(57)【要約】【課題】  比較的厚い光情報記録層を有する光記録媒体における、側縁部からの水分や酸素等の侵入、あるいは光記録材料の漏出等によって生じる問題を解決し、安定した情報の記録および再生を可能にする。【解決手段】  厚さ５０μｍ以上の２枚の光透過性基板と、前記２枚の光透過性基板の間に介設され、記録光によって情報が記録される光記録材料からなる厚さ１００μｍ以上の光情報記録層とで構成される積層体からなる光記録媒体であって、前記積層体の側縁部を被覆して、前記光透過性基板および光情報記録層の縁部が露出されないようにしたことを特徴とする光記録媒体およびその製造方法。【選択図】      図１
2006085762.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚さ５０μｍ以上の２枚の光透過性基板と、前記２枚の光透過性基板の間に介設され、記録光によって情報が記録される光記録材料からなる厚さ１００μｍ以上の光情報記録層とで構成される積層体からなる光記録媒体であって、
前記積層体の側縁部を被覆して、前記光透過性基板および光情報記録層の縁部が露出されないようにしたことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記側縁部に、保護被膜を有することを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記保護被膜が、光重合性樹脂もしくは熱重合性樹脂で形成されていることを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記保護被膜の屈折率ｎＡが、前記光透過性基板の屈折率ｎＢに対して、０．８≦ｎＡ／ｎＢ≦１．２であることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記保護被膜の屈折率ｎＡが、光情報記録層の平均屈折率ｎＣに対して、０．８≦ｎＡ／ｎＣ≦１．２であることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項６】
前記保護被膜が、前記記録光を吸収する色素または顔料を含むことを特徴とする請求項２〜５のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法であって、２枚の光透過性基板の間に、光情報記録層が介設された構造の積層体を形成する工程と、前記積層体の側縁部に保護被膜を形成する工程とを含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体に関し、特に、多層光メモリ、ホログラムメモリ等の３次元記録用の光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、実用化され、または実用化が目前となっている光記録媒体として、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）やブルーレイディスク（Blu-Ray  Disk）等の各種の光記録媒体が知られている。しかし、これらの光記録媒体の記録容量は、最高でも２７ＧＢ程度であり、近年の高度情報化社会の進展に伴う情報の大容量化に対応するためには、さらなる高記録容量の光記録媒体の開発が求められている。そこで、高記録容量の光記録媒体として、ホログラフィックメモリ、多層光メモリ、近接場光を利用する光記録媒体などが注目され、次世代の光記録媒体として開発が進められている。
【０００３】
ホログラフィックメモリを利用して情報を記録する光記録媒体において、情報の記録は、光記録媒体の面内方向だけでなく深さ方向にも行われる。すなわち、光記録媒体に設けられた光情報記録層の面内方向と、光情報記録層の深さ方向（記録媒体の厚さ方向）とを利用して３次元的に情報が記録され、さらに、同じ場所に多重記録を行なうことによって、高密度かつ大容量の情報の記録が可能となる。また、多層光メモリにおいても、光情報記録層の面内方向と深さ方向に３次元的に情報が記録される。
【０００４】
こうした３次元方向に情報が記録される光記録媒体では、体積方向（面内方向と深さ方向）に記録がなされるため、光記録材料で形成される光情報記録層が厚く、約１ｍｍ程度（もしくはそれ以上）になる場合がある。
【０００５】
そのため、これらの光記録媒体においては、光情報記録層が厚いため、その側縁部が外気と接触する面積が大きくなり、水分や酸素の侵入によって、光情報記録層の吸湿膨張や収縮、側縁部近傍の光記録材料の酸化による劣化や反応性低下を招く虞がある。
