(57)【要約】【課題】液晶ディスプレイ上の欠陥画素を簡単かつ十分に修正できる液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法を提供すること。【解決手段】液晶ディスプレイＤの欠陥画素Ｇに対してパルスレーザＬを移動させながら照射し、上記欠陥画素Ｇ中に気泡を発生させた状態で上記欠陥画素Ｇの修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記欠陥画素Ｇ中に発生した気泡が上記パルスレーザＬの照射位置から移動しないうちに、次のパルスレーザＬを照射すること。【選択図】      図１
2006091671.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイの欠陥画素に対してパルスレーザを移動させながら照射し、上記欠陥画素中に気泡を発生させた状態で上記欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、
上記欠陥画素中に発生した気泡が上記パルスレーザの照射位置から移動しないうちに、次のパルスレーザを照射することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項２】
上記パルスレーザの繰り返し周波数を１ｋＨｚ以上とすることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項３】
上記パルスレーザは、繰り返し周波数を１ｋＨｚ以上としても、レーザ出力が維持されることを特徴とする請求項２記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項４】
上記パルスレーザの繰り返し周波数を上記パルスレーザの移動速度に合わせて調整することで、上記欠陥画素上に均一な照射密度で上記パルスレーザを照射することを特徴とする請求項３記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項５】
上記パルスレーザの励起源としてレーザダイオードを用い、上記レーザダイオードから出射する励起光のパワーを調整させることで、繰り返し周波数が１ｋＨｚ以上になっても、レーザ出力を維持させることを特徴とする請求項３記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項６】
上記パルスレーザはＡＯＱスイッチでＱスイッチされており、上記ＡＯＱスイッチに印加するＲＦパワーを調整することで、繰り返し周波数が１ｋＨｚ以上になっても、レーザ出力を維持させることを特徴とする請求項３記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項７】
上記パルスレーザとして、ＱスイッチＮｄ：ＹＶＯ４レーザを用いることを特徴とする請求項３記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項８】
レーザ発振器から発振されるパルスレーザを液晶ディスプレイの欠陥画素に対して移動させながら照射し、上記欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、
上記レーザ発振器は、上記パルスレーザの繰り返し周波数を所定値以上にしても、１パルスあたりのレーザ出力を維持することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【請求項９】
上記所定値とは、１ｋＨｚであることを特徴とする請求項８記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【請求項１０】
上記パルスレーザの繰り返し周波数を上記パルスレーザの移動速度に合わせて調整することで、上記欠陥画素上に均一な照射密度で上記パルスレーザを照射することを特徴とする請求項８記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【請求項１１】
上記レーザ発振器は励起源としてのレーザダイオードを備えており、上記レーザダイオードから出射する励起光のパワーを上記パルスレーザの繰り返し周波数に追従させるように変化させることで、繰り返し周波数が所定値以上になっても、レーザ出力が低下しないようにしていることを特徴とする請求項８記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【請求項１２】
上記レーザ発振器はＡＯＱスイッチを備えており、上記ＡＯＱスイッチに印加するＲＦパワーを調整することで、繰り返し周波数が所定値以上になっても、レーザ出力が低下しないようにしていることを特徴とする請求項８記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【請求項１３】
