(57)【要約】【課題】  ＴＦＴ液晶ディスプレイを作製する場合、ＴＦＴ素子の破損を防止しながら、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の貼り合わせ時間を短縮することが可能な無アルカリガラス基板を提供することを目的とする。【解決手段】  本発明の無アルカリガラス基板は、３００ｎｍにおける紫外線透過率が、厚み０．５ｍｍで５０〜８５％となるように、Ｆｅ2Ｏ3とＣｒ2Ｏ3を含有してなることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
３００ｎｍにおける紫外線透過率が、厚み０．５ｍｍで５０〜８５％となるように、Ｆｅ2Ｏ3とＣｒ2Ｏ3を含有してなることを特徴とする無アルカリガラス基板。
【請求項２】
１０００ｎｍにおける赤外線透過率が、厚み１０ｍｍで８０％以上であることを特徴とする請求項１記載の無アルカリガラス基板。
【請求項３】
Ｆｅ2Ｏ3を０．０００４〜０．０３モル％含有することを特徴とする請求項１記載の無アルカリガラス基板。
【請求項４】
Ｃｒ2Ｏ3を０．００００３〜０．０２モル％含有することを特徴とする請求項１記載の無アルカリガラス基板。
【請求項５】
モル％で、ＳｉＯ2  ５０〜８０％、Ａｌ2Ｏ3  ５〜１５％、Ｂ2Ｏ3  ５〜１５％、Ｍ
ｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜１０％の基本組成を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の無アルカリガラス基板。
【請求項６】
モル％で、ＳｉＯ2  ５０〜８０％、Ａｌ2Ｏ3  ５〜１５％、Ｂ2Ｏ3  ５〜１５％、Ｍ
ｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜１０％、Ｆｅ2Ｏ3  ０．０００４〜０．０３％、Ｃｒ2Ｏ3  ０．００００３〜０．０２％を含有することを特徴とする無アルカリガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ等のフラットパネルディスプレイやセンサー等の基板、固体撮像素子のカバーガラスに用いられる無アルカリガラス基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイやセンサー等の基板、固体撮像素子のカバーガラスとして、矩形状の無アルカリガラス基板が広く使用されている。
【０００３】
例えば液晶ディスプレイの一種であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）ディスプレイに用いられるガラス基板としては、無アルカリアルミノホウケイ酸ガラスが使用されている。ＴＦＴ液晶ディスプレイは、技術の進歩が急速であり、ガラス基板に対する要求特性も日増しに厳しくなってきている。このような背景から、各ガラスメーカーにおいてガラス材質の改良が加えられており、これまでに様々な組成を有するガラス基板が提案されている。（例えば特許文献１〜４）
【特許文献１】特許第２９９０３７９号公報
【特許文献２】特許第３４６５２３８号公報
【特許文献３】特開２００２−２９７７５号公報
【特許文献４】特表２００３−５０３３０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ＴＦＴ液晶ディスプレイは、ＴＦＴ素子側のガラス基板（以下、ＴＦＴ基板という）と、カラーフィルター側のガラス基板（以下、ＣＦ基板という）の２枚のガラス基板を使用して作製される。ＴＦＴ液晶ディスプレイパネルの製造工程では、ＴＦＴ基板上に適量の液晶を滴下した後、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の周囲が貼り合わされる。このＴＦＴ基板とＣＦ基板の貼り合わせには、紫外線硬化樹脂が使用され、ガラス基板を通して紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化させることによって２枚の基板を貼り合わせている。
【０００５】
