(57)【要約】【課題】密着性及び良好な面状を両立した光学補償シートを提供する。【解決手段】  密着性付与処理を施された透明支持体、該支持体の表面上に、下記一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子と、硬膜剤と、求核性定数（ｎ）が５以上１０以下の求核剤とをそれぞれ少なくとも１種含有する組成物、又は下記一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子と、硬膜剤と、少なくとも２つの極性基を含有する有機カルボン酸化合物とをそれぞれ少なくとも１種含有する組成物から形成された配向膜、及び該配向膜の表面上に、液晶性化合物を含む組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償シートである。式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、アリール基又はヘテロアリール基を；Ｘは二価の連結基を；Ｚは重合性基を有する置換基；を表す。【化１】2006091613.tif 000065【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
密着性付与処理を施された透明支持体；
該支持体の表面上に、下記一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子と、硬膜剤と、求核性定数（ｎ）が５以上１０以下の求核剤とをそれぞれ少なくとも１種含有する組成物から形成された配向膜；及び
該配向膜の表面上に、液晶性化合物を含む組成物から形成された光学異方性層；を有する光学補償シート。
【化１】
2006091613.tif 000064
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｘは二価の連結基を表し、Ｚは重合性基を有する置換基を表す。また、Ｒ1とＲ2は、アルキレン連結基、アリール連結基又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して連結してもよい。）
【請求項２】
密着性付与処理を施された透明支持体；
該支持体の表面上に、請求項１中に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子と、硬膜剤と、少なくとも２つの極性基を含有する有機カルボン酸化合物とをそれぞれ少なくとも１種含有する組成物から形成された配向膜；及び
該配向膜の表面上に、液晶性化合物を含む組成物から形成された光学異方性層；を有する光学補償シート。
【請求項３】
前記硬膜剤が２つ以上のアルデヒド基を有するアルデヒド化合物である請求項１又は２に記載の光学補償シート。
【請求項４】
前記液晶性化合物を含有する組成物が、含フッ素界面活性剤の少なくとも１種を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項５】
前記液晶性化合物を含有する組成物が、含フルオロ脂肪族基を含有するポリマーの少なくとも１種を含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項６】
前記透明支持体のＲｅレターデーション値が０〜２００ｎｍの範囲にあり、かつＲｔｈレターデーション値が０〜４００ｎｍの範囲にある請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項７】
前記透明支持体が、セルロースアシレートフイルムであり、該セルロースアシレートフイルムが、下記式（１）及び（２）を同時に満足するセルロースアシレートのフイルムである請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
式（１）    ：    ２．３≦ＳＡ’＋ＳＢ’≦３．０
式（２）    ：    ０≦ＳＡ’≦３．０
（式中、ＳＡ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、またＳＢ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。）
【請求項８】
透明支持体上に配向膜と光学異方性層を有する光学補償シートの製造方法であって、請求項１中に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子と、硬膜剤と、求核性定数（ｎ）が５以上１０以下の求核剤とをそれぞれ少なくとも１種含有する塗布液、又は請求項１中に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子と、硬膜剤と、少なくとも２つの極性基を含有する有機カルボン酸化合物とをそれぞれ少なくとも１種含有する塗布液を、ダイコーター方法により塗布して配向膜を形成することを含む光学補償シートの製造方法。
【請求項９】
バックアップロールによって支持されて連続走行する透明支持体の表面に、透明支持体進行方向側の先端リップの透明支持体進行方向におけるランド長さが３０μｍ以上１００μｍ以下であるスロットダイを含む塗布装置を用い、該スロットダイの先端リップのランドを近接させて、前記先端リップのスロットから前記いずれかの塗布液をダイコーター法によって塗布する工程を含み、
前記スロットダイが、透明支持体進行方向と逆側の先端リップと連続走行される透明支持体との隙間が、前記透明支持体進行方向側の先端リップと連続走行される透明支持体との隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなる位置に設置されている請求項８に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項１０】
透明保護膜、偏光膜、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シートがこの順に積層されている偏光板。
【請求項１１】
前記透明保護膜の空気側表面に、反射防止膜を有する請求項１０に記載の偏光板。
【請求項１２】
偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板を、液晶セルの両側に配置したことからなる液晶表示装置において、液晶セルと偏光板との間に配置される二枚の透明保護膜の少なくとも一方が、請求項１〜７いずれかに記載の光学補償シートである液晶表示装置。
【請求項１３】
ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡおよびＯＣＢのいずれかのモードの透過型、反射型または半透過型の液晶表示装置である請求項１２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、面状を改良した光学補償シート、及び該光学補償シートの製造方法に関する。さらに、本発明は、該光学補償シートを用いた偏光板、及び該偏光板を配置した液晶表示装置にも関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、通常、液晶セル、偏光板および光学補償シート（位相差板）からなり、主として透過型液晶表示装置及び反射型液晶表示装置に大別される。
透過型液晶表示装置では、二枚の偏光板を液晶セルの両側に取り付け、一枚または二枚の光学補償シートを液晶セルと偏光板との間に配置する。反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚の光学補償シート、そして一枚の偏光板の順に配置する。
液晶セルは、通常、棒状液晶性分子、それを封入するための二枚の基盤および棒状液晶性部分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、棒状液晶性分子の配向状態の違いにより様々な表示モードが提案されており、透過型については、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）等、反射型については、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）等が提案されている。
偏光板は、一般的に、偏光膜と透明保護膜とからなっている。該偏光膜は、一般的に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料の水溶液を含浸させ、さらにこのフイルムを一軸延伸することにより得られる。該偏光板はこの偏光膜の両側に二枚の透明保護膜を貼りつけた構成を有する。
【０００３】
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学補償シートとしては、透明支持体上に液晶性分子（特にディスコティック液晶性分子）から形成された光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。光学異方性層は、液晶性分子を配向させ、その配向状態を固定化することにより形成する。一般に、重合性基を有する液晶性分子を用いて、重合反応によって配向状態を固定化する。液晶性分子は、大きな複屈折を有する。そして、液晶性分子には、多様な配向形態がある。液晶性分子を用いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。
【０００４】
光学補償シートの光学的性質は、液晶セルの光学的性質、具体的には上記の表示モードの違いに応じて決定する。光学補償シートに液晶性分子、特にディスコティック液晶性分子を用いると液晶セルの様々な表示モードに対応する様々な光学的性質を有する光学補償シートを製造することができる。
ディスコティック液晶性分子を用いた光学補償シートでは、様々な表示モードに対応するものが既に提案されている。
【０００５】
透明支持体上に液晶性分子の配向を固定化した光学異方性層を設けた光学補償シートを製造する場合、透明支持体と光学異方性層の間に配向膜を設ける。この場合、透明支持体（通常は、セルロースアシレートフイルム）と配向膜との間の密着性が必要になる。また、配向膜の配向はラビング、電界印加、磁場印加、或は光照射等の処理により行われるが、配向膜上の微小なチリ等の付着が配向の均一性を損なってしまう。特に、ラビング処理では膜表面を擦るために静電気発生への対策が必要となる。こうしたことから、通常、配向膜は水溶性樹脂硬化膜が適用され、特にポリビニルアルコール系等の水酸基含有の樹脂と硬化剤からなる硬化膜が用いられる。
【０００６】
通常、透明支持体として用いられるセルロースアシレートフイルムは疎水性であるため、水溶性樹脂硬化膜とは親和性が悪く、これを解消するために、接着層としてゼラチン等の下塗り層を設ける（例えば、特許文献１参照）、或は透明支持体（特に、セルロースアセテートフイルム）表面をアルカリ鹸化処理して、支持体表面に密着性を付与して配向膜を設ける（例えば、特許文献２参照）等の方法が開示されている。しかし、ゼラチン下塗り層を設ける場合には、支持体の膜厚を薄膜化すると下塗り層に含まれる塗布溶媒等の影響で均一な塗布が出来なくなる等の問題がある。
上記の様に塗設された水溶性樹脂硬化膜からなる配向膜は、迅速な硬化反応、製膜後の耐湿度依存性等が重要となる。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂と２官能性アルデヒド化合物と共に酸化合物を併用した塗布液を塗布し硬化する方法（特許文献３参照）、変性ポリビニルアルコール及び硬化剤に酸を添加して酸性条件の塗布液を塗布し硬化する方法（特許文献４、段落番号［０１４８］参照）等が提案されている。
【特許文献１】特開平１１−２４８９４０号公報
【特許文献２】特開２００２−３０２５６１号公報
【特許文献３】特開平１０−２１８９３８号公報
【特許文献４】特開２０００−１５５２１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、配向膜ポリマーとして、重合性基を有するホウ酸化合物によって架橋された変性ポリビニルアルコールを用いることにより、シュリーレン欠陥などの欠陥が少なく、迅速な配向が可能で、優れた耐久性と拡大した視野角を与える光学異方性層を有する位相差板、および、該位相差板を有する液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、下記構成の光学補償シート、その製造方法、該光学補償シートを用いた偏光板及び該偏光板を配置した液晶表示装置が提供され、本発明の上記目的が達成される。
［１］密着性付与処理を施された透明支持体；
該支持体の表面上に、下記一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子、硬膜剤、及び求核性定数（ｎ）が５以上１０以下の求核剤をそれぞれ少なくとも１種含有する組成物から形成された配向膜；及び
該配向膜の表面上に、液晶性化合物を含む組成物から形成された光学異方性層；を有する光学補償シート。
【０００９】
【化１】
2006091613.tif 000002
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｘは二価の連結基を表し、Ｚは重合性基を有する置換基を表す。また、Ｒ1とＲ2は、アルキレン連結基、アリール連結基又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して連結してもよい。）
【００１０】
［２］密着性付与処理を施された透明支持体；
該支持体の表面上に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子と、硬膜剤と、少なくとも２つの極性基を含有する有機カルボン酸化合物とをそれぞれ少なくとも１種含有する組成物から形成された配向膜；及び
該配向膜の表面上に、液晶性化合物を含む組成物から形成された光学異方性層；を有する光学補償シート。
［３］前記硬膜剤が２つ以上のアルデヒド基を有するアルデヒド化合物である［１］又は［２］の光学補償シート。
［４］前記液晶性化合物を含有する組成物が、含フッ素界面活性剤の少なくとも１種を含有する［１］〜［３］のいずれかの光学補償シート。
［５］前記液晶性化合物を含有する組成物が、含フルオロ脂肪族基を含有するポリマーの少なくとも１種を含有する［１］〜［４］のいずれかの光学補償シート。
［６］前記透明支持体のＲｅレターデーション値が０〜２００ｎｍの範囲にあり、かつＲｔｈレターデーション値が０〜４００ｎｍの範囲にある［１］〜［５］のいずれかの光学補償シート。
［７］前記透明支持体が、セルロースアシレートフイルムであり、該セルロースアシレートフイルムが、下記式（１）及び（２）を同時に満足するセルロースアシレートのフイルムである［１］〜［６］のいずれかの光学補償シート。
式（１）    ：    ２．３≦ＳＡ’＋ＳＢ’≦３．０
式（２）    ：    ０≦ＳＡ’≦３．０
（式中、ＳＡ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、またＳＢ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。）
【００１１】
［８］透明支持体上に配向膜と光学異方性層を有する光学補償シートの製造方法において、前記一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子と、硬膜剤と、求核性定数（ｎ）が５以上１０以下の求核剤とをそれぞれ少なくとも１種含有する組成物、又は前記一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子と、硬膜剤と、少なくとも２つの極性基を含有する有機カルボン酸化合物とをそれぞれ少なくとも１種含有する組成物を、ダイコーター方法で塗布して配向膜を形成することを含む光学補償シートの製造方法。
［９］バックアップロールによって支持されて連続走行する透明支持体の表面に、透明支持体進行方向側の先端リップの透明支持体進行方向におけるランド長さが３０μｍ以上１００μｍ以下であるスロットダイを含む塗布装置を用い、該スロットダイの先端リップのランドを近接させて、前記先端リップのスロットから前記いずれかの塗布液をダイコーター法によって塗布する工程を含み、
前記スロットダイが、透明支持体進行方向と逆側の先端リップと連続走行される透明支持体との隙間が、前記透明支持体進行方向側の先端リップと連続走行される透明支持体との隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなる位置に設置されている［８］の光学補償シートの製造方法。
［１０］透明保護膜、偏光膜、［１］〜［７］のいずれかの光学補償シートがこの順に積層されている偏光板。
［１１］前記透明保護膜の空気側表面に、反射防止膜を有する［１０］の偏光板。
［１２］偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板を、液晶セルの両側に配置したことからなる液晶表示装置において、液晶セルと偏光板との間に配置される二枚の透明保護膜の少なくとも一方が、［１］〜［７］のいずれかの光学補償シートである液晶表示装置。
［１３］ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡおよびＯＣＢのいずれかのモードの透過型、反射型または半透過型の液晶表示装置である［１２］の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明では、予め密着性を付与するための処理を施された透明支持体の表面に、重合性ボロン酸化合物中のホウ素によって架橋されたポリビニルアルコールを配向膜ポリマーとして用いるとともに、硬膜剤及び求核性定数（ｎ）が５以上１０以下の求核剤又は少なくとも二つの極性基を有する有機カルボン酸化合物の１種を併用して配向膜を形成し、さらにその上に光学異方性層を形成することにより、配向膜と透明支持体との密着性を改善し、且つ光学異方性層中に面状ムラ等の光学的欠陥が発生するのを軽減又は解消している。即ち、本発明の光学補償シートは密着性及び良好な面状を両立した光学補償シートである。これらは、配向膜を、求核性定数（ｎ）が５以上１０以下の求核剤又は少なくとも二つの極性基を有する有機カルボン酸化合物を少なくとも１種含有する組成物を用いて塗布・加熱硬化されることにより形成することで、配向膜の硬化が全体に均一に進行し、かつラビング処理でも膜表面全体にムラの無い配向状態が形成され、光学異方性層用塗布液が塗布面全面均一に塗布が進行することが主要因の１つと推定される。
また、本発明によれば、上記光学補償シートを偏光膜の片側に配置した偏光板が提供されると共に、この偏光板を備えた表示品位の高い液晶表示装置が提供される。
【発明の実施形態】
【００１３】
以下、本発明の光学補償シート、その製造方法、該光学補償シートを用いた偏光板及び該偏光板を配置した液晶表示装置について詳しく説明する。
まず、光学補償シート及びその製造方法について説明する。本発明の光学補償シートは、前記した通り、予め密着性を付与処理した透明支持体、配向膜、及び光学異方性層がこの順に積層された層構成を有する。
【００１４】
［透明支持体］
本発明において、透明支持体は、ガラス、もしくは透明なポリマーフイルムであることが好ましい。透明支持体は、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフイルムを構成するポリマーの例としては、セルロースエステル（例、セルロースのモノ乃至トリアシレート体）、ノルボルネン系ポリマーでは、アートン及びゼオネックス（いずれも商品名））が挙げられる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、支持体として用いることができる。
本発明では、支持体は、セルロースエステルフイルムが好ましく、さらにはセルロースアセテートフイルムが好ましい。
前記透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜２００μｍであることがさらに好ましく、３０〜８０μｍが最も好ましい。
【００１５】
なお、本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において光をフイルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フイルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フイルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
支持体のレターデーション値は光学補償シートが用いられる液晶表示装置やその使用の方法に応じて好ましい範囲が異なり、通常、Ｒｅレターデーション値は０〜２００ｎｍであり、かつＲｔｈレターデーション値は０〜４００ｎｍ範囲に調節することが好ましい。
【００１６】
液晶表示装置に二枚の光学的異方性層を使用する場合、支持体として用いるポリマーフイルムのＲｔｈレターデーション値は、３０〜２５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。液晶表示装置に一枚の光学的異方性層を使用する場合、ポリマーフイルムのＲｔｈレターデーション値は０〜４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。尚、ポリマーフイルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０〜０．０２０の範囲にあることが好ましい。また、ポリマーフイルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０〜０．０４の範囲にあることが好ましい。ポリマーフイルムのレターデーション値を調整するためには延伸のような外力を与える方法が一般的であり、他の方法として、光学異方性を調節するためのレターデーション上昇剤が、場合により添加される。
【００１７】
本発明に用いられるセルロースアシレートは、その原料としては、綿花リンター、ケナフ、木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。
本発明においてはセルロースからエステル化してセルロースアシレートを作製するが、特に好ましい前述のセルロースがそのまま利用できる訳ではなく、リンター、ケナフ、パルプを精製して用いられる。
【００１８】
本発明において、セルロースアシレートとは、セルロースのカルボン酸エステルのことである。該カルボン酸の総炭素数は２〜２２が好ましい。
支持体として用いられるセルロースアシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（１）及び（２）を満足するものが好ましい。
数式（１）    ：    ２．３≦ＳＡ’＋ＳＢ’≦３．０
数式（２）    ：    ０≦ＳＡ’≦３．０
【００１９】
ここで、ＳＡ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、またＳＢ’はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。なお、ＳＡはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基を表し、ＳＢはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基を表す。
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（各位それぞれ１００％のエステル化は置換度１）を意味する。
【００２０】
本発明では、ＳＡとＳＢの置換度の総和（ＳＡ’＋ＳＢ’）は、より好ましくは２．６〜３．０であり、特に好ましくは２．８０〜３．００である。
また、ＳＢの置換度（ＳＢ’）はより好ましくは０〜１．２であり、特には０〜０．８である。
本発明に用いられるセルロースアシレートの炭素数３〜２２のアシル基（ＳＢ）としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、シクロアルカンカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいＳＢとしては、プロピオニル、ブタノイル、ケプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、（メタ）アクリロイル、フェニルアセチル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、好ましいＳＢは、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサンカルボニル、ドデカノイル、オクタデカノイル、オレオイル、（メタ）アクリロイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどである。
【００２１】
セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースエステルとしてはセルロースアセテートが好ましく、その例としては、ジアセチルセルロースおよびトリアセチルセルロースなどが挙げられる。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることも好ましい。
これらの具体的なアシル基、及びセルロースアシレートの合成方法は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行  発明協会）ｐ．９に詳細に記載されている。
【００２２】
セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるセルロースアセテートでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度または多い方が好ましい。
２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがさらに好ましく、３２〜４０％であることが最も好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。
【００２３】
セルロースアシレートフイルムは、フイルムを構成するポリマー成分が実質的に前記の定義を有するセルロースアシレートからなることが好ましい。「実質的に」とは、全ポリマー成分（後述する粒子以外のポリマー成分）の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上）を意味する。
【００２４】
前記セルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度２００〜７００、好ましくは２３０〜５５０、更に好ましくは２３０〜３５０であり、特に好ましくは粘度平均重合度２４０〜３２０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜５．０であることが好ましく、１．０〜３．０であることがさらに好ましく、１．０〜２．０であることが最も好ましい。
前記セルロースアシレートは、その原料綿や合成方法が前記公技番号２００１−１７４５号ｐ．７−１２に詳細に記載されている。
【００２５】
前記したようにレターデーション上昇剤を用いて、透明支持体の厚み方向のレターデーションを高い値とすることもできる。レターデーション上昇剤としては、芳香族環を少なくとも二つ有し、二つの芳香族環の立体配座を立体障害しない分子構造を有する化合物を使用できる。芳香族化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
レターデーション上昇剤としては例えば、欧州特許０９１１６５６Ａ２号明細書、特開２０００−１１１９１４号公報、同２０００−２７５４３４号公報等記載の化合物等が挙げられる。
【００２６】
前記セルロースアシレートフイルムには、耐傷性やフイルムの搬送性を良好に保持するために微粒子を添加するのが好ましい。
それらは、マット剤、ブロッキング防止剤あるいはキシミ防止剤と称されて従来から利用されている。それらは、前述の機能を呈する素材であれば特に限定されないが、これらのマット剤の好ましい具体例は、無機化合物としては、ケイ素を含む化合物、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロンチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースアシレートフイルムの濁度を低減できるので、二酸化ケイ素が特に好ましい。
また、表面処理された無機微粒子もセルロースアシレート中への分散性が良好となり好ましい。処理法としては、例えば、特開昭５４−５７５６２号公報に記載の方法が挙げられる。粒子としては、例えば、特開２００１−１５１９３６号公報に記載のものが挙げられる。
有機化合物としては、例えば、架橋ポリスチレン、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、なかでも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。シリコーン樹脂のなかでも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましい。
【００２７】
支持体として用いられるセルロースアシレートフイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。具体的には、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行  発明協会）の１６頁に詳細に記載されている内容のものが好ましく用いられる。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【００２８】
支持体として用いられるセルロースアシレートフイルムには、更に、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載されている化合物が挙げられる。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５５号公報及び同平７−１１０５６号公報に記載されている化合物が挙げられる。
更に、これらの詳細は、上記の公技番号２００１−１７４５の１７頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【００２９】
作製したセルロースアシレートフイルムの吸湿による寸度変化を小さくするには、疎水基を有する化合物或は微粒子等を添加することが好ましい。疎水基を有する化合物としては、分子中に脂肪族基や芳香族基のような疎水基を有する可塑剤や劣化防止剤の中で該当する素材が特に好ましく用いられる。これらの化合物の添加量は、調整する溶液（ドープ）に対して０．０１〜１０質量％の範囲にあることが好ましい。また、セルロースアシレートフイルム中の自由体積を小さくすればよく、具体的には、後述のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少ない方が自由堆積が小さくなる。セルロースアシレートフイルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．００質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。
【００３０】
［透明支持体の製造方法］
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフイルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムは製造される。
用いる有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が挙げられ、例えば溶解度パラメーターで１７〜２２の範囲ものが好ましい。溶解度パラメーターは、例えばＪ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ、Ｅ．Ｈ等の「ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ（４ｔｈ．ｅｄｉｔｉｏｎ）」、VII／６７１〜VII／７１４に記載の内容のものを表す。低級脂肪族炭化水素の塩化物、低級脂肪族アルコール、炭素原子数３から１２のケトン、炭素原子数３〜１２のエステル、炭素原子数３〜１２のエーテル、炭素原子数５〜８の脂肪族炭化水素類、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素類等が挙げられる。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
具体的には、例えば前記の公技番号２００１−１７４５の１２頁〜１６頁に詳細の化合物が挙げられる。
【００３１】
特に、本発明では、溶媒は２種類以上の有機溶媒を混合して用いることが好ましく、特に好ましい有機溶媒は、互いに異なる３種類以上の混合溶媒であって、第１の溶媒が炭素原子数が３〜４のケトンおよび炭素原子数が３〜４のエステル或いはその混合液であり、第２の溶媒が炭素原子数が５〜７のケトン類またはアセト酢酸エステルから選ばれ、第３の溶媒として沸点が３０〜１７０℃のアルコールまたは沸点が３０〜１７０℃の炭化水素から選ばれることが好ましい。
とくに、酢酸エステルを２０〜９０質量％、ケトン類を５〜６０質量％、アルコール類を５〜３０質量％の混合比で用いることがセルロースアセテートの溶解性の点から好ましい。
【００３２】
また、本発明に用いるドープには、上記有機溶媒以外にフルオロアルコール類を全有機溶媒量の１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下含有させることもフイルムの透明性を向上させたり、溶解性を早めたりする上で好ましい。フルオロアルコール類としては沸点が１６５℃以下のものがよく、好ましくは１１１℃以下がよく、更に８０℃以下が好ましい。フルオロアルコール類は炭素原子数が２から１０程度、好ましくは２から８程度のものがよい。また、フルオロアルコール類はフッ素原子含有脂肪族アルコールで、置換基があってもなくてもよい。置換基としてはフッ素原子含有或いはなしの脂肪族置換基、芳香族置換基などがよい。
【００３３】
該フルオロアルコール類としては例えば、特開平８−１４３７０９号公報明細書中の段落番号［００２０］、同１１−６０８０７号公報明細書中の段落番号［００３７］等に記載の化合物が挙げられる。これらのフルオロアルコールは一種または二種以上使用してもよい。
【００３４】
また、ハロゲン化炭化水素を含まない非ハロゲン系有機溶媒系が特に好ましい。
技術的には、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、地球環境や作業環境の観点では、有機溶媒はハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶媒中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。また、製造したセルロースアセテートフイルムから、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素が全く検出されないことが好ましい。
【００３５】
本発明に使用する有機溶媒は具体的には、例えば特開２００２−１４６０４３号明細書の段落番号〔００２１〕〜〔００２５〕、特開２００２−１４６０４５号明細書の段落番号〔００１６〕〜〔００２１〕等に記載の溶媒系の例が挙げられる。
【００３６】
前記セルロースアシレート溶液を調製する際に、容器内に窒素ガスなどの不活性ガスを充満させてもよい。セルローストリアセテート溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際、流延可能な範囲であればよく、通常１０ｐｓ・ｓ〜２０００ｐｓ・ｓの範囲に調製されることが好ましく、特に３０ｐｓ・ｓ〜４００ｐｓ・ｓが好ましい。
【００３７】
本発明に係るセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製については、その溶解方法は特に限定されず、室温溶解法でもよく、冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。これらに関しては、例えば特開平５−１６３３０１号、特開昭６１−１０６６２８号、特開昭５８−１２７７３７号、特開平９−９５５４４号、特開平１０−９５８５４号、特開平１０−４５９５０号、特開２０００−５３７８４号、特開平１１−３２２９４６号、さらに特開平１１−３２２９４７号、特開平２−２７６８３０号、特開２０００−２７３２３９号、特開平１１−７１４６３号、特開平０４−２５９５１１号、特開２０００−２７３１８４号、特開平１１−３２３０１７号、特開平１１−３０２３８８号などの各公報に記載のセルロースアシレート溶液の調製法が挙げられる。以上記載したこれらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、本発明においても、適宜これらの技術を適用できるものである。さらにセルロースアシレートのドープ溶液は、溶液の濃縮とろ過が通常実施され、同様に前記の公技番号２００１−１７４５の２５頁に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。
【００３８】
次に、本発明において、セルロースアシレート溶液を用いたフイルムの製造方法について述べる。セルロースアシレートフイルムを製造する方法及び設備は、セルローストリアセテートフイルム製造に供するドラム方法若しくはバンド方法と称される、従来公知の溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。バンド法を例として製膜の工程を説明すると、溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜に一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。調製したドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。これらの各製造工程（流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離、延伸などに分類）については、前記の公技番号  ２００１−１７４５の２５頁〜３０頁に詳細に記載された内容が挙げられる。流延工程では１種類のセルロースアシレート溶液を単層流延してもよいし、２種類以上のセルロースアシレート溶液を同時及びまたは逐次共流延しても良い。
【００３９】
さらに前記セルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。
【００４０】
従来の単層液では、必要なフイルムの厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多かった。この解決として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフイルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フイルムの生産スピードを高めることができる。
【００４１】
［セルロースアシレートフイルムの特性］
本発明において透明支持体として用いるフイルムは、前記の吸湿膨張係数とともに、下記のような物理的な特性を有することが好ましい。
（フイルム表面の性状）
本発明において透明支持体として用いるセルロースアシレートフイルムの表面は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に基づく該膜の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下である。
膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することが出来る。
８０μｍ未満の膜厚からなるフイルムの機械的特性を下記の範囲内に保持する主要組成物である微粒子を含有した支持体として用いるフイルムの表面状態を上記の凹凸の大きさ内とすることで、後述するフイルム表面への密着性付与、配向膜の塗設において、フイルム全面が安定して均一に処理され、処理ムラや塗布ムラ等による光学的な欠陥が解消される。
【００４２】
また、本発明に用いる透明支持体の動摩擦係数は０．４以下であることが好ましく、０．３以下であることが特に好ましい。動摩擦係数が大きいと搬送ロールとの間で強く擦られる結果支持体から発塵しやすくなり、フイルム上への異物付着が多くなり、光学補償シートの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えてしまう。動摩擦係数は５ｍｍφの鋼球を用いる鋼球法により測定することができる。
【００４３】
（フイルムのヘイズ）
支持体として用いるセルロースアシレートフイルムのヘイズは０．０１〜２．０％が好ましい。より好ましくは０．０５〜１．５％であり、０．１〜１．０％である。この範囲において、光学フイルムとして重要なフイルムの透明性が充分に確保できる。ヘイズの測定は、支持体として用いるセルロースアシレートフイルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃６０％ＲＨで、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）でＪＩＳ  Ｋ−６７１４に従って測定出来る。
【００４４】
（カール）
本発明に用いる透明支持体の幅方向のカール値は、−７／ｍ〜＋７／ｍであることが好ましい。本発明では、透明支持体に後述する表面処理、ラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の設置などを長尺で広幅の透明支持体に対し行う際に、透明支持体の幅方向のカール値が前述の範囲外では、フイルムのハンドリングに支障をきたし、フイルムの切断が起きることがある。また、フイルムのエッジや中央部などで、フイルムが搬送ロールと強く接触するために発塵しやすくなり、フイルム上への異物付着が多くなり、光学補償シートの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えることが明らかとなった。
支持体として用いるセルロースアシレートフイルムには後述する表面処理、ラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の設置などを長尺で広幅の透明フイルムに対し行う際に、透明フイルムの幅方向のカール値が前述の範囲内であると、フイルムのハンドリングが良好になり、フイルムの切断が起きなくなる。また、フイルムのエッジや中央部などで、フイルムが搬送ロールと強く接触して発塵したり、フイルム上への異物付着が生じなくなり、光学補償シートの点欠陥や塗布スジの頻度を許容値の範囲内とすることができる。また、カールを上述の範囲とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減できるほか、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、好ましい。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。
【００４５】
（フイルムの吸湿膨張係数）
支持体として用いるセルロースアシレートフイルムの吸湿膨張係数を３０×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。
この吸湿膨張係数を調節することで、光学補償シートの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
吸湿膨張係数の測定方法について以下に示す。作製したセルロースアシレートフイルムから幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５℃、２０％ＲＨ（Ｒ０）の雰囲気下にぶら下げた。他方の端に０．５ｇの重りをぶら下げて、１０分間放置し長さ（Ｌ０）を測定した。次に、温度は２５℃のまま、湿度を８０％ＲＨ（Ｒ１）にして、長さ（Ｌ１）を測定した。吸湿膨張係数は下式により算出した。測定は同一試料につき１０サンプル行い、平均値を採用した。
吸湿膨張係数［／％ＲＨ］＝｛（Ｌ１−Ｌ０）／Ｌ０｝／（Ｒ１−Ｒ０）
【００４６】
（フイルムの透湿度）
支持体として用いるセルロースアシレートフイルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳ  Ｚ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して４００〜２０００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが好ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ2・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが特に好ましい。
透湿度が上記範囲であると、フイルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨ以下と低く、また、セルロースアシレートフイルムに光学異方性層を積層して光学補償シートとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨ以下と低いので、この光学補償シートやそれを用いた偏光板を液晶表示装置に組み込んだ場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こすことがなく、好ましい。また、光学補償シートを偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフイルムにより接着剤の乾燥が妨げられて接着不良が生じる心配もない。
【００４７】
セルロースアシレートフイルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、（８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ）として求める。
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、セルロースアシレートフイルム等のフイルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にて、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ2）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求める。
【００４８】
（フイルムの保留性）
支持体として用いるセルロースアシレートフイルムは、「８０±５℃、９０±１０％ＲＨ」の条件下に４８時間静置した場合のフイルムの質量変化が０〜２％であることが好ましい。
〈保留性の評価方法〉
試料を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに断裁し、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気下で２４時間放置後の質量を測定して、８０±５℃、９０±１０％ＲＨの条件下で４８時間放置した。処理後の試料の表面を軽く拭き、２３℃、５５％ＲＨで１日放置後の質量を測定して、以下の方法で保留性を算出する。
保留性（質量％）＝｛（放置前の質量−放置後の質量）／放置前の質量｝×１００
【００４９】
（フイルムの寸度変化）
支持体として用いるセルロースアシレートフイルムの寸度安定性は、６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率および９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率がいずれも０．５％以下であることが好ましい。より好ましくは０．３％以下であり、さらにのぞましくは０．１５％以下である。
＜寸度変化率の測定方法＞
セルロースアシレートフイルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ（新東科学（株））にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、パンチ間隔の原寸（Ｌ０）とした。１枚の試料を６０℃、９０％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ１）を測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ２）を測定した。すべての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した。６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ１｜／Ｌ０｝×１００、９０℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ２｜／Ｌ０｝×１００、として寸度変化率を求めた。
【００５０】
（引裂き強度）
上記透明支持体は、前記のとおり膜厚が２０〜８０μｍであり、そのＪＩＳ  Ｋ７１２８−２：１９９８の引裂き試験方法（エルメンドルフ引裂き法）に基づく引裂き強度が２ｇ以上であるのが、前記の膜厚においても膜の強度が充分に保持できる点で好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、更に好ましくは６〜２５ｇである。また６０μｍ換算では、８ｇ以上が好ましく、より好ましく８〜１５ｇである。
具体的には、試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。
特に、上記カール及び上記引き裂き強度は、所定の製造工程を終了して得られる上記透明支持体が長さ１００〜５０００ｍで幅０．７以上の長尺品である場合に、上述の範囲内とするのが好ましい。
【００５１】
（引掻き強度）
また、引掻き強度は１ｇ以上であることが好ましく、５ｇ以上であることがより好ましく、１０ｇ以上であることが特に好ましい。この範囲とすることにより、フイルム表面の耐傷性、ハンドリング性が問題なく保持される。
引掻き強度は、円錐頂角が９０度で先端の半径が０．２５ｍのサファイヤ針を用いて支持体表面を引掻き、引掻き跡が目視にて確認できる荷重（ｇ）をもって評価することができる。
【００５２】
［透明支持体の密着性付与の方法］
本発明では、前記透明支持体は、密着性付与のための処理が施されている。密着性付与のための処理とは、少なくとも処理前よりも表面に形成される配向膜との密着性を向上させる処理であり、密着性の評価については後述する。該透明支持体表面に密着性を付与し、配向膜用塗布液が均一に塗工されるように表面処理を施すことが好ましい。
表面処理の方法としては、配向膜の下塗り層を設ける方法が挙げられる。特開平７−３３３４３３号公報記載の下塗り層、或いは疎水性基と親水性基との両方を含有するゼラチン等の樹脂層を一層のみ塗布する単層法第１層として高分子フイルムによく密着する層（以下、下塗第１層と略す）を設け、その上に第２層として配向膜とよく密着するゼラチン等の親水性の樹脂層（以下、下塗第２層と略す）を塗布する所謂重層法（例えば、特開平１１−２４８９４０号公報記載）の内容が挙げられる。
他の表面処理として、コロナ放電処理、グロー放電処理、紫外線照射処理、火炎処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ処理等で該フイルム表面を改質する方法が挙げられる。これらについては、詳細が前記の公技番号２００１−１７４５号公報の３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアセテートフイルムの表面処理としては極めて有効である。
【００５３】
［アルカリ鹸化処理］
アルカリ鹸化処理は、アルカリ溶液を透明支持体に浸漬、噴射若しくは塗布することで行う。好ましくは、後述の塗布で鹸化処理することが好ましい。
【００５４】
［アルカリ溶液］
アルカリ溶液はｐＨ１１以上のアルカリ溶液が好ましい。より好ましくはｐＨ１２〜１４である。
アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤の例として、水酸化ナトリウム、同カリウム、同リチウム等の無機アルカリ剤、また、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン）、ＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン）、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルブチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて併用することもでき、一部を例えばハロゲン化したような塩の形で添加してもよい。
これらのアルカリ剤の中でも、水酸化ナトリウム或は水酸化カリウムが、これらの量を調整することにより広いｐＨ領域でのｐＨ調整が可能となるため好ましい。
【００５５】
アルカリ溶液の濃度は、使用するアルカリ剤の種類、反応温度および反応時間に応じて決定されるが、アルカリ剤の含有量は、アルカリ溶液中の０．１〜５ｍｏｌ／Ｋｇが好ましく、０．５〜３ｍｏｌ／Ｋｇがより好ましい。
【００５６】
アルカリ溶液の溶媒は、水及び水溶性有機溶媒の混合溶液を含有することからなることが好ましい。有機溶媒としては、水と混和可能な有機溶媒であればいずれも用いることができるが、沸点１２０℃以下、より好ましくは１００℃以下のものが好ましい。
その中でも好ましい有機溶媒は、無機性／有機性値（Ｉ／Ｏ値）が０．５以上、且つ溶解度パラメーターが１６〜４０［ｍＪ／ｍ3］1/2の範囲のものが好ましい。より好ましくはＩ／Ｏ値が０．６〜１０、且つ溶解度パラメーターが１８〜３１［ｍＪ／ｍ3］1/2である。Ｉ／Ｏ値や溶解度パラメーターがこの範囲であると、アルカリ鹸化速度が適度であり、鹸化度の全面均一性も十分であり、ヘイズも生じない。
また、有機溶媒、とりわけ上記有機性と溶解性の各範囲の有機溶媒を後述する界面活性剤、相溶化剤等と組み合わせて用いると高い鹸化速度が維持されて、かつ全面に亘る鹸化度の均一性が向上する。
【００５７】
好ましい特性値を有する有機溶媒は、例えば、有機合成化学協会編、「新版溶剤ポケットブック」（（株）オーム社、１９９４年刊）等に記載のものが挙げられている。（また、有機溶媒の無機性／有機性値（Ｉ／Ｏ値）については、例えば、田中善生著有機概念図）三共出版社１９８３年刊、１〜３１頁に解説されている）。
【００５８】
具体的には、一価脂肪族アルコール類（例、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール等）、脂環式アルカノール（例、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、メトキシシクロヘキサノール、シクロヘキシルメタノール、シクロヘキシルエタノール、シクロヘキシルプロパノール等）、フェニルアルカノール（例、べンジルアルコール、フェニルエタノール、フェニルプロパノール、フェノキシエタノール、メトキシベンジルアルコール、ベンジルオキシエタノール等）、複素環式アルカノール類（フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等）、グリコール化合物のモノエーテル類（メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピルセルソルブ、メトキシメトキシエタノール、ブチルセルソルブ、ヘキシルセルソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピルカルビトール、ブチルカルビトール、メトキシトリグリコール、エトキシトリグリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル等）ケトン類（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、アミド類（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３ジメチルイミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例、ジメチルスルホキシド）およびエーテル類（例、テトラヒドロフラン、ピラン、ジオキサン、トリオキサン、ジメチルセルソルブ、ジエチルセルソルブ、ジプロピルセルソルブ、メチルエチルセルソルブ、ジメチルカルビトール、ジメチルカルビトール、メチルエチルカルビトール等）等が挙げられる。用いる有機溶媒は、単独若しくは２種以上を混合して用いてもよい。
【００５９】
有機溶媒を単独使用或いは２種以上を混合する場合の少なくとも一種の有機溶媒は、水への溶解性が大きなものが好ましい。有機溶媒の水の溶解度は、５０質量％以上が好ましく、水と自由に混合するものがより好ましい。これによりアルカリ剤、鹸化処理で副生する脂肪酸の塩、空気中の二酸化炭素を吸収して生じた炭酸の塩等への溶解性が充分なアルカリ溶液を調製できる。
有機溶媒の溶媒中の使用割合は、溶媒の種類、水との混和性（溶解性）、反応温度および反応時間に応じて決定する。
水と有機溶媒の混合比は、３／９７〜８５／１５質量比が好ましい。より好ましくは５／９５〜６０／４０質量比であり、更に好ましくは１５／８５〜４０／６０質量比である。この範囲において、セルロースアシレートフイルムの光学特性を損なうことなく容易にフイルム全面が均一に鹸化処理される。
【００６０】
本発明に用いるアルカリ溶液が含有する有機溶媒として、上記した好ましいＩ／Ｏ値を有する有機溶媒とは異なる有機溶媒（例えばフッ化アルコール等）を、後述の界面活性剤、相溶化剤の溶解助剤として併用してもよい。その含有量は使用液の総質量に対して０．１〜５％が好ましい。
【００６１】
本発明に用いるアルカリ溶液は、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤を添加することによって表面張力を下げて塗布を容易にしたり、塗膜の均一性を上げてハジキ故障を防止し、かつ有機溶媒が存在すると起こり易いヘイズを抑止し、さらに鹸化反応が均一に進行する。その効果は、後述する相溶化剤の共存によって特に顕著となる。用いられる界面活性剤には特に制限はなく、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等のいずれであってもよい。
【００６２】
