(57)【要約】    【課題】  被走査面上におけるビームピッチ間隔の不均一を補正又は低減させることができるマルチビーム光走査装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。    【解決手段】  少なくとも１つの発光部を有する複数の光源が主走査方向に離間して配置された光源手段と、複数の光源の各々に対応して設けられ、複数の光源から出射された各々の光束を、副走査断面内においては偏向手段の偏向面に対し斜め方向から入射させる第１の光学系を複数と、偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる第２の光学系とを具備すると共に、複数の第１の光学系から出射した各々の光束を主走査断面内において、偏向手段の偏向面に対し互いに異なる角度で入射させる際、条件式（１）を満足すること。【選択図】    図１
2006330581.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの発光部を有する複数の光源が主走査方向に離間して配置された光源手段と、
該複数の光源の各々に対応して設けられ、該複数の光源から出射された各々の光束を、副走査断面内においては偏向手段の偏向面に対し斜め方向から入射させる第１の光学系を複数と、
該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる第２の光学系と、を具備すると共に、
該複数の第１の光学系から出射した各々の光束を主走査断面内において、該偏向手段の偏向面に対し互いに異なる角度で入射させるマルチビーム光走査装置において、
前記被走査面上における走査開始端部における一方の光束の偏向手段上での副走査方向の主光線位置をZ1s(mm)、
該被走査面上における走査開始端部における他方の光束の偏向手段上での副走査方向の主光線位置をZ2s(mm)、
該被走査面上における走査終了端部における一方の光束の偏向手段上での副走査方向の主光線位置をZ1e(mm)、
該被走査面上における走査終了端部における他方の光束の偏向手段上での副走査方向の主光線位置をZ2e(mm)、
該第２の光学系の副走査方向の結像倍率をβ、
前記マルチビーム光走査装置の解像度をＲ(dpi)とするとき、
｜｜Z1s−Z2s｜−｜Z1e−Z2e｜｜×｜β｜＜25.4/(2R)
なる条件を満足することを特徴とするマルチビーム光走査装置。
【請求項２】
前記複数の第１の光学系の各々は、該複数の光源から出射された各々の光束を主走査断面内において前記偏向手段の偏向面の幅よりも広い光束幅で該偏向面に入射させており、
且つ、前記第１の光学系を構成する少なくとも１つの光学素子は、主走査方向又は副走査方向にパワーを備えており、
該少なくとも１つの光学素子は、該光学素子の母線方向が主走査方向から傾いていることを特徴とする請求項１に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項３】
前記被走査面上の中央、もしくは中央において、該複数の光束の走査線ピッチ間隔が解像度から定まる所定の値になるように各要素が調整されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項４】
前記各要素は、前記光源と該光源から出射された光束の状態を他の状態に変換するコリメーターレンズとを有する光源ユニットであり、該光源ユニットは副走査断面内において前記第１の光学系の光軸に対して傾くように配置されていることを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項５】
前記各要素は、前記光源から出射された光束の状態を他の状態に変換するコリメーターレンズであり、該コリメーターレンズは前記第１の光学系の光軸に対して偏心するように配置されていることを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項６】
前記各要素は、前記光源からの光束を偏向手段の偏向面近傍に副走査方向に一端結像させるシリンドリカルレンズであり、該シリンドリカルレンズは前記第１の光学系の光軸に対して偏心するように配置されていることを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項７】