【０００６】
また、現在、ホログラムによる光記録媒体では、光情報記録層を形成する光記録材料として、フォトポリマが有力な候補となっている。このフォトポリマは、バインダ、モノマー、重合開始剤および増感色素の４成分を含むものである。しかし、モノマーは高沸点の液体であることが多く、このフォトポリマを光記録材料として用いて比較的厚い光情報記録層を形成した場合には、光情報記録層の側縁から光記録材料が流れ出てしまったり、光情報記録層が剥れてしまったり、また、モノマーが蒸発して記録特性が低下することも起こり得る。
【０００７】
そこで、特許文献１には、図５に示すように、２枚の基板５１、５２を、外周側スペーサ５３と、内周側スペーサ５４とを介して貼り合わせた構造の光記録媒体用基体が開示され、基板５１、５２と、外周側スペーサ５３と、内周側スペーサ５４とで形成される内側空間にゲル状の光記録材料を注入して、比較的厚い光情報記録層を有する光記録媒体を製造する方法が開示されている。しかし、この方法は、用いる光記録材料の粘度が高い場合には、注入が困難であり、粘度を下げるために光記録材料に溶剤を混合した場合には、注入後に溶剤を除去するのが困難であることが予想される。また、２枚の基板５１、５２を、外周側スペーサ５３と、内周側スペーサ５４とを介して貼り合わせて、基板５１と基板５２の間に均一な厚さの空間を形成することも難しく、コストもかかることから、現実的ではない。
【０００８】
また、ガラス基板やポリカーボネイト等のプラスチック基板に、光記録材料を挟み、光照射もしくは加熱により、光記録材料の一部を硬化させて、比較的厚い光情報記録層を有する光記録媒体を作成する方法も提案されている（非特許文献１）。しかし、厚い光情報記録層の側縁部における水分や酸素の侵入、あるいは光記録材料が流出等の問題については、考慮されていない
【特許文献１】特開２００１−５３６８号公報（請求項１、請求項９、図１）
【非特許文献１】Kevin Curtis, INFORMATION STRAGE WEEK 2004 [INTERNATIONAL DISK FORUM],S1-55(Page 14), 2004
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、本発明では、比較的厚い光情報記録層を有する光記録媒体における、側縁部からの水分や酸素等の侵入、あるいは光記録材料の漏出等によって生じる問題を解決し、安定した情報の記録および再生を可能にする光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するために、本発明の光記録媒体は、厚さ５０μｍ以上の２枚の光透過性基板と、前記２枚の光透過性基板の間に介設され、記録光によって情報が記録される光記録材料からなる厚さ１００μｍ以上の光情報記録層とで構成される積層体からなる光記録媒体であって、前記積層体の側縁部を被覆して、前記光透過性基板および光情報記録層の縁部が露出されないようにしたことを特徴とする。
【００１１】
本発明において、「記録光」とは、光情報記録層を形成する光記録材料を反応または変化させて情報を記録するために光情報記録層に照射される光を言い、例えば、ホログラムによる記録および再生に用いられる光記録媒体においては、参照光および物体光を言う。また、「光透過性」とは、少なくとも記録光（参照光、物体光）の透過率が８０％以上であることを言う。
【００１２】
本発明の光記録媒体では、２枚の光透過性基板と、その光透過性基板の間に介設された光情報記録層とで構成される積層体からなる光記録媒体において、積層体の側縁部を被覆して、前記光透過性基板および光情報記録層の縁部が露出されないようにしたことによって、側縁部からの水分や酸素等の侵入および光記録材料の漏出等によって生じる弊害を防止することが可能となる。
【００１３】
また、本発明は、前記光記録媒体の製造方法として、２枚の光透過性基板の間に、光情報記録層が介設された構造の積層体を形成する工程と、前記積層体の側縁部に保護被膜を形成する工程とを含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法を提供する。
この製造方法によって、前記光記録媒体を容易に製造することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の光記録媒体は、比較的厚い光情報記録層の側縁部からの水分や酸素の侵入による光情報記録層の吸湿膨張や収縮、側縁部の内側近傍の光記録材料の酸化による劣化や反応性低下を防止することができる。また、光情報記録層の側縁部からの光記録材料の漏出や、光情報記録層の剥れ、また、モノマーの蒸発による記録特性の低下を防止して、安定した情報の記録および再生が可能になる。
