(57)【要約】【課題】  所望の曲率のレンズを有するマイクロレンズアレイを歩留まりよく製造できるマイクロレンズアレイの製造方法を提供すること。【解決手段】  本発明のマイクロレンズアレイの製造方法は、（Ｉ）特定の活性光線に対して透明な基材の一方の面上に前記感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける感光層形成工程と、（ＩＩ）前記基材の前記感光層が設けられた面と反対側から、所定のフォトマスクを介して活性光線を前記感光層に照射する露光工程と、（ＩＩＩ）現像により前記感光層の未露光部分を除去する現像工程とを備える。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ｉ）特定の活性光線に対して透明な基材の一方の面上に感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける感光層形成工程と、
（ＩＩ）前記基材の前記感光層が設けられた面と反対側から、所定のフォトマスクを介して前記活性光線を前記感光層に照射する露光工程と、
（ＩＩＩ）現像により前記感光層の未露光部分を除去する現像工程と、
を備える、マイクロレンズアレイの製造方法。
【請求項２】
前記感光性樹脂組成物が、
（ａ）バインダーポリマーと、
（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物と、
（ｃ）前記活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤と、
を含有する、請求項１に記載のマイクロレンズアレイの製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載のマイクロレンズアレイの製造方法において、前記感光層を設けるために用いられ、
支持体フィルム上に、前記感光性樹脂組成物からなる前記感光層を備える、マイクロレンズアレイ用感光性エレメント。
【請求項４】
前記感光性樹脂組成物が、
（ａ）バインダーポリマーと、
（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物と、
（ｃ）前記活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤と、
を含有する、請求項３に記載のマイクロレンズアレイ用感光性エレメント。
【請求項５】
請求項１に記載のマイクロレンズアレイの製造方法に用いられ、
（ａ）バインダーポリマーと、
（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物と、
（ｃ）前記活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤と、
を含有する、マイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロレンズアレイの製造方法、並びにマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物及びマイクロレンズアレイ用感光性エレメントに関する。
【背景技術】
【０００２】
凸状や凹状の形状を有するマイクロレンズが基材上に多数配置されたマイクロレンズアレイは、光利用率の向上を図ることができ、例えば、液晶表示装置、三次元ディスプレイ、レンチキュラーレンズ、ＣＣＤ等の光学部品へ用いられるなど、様々な分野で利用されることが期待されている。
【０００３】
このようなマイクロレンズアレイの作製においては、マイクロレンズの寸法が微小であることから、通常のレンズ作製に用いられる研磨やモールドとは異なる方法が検討されている。例えば、（１）樹脂の熱流動性を利用して熱フローによりレンズを丸く半球状に形成する方法（例えば、特許文献１参照）、（２）感光性樹脂をパターン露光、現像して、円柱状又はストライプ状等の立体形状を有する樹脂層を形成した後、この樹脂層を加熱し、樹脂の溶融時の表面張力を利用してレンズをドーム状に形成する方法（例えば、非特許文献１参照）などが知られている。特に、感光性樹脂を用いた（２）の製造方法は、マイクロレンズの大きさが非常に微小である場合（特には、レンズ径又はレンズ幅が１００μｍ以下の場合）、有効な方法であるとされている。
【０００４】
【特許文献１】特開昭６０−５３０７３号公報
【非特許文献１】Ｍｅａｓ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．１、Ｎｏ．８、ｐ．７５９〜７６６、（１９９０）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、非特許文献１に記載の方法をはじめとする従来の、感光性樹脂を用いるマイクロレンズアレイの製造方法では、所望の曲率のレンズを有するマイクロレンズアレイを安定して作製することが困難であった。そのため、感光性樹脂を用いるマイクロレンズアレイの製造方法において、更なる改善の余地があった。
【０００６】
本発明は、上記事情にかんがみてなされたものであり、所望の曲率のレンズを有するマイクロレンズアレイを歩留まりよく製造できるマイクロレンズアレイの製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、かかる製造方法に用いられるマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物及びマイクロレンズアレイ用感光性エレメントを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、非特許文献１に記載の方法をはじめとする従来のマイクロレンズアレイの製造方法での問題点に着目した。
【０００８】
図３は、従来のマイクロレンズアレイの製造方法において、感光性樹脂としてネガ型フォトレジスト材料を用いて基材上に光硬化部を形成する工程を示した模式断面図である。図３（ａ）には、基板１０１上に設けられたネガ型フォトレジスト材料からなる感光層１０２に対して、所定のフォトマスク１０３を介して活性光線Ｌを照射する工程が示されている。この工程により、図３（ｂ）に示すように光硬化部１０４が形成される。次に、感光層の未露光部１０５を現像して除去することにより、図３（ｃ）に示すように光硬化部１０４が顕在化する。
【０００９】
この光硬化部の光照射された面Ｓ１は、通常、ほぼ平面となっている。つまり、感光層の硬化反応は露光した面側から進行するので、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、感光層の未露光部１０５の下に、所望の凸状の面Ｓ２を有する光硬化部１０６や、所望の凹状の面Ｓ３を有する光硬化部１０７を形成することは困難である。従って、露光、現像の工程のみで感光層の基板と反対側の表面形状を所望の曲率を有する凸状や凹状に形成するためには、その後、形成した光硬化部を加熱溶融する工程が必要となる。
