(57)【要約】【課題】  送り側装置から受け側装置に撓み状態で移送される基板の前後端部と、相手方装置とが接触しないようにすることである。【解決手段】  基板Ｇの受渡し開始直後においては、受け側の基板処理装置Ｂに対して送り側の基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５を、基板受渡し装置Ａ1 から離脱して撓み状態となった基板Ｇの前端部２４の最大撓み量δ1 に対応する高さＨ1 だけ上方に配置させて基板Ｇを移送させることにより、基板Ｇの前端部２４と基板処理装置Ｂの基板支持部２１とが干渉しないようにすると共に、基板Ｇの受渡し終了直前においては、基板受渡し装置Ａ1 から離脱して撓み状態となった基板Ｇの後端部２５の最大撓み量δ2 に対応する下降量Ｈ2 だけ下方に配置させて基板Ｇを移送させることにより、基板Ｇの後端部２５が基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５に接触しないようにする。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の隙間をおいて配置された送り側装置と受け側装置との間で基板を移送して受け渡す方法であって、
基板の受渡し開始直後において前記隙間で基板の前端部が片持ち状に撓む際には、受け側装置が送り側装置よりも相対的に低くなるように設定すると共に、
基板の受渡し終了直前において前記隙間で基板の後端部が片持ち状に撓む際には、受け側装置が送り側装置よりも相対的に高くなるように設定して、
基板の前後端部が受け側及び送り側の各装置に接触するのを回避して基板を移送することを特徴とする基板の受渡し方法。
【請求項２】
送り側及び受け側の各装置は、基板を空気浮上させて移送する構成であることを特徴とする請求項１に記載の基板の受渡し方法。
【請求項３】
請求項１の発明を実施するための装置であって、所定の隙間をおいて配置された基板の送り側装置と受け側装置の少なくとも一方には、装置を上下動させる手段を備えていることを特徴とする基板の受渡し装置。
【請求項４】
前記送り側装置と受け側装置の一方は、上下動手段を備えていない基板処理装置であり、他方は、上下動手段を備えた基板移送ロボットであることを特徴とする請求項３に記載の基板の受渡し装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定の隙間をおいて配置された送り側装置と受け側装置との間で基板を移送して受け渡す方法、及び基板の受渡し装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体を製造するための薄板状の基板（ガラス基板）は、複数台の基板処理装置によって処理される。基板は、平面視において方形状であり、その大きさは５００mm×６００mmのものから、近時の技術の発展に伴い、２０００mm×１８００mmのものも存している。また、その厚さは０．５〜１mm程度である。該基板は、基板カセットに多段に収容されていて、基板受渡し装置によって基板カセットから搬出され、基板処理装置に受け渡される。前記基板受渡し装置には、各種の技術が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
従来の基板受渡し装置Ａ’について、本発明の図面を援用しながら説明する。図１及び図２に示されるように、基板受渡し装置Ａ’を移動させる一対のガイドレール６の一方の側に基板カセットＣが配設されていて、他方の側に基板処理装置Ｂが配設されている。基板カセットＣに収容された基板Ｇは、基板受渡し装置Ａ’によって引き出された後、基板処理装置Ｂに移送される。このときの作用を、簡単に説明する。多数枚の基板Ｇが収容された基板カセットＣから、基板Ｇが基板受渡し装置Ａ’に移送される。基板受渡し装置Ａ’に移送された基板Ｇは、空気浮上装置（図示せず）から噴出された空気Ｓにより基板支持部５１の上面から少し持ち上げられた状態で支持されている。また、基板処理装置Ｂに移送された基板Ｇも、空気Ｓにより基板支持部５２の上面から少し持ち上げられた状態で支持される。基板受渡し装置Ａ’の基板支持部５１は、基板カセットＣ及び基板処理装置Ｂと干渉しない位置において水平面内で１８０°回転した後、基板Ｇの前端部５３を基板処理装置Ｂの側に向けた状態で移動し、基板処理装置Ｂとほぼ同一高さとなって相対向する。ここで、基板受渡し装置Ａ’の基板支持部５１と基板処理装置Ｂとの間には、不測の理由により異物等が挟まって装置に不良が発生することを防止するため、所定の隙間Ｖが設けられている。なお、両装置Ａ',Ｂの間に前記「所定隙間Ｖ」を設けるのは、基本設計項目の一つである。
