(57)【要約】【課題】  画像表示装置の視野角の拡大及びカラー表示での色味変化に寄与する、レターデーション値の波長分散の小さい新規な光学補償シートを提供する。【解決手段】  円盤状液晶性化合物と、下記一般式（II）又は（III）から選ばれる水素結合性基を有する少なくとも二種類の化合物とを含む光学異方性層を有する光学補償シートである。式（II）中、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ置換基を表し、同じでも異なっていてもよい。式（III）中、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしくは無置換の複素環基を表し、Ｔは単結合又は２価の連結基を表わし、ｐは１〜１０の整数を表し、Ｊは−ＣＯＯＭ又は−ＳＯ3Ｍを表し、ＭはＨ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫを表す。【化１】2006091509.tif 000041【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
円盤状液晶性化合物と、下記一般式（II）又は（III）から選ばれる水素結合性基を有する少なくとも二種類の化合物とを含む光学異方性層を有する光学補償シート。
【化１】
2006091509.tif 000037
（式（II）中、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ置換基を表し、同じでも異なっていてもよい。）
一般式（III）
Ａｒ（−Ｔ−Ｊ）p
（式（III）中、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしくは無置換の複素環基を表し、Ｔは単結合又は２価の連結基を表わし、ｐは１〜１０の整数を表し、Ｊは−ＣＯＯＭ又は−ＳＯ3Ｍを表し、ＭはＨ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫを表す。）
【請求項２】
前記円盤状液晶性化合物がハイブリッド配向状態に固定されている請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項３】
前記円盤状液晶性化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である請求項１又は２に記載の光学補償シート。
【化２】
2006091509.tif 000038
（式（Ｉ）中、Ｄは円盤状コアを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基又は炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。）
【請求項４】
前記Ｄがトリフェニレンを表し、Ｒ4が炭素原子数が２〜３０の置換のアリール基を表し、且つ、該置換基の末端にエポキシ基又はエチレン性不飽和基を有する請求項３に記載の光学補償シート。
【請求項５】
前記水素結合性基を有する化合物の一種が、前記一般式（II）で表される化合物で、且つ他の一種が前記一般式（III）で表される化合物である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項６】
円盤状液晶性化合物を、水素結合性基を有する少なくとも二種類の化合物の存在下、ハイブリッド配向させることを特徴とする光学異方性層の製造方法。
【請求項７】
前記液晶性化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される請求項６に記載の光学異方性層の製造方法。
【化３】
2006091509.tif 000039
（式（Ｉ）中、Ｄは円盤状コアを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基又は炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。）
【請求項８】
前記Ｄがトリフェニレンを表し、Ｒ4が炭素原子数が２〜３０の置換のアリール基を表し、且つ、該置換基の末端にエポキシ基又はエチレン性不飽和基を有する請求項７に記載の光学異方性層の製造方法。
【請求項９】
前記水素結合性基を有する化合物が、下記一般式（II）又は（III）から選ばれる請求項６〜８のいずれか１項に記載の光学異方性層の製造方法。
【化４】
2006091509.tif 000040
（式（II）中、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ置換基を表し、同じでも異なっていてもよい。）
一般式（III）
Ａｒ（−Ｔ−Ｊ）p
（式（III）中、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしくは無置換の複素環基を表し、Ｔは単結合又は２価の連結基を表わし、ｐは１〜１０の整数を表し、Ｊは−ＣＯＯＭ又は−ＳＯ3Ｍを表し、ＭはＨ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫを表す。）
【請求項１０】
前記水素結合性基を有する化合物の一種が、前記一般式（II）で表される化合物で、且つ他の一種が前記一般式（III）で表される化合物である請求項６〜９のいずれか１項に記載の光学異方性層の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な光学補償シート、及び光学補償シートの製造に適用可能な光学異方性層の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。従来、光学補償シートとしては、延伸複屈折フイルムが使用されている。また、近年、延伸複屈折フイルムに代えて、透明支持体上に円盤状液晶化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。この光学異方性層は、通常、円盤状液晶化合物を含む円盤状液晶組成物を配向膜の上に塗布し、配向温度よりも高い温度で加熱して円盤状液晶化合物を配向させ、その配向状態を固定することにより形成される。一般に、円盤状液晶化合物は、大きな複屈折率を有するとともに、多様な配向形態がある。円盤状液晶化合物を用いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。
【０００３】
一方、円盤状液晶化合物には、多様な配向形態があるため、所望の光学特性を発現させるためには、光学異方性層における円盤状液晶化合物の配向を制御する必要がある。例えば、（特許文献１）には、円盤状液晶化合物に、セルロース低級脂肪酸エステル、含フッ素界面活性剤又は１，３，５−トリアジン環を有する化合物を添加することにより、円盤状液晶化合物を平均傾斜角が５度未満の水平状態に配向制御可能であることが記載されている。また、（特許文献２）には、疎水性排除体積効果化合物を光学異方性層に併用して、液晶化合物の配向を制御する技術が報告されている。しかし、液晶化合物のハイブリッド配向を効果的に促進する化合物の効果及びその使用法については、言及されていない。
【０００４】
液晶化合物の配向を制御する他の方法として、配向膜（界面処理）を用いる方法が知られている。しかし配向膜の規制力だけでは、液晶性化合物を配向膜界面から空気界面まで均一に配向（モノドメイン配向）させることが難しく、シュリーレンなどの欠陥が残りやすい。特に、生産性を向上させるために熟成時間を短くすると、シュリーレン欠陥の発生が顕著になる。光学異方性層にシュリーレン欠陥が生じると光散乱が起こり、光学特性を損なうという問題がある。
【０００５】
また、光学補償シートを液晶表示装置に用いた場合のカラー表示での色味変化は、光学補償シートのレターデーション値（Δｎｄ）の波長分散により大きく変化する。この光学的性質である波長分散は、円盤状液晶化合物の分子構造に依存している。例えば（特許文献３）には大きな屈折率異方性を有する円盤状液晶が開示されているが、波長分散特性が悪化しており、即ち波長分散性が大きくなり）、性能改良は不十分であった。
【特許文献１】特開平１１−３５２３２８号公報
【特許文献２】特開２００２−２０３６３号公報
【特許文献３】特開２００１−１６６１４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、シュリーレン欠陥などの欠陥の少ないハイブリッド配向の光学異方性層を、迅速に製造可能な光学異方性層の製造方法を提供することを課題とする。また、本発明は、画像表示装置に適用した場合に、画像表示装置の視野角の拡大及びカラー表示での色味変化に寄与する、レターデーション値（Δｎｄ）の波長分散の小さい新規な光学補償シートを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
