(57)【要約】【課題】処理液の還流時などに発生した泡を含む処理液が所定の処理領域内に供給されることや、発生した泡によって容器体の内面が汚れることを防止することができる処理液供給装置を提供する。【解決手段】処理液供給装置１は、処理液Ｌを貯留する容器体２０と、容器体２０内に貯留された処理液Ｌを処理領域１０内に供給する供給ポンプ２６と、処理領域１０内の処理液Ｌを容器体２０内に還流させるための還流流路２７ａが形成された還流部材２７と、泡を流通させる泡排出部材２９とを備える。還流部材２７の下端部は、容器体２０の上面から内部に貫入されて底面側に向けて延設され、処理液Ｌ中に配置された状態に設けられるとともに、還流部材２７には、還流流路２７ａ内の泡を外部に排出するための排出口２７ｂが還流流路２７ａ内の処理液Ｌの液面よりも上方に形成される。泡排出部材２９は、還流部材２７の排出口２７ｂに接続される。【選択図】図１
2006186322.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を貯留する容器体と、前記容器体内に貯留された処理液を予め設定された処理領域内に供給する供給手段と、前記処理領域内の処理液を前記容器体内に還流させる還流部材とを備え、前記容器体内と処理領域内との間で処理液を循環させるように構成された処理液供給装置において、
前記容器体には、内部の泡を外部に排出するための排出口が該容器体内に貯留された処理液の液面よりも上方に形成され、
前記排出口には、泡を流通させる泡排出部材が接続されてなることを特徴とする処理液供給装置。
【請求項２】
処理液を貯留する容器体と、前記容器体内に貯留された処理液を予め設定された処理領域内に供給する供給手段と、前記処理領域内の処理液を前記容器体内に還流させるための還流流路が形成された還流部材とを備え、前記容器体内と処理領域内との間で処理液を循環させるように構成された処理液供給装置において、
前記還流部材の一方端側は、前記容器体内に貯留された処理液の液面よりも上方で該容器体内に貫入されて該容器体の底面側に向けて延設され、該処理液中に配置された状態に設けられるとともに、該還流部材には、前記還流流路内の泡を外部に排出するための第１排出口が該還流流路内の処理液の液面よりも上方に形成され、
前記第１排出口には、泡を流通させる第１泡排出部材が接続されてなることを特徴とする処理液供給装置。
【請求項３】
処理液を貯留する容器体と、前記容器体内に貯留された処理液を予め設定された処理領域内に供給する供給手段と、前記処理領域内の処理液を前記容器体内に還流させるための還流流路が形成された還流部材とを備え、前記容器体内と処理領域内との間で処理液を循環させるように構成された処理液供給装置において、
前記還流部材の一方端側は、前記容器体内に貯留された処理液の液面よりも下方で該容器体に接続して、該処理液の一部が前記還流流路内に入り込んだ状態に設けられるとともに、該還流部材には、前記還流流路内の泡を外部に排出するための第１排出口が該還流流路内の処理液の液面よりも上方に形成され、
前記第１排出口には、泡を流通させる第１泡排出部材が接続されてなることを特徴とする処理液供給装置。
【請求項４】
前記還流部材一方端側の、前記容器体内の処理液の液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路は、その少なくとも一部が斜め下方に傾斜して形成されてなることを特徴とする請求項２又は３記載の処理液供給装置。
【請求項５】
前記還流部材一方端側の、前記容器体内の処理液の液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路は、その少なくとも一部が螺旋状に形成されてなることを特徴とする請求項２又は３記載の処理液供給装置。
【請求項６】
前記還流部材一方端側の、前記容器体内の処理液の液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路内には、該還流流路の内周面から内側に突出した邪魔板が設けられてなることを特徴とする請求項２乃至５記載のいずれかの処理液供給装置。
【請求項７】
前記還流部材一方端側の、前記容器体内の処理液の液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路内には、表裏に貫通する貫通孔を多数備えた板状の多孔体が設けられてなることを特徴とする請求項２乃至５記載のいずれかの処理液供給装置。
【請求項８】
前記容器体には、内部の泡を外部に排出するための第２排出口が該容器体内に貯留された処理液の液面よりも上方に形成され、
前記第２排出口には、泡を流通させる第２泡排出部材が接続されてなることを特徴とする請求項２乃至７記載のいずれかの処理液供給装置。
【請求項９】
前記泡排出部材には、前記排出口に接続し、泡を流通させるための排出流路が形成され、該排出流路の該排出口との接続部は、泡流通方向上流側が下流側よりも高さ位置が低くなるように形成されてなることを特徴とする請求項１乃至８記載のいずれかの処理液供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、容器体内に貯留された処理液を、当該容器体内と予め設定された処理領域内との間で循環させるように構成された処理液供給装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体（シリコン）ウエハ，液晶ガラス基板，フォトマスク用ガラス基板，光ディスク用基板などの各種基板を製造する工程では、これらの基板にエッチング液や現像液、洗浄液などの処理液を供給して当該基板を処理する工程がある。
【０００３】