【００１０】
しかしながら、十分に硬化した光硬化部を加熱溶融によって所望の曲率を有する凸状や凹状のレンズに形成するためには、使用できるフォトレジスト材料が限られる。また、加熱溶融で光硬化部を変形させる度合いが大きい場合にはレンズ成形の精度が低下してしまう。したがって、感光性樹脂としてネガ型フォトレジスト材料を用い、従来のマイクロレンズアレイの製造方法で所望のレンズ形状を有するマイクロレンズアレイを安定して製造することは、困難であることが分かった。
【００１１】
ここで、感光性樹脂として露光部を除去できるポジ型フォトレジスト材料を用いることが考えられる。しかしながら、ポジ型フォトレジスト材料は、光学部品として使用する際に要求される透明性が不十分であるという問題があった。
【００１２】
本発明者らは、上記の知見に基づいて様々な検討を重ねた結果、感光層の露光方法を工夫することにより、ネガ型フォトレジスト材料を用いた場合であっても基材上に所望形状の光硬化部を形成することができることを見出した。
【００１３】
本発明のマイクロレンズアレイの製造方法は、（Ｉ）特定の活性光線に対して透明な基材の一方の面上に感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける感光層形成工程と、（ＩＩ）基材の感光層が設けられた面と反対側から、所定のフォトマスクを介して活性光線を感光層に照射する露光工程と、（ＩＩＩ）現像により感光層の未露光部分を除去する現像工程とを備える。
【００１４】
ここで、「特定の活性光線」とは、感光性樹脂を光硬化可能な光線のことを意味する。
【００１５】
本発明のマイクロレンズアレイの製造方法では、上記露光工程で感光層が基材側から硬化し、上記現像工程で感光層の未露光部分が基材側の反対側から除去される。これにより、光硬化部に所望の曲率を有する面を形成することができる。すなわち、図４に示すような所望の曲率を有する凸状や凹状の光硬化部を形成することができる。
【００１６】
光硬化部の基材側と反対側面の曲率の制御は、例えば、基材の厚さ、基材の材料、基材の光拡散性、感光層とフォトマスクとの距離等を調整することによって可能である。
【００１７】
このように、本発明のマイクロレンズアレイの製造方法により、従来のネガ型フォトレジスト材料を用いる方法では困難であった、露光、現像のみによりレンズの表面形状を所望の曲率を有する凸状や凹状にすることが、透明性の優れたネガ型フォトレジスト材料を用いて容易に行うことができる。
【００１８】
また、露光、現像により形成したレジストをさらに加熱溶融して所望の凸状や凹状のレンズに変形させる場合においても、変形の度合いを上記従来の方法よりも小さくできることから、レンズ成形の精度が向上する。さらには、感光層の基材側面を十分に光硬化させることができるため、光硬化部が基材から剥離することも抑制できる。
【００１９】
したがって、所望の曲率のレンズを有するマイクロレンズアレイを歩留まりよく製造することができる。さらには、ネガ型フォトレジスト材料を用いることができるので、十分に優れた透明性を有するマイクロレンズアレイが得られる。
【００２０】
また、上記感光性樹脂組成物が、（ａ）バインダーポリマーと、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物と、（ｃ）上記活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤とを含有することが好ましい。
【００２１】
かかる感光性樹脂組成物を用いると、感光層の解像度及び密着性を向上させることが容易となるため、所望の曲率のレンズを有するマイクロレンズアレイをさらに歩留まりよく製造することができる。
【００２２】
また、本発明のマイクロレンズアレイ用感光性エレメントは、上記本発明のマイクロレンズアレイの製造方法において、感光層を設けるために用いられ、支持体フィルム上に、上述の感光性樹脂組成物からなる感光層を備える。
【００２３】
かかるマイクロレンズアレイ用感光性エレメントは、感光層を設ける際の作業性（取り扱い性）に優れ、所望の曲率のレンズを有するマイクロレンズアレイを歩留まりよく製造することができる。さらには、感光性樹脂組成物としてネガ型フォトレジスト材料を用いることができるので、十分に優れた透明性を有するマイクロレンズアレイが得られる。
【００２４】
ここで、感光性樹脂組成物が、（ａ）バインダーポリマーと、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物と、（ｃ）上記活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤とを含有することが好ましい。
【００２５】
かかる感光性樹脂組成物を用いると、感光層の解像度及び密着性を向上させることが容易となるため、所望の曲率のレンズを有するマイクロレンズアレイを歩留まりよく製造することがより確実にできる。
【００２６】
また、本発明のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物は、上記本発明のマイクロレンズアレイの製造方法に用いられ、（ａ）バインダーポリマーと、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物と、（ｃ）上記活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤とを含有する。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、所望の曲率のレンズを有するマイクロレンズアレイを歩留まりよく製造できるマイクロレンズアレイの製造方法を提供することができる。また、本発明は、かかる製造方法に用いられるマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物及びマイクロレンズアレイ用感光性エレメントを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００２９】
本発明のマイクロレンズアレイの製造方法は、（Ｉ）特定の活性光線に対して透明な基材の一方の面上に感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける感光層形成工程と、（ＩＩ）基材の感光層が設けられた面と反対側から、所定のフォトマスクを介して活性光線を感光層に照射する露光工程と、（ＩＩＩ）現像により感光層の未露光部分を除去する現像工程とを備えている。