近年、ＴＦＴ液晶ディスプレイは、低コスト化を図るため、生産性を向上することが要求されており、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の貼り合わせ時間を短縮することが望まれている。そのためには、ガラス基板の紫外線透過率を高め、ガラス基板を透過する紫外線の量を多くすることによって、紫外線硬化樹脂に充分な紫外線を照射できるようにすることが必要である。
【０００６】
しかしながら、ＴＦＴ素子は紫外線によって破損しやすく、ガラス基板の紫外線透過率を極端に高くすると、ガラス基板を通して紫外線硬化樹脂に紫外線を照射した時、ＴＦＴ素子が破損する虞がある。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、ＴＦＴ液晶ディスプレイを作製する場合、ＴＦＴ素子の破損を防止しながら、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の貼り合わせ時間を短縮することが可能な無アルカリガラス基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記技術的課題を解決するためになされた本発明の無アルカリガラス基板は、３００ｎｍにおける紫外線透過率が、厚み０．５ｍｍで５０〜８５％となるように、Ｆｅ2Ｏ3とＣｒ2Ｏ3を含有してなることを特徴とする。
【０００９】
また本発明の無アルカリガラスは、モル％で、ＳｉＯ2  ５０〜８０％、Ａｌ2Ｏ3  ５〜１５％、Ｂ2Ｏ3  ５〜１５％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜１０％、Ｆｅ2Ｏ3  ０．０００４〜０．０３％、Ｃｒ2Ｏ3  ０．００００３〜０．０２％を含有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の無アルカリガラス基板は、３００ｎｍにおける紫外線透過率が、厚み０．５ｍｍで５０〜８５％となるように、Ｆｅ2Ｏ3とＣｒ2Ｏ3を含有してなるため、これをＴＦＴ液晶ディスプレイのＴＦＴ基板やＣＦ基板として使用した場合、ＴＦＴ素子の破損を防止しながら、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の貼り合わせ時間を短縮することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の無アルカリガラス基板は、３００ｎｍにおける紫外線透過率が、厚み０．５ｍｍで５０〜８５％となるように、Ｆｅ2Ｏ3とＣｒ2Ｏ3を含有してなる。ＴＦＴ液晶ディスプレイのＴＦＴ基板とＣＦ基板の貼り合わせに用いられる紫外線は、主として３００ｎｍを中心とした波長の紫外線である。ＴＦＴ基板やＣＦ基板の波長３００ｎｍにおける紫外線透過率が低いと、紫外線硬化樹脂によって２枚のガラス基板を貼り合わせるのに長時間を要する。すなわち紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照射しても、ガラス基板に吸収されやすいため、樹脂を硬化させるのに時間がかかる。そのためガラス基板の波長３００ｎｍにおける紫外線透過率は、５０％以上（好ましくは５５％以上、より好ましくは５８％以上、さらに好ましくは６０％以上、最も好ましくは６５％以上）に規制すべきである。ただし、紫外線透過率が高くなりすぎると、紫外線を照射した際に、ＴＦＴ素子が破損する虞がある。そのため紫外線透過率は、８５％以下（好ましくは８０％以下、より好ましくは７５％以下、さらに好ましくは７０％以下）に規制すべきである。
【００１２】
また無アルカリガラスは、アルカリ含有ガラスに比較して溶融し難いガラスであるが、ガラスの赤外線透過率を高くすることによって、溶融性を改善することができる。すなわち溶融炉を用いてガラスを溶融する際、通常はバーナーでガラスを加熱するが、ガラスの赤外線透過率が高いほど、バーナーからの放射熱が溶融ガラス全体に行き渡りやすくなり、ガラスの溶融性が向上する。そのため無アルカリガラスの１０００ｎｍにおける赤外線透過率は、厚み１０ｍｍで８０％以上（好ましくは８２％以上、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは８９％以上）に規制すべきである。尚、通常、ディスプレイに用いられる無アルカリガラス基板の厚みは、０．５〜１．１ｍｍ程度であるが、厚み１０ｍｍの赤外線透過率を測定する場合は、ガラス基板を再溶融（リメルト）し、厚板状に成形した後、厚みが１０ｍｍとなるように両面を鏡面研磨してから赤外線透過率を測定すれば良い。