【０００４】
基板受渡し装置Ａ'(送り側装置）に配置されている基板Ｇが、受け側装置（基板処理装置Ｂ）に受け渡される場合の作用を説明する。基板受渡し装置Ａ’の基板支持部５１が、基板処理装置Ｂの基板支持部５２とほぼ同一の高さ位置に配置される。図７の（イ）に示されるように、基板受渡し装置Ａ’と基板処理装置Ｂの各基板支持部５１，５２どうしの間には、所定の隙間Ｖが設けられているため、基板受渡し装置Ａ’の基板支持部５１に配置されている基板Ｇが、該基板支持部５１から離脱すると基板Ｇの前端部５３が自重により撓み、基板処理装置Ｂと干渉するおそれがある。また、図７の（ロ）に示されるように、基板Ｇの大部分が基板受渡し装置Ａ’の基板支持部５１から離脱したときにも、該基板Ｇの後端部５４が撓み、基板受渡し装置Ａ’の基板支持部５１と接触するおそれがある。これにより、基板Ｇが損傷されてしまう。
【０００５】
基板Ｇを、空気Ｓで浮上させて移送させるという方法は、コンベア装置等により基板Ｇを移送させる方法と比較して、基板Ｇとの接触部位が存しないため、該基板Ｇを損傷させるおそれは全くない。しかしながら、コンベア装置等のように、基板Ｇを直接支持することができないため、基板Ｇの前端部５３の撓み量δ’は、図７の（イ）に示されるように、最前部の空気噴出孔５５から基板Ｇの前端部５３までの撓み部分の長さＬが長くなることに起因して大きくなる。しかも、前記撓み量δ’は、前記撓み部分の長さＬの三乗に比例して大きくなる。これにより、特に、空気浮上方式で基板Ｇを受け渡す場合に、基板Ｇの前後端部５３，５４と相手方の装置Ａ',Ｂとの接触が問題となる。
【特許文献１】特開２００２−１８１７１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記した不具合に鑑み、送り側装置と受け側装置との間で基板が移送されるとき、撓み状態の基板の前後端部と相手方の装置とが接触しないようにすることを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための請求項１の発明は、所定の隙間をおいて配置された送り側装置と受け側装置との間で基板を移送して受け渡す方法であって、基板の受渡し開始直後において前記隙間で基板の前端部が片持ち状に撓む際には、受け側装置が送り側装置よりも相対的に低くなるように設定すると共に、基板の受渡し終了直前において前記隙間で基板の後端部が片持ち状に撓む際には、受け側装置が送り側装置よりも相対的に高くなるように設定して、基板の前後端部が受け側及び送り側の各装置に接触するのを回避して基板を移送することを特徴としている。
【０００８】
基板を送り側装置から受け側装置に移送させる際に、送り側と受け側の各装置の間に形成された隙間に基板の前端部が配置されると、該前端部が片持ち状に撓む。同様に、前記隙間に基板の後端部が配置されると、該後端部が片持ち状に撓む。これにより、基板の前後端部が相手方の装置に接触するおそれがある。しかし、本発明によれば、基板の前後端部が相手方の装置に接触することを防止すべく、基板の受渡し開始直後においては、受け側装置が送り側装置よりも相対的に低くなるように、また、基板の受渡し終了直前においては、受け側装置が送り側装置よりも相対的に高くなるように設定されている。これにより、基板の前後端部と相手方の装置とが接触することなく、該基板が移送される。
【０００９】
同じく請求項２の発明は、請求項１の発明を前提として、送り側及び受け側の各装置は、基板を空気浮上させて移送する構成であることを特徴としている。空気浮上方式で基板を浮上させ、非接触で移送させる方法は、基板を損傷しないという利点がある反面、本発明のように、送り側と受け側の各装置の間で基板を受け渡して移送する際の基板の受渡し当初、及び受渡し終了直前において、両装置の間の隙間で基板の前端部又は後端部の撓みにより発生する「撓み量」は、コンベア装置等のように直接支持して移送する方式に比較して「撓み部分」の長さが長くなることに起因して大きくなって、基板の大部分が支持されている装置を基準にして相手方の装置に接触し易くなる。しかし、本発明によって簡単に前記接触を回避できるので、「空気浮上方式で基板を移送する方法」においては、特に顕著な効果が奏される。