上記レーザ発振器はＱスイッチＮｄ：ＹＶＯ４レーザ発振器であることを特徴とする請求項８記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び欠陥画素修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にアクティブマトリクス型の液晶ディスプレイは、液晶を挟んで対向配置された２枚のガラス基板を有している。これら２枚のガラス基板のうち、一方のガラス基板はＴＦＴ基板と呼ばれ、その内面には多数本の信号線とゲート線が格子状に形成されている。信号線とゲート線に囲まれる各領域には、数十［μｍ］〜数百［μｍ］程度の大きさの画素電極が形成されている。また、信号線とゲート線との交差部には、各画素電極に電荷を充放電するためのＴＦＴが設けられている。
【０００３】
また、２枚のガラス基板のうち、他方のガラス基板はカラーフィルタ基板と呼ばれ、その内面には着色層と保護層で構成されるカラーフィルタが設けられている。
【０００４】
これら２枚のガラス基板の内面には、それぞれポリイミド製の配向膜が液晶と接するように形成されている。また、これらのガラス基板の外面には、それぞれ偏光板が貼り付けられている。
【０００５】
ところで、液晶ディスプレイの製造工程では、画面の大型化、高精細化に伴い、不良の発生率が高まっている。不良の中で特に問題になるのが、ＴＦＴが動作しない画素や液晶が駆動しない画素が発生することである。このような画素が形成されると、液晶が透過光を遮断できなくなり、その画素（以下、「欠陥画素」と称する。）が輝点欠陥となって現れることがある。
【０００６】
この輝点欠陥は、液晶ディスプレイの表示品質を著しく低下させるため、設計や製造プロセスの工夫により発生率の低減が図られている。しかしながら、設計や製造プロセスの工夫では発生率の低減に限界があり、未だ完全な解消には至っていない。
【０００７】
そこで現在では、液晶ディスプレイを製造した後に、液晶ディスプレイ上に輝点欠陥が存在するかどうかを調べ、存在した場合にその欠陥画素を１つずつ修正する方法が採られている。
【０００８】
液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する方法としては、欠陥画素の透過光を減少させて、輝点欠陥を目立たなくする方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００９】
図９は従来の液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する方法を説明する説明図であり、（ａ）は欠陥画素の平面図、（ｂ）は欠陥画素の断面図である。
【００１０】
図９（ａ）に示すように、この方法では、欠陥画素Ｇに対してパルスレーザＬを矢印Ａに沿って順次照射している。このパルスレーザＬは、液晶Ｑ中に気泡を発生させるとともに、配向膜Ｉを溶融蒸発させて配向膜成分であるポリイミド製の微粒子を発生させる。
【００１１】
パルスレーザＬの照射により発生した微粒子は、欠陥画素Ｇの内面に堆積し、配向膜Ｉの液晶Ｑに対する配向性を低下させる。これにより、欠陥画素Ｇの透過光を減少させて、輝点欠陥を目立たなくしている。
【００１２】
このとき、図９（ｂ）に示すように、パルスレーザＬの照射により発生した気泡Ｐは、信号線やゲート線等の段差Ｈにより欠陥画素Ｇ内に留まることで、発生した微粒子が移動し易い環境を作り、微粒子が欠陥画素Ｇの内面、すなわち配向膜Ｉ上に堆積する効率を向上させている。
【特許文献１】特開平７−２２５３８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ところで近年、画素電極を信号線やゲート線上に厚膜絶縁膜を介して設けることで、ＴＦＴ基板から液晶側に突出する部分を減らした、いわゆる平坦化処理された液晶ディスプレイが開発されている。
【００１４】
この平坦化処理を行うと、画素領域が広くなるため、バックライト光を効率良く透過させることができる。そのため、同一解像度であれば、より高い輝度を得られ、同一輝度であればより高い解像度が得られる。また、同一輝度、同一解像度であれば、消費電力を下げることができる。このような利点をもつため、近年では多くの製品に平坦化処理が採用されている。
【００１５】
しかしながら、この平坦化処理を行うと、上述のように、ＴＦＴ基板から液晶側に突出する部分が減少するため、液晶中に発生した気泡を欠陥画素内に留めておくことが困難となる。
【００１６】
そのため、次にレーザを照射するときに、その照射部分に気泡が存在せず、発生した微粒子をうまく欠陥画素の内面に堆積させることができないことがある。この場合、欠陥画素の透過光を十分に減少できなかったり、修正の後にいわゆる「白ポツ」や「白ムラ」が発生し易いという問題があった。
【００１７】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、液晶ディスプレイ上の欠陥画素を簡単かつ十分に修正できる液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び欠陥画素修正装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記課題を解決し目的を達成するために、本発明の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び欠陥画素修正装置は次のように構成されている。
【００１９】