また、本発明の製造方法によれば、前記の特徴を有する光記録媒体を容易に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る、ホログラフィック記録用の光記録媒体ＯＭ１の概略斜視図である。
【００１６】
図１に示す光記録媒体ＯＭ１は、光透過性基板１、２と、図２に示す模式断面図のとおり、その光透過性基板１と光透過性基板２の間に介設された光情報記録層３とを有し、中心にホログラムによる記録および再生の際に、光記録媒体ＯＭ１を回転するための駆動機構（図示せず）の嵌装孔６が穿設された円盤状の積層体で構成される。光情報記録層３と、光透過性基板１，２との間に、反射層、熱伝導層、サーボ信号記録層などを、必要に応じて設けてもよい。そして、この積層体の側縁部、すなわち、外周縁部および内周縁部には、それぞれ外周保護被膜４および内周保護被膜５が設けられ、光透過性基板１，２および光情報記録層３の側縁が被覆されている。なお、この実施形態の光記録媒体ＯＭ１を構成する積層体において、外周縁部および内周縁部が請求項１における側縁部に該当し、外周保護被膜４および内周保護被膜５が請求項２における保護被膜に該当する。
【００１７】
光透過性基板１、２は、特に限定されず、天然または合成の有機合成樹脂からなるフィルムまたはシートで構成される。例えば、ガラス等の無機物、ポリカーボネート（以下、「ＰＣ」と略す。）、トリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」と略す。）、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」と略す。）、ポリフェニレンスルフィド（以下、「ＰＰＳ」と略す。）、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アモルファスポリオレフィン等の有機合成樹脂等が挙げられる。特に、複屈折が低いことから、ガラス、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＴＡＣなどが好ましい。この光透過性基板１と光透過性基板２とは、同一の材料で形成されていてもよく、また、異なる材料で形成されていてもよい。また、光透過性基板１，２の表面には、反射防止コーティングが施されていることが望ましい。さらに、酸素透過防止コーティング、ＵＶカットコーティング等を、必要に応じて、光透過性基板１，２の表面に施してもよい。
【００１８】
光透過性基板１は、光情報記録層３に接する表面１ａ（図２参照）に、反射層を設けてもよく、反射層は、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｃｒ等の元素成分を単独もしくは他の元素を含んだ状態でスパッタリングしたものを用いて形成されることが好ましい。
【００１９】
また、光透過性基板１、２は、取り扱い時の剛性の観点から、厚さが５０μｍ以上の比較的厚みのあるものであり、５０〜１５００μｍ程度の厚さであることが好ましい。
【００２０】
さらに、光透過性基板１の光情報記録層３と接する表面１ａに、トラッキング・サーボ、フォーカス・サーボ等のサーボ制御を行うための情報、また、光情報記録層のアドレスを識別する情報などを示す凸凹プリフォーマットパターンや、ピットからなるサーボ信号記録領域を予め形成しておいてもよい。これによって、ホログラムメモリにおいて、光情報記録層における参照光および情報光の干渉による干渉縞の形成が正確に行われ、光情報を正確に記録することが可能となる。また、再生においても、参照光による光情報の再生を正確に行うことが可能となる。このサーボ信号記録領域に記録する情報は、光情報記録層３を構成する光記録材料が吸収しない６００ｎｍ以上のレーザを使用して再生される。また、光情報記録層３の上に、酸素遮断のための保護層を設けてもよい。
【００２１】
光情報記録層３は、記録光が照射されたときに光情報記録層３内に形成される干渉縞の明暗に沿って、屈折率、透過率、誘電率、反射率、吸収率等の光学的特性が変化する光記録材料で形成される。
【００２２】
