(57)【要約】【課題】感光材料上に複数の種類の規則的なパターンを容易に描画する。【解決手段】パターン描画装置では、マスク部５１のマスク面に、複数の第１開口パターン要素５１１と第１開口パターン要素５１１とは形状が異なる複数の第２開口パターン要素５１２とが形成され、マスク移動機構５３によりマスク部５１がマスク面に沿って移動することにより、パルスレーザからのパルス光による照明対象が、複数の第１開口パターン要素５１１と複数の第２開口パターン要素５１２との間で切り替えられる。そして、ステージ移動機構により感光材料上の光の照射位置が走査方向へと感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動しつつパルス光によりパターンの描画が行われる。これにより、パターン描画装置では、マスク部５１を入れ替えることなく、感光材料上に複数の種類の規則的なパターンを容易に描画することができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の感光材料に規則的なパターンを描画するパターン描画装置であって、
光源と、
前記光源からの光が導かれる基板を保持する保持部と、
前記光源からの光の光路上に配置され、第１開口と前記第１開口とは形状が異なる第２開口とを有するマスク部と、
前記光路に対して相対的に前記マスク部をマスク面に沿って移動することにより、前記マスク部上における前記光源からの光による照明対象を前記第１開口と前記第２開口との間で切り替えるマスク移動機構と、
前記マスク部を通過した光が照射される感光材料上の光の照射位置を、所定の走査方向へと前記感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する走査機構と、
を備えることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン描画装置であって、
前記光源が、パルス光を出射することを特徴とするパターン描画装置。
【請求項３】
請求項２に記載のパターン描画装置であって、
前記光源が、パルスレーザであることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載のパターン描画装置であって、
前記第１開口が、屈曲した部位を前記走査方向に対応する一の方向または前記一の方向に垂直な方向に向けた略Ｖ字状であることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項５】
請求項２または３に記載のパターン描画装置であって、
前記第１開口が、前記走査方向に対応する方向に第１のピッチにて配列して形成された同一形状の複数の第１開口パターン要素を有し、
前記第１開口が照明対象とされる際に、前記走査機構が前記第１のピッチに対応する距離だけ前記照射位置を前記走査方向へと移動する毎に、前記光源からパルス光が出射されることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項６】
請求項５に記載のパターン描画装置であって、
前記第２開口が、前記走査方向に対応する方向に第２のピッチにて配列して形成された同一形状の複数の第２開口パターン要素を有し、
前記第２開口が照明対象とされる際に、前記走査機構が前記第２のピッチに対応する距離だけ前記照射位置を前記走査方向へと移動する毎に、前記光源からパルス光が出射されることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載のパターン描画装置であって、
前記複数の第１開口パターン要素のそれぞれが、屈曲した部位を前記走査方向に対応する一の方向または前記一の方向に垂直な方向に向けた略Ｖ字状であることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項８】
請求項２ないし７のいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記パルス光のパルス幅を変更する手段をさらに備えることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項９】
請求項３に記載のパターン描画装置であって、
前記パルスレーザがエキシマレーザであることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項１０】
請求項９に記載のパターン描画装置であって、
前記パルス光の波長が３０８ナノメートルであることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項１１】
請求項９に記載のパターン描画装置であって、
前記パルス光の波長が３５１ナノメートルであることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記マスク部に、前記走査方向に対応する方向に垂直な方向に、前記第１開口と同一の少なくとも１つの他の第１開口が前記第１開口と共に配列して形成されていることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載のパターン描画装置であって、
前記マスク部の前記第１開口および前記少なくとも１つの他の第１開口の配列と並列して、前記第２開口と同一の少なくとも１つの他の第２開口が前記第２開口と共に配列して形成されていることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項１４】
基板上の感光材料に規則的なパターンを描画するパターン描画装置であって、
パルス光を出射する光源と、
前記光源からの光が導かれる基板を保持する保持部と、
所定の方向に所定のピッチにて配列して形成された同一形状の複数の開口パターン要素を有するマスク部と、
前記マスク部を通過した光が照射される感光材料上の光の照射位置を、前記所定の方向に対応する走査方向へと前記感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する走査機構と、
前記走査機構が前記所定のピッチに対応する距離だけ前記照射位置を前記走査方向へと移動する毎に、前記光源からパルス光を出射させる制御部と、
を備えることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項１５】
基板上の感光材料に規則的なパターンを描画するパターン描画装置であって、
パルス光を出射する光源と、
前記光源からの光が導かれる基板を保持する保持部と、
屈曲した部位を所定の方向または前記所定の方向に垂直な方向に向けた略Ｖ字状である開口を有するマスク部と、
