(57)【要約】【課題】  ロール状のワークをたるませた状態で送りながら描画処理を行う液滴吐出装置において、ワークのたるみに起因した悪影響を防止可能な液滴吐出装置等を提供する。【解決手段】  機能液滴吐出ヘッド４２と吸着テーブル３１とを有し、吸着テーブル３１に対して、機能液滴吐出ヘッド４２を移動させながら機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動して、吸着セットされたワークＷに描画を行う描画手段２と、ワークＷを間欠的に繰り出して、吸着テーブル３２にワークＷを供給する繰出し手段３と、描画済みのワークＷを巻き取る巻取り手段５と、繰出されたワークＷを吸着テーブルに送り込むと共に、描画済み分のワークＷを吸着テーブル３１から巻取り手段にたるませた状態で送り出す送り手段４と、を備え、吸着テーブル３１と巻取り手段５との間のワークＷの巻取り側たるみの曲率を所定の範囲内とすることを特徴とする。【選択図】  図２
2006130470.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性のワークを繰出した後、これに描画を行うと共に描画後のワークを巻き取るようにした液滴吐出装置であって、
機能液滴吐出ヘッドと吸着テーブルとを有し、前記吸着テーブルに対して、前記機能液滴吐出ヘッドを移動させながら、当該機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動することにより、吸着セットされた前記ワークに描画を行う描画手段と、
前記ワークを間欠的に繰り出して、前記吸着テーブルに前記ワークを供給する繰出し手段と、
前記吸着テーブルから描画済みの前記ワークを巻き取る巻取り手段と、
繰出された前記ワークを吸着テーブルに送り込むと共に、描画済み分のワークを吸着テーブルから巻取り手段にたるませた状態で送り出す送り手段と、を備え、
前記吸着テーブルと前記巻取り手段との間の前記ワークの巻取り側たるみの曲率を所定の範囲内とすることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記巻取り手段および前記送り手段を制御することにより、前記巻取り側たるみの曲率を所定の範囲内とする巻取り制御手段をさらに備えていることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記ワークには、予め部品が実装されると共に、
前記送り手段は、繰出された前記ワークをたるませた状態で前記吸着テーブルに送り込んでおり、
前記繰出し手段および前記送り手段を制御することにより、前記繰出し手段と前記吸着テーブルとの間の前記ワークの繰出し側たるみの曲率を所定の範囲内とする繰出し制御手段をさらに備えていることを特徴とする請求項１または２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記繰出し手段および前記送り手段を制御することにより、前記繰出し側たるみの曲率を所定の範囲内とする繰出し制御手段をさらに備えていることを特徴とする請求項３に記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
可撓性のワークを繰出した後、これに描画を行うと共に描画後のワークを巻き取るようにした液滴吐出装置であって、
機能液滴吐出ヘッドと吸着テーブルとを有し、前記機能液滴吐出ヘッドに対して前記吸着テーブルを前記ワークの送り方向に移動させながら、当該機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動することにより、吸着セットされた前記ワークに描画を行う描画手段と、
前記ワークを間欠的に繰り出して、前記吸着テーブルに前記ワークを供給する繰出し手段と、
前記吸着テーブルから描画済みの前記ワークを巻き取る巻取り手段と、
前記描画手段による前記吸着テーブルの移動と同期して、前記巻取り手段を制御することにより、前記吸着テーブルと前記巻取り手段との間に生じる前記ワークの巻取り側たるみの曲率を所定の範囲内とする巻取り制御手段と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
前記巻取り側たるみの曲率の許容上限値および許容下限値に対応した前記巻取り側たるみの下端位置の上限位置および下限位置を検出する一対の巻取り用検出センサをさらに備え、
前記巻取り制御手段は、前記一対の検出センサの検出結果に基づいて、前記巻取り手段を制御することを特徴とする請求項５に記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
前記ワークには、予め部品が実装されており、
前記描画手段による前記吸着テーブルの移動と同期して、前記繰出し手段を制御することにより、前記吸着テーブルと前記繰出し手段との間に生じる前記ワークの繰出し側たるみの曲率を所定の範囲内とする繰出し制御手段をさらに備えていることを特徴とする請求項５または６に記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
前記繰出し側たるみの曲率の許容上限値および許容下限値に対応した前記繰出し側たるみの下端位置の上限位置および下限位置を検出する一対の繰出し用検出センサをさらに備え、
前記繰出し制御手段は、前記一対の繰出し用検出センサの検出結果に基づいて、前記繰出し手段を制御することを特徴とする請求項７に記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置により描画され、かつフレキシブル基板であることを特徴とするワーク。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１１に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能液滴吐出ヘッドを用いて、可撓性を有する長尺のワークに描画を行う液滴吐出装置およびこれに適用されるワーク、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液滴吐出装置の一種であるインクジェットプリンタでは、印刷動作と間欠的な紙送りとを行うことにより、ロール状に巻回した連続紙に対して連続印刷を行うものが知られている。この場合、連続紙の送り経路には連続紙を水平に吸着セットする吸着テーブルが配設されており、印刷動作では吸着テーブル（セット面）に吸着セットされた部分の連続紙に対して印刷を行うと共に、紙送りでは描画済み部分を吸着テーブルから送り出すようになっている。
【０００３】
従来のインクジェットプリンタでは、連続紙の送り方向における吸着テーブルの下流側に、印刷動作により連続紙に吐出したインク（機能液）を乾燥させるための乾燥エリアが吸着テーブルのセット面と略直交して設けられている。したがって、描画済みの連続紙は、吸着テーブルから略垂直に経路変更され乾燥エリアまで送られる。また、連続紙の紙送りに先立って予め紙送りに必要な分量（１タクト分）の連続紙を繰出しておく構成となっており、吸着テーブルの上流側には、次の紙送りで送られる少なくとも１タクト分の連続紙がたわんだ状態で保持されている。
【特許文献１】特開２００３−１１８１８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、金属配線やチップ部品をロール状のワークに形成する工業応用の液滴吐出装置では、上記のインクジェットプリンタのように、描画処理直後のワークを大きくたわませると、描画処理によってワーク上に着弾させた機能液滴が液垂れ等を起こす惧れが生じ、描画処理によって形成した金属配線が断線したり、描画処理によって形成したチップ部品が破壊されてしまうといった問題が生じる。また、同様に、ワークに予め（別の）チップ部品や金属配線、バンク構造が形成されている場合には、ワークを大きくたわませることにより、既に形成されているチップ部品等に破壊が生じる可能性も生じる。
【０００５】
そこで、本発明は、ロール状のワークをたるませた状態で送りながら描画処理を行う液滴吐出装置において、ワークのたるみに起因した悪影響を描画処理結果や、ワークに予め形成されているチップ部品等に及ぼすことのない液滴吐出装置およびこれに適用されるワーク、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、可撓性のワークを繰出した後、これに描画を行うと共に描画後のワークを巻き取るようにした液滴吐出装置であって、機能液滴吐出ヘッドと吸着テーブルとを有し、吸着テーブルに対して、機能液滴吐出ヘッドを移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動することにより、吸着セットされたワークに描画を行う描画手段と、ワークを間欠的に繰り出して、吸着テーブルにワークを供給する繰出し手段と、吸着テーブルから描画済みの前記ワークを巻き取る巻取り手段と、繰出されたワークを吸着テーブルに送り込むと共に、描画済み分のワークを吸着テーブルから巻取り手段にたるませた状態で送り出す送り手段と、を備え、吸着テーブルと巻取り手段との間のワークの巻取り側たるみの曲率を所定の範囲内とすることを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、描画済みのワークを吸着テーブルから巻取り手段にたるませた状態で送り出す場合に、そのたるみの曲率を所定の範囲内とすることができる。したがって、巻取り側たるみの曲率を、描画処理による機能液の吐出結果に悪影響を及ぼさないように予め設定しておき、その曲率の範囲内で巻取り側たるみの曲率をコントロールすることにより、描画処理による吐出結果に悪影響が生じることを防止することができる。
【０００８】
この場合、巻取り手段および送り手段を制御することにより、巻取り側たるみの曲率を所定の範囲内とする巻取り制御手段をさらに備えていることが好ましい。
【０００９】
この構成によれば、巻取り手段によるワークの巻取りタイミングと、送り手段によるワークの送りタイミングとを、巻取り制御手段で制御することにより、巻取り側たるみの曲率をコントロールして所定の曲率とすることができる。すなわち、巻取り側たるみの曲率が所定の曲率範囲内にあるときには、ワークの巻取り速度とワークの送り速度を略同一に保つことにより、巻取り側たるみの曲率を所定の曲率範囲に維持することができる。一方、巻取り側たるみの曲率が所定の曲率よりも大きい場合には、ワークの送り速度に比して、ワークの巻取り速度が遅いとして、ワークの送り速度に対してワークの巻取り速度を相対的に速め、巻取り側たるみの曲率が所定の曲率よりも小さい場合には、ワークの送り速度に比して、ワークの巻取り速度が速いとして、ワークの送り速度に対してワークの巻取り速度を相対的に遅らせるようにする。
【００１０】
この場合、ワークには、予め部品が実装されると共に、送り手段は、繰出されたワークをたるませた状態で吸着テーブルに送り込んでおり、繰出し手段および送り手段を制御することにより、繰出し手段と吸着テーブルとの間のワークの繰出し側たるみの曲率を所定の範囲内とする繰出し制御手段をさらに備えていることが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、予め部品が実装されたワークをたるませた状態で吸着テーブルに送りこむ場合に、そのたるみ（繰出し側たるみ）の曲率を所定の範囲内とすることができるため、繰出し側たるみに起因して、予め実装された部品に悪影響を及ぼすことがない。なお、ここに言う部品とは、カラーフィルタのバンクや、フレキシブル基板におけるチップ部品（コイル、抵抗、コンデンサ等）、金属配線等を含んだ概念である。