この光記録材料の具体例として、ハロゲン化銀や重クロム酸ゼラチン、フォトリフラクティブ材料、フォトクロミック材料、フォトポリマ材料などが挙げられる。これらの中でも、フォトポリマ材料は、高回折効率が得られること、低ノイズであること、記録後に完全に定着をすれば保存安定性が良好である特徴を有し、研究開発が進められている。このフォトポリマ材料は、通常、バインダ、重合性モノマー、増感色素、重合開始剤などを含有する。バインダと重合性モノマーは屈折率の異なるものを使用することが望ましい。光情報の記録時において、光記録媒体の光情報記録層３内に干渉縞が形成されると、干渉縞の明部においては、増感色素が励起されて電子を放出する。放出された電子は、重合開始剤に移動してラジカルを発生させ、このラジカルが重合性モノマーに移動して重合が開始される。重合性モノマーによっては、酸発生剤で重合を起こすものもある。その結果、干渉縞の明部ではモノマーリッチに、干渉縞暗部ではバインダリッチな構成になり、屈折率差が干渉縞として光記録媒体内に記録される。光情報の記録に使用されなかった重合性モノマーは、記録後にレーザや白色光源を用いて全面露光され、定着処理される。また、素材によっては、熱処理によって定着される場合もある。
【００２３】
バインダは、透過率が高く、複屈折の低いものが望ましい。バインダの具体例としては、塩素化ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレートと他の（メタ）アクリル酸アルキルエステルの共重合体、塩化ビニルとアクリロニトリルの共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、アセチルセルロース、ポリカーボネートなどが挙げられる。
【００２４】
フォトポリマ材料の場合には、バインダとモノマの屈折率差で記録がなされるため、記録に適した屈折率を有するモノマーが使用される。重合性モノマーは、重合性基があれば、特に限定はされない。例えば、ラジカル重合性モノマー、カチオン重合性モノマーもしくは両モノマーを併用してもよく、具体的には，エポキシ基、エチレン性不飽和基等の重合性基を含む化合物が挙げられる。これらの重合性基を分子内に１つ以上含む重合性モノマーが使用され、分子内に２つ以上の重合性基が含まれる場合は、２つ以上の重合性基は異なるものでもよいし、同じものでもよい。
【００２５】
また、上記の物質以外でも、干渉縞の明暗に沿って素材の物性が変化し、屈折率差や透過率差などが生じる物質であれば、光記録材料として用いることができる。例えば、色素の発色や消色に伴う屈折率変化を生じるものを用いることができる。また、これらの組み合わせ、例えば、光の照射によって発色または消色する色素とフォトポリマ−を含む組成物、フォトリフラクティブ材料とフォトポリマ−を含む組成物なども、ホログラム記録材料として用いることができる。
【００２６】
増感色素は、記録光の波長に吸収ピークを有するものが使用され、記録光の波長における色素自体の光吸収係数εが低いものが好ましい。この増感色素としては、シアン系、メロシアン系、フタロシアン系、アゾ系、アゾメチン系、インドアニリン系、キサンテン系、クマリン系、ポリメチン系、ジアリルエテン系、フルギドフルオラン系、アントラキノン系、スチリル系等の公知の有機色素を用いることができる。
【００２７】
さらに、重合開始剤は、８０℃以下で熱不活性であり、適当な遊離ラジカルを発生するものであれば、特に制限されない。また、カチオン重合性の重合性モノマーを用いる場合は、酸発生剤を用いることが好ましい。
【００２８】
この光記録材料は、増感剤、光学的増白剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、連鎖移動剤、可塑剤、着色剤等のこの種の光記録媒体の光情報記録層の形成に常用されるものを、必要に応じて含んでいてもよい。
【００２９】
光情報記録層３の厚さは、１００μｍ以上、好ましくは１００μｍ〜２ｍｍ、さらに好ましくは５００μｍ〜１．５ｍｍである。１００μｍ未満であると、ホログラムメモリ等の高記録密度および高容量の３次元光記録を行うことが困難となる。
【００３０】
また、光記録媒体ＯＭ１を構成する積層体の側縁部、すなわち、外周縁部および内周縁部に設けられる外周保護被膜４および内周保護被膜５は、光透過性基板１，２および光情報記録層３の側縁を被覆することによって、１００μｍ以上の比較的厚い光情報記録層の側縁部からの水分や酸素の侵入による光情報記録層の吸湿膨張や収縮、側縁部の内側近傍の光記録材料の酸化による劣化や反応性低下を防止することができる。また、光情報記録層の側縁部からの光記録材料の漏出や、光情報記録層の剥れ、また、モノマーの蒸発による記録特性の低下を防止して、安定した情報の記録および再生が可能になる。