前記マスク部を通過した光が照射される感光材料上の光の照射位置を、前記所定の方向に対応する走査方向へと前記感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する走査機構と、
前記走査機構が所定の距離だけ前記照射位置を前記走査方向へと移動する毎に、前記光源からパルス光を出射させる制御部と、
を備えることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項１６】
基板上の感光材料に規則的なパターンを描画するパターン描画方法であって、
第１開口と前記第１開口とは形状が異なる第２開口とを有するマスク部上における光源からの光の照明対象を、光路に対して相対的に前記マスク部をマスク面に沿って移動することにより、前記第１開口と前記第２開口との間で切り替える工程と、
前記マスク部を通過した光が照射される感光材料上の光の照射位置を、所定の走査方向へと前記感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する工程と、
を備えることを特徴とするパターン描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上の感光材料に規則的なパターンを描画する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体基板やプリント基板、あるいは、プラズマ表示装置、液晶表示装置、フォトマスク用のガラス基板等（以下、「基板」という。）に形成された感光材料に光を照射することにより規則的なパターンを描画する方法として、プロキシミティ露光方式やステップ露光方式等のように感光材料にマスクパターンを転写する手法が知られている。
【０００３】
一方、マスクを使用しない描画方法として、特許文献１に開示されているように、変調される光ビームを感光材料上で走査させながら照射し、パターンを直接描画する方式（以下、「直描方式」という。）も提案されている。
【０００４】
なお、特許文献２では、マスク上におけるパルス光の照明領域に対してマスクおよび基板を相対的に移動（走査）して露光を行うスリットスキャン露光方式の露光装置において、照明領域の基板上における投影像の走査方向の幅を、パルス光の発光の１周期の間に投影像が基板上を走査する距離の整数倍とすることにより、基板上の積算光量のむらを低減する手法が開示されている。
【０００５】
また、特許文献３では、パルスレーザを用いた加工装置において、マスクを移動することにより被加工物上のパルス光の照射領域を移動して加工を行う技術が提案されており、特許文献４では、パルスレーザを用いた加工装置において、所定の幅およびピッチにて形成されたラインパターンを有するマスクを設け、アモルファスシリコン膜が形成されたガラス基板上のパルス光の照射領域を移動しつつ照射領域にパルス光を照射することにより、アモルファスシリコン膜を結晶化させる技術が開示されている。
【特許文献１】特開平５−１５０１７５号公報
【特許文献２】特開平１１−３１７３６５号公報
【特許文献３】特開平８−１５５６６７号公報
【特許文献４】特開２００３−１００６５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、フラットパネル表示装置のパネルやカラーフィルタ等の製造装置の市場では、基板に描画されるパターンの高精細化、パターン描画の高速化、および、基板の大型化への対応が強く要望されている。直描方式では、パターンを微小なドット（画素）の集合として表現し、ドット単位でパターンを描画するラスタ方式が一般的であるが、パターンの高精細化に対応するためには描画装置の分解能を上げる（すなわち１つのドットの面積を小さくする）必要があり、大型の基板全体にパターンを描画するために要する時間が増大してしまう。描画時間を短縮する手法として、走査される光ビームの数を増やして同時に描画するドット数を増やす対策が考えられるが、光ビームの増加に伴って光照射機構が大型化し、製造装置の価格が上昇してしまう。特に、パターンの微細化および高精度化に伴い必要な数のヘッド部を配置することが物理的に困難となる。
【０００７】
マスクパターンを感光材料に一括転写するプロキシミティ露光方式では、マスクと基板とを近接させて光を照射するため、パターンの高精細化や基板の大型化に対応するにはマスクが高価なものとなってしまう。ステップ露光方式では、マスクパターンの投影とマスクパターンの移動とを交互に繰り返し行うため、パターン描画の高速化に一定の限界がある。
【０００８】
パルスレーザから出射されるパルス光をマスクを介して基板に照射しつつ、パルス光の照射位置に対して基板を連続的に移動することにより、感光材料上に規則的なパターンを描画することが考えられるが、基板を高速に移動しつつパターンを描画するには、非常に高い強度のパルス光が必要とされるため、感光材料の種類によっては感光材料にダメージが生じたり、感光特性が低下したりする可能性がある。
【０００９】
一方で、一般的にこのようなマスクを利用した露光方式では、描画するパターンの種類を変更する毎にマスクを入れ替えなければならず、露光工程に係る作業が煩雑となる。
【００１０】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、感光材料上に複数の種類の規則的なパターンを容易に描画することを目的としており、感光材料に一度に過度の強度の光を照射することなく、感光材料上に規則的なパターンを高速に描画することも目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１に記載の発明は、基板上の感光材料に規則的なパターンを描画するパターン描画装置であって、光源と、前記光源からの光が導かれる基板を保持する保持部と、前記光源からの光の光路上に配置され、第１開口と前記第１開口とは形状が異なる第２開口とを有するマスク部と、前記光路に対して相対的に前記マスク部をマスク面に沿って移動することにより、前記マスク部上における前記光源からの光による照明対象を前記第１開口と前記第２開口との間で切り替えるマスク移動機構と、前記マスク部を通過した光が照射される感光材料上の光の照射位置を、所定の走査方向へと前記感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する走査機構とを備える。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のパターン描画装置であって、前記光源が、パルス光を出射する。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のパターン描画装置であって、前記光源が、パルスレーザである。