(57)【要約】【課題】      コストが低い光配向法により、大型化かつ広幅化した光学補償板を製造する。【解決手段】  支持体上に光学異方性層を有する光学補償板の製造方法において、支持体上に配向膜を塗布する工程、支持体上に形成された配向膜に、半導体レーザーから出射された直線偏光レーザービームを照射する配向処理工程、少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子を含む液晶組成物を配向膜上に塗布する工程、そして重合性基を有する液晶分子を重合させて配向を固定化する工程をこの順序で実施する。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に光学異方性層を有する光学補償板の製造方法において、支持体上に配向膜を塗布する工程、支持体上に形成された配向膜に、半導体レーザーから出射された直線偏光レーザービームを照射する配向処理工程、少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子を含む液晶組成物を配向膜上に塗布する工程、そして重合性基を有する液晶分子を重合させて配向を固定化する工程をこの順序で実施することを特徴とする光学補償板の製造方法。
【請求項２】
支持体上に形成された配向膜に複数の半導体レーザーから出射された直線偏光レーザービームをラインビームとして走査して照射する配向処理工程を特徴とする請求項１に記載の光学補償板の製造方法。
【請求項３】
該配向膜が、半導体レーザーの発振波長域において光異性化、あるいは光二量化する配向膜である請求項１または２に記載の光学補償板の製造方法。
【請求項４】
半導体レーザーがＧａＮ系半導体レーザーである請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学補償板の製造方法。
【請求項５】
半導体レーザーの発振波長が３５０ｎｍから４５０ｎｍの間である請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光学補償板の製造方法。
【請求項６】
半導体レーザーのレーザービームを支持体に対して垂直に照射することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光学補償板の製造方法。
【請求項７】
半導体レーザーのレーザービームを支持体に対して斜めに照射することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光学補償板の製造方法。
【請求項８】
少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子が少なくとも一つの重合性基を有する棒状液晶分子である請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光学補償板の製造方法。
【請求項９】
少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子が少なくとも一つの重合性基を有するディスコティック液晶分子である請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光学補償板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶配向処理に半導体レーザーからのレーザービーム照射による光配向を用いた、液晶の重合体よりなる光学補償板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学補償フイルムは、様々な液晶表示装置においてその画像着色解消や視野角拡大のために用いられている。従来から光学補償板としては延伸複屈折フイルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フイルムに代えて、透明支持体上に液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償板を使用することが提案されている。液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償板の製造では、その光学特性を最適とするためには、液晶を均一に配列、配向させることが不可欠である。
【０００３】
液晶を配向させる方法としては、支持体表面を化学的あるいは物理的に処理する方法が知られている。その中で、支持体表面に平行、かつ、一方向に均一に配向した液晶のホモジニアス配向を得るために、ポリイミドなどの高分子樹脂膜を配向膜として支持体表面に被覆し、これを一方向に布などで擦るラビング処理する方法が知られ、液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償板の製造にも広く一般的に用いられている。しかしながら、本方法はラビング処理に伴う静電気や塵の発生による歩留まりの低下、定量的な配向制御の困難性が問題とされている。
【０００４】
ラビング処理に伴う前記の諸問題を解決する方法として、光による配向処理が注目されている。この方法として、一般に光異性化反応を利用する配向制御法が知られている。これは、支持体表面に光の作用で異性化反応を起こす分子を含む分子層あるいは高分子層を配向膜として設け、その層に直線偏光の光を照射させることにより配向制御を行うものである。上記の分子層あるいは高分子層に直線偏光の光を照射することによって、その分子構造あるいは分子配向の変化が喚起されて液晶の配向が変化し、かつ、直線偏光の偏光軸によって規定される方向に液晶を配向させることができ、容易にホモジニアス配向制御が実現される（例えば、非特許文献１参照）。また、光二量化反応を起す桂皮酸誘導体やクマリン誘導体を側鎖に有する高分子膜に直線偏光の光を照射することからなる液晶配向処理法が提案されている（例えば、非特許文献２、３参照）。
【０００５】
さらに、配向膜上において液晶を支持体に対してある角度（チルト角）で配列させることも重要である。光配向でチルト角を与える方法として、桂皮酸誘導体やクマリン誘導体を側鎖に持つ高分子膜に直線偏光を斜めから照射する方法（例えば、非特許文献３、４参照）が知られており、これらの光照射法によりホモジニアス配向が与えられることが良く知られている。
【０００６】
