(57)【要約】【課題】寸法、形状の異なるパターンを反転印刷法で形成し、表示品位の高い液晶カラーフィルターを製造する為の刷版用凹版を提供することを目的とする。【解決手段】刷版ベース基材１１上に感光層形成、パターン露光、現像処理を複数回繰り返すことにより、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版１００を形成したもので、まず、刷版ベース基材１１上に第１感光層２１を形成し、第１感光層２１をパターン露光、現像処理して、アライメントマーク用開口部２２及び額縁パターン用開口部２３が形成された第１凹版２０を形成する。次に、第１凹版２０上に第２感光層３１を形成し、第２感光層３１をパターン露光、現像処理して第１凹版２０上にアライメントマーク用開口部３２、額縁パターン用開口部３３及び画素パターン用開口部３４が形成された第２凹版３０を形成し、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版１００を作製する【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶カラーフィルターを反転印刷法により製造する為の刷版用凹版であって、パタンの寸法、形状に応じて凹形状の深さを変えたことを特徴とするパターン毎に版深が異なる刷版用凹版。
【請求項２】
少なくとも以下の工程を具備することを特徴とする請求項１記載のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法。
（ａ）刷版ベース基材上に第１感光層を形成する工程。
（ｂ）前記第１感光層をパターン露光、現像処理して前記刷版ベース基材上に第１凹版を形成する工程。
（ｃ）第１凹版上に第２感光層を形成する工程。
（ｄ）前記第２感光層をパターン露光、現像処理して前記第１凹版上に第２凹版を形成する工程。
（ｅ）上記（ｃ）及び（ｄ）の工程を必要回数繰り返して、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を作製する工程。
【請求項３】
少なくとも以下の工程を具備することを特徴とする請求項１記載のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法。
（ａ）刷版ベース基材上に感光層を形成する工程。
（ｂ）前記感光層に版深の異なるパターン毎に露光量を変えたパターン露光を行う工程。（ｃ）前記感光層を現像処理して、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を作製する工程。
【請求項４】
少なくとも以下の工程を具備することを特徴とする請求項１記載のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法。
（ａ）刷版ベース基材上に第１感光層を形成する工程。
（ｂ）前記第１感光層をパターン露光する工程。
（ｃ）露光された前記第１感光層上に第２感光層を形成する工程。
（ｄ）前記第２感光層をパターン露光する工程。
（ｃ）上記（ｃ）及び（ｄ）の工程を必要回数繰り返す工程。
（ｅ）露光された感光層を一括現像処理して、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を作製する工程。
【請求項５】
前記刷版ベース基材とパターン形成用の被転写基板との熱膨張率差が１５×１０-7ｃｍ／ｃｍ／℃以下であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶カラーフィルターを反転印刷法により製造する為のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットディスプレイとして、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が注目されており、その薄型、軽量、小消費電力、フリッカーレスといった特徴から、ノート型のパーソナルコンピューター（ＰＣ）、ＰＣ用のモニターを中心に市場が急速に拡大した。
また最近は、従来からＣＲＴが主流であったＴＶ向けにも大型のＬＣＤが利用されるようになってきた。
【０００３】
液晶カラーフィルターは、パタン化された赤・緑・青や、シアン・マゼンダ・イエローの３色、及びこれに黒を加えた４色からなる着色層が透明基板上に形成されたものである。この着色層は、従来より、感光性顔料分散レジストをフォトリソ処理によって形成されているが、近年、液晶カラーフィルター（ＣＦ）の低コスト化を実現する為、印刷法によって形成することが提案されている。
【０００４】
印刷法には、凹版にインキを塗布、スキージで不要なインキを除去し、凹版内に残ったインキをオフセットブランケットに転写し、被印刷基板に印刷する方法（例えば、特許文献１参照。）や、オフセットブランケットにインキを塗布、刷版用凹版で不要なインキを除去し、オフセットブランケットに残ったインキを被印刷基板に印刷する方法が知られている（例えば、特許文献２参照。）
