(57)【要約】【課題】  現像残渣の除去液による発泡、フィルター詰まりやノズル詰まりを起こさず、現像残渣の少ないカラーフィルターの製造法の提供。【解決手段】  仮支持体上に感光性樹脂層を設けた転写フィルムを、疎水化処理した支持体に感光性樹脂層面で貼り付けた後、仮支持体を剥離してパターン露光・現像してカラーフィルター用パターンを得るカラーフィルターの製造法において、現像後、該支持体に高圧水を噴射し、その後アッシング処理することを特徴とするカラーフィルターの製造法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮支持体上に感光性樹脂層を設けた転写フィルムを、疎水化処理した支持体に感光性樹脂層面で貼り付けた後、仮支持体を剥離してパターン露光・現像してカラーフィルター用パターンを得るカラーフィルターの製造法において、現像後、該支持体に高圧水を噴射し、その後アッシング処理することを特徴とするカラーフィルターの製造法。
【請求項２】
更に、ポストベークを、高圧水を噴射した後アッシング処理前に行うことを特徴とする請求項１記載のカラーフィルターの製造法。
【請求項３】
疎水化処理が、シランカップリング処理又はヘキサメチルジシラザン処理である請求項１又は２記載のカラーフィルターの製造法。
【請求項４】
支持体が、ＴＦＴ用アレイ基板である請求項１、２又は３記載のカラーフィルターの製造法。
【請求項５】
現像液が、実質的に金属イオンを含まないものである請求項１〜４の何れか１項記載のカラーフィルターの製造法。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか１項記載のカラーフィルター製造法を複数回繰り返して行うことを特徴とするカラーフィルターの製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置等に用いられるカラーフィルターの製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルターは、液晶ディスプレイ（以下、「液晶表示装置」ともいう。）に不可欠な構成部品である。この液晶ディスプレイは非常にコンパクトであり、性能面でもこれまでのＣＲＴディスプレイと同等以上であり、ＣＲＴディスプレイから置き換わりつつある。
液晶ディスプレイのカラー画像の形成は、カラーフィルターを通過した光がそのままカラーフィルターを構成する各画素の色に着色されて、それらの色の光が合成されてカラー画像を形成する。そして、現在はＲＧＢの３色の画素でカラー画像を形成している。
【０００３】
カラーフィルターの製造法としては、柱材レジストや着色レジストをスピンナーやロールコーターで塗布し、露光現像して画素形成する方法、電着法、転写法等が知られている。
レジストコーティング法や転写法においてはレジスト膜をガラス基板上に形成後、パターン露光し、現像によって未露光部を溶解除去する。画素の形成は、この工程を色の数だけ繰り返す。
しかし、転写法においては、転写時の熱で感光性樹脂の一部が熱重合し、現像処理後、非画像形成部に熱重合物が薄い残膜となって残る傾向がある。この現像残渣は混色を引き起こし、次色の転写時に密着を阻害したり、液晶パネルに組み上げるために２枚の基板を非画像形成部で接着剤で接合したときに、接着強度を低下させる原因ともなる。また、この現像残渣は、色数を追う毎に堆積してゆく。
また、現像残渣には感光性樹脂層中の界面活性剤が含まれ、これが次の工程での密着を阻害し、転写後、仮支持体を剥離する時に感光性樹脂層も剥がれてしまうというトラブルを引き起こす。
これを回避するため、界面活性剤を含む液中でブラシ擦りが行われ、一定の効果が得られている（特許文献１参照）。
【０００４】
また、近年、カラーフィルター  オン  アレイ（ＣＯＡ）が盛んになってきており、この場合には画素上の透明電極と、ＴＦＴ電極との導通の目的で、画素にコンタクト穴を形成するが、２０μｍ前後という小さな穴ゆえにブラシ擦りの効果が十分に得られず、コンタクト穴底の電極表面にも残渣が堆積し、導通不良を起こすという問題がある。  またブラシ擦りでは画素に傷がついたり、アレイ配線を傷つけたりするという問題もある。  更に、基板サイズが１ｍを超えるようになると、ブラシを全面にわたって均一にあてることが困難であった。
【０００５】
そこで、ブラシ処理する代わりに界面活性剤を含む溶液を高圧で噴射し、その後アッシングする方法が提案されている（特許文献２参照）。
しかし、界面活性剤を含む液を高圧で噴射すると激しい発泡があることや、この液の循環使用においてはフィルター詰まりやノズル詰まりが起こるという問題があった。
【特許文献１】特開平６−２５８５１４号公報