配向膜に直線偏光を照射する手段としては、光源として水銀ランプやキセノンランプを用い、偏光板や偏光分離素子を用いて直線偏光を照射している。このような装置は光を照射する面積が比較的狭ければ、光照射部が小さくてすむので、光照射部を傾ける機構も大掛かりなものにならない。しかしながら、近年、液晶表示素子の基板は大型化が進んでいる。その結果、光学補償板の製造に関しても、その広幅化が避けられない状況となっている。したがって、光偏光照射装置も広幅化に伴い、装置全体が非常に複雑で、かつ大型化する。さらに、広幅化に伴い、対象物全体に均一な光量で偏光を照射することが難しく、位相差板の製造において光配向の適用は困難であるという問題があった。
【０００７】
別なる光配向手段として、ポリイミドのような高分子配向膜にレーザー光を照射し、高分子配向膜を分解、ガス化してポリマー表面を食刻し、それにより形成したグループにより液晶を配向させる方法が知られている。これらのレーザー照射では、一般にエキシマレーザーが用いられる(例えば、非特許文献５参照)。一方、エキシマレーザーは、もともと発振効率のわるいレーザーであり、光強度が不安定であり、均一な光照射を低コストで実現するには必ずしも最適な光源ではない。
【非特許文献１】Polym.Mater.Sci.Eng.誌, 第66巻, 263頁(1992年)
【非特許文献２】Jpn.J.Appl.Phys. 誌,第74巻,2071頁(1992年）
【非特許文献３】Nature誌,第381巻,212頁(1996年)
【非特許文献４】J.Photopolym.Sci.Technol.誌, 第8巻, 257頁(1995年)
【非特許文献５】J.Photopolym.Sci.Technol.誌, 第2巻, 241頁(1995年)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、低コストな光配向法による、基板の大型化、広幅化に適した光学補償板の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の課題は以下の（１）〜（９）によって達成された。
【００１０】
（１）支持体上に光学異方性層を有する光学補償板の製造方法において、支持体上に配向膜を塗布する工程、支持体上に形成された配向膜に半導体レーザーから出射された直線偏光レーザービームを照射する配向処理工程、少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子を含む液晶組成物を配向膜上に塗布する工程、そして重合性基を有する液晶分子を重合させて配向を固定化する工程をこの順序で実施することを特徴とする光学補償板の製造方法。
【００１１】
（２）支持体上に形成された配向膜に複数の半導体レーザーから出射された直線偏光レーザービームをラインビームとして走査して照射する配向処理工程を特徴とする（１）に記載の光学補償板の製造方法。
【００１２】
（３）該配向膜が、半導体レーザーの発振波長域において光異性化、あるいは光二量化する配向膜である（１）または（２）に記載の光学補償板の製造方法。
【００１３】
（４）半導体レーザーがＧａＮ系半導体レーザーである（１）乃至（３）のいずれか一つに記載の光学補償板の製造方法。
【００１４】
（５）半導体レーザーの発振波長が３５０ｎｍから４５０ｎｍの間である（１）乃至（４）のいずれか一つに記載の光学補償板の製造方法。
【００１５】
（６）半導体レーザーのレーザービームを支持体に対して垂直に照射することを特徴とする（１）乃至（５）のいずれか一つに記載の光学補償板の製造方法。
【００１６】
（７）半導体レーザーのレーザービームを支持体に対して斜めに照射することを特徴とする（１）乃至（５）のいずれか一つに記載の光学補償板の製造方法。
【００１７】
（８）少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子が少なくとも一つの重合性基を有する棒状液晶分子である前記（１）乃至（７）のいずれか一つに記載の光学補償板の製造方法。
【００１８】
（９）少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子が少なくとも一つの重合性基を有するディスコティック液晶分子である前記（１）乃至（７）のいずれか一つに記載の光学補償板の製造方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の光学補償板の製造方法を用いることにより、従来のラビング法を用いた光学補償板の製造と比較して静電気の発生や塵の発生が無く、生産における歩留まり向上の効果がある。また、非接触処理により、基板大型化に伴う傷やムラの発生を抑えるという効果が期待される。さらに、光照射の走査、あるいは光源の一次アレイ化により、大面積、および広幅の配向処理が可能であり、液晶表示装置の基板の大型化に適合した広幅の光学補償板の製造が可能となる。
【００２０】
他方、本発明の光学補償板の利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができ、表示ムラのない高品位の画像を表示し得る液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
支持体上に光学異方性層を有する光学補償板は、１）支持体上に配向膜を塗布する工程、２）支持体上に形成された配向膜に半導体レーザーから出射された直線偏光レーザービームを走査して照射する配向処理工程、３）少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子を含む液晶組成物を配向膜上に塗布する工程、そして４）重合性基を有する液晶分子を重合させて配向を固定化する工程をこの順序で実施することにより製造できる。
【００２２】
［支持体］
支持体としては、これらの配向膜が塗布されるものであればよく、透明、不透明を問わないが、透明であることが好ましく、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。透明な支持体としては、シリカガラス、硬質ガラス、石英、各種ポリマーフイルムあるいはそれらの表面に、酸化珪素、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化亜鉛などの金属酸化物や、窒化珪素、炭化珪素などを被覆したものが用いられる。不透明な基板としては、金属あるいはガラスやプラスチック板などの表面に金属層や金属酸化物層を付着させたものが用いられる。
【００２３】
ポリマーフイルムを構成するポリマーとしては、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂が用いられる。支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、アルカリ処理、酸処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
