(57)【要約】【課題】  保護フィルムの弾性の影響を排して形状ズレの発生を抑制すると共に、低融点合金からなるブロックとの保持固定が良好なプラスチックレンズの保護層の形成方法及びプラスチックレンズを提供する【解決手段】  プラスチックレンズ基材１の保持媒体としてのブロック５側のレンズ基材表面１ｂに、レンズ基材表面１ｂから順に、基材厚さが０．０２〜０．０８ｍｍのフィルム基材とフィルム基材の一方の面に粘着剤が塗布された粘着層とからなる保護フィルム２と、ヘアスプレーをスプレー塗布して形成される保護膜３とからなる保護層４を形成し、保護層４が形成されたプラスチックレンズ基材１を、ブロック５を介して保持具６に固定し、加工装置に取付けて研磨又は研削加工してプラスチックレンズを得る。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
保持媒体を介して保持具に固定されるプラスチックレンズ基材を研磨又は研削してプラスチックレンズを得る方法において、
前記プラスチックレンズ基材の前記保持媒体側のレンズ基材表面に、
前記レンズ基材表面から順に、保護フィルムと、アクリル系高分子化合物混合溶剤をスプレー塗布して形成される保護膜とからなる保護層が形成されたことを特徴とするプラスチックレンズの保護層の形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載のプラスチックレンズの保護層の形成方法において、
前記保護フィルムは、フィルム基材と該フィルム基材の一方の面に粘着剤が塗布された粘着層とからなり、
前記フィルム基材の基材厚さが、０．０２〜０．０８ｍｍであることを特徴とするプラスチックレンズの保護層の形成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラスチックレンズの保護層の形成方法において、
前記アクリル系高分子化合物混合溶剤は、少なくともアクリル酸アルキル／ジアセトンアクリルアミド−コポリマーＡＭＰ、アクリル酸ヒドロキシエチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸メトキシエチル−コポリマー、あるいはアクリルアミド／アクリルＤＭＡＰＡ／メタクリル酸メトキシＰＥＧ−コポリマーのいずれか１種類以上を含み、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ラノリン酸脂肪オクチルドデシルとともに可溶化剤に溶化された液を、噴射ガスにより噴射してスプレー塗布することを特徴とするプラスチックレンズの保護層の形成方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のプラスチックレンズの保護層の形成方法を用いたプラスチックレンズ基材を、研磨又は研削して得られたプラスチックレンズ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックレンズ基材の研削又は研摩に際して、プラスチックレンズ基材を加工用治具に保持するための保護層の形成方法、及びプラスチックレンズに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レンズの研摩加工や研削加工は、レンズ基材を低融点合金からなるブロックを介して保持具に位置決め固定し、保持具に固定されたレンズ基材を加工装置に装着して行われている。特に、レンズ基材がプラスチックの場合の保持具への位置決め固定は、加工時における傷の発生の防止と共に、レンズ基材に加わる応力の緩和を目的として、プラスチック基材の非加工面（被保持面）の表面に保護層として保護フィルムを貼着し、貼着された保護フィルムと前記低融点合金からなるブロックを介して固定されている。
また、保護フィルムを用いる他に、水溶性の樹脂を含む流動体を塗布して樹脂被膜を形成し、乾燥させて保護膜を形成する保護層の形成方法、および保護フィルムを貼り付けると共に、前記保護膜を形成して保護層を構成する保護層の形成方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２０２６７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に示される保護膜を形成する流動体は、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、水を含むことから、乾燥性に劣り、しかも塗布ムラも発生し易いために、研摩加工時にレンズ基材を保持するブロックからの剥がれが発生することがある。