【００３１】
この外周保護被膜４および内周保護被膜５（保護被膜）は、光透過性基板１，２の側縁および光情報記録層３の側縁を保護して、側縁部からの水分や酸素の侵入、側縁部からの光記録材料の漏出や、光情報記録層の剥れ、また、モノマーの蒸発等を防止できる被膜であれば、特に限定されないが、保護被膜の形成が容易であることから、光重合性樹脂もしくは熱重合性樹脂等の被膜形成材料で形成されていることが好ましい。
【００３２】
光重合性樹脂としては、常用の紫外線硬化剤などが使用できる。例えば、大日本インク社製「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」、ＳＫＣ社製「ＳＫＣＤ１０５１」などが挙げられる。
また、熱重合性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、イソシアネート樹脂等が使用できる。
本発明において、保護被膜は、これらの光重合性樹脂または熱重合性樹脂を１種単独でもしくは２種以上を混合して用いてもよい。また、光重合性樹脂や熱重合性樹脂以外にも、前記のバインダの具体例として例示した樹脂を用いることができる。その場合は、光記録媒体ＯＭ１の側縁部の屈折率と、光透過性基板１，２および光情報記録層３の屈折率とは、記録光による光情報記録層３への情報の記録に際して、光透過性基板１，２および光情報記録層３での記録光の光路を適切に維持するため、近接した値であることが好ましい。例えば、ホログラムメモリの光記録媒体において、屈折率差で記録を行う場合には、側縁部に屈折率が極端に異なる部分があると、本来、記録光が透過するはずの部分で反射が起こって、側縁部の内側近傍における記録特性に悪影響を及ぼす。そこで、保護被膜の屈折率は、光透過性基板１，２や光情報記録層３の平均屈折率と近い方がよい。したがって、外周保護被膜４および内周保護被膜５（保護被膜）の屈折率ｎＡと、前記光透過性基板の屈折率ｎＢとは、０．８≦ｎＡ／ｎＢ≦１．２であることが好ましい。また、外周保護被膜４および内周保護被膜５（保護被膜）の屈折率ｎＡと、光情報記録層の平均屈折率ｎＣとは、０．８≦ｎＡ／ｎＣ≦１．２であることが好ましい。
【００３３】
また、外周保護被膜４および内周保護被膜５（保護被膜）は、側縁部からの望ましくない光の侵入を阻止して光記録材料の望ましくない感光を抑制することが、安定した光情報の記録を可能にする観点から、有効である。例えば、ホログラム光記録媒体に用いる光記録材料は、非常に感度が高いため、通常、この種の光記録媒体は、遮光カートリッジに収納することが望ましいが、カートリッジの構造は通常いくつかの部分から成り立っており、隙間からもれる光をゼロにすることは難しい。そこで、光記録媒体ＯＭ１の側縁部は、光透過性基板１，２と光情報記録層３の側縁が露出される部分であるため、この部分から光が侵入すると、侵入した光によって光記録材料が感光してしまうおそれがある。そこで、側縁部からの光の侵入を阻止して望ましくない感光を最小限に抑制するため、外周保護被膜４および内周保護被膜５（保護被膜）は、前記記録光を吸収する色素または顔料を含むことが好ましい。
【００３４】
色素としては、例えば、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ピリリウム系、アズレニウム系、スクワリリウム系、インドフェノール系、インドアニリン系、トリアリールメタン系等の公知の有機色素を用いることができる。これらの色素は、１種単独であるいは２種以上を併用してもよい。
【００３５】
顔料としては、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の非磁性無機化合物、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂粒子などが使用できる。無機化合物の具体例としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデン、酸化亜鉛、酸化インジウム、カーボンブラック、チタンバイド、ＩＴＯ(酸化錫−酸化インジウム)などが挙げられる。これらの顔料は、１種単独でまたは２種以上を組合せて使用することができる。
【００３６】
さらに、外周保護被膜４および内周保護被膜５（保護被膜）の厚さは、通常、１０ｎｍ〜５ｍｍである。
【００３７】
