材料とすることが好ましい。
ただし、このような金属材料を用いた際に、液晶材料への溶け込みがある場合には、当該金属材料からなる反射膜の表面に電気絶縁膜を設けたり、かかる金属材料等とともに、電気絶縁物をスパッタリングしたりすることも好ましい。
【００３８】
また、光反射膜において、光を部分的に通過させるための開口部が設けてあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、反射透過両用型の液晶表示装置等に好適に使用することができるためである。すなわち、後述する図９に示すように、反射透過両用型の液晶表示装置２００において、光反射膜２１２の一部に開口部２１２ａを設けることにより、光反射膜２１２の反射領域２１２ｒによって外部からの光を効率的に反射できるとともに、バックライト等の内部光（図示せず）についても、開口部２１２ａを通して、外部に効果的に放出することができる。なお、図９において、光反射膜２１２の構成は、簡略化して示してある。
【００３９】
また、かかる開口部の大きさは特に制限されるものでなく、光反射膜の用途等によって決定されることが好ましいが、例えば、光反射膜の全体面積を１００％としたときに、５〜８０％の範囲内の値とすることが好ましく、１０〜７０％の範囲内の値とすることがより好ましく、２０〜６０％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、光反射膜を形成するにあたり、スパッタリング等の手法を用いて、光反射膜を形成することが好ましい。また、所望の箇所以外の光反射膜材料は、フォトエッチング等の手法で除去することができる。
【００４０】
６．他の製造工程
他の製造工程として、図示しないものの、保護層を形成する工程を設けて、透明性樹脂等を塗布し、複数の凹凸パターン及びその上の光反射膜の上に、連続層としての保護層を形成することも好ましい。また、凹凸パターンが形成された樹脂層の表面に、光反射膜を形成する前に、同様の保護層（オーバーコート層）を形成することも好ましい。
すなわち、このように実施することにより、非対称形状となる凹凸パターンや光反射膜の耐久性が向上するとともに、得られる光反射膜における光散乱性と、光指向性とのバランスをさらに良好なものとすることができるためである。
なお、オーバーコート層を構成する感光性樹脂の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。ただし、凹凸パターンと、オーバーコート層との間の密着力が向上するため、凹凸パターンを構成する感光性樹脂と、オーバーコート層を構成する感光性樹脂とを同種とすることが好ましい。
【００４１】
また、基材と凹凸パターンとの間の密着力が向上するため、基材の表面に、シランカップリング剤等の処理を施しておくことが好ましい。例えば、基板上に、ネガ型感光性材料又はポジ型感光性材料を積層する前に、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を適用処理し、下地層を設けることが好ましい。
この理由は、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）の適用処理により、基板と、樹脂層との間の密着性が向上し、ひいては、非対称形状となる凹凸パターンの高さ調整についても容易となるためである。
【００４２】
このようにして製造される電気光学装置用基板は、図示しないものの、着色層及び走査電極等を形成することにより、カラーフィルタ基板を構成することができる。
一方、かかる電気光学装置用基板は、図示しないものの、画素電極やＴＦＴ（Thin Film Transistor）やＴＦＤ(Thin Film Diode)等のスイッチング端子を形成することにより、素子基板を構成することができる。かかる素子基板を構成する場合において、上述した光反射膜を画素電極の一部として使用する場合には、当該スイッチング素子に電気接続することが好ましい。
【００４３】
［第２実施形態］
第２実施形態は、電気光学装置用基板上において、感光性材料を積層してなる樹脂層に所定パターンを形成するための現像装置であって、
現像液を基板上に膜状に滴下するために、所定方向に配列した複数の開口部を備えたノズルと、
当該ノズル又は基板を移動させるための移動装置と、
を備えた電気光学装置用基板の現像装置である。
以下、第１実施形態と異なる内容を中心に、第２実施形態の現像装置の内容を具体的に説明する。
【００４４】
１．ノズル
現像装置におけるノズルは、現像液を基板上に膜状に滴下するための部材であるが、図４（ａ）〜（ｃ）に示すように、複数の開口部１３０ａを有するとともに、それらが所定方向に配列していることが好ましい。なお、図４（ａ）は、ノズル１３０の開口部側から見た平面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示すノズル１３０のＡ−Ａ´断面図であり、図４（ｃ）は、図４（ａ）に示すノズル１３０のＢ−Ｂ´断面図である。
すなわち、このような構成のノズルであれば、複数の開口部から適当量の現像液を吐出させて、現像液からなるウォーターカーテンを精度良く形成することができる。したがって、例えば、高感度の感光性材料からなる樹脂層に対しても現像むらが少なくなり、非対称形状の凹凸パターンであっても、容易かつ精度良く形成することができる。