【００３０】
まず、上記のマイクロレンズアレイの製造方法に用いる本発明のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物の実施の形態について説明する。
【００３１】
本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物は、（ａ）バインダーポリマーと、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物と、（ｃ）上記活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤とを含有する。
【００３２】
（ａ）バインダーポリマーとしては、例えば、ビニル共重合体が挙げられ、具体的には、下記のビニル単量体を重合させて得られたものが挙げられる。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉｓｏ−プロピル、メタクリル酸ｉｓｏ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉｓｏ−ブチル、メタアクリル酸ｉｓｏ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシジエチレングリコール、メタクリル酸メトキシジエチレングリコール、アクリル酸メトキシジプロピレングリコール、メタクリル酸メトキシジプロピレングリコール、アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、メタクリル酸メトキシトリエチレングリコール、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２−シアノエチル、メタクリル酸２−シアノエチル、スチレン、α−メチルスチレン、シクロヘキシルマレイミド、アクリル酸ジシクロペンタニル、メタクリル酸ジシクロペンタニル、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて重合させてもよい。
【００３３】
さらに、本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物においては、（ａ）バインダーポリマーとして、例えば、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、イソシアネート基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を有するビニル共重合体に、このビニル共重合体が有する官能基と反応して結合する、オキシラン環、イソシアネート基、水酸基、カルボキシル基等の１個の官能基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを有する化合物を付加反応させて得られる側鎖にエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性共重合体等を使用することもできる。
【００３４】
上記カルボキシル基、水酸基、アミノ基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を有するビニル共重合体の製造に用いられるビニル単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、ケイ皮酸、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリルアミド、メタクリルアミド、イソシアン酸エチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、無水マレイン酸等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて重合させてもよい。また、必要に応じて、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を有するビニル単量体以外の上記ビニル単量体を共重合させることができる。
【００３５】
また、（ａ）バインダーポリマーの重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレン換算した値）は、耐熱性、加熱溶融性、塗布性、後述するマイクロレンズアレイ用感光性エレメントとした場合のフィルム性（フィルム状の形態を保持する特性）、溶媒への溶解性、及び、上記現像工程における現像液への溶解性等の観点から、１０００〜３０００００とすることが好ましく、５０００〜１５００００とすることがより好ましい。
【００３６】
さらに、（ａ）バインダーポリマーは、上記現像工程において、公知の各種現像液により現像可能となるように酸価を規定することが好ましい。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を５０〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることが好ましい。この酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では、現像が困難となる傾向にあり、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、耐現像液性（現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が低下する傾向にある。また、水又はアルカリ水溶液と１種以上の界面活性剤とからなるアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を、１６〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることが好ましい。この酸価が、１６ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では、現像が困難となる傾向にあり、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、耐現像液性が低下する傾向にある。
【００３７】
（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物としては、例えば、多価アルコールとα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、グリシジル基含有化合物とα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物、ウレタンモノマー、ノニルフェニルジオキシレン（メタ）アクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。
