(57)【要約】【課題】カメラレンズなどの露出面と非露出面とを有する光学材料において、その露出面のみ撥水性を有するものとし、従来より簡便で量産性に優れた光学ガラス及びその製造方法を提供すること。【解決手段】ガラス基材１２の両表面に無機ハロゲン化物からなる反射防止膜１４が形成され、その一方の反射防止膜１４の表面のみにシリカ膜１６が形成され、このシリカ膜の表面にシロキサン結合を介してパーフルオロアルキル基又はポリシロキサン含有化合物からなる撥水性を有する単分子膜１８が形成された光学ガラスとする。例えば、上記反射防止膜１４は、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＬｉＦなどの無機フッ化物から形成されることが望ましい。また、その光学ガラスの製造方法とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基材の表裏面に無機ハロゲン化物からなる反射防止膜が形成されると共に、該ガラス基材の表面側の反射防止膜の上にシリカ膜が形成され、さらに該シリカ膜の表面にシロキサン結合を介してパーフルオロアルキル基又はポリシロキサン含有化合物からなる撥水性を有する単分子膜が形成されていることを特徴とする光学ガラス部品。
【請求項２】
前記反射防止膜は、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＬｉＦから選択される１種又は２種以上の無機フッ化物により形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光学ガラス部品。
【請求項３】
前記光学ガラス部品は、光学機器のガラス窓、光学フィルタ、あるいはカメラレンズであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学ガラス部品。
【請求項４】
ガラス基材の表裏面に無機ハロゲン化物からなる反射防止膜を形成する工程と、
該ガラス基材の表面側の反射防止膜の上にシリカ膜を形成する工程と、
該ガラス基材に前記反射防止膜及び前記シリカ膜が形成されたものを、パーフルオロアルキル基又はポリシロキサン含有化合物からなる撥水剤を含む溶液中に浸漬して前記シリカ膜の表面にのみ前記撥水剤からなる単分子膜を形成する工程と、
からなることを特徴とする光学ガラス部品の製造方法。
【請求項５】
前記無機ハロゲン化物には、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＬｉＦから選択される１種又は２種以上の無機フッ化物を用いることを特徴とする請求項４に記載の光学ガラス部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学ガラス部品及びその製造方法に関し、さらに詳しくは、光学機器のガラス窓、光学フィルタ、あるいはカメラレンズといった、外界に対して露出する面と露出しない面とを有する光学材料に好適に用いられる撥水性を有する光学ガラス部品及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、光学機器のガラス窓、光学フィルタ、カメラレンズといった光学機器に用いられる光学ガラス部品は、その一方の面が外界に露出しているため、雨や湿気、皮脂や汗、汚れに対する撥水性が求められており、レンズ等の表面に撥水性を持たせる試みがなされている。
【０００３】
例えば特許文献１には、ガラス基材の表面に撥水性を持たせるため、フッ化炭素基を含む単分子膜がシロキサン結合を介してそのガラス表面に形成されたものが示されている。
【０００４】
また、特許文献２には、ガラス基材の表面に撥水性を持たせる場合において、ガラス中に含まれるアルカリ金属成分によってフルオロカーボン系の単分子膜が劣化することを防ぐため、ガラス基材表面にシリカを含む膜からなるアルカリバリア層を設け、その上にフルオロカーボン系の単分子膜をシロキサン結合を介して形成させたものについて示されている。
【０００５】
そして、特許文献１や２に示される撥水性を有する膜は、フッ化炭素基を有するクロロシラン系界面活性剤等を含む溶液中にガラス基材を浸漬したり（ディップコーティング法）、スピンコーティング法によってガラス基材上に成膜した上、ガラス基材又はシリカ中のシラノール基と界面活性剤中のシリル基とをシロキサン結合させて、ガラス基材上に形成している。
【０００６】
【特許文献１】特許第２５００１５２号
