(57)【要約】【課題】本発明は、優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑えた積層体を提供する。【解決手段】基材（１）の少なくとも片面に、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする電離放射線硬化型樹脂（２）と導電性材料（３）を主成分とする電離放射線硬化型樹脂を含むハードコート層（４）、無機酸化物を含む反射防止層（７）を順次積層した積層体であって、  前記電離放射線硬化型樹脂（２）が、１分子中に−ＯＨ基を１個以上含有する多官能性モノマーを含み、かつ、基材（１）とハードコート層（４）の屈折率差が０．０１以上０．１以内であり、かつ、ハードコート層（４）が、基材（１）を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤（５）及び導電性材料（３）が安定に分散される溶剤（６）を含む塗布液を用いて形成されていることを特徴とする積層体である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材（１）の少なくとも片面に、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする電離放射線硬化型樹脂（２）と導電性材料（３）を主成分とする電離放射線硬化型樹脂を含むハードコート層（４）、無機酸化物を含む反射防止層（７）を順次積層した積層体であって、
前記電離放射線硬化型樹脂（２）が、１分子中に−ＯＨ基を１個以上含有する多官能性モノマーを含み、基材（１）とハードコート層（４）の屈折率差が０．０１以上０．１以内であり、かつ、ハードコート層（４）が、基材（１）を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤（５）及び導電性材料（３）が安定に分散される溶剤（６）を含む塗布液を用いて形成されていることを特徴とする積層体。
【請求項２】
前記電離放射線硬化型樹脂（２）が、１分子中に−ＯＨ基を１個以上含有する樹脂がペンタエリスリトールトリアクリレートからなり、かつ、ハードコート層（４）が、電離放射線硬化型樹脂（２）９０〜３０重量部に対し、導電性材料（３）１０〜７０重量部含むことを特徴とする請求項１記載の積層体。
【請求項３】
前記導電性材料（３）が、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）、Ｓｂ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2、Ｃｅ2Ｏ3の金属酸化物粒子のうち少なくとも１種類以上を含有することを特徴とする請求項１又は２記載の積層体。
【請求項４】
前記基材（１）が、セルロース系フィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項５】
前記溶剤（５）が、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項６】
前記溶剤（６）が、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブのうち少なくとも１種類を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項７】
前記溶剤（５）が、酢酸メチル２５〜７５重量部およびメチルセロソルブ７５〜２５重量部含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項８】
前記反射防止層（７）が、下記一般式（８）および（９）で示される有機ケイ素化合物、またはそれからなる重合体との共重合体からなる低屈折率層（１０）からなることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層体。
Ｓｉ（ＯＲ）4                        ・・・・・（８）
（但し、Ｒはアルキル基である）
Ｒ’mＳｉ（ＯＲ）4-m             ・・・・・（９）
（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性及び密着性に優れる積層体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、各種ディスプレイに用いられるプラスチックフィルムに硬度を付帯させる為にアクリル系ＵＶ樹脂等をコーティングし、ハードコート性を付帯させる方法が用いられてきた。しかし、これらの方法によってプラスチックフィルムの硬度は改善されるものの、プラスチックフィルムおよびアクリル系ＵＶ樹脂が帯電しやすく、作業時に塵やほこりが付着するという問題があり、帯電性の改善が強く要求されている。
【０００３】
そこでこれらの問題点を改良するために各種導電性材料を添加することが行われているが、導電性材料を添加することで基材とハードコートの屈折率差が生じ、干渉縞が発生してしまう。
【０００４】
以下に、特許文献を記す。
【特許文献１】特開２０００−１１１７６０号公報
【特許文献２】特開２００３−３９５８６号公報
【特許文献３】特開２００３−２０５５６３号公報  基材とハードコート層の屈折率差を少なくする為に、基材とハードコート層の間に中間層を設ける方式（特許文献１参照）では干渉縞が低減するだけに過ぎず、完全に消失するわけではない。
【０００５】
また、基材上に、透明導電性層、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を順に積層する方法（特許文献２参照）では、導電層が基材とハードコート層の間に存在する為導電性を発現し難いという問題点もある。
【０００６】
さらに、基材を溶解または膨潤させる溶剤を含む樹脂を用いてハードコート層を基材に塗布することによってハードコート層を形成することを特徴とする光学フィルム（特許文献３参照）も提案されているが、基材を溶解または膨潤させる溶剤はおもに導電性材料の分散を阻害するものであることが多く、干渉縞のない導電性ハードコートの作製は困難である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性及び密着性に優れる積層体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、下記の手段によって解決できる。すなわち、
請求項１に係る発明は、基材（１）の少なくとも片面に、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする電離放射線硬化型樹脂（２）と導電性材料（３）を主成分とする電離放射線硬化型樹脂を含むハードコート
層（４）、無機酸化物を含む反射防止層（７）を順次積層した積層体であって、
前記電離放射線硬化型樹脂（２）が、１分子中に−ＯＨ基を１個以上含有する多官能性モノマーを含み、基材（１）とハードコート層（４）の屈折率差が０．０１以上０．１以内であり、かつ、ハードコート層（４）が、基材（１）を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤（５）及び導電性材料（３）が安定に分散される溶剤（６）を含む塗布液を用いて形成されていることを特徴とする積層体である。
【０００９】