【００３８】
上記多価アルコールとα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物としては、例えば、エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート（ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート）、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３９】
上記２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニル）等が挙げられる。
【００４０】
上記グリシジル基含有化合物とα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）フェニル等が挙げられる。
【００４１】
上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーと、イソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、エチレンオキシド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド，プロピレンオキシド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４２】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
【００４３】
上記の光重合性不飽和化合物は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４４】
（ｃ）活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン（「イルガキュア−３６９」、チバスペシャリティーケミカルズ（株）商品名）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン（「イルガキュア−９０７」、チバスペシャリティーケミカルズ（株）商品名）等の芳香族ケトン；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物などが挙げられる。
【００４５】
また、上記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールに置換した置換基は同一でも相違していてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。
【００４６】
本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物においては、上記基材との密着性及び感度の観点から、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体が好ましい。さらに、マイクロレンズアレイが液晶スペーサーとして用いられる場合等の可視光線透過率の観点から、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オンがより好ましい。
【００４７】
上記の光重合開始剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４８】
本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物における、（ａ）バインダーポリマーの配合割合は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、２０〜９０質量部とすることが好ましく、３０〜８５質量部とすることがより好ましく、３５〜８０質量部とすることが特に好ましく、４０〜７５質量部とすることが極めて好ましい。この配合割合が２０質量部未満では、塗布性、加熱溶融性、或いは後述するマイクロレンズアレイ用感光性エレメントとした場合のフィルム性が低下する傾向にあり、９０質量部を超えると、光硬化性あるいは耐熱性が低下する傾向にある。
【００４９】
また、本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物における、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物の配合割合は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、１０〜８０質量部とすることが好ましく、１５〜７０質量部とすることがより好ましく、２０〜６５質量部とすることが特に好ましく、２５〜６０質量部とすることが極めて好ましい。この配合割合が１０質量部未満では、光硬化性あるいは耐熱性が低下する傾向にあり、８０質量部を超えると、塗布性、加熱溶融性、或いはマイクロレンズアレイ用感光性エレメントとした場合のフィルム性が低下する傾向にある。
【００５０】
また、本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物における、（ｃ）光重合開始剤の配合割合は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部とすることが好ましく、０．１〜１５質量部とすることがより好ましく、０．１５〜１０質量部とすることが特に好ましい。この配合割合が０．０５質量部未満では、光硬化が不十分となる傾向にあり、２０質量部を超えると、上記露光工程において、感光層の活性光線照射表面での活性光線の吸収が増大して、内部の光硬化が不十分となる傾向にある。
【００５１】
本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着性付与剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤等を含有させることができる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらの配合割合は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、それぞれ０．０１〜２０質量部とすることができる。
【００５２】
次に、本発明のマイクロレンズアレイ用感光性エレメントの実施の形態について図面を用いて説明する。