また、保護フィルムの基材厚さが０．１〜０．４ｍｍと厚いために、その厚さが弾力となり、研磨加工するレンズ基材に逃げを生じる、あるいは研削加工するレンズ基材に窪みを生じることにより、所定の面形状に加工できない形状ズレを発生する要因となっている。
【０００５】
そこで本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、保護フィルムの弾性の影響を排して形状ズレの発生を防ぐと共に、低融点合金からなるブロックとの保持固定が良好なプラスチックレンズの保護層の形成方法及びプラスチックレンズを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明のプラスチックレンズの保護層の形成方法は、保持媒体を介して保持具に固定されるプラスチックレンズ基材を研磨又は研削してプラスチックレンズを得る方法において、前記プラスチックレンズ基材の前記保持媒体側のレンズ基材表面に、前記レンズ基材表面から順に、保護フィルムと、アクリル系高分子化合物混合溶剤をスプレー塗布して形成される保護膜とからなる保護層が形成されたことを特徴とする。
【０００７】
これによれば、保持媒体を介して保持具に固定されるプラスチックレンズ基材を、研磨又は研削してプラスチックレンズを得るに際して、プラスチックレンズ基材の保持媒体側のレンズ基材表面に、レンズ基材表面から順に、保護フィルムと、アクリル系高分子化合物混合溶剤をスプレー塗布して形成される保護膜とからなる保護層が形成されることにより、プラスチックレンズ基材に傷を付けることなく研磨又は研削することができる。また、保護膜がアクリル系高分子化合物混合溶剤をスプレー塗布して形成されることで、アクリル系高分子化合物混合溶剤の一種であるヘアスプレーの毛髪固定用高分子化合物が毛髪を密着固定させるのと同様に、プラスチックレンズ基材上の保護フィルムが保持媒体と密着固定され、剥離することなく研磨又は研削の加工を行うことができる。さらに、保護膜の形成方法がスプレー塗布であることで、保護膜の乾燥時間も短く、しかもスピンコーティング装置等が不要であり、加工の作業性が改善される。
【０００８】
また、本発明プラスチックレンズの保護層の形成方法は、前記保護フィルムは、フィルム基材と該フィルム基材の一方の面に粘着剤が塗布された粘着層とからなり、前記フィルム基材の基材厚さが、０．０２〜０．０８ｍｍであることを特徴とする。
これによれば、保護フィルムがフィルム基材と該フィルム基材の一方の面に粘着剤が塗布された粘着層とからなり、フィルム基材の基材厚さが、０．０２〜０．０８ｍｍであることにより、基材が薄いことから、フィルム基材の弾力が抑制され、研磨又は研削されるプラスチックレンズ基材のレンズ基材表面が、所定の面形状に加工できない形状ズレの発生を防ぐことができる。
【０００９】
また、本発明プラスチックレンズの保護層の形成方法は、前記アクリル系高分子化合物混合溶剤は、少なくともアクリル酸アルキル／ジアセトンアクリルアミド−コポリマーＡＭＰ、アクリル酸ヒドロキシエチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸メトキシエチル−コポリマー、あるいはアクリルアミド／アクリルＤＭＡＰＡ／メタクリル酸メトキシＰＥＧ−コポリマーのいずれか１種類以上を含み、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ラノリン酸脂肪オクチルドデシルとともに可溶化剤に溶化された液を、噴射ガスにより噴射してスプレー塗布することを特徴とする。
【００１０】
これによれば、保護膜を形成するアクリル系高分子化合物混合溶剤が、少なくともアクリル酸アルキル／ジアセトンアクリルアミド−コポリマーＡＭＰ、アクリル酸ヒドロキシエチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸メトキシエチル−コポリマー、あるいはアクリルアミド／アクリルＤＭＡＰＡ／メタクリル酸メトキシＰＥＧ−コポリマーのいずれか１種類以上を含み、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ラノリン酸脂肪オクチルドデシルとともに可溶化剤に溶化された液を、ＬＰＧ（液化石油ガス）等の噴射ガスにより噴射してスプレー塗布することにより、プラスチックレンズ基材上の保護フィルムが保持媒体と密着固定され、剥離することなく研磨又は研削の加工を行うことができる。