前記各要素は、前記光源からの光束を偏向手段の偏向面近傍に副走査方向に一端結像させるシリンドリカルレンズであり、該シリンドリカルレンズは母線上の任意の垂線が前記第１の光学系の光軸に対して傾くように配置されていることを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム光走査装置。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか１項に記載のマルチビーム光走査装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記マルチビーム光走査装置で走査された光束によって前記感光体上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
請求項１乃至７の何れか１項に記載のマルチビーム光走査装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記マルチビーム光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
各々が請求項１乃至７の何れか１項に記載のマルチビーム光走査装置の被走査面に配置され、互いに異なった色の画像を形成する複数の像担持体とを有することを特徴とするカラー画像形成装置。
【請求項１１】
外部機器から入力した色信号を異なった色の画像データに変換して各々のマルチビーム光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラを有していることを特徴とする請求項１０に記載のカラー画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマルチビーム光走査装置及びそれを用いた画像形成装置に関し、例えば電子写真プロセスを有するレーザービームプリンタやデジタル複写機、マルチファンクションプリンタ（多機能プリンタ）等の画像形成装置に好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来よりレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）やデジタル複写機、マルチファンクションプリンタ等の光走査装置においては画像信号に応じて光源手段から光変調され出射した光束(ビーム)を、例えば回転多面鏡（ポリゴンミラー）より成る光偏向器により周期的に偏向させ、ｆθ特性を有する結像光学系によって感光性の記録媒体（感光ドラム）面上にスポット状に集束させ、その面上を走査して画像記録を行っている。
【０００３】
図２２は従来の光走査装置の要部概略図である。
【０００４】
同図において光源手段221から出射した発散光束はコリメーターレンズ223により略平行光束に変換され、絞り222によって該光束を制限して副走査方向にのみ所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ224に入射している。シリンドリカルレンズ224に入射した略平行光束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で射出する。また副走査断面内においては集束してポリゴンミラーから成る偏向手段225の偏向面（反射面）225aにほぼ線像として結像している。
【０００５】
そして偏向手段225の偏向面225aで偏向された光束をｆθ特性を有する結像光学系226を介して被走査面としての感光ドラム面228上に導光し、偏向手段225を矢印Ａ方向に回転させることによって該感光ドラム面228上を矢印Ｂ方向に光走査して画像情報の記録を行っている。
【０００６】
このような光走査装置において、高精度な画像情報の記録を行うためには、被走査面全域に渡って像面湾曲が良好に補正されていること、画角θと像高Ｙとの間に等速性をともなう歪曲特性（ｆθ特性）を有していること、像面上でのスポット径が各像高において均一であること等が必要である。
【０００７】
