(57)【要約】【課題】高い反射防止性に優れ、且つ白味がよく視認性に優れた反射防止フィルム、このような反射防止フィルムの製造方法、偏光膜の一方の側の保護フィルムとしてこのような反射防止フィルムを使用した反射防止能付き偏光板、並びにこのような反射防止フィルム及び／又は反射防止能付き偏光板を装備した画像表示装置を提供すること。【解決手段】透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層以上の薄層からなる反射防止膜を塗設して、鏡面反射率の平均値を特定値以下に抑えた反射防止フィルムにおいて、反射防止フィルム表面への特定方向からの入射光に対して、該反射防止フィルム表面で散乱される散乱光のうち、特定方向の散乱光の光量Ｉ50と、該入射光の全散乱光の総光量Ｉとが、特定の関係を満足することを特徴とする反射防止フィルム。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層以上の薄層からなる反射防止膜を塗設して、鏡面反射率の平均値を３％以下に抑えた反射防止フィルムにおいて、
該透明支持体表面に立てた法線より−１０°傾いた方向からの該反射防止フィルム表面への入射光の、該反射防止フィルム表面で散乱される散乱光のうち、該法線より＋５０°傾いた方向の散乱光の光量Ｉ50と、該入射光の全散乱光の総光量Ｉとが、下記数式（１）の関係を満足することを特徴とする反射防止フィルム。
数式（１）：−Ｌｏｇ(Ｉ50／Ｉ)≧６．６。
【請求項２】
反射防止フィルムの反射防止膜形成側の最表面の算術平均粗さＲａが０．１〜１５ｎｍ、十点平均粗さＲｚとＲａの比Ｒｚ／Ｒａが１５以下、及び凹凸プロファイルの平均傾斜角（正反射面に対する平均傾斜角度）が３°以下である微細凹凸形状を有する請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
反射防止膜が、少なくとも、透明支持体の屈折率よりも低屈折率の低屈折率層を含んでなる請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
低屈折率層が、熱硬化性及び放射線硬化性組成物から選ばれる少なくとも１つを含む低屈折率層形成用組成物を塗設して形成された硬化皮膜である請求項３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
鏡面反射率の平均値が１％以下である請求項１〜４の何れか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．４９の範囲である請求項３又は４に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
低屈折率層と、低屈折率層に隣接する層の屈折率との差が０．１６以上、１．３以下である請求項３、４又は６に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
反射防止膜が、透明支持体と低屈折率層との間に、該支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層を少なくとも１層有する請求項３、４、６又は７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
反射防止膜が、該透明支持体と低屈折率層との間に、低屈折率層側から順に、該支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層、及び該支持体と該高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層の３層構造からなり、設計波長λ（４００〜６８０ｎｍ）に対して、該中屈折率層が下記数式（２）を、高屈折率層が下記数式（３）を、低屈折率層が下記数式（４）をそれぞれ充足する請求項３、４、６、７又は８のいずれかに記載の反射防止フィルム。
数式（２）：（λ／４）×０．８０＜ｎ1ｄ1＜（λ／４）×１．００
数式（３）：（λ／２）×０．７５＜ｎ2ｄ2＜（λ／２）×０．９５
数式（４）：（λ／４）×０．９５＜ｎ3ｄ3＜（λ／４）×１．０５
［式中、ｎ1は中屈折率層の屈折率、ｄ1は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｎ2は高屈折率層の屈折率、ｄ2は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｎ3は低屈折率層の屈折率、ｄ3は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である］
【請求項１０】
波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の入射角５゜の入
射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値が、それぞれ−８≦ａ*≦８、且つ、−１０≦ｂ*≦１０の範囲内にある請求項１〜９の何れかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１１】
低屈折率層が平均粒径５〜１００ｎｍの無機微粒子を５〜８０質量％含有する請求項３、４、６〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１２】
無機微粒子が、下記一般式（１）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物により分散性の改良処理がなされたものである請求項１１に記載の反射防止フィルム。
一般式（１）：
（Ｒ11）α−Ｓｉ（Ｙ11）4-α
（式中、Ｒ11は置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｙ11は水酸基又は加水分解可能な基を表す。αは１〜３の整数を表す。）
【請求項１３】
分散性の改良処理が、酸触媒及び下記金属キレート化合物の少なくとも何れかの存在下で行われる請求項１２に記載の反射防止フィルム。
金属キレート化合物：一般式Ｒ01ＯＨ（式中、Ｒ01は炭素数１〜１０のアルキル基を示す。）で表されるアルコール及び一般式Ｒ02ＣＯＣＨ2ＣＯＲ03（式中、Ｒ02は炭素数１〜１０のアルキル基を、Ｒ03は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。）で表される化合物から選ばれる少なくとも１つを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ及びＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物。
【請求項１４】
無機微粒子が中空構造を有する請求項１１〜１３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１５】
低屈折率層の上に含フッ素化合物、含珪素化合物及び炭素数４以上の長鎖アルキル基含有化合物から選ばれる少なくとも１つの化合物を含むオーバーコート層が積層される請求項３、４、６〜１４に記載の反射防止フィルム。
【請求項１６】
高屈折率層が、コバルト、アルミニウム、及びジルコニウムから選ばれる少なくとも１種の元素を含有する、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子を含有し、且つ該高屈折率層の屈折率が１．５５〜２．５０である請求項８〜１５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１７】
請求項１〜１６に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１８】
偏光膜の表面に、少なくとも１枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムが請求項１〜１６の何れかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項１９】
請求項１〜１６の何れかに記載の反射防止フィルムを、偏光膜の一方の保護フィルムとして用い、光学異方性のある光学補償フィルムを、偏光膜の他方の保護フィルムとして用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項２０】
請求項１〜１６の何れかに記載の反射防止フィルム、又は、請求項１８もしくは１９に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２１】
請求項２０に記載の画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、又はＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、及びそれを少なくとも保護フィルムの片面として用いた偏光板、及びそれを用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。そのため、反射防止フィルムには高い反射防止性能の他に、高い透過率、高い物理強度（耐擦傷性など）、耐薬品性、耐候性（耐湿熱性、耐光性など）が要求される。
【０００３】
反射防止フィルムに用いる反射防止層は、従来から単層又は多層の薄膜を形成することが行われてきた。単層の場合は、基材よりも低屈折率を有する層（低屈折率層）を光学膜厚で設計波長の１／４の膜厚で形成すればよい。さらに低反射化が必要な場合には、基材と低屈折率を有する層との間に、基材よりも屈折率の高い層（高屈折率層）を形成すればよい。
【０００４】
多層反射防止フィルムは、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から広く用いられている。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法により形成することが通常に行われてきた。
【０００５】
多層反射防止フィルムは、湿式塗工法によっても形成される。真空蒸着法に比べ、大量生産、低コスト化に適している湿式塗工法による反射防止膜の形成が強く望まれている。
【０００６】
反射防止フィルムを湿式塗工法で作製する場合、特定の屈折率を有する膜形成性組成物を溶媒中に溶解又は分散して調整される、塗布組成物を基材上に塗布、乾燥、必要に応じて硬化することで形成される。
低屈折率層を形成するには、低い屈折率を有する物質として、フッ素含有素材や無機材料を用いる例が数多く公開されている。
湿式塗工法により高屈折率層を形成するには、高い屈折率を有する無機微粒子をより微細に分散し、皮膜の中に導入することが提案されている(例えば、特許文献４〜７参照)。
【０００７】
しかしながら、これらの湿式塗工法による反射防止フィルムを画像表示装置に適用した際、斜めからディスプレイを見たときに、黒表示が、白味がかった黒色や灰色に見えるという問題が起こった。この現象は「黒色の沈み込みが悪い」、「黒浮きが悪い」、「黒色の締りが悪い」、「黒色が白っぽい」、あるいは「白味が悪い」などと表現されている。反対に黒が本来の黒色に見える場合は、「黒色の沈み込みがよい」、「黒浮きがよい」、「黒浮きがない」、「黒色の締りがよい」、「黒色が黒色に見える」、あるいは「白味がよい」などと表現されている。これはコントラストの悪化にもつながり、さらにはディスプレイの高級感及び表示品位を損なうという問題があった。
【０００８】
一方、凹凸形状により映り込みを防止する防眩性フィルムや防眩性反射防止フィルムにおいて、白味を抑える技術が公開されている（例えば、特許文献１〜３）。
【０００９】
近年、画像表示装置において大型化、高精細化、すなわち高画質に対する要求が非常に高く、画像表示装置の最外層に用いられる反射防止フィルムの白味の良さや、反射色の色
味がニュートラルであることが強く望まれている。
【特許文献１】特開２００１−２８１４０２号
【特許文献２】特開２００１−２８１４０３号
【特許文献３】特開２００３−２２２７１３号
【特許文献４】特開２００１−１８８１０４号
【特許文献５】特開２００３−２６２７０２号
【特許文献６】特開２００２−２８６９０７号
【特許文献７】特開２００３−２９２８３１号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、画像表示装置に用いたとき、反射防止性が高く、白味がよく視認性に優れた反射防止フィルムを提供することである。
また他の目的は、上記のように優れた特性を有する反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。
さらに本発明の他の目的は、反射防止性が高く、白味がよく視認性に優れた反射防止能付き偏光板を提供することである。
またさらに、本発明の他の目的は、反射防止性が高く、白味がよく視認性に優れた反射防止処理がされている画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、研究の結果、反射防止フィルムの「白味の悪さ」は、反射防止フィルムへの特定の方向からの入射光の、反射防止フィルム表面で散乱される散乱光のうち、特定の方向の散乱光の光量と、入射光の全散乱光の総光量とが、特定の関係を満足することで解消され、「白味がよくなる」ことを見出した。
本発明者らは、研究を進めた結果、「白味が悪い」ことの原因は、反射防止フィルムの最表面に用いられる低屈折率層の形成に用いられる、有機材料、特にフッ素含有素材と無機材料を配合する際に、無機材料が不用な凝集を起こし、この凝集によりフィルム表面の微細な凹凸が起こり、反射防止フィルム表面での光の散乱が大きくなりすぎ、本来、黒色に見える部分に散乱光が混入し、「白味が悪い」ことを引き起こす原因となるものと考え、反射防止フィルムの反射防止膜形成側の最表面を特定の形状にすることによって、さらに、「白味が改善される」ことを見出した。表面形状は、（ａ）低屈折率層に特定の無機微粒子を含有させること、該無機微粒子に表面処理することと、（ｂ）乾燥速度を制御することによって、特定の形状にすることができることを知見した。
さらに研究を進めた結果、「白味」には、高屈折率層に起因する内部散乱も影響することを見出し、高屈折率層に特定の大きさの範囲内の無機微粒子を含有させることによって、より「白味」を改善できることを見出した。
【００１２】
すなわち、本発明は、以下の各構成により、上記目的を達成したものである。
（１）透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層以上の薄層からなる反射防止膜を塗設して、鏡面反射率の平均値を３％以下に抑えた反射防止フィルムにおいて、該透明支持体表面に立てた法線より−１０°傾いた方向からの該反射防止フィルム表面への入射光の、該反射防止フィルム表面で散乱される散乱光のうち、該法線より＋５０°傾いた方向の散乱光の光量Ｉ50と、該入射光の全散乱光の総光量Ｉとが、下記数式（１）の関係を満足することを特徴とする反射防止フィルム。
数式（１）：−Ｌｏｇ(Ｉ50／Ｉ)≧６．６。
【００１３】
（２）反射防止フィルムの反射防止膜形成側の最表面の算術平均粗さＲａが０．１〜１５ｎｍ、十点平均粗さＲｚとＲａの比Ｒｚ／Ｒａが１５以下、及び凹凸プロファイルの平均傾斜角（正反射面に対する平均傾斜角度）が３°以下である微細凹凸形状を有する上記（
１）に記載の反射防止フィルム。
【００１４】
（３）反射防止膜が、少なくとも、透明支持体の屈折率よりも低屈折率の低屈折率層を含んでなる上記（１）又は（２）に記載の反射防止フィルム。
（４）低屈折率層が、熱硬化性及び放射線硬化性組成物から選ばれる少なくとも１つを含む低屈折率層形成用組成物を塗設して形成された硬化皮膜である上記（３）に記載の反射防止フィルム。
（５）鏡面反射率の平均値が１％以下である上記（１）〜（４）に記載の反射防止フィルム。
【００１５】
（６）低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．４９の範囲である上記（３）又は（４）に記載の反射防止フィルム。
（７）低屈折率層と、低屈折率層に隣接する層の屈折率との差が０．１６以上、１．３以下である上記（３）、（４）又は（６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（８）反射防止膜が、透明支持体と低屈折率層との間に、該支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層を少なくとも１層有する上記（３）、（４）、（６）又は（７）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【００１６】
（９）反射防止膜が、該透明支持体と低屈折率層との間に、低屈折率層側から順に、該支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層、及び該支持体と該高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層の３層構造から形成なり、設計波長λ（４００〜６８０ｎｍ）に対して、該中屈折率層が下記数式（２）を、高屈折率層が下記数式（３）を、低屈折率層が下記数式（４）をそれぞれ充足する上記（３）、（４）又は（６）〜（８）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
数式（２）：（ｍ1λ／４）×０．８０＜ｎ1ｄ1＜（ｍ1λ／４）×１．００
数式（３）：（ｍ2λ／４）×０．７５＜ｎ2ｄ2＜（ｍ2λ／４）×０．９５
数式（４）：（ｍ3λ／４）×０．９５＜ｎ3ｄ3＜（ｍ3λ／４）×１．０５
［式中、ｍ1は１であり、ｎ1は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｍ2は２であり、ｎ2は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ2は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり；ｍ3は１であり、ｎ3は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ3は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である］
【００１７】
（１０）波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の入射角５゜の入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値が、それぞれ−８≦ａ*≦８、且つ、−１０≦ｂ*≦１０の範囲内にある上記（１）〜（９）の何れかに記載の反射防止フィルム。
（１１）低屈折率層が平均粒径５〜１００ｎｍの無機微粒子を５〜８０質量％含有する上記（３）、（４）、又は（６）〜（１０）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【００１８】
（１２）無機微粒子が、下記一般式（１）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物により分散性の改良処理がなされたものである上記（１１）に記載の反射防止フィルム。
一般式（１）：
（Ｒ11）α−Ｓｉ（Ｙ11）4-α
（式中、Ｒ11は置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｙ11は水酸基又は加水分解可能な基を表す。αは１〜３の整数を表す。）
【００１９】
（１３）分散性の改良処理が、酸触媒及び下記金属キレート化合物の少なくとも何れかの存在下で行われる上記（１２）に記載の反射防止フィルム。
金属キレート化合物：一般式Ｒ01ＯＨ（式中、Ｒ01は炭素数１〜１０のアルキル基を示
す。）で表されるアルコール及び一般式Ｒ02ＣＯＣＨ2ＣＯＲ03（式中、Ｒ02は炭素数１〜１０のアルキル基を、Ｒ03は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。）で表される化合物から選ばれる少なくとも１つを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ及びＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物。
【００２０】
（１４）無機微粒子が中空構造を有する上記（１１）〜（１３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（１５）反射防止膜が、乾燥工程において０．１０〜１．５ｇ／ｍ2・秒の乾燥速度で塗設されてなる硬化膜である上記（１）〜（１４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。（１６）低屈折率層の上に含フッ素化合物、含珪素化合物及び炭素数４以上の長鎖アルキル基含有化合物から選ばれる少なくとも一つの化合物を含むオーバーコート層が積層される上記（３）、（４）、（６）〜（１５）に記載の反射防止フィルム。
【００２１】
（１７）高屈折率層が、コバルト、アルミニウム、及びジルコニウムから選ばれる少なくとも１種の元素を含有する、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子を含有し、且つ該高屈折率層の屈折率が１．５５〜２．５０である上記（８）〜（１６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（１８）高屈折率層に含まれる無機微粒子の平均一次粒径が、５〜１００ｎｍであり、且つ一次粒径１５０ｎｍ以上の大粒子の含まれない上記（８）〜（１７）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【００２２】
（１９）上記（１）〜（１８）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【００２３】
（２０）偏光膜の表面に、少なくとも１枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムが上記（１）〜（１８）の何れかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
（２１）上記（１）〜（１８）の何れかに記載の反射防止フィルムを、偏光膜の一方の保護フィルムとして用い、光学異方性のある光学補償フィルムを、偏光膜の他方の保護フィルムとして用いたことを特徴とする偏光板。
【００２４】
（２２）上記（１）〜（１８）の何れかに記載の反射防止フィルム、又は上記（２０）もしくは（２１）に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
（２３）上記（２２）に記載の画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、又はＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層最表面における散乱光が制御されており、反射防止性が高く、この反射防止フィルムを画像表示装置に用いたとき、白味がよく、視認性に優れたものである。さらには、反射の色味のニュートラル、膜強度、耐久性に優れたものである。
【００２６】
また、本発明の反射防止フィルムを保護フィルムとして用いた偏光板は、光学性能、物理強度、及び耐候性に優れた反射防止フィルムを備えた偏光板となり、安価で大量に提供することができる。
【００２７】
さらに本発明の画像表示装置は、上記特性に優れた反射防止フィルム又は偏光板を備えており、反射防止性能に優れ、視認性と表示品位が優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
本願明細書において「〜」とは、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。また、本発明でいう「支持体上」又は「配向膜上」には、該支持体等の直接の表面をいう場合と、該支持体等の上に何らかの層（膜）を設けた表面をいう場合の両方を含む趣旨である。
以下に本発明の詳細を説明する。
＜反射防止フィルムの層構造＞
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層以上の薄層からなる反射防止膜を塗設してなるものである。次に本発明の反射防止フィルムの構造の代表的な好適例を、図面を引用しながら説明する。
図１は、優れた反射防止性能を有する多層反射防止フィルムを、保護フィルムとして偏光板の片側に用いたときの層構造を模式的に示す断面図である。多層反射防止フィルム１１は、透明支持体１及びその表面に形成された反射防止膜１０、すなわちハードコート層２、中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層（最外層）５の順序の層構成を有する反射防止膜１０からなる。透明支持体１、中屈折率層３、高屈折率層４及び低屈折率層５は、以下の関係を満足する屈折率を有する。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
【００２９】
〔反射防止フィルムの諸特性〕
［各層の屈折率と厚みの関係］
図１のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、中屈折率層が下記数式（２'）を、高屈折率層が下記数式（３'）を、低屈折率層が下記数式（４'）をそれぞれ満足することがより優れた反射防止性能を有する反射防止フィルム１１を作製できる点で好ましい。
【００３０】
数式（２'）：（ｍ1λ／４）×０．７＜ｎ1ｄ1＜（ｍ1λ／４）×１．３
数式（２'）中、ｍ1は正の整数（一般に１、２又は３）であり、ｎ1は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は中屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長（ｎｍ）であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値である。
【００３１】
数式（３'）：（ｍ2λ／４）×０．７＜ｎ2ｄ2＜（ｍ2λ／４）×１．３
数式（３'）中、ｍ2は正の整数（一般に１、２又は３）であり、ｎ2は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ2は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長（ｎｍ）であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値である。
【００３２】
数式（４'）：（ｍ3λ／４）×０．７＜ｎ3ｄ3＜（ｍ3λ／４）×１．３
数式（４'）中、ｍ3は正の奇数（一般に１）であり、ｎ3は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ3は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長（ｎｍ）であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値である。
【００３３】
図１のような層構成では、中屈折率層が下記数式（２）、高屈折率層が下記数式（３）、低屈折率層が下記数式（４）をそれぞれ満足することが、特に好ましい。なおここでのλは設計波長であり、４００〜６８０ｎｍである。
数式（２）：（λ／４）×０．８０＜ｎ1ｄ1＜（λ／４）×１．００
数式（３）：（λ／２）×０．７５＜ｎ2ｄ2＜（λ／２）×０．９５
数式（４）：（λ／４）×０．９５＜ｎ3ｄ3＜（λ／４）×１．０５
【００３４】
［反射防止フィルムの散乱光の光量］