（１）  円盤状液晶性化合物と、下記一般式（II）又は（III）から選ばれる水素結合性基を有する少なくとも二種類の化合物とを含む光学異方性層を有する光学補償シート。
【０００８】
【化１】
2006091509.tif 000002
（式（II）中、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ置換基を表し、同じでも異なっていてもよい。）
一般式（III）
Ａｒ（−Ｔ−Ｊ）p
（式（III）中、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしくは無置換の複素環基を表し、Ｔは単結合又は２価の連結基を表わし、ｐは１〜１０の整数を表し、Ｊは−ＣＯＯＭ又は−ＳＯ3Ｍを表し、ＭはＨ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫを表す。）
【０００９】
（２）前記円盤状液晶性化合物がハイブリッド配向状態に固定されている（１）の光学補償シート。
（３）前記円盤状液晶性化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である（１）又は（２）の光学補償シート。
【００１０】
【化２】
2006091509.tif 000003
（式（Ｉ）中、Ｄは円盤状コアを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基又は炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。）
【００１１】
（４）前記Ｄがトリフェニレンを表し、Ｒ4が炭素原子数が２〜３０の置換のアリール基を表し、且つ、該置換基の末端にエポキシ基又はエチレン性不飽和基を有する（３）の光学補償シート。
（５）前記水素結合性基を有する化合物の一種が、前記一般式（II）で表される化合物で、且つ他の一種が前記一般式（III）で表される化合物である（１）〜（４）のいずれかの光学補償シート。
（６）円盤状液晶性化合物を、水素結合性基を有する少なくとも二種類の化合物の存在下、ハイブリッド配向させることを特徴とする光学異方性層の製造方法。
（７）前記液晶性化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される（６）の光学異方性層の製造方法。
【００１２】
【化３】
2006091509.tif 000004
（式（Ｉ）中、Ｄは円盤状コアを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基又は炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。）
【００１３】
（８）前記Ｄがトリフェニレンを表し、Ｒ4が炭素原子数が２〜３０の置換のアリール基を表し、且つ、該置換基の末端にエポキシ基又はエチレン性不飽和基を有する（７）の光学異方性層の製造方法。
（９）前記水素結合性基を有する化合物が、下記一般式（II）又は（III）から選ばれる（６）〜（８）のいずれかの光学異方性層の製造方法。
【００１４】
【化４】
2006091509.tif 000005
（式（II）中、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ置換基を表し、同じでも異なっていてもよい。）
一般式（III）
Ａｒ（−Ｔ−Ｊ）p
（式（III）中、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしくは無置換の複素環基を表し、Ｔは単結合又は２価の連結基を表わし、ｐは１〜１０の整数を表し、Ｊは−ＣＯＯＭ又は−ＳＯ3Ｍを表し、ＭはＨ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫを表す。）
（１０）前記水素結合性基を有する化合物の一種が、前記一般式（II）で表される化合物で、且つ他の一種が前記一般式（III）で表される化合物である（６）〜（９）のいずれかの光学異方性層の製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、シュリーレン欠陥などの欠陥の少ないハイブリッド配向の光学異方性層を迅速に製造可能である。本発明の方法により製造された光学異方性層、特に一般式（I）で表される円盤状化合物を用いて形成された光学異方性層は、レターデーション値の波長分散の小さい。該光学異方性層を有する本発明の光学補償シートは、画像表示装置に適用した場合に、画像表示装置の視野角の拡大及びカラー表示での色味変化に寄与し得る。
【発明の実施の形態】
【００１６】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、円盤状液晶性化合物と、後述する一般式（II）又は（III）から選ばれる水素結合性基を有する少なくとも二種類の化合物とを含む光学異方性層を有する光学補償シートに関する。本発明の光学補償シートは、本発明の光学異方性層の製造方法を利用して製造されるのが好ましい。本発明の光学補償シートの好ましい態様は、ハイブリッド配向状態に固定された円盤状液晶性化合物と、後述する一般式（II）又は（III）から選ばれる水素結合性基を有する少なくとも二種類の化合物とを含有する光学異方性層を有する光学補償シートである。なお、本明細書において、「液晶性化合物を含有する光学異方性層」には、該化合物間又は該化合物と他の化合物間で結合を形成し、多量化した後の該化合物を含有する光学異方性層の態様も含まれる。
まず、本発明の光学補償シートの作製に利用可能な、本発明の製造方法について説明する。
［光学異方性層及びその製造方法］
本発明の光学異方性層の製造方法は、液晶性化合物をハイブリッド配向してなる光学異方性層の製造方法である。本発明の光学異方性層の製造方法は、水素結合性基を有する少なくとも二種の化合物の存在下で、ハイブリッド配向させることを特徴とする。本発明では、水素結合性基を有する少なくとも二種の化合物の存在下で、液晶性化合物を一旦水平配向させた後、温度を上昇させてハイブリッド配向へ転移させることによって、シュリーレン欠陥などの欠陥の発生を抑制しつつ、ハイブリッド配向の光学異方性層の迅速な製造を可能にしている。
【００１７】
なお、「ハイブリッド配向」とは液晶性化合物の長軸方向（例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合はコアの円盤面）と液晶層の水平面（例えば液晶層が支持体上に形成されている場合は支持体の表面）とのなす角度（以下、「傾斜角」という）が、液晶層の厚さ方向に変化する配向をいう。本明細書では、傾斜角の変化の態様には、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化などいずれも含まれるものとする。また、「水平配向」とは、液晶性化合物の長軸方向（例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合はコアの円盤面）と液晶層の水平面（例えば液晶層が支持体上に形成されている場合は支持体の表面）が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、液晶性化合物の長軸方向と水平面のなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。前記第一の配向工程において、液晶性化合物が水平配向した際の傾斜角は５度以下が好ましく、３度以下がより好ましく、２度以下がさらに好ましく、１度以下が最も好ましい。前記傾斜角は０度であってもよい。
【００１８】
本発明の光学異方性層の製造方法の好ましい態様は、水素結合性基を有する少なくとも二種の化合物の存在下で、前記液晶性化合物を水平配向させる第一の配向工程と、前記第一の配向工程の後、前記液晶性化合物をハイブリッド配向させる第二の配向工程と、ハイブリッド配向した前記液晶性化合物をその配向状態に固定する固定化工程を含む光学異方性層の製造方法である。
【００１９】
前記第一の配向工程では、例えば、ディスコティック液晶、水素結合性基を有する異なる二種の化合物、及び適宜光学異方性層の形成に必要な化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布した後、乾燥し、水平配向状態をとる温度まで昇温する（第一の配向工程）。その後、ハイブリッド配向状態をとる温度まで昇温して、前記ディスコティック液晶をハイブリッド配向に転移させ