また図２３に示すように複数個の光源231a,231bを主走査方向に並べ、ポリゴンミラー235の偏向面235aに対し主走査方向に異なる方向から複数の光束を入射させることで、一つの偏向面235aで同時に複数本の光束を走査させることが可能なマルチビーム光走査装置が提案されている(特許文献１参照)。
【０００８】
一方、ポリゴンミラーの偏向面の主走査方向の幅よりも広い光束を該ポリゴンミラーに入射させることによって、該ポリゴンミラーの走査効率を上げるという方法が提案されている(特許文献２参照)。
【０００９】
この方法は所謂オーバ−フィルド光学系（OFS光学系）と称し、ポリゴンミラーのサイズを大きくしなくても、偏向面の数を増やせる為、高速印字が必要な複写機やレーザービームプリンタなどのマルチビーム光走査装置で実用化されている。このオーバーフィルドマルチビーム光走査装置は被走査面上での光量分布の均一性を保つ為、結像光学系の光軸からポリゴンミラーに向かって光束を入射(正面入射)させることが多く、それゆえ副走査断面内においてポリゴンミラーの偏向面に対し斜め方向から光束を入射させている(斜入射光学系)。
【００１０】
また近年レーザービームプリンタやデジタル複写機、マルチファンクションプリンタなどの画像形成装置のカラー化が進行するに従って、１つのポリゴンミラーで複数の感光ドラムへ光束を導くマルチビーム光走査装置が提案されている(特許文献３参照)。
【特許文献１】特開２０００−１４７４０４号公報
【特許文献２】特開２００１−１１７０３７号公報
【特許文献３】特開平１１−１１９１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
複数の光束を主走査断面内においてポリゴンミラーの偏向面に対し異なる角度で該偏向面に入射させ、且つ副走査断面内においても該ポリゴンミラーの偏向面に対し所定の角度で該偏向面に斜入射させた場合、図２４に示すように被走査面上でビームピッチ間隔の不均一が発生する。
【００１２】
図２４はモノリシックな２ビームのレーザー素子(光源)を２個主走査方向に並べ、副走査方向に傾けて配置した合計４本のビーム（光束）で被走査面上を走査した場合を示した図である。同図ではビーム１Ａとビーム１Ｂが同一のレーザー素子より発光し、ビーム２Ａとビーム２Ｂが同一のレーザー素子より発光されている。
【００１３】
結像光学系の副走査断面内の結像倍率(副走査倍率)を走査開始端から走査終了端にかけて一定にすることで、モノリシックな２ビーム（１Ａと１Ｂまたは２Ａと２Ｂ）のビーム間隔は走査開始端から走査終了端にかけて略一定にすることが可能であるが(ｈ1ｓ=ｈ1ｃ=ｈ1ｅ、ｈ3ｓ=ｈ3ｃ=ｈ3ｅ)、合成する２つのビーム間隔は一定とすることができない。(即ち、ｈ2ｓ≠ｈ2ｃ≠ｈ2ｅ)これは被走査面上で主走査方向に同一な位置を走査する場合、ポリゴンミラーの偏向角が僅かなズレを持ち、副走査断面内において偏向面に斜め方向からビームを入射させると反射点の位置が副走査方向にズレを持つからである。
【００１４】
図２５に示すように主走査方向にビーム開き角(入射角度差)γを持つ２つのビームLD1、LD2が被走査面上の同一位置に向かうためには、ポリゴンミラーで反射された後の２つのビームLD1、LD2の主光線を互いに平行とする必要である。そのためにはビームLD2の反射面位置5a2を、ビームLD1の反射面位置5a1より角度γ/2回転した位置にする必要がある。そのときの副走査方向の要部断面図(副走査断面図)を図２６に示す。
【００１５】
同図に示したように副走査断面内においては、ポリゴンミラーの回転軸と垂直な面に対して斜め下方から角度φをもって２つのビームLD1、LD2を入射させている。２つのビームLD1、LD2は主走査断面内において、異なる位置で反射偏向されるため、このように副走査断面内において斜め方向から光束を入射させた場合は、異なる高さで反射偏向されることになる。
【００１６】
同図に示したＺは２つのビームLD1、LD2の副走査方向の間隔（ズレ量）であり、該間隔Ｚに結像光学系の結像倍率｜β｜をかけたものが、被走査面上での２つのビームLD1、LD2の副走査方向の間隔に相当する。また間隔Ｚは走査画角により変化するものであるので、ある画角（例えば書き出し側画像端部、走査開始端部）において、解像度から決まるビーム間隔となるように２つのビームLD1、LD2のビーム高さを調整したとしても、全画像域では一定とならない。
