(57)【要約】【課題】  無電界状態で配向性が高い電気光学材料を注入する場合であっても、セルギャップが狭い場合であっても、それぞれ電気光学材料の未注入部が少ない電気光学装置及びそのような電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】  一対の電気光学装置用基板間の間隙に電気光学材料を注入して形成される電気光学パネルを備えた電気光学装置及び電気光学装置の製造方法であって、一対の電気光学装置用基板が、その周辺部に形成されたシール部で貼り合わせられており、当該シール部の対向する二辺の同一該当箇所に、第１の開口部及び第２の開口部が、それぞれ対向するように配置してある。【選択図】  図１
2006091624.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電気光学装置用基板間の間隙に電気光学材料を注入して形成される電気光学パネルを備えた電気光学装置であって、
前記一対の電気光学装置用基板が、その周辺部に形成されたシール部で貼り合わせられており、当該シール部の対向する二辺の同一該当箇所に、第１の開口部及び第２の開口部が、それぞれ対向するように配置してあることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１の開口部が、前記電気光学材料の注入口であり、前記第２の開口部が、前記電気光学材料の注入量を調節するための開口部であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第１の開口部の大きさが、前記第２の開口部の大きさと同等かそれ以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第１の開口部と、第２の開口部とが、前記シール部の対向する二辺の中心に、それぞれ対向配置してあることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記電気光学材料が、垂直配向用液晶材料であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
一対の電気光学装置用基板と、その間隙に電気光学材料を注入して形成される電気光学パネルを備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記一対の電気光学装置用基板を、その周辺部に形成されたシール部を介して貼り合わせて空隙を形成するとともに、前記シール部の対向する二辺に第１の開口部及び第２の開口部を設けて、それら開口部が対向するように配置する工程と、
前記第１の開口部から、前記電気光学材料を注入する工程と、
前記第２の開口部を利用して、前記電気光学材料の注入量を調節する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記電気光学材料を注入する工程において、真空注入方式又は常圧注入方式を用いることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記電気光学材料の注入量を調節する工程において、前記第２の開口部から吸引又は加圧することにより、前記電気光学材料の注入量を調節することを特徴とする請求項６又は７に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記電気光学材料の注入後に、４０〜８０℃の加熱処理を実施する工程を含むことを特徴とする請求項６〜８のいずれか一項に記載電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
前記電気光学装置用基板間の間隙に電圧を印加しながら電気光学材料を注入することを特徴とする請求項６〜９のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
一対の電気光学装置用基板間の間隙に電気光学材料を注入して形成される電気光学パネルを備え、当該一対の電気光学装置用基板が、その周辺部に形成されたシール部で貼り合わせて空隙を形成するとともに、前記シール部の対向する二辺に第１の開口部及び第２の開口部を設けて、それら開口部が対向するように配置してある電気光学装置の製造方法であって、
複数の電気光学パネルにおけるそれぞれの前記第１の開口部及び第２の開口部を、連結部を介して直列的に配置するための準備工程と、
端部に位置する電気光学パネルにおける第１の開口部より、前記電気光学材料を注入するための注入工程と、
もう一方の端部に位置する電気光学パネルの第２の開口部を封止するための封止工程と、
前記連結部を分離して、複数の独立した電気光学パネルとする分離工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
前記準備工程において、複数の電気光学パネルに対応した間隙と、前記第１の開口部と、前記第２の開口部と、前記連結部とが一体化された電気光学装置用基板を準備するとともに、
前記分離工程において、前記連結部を切断して分離することを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
前記準備工程において、前記電気光学装置用基板とは別部材から構成してある連結部を備えた電気光学装置用基板を準備するとともに、
前記分離工程において、前記連結部を脱離して分離することを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法に関する。より詳細には、電気光学材料の未注入部が少ない電気光学装置及びそのような電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気光学装置の一種としての液晶表示装置は、種々の分野において画像表示装置として広く使用されている。特に、薄型、軽量、低消費電力等の特徴を活かし、携帯電話やＰＤＡなどの画像表示装置として幅広く使用されている。
ところで、このような液晶表示装置を作製するに際し、通常、真空注入方式を用いて、一対の基板からなるセル（間隙）内に液晶材料を注入している。かかる真空注入方式は、真空容器内で空セルを排気し、その状態でセルの注入口を液晶材料に浸した後、常圧に戻し、セル内に液晶材料を充填する方法である。
しかしながら、真空注入方式によれば、例えば、０．４ｍｍ厚以下の薄いガラス基板やプラスチック基板のような柔軟な基板を使用する場合、空セル内外の気圧差による基板の変形が生じやすいという問題が見られた。すなわち、真空容器内を減圧する際には、空セル内よりも外気がより早く真空度が高くなり、その結果、一時的ではあるがセルギャップは、常圧時に比べ非常に厚くなる。したがって、セルギャップを均一に保つためのスペーサが所定位置から移動してしまい、スペーサが表示面内で均一に存在しないために、画像表示特性の低下を招くことになる。
【０００３】
一方、セルの注入口を液晶材料に浸した状態で、常圧に戻してセル内部に液晶材料を注入する際には、セル内よりも外気がより早く常圧に戻るため、注入時のセルギャップは常圧時のそれと比べ非常に薄くなる。
したがって、注入時に液晶がセル内部に浸透し難くなり、特に、無電界状態で配向性が高くなる垂直配向用液晶材料を、セルギャップが小さいセルの内部を液晶材料で充填しようとすると、配向状態で生じる分子間立体障害によって、通常液晶材料と比較して、非常に長い注入時間を要するという問題が見られた。
