(57)【要約】【課題】  電気配線等の所定パターンが精度良く形成してあるとともに、製造時の歩留りに優れた電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、および電気光学装置の製造方法をそれぞれ提供する。【解決手段】  一対の電気光学装置用基板と、その間に挟持される電気光学材料と、から構成された電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、および電気光学装置の製造方法であって、それぞれ電気光学装置用基板の表面に、反射抑制部を備えることを特徴とする。【選択図】  図２
2006091060.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電気光学装置用基板と、その間に挟持される電気光学材料と、から構成された電気光学装置であって、
前記電気光学装置用基板の表面に、反射抑制部を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記電気光学装置用基板の主表面の一部に凹部が設けてあり、当該凹部内に、前記反射抑制部を備えることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記反射抑制部が、光吸収膜および反射防止膜、あるいはいずれか一方の薄膜部材であることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記反射抑制部としての光吸収膜および反射防止膜が、着色酸化膜、粒子含有層、着色剤含有層、紫外線吸収剤含有層、または透明酸化膜であることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記反射抑制部に、紫外線吸収剤または光波長変更剤を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記反射抑制部の紫外線透過率を５０％以下の値とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記反射抑制部の可視光透過率を５０％以上の値とすることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記反射抑制部の表面に、微細な凹凸パターンを設けることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記反射抑制部が、所定パターンを有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記反射抑制部が、前記電気光学装置用基板上の露光箇所に対応して設けてあることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
前記反射抑制部が脱着可能であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１２】
電気光学装置用基板の製造方法であって、表面に反射抑制部を備えた基板上に、感光性材料を積層して、樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
前記パターン露光された樹脂層に対して、現像液を供給して、所定パターンを形成する工程と、
を含む電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１３】
一対の電気光学装置用基板間に電気光学物質が挟持されている電気光学装置の製造方法であって、
一方の表面に反射抑制部を備えた基板上に、感光性材料を積層して、樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
前記パターン露光された樹脂層に対して、現像液を供給し、所定パターンを形成する工程と、
もう一方の基板を準備して、電気光学装置を組み立てる工程と、
を含む電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、および電気光学装置の製造方法に関する。より詳細には、所定の反射抑制部を有する電気光学装置用基板を用いた電気光学装置、そのような電気光学装置用基板を用いた電気光学装置用基板の製造方法および電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型化や省電力化が図られることから、各種電子機器における画像表示装置として、液晶表示装置が広く用いられている。このような液晶表示装置は、一対のガラス基板の間に液晶材料を封入した状態で、シール材によって周囲を貼り合わせて構成されている。そして、一対のガラス基板を製造するにあたって、通常、フォトリソグラフィ法が用いられている。より具体的には、所定パターンを有するフォトマスクを介して、露光装置から紫外線を感光性材料に対して照射した後、現像液によって所定パターンを形成し、その所定パターンをそのままカラーフィルタとして使用したり、形成された所定パターンをもとに、金属材料等からなる導電パターンをエッチング形成したりしている。
【０００３】
ここで、このような感光性材料の露光に関して、透明基板上にパターンを繰り返し形成する際に生じる露光パターンの歪み、例えば、露光装置ステージ中に形成されたアラインメント光源を収納する凹部からの反射光による露光パターンの歪みを除去するため、フラットパネル表示装置の製造装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
より具体的には、図１５に示すように、露光装置ステージ６２６に、アラインメント光源を収納した凹部を覆うように、可動シャッタ６３２をステージ主面に実質的に同一面内において移動可能なように設け、透明基板上に透明パターンを露光する際にはシャッタ６３２を閉じる一方、透明基板上の不透明パターンを使ってアラインメントを行う場合には、シャッタ６３２を開くように構成したものである。そして、シャッタと、ステージ主面とを実質的に同一の反射率を有する反射防止膜で覆うことを好適態様としたものである。
【０００４】
また、液晶表示装置の露光装置ではないものの、弾性表面素子を製造するための露光装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
より具体的には、図１６に示すように、弾性表面素子の基板７０２上に、フォトリソグラフィ法により、電極パターンを形成する工程に用いる露光装置であって、基板を置く載置台７０４の表面を反射防止膜７０３、例えば、黒色ゴムで被覆した露光装置が開示されている。
【特許文献１】特開平１０−１６２７２７号公報（特許請求の範囲、図１）
【特許文献２】特開昭５９−１１９３５４号公報（特許請求の範囲、図１〜３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示されたフラットパネル表示装置の製造装置は、所定位置にシャッタを設けなければならず、構成が複雑であって、実用性に乏しいという問題が見られた。
また、特許文献２に開示された弾性表面素子を製造するための露光装置は、弾性表面素子の基板上に、黒色ゴム等の反射防止膜を設けており、当該黒色ゴムは肉厚であって、その厚さがばらつくために、精密な露光処理を行なう際には、焦点深度が調整できないという問題が見られた。また、黒色ゴムは紫外線等によって劣化しやすく、耐久性に乏しいばかりか、所定パターンを安定的に得ることが困難であるという問題が見られた。