このような工程では、通常、適宜容器体内に貯留された処理液を、処理チャンバ内に配置された基板に向けてノズル体から吐出し、当該基板を処理するとともに、吐出した処理液を処理チャンバ内から容器体内に還流させるようになっている。
【０００４】
ところで、処理液には界面活性剤が含まれて泡立ち易いものがあり、容器体内の処理液に泡が含まれていると、泡（空気）の混入した処理液がノズル体に供給され、処理液の吐出（供給）状態が不均一になるという問題を生じたり、処理液に溶解した溶解物を含む泡が容器体の内面に付着し、これが乾燥すると、当該内面に前記溶解物が付着して汚れるため、容器体を頻繁に洗浄しなければならないという問題を生じる。特に、現像液の場合には、現像液自体が泡立ち易く、また、除去されたレジストが溶解すると更に泡立ち易くなる傾向にあることからこのような問題が顕著に現れる。
【０００５】
そこで、このような問題を防止すべく、従来、例えば、図１０に示すような基板処理装置が提案されており、この基板処理装置１００は、同図１０に示すように、処理液により基板Ｋを処理する処理装置本体１１０と、処理装置本体１１０に処理液を供給するとともに、供給した処理液を還流させる処理液供給装置１２０などを備えている（特開２００３−２２９９８号公報参照）。
【０００６】
前記処理液供給装置１２０は、処理装置本体１１０の下方に配置され、処理液を貯留する容器体１２１と、上端側が処理装置本体１１０に接続し、下端側が容器体１２１に接続して、当該処理装置本体１１０から処理液を還流させる還流管１２２と、容器体１２１内に貯留された処理液を処理装置本体１１０に供給する供給ポンプ（図示せず）などを備えており、容器体１２１内の処理液を、当該容器体１２１内と処理装置本体１１０内との間で循環させるように構成される。
【０００７】
前記容器体１２１内には、その端部側に２重の液受部材１２３，１２４が配設されており、前記還流管１２２の下端部は、容器体１２１の端部側上面から当該容器体１２１内に貫入されて液受部材１２３内に差し込まれている。
【０００８】
前記処理装置本体１１０は、処理チャンバ１１１と、処理チャンバ１１１内部を、基板Ｋの搬送方向（矢示方向）に３つの処理室１１１ａに仕切る２つの仕切部材１１２と、各仕切部材１１２に対応して、基板Ｋの搬送方向上流側且つ処理チャンバ１１１内の下部に設けられた２つの堰部材１１３と、各処理室１１１ａ内に配設され、基板Ｋの下面を支持して当該基板Ｋを矢示方向に搬送する複数の搬送ローラ１１４と、各処理室１１１ａ内に配設され、前記供給ポンプ（図示せず）から供給される処理液を基板Ｋの上面に向けて吐出する複数のノズル装置１１５とから構成される。
【０００９】
最も基板Ｋ搬送方向上流側に位置する処理室１１１ａの底面には、処理液を外部に排出するための排出口１１１ｂが形成され、この排出口１１１ｂの上方位置には、下部が上部側に向けて凹んだ対向部材１１６が配設されており、前記排出口１１１ｂには、前記還流管１２２の上端部が挿入されて処理チャンバ１１１底面よりも上方に突出し、対向部材１１６の凹部内に位置している。
【００１０】
また、処理チャンバ１１１は、その底面が、前記排出口１１１ｂ側の高さ位置が最も低くなるように傾斜して形成され、基板Ｋを搬入及び搬出するための搬入口１１１ｃ及び搬出口１１１ｄを備えている。
【００１１】
前記仕切部材１１２は、基板Ｋを通過させるためのスリット状の開口部１１２ａを備え、下端部が処理チャンバ１１１の底面と一定間隔を隔てて配設されており、前記堰部材１１３は、その上端部が仕切部材１１２の下端部よりも高くなるように処理チャンバ１１１の底面に立設されている。
【００１２】
このように構成された基板処理装置１００によれば、搬入口１１１ｃから処理チャンバ１１１内に搬入された基板Ｋは、搬送ローラ１１４により搬送されて各処理室１１１ａを順次通過した後、搬出口１１１ｄから搬出され、当該各処理室１１１ａでは、容器体１２１内に貯留された処理液がノズル装置１１５から基板Ｋ上面に向けて吐出され、当該基板Ｋが処理される。
【００１３】
そして、基板Ｋに向けて吐出された処理液は、処理チャンバ１１１底面の傾斜により排出口１１１ｂ側に向けて流動するとともに、その一部が泡立つが、仕切部材１１２と堰部材１１３との一部が、対向部材１１６と還流管１２２との一部がそれぞれ重なり合うように設けられていることから、泡はその流動が阻止されて各処理室１１１ａ内に残り、堰部材１１３を超えた液体成分だけが、より基板Ｋ搬送方向上流側の処理室１１１ａ内に流入するとともに、還流管１２２の上端部を超えた液体成分だけが、還流管１２２内を流通して容器体１２１内に還流される。こうして、容器体１２１内への泡の流入が防止される。
【００１４】
尚、処理室１１１ａ内には、ノズル装置１１５から順次吐出される処理液によって新たな泡が発生するが、この泡は、ノズル装置１１５から順次吐出される処理液が衝突して消去されるため、処理室１１１ａ内の泡は略一定量に維持される。
【００１５】
【特許文献１】特開２００３−２２９９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
しかしながら、処理装置本体１１０側において容器体１２１内への泡の流入対策が採られた上記従来の基板処理装置１００では、容器体１２１内において、還流された処理液が泡立って充満するという問題があった。即ち、処理液が還流管１２２内を通って容器体１２１内に還流されるときに、処理液が液受部材１２３，１２４に衝突したり、処理液同士が衝突して、処理液の一部が泡立ち、このようにして発生した泡が各液受部材１２３，１２４間を通って容器体１２１の全体に広がるのである。
【００１７】
