(57)【要約】      （修正有）【課題】  塗布層を有する基体上にさらに添加剤を含んだ層（以下機能層と称する）を塗設して、インクジェット記録媒体を得るインクジェット記録媒体の製造方法において、高速安定塗布が可能であって、液ハネ、うろこ状ムラ、ひび割れ等の塗布故障の発生が少なく、また凝集・析出等の問題を起こすことなく、効率的に高速安定塗布が可能であり、これにより高品質のインクジェット記録用媒体が製造できる方法を得ることにある。【解決手段】  被塗膜物を搬送し、スプレー塗布装置により、オーバーコート層を塗布してインクジェット記録媒体を製造する方法において、該スプレー塗布装置のスロットノズル先端部からの、オーバーコート層塗布部における被塗膜物の位置の変位量が、未塗布時および塗布時において、塗布幅に対して０．５％以内であることを特徴とする方法。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗膜物（基体）を搬送し、スプレー塗布装置により、オーバーコート層を塗布してインクジェット記録媒体を製造する方法において、該スプレー塗布装置のスロットノズル先端部からの、オーバーコート層塗布部における被塗膜物の位置の変位量が、未塗布時および塗布時において、塗布幅に対して０．５％以内であることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記オーバーコート層塗布部における前記被塗膜物（基体）にかかる張力が、９８．０Ｎ／ｍ以上９８０Ｎ／ｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記スプレー塗布装置のスロットノズル先端部からの、オーバーコート層塗布部における被塗膜物の位置の変位量が、未塗布時および塗布時において、２ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記オーバーコート層塗布部の前記被塗膜物に対する抱き角が、５度〜１８０度であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記スプレー塗布装置は、前記オーバーコート層塗布部において、スプレーがあたる前記被塗膜物の裏面に接して、支持部材を有し、かつ該支持部材はサクション機能を有していることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記支持部材は、被塗膜物の搬送と共に、駆動されていることを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記被塗膜物が、インク受容層を基材上に塗布されたものであり、かつ前記被塗膜物におけるインク受容層の塗布と、前記被塗膜物に対するオーバーコート層の塗布が、同一ライン上で連続して行われることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記被塗膜物に対するスプレー塗布の塗布速度（ＣＳ）が、１００ｍ／ｍｉｎ以上であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インク受容層等機能層を有する基材上にオーバーコートを施すことにより、インクジェット記録媒体を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録用紙は、高画質性、吸収性、吸収容量、耐候性、耐蝕性、色調など様々な特性が要求されている。これらの特性を向上させるためには、添加剤を追加する必要がある。しかしながら添加剤をインク吸収層を形成する塗布液に添加する場合には制約を受けるケースが多い。そこで、添加剤を含んだ層（以下機能層と称する）をインク受容層塗布後に塗布する方法が知られている。前記塗布方法としては、スライドホッパー、カーテン、押し出し、スプレー、ファウンテンコーター等、公知の塗布方法ならどの方式を使用しても構わない。機能層を塗布する場合、インク受容層を塗布した後、乾燥後、巻き取り、サイド塗布する方法であってもよく、連続して塗布する方法であってもよい。
【０００３】
中でも好ましい形態は、インク受容層を塗布後、連続して塗布する場合である。この方式の場合は、インク受容層をある程度乾燥させてから機能層を塗布する必要があり、乾燥工程を考えると、機能付与層は、極力薄膜で塗布するのが好ましい。このような塗布が可能な方式としては様々なものが考えられるが、インク受容層が吸収性のため、コーターで目標の膜厚より多く塗布液を塗布し、その後、エアなどでかき取る方式や、ダブルロールのようにインク受容層を液に浸漬してしまう方式などは使用できない。
【０００４】
好ましい塗布法式としては、スライドホッパー、カーテン方式、スプレー方式が考えられる。中でも薄膜塗布が可能なスプレー塗布方式が好ましい。スプレー方式の塗布は、例えば、特許文献１にも記載されている如く、自動車業界、建設業界において、塗装用途に多く使用されているが、この分野では被塗装物が基本的には固定である。
【０００５】
また、インクジェット記録媒体の製造において、これらの機能層薄膜をムラ等がなく、精度の高い塗布を行うために、スプレー塗布装置を用いる方法が、例えば、特許文献２または特許文献３等に開示されている。
【０００６】
しかしながら、これらにおいては、塗布液の粘度、表面張力等、また、スプレーの発生時のガス内圧や流量等、塗布液ノズルとガスノズルの角度等、又、それによる噴霧液滴群の広がり角度等、更には塗布される基体との距離等についての記載はあるものの、塗布時に、液ハネ、モトル、スジ等の塗布故障の発生が少ない、均一な塗布膜が得られるスプレー塗布装置、又スプレー塗布条件については余り検討されていなかった。
【０００７】
本発明は、従って、連続搬送中にスプレー方式で、塗布層を有する基体（被塗装物）に塗布する方式であって、かつ、塗布故障ムラの発生がなく、かつ高速塗布を可能とする装置、および製造方法を提案するものである。その方法としては以下に記す。
【特許文献１】特表２００３−５０６２１０号公報
【特許文献２】特開２００３−３２６８３６号公報
【特許文献３】特開２００４−９０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明の目的は、塗布層を有する被塗膜物（基体）上にさらに添加剤を含んだ層（以下機能層と称する）を塗設して、インクジェット記録媒体を得るインクジェット記録媒体の製造方法において、高速安定塗布が可能であって、液ハネ、モトル、スジ等の塗布故障の発生が少なく、また凝集・析出等の問題を起こすことなく、効率的に高速安定塗布が可能であり、これにより高品質のインクジェット記録用媒体が製造できる方法を得ることにある。
【０００９】
具体的には、支持体上に塗布により多孔質層を形成させた後、更に添加剤を含有する溶液をオーバーコートしてインクジェット記録用紙を製造する際に、製造コストの大幅な増大を伴うことなく、高い品質でインクジェット記録用紙を製造することの出来る方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記課題は以下の手段によって達成される。
【００１１】
（請求項１）
被塗膜物を搬送し、スプレー塗布装置により、オーバーコート層を塗布してインクジェット記録媒体を製造する方法において、該スプレー塗布装置のスロットノズル先端部からの、オーバーコート層塗布部における被塗膜物の位置の変位量が、未塗布時および塗布時において、塗布幅に対して０．５％以内であることを特徴とする方法。
【００１２】
（請求項２）
前記オーバーコート層塗布部における前記被塗膜物にかかる張力が、９８．０Ｎ／ｍ以上９８０Ｎ／ｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【００１３】
（請求項３）
前記スプレー塗布装置のスロットノズル先端部からの、オーバーコート層塗布部における被塗膜物の位置の変位量が、未塗布時および塗布時において、２ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【００１４】
（請求項４）
前記オーバーコート層塗布部の前記被塗膜物に対する抱き角が、５度〜１８０度であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【００１５】
（請求項５）
前記スプレー塗布装置は、前記オーバーコート層塗布部において、スプレーがあたる前記被塗膜物の裏面に接して、支持部材を有し、かつ該支持部材はサクション機能を有していることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【００１６】
（請求項６）
前記支持部材は、被塗膜物の搬送と共に、駆動されていることを特徴とする請求項５記載の方法。
【００１７】
（請求項７）
前記被塗膜物が、インク受容層を基材上に塗布されたものであり、かつ前記被塗膜物におけるインク受容層の塗布と、前記被塗膜物に対するオーバーコート層の塗布が、同一ライン上で連続して行われることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【００１８】
（請求項８）
前記被塗膜物に対するスプレー塗布の塗布速度（ＣＳ）が、１００ｍ／ｍｉｎ以上であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、例えば、インク受容層等が基材上に塗布された被塗膜物（以下基体とも呼ぶ）上にさらに添加剤を含んだ層（以下機能層と称する）を塗設してインクジェット記録媒体を得るときに、塗布故障（液ハネ、モトル、スジ等）が発生せず、また、液同士の接触による凝集・析出等の問題がなく効率的に高速安定に機能層の塗布が可能となり、高品質のインクジェット記録用媒体が製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
次に本発明実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【００２１】
本発明は、支持体上に多孔質層を形成させる塗布液等を塗布し、インク受容層等インクジェット記録媒体構成層を形成した後、添加剤を含有する溶液をオーバーコートする際に、製造コストの大幅な増大を伴うことなく、高い品質を有するインクジェット記録用紙の製造方法を提供することにある。本発明の第３の目的は、製造品質のバラツキが低減し、塗布均一性が向上した高品質のインクジェット記録用紙の製造方法を提供することにある。
【００２２】
本発明により、支持体上に被塗布層を有する被塗膜物（基体）上にさらに添加剤を含んだ層（以下機能層と称する）を塗設（オーバーコート）してインクジェット記録媒体を得るときに、液ハネ、モトル、スジ等の塗布故障が発生せず、また、連続塗布した場合に、液同士の接触で、凝集・析出する等の問題のある層同士を効率的に高速安定にムラなく塗布ができ、種々の機能層をオーバーコート層としてインクジェット記録用媒体に付与する場合、大きな制約なく高品質のインクジェット記録用媒体が製造できる方法が得ることができた。
【００２３】
これにより、支持体上に塗布により多孔質層を形成させた後、これに添加剤等を含んだ機能層をオーバーコート層として付与してインクジェット記録媒体を製造する場合等には規制が殆どなくなり高速安定に、高品質のインクジェット記録用媒体が製造できる。
【００２４】
本発明において用いられる塗布液を液滴として噴霧することで高速の塗布を行うことのできるスロットノズルスプレー装置にについて、特にそのスロットノズル（スプレーヘッド）について説明する。
【００２５】
本発明において被塗膜物とは塗布層を有する基体であって、本発明の塗布方法を用いて塗布液を液滴状にし、噴霧することで、塗布を行う被塗布対象物のことであり、その形態は問わない。上述の長尺の帯状支持体や、該帯状支持体上にすでに構成層を有するものであることが本発明の効果を十分に奏することができ好ましい。基体は、板状の支持体であっても、立体形状を有するものであっても構わず、被塗布部が面積を有していればよい。
【００２６】
また、本発明において、被塗膜物は、塗布装置の塗布液吐出部に対して相対的に移動させ（搬送させ）、連続的に塗布製造を行う。塗布装置の塗布液吐出部は、少なくとも基体の塗布幅（基体の搬送方向と交差する方向における前記基体の被塗布部の長さのことを指す）に対応する長さを有し、基体の搬送方向と交差するように配置させることにより、塗布装置に対して基体を搬送させるだけで基体上に塗布液を塗布する。基体が長尺の帯状支持体である場合、前記帯状支持体の長手方向に前記帯状支持体自身を搬送させ、塗布装置の塗布液吐出部を、前記帯状支持体の幅手方向に（長手方向と直行する方向に）位置させることが好ましい。塗布装置に対し、基体を一方向に搬送し、塗布液を塗布幅にわたって液滴として噴霧することにより、ごく薄い塗布膜を、乾燥負荷なく、膜厚均一性高く塗布できる。