【０００４】
そこで、このような真空注入方式の問題点を回避すべく、常圧注入方式が提案されている（例えば、特許文献１。）。
かかる常圧注入方式は、常圧で空セルの注入口を液晶材料に浸し、毛細管現象を利用してセル内に液晶を満たす方法である。そして、このような常圧注入方式に使用されるセルでは、液晶材料に浸される注入口以外に、セル内部のガスをセル外に放出する排気口が設けられている。より具体的には、図１６に示すように、液晶表示セルを形成する１辺のシール部には、液晶の注入口６１４として使用される複数の開口部が設けられ、該注入口６１４が設けられた１辺のシール部に対向する他の１辺のシール部には、排気口６１５として使用される１つ若しくは複数の開口部が設けられていて、該排気口６１５は、他の１辺におけるシール部のうち、注入口６１４から液晶材料が注入された際、注入された液晶材料の到達するのが遅い部位に設けられている液晶表示セルである。
【特許文献１】特開２００４−１１７５２３号公報（特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の常圧注入方式で得られた液晶表示セルにおいて、排気口を複数個設けたとしても、効率よくセル内部のガスの排気ができずに、未注入部が発生しやすいという問題が見られた。すなわち、図１７（ａ）〜（ｄ）に示すように、空セル内に液晶材料が進入していく際に、液晶材料は注入口を中心にほぼ同心円状に浸透していくため、複数の注入口を設けている場合、隣り合う２つの注入口６１４から注入された液晶が合流する領域に、注入口側に窪んだ液端面６１７ａを形成する。一方、注入口の中心を通り、シール部に垂直な線上の領域は、排気口側に膨出した液端面６１７ｂを形成する。
よって、液晶材料の注入が進み、膨出した液端面が注入口と対向するシール部に達したとき、窪んだ液端面を形成する領域は、該対向するシール部への到達が遅れ、該シール部との間に気泡６１８を形成することとなる。そして、更に液晶材料の注入が進むと、この気泡６１８が残存してしまい、未注入部が生じたまま排気口６１５が液晶材料で塞がれてしまい、その結果、画像表示不良の原因となる。
また、特許文献１に記載された液晶表示セルにおいても、セルギャップが狭い場合や、非電界状態において配向状態となる垂直配向用液晶材料を注入しようとした場合には、注入時に液晶がセル内部に浸透し難くなり、非常に長い注入時間を要するという問題が見られた。
なお、図１７（ａ）〜（ｄ）に示す液晶材料の注入状態は、真空注入方式を用いたとしても、同様の傾向を示すことが確認されている。
【０００６】
そこで、本発明者は鋭意検討した結果、電気光学装置のシール部の対向する二辺の所定箇所に、第１の開口部及び第２の開口部をそれぞれ対向するように配置することにより、電気光学材料の種類やセルギャップの広さにかかわらず、真空注入方式及び常圧注入方式の両方の注入方式に使用した場合に、それぞれ電気光学材料の未注入部が少なくなることを見出した。
すなわち、本発明は、無電界状態で配向性が高い電気光学材料を注入する場合であっても、セルギャップが狭い場合であっても、真空注入方式及び常圧注入方式の両方の注入方式において、それぞれ電気光学材料の未注入部が少なく、その結果、画像表示特性に優れた電気光学装置及びそのような電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、一対の電気光学装置用基板間の間隙に電気光学材料を注入して形成される電気光学パネルを備えた電気光学装置であって、
一対の電気光学装置用基板が、その周辺部に形成されたシール部で貼り合わせられており、当該シール部の対向する二辺の同一該当箇所に、第１の開口部及び第２の開口部が、それぞれ対向するように配置してあることを特徴とする電気光学装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、このように構成することにより、無電界状態で配向性が高い電気光学材料を注入する場合であっても、セルギャップが狭い場合であっても、真空注入方式及び常圧注入方式の両方の注入方式において、それぞれ電気光学材料の未注入部を少なくすることができる。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第１の開口部が、電気光学材料の注入口であり、第２の開口部が、電気光学材料の注入量を調節するための開口部であることが好ましい。
このように構成することによりセル内の圧力調整が容易になって、電気光学材料の未注入部を少なくすることができる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第１の開口部の大きさが、第２の開口部の大きさと同等かそれ以上であることが好ましい。
このように構成することによりセル内の圧力調整が容易になって、電気光学材料の未注入部を少なくすることができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第１の開口部と、第２の開口部とが、シール部の対向する二辺の中心に、それぞれ対向配置してあることが好ましい。
このように構成することにより、注入方式によらず、セル内の圧力調整が容易になって、電気光学材料の未注入部を少なくすることができる。
また、このように構成することにより、複数の電気光学装置における第１の開口部と、第２の開口部とを直列的に連結しておき、複数のセル内に対して、一回の処理によって、電気光学材料を注入することができる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、電気光学材料が、垂直配向用液晶材料であることが好ましい。
このように構成することにより、視野角が広い電気光学装置を提供することができる。なお、垂直配向用液晶材料は、その流動特性の関係で、セル内への注入が困難であって、未注入部が生じやすいが、本発明によれば、そのような問題を効果的に解決することができる。
【００１２】
また、本発明の別の態様は、一対の電気光学装置用基板と、その間隙に電気光学材料を注入して形成される電気光学パネルを備えた電気光学装置の製造方法であって、
一対の電気光学装置用基板を、その周辺部に形成されたシール部を介して貼り合わせるとともに、当該シール部の対向する二辺に、第１の開口部及び第２の開口部を、それぞれ対向配置する工程と、
第１の開口部から、電気光学材料を注入する工程と、
第２の開口部を利用して、電気光学材料の注入量を調節する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
すなわち、このように実施することにより、無電界状態で配向性が高い電気光学材料を注入する場合であっても、セルギャップが狭い場合であっても、真空注入方式及び常圧注入方式の両方の注入方式において、それぞれ電気光学材料の未注入部を少なくすることができる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、第２の開口部から吸引又は加圧することにより、電気光学材料の注入量を調節することが好ましい。
このように実施することにより、注入方式によらず、セル内の圧力調整が容易になって、電気光学材料の未注入部を少なくすることができる。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、電気光学材料の注入後に、４０〜８０℃の加熱処理を実施する工程をさらに含むことが好ましい。
