(57)【要約】【課題】気泡の挙動の影響を受けない、安定したリペア品質を得られる液晶ディスプレイの製造方法を提供すること。【解決手段】アレイ基板１１と対向基板１２で液晶材料１３を挟んでなる、複数の画素２３を有する液晶ディスプレイ１０の製造方法において、上記アレイ基板１１に形成された各画素２３の画素電極１５から電気信号を検出し、この電気信号に基づいてリペア対象となる第２の不良画素２３Ａの位置情報を作成する情報作成工程と、上記情報作成工程の後、上記アレイ基板１１と対向基板１２とを貼り合せる貼り合せ工程と、上記貼り合せ工程の後、上記位置情報に基づいて上記リペア対象となる第２の不良画素２３ＡにパルスレーザＬを照射するレーザ照射工程と、上記レーザ照射工程の後、上記アレイ基板１１と対向基板１２の間に上記液晶材料１３を注入する注入工程とを具備することを特徴とする。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アレイ基板と対向基板で液晶材料を挟んでなる、複数の画素を有する液晶ディスプレイの製造方法において、
上記アレイ基板に形成された各画素の画素電極から電気信号を検出し、この電気信号に基づいてリペア対象となる画素の位置情報を作成する情報作成工程と、
上記情報作成工程の後、上記アレイ基板と対向基板とを貼り合せる貼り合せ工程と、
上記貼り合せ工程の後、上記位置情報に基づいて上記リペア対象となる画素にレーザを照射するレーザ照射工程と、
上記レーザ照射工程の後、上記アレイ基板と対向基板の間に上記液晶材料を注入する注入工程と、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、輝点不良等の不良画素を滅点化する工程を有する液晶ディスプレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイの製造工程で発生する不良のうち、常時光が透過する画素は輝点不良と呼ばれている。この輝点不良は非常に目立つため、通常はこれが一つでもあると製品として出荷することができない。
【０００３】
一方、常時光を遮断する画素は、滅点不良と呼ばれるが、この滅点不良は輝点不良と比較して目立ち難いため、これがあっても許される場合が多い。従って、液晶ディスプレイの製造工程では、点灯評価で発見された輝点不良を滅点不良に変える滅点化リペアが行われることがある。
【０００４】
滅点化リペアには、大別して電気的な方法と光学的な方法がある。前者は、液晶基板上の配線を切断したり、短絡させたりすることで、画素電極に電圧がかからないようにする方法である。この方法だと、リペア後の暗さレベルは１００％であるが、輝点不良の原因によってリペアできるものとできないものがあり、救済率が低い。
【０００５】
後者は、レーザの照射により画素内に微粒子を発生させ、この微粒子を配向膜に堆積させることで、光の透過率を下げる方法である。この方法だと、輝点不良の原因を問わずリペアが可能であるため、救済率が高い。しかしながら、十分な暗さレベルを得られる条件を決めるのが難しい。特に、微小なスポット径に集光されたパルスレーザにより画素を走査するリペア方法は以下［１］〜［３］の点で難しい。
【０００６】
［１］輝点不良の画素全体を滅点化するためには、発生した微粒子がパルスレーザの走査経路だけでなく、その周辺にまで飛散する必要がある。
【０００７】
［２］微粒子を飛散させるためには、パルスレーザの照射点付近の液晶層に気泡が存在する必要がある。
【０００８】
［３］微粒子を安定した密度、分布で堆積させるためには、気泡を十分大きくするか、あるいは気泡の成長、移動に合わせて走査経路、走査速度を設定する必要がある。
【０００９】
次に、図４を参照しながら従来の滅点化リペアを説明する。
【００１０】
図４は従来の滅点化リペアの様子を説明するための説明図である。
【００１１】
パルスレーザＬによる輝点不良１００の走査を開始すると、パルスレーザＬの照射点付近の液晶層１０１内に気泡１０２が発生するとともに、ＩＴＯ１０３、配向膜１０４ａ、１０４ｂ、カラーフィルタ１０５等の材料からなる微粒子１０６が発生する。