本発明においては、反射防止フィルム表面へ特定方向から入射する光が、該反射防止フィルム表面で散乱される散乱光のうち、特定方向の散乱光の光量と、該入射光の全散乱光の総光量Ｉとが、下記数式（１）の関係を満足することを特徴とする。
数式（１）：−Ｌｏｇ(Ｉ50／Ｉ)≧６．６。
散乱光の光量は、ゴニオフォトメーター"ＧＰ−５"｛（株）村上色彩技術研究所製｝を用いて測定することができる。光源はハロゲンランプ（１２Ｖ、５０Ｗ）を使用する。Ｉ50とは、反射防止フィルムの透明支持体表面に立てた法線より−１０°傾いた方向から該反射防止フィルム表面へ光を照射したとき、該法線より＋５０°傾いた方向への反射散乱光の光量値である。入射光の全散乱光の総光量Ｉは、標準白色板を用いて求められる。標準白色板の表面に、その法線より−１０°傾いた方向から光を照射し、−８５°〜＋９０°方向の全反射散乱光の総光量値である。
【００３５】
本発明においては、−Ｌｏｇ（Ｉ50／Ｉ）の値は６．６以上であることが必要であり、６．７以上であることが好ましく、更に好ましくは６．８以上である。−ＬｏｇＩ50／Ｉの値がこの値この値より小さいと、ディスプレイを斜めから見たときなどに、黒表示が、白味がかった黒色や灰色に見えることがあり、良好な視認性と表示品位が達成されない。
【００３６】
［反射防止フィルムの表面粗さ、平均傾斜角］
本発明の反射防止フィルムの最表面は、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１〜１５ｎｍ、十点平均粗さ／算術平均粗さ（Ｒｚ／Ｒａ）が１５以下、及び凹凸プロファイルの平均傾斜角（正反射面に対する平均傾斜角度）が３°以下であることが好ましい。より好ましくは、Ｒａが０．１〜１０ｎｍ、Ｒｚ／Ｒａが１２以下、平均傾斜角が２．５°以下、更に好ましくは、Ｒａが０．５〜１０ｎｍ、Ｒｚ／Ｒａが１０以下、平均傾斜角が２．０°以下、最も好ましくは、Ｒａが７以下、平均傾斜角が２．０°以下である。Ｒａ、Ｒｚ／Ｒａ、平均傾斜角の各値が上記の範囲内であることにより、表面凹凸の影響よる白味の発生が抑止されて視認性と表示品位が良好となる。
【００３７】
反射防止フィルム表面の凹凸形状は、（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ製の「マイクロマップ」機や走査型プローブ顕微鏡"ＳＰＩ３８００"｛セイコーインスツルメンツ（株）製｝）により評価することができる。
測定する装置はこれらの他いくつかあるが、一例として、走査型プローブ顕微鏡"ＳＰＩ３８００"｛セイコーインスツルメンツ（株）製｝）を用いた場合について説明する。
【００３８】
平均傾斜角は、島（凹凸形状の凸の部分）の平均半径の変化量の高さ平均値（の角度換算値）であり、具体的には次のような手順で求められる。
（１）ある高さＺでの島の数Ｎと総面積ＳTを求める。
（２）島の面積の平均値ＳVを求める。
ＳV＝ＳT／Ｎ
（３）島が円であると仮定して、その半径の平均値ＲVを求める。
【００３９】
【数１】
2006091859.tif 000003
【００４０】
（４）高さＺを変えて手順（１）〜（３）を繰り返し、各高さＺ毎の平均半径ＲV(Ｚ)を求める。
（５）微小高さΔＺに対するＲV(Ｚ)の変化量ΔＲV(Ｚ)を求め、全高さＨ（＝最大高低差）で平均する。
【００４１】
【数２】
2006091859.tif 000004
【００４２】
（６）ＲVHを平均傾斜角(Δａ)に換算する。
Δａ＝ａｒｃｔａｎ（ＲVH／ΔＺ）
【００４３】
［鏡面反射率の平均値、色味］
本発明の反射防止フィルムにおける入射角５゜の入射光における鏡面反射率は、４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が３．０％以下であり、この範囲内にあれば表示装置表面での外光の反射による視認性の低下が充分なレベルまで防止できる。鏡面反射率の平均値は、好ましくは２％以下であり、より好ましくは１％以下であり、特に好ましくは０．８％以下である。
【００４４】
また、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ65の入射角５゜の入射光に対する正反射光の色味は、ＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値をそれぞれ−８≦ａ*≦８、且つ、−１０≦ｂ*≦１０の範囲内とすることで、従来の多層反射防止フィルムで問題となっていた赤紫色から青紫色の反射光の色味が低減され、さらに０≦ａ*≦６、且つ、−８≦ｂ*≦０の範囲内とすることで、このような色味が大幅に低減され、液晶表示装置に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだときにも、その色味はニュートラルで、気にならない。
【００４５】
詳しくはａ*≦８であれば赤味が強くなりすぎることがなく、またａ*≧−８であればシアン味が強くなりすぎることがないので好ましい。さらにｂ*≧−８であれば青味が強くなりすぎることがなく、ｂ*≦０であれば黄味が強くなりすぎることがないので好ましい
。
【００４６】
鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計"Ｖ−５５０"｛日本分光（株）製｝にアダプター"ＡＲＶ−４７４"を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５゜の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。さらに、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ65の入射角５゜の入射光に対する正反射光の色味を表わす、ＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のＬ*値、ａ*値、ｂ*値を算出し、反射光の色味を評価することができる。
【００４７】
［反射防止膜の屈折率］
反射防止膜の屈折率は、各屈折率層を屈折率が０．１以上のガラス板などの光学基板上に設け、分光光度計"Ｖ−５５０"｛日本分光（株）製｝にアダプター"ＡＲＶ−４７４"を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５゜の鏡面反射率を測定し、Ｃａｕｃｈｙモデルを用いてフィッティングより求める。
【００４８】
低屈折率層と、低屈折率層に隣接する層の屈折率の差は０．１６〜１．３であることが好ましい。より好ましくは、０．１８〜１．２であり、更に好ましくは０．２０〜１．０である。屈折率の差が０．１６以上であれば十分な反射防止性が得られるので好ましく、また、屈折率の差が１．３以下であれば適宜の材料の入手が用意でありであり好ましい。
【００４９】
＜透明支持体＞
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層以上の薄層からなる反射防止膜を塗設されて形成される。透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００５０】
透明支持体としては、ガラス板よりもプラスチックフィルムの方が好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例えばセルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リエステル（例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４、４'−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例えばシンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例えばポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトン等が含まれる。セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートが好ましい。
【００５１】
特に、液晶表示装置に用いる場合、上記のセルロースエステルのうちセルロースの脂肪酸エステルであるセルロースアシレートのフィルムが好ましい。セルロースアシレートはセルロースをエステル化することにより作製される。用いられるセルロースは、通常、リンター、ケナフ、パルプなどを精製して用いられる。
【００５２】
上記のように、本発明におけるセルロースアシレートとは、セルロースの脂肪酸エステルのことであるが、特に、低級脂肪酸エステルが好ましい。
ここで低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数が２〜４のセルロースアシレートが好ましく、中でもセルロースアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることもまた好ましい。
【００５３】
セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜５．０であることが好ましい。より好ましくは、１．０〜３．０であり、特に好ましくは１．０〜２．０である。
【００５４】
本発明の透明支持体としては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアシレートを使用することが好ましい。酢化度は、５７．０〜６２．０％であることがさらに好ましく、５９．０〜６１．５％が特に好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアシレート等の試験法）におけるアシル化度の測定及び計算によって求められる。
【００５５】
セルロースアシレートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるセルロースアシレートでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度又は多い方が好ましい。２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがさらに好ましく、３２〜４０％であることが最も好ましい。
【００５６】
透明支持体には、フィルムの機械的特性（膜の強度、カール、寸度安定性、滑り性等）、耐久性（耐湿熱性、耐候性等）等の特性を調整するために各種の添加剤を用いることができる。例えば、可塑剤（リン酸エステル類、フタル酸エステル類、ポリオールと脂肪酸とのエステル類等）、紫外線防止剤（例えば、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物等）、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等）、微粒子（例えばＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＢａＳＯ4、ＣａＣＯ3、ＭｇＣＯ3、タルク、カオリン等）、剥離剤、帯電防止剤、赤外吸収剤等が挙げられる。
【００５７】
これらの詳細は、発明協会公開技法公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会），ｐ．１７−２２に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。添加剤の使用量は、透明支持体の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【００５８】
透明支持体に、表面処埋を実施してもよい。
表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理及びオゾン酸化処理が含まれる。具体的には、例えば、発明協会公開技法公技番号２００１−１７４５号（発行２００１年３月１５日）３０〜３１頁に記載の内容、特開２００１−９９７３号公報に記載の内容等が挙げられる。
好ましくは、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理及び火焔処理、更に好ましくはグロー放電処理と紫外線処理が挙げられる。
【００５９】
＜反射防止膜＞
〔高屈折率層〕
本発明における前記高屈折率層は、高屈折率の無機化合物微粒子（以下高屈折率微粒子ということがある）及びマトリックスバインダーを含有する硬化性組成物（以下、高屈折率形成用組成物ともいう。）を塗設してなる、屈折率１．５５〜２．５０の硬化膜からなることが好ましい。屈折率は１．６５〜２．４０が好ましく、更には１．７０〜２．２０が特に好ましい。
【００６０】
また高屈折率層の表面が、光学的に影響を与えない大きさの微細な表面凹凸形態を形成し、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１−１９９４に基づく該高屈折率層の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．０３μｍ、さらには０．００１〜０．０１５μｍ、特には０．００１〜０．０１０μｍの範囲；十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．００１〜０．０６μｍ、さらには０．００２〜０．０５μｍ、特には０．００２〜０．０２５μｍの範囲であり、かつ最大高さ（Ｒｙ）が０．０９μｍ以下、さらには０．０５μｍ以下、特には０．０４μｍ以下であることが好ましい。
【００６１】
更に、上記の光学的に影響を与えない大きさの微細な表面凹凸形態において、算術平均粗さ（Ｒａ）と十点平均粗さ（Ｒｚ）との比（Ｒｚ／Ｒａ）が１５以下で、かつＪＩＳ  Ｂ−０６０１−１９９４に基づく該高屈折率層の表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０１〜１μｍであることが好ましい。ここで、ＲａとＲｚの関係は表面の凹凸の均一性を示すものである。（Ｒｚ／Ｒａ）比はさらに好ましくは１２以下、より好ましくは７以下であり、平均間隔（Ｓｍ）が０．０１〜０．８μｍであるのがよい。これらの範囲内であれば、該高屈折率層の上に塗布される低屈折率層の塗布面状は、ムラやスジ等のみられない良好なものとなり、白味が改善する。さらには両層間の密着性を向上させることも可能となる。層表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。
【００６２】
高屈折率層を、高屈折率微粒子がマトリックスバインダー中に分散されてなる屈折率１．５５〜２．５０の高屈折率硬化膜とするには、通常、マトリックスバインダーの屈折率は１．４〜１．５であることから、該微粒子の使用割合は、用いられる該微粒子の屈折率によって決まるが、硬化膜の全質量中の４０〜８０質量％であることが好ましく、より好ましくは４５〜７５質量％である。
【００６３】
このように、高屈折率微粒子の比率を多くして設計する高屈折率層の、それ自身の膜強度を高め、かつ上層を設けたのちの上層との密着性を強固にするには、後述するように、高屈折率微粒子として超微粒子径で、その粒度が揃ったものを用い、かつこれを高屈折率
層中に均一に分散させること、及びその層の表面が上記のような凹凸状態を形成することが好ましい。高屈折率層表面全体の表面凹凸の形状と分布を特定の範囲とすることで、長尺フィルムに連続して上層として低屈折率層を設けた時にも、該層の全面がムラなく均一にアンカリング効果が十分に発揮され、白味が改善されるとともに密着性が保たれるので好ましい。また長期間を保存した後でも、密着性が変化無く保持され、好ましい。
【００６４】
本発明における高屈折率層の硬化膜と、該高屈折率層上に塗設した上層（低屈折率層）との密着性は、ＪＩＳ  Ｋ−６９０２に基づくテーバー磨耗試験における磨耗量が、５０ｍｇ以下、さらには４０ｍｇ以下となることが好ましい。テーバー磨耗試験は、具体的には荷重１Ｋｇで５００回転させた後の磨耗量である。この範囲内であれば、反射防止膜としての耐擦傷性が十分に保持されるので好ましい。
【００６５】
また、前記の表面形状が形成された高屈折率層を含む反射防止膜においては、視覚的に異物として目立ちやすくなる直径５０μｍ以上の大きさの輝度欠陥の数が、１平方メートル当たり２０個以下となることが好ましい。
【００６６】
［高屈折率層形成用組成物］
（高屈折率微粒子）
本発明における高屈折率層に含まれる高屈折率微粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０、さらには１．９０〜２．８０；一次粒子の平均粒径が３〜１００ｎｍ、さらには５〜１００ｎｍ、特には１０〜８０ｎｍであることが好ましい。高屈折率微粒子の屈折率が１．８０以上であれば、層の屈折率を効果的に高めることができ、屈折率が２．８０以下であれば粒子が着色するなどの不都合がないので好ましい。また高屈折率微粒子の一次粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下であれば、形成される高屈折率層のヘイズ値が高くなって層の透明性を損なうなどの不都合が生じないので好ましく、３ｎｍ以上であれば高い屈折率が保持されるので好ましい。
高屈折率微粒子の粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真による平均一次粒子径で表す。平均一次粒子径はそれぞれの微粒子の最大径の平均値で表し、長軸径と短軸径を有する場合、各微粒子の長軸径の平均値を平均一次粒子径とする。
【００６７】
好ましい高屈折率微粒子の具体例は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ，Ｌａ、Ｗ、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｖ、Ｓｍ、Ｙ等の酸化物又は複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分をさす。本発明でより好ましい高屈折率微粒子はＴｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｓｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素を含む酸化物もしくは複合酸化物を主成分とする粒子である。
【００６８】
本発明で使用される高屈折率微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない（以下このような元素を含有元素ということがある）。含有元素としては、例えば、Ｌｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｂａ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ｐ、Ｓなどが挙げられる。酸化錫、酸化インジウムにおいては粒子の導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｐ、Ｂ、Ｉｎ、Ｖ、ハロゲンなどの含有元素を含有させることが好ましく、特に、酸化アンチモンを約５〜２０質量％含有させたものが最も好ましい。
【００６９】
本発明で特に好ましい高屈折率微粒子は、含有元素としてＣｏ、Ｚｒ、Ａｌから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子（以降、「特定の酸化物」と称することもある）が挙げられる。特に好ましい含有元素はＣｏである。Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒの総含有量は、Ｔｉに対し０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％、さらに好ましくは０．２〜７質量％、特に好ましくは０．３〜５質量％、最も好ましくは０．５〜３質量％である。含有元素Ｃｏ、Ａｌ、
Ｚｒは、二酸化チタンを主成分とする高屈折率微粒子の内部又は表面に存在する。二酸化チタンを主成分とする高屈折率微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの含有元素のうち金属元素は、酸化物として存在してもよい。
【００７０】
また他の好ましい高屈折率微粒子としては、チタン元素と、酸化物が屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称する）との複合酸化物の粒子で、かつ該複合酸化物はＣｏイオン、Ｚｒイオン及びＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複酸化物」と称することもある）が挙げられる。ここで、その酸化物の屈折率が１．９５以上となる金属元素としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ，Ｓｎ及びＢｉが好ましい。特には、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｂｉが好ましい。複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属［Ｔｉ＋Ｍｅｔ］量に対して、２５質量％を越えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましい。より好ましくは０．０５〜１０質量％、さらに好ましくは０．１〜５質量％、最も好ましくは０．３〜３質量％である。
【００７１】
ドープされた金属イオンは、金属イオンとして、又は金属原子の何れの形体で存在してもよく、複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在することができる。表面と内部との両方に存在することが好ましい。
【００７２】
本発明で用いられる高屈折率微粒子は結晶構造を有することが好ましい。結晶構造は、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、が主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。このことにより、上記特定の酸化物又は特定の複酸化物の高屈折率微粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０を有することになり、好ましい。屈折率は、より好ましくは２．１０〜２．８０であり、更に好ましくは２．２０〜２．８０である。またこのことにより、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、本発明における高屈折率層自身並びに高屈折率層と接する上／下の両層のそれぞれの耐候性を著しく改良することができ、好ましい。
【００７３】
上記した特定の金属元素又は金属イオンをドープする方法は、従来公知の方法を用いることができる。例えば、特開平５−３３０８２５号公報、同１１−２６３６２０号公報、特表平１１−５１２３３６号公報、ヨーロッパ公開特許第０３３５７７３号公報等に記載の方法；イオン注入法［例えば、権田俊一、石川順三、上条栄治編「イオンビーム応用技術」（株）シ−エムシー、１９８９年刊行、青木 康、「表面科学」１８巻（５）、２６２頁、１９９８、安保正一等、「表面科学」２０巻（２）、６０頁、１９９９等記載］等に従って製造できる。
【００７４】
本発明で用いられる高屈折率微粒子は表面処理してもよい。表面処理とは、無機化合物及び／又は有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施するもので、これにより高屈折率微粒子表面の濡れ性が調整され有機溶媒中での微粒子化、高屈折率層形成用組成物中での分散性や分散安定性が向上する。粒子表面に物理化学的に吸着させる無機化合物としては、例えば、ケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ2など）、アルミニウムを含有する無機化合物［Ａｌ2Ｏ3，Ａｌ（ＯＨ）3など］、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ2，Ｃｏ2Ｏ3，Ｃｏ3Ｏ4など）、ジルコニウムを含有する無機化合物［ＺｒＯ2，Ｚｒ（ＯＨ）4など］、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ2Ｏ3など）などが挙げられる。
【００７５】
表面処理に用いる有機化合物の例には、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることができる。例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されている。
【００７６】
具体的には、高屈折率微粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物、カップリング化合物があげられる。高屈折率微粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等があげられ、分子中に少なくとも１種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸（例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール化合物｛例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性グリセロールトリアクリレート等｝、ホスホノ基含有化合物｛例えばＥＯ（エチレンオキシド）変性リン酸トリアクリレート等｝、アルカノールアミン｛エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等｝が挙げられる。
【００７７】
カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、例えば特開２００２−９９０８号公報同２００１−３１０４２３号公報明細書中の段落番号「００１１」〜「００１５」記載の化合物等が挙げられる。
これらの表面処理に用いる化合物は、２種類以上を併用することもできる。
【００７８】
前記高屈折率微粒子は、これをコアとして他の無機化合物からなるシェルを形成したコア／シェル構造の微粒子であることも好ましい。シェルとしては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｒから選ばれる少なくとも１種の元素からなる酸化物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−１６６１０４号公報記載の内容が挙げられる。
【００７９】
前記高屈折率微粒子の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状又は不定形状が好ましい。前記高屈折率微粒子は単独で用いてもよいが、２種類以上を併用して用いることもできる。
【００８０】
（分散剤）
前記高屈折率微粒子を、安定した所定の超微粒子として用いるため、分散剤を併用することが好ましい。分散剤としては、該高屈折率微粒子表面と親和性を有する極性基を有する低分子化合物、又は高分子化合物であることが好ましい。
【００８１】
前記極性基としては、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）（ＯＨ）基、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）（ＯＨ）基、アミド基（−ＣＯＮＨＲ2、−ＳＯ2ＮＨＲ2）、環状酸無水物含有基、アミノ基、四級アンモニウム基等が挙げられる。
【００８２】
ここで、Ｒ1は炭素数１〜１８の炭化水素基を表す（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、シアノエチル基、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基等）。Ｒ2は、水素原子又はＲ1と同一の内容を表す。
