(57)【要約】【課題】  複数のビームを確実に検出でき、結果として複数のビームの副走査方向の間隔を精度良く検出することができるマルチビーム走査装置及びそれを備えた画像形成装置、カラー画像形成装置を提供することを目的とする。【解決手段】  第１の光検出素子３や第２の光検出素子４に２つのビームが同時に照射されることのないように、２つのビームスポットを主走査方向にずらして配置することにより、ビーム１とビーム２との立ち上がり部を検出することができ、ビーム１とビーム２との副走査方向の間隔を精度良く検出することができる。【選択図】  図１
2006171646.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光ビームを用いて被走査面上を走査するマルチビーム走査装置において、
１つまたは複数の光検出素子を用いて、前記複数の光ビームのうち少なくとも２つの光ビームの副走査方向の間隔を検出するビーム間隔検出手段を有し、
前記少なくとも２つの光ビームが同じビーム間隔検出手段に同時に照射されないようにしたことを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項２】
前記ビーム間隔検出手段によって副走査方向の間隔を検出される少なくとも２つの光ビームの前記ビーム間隔検出手段近傍における主走査方向の間隔が、前記ビーム間隔検出手段の主走査方向の幅よりも広いことを特徴とする請求項１記載のマルチビーム走査装置。
【請求項３】
請求項１記載のマルチビーム走査装置において、
下記式を満たすことを特徴とするマルチビーム走査装置。
ｗ＞ｔ＋３×ｄ
ｔ：光検出素子の主走査方向の幅
ｗ：ビーム間隔検出手段によって副走査方向の間隔を検出される少なくとも２つの光ビームの、前記ビーム間隔検出手段近傍における主走査方向の間隔
ｄ：ビーム間隔検出手段によって副走査方向の間隔を検出される少なくとも２つの光ビームの、前記ビーム間隔検出手段近傍における主走査方向のビームスポット径（主走査方向のビームプロファイルをピーク光量に対して１／ｅ＾２のスレッシュラインで切った時のビームスポット直径）
【請求項４】
鏡面を複数備えた回転多面鏡が回転することによって、前記複数の光ビームを走査するものであって、
前記複数の鏡面のうちのある同じ面で反射された光ビームのみを用いて、複数の光ビームの副走査方向の間隔を検出することを特徴とする請求項１記載のマルチビーム走査装置。
【請求項５】
前記ビーム間隔検出に用いられる光検出素子、または別に設けた光検出素子で光ビームが検出される回数をカウントすることによって、前記複数の鏡面のうちのある同じ面で反射された光ビームのみを選択して、複数の光ビームの副走査方向の間隔を検出することを特徴とする請求項４記載のマルチビーム走査装置。
【請求項６】
前記回転多面鏡の有する複数の鏡面のうち、少なくとも１つを特定できる鏡面特定手段を有し、
前記鏡面特定手段により特定した鏡面で反射された光ビームのみを用いて、複数の光ビームの副走査方向の間隔を検出することを特徴とする請求項４記載のマルチビーム走査装置。
【請求項７】
前記少なくとも２つの光ビームの副走査方向の間隔をビーム間隔検出手段によって検出した結果に応じて調整する副走査ビーム間隔調整手段を有することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載のマルチビーム走査装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載のマルチビーム走査装置を備え、
前記マルチビーム走査装置を用いて感光体に潜像を書き込み、前記潜像を顕像化させることにより画像を形成することを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
請求項１から７のいずれか１項に記載のマルチビーム走査装置を備え、