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、請求項２または３に記載のパターン描画装置であって、前記第１開口が、屈曲した部位を前記走査方向に対応する一の方向または前記一の方向に垂直な方向に向けた略Ｖ字状である。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項２または３に記載のパターン描画装置であって、前記第１開口が、前記走査方向に対応する方向に第１のピッチにて配列して形成された同一形状の複数の第１開口パターン要素を有し、前記第１開口が照明対象とされる際に、前記走査機構が前記第１のピッチに対応する距離だけ前記照射位置を前記走査方向へと移動する毎に、前記光源からパルス光が出射される。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のパターン描画装置であって、前記第２開口が、前記走査方向に対応する方向に第２のピッチにて配列して形成された同一形状の複数の第２開口パターン要素を有し、前記第２開口が照明対象とされる際に、前記走査機構が前記第２のピッチに対応する距離だけ前記照射位置を前記走査方向へと移動する毎に、前記光源からパルス光が出射される。
【００１７】
請求項７に記載の発明は、請求項５または６に記載のパターン描画装置であって、前記複数の第１開口パターン要素のそれぞれが、屈曲した部位を前記走査方向に対応する一の方向または前記一の方向に垂直な方向に向けた略Ｖ字状である。
【００１８】
請求項８に記載の発明は、請求項２ないし７のいずれかに記載のパターン描画装置であって、前記パルス光のパルス幅を変更する手段をさらに備える。
【００１９】
請求項９に記載の発明は、請求項３に記載のパターン描画装置であって、前記パルスレーザがエキシマレーザである。
【００２０】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載のパターン描画装置であって、前記パルス光の波長が３０８ナノメートルである。
【００２１】
請求項１１に記載の発明は、請求項９に記載のパターン描画装置であって、前記パルス光の波長が３５１ナノメートルである。
【００２２】
請求項１２に記載の発明は、請求項１ないし１１のいずれかに記載のパターン描画装置であって、前記マスク部に、前記走査方向に対応する方向に垂直な方向に、前記第１開口と同一の少なくとも１つの他の第１開口が前記第１開口と共に配列して形成されている。
【００２３】
請求項１３に記載の発明は、請求項１２に記載のパターン描画装置であって、前記マスク部の前記第１開口および前記少なくとも１つの他の第１開口の配列と並列して、前記第２開口と同一の少なくとも１つの他の第２開口が前記第２開口と共に配列して形成されている。
【００２４】
請求項１４に記載の発明は、基板上の感光材料に規則的なパターンを描画するパターン描画装置であって、パルス光を出射する光源と、前記光源からの光が導かれる基板を保持する保持部と、所定の方向に所定のピッチにて配列して形成された同一形状の複数の開口パターン要素を有するマスク部と、前記マスク部を通過した光が照射される感光材料上の光の照射位置を、前記所定の方向に対応する走査方向へと前記感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する走査機構と、前記走査機構が前記所定のピッチに対応する距離だけ前記照射位置を前記走査方向へと移動する毎に、前記光源からパルス光を出射させる制御部とを備える。
【００２５】
請求項１５に記載の発明は、基板上の感光材料に規則的なパターンを描画するパターン描画装置であって、パルス光を出射する光源と、前記光源からの光が導かれる基板を保持する保持部と、屈曲した部位を所定の方向または前記所定の方向に垂直な方向に向けた略Ｖ字状である開口を有するマスク部と、前記マスク部を通過した光が照射される感光材料上の光の照射位置を、前記所定の方向に対応する走査方向へと前記感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する走査機構と、前記走査機構が所定の距離だけ前記照射位置を前記走査方向へと移動する毎に、前記光源からパルス光を出射させる制御部とを備える。
【００２６】
請求項１６に記載の発明は、基板上の感光材料に規則的なパターンを描画するパターン描画方法であって、第１開口と前記第１開口とは形状が異なる第２開口とを有するマスク部上における光源からの光の照明対象を、光路に対して相対的に前記マスク部をマスク面に沿って移動することにより、前記第１開口と前記第２開口との間で切り替える工程と、前記マスク部を通過した光が照射される感光材料上の光の照射位置を、所定の走査方向へと前記感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する工程とを備える。
【発明の効果】
【００２７】
請求項１ないし１３並びに請求項１６の発明では、感光材料上に複数の種類の規則的なパターンを容易に描画することができる。
【００２８】
また、請求項２および３の発明では、感光材料上に規則的なパターンを高速に描画することができる。
【００２９】
また、請求項５の発明では、感光材料に一度に過度の強度の光を照射することなく、感光材料上に第１開口パターン要素に対応するパターンを描画することができ、請求項６の発明では、感光材料に一度に過度の強度の光を照射することなく、感光材料上に第２開口パターン要素に対応するパターンを描画することができる。
【００３０】
また、請求項１０および１１の発明では、規則的なパターンを適切に描画することができる。
【００３１】
また、請求項１２の発明では、感光材料上に第１開口に対応するパターンをより高速に描画することができ、請求項１３の発明では、感光材料上に第２開口に対応するパターンをより高速に描画することができる。
【００３２】
請求項１４の発明では、感光材料に一度に過度の強度の光を照射することなく、感光材料上に規則的なパターンを高速に描画することができる。
【００３３】
請求項１５の発明では、感光材料上に略Ｖ字状の規則的なパターンを高速に描画することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
図１は本発明の第１の実施の形態に係るパターン描画装置１の構成を示す図である。パターン描画装置１は、液晶表示装置用のガラス基板９（以下、単に「基板９」という。）に光を照射することにより、基板９上の感光材料（ここではブラックマトリクスの形成に利用されるレジスト）に規則的なパターンを描画する装置である。パターンが描画された基板９は、後続の別工程を経て最終的には液晶表示装置の組立部品であるカラーフィルタとなる。
【００３５】