【００８３】
上記極性基において、解離性プロトンを有する基はその塩であってもよい。また、上記アミノ基、四級アンモニウム基は、一級アミノ基、二級アミノ基又は三級アミノ基のいずれでもよく、三級アミノ基又は四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基又は四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、炭素原子数が１〜１２の脂肪族基（上記Ｒ1又はＲ2の基と同一の内容のもの等）であることが好ましい。また、三級アミノ基は、窒素原子を含有する環形成のアミノ基（例えば、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、ピリジン環等）であってもよく、更に四級アンモニウム基はこれら環状アミノ基の四級アモニウム基であってもよい。特に炭素原子数が１〜６の
アルキル基であることがさらに好ましい。
【００８４】
四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオン、ＰＦ6イオン、ＳｂＦ6イオン、ＢＦ4イオン、Ｂ（Ｒ3）4イオン（Ｒ3は、炭化水素基を表し、例えばブチル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基、ブチルフェニル基等）、スルホン酸イオン等が好ましい。
【００８５】
前記分散剤の極性基としては、ｐＫａが７以下のアニオン性基又はこれらの解離基の塩が好ましい。特に、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基、又はこれらの解離基の塩が好ましい。
【００８６】
分散剤は、さらに架橋性又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋性又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基［例えば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基カルボニル基、ビニルオキシ基等］、カチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基、スピロオルトエステル基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基、エポキシ基、又は加水分解性シリル基である。
具体的には、例えば特開２００１−３１０４２３号公報明細書中の段落番号［００１３］〜［００１５］記載の化合物等が挙げられる。
【００８７】
本発明に用いられる分散剤は、高分子分散剤であることが好ましい。特に、アニオン性基、及び架橋性又は重合性官能基を含有する高分子分散剤が好ましい。高分子分散剤の質量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが、ＧＰＣ法で測定されたポリスチレン換算値として、１×１０3以上であることが好ましい。より好ましいＭｗは２×１０3〜１×１０6であり、更に好ましくは５×１０3〜１×１０5、特に好ましくは８×１０3〜８×１０4である。この範囲のものが、高屈折率微粒子が分散されやすく、かつ凝集物や沈殿物を生じない安定な分散物が得られ、好ましい。具体例としては、例えば特開平１１−１５３７０３号公報明細書中の段落番号［００２４］〜［００４１］記載の内容等が挙げられる。
【００８８】
（分散媒体）
前記高屈折率微粒子の湿式分散に供する分散媒体は、水、有機溶媒から適宜選択して用いることができ、沸点が５０℃以上の液体であることが好ましく、沸点が６０〜１８０℃の範囲の有機溶媒であることがより好ましい。
【００８９】
分散媒体は、高屈折率微粒子及び分散剤を含む高屈折率層を形成するための全成分が５〜５０質量％となる割合で用いることが好ましい。更には、１０〜３０質量％が好ましい。この範囲において、分散が容易に進行し、得られる分散物は作業性良好な粘度の範囲となり、好ましい。
【００９０】
分散媒体としては、アルコール類、ケトン類、エステル類、アミド類、エーテル類、エーテルエステル類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。具体的には、アルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート等）、ケトン（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等）、エステル（例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、乳酸エチル等）、脂肪族炭化水素（例えばヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例えばメチルクロロホルム等）、芳香族炭化水素（例えばベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン等）、エーテル（
例えばジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等）、エーテルアルコール（例えば１−メトキシ−２−プロパノール、エチルセルソルブ、メチルカルビノール等）が挙げられる。単独での２種以上を混合して使用してもよい。好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノールが挙げられる。また、ケトン溶媒（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）を主にした塗布溶媒系も好ましく用いられ、ケトン系溶媒の含有量が高屈折率層形成用組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。より好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
【００９１】
（高屈折率微粒子の超微粒子化）
本発明に用いられる硬化性の高屈折率層形成用組成物は、一次粒子の平均粒径１００ｎｍ以下の無機化合物の超微粒子分散物とすることにより、該組成物の液の安定性が向上し、この硬化性組成物から形成される硬化膜である高屈折率層は、高屈折率微粒子が硬化膜のマトリックス中で、超微粒子状態で均一に分散されて存在し、光学特性が均一で透明な高屈折率層が形成される。硬化膜のマトリックス中で存在する超微粒子の大きさは、一次粒子の平均粒径が３〜１００ｎｍの範囲が好ましく、５〜１００ｎｍがより好ましい。特に１０〜８０ｎｍが最も好ましい。更には、一次粒子の粒径が２００ｎｍ以上の粒子径の大粒子が含まれないことが好ましく、１５０ｎｍ以上の粒子径の大粒子が含まれないことが特に好ましい。これにより、高屈折率層の硬化膜表面を上記した特定の凹凸形状とすることができるので好ましい。また、高屈折率層に上記の特定の大きさの範囲内の高屈折率微粒子を含有させることによって、高屈折率層に起因する内部散乱を制御することができ、より「白味」を改善でき、好ましい。
【００９２】
上記の高屈折率微粒子を上記の範囲の粗大粒子を含まない超微粒子の大きさに分散するには、前記の分散剤と共に、平均粒径０．８ｍｍ未満のメディアを用いた湿式分散方法で分散して達成することができる。
【００９３】
湿式分散機としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、ダイノミル、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター、コロイドミル等の従来公知のものが挙げられる。特に本発明に用いられる高屈折率微粒子を超微粒子に分散するには、サンドグラインダーミル、ダイノミル、及び高速インペラーミルが好ましい。
【００９４】
上記分散機と共に用いるメディアとしては、その平均粒径が０．８ｍｍ未満であることが好ましく、平均粒径がこの範囲のメディアを用いることで上記の高屈折率微粒子径が１００ｎｍ以下となり、かつ粒子径の揃った超微粒子を得ることができる。メディアの平均粒径は、より好ましくは０．５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは０．０５〜０．３ｍｍである。また湿式分散に用いられるメディアとしては、ビーズが好ましい。具体的には、ジルコニアビーズ、ガラスビーズ、セラミックビーズ、スチールビーズ等が挙げられ、分散中におけるビーズの破壊等を生じ難い等の耐久性と超微粒子化の上から０．０５〜０．２ｍｍのジルコニアビーズが特に好ましい。
【００９５】
分散工程での分散温度は２０〜６０℃が好ましく、より好ましくは２５〜４５℃である。この範囲の温度で超微粒子に分散すると分散粒子の再凝集、沈殿等が生じないため、このましい。これは、無機化合物粒子への分散剤の吸着が適切に行われ、常温下での分散剤の粒子からの脱着等による分散安定不良とならないためと考えられる。このような範囲において分散工程を実施することにより、透明性を損なわない屈折率均一性、膜の強度、隣接層との密着性等に優れた高屈折率皮膜を形成できる。
【００９６】
また、上記湿式分散の工程の前に、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
【００９７】
更には、分散物中の分散粒子がその平均粒径、及び粒子径の単分散性が上記した範囲を満足する上で、分散物中の粗大凝集物を除去するために、ビーズとの分離処理において精密濾過されるように濾材を配置することも好ましい。精密濾過するための濾材は濾過粒子サイズ２５μｍ以下が好ましい。精密濾過するための濾材のタイプは、上記性能を有していれば特に限定されないが、例えばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。分散物を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、かつ得られる高屈折率層形成用組成物に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが、例えばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。
【００９８】
（高屈折率層のマトリックス）
高屈折率層は、高屈折率微粒子とマトリックスを含有してなることが好ましい。
【００９９】
本発明の好ましい態様によれば、高屈折率層のマトリックスは：
（Ａ）有機バインダー、又は
（Ｂ）加水分解性官能基を含有する有機金属化合物及びこの有機金属化合物の部分縮合物、
の少なくとも何れかを含有する高屈折率層形成用組成物を塗布後に、硬化して形成される。
【０１００】
（Ａ）有機バインダー
有機バインダーとしては、
（イ）従来公知の熱可塑性樹脂、
（ロ）従来公知の反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ、又は
（ハ）バインダー前駆体（後述する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）と重合開始剤との組み合わせ、
から形成されるバインダーが挙げられる。
【０１０１】
上記（イ）、（ロ）又は（ハ）の有機バインダーと、高屈折率微粒子と分散剤を含有する分散液から高屈折率層形成用組成物が調製されることが好ましい。この組成物は、透明支持体上に塗布され、塗膜が形成された後、バインダー形成用成分に応じた方法で硬化されて高屈折率層が形成される。硬化方法は、バインダー成分の種類に応じて適宜選択され、例えば加熱及び光照射の少なくともいずれかの手段により、硬化性化合物（例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応又は重合反応を生起させる方法が挙げられる。なかでも、上記（ハ）の組み合わせを用いて光照射することにより硬化性化合物を架橋反応又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法が好ましい。
【０１０２】
更に、高屈折率層形成用組成物を塗布と同時又は塗布後に、高屈折率微粒子の分散液に含有される分散剤を架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
【０１０３】
このようにして作製した硬化膜中のバインダーは、例えば、前記した分散剤とバインダーの前駆体である硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに、硬化膜中のバインダーは、アニオン性基が高屈折率微粒子の分散状態を維持する機能を有するので、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、高屈折率微粒子を含有する硬化膜中の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良することができる。
【０１０４】
｛熱可塑性樹脂（Ａ−イ）｝
前記（イ）の熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酸ビ共重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリメタアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、イミド樹脂等が挙げられる。
【０１０５】
｛反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ（Ａ−ロ）｝
また、前記（ロ）の反応性硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂には、例えば、ラジカル重合性不飽和基｛（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、スチリル基、ビニル基等｝及び／又はカチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、ビニルオキシ基、オキセタニル基等）の官能基を有する樹脂で、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等が挙げられる。
【０１０６】
これらの反応性硬化性樹脂に必要に応じて、架橋剤（エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ポリアミン化合物、メラミン化合物等）、重合開始剤（アゾビス化合物、有機過酸化化合物、有機ハロゲン化合物、オニウム塩化合物、ケトン化合物等のＵＶ光開始剤等）等の硬化剤、重合促進剤（有機金属化合物、酸化合物、塩基性化合物等）等の従来公知の化合物を加えて使用する。具体的には、例えば、山下普三、金子東助「架橋剤ハンドブック」（大成社、１９８１年刊）記載の化合物が挙げられる。
【０１０７】
｛バインダー前駆体と重合開始剤との組み合わせ（Ａ−ハ）｝
以下、硬化したバインダーの好ましい形成方法である前記（ハ）の組み合わせを用いて、光照射により硬化性化合物を架橋又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法について、主に説明する。
【０１０８】
上記のバインダーの前駆体である光硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、ラジカル重合性又はカチオン重合性のいずれでもよい。
【０１０９】
ラジカル重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等が挙げられ、中でも（メタ）アクリロイル基が好ましい。分子内に２個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが好ましい。
【０１１０】
ラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも２個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に２〜６個の末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー（すなわち２量体、３量体及びオリゴマー）又はそれらの混合物、及びそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。
【０１１１】
ラジカル重合性モノマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が挙げられる。
【０１１２】
また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類やアミド類と、単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との反応物も好適である。さらに別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【０１１３】
脂肪族多価アルコール化合物としては、アルカンジオール、アルカントリオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサントリオール、イノシットール、シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセリン等が挙げられる。これら脂肪族多価アルコール化合物と、不飽和カルボン酸との重合性エステル化合物（モノエステル又はポリエステル）、例として、例えば、特開２００１−１３９６６３号公報段落番号［００２６］〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。
【０１１４】
その他の重合性エステルの例としては、例えば、ビニルメタクリレート、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、特公昭４６−２７９２６号公報、特公昭５１−４７３３４号公報、特開昭５７−１９６２３１号公報等に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開平２−２２６１４９号公報等に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報記載のアミノ基を有するもの等も好適に用いられる。
【０１１５】
さらに脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とから形成される重合性アミドの具体例としては、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、特公昭５４−２１７２６号公報記載のシクロヘキシレン構造を有するもの等を挙げることができる。
【０１１６】
さらにまた、１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物（特公昭４８−４１７０８号公報等）、ウレタンアクリレート類（特公平２−１６７６５号公報等）、エチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物（特公昭６２−３９４１８号公報等）、ポリエステルアクリレート類（特公昭５２−３０４９０号公報等）、更に、日本接着協会誌２０巻７号３００〜３０８頁（１９８４年）に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマーも使用することができる。
これらラジカル重合性の多官能モノマーは、２種類以上を併用してもよい。
【０１１７】
次に、高屈折率層のバインダーの形成に用いることができるカチオン重合性基含有の化合物（以下、「カチオン重合性化合物」又は「カチオン重合性有機化合物」とも称する）について説明する。
【０１１８】
本発明に用いられるカチオン重合性化合物は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射したときに重合反応及び／又は架橋反応を生ずる化合物のいずれもが使用でき、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニル炭化水素化合物、ビニルエーテル化合物などを挙げることができる。本発明では前記したカチオン重合性有機化合物のうちの１種を用いても２種以上を用いてもよい。
【０１１９】
カチオン重合性基含有化合物としては、１分子中のカチオン重合性基の数は２〜１０個が好ましく、特に好ましくは２〜５個である。該化合物の分子量は３０００以下であり、
好ましくは２００〜２０００の範囲、特に好ましくは４００〜１５００の範囲である。分子量が該下限値以上であれば、皮膜形成過程での揮発が問題となるなどの不都合が生じることがなく、また該上限値以下であれば、高屈折率層形成用組成物との相溶性が悪くなるなどの問題を生じないので好ましい。
【０１２０】
前記エポキシ化合物としては脂肪族エポキシ化合物及び芳香族エポキシ化合物が挙げられる。
【０１２１】
脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどを挙げることができる。さらに、前記のエポキシ化合物以外にも、例えば、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチルエポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエンなどを挙げることができる。また、脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも１個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、又は不飽和脂環族環（例えば、シクロヘキセン、シクロペンテン、ジシクロオクテン、トリシクロデセン等）含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化して得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物などを挙げることができる。
【０１２２】
また、芳香族エポキシ化合物としては、例えば少なくとも１個の芳香核を有する１価もしくは多価のフェノール、又はそのアルキレンオキサイド付加体のモノもしくはポリグリシジルエーテルを挙げることができる。これらのエポキシ化合物として、例えば、特開平１１−２４２１０１号公報中の段落番号［００８４］〜［００８６］記載の化合物、特開平１０−１５８３８５号公報中の段落番号［００４４］〜［００４６］記載の化合物等が挙げられる。
【０１２３】
これらのエポキシ化合物のうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシ化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１２４】
環状チオエーテル化合物としては、上記エポキシ化合物のエポキシ環の代わりに、チオエポキシ環を有する化合物が挙げられる。
【０１２５】
環状エーテルとしてのオキセタニル基を含有する化合物としては、具体的には、例えば特開２０００−２３９３０９号公報中の段落番号［００２４］〜［００２５］に記載の化合物等が挙げられる。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用することが好ましい。
【０１２６】
スピロオルソエステル化合物としては、例えば特表２０００−５０６９０８号公報等記載の化合物を挙げることができる。
【０１２７】
ビニル炭化水素化合物としては、スチレン化合物、ビニル基置換脂環炭化水素化合物（ビニルシクロヘキサン、ビニルビシクロヘプテン等）、前記ラジカル重合性モノマーで記載の化合物、プロペニル化合物｛"Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：  Ｐａｒｔ  Ａ：  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，３２巻２８９５頁（１９９４年）記載等｝、アルコキシアレン化合物｛"Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：  Ｐａｒｔ Ａ：
Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，３３巻２４９３頁（１９９５年）記載等｝、ビニル化合物｛"Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：  Ｐａｒｔ Ａ：  Ｐｏｌｙｍｅ
ｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，３４巻１０１５頁（１９９６年）、特開２００２−２９１６２号公報等記載｝、イソプロペニル化合物｛"Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：  Ｐａｒｔ Ａ：  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，３４巻２０５１頁（１９９６年）記載等｝等を挙げることができる。
これらは２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１２８】
また、前記多官能性化合物は、前記のラジカル重合性基及びカチオン重合性基から選ばれる少なくとも各１種を少なくとも分子内に含有する化合物を用いることが好ましい。例えば、特開平８−２７７３２０号公報中の段落番号［００３１］〜［００５２］記載の化合物、特開２０００−１９１７３７号公報中の段落番号［００１５]記載の化合物等が挙げられる。本発明に供される化合物は、これらに限定されるものではない。
【０１２９】
以上述べたラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物：カチオン重合性化合物の質量比で、９０：１０〜２０：８０の割合で含有していることが好ましく、８０：２０〜３０：７０の割合で含有していることがより好ましい。
【０１３０】
次に、前記（ハ）の組み合わせにおいて、バインダー前駆体と組み合わせて用いられる重合開始剤について詳述する。
【０１３１】
重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられる。
前記重合開始剤は、光及び／又は熱照射により、ラジカルもしくは酸を発生する化合物であることが好ましい。前記光重合開始剤は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、取り扱いを白灯下で実施することができる。また、近赤外線領域に極大吸収波長を持つ化合物を用いることもできる。
【０１３２】
まず、ラジカルを発生する化合物について詳述する。
本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物は、光及び／又は熱照射によりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
【０１３３】
ラジカルを発生する化合物としては、例えば、従来公知の有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤等の熱ラジカル重合開始剤、有機過酸化化合物（特開２００１−１３９６６３号公報等）、アミン化合物（特公昭４４−２０１８９号公報記載）、メタロセン化合物（特開平５−８３５８８号公報、特開平１−３０４４５３号公報等記載）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物（米国特許第３，４７９，１８５号明細書等記載）、ジスルホン化合物（特開平５−２３９０１５号公報、特開昭６１−１６６５４４号公報等）、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機ホウ酸化合物等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