前記マルチビーム走査装置を用いて、複数の像担持体上に各々潜像を書き込み、該複数の像担持体上の潜像を各々現像手段によって顕像化させてできる画像を、重ね合わせることによってカラー画像を形成することを特徴とするカラー画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マルチビーム走査装置及びそれを備えた画像形成装置、カラー画像形成装置に関し、特に、複数のビームの検出の精度を向上させるマルチビーム走査装置及びそれを備えた画像形成装置、カラー画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザビームプリンタやデジタル複写機等に用いられる光走査装置は、例えば、単一の半導体レーザを用いて感光体上に画像情報に応じてレーザビームを走査露光し、感光体上に画像情報に応じた静電潜像を形成して、静電潜像を現像することによって画像の記録を行うように構成されている。
【０００３】
ところで、レーザビームプリンタ等の光走査装置において、画像記録用の光源として単一の半導体レーザではなく複数の半導体レーザを配列してなるマルチビーム光源装置を用い、このマルチビーム光源装置によって感光体ドラム上に複数（ｎ）本の走査線を同時に露光させると、次に示すように高速な画像記録あるいは、印字品質やコストの面で種々の利点がある。
【０００４】
すなわち、画像記録用光源としてマルチビーム光源装置を用いた場合には、レーザビームの走査速度とプリントスピードを単一の半導体レーザを用いた場合と等しく設定したとしても、走査線の密度を単一の場合に比べてｎ倍にすることができ、高解像度の画像記録が可能となる。
【０００５】
また、レーザビームの走査速度と走査線の密度を単一の場合と等しく設定したとしても、プリントスピードをｎ倍に高速化することが可能となる。さらに、プリントスピードとレーザビームの走査線密度を単一の場合と等しく設定したとしても、レーザビームの走査密度、つまりレーザビームを主走査方向に沿って走査させるポリゴンミラーの回転数を１／ｎにすることができ、ポリゴンミラーを回転駆動するための機構を簡略化することができ、コストダウンが可能となるという種々の効果がある。
【０００６】
そのため、レーザビームプリンタ等の光走査装置においては、マルチビーム光源装置を用いる技術が種々開発されており、徐々に普及しつつある。
【０００７】
ところで、複数のビームにより同時に感光体上を走査して画像を記録するマルチビーム走査装置においては、複数のレーザビームのスポットサイズを互いに揃える必要があり、感光体ドラム上に走査される複数のレーザビームの走査線間隔が所定の値になるように調整する必要がある。
【０００８】
つまり、マルチビーム走査装置においては、感光体上に走査される複数のレーザビームの走査線間隔が所定の値になっていないと、感光体上に記録される画像の記録密度に周期的なムラが生じるなどして画質が劣化するという問題点が生じる。そのため、複数のレーザビームにより同時に感光体上を走査して画像を記録するマルチビーム走査装置においては、装置の出荷時、装置のユーザへの搬入時や設置時、装置のメインテナンス時に、あるいはマルチビーム走査装置に設けられた自動調整手段によって装置稼働中に、感光体上に走査される複数のレーザビームの走査線間隔を所定の値にするよう調整が行われるが、この調整を行うためには複数のレーザビームの走査線間隔を検出する検出手段が必要となる。
【０００９】
また、従来のマルチビーム走査装置に関して開示されている技術を以下に示す。
特許文献１には、特別な装置を用いなくても、感光体上での各レーザビームによる副走査方向の各走査ピッチを各々均一となるように調整可能にする画像形成装置が記載されている。特許文献２には、他のビーム特性に支障をきたすことなく、ビームピッチを補正することができるマルチビーム走査装置及び画像形成装置が記載されている。
【特許文献１】特開２００１−９１８７０号公報
【特許文献２】特開２００３−３５８７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ここで、上記に示す検出手段としては、従来の検出手段のように「２つの光ビーム検知手段を、それぞれの光ビーム検知領域の主走査方向始端側の端縁が相互に非平行になるように主走査方向に並べて配設」したものが挙げられる。しかしながら、このような検出手段において、１つの光ビーム検知手段に同時に２つの光ビームが照射されると、精度良く２つのビームの走査線間隔を検出することが困難になるという問題がある。
【００１１】
