(57)【要約】【課題】電子光学部品を搬送する際に使用するプラスチックトレイ等の被洗浄物を洗浄する際、短時間で確実に乾燥させることができ、且つ、洗浄コストを低く抑えることができる洗浄方法等を提供する。【解決手段】被洗浄物を洗浄するシステムであって、少なくとも、前記被洗浄物を洗浄液で洗浄するための洗浄槽１０と、該洗浄槽で洗浄された被洗浄物を純水でリンスするためのリンス槽２０と、該リンス槽でリンスされた被洗浄物を水切りするための水切り手段３０と、該水切り手段により水切りされた被洗浄物を乾燥するための乾燥手段４０とを有し、該乾燥手段が、少なくとも、前記水切りされた被洗浄物を収容する真空チャンバー４１と、該チャンバー内の真空度の上下動を繰り返す真空度制御手段５５とを具備するものであることを特徴とする洗浄システム１。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗浄物を洗浄する方法であって、少なくとも、前記被洗浄物を洗浄液で洗浄する工程と、該洗浄された被洗浄物を純水でリンスする工程と、該リンスした被洗浄物を水切りする工程と、該水切りされた被洗浄物を乾燥する工程とを含み、該乾燥工程において、前記水切りされた被洗浄物を真空チャンバー内に収容し、該チャンバー内の真空度の上下動を繰り返すことにより前記被洗浄物の表面に残留する水分を除去して乾燥させることを特徴とする被洗浄物の洗浄方法。
【請求項２】
前記チャンバー内の真空度の上下動を、−９５〜−８０ｋＰａの範囲内の真空度と、−２０〜−５ｋＰａの範囲内の真空度との間で繰り返すことを特徴とする請求項１に記載の被洗浄物の洗浄方法。
【請求項３】
前記乾燥工程において前記チャンバー内の真空度を下げるときに、該チャンバー内に加熱したエアーを供給することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の被洗浄物の洗浄方法。
【請求項４】
前記エアーとして、４０〜５０℃の温度範囲内のエアーを供給することを特徴とする請求項３に記載の被洗浄物の洗浄方法。
【請求項５】
前記被洗浄物の水切りを、該被洗浄物に対するエアーブロー又はスピン回転により行うことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の被洗浄物の洗浄方法。
【請求項６】
前記被洗浄物を、電子光学部品を搬送するためのプラスチック製のトレイとすることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の被洗浄物の洗浄方法。
【請求項７】
被洗浄物を洗浄するシステムであって、少なくとも、前記被洗浄物を洗浄液で洗浄するための洗浄槽と、該洗浄槽で洗浄された被洗浄物を純水でリンスするためのリンス槽と、該リンス槽でリンスされた被洗浄物を水切りするための水切り手段と、該水切り手段により水切りされた被洗浄物を乾燥するための乾燥手段とを有し、該乾燥手段が、少なくとも、前記水切りされた被洗浄物を収容する真空チャンバーと、該チャンバー内の真空度の上下動を繰り返す真空度制御手段とを具備するものであることを特徴とする洗浄システム。
【請求項８】
前記真空度制御手段が、前記チャンバー内の真空度を、少なくとも−９５〜−８０ｋＰａの範囲内と、−２０〜−５ｋＰａの範囲内との間で繰り返し上下動させるものであることを特徴とする請求項７に記載の洗浄システム。
【請求項９】
前記乾燥手段が、前記チャンバー内に供給するためのエアーを加熱するヒーターと、該ヒーターにより加熱されたエアーを前記チャンバー内に供給するエアー供給手段とをさらに備えるものであることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の洗浄システム。
【請求項１０】
前記水切り手段が、前記被洗浄物に対してエアーブロー又はスピン回転を行うものであることを特徴とする請求項７ないし請求項９のいずれか１項に記載の洗浄システム。
【請求項１１】
前記洗浄槽が、超音波洗浄を行うものであることを特徴とする請求項７ないし請求項１０のいずれか１項に記載の洗浄システム。
【請求項１２】