【００２７】
塗布装置の塗布液吐出部から噴霧される液滴は、塗布幅方向において、
１：液滴径分布が均一であること、
２：液滴が基体上に落ちる面積範囲の搬送方向の落下長さが均一であること（後述の図３に示す）、
３：基体上に落ちる角度が均一であること、
４：基体上に落ちる衝突速度が均一であること、
によって、より塗布膜厚の均一性を確保することが可能となる。
【００２８】
塗布幅方向において液滴径分布が均一であるとは、具体的には、塗布幅方向で、平均液滴径の変動が、±２０％以下であることを言う。より好ましくは±１０％以下である。
【００２９】
平均液滴径の変動は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定し、計算することが可能である。具体的には以下の測定法により行う。
【００３０】
まず、塗布液を液滴として噴霧するスロットノズルスプレー装置等のスプレー装置から、塗布液を噴霧させ、その噴霧状態を安定させる。噴霧開始直後では、塗布液の吐出量やガス圧が一定せず噴霧状態が安定しないので、所定の時間噴霧を続けることで安定させることができる。
【００３１】
液滴径の変動率等は、噴霧状態が安定した液滴群に対し、レーザー回折式粒度分布測定装置（例えばスプレーテックＲＴＳ５１２３（マルバーン社製））を用い、塗布幅方向において等間隔で数ヶ所、平均液滴径を測定することで行える。
【００３２】
また、液滴が基体上に落ちる面積範囲の搬送方向の長さが均一であるとは、塗布幅方向で、前記長さの変動が、±１０％以下であることを言う。より好ましくは±５％以下である。
【００３３】
尚、基体上に落ちる液滴の面積範囲の搬送方向の長さの変動は、液滴の基体上への接液部を可視化することによって測定することが可能である。
【００３４】
上述のような均一な噴霧を達成するには、いわゆるスロットノズルスプレー装置を用いる手段が挙げられる。スロットノズルスプレー装置とは、塗布液を吐出する塗布液ノズル孔を塗布幅方向に複数有する。各塗布液ノズル孔は、塗布幅方向に一列に並んでいても、千鳥に並んでいてもよい。そして、前記塗布液ノズル孔に近接してガスを噴出するガスノズル孔を有し、ここから噴出されるガスを前記塗布液ノズル孔から吐出された塗布液に衝突させて液滴を形成する機構を有する。又、塗布液ノズル孔は配置した複数のノズル孔ではなくスリット状でもよい。
【００３５】
本発明に用いることのできるスロットノズルスプレー装置としては、例えば、特開平６−１７０３０８号公報に記載されているもの、また、特開平５−３０９３１０号公報に開示されているもの等、本発明に好ましく用いることができる。
【００３６】
スロットノズルスプレー装置を用いて、上述のごとく塗布幅にわたって噴霧状態の均一性を高める方法としては、塗布液の粘度を比較的低くすること、ガスノズルから噴出するガス圧を高くすることにより可能である。また、スロットノズルスプレー装置の塗布液ノズル開口端の面積を小さくすること、該開口端のピッチを狭くすることなどにより、噴霧の均一性を高めることができる。
【００３７】
塗布液の粘度としては、好ましくは０．１〜２５０ｍＰａ・ｓ、より好ましくは０．１〜５０ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは０．１〜２０ｍＰａ・ｓであり、このような低粘度の塗布液をスロットノズルスプレー装置に適用することで、塗布幅にわたって均一な液滴の噴霧が可能である。
【００３８】
また、スロットノズルスプレー装置等を用いて、ガスを塗布液に衝突させて液滴を形成するときのガス内圧は、１０ｋＰａ以上、好ましくは２０ｋＰａ以上、さらに好ましくは５０ｋＰａ以上とすると均一な噴霧が行い易い。ガスの流量としては、３．５ＣＭＭ／ｍ以上、好ましくは７ＣＭＭ／ｍ以上、さらに好ましくは１０ＣＭＭ／ｍ以上である。
【００３９】
上記手段を用いて、塗布幅にわたり、連続ファイバー状ではなく、不連続な液滴状に飛散させることにより、塗布液が少量であっても、均一に、塗布液を基体上に供給できる。結果として、塗布膜厚を均一にすることができる。また、不連続な液滴の基体上への供給であって、塗布液量が少なくなるので、乾燥負荷が少なくても済む。
【００４０】
本発明において用いることのできるスロットノズルスプレー塗布装置の形態として、特に制限はないが、好ましい一例を以下に示す。
【００４１】
図１は、本発明の塗布方法を説明するための概略図である。図中、参照符号１は、スロットノズルスプレー装置（全容は不図示）のスロットノズルスプレー部、９は長尺の帯状支持体タイプの基体である。基体９は、基体９の長手方向である図中の矢印の搬送方向に、図示しない搬送手段により一定の速度で搬送される。スロットノズルスプレー部１の塗布液吐出部１ａは、搬送方向と直交する方向である基体９の幅手方向に長さを有し、基体９の塗布面に対向するように配置されている。塗布液吐出部１ａからは、塗布液が液滴状に噴霧され、搬送される基体９上に液滴が着地することにより塗布が行われる。このとき基体９の幅手方向の塗布液が付着する長さが図中矢印で示した塗布幅に相当する。図１では、塗布幅は、基体９の幅手方向の長さよりも短くなっているが、同じでも、又それ以上でももちろん構わない。
【００４２】
図２は、図１で説明したスロットノズルスプレー部１を含むスロットノズルスプレー装置の概略断面図である。
【００４３】
図２において、スロットノズルスプレー部１には、ガスポケットＡを有する１対のガスノズル２と塗布液ポケットＢを有する塗布液ノズル３を有している。塗布液は、ファイバー状にならず液滴を形成できる粘度（０．１〜２５０ｍＰａ・ｓが好ましい）を有する例えば機能賦与化合物含有溶液などの塗布液を調製釜４に入れ、ポンプ５、流量計６を経て、塗布液ポケットＢに供給されて塗布液ノズル３に導かれる。一方、ガスノズル２へは、加圧空気源７より、弁８を介して、ガスポケットＡに加圧空気が供給される。塗布に際しては、塗布液ノズル３より規定の塗布量となるように調製釜４より塗布液を供給し、ガスノズル２対より加圧空気を吹き付け、塗布液を液滴状にして、基体９上に噴霧、吐着させるものである。本発明の塗布方法においては、塗布液を、ファイバー状ではなく、微細な液滴として噴霧することができることが大きな特徴である。塗布液を微細な液滴として、基体９表面に供給することにより、極めて均一性の高い薄膜を、乾燥負荷が少なく、高速で形成することができる。
【００４４】
次に、図３を用いて、スロットノズルスプレー部１とそこで形成される液滴の形成及び飛翔状態を説明する。
【００４５】
図３において、塗布液ノズル３より吐出された塗布液は、塗布液ノズル３の両サイドに近接して設けられたガスノズル２より供給される圧縮空気により、細分化、液滴化され球形に近い液滴粒子１０となり、飛翔し、ギャップＧを隔てた基体９表面に均一に着弾する。図３では、基体９は、支持体９ａ上にインク吸収層９ｂを構成層として塗布したモデルで示してある。基体９上に着地する塗布液の液滴の面積範囲は、常に均一であることが好ましいが、特に、搬送方向における長さ（図中、落下長さＬと記載）が塗布幅にわたって均一であることが好ましい。また、塗布液ノズル３の開口端を基点として基体に対し、噴霧される液滴群の広がり角度θは、塗布幅にわたって均一であることが好ましい。
【００４６】
図４、図５、また図６は、図３のスロットノズルスプレー部１を塗布液吐出部１ａ側から見た概略図である。塗布幅方向に配置された複数の塗布液ノズル３又はスリット状ノズル３の開口端とガスノズル２またはＤの開口端とを示している。
【００４７】
図４に示す塗布液吐出部は、円形の開口端を有する塗布液ノズル３が、塗布幅方向に２１個並んでいる。そして、各塗布液ノズル３の開口端の両サイドに近接して、ガスノズル２が設けられている態様である。各塗布液ノズル３は、それぞれ等間隔に配列されており、同様に各ガスノズル２も等間隔に配列されている。ここでは、一つの塗布液ノズル３と対応する２つのガスノズル２が塗布幅方向と直行する方向に一直線上に配置されているが、塗布液ノズル３とガスノズル２とが、互い違いに、千鳥状に配置されていても構わない。塗布液ノズル３の開口端またはガスノズル２の開口端の間隔（ピッチ）は一定であることが好ましい。開口面積は少なく、ピッチ間隔も狭い方が好ましい。
【００４８】
図５に示す塗布液吐出部は、図４のものとは別の形態のものである。矩形の開口端を有する塗布液ノズル３が塗布幅方向に１１個並んでいる。そして、塗布幅にわたって、全部の塗布液ノズル３に対し、その開口端の両サイドに近接して、スリット状のガスノズル２が一つずつ設けられている。この形態においても、複数の矩形の塗布液ノズルの開口は等間隔に配列されている。
【００４９】
また、図６に示す塗布液吐出部は、スリット状の塗布液ノズル２を塗布幅方向に有するスロットノズルスプレー部を塗布液ノズル側から見た概略図である。塗布幅方向に配置されたスリット状の塗布液ノズル２の開口端とガスノズル２の開口端とを示している。図６において、スリット間隙がｔの塗布液ノズル３の両端部には、それぞれ封止体Ｔが設けられており、これによりスリット状の塗布液ノズル３を形成している。図６においては、封止体Ｔを用いてスリット状の塗布液ノズル３を形成しているが、例えば、内部ダイブロック３ａ、３ｂのいずれか一方に溝状の加工を施して、スリット状の塗布液ノズル３を形成してもよい。この塗布液ノズル３の両サイドには、平行して１対のガスノズル２が設けられている。
【００５０】
図７は、図５のタイプの塗布液吐出部を有するスロットノズルスプレー部１の分解斜視図である。図中、参照符号の１ｃおよび１ｅは、所定の距離を有する塗布液用スリットを形成し、このスリットに塗布液を流下させるためのダイブロックである。片方のダイブロック１ｃは、図示しない塗布液供給源から供給される塗布液を受け入れ、塗布液ポケットＢまで連通する塗布液供給管６１を有している。塗布液ポケットＢに滞留した塗布液は、ダイブロック１ｃおよび１ｅの間に形成された塗布液用スリットを流下することになる。１ｄは、ブロック１ｃおよび１ｃに挟まれたシム（詰め金）であり、２つのダイブロック１ｃおよび１ｅの間隙に形成された塗布液用スリットを垂直方向に分断して塗布幅方向に複数の塗布液ノズルを形成する。
【００５１】
また、１ｂおよび１ｆは、ガスブロックで、ダイブロック１ｃおよび１ｅのそれぞれとの間隙に圧縮ガスが流通するガスノズルを形成する。この場合のガスノズルは塗布幅方向に延びるスリットである。図示しないエア供給源から圧縮エアがそれぞれのガスブロックのエア供給管８１に供給され、一端塗布液ポケットＢに滞留した後、ダイブロックとガスブロックとの間隙に形成されたガスノズルを圧力をもって流下する。
【００５２】
上記シム１ｄの間を流下してきた塗布液および２つのガスノズルを流下してきた圧縮エアは、スロットノズルスプレー部１の底部である塗布液吐出部において衝突し、液滴を形成して、被塗布対象物である基体上に飛翔する。
【００５３】
本発明に用いられるスロットノズルスプレー装置において、塗布液ノズル３の開口端の形状としては、円形でも矩形でも良く、そのサイズとしては５０〜３００μｍの範囲で用いることができ、それらのピッチ（間隔）は、１００〜３０００μｍとすることが好ましい。また、前記のように塗布幅方向にのびるスリット状の塗布液ノズルであってもよい。この場合、スリット間隔（図６に示すｔ）としては、概ね２０〜１２０μｍ、好ましくは４０〜８０μｍの範囲で用いることができる。一方、ガスノズルの開口端の形状としては、円形でも塗布幅に延びるスリット状でもよく、このときの円形での直径（図４に示すｄ）、あるいはスリット間隔（図５に示すｗ）としては、概ね５０〜５００μｍの範囲で用いることができる。塗布液ノズルに対するガスノズルの角度としては、５〜５０ｄｅｇの範囲が好ましい。また、スロットノズルスプレー部の塗布液吐出部と基体間の距離（図３に示すＧ）は、概ね２〜５０ｍｍの範囲で、適宜選択することができる。
【００５４】
塗布液ノズルからの塗布液の供給量は、所望の塗布膜厚、塗布液の濃度、塗布速度等により一概には規定できないが、概ね基体上の塗設量として、１〜５０ｇ／ｍ2の範囲が好ましい。１ｇ／ｍ2未満では、安定で均一な塗布膜を形成するのが難しく、逆に５０ｇ／ｍ2を越えると乾燥負荷等に影響が表れ、本発明の効果を有効に発揮させることが難しくなる。塗布液の湿潤膜厚としては、１〜５０μｍであることが特徴であり、好ましくは５〜３０μｍである。
