(57)【要約】【課題】レジスト膜厚が薄くても、可とう性、レジスト剥離性（剥離速度及び剥離分散性）、更には密着性に優れた感光性樹脂組成物層及びフォトレジストフィルムを提供する。【解決手段】  ガラス転移温度が３０〜１００℃で、重量平均分子量が４０，０００〜１００，０００で、酸価が１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含有してなる感光性樹脂組成物層であって、かつ、感光性樹脂組成物層の厚みが５〜２０μｍであり、波長３６５ｎｍでの吸光度が０．３以上０．７未満であることを特徴とする感光性樹脂組成物層及びそれを用いたフォトレジストフィルム。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス転移温度が３０〜１００℃で、重量平均分子量が４０，０００〜１００，０００で、酸価が１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含有してなる感光性樹脂組成物層であって、かつ、感光性樹脂組成物層の厚みが５〜２０μｍであり、波長３６５ｎｍでの吸光度が０．３以上０．７未満であることを特徴とする感光性樹脂組成物層。
【請求項２】
バインダーポリマー（Ａ）が、ホモポリマーのガラス転移温度が０℃以下である（メタ）アクリル酸アルキルエステルを共重合成分として、共重合成分全体に対して１〜３５重量％含有することを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂組成物層。
【請求項３】
エチレン性不飽和化合物（Ｂ）が、２，２−ビス〔４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル〕プロパンであることを特徴とする請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物層。
【請求項４】
エチレン性不飽和化合物（Ｂ）が２，２−ビス〔４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル〕プロパン及び２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレートであることを特徴とする請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物層。
【請求項５】
更に、可塑剤（Ｄ）を含有してなることを特徴とする請求項１〜４いずれか記載の感光性樹脂組成物層。
【請求項６】
可塑剤（Ｄ）がｐ−トルエンスルホンアミドであることを特徴とする請求項５記載の感光性樹脂組成物層。
【請求項７】
可塑剤（Ｄ）を（Ａ）と（Ｂ）の合計量１００重量部に対して、１〜５重量部含有することを特徴とする請求項５〜６いずれか記載の感光性樹脂組成物層。
【請求項８】
請求項１〜７いずれか記載の感光性樹脂組成物層が支持体上に形成されてなることを特徴とするフォトレジストフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線板の製造や金属の精密加工等に用いられるエッチングレジスト又はめっきレジストとして有用な感光性樹脂組成物層及びこれを用いたフォトレジストフィルムに関するものであり、更に詳しくは、感光性樹脂組成物層の厚みが薄くても可とう性に優れるうえ、レジスト剥離性（剥離速度及び剥離分離性）、更には密着性に優れた感光性樹脂組成物層及びこれを用いたフォトレジストフィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステルフィルム等のベースフィルム上に感光性樹脂組成物を層状に塗布乾燥成層し、その上からポリオレフィンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム等の保護フィルムを積層した３層ラミネートフィルムは、一般にフォトレジストフィルムと称され、プリント配線板の製造用、金属の精密加工用等に広く利用されている。
その使用にあたっては、まずフォトレジストフィルムからベースフィルムまたは保護フィルムのうち接着力の小さいほうのフィルムを剥離除去して感光性樹脂組成物層の側を銅張基板の銅面等のパターンを形成させたい基材表面に貼り付けた後、パターンマスクを他方のフィルム上に当接させた状態で露光し（当該他方のフィルムを剥離除去してから露光する場合もある）、ついでその他方のフィルムを剥離除去して現像に供する。露光後の現像方式としては、溶剤現像型のものと希アルカリ現像型のものとがある。現像後は、エッチング処理又はめっき処理を施した後、硬化レジストの剥離除去を行い基材表面にパターンが形成される。
【０００３】
近年、このようなフォトレジストフィルムに用いられる感光性樹脂組成物としては、プリント配線板の高密度等に伴い、解像度及び密着性に優れたものが求められており、例えば、（Ａ）（メタ）アクリル酸 １０〜１５重量％及び炭素数１〜１２のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル８５〜９０重量％を共重合成分として共重合して得られる重量平均分子量が３０，０００〜７０，０００、重量平均分子量／数平均分子量の値（分散度）が２．０〜３．０のフィルム性付与ポリマー５０〜７０重量部、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物３０〜５０重量部、（Ｃ）光重合開始剤０．５〜１０重量部、（Ｄ）可塑剤１．０〜１０重量部及び（Ｅ）顔料又は染料０．０１〜３．０重量部を含有してなる感光性樹脂組成物（例えば、特許文献１参照。）や、第一の感光性樹脂組成物層及び第二の感光性樹脂組成物層を有してなり、第一の感光性樹脂組成物層及び第二の感光性樹脂組成物層が、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマー及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる組成物であり、かつ、第二の感光性樹脂組成物層の厚みが１〜５μｍであり、かつ３６５ｎｍにおける吸光度が０．４〜１．５である感光性樹脂組成物層（例えば、特許文献２参照。）等が提案されている。