前記リンス槽が、純水に超音波を印加してリンスを行うものであることを特徴とする請求項７ないし請求項１１のいずれか１項に記載の洗浄システム。
【請求項１３】
表面に水分が残留する被洗浄物を乾燥するための乾燥装置であって、少なくとも、前記被洗浄物を収容する真空チャンバーと、該チャンバー内の真空度の上下動を繰り返す真空度制御手段とを具備するものであることを特徴とする乾燥装置。
【請求項１４】
前記真空度制御手段が、前記チャンバー内の真空度を、少なくとも−９５〜−８０ｋＰａの範囲内と、−２０〜−５ｋＰａの範囲内との間で繰り返し上下動させるものであることを特徴とする請求項１３に記載の乾燥装置。
【請求項１５】
前記チャンバー内に供給するためのエアーを加熱するヒーターと、該ヒーターにより加熱されたエアーを前記チャンバー内に供給するエアー供給手段とをさらに備えるものであることを特徴とする請求項１３又は請求項１４に記載の乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子光学部品を搬送する際に使用されるプラスチック製のトレイ等、パーティクルや水分の付着を極力抑えることが望まれる物の洗浄方法、洗浄システム、及び乾燥装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス等の電子光学部品を製造する場合、工程間の搬送や製品の保管は、一般的に、ポリエチレン、ポリプロピレン等のプラスチック製の専用のトレイや容器が使用される。例えば、半導体デバイスの製造工程における搬送では、例えば図３に示したように多数の区画に仕切られたプラスチックトレイ６０が使用されることがある。
電子光学部品にパーティクル等が付着すると品質に大きな影響を及ぼすおそれがあるため、搬送用トレイや保管用容器は極力清浄なものを使用する必要がある。プラスチックトレイは静電気によりパーティクル等が付着し易く、作業工程間での移動に伴う油脂等も付着し易いため、トレイのクリーン化は極めて重要である。例えば、トレイの清浄度は１μｍ程度のパーティクルさえも除去することが要求される場合がある。
【０００３】
トレイの洗浄に限らず、一般的な洗浄方法として、例えば、被洗浄物を洗剤で洗浄し、純水でリンスした後、オーブンや温風等により乾燥させる方法や、純水で洗浄して水切りした後、乾燥させる方法、あるいは、純水で洗浄した後、ＩＰＡによる置換洗浄を行った上で乾燥させる方法などがある。
【０００４】
しかし、プラスチック製のトレイの耐熱温度は、一般的に６０℃程度であるのに対し、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）蒸気の使用は沸点が約８２℃であるため、ＩＰＡの置換洗浄は適していない。また、ＩＰＡの置換洗浄を行う場合には、置換された水の混入により比重が低下して乾燥ムラが発生すること、そのような乾燥ムラを防ぐには随時ＩＰＡを交換する必要があること、ＩＰＡは引火性があるため、防爆対策が必要となることなどの問題もある。
また、オーブンを用いて乾燥を行う場合、温度むら等によりトレイの変形を発生させたり、乾燥時間が長い（例えば２０〜３０分）などの問題がある。
【０００５】
さらに、生産量が増す分、多数の又は大型の乾燥炉が必要となること、乾燥炉内への出し入れにより再汚染が発生すること、洗浄目的によりクリーン乾燥炉を必要とするためコスト高となること、純水洗浄後の乾燥においてトレイの比熱が小さいため、トレイに付着する水を蒸発させることができず、時間をかけると凍結するなどの問題がある。
また、特に、図３に示したような複雑な形状のトレイや容器では角部等で水分が残留し易く、さらに残留水分にパーティクル等が付着して汚染され易いという問題もある。
【０００６】
例えば、シリコンウエーハ用のプラスチック製の保管容器を洗浄する方法として、炭酸イオンを含む超純水を使用して仕上げの洗浄を行うことが提案されている（特許文献１参照）。しかし、この洗浄方法では仕上げ洗浄後の乾燥については特に考慮されていないため、上記のような乾燥工程での問題の解決には至らない。