【００１７】
よって、これまで副走査断面内においてポリゴンミラーの偏向面に対し斜め方向からビームを入射させるマルチビーム光走査装置においては、印字速度の高速化を図るためには、モノリシックな４ビームのレーザー素子を用いる方法や、プリズム等でのビーム合成などの方法しか取ることが出来なかった。しかしながら、どちらの方法に対しても製造が難しく、また簡易な構成のマルチビーム光走査装置を達成するには難しかった。
【００１８】
上記特許文献３で開示されている走査光学系は図２７に示すように副走査断面内においてポリゴンミラー275の偏向面に対し斜め方向からビームを入射させることで、入射光束と偏向光束との分離をし易くしている。また前述したようにオーバーフィルド光学系は像面照度の均一化のため、主走査断面内においては結像光学系276a,276bの光軸近傍から偏向面に入射(正面入射)させ、また副走査断面内においては偏向面に対し斜め方向から入射（斜入射）させているケースが多い。
【００１９】
このような構成のマルチビーム光走査装置において、例えばモノリシックな２ビームのレーザー素子(光源)を２個主走査方向に並べ、副走査方向に傾けて配置し、副走査断面内においてポリゴンミラーの偏向面に対し斜め方向からビームを入射させた場合には、上記の如く被走査面上でビームピッチ間隔の不均一が発生する。
【００２０】
本発明は被走査面上におけるビームピッチ間隔の不均一を補正又は低減させることができるマルチビーム光走査装置及びそれを用いた画像形成装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
請求項１の発明のマルチビーム光走査装置は、
少なくとも１つの発光部を有する複数の光源が主走査方向に離間して配置された光源手段と、
該複数の光源の各々に対応して設けられ、該複数の光源から出射された各々の光束を、副走査断面内においては偏向手段の偏向面に対し斜め方向から入射させる第１の光学系を複数と、
該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる第２の光学系と、を具備すると共に、
該複数の第１の光学系から出射した各々の光束を主走査断面内において、該偏向手段の偏向面に対し互いに異なる角度で入射させるマルチビーム光走査装置において、
前記被走査面上における走査開始端部における一方の光束の偏向手段上での副走査方向の主光線位置をZ1s(mm)、
該被走査面上における走査開始端部における他方の光束の偏向手段上での副走査方向の主光線位置をZ2s(mm)、
該被走査面上における走査終了端部における一方の光束の偏向手段上での副走査方向の主光線位置をZ1e(mm)、
該被走査面上における走査終了端部における他方の光束の偏向手段上での副走査方向の主光線位置をZ2e(mm)、
該第２の光学系の副走査方向の結像倍率をβ、
前記マルチビーム光走査装置の解像度をＲ(dpi)とするとき、
｜｜Z1s−Z2s｜−｜Z1e−Z2e｜｜×｜β｜＜25.4/(2R)
なる条件を満足することを特徴としている。
【００２２】
請求項２の発明は請求項１の発明において、
前記複数の第１の光学系の各々は、該複数の光源から出射された各々の光束を主走査断面内において前記偏向手段の偏向面の幅よりも広い光束幅で該偏向面に入射させており、
且つ、前記第１の光学系を構成する少なくとも１つの光学素子は、主走査方向又は副走査方向にパワーを備えており、
該少なくとも１つの光学素子は、該光学素子の母線方向が主走査方向から傾いていることを特徴としている。
【００２３】
請求項３の発明は請求項１又は２の発明において、
前記被走査面上の中央、もしくは中央において、該複数の光束の走査線ピッチ間隔が解像度から定まる所定の値になるように各要素が調整されていることを特徴としている。
【００２４】
請求項４の発明は請求項３の発明において、
前記各要素は、前記光源と該光源から出射された光束の状態を他の状態に変換するコリメーターレンズとを有する光源ユニットであり、該光源ユニットは副走査断面内において前記第１の光学系の光軸に対して傾くように配置されていることを特徴としている。
【００２５】
請求項５の発明は請求項３の発明において、