【特許文献２】特開平０８−３２５０３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１や２に示されるものは、上記ディップコーティング法によって、ガラス基材表面又はシリカ膜表面にシロキサン結合を介してフルオロカーボン系の単分子膜を形成させる時に、レンズ両面に撥水性を有する膜が形成される。例えば、これにより製造した光学ガラス部品をカメラレンズに用いる場合、外界に露出している面についてはその撥水機能を発揮することができるが、カメラ内部に入る非露出面については、カメラ本体が防水構造を有しているため、撥水性は必要ないばかりか、逆にカメラ内部でその撥水性によって結露を招くことになるという問題があった。一方、スピンコーティング法により成膜する場合には、ガラス基材の一方面のみに上記単分子膜を形成することができるものの、ディップコーティング法のような多数枚同時処理は難しいため、生産性が低いという問題があった。
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、光学機器のガラス窓、光学フィルタ、カメラレンズなどの露出面と非露出面とを有する光学材料において、その露出面のみ撥水性を有するものとした、従来より簡便で量産性に優れた光学ガラス部品及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明に係る光学ガラス部品は、請求項１に記載のように、ガラス基材の表裏面に無機ハロゲン化物からなる反射防止膜が形成されると共に、該ガラス基材の表面側の反射防止膜の上にシリカ膜が形成され、さらに該シリカ膜の表面にシロキサン結合を介してパーフルオロアルキル基又はポリシロキサン含有化合物からなる撥水性を有する単分子膜が形成されていることを要旨とする。
【００１０】
この場合、上記反射防止膜は、請求項２に記載のように、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＬｉＦから選択される１種又は２種以上の無機フッ化物により形成されていることが望ましい。
【００１１】
そして、請求項１又は２に記載の光学ガラス部品は、請求項３に記載のように、光学機器のガラス窓、光学フィルタ、あるいはカメラレンズに好適に用いることができる。
【００１２】
一方、本発明に係る光学ガラス部品の製造方法は、請求項４に記載のように、ガラス基材の表裏面に無機ハロゲン化物からなる反射防止膜を形成する工程と、該ガラス基材の表面側の反射防止膜の上にシリカ膜を形成する工程と、該ガラス基材に前記反射防止膜及び前記シリカ膜が形成されたものを、パーフルオロアルキル基又はポリシロキサン含有化合物からなる撥水剤を含む溶液中に浸漬して前記シリカ膜の表面にのみ前記撥水剤からなる単分子膜を形成する工程とからなることを要旨とする。
【００１３】
この場合、前記無機ハロゲン化物には、請求項５に記載のように、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＬｉＦから選択される１種又は２種以上の無機フッ化物を用いることが望ましい。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に記載の光学ガラス部品によれば、パーフルオロアルキル基又はポリシロキサン含有化合物からなる単分子膜がガラスの一方面のみに形成されていることから、その一方面のみ撥水機能を有するものとすることができる。
【００１５】
また、ガラスの両面に反射防止膜が形成されていることから、両表面での反射を軽減することができるため、入射光量を増やす一方で不要なガラスの裏面反射を低減することができる。
【００１６】
さらに、この反射防止膜は、ガラス基材とシリカ膜との間に形成されていることから、ガラス基材中に含まれるアルカリ金属等がシリカ膜と撥水膜との界面に侵入するのを防ぐため、その界面におけるパーフルオロアルキル基又はポリシロキサン含有化合物とシリカのシラノール基でのシロキサン結合は分解されず、その撥水膜が劣化して白濁することによる光学機能の低下も起こらない。
【００１７】
この場合、上記反射防止膜には、請求項２に記載の材料を用いることにより、表面反射が充分に軽減される。
【００１８】
そして、請求項３に記載のように、上記光学ガラス部品を、光学機器のガラス窓、光学フィルタあるいはカメラレンズに用いた場合、光学ガラス部品の露出面のみ撥水性を有するため、露出面は雨や湿気によっても視界が悪くならず、いわゆる「ヤケ」なども起きない。また、皮脂や汗、汚れが付きにくく取れやすくなる。さらに、光学機器内部におけるレンズの非露出面の結露を招くこともない。
【００１９】
一方、請求項４に記載の製造方法によれば、ガラス基材の両面に無機ハロゲン化物からなる反射防止膜を形成し、さらにその一方の面のみにシリカ膜を形成することから、その後ガラス基材に撥水膜を形成する場合に、このガラス基材を撥水剤が溶解している溶液中に浸漬する方法によって、最表面にシリカ膜が形成された一方面のみ撥水膜が形成され、他方の、最表面に反射防止膜が形成されている面には撥水膜が形成されないようにすることができる。
