(57)【要約】【課題】  ラビング処理によるアライメントマークへの塵の付着を防止すると共に画像処理装置でアライメントマークを認識する際の認識能力が高い液晶表示パネルを提供する。【解決手段】  液晶表示パネルの端子部に形成した接続電極と外部接続端子の電極とを接続する際の位置合わせのためのアライメントマーク１を、端子部近傍に形成した液晶表示パネルであって、アライメントマーク１の外方に、ラビング処理によるアライメントマーク１への塵の付着を防止するための防塵マーク２，２・・・を、間隔を設けて２個以上形成したことを特徴とする液晶表示パネルである。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示パネルの端子部に形成した接続電極と外部接続端子の電極とを接続する際の位置合わせのためのアライメントマークを、前記端子部近傍に形成した液晶表示パネルであって、
前記アライメントマークの外方に、ラビング処理による前記アライメントマークへの塵の付着を防止するための防塵マークを、間隔を設けて２個以上形成したことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記アライメントマークと前記防塵マークとの間隔Ａを、１０〜３０μｍとした請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記防塵マーク同士の間隔Ｂを、１０〜３０μｍとした請求項１または２に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記アライメントマークの形状が円形であって、前記防塵マークを同心状に形成した請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルに関するものであり、特に、液晶表示パネルの端子部に形成した接続電極と外部接続端子の電極とを接続する際の位置合わせのためのアライメントマークを、前記端子部近傍に形成した液晶表示パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
アライメントマークとは、一般的には、基板上の適正な位置に加工をするため、基板を装置等にセットした時の位置を補正するために設けた基板上の基準マーク（パターン）をいう。例えば、液晶表示パネルの端子部に形成した接続電極と外部接続端子の電極とを接続する際に用いる位置合わせのための従来のアライメントマーク１１の概略平面図を、図９に示す。また、図１０は、従来のアライメントマーク１１の概略断面図である。
【０００３】
このアライメントマーク１１は、液晶表示パネルの端子部近傍の基板１３上に、ＩＴＯ（Indium tin oxide）のような透明導電膜により直径１００μｍの円形に形成されている。液晶表示パネルの端子部に形成した接続電極と外部接続端子の電極とを接続する際には、市販の画像処理装置により、アライメントマークの輝度差から重心位置を認識して位置合わせを行っている。
【０００４】
アライメントマーク１１は、基板１３上に表示電極を形成する際に、これと同時にパターニングにより形成される。基板１３は、表示電極形成後、その上にポリイミド樹脂等の配向膜材料を形成し、これをラビング処理して配向膜を作製するのが一般的である（例えば、特許文献１参照）。なお、アライメントマーク１１は端子部近傍に形成されるため、この上に配向膜が形成されることはない。
【特許文献１】特開２００３−５７６５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ラビング処理して配向膜を作製すると、図１１（ａ）に示したように、ラビング布１４により削り取られた配向膜材料のカスや塵１５，１５・・・が、アライメントマーク１１にまで付着する場合がある。
【０００６】
図１１（ｂ）に示したように、この塵１５，１５・・・が、アライメントマーク１１の表面の一部を覆うように付着すると、画像処理装置で認識する際に、アライメントマーク１１の面積が過少評価され、アライメントマーク１１の重心位置がずれるため、位置合わせもずれて、端子の接続不良を起こすという問題があった。
【０００７】
このため、従来は、ラビング処理後、アライメントマーク１１上の汚れを、ゴム等の除去部材を擦り付けて強制的に除去してから画像処理しており、手間がかかり、作業効率が悪いという問題があった。
【０００８】
本発明は、上記背景技術の問題点に鑑みてなされたもので、ラビング処理によるアライメントマークへの塵の付着を防止すると共に画像処理装置でアライメントマークを認識する際の認識能力が高い液晶表示パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
かかる課題を解決するため、
請求項１にかかる発明は、液晶表示パネルの端子部に形成した接続電極と外部接続端子の電極とを接続する際の位置合わせのためのアライメントマークを、前記端子部近傍に形成した液晶表示パネルであって、前記アライメントマークの外方に、ラビング処理による前記アライメントマークへの塵の付着を防止するための防塵マークを、間隔を設けて２個以上形成したことを特徴とする液晶表示パネルである。
【００１０】
請求項２にかかる発明は、前記アライメントマークと前記防塵マークとの間隔Ａを、１０〜３０μｍとした請求項１に記載の液晶表示パネルである。
【００１１】
