(57)【要約】【課題】除害効率の低下を防止すると共に、気液混合・撹拌装置が詰まらない様にする。【解決】処理液Ｗを貯溜する液体槽１と，該液体槽１に連通し、処理液と吸気管１３から吸入された有害ガスとを混合撹拌する気液混合・撹拌装置４と，を備えた有害ガスの除害装置Ｓであって；前記吸気管１３に、シャワー前処理手段２５を設けたことを特徴とする。【選択図】  図１
2006263671.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を貯溜する液体槽と，該液体槽に連通し、処理液と吸気管から吸入された有害ガスとを混合撹拌する気液混合・撹拌装置と，を備えた有害ガスの除害装置であって；
前記吸気管に、シャワー前処理手段を設けたことを特徴とする有害ガスの除害装置
【請求項２】
シャワー前処理手段は、有害ガスに向かって水を噴霧することを特徴とする請求項１記載の有害ガスの除害装置
【請求項３】
気液混合・撹拌装置に、処理液と吸気管から吸入された有害ガスとを供給し、混合撹拌して気液混合流体とし、該気液混合流体を液体槽内の処理液に混入せしめて除害する方法であって；
前記有害ガスが、複数の有害ガスからなる混合有害ガスであり、
前記混合有害ガスを、前記気液混合・撹拌装置に供給する前に、シャワー前処理手段で予備除害することを特徴とする有害ガスの除害方法
【請求項４】
混合有害ガスは、HF、ＢＣl3、Ｃｌ2 を含んでいることを特徴とする請求項３記載の有害ガスの除害装置
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体製造装置や液晶製造装置等から排出される有害ガスを除害、回収するための有害ガスの除害方法及びその装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造ラインや液晶製造ラインから排出されるガスには、SiO2やWO3等の微細な粉体と同時に、HF、ＢＣl3、Ｃｌ2、Hcl等の有害なガスが含まれているので、そのまま大気中に放出することができない。そこで、従来、次のような装置を用いて有害ガスの除害を行っている（例えば、特許文献１、参照）。
【０００３】
有害ガスを水に混入せしめて除害する装置であって、処理液を貯溜する液体槽と、該液体槽に連通する循環路と、該循環路に配設され、吸気管から吸入された有害ガスを処理液と混合攪拌し微細な気泡にする気液混合・撹拌装置と、該循環路に設けられ、処理液を強制循環せしめるポンプと、を備えている。
【０００４】
【特許文献１】特願２００１−０１８１２２号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来例の有害ガスの除害装置は、99.999％以上の初期除害能力があり、除害効率が極めて良好である。しかし、半導体製造装置を永年使用したり、ＣＦ4、SF6  でチャンバー内をクリーニングしたりすると、除害効率が低下したり、又、粉末やゴミ等が詰まったりすることがある。
【０００６】
この発明は、上記事情に鑑み、除害効率の低下を防止すると共に、粉末やゴミ等が詰まらないようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明は、処理液を貯溜する液体槽と，該液体槽に連通し、処理液と吸気管から吸入された有害ガスとを混合撹拌する気液混合・撹拌装置と，を備えた有害ガスの除害装置であって；前記吸気管に、シャワー前処理手段を設けたことを特徴とする。
【０００８】
この発明のシャワー前処理手段は、有害ガスに向かって水を噴霧することを特徴とする。
【０００９】
この発明は、気液混合・撹拌装置に、処理液と吸気管から吸入された有害ガスとを供給し、混合撹拌して気液混合流体とし、該気液混合流体を液体槽内の処理液に混入せしめて除害する方法であって；前記有害ガスが、複数の有害ガスからなる混合有害ガスであり、前記混合有害ガスを、前記ミキサに供給する前に、シャワー前処理手段で予備除害することを特徴とする。
【００１０】
この発明の混合有害ガスは、HF、ＢＣl3、Ｃｌ2 を含んでいることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
この発明は、混合有害ガスを、気液混合・撹拌装置に供給する前に、シャワー前処理手段で予備除害するので、気液混合・撹拌装置には、水に溶けにくい難水溶性有害ガスだけが供給され気液混合攪拌が行われる。そのため、液体槽の処理液内には、除害能力を充分に発揮できる性質の流体が送入されるので、除害効率を向上させることができる。又、シャワー前処理手段は、有害ガスに含まれている粉末やゴミ等を除害するので、気液混合・撹拌装置等の詰まりを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明者は、従来例の問題の発生原因を究明するため、従来例の除害装置を用いて、次の実験を行った。
使用有害ガス
ａ：Ｃl2ガス  ２００cc、ｂ：Ｃｌ2ガス＋ＢＣl3ガス  ２００cc
Ｎ2ガス  ３０ｌ/min．の割合で、上記ａ：のガスのみ、ｂ：のガスのみを、除害装置に供給し、出口のＨＣｌとＣｌ2を測定したところ、ＨＣｌは、ａ：、ｂ：ともに１５ppmであったが、Ｃｌ2は，ａ：では４０ｐｐｍ、ｂ：では３００ｐｐｍであった。