【００５５】
一方、ガスノズルから噴出されるガスは、塗布に適した気体であればよく、一般にはエア（空気）を用いるが、ガスの供給条件としては、概ね１〜５０ＣＭＭ／ｍ（塗布幅あたりの流量）の範囲が好ましく、その時のガスノズルでの内圧としては、塗布の均一性の観点から、１０ｋＰａ以上であることが好ましい。
【００５６】
エアー線速度ｖは、１２６〜４００ｍ／ｓであることが本発明の目的を顕著に達成できるという観点において好ましい。特に、ｖが１２６ｍ／ｓ以上であれば塗布乾燥性の観点で好ましく、また４００ｍ／ｓ以下であれば塗布収率の観点で好ましい。
【００５７】
本発明でいうエアー線速度とは、ガスノズル出口直後におけるエアー線速度であり、レーザードップラ風速計、例えば、ＫＡＮＯＭＡＸ社製の１Ｄ  ＦＬＶ  ｓｙｓｔｅｍ８８５１により測定して求めることができる。また、塗布収率とは、基体上に塗布された塗布液量／供給した全塗布液量×１００（％）であり、質量法により算出する。すなわち、基体上に塗布された塗布液量は、基体上への塗布前後の質量変化から算出し、供給した全塗布液量は塗布液吐出部へ送液、供給した質量、すなわち、送液流量×塗布時間より求めることができる。
【００５８】
また、このときの塗布液の液滴の平均粒径Ｄは、１０〜７０μｍであることが本発明の目的を顕著に達成できるという観点において好ましい。本発明でいう液滴の平均粒径Ｄとは、塗布ギャップ（塗布液吐出部と基体間の距離Ｇ）位置における平均粒径であり、レーザ回折方式粒径測定機、例えば、ＭＡＬＶＡＮ社製のＲＴＳ１１４により測定して、求めることができる。
【００５９】
図８は、上記説明したようなスロットノズルスプレー装置を配置した塗布製造ラインの一例を示している。ここでは、基体としては支持体上に構成層を塗布したものを用いている。支持体上に該構成層を塗布後、乾燥する工程内に、複数（多段で）スロットノズルスプレー装置を配置、このように同一ライン上で、構成層の形成と本発明によるオーバーコート層（最表層）の塗布とを行うことをオンライン塗布と呼んでいる。
【００６０】
図示しない搬送手段によって支持体の元巻きから、支持体が搬送ローラ２１を通過し、さらにバックアップロール２２の位置にて流量規制型のスライドビード塗布装置２０より供給される多孔質インク吸収層（構成層）用の塗布液が塗布される。この多孔質インク吸収層用の塗布液は、親水性バインダを含有しおり、冷却ゾーン３０で一端冷却して固定される。支持体上に前記構成層を有する基体９は、さらに乾燥工程に搬送され、エアを吹き出して塗布膜表面と非接触で反転搬送させるリバーサ２３と通常の搬送ローラ２４とを交互に設けて蛇行搬送させる。この乾燥工程において、基体９は温風を吹き付けられて乾燥される（温風吹きつけ手段は不図示）。この乾燥工程の途中、好ましくは減率乾燥以降の位置に、図では例えば２つのスロットノズルスプレー装置１によって本発明の上記説明したような液滴噴霧による塗布が行われる。ここでは２つのスロットノズルスプレー装置を使用したが、１つでももちろんよく、３つ以上でもかまわない。
【００６１】
本発明の塗布方法を用いて、基体上に薄膜を形成する際の塗布速度としては、用いる塗布液の種類、濃度、溶媒含有量、乾燥能力等により変化し、一概に規定することはできないが、塗布速度として、１００／ｍｉｎ以上であることが好ましく、１５０〜３００ｍ／ｍｉｎであることが好ましい。
【００６２】
本発明の塗布方法を用いて、少なくとも１層の構成層を支持体上に有する基体上に、塗布を行う場合の塗布時期としては、支持体上に形成した構成層の減率乾燥以降、好ましくは乾燥終点以降である。また、前記構成層をスライドビード塗布等を用いて行う塗布工程と本発明のスロットノズルスプレー装置を用いる等により行う塗布工程は、同じ製造ライン上で、連続して行うことが好ましい（オンライン塗布と言う）。本発明にかかる塗布方法は、少量の塗布液であっても塗布が可能であるため、該構成層が完全に乾燥していない状態で行っても乾燥負荷が少なく、該構成層への悪影響も少ない。また、該構成層が完全に乾燥する前に本発明にかかる塗布を行う方が、かえって構成層のひび割れ等のデメリットを防ぐことも出来ることがわかった。
【００６３】
また、インク受容層等のように吸収性である場合、薄層を均一に形成することができ、塗布を効率よく行える。
【００６４】
本発明の塗布方法は、乾燥負荷が少ないので、該構成層の乾燥工程内において実施することができる。乾燥工程は、通常は、湿潤状態の塗布膜を連続的に搬送しながら、その表面あるいは裏面より、特定の温度及び湿度条件に制御された乾燥風を吹き付けて乾燥させる。
【００６５】
本発明の塗布方法における塗布液の粘度は、０．１〜２５０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。より好ましくは０．１〜５０ｍＰａ・ｓである。さらに好ましくは０．１〜２０ｍＰａ・ｓである。
【００６６】
本発明の塗布方法は、薄層を均一に形成することができ、幅広い分野に適用することができ、例えば、一般銀塩感光材料の最表面に機能層を賦与する、反射防止膜の形成、電子写真で用いる感光体の電荷発生層、電荷輸送層の塗布、インクジェット記録媒体上への塗布等に用いることができるが、特に好ましくはインクジェット記録媒体上へのオーバーコート層の塗布に適用することである。
【００６７】
本発明の塗布方法が好ましく適用できるインクジェット記録媒体は、支持体上に親水性バインダーと微粒子を含有する多孔質インク吸収層を構成層として有し、その上に本発明の塗布方法でオーバーコート層を設けたものである。
【００６８】
本発明にかかわる塗布方法においては、インクジェット構成層等が塗布層として設けられた被塗膜物（基体）を搬送し、スプレー塗布装置により、オーバーコート層を塗布するときに、該スプレー塗布装置のスロットノズル（スプレーヘッド）先端部からの、オーバーコート層塗布部における被塗膜物（基体）の位置の変化（距離）、すなわち、前記図７における、基体の変化量（ａ）が、未塗布時および塗布時において、塗布幅に対して０．５％以内であることが、オーバーコート層塗布後に、ムラや液はねがなく、均一な、表面を形成する上で重要である。
【００６９】
前述の様にスロットノズルスプレー部の塗布液吐出部と基体間の距離（図３に示すＧ）は、概ね２〜５０ｍｍの範囲で、適宜選択することができるが、均一に安定して塗布するためには、例えば、ノズルスプレー部と、基体間の距離を適切に保つ必要がある。
【００７０】
図９にスロットノズルスプレー部の塗布液吐出部および基体の塗布部、及び塗布液噴霧が吹き付けられることによる基体の変位（変位量ａ）を示す。
【００７１】
図１０はスロットノズルスプレー部の塗布液吐出部および塗布部において基体がバックロールを有する装置の一例を示すが、バックロール上での挙動をについて、スプレー部より噴霧された塗布液は、基体表面に衝突し図に示すような流れで、噴霧が一部方向を曲げられることで、塗布液噴霧の塗布部（噴霧との衝突点）において、基体側に減圧状態が生じるため、これにより基体の塗布部に置いて、基体のバックロールからの浮き上がりを生じ、液ハネや塗布ムラの原因となることが知られている。従って厳密にスロットノズル部と基体との距離を、このような現象に対して制御することがこれらの支持部材を有するスプレー塗布装置においても必要とされる。
【００７２】
前記の様に、スプレー塗布装置のスロットノズル（スプレーヘッド）先端部からの、オーバーコート層塗布部における被塗膜物（基体）の位置の変化、すなわち、前記図９における、基体の変位量ａが、未塗布時および塗布時において、塗布幅に対して０．５％以内とすることができればスプレー塗布においてムラを生じず均一な膜が得られる。従ってこの為の、手段を講じることが出来れば、ある程度の許容度をもって、オーバーコートの均一な塗布が可能となる。
【００７３】
特に、未塗布時と、塗布時の基体位置の変化は変位量ａで表され、塗布幅，好ましくは２０００ｍｍ程度迄においては、通常、絶対値で１０ｍｍ以下、少なければ少ない方が好ましく、２ｍｍ以下であることが好ましい。
【００７４】
これらの基体位置の変化は、基体自体が未塗布時と塗布時において、この範囲で変動するということであり、上記値はその変位値（絶対値）の平均値である。
【００７５】
未塗布時と塗布時の基体位置の変位量は、未塗布時に置ける基体表面の位置の平均を基準として、塗布時の基体の位置についてこれからのずれを記録した値を平均したものである。基体の位置は変位センサーを用いて塗布を行いつつ監視できる。
【００７６】
即ち、変位センサー（例えば渦電流センサー）を、スロットノズルの先端に塗布幅方向に沿って数個（塗布幅によって異なり１ｍ幅では５つ位でよい）埋め込んでおき、各センサーで検出される位置の平均値同士を未塗布時と塗布時とで比較し差をとり求めることができる。
【００７７】
従ってこれらを達成するには、例えば、ロール間のテンション等によって、これらの値は変動するので、ロール間で基体にかかるテンションは、基体のスプレーに対する反動としての変位はもちろん、前記の基体の減圧による持ち上がり等を抑える為に前記の一定値以上に保つ必要がある。
【００７８】
スロットノズルスプレー部からの塗布液の噴霧が形成される前記エアー線速度でのスプレーにおいては、前記オーバーコート層塗布部における前記被塗膜物（基体）にかかる張力が、９８．０Ｎ／ｍ以上あることが好ましく、基体が充分な張力を有することで、バックロール等の支持部材がない場合（例えば図９）においてはもちろんのこと、バックロール等の支持部材がある場合においても前記の減圧に起因する基体の浮き上がりを防止することが出来、スロットノズルからの基体位置の変位を抑えることが出来る。張力の上限は、これが大きすぎると却って基材の変形、それによる膜厚ムラ等が起こりやすいため、９８０Ｎ／ｍ以下であることが好ましい。
【００７９】
また、前記スプレー塗布装置において、前記オーバーコート層塗布部における前記被塗膜物（基体）の裏面に接して、支持部材を有することも前記噴霧の流路形成による減圧部の形成を低減でき、好ましいものである。
【００８０】
支持部材としては、図１０に示されるような、例えばバックロール、また、図１１に示されるようなベルト等の搬送する基体を支える支持部材ある。これらの部材によって、基体は裏面を支持され、これによりスロットノズル先端との距離は少なくとも一定の硬度を有する支持部材が支えることで、バックロール或いはベルト側への変位は抑えられる。
【００８１】
支持部材であるベルトとしては、基材上に表面層を積層して無端状のベルト形態に形成したものが使用される。ベルト基材は、金属等、また樹脂製、例えば、カーボンブラックを含有させた，例えば厚さ１００〜１０００μｍ程度のポリイミドフィルム等がある。このベルト基材としては、この他にも厚さが程度の耐久性に優れたものであれば使用可能である。一方、表面層を有していてもよく塗布基体との良好な密着性の観点から樹脂層、ゴム層等を用いて表面層を形成したものであってもよい。例えば、シリコーン共重合体（東レダウシリコーン製：ＤＸ３５−５４７Ａ／Ｂ）を用いて例えば厚さ５〜２００μｍ程度の弾性層を有するものが挙げられる。
【００８２】
バックロールとして用いる支持ロールとしては、ロール外径が例えば５０〜３００ｍｍ程度の金属製の円筒ロールがあるが、またアルミニウム製の円筒ロール上に例えば、厚さ２ｍｍ程度の樹脂（ゴム）層を積層したものが挙げられる。
【００８３】
また、本発明に係わるスプレー塗布装置の別の一例として、前記基体のスロットノズル（スプレーヘッド）先端部からの変位を防止するには、図１２に示されるように、バックロール上を基体が搬送されつつ、前記オーバーコート層がその塗布部においてスプレー塗布される形態において、前記被塗膜物（基体）のバックロールに対する抱き角（θ）が、５度〜１８０度の範囲にあり、これにより基体が一定の距離をバックロールと共に、これに接触して搬送されるようにすることが効果がある。好ましくは抱き角は、９０度〜１８０度である。これにより確実に基体がバックロールに支持され、前記基体の浮き上がりが軽減することができる。
【００８４】
前記オーバーコート層塗布部における前記被塗膜物（基体）にかかる張力は前記のように、９８．０Ｎ／ｍ以上あることが好ましいが、更に、前記バックロールに対し、被塗膜物（基体）は、５度〜１８０度の範囲の抱き角（θ）をもって搬送されることが特に好ましい。
【００８５】
又、確実に前記の塗布部において、スプレー塗布層値のスロットノズル先端部からの基体の距離の変動（前記の変位量）を抑えるに好適な別の形態のスプレー塗布装置を以下に示す。
