(57)【要約】【課題】  収差補正素子等の光学素子における反射防止膜に適切な改良を加えることにより、複数種の光ディスクに対して的確な互換性を有し且つ信頼性に優れた光ピックアップ装置を提供する。【解決手段】  波長が、４０５ｎｍ、６５８ｎｍ及び７８０ｎｍでの光ビームの反射率が３％以下である反射防止膜、または、波長領域が、４００〜４１０ｎｍ、６４０〜６８０ｎｍ及び７６０〜８００ｎｍでの光ビームの反射率が３％以下である反射防止膜を、収差補正素子６の表裏両面に形成する。【選択図】図２
2006171332.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ピックアップ装置の構成要素である収差補正素子に設けられる反射防止膜であって、波長が、４０５ｎｍ、６５８ｎｍ及び７８０ｎｍでの光ビームの反射率が３％以下であることを特徴とする反射防止膜。
【請求項２】
光ピックアップ装置の構成要素である収差補正素子に設けられる反射防止膜であって、波長領域が、４００〜４１０ｎｍ、６４０〜６８０ｎｍ及び７６０〜８００ｎｍでの光ビームの反射率が３％以下であることを特徴とする反射防止膜。
【請求項３】
光ピックアップ装置の構成要素である収差補正素子に設けられる反射防止膜であって、前記収差補正素子の基体上に少なくとも４つの層が形成され、この４つの層は、前記基体側から順に、屈折率ｎｄが２．０以上で且つ幾何学的厚みが５〜５０ｎｍの第１の層と、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜２００ｎｍの第２の層と、屈折率ｎｄが２．０以上で且つ幾何学的厚みが５０〜２００ｎｍの第３の層と、ＳｉＯ2またはＡｌ2Ｏ3もしくはＳｉＯＮを含み且つ幾何学的厚みが５０〜２００ｎｍの第４の層とを備えていることを特徴とする反射防止膜。
【請求項４】
前記基体上に少なくとも５つの層が形成され、この５つの層は、前記第１〜第４の層に加えて、前記基体と前記第１の層との間に、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜１５０ｎｍの第１の内層を備えていることを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
【請求項５】
前記基体上に少なくとも６つの層が形成され、この６つの層は、前記第１〜第４の層に加えて、前記第３の層と前記第４の層との間に、前記基体側から順に、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜１５０ｎｍの第１の外層と、屈折率ｎｄが２．０以上で且つ幾何学的厚みが１０〜２００ｎｍの第２の外層とを備えていることを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
【請求項６】
前記基体上に少なくとも９つの層が形成され、この９つの層は、前記第１〜第４の層に加えて、前記基体と前記第１の層との間に、前記基体側から順に、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜１５０ｎｍの第１の内層と、屈折率ｎｄが２．０以上で且つ幾何学的厚みが５〜５０ｎｍの第２の内層と、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜１００ｎｍの第３の内層とを備えると共に、前記第３の層と前記第４の層との間に、前記基体側から順に、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜１５０ｎｍの第１の外層と、屈折率ｎｄが２．０以上で且つ幾何学的厚みが１０〜２００ｎｍの第２の外層とを備えていることを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
【請求項７】
前記屈折率ｎｄが２．０以上の層は、ＴｉＯ2またはＮｂ2Ｏ5を含む層であり、前記屈折率ｎｄが１．５以下の層は、ＳｉＯ2、ＭｇＦ及びＣａＦから選ばれた層であることを特徴とする請求項３〜６の何れかに記載の反射防止膜。
【請求項８】
前記第４の層は、最外層であることを特徴とする請求項３〜７の何れかに記載の反射防止膜。
【請求項９】