（１）液晶ディスプレイの欠陥画素に対してパルスレーザを移動させながら照射し、上記欠陥画素中に気泡を発生させた状態で上記欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記欠陥画素中に発生した気泡が上記パルスレーザの照射位置から移動しないうちに、次のパルスレーザを照射する。
【００２０】
（２）（１）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記パルスレーザの繰り返し周波数を１ｋＨｚ以上とする。
【００２１】
（３）（２）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記パルスレーザは、繰り返し周波数を１ｋＨｚ以上としても、レーザ出力が維持されることを特徴とする。
【００２２】
（４）（３）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記パルスレーザの繰り返し周波数を上記パルスレーザの移動速度に合わせて調整することで、上記欠陥画素上に均一な照射密度で上記パルスレーザを照射する。
【００２３】
（５）（３）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記パルスレーザの励起源としてレーザダイオードを用い、上記レーザダイオードから出射する励起光のパワーを調整させることで、繰り返し周波数が１ｋＨｚ以上になっても、レーザ出力を維持させる。
【００２４】
（６）（３）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記パルスレーザはＡＯＱスイッチでＱスイッチされており、上記ＡＯＱスイッチに印加するＲＦパワーを調整することで、繰り返し周波数が１ｋＨｚ以上になっても、レーザ出力を維持させる。
【００２５】
（７）（３）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記パルスレーザとして、ＱスイッチＮｄ：ＹＶＯ４レーザを用いる。
【００２６】
（８）レーザ発振器から発振されるパルスレーザを液晶ディスプレイの欠陥画素に対して移動させながら照射し、上記欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記レーザ発振器は、上記パルスレーザの繰り返し周波数を所定値以上にしても、１パルスあたりのレーザ出力を維持する。
【００２７】
（９）（８）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記所定値とは、１ｋＨｚである。
【００２８】
（１０）（８）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記パルスレーザの繰り返し周波数を上記パルスレーザの移動速度に合わせて調整することで、上記欠陥画素上に均一な照射密度で上記パルスレーザを照射する。
【００２９】
（１１）（８）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記レーザ発振器は励起源としてのレーザダイオードを備えており、上記レーザダイオードから出射する励起光のパワーを上記パルスレーザの繰り返し周波数に追従させるように変化させることで、繰り返し周波数が所定値以上になっても、レーザ出力が低下しないようにしている。
【００３０】
（１２）（８）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記レーザ発振器はＡＯＱスイッチを備えており、上記ＡＯＱスイッチに印加するＲＦパワーを調整することで、繰り返し周波数が所定値以上になっても、レーザ出力が低下しないようにしている。
【００３１】
（１３）（８）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記レーザ発振器はＱスイッチＮｄ：ＹＶＯ４レーザ発振器である。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、液晶ディスプレイ上の欠陥画素を簡単かつ確実に修正することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。
【００３４】
まず、図１〜図４を用いて本発明の第１の実施の形態を説明する。
【００３５】
図１は本発明の第１の実施の形態に係る平坦化された液晶ディスプレイの断面図である。
【００３６】
図１に示すように、この液晶ディスプレイＤは、対向配置された２枚のガラス基板１０１、１０２を有している。
【００３７】
これらガラス基板１０１、１０２のうち、一方のガラス基板１０１はＴＦＴ基板と呼ばれ、その内側面には複数のＴＦＴ１０３がマトリクス状に形成されている。各ＴＦＴ１０３を駆動するための信号線１０４やゲート線１０５は、ガラス基板１０１上に格子状に設けられており、その上には信号線１０４やゲート線１０５の突出部を覆うための厚膜絶縁膜１０６が形成されている。
【００３８】
この厚膜絶縁膜１０６の上には、各ＴＦＴ１０３の動作により充放電される画素電極１０７がマトリクス状に形成されており、さらにその上にはポリイミド製の配向膜１０８が形成されている。
【００３９】