前記各要素は、前記光源から出射された光束の状態を他の状態に変換するコリメーターレンズであり、該コリメーターレンズは前記第１の光学系の光軸に対して偏心するように配置されていることを特徴としている。
【００２６】
請求項６の発明は請求項３の発明において、
前記各要素は、前記光源からの光束を偏向手段の偏向面近傍に副走査方向に一端結像させるシリンドリカルレンズであり、該シリンドリカルレンズは前記第１の光学系の光軸に対して偏心するように配置されていることを特徴としている。
【００２７】
請求項７の発明は請求項３の発明において、
前記各要素は、前記光源からの光束を偏向手段の偏向面近傍に副走査方向に一端結像させるシリンドリカルレンズであり、該シリンドリカルレンズは母線上の任意の垂線が前記第１の光学系の光軸に対して傾くように配置されていることを特徴としている。
【００２８】
請求項８の発明の画像形成装置は、
請求項１乃至７の何れか１項に記載のマルチビーム光走査装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記マルチビーム光走査装置で走査された光束によって前記感光体上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴としている。
【００２９】
請求項９の発明の画像形成装置は、
請求項１乃至８の何れか１項に記載のマルチビーム光走査装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記マルチビーム光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴とする画像形成装置。
【００３０】
請求項１０の発明のカラー画像形成装置は、
各々が請求項１乃至７の何れか１項に記載のマルチビーム光走査装置の被走査面に配置され、互いに異なった色の画像を形成する複数の像担持体とを有することを特徴としている。
【００３１】
請求項１１の発明は請求項１０の発明において、
外部機器から入力した色信号を異なった色の画像データに変換して各々のマルチビーム光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラを有していることを特徴としている。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば主走査方向に複数の光源を配置し、異なる角度で偏向手段に光束を入射させたマルチビーム光走査装置において、副走査断面内において偏向手段の偏向面に対し斜め方向から光束を入射させた際に発生する被走査面上における走査線ピッチ間隔の不均一を補正又は低減させることができる高品位で高画質しかも高速印字が可能なマルチビーム光走査装置及びそれを用いた画像形成装置を達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
【実施例１】
【００３４】
図１は本発明の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）、図２は図１に示した副走査方向の模式図である。
【００３５】
ここで、主走査方向とは回転多面鏡の回転軸及び結像光学系の光軸に垂直な方向（回転多面鏡で光束が反射偏向（偏向走査）される方向）である。副走査方向とは回転多面鏡の回転軸と平行な方向である。また主走査断面とは主走査方向と結像光学系の光軸を含む平面である。また副走査断面とは主走査断面と垂直な断面である。
【００３６】
図中、７１は光源手段であり、単一または複数の発光点を有する光源１、１´が主走査方向に任意の間隔を成して配置されている。本実施例における光源１、１´は、各々モノリシックな２ビームのレーザー素子（２ビーム半導体レーザー）より成り、主走査方向にビーム開き角(入射角度差)γ＝２°を付けて配置されている。
【００３７】
３、３´は各々集光レンズ（コリメーターレンズ）であり、光源１、１´より出射された発散光束ＬＤ、ＬＤ´を平行光束(もしくは略平行光束)に変換している。
【００３８】
３ａ、３ａ´は各々負の屈折力（パワー）を有する球面凹レンズであり、コリメーターレンズ３、３´で変換された平行光束を弱発散光束に変換している。
【００３９】
２、２´は各々開口絞り（アパーチャー）であり、通過光束を規制してビーム形状を整形している。