前記収差補正素子の表裏両面に設けられていることを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の反射防止膜。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れかに記載の反射防止膜が、収差補正素子に代えて、他の光学素子に設けられていることを特徴とする反射防止膜。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れかに記載の反射防止膜が、ガラス板に設けられてなることを特徴とするガラス物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止膜に係り、詳しくは、複数種の光ディスクに対して互換性のある光ピックアップ装置の収差補正素子等の光学素子に設けられる反射防止膜の改良技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、光学的に情報記録または情報再生が行なわれる情報記録媒体としては、ＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）等の光ディスクが、小型且つ大容量で利便性を有する観点から注目されている。そして、近年においては、これらの種類の異なる光ディスクを一台で使用することが可能な互換性を有する光ピックアップ装置（光学式情報記録再生装置）が開発されるに至っている。
【０００３】
この場合、ＤＶＤは、ＣＤの約７倍の情報の高密度化を確保したものであるが、このように光ディスクの高密度化を確保するには、光ピックアップ装置に備えられている対物レンズの開口数（ＮＡ）を大きくすることや、短波長の光ビームを用いることにより、照射径の小さな光ビームを光ディスクに照射することが必要となる。
【０００４】
しかしながら、上記のように対物レンズのＮＡを大きくしたり、短波長の光ビームを用いる手法では、光ディスクによる光ビームへの収差の影響が大きくなり、記録や再生の精度を向上させることが困難となる。そこで、下記の特許文献１や特許文献２によれば、このような収差の影響を低減するため、収差補正素子（特許文献１では光学素子と称されている）を使用することが開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−１００１７４号公報
【特許文献２】特開２０００−２９２７５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上述の特許文献１、２に開示された何れの収差補正素子にも、光ビームの反射による光源への戻り光を低減することや、ロスなく光ビームを透過させることを目的として、反射防止膜が設けられている。この反射防止膜は、特許文献１に開示の収差補正素子では、ＭｇＦやＡｌ2Ｏ3の単層膜が使用され、また特許文献２に開示の収差補正素子では、ＳｉＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＦ、ＣａＦからなる単層膜が使用されている。
【０００７】
この場合において、従来の反射防止膜が設けられた収差補正素子では、例えば、特許文献２の図１４〜図１７に示されているように、ＣＤで使用される波長７８０ｎｍの光ビームやＤＶＤで使用される波長６５８ｎｍの光ビームの透過率は高いものの、ＢＤ（Blue Laser Disc）で使用される波長４０５ｎｍの光ビームの透過率は、７０％にも満たないものとなっている。従って、このような反射防止膜が設けられた収差補正素子では、ＣＤ、ＤＶＤ、及びＢＤの三種の光ディスクに対して互換性を有するものとしては使用できないという問題を有していた。
【０００８】
また、同文献の図１８には、反射防止膜が設けられた収差補正素子として、ＢＤで使用される波長４０５ｎｍの光ビームの透過率が８０％を超えているものが記載されている。しかしながら、この収差補正素子は、ＣＤ及びＤＶＤで使用される波長７８０ｎｍ及び６５８ｎｍの光ビームの透過率が何れも８８％に満たないのみならず、波長４０５ｎｍの光ビームの透過率は８５％に満たないものとなっている。これに対して、同文献における既述の図１４〜図１７に示す収差補正素子では、波長７８０ｎｍ及び６５８ｎｍの光ビームの透過率は何れも９３％を超えている。この事を勘案すれば、同文献の図１８に示す収差補正素子は、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域の全域に亘って透過率が低く、且つその中でも波長４０５ｎｍ近傍の光ビームの透過率は、同文献の図１４〜図１７に示す収差補正素子と同様に、最も低くなっている。以上のような事項から判断すれば、同文献の図１８に示す収差補正素子も、ＣＤ、ＤＶＤ、及びＢＤの三種の光ディスクに対して互換性を有するものとしては適していないということができる。
【０００９】