具体的には、例えば、吉田時行著「界面活性剤ハンドブック（新版）」（工学図書、１９８７年刊行）、「界面活性剤の機能創製・素材開発・応用技術」第１編（技術教育出版、２０００年刊行）等記載の公知の化合物が挙げられる。
これらの界面活性剤の中でも、カチオン性界面活性剤としての４級アンモニウム塩類、ノニオン性界面活性剤としての各種のポリアルキレンレングリコール誘導体類、各種のポリエチレンオキサイド付加物類等のポリエチレンオキサイド誘導体類、両性界面活性剤としてのベタイン型化合物類が好ましい。
アルカリ溶液には、ノニオン活性剤とアニオン活性剤またはノニオン活性剤とカチオン活性剤を共存させて用いることも本発明の効果が高められて好ましい。
【００６３】
これらの界面活性剤のアルカリ溶液に対する添加量は、好ましくは、０．００１〜１０質量％であり、より好ましくは、０．０１〜５質量％である。
【００６４】
本発明に用いられるアルカリ溶液は、相溶化剤を含有させることも好ましい。本発明において、「相溶化剤」とは、温度２５℃において、相溶化剤１００ｇに対して水の溶解度が５０ｇ以上となる親水性化合物をいう。相溶化剤の水の溶解度は、相溶化剤１００ｇに対して、８０ｇ以上であるのが好ましく、１００ｇ以上であるのがより好ましい。また、相溶化剤が液状化合物である場合は、沸点が１００℃以上であるのが好ましく、１２０℃以上であるのがより好ましい。
【００６５】
相溶化剤は、アルカリ溶液を貯留する浴等の壁面に付着したアルカリ溶液の乾燥を防止し、固着を抑制し、アルカリ溶液を安定に保持させる作用を有する。また、透明支持体の表面にアルカリ溶液を塗布して一定時間保持した後、鹸化処理を停止するまでの間に、塗布されたアルカリ溶液の薄膜が乾燥し、固形物の析出を生じ、水洗工程での固形物の洗い出しを困難にすることを防止する作用を有する。さらには、溶媒となる水と有機溶剤との相分離を防止する。特に、界面活性剤と有機溶剤と上述した相溶化剤との共存によって、処理された透明支持体は、ヘイズが少なく、かつ、長尺の連続鹸化処理の場合であっても安定して全面均一な鹸化度となる。
【００６６】
相溶化剤は、上記の条件を満たす材料であれば、特に限定されないが、例えば、ポリオール化合物、糖類等のヒドロキシル基および／またはアミド基を有する繰り返し単位を含む水溶性重合体が好適に挙げられる。
ポリオール化合物は、低分子化合物、オリゴマー化合物および高分子化合物のいずれも用いることができる。
脂肪族ポリオール類としては、例えば、炭素数２〜８のアルカンジオール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリンモノメチルエーテル、グリセリンモノエチルエーテル、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等）、ヒドロキシル基を３個以上含有する炭素数３〜１８のアルカン類（例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジペンタエリスリトール、イノシットール等）が挙げられる。
ポリアルキレンオキシポリオール類としては、上記のような同じアルキレンジオール同士が結合していてもよく、異なるアルキレンジオールが互いに結合していてもよいが、同じアルキレンジオール同士が結合したポリアルキレンポリオールがより好ましい。いずれの場合もの結合数は３〜１００であるのが好ましく、３〜５０であるのがより好ましい。具体的には、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ（オキシエチレン−オキシプロピレン）が挙げられる。
【００６７】
糖類としては、例えば、高分子学会高分子実験学編集委員会編「天然高分子」第二章（共立出版（株）、１９８４年刊）、小田良平等編「近代工業化学２２、天然物工業化学ＩＩ」（（株）朝倉書店、１９６７年刊）等に記載されている水溶性化合物が挙げられる。中でも、遊離のアルデヒド基およびケトン基を持たない、還元性を示さない糖類が好ましい。
糖類は、一般に、グルコース、スクロース、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体および糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類されるが、いずれも本発明に好適に用いられる。
例えば、サッカロース、トレハロース、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体、Ｄ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシット、アロズルシット、還元水あめが挙げられる。これらの糖類は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６８】
ヒドロキシル基および／またはアミド基を有する繰り返し単位を有する水溶性重合体としては、例えば、天然ガム類（例えば、アラビアガム、グアーガム、トラガンドガム等）、ポリビニルピロリドン、ジヒドキシプロピルアクリレート重合体、セルロース類またはキトサン類とエポキシ化合物（エチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド）との付加反応体が挙げられる。
中でも、アルキレンポリオール、ポリアルキレンオキシポリオール、糖アルコール等のポリオール化合物が好ましい。
【００６９】
相溶化剤の含有量は、アルカリ溶液に対して、０．５〜２５質量％であるのが好ましく、１〜２０質量％であるのがより好ましい。
【００７０】
本発明に用いられるアルカリ溶液は、その他の添加剤を含有することができる。その他の添加剤としては、例えば、消泡剤、アルカリ溶液安定化剤、ｐＨ緩衝剤、防腐剤、防菌剤等の公知のものが挙げられる
【００７１】
［アルカリ鹸化方法］
上記のアルカリ溶液を用いたセルロースアシレートフイルムの表面処理方法は従来公知のいずれの方法でもよいが、特に、フイルムの片面のみをムラ無く均一に鹸化処理する場合は、塗布方式が好ましい。塗布の方法としては、従来公知の塗布方法｛ロッドコーティング法（細い金属線を巻いたロッド）、ロールコーティング法（順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター）、カーテンコーティング法、ダイコーティング法（エクストルージョンコーター（スロットコーター）、スライドコーター、スリットダイコーター）等の塗布法｝を挙げることができる。塗布方式に関しては、各種文献（例えば、Ｍｏｄｅｒｎ  Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  Ｄｒｙｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｅｄｗａｒｄ  Ｃｏｈｅｎ  ａｎｄ  Ｅｄｇａｒ  Ｂ  Ｇｕｔｏｆｆ  Ｅｄｉｔｓ．，ＶＣＨ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎｃ，１９９２に記載されている。アルカリ溶液の塗布量は、その後、水洗除去するため廃液処理を考慮して、極力抑制することが望ましく、１〜１００ｃｃ／ｍ2が好ましく、１〜５０ｃｃ／ｍ2がより好ましい。少ない塗布量域でも安定に操作できるロッドコーター、グラビアコーター、ブレードコーター、ダイコーターが好ましい。特に、少ない塗布量域で塗布スジのムラを発生することなく高速で塗布できる、塗布装置部と塗布支持体面が非接触の方法であるダイコーターが好ましい。
鹸化処理は、処理するフイルムの変形、処理液の変質等が生じない温度１２０℃を越えない範囲の処理温度で行うことが好ましい。更に温度１０℃以上であり１００℃以下の範囲が好ましい。特に、温度２０〜８０度が好ましい。
また、鹸化処理の時間は、アルカリ溶液、処理温度により適宜調整して決定するが、１秒から６０秒の範囲で行われるのが好ましい。
【００７２】
更に、セルロースアシレートフイルムをその表面が少なくとも１０℃以上の温度でアルカリ溶液で鹸化処理する工程、セルロースアシレートフイルムの温度を少なくとも１０℃以上に維持する工程、そして、アルカリ溶液をセルロースアシレートフイルムから洗い落とす工程によりアルカリ鹸化処理を実施することが好ましい。
セルロースアシレートフイルムをその表面が所定の温度でアルカリ溶液で鹸化処理には、塗布する前に予め所定の温度に調整する工程、アルカリ液を予め所定の温度に調整しておく工程、或いはこれらを組み合わせた工程等が挙げられる。塗布する前に予め所定の温度に調整する工程と組み合わせることが好ましい。
鹸化反応後は、水洗、中和し水洗等でフイルム表面からアルカリ溶液及び鹸化処理反応物とを洗浄し除去することが好ましい。
具体的には、例えば国際公開第０２／４６８０９号パンフレット、特開２００３−３１３３２６号公報等に記載の内容が挙げられる。
フイルムの親水化処理が施された側の表面は、フイルム表面における水との接触角は２０〜５５゜の範囲にあることが好ましい。水との接触角は、２５〜５０゜の範囲にあることがより好ましく、３０〜４５゜の範囲にあることが特に好ましい。又、フイルム表面における表面エネルギーは５５〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることが好ましい。表面特性の表面エネルギー［評価項目２］］の評価方法は、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社、１９８９年刊行）に記載の接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。
この様な表面特性を満足することで配向膜、並びに偏光膜との密着性が充分となり、且つ本発明の偏光板を画像表示装置に用いた際の、輝点故障や雲状故障等の光学的な欠陥のない優れた特性を発現する。
【００７３】
［配向膜］
本発明では、配向膜を、前記支持体の密着性付与処理が施された表面に形成する。また、本発明では、配向膜は、所定の配向膜用ポリマー、硬膜剤及び所定の求核剤をそれぞれ少なくとも１種含む組成物、または所定の配向膜用ポリマー、硬膜剤及び所定の有機カルボン酸化合物をそれぞれ少なくとも１種含む組成物から形成する。以下、配向膜の形成に用いられる材料、形成方法等について詳細に説明する。
【００７４】
［配向膜用ポリマー］
本発明では、配向膜用ポリマーとして、下記一般式（Ｉ）で表される化合物とポリビニルアルコールとが結合してなる高分子を用いる。例えば、下記一般式（Ｉ）中のホウ素が、エーテル結合を介して重合性主鎖炭素に間接的に結合することにより、少なくとも二個のヒドロキシル基が置換された下記一般式（III）で表される高分子であるのが好ましい。
【００７５】
【化２】
2006091613.tif 000003
【００７６】
【化３】
2006091613.tif 000004
一般式（III）中、ｌ＋ｍ＋ｎ＝１００の条件にて、ｌは１０〜９９．９モル％、ｍは０〜７０モル％、ｎは０．０１〜８０モル％であり、ｌは２０〜９９モル％、ｍは０〜５０モル％、ｎは０．１〜５０モル％が好ましく、ｌは５０〜９９モル％、ｍは０〜３０モル％、ｎは０．１〜３０モル％がより好ましい。
【００７７】
以下、一般式（Ｉ）および一般式（III）中のＲ1、Ｒ2、Ｘ及びＺについて、それぞれ詳細に説明する。
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基（アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基を含む）、アリール基又はヘテロアリール基を表す。また、Ｒ1とＲ2は、アルキレン連結基、アリール連結基、又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して、連結していてもよい。
【００７８】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−アダマンチル基、２−ノルボルニル基等の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基が挙げられる。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−シクロペンテニル基、１−シクロヘキセニル基等の直鎖状、分枝状、または環状のアルケニル基が挙げられる。
【００７９】
アルキニル基の具体例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、１−オクチニル基等が挙げられる。アリール基の具体例としては、１個から４個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と不飽和五員環とが縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としてはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、ピレニル基等が挙げられる。ヘテロアリール基の具体例としては、Ｘがヘテロアリール基を含む連結基を表す場合の該へテロアリール基の例示と同様である。
【００８０】
前記一般式（Ｉ）中のＲ1およびＲ2として好ましくは、それぞれ独立に、水素原子、脂肪族炭化水素基（炭素数は１または２が好ましく、１がさらに好ましい）、又はＲ1とＲ2が結合して環（５員環が最も好ましい）を形成している場合であり、中でも水素原子が最も好ましい。
【００８１】
前記一般式（Ｉ）中、Ｘは二価の連結基を表し、連結基としては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリール基およびそれらの組み合わせからなる。
【００８２】
窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含むヘテロアリール基としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環上の水素原子を１個除し、ヘテロアリール基としたものを挙げることができる。窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環の具体例としては、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、カルバゾール、ベンゾフラン、ジベンゾフラン、チアナフテン、ジベンゾチオフェン、インダゾールベンズイミダゾール、アントラニル、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、プリン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、キノリン、アクリジン、イソキノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキザリン、ナフチリジン、フェナントロリン、プテリジン等が挙げられる。
【００８３】
これらの炭化水素基は任意の置換基によって１個以上置換されていてもよい。置換基としては水素を除く１価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）3）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｒｙｌ）3）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。また、これらの置換基は、可能であるならば置換基同士、または置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよい。
【００８４】
一般式（Ｉ）中、Ｘとして好ましくは単結合、または、置換もしくは無置換のアリーレン基であり、特に好ましくは、置換もしくは無置換のアリーレン基である。
【００８５】
一般式（Ｉ）中、Ｚは、重合性基を表し、アクリレート基、メタクリレート基、スチリル基、ビニルケトン基、ブタジエン基、ビニルエーテル基、オキシラニル基、アジリジニル基、オキセタン基等が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリレート基、スチリル基、オキシラニル基もしくはオキセタン基であり、最も好ましくは（メタ）アクリレート基、スチリル基である。
【００８６】
以下に一般式（Ｉ）で表される好ましい重合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００８７】
【化４】
2006091613.tif 000005
【００８８】
【化５】
2006091613.tif 000006
【００８９】
前記一般式（III）中のＸおよびＺは、一般式（Ｉ）および一般式（II）中のＸおよびＺと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００９０】
前記一般式（III）で表される重合体の分子量範囲は、重量平均分子量で１０００〜５０万であり、好ましくは２０００〜３０万であり、より好ましくは３０００〜２０万である。
【００９１】
以下に、前記一般式（III）で表される重合体の例を示すが、本発明は以下の具体例によって何ら制限されるものではない。
【００９２】
【化６】
2006091613.tif 000007
上記一般式（III−１）において、ｌ、ｍ、ｎおよび分子量の例を下記に示す。
【００９３】
【表１】
2006091613.tif 000008
【００９４】
【化７】
2006091613.tif 000009
上記一般式（III−２）において、ｌ、ｍ、ｎおよび分子量の例を下記に示す。
【００９５】
【表２】
2006091613.tif 000010
【００９６】
【化８】
2006091613.tif 000011
上記一般式（III−３）において、ｌ、ｍ、ｎおよび分子量の例を下記に示す。
【００９７】
【表３】
2006091613.tif 000012
【００９８】
【化９】
2006091613.tif 000013
上記一般式（III−４）において、ｌ、ｍ、ｎおよび分子量の例を下記に示す。
【００９９】
【表４】
2006091613.tif 000014
【０１００】
【化１０】
2006091613.tif 000015
【０１０１】
【化１１】
2006091613.tif 000016
【０１０２】
【化１２】
2006091613.tif 000017
【０１０３】
［硬膜剤］
前記配向膜形成用組成物は、前記配向膜に使用するポリマー（好ましくは水溶性ポリマー、さらに好ましくはポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコール）を硬化するのに寄与する、硬膜剤（以下、「硬化用化合物」という場合もある）を含有する。硬膜剤は、二つ以上のアルデヒド基を含有するアルデヒド化合物であるのが好ましい。硬膜剤の具体例には、グリオキサール、マロンアルデヒド、スクシンアルデヒド、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、ピメロアルデヒド、スベロアルデヒド、アゼラアルデヒド、セバコアルデヒド、アスパルアルデヒド、１，２，４−ブタントリカルバルデヒド、３−ホルミルヘキサンジアール、シクロヘキサンジカルバルデヒド、シクロヘキサンジアセトアルデヒド、フタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、ベンゼントリアルデヒド１，４，５，８−ナフタレンテトラアセトアルデヒド、両末端アルデヒド化ポバール、ジアルデヒドでんぷん等が含まれる。本発明に供されるアルデヒド化合物はこれらに限定されるものではない。
これらの中で、特に、反応性の高い２官能性（アルデヒド基が２つ）脂肪族アルデヒド化合物が好ましい。
【０１０４】
又、供される硬化性化合物として、更に従来公知の架橋剤を併用してもよい。例えばＮ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール等が挙げられる。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。
これらの架橋剤を併用する場合は、全硬化性化合物中の３０質量％以下、好ましくは１０質量％以下である。
【０１０５】
硬化性化合物の添加量は、配向膜用ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の硬化性化合物の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。配向膜中に１．０質量％を超える量で硬化性化合物剤が残存していると、充分な耐久性が得られない。そのような配向膜を液晶表示装置に使用すると、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合にレチキュレーションが発生することがある。
【０１０６】
［求核剤］
本発明の一態様では、前記配向膜組成物は、Ｐｅａｒｓｏｎ等の求核性定数求核性定数（ｎCH3I）が５以上１０以下の求核剤の少なくとも１種を含有する。好ましくはＰｅａｒｓｏｎ等の求核性定数（ｎ）が７以上１０以下である（以降、求核性定数（ｎCH3I）を求核性定数（ｎ）と表記することもある）。ここで、Ｐｅａｒｓｏｎ等の求核性定数（ｎCH3I）は、Ｒ．Ｇ．Ｐｅａｒｓｏｎ、ｅｔａｌ．、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、８９、１８２７（１９６７）に基づくものであり、岡本邦男、「講座有機反応機構３、求核置換反応」ｐｐ１４７（（株）東京化学同人（１９７０年刊））等に記載の内容のものが挙げられる。上記の求核定数（ｎ）となる求核試薬として、例えば以下の試薬が挙げられる（括弧の数字は求核定数（ｎ）を示す）。
有機塩基（例えば、トリエチルアミン（６．６６）、ジエチルアミン（７．００）、Ｎ，Ｎジメチルシクロヘキシルアミン（６．７３）、ピリジン（５．２３）、ピロリジン（７．２３）、ピペリジン（７．３０）、アニリン（５．７０）、Ｎ，Ｎジメチルアニリン（５．６４）等）、ＮＨ３（５．５）、ＡｒＯ―（Ａｒはアリール基を表し、フェニル基、トリル基、キシリル基、メトキシフェニル基等が挙げられ、例えばフェノレートアニオン（５．７５）等）、ヒドロキリルアミン（６．６０）、ＳＣＮ-（６．７０）、チオ尿素（７．２７）、ＯＨ-（６．５８）、Ｉ-（７．４２）、（Ｒ）３Ｐ（Ｒは炭化水素基又は−ＯＲ1基（Ｒ1は炭化水素基）を表す。：炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、フェニル基、トリル基等が挙げられる。例えばトリエチルフォスフィン（８．７２）、トリブチルフォスフィン（８．６９）、トリフェニルフォスフィン（７．００）、トリメトキシフォスフィン（５．００）等）、ＲＳ-（Ｒは炭化水素基を表し、例えばブチル基、ヘキシル基、オクチル基、フェニル基、トリル基等が挙げられる。フェニルチオラートイオン（９．９２）等）、ＳＯ32-（８．５３）、Ｓ2Ｏ32-（８．９５）などが挙げられる。
【０１０７】
上記の求核試薬として挙げられるアニオン分子は、無機カチオンと塩を形成した化合物として用いられる（本発明で称する「求核剤」）。無機カチオンとしては特に限定されないが、具体的にはアンモニウムカチオン、金属カチオン（金属としてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属等の何れでも良い。例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｃｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ等）が挙げられる。
より好ましくは、アンモニウムカチオン、或はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎから選ばれる金属イオンが挙げられる。さらに好ましくは、水／メタノールに対しての溶解性が良い塩を形成していることが挙げられる。
【０１０８】
前記特性の求核剤を含有させた組成物から配向膜を形成することにより、その上に形成される光学異方性層の塗布面状が良好となり、白抜け等の光学的欠陥を軽減若しくは解消する改善効果を発現する。推測される理由としては、配向膜に含有する求核性物質が配向膜に含まれる架橋剤を安定かつ均一に分布させることで光学異方性層塗設した時に液晶分子の配向状態への影響を小さくすることが１つの要因と思われる。当然、添加量により効果は異なってくるため、適時量を調整する必要がある。
【０１０９】
特に好ましい求核剤として、亜硫酸塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）、チオ硫酸塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）が挙げられる。
前記求核剤は、配向膜用組成物中に、０．００１〜１．０質量％の割合で添加するのが好ましい。更には、０．００２〜０．５質量％が好ましい。
添加量がこの範囲であると、膜の強度が十分に保持された白抜け等の光学的に欠陥の無い光学補償シートが得られる。更には、長尺フイルムを連続して製造しても、極めて安定な性能で製造することが出来る。
【０１１０】
配向膜の塗布液の調製法としては、（ａ）配向膜の素材を溶解した溶液の中に硬膜剤及び求核剤を別々に添加する方法、（ｂ）高濃度の架橋剤の溶液を調製してその中に求核剤を添加してその混合溶液を配向膜の素材を溶解した溶液に添加する方法、（ｃ）配向膜の素材を溶解した溶液に高濃度の硬膜剤と求核剤を溶解させた混合溶液を添加した溶液を添加する方法が挙げられる。高濃度の硬膜剤の溶液は１０〜５０ｗｔ％溶液が好ましい。本発明においては（ｂ）〜（ｃ）の方法が好ましい。
【０１１１】
［配向膜に含有されるカルボン酸化合物］
本発明の他の態様では、前記配向膜組成物は、少なくとも二つの極性基を有する有機カルボン酸化合物を少なくとも１種含有する。
該化合物を含有する組成物から配向膜を形成することにより、その上に形成される光学異方性層の塗布面状が良好になり、白抜け等の光学的欠陥を軽減若しくは解消する改善効果を発現する。推測される理由としては、配向膜に含有する少なくとも二つの極性基を有する有機カルボン酸化合物が、配向膜の膜表面水素イオン濃度等を安定にして光学異方性層塗設した時に液晶分子の配向状態への影響を小さくすることが１つの要因と思われる。当然、添加量により効果は異なってくる為、適時量を調整する必要がある。
【０１１２】
少なくとも二つの極性基を有する有機カルボン酸化合物としては、水素結合性を有する水素原子含有の極性基を少なくとも二つ有するカルボン酸が挙げられる。これらのカルボン酸は、脂肪族化合物、芳香族化合物、或は複素環化合物の何れのものでもよい。
特定の極性基としては、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨＲ、−ＣＯＮＨＲ、−ＳＯ2ＮＨＲ、−ＨＮＣＯＮＨＲ、−ＮＨＳＯ2ＮＨＲ、―ＮＨＣＯＲ1、―ＮＨＳＯ2Ｒ1が挙げられる。但し、Ｒは、水素原子、脂肪族基、アリール基、又は複素環基を表す。Ｒ１は、脂肪族基、アリール基又は複素環基を表す。該カルボン酸が上記の極性基を複数含有する場合には、該極性基は同じでも異なってもよい。
【０１１３】
好ましい特定の極性基として、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨＲ、−ＣＯＮＨ2、−ＳＯ2ＮＨ2、−ＨＮＣＯＮＨＲ、−ＮＨＳＯ2ＮＨＲ、―ＮＨＳＯ2Ｒ1が挙げられる。ここで、Ｒは、水素原子、脂肪族基、アリール基、又は複素環基を表す。Ｒ1は、脂肪族基、アリール基又は複素環基を表す。
【０１１４】
Ｒが脂肪族基を表す場合、脂肪族基は炭素数１〜２２の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ナノデシル基、エイコサニル基、ヘネイコサニル基、ドコサニル基等）、炭素数２〜２２の直鎖状若しくは分岐状のアルケニル基（例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、エイコセニル基、ドコセニル基、ブタジエニル基、ペンタジエニル基、ヘキサジエニル基、オクタジエニル基等）、炭素数２〜２２の直鎖状若しくは分岐状のアルキニル基（例えば、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ヘキシニル基、オクタニル基、デカニル基、ドデカニル基等）、炭素数５〜２２の脂環式炭化水素基（例えば、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタン、シクロヘプテン、シクロへプタジエン、シクロオクタン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、デカリン等）が挙げられる。
脂肪族基としては、これらの中で、炭素数１〜１８の直鎖状、炭素原子数３〜１８の分岐状脂肪族基がより好ましい。
【０１１５】
アリール基としては、炭素数６〜１８のアリール基（アリール環としては、ベンゼン、ナフタレン、ジヒドロナフタレン、ビフェニレン等）を表す。
複素環基としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子のいずれかを少なくとも１個含有する単環式若しくは多環式の環構造を有する複素環基（複素環基としては、例えば、フラニル基、テトラヒドロフラニル基、ピラニル基、ピロイル基、ピリジイル基、ピラジニル基、モルホリニル基、チエニル基、ベンゾチエニル基等）等が挙げられる。