前記第１の実施形態の光記録媒体ＯＭ１は、回転円盤状の記録媒体の例であるが、本発明の光記録媒体は、この第１の実施形態に限定されず、カード型、小型チップ型、直方体型等の各種の形態のものでもよい。例えば、図３に示す第２の実施形態のように、光透過性基板１、光情報記録層、光透過性基板２の順に積層された構造を有し、光透過性基板１，２および光情報記録層からなる積層体の外周側縁部に外周保護被膜４を有するカード型の光記録媒体ＯＭ２が挙げられる。この光記録媒体ＯＭ２においても、光透過性基板１と光情報記録層の間に反射層、および光情報記録層と光透過性基板２の間に保護層等を設けてもよい。
【００３８】
さらに、前記の第１の実施形態および第２の実施形態は、ホログラフィック記録用の光記録媒体を例として説明したが、本発明は、ホログラフィック記録用の光記録媒体に限定されず、他の３次元光記録媒体、例えば、２光子吸収等を用いた多層光メモリによる光記録媒体等の各種の光記録媒体に適用可能である。さらに、光記録媒体以外にも、セキュリティ用途のカード、イメージング用媒体等としても使用でき、これらの用途の媒体、カード等の作成において、前記実施形態を適用できる。
【００３９】
この光記録媒体ＯＭ１またはＯＭ２は、２枚の光透過性基板１，２の間に、光情報記録層３が介設された構造の積層体を形成し、さらに、その積層体の側縁部（光記録媒体ＯＭ１の外周縁部および内周縁部、光記録媒体ＯＭ２の外周側縁部）に保護被膜（外周保護被膜４および内周保護被膜５、または外周保護被膜４）を形成することによって製造することができる。例えば、光透過性基板１の片面に、光記録材料を塗布して光情報記録層３を形成する工程と、前記光情報記録層の上に、もう１枚の光透過性基板２を貼り合わせる工程と、２枚の光透過性基板１，２の間に光情報記録層３が挟まれた構造の積層体の側縁部に保護被膜を形成する工程を含む方法が挙げられる。光透過性基板１，２は、所定の形状に成形しておき、光透過性基板１の片面に光情報記録層３を形成した後、光透過性基板２を貼り合わせて、所定の形状の光記録媒体を製造することもできるし、光透過性基板１、２の間に光情報記録層３を形成した後、打ち抜き、切断等の方法によって所定の形状に成形する。光記録媒体は、その用途にしたがって、ディスク状（光記録媒体ＯＭ１）、カード状（光記録媒体ＯＭ２）などの所定の形状に成形される。さらに、２枚の光透過性基板１，２の間に、光情報記録層３が介設された構造の積層体の側縁部（光記録媒体ＯＭ１の外周縁部および内周縁部、光記録媒体ＯＭ２の外周側縁部）に保護被膜（外周保護被膜４および内周保護被膜５、または外周保護被膜４）を形成して光記録媒体ＯＭ１，ＯＭ２を製造することもできる。
【００４０】
光透過性基板１の上に光情報記録層３を形成する工程は、光透過性基板１の上に、光記録材料を含む塗布液を所定の厚さに塗布あるいは形成した後、乾燥して光情報記録層３を形成することによって行なうことができる。また、光透過性基板１の上に光記録材料を含む塗布液を塗布して乾燥する工程を繰返して所定の厚さの光情報記録層３を形成することによって行なってもよい。また、光情報記録層３の形成に溶剤を用いない場合は、光記録材料を含む塗布液を光透過性基板１の上に塗布あるいは形成した後、乾燥しないで、そのまま光情報記録層３を形成することができる。
【００４１】
光記録材料を含む塗布液は、前記の光記録材料および必要に応じて配合されるその他の成分を混合し、溶剤を加えて撹拌することによって調製することができる。この塗布液の調製は、光記録材料の硬化を防止するため、赤色灯等の暗室照明下で行うことが好ましい。
【００４２】
用いられる溶剤としては、用いる光記録材料を十分に溶解し、良好な塗膜性を与えるものであれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレングリコール系溶剤、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレートエチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶剤、ブタノール、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール等のアルコール系溶剤、メチルイソブチルケトン、ジメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドＮ−メチルピロリドン等の高極性溶剤、あるいはこれらの混合溶剤、さらには、アセトニトリル等のシアン化炭化水素、これらに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられる。また、これら以外にも、ハロゲン化炭化水素系溶剤、例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン等を用いることも可能である。溶剤の割合は、記録材料の総量に対して、通常、質量割合で１０〜９０倍程度の範囲である。溶剤は、沸点が１００℃以下のものが望ましい。