また、処理室１１１ａ内において多量の泡が発生すると、泡の一部が順次発生する泡に押し出されるようにして、処理液の液体成分とともに、仕切部材１１２と堰部材１１３との間の隙間を通ってより基板Ｋ搬送方向上流側の処理室１１１ａ内に流入したり、対向部材１１６と還流管１２２との間の隙間を通って当該還流管１２２から容器体１２１内に流入し、流入した泡が各液受部材１２３，１２４間を通って容器体１２１の全体に広がるという問題もある。
【００１８】
これにより、上述したような、泡の混入した処理液がノズル装置１１５に供給され、処理液の吐出（供給）状態が不均一になるという問題や、容器体１２１の内面が汚れて当該容器体１２１を頻繁に洗浄しなければならないという問題が引き起こされていた。
【００１９】
本発明は、以上の実情に鑑みなされたものであって、処理液の還流時などに発生した泡を含む処理液が所定の処理領域内に供給されることや、発生した泡によって容器体の内面が汚れることを防止することができる処理液供給装置の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
上記目的を達成するための本発明は、
処理液を貯留する容器体と、前記容器体内に貯留された処理液を予め設定された処理領域内に供給する供給手段と、前記処理領域内の処理液を前記容器体内に還流させる還流部材とを備え、前記容器体内と処理領域内との間で処理液を循環させるように構成された処理液供給装置において、
前記容器体には、内部の泡を外部に排出するための排出口が該容器体内に貯留された処理液の液面よりも上方に形成され、
前記排出口には、泡を流通させる泡排出部材が接続されてなることを特徴とする処理液供給装置に係る。
【００２１】
この処理液供給装置によれば、供給手段によって、容器体内に貯留された処理液が処理領域内に供給される一方、供給された処理液は還流部材により容器体内に還流され、処理液が容器体内と処理領域内との間で循環する。
【００２２】
処理液が泡立ち易いものであるときには、処理領域内への供給時などに処理液の一部が泡立ち、発生した泡ととともに液体成分が容器体内に還流され、また、還流された処理液は容器体内に貯留された処理液と衝突して一部が泡立つ。
【００２３】
処理領域内で発生して容器体内に還流された泡や、容器体内で発生した泡は、容器体内面と処理液とによって形成される上部空間内に溜まり、この上部空間内に泡が充満すると、当該泡の一部が、前記還流されたり発生する泡に押し出されるようにして排出口から順次排出され、排出された泡は泡排出部材を流通して外部に排出される。
【００２４】
このように、この処理液供給装置によれば、容器体内部に充満した泡を排出口から外部に排出するようにしているので、泡の混入した処理液が処理領域内に供給されて当該処理液の供給状態が不均一になるなどの不都合を効果的に防止することができる。
【００２５】
また、本発明は、
処理液を貯留する容器体と、前記容器体内に貯留された処理液を予め設定された処理領域内に供給する供給手段と、前記処理領域内の処理液を前記容器体内に還流させるための還流流路が形成された還流部材とを備え、前記容器体内と処理領域内との間で処理液を循環させるように構成された処理液供給装置において、
前記還流部材の一方端側は、前記容器体内に貯留された処理液の液面よりも上方で該容器体内に貫入されて該容器体の底面側に向けて延設され、該処理液中に配置された状態に設けられるとともに、該還流部材には、前記還流流路内の泡を外部に排出するための第１排出口が該還流流路内の処理液の液面よりも上方に形成され、
前記第１排出口には、泡を流通させる第１泡排出部材が接続されてなることを特徴とする処理液供給装置に係る。
【００２６】
この処理液供給装置によれば、上記と同様に、供給手段によって、容器体内に貯留された処理液が処理領域内に供給される一方、供給された処理液は還流部材の還流流路内を流通して容器体内に還流され、処理液が容器体内と処理領域内との間で循環する。
【００２７】
処理液が泡立ち易いものであるときには、処理領域内への供給時などに処理液の一部が泡立ち、発生した泡ととともに液体成分が還流流路内を流通し、流通する処理液は、還流流路内に入り込んだ容器体内の貯留処理液と衝突して一部が泡立つ。
【００２８】
還流された処理液の液体成分は、還流部材の一方端側から、還流部材外面と容器体内面とによって形成される領域内に流入するが、処理領域内で発生して容器体側に還流される泡や、還流流路内で発生した泡は、還流流路と当該還流流路内の処理液とによって形成される第１上部空間内に溜まる。そして、この第１上部空間内に泡が充満すると、当該泡の一部が、前記還流されたり発生する泡に押し出されるようにして第１排出口から順次排出され、排出された泡は第１泡排出部材を流通して外部に排出される。
【００２９】
このように、この処理液供給装置によれば、還流部材の還流流路内に容器体内の処理液を入り込ませた状態にして、泡が充満する領域を当該還流流路内に制限するとともに、充満した泡を第１排出口から外部に排出するようにしているので、還流流路内の泡が還流部材の外面と容器体の内面とによって形成される領域内に流出するのを効果的に防止することができる。
【００３０】
これにより、容器体の内面などが汚れるのを防止して洗浄回数を低減することができるとともに、泡の混入した処理液が処理領域内に供給されて当該処理液の供給状態が不均一になるなどの不都合を防止することができる。
【００３１】
また、本発明は、
処理液を貯留する容器体と、前記容器体内に貯留された処理液を予め設定された処理領域内に供給する供給手段と、前記処理領域内の処理液を前記容器体内に還流させるための還流流路が形成された還流部材とを備え、前記容器体内と処理領域内との間で処理液を循環させるように構成された処理液供給装置において、
前記還流部材の一方端側は、前記容器体内に貯留された処理液の液面よりも下方で該容器体に接続して、該処理液の一部が前記還流流路内に入り込んだ状態に設けられるとともに、該還流部材には、前記還流流路内の泡を外部に排出するための第１排出口が該還流流路内の処理液の液面よりも上方に形成され、