る（第二の配向工程）。最後に、ＵＶ光の照射等により重合し配向状態を固定化する（固定化工程）。この製造方法によれば、ディスコティック液晶がハイブリッド配向してなる光学異方性層をシュリーレン欠陥の発生を抑制しつつ、迅速に製造できる。
【００２０】
本発明における製造方法では、液晶性化合物の配向過程における温度制御が重要である。水平配向状態を呈する温度としては、５０〜２００℃が好ましく、７０〜２００℃が特に好ましく、９０〜１５０℃が最も好ましいが、液晶性化合物及び後述する添加剤の種類や添加量によって任意に制御することがでる
【００２１】
次に、本発明の光学補償シートの製造に用いられる材料について詳細に説明する。
本発明において、光学異方性層に用いる液晶性化合物は、棒状液晶化合物及び円盤状液晶化合物のいずれであってもよく、また、高分子液晶及び低分子液晶のいずれであってもよい。さらに光学異方性層中で、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。本発明に用いられる液晶性化合物としては、円盤状液晶化合物が好ましい。
【００２２】
円盤状液晶化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。さらに、円盤状液晶化合物としては、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造のものも含まれ、液晶性を示す。また、光学異方性層が最終的に形成された際に、液晶性化合物はもはや液晶性化合物である必要はない。例えば、低分子の円盤状液晶化合物が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合又は架橋し、高分子量化して液晶性を失ってもよい。円盤状液晶化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載があり、本発明にも適用することができる。円盤状液晶化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。好ましくは、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
【００２３】
【化５】
2006091509.tif 000006
【００２４】
一般式（Ｉ）において、Ｄは円盤状コアである。円盤状コアは、該円盤状化合物の中心に位置し、その円盤面を構成する。円盤状コアは、円盤状液晶性分子の分子構造において、よく知られている概念である。円盤状液晶（Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４）等に記載されている。
【００２５】
以下に、円盤状コアの例を示す。各化合物中のＹは下記一般式（IV）を意味する。下記一般式（IV）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、前記一般式（Ｉ）のものと同義である。
【００２６】
【化６】
2006091509.tif 000007
【００２７】
【化７】
2006091509.tif 000008
【００２８】
【化８】
2006091509.tif 000009
【００２９】
円盤状コア（Ｄ）は、トリフェニレン（Ｚ４）であることが特に好ましい。
円盤状コア（Ｄ）は、Ｙ（前記一般式（IV））以外の置換基を有していてもよい。円盤状コアが有していてもよい置換基の例は、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、メルカプト基、ウレイド基、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基、複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、置換アミノ基、アミド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、置換アリールオキシカルボニルアミノ基、置換カルバモイル基、スルホンアミド基、置換スルファモイル基、アルキルチオ基、置換アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アリールチオ基、アルキルスルホニル基、置換アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、置換アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、置換アリールスルフィニル基、置換ウレイド基、リン酸アミド基、置換シリル基、アルコキシカルボニルオキシ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基ならびに置換アリールオキシカルボニルオキシ基を含む。
【００３０】
アルキル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキル基の置換基の例は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基が除外される以外は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３１】
アルケニル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルケニル基の炭素原子数は２〜３０であることが好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分は、アルケニル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルケニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。アルキニル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキニル基の炭素原子数は２〜３０であることが好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分は、アルキニル基と同様である。置換アルキニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３２】
アリール基の炭素原子数は、６〜３０であることが好ましい。置換アリール基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリール基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３３】
複素環基は、５員又は６員の複素環を有することが好ましい。複素環に、他の複素環、脂肪族環又は芳香族環が縮合していてもよい。複素環の複素原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子であることが好ましい。複素環基は置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３４】
アルコキシ基及び置換アルコキシ基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルコキシ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。アリールオキシ基及び置換アリールオキシ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３５】
アシル基はホルミル又は−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
アシルオキシ基はホルミルオキシ又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００３６】
アルコキシカルボニル基及び置換アルコキシカルボニル基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシカルボニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アリールオキシカルボニル基及び置換アリールオキシカルボニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３７】
置換アミノ基は、−ＮＨ−Ｒ又は−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
アミド基は、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
イミド基は、−Ｎ（−ＣＯ−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００３８】
