(57)【要約】      （修正有）【課題】光透過層の光学特性および表面平滑性が良好であり、かつ、光学部品製造時における作業性が良好な光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクを得ることを目的とする。【解決手段】光透過層と、光透過層上に積層されると共に使用時に剥離除去され、かつ、当該光透過層と接する反対側の面の表面平滑性が２０ｎｍ以下である基材層もしくは保護層と、基材層が積層された面と反対側の光透過層上に積層される粘着層とを少なくとも有する積層フィルムであり、光透過層、粘着層及び基材層もしくは保護層の３層の膜厚が５０〜４５０μｍであり、光透過層と粘着層の２層の膜厚精度が±２．０μｍ以内であり、かつ波長４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、これを用いた光学部品及び光ディスク。【選択図】  図２
2006044007.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過層と、
前記光透過層上に積層されると共に使用時に剥離除去され、かつ、前記光透過層と接する反対側の面が離型処理され、その表面平滑性が２０ｎｍ以下である基材層と、
前記基材層が積層された面と反対側の前記光透過層上に積層される粘着層と、
を少なくとも有する積層フィルムであり、
前記光透過層、前記基材層及び前記粘着層の３層の膜厚が５０〜４５０μｍであり、前記光透過層と前記粘着層の２層の膜厚精度が±２．０μｍ以内であり、かつ波長４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする光学部品用積層フィルム。
【請求項２】
前記基材層の膜厚が２０〜２５０μｍ、膜厚精度が±１．０μｍ以内であることを特徴とする請求項１に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項３】
前記基材層は、主としてポリエステル樹脂から成ることを特徴とする請求項１または２に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項４】
２５℃、離型速度１００ｍｍ／秒の条件下において、前記基材層から前記光透過層を剥離した際のはりつきによるはがし残りが１ｍ２当たり３ヶ所以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項５】
光透過層と、
前記光透過層上に積層される粘着層と、
前記粘着層上に積層されると共に使用時に剥離除去され、かつ、前記粘着層と接する面が離型処理され、その表面平滑性が２０ｎｍ以下である保護層と、
を少なくとも有する積層フィルムであり、
前記光透過層、前記粘着層及び前記保護層の３層の膜厚が５０〜４５０μｍであり、前記光透過層と前記粘着層の２層の膜厚精度が±２．０μｍ以内であり、かつ波長４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする光学部品用積層フィルム。
【請求項６】
前記保護層の膜厚が５〜２００μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内であることを特徴とする請求項５に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項７】
前記光透過層は、主としてアクリル系樹脂から成ることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項８】
前記光透過層の膜厚が３０〜２５０μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、波長４０５ｎｍにおける光透過率が９０％以上であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項９】
前記光透過層は、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとを含む熱可塑性樹脂から主としてなり、前記プロトン供与性原子団とプロトン受容性原子団との間において分子間水素結合による擬似的な架橋が形成されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項１０】
前記光透過層と前記粘着層との屈折率差が、０．１以下であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項１１】
前記離型処理は、前記基材層上または前記保護層上への無機薄膜層の蒸着あるいは高分子化合物の塗布によるものであることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルムをロール形状に巻き取り形成されたことを特徴とするフィルム巻層体。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルムを用いてなることを特徴とする光学部品。
【請求項１４】
光ディスクである請求項１３に記載の光学部品。
【請求項１５】
支持基盤上に少なくとも記録層、粘着層、光透過層が順次積層された光ディスクであって、前記粘着層及び光透過層は、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルムを用いて形成されたことを特徴とする光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大容量化した高密度ＤＶＤ、有機ＥＬ、フレキシブルディスプレイ又は電子ペーパー等の光学用部品の部材として適用可能な光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクは、透明なプラスチック基盤より成る支持基盤上に、微細な凹凸から成るビット列や溝から成る信号情報を記録した記録層を形成しており、記録層が形成された面と対向する面側からレーザー光等を照射し、支持基盤上の信号情報に応じて反射光量が変化することにより、情報を読み出すシステムである。
【０００３】
このような光ディスクの種類として、コンパクトディスク（ＣＤ：Compact Disk）、ＤＶＤ( Digital Versatile Disk)または光磁気記録ディスク等が挙げられる。代表的な光ディスクであるＣＤにおいては、厚さが０．６ｍｍである支持基盤上に情報を読み出す透明な光透過層が形成されており、光透過層は記録層を有する支持基盤を兼ねた構造である。ＣＤでは、記録再生用として波長７８０ｎｍのレーザー光を使用しており、光透過層側から記録再生用のレーザー光を照射し、支持基盤上の記録層に刻印されたビット列や溝から成る信号情報に応じて変化する反射光量に基づき記録層に記録された情報を再生する。
【０００４】
ＣＤよりも記録容量の高いＤＶＤに代表される光ディスクにおいては、記録再生用のレーザー波長は６３５ｎｍであり、基本的には、前述したＣＤと同様に、記録層にレーザー光を照射して信号情報の記録及び再生を行う。
【０００５】