【００２４】
［配向膜］
配向膜は、感光性を有する（感光性配向膜である）ことが好ましい。
【００２５】
感光性配向膜は、感光性化合物または感光性ポリマーを用いて形成することができる。感光性配向膜は、感光性ポリマーを用いて形成することが好ましい。
【００２６】
感光性化合物は、フォトクロミック化合物であることが好ましい。フォトクロミック化合物は、光の作用で化学構造に変化が生じ、それにより光に対する挙動（例えば色調）も変化する化合物である。一般に、それらの変化は可逆的である。
【００２７】
感光性配向膜について従来提案された感光性化合物には、アゾベンゼン（K. Ichimura et al., Langmuir, vol. 4, page 1214 (1988)；K. Aoki et al., Langmuir, vol. 8, page 1007 (1992)；Y. Suzuki et al., Langmuir, vol. 8, page 2601 (1992)；K. Ichimura et al., Appl. Phys. Lett., vol. 63, No. 4, page 449 (1993)；N. Ishizuki, Langmuir, vol. 9, page 3298 (1993) ；N. Ishizuki, Langmuir, vol. 9, page 857 (1993)）、アゾナフタレン、アゾピリジン、ヒドラゾノ−β−ケトエステル（S. Yamamura et al., Liquid Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)）、スチルベン（市村國宏他、高分子論文集、第４７巻、１０号、７７１頁(1990)）、スチルバゾール、スチルバゾリウム、カルコン、桂皮酸、シンナミリデン酢酸およびスピロピラン化合物（K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page 1063 (1992) ；K. Ichimura et al., Thin Solid Films, vol. 235, page 101 (1993) ）が含まれる。
【００２８】
Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝ＮまたはＮ＝Ｎからなる二重結合構造を含む感光性化合物が、特に好ましい。二重結合構造を有する感光性化合物は、下記（１）および（２）の必須要素と、下記（３）〜（５）の任意要素からなる。
【００２９】
（１）Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝ＮまたはＮ＝Ｎからなる二重結合構造
（２）上記（１）の結合の両側に（直結しなくてもよく）存在する環状構造
（３）任意の（１）と（２）との間の連結基
（４）任意の（１）の炭素原子の置換基
（５）任意の（２）の環状構造の置換基
上記（１）の二重結合構造は、シス型よりもトランス型が好ましい。二重結合構造は、分子内に二つ以上存在していてもよい。複数の二重結合構造は、共役の関係にあることが好ましい。また、二つの二重結合構造の間に一つの環状構造が存在してもよい。言い換えると、環状構造−二重結合構造−環状構造−二重結合構造−環状構造の構成になっていてもよい。
【００３０】
上記（２）の環状構造の例には、ベンゼン環、ナフタレン環および含窒素複素環（例、ピリジニウム環、ベンゾピリジニウム環）が含まれる。含窒素複素環の場合、環を構成する（窒素原子ではなく）炭素原子が（１）の二重結合構造の炭素原子または窒素原子と結合することが好ましい。ベンゼン環が特に好ましい。
【００３１】
上記（３）の連結基の例には、−ＮＨ−および−ＣＯ−が含まれる。ただし、（３）の連結基がなく、（１）と（２）とが直結していることが好ましい。
【００３２】
上記（４）の置換基の例には、アリール基（例、フェニル）およびシアノが含まれる。ただし、（４）の置換基がなく、二重結合構造に含まれる炭素原子が、（２）との結合以外は無置換（−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｎ−）であることが好ましい。
【００３３】
上記（５）の置換基の例には、ヒドロキシル、カルボキシル、スルホ、アルコキシ基（例、メトキシ、ヘキシルオキシ）、シアノ、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、アルキル基（例、ブチル、ヘキシル）およびアルキルアミノ基（例、ジメチルアミノ）を挙げることができる。カルボキシルおよびスルホは、プロトンが解離していても、対イオン（例、アルカリ金属イオン）と共に塩の状態になっていてもよい。（２）の環状構造がベンゼン環の場合、パラ位に置換基が結合することが好ましい。なお、後述するように、感光性化合物をポリマーに化学的結合させて使用する場合は、ポリマーに化学的結合させるための官能基を、（５）の置換基として感光性化合物に導入する。
【００３４】
感光性化合物を用いて感光性配向膜を形成する場合、感光性化合物は、何らかの手段を用いて支持体表面に対して固定して使用する必要がある。感光性化合物の固定手段としては、（ａ）ポリマーと感光性化合物の混合物塗布による固定、（ｂ）感光性化合物のポリマーへの化学的結合、（ｃ）感光性化合物の支持体表面への吸着および（ｄ）感光性化合物の支持体表面への化学的結合がある。
【００３５】
支持体がガラス板である場合は、（ｃ）または（ｄ）の手段を用いて、感光性化合物をガラス板に吸着または結合させることができる。一方、ポリマーフイルムを支持体として用いる場合は、（ａ）または（ｂ）の手段を用いることが好ましい。支持体は、ガラス板よりもポリマーフイルムが好ましいため、（ｃ）または（ｄ）の手段よりも、（ａ）または（ｂ）の手段の方が好ましい。感光性化合物を安定に固定するため、（ｂ）の手段を用いることが特に好ましい。
【００３６】
（ａ）または（ｂ）の手段に使用するポリマーは、親水性ポリマー（例、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸）であることが好ましい。ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸およびポリメタクリル酸が特に好ましく用いられる。
【００３７】