【００２０】
このようなディップコーティング法（浸漬法）は、溶液に漬けてガラス基材に膜をコーティングするような簡便な方法であるとともに、一度に多数枚のガラス基材を溶液に漬けることができることから、ガラス基材への成膜処理速度の向上につながるため、スピンコーティング法等と比べ、量産性の高い方法となる。
【００２１】
この場合、上記反射防止膜には、請求項５に記載の材料を用いることにより、表面反射が充分に軽減された光学ガラス部品の製造方法とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
次に本発明の実施形態について、図１〜３を参照して詳細に説明する。
【００２３】
本発明の一実施形態に係る光学ガラス部品１０は、図１に示すように、ガラス基材１２の上面と下面に無機ハロゲン化物からなる反射防止膜１４がそれぞれ形成され、ガラス基材１２の上面に形成された反射防止膜１４の上にのみ（一方面のみ）シリカ膜１６が形成されている。そして、そのシリカ膜１６の上にパーフルオロアルキル基含有化合物からなる撥水膜１８が形成されている。
【００２４】
ガラス基材１２は、例えば、硼珪酸光学ガラスで、ＢＫ７やＢ２７０などが例示できる。これらガラス表面にはシラノール基を含んでいるため、後述の撥水剤とシロキサン結合を形成する。よって、このガラス基材１２を直接撥水剤を含む溶液に浸漬すると、その両表面にシロキサン結合を介して撥水膜が形成される。
【００２５】
そのため、このガラス基材１２に直接上記撥水剤を付けたものを光学機器のガラス窓、光学フィルタあるいはカメラレンズといった外界に対して露出する面と露出しない面（非露出面）とを有する光学部品に用いると、その光学機器内部で結露することがあるため、良くない。
【００２６】
反射防止膜１４は、無機ハロゲン化物からなるものであり、例えば、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＳｒＦ２、ＬａＦ３、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４などの無機フッ化物などが例示できる。特に好ましくは、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＬｉＦである。これらの化合物はその屈折率がガラス基材と比べて比較的低く、その差が大きいものであるため、単層コートとしたときでもガラス表面での反射を抑える効果が高いものだからである。
【００２７】
このような分子内に酸素原子を含まない無機ハロゲン化合物は、その表面にヒドロキシル基を有していないので、シラノール基又はクロロシリル基を含有しパーフルオロアルキル基などの疎水性を有する後述の撥水剤とはシロキサン結合を形成しないため、このような反射防止膜が形成された面の表面は撥水処理されない。
【００２８】
この反射防止膜１４を単層で形成する場合は、膜厚を、入射する光の波長（光学レンズであれば可視光線域の中央波長である５５０ｎｍで、ＭｇＦ２の屈折率１．３８であるから約４００ｎｍとなる）の１／４とし、膜の屈折率がガラスの屈折率と空気の屈折率の相乗平均であれば、膜表面からの反射光と膜−ガラス基材界面からの反射光が互いに相殺し、最も反射を抑えることができる。
【００２９】
この反射防止膜１４は単層でも多層でも良い。その成膜方法は、被膜原料が無機ハロゲン化物であるため、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、エレクトロンビーム法などの各種物理的方法（ＰＶＤ法）などが好適であり、屈折率、光学的膜厚、膜構成等の制御の容易さ等を考慮して適宜定めるものである。このような物理蒸着させるための成膜温度は、用いるガラス基材の耐熱温度よりも低いことが必要であり、例えば、ガラス基材としてＢＫ７を用いる場合には、３００℃前後であることが好ましい。
【００３０】
シリカ膜１６の成膜方法としては、例えば、熱分解蒸着法、スパッタリング法などの各種ＰＶＤ法や、プラズマＣＶＤ法などの各種公知のＣＶＤ法やゾル−ゲル法などが適用できる。
【００３１】
このシリカ膜は、反射防止膜１４の反射防止特性を損なわないように、光学的に影響がない程度に均一な厚みのものが良い。具体的には、光学的膜厚は１０〜１００ｎｍ程度であることが好ましい。この膜厚が１０ｎｍ未満だと、被膜形成が難しく、１００ｎｍより大きいものは、反射防止膜１４の反射防止特性が損なわれるからである。
【００３２】
撥水膜１８の原料となるパーフルオロアルキル基含有化合物は、下記式（化１）で表される化合物が示される。
【００３３】
（化１）
ＲｆＳｉＲｎＸ３−ｎ
