(57)【要約】【課題】  光の利用効率を維持して生産性を向上したマイクロレンズを備える透明基板、電気光学装置、画像形成装置及び電気光学装置の製造方法を提供する【解決手段】  ガラス基板３０の光取出し面３０ｂに凹溝３２を形成し、同凹溝３２内に、発光素子３６の配列方向（主走査方向Ｘ）を軸方向とする半円柱状のマイクロレンズ４０を、各凹溝３２の主走査方向Ｘ略全幅にわたり連続して形成した。そして、凹溝３２の深さ（近接距離Ｈｄ）分だけ、マイクロレンズ４０を発光素子３６に近接させるようにした。【選択図】      図３
2006130711.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光入射面側に入射した光を光取出し面側に形成したマイクロレンズから出射する透明基板において、
前記マイクロレンズは、
前記光取出し面に凹設された凹溝内に設けられ、一方向に連続する光学面を備えたことを特徴とする透明基板。
【請求項２】
請求項１に記載する透明基板において、
前記一方向は、前記凹溝の形成方向であって、
前記マイクロレンズは、前記一方向に光学面を備えた半円柱状凸レンズであることを特徴とする透明基板。
【請求項３】
請求項１に記載する透明基板において、
前記一方向は、前記凹溝の形成方向であって、
前記マイクロレンズは、前記一方向と直交する方向に光学面を備えた半円柱状凸レンズを前記一方向に配列した半円柱状群列凸レンズであることを特徴とする透明基板。
【請求項４】
透明基板の発光素子形成面上であって前記発光素子形成面の一方向に沿って配列された発光素子から発光された光を、前記発光素子形成面と相対向する前記透明基板の光取出し面側に形成されたマイクロレンズから出射する電気光学装置において、
前記マイクロレンズは、
前記光取出し面に凹設された凹溝内に設けられ、前記発光素子と対峙して前記一方向に連続する光学面を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項４に記載する電気光学装置において、
前記発光素子は、前記光取出し面側に形成した透明電極と、前記透明電極と相対して形成した背面電極と、前記透明電極と前記背面電極との間に形成した発光層とを備えたエレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項５に記載する電気光学装置において、
前記発光層は、有機材料で形成され、前記エレクトロルミネッセンス素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項４〜６のいずれか１つに記載する電気光学装置において、
前記一方向は、前記凹溝の形成方向であって、
前記マイクロレンズは、前記一方向に光学面を備えた半円柱状凸レンズであることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項４〜６のいずれか１つに記載する電気光学装置において、
前記一方向は、前記凹溝の形成方向であって、
前記マイクロレンズは、前記一方向と直交する方向に光学面を備えた半円柱状凸レンズを前記一方向に配列した半円柱状群列凸レンズであることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
像担持体の外周面を帯電させる帯電手段と、帯電した前記像担持体の外周面を露光して潜像を形成する露光手段と、前記潜像に対して着色粒子を供給して顕像を現像する現像手段と、前記顕像を転写媒体に転写する転写手段とを備えた画像形成装置において、
前記露光手段は、請求項４〜８のいずれか１つに記載する電気光学装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
透明基板の光取出し面に凹溝を形成し、前記光取出し面と相対向する前記透明基板の発光素子形成面上であって、前記凹溝と相対向する位置に複数の発光素子を形成し、前記凹溝内に液体噴射装置から液体を噴射させ、前記液体を固化することによって一方向に連続する光学面を備えたマイクロレンズを前記発光素子と対峙する位置に形成したことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記マイクロレンズは、前記液体噴射装置の噴射する液体によって、互いに離間する複数の液滴を前記凹溝内の形成方向に沿って形成した後に、各液滴の間に液体を噴射して各液滴を合一することによって形成した前記光学面を備える半円柱状レンズであることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記マイクロレンズは、前記液体噴射装置の前記凹溝内に噴射する液体によって、前記凹溝の形成方向と直交する方向に前記光学面を備える複数の半円柱状凸レンズを互いに離間して形成した後に、各半円柱状凸レンズの間に再び液体を噴射することによって形成した半円柱状群列凸レンズであることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明基板、電気光学装置、画像形成装置及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を用いた画像形成装置には、像担持体としての感光ドラムを露光して潜像を形成する電気光学装置としての露光ヘッドが利用されている。近年では、この露光ヘッドの薄型化と軽量化を図るために、その露光ヘッドの発光源として、発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を用いるものが知られている。
【０００３】
この有機ＥＬ素子を備えた露光ヘッド（以下単に、有機ＥＬ露光ヘッドという。）では、有機ＥＬ素子の長寿命化等を図るために、有機ＥＬ素子から発光された光の取出し効率を向上する提案がなされている（例えば、特許文献１）。特許文献１では、有機ＥＬ素子の形成された透明基板の一側面であってその有機ＥＬ素子から発光された光を取り出す面（光取出し面）にマイクロレンズを一体形成している。これによって、有機ＥＬ素子から発光された光をマイクロレンズによって集光して出射することができ、その利用効率を向上することができる。
【０００４】
しかし、特許文献１のマイクロレンズは、前記光取出し面であって同マイクロレンズを形成する領域を硝酸カリウム等の混合溶融塩に浸し、透明基板（ガラス基板）のイオン交換を行うことによってその屈折領域を形成している。そのため、透明基板やマイクロレンズの構成材料、さらにはその製造方法に制約を受け、有機ＥＬ露光ヘッドの生産性を損なう問題を招いていた。
【０００５】
そこで、こうした有機ＥＬ露光ヘッドでは、従来より、その構成材料や製造方法の選択幅を拡張するための提案がなされている（例えば、特許文献２）。特許文献２では、光取出し面側であって有機ＥＬ素子と対峙する位置に円形孔を設け、インクジェット法によって、同円形孔内に液体（樹脂）を噴射している。そして、噴射した樹脂を、紫外線の照射や乾燥等によって硬化させ、有機ＥＬ素子と対峙する位置にマイクロレンズを形成している。つまり、特許文献２によれば、マイクロレンズの構成材料を液体にすることができ、これによって、有機ＥＬ露光ヘッドの構成材料やその製造方法の選択幅を拡張することができている。
【特許文献１】特開２０００−７７１８８号広報
