(57)【要約】【課題】  波長５２０〜６９０ｎｍの短波長レーザーでの記録および再生が可能で、標準の記録速度のみならず高速度の記録においても良好な記録特性を有する高密度光記録媒体を提供する。【解決手段】  下記一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物。【化１】2006257109.tif 000018（式中Ｒ１〜Ｒ２はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ベンジル基、スルホン酸アルキル基を表す。但し少なくともＲ１及びＲ２のどちらか一方は必ずスルホン酸アルキル基を表す。）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物。
【化１】
2006257109.tif 000017
（式中Ｒ１〜Ｒ２はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ベンジル基、スルホン酸アルキル基を表す。但し少なくともＲ１及びＲ２のどちらか一方は必ずスルホン酸アルキル基を表す。）
【請求項２】
基板上に少なくとも、有機色素を含有する記録層および反射層を有する光記録媒体であって、有機色素として請求項１記載のトリメチン化合物を少なくとも１種用いることを特徴とする光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トリメチン系化合物を用いた、従来に比較して高密度に記録および再生可能な光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像、映像、音声等のデータを記録再生することのできる媒体として、有機色素を記録材料として用いるＣＤ−Ｒが広く知られている。現在、扱われるデータ量の増大に伴い、ＣＤ−Ｒと比較して大容量な記録再生可能な光記録媒体の普及が望まれ、中でもＣＤ−Ｒ同様有機色素を記録材料とするＤＶＤ−Ｒが、次世代を担う媒体として開発され、商品化されるに至っている。
【０００３】
ＤＶＤ−Ｒの一般的な構造は図１に示す通りであり、ランド７及びグル−ブ６を有する透明樹脂基板１の上に、記録層２、反射層３及び保護層（または接着層）４が形成され、場合によってはこれらの上に基板５が更に設けられる。
【０００４】
ＤＶＤ−Ｒでは高密度記録を行うためにレーザー光の発信波長が６３０ｎｍ〜６８０ｎｍ近傍とＣＤ−Ｒの場合よりも短波長化している。このような短波長用途の有機色素系光記録媒体の色素としては、シアニン、アゾ、ポルフィリン系色素他、インジゴ類、ジオキサジン化合物、クマリン化合物、ペリレン化合物、ナフトラクタム化合物、トリフェニルメタン化合物、サブフタロシアニン化合物、ジベンゾピラン化合物、ジピロメテン化合物等が提案されている。
【０００５】
中でも、トリメチン化合物は光学特性に優れ、高密度化に対応できることから検討されている。
トリメチン化合物は、トリメチン構造を有するカチオン及びその対イオンであるアニオンにより構成されており、対イオンであるアニオンとしては、ヨウ素、臭素、塩素等のハロゲンアニオン；過塩素酸アニオン、塩素酸アニオン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リンアニオン、六フッ化アンチモンアニオン、四フッ化ホウ素アニオン等の無機系アニオン；ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン等が使用されており、これらは、特開２００１−２０９９６９号公報、特開２００１−３２２３５４号公報、特開２０００−１０８５１０号公報、特開２０００−１６８２３３号公報、特開平１０−２３５９９９号公報、特開平１０−３３７９５９号公報等に記載されている。
【０００６】
一方、ＣＤ−Ｒにおける記録速度の高速化に見られるように、ＤＶＤ−Ｒにおいても標準の記録速度に比べ、４倍速や８倍速、若しくはそれ以上の高速記録に対応した光記録媒体が望まれている。しかし、上記のトリメチン化合物を用いた光記録媒体は、高速記録に際しての記録感度に未だ改善の余地がある。
【特許文献１】特開２００１−２０９９６９号公報
【特許文献２】特開２００１−３２２３５４号公報
【特許文献３】特開２０００−１０８５１０号公報
【特許文献４】特開２０００−１６８２３３号公報
【特許文献５】特開平１０−２３５９９９号公報
【特許文献６】特開平１０−３３７９５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者の目的は、波長５２０〜６９０ｎｍの短波長レーザーでの記録および再生が可能で、標準の記録速度のみならず高速度の記録においても記録感度に優れ、良好な記録特性を有する高密度光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を進めた結果、特定の構造を有するトリメチン化合物を用いることにより、標準の記録速度のみならず高速度の記録においても記録感度に優れ、良好な記録特性を有する高密度光記録媒体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、
〔１〕下記一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物、
【０００９】
【化１】
2006257109.tif 000002
【００１０】
（式中Ｒ１〜Ｒ２はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ベンジル基、スルホン酸アルキル基を表す。但し少なくともＲ１及びＲ２のどちらか一方は必ずスルホン酸アルキル基を表す。）
〔２〕基板上に少なくとも、有機色素を含有する記録層および反射層を有する光記録媒体であって、有機色素として〔１〕に記載のトリメチン化合物を少なくとも１種用いることを特徴とする光記録媒体、
