(57)【要約】    【課題】  所望の光学特性を容易に得ることができ且つ耐久性を向上させることができる光学膜を提供する。    【解決手段】  反射型液晶基板２０は、ガラス基板１２と、ガラス基板１２の内側主面上に形成された光学膜３０とを有する。光学膜３０は、ガラス基板１２の内側主面上に分散して形成された複数の島状構造体３１と、ガラス基板１２の内側主面上又は島状構造体３１上に形成された金属膜３２と、金属膜３２の内側主面上に分散して形成された複数の島状構造体３３とを有する。金属膜３２は、標準電極電位が正の値である銀である。島状構造体３１及び島状構造体３３の各々は、標準電極電位が負の値であるＩＴＯから成る。島状構造体３１，３３は、その平均ピッチが４００〜９００ｎｍであり、その平均高さが２．０〜７．０ｎｍである。【選択図】      図２
2006171344.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の主面上に形成された光学膜において、前記基板の主面上に形成された金属膜と、前記金属膜の主面上に島状に分散して形成される複数の島状構造体及び前記金属膜と接する前記基板の主面上に島状に分散して形成される他の複数の島状構造体の少なくとも一方とを有し、
前記島状構造体は、前記金属膜の金属と標準電極電位が異なる金属又は金属酸化物から成ることを特徴とする光学膜。
【請求項２】
前記島状構造体は、その平均ピッチが４００ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１記載の光学膜。
【請求項３】
前記平均ピッチは４００〜９００ｎｍであることを特徴とする請求項２記載の光学膜。
【請求項４】
前記島状構造体の平均ピッチに対する等価円平均直径の比は、百分率で１０〜９０％であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学膜。
【請求項５】
前記島状構造体は、その平均高さが２．０〜７．０ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光学膜。
【請求項６】
前記金属膜は標準電極電位が正の値である金属から成り、前記島状構造体は標準電極電位が負の値である金属又は金属酸化物から成ることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光学膜。
【請求項７】
前記標準電極電位が正の値である金属は、銀、クロム、及びアルミニウムから選択された少なくとも１つの材料から成ることを特徴とする請求項６記載の光学膜。
【請求項８】
前記標準電極電位が負の値である金属酸化物は酸化インジウム錫から成ることを特徴とする請求項７記載の光学膜。
【請求項９】
前記基板はガラスから成ることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学膜。
【請求項１０】
反射型液晶表示装置又は反射・透過併用型液晶装置用の光反射基板に用いられることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光学膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学膜に関し、特に、表面に金属薄膜を被覆した反射型液晶表示装置又は反射・透過併用型液晶ガラス基板に好適に用いられる光学膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置は、これまでのＣＲＴディスプレイに比べ薄型であり省スペース化できること、低電圧で作動すること、消費電力が少なく省エネルギー化できる等の特徴から、中小型機器のディスプレイを中心に幅広く用いられている。また、液晶表示装置のうち、特に、液晶表示面からの入射光を光源として利用する反射型液晶表示装置は、例えば、液晶層と、銀系合金を代表とする金属の薄膜を被覆した光学膜を有する光反射基板とで構成されており、従来必要とされていたバックライトが不要であることから、液晶表示装置の軽量化や薄型化に適しており、主として用いられている。
【０００３】
ここで、近年、さらなる視認性向上の観点から、光反射基板の低い光吸収率や酸化雰囲気等の厳しい環境下における耐久性の向上が要求されており、これらを満たすべく様々な研究が行われている。
【０００４】
例えば、ガラス基板の主面上に交互に繰り返し積層させた３層の酸化物薄膜と２層の銀薄膜とで構成された光学膜は、該２層の銀薄膜の結晶性を安定した配向とすることにより高温多湿下における銀薄膜の安定性を向上させている（特許文献１参照）。