【００１２】
この場合、繰出し手段および送り手段を制御することにより、繰出し側たるみの曲率を所定の範囲内とする繰出し制御手段をさらに備えていることが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、繰出し手段によるワークの繰出しタイミングと、送り手段によるワークの送りタイミングとを、繰出し制御手段で制御することにより、巻取り側たるみの曲率をコントロールして所定の曲率とすることができる。なお、この場合の曲率コントロール方法は、上述した巻取り側たるみの曲率のコントロール方法に準ずるものとする。
【００１４】
本発明は、可撓性のワークを繰出した後、これに描画を行うと共に描画後のワークを巻き取るようにした液滴吐出装置であって、機能液滴吐出ヘッドと吸着テーブルとを有し、機能液滴吐出ヘッドに対して吸着テーブルをワークの送り方向に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動することにより、吸着セットされたワークに描画を行う描画手段と、ワークを間欠的に繰り出して、吸着テーブルにワークを供給する繰出し手段と、吸着テーブルから描画済みのワークを巻き取る巻取り手段と、描画手段による吸着テーブルの移動と同期して、巻取り手段を制御することにより、吸着テーブルと巻取り手段との間に生じるワークの巻取り側たるみの曲率を所定の範囲内とする巻取り制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１５】
この構成によれば、吸着テーブルの移動と同期して、ワークの巻取りが為されるので、繰り出したワークを吸着セットした吸着テーブルをワークの送り方向に対して移動させることにより、吸着テーブルと巻取り手段との間に生じるワークの巻取り側たるみの曲率を所定の範囲内とすることができる。したがって、巻取り側たるみの曲率を、描画処理による機能液の吐出結果に悪影響を及ぼさないように予め設定しておき、その曲率の範囲内で巻取り側たるみの曲率をコントロールすることにより、巻取り側たるみに起因して、描画処理による吐出結果に悪影響が生じることを有効に防止することができる。
【００１６】
この場合、巻取り側たるみの曲率の許容上限値および許容下限値に対応した巻取り側たるみの下端位置の上限位置および下限位置を検出する一対の巻取り用検出センサをさらに備え、巻取り制御手段は、一対の検出センサの検出結果に基づいて、巻取り手段を制御することが好ましい。
【００１７】
この構成によれば、巻取り側たるみの下端位置の上限位置および下限位置を検出し、これに基づいたワークの巻取り制御、すなわち巻取り手段によるワークの巻取り／繰出しタイミングと吸着テーブルの移動タイミングとを制御することにより、巻取り側たるみの曲率を所定の範囲内の収めることができる。
【００１８】
この場合、ワークには、予め部品が実装されており、描画手段による吸着テーブルの移動と同期して、繰出し手段を制御することにより、吸着テーブルと繰出し手段との間に生じるワークの繰出し側たるみの曲率を所定の範囲内とする繰出し制御手段をさらに備えていることが好ましい。
【００１９】
この構成によれば、描画処理を行うワークに予め部品が実装されている場合であっても、吸着テーブルの移動と同期して繰出し手段が制御され、繰出し手段から吸着テーブルの間のワークのたるみが所定の曲率に保持されるので、ワークのたるみ（たわみ）に起因して予めワークに実装されている部品が破壊されることを防止することができる。
【００２０】
この場合、繰出し側たるみの曲率の許容上限値および許容下限値に対応した繰出し側たるみの下端位置の上限位置および下限位置を検出する一対の繰出し用検出センサをさらに備え、繰出し制御手段は、一対の繰出し用検出センサの検出結果に基づいて、繰出し手段を制御することが好ましい。
【００２１】
この構成によれば、繰出し側たるみの下端位置の上限位置および下限位置を検出してワークの繰出し制御、すなわち、繰出し手段によるワークの繰出し／巻取りタイミングと吸着テーブルの移動タイミングとを制御することにより、繰出し側たるみの曲率を所定の範囲内の収めることができる。
【００２２】
本発明のワークは、上記のいずれかに記載の液滴吐出装置により描画され、かつフレキシブル基板であることを特徴とする。
【００２３】
この構成によれば、ロール状のワークを液滴吐出装置に導入して描画処理を行うことにより、フレキシブル基板を効率よく製造することができる。
【００２４】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。また、本発明の電気光学装置は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２５】
これらの構成によれば、上記の液滴吐出装置を用いているため、実描画領域に対して安定的に機能液を吐出させることができる。したがって、歩留まりよく成膜部を形成して、高精度な電気光学装置を効率よく製造することができる。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置またはＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２６】
本発明の電子機器は、上記に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置、または上記に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２７】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、小型のカメラや携帯電話等に組み込まれるフレキシブル基板を製造するためのものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、可撓性のベースフィルム（ワーク）上に機能材料を溶解させた機能液を吐出させて、抵抗、コイル、コンデンサ等の素子（チップ部品：面実装部品）や金属配線等を形成するためのものである。
【００２９】
図１および図２に示すように、液滴吐出装置１は、機能液滴吐出ヘッド４２を有し、ワークＷ上に機能液滴による描画を行う描画装置２と、ロール状に巻回された長尺のワークＷを繰出す繰出し装置３と、繰出されたワークＷを所定の送り経路に沿って送るための送り装置４と、ワークＷを巻き取る巻取り装置５と、を備えている。すなわち、この液滴吐出装置１は、ロール・ツー・ロール方式で処理を行うものであり、先ず、繰出し装置３により繰出されたワークＷを、送り装置４が送り経路に沿って描画装置２に送ってゆく。そして、描画装置２によりワークＷに描画処理を行った後、送り装置４により描画装置２からワークＷの処理済みの部分を送り出すと共に、送り出された処理済みのワークＷを巻取り装置５で順次巻き取るようになっている。このとき、繰出し装置３から送り装置４の間、および送り装置４から巻取り装置５の間において、ワークＷは、たるみを持たせた状態で送られる。なお、図示省略したが、液滴吐出装置１には、各装置を統括制御する制御装置６が設けられており、上記一連の動作は、制御装置６による制御に基づいて行われる。
【００３０】
一方、図１（ｂ）に示すように、液滴吐出装置１に導入されるワークＷには、描画処理により所定の描画パターン（単位描画パターン）が描画される実描画領域ａが長手方向に所定の間隙を有して複数連続的に設けられている。そして、実描画領域ａと実描画領域ａとの間には、略ワークＷの幅一杯に開口したフラッシング開口ｂが形成されていると共に、各実描画領域ａに対応する一対（２個）のワークアライメントマークｃが設けられている。この一対のワークアライメントマークｃは、後述の吸着テーブル３１に吸着セットした実描画領域ａをθ補正すると共に、Ｘ・Ｙ軸方向のデータ補正を行うために用いられる。なお、ワークＷは、最終的には、フラッシング開口ｂおよびワークアライメントマークｃが形成された各実描画領域ａ間の領域で切除される。そして、実描画領域ａ毎に切り離されたワークＷに対して所定の工程を行うことにより、複数のフレキシブル基板が製造される。
【００３１】
なお、本実施形態に用いられるワークＷには、チップ部品（または金属配線）の一部が既に作り込まれている。そして、ワークＷを巻回させたときに、作り込まれたチップ部品が損傷することがないように、ワークＷの上には、エンボス加工が施された長尺のスペーサシートＳが重ね合わされており、ワークＷはスペーサシートＳを積層させた状態でロール状に巻回され、搬入・搬出される。
【００３２】
次に、液滴吐出装置１の各装置について説明する。図１および図２に示すように、描画装置２は、機台１１と、機台１１上の全域に広く載置され、機能液滴吐出ヘッド４２を有する描画手段１２と、描画手段１２に添設するように機台１１上に載置したヘッド保守手段１３と、を備えている。
【００３３】
描画手段１２は、送り装置４によって導入されたワークＷをセットするセットテーブル２１と、複数の機能液滴吐出ヘッド４２を搭載したヘッドユニット２２と、ヘッドユニット２２を垂設するキャリッジ２３と、キャリッジ２３を介し、機台１１上においてヘッドユニット２２をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させるＸ・Ｙ移動機構２４と、を有している。なお、ここでは、ワークＷの送り方向（ワークＷの長手方向）をＸ軸方向とし、Ｘ軸方向と直交し、かつ水平な方向をＹ軸方向として説明を行うものとする。
【００３４】
セットテーブル２１は、機台１１上に設定された描画スペースに設置されると共にワークＷの送り経路に臨んで設けられており、ワークＷを吸着セットする吸着テーブル３１と、吸着テーブル３１をθ回転可能に支持し、機台１１に支持されたθテーブル３２と、を有している。吸着テーブル３１の表面（セット面）には、ワークＷを吸着するための吸着孔（図示省略）が複数形成されている。詳細は後述するが、本実施形態では、実描画領域単位で描画処理が行われるようになっており、吸着テーブル３１（の表面）は、１つの実描画領域ａを吸着セットできる大きさに構成されている。
【００３５】
図３に示すように、ヘッドユニット２２は、ヘッドプレート４１に複数の機能液滴吐出ヘッド４２を搭載して構成されている。図４に示すように、機能液滴吐出ヘッド４２は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針５２を有する機能液導入部５１と、機能液導入部５１に連なる２連のヘッド基板５３と、機能液導入部５１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体５４と、を備えている。接続針５２は、図外の機能液タンクに接続され、機能液導入部５１に機能液を供給する。ヘッド本体５４は、キャビティ５５（ピエゾ圧電素子）と、多数の吐出ノズル５８が開口したノズル面６７を有するノズルプレート５６と、で構成されている。機能液滴吐出ヘッド４２を吐出駆動すると、（ピエゾ圧電素子に電圧が印加され）キャビティ５５のポンプ作用により、吐出ノズル５８から機能液滴が吐出される。