このように実施することにより、注入方式によらず、セル内の圧力調整や電気光学材料の粘度調整が容易になって、電気光学材料の未注入部を少なくすることができる。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、電気光学装置用基板間の間隙に電圧を印加しながら電気光学材料を注入することが好ましい。
このように実施することにより、無電界状態で配向性が高くなる垂直配向用液晶材料を注入しようとした場合でも、電界状態で垂直配向用液晶材料が非配向となり、垂直配向用液晶材料の流動性が向上して、未注入部を少なくすることができる。
【００１６】
また、本発明の別の態様は、一対の電気光学装置用基板間の間隙に電気光学材料を注入して形成される電気光学パネルを備え、当該一対の電気光学装置用基板が、その周辺部に形成されたシール部で貼り合わせて空隙を形成するとともに、シール部の対向する二辺に第１の開口部及び第２の開口部を設けて、それら開口部が対向するように配置してある電気光学装置の製造方法であって、
複数の電気光学パネルにおけるそれぞれの第１の開口部及び第２の開口部を、連結部を介して直列的に配置するための準備工程と、
端部に位置する電気光学パネルにおける第１の開口部より、電気光学材料を注入するための注入工程と、
もう一方の端部に位置する電気光学パネルの第２の開口部を封止するための封止工程と、
連結部を分離して、複数の独立した電気光学パネルとする分離工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
すなわち、このように電気光学材料の注入を実施することにより、複数の電気光学パネルに対して、一回の注入工程によって、電気光学材料の注入を完了することができる。
また、複数の電気光学パネルに対して電気光学材料を一度に注入後、所定箇所を分離することにより、複数の電気光学装置を効率的に製造することができる。
【００１７】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、準備工程において、複数の電気光学パネルに対応した間隙と、第１の開口部と、第２の開口部と、連結部とが一体化された電気光学装置用基板を準備するとともに、分離工程において、連結部を切断して分離することが好ましい。
すなわち、このように電気光学材料の注入を実施した後、連結部を切断分離することにより、特殊治具を使用することなく、複数の電気光学パネルに対して効果的に電気光学材料を注入することができるとともに、複数の電気光学装置を効率的に製造することができる。
【００１８】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、準備工程において、電気光学装置用基板とは別部材から構成してある連結部を備えた電気光学装置用基板を準備するとともに、分離工程において、連結部を脱離して分離することが好ましい。
すなわち、このように電気光学材料の注入を実施した後、連結部を分離することにより、切断治具を使用することなく、複数の電気光学パネルに対して効果的に電気光学材料を注入することができるとともに、複数の電気光学装置を効率的に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
[第１の実施形態] 
第１の実施形態は、一対の電気光学装置用基板間の間隙に電気光学材料を注入して形成される電気光学パネルを備えた電気光学装置であって、図１に示すように、一対の電気光学装置用基板１２，１４が、その周辺部に形成されたシール材２３０で貼り合わせられており、当該シール材２３０の対向する二辺の同一該当箇所に、第１の開口部（Ａ１）及び第２の開口部（Ａ２）が、それぞれ対向するように配置してあることを特徴とする電気光学装置である。
以下、図１〜図７を適宜参照しながら、本発明の第１実施形態の電気光学装置について、第１の基板（カラーフィルタ基板と称する場合がある。）、及び第２の基板（素子基板と称する場合がある。）を用いた液晶表示装置１０を例に採って説明する。
【００２０】
１．液晶表示装置の基本構造
まず、図２〜図３を参照して、本発明の第１実施形態に係る電気光学装置としての液晶表示装置の基本構造、すなわち、セル構造や配線、あるいは位相差板及び偏光板について具体的に説明する。なお、図２は、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル２００を示す概略斜視図であり、図３は、液晶パネル２００の模式的な概略断面図である。
また、図２に示される液晶パネル２００は、パッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることにより、液晶表示装置となる。
なお、本実施形態においてはＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネルを例にとって説明するが、ＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）等の非線形素子を用いたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネルやパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネルであっても良い。
【００２１】
（１）セル構造
図２に示すように、液晶パネル２００は、ガラス板や合成樹脂板等を基体１３とする第１の基板（カラーフィルタ基板）１２と、これに対向配置され、同様にガラス板や合成樹脂板等を基体２７とする第２の基板（素子基板）１４とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられている。そして、カラーフィルタ基板１２と、素子基板１４とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、注入口２３０ａを介して液晶材料を注入した後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えている。
すなわち、図３に示すように、カラーフィルタ基板１２と素子基板１４との間に液晶材料２３２が充填されるとともに、密封されていることが好ましい。
なお、以下の説明においては、第１の基板の基体として第１のガラス基板を使用し、また、第２の基板の基体として第２のガラス基板を使用した例について説明する。
【００２２】
（２）配線
また、図２に示すように、第２のガラス基板２７の内面（第１のガラス基板１３に対向する表面）上に、マトリクス状に複数の画素電極（第２の電極パターン）２０を形成し、第１のガラス基板１３の内面（第２のガラス基板２７に対向する表面）上には、複数のストライプ状の走査電極（第１の電極パターン）１９を形成することが好ましい。また、画素電極２０は、ＴＦＤ素子を介して、データ線２９に対して接続することが好ましい。さらに、もう一方の走査電極１９を、第２のガラス基板２７上の電気配線２８に対して、導電性粒子を含むシール材２３０を介して電気接続することが好ましい。
また、画素電極と走査電極とが重なる領域がマトリクス状に配列されて多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域Ａを構成することになる。
なお、以下の説明においては、第２の電極パターンには、画素電極及びデータ線を含むものとする。