【特許文献２】特開２００３−１９８２６号広報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献２では、有機ＥＬ素子と略同じサイズの円形孔内に液体を噴射してマイクロレンズを形成するため以下の問題を生じる。すなわち、液体を噴射する噴射ノズルが前記円形孔の直上位置から位置ズレすると、マイクロレンズを形成するための所定の容量の液体を前記円形孔内に噴射することができなくなる。その結果、マイクロレンズの開口径や屈折率等にバラツキを生じ、マイクロレンズの生産性、ひいては有機ＥＬ露光ヘッドの生産性を損なう問題となる。
【０００７】
こうした問題は、前記円形孔のサイズを大きくすることによって改善可能と考えられるが、マイクロレンズの位置ズレを招き、その光の利用効率を低下させる問題となる。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、光の利用効率
を維持して生産性を向上したマイクロレンズを備える透明基板、電気光学装置、画像形成装置及び電気光学装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の透明基板は、光入射面側に入射した光を光取出し面側に形成したマイクロレンズから出射する透明基板において、前記マイクロレンズは、前記光取出し面に凹設された凹溝内に設けられ、一方向に連続する光学面を備えた。
【０００９】
本発明の透明基板によれば、マイクロレンズが一方向に連続する光学面を備える分だけ、同マイクロレンズを形成する位置の許容範囲を一方向に拡大することができ、マイクロレンズの生産性、ひいては透明基板の生産性を向上することができる。しかも、凹溝を形成する分だけ、同マイクロレンズを光入射面側に形成することができ、光入射面に対するマイクロレンズの開口角を大きくすることができる。従って、一方向を含む面内の光に対する利用効率の損失を、凹溝を形成する分だけ、一方向と直交する面内の光の利用効率によって補うことができる。ひいては、光の利用効率を維持した透明基板の生産性を向上することができる。
【００１０】
この透明基板において、前記一方向は、前記凹溝の形成方向であって、前記マイクロレンズは、前記一方向に光学面を備えた半円柱状凸レンズである。
この透明基板によれば、凹溝の形成方向に沿って光学面を備えた半円柱状凸レンズを形成することによって、透明基板の光の利用効率を維持して、その生産性を向上することができる。
【００１１】
この透明基板において、前記一方向は、前記凹溝の形成方向であって、前記マイクロレンズは、前記一方向と直交する方向に光学面を備えた半円柱状凸レンズを前記一方向に配列した半円柱状群列凸レンズである。
【００１２】
この透明基板によれば、凹溝の形成方向と直交する方向に光学面を備えた半円柱群列凸レンズを形成することによって、透明基板の光の利用効率を維持して、その生産性を向上することができる。
【００１３】
本発明の電気光学装置は、透明基板の発光素子形成面上であって前記発光素子形成面の一方向に沿って配列された発光素子から発光された光を、前記発光素子形成面と相対向する前記透明基板の光取出し面側に形成されたマイクロレンズから出射する電気光学装置において、前記マイクロレンズは、前記光取出し面に凹設された凹溝内に設けられ、前記発光素子と対峙して前記一方向に連続する光学面を備えた。
【００１４】
本発明の電気光学装置によれば、マイクロレンズが一方向に連続する光学面を備える分だけ、同マイクロレンズを形成する位置の許容範囲を一方向に拡大することができ、マイクロレンズの生産性、ひいては電気光学装置の生産性を向上することができる。しかも、凹溝を形成する分だけ、マイクロレンズを発光素子側に形成することができ、発光素子に対するマイクロレンズの開口角を大きくすることができる。従って、一方向を含む面内の光に対する利用効率の損失を、凹溝を形成する分だけ、同一方向と直交する面内の光の利用効率によって補うことができる。ひいては、光の利用効率を維持した電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００１５】
この電気光学装置において、前記発光素子は、前記光取出し面側に形成した透明電極と、前記透明電極と相対して形成した背面電極と、前記透明電極と前記背面電極との間に形成した発光層とを備えたエレクトロルミネッセンス素子である。
【００１６】
この電気光学装置によれば、エレクトロルミネッセンス素子を備えた電気光学装置の光の利用効率を補償して、その生産性を向上することができる。
この電気光学装置において、前記発光層は、有機材料で形成され、前記エレクトロルミネッセンス素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子である。
【００１７】
この電気光学装置によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた電気光学装置の光の利用効率を維持して、その生産性を向上することができる。
この電気光学装置において、前記一方向は、前記凹溝の形成方向であって、前記マイクロレンズは、前記一方向に光学面を備えた半円柱状凸レンズである。
【００１８】
この電気光学装置によれば、凹溝の形成方向に光学面を備える半円柱状凸レンズを凹溝内に形成することによって、同電気光学装置の光の利用効率を維持して生産性を向上することができる。
【００１９】
この電気光学装置において、前記一方向は、前記凹溝の形成方向であって、前記マイクロレンズは、前記一方向と直交する方向に光学面を備えた半円柱状凸レンズを前記一方向に配列した半円柱状群列凸レンズである。
【００２０】
この電気光学装置によれば、凹溝の形成方向と直交する方向に光学面を備える半円柱状群列凸レンズを凹溝内に備えることによって、同電気光学装置の光の利用効率を維持して生産性を向上することができる。
【００２１】
本発明の画像形成装置は、像担持体の外周面を帯電させる帯電手段と、帯電した前記像担持体の外周面を露光して潜像を形成する露光手段と、前記潜像に対して着色粒子を供給して顕像を現像する現像手段と、前記顕像を転写媒体に転写する転写手段とを備えた画像形成装置において、前記露光手段は、上記する電気光学装置を備えた。
【００２２】
本発明の画像形成装置によれば、帯電した像担持体を露光する露光手段が上記する電気光学装置を備えるようになる。従って、画像形成装置の露光における光の利用効率を維持して、その生産性を向上することができる。
【００２３】
本発明の電気光学装置の製造方法は、透明基板の光取出し面に凹溝を形成し、前記光取出し面と相対向する前記透明基板の発光素子形成面上であって、前記凹溝と相対向する位置に複数の発光素子を形成し、前記凹溝内に液体噴射装置から液体を噴射させ、前記液体を固化することによって一方向に連続する光学面を備えたマイクロレンズを前記発光素子と対峙する位置に形成した。
【００２４】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、液体噴射装置から噴射した液体を固化することによってマイクロレンズを形成することができる。従って、マイクロレンズの構成材料等の選択範囲を拡張することができる。しかも、そのマイクロレンズが一方向に連続する光学面を備える分だけ、同マイクロレンズに対する形成位置の許容範囲を一方向に拡大することができる。その結果、マイクロレンズの生産性、ひいては電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００２５】