【００３６】
なお、多数の吐出ノズル５８は、等ピッチ（２ドットピッチ間隔）に整列して、２列の分割ノズル列が形成されていると共に、２列の分割ノズル列同士は、相互に１ドットピッチ分位置ずれしている。すなわち、機能液滴吐出ヘッド４２には、２列の分割ノズル列により１ドットピッチ間隔のノズル列が形成され、１ドットピッチ（高解像度）の描画が可能となっている。
【００３７】
ヘッドプレート４１には、複数の機能液滴吐出ヘッド４２の各ノズル列がＹ軸方向に連続（一部が重複）するように配置され、全機能液滴吐出ヘッド４２のノズル列により１描画ラインが形成されている。１描画ラインの長さは、上記したワークＷの実描画領域ａの幅長に対応しており、いわゆるラインプリント方式でワークＷに対して効率よく描画を行うことができるようになっている。
【００３８】
キャリッジ２３は、ヘッドユニット２２を支持するキャリッジ本体６１と、キャリッジ本体６１を介して、ヘッドユニット２２のθ方向に対する（水平面内の）位置補正を行うためのθ回転機構６２と、θ回転機構６２を介して、キャリッジ本体６１（ヘッドユニット２２）をＸ・Ｙ移動機構２４に支持させる略Ｉ字状の吊設部材６３と、を有している。
【００３９】
なお、キャリッジ本体６１には、一対（２個）のカメラ支持アーム７１を介して、一対（２個）のワークアライメントカメラ７２が搭載されており、位置補正を行うためにワークＷ（実描画領域ａ）の撮像を行うようになっている（図２参照）。本実施形態では、吸着テーブル３１に吸着セットされた実描画領域ａに隣接する一方の側（本実施形態では繰出し装置３側）に位置する一対のワークアライメントマークｃがアライメントの基準として用いられている。そして、ワークアライメントカメラ７２による撮像結果に基づいて、基準となる一対のワークアライメントマークｃが所定位置となるように、ワークＷが位置補正される。
【００４０】
Ｘ・Ｙ移動機構２４は、Ｘ軸方向に延在したＸ軸テーブル８１と、キャリッジ２３を介してヘッドユニット２２をＹ軸方向にスライド自在に支持すると共に、Ｘ軸テーブル８１に支持され、Ｘ軸方向にスライド自在に構成されたＹ軸テーブル８２と、を備えている。
【００４１】
Ｘ軸テーブル８１は、一対のＸ軸移動機構８３から構成されており、各Ｘ軸移動機構８３は、機台１１に立設された複数本の支柱（図示省略）上に架け渡され、かつワークＷの送り経路を挟むように配設された一対の支持ベース（図示省略）上にそれぞれ設置されている。図示省略したが、各Ｘ軸移動機構８３は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するＸ軸モータ駆動のＸ軸スライダを有しており、各Ｘ軸スライダには、Ｙ軸テーブル８２の端がスライド自在に支持されている。
【００４２】
Ｙ軸テーブル８２は、Ｘ軸テーブル８１の一対のＸ軸スライダに両端を支持されたＹ軸支持プレート８６に、Ｙ軸方向の駆動系を構成するＹ軸モータ（図示省略）と、Ｙ軸モータ駆動のＹ軸スライダ（図示省略）と、を搭載して構成されており、Ｙ軸スライダには、キャリッジ２３（吊設部材６３）がＹ軸方向に移動自在に支持されている。
【００４３】
ここで、描画処理時における一連の動作について説明する。先ず、Ｘ軸テーブル８１を駆動して、キャリッジ２３（ヘッドユニット２２）を所定位置に臨ませ、ワークアライメントカメラ７２によりワークＷを撮像する。そして、その撮像結果に基づいて、θテーブル３２を駆動し実描画領域ａのθ補正を行うと共に、Ｘ軸方向およびＹ軸方向のデータ補正を行う。
【００４４】
続いて、Ｘ軸テーブル８１を駆動して、ヘッドユニット２２をＸ軸方向に往動させると共に、これと同期して機能液滴吐出ヘッド４２を吐出駆動させ、機能液滴の選択的な吐出を行わせる。ヘッドユニット２２の往動が終了すると、Ｙ軸テーブル８２が駆動され、ヘッドユニット２２を所定距離だけＹ軸方向に移動させる。そして、再度、Ｘ軸テーブル８１の駆動と、これに同期した機能液滴吐出ヘッド４２の吐出駆動とが為され、ヘッドユニット２２のＸ軸方向の復動とワークＷに対する機能液滴の選択的な吐出とが行われる。描画処理では、このようなヘッドユニット２２のＸ軸方向への移動およびこれに同期した機能液滴吐出ヘッド４２の吐出駆動（主走査）と、ヘッドユニット２２のＹ軸方向への移動（副走査）と、を交互に繰り返すことにより、描画スペース内を機能液滴吐出ヘッド４２が移動して、吸着テーブル３１上にセットされたワークＷの実描画領域ａに単位描画パターンが描画されてゆく。その後、単位描画パターン分の送りと上記描画動作とが繰り返される。なお、１個の実描画領域ａに対して、描画処理が開始されてから単位描画パターンの描画が終了するまでの動作を１タクトとする。
【００４５】
次に、ヘッド保守手段１３について説明する。ヘッド保守手段１３は、機能液滴吐出ヘッド４２の機能維持・回復を図るためのものであり、フラッシングユニット９１、吸引ユニット９２、ワイピングユニット９３、および吐出不良検査ユニット９４を備えている。そして、これらユニットは、ヘッドユニット２２の移動軌跡上に臨んで配置されており、ヘッドユニット２２に搭載された機能液滴吐出ヘッド４２に対して下側から臨んで、保守動作を行うようになっている。
【００４６】
なお、吸引ユニット９２、ワイピングユニット９３、および吐出不良検査ユニット９４は、機台１１上に立設した共通支持スタンド１０１上に設置されている。共通支持スタンド１０１は、吸引ユニット９２、ワイピングユニット９３および吐出不良検査ユニット９４を支持する共通支持プレート１０２と、Ｙ軸方向に並んで配設され、共通支持プレート１０２の両端を支持する支柱部材（図示省略）と、で構成されている。機台１１および共通支持プレート１０２の間には間隙が生じており、ワークＷは、この間隙を潜って吸着テーブル３１に送られる（図２（ａ）参照）。
【００４７】
図２に示すように、フラッシングユニット９１は、機能液滴吐出ヘッド４２の全吐出ノズル５８からの捨て吐出（フラッシング）により吐出された機能液滴を受けるためのものであり、上記した描画スペースに配置され、機能液を受ける一対のフラッシングボックス１１１と、一対の各フラッシングボックス１１１を吸着テーブル３１（またはθテーブル３２）に支持させる一対のボックス支持部材（図示省略）と、で構成されている。
【００４８】
各フラッシングボックス１１１は、上記したフラッシング開口ｂを包含可能な平面視長方形の細長い箱状に形成されており、その底部には、機能液を吸収させる吸収材（図示省略）が敷設されている。各フラッシングボックス１１１は、ボックス支持部材を介して吸着テーブル３１に支持されているため、吸着テーブル３１をθ補正して回転させるとこれと共に回転する。なお、フラッシング開口ｂのワーク幅方向の長さは、ヘッドユニット２２の１描画ラインの長さに対応して形成されており、全機能液滴吐出ヘッド４２からフラッシングを受け得るように構成されている。
【００４９】
各ボックス支持部材は、各フラッシングボックス１１１が吸着テーブル３１のＹ軸に延在する一対の辺（周縁）に沿うように（ワークＷの外側）、吸着テーブル３１から張り出すようにフラッシングボックス１１１を支持している（図２参照）。これにより、吸着テーブル３１に吸着セットされた実描画領域ａに隣接する、描画スペース内の２つのフラッシング開口ｂに、各フラッシングボックス１１１がそれぞれ臨むようになっている。そして、描画処理のためにワークＷをＸ軸方向に往復動すると、ヘッドユニット２２の機能液滴吐出ヘッド４２は、ワークＷに臨む直前にフラッシング開口ｂを介してフラッシングボックス１１１に順次臨んでゆき、フラッシングを行うようになっている（描画前フラッシング）。なお、各フラッシングボックス１１１は、その上端面が吸着テーブル３１のセット面と面一になるように支持されており、吸着テーブル３１および一対のフラッシングボックス１１１上に導入されたワークＷは水平に保持される。
【００５０】
図１および図２に示すように、吸引ユニット９２は、機能液滴吐出ヘッド４２（吐出ノズル５８）を吸引することにより、吐出ノズル５８から機能液を強制的に排出させるためのものであり、機能液滴吐出ヘッド４２のノズル面６７に密着させる複数のキャップ１２１と、機能液滴吐出ヘッド４２（ノズル面６７）に対してキャップ１２１を離接させるキャップ離接機構（図示省略）と、キャップ１２１を介して機能液滴吐出ヘッド４２を吸引可能な単一の吸引手段（エゼクタまたは吸引ポンプ）と、を有している。機能液の吸引は、機能液滴吐出ヘッド４２の目詰まりを解消／防止するために行われる他、液滴吐出装置１を新設した場合や、機能液滴吐出ヘッド４２のヘッド交換を行う場合などに、図外の機能液タンクから機能液滴吐出ヘッド４２に至る機能液流路に機能液を充填するために行われる。
【００５１】
なお、キャップ１２１は、ワークＷの送り時のように、ワークＷに対する描画処理を一時的に停止するときに行われる機能液滴吐出ヘッド４２の捨て吐出（定期フラッシング）により吐出された機能液を受ける（定期）フラッシングボックスの機能を有している。そして、１タクト分の描画処理が終了すると、ヘッドユニット２２が吸引ユニット９２上に移動して、定期フラッシングが行われるようになっている。これにより、ワーク送り時における機能液滴吐出ヘッド４２の目詰まりを有効に防止することができる。この場合、キャップ離接機構により、キャップ１２１は、その上面が機能液滴吐出ヘッド４２のノズル面６７から僅かに離間する位置まで移動している。
【００５２】
また、キャップ１２１は、液滴吐出装置１の非稼動時に、機能液滴吐出ヘッド４２を保管するためにも用いられる。この場合、吸引ユニット９２にヘッドユニット２２を臨ませ、機能液滴吐出ヘッド４２のノズル面６７にキャップを密着させることにより、ノズル面６７を封止し、機能液滴吐出ヘッド４２（吐出ノズル５８）の乾燥を防止する。
【００５３】
ワイピングユニット９３は、洗浄液を噴霧したワイピングシート１３１で機能液滴吐出ヘッド４２のノズル面６７を拭き取る（ワイピングを行う）ものであり、ロール状に巻回したワイピングシート１３１を繰り出しながら巻き取ってゆく巻取りユニット１３２と、繰り出したワイピングシート１３１に洗浄液を散布する洗浄液供給ユニット（図示省略）と、洗浄液が散布されたワイピングシート１３１でノズル面６７を拭取る拭取りユニット１３３と、を備えている。
【００５４】
機能液滴吐出ヘッド４２に対するワイピング動作は、主に、吸引ユニット９２による機能液滴吐出ヘッド４２の吸引後等に行われ、ノズル面６７に付着した汚れを払拭する。そして、ワイピングユニット９３は、Ｘ軸方向において吸着テーブル３１と吸引ユニット９２との間に設置されており、吸引ユニット９２による吸引後、描画処理のために描画スペース内を移動する機能液滴吐出ヘッド４２に臨んで、効率よくワイピング動作を行うことができるようになっている（図１および図２参照）。
【００５５】
吐出不良検査ユニット９４は、ヘッドユニット２２に搭載された全機能液滴吐出ヘッド４２（の吐出ノズル５８）から機能液が適切に吐出されているか否かを検査するためのものであり、ヘッドユニット２２の全機能液滴吐出ヘッド４２の全吐出ノズル５８から検査吐出された機能液を受け、所定の検査パターンを描画させるための被描画ユニット１４１と、被描画ユニット１４１に描画された検査パターンを撮像して検査する撮像ユニット（図示省略）と、を備えている。撮像ユニットで撮像した検査パターンの撮像結果は、制御装置６に送信されて画像認識され、この画像認識に基づいて、各機能液滴吐出ヘッド４２の各吐出ノズル５８が正常に機能液を吐出しているか（ノズル詰まりがないか）否かが制御装置６によって判断される。
