(57)【要約】【課題】光情報記録媒体用の透明層の製造環境を常に清潔に保つことが可能な光情報記録媒体用の透明層の製造システムを提供する。【解決手段】基材フィルムとなるベースＢの原反１からベースＢを搬送しながらベースＢにハードコート層を形成して、光情報記録媒体用の透明層を製造する光情報記録媒体用の透明層の製造システムであって、ベース原反１からベースＢを送り出すベース原反送り出し部ｂ及びハードコート層が形成されたベースＢを巻き取る巻取部ａを収容する製造部屋２０と、ベース原反１及び巻取部ａにより巻き取られた巻取ロール６を格納する格納部屋３０とを備え、製造部屋２０と格納部屋３０とは開閉可能なシャッタ４０によって仕切られており、製造部屋２０の内圧は、格納部屋３０の内圧に対して−５Ｐａ以上、＋１５Ｐａ以下に設定される。【選択図】図３
2006085848.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムとなるベースの原反から前記ベースを搬送させつつ前記ベースにハードコート層を形成して、光情報記録媒体用の透明層を製造する光情報記録媒体用の透明層の製造システムであって、
前記ベースの原反から前記ベースを送り出すベース原反送り出し部及び前記ハードコート層が形成されたベースを巻き取る巻取部の少なくとも一方を収容する第１の部屋と、
前記ベースの原反及び前記巻取部により巻き取られた巻取ロールの少なくとも一方を格納するための第２の部屋とを備え、
前記第１の部屋と前記第２の部屋とは開閉可能な扉によって仕切られており、
前記第１の部屋の内圧は、前記第２の部屋の内圧に対して−５Ｐａ以上、＋１５Ｐａ以下に設定される光情報記録媒体用の透明層の製造システム。
【請求項２】
請求項１記載の光情報記録媒体用の透明層の製造システムであって、
前記第１の部屋の内圧は、前記第２の部屋の内圧に対して＋０Ｐａ以上、＋１０Ｐａ以下に設定される光情報記録媒体用の透明層の製造システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材フィルムとなるベースの原反から前記ベースを搬送しながら前記ベースにハードコート層を形成して、光情報記録媒体用の透明層を製造する光情報記録媒体用の透明層の製造システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、デジタル・ハイ・ビジョンＴＶ放送の録画に対応するため、高密度光情報記録媒体（ＤＶＤ）よりも更に高密度記録を可能とする光情報記録媒体の研究が進められており、青紫色レーザと高ＮＡ（開口数（Numerical Aperture））ピックアップとを使用した光ディスクシステムが開発されている。
【０００３】
このような光ディスクシステムとしては、例えば、ブルー・レイ・ディスク（Blu-ray Disk）と称される次世代光ディスク規格がある。ブルー・レイ・ディスクは、基板上に記録層と、該記録層のレーザ入射側に透明層とを備えた光情報記録媒体である。透明層は、例えば下記特許文献１に示すように、ポリカーボネートからなる光透過層の表面に、傷付き防止のためのハードコート層が塗布されてなる。
【０００４】
上記透明層を製造する装置は、例えば、透明層の基材フィルムとして用いられるポリカーボネート製ベースを巻芯に巻回して得られるベース原反と、ベース原反からベースを送り出して搬送するための駆動ローラと、駆動ローラによって搬送されるベースにハードコート層を形成するための紫外線硬化性組成物を塗布部材によって塗布する塗布部と、塗布部により塗布された紫外線硬化性組成物を乾燥する乾燥部と、乾燥部により乾燥された紫外線硬化性組成物を紫外線照射により硬化させる紫外線照射部と、紫外線照射部を通過したベースを巻芯に巻き取る巻取部とを備える。
【０００５】
この装置は、密閉されたクリーンな部屋の中に収容され、その部屋の隣には、新しいベース原反や、巻取部によってベースを所定量巻き取り終わった巻取ロールを格納するための倉庫が設けられ、部屋と倉庫の間は、例えばシャッタ等で仕切られている。この倉庫は、ベース原反を外部から運び込んだり、巻取ロールを外部に運び出したりするクレーン等が出入りするため、その内部には埃や塵等がたまっていることも多い。