【００２３】
また、図２に示すように、第２のガラス基板２７は、第１のガラス基板１３の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部１４Ｔを有し、この基板張出部１４Ｔ上には、データ線２９、電気配線２８及び、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部（外部接続用端子）２１９が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部１４Ｔ上には、これらデータ線２９、電気配線２８、及び入力端子部（外部接続用端子）２１９に対して導電接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体素子（ＩＣ）２６１が実装されていることが好ましい。
さらに、基板張出部１４Ｔの端部には、入力端子部（外部接続用端子）２１９に導電接続されるように、フレキシブル配線基板１１０が実装されていることが好ましい。
【００２４】
（３）位相差板及び偏光板
図２に示される液晶パネル２００において、図３に示すように、第１のガラス基板１３の所定位置に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板（１／４波長板）２５０及び偏光板２５１が配置されていることが好ましい。
そして、第２のガラス基板２７の外面においても、位相差板（１／４波長板）２４０及び偏光板２４１が配置されていることが好ましい。
【００２５】
２．第１の基板（カラーフィルタ基板）
（１）基本的構成
カラーフィルタ基板１２は、図３に示すように、基本的に、第１のガラス基板１３と、着色層１６と、遮光層１８と、走査電極（第１の電極パターン）１９と、から構成してあることが好ましい。
また、カラーフィルタ基板１２において、反射機能が必要な場合、例えば、携帯電話等に使用される半透過反射型の液晶表示装置においては、ガラス基板１３と、着色層１６との間に、図３に示すように、反射層２１２ａ及び開口部２１２ｒを備えた半透過反射板２１２を設けることが好ましい。
さらに、カラーフィルタ基板１２において、図３に示すように、画素毎に着色層１６が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる平坦化層（表面保護層あるいはオーバーコート層）２１５により、被覆してあることが好ましい。このようにして、着色層１６と平坦化層（表面保護層）２１５とによってカラーフィルタが形成されることになる。さらに、電気絶縁性を向上させるための絶縁層（図示せず。）を設けることも好ましい。
【００２６】
（２）着色層
また、図３に示す着色層１６は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
かかる着色層は、通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術（エッチング法）によって不要部分を欠落させることによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成することができる。そして、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
また、着色層の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００２７】
（３）遮光層
また、図３に示すように、画素毎に形成された着色層１６の間の画素間領域に、画像表示の際のコントラストを向上させるために、遮光層（ブラックマトリクス、あるいはブラックマスクと称する場合もある。）１８を形成することが好ましい。
このようなブラックマトリクス１８としては、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。また、カーボン等の黒色材料を使用しなくとも優れた遮蔽効果を得ることができることから、加色法を利用して、Ｒ（赤）層、Ｇ（緑）層、Ｂ（青）層の三層構造とすることも好ましい。
【００２８】
（４）反射層
また、図３に示すように、第１のガラス基板１３の表面には、外光を利用して画像表示すべく、反射層２１２ａが形成されている。この反射層２１２ａは、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、から構成されている。
また、反射層２１２ａには、画素毎に、反射面を有する反射部と、開口部２１２ｒとが設けられており、反射部においては外光を利用して画像表示を行い、開口部２１２ｒにおいては透過光を利用して画像表示を行うことができる。
【００２９】
（５）第１の電極パターン（走査電極）
また、図３に示すように、平坦化層２１５の上に、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる走査電極（第１の電極パターン）１９が形成されている。かかる走査電極（第１の電極パターン）１９は、通常、複数の透明電極を並列させたストライプ状に構成されていることが好ましい。
【００３０】
（６）配向膜（第１の配向膜）
また、図３に示すように、第１の電極パターン（走査電極）１９の上には、ポリイミド樹脂等からなる第１の配向膜２１７が形成されている。
このように配向膜２１７を設けることにより、カラーフィルタ基板１２を液晶表示装置等に使用した場合に、電気光学物質（液晶材料）の配向制御を容易に実施することができる。
【００３１】
３．第２の基板（素子基板）
（１）基本構造
図２及び図３に示すように、カラーフィルタ基板１２と対向するもう一方の素子基板（第２の基板）１４は、基本的に、第２のガラス基板２７と、データ線２９と、当該データ線２９と電気接続されるＴＦＤ（Thin Film Diode）等の非線形素子と、当該非線形素子と電気接続される画素電極２０と、電気配線２８と、から構成してある。
また、画素電極２０上には、第１の基板１２における第１の配向膜と同様のポリイミド樹脂等からなる第２の配向膜２２４が形成されている。
さらに、素子基板においても、カラーフィルタ基板と同様に、第２の電極パターンが形成されていない領域に対して、セルギャップを均一に調整するためのダミー電極が形成されている。
なお、第１実施形態の液晶表示装置の例では、着色層が第１のガラス基板１３上に設けてあるが、着色層を、かかる素子基板１４の第２のガラス基板２７上に設けることもできる。さらにまた、素子基板上に、非線形素子として、二端子型のＴＦＤの代わりに、三端子型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いることもできる。
【００３２】
（２）第２の電極パターン
また、素子基板には、図２に示すように、第２の電極パターンの一つであるデータ線２９が設けてある。かかるデータ線２９は、図２に示すように、複数の金属配線が、並列したストライプ状に構成されている。
また、データ線は、図２に示すように、シール材２３０の外側であって、第２のガラス基板２７における基板張出し部１４Ｔまで延設され、一端側が外部接続用端子２１９となっている。なお、隣接するデータ線等の間の距離や、データ線の高さについては、上述の第１の電極パターンと同様とすることが可能である。したがって、ここでの説明は省略する。