凹版の製造方法としては、一般的にガラス基板に金属薄膜でマスキングパターンを形成し、フッ酸等の薬液でガラスを溶解して形成する方法が知られている。
また、金属材料をエッチング処理して凹凸形状を形成する方法や、ベース基材にめっき等で厚付けした金属膜をエッチング処理して形成する方法が知られている（例えば、特許文献３参照。）
反転印刷用の刷版用凹版は、画面パタン、アライメントマーク、遮光用額縁パタンと様々な寸法のパタンを同一の刷版上に配置する必要がある。これらの様々な寸法のパタンを刷版用凹版からオフセットブランケットへ転写する場合、版深が浅いとオフセットブランケットのニップ圧により凹部の底にオフセットブランケットが接触する現象が認められる。この現象を回避する方策として、凹部の開口寸法が大きいパタンでは版深を深く設計する方法をとっている。
【０００５】
従来の刷版用凹版製造方法では、版深を変更する為に、設定版深毎に複数回のエッチング処理する必要があり、この複数回のエッチングの前処理として、マスキングパターンを形成するためのフォトリソ処理を行っている。特に、ガラス基板や金属材はエッチングが入りにくい材料であり、刷版として数ミクロンから数十ミクロンの版深をエッチングにより形成する場合、凹部の開口寸法の面内分布の制御をより困難にしている。更に、マスキングパターンの開口寸法の面内分布の制御、マスキングパターンの膜欠陥に起因した基材の欠陥が、刷版の品質を低下させる原因となっている。
【０００６】
また、近年液晶ＴＶ製造用マザーガラスのサイズの大型化に伴い、必要とされる刷版も大型化してきている。大型化に伴い、刷版用凹版製造の従来方法で使用してきた基材の入手が制限されるようになっている。  ガラス材にマスキング層としての金属膜を形成した基材、大型の一枚ものの金属材料も使用が難しくなって来ており、従来どうりの刷版の品質が再現し難くなってきている。
【０００７】
こうして得られた刷版を使用してカラーフィルターを印刷する場合、画面内で線幅がバラツイてしまい、開口率、オーバーラップ量が変化するなど、カラーフィルターの表示品質を低下させる原因となっている。
【特許文献１】特開昭６２−８５２０２号公報
【特許文献２】特開昭６２−８５２０２号公報
【特許文献３】特開平６−１７９２５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、寸法、形状の異なるパターンを反転印刷法で形成し、表示品位の高い液晶カラーフィルターを製造する為の刷版用凹版を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１においては、液晶カラーフィルターを反転印刷法により製造する為の刷版用凹版であって、パタンの寸法、形状に応じて凹形状の深さを変えたことを特徴とするパターン毎に版深が異なる刷版用凹版としたものである。
【００１０】
また、請求項２においては、少なくとも以下の工程を具備することを特徴とする請求項１記載のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法としたものである。
（ａ）刷版ベース基材上に第１感光層を形成する工程。
（ｂ）前記第１感光層をパターン露光、現像処理して前記刷版ベース基材上に第１凹版を形成する工程。
（ｃ）第１凹版上に第２感光層を形成する工程。
（ｄ）前記第２感光層をパターン露光、現像処理して前記第１凹版上に第２凹版を形成する工程。
（ｅ）上記（ｃ）及び（ｄ）の工程を必要回数繰り返して、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を作製する工程。
【００１１】
また、請求項３においては、少なくとも以下の工程を具備することを特徴とする請求項１記載のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法としたものである。
（ａ）刷版ベース基材上に感光層を形成する工程。
（ｂ）前記感光層に版深の異なるパターン毎に露光量を変えたパターン露光を行う工程。（ｃ）前記感光層を現像処理して、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を作製する工程。
【００１２】
また、請求項４においては、少なくとも以下の工程を具備することを特徴とする請求項１記載のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法としたものである。
（ａ）刷版ベース基材上に第１感光層を形成する工程。
（ｂ）前記第１感光層をパターン露光する工程。
（ｃ）露光された前記第１感光層上に第２感光層を形成する工程。
（ｄ）前記第２感光層をパターン露光する工程。
（ｃ）上記（ｃ）及び（ｄ）の工程を必要回数繰り返す工程。
（ｅ）露光された感光層を一括現像して、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を作製する工程。
【００１３】