【特許文献２】特開２００３−９８３３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明は、転写法によるカラーフィルターの製造法において、次のことを目的をする。
画素やアレイ配線を傷つけることなく現像残渣を低減し、感光性樹脂層の密着不良を防止する。  また、ＣＯＡにおいてはコンタクト穴内の現像残渣を低減することにより、導通不良を防止する。
このために高圧液体噴射とアッシング処理を行うが、それに伴う発泡と高圧液体の循環使用におけるフィルター詰まりやノズル詰まりを防止する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
斯かる実情に鑑み本発明者は鋭意研究を行った結果、支持体上に感光性樹脂層を形成し、露光現像してパターンを形成するが、現像後、水を高圧で噴射し、その後アッシング処理により残渣を除去すれば、上記課題を解決することを見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は、次の方法を提供するものである。
【０００８】
＜１＞  仮支持体上に感光性樹脂層を設けた転写フィルムを、疎水化処理した支持体に感光性樹脂層面で貼り付けた後、仮支持体を剥離してパターン露光・現像してカラーフィルター用パターンを得るカラーフィルターの製造法において、現像後、該支持体に高圧水を噴射し、その後アッシング処理することを特徴とするカラーフィルターの製造法。
【０００９】
＜２＞  更に、ポストベークを、高圧水を噴射した後アッシング処理前に行うことを特徴とする＜１＞記載のカラーフィルターの製造法。
【００１０】
＜３＞  疎水化処理が、シランカップリング処理又はヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）処理である＜１＞又は＜２＞記載のカラーフィルターの製造法。
【００１１】
＜４＞  支持体が、ＴＦＴ用アレイ基板である＜１＞、＜２＞又は＜３＞記載のカラーフィルターの製造法。
【００１２】
＜５＞  現像液が、実質的に金属イオンを含まないものである＜１＞〜＜４＞の何れか１項記載のカラーフィルターの製造法。
【００１３】
＜６＞  ＜１＞〜＜５＞の何れか１項記載のカラーフィルター製造法を複数回繰り返して行うことを特徴とするカラーフィルターの製造法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、画素やアレイ配線を傷つけることなく現像残渣を低減し、感光性樹脂層の密着不良を防止することができ、また、ＣＯＡにおいてはコンタクト穴内の現像残渣を低減することにより、導通不良を防止する。そして、高圧液体噴射に伴う発泡を防止でき、該液体として非循環の水を用いるため、フィルター詰まりやノズル詰まりは起こらない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明のカラーフィルターの製造法は、仮支持体上に感光性樹脂層を設けた転写フィルムを、疎水化処理した支持体に感光性樹脂層面で貼り付けた後、仮支持体を剥離してパターン露光・現像してカラーフィルター用パターンを得るカラーフィルターの製造法において、現像後、該支持体に高圧水を噴射し、その後アッシング処理することを特徴とする。以下、詳細に説明する。
【００１６】
＜転写フィルム＞
先ず、感光性樹脂層を仮支持体上に設けた転写フィルムについて述べる。本発明で用いる感光性樹脂層のための仮支持体としては、可撓性を有し加圧、或いは加圧及び加熱下においても著しい変形、収縮もしくは伸びを生じないことが必要である。そのような支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができる。特に、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが、機械的及び熱的特性に優れているので好ましい。
【００１７】
該仮支持体の上には、感光性樹脂層を直接、もしくは紫外線透過性を有し酸素透過率が低い中間層を介して設ける。更に、転写時の気泡混入を避ける目的で、熱可塑性樹脂層（クッション層）を設けるのが好ましい。この場合は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層の順に積層するのが好ましい。中間層は、着色した感光性樹脂層を透明基板に密着した後で、仮支持体を剥離し、パターン露光するに際し、着色した感光性樹脂層中での光硬化反応を阻害する空気中からの酸素の浸透を防止する為と、３つの層を積層する場合に熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層が混じり合わないようにするためのバリアー層として設けられる。そのため、着色した感光性樹脂層からは機械的に剥離できないようにし、且つ酸素の遮断性能が高いことが好ましい。