【０００５】
また、他の光学膜は、透明基板上に積層された銀系の金属から成る熱線反射金属膜と、熱線反射金属膜上に積層されると共に珪素、ホウ素及びアルミニウムの群から選ばれる少なくとも１種の金属の窒化物から成る透明窒化膜とで構成され、この透明窒化膜により熱線反射金属膜が酸化するのを抑制している（特許文献２参照）。
【０００６】
さらに、他の光学膜は、透明基板の一方の主面上に形成されると共に酸化インジウム錫（Indium Tin Oxide、以下、「ＩＴＯ」という）から成る透明高屈折率層と、透明高屈折率層上に積層された金属薄膜と、金属薄膜層上に積層される共にＩＴＯから成る透明高屈折率層とで構成され、このＩＴＯから成る透明高屈折率層により、隣接する金属薄膜の環境耐久性を高めている（特許文献３参照）。
【特許文献１】特開２０００−５６１２７号公報
【特許文献２】特開平６−３４５４９１号公報
【特許文献３】特開平９−２７２１７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、これらの光学膜のうち、特に、結晶性で安定化させた金属薄膜を有する光学膜は、酸化雰囲気中では物性値の酸化還元電位等の影響が大きいので金属薄膜の耐久性が低下してしまうという問題がある。また、金属の窒化物から成る透明窒化膜やＩＴＯから成る透明高屈折率層を有する光学膜は、光学膜全体の膜厚が増加することにより所望の光学特性を得ることが困難であり、また、透明窒化膜やＩＴＯから成る透明高屈折率層に存在する微小なピンホールによって金属薄膜が雰囲気中に曝され、金属薄膜の耐久性が低下するという問題がある。
【０００８】
本発明の目的は、所望の光学特性を容易に得ることができ且つ耐久性を向上させることができる光学膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、請求項１記載の光学膜は、基板の主面上に形成された光学膜において、前記基板の主面上に形成された金属膜と、前記金属膜の主面上に島状に分散して形成される複数の島状構造体及び前記金属膜と接する前記基板の主面上に島状に分散して形成される他の複数の島状構造体の少なくとも一方とを有し、前記島状構造体は、前記金属膜の金属と標準電極電位が異なる金属又は金属酸化物から成ることを特徴とする。
【００１０】
請求項２記載の光学膜は、請求項記載の１光学膜において、前記島状構造体は、その平均ピッチが４００ｎｍ以上であることを特徴とする。
【００１１】
請求項３記載の光学膜は、請求項２記載の光学膜において、前記平均ピッチは４００〜９００ｎｍであることを特徴とする。
【００１２】
請求項４記載の光学膜は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学膜において、前記島状構造体の平均ピッチに対する等価円平均直径の比は、百分率で１０〜９０％であることを特徴とする。
【００１３】
請求項５記載の光学膜は、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光学膜において、前記島状構造体は、その平均高さが２．０〜７．０ｎｍであることを特徴とする。
【００１４】
請求項６記載の光学膜は、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光学膜において、前記金属膜は標準電極電位が正の値である金属から成り、前記島状構造体は標準電極電位が負の値である金属又は金属酸化物から成ることを特徴とする。
【００１５】
請求項７記載の光学膜は、請求項６記載の光学膜において、前記標準電極電位が正の値である金属は、銀、クロム、及びアルミニウムから選択された少なくとも１つの材料から成ることを特徴とする。
【００１６】
請求項８記載の光学膜は、請求項７記載の光学膜において、前記標準電極電位が負の値である金属酸化物は酸化インジウム錫から成ることを特徴とする。
【００１７】
請求項９記載の光学膜は、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学膜において、前記基板はガラスから成ることを特徴とする。
【００１８】