アルコキシカルボニルアミノ基及び置換アルコキシカルボニルアミノ基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルコキシカルボニルアミノ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールオキシカルボニルアミノ基及び置換アリールオキシカルボニルアミノ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニルアミノ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同様である。
【００３９】
置換カルバモイル基は、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ又は−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
スルホンアミド基は、−ＮＨ−ＳＯ2−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。置換スルファモイル基は、−ＳＯ２−ＮＨ−Ｒ又は−ＳＯ2−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００４０】
アルキルチオ基及び置換アルキルチオ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルキルチオ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールチオ基及び置換アリールチオ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールチオ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルホニル基及び置換アルキルスルホニル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルホニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００４１】
アリールスルホニル基及び置換アリールスルホニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールスルホニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルフィニル基及び置換アルキルスルフィニル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルフィニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルフィニル基及び置換アルキルスルフィニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルフィニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００４２】
置換ウレイド基は、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
リン酸アミド基は、−ＮＨ−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）−Ｏ−Ｒ又は−ＮＨ−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
置換シリル基は、−ＳｉＨ2−Ｒ、−ＳｉＨ（−Ｒ）2又は−Ｓｉ（−Ｒ）3で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００４３】
アルコキシカルボニルオキシ基及び置換アルコキシカルボニルオキシ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシカルボニルオキシ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アリールオキシカルボニルオキシ基及び置換アリールオキシカルボニルオキシ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニルオキシ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００４４】
一般式（Ｉ）において、ｎ１は３〜２０の整数であって、３〜１５の整数であることが好ましく、３〜１２の整数であることがより好ましく、３〜１０の整数であることがさらに好ましく、４〜８の整数であることがさらにまた好ましく、６であることが最も好ましい。
【００４５】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は水素原子又は置換基を表し、これらの例は円盤状コアの置換基の例と同様なものが挙げられる。また、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5のいずれか二つが結合して環を形成していてもよく、例えば、脂肪族又は芳香族環があげられる。好ましくはＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、シアノ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子である。
【００４６】
カルボニルオキシ基に対し、Ｒ2及びＲ3、Ｒ4及びＲ5は、シス・トランスの位置関係が存在する。シスとはシクロプロパン環面に対してカルボニルオキシ基と同方向に置換基が存在する状態であり、トランスとはシクロプロパン環面に対してカルボニルオキシ基と逆方向に置換基が存在する状態である。この位置関係は指定のない限り特には制限しない。
【００４７】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の置換基の組み合わせにより、エナンチオマー及びジアステレオマー立体異性体が存在するが、これらは指定のない限り特には制限しない。
【００４８】
一般式（Ｉ）は、好ましくは下記一般式（Ｖ）で表される。
【００４９】
【化９】
2006091509.tif 000010
【００５０】
一般式（Ｖ）において、Ｄはトリフェニレンコアである。ｎ１は３〜２０の整数を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、それぞれ、水素原子又は置換基をあらわし、互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｄ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、一般式（Ｉ）で定義したＤ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5と同様であり、好ましい範囲も同義である。
【００５１】
一般式（Ｖ）において、Ｌは酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、及びそれらの組み合わせから選ばれる２価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、アルキレン基と同様である。置換アルキレン基の置換基の例は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基が除外される以外は、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例と同様である。
アリーレン基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましい。アリーレン基は、フェニレン、ビフェニレン又はナフチレンであることが好ましく、ｐ−フェニレン、ｐ−ビフェニレン又はｐ−ナフチレンであることが最も好ましい。
置換アリーレン基のアリーレン部分は、アリーレン基と同様である。置換アリーレン基の置換基の例は、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例と同様である。
【００５２】
一般式（Ｖ）において、Ｑは重合性基である。重合性基は、エポキシ基又はエチレン性不飽和基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和基（例、ビニル、１−プロペニル、イソプロペニル）であることが最も好ましい。
【００５３】
以下に、一般式（Ｉ）で表される円盤状化合物の例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されるものではない。なお、それぞれの例示化合物を表すとき、該例示化合物の横に記載されている数値（ｘ）をもって、例示化合物（ｘ）と示す。