なお、図４（ｂ）〜（ｃ）に示すノズル１３０には、現像液１２０の貯留部１３０ｃが設けてあるが、かかる貯留部１３０ｃを圧電素子やエアー等により加圧することにより、所定量の現像液１２０を開口部１３０ａから吐出させることができるように構成してある。さらに、ノズルの概略寸法が容易に理解できるように、図４（ａ）〜（ｃ）には、一例の寸法として、開口部１３０ａの直径を６００μｍと記載し、その隣接する開口部１３０ａの間隔を１，０００μｍと記載してある。
【００４５】
また、ノズルに関して、図４（ａ）に示すように、複数の開口部１３０ａを所定方向に沿って連結させる溝部１３０ｂを設けることが好ましい。
この理由は、このように連結する溝部を設けることにより、複数の開口部から吐出された現像液がまとまって、現像液からなるウォーターカーテンの形成を容易に行なうことができるためである。したがって、現像液の吐出量等が多少ばらついたとしても、現像液からなるウォーターカーテンを安定的に形成することができ、現像ムラの発生を著しく低下させることができる。
なお、複数の開口部を連結させる溝部の数としては、通常、１〜５本であり、その溝部の幅を１０〜５００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００４６】
また、ノズルに関して、複数の開口部の直径を１００〜１，０００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、いわゆるカーテン切れを生じることが少なくなり、言い換えれば、現像液からなるウォーターカーテンの形成を精度良く行なうことができ、結果として、現像ムラの発生を著しく低下することができるためである。
したがって、複数の開口部の直径を２００〜８００μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、複数の開口部の直径を３００〜６００μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４７】
また、ノズルに関して、複数の開口部の間隔を２００〜１，２００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、複数の開口部の間隔をこのような範囲内の値に設定することにより、いわゆるカーテン切れを生じることが少なくなり、言い換えれば、現像液からなるウォーターカーテンの形成を精度良く行なうことができ、結果として、現像ムラの発生を著しく低下することができるためである。また、複数の開口部の間隔をこのような範囲内の値に設定することにより、隣接する開口部から吐出された現像液の影響を受けることなく、現像液からなるウォーターカーテンを精度良く形成することができるためである。
したがって、複数の開口部の間隔を３００〜１，０００μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、複数の開口部の間隔を４００〜８００μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４８】
ここで、図５を参照して、ノズルの開口部の間隔と、ウォーターカーテンの切れ数（相対値）との関係を詳細に説明する。なお、図５の特性図は、ノズルの開口部の直径を一例として６００μｍとした場合に対応しており、図５中の横軸には、ノズルの開口部の間隔（μｍ）を採って示してあり、図５中の縦軸には、カーテンの切れ数（相対値）を採って示してある。すなわち、図５中の縦軸は、相対値が低いほどカーテンの切れ数が少なく、相対値が大きくなるほど、カーテンの切れ数が多くなることを表している。
かかる図５の特性図から容易に理解できるように、ノズルの開口部の間隔が大きくなる程、カーテン切れ数が多くなる傾向があり、特に、ノズルの開口部の間隔が１２００μｍ以上になると、その傾向が顕著となる。
したがって、上述したように、ノズルの開口部の直径が所定範囲内の値であれば、複数の開口部の間隔を２００〜１，２００μｍの範囲内の値とすることにより、実用上問題無い範囲で、カーテンの切れ数を少なく制御することができ、３００〜１，０００μｍの範囲内の値とすることにより、カーテンの切れ数をほとんど発生させなくすることができる。
【００４９】
また、ノズルにおける複数の開口部及び溝部の形態に関して、図６（ａ）に示すように、直線的な溝部と、当該溝部の溝幅（Ｄ）より大きい直径（Ｒ）を有する複数の開口部を、等間隔で配列する形態が代表的であるが、種々の変更が可能である。
例えば、図６（ｂ）に示すように、直線的な溝部と直径の異なる開口部１３０ａ及び１３０ａ´とを等間隔で配列する形態としても良い。このように構成すると、現像液の吐出量の調整が容易になるばかりか、比較的少ない吐出量で、安定的にウォーターカーテンを形成することができる。
また、図６（ｃ）に示すように、互いに平行で直線的な溝部１３３ａ及び１３３ｂと、複数の開口部１３０ａを等間隔で配列する形態としても良い。このように構成すると、比較的幅広のウォーターカーテンを形成することができる。
さらに、図６（ｄ）に示すように、曲線的な溝部１３３と複数の開口部１３０ａを等間隔で配列する形態としても良い。このように構成すると、単位長さあたりのウォーターカーテンの塗布面積を大きくすることができ、さらに迅速に現像処理を実施することができる。
【００５０】