請求項３にかかる発明は、前記防塵マーク同士の間隔Ｂを、１０〜３０μｍとした請求項１または２に記載の液晶表示パネルである。
【００１２】
請求項４にかかる発明は、前記アライメントマークの形状が円形であって、前記防塵マークを同心状に形成した請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示パネルである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の液晶表示パネルによれば、アライメントマークの外方に、防塵マークを間隔を設けて２個以上形成することにより、防塵マークの側面と防塵マーク同士の間隔Ｂに塵を寄せ集めて付着させ、アライメントマークの表面に塵が到達して付着するのを防止することができる。
【００１４】
また、アライメントマークへの塵の付着を防止できることにより、画像処理装置で認識する際に、アライメントマークの重心位置がずれることがなく、アライメントマークの認識能力を向上させ、位置合わせのずれを防止して、端子の接続不良を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態に係る液晶表示パネルの一例を図面に示し、説明する。
【００１６】
［第１の実施形態］
図１は、本実施形態に係る液晶表示パネルの端子部近傍の概略平面図である。この液晶表示パネルでは、端子部に形成した接続電極の近傍両端に、アライメントマーク１と、防塵マーク２，２・・・が形成されている。
【００１７】
図２は、図１に示したアライメントマーク１と防塵マーク２，２・・・の拡大平面図である。また、図３は、図２に示したアライメントマーク１と防塵マーク２，２・・・の概略断面図である。この液晶表示パネルでは、基板３上のアライメントマーク１の外方に、ラビング処理によるアライメントマーク１への塵の付着を防止するための防塵マーク２，２・・・が、間隔を設けて２個以上形成されている。
【００１８】
基板３は、主にガラス基板等からなり、また、アライメントマーク１および防塵マーク２，２・・・は、ＩＴＯ（Indium tin oxide）のような透明導電膜からなるものである。
【００１９】
本実施形態におけるアライメントマーク１は、直径Ｌが１００μｍ、高さ０．２μｍの円板状である。直径Ｌは、画像処理装置に依存するが、５０〜２００μｍであるのが、認識可能な点から好ましく、高さは反射率を確保して認識能力アップの点から、０．０３〜０．５μｍであるのが好ましい。本実施形態では、アライメントマーク１は円形であるが、正方形状、六角形状、多角形状、十字形状、星形状などであってもよい。
【００２０】
本実施形態では、アライメントマーク１の外方に、同心円状の防塵マーク２，２・・・が４個設けられている。防塵マーク２，２・・・とは、ラビング処理によるアライメントマーク１への塵の付着を防止するものであり、本実施形態では、幅Ｗは８０μｍ、高さ０．２μｍである。この幅Ｗは、塵の除去効率を高める点から、５０〜２００μｍであるのが好ましく、高さは０．０３〜０．５μｍであるのが好ましい。
【００２１】
本実施形態では、アライメントマーク１とそのすぐ外方に設けられた第１番目の防塵マーク２との間隔Ａは、２０μｍである。この間隔Ａは、１０〜３０μｍであるのが好ましい。間隔Ａを、１０〜３０μｍとすることにより、マークをパターニングする際、間隔Ａが狭すぎてパターンエッジがぼやけ、パターニング不良となるのを防止できると共に、間隔Ａが広すぎて塵の除去能力が低下してアライメントマーク１の表面に塵が寄せ集められるのを防止することができる。
【００２２】
また、本実施形態では、防塵マーク２，２・・・は４個設けられていて、防塵マーク２，２・・・同士の間隔Ｂは、２０μｍである。この間隔Ｂは、１０〜３０μｍであるのが好ましい。間隔Ｂを、１０〜３０μｍとすることにより、マークをパターニングする際、間隔Ｂが狭すぎてパターンエッジがぼやけ、パターニング不良となるのを防止できると共に、間隔Ｂが広すぎて塵の除去能力が低下してアライメントマーク１の表面に塵が寄せ集められるのを防止することができる。
【００２３】
図４は、ラビング処理による本実施形態に係るアライメントマーク１への塵５，５・・・の付着防止のメカニズムを示した概略説明図である。防塵マーク２，２・・・を、間隔を設けて２個以上形成することにより、ラビング布４に付着した配向膜材料の削りカスからなる塵５，５・・・は、防塵マーク２，２・・・の側面または間隔Ｂに付着し、アライメントマーク１の表面に塵が到達したり、付着したりするのを防止することができる。防塵マークを１個設けただけでは、防塵効果が不充分で好ましくなく、防塵マークの個数は、設置領域内に２個以上と数多く設置できる方が、防塵効果をより向上させることができる点から、好ましい。
【００２４】
本実施形態では、防塵マーク２，２・・・を、アライメントマーク１の外方に、同心円状に設けているが、ラビング方向と垂直方向であって、アライメントマーク１の外方のラビングの開始側であれば、複数の点状や円弧状に設けて、完全な円状に形成しなくてもよい。防塵マーク２，２・・・を完全な同心状に設けた場合には、どの方向からラビング処理を行ってもよい。
【００２５】
このアライメントマーク１および防塵マーク２，２・・・は、基板１３上にＩＴＯからなる表示電極を形成する際に、これと同時にパターニングすることにより形成することができる。
【００２６】