【０００６】
ベース原反を新しいものに交換する場合には、シャッタを開き、倉庫内にある新しいベース原反を部屋の中に運んでベース原反を交換し、古いベース原反を倉庫内に運んでシャッタを閉めるといった作業が行われる。巻取ロールを外に運び出す場合も同様に、シャッタを開き、部屋内にある巻取ロールを倉庫内に運んでシャッタを閉めるといった作業が行われる。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−６７４６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記のように、ベース原反の交換や巻取ロールの回収の際には、部屋と倉庫との間のシャッタを一旦開ける必要がある。装置が配置される部屋は、埃や塵等がない状態に保たれているが、倉庫内はそうではない。このため、シャッタを開けたときに、倉庫内の埃や塵等が部屋の中に入ってしまい、透明層の製造環境が悪化してしまう恐れがあった。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、光情報記録媒体用の透明層の製造環境を常に清潔に保つことが可能な光情報記録媒体用の透明層の製造システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の光情報記録媒体用の透明層の製造システムは、基材フィルムとなるベースの原反から前記ベースを搬送させつつ前記ベースにハードコート層を形成して、光情報記録媒体用の透明層を製造する光情報記録媒体用の透明層の製造システムであって、前記ベースの原反から前記ベースを送り出すベース原反送り出し部及び前記ハードコート層が形成されたベースを巻き取る巻取部の少なくとも一方を収容する第１の部屋と、前記ベースの原反及び前記巻取部により巻き取られた巻取ロールの少なくとも一方を格納するための第２の部屋とを備え、前記第１の部屋と前記第２の部屋とは開閉可能な扉によって仕切られており、前記第１の部屋の内圧は、前記第２の部屋の内圧に対して−５Ｐａ以上、＋１５Ｐａ以下に設定される。
【００１１】
この構成により、第２の部屋から第１の部屋への埃等の侵入を防ぐことができ、透明層の製造環境を清潔に保つことができる。
【００１２】
本発明の光情報記録媒体用の透明層の製造システムは、前記第１の部屋の内圧が、前記第２の部屋の内圧に対して＋０Ｐａ以上、＋１０Ｐａ以下に設定される。
【００１３】
この構成により、埃等の侵入をより効果的に防ぐことができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、光情報記録媒体用の透明層の製造環境を常に清潔に保つことが可能な光情報記録媒体用の透明層の製造システムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明でいう、光情報記録媒体とは、光学的手段によって情報信号を再生可能な情報記録媒体である。本発明の光情報記録媒体は、基本的に、基板と、記録層と、透明層とから構成される。また、光情報記録媒体において、これらの構成要素は発明内容を阻害しない範囲で相互に入れ替え又は組み合せもよい。光情報記録媒体において、これらの構成要素は、少なくとも１つずつ存在することが必要であるが、各々は複数層存在してもよく、１つの層が組成や特性の異なる複数の層から構成されてもよい。さらに、光情報記録媒体には、上記の層以外にも、静電気防止層、潤滑層、保護層、反射層などを設けてもよい。また、基板の記録層とは反対側にレーベル印刷が施されていてもよい。
【００１６】
光情報記録媒体は、例えば、ディスク形状を有し、直径など寸法は制限されない。光情報記録媒体は、カートリッジ筐体に収容保持された構成としてもよい。
【００１７】
