(57)【要約】【課題】基材から剥がれ難い塗膜を形成する。【解決手段】塗液を滴下する滴下部と、基材を回転させる回転機構と、塗液に放射線を照射して硬化させる硬化処理部と、制御部とを備えて、塗液を展延して硬化させた塗膜を基材の一面に形成可能に構成され、制御部は、滴下部を制御して基材の中央部に塗液を滴下させる滴下処理と（時間ｔ０〜ｔ１）、回転機構を制御して基材の回転速度を上昇させて中央部に滴下させた塗液を展延する第１の回転速度上昇制御処理と（時間ｔ１〜ｔ２）、回転機構を制御して所定の回転速度まで基材の回転速度を低下させる回転速度低下制御処理とを実行した後に（時間ｔ２〜ｔ３）、回転機構を制御して基材の回転速度を上昇させて塗液をさらに展延する第２の回転速度上昇制御処理と（時間ｔ４〜ｔ５）、硬化処理部を制御して塗液に放射線を照射させて硬化させる硬化処理とを実行する。【選択図】図６
2006212596.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線硬化型の塗液を基材上に滴下する滴下部と、前記基材を回転させる回転機構と、前記塗液に放射線を照射して硬化させる硬化処理部と、制御部とを備えて、前記塗液を展延して硬化させた塗膜を前記基材の一面に形成可能に構成され、
前記制御部は、前記滴下部を制御して前記基材の前記一面における中央部に前記塗液を滴下させる滴下処理と、前記回転機構を制御して前記基材の回転速度を上昇させて前記中央部に滴下させた前記塗液を展延する第１の回転速度上昇制御処理と、前記回転機構を制御して所定の回転速度まで当該基材の回転速度を低下させる回転速度低下制御処理とを実行した後に、前記回転機構を制御して前記基材の回転速度を上昇させて前記塗液をさらに展延する第２の回転速度上昇制御処理と、前記硬化処理部を制御して前記一面上の塗液に向けて前記放射線を照射させて当該塗液を硬化させる硬化処理とを実行する塗膜形成装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記回転機構を制御して前記回転速度低下制御処理の後に前記所定の回転速度を所定時間に亘って維持させる請求項１記載の塗膜形成装置。
【請求項３】
放射線硬化型の塗液を展延して硬化させた塗膜を基材の一面に形成する際に、
前記基材の前記一面における中央部に前記塗液を滴下する滴下処理と、前記基材の回転速度を上昇させて前記中央部に滴下した前記塗液を当該基材の前記外縁部まで展延する第１の回転速度上昇制御処理と、所定の回転速度まで当該基材の回転速度を低下させる回転速度低下制御処理とを実行した後に、前記基材の回転速度を上昇させて前記塗液をさらに展延する第２の回転速度上昇制御処理と、前記一面上の前記塗液に向けて前記放射線を照射して当該塗液を硬化させる硬化処理とを実行する塗膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗液を展延させて硬化させた塗膜を基材の一面に形成する塗膜形成装置および塗膜形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の塗膜形成方法として、紫外線硬化性樹脂を基板に塗布して硬化させることで基板の上に光透過層（塗膜）を形成する光ディスクの製造方法が特開平１１−８６３５５号公報に開示されている。この製造方法では、まず、基板の信号面に紫外線硬化性樹脂をスピンコートし、次いで、基板の回転を停止させた状態で基板上の紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射して硬化させることで基板の上に光透過層を形成する。この場合、この種の形成方法によって光透過層を形成したときには、回転停止に伴って遠心力が低下した際に、スピンコート時に遠心力によって基板の外周部から外側にはみ出していた紫外線硬化性樹脂が表面張力によって基板の外縁部上に引き戻される結果、基板の外縁部に上向きの盛り上がり部分が形成される。したがって、この製造方法では、紫外線の照射工程が完了したディスクを回転装置に装着して回転させつつ、ダイヤモンド砥石等のトリミング用工具を用いて盛り上がり部分を切削して除去する。これにより、光ディスクが完成する。