【００１１】
また、保護膜の形成方法がスプレー塗布であることで、保護膜の乾燥時間も短く、しかもスピンコーティング装置等が不要であり、加工の作業性が改善される。さらに、アクリル系高分子化合物混合溶剤の成分中に水溶性が高いアクリル酸アルキル／ジアセトンアクリルアミド−コポリマーＡＭＰ、アクリル酸ヒドロキシエチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸メトキシエチル−コポリマー、あるいはアクリルアミド／アクリルＤＭＡＰＡ／メタクリル酸メトキシＰＥＧ−コポリマーのいずれか１種類以上を含むことにより、研摩又は研削の加工終了後に、水または温水に浸漬することで、プラスチックレンズ基材を保持媒体から容易に取り外すことができる。また、アクリル系高分子化合物混合溶剤の成分中に含まれるＰＶＰにより密着固定が助長される。
【００１２】
また、本発明のプラスチックレンズは、保持媒体を介して保持具に固定されるプラスチックレンズ基材の保持媒体側のレンズ基材表面に、基材厚さが０．０２〜０．０８ｍｍのフィルム基材とフィルム基材の一方の面に粘着剤が塗布された粘着層とからなる保護フィルム上に、少なくともアクリル酸アルキル／ジアセトンアクリルアミド−コポリマーＡＭＰ、アクリル酸ヒドロキシエチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸メトキシエチル−コポリマー、あるいはアクリルアミド／アクリルＤＭＡＰＡ／メタクリル酸メトキシＰＥＧ−コポリマーのいずれか１種類以上を含み、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ラノリン酸脂肪オクチルドデシルとともに可溶化剤に溶化され、ＬＰＧ（液化石油ガス）等の噴射ガスにより噴射されるアクリル系高分子化合物混合溶剤を、スプレー塗布して形成された保護膜からなる保護層の形成方法を用いて、保護層が形成されたプラスチックレンズ基材を、研磨又は研削して得られることを特徴とする。
【００１３】
これによれば、プラスチックレンズ基材の保持媒体側のレンズ基材表面に、フィルム基材の基材厚さが、０．０２〜０．０８ｍｍの保護フィルムと、アクリル系高分子化合物混合溶剤がスプレー塗布された保護膜とで保護層が形成されることで、プラスチックレンズ基材に傷を付けることなく研磨又は研削することができると共に、プラスチックレンズ基材上の保護フィルムが保持媒体と密着固定され、保持媒体が剥離することなく研磨又は研削の加工を行うことができる。また、保護フィルムのフィルム基材の厚さが、０．０２〜０．０８ｍｍと薄いことから、フィルム基材の弾力が抑制され、形状ズレの発生がなく、研磨又は研削されるプラスチックレンズ基材のレンズ基材表面が、狙いとする所定の面形状に加工され、高品質のしかも加工歩留りが向上したプラスチックレンズが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１は保護層が形成されたプラスチックレンズ基材が加工用治具に位置決め固定された状態を示す断面図であり、図２は加工用治具に位置決め固定されたプラスチックレンズ基材を研磨する態様を示す模式図である。なお、各図面において、説明の便宜のために各構成要素の寸法や比率を実際のものとは異ならせてある。
【００１５】
図１において、研磨されるプラスチックレンズ基材（以降、レンズ基材と表記する）１は、保護層４と保持媒体としてのブロック５を介して保持具６に位置決め固定されている。このブロック５と保持具６とが加工用治具を構成している。
レンズ基材１は、一方の研磨されるレンズ基材表面１ａと、他方の被保持面としてのレンズ基材表面１ｂとからなる円形のセミフィニッシュレンズであり、レンズ基材表面１ｂ上に、レンズ基材表面１ｂ側から順に保護フィルム２と保護膜３からなる保護層４が形成されている。
【００１６】