に関するものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の新規なトリメチン系化合物を記録層として用いることにより、波長５２０〜６９０ｎｍの短波長レーザーでの記録および再生が可能で、標準の記録速度のみならず高速度の記録においても良好な記録特性を有する高密度光記録媒体を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のトリメチン化合物とは、下記一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物である。
以下、本発明におけるトリメチン化合物として、下記一般式（Ｉ）で表されるトリメチン化合物についてより具体的に説明する。
【００１３】
【化２】
2006257109.tif 000003
【００１４】
（式中Ｒ１〜Ｒ２はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ベンジル基、スルホン酸アルキル基を表す。但し少なくともＲ１及びＲ２のどちらか一方は必ずスルホン酸アルキル基を表す。）
【００１５】
一般式（Ｉ）で表されるトリメチン化合物において、Ｒ１〜Ｒ２はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ベンジル基、スルホン酸アルキル基を表す。但し少なくともＲ１及びＲ２のどちらか一方は必ずスルホン酸アルキル基を表す。
【００１６】
一般式（Ｉ）のトリメチン化合物中のＲ１、Ｒ２の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ-プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｃｙｃｌｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、３−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−エチルブチル基、１，２，２−トリメチルブチル基、１，１，２−トリメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘキシル基、２，５，５−トリエチルペンチル基、２，４−ジメチルヘキシル基、２，２，４−トリメチルペンチル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、４−エチルオクチル基、４−エチル−４，５−ジメチルヘキシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、１，３，５，７−テトラメチルオクチル基、４−ブチルオクチル基、６，６−ジエチルオクチル基、ｎ−トリデシル基、６−メチル−４−ブチルオクチル基、６，６−ジエチルオクチル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、３，５−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプチル基、２，４−ジメチルヘプチル基、２，２，５，５−テトラメチルヘキシル基、１−ｃｙｃｌｏ−ペンチル−２，２−ジメチルプロピル基、１−ｃｙｃｌｏ−ヘキシル−２，２−ジメチルプロピル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；
クロロメチル基、ジクロロメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、ノナフルオロ−ｎ−ブチル基、ノナフルオロ−tert−ブチル基、2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル基、2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロブチル基、パーフルオロイソペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロペンチル基、ヘプタフルオロ-sec-ペンチル基、パーフルロヘキシル基、パーフルオロイソヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロシクロヘキシル基、4−トリフルオロメチルシクロヘキシル基等のハロゲノアルキル基；
メトキシエチル基、エトキシエチル基、ｉｓｏ−プロピルオキシエチル基、３−メトキシプロピル基、２−メトキシブチル基等のアルコキシアルキル基；
２−ジメチルアミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、４−ジメチルアミノブチル基、２−ジエチルアミノエチル基、３−ジエチルアミノプロピル基、４−ジエチルアミノブチル基、２−ジ−ｎ−プロピルアミノエチル基、３−ジ−ｎ−プロピルアミノプロピル基、４−ジ−ｎ−プロピルアミノブチル基、２−ジ−ｎ−ブチルアミノエチル基、３−ジ−ｎ−ブチルアミノプロピル基、４−ジ−ｎ−ブチルアミノブチル基等の炭素数４〜１２のジアルキルアミノアルキル基；
メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ｎ−プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルエチル基、フェノキシカルボニル基等の炭素数３〜７のアルコキシカルボニルアルキル基；
スルホン酸プロピル基、スルホン酸ブチル基、スルホン酸ペンチル基、スルホン酸ヘキシル基、スルホン酸ヘプチル基、スルホン酸オクチル基等のスルホン酸アルキル基等；
が挙げられる。
【００１７】
本発明の一般式（Ｉ）のトリメチン化合物の好ましい具体例を下記に示すが、その化合物の範囲はこれらに限定されるものではない。