【００１８】
前記中間層は、ポリマー溶液を仮支持体上に直接又は熱可塑性樹脂層を介して塗布することにより形成される。適当なポリマーとしては、特公昭４６−３２７１４号及び特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載されているポリビニルエーテル／無水マレイン酸共重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、及びマレイネート樹脂、及びこれらの２種以上の組合せが挙げられる。
【００１９】
特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。ポリビニルアルコールは鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量は中間層固形分の１質量％〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１質量％〜６０質量％、更に好ましくは１０質量％〜５０質量％である。該含有量が１質量％未満では、感光性樹脂層との十分な密着が得られないことがあり、７５質量％を超えると、酸素遮断能が低下することがある。中間層の厚みは非常に薄くてよく、約０．１〜５μｍが好ましく、特に０．２〜２μｍが好ましい。該厚みが０．１μｍ未満だと、酸素遮断性能が不十分なことがあり、一方５μｍを超えると、現像時又は中間層除去時に時間が掛かり過ぎる場合がある。
【００２０】
熱可塑性樹脂層を構成する樹脂としては、軟化点が実質的に８０℃以下であることが好ましい。軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステルの共重合体の鹸化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体の鹸化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体の鹸化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体の鹸化物等から少なくとも１つ選ばれるのが好ましい。更に、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会刊行、１９６８年１０月２５日）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子の内、アルカリ水溶液に可溶なものを使用することが出来る。
【００２１】
軟化点が８０℃以上である有機高分子物質であっても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種の可塑剤を添加して、実質的な軟化点を８０℃以下に下げたものを使うことも可能である。また、これらの有機高分子物質中に仮支持体との接着力を調節するために、実質的な軟化点が８０℃を超えない範囲で、各種のポリマーや過冷却物質、密着改良剤或いは界面活性剤や離型剤等を加えることが可能である。好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート等を挙げることができる。
【００２２】
前記熱可塑性樹脂層の厚みは、クッション層として機能するために６μｍ以上が好ましい。この理由としては熱可塑性樹脂層の厚みが５μｍ以下であると、１μｍ以上の下地の凹凸を完全に吸収することが出来ない場合があり、転写時に下地との間に気泡が生じ易くなるためである。また上限については、現像性及び製造適性の観点より１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下である。
【００２３】
（感光性樹脂層）
感光性樹脂層は少なくとも１５０℃以下の温度で軟化もしくは粘着性を帯びることが好ましく、そのため熱可塑性であることが好ましい。公知の光重合性組成物を用いた層の大部分は上記性質を有するが、公知層の一部は、熱可塑性バインダーの添加あるいは相溶性の可塑剤の添加によって更に改質することが出来る。
【００２４】
本発明の感光性樹脂層の主剤としては、公知の感光性樹脂の全てが使用できる。具体的には、ネガ型ジアゾ樹脂とバインダーからなる感光性樹脂層、光重合性組成物、アジド化合物とバインダーからなる感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成物等が挙げられる。その中でも、特に好ましいのは光重合性樹脂である。該光重合性樹脂は光重合開始剤、光重合性モノマー及びバインダーを基本構成要素として含む。該感光性樹脂としては、アルカリ水溶液により現像可能なものと、有機溶剤により現像可能なものが知られているが、公害防止及び労働安全の確保の観点から、アルカリ水溶液で現像可能なものが好ましい。