そして、以上のように収差補正素子が上記三種の光ディスクに対して互換性を有しないものとなるのは、反射防止膜における上記三つの波長での光ビームの透過率が適切でないことに大きく由来している。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、収差補正素子等の光学素子の反射防止膜に適切な改良を加えることにより、複数種の光ディスクに対して的確な互換性を有し且つ信頼性に優れた光ピックアップ装置を提供することを技術的課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記技術的課題を解決するために創案された本発明は、光ピックアップ装置の構成要素である収差補正素子に設けられる反射防止膜において、波長が、４０５ｎｍ、６５８ｎｍ及び７８０ｎｍでの光ビームの反射率が３％以下であることに特徴づけられる。
【００１２】
即ち、本発明は、収差補正素子に設けられる反射防止膜の特性を適切なものとすれば、当該収差補正素子における特定複数の波長での光ビームの透過特性が優れたものになることを、本発明者等が知見したことにより案出されたものである。そして、上記の構成によれば、ＣＤ、ＤＶＤ及びＢＤでそれぞれ使用される波長７８０ｎｍ、６５８ｎｍ及び波長４０５ｎｍでの光ビームの反射率が全て３％以下となる反射防止膜が提供されることから、上記三種の光ディスクに対して的確な互換性を有し且つ信頼性に優れた収差補正素子ひいては光ピックアップ装置を得ることが可能となる。詳述すると、上記三つの波長のうち少なくとも何れか一つの波長での光ビームの反射率が仮に３％を超える反射防止膜を収差補正素子に設けたならば、その少なくとも何れか一つの波長での光ビームの反射に起因する光源への戻り光を適切に低減できなくなり、或いはロスを生じることなくその光ビームを透過させることが困難となるおそれがある。従って、上記の反射率が全て３％以下であれば、このような不具合は生じ難くなる。この事を勘案すれば、上記の反射率は全て１％以下、更には全て０．５％以下であることがより好ましい。
【００１３】
また、上記技術的課題を解決するために創案された本発明に係る反射防止膜は、波長領域が、４００〜４１０ｎｍ、６４０〜６８０ｎｍ及び７６０〜８００ｎｍでの光ビームの反射率が３％以下であることに特徴づけられる。
【００１４】
このような構成によれば、上記と同様の作用効果が得られることに加えて、光源の波長のバラツキや光ディスクからの反射光の波長シフトがあっても、当該収差補正素子としては、不当なロスを生じることなく好適に光ビームを透過させることが可能となる。この事を勘案すれば、上記三つの波長領域での光ビームの反射率は、全て１％以下であることがより好ましい。
【００１５】
更に、上記技術的課題を解決するために創案された本発明に係る反射防止膜は、収差補正素子の基体上に少なくとも４つの層が形成され、この４つの層は、基体側から順に、屈折率ｎｄが２．０以上で且つ幾何学的厚みが５〜５０ｎｍの第１の層と、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜２００ｎｍの第２の層と、屈折率ｎｄが２．０以上で且つ幾何学的厚みが５０〜２００ｎｍの第３の層と、ＳｉＯ2またはＡｌ2Ｏ3もしくはＳｉＯＮを含み且つ幾何学的厚みが５０〜２００ｎｍの第４の層とを備えていることに特徴づけられる。ここで、上記の「幾何学的厚み」とは、λ／４等の光学的厚みと区別されるものであり、波長に依存しない厚みである。また、上記の「ＳｉＯ2またはＡｌ2Ｏ3もしくはＳｉＯＮを含み」とは、それらの物質が主たる成分として含まれていることを意味する。
【００１６】
そして、上記のように４つの層を形成すれば、従来の単層の場合と比較して、反射率特性が好適に変化し、既に述べたように、波長が、４０５ｎｍ、６５８ｎｍ及び７８０ｎｍでの光ビームの反射率が３％以下（好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下）の反射防止膜、または、波長領域が、４００〜４１０ｎｍ、６４０〜６８０ｎｍ及び７６０〜８００ｎｍでの光ビームの反射率が３％以下（好ましくは１％以下）の反射防止膜を得ることができる。従って、これらに対応する構成について既に述べた事項と同様の作用効果を得ることができる。
【００１７】
この場合、光ビームの反射率が、特定複数の波長域で上記の４つの層を有する場合と同等の小さな値を示す反射防止膜を得るという要請に応じるには、以下に示すような構成とすることもできる。
【００１８】
即ち、前記基体上に少なくとも５つの層を形成し、この５つの層は、前記第１〜第４の層に加えて、前記基体と前記第１の層との間に、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜１５０ｎｍの第１の内層を備えるようにする。