また、素子基板には、図２に示すように、第２の電極パターンの一つである電気配線２８が設けてある。通常、かかる電気配線２８も、複数の金属配線が並列したストライプ状に構成されている。
【００３３】
４．シール部の開口部、電気光学材料の種類、及び電気光学装置用基板間の間隙
（１）第１の開口部及び第２の開口部
図１に示すように、シール部の対向する二辺の同一該当箇所に、第１の開口部（Ａ１）及び第２の開口部（Ａ２）が、それぞれ対向するように配置してあり、第１の開口部（Ａ１）が、電気光学材料２３２の注入口であり、第２の開口部（Ａ２）が、電気光学材料２３２の注入量を調節するための開口部であることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、無電界状態で配向性が高い電気光学材料を注入する場合であっても、間隙（セルギャップ）が狭い場合であっても、さらには真空注入方式及び常圧注入方式の両方の注入方式においても、それぞれ電気光学材料の未注入部を少なくすることができるためである。
【００３４】
また、図１に示すように、第１の開口部（Ａ１）の間口が、第２の開口部（Ａ２）の間口と同等かそれ以上であることが好ましい。
例えば、第１の開口部（Ａ１）の間口の基準長さを１００としたときに、第２の開口部（Ａ２）の間口の長さを１０〜１００の範囲内の値とすることが好ましく、３０〜８０の範囲内の値とすることがより好ましい。
この理由は、このように構成することにより、セル内の圧力調整が容易になって、無電界状態で配向性が高い電気光学材料を注入する場合であっても、セルギャップが狭い場合であっても、さらには真空注入方式及び常圧注入方式の両方の注入方式においても、それぞれ電気光学材料の未注入部を少なくすることができるためである。
【００３５】
また、図１に示すように、第１の開口部（Ａ１）と、第２の開口部（Ａ２）とが、シール部の対向する二辺の中心位置において、それぞれ対向配置してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、注入方式によらず、セル内の圧力調整が容易になって、電気光学材料の未注入部を少なくすることができるためである。
また、このように構成することにより、後述する図１４（ａ）〜（ｄ）や図１５（ａ）〜（ｄ）に示すように、複数の電気光学装置における第１の開口部と、第２の開口部とを直列的に連結することが容易になるためである。したがって、複数の電気光学装置に対して、一回の処理によって、電気光学材料を注入した後、第１の開口部と、第２の開口部との連結部を切断して、個々の電気光学パネルに分割することにより、多数の電気光学パネルを迅速に形成することができる。
【００３６】
（２）電気光学材料の種類
また、電気光学材料の種類に関して、図４（ａ）〜（ｃ）に示すように、垂直配向用液晶材料であることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、垂直配向用液晶材料の特性をいかして、視野角が広い電気光学装置を提供することができるためである。
ここで、垂直配向用液晶材料は、負の誘電異方性を有する液晶材料と定義される。したがって、図４（ａ）に示すように、電圧非印加状態では、垂直配向用液晶材料は垂直方向に配向して、透過光を所定の偏向をさせ、図示しない偏向膜との関係で、かかる透過光を全て遮断してブラック表示となる。なお、電気光学装置の上方に示された矢印Ａ、Ｂ、Ｃが透過光の進行方向を示し、さらにその上の四角表示が、画像表示における透過光の見え方であって、網線でブラック表示となることを示している。そして、図４（ａ）に示す電気光学装置の場合、矢印Ａ、Ｂ、Ｃで表されている透過光は、電気光学装置の外部まで到達しているように記載されているが、実際は電気光学パネルの両面に図示しない一対の偏向膜が設けてあり、その偏向膜を透過することができない構成となっている。
また、図４（ｂ）は、電気光学装置の電極間に中間的な電圧を印加した場合の、垂直配向用液晶材料の配向状態を示している。すなわち、このような中間的な電圧に対応して、垂直配向用液晶材料は斜め方向に配向し、矢印Ａ、Ｂ、Ｃで表される透過光のうち、矢印Ａ及びＣで表される透過光は、半分程度遮断され、部分的な網線で示されるブラック表示となる一方、矢印Ｂで表される透過光は、完全透過とは言えないものの、電気光学パネル及び図示しない偏向膜をほぼ透過して、ホワイト表示に近くなる。
さらに、図４（ｃ）は、電気光学装置の電極間に、配向に相当する電圧を印加した場合の、垂直配向用液晶材料の配向状態を示している。すなわち、このような電圧に対応して、垂直配向用液晶材料は水平方向に配向し、矢印Ａ、Ｂ、Ｃで表される透過光を全て所定方向に偏向して、図示しない一対の偏向膜との関係で、その偏向膜を全て透過して、ホワイト表示となる。
よって、このような負の誘電異方性を有する垂直配向用液晶材料は、電圧非印加状態においても、所定の配向をするため、その液晶分子における立体障害に起因した流動特性の関係で、セル内への注入が困難となって、未注入部が生じやすいという問題がある。しかしながら、本発明によれば、そのような垂直配向用液晶材料であっても、容易に注入することができることから、それを使って、視野角が広い電気光学装置を容易に得ることができる。
【００３７】
また、図５に、垂直配向用液晶材料の種類（Ａ及びＢ）を変えた場合の、それぞれの密度と、温度との関係を示す。すなわち、図５は、横軸に絶対温度（Ｋ）の逆数（１／Ｔ）を採って示してあり、縦軸に垂直配向用液晶材料の密度（ｇ／ｃｍ3）を採って示してある。
かかる図５から容易に理解できるように、垂直配向用液晶材料の種類（Ａ及びＢ）によって、近似曲線の係数等は変わってくるものの、垂直配向用液晶材料の密度と、絶対温度（Ｋ）の逆数（１／Ｔ）とはほぼ比例関係にあると言える。
したがって、垂直配向用液晶材料の注入温度を考慮する際に、垂直配向用液晶材料の密度を参考にすることができる。
【００３８】
また、図６に、垂直配向用液晶材料の種類（Ａ及びＢ）を変えた場合の、それぞれの動粘性係数と、温度との関係を示す。すなわち、図６は、横軸に絶対温度（Ｋ）の逆数（１／Ｔ）を採って示してあり、縦軸に垂直配向用液晶材料の動粘性係数（ｍｍ2／ｓ）を採って示してある。
かかる図６から容易に理解できるように、垂直配向用液晶材料の種類（Ａ及びＢ）によって、実線で表される実測値及び点線で表される近似曲線の係数等は変わってくるものの、垂直配向用液晶材料の動粘性係数と、絶対温度（Ｋ）の逆数（１／Ｔ）とは、それぞれ所定の相関関係があると言える。
したがって、垂直配向用液晶材料の注入温度を考慮する際に、垂直配向用液晶材料の動粘性係数についても参考にすることができる。
【００３９】
（３）電気光学装置用基板間の間隙
また、一対の電気光学装置用基板間の間隙（セルギャップ）は、電気光学装置の用途や電気光学材料の種類に応じて変えることができるが、薄型であって、かつ、比較的電気光学材料の注入が容易な電気光学装置を提供するには、通常、０．５〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましく、１〜８μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。