【００２５】
感光性樹脂層には更にカラーフィルターの構成色である赤色、緑色、青色、黒色の顔料を添加するが、これら顔料の好ましい具体例としては、カーミン６Ｂ（Ｃ．Ｉ．１２４９０）、フタロシアニングリーン（Ｃ．Ｉ．７４２６０）、フタロシアニンブルー（Ｃ．Ｉ．７４１６０）、カーボンブラック等を挙げることができる。着色された感光性樹脂中の顔料の含有量は、１〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは５〜２０質量％である。
【００２６】
本発明に用いる転写フィルムは、仮支持体上に着色された感光性樹脂溶液を塗布し乾燥することによって得られる。更に、必要に応じて熱可塑性樹脂層及び中間層を設けることができるが、その場合には、先ず熱可塑性樹脂層溶液を塗布し乾燥することにより、熱可塑性樹脂層を設け、その後該熱可塑性樹脂層の上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤からなる中間層材料の溶液を塗布し乾燥して、その後感光性樹脂層を、該中間層を溶解しない溶剤を用いて塗布し乾燥して設ける。
【００２７】
＜カラーフィルター製造方法＞
次に、上述したような方法で作成した転写フィルムを用いて、カラーフィルターを製造する工程を説明する。転写フィルムを用いてカラーフィルターを製造する場合、ブラックマトリックス遮光層の形成方法により少なくとも２通りの工程を選択することが出来る。その１つはブラックマトリックス遮光層を金属薄膜で形成する方法で、もう１つは赤色、緑色、青色の各画素と同様に転写フィルムの転写により設ける方法である。金属薄膜を用いる場合は赤色、緑色、青色の各画素形成に先立って、金属薄膜によるブラックマトリックス遮光層を形成するのが好ましく、一方転写フィルムの転写によりブラックマトリックス遮光層を形成する場合には、赤色、緑色、青色の各画素形成後に設けるのが好ましい。
【００２８】
金属薄膜によるブラックマトリックス遮光層は、約１ｍｍ厚のガラス等の支持体（基板）にスパッタリング或いは真空蒸着等の方法により、厚さ１００〜３００ｎｍの金属Ｃｒ膜を形成し、フォトリソグラフィーによりマトリックス状にパターニングすることにより得られる。金属薄膜としては金属Ｃｒ以外にも種々の材料を用いることが可能であるが、膜が黒色であること、更にガラス基板との密着性、膜の緻密性、光遮断性能の点からは金属Ｃｒが好ましい。
【００２９】
先ず、支持体（若しくは、金属薄膜のブラックマトリックス遮光層形成支持体）の上に、転写フィルムの感光性樹脂層を加温加圧下で貼り合わせる。この場合、感光性樹脂層と支持体との密着力を向上させる目的で、予め支持体にシランカップリング剤、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）等で疎水化する。基板の疎水化処理、例えばシランカップリング剤処理、ＨＭＤＳ処理は、特開２００４−１０１５９６号、特開２００４−１０３８５０号、特開平６−４３３１４号、特開平８−１９４１０６号公報等を参照することができる。
【００３０】
貼り合わせには、従来公知のラミネーターや真空ラミネーターが使用でき、より生産性を高めるためには、オートカットラミネーターの使用が望ましい。この貼り合わせの際の温度は、転写フィルム側で測定して、５０〜１８０℃、好ましくは１００〜１６０℃である。感光性樹脂層中には、通常好ましくない熱重合を抑える目的で重合禁止剤が添加されているが、該熱重合を完全には抑止できず、現像後、ガラス基板上の非画像部に残膜が発生する。この残膜は、転写時の温度、即ち感光性樹脂層の温度が高くなる程発生し易くなる。通常は１００℃を越えると発生が始まり、１１０℃を越えると促進され、更に１２０℃を越えると急激に増加する傾向にある。残膜の発生は、熱重合が起こらない低温で転写すれば防ぐことはできる。
【００３１】
しかしながら、２色目以降の転写の際には既に画素が形成されており、転写温度が低いとこの既設画素による表面の凹凸への追従が困難となるため気泡を巻き込むので、別種の欠陥が発生してしまう。この凹凸への追従を良くするためには感光性樹脂層及び熱可塑性樹脂層を十分に軟化させる必要があり、その為には残膜発生が急激に増える１２０℃以上にまで上げることとなる。ラミネーターのローラーの表面温度は、この条件に合わせて適宜選択する。転写速度は通常０．１ｍ／分〜３ｍ／分程度で行う。量産性を考慮すれば、通常、気泡の巻き込みが無い範囲内で最高速度を選択する。この速度は、感光性樹脂層及び熱可塑性樹脂層の物性、ラミネート温度、ラミネート圧力等により適切に決定される。
【００３２】