また、電子光学部品の搬送等に使用するプラスチック容器を洗浄する装置として、容器を回転ドラム内に収納して回転させながらシャワー洗浄を行った後、高速回転させて水切りを行い、さらに、その後、温風乾燥を行う洗浄乾燥装置が提案されている（特許文献２参照）。
しかし、この装置では、大型の回転ドラム等を備えた過大な設備が必要であり、設備コストが極めて高くなる。また、洗浄から乾燥まで同じ回転ドラム内で行うため、洗浄する容器の形状、大きさ、数等が極めて限定されてしまう。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２３５９６６号公報
【特許文献２】特開２００４−６６２１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、電子光学部品を搬送する際に使用するプラスチックトレイ等の被洗浄物を洗浄する際、短時間で確実に乾燥させることができ、且つ、洗浄コストを低く抑えることができる洗浄方法等を提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明によれば、被洗浄物を洗浄する方法であって、少なくとも、前記被洗浄物を洗浄液で洗浄する工程と、該洗浄された被洗浄物を純水でリンスする工程と、該リンスした被洗浄物を水切りする工程と、該水切りされた被洗浄物を乾燥する工程とを含み、該乾燥工程において、前記水切りされた被洗浄物を真空チャンバー内に収容し、該チャンバー内の真空度の上下動を繰り返すことにより前記被洗浄物の表面に残留する水分を除去して乾燥させることを特徴とする被洗浄物の洗浄方法が提供される（請求項１）。
【００１０】
この方法によれば、洗浄工程とリンス工程と水切り工程により被洗浄物の表面の汚れ等を確実に除去することができ、水切り後、被洗浄物を収容したチャンバー内の真空度の上下動を繰り返すことにより被洗浄物の表面に残留する水分を効率的に除去することができる。従って、被洗浄物のクリーン度を高めた後、短時間で確実に乾燥させることができる。また、ＩＰＡによる置換洗浄や、それに伴う防爆対策が不要であり、また、過大な設備も必要が無いので、洗浄コストを低く抑えることができる。
【００１１】
前記チャンバー内の真空度の上下動を、−９５〜−８０ｋＰａの範囲内の真空度と、−２０〜−５ｋＰａの範囲内の真空度との間で繰り返すことが好ましい（請求項２）。
このような２つの範囲内の間で真空度の上下動を繰り返すことで被洗浄物の表面に残留する水分を極めて効率的に除去することができる。
【００１２】
また、前記乾燥工程において前記チャンバー内の真空度を下げるときに、該チャンバー内に加熱したエアーを供給することが好ましく（請求項３）、特に、４０〜５０℃の温度範囲内のエアーを供給することが好ましい（請求項４）。
このように加熱したエアーをチャンバー内に供給して真空度を下げれば、水分除去がさらに促進され、乾燥時間を一層短縮することができる。
【００１３】
前記被洗浄物の水切りを、該被洗浄物に対するエアーブロー又はスピン回転により行うことが好ましい（請求項５）。
エアーブロー又はスピン回転であれば、特殊な装置を必要とせず、低コストで効率的に水切りを行うことができ、その後の乾燥工程もより短時間で行うことができる。
【００１４】
前記被洗浄物を、電子光学部品を搬送するためのプラスチック製のトレイとすることが好ましい（請求項６）。
本発明の洗浄方法は、被洗浄物の表面の汚れ等を確実に除去した後、短時間で効率的に乾燥することができるので、パーティクルの付着や水分の残留を嫌う電子光学部品を搬送するためのプラスチックトレイの洗浄に特に適している。
【００１５】
さらに本発明によれば、被洗浄物を洗浄するシステムであって、少なくとも、前記被洗浄物を洗浄液で洗浄するための洗浄槽と、該洗浄槽で洗浄された被洗浄物を純水でリンスするためのリンス槽と、該リンス槽でリンスされた被洗浄物を水切りするための水切り手段と、該水切り手段により水切りされた被洗浄物を乾燥するための乾燥手段とを有し、該乾燥手段が、少なくとも、前記水切りされた被洗浄物を収容する真空チャンバーと、該チャンバー内の真空度の上下動を繰り返す真空度制御手段とを具備するものであることを特徴とする洗浄システムが提供される（請求項７）。
