(57)【要約】      （修正有）【課題】建築用ガラス基板へコーティングを行うスパッタ装置の保守、清掃、及びターゲット交換を簡単に短時間で行え、装置稼動率を向上することが可能なシステムの提供。【解決手段】コーティングシステム１において、一貫した保守と清掃を必要とするすべての部品は、ユニット化してインサート８上に纏められ、インサート８は引き出しのようにチャンバ壁２ａ内の側面開口部１０を通って、チャンバの内部へ摺動して取り付け、また容易に取り外すことができる。取り外されたインサート８は、点検が完了したインサートと直接交換することが出来るため稼働率が向上する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（３）、特に建築用ガラスを製造するための基板、詳しくは透明基板（３）をコーティングするためのシステム（１）であって、
前記基板（３）にコーティングを施すためのコーティングツール（９）を有する少なくとも一つのインサート要素（８）によって特徴づけられる少なくとも一つのコーティングチャンバ（２）を備え、前記ツールは、前記インサート要素（８）に配置され、前記インサート要素（８）と共に、前記コーティングチャンバ（２）の内部へ挿入可能またはそこから引き出し可能であるシステム（１）。
【請求項２】
前記コーティングチャンバ（２）の側壁の少なくとも一つの開口部（１０）は前記インサート要素（８）が前記コーティングチャンバ（２）内へ挿入できるようになっていることを特徴とする請求項１に記載のシステム（１）。
【請求項３】
前記コーティングチャンバ（２）と前記インサート要素（８）は、前記インサート要素（８）が引き出しのように前記コーティングチャンバ（２）の開口部（１０）内へ挿入できるように、互いに適合されていることを特徴とする請求項２に記載のシステム（１）。
【請求項４】
前記システム（１）は前記コーティングチャンバ（２）内に真空を生成するための少なくとも一つのポンプ手段（５）を備えたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のシステム（１）。
【請求項５】
前記インサート要素（８）は前記ポンプ手段（５）に関係なく前記コーティングチャンバ（２）に対して移動可能に配置されることを特徴とする請求項４に記載のシステム（１）。
【請求項６】
前記システム（１）は平面基板を基本的に水平に前記コーティングチャンバ（２）を通って搬送するようになっていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のシステム（１）。
【請求項７】
前記陰極（９）は水平に並べられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のシステム（１）。
【請求項８】
前記インサート要素（８）は前記インサート要素（８）に電圧を供給するための端子を備え、前記端子は、前記インサート要素（８）が前記コーティングチャンバ（２）に挿入されたときに、前記端子が前記システム（１）上に配置された整合端子と噛み合って供給接続を確立するようになっていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のシステム（１）。
【請求項９】
前記コーティングチャンバ（２）は前記チャンバの内部に少なくとも一つのカップリング（１５）を備えて前記インサート要素（８）の搬送ローラーと連結することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のシステム（１）。
【請求項１０】
前記コーティングチャンバ（２）は前記チャンバの内部に少なくとも一つのカップリングを備えて、回転式陰極と連結すると共に、当該システムが閉じられたときはいつでも前記陰極を駆動することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のシステム（１）。
【請求項１１】
前記コーティングチャンバ（２）に接続されたガス制御モジュール（２２）を備え、
前記ガス制御モジュール（２２）は前記チャンバの内部への少なくとも一つのガス接続部を有し、前記インサート要素（８）は、対応ガス接続部とガスライン（２３’’）を備え、前記ガス制御モジュール（２２）によって供給された任意のプロセスガスが前記ガスライン（２３’’）を通って前記チャンバ（２）の内部を通過すると共に、当該プロセスガスが前記ガスライン（２３’’）を介して前記チャンバ内へ導かれることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載のシステム（１）。
【請求項１２】
基板（３）、詳しくは透明基板をコーティングするためのシステム（１）のためのインサート要素（８）において、前記インサート要素（８）は前記基板（３）にコーティングを施すためのコーティングツール（９）を備え、前記ツールは前記インサート要素上に配置され、前記ツールは前記インサート要素（８）と共に、コーティングチャンバ（２）の内部へ挿入可能または引き出し可能であることを特徴とするインサート要素（８）。
【請求項１３】
前記インサート要素（８）は、前記コーティングチャンバ（２）の内部へ引き出しのように挿入可能であるか、そこから引き出し可能であることを特徴とする請求項１２に記載のインサート要素（８）。
【請求項１４】
プロセスによって磨耗されるか汚損され、かつ、コーティング材料に曝される、または、そのいずれかの更なるコーティングシステム部品が前記インサート要素（８）内に統合されることを特徴とする請求項１２または１３に記載のインサート要素（８）。
【請求項１５】
前記インサート要素（８）はシールド（１７）とスクリーン（１８）またはそのいずれかを備えたことを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項１６】
前記コーティングツール（９）は少なくとも一つの陰極からなることを特徴とする請求項１２〜１５のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項１７】
前記コーティングツール（９）は、前記陰極、詳しくは管状ターゲット、を保持するための少なくとも二つの取り付け台（２９）を有する陰極ユニット（３１）からなることを特徴とする請求項１６に記載のインサート要素（８）。
【請求項１８】
前記取り付け台（２９）は前記インサート要素の上に垂直に配置されることを特徴とする請求項１７に記載のインサート要素（８）。
【請求項１９】
前記取り付け台（２９）は当該管状ターゲットの軸に平行に配置されることを特徴とする請求項１７に記載のインサート要素（８）。
【請求項２０】
前記コーティングツール（９）は少なくとも一つの平型陰極からなることを特徴とする請求項１２〜１９のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項２１】