前記第１排出口には、泡を流通させる第１泡排出部材が接続されてなることを特徴とする処理液供給装置に係る。
【００３２】
この処理液供給装置によれば、上記と同様に、供給手段によって、容器体内に貯留された処理液が処理領域内に供給される一方、供給された処理液は還流部材の還流流路内を流通して容器体内に還流され、処理液が泡立ち易いものであるときには、発生した泡ととともに液体成分が還流流路内を流通し、流通する処理液は、還流流路内に入り込んだ容器体内の貯留処理液と衝突して一部が泡立つ。
【００３３】
還流された処理液の液体成分は、還流部材の一方端側から容器体内に流入するが、処理領域内で発生して容器体側に還流される泡や、還流流路内で発生した泡は、還流流路と当該還流流路内の処理液とによって形成される第１上部空間内に溜まり、この第１上部空間内に泡が充満すると、当該泡の一部が、前記還流されたり発生する泡に押し出されるようにして第１排出口から外部に順次排出される。
【００３４】
このように、この処理液供給装置によっても、還流部材の還流流路内に容器体内の処理液を入り込ませた状態にして、泡が充満する領域を当該還流流路内に制限するとともに、充満した泡を第１排出口から外部に排出するようにしているので、還流流路内の泡が容器体内に流出するのを効果的に防止することができる。これにより、上記と同様の効果を得ることができる。
【００３５】
尚、前記還流部材一方端側の、前記容器体内の処理液の液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路は、その少なくとも一部が斜め下方に傾斜して形成されていても良い。
【００３６】
容器体内と処理領域内との間で循環される処理液は、その循環効率を高めるべく高流量且つ高流速で循環されており、順次還流される処理液の液体成分に勢いがあることから、この還流処理液の液体成分により、前記第１上部空間内の泡の一部が、還流流路内に入り込んだ処理液中に押し込まれるようにして還流部材の一方端側に移動せしめられ、当該一方端から還流流路外に流出して、還流部材の外面，容器体の内面及び処理液や、容器体の内面と処理液とによって形成される第２上部空間内に充満する恐れがある。
【００３７】
そこで、上記のように、還流部材一方端側の還流流路を斜め下方に傾斜させて形成すれば、還流流路内に入り込んだ処理液の液面から還流部材の一方端までの距離を長くして当該一方端における還流処理液の勢いを落とすことができるので、前記第１上部空間内の泡が当該一方端から還流流路外に流出するのを防止することができる。これにより、より確実に、容器体の内面などが汚れるのを防止したり、泡の混入した処理液が処理領域内に供給されるのを防止することができる。
【００３８】
また、容器体の内容積が小さかったり、容器体外の他の構造物との配置関係などによって、還流流路内の処理液液面から還流部材の一方端までの距離を長くするのに制限がある場合であっても、当該距離を効果的に長くすることができる。
【００３９】
また、前記還流部材一方端側の、前記容器体内の処理液の液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路は、その少なくとも一部が螺旋状に形成されていても良く、このようにしても、還流部材一方端側の還流流路を傾斜させた場合と同様に、第１上部空間内の泡が還流部材の一方端から還流流路外に流出するのを防止することができるとともに、還流流路内の処理液液面から還流部材の一方端までの距離を効果的に長くすることができる。
【００４０】
また、前記還流部材一方端側の、前記容器体内の処理液の液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路内には、該還流流路の内周面から内側に突出した邪魔板が設けられていても良く、このようにすれば、邪魔板によって還流処理液の勢いを落とすことができるので、第１上部空間内の泡が還流部材の一方端から還流流路外に流出するのを防止することができる。
【００４１】
また、前記還流部材一方端側の、前記容器体内の処理液の液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路内には、表裏に貫通する貫通孔を多数備えた板状の多孔体が設けられていても良く、このようにしても、多孔体によって還流処理液の勢いを落とし、第１上部空間内の泡が還流部材の一方端から還流流路外に流出するのを防止することができる。
【００４２】
また、前記容器体には、内部の泡を外部に排出するための第２排出口が該容器体内に貯留された処理液の液面よりも上方に形成され、前記第２排出口には、泡を流通させる第２泡排出部材が接続されていても良い。
【００４３】
このようにすれば、還流部材の一方端側から泡が流出して前記第２上部空間内に充満しても、当該第２上部空間内の泡を第２排出口から順次排出し、第２泡排出部材を流通させて外部に排出することができるので、泡の混入した処理液が処理領域内に供給されるといったことをより確実に防止することができる。
【００４４】
また、前記泡排出部材（上記泡排出部材，第１泡排出部材及び第２泡排出部材）には、前記排出口（上記排出口，第１排出口及び第２排出口）に接続し、泡を流通させるための排出流路が形成され、該排出流路の該排出口との接続部は、泡流通方向上流側が下流側よりも高さ位置が低くなるように形成されていても良く、このようにすれば、当該泡排出部材によって処理液の液体成分が泡とともに外部に排出されるのを防止することができる。
【００４５】
尚、前記処理液としては、例えば、半導体（シリコン）ウエハ，液晶ガラス基板，フォトマスク用ガラス基板，光ディスク用基板といった各種基板を処理するための、界面活性剤を含んだエッチング液，現像液及び洗浄液などを挙げることができる。