【０１１６】
上記の脂肪族基、アリール基、複素環基は各々置換基を有していてもよく、その導入し得る置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられる。
非金属原子団の具体的な例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ11、−ＳＲ11、−ＣＯＲ11、−ＣＯＯＲ11、−ＯＣＯＲ11、−ＳＯ2Ｒ11、−ＮＨＣＯＮＨＲ11、−Ｎ（Ｒ12）ＣＯＲ11、−Ｎ（Ｒ12）ＳＯ2Ｒ11、−Ｎ（Ｒ13）（Ｒ14）、−ＣＯＮ（Ｒ13）（Ｒ14）、−ＳＯ2Ｎ（Ｒ13）（Ｒ14）、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ15）（Ｒ16）、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒ15）（Ｒ16）、−Ｓｉ（Ｒ17）（Ｒ18）（Ｒ19）、炭素数１〜２２の脂肪族基、炭素数２〜１８のアルケニル基、炭素数６〜１８のアリール基、又は複素環基を表す。これら脂肪族基、アリール基、複素環基は、前記Ｒのものと同義である。
【０１１７】
前記Ｒ11は、炭素数１〜２２の脂肪族基、炭素数６〜１８のアリール基、又は複素環基を表す。Ｒ11における脂肪族基は前記Ｒで表される脂肪族基と同義である。Ｒ11におけるアリール基としては、前記Ｒで表される脂肪族基に導入し得る置換基として例示したアリール基と同様のものが挙げられる。かかるアリール基は、更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、前記Ｒで表される脂肪族基に導入し得る置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。
Ｒ12は、水素原子又はＲ11基と同様のものを表す。
前記Ｒ13及びＲ14は、各々独立に、水素原子、又はＲ11と同様のものを表し、Ｒ13とＲ14とは互いに結合して、Ｎ原子を含有する５員又は６員の環を形成してもよい。
【０１１８】
前記Ｒ15及びＲ16は、各々独立に、炭素数１〜２２の脂肪族基、炭素数６〜１４のアリール基、又は−ＯＲ11を表す。Ｒ15及びＲ16における脂肪族基は前記Ｒで表される脂肪族基と同義である。Ｒ15及びＲ16におけるアリール基としては、前記Ｒで表される脂肪族基に導入し得る置換基として例示したアリール基と同様のものが挙げられる。かかるアリール基は更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、前記Ｒで表される脂肪族基に導入し得る置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。但し、かかる極性置換基において、Ｒ15及びＲ16の双方が−ＯＨで表されることはない。
【０１１９】
前記Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は、各々独立に、炭素数１〜２２の炭化水素基又は−ＯＲ20を表すが、これらの置換基の内少なくとも１つは炭化水素基を表す。炭化水素基は前記Ｒで示される脂肪族基及びアリール基と同様のものを表し、−ＯＲ20は前記−ＯＲ11と同様の内容を表す。
Ｒ1における、脂肪族基、アリール基および複素環基はＲと同じものを表す。
前記少なくとも二つの極性基を有する有機カルボン酸化合物としては、炭素数１〜２２（カルボン酸の炭素原子を除く）の脂肪族カルボン酸、炭素数６〜１４の芳香族カルボン酸、複素環カルボン酸のカルボン酸化合物であり、ｐＫａが６．５以下となるものが特に好ましい。より好ましくはカルボン酸のｐＫａが３．０〜６．５の化合物である。
【０１２０】
これら少なくとも二つの極性基を有する有機カルボン酸化合物として具体的には、例えばオキシ酸（例えば、グリコール酸、乳酸、グリセリン酸、α−オキシアルカン酸（アルカンとしては、炭素数３〜１８のアルカン）、等）、アミノ酸、α−オキシ−β−アミノ酸、α−オキシ−γ−アミノ酸、β−オキシ−α−アミノ酸、これらオキシ酸或はオキシアミノ酸のヒドロキシル基がアルコキシ基に誘導された化合物、ヒドキシシクロヘキサンカルボン酸類、ヒドロキシベンゼンカルボン酸類、ポリオール（例えば、アルカンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、シクロヘキサンジオール等）の少なくとも１個のヒドロキシル基を環状カルボン酸無水物（コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、フタル酸等の無水物等）でエステル化した化合物、ポリアミノ化合物（例えば、アルキレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、シクロヘキサンジアミン、フェニレンジアミン等）と環状カルボン酸無水物でアミド化した化合物とから誘導される化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２１】
更に好ましくは、少なくとも二つのヒドロキシル基を含有したポリカルボン酸であり、その少なくとも１つのカルボキシル基がエステル化されてなるカルボン酸化合物が挙げられる。
少なくとも二つのヒドロキシル基を含有したポリカルボン酸としては、タルトロン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、オキシグルタミン酸（β−体、γ−体）、上記のポリオールの少なくとも２個のヒドロキシル基を環状カルボン酸無水物でエステル化した化合物等が挙げられる。
【０１２２】
これらのポリカルボン酸化合物の少なくとも１つのカルボン酸が炭素数１〜２２の炭化水素基でエステル置換されていることが好ましい。
エステル置換される炭素数１〜１８の炭化水素基の具体的態様は、前記のＲで記載した脂肪族基、芳香族基、複素環基と同義である。又これらの炭化水素基は置換されてもよく、置換基としては、前記のＲに置換されると同一の内容のものが挙げられる。
【０１２３】
前記少なくとも二つの極性基を有する有機カルボン酸化合物は、配向膜用組成物中、０．０１〜１．０質量％の割合で添加するのが好ましい。更には、０．０２〜０．５質量％が好ましい。
この範囲において、膜の強度が十分に保持された白抜け等の光学的に欠陥の無い光学補償シートが得られる。更には、長尺フイルムを連続して製造しても、極めて安定な性能で製造することが出来る。
【０１２４】
配向膜は、基本的に、配向膜形成用組成物である前記ポリマー、架橋剤及び少なくとも二つの極性基を有する有機カルボン酸化合物を含む塗布液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥し（架橋させ）、配向処理することにより形成することができる硬化膜である。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成用組成物として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０１２５】
［配向膜の形成方法］
配向膜は、上記組成物を塗布液として調製し、該塗布液を支持体の密着性付与処理を施した表面に塗布することで形成することができる。塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。塗布方法については、詳細を後述する。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。
【０１２６】
更に、前記塗布液を支持体に塗布、乾燥し、その後、光学異方性層用塗布液が塗布されるときに、該配向膜の表面がｐＨ２．０〜６．９の範囲に保持されることがこの好ましい。更にはｐＨ２．５〜５．０がより好ましい。
又、該光学異方性層用塗布液を塗布する際に、塗布の幅方向での配向膜表面のｐＨの変動幅△ｐＨが±０．３０の範囲で行われることが好ましい。より好ましくは、△ｐＨが±０．１５の範囲である。
この範囲において光学異方性層を塗設された光学補償シートは、光学的欠陥が著しく軽減され、好ましい。
【０１２７】
配向膜は、前記ポリマー、アルデヒド化合物（硬化性化合物）、及び求核剤又は少なくとも二つの極性基を有する有機カルボン酸化合物を少なくとも含有する配向膜形成用組成物の塗布液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥し（架橋し）、配向処理することにより形成することができる硬化膜である。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成用組成物として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０１２８】
［配向膜形成のための塗布方法］
前記配向膜は、上記のような配向膜組成物の塗布液をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法、ダイコート法（エクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）、スライドコート法、押し出しコート法）等の方法を用いて塗布することができる。塗布方式に関しては、各種文献（例えば、Ｍｏｄｅｒｎ  Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  Ｄｒｙｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｅｄｗａｒｄ  Ｃｏｈｅｎ  ａｎｄ  Ｅｄｇａｒ  Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ，Ｅｄｉｔｓ．，ＶＣＨ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎｃ，１９９２）に記載されている。少ない塗布量域でも安定に操作できるロッドコーター法、グラビアコーター法、ブレードコーター法、ダイコーター法が好ましい。
特に、ロッドコーター法或はダイコーター法が好ましくい。更には、少ない塗布量域で塗布スジのムラを発生することなく高速で塗布できる、塗布装置部と塗布支持体面が非接触の方法である下記に記載の新規なダイコーター法が好ましい。
【０１２９】
（ダイコーター法）
ダイコーターの好ましい態様としては、バックアップロールによって支持されて連続走行する透明支持体の表面に、スロットダイの先端リップのランドを近接させて、前記先端リップのスロットから塗布液を塗布する方法の、前記スロットダイの透明支持体進行方向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さを３０μｍ以上１００μｍ以下とするスロットダイを使用し、前記スロットダイを塗布位置にセットしたときに、前記ウェブの進行方向とは逆側の先端リップとウェブの隙間を、前記ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなるように設置した塗布装置を用いて塗布される方法が挙げられる。
これにより、本発明の低濃度、低粘度の硬化性組成物の塗布液を極めて少ない塗布量を精密に安定して塗布することが可能となる。
【０１３０】
図１は、本発明に利用可能なスロットコーターの概略図である。コーター１０は、バックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブ１２（例えば、光学異方性層の支持体となる透明フイルム）に対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブ１２に塗布膜１４ｂを形成する。
【０１３１】
スロットダイ１３は、その内部にポケット１５及びスロット１６が形成されている。ポケット１５は、その形状の断面が曲線及び直線で構成される。例えば、図１に示すような略円形でもよいし、半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向（図１中では、紙面を垂直に貫く方向。以下同様である）に、同一の断面形状で延長された空間であり、塗布液を溜めておくのに利用される。その幅方向の延長の有効長さは、塗布幅（例えば、透明フイルムの幅）と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロットとは反対側の面中央から、例えば、供給量を制御可能な供給ポンプ（不図示）等で行われる。ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ないようにするための栓を設けてもよい。
【０１３２】
スロット１６は、ポケット１５と同様に、スロットダイ１３の幅方向に、同一の断面形状で延長された空間であり、ポケット１５からウェブ１２への塗布液１４の流路である。ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、幅規制板（不図示）等を用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６の、スロット先端におけるバックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、一般に３０°以上９０°以下であるのが好ましいが、この範囲に限定されるものではない。
【０１３３】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１７ａとされている。この平坦部１７ａであって、スロット１６に対してウェブ１２の進行方向の上流側を以下、上流側リップランド１８と称し、下流側を下流側リップランド１９と称する。
【０１３４】
図２は、スロットダイ１３の断面形状の概略図（Ａ）と、他のスロットダイ３０の断面形状の概略図（Ｂ）である。図２（Ｂ）に示すスロットダイ３０では、下流側リップランド３１のランド長さＩLOは、上流側リップランドの長さＩUPと同様の長さになっている。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、図２（Ａ）に示すスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩLOが上流側リップランドの長さＩUPと比較して短くなっている。本発明では、いずれの形状のスロットダイを用いることもできるが、膜厚が２０μｍ以下の塗布を行う場合は、スロットダイ１３の様に、ＩLOがＩUPより短い形状のスロットダイを用いるほうが、より高い精度で均一の膜厚の塗布を行えるので好ましい。さらに、下流側リップランド１９のランド長さＩLOが３０μｍ〜１００μｍの範囲であると、寸法精度のよいビードを形成することができるので、より好ましい。
【０１３５】
上流側リップランド１８ａのランド長さＩUPは特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩLOは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。下流側リップのランド長さＩLO  が３０μｍよりも短い場合は、先端リップのエッジあるいはランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さＩLOが１００μｍよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。
【０１３６】
さらに、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブ１２に近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブ１２との距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、もっとも好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブ１２の隙間ＧLとは、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２の隙間を示す。
【０１３７】
図３は、塗布工程のスロットダイ及びその周辺の一例を示す斜視図である。ウェブ１２の進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブ１２の間、サイドプレート４０ｂとウェブ１２の間にはそれぞれ隙間ＧB、ＧSが存在する。図４及び図５は、近接している減圧チャンバー４０とウェブ１２を示す断面図である。サイドプレートとバックプレートは図４のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図５のように適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート４０ａとウェブ１２の間、サイドプレート４０ｂとウェブ１２の間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間ＧB、ＧSと定義する。減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブ１２との隙間ＧBとは、減圧チャンバー４０を図３のようにウェブ１２及びスロットダイ１３の下方に設置した場合、バックプレート４０ａの最上端からウェブ１２までの隙間を示す。
【０１３８】
バックプレート４０ａとウェブ１２との隙間ＧBをスロットダイ１３の先端リップ１７とウェブ１２との隙間ＧLよりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール１１の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブ１２との隙間ＧLが３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート４０ａとウェブ１２の間の隙間ＧBは１００μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。
【０１３９】
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が２０μｍ以内とすることが好ましい。
また、スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップのウェブ走行方向における長さを３０μｍ〜１００μｍの範囲にしても、先端リップの精度を満足できない。したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第２８１７０５３号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップを、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド（以下、ＷＣと称す）などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることも出来る。ＷＣ結晶の平均粒径としては、粒径３μｍ以下がさらに好ましい。
高精度な塗布を実現するためには、先端リップのウェブ進行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、つまり隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以下になるように先端リップとバックアップロールの真直度を出す。
【０１４０】
塗布に際しては２層以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載の方法が挙げられる。
【０１４１】
また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。
【０１４２】
更に、前記配向膜形成用組成物の塗布液を支持体に塗布、乾燥し、配向手段で配向させたのちに光学異方性層用塗布液が塗布されるときに、該配向膜の表面がｐＨ４．０〜１０．０の範囲に保持されることが好ましい。更にはｐＨ４．５〜８．０がより好ましい。
また、該光学異方性層用塗布液を塗布する際に、塗布の幅方向での配向膜表面のｐＨの変動幅△ｐＨが±０．３０の範囲で行われることが好ましい。より好ましくは、△ｐＨが±０．１５の範囲である。
ｐＨの変動幅が上記範囲であると、光学異方性層を塗設された光学補償シートは光学的欠陥がより軽減され、好ましい。
【０１４３】
配向膜表面のｐＨ値の測定方法は、配向膜を塗設した試料を（温度２５℃／湿度６５％ＲＨ）の環境下に１日静置した後、窒素雰囲気下で純水を１０ｍｌ乗せて速やかにｐＨメータでｐＨ値を読み取る。
前記配向膜表面のｐＨ値を特定とし、且つ塗布幅方向での△ｐＨを制御するには、上記のロッドコーター法或はダーコーター法による塗布により達成される。更には、膜表面の乾燥温度、乾燥風を用いる場合のその風量、風向等を調節することも有効である。
【０１４４】
配向膜は、透明支持体上または上記下塗層上に設けられる。また、配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより形成することができる。
ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
また、光照射で光配向する場合には、光照射装置としての光源は、超高圧水銀灯、キセノン灯、蛍光灯、レーザ等を用いることが出来、光二量化化合物を光配向をするには上記光源と偏光膜を組み合わせて（偏光膜を通して）紫外線を直線偏光とし、光配向膜に照射する。偏光膜としては、主に使用されているものとして延伸染色ＰＶＡがある。この直線偏光紫外線照射装置としては、例えば、特開平１０−９０６８４号公報に開示されているものを用いることが出来る。
配向膜の厚さは、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。
【０１４５】
［光学異方性層］
本発明では、光学異方性層を液晶性分子から形成される。
液晶性分子としては、棒状液晶性分子またはディスコティック液晶性分子が好ましい。
棒状液晶性分子としては、例えばアゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。これらの化合物は、例えば日本化学会編季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４年）第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章等の文献記載の化合物等が挙げられる。これら低分子液晶化合物は重合性基を分子内に有することが好ましい（例えば、特開２０００−３０４９３２号公報明細書段落番号［００１６］、特開２００２−６１３８号公報明細書段落番号［００５５］等記載）。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。高分子液晶性分子は、以上のような低分子液晶性分子に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶性分子を用いた光学補償シートについては、特開平５−５３０１６号公報に記載の化合物が挙げられる。
【０１４６】
ディスコティック液晶性分子としては、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，  ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．  Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載されている化合物が挙げられる。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４号公報の記載が挙げられる。
ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことが出来る。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１５１］〜［０１６８］記載の化合物等が挙げられる。
なお、ＳＴＮモードのような棒状液晶性分子がねじれ配向している液晶セルを、光学的に補償するためには、ディスコティック液晶性分子もねじれ配向させることが好ましい。上記連結基に、不斉炭素原子を導入すると、ディスコティック液晶性分子を螺旋状にねじれ配向させることができる。また、不斉炭素原子を含む光学活性を示す化合物（カイラル剤）を光学的異方性層に添加しても、ディスコティック液晶性分子を螺旋状にねじれ配向させることができる。
【０１４７】
二種類以上のディスコティック液晶性分子を併用してもよい。例えば、以上述べたような重合性ディスコティック液晶性分子と非重合性ディスコティック液晶性分子とを併用することができる。
非重合性ディスコティック液晶性分子は、前述した重合性ディスコティック液晶性分子の重合性基を、水素原子またはアルキル基に変更した化合物であることが好ましい。すなわち、非重合性ディスコティック液晶性分子は、例えば特許第２６４００８３号公報記載の化合物等が挙げられる。
【０１４８】
［光学異方性層の他の成分］
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、含フルオロ脂肪族基を含有するポリマー、重合性モノマー、ポリマー、配向剤、傾斜角制御剤等の成分を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することが出来る。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
【０１４９】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０１５０】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
ディスコティック液晶性分子とともに使用するポリマーは、ディスコティック液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。具体的には、例えば特開２００４−１３９０１５号公報明細書中の段落番号［００３６］〜［００９４］、特開２００４−１０１８２０号公報明細書中の段落［００２９］〜［００５８］記載の化合物が挙げられる。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
ディスコティック液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
上記化合物を用い、特許第２００４−１３９０１５号公報記載の光学異方層を用いることも挙げられる。
【０１５１】
含フルオロ脂肪族基を含有するポリマー（以下ポリマーＡとする。）としてはフルオロ脂肪族基含有モノマーにより誘導される繰り返し単位と下記一般式（１）で表される繰り返し単位とを含む共重合体が好ましい。
【０１５２】
【化１３】
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【０１５３】
前記ポリマーＡに含まれるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位は、フルオロ脂肪族基を側鎖に有するポリマーが好ましい。前記フルオロ脂肪族基は、炭素数１〜１２であるのが好ましく、６〜１０であるのがより好ましい。脂肪族基は、鎖状であっても環状であってもよく、鎖状である場合は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。中でも、直鎖状の炭素数６〜１０のフルオロ脂肪族基が好ましい。フッ素原子による置換の程度については特に制限はないが、脂肪族基中の５０％以上の水素原子がフッ素原子に置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましい。フルオロ脂肪族基は、エステル結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、エーテル結合、チオエーテル結合、芳香族環などを介してポリマー主鎖と結合した側鎖に含まれる。以下に前記ポリマーＡに含まれるフルオロ脂肪族基含有モノマーの具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
【０１５４】
【化１４】
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【０１５５】
【化１５】
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【０１５６】
【化１６】
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【０１５７】
【化１７】
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【０１５８】
【化１８】
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【０１５９】
【化１９】
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【０１６０】
【化２０】
2006091613.tif 000025
【０１６１】