請求項２に係る発明は、前記電離放射線硬化型樹脂（２）が、１分子中に−ＯＨ基を１個以上含有する樹脂がペンタエリスリトールトリアクリレートからなり、かつ、ハードコート層（４）が、電離放射線硬化型樹脂（２）９０〜３０重量部に対し、導電性材料（３）１０〜７０重量部含むことを特徴とする請求項１記載の積層体である。
【００１０】
請求項３に係る発明は、前記導電性材料（３）が、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）、Ｓｂ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2、Ｃｅ2Ｏ3の金属酸化物粒子のうち少なくとも１種類以上を含有することを特徴とする請求項１又は２記載の積層体である。
【００１１】
請求項４に係る発明は、前記基材（１）が、セルロース系フィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体である。
【００１２】
請求項５に係る発明は、前記溶剤（５）が、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体である。
【００１３】
請求項６に係る発明は、前記溶剤（６）が、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブのうち少なくとも１種類を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体である。
【００１４】
請求項７に係る発明は、前記溶剤（５）が、酢酸メチル２５〜７５重量部およびメチルセロソルブ７５〜２５重量部含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体である。
【００１５】
請求項８に係る発明は、前記反射防止層（７）が、下記一般式（８）および（９）で示される有機ケイ素化合物、またはそれからなる重合体との共重合体からなる低屈折率層（１０）からなることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層体である。
【００１６】
Ｓｉ（ＯＲ）4                        ・・・・・（８）
（但し、Ｒはアルキル基である）
Ｒ’mＳｉ（ＯＲ）4-m             ・・・・・（９）
（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）
【発明の効果】
【００１７】
本発明により、優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性及び密着性に優れる積層体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の一実施例について図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発明の積層体の構成の一例を示す断面図である。図１に示すように、本発明の一実施例としての積
層体は、基材（１）の少なくとも片面に、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする電離放射線硬化型樹脂（２）と導電性材料（３）を主成分とする電離放射線硬化型樹脂を含むハードコート層（４）、無機酸化物を含む反射防止層（７）を順次積層した積層体であって、前記電離放射線硬化型樹脂（２）が、１分子中に−ＯＨ基を１個以上含有する多官能性モノマーを含み、かつ、基材（１）とハードコート層（４）の屈折率差が０．０１以上０．１以内であり、かつ、ハードコート層（４）が、基材（１）を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤（５）及び導電性材料（３）が安定に分散される溶剤（６）を含む塗布液を用いて形成されていることを特徴とするものである。
【００１９】
本発明で用いられる基材（１）としては、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムが用いられる。複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点に優れており、更に市販の溶剤によって容易に溶解または膨潤する為、本発明においては他のフィルムよりも好ましい。
【００２０】
上記基材（１）には、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が添加されていても良い。また、基材（１）の厚さは特に限定されるものではないが、２０〜２００μｍが好ましい。
【００２１】
本発明で用いられる電離放射線硬化型樹脂（２）とは、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂も包含するものであって、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする。多官能性モノマーとしては、１、４‐ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ‐（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２、３‐ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１、２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１、２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３、８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２、２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１、  ４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
【００２２】
光重合開始剤としては、例えば、２，２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００２３】
また、光増感剤としてトリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール等の３級アミン、トリフェニルホスフィン等のアルキルフォスフィン系、β―チオジグリコール等のチオエーテル系をあげることが出来、これらを１種類あるいは２種類以上を混合して使用できる。
【００２４】
さらに、性能改良のため、泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を含有することができる。
【００２５】
本発明で用いられる導電性材料（３）としては、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）、Ｓｂ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2、Ｃｅ2Ｏ3等の金属酸化物粒子が挙げられる。その中でも白色で透明性の優れたＳｂ2Ｏ5の使用が望ましい。
【００２６】