請求項１０記載の光学膜は、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光学膜において、反射型液晶表示装置又は反射・透過併用型液晶装置用の光反射基板に用いられることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１記載の光学膜によれば、金属膜の主面上に島状に分散して形成される複数の島状構造体及び金属膜と接する基板の主面上に島状に分散して形成される他の複数の島状構造体の少なくとも一方とを有し、島状構造体は、金属膜の金属と標準電極電位が異なる金属又は金属酸化物から成るので、光学膜を薄く形成することができ、もって膜設計と光学特性の自由度を向上させることができ、加えて、島状構造体と金属膜との間に位相の異なる自由電子のプラズマ振動が発生し、島状構造体の酸化反応における酸化還元電位変化と金属膜の酸化反応における酸化還元電位変化とがほぼ平衡状態で停止することにより金属膜を防食することができ、もって光学膜の耐久性を向上させることができる。
【００２０】
請求項２記載の光学膜によれば、平均ピッチが４００ｎｍ以上であるので、島状構造体中に存在する自由電子のプラズマ振動の波長である４００ｎｍと同等又はそれ以上とすることにより、金属膜を更に防食することができる。
【００２１】
請求項３記載の光学膜によれば、島状構造体の平均ピッチが４００〜９００ｎｍであるので、金属膜を更に確実に防食することができる。
【００２２】
請求項４記載の光学膜によれば、島状構造体の平均ピッチに対する等価円平均直径の比は、百分率で１０〜９０％であるので、金属膜を更に確実に防食することができる。
【００２３】
請求項５記載の光学膜によれば、島状構造体は、その平均高さが２．０〜７．０ｎｍであるので、金属膜を更に確実に防食することができる。
【００２４】
請求項６記載の光学膜によれば、金属膜は標準電極電位が正の値である金属から成り、島状構造体は標準電極電位が負の値である金属又は金属酸化物から成るので、島状構造体が酸化される際に発生する自由電子のプラズマ振動と金属膜が酸化される際に発生する自由電子のプラズマ振動とが互いに打ち消しあうことによって夫々の酸化還元電位変化を停止させ、もって金属膜の耐久性を更に向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、基板の主面上に形成された光学膜において、基板の主面上に形成された金属膜と、金属膜の主面上に島状に分散して形成される複数の島状構造体及び金属膜と接する基板の主面上に島状に分散して形成される他の複数の島状構造体の少なくとも一方とを有し、島状構造体は、金属膜の金属と標準電極電位が異なる金属又は金属酸化物から成ると、光学膜を薄く形成することができ、もって膜設計と光学特性の自由度を向上させることができ、加えて、島状構造体と金属膜との間に位相の異なる自由電子のプラズマ振動が発生し、島状構造体の酸化反応における酸化還元電位変化と金属膜の酸化反応における酸化還元電位変化とがほぼ平衡状態で停止することにより金属膜を防食することができ、もって光学膜の耐久性を向上させることができ、また複数の島状構造体が、その平均ピッチが４００ｎｍ以上、好ましくは４００〜９００ｎｍであると、島状構造体中に存在する自由電子のプラズマ振動の波長である４００ｎｍと同等又はそれ以上とすることにより、金属膜を更に防食することができること、さらに、金属膜は標準電極電位が正の値である金属から成り、島状構造体は標準電極電位が負の値である金属又は金属酸化物から成ると、島状構造体が酸化される際に発生する自由電子のプラズマ振動と金属膜が酸化される際に発生する自由電子のプラズマ振動とが互いに打ち消しあうことによって夫々の酸化還元電位変化を停止させ、もって金属膜の耐久性を更に向上させることができることを見い出した。
【００２６】
本発明は、上記研究結果に基づいてなされたものである。
【００２７】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
【００２８】
図１は、本発明の実施の形態に係る光学膜を有する反射型液晶装置の概略構成を示す断面図である。
【００２９】
図１において、反射型液晶装置１は、光を透過する一対のガラス基板１１，１２と、ガラス基板１２の内側主面に積層され、入射光１３を散乱させて反射光１４として反射する光学膜３０と、光学膜３０とガラス基板１１との間に満たされ、透過する光を制御する液晶層１７とを備える。反射型液晶装置１０の各構成要素のうちガラス基板１２と光学膜３０は後述する図２の反射型液晶基板２０を構成し、光学膜３０は図２を用いて詳細に説明する。
【００３０】
図２は、図１の反射型液晶基板２０を示す図であり、（Ａ）は部分切欠き斜視図であり、（Ｂ）は断面図である。
【００３１】