【０１３４】
上記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林 等の"Ｂｕｌｌ．  Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ"，４２巻２９２４頁（１９６９年）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特開平５−２７８３０号公報、Ｍ．Ｐ．  Ｈｕｔｔ，"Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，１巻（３号）、（１９７０年）」等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ、ジ又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体が挙げられる。
【０１３５】
上記カルボニル化合物としては、例えば、「最新  ＵＶ硬化技術」６０〜６２ページ［（株）技術情報協会刊、１９９１年］、特開平８−１３４４０４号公報の段落番号［００１５］〜［００１６］、同１１−２１７５１８号公報の段落番号［００２９］〜［００３１］に記載の化合物等が挙げられ、アセトフェノン系、ヒドロキシアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサン系、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、ベンジルジメチルケタール、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０１３６】
上記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特許第２７６４７６９号、特開２００２−１１６５３９号等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，  Ｍａｒｔｉｎ，"Ｒａｄ．  Ｔｅｃｈ'９８．  Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９〜２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ"等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。例えば、前記特開２００２−１１６５３９号公報の段落番号［００２２］〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
【０１３７】
これらのラジカル発生化合物は、１種のみを添加しても、２種以上を併用してもよい。添加量としては、ラジカル重合性モノマーの全量に対し０．１〜３０質量％、好ましくは０．５〜２５質量％、特に好ましくは１〜２０質量％で添加することができる。この範囲において、高屈折率層形成用組成物の経時安定性が問題なく高い重合性となる。
【０１３８】
次に、光重合開始剤として用いることができる光酸発生剤について詳述する。
酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、又はマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。また、酸発生剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物、オニウム化合物等が挙げられ、これらのうち有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物の具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。
【０１３９】
オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、例えば特開２００２−２９１６２号公報の段落番号［００５８］〜［００５９］に記載の化合物等が挙げられる。
【０１４０】
前記酸発生剤としては、オニウム塩が特に好適に用いられ、中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。
【０１４１】
本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、例えば、特開平９−２６８２０５号公報の段落番号［００３５］に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開２０００−７１３６６号明細書の段落番号［００１０］〜［００１１］に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開２００１−２８８２０５号公報の段落番号［００１７］に記載のチオ安息香酸Ｓ−フェニルエステルのスルホニウム塩、特開２００１−１３３６９６号公報の段落番号［００３０］〜［００３３］に記載のオニウム塩等が挙げられる。
【０１４２】
酸発生剤の他の例としては、特開２００２−２９１６２号公報の段落番号［００５９］〜［００６２］に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有
する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物（イミノスルフォネート等）等の化合物が挙げられる。
【０１４３】
これらの酸発生剤は、１種のみをそれぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの酸発生剤は、全カチオン重合性モノマーの全質量に対し０．１〜２０質量％、好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％の割合で添加することができる。添加量が上記範囲において、高屈折率層形成用組成物の安定性、重合反応性等から好ましい。
【０１４４】
本発明における高屈折率層形成用組成物は、ラジカル重合性化合物又はカチオン重合性化合物の合計質量に対して、ラジカル重合開始剤を０．５〜１０質量％又はカチオン重合開始剤を１〜１０質量％の割合で含有していることが好ましい。より好ましくは、ラジカル重合開始剤を１〜５質量％、又はカチオン重合開始剤を２〜６質量％の割合で含有する。
【０１４５】
本発明で用いられる高屈折率層形成用組成物には、紫外線照射により重合反応を行う場合、従来公知の紫外線分光増感剤、化学増感剤を併用してもよい。これらの増感剤としては、例えばミヒラーズケトン、アミノ酸（グリシンなど）、有機アミン（ブチルアミン、ジブチルアミンなど）等が挙げられる。
【０１４６】
また、近赤外線照射により重合反応を行う場合には、近赤外線分光増感剤を併用することが好ましい。併用する近赤外線分光増感剤は、７００ｎｍ以上の波長域の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよく、分子吸光係数が１００００以上の値を有する化合物が好ましい。更には、７５０〜１４００ｎｍの領域に吸収を有し、かつ分子吸光係数が２００００以上の値が好ましい。また、４２０ｎｍ〜７００ｎｍの可視光波長域に吸収の谷があり、光学的に透明であることがより好ましい。
【０１４７】
近赤外線分光増感剤は、近赤外線吸収顔料及び近赤外線吸収染料として知られる種々の顔料及び染料を用いることができる。その中でも、従来公知の近赤外線吸収剤を用いることが好ましい。市販の染料並びに、文献｛例えば、「化学工業」１９８６年５月号４５〜５１頁の「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市場動向」第２章２．３項（１９９０年）シーエムシー、「特殊機能色素」［池森・柱谷編集、１９８６年、（株）シーエムシー発行］、Ｊ．  ＦＡＢＩＡＮ，"Ｃｈｅｍ．  Ｒｅｖ．"，９２巻１１９７〜１２２６頁（１９９２年）｝、日本感光色素研究所が１９９５年に発行したカタログ、並びにＥｘｃｉｔｏｎ  Ｉｎｃ．が１９８９年に発行したレーザー色素カタログ及び特許に記載されている公知の染料が利用できる。
【０１４８】
（Ｂ）加水分解性官能基を含有する有機金属化合物及びこの有機金属化合物の部分縮合物
本発明に用いられる高屈折率層のマトッリクスとして、加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物を用いて、ゾル／ゲル反応により塗布膜形成後に硬化された膜を形成することも好ましい。
【０１４９】
有機金属化合物としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ等からなる化合物が挙げられる。加水分解可能な官能基な基としては、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、水酸基が挙げられ、特に、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基が好ましい。好ましい有機金属化合物は、下記一般式（２）で表される有機ケイ素化合物及びその部分加水分解物（部分縮合物）である。なお、一般式（２）で表される有機ケイ素化合物は、容易に加水分解し、引き続いて脱水縮合反応が生じることはよく知られた事実である。
【０１５０】
一般式（２）：（Ｒ21）β−Ｓｉ（Ｙ21）4-β
一般式（２）中、Ｒ21は、置換もしくは無置換の炭素数１〜３０脂肪族基又は炭素数６〜１４アリール基を表す。Ｙ21は、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、ＯＨ基、ＯＲ22基、ＯＣＯＲ22基を表す。ここで、Ｒ22は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。βは０〜３の整数を表し、好ましくは０、１又は２、特に好ましくは１である。但し、βが０の場合は、Ｙ21はＯＲ22基又はＯＣＯＲ22基を表す。
【０１５１】
一般式（２）においてＲ21の脂肪族基としては、好ましくは炭素数１〜１８（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル、ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基等）が挙げられる。より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは１〜８のものである。Ｒ21のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【０１５２】
置換基としては特に制限はないが、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基｛アセトキシ、（メタ）アクリロイル等｝、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が好ましい。
【０１５３】
これらの置換基のうちで、更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であり、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基｛（メタ）アクリロイル｝、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）である。またこれら置換基は更に置換されていてもよい。
【０１５４】
前記のようにＲ22は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、アルキル基は特に限定はないが、例えばＲ21の脂肪族基と同じものが挙げられ、アルキル基中の置換基の説明はＲ21と同じである。
【０１５５】
一般式（２）の化合物の含有量は、高屈折率層の全固形分の１０〜８０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％、特に好ましくは３０〜５０質量％である。
【０１５６】
一般式（２）の化合物の具体例として、例えば特開２００１−１６６１０４号公報段落番号［００５４］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
【０１５７】
高屈折率層において、有機バインダーは、シラノール基を有するものであることが好ましい。バインダーがシラノール基を有することで、高屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性がさらに改良され、好ましい。シラノール基は、例えば、高屈折率層形成用の塗布組成物を構成するバインダー形成成分として、バインダー前駆体（硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）や重合開始剤、高屈折率微粒子の分散液に含有される分散剤と
共に、架橋又は重合性官能基を有する一般式（２）で表される有機ケイ素化合物を該塗布組成物に配合し、この塗布組成物を透明支持体上に塗布して、前記の分散剤、多官能モノマーや多官能オリゴマー、一般式（２）で表される有機ケイ素化合物を架橋反応又は重合反応させることによりバインダーに導入することができる。
【０１５８】
前記の有機金属化合物を硬化させるための加水分解・縮合反応は、触媒存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸などの有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基類、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタネートなどの金属アルコキシド類、β−ジケトン類又はβ−ケトエステル類の金属キレート化合物類等が挙げられる。具体的には、例えば特開２０００−２７５４０３号公報中の段落番号［００７１］〜［００８３］記載の化合物等が挙げられる。
【０１５９】
これらの触媒化合物の組成物中での割合は、有機金属化合物に対し、０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％である。反応条件は有機金属化合物の反応性により適宜調節されることが好ましい。
【０１６０】
高屈折率層において、マトリックスは特定の極性基を有することも好ましい。特定の極性基としては、アニオン性基、アミノ基、及び四級アンモニウム基が挙げられる。アニオン性基、アミノ基及び四級アンモニウム基の具体例としては、前記分散剤について述べたものと同様のものが挙げられる。
【０１６１】
特定の極性基を有する高屈折率層のマトリックスは、例えば、高屈折率層形成用の塗布組成物に、高屈折率微粒子と分散剤を含む分散液を配合し、硬化膜形成成分として、特定の極性基を有するバインダー前駆体（特定の極性基を有する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）と重合開始剤の組み合わせ及び、特定の極性基を有し、かつ架橋又は重合性官能基を有する一般式（２）で表される有機ケイ素化合物の少なくともいずれかを配合し、さらに所望により、特定の極性基及び、架橋又は重合性の官能基を有する単官能性モノマーを配合し、該塗布組成物を透明支持体上に塗布して上記の分散剤、単官能性モノマー、多官能モノマーや多官能オリゴマー及び／又は一般式（２）で表される有機ケイ素化合物を架橋又は重合反応させることにより得られる。
【０１６２】
特定の極性基を有する単官能性モノマーは、塗布組成物の中で高屈折率微粒子の分散助剤として機能することができ、好ましい。さらに、塗布後、分散剤、多官能モノマーや多官能オリオリゴマーと架橋反応、又は、重合反応させてバインダーとすることで高屈折率層における高屈折率微粒子の良好な均一な分散性を維持し、物理強度、耐薬品性、耐候性に優れた高屈折率層を作製することができる。
【０１６３】
アミノ基又は四級アンモニウム基を有する単官能性モノマーの分散剤に対する使用量は、０．５〜５０質量％であることが好ましく、さらに好ましくは１〜３０質量％である。高屈折率層の塗布と同時又は塗布後に、架橋又は重合反応によってバインダーを形成すれば、高屈折率層の塗布前に単官能性モノマーを有効に機能させることができる。
【０１６４】
また、本発明における高屈折率層のマトリックスとしては、前記した有機バインダーの（イ）に相当し、従来公知の架橋又は重合性官能基を含有する有機ポリマーから硬化・形成されたものが挙げられる。高屈折率層形成後のポリマーが、さらに架橋又は重合している構造を有することが好ましい。ポリマーの例には、ポリオレフィン（飽和炭化水素からなる）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリア
ミド及びメラミン樹脂が含まれる。なかでも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレアが好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルがさらに好ましい。硬化前の有機ポリマーとしての質量平均分子量は１×１０3〜１×１０6が好ましく、より好ましくは３×１０3〜１×１０5である。
【０１６５】
硬化前の有機ポリマーは、前記の内容と同様の、特定の極性基を有する繰り返し単位と、架橋又は重合構造を有する繰り返し単位とを有する共重合体であることが好ましい。ポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位中の０．５〜９９質量％であることが好ましく３〜９５質量％であることがさらに好ましく、６〜９０質量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二つ以上の同じでも異なってもよいアニオン性基を有していてもよい。
【０１６６】
シラノール基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、２〜９８モル％であることが好ましく、４〜９６モル％であることがさらに好ましく、６〜９４モル％であることが最も好ましい。アミノ基又は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、０．１〜５０質量％であることが好ましく、更には０．５〜３０質量％が好ましい。
【０１６７】
なお、シラノール基、アミノ基、及び四級アンモニウム基は、アニオン性基を有する繰り返し単位又は、架橋もしくは重合構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。
【０１６８】
ポリマー中の架橋又は重合構造を有する繰り返し単位の割合は、1〜９０質量％であることが好ましく、５〜８０質量％であることがさらに好ましく、８〜６０質量％であることが最も好ましい。
【０１６９】
バインダーが架橋又は重合してなるマトリックスは、高屈折率層形成用組成物を透明支持体上に塗布して、塗布と同時又は塗布後に、架橋又は重合反応によって形成することが好ましい。
【０１７０】
（高屈折率層の他の組成物）
本発明における高屈折率層は、更に用途・目的によって適宜他の化合物を添加することができる。例えば、高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましく、高屈折率層に、芳香環、フッ素以外のハロゲン化元素｛例えば、臭素（Ｂｒ）、ヨウ素（Ｉ）、塩素（Ｃｌ）等｝、硫黄（Ｓ）、窒素（Ｎ）、リン（Ｐ）等の原子を含有すると有機化合物の屈折率が高くなることから、これらを含有する硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
【０１７１】
高屈折率層には、前記の成分（高屈折率微粒子、重合開始剤、増感剤など）以外に、樹脂、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子等を添加することもできる。
【０１７２】
［高屈折率層の形成］
高屈折率層は、前記の透明支持体上に、直接又は他の層を介して、上述の高屈折率層形成用組成物の塗布液を塗布して構築することが好ましい。本発明で用いられる高屈折率層形成用塗布液は、高屈折率微粒子分散物、マトリックスバインダー用液、必要に応じて用いる添加剤を塗布用分散媒にそれぞれ所定の濃度に混合・希釈して調整される。
【０１７３】
塗布に用いられる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜１００μｍ、さらには０．１〜２５μｍのフィルターが用いられることが好ましい。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．５ＭＰａ（１５ｋｇｆ／ｃｍ2）以下、さらには１ＭＰａ（１０ｋｇｆ／ｃｍ2）以下、特には０．２ＭＰａ（２ｋｇｆ／ｃｍ2）以下で濾過することが好ましい。濾過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、（高屈折率微粒子の超微粒子化）において前記した濾材と同様のものが挙げられる。また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【０１７４】
本発明において高屈折率層は、前記の透明支持体上に、以上述べた高屈折率層形成用組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、エクストルージョンコート法等の公知の薄膜形成方法で塗布し、乾燥、光及び／又は熱照射することにより作製することができる。好ましくは、光照射による硬化が、迅速硬化から有利である。更には、光硬化処理の後半で加熱処理することも好ましい。
【０１７５】
光照射の光源は、紫外線光域又は近赤外線光のものであればいずれでもよく、紫外線光の光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長３５０〜４２０ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。また、近赤外光光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長７５０〜１４００ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。近赤外光光源を用いる場合、紫外線光源と組み合わせて用いる、あるいは高屈折率層塗設側と反対の透明支持体面側より光照射してもよい。塗膜層内の深さ方向での膜硬化が表面近傍と遅滞無く進行し均一な硬化状態の硬化膜が得られる。
【０１７６】
光照射による光ラジカル重合の場合は、空気又は不活性気体中で行うことができるが、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、又は重合率を十分に高める等のために、できるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。照射する紫外線の照射強度は、０．１〜１００ｍＷ／ｃｍ2程度が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましい。また、光照射工程での塗布膜の温度分布は、均一なほど好ましく、±３℃以内が好ましく、更には±１．５℃以内に制御されることが好ましい。この範囲において、塗布膜の面内及び層内深さ方向での重合反応が均一に進行するので好ましい。
【０１７７】
高屈折率層の硬度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また高屈折率層の耐擦傷性は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の高屈折率層を塗設した試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。高屈折率層のヘイズは低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。
【０１７８】
高屈折率層の膜厚は３０〜５００ｎｍが好ましく、さらに５０〜３００ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。高屈折率層がハードコート層を兼ねる場合、０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１〜７μｍ、特に２〜５μｍが好ましい。
【０１７９】
〔中屈折率層〕
前述の通り、本発明における反射防止膜は、中屈折率層を有することが好ましい。すな
わち、中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層（最外層）５の順序の層構造を有することが好ましい。中屈折率層は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率の中間の屈折率を有する。このように各屈折率層の屈折率は相対的なものである。中屈折率層は、高屈折率層と同じ方法で中屈折率層形成用組成物を塗設して形成する。
【０１８０】
本発明における中屈折率層を構成する材料は、従来公知の材料の何れでもよいが、前記高屈折率層と同様のものを用いることが好ましい。屈折率は無機微粒子の種類、使用量で容易に調整され、前記高屈折率層に記載の内容と同様にして、膜厚３０〜５００ｎｍの薄層を形成する。更に好ましくは、５０〜３００ｎｍの膜厚である。
【０１８１】
〔低屈折率層〕
本発明における低屈折率層は、熱硬化性および光もしくは放射線（例えば電離放射線）硬化性の組成物を塗設して形成された硬化皮膜であることが好ましい。また、本発明における低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築されることが好ましい。防汚性の効果発現の観点から、該硬化皮膜が、架橋性含フッ素ポリマーによる硬化膜であることが好ましい。該含フッ素ポリマーが、最外層の全質量に対して５０質量％以上であれば膜表面全体がムラなく安定した特性を示すので好ましい。さらには、低屈折率層は、無機化合物の微粒子並びに、マトリックスバインダーとして、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分とする共重合体（以下、機能性含フッ素ポリマーということがある）の硬化皮膜によって形成されるのが好ましい。該共重合体由来の成分は低屈折率層皮膜固形分の６０質量％以上を占めることがより好ましく、７０質量％以上を占めることがさらに好ましく、８０質量％以上を占めることが特に好ましい。低屈折率化と皮膜硬度の両立の観点から多官能（メタ）アクリレート等の硬化剤も相溶性を損なわない範囲の添加量で好ましく用いられる。
【０１８２】
低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９であることが好ましく、１．２５〜１．４８であることがより好ましく、１．３０〜１．４６であることが特に好ましい。
【０１８３】
［低屈折率層形成用組成物］
（機能性含フッ素ポリマー）
以下に本発明の低屈性率層に用いられる機能性含フッ素ポリマーについて説明する。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類［例えば「ビスコート６ＦＭ」｛大阪有機化学工業（株）製｝や"Ｍ−２０２０"｛ダイキン工業（株）製｝等］、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０１８４】
これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する傾向にある。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。
【０１８５】
本発明で用いられる機能性含フッ素ポリマーは、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分として有するのが好ましい。これらの（メタ）アクリロイル基含有繰返し単位の組成比を高めれば、皮膜強度は向上するが屈折率も高くなる傾向にある。含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位の種類によっても異なるが、一般に（メタ）アクリロイル基含有繰返し単位は５〜９０質量％を占めることが好ましく、３
０〜７０質量％を占めることがより好ましく、４０〜６０質量％を占めることが特に好ましい。
【０１８６】
本発明に有用な機能性含フッ素ポリマーでは、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。
【０１８７】
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン及びその誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。
【０１８８】
本発明に用いられる機能性含フッ素ポリマーの好ましい態様として下記一般式（３）で表される化合物が挙げられる。
【０１８９】
【化１】
2006091859.tif 000005
【０１９０】
式（３）中、成分［Ｆ］は、以下の成分（ｐｆ１）、成分（ｐｆ２）又は成分（ｐｆ３）を表す。
【０１９１】
【化２】
2006091859.tif 000006
【０１９２】
成分（ｐｆ１）において、Ｒ31はＦ原子又は炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基を表わす。
【０１９３】
【化３】
2006091859.tif 000007
【０１９４】
成分（ｐｆ２）において、Ｒ32、Ｒ33は、それぞれ同じでも異なってもよく、フッ素原子又は−ＣjＦ2j+1基を表わし、ｊは１〜４の整数（好ましくはｊは１又は２）を表わす。ａ１は０又は１、ａ２は２〜５の整数を表わす。ａ３は０又は１を表わす。ａ１及び／又はａ３が０の場合、それぞれ単結合を表す。
【０１９５】
【化４】
2006091859.tif 000008
【０１９６】
成分（ｐｆ３）において、Ｒ34、Ｒ35は、それぞれフッ素原子又は−ＣＦ3基を表わす。ａ１及びａ３は、上記成分（ｐｆ２）と同様０又は１を表す。ａ４は０又は１〜４の整数、ａ５は０又は１、ａ６は０又は１〜５の整数を表わす。ａ３、ａ４、ａ５及び／又はａ６が０の場合、それぞれ単結合を表す。また（ａ４＋ａ５＋ａ６）は１〜６の範囲の整数である。
【０１９７】
前記の一般式（３）において、Ｘ32は炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは２〜４の連結基を表し、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、また環構造を有していてもよい。さらにＯ，Ｎ，Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。連結基Ｂの好ましい例としては、＊−（ＣＨ2）2−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）2−ＮＨ−＊＊、＊−（ＣＨ2）4−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）6−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）3−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＮＨ（ＣＨ2）3−Ｏ−＊＊｛ここで、＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。｝等が挙げられる。ｕは０又は１を表わす。
【０１９８】
また一般式（３）において、Ｙ31は水素原子又はメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【０１９９】
さらに一般式（３）中、Ｘ31は任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、成分［Ｆ］に相当するモノマーと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、低屈折率層の下層、例えば高屈折率層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶媒への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一又は複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。
【０２００】
一般式（３）におけるＸ31の好ましい例としては、例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン及びその誘導体；クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【０２０１】
ｘ，ｙ，ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。
【０２０２】
特に好ましくは、一般式（３）において［Ｆ］成分が（ｐｆ１）成分のもが挙げられ、具体的には特開２００４−４５４６２号公報段落番号「００４３」〜「００４７」に記載の化合物等が挙げられる。
【０２０３】
（オルガノシラン化合物）
また、低屈折率層としては、以上述べた機能性含フッ素ポリマーと共に、さらに一般式
（１）で表されるオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物を併用することが好ましい。
【０２０４】
次に、一般式（１）で表されるオルガノシラン化合物について説明する。
一般式（１）：（Ｒ11）α−Ｓｉ（Ｙ11）4-α
【０２０５】
上記一般式（１）において、Ｒ11は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基として好ましくは、炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものであり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【０２０６】
Ｙ11は、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ12ＣＯＯ（Ｒ12は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、例えばＣＨ3ＣＯＯ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
αは１〜３の整数を表し、好ましくは１又は２であり、特に好ましくは１である。
【０２０７】
Ｒ11又はＹ11が複数存在するとき、複数のＲ11又はＹ11はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【０２０８】
Ｒ11に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０２０９】
Ｒ11が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基又は置換アリール基であることが好ましい。
【０２１０】
前記一般式（１）で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式（１−１）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
【０２１１】
【化５】
2006091859.tif 000009
【０２１２】
上記一般式（１−１）において、Ｒ112は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、及び塩素原子が
好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、及び塩素原子が更に好ましく、水素原子及びメチル基が特に好ましい。
【０２１３】
Ｘ111は単結合又は、＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊もしくは＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊及び＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合及び＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。ここで＊は＝Ｃ（Ｒ112）−に結合する位置を、＊＊はＸ112に結合する位置を表す。
【０２１４】
Ｘ112は２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル又はエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル又はエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０２１５】
αは０又は１を表す。Ｙ11が複数存在するとき、複数のＹ11はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。αとして好ましくは０である。Ｒ111は一般式（１）におけるＲ11と同義であり、置換又は無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。Ｙ11は一般式（１）と同じものを表し、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【０２１６】
一般式（１）、一般式（１−１）の化合物は２種類以上を併用してもよい。以下に一般式（１）、一般式（１−１）で表される化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
【０２１７】
【化６】
2006091859.tif 000010
【０２１８】
これら一般式（１）又は一般式（１−１）で表される化合物のうち、特に好ましいものには、例えば、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０２１９】
オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられるが、無機微粒子分散液の製造安定性や保存安定性の点から、本発明においては、酸触媒（無機酸類、有機酸類）及び／又は金属キレート化合物が好適に用いられる。中でも、無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数｛ｐＫａ値（２５℃）｝が４．５以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更
に好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、蓚酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、蓚酸が特に好ましい。金属キレート化合物としては、（金属キレート化合物）に後述する下記一般式：
Ｚｒ（ＯＲ01）p1（Ｒ02ＣＯＣＨＣＯＲ03）p2、
Ｔｉ（ＯＲ01）q1（Ｒ02ＣＯＣＨＣＯＲ03）q2、及び
Ａｌ（ＯＲ01）r1（Ｒ02ＣＯＣＨＣＯＲ03）r2
で表される化合物群から選ばれるものが好ましい。また、本発明においては、低屈折率層形成用組成物に、更にβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。β−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。得られる組成物の保存安定性の観点から、β−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物の金属キレート化合物に対して用いる量は、上記の範囲内であることが好ましい。
オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物は、通常、ゾルの形態で得られる。
【０２２０】
低屈折率層における、機能性含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。該使用量が該上限値以下であれば屈折率が増加しすぎたり、膜の形状・面状が悪化したりするなどの不具合が生じず、また該下限値以上であれば、本発明の優れた効果が発揮できるので該範囲内で適宜の量使用することが好ましい。
【０２２１】
（多官能重合性化合物）
前述したように、前記の低屈折率層形成用の硬化性組成物には、更に多官能重合性化合物を添加することもできる。
【０２２２】
多官能重合性化合物としては、ラジカル重合性官能基及び／又はカチオン重合性官能基のいずれでも２個以上重合性基を含有してよい。ラジカル重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。分子内に２個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが好ましい。
【０２２３】
ラジカル重合性基を有するラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも２個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に２〜６個の末端エチレン性不飽不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。（高屈折率層のマトリックス）の項において前記した（Ａ−ハ）で説明したものを好ましく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。
【０２２４】
本発明に用いられるカチオン重合性化合物は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射したときに重合反応及び／又は架橋反応を生ずる化合物のいずれもが使用でき、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニル炭化水素化合物、ビニルエーテル化合物などを挙げることができる。本発明では前記したカチオン重合性有機化合物のうちの１種を用いても２種以上を用いてもよい。カチオン重合性基含有化合物としては、１分子中のカチオン重合性基の数は２〜１０個が好ましく、特に好ましくは２〜５個である。これらのラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物の具体的な内容としては、前記の高屈折率層に記載の多官能モノマーやオリゴマーと同様のものが挙げられる。
【０２２５】
上記したラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物：カチオン重合性化合物の質量比で、９０：１０〜２０：８０の割合で含有していることが好ましく、８０：２０〜３０：７０の割合で含有していることがより好ましい。またラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを含む前記多官能重合性化合物の配合量は、前記含フッ素ポリマー１００質量部に対して、０．１〜２０質量部とするのが好ましい。
【０２２６】
（無機化合物の微粒子）
次に本発明の低屈折率層中に含有されることのできる無機化合物の微粒子（以下、単に無機微粒子ということがある）について、以下に記載する。
【０２２７】
無機微粒子の平均粒径は５〜１００ｎｍが好ましく、より好ましくは１０〜９０ｎｍ、更に好ましくは１５〜８５ｎｍである。また、低屈折率層中に無機微粒子は５〜８０質量％含有することが好ましく、より好ましくは１０〜７０質量％、更に好ましくは１５〜６５質量％である。無機微粒子の含有量が該下限値以上であれば、効果的に耐擦傷性を改善することができ、また該上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができたり、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化したりする不具合が生じないので、無機微粒子の含有量はこの範囲内とすることが好ましい。
【０２２８】
低屈折率層に含有される無機微粒子は、低屈折率であることが望ましい。このような無機微粒子としては、例えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子を挙げることができる。特に、屈折率、分散安定性、コストの観点からシリカ微粒子を用いることが好ましい。シリカ微粒子は、結晶質でも、非晶質でもいずれでもよく、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題ない。ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【０２２９】
低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするためには、無機微粒子として中空のシリカ微粒子（以下、中空粒子ということがある）を用いることが好ましい。中空粒子はその屈折率が１．１７〜１．４０、さらには１．１７〜１．３５、特には１．１７〜１．３０の範囲であることが好ましい。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空粒子を形成している外殻のシリカ成分のみの屈折率を表すものではない。中空粒子の屈折率は、粒子の強度及び該中空粒子を含む低屈折率層の耐擦傷性の観点から、１．１７以上とすることが好ましい。
なお、これら中空粒子の屈折率はアッベ屈折率計［アタゴ（株）製］にて測定することができる。
【０２３０】
また中空粒子の空隙率ｗ（％）は、中空粒子内の空腔の半径をｒi、粒子外殻の半径をｒoとするとき、下記数式（５）に従って計算される。
数式（５）：ｗ＝（４πｒi3／３）／（４πｒo3／３）×１００
＝（ｒi／ｒo）3×１００
中空粒子の空隙率は、好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
【０２３１】
無機微粒子は、分散液中もしくは塗布液中での分散安定化を図るために、又はバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。
【０２３２】
カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例えば、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効であり、中でも前記一般式（１）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物が特に好適に用いられる。
この中でも好ましいのは、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するシランカップリング剤であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイル）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）を含有するシランカップリング剤である。
【０２３３】
上記カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として、低屈折率層形成用組成物の塗布液調製以前に予め表面処理を施すために用いられるが、前記のとおり、該塗布液調製時に機能性含フッ素ポリマーに対し、さらに添加剤として用いることが好ましい。
カップリング剤は無機微粒子に対し、０．５〜１００質量％添加することが好ましく、より好ましくは、１〜７５質量％添加することであり、更に好ましくは、５〜４５質量％添加することである。この範囲内であれば、無機微粒子が低屈折率層内で凝集することがなく、好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０２３４】
（分散性改良処理の触媒）
本発明において、低屈折率層に用いられる無機微粒子の、オルガノシランの加水分解物及び／又は縮合反応物による分散性の改良処理は、触媒の存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；蓚酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられるが、無機微粒子分散液の製造安定性や保存安定性の点から、本発明においては、酸触媒（無機酸類、有機酸類）及び／又は金属キレート化合物が好適に用いられる。無機酸では塩酸及び硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数｛ｐＫａ値（２５℃）｝が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸がより更に好ましく、メタンスルホン酸、蓚酸、フタル酸、マロン酸が特に好ましく、蓚酸が最も好ましい。
【０２３５】
オルガノシランの加水分解性基がアルコキシ基で、且つ酸触媒が有機酸の場合には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを供給するために、水の添加量を減らすことができ、その場合、オルガノシランのアルコキシド基１モルに対する水の添加量は、通常０〜２モル、好ましくは０〜１．５モル、より好ましくは０〜１モル、特に好ましくは、０〜０．５モルである。アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に水を添加しない場
合も好適である。
【０２３６】
酸触媒の使用量は、酸触媒が無機酸の場合には、加水分解性基に対して０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％であり、酸触媒が有機酸の場合には、水の添加量によって最適な使用量が異なるが、水を添加する場合には加水分解性基に対して０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％であり、実質的に水を添加しない場合には、加水分解性基に対して１〜５００モル％、好ましくは１０〜２００モル％であり、より好ましくは２０〜２００モル％であり、更に好ましくは５０〜１５０モル％であり、特に好ましくは５０〜１２０モル％である。
【０２３７】
処理は１５〜１００℃で撹拌することにより行われるが、オルガノシランの反応性により調節されることが好ましい。
【０２３８】
（金属キレート化合物）
本発明において、無機微粒子のオルガノシランの加水分解物及び／又は縮合反応物による分散性改良処理の触媒として用いられる金属キレート化合物は、一般式Ｒ01ＯＨ（式中、Ｒ01は炭素数１〜１０のアルキル基を示す。）で表されるアルコール及び／又は一般式Ｒ02ＣＯＣＨ2ＣＯＲ03（式中、Ｒ02は炭素数１〜１０のアルキル基を、Ｒ03は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。）で表される化合物を配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ及びＡｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば、特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用してもよい。
【０２３９】
本発明に用いられる金属キレート化合物は、好ましくは、下記一般式：
Ｚｒ（ＯＲ01）p1（Ｒ02ＣＯＣＨＣＯＲ03）p2、
Ｔｉ（ＯＲ01）q1（Ｒ02ＣＯＣＨＣＯＲ03）q2、及び
Ａｌ（ＯＲ01）r1（Ｒ02ＣＯＣＨＣＯＲ03）r2
で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の縮合反応を促進する作用をなす。
【０２４０】
金属キレート化合物中のＲ01及びＲ02は、同一又は異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、具体的には、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基；又は炭素数６〜１０のアリール基、具体的には、フェニル基などである。また、Ｒ03は、Ｒ01及びＲ02と同様の炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数６〜１０のアリール基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１及びｒ２は、４又は６座配位となるように決定される整数を表す。
【０２４１】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセ
トナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナー
ト・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
【０２４２】
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独で又は２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【０２４３】
本発明の金属キレート化合物は、縮合反応の速度及び塗膜にした場合の膜強度の観点から、オルガノシランに対し、好ましくは、０．０１〜５０質量％、より好ましくは、０．１〜５０質量％、さらに好ましくは、０．５〜１０質量％の割合で用いられる。
【０２４４】
（その他の添加剤）
本発明における低屈折率層には、以上述べた成分の他、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物又はフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加されていることが好ましい。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層形成用の硬化性組成物全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。
【０２４５】
シリコーン系化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中には、ジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としては、アクリロイル基、メタクメタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。
【０２４６】
シリコーン系化合物の分子量には特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量にも、特に制限はないが、１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７.８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。