なお、ノズル全体の形態としては、図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、直線的な円筒状が代表的であるが、種々の変更が可能である。例えば、図８（ａ）〜（ｃ）に示すように、円筒状や平板状のノズルを半円形状や直角状に折り曲げた形態としても良く、あるいは円筒状や平板状のノズルをコの字等に折り曲げた形態であっても良い。このような形態のノズルであれば、現像液を供給する所定方向の範囲が広がって、複雑な形状の凹凸パターンであっても精度良く形成することができる。また、吐出される現像液を、容易に膜状に滴下させることができることから、上述のノズルにおける、列状に並んだ複数の噴出口の下方側に、当該噴出口の配列方向に沿った長穴状の開口部を備えた構成とすることが好ましい。
【００５１】
２．移動装置
現像装置における移動装置は、ノズルや基板の移動装置であって、現像液から形成されたウォーターカーテンを、感光性樹脂からなる樹脂層に、現像むらなく適確に処理するための部材である。
ここで、移動装置を調節して、電気光学装置用基板の基板外の領域で、現像液を膜状に形成した後、樹脂層に対して供給することが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、基板端部における現像ムラの生成を実質的に低下することができるためである。
また、このように実施することにより、予め形成したウォーターカーテンが不十分な場合には、基板に影響を及ぼさない位置において、完全なウォーターカーテンが形成されるまで調節することができるためである。
【００５２】
また、移動装置を調整して、図７に示すように、ノズル１３０から現像液１２０を膜状に供給する前に、当該ノズルの開口部を、現像液の溜まり部１４１を設けて、そこに収容した現像液１２０ａと接触状態に保持しておくことが好ましい。なお、図７は、ノズル１３０が溜まり部１４１から離間して、待機状態から使用状態へと切り替わる途中の状態を示している。
この理由は、このようにノズルを現像液の溜まり部１４１に保持する、すなわち、ノズルをこのような待機状態とすることにより、ノズル１３０の開口部（図示せず）と、現像液１２０ａとが常に接触することとなるためである。したがって、ノズル１３０を待機状態から使用状態に変えた場合に、ノズル１３０の開口部周辺が乾燥することなく、そのまま安定したウェット状態とすることができるためである。よって、図３に示すように、ウェット状態のノズル１３０の開口部（図示せず）から現像液１２０を吐出させることにより、現像液１２０からなるウォーターカーテンの形成を迅速に行なうことができる。
【００５３】
３．現像液
また、現像装置により吐出される現像液は、感光性樹脂の種類にもよるが、通常、アルカリ成分であって、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノーアミン等のアルコ−ルアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン等の第四級アンモニウム塩、ピロール、ピペリジン等の環状アミン類等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００５４】
また、現像液の濃度を０．０１〜５重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、通常現像液の濃度は２０重量％程度であるが、このように実施することにより、高感度の感光性材料からなる樹脂層に対して、例えば、非対称形状の凹凸パターンを容易かつ精度良く形成することができるためである。
また、現像液のｐＨを１０〜１５の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、現像液のｐＨが１０未満の値になると、現像スピードが著しく低下する場合があるためであり、一方、現像液のｐＨが１５を超えると、現像スピードの管理が困難となって、例えば、非対称形状の凹凸パターンを容易かつ精度良く形成することができるためである。
さらに、現像液の温度を２０〜４０℃の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、通常現像液の温度が２０℃未満となると、高感度の感光性材料からなる樹脂層に対して、例えば、非対称形状の凹凸パターンを容易かつ精度良く形成することができるためである。
【００５５】
［第３実施形態］
第３実施形態は、一対の電気光学装置用基板を備えるとともに、その間に電気光学材料を保持した電気光学装置の製造方法であって、
電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して、樹脂層を形成する工程と、
樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
樹脂層に対して、現像液を膜状に供給しながら、所定パターンを形成する工程と、
もう一方の基板を準備して、電気光学装置を組み立てる工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