【特許文献１】特開平１１−８４６５２号公報
【特許文献２】特開２０００−２７５８６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１及び２の開示技術では、解像度や密着性はある程度良好であるものの、フォトレジストフィルムとしての可とう性及び硬化レジストの剥離性についてはまだまだ満足のいくものではない。
即ち、上記エッチング処理又はめっき処理に当たっては、作業性やコスト面でエッチング処理のほうが有利であり、また、エッチング処理に際しては、レジスト膜厚が薄いほどエッチファクターがよくなる。ところが、レジスト膜厚が薄くなると現像時間が速くなり、機械の振動が大きくなることからレジストパターンが振動を拾いやすく、レジストパターンが割れやすくなり、また、レジストの剥離速度が速く、剥離分散性が悪くなるという傾向から、可とう性及びレジスト剥離性の点で更なる改良が求められている。
【０００５】
そこで、本発明ではこのような背景下において、レジスト膜厚が薄くても、可とう性、レジスト剥離性（剥離速度及び剥離分離性）、更には密着性に優れた感光性樹脂組成物層及びフォトレジストフィルムを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
しかるに、本発明者等はかかる事情に鑑み鋭意研究を重ねた結果、ガラス転移温度が３０〜１００℃で、重量平均分子量が４０，０００〜１００，０００で、酸価が１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含有してなる感光性樹脂組成物層であって、かつ、感光性樹脂組成物層の厚みが５〜２０μｍであり、波長３６５ｎｍでの吸光度が０．３以上０．７未満であることを特徴とする感光性樹脂組成物層が上記目的に合致することを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明では、更に可塑剤（Ｄ）を含有してなることが剥離性の点で好ましい。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の感光性樹脂組成物層及びこれを用いたフォトレジストフィルムはガラス転移温度が３０〜１００℃で、重量平均分子量が４０，０００〜１００，０００で、酸価が１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含有してなる感光性樹脂組成物層であって、かつ、感光性樹脂組成物層の厚みが５〜２０μｍであり、波長３６５ｎｍでの吸光度が０．３以上０．７未満であるため、レジスト膜厚が薄くても、可とう性、レジスト剥離性（剥離速度及び剥離分離性）、更には密着性に優れた効果を有するものであり、特にエッチング用途に極めて有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に、本発明を詳細に説明する。
本発明に用いるバインダーポリマー（Ａ）としては、特に限定されないが、カルボキシル基含有のアクリル系樹脂が好適に用いられ、（メタ）アクリル酸エステルを主成分とし、エチレン性不飽和カルボン酸と、必要に応じて他の共重合可能なモノマーを共重合したアクリル系共重合体が用いられる。アセトアセチル基含有アクリル系共重合体を用いることもできる。
【０００９】
ここで、（メタ）アクリル酸エステルとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリジシル（メタ）アクリレート等が例示される。
【００１０】
本発明では特に、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルの中でも、ホモポリマーのガラス転移温度が０℃以下の（メタ）アクリル酸アルキルエステルを共重合成分全体に対して１〜３５重量％、好ましくは５〜３５重量％、更に好ましくは５〜３０重量％含有することが可とう性の点で好ましく、かかる（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２―メチルエチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート等があげられる。
【００１１】
エチレン性不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸が好適に用いられ、その他、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸等のジカルボン酸、あるいはそれらの無水物やハーフエステルも用いることができる。これらの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好ましい。