【００１３】
一般に、安価に大量生産されるガラスには、ガラス原料や製造工程から多量のＦｅ2Ｏ3が混入する。Ｆｅ2Ｏ3は、ガラス中でＦｅ3+又はＦｅ2+の状態で存在し、特にＦｅ3+は、３００ｎｍ付近に吸収ピークを持ち、紫外線や短波長側の可視域における透過率を低下させる。またＦｅ2+は、１０００ｎｍ付近に吸収ピークを持ち、赤外線透過率を低下させる。そのため、ガラス原料や製造工程から混入するＦｅ2Ｏ3の量をできるだけ少なく抑えると、ガラスの紫外線透過率を向上することができる。つまり高純度原料と、不純物が混入し難いように整備された溶融環境を採用し、ガラス中のＦｅ2Ｏ3の含有量を低減すると、紫外域や赤外域の透過率を高くすることは可能である。
【００１４】
しかしながらＦｅ2Ｏ3の含有量が極端に少なくなると、ガラスの紫外線透過率が８５％を超え、紫外線を照射した時にＴＦＴ素子が破損しやすくなるため好ましくない。Ｆｅ2Ｏ3を増加させることによって、ガラスの紫外線透過率を８５％以下に抑えることは可能であるが、Ｆｅ2Ｏ3の含有量が増えると、ガラスの赤外線透過率も低下する。そのためガラスを溶融する際、溶融炉底部付近のガラスにまで熱線が到達し難くなり、溶融性が低下する。ところがＣｒ2Ｏ3は、ガラスの赤外線透過率を維持しながら、紫外線透過率を下げる作用を有しており、Ｃｒ2Ｏ3を添加することによって、ガラスの溶融性を損なうことなく、紫外線透過率が５０〜８５％のガラスを容易に得ることが可能となる。尚、Ｃｒ2Ｏ3は、原料として添加しても良いし、他の原料や製造工程から混入させるようにしても良い。
【００１５】
本発明のような３００ｎｍにおける紫外線透過率が、厚み０．５ｍｍで、５０〜８５％の無アルカリガラス基板を得るために必要なＦｅ2Ｏ3とＣｒ2Ｏ3の量は、ガラスの基本組成によって多少変動するが、Ｆｅ2Ｏ3は、０．０００４〜０．０３モル％（好ましくは０．０００９〜０．０２モル％、０．０００９〜０．０１３モル％、０．００３〜０．００８モル％）が適している。またＣｒ2Ｏ3は、０．００００３モル％以上（好ましくは０．００００５モル％以上、０．０００１モル％以上、０．０００１５モル％以上、０．０００２５モル％以上、０．０００５モル％以上、０．０００５５モル％以上、０．０００７モル％以上）含有させることによって、高い赤外線透過率を維持しながら、紫外線透過率を低下させることが可能であるが、多くなりすぎると、可視光透過率が低下し、ディスプレイ基板として不適となるため、０．０２モル％以下（好ましくは０．０１モル％以下、０．００７モル％以下、０．００５モル％以下、０．００４モル％以下、０．００２５モル％以下、０．００１５モル％以下）が適している。
【００１６】
また本発明において、紫外線透過率を高くするには、Ｆｅ2Ｏ3の含有量を規制すると同時に、清澄剤として使用するＳｎＯとＡｓ2Ｏ3の含有量を規制することが好ましい。すなわちＳｎＯ2を０．０１〜２モル％含有し、Ａｓ2Ｏ3を０〜２モル％含有すると、ガラス中のＦｅの価数が３価（Ｆｅ3+）から２価（Ｆｅ2+）へ変化し、ガラスの紫外線透過率が上昇する。
【００１７】
ガラス中にＳｎＯ2を０．０１〜２モル％含有させると、Ｓｎ2+＋２Ｆｅ3+→Ｓｎ4+＋２Ｆｅ2+の反応が起こり、Ｆｅの価数が変化して、Ｆｅ2+が増加し、Ｆｅ3+が減少すると考えられ、紫外域の透過率が上昇する。ＳｎＯ2の含有量が０．０１モル％より少ないと、価数変化するＦｅの量が少なくなり、紫外域の透過率が低くなるため好ましくない。一方、ＳｎＯ2が２モル％より多いと、ガラス中にＳｎＯ2の結晶が析出しやすくなるため好ましくない。ＳｎＯ2の好ましい範囲は、０．０１〜１モル％（より好ましくは０．０３〜１モル％、さらに好ましくは０．１〜０．５モル％）である。
【００１８】