【００１８】
【化３】
2006257109.tif 000004
【００１９】
【化４】
2006257109.tif 000005
【００２０】
【化５】
2006257109.tif 000006
【００２１】
【化６】
2006257109.tif 000007
【００２２】
【化７】
2006257109.tif 000008
【００２３】
【化８】
2006257109.tif 000009
【００２４】
本発明のトリメチン化合物の製造法は、特に限定されないが、例えば、一般式（II）で表されるインドレニウム化合物と下記一般式（III）で表される化合物を脂肪酸塩の存在下、脱水性有機酸を用いて縮合させることにより下記一般式（Ｉ）のトリメチン化合物が得られる。
【００２５】
【化９】
2006257109.tif 000010
【００２６】
（式（II）、(III)中のＲ１、Ｒ２は式（Ｉ）と同じ意味を表す。）
＜下記一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物＞
【００２７】
【化１０】
2006257109.tif 000011
【００２８】
（式中Ｒ１〜Ｒ２はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ベンジル基、スルホン酸アルキル基を表す。但し少なくともＲ１及びＲ２のどちらか一方は必ずスルホン酸アルキル基を表す。）
【００２９】
上記縮合反応において、脂肪酸塩としては、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム、プロピオン酸カリウム等が挙げられる。
かかる脂肪酸塩は一般式（II）で表される化合物１モル当たり通常０．１〜５モル程度、好ましくは０．５〜２モル程度使用する。
脱水性有機酸としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、γ−ブチルラクトン等が挙げられる。
かかる脱水性有機酸は、一般式（III）で表される化合物１モル当たり通常１０〜１００モル程度、好ましくは２０〜５０モル程度使用する。
【００３０】
一般式（II）で表される化合物と一般式（III）で表される化合物との使用割合は、通常前者１モルに対し後者を１〜１．５モル程度、好ましくは１〜１．１モル程度使用する。
上記反応は通常１０〜１５０℃程度、好ましくは室温〜１００℃で好適に進行し、一般に数分〜３時間程度で完結する。
【００３１】
反応後、例えば、水やメタノール、エタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール等の貧溶媒を注入したり、或いは水やメタノール、エタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール等の貧溶媒へ排出することにより反応混合物から目的物を容易に単離することができる。
【００３２】
本発明における光記録媒体に関し、その具体的な構成について以下に説明する。
【００３３】
光記録媒体とは予め情報を記録されている再生専用の光再生専用媒体及び情報を記録して再生することのできる光記録媒体の両方を示すものである。但し、ここでは適例として後者の情報を記録して再生のできる光記録媒体、特に基板上に記録層、反射層を有する光記録媒体に関して説明する。本発明の光記録媒体は図１に示すような貼り合わせ構造を有している。すなわち、ランド７及びグル−ブ６を有する透明樹脂基板１の上に、記録層２、反射層３及び保護層（または接着層）４が形成され、場合によってはこれらの上に基板５が更に設けられる。ただし、記録層２の下または上に別の層があっても良く、反射層３の上に別の層があっても良い。ここでは、既存のＤＶＤとの互換性のため、板厚が０．６ｍｍ、外径１２０ｍｍΦ、内径１５ｍｍφの円盤状基板が２枚貼り合わされた構造である。
【００３４】
次に、本発明の記録媒体の構成各層の必要特性及びその構成材料について説明する。
【００３５】
１）基板
基板の材質としては、基本的には記録光および再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成形される。基板表面には記録位置を表すプリグルーブやプリピット、一部再生専用情報等のためのプリピットを有していてもよい。これらのプリグルーブやプリピットは、射出成形法等により基板作製時にスタンパー原盤から転写付与する方法が通常とられる。また、レーザーカッティング法（プリライト）や２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒ）法により作製してもよい。
【００３６】
基板の溝ピッチは０．７μｍ〜１．０μｍであり、溝深さは１００ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは１４０ｎｍ〜１８５ｎｍである。溝幅は、０．２５μｍ〜０．４０μｍ、好ましくは０．３０μｍ〜０．３５μｍである。溝深さが１００ｎｍ未満の場合、トラッキングのためのプッシュプル信号振幅を得ることが困難になる傾向があり、２００ｎｍを越える場合は、射出成形時の転写プロセスが生産上実用的ではない。また、溝幅が０．２５μｍ未満の場合、クロストークが悪化する傾向があり、０．４μｍを越える場合、射出成形時の転写プロセスが生産上実用的ではない。これら溝形状は、Ｈｅ−Ｃｄレーザーの照射による回折光解析またはＡＦＭ等のプロファイルから求められる。
【００３７】
２）記録層
本発明においては、基板上に記録層を設けるが、本発明の記録層は、λmaxが４５０ｎｍ〜６３０ｎｍ付近に存在する一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物を含有する。中でも、５２０ｎｍ〜６９０ｎｍより選択される記録および再生レーザー波長に対して適度な光学定数（光学定数は複素屈折率（ｎ＋ｋｉ）で表現される。式中のｎ、ｋは、実数部ｎと虚数部ｋとに相当する係数である。ここでは、ｎを屈折率、ｋを消衰係数とする。）を有する必要がある。