【００１０】
請求項３の発明は、請求項１の発明を実施するための装置であって、所定の隙間をおいて配置された基板の送り側装置と受け側装置の少なくとも一方には、装置を上下動させる手段を備えていることを特徴としている。本発明は、請求項１の発明を装置の観点から表現したものであり、請求項１と同様の作用効果が奏される。
【００１１】
請求項４の発明は、請求項３の発明を前提として、前記送り側装置と受け側装置の一方は、上下動手段を備えていない基板処理装置であり、他方は、上下動手段を備えた基板移送ロボットであることを特徴としている。送り側装置と受け側装置の一方側の装置である基板処理装置が上下動手段を備えていなくても、他方側の装置である基板移送ロボットが上下動手段を備えることにより、基板処理装置と基板移送ロボットのいずれが送り側装置又は受け側装置になっても、基板の前後端部と相手方の装置との接触を回避させて移送させることができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、所定の隙間をおいて配置された送り側装置と受け側装置との間で基板を移送して受け渡す方法であって、基板の受渡し開始直後において前記隙間で基板の前端部が片持ち状に撓む際には、受け側装置が送り側装置よりも相対的に低くなるように設定すると共に、基板の受渡し終了直前において前記隙間で基板の後端部が片持ち状に撓む際には、受け側装置が送り側装置よりも相対的に高くなるように設定して、基板の前後端部が受け側及び送り側の各装置に接触するのを回避して基板を移送することを特徴としている。これにより、送り側装置又は受け側装置から離脱した基板の前後端部が撓んでも、相手方の装置と接触するおそれがなくなり、該基板の損傷が防止される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の最良実施例を挙げて、本発明を更に詳細に説明する。図１は基板受渡し装置Ａ1 、基板処理装置Ｂ及び基板カセットＣの正面図、図２は、図１の状態の平面図である。
【実施例１】
【００１４】
第１実施例の基板受渡し装置Ａ1 について説明する。図１及び図２に示されるように、液晶表示装置等に使用される基板Ｇは、基板カセットＣに多段にして収容される。前記基板Ｇは、基板受渡し装置Ａ1(基板移送ロボット）により基板カセットＣから搬出されて、基板処理装置Ｂ（例えば、フォト装置、ＣＶＤ装置等）に移送される。また、基板処理装置Ｂにより所定の処理がなされた基板Ｇは、基板受渡し装置Ａ1 によって該基板処理装置Ｂから搬出され、次工程の基板処理装置Ｂに移送されたり、基板カセットＣに搬入されたりする。なお、図２において、基板カセットＣから移送された基板Ｇが配置された状態の基板受渡し装置Ａ1 を二点鎖線で示す。
【００１５】
最初に、基板カセットＣについて簡単に説明する。本実施例の基板カセットＣは、基板Ｇの搬入出方向Ｐと直交する水平方向に沿って複数本（本実施例の場合、５本）の支持ワイヤ１が、奥行方向と高さ方向に所定間隔をおいて取付けられている。これにより、各段の支持ワイヤ１の直上に、基板Ｇを収容するための収容棚Ｄが多段に形成されている。基板Ｇは、各段の支持ワイヤ１に支持されることによって基板カセットＣの各収容棚Ｄに収容される。基板カセットＣは、カセット載置台２に載置されている。該カセット載置台２には、上面部に３個の送りローラ３が取付けられた４本の昇降ブロック体４が、各支持ワイヤ１と干渉することなく昇降可能に配置されている。
【００１６】
前記基板カセットＣに収容された基板Ｇを搬出する場合、最下段の基板Ｇから順に搬出される。即ち、各昇降ブロック体４が上昇し、各送りローラ３によって最下段の基板Ｇが、対応する各支持ワイヤ１から僅かに持ち上げられる。各送りローラ３を駆動回転させることにより、基板カセットＣから基板Ｇが搬出される。そして、予め、最下段の基板Ｇと対応する高さ位置に待機されていた基板受渡し装置Ａの基板支持部５に移送されて搬出される。また、基板カセットＣに基板Ｇを搬入する場合、基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５に支持されている基板Ｇが、基板カセットＣに収容されている最下段の基板Ｇの直下の収容棚Ｄに移送されて搬入される。