【００１６】
このような洗浄システムであれば、被洗浄物の表面の汚れ等を確実に除去することができる上、チャンバー内の真空度の上下動の繰り返しにより、水切り後の被洗浄物を短時間で確実に乾燥させることができるものとなる。また、防爆設備や過大な設備を備える必要は無いので、安価な洗浄システムとなる。
【００１７】
前記真空度制御手段は、前記チャンバー内の真空度を、少なくとも−９５〜−８０ｋＰａの範囲内と、−２０〜−５ｋＰａの範囲内との間で繰り返し上下動させるものであることが好ましい（請求項８）。
真空度制御手段がチャンバー内の真空度を上記範囲の間で繰り返し上下動させるものであれば、被洗浄物の表面に残留する水分を極めて効率的に除去することができる洗浄システムとなる。
【００１８】
前記乾燥手段が、前記チャンバー内に供給するためのエアーを加熱するヒーターと、該ヒーターにより加熱されたエアーを前記チャンバー内に供給するエアー供給手段とをさらに備えるものであることが好ましい（請求項９）。
このようなヒーターとエアー供給手段も備えていれば、水分除去をさらに促進して乾燥時間を一層短縮することができる洗浄システムとなる。
【００１９】
前記水切り手段は、前記被洗浄物に対してエアーブロー又はスピン回転を行うものであることが好ましい（請求項１０）。
水切り手段がエアーブロー又はスピン回転を行うものであれば、低コストで効率的に水切りを行うことができ、その後の乾燥もより短時間で行うことができる洗浄システムとなる。
【００２０】
また、前記洗浄槽は、超音波洗浄を行うものであることが好ましく（請求項１１）、前記リンス槽は、純水に超音波を印加してリンスを行うものであることが好ましい（請求項１２）。
このように超音波洗浄や超音波リンスを行えば、より効果的に洗浄やリンスを行うことができる。
【００２１】
さらに本発明によれば、表面に水分が残留する被洗浄物を乾燥するための乾燥装置であって、少なくとも、前記被洗浄物を収容する真空チャンバーと、該チャンバー内の真空度の上下動を繰り返す真空度制御手段とを具備するものであることを特徴とする乾燥装置が提供される（請求項１３）。
このようにチャンバー内の真空度の上下動を繰り返す真空度制御手段等を具備する乾燥装置であれば、被洗浄物の表面の水分を効率的に除去することができ、短時間で乾燥させることができる。また、回転ドラムのような過大な手段や、ＩＰＡ等に対する防爆手段が不要であり、安価な乾燥装置となる。さらに、被洗浄物の形状が複雑であっても、水分を残留させることなく容易に乾燥することができる。
【００２２】
前記真空度制御手段は、前記チャンバー内の真空度を、少なくとも−９５〜−８０ｋＰａの範囲内と、−２０〜−５ｋＰａの範囲内との間で繰り返し上下動させるものであることが好ましい（請求項１４）。
チャンバー内の真空度を上記２つの範囲内の間で繰り返し上下動させる真空度制御手段を備えていれば、被洗浄物の表面に残留する水分を極めて効率的に除去することができる乾燥装置となる。
【００２３】
また、前記チャンバー内に供給するためのエアーを加熱するヒーターと、該ヒーターにより加熱されたエアーを前記チャンバー内に供給するエアー供給手段とをさらに備えるものであることが好ましい（請求項１５）。
このようなヒーターとエアー供給手段も備えていれば、水分除去をさらに促進して乾燥時間を一層短縮することができる乾燥装置となる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、電子光学部品の搬送に使用されるプラスチックトレイ等、パーティクルや水分の付着が厳しく制限される被洗浄物を洗浄する際、特に、水切り後、被洗浄物を収容したチャンバー内の真空度の上下動を繰り返すことで被洗浄物の表面に残留する水分を極めて効率的に除去することができる。従って、たとえ複雑な形状を有する被洗浄物であっても短時間でパーティクルや水分の付着が無いものに仕上げることができる。
また、ＩＰＡによる置換洗浄や、それに伴う防爆対策が不要であり、過大な設備も必要が無いので、洗浄コストを低く抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、添付の図面を参照しつつ、好適な態様として、半導体デバイス等の電子光学部品を搬送する際に使用するプラスチック製のトレイを洗浄する場合について具体的に説明する。