さらにまた、凹溝を形成する分だけ、マイクロレンズを発光素子側に形成することができ、発光素子に対するマイクロレンズの開口角を大きくすることができる。従って、一方向を含む面内の光に対する利用効率の損失を、凹溝を形成する分だけ、同一方向と直交する面内の光の利用効率によって補うことができる。ひいては、光の利用効率を維持した電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００２６】
この電気光学装置の製造方法において、前記マイクロレンズは、前記液体噴射装置の噴射する液体によって、互いに離間する複数の液滴を前記凹溝内の形成方向に沿って形成した後に、各液滴の間に液体を噴射して各液滴を合一することによって形成した前記光学面を備える半円柱状レンズである。
【００２７】
この電気光学装置の製造方法によれば、凹溝内の形成方向に互いに離間する液滴を形成し、その液滴の間へ再び液体を噴射するため、液体の不均一な凝集を回避することができる。従って、液体噴射装置によって製造した半円柱状凸レンズを上記マイクロレンズとして構成することができ、電気光学装置の光の利用効率を維持して、その生産性を向上することができる。
【００２８】
この電気光学装置の製造方法において、前記マイクロレンズは、前記液体噴射装置の前記凹溝内に噴射する液体によって、前記凹溝の形成方向と直交する方向に前記光学面を備える複数の半円柱状凸レンズを互いに離間して形成した後に、各半円柱状凸レンズの間に再び液体を噴射することによって形成した半円柱状群列凸レンズである。
【００２９】
この電気光学装置の製造方法によれば、凹溝内の形成方向と直交する方向に光学面を備える複数の半円柱状凸レンズを互いに離間して形成した後に、その半円柱状凸レンズの間へ再び液体を噴射するため、液体の不均一な凝集を回避することができる。従って、液体噴射装置によって製造した半円柱状群列凸レンズを上記マイクロレンズとして構成することができ、電気光学装置の光の利用効率を維持して、その生産性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図７に従って説明する。図１は、画像形成装置としての電子写真方式プリンタを示す概略側断面図である。
（第１実施形態）
図１に示すように、電子写真方式プリンタ１０（以下単に、プリンタ１０という。）は、箱体状に形成される筐体１１を備えている。その筐体１１内には、駆動ローラ１２、従動ローラ１３及びテンションローラ１４が設けられ、各ローラ１２〜１４に対して転写媒体としての中間転写ベルト１５が張設されている。そして、駆動ローラ１２の回転によって、中間転写ベルト１５は、図１における矢印方向に循環駆動する。
【００３１】
中間転写ベルト１５の上方には、４体の像担持体としての感光ドラム１６が、中間転写ベルト１５の張設方向（副走査方向Ｙ）に回転可能に併設されている。その感光ドラム１６の外周面には、光導電性を有する感光層１６ａ（図４参照）が形成されている。感光層１６ａは、暗中でプラス又はマイナスの電荷を帯電し、所定の波長領域からなる光を照射されると、照射された部位の電荷が消失されるようになっている。すなわち、電子写真方式プリンタ１０は、これら４体の感光ドラム１６によって構成されるタンデム式のプリンタである。
【００３２】
各感光ドラム１６の周囲には、それぞれ帯電手段としての帯電ローラ１９、露光手段を構成する電気光学装置としての有機エレクロトルミネッセンスアレイ露光ヘッド２０（以下単に、露光ヘッド２０という。）、現像手段としてのトナーカートリッジ２１、転写手段を構成する一次転写ローラ２２及びクリーニング手段２３が配設されている。
【００３３】
帯電ローラ１９は、感光ドラム１６に密着する半導電性のゴムローラである。この帯電ローラ１９に直流電圧を印加して感光ドラム１６を回転すると、感光ドラム１６の感光層１６ａが、全周面にわたり所定の帯電電位に帯電するようになっている。
【００３４】
露光ヘッド２０は、所定の波長領域の光を出射する光源であって、図２に示すように、長尺板状に形成されている。その露光ヘッド２０は、その長手方向を感光ドラム１６の軸方向（図１において紙面に直交する方向：主走査方向Ｘ）と平行にして、感光層１６ａから所定の距離だけ離間した位置に位置決めされている。そして、露光ヘッド２０が印刷データに基づく光を鉛直方向Ｚ（図１参照）に出射し感光ドラム１６が回転方向Ｒｏに回転すると、感光層１６ａの外周面が所定の波長領域の光に露光される。すると、感光層１６ａは、露光された部位（露光スポット）の電荷を消失して、その外周面に静電的な画像（静電潜像）を形成する。ちなみに、この露光ヘッド２０の露光する光の波長領域は、感光層１６ａの分光感度と整合した波長領域である。つまり、露光ヘッド２０の露光する光の発光エネルギーのピーク波長は、前記感光層１６ａの分光感度のピーク波長と略一致するようになっている。
【００３５】
トナーカートリッジ２１は、箱体形状に形成されて、その内部に直径１０μｍ程度の着色粒子としてのトナーＴを収容する。なお、本実施形態における４体のトナーカートリッジ２１には、それぞれ対応する４色（黒、シアン、マゼンタ及びイエロ）のトナーＴが収容されている。そのトナーカートリッジ２１には、感光ドラム１６側から順に、現像ローラ２１ａと供給ローラ２１ｂが備えられている。供給ローラ２１ｂは、回転することによって、トナーＴを現像ローラ２１ａまで搬送するようになっている。現像ローラ２１ａは、供給ローラ２１ｂとの摩擦等によって、同供給ローラ２１ｂの搬送したトナーＴを帯電させるとともに、帯電したトナーＴを同現像ローラ２１ａの外周面に均一に付着させるようになっている。
【００３６】
そして、感光ドラム１６に前記帯電電位と相対するバイアス電位を印加し、供給ローラ２１ｂ及び現像ローラ２１ａを回転する。すると、感光ドラム１６は、前記露光スポットと現像ローラ２１ａ（トナーＴ）との間に、前記バイアス電位に相対する静電吸着力を付与する。この静電吸着力によって、現像ローラ２１ｃの外周面に付着したトナーＴが、感光ドラム１６の前記露光スポットに移動して吸着する。つまり、各感光ドラム１６（各感光層１６ａ）の外周面には、それぞれ静電潜像に対応した単色の可視像（顕像）が形成される（現像される）。
【００３７】
中間転写ベルト１５の内側面１５ａであって前記各感光ドラム１６と対峙する位置には、それぞれ一次転写ローラ２２が設けられている。一次転写ローラ２２は、導電性ローラであって、その外周面が中間転写ベルト１５の内側面１５ａに密着しながら回転するようになっている。そして、この一次転写ローラ２２に直流電圧を印加して感光ドラム１６及び中間転写ベルト１５を回転すると、感光層１６ａに吸着したトナーＴが、一次転写ローラ２２側への静電吸着力よって中間転写ベルト１５の外側面１５ｂに順次移動して吸着する。すなわち、一次転写ローラ２２は、感光ドラム１６に形成した顕像を中間転写ベルト１５の外側面１５ｂに一次転写する。そして、中間転写ベルト１５の外側面１５ｂは、各感光ドラム１６及び一次転写ローラ２２によって、単色からなる顕像の一次転写を４回繰り返し、これらの顕像を重ね合わせることによってフルカラーの画像（トナー像）を得る。
【００３８】
クリーニング手段２３は、図示しないＬＥＤ等の光源とゴムブレードを備え、前記一次転写後の感光層１６ａに光を照射して帯電した感光層１６ａを除電するようになっている。そして、クリーニング手段２３は、除電した感光層１６ａに残留するトナーＴをゴムブレードによって機械的に除去する。
【００３９】