【発明の効果】
【００４６】
斯くして、本発明に係る処理液供給装置によれば、容器体内部に充満した泡を排出口から外部に排出したり、泡の充満する領域を還流部材の還流流路内に制限し且つ当該還流流路内部に充満した泡を第１排出口から外部に排出することができるので、泡の混入した処理液が処理領域内に供給されて当該処理液の供給状態が不均一になるのを防止したり、容器体の内面が汚れるのを防止して洗浄回数を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４７】
以下、本発明の具体的な実施形態について、添付図面に基づき説明する。尚、図１は、本発明の一実施形態に係る処理液供給装置などの概略構成を示した断面図であり、図２は、図１における矢示Ａ−Ａ方向の断面図であり、図３は、図１における矢示Ｂ−Ｂ方向の断面図である。
【００４８】
図１乃至図３に示すように、本例の処理液供給装置１は、例えば、レジスト膜が塗布され、露光マスクを用いて所定領域のレジスト膜が感光せしめられた基板Ｋ上に現像液Ｌを供給して、感光部或いは未感光部のレジストを当該基板Ｋ上から除去する基板処理装置５に設けられて、この基板処理装置５の処理装置本体１０に現像液Ｌを供給するとともに、供給した現像液Ｌを還流させるように構成される。
【００４９】
具体的には、処理液供給装置１は、処理装置本体１０の下方に配置され、現像液Ｌを貯留する容器体２０と、容器体２０内部を仕切る仕切部２３と、容器体２０内に貯留された現像液Ｌを処理装置本体１０に供給する供給ポンプ２６と、処理装置本体１０から現像液Ｌを還流させる還流管２７と、発生した泡を外部に排出する泡排出部２８などを備えている。
【００５０】
まず、前記処理装置本体１０について説明する。
【００５１】
前記処理装置本体１０は、閉塞空間を備えた処理チャンバ１１と、この処理チャンバ１１内に配設され、前記基板Ｋを水平に支持して所定の方向（図１における矢示方向）に搬送する搬送ローラ１２と、処理チャンバ１１内の上部に配設されるとともに、長手方向が基板搬送方向と平行に配置され、前記供給ポンプ２６から供給された現像液Ｌが流通する供給管１３と、供給管１３の長手方向に沿って所定間隔でこれに固設され、基板Ｋの上面に向けて現像液Ｌを吐出する複数のノズル体１４などから構成される。
【００５２】
前記搬送ローラ１２は、その複数が基板搬送方向に所定間隔で配設され、前記ノズル体１４は、現像液Ｌを基板Ｋ上面に向けて基板Ｋ幅方向に平行な鉛直面内で膜状に吐出する。
【００５３】
前記処理チャンバ１１は、その底面に、現像液Ｌを処理チャンバ１１外に排出するための排出口１１ａを備えるとともに、底面が排出口１１ａ側の高さ位置が最も低くなるように傾斜して形成されている。また、処理チャンバ１１の下面には、排出口１１ａと連通した凹部１５ａを有する排出部材１５が固設されている。
【００５４】
次に、前記処理液供給装置１について説明する。
【００５５】
前記処理液供給装置１は、上述のように、処理チャンバ１１の下方に配置され、現像液Ｌを貯留する容器体２０と、容器体２０内部を仕切る仕切部２３と、容器体２０内に貯留された現像液Ｌを供給管１３に供給する供給ポンプ２６と、処理チャンバ１１内から現像液Ｌを還流させる還流管２７と、発生した泡を外部に排出する泡排出部２８などから構成される。尚、現像液Ｌとしては、例えば、界面活性剤を含んだ、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）の２．３８％水溶液やＫＯＨ（水酸化カリウム）の溶液などを挙げることができる。
【００５６】
前記容器体２０は、仕切部２３により容器体２０内部が仕切られて形成される第１貯留室Ｓ１に連通し、当該第１貯留室Ｓ１側の容器体２０上部側壁に形成された排出口２０ａと、仕切部２３により容器体２０内部が仕切られて形成される第２貯留室Ｓ２に連通し、当該第２貯留室Ｓ２側の容器体２０上部側壁に形成された排出口２０ｂとを備える。
【００５７】
前記各排出口２０ａ，２０ｂは、それぞれ向かい合う容器体２０の側壁に形成され、排出口２０ａは、容器体２０内に貯留された現像液Ｌの液面よりも上方に形成される。前記排出口２０ｂには、容器体２０の側壁に付設される液回収部材２１が接続しており、この液回収部材２１は、容器体２０内に貯留される現像液Ｌの液面が上昇して、排出口２０ｂから当該液回収部材２１内に溢れ出た現像液Ｌを、配管２２ａを介して排液回収部２２に排出する。
【００５８】
前記仕切部２３は、容器体２０内部を前記第１貯留室Ｓ１と第２貯留室Ｓ２とに仕切るものであり、上端部が現像液Ｌの液面から上方に突出してその一部が容器体２０の天井面に当接し、下端部が容器体２０の底面と所定間隔を隔てて配置され、両端部が容器体２０の側壁に固設される第１仕切板２４と、第１仕切板２４と還流管２７の下端部との間の容器体２０底面に当該第１仕切板２４と平行に立設され、上端部が第１仕切板２４及び還流管２７の下端部よりも高く形成された第２仕切板２５とを備える。尚、仕切部２３は、第２貯留室Ｓ２の方が第１貯留室Ｓ１よりも容積が大きくなるように仕切っている。
【００５９】
前記供給ポンプ２６は、容器体２０の第２貯留室Ｓ２側の下部側壁に接続した接続管２６ａと、前記供給管１３に接続した接続管２６ｂとを備えており、第２貯留室Ｓ２内の現像液Ｌを供給管１３内に供給する。
【００６０】
前記還流管２７は、上下方向に設けられて、上端部が前記排出部材１５の下面に固設され、下端部が容器体２０の第１貯留室Ｓ１側の上面から内部（第１貯留室Ｓ１内）に貫入されて容器体２０の底面側に向けて延設されている。
【００６１】