【００１９】
また、前記基体上に少なくとも６つの層を形成し、この６つの層は、前記第１〜第４の層に加えて、前記第３の層と前記第４の層との間に、前記基体側から順に、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜１５０ｎｍの第１の外層と、屈折率ｎｄが２．０以上で且つ幾何学的厚みが１０〜２００ｎｍの第２の外層とを備えるようにする。
【００２０】
更に、前記基体上に少なくとも９つの層を形成し、この９つの層は、前記第１〜第４の層に加えて、前記基体と前記第１の層との間に、前記基体側から順に、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜１５０ｎｍの第１の内層と、屈折率ｎｄが２．０以上で且つ幾何学的厚みが５〜５０ｎｍの第２の内層と、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜１００ｎｍの第３の内層とを備えると共に、前記第３の層と前記第４の層との間に、前記基体側から順に、屈折率ｎｄが１．５以下で且つ幾何学的厚みが１０〜１５０ｎｍの第１の外層と、屈折率ｎｄが２．０以上で且つ幾何学的厚みが１０〜２００ｎｍの第２の外層とを備えるようにする。
【００２１】
以上の構成において、前記屈折率ｎｄが２．０以上の層は、ＴｉＯ2またはＮｂ2Ｏ5を含む層であり、前記屈折率ｎｄが１．５以下の層は、ＳｉＯ2、ＭｇＦ及びＣａＦから選ばれた層であることが好ましい。
【００２２】
また、以上の構成においては、前記第４の層を、最外層とすることができる。このようにした場合に、その第４の層が、特に既述のＳｉＯ2を含むものであれば、保護膜としての役目を果たすことができ、耐アルカリ性、耐溶剤性、耐ＮａＣｌ性、及び耐湿性に優れた反射防止膜を得ることが可能となる。
【００２３】
更に、以上の各層は、スパッタ膜として形成することができ、そのようにした場合には、耐摩耗性や付着性（または密着性）に優れた反射防止膜を得ることが可能となる。
【００２４】
そして、以上の反射防止膜は、良好な特性を得る上で、収差補正素子の表裏両面に設けることが好ましい。
【００２５】
この場合において、以上の反射防止膜は、光ピックアップ装置の収差補正素子に代えて、他の光学素子に使用することもできる。すなわち、波長が、４０５ｎｍ、６５８ｎｍ及び７８０ｎｍでの光ビームの反射率、または、波長領域が、４００〜４１０ｎｍ、６４０〜６８０ｎｍ及び７６０〜８００ｎｍでの光ビームの反射率が、上述のように小さな値を示すことが要求される光学素子であれば、収差補正素子に限らず、他の光学素子に以上の反射防止膜を設けるようにしてもよい。
【００２６】
また、以上の反射防止膜をガラス板（例えば光学素子の全部又は一部として使用されるガラス板の表面）に設けて、ガラス物品として提供することもできる。
【発明の効果】
【００２７】
以上のように本発明に係る反射防止膜によれば、ＣＤ、ＤＶＤ及びＢＤでそれぞれ使用される三つの波長または三つの波長領域での光ビームの反射率が適切に小さくされることから、上記三種の光ディスクに対して的確な互換性を有し且つ信頼性に優れた光学素子ひいては光ピックアップ装置を得ることが可能となり、利便性の向上を図る上で極めて有利となる。加えて、この反射防止膜が設けられた光学素子は、上記三つの波長の光ビームが反射することによる光源への戻り光を適切に低減でき、しかも不当なロスを生じることなくそれらの光ビームを良好に透過させることが可能となり、高品質の光学的特性が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態を添付図面を参照して説明する。
【００２９】
図１は、本発明の実施形態に係る反射防止膜が設けられた収差補正素子を構成要素とする光ピックアップ装置の一例を示す概略図である。同図に示すように、この光ピックアップ装置１は、半導体レーザ２、ビームスプリッタ３、倍率変換機構４、ミラー５、収差補正素子（液晶素子）６、ＮＡ制御素子７、１／４波長板８、対物レンズ９、及び光検出器１０から概略構成されている。そして、半導体レーザ２から照射された光ビームＬは、ビームスプリッタ３を透過した後、倍率変換機構４で平行光線とされ、更に収差補正素子６などを透過して、対物レンズ９により光ディスクＤの記録面に集光される。また、光ディスクＤの記録面で反射した光ビームＬは、ビームスプリッタ３に再度入射した後、光路を屈曲させて光検出器１０に導かれ、所定の検出が行なわれる。