中間転写ベルト１５の下側には、記録用紙Ｐを収容した記録用紙カセット２４が配設されている。その記録用紙カセット２４の上側には、記録用紙Ｐを中間転写ベルト１５側に給紙する給紙ローラ２５が配設されている。その給紙ローラ２５の上側にあって駆動ロー
ラ１２と相対向する位置には、転写手段を構成する二次転写ローラ２６が配設されている。二次転写ローラ２６は、前記各一次転写ローラ２２と同じく導電性ローラであって、記録用紙Ｐの裏面を押圧し、同記録用紙Ｐの表面を中間転写ベルト１５の外側面１５ｂに接触させている。そして、この二次転写ローラ２６に直流電圧を印加して中間転写ベルト１５を回転すると、中間転写ベルト１５の外側面１５ｂに吸着したトナーＴが、記録用紙Ｐの表面上に順次移動して吸着する。すなわち、二次転写ローラ２６は、中間転写ベルト１５の外側面１５ｂに形成されたトナー像を記録用紙Ｐの表面上に二次転写する。
【００４０】
二次転写ローラ２６の上側には、熱源を内蔵するヒートローラ２７ａと同ヒートローラ２７ａを押圧する押圧ローラ２７ｂが配設されている。そして、二次転写後の記録用紙Ｐがヒートローラ２７ａと押圧ローラ２７ｂとの間に搬送されると、記録用紙Ｐ上に転写されたトナーＴが、加熱によって軟化し、記録用紙Ｐ内に浸透して固化する。これによって、記録用紙Ｐの表面にトナー像が定着する。トナー像を定着させた記録用紙Ｐは、排紙ローラ２８によって筐体１１の外側に排出されるようになっている。
【００４１】
従って、プリンタ１０は、帯電した感光層１６ａを露光ヘッド２０によって露光し、同感光層１６ａに静電潜像を形成する。次に、プリンタ１０は、感光層１６ａの静電潜像を現像して同感光層１６ａに単色の顕像を形成する。続いて、プリンタ１０は、感光層１６ａの顕像を中間転写ベルト１５上に順次一次転写して同中間転写ベルト１５上にフルカラーのトナー像を形成する。そして、プリンタ１０は、中間転写ベルト１５上のトナー像を記録用紙Ｐ上に二次転写し、加熱加圧によってトナー像を定着させて印刷を終了する。
【００４２】
次に、上記する電気光学装置としての露光ヘッド２０について図２〜図４に従って以下に説明する。図２〜図４は、それぞれ露光ヘッド２０を示す平面図、正断面図及び側断面図である。
【００４３】
図２に示すように、露光ヘッド２０には、透明基板としてのガラス基板３０が備えられている。ガラス基板３０は、長尺状に形成された基板であって、その長手方向（主走査方向Ｘ）の幅が感光ドラム１６の軸方向の幅と略同じ大きさで形成されている。そして、本実施形態では、そのガラス基板３０について、上面（感光ドラム１６側と反対の面）を光入射面としての発光素子形成面３０ａとし、下面（感光ドラム１６側の面）を光取出し面３０ｂ（図３参照）としている。
【００４４】
まず、ガラス基板３０の発光素子形成面３０ａ側について以下に説明する。
図２に示すように、ガラス基板３０の発光素子形成面３０ａには、多数の画素形成領域３１が、その長手方向（主走査方向Ｘ）に沿って２列に併設されている。なお、本実施形態では、その画素形成領域３１の配列について、図２における上側の列を第１画素列３１ａ、図２における下側の列を第２画素列３１ｂとしている。
【００４５】
各画素形成領域３１には、それぞれ薄膜トランジスタ３５（以下単に、ＴＦＴ３５という。）と発光素子３６とからなる画素３７が形成されている。ＴＦＴ３５は、印刷データに基づいて生成されたデータ信号によってオン状態となり、そのオン状態に基づいて、発光素子３６を発光するようになっている。
【００４６】
図４に示すように、ＴＦＴ３５は、その最下層にチャンネル膜Ｂを備えている。チャンネル膜Ｂは、発光素子形成面３０ａ上に形成される島状のｐ型ポリシリコン膜であって、図４における左右両側には、活性化した図示しないｎ型領域（ソース領域及びドレイン領域）を備えている。つまり、ＴＦＴ３５は、いわゆるポリシリコン形ＴＦＴである。
【００４７】
チャンネル膜Ｂの上側中央位置には、発光素子形成面３０ａ側から順に、ゲート絶縁膜
Ｄ０、ゲート電極Ｐｇ及びゲート配線Ｍ１が形成されている。ゲート絶縁膜Ｄ０は、シリコン酸化膜等の光透過性を有する絶縁膜であって、発光素子形成面３０ａの略全面に堆積されている。ゲート電極Ｐｇは、タンタル等の低抵抗金属膜であって、チャンネル膜Ｂの略中央位置に形成されている。ゲート配線Ｍ１は、ＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜であって、ゲート電極Ｐｇと図示しないデータ線駆動回路とを電気的に接続している。そして、データ線駆動回路がゲート配線Ｍ１を介してゲート電極Ｐｇにデータ信号を入力すると、ＴＦＴ３５は、そのデータ信号に基づいたオン状態となる。
【００４８】
チャンネル膜Ｂであって前記ソース領域及びドレイン領域の上側には、鉛直方向Ｚに沿って上側に延びるソースコンタクトＳｃ及びドレインコンタクトＤｃが形成されている。各コンタクトＳｃ，Ｄｃは、チャンネル膜Ｂとのコンタクト抵抗を低くする金属シリサイド等の金属膜で形成されている。そして、これら各コンタクトＳｃ，Ｄｃ及びゲート電極Ｐｇ（ゲート配線Ｍ１）は、シリコン酸化膜等からなる第１層間絶縁膜Ｄ１によってそれぞれ電気的に絶縁されている。
【００４９】
各コンタクトＳｃ，コンタクトＤｃの上側には、それぞれアルミニウム等の低抵抗金属膜からなる電源線Ｍ２ｓ及び陽極線Ｍ２ｄが形成されている。電源線Ｍ２ｓは、ソースコンタクトＳｃと図示しない駆動電源とを電気的に接続している。陽極線Ｍ２ｄは、ドレインコンタクトＤｃと発光素子３６とを電気的に接続している。これら電源線Ｍ２ｓ及び陽極線Ｍ２ｄは、シリコン酸化膜等からなる第２層間絶縁膜Ｄ２によってそれぞれ電気的に絶縁されている。そして、ＴＦＴ３５がデータ信号に基づいたオン状態となると、そのデータ信号に応じた駆動電流が、電源線Ｍ２ｓ（駆動電源）から陽極線Ｍ２ｄ（発光素子３６）に供給される。
【００５０】
図４に示すように、第２層間絶縁膜Ｄ２の上側には、発光素子３６が形成されている。その発光素子３６の最下層には、透明電極としての陽極Ｐｃが形成されている。陽極Ｐｃは、ＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜であって、その一端が陽極線Ｍ２ｄに接続されている。その陽極Ｐｃの上側外周には、同陽極Ｐｃを囲むように第３層間絶縁膜Ｄ３が堆積されている。第３層間絶縁膜Ｄ３は、感光性ポリイミドやアクリル等の樹脂膜で形成され、各発光素子３６の陽極Ｐｃを電気的に絶縁している。また、第３層間絶縁膜Ｄ３は、陽極Ｐｃの上側を略円形孔状に開放して、その内周面からなる隔壁Ｄ３ａを形成している。その隔壁Ｄ３ａの陽極Ｐｃ側の内径は整合半径Ｒによって形成されている。
【００５１】
陽極Ｐｃの上側にあって隔壁Ｄ３ａの内側には、有機材料からなる有機エレクトロルミネッセンス層（有機ＥＬ層）Ｏｅが形成されている。有機ＥＬ層Ｏｅは、正孔輸送層と発光層の２層からなる有機化合物層である。その有機ＥＬ層Ｏｅの上側には、アルミニウム等の光反射性を有する金属膜からなる背面電極としての陰極Ｐａが形成されている。陰極Ｐａは、発光素子形成面３０ａ側全面を覆うように形成され、各画素３７が共有することによって各発光素子３６に共通する電位を供給するようになっている。
【００５２】
すなわち、発光素子３６は、これら陽極Ｐｃ、有機ＥＬ層Ｏｅ及び陰極Ｐａによって形成される有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）であって、その発光面（有機ＥＬ層Ｏｅ）の内径が前記整合半径Ｒで形成されている。