例えば、図７に示すように、総厚で２．０μｍのオーバーレイヤー層（ＯＶＬ層）等を含む層２１７´を備えた電気光学装置用基板１２と、総厚で５．５μｍの着色層等を含む層１６´を備えた電気光学装置用基板１４とを準備し、これらの電気光学装置用基板間を高さ９μｍのシール材２３０で保持し、記号Ｌ１で表される間隙を１．５μｍとする構成が考えられる。つまり、ここでいう間隙とは、電気光学装置の画像表示領域であって、一方の電気光学装置用基板に形成された層の最下部と、もう一方の電気光学装置用基板に形成された層の最表面と、の間の距離（Ｌ１）を意味する。
なお、従来の注入方法であっては、このように薄型であって、電気光学装置用基板間の間隙（セルギャップ）が狭い電気光学装置において、電気光学材料を迅速に注入することは困難であって、かつ、未注入部が生じやすかったが、本発明によれば、そのような問題を効果的に解決することができる。
また、図７に示す電気光学装置において、非表示領域におけるシール材２３０の高さ（Ｌ２）と、一対の電気光学装置用基板間の間隙（Ｌ１）との差（Ｌ２−Ｌ１）を８μｍ以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる間隙の差（Ｌ２−Ｌ１）が８μｍよりも大きくなると、電気光学材料の注入性に影響して、電気光学材料の注入に過度に時間を要したり、未注入部が多く発生したりする場合があるためである。
ただし、過度に狭くなると、やはり電気光学材料の注入性に影響して、電気光学材料の注入に過度に時間を要したり、未注入部が多く発生したりする場合があるためである。
したがって、かかる間隙の差（Ｌ２−Ｌ１）を０．１〜７μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。
【００４０】
[第２の実施形態] 
第２の実施形態は、一対の電気光学装置用基板と、その間隙に電気光学材料を注入して形成される電気光学パネルを備えた電気光学装置の製造方法であって、
一対の電気光学装置用基板を、その周辺部に形成されたシール部を介して貼り合わせるとともに、当該シール部の対向する二辺に、第１の開口部及び第２の開口部を、それぞれ対向配置する工程と、
第１の開口部から、電気光学材料を注入する工程と、
第２の開口部を利用して、電気光学材料の注入量を調節する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
なお、第１の実施形態と同様に、一対の電気光学装置用基板を第１の基板（カラーフィルタ基板と称する場合がある。）及び第２の基板（素子基板と称する場合がある。）とするとともに、それを利用してなる電気光学装置としての液晶表示装置を例に採って、図８〜図１３を適宜参照しながら、その製造方法を説明する。
【００４１】
１．第１の基板及び第２の基板の製造工程
（１）第１の基板の製造
図８に示すフロー図中、記号Ｓ１で表される第１の基板における光反射膜の形成は、それぞれ第１実施形態と同様の内容とすることができるので、ここでの説明は省略する。
次いで、図８に示すフロー図中、記号Ｓ２で表されるように、光反射膜からなる反射層２１２ａに対応させて、着色層１６や遮光部材１８、あるいは第１の透明電極（走査電極）１９等をさらに形成することにより、第１の基板１２を製造することができる。
【００４２】
（２）第２の基板の製造
図８に示すフロー図における第２の基板の製造は、第１の基板としてのカラーフィルタ基板１２と対向する第２の基板としての素子基板１４を製造する工程であり、かかるフロー図中記号Ｓ１´及びＳ２´で表されるように、従来公知の方法により製造することができる。
例えば、第１の実施形態で説明した図３に示す構成の素子基板１４の場合、図１１に一例として示されるようなＴＦＤ素子３１（３１ａ、３１ｂ）を形成する。かかるＴＦＤ素子３１（３１ａ、３１ｂ）は、素子第１電極（第１金属膜）２４、絶縁膜２３、及び素子第２電極（第２金属膜）２２、２５からなるサンドイッチ構成を備えている。したがって、正負方向のダイオードスイッチング特性を示し、しきい値以上の電圧が、第１金属膜２４及び第２金属膜２５の両端子間に印加されると導通状態となり、液晶パネル２００を含む半透過反射型液晶表示装置を効率的に駆動することができる。
なお、二端子型の非線形素子であるＴＦＤ素子のかわりに、ＴＦＴ素子等の三端子型の非線形素子を形成することもできる。
【００４３】
次いで、ガラス板等からなる第２の基体２７上に、画素電極２０や配向膜２２４を順次に積層することにより、第２の基板としての素子基板１４を製造することができる。そして、第２の基体２７は、カラーフィルタ基板１２における第１の基体１３の外形よりも外側に張り出した基板張出部１４Ｔを有しており、この基板張出部１４Ｔ上には、データ線２９や、その延長線としての複数の配線パターンからなる入力端子部２１９が形成されている。したがって、基板張出部１４Ｔ上には、入力端子部２１９等に対して電気接続されるように、駆動回路等を内蔵した半導体素子２６１や、フレキシブル配線基板１１０が実装されている。
【００４４】
２．組立工程
（１）貼り合わせ工程
また、図８のフロー図に示す組立工程は、ガラス板や透明合成樹脂板等を基体（第１の基体）１３とするカラーフィルタ基板１２と、これに対向して、実質的に同様の構成を基体（第２の基体）２７とする素子基板１４とを、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせる工程である。
より具体的には、図８に示すフロー図に示されるように、カラーフィルタ基板１２及び素子基板１４のいずれか一方、あるいは両方に、シール材２３０を塗布する（Ｓ３）。なお、シール材２３０の塗布と同時期に、位置ずれ防止部材としての紫外線硬化性接着剤を塗布することも好ましい。
次いで、カラーフィルタ基板１２及び素子基板１４の位置合わせを行い、仮圧着して、シール材２３０により仮固定する（Ｓ４）。次いで、紫外線硬化性接着剤からなる位置ずれ防止部材が形成してある場合には、紫外線を照射して、その位置ずれ防止部材を硬化させた後、本圧着して、シール材２３０により両基板を固定する（Ｓ５）。
【００４５】
（２）注入工程
次いで、図８中の注入工程を設けて、カラーフィルタ基板１２と、素子基板１４とが貼り合わせられて形成される間隙であって、シール材２３０の内側部分に、開口部２３０ａを介して、電気光学材料としての液晶材料２３２を注入する（Ｓ６）。その後、かかる開口部２３０ａを封止材２３１にて封止し（Ｓ７）、電気光学装置としての液晶パネル２００を備えた液晶表示装置が基本的に組み立てられることになる。
ここで、かかる注入工程において、一対の電気光学装置用基板、すなわち、カラーフィルタ基板１２及び素子基板１４を、その周辺部に形成されたシール部を介して貼り合わせるとともに、当該シール部の対向する二辺に、第１の開口部及び第２の開口部を、それぞれ対向配置する工程と、第１の開口部から、電気光学材料としての液晶材料を注入する工程と、第２の開口部を利用して、電気光学材料としての液晶材料の注入量を調節する工程と、を含むことが好ましい。
すなわち、このように実施することにより、無電界状態で配向性が高い液晶材料を注入する場合であっても、セルギャップが狭い場合であっても、真空注入方式及び常圧注入方式の両方の注入方式において、それぞれ電気光学材料としての液晶材料の未注入部を少なくすることができる。
【００４６】