上記一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）またはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）またはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝またはその塩を表す。Ｌは下記の連結基群から選ばれる任意の基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−（Ｒ4は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ5）−（Ｒ5はアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基およびアリーレン基。
【０１６２】
一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子または下記に例示した置換基群から選ばれる置換基を表す。
（置換基群）
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２のアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【０１６３】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０１６４】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１６５】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、または後述する−Ｌ−Ｑで表される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ−Ｑで表される基であることがより好ましく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子、炭素数１〜２のアルキル基であることが特に好ましく、Ｒ2およびＲ3が水素原子で、Ｒ1が水素原子またはメチル基であることが最も好ましい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。該アルキル基は、適当な置換基を有していても良い。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。なお、アルキル基の炭素数は、置換基の炭素原子を含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。
【０１６６】
Ｌは、上記連結基群から選ばれる２価の連結基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。上記連結基群中、−ＮＲ4−のＲ4は、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは水素原子またはアルキル基である。また、−ＰＯ（ＯＲ5）−のＲ5はアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくはアルキル基である。Ｒ4およびＲ5がアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す場合の炭素数は「置換基群」で説明したものと同じである。Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、アルキレン基またはアリーレン基を含むことが好ましく、単結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲ4−、アルキレン基またはアリーレン基を含んでいることが特に好ましく、単結合であることが最も好ましい。Ｌがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラブチレン、ヘキサメチレン基等が挙げられる。Ｌが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン、ナフタレン基等が挙げられる。Ｌが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、特に好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。Ｌとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。このような置換基としては先にＲ1〜Ｒ3における置換基として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。
以下にＬの具体的構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１６７】
【化２１】
2006091613.tif 000026
【０１６８】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド等）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、テトラヒドロフラン、トリオキサン、１，３―ジオキソラン等）、炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン等）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン等）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル（例、１，２−ジメトキシエタン、１，３−ジメトキシプロパン等）、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロパングリコール等）が挙げられる。このうち、アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ロッドコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法（押し出しコーティング法、エクストリュージョン法、スライドコーティング法、スリットコーティング法）により実施できる。
【０１６９】
配向剤としては以下の構造の物質が挙げられる。
【０１７０】
【化２２】
2006091613.tif 000027
式中、Ｚはｍ価の連結基をあらわす。ｍは２以上の整数を表す。ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、Ｏ、Ｓのいずれかをあらわし、複数のＸは同じでも異なっても良い。Ｑはヘテロ環または芳香環をあらわし、複数のＱは同じでも異なっていてもよい。
【０１７１】
前記一般式（Ｉ）において、Ｚはｍ価の連結基を表す。好ましくはＺは芳香環以外の連結基である。
【０１７２】
前記一般式（Ｉ）において、Ｑはヘテロ環または芳香環をあらわし、複数のＱは同じでも異なっていてもよい。ヘテロ環の例としては、５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環であり、好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環である。芳香環の例としては、６〜３０員の置換もしくは無置換の芳香環であり、好ましくは５、６員の置換もしくは無置換の芳香環基であり、さらに好ましくは、ヘテロ環の芳香環である。
【０１７３】
Ｑが有してもよい置換基としては、アルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ドデシル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル、２‐へキシルデシル、２−オクチルドデシル、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルが挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が得に好ましい。）、
【０１７４】
アルケニル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）、やトリシクロアルケニル基、単環のシクロアルケニル基が得に好ましい。）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
【０１７５】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェニル、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェニル、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェニル、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
【０１７６】
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ、１Ｈ、１Ｈ、９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノキシ、２−パーフルオロヘキシルエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ、  ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェノキシ、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェノキシ、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェノキシ、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、
【０１７７】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
【０１７８】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、３−パーフルオロヘキシルプロピルアミノ、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミノ、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ、３−（２−ヘキシルデカノオキシ）プロピルアミノ、３−ドデシルオキシプロピルアミノ、３−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）プロピルアミノ、３−（３−（６Ｈ−パーフルオロヘキシル）プロピルオキシ）プロピルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、２−メチルオキシアニリノ、２−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ、２−（２−パーフルオロブチルエチルオキシ）アニリノ、２、４−ジ（２−パーフルオロヘキシルエチルオキシ）アニリノ、２−（６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）アニリノ、３，４−ジ（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ、Ｎ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、
【０１７９】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、
【０１８０】
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、
【０１８１】
アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、
【０１８２】
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、
【０１８３】
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
【０１８４】
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【０１８５】
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１８６】
また、置換基によって分子が連結し、一般式（Ｉ）が多量体（例えば二量体、三量体等）であっても良い。多量体の中では、ニ量体、三量体、または四量体が好ましい。
【０１８７】
前記一般式（Ｉ）は、より好ましくは下記一般式（ＩＩＩ）である。
【０１８８】
【化２３】
2006091613.tif 000028
式中、Ｚはｍ価の連結基をあらわす。ｑは２以上の整数を表す。ＸはＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、Ｏ、Ｓのいずれかをあらわし、複数のＸは同じでも異なっても良い。Ｒ及びＲ’は置換基をあらわし、同じでも異なっていてもよく、複数のＲ及びＲ’はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
【０１８９】
一般式（ＩＩＩ）において、ＲおよびＲ’で表される置換基としては、一般式（Ｉ）でＱが有してもよい置換基の例をあげることができる。
【０１９０】
ＲおよびＲ’の置換基の例として、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるものも含むものとする。つまり、一般式（ＩＩＩ）には多量体（例えば二量体、三量体等）も含まれる。
【０１９１】
【化２４】
2006091613.tif 000029
式中、Ｚ1はｍ価の連結基をあらわす。ｑは２以上の整数を表す。Ｘ1及びＸ2はＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、Ｏ、Ｓのいずれかをあらわし、複数のＸ1及びＸ2はそれぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ1及びＲ2は置換基をあらわし、同じでも異なっていても良く、複数のＲ1及びＲ2はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
【０１９２】
一般式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ1及びＲ2で表される置換基としては、一般式（Ｉ）でＱが有してもよい置換基の例をあげることができる。
【０１９３】
次に下記一般式（ＩＶ）を説明する。
【０１９４】
【化２５】
2006091613.tif 000030
式中、Ｚ11は二価の連結基をあらわす。Ｘ11及びＸ12はＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、Ｏ、Ｓのいずれかをあらわし、同じでも異なっても良い。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は置換基をあらわし、それぞれ同じでも異なっていても良い。
【０１９５】
一般式（ＩＶ）において、Ｚ11で表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。
【０１９６】
一般式（ＩＶ）において、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14で各々表される置換基の例としては、前述の一般式（ＩＩＩ）におけるＲおよびＲ’の置換基として挙げた例が挙げられる。
【０１９７】
好ましくはＲ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、置換基を有してもよいアルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基であり、さらに好ましくは置換基を有してもよいアルキルアミノ基［例えばメチルアミノ、ジメチルアミノ、３−パーフルオロヘキシルプロピルアミノ、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミノ、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ、３−（２−ヘキシルデカノオキシ）プロピルアミノ、３−オクチルオキシプロピルアミノ、３−ドデシルオキシプロピルアミノ、３−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）プロピルアミノ、３−（３−（６Ｈ−パーフルオロヘキシル）プロピルオキシ）プロピルアミノ］、アリールアミノ基［例えばアニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、２−メチルオキシアニリノ、２−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ、２−（２−パーフルオロブチルエチルオキシ）アニリノ、２、４−ジ（２−パーフルオロヘキシルエチルオキシ）アニリノ、２−（６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）アニリノ、３，４−ジ（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ］である。有してもよい置換基としては前述のＲおよびＲ’の置換基として挙げた例が挙げられる。
【０１９８】
より好ましくは前記一般式（ＩＶ）は、下記一般式（ＩＸ）である。
【０１９９】
【化２６】
2006091613.tif 000031
式中、Ｘ51及びＸ52はＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、Ｏ、Ｓのいずれかをあらわし、同じでも異なっても良い。Ａ51、Ａ52及びＡ53は２価の連結基を表し、同じでも異なっても良く、複数のＡ52は同じでも異なってもよい。ｔは０以上の整数を表す。Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53及びＲ54は置換基をあらわし、同じでも異なっていても良い。
【０２００】
一般式（ＩＸ）において、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53およびＲ54は一般式（ＩＶ）で示したものと同じものであり、好ましい範囲も同様である。
【０２０１】
一般式（ＩＸ）において、Ａ51、Ａ52及びＡ53は２価の連結基であり、例えばアルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。より好ましくはアルキレン基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキレン基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキレン基であり、例えば−ＣＨ2−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2−、−（ＣＨ2）4−）であり、さらに好ましくは、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−（ＣＨ2）4−である。
【０２０２】
前述のアルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基および二価のヘテロ環残基は、可能であれば置換基を有してもよく、有してもよい置換基としては前述のＲおよびＲ’の置換基として挙げた例が挙げられる。
【０２０３】
次に下記一般式（Ｖ）を説明する。
【０２０４】
【化２７】
2006091613.tif 000032
式中、Ｚ21、Ｚ22及びＺ23は二価の連結基をあらわし、それぞれ同じでも異なっても良い。Ｘ21〜Ｘ26はＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、Ｏ、Ｓのいずれかをあらわし、それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ21〜Ｒ26は置換基をあらわし、それぞれ同じでも異なっていても良い。
【０２０５】
一般式（Ｖ）において、Ｚ21〜Ｚ23、Ｒ21〜Ｒ26はそれぞれ、一般式（ＩＶ）で示したＺ11、Ｒ11〜Ｒ14と同種類であり、好ましい範囲もそれぞれ同様である。
【０２０６】
より好ましくは前記一般式（Ｖ）は、下記一般式（Ｘ）である。
【０２０７】
【化２８】
2006091613.tif 000033
式中、Ｘ61〜Ｘ66はＮＲａ（Ｒａは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）、Ｏ、Ｓのいずれかをあらわし、同じでも異なっても良い。Ａ61〜Ａ69は２価の連結基を表し、同じでも異なっても良く、複数のＡ62、Ａ65、Ａ68はそれぞれ同じでも異なってもよい。ｎ１〜ｎ３は０以上の整数を表す。Ｒ51〜Ｒ66は置換基をあらわし、同じでも異なっていても良い。
【０２０８】
一般式（Ｘ）においてＲ66〜Ｒ66はそれぞれ、一般式（ＩＶ）で示したＲ11〜Ｒ14と同種類であり、好ましい範囲もそれぞれ同様である。
【０２０９】
一般式（Ｘ）において、Ａ61〜Ａ69は２価の連結基であり、例えばアルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＳＯ−、ーＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。より好ましくはアルキレン基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキレン基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキレン基であり、例えば−ＣＨ2−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2−、−（ＣＨ2）4−）であり、さらに好ましくは、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−（ＣＨ2）4−である。
【０２１０】
前述のアルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基および二価のヘテロ環残基は、可能であれば置換基を有してもよく、有してもよい置換基としては前述のＲおよびＲ’の置換基として挙げた例が挙げられる。
【０２１１】
前記一般式（Ｉ）、（III）、（IV）、（Ｖ）、（ＩＸ）及び（Ｘ）で表される化合物の好ましい具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。なお、前記一般式（Ｉ）、（III）、（IV）、（Ｖ）、（ＩＸ）及び（Ｘ）で表される化合物は、配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有してもよい。以下、例示化合物（ｘ）と示す。
【０２１２】
【化２９】
2006091613.tif 000034
【０２１３】
【化３０】
2006091613.tif 000035
【０２１４】
【化３１】
2006091613.tif 000036
【０２１５】
【化３２】
2006091613.tif 000037
【０２１６】
【化３３】
2006091613.tif 000038
【０２１７】
【化３４】
2006091613.tif 000039
【０２１８】
前記一般式（Ｉ）、（III）、（IV）、（Ｖ）、（ＩＸ）及び（Ｘ）で表される化合物は、単独で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。前記化合物の添加量としては、液晶性化合物の量に対して０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％が特に好ましく、０．０５〜５質量％が最も好ましい。
【０２１９】
傾斜角制御剤として以下の化合物が挙げられる。
【０２２０】
一般式（ＩＩ）
（Ｒｆ−Ｙ−）nＡｒ（−Ｗ）p
式中、Ａｒは芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｙは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆはフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｎは１〜４の整数を表し、ｐは１又は２を表す。但し、Ｒｆにおいて、フッ素原子で置換された炭素原子数は１〜４である。
【０２２１】
更に詳細に説明すると、上記一般式（ＩＩ）において、Ａｒで表される芳香族ヘテロ環は好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２の芳香族ヘテロ環であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環であり、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、イソキサゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、１，３，５−トリアジン環、インドール環、インダゾール環、キノリン環、カルバゾール環が好ましい。Ａｒで表される芳香族炭化水素環は、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環であり、ベンゼン環が最も好ましい。Ａｒは芳香族炭化水素環であるのが好ましい。
【０２２２】
Ａｒで表される芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環は置換基を有していてもよく、置換基としては以下の基を挙げることができる。
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【０２２３】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０２２４】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０２２５】
Ａｒで表される芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環の置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基であり、特に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基であり、最も好ましくは無置換の芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環である。
【０２２６】
Ｙは２価の連結基または単結合を表す。２価の連結基である場合には、アルキレン基、アルケニレン基、２価の芳香族基、２価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。２価の連結基は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる２価の連結基を少なくとも２つ組み合わせた基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、可能であれば前述のＡｒの置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基など）によって置換されていてもよい。
Ｙは２価の連結基であることが好ましく、なかでもアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが特に好ましい。
【０２２７】
Ｒｆで表されるフッ素原子で置換されたアルキル基は環状構造又は分岐構造を有していてもよい。フッ素原子の置換率は、アルキル基に含まれる水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されていることが好ましく、６０％以上が置換されていることがより好ましい。但し、フッ素原子で置換された炭素原子の数は１〜４のいずれかである。Ｒｆは、末端がＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基であることが好ましく、ＣＦ3基であることが特に好ましい。Ｒｆで表されるフッ素原子で置換されたアルキル基は、可能であれば前述のＡｒの置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基など）によって置換されていてもよい。
以下に、Ｒｆの具体例を示す。
【０２２８】
【化３５】
2006091613.tif 000040
【０２２９】
Ｗはスルホ基であることが好ましく、ｍは１又は２が好ましく、ｎは１が好ましい。
【０２３０】
特に好ましくは前記一般式（ＩＩ）は、下記一般式（ＩＩａ）である。
【０２３１】
【化３６】
2006091613.tif 000041
式中、Ｙ2は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ2はフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。但し、Ｒｆ2において、フッ素原子で置換された炭素原子の数は１〜４である。
【０２３２】
前記一般式（ＩＩａ）において、Ｙ2及びＲｆ2は前記一般式（ＩＩ）におけるＹ及びＲｆと同義であり、好ましい範囲も同一である。