さらにまた、請求項５においては、前記刷版ベース基材とパターン形成用の被転写基板との熱膨張率差が１５×１０-7ｃｍ／ｃｍ／℃以下であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法としたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、高精度のカラーフィルターを反転印刷法で形成するための刷版用凹版を容易に提供することができ、高品位の画像表示が可能な液晶カラーフィルターを安価に生産することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
図１（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の一実施例を示す模式構成断面図である。
本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版１００は、刷版ベース基材１１上に感光層形成、パターン露光、現像処理を複数回（刷版用凹版１００では２回）繰り返すことにより、第１凹版２０及び第２凹版３０を形成し、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を形成したものである。
【００１６】
本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版２００は、刷版ベース基材１１上に感光層４１を形成し、パターン露光を複数回（刷版用凹版２００では２回）繰り返し、一括現像にて凹版４０を形成し、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を形成したものである。
【００１７】
本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版３００は、刷版ベース基材１１上に感光層形成とパターン露光とを複数回（刷版用凹版３００では２回）繰り返し、一括現像処理することにより、凹版５０を形成し、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を形成したものである。
【００１８】
ここで、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版を用いた反転印刷法について説明する。図５（ａ）〜（ｅ）は、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版を用いた反転印刷法の主要工程を示す説明図である。。
まず、シリンダー胴６１に所定厚のオフセットブランケット６２が形成されたオフセットシリンダー６０（図５（ａ）参照）に所定厚のウエット状態のインキ被膜７１を形成したオフセットシリンダー６０ａ（図５（ｂ）参照）と本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版１００（図５（ｃ）参照）を準備する。
【００１９】
次に、インキ被膜７１が形成されたオフセットシリンダー６０ａを本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版１００に押圧しながら、回転することにより、刷版用凹版１００の凸部にインキ被膜７１が転写され、加圧されない刷版用凹版１００の凹部のインキ被膜７１はそのまま残り、画素パターン、額縁パターン及びアライメントマークが形成されたオフセットシリンダー６０ｂが得られる（図５（ｄ）参照）。。
【００２０】
次に、画素パターン、額縁パターン及びアライメントマークが形成されたオフセットシリンダー６０ｂをガラス基板等からなる被転写基板１２に押圧しながら、回転することにより、被転写基板１２上にパターンが転写され、被転写基板１２上には画素パターン７１ａ、額縁パターン７１ｂ及びアライメントマーク７１ｃが形成される。
【００２１】
上記したように、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版を用いた反転印刷法により、高精度のパターンを被転写基板上に容易に形成することができ、反転印刷を所定回
数繰り返すことにより、高品位の画像表示が可能な液晶カラーフィルターを容易に得ることができる。
【００２２】
以下本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法について説明する。
図２（ａ）〜（ｄ）は、請求項２に係るパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法の一実施例の主要工程を示す説明図である。
請求項２に係るパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法は、刷版ベース基材１１上に感光層形成、パターン露光、現像処理を複数回繰り返すことにより、複数の凹版を形成し、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を形成する方法である。
このように、複数の凹版を感光層で形成し、各感光層毎に、パターン露光、現像処理を行うことにより、凹版の深度、パタンサイズ・形状の制御が可能となる。