図２において、反射型液晶基板２０は、例えば、厚さが０．５５ｍｍであって、ガラス基板１２と、ガラス基板１２の内側主面上に形成された光学膜３０とを有する（図２（Ａ））。
【００３２】
光学膜３０は、ガラス基板１２の内側主面上に分散して形成される複数の島状構造体３１と、ガラス基板１２の内側主面上又は島状構造体３１上に形成される金属膜３２と、金属膜３２の内側主面上に分散して形成される複数の島状構造体３３とを有する（図２（Ｂ））。
【００３３】
金属膜３２は、標準電極電位が正の値である金属、銀、クロム、及びアルミニウムから選択された少なくとも１つの材料から成り、本実施例では、銀である。
【００３４】
島状構造体３１及び島状構造体３３の各々は、金属膜３２の金属と標準電極電位が異なる金属又は金属酸化物、具体的には、標準電極電位が負の値である金属又は金属酸化物から成り、より具体的には、ＩＴＯから成る。これにより、島状構造体３１，３３が酸化される際に発生する自由電子のプラズマ振動と金属膜が酸化される際に発生する自由電子のプラズマ振動とが互いに打ち消しあうことによって夫々の酸化還元電位変化を停止させ、もって金属膜３２の耐久性を更に向上させることができる。
【００３５】
島状構造体３１，３３は、その平均ピッチが４００ｎｍ以上であり、好ましくは、平均ピッチは４００〜９００ｎｍである。これにより、島状構造体３１，３３中に存在する自由電子のプラズマ振動の波長である４００ｎｍと同等又はそれ以上とすることにより、金属膜３２を更に防食することができる。
【００３６】
また、島状構造体３１，３３の平均ピッチに対する等価円平均直径の比は、百分率で
１０〜９０％である。これにより、金属膜３２を更に確実に防食することができる。
【００３７】
ここで、等価円とは、図３に示すように、島状構造体のガラス基板又は金属膜の主面に接する面において、当該面の形状の差し渡し距離の最大値を直径とする円を示し、等価円平均直径とは、ガラス基板又は金属膜から任意に選択された少なくとも１０個以上の島状構造体における等価円の直径の平均値を示す。
【００３８】
また、島状構造体の平均ピッチとは、ガラス基板又は金属膜から任意に選択された少なくとも１０個以上の島状構造体において、一の島状構造体の等価円の中心と、一の島状構造体から最も近い他の島状構造体の等価円の中心との距離（島状構造体間の距離）を平均した値を示す。
【００３９】
金属膜３２は、その厚さが１０〜５００ｎｍ、例えば２５ｎｍであり、島状構造体３１は、その平均高さが２．０〜７．０ｎｍであり、島状構造体３３は、その平均高さが２．０〜７．０ｎｍである。これにより、金属膜３２を更に確実に防食することができる。また、島状構造体３１及び島状構造体３３は、その平均高さが、夫々、３，０〜５．０ｎｍであるのが好ましい。これにより、金属膜３２を更に確実に防食することができる。
【００４０】
ここで、島状構造体の平均高さとは、ガラス基板又は金属膜から任意に選択された少なくとも１０個以上の島状構造体において、ガラス基板又は金属膜の主面と島状構造体の最高点との距離を平均した値を示す。
【００４１】
次に、反射型液晶基板２０の製造方法を説明する。
【００４２】
図４は、図２の反射型液晶基板２０の製造方法を示すフローチャートである。
【００４３】
図４において、まず、フロート法により製造された厚さが０．５５ｍｍの板ガラスを所定の寸法に切断してガラス基板１２を作製し（ステップＳ１）（図５（Ａ））、スパッタリング法を用いてガラス基板１２の一方の主面上に分散して複数の島状構造体３１を形成する（ステップＳ２）（図５（Ｂ））。
【００４４】
具体的には、複数の島状構造体３１は、その等価円平均直径が、例えば１３０ｎｍであり、平均高さは、例えば３ｎｍとなるように形成される。また、島状構造体３１は、その平均ピッチが５２０ｎｍとなるように、且つ、島状構造体３１の平均ピッチに対する等価円平均直径の比が百分率で２５％となるように形成される。
【００４５】
次に、島状構造体３１が形成されたガラス基板１２の主面上に、スパッタリング法を用いてその厚みが２５ｎｍとなるように金属膜３２を形成し（ステップＳ３）（図５（Ｃ））、さらに、スパッタリング法を用いて金属膜３２の主面上に分散して複数の島状構造体３３を形成する（ステップＳ４）（図５（Ｄ））。
【００４６】
具体的には、複数の島状構造体３３は、その等価円平均直径が、例えば１３０ｎｍであり、平均高さは、例えば３ｎｍとなるように形成される。また、島状構造体３３は、その平均ピッチが５２０ｎｍとなるように、且つ、島状構造体３３の平均ピッチに対する等価円平均直径の比が百分率で２５％となるように形成される。