その後仮支持体を剥がした後で、所定のフォトマスクを通し、上記感光性樹脂層を露光し、現像する。この際、仮支持体を剥がす場合に熱可塑性樹脂層も一緒に剥がすのが高い解像度を得るためにも、また現像時間を短縮するためにも好ましい。仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、及び感光性樹脂層の各層間の密着力バランスを制御することで、この熱可塑性樹脂層の剥がしは可能である。また、仮支持体を剥がす前に露光し、その後仮支持体を剥がして現像することも可能であるが、高解像度を得るためには、露光前に仮支持体を剥がすのが好ましい。
【００３３】
現像は公知の方法で、溶剤系もしくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液に浸漬するか、スプレーから現像液を噴射すること、更には超音波を印加しながら現像処理することで行われる。
【００３４】
また、本発明においては、パターン露光された感光性樹脂層を現像する工程で使用する現像薬液には、金属イオンが実質的に含まれていないことが好ましい。現像液及び現像残膜除去液に金属イオンが含まれていると、ＴＦＴ作動上で不具合を引き起こすことがある。
【００３５】
本発明においては、非画像形成部分の現像残膜を除去するために、パターニングされ現像された該感光性樹脂層を有する支持体表面に、高圧水を噴射し、その後にアッシング処理する。現像残膜除去液として水だけを使用した場合には、低圧では残膜が十分には除去できない。このため、１ＭＰａ以上の高圧水を使用する必要がある。なお、現像液そのものを使用した場合には、過現像になり画素周辺部がサイドエッチされてしまう。
【００３６】
本発明では、パターニングされ現像された感光性樹脂層を有する支持体に、上述したように高圧水を噴射し、その後にアッシング処理することにより現像時の残膜を完全に除去することが出来る。高圧噴射のみでは、通常、基板のガラス面の洗浄が不十分である場合が多く、アッシング処理のみでは、コンタクト穴内の現像残膜を完全に除去することが難しい。高圧噴射して、その後にアッシング処理を実施することによって、コンタクト穴内及び基板表面を完全に洗浄でき、現像残膜を実質的に除去することが出来る。
【００３７】
本発明の前記高圧噴射の具体的な処理条件は、所与の基板形状、露光パターン、感光性物質性状等に応じて適宜選択する。高圧噴射用の水の液温は２０〜５０℃が好ましく、２５〜４０℃が更に好ましい。高圧噴射の圧力は、１ＭＰａ以上であるが、５〜１５ＭＰａが好ましく、１０〜１５ＭＰａが更に好ましい。一般的に、水の温度と噴射圧力は高い方が洗浄効果も期待できるが、一方、熱損傷若しくは加圧破損の危険性も増大するので、加温及び加圧の限界はこの点を考慮して決められる。基板と噴射ノズル間の距離も、洗浄効果乃至は効率と損傷回避の兼ね合いより適宜に選定されるが、一般的には５０〜２００ｍｍが好ましく、８０〜１５０ｍｍが更に好ましい。基板の搬送速度は、水の噴射流量との兼ね合いより適切に選定されるが、一般的には生産性向上の観点より、搬送速度を１ｍ／分或いはそれ以上の搬送速度を維持できるよう噴射流量を設定するのが望ましい。
【００３８】
本発明における高圧噴射には、発明の趣旨に適う市販の高圧噴射洗浄装置（システム）を好適に利用することが出来る。この目的に合致する市販の高圧噴射洗浄装置（システム）としては、例えば、旭サナック（株）製の超高圧マイクロジェット精密洗浄システム「ＨＰＭＪＡＦ５４００Ｓ」、島田理化工業工業（株）製のバブルジェット（登録商標）システム等を挙げることができる。
【００３９】
本発明では、上述の水での高圧噴射の後にアッシング処理することが特徴であり、この二つの洗浄処理により現像時の残膜を完全に除去することが出来る。上記アッシング処理は、後述する各色の画像形成後に実施される加熱処理（ポストベーク）の前工程として実施されてもよいが、該ポストベークの後に実施されるのが好ましい。ポストベーク時に着色パターンからの蒸発物が基板に再付着し、次に行われる疎水化処理の均一化を妨げる可能性があるからである。  特に、最終色形成後はポストベーク後に実施するのが好ましい。
【００４０】
本発明のような転写法によるカラーフィルターの製造においては、加熱加圧の下に基板上に着色感光性樹脂層を貼り付けるが、下地との間に充分な密着力を確保するために、通常、下地表面にシランカップリング処理、ＨＭＤＳ処理等の疎水化（密着促進）処理が行われる。この処理は、普通は最初の１色目のパターン形成前感光性樹脂層の転写前にのみ行われるが、本発明においては、各色形成前に行うことが好ましい。。
【００４１】
本発明では、水を高圧で吹き付けたり、アッシングしたりして、この残膜を除去する。当然、ＣＯＡにおいてはコンタクト穴内の残膜を除去するという目的もある。しかしながら、残膜を完全に除去してしまうと、基板表面は素面ガラスと同質の表面になり、密着促進効果のあるシランカップリング剤が残存せず、次色の転写時に着色感光性樹脂層の剥がれが生じる場合がある。従って、支持体の疎水化処理を各色形成前に行うことが好ましい。