透明層は、記録再生のために照射された光を記録層に導く機能を有するとともに、記録層を化学的且つ機械的に保護する機能を有している。本発明において「透明」とは、記録再生に用いる光学的手段の光の波長（例えば、６００ｎｍから８００ｎｍや３５０ｎｍから４５０ｎｍ）に対して光透過率７０％以上、望ましくは８５％以上であることを意味する。尚、カバー層の透過率は９０％〜９２％である。
【００１８】
透明層は、基材フィルム（透光性フィルム）を有し、その表面に傷付き防止のためのハードコート層が設けられたものであり、また、適宜に、粘着層や防汚層を含むことができる。基材フィルムとしては、例えば、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド、ポリアミド等を用いることができる。
【００１９】
ハードコート層は、活性エネルギー光線、好ましくは紫外線照射により硬化する紫外線硬化性組成物を基材フィルム上に塗布、乾燥した後、紫外線の照射により該組成物を硬化させることで形成される。紫外線硬化性組成物には、紫外線照射により重合又は架橋して硬化する同一分子内に２個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物が、好ましく使用される。
【００２０】
ハードコート層は、その厚さが１．０μｍから１０．０μｍが好ましく、２．０μｍから６．０μｍがより好ましく、２．５μｍから５．０μｍであることが特に好ましい。
【００２１】
ハードコート層の鉛筆硬度としては、Ｂ以上であることが好ましく、Ｈ以上であることがより好ましい。ここでいう鉛筆硬度とは、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、９．８Ｎの荷重において傷が認められない鉛筆の硬度として求めることができる。
【００２２】
以下、本発明に係る透明層の製造システムの実施形態を図面に基づいて詳しく説明する。
図１は、本発明に係る光情報記録媒体用の透明層を製造する製造システムを構成する透明層の製造装置の概略構成を示す図である。
図１に示すように、透明層の製造装置１０は、ポリカーボネートからなるベースＢを巻芯に巻回させてなるベース原反（バルク）１と、該ベースＢを巻芯に巻き取って保持する巻取ロール６との間で、ベース原反１から巻取ロール６へ送り出すことによってベースＢを搬送させる構成である。ベースＢの厚さは、８０μｍから１００μｍとする。
【００２３】
製造装置１０は、ベースＢの搬送方向に沿って、順に、ベース原反１からベースＢを送り出すベース原反送り出し部ｂと、塗布部２と、プルロール３と、乾燥部４と、紫外線照射部５と、ベースＢを巻芯に巻き取るための巻取部ａとを備えている。巻取部ａによってベースを巻芯に巻き取ったものが、巻取ロール６である。
【００２４】
塗布部２には、図示しない塗布液供給部に接続された塗布部材１３が設けられている。塗布部材１３は、該塗布液供給部から供給された塗布液を塗布ノズルとして機能する塗布ロッド１４に付着させ、該塗布ロッド１４を回転させるとともに、ベースＢの表面に塗布ロッド１４を押圧することで塗布液を塗布する構成である。
【００２５】
塗布部材１３は、ベースＢに塗布ロッド１４を押圧する位置（ラップする位置）と、ベースＢから塗布ロッド１４を離間させた位置とに任意に設定できるように移動可能な部材である。本実施形態の製造装置１０において、塗布時に塗布部材１３を移動させることで塗布ロッド１４がベースＢに押圧する位置とし、塗布時以外には、塗布ロッド１４がベースＢに対して離間する位置とする構成である。
【００２６】
本実施形態において、塗布液としては、一例として、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルエチルブチルケトン（ＭＩＢＫ）等の溶剤と、Ｓｉ粒子と、紫外線硬化性樹脂と、重合開始剤とからなる組成物を用いた。
【００２７】
プルロール３は、塗布時に回転駆動し、その周面においてベースＢと接触して該ベースＢを搬送させる場合に、ベースＢの搬送速度の基準となるロールである。プルロール３は、図示しないプルロール制御部に制御され、一定の速度でベースＢを搬送させる。プルロール３は、ベースＢに対する保持力を確保するため、表面に溝が設けられた構成としても良く、又、エアを吸引することでベースＢを吸着保持する構成としても良い。