【０２４７】
好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学（株）製、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-164B、X22-164C、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(以上商品名)やチッソ（株）製、FM-0725、FM-7725、FM-4421、FM-5521、FM6621、FM-1121やGelest製DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182、DMS-H21、DMS-H31、HMS-301、FMS121、FMS123、FMS131、FMS141、FMS221 (以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２４８】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖［例えば−ＣＦ2ＣＦ3、−ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ、−ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＦ3、−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ等］であっても、分岐構造［例えば−ＣＨ（ＣＦ3）2、−ＣＨ2ＣＦ（ＣＦ3）2、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＦ2ＣＦ3、−ＣＨ（ＣＨ3）（ＣＦ2）5ＣＦ2Ｈ等］であっても
、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）であってもよく、エーテル結合を有していてもよい（例えば−ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ3、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ4Ｆ8Ｈ、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ17、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＦ2ＣＦ2ＯＣＦ2ＣＦ2Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
【０２４９】
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層の皮膜との結合形成又は相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。
【０２５０】
フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はなく用いられる。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としては、"Ｒ−２０２０"、"Ｍ−２０２０"、"Ｒ−３８３３"、"Ｍ−３８３３"｛以上、ダイキン化学工業（株）製｝；「メガファックＦ−１７１」、「メガファックＦ−１７２」、「メガファックＦ−１７９Ａ」、「ディフェンサＭＣＦ−３００」｛以上、大日本インキ（株）製｝などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２５１】
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤又はポリオキシアルキレン系化合物のような、防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低屈折率層形成用組成物全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては、「メガファックＦ−１５０」｛大日本インキ（株）製］、"ＳＨ−３７４８"｛東レダウコーニング（株）製｝などが挙げられるが、これらに限定されない。
【０２５２】
低屈折率層はまた、ミクロボイドを内包してもよい。具体的には、例えば特開平９−２２２５０２号公報、同９−２８８２０１号公報、同１１−６９０２号公報等に記載の内容が挙げられる。
【０２５３】
さらに本発明においては、有機微粒子を用いることもでき、該有機微粒子としては、例えば、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の化合物等があげられ、その形状は、上述の無機微粒子と同じである。
【０２５４】
低屈折率層の厚さは、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがより好ましく、７０〜１００ｎｍであることが特に好ましい。
【０２５５】
［低屈折率層の性状］
本発明における低屈折率層は、その表面エネルギーが２６ｍＮ／ｍ以下、さらには１５〜２５．８ｍＮ／ｍの範囲であることが好ましい。表面エネルギーをこの範囲にすることが防汚性の点で好ましい。
【０２５６】
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。本発明の反射防止フィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エ
ネルギーが既知である２種の溶液を、偏光板に透明保護フィルムとして設けられている反射防止フィルムの表面上に滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。最外層表面の水に対する接触角は９０゜以上、さらには９５゜以上、特には１００゜以上であることが好ましい。
【０２５７】
また低屈折率層表面の動摩擦係数は、０．２５以下であることが好ましく、さらには０．０５〜０．２５、特には０．０３〜０．１５であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数とは、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。
【０２５８】
低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。低屈折率層の硬度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また低屈折率層の耐擦傷性は、ＪＩＳ  Ｋ−６９０２に従うテーバー試験での摩耗量は小さいほど好ましい。
【０２５９】
［低屈折率層の形成］
低屈折率層は、機能性含フッ素ポリマー、オルガノシラン化合物、多官能重合性化合物、無機化合物の微粒子、金属キレート化合物、その他所望により含有される任意成分を溶解又は分散させた塗布組成物を、塗布と同時もしくは塗布後に光照射、電子線ビーム照射や加熱することによる架橋反応、又は重合反応により形成することが好ましい。
【０２６０】
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は重合反応により形成される場合、架橋反応又は重合反応は、酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。好ましくは酸素濃度が６体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。
【０２６１】
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０２６２】
低屈折率層には、金属酸化物薄膜層を用いることもできる。二酸化珪素又はフッ化マグネシウムが好ましく、二酸化珪素がさらに好ましい。金属酸化物薄膜層の層厚は５０〜１２０ｎｍの範囲に制御する。この範囲内とすることで、反射防止フィルムの鏡面反射率の平均値を３％以下に抑え、前記数式（１）を満足することができる。
【０２６３】
金属薄膜層、金属酸化物薄膜層は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマＰＶＤ法、又は金属もしくは金属酸化物の超微粒子塗布により形成することができる。好ましくはスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法であり、特に好ましくはスパッタリング法である。
【０２６４】
金属薄膜層をスパッタリング法により成膜する方法としては、金属ターゲットを用いたＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法などが利用できる。
【０２６５】
金属酸化物薄膜層をスパッタリング法により成膜する方法としては、金属ターゲットを
用い、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法、ＡＣマグネトロンスパッタリング法で成膜する方法や、金属酸化物ターゲットを用いてＲＦマグネトロンスパッタリング法を用いる方法などがありるが、成膜速度及び放電の安定性の点から考えると、ＡＣマグネトロンスパッタを用い、プラズマエミッションモニター法で酸素の流量を制御して成膜することが好ましい。
【０２６６】
前述のとおり、本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層に含有される無機微粒子の凝集を抑制することが白味の改善に好ましく、さらに、反射防止フィルムの反射防止膜形成側の最表面を特定の形状にすることが、さらに白味の改善に好ましい。表面形状は、（ａ）低屈折率層に特定の無機微粒子を含有させること、該無機微粒子に表面処理することと、（ｂ）乾燥速度を制御すること（後述）によって、特定の形状にすることができる。
本発明の反射防止フィルムを、低屈折率層を高屈折率層の上に塗設して形成する態様においては、〔高屈折率層〕の項において前記したとおり、高屈折率層の表面を特定の表面凹凸形態とすることが好ましく、（高屈折率微粒子の超微粒子化）の項において前記したとおり、高屈折率層に特定の大きさの範囲内の高屈折率微粒子を含有させることが好ましく、この高屈折率層の上に、上記の低屈折率層を塗布することが好ましい。該高屈折率層の上に塗布することによって、低屈折率層をより均一に塗布することができ、白味の改善に寄与できるため、好ましい。
【０２６７】
〔オーバーコート層〕
本発明の反射防止フィルムにおいては、低屈折率層の上に、さらに含フッ素化合物、含珪素化合物及び炭素数４以上の長鎖アルキル基含有化合物から選ばれる少なくとも一つの化合物を含むオーバーコート層が積層されることが好ましい。
【０２６８】
オーバーコート層に用いる含フッ素化合物としては、含フッ素界面活性剤、含フッ素ポリマー、含フッ素エーテル及び含フッ素シラン化合物が好ましく用いられる。
【０２６９】
含フッ素界面活性剤としては、親水性部がアニオン性、カチオン性、ノニオン性、及び両性のいずれでもよい。含フッ素界面活性剤では、疎水性部を構成する炭化水素の水素原子の一部又は全部がフッ素原子により置換されている。
【０２７０】
含フッ素ポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマー（含フッ素モノマー）の重合反応により合成することが好ましい。含フッ素モノマーの例には、フルオロオレフィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、フッ素置換アルコールとアクリル酸又はメタアクリル酸とのエステル及びフッ素化ビニルエーテルが含まれる。
【０２７１】
オーバーコート層用含フッ素ポリマーには、２種類以上の含フッ素モノマーから得られるコポリマーを用いてもよい。含フッ素モノマーとフッ素原子を含有しないモノマーとのコポリマーを用いてもよい。フッ素原子を含有しないモノマーの例には、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エステル（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート）、スチレン及びその誘導体（例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン）、ビニルエーテル（例えば、メチルビニルエーテル）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル）、アクリルアミド（例えば、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド）、メタクリルアミド、アクリロニトリル及びその誘導体が含まれる。
【０２７２】
オーバーコート層に滑り性を付与するため、含フッ素ポリマーに、ポリオルガノシロキサンからなる繰り返し単位を導入してもよい。ポリオルガノシロキサンからなる繰り返し単位を有する含フッ素ポリマーは、例えば、末端に反応性基を持つポリオルガノシロキサンと含フッ素モノマーとの重合によって得られる。反応性基は、エチレン不飽和性モノマー（例えば、アクリル酸及びそのエステル、メタクリル酸及びそのエステル、ビニルエーテル、スチレン及び誘導体）をポリオルガノシロキサンの末端に化学的に結合させることにより形成される。
【０２７３】
含フッ素ポリマーとしては、市販の含フッ素ポリマー、例えば「サイトップ」、「ルミフロン」｛以上、旭硝子（株）製｝、「テフロン（登録商標）ＡＦ」（デュポン社製）、「オプスター」｛ＪＳＲ（株）製｝などを用いてもよい。
【０２７４】
含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使用されている化合物である。含フッ素エーテルの例には、パーフルオロポリエーテル及びその誘導体が含まれる。
含フッ素シラン化合物の例には、パーフルオロアルキル基を含むシラン化合物（例、ヘプタデカフルオロ−１，２，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）が含まれる。市販の含フッ素シラン化合物、例えば、"ＫＢＭ−７８０３"、"ＫＰ−８０１Ｍ"｛信越化学（株）製｝を用いてもよい。
【０２７５】
オーバーコート層に用いる含フッ素化合物は、フッ素原子を３０〜８０質量％の範囲で含むことが好ましく、４０〜７５質量％の範囲で含むことがさらに好ましい。
【０２７６】
オーバーコート層には、含フッ素ポリマーを用いることが特に好ましい。含フッ素ポリマーは、さらに架橋していることが好ましい。具体的には、架橋性基を含フッ素ポリマーに導入するか、又は架橋剤を用いて含フッ素ポリマーを架橋させる。架橋性基は含フッ素ポリマーに側鎖として導入することが好ましい。含フッ素ポリマーの合成の際に架橋性基を有するモノマーを共重合することにより、架橋性基を含フッ素ポリマーに側鎖として導入できる。また２つ以上の架橋性基を有する化合物（架橋剤）を含フッ素ポリマーの側鎖と反応させることにより、含フッ素ポリマーを架橋させることができる。架橋性基は、光（好ましくは紫外線）や電子ビーム（ＥＢ）のような放射線の照射、又は加熱により反応して含フッ素ポリマーを架橋させる官能基であることが好ましい。放射線の照射により架橋させる官能基であることがさらに好ましく、紫外線の照射により架橋させる官能基であることが最も好ましい。すなわち、架橋反応の処理温度が低いと、支持体の平面性の悪化が少なく、製造工程の加熱ラインを短縮できる。また、紫外線の照射は、比較的安価な設備で実施できるとの利点がある。
【０２７７】
架橋性基の例には、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、イソシアナート基、エポキシ基、アルコキシシリル基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。オーバーコート層の厚さは、２〜５０ｎｍであることが好ましく、５〜３０ｎｍであることがさらに好ましく、５〜２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０２７８】
〔ハードコート層〕
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設けることができる。特に、透明支持体と前記高屈折率層（又は中屈折率層）の間に設けることが好ましい。
【０２７９】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含
む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は重合反応させることにより形成することができる。
【０２８０】
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０２８１】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、高屈折率層で例示したものが挙げられ、光重合開始剤、光増感剤を用いて重合することが好ましい。光重合反応は、ハードコート層の塗布及び乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
【０２８２】
ハードコート層には、脆性の付与のために質量平均分子量が５００以上のオリゴマー及び／又はポリマーを添加してもよい。オリゴマー、ポリマーとしては、（メタ）アクリレート系、セルロース系、スチレン系の重合体や、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。好ましくは、側鎖に官能基を有するポリグリシジル（メタ）アクリレートやポリアリル（メタ）アクリレート）等が挙げられる。
【０２８３】
ハードコート層におけるオリゴマー及び／又はポリマーの含有量は、ハードコート層の全質量に対し５〜８０質量％であることが好ましく、より好ましくは２５〜７０質量％、特に好ましくは３５〜６５質量％である。
【０２８４】
ハードコート層の硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少な
いほど好ましい。
【０２８５】
ハードコート層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は重合反応により形成される場合、架橋反応又は重合反応は、酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度や耐薬品性に優れたハードコート層を形成することができる。好ましくは酸素濃度が６体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。
【０２８６】
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０２８７】
ハードコート層は、透明支持体の表面に、ハードコート層形成用の塗布組成物を塗布することで構築することが好ましい。
【０２８８】
塗布溶媒としては、高屈折率層で例示したケトン系溶媒であることが好ましい。ケトン系溶媒を用いることで、透明支持体（特に、トリアセチルセルロース支持体）の表面とハードコート層との接着性がさらに改良される。特に好ましい塗布溶媒は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。塗布溶媒は、高屈折率層で例示したケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。塗布溶媒には、ケトン系溶媒が塗布組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上含まれることが好ましい。ケトン系溶媒の含有量は、より好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
【０２８９】
（その他の添加剤）
ハードコート層には、カップリング剤、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤、無機および有機の少なくともいずれか１つの粒子等の添加剤を用いることができる。
【０２９０】
〔反射防止フィルムのその他の層〕
反射防止フィルムには、以上に述べた各層の他に、必要に応じて、これらの層以外の層を設けてもよい。例えば、接着層、シールド層、滑り層や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
【０２９１】
〔反射防止フィルムの製造方法〕
反射防止フィルムの各層は、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビア法、ダイコート法等の塗布方式により形成することができる。ウェット塗布量を最小化して乾燥ムラをなくす観点から、マイクログラビア法及びグラビア法が好ましい。
【０２９２】
本発明の反射防止フィルムの複数の光学薄膜のうちの少なくとも２層を、１回の支持体フィルムの送り出し、各々の該光学薄膜の形成及びフィルムの巻取りからなる工程で形成するのが、生産コストの観点で好ましく、反射防止膜が３層構造の場合には、３層を１回の工程にて形成するのがより好ましい。このような製造方法は、塗布機の支持体フィルムの送り出しから巻取りまでの間に、塗布ステーションと乾燥、硬化ゾーンのセットを複数個、好ましくは光学薄膜の数と同じ数以上、縦列に設けることによって達成される。
【０２９３】
図２に装置構成の一例を示す。図２はロールフィルムの送り出し（１０１）から巻取り（１１２）までの一工程中に、第一の塗布ステーション（１０２）、第一の乾燥ゾーン（１０３）、第一のＵＶ照射機（１０４）、第二の塗布ステーション（１０５）、第二の乾燥ゾーン（１０６）、第二のＵＶ照射機（１０７）、第三の塗布ステーション（１０８）、第三の乾燥ゾーン（１０９）、第三のＵＶ照射機（１１０）、後乾燥ゾーン（１１１）を含んだ例であり、例えば中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の３層、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の３層等、一工程で３層までの機能層を形成することができる。必要に応じて、塗布ステーションの数を２つに減らした装置構成として、中屈折率層と高屈折率層の２層だけを一工程で形成し、表面状態、膜厚等をチェックした結果をフィードバックして得率を向上させたり、塗布ステーションの数を４つに増やした装置構成として、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を一工程で形成して塗布コストを大幅に低減する、といった製造方法とすることも、別の好ましい形態として挙げられる。
【０２９４】
［乾燥速度］
本発明の反射防止フィルムの作製において、塗布膜の乾燥工程での乾燥速度を制御することが好ましく、特に低屈折率層製膜工程における乾燥工程での乾燥速度を制御することが好ましい態様である。具体的には、乾燥速度が０．１０〜１．５ｇ／ｍ2・秒が好ましい。より好ましくは０．１２〜１．５ｇ／ｍ2・秒、更に好ましくは０．１５〜１．０ｇ／ｍ2・秒である。乾燥速度が該上限値以下であれば、乾燥ムラが生じたり蒸発潜熱によりブラッシングが起こったりするなどの不具合が生じないので好ましい。また、乾燥速度が該下限値以上であれば、塗布膜での無機微粒子の凝集が起こってフィルム表面に微細な凹凸が生じ、これによって表面での光の散乱が大きくなり、白味を帯びて視認性と表示品位を損ないやすくなるなどの不具合が生じにくいので好ましい。従って乾燥速度をこの範囲内にすることによって、硬化膜全面においてムラのない所望の表面形状を形成し、且つ硬化膜中での無機微粒子の分散を充分に保持することができる。
【０２９５】
なお乾燥速度の求め方は次のとおりである。
予め塗布液中の溶媒を蒸発させ、固形分濃度に対する溶媒組成比をガスクロマトグラフ
ィーにて求めておく。塗布後任意の時間で塗布物をサンプリングし、その時の固形分濃度から蒸発速度を求める。
乾燥速度は、塗布膜の素材と塗布液の濃度、乾燥温度、乾燥風量などによって制御することができる。
【０２９６】
＜偏光板用保護フィルム＞
本発明の偏光板を作製するにあたって、反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いるために、反射防止膜を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することが好ましい。
【０２９７】
偏光板保護フィルムとして反射防止フィルムを用いる場合、反射防止フィルムの透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。
【０２９８】
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、（１）予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層（例えば、高屈折率層、ハードコート層、最外層など）を塗設する手法、（２）透明支持体の一方の面に上記の各層（例えば、高屈折率層、ハードコート層、低屈折率層、最外層など）を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法、の２つが考えられるが、支持体とその上に塗設される層、例えばハードコート層との密着性確保の観点から、ハードコート層を塗設する面まで親水化されることのない（２）の手法を採用することが好ましい。
【０２９９】
〔鹸化処理〕
（１）浸漬法
アルカリ液の中に反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面の、アルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点では好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３モル／Ｌであり、特に好ましくは１〜２モル／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７０℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
【０３００】
上記の鹸化条件の組合せは、比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【０３０１】
鹸化処理することにより、透明支持体の反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
【０３０２】
鹸化処理は、反射防止膜を有する側とは反対側の透明支持体表面の、水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に、反射防止膜を有する側の表面までアルカリによるダメージを受けることがあるため、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる反射防止膜の受けるダメージの指標として、反射防止膜を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち反射防止フィルムの偏光膜との貼り合わせ面の、水に対する接触角を用いた場合には、特に支持体がトリアセチルセルロースであれば、接触角が２０゜〜５０゜、好ましくは３０゜〜５０゜、より好ましくは４０゜〜５０゜となるようにすることが好ましい。５０゜以下であれば、偏光膜との接着性が良好であり好ましい。一方、２０゜以上であれば、反射防止膜の受けるダメージが大ききくなりすぎることがなく、物理強度、耐光性などを損なうことがないの
で好ましい。
【０３０３】
（２）アルカリ液塗布法