本実施形態の液晶表示パネルによれば、アライメントマーク１の外方に、防塵マーク２，２・・・を間隔を設けて２個以上形成することにより、防塵マーク２，２・・・の側面と間隔Ｂに塵を寄せ集めて付着させ、アライメントマーク１の表面に塵が到達して付着するのを防止することができる。
【００２７】
また、アライメントマーク１への塵の付着を防止できることにより、画像処理装置で認識する際に、読み取りエラーを減らすことができる。この結果、アライメントマーク１の面積が過少評価され、アライメントマーク１の重心位置がずれることがなくなるため、アライメントマーク１の認識能力を向上させ、位置合わせのずれを防止して、端子の接続不良を防止することができる。
【００２８】
また、アライメントマーク１の認識能力が向上するため、アライメントマーク１上の汚れを強制的に除去する必要がなく、作業効率を向上させることができる。
【００２９】
［第２の実施形態］
図５は、本実施形態に係るアライメントマーク１と防塵マーク２，２・・・の拡大平面図である。本実施形態では、防塵マーク２，２・・・を正方形の同心状に形成した以外は、第１の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【００３０】
以下、実験例により、本発明をさらに詳しく説明する。本発明は、下記実験例に何ら制限されるものではない。
【００３１】
［実験例１］
基板上に図２に示したアライメントマークおよび防塵マークを形成した。このアライメントマークの直径Ｌは１００μｍ、高さは０．２μｍとし、間隔Ａおよび間隔Ｂは２０μｍとし、防塵マークの幅Ｗは８０μｍ、高さ０．２μｍ、個数を１〜４個とした。比較のため、防塵マークがないものも作製した。
【００３２】
これらの基板をラビング処理を行った後、画像処理装置にて、アライメントマークの読み取り試験を行った。防塵マークの個数と画像読み取りエラー発生率との関係を、以下に示す。
【００３３】
防塵マークの個数        なし        １個        ２個        ３個        ４個  
エラー発生率          １００％    １００％      ７０％      ２０％      ０％
【００３４】
上記結果から、防塵マークの個数が１個では、防塵効果は不充分で、２個以上設ける必要があることがわかった。また、防塵マークの個数は４個以上設けるのが特に好ましいことがわかった。
【００３５】
［実験例２〜３］
基板上に図２に示したアライメントマーク１および防塵マーク２，２・・・（実験例２）、図５に示したアライメントマーク１および防塵マーク２，２・・・（実験例３）を形成した。防塵マーク２，２・・・の個数を４個とした以外は、実験例１と同様とした。
【００３６】
これらの基板をラビング処理を行った後、アライメントマーク１の汚れ具合を目視で観察した。図６に実験例２のラビング処理後のアライメントマーク１の拡大写真を示す。また、図７に実験例３のラビング処理後のアライメントマーク１の拡大写真を示す。
【００３７】
図６および図７の結果から、実験例２および実験例３のアライメントマーク１では、塵の付着はまったく観察されなかった。また、画像処理装置でも良好に認識された。
【００３８】
［比較例１］
基板上に図９に示した従来のアライメントマーク１を形成した。このアライメントマーク１は、実験例２と同様に直径Ｌを１００μｍ、高さを０．２μｍとした。実験例２と同様にラビング処理後の汚れ具合を目視で観察した。図８に比較例１のラビング処理後のアライメントマーク１の拡大写真を示す。
【００３９】
図８に示したように、比較例１のアライメントマーク１では、塵の付着による汚れが観察され、画像処理装置における認識能力も悪かった。
【００４０】
以上の結果から、本発明に係る防塵マークとアライメントマークを設けた液晶表示パネルによれば、アライメントマーク表面へのラビング処理による塵付着を防止して、画像処理装置の読み取りエラーを減少し、アライメントマークを良好に認識できることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】第１の実施形態に係る液晶表示パネルの端子部近傍の概略平面図である。
【図２】図１に示した第１の実施形態に係るアライメントマークと防塵マークの拡大平面図である。
【図３】図２に示した第１の実施形態に係るアライメントマークと防塵マークの概略断面図である。
【図４】ラビング処理による第１の実施形態に係るアライメントマークへの塵の付着防止のメカニズムを示した概略説明図である。
【図５】第２の実施形態に係るアライメントマークと防塵マークの拡大平面図である。
【図６】実験例２のラビング処理後のアライメントマークの拡大写真図である。
【図７】実験例３のラビング処理後のアライメントマークの拡大写真図である。
【図８】比較例１のラビング処理後のアライメントマークの拡大写真図である。
【図９】従来のアライメントマークの概略平面図である。
【図１０】従来のアライメントマークの概略断面図である。
【図１１】（ａ）及び（ｂ）は、ラビング処理による従来のアライメントマークへの塵付着のメカニズムを示した概略説明図である。
【符号の説明】
【００４２】
１  アライメントマーク
２  防塵マーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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