レンズ基材１のレンズ素材は、プラスチックレンズ等の研摩を要する光学部材形成用のものであれば特に制限されず、例えばジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）を挙げることができる。また、ＣＲ−３９の他に、２個以上のイソシアナート基を有するポリイソシアナートと２個以上の活性水素を有する化合物とを主成分とする重合性モノマーを主成分とする高屈折率素材、あるいは単官能又は多官能の反応基を有するもので、分子内に一つ又は二つ以上のラジカル重合性二重結合を有する化合物等の光硬化型の素材等を例示することができる。
なお、プラスチックレンズとして、カメラレンズ、眼鏡レンズ等を挙げることができる。
【００１７】
保護層４を形成する保護フィルム２は、フィルム基材と粘着層とからなり、フィルム基材の一方の面に、例えばアクリル系の粘着剤が塗布されており、粘着剤が塗布された面をレンズ基材１側にして、レンズ基材表面１ｂに貼着されている。フィルム基材の素材としては、後述するブロック５との密着性に優れた、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等を用いることができる。また、フィルム基材の厚さは、保護層として必要充分な強度を有し、必要以上の基材の弾力を抑制した、０．０２〜０．０８ｍｍ範囲のフィルム基材が好ましく用いられる。
【００１８】
なお粘着層は、保護フィルム２（フィルム基材）とレンズ基材１とを位置決め固定するためのものであり、アクリル系の粘着剤の他に、レンズ基材１とフィルム基材とを固定できるものであれば、特に制限なく使用できる。例えば、アクリル酸、アクリル酸エステル、アクリル酸アミド、イタコン酸等の親水基を有するビニル系単量体の重合体等の水溶性粘着剤を用いても良い。なお、粘着剤の膜厚は、１〜１０μｍ程度が塗布されている。
【００１９】
保護層４を形成する保護膜３は、保護フィルム２のフィルム基材上にアクリル系高分子化合物混合溶剤を含むヘアスプレーをスプレー塗布し、乾燥して形成される。スプレー塗布に用いられるヘアスプレーは、一般的な毛髪を整髪する整髪剤である。一般的なヘアスプレーの成分は、アクリル酸アルキル／ジアセトンアクリルアミド−コポリマーＡＭＰ、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ラノリン酸脂肪オクチルドデシルを成分とし、エタノールに可溶化された液が容器に封入され、噴射ガスとしてのＬＰＧ（液化石油ガス）により噴射して、スプレー塗布される。なお、整髪剤としてのヘアスプレーには、さらに酢酸リナリルなどの香料や、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）などの酸化防止剤等が含まれるが、保護膜３の機能として影響を与えない。
【００２０】
スプレー塗布の方法は、０．５ＭＰａ程度のスプレー圧力で、レンズ基材１（保護フィルム２）から２０ｃｍ程度離れた位置から行われる。スプレー塗布後の乾燥は、約２１℃の室温環境下に略１分間放置して行われる。なお、保護膜３の塗布厚さは１〜１００μｍの範囲が好ましく、特に５〜３０μｍ程度がより好ましい。
【００２１】
保護層４が形成されたレンズ基材１は、保持媒体としてのブロック５を介して保持具６に位置決め固定される。ブロック５は、例えば低融点合金のアロイや、ワックス等の樹脂を用いて形成される。
低融点合金のアロイを用いてブロック５を形成し、保護層４が形成されたレンズ基材１を保持具６に位置決め固定する方法について説明する。
【００２２】
先ず、レンズ基材１の保護層４（保護膜３）に接するように略円筒形のブロック成形用リング７（図１中に、二点鎖線で示す）を配置する。そして、保持具６の略中心軸位置をレンズ基材１の略中心位置にして、レンズ基材１と対峙する所定の間隔位置に、保持具６を配置する。そして、ブロック成形用リング７と保持具６とレンズ基材１（保護層４）とで囲まれた空間内に、液化したアロイを流し込む。
【００２３】
空間内に流し込まれたアロイは保護層４（保護膜３）に沿って流れ、保護層４（保護膜３）と保持具６との空間内に充満して固まる。アロイが固化することによりブロック５が形成される。アロイが固化する際に、アロイと保護層４（保護膜３）、およびアロイと保持具６とがそれぞれ固着して、保護層４が形成されたレンズ基材１がブロック５を介して保持具６に位置決め固定される。そして、ブロック成形用リング７が取外される。固化したアロイは収縮してブロック成形用リング７との間には隙間ができるため、ブロック成形用リング７は容易に取り外すことができる。