【００５６】
なお、吐出不良検査ユニット９４も吸着テーブル３１と吸引ユニット９２との間に設置されている（図１および図２参照）。このため、定期フラッシングのために、吸着テーブル３１まで移動中のヘッドユニット２２に吐出不良検査ユニット９４が臨んで吐出不良検査を行うことでき、（敢えてヘッドユニット２２を移動させることなく）効率的に機能液滴吐出ヘッド４２の吐出不良を検査することができる。
【００５７】
次に、繰出し装置３、送り装置４、および巻取り装置５について順に説明する。図１および図２に示すように、繰出し装置３は、機台１１の上流側に添設された繰出し機台１５１に設置されており、図外の繰出し支持フレームに回転自在に軸支され、ロール状のワークＷを装着した繰出しリール１５２と、繰出しリール１５２を正逆回転させる繰出しモータ１５３と、図外の動力伝達機構と、を備えている。そして、繰出しモータ１５３を正駆動して繰出しリール１５２を正回転させると、繰出しリール１５２から送り装置４にワークＷが繰出されるようになっている。
【００５８】
なお、繰出しリール１５２の上方に位置して、繰出し機台１５１には、ワークＷと共に繰出しリール１５２に巻回されたスペーサシートＳを巻き取るスペーサ巻取りリール１５４が設けられている。スペーサ巻取りリール１５４は、繰出しリール１５２からのワークＷの繰出しと同期してスペーサシートＳを巻取ってゆくため、送り装置４には、ワークＷのみが供給されるようになっている。なお、繰出しモータ１５３をスペーサ巻取りリール１５４の駆動源として兼用してもよい。かかる場合、スペーサ巻取りリール１５４をスリップ回転させてスペーサシートＳを巻き取るようにする。
【００５９】
ワークＷの繰出しは、上記した描画処理と並行して行われ、描画処理時に、少なくとも実描画領域ａのＸ軸方向の長さ分、すなわち次の描画処理のために送られるワークＷの送り量分（１タクト分）が繰出されるようになっている。この場合、繰り出されたワークＷは、繰出しリール１５２と送り装置４（繰出し側送りローラ１６１：後述する）との間でたるむこととなる。すなわち、繰出しリール１５２と繰出し側送りローラ１６１との間は、ワークＷのバッファ領域（空間）となる。そして、本実施形態では、このバッファ領域において、繰出し側たるみの下端位置を検出することにより、ワークＷの繰出し量を検出する繰出し量検出センサ１５５が設けられており、繰出し量検出センサ１５５の検出結果に基づいて繰出しモータ１５３の駆動が制御される。具体的には、繰出し量検出センサ１５５は、１タクト分のワークＷを繰出したときに生じる繰出し側たるみの下端位置に対応した位置に配置されており、繰出し量検出センサ１５５が繰出し側たるみの下端位置を検出すると、繰出しモータ１５３の駆動が停止されるようになっている。このように、本実施形態では、ワークＷの繰出し側たるみのたるみ量に基づいて繰出しモータ１５３を制御しているため、繰出しリール１５２のロール径に影響されることなく、（所定量の）ワークＷの繰出しを行うことが可能であり、また、描画動作時等の空き時間に（時間をかけて）ワークＷの繰出しを行うことが可能である。なお、図２における符号１５６は、繰出し側たるみの下端位置を検出することにより、ワークＷの繰出し過ぎを検出する繰出し側下限センサである。
【００６０】
図１および図２に示すように、送り装置４は、繰出し機台１５１上に配設され、繰出しリール１５２から繰出されたワークＷを受け取る繰出し側送りローラ１６１と、機台１１上に配設され、繰出し側送りローラ１６１から送られたワークＷが上記の共通支持スタンド１０１（共通支持プレート１０２の下）を潜るように経路変更する第１経路変更ローラ１６２と、第１経路変更ローラ１６２により経路変更されたワークＷが吸着テーブル３１に水平に送られるように再度これを経路変更する第２経路変更ローラ１６３と、巻取り装置５が設置された巻取り機台１７１（後述する）上に配設され、描画済みのワークＷを巻取り装置５（巻取りリール１７２：後述する）に送る巻取り側送りローラ１６４と、巻取り側送りローラ１６４を正逆回転させる送りモータ１６５と、を備えている。巻取り側送りモータは、エンコーダ付のサーボモータまたはステッピングモータで構成されており、その回転量からワークＷの送り量が制御装置６で把握される。
【００６１】
送り装置４によるワークＷの送りは、上記した１タクトの描画処理が終了した後行われ、１タクトの描画処理が終了すると、巻取り送りモータが駆動される。これにより、駆動ローラである巻取り側送りローラ１６４が回転すると共に、従動ローラである繰出し側送りローラ１６１、第１経路変更ローラ１６２、および第２経路変更ローラ１６３が従動回転する。そして、１タクト分のワーク送りが行われ、セットテーブル２１から、描画済みのワークＷが送り出されると共に、セットテーブル２１に新たな部分（実描画領域ａ）が送り込まれる。上述したように、本実施形態では、ワークＷの送りを開始する前に、１タクト分のワークＷが予め繰り出されているため、繰出し装置３によるワークＷの繰出しに影響されることがなく、迅速かつ精度よくワーク送りを行うことができるようになっている。
【００６２】
図１および図２に示すように、巻取り装置５は、機台１１の下流側に添設された巻取り機台１７１に設置されており、図外の巻取り支持フレームに回転自在に軸支され、送り装置４から送られてきた描画済みのワークＷを巻き取る巻取りリール１７２と、巻取りリール１７２を正逆回転させる巻取りモータ１７３と、を備えている。そして、巻取りモータ１７３を正駆動して巻取りリール１７２を正回転させると、巻取り側送りローラ１６４からのワークＷが巻取りリール１７２に巻き取られるようになっている。
【００６３】
ワークＷの巻取り動作は、ワークＷの繰出し動作と同様、描画処理と並行して行われる。送り装置４（巻取り側送りローラ１６４）からの送られてきた（１タクト分の）ワークＷは、一旦たるんだ状態で巻取り装置５側に送られる。そして、ワークＷの送りが終了して描画処理が開始すると、巻取りモータ１７３が駆動され、たるんだワークＷが巻取りリール１７２に巻き取られてゆく。この場合、巻取りモータ１７３の制御は、たるみ（巻取り側たるみ）を検出することによって行われる。具体的には、１タクト分のワークＷを巻き取ったときの巻取り側たるみの下端位置に対応して巻取り量検出センサ１７４を配置し、巻取り量検出センサ１７４が巻取り側たるみの下端位置を検出すると、巻取りモータ１７３の駆動が停止されるようになっている。また、送り装置４には、ワークＷの巻取り過ぎを検出するために、巻取り側たるみの下端位置の上限位置を検出する巻取り側上限センサ１７５が設けられている。
【００６４】
なお、同図に示す符号１７６は、スペーサシートＳを供給するスペーサ供給リールであり、巻き取られる描画済みのワークＷ上にスペーサシートＳを供給する。供給されたスペーサシートＳは、ワークＷと共に巻取りリール１７２に巻き取られ、描画処理によってワークＷに形成されたチップ部品や既に形成済みの素子等が破壊されることを防止する。
【００６５】
次に、図５を参照しながら液滴吐出装置１の主制御系について説明する。液滴吐出装置１は、描画手段１２を有する描画部１８１と、ヘッド保守手段１３を有するヘッド保守部１８２と、繰出し装置３を有するワーク繰出し部１８３と、送り装置４を有するワーク送り部１８４と、巻取り装置５を有するワーク巻取り部１８５と、各装置の各種センサ類（繰出し量検出センサ１５５、繰出し側下限センサ１５６、巻取り量検出センサ１７４、巻取り側上限センサ１７５等）を有し、各種検出を行う検出部１８６と、各部を駆動する各種ドライバを有する駆動部１８７と、各部に接続され、液滴吐出装置１全体の制御を行う制御部１８８（制御装置６）と、を備えている。
【００６６】
制御部１８８は、各装置を接続するためのインタフェース１９１と、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ１９２と、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ１９３と、ワークＷに描画を行うための描画データや、各装置からの各種データ等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク１９４と、ＲＯＭ１９３やハードディスク１９４に記憶されたプログラム等に従い、各種データを演算処理するＣＰＵ１９５と、これらを互いに接続するバス１９６と、を備えている。
【００６７】
そして、制御部１８８は、各装置から送られてきた各種データを、インタフェース１９１を介して入力すると共に、ハードディスク１９４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等の外部入力装置から順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ１９５に演算処理させ、その処理結果を、インタフェース１９１を介して各装置に出力する。これにより、各装置が統括制御され、上記したワークＷに対する一連の処理が行われるようになっている。
【００６８】
ところで、液滴吐出装置１では、描画済みのワークＷ（１タクト分）を一旦巻取り装置５側に送り、巻取り側たるみを生じさせた後、巻取りモータ１７３を駆動して、これを巻き取る構成となっている。この場合、巻取り側たるみのたるみの程度（曲率）が大きくなると、ワークＷ上に描画された描画パターン（すなわち、描画処理によって形成されたチップ部品や金属配線等）が破壊される惧れが生じる。そこで、本実施形態では、巻取り側たるみの曲率として、描画パターンに悪影響を生じさせない曲率Ｃ１が予め設定されており、１タクト分のワーク送りにより巻取り側たるみが曲率Ｃ１を超えないように、Ｘ軸方向における巻取り側送りローラ１６４と巻取りリール１７２との間の距離が十分に確保されている。
【００６９】
同様に、本実施形態のワークＷには、予めチップ部品等が作り込まれているため、繰出しリール１５２からワークＷを繰出すときに生じる繰出し側たるみにも、これを破壊しないための曲率Ｃ２が設定されている。そして、１タクト分のワークＷを繰出しても、繰出し側たるみが所定の曲率Ｃ２を超えないように、繰出しリール１５２と繰出し側送りローラ１６１との距離が設定されている。なお、上記した繰出し側下限センサ１５６は、曲率Ｃ２に対応した位置に配置されており、ワークＷの繰出し過ぎにより繰出し側たるみがＣ２を超えないようになっている。
【００７０】
このように、本実施形態の液滴吐出装置１では、巻取り側送りローラ１６４と巻取りリール１７２との距離、および繰出しリール１５２と繰出し側送りローラ１６１との距離を十分に確保することにより、ワークＷに生じるたるみの曲率を所定の曲率に収めているため、ワークＷの（過剰な）たるみに起因して、描画処理によって描画された描画パターンや、ワークＷに予め作り込まれたチップ部品および金属配線等が破壊されることがなく、製造上の歩留まりを向上させることが可能である。
【００７１】