かかるエチレン性不飽和カルボン酸は、共重合成分全体に対して１６〜３０重量％含有することが剥離性の点で好ましく、特には１７〜２９重量％、更には１９〜２７重量％が好ましい。
また、他の共重合可能モノマーとしては、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アルキルビニルエーテル等が例示できる。
【００１２】
かくして得られるバイダーポリマー（Ａ）のガラス転移温度としては、３０〜１００℃であることが必要で、特には３０〜９０℃、更には３０〜８０℃であることが好ましい。かかるガラス転移温度が３０℃未満では感光性フィルムをロール状態で保存する場合に、ロールの端面から感光性樹脂がしみ出す現象（コールドフロー）が起こり、１００℃を超えるとレジストの凹凸追従性が低下する。
【００１３】
また、バインダーポリマー（Ａ）の重量平均分子量としては４０，０００〜１００，０００であることが必要で、好ましくは４０，０００〜９０，０００、更に好ましくは４０，０００〜８０，０００である。重量平均分子量が４０，０００未満では、ラミネート性の低下やラミネート時のカット屑が発生するなどフィルム付与性が低下し、逆に１００，０００を超えると解像度が低下することとなる。
【００１４】
更に、バインダーポリマー（Ａ）の酸価としては１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが必要で、好ましくは１１０〜１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ、更に好ましくは１２０〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇである。かかる酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では現像性が低下し、解像力の低下を招くこととなり、酸価が２００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると硬化レジストの耐現像液性が低下し、細線密着性の低下を招くこととなる。
【００１５】
次に、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、中でも重合性不飽和基を２個以上有するものが好ましく、例えば、２官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス〔４−｛（メタ）アクリロキシポリエトキシ｝フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−｛（メタ）アクリロキシポリプロポキシ｝フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−｛（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ｝フェニル〕プロパン、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられ、又、３官能以上のモノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、２，２−ビス〔４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル〕プロパンが、可とう性の点で好ましい。
【００１６】
これらの２官能以上のモノマーは２種類以上使用することも可能であると共に、下記の単官能モノマーを適当量併用することもできる。
単官能モノマーの例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート等が挙げられる。中でも、２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレートが剥離性、可とう性の点で好ましい。
【００１７】
エチレン性不飽和化合物（Ｂ）の含有割合は、バインダーポリマー（Ａ）と該エチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、５〜９０重量部が好ましく、特に好ましくは２０〜８０重量部、更に好ましくは４０〜６０重量部である。５重量部未満では、硬化不良、可撓性の低下、現像速度の遅延を招き、９０重量部を超えると粘着性の増大、コールドフロー、硬化レジストの剥離速度の低下を招くこととなり好ましくない。
【００１８】
本発明で用いる光重合開始剤（Ｃ）としては、特に限定されず、公知の光重合開始剤を用いることができ、例えば、Ｐ，Ｐ′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、Ｐ，Ｐ′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、Ｐ，Ｐ′−ビス（ジブチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケタール、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナフトキノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、ジクロロアセトフェノン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、ジベンゾスパロン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、トリブロモフェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホン、更には２，４，６−［トリス（トリクロロメチル）］−１，３，５−トリアジン、２，４−［ビス（トリクロロメチル）］−６−（４′−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−［ビス（トリクロロメチル）］−６−（４′−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−［ビス（トリクロロメチル）］−６−（ピペロニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−［ビス（トリクロロメチル）］−６−（４′−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン誘導体、アクリジン及び９−フェニルアクリジン等のアクリジン誘導体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４′，５′−テトラフェニル−１，２′−ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４′，５′−テトラフェニル−１，１′−ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−フルオロフェニル）−４，５，４′，５′−テトラフェニル−１，１′−ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−メトキシフェニル）−４，５，４′，５′−テトラフェニル−１，１′−ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−４，５，４′，５′−テトラフェニル−１，１′−ビイミダゾール、２，４，２′，４′−ビス［ビ（ｐ−メトキシフェニル）］−５，５′−ジフェニル−１，１′−ビイミダゾール、２，２′−ビス（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５，４′，５′−ジフェニル−１，１′−ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｐ−メチルチオフェニル）−４，５，４′，５′−ジフェニル−１，１′−ビイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニル）−１，１′−ビイミダゾール、１，２′−、１，４′−、２，４′−で共有結合している互変異性体等のヘキサアリールビイミダゾール誘導体、トリフェニルフォスフィン、２−ベンゾイル−２−ジメチルアミノ−１−［４−モルフォリノフェニル］−ブ���ン等である。
【００１９】
かかる光重合開始剤（Ｃ）の含有量としては、上記バインダーポリマー（Ａ）及びエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部であることが好ましく、更に好ましくは０．１〜８重量部、特に好ましくは１〜６重量部である。かかる含有量が０．０１重量部未満では感度が著しく低下して良好な作業性が得られず、逆に１０重量部を超えるとフォトレジストフィルムとしたときの保存安定性が低下して好ましくない。
【００２０】
本発明の感光性樹脂組成物層に用いる感光性樹脂組成物においては、上記のバインダーポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）の他に更に、可塑剤（Ｄ）を含有することが剥離性の点で好ましい。
かかる可塑剤（Ｄ）としては、例えば、ジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類、トリエチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート等のグリコールエステル類、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類、ｐ―トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ―ｎ―ブチルアセトアミド等のアミド類、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類、クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル、４，５―ジエポキシシクロヘキサンー１，２―ジカルボン酸ジオクチル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類等が挙げられ、中でも、ｐ−トルエンスルホンアミドが特に好ましい。
【００２１】
本発明において、上記可塑剤（Ｄ）の含有量は、上記バインダーポリマー（Ａ）及びエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、１〜５重量部であることが好ましく、更に好ましくは１．５〜４．５重量部、特に好ましくは２〜４重量部である。かかる含有量が１重量部未満ではレジスト剥離不良が起こり、逆に５重量部を超えるとコールドフローの発生や密着性の低下が起こり好ましくない。
【００２２】