（ｂ）の手段における、感光性化合物とポリマーとの反応は、ポリマーの種類（特に官能基の種類）に応じて決定する。ポリビニルアルコールのような水酸基を有するポリマーの場合は、酸ハライドと水酸基との反応を利用して、感光性化合物をポリマーと結合させることができる。具体的には、ハロゲン化アシル基（−ＣＯＸ、Ｘはハロゲン）を、感光性化合物に置換基として導入し、ハロゲン化アシル基とポリマーの水酸基との反応（Ｐｈ−ＣＯＸ＋ＨＯ−Ｐｌ→Ｐｈ−ＣＯ−Ｏ−Ｐｌ＋ＨＸ、Ｐｈは感光性化合物、Ｐｌはポリマーの主鎖）により化学的に結合させる。
【００３８】
感光性ポリマーは、光異性化ポリマー、光二量化ポリマーおよび光分解ポリマーに分類できる。光異性化ポリマーとしては、上記のように感光性化合物を結合させたポリマーが代表的（実質的には同義）である。光二量化ポリマーの例には、ポリビニルシンナメートが含まれる。光分解ポリマーの例には、ポリイミドが含まれる。光分解型ポリイミドについては、特開平５−３４６９９号、同６−２８９３９９号、同８−１２２７９２号の各公報および第２２回液晶討論会講演予稿集、１６７２頁Ａ１７(1996)に記載がある。
感光性配向膜は、光異性化ポリマー（感光性化合物を結合させたポリマー）または光二量化ポリマーから形成することが特に好ましい。
【００３９】
［配向膜の塗布］
感光性化合物または感光性ポリマーを含む膜は、適当な溶媒を用いた溶液または分散液の塗布により、透明支持体上に形成することができる。
【００４０】
塗布液は、公知の方法（例、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により支持体上に塗布した後、乾燥する。
【００４１】
配向膜の厚さは、０．０１乃至２μｍが好ましく、０．０１乃至０．１μｍがさらに好ましい。
【００４２】
［配向処理］
本発明では、安価で安定な半導体レーザーにより出射される偏光を有するレーザービームを、配向膜に照射し、配向膜に光異性化反応や光二量化反応等を起こさせ、液晶の配向性を付与する。レーザービームの照射には、スポットビームによる照射、ラインビームによる照射、および面照射等が採用できるが、その中でもラインビームによる照射が好ましい。
【００４３】
図１は、本発明に従い支持体に垂直の方向からラインビームにより偏光を照射する方法を、ライン状の光束の上方から示した図である。構成部材は、同一平面上に図示されている。
【００４４】
図２は、本発明に従い支持体に垂直の方向からラインビームにより偏光を照射する方法を、ライン状の光束の側方から示した図である。
【００４５】
図１および図２に示す配向膜の製造装置４００は、直線偏光出射手段１０、導光系２０および載置ステージ４０からなる。
【００４６】
図１および図２に示す直線偏光出射手段１０は、複数の半導体レーザー１１、１個のコリメータレンズ１２および偏光制御素子１３により構成されている。コリメータレンズ１２は、複数の半導体レーザー１１から出射された光を合わせてライン状の平行光束とする。コリメータレンズ１２の光入射面は平坦面で、光出射面は凸面である。偏光制御素子１３は、コリメータレンズ１２を透過した光を特定の直線偏光Ｌとする。半導体レーザー１１には、これをオンオフするための電源（図示略）が接続されている。
【００４７】
導光系２０は、ホモジナイザー光学系３７を有する。ホモジナイザー光学系３７は、第１のレンズ群３７Ａ、第２のレンズ群３７Ｂおよび円筒レンズ（例、ロッドレンズ）３７Ｃにより構成されている。第１のレンズ群３７Ａでは、光入射面と光出射面とがいずれも凸面である複数の（半導体レーザー１１の個数に合わせた）レンズがライン状に配置されている。第２のレンズ群３７Ｂは、第１のレンズ群３７Ａと同様の構成を有し、第１のレンズ群３７Ａから離れて配置されている。第１のレンズ群３７Ａと第２のレンズ群３７Ｂとの距離は、レンズの焦点距離のほぼ２倍に設定されている。円筒レンズ３７Ｃは、第２のレンズ群３７Ｂを透過した光を、さらにホモジナイズする。
【００４８】
導光系２０には、ホモジナイザー光学系３７の後段側に、反射ミラー２２と集光レンズ２３とが備えられている。集光レンズ２３は、反射ミラー２２により反射された光を集光する。集光レンズ２３の光入射面は凸面で、光出射面は平坦面である。
【００４９】
図１および図２に示すように直線偏光出射手段１０と導光系２０を配置することで、有機膜３Ａに対して、略垂直方向からライン状（ライン軸：図のＹ方向）の直線偏光Ｌを照射するように構成できる。図１および図２に示す態様では、ライン状の直線偏光Ｌを照射するので、ステージ制御部４１は、載置ステージ４０を一軸方向（図のＸ方向）に走査するように構成する。これにより、有機膜（配向膜の成分を支持体上に塗布したもの）３Ａの全面にライン状の直線偏光Ｌを照射し、配向膜を製造することができる。
【００５０】
図３は、本発明に従い支持体に斜めの方向からラインビームにより偏光を照射する方法を、ライン状の光束の上方から示した図である。構成部材は、同一平面上に図示されている。
【００５１】
図４は、本発明に従い支持体に斜めの方向からラインビームにより偏光を照射する方法を、ライン状の光束の側方から示した図である。
【００５２】
図３および図４に示す配向膜の製造装置６００も、直線偏光出射手段１０、導光系２０および載置ステージ４０からなる。
【００５３】
図３および図４に示す配向膜の製造装置６００が、図１および図２に示す配向膜の製造装置４００と異なるのは、導光系２０を構成する反射ミラー２２の角度を調整することで、有機膜３Ａに対して、垂直方向からα°（α＞０）ずれた斜め方向から、直線偏光を照射する点である。
【００５４】
このように、有機膜３Ａに対して、斜め方向から直線偏光Ｌを照射しても、図１および図２に示す配向膜の製造装置４００と同様に、配向膜を製造することができる。そして、図３および図４に示す配向膜の製造装置６００では、配向膜の構成分子の配向方向を、垂直照射の場合（図１および図２に示す配向膜の製造装置４００を使用する場合）からずれた斜め方向とすることができる。
【００５５】
[光学異方性層形成のための液晶組成物］
本発明で用いる光学異方性層形成のための液晶組成物としては、少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子は、求める光学補償板の特性に応じて棒状液晶分子、およびディスコティック液晶分子のいずれを選択してもよい。また、該液晶組成物は二種以上の少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子の混合物でもよい。また、非重合性液晶化合物との混合物でもよい。
【００５６】