【００４２】
本発明の前記アッシング処理としては、例えば、大気中で低圧水銀灯で紫外線を照射する方法（いわゆるＵＶ洗浄処理）や、真空中で高圧高周波を印加してプラズマを発生させる方法（いわゆるプラズマエッチング処理）やＯ2アッシング処理等が挙げられるが、大気中で簡便に行える処理としてＵＶ洗浄処理が好適である。アッシング処理は特開平５−１６５２２５号、特開平５−１９８４９９号、特開平１１−３５２５１５号、特開２００４−２３５４０９号、特開２００４−３１１８３８号、特開２００３−９８３３４号公報等を参照することができる。
【００４３】
前記ＵＶ洗浄処理の具体的な処理条件には特に限定はなく、所与の基板形状、露光パターン、感光性物質性状等に応じて適切に選定できる。使用する低圧水銀ランプとしては、例えばＶＵＶ−１００／Ａ−５．３Ｕ（オーク社（株）製）等が挙げられ、またエキシマＵＶランプ照射も好適である。
【００４４】
高圧噴射の後、パターン形成された該感光性樹脂層を硬化しうる波長域を含む光を照射する工程（ポスト露光）を加えることが好ましい。その後、加熱処理（ポストベーク）、アッシング処理をする方法が好ましい。
【００４５】
ポスト露光は、本発明の場合は３６５ｎｍ、４０５ｎｍを含む光を照射することが好ましい。照射は画像形成面、その反対面、又はその両側から行ってもよい。照射量は片側５ｍＪ／ｃｍ2以上、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ2以上、さらに好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ2以上であり、上限は特にないが、製造適性を考慮すれば、３０００ｍＪ／ｃｍ2程度以下である。照射の方法は、超高圧水銀灯又は高圧水銀灯からの光を１枚ずつ一括露光する方法、画像形成基板をコンベアで搬送しながら上方から、または下方から、あるいは両方から照射する方法等、公知の技術が利用できる。
【００４６】
カラーフィルターを作成するためには赤色、緑色、青色、黒色（遮光層を金属膜で形成する場合は黒色は不要）と４回の処理プロセスが必要になるため、第１番目に形成した着色画像では４回、２番目に形成した着色画像では３回、３番目に形成した着色画像では２回と、複数回現像処理されることになる。このことは過現像による画素形状の崩れを引き起こす結果となる。現像後に高圧噴射処理を行うと更にこの傾向が強くなる。そこで、各色の画像形成後、上述した方法（ポストベーク）で画像を十分硬化させるのが好ましい。加熱処理の場合、温度は１００℃〜３００℃、好ましくは１５０℃〜２５０℃の範囲で、処理時間は基板がその温度に達してから１分〜１８０分、好ましくは５分〜１２０分の範囲である。
【００４７】
加熱処理（ポストベーク）の方法としては、従来公知の種々の方法を使うことが出来る。即ち、複数枚の基板をカセットに収納してコンベクションオーブンで処理する方法、ホットプレートで１枚ずつ処理する方法、赤外線ヒーターで処理する方法等である。
【００４８】
転写フィルムの貼り合わせから、アッシング迄の工程を赤色、緑色、青色、黒色について繰り返せば、カラーフィルターを形成することが出来る。また、柱を形成する方法として、無色の材料にて本工程を行ってもよい。当然、金属薄膜により予め遮光層を形成したガラス基板を用いた場合は黒色画像形成工程は省くことが出来る。
【００４９】
更に、必要に応じて、カラーフィルター表面の物理的化学的保護と平坦化を目的とする保護層をカラーフィルターに積層して設けてもよい。保護層としては、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系等の樹脂皮膜や、酸化珪素等の金属酸化物のような透明性の高い皮膜が用いられるが、その形成方法としては樹脂皮膜は、スピンコート、ロールコート、印刷法等のほか、上述した転写フィルムのように転写により形成することもできる。また、金属酸化物等の無機皮膜については、スパッタリング法、真空蒸着法等によって設ける事が出来る。
【実施例】
【００５０】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５１】
［実施例１］
１）転写フィルムの用意
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの仮支持体上に下記処方Ａからなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１５μｍの熱可塑性樹脂層を設けた。  この層は複数色の画素を順次ラミネートにより形成する際、既形成画素の存在に起因する気泡の混入を防止する機能を有する。
【００５２】
熱可塑性樹脂層処方Ａ：