（式中Ｒｆはフルオロアルキル基を、Ｒはアルキル基を、Ｘはハロゲン原子又はアルコキシ基、イソシアネート基などの加水分解性を有する有機基を表す。ｎ＝０〜２の整数を示す。）
【００３４】
上記化合物のＲｆ基は、その炭素数が１から２０程度のものが好ましい。そして、この撥水膜１８は、シリカ膜上に並んだ状態で配列するため、これらを規則正しく配列させるためには、Ｒｆ基が分岐鎖を有するものより直鎖のものの方が好ましい。このような化合物としては、例えば、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３，ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３，ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３等が例示できる。
【００３５】
上記化合物のうち、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３のようなクロロシラン系化合物の場合には、非水系の溶媒に溶解させたものとして用いることができ、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３，ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３のようなアルコキシシラン系化合物の場合には、非水系溶媒でも良いし、アルコール類のような含水系の溶媒でも用いることができる。
【００３６】
なお、アルコキシシラン系化合物の場合には、成膜時において、シリカ膜のシラノール基とシロキサン結合形成させるためには、Ｓｉ−ＯＣＨ３基やＳｉ−ＯＣ２Ｈ５基などの反応性を上げる目的で加水分解させてＳｉ−ＯＨ基にすることが必要である。そのため、溶液中に触媒として有機酸等を添加して脱アルコールさせる必要がある。
【００３７】
非水系の溶媒としては、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、ｎ−ヘキサデカン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロトリフルオロエタン等のクロロアルカン類などが例示できる。また、含水系の溶媒としては、エタノール、２−プロパノールなどのアルコール類が例示できる。これらは、単独で用いても良いし、組み合わせても良い。溶媒を用いずに撥水剤のみ用いることもできる。上記パーフルオロアルキル基含有化合物の溶解度や溶液の粘度、加水分解速度等によって溶媒組成や量を適宜定めることができる。また、これら溶媒は、周囲温度で空気中、単に乾燥させることにより蒸発するものが好ましい。
【００３８】
なお、これらパーフルオロアルキル基含有化合物には、各種の架橋剤等を添加することも可能である。また、パーフルオロアルキル基含有化合物の主鎖または分岐鎖にエチレン基等の二重結合や三重結合を導入したものに、電子線等を照射して架橋させることも可能である。このような処理により、形成された単分子膜の硬度をさらに向上することができる。
【００３９】
上記（化１）において、Ｒｆ基は、含フッ素系化合物だけでなく、有機ポリシロキサン系の重合物（シリコーン）であっても良い。この有機ポリシロキサン系の重合物（シリコーン）としては、例えば、末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリアルキル、ポリアルケニル、ポリアリールシロキサン化合物などが例示できる。好ましくは、ポリジメチルシロキサンである。これら有機ポリシロキサン系の重合物（シリコーン）は、シロキサン結合を介してシリカ膜の上に成膜したときの静止接触角を大きくし、高い撥水性を有するものだからである。
【００４０】
このような撥水膜１８は、ガラス基材に汗や油等の汚れが侵入するのを抑制するバリア層としての機能を有するとともに、汚れの付着を防止する機能を有する。この機能は、単に汚れが付着しないだけでなく、付着しても簡単にふき取れることも意味する。
【００４１】
次に、本実施形態に係る光学ガラスの製造方法の一例について図２を参照して説明する。本製造方法は、工程（１）〜（３）からなる。
【００４２】
工程（１）は、ガラス基材１２の一方及び他方の表面に無機ハロゲン化物からなる反射防止膜１４をスパッタリング法によって被膜形成する工程である。
【００４３】
ガラス基材をきれいに洗浄した後、スパッタリング装置内に載置させ、ＭｇＦ２ターゲットを用いて反射防止膜１４をガラス基材１２表面に蒸着させる。この場合、このＭｇＦ２膜をガラス基材１２の両面に形成させることから、一方の面に被膜形成させた後、もう一方の面に被膜形成するために、ガラス基材１２を反転させ、その裏面にもＭｇＦ２膜を蒸着させる。