【００５４】
【化１０】
2006091509.tif 000011
【００５５】
【化１１】
2006091509.tif 000012
【００５６】
【化１２】
2006091509.tif 000013
【００５７】
【化１３】
2006091509.tif 000014
【００５８】
【化１４】
2006091509.tif 000015
【００５９】
【化１５】
2006091509.tif 000016
【００６０】
本発明では、液晶性化合物とともに水素結合性基を有する化合物を少なくとも二種類用いる。水素結合は、電気的に陰性な原子（例えば、Ｏ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ）と、同じように電気的に陰性な原子に共有結合した水素原子間に存在する。水素結合の理論的な解釈としては、例えば、Ｈ．Ｕｎｅｙａｍａ  ａｎｄ  Ｋ．Ｍｏｒｏｋｕｍａ、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ、第９９巻、第１３１６〜１３３２頁、１９７７年に報告がある。具体的な水素結合の様式としては、例えば、Ｊ．Ｎ．イスラエスアチヴィリ著、近藤保、大島広行訳、分子間力と表面力、マグロウヒル社、１９９１年の第９８頁、図１７に記載の様式が挙げられる。具体的な水素結合の例としては、例えば、Ｇ．Ｒ．Ｄｅｓｉｒａｊｕ、Ａｎｇｅｗａｎｔｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｅｄｉｔｉｏｎ  Ｅｎｇｌｉｓｈ、第３４巻、第２３１１頁、１９９５年に記載のものが挙げられる。水素結合性基を有する二種の化合物は、前記第一の配向工程において、水素結合により錯体構造を形成することによって、液晶性化合物の水平配向を促進する機能を有するとともに、前記第二の配向工程において加熱の際に与えられる熱エネルギーで水素結合を開裂することによって、液晶性化合物の配向状態を水平配向状態からハイブリッド配向状態に転移させる機能を有するものと推測される。また、これらの水素結合性基を有する化合物を添加することによって、液晶層と支持体の濡れ性が改善される（ハジキが防止できる）などの効果も得られる。
【００６１】
従って、前記水素結合性基を有する二種類の化合物は、構造が異なる二種の化合物であることが好ましく、この二種で水素結合して錯体構造を形成し、前記機能を発現するものが好ましい。好ましい水素結合性基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、酸アミド基、ウレイド基、アシル基、カルバモイル基、カルボキシル基、スルホ基、含窒素複素環基（例えば、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、１，３，５−トリアジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、キノリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、コハクイミド基、フタルイミド基、マレイミド基、ウラシル基、チオウラシル基、バルビツール酸基、ヒダントイン基、マレイン酸ヒドラジド基、イサチン基、ウラミル基などが挙げられる）を挙げることができる。更に好ましい水素結合性基としては、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、酸アミド基、ウレイド基、アシル基、カルバモイル基、カルボキシル基、ピリジル基、１，３，５−トリアジル基、ピリミジル基、フタルイミド基、マレイミド基、ウラシル基、バルビツール酸基を挙げることができる。
【００６２】
本発明において、前記水素結合性基を有する化合物としては、下記一般式（II）又は（III）で表される化合物が特に好ましい。
【００６３】
【化１６】
2006091509.tif 000017
【００６４】
一般式（II）において、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ置換基を表し、同じでも異なっていてもよい。
【００６５】
置換基の例としては、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例が挙げられるが、好ましくは塩素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基、複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、置換アミノ基、アミド基、アルキルチオ基、置換アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アリールチオ基であり、さらに好ましくは塩素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、置換アミノ基、アルキルチオ基、置換アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アリールチオ基である。
【００６６】
以下に、一般式（II）で表される水素結合性基を有する化合物の例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されるものではない。なお、それぞれの例示化合物を表すとき、該例示化合物の横に記載されている数値（II−ｘ）をもって、例示化合物（II−ｘ）と示す。
【００６７】
【化１７】
2006091509.tif 000018
【００６８】
【化１８】
2006091509.tif 000019
【００６９】
【化１９】
2006091509.tif 000020
【００７０】
【化２０】
2006091509.tif 000021
【００７１】
【化２１】
2006091509.tif 000022
【００７２】
【化２２】
2006091509.tif 000023
【００７３】
【化２３】
2006091509.tif 000024
【００７４】
【化２４】
2006091509.tif 000025
【００７５】
【化２５】
2006091509.tif 000026
【００７６】
【化２６】
2006091509.tif 000027
【００７７】
【化２７】
2006091509.tif 000028
【００７８】
【化２８】
2006091509.tif 000029
【００７９】
なお、前記一般式（II）で表される１，３，５−トリアジン環を有する化合物は、特開２００２−２０３６３号公報に記載の方法によって容易に合成することができる。
【００８０】
次に、前記一般式（III）で表される化合物について詳細に説明する。
一般式（III）
Ａｒ（−Ｔ−Ｊ）p
（式（III）中、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしくは無置換の複素環基を表し、Ｔは単結合又は２価の連結基を表わす。ｐは１〜１０の整数を表す。Ｊは−ＣＯＯＭ又は−ＳＯ3Ｍを表し、ＭはＨ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫを表す。
【００８１】
式（III）中、Ａｒで表される置換もしくは無置換のアリール基は、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、ベンゼン環又はナフタレン環が最も好ましい。Ａｒで表される置換もしくは無置換の複素環基は、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２の芳香族ヘテロ環であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、ピリジン環、ピリミジン環又は１，３，５−トリアジン環が最も好ましい。Ａｒは、芳香族炭化水素環が好ましい。
【００８２】
Ａｒで表される置換もしくは無置換のアリール基又は置換もしくは無置換の複素環基の有しても良い置換基としては、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例が挙げられる。好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基であり、特に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基である。
【００８３】