図１は本発明に係る洗浄システムの一例の概略を示したものである。この洗浄システム１は、主に、洗浄槽１０と、リンス槽２０と、水切り手段３０と、乾燥手段４０から構成されている。
【００２６】
洗浄槽１０は、被洗浄物であるプラスチックトレイ（不図示）を洗浄液で洗浄するためのものであり、洗浄槽１０の中には中性洗剤等の洗浄液１６が貯えられている。洗浄槽１０の底部には超音波発生器１４が設けられており、超音波洗浄を行うことができる。また、洗浄効果を一層高めるため、洗浄中に洗浄槽１０内の被洗浄物（トレイ）を揺動させる揺動機構を設けてもよい。
さらに、洗浄槽１０には、ヒータ１３を備えた液槽１５、ポンプ１１、フィルタ１２等で構成した循環機構１７が設けられている。このような循環機構１７により洗浄液を浄化して再利用すれば、洗浄液を効率的に使用することができ、洗浄コストを一層低く抑えることができる。
【００２７】
リンス槽２０は、洗浄槽１０で洗浄されたトレイを純水でリンスするためのものであり、純水２３が貯えられている。また、リンス槽２０にも超音波発生器２４が設けられており、純水２３に超音波を印加してリンスを行うことで、リンス効果が高まり、トレイの表面に付着している洗浄液を短時間で確実に除去することができる。なお、リンス槽２０にも揺動機構を設けてリンス効果を高めるようにしてもよい。
また、このリンス槽２０にも脱気ポンプ２１、フィルタ２２等で構成した循環機構２７により純水を浄化して再利用すれば、コストをより低く抑えることができる。
【００２８】
水切り手段３０は、リンス槽２０でリンスされたトレイを水切りするためのものであり、トレイの大きさや形状を考慮して適宜選択すればよい。例えば、図１に示したように、リンス後のトレイに対して多数の噴射ノズル３２からエアーブローを行うエアーブロー手段３１、あるいは、保持台３４、モータ３５からなり、保持台３４上のトレイをスピン回転させて水切りを行うスピン回転手段３３を好適に用いることができる。
【００２９】
乾燥手段４０は、水切り手段３０により水切りされたトレイを乾燥するためのものである。この乾燥手段４０は、水切りされたトレイを収容する真空チャンバー４１と、チャンバー４１内の真空度の上下動を繰り返す真空度制御手段５５を具備し、この真空度制御手段５５は、チャンバー４１内の真空度を測定する真空計５４と、その真空度のデータが入力され、切換電磁弁の開閉を制御するコントローラ５３と、エアー供給管５１の開閉をする切換電磁弁５０とを具備している。この真空度制御手段５５は、チャンバー４１内の真空度を、少なくとも−９５〜−８０ｋＰａの範囲内と、−２０〜−５ｋＰａの範囲内との間で繰り返し上下動させるものが好ましい。また、真空チャンバー４１の側部と底部には、保温用のヒータ４７ａ，４７ｂが設けられている。
【００３０】
さらに、この乾燥手段４０は、チャンバー４１内に供給するエアーを加熱するためのファンヒーター４３ａ，４３ｂと、ヒーター４３ａ，４３ｂにより所望の温度に加熱されたエアーをチャンバー４１内に供給するための手段（エアー供給手段）として、フィルタ４４，４６、温度調整機構４５、エアー供給管５１を有し、チャンバー４１内のエアーはフィルタ４８を介して排気ポンプ４９により排気される。
【００３１】
図２は、この洗浄システム１を用いて電子光学部品の搬送に用いるプラスチックトレイを洗浄するフローの一例を示している。
まず、洗浄工程（Ａ）では、洗浄すべきトレイを洗浄槽１０に投入して洗浄液１６で洗浄する。なお、プラスチックトレイを水で洗浄すると、トレイの疎水性によりトレイ表面に気泡が付着して洗浄されない部分が発生し易いが、中性洗剤等の洗剤、あるいは純水に洗剤を混ぜた洗浄液を使用することで、トレイ表面を親水性にして洗浄効果を高めることができる。また、超音波や揺動を伴う洗浄を行うことで洗浄効果を一層増すことができる。さらに、この洗浄工程（Ａ）では、揺動はもとより、例えば、洗浄中にトレイを一旦液外に出してトレイに付着している気泡を除去することで、洗浄効果を高めることもできる。