【００５３】
図１は、本発明のマイクロレンズアレイ用感光性エレメントの好適な一実施形態を示す模式断面図である。図１に示される本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性エレメント１００は、支持体フィルム１上に、上記のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物からなる感光層２を備えている。
【００５４】
支持体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等からなるフィルムが挙げられる。フィルムの厚さは、５〜１００μｍ程度であることが好ましい。
【００５５】
本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性エレメント１００の製造方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。先ず、上記のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物の各成分を溶媒に均一に溶解又は分散した塗布液を調製する。次に、この塗布液を支持体フィルム１上に塗布して塗膜を形成する。次に、塗膜から溶媒を乾燥除去して感光層を形成することにより、マイクロレンズアレイ用感光性エレメント１００が得られる。
【００５６】
溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類；アリルアルコール、ベンジルアルコール、アニソール、フェネトール、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等の炭化水素類；ジアセトンアルコール、３−メトキシ−１−ブタノール、４−メトキシ−１−ブタノール、３−エトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、３−メトキシ−３−エチル−１−ペンタノール−４−エトキシ−１−ペンタノール、５−メトキシ−１−ヘキサノール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、エチルブチルケトン、ジブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、３−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ペンタノン、５−ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−３−ペンタノン、６−ヒドロキシ−２−ヘキサノン、３−メチル−３−ヒドロキシ−２−ペンタノン；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテル類及びそのアセテート；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノｉ−プロピルエーテル、モノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル及びそのアセテート；ジメチルジエチレングリコール、ジエチルジエチレングリコール、ジブチルジエチレングリコール等のジエチレングリコールアルキルエーテル類；モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル等のトリエチレングリコールアルキルエーテル類；モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、ｎ−プロピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノメチルエーテルアセテート、モノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテル類及びそのアセテート；モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、ｎ−プロピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のジプロピレングリコールアルキルエーテル類；ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル等のカルボン酸エステル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、テトラヒドロフ���ン、乳酸メチル、乳酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、炭酸プロピル等が挙げられる。
【００５７】
上記塗布液を支持体フィルム１上に塗布する方法としては、公知の塗布方法を用いることができ、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
【００５８】
感光層２の厚さについては、露光、現像された後にマイクロレンズアレイとしての性能を示すものであれば特に限定されないが、０．１〜１００μｍとすることが好ましく、１．０〜５０μｍとすることがより好ましく、３．０〜３０μｍとすることが特に好ましい。感光層２の厚さが、０．１μｍ未満であると、マイクロレンズアレイとしての性能を示し難くなる傾向にあり、厚さが１００μｍを超えると、解像度が低下し、良好な形状のマイクロレンズアレイが得られ難くなる傾向にある。
【００５９】
また、感光層２の粘度については、３０℃において、１５〜１００ＭＰａ・ｓであることが好ましく、２０〜９０ＭＰａ・ｓであることがより好ましく、２５〜８０ＭＰａ・ｓであることが特に好ましい。かかる粘度とすることにより、例えば、マイクロレンズアレイ用感光性エレメントをロール状に巻いて保管する場合、感光性エレメントの端面から感光性樹脂組成物がしみ出すことを１ヶ月以上防止できる。また、感光性エレメントを切断する際に、感光層の破片が基材に付着して露光不良や現像残り等が引き起こされるのを防止することができる。
【００６０】
なお、上記の粘度は、直径７ｍｍ、厚さ２ｍｍの円形の感光層試料を作製し、３０℃及び８０℃において、この試料の厚さ方向に１．９６×１０−２Ｎの荷重を加えた際の厚さの変化速度を測定し、この変化速度からニュートン流体を仮定して粘度に換算した値である。
【００６１】
本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性エレメント１００は、感光層２の上に、さらにカバーフィルムが積層されていてもよい。
【００６２】
カバーフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等からなるフィルムが挙げられる。カバーフィルムの厚さは、５〜１００μｍ程度が好ましい。
【００６３】
このようなカバーフィルムが積層されたマイクロレンズアレイ用感光性エレメントは、ロール状に巻いて保管することや、ロール状に巻いたもので使用することができる。
【００６４】
次に、本発明のマイクロレンズアレイの製造方法について説明する。
【００６５】
図２は、本発明のマイクロレンズアレイの製造方法の一実施形態について説明する模式断面図である。図２に示す本実施形態のマイクロレンズアレイの製造方法では、（Ｉ）特定の活性光線に対して透明な基材の一方の面上に感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける感光層形成工程と、（ＩＩ）基材の感光層が設けられた面と反対側から、所定のフォトマスクを介して活性光線を感光層に照射する露光工程と、（ＩＩＩ）現像により感光層の未露光部分を除去する現像工程と、（ＩＶ）上記（Ｉ）〜（ＩＩＩ）を経て形成されたマイクロレンズアレイパターンをさらに加熱する加熱工程とが含まれている。
【００６６】
まず、図２（ａ）に示すように、（Ｉ）特定の活性光線に対して透明な基材１０の一方の面上に感光性樹脂組成物からなる感光層２０を設ける感光層形成工程を行う。
【００６７】
基材１０としては、感光性樹脂を光硬化可能な活性光線を透過するものであれば特に制限はなく、プラスチック板、ガラス板、及び、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン等のフィルム等が挙げられる。
【００６８】
感光層２０は、上記の本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物、或いは上記の本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性エレメントを用いて形成することができる。それぞれの方法について以下に説明する。
【００６９】
［（Ｉ−Ａ）マイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物を用いる感光層形成工程］
上記の本実施形態のマイクロアレイ用感光性樹脂組成物の各成分を溶媒に均一に溶解又は分散した塗布液を調製する。次に、この塗布液を基材１０上に塗布して塗膜を形成する。次に、塗膜から溶媒を乾燥除去することにより感光層２０を形成する。
【００７０】
溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類；アリルアルコール、ベンジルアルコール、アニソール、フェネトール、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等の炭化水素類；ジアセトンアルコール、３−メトキシ−１−ブタノール、４−メトキシ−１−ブタノール、３−エトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、３−メトキシ−３−エチル−１−ペンタノール−４−エトキシ−１−ペンタノール、５−メトキシ−１−ヘキサノール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、エチルブチルケトン、ジブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、３−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ペンタノン、５−ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−３−ペンタノン、６−ヒドロキシ−２−ヘキサノン、３−メチル−３−ヒドロキシ−２−ペンタノン；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテル類及びそのアセテート；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノｉ−プロピルエーテル、モノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル及びそのアセテート；ジメチルジエチレングリコール、ジエチルジエチレングリコール、ジブチルジエチレングリコール等のジエチレングリコールアルキルエーテル類；モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル等のトリエチレングリコールアルキルエーテル類；モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、ｎ−プロピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノメチルエーテルアセテート、モノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテル類及びそのアセテート；モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、ｎ−プロピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のジプロピレングリコールアルキルエーテル類；ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル等のカルボン酸エステル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、テトラヒドロフ���ン、乳酸メチル、乳酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、炭酸プロピル等が挙げられる。
【００７１】
上記塗布液を基材１０上に塗布する方法としては、公知の塗布方法を用いることができ、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
【００７２】
塗膜から溶媒を乾燥除去するための乾燥温度は、６０〜１３０℃が好ましい。また、乾燥時間は、１分〜１時間が好ましい。
【００７３】
また、形成された感光層の厚さが０．１〜１００μｍとなるよう、塗膜の厚さを調節することが好ましい。さらには、感光層の厚さを、１．０〜５０μｍとすることがより好ましく、３．０〜３０μｍとすることが特に好ましい。感光層の厚さを上記の範囲とすることにより、露光、現像された後にマイクロレンズアレイとしての性能をより確実に有することができる。塗膜の厚さの調節は、例えば、塗布液の塗布量や溶媒の量を変更することにより行うことができる。