また従来より清澄剤として広く使用されているＡｓ2Ｏ3は、Ｆｅイオンを酸化し、Ｆｅ3+イオンを増加させる作用を有しており、多量に含有すると、紫外線透過率が低下するため好ましくない。またＡｓ2Ｏ3は、ＳｎＯ2によるＦｅ2+への価数変化を阻害する働きもある。このためＡｓ2Ｏ3の含有量は、０〜２モル％、好ましくは０〜１モル％、より好ましくは０〜０．５モル％、さらに好ましくは０〜０．３モル％に規制すべきであり、できれば使用を避けるべきである。特にＳｎＯ2／（Ａｓ2Ｏ3＋ＳｎＯ2）のモル比を０．２以上（好ましくは０．４以上、より好ましくは０．６以上、さらに好ましくは０．８以上）に規制することによって、ガラスの紫外線透過率をより高くすることができる。
【００１９】
尚、無アルカリガラスの場合、清澄剤として用いられるＡｓ2Ｏ3の含有量を減らすと、泡のないガラスを得ることが困難になるが、ＳｎＯ2と共に、Ｓｂ2Ｏ3やＣｌを適宜組み合わせることで泡のないガラスを製造することができる。但し、Ｓｂ2Ｏ3も、Ａｓ2Ｏ3と同様に、Ｆｅイオンを酸化させ、紫外線透過率を低下させる作用を有するため、その含有量は１モル％以下（好ましくは０．７モル％以下、より好ましくは０．５モル％以下、さらに好ましくは０．３モル％以下、最も好ましくは０．１モル％以下）に抑えるべきである。
【００２０】
また液晶ディスプレイに用いられるガラス基板には、以下のような特性も要求される。
【００２１】
（１）ガラス基板上に回路やパターンを形成するためのフォトリソグラフィーエッチング（フォトエッチング）工程において使用される種々の酸、アルカリ等の薬品によって劣化しないような耐薬品性を有すること。
【００２２】
（２）成膜等のＴＦＴ素子製造工程でガラス基板が熱処理してパターンずれを起こさないように、高い耐熱性、具体的には６４０℃以上の歪点を有すること。例えば多結晶シリコンＴＦＴ−ＬＣＤの場合、その工程温度が６００℃以上であるため、このような用途のガラス基板には、歪点が６４０℃以上であることが要求される。
【００２３】
（３）ガラス中に基板として好ましくない溶融欠陥や失透物が発生しないように、溶融性、成形性に優れていること。
【００２４】
（４）耐熱衝撃性を向上させて、熱処理工程での破損を低減するため、熱膨張係数が低いこと。
【００２５】
以上の要求特性に鑑み、本発明の無アルカリガラスは、モル％で、ＳｉＯ2  ５０〜８０％、Ａｌ2Ｏ3  ５〜１５％、Ｂ2Ｏ3  ５〜１５％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜１０％の基本組成を含有してなることが好ましい。
【００２６】
本発明の無アルカリガラスの基本組成を上記のように限定した理由は、次のとおりである。
【００２７】
ＳｉＯ2は、ガラスのネットワークフォーマーであり、ガラスの耐酸性を向上させたり、歪点を高くしてガラス基板の熱収縮を小さくする効果がある。ＳｉＯ2の含有量が、５０〜８０％であれば、耐酸性が高く、熱収縮の小さいガラス基板を得ることができる。好ましい範囲は５５〜７５％、より好ましい範囲は６０〜７０％である。尚、ＳｉＯ2の含有量が多くなると、ガラスの高温粘性が高くなり、溶融性が悪化すると共に、クリストバライトの失透ブツが析出しやすくなる傾向にある。一方、含有量が少なくなると、ガラスの耐酸性や歪点が低下する傾向にある。
【００２８】
Ａｌ2Ｏ3は、ガラスの歪点を上昇させたり、クリストバライトの失透ブツの析出を抑える成分である。Ａｌ2Ｏ3の含有量が５〜１５％であれば、液相温度の低いガラスを得ることができる。好ましい範囲は、７〜１３％、より好ましい範囲は、９〜１２％である。尚、Ａｌ2Ｏ3の含有量が多くなると、ガラスの耐バッファードフッ酸性が悪化したり、液相温度が上昇して成形しにくくなる傾向にある。また含有量が少なくなると、ガラスの歪点が低下する傾向にある。
【００２９】
Ｂ2Ｏ3は、融剤として作用し、ガラスの粘性を下げ、溶融性を改善する成分である。Ｂ2Ｏ3の含有量が５〜１５％であれば、上記効果を得ることができる。好ましい範囲は、６〜１３％、より好ましい範囲は７〜１１％である。尚、Ｂ2Ｏ3の含有量が多くなると、ガラスの歪点が低下したり、耐酸性が低下する傾向にある。
【００３０】