図３は、ＤＶＤの構造を概略的に説明するためにＤＶＤの一部を拡大した斜視図であり、図４はその断面図である。図３及び図４に示すように、ＤＶＤ１０は、支持基盤１１と、支持基盤１１上に形成された記録層１２と、記録層１２上に形成された光透過層１３と、を備える。さらに、具体的に説明すると、単層板においては情報を読み出す透明な支持基盤１１の厚さは０．６ｍｍ程度であり、この支持基盤１１上にビット１４列や記録用溝等の情報が記録された記録層１２が形成され、記録層１２上に支持基盤１１と同厚さ（０．６ｍｍ）の透明支持基盤を張り合わせて光透過層１３が形成される。なお、記録層１２上に張り合わせて形成された光透過層１３は、通常「ダミー」と呼ばれ、光ディスク自体の強度を向上させる役割を果たしている。上記図３及び図４に示すように、光透過層１３側からレーザー光１５を照射して、記録層の情報を記録及び再生する。
【０００６】
さらに、ここ数年、映像情報や動画情報等の発展に伴い、記録容量を大容量化したＤＶＤが求められ、次世代ディスクと呼ばれる記録容量が２０ＧＢを超える大容量の高密度ＤＶＤの開発が進められている。高密度ＤＶＤは、直径１２センチのサイズであり従来と同様のサイズであるため、記録層におけるトラックピッチを狭小化しあるいはビット長を縮小化する等により微細化し、高密度化を図ることが要求されている。
【０００７】
具体的には、厚さが１．１ｍｍ程度の支持基盤上にビット列や溝等により信号情報が記録された記録層が形成され、記録層の表面には透明な厚さ０．１ｍｍ程度のフィルムを接着して光透過層が形成される。そして、光透過層の面側から４００ｎｍ程度の短波長の青色レーザーを照射して、信号情報の記録及び再生を行う。
【０００８】
上記ＣＤ、ＤＶＤ及び次世代ディスク等の支持基盤及びダミー層である光透過層として、通常、ポリカーボネートが使用されており、次世代ディスクの光透過層としてもポリカーボネートが使用されているが、ポリカーボネートに替わる新たな高分子材料の開発が進められている。
【０００９】
開発が進められている代表的な高分子材料として、例えば、アクリル系樹脂が挙げられるが、アクリル系樹脂は、比較的安価であり、透明性が高く、ゴム状物やガラス状ポリマ等の多様な特徴を有するポリマを比較的容易に製造でき、さらには、変性が容易である等の優れた特性を有している。しかし、優れた特性を備えている反面、アクリル系樹脂をフィルム形状とするためには、強度、耐熱性と靱性の相反する特性を両立させる必要があり、従来のアクリル樹脂では、上記特性を両立させることが困難であるため、大きな課題となっていた。アクリル樹脂全般に共通して靱性が低いことが課題であるが、例えば、樹脂中にゴム粒子を添加して、アクリル樹脂から形成されるフィルムの靭性を高める方法が幾つか報告されている（特許文献１、特許文献２参照）。しかし、樹脂中にゴム粒子を添加する等してフィルムの靭性を改善することが可能であるが、フィルムを折り曲げた際に白化現象が生じてしまい、フィルムの折り曲げ加工性が低下していた。このため、室温（２５℃）以上のガラス転移点と靱性の必要な薄膜フィルムの形成能(折り曲げ加工性)を両立するアクリル樹脂は見出されていなかった。
【００１０】
そこで、例えば、１種又は２種以上の合成高分子を混合して分子間に水素結合を形成して擬似的な架橋構造を持たせ、従来の材料では実現できなかった新たな特性を導入した樹脂組成物が開発されている（特許文献３参照）。その一例として、ガラス転移温度が低い重合体としてプロトン供与性原子団である水酸基を含んだアクリル重合体と、ガラス転移温度が高い重合体としてプロトン受容性原子団であるアミン基を含んだアクリル重合体をブレンドし、分子間に水素結合を形成し擬似的な架橋構造として耐熱性と靱性との各特性を両立した光透過層用のフィルムが得られることが報告されている（特許文献４参照）。
【特許文献１】特公昭５８−１６７６０５号公報
【特許文献２】特開平３−５２９１０号公報
【特許文献３】特開２０００−２７３３１９号公報
【特許文献４】特開２００２−３８０３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上記方法により作製された光透過層用のフィルムは、耐熱性と靭性との両特性を得られるため、光ディスク等の光学部品に使用されている。本フィルムを用いて光ディスクを製造する方法としては、例えば、支持基盤用のフィルム上に粘着層を貼り合わせ、ついで該粘着層上に本フィルムをさらに貼り合わせることで光ディスクを構成している。
【００１２】
一方、ＣＤやＤＶＤ等は、近年、大容量化しており、ＤＶＤ用表面保護フィルム等の光学部材は高記録高密度化が進んでいる。特に、大容量化した高密度ＤＶＤ等の光ディスクでは、前述したように４００ｎｍ程度の短波長であるレーザー光を透過させて記録層に刻印された信号情報の記録及び再生をするため、フィルム表面に用いるレ−ザ−光線の波長に比較して大きな傷や異物が存在すると、読みとりエラーが発生する等の不具合が生じ、その結果、光学特性が低下してしまうという問題を有していた。このため、光学部品を構成する光透過層フィルムには、その表面が平滑であることが要求されている。
【００１３】
また、上述したように、支持基盤上に粘着層を形成した上で、粘着層上に光透過層を貼り合わせて形成すると、光学特性が低下するだけでなく、各層を順次貼り合わせる必要があるため作業工程数が多くなり、作業性の観点からも問題を有していた。
【００１４】
さらに、上述した光透過層は、４００ｎｍ程度の短波長であるレーザー光を透過させて記録層に刻印された信号情報の記録及び再生をするため、光透過層フィルムそのものの光透過率が低いと記録層からの反射光が光透過層を通過する際に吸収されてしまい、信号強度が低下するという問題を有していた。このため、高い信号精度を得るために、４００ｎｍ程度の短波長レーザーによる光透過率の高い光透過層が要求されており、光透過性の良好な材料が望まれていた。
【００１５】
本発明は、上述した問題を解決するためのものであり、光学特性及び表面平滑性が良好であり、かつ、製造時における作業性が良好な光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクを得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成すべく本発明者らは種々研究した結果、基材層、光透過層、粘着層を順次積層した積層フィルムにおける基材層の光透過層と接する反対側の面の表面平滑性、または光透過層、粘着層、保護層を順次形成した積層フィルムにおける保護層の光透過層と接する面の表面平滑性、さらには、これら３層積層フィルムの膜厚、ならびに光透過層と粘着層の２層の膜厚精度および波長４０５ｎｍにおける光透過率をそれぞれ最適な数値に規定することで、光学特性が良好であり、かつ、光学部品製造時における作業性が良好な光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクを提供することができることを見出し、本発明を為すに至ったものである。
【００１７】
すなわち、本発明は、以下の（１）〜（１５）に記載の事項をその特徴とする。
【００１８】
（１）光透過層と、前記光透過層上に積層されると共に使用時に剥離除去され、かつ、前記光透過層と接する反対側の面が離型処理され、その表面平滑性が２０ｎｍ以下である基材層と、前記基材層が積層された面と反対側の前記光透過層上に積層される粘着層と、を少なくとも有する積層フィルムであり、前記光透過層、前記基材層及び前記粘着層の３層の膜厚が５０〜４５０μｍであり、前記光透過層と前記粘着層の２層の膜厚精度が±２．０μｍ以内であり、かつ波長４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする光学部品用積層フィルム。