【００３２】
洗浄工程（Ａ）の後、洗浄されたトレイをリンス槽２３に投入して純水２３でリンスする。このリンス工程（Ｂ）は、洗浄工程（Ａ）で親水性となったトレイの表面に付着している洗剤を除去することを主な目的とする。なお、リンス工程（Ｂ）の開始直後は純水中の気泡がトレイに付着し易いので、このような気泡の付着を防ぐため、脱気した純水を使用することが好ましい。
【００３３】
トレイをリンスした後、水切りを行う。この水切り工程（Ｃ）では、次の乾燥工程（Ｄ）での乾燥時間を短縮するために、トレイの表面に付着している水滴を取り除く。リンス槽２０から引き上げたトレイに対し、トレイの大きさや形状を考慮して、エアーブロー手段３１によりクリーンエアーを高圧で吹き付けたり、スピン回転手段３３により、トレイをスピン回転させることによって短時間で効率良く水切りすることができる。
【００３４】
水切り後、トレイを乾燥させる。この乾燥工程（Ｄ）では、水切りされたトレイを真空チャンバー４１内に収容し、チャンバー４１内の真空度の上下動を繰り返すことによりトレイの表面に残留する水分を除去して乾燥させる。
例えば、チャンバー４１を真空ポンプで吸引させた状態でバルブの切替えにより、単に常圧→真空乾燥→常圧という１サイクルの工程で乾燥を行うと、トレイの比熱が無いため、水分が凍結し、全ての水分を蒸発させることが困難である。そこで、トレイの比熱をカバーするために、トレイを収容したチャンバー４１内の真空度を、例えば、常圧に近い低真空→高真空→低真空のサイクル（真空サイクル）を繰り返す。この真空サイクルでは、高真空時に残留水温が低下し、低真空時の常圧近くに戻して加温されることにより、次の真空サイクルでの水分除去を促進させる効果がもたらされる。
【００３５】
この真空サイクルでのチャンバー４１内の真空度は、トレイの材質等にもよるが、チャンバー４１内の圧力を大気圧まで戻してしまうと、サイクルが長くなるだけで水分除去効果がそれ以上向上しない。従って、乾燥工程（Ａ）では−５ｋＰａ以上の真空度で上下動させることが好ましく、特に、−９５〜−８０ｋＰａの範囲内の真空度と、−２０〜−５ｋＰａの範囲内の真空度との間で真空度の上下動を繰り返せば、残留水分を極めて効果的に除去することができる。
なお、チャンバー内の真空度の上下動の回数は、トレイの材質等にもよるが、プラスチックトレイであれば、チャンバー内の真空度の上下動を例えば２０〜３０回程度繰り返す。
【００３６】
具体的には、水切り後のトレイを収容したチャンバー４１をフィルター４８を介して排気ポンプ４９で排気して、チャンバー４１内を所定の真空度（例えば−９５〜−８０ｋＰａ）にする。チャンバー４１内が所定の真空度に達したことを真空計５４が検知したら、コントローラ５３が電磁弁５０を開にし、エアーをチャンバー４１内に導入する。これによってチャンバー４１内の真空度が下がる。真空度が低下し、例えば−２０〜−５ｋＰａになったら、コントローラ５３により、電磁弁５０が閉とされ、真空度が上がる。これら一連の動作が繰り返される。
【００３７】
この場合、排気ポンプ４９は、真空度の上下動の繰り返し中、常にチャンバー４１内を排気し続ける方が好ましく、これにより、より一層乾燥時間を短縮することができる。なお、チャンバー４１内の真空度の上下動は、上記のように真空計５４を用いて正確に行ってもよいが、切換電磁弁５０をコントローラ５３で所定時間の間隔で開閉を繰り返すことで行ってもよい。
【００３８】
さらに、チャンバー４１内の真空度を下げるとき、すなわち、高真空から低真空に戻すときに、フィルター４４，４６、ヒータ４３ａ，４３ｂ、エアー供給管５１等により、クリーン度の高いエアーを加熱してチャンバー４１内に供給することで、真空サイクルによる水分除去の効果をより促進させることができる。プラスチックトレイであれば、耐熱温度は６０℃程度であるので、４０〜５０℃の温度範囲内のエアーを供給すれば、熱変形を起さずに、乾燥時間を一層短縮させることができる。
また、真空時の真空チャンバー４１内の温度低下を補うため、チャンバー４１に設けたヒータ４７ａ，４７ｂで保温することで水分の凍結を防止し、より一層乾燥効率が増し、サイクルタイムを短縮させることができる。