【０００６】
そこで、本発明の発明者らは、以上の問題を鋭意検討した結果、電気光学装置用基板の表面に、反射抑制部を備えることにより、露光装置から照射された紫外線等が、電気光学装置用基板、あるいはその載置台としての露光装置におけるステッパープレートステージに起因して、所望箇所以外に反射等することを有効に防止できることを見出したものである。
すなわち、本発明の目的は、所定の反射抑制部を備えた電気光学装置用基板を用いた電気光学装置であって、電気配線等の所定パターンが精度良く形成してあるとともに、製造時の歩留りに優れた電気光学装置を提供することである。
また、本発明の別の目的は、所定パターンを精度良く形成することができるとともに、精密な露光処理を行なう際の位置合わせが容易な電気光学装置用基板の製造方法および電気光学装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、一対の電気光学装置用基板と、その間に挟持される電気光学材料と、から構成された電気光学装置であって、電気光学装置用基板の表面に、反射抑制部を備える電気光学装置が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、このように電気光学装置を構成することにより、精密な露光処理を行なう際の位置合わせが容易かつ迅速になって、所定パターンが精度良く形成してあるとともに、製造時の歩留りに優れた電気光学装置を安定的に得ることができる。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、電気光学装置用基板の主表面の一部に凹部が設けてあり、当該凹部内に、反射抑制部を備えることが好ましい。
このような構成の反射抑制部とすることにより、反射抑制部の実質的な厚さにかかわらず、露光処理を行なう際の焦点深度等の調整が容易になって、所定パターンが精度良く形成してあるとともに、製造時の歩留りに優れた電気光学装置を安定的に得ることができる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、反射抑制部が、光吸収膜および反射防止膜、あるいはいずれか一方の薄膜部材、例えば、着色酸化膜、粒子含有層、着色剤含有層、紫外線吸収剤含有層、または透明酸化膜であることが好ましい。
このような構成の反射抑制部とすることにより、適度の光吸収性や光反射防止性が得られ、所定パターンが精度良く形成してあるとともに、製造時の歩留りに優れた電気光学装置を安定的に得ることができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、反射抑制部が、着色酸化膜、粒子含有層、着色剤含有層、紫外線吸収剤含有層、または透明酸化膜であることが好ましい。
このような構成の反射抑制部とすることにより、適度の光吸収性や光反射防止性が得られ、所定パターンを精度良く、かつ安定的に得ることができる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、反射抑制部の表面に、紫外線吸収剤または光波長変更剤（蛍光増白剤）を含有することが好ましい。
このような構成の反射抑制部とすることにより、紫外線吸収剤が余分な紫外線を効果的に吸収したり、光波長変更剤（蛍光増白剤）が照射された紫外線等の短波長を長波長側に変化させたりして、所定パターンをさらに精度良く、かつ安定的に得ることができる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、反射抑制部の紫外線透過率を５０％以下の値とすることが好ましい。
このような構成の反射抑制部とすることにより、紫外線の吸収量を定量的に管理することができ、所定パターンをさらに精度良く、かつ安定的に得ることができる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、反射抑制部の可視光透過率を５０％以上の値とすることが好ましい。
このような構成の反射抑制部とすることにより、当該反射抑制部における光透過量の低下を少なくすることができ、電気光学装置において、明るい画像表示を認識することができる。また、このような構成の反射抑制部とすることにより、位置合わせ用の可視光についての吸収も抑制することができ、迅速かつ精度良く位置合わせすることができる。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、反射抑制部の表面に、微細な凹凸パターンを設けることが好ましい。
このような構成の反射抑制部とすることにより、反射抑制部における照射光の吸収効率を高めることができ、露光装置からの照射光が所望箇所以外に反射等することをさらに有効に防止することができる。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、反射抑制部が、所定パターンを有することが好ましい。
反射抑制部の形状を、露光装置から照射された紫外線等の電気光学装置用基板あるいはステッパープレートステージ上における反射特性に対応させて、ラインパターンとしたり、ドットパターンとしたり、さらには、同心円状パターンとすることにより、反射抑制部での照射光の吸収効率や透過効率をさらに高めることができる。
また、このように構成することにより、反射抑制部の存在面積を低下させ、反射抑制部におけるパターンに間隙を設けることができるため、反射抑制部における光量の透過量の低下を少なくすることができ、さらには、背面透過光等を利用して、電気光学用基板の位置合わせ等を容易に行なうこともできる。
【００１６】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、反射抑制部が、電気光学装置用基板の露光箇所に対応して設けてあることが好ましい。
このような構成の反射抑制部とすることにより、照射光の反射により悪影響を及ぼしやすい箇所においてのみ、選択的に照射光の吸収効率や透過効率を高めることができる。
【００１７】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、反射抑制部が脱着可能であることが好ましい。
このような構成の反射抑制部とすることにより、所望により、紫外線等の吸収効率や透過効率を高めることができる。また、反射抑制部の劣化等により、紫外線等の吸収効率や透過効率が変化した場合には、当該反射抑制部を容易に交換することもできる。
【００１８】
また、本発明の別の態様は、電気光学装置用基板の製造方法であって、表面に反射抑制部を備えた基板上に、感光性材料を積層して、樹脂層を形成する工程と、
樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
パターン露光された樹脂層に対して、現像液を供給して、所定パターンを形成する工程と、を含む電気光学装置用基板の製造方法である。
すなわち、このように電気光学装置用基板を製造することにより、露光装置から照射された紫外線等が、電気光学装置用基板、あるいはその載置台としての露光装置におけるステッパープレートステージに起因して、所望箇所以外に反射等することを有効に防止できる。したがって、精密な露光処理を行なう際の位置合わせが容易かつ迅速になって、所定パターンを精度良く形成することができるとともに、精密な露光処理を行なう際の位置合わせが容易となる。