【００８６】
スプレー塗布装置においては、塗布部において、被塗膜物（基体）の裏面に接して例えばバックロール、ベルト等の支持部材を有するものが、好ましいが、前記オーバーコート層塗布部において、スプレーがあたる前記被塗膜物（基体）の裏面に接した支持部材が、サクション機能を有していればさらに好ましい。サクション機能を有することで、前記の基体の浮き上がりを防止し、基体の支持部材への密着が確実なものとなり、前記のスロットノズルからの基体位置の変位が改善する。
【００８７】
この態様においては、例えば、バックロールが多孔質であって、前記バックロール内部より前記バックロール表面の空気を吸引するサクション手段を有するバックロールである。多孔質のバックロール表面は５０μｍ〜２００μｍの細孔を有していることが好ましい。この構成によって、バックロールと基体の間に入り込む空気層を除去して、基体の支持部材への密着を確実なものとし、ひいては膜厚を均一に塗布することが可能となる。
【００８８】
多孔質のバックロールの素材は特に制限はないが、バックロール表面上で開口面積比が５％〜５０％の範囲が好ましい。材質は、バックロールの表面性と真直度の精度を保つ観点から、焼結の金属であることが好ましい。サクション手段によるサクション圧力は、４．９０×１０ｋＰａ〜５．８９Ｐａが好ましい。
【００８９】
これらのサクション機能を有するバックロール或いはベルト等の支持部材は、被塗膜物（基体）の搬送と共に駆動されていることが好ましい。基体の搬送と支持部材の間にずれが生じると前記の硬度を有する支持部材である場合、また、基体に係る張力が大きい場合、基体裏面と支持部材間の摺れによる擦り傷等が発生し好ましくない。
【００９０】
前記の基体の変位を少なく保つための手段は、その幾つかを同時に実施すると更に効果が大きい。例えば、基体のテンション、バックロール、また、テンションとベルトのサクション機能等である。また、これ以外の組み合わせも構わない。
【００９１】
前記のように、既にインク受容層等の機能層を支持体上に有する被塗膜物（基体）に、これらのスロットとノズルを有するスプレー塗布装置によって添加剤等を含む塗布液をオーバーコートすることで本発明に係わるインクジェット記録媒体は得られるのであるが、前記被塗膜物（基体）が支持体上に有するインク受容層等機能層と、これに対するオーバーコート層の塗布は同一ライン上で、連続して行われることが好ましい。
【００９２】
本発明の塗布方法を用いて、基体上に薄膜を形成する際の塗布速度としては、用いる塗布液の種類、濃度、溶媒含有量、乾燥能力等により変化し、一概に規定することはできないが、塗布速度として、１００〜３００ｍ／ｍｉｎであることが好ましく、より好ましくは１５０〜３００ｍ／ｍｉｎである。
【００９３】
本発明の塗布方法は、乾燥負荷が少ないので、該構成層の乾燥工程内において実施することができる。乾燥工程は、通常は、湿潤状態の塗布膜を連続的に搬送しながら、その表面あるいは裏面より、特定の温度及び湿度条件に制御された乾燥風を吹き付けて乾燥させる。
【００９４】
湿潤状態の塗布膜の乾燥過程は、主に以下のように分類することができる。乾燥の初期は、恒率乾燥部と呼ばれ、塗布液の溶媒である水や溶剤が蒸発潜熱を奪いながら蒸発していくため、構成層の表面温度はほぼ一定である。この一定温度の期間を恒率乾燥部という。恒率乾燥部以降では、塗布液の溶質とインターラクションのある水や溶剤を蒸発させるため、蒸発潜熱の他にそのインターラクションを解くためのエネルギーも必要となるので表面温度は上昇する。この期間を減率乾燥部という。減率乾燥とは、表面からの溶媒の蒸発が層内の塗膜中の水分移動が勝るときに起きる現象である。次いで、減率乾燥が終了すると、乾燥風の温度とインクジェット記録媒体の表面温度が一致する領域に入る。この時点が、乾燥終点と呼ばれている。
【００９５】
以上説明した恒率乾燥部、減率乾燥部及び乾燥終点の確認方法としては、特に制限はないが、例えば、表面温度をモニターして、表面温度が一定である領域を恒率乾燥部、表面温度が上昇する領域を減率乾燥部及び乾燥温度と同一となった時点を、乾燥終点として求めることができる。
【００９６】
また、他の方法としては、各領域に含水量計を設置し、塗膜の含水量をモニターし、含水量の減少曲線がフラットになった領域を乾燥終点として規定することができる。
【００９７】
本発明の塗布方法における塗布液の粘度は、０．１〜２５０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。より好ましくは０．１〜５０ｍＰａ・ｓである。さらに好ましくは０．１〜２０ｍＰａ・ｓである。
【００９８】
本発明の塗布方法は、薄層を均一に形成することができ、幅広い分野に適用することができるが、特に好ましくはインクジェット記録媒体上へのオーバーコート層の塗布に適用することである。
【００９９】
本発明の塗布方法が好ましく適用できるインクジェット記録媒体は、支持体上に親水性バインダーと微粒子を含有する多孔質インク吸収層を構成層として有し、その上に本発明の塗布方法でオーバーコート層を設けたものである。
【０１００】
次いで、本発明のインクジェット記録媒体の詳細について説明する。本発明のインクジェット記録媒体は、支持体上に親水性バインダーと微粒子を含有する多孔質層を形成する水溶性塗布液を塗布し、空隙を有する多孔質インク吸収層（単に多孔質層ともいう）を形成するものである。
【０１０１】
本発明に係る多孔質インク吸収層は、主に微粒子と親水性バインダーから形成される。本発明で用いることのできる微粒子としては、無機微粒子や有機微粒子を用いることができるが、特には、高光沢で、かつ高発色濃度が得られ、更に微粒子が容易に得やすいことから無機微粒子が好ましい。そのような無機微粒子としては、例えば、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、カオリン、クレー、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、ハイドロタルサイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、水酸化アルミニウム、リトポン、ゼオライト、水酸化マグネシウム等の白色無機顔料等を挙げることができる。上記無機微粒子は、１次粒子のまま用いても、また、２次凝集粒子を形成した状態で使用することもできる。
【０１０２】
本発明においては、インクジェット記録媒体で高品位なプリントを得る観点から、無機微粒子として、アルミナ、擬ベーマイト、コロイダルシリカもしくは気相法により合成された微粒子シリカが好ましく、気相法で合成された微粒子シリカが、特に好ましい。この気相法で合成されたシリカは、表面がＡｌで修飾されたものであっても良い。表面がＡｌで修飾された気相法シリカのＡｌ含有率は、シリカに対して質量比で０．０５〜５％のものが好ましい。
【０１０３】
上記無機微粒子の粒径は、いかなる粒径のものも用いることができるが、平均粒径が１μｍ以下であることが好ましい。１μｍを越えると、光沢性や発色性が低下しやすく、そのため、特には、０．２μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以下が最も好ましい。粒径の下限は特に限定されないが、無機微粒子の製造上の観点から、概ね０．００３μｍ以上、特に０．００５μｍ以上が好ましい。
【０１０４】
上記無機微粒子の平均粒径は、多孔質層の断面や表面を電子顕微鏡で観察し、１００個の任意の粒子の粒径を求めて、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで、個々の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定した時の直径で表したものである。
【０１０５】
また、微粒子の分散度は、光沢性や発色性の観点から０．５以下が好ましい。０．５を越えると光沢やプリント時の発色性が低下しやすい。特に、０．３以下が好ましい。ここで、微粒子の分散度とは、上記平均粒径を求めるのと同様に電子顕微鏡で多孔質層の微粒子を観察し、その粒径に標準偏差を平均粒径で割ったものを示す。
【０１０６】
上記微粒子は、１次粒子のままで、あるいは２次粒子もしくはそれ以上の高次凝集粒子で多孔質皮膜中に存在していても良いが、上記の平均粒径は、電子顕微鏡で観察したときに多孔質層中で独立の粒子を形成しているものの粒径を言う。
【０１０７】
上記微粒子の水溶性塗布液における含有量は、５〜４０質量％であり、特に７〜３０質量％が好ましい。
【０１０８】
多孔質層に含有される親水性バインダーとしては、特に制限はなく、従来公知の親水性バインダーを用いることができ、例えば、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等を用いることができるが、ポ  ポリビニルアルコールは、無機微粒子との相互作用を有しており、無機微粒子に対する保持力が特に高く、更に、吸湿性の湿度依存性が比較的小さなポリマーであり、塗布乾燥時の収縮応力が比較的小さいため、本発明の課題である塗布乾燥時のひび割れに対する適性が優れる。本発明で好ましく用いられるポリビリルアルコールとしては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールやアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。
【０１０９】
酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が３００以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が１０００〜５０００のものが好ましく用いられる。ケン化度は、７０〜１００％のものが好ましく、８０〜９９．５％のものが特に好ましい。
【０１１０】
カチオン変成ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号に記載されているような、第１〜３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、これらはカチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。
【０１１１】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。
【０１１２】
カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％、好ましくは０．２〜５モル％である。
【０１１３】
アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号、および同６３−３０７９７９号公報に記載されているビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、及び特開平７−２８５２６５号公報に記載されている水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【０１１４】
また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体等が挙げられる。
【０１１５】
ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違いなどの２種類以上を併用することもできる。特に、重合度が２０００以上のポリビニルアルコールを使用する場合には、予め、無機微粒子分散液に重合度が１０００以下のポリビニルアルコールを無機微粒子に対して０．０５〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％添加してから、重合度が２０００以上のポリビニルアルコールを添加すると、著しい増粘が無く好ましい。
【０１１６】
多孔質層の親水性バインダーに対する微粒子の比率は、質量比で２〜２０倍であることが好ましい。質量比が２倍未満である場合には、多孔質層の空隙率が低下し、充分な空隙容量が得にくくなるだけでなく、過剰の親水性バインダーがインクジェット記録時に膨潤して空隙を塞ぎ、インク吸収速度を低下させる要因となる。一方、この比率が２０倍を越える場合には、多孔質層を厚膜で塗布した際に、ひび割れが生じやすくなり好ましくない。特に好ましい親水性バインダーに対する微粒子の比率は、２．５〜１２倍、最も好ましくは３〜１０倍である。
【０１１７】