【０２３３】
上記一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【０２３４】
【化３７】
2006091613.tif 000042
【０２３５】
【化３８】
2006091613.tif 000043
【０２３６】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物は、一般的なヒドロキシ基のアルキル化反応及び芳香族化合物のスルホ化反応等を組み合わせることによって容易に合成することができる。
【０２３７】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の量に対して０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％が特に好ましく、０．０５〜１質量％が最も好ましい。
【０２３８】
［液晶性分子の配向状態の固定］
液晶性分子は、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性分子が実質的に均一に配向している状態で固定されていることが最も好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が挙げられる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
ディスコティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０２３９】
光学的異方性層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましく、０．７〜５μｍであることが最も好ましい。ただし、液晶セルのモードによっては、高い光学的異方性を得るために、光学的異方性層を厚く（３〜１０μｍ）する場合がある。
光学的異方性層内での液晶性分子の配向状態は、前述したように、液晶セルの表示モードの種類に応じて決定される。液晶性分子の配向状態は、具体的には、液晶性分子の種類、配向膜の種類および光学異方性層内の添加剤（例、可塑剤、ポリマー、界面活性剤）の使用によって制御される。
【０２４０】
液晶の配向構造に関する評価法としてクリスタルローテーション法が挙げられる。クリスタルローテーション法は、例えば液晶便覧（発行者  村田  誠四郎）Ｐ２３９に記載が有る。アンチパラレルセル中で液晶分子が一様に配列しているとすると、傾き角θは結晶光学における誘電主軸の測定と同様な手法で求めることができる。直交する偏光子の間に試料を入れ、ラビング軸に対して垂直な軸の周りに試料を回転し、透過光量の角度依存性を測定する。あらかじめ液晶の屈折率を測定しておき、データを理論式にあてはめてθを求める。
【０２４１】
上記のようにして、本発明の光学補償シートが製造される。本発明の光学補償シートは、前記した通り、予め密着性を付与処理した透明支持体、配向膜、及び光学異方性層がこの順に積層された層構成を有する。
本発明の光学補償シートは、偏光板と貼り合せるか、偏光板の保護フイルムとして使用することで、その機能を著しく発揮する。
以下、偏光板及びその製造について詳しく説明する。
【０２４２】
［偏光板の透明保護膜］
本発明の偏光板は偏光膜と透明保護膜を含有することからなる。保護膜が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフイルム、好ましくは前記のセルロースアシレートフイルムが用いられる。透明保護膜の厚さは、２０〜２００μｍであることが好ましく、３０〜１００μｍであることがさらに好ましい。特に好ましくは３０〜８０μｍである。通常は偏光膜の両面に透明保護膜を配置する。
【０２４３】
本発明では、偏光板の片面に透明保護膜の代わりに光学補償シートを用いることが好ましい。すなわち、光学補償シートの光学異方性層（複数の光学異方性層を設ける場合、最も偏光膜側の第１光学異方性層）を、偏光膜上に直接液晶性分子から形成するか、もしくは配向膜を介して液晶性分子から形成することが好ましい。具体的には、前記のような光学異方性層用塗布液を偏光膜の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光膜と光学異方性層との間に透明保護膜を使用することなく、偏光膜の寸度変化にともなう応力（歪み×断面積×弾性率）が小さい薄い偏光板が作成される。本発明による偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示する。
【０２４４】
［光学補償シートの表面処理］
光学補償シートを偏光板の透明保護膜の代わりに使用する場合、光学補償シートと偏光板の透明保護膜との接着が問題となる。本発明では、光学補償シートの偏光膜側の面を表面処理することにより、光学補償シートと偏光膜との接着を改善する。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、オゾン処理、酸処理またはアルカリ処理を実施する。
コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ処理等の処理方法は、例えば、前記の公技番号２００１−１７４５の３０頁〜３１頁に記載の内容が挙げられる。本発明は、アルカリ処理することが好ましく、前記したフイルムの鹸化処理で記載と同様の内容のものが挙げられる。
【０２４５】
［偏光膜］
本発明に用いられる偏光膜は、通常、Ｏｐｔｉｖａ  Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光膜、もしくはバインダーと、ヨウ素または二色性色素とからなる偏光膜が好ましい。
偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素および二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
現在、市販の偏光膜は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。
市販の偏光膜は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）にヨウ素もしくは二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みが必要である。浸透度は、ヨウ素もしくは二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。
上記のように、バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よい。現在市販の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。２０μｍ以下であると、光漏れ現象は、１７インチの液晶表示装置で観察されなくなる。
【０２４６】
偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。
架橋しているバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーを用いることができる。官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入して得られるバインダーを、光、熱あるいはｐＨ変化により、バインダー間で反応させて偏光膜を形成することができる。
また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。
架橋は一般に、ポリマーまたはポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱を行なうことにより実施される。最終商品の段階で耐久性が確保できれば良いため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行なっても良い。
【０２４７】
偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。ポリマーの例としては、前記の配向膜で記載のポリマーと同様のものが挙げられる。
ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号および同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。
ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。
【０２４８】
バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。
配向膜は、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。但し、残存する架橋剤の量は、配向膜中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、偏光度の低下を生じない。
架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書の記載が挙げられる。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も架橋剤として用いることができる。
【０２４９】
二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。
二色性色素の例としては、例えば、発明協会公開技法、公技番号２００１−１７４５号、５８頁（発行日２００１年３月１５日）に記載の化合物が挙げられる。
【０２５０】
液晶表示装置のコントラスト比を高めるためには、偏光板の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。
【０２５１】
偏光膜と光学異方性層、あるいは、偏光膜と配向膜を接着剤を介して配置することも可能性である。接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液を用いることができる。ポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜５μｍの範囲にあることが特に好ましい。
【０２５２】
［偏光板の製造］
偏光膜は、歩留まりの観点から、バインダーを偏光膜の長手方向（ＭＤ方向）に対して、１０〜８０度傾斜して延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。
通常の傾斜角度は４５゜である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５゜でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
【０２５３】
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸工程は、斜め延伸を含め数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め延伸前に、横あるいは縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。
延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を左右異なる工程で行うことによって実施できる。上記二軸延伸は、通常のフイルム製膜において行われている延伸方法と同様である。二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のバインダーフイルムの厚みが左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、バインダー溶液の流量に左右の差をつけることができる。
以上のように、偏光膜のＭＤ方向に対して１０〜８０度斜め延伸されたバインダーフイルムが製造される。
【０２５４】
ラビング法では、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を応用することができる。すなわち、膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いて実施することが好ましい。ラビングロールへのフイルムのラップ角度は、０．１〜９０゜が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０゜以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。
長尺フイルムをラビング処理する場合は、フイルムを搬送装置により一定張力の状態で１〜１００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送することが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフイルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。０〜６０゜の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０゜が好ましい。４５゜が特に好ましい。
【０２５５】
偏光膜の光学異方性層とは反対側の表面には、前記透明保護膜を配置する（光学異方性層／偏光膜／透明保護膜の配置とする）ことが好ましい。
透明保護膜は、その最表面が防汚性及び耐擦傷性を有する反射防止膜を設けてなることも好ましい。反射防止膜は、従来公知のいずれのものも用いることが出来る。
【０２５６】
上記のようにして、本発明の偏光板が製造される。
本発明の光学補償シートまたは該光学補償シートを用いた偏光板は、液晶表示装置、特に透過型液晶表示装置に有利に用いられる。
以下、液晶表示装置、特に透過型液晶表示装置及びその製造について詳しく説明する。
【０２５７】
「液晶表示装置」
本発明の透過型液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された二枚の偏光板を含有することからなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。
各液晶モードにおける光学異方性層の好ましい形態について、以下で説明する。
各液晶モードにおける光学異方性層の好ましい形態において、本発明の光学補償シートまたは該光学補償シートを用いた偏光板は、有利に光学的に補償することができる。
【０２５８】
（ＴＮモード液晶表示装置）
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献の記載が挙げられる。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０２５９】
（ＯＣＢモード液晶表示装置）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている装置が挙げられる。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）  液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０２６０】
（ＶＡモード液晶表示装置）
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が挙げられる。
【０２６１】
（ＩＰＳモード液晶表示装置）
ＩＰＳモードの液晶セルでは、液晶分子を基板に対して常に水平面内で回転させるモードで、電界無印加時には電極の長手方向に対して若干の角度を持つように配向されている。電界を印加すると電界方向に液晶分子は向きを変える。液晶セルを挟持する偏光板を所定角度に配置することで光透過率を変えることが可能となる。液晶分子としては、誘電率異方性Δεが正のネマチック液晶を用いる。液晶層の厚み（ギャップ）は、２．８μｍ超４．５μｍ未満とする。これは、レターデーションΔｎ・ｄは０．２５μｍ超０．３２μｍ未満の時、可視光の範囲内で波長依存性が殆どない透過率特性が得られる。偏光板の組み合わせにより、液晶分子がラビング方向から電界方向に４５°回転したとき最大透過率を得ることができる。尚、液晶層の厚み（ギャップ）はポリマビーズで制御している。もちろんガラスビーズやファイバー、樹脂製の柱状スペーサでも同様のギャップを得ることができる。また液晶分子は、ネマチック液晶であれば、特に限定したものではない。誘電率異方性Δεは、その値が大きいほうが、駆動電圧が低減でき、屈折率異方性Δｎは小さいほうが液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、かつギャップばらつきを少なくすることができる。
【０２６２】
（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモードおよびＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することが出来る。
「反射防止膜付きの偏光板」
本発明の偏光板は、空気側の偏光膜の保護膜の表面上に更に反射防止膜を設けてなることが好ましい。これにより、外光の写り込みが著しく軽減若しくは解消されて、鮮明な画像表示が可能となる。反射防止膜は偏光膜の保護膜上に直接設ける、或は透明支持体上に反射防止膜を設けた反射防止フイルムを偏光膜保護膜と貼り合せる態様が挙げられる。偏光板の薄膜化から、前者の態様が好ましい。
［反射防止膜］
反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（すなわち、高屈折率層、中屈折率層）とを透明支持体上に設けてなる。
【０２６３】
反射防止膜の形成方法としては、屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させて多層膜とする方法；化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法により薄膜を形成する方法；金属アルコキシド等の金属化合物のゾル／ゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法などが挙げられる。さらに生産性が高い反射防止膜の形成方法として、無機粒子をマトリックスに分散させてなる薄膜組成物を積層塗布して反射防止膜を形成する方法など各種の提案がなされている。またこの塗布による反射防止膜に、最上層表面が微細な凹凸の形状を有している防眩性を付与した反射防止膜も挙げられる。
【０２６４】
（塗布型反射防止膜の構成）
透明支持体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなる反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。
【０２６５】
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。さらに、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
【０２６６】
反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また反射防止膜の表面の硬度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０２６７】
（高屈折率層及び中屈折率層）
前記反射防止膜の高い屈折率を有する層（高屈折率層及び中屈折率層）は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜からなることが好ましい。
【０２６８】
（無機化合物微粒子）
高屈折率に用いられる無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。
【０２６９】
これらの無機化合物としては、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられ、特に好ましくは、Ｃｏ、Ｚｒ、ＡＬ（好ましくはＣｏ）から選ばれる少なくとも１つの元素（以下このような元素を含有元素ということがある）を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子（以下、「特定の酸化物」と称することもある）が挙げられる。含有元素の総含有量は、Ｔｉに対して０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％、さらに好ましくは０．２〜７質量％、特に好ましくは０．３〜５質量％、最も好ましくは０．５〜３質量％である。
【０２７０】
上記の含有元素は、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部、又は表面に存在する。二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの特定の金属元素は、酸化物として存在してもよい。
【０２７１】
また他の好ましい無機粒子としては、酸化物が屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称する）と、チタン元素との複合酸化物の粒子であり、且つ該複合酸化物はＣｏイオン、Ｚｒイオン、及びＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複合酸化物」と称することもある）が挙げられる。ここで、その酸化物の屈折率が１．９５以上となる金属元素としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ，Ｓｎ、及びＢｉが好ましい。特には、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｂｉが好ましい。複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属［Ｔｉ＋Ｍｅｔ］量に対して、２５質量％を越えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましい。より好ましくは０．０５〜１０質量％、さらに好ましくは０．１〜５質量％、最も好ましくは０．３〜３質量％である。
【０２７２】
ドープされた金属イオンは、金属イオン又は金属原子の何れの形体で存在してもよく、複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在する。表面と内部との両方に存在することが好ましい。
【０２７３】
このような無機化合物の超微粒子を得るには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物又は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコア／シェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４号公報、米国特許２００３／０２０２１３７Ａ１号公報等）、特定の分散剤の併用（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許番号６２１０８５８Ｂ１号公報、特開２００２−２７７６０６９号公報等）などを挙げることができる。
【０２７４】
（マトリックスバインダー）
高屈折率層のマトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。またラジカル重合性及び／又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上含有のポリビニル化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。さらに金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と、金属アルコキド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。これらについては、例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
【０２７５】
高屈折率層の屈折率は、一般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。また中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
【０２７６】
（低屈折率層）
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなる。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは１．３０〜１．５０の範囲であるのがよい。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等からなる薄膜層の手段を適用できる。
【０２７７】
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性又は重合性の官能基を含む化合物が好ましい。このような化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報、特開２００４−４５４６２号公報明細書等に記載の化合物が挙げられる。
【０２７８】
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基又は重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造をを有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン｛例えば、「サイラプレーン」チッソ（株）製等｝、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
【０２７９】
架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
【０２８０】
またシランカップリング剤等の有機金属化合物と、特定のフッ素含有炭化水素基を有するシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾル／ゲル硬化膜も好ましい。例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
【０２８１】
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物を含有することが好ましい。
【０２８２】
特に、上記低屈折率層はその屈折率上昇をより一層少なくするために、中空の無機微粒子を用いることが好ましい。中空の無機微粒子は、その屈折率が、通常１．１７〜１．４０、好ましくは１．１７〜１．３７、さらに好ましくは１．１７〜１．３５であるのがよい。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空の無機微粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。中空の無機微粒子の屈折率は、粒子の強度及び該中空粒子を含む低屈折率層の耐擦傷性の観点から、１．１７以上とすることが好ましい。
なお、これら中空の無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計［アタゴ（株）製］にて測定することができる。
【０２８３】
無機微粒子の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状、リング状、又は不定形状であることが好ましい。
【０２８４】
また、中空の無機微粒子の空隙率は、該粒子内の空腔の半径をｒi、粒子外殻の半径をｒoとするとき、下記数式（５）に従って計算される。
数式（５）：ｗ＝（ｒi／ｒo）3×１００
【０２８５】
中空の無機微粒子の空隙率は、該粒子の強度及び反射防止膜表面の耐擦傷性の観点から、好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
【０２８６】
低屈折率層中の中空の無機微粒子の平均粒径は、該低屈折率層の厚みの３０〜１００％、さらには３５〜８０％、特には４０〜６０％であることが好ましい。すなわち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、無機微粒子の粒径は３０〜１００ｎｍ、さらには３５〜８０ｎｍ、特には４０〜６０ｎｍの範囲となるので好ましい。該平均粒径が前記の範囲であると、反射防止膜の強度が十分に発現される。
【０２８７】
低屈折率層に含まれる他の添加剤としては、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
【０２８８】
低屈折率層の上にさらに最外層が形成される場合には、低屈折率層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよいが、安価に製造できる点で、塗布法により形成されることが好ましい。低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０２８９】
（反射防止膜の他の層）
反射防止膜には、さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗層、保護層等を設けてもよい。
【０２９０】
（ハードコート層）