保守のためとターゲット交換のためまたはそのいずれかのためのアクセスを可能にする位置へ前記陰極（９）を回転させるための手段を備えたことを特徴とする請求項２０に記載のインサート要素（８）。
【請求項２２】
前記コーティングツール（９）は少なくとも一つの回転式陰極からなることを特徴とする請求項１２〜２１のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項２３】
前記陰極を回転させるための駆動ユニットか、前記陰極を回転させるための駆動ユニットのためのカップリングを備えたことを特徴とする請求項２２に記載のインサート要素（８）。
【請求項２４】
少なくとも一つの陽極（１７）を備えたことを特徴とする請求項１２〜２３のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項２５】
前記基板の好ましい連続搬送のための搬送手段（６）を備えたことを特徴とする請求項１２〜２４のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項２６】
前記搬送手段（６）は前記基板を動かす搬送ローラーからなることを特徴とする請求項２５に記載のインサート要素（８）。
【請求項２７】
前記シールドとスクリーン（１７，１８）とコーティングツール（９）またはそのいずれかを冷却するための手段を備えたことを特徴とする請求項１２〜２６のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項２８】
前記コーティングチャンバ（２）内の開口部（１０）であって、前記インサート要素（８）の挿入のための前記開口部を密封するためのフランジ（１１）を備えたことを特徴とする請求項１２〜２７のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項２９】
移動ないしは摺動するようになっていることを特徴とする請求項１２〜２８のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項３０】
媒体の供給のための供給手段を備えたことを特徴とする請求項１２〜２９のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項３１】
媒体の供給のための接続部を備えたことを特徴とする請求項１２〜３０のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項３２】
プロセスガスの供給を調節するための制御ユニットを備えたことを特徴とする請求項１２〜３１のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項３３】
前記基板（３）の両面をコーティングするためのコーティングツール（９）が前記基板（３）の搬送路の両側に置かれるようになっていることを特徴とする請求項１２〜３２のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項３４】
前記搬送ローラーは、前記ローラーに面した基板（３）の面がローラー側に置かれたコーティングツール（９）によってコーティングができるように配置されることを特徴とする請求項２６〜３３のいずれか１項に記載のインサート要素（８）。
【請求項３５】
前記搬送ローラーは、前記コーティングツール（９）によって直接スパッターされた材料によって前記ローラーが汚れるのを防ぐようにスクリーン（１８）を備えたことを特徴とする請求項３４に記載のインサート要素（８）。
【請求項３６】
前記搬送ローラーのための前記スクリーン（１８）は、当該基板の全コーティング幅にわたって延び、複数の搬送ローラーを覆うことを特徴とする請求項３５に記載のインサート要素（８）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、建築用ガラスを製造するための基板、詳しくは透明基板をコーティングするためのシステムであって、少なくとも一つのコーティングチャンバを備えたシステムに関し、更に、基板、詳しくは透明基板をコーティングするためのシステムのためのインサート要素に関する。
【背景技術】
【０００２】
大面積の建築用窓ガラスなどの大面積基板をコーティングするためのガラスコーティングシステムは、通常、一つずつに基板が固定された後に連続的に機能する。基板は、連続して配置された多数のチャンバまたはチャンバセグメントを通って案内され、それによって、同じまたは異なる処理プロセスおよびコーティングプロセスが、個々のチャンバ内でその工程を実行することができる。隣接するコーティングチャンバの間の汚染を防ぐポンプチャンバをその間に設置することができる。
【０００３】
この種のシステムにおいては、プロセスに必要な設備、例えば、陰極、陽極、シールド、スクリーン、ガス供給ライン、冷却設備などは、フランジまたはカバーに取り付けられるか、コーティングチャンバの内部の壁に直接取り付けられる。特に、コーティングチャンバを通って基板を連続的に搬送するために設けられる搬送ローラーもまた、チャンバハウジング内に固定される。陰極保守、ターゲット交換、または汚れの付着によって影響される部品の清掃に関しては、チャンバ開口部の上に載っているカバーを取り外すことによってコーティングチャンバにアクセスできる。しかしながら、チャンバの内部へのアクセスは不便であって、かなりの時間と努力を伴う。コーティングチャンバの内部に固定された部品の配置は、保守作業に関する限りは不便である。保守作業を行うために部品を取り外さなければならないかも知れない。結果として、長期の非稼動時間が生じる。
【０００４】
既知の連続コーティングシステムにおいては、特に大面積基板のためのシステムの場合、コーティングチャンバに隣接したポンプ装置をポンプチャンバの上側と下側またはそのいずれかに配置することが効果的であることもわかっている。ポンプ装置は取り外し式カバーに連結され、その結果、追加重量のために、通常はクレーンを使ってカバーを外さなければならない。
【０００５】
コーティングチャンバ内に固定されるかフランジに取り付けられたそれらの部品への不便なアクセスの問題のほかに、保守作業の終了後に開口部を閉じなければならないときはいつも、開口部の密閉に関する問題が生じる。これは、（水平に置かれ、保守員が近づきやすい）密閉面に不純物が容易に堆積し得るという事実によっている。このため、いったんカバーが外されると、保守員はすぐに密封面をマスキングするか、枠を使って密封面を覆う。
【０００６】
概して、保守のために運転停止中にシステムをいじるのは、時間がかかり骨の折れる仕事である。陰極を取り囲む領域であって、コーティングプロセスによる汚れの付着によって影響される領域にアクセスするのは困難である。陰極を取り外すことは可能であるが、陰極を囲む領域はチャンバ内から清掃しなければならない。特に、ハウジング内に固定され、基板を搬送するための搬送ローラーを清掃するのには、その上、かなりの時間と努力がかかる。落下した粒子だけを、チャンバからかろうじて除去することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