なお、ブロック５の厚さは、特に限定はないが、例えば約３〜１５ｍｍに設定される。また、アロイ以外の低融点合金の例としては、ビスマス、鉛、カドミウム、スズ、インジウム等の合金を例示することができる。
【００２４】
このようにブロック５が形成されることにより、レンズ基材１が保持具６に位置決め固定された、ブロック５と保護層４の固定部分は、密着性を有しない保護フィルム２および保持具６との間に、保護膜３が介在することで、保護膜３を形成するヘアスプレーの成分中に含まれるＰＶＰにより密着固定することができる。しかも、ヘアスプレーがスプレー塗布されることで、保護膜３が保護フィルム２上に均一に塗布されると共に、塗布された保護膜３がヘアスプレーに含まれるエタノール、およびＬＰＧにより急速に乾燥されて、より密着固定される。
【００２５】
また、保護膜３を形成するヘアスプレーの成分中に水溶性が高いアクリル酸アルキル／ジアセトンアクリルアミド−コポリマーＡＭＰを含むことにより、研磨加工後に、水または温水に浸漬して、保護層４が形成されたレンズ基材１を、ブロック５から容易に取り外すことができる。
【００２６】
ブロック５を介して保持具６に位置決め固定されたレンズ基材１が、研磨装置の装着軸に装着されて研磨加工される。レンズ基材１は、レンズ基材表面１ｂ上に形成された保護層４（保護膜３）により、ブロック５に密着固定され、保持具６と一体となり、保持具６の回転等の動きを確実にレンズ基材１に伝えることができる。
研摩加工は、従来から公知の各種方法を用いて行うことができる。研磨加工の一例を、図２のレンズ基材を研磨する態様を示す模式図に示す。
【００２７】
図２に示す研磨する態様は、小さいドーム状の弾性研磨工具を被研磨面の一部に当接する部分研磨の例である。研磨加工は、弾性研磨工具１２を回転させながらレンズ基材表面１ａの一部に当接して、レンズ基材１を走査させることによって、レンズ基材表面１ａ全体を研磨する。
【００２８】
研磨装置（全体は図示せず）は、保護層４が形成されたレンズ基材１がブロック５を介して位置決め固定された保持具６を装着する装着軸８と、弾性研磨工具１２を装着する研磨軸９と、研磨剤を弾性研磨工具１２と被研磨面（レンズ基材表面１ａ）の間に供給する吐出ノズル１０とを備えている。
装着軸８は、装着された保持具６を介してレンズ基材１を回転する回転（自転）機構と揺動機構を備えている。研磨軸９は、回転機構と、例えば空気圧力が加えられることにより、弾性研磨工具１２をレンズ基材１の被研磨面（レンズ基材表面１ａ）に所定の研磨圧力で圧接する機構を備えている。
【００２９】
レンズ基材１のレンズ基材表面１ａの研磨方法は、先ず、研磨装置の研磨軸９を回転駆動して研磨軸９に装着された弾性研磨工具１２を回転させる。そして、研磨軸９をレンズ基材表面１ａ方向に圧接する機構に空気圧力を加えて、弾性研磨工具１２を所定の圧力でレンズ基材１のレンズ基材表面１ａに圧接させると共に、装着軸８を回転機構により所定の回転数で回転させつつ、揺動機構が稼動して、レンズ基材１が弾性研磨工具１２上を揺動する。この時、吐出ノズル１０から研磨剤１１が弾性研磨工具１２とレンズ基材表面１ａの間に供給されてレンズ基材１のレンズ基材表面１ａの研磨が行われる。
【００３０】
こうした研磨加工の際に、レンズ基材１は、レンズ基材１上に形成された保護層４により保護されて、ブロック５に密着固定された被保持面としてのレンズ基材表面１ｂの傷の発生を防ぐことができる。また、保護層４の保護フィルム２上に形成された保護膜３により、レンズ基材１がブロック５から剥離することなく研磨加工を行うことができる。
【００３１】
さらに、保護フィルム２のフィルム基材の厚さが０．０２〜０．０８ｍｍと薄いことから、フィルム基材の弾力が抑制され、研磨されるレンズ基材表面１ａが所定の面形状に加工できない形状ズレの発生を防ぐことができる。このことは、研磨するレンズ中心部の厚みが薄く撓みやすいレンズ基材において特に有効である。
【００３２】
そして、研摩加工が終了した後に、研磨されたレンズ基材１（レンズ）がブロック５を介して固定された保持具６を、研摩装置（装着軸８）から取り外し、そしてレンズ基材１（レンズ）に応力を加えて保持具６からブロック５を取り外す。さらにブロック５から、研摩したレンズ基材１が取り外される。このブロック５からのレンズの取り外しは、保持具６に固定されたレンズ基材１を、水に浸漬、あるいは水を掛け流して、保護膜３を溶解除去することにより、取り外すことができる。これは、保護膜３を形成するヘアスプレーの成分中に水溶性が高いアクリル酸アルキル／ジアセトンアクリルアミド−コポリマーＡＭＰを含むことにより、レンズ基材１に傷等をつけることなく容易に取り外すことができる。