次に、図６を参照して、第２実施形態について説明する。第２実施形態は、第１実施形態の液滴吐出装置の変形例であり、第１実施形態の液滴吐出装置１と略同様に構成されているが、ワークＷに生じるたるみの曲率管理方法において異なっている。具体的には、第１実施形態の液滴吐出装置１では、巻取り側送りローラ１６４と巻取りリール１７２との距離、および繰出しリール１５２と繰出し側送りローラ１６１との距離を十分に確保することにより、ワークＷに生じるたるみの曲率を所定の曲率に収めていたが、第２実施形態では、巻取り側送りローラ１６４と同期して、繰出しリール１５２および巻取りリール１７２を回転させることにより、ワークＷの繰出し側たるみおよび巻取り側たるみの曲率を所定の範囲内に収めるようになっている。なお、以下の第２実施形態の説明において、第１実施形態の液滴吐出装置の各構成に対応する構成については、同様の符号を付すものとする。
【００７２】
第２実施形態の液滴吐出装置１では、巻取り側送りローラ１６４と巻取りリール１７２との距離、および繰出しリール１５２と繰出し側送りローラ１６１との距離が、基本形の液滴吐出装置１よりも短縮されている。巻取り側送りローラ１６４と巻取りリール１７２との間の空間、および繰出しリール１５２と繰出し側送りローラ１６１との間の空間は、ワークＷのバッファ領域となっており、ワークＷが僅かにたるんだ状態で架け渡されている。
【００７３】
巻取り側送りローラ１６４と巻取りリール１７２との間には、たるみ量に起因して変化する巻取り側たるみの下端の移動軌跡上に位置して、巻取り用検出センサ２０１と、フェールセーフ用の巻取り用限界センサ２１１と、が設けられている。巻取り用検出センサ２０１は、巻取り側たるみの曲率を予め設定されたＣ１±αの範囲内に収めるためのセンサであり、許容上限値Ｃ１＋αに対応する巻取り側たるみの下端位置を検出する巻取り用上限センサ２０２と、許容下限値Ｃ１−αに対応する巻取り側たるみの下端位置を検出する巻取り用下限センサ２０３と、から成る一対のセンサで構成されている。巻取り用限界センサ２１１は、巻取り側たるみの曲率が許容上限値Ｃ１＋αを超え、ワークＷの巻き取り過ぎを検出する巻取り用第１限界センサ２１２と、巻取り側たるみの曲率が許容下限値Ｃ１−αを下回り、描画処理によって描画された描画パターンが破壊されない限界位置を検出する巻取り用第２限界センサ２１３と、で構成されている。
【００７４】
同様に、繰出しリール１５２と繰出し側送りローラ１６１との間の繰出し側たるみの下端の移動軌跡上には、繰出し側たるみの曲率の許容上限値Ｃ２＋βに対応して繰出し側たるみの下端位置を検出する繰出し用上限センサ２２２と、許容下限値Ｃ２−αに対応して繰出し側たるみの下端位置を検出する繰出し用下限センサ２２３と、から成る繰出し用検出センサ２２１と、繰出し側たるみの曲率が許容上限値Ｃ２＋βを超え、ワークＷの繰出し不足を検出する繰出し用第１限界センサ２３２と、繰出し側たるみの曲率が許容下限値Ｃ２−βを下回り、ワークＷに予め作り込まれたチップ部品等が破壊されない限界位置を検出する繰出し用第２限界センサ２３３と、から成る繰出し用限界センサ２３１と、が設けられている。
【００７５】
ここで、第２実施形態の液滴吐出装置１におけるワークＷの繰出し、送り、および巻取りの一連の動作について説明する。第２実施形態の液滴吐出装置では、繰出し側たるみおよび巻取り側たるみが僅かに生じるようにワークＷがセットされており、この状態で１タクトの描画処理が為される。なお、繰出し側たるみの下端は、繰出し用上限センサ２２２と繰出し用下限センサ２２３との間に位置しており、巻取り側たるみの下端は、巻取り用上限センサ２０２と巻取り用下限センサ２０３との間に位置している。
【００７６】
１タクトの描画処理が終了すると、繰出しモータ１５３、送りモータ１６５、および巻取りモータ１７３が（同時に）同期して（正）駆動される。これにより、繰出しリール１５２からワークＷが繰出され、吸着テーブル３１に未処理のワークＷが送り込まれると共に、吸着テーブル３１から描画済みのワークＷが送り出され、巻取りリール１７２に描画済み部分が巻き取られてゆく。本実施形態では、繰出し側たるみが形成されているため、巻回状態のワークＷの慣性やモータの立ち上がり特性等に起因して、巻取り側送りローラ１６４の回転開始よりもワークＷの繰出しが遅れても、繰出し側たるみがバッファとして機能（ワークＷ繰出しの遅れを吸収）する。また、巻取り側たるみは、ワークＷの巻取り開始時における巻取り側送りローラ１６４および巻取りリール１７２によるワークＷの巻取り速度のばらつきを吸収する。
【００７７】
このとき、繰出し用検出センサ２２１に基づいて、繰出しモータ１５３の制御が行われる。具体的には、巻取り側送りローラ１６４によるワークＷの送りに比して、繰出しリール１５２からのワーク繰出し速度が遅く、繰出し用上限センサ２２２により繰出し側たるみの下端が検出された場合には、繰出しモータ１５３の回転数を上げ、ワークＷの繰出し速度を上げるようになっている。一方、巻取り側送りローラ１６４によるワークＷの送りに比して、繰出しリール１５２からのワーク繰出し速度が速く、繰出し用下限センサ２２３により繰出し側たるみの下端が検出された場合には、繰出しモータ１５３の回転数を下げ、ワーク繰出し速度を下げるようになっている。したがって、繰出し側たるみの下端は、繰出し用上限センサ２２２および繰出し用下限センサ２２３の間で推移し、その曲率はＣ２±βの範囲内にコントロールされている。
【００７８】
なお、繰出し用第１限界センサ２３２により繰出し側たるみの下端が検出された場合には、繰出しモータ１５３を駆動させたまま、送りモータ１６５を一旦停止してワークＷの送りを停止させる。そして、ワークＷを所定量繰出した後に（例えば、繰出し用上限センサ２２２によりワークＷの下端が検出されてから）、再度送りモータ１６５を駆動して、ワークＷの送りを開始させる。また、繰出し用第２限界センサ２３３により繰出し側たるみの下端が検出された場合には、送りモータ１６５の駆動はそのままに、繰出しモータ１５３の駆動を停止させ、ワークＷの過剰供給に起因して、繰出し側たるみの曲率が過小に成ることを防止する。この場合、繰出し側たるみの下端が繰出し用下限センサ２２３に検出されたときに、繰出しモータ１５３の駆動を再度開始する。
【００７９】
また、繰出しモータ１５３の制御と並行して、巻取り用検出センサ２０１に基づいた巻取りモータ１７３の制御も行われる。すなわち、巻取り側送りローラ１６４によるワークＷの送りに比して、巻取りリール１７２のワーク巻取り速度が速く、巻取り用上限センサ２０２により巻取り側たるみの下端が検出された場合には、巻取りモータ１７３の回転数を下げ、ワークＷの巻取り速度を下げるようになっている。一方、巻取り側送りローラ１６４によるワークＷの送りに比して、巻取りリール１７２のワーク巻取り速度が遅く、巻取り用下限センサ２０３により巻取り側たるみの下端が検出された場合には、巻取りモータ１７３の回転数を上げ、ワークＷの巻取り速度を上げるようになっている。したがって、巻取り側たるみの下端は、巻取り用上限センサ２０２および巻取り用下限センサ２０３の間で推移し、その曲率は、予め設定された曲率Ｃ１±αの範囲内にコントロールされている。
【００８０】
なお、繰出しモータ１５３の制御中に、巻取り用第１限界センサ２１２により巻取り側たるみの下端が検出された場合には、ワークＷの巻取り過ぎと判断して、送りモータ１６５を駆動させたまま、巻取りモータ１７３を一旦停止し、ワークＷの巻取りを停止させる。そして、ワークＷが巻取り装置５側に所定量送り出されてから（例えば、巻取り用上限センサ２０２によりワークＷの下端が検出されてから）、再度巻取りモータ１７３を駆動して、ワークＷの巻取り動作を開始させる。また、巻取り用第２限界センサ２１３により巻取り側たるみの下端が検出された場合には、巻取りモータ１７３の駆動はそのままに、送りモータ１６５の駆動を停止させる。これにより、ワークＷの過剰供給に起因して、巻取り側たるみの曲率が過小となり、描画処理により描画された描画パターンの破壊を防止する。そして、繰出し用下限センサ２２３により巻取り側たるみの下端が検出されたときに、送りモータ１６５の駆動を再度開始する。
【００８１】
このように、第２実施形態の液滴吐出装置１では、送りモータ１６５に同期させて、繰出しモータ１５３および巻取りモータ１７３を駆動させると共に、繰出し用検出センサ２２１および巻取り用検出センサ２０１に基づいてこれらの駆動を制御することにより、巻取り側たるみおよび繰出し側たるみの曲率を所定の範囲内に維持している。したがって、上述の液滴吐出装置１に比べ、繰出しリール１５２と繰出し側送りローラ１６１との間の距離、および巻取り側送りローラ１６４と巻取りリール１７２との間の距離を短縮することができるため、液滴吐出装置１の設置スペースを削減することができる。
【００８２】
次に、本発明の第３実施形態について説明する。本実施形態の液滴吐出装置３０１は、上述の液滴吐出装置１と略同様にワークＷに処理を行うものであるが、描画装置３０２および送り装置３０４の構成においてが上述のものとは異なっていると共に、描画処理時において、セットテーブル３１６がＸ軸方向に移動する点で異なっている。以下、第１実施形態と異なる部分を中心に説明する。
【００８３】
図７に示すように、第３実施形態のＸ・Ｙ移動機構３１２は、機台３１１上の描画スペースに配設され、描画スペース内においてワークＷをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブル３１３と、機台に立設された一対の支柱３１８を介してＸ軸テーブル３１３を直交に跨いで配設され、キャリッジ３２１を介してヘッドユニット３２２をＹ軸方向に移動させるＹ軸テーブル３１４と、を有している。Ｘ軸テーブル３１３は、Ｘ軸方向の駆動系であるＸ軸モータ（図示省略）駆動のＸ軸スライダ３１５に、セットテーブル３１６をＸ軸方向に移動自在に搭載して構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル３１４は、Ｙ軸方向の駆動系であるＹ軸モータ（図示省略）駆動のＹ軸スライダ３１７を有し、これにキャリッジ３２１をＹ軸方向に移動自在に搭載して構成されている。
【００８４】
描画処理は、第１実施形態の液滴吐出装置と略同様に行われ、Ｘ軸テーブル３１３の駆動によるワークＷのＸ軸方向への移動およびこれに同期した機能液滴吐出ヘッド３２３の吐出駆動から成る主走査と、ヘッドユニット３２２のＹ軸方向への移動である副走査と、を交互に繰り返すことにより、１タクト分の描画動作が行われる。
【００８５】
ヘッド保守手段３３１のフラッシングユニット３３２は、第１実施形態のものと同様に構成され、セットテーブル３１６に支持されている。他方、ヘッド保守手段３３１の吸引ユニット３３３、ワイピングユニット３３４、および吐出不良検査ユニット３３５は、描画スペースおよびワークＷの送り経路からＹ軸方向に外れた位置に配設されたユニット移動テーブル３３６により、Ｘ軸方向に移動可能に支持されている。上記のＹ軸テーブル３１４は、描画スペースからＹ軸方向に外れた位置までヘッドユニット３２２を移動可能に構成されており、ユニット移動テーブル３３６とＹ軸テーブル３１４が交差する領域が機能液滴吐出ヘッド３２３に保守を行う保守スペースとなっている。そして、保守スペースに臨んだヘッドユニット３２２に対し、吸引ユニット３３３、ワイピングユニット３３４、および吐出不良検査ユニット３３５を用いて保守を行う場合には、ユニット移動テーブル３３６を駆動して、各ユニットを保守スペース（ヘッドユニット３２２）に適宜臨ませるようになっている。なお、吸引ユニット３３３、ワイピングユニット３３４、および吐出不良検査ユニット３３５も第１実施形態のものと同様に構成されている。
【００８６】