ハードコート層は、反射防止膜に物理強度を付与するために、透明支持体（又は保護フイルム；以下同じ）の表面に設けられる。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
【０２９１】
ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。
【０２９２】
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。ハードコート層にはまた、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。
【０２９３】
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
【０２９４】
ハードコート層の硬度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。またハードコート層の耐擦傷性は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後のハードコート層を塗設した試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０２９５】
（前方散乱層）
前方散乱層は、反射防止膜を設けた保護フイルムを偏光板を液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設けられる。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。前方散乱層については、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等が挙げられる。
【０２９６】
反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。
【０２９７】
（アンチグレア機能）
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜５０％であることが好ましく、５〜３０％であることがさらに好ましく、５〜２０％であることが最も好ましい。
【０２９８】
反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層）に比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。
【実施例】
【０２９９】
以下に本発明の光学補償シート、偏光板、液晶表示装置についての具体的な実施例を記述するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３００】
［実施例１］
（透明支持体の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
＜セルロースアセテート溶液組成＞
置換度２．８５（６位置換度０．９０）のセルロースアセテート  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                          ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）                  ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                              ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                        ４５質量部
染料（住化ファインケム（株）製  ３６０ＦＰ）          ０．０００９質量部
【０３０１】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
【０３０２】
【化３９】
2006091613.tif 000044
【０３０３】
上記組成のセルロースアセテート溶液４６４質量部にレターデーション上昇剤溶液３６質量部、およびシリカ微粒子“ＡＥＲＯＳＩＬ９７２”（商品名；日本アエロジル（株）製）１．１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
【０３０４】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアシレートフイルムＣＡ−１（厚さ１００μｍ）を製造した。
作製したセルロースアシレートフイルムＣＡ−１について、レターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは８５ｎｍ、面内のレターデーションＲｅは７ｎｍであった。
【０３０５】
（鹸化処理）
セルロースアシレートフイルム（ＣＡ−１）上に、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フイルム表面温度４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液（Ｓ−１）をロッドコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2、塗布速度４０ｍ／分で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に１０秒滞留させた後に、同じくロッドコーターを用いて純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。この時のフイルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥した。
＜アルカリ溶液（Ｓ−１）組成＞
水酸化カリウム                                      ８．５５  質量部
水                                                ２３．２３５質量部
イソプロパノール                                  ５４．２０  質量部
界面活性剤（Ｋ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2０Ｈ）
１．０    質量部
プロピレングリコール                              １３．０    質量部
消泡剤サーフィノールＤＦ１１０Ｄ（日信化学工業（株）製）
０．０１５質量部
アルカリ処理後のフイルムの表面の水との接触角は３５°であり、且つフイルム全面がムラ無く均一に親水化された。
【０３０６】
（配向膜の形成）
５０質量部のグルタルアルデヒドの水溶液を作製し、その水溶液中に亜硫酸ナトリウム０．０５質量部を加えて４時間室温で放置した。その液を下記の変性ポリビニルアルコールの溶解した水／メタノール溶液に添加して、下記の組成の配向膜塗布液を調製した。
＜配向膜形成用塗布液（ＡＬ−１）組成＞
下記の変性ポリビニルアルコール                            ２０質量部
亜硫酸ナトリウム（Ａ−１）（ｎ＝８．５３）            ０．０５質量部
グルタルアルデヒド                                      ０．５質量部
水                                                      ３６０質量部
メタノール                                              １２０質量部
【０３０７】
【化４０】
2006091613.tif 000045
【０３０８】
上記のアルカリ処理したフイルム表面上に、配向膜用塗布液（ＡＬ−１）をロードコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥し、膜を形成した。乾燥後の塗布面の塗布幅方向での中央と左右両端の位置のｐＨ値は６．０〜６．６の範囲であった。
次に、形成した膜の表面に、フイルムの長手方向にラビング処理を実施して、配向膜を形成した。
【０３０９】
（光学異方性層の形成）
下記の組成のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１）を＃４のワイヤーバーコーターで塗布し、１２５℃の高温槽中で９０秒加熱し、ディスコティック液晶を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シートＫＳ−１を作製した。光学異方性層の厚さは、１．８μｍであった。
【０３１０】
＜ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１）組成＞
下記のディスコティック液晶ＤＬＣ−Ａ                    ９．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株））                      ０．９質量部
イルガキュアー９０７（チバガイギー製）                  ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）                ０．１質量部
メチルエチルケトン                                    ２５．９質量部
セルロースアセテートブチレート                          ０．２質量部
（ＣＡＢ５５１−０．２：  イーストマンケミカル社製）
配向剤（Ｐ７０例示化合物（Ｉ−１））                  ０．０２質量部
傾斜角制御剤（Ｐ．８４（II−１７））                  ０．０２質量部
下記の含フルオロ脂肪族基を含有するポリマー（ＦＰ−１）０．０４質量部
【０３１１】
【化４１】
2006091613.tif 000046
【０３１２】
【化４２】
2006091613.tif 000047
【０３１３】
クリスタルローテーション法を応用して傾斜角を測定したところ、ディスコティック液晶性分子は円盤面とガラス基板平面とのなす角度（傾斜角）が、膜面から光学空気界面に向かって３度から７５度まで増加（ハイブリッド配向）し、平均チルト角が約４０度でハイブリット配向していることが判った。
光学補償シートＫＳ−１のレターデーションを測定した所、面内レターデーション（Ｒｅ）は６９ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは、１０８ｎｍであった。
光学補償シートＫＳ−１をクロスニコル偏光板間に挟み、面状ムラ、配向不良の確認を行った。なお、白抜け状ムラと配向の評価は下記の通りとし、結果を表１に示した。
【０３１４】
（ｉ）面状ムラ
偏光板クロスニコル下の状態で光学補償シートを対角位に差し込み、数ｍｍ大の面状ムラの個数を数えた。
（ii）配向
偏光板クロスニコル下の状態で光学補償シートを消光位に差し込み、シュリーレンなどの欠陥の有無を確認した。
（iii）密着性の評価
また、光学補償シートＫＳ−１を、アクリル系接着剤を用いてガラス板に貼りつけ、９０℃で２０時間保存した。アクリル系接着剤は液晶表示装置の組み立てに、ガラス板は液晶セルに用いられるものと同じである。ガラス板から光学補償シートを垂直方向に剥がして、剥離残りが生じた部分を調べることで、密着性を評価した。評価は、０（著しく剥離残りがある）から５（剥離の残りが全く認められない）までの５段階で行った。それらの結果を表１に示す。
【０３１５】
［実施例２］
（透明支持体の作製）
実施例１で得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分間乾燥し、剥ぎ取った後、乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアシレートフイルムＣＡ−２（厚さ６０μｍ）を製造した。
作製したセルロースアシレートフイルムＣＡ−２について、レターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは４３ｎｍ、面内のレターデーションＲｅは４ｎｍであった。
【０３１６】
（鹸化処理）
セルロースアシレートフイルム（ＣＡ−２）上に、１００℃の熱風を衝突させ、４５℃まで加熱した後に、２５℃に保温した下記内容のアルカリ溶液（Ｓ−２）をエクストリュージョンコーターを用いて塗布量１７ｍｌ／ｍ2、塗布速度６０ｍ／分で塗布し、８秒間経過後、再びエクストリュージョンコーターを用いて純水を５ｃｃ／ｍ2塗布した。この時のフイルム温度は４５℃であった。次いで、エクストルージョン型コーターを用いて１０００ｍｌ／ｍ2の純水を塗布し、水洗を行い、５秒間経過後に１００ｍ／秒の風をエアナイフより水塗布面に衝突させた。このエクストルージョンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを２回繰り返した後に８０℃の乾燥ゾーンに１０秒間滞留させて乾燥した。
＜アルカリ溶液（Ｓ−２）組成＞
水酸化ナトリウム                                      ６．５質量部
水                                                ５５．４９質量部
ｎ−プロパノール                                    ３７．０質量部
界面活性剤（Ｋ−２：エチレンジアミンエチレンオキシド付加物）
１．０質量部
消泡剤サーフィノール１０４（日信化学工業（株）製）  ０．０１質量部
【０３１７】
（配向膜の形成）
配向膜素材、硬化用化合物、求核剤を別々に水／メタノール混合溶液に添加して、下記の組成の配向膜塗布液を調製した。
上記方法で作製した、鹸化処理済のセルロースアシレートフイルムＣＡ−２上に、配向膜塗布液（ＡＬ−２）をロードコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
乾燥後の塗布面の塗布幅方向での中央と左右両端の位置のｐＨ値は５．０〜６．０５の範囲であった。
＜配向膜塗布液（ＡＬ−２）組成＞
下記の変性ポリビニルアルコール                        １３．５質量部
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ製）          １．５質量部
クエン酸                                                ０．０５質量部
水                                                      ３６１質量部
メタノール                                              １１９質量部
スクシンアルデヒド                                      ０．５質量部
【０３１８】
【化４３】
2006091613.tif 000048
【０３１９】
次に、セルロースアシレートフイルムＣＡ−２の長手方向と平行な方向に配向するように変性ポリビニルアルコール膜にラビング処理を実施し、配向膜を形成した。
【０３２０】
（光学異方性層の形成）
実施例１で使用したディスコティック液晶塗布液ＤＡ−１を用いて、実施例１と同様にして光学異方性層（厚さが１．８μｍ）を形成し、光学補償シートＫＳ−２を作製した。
【０３２１】
クリスタルローテーション法を応用して傾斜角を測定したところ、ディスコティック液晶性分子は円盤面とガラス基板平面とのなす角度（傾斜角）が、膜面から光学空気界面に向かって３度から７５度まで増加（ハイブリッド配向）し、平均チルト角が約４０度でハイブリット配向していることが判った。
光学補償シートＫＳ−２のレターデーションを、配向膜のラビング方向に沿って測定したところ、面内レターデーション（Ｒｅ）は６５ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは１１２ｎｍであった。光学補償シートＫＳ−２をクロスニコル偏光板間に挟み、面状ムラ、配向不良の確認を行った。
また、光学補償シートＫＳ−２で、実施例１と同様に密着評価を実施した。
それらの結果を表１に示す。
【０３２２】
［実施例３］
（透明支持体の作製）
実施例１で得られたドープをバンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアシレートフイルムＣＡ−３（厚さ４０μｍ）を製造した。
作製したセルロースアシレートフイルムＣＡ−３について、レターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは３２ｎｍ、面内のレターデーションＲｅは３ｎｍであった。
【０３２３】
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
セルロースアシレートフイルム（ＣＡ−３）上に、下記内容のアルカリ溶液（Ｓ−３）を用いた他は、実施例１と同様にして鹸化処理した。
＜アルカリ溶液（Ｓ−３）組成＞
水酸化カリウム                                        ４．０質量部
水                                                  ４２．７質量部
メチルセロソルブ                                    ４０．０質量部
テトラエチレングリコール                            １２．０質量部
界面活性剤
［Ｋ−３：Ｃ9Ｈ19Ｐｈ（ＯＣＨ2ＣＨ2）3ＳＯ3Ｎａ（Ｐｈはフェニレン基）］
１．３質量部
消泡剤プルロニックＴＲ７０（旭電化工業（株）製）      ０．１質量部
【０３２４】
その後、下記組成の配向膜塗布液（ＡＬ−３）を用いた以外は、実施例１の配向膜と同様にして塗布・乾燥させた後、ラビング処理を実施して配向膜を形成した。
＜配向膜塗布液（ＡＬ−３）＞
下記の変性ポリビニルアルコール                        ２０質量部
チオ硫酸ナトリウム（Ａ−３）（ｎ＝８．９５）      ０．０１質量部
水                                                  ３６０質量部
メタノール                                          １２０質量部
アジポアルデヒド                                    ０．５質量部
【０３２５】
【化４４】
2006091613.tif 000049
【０３２６】
（光学異方性層の形成）
下記の組成のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−２）を＃４のワイヤーバーコーターで塗布し、１２５℃の高温槽中で１５０秒加熱し、ディスコティック液晶を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シートＫＳ−４を作製した。
＜ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−２）組成＞
ディスコティック液晶ＤＬＣ−Ａ                          ９．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート０．９質量部
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株））
セルロースアセテートブチレート                          ０．２質量部
（ＣＡＢ５５１−０．２  イーストマンケミカル）
セルロ−スアセテートブチレート                        ０．０５質量部
（ＣＡＢ５３１−１  イーストマンケミカル）
イルガキュアー９０７                                    ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）                ０．１質量部
メチルエチルケトン                                    ２５．９質量部
【０３２７】
光学異方性層の厚さは、１．８μｍであった。光学補償シートＫＳ−４のレターデーションを配向膜のラビング方向に沿って測定したところ、面内レターデーション（Ｒｅ）は３３ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは１２０ｎｍであった。光学補償シートＫＳ−３をクロスニコル偏光板間に挟み、面状ムラ、配向不良の確認を行った。
また、光学補償シートＫＳ−３で、実施例１と同様に密着評価を実施した。
それらの結果を表１に示す。
【０３２８】
［実施例４］
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
セルロースアセテートフイルム（ＣＡ−１）上に、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フイルム表面温度３０℃に昇温した後に、下記組成のアルカリ溶液（Ｓ−４）をロッドコーターを用いて塗布量１０ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に２０秒滞留するように搬送させた後に、同じくロッドコーターを用いて純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。この時のフイルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥した。
＜アルカリ処理液（Ｓ−４）組成＞
水酸化カリウム                                          ５．７質量部
水                                                    ３３．３質量部
ｎ−プロピルアルコー                                  ４９．８質量部
エチレングリコール                                    １０．０質量部
消泡剤プルロニックＴＲ７０（旭電化工業（株）製）      ０．０１質量部
【０３２９】
その後、下記組成の配向膜塗布液を用いた他は実施例１と同様にして塗布・乾燥させた後、ラビング処理を実施して、配向膜を形成した。
＜配向膜塗布液（ＡＬ−４）組成＞
下記の変性ポリビニルアルコール                            ２０質量部
チオ尿素（Ａ−４）（ｎ＝７．２７）                    ０．０１質量部
水                                                      ３６０質量部
メタノール                                              １２０質量部
セバシンアルデヒド                                      ０．５質量部
【０３３０】
【化４５】
2006091613.tif 000050
変性ポリビニルアルコール
【０３３１】
（光学補償シート（ＫＳ−４）の作製）
形成した配向膜の表面に、下記組成の光学異方性層用塗布液ＤＡ−３をワイヤーバーで塗布し、１２５℃、１ｍ／秒の熱風で３分間加熱した。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて３０秒間光照射し室温まで放冷して光学異方性層を形成した。光学異方性層の膜厚は０．８μｍであった。この様にして、光学補償シート（ＫＳ−４）を作製した。
＜ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）組成＞
下記の棒状液晶化合物（ＬＣ）                        ３８．１質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」                  １．１４質量部
増感剤「カヤキャアーＤＥＴＸ」                      ０．３８質量部
下記の配向調整剤                                    ０．１９質量部
グルタルアルデヒド                                  ０．０４質量部
メチルエチルケトン                                ６０．１５質量部
【０３３２】
【化４６】
2006091613.tif 000051
【０３３３】
【化４７】
2006091613.tif 000052
【０３３４】
光学補償シートＫＳ−４をクロスニコル偏光板間に挟み、面状ムラ、配向不良の確認を行った。また、光学補償シートＫＳ−４で、実施例１と同様に密着評価を実施した。それらの結果を表１に示す。
【０３３５】
［比較例１］
実施例１における配向膜形成用組成物ＡＬ−１の代わりに、ＡＬ−１から求核剤（Ａ−１）を除くとともに、変性ポリビニルアルコールを下記の変性ポリビニルアルコールに代えて調製した組成物（ＡＬＲ−１）を用いた以外は、実施例１と同様にして配向膜を形成した。それ以外は、実施例１と同様にして光学補償シート（ＫＳＲ−１）を作製した。
【０３３６】
【化４８】
2006091613.tif 000053
【０３３７】
光学補償シートＫＳＲ−１をクロスニコル偏光板間に挟み、面状ムラの確認を行った。また、光学補償シートＫＳＲ−１で、実施例１と同様に密着評価を実施した。それらの結果を表１に示す。
【０３３８】
［比較例２］
実施例１における配向膜形成用ＡＬ−１の代わりに、ＡＬ−１から求核剤を除くとともに、変性ポリビニルアルコールを、下記の変性ポリビニルアルコールに代えて調製した配向膜形成用組成物ＡＬＲ−２を用いた以外は、実施例１と同様にして配向膜を形成した。それ以外は、実施例１と同様にして光学補償シート（ＫＳＲ−２）を作製した。
【０３３９】
【化４９】
2006091613.tif 000054
【０３４０】
光学補償シートＫＳＲ−２をクロスニコル偏光板間に挟み、面状ムラの確認を行った。また、光学補償シートＫＳＲ−２で、実施例１と同様に密着評価を実施した。それらの結果を表１に示す。
【０３４１】
【表５】
2006091613.tif 000055
【０３４２】
表１に示した結果より、本発明の実施例である光学補償シート（ＫＳ−１）〜（ＫＳ−４）は、優れた面状（白抜け状ムラが無く、配向良好）と優れた密着性を示した。一方、比較例（ＫＳＲ−１）及び（ＫＳＲ−２）は、配向膜の面状が、本発明の実施例と比較して劣っていた。
以上の様に、本発明の実施例の光学補償シートは良好な性能を示すことが確認された。
【０３４３】
［実施例５］
（透明支持体の作製）
下記のセルロースアセテート溶液組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
（セルロースアセテート溶液組成）
６位置換度０．９０のセルロースアセテート（リンター）        ８０質量部
６位置換度０．９０のセルロースアセテート（リンター）        ２０質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                        ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）                ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                            ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                      ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                                  １１質量部
【０３４４】
別のミキシングタンクに、６位置換度０．９０のセルロースアセテート（リンター）４質量部、前記実施例１記載のレターデーション上昇剤１６質量部、シリカ微粒子“ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ８１２”（商品名；日本アエロジル（株）製）０．５質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４６４質量部にレターデーション上昇剤溶液３６質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、５．０質量部であった。
【０３４５】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、残留溶剤量が４３質量％のフイルムを剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、テンターを用いて幅方向に２８％延伸した。この後、１３５℃の乾燥風で２０分間乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（ＣＡ−５）を製造した。