【００３８】
一般に有機色素は、波長λに対し、屈折率nと消衰係数kが大きく変化する特徴がある。ｎが１．８より小さい値になると正確な信号読み取りに必要な反射率と信号変調度は得られず、ｋが０．４０を越えても反射率が低下して良好な再生信号が得られないだけでなく、再生光により信号が変化しやすく実用に適さない。この特徴を考慮して、目的とするレーザー波長において好ましい光学定数を有する有機色素を選択し記録層を成膜することで、高い反射率を有し、かつ、感度の良い媒体とすることができる。
【００３９】
本発明で使用する一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物は、通常の有機色素に比べ、吸光係数が高く、また置換基の選択により吸収波長域を任意に選択できるため、前記レーザー光の波長において記録層に必要な光学定数（ｎが１．８以上、且つ、ｋが０．０４から０．４０であり、好ましくは、ｎが２．０以上、且つ、ｋが０．０４〜０．２０）を満足する。
【００４０】
また、一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物は、ニトロ基、及びスルホン酸アルキル基を特定の位置に同時に置換することにより、記録レーザー照射時に発生する熱による分解が適度に促進され、高速記録時においても感度が優れ、また熱干渉によるピットジッターの悪化が十分低く抑制できる。これにより、標準の記録速度のみならず高速度の記録においても記録感度に優れ、良好な記録特性を有する光記録媒体とすることができる。
【００４１】
本発明の記録層においては、好ましくは、一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物１種を記録層として用いるが、記録特性などの改善のために、２種以上を混合したり、本発明のトリメチン化合物以外の色素と混合して用いてもよい。
【００４２】
一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物２種以上を混合して用いる場合のトリメチン化合物の混合割合については特に制限はされないが、前記の理由で、光学定数ｎが１．８以上、好ましくは２．０以上で、且つ、ｋが０．０４から０．４０であり、好ましくは０．０４〜０．２０になるように混合するのが好ましい。
【００４３】
また、混合して用いてもよい本発明のトリメチン化合物以外の色素としては、波長４５０ｎｍ〜６３０ｎｍに吸収極大を有し、５２０ｎｍ〜６９０ｎｍでの屈折率が大きい色素が挙げられる。具体的には、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、ポルフィリン系色素、アザポルフィリン系色素、テトラピラポルフィラジン系色素、インドフェノール系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、インダスレン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサジン系色素等があり、複数の色素の混合であっても良い。これらの色素の混合割合は、０．１〜３０％程度である。
【００４４】
更に、一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物の、５２０ｎｍ〜６９０ｎｍから選択される記録及び再生レーザー波長に対してのｋが小さい場合には、記録特性などの改善のために、波長６００ｎｍ〜９００ｎｍに吸収極大を有する光吸収化合物と混合しても良い。具体的には、アゾ色素、スクアリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、ポルフィリン系色素、アザポルフィリン系色素、テトラピラポルフィラジン系色素、インドフェノール系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、インダスレン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサジン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素等があり、複数の色素の混合であっても良い。これらの色素の混合割合は、０．１〜３０％程度である。
【００４５】
記録層を製膜する際に、必要に応じてクエンチャー、色素分解促進剤、紫外線吸収剤、接着剤、吸熱分解化合物などを混合するか、あるいは、そのような効果を有する化合物を一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物の置換基として導入することも可能である。
【００４６】
クエンチャーの具体例としては、アセチルアセトナート系化合物、ビスジチオ−α−ジケトン系化合物やビスフェニルジチオール系化合物などのビスジチオール系化合物、チオカテコール系化合物、サリチルアルデヒドオキシム系化合物、チオビスフェノレート系化合物などの金属錯体が好ましい。また、アミン化合物も好適である。
【００４７】
熱分解促進剤としては、例えば、金属系アンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセトナート系金属錯体などの金属化合物が挙げられる。
【００４８】
さらに、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤などを併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィンなどが挙げられる。
【００４９】