【００１９】
また、本発明の別の態様は、一対の電気光学装置用基板間に電気光学物質が挟持されている電気光学装置の製造方法であって、
一対の電気光学装置用基板間に電気光学物質が挟持されている電気光学装置の製造方法であって、
一方の表面に反射抑制部を備えた電気光学装置用基板上に、感光性材料を積層して、樹脂層を形成する工程と、
樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
パターン露光された樹脂層に対して、現像液を供給し、所定パターンを形成する工程と、
もう一方の基板を準備して、電気光学装置を組み立てる工程と、
を含む電気光学装置の製造方法である。
すなわち、このように電気光学装置の製造を実施することにより、紫外線等の照射光が所望箇所以外に対して反射し、パターン精度等に悪影響を及ぼすことを有効に防止することができる。
また、電気光学装置用基板の表面に反射抑制部を備えていることから、精密な露光処理を行なう際の位置合わせが容易になって、簡易な構成の露光装置であっても、所定パターンを精度良く、かつ安定的に得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、言うまでもなく、以下に示す実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、本発明の範囲内で任意に構成を変更することが可能である。
【００２１】
［第１実施形態］
第１実施形態は、一対の電気光学装置用基板と、その間に挟持される電気光学材料と、から構成された電気光学装置であって、電気光学装置用基板の表面に、反射抑制部を備える電気光学装置である。
以下、電気光学装置の概要、および反射抑制部を中心に説明する。
【００２２】
１．概要
図１に示すように、電気光学装置に使用される液晶パネル２００は、下側に配置された電気光学装置用基板としての素子基板１４と、これに対向して上側に配置された電気光学装置用基板としてのカラーフィルタ基板１２とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられ、セル構造を構成している。そして、カラーフィルタ基板１２と、素子基板１４とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、シール材２３０の開口部（図示せず）を介して液晶材料２３２を注入した後、封止材にて封止されている。
また、第２の基板１４は、第１の基板１２の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部１４Ｔを有しており、この基板張出部１４Ｔ上には、データ線２６´や、独立して形成された入力端子部２１９が形成されている。
また、基板張出部１４Ｔ上には、これらデータ線２６´および入力端子部２１９に対して電気的に接続され、駆動できるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体ＩＣ２６１が実装されている。さらに、基板張出部１４Ｔの端部には、入力端子部２１９の一部に対して電気的に接続されるように、フレキシブル配線基板１１０が実装されている。
以下、本発明に係る電気光学装置として、反射抑制部１０６を設けたカラーフィルタ基板１２を備えた電気光学装置を例に採って説明する。
【００２３】
２．反射抑制部
（１）種類
反射抑制部の種類に関して、例えば、光吸収膜又は反射防止膜、あるいはそれらの積層体からなる複合膜を含む構成であることが好ましい。より具体的には、図示しないものの、光吸収膜や反射防止膜の単層膜や、図２（ａ）〜（ｂ）に示すような光吸収膜及び反射防止膜からなる複合膜であることが好ましい。
すなわち、一例として、図２（ａ）に示すように、紫外線等の照射光Ｌの照射面側に反射防止膜１０１を設置し、照射光Ｌの非照射面側に光吸収膜１０２を設置する積層構造とすることにより、照射光Ｌが、反射防止膜１０１の表面で反射することを抑制することが可能となるためである。また、非照射面側に光吸収膜を設置することで、光吸収膜と反射防止膜との界面での、基板方向への反射を抑制することが可能となるためである。
その結果、適度の光吸収性や光反射防止性が得られ、所定パターンを精度良く、かつ安定的に得ることができる。
また、図２（ｂ）に示すように、反射抑制部１０６は、電気光学装置用基板１３の主表面の一部に設けてある凹部１３ｂに、光吸収膜及び反射防止膜からなる複合膜１０４を配置してあることが好ましい。
この理由は、このような凹部を設けることにより、反射抑制部の実質的な厚さにかかわらず、露光処理を行う際の焦点深度等の調整が容易になるためである。
【００２４】
ここで、反射抑制部の種類は特に制限されるものではないが、着色酸化膜、粒子含有層、着色剤含有層、紫外線吸収剤含有層、又は透明酸化膜であることが好ましい。
より具体的に、金属膜（合金膜を含む）は、主として光吸収膜の機能を発揮する。そして、かかる構成材料としては、紫外線の波長にもよるが、波長３２５ｎｍ付近の反射率が比較的低いニッケル、タンタル、クロム、タングステン、チタン、モリブテン、亜鉛、スズ、半田、金、銅、鉄、ビスマス、ゲルマニウム、インジウム、セレン、シリコン、テルル等の一種単独又は二種以上の併用が好ましい。
【００２５】
また、着色酸化膜は、主として光吸収膜の機能を発揮するが、例えば、アルコキシシラン化合物、アルキルシラン化合物、アルコキシチタン化合物、アルキルチタン化合物、アルコキシアルミニウム化合物、アルキルアルミニウム化合物等の一種単独又は二種以上の混合物１００重量部中に、０．０１〜２０重量部の着色剤を添加して構成したものが好ましい。
【００２６】
また、粒子含有層は、主として光吸収膜の機能を発揮するが、バインダー樹脂１００重量部中に、例えば、０．１〜５０重量部の酸化チタン粒子、シリカ粒子、炭酸カルシウム粒子、酸化スズ粒子、酸化亜鉛粒子、ポリスチレン粒子、ポリアクリル粒子、シリコーン樹脂粒子、フッ素樹脂粒子等の一種単独又は二種以上の混合物を添加して構成したものが好ましい。
【００２７】
また、着色剤含有層は、主として光吸収膜の機能を発揮するが、バインダー樹脂１００重量部中に、例えば、０．０１〜２０重量部のアゾレーキ、不溶性アゾ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料などのアゾ顔料類、フタロシアニン顔料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン顔料、チオインジゴ顔料、イソインドリノン顔料、キノフタロン顔料、染料レーキ、ベンガラ、酸化クロム、鉄黒、カドミウムイエロー、クロムバーミリオン、紺青、群青、カーボンブラック、黄色酸化鉄、パール顔料等の一種単独又は二種以上の混合物を添加して構成したものが好ましい。
【００２８】
また、紫外線吸収剤含有層は、主として光吸収膜の機能を発揮するが、バインダー樹脂１００重量部中に、例えば、０．０１〜２０重量部のサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、シアノアクリレート系化合物等の一種単独又は二種以上の混合物を添加して構成したものが好ましい。