パターン描画装置１では、基台１１上にステージ移動機構２が設けられ、ステージ移動機構２により基板９を保持するステージユニット３が基板９の主面に沿って図１中のＸ方向に移動可能とされる。基台１１にはステージユニット３を跨ぐようにしてフレーム１２が固定され、フレーム１２にはヘッド部４が取り付けられる。
【００３６】
ステージ移動機構２は、モータ２１にボールねじ２２が接続され、さらに、ステージユニット３に固定されたナット２３がボールねじ２２に取り付けられた構造となっている。ボールねじ２２の上方にはガイドレール２４が固定され、モータ２１が回転すると、ナット２３とともにステージユニット３がガイドレール２４に沿ってＸ方向に滑らかに移動する。
【００３７】
ステージユニット３は、基板９を直接保持するステージ３１、基板９の主面に垂直な軸を中心にステージ３１を回転するステージ回転機構３２、ステージ３１を回転可能に支持する支持プレート３３、および、支持プレート３３を保持するベースプレート３４を有し、ベースプレート３４には上記のナット２３が直接固定される。
【００３８】
ヘッド部４は、波長３０８ナノメートル（ｎｍ）のパルス光を出射するエキシマレーザであるパルスレーザ４１、パルスレーザ４１を駆動するパルスレーザ駆動部４０、マスク部５１を有するマスクユニット５、パルスレーザ４１からのパルス光をマスク部５１へと導く補助光学系４２、および、マスク部５１を通過する光を基板９上へと導く投影光学系４３を有する。パルスレーザ４１からのパルス光は、光ファイバ４１１を介して補助光学系４２へと導かれ、補助光学系４２によりマスク部５１上におけるＹ方向に長い矩形の（または、帯状の）照明領域に照射される。マスク部５１を通過したパルス光は投影光学系４３へと導かれ、マスク部５１の像が基板９の感光材料上に所定の倍率にて形成される。なお、投影光学系４３は変倍可能とされてもよい。
【００３９】
ヘッド部４はヘッド支持部４４により、Ｙ方向（すなわち、ヘッド部４のステージユニット３に対する相対移動方向に直交する方向）に移動可能に支持され、ヘッド部移動機構４５がモータ４５１に接続されたボールねじ機構を駆動することによりヘッド部４がガイドレール４５２に沿ってＹ方向に移動する。これにより、マスク部５１を通過したパルス光が照射される感光材料上の光の照射位置が、感光材料に対してＹ方向に移動する。
【００４０】
ステージ移動機構２、ステージユニット３、パルスレーザ駆動部４０、ヘッド部移動機構４５およびマスクユニット５は制御部６に接続され、これらの構成が制御部６により制御されて、パターン描画装置１による基板９上へのパターンの描画が行われる。制御部６が有する記憶部６１には、基板９上の感光材料の種類に応じてパルスレーザ４１から出射されるパルス光の強度に関する照射条件情報６１１が予め記憶される。また、制御部６には入力部７が接続され、基板９上の感光材料の種類や、基板９上に形成するパターンの種類に関する情報等が操作者により入力部７を介して制御部６に入力される。
【００４１】
図２は、マスクユニット５の構成を示す図である。マスクユニット５は、マスク部５１を保持するマスク保持部５２、および、図２中のＸ方向へとマスク部５１を移動するマスク移動機構５３を有する。図２に示すように、マスク部５１の（＋Ｘ）側の部位には、それぞれが屈曲した部位を（−Ｙ）方向に向けた同一の略Ｖ字状の複数の開口パターン要素５１１（以下、「第１開口パターン要素５１１」という。）が、Ｙ方向およびＸ方向に配列して形成される。ここで、複数の第１開口パターン要素５１１のＸ方向のピッチ（第１開口パターン要素５１１の中心間の距離）はＰ１とされる。以下の説明では、Ｙ方向に並ぶ複数の第１開口パターン要素５１１を開口パターン要素列５１０と呼ぶものとし、図２ではＸ方向に２列の開口パターン要素列５１０がピッチＰ１にて並んでいる。また、マスク部５１において、複数の第１開口パターン要素５１１の（−Ｘ）側にも同様に、それぞれが屈曲した部位を（−Ｙ）方向に向けた同一の略Ｖ字状の複数の開口パターン要素５１２（以下、「第２開口パターン要素５１２」という。）がＹ方向およびＸ方向に配列して形成され、複数の第１開口パターン要素５１１のＸ方向のピッチはＰ２とされる。第１開口パターン要素５１１の形状と第２開口パターン要素５１２の形状とは互いに異なっており、第２開口パターン要素５１２では屈曲角は鈍角となっている。なお、実際には、マスク部５１には屈曲角が同じであって太さが異なる等、多数の種類の開口パターン要素の配列が形成される。
【００４２】
マスク移動機構５３は、マスク移動用モータ５３１、マスク移動用モータ５３１に接続されたボールねじ機構５３２、および、１組のガイドレール５３３を有し、制御部６の制御によりマスク移動用モータ５３１がボールねじ機構５３２を駆動するとマスク保持部５２がガイドレール５３３に沿ってＸ方向に移動する。これにより、マスク保持部５２に保持されたマスク部５１もＸ方向に移動し、パルスレーザ４１からのパルス光のマスク部５１上における照明領域（図２中の符号５９を付す矩形にて示す領域）が、マスク部５１に対して相対的に移動する。
【００４３】
図３は、パターン描画装置１による感光材料へのパターンの描画動作の流れを示す図である。パターン描画装置１では、まず、感光材料が形成された基板９がステージ３１上に載置され、ステージ回転機構３２により基板９の向きが調整される。続いて、基板９上の感光材料の種類、および、予め定められた複数の種類の規則的なパターンのうち基板９上に形成する所望のパターンの選択が操作者により入力部７を介して行われて制御部６にて受け付けられる。そして、制御部６において基板９上の感光材料の種類に応じてパルスレーザ４１から出射されるパルス光の強度が、記憶部６１の照射条件情報６１１を参照することにより特定されるとともに、マスク部５１上において、選択されたパターンに対応する開口パターン要素（すなわち、選択されたパターンが描画可能な開口パターン要素であり、以下、「選択開口パターン要素」という。）がパルスレーザ４１からのパルス光の照明対象とされる（ステップＳ１１）。
【００４４】
例えば、図２のマスク部５１の（＋Ｘ）側の第１開口パターン要素５１１が選択開口パターン要素である場合には、マスク部５１の位置はそのままとされて、複数の第１開口パターン要素５１１が照明領域５９内に位置する。また、図２中の（−Ｘ）側の第２開口パターン要素５１２が選択開口パターン要素である場合には、マスク移動機構５３により、マスク部５１上の照明領域５９がマスク部５１に対して相対的に移動して、複数の第２開口パターン要素５１２が照明領域５９内に含まれる。すなわち、パルスレーザ４１からのパルス光による照明対象が、マスク移動機構５３により複数の第１開口パターン要素５１１と複数の第２開口パターン要素５１２との間で必要に応じて切り替えられる。このとき、パターン描画装置１では照明領域５９がＹ方向に長い帯状とされるため、実際のマスクに多数の種類の開口パターン要素の配列をＸ方向に並列して設けることが可能となる。以下の説明では、操作者により図２のマスク部５１の（＋Ｘ）側の第１開口パターン要素５１１に対応するパターンが選択されたものとする。なお、ヘッド部４に隣接して複数のマスクを格納するマスクチェンジャが設けられ、マスクチェンジャによりマスクユニット５のマスクが交換されることにより、さらに多数の種類のパターンが選択可能とされてもよい。