【００３３】
そして、ブロック５から取り外されたレンズ基材１（レンズ）から、保護フィルム２が指等で剥がされて、所定の光学面形状が形成されたレンズが完成する。なお、水溶性粘着剤が塗布された保護フィルム２を用いた場合には、ブロック５に固定されたレンズ基材１を水に浸漬、あるいは水を掛け流すことで、ブロック５の取り外しと同時に、保護フィルム２を取り外すことができる。
【００３４】
次に、レンズ基材１に各種保護層を形成した試料を作製し、そのレンズ基材１に保護層が形成された各試料をブロック５を介して保持具６に位置決め固定して、研磨加工時における保護層の評価確認を行った。なお、各保護層が形成されたレンズ基材１は、低融点合金のアロイを用いてブロック５を形成し、保護層が形成されたレンズ基材１を保持具６に位置決め固定する。位置決め固定は、前記に説明した方法と同様に行われる。したがって、その詳細説明は省略する。
【００３５】
第１評価確認として、本実施形態における厚さが薄い保護フィルム２の評価、および保護膜３を形成するヘアスプレー膜の評価を行った。併せて特許文献１に記載された保護層（保護フィルム、あるいは保護膜）に基づく試料を作製し、比較評価を行った。
また、第２評価確認として、本実施の形態における保護フィルム２のフィルム基材厚さの厚さ違いによる評価を行った。
【００３６】
（第１評価確認の試料作製）
レンズ基材１としてジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）からなるセミフィニシュレンズを準備し、レンズ基材１に異なる保護層が形成された試料１〜試料６の試料を、各１００枚づつ作製した。作製した６種類の試料について以下に示す。
【００３７】
試料１；レンズ基材１の一方のレンズ基材表面１ｂ上に、基材厚さが０．０５ｍｍのポリエステルからなるフィルム基材に、アクリル系の粘着剤が塗布された保護フィルム（大協技研製、ＩＶＹ＃２９７０２）２を貼着し、貼着された保護フィルム２の表面に、ヘアスプレーを約２０ｃｍ離れた位置から２０μｍ程度の厚さにスプレー塗布し、約２３℃の室温環境下に略１分間放置して乾燥し、保護膜３を形成した。
試料２；レンズ基材１の一方のレンズ基材表面１ｂ上に、試料１に用いたと同じ、基材厚さが０．０５ｍｍのポリエステルからなるフィルム基材を貼着して、保護フィルム２のみの保護層を形成した。
試料３；レンズ基材１の一方のレンズ基材表面１ｂ上に、試料１に用いたと同じヘアスプレーを、試料１と同様の方法でスプレー塗布して、保護膜３のみの保護層を形成した。
【００３８】
試料４；レンズ基材１に、特許文献１に記載された保護フィルムのみからなる保護層を形成した。保護層の形成は、レンズ基材１の一方のレンズ基材表面１ｂ上に、基材厚さが０．１ｍｍのポリエステルからなるフィルム基材に、アクリル系の粘着剤が塗布された保護フィルムを貼着した。
【００３９】
試料５；レンズ基材１に、特許文献１に記載された保護膜のみからなる保護層を形成した。保護層の形成は、レンズ基材１の一方のレンズ基材表面１ｂ上に、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、水、可塑剤からなる保護液を、スピンコート法を用いて塗布し、保護膜（以降、エマルジョンコートと表記する）を形成した。なお、保護液は、成分中にポリ酢酸ビニルが３０重量％含む液を用いた。
【００４０】
また、エマルジョンコートの形成方法は、ブロック５との接合面となるレンズ基材表面１ｂを上面として、レンズ基材１をスピンコーティング装置にセットする。そして、セットされたレンズ基材１を回転数１，０００ｒｐｍ程度に回転し、回転するレンズ基材表面１ｂの中心部に保護液を滴下する。そして、レンズ基材表面１ｂの全体が保護液に覆われた時点で保護液の滴下を停止すると共に、レンズ基材１の回転数を２，０００ｒｐｍ程度に上昇して、２〜５秒間、保護液の振り切りを行う。振り切りの後に、約２１℃の室温環境下に略５分間放置して乾燥し、エマルジョンコートを形成した。
【００４１】