【特許文献１】特開平１１−８６３５５号公報（第４頁、第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、従来の製造方法には、以下の問題点がある。すなわち、この製造方法では、光ディスクの製造過程において基板の外縁部上に形成される盛り上がり部分を除去するために、トリミング用工具を用いて盛り上がり部分を切削している。この場合、盛り上がり部分が比較的小さいため、この盛り上がり部分のみを切削することが困難である。このため、実際には、光透過層における盛り上がり部分のみならず、基板までもが切削されることとなる。したがって、この製造方法によって製造された光ディスクでは、基板と光透過層との境界部分がその外周面において露出した状態となる。このため、基板と光透過層との間に空気が侵入し易いため、例えば光ディスクを落下させたときには、基板および光透過層に生じる部分的な変形に起因して境界部分に空気が侵入することに起因して、光透過層が基板から剥離するおそれがある。このように、従来の製造方法には、形成した光透過層（塗膜）が基板（基材）から剥がれ易いという問題点がある。
【０００４】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、基材から剥がれ難い塗膜を基材上に形成し得る塗膜形成装置および塗膜形成方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成すべく本発明に係る塗膜形成装置は、放射線硬化型の塗液を基材上に滴下する滴下部と、前記基材を回転させる回転機構と、前記塗液に放射線を照射して硬化させる硬化処理部と、制御部とを備えて、前記塗液を展延して硬化させた塗膜を前記基材の一面に形成可能に構成され、前記制御部は、前記滴下部を制御して前記基材の前記一面における中央部に前記塗液を滴下させる滴下処理と、前記回転機構を制御して前記基材の回転速度を上昇させて前記中央部に滴下させた前記塗液を展延する第１の回転速度上昇制御処理と、前記回転機構を制御して所定の回転速度まで当該基材の回転速度を低下させる回転速度低下制御処理とを実行した後に、前記回転機構を制御して前記基材の回転速度を上昇させて前記塗液をさらに展延する第２の回転速度上昇制御処理と、前記硬化処理部を制御して前記一面上の塗液に向けて前記放射線を照射させて当該塗液を硬化させる硬化処理とを実行する。なお、本明細書における硬化には、塗液の流動性が低下する程度の硬化状態から塗液の全てが硬化反応をした硬化状態に至るまでの全ての硬化状態が含まれる。
【０００６】
また、本発明に係る塗膜形成装置は、前記制御部が、前記回転機構を制御して前記回転速度低下制御処理の後に前記所定の回転速度を所定時間に亘って維持させる。
【０００７】
また、本発明に係る塗膜形成方法は、放射線硬化型の塗液を展延して硬化させた塗膜を基材の一面に形成する際に、前記基材の前記一面における中央部に前記塗液を滴下する滴下処理と、前記基材の回転速度を上昇させて前記中央部に滴下した前記塗液を当該基材の前記外縁部まで展延する第１の回転速度上昇制御処理と、所定の回転速度まで当該基材の回転速度を低下させる回転速度低下制御処理とを実行した後に、前記基材の回転速度を上昇させて前記塗液をさらに展延する第２の回転速度上昇制御処理と、前記一面上の前記塗液に向けて前記放射線を照射して当該塗液を硬化させる硬化処理とを実行する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法によれば、基材の回転速度を上昇させて中央部に滴下した塗液を展延する第１の回転速度上昇制御処理の後に、所定の回転速度（展延させた塗液が基材の外縁部から飛散しない程度の回転速度）まで基材の回転速度を低下させる回転速度低下制御処理を実行することにより、第１の回転速度上昇制御処理によって基材の外縁部まで移動させられた塗液が遠心力の低下に伴って基材の裏面に向かって外周面を伝わり落ちるため、基材の全周に亘ってこの塗液を外周面の全域に塗布することができる。したがって、完成した情報記録媒体の外周面において基材と塗膜との境界部分を露出させることなく、表面（一面）から外周面にかけて途切れることなく連続する塗膜を形成することができる。この結果、基材と塗膜との間に空気が侵入し難くなるため、落下等に起因する剥がれが生じ難い塗膜を有する情報記録媒体を製造することができる。
【０００９】