記録層を基板の上に成膜する際に、基板の耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良い。
【００５０】
記録層を設ける方法は、例えば、スピンコート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法などの塗布法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げられるが、スピンコート法が簡便で好ましい。
【００５１】
スピンコート法等の塗布法を用いる場合には、一般式（Ｉ）で示されるトリメチン化合物を１〜４０重量％、好ましくは３〜３０重量％となるように溶媒に溶解あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。具体的には、アルコール系（ケトアルコール系、エチレングリコールモノアルキルエーテル系等のアルコキシアルコール系を含む。）、ケトン系、エステル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系等が挙げられる。
【００５２】
このなかで、アルコール系が特に好ましい。アルコール系のなかでは、アルコキシアルコール系、ケトアルコール系などが好ましい。アルコキシアルコール系は、アルコキシ部分の炭素原子数が１〜４であることが好ましく、かつアルコール部分の炭素原子数が１〜５、さらには２〜５であることが好ましく、総炭素原子数が３〜７であることが好ましい。具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）やエチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ、エトキシエタノールともいう）やブチルセロソルブ、２−イソプロポキシ−１−エタノール等のエチレングリコールモノアルキルエーテル（セロソルブ）系や１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−ブタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、４−メトキシ−１−ブタノール、１−エトキシ−２−プロパノール等が挙げられる。ケトアルコール系としてはジアセトンアルコール等が挙げられる。さらには2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素化アルコールも用いることができる。
【００５３】
また、塗布液には適宜バインダー、分散剤、安定剤などを含有させてもよい。
【００５４】
なお、必要に応じて、記録層の色素を高分子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。
【００５５】
また、基板にダメージを与えない溶媒を選択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着法などが有効である。
【００５６】
色素層の膜厚は、特に限定するものではないが、基板の案内溝（グルーブ）上の膜厚が３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲が好ましく、基板の案内溝間（ランド）の膜厚は、１０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲が好ましい。グルーブの膜厚が１５０ｎｍを越すと、最短ピットが潰れ、好ましくない。また、３０ｎｍよりも薄い場合、良好な記録感度、記録変調度が得られない。ランド上の膜厚は極力薄いことが特に好ましい。これらの記録層の膜厚制御は、上記の有機溶媒を複数混合して用いることで可能である。
【００５７】
３）反射層
記録層の上に、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さの反射層を形成する。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、ＴａおよびＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層の材料として適している。これ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることができる。また、Ａｕを主成分とするものは反射率の高い反射層が容易に得られるため好適である。ここで主成分というのは含有率が５０％以上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００５８】
反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上などのために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００５９】
反射率は、信号が再生できれば特に限定されないが、好ましくは３０％以上６５％未満であり、更に好ましくは、４５％以上６０％未満である。
【００６０】
４）保護層
反射層の上の保護層の材料としては反射層を外力から保護するものであれば特に限定しない。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙げることができる。また、無機物質としては、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２などが挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶媒に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良く、１層だけでなく多層膜にして用いても良い。
【００６１】