【００５３】
陰極Ｐａの上側には、封止部Ｐ１が形成されている。封止部Ｐ１は、樹脂等のコーティング材で形成され、各種金属膜や有機ＥＬ層Ｏｅの酸化等を防止するようになっている。
そして、データ信号に応じた駆動電流が陽極線Ｍ２ｄに供給されると、有機ＥＬ層Ｏｅは、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層Ｏｅから陰極Ｐａ側（図４における上側）に向かって発光された光は、同陰極Ｐａによって反射される。そのため、有機ＥＬ層Ｏｅから発光された光は、その殆どが、陽極Ｐｃ、第２層間絶縁膜Ｄ２、第
１層間絶縁膜Ｄ１、ゲート絶縁膜Ｄ０及びガラス基板３０を通過して光取出し面３０ｂ側（感光ドラム１６側）に照射される。
【００５４】
次に、ガラス基板３０の光取出し面３０ｂ側について以下に説明する。
図３に示すように、ガラス基板３０の発光素子形成面３０ａと相対向する側の面（光取出し面３０ｂ）には、各画素列３１ａ，３１ｂと相対向するように２列の凹溝３２（図２に破線で図示）が凹設されている。凹溝３２は、形成方向としての長手方向の幅（主走査方向Ｘの幅）が各画素列３１ａ，３１ｂの主走査方向Ｘの幅と略同じ大きさで形成されている。また、凹溝３２は、図４に示すように、その左右幅（副走査方向Ｙの幅）が有機ＥＬ層Ｏｅの直径よりも若干大きく形成され、その深さが近接距離Ｈｄで形成されている。
【００５５】
凹溝３２内であってその溝底面３２ａには、図４に示すように、マイクロレンズ４０が形成されている。マイクロレンズ４０は、有機ＥＬ層Ｏｅの発光波長に対して十分な透過率を有する半円柱状凸レンズ（シリンドリカルレンズ）であって、図４において紙面と直行する方向（主走査方向Ｘ）にその外周面（光学面としての出射面４０ａ）を有している。そのマイクロレンズ４０は、図２の破線に示すように、各画素列３１ａ，３１ｂの配列方向（主走査方向Ｘ）略全幅にわたり形成され、図４に示すように、鉛直方向Ｚに沿った光軸Ａを有している。また、マイクロレンズ４０は、各発光素子３６（有機ＥＬ層Ｏｅ）と対峙する位置に連続して形成され、その曲率半径が、有機ＥＬ層Ｏｅの内径、すなわち整合半径Ｒと略同じ大きさで形成されている。マイクロレンズ４０は、その曲率半径に対応する屈折力によって、出射面４０ａによる結像性能を有するようになっている。
【００５６】
そして、発光素子３６から発光された光が入射すると、半円柱状に形成されるマイクロレンズ４０は、主走査方向Ｘと直交する面内の光を屈折して集光する。反対に、同マイクロレンズ４０は、副走査方向Ｙと直交する面内の光を集光（利用）することなく出射する。
【００５７】
一方、図４に示すように、このマイクロレンズ４０が凹溝３２内に形成されることによって、出射面４０ａが光取出し面３０ｂから近接距離Ｈｄ分だけ有機ＥＬ層Ｏｅ側に近接される。これによって、光軸Ａ上の有機ＥＬ層Ｏｅからマイクロレンズ４０の直径に対して張る角度（開口角θ）が、同マイクロレンズ４０を光取出し面３０ｂ上に形成したときの開口角に比べて、近接距離Ｈｄ分だけ増加する。つまり、マイクロレンズ４０は、その出射面４０ａの集光する集光能力、すなわち発光素子３６から発光された光の利用効率を開口角θの増加分だけ増加する。
【００５８】
従って、マイクロレンズ４０は、主走査方向Ｘ（凹溝３２の形成方向）と直交する面内の光の利用効率を増加して、副走査方向Ｙと直交する面内の光の利用効率の損失を補う。そして、マイクロレンズ４０は、発光素子３６と対峙する位置に発光素子３６と略同サイズのレンズを形成する場合に比べ、その形成位置の許容範囲を主走査方向Ｘに拡大することを可能にする。
【００５９】
なお、本実施形態では、図４に示すように、マイクロレンズ４０は出射面４０ａの頂点と感光層１６ａとの間の距離をマイクロレンズ４０の像側焦点距離Ｈｆとする位置に位置決めされている。つまり、マイクロレンズ４０は、有機ＥＬ層Ｏｅから光軸Ａに沿って発光された光線（平行光線束Ｌ１）の光軸Ａとの交点（像側焦点Ｆ）を感光層１６ａ上に位置するようになっている。これによって、マイクロレンズ４０の出射する光が所望するサイズの露光スポットを感光層１６ａに形成するようになっている。
【００６０】
次に、上記する露光ヘッド２０の製造方法について図５〜図７に従って以下に説明する。図５は、凹溝３２の製造工程を説明する説明図であって、図６及び図７は、マイクロレ
ンズ４０の製造工程を説明する説明図である。
【００６１】
まず、ガラス基板３０の光取出し面３０ｂ全面に、サンドブラスト用のマスク剤Ｍｋを塗布し、図５に示すように、そのマスク剤Ｍｋに凹溝３２に相対するサイズの矩形孔Ｍｈをパターニングする。次に、公知のサンドブラスト装置によって、無機酸化物等のサンドＳｂを光取出し面３０ｂに向かって吹きつけ、矩形孔Ｍｈ内の光取出し面３０ｂ（ガラス基板３０）を所定の深さ（近接距離Ｈｄ）まで削り取り、光取出し面３０ｂ上からマスク剤Ｍｋを除去する。これによって、光取出し面３０ｂに、深さが近接距離Ｈｄからなる溝（凹溝３２）（図５における２点鎖線）を形成する。凹溝３２を形成すると、同凹溝３２内にフッ素系樹脂分散液を注入し、同分散液を凹溝３２周面に付着させて凹溝３２の溝底面３２ａを平坦化するとともに、後述する紫外線硬化性樹脂Ｐｕを同凹溝３２内で撥液する撥液化を行う。
【００６２】
光取出し面３０ｂに凹溝３２を形成すると、続いて、発光素子形成面３０ａに画素３７を形成する。その画素３７の形成方法を図４に従って以下に説明する。
凹溝３２を形成すると、発光素子形成面３０ａ全面に、ジシラン等を原料ガスにするＣＶＤ法等によってアモルファスシリコン膜を堆積する。次に、堆積したアモルファスシリコン膜にエキシマレーザ等による紫外光を照射して発光素子形成面３０ａ全面に結晶化したポリシリコン膜を形成する。そして、フォトリソグラフィ法及びエッチング法等によって同ポリシリコン膜をパターニングし、図４に示すように、チャンネル膜Ｂを形成する。
【００６３】
チャンネル膜Ｂを形成すると、シラン等を原料ガスにするＣＶＤ法等によってチャンネル膜Ｂ及び発光素子形成面３０ａの上側全面にシリコン酸化膜等を堆積してゲート絶縁膜Ｄ０を形成する。ゲート絶縁膜Ｄ０を形成すると、スパッタ法等によって同ゲート絶縁膜Ｄ０の上側全面にタンタル等の低抵抗金属膜を堆積し、同低抵抗金属膜をパターニングすることによって、ゲート絶縁膜Ｄ０の上側にゲート電極Ｐｇを形成する。ゲート電極Ｐｇを形成すると、同ゲート電極Ｐｇをマスクにしたイオンドーピング法によって、チャンネル膜Ｂにｎ型領域（ソース領域及びドレイン領域）を形成する。そして、スパッタ法等によってゲート電極Ｐｇ及びゲート絶縁膜Ｄ０の上側全面にＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜を堆積し、同透明導電膜をパターニングすることによって、ゲート電極Ｐｇの上側にゲート配線Ｍ１を形成する。
【００６４】
ゲート配線Ｍ１を形成すると、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）等を原料にするＣＶＤ法によってゲート配線Ｍ１及びゲート絶縁膜Ｄ０の上側全面にシリコン酸化膜等を堆積して第１層間絶縁膜Ｄ１を形成する。第１層間絶縁膜Ｄ１を形成すると、フォトリソグラフィ法やエッチング法等によって、ソース領域及びドレイン領域から鉛直方向Ｚに沿って第１層間絶縁膜Ｄ１の上側までを開放する一対の円形孔（コンタクトホールＨｒ，Ｈｓ）を形成する。次に、スパッタ法等によって同コンタクトホールＨｒ，Ｈｓ内を金属シリサイド等で埋め込みながら第１層間絶縁膜Ｄ１の上側全面に金属膜を堆積する。そして、エッチング法等によって同コンタクトホールＨｒ，Ｈｓ内以外の金属膜を除去し、ソースコンタクトＳｃ及びドレインコンタクトＤｃを形成する。