２つの光ビームの主走査方向の位置が完全に一致している場合には２つのビームスポットを分離して検出できないが、これに限らず、図１２に示すように、２つの光ビームの主走査方向の光量的なピークポイントがずれていたとしても、例えば片方のビームサイドローブと呼ばれる小さなピークや、あるいはそれよりもさらに外側の裾の部分の微弱な光量が、他方のビームと共に、検知手段を構成する光検出素子の１つである第１の光検出素子３００に同時に照射されることによって、２つのビームの走査線間隔の検出に誤差が生じることがある。
【００１２】
具体的には、図２に示すように、正しくは、第１の光検出素子３００及び４００それぞれにおいて、ビーム１００及び２００の入射時の立ち上がりを検知し、ビーム１００の通過時間ｓ１およびビーム２の通過時間ｓ２との差ｓ２−ｓ１と、各光検出素子の立ち上がり検出エッジ部のなす角θとの関係から、２つのビームの副走査方向の間隔ｐを検出できるものである。
【００１３】
しかし、実際には図１２および図１３のようにビーム１の一部とビーム２の一部とが同時に第１の光検出素子３００に照射された場合、スレッシュ２を基準に光を検出する場合にはビーム２の立ち上がり部の検出時間が、本来検出されるべき時間に対してｓ３−ｓ２だけずれることになる。また、スレッシュ１を基準に光を検出している場合には、第１の光検出素子３００におけるビーム２００の立ち上がり部が検知されない。
【００１４】
以上の問題に対して、２つのビームの走査線間隔を検出するのに、２つのビームを同時に点灯するのではなく、１つずつ点灯してそれぞれ別々に走査位置を検出して差を求める方法もあるが、検出に用いる回転多面鏡の面が異なると、回転多面鏡の回転軸に対する各鏡面の倒れの差異（面倒れ）の影響によって走査位置の検出結果がばらついてしまうという問題がある。
【００１５】
本発明は係る問題に鑑みてなされたものであり、複数のビームを確実に検出でき、結果として複数のビームの副走査方向の間隔を精度良く検出することができるマルチビーム走査装置及びそれを備えた画像形成装置、カラー画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するために、請求項１記載のマルチビーム走査装置は、複数の光ビームを用いて被走査面上を走査するマルチビーム走査装置において、１つまたは複数の光検出素子を用いて、複数の光ビームのうち少なくとも２つの光ビームの副走査方向の間隔を検出するビーム間隔検出手段を有し、少なくとも２つの光ビームが同じビーム間隔検出手段に同時に照射されないようにしたことを特徴とする。
【００１７】
請求項２記載の発明は、請求項１記載のマルチビーム走査装置であって、ビーム間隔検出手段によって副走査方向の間隔を検出される少なくとも２つの光ビームのビーム間隔検出手段近傍における主走査方向の間隔が、ビーム間隔検出手段の主走査方向の幅よりも広いことを特徴とする。
【００１８】
請求項３記載の発明は、請求項１記載のマルチビーム走査装置であって、下記式を満たすことを特徴とする。
ｗ＞ｔ＋３×ｄ
ｔ：光検出素子の主走査方向の幅
ｗ：ビーム間隔検出手段によって副走査方向の間隔を検出される少なくとも２つの光ビームの、ビーム間隔検出手段近傍における主走査方向の間隔
ｄ：ビーム間隔検出手段によって副走査方向の間隔を検出される少なくとも２つの光ビームの、ビーム間隔検出手段近傍における主走査方向のビームスポット径（主走査方向のビームプロファイルをピーク光量に対して１／ｅ＾２のスレッシュラインで切った時のビームスポット直径）
【００１９】
請求項４記載の発明は、請求項１記載のマルチビーム走査装置であって、鏡面を複数備えた回転多面鏡が回転することによって、複数の光ビームを走査するものであって、複数の鏡面のうちのある同じ面で反射された光ビームのみを用いて、複数の光ビームの副走査方向の間隔を検出することを特徴とする。
【００２０】
請求項５記載の発明は、請求項４記載のマルチビーム走査装置であって、ビーム間隔検出に用いられる光検出素子、または別に設けた光検出素子で光ビームが検出される回数をカウントすることによって、複数の鏡面のうちのある同じ面で反射された光ビームのみを選択して、複数の光ビームの副走査方向の間隔を検出することを特徴とする。
【００２１】
請求項６記載の発明は、請求項４記載のマルチビーム走査装置であって、回転多面鏡の有する複数の鏡面のうち、少なくとも１つを特定できる鏡面特定手段を有し、鏡面特定手段により特定した鏡面で反射された光ビームのみを用いて、複数の光ビームの副走査方向の間隔を検出することを特徴とする。