試料６；レンズ基材１の一方のレンズ基材表面１ｂ上に、試料１に用いたと同じ、基材厚さが０．０５ｍｍのポリエステルからなるフィルム基材を貼着し、貼着された保護フィルム２の表面に、特許文献１に記載されたエマルジョンコートを形成した。エマルジョンコートの形成は、試料５と同じ保護液を用い、試料５と同様のスピンコート法で塗布した。
【００４２】
（第２評価確認の試料作製）
レンズ基材１としてジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）からなるセミフィニシュレンズを準備し、レンズ基材１の一方のレンズ基材表面１ｂ上に、アクリル系の粘着剤が塗布され、基材厚さが０．０１ｍｍ、０．０２ｍｍ、０．０５ｍｍ、０．０８ｍｍ、０．１０ｍｍの５種類のポリエステルのフィルム基材からなる保護フィルム２を貼着し、貼着された保護フィルム２の表面に、前記の試料１と同一のヘアスプレーを、同一の方法でスプレー塗布および乾燥して、保護膜３を形成した。なお、保護層４（保護フィルム２と保護膜３）が形成された試料を、各１００枚づつ作製した。
保護層４が形成されたレンズ基材１を、保護フィルム２の基材厚さが０．０１ｍｍから厚くなる順に試料Ａ、試料Ｂ、試料Ｃ、試料Ｄ、試料Ｅとした。なお、試料Ｃ（基材厚さが０．０５ｍｍ）は、前記第１評価確認における試料１と同一試料である。
【００４３】
（評価判定）
次に、第１評価確認として作製した６種類の試料１〜６、および第２評価確認として作製した５種類の試料Ａ〜Ｅを、下記に示す評価項目により評価判定した。
第１評価確認の評価項目として、研磨加工後の加工されたレンズの度数バラツキ、度数不良率、キズ（傷）不良率と、研磨加工後時におけるブロック剥がれの４項目で評価し、その評価結果を勘案して○と×で総合判定した。第２評価確認の評価項目としては、第１評価確認におけるブロック剥がれを除く３項目で評価し、その不良率の合計に基づいて、その結果を○と×で総合判定した。
【００４４】
各評価項目の内容、および不良判定の判定基準を以下に示す。
（１）度数バラツキ
研磨された各１００枚のプラスチックレンズの度数（ディプトリオ：Ｄ）をレンズメーターを用いて計測した。度数バラツキは、バラツキの１σ値を示す。なおディプトリオ（Ｄ）は度数単位であり、焦点距離１ｍのレンズは１Ｄ、焦点距離０．５ｍのレンズは２Ｄ（２＝１／０．５）である。
（２）度数不良率
加工されたレンズの実測度数（Ｄ）と、狙いとして設定された度数（Ｄ）との差が、±０．１２（Ｄ）を超えたものを、度数不良と判定した。
（３）キズ不良        
加工されたレンズのレンズ基材表面に、０．４ｍｍを超える大きさの傷が一つでも発生した場合をキズ不良と判定した。
【００４５】
以下に、第１評価確認、および第２評価確認の評価結果を示す。
先ず表１に、第１評価確認における各試料の保護層の構成内容、および評価結果および判定結果を示す。
【００４６】
【表１】
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表１において、保護層４がフィルム基材の厚さが薄い（０．０５ｍｍ）保護フィルム２上に、ヘアスプレーが塗布された保護膜３から形成された試料１は、度数バラツキも小さく、度数不良率、キズ不良率ともに低く、かつブロック剥がれの発生もなく、総合判定が○であった。
一方、保護層４がフィルム基材の厚さが薄い（０．０５ｍｍ）保護フィルム２のみで形成された試料２は、保護膜３がないことで全試料にブロック剥がれが発生した。また、保護層４がヘアスプレーからなる保護膜３のみで形成された試料３は、キズ不良の発生率が高かった。
【００４７】
また、保護層がフィルム基材の厚さが厚い（０．１ｍｍ）保護フィルムのみで形成された試料４は、形状ズレの発生により、度数バラツキが大きく、度数不良率が異常に高かった。また、保護層がエマルジョンコートのみで形成された試料５は、度数バラツキが小さく、度数不良率も低いが、キズ不良の発生率が高く、しかもブロック剥がれも発生した。
【００４８】
さらに、保護層４がフィルム基材の厚さが薄い（０．０５ｍｍ）保護フィルム２上に、エマルジョンコートを形成した試料６は、ブロック剥がれが発生した。したがって、試料２〜試料６については、総合判定が×であった。
なお、参考にレンズ基材１としてガラス素材からなるレンズ基材を用いて、同様な評価確認を行った結果、ヘアスプレーからなる保護膜のみで形成された保護層（試料３参照）の場合が、最も良い結果であった。