【００７４】
［（Ｉ−Ｂ）マイクロレンズアレイ用感光性エレメントを用いる感光層形成工程］
先ず、上記の本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性エレメントを準備する。次に、この感光性エレメントがカバーフィルムを備えている場合にはカバーフィルムを除去し、感光性エレメントの感光層が基板１０上に接するように、圧着ロールで感光性エレメントと基板とを圧着しながら積層する。
【００７５】
圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。加熱圧着する場合の加熱温度は、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが特に好ましい。この加熱温度が、１０℃未満では、感光層と基板との密着性が低下する傾向にあり、１８０℃を超えると、感光層の構成成分が熱硬化あるいは熱分解する傾向にある。
【００７６】
マイクロレンズアレイ用感光性エレメントを上記のように加熱すれば、基板を予熱処理することは必要ではないが、感光層と基板との密着性をさらに向上させる点から、基板を予熱処理することが好ましい。この時の予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好ましい。
【００７７】
また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５０Ｎ／ｍ〜１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２Ｎ／ｍ〜５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２Ｎ／ｍ〜４×１０４Ｎ／ｍとすることが特に好ましい。この圧着圧力が、５０Ｎ／ｍ未満では、感光層と基板との密着性が低下する傾向にあり、１×１０５Ｎ／ｍを超えると、基板が破壊される傾向にある。
【００７８】
このようにして、本実施形態のマイクロレンズアレイ用感光性エレメントの感光層を基板上に積層することができ、基板１０上に感光層２０が積層される。
【００７９】
次に、上記感光層形成工程の後に、露光工程を行う。以下、この工程について説明する。
【００８０】
［（ＩＩ）露光工程］
本実施形態における露光工程は、図２（ｂ）に示されるように、基材１０の感光層２０が設けられた面と反対側から、所定のフォトマスク３０を介して活性光線Ｌを感光層２０に照射する。
【００８１】
上記露光工程で用いる活性光線としては、公知の活性光源が使用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等が挙げられ、紫外線を有効に放射するものが好ましい。
【００８２】
フォトマスク３０は、目的とするマイクロレンズアレイ形状（例えば、円柱状、ストライプ状等の形状）に応じて、活性光線の透過する面積を調整したパターンを有するものを用いればよい。また、凸状レンズや凹状レンズ等のようにレンズの表面形状を制御するには、基材１０の厚さ、基材１０の光拡散性、感光層２０とフォトマスク３０との距離等を調整すればよい。より具体的には、基板１０を厚くする、光拡散性を大きくする、又は、感光層２０とフォトマスク３０との距離を大きくすると、凸状レンズに近づく傾向がある。一方、基板１０を薄くする、光拡散性を小さくする、又は、感光層２０とフォトマスク３０との距離を小さくすると、凹状レンズに近づく傾向がある。
【００８３】
［（ＩＩＩ）現像工程］
本実施形態における現像工程は、現像により感光層２０の未露光部分を除去する工程であり、この工程を経て図２（ｃ）に示されるように基板１０上に、感光層２０の光硬化した部分であるマイクロレンズアレイパターン２２が顕在化する。
【００８４】
現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像を行い、未露光部分を除去する方法等が挙げられ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いることが好ましいものとして挙げられる。
【００８５】
アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミンなどが挙げられ、中でも、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいものとして挙げられる。
【００８６】
現像温度及び時間は、上記感光性樹脂組成物からなる感光層の現像性に合わせて調整することができる。
【００８７】
また、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を添加することができる。
【００８８】
また、現像後、光硬化後の感光層に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処理（中和処理）することができる。
【００８９】
さらに、酸処理（中和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。
【００９０】
マイクロレンズアレイパターン２２が形成された基材１０は、マイクロレンズアレイとして十分に機能するが、本実施形態においては、マイクロレンズアレイパターン２２をさらに加熱する加熱工程を行っている。この工程を経ることにより、マイクロレンズアレイパターン２２が溶融されて、図２（ｄ）に示されるように、所望のレンズ形状のマイクロレンズアレイ２３が形成される。
【００９１】
加熱する方法としては、熱風放射、赤外線照射加熱等の公知の方法が挙げられ、基板上に形成されたマイクロレンズアレイパターンが有効に加熱される方法であれば特に制限されない。
【００９２】
加熱時の温度は、１４０〜３００℃とすることが好ましく、１５０〜２９０℃とすることがより好ましく、１６０〜２８０℃とすることが特に好ましい。この加熱温度が、１４０℃未満では、熱硬化の効果が不十分となる傾向があり、３００℃を超えると、感光性樹脂組成物層の構成成分が熱分解する傾向がある。
【００９３】
図２（ｃ）及び（ｄ）には、凸状のレンズ形状を有するマイクロレンズアレイが示されているが、上述したように、基材１０の厚さ、基材１０の光拡散性、感光層２０とフォトマスク３０との距離等を調整することにより、図２（ｅ）に示すような凹状のレンズ形状を有するマイクロレンズアレイ２３を基材１０上に形成することもできる。
【００９４】
また本実施形態においては、マイクロレンズアレイパターン２２の基板密着性を向上させること、耐薬品性を向上させること等を目的に、上記（ＩＩＩ）現像工程後、マイクロレンズアレイパターン２２に活性光線を照射する工程を行うことができる。