【００１９】
（２）前記基材層の膜厚が２０〜２５０μｍ、膜厚精度が±１．０μｍ以内であることを特徴とする上記（１）に記載の光学部品用積層フィルム。
【００２０】
（３）前記基材層は、主としてポリエステル樹脂から成ることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の光学部品用積層フィルム。
【００２１】
（４）２５℃、離型速度１００ｍｍ／秒の条件下において、前記基材層から前記光透過層を剥離した際のはりつきによるはがし残りが１ｍ２当たり３ヶ所以下であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【００２２】
（５）光透過層と、前記光透過層上に積層される粘着層と、前記粘着層上に積層されると共に使用時に剥離除去され、かつ、前記粘着層と接する面が離型処理され、その表面平滑性が２０ｎｍ以下である保護層と、を少なくとも有する積層フィルムであり、前記光透過層、前記粘着層及び前記保護層の３層の膜厚が５０〜４５０μｍであり、前記光透過層と前記粘着層の２層の膜厚精度が±２．０μｍ以内であり、かつ波長４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする光学部品用積層フィルム。
【００２３】
（６）前記保護層の膜厚が５〜２００μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内であることを特徴とする上記（５）に記載の光学部品用積層フィルム。
【００２４】
（７）前記光透過層は、主としてアクリル系樹脂から成ることを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【００２５】
（８）前記光透過層の膜厚が３０〜２５０μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、波長４０５ｎｍにおける光透過率が９０％以上であることを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【００２６】
（９）前記光透過層は、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとを含む熱可塑性樹脂から主としてなり、前記プロトン供与性原子団とプロトン受容性原子団との間において分子間水素結合による擬似的な架橋が形成されていることを特徴とする上記（１）〜（８）のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【００２７】
（１０）前記光透過層と前記粘着層との屈折率差が、０．１以下であることを特徴とする上記（１）〜（９）のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【００２８】
（１１）前記離型処理は、前記基材層上または前記保護層上への無機薄膜層の蒸着あるいは高分子化合物の塗布によるものであることを特徴とする上記（１）〜（１０）のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルム。
【００２９】
（１２）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルムをロール形状に巻き取り形成されたことを特徴とするフィルム巻層体。
【００３０】
（１３）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルムを用いてなることを特徴とする光学部品。
【００３１】
（１４）光ディスクである上記（１３）に記載の光学部品。
【００３２】
（１５）支持基盤上に少なくとも記録層、粘着層、光透過層が順次積層された光ディスクであって、前記粘着層及び光透過層は、上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載の光学部品用積層フィルムを用いて形成されたことを特徴とする光ディスク。
【発明の効果】
【００３３】
本発明の光学部品用積層フィルムは、予め光透過層上に粘着層を設けたため、光ディスク等の光学部品製造時における作業性に優れると共に光透過層や粘着層に異物や欠点等が混入する恐れがなくなる。さらに、基材層や保護層を形成することで、光透過層表面に傷をつけることなく容易に巻層体とすることもでき、保存安定性に優れている。また、本発明の光学部品用積層フィルムは、基材層または保護層の表面平滑性、３層の膜厚、ならびに光透過層と粘着層の２層の膜厚精度および光透過率を最適に規定した３層構造としたため、当該積層フィルム製造時の作業性に優れ、なおかつ、光透過層の表面平滑性、光学特性、接着性に優れた光学部品を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
本発明の光学部品用積層フィルムは、光透過層と、光透過層上に積層されると共に使用時に剥離除去され、かつ、当該光透過層と接する反対側の面の表面平滑性が２０ｎｍ以下である基材層と、基材層が積層された面と反対側の光透過層上に積層される粘着層と、を少なくとも有する積層フィルム、または、光透過層と、光透過層上に積層される粘着層と、粘着層上に積層されると共に使用時に剥離除去され、かつ、前記粘着層と接する面が離型処理され、その表面平滑性が２０ｎｍ以下である保護層と、を少なくとも有する積層フィルムである。
【００３５】
上記本発明において、光透過層を形成する樹脂としては、特に限定されないが、熱可塑性樹脂であることが好ましい。該熱可塑性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル樹脂などのビニル系重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース樹脂等の中から適宜選択することが可能であり、例示した樹脂中、変性のし易さ、透明性及び複屈折等の諸特性の観点からビニル系重合体を用いることが好ましい。また、ビニル系重合体は、少なくとも１種のプロトン供与性原子団を有するビニル系重合体Ａと、少なくとも１種のプロトン受容性原子団を有するビニル系重合体Ｂとを含む混合物であることが好ましく、これにより、両原子団の間で、分子間水素結合により擬似的な架橋が形成される。なお、ここで「擬似的な」と表現したが、疑似とは、熱（熱分解温度以下）又は溶剤等により架橋構造が切断され、温度を下げるか又は溶剤を除去することにより再び架橋構造が形成されると推定できるためである。このように２種以上のビニル系重合体を混合し、これを光透過層フィルムとして形成することにより、１種のビニル系重合体からフィルムとした場合には得ることができない複数の相反する特性を待たせることが可能となる。例えば、耐熱性が良好であり正複屈折である一方のビニル系重合体と、靱性を有し負複屈折である他方のビニル系重合体とを混合して擬似架橋を形成することにより、耐熱性及び靱性の特性を両立させることができるとともに、正負複屈折を相殺し低複屈折化を図ることが可能となる。以下に、ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂについて詳細に説明する。