【００４５】
続いて、図１の制御部６によりステージ移動機構２およびヘッド部移動機構４５が制御されてヘッド部４が所定の描画開始位置へとステージ３１に対して相対的に移動する（ステップＳ１２）。具体的には、ステージ３１が（＋Ｘ）側へと移動し、ヘッド部４が（−Ｙ）側へと移動して、ヘッド部４からの光の照射位置が基板９の外縁部へと配置される。そして、（−Ｘ）方向へとステージ３１の移動が開始され（ステップＳ１３）、感光材料上の光の照射位置が図１中の（＋Ｘ）方向に感光材料に対して相対的にかつ一定速度にて連続的に移動（走査）する。以下の説明において、Ｘ方向を走査方向とも呼ぶ。
【００４６】
感光材料上の光の照射位置が所定の描画開始位置へと到達すると、制御部６の制御によりパルスレーザ駆動部４０がパルスレーザ４１を駆動することにより、パルスレーザ４１から最初のパルス光の出射が行われ、図４に示すように、各第１開口パターン要素５１１に対応する感光材料上の１つの略Ｖ字状の領域８１（以下、「照射領域８１」という。）にパルス光が照射される。以下の説明において、感光材料上にＹ方向に並ぶ複数の照射領域８１を照射領域列８０と呼ぶ。図４では、走査方向（Ｘ方向）に２つの照射領域列８０が並び、これらの照射領域列８０のピッチＰ３は、マスク部５１における開口パターン要素列５１０のＸ方向のピッチＰ１を投影したピッチとなる。なお、図４（並びに、後述の図５および図６）では、照射領域８１内に平行斜線を付すことにより感光材料上の各照射領域８１にパルス光が照射されたことを示しており、以下の説明において、パルス光が照射された感光材料上の領域を描画領域とも呼ぶ。
【００４７】
また、パルスレーザ４１から出射されるパルス光の強度（すなわち、照射条件情報６１１を参照して特定された強度）は、感光材料にダメージを与えたり、感光材料の感光特性を低下させることがない大きさとされ、１回のパルス光の照射により感光材料の描画領域に付与される光量が、効率よく架橋反応が生じる適切な光量のおよそ半分とされる。なお、パルス光のパルス幅は、照射位置の感光材料に対する相対移動速度に対して十分に短い時間とされ、例えば２０〜３０ナノ秒とされる。
【００４８】
続いて、感光材料上の照射位置が走査方向に照射領域列８０のピッチＰ３に相当する距離だけ移動すると、制御部６の制御によりパルスレーザ４１から次のパルス光の出射が行われる。このとき、図５に示すように、（−Ｘ）側の照射領域列８０に含まれる各照射領域８１（図５において符号８１ａを付している。）が、１回前のパルス光による描画領域の（＋Ｘ）側の照射領域８１に重なるため、各照射領域８１ａへと照射されるパルス光により対応する描画領域が重複して露光される（すなわち、多重露光が行われる。）。これにより、パルス光が重複して照射された感光材料上の描画領域が適切に感光される。図５（および、後述の図６）では、平行斜線の間隔を密にすることにより、パルス光が重複して照射された描画領域を示している。
【００４９】
パターン描画装置１では、ステージ移動機構２が複数の第１開口パターン要素５１１のＸ方向のピッチＰ１に対応する距離（すなわち、ピッチＰ３）だけ照射位置を走査方向へと移動する毎に、制御部６がパルスレーザ４１からパルス光を出射させ（ステップＳ１４）、一の光照射タイミングにおいて（＋Ｘ）側の第１開口パターン要素５１１を通過したパルス光が照射された感光材料上の領域に、次の光照射タイミングにおいて（−Ｘ）側の第１開口パターン要素５１１を通過したパルス光が重ねて照射される。これにより、図６に示すように、それぞれが２回ずつパルス光が照射されて感光した略Ｖ字状の描画領域（ただし、（−Ｘ）側の描画領域を除く。）がＸ方向に連続し、ジグザグのパターンが形成される。実際には、照射位置がピッチＰ３に相当する距離だけ移動する時間はごく僅かであるため、パルスレーザ４１は高速にＯＮ／ＯＦＦされてパルス光が非常に短い周期にて繰り返し出射される。なお、図６においてパルス光が１回だけ照射される（−Ｘ）側の描画領域は、カラーフィルタにおいて利用されないダミー領域に含まれる。
【００５０】
感光材料上における照射位置の走査が所定の終了位置に到達すると、ステージ３１の移動が停止する（ステップＳ１５）。そして、基板９に対して同様のパターンの描画が繰り返されるか否か（すなわち、次の走査の有無）が確認され（ステップＳ１６）、次の走査を行う場合にはステップＳ１２へと戻って、ステージ３１の移動およびパルス光の照射（ステップＳ１３〜Ｓ１５）が必要な回数だけ繰り返される。このとき、パルス光の照射時におけるステージ３１の走査は（＋Ｘ）方向と（−Ｘ）方向とに交互に行われ、２回目以降のステップＳ１２では、ヘッド部移動機構４５がヘッド部４を所定の距離だけ（＋Ｙ）方向へと移動するのみでヘッド部４が描画開始位置へと移動する。基板９上の感光材料全体に規則的なパターンが描画されるとパターン描画装置１による描画動作が終了する。
【００５１】
次に、異なる基板９がステージ３１上に載置され、操作者により第２開口パターン要素５１２に対応するパターンが選択されると、ステップＳ１１において、マスク移動機構５３によりマスク部５１が移動して、複数の第２開口パターン要素５１２がパルスレーザ４１からのパルス光の照明対象とされる。そして、ステップＳ１２以降の処理が同様に行われる。このとき、パルスレーザ駆動部４０によりパルスレーザ４１からのパルス光のパルス間隔が変更され、異なるピッチＰ２にてＸ方向に並ぶ第２開口パターン要素５１２においても、ピッチＰ２に対応する距離だけ照射位置が走査方向へと移動する毎に、パルスレーザ４１からパルス光が出射される。これにより、上述の基板９とは異なる基板９上に、第２開口パターン要素５１２に対応する異なる規則性パターンが形成される。また、このとき、第２開口パターン要素５１２の開口面積や開口の幅、あるいは、感光材料の種類等に合わせて適切な描画を行うために、パルスレーザ駆動部４０によりパルス幅の変更も行われる。
【００５２】