上述の浸漬法における反射防止膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を、反射防止膜を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、この時、反射防止フィルムの貼り合わせ面の、水に対する接触角が１０〜５０゜となるように鹸化処理を行うことが好ましい。また、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることをも含むものである。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（１）の浸漬法の方が優れているが、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができるなどの点では優れている。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
【０３０４】
上記（１）、（２）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に実施することができるため、前述の反射防止フィルム製造工程の後に加えて、一連の操作として行うこともできる。さらに、同様に巻き出した長尺状の偏光膜との貼り合わせ工程も合わせて連続で行うことにより、枚葉として同様の操作をするよりも、より効率よく偏光板を作成することができる。
【０３０５】
＜偏光板＞
本発明の好ましい偏光板は、図１に示すように、偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として、その少なくとも一方に、本発明の反射防止フィルムを有する。図１では、透明支持体１の一方の表面に、中屈折率層３、高屈折率層４及び低屈折率層５から構成された反射防止膜１０を有する反射防止フィルム１１の、反射防止膜１０のない側の透明支持体１表面が、ポリビニルアルコールからなる接着剤層６を介して偏光膜７に接着しており、もう一方の偏光膜の保護フィルム８は、接着剤層６を介して偏光膜７の反射防止フィルム１１が接着している主面とは反対側の主面と接着している。もう一方の保護フィルム８の偏光膜と接着している主面と反対側の面主面には粘着剤層９を有している。
【０３０６】
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
【０３０７】
もう一方の偏光膜の保護フィルム８は、偏光板用保護フィルムとして従来公知の何れのものでも用いることができる。＜透明支持体＞の項に挙げたプラスチックフィルムを用いてもよい。
また、本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右の視野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。
【０３０８】
＜光学補償フィルム＞
光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良するために使用される。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有する層を有し、該ディスコティック化合物と支持体とのなす角度が、局所的なランダム性
はもっているが、透明支持体からの距離に伴って変化していることを特徴とする光学補償フィルムが好ましい。この角度としては、局所的なランダム性はもっているが、光学異方性層の支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
【０３０９】
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記と同様の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
【０３１０】
また、光学異方性層が更にセルロースエステルを含んでいる態様、光学異方性層と透明支持体との間に配向層が形成されている態様、該光学異方性層を有する光学補償フィルムの透明支持体が、光学補償フィルムの光学異方性を補完するような光学異方性を有することも好ましい。
【０３１１】
＜画像表示装置＞
反射防止フィルムを有する偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）のような画像表示装置に適用することができる。図１に示すような本発明の反射防止フィルムを有する偏光板を、液晶表示装置の液晶セルのガラスに直接又は他の層を介して接着して用いる。
【０３１２】
本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板は、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
【０３１３】
〔ＴＮモード液晶表示装置〕
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献の記載が挙げられる。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０３１４】
〔ＯＣＢモード液晶表示装置〕
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を、液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている装置が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。
【０３１５】
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０３１６】
〔ＶＡモード液晶表示装置〕
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
【０３１７】
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２
−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード）の液晶セル｛"ＳＩＤ９７，  Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ"（予稿集）２８集（１９９７年）８４５頁記載｝、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル｛日本液晶討論会の予稿集５８〜５９頁（１９９８年）記載｝及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（「ＬＣＤインターナショナル９８」で発表）が挙げられる。
【０３１８】
〔ＩＰＳモード液晶表示装置〕
ＩＰＳモードの液晶セルでは、液晶分子を基板に対して常に水平面内で回転させるモードで、電界無印加時には電極の長手方向に対して若干の角度を持つように配向されている。電界を印加すると電界方向に液晶分子は向きを変える。液晶セルを挟持する偏光板を所定角度に配置することで光透過率を変えることが可能となる。液晶分子としては、誘電率異方性Δεが正のネマチック液晶を用いる。液晶層の厚み（ギャップ）は、２．８μｍ超４．５μｍ未満とする。これは、レターデーションΔｎ・ｄは０．２５μｍ超０．３２μｍ未満の時、可視光の範囲内で波長依存性が殆どない透過率特性が得られる。偏光板の組み合わせにより、液晶分子がラビング方向から電界方向に４５°回転したとき最大透過率を得ることができる。なお液晶層の厚み（ギャップ）はポリマビーズで制御している。もちろんガラスビーズやガラスファイバー、樹脂製の柱状スペーサでも同様のギャップを得ることができる。また液晶分子は、ネマチック液晶であれば、特に限定したものではない。誘電率異方性Δεは、その値が大きいほうが、駆動電圧が低減でき、屈折率異方性Δｎは小さいほうが液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、且つギャップ・バラツキを少なくすることができる。
【０３１９】
〔その他液晶モード〕
ＥＣＢモード及びＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で本発明の偏光板を供することができる。
【０３２０】
また、透過型又は半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム｛偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製の"Ｄ−ＢＥＦ"など｝と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
【０３２１】
また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として、表面及び内部からの反射光を低減するのに用いることができる。
【実施例】
【０３２２】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによっていささかも限定して解釈されるものではない。
【０３２３】
実施例１及び比較例１
〔反射防止フィルム（ＡＦ）の作製〕
［ハードコート層用塗布液（ＨＣＬＬ）の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
トリメチロールプロパントリアクリレート"ＴＭＰＴＡ"｛日本化薬（株）製｝７５０．０質量部に、質量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部及び光重合開始剤「イルガキュア１８４」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝５０．０質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液（ＨＣＬＬ）を調製した。
【０３２４】
［ハードコート層用塗布液（ＨＣＬＬ−２）の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
ペンタエリスリトールトリアクリレート"ＰＥＴ−３０"｛日本化薬（株）製｝７４２質量部に、質量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７７質量部、シランカップリング剤"ＫＢＭ−５１０３"｛信越化学工業（株）製｝１１２質量部、メチルエチルケトン７２８質量部、シクロヘキサノン５０３質量部、光重合開始剤"イルガキュア１８４"｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝５１質量部及びフッ素系表面改質剤"Ｆ−４７６"[大日本インキ（株）製]１．５質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液（ＨＣＬＬ−２）を調製した。
【０３２５】
［ハードコート層用塗布液（ＨＣＬＬ−３）の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液"デソライトＺ７４０４"｛ＪＳＲ(株)製｝１００質量部に、ＵＶ硬化性樹脂"ＤＰＨＡ"｛日本化薬（株）製｝３１質量部、シランカップリング剤"ＫＢＭ−５１０３"｛信越化学工業（株）製｝１０質量部、"ＫＥ−Ｐ１５０"｛平均粒径１．５μｍシリカ粒子、日本触媒（株）製、３０％ ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用｝８．９質量部、ＭＸＳ−３００｛平均粒径３μｍ架橋ＰＭＭＡ粒子、綜研化学（株）製、３０％ ＭＩＢＫ分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用｝３.４質量部、メチルエチルケトン２９質量部及び、ＭＩＢＫ １３質量部添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液（ＨＣＬＬ−３）を調製した。
【０３２６】
｛二酸化チタン微粒子の作製｝
特開２００３−３２７４３０号公報の実施例３に準じ、各元素の組成が質量比でＴｉＯ2：Ｃｏ3Ｏ4：Ａｌ2Ｏ3：ＺｒＯ2＝９０．５：３．０：４．０：０．５になるように変更した以外は同公報の実施例３と同様にして、二酸化チタン粒子の中にコバルトをドープしたコバルト含有の二酸化チタン微粒子を作製した。作製した二酸化チタン微粒子は、ルチル型の結晶構造が認められ、平均一次粒子径が４０ｎｍ、比表面積が４４ｍ2／ｇであった。
【０３２７】
｛二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−１）の調製｝
上記二酸化チタン微粒子２５７．１ｇ、下記構造の質量平均分子量４５，０００の高分子分散剤（ＤＰ−１）４１．１ｇ、及びシクロヘキサノン７０１．８ｇを添加して、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズと共にダイノミルにより分散した。分散温度は２０〜３０℃で５時間分散を実施した。透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真観察より１５０ｎｍ以上の粒子径が０％の平均一次粒子径４５ｎｍの二酸化チタン分散液（ＴＬ−１）を調製した。
【０３２８】
【化７】
2006091859.tif 000011
【０３２９】
｛二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−２）の調製｝
二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−１）の調製において、分散時間を３時間実施した以外は、二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−１）の調製と同様にして二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−２）を調製した。
得られた二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−２）は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真観察より１５０ｎｍ以上の粒子径が２．５％、内２００ｎｍ以上の粒子径が０．５％の平均一次粒子径６５ｎｍであった。
【０３３０】
［中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）の調製］
上記の二酸化チタン分散液（ＴＬ−１）９９．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物"ＤＰＨＡ"６８．０質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」３．６質量部、光増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」｛日本化薬（株）製｝１．２質量部、メチルエチルケトン２７９．６質量部及びシクロヘキサノン１０４９．０質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）を調製した。
【０３３１】
［中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−２）の調製］
上記の二酸化チタン分散液（ＴＬ−２）を用いた以外は、中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）と同様に中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−２）を調製した。
【０３３２】
［高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−１）の調製］
上記の二酸化チタン分散液（ＴＬ−１）４６９．８質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物"ＤＰＨＡ"｛日本化薬（株）製｝４０．０質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝３．３質量部、光増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」｛日本化薬（株）製｝１．１質量部、メチルエチルケトン５２６．２質量部、及びシクロヘキサノン４５９．６質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液（ＨＬＬ−１）を調製した。
【０３３３】
［高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−２）の調製］
上記の二酸化チタン分散液（ＴＬ−２）を用いた以外は、高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−１）と同様に高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−２）を調製した。
【０３３４】
［低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ）の調製］
｛機能性含フッ素ポリマーの合成｝
内容量１００ｍＬのステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル４０ｍＬ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ2）であった。温度を６５℃に保持して８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ2）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションで溶媒を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解し、ヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍＬに溶解し、氷冷下アクリル酸クロリド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより、機能性含フッ素ポリマーである下記の構造のパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。
【０３３５】
【化８】
2006091859.tif 000012
【０３３６】
（ゾル液ａの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロイル
オキシプロピルトリメトキシシラン"ＫＢＭ−５１０３"｛信越化学工業（株）製｝１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート（商品名：ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。得られた化合物の質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量１０００〜２００００の成分が１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０３３７】
（中空シリカ分散液ａの調製）
中空シリカ分散物｛粒子サイズ約４０〜５０ｎｍ、シェル厚６〜８ｎｍ、屈折率１．３１、固形分濃度２０％、主溶媒イソプロピルアルコール、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じて粒子サイズを変更して作製｝５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０．５質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート（商品名：ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水を９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度２０質量％の中空シリカ分散液ａを得た。得られた分散液のＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。
【０３３８】
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）の調製｝
前記のパーフルオロオレフィン共重合体（１）を６２．５質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂"Ｘ−２２−１６４Ｃ"｛信越化学工業（株）製｝を１．９質量部、光ラジカル発生剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝４．７質量部を、メチルエチルケトン１，３９０質量部、及びシクロヘキサノン４３質量部に添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）を調製した。
【０３３９】
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−２）の調製｝
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物"ＤＰＨＡ"｛日本化薬（株）製｝１３．２質量部、中空シリカ分散液ａ１６０質量部、"ＲＭＳ−０３３"｛シリコーン系化合物、Ｇｅｌｅｓｔ社製｝２．８質量部、光ラジカル発生剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝０．８質量部、ゾル液ａ２４．８質量部をメチルエチルケトン１１６２．４質量部、及びシクロヘキサノン３６質量部に添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−２）を調製した。
【０３４０】
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−３）の調製｝
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物"ＤＰＨＡ"｛日本化薬（株）製｝５．６質量部、前記のパーフルオロオレフィン共重合体（１）を２２．４質量部、中空シリカ分散液ａ８０質量部、"ＲＭＳ−０３３"｛シリコーン系化合物、Ｇｅｌｅｓｔ社製｝２．８質量部、光ラジカル発生剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝０．８質量部、ゾル液ａ２４．８質量部を、メチルエチルケトン１２２７．６質量部、及びシクロヘキサノン３６質量部に添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−３）を調製した。
【０３４１】
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−４）の調製｝
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートの混合物"ＤＰＨＡ"｛日本化薬（株）製｝８．３質量部、前記のパーフルオロオレフィン共重合体（１）を３３．０質量部、"ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ"｛オルガノシリカゾル、日産化学工業（株）製、平均粒径４０〜５０ｎｍ、固形分濃度３０質量％｝３６．７質量部、"ＲＭＳ−０３３"｛シリコーン系化合物、Ｇｅｌｅｓｔ社製｝４．１質量部、光ラジカル発生剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝１．２質量部を、メチルエチルケトン１２７７．２質量部、及びシクロヘキサノン４０質量部に添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−４）を調製した。
【０３４２】
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−５）の調製｝
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物"ＤＰＨＡ"｛日本化薬（株）製｝８．３質量部、前記のパーフルオロオレフィン共重合体（１）を３３．０質量部、中空シリカ分散物｛粒子サイズ約４０〜５０ｎｍ、シェル厚６〜８ｎｍ、屈折率１．３１、固形分濃度２０％、主溶媒イソプロピルアルコール、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じて粒子サイズを変更して作製｝５５質量部、"ＲＭＳ−０３３"｛シリコーン系化合物、Ｇｅｌｅｓｔ社製｝４．１質量部、光ラジカル発生剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝１．２質量部をメチルエチルケトン１２５９．４質量部、及びシクロヘキサノン３９質量部に添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−５）を調製した。
【０３４３】
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−６）の調製｝
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物"ＤＰＨＡ"｛日本化薬（株）製｝８．３質量部、前記のパーフルオロオレフィン共重合体（１）を３３．０質量部、"ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ"｛オルガノシリカゾル、日産化学工業（株）製、平均粒径４０〜５０ｎｍ、固形分濃度３０質量％｝３６．７質量部、"ＲＭＳ−０３３"｛シリコーン系化合物、Ｇｅｌｅｓｔ社製｝４．１質量部、光ラジカル発生剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝１．２質量部を、メチルエチルケトン１２７７．２質量部、及びシクロヘキサノン４０質量部に添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−６）を調製した。
【０３４４】
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−７）の調製｝
Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4  ４５．９質量部、ＣＦ3（ＣＦ3）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3６．６質量部をメチルエチルケトン１１５５質量部に添加して攪拌した。そして混合液に、中空シリカ分散物｛粒子サイズ約４０〜５０ｎｍ、シェル厚６〜８ｎｍ、屈折率１．３１、固形分濃度２０％、主溶媒イソプロピルアルコール、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じて粒子サイズを変更して作製｝１１２．５質量部と０．１モル／Ｌ塩酸１８０質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−７）を調製した。
【０３４５】
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−８）の調製｝