保護層の形成の方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッタ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
【００６２】
保護層の膜厚は、一般には０．１μｍ〜１００μｍの範囲であるが、本発明においては、３μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
【００６３】
保護層の上にさらにレーベルなどの印刷を行うこともできる。また、反射層面に保護シートまたは基板を張り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向させ、光記録媒体２枚を貼り合わせるなどの手段を用いても良い。また、基板鏡面側に、表面保護やごみ等の付着防止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を製膜しても良い。
【００６４】
本発明でいう波長５２０ｎｍ〜６９０ｎｍのレーザーは、特に制限はないが、例えば、可視光領域の広範囲で波長選択のできる色素レーザーや波長６３３ｎｍのヘリウムネオンレーザー、波長６８０、６５０、６３５ｎｍ付近の高出力半導体レーザー、波長５３２ｎｍの高調波変換ＹＡＧレーザーなどが挙げられる。本発明では、これらから選択される１波長または複数波長において高密度記録および再生が可能となる。
【００６５】
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれによりなんら限定されるものではない。
【実施例１】
【００６６】
トリメチン化合物（具体例化合物４）の製造
窒素雰囲気下、無水酢酸４５．０ｇに２５℃にて下記構造式（Ａ）で示される化合物７．２ｇ、下記構造式（Ｂ）で示される化合物９．６ｇを５０〜５５℃で１．５時間反応した。メタノール４５ｍｌを加え、３０℃で３０分間撹拌した後、６０〜６５℃で１時間撹拌し、徐々に減圧し溶媒を留去した。メタノール９０ｍｌを加え２５℃とし、同温度で１時間反応した。水９０ｍｌを加え、３０分間撹拌した後、結晶を濾取、水洗、乾燥の後、メタノール再結晶して下記構造式（Ｃ）で示される化合物 ６．１ｇを得た。
【００６７】
【化１１】
2006257109.tif 000012
【００６８】
【化１２】
2006257109.tif 000013
【００６９】
このようにして得られた化合物は、メタノール溶液中において５７７．０ｎｍに吸収極大を示し、グラム吸光係数は１．３０×１０５ｍｌ／ｇ・ｃｍであった。
【００７０】
【表１】
2006257109.tif 000014
【００７１】
ＭＳ（ｍ／ｅ）  ：５８５
【実施例２】
【００７２】
厚さ０．６ｍｍ，直径１２０ｍｍΦのスパイラルグルーブ（ピッチ＝０．７４ｕｍ，深さ＝１６５ｎｍ，幅＝０．３３ｕｍ）を有する射出成形ポリカーボネート基板に表２に記載したトリメチン系化合物７を、テトラフルオロプロパノールに溶解し（２０ｇ／ｌ），スピンコーティング法にてほぼ溝上膜厚８０ｎｍ，溝間膜厚２０ｎｍとなるように調整し成膜した。８０℃、２時間乾燥処理した後、ＡｇＰｄＣｕ反射膜をバルザース製スパッタ装置（ＣＤＩ−９００）を用い膜厚８０ｎｍで形成し、更にこの反射層上にはＵＶ硬化樹脂：ＳＤ１７（大日本インク製）を塗布しＵＶ硬化した後、この上に前記と同様０．６ｍｍ厚のポリカーボネート基板を貼り合わせＪＳＲ製ＫＺ８６８１ラジカル重合接着剤によりＵＶ光で貼り合わせた光記録媒体を作製した。
【００７３】
得られた光記録媒体をパルステック工業社製ディスクテスターＤＤＵ１０００：波長＝６６１ｎｍ、ＮＡ＝０．６０にて、線速度＝３．５ｍ／ｓ（ＤＶＤ−Ｒ基準記録速度）、線速度＝４２ｍ／ｓ（ＤＶＤ−Ｒ基準記録速度の１２倍速スピード）にて各々ＤＶＤＲ対応のＥＦＭ＋信号を記録した。記録条件はＤＶＤ−Ｒ規格書（ｖｅｒ２．０）記載のパルス条件を各々１倍速、１２倍速の高速駆動し各ピットに最適となるような調整を施し記録した。それら記録部位をＤＶＤ標準速度でジッター計測した。当該実施例に示すＤＶＤＲ媒体では１倍速、及び１２倍速いずれにおいても高感度、且つ良好なジッター値が確認できた。
【００７４】
［実施例３〜１４］
表２に記載したトリメチン系化合物を適宜使用する以外は、実施例２と同様にして光記録媒体を作製した。
【００７５】
これら光記録媒体を実施例２と同様にして評価を行ったところ、１倍速、及び１２倍速いずれにおいても高感度、且つ良好なジッター値が確認できた。
【００７６】
［比較例１］
下記トリメチン化合物（a）を用いて実施例２と同様にして光記録媒体を作製し、同様の評価を実施した。１倍速記録は可能であったものの、感度が悪く、１４．０ｍＷの記録パワーを要した。また、１２倍速記録では感度が不足し、良好な記録ができなかった。
【００７７】
【化１３】
2006257109.tif 000015
【００７８】
表−２には実施例２〜１４、及び比較例１において計測した１倍速及び１２倍速の感度、及びジッターの結果を示した。当該実施例に示すＤＶＤ−Ｒ媒体では、１倍速、及び１２倍速いずれにおいても良好な感度、及びジッターが確認できた。
＜表−２＞
【００７９】
【表２】
2006257109.tif 000016
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明のトリメチン化合物を記録層として用いることにより、５２０〜６９０ｎｍのレーザーで記録再生が可能で、高速記録に適した追記型光記録媒体を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】従来の光記録媒体および本発明の層構成を示す断面構造図である。
【符号の説明】
【００８２】
１  基板
２  記録層
３  反射層
４  接着層
５  基板
【図１】
2006257109.tif 000019