また、ガラス基板１０１、１０２のうち、他方のガラス基板１０２はカラーフィルタ基板と呼ばれ、その内側面には各画素電極１０７と対応位置してＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）のカラーフィルタ１０９が設けられている。
【００４０】
これらカラーフィルタ１０９の上には、保護膜１１０が設けられており、さらにその上にはＩＴＯ膜１１１、ポリイミド製の配向膜１１２が順に設けられている。
【００４１】
これらのガラス基板１０１、１０２の間には液晶１１３が封入されており、またガラス基板１０１、１０２の外側面には偏光フィルム１１４、１１５が貼り付けられている。
【００４２】
上記構成の液晶ディスプレイＤにおいては、ＴＦＴ１０３の駆動によって液晶分子の配列を変えることで、光の透過、遮断を制御している。ところが、液晶ディスプレイＤの画素の中には、ＴＦＴ１０３の駆動の有無に関係なく輝点となって現れる欠陥画素Ｇが発生することがある。本発明は、この欠陥画素Ｇを透過する透過光を減少させ、欠陥画素Ｇを目立たなくしてしまおうというものである。
【００４３】
次に、図２〜図４を用いて本発明の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置を説明する。
【００４４】
図２は同実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図である。
【００４５】
図２に示すように、この液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置は第１のステージ１を有している。この第１のステージ１には液晶ディスプレイＤが保持され、さらにその上方にはレーザ出射部２が配置されている。このレーザ出射部２は第２のステージ３に支持されており、内部にレーザ発振器４、アッテネータ５、パワーモニタ６、反射ミラー７、及び集光レンズ８を備えている。
【００４６】
アッテネータ５、パワーモニタ６、及び反射ミラー７は、レーザ発振器４から出射されるパルスレーザＬの光路上にレーザ発振器４側から順に配置されている。一方、集光レンズ８は、反射ミラー７で反射したパルスレーザＬの光路上に略垂直に配置されている。
【００４７】
レーザ発振器４としては、ＱスイッチＮｄ：ＹＶＯ４レーザ発振器が用いられている。本実施の形態において、このＱスイッチＮｄ：ＹＶＯ４レーザ（実線で示す）を選定した理由は、図３に示すように、繰り返し周波数が１［ｋＨｚ］以上になっても（１０［ｋＨｚ］位まで）、パルスエネルギー（レーザ出力）が殆んど変動せず、一定の値を維持できるからである。一方、従来使用していたＱスイッチＮｄ：ＹＡＧレーザ（点線で示す）は繰り返し周波数が１［ｋＨｚ］以上になると急激にパルスエネルギーが低下しているのがわかる。
【００４８】
なお、アッテネータ５は、レーザ発振器４から出射したパルスレーザＬのエネルギーを調整する機能を有している。
【００４９】
パワーモニタ６は、アッテネータ５から出射したパルスレーザＬのエネルギーを検出する機能を有している。
【００５０】
反射ミラー７は、アッテネータ５から出射したパルスレーザＬを略垂直に反射して集光レンズ８に導く機能を有している。
【００５１】
集光レンズ８は、反射ミラー７で反射したパルスレーザＬをそのスポット径が１［μｍ］〜３［μｍ］程度になるように集束して欠陥画素Ｇ上に照射する機能を有している。
【００５２】
第１のステージ１、第２のステージ３、及びレーザ発振器４には、コントローラ９が接続されている。このコントローラ９は、第１のステージ１を水平方向に駆動して液晶ディスプレイＤ上の欠陥画素Ｇを集光レンズ８の直下に位置合わせする機能と、第２のステージ３を水平方向に駆動してレーザスポットＳを欠陥画素Ｇ上でラスター走査する機能と、レーザ発振器４の繰り返し周波数を制御する機能とを有している。さらに、このコントローラ９は、パルスレーザＬの繰り返し周波数とパルスレーザＬの走査速度とを同期させる機能を有している。
【００５３】
図４は同実施の形態に係るパルスレーザＬで欠陥画素Ｇをラスター走査する様子を示し、（ａ）は走査経路の概略図、（ｂ）はレーザスポットＳのオーバーラップ率ａを説明する説明図である。
【００５４】
図４に示すように、レーザスポットＳが外径をｄ、パルスレーザＬの走査速度をｖ、パルスレーザＬの繰り返し周波数をｆとした場合、このコントローラ９は下記［数１］に示すレーザスポットＳのオーバーラップ率ａが一定となるように、繰り返し周波数ｆ、あるいは走査速度ｖを制御する。
【数１】
2006091671.tif 000003
【００５５】
例えば、走査速度ｖが低下すると、レーザスポットＳのオーバーラップ率ａを一定に保つために、繰り返し周波数ｆを低下させる。
【００５６】
次に、上記構成の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置を使用する際の動作と作用について説明する。
【００５７】
この液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置を使用する場合、まず第１のステージ１上に液晶ディスプレイＤを保持させる。そして、第１のステージ１を水平方向に駆動して液晶ディスプレイＤの欠陥画素Ｇを集光レンズ８の直下に位置合わせする。
【００５８】