オプスターＪＴＡ１１３｛熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液（固形分６％）：ＪＳＲ（株）製｝７８３．３質量部｛固形分として４７．０質量部｝に対して、中空シリカ分散液ａを１９５質量部、コロイダルシリカ分散物｛シリカ、ＭＥＫ-ＳＴの粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製｝３０．０質量部（固形分として９．０質量部）、ゾル液ａ １７．２質量部｛固形分として５．０質量部｝を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１０対９０になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して塗布液（ＬＬＬ−８）を調製した。
【０３４６】
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−９）の調製｝
オプスターＪＴＡ１１３｛熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液（固形分６％）：ＪＳＲ（株）製｝９４１．７質量部（固形分として５６．５質量部）に対して、コロイダルシリカ分散物｛シリカ、ＭＥＫ-ＳＴの粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製｝１００．０質量部（固形分として３０．０質量部）、ゾル液ａ ４６．６質量部（固形分として１３．５質量部）を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１０対９０になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して塗布液（ＬＬＬ−９）を調製した。
【０３４７】
［オーバーコート層用塗布液（ＯＣＬＬ）の調製］
下記に示した構造を持つフッ素含有ポリマーを合成した。
【０３４８】
【化９】
2006091859.tif 000013
【０３４９】
このフッ素ポリマーの分子量は、数平均分子量で４万、質量平均分子量で７万であった。このポリマーをメチルイソブチルケトンに溶解して、０．１質量％溶液を調整した。さらに硬化触媒として、ｐ−トルエンスルホン酸をポリマー固形分の１質量％となるように添加しオーバーコート層用塗布液を作成した。
【０３５０】
実施例１−１
［反射防止フィルム（ＡＦ−１）の作製］
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム"ＴＤ８０ＵＦ"｛富士写真フィルム（株）製｝上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬＬ）を、グラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層（ＨＣＬ）を形成した。
【０３５１】
ハードコート層（ＨＣＬ）の上に、中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）、高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−１）、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。
【０３５２】
中屈折率層（ＭＬ−１）は、中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）を用い、乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
乾燥速度は０．５５ｇ／ｍ2・秒であり硬化後の中屈折率層（ＭＬ−１）は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであった。
【０３５３】
高屈折率層（ＨＬ−１）は、高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−１）を用い、乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
乾燥速度は０．６７ｇ／ｍ2・秒であり硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍであった。
【０３５４】
低屈折率層（ＬＬ−１）は、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）を用い、乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。乾燥速度は０．３５ｇ／ｍ2・秒であり、硬化後の低屈折率層は屈折率１．４４５、膜厚８５ｎｍであった。このようにして、反射防止フィルム（ＡＦ−１）を作製した。
【０３５５】
実施例１−２〜１−４
［反射防止フィルム（ＡＦ−２）〜（ＡＦ−４）の作製］
実施例１−１において、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）を用いる代わりに、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−２）〜（ＬＬＬ−４）の何れかを用いて低屈折率層（ＬＬ−２）〜（ＬＬ−４）をそれぞれ形成した以外は、実施例１−１同様にして反射防止フィルム（ＡＦ−２）〜（ＡＦ−４）を作製した。乾燥速度はそれぞれ０．３１、０．３０、０．３６ｇ／ｍ2・秒であり、硬化後の低屈折率層の屈折率はそれぞれ１．４４５，１．４４０，１．４５０、膜厚は何れも８５ｎｍであった。
【０３５６】
実施例１−５
［反射防止フィルム（ＡＦ−５）の作製］
実施例１−１において、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）を塗設して低屈折率層（ＬＬ−１）を形成する代わりに、ＳｉＯ2を走行式スパッタリング装置を用いデュアルマグネトロンスパッタ法にて製膜して金属酸化物の薄膜からなる低屈折率層（ＭＴＬ）とした以外は、実施例１−１同様にして反射防止フィルム（ＡＦ−５）を作製した。このとき酸素量はプラズマエミッションモニター法にて制御した。真空度は０．２７Ｐａであった。低屈折率層は屈折率１．４６０、膜厚８５ｎｍであった。
【０３５７】
実施例１−６
［反射防止フィルム（ＡＦ−６）の作製］
実施例１−３において、中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）、高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−１）及び低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−３）を、３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続塗布して、中屈折率層（ＭＬ−１）、高屈折率層（ＨＬ−１）及び低屈折率層（ＬＬ−３）を形成する代わりに、中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）及び高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−１）を、グラビアコーターを用いて連続塗布して中屈折率層（ＭＬ−１）及び高屈折率層（ＨＬ−１）形成した後、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−３）を、ダイコーターを用いて塗布して低屈折率層（ＬＬ−３2）を形成した以外は、実施例１−１と同様にして反射防止フィルム（ＡＦ−６）を作製した。乾燥速度は０．３０ｇ／ｍ2・秒であり、硬化後の低屈折率層は屈折率１．４４０、膜厚８５ｎｍであった。
【０３５８】
比較例１−１及び１−２
［反射防止フィルム（ＡＦ−７）及び（ＡＦ−８）の作製］
実施例１−１において、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）を用いる代わりに、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−５）又は（ＬＬＬ−６）を用いて低屈折率層（ＬＬ−５）又は（ＬＬ−６）を形成した以外は、実施例１−１と同様にして反射防止フィルム（ＡＦ−７）及び（ＡＦ−８）を作製した。乾燥速度はそれぞれ０．４２、０．４５ｇ／ｍ2・秒であり、硬化後の低屈折率層は、屈折率１．４３５，１．４５０、膜厚８５ｎｍであった。
【０３５９】
実施例１−７
［反射防止フィルム（ＡＦ−９）の作製］
実施例１−１において、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）を用いる代わりに、低屈折
率層用塗布液（ＬＬＬ−７）を用い、乾燥条件を１２０℃、１分間にして低屈折率層（ＬＬ−７）を形成した以外は、実施例１−１同様に反射防止フィルム（ＡＦ−９）を作製した。乾燥速度は０．４９ｇ／ｍ2・秒であり、硬化後の低屈折率層は、屈折率１．３９０、膜厚８５ｎｍであった。
【０３６０】
実施例１−８
［反射防止フィルム（ＡＦ−１０）の作製］
実施例１−７で作製した低屈折率層（ＬＬ−７）の上に、さらにオーバーコート層用塗布液（ＯＣＬＬ）を用い、１２０℃で３０分乾燥して、厚さ１０ｎｍのオーバーコート層（ＯＣＬ）を作製した以外は、実施例１−７同様に反射防止膜（ＡＦ−１０）を作製した。
【０３６１】
実施例１−９
［反射防止フィルム（ＡＦ−１１）の作製］
実施例１−３において、高屈折率層（ＨＬ−１）を設けず中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）の塗布量を変えて中屈折率層（ＭＬ−１2）を形成し、その上に直接低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−３）を、その塗布量を変えて塗布して低屈折率層（ＬＬ−３3）を形成する以外は、実施例１−３と同様にして反射防止フィルム（ＡＦ−１１）を作製した。硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚１００ｎｍであり、低屈折率層は屈折率１．４４０膜厚１００ｎｍであった。尚、上記の反射防止フィルム（ＡＦ−１１）の構成において、中屈折率層（ＭＬ−１2）は、透明支持体より高い屈折率を有するという意味においては高屈折率層であるが、実施例の記載中では便宜上、中屈折率層とした。
【０３６２】
実施例１−１０
［反射防止フィルム（ＡＦ−１２）の作製］
実施例１−３において、中屈折率層（ＭＬ−１）及び高屈折率層（ＨＬ−１）を設けず、ハードコート層（ＨＣＬ）の上に直接低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−３））を、その塗布量を変えて塗布して低屈折率層（ＬＬ−３4）を形成した以外は、実施例１−３と同様にして反射防止フィルム（ＡＦ−１２）を作製した。硬化後の低屈折率層は屈折率１．４４０、膜厚９５ｎｍであった。
【０３６３】
実施例１−１１
［反射防止フィルム（ＡＦ−１５）の作製］
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム"ＴＤ８０ＵＦ"｛富士写真フィルム（株）製｝上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬＬ−２）を、グラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量１００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層（ＨＣＬ−２）を形成した。
【０３６４】
低屈折率層（ＬＬ−８）は、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−８）を用い、乾燥条件は９０℃、３０秒とし、その後、１１０℃１０分間熱硬化させ、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。乾燥速度は０．３３ｇ／ｍ2・秒であり、硬化後の低屈折率層は屈折率１．４２２、膜厚８９ｎｍであった。このようにして、反射防止フィルム（ＡＦ−１５）を作製した。
【０３６５】
実施例１−１２
［反射防止フィルム（ＡＦ−１６）の作製］
実施例１−１１において、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬＬ−２）、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−８）を用いる代わりに、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬＬ−３）、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−９）を用いてハードコート層（ＨＣＬ−３）、低屈折率層（ＬＬ−９）をそれぞれ形成した以外は、実施例１−１１同様にして反射防止フィルム（ＡＦ−１６）を作製した。乾燥速度はそれぞれ０．３４ｇ／ｍ2・秒であり、硬化後の低屈折率層の屈折率はそれぞれ１．４４５、膜厚は８８ｎｍであった。
【０３６６】
比較例１−３
［反射防止フィルム（ＡＦ−１３）の作製］
実施例１−３において、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−３）を塗布後、乾燥速度を０．０６ｇ／ｍ2・秒にして低屈折率層（ＬＬ−３5）を形成した以外は実施例１−３と同様にして反射防止フィルム（ＡＦ−１３）を作製した。硬化後の低屈折率層は屈折率１．４５０、膜厚８６ｎｍであった。
【０３６７】
比較例１−４
［反射防止フィルム（ＡＦ−１４）の作製］
実施例１−２において、中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）及び高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−１）を用いる代わりに、中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−２）及び高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−２）を用いて中屈折率層（ＭＬ−２）及び高屈折率層（ＨＬ−２）を形成した以外は、実施例１−２と同様にして反射防止フィルム（ＡＦ−１４）を作製した。硬化後の中／高屈折率層は、屈折率１．６３０／１．９０５、膜厚６７／１０７ｎｍであった。
【０３６８】
得られた反射防止フィルムの構成等について、下表１にまとめる。
【０３６９】
【表１】
2006091859.tif 000014
【０３７０】
〔反射防止フィルム（ＡＦ）の評価〕
前記の鹸化処理後に得られたフィルム試料について、以下の項目の評価を行った。
【０３７１】
（１）鏡面反射率及び色味
分光光度計"Ｖ−５５０"｛日本分光（株）製｝にアダプター"ＡＲＶ−４７４"を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、各反射防止フィルム試料の入射角５°における出射角−５゜の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの領域における平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。さらに、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ65の入射角５゜の入射光に対する正反射光の色味を表わすＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のＬ*値、ａ*値、ｂ*値を算出し、この中からａ*値、ｂ*値を用いて反射光の色味を評価した。
【０３７２】
（２）白味
各反射防止フィルム試料の白味は次のようにして評価した。
１０ｃｍ四方のガラス板の両面に偏光フィルムをクロスニコル配置で貼り合せ、さらに反射防止層面を上にして各反射防止フィルム試料を貼り付けた。ルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ2）から２ｍ離した位置から、目視により白味をランク付けした。
１：白味がなくクリアである。
２：白味がほとんど気にならずほぼクリアである。
３：若干白味が感じられる。
４：かなり白味が感じられる。
【０３７３】
（３）散乱光量
各反射防止フィルム試料の散乱光量としてのＩ50の値を、ゴニオフォトメーター"ＧＰ−５"｛（株）村上色彩技術研究所製）を用いて測定した。Ｉ50の値は、試料表面に立てた法線より−１０°傾いた方向から反射防止フィルム表面に光を入射し、反射防止フィルム表面で散乱される散乱光のうち、法線より＋５０°傾いた方向の散乱光の光量の値を読み取った。
【０３７４】
（４）算術平均粗さ（Ｒａ）、十点平均粗さ（Ｒｚ）、平均傾斜角
各反射防止フィルム試料の算術平均粗さ（Ｒａ）、十点平均粗さ（Ｒｚ）、平均傾斜角は、走査型プローブ顕微鏡"ＳＰＩ３８００"｛セイコーインスツルメンツ（株）製｝にて測定した。
【０３７５】
（５）映り込み
各反射防止フィルム試料を装着した画像表示装置を黒表示させ、画像表示装置から１．５ｍ離れた場所から白いシャツを映り込ませた。
映り込みを以下の基準で評価した。
○：かすかに見えるが気にならない。
△：やや気になる。
×：かなり気になる。
【０３７６】
（６）表面形態観察
各反射防止フィルム試料における、無機微粒子を含む低屈折率層の粒子凝集状態を、走査型電子顕微鏡"Ｓ−５７０"｛（株）日立製作所製｝を用いて、加速電圧１０ｋＶ、倍率１０，０００倍にて観察した。粒子凝集状態を目視及びで凝集した粒子の塊を一つの円とし、その直径で以下の基準により評価した。尚、無機微粒子を含まない、実施例１−１および実施例１−５については、粒子の凝集はないため、−とした。
◎：粒子凝集はほとんど見られず、均一に分散している。
○：粒子凝集が僅かに見られるが、ほぼ均一に分散している。
△：凝集が見られ、あまり均一に分散されていない。
×：凝集が多く見られ、分散が不均一である。
【０３７７】
（７）スチールウール耐傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件で各反射防止フィルム試料表面のこすりテストをおこなった。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に、スチールウール「ゲレードＮｏ．００００」｛日本スチールウール（株）製｝を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／ｃｍ2、
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
◎：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
○△：弱い傷が見える。
△：中程度の傷が見える。
△×〜×：一目見ただけで分かる傷がある。
【０３７８】
（８）密着性評価
各反射防止フィルム試料の低屈折率層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ"Ｎｏ．３１Ｂ"を圧着して、密着試験を同じ場所で繰り返し３回行った。剥がれの有無を目視で観察し、下記の４段階評価を行った。
◎：１００個の升目中に剥がれが全く認められなかったもの
○：１００個の升目中に剥がれが認められたものが２升以内のもの
△：１００個の升目中に剥がれが認められたものが３〜１０升のもの
×：１００個の升目中に剥がれが認められたものが１０升を超えたもの
【０３７９】
（９）防汚性評価
各反射防止フィルム試料の低屈折率層を有する側の表面に付着させた、油性ペン「マッキーケア」｛ゼブラ製｝をセルロース製不織布「ベンコットＭ−３」｛旭化成（株）製｝で拭取り、その取れ易さを下記の２段階評価を行った。
○：油性ペンを完全に拭き取ることができる。
×：油性ペンの拭き取り跡が残る。
【０３８０】
（１０）ゴミ付き性評価
各反射防止フィルム試料の透明支持体側をＣＲＴ表面に張り付け、０．５μｍ以上のホコリ及びティッシュペーパー屑を、１ｆｔ3（立方フィート）当たり１００〜２００万個有する部屋で２４時間使用した。反射防止膜１００ｃｍ2当たり、付着したホコリとティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値が２０個未満の場合をＡ、２０〜４９個の場合をＢ、５０〜１９９個の場合をＣ、２００個以上の場合をＤとして評価した。
【０３８１】
（１１）耐薬品性試験
各反射防止フィルム試料の低屈折率層を有する側の表面に、７ｍｍφの穴の開いたマスクをかぶせ、「マジックリン」｛花王（株）製｝をサンプルから３０ｃｍ離れた距離から噴霧した。５分間放置後に、残った液及び液跡を拭取り、表面に異常が観られるかどうかを下記の３段階評価を行った。
○：評価前後で膜面に異常が観られない。
△：評価前後で膜面に少し異常が観られる。
×：評価前後で膜面に明らかに異常が観られる。
【０３８２】
（１２）耐光性試験
各反射防止フィルム試料について、サンシャインウエザーメーター（ＳＸ-７５、スガ試験機（株）製）を用い、サンシャインカーボンアーク灯、放射照度１５０Ｗ/ｍ2、湿度５０％ＲＨ、２００時間の条件で耐光性試験を行った。
試験後の各試料について、前（８）項と同様に密着性試験を行った。
【０３８３】
【表２】
2006091859.tif 000015
【０３８４】
表２に示される通り、実施例１−１〜１−１２の反射防止フィルムは、反射防止性が高く、平均反射率および散乱光量ともに本発明の範囲内であり、白味に優れていた。また、反射の色味がニュートラルであった。
一方、比較例１−１〜１−２および乾燥速度が好ましい範囲外である比較例１−３は、低屈折率層内の無機微粒子の凝集があり、散乱光量が本発明の範囲外となり、白味も悪化した。比較例１−１〜１−２は、疎水的なパーフルオロオレフィン共重合体（１）と親水的なシリカの共存により、シリカの凝集が進行したものと考えられる。比較例１−３は、乾燥速度が遅いことでシリカ粒子の流動性がなくなるまでの粘度増加に時間がかかり、シリカの凝集が進行したものと考えられる。また比較例１−４は、高屈折率層及び中屈折率層内に二酸化チタンの粗大粒子が存在し、散乱光量が本発明の範囲外となり、白味が目立った。
また、低屈折率層内に無機微粒子が存在しない実施例１−１は、ゴミ付き性がやや低下し、低屈折率層を金属酸化物薄膜層とした実施例１−５は、防汚性が低下した。機能性含フッ素ポリマーを使用せずに低屈折率層を形成した実施例１−７はゴミ付き性および耐薬品性が、高屈折率層の屈折率を低くした（中屈折率層（ＭＬ−１2）を使用した）実施例１−９および高屈折率層を設けずに作成した実施例１−１０は映り込みの点でやや劣っていた。
また、実施例１−１〜１−７の反射防止フィルムはいずれも高い耐光性を示した。
【０３８５】
実施例２
〔画像表示装置の評価〕
前記実施例１−１〜１−１２で作製した本発明の各反射防止フィルムを装着した画像表示装置は、反射防止性能に優れ、白味等のない極めて視認性が優れた性能を示した。
【０３８６】
実施例３
〔偏光板用保護フィルムの作製〕
実施例１−１〜１−１２で作製した反射防止フィルムにおいて、本発明の反射防止膜を有する側とは反対側の透明支持体の表面に、水酸化カリウム５７質量部、プロピレングリコール１２０質量部、イソプロピルアルコール５３５質量部、及び水２８８質量部からなるアルカリ溶液を４０℃に保温した鹸化液を塗布して、その透明支持体の表面を鹸化処理した。
【０３８７】
鹸化処理した透明支持体表面のアルカリ溶液を、水で十分に洗浄した後、１００℃で十分に乾燥させた。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。
【０３８８】
〔偏光板の作製〕
［偏光膜の作製］
膜厚７５μｍのポリビニルアルコールフィルム｛（株）クラレ製｝を、水１０００ｇ、ヨウ素７ｇ、ヨウ化カリウム１０．５ｇからなる水溶液に５分間浸漬し、ヨウ素を吸着させた。次いで、このフィルムを４質量％ホウ酸水溶液中で、４．４倍に縦方向に１軸延伸をした後、緊張状態のまま乾燥して偏光膜を作製した。
【０３８９】
次ぎに、接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に、上記本発明の各反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したセルロースアシレートフィルム"ＴＤ−８０ＵＦ" ｛富士写真フィルム（株）製｝を同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
【０３９０】
〔画像表示装置の評価〕
このようにして作製した本発明の各偏光板をＴＮ，ＳＴＮ，ＩＰＳ，ＶＡ，ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置に装着し手その評価を行ったところ、これらの液晶表示装置は、何れも反射防止性能に優れ、極めて視認性が優れていた。
【０３９１】
実施例４
〔偏光板の作製〕
光学補償フィルム「ワイドビューフィルム  Ａ  １２Ｂ」｛富士写真フィルム（株）製｝の、光学補償層を有する側とは反対側の表面を実施例３と同様の条件で鹸化処理した。
【０３９２】
次ぎに、実施例３で作製した偏光膜に、接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に、実施例３で作製した各反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には鹸化処理した光学補償フィルムのトリアセチルセルロース面を同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
【０３９３】
〔画像表示装置の評価〕
このようにして作製した本発明の各偏光板をＴＮ，ＳＴＮ，ＩＰＳ，ＶＡ，ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置に装着してその評価を行ったところ、これらの液晶表示装置は、光学補償フィルムを用いていない、前記の偏光板を装着した液晶表示装置よりも、何れも明室でのコントラストに優れ、上下左右の視野角が非常に広く、更に、反射防止性能に優れ、極めて視認性と表示品位が優れていた。
【０３９４】
以上、本明細書中に詳記したように、本発明に従う反射防止膜をセルロースアシレートなどの透明支持体上に形成することにより、白味がなくクリア感に優れた反射防止フィルムを、安価で大量に提供することができる。
更に、これらにより上記の優れた特徴を保持した偏光板、画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０３９５】
【図１】図１は、本発明の多層反射防止フィルムを、表面保護フィルムとして偏光板の片側に用いたときの層構造を模式的に示す断面図である。
【０３９６】
【図２】図２は、本発明の反射防止フィルムの複数の光学薄膜を、１回の支持体フィルムの送り出し、各々の該光学薄膜の形成及びフィルムの巻取りからなる工程で形成するため使用される装置構成の一例である。
【符号の説明】
【０３９７】
１：透明支持体。
２：ハードコート層。
３：中屈折率層。
４：高屈折率層。
５：低屈折率層（最外層）。
１０：反射防止膜。
１１：反射防止フィルム。
６：接着剤層。
７：偏光膜。
８：反対側の表面保護フィルム。
９：粘着剤層。
【０３９８】
１０１：ロールフィルムの送り出し。
１０２：第一の塗布ステーション。
１０３：第一の乾燥ゾーン。
１０４：第一のＵＶ照射機。
１０５：第二の塗布ステーション。
１０６：第二の乾燥ゾーン。
１０７：第二のＵＶ照射機。
１０８：第三の塗布ステーション。
１０９：第三の乾燥ゾーン。
１１０：第三のＵＶ照射機。
１１１：後乾燥ゾーン。
１１２：ロールフィルムの巻取り。
【図１】
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【図２】
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