(57)【要約】      （修正有）【課題】フォトマスクの搬送、保管に使用されるフォトマスクケース起因によるフォトマスクの曇りを確実に防止するフォトマスクケースを提供する。【解決手段】工程内のフォトマスクの搬送、保管用ケース及びフォトマスクのシッピング用ケースなどフォトマスクを搬送、保管するためのフォトマスケースであって、フォトマスクケースの内壁部にガスバリア層を設けており、前記ガスバリア層が酸化ケイ素膜もしくは酸化ケイ素膜と導電薄膜とからなるフォトマスクケース。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクの搬送、保管に使用するフォトマスクケースであって、前記フォトマスクケースの内壁部にガスバリア層を設けたことを特徴とするフォトマスクケース。
【請求項２】
前記ガスバリア層が、酸化ケイ素膜からなることを特徴とする請求項１記載のフォトマスクケース。
【請求項３】
前記ガスバリア層が、酸化ケイ素膜と導電薄膜とからなることを特徴とする請求項１記載のフォトマスクケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガラス基板の表面に遮光膜を備えるフォトマスクの曇りを防止するフォトマスクケースに関するもので、工程内のフォトマスクの搬送、保管用ケース及びフォトマスクのシッピング用ケースなどフォトマスクを搬送、保管するためのフォトマスケースに関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板の表面に遮光膜を備えるフォトマスクでは、洗浄効果が優れていることから酸やアルカリなどの薬液が使用されることが多い。特に、低コストで比較的扱いの容易な硫酸は多くの工程で使用されている。
【０００３】
硫酸を用いた洗浄工程では、硫酸で洗浄後硫酸除去のための水洗が行われるが、水洗が不十分な場合は硫酸がフォトマスクに残渣として残存する。この残留した硫酸は、大気中のアルカリ雰囲気（アンモニア）と反応し、結晶性析出異物である硫酸アンモニウムを生成する。これはフォトマスクの曇りとなり、使用時に悪影響を与える。
【０００４】
このため、結晶性析出異物の発生を抑える方法として、硫酸イオンのイオン残渣を低減する方法が検討されている。さらには、硫酸を使用せず、オゾン水等で洗浄する方法も提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００２−３１６１０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述のように極力硫酸残渣を低減させたフォトマスクにおいても、フォトマスクケースへの保管と、使用を長期間繰り返すことで、曇りが発生している。
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、フォトマスクの搬送、保管に使用されるフォトマスクケース起因によるフォトマスクの曇りを確実に防止するフォトマスクケースを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１においては、フォトマスクの搬送、保管に使用するフォトマスクケースであって、前記フォトマスクケースの内壁部にガスバリア層を設けたことを特徴とするフォトマスクケースとしたものである。
【０００７】
また、請求項２においては、前記ガスバリア層が、酸化ケイ素膜からなることを特徴とする請求項１記載のフォトマスクケースとしたものである。
【０００８】
さらにまた、請求項３においては、前記ガスバリア層が、酸化ケイ素膜と導電薄膜とからなることを特徴とする請求項１記載のフォトマスクケースとしたものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のフォトマスクケースは、その内壁部にガスバリア層を設けているため、フォトマスクをフォトマスクケースに収納し、搬送、保管を行なっても、フォトマスクケース起因によるフォトマスクの曇りの発生を防止する事ができる。
そのため、フォトマスクの再洗浄によるコスト増や、再洗浄による不良発生を防止することができ、フォトマスクの安定的な使用が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
フォトマスクの搬送、保管などに使用されるフォトマスクケースは、アクリル系もしくはＡＢＳ樹脂を主成分とした熱可塑性樹脂を成型加工して作製されるのが一般的である。