また、本発明に係る塗膜形成装置によれば、回転速度低下制御処理の後に、所定の回転速度を所定時間に亘って維持することにより、基材の外縁部まで移動させられた塗液が所定時間内に基材の裏面に向かって外周面を伝わって確実に外周面の下端部（裏面と外周面との角部）まで到達するため、基材の全周に亘って外周面の全域に塗液を確実に塗布することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法の最良の形態について、図面を参照して説明する。
【００１１】
最初に、光記録媒体製造装置１００の構成について、図面を参照して説明する。
【００１２】
図１に示す光記録媒体製造装置１００は、図２に示す光記録媒体（情報記録媒体）１を製造する装置であって、基材成形装置２０、情報層形成装置３０、樹脂層形成装置４０および中心孔形成装置５０を備えている。この場合、図２に示すように、光記録媒体１は、記録データが記録される情報層１２と、情報層１２を覆うようにして形成された樹脂層１３（本発明における塗膜の一例）とが基材１１の表面（本発明における一面）にこの順で形成されて、樹脂層１３側からレーザービームが照射されることによって情報層１２に対する記録データの記録および再生が可能に構成されている。また、光記録媒体１は、直径が１５ｍｍ程度の装着用中心孔１ａがその中心部に形成されている。
【００１３】
基材１１は、図３に示すように、基材成形装置２０によってポリカーボネート等を成形材料として射出成形され、直径が１２０ｍｍ程度で厚みが１．２ｍｍ程度の円板状（平板形状）となるように形成されている。この基材１１の表面１１ａ（本発明における一面：同図における上面）には、基材成形装置２０のスタンパー（図示せず）の凹凸形状が転写され、形成ピッチが例えば０．３２μｍ程度のグルーブおよびランドが形成されている。また、基材１１の表面１１ａにおける中央部には、円筒状の突起１１ｅが形成されている。さらに、基材１１の裏面１１ｂ（同図において下面）における中央部には、中心孔形成装置５０によって底面が打ち抜かれることで装着用中心孔１ａの一部を構成する平面視円形の凹部１１ｄが形成されている。
【００１４】
情報層１２は、一例として、反射層、誘電体層および相変化型記録層等が積層されて構成されている。この情報層１２は、図５に示すように、情報層形成装置３０によって基材１１の表面１１ａに各種材料がスパッタリングされ、全体として数十μｍ程度の厚みに形成されている。樹脂層１３は、本発明における塗膜の一例であって、図２に示すように、この光記録媒体１ではレーザービームを透過させる光透過層として機能する。この樹脂層１３は、樹脂層形成装置４０によって本発明に係る塗膜形成方法に従って形成され、一例として、その厚みが１００μｍ程度となるように形成される。
【００１５】
一方、基材成形装置２０は、前述したようにポリカーボネート等を成形材料として用いて基材１１を射出成形する。情報層形成装置３０は、基材１１の表面１１ａに各種材料をスパッタリングして情報層１２を形成する。樹脂層形成装置４０は、本発明に係る塗膜形成装置に相当し、図４に示すように、滴下部４１、回転機構４２、紫外線照射部４３、照射規制部４４、制御部４５および記憶部４６を備え、本発明に係る塗膜形成方法に従って基材１１の表面１１ａに樹脂層１３（塗膜）を形成して中間体２（図１３参照）を製造する。この場合、制御部４５は、滴下部４１、回転機構４２、紫外線照射部４３および照射規制部４４を制御し、記憶部４６は、制御部４５の動作プログラムを記憶する。
【００１６】
また、滴下部４１は、吐出口（塗液吐出口）６１、樹脂材料供給機構６２および移動機構６３を備えて制御部４５の制御に従って回転機構４２上に載置された基材１１の上に樹脂材料Ｒを滴下する。この場合、樹脂材料Ｒは、本発明における放射線硬化型の塗液に相当し、一例として、ウレタンアクリレート（紫外線硬化型樹脂）が用いられている。樹脂材料供給機構６２は、制御部４５の制御に従って吐出口６１に樹脂材料Ｒを供給することにより、吐出口６１から基材１１の上に樹脂材料Ｒを滴下させる。移動機構６３は、制御部４５の制御に従って基材１１上に吐出口６１を移動させる。回転機構４２は、円板状に形成されたターンテーブル７１と、制御部４５の制御に従ってターンテーブル７１を回転させるモータ７２とを備えている。紫外線照射部４３は、本発明における硬化処理部に相当し、ターンテーブル７１の上方に配設されて制御部４５の制御に従ってターンテーブル７１上の基材１１に向けて紫外線（本発明における放射線の一例）を照射することにより、基材１１の表面１１ａに塗布された樹脂材料Ｒを硬化させる。