得られたセルロースアセテートフイルム（ＣＡ−５）の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは、８２μｍであった。波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、４１ｎｍであった。また、波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、１７３ｎｍであった。
【０３４６】
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＡ−５）を、実施例１のアルカリ鹸化処理と同様にして処理した。このセルロースアセテートフイルム（ＣＡ−５）の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６２ｍＮ／ｍであった。
このセルロースアセテートフイルム（ＣＡ−５）上に、下記の組成の配向膜塗布液（ＡＬ−５）をロッドコーターで２６ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０３４７】
＜配向膜塗布液（ＡＬ−５）＞
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ（株）製）      １０質量部
下記の変性ポリビニルアルコール                            １０質量部
水酸化カリウム（Ａ−５）（ｎ＝６．５８）            ０．００８質量部
水                                                      ３７１質量部
メタノール                                              １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                            ０．５質量部
【０３４８】
【化５０】
2006091613.tif 000056
【０３４９】
セルロースアセテートフイルム（ＣＡ−５）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と４５゜の方向に配向膜にラビング処理を実施し、配向膜とした。
【０３５０】
（光学異方性層の形成）
前記のディスコティック液晶性化合物（ＤＬＣ−Ａ）４１．０１質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６質量部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）０．３５質量部、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５質量部、下記構造のフッ素系界面活性剤（メガファックＦ７８０Ｆ  大日本インキ（株）製）０．４５質量部を、メチルエチルケトン１０２質量部に溶解し、この塗布液を配向膜上に、＃３．６のワイヤーバーで連続的に塗布し、１３０℃の状態で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層付き光学補償シート（ＫＳ−５）を作製した。
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は３８ｎｍであった。また、円盤面と第１透明支持体面との間の角度（傾斜角）は平均で３４゜であった。
【０３５１】
偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出出来なかった。
（反射防止膜付き保護フイルム（ＡＦ）の作製）
上記のセルロースアシレートフイルム（ＣＡ−５）上に、“ペルノックスＣ−４４５６−Ｓ７”［ＡＴＯを分散したハードコート剤（固形分４５質量％）：日本ペルノックス（株）製］を塗布、乾燥後、紫外線を照射して硬化し、厚み１μｍの導電性層（ＥＣＬ）を形成した。このフイルムの表面抵抗は１０8Ω／□オーダーの導電性であった。
なお表面抵抗率は、試料を（２５℃／６５％ＲＨ）の条件下に１時間放置した後、同条件下で三菱化学（株）製  抵抗率計“ＭＣＰ−ＨＴ２６０”を用いて測定した。
このフイルム上に下記のようにしての反射防止膜を作製した。
【０３５２】
｛防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）｝
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物“ＰＥＴＡ”［日本火薬（株）製］５０質量部、硬化開始剤「イルガキュア１８４」（チバガイギー社製）２質量部、第１の透光性微粒子としてアクリル−スチレンビーズ［総研化学（株）製、粒径３．５μｍ、屈折率１．５５］５質量部、第２の透光性微粒子としてスチレンビーズ［総研化学（株）製、粒径３．５μｍ、屈折率１．６０］５．２質量部、シランカップリング剤“ＫＢＭ−５１０３”［信越化学工業（株）製］１０質量部、および下記のフッ素系ポリマー（ＰＦ−２）０．０３質量部をトルエン５０質量部と混合して塗布液として調製し、これをロール形態から巻き出された上記の導電層（ＥＣＬ）付きセルロースアシレートフイルムの上に、乾燥膜厚６．０μｍになるように塗布し、溶媒乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ防眩性ハードコート層（屈折率１．５２）（ＨＣ−３）を作製した。
【０３５３】
【化５１】
2006091613.tif 000057
【０３５４】
｛低屈折率層（ＬＬ−１）の形成｝
上記の防眩性層上に、前記低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）を、マイクログラビアコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層（ＬＬ−１）（屈折率１．４３、膜厚８６ｎｍ）を形成した。このようにして、本発明の反射防止膜付きの偏光膜用保護フイルム（ＡＦ−１）を作製した。
得られた反射防止膜の平均反射率は２．１％、ヘイズは４３％であった。
【０３５５】
（偏光膜（ＨＦ）の作製）
平均重合度４０００、鹸化度９９．８ｍｏｌ％のＰＶＡを水に溶解し、４．０％の水溶液を得た。この溶液をテーパーのついたダイを用いてバンド流延して乾燥し、延伸前の幅が１１０ｍｍで厚みは左端が１２０μｍ、右端が１３５μｍになるように製膜した。
このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライ状態で４５度方向に斜め延伸してそのままよう素０．５ｇ／Ｌ、よう化カリウム５０ｇ／Ｌの水溶液中に３０℃で１分間浸漬し、次いでホウ酸１００ｇ／Ｌ、よう化カリウム６０ｇ／Ｌの水溶液中に７０℃で５分間浸漬し、さらに水洗槽で２０度で１０秒間水洗したのち８０℃で５分間乾燥してよう素系偏光膜（ＨＦ−１）を得た。偏光膜は、幅６６０ｍｍ、厚みは左右とも２０μｍであった。
【０３５６】
（視認側偏光板（ＳＨＢ）の作製）
光学異方性層付き光学補償シート（ＫＳ−５）の光学異方性層と反対側のフイルム面を実施例１のアルカリ鹸化処理と同様にして処理したフイルム表面、及び上記の反射防止膜付き保護フイルム（ＡＦ−１）に実施例１のアルカリ鹸化処理と同様にして反射防止膜とは反対側をケン化処理したフイルム面の其々を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した偏光膜（ＨＦ−１）貼り付けた。  偏光膜の透過軸とセルロースアセテートフイルム（ＣＡ−５）の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と上記トリアセチルセルロースフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＳＨＢ−１）を作製した。
【０３５７】
（バック側偏光板（ＢＨＢ）の作製）
光学異方性層付き光学補償シート（ＫＳ−５）の光学異方性層と反対側のフイルム面を実施例１のアルカリ鹸化処理と同様にして処理したフイルム表面、及び上記のセルロースアシレートフイルム（ＣＡ−５）の片面を実施例１のアルカリ鹸化処理と同様にして鹸化処理したフイルム面の其々を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した偏光膜（ＨＦ−１）貼り付けた。
偏光膜の透過軸とセルロースアセテートフイルム（ＣＡ−５）の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と上記セルロースアシレートフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにしてバック側偏光板（ＢＨＢ−１）を作製した。
【０３５８】
［実施例６］
（透明支持体の作製）
ミキシングタンクに、実施例５で使用したレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
実施例５で作製したセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、３．５質量部であった。
【０３５９】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアシレートフイルム（ＣＡ−６）を製造した。
得られたセルロースアシレートフイルム（ＣＡ−６）の幅は１５００ｍｍであり、厚さは、６５μｍであった。波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、４ｎｍであった。また、波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、７８ｎｍであった。
【０３６０】
（鹸化処理）
セルロースアシレートフイルム（ＣＡ−６）を、実施例２のアルカリ鹸化処理方法と同様にして鹸化処理した。セルロースアシレート（ＣＡ−６）の鹸化処理表面の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
【０３６１】
（配向膜の形成）
作製したセルロースアシレートフイルム（ＣＡ−６）の鹸化処理表面上に、下記の組成の塗布液（ＡＬ−６）をエクストリュージョンコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０３６２】
＜配向膜塗布液組成（ＡＬ−６）＞
実施例５の変性ポリビニルアルコール                      １０質量部
亜硫酸カリウム（Ａ−６）（ｎ＝８．５３）              ０．００８質量部
水                                                    ３７１質量部
メタノール                                            １１９質量部
グルタルアルデヒド                                    ０．５質量部
【０３６３】
次に、セルロースアシレート（ＣＡ−６）の長手方向と平行な方向に配向するように変性ポリビニルアルコール膜にラビング処理を実施して、配向膜とした。
乾燥後の塗布面のｐＨを測定した所、その値は６．１であった。また、塗布幅方向での中央と左右両端の位置のｐＨ値は５．００〜６．２０の範囲であった。
【０３６４】
（ダイコーターの構成）
配向膜塗布液（ＡＬ−６）の塗布には、図１に示す構成のスロットダイを用いた。スロットダイ１３は、上流側リップランド長ＩUPが０．５ｍｍ、下流側リップランド長ＩLOが５０μｍで，スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランド１８ａとウェブ１２の隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２の隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２との隙間ＧL を５０μｍに設定した。また、減圧チャンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブ１２との隙間ＧS 、及びバックプレート４０ａとウェブ１２との隙間ＧB はともに２００μｍとした。
【０３６５】
（光学異方性層の形成）
配向膜上に、ディスコティック液晶性化合物（ＤＬＣ−Ａ）４１．０１質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６質量部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）０．９０質量部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）０．２３質量部、光重合開始剤（イルガキュアー９０７）１．３５質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ）０．４５質量部、下記構造のフッ素系界面活性剤（Ｆ−２）０．４０質量部を、メチルエチルケトン１０２質量部に溶解した溶液と塗布液とし、これを、＃３．４のワイヤーバーで塗布した。これを１３０℃の恒温ゾーンで２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、膜厚１．８μｍの光学異方性層を形成し、光学補償シート（ＫＳ−６）を作製した。
【０３６６】
【化５２】
2006091613.tif 000058
【０３６７】
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４０ｎｍであった。また、円盤面と第１透明支持体面との間の角度（傾斜角）は平均で３７゜であった。
偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出出来なかった。
【０３６８】
（反射防止膜付き保護フイルムの作製）
〔反射防止膜（ＡＦ）の作製〕
［ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）の調製］
トリメチロールプロパントリアクリレート［“ＴＭＰＴＡ”日本化薬（株）製］７５０．０質量部に、質量平均分子量３０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部および光重合開始剤「イルガキュア１８４」［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］５０．０質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
【０３６９】
｛二酸化チタン微粒子（Ｔ−１）の作製｝
特開平５−３３０８２５号公報に基づいて、鉄（Ｆｅ）をコバルトに変更した以外は同公報と同様にして、二酸化チタン粒子の中にコバルトをドープしたコバルト含有の二酸化チタン微粒子（Ｔ−１）を作製した。コバルトのドープ量は、Ｔｉ／Ｃｏ（質量比）で、９８．５／１．５となるようにした。作製した二酸化チタン微粒子は、ルチル型の結晶構造が認められ、１次粒子の平均粒子サイズが４０ｎｍ、比表面積が４４ｍ2／ｇであった。
【０３７０】
｛二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−１）の調製｝
上記二酸化チタン微粒子（Ｔ−１）１００ｇ、下記構造の高分子分散剤（ＤＰ−１）２０ｇ、およびシクロヘキサノン３６０ｇを添加して、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズと共にダイノミルにより分散した。分散温度は３５〜４０℃で５時間実施した。３００ｎｍ以上の粒子径が０％の平均径５５ｎｍの二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−１）を調製した。
【０３７１】
【化５３】
2006091613.tif 000059
【０３７２】
［中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）の調製］
上記の二酸化チタン微粒子分散液（ＴＬ−１）８８．９質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（“ＤＰＨＡ”）５８．４質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］３．１質量部、光増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」［日本化薬（株）製］１．１質量部、メチルエチルケトン４８２．４質量部、およびシクロヘキサノン１８６９．８質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）を調製した。
【０３７３】
［高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−１）の調製］
上記の二酸化チタン分散液（ＴＬ−１）５８６．８質量部に、“ＤＰＨＡ”４７．９質量部、「イルガキュア９０７」４．０質量部、「カヤキュアーＤＥＴＸ」１．３質量部、メチルエチルケトン４５５．８質量部、およびシクロヘキサノン１４２７．８質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−１）を調製した。
【０３７４】
［低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）の調製］
“ＤＰＨＡ”１．４質量部、下記構造のフッ素系ポリマー（ＰＦ−１）５．６質量部、中空シリカ（平均粒径４０ｎｍ、シェル層厚７ｎｍ、屈折率１．３１、イソプロパノール１８質量％）２０．０質量部、反応性シリコーン“ＲＭＳ−０３３”（Ｇｅｌｅｓｔ社製）０．７質量部、下記内容のゾル液ａ  ６．２質量部、および「イルガキュア９０７」０．２質量部をメチルエチルケトン３１５．９質量部に投入して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）を調製した。
【０３７５】
【化５４】
2006091613.tif 000060
【０３７６】
［ゾル液ａの調製］
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ５１０３”［信越化学工業（株）製］１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加えて混合し、さらにイオン交換水３０部を加えて６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却してゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。またガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０３７７】
［反射防止膜（ＡＦ−１）の作製］
前記のロール形態のセルロースアシレートフイルム（ＣＡ−６）上に、前記ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）を、リバースグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ［アイグラフィックス（株）製］を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層（ＨＣ−１）を形成した。得られたハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液（ＭＬＬ−１）、高屈折率層用塗布液（ＨＬＬ−１）及び低屈折率層用塗布液（ＬＬＬ−１）を、３つの塗布ステーションを有するリバースグラビアコーターを用いて連続して塗布した。
【０３７８】
中屈折率層の乾燥条件は１００℃、２分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ［アイグラフィックス（株）製］を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。硬化後の中屈折率層（ＭＬ−１）は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであった。
【０３７９】
高屈折率層の乾燥条件はいずれも９０℃、１分の後、１００℃、１分とし、紫外線硬化条件は、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ［アイグラフィックス（株）製］を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。硬化後の高屈折率層（ＨＬ−１）は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍであった。
【０３８０】
低屈折率層の乾燥条件は、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから、窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ［アイグラフィックス（株）製］を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。硬化後の低屈折率層（ＬＬ−１）は屈折率１．４３、膜厚１００ｎｍであった。以上の様にして、反射防止膜付きセルロースアシレートフイルム（ＡＦ−２）を作製した。
【０３８１】
（視認側偏光板（ＳＨＢ）の作製）
光学異方性層付き光学補償シート（ＫＳ−６）の光学異方性層と反対側のフイルム面を実施例１のアルカリ鹸化処理と同様にして処理したフイルム表面、及び上記の反射防止膜付き保護フイルム（ＡＦ−２）に実施例１のアルカリ鹸化処理と同様にして反射防止膜とは反対側をケン化処理したフイルム面の其々を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した偏光膜（ＨＦ−１）貼り付けた。  偏光膜の透過軸とセルロースアセテートフイルム（ＣＡ−６）の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と上記トリアセチルセルロースフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＳＨＢ−２）を作製した。
【０３８２】
（バック側偏光板（ＢＨＢ）の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光学補償シート（ＫＳ−６）を偏光膜（ＨＦ−１）の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）に実施例１のアルカリケン化処理と同様にして片面ケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。
偏光膜の透過軸とセルロースアセテートフイルム（ＣＡ−６）の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と上記トリアセチルセルロースフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにしてバック側偏光板（ＢＨＢ−２）を作製した。
【０３８３】
（ベンド配向液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを６μｍに設定した。Δｎ（屈折率ｎｅとｎｏの差）が０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。液晶セルの大きさは２０インチであった。
作製したベンド配向セルを挟むように、空気側となる方に実施例５で作製した視認側偏光板（ＳＨＢ−１）を、バック側となる方にバック側偏光板（ＢＨＢ−１）を貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモードとした。透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比として、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。
視野角の評価尺度として、視野の画像のコントラスト比が１０以上を維持し、かつ黒側の階調反転の起こらない（即ち黒表示（Ｌ１）と次のレベル（Ｌ２）の間で反転が起こらない）範囲の開角度の値を用いた。測定結果を表２に示す。
【０３８４】
【表６】
2006091613.tif 000061
【０３８５】
（液晶表示装置パネル上でのムラ評価）
実施例５の液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価した。実施例５は、どの方向から見てもムラは観察されなかった。
【０３８６】
（ＴＮ液晶セルでの評価）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＱＵＯＳ  ＬＣ２０Ｃ１Ｓ、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例６で作製した偏光板（ＳＨＢ−２）及び（ＢＨＢ−２）をそれぞれ、光学補償シート（ＫＳ−６）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。測定結果を表３に示す。
【０３８７】
【表７】
2006091613.tif 000062
【０３８８】
（液晶表示装置パネル上でのムラ評価）
実施例６の液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価した。実施例６は、どの方向から見てもムラは観察されなかった。
【０３８９】
（視認側偏光板（ＳＨＢ）の作製）
実施例４で作製した光学異方性層付き光学補償シート（ＫＳ−４）の光学異方性層と反対側のフイルム面を実施例１のアルカリ鹸化処理と同様にして処理したフイルム表面、及び上記の反射防止膜付き保護フイルム（ＡＦ−１）に実施例１のアルカリ鹸化処理と同様にして反射防止膜とは反対側をケン化処理したフイルム面の其々を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した偏光膜（ＨＦ−１）貼り付けた。偏光膜の透過軸とセルロースアセテートフイルム（ＣＡ−１）の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と上記トリアセチルセルロースフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＨＢ）を作製した。
（ＶＡ液晶セルでの評価）
ＶＡモードで２２インチの液晶表示装置：ＴＨ２２−ＬＨ１０型（松下電器（株）製）に設けられている視認側の偏光板の代わりに、上記で作製した偏光板（ＨＢ）の光学補償シート（ＫＳ−４）が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、観察者側に一枚貼り付けた。この液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価したところ、どの方向から見てもムラは観察されなかった。
また、ＩＰＳモードで２０インチの液晶表示装置：Ｗ２０−１ｃ３０００形（日立製作所（株）製）に設けられている視認側の保護フイルムの代わりに、上記で作製した偏光板（ＨＢ）の光学補償シート（ＫＳ−４）が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、視認側に一枚貼り付けた。この液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価したところ、どの方向から見てもムラは観察されなかった。
【０３９０】
［実施例７〜１０］
実施例１において、配向膜形成用組成物ＡＬ−１に用いた求核剤（Ａ−１）の代わりに、下記表４記載の求核剤（Ａ−７）を同モル用い、架橋剤グルタルアルデヒドの代わりに、架橋剤（Ａ−８）を用いた以外は、実施例１と同様にして配向膜を形成した。さらにこれ以外は、実施例１と同様にして偏光板を作製した。
【０３９１】
【表８】
2006091613.tif 000063
【０３９２】
得られた偏光板を、実施例１と同様に評価した結果、いずれの偏光板も実施例１の偏光板と同等の良好な性能を示した。
【図面の簡単な説明】
【０３９３】
【図１】本発明に利用可能なスロットコーターの概略図である。
【図２】図１中のスロットダイ１３の断面形状の概略図（Ａ）と、他のスロットダイ３０の断面形状の概略図（Ｂ）である。
【図３】スロットダイ及びその周辺の一例を示す斜視図である。
【図４】減圧チャンバーとウェブの一例を示す断面図である。
【図５】減圧チャンバーとウェブの他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
【０３９４】
１０    コーター
１１    バックアップロール
１２    ウェブ
１３、３０    スロットダイ
１４    塗布液
１５、３２    ポケット
１６、３３    スロット
１７    先端リップ部
１８    上流側リップランド
１９    下流側リップランド
４０    減圧チャンバー
【図１】
2006091613.tif 000066
【図２】
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【図３】
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【図４】
2006091613.tif 000069
【図５】
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