Ｔは単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基の例としては、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルケニレン基、置換もしくは無置換の基置換もしくは無置換のアリーレン基、及びそれらの組み合わせから選ばれる。
【００８４】
アルキレン基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましい。置換アルキレン基のアルキレン部分は、アルキレン基と同様である。置換アルキレン基の置換基の例は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基が除外される以外は、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例と同様である。アリーレン基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましい。アリーレン基は、フェニレン、ビフェニレン又はナフチレンであることが好ましく、ｐ−フェニレン、ｐ−ビフェニレン又はｐ−ナフチレンであることが最も好ましい。置換アリーレン基のアリーレン部分は、アリーレン基と同様である。置換アリーレン基の置換基の例は、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例と同様である。
【００８５】
Ｔは、好ましくは単結合である。また、ｐは１が好ましい。
【００８６】
なお、本発明に用いられる水素結合性基を有する化合物は、液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【００８７】
ＭはＨ、Ｌｉ、Ｎａ又はＫを表す。複数のＭが存在する場合は、それぞれ同じでも異なっていてもよい。
【００８８】
以下に、前記一般式（III）で表される水素結合性基を有する化合物の例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されるものではない。なお、それぞれの例示化合物を表すとき、該例示化合物の横に記載されている数値（III−ｘ）をもって、例示化合物（III−ｘ）と示す。なお、金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）の具体例は下記例示化合物のＨをそれぞれ置き換えたものが挙げられる。
【００８９】
【化２９】
2006091509.tif 000030
【００９０】
【化３０】
2006091509.tif 000031
【００９１】
【化３１】
2006091509.tif 000032
【００９２】
【化３２】
2006091509.tif 000033
【００９３】
本発明では、前述した様に、水素結合により錯体を形成可能な組み合わせで、前記水素結合性基を有する二種の化合物を選択するのが好ましい。前記一般式（II）及び（III）で表される化合物をそれぞれ少なくとも一種組み合わせて使用するのが好ましい。
【００９４】
本発明において、各々の水素結合性基を有する化合物の添加量としては、液晶性化合物（好ましくは円盤状液晶化合物）の量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％がさらに好ましい。
【００９５】
また、光学異方性層が最終的に形成された際に、液晶性化合物はもはや液晶性化合物である必要はない。円盤状液晶化合物の重合については、特開平８２７２８４号公報に記載があり、本発明にも適用することができる。
【００９６】
円盤状液晶化合物及び水素結合性基を有する化合物とともに、ポリマーを使用してもよい。使用するポリマーとしては、円盤状液晶化合物と相溶性を有する限り、どのようなポリマーでも使用することができる。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。円盤状液晶化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、円盤状液晶化合物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００９７】
本発明では、ハイブリッド配向させた液晶性化合物を、配向状態を維持して固定して光学異方性層を形成する。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号明細書、米国特許２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号明細書、米国特許２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書）、アクリジン及びフェナジン化合物（米国特許３５４９３６７号明細書、米国特許４２３９８５０号明細書）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書）が含まれる。
【００９８】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００９９】
本発明では、液晶性化合物、二種の水素結合性基を有する化合物、及び所望により他の添加剤を溶媒に溶解し塗布液を調製する。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。中でも、アルキルハライド及びケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０１００】
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【０１０１】
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
【０１０２】
本発明では、光学異方性層の形成のために配向膜を利用してもよい。配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。ポリビニルアルコールが、好ましいポリマーであり、疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向膜についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。
【０１０３】
本発明の光学補償シートの一実施形態は、透明支持体上に、円盤状液晶性化合物を、水素結合性基を有する少なくとも二種類の化合物の存在下でハイブリッド配向させ、該配向状態に固定してなる光学異方性層を有する光学補償シートである。前記光学異方性層と透明支持体との間に、配向膜を設けることが好ましい。配向膜上で光学異方性層を形成した後、前記光学異方性層を偏光膜などに転写して本発明の光学補償シートを作製することも可能である。さらに、透明支持体の光学異方性層とは反対の面にマット層（バック層）を設けてもよく、また、前記光学異方性層の上方に保護層を設けてもよい。
【０１０４】
本発明に使用可能な透明支持体は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。材料については特に制限されないが、ポリマーフイルムが特に好ましい。前記ポリマーフイルムの具体例には、セルロースエステル（例、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタクリレートのフイルムが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン、ゼオネックス）を用いてもよい。このうちセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。脂肪酸の炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）又は４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであってもＷＯ００／２６７０５号明細書に記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。
【０１０５】
ポリマーフイルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【０１０６】
セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％以上４０％以下でアシル基で置換されていることが好ましく、さらには３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基（例、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ベンゾイル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求める事ができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、そして段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【０１０７】