【００１７】
次に、第１実施例の基板受渡し装置Ａ1 について説明する。基板受渡し装置Ａ1 は、床面に敷設された一対のガイドレール６にガイドされ、走行方向Ｑに沿って自走可能である。前記一対のガイドレール６の両側に、基板処理装置Ｂと基板カセットＣが設置されている。そして、基板受渡し装置Ａ1 と基板処理装置Ｂ及び基板カセットＣとの間には、所定の隙間Ｖが形成されている。
【００１８】
基板受渡し装置Ａ1 を構成するベース板７の底面部には、一対のガイドレール６に装着される各ガイド体８が取付けられている。基板受渡し装置Ａ1 は、一対のガイドレール６にガイドされ、走行方向Ｑに沿って自走可能である。前記ベース板７の上面部で、平面視におけるほぼ中央部には回転支持部９が固着されていて、該回転支持部９に基板受渡し装置Ａの基板支持部５を支持するための装置支持部１１が軸心ＣＬを中心に回転自在に配設されている。前記装置支持部１１には、「く」の字状に取付けられた各リンク部材１２，１３を介して基板支持部５が連結されている。装置支持部１１と下側のリンク部材１２との連結部、及び、基板支持部５と上側のリンク部材１３との連結部には各制御モータ（図示せず）が内装されていて、各リンク部材を回動させることができる。各制御モータを作動させ、装置支持部１１に対して下側のリンク部材１２を所定方向に回動させると共に、基板支持部５に対して上側のリンク部材を、下側のリンク部材の回動に同期させながら反対方向に回動させることにより、基板支持部５を水平に保持したまま昇降させることができる。
【００１９】
図２に示されるように、基板支持部５の上面には、一対のガイドレール１４が敷設されていて、該ガイドレール１４に、基板Ｇの端部を把持するための基板把持装置１５が装着されている。また、基板支持部５のほぼ中央部分には、前記一対のガイドレール１４と平行にして溝部１６が設けられている。溝部１６には、基板把持装置１５を移動させるためのボールねじ装置１７が配設されている。ボールねじ装置１７は、ボールねじ１８と、該ボールねじ１８を駆動回転させるための制御モータＭとから構成されている。基板把持装置１５は、前記ボールねじ１８に連結されていて、前記制御モータＭを作動させてボールねじ１８を所定方向に回転させることにより、基板把持装置１５を水平移動させることができる。この結果、基板把持装置１５に把持された基板Ｇが水平移動される。
【００２０】
前記基板支持部５における一対のガイドレール１４と溝部１６との間には、多数個の空気噴出孔１９が設けられている。そして、図示しない空気供給装置から送られた空気Ｓが、前記各空気噴出孔１９から噴出される。基板把持装置１５に把持された基板Ｇは、各空気噴出孔１９から噴出された空気Ｓによって持ち上げられる。これにより、基板Ｇの周縁部が基板支持部５に擦られて損傷することが防止される。
【００２１】
次に、基板処理装置Ｂについて簡単に説明する。基板処理装置Ｂの基板支持部２１にも多数個の空気噴出孔２２が設けられていて、基板受渡し装置Ａ1 から基板処理装置Ｂの基板支持部２１に移送された基板Ｇは、各空気噴出孔２２から噴出される空気Ｓによって持ち上げられる。そして、図３の（ハ）に示されるように、基板把持装置２３に基板Ｇの前端部２４が把持されて基板処理装置Ｂ内に搬入される。
【００２２】
第１実施例の基板受渡し装置Ａ1 の作用について、基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５に支持されている基板Ｇを基板処理装置Ｂに移送する場合を説明する。なお、図３ないし図５においては、説明を容易にするため、基板Ｇの撓みを誇張して図示してある。基板Ｇの受渡し開始直後においては、図３の（イ）に示されるように、基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５に支持された基板Ｇは、後端部２５が基板把持装置１５（図１参照）に把持されていて、それ以外の大部分は、各空気噴出孔１９から噴出される空気Ｓにより、基板支持部５の上面から持上げ量Ｅだけ持ち上げられている。基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５は、基板処理装置Ｂの基板支持部２１よりも高さＨ1 だけ上方に配置されている。図３の（ロ）に示されるように、前記高さＨ1 は、基板Ｇの前端部２４の最大撓み量δ1 から基板Ｇの持上げ量Ｅを引いたものよりも少し大きい（Ｈ1 ＞δ1 −Ｅ) 。これにより、最大撓み状態における基板Ｇの前端部２４の最下端部と基板処理装置Ｂの基板支持部２１との間には隙間ｅ1 が形成され、基板Ｇが移送されても、該基板Ｇの前端部２４が基板処理装置Ｂの基板支持部２１と干渉するおそれはない。