以上に鑑みて、本発明の目的は、保守、清掃、およびターゲット交換を簡単に短時間で行うことができるように、コーティングシステムまたはコーティングシステムの部品を設計することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この目的は、請求項１に規定されるような、基板をコーティングするためのシステムを設計することと、請求項１２に規定されるようなインサート要素とによって、解決される。
【０００９】
特に建築用ガラスを製造するための基板、詳しくは透明基板、をコーティングするためのシステムは、少なくとも一つのコーティングチャンバと、前記基板にコーティングを施すためのコーティングツールを有する少なくとも一つのインサート要素とを備え、前記ツールは前記インサート要素上に配置され、前記ツールを前記インサート要素と共に、前記コーティングチャンバの内部へ挿入し、そこから引き出すことが可能である。
【００１０】
このシステムのインサート要素は、以下に述べるすべての特性と特徴、特にインサート要素に関連して請求された特徴をすべて備えることができる。
【００１１】
単一の設備内でいくつかのインサート要素を使用することによりモジュールシステムが作られ、このモジュールシステムにおいては、全陰極ステーションを完全装備ユニットと容易に交換することができる。従って、ターゲットをすばやく交換することができる。このことは、ターゲット交換が行われなければならない間隔がターゲット間で異なることがあるために、特に好都合であることがわかる。原則として、どの第２インサートが引き出された場合でも十分な作業スペースが実際にはあり、従って、引き出されたインサートについて同時に作業を行うことができる。しかしながら、どの第２インサートがシステムから遠く離れた作業場へ動かされた場合でも、すべてのインサート要素について同時に作業を行うことができる。原則として、チャンバの両側にインサート要素を配置することも可能である。
【００１２】
特に、インサート要素がコーティングチャンバ内へ摺動することができるように、少なくとも一つの開口部がコーティングチャンバの側壁に形成される。上からのアクセスによる不都合は、インサート要素とそれに結合された部品に横からアクセスすることによって避けられる。表面取り付けフランジによって閉じられる従来のコーティングチャンバの開口部を密閉する方法は、水平密閉面に影響を与える汚れによる問題を生じる。コーティングチャンバを開けた後すぐに密封面をマスキングするか覆うことが必要である。横からのアクセスは汚れ付着の危険性を少なくする。なぜなら、密閉面が水平に置かれておらず、保守を必要とする部品が密閉面の近くでアクセスされないためである。更に、側面インサート開口部の密閉ゾーンは、カバー領域内の開口部の密閉ゾーンよりも短い。
【００１３】
コーティングチャンバとインサート要素は、インサート要素を引き出しのようにコーティングチャンバの開口部へ挿入できるように、互いに適合しているのが好ましい。
【００１４】
このシステムは、コーティングチャンバ内に真空を生成するための少なくとも一つのポンプ装置を備える。このポンプ装置は、チャンバハウジングの上面と下面またはそのいずれかに配置される。コーティングチャンバから上方と下方またはそのいずれかへ延びるポンプボックスの側面における配置は、便利なアクセスの観点から特に有益である。それにもかかわらず、この配置は、本発明の中心にあるアイデア、即ち、インサート要素の装備によってのみ可能となる。なぜなら、それがポンプ構成に関する限り高度の柔軟性を伴うからである。前記有利なポンプ配置により、コーティングステーション間のポンプチャンバをなしで済ますことができるので、システム全体の長さを減らすことができる。
【００１５】
ポンプ装置に関係なく、インサート要素は通常、コーティングチャンバに関して移動可能なように配置される。ポンプ装置はチャンバに固定されるが、インサート要素はその中に統合されたすべての部品と共に動かすことが可能である。インサートに取り付けられた機能部品に触れるためにカバーまたはポンプを動かす必要はない。
【００１６】
特に、本システムは平面基板を基本的に水平にコーティングチャンバを通って搬送するようになっている。それでも、本発明は基板の縦案内を予想することも意図されている。
【００１７】
したがって、インサート要素内に統合される陰極は水平に並べるのが好ましい。
【００１８】
好ましい実施態様においては、インサート要素はインサート要素の電圧供給のための端子を備え、この端子は、インサート要素がコーティングチャンバの中へ摺動したときはいつでも、システムに取り付けられた対応端子と噛み合って供給接続を行うようになっている。インサート要素がチャンバから引き出されたときはいつでも、接触が自動的に断たれ、従って、人が手動で接続を切る必要はない。
【００１９】
コーティングチャンバの内部には、特に、インサート要素に取り付けられた搬送ローラーとの連結のための一つまたはそれ以上のカップリングがある。チャンバの内側に基本的に残るのは、プロセス監視センサーと搬送ローラーカップリングだけである。コーティングチャンバは定期的にアクセスする必要のないそれらの部品だけを備える。チャンバ自身は、インサート要素滑走部と搬送ローラーカップリングを備えた簡単な薄鋼板ハウジングである。
【００２０】
本システムはコーティングチャンバに接続されたガス制御モジュールを備え、このガス制御モジュールは前記チャンバの内部への少なくとも一つのガス接続部を有し、インサート要素は適切なガス接続部とガスパイプを備え、前記ガス制御モジュールによって供給されたプロセスガスは前記ガスパイプによって前記チャンバの内部を通って導かれることができると共に、前記プロセスガスは前記ガスパイプを介して前記チャンバ内へ導かれることができる。
【００２１】
本発明によって指定されたインサート要素であって、基板、詳しくは透明基板、をコーティングするためのシステムのためのインサート要素は、前記基板にコーティングを施すためのコーティングツールを有し、このツールは前記インサート要素上に配置され、前記インサート要素と共に、コーティングチャンバの内部へ摺動することができるか、そこから引き出されることができる。
【００２２】
コーティングツールは、特に、スパッタリングツール、スパッタリング陰極、マグネトロンなどとして本書において規定されるものである。しかしながら、本発明は、コーティングの蒸着などの他のコーティング技術に関するツール、あるいは、基板の前後処理のためのイオン源の使用を含むことが意図されている。
【００２３】