なお、紫外線吸収剤含有層において、紫外線吸収剤１００重量部に対して、例えば、０．０１〜２０重量部の蛍光増白剤を併用することが好ましい。この理由は、蛍光増白剤が入射してくる紫外線の波長を長波長側にシフトすることができるため、幅広い波長での紫外線遮蔽効果を得ることができるためである。
【００２９】
また、透明酸化膜は、主として光反射防止膜の機能を発揮するが、基本的に、図３（ａ）に示すように、屈折率が異なる二層以上の多層膜の構成である。より具体的には、アルコキシシラン化合物、アルキルシラン化合物、アルコキシチタン化合物、アルキルチタン化合物、アルコキシアルミニウム化合物、アルキルアルミニウム化合物等からなる屈折率が異なる酸化膜を形成し、高屈折率膜１０１ａと、低屈折率膜１０１ｂとを積層して、二層の透明酸化膜１０１としたものである。
なお、図３（ｂ）に示すように、高屈折率膜１０１ａと、低屈折率膜１０１ｂとからなる透明酸化膜中に、屈折率がさらに異なる別層として、例えば、フッ素樹脂含有層やシリコン窒化膜１０６を形成し、二層以上の透明酸化膜１０１´とすることも好ましい。
【００３０】
（２）厚さ
また、反射抑制部がフィルム状の場合、その厚さを１５０μｍ以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる厚さが１５０μｍを超えると、精密な露光処理を行なう際の焦点深度等の調整が困難になって、電気光学装置用基板における所定パターンを精度良く、かつ安定的に得ることが困難となる場合があるためである。
ただし、反射抑制部の厚さが過度に薄くなると、光吸収効果が低下したり、機械的強度が低下したりする場合がある。
したがって、反射抑制部の種類にもよるが、通常、その厚さを０．０１〜５０μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．１〜２０μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３１】
ここで、図４を参照して、反射抑制部の厚さ（μｍ）と、焦点深度の調整性（相対値）との関係を説明する。図４の横軸には、反射抑制部としての紫外線吸収剤含有層の厚さ（μｍ）を採って示してあり、縦軸には、焦点深度の調整性を評価した値（相対値）を採って示してある。
かかる図４に示す特性図から容易に理解されるように、紫外線吸収剤含有層の厚さ（μｍ）が薄くなるほど、より具体的には、１５０μｍ以下になることにより、焦点深度の調整性が容易になって、電気光学装置用基板における所定パターンを精度良く、かつ安定的に得ることができる。また、かかる反射抑制部の厚さは、５０μｍ以下とすることがより好ましく、１０μｍ以下とすることがさらに好ましい。
なお、反射抑制部の厚さは、通常、電気光学装置用基板の主表面を基準位置とし、そこからの高さを意味する。さらに、図２（ｂ）に示すように、電気光学装置用基板１３の主表面１３ａの一部に凹部１３ｂが設けてあり、そこに光吸収膜及び反射防止膜からなる複合膜１０４が形成されている場合であっても、電気光学装置用基板１３の主表面１３ａを基準位置として、光吸収膜及び反射防止膜からなる複合膜１０４が表面に飛び出た高さ（Ｄ）を反射抑制部の厚さとする。
【００３２】
（３）紫外線透過率
また、反射抑制部における紫外線透過率を５０％以下の値とすることが好ましい。
この理由は、このように紫外線透過率の値を制御することにより、紫外線の吸収量を定量的に管理することができ、所定パターンをさらに精度良く、かつ安定的に得ることができるためである。ただし、過度に紫外線透過率を低くすると、使用可能な材料の選択幅が制限される場合がある。
したがって、反射抑制部における紫外線透過率を１〜４０％の範囲内の値とすることがより好ましく、５〜３０％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、反射抑制部における紫外線透過率の値は、一般に、紫外線の波長が長くなるほど高い値となるが、例えば、波長：３１５ｎｍに対応した紫外線透過率が、５０％以下の値であることがより好ましい。
次いで、図１４を参照して、反射抑制部に入射する光の波長（ｎｍ）と、当該反射抑制部の紫外線透過率（％）との関係を詳細に説明する。図１４中の横軸には、入射光波長（ｎｍ）を採って示してあり、図１４中の縦軸には、反射抑制部の紫外線透過率（％）を採って示してある。図１４中のグラフＡ及びＢは、異なる紫外線吸収剤を所定量含んで構成される２種類の反射抑制部を示している。
かかる図１４の特性図から容易に理解できるように、紫外線波長領域において、入射光波長が短いほど紫外線透過率が著しく減少する傾向にあり、例えば、入射光波長が３１５ｎｍで紫外線透過率が５０％以下の値であることが分かる。よって、図１４に示してある反射抑制部Ａ及びＢと同程度の紫外線透過特性を有する反射抑制部を選択することが好ましい。
【００３３】
（４）可視光透過率
また、反射抑制部における可視光透過率を５０％以上の値とすることが好ましい。
この理由は、このように反射抑制部の可視光透過率を制御することにより、電気光学装置を構成した場合に、明るい画像表示を得ることができるためである。
ただし、反射抑制部における可視光透過率を過度に高くすると、使用可能な材料の選択幅が制限される場合がある。
したがって、反射抑制部における可視光透過率を６０〜９９％の範囲内の値とすることがより好ましく、７０〜９０％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３４】
（５）表面パターン
また、反射抑制部の表面に、微細な凹凸パターンを設けることが好ましい。
この理由は、このような微細な凹凸パターンを有する反射抑制部とすることにより、反射抑制部における照射光の吸収効率を高めることができるためである。
なお、このような微細な凹凸パターンとしては、図５（ａ）〜（ｂ）に例示される。
すなわち、図５（ａ）に示すように、平面形状が非対称となる凹凸パターン１０５を設けることが好ましい。この理由は、このような非対称形状の凹凸パターンを設けることにより、紫外線等を適宜吸収しつつ、広範囲に反射光を弱めながら分散することができるためである。
また、図５（ｂ）に示すように、大きさが異なる複数の平面形状が非対称となる凹凸パターン１０５´（１０５ｃ´、１０５ｄ´）を設けることも好ましい。この理由は、大きさが異なる非対称形状の凹凸パターンを設けることにより、図５（ａ）に比べて、より紫外線等の反射領域を広範囲に、かつ制御しつつ分散することが可能となるためである。
【００３５】
（６）所定パターン
また、反射抑制部が、所定パターンを有することが好ましい。
この理由は、このような所定パターンを有する構成とすることにより、電気光学装置の構成や態様に応じて、所望箇所においてのみ照射光の吸収効率や透過効率を高めることができるためである。
すなわち、反射抑制部の形状を、電気光学装置用基板あるいはステッパープレートステージ上における、露光装置から照射された紫外線等の反射特性に対応させて、図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、ラインパターン１０４ａとしたり、ドットパターン１０４ｂとしたり、さらには、同心円状パターン１０４ｃとすることにより、反射抑制部での照射光の吸収効率や透過効率をさらに高めることができる。
また、このように構成することにより、ステッパープレートステージ上に反射抑制部材を配置する場合に比べ、ステッパープレートステージと電気光学装置用基板との間の位置合わせが容易かつ迅速になり、所定パターンが精度良く形成できると共に、製造時の歩留まりが高い電気光学装置を安定的に得ることが出来る。