パターンが描画された基板９はパターン描画装置１から搬出され、別途現像されて基板９上に残存した感光材料はカラーフィルタのブラックマトリクスとされる。この場合、感光材料は現像時に露光部分（すなわち、光が照射された部分）が残るネガ型のレジストが一般的に用いられる。その後、カラーレジストの塗布、パターン描画装置１による描画（ただし、ブラックマトリクスの形成時とは異なる開口パターン要素を有するマスクが利用される。）、および、現像が繰り返され、基板９上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のサブ画素が形成される。さらに、透明電極の形成等の工程を経て基板９が液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとなる。なお、パターン描画装置１は液晶表示装置におけるフォトスペーサの形成に利用することも可能である。
【００５３】
以上のように、図１のパターン描画装置１では、複数の開口パターン要素が配列されたマスク部５１がパルスレーザ４１から基板９に至るパルス光の光路上に配置され、ステージ移動機構２により感光材料上の光の照射位置が走査方向へと感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する。そして、制御部６がステージ移動機構２に同期してパルスレーザ４１からパルス光を短い周期にて繰り返し出射させることにより、一の光照射タイミングにおいて一の開口パターン要素を通過したパルス光が照射された感光材料上の領域に、他の光照射タイミングにおいて他の開口パターン要素を通過したパルス光が重ねて照射される。
【００５４】
ここで、前述のように、パルスレーザ４１から出射される１回のパルス光の強度は、感光材料にダメージを与えることがない程度とされ、このような強度のパルス光が感光材料に重複して照射されることにより描画領域が適切に感光される。これにより、パターン描画装置１では、感光材料に一度に過度の強度の光を照射することなく、開口パターン要素（第１開口パターン要素５１１または第２開口パターン要素５１２）に対応する規則的なパターンを感光材料上に高速に描画することができる。
【００５５】
また、パターン描画装置１では、マスク部５１のマスク面に複数の第１開口パターン要素５１１と、第１開口パターン要素５１１とは形状が異なる複数の第２開口パターン要素５１２とが形成され、マスク移動機構５３によりマスク部５１がマスク面に沿って移動することにより、パルスレーザ４１からのパルス光による照明対象が、複数の第１開口パターン要素５１１と複数の第２開口パターン要素５１２との間で切り替えられる。これにより、パターン描画装置１では、マスク部５１を交換することなく、感光材料上に複数の種類の規則的なパターンを容易に描画することができる。
【００５６】
図１のパターン描画装置１では、パルスレーザ４１が波長３０８ｎｍのパルス光を出射するエキシマレーザとされるが、一般的な感光材料ではこの波長での感度が高いため、効率よく感光材料に描画を行うことができるとともに、レーザの可干渉性に起因するムラ等（いわゆる、スペックルパターン）を軽減して、規則的なパターンを適切に描画することができる。また、パルスレーザ４１が波長３５１ｎｍのパルス光を出射するエキシマレーザとされてもよく、この場合でも同様に、規則的なパターンを適切に描画することが可能である。
【００５７】
なお、基板９上に形成された感光材料の種類によっては、パターン描画装置１において多重露光を行うことなく感光材料上に規則的なパターンが描画されてもよい。例えば、第１開口パターン要素５１１がパルスレーザ４１からの光の照射対象とされる場合に、感光材料上の照射位置が照射領域列８０のピッチＰ３（図４参照）の２倍の距離だけ移動する毎に、パルスレーザ４１からパルス光が出射されることにより感光材料上に規則的なパターンが描画される。また、第１および第２開口パターン要素５１１，５１２のそれぞれについて、１つの開口パターン要素列のみを有するマスク部が設けられる場合には、感光材料上の照射位置が照明対象とされた開口パターン要素のＸ方向の長さに対応する距離だけ移動する毎に、パルスレーザ４１からのパルス光が出射される。以上のように、パターン描画装置１では、走査方向に対応する方向に垂直な方向に屈曲した部位を向けた略Ｖ字状である開口を有するマスク部を設け、ステージ移動機構２が所定の距離だけ照射位置を走査方向に移動する毎に、制御部６がパルスレーザ４１からパルス光を出射させることにより、感光材料上に略Ｖ字状の規則的なパターンを高速に描画することができる。
【００５８】
図７は、第２の実施の形態に係るパターン描画装置のマスクユニット５ａを示す図である。本実施の形態におけるパターン描画装置では、図１のパターン描画装置１のマスクユニット５が図７のマスクユニット５ａに変更される。また、パルスレーザ駆動部４０が省略されるとともに、パルスレーザ４１に替えて水銀灯等の連続して光を出射する光源が設けられ、投影光学系４３が変倍可能とされる。他の構成は図１と同様である。なお、図７では、以下に説明する第１マスク保持部５２ａおよび第１マスク開口５４１を太線にて示している。
【００５９】
マスクユニット５ａのマスク部５１ａは、図７中のＹ方向（すなわち、光の照射位置の走査方向に直交する方向）に一定ピッチで配列形成された同一の幅および長さを有する矩形の開口列がＸ方向（すなわち、照射位置の走査方向）に複数配列された２枚のマスクを有する。以下の説明では、光源に近いものから（すなわち、（＋Ｚ）側から）順に「第１マスク５４」、「第２マスク５５」と呼び、これらのマスクに形成された開口（ただし、マスクの開口であって、後述するように、実際に光がマスク部５１ａを通過する領域とは原則として一致しない。）をそれぞれ「第１マスク開口５４１」、「第２マスク開口５５１」と呼ぶ。また、マスクユニット５ａは、第１マスク５４を保持する第１マスク保持部５２ａ、第２マスク５５を保持する第２マスク保持部５２ｂ、第１マスク５４を第２マスク５５に対してＹ方向へと相対的に移動するマスクスライド機構５６、並びに、第１マスク５４および第２マスク５５をＸ方向へ移動するマスク移動機構５３を有する。
【００６０】
図７中に示すように、第１マスク５４および第２マスク５５はそれぞれ３列（２列であっても４列以上であってもよい。）の開口列を有し、２枚のマスクの対応する開口列同士で比較すると、第１マスク開口５４１の長さおよび幅が第２マスク開口５５１よりも大きく、第１マスク開口５４１のＹ方向のピッチと第２マスク開口５５１のＹ方向のピッチは等しい。また、第１マスク５４において開口列同士を比較すると、開口列を構成する第１マスク開口５４１の幅および／またはピッチは互いに異なり、第２マスク５５においても開口列同士を比較すると、開口列を構成する第２マスク開口５５１の幅および／またはピッチは互いに異なる。
【００６１】
第２マスク５５は、その第２マスク開口５５１が対応する第１マスク５４の第１マスク開口５４１と重なるように第１マスク５４に当接する。マスク部５１ａでは、第１マスク開口５４１と第２マスク開口５５１との重なり合う領域が、光源からの光が実際に通過する領域である開口パターン要素５７１（図７中にて平行斜線を付す。）となる。なお、第２マスク５５は第１マスク５４に対して必ずしも物理的に当接する必要はなく、光学的に重ね合わされていればよい。