【００３０】
この場合、光ビームＬは、収差補正素子６を透過することにより、球面収差などが補正されるが、この収差補正素子６の表裏両面または片面には、それぞれ以下に示すような反射防止膜が設けられている。
【００３１】
即ち、第１の例として、図２に符号４０で示す欄に記載した四層の反射防止膜が、収差補正素子６の基体（例えば当該素子６の表裏に配置されるガラス基材）の片面（光ビームが入射する側の面）に、スパッタ法により形成される。詳述すると、この四層の反射防止膜は、基体側から順に、幾何学的厚みが２４ｎｍであってＴｉＯ2からなる第１の層と、幾何学的厚みが３３ｎｍであってＳｉＯ2からなる第２の層と、幾何学的厚みが１１１ｎｍであってＮｂ2Ｏ5からなる第３の層と、幾何学的厚みが１１９ｎｍであってＳｉＯ2からなる第４の層（最外層）とを形成してなる。この場合、ＴｉＯ2の屈折率ｎｄは、２．３２であり、ＳｉＯ2の屈折率ｎｄは、１．４７であり、Ｎｂ2Ｏ5の屈折率ｎｄは、２．２０である。
【００３２】
図３は、本発明者等が、ホウケイ酸塩ガラス基板（屈折率ｎｄが１．５２）上に、上記の四層の反射防止膜をスパッタ法により形成し、その反射防止膜の反射率を測定することにより得られた反射率曲線４Ａを示すグラフである。尚、反射率は、第４の層（最外層）から光ビームを入射し、分光光度計で測定した値である。この図３に示す反射率曲線４Ａから概ね把握できるように、波長４０５ｎｍでの光ビームの反射率は０．０４％、波長６５８ｎｍでの光ビームの反射率は０．０３％、波長７８０ｎｍでの光ビームの反射率は０．０５％であった（図２に符号４０で示す欄参照）。
【００３３】
次に、第２の例として、図２に符号５０で示す欄に記載した五層の反射防止膜は、収差補正素子６の基体の片面に、基体側から順に、幾何学的厚みが５０ｎｍであってＳｉＯ2からなる第１の内層と、幾何学的厚みが２４ｎｍであってＴｉＯ2からなる第１の層と、幾何学的厚みが３５ｎｍであってＳｉＯ2からなる第２の層と、幾何学的厚みが１１１ｎｍであってＮｂ2Ｏ5からなる第３の層と、幾何学的厚みが１１７ｎｍであってＳｉＯ2からなる第４の層（最外層）とを、スパッタ法により形成したものである。
【００３４】
ここで、本発明者等が、上記第１の例と同様の手順で、五層の反射防止膜を形成し、その反射防止膜の反射率を測定することにより得られた反射率曲線は、上述の図３に示す曲線４Ａと略同一となった。そして、この五層の反射防止膜は、波長４０５ｎｍでの光ビームの反射率が０．０２％、波長６５８ｎｍでの光ビームの反射率が０．０３％、波長７８０ｎｍでの光ビームの反射率が０．０５％であった（図２に符号５０で示す欄参照）。
【００３５】
更に、第３の例として、図２に符号６０で示す欄に記載した六層の反射防止膜は、収差補正素子６の基体の片面に、基体側から順に、幾何学的厚みが７ｎｍであってＮｂ2Ｏ5からなる第１の層と、幾何学的厚みが１６３ｎｍであってＳｉＯ2からなる第２の層と、幾何学的厚みが１６０ｎｍであってＮｂ2Ｏ5からなる第３の層と、幾何学的厚みが１１９ｎｍであってＳｉＯ2からなる第１の外層と、幾何学的厚みが１４７ｎｍであってＮｂ2Ｏ5からなる第２の外層と、幾何学的厚みが５８ｎｍであってＳｉＯ2からなる第４の層（最外層）とを、スパッタ法により形成したものである。
【００３６】
図４は、本発明者等が、上記第１の例と同様の手順で、六層の反射防止膜を形成し、その反射防止膜の反射率を測定することにより得られた反射率曲線６Ａを示すグラフである。この図４に示す反射率曲線６Ａから概ね把握できるように、波長４０５ｎｍでの光ビームの反射率は０．０５％、波長６５８ｎｍでの光ビームの反射率は０．２２％、波長７８０ｎｍでの光ビームの反射率は０．０４％であった（図２に符号６０で示す欄参照）。
【００３７】
また、第４の例として、図２に符号９０で示す欄に記載した九層の反射防止膜は、収差補正素子６の基体の片面に、基体側から順に、幾何学的厚みが９９ｎｍであってＳｉＯ2からなる第１の内層と、幾何学的厚みが７ｎｍであってＴｉＯ2からなる第２の内層と、幾何学的厚みが４７ｎｍであってＳｉＯ2からなる第３の内層と、幾何学的厚みが２１ｎｍであってＮｂ2Ｏ5からなる第１の層と、幾何学的厚みが３１ｎｍであってＳｉＯ2からなる第２の層と、幾何学的厚みが７９ｎｍであってＮｂ2Ｏ5からなる第３の層と、幾何学的厚みが１６ｎｍであってＳｉＯ2からなる第１の外層と、幾何学的厚みが２２ｎｍであってＮｂ2Ｏ5からなる第２の外層と、幾何学的厚みが１０１ｎｍであってＳｉＯ2からなる第４の層（最外層）とを、スパッタ法により形成したものである。
【００３８】
