(57)【要約】【課題】  波長板の製造コストを低減する。【解決手段】  基板４上に溝２の微細周期構造が直接形成されている。この微細周期構造では、透過する光の光学軸の向きが互いに異なる２つの領域ＡとＢが交互に形成されている。【選択図】    図１
2006030461.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光の偏光状態を変化させる波長板において、
基板と、
この基板上に直接形成された微細周期構造と、
を備え、
前記微細周期構造では、透過する光の光学軸の向きが互いに異なる２つの領域が交互に形成されている、ことを特徴とする波長板。
【請求項２】
前記各領域の光学軸は互いに直交し前記各領域での位相差が前記光の波長の１／４である、ことを特徴とする請求項１に記載の波長板。
【請求項３】
前記微細周期構造は前記基板上に微細周期で形成された溝である、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の波長板。
【請求項４】
前記溝の入り口側部分においては当該溝の入口に近づくにしたがって当該溝の幅が漸次拡大する、ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかの一に記載の波長板。
【請求項５】
前記溝の底部側部分では最底部に向かって当該溝の幅が漸次狭まる、ことを特徴とする求項１〜４のいずれかの一に記載の波長板。
【請求項６】
各左眼用画素には立体画像を見るための左目用の画像が表示され、各右眼用画素には立体画像を見るための右目用の画像が表示される液晶表示装置と、
前記各画素からの光を偏光方向がすべて同一の直線偏光とする検光子と、
光学軸の向きが互いに異なる領域の一方が前記左眼用画素に重なり他方が前記右眼用画素に重なる請求項１〜５のいずれかの一に記載の波長板であり、前記検光子からの光が透過する波長板と、
を備えている立体画像表示装置。
【請求項７】
光の偏光状態を変化させる波長板を製造する波長板の製造方法において、
同一基板上に微細周期構造を当該微細周期構造では透過する光の光学軸の向きが互いに異なる２つの領域が交互になるように直接形成し、
前記各領域は、前記基板にエッチングマスクを形成してドライエッチングを行うことで一度に形成する、
ことを特徴とする波長板の製造方法。
【請求項８】
前記エッチングマスクの形成は、前記基板にリソグラフィを行って金属膜を成膜する、又は、前記基板に金属膜を成膜してリソグラフィを行ってエッチングすることにより行い、前記リソグラフィはインプリントリソグラフィである、ことを特徴とする請求項７に記載の波長板の製造方法。
【請求項９】
前記インプリントリソグラフィで前記基板に直接微細周期で溝を形成する、ことを特徴とする請求項８に記載の波長板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光の偏光状態を変える波長板、特に、立体表示装置に用いられる波長板、この波長板を備えている立体画像表示装置、及び波長板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の波長板の製造工程は、図１２に示すように、基板１０１に第1の位相差フィルム１０２を貼り付け（ａ）、ダイシングソー１０３で第1の位相差フィルム１０２を部分的に除去した後（ｂ）（ｃ）、第２の位相差フィルム１０４を第１の位相差フィルム１０２とは光学軸の向きが異なるように貼り付け（ｄ）、第１の位相差フィルム１０２の上に重なった部分をダイシングソー１０３で除去することにより（ｅ）、光学軸の異なる領域を有する波長板１０５を構成するものである。
【０００３】
また、図１３に示すように、別々の基板１１１に位相差フィルム１１２を光学軸の向きが異なるように貼り付けて（ａ）（ｄ）、それぞれダイシングソー１１３で部分的に除去した後（ｂ）（ｅ）、それぞれの基板１１１の位相差フィルム１１２が重ならないように，この両者を貼り合わせ（ｇ）、一方の基板１１１を除去することにより、光学軸の異なる領域を有する波長板１１４を構成することも知られている（以上、特許文献１を参照）。
【０００４】