【００４０】
４、４´は各々レンズ系（シリンドリカルレンズ）であり、一方向（副走査方向）のみに所定のパワーを有しており、副走査断面内において開口絞り２、２´で制限された光束をポリゴンミラー５の偏向面５aにほぼ線像として結像している。
【００４１】
本実施例におけるシリンドリカルレンズ４、４´は後述するように副走査断面内において偏向手段の偏向面に対し斜め方向から光束を入射させた際に発生する被走査面上におけるビームピッチ間隔の不均一を低減させる手段が施されている。
【００４２】
尚、コリメーターレンズ３(３´)と球面凹レンズ３ａ(３ａ´)とシリンドリカルレンズ４（４´）を１つの光学素子（例えばアナモフィック光学素子等）で構成しても良い。
【００４３】
７は折り返しミラーであり、シリンドリカルレンズ４、４´を通過した光束を主走査方向に対して偏向させて、ポリゴンミラー５に導いている。
【００４４】
尚、コリメーターレンズ３、３´、球面凹レンズ３ａ、３ａ´、開口絞り２、２´、シリンドリカルレンズ４、４´そして後述する第１、第２の結像レンズ６１，６２の各要素は第１の光学系としての入射光学系ＬＡ、ＬＡ´の一要素を構成している。
【００４５】
５は例えば外接円半径１４．５ｍｍ、偏向面が１２面より成る偏向手段としての光偏向器（ポリゴンミラー）であり、モータ等の駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回転している。
【００４６】
６は第２の光学系としての結像光学系(ｆθレンズ系)であり、第１、第２、第３の結像レンズ６１，６２，６３を有しており、ポリゴンミラー５によって反射偏向された画像情報に基づく光束を主走査断面内において被走査面としての感光ドラム面８上にスポットに結像させている。更に副走査断面内においてポリゴンミラー５の偏向面５ａと感光ドラム面８との間を光学的に共役関係にすることにより、倒れ補正を行っている。
【００４７】
第１の結像レンズ６１はガラス材より成り、入射面が球面、出射面が平面の負のパワーを有する凹レンズより成っている。第２の結像レンズ６２はガラス材より成り、入射面が平面、出射面が主走査断面内のみパワーを持つシリンドリカル面の凸レンズより成っている。第３の結像レンズ６３はプラスチック材より成り、長尺レンズより成っており、結像光学系６の副走査断面内のパワーがほぼこの長尺レンズ６３に集中している。
【００４８】
本実施例では第３の結像レンズ６３の主走査断面内の形状をポリゴンミラー５側に湾曲した凹形状とすることで、走査開始端から走査終了端にかけて、副走査断面内の結像倍率βをほぼ一定としている。
【００４９】
第１、第２の結像レンズ６１，６２は入射光学系ＬＡ、ＬＡ´の一部をも構成している。また本実施例ではポリゴンミラー５に入射する光束が第２、第１の結像レンズ６２，６１を通過し、該ポリゴンミラー５で偏向された光束(走査光束)が再度第１、第２の結像レンズ６１，６２に入射するダブルパス構成としている。
【００５０】
９は防塵ガラスである。８は被走査面としての感光ドラム面である。
【００５１】
本実施例において、光源１、１´から光変調され出射した各々の発散光束はコリメーターレンズ３、３´によって平行光束に変換され、球面凹レンズ３ａ、３ａ´により弱発散光束に変換される。そして弱発散光束は開口絞り２ａ、２ａ´により規制され、シリンドリカルレンズ４、４´に入射している。シリンドリカルレンズ４、４´に入射した光束のうち、副走査断面内における各々光束は収束して第２、第１の結像レンズ６２，６１を通過（ダブルパス構成）してポリゴンミラー５の偏向面５ａに入射し、該偏向面５ａ近傍にほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結像している。このとき偏向面５ａに入射する光束をポリゴンミラー５の回転軸と結像光学系６の光軸を含む副走査断面内から、該ポリゴンミラー５の回転軸と垂直な平面（光偏向器５の回転平面）に対して所定の角度（φ=0.8°）をもって斜め方向から入射させ、入射光束と偏向光束とを分離している（斜入射光学系）。
【００５２】