【００６５】
各コンタクトＳｃ，Ｄｃを形成すると、スパッタ法等によって同コンタクトＳｃ，Ｄｃ及び第１層間絶縁膜Ｄ１の上側全面にアルミニウム等の金属膜を堆積し、同金属膜をパターニングして各コンタクトＳｃ，Ｄｃに接続する電源線Ｍ２ｓ及び陽極線Ｍ２ｄを形成する。次に、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）等を原料にするＣＶＤ法によって、これら電源線Ｍ２ｓ、陽極線Ｍ２ｄ及び第１層間絶縁膜Ｄ１の上側全面にシリコン酸化膜等を堆積して第２層間絶縁膜Ｄ２を形成する。続いて、フォトリソグラフィ法やエッチング法等によって、陽極線Ｍ２ｄの一部から鉛直方向Ｚに沿って第２層間絶縁膜Ｄ２の上側まで開放する円形孔（ビアホールＨｖ）を形成する。ビアホールＨｖを形成すると、スパッタ法
等によって、同ビアホールＨｖ内を埋め込みながら第２層間絶縁膜Ｄ２の上側全面にＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜を堆積する。そして、この透明導電膜をパターニングして、図４に示すように、凹溝３２と相対向する位置周辺にビアホールＨｖを介して陽極線Ｍ２ｄと接続する陽極Ｐｃを形成する。
【００６６】
陽極Ｐｃを形成すると、同陽極Ｐｃ上であって凹溝３２と相対向する位置にレジスト等のマスクを形成して、同陽極Ｐｃ及び第２層間絶縁膜Ｄ２の上側全面に感光性ポリイミドやアクリル等の樹脂膜を堆積する。そして、前記レジスト等を剥離して、整合半径Ｒを有する隔壁Ｄ３ａを備えた第３層間絶縁膜Ｄ３を形成する。
【００６７】
第３層間絶縁膜Ｄ３を形成すると、インクジェット法等によって、隔壁Ｄ３ａに囲まれた陽極Ｐｃ上に正孔輸送層の構成材料を噴射し、その構成材料を乾燥及び固化することによって正孔輸送層を形成する。さらに、インクジェット法等によって、同正孔輸送層上に発光層の構成材料を噴射し、その構成材料を乾燥及び固化することによって発光層を形成する。これによって、内径を整合半径Ｒにする正孔輸送層と発光層とを備えた有機ＥＬ層Ｏｅを形成する。
【００６８】
有機ＥＬ層Ｏｅを形成すると、スパッタ法等によって、同有機ＥＬ層Ｏｅ及び第３層間絶縁膜Ｄ３の上側全面にアルミニウム等の金属膜を堆積して陰極Ｐａを形成する。陰極Ｐａを形成すると、ＣＶＤ法等によって、陰極Ｐａの上側全面に樹脂等のコーティング材を堆積して封止部Ｐ１を形成する。これによって、発光素子形成面３０ａ上に、凹溝３２と相対向する発光素子３６を備えた画素３７を形成する。
【００６９】
画素３７を形成すると、続いて、凹溝３２内にマイクロレンズ４０を形成する。まず、マイクロレンズ４０を形成するための液体噴射装置の構成について説明する。
図６に示すように、光取出し面３０ｂの上側には、液体噴射装置を構成する液体噴射ヘッド４５が配置されている。その液体噴射ヘッド４５には、ノズルプレート４６が備えられている。そのノズルプレート４６の一側面であって光取出し面３０ｂ側の面（ノズル形成面４６ａ）には、液体としての紫外線硬化性樹脂Ｐｕ（以下単に、樹脂Ｐｕという。）を噴射する多数のノズルＮが、図６における矢印方向Ｓａ（図３における主走査方向Ｘ）に沿って配列されている。そのノズルＮの配列ピッチは、発光素子３６の配列ピッチと同じピッチ幅で形成されている。なお、本実施形態における液体噴射装置は、ガラス基板３０を図示しない基板ステージに載置して、同ガラス基板３０の光取出し面３０ｂをノズル形成面４６ａと平行にするようになっている。さらに、液体噴射装置は、その基板ステージを移動して、凹溝３２をノズルＮに対して矢印方向Ｓａに相対移動するようになっている。
【００７０】
各ノズルＮの上側には、図示しない収容タンクに連通して樹脂ＰｕをノズルＮ内に供給可能にする供給室４６ｂが形成されている。各供給室４６ｂの上側には、上下方向に往復振動して供給室４６ｂ内の容積を拡大縮小する振動板４７が配設されている。その振動板４７の上側であって各供給室４６ｂと相対向する位置には、それぞれ上下方向に伸縮動して振動板４７を振動させる圧電素子４８が配設されている。
【００７１】
次に、上記する液体噴射装置によってマイクロレンズ４０を製造する製造方法について説明する。
今、液体噴射ヘッド４５にマイクロレンズ４０を形成するため駆動信号を入力する。すると、前記基板ステージがガラス基板３０を移動し、第１画素列３１ａと相対向する凹溝３２であってその図６における左端部を、液体噴射ヘッド４５（ノズルＮ）の直下に配置する。ノズルＮの直下に凹溝３２の左端部を配置すると、基板ステージは、凹溝３２（ガラス基板３０）を矢印方向Ｓａに移動する。そして、各発光素子３６（有機ＥＬ層Ｏｅ）
の中心位置が対応するノズルＮの直下を通過すると、液体噴射ヘッド４５は、入力された駆動信号に基づいて、圧電素子４８を伸縮動して供給室４６ｂの容積を拡大縮小する。この時、供給室４６ｂの容積が縮小すると、縮小した容積分の樹脂Ｐｕが、各ノズルＮから微小液滴Ｄｓとして凹溝３２内に噴射される。続いて、供給室４６ｂの容積が拡大すると、拡大した容積分の樹脂Ｐｕが、図示しない収容タンクから供給室４６ｂ内に供給される。つまり、液体噴射ヘッド４５は、こうした供給室４６ｂの拡大縮小を所定の回数だけ繰返し、凹溝３２内であって発光素子３６と対峙する位置に、前記微小液滴Ｄｓを噴射して液滴Ｄａを形成する。
【００７２】
凹溝３２内に形成された液滴Ｄａは、その表面張力と撥液化した凹溝３２の内周面とによって略半球面状に凝集する。なお、液滴Ｄａを形成するために微小液滴Ｄｓを噴射する前記所定の回数は、液滴Ｄａの半径を略整合半径Ｒとする回数であって、図６に示すように、同液滴Ｄａの外周に、隣り合う液滴Ｄａと接触しない隙間Ｓを形成する回数である。
【００７３】
第１画素列３１ａの配列方向略全幅にわたり液滴Ｄａを形成すると、再び、前記基板ステージが移動して、前記凹溝３２の左端部を再度液体噴射ヘッド４５（ノズルＮ）の直下に配置する。ノズルＮの直下に凹溝３２の左端部を配置すると、基板ステージは、同凹溝３２の左端部を矢印方向Ｓａに移動する。そして、各隙間Ｓが対応するノズルＮの直下を通過すると、液体噴射ヘッド４５は、図７に示すように、圧電素子４８を伸縮動して微小液滴Ｄｓを同隙間Ｓ内に噴射する。この際、凹溝３２内に先行して形成された液滴Ｄａは、基板ステージの移動時間等によって、その溶媒成分を揮発して増粘する。そのため、各液滴Ｄａは、その形成位置を維持するようにして隙間Ｓの微小液滴Ｄｓと合一し、図７に示すように、第１画素列３１ａの配列方向に沿って連続する半円柱状の液滴Ｄｂを形成する。
【００７４】
以後、同様に、第２画素列３１ｂと相対向する凹溝３２内に液滴Ｄｂを形成する。
そして、各画素列３１ａ，３１ｂの配列方向略全幅にわたり液滴Ｄｂを各凹溝３２内に形成すると、同凹溝３２内に向かって紫外光を照射して各液滴Ｄｂを硬化する。これによって、各画素列３１ａ，３１ｂの発光素子３６と相対向する位置に、それぞれ曲率半径が整合半径Ｒと略同じ大きさで形成される半円柱状凸レンズ（マイクロレンズ４０）を製造する。
【００７５】