【００４７】
本実施の形態によれば、ガラス基板１２の内側主面上に形成される金属膜３２の主面上に分散して形成される複数の島状構造体３３及び金属膜３２と接するガラス基板１２の内側主面上に島状に分散して形成される複数の島状構造体３１が、金属膜３２の金属と標準電極電位が異なる金属又は金属酸化物から成るので、光学膜を薄く形成することができ、もって膜設計と光学特性の自由度を向上させることができ、加えて、島状構造体３３と金属膜３２との間及び島状構造体３１と金属膜３２との間に位相の異なる自由電子のプラズマ振動が発生し、島状構造体の酸化反応における酸化還元電位変化と金属膜の酸化反応における酸化還元電位変化とがほぼ平衡状態で停止することにより金属膜３２を防食することができ、もって光学膜の耐久性を向上させることができる。また、島状構造体３３と金属膜３２との間及び島状構造体３１と金属膜３２との間で発生するプラズマ振動の干渉により金属膜３２が防食されるので、島状構造体３３を構成する複数のドットが金属膜３２上に均一に形成されず部分的にドットが欠落した場合であっても、ドットが欠落した部分の周囲に形成されたドットによる干渉効果により金属膜３２を防食することができる。
【００４８】
本実施の形態では、ガラス基板１２の内側主面上に形成される金属膜３２の主面上に分散して形成される複数の島状構造体３３と、金属膜３２と接するガラス基板１２の内側主面上に島状に分散して形成される複数の島状構造体３１とを有するが、これに限るものではなく、金属膜３２の内側主面上に島状に分散して形成される複数の島状構造体３３及び金属膜３２と接するガラス基板１２の内側主面上に島状に分散して形成される複数の島状構造体３１の少なくとも一方を有していてもよい。光学膜３０が複数の島状構造体３３のみを有する場合は、主として金属膜３２の内側主面上を防食することができ、また、光学膜３０が複数の島状構造体３３のみを有する場合は、主としてガラス基板と接する金属膜３２の主面上を防食することができる。これにより、光学膜を更に薄く形成することができ、加えて、光学膜の耐久性を向上させることができる。
【００４９】
本実施の形態では、光学膜３０は反射型液晶装置１に用いられるが、これに限るものではなく、外光の光量が大きいときは外光の反射光を利用し、外光の光量が小さいときはバックライトの光を利用する反射・透過併用型液晶装置に用いられてもよい。-
本実施の形態では、島状構造体３３は、金属膜３２の主面上に島状に形成されるが、これに限るものではなく、島状構造体３３と標準電極電位が異なる金属又は金属酸化物から成る固体の表面に形成されてもよい。これにより、様々な用途に用いられる金属又は金属酸化物から成る固体を防食することができ、もって容易に金属の耐久性を向上させることができる。
【実施例】
【００５０】
以下、本発明の実施例を説明する。尚、本実施例では、金属膜３２の内側主面上に島状に分散して形成される複数の島状構造体３３のみを有する光学膜を用いて実験を行なった。
【００５１】
まず、第１の実施例として、ガラス基板１２の一方の主面上に形成された厚さ２５ｎｍの銀から成る金属膜３２に、スパッタリング法を用いて、金属膜３２の被覆体として平均ピッチが、例えば、５２０ｎｍとなるようにＩＴＯから成る島状構造体３３を形成させたサンプルを作製した。
【００５２】
次いで、第１の比較例として、ガラス基板１２の主面上に形成された厚さ２５ｎｍの銀から成る金属膜３２に、スパッタリング法を用いて厚みが１０ｎｍのＩＴＯ膜を成膜させたサンプルを作製し、さらに、第２の比較例として、ガラス基板１２の主面上に形成された厚さ２５ｎｍの銀から成る金属膜３２のみを形成したサンプルを作製した。
【００５３】
次に、これらのサンプルを室温にて１０質量％ＨＣｌ水溶液に１５分間浸漬し、金属膜３２が腐食されたか否かを判定した。結果を表１に示す。
【００５４】
【表１】
2006171344.tif 000003
【００５５】
表１において、○は金属膜３２が腐食されなかったこと、×は金属膜３２が腐食されたことを示す。
【００５６】
表１によれば、ガラス基板１２の主面上に形成された銀製の金属膜３２の主面上に分散して形成された複数の島状構造体３３が金属膜３２と標準電極電位が異なるＩＴＯから成ると、光学膜３２を薄く形成することができ、もって膜設計と光学特性の自由度を向上させることができ、加えて、光学膜の耐久性を向上させることができることが分かった。
【００５７】