さらに、図１４に示す従来の波長板の製造工程では、基板１２１に第1の位相差フィルム１２２を貼り付け（ａ）、フォトリソ工程で形成したレジストパターン１２３を（ｂ）マスクにして（ｃ）、エッチングにより部分的に位相差フィルム１２２を除去し（ｄ）、レジストパターン１２３を除去した後（ｅ）、第２の位相差フィルム１２４を第１の位相差フィルム１２２とは光学軸の向きが異なるように貼り付け（ｆ）、第１の位相差フィルム１２２の上に重なった部分を同様にフォトリソ工程で形成したレジストパターン１２５をマスクにして（ｇ）エッチングにより除去し（ｈ）、レジストパターン１２５を除去することで、光学軸の異なる領域を有する波長板１２６を構成している（ｉ）（ｊ）。また、上述の従来の波長板１１４と同様、別々の基板に位相差フィルムを光学軸の向きが異なるように貼り付けて、それぞれフォトリソ工程で形成したレジストパターンをマスクにしてエッチングにより部分的に位相差フィルムを除去し、レジストパターンを除去した後、それぞれの基板の位相差フィルムが重ならないように貼り合わせることにより、光学軸の異なる領域を有する波長板を構成することができる。
【０００５】
また、図１４に示した波長板１２６（位相差片１３２〜１３５）を用いて、図１５に示す立体表示装置１３１を構成することで、画素によって偏光方向の異なる光となるので、観察者は偏光メガネを装着することで立体画像を観察することができる。図１６は、図１５に示した立体表示装置１３１における、波長板１２６、偏光フィルム１３６、配向膜１３７の配置を示す説明図である（以上、特許文献２を参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１６０９３３号公報
【特許文献２】特開平１０−１６１１０８公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、図１、図３を参照して説明した従来の波長板の場合、位相差フィルムを基板に貼り付け、位相差フィルムを部分的に除去する工程を、それぞれ２回行う必要があり、また、２回目の位相差フィルムを部分的に除去する工程では、先に基板への貼り付け及び部分的な除去を行った位相差フィルムとの位置合わせを行う工程が必要であり、工程が煩雑で、製造コストを低減できないという不具合がある。
【０００８】
さらに、１回目の位相差フィルムの貼り付け及び部分的に除去する工程を経た基板は、位相差フィルムが存在する部分と存在しない部分を有していて、凹凸が存在する。そして、２回目の位相差フィルムの貼り付けは、この凹凸の表面に貼り付けることになるが、凹凸の境界部の段差に全く隙間なく位相差フィルムを貼り付けるのは非常に困難である。したがって、位相差片の間には若干の隙間が生じることになり、位相差片のサイズを小さくしていった場合サイズに限界が生じるという不具合がある。これは、表示画素密度が低い場合にはあまり問題とならないが、高画質化に伴って表示画素密度が高くなった場合には、位相差片のサイズの限界は重大な問題となる。
【０００９】
また、図２を参照して説明した従来の波長板の場合、１枚の基板に対して行う位相差フィルムを貼り付けて、部分的に除去する工程は１回のみで良いが、波長板を構成するためには、２枚の基板が必要であり、また、２枚の基板を貼り合せる際に位置合わせ工程と一方の基板を除去する工程が必要となるため、製造コストのアップにつながるという不具合がある。この場合に、２枚の基板を貼り合わせ後に、一方の基板を除去しなくとも波長板として機能させることも可能であるが、基板１枚分の厚さが加わるため、波長板の厚さが２倍近くになって、光学素子のコンパクト化を図ることができないという不具合もある。
【００１０】
この２枚の基板を貼り合せる場合にも、位相差片間の隙間が全く無いようにするのは非常に困難で、基板貼り合わせの際に互いの位相差フィルムが重ならないように位相差フィルムを部分的に除去する際の位置精度および基板貼り合せの位置精度のマージンをとる必要があるため、位相差片の間には若干の隙間が生じ、位相差片のサイズを小さくしていった場合サイズに限界が生じる不具合がある。これは、図１、図３を参照して説明した従来の波長板の場合と同様に、表示画素密度が低い場合にはあまり問題とならないが、高画質化に伴い表示画素密度が高くなった場合には、位相差片のサイズの限界は重大な問題となる。