【００３６】
[ビニル系重合体Ａ]
ビニル系重合体Ａは、少なくとも１種のプロトン供与性原子団を有するビニル系単量体を重合することにより得ることができ、透明性、複屈折等の光学特性を損なわない限り特に制限はない。
【００３７】
上記プロトン供与性原子団としては、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、フェノール性水酸基、メルカプト基、チオフェノール性メルカプト基、１級アミノ基、２級アミノ基などの官能基を挙げることができ、好ましくはカルボキシル基、水酸基又はフェノール性水酸基の官能基を有するものである。
【００３８】
上記のようなプロトン供与性原子団を有するビニル系単量体としては、特に限定されないが、例えば、アクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルアクリレート、メタクリル酸、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸、２−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイロキシプロピルアクリレート、ビニルフェノール、ビニル安息香酸、安息香酸ビニル及びそれらの誘導体等が挙げられる。
【００３９】
また、ビニル系重合体Ａの製造には、上記の材料を用いて、塊状重合、懸濁重合、乳化重合及び溶液重合等の既存の方法を適用することができる。
【００４０】
重合を行う際には、重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、１，１−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシロクヘキサノン−１−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性触媒及び過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組み合わせによるレドックス触媒等、通常のラジカル重合に使用できるものはいずれも使用することができ、ここに示したものに制限されるものではない。重合開始剤は、ビニル系重合体の製造に用いる単量体の総量に対して０．０１〜１０重量％の範囲で使用されることが好ましい。
【００４１】
さらに、分子量調整剤として、メルカプタン系化合物、チオグリコール、四塩化炭素、α−メチルスチレンダイマー等を必要に応じて添加することができる。また、ここに示したものに限定されるものではない。
【００４２】
熱重合による場合、重合温度は、０〜２００℃の間で適宜選択することができ、５０〜１２０℃が好ましい。
【００４３】
本発明のビニル系重合体Ａは、その分子量について特に制限はないが、強靱性、耐熱性の点から重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定し標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値）が１０，０００〜１，０００，０００の範囲のものが好ましく、１００，０００〜１，０００，０００がより好ましい。
【００４４】
[ビニル系重合体Ｂ]
ビニル系重合体Ｂは、少なくとも１種のプロトン受容性原子団、好ましくは窒素原子を有する原子団を有するビニル系単量体を重合することによって得ることができ、透明性、複屈折等の光学特性を損なわない限り特に制限はない。
【００４５】
上記プロトン受容性原子団としては、例えば、カルボニル基、スルホニル基、ホスホリル基、シアノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、含窒素複素環基などの官能基などを挙げることができ、好ましくは、２級アミノ基、３級アミノ基又は含窒素複素環基の官能基を有するものである。
【００４６】
上記のようなプロトン受容性原子団を有するビニル系単量体としては、例えば、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチルＮ−メチルピリミジルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチルＮ−メチルピリミジルアクリレート、２，２，６，６−テトラ−Ｎ−メチルピペリジルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−ジエチルメタクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、ビニルピリジン及びその誘導体等が挙げられる。また、ここに示したものに限定されるものではない。
【００４７】
ビニル系重合体Ｂの製造には、上記の材料を用い塊状重合、懸濁重合、乳化重合、溶液重合等の既存の方法を適用することができる。
【００４８】
重合を行う際には、重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、１，１−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン−１−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性触媒及び過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組み合わせによるレドックス触媒等、通常のラジカル重合に使用できるものはいずれも使用することができる。また、ここに示したものに限定されるものではない。重合開始剤は、ビニル系重合体Ｂの製造に用いる単量体の総量に対して０．０１重量％〜１０重量％の範囲で使用することが好ましい。
【００４９】
さらに、分子量調整剤として、メルカプタン系化合物、チオグリコール、四塩化炭素、α−メチルスチレンダイマー等を必要に応じて添加することができる。また、ここに示したものに限定されるものではない。
【００５０】
熱重合による場合、重合温度は、０〜２００℃の間で適宜選択することができ、５０〜１２０℃が好ましい。
【００５１】
本発明のビニル系重合体Ｂは、その分子量について特に制限はないが、強靱性、耐熱性の点から重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定し標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値）は、１０，０００〜１，０００，０００の範囲とすることが好ましく、５０，０００〜１，０００，０００がより好ましい。
【００５２】
[ビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂの混合]
本発明における光透過層に用いる熱可塑性樹脂として好ましいビニル系重合体は、上記のビニル系重合体Ａとビニル系重合体Ｂとを混合することにより得ることができる。可撓性又は耐熱性を向上させる目的で、その他のビニル系重合体を適宜添加することもできる。
【００５３】
ビニル系重合体Ａとビニル系重合体Ｂとを混合する方法は、溶融混練法、ワニスブレンド法など特に方法は問わない。