【００２３】
そして、図３の（ハ）に示されるように、基板Ｇの前端部２４が、基板処理装置Ｂの基板支持部２１に設けられた最前列の空気噴出孔２２に到達すると、基板Ｇの前端部２４は、前記空気噴出孔２２から噴出する空気Ｓの浮上力によって、持上げ量Ｅだけ持ち上げられる。これにより、基板Ｇの前端部２４と、基板処理装置Ｂの基板支持部２１とが接触するおそれはない。基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５を徐々に下降させ、基板処理装置Ｂの基板支持部２１と同一高さに配置する。基板Ｇの前端部２４は、基板処理装置Ｂの基板把持装置２３に把持され、各空気噴出孔２２から噴出される空気Ｓによって持ち上げられたまま移送される。
【００２４】
基板Ｇの受渡し終了直前においては、図３の（ニ）に示されるように、基板Ｇの後端部２５が基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５から離脱する。すると、基板Ｇの後端部２５に空気Ｓの浮上力が及ばなくなって下方に撓み、基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５と接触するおそれがある。これを防止するため、前記基板支持部５が下降される。このときの下降量Ｈ2 は、基板Ｇの後端部２５の最大撓み量δ2 から、基板処理装置Ｂにおける基板Ｇの持上げ量Ｅを引いたもの（δ2 −Ｅ）よりも少し大きい（Ｈ2 ＞δ2 −Ｅ）。これにより、最大撓み状態における基板Ｇの後端部２５の最下端部と基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５との間には隙間ｅ2 が形成され、基板Ｇが移送されても、該基板Ｇの後端部２５が基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５に接触するおそれはない。
【００２５】
上記したように、第１実施例の基板受渡し装置Ａ1 の場合、空気浮上方式により持ち上げられ、前後端部２４，２５の各撓み量δ1,δ2 が大きな基板Ｇであっても、送り側装置（基板受渡し装置Ａ1)と受け側装置（基板処理装置Ｂ）とを相対的に昇降させた状態で移送させているため、基板Ｇの前後端部２４，２５と基板処理装置Ｂの基板支持部２１又は基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５とが接触するおそれはない。これは、基板Ｇの底面部と前後端部２４，２５にいかなる損傷をも与えることなく、該基板Ｇを移送させることができるということを意味している。即ち、本発明に係る基板Ｇの受渡し方法により、特に、空気浮上方式で基板Ｇを移送させる場合に顕著な効果が奏される。
【実施例２】
【００２６】
次に、第２実施例の基板受渡し装置Ａ2 について説明する。第１実施例の基板受渡し装置Ａ1 は、基板支持部５の上面にのみ各空気噴出孔１９が設けられている。これに対して、第２実施例の基板受渡し装置Ａ2 では、図４の（イ）に示されるように、基板受渡し装置Ａ2 の基板支持部５の上面だけでなく、基板支持部５の前側面部２６（基板処理装置Ｂの基板支持部２１と対向する側面部）にも、空気噴出孔２７が斜め上方に向けて設けられている。図４の（ロ）及び（ニ）に示されるように、基板受渡し装置Ａ2 の基板支持部５を離脱した基板Ｇの前後端部２４，２５は、自重によって撓もうとする。しかし、前記空気噴出孔２７から噴出される空気Ｓにより、基板Ｇの前後端部２４，２５が持ち上げられ、それらの最大撓み量δ3,δ4 は第１実施例の場合の最大撓み量δ1,δ2 よりも小さくなる。