本発明の感光性樹脂組成物層に用いる感光性樹脂組成物には、その他、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーン、マラカイトグリーンレイク、ブリリアントグリーン、パテントブルー、メチルバイオレット、ビクトリアブルー、ローズアニリン、パラフクシン、エチレンバイオレット、オイルブルー＃６０３、オイルブルー＃６１３等の着色染料、密着性付与剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質材、安定剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、等の添加剤を適宜添加することができる。
【００２３】
かくして得られる感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂組成物層を形成するが、普通、積層構造のフォトレジストフィルムとして用いられる。該フィルムは、支持体フィルム、感光性樹脂組成物層及び保護フィルムを順次積層したものである。
【００２４】
本発明に用いられる支持体フィルムは、感光性樹脂組成物層を形成する際の耐熱性及び耐溶剤性を有するものが用いられ、前記支持体フィルムの具体例としては、例えば、通常、ポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、アルミニウム箔等が挙げられるが、本発明では特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。尚、前記支持体フィルムの厚さは、該フィルムの材質によって異なるので一概には決定することができず、通常該フィルムの機械的強度等に応じて適宜調整されるが、通常は３〜５０μｍ程度である。
又、本発明においては、かかる支持フィルムのヘイズが２．０以下であるフィルムを用いることが現像後のパターン品位の点で好ましい。
【００２５】
前記感光性樹脂組成物層の厚さは、５〜２０μｍであり、好ましくは７〜１８μｍ、更に好ましくは１０〜１５μｍである。５μｍ未満では塗工、乾燥する際に、被膜が不均一になったり、ピンホールが生じやすくなり、また２０μｍより厚い場合には、解像度、密着性の低下が起こったり、エッチング工程でより多くの時間を必要とする。
【００２６】
また、前記感光性樹脂組成物層は、波長３６５ｎｍにおける吸光度が０．３以上０．７未満であることが必要で、好ましくは０．３〜０．６５、更に好ましくは０．３〜０．６  である。吸光度が０．３未満であると露光時に基板表面からの光乱反射による解像度の低下が起こり、０．７以上では露光現像工程において感光性樹脂組成物層の底部の硬化度が低下するため、密着性が低下する。この感光性樹脂組成物層の波長３６５ｎｍにおける吸光度を０．３以上０．７未満とするに当たっては光開始剤、紫外線吸収剤、染料の種類、濃度を適切に選択する等の方法があり、特に好ましくは光開始剤の濃度を調節する方法である。
【００２７】
本発明に用いられる保護フィルムは、フォトレジストフィルムをロール状にして用いる場合に、粘着性を有する感光性樹脂層が支持体フィルムに転着したり、感光性樹脂層に埃などが付着するのを防止する目的で感光性樹脂層に積層して用いられる。かかる保護フィルムとしては、例えばポリエステルフィルム、ポリビニルアルコール系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、テフロンフィルム等が挙げられるが、本発明では、特にポリエチレンフィルムが好ましい。尚、該保護フィルムの厚さについては特に限定はなく、通常１０〜５０μｍ、なかんずく１０〜３０μｍであればよい。
又、本発明においては、保護フィルムの感光性樹脂組成物層側表面の最大粗さ（Ｒｚ、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−２００１）が０．２μｍ以下であり、かつ長径８０μｍ以上のフィッシュアイの含有量が８個／ｍ２以下であるフィルムを用いることが感光性樹脂組成物層と基材界面とに空隙を生じさせない点で好ましい。
【００２８】
上記の感光性樹脂組成物を支持体フィルム面に塗工した後、必要に応じてその塗工面の上から保護フィルムを被覆してフォトレジストフィルムとする。
支持体フィルムと感光性樹脂組成物層との接着力及び保護フィルムと感光性樹脂組成物層との接着力を比較し、接着力の低い方のフィルムを剥離してから感光性樹脂組成物層の側を銅張基板の銅面等の金属面に貼り付ける。
【００２９】
基板上にレジスト画像を形成させるにはフォトレジストフィルム表面のフィルム上にパターンマスクを密着させて露光する。感光性樹脂組成物が粘着性を有しないときは、前記のフィルムを剥離してからパターンマスクを感光性樹脂組成物層に直接接触させて露光することもできる。尚、金属面に直接塗工した場合は、その塗工面に直接またはポリエステルフィルム等を介してパターンマスクを接触させ、露光に供する。
【００３０】
露光は通常紫外線照射により行い、その際の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ショートアーク灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプ等が用いられる。紫外線照射後は、必要に応じ加熱を行って、硬化の完全を図ることもできる。
【００３１】
露光後は、レジスト上のフィルムを剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性樹脂組成物は希アルカリ現像型であるので、露光後の現像は、炭酸ソーダ、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ０．３〜２重量％程度の希薄水溶液を用いて行う。該アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