このフォトマスクケースにフォトマスクを収納し、搬送、長期保存しているとフォトマスクケース起因による曇りが発生することは上記で述べたが、フォトマスクに微量硫酸残渣が無い状態でも、フォトマスクケースにフォトマスクを収納し、搬送、長期保存しているとフォトマスクケース起因による曇りが発生することが分かった。
本発明者らは、フォトマスク上の曇りの発生メカニズムを探索している途上で、フォトマスクケースから発生する揮発性有機物質がある量以上含まれていると、フォトマスクが高度に洗浄された状態でも、フォトマスクケース起因による曇りがフォトマスク上に発生することを突き止めた。
【００１１】
ここで、揮発性有機物質としては、例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、カプロラクタム、ブチルヒドロキシトルエン、ジエチルヘキシルフタレート等が挙げられる。
【００１２】
請求項１に係わる発明は、フォトマスクケースの内壁部にガスバリア層を設けることにより、フォトマスクケースの内壁部から発生するガスの発生を抑えたものである。
また、請求項２に係わる発明は、ガスバリア層をＣＶＤスパッタ処理等により、酸化ケイ素膜（SｉＯｘ膜）を形成したものである。
フォトマスクケースの内壁部にガスバリア層を設けたフォトマスクケースに収納したフォトマスクは毎日一定時間ＵＶ光を用いて露光させ、前記フォトマスクケースに長期間（４週間〜８週間）保存させても、フォトマスク上に曇りを発生させることがない。
【００１３】
ここで、フォトマスクケースの材料に揮発性有機物質が一定量以上存在していると、揮発性有機物質の揮発性成分がフォトマスク上に付着し、ＵＶ光を長期間（４週間〜８週間）露光することにより段階を経て有機系物質へ変化し、ひいてはアモルファスカーボン等の析出異物となり、曇りを発生させてしまう。
【００１４】
請求項３に係わる発明は、ガスバリア層を酸化ケイ素膜と導電薄膜とで構成することにより、上記フォトマスクケースの内壁部から発生するガスの発生を抑えると同時に、フォトマスクケースとフォトマスク間で発生する放電現象によるフォトマスクパターンの静電破壊を防止したものである。
導電薄膜としては、真空蒸着法、スパッタリング法等の成膜法で、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ等の金属あるいは酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）等の導電薄膜を成膜することにより得られる。
【実施例１】
【００１５】
まず、アクリル系樹脂からなるフォトマスクケースを２個準備し、一方のフォトマスクケースの内壁部にＣＶＤ処理により２０〜１００ｎｍ厚のＳｉＯｘ膜を成膜し、バリア層形成した。
バリア層を形成したフォトマスクケースをＡ、バリア層を形成しないフォトマスクケースをBとする。
次に、フォトマスクケースＡ及びＢに毎日一定時間ＵＶ露光（波長２５４ｎｍ）させたフォトマスクを収納し、長期間（８週間）保管と露光を繰り返し、実験後のフォトマスク上の曇り発生を観察した。
また、実験終了後、フォトマスクケースＡ及びＢを同一形状で１ｇになるように断裁し、８０℃３０分加熱し、その時に発生したガスを吸着管に吸着させ、加熱脱着式ＧＣ／ＭＳ
で分析した。定量はＣ１６換算で行なった。
得られたＧＣ／ＭＳスペクトルを図１に示す。
【００１６】
フォトマスクケースＡについては露光実験後、フォトマスクの曇りの発生は確認されなかった。全揮発性有機物質は７０ｎｇであった。
フォトマスクケースＢについては露光実験後、フォトマスクの曇りの発生が確認された。全揮発性有機物質は３８４ｎｇであった。
【００１７】
以上の結果から、フォトマスクケースの内壁からのガスを遮断し、フォトマスクへのガスの付着を抑えることにより、フォトマスクケースに収納したフォトマスクの露光試験では曇りの発生は認められなかった。
また、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウムなどの発生源になりうる、有機硫黄系物質や有機リン系物質の発生も抑制されることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】フォトマスクケースＡ及びＢのガスクロマトグラフ質量分析結果を示す説明図である。
【符号の説明】
【００１９】
１……イソプロピルアルコール
２……２−プロパノイックアシッド，２−メチル，メチルエステル
３……１−オクテン
４……３−シクロヘキセン，カーボキシリックアシッド
５……ドデカノール
６……トリデカノール
【図１】
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