【００２３】
凹版の深度をパタンサイズ・形状毎に変更する理由は、反転印刷法で、オフセットブランケット上のインキを刷版用凹版の凸部に転写する際、ニップ巾で数ミリの圧力をかけており、大パタンになると凹部のボトムにオフセットブランケット上のインキが接触する傾向が強くなる現象を受けてのものである。
カラーフィルターの３色およびブラックマトリクス（ＢＬＫ）の各パタンには、数ミクロンから数ミリの様々な寸法のものがあり、刷版用凹版の凹部の開口部も数ミクロンから数ミリの様々な寸法を形成しなければならない。この開口部の寸法の違いに合わせ、大パタンの版深は細線パタンに比べ深く形成する必要がある。
一般に、感光性材料の現像可能なアスペクト比（深さ／開口部寸法）は０．８から２．０程度であり、細線パタンを深く現像するのには限界があり、同一刷版上で版深を複数水準変更するためには、各パタンにあわせ異なる露光・現像条件で処理する必要がある。
また、凹版の刷版材料として感光性材料を用いたのは、現像が容易で、寸法精度が高いこと、様々なパタン形状に対応できるためである。
【００２４】
まず、刷版ベース基材１１上に第１感光層２１を形成する（図２（ａ）参照）。
第１感光層２１を形成する感光性材料としては、液状レジスト、ドライフルムレジストが使用可能である。また製造プロセスによってネガ型レジスト、ポジ型レジストを使い分ければ良い。
また、感光層の厚みは凹版の開口部の版深設計に応じて設定すれば良い。
【００２５】
次に、第１感光層２１をパターン露光、現像処理して、刷版ベース基材１１上の第１感光層２１にアライメントマーク用開口部２２及び額縁パターン用開口部２３が形成された第１凹版２０を形成する（図２（ｂ）参照）。
パターン露光としては、フォトマスクを用いたマスク露光、電子ビーム露光等が使用できる。
【００２６】
次に、第１凹版２０上に第２感光層３１を形成する（図２（ｃ）参照）。
第２感光層３１を形成する感光性材料としては、第１感光層２１にパターン開口部が形成されているため、ドライフルムレジストが好適である。また製造プロセスによってネガ型レジスト、ポジ型レジストを使い分ければ良い。
また、感光層の厚みは凹版の版深設計に応じて設定すれば良い。
【００２７】
次に、第２感光層３１をパターン露光、現像処理して第１凹版２０上にアライメントマーク用開口部３２、額縁パターン用開口部３３及び画素パターン用開口部３４が形成された第２凹版３０を形成し、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版１００を作製する（図２（ｄ）参照）。
パターン露光としては、フォトマスクを用いたマスク露光、電子ビーム露光等が使用できる。
ここでは、感光層を２層使ったパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の事例について説明したが、さらに上記の工程を繰り返すことにより、複数の凹版からなるパターン毎に版深が異なる刷版用凹版を作製することができる。
【００２８】
図３（ａ）〜（ｂ）は、請求項３に係るパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法の一実施例の主要工程を示す説明図である。
請求項３に係るパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法は、刷版ベース基材１１上に感光層４１を形成し、パターン毎にパターン露光を複数回繰り返し、一括現像にて凹版４０を形成し、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を形成する方法である。
このように、感光層４１に対しパターン毎にパターン露光を複数回繰り返することにより、凹版の深度、パタンサイズ・形状の制御が可能となる。
【００２９】
凹版の深度をパタンサイズ・形状毎に変更する理由は、反転印刷法で、オフセットブランケット上のインキを刷版用凹版の凸部に転写する際、ニップ巾で数ミリの圧力をかけており、大パタンになると凹部のボトムにオフセットブランケット上のインキが接触する傾向が強くなる現象を受けてのものである。
カラーフィルターの３色およびブラックマトリクス（ＢＬＫ）の各パタンには、数ミクロンから数ミリの様々な寸法のものがあり、刷版用凹版の凹部の開口部も数ミクロンから数ミリの様々な寸法を形成しなければならない。この開口部の寸法の違いに合わせ、大パタンの版深は細線パタンに比べ深く形成する必要がある。
一般に、感光性材料の現像可能なアスペクト比（深さ／開口部寸法）は０．８から２．０程度であり、細線パタンを深く現像するのには限界があり、同一刷版上で版深を複数水準変更するためには、各パタンにあわせ異なる露光・現像条件で処理する必要がある。
また、凹版の刷版材料として感光性材料を用いたのは、現像が容易で、寸法精度が高いこと、様々なパタン形状に対応できるためである。
【００３０】
まず、刷版ベース基材１１上に感光層４１を形成する（図３（ａ）参照）。