【００１１】
本発明の目的は、波長板の製造コストを低減することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
（１）本発明は、光の偏光状態を変化させる波長板において、基板と、この基板上に直接形成された微細周期構造と、を備え、前記微細周期構造では、透過する光の光学軸の向きが互いに異なる２つの領域が交互に形成されている、ことを特徴とする波長板である。
【００１３】
（２）別の面から見た本発明は、光の偏光状態を変化させる波長板を製造する波長板の製造方法において、同一基板上に微細周期構造を当該微細周期構造では透過する光の光学軸の向きが互いに異なる２つの領域が交互になるように直接形成し、前記各領域は、前記基板にエッチングマスクを形成してドライエッチングを行うことで一度に形成する、ことを特徴とする波長板の製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
（１）の発明によれば、光学軸の向きが互いに異なる２つの領域が交互に形成された波長板の各領域を微細周期構造で基板上に直接形成することができるので、従来に比べて製造が容易であり、製造コストを低減することができる。
【００１５】
（２）の発明によれば、（１）の波長板を容易に製造することができ、製造コストを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
発明を実施するための最良の一形態について説明する。
【００１７】
まず、本発明の一実施の形態である波長板について説明する。
【００１８】
図１は本実施の形態の波長板１の平面図であり、図２は波長板１の一部の領域の縦断面図である。図２に示すように、図１中の各領域Ａ（Ａ１〜Ａｎ），Ｂ（Ｂ１〜Ｂｍ）には溝２が微細周期で形成されている。図２は、この溝２に垂直な面での断面図である。図１中の領域Ａ１，…，Ａｎでは、形成されている溝２の方向が同一方向となっており、また、領域Ｂ１，…，Ｂｍにおいても、形成されている溝２の方向が同一方向となっているが、領域Ａ１〜Ａｎと領域Ｂ１〜Ｂｍとでは溝の方向が異なっている。そして、領域Ａ１〜Ａｎと領域Ｂ１〜Ｂｍとは、交互になるように配列されている。
【００１９】
本来、複屈折特性を持たない屈折率の異なる平板３（図２の溝２間の凸部５）を光の波長より十分小さい（＜λ／２）周期で並べた微細周期構造（図３）は、複屈折特性を発生することが知られている（「Principle of Optics、Max Born and Emil Wolf、PERGAMON PRESS LTD.」を参照）。基板に微細周期で溝を形成した場合にも、屈折率の異なる平板３を微細周期で並べた図３の構造と同じ構成となり、複屈折特性が発生し、偏光方向が平板に平行な光の屈折率ｎ//と、垂直な光の屈折率ｎ⊥はそれぞれ、
【００２０】
【数１】
2006030461.tif 000003
【００２１】
【数２】
2006030461.tif 000004
【００２２】
となる。ここで、ｎ１、ｎ２はそれぞれ微細周期構造が形成された物質の屈折率と、溝２を埋める物質の屈折率であり、また、ｔは微細周期構造のduty比であり、平板３の厚さをＷ１、平板３間の間隔をＷ２とすると、
【００２３】
【数３】
2006030461.tif 000005
【００２４】
である。
【００２５】
このように、構造複屈折は平板３の並べる方向（溝を形成する方向）によって光学軸（遅相軸および進相軸）の方向を任意に決めることができ、平板３に平行な方向（溝と平行な方向）が遅相軸となり、平板３に垂直な方向（溝と垂直な方向）が進相軸となる。
【００２６】
したがって、基板４上で透過する光の光学軸の向きが、微細周期構造の違いにより互いに異なる２つの領域（この例では、領域Ａと領域Ｂ）が交互になるようにして、微細周期構造を基板４上に直接形成して、波長板１を製造する。本例では、領域Ａ１〜Ａｎと領域Ｂ１〜Ｂｎとで光学軸の向きが異なるように、溝２の方向を異ならせて微細周期で同一基板４上に形成している。これにより、容易に光学軸の異なる２つの領域（領域Ａと領域Ｂ）を交互になるように波長板１に形成することができ、さらに、各領域Ａ１〜Ａｎと領域Ｂ１〜Ｂｍとの光学軸は任意に決めることができる。