還流管２７の内部には、現像液Ｌを流通させるための還流流路２７ａが形成され、この還流流路２７ａの還流管２７の上端部側は、排出部材１５の凹部１５ａ内に連通し、還流管２７の中央部側から下端部側にかけては、容器体２０内に貯留された現像液Ｌ中に配置されてその一部が還流流路２７ａ内に入り込んだ状態となっている。また、還流管２７の長手方向中央部であって、還流流路２７ａ内の現像液Ｌの液面よりも上方には、還流管２７の内部（還流流路２７ａ）と外部とを連通させる排出口２７ｂが形成される。
【００６２】
前記泡排出部２８は、容器体２０の第１貯留室Ｓ１側の側壁から内部（第１貯留室Ｓ１内）に貫入されて反対の側壁側に向けて水平に延設され、先端（一方端）部がＬ字状に屈曲して還流管２７の排出口２７ｂに挿入される泡排出管２９と、容器体２０の側面に付設され、排出口２０ａに接続した泡排出部材３０とを備える。
【００６３】
前記泡排出管２９の内部には、還流管２７内部の泡を流通させるための排出流路２９ａが形成され、泡排出管２９の先端（一方端）部は、水平より角度θで傾斜して還流管２７の外周面に接続し、排出流路２９ａの泡流通方向上流側が下流側よりも高さ位置が低くなっている。また、泡排出管２９の他端部は、泡回収部３１に接続されている。
【００６４】
前記泡排出部材３０の内部には、第１貯留室Ｓ１内の泡を収容する収容部３０ａが形成されており、この収容部３０ａは、適宜配管３１ａを介して前記泡回収部３１に接続されている。
【００６５】
以上のように構成された本例の処理液供給装置１によれば、供給ポンプ２６によって、容器体２０（第２貯留室Ｓ２）内に貯留された現像液Ｌが処理装置本体１０に供給される一方、供給された現像液Ｌは還流管２７の還流流路２７ａ内を流通して容器体２０（第１貯留室Ｓ１）内に還流され、これにより、現像液Ｌが容器体２０内と処理装置本体１０との間で循環する。
【００６６】
具体的には、前記処理装置本体１０では、基板Ｋが処理チャンバ１１内に搬入されて搬送ローラ１２により搬送されるとともに、第２貯留室Ｓ２内の現像液Ｌが供給ポンプ２６により供給管１３を介しノズル体１４に供給されて当該ノズル体１４から吐出され、吐出された現像液Ｌは基板Ｋの上面に供給されて当該基板Ｋが処理される。
【００６７】
そして、基板Ｋ上に供給された現像液Ｌは、基板Ｋや処理チャンバ１１内面と衝突したり、現像液Ｌ同士が衝突して、その一部が泡立ち、処理チャンバ１１底面の傾斜により、液体成分が発生した泡とともに排出口１１ａ側に向けて流動し、この後、排出口１１ａから排出部材１５の凹部１５ａ内に排出されて、還流管２７の還流流路２７ａ内に流入する。
【００６８】
還流流路２７ａ内に流入した現像液Ｌは、当該還流流路２７ａ内を流通した後、第１貯留室Ｓ１内に貯留された、還流流路２７ａ内に入り込んだ現像液Ｌと衝突して一部が泡立ち、このようにして発生した泡や、処理チャンバ１１内で発生し、当該処理チャンバ１１内から還流流路２７ａ内を流通して還流された泡は、還流流路２７ａと当該還流流路２７ａ内の現像液Ｌとによって形成される第１上部空間内に溜まる一方、液体成分は、還流管２７の下端部側から第１貯留室Ｓ１と還流管２７の外周面とによって形成される領域内に流入する。
【００６９】
そして、この第１上部空間内に泡が充満すると、当該泡の一部が、前記発生したり還流される泡に押し出されるようにして排出口２７ｂから順次排出される。即ち、泡排出管２９の先端部から排出流路２９ａ内に流入して当該排出流路２９ａ内を流通し、泡回収部３１に排出される。尚、この排出流路２９ａ先端部は、その泡流通方向上流側が下流側よりも高さ位置が低くなるように形成されていることから、還流流路２７ａ内の液体成分が当該排出流路２９ａ内に流入することはない。
【００７０】
また、前記第１上部空間内の泡の一部は、現像液Ｌがその循環効率を高めるべく高流量且つ高流速で循環され、順次還流される現像液Ｌに勢いがあることから、この還流現像液Ｌの液体成分により、還流流路２７ａ内に入り込んだ現像液Ｌ中に押し込まれるようにして還流管２７の下端部側に移動せしめられ、当該下端部から還流流路２７ａ外（第１貯留室Ｓ１と還流管２７の外周面とによって形成される領域内）に流出することもあるが、仕切板２４，２５のために第２貯留室Ｓ２側に流入することはなく、第１貯留室Ｓ１，還流管２７の外周面及び現像液Ｌによって形成される第２上部空間内に溜まるようになっている。
【００７１】
そして、この第２上部空間内に泡が充満すると、当該泡の一部が、第１貯留室Ｓ１と還流管２７の外周面とによって形成される領域内に流出した泡に押し出されるようにして排出口２０ａから順次排出され、排出された泡は泡排出部材３０の収容部３０ａ及び配管３１ａ内を流通して泡回収部３１に排出される。
【００７２】
斯くして、本例の処理液供給装置１によれば、還流管２７の還流流路２７ａ内に容器体２０内の現像液Ｌを入り込ませた状態にして、泡が充満する領域を還流流路２７ａ内に制限するとともに、充満した泡を排出口２７ｂ及び泡排出管２９の排出流路２９ａから外部に排出するようにしているので、還流流路２７ａ内の泡が、還流管２７の下端部から第１貯留室Ｓ１と還流管２７の外周面とによって形成される領域内に流出するのを効果的に防止することができる。これにより、容器体２０の内面が汚れるのを防止して洗浄回数を低減することができるとともに、泡の混入した現像液Ｌが基板Ｋに供給されて当該現像液Ｌの供給状態が不均一になるなどの不都合を防止することができる。
【００７３】
また、泡が第１貯留室Ｓ１と還流管２７の外周面とによって形成される領域内に流出したとしても、容器体２０内部を仕切板２４，２５により仕切っているので、第２貯留室Ｓ２側に流入することはなく、更に、前記第２上部空間内に泡が充満すると、充満した泡を排出口２０ａ及び泡排出部材３０を介して外部に排出するようにしているので、充満した泡が仕切板２４，２５を超えて第２貯留室Ｓ２側に流入するのをより確実に防止することができる。