以下、電気光学装置として、図９に示すように外部光を用いた反射表示と、照明装置を用いた透過表示とを選択的に行うことができる半透過反射型液晶表示装置２００を例にとってその製造方法を説明する。ただし、光反射膜形成工程までは、第１実施形態と同様の内容とすることができるので、ここでは、図１０に示す代表的な組立工程のフロー図に沿って、第１の基板としての光反射膜を備えた基板と、第２の基板としての素子基板とを準備して、電気光学装置を組み立てるまでの工程について中心に説明する。
【００５６】
１．第１の基板及び第２の基板の製造工程
（１）第１の基板の製造
図１０に示すフロー図中、記号Ｓ１で表される第１の基板における光反射膜の形成は、それぞれ第１実施形態と同様の内容とすることができるので、ここでの説明は省略する。
次いで、図１０に示すフロー図中、記号Ｓ２で表されるように、光反射膜２１２ｒに対応させてカラーフィルタ２１２ａや遮光部材１８、あるいは第１の透明電極（走査電極）１９等をさらに形成することにより、第１の基板１２を製造することができる。
【００５７】
（２）第２の基板の製造
図１０に示すフロー図における第２の基板の製造は、第１の基板としてのカラーフィルタ基板１２と対向する第２の基板としての素子基板１４を製造する工程であり、かかるフロー図中記号Ｓ１´及びＳ２´で表されるように、従来公知の方法により製造することができる。
例えば、図９に示す素子基板１４の場合、図１１に一例として示されるようなＴＦＤ素子３１ａ、３１ｂを形成する。かかるＴＦＤ素子３１ａ、３１ｂは、素子第１電極（第１金属膜）２４、絶縁膜２３、及び素子第２電極（第２金属膜）２２、２５からなるサンドイッチ構成を備えている。したがって、正負方向のダイオードスイッチング特性を示し、しきい値以上の電圧が、第１金属膜２４及び第２金属膜２５の両端子間に印加されると導通状態となり、半透過反射型液晶表示装置２００を効率的に駆動することができる。なお、二端子型の非線形素子であるＴＦＤ素子のかわりに、ＴＦＴ素子等の三端子型の非線形素子を形成することもできる。
次いで、ガラス板等からなる第２の基体２７上に、透明電極２６や配向膜２２４を順次に積層することにより、第２の基板としての素子基板１４を製造することができる。そして、第２の基体２７は、カラーフィルタ基板１３における第１の基体１３の外形よりも外側に張り出した基板張出部１４Ｔを有しており、この基板張出部１４Ｔ上には、透明電極２６や、その延長線としての複数の配線パターンからなる入力端子部２１９が形成されている。したがって、基板張出部１４Ｔ上には、入力端子部２１９等に対して電気接続されるように、駆動回路等を内蔵した半導体素子２６１や、フレキシブル配線基板１１０が実装されている。
【００５８】
２．組立工程
また、図１０に示すフロー図における組立工程は、ガラス板や透明合成樹脂板等を基体（第１の基体）１３とするカラーフィルタ基板１２と、これに対向して、実質的に同様の構成を基体（第２の基体）２７とする素子基板１４とを、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせる工程である。
より具体的には、図１０に示すフロー図に示されるように、カラーフィルタ基板１２及び素子基板１４のいずれか一方、あるいは両方に、シール材２３０を塗布し（Ｓ３）、さらに位置ずれ防止部材としての紫外線硬化性接着剤を塗布する（Ｓ４）。次いで、カラーフィルタ基板１２及び素子基板１４の位置合わせを行い（Ｓ５）、仮圧着して、シール材２３０により仮固定する（Ｓ６）。次いで、紫外線を照射して、位置ずれ防止部材としての紫外線硬化性接着剤を硬化させた後（Ｓ７）、本圧着して、シール材２３０により両基板を固定する（Ｓ８）。
【００５９】
また、図１０中のフロー図の後工程（Ｓ９）として示すが、カラーフィルタ基板１２と、素子基板１４とが貼り合わせられて形成される空間であって、シール材２３０の内側部分に、開口部２３０ａを介して液晶材料２３２を注入する。その後、かかる開口部２３０ａを封止材２３１にて封止し、半透過反射型液晶表示装置２００が組み立てられることになる。
さらに、図１０中のフロー図の後工程（Ｓ９）に含めることができるが、カラーフィルタ基板１２における第１の基体１３の外側に、位相差板（１／４波長板）２４０及び偏光板２４１を配置し、同様に、素子基板１４における第２の基体２７の外側に、位相差板（１／４波長板）２５０及び偏光板２５１を配置して、半透過反射型液晶表示装置２００における画像表示動作が可能となる。
なお、かかる半透過反射型液晶表示装置２００には、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けて、構成することができる。
すなわち、以上のようにして組み立てられた電気光学装置としての半透過反射型液晶表示装置２００は、使用するカラーフィルタ基板１２の製造工程において、所定の現像法を用いることにより、平面形状が非対称形状となる凹凸パターンを容易かつ精度良く形成することができ、さらにその上に均一に光反射膜１１６を形成することができる。
よって、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板を利用した電気光学装置を効率的に製造することができる。
【００６０】
３．応用例