【００１７】
照射規制部４４は、遮蔽用部材８１および移動機構８２を備えている。この照射規制部４４は、紫外線照射部４３による樹脂材料Ｒの硬化処理時に、制御部４５の制御に従って基材１１の表面１１ａにおける外縁部上の樹脂材料Ｒに対する紫外線の照射を規制する。遮蔽用部材８１は、紫外線の遮蔽が可能な例えば金属によって平面視円弧状に形成された３つの遮蔽板８１ａ（図１１参照）で構成されている。この遮蔽用部材８１は、各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａが移動機構８２によって移動させられて連結されることで、基材１１の外縁部を覆って紫外線の照射を規制するリング状の外周マスクとして機能する。この場合、遮蔽用部材８１は、各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａが連結された状態（リング状となった状態）において、その外径が基材１１の直径よりもやや大径（一例として１２６ｍｍ程度）で、その内径が基材１１の直径よりも小径（一例として１１８ｍｍ程度）となるように構成されている。
【００１８】
移動機構８２は、制御部４５の制御に従って所定の退避位置から基材１１の外縁部上に各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａを移動させる。この場合、各遮蔽板８１ａが基材１１上に移動させられた状態において各遮蔽板８１ａと基材１１の表面１１ａとの間の隙間が１０ｍｍを超える状態では、表面１１ａの外縁部上に展延されている樹脂材料Ｒに対する紫外線の照射を確実に規制するのが困難となる。一方、上記の隙間が２ｍｍ未満の状態では、回転機構４２によって回転させられている基材１１の振動等によって基材１１（樹脂材料Ｒ）が遮蔽用部材８１に接触するおそれがある。したがって、移動機構８２は、上記の隙間が５ｍｍ程度となるように各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａを基材１１の外縁部上に移動させる。
【００１９】
中心孔形成装置５０は、樹脂層形成装置４０によって作製された中間体２（基材１１）における凹部１１ｄの底面を打ち抜いて装着用中心孔１ａを形成する。具体的には、中心孔形成装置５０は、円筒状の打ち抜き刃と、打ち抜き刃を上下動させる移動機構と、打ち抜き刃を超音波振動させる超音波発生源（いずれも図示せず）とを備え、超音波発生源によって打ち抜き刃を超音波振動させつつ移動機構によって打ち抜き刃を基材１１に押し込むことで装着用中心孔１ａを形成する。
【００２０】
次に、光記録媒体製造装置１００による光記録媒体１の製造方法について、樹脂層形成装置４０による樹脂層１３の形成方法（本発明に係る塗膜形成方法）を中心にして図面を参照して説明する。
【００２１】
まず、基材成形装置２０によって例えばポリカーボネートを成形材料として用いて図３に示す基材１１を射出成形する。次いで、情報層形成装置３０によって反射層、誘電体層、相変化型記録層および誘電体層を基材１１の表面１１ａにこの順序で形成することにより、図５に示すように、基材１１の表面１１ａに情報層１２を形成する。
【００２２】
続いて、樹脂層形成装置４０によって情報層１２を覆うようにして基材１１の上に樹脂層１３を形成する。具体的には、まず、情報層１２の形成面（表面１１ａ）を上向きにして回転機構４２におけるターンテーブル７１の上に基材１１を載置する。次いで、図示しない操作ボタンを操作して、樹脂層形成装置４０に樹脂材料Ｒのスピンコートを開始させる。この際には、図６に示すように、制御部４５は、操作ボタンが操作された時間ｔ０の時点においてモータ７２の制御を開始して、一例として５０ｒｐｍの回転速度でターンテーブル７１を回転させる。また、図７に示すように、制御部４５は、移動機構６３を制御して基材１１の表面１１ａにおける中央部（突起１１ｅの周囲）に吐出口６１を移動させる。次いで、制御部４５は、モータ７２を制御して５０ｒｐｍの回転速度を維持させつつ、樹脂材料供給機構６２を制御して吐出口６１に樹脂材料Ｒを供給させる。これにより、同図に示すように、基材１１の表面１１ａにおける中央部（突起１１ｅの周囲）に吐出口６１から樹脂材料Ｒが滴下される。以上により、本発明における滴下処理が完了する。