チャンバ内へ摺動することができるか、そこから引き出されることができる自蔵ユニットであって、コーティングツールを取り付けることができる自蔵ユニットの装備により、これらの部品へのアクセスが著しく容易となる。一方では、カバーまたはフランジを持ち上げなくてもよい。他方では、上記ユニットをコーティングチャンバから引き出すとすぐに、コーティングツールを保守することができる。従って、更なる処理のために、陰極を回転させる装置を更に含む、別の高価な陰極搬送台車なしですますことが可能である。例えばコーティングツールを取り外すために、チャンバの内部へアクセスする必要はない。その上、保守を必要とするユニットを予め用意されている交換インサートとすぐに容易に交換することが可能である。時間制約なしに清掃保守作業を行うことができる。なぜなら、清掃保守作業が行われている間、システムは交換インサートによって動作を開始することができるためである。この方法は保守を簡単にする。システムの非稼働時間を著しく減らすことができる。
【００２４】
インサート要素はコーティングチャンバ内へ摺動するか、コーティングチャンバから引き出されるときはいつでも、リフティングユニットまたはジャッキによって、ローラー、エアクッション、レールなどの上で動かすことができる。
【００２５】
特に、インサート要素は、引き出しのように、コーティングチャンバの内部へ摺動することができるか、そこから引き出されることができる。
【００２６】
プロセスによって磨耗、汚損を受け、コーティング材料に曝される、またはそのいずれかの更なるコーティングシステム部品がインサート要素内に統合されるのが好ましい。それ故、これらの部品すべてに容易にアクセスできる。
【００２７】
陰極を囲む領域内に設置され、コーティングプロセスの間、コーティング粒子または不純物が直接的または間接的に衝突するそれらの部品は、特にプロセスによって汚されやすい。シールド、スクリーン、陰極反対壁、および陽極は特にそのことによって影響を及ぼされる。これらの部品は定期的に清掃されなければならない。例えば、サンドブラストされる必要がある。もちろん、プロセスによって汚される、即ち、コーティング材料に直接曝される（または散在する粒子に曝される）できるだけ多くの部品がインサート要素内に統合されるべきである。これにより（保守のための）チャンバ内部へのアクセスをなしで済ますことが可能である。インサート要素は、保守の間にアクセス可能と思われるすべてのシステム部品を引き出すために使用される。同じことが、磨耗部品、特にスパッタリング陰極に対して行われる。
【００２８】
インサート要素は更にシールドとスクリーンまたはそのいずれかを備える。インサート要素は、コーティングチャンバの内部または他の部品が汚れるのを防ぐためにスクリーンが適当な箇所に取り付けられるような方法で、構成されることができる。この方法においては、コーティング材料は、点検されていないインサート要素の外側のスペースにとにかく達することはない。
【００２９】
コーティングツールは少なくとも一つの陰極からなることができる。これは、少なくとも一つの平型または平面陰極とするか、少なくとも一つの回転式陰極とすることができる。回転式陰極は種々の方法でインサート要素に統合することができる。好ましい実施態様においては、回転式陰極の管状ターゲットは、インサート要素の端面フランジ内の管状ターゲット回転軸に平行に設置された回転式真空貫通接続部に固定される。インサート要素の反対端において、管状ターゲットは、回転軸延長部分の領域内に設置された取り付け台の中で回転可能に支持される。
【００３０】
更なる実施態様においては、市場で入手可能な全管状陰極が用いられる。この場合、コーティングツールは陰極を保持するための少なくとも二つの取り付け台を備える。陰極ユニットは、取り付けブロックと、特に管状ターゲットとすることができるターゲットと、媒体供給ラインおよび陰極駆動装置とによって構成される。陰極は二つの取り付けブロックに回転可能に固定される。
【００３１】
従来のシステムにおいては、陰極ユニットは真空設備上のカバーから吊り下げられ、その中に取り付けられる。マグネトロンとして設計される陰極ユニットは、管状陰極内に設けられた磁気アレイを有している。例えば磁気ストリップとして設計された磁気アレイは、動作のために、スパッタリング方向、即ち、基板に向かって並べられなければならない。
【００３２】
しかしながら、本発明においては、取り付けブロックは、本発明に従ってインサート要素に垂直に固定されるのが好ましい。コーティングの間、基板は陰極管の下で二つの取り付けブロックの間を通過する。従って、従来の構造とは異なり、陰極ユニットは磁気アレイと共に、磁気ストリップが基板の方に向かずに、チャンバ天井から遠くへ正確に向くように、組み立ての間、インサート要素内に取り付けられる。従って、陰極ユニットをインサート要素内に取り付けるために、磁気ストリップだけが１８０°回転しなければならず、このことは管状ターゲット内での対称設計アタッチメント部材のためにすぐに可能である。管状ターゲットを交換するために、チャンバカバーと取り付けブロックと陰極とからなる全体ユニットを媒体（冷却水、電気）供給後に動かす必要なしに、インサート要素をコーティングチャンバから引き出し、ターゲットをインサート要素から取り外すことができる。言い換えれば、従来システムのカバーは、接続ラインを取り外した後に使用済みのターゲットを交換する（ターゲットを取り付けるまたは分解する）ために、持ち上げられ、専用装置に固定され、１８０°回転されなければならないが、本発明の陰極ユニットと磁気システムは、取り付けブロック上に垂直にインサート要素内に固定されたままであることができ、ターゲットは適切なアタッチメント手段が外されるとすぐに取り外すことができる。この方法においては、保守期間のみならず、ターゲット交換中の事故のリスクを減らすことができる。また、陰極を裏返すための装置はなしで済ますことができる。
【００３３】
更に、この配置においては、媒体接続部は、取り付けブロックによって、コーティングされるべき基板の下の側面に設置することができる。即ち、媒体ラインは、陰極から下へ基板の下へ向かって案内される。
【００３４】
インサート要素は、特に平型陰極の場合において、保守のためと陰極を交換するためまたはそのいずれかのためのアクセスを可能にする位置へ陰極を回転させるための装置を有することができる。これは例えばクランクまたはレバーとすることができ、それによって、スパッターダウンモードで動作している平型陰極を、インサート要素がコーティングチャンバから引き出された後に約１８０°回転させることができ、従って、平型陰極を上へ向けることができる。これにより保守員が陰極のネジ接続部へアクセスするのが便利となり、ターゲットをすばやく容易に交換することができるようになる。
【００３５】
更に、インサート要素は、回転式陰極を回転させるために、駆動ユニットか、駆動ユニットのためのカップリングを備えることができる。駆動ユニットは、チャンバの外側にあるインサート要素の部分の中に設置することができる。駆動ユニットはまた、チャンバの外側でインサート開口部の反対側に固定することができ、システムが閉じられたときはいつでもカップリングを介して回転式陰極を駆動することができる。
【００３６】