【００２８】
乾燥部４は、ベースＢを搬送させつつ、該ベースＢに塗布された塗布液を乾燥させるものである。
【００２９】
紫外線照射部５は、ベースＢを搬送させた状態で、ベースＢにおける塗布液が塗布された面に紫外線を照射し、塗布層を硬化させるものである。ここで、紫外線照射部５は、塗布液を硬化させることができれば、紫外線以外の活性エネルギーの光を照射する構成としてもよい。
【００３０】
次に、塗布部の構成を説明する。図２は、本実施形態における塗布部の構成を説明する図である。
図２に示すように、ベースＢの搬送方向における、塗布部材１３の上流側にはパスローラ１１が設けられ、塗布部材１３の下流側にはパスローラ１２が設けられている。
【００３１】
パスローラ１１，１２は、塗布時に、搬送されるベースＢに従って回転自在な構成である。本実施形態において、これらパスローラ１１，１２は、駆動軸や駆動モータ等の駆動系に接続されていないフリーローラである。
【００３２】
塗布時に、搬送されるベースＢに塗布部材１３が接触することで該ベースＢの搬送経路長が変化しても、搬送されるベースＢを支持するパスローラ１１，１２がフリーローラであるため、搬送されるベースＢの速度に追従するように、パスローラ１１，１２が自由に回転するようになる。このため、ベースＢとパスローラ１１，１２との接触圧が変わることに起因してスティックスリップが発生することがなく、ベースＢがパスローラ１１，１２と接触する部位において座屈してしまうことを防止することができる。
【００３３】
図１に示した製造装置は、密閉された埃や塵等のないクリーンな部屋（以下、製造部屋という）に収容されている。そして、製造部屋の隣には、巻取部ａによって所定量のベースを巻取り終わった巻取ロール６や、ベース原反送り出し部ｂに設置すべきベース原反１を格納しておくための格納部屋が設けられ、製造部屋と格納部屋とはシャッタ等の開閉可能な扉によって仕切られている。
【００３４】
図３は、本発明に係る透明層の製造システムの概略構成を示す図である。
図３に示すように、製造システムは、製造装置１０を収容する製造部屋２０（図３では巻取部ａとベース原反送り出し部ｂのみを図示してある）と、巻取部ａによって所定量のベースを巻取り終わった巻取ロール６や、ベース原反送り出し部ｂに設置すべきベース原反８，９を格納しておくための格納部屋３０とを備え、製造部屋２０と格納部屋３０とは開閉可能な扉の一例であるシャッタ４０によって仕切られている。格納部屋３０には、更にシャッタ５０が設けられ、このシャッタ５０から、格納部屋３０にある巻取ロール６を外部に運び出したり、ベース原反８，９を格納部屋３０に外部から運び込んだりすることができる。このため、格納部屋３０には、外部から来た埃や塵等が溜まることもある。
【００３５】
製造部屋２０にあるベース原反１を新しいものに交換する際には、シャッタ４０を開け、格納部屋３０に格納しているベース原反８，９を製造部屋２０に持ち込んで古いベース原反１と交換し、古いベース原反１を格納部屋３０に持ち込んでシャッタ４０を閉めるという作業が行われる。又、製造部屋２０にある巻取ロール６を回収する際には、シャッタ４０を開け、製造部屋２０から巻取ロール６を格納部屋３０に持ち込んでシャッタ４０を閉めるという作業が行われる。
【００３６】
ここで、製造部屋２０の内圧が、格納部屋３０の内圧に対して低すぎたり、高すぎたりすると、シャッタ４０を開けたときに格納部屋３０内の埃や塵等が舞い上がってしまうため、格納部屋３０内の埃や塵等が製造部屋２０に侵入してしまい、製造装置１０の置かれている環境（透明層の製造環境）が悪化してしまう。そこで、本実施形態では、製造部屋２０の内圧を、格納部屋３０の内圧に対して−５Ｐａ以上、＋１５Ｐａ以下、望ましくは＋０Ｐａ以上、＋１０Ｐａ以下に設定する。このようにすることで、シャッタ４０を開けた場合でも、格納部屋３０内の埃や塵等が製造部屋２０にほとんど侵入しなくなり、透明層の製造環境を良好に維持することができる。