ＭｇＯは、ガラスの歪点を低下させずに高温粘性のみを低下させて、ガラスの溶融性を改善する成分である。ＭｇＯの含有量は、０〜１０％、好ましい範囲は０〜７％、より好ましい範囲は０〜５％、さらに好ましくは０〜０．５％、最も好ましくは０〜０．１％である。尚、ＭｇＯの含有量が多くなると、エンスタタイトの失透ブツが析出しやすくなる。また耐バッファードフッ酸性が低下し、フォトエッチング工程において、ガラス基板の表面が侵食されて、反応生成物がガラス基板表面に付着し、ガラス基板が白濁しやすくなる。このような観点から、ＭｇＯは、実質的に含有しないことが望ましい。
【００３１】
ＣａＯは、ガラスの歪点を低下させずに高温粘性のみを低下させて、ガラスの溶融性を著しく改善する成分である。ＣａＯの含有量は、０〜１５％、好ましくは０〜１２％、より好ましくは３〜１０％である。尚、ＣａＯの含有量が多くなると、耐バッファードフッ酸性が悪化すると共に、密度や熱膨張係数が上昇する傾向にある。
【００３２】
ＳｒＯは、ガラスの耐薬品性と耐失透性を向上させる成分である。ＳｒＯの含有量は、０〜１０％。好ましくは０〜５％、より好ましくは０〜３％である。尚、ＳｒＯの含有量が多くなると、ガラスの密度や熱膨張係数が大きくなる傾向にある。
【００３３】
ＢａＯは、ＳｒＯと同様にガラスの耐薬品性と耐失透性を向上させる成分である。ＢａＯの含有量は、０〜１０％、好ましくは０〜５％、より好ましくは０〜３％である。尚、ＢａＯの含有量が多くなると、ガラスの密度や熱膨張係数が大きくなる傾向にある。
【００３４】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯのアルカリ土類金属酸化物は、混合して含有させることで、ガラスの溶融性と耐失透性を向上させることができるが、これらの成分が多くなると、ガラスの密度が上昇する傾向にあり、ガラス基板の軽量化が困難となるため、合量で０〜１５％、好ましくは０〜１２％、より好ましくは０〜１０％、さらに好ましくは０〜８％にすることが望ましい。
【００３５】
また本発明では、上記成分以外にも、必要に応じて他の成分を合量で１０％まで含有させることができる。
【００３６】
例えばＺｎＯは、ガラスの耐バッファードフッ酸性や溶融性を改善する成分であり、０〜１０％（好ましくは０〜５％、より好ましくは０〜３％）含有させることができる。尚、ＺｎＯの含有量が多くなると、ガラスの耐失透性や歪点が低下する傾向にある。
【００３７】
またＺｒＯ2は、ガラスの耐酸性を改善する成分であり、０〜２％（好ましくは０〜１
％）含有させることができる。尚、ＺｒＯ2の含有量が多くなると、ジルコンの失透ブツ
が析出する傾向にある。
【００３８】
また上記したようにＣｌは、ガラスの清澄剤として働く成分であり、０〜１％（好ましくは０〜０．５％）含有させることができる。尚、Ｃｌの含有量が多くなると、ガラス融液からの揮発が多くなり、脈理が発生しやすくなる。
【００３９】
またＴｉＯ2やＣｅＯ2は、各々０．０００１％以上含有させることによって、紫外線透過率を低下させる効果があるが、多量に含有すると、ガラスを着色させるため、各々０．０１％以下に抑えるべきである。
【００４０】
尚、本発明において、無アルカリガラスとは、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないガラス、つまりガラス原料としてアルカリ金属酸化物を添加しないガラスのことである。液晶ディスプレイの場合、使用するガラス基板中にアルカリ金属酸化物（Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ）が存在すると、ガラス中のアルカリ成分が、ガラス基板上に形成された各種の膜やＴＦＴ素子の特性を劣化させる虞がある。
【００４１】
次に本発明の無アルカリガラス基板の製造方法を説明する。
【００４２】