【００３２】
エッチングは、通常塩化第二銅−塩酸水溶液や塩化第二鉄−塩酸水溶液等の酸性エッチング液を用いて常法に従ってエッチングを行う。稀にアンモニア系のアルカリエッチング液も用いられる。めっき法は、脱脂剤、ソフトエッチング剤等のめっき前処理を用いて前処理を行った後、めっき液を用いてめっきを行う。めっき液としては銅めっき液、ニッケルめっき液、鉄めっき液、銀めっき液、金めっき液、スズめっき液、コバルトめっき液、亜鉛めっき液、ニッケル−コバルトめっき液、はんだめっき液等が挙げられる。
【００３３】
エッチング工程又はめっき工程の後、残っている硬化レジストの剥離を行う。硬化レジストの剥離除去は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の０．５〜５重量％程度の濃度のアルカリ水溶液からなるアルカリ剥離液、または３〜１５重量％水溶液の有機アミン系剥離液（特にモノエタノールアミンを主成分とする）を用いて行う。
【００３４】
本発明の感光性樹脂組成物層及び該組成物層を用いたフォトレジストフィルムは、印刷配線板の製造、金属の精密加工、リードフレーム製造、半導体パッケージ等に用いられるエッチングレジスト又はめっきレジストとして非常に有用であり、ガラス転移温度が３０〜１００℃で、重量平均分子量が４０，０００〜１００，０００で、酸価が１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含有してなる感光性樹脂組成物層であって、かつ、感光性樹脂組成物層の厚みが５〜２０μｍであり、波長３６５ｎｍでの吸光度が０．３以上０．７未満であるため、レジスト膜厚が薄くても、可とう性、レジスト剥離性（剥離速度及び剥離分散性）、更には密着性に優れた効果を示すものであり、エッチング用途に特に有用である。
【実施例】
【００３５】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
尚、実施例中「％」、「部」とあるのは、断りのない限り重量基準を意味する。
【００３６】
以下のとおり、バインダーポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、可塑剤（Ｄ）およびその他添加剤を用意した。
［バインダーポリマー（Ａ−１）の調整］
メチルメタクリレート４５部、２−エチルへキシルアクリレート２０部、メタクリル酸２５部、ｎ−ブチルアクリレート１０部、溶剤１５０部（メチルエチルケトン／イソプロピルアルコール＝１２０部／３０部）の混合液を８時間重合して、バインダーポリマー（Ａ−１）を得た。得られたバインダーポリマー（Ａ−１）の重量平均分子量は５０，０００、酸価は１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度は４２℃であった。
【００３７】
［バインダーポリマー（Ａ−２）の調整］
メチルメタクリレート５３部、２−エチルへキシルアクリレート１５部、メタクリル酸２２部、ｎ−ブチルアクリレート１０部、溶剤１５０部（メチルエチルケトン／イソプロピルアルコール＝１２０部／３０部）の混合液を８時間重合して、バインダーポリマー（Ａ−２）を得た。得られたバインダーポリマー（Ａ−２）の重量平均分子量は７０，０００、酸価は１４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度は５２℃であった。
【００３８】
［バインダーポリマー（Ａ′−１）の調整］
メチルメタクリレート７５部、メタクリル酸２０部、ｎ−ブチルアクリレート５部、溶剤１５０部（メチルエチルケトン／イソプロピルアルコール＝１２０部／３０部）の混合液を８時間重合して、バインダーポリマー（Ａ′−１）を得た。得られたバインダーポリマー（Ａ′−１）の重量平均分子量は６０，０００、酸価は１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度は１０４℃であった。
【００３９】
［バインダーポリマー（Ａ′−２）の調整］
メチルメタクリレート３５部、２−エチルへキシルアクリレート２５部、メタクリル酸２５部、ｎ−ブチルアクリレート１５部、溶剤１５０部（メチルエチルケトン／イソプロピルアルコール＝１２０部／３０部）の混合液を８時間重合して、バインダーポリマー（Ａ′−２）を得た。得られたバインダーポリマー（Ａ′−２）の重量平均分子量は５０，０００、酸価は１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度は１４℃であった。
［バインダーポリマー（Ａ′−３）の調整］
メチルメタクリレート５０部、２−エチルへキシルアクリレート１８部、メタクリル酸２２部、ｎ−ブチルアクリレート１０部、溶剤１５０部（メチルエチルケトン／イソプロピルアルコール＝１２０部／３０部）の混合液を８時間重合して、バインダーポリマー（Ａ′−３）を得た。得られたバインダーポリマー（Ａ′−３）の重量平均分子量は３５，０００、酸価は１４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度は４５℃であった。    
【００４０】
［エチレン性不飽和化合物（Ｂ）の調整］
・２，２−ビス｛４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル｝プロパン  ３０部