送り装置３０４は、繰出し機台３５１上に配設され、繰出しリール３５２から繰出されたワークＷをセットテーブル３１６に送り込む繰出し側送りローラ３４１と、巻取り機台３６１に配設され、セットテーブル３１６から処理済みのワークＷを送り出す巻取り側送りローラ３４２と、繰出し側送りローラ３４１を正逆回転させる繰出し側送りモータ３４３と、巻取り側送りローラ３４２を正逆回転させる巻取り側送りモータ３４４と、を備えている。繰出し側送りモータ３４３および巻取り側送りモータ３４４は、エンコーダ付のサーボモータまたはステッピングモータで構成されており、その回転量からワークＷの送り量が制御装置（図示省略）で把握される。
【００８７】
繰出し装置３０３および巻取り装置３０５は、第１実施形態のものと同様に構成されている。繰出し装置３０３は、描画処理中に１タクト分のワークＷを送り装置３０４（繰出し側送りローラ３４１）に繰出すようになっている。本実施形態の液滴吐出装置３０１は、描画処理時にセットテーブル３１６をＸ軸方向に移動させる構成となっており、描画処理中にワークＷを繰出しリール３５２から繰出すことにより、セットテーブル３１６の移動を許容する。
【００８８】
図８を参照して、第３実施形態におけるワークＷの繰出し・送り動作について具体的に説明する。図８（ａ）は、送り装置３０４によるワーク送りが終了した状態を示している。同図に示すように、描画処理開始前において、繰出しリール３５２と繰出し側送りローラ３４１との間に、僅かな（所定量の）繰出し側たるみが形成されている。描画処理が開始され、セットテーブル３１６がＸ軸方向に往動すると、これと同期して繰出し側送りモータ３４３および繰出し側送りモータ３４３が（正）駆動される。これにより、セットテーブル３１６の移動量に対応した量のワークＷが繰出しリール３５２から繰出されると共に、セットテーブル３１６側にワークＷが供給され、ワークＷをセットした状態でのセットテーブル３１６の移動が可能となる（図８（ｂ）参照）。また、繰出し側送りモータ３４３の駆動に同期して、巻取り側送りモータ３４４も駆動されるようになっており、巻取り側送りローラ３４２と巻取りリール３６２との間には、セットテーブル３１６の移動距離に対応した巻取り側たるみが形成される。
【００８９】
なお、本実施形態では、描画処理開始前に、繰出しリール３５２と繰出し側送りローラ３４１との間にワークＷのたるみ（繰出し側たるみ）が形成されているため、ワークＷの慣性やモータの立ち上がり特性等に起因して、セットテーブル３１６の移動開始よりもワークＷの繰出しが遅れても、繰出し側たるみがバッファとして機能し（ワークＷ繰出しの遅れを吸収し）、セットテーブル３１６の移動を許容する。
【００９０】
ワークＷの往動が終了すると、繰出しモータ３５３の駆動が停止され、ワークＷの繰出しが停止する。Ｘ軸テーブル３１３は、描画スペース内において移動するため、このときまでに１タクト分以上のワークＷが繰出されており、１タクト分以上のワークＷにより巻取り側たるみが形成されている。次に、副走査が終了して、巻取り側送りモータ３４４および繰出し側送りモータ３４３を逆駆動して、セットテーブル３１６の復動と共に巻取り側送りローラ３４２および繰出し側送りローラ３４１を逆回転させると、繰出しリール３５２と繰出し側送りローラ３４１との間に、１タクト分を超える繰出し側たるみが形成される（図８（ｃ）参照）。そして、描画処理後には、送り装置３０４により１タクト分のワークＷの送りが行われるが、繰出し側たるみが１タクト分を超えているため、ワークＷの送り後にも繰出しリール３５２と繰出し側送りローラ３４１との間に繰出し側たるみが残された状態となる（図８（ａ）参照）。なお、１タクトの描画処理で、複数回セットテーブル３１６の往復動を繰り返す場合、２回目以降のセットテーブル３１６の往動においてワークＷの繰出しは行わない。
【００９１】
このように、本実施形態の液滴吐出装置３０１は、セットテーブル３１６をＸ軸方向に往復動させる構成であるため、繰出しリール３５２と繰出し側送りローラ３４１との間、および巻取り側送りローラ３４２と巻取りリール３６２との間で、ワークＷのたるみ（繰出し側たるみおよび巻取り側たるみ）が生じるようになっている。
【００９２】
そこで、本実施形態の液滴吐出装置３０１でも、繰出し側たるみおよび巻取り側たるみの曲率をそれぞれコントロールして、ワークＷに既に作り込まれたチップ部品（または金属配線）や、描画処理によって形成したチップ部品（または金属配線）が（断線等により）破壊されてしまうことを防止している。具体的には、第１実施形態の基本形と同様に、繰出しリール３５２と繰出し側送りローラ３４１との間、および巻取り側送りローラ３４２と巻取りリール３６２との間の距離が十分に確保されており、１タクト分程度のワークＷをたるませても、繰出し側たるみおよび巻取り側たるみのそれぞれに設定された許容曲率範囲を超えないようになっている。
【００９３】
もっとも、繰出しリール３５２に装着されたワークＷのロール径が変化することに起因して、セットテーブル３１６の移動と同期して繰出しリール３５２を繰出し回転させても、ワークＷの繰出し量に多少の誤差が生じる。このため、繰出し側たるみの下端の移動軌跡上には、繰出し側たるみの下端を検出することにより、繰出し側たるみの曲率の許容上限値Ｃ２＋βを検出する繰出し用上限センサ３７３および繰出し側たるみの曲率の許容下限値Ｃ２−βを検出する繰出し側下限センサ３７４から成る繰出し用検出センサ３７２と、が設けられている。そして、これらセンサの検出結果に基づいて、ワークＷの繰出しを制御することにより、繰出しリール３５２に装着されたワークＷのロール径に関係せず、繰出し側たるみの曲率を許容曲率範囲内に収めるようになっている。この場合、描画処理時におけるセットテーブル３１６の復動時に、繰出し用検出センサ３７２がワークＷの繰出し側たるみの曲率が許容下限値Ｃ２−βを下回ったことを検出すると、繰出しモータ３５３が（逆）駆動される。そして、繰出し側たるみ量検出センサ３７１により繰出し側たるみの下端が検出されるまで、繰出しリール３５２を巻取り回転させ、繰出し側たるみの曲率を調整する。
【００９４】
なお、図中の符号３８１は、ワークＷの繰出し不足を検出する繰出し側第１限界センサであり、符号３８２は、ワークＷに予め作り込まれたチップ部品等が破壊されない限界位置を検出する繰出し側第２限界センサである。これら両センサ３８１、３８２により、繰出し用限界センサが構成されている。そして、セットテーブル３１６の往動中に、繰出し側第１限界センサにより繰出し側たるみの下端が検出されると、繰出し用検出センサ３７２が繰出し側たるみの許容上限値Ｃ２＋βを検出するまで、繰出しモータ３５３を（正）駆動させたまま、セットテーブル３１６の往動を停止させると共に、繰出し側送りモータ３４３および巻取り側送りモータ３４４の（正）駆動を停止させる。一方、セットテーブル３１６の復動中に、繰出し側第２限界センサにより繰出し側たるみの下端が検出されると、繰出し用検出センサ３７２が繰出し側たるみの許容下限値Ｃ２−βを検出するまで、繰出しモータ３５３を逆駆動させたまま、セットテーブル３１６の復動を停止させると共に、繰出し側送りモータ３４３および巻取り側送りモータ３４４の（逆）駆動を停止させる。
【００９５】
なお、巻取りリール３６２によるワークＷの巻取り動作は、第１実施形態の基本形に倣って行われるため、ここでは説明を省略した。
【００９６】
次に、第４実施形態の液滴吐出装置について説明する。第４実施形態の液滴吐出装置は第３実施形態の変形例であり、その装置構成は、第３実施形態のものと略同様であるが、ワークＷに生じるたるみの曲率管理方法において異なっている。具体的には、第４実施形態の液滴吐出装置３０１では、巻取り側送りローラ３４２と巻取りリール３６２との距離、および繰出しリール３５２と繰出し側送りローラ３４１との距離が第３実施形態のものよりも短く構成されており、描画処理時には、セットテーブル３１６の往復動と同期させて、繰出しモータ３５３、繰出し側送りモータ３４３、巻取り側送りモータ３４４、および巻取りモータ３６３を駆動すると共に、ワークＷの送り時には、繰出しモータ３５３、繰出し側送りモータ３４３、巻取り側送りモータ３４４、および巻取りモータ３６３を同期して駆動することにより、ワークＷのたるみ（巻取り側たるみおよび繰出し側たるみ）をコントロールしている。なお、以下の第４実施形態の説明において、第３実施形態の液滴吐出装置の各構成に対応する構成については、同様の符号を付すものとする。
【００９７】
ここで、描画処理時における繰出し装置３０３、送り装置３０４、および巻取り装置３０５の一連の動作について、図９を参照しながら具体的に説明する。描画処理の開始によりＸ軸テーブル３１３が駆動され、セットテーブル３１６が往動すると、これと同期して繰出しモータ３５３、繰出し側送りモータ３４３、巻取り側送りモータ３４４、および巻取りモータ３６３が（正）駆動される。これにより、繰出しリール３５２からセットテーブル３１６の往動距離に対応した長さのワークＷが繰出されると共に、繰出し側送りローラ３４１により繰出されたワークＷが描画装置３０２側へ送られるため、セットテーブル３１６の往動が許容される。また、巻取り側送りローラ３４２がセットテーブル３１６の下流側に位置するワークＷをセットテーブル３１６の往動距離に対応させて巻取り装置３０５側に送ると共に、これを巻取りリール３６２が適宜巻き取ってゆく。
【００９８】
セットテーブル３１６の往動が終了（Ｘ軸テーブル３１３の駆動が停止）すると、繰出しモータ３５３、繰出し側送りモータ３４３、巻取り側送りモータ３４４、および巻取りモータ３６３の駆動も停止される。続いて、セットテーブル３１６の復動が開始されると、繰出しモータ３５３、繰出し側送りモータ３４３、巻取り側送りモータ３４４、および巻取りモータ３６３が（逆）駆動される。これにより、セットテーブル３１６の往動時とは逆の動作が行われ、セットテーブル３１６の復動と同期して、巻取りリール３６２から繰出されたワークＷが巻取り側送りローラ３４２により描画装置３０２側に送られると共に、セットテーブル３１６の上流側に位置するワークＷが繰出し側送りローラ３４１により繰出し装置３０３側に送られ、繰出しリール３５２に巻き取られてゆく。
【００９９】
このように、第４実施形態の液滴吐出装置３０１では、描画処理中のセットテーブル３１６の往復移動に同期させて、ワークＷの繰出しおよび巻取りを行っているため、繰出しリール３５２と繰出し側送りローラ３４１との間、および巻取り側送りローラ３４２と巻取りリール３６２との間に、セットテーブル３１６の移動に起因して所定の曲率範囲を超えるワークＷの（余分な）たるみが生じない。もっとも、繰出しリール３５２と繰出し側送りローラ３４１との間、および巻取り側送りローラ３４２と巻取りリール３６２との間には、予め僅かな（所定の曲率範囲内）繰出し側たるみおよび巻取り側たるみが形成されており、これらたるみが、繰出しリール３５２によるワークＷの繰出しと繰出し側送りローラ３４１によるワーク送りとの（タイミングの）ずれ、および巻取り側送りローラ３４２によるワークＷの送り出しと巻取りリール３６２によるワークＷの巻取りとの（タイミングの）ずれを吸収するバッファ（領域）として機能している。
【０１００】