【００５４】
上記ビニル系重合体Ａとビニル系重合体Ｂの混合比率は、得られる樹脂組成物の透明性を確保できるのであれば、特に制限はないが、強靱性、耐熱性、透明性の点から、ビニル系重合体Ａとビニル系重合体Ｂとの各々の水素結合を形成できる原子団のモル比を、１５対１〜１対１５の混合比で混合することが好ましい。
【００５５】
また、本発明において、ビニル系重合体Ａとビニル系重合体Ｂのガラス転移温度は異なることが好ましく、さらには一方のガラス転移温度が２５℃未満であり、他方のガラス転移温度が２５℃以上にすることがより好ましい。このように相違するガラス転移温度を有するビニル系重合体Ａ及びビニル系重合体Ｂを混合することにより、得られるビニル重合体に耐熱性及び靭性を付与することができる。上記の温度条件から外れた場合、室温において靭性を付与できず、熱変形してしまうという問題が生じ易くなる。ガラス転移温度は上記の条件を満たす温度範囲であれば特に問題はないが、好ましくは一方が＋１０℃以下、他方が＋５０℃以上であり、さらに好ましくは一方が０℃以下、他方が＋８０℃以上とする。なお、本発明において、ガラス転移温度はＤＶＡ（動的粘弾性測定）、ＴＭＡ、ＤＳＣ法等により測定することができるが、ＤＶＡ（動的粘弾性測定）を基準とすることが好ましく、後述する実施例でもＤＶＡで測定している。
【００５６】
上述したガラス転移温度の条件を満たすために、分子内に少なくとも１種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Ａと、分子内に少なくとも１種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Ｂとのそれぞれに対して、他のビニル系重合体を共重合させることができる。使用できる単量体としては、得られるビニル系重合体の透明性を損なわないものであれば特に限定されず、その具体例として、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクタデシル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ナフチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、アクリル酸ノルボルニル、アクリル酸ノルボルニルメチル、アクリル酸シアノノルボルニル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸メンチル、アクリル酸フェンチル、アクリル酸アダマンチル、アクリル酸ジメチルアダマンチル、アクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−８−イル、アクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−４−メチル、アクリル酸シクロデシル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸オクタデシル、メタクリル酸ブトキシエチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ナフチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリメチルシクロヘキシル、メタクリル酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸シアノノルボルニル、メタクリル酸フェニルノルボルニル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸メンチル、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸アダマンチル、メタクリル酸ジメチルアダマンチル、メタクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−８−イル、メタクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−４−メチル、メタクリル酸シクロデシル等のメタクリル酸エステル類、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン、α−クロルスチレン、α−ブロモスチレン、フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メチルスチレン、メトキシスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリル酸カルシウム、アクリル酸バリウム、アクリル酸鉛、アクリル酸すず、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸カルシウム、メタクリル酸バリウム、メタクリル酸鉛、メタクリル酸すず、メタクリル酸亜鉛等の（メタ）アクリル酸金属塩、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和脂肪酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物、Ｎ−メチルマレイミ��、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−ｉ−プロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｉ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、 Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（２−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ブロモフェニル）フェニルマレイミド、Ｎ−（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−エチルフェニルマレイミド、Ｎ−（２−メトキシフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ベンジルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，４，６−トリブロモフェニル）マレイミド等が挙げられる。また、これらは１種又は２種以上により使用しても良い。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。
【００５７】
また、本発明における熱可塑性樹脂中には、必要に応じて任意の成分を加えることができる。例えば、劣化防止、熱的安定性、成形性、加工性などの観点から、フェノール系、ホスファイト系、チオエーテル系などの抗酸化剤、光安定剤、脂肪族アルコール、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、重金属不活性化剤などを添加してもよい。
【００５８】
また、上記のような熱可塑性樹脂から主として成る光透過層のフィルムは、上記熱可塑性樹脂から溶融混練法、溶媒キャスト法等で有機溶媒を揮発させることで得ることができる。
【００５９】