次に、上記のように構成した第１実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態では、ガラス基板３０の光取出し面３０ｂに凹溝３２を形成し、同凹溝３２内であって発光素子３６の配列方向（主走査方向Ｘ）略全幅にわたり、半円柱状のマイクロレンズ４０を形成した。従って、発光素子３６と対峙する位置に、同発光素子３６と略同サイズのマイクロレンズを形成する場合に比べ、マイクロレンズ４０の形成位置の許容範囲を主走査方向Ｘに拡大することができる。その結果、マイクロレンズ４０の生産性、ひいては露光ヘッド２０及びプリンタ１０の生産性を向上することができる。
【００７６】
（２）しかも、凹溝３２の深さ（近接距離Ｈｄ）分だけ、マイクロレンズ４０（出射面４０ａ）を発光素子３６に近接させることができる。その結果、主走査方向Ｘと直交する面内の光の利用効率を増加することができ、副走査方向Ｙと直交する面内の光の利用効率の損失を補うことができる。すなわち、発光素子３６から発光された光の利用効率を維持して、マイクロレンズ４０の生産性、ひいては露光ヘッド２０及びプリンタ１０の生産性を向上することができる。
【００７７】
（３）上記実施形態では、微小液滴Ｄｓを凹溝３２内に噴射し、隙間Ｓを有する液滴Ｄａを形成した。そして、液滴Ｄａを形成した後に、同隙間Ｓへ微小液滴Ｄｓを噴射するようにした。従って、樹脂Ｐｕを不均一に合一することなく半円柱状の液滴Ｄｂを形成する
ことができ、同液滴Ｄｂに相対する半円柱状のマイクロレンズ４０を形成することができる。
【００７８】
（４）しかも、マイクロレンズ４０を形成する位置の許容範囲を主走査方向Ｘに拡大することができるため、ノズルＮの発光素子３６に対する位置ズレの許容範囲を拡大することができる。その結果、液体噴射装置によるマイクロレンズ４０の生産性、ひいては露光ヘッド２０及びプリンタ１０の生産性を向上することができる。
【００７９】
（５）上記実施形態では、光取出し面３０ｂに凹設した凹溝３２内にマイクロレンズ４０の出射面４０ａを形成するようにした。従って、凹溝３２（光取出し面３０ｂ）によってマイクロレンズ４０を保護することができ、マイクロレンズ４０を形成した後のガラス基板３０の組み付け作業等を容易にすることができる。その結果、露光ヘッド２０及びプリンタ１０の生産性を向上することができる。
【００８０】
（６）上記実施形態では、画素３７を形成した後にマイクロレンズ４０を形成するようにした。従って、画素３７を形成する時の各種原料等によるマイクロレンズ４０の汚染や破損を回避することができる。その結果、マイクロレンズ４０の生産性、ひいては露光ヘッド２０及びプリンタ１０の生産性を向上することができる。
【００８１】
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を、図８〜図１１に従って説明する。尚、第２実施形態は、第１実施形態におけるマイクロレンズの形状及び製造方法を変更したものであり、その他の点では第１実施形態と同一の構成になっている。そのため以下では、マイクロレンズの形状及び製造方法について詳細に説明する。図８〜図１０は、それぞれ露光ヘッド２０を発光素子形成面３０ａから見た平面図、露光ヘッド２０を光取出し面３０ｂから見た平面図及び露光ヘッド２０の正断面図である。図１１は、露光ヘッド２０の製造工程を説明する説明図である。
【００８２】
図９及び図１０に示すように、凹溝３２内であってその溝底面３２ａには、マイクロレンズ５０が形成されている。マイクロレンズ５０は、有機ＥＬ層Ｏｅの発光波長に対して十分な透過率を有する半円柱群列凸レンズ（レンチキュラーレンズ）であって、図１０において紙面と直交する方向（副走査方向Ｙ：図８参照）に光学面としての出射面５０ａを有している。そのマイクロレンズ５０は、図１０に示すように、凹溝３２の長手方向（主走査方向Ｘ）全幅にわたり形成されて、各発光素子３６と対峙する位置に半円柱状凸レンズ（第１及び第２レンズ５１ａ，５１ｂ）を有している。
【００８３】
なお、本実施形態では、図１０において凹溝３２の左端部から奇数番目の半円柱状凸レンズを第１レンズ５１ａとし、偶数番目の半円柱状凸レンズを第２レンズ５１ｂとする。第１及び第２レンズ５１ａ，５１ｂは、その曲率半径が発光素子３６（有機ＥＬ層Ｏｅ）の内径、すなわち整合半径Ｒよりも大きいサイズで形成されている。マイクロレンズ５０は、その曲率半径に対応する屈折力によって、出射面５０ａによる結像性能を有するようになっている。
【００８４】
そして、発光素子３６から発光された光が入射すると、半円柱状に形成されるマイクロレンズ５０は、副走査方向Ｙと直交する面内の光を屈折して集光する。反対に、マイクロレンズ５０は、主走査方向Ｘと直交する面内の光を集光（利用）することなく出射する。
【００８５】
一方、このマイクロレンズ５０が凹溝３２内に形成されることによって、その出射面５０ａが、光取出し面３０ｂから近接距離Ｈｄ分だけ発光素子３６側に近接される。従って、マイクロレンズ５０は、副走査方向Ｙと直交する面内の光の利用効率の増加によって、
主走査方向Ｘ（凹溝３２の形成方向）と直交する面内の光の利用効率の損失を補う。そして、マイクロレンズ５０は、発光素子３６と対峙する位置に発光素子３６と略同サイズのレンズを形成する場合に比べ、その形成位置の許容範囲を副走査方向Ｙに拡大することを可能にする。
【００８６】
次に、上記する露光ヘッド２０の製造方法について図１１に従って以下に説明する。なお、本実施形態では、第１実施形態に記載する液体噴射装置（液体噴射ヘッド４５）によって露光ヘッド２０を製造するため、図１１では、重複する液体噴射ヘッド４５の記載を、説明の便宜上省略する。
【００８７】
今、液体噴射ヘッド４５（図６参照）にマイクロレンズ５０を形成するための駆動信号を入力する。すると、第１実施形態と同じく、基板ステージがガラス基板３０を移動し、第１画素列３１ａと相対向する凹溝３２であって図１１における左端部を、液体噴射ヘッド４５（ノズルＮ）の直下に配置する。ノズルＮの直下に凹溝３２の左端部を配置すると、基板ステージは、凹溝３２（ガラス基板３０）を矢印方向Ｓａに移動する。そして、各発光素子３６（有機ＥＬ層Ｏｅ：図４参照）の中心位置がノズルＮの直下を通過すると、液体噴射ヘッド４５は、図１１における紙面と直交する方向に凹溝３２の溝幅分だけ往復動して、凹溝３２内であってその左端部から奇数番目の発光素子３６と対峙する位置に微小液滴Ｄｓ（図６参照）を噴射する。これによって、図１１における紙面に直交する方向（副走査方向Ｙ）に外周面を有する半円柱状の液滴を所定の配列ピッチ（発光素子３６の配列ピッチの２倍のピッチ幅）で形成する。なお、この液滴の曲率半径は、第２レンズ５１ｂの曲率半径と略同じサイズで形成されるものとする。
【００８８】
そして、前記半円柱状の液滴を凹溝３２の長手方向に沿って併設すると、同凹溝３２内に紫外光を照射して前記液滴を硬化する。これによって、図１１の紙面に直交する方向（副走査方向Ｙ）に外周面を有する半円柱状の第２レンズ５１ｂを形成する。
【００８９】
第２レンズ５１ｂを形成すると、再び液体噴射ヘッド４５を駆動し、溝底面３２ａ上であって第２レンズ５１ｂの間に微小液滴Ｄｓを噴射する。この際、第２レンズ５１ｂが紫外線の照射によって硬化されているため、噴射された微小液滴Ｄｓは、第２レンズ５１ｂ内に流動することなく、その表面張力によって、第１レンズ５１ａの出射面５０ａに相対する曲面（図１１の２点鎖線）を呈して凝集する。そして、凹溝３２内に向かって再び紫外線を照射して樹脂Ｐｕを硬化し、第１及び第２レンズ５１ａ，５１ｂを交互に配列したマイクロレンズ５０を形成する。以後、同様に、第２画素列３１ｂと相対向する凹溝３２内にマイクロレンズ５０を形成する。