さらに、反射抑制部が、所定パターンを有することにより、所望箇所においてのみ照射光の吸収効率や透過効率を高めることができる一方、その他の箇所においては、反射抑制部を省略することができ、経済的である。
【００３６】
（７）配置
また、反射抑制部が、電気光学装置用基板上の露光箇所に対応して設けてあることが好ましい。すなわち、図７（ａ）〜（ｃ）に示すように、反射抑制部の形状を、露光装置から照射された紫外線等の電気光学装置用基板上における露光箇所に対応させて、正方形型１０４ｄとしたり、半面型１０４ｅとしたり、さらには、円形型１０４ｆとすることが好ましい。
この理由は、このような構成の反射抑制部とすることにより、電気光学装置の構成や態様に応じて、所望箇所においてのみ紫外線等の吸収効率や透過効率を高めることができるためである。
また、このように構成することにより、ステッパープレートステージにおける反射抑制部の存在面積を低下させ、反射抑制部の非存在箇所を設けることができるため、それを利用して、背面透過光等によりステッパープレートステージにおける電気光学装置用基板の位置合わせ等を行なうことができるためである。
したがって、反射抑制部が、電気光学装置用基板における露光箇所に対応して設けてあることにより、所望箇所においてのみ照射光の吸収効率や透過効率を高めることができる一方、その他の箇所においては、反射抑制部を省略することができ、経済的である。
【００３７】
（８）脱着性
また、反射抑制部が、脱着可能であることが好ましい。
この理由は、このような構成の反射抑制部とすることにより、所望の際においてのみ紫外線等の吸収効率や透過効率を高めることができるためである。また、反射抑制部における紫外線等の吸収効率や透過効率が変化した場合には、容易に交換することができるためである。
なお、反射抑制部を脱着可能に構成するにあたり、図８（ａ）〜（ｃ）に示すように、当該反射抑制部の一部に接着剤１０８ａを塗布しても良く、面ファスナー１０８ｂ等を取り付けても良く、あるいは反射抑制部の一部に凸部１０８ｃを設け、電気光学装置用基板上に設けた凹部と係合させて、脱着可能とすることも好ましい。
【００３８】
［第２実施形態］
第２実施形態は、電気光学装置用基板の製造方法であって、表面に反射抑制部を備えた基板上に、感光性材料を積層して、樹脂層を形成する工程と、
樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
パターン露光された樹脂層に対して、現像液を供給して、所定パターンを形成する工程と、を含む電気光学装置用基板の製造方法である。
【００３９】
以下、感光性材料からなる樹脂層に、反射防止膜用の凹凸パターンを備えた電気光学装置用基板を製造する場合を例に採って、樹脂層形成工程、露光工程、現像工程及び光反射膜形成工程等の各工程に分けて、第２実施形態における電気光学装置用基板の製造方法について具体的に説明する。
なお、電気光学装置がカラー液晶表示装置である場合、便宜上、光反射膜を備えた電気光学装置用基板をカラーフィルタ基板（又は第１の基板）と称し、もう一方の基板を素子基板（又は第２の基板）と称する場合がある。
【００４０】
１．樹脂層形成工程
樹脂層形成工程は、電気光学装置用基板の基板上に、感光性材料を積層して樹脂層を形成する工程である。すなわち、図９（ａ）に示すように、例えば、スピンコーター等の塗布装置を用いて、凹凸パターンを構成する感光性樹脂を、電気光学装置用基板の基板１３上に均一に塗布して、樹脂層１０７を形成する。そして、例えば、スピンコーターを用いた場合、６００〜２、０００ｒｐｍの回転数で、５〜２０秒の塗布時間とし、厚さ１〜１０μｍの樹脂層とすることが好ましい。
次いで、図示しないものの、解像度や密着性を向上させるために、電気光学装置用基板の基板１３上に形成した樹脂層１０７をプリベークする。その場合、例えば、ホットプレートを用いて、８０〜１２０℃、１〜１０分のプリベーク条件とすることが好ましい。
ここで、樹脂層を構成する感光性材料の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセタン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、精度良く、非対称の凹凸パターンが形成できるように、感光性材料中に、シリカ粒子、酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化アルミニウム等の無機フィラーを添加しておくことも好ましい。
また、感光性材料としては、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所が硬化し、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用することができる。
なお、以下の説明では、ポジ型の感光性材料を使用した場合を例に採って説明する。
【００４１】
２．露光工程
次いで、露光工程は、樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程である。すなわち、図９（ｂ）に示すように、均一に塗布された感光性樹脂からなる樹脂層１０７の所定位置にフォトマスク１１９を載置した後、記号Ｌで示されるｉ線等のエネルギー線を照射して、パターン露光を実施する。
その場合、既に第１実施形態で説明したように、所定の反射抑制部を備えた電気光学装置用基板を使用することを特徴とする。したがって、第２実施形態においても、照射光が所望箇所以外に反射することにより、パターン精度が低下することを防止しつつ、精密な露光処理を行なう際の焦点深度等の調整が容易になって、簡易な構成の露光装置であっても、所定パターンを安定的かつ迅速に得ることができる。
【００４２】
露光装置としては、基本的に従来公知の露光装置をそのまま使用することができる。
例えば、露光装置として、図１０に示すステッパ装置５００を用いることができる。かかるステッパ装置は、密閉容器となる縦長の本体ハウジング５０１を具備しており、この本体ハウジング５０１の内部上方に電子銃５０２が配置されている。また、この電子銃５０２より下方には、第一アパーチャ５０３、成型偏向器５０４、第二アパーチャ５０５、縮小レンズ５０６、対物レンズ５０７、主偏向器５０８、副偏向器５０９、等が配置されており、これらを介して電子銃５０２に下方から対向する位置に素材保持手段であるｘｙステージ５１０が配置されている。
そして、このｘｙステージ５１０は、回路素材であるシリコンウェハ５１２を水平方向であるｘｙ方向に移動自在に保持し、電子銃５０２により、このように保持された電気光学用基板５１２の表面にエネルギビームである電子ビームを照射する。また、主／副偏向器５０８，５０９は、コンピュータユニット５１３の制御動作に対応して電子ビームを偏向するので、これで電気光学用基板５１２の表面に、所定パターンが電子描画される。
なお、コンピュータユニット５１３は、コンピュータの主体となるハードウェアを具備しており、ステッパ装置における露光光学系のディストーションデータを取得し、ステッパ装置の露光領域を複数の領域に分割して各々で下地の回路パターンの位置誤差をディストーションデータから算出し、それをもとに回路パターンを補正することができる。
【００４３】