本発明のインクジェット記録媒体に用いられる支持体としては、吸水性支持体（例えば、紙など）や非吸水性支持体を用いることができるが、より高品位なプリントが得られる観点から、非吸水性支持体が好ましい。
【０１１８】
吸水性支持体では、単に高品位なプリントが得にくいだけでなく、オーバーコートした各添加剤成分が、塗布後に紙中に拡散して、添加剤本来の効果を損なう結果となる。
【０１１９】
好ましく用いられる非吸水性支持体としては、例えば、ポリエステル系フィルム、ジアセテート系フィルム、トリアテセート系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、アクリル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリ塩化ビニル系フィルム、ポリイミド系フィルム、セロハン、セルロイド等の材料からなる透明または不透明のフィルム、あるいは基紙の両面をポリオレフィン樹脂被覆層で被覆した樹脂被覆紙、いわゆるＲＣペーパー等が用いられる。
【０１２０】
上記支持体上に、前記の水溶性塗布液を塗布するに当たっては、表面と塗布層との間の接着強度を大きくする等の目的で、支持体にコロナ放電処理や下引処理等を行うことが好ましい。さらに、本発明のインクジェット記録用紙は、必ずしも無色である必要はなく着色された支持体であってもよい。
【０１２１】
本発明で好ましく用いられ支持体は、透明ポリエステルフィルム、不透明ポリエステルフィルム、不透明ポリオレフィン樹脂フィルムおよび紙の両面をポリオレフィン樹脂でラミネートした紙支持体であるが、特に好ましいのは、請求項７に係る発明であるポリオレフィン樹脂でラミネートした紙支持体であり、オーバーコート液を少量塗布した場合には、実質的に乾燥を不要とすることができる。
【０１２２】
以下、最も好ましいポリオレフィンの代表であるポリエチレンでラミネートした紙支持体について説明する。
【０１２３】
紙支持体に用いられる原紙は、木材パルプを主原料とし、必要に応じて木材パルプに加えてポリプロピレンなどの合成パルプあるいはナイロンやポリエステルなどの合成繊維を用いて抄紙される。木材パルプとしては、例えば、ＬＢＫＰ、ＬＢＳＰ、ＮＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＤＰ、ＮＤＰ、ＬＵＫＰ、ＮＵＫＰのいずれも用いることができるが、短繊維分の多いＬＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＢＳＰ、ＮＤＰ、ＬＤＰをより多く用いることが好ましい。但し、ＬＢＳＰまたはＬＤＰの比率は１０質量％以上、７０質量％以下であることが好ましい。
【０１２４】
上記パルプは、不純物の少ない化学パルプ（硫酸塩パルプや亜硫酸塩パルプ）が好ましく用いられ、又、漂白処理を行って白色度を向上させたパルプも有用である。
【０１２５】
原紙中には、高級脂肪酸、アルキルケテンダイマー等のサイズ剤、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタンなどの白色顔料、スターチ、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等の紙力増強剤、蛍光増白剤、ポリエチレングリコール類等の水分保持剤、分散剤、４級アンモニウム等の柔軟化剤などを適宜添加することができる。
【０１２６】
抄紙に使用するパルプの濾水度は、ＣＳＦの規定で２００〜５００ｍｌであることが好ましく、また、叩解後の繊維長がＪＩＳ−Ｐ−８２０７に規定される２４メッシュ残分質量％と、４２メッシュ残分の質量％との和が３０〜７０質量％が好ましい。なお、４メッシュ残分の質量％は、２０質量％以下であることが好ましい。
【０１２７】
原紙の坪量は３０〜２５０ｇが好ましく、特に５０〜２００ｇが好ましい。原紙の厚さは４０〜２５０μｍが好ましい。原紙は、抄紙段階または抄紙後にカレンダー処理を施して、高平滑性を与えることもできる。原紙密度は０．７〜１．２ｇ／ｍ2（ＪＩＳ−Ｐ−８１１８に規定の方法に準ずる）が一般的である。更に、原紙剛度はＪＩＳ−Ｐ−８１４３に規定される条件で２０〜２００ｇが好ましい。原紙表面には表面サイズ剤を塗布しても良く、表面サイズ剤としては、前記原紙中添加できるサイズ剤と同様のものを使用することができる。原紙のｐＨは、ＪＩＳ−Ｐ−８１１３で規定された熱水抽出法ににより測定した場合、５〜９であることが好ましい。
【０１２８】
原紙表面および裏面を被覆するポリエチレンは、主として低密度のポリエチレン（ＬＤＰＥ）または高密度のポリエチレン（ＨＤＰＥ）であるが、他のＬＬＤＰＥやポリプロピレン等も一部使用することができる。
【０１２９】
また、塗布層側のポリエチレンに層は、写真用印画紙で広く行われているようにルチルまたはアナターゼ型の酸化チタンをポリエチレン中に添加し、不透明度および白色度を改良したものが好ましい。酸化チタン含有量は、ポリエチレンに対して、１〜２０質量％、好ましくは２〜１５質量％である。
【０１３０】
ポリエチレン被覆紙は、光沢紙として用いることも、また、ポリエチレンを原紙表面上に溶融押し出してコーティングする際に、いわゆる型付け処理を行って通常の写真印画紙で得られるようなマット面や絹目等の微粒面を形成したものも本発明で使用することができる。
【０１３１】
原紙の表裏のポリエチレンの使用量は、水系塗布組成物の膜厚やバック層を設けた後で低湿および高湿化でのカールを最適化するように選択されるが、本発明に係る水系塗布組成物を塗布する側のポリエチレン層としては２０〜４０μｍ、バック層側が１０〜３０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１３２】
更に、上記ポリエチレン被覆紙支持体は、以下の特性を有していることが好ましい。
１）引っ張り強さ：ＪＩＳ−Ｐ−８１１３で規定される強度で、縦方向が２０〜３００Ｎ、横方向が１０〜２００Ｎであることが好ましい
２）引き裂き強度：ＪＩＳ−Ｐ−８１１６による規定方法で、縦方向が０．１〜２Ｎ、横方向が０．２〜２Ｎが好ましい
３）圧縮弾性率：≧１０３０Ｎ／ｃｍ2
４）表面ベック平滑度：ＪＩＳ−Ｐ−８１１９に規定される条件で、５００秒以上が光沢面としては好ましいが、いわゆる型付け品ではこれ以下であっても良い
５）裏面ベック平滑度：ＪＩＳ−Ｐ−８１１９に規定される条件で、１００〜８００秒が好ましい
６）不透明度：直線光入射／拡散光透過条件の測定条件で、可視域の光線での透過率が２０％以下、特に１５％以下が好ましい
７）白さ：ＪＩＳ−Ｐ−８１２３に規定されるハンター白色度で、９０％以上が好ましい。また、ＪＩＳ−Ｚ−８７２２（非蛍光）、ＪＩＳ−Ｚ−８７１７（蛍光剤含有）により測定し、ＪＩＳ−Ｚ−８７３０に規定された色の表示方法で表示したときの、Ｌ*＝９０〜９８、ａ*＝−５〜＋５、ｂ*＝−１０〜＋５が好ましい。
【０１３３】
上記支持体のインク受容層側には、インク受容層との接着性を改良する目的で、下引き層を設けることが好ましい。下引き層のバインダーとしては、ゼラチンやポリビニルアルコール等の親水性ポリマーやＴｇが−３０〜６０℃のラテックスポリマーなどが好ましい。これらバインダーは、記録用紙１ｍ2当たり０．００１〜２ｇの範囲で用いられる。下引き層中には、帯電防止の目的で、従来公知のカチオン性ポリマーなどの帯電防止剤を少量含有させることができる。
【０１３４】
上記支持体のインク受容層側と反対側の面には、滑り性や帯電特性を改善する目的でバック層を設けることもできる。バック層のバインダーとしては、ゼラチンやポリビニルアルコール等の親水性ポリマーやＴｇが−３０〜６０℃のラテックスポリマーなどが好ましく、またカチオン性ポリマーなどの帯電防止剤や各種の界面活性剤、更には平均粒径が０．５〜２０μｍ程度のマット剤を添加することもできる。バック層の厚みは、概ね０．１〜１μｍであるが、バック層がカール防止のために設けられる場合には、概ね１〜２０μｍの範囲である。また、バック層は２層以上から構成されていても良い。
【０１３５】
下引き層やバック層の塗設に当たっては、支持体表面のコロナ処理やプラズマ処理などの表面処理を併用することが好ましい。
【０１３６】
上記多孔質層を形成する水溶性塗布液中には、各種の添加剤を添加することができる。そのような添加剤としては、例えば、カチオン性媒染剤、架橋剤、界面活性剤（カチオン、ノニオン、アニオン、両性）、白地色調調整剤、蛍光増白剤、防黴剤、粘度調整剤、低沸点有機溶媒、高沸点有機溶媒、ラテックスエマルジョン、退色防止剤、紫外線吸収剤、多価金属化合物（水溶性もしくは非水溶性）、マット剤、シリコンオイル等が挙げられるが、中でもカチオン媒染剤は、印字後の耐水性や耐湿性を改良するために好ましい。
【０１３７】
カチオン媒染剤としては、第１級〜第３級アミノ基および第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が用いられるが、経時での変色や耐光性の劣化が少ないこと、染料の媒染能が充分高いことなどから、第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が好ましい。
【０１３８】
好ましいポリマー媒染剤は、上記第４級アンモニウム塩基を有するモノマーの単独重合体やその他のモノマーとの共重合体または縮重合体として得られる。
【０１３９】
また、親水性バインダーの架橋剤を含有させることも特に好ましい。架橋剤により、多孔質層の耐水性が改善され、また、インクジェット記録時に親水性バインダーの膨潤が抑制されるためにインク吸収速度が向上する。
【０１４０】
架橋剤としては、従来公知の架橋剤を使用することができ、無機系架橋剤（例えば、クロム化合物、アルミニウム化合物、ジルコニウム化合物、ホウ酸類など）や有機系架橋剤（例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、Ｎ−メチロール系架橋剤、アクリロイル系架橋剤、ビニルスルホン系架橋剤、活性ハロゲン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、エチレンイミノ系架橋剤等）等を使用することができる。
【０１４１】
これらの架橋剤は、親水性バインダーに対して、概ね１〜５０質量％であり、好ましくは２〜４０質量％である。
【０１４２】
親水性バインダーがポリビニルアルコール類であり、微粒子がシリカである場合、架橋剤としては、ホウ酸類やジルコニウム化合物などの無機系架橋剤およびエポキシ系架橋剤が、特に好ましい。
【０１４３】
特に好ましい態様として、ポリビニルアルコールとシリカ微粒子を用いた場合には、ほう酸またはその塩を用いることにより、水溶性塗布液の温度を低下させた際に、その粘度が大きく上昇し、塗膜面に強い風を吹き付けても塗膜の乱れが大幅に抑制され、高速塗布が容易になることから好ましい。ほう酸またはその塩としては、硼素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことを示し、具体的には、オルトほう酸、メタほう酸、次ほう酸、四ほう酸、五ほう酸およびそれらの塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩など）が含まれる。
【０１４４】
ホウ酸またはその塩の使用量は、塗布液の無機微粒子やポリビニルアルコールの濃度、ｐＨ等により広範に変わり得るが、ポリビニルアルコールに対して概ね５〜６０質量％、好ましくは１０〜４０質量％である。
【０１４５】
ホウ酸を含有する塗布液について、更に詳細に説明する。上記ホウ酸とポリビニルアルコール親水性バインダーとして含有する塗布液は、４０℃における粘度に対して１５℃における粘度が２０倍以上高いと、塗布後に塗膜を冷却、セットさせた後、強風を吹き付けて乾燥することができ、高速塗布乾燥性の観点で好ましい。好ましい１５℃における粘度の上昇は、４０℃における粘度の５０倍以上であり、特に好ましくは１００倍以上である。また、塗布時の温度は、一般に３０〜５０℃であるが、０℃における塗布液粘度が１０〜５００ｍＰａ・ｓ程度であることが、塗布液の取り扱い性が良好であり好ましい。ここでいう粘度とは、Ｂ型粘度計で測定した値を言う。
【０１４６】
上記のような塗布液物性を得るためには、親水性バインダーと無機微粒子との間に水素結合性の相互作用を持たせることが有効な手段である。この水素結合は、比較的弱い結合のため、温度を上げることで分子運動により容易に切れやすく、高温で低粘度、低温で高粘度になりやすい。それ故に、上記水溶性塗布液を支持体上に塗布した後は、塗布液を冷却して著しく増粘させることが前述の如く好ましい。
【０１４７】