【００４４】
工程（２）は、工程（１）で形成したガラス基材１２表面の反射防止膜１４の一方の表面にのみシリカ膜１６を形成する工程である。
【００４５】
工程上の効率の面から、反射防止膜１４の形成に用いる装置と同一の装置を用いて被膜形成させることが好ましいため、シリカ膜１６の形成は同じ装置内で連続的に行う。よって、ターゲットをＳｉＯ２に変えた後、被膜形成を片面のみ行う。
【００４６】
工程（３）は、工程（２）の後、パーフルオロアルキル基含有化合物からなる撥水剤を含む溶液中にガラス基材を浸漬してシリカ膜１６の表面にのみ撥水剤からなる単分子膜１８を形成する工程である。
【００４７】
この工程（３）における化学吸着の反応機構は、図３（ａ）〜（ｃ）に示して説明する。パーフルオロアルキル基含有化合物としてＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３を用いた場合である。
【００４８】
図１（ａ）のように、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３のＳｉ−ＯＣＨ３結合が、空気中の水分等によって加水分解され、その全部又は一部がＳｉ−ＯＨとなる（図中には全部加水分解されたものとして示している）。
【００４９】
その後、図１（ｂ）のように、加水分解により生成したＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＨ）３の中のＳｉ−ＯＨ結合とガラス基材１２中のシラノール基との間で脱水縮合反応が起き、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＨ）２基がガラス基板上に化学吸着される。
【００５０】
さらにこの化学吸着されたＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＨ）２基のＳｉ−ＯＨ基が分子間で脱水縮合し、図１(ｃ)に示すような単分子膜からなる撥水膜１８が形成される。
【００５１】
このように、撥水膜１８は、シリカ膜１６と化学結合によって分子が並んだ状態（配向状態）で形成される。このような化学反応に基づくものであるため、極めて薄いナノオーダーの膜厚を有する単分子膜とすることができる。これによって、光学部材であるガラス基材１２や反射防止膜１４本来の光透過性などの光学特性を損なうことがないものとなる。
【００５２】
工程（３）を実施する前の状態は、ガラス基材の一方面の最表面にはシラノール基を有するシリカ膜が形成され、他方の面の最表面にはシラノール基を持たないＭｇＦ２などの無機ハロゲン化物からなる反射防止膜が形成されているため、工程（３）では、シリカ膜が形成された方の面にのみシロキサン結合を介してパーフルオロアルキル基含有化合物からなる撥水膜を形成させることができる。これによって、一方の面のみ撥水性を有するものとし、他方の面がカメラ等の基材内部に入っている時にも、結露等を起こさないものとすることができる。
【００５３】
そしてこのように製造された光学ガラス部品１０は、一方面のみ撥水性を有するものであるため、光学機器の透明なガラス窓、光学フィルタ、カメラレンズ等で外部に露出される表面と、機器内部で覆われる裏面とを有する部品に好適に用いることができる。また、ガラス両面に反射防止膜が形成されていることから、表裏面での反射を抑えた光透過性の高い光学ガラス部品となる。さらに、この反射防止膜はガラス基材中に含まれるアルカリ金属等がシリカ膜と撥水膜との界面に侵入するのを防ぐバリア層となるため、その界面におけるパーフルオロアルキル基含有化合物とシリカのシラノール基でのシロキサン結合は分解されず、よって、その撥水膜が劣化して白濁することによる光学機能の低下も起こらない。なお、この光学ガラス部品１０は、全光線透過率が９５％以上であることが好ましい。また、表面反射率が３％以下であることが好ましい。
【実施例】
【００５４】
次に、実施例について説明する。
【００５５】
（実施例１）
エドモンド・オプティクス・ジャパン社製のガラス基材（ＢＫ７）を、スパッタリング室内に載置し、スパッタリング法によりガラス基材の両面にＭｇＦ２膜（膜厚１００ｎｍ）を形成し、その後、ターゲットをＳｉＯ２に変え、成膜されたＭｇＦ２膜上の片面のみにシリカ膜（ＳｉＯ２膜）を成膜（膜厚６０ｎｍ）した。次に、この成膜されたガラス基材を、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３（撥水剤）のｎ−ヘキサデカン希釈液（溶液濃度３×１０−３ｍｏｌ／Ｌ）中に室温で１時間浸漬した。その後、アセトンと２−プロパノールで良く洗浄して、未反応の撥水剤を除去した。除去後、空気中にさらして空気中の水分により撥水剤が加水分解され、乾燥させることにより、被膜形成された光学ガラスを得た。