感光層４１を形成する感光性材料としては、液状レジスト、ドライフルムレジストが使用可能である。また露光プロセスで感光層の残存膜厚を設定するため、ポジ型レジストが好ましい。
また、感光層の厚みは、刷版用凹版の最も深い版深設計に応じて設定する。
【００３１】
次に、感光層４１に版深の異なるパターン毎に露光量を変えたパターン露光を行い、現像処理して刷版ベース基材１１上にアライメントマーク用開口部４２、額縁パターン用開口部４３及び画素パターン用開口部４４が形成された凹版４０を形成し、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版２００を作製する（図３（ｂ）参照）。
パターン露光としては、パターン毎に露光量が変更可能なハーフトーンマスクを用いたマスク露光、直描の電子ビーム露光装置を用いたパターン描画が使用できる。
ポジ形レジストの使用により露光量の多い部分が深く、露光量を抑えた部分が浅く現像される為、露光量に応じた凹版の版深を設定することが可能である。
【００３２】
図４（ａ）〜（ｅ）は、請求項４に係るパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法の一実施例の主要工程を示す説明図である。
請求項４に係るパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法は、刷版ベース基材１１上に感光層形成とパターン露光とを複数回繰り返し、一括現像処理することにより、凹版５０を形成し、パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を形成する方法である。
このように、感光層形成とパターン露光とを複数回繰り返し、一括現像処理することにより、凹版の深度、パタンサイズ・形状の制御が可能となる。
【００３３】
凹版の深度をパタンサイズ・形状毎に変更する理由は、反転印刷法で、オフセットブラ
ンケット上のインキを刷版用凹版の凸部に転写する際、ニップ巾で数ミリの圧力をかけており、大パタンになると凹部のボトムにオフセットブランケット上のインキが接触する傾向が強くなる現象を受けてのものである。
カラーフィルターの３色およびブラックマトリクス（ＢＬＫ）の各パタンには、数ミクロンから数ミリの様々な寸法のものがあり、刷版用凹版の凹部の開口部も数ミクロンから数ミリの様々な寸法を形成しなければならない。この開口部の寸法の違いに合わせ、大パタンの版深は細線パタンに比べ深く形成する必要がある。
一般に、感光性材料の現像可能なアスペクト比（深さ／開口部寸法）は０．８以下程度であり、細線パタンを深く現像するのには限界があり、同一刷版上で版深を複数水準変更するためには、各パタンにあわせ異なる露光・現像条件で処理する必要がある。
また、凹版の刷版材料として感光性材料を用いたのは、現像が容易で、寸法精度が高いこと、様々なパタン形状に対応できるためである。
【００３４】
まず、刷版ベース基材１１上に第１感光層２１を形成する（図４（ａ）参照）。
第１感光層２１を形成する感光性材料としては、液状レジスト、ドライフルムレジストが使用可能である。また製造プロセスによってネガ型レジスト、ポジ型レジストを使い分ければ良い。
また、感光層の厚みは凹版の版深設計に応じて設定すれば良い。
【００３５】
次に、第１感光層２１をパターン露光し、パターン露光された第１感光層２１ａを形成する（図４（ｂ）参照）。
パターン露光としては、フォトマスクを用いたマスク露光、電子ビーム露光等が使用できる。
【００３６】
次に、パターン露光された第１感光層２１ａ上に第２感光層３１を形成する（図４（ｃ）参照）。
第２感光層３１を形成する感光性材料としては、液状レジスト、ドライフルムレジストが使用可能である。また製造プロセスによってネガ型レジスト、ポジ型レジストを使い分ければ良い。
また、感光層の厚みは凹版の版深設計に応じて設定すれば良い。
【００３７】
次に、第２感光層３１をパターン露光し、パターン露光された第２感光層３１ａを形成する（図４（ｄ）参照）。
パターン露光としては、フォトマスクを用いたマスク露光、電子ビーム露光等が使用できる。
【００３８】
次に、パターン露光された第１感光層２１ａ及びパターン露光された第２感光層３１ａを一括現像処理して、刷版ベース基材１１上にアライメントマーク用開口部５２、額縁パターン用開口部５３及び画素パターン用開口部５４が形成された凹版５０を形成し、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版３００を作製する（図４（ｅ）参照）。
ここでは、感光層を２層使ったパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の事例について説明したが、さらに上記の工程を繰り返すことにより、複数の感光層からなるパターン毎に版深が異なる刷版用凹版を作製することができる。
【００３９】
請求項５に係るパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の製造方法は、刷版ベース基材１１とパターン形成用の被転写基板との熱膨張率差が１５×１０-7ｃｍ／ｃｍ／℃以下としている。