塗布液の塗布温度は、一般的には、３０〜６０℃であり、塗布後の冷却温度は塗膜温度が概ね２０℃以下になるようにすれば良く、特に、１５℃以下にすることが好ましい。
【０１４８】
冷却は、塗布後の塗設物を、例えば、１５℃以下に冷却されたゾーンを一定時間（好ましくは５秒間以上）通過させることで行うことができる。この冷却時点では、あまり強い風を吹き付けないことが、液ヨリを起こさず均一でムラのない塗膜を得る観点から好ましい。
【０１４９】
一旦冷却した以降は、強い風を吹き付けても、塗布液自体の増粘のため、液ヨリを起こしにくくなり、強い風を吹き付けても液ヨリの発生を抑制することができる。また、吹き付ける強い風の温度は、２０℃以上の風を吹き付けることができるが、徐々に風の温度を上げるのが好ましい。
【０１５０】
水溶性塗布液を支持体上に塗布した後の乾燥は、風を吹き付けたり高温状態のゾーンを通過させる、もしくは両者を併用することで行われる。
【０１５１】
高温ゾーンを通過させて乾燥させる場合、５０〜１５０℃の乾燥ゾーンを通過させる。この際、乾燥温度は、支持体の耐熱性や塗膜への悪影響などを考慮して適切な乾燥温度を選択することが好ましい。乾燥する風は、通常、相対湿度が１０〜５０％、好ましくは１５〜４０％の風で行われる。乾燥時間は、湿潤膜厚にもよるが、概ね１０分以内が好ましく、５分以内にするのが特に好ましい。
【０１５２】
塗布速度は、湿潤膜厚や設備の乾燥能力に依存するが、概ね１分当たり１０〜１０００ｍ、好ましくは２０〜５００ｍである。
【０１５３】
なお、上記塗布液に添加しても直ぐには反応してゲル化や凝集を起こしたり分解しないが、塗布液の長時間の停滞で反応や分解を起こす特性を有する添加剤は、塗布液に塗布直前にインライン混合する方法を用いることが好ましい。ここでいう塗布直前とは、塗布までの時間が１秒〜１０分程度以内を示す。
【０１５４】
上記塗布液の塗布方法は、公知の方法から適宜選択して行うことができ、例えば、グラビアコーティング法、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、押し出し塗布方法、カーテン塗布方法あるいは米国特許第２，６８１，２９４号公報に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法が好ましく用いられる。
【０１５５】
本発明の記録用紙に係る多孔質層は、単層であっても多層であっても良く、多層構成の場合には、全ての層を同時に塗布することが、製造コスト低減の観点から好ましい。
【０１５６】
次に、オーバーコートする添加剤含有溶液について、以下説明する。オーバーコートする添加剤含有溶液は、支持体上に親水性バインダーと微粒子を含有する多孔質層を形成する水溶性塗布液を塗布し、塗膜の含水量が乾燥終点における多孔質層の空隙容量以下になった後、前記多孔質層の塗布と同一ライン上、すなわち、オンラインでオーバーコートすることが好ましい。
【０１５７】
オーバーコートする上記溶液が含有する添加剤としては、前記の多孔質層用塗布液に添加することができる化合物であっても、乾燥時にひび割れを増大させ易い化合物、あるいは前記の塗布液中に添加すると凝集を形成したり、塗布液の粘度を大幅に低下もしくは増大媒体させる化合物、更には塗布液中に添加した場合に、塗膜中で水分もしくは他の添加剤との反応等により有効な効果が得にくい種々の化合物に適用することができる。例えば、その添加剤の使用により、ｐＨが変化する有機または無機の酸、もしくは各種のアルカリ性の添加剤、水溶性多価金属イオンの水溶性塩、アニオン、カチオン、両性、もしくはノニオン系の各種界面活性剤、退色防止剤、カチオン性定着剤、親水性バインダーの架橋剤等が挙げられる。
【０１５８】
多孔質皮膜の膜面ｐＨを低下させる目的で使用できる酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸などの無機酸、クエン酸、ギ酸、酢酸、フタル酸、こはく酸、蓚酸、ポリアクリル酸などの有機酸を挙げることができる。この溶液のｐＨとしては、０〜６が好ましく、請求項１５に係る発明では、ｐＨが１〜５であることが特徴である。また、ｐＨ調整後の最終の膜面ｐＨは３〜７が好ましく、特に３．５〜６が特に好ましい。
【０１５９】
本発明においては、添加剤含有溶液を多孔質層の塗膜上に付与（オーバーコート）する方法としては、特に限定されない。
【０１６０】
多孔質皮膜の膜面ｐＨを増大させる目的で使用されるアルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ほう砂、燐酸ナトリウム、水酸化カルシウム、有機アミンなどが挙げられる。このアルカリを含有する溶液のｐＨは、８〜１４であり、ｐＨが８〜１３であることが好ましく、特に好ましくは９〜１２である。
【０１６１】
上記ｐＨ調整剤は、多孔質形成する塗布液中のｐＨが記録用紙の好ましい膜面ｐＨと異なる場合に、特に好ましい。
【０１６２】
記録媒体の多孔質層の膜面ｐＨは、インクの種類によっても異なるが、一般には、より酸性側で染料の耐水性や滲みが改善されるが、耐光性はより高ｐＨ側で改良される傾向が大きいため、使用するインクとの組み合わせで最適なｐＨは選定される。好ましい多孔質表面の膜面ｐＨは、３〜７であり、特に３．５〜６．５が好ましい。ここでいう膜面ｐＨとは、Ｊ．ＴＡＰＰＩ  ４９に規定される紙の表面ｐＨ測定方法にしたがって測定した値であり、具体的には、記録用紙表面に５０μｌの純水（ｐＨ＝６．２〜７．３）を滴下し、市販の平面電極を用いて測定した値をいう。
【０１６３】
本発明にかかわる塗布方法においては、添加剤として、親水性バインダーの架橋剤を含有しているオーバーコート液をオンラインで前記多孔質インク吸収層上に塗布する場合に適用することが好ましい。
【０１６４】
本発明で用いることのできる架橋剤としては、前述の架橋剤を挙げることができる。
【０１６５】
本発明においては、多孔質皮膜を形成する水溶性塗布液が、予め親水性バインダーの架橋剤を含有しておき、さらにオーバーコートする添加剤含有溶液がさらに架橋剤を含有する場合、親水性バインダーの架橋効果が著しく増大して、インク吸収性改良効果が大きく好ましい態様の一つである。これは、多孔質を形成する塗布液中に架橋剤を添加しておくことで、親水性バインダーの分子量が見かけ上増大し、それらが皮膜になった状態で架橋剤を供給することで、膨潤しにくい皮膜が形成されると考えられる。
【０１６６】
架橋剤をオーバーコートする場合に用いる架橋剤としては、水溶性塗布液に含有する架橋剤と同じであっても、異なっていても良い。オーバーコートする架橋剤は、親水性バインダーに対して、１〜１００質量％、好ましく５〜５０質量％の範囲で用いられる。特に好ましい架橋剤は、前述のホウ酸類、ジルコニウム塩、アルミニウム塩もしくはエポキシ系架橋剤である。
【０１６７】
本発明においては、オンラインでオーバーコートする添加剤含有溶液が、画像安定剤（以下、退色防止剤ともいう）を含有している場合も好ましい。
【０１６８】
本発明にかかわるインクジェット記録媒体では、従来インクジェットで公知の退色防止剤を用いることができる。この退色防止剤は、光照射による退色およびオゾン、活性酸素、ＮＯx、ＳＯxなどの各種の酸化性ガスによる退色を抑制するものである。そのような退色防止剤としては、例えば、特開昭５７−７４１９２号、同５７−８７９８９号および同６０−７２７８５号に記載の酸化防止剤、特開昭５７−７４１９３号に記載の紫外線吸収剤、特開昭６１−１５４９８９号に記載のヒドラジド類、特開昭６１−１４６５９１号に記載のヒンダードアミン系酸化防止剤、特開昭６１−１７７２７９号に記載の含窒素複素環メルカプト系化合物、特開平１−１１５６７７号および同１−３６４７９号に記載のチオエーテル系酸化防止剤、特開平１−３６４８０号に記載の特定構造のヒンダードフェノール系酸化防止剤、特開平７−１９５８２４号および同８−１５０７７３号に記載のアスコルビン酸類、特開平７−１４９０３７号に記載の硫酸亜鉛、特開平７−３１４８８２号に記載のチオシアン酸塩類など、特開平７−３１４８８３号に記載のチオ尿素誘導体など、特開平７−２７６７９０号および同８−１０８６１７号に記載の糖類、特開平８−１１８７９１号に記載のリン酸系酸化防止剤が、特開平８−３００８０７号に記載の亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩などが、また、特開平９−２６７５４４号に記載のヒドロキシルアミン誘導体等を退色防止剤として挙げることができる。更に、特開２０００−２６３９２８等に記載のジシアンジアミドとポリアルキレンポリアミンの重縮合物なども、インクジェットにおける有効な退色防止剤の一つである。
【０１６９】
上記退色防止剤は、多孔質皮膜を形成する塗布液に添加することもできるが、本発明においては、塗布液の凝集やひび割れの増大を防止するには、オーバーコート法がより多く添加することができ好ましい。
【０１７０】
退色防止剤の添加量は、記録用紙１ｍ2当たり概ね０．０１〜５ｇ、好ましくは０．１〜２ｇの範囲である。添加量が多ければそれだけ退色防止効果は大きいが、空隙容量を低下させるため、自ずと制限がある。
【０１７１】
添加剤含有溶液には、カチオン性ポリマーを含有することができる。一般に、カチオン性ポリマーは、染料の定着剤として作用し、耐水性や滲みを防止するため、予め多孔質受容層を形成する塗布液に添加しておくことが好ましいが、塗布液中に添加した際に問題が発生する場合には、オーバーコート法で供給することもできる。例えば、カチオン性ポリマーの添加により、塗布液が経時で増粘したり、あるいは、多孔質層内でカチオン性ポリマーの分布を持たせて発色性を改善する場合などでは、オーバーコート法で供給することが好ましい。カチオン性ポリマーをオーバーコート法で供給する場合、記録用紙１ｍ2当たり概ね０．１〜５ｇの範囲である。
【０１７２】
請求項１４に係る発明では、オンラインでオーバーコートする添加剤含有溶液が、水溶性多価金属化合物を含有していることが特徴である。
【０１７３】
水溶性多価金属化合物は、一般に、無機微粒子含有の塗布液中に存在すると凝集を起こしやすいことが多く、これにより微少な塗布故障や光沢性の低下を引き起こしやすいため、特にオーバーコート法で供給するのが好ましい。
【０１７４】
そのような多価金属化合物としては、例えば、Ｍｇ2+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+、Ｚｒ2+、Ｎｉ2+、Ａｌ3+などの硫酸塩、塩化物、硝酸塩、酢酸塩等で用いられる。なお、塩基性ポリ水酸化アルミニウムや酢酸ジルコニルなどの無機ポリマー化合物も、好ましい水溶性多価金属化合物の例に含まれる。これらの水溶性の化合物は、一般に、耐光性を向上したり、滲みや耐水性を向上させる機能を有するものが多い。これらの水溶性多価金属イオンは、記録用紙１ｍ2当たり、概ね０．０５〜２０ミリモル、好ましくは０．１〜１０ミリモルの範囲で用いられる。
【０１７５】
また、オンラインでオーバーコートする添加剤溶液が、界面活性剤を含有している場合も好ましい。
【０１７６】
界面活性剤は、インクジェット記録時にドット径をコントロールすることが可能であり、そのような界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性、両性、もしくはノニオン系界面活性剤を挙げることができる。また、界面活性剤は、２種以上を併用することもできる。界面活性剤の添加量は、記録用紙１ｍ2当たり概ね０．０１〜５０ｍｇである。５０ｍｇを越えると、インクジェット記録時にマダラ状のムラになりやすい。
【０１７７】
添加剤含有溶液は、上記以外にも種々の添加剤を含有することができ、そのような添加剤としては、例えば、白地の色調を調整する染料、防黴剤、水溶性ポリマー、可塑剤（グリセリン、ジエチレングリコールなど）等を挙げることができる。
【０１７８】
上記の各添加剤は、単独で使用しても、あるいは２種以上を併用することもできる。具体的には、退色防止剤を２種以上含む水溶液を用いることも、また、退色防止剤と架橋剤を含有する溶液、退色防止剤と界面活性剤を含有する溶液、更には架橋剤、水溶性の多価金属化合物、および退色防止剤を併用することもできる。
【０１７９】
上記添加剤含有溶液の溶媒として、水または水混和性の有機溶媒と水との混合溶液であることが好ましく、水を用いることが特に好ましい。また、水と水混和性を有する低沸点有機溶媒（例えば、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン等）との混合溶媒も好ましい溶媒である。水と水混和性の有機溶媒とを併せて使用する場合、水の含有率が質量比で５０質量％以上含有していることが好ましい。