【００２３】
次いで、制御部４５は、回転機構４２を制御して樹脂材料Ｒの展延処理を開始させる。具体的には、図６に示すように、制御部４５は、樹脂材料Ｒの滴下が完了した時間ｔ１の時点において、モータ７２を制御して一例として＋１８２ｒｐｍ／秒の上昇率で基材１１の回転速度を上昇させる（本発明における第１の回転速度上昇制御処理）。この際には、図８に示すように、基材１１の回転に伴って生じる遠心力によって表面１１ａの中央部に滴下された樹脂材料Ｒが外縁部に向けて表面１１ａを移動する。
【００２４】
続いて、図６に示すように、制御部４５は、表面１１ａを移動する樹脂材料Ｒが基材１１の外縁部に達する時間ｔ２の時点（一例として、基材１１の回転速度が１０００ｒｐｍ程度（一例として９６０ｒｐｍ）に達する時点であって、時間ｔ１から５秒が経過した時点）において、モータ７２を制御して一例として−１８２０ｒｐｍ／秒の低下率で、本発明における所定の回転速度に相当する５０ｒｐｍまで基材１１の回転速度を急速に低下させる減速処理（本発明における回転速度低下制御処理）を実行する。この際には、基材１１の回転速度の低下に伴い、基材１１の表面１１ａを外縁部に向かって移動していた樹脂材料Ｒに作用する遠心力が低下する。また、制御部４５は、基材１１の回転速度を５０ｒｐｍまで低下させた時間ｔ３から一例として２．０秒（本発明における所定時間の一例）に亘って基材１１の回転速度を５０ｒｐｍに維持させる。したがって、遠心力が低下した状態が維持されることにより、図９に示すように、外縁部まで移動させられた樹脂材料Ｒは、外縁部から周囲に飛散することなく、外周面１１ｃに沿って基材１１における表面１１ａ側の端部から裏面１１ｂ側の端部まで伝わり落ちる。この結果、基材１１の全周に亘って外周面１１ｃの全域が樹脂材料Ｒによって覆われた状態となる。
【００２５】
次いで、制御部４５は、表面１１ａ上の樹脂材料Ｒの厚みを所望の膜厚に調整する膜厚調整処理を開始する。具体的には、図６に示すように、制御部４５は、時間ｔ３から２．０秒が経過した時間ｔ４の時点から時間ｔ５の時点までの間において、モータ７２を制御して一例として＋７００ｒｐｍ／秒の上昇率で基材１１の回転速度を１８００ｒｐｍまで上昇させる（本発明における第２の回転速度上昇制御処理）。また。制御部４５は、時間ｔ５の時点から時間ｔ６の時点までの間において、モータ７２を制御して１８００ｒｐｍの回転速度を所定時間（例えば２．０秒）に亘って維持させる（定速制御処理）。この際には、図１０に示すように、表面１１ａ上に展延させられている樹脂材料Ｒが基材１１の回転に伴って生じる遠心力によって外縁部に向かってさらに移動して、この樹脂材料Ｒが外周面１１ｃに付着している樹脂材料Ｒの一部と共に基材１１からその周囲に飛散する。また、基材１１の回転速度が１８００ｒｐｍの高速な回転速度に維持されることにより、基材１１の中央部から外縁部までほぼ均一な厚みで樹脂材料Ｒが展延させられて、一例として１０５μｍ程度の樹脂材料Ｒの膜が基材１１上に形成される。
【００２６】
一方、制御部４５は、基材１１の回転速度が１８００ｒｐｍに達した時間ｔ５から一例として１．０秒が経過した時点において、図１１に示すように、照射規制部４４を制御して遮蔽用部材８１を基材１１の外縁部上に移動させる。具体的には、制御部４５は、移動機構８２を制御して各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａを基材１１の外縁部上に移動させてリング状の遮蔽用部材８１を形成させる。この場合、前述したように、遮蔽用部材８１と基材１１の表面１１ａとの間の隙間が５ｍｍ程度と比較的狭いため、樹脂材料Ｒと共に基材１１の中央部から外縁部に向かって移動した空気がこの隙間を通過することで樹脂材料Ｒの遮蔽用部材８１への付着が回避される。
【００２７】