・メチルメタクリレート／２-エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体  [共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８    重量平均分子量＝８００００] 
４．５重量部
・スチレン／アクリル酸共重合体  ［共重合組成比（重量比）＝７／３    重量平均分子量＝８０００］                                                    １０．５重量部
・ＢＰＥ−５００（新中村化学社製）                                      ７重量部
・Ｆ１７７Ｐ（大日本インキ社製  界面活性剤）                      ０．２６重量部
・メチルエチルケトン                                              １８．６重量部
・メタノール                                                      ３０．６重量部
・１−メトキシー２−プロパノール                                    ９．３重量部
【００５３】
次に、上記熱可塑性樹脂層上に下記処方Ｂからなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層を設けた。  この層は次にこの層上に形成する着色層と、先に形成した熱可塑性樹脂層が混じりあわないようにするためのバリアー層として働くものである。また、酸素遮断膜としての機能も有する。
【００５４】
中間層処方Ｂ：
・ポリビニルアルコール(クラレ社製  ＰＶＡ２０５)          １３重量部
・ポリビニルピロリドン（五協産業社製  ＰＶＰ−Ｋ３０）      ６重量部
・メタノール                                            １７３重量部
・水                                                ２１１．４重量部
【００５５】
上記中間層上に，表１の処方を有する赤色、緑色又は青色の感光性溶液を塗布乾燥させた。それぞれ乾燥膜厚が２μｍの赤色、緑色、青色感光性樹脂層が形成された。さらに、それぞれ着色感光性樹脂層表面に厚さ１２μｍのポリプロピレン製のフィルムをカバーフィルムとして貼り付け各色の転写フィルムを作成した。
【００５６】
【表１】
2006171543.tif 000002
【００５７】
２）カラーフィルターの製造
上記転写フィルムを用いて、以下の方法でラミネートした。
先ず、洗浄した厚さ０．７ｍｍ、４００ｍｍ×３００ｍｍのアレイ基板（ＴＦＴ素子が形成されたガラス基板で、ほぼ全面がＳｉＮｘで覆われ、各画素毎のコンタクト穴となるべき場所にはＡｌ電極が形成されている）をシランカップリング剤（信越化学社製  ＫＢＭ−６０３）０．３％水溶液中に３０秒間浸漬後、３０秒間純水でリンスし、エアーナイフで乾燥した。  この工程は着色感光性樹脂層とガラスとの密着性を高めるものである。
【００５８】
次に上記赤色転写フィルムのカバーフィルムを剥離しながら着色感光性樹脂層面を１００℃に加熱したアレイガラス基板に向けてラミネータ（ソマール社製  オートカットラミネータＡＳＬ−２４）を用いて、加圧（１．５ＭＰａ）、加熱(１３０℃)して貼り合わせた。  基板が常温になった後、剥離界面と基板表面をイオナイザーで除電しながら仮支持体を剥離した。
【００５９】
次にフォトマスクを介して高圧水銀ランプ露光、現像し、その後、旭サナック社の超高圧マイクロジェット精密洗浄システム（ＨＰＭＪ  ＡＦ５４００Ｓ）を用いてノズルー基板間距離１００ｍｍで、１０ＭＰａの圧で純水を噴射し、水洗、水切りし、ポスト露光、コンベクションオーブンでの加熱処理の後、下記条件でアッシング処理を行い、赤色画素パターンを形成した。該画素にはアレイ基板の電極位置に２０μｍφのコンタクト穴が形成されている。
同様な工程を緑色、青色転写フィルムで繰り返し、アレイ基板上にカラーフィルターを形成した。  各色の転写前には１色目と同じようにシランカップリング処理を実施した。
転写、露光、現像、ブラシ擦り、高圧噴射、その他の条件は表2に示す通りである。
【００６０】
アッシング処理条件：
装置：オーク社製ＵＶドライプロセッサー  ＨＭＷ−６１５Ｎ−４
使用ランプ：ＶＵＶ−１００／Ａ−５．３Ｕ    ７灯（低圧水銀ランプ）
照射距離：２５ｍｍ
照度：１３ｍＷ／ｃｍ２
処理時間：５分
【００６１】
【表２】
2006171543.tif 000003
【００６２】
その他の条件、表2の補足説明は次のとおりである。
１．現像１は、熱可塑性樹脂層、中間層を溶解除去するための現像で、現像液としてはトリエタノールアミン３質量％水溶液を用い、３８℃でシャワー現像した。