次に、レーザ発振器４から繰り返し周波数ｆでパルスレーザＬを出射する。なお、この繰り返し周波数ｆは、レーザスポットＳのオーバーラップ率ａが一定となり、かつ常に１［ｋＨｚ］以上に保たれるように制御される。
【００５９】
レーザ発振器４から出射したパルスレーザＬは、アッテネータ５、パワーモニタ６、及び反射ミラー７を経て集光レンズ８に導かれ、集光レンズ８のレンズ作用により所定のスポット径に集束されて液晶ディスプレイＤの欠陥画素Ｇ上に照射される。
【００６０】
これと同時に、第２のステージ３を水平方向に駆動して、図４に示すように欠陥画素Ｇ上でレーザスポットＳをラスター走査させる。これによって、欠陥画素Ｇ全面にパルスレーザＬが照射される。
【００６１】
欠陥画素ＧにパルスレーザＬが照射されると、そのレーザエネルギーにより液晶１１３中に気泡が発生する。この気泡はパルスレーザＬが照射されてから２０［ｍｓ］〜１００［ｍｓ］で照射部分から移動してしまうことが確認されている。
【００６２】
そこで、本実施の形態では、上述のようにパルスレーザＬの周波数を１［ｋＨｚ］以上に設定している。そのため、発生した気泡が照射部分に留まっている２０［ｍｓ］以内に次のパルスレーザＬが出射される。したがって、続くパルスレーザＬは、全て液晶１１３中に気泡が存在する環境下で欠陥画素Ｇに照射される。
【００６３】
液晶中に気泡が存在する環境下でパルスレーザＬを照射すると、そのレーザエネルギーの大部分は配向膜１０８、１１２に吸収されてその成分を溶融蒸発させる。この溶融蒸発した配向膜１０８、１１２の成分は、すぐに冷却されて微粒子となり、気泡中を浮遊したのち配向膜１０８、１０９上に砂利を敷き詰めたように堆積する。これによって、液晶１１３に対する配向膜１０８、１１２の配向性が低下し、欠陥画素Ｇを透過する透過光の光量が低減することで、欠陥画素Ｇが暗く目立たなくなる。
【００６４】
上記構成の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置によれば、レーザ発振器４としてＱスイッチＮｄ：ＹＶＯ４レーザを用い、１［ｋＨｚ］以上の繰り返し周波数ｆで欠陥画素ＧにパルスレーザＬを照射している。
【００６５】
そのため、先のパルスレーザＬの照射により液晶１１３中に発生した気泡がその照射部分から移動しないうちに次のパルスレーザＬが照射されるから、常に気泡が存在している環境下で欠陥画素ＧにパルスレーザＬを照射することができる。
【００６６】
その結果、パルスレーザＬの照射により発生した配向膜１０８、１１２の微粒子が欠陥画素Ｇに対応する配向膜１０８、１１２上に効率よく堆積するから、液晶ディスプレイＤ上に発生した欠陥画素Ｇの修正を安定して行うことができる。
【００６７】
特に、本発明の修正対象のようにＴＦＴ基板の内面が平坦化されている場合、気泡が発生してから移動するまでの時間が短いので、１［ｋＨｚ］以上の高い繰り返し周波数ｆでレーザを照射する本発明は、極めて有効であると言える。
【００６８】
しかも、１［ｋＨｚ］以上の高い繰り返し周波数領域までパルスエネルギーが変動しないから、走査経路の折り返し部分における走査速度ｖの低下に伴い、繰り返し周波数ｆが低下しても、均一な精度で欠陥画素Ｇの修正を行うことができる。
【００６９】
さらに、レーザ発振器４としてＱスイッチＮｄ：ＹＶＯ４レーザを用いるだけでよいから、上述のような効果を簡単に得ることができ、さらに従来装置に対しても容易に本発明を適用することができる。
【００７０】
次に、図５を用いて本発明の第２の実施の形態を説明する。
【００７１】
図５は本発明の第２の実施の形態に係るレーザ発振器の構成図である。
【００７２】
図５に示すように、本実施の形態に係るレーザ発振器２０は、励起源としてレーザダイオード２１を搭載している。このレーザダイオード２１には電流回路２２が接続されており、この電流回路２２によりレーザダイオード２１に供給する電流値を制御することで、レーザダイオード２１から出射する励起光Ｍのパワーを変化できるようになっている。
【００７３】
そこで、本実施の形態では、比較的高い繰り返し周波数ｆでパルスレーザＬを出射している最中に電流回路２２を調整して、レーザダイオード２１から出射する励起光ＭのパワーがパルスレーザＬの繰り返し周波数ｆに追従するように制御することで、パルスエネルギーが低下しない周波数領域をさらに拡大している。
【００７４】
また、ここではレーザダイオード２１に供給する電流値を制御しているが、レーザダイオード２１から出射されるパルスレーザＬのエネルギーをアッテネータ２３で調整してもよい。
【００７５】
なお、図５中の２４は励起光Ｍを集束するレンズ、２５は励起光Ｍの波長のみ透過させるミラー、２６はパルスレーザをＱスイッチするためのＱ、２７はスイッチレーザ媒質としてのＮｄがドープされたレーザロッド、２８は発生したパルスレーザを取り出すための出力ミラーである。
【００７６】
次に、図６を用いて本発明の第３の実施の形態を説明する。なお、ここでは、上記実施の形態と同様の構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。
【００７７】
図６は本発明の第３の実施の形態に係るレーザ発振器の構成図である。
【００７８】