次いで、制御部４５は、紫外線照射部４３を制御して硬化処理を実行させる。具体的には、制御部４５は、モータ７２を制御してターンテーブル７１の回転速度を１８００ｒｐｍに維持させた状態で、紫外線照射部４３を制御して、例えば、時間ｔ５から１．５秒を経過した時点から０．５秒の間、基材１１上の樹脂材料Ｒに向けて紫外線を照射させる。なお、時間ｔ５から１．７秒を経過した時点から０．３秒の間、基材１１上の樹脂材料Ｒに向けて紫外線を照射させてもよい。この際に、基材１１における表面１１ａに展延させた樹脂材料Ｒのうち、遮蔽用部材８１によって覆われている外縁部を除く部分に塗布されている樹脂材料Ｒ（同図における樹脂材料Ｒａ）は、紫外線照射部４３から射出された紫外線が照射されて徐々に硬化する。一方、表面１１ａに展延させた樹脂材料Ｒのうち、遮蔽用部材８１によって覆われている外縁部上および外周面１１ｃに付着している樹脂材料Ｒ（同図における樹脂材料Ｒｂ）は、紫外線照射部４３から射出された紫外線が照射規制部４４（遮蔽用部材８１）によって遮蔽されているため、硬化することなく、流動性を有した状態を維持する。この場合、上記したように、基材１１の表面１１ａの外縁部と各遮蔽用部材８１との間の隙間が５ｍｍ程度となるように規定されているため、表面１１ａの外縁部上の樹脂材料Ｒに対する紫外線の照射が確実に規制されると共に、例えば回転によって基材１１が振動したとしても、表面１１ａの外縁部と遮蔽用部材８１とが接触する事態が確実に回避される。
【００２８】
続いて、制御部４５は、時間ｔ５から２．０秒が経過した時点において、紫外線照射部４３を制御して紫外線の照射を停止させる。この際に、遮蔽用部材８１によって紫外線の照射が規制されて未硬化状態である（流動性を有している）外縁部上の樹脂材料Ｒｂは、図１１に示すように、基材１１の回転に伴う遠心力によって基材１１よりも外周側に押し出されて、その厚みが基材１１における他の部分の樹脂材料Ｒａよりも薄くなる。次いで、図６に示すように、制御部４５は、時間ｔ５から２．０秒が経過した時間ｔ６の時点において、回転機構４２を制御して一例として−１２００ｒｐｍ／秒の低下率で、基材１１の回転速度を急速に低下させて停止させる。この際には、図１２に示すように、基材１１よりも外周側に押し出されていた樹脂材料Ｒｂが基材１１（ターンテーブル７１）の停止に伴って表面張力で表面１１ａの外縁部側に引き戻される。この場合、その引き戻される量が僅かで、しかも表面１１ａの外縁部上の樹脂材料Ｒｂの厚みが、基材１１の回転停止前における他の部分（遮蔽用部材８１によって覆われていなかった部位）よりも薄かったため、表面１１ａの外縁部上の樹脂材料Ｒｂは上方向へ大きく突出する凸部が存在しない状態に維持される。
【００２９】
次いで、制御部４５は、照射規制部４４を制御して基材１１上から各遮蔽板８１ａ，８１ａ，８１ａを退避位置に移動させる。続いて、制御部４５は、紫外線照射部４３を制御して樹脂材料Ｒ（Ｒａ，Ｒｂ）に向けて紫外線を所定時間照射させる。この際に、遮蔽用部材８１が退避位置に移動させられているため、表面１１ａの外縁部上の樹脂材料Ｒｂおよび外周面１１ｃに付着している樹脂材料Ｒｂに対しても紫外線照射部４３から射出された紫外線が照射される。これにより、図１３に示すように、基材１１上に滴下されたすべての樹脂材料Ｒが完全（または、ほぼ完全）に硬化して表面１１ａおよび外周面１１ｃの全域を覆うようにして樹脂層１３が形成される（本発明における硬化処理の完了）。この結果、中間体２が完成する。この後、中心孔形成装置５０によって中間体２おける凹部１１ｄの底面を打ち抜いて装着用中心孔１ａを形成する。以上により、図２に示すように、光記録媒体１が完成する。
【００３０】
このように、この光記録媒体製造装置１００における樹脂層形成装置４０および塗膜形成方法によれば、基材１１の回転速度を上昇させて中央部に滴下した樹脂材料Ｒを展延する第１の回転速度上昇制御処理を実行した後に、所定の回転速度（樹脂材料Ｒが基材１１の外縁部から飛散しない程度の回転速度：この例では、５０ｒｐｍ）まで基材１１の回転速度を低下させる回転速度低下制御処理を実行することにより、第１の回転速度上昇制御処理によって基材１１の外縁部まで移動させられた樹脂材料Ｒが遠心力の低下に伴って裏面１１ｂに向かって外周面１１ｃを伝わり落ちるため、基材１１の全周に亘ってこの樹脂材料Ｒを外周面１１ｃの全域に塗布することができる。したがって、完成した光記録媒体１の外周面１１ｃにおいて基材１１と樹脂層１３との境界部分を露出させることなく、表面１１ａから外周面１１ｃにかけて途切れることなく連続する樹脂層１３を形成することができる。この結果、基材１１と樹脂層１３との間に空気が侵入し難くなるため、落下等に起因する剥がれが生じ難い樹脂層１３を有する光記録媒体１を製造することができる。