【００１２】
この微粒子１０６は、気泡１０２内を飛散し、配向膜１０４ａ、１０４ｂの表面に堆積することで、アレイ基板１０７と対向基板１０８の液晶層１０９と接する面に凹凸１１０を形成する。これにより、液晶層１０９の配向性が低下して、輝点不良１００が滅点化される。
【特許文献１】特開平８−１５６６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
従来の方法で光学的な滅点化リペアを行う場合、気泡の挙動によってその出来栄えが大きく左右される。そのため、安定したリペア品質が得られず、製品として出荷できる液晶ディスプレイを製造するのに時間がかかり過ぎるという問題があった。
【００１４】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、気泡の挙動の影響を受けない、安定したリペア品質を得られる液晶ディスプレイの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決し目的を達成するために、本発明の液晶ディスプレイの製造方法は次のように構成されている。
【００１６】
（１）アレイ基板と対向基板で液晶材料を挟んでなる、複数の画素を有する液晶ディスプレイの製造方法において、上記アレイ基板に形成された各画素の画素電極から電気信号を検出し、この電気信号に基づいてリペア対象となる画素の位置情報を作成する情報作成工程と、上記情報作成工程の後、上記アレイ基板と対向基板とを貼り合せる貼り合せ工程と、上記貼り合せ工程の後、上記位置情報に基づいて上記リペア対象となる画素にレーザを照射するレーザ照射工程と、上記レーザ照射工程の後、上記アレイ基板と対向基板の間に上記液晶材料を注入する注入工程とを具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、気泡の挙動の影響を受けない、安定したリペア品質が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００１９】
図１は本発明の一実施の形態に係る液晶ディスプレイ１０の断面図である。
【００２０】
図１に示すように、この液晶ディスプレイ１０は、アレイ基板１１と対向基板１２を有している。これらアレイ基板１１と対向基板１２は、５μｍ程度の隙間Ｇを空けて対向配置されており、その間には液晶材料１３が封入されている。
【００２１】
アレイ基板１１は透明なガラス基板１４を有し、その液晶材料１３側の表面にはＩＴＯ製の画素電極１５、ＰＩ製の配向膜１６が順に形成され、液晶材料１３の反対側の表面には偏光フィルム１７が貼付されている。
【００２２】
一方、対向基板１２は透明なガラス基板１８を有し、その液晶材料１３側の表面にはＲＧＢ３色からなるカラーフィルタ１９、ＩＴＯ製の導電性薄膜２０、ＰＩ製の配向膜２１が順に形成され、液晶材料１３の反対側の表面には偏光フィルム２２が貼付されている。
【００２３】
図２は同実施の形態に係る液晶ディスプレイ１０の製造工程を示す工程図である。
【００２４】
図２に示すように、まずアレイ基板１１を製造する（ステップＳ１）。そして、アレイテスタによりアレイ基板１１の各画素電極１５の帯電量を測定し、帯電量が規定範囲から外れている画素２３（以下、「第１の不良画素２３」と称する。）を検出して、その位置情報（以下、「第１の位置情報」と称する。）を作成する。なお、帯電量が規定範囲から外れている第１の不良画素２３は、液晶ディスプレイ１０の点灯時に常時光を通す、いわゆる輝点不良のような欠陥画素の可能性がある。
【００２５】
そして、第１の位置情報に基づいて第１の不良画素２３を良点化リペアするとともに、良点化リペアしても良点化されない第１の不良画素２３（以下、「第２の不良画素２３Ａ」と称する。）を検出して、その位置情報（以下、「第２の位置情報」と称する。）を作成する（ステップＳ２）。なお、良点化リペアを行っても良点化されない第２の不良画素２３Ａは、輝点不良のような欠陥画素の可能性が極めて高い。
【００２６】