次に、第２の実施例として、ガラス基板１２の一方の主面上に形成された厚さ２５ｎｍの銀から成る金属膜３２に、スパッタリング法を用いて、金属膜３２の被覆体として平均ピッチが９００ｎｍとなるようにＩＴＯから成る島状構造体３３を形成させたサンプルを作製し、第３の実施例として、ガラス基板１２の一方の主面上に形成された厚さ２５ｎｍの銀から成る金属膜３２に、平均ピッチが５２０ｎｍとなるようにＩＴＯから成る島状構造体３３を形成させたサンプルを作製し、第４の実施例として、ガラス基板１２の一方の主面上に形成された厚さ２５ｎｍの銀から成る金属膜３２に、平均ピッチが４２０ｎｍとなるようにＩＴＯから成る島状構造体３３を形成させたサンプルを作製し、第５の実施例として、ガラス基板１２の一方の主面上に形成された厚さ２５ｎｍの銀から成る金属膜３２に、平均ピッチが４１０ｎｍとなるようにＩＴＯから成る島状構造体３３を形成させたサンプルを作製した。次いで、第３の比較例として、ガラス基板１２の主面上に形成された厚さ２５ｎｍの銀から成る金属膜３２に、スパッタリング法を用いて、金属膜３２の被覆体として平均ピッチが４００ｎｍとなるようにＩＴＯから成る島状構造体３３を形成させたサンプルを作製した。
【００５８】
次に、島状構造体３３を形成させた金属膜３２の主面を走査型電子顕微鏡により観察し、１５０００〜２００００倍の倍率で写真撮影を行い、金属膜３２の主面を撮影した写真を焼き付けた印画紙上で対角線を引き、この対角線上にある複数の島状構造体３３のうち１０〜２０個の島状構造体を測定対象として選択し、この選択された各島状構造体から等価円平均直径及び平均ピッチを求めた。尚、印画紙上の島状構造体が小さく、等価円の決定が困難な場合は、先に島状構造体間の距離を測定し、この距離から求められた平均ピッチを等価円平均直径とした。
【００５９】
また、ガラス基板１２の一方の主面上に金属膜３２及び島状構造体３３を形成させたサンプルの断面を走査型電子顕微鏡により観察し、観察された複数の島状構造体３３のうち１０〜２０個の島状構造体を測定対象として選択し、この選択された各島状構造体から平均高さを求めた。
【００６０】
第２の実施例において、島状構造体３３は、平均等価円直径が９０ｎｍであり、その平均高さは２．０ｎｍであった。第３の実施例において、島状構造体３３は、平均等価円直径が１３０ｎｍであり、その平均高さは３．０ｎｍであった。第４の実施例において、島状構造体３３は、平均等価円直径が２１０ｎｍであり、その平均高さは５．０ｎｍであった。第５の実施例において、島状構造体３３は、平均等価円直径が２９０ｎｍであり、その平均高さは７．０ｎｍであった。
【００６１】
次に、これらのサンプルを室温にて１０質量％ＨＣｌ水溶液に１５分間浸漬し、金属膜３２が腐食されたか否かを判定した。結果を表２に示す。
【００６２】
【表２】
2006171344.tif 000004
【００６３】
表２において、○は金属膜３２が腐食されなかったこと、×は金属膜３２が腐食されたことを示す。
【００６４】
表２によれば、複数の島状構造体３３が、その平均ピッチが４００ｎｍ以上、好ましくは４００〜９００ｎｍであると、島状構造体３３中に存在する自由電子のプラズマ振動の波長である４００ｎｍと同等又はそれ以上とすることにより、金属膜３２を更に防食することができることが分かった。また、島状構造体３３の平均ピッチに対する等価円平均直径の比は、百分率で１０〜９０％であると、金属膜３２を更に確実に防食することができることが分かった。さらに、島状構造体３３は、その高さが２．０〜７．０ｎｍであると、金属膜３２を更に確実に防食することができることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の実施の形態に係る光学膜を有する反射型液晶装置の概略構成を示す断面図である。
【図２】図１の反射型液晶基板を示す図であり、（Ａ）は部分切欠き斜視図であり、（Ｂ）は断面図である。
【図３】ガラス基板又は金属膜の主面上に形成される島状構造体の等価円を説明する図である。
【図４】図２の反射型液晶基板の製造方法を示すフローチャートである。
【図５】図２の製造方法の工程を説明するために用いる図である。
【符号の説明】
【００６６】
１１，１２  基板
２０  反射型液晶基板
３０  光学膜
３１、３３  島状構造体
３２  金属膜
【図１】
2006171344.tif 000005
【図２】
2006171344.tif 000006
【図３】
2006171344.tif 000007
【図４】
2006171344.tif 000008
【図５】
2006171344.tif 000009