【００２２】
請求項７記載の発明は、請求項１から６のいずれか１項に記載のマルチビーム走査装置であって、少なくとも２つの光ビームの副走査方向の間隔をビーム間隔検出手段によって検出した結果に応じて調整する副走査ビーム間隔調整手段を有することを特徴とする。
【００２３】
請求項８記載の画像形成装置は、請求項１から７のいずれか１項に記載のマルチビーム走査装置を備え、マルチビーム走査装置を用いて感光体に潜像を書き込み、潜像を顕像化させることにより画像を形成することを特徴とする。
【００２４】
請求項９記載のカラー画像形成装置は、請求項１から７のいずれか１項に記載のマルチビーム走査装置を備え、マルチビーム走査装置を用いて、複数の像担持体上に各々潜像を書き込み、該複数の像担持体上の潜像を各々現像手段によって顕像化させてできる画像を、重ね合わせることによってカラー画像を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、回転多面鏡の各鏡面の面倒れのばらつきの影響を受けることなく、精度良く複数のビームの副走査方向の間隔を検出できるマルチビーム走査装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
次に、添付図面を参照して本実施形態の説明をする。
（第１の実施形態）
図１に示すように、第１の光検出素子３や第２の光検出素子４に２つのビームが同時に照射されることのないように、２つのビームスポットを主走査方向にずれして配置すれば図３のタイムチャートに示すように、確実にビーム１とビーム２との立ち上がり部を検出することができ、結果としてビーム１とビーム２との副走査方向の間隔ｐを精度良く検出することができる。
【００２７】
具体的には、ビームの走査速度をｖとすると、ビーム１とビーム２との副走査方向の間隔ｐは次式によって算出される。
ｐ＝ｖ×（ｓ５−ｓ４）／ｔａｎθ
【００２８】
また、主走査方向のビームプロファイルは図４に示すように、光量のピークを１とした時の１／ｅ＾２をスレッシュとして得られるビームスポット直径をｄとすると、一般に直径３×ｄよりも外側では光量が十分に小さく、上記のような光検出素子によるビームの検出に影響を及ぼさない。従って、次式、
ｗ＞ｔ１＋３×ｄ
ｔ１：第１の光検出素子３の主走査方向の幅
ｗ：ビーム間隔検出手段によって副走査方向の間隔を検出される少なくとも２つ    の光ビームのビーム間隔検出手段近傍における主走査方向の間隔
ｄ：ビーム間隔検出手段によって副走査方向の間隔を検出される少なくとも２つの光ビームのビーム間隔検出手段近傍における主走査方向のビームスポット径（主走査方向のビームプロファイルをピーク光量に対して１／ｅ＾２のスレッシュラインで切った時のビームスポット直径）
を満たすようにすれば、より確実にビーム１とビーム２とを第１の光検出素子３で検出することができる。また、第２の光検出素子４の場合には、図２に示すように光検出に用いる使用領域のうち、主走査方向の幅が一番大きい所の幅をｔ２として、上記に示す式のｔ１をｔ２に置き換えればよい。
【００２９】
（第２の実施形態）
第２の実施形態では、２ビームを走査を行うものである。
図５に示すように、光源として、２つの半導体レーザ（ＬＤ）１ａ，１ｂが用いられる。半導体レーザ１ａ，１ｂから放射されたビームは、各光源と１：１に対応するカップリングレンズ２ａ，２ｂによりそれぞれカップリングされる。カップリングされた各ビームは、アパーチャ部材３に形成されている２つのアパーチャを通過してビーム規制されたのち、共々にシリンドリカルレンズ４に入射し、副走査方向（図面に直交方向）に収束され、偏向器としての回転多面鏡５の偏向反射面５Ａの近傍に主走査方向に長く略線状に結像する。
【００３０】
半導体レーザ１ａ，１ｂからのビームの主光線は、偏向反射面５Ａへ向かうにつれて次第に近接しあい、その偏向回転面への射影は、図７に示すように略「偏向反射面５Ａの位置」で相互に交わる。従って、偏向反射面５Ａに入射してくる２ビームは偏向回転面内において、開き角として角αを有することになり、開き角αは３．１度である。
【００３１】