【００６２】
マスクスライド機構５６は、第１マスク保持部５２ａおよび第２マスク保持部５２ｂを保持するスライド枠５６１、駆動源であるスライド用モータ５６２、並びに、スライド用モータ５６２に接続されるボールねじ機構５６３を有し、制御部６の制御によりスライド用モータ５６２がボールねじ機構５６３を駆動すると、第１マスク保持部５２ａがスライド枠５６１に沿ってＹ方向に移動する。これにより、第１マスク保持部５２ａに保持された第１マスク５４もＹ方向に移動し、第１マスク開口５４１と第２マスク開口５５１との重なる状態が変化して各開口パターン要素５７１の幅が変化する。このとき、Ｙ方向に並ぶ１つの開口パターン要素列５７０に含まれる各開口パターン要素５７１の幅は同一とされ、開口パターン要素列５７０同士では、開口パターン要素５７１の幅および／またはピッチは互いに異なる。なお、図示省略の機構により、第１マスク保持部５２ａが移動する間は第１マスク５４と第２マスク５５とが離間する。
【００６３】
マスク移動機構５３は、マスク移動用モータ５３１、マスク移動用モータ５３１に接続されたボールねじ機構５３２、および、１組のガイドレール５３３を有し、制御部６によりマスク移動用モータ５３１が駆動されてスライド枠５６１がガイドレール５３３に沿ってＸ方向に移動する。
【００６４】
第２の実施の形態に係るパターン描画装置では、パターンを描画する際に１つの開口パターン要素列５７０のみが使用される。使用される開口パターン要素列５７０は、マスク移動機構５３により第１マスク５４および第２マスク５４がＸ方向に移動して光源からの光の照明領域内に配置される。以下、第２の実施の形態に係るパターン描画装置が感光材料上にパターンを描画する動作の流れについて、図１および図７を参照しつつ、図３に準じて説明を行う。
【００６５】
まず、所望のパターンの選択が受け付けられると、使用される開口パターン要素列５７０が決定され、マスク移動機構５３によりマスク部５１ａ上における光源からの光の照明領域に当該開口パターン要素５７１が配置されて、光源からの光の照明対象とされる（ステップＳ１１）。そして、使用される開口パターン要素列５７０に含まれる各開口パターン要素５７１を通過した光が照射される感光材料上の照射領域の幅およびピッチが調整される。照射領域の幅およびピッチの調整は、例えば、ステージユニット３に撮像面が基板９の感光材料と同じ高さとされる撮像部を設け、照射位置を撮像部に合わせて光を照射することにより現状の照射領域の幅およびピッチを取得し、取得された幅およびピッチに応じて第１マスク５４の移動量や投影光学系４３の倍率を変更することにより行われる。
【００６６】
照射領域の幅およびピッチの調整が終了すると、ステージ３１に対してヘッド部４が描画開始位置へと移動する（ステップＳ１２）。そして、ヘッド部４からの光の出射が開始され、基板９の感光材料上の照射領域に光が連続的に照射される。その後、走査方向へとステージ３１の移動が開始され（ステップＳ１３）、照射領域が走査方向に感光材料に対して相対的にかつ一定速度にて連続的に移動することにより、調整された幅およびピッチを有するストライプ状の複数のパターンが基板９上の感光材料に描画される（ステップＳ１４）。照射領域の走査が所定の終了位置に到達すると、ステージ３１の移動が停止し（ステップＳ１５）、ヘッド部４からの光の出射が停止される。
【００６７】
感光材料に対する１回目の走査が終了すると、基板９に対して同方向に伸びるストライプ状のパターンの描画が繰り返されるか否か（すなわち、次の走査の有無）が確認され、次の走査が有る場合には、ステージ３１が次の描画開始位置へと移動し（ステップＳ１２）、光の照射およびステージ３１の移動（ステップＳ１３〜Ｓ１５）が必要な回数だけ繰り返される（ステップＳ１６）。
【００６８】
また、本実施の形態において格子状のパターンが描画される場合、上記動作（ステップＳ１１〜Ｓ１６）により１方向のストライプ状のパターンの描画が完了すると、制御部６によりステージ回転機構３２が駆動されて、ステージユニット３に保持された基板９の主面に垂直な軸を中心にステージ３１が９０°回転する。これにより、基板９上の感光材料に対して照射領域の走査方向が相対的に９０°変更される。そして、所望の開口パターン要素列５７０が照明対象とされた後に、ステージユニット３を撮像位置へと移動して照射領域の幅およびピッチを調整し、以下、ステージ３１を描画開始位置へと移動してストライプ状のパターンを描画する動作が必要な回数だけ繰り返される（ステップＳ１１〜Ｓ１６）。このように、パターン描画装置１では、ステージ３１を回転することにより、基板９上の感光材料に格子状のパターンを描画することも可能とされている。なお、必要に応じてヘッド部４にマスクチェンジャが設けられ、マスクチェンジャにより第１マスク５４および／または第２マスク５５の交換が行われてもよい。
【００６９】
以上のように、第２の実施の形態に係るパターン描画装置のマスク部５１ａでは、第１マスク５４および第２マスク５５により異なる幅およびピッチを有する複数の種類の開口パターン要素列５７０が形成され、所望の開口パターン要素列５７０がマスク部５１ａ上における光源からの光の照明対象とされる。そして、マスク部５１ａを通過した光が照射される感光材料上の光の照射位置が、走査方向に感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する。これにより、図７のマスクユニット５ａを有するパターン描画装置では、照明対象とされる開口パターン要素列５７０を切り替えるのみで、感光材料上に複数の種類の規則的なパターンを容易にかつ高速に描画することができる。なお、図７に示す複数の種類の矩形の開口パターン要素５７１は、必ずしも２枚のマスクが重ね合わせられることによりマスク部５１ａに形成される必要はなく、１枚のマスク上に複数の種類の矩形の開口パターン要素が単に形成されるのみであってもよい。
【００７０】
また、図７のマスク部５１ａの第１マスク５４において、図８に示すように、矩形の開口パターン要素５７１（図８中にて平行斜線を付す。）の（＋Ｘ）側に大きな開口５４１ａ（図８中にて第１マスク開口５４１と共に太線にて示す。）がさらに設けられ、第２マスク５５に略Ｖ字状の開口パターン要素５１１，５１２が形成されてもよい。これにより、マスク移動機構５３により第１の実施の形態におけるマスク部と、第２の実施の形態におけるマスク部とがさらに切替可能となる。この場合、光源はパルスレーザ４１とされ、ストライプ状のパターンも矩形の開口パターン要素５７１を用いて第１の実施の形態と同様にして描画される。