【００９５】
マイクロレンズアレイパターン２２に活性光線を照射する方法としては、活性光線が有効に照射される方法であれば特に制限されず、例えば、上記（ＩＩ）露光工程で使用できる公知の活性光源が挙げられ、紫外線等を有効に放射するものであれば特に制限されない。
【００９６】
活性光線の照射量としては、１×１０２Ｊ／ｍ２〜１×１０５Ｊ／ｍ２とすることが好ましい。活性光線の照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２未満では、光硬化の効果が不十分となる傾向にあり、１×１０５Ｊ／ｍ２を超えると、マイクロレンズアレイパターンが変色する傾向にある。また、照射の際に加熱を伴うこともできる。
【００９７】
上記本実施形態のマイクロレンズアレイの製造方法で得られたマイクロレンズアレイは、液晶表示装置、三次元ディスプレイ、レンチキュラーレンズ、ＣＣＤ等の光学部品へ利用することができる。
【実施例】
【００９８】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００９９】
（実施例１）
［バインダーポリマー溶液（ａ−１）の作製］
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）の成分を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）の成分を４時間かけて均一に滴下した。
（２）の成分の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が約３０，０００のバインダーポリマーの溶液（固形分３５質量％）（ａ−１）を得た。
【０１００】
【表１】
2006091537.tif 000002
【０１０１】
［マイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物溶液の作製］
表２に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、マイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物溶液を作製した。
【０１０２】
【表２】
2006091537.tif 000003
【０１０３】
［マイクロレンズアレイ用感光性エレメントの作製］
支持体フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、上記で得られたマイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物溶液を支持体フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層の厚さは３０μｍであった。
【０１０４】
次いで、得られた感光性樹脂組成物層の上に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、マイクロレンズアレイ用感光性エレメントを作製した。
【０１０５】
［マイクロレンズアレイの作製］
得られたマイクロレンズアレイ用感光性エレメントのポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ０．５ｍｍのガラス基板上に、感光性樹脂組成物層が接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名「ＨＬＭ−１５００型」）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが０．５ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたので、この時の線圧は９．８×１０５Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層及び支持体フィルムが積層された基板を作製した。
【０１０６】
次いで、支持体フィルムをはく離した後、得られた感光性樹脂組成物層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光性樹脂組成物層を設けた面と反対側の面、すなわちマイクロレンズアレイを形成する面と反対側の面より、開口幅／遮光幅＝２０μｍ／８０μｍのストライプパターンのフォトマスクを介して、露光量１．５×１０３Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を像的に照射した。
【０１０７】
次いで、０．５質量％の界面活性剤を含有した０．５質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて、３０℃で２００秒間スプレー現像して、感光性樹脂組成物層を選択的に除去してマイクロレンズアレイのパターンを形成した。
【０１０８】
得られたマイクロレンズアレイのパターンを走査型電子顕微鏡で観察したところ、断面形状で深さ約８μｍの凹状を有する、ストライプ型の凹状マイクロレンズアレイが良好に形成されていた。
【０１０９】
さらに、２３０℃で３０分間、ボックス型乾燥機で加熱した。加熱後のマイクロレンズアレイのパターンを走査型電子顕微鏡で観察したところ、凹状レンズの深さは約６μｍで、形状は曲率がやや滑らかになりつつ、良好に保持されていた。
【０１１０】
また、形成されたマイクロレンズアレイの透明性については、波長４００ｎｍの光線に対する透過率が８２％、波長４５０ｎｍの光線に対する透過率が９４％となっており、良好な透明性を有していることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】本発明のマイクロレンズアレイ用感光性エレメントの好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】本発明のマイクロレンズアレイの製造方法の一実施形態について説明する模式断面図である
【図３】従来のマイクロレンズアレイの製造方法を説明するための模式断面図である。
【図４】所望の曲率を有する光硬化部の例を示す模式断面図である。
【符号の説明】
【０１１２】
１…支持体フィルム、２…感光層、１０…基材、２０…感光層、２２…マイクロレンズアレイパターン、２３…マイクロレンズアレイ、３０…フォトマスク、５０…マイクロレンズアレイ、１００…マイクロレンズアレイ用感光性エレメント、Ｌ…活性光線。
【図１】
2006091537.tif 000004
【図２】
2006091537.tif 000005
【図３】
2006091537.tif 000006
【図４】
2006091537.tif 000007