回転多面鏡５の偏向反射面５Ａにより反射された各ビームは、回転多面鏡５Ａが回転軸５Ｂの回りに等速回転すると等角速度的に偏向し、走査光学系をなすレンズ６，７を透過し、同光学系の作用により、被走査面８（実体的には潜像担持体の感光面）上に各々ビームスポットを形成する。そして、これら２つのビームスポットにより被走査面８が一度に２走査ずつ光走査される。
【００３２】
また、２つの走査線の一部はミラー１１を介してビーム間隔検出手段１２に導かれ、ここで副走査方向の走査線の間隔が検出される。ビーム検出手段１２は、図１に示すような構成とする。
【００３３】
次に、図６を参照して図５に示す光源部の詳細を説明する。
上記のような開き角αを有する２つのビームを射出する光源ユニットは、図６に示すように光源ユニット回転手段１１ｆを用いて回転させることによって、被走査面上の２つのビームスポットの副走査方向の間隔を調整することができる。従って図５におけるビーム間隔検出手段１２で検出された結果を図６における光源ユニット回転手段１１ｆにフィードバックして光源ユニット１１を回転調整することで、環境温度が変化した時などにも常に２つの走査線の副走査方向の間隔を所定量に保つことができる。
【００３４】
（第３の実施形態）
図７は、図５に示すようなマルチビーム走査装置におけるポリゴンミラー部を示したものであり、ここでは、ポリゴンミラーのミラー面数は６面とする。
図７では、光を発する光源９１と、光源９１から発せられてポリゴンミラー９２上面で反射された光を検知するフォトディテクタ９３が設けられている。フォトディテクタ９３の出力は、光を検知するとＨＩＧＨ、検知しない時はＬＯＷとなる。
【００３５】
従って、このような光源９１、フォトディテクタ９３、および黒線９４を用いれば、ポリゴンミラーが回転しているときに、ポリゴンミラーのフォトディテクタ９３の出力がＬＯＷになった後、最初の面を第１面とすれば、常に確実に第１面を特定することができる。
【００３６】
このような構成において、例えば図８に示すタイムチャートのように、最初にフォトディテクタ９３が黒線９４を検知したと同時にＬＤ１ａを点灯させると、ポリゴンミラーの次の面、面１で走査された時にビーム間隔検出手段１２の第１の光検出素子及び第２の光検出素子にＬＤ１ａのビームが照射されて検知される。第２の光検出素子の出力が再びＬＯＷになったらＬＤ１ａを消灯する。
【００３７】
それからポリゴンミラーが１回転して次に黒い線９４がフォトディテクタ９３で検知されたら、今度はＬＤ１ｂを点灯させる。またＬＤ１ａの時と同様に、第１の光検出素子および第２の光検出素子でＬＤ１ａのビームが検知され、第２の光検出素子の出力が再びＬＯＷになったらＬＤ１ｂを消灯する。このようにすると、ＬＤ１ａのビームが第１の光検出素子から第２の光検出素子に至るまでの時間ｓ６も、ＬＤ１ｂのビームが第１の光検出素子から第２の光検出素子から第２の光検出素子に至るまでの時間ｓ７も、ポリゴンミラーの同じ面、面１で走査された際の時間となり、従ってこうして得られたｓ６とｓ７との差から２つのビームの副走査方向の間隔を算出すれば、ポリゴンミラーの面倒れの６面間のばらつきの影響を排して精度良く２つのビームの副走査方向の管轄を検出できる。
【００３８】
（第４の実施形態）
図９に示すタイムチャートでは、ＬＤ１ａを点灯し、第１の光検出素子及び第２の光検出素子で検知され、第２の光検出素子がＬＯＷになったらＬＤ１ａを消灯する。一方、ＬＤ１ａが第１の光検出素子で検知された瞬間から予め決められたポリゴンミラー１回転に相当する時間より少し短い時間ｓ８だけ、クロックを用いてカウントし、ｓ８だけ経ったらＬＤ１ｂを点灯する。そして、またＬＤ１ａと同様に、第２の光検出素子がＬＯＷになったらＬＤ１ｂを消灯する。このようにすることでポリゴンミラーのどの面か特定はされないものの、ＬＤ１ａ、ＬＤ１ｂ共に同じ面で走査された際の、第１の光検出素子から第２の光検出素子に至るまでの時間を得ることができ、従ってポリゴンミラーの面倒れの面間のばらつきの影響を排して精度良く２つのビームの副走査方向の間隔を検出できる。
【００３９】
（第５の実施形態）
図１０に示すタイムチャートでは、ＬＤ１ａを点灯し、第１の光検出素子および第２の光検出素子で検知され、第２の光検出素子がＬＯＷになったらＬＤ１ａを消灯する。また、ＬＤ１ａが第１の光検出素子で検知された瞬間から予め決められたポリゴンミラー１回転の６分の１（すなわち１面分の走査時間）に相当する時間より少し短い時間ｓ９だけ、クロックを用いてカウントし、ｓ９だけ経ったらＬＤ１ａを点灯する。これを６回繰り返したら（例えば第１の光検出素子の立ち上がりを６回カウントしたら）、次はＬＤ１ａの代わりＬＤ１ｂを点灯する。