図６に示すように、本実施の形態に係るレーザ発振器３０は、ＡＯＱスイッチ３１を搭載している。このＡＯＱスイッチ３１にはトランスジューサ３２が設けられており、トランスジューサ３２に印加する電圧値を駆動電源３３で調整することで、ＡＯＱスイッチ３１に付与するＲＦパワーを制御できるようになっている。
【００７９】
そこで、本実施の形態では、比較的高い繰り返し周波数ｆでパルスレーザＬを出射している最中に駆動電源３３によりＡＯＱスイッチ３１に印加するＲＦパワーを制御することで、パルスエネルギーが低下しない周波数領域をさらに拡大している。
【００８０】
次に、図７を用いて本発明の第４の実施の形態を説明する。なお、ここでは、上記実施の形態と同様の構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。
【００８１】
図７は本発明の第４の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略である。
【００８２】
図７に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置は、集光レンズ８を水平方向に駆動するための第３のステージ４１を有している。この第３のステージ４１にはコントローラ９が接続されており、このコントローラ９を作動することにより、集光レンズ８から出射されるパルスレーザＬを欠陥画素Ｇ上で走査できるようになっている。本発明は、このような構成の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置に対しても適用することができる。
【００８３】
次に、図８を用いて本発明の第５の実施の形態を説明する。
【００８４】
図８は本発明の第５の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図である。
【００８５】
図８に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置は、ステージ５１を有している。このステージ５１上には液晶ディスプレイＤが保持される。ステージ５１の略中央部には、上下方向に連通する挿通孔５１Ａが設けられており、ステージ５１の下方に配置された透過照明５２により、保持した液晶ディスプレイＤを照明できるようになっている。
【００８６】
ステージ５１の上面側には、集光レンズ５３が設けられている。この集光レンズ５３は、その軸心線が垂直となるように配置されており、レーザ発振器５４から出射されてハーフミラー５５で反射したパルスレーザＬを液晶ディスプレイＤ上の欠陥画素Ｇに照射できるようになっている。
【００８７】
集光レンズ５３とハーフミラー５５の上方には、下から順にレンズ５６、ＣＣＤカメラ５７は配置されている。ＣＣＤカメラ５７は、透過照明５２から出射して液晶ディスプレイＤの欠陥画素Ｇを経由した光をハーフミラー５５、レンズ５６を介して撮像するためのものである。
【００８８】
また、レーザ発振器５４とステージ５１には、コントローラ５８が接続されている。このコントローラ５８は、レーザ発振器５４のから出射されるパルスレーザＬの繰り返し周波数を制御する機能と、ステージ５１を駆動して液晶ディスプレイＤ上の欠陥画素Ｇを集光レンズ５３の直下に位置合わせする機能を有している。本発明は、このような構成の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置に対しても適用することができる。
【００８９】
なお、本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る平坦化された液晶ディスプレイの断面図。
【図２】同実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図。
【図３】同実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置に用いられているレーザ発振器の周波数特性を示すグラフ図。
【図４】同実施の形態に係るパルスレーザで欠陥画素Ｇをラスター走査する様子を示し、（ａ）は走査経路の概略図、（ｂ）はレーザスポットのオーバーラップ率を説明する説明図。
【図５】本発明の第２の実施の形態に係るレーザ発振器の構成図。
【図６】本発明の第３の実施の形態に係るレーザ発振器の構成図。
【図７】本発明の第４の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図。
【図８】本発明の第５の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図。
【図９】従来の液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する方法を説明する説明図であり、（ａ）は欠陥画素の正面図、（ｂ）は欠陥画素の断面図。
【符号の説明】
【００９１】
４、２０、３０…レーザ発振器、２１…レーザダイオード、３１…ＡＯＱスイッチ、１０８、１１２…配向膜、Ｄ…液晶ディスプレイ、Ｇ…欠陥画素、Ｌ…パルスレーザ、Ｍ…励起光、ｆ…繰り返し周波数。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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