なお、１タクトの描画処理後に行う１タクト分のワークＷの送りは、セットテーブル３１６の往動時における動作と略同様であり、繰出しモータ３５３、繰出し側送りモータ３４３、巻取り側送りモータ３４４、および巻取りモータ３６３を同時に（正）駆動させる。これにより、１タクト分のワークＷが繰出しリール３５２から繰出されると共に、繰出し側送りローラ３４１により、未処理のワークＷ１タクト分をセットテーブル３１６に送り込まれる。また、巻取り側送りローラ３４２により描画済みのワークＷ１タクト分がセットテーブル３１６から送り出され、順次巻取りリール３６２に巻き取られるようになっている。
【０１０１】
なお、本実施形態においても、繰出しリール３５２におけるワークＷのロール径、および巻取りリール３６２におけるワークＷのロール径の違いに起因して、ワークＷの繰出し量および巻取り量にばらつきが生じる。そこで、ワークＷの繰出し量がばらついても、繰出し側たるみの曲率を所定の曲率範囲Ｃ２±β内にコントロールするために、繰出し側たるみの下端の移動軌跡上には、許容上限値Ｃ２＋βを検出する繰出し用上限センサ３７３、および許容上限値Ｃ２−βを検出する繰出し用下限センサ３７４から成る繰出し用検出センサ３７２が設けられていると共に、フェールセーフ用に、ワークＷの繰出し不足を検出する繰出し用第１限界センサ３８１と、ワークＷに予め作り込まれたチップ部品等が破壊されない限界位置を検出する繰出し用第２限界センサ３８２と、が設けられている（図９参照）。
【０１０２】
同様に、巻取り側たるみの下端の移動軌跡上には、巻取り側たるみの曲率を所定の曲率範囲Ｃ１±α内にコントロールするために、許容上限値Ｃ１＋αを検出する巻取り用上限センサ３９２、および許容上限値Ｃ１−αを検出する巻取り用下限センサ３９３から成る巻取り用検出センサ３９１が設けられていると共に、フェールセーフ用に、ワークＷの巻取り過ぎを検出する巻取り用第１限界センサ４０１と、描画処理により形成したチップ部品等が破壊されない限界位置を検出する巻取り用第２限界センサ４０２と、が設けられている。
【０１０３】
そして、ワークＷの送りおよび巻取りと同期させてワークＷを繰出しリール３５２から繰出す場合、繰出し用上限センサ３７３が繰出し側たるみの下端を検出すると、（繰出し側送りローラ３４１による）ワークＷの送り速度に比べてワークＷの繰出し速度が遅いとして繰出しモータ３５３の回転速度（駆動速度）を速め、繰出し用下限センサ３７４が繰出し側たるみの下端を検出すると、ワークＷの送り速度に比べてワークＷの繰出し速度が速いとして繰出しモータ３５３の回転速度を遅くする。これにより、繰出し側たるみの曲率を所定の曲率範囲Ｃ２±β内にコントロールする。
【０１０４】
なお、繰出し用第１限界センサ３８１により、繰出し側たるみの下端が検出された場合には、繰出しモータ３５３の駆動を続け、繰出しリール３５２からのワークＷの繰出しを続けたまま、繰出し用上限センサ３７３が繰出し側たるみの下端を検出するまで、繰出し側送りモータ３４３、巻取り側送りモータ３４４、および巻取りモータ３６３の駆動を停止させ、ワークＷの送りおよび巻取りを停止させる。また、繰出し用第２限界センサ３８２により、繰出し側たるみの下端が検出された場合には、繰出し側送りモータ３４３、巻取り側送りモータ３４４、および巻取りモータ３６３の駆動、すなわちワークＷの送りおよび巻取りを続けたまま、繰出し用下限センサ３７４が繰出し側たるみの下端を検出するまで、繰出しモータ３５３の駆動を停止させる。
【０１０５】
一方、ワークＷの巻取り側では、巻取り用上限センサ３９２が巻取り側たるみの下端を検出すると、（巻取り側送りローラ３４２による）ワークＷの送り速度に比べてワークＷの巻取り速度が速いとして巻取りモータ３６３の回転速度（駆動速度）を遅くし、巻取り用下限センサ３９３が巻取り側たるみの下端を検出すると、ワークＷの送り速度に比べてワークＷの巻取り速度が遅いとして巻取りモータ３６３の回転速度を速くする。なお、巻取り用第１限界センサ４０１により、巻取り側たるみの下端が検出された場合には、ワークＷの繰出しおよび送りを続けたまま、巻取り用上限センサ３９２が巻取り側たるみの下端を検出するまでワークＷの巻取りを停止させ、巻取り用第２限界センサ４０２により、巻取り側たるみの下端が検出された場合には、ワークＷの巻取りを続けたまま、巻取り用下限センサ３９３が巻取り側たるみの下端を検出するまでワークＷの繰出しおよび送りを停止させる。
【０１０６】
以上のように、本発明の液滴吐出装置によれば、長尺のワークＷのたるませた状態で送りながら描画処理を行う場合に、そのたるみの曲率を予め設定した所定の曲率範囲内に収めているので、たるみに起因して、描画処理結果等に悪影響を及ぼすことがない。なお、上述した実施形態において、繰出しリールおよび巻取りリールのリール径は、ワークを繰出すときのワークの曲率またはワークを巻取ったときのワークの曲率が、予め設定された繰出し側たるみおよび巻取り側たるみの許容曲率範囲を超えないように設定されている。
【０１０７】
次に、本発明の液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【０１０８】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１０は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１１は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１１（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【０１０９】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図１１（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１１（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド４２（３２３）により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【０１１０】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【０１１１】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１１（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド４２（３２３）によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド４２（３２３）を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１１２】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１１（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【０１１３】
図１２は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図１１に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１１４】
この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【０１１５】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図１２において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１１６】
液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。
そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１１７】
通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１１８】
実施形態の液滴吐出装置は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド４２（３２３）で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド４２（３２３）で行うことも可能である。
【０１１９】
図１３は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１２０】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。
【０１２１】
液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１２２】
図１４は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１２３】
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。
【０１２４】
対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１２５】
また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１２６】
なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１２７】
次に、図１５は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。
【０１２８】
この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１２９】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【０１３０】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【０１３１】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。
【０１３２】
このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【０１３３】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【０１３４】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【０１３５】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１３６】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。
【０１３７】
そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１３８】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１３９】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図１６〜図２４を参照して説明する。