また、かかる注入工程において、第２の開口部から吸引又は加圧することにより、電気光学材料として液晶材料の注入量を調節することが好ましい。例えば、図９（ａ）に示すように、第２の開口部（Ａ２）に真空装置を取り付けて吸引したり、図９（ｂ）に示すように、第２の開口部（Ａ２）に加圧装置を取り付けて加圧したりすることにより、電気光学材料としての液晶材料２３２の注入量、ひいては注入速度を調節することが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、注入方式や電気光学装置の大きさによらず、セル内の圧力調整が容易になって、電気光学材料としての液晶材料の未注入部を少なくすることができるためである。
【００４７】
また、かかる注入工程において、電気光学材料としての液晶材料の注入後に、４０〜８０℃の加熱処理を実施する工程を含むことが好ましい。例えば、図１０に示すように、第１の開口部（Ａ１）及び第２の開口部（Ａ２）の近傍に加熱装置１６０ａ、１６０ｂを設置して、局部的に加熱することが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、注入方式によらず、セル内の圧力調整や電気光学材料としての液晶材料の配向性制御が容易になって、液晶材料の未注入部を少なくすることができるためである。また、このような温度であれば、電気光学材料としての液晶材料の熱劣化を有効に防止することができるためである。
したがって、電気光学材料としての液晶材料の注入後に、５０〜７０℃の加熱処理を実施する工程を含むことがより好ましい。
なお、４０〜８０℃の加熱処理を実施することにより、垂直配向用液晶材料の種類がＡにあっては、密度が１．０２〜１．０５（ｇ／ｃｍ3）の範囲となり、動粘性係数が４〜１８（ｍｍ2／ｓ）の範囲となる。また、同様に、垂直配向用液晶材料の種類がＡにあっては、密度が０．９９〜１．０２（ｇ／ｃｍ3）の範囲となり、動粘性係数が４〜１７（ｍｍ2／ｓ）の範囲となる。
したがって、それぞれ垂直配向用液晶材料を注入する場合であっても、それを所定温度に加熱することにより、熱劣化することなく、所定の注入性を得ることができる。
【００４８】
また、電気光学装置用基板間の間隙に電圧を印加しながら電気光学材料としての液晶材料を注入することが好ましい。例えば、図１２に示すように、第１の基板１２と、第２の基板１４の間に電圧を印加することが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、無電界状態で配向性が高くなる垂直配向用液晶材料を注入しようとした場合であっても、電界状態で垂直配向用液晶材料が非配向となり、垂直配向用液晶材料の流動性が向上して、未注入部を少なくすることができるためである。
【００４９】
（３）貼り付け工程
次いで、図８中のフロー図に示す後工程（Ｓ８）に含めることができるが、カラーフィルタ基板１２における第１の基体１３の外側に、位相差板（１／４波長板）２４０及び偏光板２４１を配置し、同様に、素子基板１４における第２の基体２７の外側に、位相差板（１／４波長板）２５０及び偏光板２５１を配置して、液晶パネルを含む液晶表示装置における画像表示動作が可能となる。
なお、かかる液晶表示装置には、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けて、構成することができる。
【００５０】
３．応用例
次いで、本発明の電気光学装置の製造方法により得られる電気光学装置を利用した電子機器の応用例を具体的に説明する。
すなわち、図１３は、本発明の電子光学装置を備えた電子機器３００の概略構成図である。この電子機器３００の例では、液晶表示装置等の電子光学装置３１０と、これを制御するための制御手段３２０とを有している。そして、電子光学装置３１０を、パネル構造体３１０Ａと、半導体素子（半導体素子）等で構成される駆動回路３１０Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段３３０は、表示情報出力源３３１と、表示情報処理回路３３２と、電源回路３３３と、タイミングジェネレータ３３４とから構成してある。
さらに、表示情報出力源３３１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ３３４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路３３２に供給するように構成されている。
【００５１】
また、表示情報処理回路３３２は、シリアルーパラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３１０Ｂへ供給するように構成してある。さらに、駆動回路３１０Ｂは、第１の電極駆動回路、第２の電極駆動回路及び検査回路を含み、電源回路３３３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
よって、本実施形態の電子光学装置を備えた電子機器は、電気光学材料の未注入部を少なくして、画像表示特性に優れた電気光学装置の特性を十分に応用することができる。
【００５２】
[第３の実施形態] 
第３の実施形態は、第２の実施形態の変形例であって、一対の電気光学装置用基板間の間隙に電気光学材料を注入して形成される電気光学パネルを備え、当該一対の電気光学装置用基板が、その周辺部に形成されたシール部で貼り合わせて空隙を形成するとともに、シール部の対向する二辺に第１の開口部及び第２の開口部を設けて、それら開口部が対向するように配置してある電気光学装置の製造方法であって、
複数の電気光学パネルにおけるそれぞれの第１の開口部及び第２の開口部を、連結部を介して直列的に配置するための準備工程と、
端部に位置する電気光学パネルにおける第１の開口部より、電気光学材料を注入するための注入工程と、
もう一方の端部に位置する電気光学パネルの第２の開口部を封止するための封止工程と、
連結部を分離して、複数の独立した電気光学パネルとする分離工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
すなわち、このように電気光学装置の製造方法を実施することにより、複数の電気光学装置に対して、一回の処理によって、電気光学材料を注入することができ、それを所定箇所にて分離して、さらに封止することにより、複数の電気光学装置を効率的に製造することができる。
以下、図１４（ａ）〜（ｄ）及び図１５（ａ）〜（ｄ）に示す電気光学材料の注入状態を参照して、第３の実施形態の電気光学装置の製造方法の特徴的部分を具体的に説明する。
【００５３】
１．準備工程
まず、図１４（ａ）は、準備工程において、複数の電気光学パネル２００ａ´〜２００ｃ´に対応して設けられた複数の間隙２３２ａ´〜２３２ｃ´を有する一対の電気光学装置用基板であって、これら基板における間隙に対して電気光学材料を注入するための第１の開口部（Ａ１ａ〜Ａ１ｃ）と、電気光学材料の注入量を調節するための第２の開口部（Ａ２ａ〜Ａ２ｃ）と、複数の電気光学パネル２００ａ´〜２００ｃ´を繋ぐ連結部２４２ａ、２４２ｂと、が一体化された電気光学装置用基板（第１の空セルモジュールと称する場合がある。）を準備する例を示している。
すなわち、このように第１の空セルモジュールを準備すると、複数の電気光学パネル２００ａ´〜２００ｃ´に対応して設けられた複数の間隙２３２ａ´〜２３２ｃ´に、電気光学材料を注入した後、後述する分離工程において、連結部２４２ａ、２４２ｂを切断するだけで、複数の電気光学パネルを効率的かつ迅速に製造することができる。