少なくとも一つの重合性基を有する棒状液晶分子としては公知のものを採用できる。少なくとも一つの重合性基を有する棒状液晶分子としては、メソゲン（＝液晶剛直部位）として環構造を二つ乃至三つ有する棒状液晶が特に好ましい。特に好ましいメソゲンの例としては、ビフェニル類、フェニルシクロヘキサン類、フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、安息香酸フェニルエステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、フェノキシカルボニルフェニル類、トラン類、フェニルシクロヘキシルフェニル類、フェニルジオサシクロヘキシルフェニル類、フェノキシメチルフェニルメチルオキシフェニル類、テレフタル酸ビスフェニルエステル類、シクロヘキシルジカルボン酸ビスフェニルエステル類、安息香酸（フェニルカルボニルオキシ）フェニルエステル類、フェニルカルボニルオキシ安息香酸フェニルエステル類、ビストラン類が挙げられる。
【００５７】
本発明に用いられる棒状液晶分子は少なくとも一つの重合性基を有するが、得られた光学補償板の安定性の観点より複数の重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基、エポキシ基、アジリジニル基、イソシアネート基、またはチオイソシアネート基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが最も好ましい。具体的には、アクリロイル基、メタアクリロイル基などが特に好ましい例として挙げられる。
【００５８】
より具体的には下記に一般式（Ｉ）で表される棒状液晶分子が好適である。
【００５９】
一般式（Ｉ）：Ｑ１−Ｌ１−Ａ１−Ｌ３−Ｍ−Ｌ４−Ａ２−Ｌ２−Ｑ２
式中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に、重合性基であり、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３およびＬ４はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表す。Ｌ３およびＬ４の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−であることが好ましい。Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサー基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
【００６０】
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される重合性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、重合性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な重合性基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００６１】
【化１】
2006171102.tif 000003
【００６２】
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３およびＬ４で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ２−、−ＮＲ２−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２−、−ＮＲ２−ＣＯ−Ｏ−、およびＮＲ２−ＣＯ−ＮＲ２−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ２は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。この場合、Ｌ３およびＬ４の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）であることが好ましい。前記式（Ｉ）中、Ｑ１−Ｌ１およびＱ２−Ｌ２−は、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００６３】
Ａ１およびＡ２は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサー基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサー基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサー基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
【００６４】
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記
一般式（II）で表される基が好ましい。
一般式（II）：−（−Ｗ１−Ｌ５）ｎ−Ｗ２−
式中、Ｗ１およびＷ２は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ５は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ１〜Ｌ４で表される基の具体例、−ＣＨ２−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ２−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。
【００６５】
Ｗ１およびＷ２としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体およびシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ１およびＷ２は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
【００６６】
前記一般式（II）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００６７】
【化２】
2006171102.tif 000004
【００６８】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示す。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
【００６９】
【化３】
2006171102.tif 000005
【００７０】
【化４】
2006171102.tif 000006
【００７１】
【化５】
2006171102.tif 000007
【００７２】