【００４０】
ここで、ＬＤ１ａについて６回得られた第１の光検出素子〜第２の光検出素子間の時間のデータのうちの１回目のデータｓ１０と、ＬＤ１ｂの１回目のデータｓ１１から副走査方向の間隔を算出する。このようにすれば、ポリゴンミラーのどの面を用いるか特定はされないものの、ＬＤ１ａ、ＬＤ１ｂ共に同じ面で走査された際の、第１の光検出素子から第２の光検出素子に至るまでの時間によって副走査方向の間隔を求めることができ、従ってポリゴンミラーの面倒れの面間のばらつきの影響を排して精度良く２つのビームの副走査方向の間隔を検出することができる。
【００４１】
なお、光検出素子の例としては図１のものについてのみ説明してきたが、本実施形態はこれに限るものではなく、例えば図１１に示すように他の形態や２分割タイプの光検出素子を用いた構成のものでも良い。ここで図１１の（ｂ）及び（ｃ）に示すように、２分割タイプの光検出素子を用いた場合は、２つに分割された各々の光検出素子（例えば（ｂ）であれば４つの光検出素子）について、同時に２つのビームが照射されないようにすれば良い。
【００４２】
また、ここではビームの数が２つの場合のみを示したが、本実施形態の適用範囲はこれに限るものではなく、３つ以上のビームを用いたマルチビーム走査装置にも適用できる。特に、ビーム数が３つ以上であっても、２つずつ順に副走査方向の間隔を検出するようにすれば、ビーム数が２つの場合と全く同じ手順にて、３つ以上のビームそれぞれの副走査方向の間隔を検出することができる。
【００４３】
上記に示す実施形態から、複数のビームの副走査方向の間隔を精度良く検出することができ、環境温度が変化した時などにも常に複数のビームの副走査方向の間隔を所定量に保つことができる。また、本実施形態に示したマルチビーム走査装置を用いることで周期的な濃度のムラが少ない良好な画像が得られる画像形成装置またはカラー画像形成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】第１の実施形態におけるビーム検出手段の構成を示した図である。
【図２】第１の実施形態における第２の光検出手段の詳細を示した図である。
【図３】第１の実施形態における第１の光検出手段と第２の光検出手段におけるビームプロファイルを示した図である。
【図４】第１の実施形態における第１の光検出手段と第２の光検出手段における主走査方向のビームプロファイルを示した図である。
【図５】第２の実施形態におけるビーム書き込みユニットの構成を示した図である。
【図６】第２の実施形態における図５に示す光源部の詳細な構成を示した図である。
【図７】第３の実施形態における図５に示すポリゴンミラーの詳細な構成を示した図である。
【図８】第３の実施形態における各ＬＤと各光検出素子のタイムチャートを示した図である。
【図９】第４の実施形態における各ＬＤと各光検出素子のタイムチャートを示した図である。
【図１０】第５の実施形態における各ＬＤと各光検出素子のタイムチャートを示した図である。
【図１１】本実施形態における光検出素子の構成における変形例を示した図である。
【図１２】従来のビーム検出手段の構成を示した図である。
【図１３】従来の第１の光検出手段と第２の光検出手段におけるビームプロファイルを示した図である。
【符号の説明】
【００４５】
１、２    ビーム
３    第１の光検出手段
４    第２の光検出手段
【図１】
2006171646.tif 000003
【図２】
2006171646.tif 000004
【図３】
2006171646.tif 000005
【図４】
2006171646.tif 000006
【図５】
2006171646.tif 000007
【図６】
2006171646.tif 000008
【図７】
2006171646.tif 000009
【図８】
2006171646.tif 000010
【図９】
2006171646.tif 000011
【図１０】
2006171646.tif 000012
【図１１】
2006171646.tif 000013
【図１２】
2006171646.tif 000014
【図１３】
2006171646.tif 000015