また、システムの前面のインサート要素によって陰極だけをアクセス可能にすることと、搬送ローラーまたは陰極を囲む領域だけを後部の更なるインサート要素内に設置することが考えられる。別々に動作することができるいくつかの個別インサート要素を両側に設置することもできる。このことは、互いに嵌合する二つ以上の個別インサート要素の結果としてもたらされるだろう。コーティングシステムの個々の部品、特に、プロセスによる磨耗または汚れに曝される部品を、別々のインサート要素上に適切に設置することができる。請求されるインサート要素それ自体が本発明の一部を構成するようになっているのみならず、これらのインサート要素と、陰極を備えていないにもかかわらず他のコーティング部品を運ぶ更なるインサート要素との組合せも、本発明の一部を構成するようになっている。
【００３７】
インサート要素は少なくとも一つの陽極を備えることができる。この場合、陽極は、それがコーティング材料によって汚されるならば、インサート要素の少なくとも一部とすべきである。
【００３８】
インサート要素は基板の好ましい連続搬送のための搬送手段を備えるのが好ましい。
【００３９】
この搬送手段は特に、基板を動かす搬送ローラーからなる。搬送ローラー駆動装置が、コーティングチャンバの内側または外側に置かれ、カップリングを介して搬送ローラーを駆動することができる。搬送ローラーを、同じくインサート要素の一部である保護パネルによって遮蔽することができる。
【００４０】
また、インサート要素は、シールドとスクリーンとコーティングツールまたはそのいずれかを冷却するための装置を備えることができる。インサート要素に冷却媒体が供給され、この冷却媒体は冷却されるべき対応部品にラインを介して導かれる。
【００４１】
インサート要素は、コーティングチャンバ内の開口部であって、インサート要素の挿入のために設けられた開口部を密封するためのフランジを備えるのが好ましい。
【００４２】
インサート要素設計は特に、インサート要素が動くか摺動できるようにする。このため、ローラーまたはエアクッションなどを設けることができる。インサート要素の下に嵌合してそれを持ち上げるリフティングユニットまたはジャッキ、あるいはインサート要素をその上で動かすことができるレールといった補助装置を使用することもできる。
【００４３】
インサート要素は媒体の供給のための供給手段を有することができる。特に、シールドと陰極またはそのいずれかのために、ガスと冷却水またはそのいずれかをチャンバに供給するためと、電圧をチャンバに供給するため、またはそのいずれかのためのラインがある。
【００４４】
ガス供給についてはプロセスガスの計量の手はずが備えられる。インサート要素は特に、ガス供給を調節するための制御ユニットを備えることもできる。ガスがコーティングチャンバの幅全体にわたって一様にまたは部分的に供給されるようにガス供給を調整することができる。例えば、多分割ガスラインを使用して、チャンバ内の特定点において選択的にプロセスガスの流入を調節することができる。ガスフロー制御ユニットをインサート要素の近くに配置するのは、チャンバ内の出口開口部への距離が短くなるために、ガスフローをすばやく柔軟に変えることができるという利点がある。
【００４５】
好ましい実施態様においては、ガスフロー制御ユニットは、インサート要素からの分離点に近くのコーティングチャンバに取り付けられ、それ故、特定のプロセスチャンバに割り当てられる。結果として、インサート要素をより安価に設計することができる。ガス接続部の分離点は真空チャンバへ移されるので、ガスラインの分離点に影響を及ぼすどんな漏洩も外側で起こることがあり得ない。ガスフロー制御ユニットの後では、ガスラインはほとんど圧力がない、即ちプロセスチャンバ圧に適合しているが、ガス供給からガスフロー制御ユニットまでのガスフィードインラインは約３バールの圧力を有している。それ故、ガスラインの無圧力部の中でより容易に分離が行われ、漏洩がある場合は、ガスはプロセスチャンバ内へ漏れ、それでもそこは分離が望ましいところである。
【００４６】
更に、インサート要素は媒体の供給のための接続部を備えることができる。シールドと陰極またはそのいずれかへガスと冷却水またはそのいずれかを供給するためと、電圧を供給するため、またはそのいずれかのための供給接続部と除去接続部またはそのいずれかは、常にコーティングチャンバの外側に配置されるインサート要素部分に設けられる。
【００４７】
インサート要素は、基板の両面をコーティングするためのコーティングツールが基板の搬送路の両側に設置されるように設計されるのが好ましい。この場合、陰極とスクリーンは平面基板に対して基本的に対称に設置される。基板の両面は同時にコーティングされる。
【００４８】
特に、搬送ローラーは、ローラーに面した基板の面が、ローラー側に配置されたコーティングツールによってコーティングされることができるように、設置することができる。このいわゆるスパッターアップモードにおけるコーティングは、特定のローラー構成を伴う。搬送方向に連続していて搬送ローラーを動かす駆動軸の間の距離は、基板の下に置かれたターゲットからスパッターされた十分な材料が基板に衝突することができるように、十分大きくなければならない。同時に、この距離は、基板が撓むのを防ぎながら基板が確実に搬送されることが確実に行われるように、設定されなければならない。
【００４９】
また、コーティングツールから直接スパッターされた材料によって搬送ローラーが汚されるのを防ぐように、搬送ローラーをスクリーンで覆うことができる。保護されないローラーはちょうど基板のようにコーティングされる。更にこのコーティングはローラー汚れを表し、このローラー汚れにより基板の表面がローラーとの接触時に付加圧力を受けやすくなり、この表面を損傷する可能性がある。
【００５０】
膜材料のための貫通孔の両側の搬送ローラーのためのそのようなスクリーンは、システム幅全体にわたって切れ目なく有利に設計される。もしスクリーンが各搬送ローラーの周りだけに配置され、切れ目が開放されたままであると、これらのスクリーンは陰極からスパッターされたコーティング材料を捕らえ、コーティング材料はこの領域内の基板に達することができない。その結果、基板の幅にわたって見たときに著しく変化する膜厚のために、ガラス基板上に目に見える筋を生じる。
【００５１】
定期的に内部へアクセスする必要はないので、システムの動作時間を延長することができる。また、保守員の作業条件が改善され、システムのセットアップ時間が著しく減り、チャンバがコーティングされるのが防止される。
【００５２】
本発明の更なる利点と特徴を、好ましい典型的な実施態様の以下の記述と添付図面とに基づいて説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５３】
図１は、コーティングチャンバ２を備えた連続作動ガラスコーティングシステム１の断面図である。コーティングシステム１を通しての断面が、基板３の搬送方向に対して垂直に延びている。システム１のほぼ輪郭内で、基板３はローラー６によって紙面に垂直に水平に搬送される。