キャストの条件は特に制限されるものではないが、例えば、空気中や不活性ガス中、５０〜１６０℃の温度範囲で行うことが可能である。ここで用いる溶媒は、ビニル系重合体が溶解するものであれば特に制限はなく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、NMP、ジメチルアセトアミド等を用いることができる。なお、ここに示したものは一例でありこれらに制限されるものではない。また、上記の条件を用いて予備乾燥を行った後、さらに１６０〜３５０℃の高温で乾燥して乾燥時間を短縮することも可能である。
【００６０】
また、溶融混練法により製造する場合も製造条件に特に制限はないが、例えば、空気中１８０℃〜２５０℃程度の温度で溶融して適当に調整されたギャップを通して押し出し、その形状を保ったまま冷却してフィルムを製造することができる。なお、この際、高温で加工するため酸化防止剤等の安定剤を添加することが望ましい。
【００６１】
このようにして得られた光透過層フィルムは強靱でかつ柔軟性を有しており、機械特性に優れており、折り曲げ加工性も良好である。また、特にガラス、アルミ又は銅などの金属に対する密着性が高いため、フィルムの作成においてはキャスト基板の選択が重要である。具体的には、ステンレス、ＰＥＴフィルム、テフロン（登録商標）フィルム等が選択できるが、樹脂組成物との密着性が低くければこれらに制限されない。
【００６２】
また、本発明における光透過層の膜厚は、１５〜２５０μｍの範囲とすることが好ましく、より好ましくは３０〜２５０μｍ、さらに好ましくは３５〜１５０μｍの範囲である。膜厚が１５μｍ未満になると強靱性が低下し、加工時の作業性が悪化する傾向があり、逆に、２５０μｍを超えると溶剤、モノマ等の揮発性物質が残存しやすく特性の良好な光透過層フィルムが得られないからである。なお、膜厚の測定は、レーザーフォーカス変位計（キーエンス製、ＬＴ−８０１０）を用いて、任意の大きさ（例えば１ｃｍ２〜１００００ｃｍ２の面内）について、全体から適切に（例えば２５〜１０００点）測定点を選択して測定し、その平均値を厚さとすることができる。
【００６３】
また、本発明における光透過層の膜厚精度は±２．０μｍ以内であることが好ましく、±１．５μｍ以内であることがより好ましい。膜厚精度は、例えば、フィルムに加工する際に、塗工により製造する場合は、塗工機のコータ精度及び駆動の安定性を向上させること、溶融押し出しにより製造する場合は、押し出し金型のクリアランスの精度を上げること及び駆動系の安定性を向上させることにより調整することができる。
【００６４】
また、本発明における光透過層の複屈折は２０ｎｍ以下であることが好ましい。複屈折が２０ｎｍを超えると、ディスクに書き込む際及び読み出す際の信号精度が低下する傾向があるからである。複屈折は、信号精度の点から、１０ｎｍ以下がより好ましく、５ｎｍ以下がさらに好ましく、特に２０ＧＢを超えるような高密度ＤＶＤの場合は、２ｎｍ以下が特に好ましい。
【００６５】
また、本発明における光透過層は、波長４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。光透過率が８７％未満になると、記録層からの反射光が光透過層を通過する際に吸収され、信号強度が低下してしまうからである。光透過率を８７％以上とするために、例えば、紫外線を吸収する添加剤を用いないこと又は樹脂を構成する単量体に紫外線吸収帯を持たないもののみを用いることにより調整することができる。
【００６６】
本発明における粘着層は、光透過層を光ディスクの記録層上に貼り付けるためのものである。この粘着層の形成には、特に限定されないが、粘着剤をフィルム状に形成した粘着剤フィルムを用いることが好ましい。粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、天然ゴム系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体系粘着剤、シリコーン系粘着剤、エステル系粘着剤、紫外線硬化型樹脂、感圧型粘着フィルム等を選択することができる。特に、粘着剤としてアクリル系粘着剤を使用することが好ましい。但し、ここに示した粘着剤は一例を示したものであり、これらに制限されるものではない。上記粘着剤フィルムは、上記のような粘着剤を基材に予め塗布、乾燥して形成することができる。基材としては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレン系エラストマーフィルム、ポリオレフィン系エラストマーフィルム、ポリエステルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリカーボネートセロハンフィルム、アセテートフィルム、各種フッ素フィルム、ポリイミドフィルム等を選択することができる。但し、ここに示した基材は一例であり、これらに制限されるものではない。
【００６７】
また、光透過層フィルムに上記粘着層フィルムをラミネートする時期は、特に限定されないが、光透過層フィルムとなる熱可塑性樹脂ワニスを基材層上に塗工、乾燥した後とすることが好ましい。また、粘着層の膜厚は、特に限定されないが、５〜４０μｍの範囲とすることが好ましい。
【００６８】
また、本発明における光透過層と粘着層の２層の膜厚精度は±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率は８７％以上と規定される。膜厚精度や光透過率が上記範囲外であると、優れた光学特性を得ることができなくなってしまう。また、２層あわせた膜厚は３０〜３００μｍであることが好ましい。２層あわせた膜厚が上記の範囲外であると、フィルム作製時の作業性を低下させる恐れがある。
【００６９】
さらに、本発明における光透過層と粘着層の屈折率差は、０．１以下であることが好ましく、０．０７以下であることがより好ましい。光透過層と粘着層との屈折率差が０．１を超えると光透過層と粘着層の界面でレーザー光の乱反射が生じ、信号情報の再生及び記録の精度が低下する傾向があるからである。なお、屈折率差は、アッベ屈折計を用い光透過層、粘着層それぞれの屈折率を測定し、その差から求めることができる。
【００７０】
本発明における基材層は、光透過層の、上記粘着層が形成された面と反対側の面に形成され、使用時には剥離除去されるものであり、さらに、該基材層の光透過層と接する反対側の面は離型処理されており、その表面平滑性は２０ｎｍ以下である。
【００７１】
基材層を離型処理する方法としては、例えば、フッ素化マグネシウム、フッ素化酸化シリコン（ＳｉＯＦ）、窒化珪素等の無機薄膜を蒸着等により基材層上に成膜する方法や、溶剤に可溶なフッ化オレフィン系高分子やシクロヘキサン構造を有する高分子等の高分子化合物をディッピング等によりロールに塗布し、溶剤を乾燥して基材層上に成膜する等の方法が挙げられる。なお、ここに示した基材層の離型処理方法は例示にすぎず、これらの方法に限定されるものではない。
【００７２】