【００３７】
尚、上記では、巻取部ａとベース原反送り出し部ｂとが１つの製造部屋２０に収容された構成としているが、製造部屋２０を、少なくとも巻取部ａを収納する製造部屋と少なくともベース原反送り出し部ｂを収容する製造部屋とに分けた構成としても良い。この場合は、各製造部屋と、格納部屋３０とをシャッタによって仕切っておき、各製造部屋の内圧と格納部屋３０の内圧との関係を上記のように設定すれば良い。
【００３８】
又、格納部屋３０を、巻取ロールを格納するための格納部屋とベース原反１を格納するための格納部屋とに分けた構成にしても良い。この場合は、製造部屋２０と、各格納部屋とをシャッタによって仕切っておき、製造部屋の内圧と各格納部屋の内圧との関係を上記のように設定すれば良い。
【００３９】
又、製造部屋２０を、少なくとも巻取部ａを収納する製造部屋と少なくともベース原反送り出し部ｂを収容する製造部屋とに分け、格納部屋３０を、巻取ロールを格納するための格納部屋とベース原反１を格納するための格納部屋とに分けた構成にしても良い。この場合は、巻取部ａを収納する製造部屋と巻取ロールを格納するための格納部屋とをシャッタによって仕切り、ベース原反送り出し部ｂを収容する製造部屋とベース原反１を格納するための格納部屋とをシャッタによって仕切っておき、巻取部ａを収納する製造部屋の内圧と巻取ロールを格納するための格納部屋の内圧との関係を上記のように設定し、ベース原反送り出し部ｂを収容する製造部屋の内圧とベース原反１を格納するための格納部屋の内圧との関係を上記のように設定すれば良い。
【００４０】
又、格納部屋３０に運び込むべきベース原反は包装体によって包装されているが、このベース原反の包装体には、運搬する途中で埃や塵等が付着してしまう。このため、包装体を剥がしたときに、包装体に付着していた埃や塵等がベース原反に付着してしまい、好ましくない。このような事態を防ぐために、包装体を二重にしておき、外側の包装体を剥がしてから格納部屋３０に運び込むようにしても良い。こうすることで、ベース原反に付着してしまう埃や塵等の量を少しでも減らすことができる。
【００４１】
又、図４に示すように、格納部屋３０をシャッタ７０で仕切って部屋６０を作り、部屋６０で外側の包装体を剥がしてから格納部屋３０に運び込むようにしても良い。包装体が二重になっていても、外側の包装体を外で剥がしてしまうと、内側の包装体に外の埃や塵等が付着してしまうが、包装体を剥がすための部屋６０を作っておくことで、内側の包装体に付着する埃や塵の量を少しでも減らすことができる。又、包装体を三重以上にしておき、包装体を剥がすための部屋を包装体の数に対応した数だけ作っておいても良い。
【００４２】
なお、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜な変形、改良などが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明に係る光情報記録媒体用の透明層を製造する製造装置の構成を説明する図である。
【図２】図１の製造装置における塗布部の構成を説明する図である。
【図３】本発明に係る透明層の製造システムの概略構成を示す図である。
【図４】本発明に係る透明層の製造システムの別の例の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００４４】
ａ    巻取部
ｂ    ベース原反送り出し部
１    ベース原反
２    塗布部
３    プルローラ
４    乾燥部
５    紫外線照射部
６    巻取ロール
１０    （光情報記録媒体用の透明層の）製造装置
２０  製造部屋（第１の部屋）
３０  格納部屋（第２の部屋）
４０  シャッタ（扉）
【図１】
2006085848.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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