液晶相としてネマティック相、あるいはスメクティックＡ相を呈するものが好ましく、ネマティック相、あるいはスメクティックＡ相を呈する温度としては、室温から２００℃の範囲が好ましく、５０から１３０℃の範囲がさらに好ましい。
【００７３】
少なくとも一つの重合性基を有するディスコティック液晶分子としては公知のものを採用できるが、ディスコティック−ネマティック相を呈するものが好ましく、特に好ましい例としてトリフェニレン母核を有するものが挙げられる。また、ディスコティック−ネマティック相を呈する温度としては、室温から２００℃の範囲が好ましく、５０から１３０℃の範囲がさらに好ましい。
【００７４】
本発明に用いられるディスコティック液晶分子は少なくとも一つの重合性基を有するが、いずれも複数の重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基、エポキシ基、アジリジニル基、イソシアネート基、またはチオイソシアネート基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが最も好ましい。具体的には、アクリロイル基、メタアクリロイル基などが特に好ましい例として挙げられる。
【００７５】
より具体的には、下記一般式（III)で表わされる化合物が好適である。
一般式（III)：  Ｄ（−Ｌ−Ｐ）ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
【００７６】
前記式（III)中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。
【００７７】
［光学異方性層形成のための液晶組成物への添加剤］
該液晶組成物に関しては、前述の少なくとも一つの重合性基を有する液晶分子以外に、必要に応じて適切な任意の添加剤を併用することができる。添加剤の例としては、水平配向剤、風ムラ防止剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、配向温度を低下させる添加剤（可塑剤）、重合性モノマー等である。加える添加剤の量は組成物の液晶性を損なわない範囲なら特に限定されないが、その総量が構成成分の３０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがさらに好ましい。以下、各添加剤について説明する。
【００７８】
［水平配向剤］
水平配向剤とは、光学異方性層を構成する液晶が棒状液晶の場合、該棒状液晶の分子長軸と支持体の水平面を平行、あるいはほぼ平行にする添加剤を指し、光学異方性層を構成する液晶がディスコティック液晶の場合、該ディスコティック液晶化合物のメソゲンコアとなる円盤面と支持体の水平面を平行、あるいはほぼ平行にする添加剤を指す。本明細書では、水平配向とは水平面とのなす角が１０度未満であることを指し、その角は０度から５度が好ましく、０度から３度がより好ましい。トリアジンやトリフェニレン骨格を有する円盤状化合物が具体的な好ましい例として挙げられる。
【００７９】
［風ムラ防止剤］
ディスコティック液晶性化合物とともに使用して、塗布時の風ムラを防止するための材料としては、一般にフッ素系ポリマーを好適に用いることができる。使用するフッ素系ポリマーとしては、液晶性化合物のチルト角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。風ムラ防止剤として使用可能なフッ素ポリマーの例としては、特開２００４−１９８５１１号公報（段落番号［００４９］〜［００５７］｛［化２０］〜［化２８］｝に記載の化合物）、特願２００３−１２９３５４号明細書、特願２００３−３９４９９８号明細書、特願２００４−１２１３９号明細書に記載がある。ディスコティック液晶性化合物とフッ素系ポリマーとを併用することによって、ムラを生じることなく表示品位の高い画像を表示することができる。さらに、ハジキなどの塗布性も改善される。液晶性化合物の配向を阻害しないように、風ムラ防止目的で使用されるフッ素系ポリマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に０．１〜２質量％の範囲であるのが好ましく、０．１〜１質量％の範囲にあるのがより好ましく、０．４〜１質量％の範囲にあるのがさらに好ましい。
【００８０】
［ハジキ防止剤］
ディスコティック液晶性化合物とともに使用して、塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。使用するポリマーとしては、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物のチルト角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。ハジキ防止剤として使用可能なポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲であるのが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあるのがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあるのがさらに好ましい。
【００８１】
［重合開始剤］
重合開始剤には、熱重合開始剤と光重合開始剤等が含まれるが、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号明細書、米国特許第２３６７６７０号明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号明細書、米国特許第２９５１７５８号明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％であることが好ましく、０．５乃至５質量％であることがさらに好ましい。
【００８２】
［重合性モノマー］
液晶性化合物とともに重合性モノマーを使用してもよい。本発明に使用可能な重合性モノマーとしては、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物のチルト角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため特に好ましい。
【００８３】
［塗布溶剤］
本発明の組成物は、塗布液として調製してもよい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００８４】
［塗布方式］