上記パターン毎に版深が異なる刷版用凹版を用いた反転印刷法で説明したカラーフィルター形成用の被転写基板は、対向電極基板とのセルの位置精度を保証する為に、トータルピッチは±３μｍ以下で制御することが求められている。現在、カラーフィルター形成用の
被転写基板と対向電極基板は熱膨張率の同じガラス基板材料を使用し、露光も熱膨張率の低いクウォーツ製のフォトマスクを使用して、トータルピッチの制御を行っている。
印刷カラーフィルターでは、カラーフィルター形成用の被転写基板と対向電極基板のトータルピッチの制御方法はフォトリソ処理の場合と同じである。カラーフィルター形成用の被転写基板のトータルピッチの制御には、刷版用凹版のトータルピッチの制御が重要となってくる。
【００４０】
刷版用凹版のトータルピッチを制御する方法としてはカラーフィルター形成用の被転写基板に近い熱膨張率の材料を使用することが望ましい。
現状、カラーフィルター形成用の被転写基板に使用されるガラス基板の熱膨張率は３×１０-6ｃｍ／ｃｍ／℃程度であり、１０００ｍｍの基板サイズで１℃温度が変化すると３μｍの長さが変化する。液晶ディスプレイの要求仕様である±３μｍを保証する為には、刷版ベース基材とカラーフィルター形成用の被転写基板のトータルピッチの差は±１．５μｍ以下で制御する必要があり、熱膨張率の差として１５×１０-7ｃｍ／ｃｍ／℃以下であることが望ましい。
熱膨張率がカラーフィルター形成用の被転写基板に近い刷版ベース基材としては、液晶ディスプレイに使用されている低膨張ガラスや、低膨張ＳＵＳ材が使用可能である。
【実施例１】
【００４１】
刷版用凹版の画素パタンはライン巾２０μｍ、周囲のアライメントマークは５００μｍの線幅で設計した。
まず、低膨張ガラス基板（１７３７ガラス：コーニング社製；膨張率：３×１０-6ｃｍ／ｃｍ／℃）からなる刷版ベース基材１１上にネガ型ドライフィルムレジストをロールラミネーターにてラミネートし、３０μｍ厚の第１感光層２１を形成した（図２（ａ）参照）。
【００４２】
次に、±０．５℃に温度制御された露光機（トプコン社製）に露光用マスクと第１感光層２１が形成された刷版ベース基材１１とをセットして第１感光層２１にパターン露光を行う。さらに、アルカリ系の現像液で現像処理し、刷版ベース基材１１上の第１感光層２１にアライメントマーク用開口部２２及び額縁パターン用開口部２３が形成された第１凹版２０を形成した（図２（ｂ）参照）。
ここで、露光用マスクの額縁パターンは４５０μｍで設計した。
【００４３】
次に、第１凹版２０上にネガ型ドライフィルムレジストをロールラミネーターにてラミネートし、１０μｍ厚の第２感光層３１を形成した（図２（ｃ）参照）。
【００４４】
次に、±０．５℃に温度制御された露光機（トプコン社製）に露光用マスクと第２感光層３１が形成された刷版ベース基材１１とをセットして第２感光層３１にパターン露光を行う。アルカリ系の現像液で現像処理し、２００℃１時間加熱処理して、第１凹版２０上にアライメントマーク用開口部３２、額縁パターン用開口部３３及び画素パターン用開口部３４が形成された第２凹版３０を形成し、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版１００を作製した（図２（ｄ）参照）。
【００４５】
実施例１で得られた刷版用凹版１００のパタン寸法の面内バラツキは±０．５μｍ、画素パターン用開口部の版深は７μｍ、額縁パターン用開口部の版深は３５μｍ、トータルピッチは±２μｍであった。
【００４６】
実施例１で得られた刷版用凹版１００を用いて、反転印刷法にて５５０×６５０×０．７ｍｍｔの低膨張ガラス基板（１７３７ガラス：コーニング社製；膨張率：３×１０-6ｃｍ／ｃｍ／℃）からなる被転写基板１２に形成された色パタンのパタン寸法の面内バラツ
キは±０．５μｍ、画素パタンの中抜けは無く、トータルピッチは±２μｍであった。
【実施例２】
【００４７】
実施例１と同様に、刷版用凹版の画素パタンはライン巾２０μｍ、周囲のアライメントマークは５００μｍの線幅で設計した。
まず、低膨張ガラス基板（１７３７ガラス：コーニング社製；膨張率：３×１０-6ｃｍ／ｃｍ／℃）からなる刷版ベース基材１１上にポジ型感光性レジストをダイコートし、４０μｍ厚の感光層４１を形成した（図３（ａ）参照）。
【００４８】
次に、±０．５℃に温度制御された露光機（トプコン社製）に額縁パタン用開口部パターンとアライメントマーク用開口部パターンのｉ線透過率を１００％に、画素パターン用開口部パターンのｉ線透過率を２０％に設定した露光用マスクとと感光層４１が形成された刷版ベース基材１１とをセットして感光層４１にパターン露光を行う。さらに、アルカリ系の現像液で現像処理し、刷版ベース基材１１上にアライメントマーク用開口部４２、額縁パターン用開口部４３及び画素パターン用開口部４４が形成された凹版４０を形成し、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版１００を作製した（図３（ｂ）参照）。