次いで、本発明の電気光学装置用基板を利用した電気光学装置の応用例を具体的に説明する。すなわち、図１２は、本発明の電子光学装置を備えた電子機器３００の概略構成図である。この電子機器３００の例では、液晶表示装置等の電子光学装置３１０と、これを制御するための制御手段３２０とを有している。そして、電子光学装置３１０を、パネル構造体３１０Ａと、半導体素子（半導体素子）等で構成される駆動回路３１０Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段３３０は、表示情報出力源３３１と、表示情報処理回路３３２と、電源回路３３３と、タイミングジェネレータ３３４とから構成してある。
さらに、表示情報出力源３３１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ３３４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路３３２に供給するように構成されている。
【００６１】
また、表示情報処理回路３３２は、シリアルーパラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３１０Ｂへ供給するように構成してある。さらに、駆動回路３１０Ｂは、第１の電極駆動回路、第２の電極駆動回路及び検査回路を含み、電源回路３３３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
よって、本実施形態の電子光学装置を備えた電子機器は、適度な光散乱性と、光指向性とを変え備えた光反射膜を備えた電気光学装置用基板を備えた電気光学装置の特性を十分に応用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明によれば、所定の現像装置及び現像方法を用いることによって、例えば、高感度の感光性材料からなる樹脂層において、対称形状の所定パターンはもちろんのこと、非対称形状の所定パターンであっても、容易かつ精度良く形成することができるようになった。したがって、凹凸パターンの上に、さらに均一に光反射膜が形成できるために、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板及びそのような電気光学装置用基板を利用した電気光学装置を効率的に製造することができるようになった。
よって、得られる電気光学装置用基板を用いた電気光学装置や電子機器として、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器や、電子放出素子を使用した装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）、プラズマディスプレイ装置、有機エレクトロルミネッセンス装置及び無機エレクトロルミネッセンス装置などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明に係る電気光学装置用基板の製造工程を説明するために供する図である。
【図２】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ電気光学装置用基板の現像工程の具体例を説明するために供する図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は、特定ノズルを用いたビード時間を設けない現像工程を説明するために供する図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、特定ノズルの構成を説明するために供する図である。
【図５】特定ノズルにおけるノズルの開口部の間隔と、カーテン切れ数との関係を説明するために供する図である。
【図６】特定ノズルにおける開口部と溝部の変形例を説明するために供する図である。
【図７】特定ノズルにおける待機状態から使用状態の途中状態を示す図である。
【図８】（ａ）〜（ｃ）は、特定ノズルの変形例を説明するために供する図である。
【図９】半透過反射型液晶表示装置を模式的に示す概略断面図である。
【図１０】半透過反射型液晶表示装置の製造工程のフロー図である。
【図１１】ＴＦＤ素子の構成を説明するために供する図である。
【図１２】本発明の電子光学装置を備えた電子機器の概略構成を説明するために供するブロック図である。
【図１３】従来の現像液供給方法を模式的に示す概略図である。
【図１４】従来の現像液供給方法を模式的に示す概略図である。
【図１５】従来のノズル部の形状を模式的に示す概略図である。
【符号の説明】
【００６４】
１２：第１の基板（カラーフィルタ基板）、１３：第１の基体、１４：第２の基板（素子基板）、１８：遮光部材、１９：第１の透明電極（走査電極）、２０：第２の透明電極（画素電極）、２２・２５：素子第２電極（第２金属膜）、２３：絶縁膜、２４：素子第１電極（第１金属膜）、２６：電気配線（データ電極）、２７：第２の基体、３１ａ：第１のＴＦＤ素子、３１ｂ：第２のＴＦＤ素子、１０７：樹脂層、１０７´：パターン露光した樹脂層、１１０：フレキシブル配線基板、１２０：現像液、１１２：凹凸パターン、１１６、２１２：光反射膜、１１９：フォトマスク、１３０：ノズル、１３０ａ：開口部、１３０ｂ：溝部、１３０ｃ：貯留部、１３２：ノズルの駆動装置、１４０：基板の駆動装置、１４３：溜まり部、２００：半透過反射型液晶表示装置、２１２ａ：開口部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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