透明支持体として用いるポリマーフイルム、特にセルロースアセテートフイルムのレターデーションを調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することが好ましい。芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。  芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【０１０８】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好しい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環及び１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。
芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。
【０１０９】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。
二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合及び（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１、ＷＯ００／２６１９Ａ１、特開２０００−１１１９１４号公報、特開２０００−２７５４３４号公報、特願２００２−７０００９号明細書に記載されている。
【０１１０】
セルロースアセテートフイルムは、調製されたセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりを製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。
ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号明細書、米国特許２３６７６０３号明細書、米国特許２４９２０７８号明細書、米国特許２４９２９７７号明細書、米国特許２４９２９７８号明細書、米国特許２６０７７０４号明細書、米国特許２７３９０６９号明細書、米国特許２７３９０７０号明細書、英国特許６４０７３１号明細書、米国特許７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号明細書、特公昭４９−５６１４号明細書、特開昭６０−１７６８３４号明細書、特開昭６０−２０３４３０号明細書、特開昭６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラム又はバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１１１】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）を用いて、ドープを２層以上流延することによりフイルム化することもできる。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
複数のセルロースアセテート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフイルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによりフイルム化してもよい。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号に記載の、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、高粘度及び低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフイルムの流延方法を用いてもよい。
【０１１２】
セルロースアセテートフイルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明のセルロースアセテートフイルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。
【０１１３】
セルロースエステルフイルムには、機械的物性を改良するため、又は乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステル又はカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）及びトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰ及びＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【０１１４】
セルロースエステルフイルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、特開平５−１９０７０７３号、特開平５−１９４７８９号、特開平５−２７１４７１号、特開平６−１０７８５４号に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。
特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。
【０１１５】
セルロースアセテートフイルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
フイルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフイルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【０１１６】
セルロースアセテートフイルムの表面処理は、偏光膜との接着性の観点から、酸処理又はアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
アルカリ鹸化処理は、フイルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０ｍｏｌ／ｌの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０ｍｏｌ／ｌの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１１７】
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアセテートフイルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアセテートフイルムに滴下し、液滴の表面とフイルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフイルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフイルムの表面エネルギーを算出できる。
【０１１８】
セルロースアセテートフイルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常５〜５００μｍの範囲であり、さらに２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１８０μｍの範囲が最も好ましい。なお、光学用途としては３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。
【０１１９】
本発明では、ポリマー基材のＲｅレターデーション値を２０〜７０ｎｍの範囲に調節することが好ましい。
【０１２０】
本発明の光学補償シートは、偏光膜と組合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型液晶表示装置に、偏光膜と組合わせて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。
【０１２１】
以下に、本発明の光学補償シートを利用した楕円偏光板及び液晶表示装置について説明する。
［楕円偏光板］
本発明の光学補償シートと偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。
前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【０１２２】