【００２７】
よって、従来に比べて波長板１を容易に製造することができ、波長板１の製造コストを低減することができる。
【００２８】
また、各領域での位相差（遅延量）Ｒｅは、構造複屈折の高さ（溝２の深さ）をｄとすると、（４）式のようになり、基板の材質（屈折率）や溝を埋める材質（屈折率）、微細周期構造のduty比および構造複屈折の高さ（溝の深さ）で位相差（遅延量）を制御することもできる。
【００２９】
【数４】
2006030461.tif 000006
【００３０】
本実施の形態の波長板１では、領域Ａ１〜Ａｎの溝２と、領域Ｂ１〜Ｂｍの溝２とは、互いに直交するように形成されていて、光学軸が直交するようにしており、位相差をどちらの領域も光の波長の１／４とした場合、波長板１の直線偏光の光を領域Ａ１〜Ａｎの光学軸に対して偏光方向が＋４５°となるように入射すると、領域Ｂ１〜Ｂｍの光学軸に対して偏光方向が−４５°で入射する。したがって、波長板１に入射した光はいずれの領域（領域Ａ１〜Ａｎと領域Ｂ１〜Ｂｍ）を透過した光も円偏光となるが、領域Ａ１〜Ａｎを透過した光と、領域Ｂ１〜Ｂｍを透過した光とでは、円偏光の回転方向が逆転することになる。
【００３１】
本実施の形態の波長板１の一設計例について示すと、波長を５５０ｎｍで設計し、石英の基板４上に幅１００ｎｍで深さが１．６３ｍの溝を、領域Ａ１〜Ａｎと領域Ｂ１〜Ｂｍとで、溝２の方向が直交するように２００ｎｍ周期で形成して、波長板１を作製することが考えられる。
【００３２】
次に、本実施の形態の波長板１の具体的な製造方法の一例について説明する。
【００３３】
図４は、石英ガラス製の基板４に微細周期構造の溝２を形成するプロセスを示す説明図である。まず、石英ガラス製の基板４上に樹脂材料１１でライン・アンド・スペース・パターンを形成する（ａ）。次に、金属膜１２を真空蒸着で成膜し（ｂ）、樹脂を溶解する薬液に浸してリフトオフ法で金属膜パターン１３を形成する（ｃ）。そして、金属膜パターン１３を形成した石英ガラスの基板４をＣＦ４、Ｃ４Ｆ８、ＣＨＦ３などのフロロカーボンガスを用いてドライエッチングを行い、微細周期構造の溝２を形成する（ｄ）。最後に金属膜パターン１３を除去し、本実施の形態の波長板が完成する（ｅ）。
【００３４】
ドライエッチング装置としては、ＥＣＲエッチング装置、ＩＣＰエッチング装置などを用いることができる。
【００３５】
図４（ａ）を参照して説明した石英ガラス製の基板４上に樹脂材料１１で微細周期のライン・アンド・スペース・パターンを形成する方法としては、石英ガラス製の基板４上にＥＢレジストを塗布してＥＢ描画装置によりパターンを描画し現像して形成するＥＢ描画リソグラフィなども適用できるが、本実施の形態では、インプリントリソグラフィで行う例について説明する。
【００３６】
図５は、インプリントリソグラフィによるライン・アンド・スペース・パターン形成プロセスを示す説明図である。まず、石英ガラス製の基板４上に樹脂材料１１を配置し（ａ）、樹脂材料１１のガラス転移温度以上に加熱し、モールド１４を樹脂材料１１に高圧で押し付け、モールド１４の形状を樹脂材料１１に転写する（ｂ）。次に、樹脂材料１１のガラス転移温度より低い温度に冷却して、モールド１４を樹脂材料１１から離す（ｃ）。最後に、パターンのスペース部分に残った樹脂材料１１の膜が消失するまでドライエッチングを行い、ライン・アンド・スペース・パターンが完成する（ｄ）。
【００３７】
ＥＢ描画リソグラフィは大面積を描画するのに非常に多くの時間を費やしてしまうのに対し、インプリントリソグラフィは非常に短時間でパターンを形成することができるので、低製造コストで波長板１を製造することができる。
【００３８】
また、短時間で微細周期のライン・アンド・スペース・パターンを形成する方法としては、ＥＢステッパー、極紫外及び真空紫外ステッパー、Ｘ線ステッパー等があるが、これらは設備コスト及び運用コストが非常に高額なものとなる。これに対して、インプリントリソグラフィは装置構成も非常に簡単で、設備コストおよび運用コストを非常に低く抑えることができる。
【００３９】
さらに、インプリントリソグラフィで形状形成が可能で透明な樹脂又はガラスを用いることで、直接インプリントリソグラフィで微細周期の溝を形成することができるので、大幅に製造工程を簡素化でき、低製造コストで波長板を作製することができる。