【００７１】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【００７２】
上記第１の実施の形態において、第１および第２開口パターン要素５１１，５１２のそれぞれについて、Ｘ方向に１列に並ぶ複数の開口パターン要素のみがマスク部に形成されることにより、照射領域の一度の走査により走査方向に１列に並ぶ複数のパターン要素が描画されてもよい。この場合、照射領域の走査が行われる毎にヘッド部移動機構４５がヘッド部４をＹ方向へと移動することにより、感光材料上の全体に規則的なパターンが描画される。
【００７３】
また、図２中のＸ方向に１列に並ぶ複数の第１開口パターン要素５１１を１つの第１開口と捉えると、上記第１の実施の形態では、マスク部５１において走査方向に対応する方向に垂直な方向（Ｙ方向）に、一の第１開口と同一の複数の他の第１開口が、一の第１開口と共に配列して形成されていると考えられ、これにより、１つの第１開口のみが設けられる場合よりも感光材料上への第１開口に対応するパターンの描画を高速に行うことができる。さらに、図２中のＸ方向に１列に並ぶ複数の第２開口パターン要素５１２を１つの第２開口と捉えると、上記第１の実施の形態では、第１開口の配列と並列して一の第２開口と同一の複数の他の第２開口が、一の第２開口と共に配列して形成されていると考えられ、これにより、１つの第２開口のみが設けられる場合よりも感光材料上への第２開口に対応するパターンの描画を高速に行うことができる。なお、パターンの描画を高速に行うという観点では、第１開口の配列および第２開口の配列のそれぞれでは、一の開口と同一の少なくとも１つの他の開口が、一の開口と共に配列して形成されていることが重要である。
【００７４】
上記第１の実施の形態において、第１および第２開口パターン要素５１１，５１２のそれぞれについて、例えば、４列の開口パターン要素列がＸ方向に一定のピッチで形成される場合に、感光材料上の照射位置が開口パターン要素列のＸ方向のピッチの２倍に対応する距離だけ移動する毎に、パルスレーザ４１からパルス光が出射されてもよい。この場合、（＋Ｘ）側の２つの開口パターン要素列、および、（−Ｘ）側の２つの開口パターン要素列のそれぞれが実質的に１つの開口パターン要素列と捉えられる。また、それぞれが同一の形状とされた３列以上の開口パターン要素列がＸ方向に一定のピッチで形成される場合には、同一の描画領域にパルス光が照射される回数が３回以上とされてもよい。
【００７５】
上記第１の実施の形態では、マスク部５１の開口パターン要素の屈曲した部位の向きが走査方向に対応する方向に垂直な方向とされるが、図９に示すように、複数の第１開口パターン要素５１１ａのそれぞれが、屈曲した部位を走査方向に対応する方向（図９中のＸ方向）に向けた略Ｖ字状とされてもよい。この場合であっても、感光材料上の光の照射位置が走査方向に感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動しつつ、パルスレーザ４１をステージ移動機構２に同期して出射させることにより多重露光を実現し、感光材料に一度に過度の強度の光を照射することなく、感光材料上に規則的なパターンを高速に描画することができる。
【００７６】
上記第２の実施の形態において、光が通過する光通過領域が形成されるのであるならば、第１マスクおよび第２マスクには必ずしも開口が形成される必要はなく、例えば、第１マスクおよび第２マスクが櫛状とされ、Ｙ方向（走査方向に垂直な方向）に配列形成された櫛歯の間隙に相当する光通過領域を重ね合わせることにより（ただし、第１マスクの櫛歯の向きと第２マスクの櫛歯の向きとはＸ方向に関して互いに異なる。）、矩形の開口パターン要素が形成されてもよい。
【００７７】
上記実施の形態では、１つの基板９上に１種類の規則的なパターンが描画されるが、１枚の基板９に対するパターン描画処理中において、照明対象が一の種類の複数の開口パターン要素と他の種類の複数の開口パターン要素との間で切り替えられてもよく、これにより、同一の基板９の感光材料上に複数の種類の規則的なパターンを容易に描画することが実現される。
【００７８】
また、パターン描画装置では、照明対象とされる開口パターン要素の切り替え時に、パルスレーザ４１から基板９へと至る光の光路に対して相対的にマスク部がマスク面に沿って移動すればよく、例えば、固定されたマスク部に対して照明領域の位置が移動してもよい。
【００７９】
パターン描画装置では、感光材料上の光の照射領域が走査方向へと感光材料に対して相対的に移動すればよく、例えば、基板９が固定され、ヘッド部４のみがＸ方向に移動してもよい。
【００８０】
上記実施の形態ではネガ型の感光材料に言及したが、現像時に露光部分が除去されるポジ型の感光材料が用いられてもよい。さらに、感光材料は現像工程を伴わない他の種類のものであってもよい。
【００８１】
また、本発明に係るパターン描画装置はフラットパネル表示装置（液晶表示装置、プラズマ表示装置、有機ＥＬ表示装置等）に係る様々なパネルの製造に特に適しているが、半導体基板やプリント配線基板、あるいは、フォトマスク用のガラス基板等への規則的な微細パターンの描画にも適している。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】パターン描画装置の構成を示す図である。
【図２】マスクユニットの構成を示す図である。
【図３】感光材料へのパターンの描画動作の流れを示す図である。
【図４】パルス光が照射される感光材料上の様子を説明するための図である。
【図５】パルス光が照射される感光材料上の様子を説明するための図である。
【図６】パルス光が照射される感光材料上の様子を説明するための図である。
【図７】第２の実施の形態に係るマスクユニットを示す図である。
【図８】マスクユニットの他の例を示す図である。
【図９】開口パターン要素の他の例を示す図である。
【符号の説明】
【００８３】
１    パターン描画装置
２    ステージ移動機構
６    制御部
９    基板
３１    ステージ
４０    パルスレーザ駆動部
４１    パルスレーザ
５１，５１ａ    マスク部
５３    マスク移動機構
５１１，５１１ａ，５１２，５７１    開口パターン要素
Ｐ１，Ｐ２    ピッチ
Ｓ１３，Ｓ１４    ステップ
【図１】
2006145745.tif 000003
【図２】
2006145745.tif 000004
【図３】
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【図４】
2006145745.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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