【００４９】
したがって、保護フィルム２のフィルム基材の厚さが薄く、かつヘアスプレーが塗布された保護膜３から形成された保護層４が、度数バラツキも小さく、度数不良率、キズ不良率ともに低く、かつブロック剥がれの発生もない。
【００５０】
次に、第２評価確認の評価、および判定結果を表２に示す。また、図３に、表２に基づく第２評価確認におけるフィルム基材厚さと不良率の関係をグラフに示す。なお、図３のグラフは、横軸にフィルム基材厚さ、縦軸に度数不良（◇で示す）、キズ不良（黒四角で示す）、合計不良率（△で示す）を示し、各合計不良率を実線で結んで示す。
【００５１】
【表２】
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表２、および図３において、フィルム基材の厚さが薄いとキズ不良が増加し、厚さが厚いと度数不良が増加する。厚さが０．０２ｍｍ〜０．０８ｍｍの範囲であれば、量産に対応できる歩留り（不良率０．６％程度以下）が確保できる。したがって総合判定は、試料Ａおよび試料Ｅは×判定、試料Ｂ〜Ｄは○判定であった。
【００５２】
以上のように、本実施形態のプラスチックレンズの保護層の形成方法によれば、レンズ基材１のレンズ基材表面１ｂに、フィルム基材の基材厚さが、０．０２〜０．０８ｍｍの保護フィルム２と、ヘアスプレーがスプレー塗布された保護膜３とで保護層４が形成されることで、レンズ基材１のレンズ基材表面１ｂに傷を付けることなく研磨又は研削加工することができると共に、レンズ基材１がブロック５と密着固定され、ブロック５と剥離することなく研磨又は研削の加工を行うことができる。
【００５３】
また、保護フィルム２のフィルム基材の厚さが、０．０２〜０．０８ｍｍと薄いことから、フィルム基材の弾力が抑制され、形状ズレの発生がなく、研磨又は研削加工されるレンズ基材１のレンズ基材表面１ａが、狙いとする所定の面形状に加工され、高品質のしかも加工歩留りが向上したプラスチックレンズが得られる。
【００５４】
また、保護膜３の形成方法がスプレー塗布方法であることで、保護膜３の乾燥時間も短く、しかもスピンコーティング装置等の必要もなく、加工の作業性が改善される。さらに、保護膜３を形成するヘアスプレーの成分中に水溶性が高いアクリル酸アルキル／ジアセトンアクリルアミド−コポリマーＡＭＰを含むことにより、研摩又は研削の加工終了後に、水または温水に浸漬することで、プラスチックレンズをブロック５から容易に取り外すことができる。
【００５５】
以上の本実施形態において、レンズ基材１を研磨加工する場合で説明したが、バイト等を用いてレンズの形状創成する切削加工においても、研磨加工と同様な効果が得られる。
また、レンズ基材がガラス素材からなる場合であっても、レンズ基材上にヘアスプレーからなる保護膜を形成することにより、レンズ基材が保持媒体としてのブロックから剥離するのを防止した研磨又は研削加工を行うことができる。
【００５６】
また、アクリル系高分子化合物は、アクリル酸アルキル／ジアセトンアクリルアミド−コポリマーＡＭＰに限ることなく、アクリル酸ヒドロキシエチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸メトキシエチル−コポリマー、あるいはアクリルアミド／アクリルＤＭＡＰＡ／メタクリル酸メトキシＰＥＧ−コポリマーにおいても、同様な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】保護層が形成されたプラスチックレンズ基材が加工用治具に位置決め固定された状態を示す断面図。
【図２】プラスチックレンズ基材を研磨する態様を示す模式図。
【図３】保護層を形成するフィルム基材厚さと不良率の関係を示すグラフ。
【符号の説明】
【００５８】
１…プラスチックレンズ基材、１ａ…研磨されるレンズ基材表面、１ｂ…被保持面としてのレンズ基材表面、２…保護フィルム、３…保護膜、４…保護層、５…加工用治具を構成する保持媒体としてのブロック、６…加工用治具を構成する保持具、７…ブロック成形用リング、８…装着軸、９…研磨軸、１０…吐出ノズル、１１…研磨剤、１２…弾性研磨工具。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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