【００３１】
また、この樹脂層形成装置４０によれば、回転速度低下制御処理の後に、所定の回転速度（この例では、５０ｒｐｍ）を所定時間（この例では、２秒）に亘って維持することにより、基材１１の外縁部まで移動させられた樹脂材料Ｒが所定時間内に裏面１１ｂに向かって外周面１１ｃを伝わって確実に外周面１１ｃの下端部（裏面１１ｂと外周面１１ｃとの角部）まで到達するため、基材１１の全周に亘って外周面１１ｃの全域に樹脂材料Ｒを確実に塗布することができる。
【００３２】
なお、本発明は上記の構成や方法に限定されない。例えば、本発明における塗液には、上記した紫外線硬化型の樹脂材料Ｒに限定されず、電子線硬化型の塗液や熱線硬化型の塗液などの各種放射線硬化型の塗液がこれに含まれる。この場合、樹脂硬化用の放射線としての電子線や熱線を照射可能な放射線照射部を紫外線照射部４３に代えて採用すると共に、これらの放射線を遮蔽可能な遮蔽用部材を遮蔽用部材８１に代えて用いることにより、上記の各種の塗液で樹脂層１３を形成することができる。また、本発明における塗液は、樹脂に限定されず、各種の有機材料がこれに含まれる。さらに、レーザービームの照射側に位置する光透過層としての樹脂層１３を形成する例について説明したが、本発明における塗膜形成方法によって形成する塗膜には、カバー層やトップコート層として機能する各種の塗膜が含まれる。
【００３３】
また、反射層、誘電体層および相変化型記録層等で構成された情報層１２を有する光記録媒体１を製造する際に本発明を適用する例について上記したが、追記型の記録層を有する情報記録媒体や、基材およびスペーサ層の表面に情報用の凹凸パターンを形成した再生専用の情報記録媒体などを製造する際に本発明を適用することもできる。さらに、上記の樹脂層形成装置４０では、本発明における回転速度低下制御処理の後に２秒に亘って５０ｒｐｍの回転速度を維持しているが、本発明はこれに限定されず、上記の例における時間ｔ３〜ｔ４の間において基材１１の回転速度が５０ｒｐｍ（樹脂材料Ｒが基材１１から周囲に飛散しない程度の回転速度）を下回っていればよい。具体的には、基材１１の回転を停止させる構成を採用することもできるし、停止状態と５０ｒｐｍとの間で回転速度を変化させる構成を採用することもできる。また、この５０ｒｐｍの回転速度については、樹脂材料Ｒが基材１１から周囲に飛散しない程度の回転速度の範囲内で適宜規定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】光記録媒体製造装置１００の構成を示す構成図である。
【図２】光記録媒体１の断面図である。
【図３】基材１１の断面図である。
【図４】樹脂層形成装置４０の構成を示す構成図である。
【図５】表面１１ａに情報層１２を形成した状態の基材１１の断面図である。
【図６】樹脂層１３の形成工程における処理開始からの経過時間と基材１１の回転速度との関係を示す関係図である。
【図７】中央部に樹脂材料Ｒを滴下している状態の基材１１の断面図である。
【図８】外縁部まで樹脂材料Ｒが展延された状態の基材１１の断面図である
【図９】外周面１１ｃに沿って樹脂材料Ｒが伝わり落ちている状態の基材１１の断面図である。
【図１０】外縁部から樹脂材料Ｒが飛散している状態の基材１１の断面図である。
【図１１】展延させた樹脂材料Ｒに紫外線が照射されている状態の基材１１の断面図である。
【図１２】回転が停止した状態の基材１１の断面図である。
【図１３】中間体２の断面図である。
【符号の説明】
【００３５】
１  光記録媒体
２  中間体
１１  基材
１１ａ  表面
１１ｃ  外周面
１２  情報層
１３  樹脂層
１００  光記録媒体製造装置
４０  樹脂層形成装置
４１  滴下部
４２  回転機構
４３  紫外線照射部
４４  照射規制部
４５  制御部
６１  吐出口
６２  樹脂材料供給機構
６３  移動機構
７１  ターンテーブル
７２  モータ
Ｒ，Ｒａ，Ｒｂ  樹脂材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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