【００４９】
実施例２で得られた刷版用凹版２００のパタン寸法の面内バラツキは±０．５μｍ、画素パターン用開口部の版深は７μｍ、額縁パターン用開口部の版深は３５μｍ、トータルピッチは±２μｍであった。
【００５０】
実施例２で得られた刷版用凹版２００を用いて、反転印刷法にて５５０×６５０×０．７ｍｍｔの低膨張ガラス基板（１７３７ガラス：コーニング社製；膨張率：３×１０-6ｃｍ／ｃｍ／℃）からなる被転写基板１２に形成された色パタンのパタン寸法の面内バラツキは±０．５μｍ、画素パタンの中抜けは無く、トータルピッチは±２μｍであった。
【実施例３】
【００５１】
実施例１と同様に、刷版用凹版の画素パタンはライン巾２０μｍ、周囲のアライメントマークは５００μｍの線幅で設計した。
まず、低膨張ガラス基板（１７３７ガラス：コーニング社製；膨張率：３×１０-6ｃｍ／ｃｍ／℃）からなる刷版ベース基材１１上にネガ型ドライフィルムレジストをロールラミネーターにてラミネートし、３０μｍ厚の第１感光層２１を形成した（図４（ａ）参照）。
【００５２】
次に、±０．５℃に温度制御された露光機（トプコン社製）に露光用マスクと第１感光層２１が形成された刷版ベース基材１１とをセットして第１感光層２１にパターン露光を行い、パターン露光され第１感光層２１ａを形成した（図４（ｂ）参照）。
【００５３】
次に、パターン露光されパターン露光２１ａ上にネガ型ドライフィルムレジストをロールラミネーターにてラミネートし、１０μｍ厚の第２感光層３１を形成した（図４（ｃ）参照）。
【００５４】
次に、±０．５℃に温度制御された露光機（トプコン社製）に露光用マスクと第２感光層３１が形成された刷版ベース基材１１とをセットして第２感光層３１にパターン露光を行い、パターン露光された第２感光層３１ａを形成した（図４（ｄ）参照）。
【００５５】
次に、パターン露光された第１感光層２１ａ及びパターン露光された第２感光層３１ａをアルカリ系の現像液で一括現像処理して、刷版ベース基材１１上にアライメントマーク用開口部５２、額縁パターン用開口部５３及び画素パターン用開口部５４が形成された凹版５０を形成し、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版３００を作製した（図４
（ｅ）参照）。
【００５６】
実施例３で得られた刷版用凹版３００のパタン寸法の面内バラツキは±０．５μｍ、画素パターン用開口部の版深は７μｍ、額縁パターン用開口部の版深は３５μｍ、トータルピッチは±２μｍであった。
【００５７】
実施例３で得られた刷版用凹版３００を用いて、反転印刷法にて５５０×６５０×０．７ｍｍｔの低膨張ガラス基板（１７３７ガラス：コーニング社製；膨張率：３×１０-6ｃｍ／ｃｍ／℃）からなる被転写基板１２に形成された色パタンのパタン寸法の面内バラツキは±０．５μｍ、画素パタンの中抜けは無く、トータルピッチは±２μｍであった。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】（ａ）〜（ｃ）は、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版の一実施例を示す模式構成断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は、請求項２に係るパターン毎に版深が異なる刷版用凹版１００の製造方法の一実施例の主要工程を示す説明図である。
【図３】（ａ）〜（ｂ）は、請求項３に係るパターン毎に版深が異なる刷版用凹版２００の製造方法の一実施例の主要工程を示す説明図である。
【図４】（ａ）〜（ｅ）は、請求項４に係るパターン毎に版深が異なる刷版用凹版３００の製造方法の一実施例の主要工程を示す説明図である。
【図５】（ａ）〜（ｅ）は、本発明のパターン毎に版深が異なる刷版用凹版を用いた反転印刷法の主要工程を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５９】
１１……刷版ベース基材
１２……被転写基板
２０……第１凹版
２１……第１感光層
２１ａ……パターン露光された第１感光層
２２、３２、４２、５２……アライメントマーク用開口部
２３、３３、４３、５３……額縁パターン用開口部
３０……第２凹版
３１……第２感光層
３１ａ……パターン露光された第２感光層
３４、４４、５４……画素パターン用開口部
４０、５０……凹版
４１……感光層
６０……オフセットシリンダー
６０ａ……インキ被膜が形成されたオフセットシリンダー
６０ｂ……パターンが形成されたオフセットシリンダー
６１……シリンダー胴
６２……オフセットブランケット
７１……インキ被膜
７１ａ……画素パターン
７１ｂ……額縁パターン
７１ｃ……アライメントマーク
１００、２００、３００……アライメントマーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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