【００５４】
コーティングチャンバ２の両側は、側壁２ａ，２ｂによって区切られている。チャンバ２の開口部７を閉鎖するチャンバカバー４は、側壁２ａ，２ｂの上部から内側へ水平に延びる二つのフランジ２ｃ，２ｄによって支持されている。
【００５５】
従来システムにおいては、ポンプ装置は通常このカバーの上に置かれる。同時に、カバーによって閉鎖される開口部はチャンバの内部への唯一のアクセスである。それ故、保守を行うときはいつも、コーティングチャンバ内に固定されるかフランジに取り付けられた部品へのアクセスのために、カバーを骨折って取り外さなければならない。部品が配置されているチャンバ内部へのアクセスはそれでもなお不便である。更に、開口部の寸法と密封面の水平配置は、不純物が密封面上に容易に堆積し得るために、密封に問題を生じる。
【００５６】
図１から明らかなように、本発明のシステム１におけるポンプ５（ターボ分子ポンプ、つまりＴＭＰ）は、基本的にはコーティングチャンバ２の下の側域に配置される。この配置は、保守のためとポンプ５へのアクセスのために特に有利である。「スパッターアップ」技術が、この典型的な実施態様において使用されている。基板３は、搬送中とコーティングプロセスの間、水平に置かれる。コーティングは下から行われる。即ち、陰極９が基板３の下に置かれている。この状態は、「スパッターダウン」モードにおいては逆となる。しかしながら、結果として大きな欠点を伴うことなく、ポンプ５をチャンバ２の上に設置することもできる。また、基板の両面をコーティングするために、両技術を組み合わせることが考えられ、その場合、ポンプ５はチャンバの上と下に対称的に配置される。経験によると、ポンプ５の前述の配置により、それぞれ二つの連続したコーティングチャンバ２の間にポンプチャンバを設ける必要がないことがわかる。結果として、システムの構造を短くすることができる。
【００５７】
しかしながら、本発明はインサート８の装備によって決まり、これにより、定期的な保守のために開口部７を介してチャンバ２の内部にアクセスする必要がほとんどなくなる。
【００５８】
引き出し状のインサート８は、インサート８内に組み合わされた種々の部品で構成されたユニットである。インサート８は、動作中、コーティングチャンバ２の壁２ａ内の側面開口部１０を塞ぐ縦に置かれた平型フランジ１１を有している。
【００５９】
一貫した保守を必要とするすべての部品、例えば、定期的に交換しなければならないスパッタリング陰極９、プロセスによって汚される搬送ローラー、シールド、スクリーン、および動作中コーティング材料に直接または間接に曝される他の部品、はインサート８に固定される。例えば基板の裏（即ち、この特定の場合においては基板３の上）において、チャンバ２の内壁が汚れるのを防ぐできるだけ多くのスクリーンおよび保護パネルが、インサート８に接続されている。
【００６０】
更に、全媒体供給、例えば、プロセスガスの供給、陰極とスクリーンへの冷却水の供給、または電圧の供給は、インサート８に接続されたラインを介して行われる。
【００６１】
図１において、インサート８は、左から右へ、引き出しのように、側壁２ａの開口部１０を通ってチャンバ２内（挿入方向Ｅ）へ、インサート８のフランジ１１が側壁２ａと接触するまで摺動する。チャンバ２を真空にすると、フランジ１１と側壁２ａの間が密閉される。この密閉領域は、基本的に、常に垂直となるように配置され、従って、容易に汚れることがなく、上部開口部７の上のフランジ４の密閉領域よりも小さい、即ち、清掃しやすく扱いやすい。
【００６２】
インサート８が、例えば、リフティングユニットまたはジャッキによってチャンバ２内へ挿入されると、インサート８上に配置されたローラー１２が、動作位置に達する前にルートの最終部分にあるガイド機構１３と協動して、インサート８を正しく調節する。更に、同様のガイド構造物を開口部１０の領域に設けて、インサート８を内および外へ摺動しやすくすることができる。最終距離を超えて嵌合するガイドピンなどの代替物が同様に考えられる。
【００６３】
インサート８に接続された搬送ローラー６は、カップリング１４によって駆動部材１５に連結され、駆動部材によって駆動されることができる。カップリング１４は、例えば、チャンバ２の外側に置かれた駆動歯車セットの回転をローラー６に伝える。搬送ローラー駆動装置１５はいろいろな方法で設計することができる。例えば、駆動装置はシステムの内側または外側に設置することができる。駆動装置がチャンバ２の外側に配置される場合は、駆動軸は、回転式真空貫通接続部によって、チャンバ側壁２ｂを通って導かれる。動力伝達は、傘歯車セット、ベルト駆動装置（歯付きベルト）、歯車、または同類のものを介して行うことができる。
【００６４】
カップリング１４は、インサート８が引き出されたときにコーティングチャンバ２内に残るいくつかの部品の一つまたは唯一の部品とすることができる。更に、プロセス制御のためにチャンバ２内に特定のセンサーを取り付けるのがよい。ただし、センサーが動作中コーティング材料で汚されないことが条件である。
【００６５】
図２は、基板３の搬送方向Ｔに沿って断面内にインサート８を有するチャンバセグメント２’の縦断面図である。基板３は、ロック１６を介して搬送ローラー６によってチャンバセグメント２’の内部を通過させられる。基板３の搬送装置６はインサート８の一部を構成しており、インサートに接続されている。更に、この実施態様においては、インサート８は、二つの回転式陰極９、シールドつまり陽極１７、および搬送ローラー用付加スクリーン１８を備えている。それ故、保守のために、前記部品をインサート８と共にコーティングチャンバ２の内部から引き出すことができる。
【００６６】
この実施態様においては、スクリーン面（ここではシールド１７）は開放台形として設計され、陽極の機能もある。動作中水平に置かれるスクリーンは、陰極９の後ろのスペースにおいて、切れ目を有することができ、チャンバ内にあるガスがその切れ目を通過して高真空ポンプ５に達する。
【００６７】
基板３の下に配置された陰極９によって基板３を下からコーティングできることも図２から明らかである。搬送ローラー６は、基板に関して陰極９と同じ側、即ち、基板３の下に配置される。この「スパッターアップ」モードにおいて基板３の効果的なコーティングを達成するために、搬送ローラー６間の距離は、十分なスパッターされたコーティング材料が基板搬送を妨げることなしに基板３に衝突することができるように、搬送方向に設けられなければならない。
【００６８】
搬送ローラー６はまた、スクリーン１８によって、少なくとも陰極９から直接到来する粒子に曝されることから、保護されなければならない。そうでなければ、搬送ローラー６自身がコーティングされ、時間がたてば多くの汚れが積もるので、基板３または基板３のコーティングに損傷を与える。
【００６９】
図３は、基板の搬送方向Ｔに沿って縦断面図内にそれぞれインサート８を有する二つのチャンバセグメント２’，２’’を示す。セグメント２’，２’’は、「スパッターダウン」技術のためのものである。各基板３は、二つの搬送ローラー６によって、チャンバセグメント２’、２’’を通って案内される。