そして、各最大撓み量δ1,δ2 が基板Ｇの持上げ量Ｅよりも小さければ、予め基板受渡し装置Ａ2 の基板支持部５を上方に配置させたり、前記基板支持部５を下降させなくても（換言すれば、基板受渡し装置Ａ2 の基板支持部５と基板処理装置Ｂの基板支持部２１とを同一高さに配置させたままであっても）、基板Ｇの前端部２４が基板処理装置Ｂの基板支持部２１と干渉したり、後端部２５が基板受渡し装置Ａ2 の基板支持部５と接触したりすることが防止される。即ち、第２実施例の基板受渡し装置Ａ2 の場合、基板Ｇの撓みに応じて基板支持部５を昇降させることが不要となるため、基板受渡し装置Ａ2 の制御が簡単になるという利点がある。また、空気Ｓによって持ち上げられる構成であるため、基板受渡し装置Ａ2 と基板処理装置Ｂとの間の隙間Ｖを広くする必要はない。
【実施例３】
【００２７】
次に、第３実施例の基板受渡し装置Ａ3 について説明する。図５の（イ）に示されるように、第３実施例の基板受渡し装置Ａ3 では、基板支持部５の前端部に補助ローラ２８が設けられている。補助ローラ２８の最上部の高さは、基板Ｇの持上げ量Ｅとほぼ同一である。図５の（ロ）に示されるように、各空気噴出孔１９から噴出される空気Ｓによって持ち上げられて移送される基板Ｇが、基板支持部５から離脱されようとするとき、該基板Ｇは補助ローラ２８に支持される。このため、基板Ｇの前端部２４の最大撓み量δ5 は、第１実施例の場合の最大撓み量δ1 と比較して小さくなる。同様に、基板Ｇの後端部２５の最大撓み量δ6 も小さくなる。この結果、基板受渡し装置Ａ3 の基板支持部５の昇降量が少なくて済む。
【００２８】
本明細書では、送り側装置（基板受渡し装置Ａ1 〜Ａ3 ) の基板支持部５を、床面に対して垂直に昇降させる場合について説明したが、受け側装置（基板処理装置Ｂの基板支持部２１）を昇降させても、双方の装置を協調させて昇降させても構わない。また、床面に対して垂直に昇降させるのではなく、斜めに上下動させる場合であっても構わない。
【００２９】
本明細書の各実施例における受け側装置はいずれも基板処理装置Ｂであるが、それ以外の装置、例えば基板カセットＣであっても構わない。
【００３０】
本明細書では、空気Ｓの噴出力で浮上された基板Ｇに対して、本発明に係る受渡し方法を使用して基板Ｇを移送させている。しかし、本発明に係る受渡し方法を、図６の（イ）,(ロ）に示される実施例の基板受渡し装置Ａ4,Ａ5 のように、ローラコンベア装置、ベルトコンベア装置によって移送させる場合に使用しても構わない。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】基板受渡し装置Ａ1 、基板処理装置Ｂ及び基板カセットＣの正面図である。
【図２】図１の状態の平面図である。
【図３】（イ）〜（ニ）は、第１実施例の基板受渡し装置Ａ1 の基板支持部５に支持された基板Ｇを、基板処理装置Ｂに移送する場合の作用説明図である。
【図４】同じく、第２実施例の基板受渡し装置Ａ2 の基板支持部５に支持された基板Ｇを、基板処理装置Ｂに移送する場合の作用説明図である。
【図５】同じく、第３実施例の基板受渡し装置Ａ3 の基板支持部５に支持された基板Ｇを、基板処理装置Ｂに移送する場合の作用説明図である。
【図６】（イ）は、ローラコンベア装置２９によって基板Ｇが移動される構成の基板受渡し装置Ａ4 であり、（ロ）は、ベルトコンベア装置３１によって基板Ｇが移動される構成の基板受渡し装置Ａ5 である。
【図７】（イ）は、従来の受渡し方法によって基板Ｇの前端部５３と基板処理装置Ｂとが干渉する状態を示す図であり、（ロ）は同じく、基板Ｇの後端部５４が基板受渡し装置Ａ’の基板支持部５１に接触する状態を示す図である。
【符号の説明】
【００３２】
Ａ1 〜Ａ5 ：基板受渡し装置（送り側装置）
Ｂ：基板処理装置（受け側装置）
Ｇ：基板
Ｓ：空気
Ｖ：隙間
１２，１３：リンク部材（上下動手段）
２４：前端部
２５：後端部
【図１】
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【図２】
2006036471.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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