基材層の種類としては、特に限定されないが、例えば、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、ステンレス、テフロン（登録商標）フィルム、ポリエステル樹脂フィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリル樹脂フィルム、エポキシ樹脂フィルム、ノルボルネン系高分子およびこれをブレンドした樹脂等が選択でき、特に、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルムを使用するのが好ましく、より好ましくはＰＥＴフィルムを使用すると良い。なお、ここに示した基材層は、一例を示したものであり、上記フィルムに限定されるものではない。
【００７３】
また、基材層の膜厚は、２０〜２５０μｍであることが好ましく、２５〜２００μｍであることがより好ましく、２５〜１５０μｍであることが特に好ましい。基材層の膜厚制度は、±１．０μｍであることが好ましい。
【００７４】
また、上記発明において、２５℃、離型速度１００ｍｍ／秒の条件下において、基材層から光透過層を剥離した際のはりつきによるはがし残りが１ｍ２当たり３ヶ所以下であることが望ましい。はりつきによるはがし残りが１ｍ２当たり３ヶ所を超えると、作業性が悪くなり、収率低下の原因となるためである。
【００７５】
本発明における保護層は、上記粘着層上に積層され、使用するまでこれを保護し、使用時には剥離除去されるものである。この保護層の膜厚は、５〜２００μｍであることが好ましく、５〜１５０μｍであることがより好ましい。保護層の膜厚が５μｍ未満であると強靭性や作業性が悪く、膜厚が２００μｍを超えると表面平滑性が悪くなるからである。また、その膜厚精度は±２．０μｍ以内であることが好ましい。さらに、保護層の粘着層と接する面は離型処理されており、その表面平滑性は２０ｎｍ以下である。この離型処理は、上記基材層に離型処理を行う場合と同様の手段により行うことができる。
【００７６】
保護層としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、ステンレス、テフロン（登録商標）フィルム、ポリエステルフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリル樹脂フィルム、エポキシ樹脂フィルム、ノルボルネン系高分子およびこれをブレンドした樹脂等が選択できる。
【００７７】
本発明の積層フィルムの製造方法は、特に制限されないが、好ましくは、上記基材層上に光透過層となる樹脂ワニスを塗布、乾燥後、さらにその上に粘着層となる粘着剤を塗布乾燥するかもしくは粘着フィルムをラミネートして製造する。また、保護層を有する３層積層フィルムを製造する場合には、上記基材層を有する３層積層フィルムの粘着層上にさらに保護層をラミネートし、その後、基材層を剥離除去すればよい。
【００７８】
また、光透過層、粘着層、および基材層もしくは保護層の３層の膜厚は５０μｍ〜４５０μｍの範囲である。より好ましくは５０〜４００μｍであり、特に好ましくは５０〜３５０μｍの範囲である。膜厚が５０μｍ未満になると表面平滑性や作業性が悪くなる傾向にあり、膜厚が４５０μｍを超えると表面平滑性や４０５ｎｍの光透過率が悪くなる傾向にあるからである。
【００７９】
本発明の積層フィルムは、強靱かつ柔軟性を有しており、機械特性に優れ、形状を維持することが容易であり、なおかつ、表面平滑性および作業性に優れるため、光ディスク等の光学部品の光透過層用として好適である。
【００８０】
本発明のフィルム巻層体は、本発明の光学部品用積層フィルムをロール形状に巻き取り形成したものである。
【００８１】
本発明の光学部品は、本発明の光学部品用積層フィルムの基材層または保護層を剥離除去したものをその光透過層および粘着層として適用したものであり、光学部品は光ディスクであることが好ましく、記録容量が２０ＧＢ以上の高密度ＤＶＤであることがさらに好ましい。
【００８２】
また、本発明の光ディスクは、例えば、支持基盤上に少なくとも記録層、粘着層及び光透過層が順次形成された光ディスクであり、該光透過層および粘着層は、上記本発明の光学部品用積層フィルムから基材層または保護層を剥離除去し、これを記録層上に貼り付けて形成されたものであることを特徴とする。なお、本発明の光ディスクの支持基盤及び記録層としては特に制限はなく、一般的に使用されているものを適用することができる。
【００８３】
図１は、高密度ＤＶＤの一部の構造を示す斜視図であり、図２はその断面図である。図１及び図２に示すように、高密度ＤＶＤ１は、支持基盤２上に記録層３を備え、記録層３上に粘着層４を介して光透過層５が形成される。ＤＶＤは、４０５nmの短波長レーザー光６を光透過層５側から照射し、光透過層５を介して記録層３の信号情報を再生及び記録するものであり、高密度ＤＶＤ１は、光透過層５を薄肉化している。
【００８４】
ここで、光透過層５及び粘着層３は、本発明の光学部品用積層フィルムを使用したものであり、また、支持基盤２及び記録層３は、従来公知の材料を適用することができ、例えば、支持基盤２は、ポリカーボネート等のプラスチック基板から構成される。
【００８５】
また、上記高密度ＤＶＤを構成する各層は、例えば、支持基盤２の膜厚を０．９０mm〜１．１５mm、記録層３の膜厚を１０μｍ〜６０μｍ、より好ましくは支持基盤２の膜厚を１．００mm〜１．１０mm、記録層３の膜厚を１５μｍ〜５０μｍとすることが好ましい。粘着層４及び光透過層５の好ましい膜厚は、前述したとおりである。
【００８６】
次に、以下に示す実施例１〜２及び比較例１〜３により、光学部品用積層フィルムの特性評価を行った。
【実施例】
【００８７】
（実施例１）
本実施例では、光透過層となる樹脂ワニスとして、下記ポリマＡとポリマＢとを混合した溶液を用いた。
【００８８】
＜ポリマＡとポリマＢの調製＞
（ポリマＡ）
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、アクリル酸ブチル（ＢＡ、和光純薬（株）製）９９４ｇ、アクリル酸（ＡＡ、和光純薬（株）製）８６ｇ、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ、トクヤマ（株）製）１６０ｇを秤取した。その後、室温にて窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド（ＬＰＯ、日本油脂（株）製）０．７２ｇ、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサネート（ＰＢＯ、日本油脂（株）製）０．２４ｇ、分子量調整剤としてα−メチルスチレンダイマー０．０５４ｇをアセトン４０ｇに溶解して、室温にて窒素ガスを約１０分間通し、溶存酸素を置換した混合溶液を添加した。その後、オートクレーブ内を加圧・密閉にして、６０℃まで昇温し、同温度で約２０時間保持した後、９０℃まで昇温した。その後同温度で約１０時間保持して高分子溶液を得た。得られた高分子溶液の重合率は９７％以上であった。
【００８９】
（ポリマＢ）