【００４３】
また、塗布液の粘度は、用いる塗布方法によって適宜調整されるが、通常、０．１〜５０Ｐｓ程度である。
【００４４】
光透過性基板１への塗布液の塗布方法は、ディップコート法、コータ、ロッド、コイルバー、ギーサー、ブレード器、スピンコート等によって行うことができる。特に、均一かつ厚い光情報記録層を得るためには、コイルバーまたはロッドを用いて塗布する方法が好ましい。
【００４５】
また、保護被膜（光記録媒体ＯＭ１の外周保護被膜４および内周保護被膜５、または光記録媒体ＯＭ２の外周保護被膜４）の形成は、側縁部（光記録媒体ＯＭ１の外周縁部および内周縁部、光記録媒体ＯＭ２の外周側縁部）に、前記光重合性樹脂、熱重合性樹脂等の被膜形成材料、および必要に応じて、前記色素または顔料等を含む塗布液を塗布して、被膜形成材料を硬化させることによって、行なうことができるできる。また、光重合性樹脂や熱重合性樹脂以外の樹脂を用いる場合は、樹脂溶液の溶剤を乾燥させることにより、保護被膜を形成することができる。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明の実施例および比較例により本発明を具体的に説明する。
【００４７】
＜塗布液Ａの調整＞
表１に示すバインダ、モノマー、重合禁止剤（モノマー中に含有されている）、増感色素および重合開始剤を、赤色灯下で秤量して褐色ナス型フラスコに入れるとともに、さらに溶剤としてジクロロメタンを入れ、スターラを用いて３時間攪拌し、下記表１に示す処方の光記録材料を含む塗布液Ａを得た。この塗布液Ａの粘度は、２１[Ｐｓ]であった。
【００４８】
【表１】
2006085762.tif 000003
【００４９】
注）
ＣＡＢ５３１−１：セルロースアセテートブチレート（イーストマンケミカル社製）
ＰＯＥＡ：アクリル酸２−フェノキシエチル(ＣａｓＮｏ.４８１４５−０４−６)
ＭＥＨＱ：４−メトキシフェノール(ＣａｓＮｏ.１５０−７６−５)
ＤＥＡＷ：シクロペンタノン−２,５−ビス[[４−(ジエチルアミノ)フェニル]メチレン](ＣａｓＮｏ.３８３９４−５３−５)
ＭＢＯ：２−メルカプトベンズオキサゾール(ＣａｓＮｏ.２３８２−９６−９)
ｏ−Ｃｌ−ＨＡＢＩ：２，２−ビス[ｏ−クロロフェニル]−４，４，５，５−テトラフェニル−１，１−ビイミダゾール(ＣａｓＮｏ.１７０７−６８−２)
【００５０】
透明基板（ポリカーボネート、厚さ８０μｍ）の上に、１００μｍのクリアランス（ギャップ長）のコータを用いて塗布液Ａを塗布して、４０℃で３分間乾燥した。さらに、引き続いて、塗布液Ａの塗布および乾燥を行う工程を２回繰返して、透明基板の上に厚さが１２０μｍの光情報記録層を形成した。次に、この光情報記録層の上に、ガラス基板（厚さ：１ｍｍ）を貼り合わせた。
【００５１】
次に、バインダ（ＣＡＢ５３１−１）を２０質量％含むジクロロメタン溶液を調整し、この溶液を、透明基板、光情報記録層およびガラス基板の側縁部に筆を用いて塗布し、コーティング処理を行なって、光記録媒体のサンプルを製造した。
【００５２】
（実施例２）
＜塗布液Ｂの調整＞
バインダ、酸で消色する色素、酸発生剤、および増感色素を赤色灯下で秤量して褐色ナス型フラスコに入れるとともに、さらに溶剤を入れ、スターラを用いて３時間攪拌し、下記表２に示す処方の光記録材料を含む塗布液Ｂを得た。
【表２】
2006085762.tif 000004
【００５３】
ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレート（Aldrich社製、Ｍｗ：９９６０００）
色素Ａ：下記式（ａ）で表わされる第４級アンモニウム塩
酸発生剤Ａ：ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロりん酸
(ＣａｓＮｏ.５８１０９−４０−３)
色素Ｂ：下記式（ｂ）で表わされるＲｕ錯体化合物
【化１】
2006085762.tif 000005
【００５４】
透明基板（ポリカーボネート、厚さ８０μｍ）の上に、３００μｍのクリアランス（ギャップ長）のコータを用いて塗布液Ｂを塗布して乾燥した。引き続いて、塗布液Ｂの塗布および乾燥を行う工程を２回繰返して、透明基板の上に光情報記録層を形成した。次に、この光情報記録層の上に、ガラス基板（厚さ：１ｍｍ）を貼り合わせた。