【００９０】
次に、上記のように構成した第２実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態では、ガラス基板３０の光取出し面３０ｂに凹溝３２を形成し、同凹溝３２内であって発光素子３６の配列方向（主走査方向Ｘ）全幅にわたり、レンチキュラー状のマイクロレンズ５０を形成した。従って、発光素子３６と対峙する位置に、同発光素子３６と略同サイズのマイクロレンズを形成する場合に比べ、マイクロレンズ５０を形成する位置の許容範囲を副走査方向Ｙに拡大することができる。その結果、マイクロレンズ４０の生産性、ひいては露光ヘッド２０及びプリンタ１０の生産性を向上することができる。
【００９１】
（２）しかも、凹溝３２の深さ（近接距離Ｈｄ）分だけ、マイクロレンズ５０（出射面５０ａ）を発光素子３６に近接させることができる。その結果、副走査方向Ｙと直交する面内の光の利用効率を増加することができ、主走査方向Ｘと直交する面内の光の利用効率の損失を補うことができる。すなわち、発光素子３６から発光された光の利用効率を維持して、マイクロレンズ５０の生産性、ひいては露光ヘッド２０及びプリンタ１０の生産性
を向上することができる。
【００９２】
（３）上記実施形態では、凹溝３２に半円柱状の液滴を形成し、同液滴を紫外線照射によって硬化して第１レンズ５１ａを形成した。そして、同第１レンズ５１ａの間に樹脂Ｐｕを噴射して第２レンズ５１ｂを形成した。従って、樹脂Ｐｕを不均一に合一することなくレンチキュラー状のマイクロレンズ４０を形成することができる。
【００９３】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、透明基板をガラス基板３０として具体化したが、これに限らず、例えばポリイミド等のプラスチック基板であってもよく、有機ＥＬ層Ｏｅから発光された光を透過する透明基板であればよい。
・上記実施形態では、凹溝３２をサンドブラスト法によって形成した。これに限らず、凹溝３２を形成する方法は、例えば、エキシマレーザやフェムト秒レーザ等によるレーザ加工であってもよく、発光素子３６と相対向する位置に凹溝３２を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。
・上記実施形態では、凹溝３２を形成した後にサンドブラスト用のマスク剤Ｍｋを除去するようにした。これを変更して、同マスク剤Ｍｋを除去すること無く、光取出し面３０ｂ上に残す構成にしてもよい。
・上記実施形態におけるマイクロレンズ４０，５０の曲率半径及び屈折力は、有機ＥＬ層Ｏｅから発光された光を集光して光取出し面３０ｂ側に所望するサイズの露光スポットを形成するものであればよい。
・上記実施形態における凹溝３２の内周面を撥液化した。これに限らず、溝底面３２ａが、マイクロレンズ４０，５０を形成するための液体に対する親液性を備える構成にしてもよい。これによれば、凹溝３２内に噴射された液体と溝底面３２ａとの密着性、すなわちマイクロレンズ４０，５０とガラス基板３０との密着性を向上することができる。
・上記実施形態では、画素３７を形成した後にマイクロレンズ４０，５０を形成するようにした。これに限らず、画素３７を形成する前にマイクロレンズ４０，５０を形成するようにしてもよい。
・上記実施形態では、マイクロレンズ４０，５０を凸レンズとして具体化したが、これに限らず例えば凹レンズとして具体化してもよい。
・上記実施形態では、マイクロレンズ４０，５０を紫外線硬化性樹脂Ｐｕによって形成する構成にしたが、これに限らず、熱硬化性樹脂等で形成してもよい。
・上記実施形態では、出射面４０ａの頂点と感光層１６ａとの間の距離を像側焦点距離Ｈｆとし、有機ＥＬ層Ｏｅから発光された光を感光層１６ａ上で収束するようにした。これに限らず、出射面４０ａの頂点と感光層１６ａとの間の距離は、例えば有機ＥＬ層Ｏｅの等倍像を得る距離にしてもよく、像側焦点距離Ｈｆ等に限定されるものではない。
・上記実施形態では、マイクロレンズ４０，５０を液体噴射装置によって形成する構成にした。これに限らず、例えばレプリカ法等によって形成したマイクロレンズ４０，５０を凹溝３２内に取付ける構成にしてもよい。
・上記実施形態では、発光素子３６の発光を制御するＴＦＴ３５を各画素３７に１個備える構成にした。これに限らず、発光素子３６の発光を制御するＴＦＴ３５を各画素３７に２個以上備える構成にしてもよく、あるいはＴＦＴ３５をガラス基板３０に備えない構成にしてもよい。
・上記実施形態では、有機ＥＬ層Ｏｅをインクジェット法によって形成する構成にした。これに限らず、有機ＥＬ層Ｏｅの形成方法は、例えば、スピンコート法や真空蒸着法等であってもよく、インクジェット法に限定されるものではない。
・上記第１実施形態では、光軸Ａ方向から見て、凹溝３２のサイズをマイクロレンズ４０よりも大きいサイズで形成したが、これに限らず、凹溝３２のサイズをマイクロレンズ４０のサイズと同じ大きさで形成してもよい。これによれば、凹溝３２の内周面によってマイクロレンズ４０の形成する位置を位置決めすることができる。
・上記実施形態では、電気光学装置を露光ヘッド２０として具体化したが、これに限らず、例えば液晶パネルに装着されるバックライト等であってもよく、あるいは平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型ディスプレイ（ＦＥＤやＳＥＤ等）であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】本発明を具体化した第１実施形態の画像形成装置を示す概略側断面図。
【図２】同じく、露光ヘッドを示す概略平面図。
【図３】同じく、露光ヘッドを示す概略正断面図。
【図４】同じく、露光ヘッドを示す拡大側断面図。
【図５】同じく、露光ヘッドの製造工程を説明する説明図。
【図６】同じく、露光ヘッドの製造工程を説明する説明図。
【図７】同じく、露光ヘッドの製造工程を説明する説明図。
【図８】第２実施形態の露光ヘッドを示す概略平面図。
【図９】第２実施形態の露光ヘッドを示す概略平面図。
【図１０】第２実施形態の露光ヘッドを示す概略正断面図。
【図１１】第２実施形態の露光ヘッドの製造工程を説明する説明図。
【符号の説明】
【００９５】
１０…画像形成装置としてのプリンタ、１５…転写媒体としての中間転写ベルト、１６…像担持体としての感光ドラム、１９…帯電手段としての帯電ローラ、２０…露光手段を構成する電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンスアレイ露光ヘッド、２１…現像手段としてのトナーカートリッジ、２２…転写手段を構成する一転写ローラ、２６…転写手段を構成する二次転写ローラ、３０…透明基板としてのガラス基板、３０ａ…光入射面としての発光素子形成面、３０ｂ…光取出し面、３２…凹溝、３６…発光素子、４０，５０…マイクロレンズ、４０ａ，５０ａ…光学面としての出射面、４５…液体噴射装置を構成する液体噴射ヘッド、Ｏｅ…エレクロトルミネッセンス層としての有機エレクロトルミネッセンス層、Ｐａ…背面電極としての陰極、Ｐｃ…透明電極としての陽極、Ｔ…着色粒子としてのトナー、Ｘ…主走査方向、Ｙ…副走査方向。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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