【０１８０】
ここで水混和性を有する低沸点有機溶媒とは、室温で水に対して１０質量％以上の溶解性を有し、沸点が約１２０℃以下の有機溶媒を言う。
【０１８１】
本発明では、上記各添加剤の含有溶液の粘度が１００ｍＰａ・ｍ以下であることが特徴である。粘度が１００ｍＰａ・ｓを越えると、多孔質皮膜層中への浸透性が低下し、表面でムラになったりインク吸収能を低下させやすい。好ましい粘度は０．５〜２０ｍＰａ・ｓである。
【０１８２】
また、添加剤含有溶液の表面張力は、室温で２００〜６００μＮ／ｃｍであることが、均一な塗布性を得る観点から好ましい。
【０１８３】
次に、上記各添加剤含有溶液を付与、乾燥する方法について説明する。本発明において、各添加剤含有溶液の付与（オーバーコート）は、前述したように、塗布した多孔質層の減率乾燥部以降に行われるが、好ましくは、初めに、多孔質層を形成する水溶性塗布液を支持体上に塗布し、次いで、塗膜の含水量が乾燥後の空隙容量以下になった後に、オーバーコートを行うことである。
【０１８４】
本発明でいう多孔質層の空隙容量とは、最終的に得られる記録用紙を、Ｊ．ＴＡＰＰＩ  ５１に規定される紙および板紙の液体吸収性試験方法（ブリストー法）で測定したときの、接触時間が２秒における液体転移量を言う。
【０１８５】
本発明でいう塗膜の含水量が乾燥後の空隙容量以下になった後とは、一般に乾燥領域における減率乾燥部以降に大きくは対応する。減率乾燥部は表面からの水分の蒸発が層内の塗膜中の水分移動が勝るときに起きる現象であり、一般には空隙が形成され始めるのは、減率乾燥部に入り水分が更に蒸発してからである。
【０１８６】
乾燥が不十分で塗膜の含水量が空隙容量を越えている間に塗布すると、表面で凝集が発生したり、塗布液が乾燥過程で流れて光沢や種々のインクジェット記録特性に不均一なムラが生じやすくなる。
【０１８７】
また、塗膜の含水量が空隙容量以下であっても、一旦乾燥してロール状に巻き取った後、再度塗布する場合には、皮膜の経時により親水性バインダーの状態が変化し、製造ばらつきを招きやすいため、ロール状に巻き取る前に付与する必要がある。本発明において、オンラインで添加剤含有溶液を付与するとは、この塗膜を乾燥してロール状に巻き取る前に付与することを意味する。
【０１８８】
添加剤含有溶液を塗布する好ましい時期は、水溶性塗布液を塗布し、塗膜の含水量と溶液の総量が乾燥皮膜の空隙容量以下になるまで乾燥した状態の時であり、特に好ましいのは、塗膜の含水量が実質的に周囲の空気と平行になるまで乾燥された状態である。
【０１８９】
添加剤含有溶液の塗布量は、上記のごとく塗膜の乾燥時期で変化し、塗膜含水量と溶液の総量が、乾燥後の空隙容量以下になるように選択される。乾燥後の多孔質層の空隙容量とは、乾燥終点における空隙容量と同義である。乾燥終点以降、多孔質層の空隙容量は変化をしない。
【０１９０】
特に好ましい状態である塗膜の含水量が周囲の空気と平行になるまで乾燥された状態で溶液が塗布される場合、多孔質層の含水量と添加剤含有溶液との総量が、乾燥終点における多孔質層の空隙容量の１．５倍以下であることが特徴であり、好ましくは、空隙容量の０．０５〜１．５倍の範囲である。空隙容量の０．０５倍未満の時には、溶液の塗布が不均一になりやすい。また、１．５倍を越えると、液が流れて塗布ムラを生じやすい。好ましい溶液の供給量は、空隙容量の０．１〜１．２倍である。ここで、含水量というときの「水」とは、塗膜の乾燥により蒸発する液体（水又はその混合物）を指す。
【０１９１】
上記添加剤含有溶液を多孔質皮膜上に塗布する回数は、１回だけでも２回以上に分けて行うこともできる。この場合、それぞれの塗布する段階において、塗膜中の含水率と溶液量の総和が、多孔質層の空隙容量以下になるように塗布することが必要である。
【０１９２】
本発明においては、添加剤含有溶液を塗布した後、実質的に乾燥することなく巻き取られてもよい。本発明でいう実質的に乾燥することなくとは、上記添加剤含有溶液を多孔質層上に塗布した後、通常は高温ゾーンを通過させたり、あるいは風を吹き付けるなどにより乾燥することが好ましいが、塗膜の含水量と溶液の供給量の総和が、空隙容量の約０．３倍以下の時には必ずしも乾燥工程は必要としない。
【０１９３】
溶媒の塗布は、室温から６０℃の温度で塗布するのが好ましい。溶媒を塗布し、必要に応じて乾燥を行った本発明の記録用紙は、通常はロール状に巻き取られる。また、必要に応じてその後ロール状に巻いたままあるいは種々のサイズのシートやロールに断裁後、３０〜６０℃で一定時間、例えば１日〜１ヶ月間保管して、目的とする品質を得ることもできる。
【０１９４】
以下に、本発明の記録用紙の好ましい物理特性値を示す。
１）光沢度：６０度光沢度が２０〜６０％（光沢面）、１２〜４０％（微粒面）、５〜１２％（マット面）
なお、プリント後の光沢度は水性染料インクでプリントした場合、未プリント部分より−５％〜＋２０％が好ましい
２）ベック平滑度（ＪＩＳ−Ｐ−８１１９に規定）：インク受容層表面は、８００秒以上（光沢面）、２００〜１０００秒（微粒面）、５０〜３００秒（マット面）で有ることが好ましい
３）粗さ（ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に規定される表面粗さＲａ）：０．１〜０．８μｍ（光沢面）、１．０〜３．０μｍ（微粒面）が好ましい。また裏面のＲａは０．５〜５μｍが好ましい
４）不透明度（ＪＩＳ−Ｐ−８１３８に規定）：９０％以上、特に９２％以上が好ましい
５）テーバー剛度（ＪＩＳ−Ｐ−８１２５に規定）：０．３〜３ｍＮ・ｍ／ＭＤ、０．２〜２．５ｍＮ・ｍ／ＣＤが好ましい
６）白さ（ＪＩＳ−Ｐ−８１２３／蛍光増白剤を含有しない場合、ＪＩＳ−Ｐ−８１４３／蛍光増白剤を含有する場合）：９０％以上が好ましい
７）白さ（ＪＩＳ−Ｚ−８７２２（非蛍光）またはＪＩＳ−Ｚ−８７１７（蛍光剤含有）にしたがって測定しＪＩＳ−Ｚ−８７３０にしたがって表示）：Ｌ*＝９０〜９８、ａ*＝−３〜＋３、ｂ*＝−１０〜＋２が好ましい。但し、印刷用紙の場合には、日本、アメリカ、ヨーロッパでそれぞれ好ましい白地が推奨されており（例えば、ＪＡＰＡＮ  ＣＯＬＯＲ）、そのような目的で使用する場合にはそこに推奨される白さを有することが好ましい。
【０１９５】
本発明の方法により形成される記録媒体は、主に酸性染料を含有するインクジェット記録用として用いられるが、水性または油性の顔料インクを用いるインクジェット記録用にも用いることができる。
【実施例】
【０１９６】
以下、インクジェット用記録媒体のオーバーコート層を本発明の塗布方法にて設ける例を具体例として、本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１９７】
実施例１
〔基体の作製〕
４層構成の多孔質インク吸収層を構成層として支持体上に形成した基体を用意した。
【０１９８】
まず、下記の構成層用分散液を調製した。
【０１９９】
〔シリカ分散液Ｄ１、Ｄ２の調製〕
予め均一に分散されている１次粒子の平均粒径が約０．０１２μｍの気相法シリカ（日本アエロジル社製：Ａ２００）を２５％、水溶性蛍光増白剤ＵＶＩＴＥＸＮＦＷ  ＬＩＱＵＩＤ（チバスペシャリティーケミカルズ社製）を０．３％含むシリカ分散液Ｂ１（ｐＨ＝２．３、エタノール１質量％含有）の４００Ｌを、カチオン性ポリマーＰ−１を１２％、ｎ−プロパノールを１０％およびエタノールを２％含有する水溶液Ｃ１（ｐＨ＝２．５、サンノブコ社製の消泡剤ＳＮ３８１を２ｇ含有）の１１０Ｌに、室温で３０００ｒｐｍで攪拌しながら添加した。次いで、ホウ酸とホウ砂の１：１質量比の混合水溶液Ａ１（各々３％の濃度）の５４Ｌを攪拌しながら徐々に添加した。
【０２００】
次いで、三和工業株式会社製の高圧ホモジナイザーで、３０００Ｎ／ｃｍ2の圧力で分散し、全量を純水で６３０Ｌに仕上げて、ほぼ透明なシリカ分散液Ｄ１を得た。
【０２０１】
一方、上記シリカ分散液Ｂ１の４００Ｌを、カチオン性ポリマーＰ−２を１２％、ｎ−プロパノール１０％およびエタノールを２％含有する水溶液Ｃ２（ｐＨ＝２．５）の１２０Ｌに、室温で３０００ｒｐｍで攪拌しながら添加し、次いで、上記混合水溶液Ａ１の５２Ｌを攪拌しながら徐々に添加した。
【０２０２】
次いで、三和工業株式会社製の高圧ホモジナイザーで３０００Ｎ／ｃｍ2の圧力で分散し、全量を純水で６３０Ｌに仕上げて、ほぼ透明なシリカ分散液Ｄ２を得た。
【０２０３】
上記シリカ分散液Ｄ１、Ｄ２を、３０μｍの濾過精度を有するアドバンテック東洋社製のＴＣＰ−３０タイプのフィルターを用いて濾過を行った。
【０２０４】
〔オイル分散液の調製〕
ジイソデシルフタレート２０ｋｇと酸化防止剤（ＡＯ−１）２０ｋｇとを４５ｋｇの酢酸エチルに加熱溶解し、酸処理ゼラチン８ｋｇ、カチオン性ポリマーＰ−１を２．９ｋｇおよびサポニン１０．５ｋｇとを含有するゼラチン水溶液２１０Ｌと５５℃で混合し、高圧ホモジナイザーで乳化分散した後、全量を純水で３００Ｌに仕上げて、オイル分散液を調製した。
【０２０５】
【化１】
2006130431.tif 000003
【０２０６】
次いでインク吸収層を構成する各層塗布液を調製した。各添加量は塗布液１Ｌ当たりの量で表示した。実施例中で「％」は、特に断りのない限り質量％を表す。
【０２０７】
〈第１層用塗布液：最下層〉
シリカ分散液Ｄ１                                                  ５８０ｍｌ
ポリビニルアルコール（クラレ社製：ＰＶＡ２０３）１０％水溶液          ５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３８００  ケン化度８８％）
６．５％水溶液                                                  ２９０ｍｌ
オイル分散液                                                        ３０ｍｌ
ラテックス分散液（昭和高分子社製：ＡＥ８０３）                      ４２ｍｌ
エタノール                                                        ８．５ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げる
〈第２層用塗布液〉
シリカ分散液Ｄ１                                                  ６００ｍｌ
ポリビニルアルコール（クラレ社製：ＰＶＡ２０３）１０％水溶液          ５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３８００  ケン化度８８％）
６．５％水溶液                                                  ２７０ｍｌ
オイル分散液                                                        ２０ｍｌ
ラテックス分散液（昭和高分子社製：ＡＥ８０３）                      ２２ｍｌ
エタノール                                                            ８ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げる
〈第３層用塗布液〉
シリカ分散液Ｄ２                                                  ６３０ｍｌ
ポリビニルアルコール（クラレ社製：ＰＶＡ２０３）１０％水溶液          ５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３８００  ケン化度８８％）
６．５％水溶液                                                  ２７０ｍｌ
オイル分散液                                                        １０ｍｌ
ラテックス分散液（昭和高分子社製：ＡＥ８０３）                        ５ｍｌ
エタノール                                                            ３ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げる