一方、主走査断面内における各々の光束は発散して第２、第１の結像レンズ６２，６１を通過することによって略平行光束に変換され、ポリゴンミラー５の偏向角の中央、もしくは略中央から偏向面５ａに入射している（正面入射）。これにより被走査面８上での光量分布の均一性を高めている。またこのときの平行光束の光束幅は主走査方向において光偏向器５の偏向面５ａのファセット幅に対して十分広くなるように設定している（オーバーフィルド光学系）。
【００５３】
さらに第１の光学系ＬＡ、ＬＡ´から出射した各々の光束を主走査断面内において、ポリゴンミラー５の偏向面５ａに対し互いに異なる角度(入射角度差γ＝２°)で入射させている。
【００５４】
尚、オーバーフィルド光学系において主走査方向のスポット径は結像光学系６の主走査方向の焦点距離と偏向面５ａの大きさで決まる。
【００５５】
そしてポリゴンミラー５の偏向面５ａで偏向反射された各々の光束は第１、第２、第３の結像レンズ６１，６２，６３を介して感光ドラム面８に導光され、該ポリゴンミラー５を矢印Ａ方向に回転させることによって、該感光ドラム面８上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に４つの光束で走査している。これにより記録媒体である感光ドラム面８上に４本の走査線を同時に形成し、画像記録を行っている
この種のマルチビーム光走査装置においては、主走査断面内において２つの光源１、１´から出射された各々の光束をポリゴンミラー５の偏向面５ａに対し互いに異なる角度で入射させ、かつ副走査断面内においてポリゴンミラーの偏向面に対し斜め方向から光束を入射させた場合には、前述した如く被走査面上でビームピッチ間隔が不均一となる問題点が発生する。
【００５６】
そこで本実施例においては光源１、１´に対応して設けたシリンドリカルレンズ４、４´をポリゴンミラー５の回転軸と同一方向（平行方向）の軸、もしくは略同一方向の軸を中心に図中矢印Ｃ及びＣ´方向にそれぞれ２８′（２８分）傾斜させることによって、被走査面８上におけるビームピッチ間隔の不均一を補正している。
【００５７】
即ち、本実施例におけるシリンドリカルレンズ４、４´は、その母線方向が主走査方向と非平行と成るように配置されている。
【００５８】
図３は本実施例においてシリンドリカルレンズ４、４´を傾斜させた場合の４つのビーム（光束）が描く走査線を模式的に描いた図である。同図に示すようにそれぞれのビームピッチ間隔が走査開始端から走査終了端に渡って略均等と成っていることが分かる。即ち、h1s=h１c=h１e、h2s=h2c=h2e、h3s=h3c=h3eである。
【００５９】
光源１、１´から放射されるビームが各々１個のときは、ビーム１Ａとビーム２Ａのみとなる。
【００６０】
図４は本実施例においてシリンドリカルレンズ４、４´を傾斜させた場合（図８）の走査線間隔h2(h2s、h2c、h2e)の設計値からのズレをプロットしたグラフである。同図において横軸は像高、縦軸はズレ量である。
【００６１】
図５も本実施例である。但し、図５では、シリンドリカルレンズ４、４´を傾斜させなかった場合の走査線間隔h2(h2s、h2c、h2e)の設計値からのずれをプロットしたグラフである。図５において横軸は像高、縦軸はズレ量である。
【００６２】
シリンドリカルレンズ４、４´を傾斜させなかった場合には、図５に示すようにピッチ間隔のズレには傾きを持つ。その量は光軸上で解像度から決まるピッチ間隔に調整した場合、両端で±０．６μｍとなる。
【００６３】
この量は自体は小さい値であるが、高解像度になった場合には、スポットとスポットが重なりやすくなり問題となる。よって、図５のシリンドリカルレンズを傾斜させなかった場合より更に改善するには、図８のようにシリンドリカルレンズ４、４´をポリゴンミラー５の回転軸と平行な軸を中心に２８′（２８分）傾斜すればよい。そうすることで、図４に示したように走査開始端から終了端に渡ってゼロにすることができる。
【００６４】
次にシリンドリカルレンズ４、４´を傾斜させることでビームピッチ間隔が補正されることについて説明する。
【００６５】
それにはオーバーフィルド光学系の主光線が走査像高と共に（走査すると共に）主走査方向にシフトすることから説明を始める。図６に示すとおりオーバーフィルド光学系ではそれぞれの像高に向かう光束はポリゴンミラー５の反射面の幅で切り取られるため、反射面５ａ，５ｂの中央が光束の主光線の位置となる。軸上ではＲｐ１であった主光線位置が、最軸外ではポリゴンミラーの反射面の位置が５ｂとなり、それの中央であるＲｐ２が主光線の位置となる。