【００５５】
次に、バインダ（ＰＭＭＡ）を２０質量％含むジクロロメタン溶液を調整し、この溶液を、透明基板、光情報記録層およびガラス基板の側縁部に筆を用いて塗布し、コーティング処理を行なって、光記録媒体のサンプルを製造した。
【００５６】
この塗布液Ｂによって形成された光情報記録層においては、干渉縞明部において、レーザにより増感色素Ａが励起され、励起された色素から電子が放出される。放出された電子は酸発生剤に移動して、酸発生剤より酸が発生する。この酸により、増感色素とは異なる色素Ｂ（酸により消色する色素）が消色し、屈折率が変化する。このように、干渉縞明部の色素を消色することにより、屈折率変調を起こし、ホログラムが記録される。
【００５７】
（比較例１）
側縁部のコーティング処理を行なわなかった以外は、実施例１と同様にして、光記録媒体のサンプルを製造した。
【００５８】
（比較例２）
側縁部のコーティング処理を行なわなかった以外は、実施例２と同様にして、光記録媒体のサンプルを製造した。
【００５９】
＜評価＞
実施例１〜２、比較例１〜２で得られた光記録媒体のサンプルについて、光情報記録層の厚さおよび遮光保存の前後の回折効率を下記の方法に従って測定した。結果を表３に示す。
【００６０】
回折効率
製造直後の光記録媒体サンプルと、遮光して３日間保存した後の光記録媒体サンプルとについて、それぞれ回折効率の測定を行なった。
【００６１】
図４に示すとおり、ＹＡＧレーザ源３１から、対物レンズ３２、レンズ３３、ビームスプリッタ３４およびミラー３５を介して、光記録媒体３６（サンプル）の表面Ａに照射される波長５３２ｎｍのＹＡＧレーザ光Ｌ１を用いて、光記録媒体３６の表面に、入射角度１５度でスポット径８ｍｍφ、出力３ｍＷ／ビーム、記録エネルギ２０００[ｍＪ／ｃｍ2]で、記録を行った。
【００６２】
次に、Ｈｅ−Ｎｅレーザ源３８からミラー３９およびミラー４０を介して、波長６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザ光Ｌ２を、記録媒体３６の裏面Ｂに入射角度１８度で照射して、露光量に対する回折効率の変化を観測した。このとき、回折効率は、記録媒体３６の表面Ａの側に設けられたパワーメータ４１によって測定されるＨｅ−Ｎｅレーザの回折光の光量と、記録媒体３６の裏面Ｂに入射するＨｅ−Ｎｅレーザの入射光量（Ｈｅ−Ｎｅレーザ源３８からの出射光量）とから下記の式によって求めた。
回折効率（％）＝回折光の光量／入射光量×１００
【００６３】
光情報記録層の厚さ
ソニー社製DIGITAL MICROMETERを用いて、光情報記録層の厚さを測定した。厚さは、まず、サンプル全体の厚さを測定し、透明基板とガラス基板の厚さを差し引いて求めた。
【表３】
2006085762.tif 000006
【００６４】
表３に示すとおり、実施例１では、遮光保存後のサンプルは、保存前と同じ約３０％の回折効率を示した。また、実施例２のサンプルは、遮光保存後においても、保存前と同じ約２０％の回折効率を示した。これに対して、側縁部が保護被膜を有しない比較例１のサンプルでは、遮光保存後、約５％の回折効率を示し、実施例１と比較して、回折効率が低下しているのが確認された。これは、側縁部から未反応モノマーが蒸発したことにより、回折効率が低下したと考えられる。また、比較例２のサンプルでは、遮光保存後、約３％の回折効率を示し、実施例２と比較して、回折効率が低下しているのが確認された。これは、側縁部で空気中の水分や二酸化炭素と反応して、色素Ｂが消色したためと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光記録媒体を示す斜視図である。
【図２】図１に示す光記録媒体の構造を示す模式断面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態に係る光記録媒体を示す斜視図である。
【図４】回折効率の測定方法を説明する模式図である。
【図５】従来の光記録媒体の構造例を示す分解斜視図である。
【符号の説明】
【００６６】
１      光透過性基板
２      光透過性基板
３      光情報記録層
４      外周保護被膜
５      内周保護被膜
【図１】
2006085762.tif 000007
【図２】
2006085762.tif 000008
【図３】
2006085762.tif 000009
【図４】
2006085762.tif 000010
【図５】
2006085762.tif 000011