この実験により、有害ガス中に、水に溶けやすい（水で分解し易い）ＢＣl3ガスが混ざっていると、Ｃｌ2の除害効率が低下し、除害装置は、本来の除害性能を発揮できないことがわかった。
【００１３】
本発明者は、従来例の問題は、処理しようとする有害ガスが、水に溶け易い標準水溶性有害ガス（例えば、ＨＦ、ＢＣl3等の有害ガス）と、標準水溶性ガスよりも水に溶けにくい難水溶性有害ガス（例えば、Ｃｌ2等の有害ガス）とからなる、混合有害ガスであることにその原因があると確信するとともに、この問題を解決するには、水に溶け易い有害ガスと、水に溶けにくい有害ガスとを別々に除害すれば良く、又、その除害手段もそれに見合った性能のものを用いれば良い、と考えた。
【００１４】
本発明者は、鋭意研究実験を重ねた結果、吸気管から吸入される有害ガスを直接気液混合・撹拌装置に供給せず、一度、シャワー前処理手段に供給して、水に溶けやすい有害ガスの除害（予備除害）を行い、次に、難水溶性の有害ガスのみを気液混合・撹拌装置に供給して除害装置で本除害すれば良いことを知った。本件発明は、上記知見に基づいて完成されたものものである。
【実施例】
【００１５】
本発明の実施例を図１に基づいて説明する。
除害装置Ｓの液体槽１には、処理液、例えば、水Ｗが貯溜されている。この液体槽１には、その外部に液体槽１内の処理液Ｗを循環させるための循環路５が配置され、循環路５にはポンプ３、差圧力計、流量計（図示省略）並びに気液混合・撹拌装置４が介装されている。ホ゜ンフ゜３は、インハ゛ーター（図示省略）の設定値により回転数が可変出来、流量及び圧力が調整できるように構成されている。
【００１６】
液体槽１には、液量が一定量、例えば、１００リットル、を越えると、排液するようにオーバーフロー管９と、給水ライン８と、が設けられている。給水ライン８には、電磁弁（図示省略）が介装され、通常は閉じているが、ｐＨ計７により検出される液体槽１内のｐＨ値により電磁弁が開き液体槽１内に給水するように構成されている。
【００１７】
液体槽１には、生産ラインの排気管（図示省略）に接続される排気口１４が設けられている。この排気口１４は、液体槽１内に発生する、除害されたカ゛ス１４ａを排気する。
【００１８】
液体槽１は、気液混合・撹拌装置４に連通しており、この気液混合・撹拌装置４は、連結パイプ２９を介してシャワー前処理手段２５に連通している。
【００１９】
気液混合・撹拌装置４は、円筒ケーシンク゛（図示省略）と、一対の二つ割り楕円盤（図示省略）と、下流側に配置された突起群（図示省略）と、から構成され、二つ割り楕円盤の弦側側縁を交差させ、一対の二つ割り楕円盤の円弧側側縁を円筒ケーシンク゛の内壁に接するように構成されている。
【００２０】
この気液混合・撹拌装置４は、ホ゜ンフ゜３が起動し、該気液混合・撹拌装置４内に液体槽１内の処理液Ｗが送られると、前記二つ割り楕円盤の作用により、液Ｗが螺旋流を起こしカ゛ス導入パイプ２１からのカ゛スと混合されるとともに、前記ガスは突起群の作用で微細に砕かれ、処理液Ｗと混合するように構成されている。
【００２１】
前記シャワー前処理手段２５は、シャワー室２６を備えている。このシャワー室２６の天井には、シャワー２７が設けられ、その下方は排水タンク２８に連通している。この排水タンク２８は、ポンプ２８Ｐを有する排水ライン２８Ｌに連結されている。このポンプ２８Ｐの駆動により排水ライン２８Ｌから排水２８ａされる。
【００２２】
このシャワー室２６は、バルブ２３を介して吸気管１３及バイパス管２４に連結されている。吸気管１３は、半導体製造装置や液晶製造装置からの有害ガス１３ｇを吸気する。この吸気管１３には、圧力計（図示省略）と、吸気量を調整するためのダイヤフラムバルブ（図示省略）、吸気の負圧を補助するためのファン（図示省略）が介装されている。
【００２３】
次に、本実施例の作動について説明する。
起動ボタン（図示せず）をオンすると、ホ゜ンフ゜３が起動し、液体槽１内の処理液Ｗを循環路５に回し始め、循環路５内の流量が略一定となる。
【００２４】
その後、吸気管１３のバルブ２３を開くと、ファンが起動し、製造装置の排気管より導かれた有害ガスをシャワー室２６内に送り込む。この有害ガスは、ＨＦ、ＢＣl3、Ｃｌ2 を含有する混合ガスであるが、ＨＦ、ＢＣl3は水で分解しやすい標準水溶性有害ガスであり、又、Ｃｌ2は、標準水溶性有害ガスよりも水に溶けにくい、難水溶性有害ガス、である。
【００２５】
前記混合有害ガスは、シャワー室２６内で水噴霧を受けて予備除害され、ＨＦ、ＢＣl3等、デポ物、トラップ等は除害される。そのため、シャワー室２６から気液混合・撹拌装置４内に送り込まれる有害ガスは、Ｃｌ2 ガス（難水溶性有害ガス）だけとなる。
【００２６】
この難水溶性有害ガスは、気液混合・撹拌装置４内で処理液Ｗと混合撹拌され、該カ゛スは、微細な気泡、例えば、直径0.5〜3.0μmの気泡、となって液体槽１に戻され、本除害される。
この本除害では、除害装置Ｓが本来予定している有害ガス（難水溶性有害ガス）を除害するので、効率良く除害することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本件発明の実施例を示すブロック図である。
【符号の説明】
【００２８】
１    液体槽
４    気液混合・撹拌装置
１３  吸気管
２５  シャワー前処理手段
２６  シャワー室
２７  シャワー
Ｓ    除害装置
【図１】
2006263671.tif 000003