また、露光装置による露光量に関して、感光性樹脂の種類等にもよるが、紫外線、例えば、ｉ線の露光量を５０〜３００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このような露光量の範囲内の値とすることにより、照射時間が短くなるとともに、精度良く所定パターンが得られるためである。
さらに、露光装置による露光の際に使用するフォトマスクの態様は特に制限されるものではないが、例えば、光透過部又は光不透過部を独立した円や多角形からなる平面形状とするとともに、当該光透過部又は光不透過部を画素の３ドット、６ドット、又は１２ドットを一単位として、平面方向にランダムに配列されたマスクパターンを有するフォトマスクを使用することが好ましい。
この理由は、このようなマスクパターンを有するフォトマスクを使用して得られる凹凸パターンを備えた光反射膜であれば、液晶表示装置等に使用した場合に、干渉縞の発生を効果的に抑制することができるためである。
【００４４】
３．現像工程
次いで、現像工程は、樹脂層に対して現像液を所定方向から供給しながら、樹脂層の露光部を含めて現像し、凹凸パターンを形成する工程である。すなわち、図９（ｃ）に示すように、現像液１２０を所定方向から供給し、例えば、フォトマスク１１９の光透過部１１９ｂを透過した光が照射された部分、すなわち、露光部１０７ａ及び非露光部１０７ｂを含めて、選択的に現像することにより、独立した複数の凸部又は凹部からなる凹凸パターン１１２を形成することができる。
なお、現像液１２０を所定方向から供給して凹凸パターン１１２を形成するにあたり、現像液を供給するためのノズルの走査速度、ノズルの走査方向、ノズルの形態、現像液の供給時間、現像液の供給量、現像液の濃度、現像液のｐＨ、現像液の温度、現像液の種類等を適宜変更し、現像工程途中で段階的に変えることにより、パターン露光された樹脂層における露光部をさらに選択的かつ任意的形状とすることが可能となる。
【００４５】
ただし、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を形成する場合には、パターン露光された樹脂層において、平面形状が非対称となる凹凸パターンを形成することが好ましい。
すなわち、凹凸パターンにおける凸部または凹部の平面形状に関して、現像液が供給される所定方向に対して直交する想定中心線を境とした分割形状が、左右で非対称となるような平面形状を形成することが好ましい。この理由は、このような非対称の凹凸パターンであれば、所定の光散乱性を維持したまま、所定角度における光指向性が向上するためである。したがって、一定方向から眺めた場合、例えば、角度が０°の位置と同様に、角度が＋１５°の位置においても、目に入ってくる光量が多くなり、両方の位置で、それぞれ適度に明るい画像を認識することができる。それに対して、光反射膜の基材における凹凸パターンが対称の平坦パターンとなると、角度が０°の位置においてのみ全反射することになり、反射表示型の液晶表示装置等においては、視野角特性が低下することになる。
よって、平面形状が非対称となる凹凸パターンを精度良く形成し、その上に均一に光反射膜が形成するためには、現像液を供給するためのノズルの走査速度、現像液の供給時間、及び現像液の供給量の少なくとも一つを所定範囲により厳格に制限することがより好ましい。
【００４６】
ここで、図９（ｃ）を参照して、平面形状が非対称となる凹凸パターンの形成方法を詳細に説明する。
かかる図９（ｃ）においては、矢印Ａの方向に所定のノズルを移動させながら、当該ノズルより矢印Ｂの方向に現像液を供給している。したがって、非露光部１０７ｂにおいて斜線部分で表される二つの非露光部１１２ｃ、１１２ｄのうち、左側に位置する非露光部１１２ｄよりも、右側に位置する非露光部１１２ｃを、現像液１２０の供給量等を変えて、樹脂層の膜減り率を調整し、より選択的に現像することができる。
よって、非露光部１１２ｃが、露光部１０７ａとともに選択的に現像され、凹凸パターン１１２における左右の斜面１１２ａ、１１２ｂの傾斜角度をそれぞれ所望の値、例えば、平均傾斜角を３〜６°未満と、６°〜１３°の範囲内の値にそれぞれ調整することができる。
すなわち、通常、長さ５００ｍｍ、幅４００ｍｍの基板１枚を現像するにあたり、ノズルの走査速度を１００〜１，０００ｍｍ／分の範囲内の値としたり、現像液の供給時間を５〜１００秒の範囲内の値としたり、現像液の供給量を３，０００〜５，０００ｍｌ／分の範囲内の値としたりすることが好ましい。
【００４７】
また、パターン露光された樹脂層を現像するに際して、現像液を所定方向から供給した後、１０〜１８０秒間、パターン露光された樹脂層１０７´を備えた基板を静置することが好ましい。すなわち、図９（ｃ）に示す工程の後、図９（ｄ）に示す工程前に、パターン露光された樹脂層１０７´（１０７ａ、１０７ｂ）に対して、現像液１２０を所定方向から供給した後、所定時間基板１３を移動させずに、現像液１２０の溜まりを形成することが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、現像液の溜まりを介して、所定方向から樹脂層に対してさらに選択的に浸透するため、平面形状が非対称となる凹凸パターンであっても、さらに精度良く形成することができるためである。すなわち、現像液の溜まりを部分的に作って、そのまま所定時間静置するため、そこから現像液がさらに選択的に浸透しやすくなり、いわゆるパドル現像が可能となって、非対称となる凹凸パターンをさらに精度良く形成することができる。
したがって、現像液の種類や供給量等にもよるが、非対称となる凹凸パターンの形成における再現性や生産性のバランスがより良好となることから、現像液を所定方向から供給した後、２０〜１２０秒間基板を静置することがより好ましく、３０〜６０秒間基板を静置することがさらに好ましい。
【００４８】
４．加熱工程
次いで、加熱工程を設けて、現像処理された樹脂層を加熱し、樹脂層に形成した所定の凹凸パターンの形状を固定することが好ましい。すなわち、図９（ｄ）に示すように、凹凸パターンを形成した後であって、光反射膜を形成する前に、樹脂層を加熱し、焼成（本焼成）することにより、樹脂層に形成した所定の凹凸パターンの形状を固定することができる。
なお、かかる加熱工程における凹凸パターンが形成された樹脂層の本焼成の条件としては、通常、１５０〜２５０℃、１０〜１２０分の範囲とするとともに、仮焼成の条件としては、通常、８０〜１４０℃、０．５〜８分の範囲とすることが好ましい。
【００４９】
５．光反射膜形成工程
次いで、光反射膜形成工程は、図９（ｅ）に示すように、凹凸パターン１１２が形成された樹脂層１０７´の表面に、適度に光散乱及び光反射させるように、滑らかな曲面を有する光反射膜１１６を形成する工程である。
ここで、凹凸パターン１１２が形成された樹脂層１０７´の表面に形成する光反射膜１１６の厚さを０．０５〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる光反射膜の厚さが０．０５μｍ未満の値になると、反射効果が著しく乏しくなる場合があるためである。一方、かかる光反射膜の厚さが５μｍを越えると、得られる光反射膜のフレキシブル性が低下したり、製造時間が過度に長くなったりする場合があるためである。
また、光反射膜の構成材料は特に制限されるものでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｗ）及びニッケル（Ｎｉ）等の導電性や光反射性に優れた金属材料とすることが好ましい。