また、上記の導電性材料の添加により、後述するハードコート層（４）の表面に微細な凹凸が生じ、表面積が増大する。その為、ハードコート層（４）と後述する低屈折率層（１０）との間で物理的吸着力が増大し、密着性が向上する。その結果、低屈折率層の耐擦傷性を向上させることが可能である。これらの金属酸化物微粒子の粒径は０．１μｍ以下であることが望ましく、０．１μｍより大きくなるとヘイズが高くなり、ハードコートの透過率が低下する。
【００２７】
本発明の積層体における電離放射線硬化型樹脂（２）が、１分子中に−ＯＨ基を１個以上含有する樹脂がペンタエリスリトールトリアクリレートからなり、かつ、ハードコート層（４）が、電離放射線硬化型樹脂（２）９０〜３０重量部に対し、導電性材料（３）１０〜７０重量部含むことを特徴とする。ハードコート層（４）は、特に電離放射線硬化型樹脂（２）８０〜６０重量部に対し、導電性材料（３）２０〜４０重量部の範囲が好ましい。
【００２８】
ペンタエリスリトールトリアクリレートは、１分子中にアクリロイル基３個と−ＯＨ基１個を有する紫外線硬化型多官能性モノマーである。アクリル系紫外線硬化型樹脂に、分子中に−ＯＨ基を持つ多官能性モノマーを用いることによって、低屈折率層と高い密着性を備えた積層体を提供できる。
【００２９】
ハードコート層（４）を硬化させる方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2程度である。ハードコート層（４）の膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いから５〜７μｍの範囲が好ましい。
【００３０】
ハードコート層（４）は、ウェットコーティング法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）により透明プラスチックフィルム基材（１）の少なくとも片面に塗工される。
【００３１】
本発明で用いられる溶剤（５）としては、トリアセチルセルロースを溶解または膨潤させる溶剤として、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５
−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００３２】
特に、溶剤（５）として、酢酸メチル２５〜７５重量部およびメチルセロソルブ７５〜２５重量部含むものが好ましく用いられる。
【００３３】
本発明で用いられる溶剤（６）としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール類、またメチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００３４】
また、これらの溶剤（５）および（６）はハードコート剤に対し、１０〜８０重量部が望ましく、特に５０〜７０重量部が好ましい。
【００３５】
本発明の積層体における反射防止層（７）は、下記一般式（８）および（９）で示される有機ケイ素化合物、またはそれからなる重合体との共重合体からなる低屈折率層（１０）からなることを特徴とするものである。
【００３６】
Ｓｉ（ＯＲ）4                        ・・・・・（８）
（但し、Ｒはアルキル基である）
Ｒ’mＳｉ（ＯＲ）4-m             ・・・・・（９）
（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）
低屈折率層（１０）を形成するコーティング剤で用いられる上記一般式（８）で表される有機ケイ素化合物としては、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）4、Ｓｉ〔ＯＣＨ（ＣＨ3）2）〕4、Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）4等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００３７】
低屈折率層（１０）を形成するコーティング剤で用いられる一般式（９）で表される有機ケイ素化合物としては、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3ＣＦ2（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）2（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）6（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）9（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3ＣＦ2（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）2（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）6（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）9（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００３８】
上記一般式（８）、又は一般式（９）で表される有機ケイ素化合物を用いて重合体を、あるいは、一般式（８）で表される有機ケイ素化合物、若しくはその重合体と、一般式（
９）で表される有機ケイ素化合物、若しくはその重合体を用いて共重合体を作製する方法は限定されないが、加水分解によって作製する際の触媒としては、塩酸、シュウ酸、硝酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、アンモニア、アルミニウムアセトナート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸スズ化合物、メタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００３９】
低屈折率層（１０）は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、組成物の安定性、ハードコート層（４）に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００４０】
低屈折率層（１０）は、前述したウェットコーティング法により表面処理を行ったハードコート層上に塗工され、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。
【００４１】
低屈折率層（１０）の屈折率は、前記透明プラスチックフィルム基材、ハードコート層のいずれの屈折率よりも低い値であり、また、この低屈折率層（１０）の厚さｄは、低屈折率層の屈折率をｎとすると、ｎｄ＝λ／４であることが好ましい。
【００４２】