【００７０】
（左側に示す）第１インサート８は平型陰極９を有するが、（右側に示す）第２インサート８は二つの回転式円形陰極９を有する。スパッタリング陰極９は一般にマグネトロンとすることもできる。また、本発明の中心アイデアを蒸着（ＰＶＤ、ＣＶＤ）などの他のコーティング技術に適用することが考えられる。特定のプロセスに必要なコーティングツールは、どの場合においても、インサート８内に統合されていて、簡単な交換と保守ができるようになっている。
【００７１】
円形陰極９用駆動装置は、インサート８の外側部分の中に統合されている。平型陰極９のためのインサート８はレバー（図示せず）を有しており、このレバーで平型陰極９を約１８０度回転させて取り外すことができる。
【００７２】
フランジ１１の外輪郭は参照数字１１’によって指定され、破線によって示されている。インサート８の外輪郭は参照数字８’，８’’によって指定され、実線によって示されている。陽極の役目もするシールド１７および他のスクリーンは、コーティングチャンバ２の壁の内側にコーティング材料が衝突するのを防ぐ。基板３の（陰極９に関して）裏側のスクリーンパネル８’’も同じ機能を有しており、インサート８の一部を成している。冷却ユニット（図示せず）はシールド１７の領域内に設けられている。陰極９のための更なる冷却ユニットもまたインサート８内に統合されている。
【００７３】
図３はただ二つのインサート８を示している。しなしながら、通常は、図４に示すように、対応するインサート８を有する一連の連続したチャンバセグメント２’，２’’，２’’’，．．．が、ガラスコーティングシステム１内に設けられる。
【００７４】
同じまたは異なる処理プロセスとコーティングプロセスまたはそのいずれかが、チャンバセグメント２’，２’’，２’’’，．．．内でそれぞれ実行可能である。チャンバセグメント２’，２’’，２’’’，．．．は、スロット型ロックによって互いに隔てられており、このスロット型ロックは、基板３を通過させることができるように、チャンバセグメント２’，２’’，２’’’，．．．の前壁と後壁に設置されている。基板３はロックを通過して一つのチャンバセグメントから次のチャンバセグメントへ搬送される。
【００７５】
チャンバセグメント２’，２’’が「スパッターアップ」モードにセットアップされている一方で、「スパッターダウン」がセグメント２’’’内で行われる。セグメント２’’’’では、基板の上面と下面が同時にコーティングされる。従って、このチャンバセグメント２’’’’のインサート８は、基本的に基板３の搬送面に対して対称となるようになっており、それぞれ基板の両側にある二つの回転式陰極９と、ミラー対称シールドアレイ１７を有している。セグメント２’’’’を通って基板３を搬送するための合計３個の搬送ローラー６は簡単な設計のものである。基板３の両面をコーティングする場合、ポンプ５は対応するチャンバセグメント２’’’’のカバーとベース部の両方に設けられる。高真空ポンプ（ＴＭＰ）がシステム１にねじ止めされ、システム１の残りの部品に関係なく取り外すことができる。
【００７６】
ポンプチャンバがセグメント２’’と２’’’の間に設置されているが、ポンプ５が本発明と共に示された方法で構成されるならば、このチャンバは通常なしで済ますことができる。
【００７７】
図５と図６は、本発明によって特定されるようなインサート８であって、コーティングチャンバ２から引き抜かれたインサートの斜視図であり、個々の部品の参照数字は前に使用されたものである。
【００７８】
この例において、インサート８のベース部材２０は、リフティングユニット２１が嵌合できインサート８が運びやすいようになっている。
【００７９】
図７はインサート交換の図式表示である。側方から、オペレータがリフティングユニット２１をシステム１まで動かす。リフティングユニットは挿入方向Ｅに動かされ、インサート８の指定ベース部材２０と嵌合する。それから、インサート８は持ち上げられ、コーティングチャンバ２から引き抜き方向Ａに引き出される。
【００８０】
この代わりに、インサート８をローラー、エアクッション、レールなどの上で動かすことができる。
【００８１】
インサート８の部品にいますぐに保守のために便利にアクセスできるか、それらを準備された交換インサートと交換することができる。チャンバ２から取りはずされたインサート８は、場合によっては、レール上で取り去ることができる一方で、第２の新しく装備され点検されたインサート８を、別の側から、コーティングチャンバ２の側面開口部１０まで動かして、空のチャンバセグメント２’に挿入することができる。
【００８２】
インサート８はコーティングチャンバ２から完全に引き抜くことができる。従って、もはや組み込み部品を保守するか清掃するためにコーティングチャンバ２にアクセスする必要はない。この方法は保守を簡単にするだけでなく、システム１の非稼動時間を大いに減らすこともできる。プロセスによって汚れやすいすべての部品はインサート８内に設けられるか、インサート８の一部を構成する。また、保守作業が行われている間にシステムが交換インサート８によって再び動作を開始するならば、清掃と保守を時間制約なしに行うことができる。全体として、この方法は、ガラスコーティングシステム１を動作させることに関する限りは、時間と金を節約する。
【００８３】
図８は、コーティングチャンバ２に接続されたガス制御モジュール２２の特別な実施態様を示す。ガス制御モジュール２２はコーティングチャンバ２に固定されており、複数の個別ガスフロー制御ユニットからなっている。結果として、インサート要素をより安価に設計することができる。ガスライン２３はチャンバ２の内部に通じている。ガスライン２３は、チャンバ内へ下方に突き出た部品の中の単一ガスライン２３’に連結している。このガスライン２３’は分離点２４で終わっており、そこで、部品２５内に統合されているライン２３’’に結合している。部品２５はインサート８の一部を構成している。即ち、それは、インサートと共に、チャンバ２から引き抜くことができる。ガスライン２３’’はガスパイプ２６に結合している。ガスパイプ２６内に開口部（円で示す）が配置されている。ガス制御モジュール２２を介して供給されたプロセスガスはこの開口部を通って真空チャンバに達する。分離点２４でのライン２３’と２３’’の間の接続は、例えば、図９に詳細に示すように、パイプ（ガスライン２３’’）を穴（このパイプがガスライン２３’を形成）にはめ込むことによって行われる。
【００８４】
パイプ２３’を、一つまたはそれ以上の密封リング２７によって、穴２３’に対して密封することができる。同様に、変わり目を密封するために、密封リング２８を分離点２４に置いて、インサート側の部分をチャンバ側の部分から分離する。
【００８５】