【００７４】
また、泡排出管２９の先端部を、排出流路２９ａの泡流通方向上流側が下流側よりも高さ位置が低くなるように角度θで傾斜させているので、還流流路２７ａ内の現像液Ｌの液体成分が当該排出流路２９ａ内に流入して排出されるのを効果的に防止することができる。
【００７５】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の採り得る具体的な態様は、何らこれに限定されるものではない。
【００７６】
例えば、図４に示すように、第２仕切板２５を省略するとともに、還流管２７に代えて、上端部が処理チャンバ１１の底面に接続し、下端部が容器体２０内に貯留された現像液Ｌの上方に位置するように容器体２０の上面に接続した還流管４０を設け、泡排出管２９及び泡排出部材３０に代えて、第１貯留室Ｓ１に接続した泡排出管４１を設けるようにしても良い。
【００７７】
この場合、容器体２０の第１貯留室Ｓ１側の側壁には、当該第１貯留室Ｓ１内の泡を排出するための排出口２０ｃが、現像液Ｌの液面よりも上方に形成され、この排出口２０ｃを介して前記泡排出管４１が第１貯留室Ｓ１に接続している。
【００７８】
このように構成すると、処理チャンバ１１内の現像液Ｌの液体成分及び泡は、還流管４０によって第１貯留室Ｓ１内に還流され、また、還流された現像液Ｌは第１貯留室Ｓ１内の現像液Ｌと衝突して一部が泡立つ。処理チャンバ１１内で発生して第１貯留室Ｓ１内に還流された泡や、第１貯留室Ｓ１内で発生した泡は、仕切板２４のために第２貯留室Ｓ２側に流入することはなく、第１貯留室Ｓ１と現像液Ｌとによって形成される上部空間内に溜まる。
【００７９】
そして、この上部空間内に泡が充満すると、当該泡は、泡排出管４１から外部（泡回収部３１）に順次排出される。したがって、容器体２０の内面などが汚れる領域を小さくして（第１貯留室Ｓ１側に限定して）洗浄領域を小さくすることができるとともに、泡の混入した現像液Ｌが基板Ｋに供給されて当該現像液Ｌの供給状態が不均一になるなどの不都合を防止することができる。
【００８０】
また、図５に示すように、基板Ｋに供給された現像液Ｌを２本の還流管４０，５０を用いて還流させることもでき、この還流管５０は、その一方端部がＬ字状に屈曲して容器体２０の第１貯留室Ｓ１側の下部側壁（容器体２０内の現像液Ｌの液面よりも下方）に接続し、他方端部は処理チャンバ１１の底面に接続している。
【００８１】
還流管５０の内部には、現像液Ｌを流通させるための還流流路５０ａが形成され、還流流路５０ａの一方端側には、容器体２０内に貯留された現像液Ｌの一部が入り込んだ状態となっている。また、還流管５０には、還流流路５０ａ内の泡を排出するための排出口５０ｂが現像液Ｌの液面よりも上方に形成され、この排出口５０ｂに泡排出管５１が接続される。
【００８２】
このように構成すると、処理チャンバ１１内の現像液Ｌの液体成分及び泡は、還流管５０の還流流路５０ａ内を流通し、還流流路５０ａ内に入り込んだ現像液Ｌと衝突して一部が泡立ち、液体成分は、還流管５０の一方端側から容器体２０（第１貯留室Ｓ１）内に流入するが、処理チャンバ１１内で発生して第１貯留室Ｓ１側に還流される泡や、還流流路５０ａ内で発生した泡は、還流流路５０ａと当該還流流路５０ａ内の現像液Ｌとによって形成される上部空間内に溜まる。
【００８３】
そして、この上部空間内に泡が充満すると、当該泡は、泡排出管５１から外部（泡回収部３１）に順次排出される。尚、前記上部空間内に泡が多量に充満すると、その一部が還流流路５０ａの一方端側から第１貯留室Ｓ１内に流出することもあるが、流出した泡は、後述のように、泡排出管４１から排出される。
【００８４】
一方、還流管４０による現像液Ｌの還流などによって発生した泡や、還流管５０の一方端側から第１貯留室Ｓ１内に流出した泡が、第１貯留室Ｓ１と現像液Ｌとによって形成される上部空間内に溜まり、当該上部空間内に充満すると、充満した泡は、上記と同様に、泡排出管４１から外部（泡回収部３１）に順次排出される。したがって、このようにしても、上記と同様の効果を得ることができる。
【００８５】
また、泡排出管４１，５１の、容器体２０や還流管５０に接続する側の端部は、泡流通方向上流側が下流側よりも高さ位置が低くなるように傾斜して設けても良く、このようにすれば、上述したように、現像液Ｌが排出されるのを効果的に防止することができる。
【００８６】
また、上記還流管２７は、図６乃至図９に示すような構成とすることができる。図６は、下端部側が容器体２０内で傾斜するように形成された還流管２７を示しており、この還流管２７の、容器体２０内の現像液Ｌの液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路２７ａは、その一部が斜め下方に傾斜して形成される。
【００８７】
このような構成とすれば、還流流路２７ａ内に入り込んだ現像液Ｌの液面から還流管２７の下端部までの距離を長くして当該下端部における還流現像液Ｌの勢いを落とすことができるので、前記第１上部空間内の泡が、還流現像液Ｌにより還流流路２７ａ内の現像液Ｌ中に押し込まれて還流管２７の下端部側に移動せしめられ、当該下端部から還流流路２７ａ外に流出するのを防止することができる。これにより、より確実に、容器体２０の内面などが汚れるのを防止したり、泡の混入した現像液Ｌが処理装置本体１０側に供給されるのを防止することができる。
【００８８】
また、容器体２０の内容積が小さく、還流流路２７ａ内の現像液Ｌの液面から還流管２７の下端部までの距離を長くするのに制限がある場合であっても、当該距離を効果的に長くすることができる。
【００８９】