また、図１５（ａ）は、準備工程において、複数の電気光学パネル２００ａ´〜２００ｃ´に対応して設けられた複数の間隙２３２ａ´〜２３２ｃ´を有する一対の電気光学装置用基板であって、これら基板における間隙に対して電気光学材料を注入するための第１の開口部（Ａ１ａ〜Ａ１ｃ）と、電気光学材料の注入量を調節するための第２の開口部（Ａ２ａ〜Ａ２ｃ）と、電気光学装置用基板１２ａおよび１４ａとは別部材から構成してある連結部２４３ａ、２４３ｂを備えた電気光学装置用基板（第２の空セルモジュールと称する場合がある。）を準備する例を示している。
すなわち、このように第２の空セルモジュールを準備すると、後述する分離工程において、連結部２４３ａ、２４３ｂを脱離するだけで、切断治具を使用することなく、複数の電気光学パネルを効率的かつ経済的に製造することができる。
なお、第３の実施形態で使用する電気光学装置用基板の他の構成については、基本的に、第１の実施形態及び第２の実施形態で説明した内容と同様とすることができる。
【００５４】
２．注入工程
注入工程は、図１４（ａ）〜（ｄ）及び図１５（ａ）〜（ｄ）に示すように、端部に位置する電気光学パネル２００ａ´における第１の開口部Ａ１ａより、複数の電気光学パネル２００ａ´〜２００ｃ´に対応して設けられた複数の間隙２３２ａ´〜２３２ｃ´に対して電気光学材料を注入する工程である。すなわち、第１及び第２の空セルモジュールに、それぞれ電気光学材料を注入する工程である。
また、かかる注入工程において、複数の間隙２３２ａ´〜２３２ｃ´に対して、迅速に電気光学材料を注入できるように、第１の空セルモジュールにおいては、図１４（ａ）〜（ｄ）に示す連結部２４２ａ、２４２ｂの長さや太さを調整したり、あるいは、第２の空セルモジュールにおいては、図１５（ａ）〜（ｄ）に示すように、連結部２４３ａ、２４３ｂにおける電気光学材料の通過路にテーパを設けたりすることが好ましい
なお、第３の実施形態における他の注入工程の内容については、基本的に、第２の実施形態で説明した内容と同様とすることができる。
【００５５】
３．封止工程
封止工程は、図１４（ｄ）及び図１５（ｄ）に示すように、直列的に連結した複数の電気光学パネル２００ａ´〜２００ｃ´からなる第１及び第２の空セルモジュールにおいて、それぞれ電気光学材料を注入する側の電気光学パネル２００ａ´と反対側端部に位置する電気光学パネル２００ｃ´の第２の開口部Ａ２ｃを、封止材２３０ａ、２３０ａ´により封止するための工程である。すなわち、封止工程は、第１及び第２の空セルモジュールに一旦注入した電気光学材料が外部に漏れて、未注入部を構成しないようにする工程である。
なお、第３の実施形態における封止工程の内容について、基本的に、第２の実施形態で説明した内容と同様とすることができる。
【００５６】
４．分離工程
分離工程は、第３の実施形態に特有の工程であって、連結部を分離して、複数の独立した電気光学パネルとする工程である。
すなわち、第１の空セルモジュールを準備した場合には、図示しないものの、分離工程において、連結部２４２ａ、２４２ｂを切断して分離するだけで、複数の電気光学パネル２００ａ´〜２００ｃ´を効率的かつ迅速に製造することができる。なお、正確な位置で切断できるように、図１４（ｂ）及び（ｃ）に示すように、切断線２４１ａ、２４１ｂを形成しておくことも好ましい。
また、第２の空セルモジュールを準備した場合には、図示しないものの、分離工程において、連結部２４３ａ、２４３ｂを脱離して分離することにより、切断治具を使用することなく、複数の電気光学パネル２００ａ´〜２００ｃ´を効率的かつ経済的に製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明の電気光学装置によれば、シール部の対向する二辺の同一該当箇所に、第１の開口部及び第２の開口部が、それぞれ対向する位置に配置してあることにより、無電界状態で配向性が高い電気光学材料を注入する場合であっても、セルギャップが狭い場合であっても、さらには、注入方式によらず、それぞれ電気光学材料が第１の開口部から注入された場合に、未注入部が生じることが少なくなる。
また、本発明の電気光学装置の製造方法によれば、複数の電気光学装置に対して一連の操作で電気光学材料を注入することができ、複数の電気光学装置を迅速かつ経済的に製造することができる。
したがって、本発明に係る電気光学装置は、高品位であって、高い経済性を発揮することができる。すなわち、本発明に係る電気光学装置やそれを用いた電子機器として、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器や、電子放出素子を使用した装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）、プラズマディスプレイ装置、有機エレクトロルミネッセンス装置及び無機エレクトロルミネッセンス装置が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】（ａ）〜（ｄ）は、本発明における電気光学材料の注入状態を説明するために供する図である。
【図２】第１実施形態に係る液晶表示装置を構成する液晶パネルを示す概略斜視図である。
【図３】第１実施形態に係る液晶表示装置を構成する液晶パネルの模式的な概略断面図である。
【図４】垂直配向用液晶材料の動作を説明するために供する図である。
【図５】垂直配向用液晶材料の密度と、温度との関係を説明するために供する図である。
【図６】垂直配向用液晶材料の動粘性係数と、温度との関係を説明するために供する図である。
【図７】本発明における電気光学装置の間隙を説明するために供する図である。
【図８】本発明における電気光学装置の製造方法を説明するために供するフロー図である。
【図９】（ａ）〜（ｂ）は、本発明における電気光学材料の注入方法の変形例を説明するために供する図である。
【図１０】本発明における電気光学材料の注入方法の別の変形例を説明するために供する図である。
【図１１】ＴＦＤ素子を説明するために供するフロー図である。
【図１２】本発明における電気光学材料の注入方法のさらに別の変形例を説明するために供する図である。
【図１３】電気光学装置を利用した電子機器を説明するために供するブロック図である。
【図１４】第３実施形態に係る電気光学装置の製造方法を説明するために供する図である（その１）。
【図１５】第３実施形態に係る電気光学装置の製造方法を説明するために供する図である（その２）。
【図１６】従来の常圧注入方式に対応した液晶表示セルを示す図である。
【図１７】（ａ）〜（ｄ）は、従来の常圧注入方式による電気光学材料の注入状態を説明するために供する図である。
【符号の説明】
【００５９】
１２：第１の基板（カラーフィルタ基板）、１３：第１の基体、１４：第２の基板（素子基板）、１６：着色層、１８：遮光部材、１９：第１の透明電極（走査電極）、２０：画素電極、２２・２５：素子第２電極（第２金属膜）、２３：絶縁膜、２４：素子第１電極（第１金属膜）、２７：第２の基体、２８：電気配線、２９：データ線、３１：ＴＦＤ素子、３１ａ：第１のＴＦＤ素子、３１ｂ：第２のＴＦＤ素子、１１０：フレキシブル配線基板、２００：液晶パネル（電気光学パネル）、２１２：半透過反射板、２１２ａ：反射層、２１２ｒ：開口部、２１５：平坦化層、２１７：配向膜、２３０：シール材、２３１：封止材、２３２：液晶材料、２３２´：間隙（セルギャップ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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