〈第４層用塗布液：最上層〉
シリカ分散液Ｄ２                                                  ６６０ｍｌ
ポリビニルアルコール（クラレ社製：ＰＶＡ２０３）１０％水溶液          ５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３８００  ケン化度８８％）
６．５％水溶液                                                  ２５０ｍｌ
ベタイン型界面活性剤の４％水溶液                                      ３ｍｌ
サポニンの２５％水溶液                                                ２ｍｌ
エタノール                                                            ３ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げる。
【０２０８】
次に、上記の各塗布液を下記の湿潤膜厚となるよう、４０℃で両面にポリエチレンを被覆した紙支持体上に、スライドビード型塗布装置を用いて４層同時塗布して、基体を作製した。塗布幅は１．０ｍ、塗布速度としては２００ｍ／ｍｉｎで行った。
【０２０９】
〈湿潤膜厚〉
第１層：３７μｍ
第２層：３８μｍ
第３層：３８μｍ
第４層：３７μｍ
インク吸収層用塗布液の塗布後は、５℃に保った冷却ゾーンを１５秒間通過させて膜面の温度を１３℃にまで低下させたあと、以下の温度の風を順次インク吸収層表面に吹き付けながら乾燥工程の各ゾーンを通過させて乾燥した。
【０２１０】
なお、全乾燥工程は３６０秒とし、このうち前半の２７０秒は、吹き付ける風の平均相対湿度を３０％以下とした。２７０秒以降は、相対湿度が４０〜６０％の調湿ゾーンとした。
【０２１１】
膜面温度を測定した結果、前半１５０秒までが恒率乾燥部、それ以降が減率乾燥部を示し、乾燥終点（膜面温度が風の温度と一致する箇所）は２４０秒付近であった。
【０２１２】
〔塗布方法１〕
オーバーコート層用塗布液として、０．２％染料水溶液を用いた。この塗布液の粘度は、室温で１．５ｍＰａ・ｓ、表面張力は、６０〜７０ｍＮ／ｍであった。
染料は以下の水溶性染料を用いた。
【０２１３】
【化２】
2006130431.tif 000004
【０２１４】
塗布装置として、図２、３、５、７に示したスロットノズルスプレー装置を用意した。このときの塗布液ノズルの開口端は、１２０μｍ角の矩形、ピッチは１０００μｍであった。ガスノズルは２００μｍ巾のスリット状とした。この際のガス内圧は、２０ｋＰａ、空気の流量は１２ＣＭＭ／ｍに設定し、塗布液吐出部と記録媒体との距離Ｇは、２０ｍｍに設定した。又スロットノズル先端には、渦電流変位センサーを、塗布幅手方向に沿って塗布幅である１ｍの中に、中心位置を含め等間隔に計５つ埋め込んでおき各センサーで基体の位置を検出できるようにした（幅手方向に配置された各センサーの平均値を基体の位置とした）。
【０２１５】
塗布製造ラインとしては、図８と同様にした。ただし、スロットノズルスプレー装置は１台とし、前記多孔質インク吸収層の乾燥工程の２００秒の位置（減率乾燥部であって、乾燥終点前）に配置した。
【０２１６】
塗布条件としては、湿潤膜厚が１０μｍになるように、塗布速度としては２００ｍ／ｍｉｎでオーバーコートを行った。基体上に落下する塗布液の状態は、液滴状であり、液滴の塗布幅（１．０ｍ）にわたる均一性は以下のようであった。
平均液滴径変動          ±６．７％
落下長さ変動            ±３．６％
広がり角度変動          ±３．３％
空間密度変動            ±４．０％
但し、スロットノズルスプレーヘッドの前後のロール間の張力を１９．６Ｎ／ｍ2〜４９０Ｎ／ｍ2の範囲で５段階に変化させて、各２００ｍずつ塗布を行った。塗布液スプレーの適用により、スロットノズルスプレーヘッド先端部に対する、オーバーコート層塗布部における基体表面位置の変位量ａ（ｍｍ）は、各塗布において、ロール間の張力の調整によって、未塗布時および塗布時において、表１に示される様に変化した。
【０２１７】
尚、未塗布時と塗布時の基体位置の変位量は、各塗布において、変位を変位センサーにより測定し、継続的に記録したものから、変位量の絶対値の平均値としてそれぞれ求めたものである。
【０２１８】
乾燥後、それぞれの塗布乾燥後のインクジェット記録媒体表面の染料濃度のムラを測定し、その変動幅を、表１に纏めた。それぞれロールで１５０ｍ塗布後の全幅の塗布済み試料を全幅方向に濃度計によりスキャンし反射濃度を測定し、その最高濃度と、最低濃度の差の絶対値を平均濃度に対する％で表したものである。
【０２１９】
各塗布について目視で観察するほか、それぞれ最大変動値をとり、表１に示した。
【０２２０】
【表１】
2006130431.tif 000005
【０２２１】
塗布幅に対して０．５％以内の変位量である５ｍｍ以下で、目視によって殆ど濃度変動が見られない程度に均一であり、また、表１の結果からも濃度変動が５％以内であり、塗布ムラが少ないことが判る。
【０２２２】
実施例２
塗布装置として、実施例１と全く同じ装置を用いた。
但し、前記スロットノズルスプレー装置により染料溶液を塗布する際に、塗布部において基体にかかるテンションを今度は、塗布部前後のロール配置の調整により１９．６Ｎ／ｍ〜２９４Ｎ／ｍの範囲で表２に示すように５水準で変化させた。各塗布においてそれぞれ、前記同様に、染料濃度の変動を測定した結果を表２に示した。
【０２２３】
【表２】
2006130431.tif 000006
【０２２４】
張力を９８．０Ｎ／ｍ2以上としたものは、やはり濃度変動が５％以内と少なく、目視によってもムラが殆ど観察されなかった。
【０２２５】
実施例３
実施例１と同様に、但し、スロットノズルスプレー装置を図１２のようにバックロール付き（抱き角θ＝５度）とした塗布装置を用いた。バックロールはロール径２００ｍｍ、ロール表面材質はステンレス製のものを用いた。ロール間の張力を調整し、未塗布（噴霧）時と塗布（噴霧）時の基体の変位量ａを２０ｍｍ〜１ｍｍの範囲で５点変化させ、それぞれ塗布を行った。各塗布について、ムラを目視で観察した。
ムラのみえないもの○、ムラが僅かにみえるものを△、ムラのみえるものを×と評価した。
【０２２６】
【表３】
2006130431.tif 000007
【０２２７】
変位量ａが２ｍｍ以下のものについてムラは観察されなかった。
【０２２８】
実施例４
実施例３と同様に、図１２のようなバックロール付きのスロットノズルスプレー塗布装置を用い塗布を行った。但し、前記実施例３で用いたステンレス表面を有するものを用いた。また、前後のロール位置を調整することで、基体の張力を７８．５Ｎ／ｍとし、但し、基体の抱き角（前記図１２のθ）をロールの位置を変えることにより表４に示す様に変化させてそれぞれ、スプレーにより基体に塗布を行った。抱き角を変えた試料について、それぞれムラを目視で観察した。
【０２２９】
【表４】
2006130431.tif 000008
【０２３０】
基体のバックロールによる抱き角をかえると、基体の張力が弱い場合でも濃度ムラに効果があることが判る。
【０２３１】
実施例５
前記実施例５において、バックロール径を１００ｍｍとして、同様に塗布を行ったが、同等の結果が得られた。
【０２３２】
実施例６
実施例４の試験をバックロールを同様の径を有するサクション付きのものに換え、同様に抱き角を変化させ塗布ムラを目視で、また濃度計によりによりその濃度変動を測定した。サクション付きバックロールとしては、多孔質であって、内部よりバックロール表面の空気を吸引するサクション手段を備えた２００ｍｍ径のものを用いた。即ち表面に５０μｍ〜２００μｍの細孔を有する開口面積比が４０％の焼結金属製のものを用いた。サクション圧力は、４．４１Ｐａに調整した。
【０２３３】
【表５】
2006130431.tif 000009
【０２３４】
サクション付きのバックロールを用いることで、実施例５の結果に比べ濃度変動が抑えられることが判る。また抱き角が大きくなるにつれ変動が少ない。
【０２３５】
実施例７
〔基体の作製〕
実施例１と同様にして、スライドビード型塗布装置を用いて４層からなるインク吸収層をポリエチレンを被覆した紙支持体上に同時重層してインクジェット記録紙基体を作製した。塗布幅は１．０ｍ、塗布速度としては２００ｍ／ｍｉｎで、１０００ｍのロール塗布を行った。
【０２３６】
次に、オーバーコート層用塗布液として、４％ホウ酸水溶液を用いた。この塗布液の粘度は、室温で１．５ｍＰａ・ｓ、表面張力は、６０〜７０ｍＮ／ｍであった。
【０２３７】
オーバーコート塗布装置としては、実施例３と同様に、図１２のようなバックロール付きのスロットノズルスプレー塗布装置を用い塗布を行った。このときの塗布液ノズルの開口端は、図５に示したような１２０μｍ角の矩形、ピッチは１０００μｍであった。ガスノズルは２００μｍ巾のスリット状とした。この際のガス内圧は、２０ｋＰａ、空気の流量は１２ＣＭＭ／ｍに設定し、塗布液吐出部と記録媒体との距離Ｇは、２０ｍｍに設定した。
【０２３８】
但し、スロットノズルスプレー装置のバックロールとしては前記実施例３で用いたステンレス表面を有するものを用いた。また、前後のロール位置を調整することで、基体の張力を２９４Ｎ／ｍとし、但し、基体の抱き角（前記図θ）を９０度とし、それぞれ、スプレーにより基体に塗布を行った。
【０２３９】
尚、未塗布時と塗布時の基体の変位量は、塗布中測定を続けたが、塗布の全行程を通して２ｍｍ以内に保たれていた。
【０２４０】
塗布面を目視により観察したが、塗布面に、塗布ムラが全く認められず、均一な仕上がりであった。
【０２４１】
実施例８
実施例７に記載の塗布方法において、４％ホウ酸溶液に代えて、塩基性塩化アルミニウム水溶液に変更した以外は同様にして塗布を行った。目視で観察したところ実施例７と同様な均一でムラのない仕上がりであった。
【図面の簡単な説明】
【０２４２】
【図１】本発明の塗布方法を説明するための概略図である。
【図２】スロットノズルスプレー部を含むスロットノズルスプレー装置の概略断面図である。
【図３】スロットノズルスプレー部とそこで形成される液滴の形成及び飛翔状態を説明する図である。
【図４】スロットノズルスプレー部を塗布液吐出部側から見た概略図である。
【図５】スロットノズルスプレー部を塗布液吐出部側から見た別の形態の概略図である。
【図６】スロットノズルスプレー部を塗布液吐出部側から見た別の形態の概略図である。
【図７】図５のタイプの塗布液吐出部を有するスロットノズルスプレー部の分解斜視図である。
【図８】スロットノズルスプレー装置を配置した塗布製造ラインの一例を示す概略図である。
【図９】スロットノズルスプレー部の塗布液吐出部および基体の塗布部を示す概略図である。
【図１０】スロットノズルスプレー部の塗布液吐出部および塗布部において基体がバックロールを有する装置の一例を示す概略図である。
【図１１】基体を支える支持部材としてベルトを有するスロットノズルスプレー装置の一例を示す概略図である。
【図１２】バックロール付きのスロットノズルスプレー塗布装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０２４３】
１  スロットノズルスプレー部
２  ガスノズル
３  塗布液ノズル
４  調製釜
５  ポンプ
６  流量計
７  加圧空気源
８  弁
９  基体
Ａ  ガスポケット
Ｂ  塗布液ポケット
ｄ  ガスノズルの直径
Ｇ  ギャップまたは塗布液吐出部と基体間の距離
Ｌ  落下長さ
ｗ  スリット間隔
１０  液滴粒子
９ｂ  インク吸収層
２０  スライドビード塗布装置
３０  冷却ゾーン
【図１】
2006130431.tif 000010
【図２】
2006130431.tif 000011
【図３】
2006130431.tif 000012
【図４】
2006130431.tif 000013
【図５】
2006130431.tif 000014
【図６】
2006130431.tif 000015
【図７】
2006130431.tif 000016
【図８】
2006130431.tif 000017
【図９】
2006130431.tif 000018
【図１０】
2006130431.tif 000019
【図１１】
2006130431.tif 000020
【図１２】
2006130431.tif 000021