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ、旭化成（株）製）８１０ｇ、メタクリル酸トリシクロ〔５．２．１．０2,6〕デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ、日立化成（株）製）２０５ｇ、アクリル酸ブチル（ＢＡ）３２ｇ、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート（ＦＡ７１２ＨＭ、日立化成（株）製）３２ｇを秤取した。その後、室温にて窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ、和光純薬（株）製）２．８８ｇ、アゾビスシクロヘキサノン−１−カルボニトリル（ＡＣＨＮ、和光純薬（株）製）０．９６ｇをアセトン４０ｇに溶解して、室温にて窒素ガスを約１０分間通し、溶存酸素を置換した混合溶液を添加した。その後、オートクレーブ内を加圧・密閉にして６０℃まで昇温し、同温度を約２０時間保持した。さらに、９０℃まで昇温した後、同温度で約１０時間保持し、高分子溶液を得た。得られた高分子溶液の重合率は９７％以上であった。
【００９０】
なお、上記ポリマＡとポリマＢのガラス転移温度を下記のように測定した。
【００９１】
［ガラス転移温度（Ｔｇ）］ 
ＤＶＡで測定した。測定装置として、（株）ユービーエム製レオスペクトラーＤＶＥ−Ｖ４を使用した。測定条件は、昇温速度３．０℃／ｍｉｎ、周波数１０．０ｈｚとして引張り弾性率を測定し、得られたデータのうちｔａｎδのピークトップをガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
【００９２】
＜積層フィルムの作製＞
上記で得られたポリマＡワニスとポリマＢワニスを１：９の固形分の比率で混合して混合溶液を得た。この混合溶液を、ヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、表面が離型処理された基材層フィルム（コスモシャインＡ−４１００、東洋紡（株）製、商品名）上に塗工し、乾燥し、光透過層を形成した。その後、光透過層上に粘着層（ダブルタックテープ＃５５１１、積水化学工業（株）製、商品名）をラミネートし、３層積層フィルムを作製した。
【００９３】
（実施例２）
上記で得られたポリマＡワニスとポリマＢワニスを１：９の固形分の比率で混合して混合溶液を得た。この混合溶液を、ヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、表面が離型処理された基材層フィルム（コスモシャインＡ−４１００、東洋紡（株）製、商品名）上に塗工し、乾燥し、光透過層を形成した。その後、光透過層上に粘着層（ダブルタックテープ＃５５１１、積水化学工業（株）製、商品名）をラミネートし、さらに、粘着層上に保護層（ヒタレックスＬ−８１１０（日立化成（株）製）、商品名）をラミネートして４層とした後、基材層を剥離除去し、３層積層フィルムを作製した。
【００９４】
（比較例１）
基材層としてＴ−６０（東レ（株）、商品名）を用いた以外は実施例１と同様にして３層積層フィルムを作製した。
【００９５】
（比較例２）
基材層としてＴ−６０（東レ（株）、商品名）を用い、保護層としてサニテクトＰＡＣ−２（（株）サンエー化研、商品名）を用いた以外は、実施例２と同様にして３層積層フィルムを作製した。
【００９６】
実施例１および２、ならびに比較例１および２の３層積層フィルムについて、各層の膜厚と膜厚精度、光透過層と粘着層の２層の膜厚、膜厚精度、光透過率および屈折率差、光透過層の光透過率、基材層の表面平滑性（光透過層と接する反対側の面）、保護層の表面平滑性（粘着層と接する面）を測定、評価した。各測定方法は下記のとおりである。結果をまとめて表１に示す。
【００９７】
＜測定方法＞
［４０５ｎｍの光透過率］
分光光度計（ＪＡＳＣＯ社製Ｖ−５７０）を用い、室温（２５℃）で波長４０５ｎｍの領域で測定した。
【００９８】
［膜厚（μｍ）、膜厚精度（μｍ）］
膜厚は、レーザーフォーカス変位計（キーエンス製、ＬＴ−８１００）を使用し、サイズ１２ｃｍ×１２ｃｍの正方形フィルムについて測定した。正方形フィルムの４つの辺を、それぞれ直線Ａ、直線Ｂ、直線Ｃ、直線Ｄとし、直線Ａに対向する辺を直線Ｃとし、直線Ｂに対向する辺を直線Ｄとした。直線Ａから直線Ｃに向かって３ｃｍの間隔を空けた３本の平行直線を各々直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３とし、これら３本の平行直線（Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３）と、直線Ａと、直線Ｃとの合計５本について、以下の手順により直線上の各点におけるフィルムの膜厚を測定した。まず、直線Ａの一端部から正方形内側の１ｃｍの点を基準点とし、基準点から直線Ａの他端部に向かい１ｍｍの間隔を空けた各点について、他端部から正方形内側１ｃｍの点までの長さ１０ｃｍに亘る合計１０１個の各点についてフィルムの膜厚を測定した。次に、直線Ａと同様の方法を用いて、直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３及び直線Ｃについての各点の膜厚を測定し、５本の直線について合計５０５個の各点の膜厚を測定した。さらに、前述した直線Ａから直線Ｃまでの各直線と同様に、直線Ｂから直線Ｄに向かう５本の直線（直線Ｂ、直線Ｂ１、直線Ｂ２、直線Ｂ３、直線Ｄ）の合計５０５個の各点について膜厚を測定した。最後に、前述した方法により測定された正方形フィルム内の総計１０１０個についての膜厚の平均値をフィルムの膜厚とした。また、膜厚の最大値から平均膜厚を差し引いた値、及び平均膜厚から膜厚の最小値を差し引いた値を各々算出し、算出した値のうち大きい値を膜厚精度とした。
【００９９】
[表面平滑性（ｎｍ）] 
表面平滑性は、幅１５μｍにおける凹凸を測定した。なお、測定には、ＳＥＩＫＯ  ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴ社製、ＡＦＭを使用した。幅１５μｍにおける凹凸を求めた点は、１２ｃｍ×１２ｃｍの正方形であるフィルムの中央部の点と、四辺の各中央部から１ｃｍ内側の点とについて合計５点を測定し、最も大きい凹凸の大きさを表面平滑性とした。
【０１００】
［屈折率差］
アッベ屈折計を用いて、光透過層と粘着層それぞれ単独で測定し、算出した。測定装置として、アタゴ（株）製アッベ屈折計を使用した。
【表１】
2006044007.tif 000003
【０１０１】
表１に示すとおり、基材層の表面平滑性や保護層の表面平滑性が２０μｍを超えるものを用いて製造された比較例１および２の２層積層フィルムの膜厚精度は±２．０以内に収まらず、その光透過率は８７％未満であったが、基材層の表面平滑性や保護層の表面平滑性が２０μｍ以下のものを用いて製造された実施例１および２の２層積層フィルムの膜厚精度は±２．０以内に収まり、その光透過率は８７％以上となった。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本発明の実施形態における、高密度ＤＶＤの一部の構造を示す斜視図。
【図２】図１に示した高密度ＤＶＤの一部の構造を示す断面図。
【図３】従来例における、ＤＶＤの構造を概略的に説明するためにＤＶＤの一部を拡大した斜視図。
【図４】図３に示したＤＶＤの断面図。
【符号の説明】
【０１０３】
１  高密度ＤＶＤ
２  支持基盤
３  記録層
４  粘着層
５  光透過層
６  レーザー光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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