塗布液の配向膜表面への塗布は、公知の方法（例えば、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。また、塗布液における液晶性化合物の含有量は１〜５０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましく、２０〜４０質量％がさらに好ましい。
【００８５】
［光学異方性層を形成するための液晶組成物の重合工程］
液晶組成物が液晶を呈する温度付近において重合を施し、液晶組成物の配向の固定化することにより安定な光学異方性層を構築して光学補償板を製造することができる。液晶分子の重合には、熱あるいは電磁波による公知の種々の架橋法が採用できるが、紫外光による光重合開始剤を用いるラジカル重合が特に好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2 乃至５０Ｊ／ｃｍ2 であることが好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光学異方性層の厚さは、０．１乃至２０μｍであることが好ましく、０．５乃至１５μｍであることがさらに好ましく、１乃至１０μｍであることが最も好ましい。
【００８６】
［光学補償板の用途］
本発明の光学補償板は、偏光膜と組合せて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型液晶表示装置に、偏光膜と組合せて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。以下に、本発明の光学補償板を利用した楕円偏光板および液晶表示装置について説明する。
【００８７】
［楕円偏光板］
本発明の光学補償板と偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。本発明の光学補償板を利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大しうる楕円偏光板を提供することができる。前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【００８８】
偏光膜は前記光学補償板の光学異方性層側に積層する。偏光膜の光学補償板を積層した側と反対側の面に透明保護膜を形成することが好ましい。透明保護膜は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフイルム、好ましくはトリアセチルセルロースフイルムが用いられる。セルロースエステルフイルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【実施例】
【００８９】
以下の実施例において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。波長λには、通常４５０〜７５０ｎｍの範囲の値が用いられる。以下の実施例においては、５８９ｎｍの値を用いている。
【００９０】
Ｒｅ（λ）は、ＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフイルム法線方向に入射させて測定する。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜角（回転軸）としてフイルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（John Wiley & Sons, Inc)、各種光学フイルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フイルムの平均屈折率の値を以下に例示する。
セルロースアシレート：    １．４８
シクロオレフィンポリマー：１．５２
ポリカーボネート：        １．５９
ポリメチルメタクリレート：１．４９
ポリスチレン：            １．５９
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【００９１】
［実施例１］
化合物１−１（特開２００４−８３８１０号公報に記載の方法により合成した）の１％ジメチルホルムアミド溶液を配向膜塗布液として、２０ｍｍ×２５ｍｍのガラス支持体上にスピンコート（５０００ｒｐｍにて２０秒間）により配向膜を形成して試料を作成した。得られた試料をその配向層側を上にしてステージ上に設置した。
【００９２】
図１に示す装置を用い、レーザー光のラインビーム（レーザービーム波長；４０６ｎｍ）を試料に照射した。このとき、単位面積あたりの照射エネルギーが均一に５Ｊ／ｃｍ２になるようにステージを走査し、照射を行った。
【００９３】
【化６】
2006171102.tif 000008
【００９４】
次に、下記に示す組成の光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーコーターを用いて塗布し、上記塗布層を膜面温度１００℃で加熱熟成した後、約２０秒間で７５℃まで冷却した。次いで、同温度を保持したまま０．４Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。形成した光学異方性層の厚さは１．３μｍであった。以上の如く光学異方性層を形成し光学補償板を作製した。
【００９５】
────────────────────────────────────────
光学異方性層塗布液
────────────────────────────────────────
下記の棒状液晶性化合物（２−１）                          １００質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
３．３質量部
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）              １．１質量部
下記の水平配向剤（３−１）                                    ０．３質量部
メチルエチルケトン                                        ３００質量部
────────────────────────────────────────
【００９６】
【化７】
2006171102.tif 000009
【００９７】
【化８】
2006171102.tif 000010
【００９８】
なお、棒状液晶性化合物（２−１）は、国際公開第９７／００６００号パンフレットに記載の方法に準じて合成した。また、水平配向剤（３−１）は、特開２００３−３４４６５５号公報に記載の方法に準じて合成した。
【００９９】