・２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート        １０部
【００４１】
［光重合開始剤（Ｃ）の調整］
・（Ｃ−１）ヘキサアリールビイミダゾール                      ３部
・（Ｃ−２）４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン    ０．２部
（比較例８は０．６部）
【００４２】
［可塑剤（Ｄ）］
・ｐ−トルエンスルホンアミド３．５部
【００４３】
［その他添加剤］
・ロイコクリスタルバイオレット  ０．５部
・マラカイトグリーン            ０．０５部
【００４４】
実施例１〜４、比較例１〜８
表１に示す如き組成により感光性樹脂組成物を調整した。
【００４５】
[フォトレジストフィルムの作製]
上記感光性樹脂組成物を、ギャップ２ミル（比較例７はギャップ５ミル）のアプリケーターを用いて厚さ１６μｍのポリエステルフィルム上に塗工し、室温で１分３０秒放置した後、６０℃、９０℃のオーブンでそれぞれ２分間乾燥して、更に、その上に厚さ２３μｍのポリエチレンフィルムで被覆し、レジスト厚１０μｍ（比較例７は２５μｍ）のフォトレジストフィルムを得た。
【００４６】
得られた樹脂組成物層のガラス転移温度、酸価、重量平均分子量及び波長３６５ｎｍにおける吸光度を下記表２に示す。
【００４７】
【表１】
2006145565.tif 000002
【００４８】
【表２】
2006145565.tif 000003
【００４９】
上記で得られたフォトレジストフィルムについて、以下の項目を下記の如く評価した。
【００５０】
[レジストの剥離速度及び剥離分散性]
得られたフォトレジストフィルムのポリエチレンフィルムを剥離した後、感光性樹脂層をオーブンで６０℃に予熱した銅張基板上に、ラミネートロール温度１００℃、同ロール圧０．３ＭＰａ、ラミネート速度１．５ｍ／ｍｉｎにてラミネートした。その後１５分間のホールドタイムをとった。尚、ここで用いた銅張基板は厚さ１．６ｍｍであり、ガラス繊維エポキシ基材の両面に３５μｍの銅箔を張り合わせた巾２００ｍｍ、長さ２５０ｍｍの基板である。
そして、銅張積層板へのラミネート後、５ｋＷ水銀ショートアーク灯（平行光源）で、ストーファー２１段ステップタブレット（光透過量が段階的に少なくなるように作られたネガフィルム）の７段相当量の露光量で１８０ｍｍ×１００ｍｍの大きさで全面露光し、３０℃で１％炭酸ナトリウム水溶液をブレークポイント（未露光部分が完全に溶解する時間）の２倍の現像時間でスプレーすることにより現像した後、３％水酸化ナトリウム水溶液（５０℃）でレジスト剥離を行い、剥離速度（剥離終了までの時間）を測定し、更に剥離分散性（形状）を下記の基準で評価した。
・剥離分散性    ◎・・・剥離片の大きさが１０ｍｍ未満
○・・・剥離片の大きさが１０〜３０ｍｍ未満
△・・・剥離片の大きさが３０〜１００ｍｍ未満
×・・・剥離片の大きさが１００ｍｍ以上
【００５１】
[可とう性]
上記感光性樹脂組成物を、ギャップ２ミル（比較例７はギャップ５ミル）のアプリケーターを用いて厚さ１６μｍのポリエステルフィルム上に塗工し、室温で１分３０秒放置した後、６０℃、９０℃のオーブンでそれぞれ２分間乾燥して、更に、その上に１６μｍ厚のポリエステルフィルムで被覆し、レジスト厚１０μｍ（比較例７は２５μｍ）のフォトレジストフィルムを得た。
上記フォトレジストフィルムにラミネートロール温度１００℃、同ロール圧０．３ＭＰａ、ラミネート速度１．５ｍ／ｍｉｎにてラミネートしたものを、２０ｍｍ×２００ｍｍに切り出し、ストーファー２１段ステップタブレットの７段相当量の露光量で露光し、両面ポリエステルフィルムを剥がし、硬化レジストを１８０度に完全に折り曲げる操作（折り曲げ半径０φ、４ｋｇｆ）を２３℃、５０％ＲＨの環境下で繰り返し行い、下記の如く評価した。
◎・・・１０回以上折り曲げても割れない。
○・・・６〜９回折り曲げて割れる。
△・・・２〜５回折り曲げて割れる。
×・・・１回折り曲げて割れる。
【００５２】
[密着性]
得られたフォトレジストフィルムのポリエチレンフィルムを剥離した後、感光性樹脂組成物層をオーブンで６０℃に予熱した銅張基板上に、ラミネートロール温度１００℃、同ロール圧０．３ＭＰａ、ラミネート速度１．５ｍ／ｍｉｎにてラミネートした後、ライン幅６、８、１０、１２、１４、１６、１８、２０、２２、２５、３０、３５、４０、４５、５０μｍのパターンマスク（ガラスクロム乾板：独立細線）を用いて、同様に露光、現像して密着性良好な最小ライン幅（μｍ）を調べた。
実施例及び比較例の評価結果を表３に示す。
【００５３】
【表３】
2006145565.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明の感光性樹脂組成物層及びこれを用いたフォトレジストフィルムはガラス転移温度が３０〜１００℃で、重量平均分子量が４０，０００〜１００，０００で、酸価が１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含有してなる感光性樹脂組成物層であって、かつ、感光性樹脂組成物層の厚みが５〜２０μｍであり、波長３６５ｎｍでの吸光度が０．３以上０．７未満であるため、レジスト膜厚が薄くても、可とう性、レジスト剥離性（剥離速度及び剥離分散性）、更には密着性に優れた感光性樹脂組成物層であり、とりわけエッチング用途に極めて有用である。