偏光膜は前記光学補償シートの光学異方性層側に積層する。偏光膜の光学補償シートを積層した側と反対側の面に透明保護膜を形成することが好ましい。透明保護膜は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフイルム、好ましくはトリアセチルセルロースフイルムが用いられる。セルロースエステルフイルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【０１２３】
［液晶表示装置］
本発明の光学補償シートを利用するにより、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９号、米国特許５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号に記載がある。また、ＩＰＳモード又はＦＬＣモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモード又はＨＡＮモードの液晶セル用光学補償シートは、米国特許５８０５２５３号明細書及び国際公開ＷＯ９６／３７８０４号公報に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用光学補償シートは、特許番号第２８６６３７２号公報に記載がある。
【０１２４】
本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用光学補償シートを作製することができる。本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードなど、種々のモードで駆動される液晶セルと組合わせて液晶表示装置に適用できる。本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）の液晶表示装置において特に効果がある。
【実施例】
【０１２５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作などは本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
［実施例１］
厚さ１００μｍ、サイズ２７０ｍｍ×１００ｍｍのトリアセチルセルロースフイルム（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を透明支持体として用いた。
透明支持体上にアルキル変性ポリビニルアルコール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）を０．５μｍの厚さに塗布、乾燥し、その表面をラビング処理して、配向膜を形成した。配向膜の上に、以下の組成の塗布液をバーコーターを用いて塗布した。
【０１２６】
───────────────────────────────────
光学異方性層塗布液
───────────────────────────────────
例示化合物（４）                                        １００質量部
例示化合物（II−７２）                                ０．１０質量部
例示化合物（III−２８）                               ０．０５質量部
光重合開始剤
（イルガキュア１８４、日本チバガイギー（株）製）        ３．３０質量部
メチルエチルケトン                                      ３００質量部
───────────────────────────────────
【０１２７】
次に、上記塗布層を約１０秒間で７０℃まで加熱した。次いで約１分間で１２０℃まで加熱し、同温度にて更に約３分間熟成した後、降温し、２Ｊ／ｍ2の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。以上の如く光学異方性層を形成し光学補償シートを作製した。
【０１２８】
（光学補償シートの評価）
ＫＯＢＲＡ（王子計測機器）を用いて、測定波長６３２．８ｎｍで、作製した光学補償シートのレターデーションを測定した。結果を第１表に示す。
［実施例２，３］
例示化合物（４）を例示化合物（３）、例示化合物（６）に変更した以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行なった。結果を第１表に示す。
【０１２９】
［比較例１］
例示化合物（II−７２）及び例示化合物（III−２８）の双方を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第１表に示す。
［比較例２］
例示化合物（II−７２）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第１表に示す。
【０１３０】
［比較例３］
例示化合物（III−２８）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、光学補償シートの評価を行った。結果を第１表に示す。
【０１３１】
【表１】
2006091509.tif 000034
【０１３２】
表１に示した結果から、例示化合物（４）、（３）、（６）のようなシクロプロピル基を有する円盤状液晶化合物において、水素結合性基を有する化合物を２種含有しない光学補償シートでは、円盤状液晶化合物の配向速度が遅いため多数のシュリーレン欠陥が存在し、測定不可であった（比較例１、２、３）。一方、水素結合性基を有する化合物を２種含有する光学補償シートでは、配向速度が速くまた好ましいレターデーションが実現できることがわかった。
【０１３３】
［実施例４］
実施例１で作製した光学補償シートをＫＯＢＲＡ（王子計測機器）にて４７７．８ｎｍと７４７．５ｎｍでのレターデーション値を測定し、その比を算出した。結果を第２表に示す。
［実施例５］
実施例２で作製した光学補償シートをＫＯＢＲＡ（王子計測機器）にて４７７．８ｎｍと７４７．５ｎｍでのレターデーション値（Δｎｄ）を測定し、その比を算出した。結果を第２表に示す。
［実施例６］
実施例３で作製した光学補償シートをＫＯＢＲＡ（王子計測機器）にて４７７．８ｎｍと７４７．５ｎｍでのレターデーション値（Δｎｄ）を測定し、その比を算出した。結果を第２表に示す。
【０１３４】
［比較例４］
厚さ１００μｍ、サイズ２７０ｍｍ×１００ｍｍのトリアセチルセルロースフイルム（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を透明支持体として用いた。
透明支持体上にアルキル変性ポリビニルアルコール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）を０．５μｍの厚さに塗布、乾燥し、その表面をラビング処理して、配向膜を形成した。配向膜の上に、以下の組成の塗布液をバーコーターを用いて塗布した。
【０１３５】
───────────────────────────────────
光学異方性層塗布液
───────────────────────────────────
下記の円盤状液晶化合物（Ｚ）                            １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ９．９０質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製          ３．３０質量部
メチルエチルケトン                                      ３００質量部
───────────────────────────────────
【０１３６】
【化３３】
2006091509.tif 000035
【０１３７】
次に、上記塗布層を１２０℃まで加熱し、同温度にて熟成し配向させた後、降温し、２Ｊ／ｍ2の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。以上の如く光学異方性層を形成し光学補償シートを作製した。
【０１３８】
作製した光学補償シートをＫＯＢＲＡ（王子計測機器）にて４７７．８ｎｍと７４７．５ｎｍでのレターデーション値を測定し、その比を算出した。結果を第２表に示す。
【０１３９】
【表２】
2006091509.tif 000036
【０１４０】
第２表より、本発明で作製した光学補償シートの４７７．８ｎｍと７４７．５ｎｍでのレターデーション値の比が小さいことが理解できる。このことは、この光学補償シートを液晶表示装置に用いた場合のカラー表示での色味変化の改良が可能であることを示している。