ただし、このような金属材料を用いた際に、液晶材料への溶け込みがある場合には、当該金属材料からなる反射膜の表面に電気絶縁膜を設けたり、かかる金属材料等とともに、電気絶縁物をスパッタリングしたりすることも好ましい。
【００５０】
６．他の製造工程
他の製造工程として、図示しないものの、保護層を形成する工程を設けて、透明性樹脂等を塗布し、複数の凹凸パターン及びその上の光反射膜の上に、連続層としての保護層を形成することも好ましい。また、凹凸パターンが形成された樹脂層の表面に、光反射膜を形成する前に、同様の保護層（オーバーコート層）を形成することも好ましい。
すなわち、このように実施することにより、非対称となる凹凸パターンや光反射膜の耐久性が向上するとともに、得られる光反射膜における光散乱性と、光指向性とのバランスをさらに良好なものとすることができるためである。
なお、オーバーコート層を構成する感光性樹脂の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。ただし、凹凸パターンと、オーバーコート層との間の密着力が向上するため、凹凸パターンを構成する感光性樹脂と、オーバーコート層を構成する感光性樹脂とを同種とすることが好ましい。
【００５１】
また、電気光学装置用基板と、凹凸パターンとの間の密着力が向上するため、電気光学装置用基板の表面に、シランカップリング剤等の処理を施しておくことが好ましい。例えば、電気光学装置用基板上に、ネガ型感光性材料又はポジ型感光性材料を積層する前に、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を適用処理し、下地層を設けることが好ましい。
この理由は、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）の適用処理により、電気光学装置用基板と、樹脂層との間の密着性が向上し、ひいては、非対称となる凹凸パターンの高さ調整についても容易となるためである。
【００５２】
このようにして製造される電気光学装置用基板は、図示しないものの、着色層及び走査電極等を形成することにより、カラーフィルタ基板を構成することができる。
一方、かかる電気光学装置用基板は、図示しないものの、画素電極やＴＦＴ（Thin Film Transistor）やＴＦＤ(Thin Film Diode)等のスイッチング端子を形成することにより、素子基板を構成することができる。かかる素子基板を構成する場合において、上述した光反射膜を画素電極の一部として使用する場合には、当該スイッチング素子に電気接続することが好ましい。
【００５３】
［第３実施形態］
第３実施形態は、一対の電気光学装置用基板間に電気光学物質が挟持されている電気光学装置の製造方法であって、
一方の表面に反射抑制部を備えた基板上に、感光性材料を積層して、樹脂層を形成する工程と、
樹脂層に対して、フォトマスクを介して、パターン露光を実施する工程と、
パターン露光された樹脂層に対して、現像液を供給し、所定パターンを形成する工程と、
もう一方の基板を準備して、電気光学装置を組み立てる工程と、
を含む電気光学装置の製造方法である。
以下、電気光学装置として、図１に示すように外部光を用いた反射表示と、照明装置を用いた透過表示とを選択的に行うことができる半透過反射型液晶表示装置２００を例にとってその製造方法を説明する。ただし、光反射膜形成工程等までは、第１実施形態および２実施形態に準じる内容とすることができるので、ここでは、図１１に示す代表的な組立工程のフロー図に沿って、第１の基板としての光反射膜を備えた基板と、第２の基板としての素子基板とを準備して、電気光学装置を組み立てるまでの工程について中心に説明する。
【００５４】
１．第１の基板及び第２の基板の製造工程
（１）第１の基板の製造
図１１に示すフロー図中、記号Ｓ１で表される第１の基板における光反射膜の形成の際に使用する露光装置やその形成方法等は、それぞれ既に説明したように、第１実施形態および２実施形態と同様の内容とすることができるので、ここでの説明は省略する。
次いで、図１１に示すフロー図中、記号Ｓ２で表されるように、光反射膜２１２ｒに対応させてカラーフィルタ２１２ａや遮光部材１８、あるいは第１の透明電極（走査電極）１９等をさらに形成することにより、第１の基板１２を製造することができる。
【００５５】
（２）第２の基板の製造
図１１に示すフロー図における第２の基板の製造は、第１の基板としてのカラーフィルタ基板１２と対向する第２の基板としての素子基板１４を製造する工程であり、かかるフロー図中記号Ｓ１´及びＳ２´で表されるように、従来公知の方法により製造することができる。
例えば、図１に示す素子基板１４の場合、図１３に一例として示されるようなＴＦＤ素子３１ａ、３１ｂを形成する。かかるＴＦＤ素子３１ａ、３１ｂは、素子第１電極（第１金属膜）２４、絶縁膜２３、及び素子第２電極（第２金属膜）２２、２５からなるサンドイッチ構成を備えている。したがって、正負方向のダイオードスイッチング特性を示し、しきい値以上の電圧が、第１金属膜２４及び第２金属膜２５の両端子間に印加されると導通状態となり、半透過反射型液晶表示装置２００を効率的に駆動することができる。なお、二端子型の非線形素子であるＴＦＤ素子のかわりに、ＴＦＴ素子等の三端子型の非線形素子を形成することもできる。
次いで、ガラス板等からなる第２の基体２７上に、透明電極２６や配向膜２２４を順次に積層することにより、第２の基板としての素子基板１４を製造することができる。そして、第２の基体２７は、カラーフィルタ基板１３における第１の基体１３の外形よりも外側に張り出した基板張出部１４Ｔを有しており、この基板張出部１４Ｔ上には、透明電極２６や、その延長線としての複数の配線パターンからなる入力端子部２１９が形成されている。したがって、基板張出部１４Ｔ上には、入力端子部２１９等に対して電気接続されるように、駆動回路等を内蔵した半導体素子２６１や、フレキシブル配線基板１１０が実装されている。
【００５６】
２．組立工程
また、図１１に示すフロー図における組立工程は、ガラス板や透明合成樹脂板等を基体（第１の基体）１３とするカラーフィルタ基板１２と、これに対向して、実質的に同様の構成を基体（第２の基体）２７とする素子基板１４とを、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせる工程である。
より具体的には、図１１に示すフロー図に示されるように、カラーフィルタ基板１２及び素子基板１４のいずれか一方、あるいは両方に、シール材２３０を塗布し（Ｓ３）、さらに位置ずれ防止部材としての紫外線硬化性接着剤を塗布する（Ｓ４）。次いで、カラーフィルタ基板１２及び素子基板１４の位置合わせを行い（Ｓ５）、仮圧着して、シール材２３０により仮固定する（Ｓ６）。次いで、紫外線を照射して、位置ずれ防止部材としての紫外線硬化性接着剤を硬化させた後（Ｓ７）、本圧着して、シール材２３０により両基板を固定する（Ｓ８）。
【００５７】
また、図１１中のフロー図の後工程（Ｓ９）として示すが、カラーフィルタ基板１２と、素子基板１４とが貼り合わせられて形成される空間であって、シール材２３０の内側部分に、開口部２３０ａを介して液晶材料２３２を注入する。その後、かかる開口部２３０ａを封止材２３１にて封止し、半透過反射型液晶表示装置２００が組み立てられることになる。