【００５６】
（比較例１）
実施例１と同じガラス基材に、ＭｇＦ２及びＳｉＯ２膜を成膜せずに、実施例１と同じ撥水剤の溶解液中に浸漬し、同様の処理を行い、ガラス基材の表裏面に撥水膜を形成させた。
【００５７】
（比較例２）
実施例１と同じガラス基材に、実施例１と同様の方法でＳｉＯ２膜（６０ｎｍ）のみを片面に形成させ、その後、実施例１と同じ撥水剤の溶解液をスピンコーティング法を用い、ＳｉＯ２膜が形成された面のみに撥水膜を形成させた。
【００５８】
（撥水性評価）
一般的な測定方法により静止接触角を測定した。
【００５９】
（長期膜安定性評価）
各種成膜したガラス基材を８５℃、８５％ＲＨで１０００時間放置し、ガラス基材表面の濁りについて目視で評価した。
【００６０】
実施例１の層構成は、上から撥水膜／ＳｉＯ２膜／ＭｇＦ２膜／ガラス基材／ＭｇＦ２膜となっている。一方、比較例１の層構成は、上から撥水膜／ガラス基材／撥水膜であり、比較例２の層構成は、上から撥水膜／ＳｉＯ２膜／ガラス基材である。
【００６１】
表１に、実施例１及び比較例１並びに２で得られた被膜ガラスの全光線透過率、表面撥水性、長期膜安定性及び被膜ガラス製造工程の作業性について示す。
【００６２】
実施例１のものは、全光線透過率が９８％と良好であった。このガラス基材（ＢＫ７）自体の光反射率は５％であったが、その両面にＭｇＦ２膜を形成させたことによりその反射率を２％まで低下させることができた。また、撥水膜を塗布した面について求めた水に対する静止接触角は１１５°であり、撥水性は良好であり、片面のみ撥水性を有するものである。そして、高温高湿試験によって、この成膜したガラス基材上の膜は白濁しなかった。これは、ＭｇＦ２膜及びＳｉＯ２膜がバリア層となってガラス基材中のアルカリ金属類がＳｉＯ２膜と撥水膜の界面に侵入するのを防いでいるため、撥水膜が劣化しなかったものと考える。
【００６３】
一方、比較例１のものは、反射防止膜が形成されていないため、全光線透過率が９１％であり不充分であった。また、水に対する静止接触角はその両面とも１１５°であり、良好であった。これにより、その一方の面がカメラ等の機器内部に入る場合、結露を起こすおそれがある。そして、高温高湿試験を行ったところ、白く濁ってしまった。これは、ガラス基材と撥水膜との間にバリア層となる膜が形成されていないため、膜が経時的に劣化したものと考える。
【００６４】
また、比較例２のものは、ＭｇＦ２膜が形成されておらず、反射防止膜としてＳｉＯ２膜が形成されているのみであるため、全光線透過率は９３％であり、不充分であった。撥水性は実施例１と同様、片面撥水性が良好であった（静止接触角１１５°）。そして、高温高湿試験を行ったところ、実施例１と同様、撥水膜が白く濁ることはなかった。
【００６５】
なお、実施例１と比べて比較例２のものは、光透過率がやや劣るという違いがあるが、さらに、その製造方法において作業効率性に大きな差があり、実施例１のものはディップコーティング法を用いているため、一度に大量のガラス基材上に撥水膜を形成させることが可能であるが、比較例２のものは、スピンコーティング法を用いており、その塗布方法の都合上、一枚一枚行わなければならないため、実施例１と比較して生産効率が非常に悪いものである。
【００６６】
【表１】
2006330076.tif 000003
【００６７】
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。
【００６８】
例えば、上記実施例において、反射防止膜やシリカ膜は、スパッタリング法による成膜のみ示しているが、他の成膜方法で行ったものであっても良いことは勿論である。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明に係る撥水性を有する光学ガラスは、カメラレンズなどの光学部品として使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明に係る撥水性を有する光学ガラスの層構成を示す図である。
【図２】本発明に係る撥水性を有する光学ガラスの製造工程を示す図である。
【図３】撥水剤がガラス基材表面に化学吸着する反応を示す図である。
【符号の説明】
【００７１】
１０  光学ガラス部品
１２  ガラス基材
１４  反射防止膜（ＭｇＦ２膜）
１６  シリカ膜（ＳｉＯ２膜）
１８  撥水膜
【図１】
2006330076.tif 000004
【図２】
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【図３】
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