一方、上記工程と別工程で対向基板１２を製造する（ステップＳ３）。
【００２７】
第２の位置情報の作成、及び対向基板１２の製造が終了したら、アレイ基板１１と対向基板１２を５μｍ程度の間隔で貼り合わせる（ステップＳ４）。そして、貼り合わされたアレイ基板１１と対向基板１２を一画面分ごと、すなわち一液晶ディスプレイ１０ごとに分割する（ステップＳ５）。
【００２８】
次に、アレイテスタにより作成された第２の位置情報に基づいて、第２の不良画素２３ＡをパルスレーザＬで走査する。これにより、第２の不良画素２３Ａが点灯評価に先立って滅点化される（ステップＳ６）。なお、第２の不良画素２３ＡをパルスレーザＬで走査して滅点化する様子は後で詳細に説明する。
【００２９】
次に、アレイ基板１１と対向基板１２の隙間Ｇに液晶材料１３を注入し、その周囲を封止材（図示しない）で封止する（ステップＳ７）。そして、アレイ基板１１および対向基板１２の、液晶材料１３の反対側の表面に偏光板１７、２２を貼付し（ステップＳ８）、液晶ディスプレイ１０が完成する。
【００３０】
液晶ディスプレイ１０が完成したら、点灯評価を行い、液晶ディスプレイ１０の表示画面に輝点不良が存在しないか検査する（ステップＳ９）。この検査により輝点不良が無ければ、次の工程に搬送される。
【００３１】
次に、第２の不良画素２３Ａを滅点化する様子（上記ステップＳ６）について詳細に説明する。
【００３２】
図３は同実施の形態に係る第２の滅点化リペアの様子を説明する説明図である。
【００３３】
先ず、第２の位置情報に基づいて第２の不良画素２３ＡをパルスレーザＬで走査する。これにより、第２の不良画素２３Ａに対応する位置の配向膜１６、２１、画素電極１５、導電性薄膜２０、カラーフィルタ１９等が加工され、その付近にこれらの材料からなる微粒子３０が発生する。
【００３４】
この微粒子３０はアレイ基板１１と対向基板１２の隙間Ｇを飛散し、配向膜１６、２１上に堆積する。これにより、アレイ基板１１と対向基板１２の内面には凹凸３１が形成され、液晶材料１３の配向性を低下させる。その結果、上述のように、第２の不良画素２３Ａが液晶ディスプレイ１０の点灯評価に先立って滅点化される。
【００３５】
ここで重要なのは、アレイ基板１１と対向基板１２の隙間Ｇに液晶材料１３を注入する前に、第２の不良画素２３ＡをパルスレーザＬで走査し、アレイ基板１１と対向基板１２の内面に凹凸３１を形成していることである。
【００３６】
このため、パルスレーザＬの照射により発生した微粒子３０は、液状の液晶材料１３に邪魔されることなく、アレイ基板１１と対向基板１２の間の隙間Ｇを自由に飛散することができるから、第２の不良画素２３Ａ全体に亘って微粒子３０が略均一な密度、分布で堆積し、第２の不良画素２３Ａを確実に滅点化することができる。
【００３７】
これにより、液晶ディスプレイ１０の完成後に行われる点灯評価で輝点不良が発見されて再リペアを行うような事態が低減されるから、液晶ディスプレイ１０の製造時間が短縮され、ひいては生産性を向上することができる。
【００３８】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の一実施の形態に係る液晶ディスプレイの断面図。
【図２】同実施の形態に係る液晶ディスプレイの製造工程を示す工程図。
【図３】同実施の形態に係る第２の不良画素の滅点化リペアの様子を説明する説明図。
【図４】従来の滅点化リペアの様子を説明するための説明図。
【符号の説明】
【００４０】
１０…液晶ディスプレイ、１１…アレイ基板、１２…対向基板、１３…液晶材料、１５…画素電極、２３…画素、２３Ａ…第２の不良画素、Ｌ…パルスレーザ。
【図１】
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【図２】
2006091673.tif 000004
【図３】
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【図４】
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