２．現像２では着色感光性樹脂層を現像し、現像液として下記の処方の液を用い、３３℃でシャワー現像した。
モノエタノールアミン                                ６．１１質量部
パイオニンD-3120P（竹本油脂製）                      ６．８質量部
WTC-1146（旭電化製）                          ０．１９４４質量部
酢酸                                                ３．５７質量部
純水                                            ４６９．５５質量部
【００６３】
３．現像３では下記の現像残渣除去液を用い、３３℃でシャワー処理した。
現像残膜除去溶液処方：
トリエタノールアミン                                      １．５質量部
パイオニンD-3120P（竹本油脂製）                      ０．０７５質量部
純水                                                  ９８．４３質量部
【００６４】
４．高圧水処理は、２３℃の純水を基板とノズル間距離１００ｍｍ、基板搬送速度２ｍ／分、圧力１０ＭＰａで噴射した。
【００６５】
５．ポスト露光は、高圧水銀ランプで５００ｍｊ／ｃｍ2照射した。
６．加熱時間は、コンベクションオーブンで基板が設定温度に達してからの保持時間を示す。
７．アッシング処理は加熱処理（ポストベーク）後に実施した。
【００６６】
上述の条件で処理したカラーフィルターは、ラミネート〜仮支持体剥離工程で、着色感光性樹脂層の剥がれは無く、処理できた。  また、各画素のコンタクト穴内の電極表面の現像残渣も少なく、その後画素上に形成されたＩＴＯ画素電極との導通も得られた。
上記の例では、現像１、現像２の後に、現像３として残渣除去液での処理がある。  現像３の工程は必須ではないが、この処理を入れることで残渣だけでなく、剥離片の除去性が向上させることができた。
【００６７】
また、水の場合は、発泡がなく、新鮮水を使うことでフィルター詰まりもノズル詰まりも起こさないが、その分、残渣除去性が低下するため、その後のアッシング処理を若干強化した。
アッシングはランプの照度と処理時間を適切に調整することで、非画素部の残渣をその後の工程や品質に全く問題のないレベルにまで除去することができた。
【００６８】
実施例２
実施例１のシランカップリング処理の代わりに、下記のようなＨＭＤＳによる処理を行った他は実施例１と同じ条件でカラーフィルターを作成した。
上述の条件で処理したカラーフィルターは、ラミネート〜仮支持体剥離工程で、着色感光性樹脂層の剥がれは無く、処理できた。  また、各画素のコンタクト穴内の電極表面の現像残渣も少なく、その後画素上に形成されたＩＴＯ画素電極との導通も得られた。
【００６９】
（ＨＭＤＳ処理方法）
５００ｍｍＸ５００ｍｍＸ５００ｍｍのステンレス容器にＨＭＤＳを１００ｃｃ入れ、この中に、洗浄して良く乾燥した厚さ０．７ｍｍ、４００ｍｍＸ３００ｍｍのガラス基板（コーニング＃１７３７）を入れて蓋をし、６０秒放置した。  その後基板を取り出して、１００℃のホットプレート上で６０秒加熱処理した。
【００７０】
比較例１
高圧水処理とアッシング処理を除いたほかは実施例１と同じ条件でカラーフィルターを形成した。
その結果、３色目の青色のラミネート後、仮支持体を剥離する際に、ほぼ全面にわたって青色の着色感光性樹脂層が剥がれてしまった。
【００７１】
比較例２
高圧水処理を除いたほかは実施例１と同じ条件でカラーフィルターを形成した。
その結果、３色目の青色のラミネート後、仮支持体を剥離する際に、ほぼ全面にわたって青色の着色感光性樹脂層が剥がれてしまった。
【００７２】
比較例３
アッシング処理を除いたほかは実施例１と同じ条件でカラーフィルターを形成した。
その結果、３色目の青色のラミネート後、仮支持体を剥離する際に、面積の１／３の青色着色感光性樹脂層が剥がれてしまった。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
本発明の方法によって、発泡がなく、高圧水を使うことでフィルター詰まりもノズル詰まりも起こさず、現像残渣の少ないカラーフィルターを形成することができる。特に、ＣＯＡ用カラーフィルター製造時に、コンタクト穴内の残渣も低減でき、後に形成するＩＴＯ電極との導通も問題なく得られる。
また、ブラシを使わないため、画素欠けや画素傷もない。
本発明は、ＲＧＢ等の着色感光層を用いたカラーフィルターの形成のみならず、近年盛んに使われているスペーサー形成材料や、液晶の配向規制部材のような透明感光材料にも当然適用可能である。