得られた試料の偏光顕微鏡観察により、該試料は一軸配向していることを確認した。次に、得られた試料の光学特性をＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）社製）で測定した。その結果、Ｒｅ（５８９ｎｍ）において、１１２ｎｍであった。
【０１００】
［実施例２］
実施例１における化合物１−１の１％ジメチルホルムアミド溶液を配向膜塗布液として、１００ｍｍ×１００ｍｍのガラス支持体上にスピンコート（５０００ｒｐｍにて２０秒間）により配向膜を形成して試料を作成した。得られた試料をその配向層側を上にしてステージ上に設置した。図２に示す装置を用い、レーザー光のラインビーム（レーザービーム波長；４０６ｎｍ）を４５度の入射角度で試料に照射した。このとき、単位面積あたりの照射エネルギーが均一に５Ｊ／ｃｍ２になるようにステージを走査し、照射を行った。
【０１０１】
次に、下記に示す組成の光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーコーターを用いて塗布し、上記塗布層を膜面温度１２０℃で加熱熟成した後、約２０秒間で８０℃まで冷却した。次いで、同温度を保持したまま０．４Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。形成した光学異方性層の厚さは１．９μｍであった。以上の如く光学異方性層を形成し光学補償板を作製した。
【０１０２】
────────────────────────────────────────
光学異方性層塗布液
────────────────────────────────────────
下記のディスコティック液晶性化合物（２−２）                １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                                                ９．９質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
３．３質量部
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                １．１質量部
メチルエチルケトン                                          ３００質量部
────────────────────────────────────────
【０１０３】
【化９】
2006171102.tif 000011
【０１０４】
なお、ディスコティック液晶性化合物（２−２）は、Polym. Adv. Technol.、第１１巻、３９８頁（２０００）に記載の方法により合成した。
【０１０５】
次に、得られた試料の光学特性をＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）社製）で測定した。その結果、Ｒｅ（５８９ｎｍ）が１２７．５ｎｍ、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）が１９１．９ｎｍであった。
【０１０６】
［実施例３］
化合物１−２の１％シクロヘキサノン溶液を配向膜塗布液とし、１００ｍｍ×１００ｍｍのトリアセチルセルロース支持体上にワイヤーバーコーターを用いて配向膜を形成した以外は実施例１と同様にして光学補償板を作成した。
【０１０７】
【化１０】
2006171102.tif 000012
【０１０８】
なお、化合物１−２は、アゾビスイソブチロニトリルを重合開始剤として、４−シアノ−４’−メタクリロイルオキシアゾベンゼンを重合反応させて得た。
【０１０９】
得られた試料の偏光顕微鏡観察により、該試料は一軸配向していることを確認した。次に、得られた試料の光学特性をＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）社製）で測定した。その結果、Ｒｅ（５８９ｎｍ）において、１２８ｎｍであった。
【０１１０】
［実施例４］
化合物１−２の１％シクロヘキサノン溶液を配向膜塗布液とし、１００ｍｍｘ１００ｍｍのトリアセチルセルロース系支持体上にワイヤーバーコーターを用いて配向膜を形成した以外は実施例２と同様にして光学補償板を作成した。次に、得られた試料の光学特性をＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）社製）で測定した。その結果、Ｒｅ（５８９ｎｍ）が１２３．４ｎｍ、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）が１８９．３ｎｍであった。
【産業上の利用可能性】
【０１１１】
本発明の配向膜の配向処理方法は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードなど、種々のモードで駆動される液晶セルの配向処理に用いることができる。その他、位相差板、光学補償板、光スイッチ等の光学素子の作成および各種情報記録用途やセキュリティー用途に用いられる記録媒体の配向処理に利用可能である。
また、本発明の光学補償板は前述の各種モードで駆動される液晶セルと組み合わせて液晶表示装置に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】本発明に従い支持体に垂直の方向からラインビームにより偏光を照射する方法を、ライン状の光束の上方から示した図である。
【図２】本発明に従い支持体に垂直の方向からラインビームにより偏光を照射する方法を、ライン状の光束の側方から示した図である。
【図３】本発明に従い支持体に斜めの方向からラインビームにより偏光を照射する方法を、ライン状の光束の上方から示した図である。
【図４】本発明に従い支持体に斜めの方向からラインビームにより偏光を照射する方法を、ライン状の光束の側方から示した図である。
【符号の説明】
【０１１３】
３Ａ  有機膜（配向膜の成分を支持体上に塗布したもの）
１０  直線偏光出射手段
１１  半導体レーザー
１２  コリメータレンズ
１３  偏光制御素子
２０  導光系
２２  反射ミラー
２３  集光レンズ
３７  ホモジナイザー光学系
３７Ａ  第１のレンズ群
３７Ｂ  第２のレンズ群
３７Ｃ  円筒レンズ
４０  載置ステージ
４１  ステージ制御部
４００、６００  配向膜の製造装置
【図１】
2006171102.tif 000013
【図２】
2006171102.tif 000014
【図３】
2006171102.tif 000015
【図４】
2006171102.tif 000016