さらに、図１１中のフロー図の後工程（Ｓ９）に含めることができるが、カラーフィルタ基板１２における第１の基体１３の外側に、位相差板（１／４波長板）２４０及び偏光板２４１を配置し、同様に、素子基板１４における第２の基体２７の外側に、位相差板（１／４波長板）２５０及び偏光板２５１を配置して、半透過反射型液晶表示装置２００における画像表示動作が可能となる。
なお、かかる半透過反射型液晶表示装置２００には、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けて、構成することができる。
【００５８】
３．応用例
次いで、本発明の電気光学装置用基板を利用した電気光学装置の応用例を具体的に説明する。すなわち、図１２は、本発明の電子光学装置を備えた電子機器３００の概略構成図である。この電子機器３００の例では、液晶表示装置等の電子光学装置３１０と、これを制御するための制御手段３２０とを有している。そして、電子光学装置３１０を、パネル構造体３１０Ａと、半導体素子（半導体素子）等で構成される駆動回路３１０Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段３３０は、表示情報出力源３３１と、表示情報処理回路３３２と、電源回路３３３と、タイミングジェネレータ３３４とから構成してある。
さらに、表示情報出力源３３１は、ＲＯＭ（Re ad Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ３３４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路３３２に供給するように構成されている。
【００５９】
また、表示情報処理回路３３２は、シリアルーパラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３１０Ｂへ供給するように構成してある。さらに、駆動回路３１０Ｂは、第１の電極駆動回路、第２の電極駆動回路及び検査回路を含み、電源回路３３３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
よって、本実施形態の電子光学装置を備えた電子機器は、露光処理によるパターン精度を向上させ、例えば、適度な光散乱性と、光指向性とを変え備えた光反射膜を備えた電気光学装置用基板を備えた電気光学装置の特性を十分に応用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明の電気光学装置によれば、パターン形成工程において、露光装置から照射された紫外線等が所望箇所以外に対して反射等して、パターン精度を低下させることを有効に防止することができる。したがって、電気光学装置用基板を製造する際に使用する各種レジスト材料、反射防止層の下地としての微細凹凸パターンを備えた樹脂層、あるいはマルチギャップ構造の突部等を精度良く、かつ安定的に得ることができる。
また、本発明の電気光学装置によれば、反射抑制部の厚さが所定値以下であることより、精密な露光処理を行なう際の焦点深度等の調整が容易かつ迅速になって、所定パターンを有する樹脂層を精度良く、かつ安定的に得ることができる。
よって、本発明の電気光学装置によれば、当該電気光学装置を製造する際の歩留りを向上させることができ、経済的にも有利となる。
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法や電気光学装置の製造方法によれば、電気光学装置用基板上に形成されるパターンの平面形状が非対称となる凹凸パターンであっても、対称となる凹凸パターンであっても、それぞれ所定パターンを容易かつ精度良く形成することができる。したがって、凹凸パターンの上にさらに均一に光反射膜を形成することができるため、適度な光散乱性と、光指向性とを有する光反射膜を備えた電気光学装置用基板及びそのような電気光学装置用基板を利用した電気光学装置を効率的に製造することができる。
【００６１】
すなわち、このようにして得られた電気光学装置用基板を利用した電気光学装置や電子機器として、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器や、電子放出素子を使用した装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）、プラズマディスプレイ装置、有機エレクトロルミネッセンス装置及び無機エレクトロルミネッセンス装置が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明に係る半透過反射型液晶表示装置を模式的に示す断面図である。
【図２】反射抑制部の概略を説明するために供する図である。
【図３】光反射防止膜の概略を説明するために供する図である。
【図４】反射抑制部の厚さ（μｍ）と、焦点深度の調整性（相対値）との関係を示す特性図である。
【図５】反射抑制部の表面における微細な凹凸パターンを説明するために供する図である。
【図６】反射抑制部における所定パターンを説明するために供する図である。
【図７】反射抑制部における配置構成を説明するために供する図である。
【図８】反射抑制部の脱着構成を説明するために供する図である。
【図９】本発明に係る電気光学装置用基板の製造工程を説明するために供する図である。
【図１０】ステッパ装置の概略を説明するために供する図である。
【図１１】半透過反射型液晶表示装置の製造工程のフロー図である。
【図１２】本発明の電子光学装置を備えた電子機器の概略構成を説明するために供するブロック図である。
【図１３】ＴＦＤ素子の構成を説明するために供する図である。
【図１４】反射抑制部における照射光波長と、紫外線透過率との関係を説明するために供する図である
【図１５】従来の露光装置の概略を説明するために供する図である（その１）。
【図１６】従来の露光装置の概略を説明するために供する図である（その２）。
【符号の説明】
【００６３】
１２：第１の基板（カラーフィルタ基板）、１３：第１の基体、１４：第２の基板（素子基板）、１８：遮光部材、１９：第１の透明電極（走査電極）、２０：第２の透明電極（画素電極）、２２・２５：素子第２電極（第２金属膜）、２３：絶縁膜、２４：素子第１電極（第１金属膜）、２６：電気配線（データ電極）、２７：第２の基体、３１ａ：第１のＴＦＤ素子、３１ｂ：第２のＴＦＤ素子、１０１：反射防止膜、１０１ａ：高屈折率膜、１０１ｂ：低屈折率膜、１０２：光吸収膜、１０４：反射抑制部としての複合膜、１０６：反射抑制部、１０７：樹脂層、１０７´：パターン露光された樹脂層、１１０：フレキシブル配線基板、１２０：現像液、１１２：凹凸パターン、１１６、２１２：光反射膜、１１９：フォトマスク、１３０：ノズル、１３０ａ：噴出口、１３２：ノズルの駆動装置、１４０：基板の駆動装置、２００：半透過反射型液晶表示装置、２１２ａ:開口部、５００：露光装置（ステッパ装置）、５１０：ステッパープレートステージ（ｘｙステージ）
【図１】
2006091060.tif 000003
【図２】
2006091060.tif 000004
【図３】
2006091060.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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