【００４０】
なお、本実施の形態では、インプリントリソグラフィとして、樹脂材料１１をガラス転移温度以上に加熱し、モールド１４を高圧で押し付け、モールド１４の形状を樹脂に転写するナノインプリントリソグラフィを採用しているが、基板４とモールド１４との間にＵＶ硬化樹脂を流し込み、ＵＶ照射して樹脂を硬化させて形状を転写するステップ・アンド・フラッシュ・インプリントリソグラフィで行っても良い。
【００４１】
本実施の形態では、図１に示すように領域Ａ，Ｂを垂直方向に分割しているが、図６に示すように水平方向に分割したものでも、図7に示すように市松模様状に分割したものでも、どのような形状に分割したものでもよく、前述した製造方法で製造することができる。
【００４２】
別の実施の形態について説明する。
【００４３】
本実施の形態の波長板１も、前述の図１、図６、図７の実施の形態の波長板１と同様に、微細周期構造で形成され、同一基板４上で透過する光の光学軸が互いに異なる２つの領域（本実施の形態においても、領域Ａ，Ｂを備えているものとして説明する）が交互に配列されるように、微細周期構造を直接基板４上に形成することは共通である。以下の説明で、図１〜図７を参照して前述した波長板１と共通の部材などについては前述と同様であり、詳細な説明は省略する。本実施例の波長板１も、平面図は図１、図６、図７と共通である。
【００４４】
本実施の形態において、この各領域Ａ，Ｂに微細周期で形成されている溝２の断面図を図８及び図９に示す。図８は、溝２の入り口側部分においては溝２の入口に近づくにしたがって溝２の幅が漸次拡大するように形成した例である。溝２の図８に示す形状にすると、光の入射方向で屈折率の変化を見た場合に波長板１の表面付近での屈折率が緩やかに変化するように構成することができるので、波長板表面での反射を抑えることができる。
【００４５】
図９は、溝２の底部側部分では最底部に向かって溝２の幅が漸次狭まるように形成した例である。図９に示した溝２の形状にすると、光の入射方向で屈折率の変化を見た場合に、微細周期構造の底部での屈折率が緩やかに変化するように構成することができるので、微細周期構造の底部での反射を抑えることができる。
【００４６】
また、図１０に示す断面図のように、溝２の入り口側部分においては溝２の入口に近づくにしたがって溝２の幅が漸次拡大するように形成し、かつ、溝２の底部側部分では最底部に向かって溝２の幅が漸次狭まるように形成と、さらに反射を抑えることができる。
【００４７】
溝２の形状を図８〜図１０のようにした波長板１の製造方法は、前述の実施の形態で説明した波長板１の製造方法と同様とすることができる。また、これも前述の実施の形態の場合と同様に、インプリントリソグラフィで直接製造することができる。
【００４８】
別の実施の形態について説明する。
【００４９】
本実施の形態は、前述のいずれかの構成の波長板１を備えた立体画像表示装置である。図１１は、本実施の形態の立体画像表示装置５１の構成を説明する説明図である。本実施の形態の立体画像表示装置５１は、液晶表示装置５２と、前述の波長板１と、通常の１／４波長板５３とを備えている。なお、図１１は左眼用画素５４及び右眼用画素５５の各1画素のみ図示している。
【００５０】
全画素において、波長板１の左眼用領域は液晶表示装置５２の左眼用画素５４に、右眼用領域は右眼用画素５５に重なるように構成されている。そして、例えば、前述の領域Ａ，Ｂの一方が波長板１の左眼用領域、他方が右眼用領域である。液晶表示装置５２の各左眼用画素５４には立体画像を見るための左目用の画像が表示され、各右眼用画素５５には立体画像を見るための右目用の画像が表示される。また、液晶表示装置５２の検光子５６の透過軸と、波長板１の一方の領域Ａ又はＢの光学軸とは＋４５°の角度をなし、波長板１のもう一方の領域Ｂ又はＡの光学軸とは−４５°の角度をなすように配置され、その上に通常の１／４波長板５３を、光学軸が液晶表示装置５２の検光子５６の透過軸と波長板１の光学軸が＋４５°の角度をなすように配置されている。
【００５１】