【００３９】
このように、電子光学部品の搬送に使用されるプラスチックトレイを洗浄する際、本発明に係る洗浄システムを用いれば、特に、水切り後、トレイを収容したチャンバー内の真空度の上下動を繰り返すことでトレイの表面に残留する水分を極めて効率的に除去し、短時間でパーティクルや水分の付着が無いトレイに仕上げることができる。
また、ＩＰＡによる置換洗浄や、それに伴う防爆対策が不要であり、過大な設備も必要が無いので、洗浄コストを低く抑えることができる。
【実施例】
【００４０】
以下、本発明の実施例及び比較例について説明する。
（実施例）
図１のように構成した洗浄システムを用い、図３に示すような電子光学部品の搬送用プラスチックトレイの洗浄を行った。
中性洗剤による洗浄、純水リンス、エアーブローによる水切りを行った後、真空チャンバー内に収容し、約−１０ｋＰａの低真空度と、約−９０ｋＰａの高真空度との間で１０分間で上下動を２０回繰り返して真空乾燥を行った。また、高真空から低真空に戻す際には、約４５℃に加温したクリーンエアーをチャンバー内に供給した。
【００４１】
真空乾燥後、チャンバーから取り出したトレイを集光灯下で目視により検査し、さらにコーナーについては顕微鏡で観察した。その結果、水分の残留は確認されず、十分乾燥していることが分かった。
【００４２】
（比較例）
実施例と同様に、中性洗剤による洗浄、純水リンス、エアーブローによる水切りを行った後、１０分間の真空乾燥（真空度−５０ｋＰａ）を行い、大気圧に戻した。
乾燥後のトレイを実施例と同様に観察したところ、コーナー部分で水分の残留が確認された。
【００４３】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は単なる例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００４４】
例えば、実施形態では、洗浄槽、リンス槽、水切り手段等を備えた洗浄システムについて説明したが、洗浄槽等とは別に、乾燥手段４０を、単独の被洗浄物を乾燥するための乾燥装置を用いてもよい。すなわち、被洗浄物を収容する真空チャンバー４１と、チャンバー４１内の真空度の上下動を繰り返す真空度制御手段５５とを具備する乾燥装置、さらに、エアーを加熱するヒーター４３ａ，４３ｂと、ヒーター４３ａ，４３ｂにより加熱されたエアーをチャンバー４１内に供給するエアー供給管５１等のエアー供給手段とをさらに備えた乾燥装置とすることもできる。
【００４５】
また、本発明を適用する被洗浄物は特に限定されるものではなく、電子光学部品の搬送用のプラスチックトレイのほか、他のプラスチック容器等はもちろん、プラスチック以外の材質、例えば金属製の被洗浄物を洗浄する場合にも本発明を好適に適用することができる。
特に、本発明では、被洗浄物をチャンバー内に収容し、真空度の上下動を繰り返して乾燥させるので、原則として被洗浄物の形状にかかわりなく、効率的に乾燥ができる。従って、複雑な形状のものでも、簡単かつ迅速に確実な乾燥ができるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明に係る洗浄システムの一例を示す概略図である。
【図２】本発明に係る洗浄方法の一例を示すフロー図である。
【図３】電子光学部品の搬送用プラスチックトレイの一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００４７】
１…洗浄システム、  １０…洗浄槽、  １４…超音波発生器、  １６…洗浄液、
２０…リンス槽、  ２３…純水、  ２４…超音波発生器、
３０…水切り手段、  ３１…エアーブロー手段、  ３３…スピン回転手段、
４０…乾燥手段、  ４１…真空チャンバー、  ４３ａ，４３ｂ…ヒーター、
４９…排気ポンプ、  ５０…切換電磁弁、  ５１…エアー供給管、
５５…真空度制御手段、  ６０…トレイ。
【図１】
2006212563.tif 000003
【図２】
2006212563.tif 000004
【図３】
2006212563.tif 000005