従来、通常のアクリル系紫外線硬化型樹脂バインダー（屈折率約１．５０〜１．５３）と導電性材料（屈折率約１．４５〜２．８）からなるハードコート剤は、基材であるトリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムとの屈折率差をなくすことが困難であり、その結果干渉縞が生じていた。そこで、本発明の積層体は、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムからなる基材（１）を溶解または膨潤させる溶剤（５）を用いることにより、基材とハードコート層界面に微小な凹凸を形成することにより、基材（１）とハードコート層（４）界面からの反射がなく、干渉縞のない積層体を提供することができる。さらに、導電性材料（３）が安定に分散される溶剤（６）を併用することにより、高い導電性をもつ積層体を提供できる。アクリル系紫外線硬化型樹脂に、分子中に−ＯＨ基を持つ多官能性モノマーを導入した電離放射線硬化樹脂（２）としての紫外線硬化型樹脂を用いることによって、低屈折率層（１０）からなる反射防止層（７）と高い密着性を備えた積層体を提供できる。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明の具体的な実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００４４】
積層体の性能は，下記の方法に従って評価した。
（ａ）光学特性
（ａ）―１  反射率測定：フィルム面に艶消しの黒色塗料を塗布した後、波長３６０〜８００ｎｍの光を入射角５゜とした場合の片面の反射率を測定した。
【００４５】
（ａ）―２  ヘイズ値…積層体を写像性測定器［日本電色工業（株）製，ＮＤＨ−２０
００］を使用して測定した。
【００４６】
（ｂ）表面抵抗値
（ｂ）―１  表面抵抗：ＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠して行った。
【００４７】
（ｃ）機械強度
（ｃ）―１  耐擦傷性：基材表面をスチールウール〔ボンスター＃００００：日本スチールウール（株）製〕により２５０ｇ／ｃｍ２で１０回擦り、傷の有無を目視判定した（スチールウール試験）。判定基準を以下に示す。
○：傷を確認することが出来ない。
△：数本傷を確認できる。
×：傷が多数確認できる。
（ｃ）―２  密着性：基材表面を１ｍｍ角１００点カット後、粘着セロハンテープ〔ニチバン（株）製工業用２４ｍｍ巾セロテープ（登録商標）〕による剥離の有無を目視判定した（クロスカットテープピール試験）。
（ｃ）―３  鉛筆硬度…ＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠し、試験機法により５００ｇ加重で評価した。
【００４８】
＜実施例１＞
厚み８０μｍ、屈折率１．４９のトリアセチルセルロース（全光線透過率：９３％、ヘイズ値：０．２％）上に、
ペンタエリスリトールトリアクリレート                              ８０重量部
導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０）          ２０重量部
イルガキュアー１８４                                              ３．５重量部
メチルエチルケトン                                                ６０重量部
１−ペンタノール                                                  ４０重量部
を撹拌混合した塗布液を、バーコーティング法により乾燥後の膜厚が３μｍ程度になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、本発明の積層体を作製した。このフィルムの性能評価結果を表１に示す。
【００４９】
＜実施例２＞
ペンタエリスリトールトリアクリレート                              ６０重量部
導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０）          ４０重量部
イルガキュアー１８４                                              ３．５重量部
酢酸メチル                                                        ３０重量部
メチルセロソルブ                                                  ７０重量部
とした以外は実施例１と同様にして本発明の積層体を作製した。このフィルムの性能評価結果を表１に示す。
【００５０】
＜実施例３＞
本発明の積層体の性能と比較するための比較例として、
ペンタエリスリトールトリアクリレート                              ５０重量部
導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０）          ５０重量部
イルガキュアー１８４                                              ３．５重量部
メチルアルコール                                                  １００重量部とした以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。このフィルムの性能評価結果を表１に示す。
【００５１】
＜実施例４＞
本発明の積層体の性能と比較するための比較例として、
ペンタエリスリトールトリアクリレート                              １００重量部
イルガキュアー１８４                                              ３．５重量部
イソプロピルアルコール                                            １００重量部とした以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。このフィルムの性能評価結果を表１に示す。
【００５２】
【表１】
2006035493.tif 000003
表１の各実施例についての光学特性は図面で示してある。
【００５３】
表１より、実施例１、２で得られた本発明の積層体は、耐擦傷性に優れ、干渉縞が認められない、優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性及び密着性に優れるものである。これに対して、実施例３、４で得られた本発明の積層体の性能と比較するための比較例で得られた積層体は、耐擦傷性に劣り、干渉縞の発生が認められた。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の積層体の構成の一例を示す断面図である。
【図２】実施例１で得られた積層体の光学特性を示す図である。
【図３】実施例２で得られた積層体の光学特性を示す図である。
【図４】実施例３で得られた積層体の光学特性を示す図である。
【図５】実施例４で得られた積層体の光学特性を示す図である。
【符号の説明】
【００５５】
１・・・基材（１）
２・・・電離放射線硬化型樹脂（２）
３・・・導電性材料（３）
４・・・ハードコート層（４）
７・・・低屈折率層からなる反射防止層（７）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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