通常の液晶表示装置５２は、最後に全画素で同一の検光子（偏光板）５６を透過させており、各画素からの光は偏光方向がすべて同一の直線偏光となっている。次に、液晶表示装置５２の各画素からの光は波長板１を透過し、円偏光または楕円偏光となる。このとき、波長板１の左眼用領域（領域Ａ又はＢ）を透過した光と右眼用領域（領域Ｂ又はＡ）を透過した光とでは、偏光の回転方向が逆向きとなる。波長板１の各領域を透過した光は通常の１／４波長板（光学軸の異なる領域がない波長板）５３を透過すると、いずれも直線偏光となるが、波長板１の左眼用領域を透過した光と右眼用領域を透過した光とでは、偏光の方向が９０°異なっている。観察者が図１１に示す偏光メガネ５７のように、左眼と右眼で透過軸が９０°異なり、立体画像表示装置５１の左眼用画素５４からの光が、波長板１、通常の１／４波長板５３を経てでてきた直線偏光の光の偏光方向と透過軸が一致するように、かつ、右眼用画素からの光が、波長板１、通常の１／４波長板５３を経て出射された直線偏光の光の偏光方向と透過軸が一致するように、偏光板６１を配置した偏光メガネ５７を装着し、立体画像表示装置５１に表示された画像を観察すると、左眼用画素からの光は観察者の右眼には達せず左眼のみに達し、右眼用画素からの光は観察者の左眼には達せず右眼のみに達することになる。したがって、液晶表示装置５２に視差画像（左眼用画素には左眼用画像、右眼用画素には右眼用画像）を表示させることで、観察者は立体画像を観察することができる。
【００５２】
なお、本実施の形態では、通常の１／４波長板５３を立体画像表示装置５１に配置したが、偏光メガネ５７に配置してもよい。
【００５３】
本実施の形態で使用する波長板１の左目用と右目用との領域の分割は、前述の図１、図６、図７を参照して説明した例など、さまざまに行なうことができる。ただし、波長板１の領域Ａ，Ｂの分割と、液晶表示装置５２の左眼用画素と右眼用画素の領域は一致させる必要がある。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の一実施の形態である波長板の平面図である。
【図２】波長板の溝の拡大縦断面図である。
【図３】平板を光の波長より十分小さい周期で並べた微細周期構造の斜視図である。
【図４】石英ガラス製の基板に微細周期構造の溝を形成するプロセスを示す説明図である。
【図５】インプリントリソグラフィによるライン・アンド・スペース・パターン形成プロセスを示す説明図である。
【図６】波長板の他の構成例を説明する平面図である。
【図７】波長板の他の構成例を説明する平面図である。
【図８】微細周期構造の溝の他の構成例を示す説明図である。
【図９】微細周期構造の溝の他の構成例を示す説明図である。
【図１０】微細周期構造の溝の他の構成例を示す説明図である。
【図１１】本発明の一実施の形態である立体画像表示装置の説明図である。
【図１２】従来の波長板の製造工程を説明する説明図である。
【図１３】従来の波長板の製造工程を説明する説明図である。
【図１４】従来の波長板の製造工程を説明する説明図である。
【図１５】従来の立体表示装置の構成の説明図である。
【図１６】図１５に示した立体表示装置における、波長板、偏光フィルム、配向膜の配置を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５５】
１  波長板
２  溝
４  基板
Ａ，Ｂ  領域
【図１】
2006030461.tif 000007
【図２】
2006030461.tif 000008
【図３】
2006030461.tif 000009
【図４】
2006030461.tif 000010
【図５】
2006030461.tif 000011
【図６】
2006030461.tif 000012
【図７】
2006030461.tif 000013
【図８】
2006030461.tif 000014
【図９】
2006030461.tif 000015
【図１０】
2006030461.tif 000016
【図１１】
2006030461.tif 000017
【図１２】
2006030461.tif 000018
【図１３】
2006030461.tif 000019
【図１４】
2006030461.tif 000020
【図１５】
2006030461.tif 000021
【図１６】
2006030461.tif 000022