この方法においては、ガス接続部の分離点２４は真空チャンバへ移されるので、ガスラインの分離点における漏れが外側で起こるのを防止することができる。接続領域２４はプロセスチャンバ圧力下のプロセスチャンバ２内に設けられるが、ガス供給からガスフロー制御ユニットまでのガスフィードインラインは約３バールの圧力を有している。
【００８６】
図１０の（ａ）と（ｂ）は、コーティングツール９の特別な実施態様を示す。各場合において、陰極ユニット３１は、管状陰極つまり管状ターゲットと二つの取り付け用ブロック２９によって構成され、管状陰極はこれらのブロックの端に取り付けられている。これらの図はそれぞれ、並んでいる二つの陰極ユニット３１を示している。
【００８７】
図１０の（ａ）は従来技術のよく知られた場合を示しており、ここでは、陰極ユニット３１はカバーフランジ４に取り付けられており、例えばチャンバカバーから吊り下げられている。マグネトロン陰極として設計されている陰極は、基板３に向かって並べられた、磁界を生成するように設けられた磁気ストリップ３０を有している。磁気ストリップ３０は管状ターゲットの下部領域内に配置されており、基板３に向かって、即ち、下方に向かって、並べられている。従って、スパッタリング方向Ｓは基板３に向かって下方へ延びている。
【００８８】
このような市場で入手可能な陰極ユニットを使用する場合は、陰極ユニット３１は、それ故、図１０の（ｂ）に示すように、本発明によって指定される方法でインサート要素８上に配置されなければならない。取り付け用ブロック２９は、垂直にインサート要素８に取り外し可能に固定される。コーティングモードの間、基板３は陰極管の下で、取り付け用ブロック２９の間を通過する。管状陰極内への取り付けの際に、磁気ストリップ３０は、スパッタリング方向Ｓであって、陰極９の下で取り付け用ブロック２９間を通過する基板３の方向に、下向きに並べられる。ターゲットを取り外すために、インサート要素８をコーティングチャンバ２から引き出すことができ、ターゲットをインサート要素８から取り外すことができる。この全体配置により、磁気システムの取り付けと陰極からの取り外しが容易となる。
【００８９】
図１１の（ａ）は対応構成を示し、この構成において、陰極ユニット３１は本発明によって指定されるようにインサート要素８の上に設置される。Ｔは基板の搬送方向と搬送面を示す。図１１の（ｂ）にも示すように、ターボ分子ポンプ５は側面に配置された入口チャンバが、コーティングチャンバ２の上のチャンバカバー４内に設けられている。基板３は、陰極９の下の搬送ローラー６の上でチャンバセグメントを有利に通過する。この実施態様においては、図１０の（ｂ）と共に既に述べたように、磁気管の中の磁気ストリップは、取り付けと取り外しのちょうどその間に、管状陰極９の下部内に設置されなければならない。
【００９０】
図１１の（ｂ）から明らかなように、陰極９の端を支持する取り付け用ブロック２９を通って下へ媒体接続部を導くことができる。この方法においては、必要な媒体のための供給ラインは基板の下を通ることができる。
【００９１】
図１２はコーティングチャンバ２を示すと共に、その隣に、コーティングチャンバ２（挿入方向Ｅ）から引き出されたインサート要素８を示し、このインサート要素は、搬送ローラー６と、管状陰極９と、管状陰極９の端に配置され、陰極９と共に陰極ユニット３１を構成する取り付け用ブロック２９とを有している。この取り付け用ブロックは、インサート要素８上に垂直に取り外し可能に固定されている。動作中、基板は、陰極の下で取り付け用ブロック２９間を通って搬送される。陰極ユニットはまた、取り付け用ブロック２９の下側に媒体接続部を備えている。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】基板の搬送方向に垂直な本発明によるコーティングシステムの断面図である。
【図２】基板の搬送方向に沿ったコーティングシステムの更なる断面図である。
【図３】基板の搬送方向に沿った断面内に本発明によるインサートを有する二つのチャンバセグメントの断面図である。
【図４】基板の搬送方向に沿った断面内にさまざまに設計されたインサートを有するいくつかのチャンバセグメントの断面図である。
【図５】本発明によるインサートの斜視図である。
【図６】本発明によるインサートの更なる斜視図である。
【図７】インサート交換の図式表示である。
【図８】ガス制御モジュールの特定実施態様を示す。
【図９】図８の細部を示す。
【図１０】（ａ）はフランジに従来の方法で固定された陰極ユニットを示す。（ｂ）は本発明によるインサート要素に固定された陰極ユニットを示す。
【図１１】（ａ）は図１０の（ｂ）に従う陰極ユニットを有するコーティング区画を、（基板の搬送方向に対する）縦断面として示す。（ｂ）きは図１１の（ａ）からの区画を、（基板の搬送方向に対する）断面で示す。
【図１２】隣接して置かれた本発明のインサート要素を有するコーティングチャンバを示す。
【符号の説明】
【００９３】
１    ガラスコーティングシステム
２    コーティングチャンバ
２’，２’’，２’’’，．．．    チャンバセグメント
２ａ，２ｂ    コーティングチャンバの側壁
２ｃ，２ｄ    フランジ
３    基板
４    チャンバカバー
５    ポンプ（ＴＭＰ）
６    搬送ローラー
７    チャンバの上部開口部
８    インサート
８’    インサート８の外輪郭
８’’    インサート８の後壁
９    陰極
１０    チャンバ壁内の側面開口部
１１    フランジ
１１’    フランジ１１の外輪郭
１２    ローラー
１３    ガイド機構
１４    カップリング
１５    駆動部材
１６    ロック
１７    シールド、陽極
１８    スクリーン
１９    冷却ユニット
２０    ベース部材
２１    リフティングユニット
２２  ガス制御モジュール
２３，２３’，２３’’    ガスライン
２４    分離点
２５    インサート８の部品
２６    ガスパイプ
２７    密閉リング
２８    密閉リング
２９    取り付け用ブロック
３０    磁気ストリップ
３１    陰極ユニット
Ｅ    挿入方向
Ａ    引き抜き方向
Ｔ    基板の搬送方向
Ｓ    スパッタリング方向
【図１】
2006257546.tif 000003
【図２】
2006257546.tif 000004
【図３】
2006257546.tif 000005
【図４】
2006257546.tif 000006
【図５】
2006257546.tif 000007
【図６】
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【図７】
2006257546.tif 000009
【図８】
2006257546.tif 000010
【図９】
2006257546.tif 000011
【図１０】
2006257546.tif 000012
【図１１】
2006257546.tif 000013
【図１２】
2006257546.tif 000014
【外国語明細書】
2006257546000001.pdf