図５は、本発明者等が、上記第１の例と同様の手順で、九層の反射防止膜を形成し、その反射防止膜の反射率を測定することにより得られた反射率曲線９Ａを示すグラフである。この図５に示す反射率曲線９Ａから概ね把握できるように、波長４０５ｎｍでの光ビームの反射率は０．０５％、波長６５８ｎｍでの光ビームの反射率は０．１８％、波長７８０ｎｍでの光ビームの反射率は０．２３％であった（図２に符号９０で示す欄参照）。
【００３９】
上記の図３〜図６に示す四層、五層、六層、九層の各反射防止膜の各反射率曲線４Ａ、６Ａ、９Ａによれば、光ディスクＤとしてＣＤ、ＤＶＤ及びＢＤでそれぞれ使用される波長７８０ｎｍ、６５８ｎｍ及び波長４０５ｎｍでの光ビームの反射率が全て３％以下（実験値では０．２５％以下）となっている。しかも、波長領域が、４００〜４１０ｎｍ、６４０〜６８０ｎｍ及び７６０〜８００ｎｍでの光ビームの反射率も全て３％以下（実験値では０．８％以下）となっている。従って、これらの反射防止膜が表裏両面に形成された収差補正素子６は、上記三種の光ディスクに対して的確な互換性を有するものとなることが伺える。
【００４０】
更に、本発明者等は、上記の各反射防止膜を形成してなるホウケイ酸塩ガラス基板（以下、試料という）について、耐アルカリ性、耐溶剤性、耐ＮａＣｌ性、耐湿性、耐摩耗性、及び付着性の評価試験を行なったところ、全て合格となった。
【００４１】
尚、耐アルカリ性については、試料を３％のＫＯＨ水溶液に１０分間浸漬し、耐溶剤性については、試料を室温でアセトンに２０分間浸漬し、その時の各試料の反射率が、波長４０５ｎｍ±１０ｎｍ、波長６５８ｎｍ±２５ｎｍ、及び波長７８０ｎｍ±２５ｎｍにおいて０．５％以下であり、且つ、膜剥れ、クラック、及びシミがなければ合格とした。また、耐ＮａＣｌ性については、ＭＩＬ−Ｃ−６７５  ３．８．１に準じ、試料をＮａＣｌ溶液に２４時間浸漬した後、膜欠け、剥れ、クラック、及び気泡等の膜の劣化が認められなければ合格とした。更に、耐摩耗性については、ＫＩＬ−Ｃ−６７５  ３．８．４に準じ、約１．０ｋｇの荷重をかけた消しゴムで試料を５０ストローク擦った後、膜剥れがなく、且つ、乾いた清潔なコットン（ベンコットン）で試料を擦った後、膜剥れがなければ合格とした。また、耐湿性については、ＭＩＬ−Ｃ−６７５  ３．８．２に準じ、４８．９±２．２℃で９５〜１００％湿度の雰囲気に試料を２４時間曝した後、膜欠け、剥れ、クラック、及び気泡等の膜の劣化がなく、且つ、上記の耐摩耗性に合格することを条件として合格とした。更に、付着性については、ＭＩＬ−Ｃ−６７５  ３．８．５に準じ、ニチバンセロテープ（登録商標）♯４０５（株式会社ニチバン製）を試料に貼り付け、３回剥がした時点で、膜剥れがなければ合格とした。
【００４２】
なお、上記実施形態では、本発明に係る反射防止膜を、光ピックアップ装置の収差補正素子に設けるようにしたが、波長が、４０５ｎｍ、６５８ｎｍ及び７８０ｎｍでの光ビームの反射率、または、波長領域が、４００〜４１０ｎｍ、６４０〜６８０ｎｍ及び７６０〜８００ｎｍでの光ビームの反射率が、上述のように小さな値を示すことが要求される光学素子であれば、他の光学素子に、本発明に係る反射防止膜を設けるようにしてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明に係る反射防止膜は、ＣＤ、ＤＶＤ、ＢＤの互換性のある収差補正素子（例えばホログラム素子）に使用可能である、また、これと同様の作用効果を奏することが要求されるガラス物品にも使用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の実施形態に係る反射防止膜が設けられた収差補正素子を構成要素とする光ピックアップ装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の実施形態に係る四種類の反射防止膜の構成を示す概略図である。
【図３】本発明の実施形態に係る反射防止膜（第１及び第２の例）の特性を示すグラフである。
【図４】本発明の実施形態に係る反射防止膜（第３の例）の特性を示すグラフである。
【図５】本発明の実施形態に係る反射防止膜（第４の例）の特性を示すグラフである。
【符号の説明】
【００４５】
１  光ピックアップ装置
６  収差補正素子（光学素子）
４０  四層の反射防止膜
５０  五層の反射防止膜
６０  六層の反射防止膜
９０  九層の反射防止膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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