また、図７は、下端部側が容器体２０内で螺旋状に形成された還流管２７を示しており、この還流管２７の、容器体２０内の現像液Ｌの液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路２７ａは、その一部が螺旋状となっている。このような構成としても、図６に示した還流管２７の場合と同様に、第１上部空間内の泡が還流管２７の下端部から還流流路２７ａ外に流出するのを防止することができるとともに、還流流路２７ａ内の現像液Ｌの液面から還流管２７の下端部までの距離を効果的に長くすることができる。
【００９０】
また、図８は、還流流路２７ａの内周面から内側に突出する複数の邪魔板２７ｃが設けられた還流管２７を示しており、この邪魔板２７ｃは、現像液Ｌ還流方向下流側に傾斜した半円状の部材からなり、還流管２７の、容器体２０内の現像液Ｌの液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路２７ａ内に互い違いに配設されている。このような構成としても、邪魔板２７ｃによって還流現像液Ｌの勢いを落とすことができるため、第１上部空間内の泡が還流管２７の下端部から還流流路２７ａ外に流出するのを防止することができる。尚、邪魔板２７ｃは、図６や図７に示した還流管２７の還流流路２７ａ内に設けられていても良く、また、その配設数や形状、傾斜角度も図示例に限られるものではない。また、邪魔板２７ｃと還流流路２７ａの内周面との間に泡が溜まる可能性があるが、例えば、邪魔板２７ｃの還流流路２７ａ内周面との付根部に泡排出用の開口部（図示せず）を適宜形成すれば、このような不都合を解消することができる。
【００９１】
また、図９は、還流流路２７ａ内に多孔体２７ｄが設けられた還流管２７を示しており、この多孔体２７ｄは、表裏に貫通した貫通孔（図示せず）を多数備え、還流管２７の、容器体２０内の現像液Ｌの液面高さ位置よりも下側に配置される部分の還流流路２７ａ内に配設されている。このような構成としても、多孔体２７ｄにより還流現像液Ｌの勢いを落として、第１上部空間内の泡が還流管２７の下端部から還流流路２７ａ外に流出するのを防止することができる。尚、多孔体２７ｄは、図６や図７に示した還流管２７の還流流路２７ａ内に設けられていても良く、また、その配設数も図示例に限られるものではない。
【００９２】
また、上記図６乃至図９に示した還流管２７の構成は、図５に示した還流管５０にも適用することができ、このようにしても、上述と同様に、第１上部空間内の泡が還流管５０の一方端側から還流流路５０ａ外に流出するのを防止することができるとともに、容器体２０外における他の構造物との配置関係などによって、還流流路５０ａ内の現像液Ｌの液面から還流部材５０の一方端までの距離を長くするのに制限がある場合であっても、当該距離を効果的に長くすることができる。
【００９３】
また、上例では、容器体２０内部を仕切板２４，２５によって第１貯留室Ｓ１と第２貯留室Ｓ２とに仕切るように構成したが、これに限られるものではなく、当該仕切板２４，２５を省略して構成することもできる。但し、このように構成すると、還流管２７，４０，５０によって還流された泡や、還流管２７，４０，５０によって還流された液体成分と容器体２０内に貯留された現像液Ｌとの衝突により発生した泡が容器体２０の全体に広がるので、上述のような効果が得られ難くなる点に気を付ける必要がある。
【００９４】
更に、上例では、処理液として現像液Ｌを一例に挙げて説明したが、これに限られるものではなく、エッチング液や洗浄液などを、容器体２０と処理装置本体１０との間で循環させるようにしても良い。また、更に、基板処理を一例としているが、これに限られるものではなく、他の処理を行うように構成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】本発明の一実施形態に係る処理液供給装置などの概略構成を示した断面図である。
【図２】図１における矢示Ａ−Ａ方向の断面図である。
【図３】図１における矢示Ｂ−Ｂ方向の断面図である。
【図４】本発明の他の実施形態に係る処理液供給装置の概略構成を示した断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態に係る処理液供給装置の概略構成を示した断面図である。
【図６】本発明の他の実施形態に係る処理液供給装置の概略構成を示した断面図である。
【図７】本発明の他の実施形態に係る処理液供給装置の概略構成を示した断面図である。
【図８】本発明の他の実施形態に係る処理液供給装置の概略構成を示した断面図である。
【図９】本発明の他の実施形態に係る処理液供給装置の概略構成を示した断面図である。
【図１０】従来例に係る基板処理装置の概略構成を示した断面図である。
【符号の説明】
【００９６】
１    処理液供給装置
５    基板処理装置
１０  処理装置本体
１１  処理チャンバ
１２  搬送ローラ
１３  供給管
１４  ノズル体
２０  容器体
２３  仕切部
２４  第１仕切板
２５  第２仕切板
２６  供給ポンプ
２７  還流管
２８  泡排出部
２９  泡排出管
３０  泡排出部材
３１  泡回収部
Ｓ１  第１空間
Ｓ２  第２空間
Ｋ    基板
Ｌ    現像液
【図１】
2006186322.tif 000003
【図２】
2006186322.tif 000004
【図３】
2006186322.tif 000005
【図４】
2006186322.tif 000006
【図５】
2006186322.tif 000007
【図６】
2006186322.tif 000008
【図７】
2006186322.tif 000009
【図８】
2006186322.tif 000010
【図９】
2006186322.tif 000011
【図１０】
2006186322.tif 000012