まず所望の組成を有するガラスとなるようにガラス原料調合物を準備する。ガラス原料は、Ｆｅ2Ｏ3等の不純物が少ない高純度原料を使用することが望ましい。次いで調合したガラス原料を連続溶融炉で、１５２０〜１６８０℃で溶融する。溶融槽は、アルミナ耐火物（例えばアルミナ質電鋳レンガ）、ジルコン耐火物、石英耐火物（例えばシリカブロック）などが侵食しにくく、ガラスへの溶出が少ないため好ましい。その後、均質化された溶融ガラスを、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウンドロー法、フロート法、ロールアウト法等の方法で板状に成形し、徐冷することによってガラス基板を得る。
【実施例】
【００４３】
以下、実施例に基づいて本発明を説明する。
【００４４】
表１、２は、本発明の無アルカリガラスの実施例（試料Ｎｏ．１〜８）と比較例（試料Ｎｏ．９、１０）を示すものである。
【００４５】
【表１】
2006036626.tif 000002
【００４６】
【表２】
2006036626.tif 000003
【００４７】
表１、２のガラス試料は、以下のようにして作製した。まず表中の組成となるように調製したガラス原料を白金坩堝に入れ、電気溶融炉中で１５９０℃、２３．５時間の条件で溶融した。次いで溶融ガラスをカーボン板上に流し出し、７５０℃に保持したアニーラーに入れ、室温まで放冷した。
【００４８】
表から明らかなように、実施例であるＮｏ．１〜８のガラスは、いずれも波長３００ｎｍにおける透過率（紫外線透過率）が５０〜８５％の範囲にあり、波長１０００ｎｍにおける透過率（赤外線透過率）が８０％以上であった。また密度、熱膨張係数、歪点、液相温度、耐酸性、耐ＢＨＦ性（耐バッファードフッ酸性）についても、液晶ディスプレイ用ガラス基板に要求される条件を満足するものであった。
【００４９】
一方、比較例であるＮｏ．９のガラスは、紫外線透過率が５０％未満であるため、液晶ディスプレイのＴＦＴ基板とＣＦ基板とを紫外線硬化樹脂で貼り合わせる時、樹脂の硬化時間の短縮を図ることが困難である。またＮｏ．１０のガラスは、紫外線透過率が８５％超であるため、液晶ディスプレイのＴＦＴ基板とＣＦ基板とを紫外線硬化樹脂で貼り合わせる時、紫外線によってＴＦＴ素子が破損される可能性がある。
【００５０】
尚、表中の透過率の測定は、以下の方法で行った。
【００５１】
まずガラス試料を２５×３０ｍｍの大きさに切りだし、厚み（ｔ）が０．５ｍｍ及び１０ｍｍとなるように両面をラップ研磨、鏡面研磨することによって、透過率測定用試料を作製した。その後、分光光度計を使用し、波長３００ｎｍと１０００ｎｍにおける透過率を、次の条件で測定した。
【００５２】
測定装置：ＵＶ３１００ＰＣ（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製）
スリット幅：２．０ｎｍ
密度は、周知のアルキメデス法によって測定した。
【００５３】
熱膨張係数は、ディラトメーターを用いて、３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定した。
【００５４】
歪点は、ＡＳＴＭ  Ｃ３３６−７１の方法に基づいて測定した。この値が高いほど、ガラスの熱収縮は小さくなる。
【００５５】
液相温度の測定は、以下の方法で行った。
【００５６】
まず各ガラス試料をそれぞれ３００〜５００μｍの大きさに粉砕、洗浄し、これを白金製ボートに入れて、１０００〜１２００℃の温度勾配炉に移して２４時間保持し、温度勾配炉から白金製ボートを取り出した。その後、白金製ボートからガラス成形体を取り出した。こうして得られたガラス成形体を偏光顕微鏡で観察し、結晶の析出点を測定し、これを液相温度とした。
【００５７】
耐酸性は、各ガラス試料を８０℃に保持された１０質量％塩酸水溶液に３時間浸漬した後、それらの表面状態を目視で観察することによって評価した。また耐ＢＨＦ性は、各ガラス試料を２０℃に保持された３０質量％弗化アンモニウム、６質量％フッ酸からなるバッファードフッ酸に３０分間浸漬した後、それらの表面状態を目視で観察することによって評価した。ガラス表面に全く変化のないものを○で示した。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明の無アルカリガラス基板は、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに用いられる無アルカリガラス基板として好適である。