この表示装置７００は、図１６に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、及び対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１４０】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１７に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図１８に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【０１４１】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド４２（３２３）を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１４２】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１等に示した液滴吐出装置のセットテーブル２１（３１６）に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）及び発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１４３】
図１９に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド４２（３２３）から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図２０に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。
【０１４４】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【０１４５】
そして次に、図２１に示すように、各色のうちの何れか（図２１の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【０１４６】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２２に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【０１４７】
同様に、機能液滴吐出ヘッド４２（３２３）を用い、図２３に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１４８】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１４９】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２４に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１５０】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【０１５１】
次に、図２５は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１５２】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【０１５３】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【０１５４】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１５５】
本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１等に示した液滴吐出装置を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置のセットテーブル２１（３１６）に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド４２（３２３）により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１５６】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【０１５７】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド４２（３２３）から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【０１５８】
次に、図２６は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【０１５９】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１６０】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１６１】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１６２】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置を用いて形成することができる。
【０１６３】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図２７（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２７（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１６４】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１６５】
【図１】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の説明図であり、（ａ）は液滴吐出装置の平面図、（ｂ）はワークの拡大平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の説明図であり、（ａ）は液滴吐出装置の側面図、（ｂ）はセットテーブル廻りの拡大側面図である。
【図３】ヘッドユニット廻りの平面図である。
【図４】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図５】液滴吐出装置の主制御系について説明したブロック図である。
【図６】第２実施形態にかかる液滴吐出装置の説明図であり、繰出し装置、送り装置、および巻取り装置廻りの模式側面図である。
【図７】第３実施形態にかかる液滴吐出装置の平面模式図である。
【図８】セットテーブルの移動に伴うワークの繰出し動作を説明した図である。
【図９】第４実施形態にかかる液滴吐出装置の説明図であり、セットテーブルの移動に伴う繰出し装置、送り装置、および巻取り装置の動作についての模式図である。
【図１０】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１１】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１２】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１３】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１４】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１５】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１６】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１７】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１８】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１９】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２０】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２１】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２２】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２３】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２４】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２５】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２６】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２７】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１６６】
１  液滴吐出装置                ２  描画装置
３  繰出し装置                  ４  送り装置
５  巻取り装置                  ６  制御装置
２４  Ｘ・Ｙ移動機構            ３１  吸着テーブル
４２  機能液滴吐出ヘッド      ３０１  液滴吐出装置
３０２  描画装置                ３０３  繰出し装置
３０４  送り装置                ３０５  巻取り装置
３１２  Ｘ・Ｙ移動機構          ３１６  セットテーブル
３２３  機能液滴吐出ヘッド      ３７２  繰出し用検出センサ
３７３  繰出し用上限センサ      ３７４  繰出し用下限センサ
３９１  巻取り用検出センサ      ３９２  巻取り用上限センサ
３９３  巻取り用下限センサ          Ｗ  ワーク
【図１】
2006130470.tif 000003
【図２】
2006130470.tif 000004
【図３】
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【図４】
2006130470.tif 000006
【図５】
2006130470.tif 000007
【図６】
2006130470.tif 000008
【図７】
2006130470.tif 000009
【図８】
2006130470.tif 000010
【図９】
2006130470.tif 000011
【図１０】
2006130470.tif 000012
【図１１】
2006130470.tif 000013
【図１２】
2006130470.tif 000014
【図１３】
2006130470.tif 000015
【図１４】
2006130470.tif 000016
【図１５】
2006130470.tif 000017
【図１６】
2006130470.tif 000018
【図１７】
2006130470.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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