【００６６】
図７はシリンドリカルレンズ４、４´のレンズ面上での主光線の位置が走査と共にシフトしていく様子を模式的に描いた図である。
【００６７】
シリンドリカルレンズ４、４´を傾斜してない場合、副走査断面内において偏向面に対し斜め方向から入射される光束の主光線は図７に示すようにシリンドリカルレンズ４、４´の母線と平行に移動する。
【００６８】
一方、図８に示すようにシリンドリカルレンズ４、４´を傾斜している場合、副走査断面内においては偏向面に対し斜め方向から光束を入射させているため、該光束の主光線の移動方向はシリンドリカルレンズ４、４´の母線に対して傾きを持つ。即ち、走査像高の位置によって、シリンドリカルレンズ４、４´面上での主光線の高さが変わる。これはポリゴンミラー面上での焦線高さが走査像高によって変化することを意味し、これを用いて合成する２つの光ビーム（異なる光源１，１´から出射されるビーム）の到達位置をコントロールすることが可能となる。
【００６９】
このように本実施例では上記の如く第１の光学系ＬＡ、ＬＡ´の一部を構成するシリンドリカルレンズ４、４´を傾斜させることにより、被走査面８上におけるビームピッチ間隔の不均一をゼロに補正することが可能となる。
【００７０】
尚、本実施例ではシリンドリカルレンズ４、４´を共に傾斜させたが、これに限らず、どちらか一方のみでも良い。またシリンドリカルレンズ４、４´面上での母線と主光線の移動方向が相対的に傾いていれば良いので、例えば図９に示すようにシリンドリカルレンズ４、４´を光束の進行方向（レンズの光軸方向）に一致、もしくは略一致した方向の回転軸Ｒａを中心に傾斜させても良い。
【００７１】
また本実施例ではシリンドリカルレンズ４、４´を傾斜させたが、これに限らず、例えば主走査方向と副走査方向でパワーが異なるアナモフィック光学素子の母線方向が主走査方向と非平行と成るように配置しても前述の実施例１と同様な効果を得ることができる。
【００７２】
次に本実施例におけるマルチビーム光走査装置の諸元を表―１に示す。
【００７３】
【表１】
2006330581.tif 000003
【００７４】
尚、上記表―１は折り返しミラー７が無いものとして光路を展開したものである。また、光源１と１´は結像レンズの光軸に対して対称に配置されているため、一方の光学系の配置データを示した。
【００７５】
ｆθレンズ63の出射面の母線形状は円弧であるが、副走査方向と対応する子線方向は、
【００７６】
【数１】
2006330581.tif 000004
【００７７】
なる式で表されるものである。Sは母線方向の各々の位置における母線の法線を含み主走査面と垂直な面内に定義される子線形状である。
【００７８】
ここで主走査方向に光軸からＹ離れた位置における副走査方向の曲率半径（子線曲率半径）Rs*が、
【００７９】
【数２】
2006330581.tif 000005
【００８０】
（但し、Rsは光軸上の子線曲率半径，D2，D4，D6，D8，D10は子線変化係数）
なる式で表されるものである。
【００８１】
本実施例では
Ｒｓ＝-1.08212Ｅ2
Ｄ２＝ 8.04607Ｅ-6
である。
【実施例２】
【００８２】
図１０は本発明の実施例２の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１に示した要素と同一要素には同符号を付している。
【００８３】
本実施例において前述の実施例１と異なる点は、入射光学系をアンダーフィールド光学系（ＵＦＳ）より構成し、かつ後述する条件式(1)を満足するように各要素を設定したことである。その他の構成及び光学的作用は実施例１と同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【００８４】
即ち、同図において131は光源手段であり、２つの光源101、101´を有し、該光源101、101´が主走査方向に任意の間隔を成して配置されている。本実施例における光源101、101´は、各々レーザー素子（半導体レーザー）より成り、主走査方向にビーム開き角(入射角度差)γ＝４°を付けて配置されている。
【００８５】
光源101、101´は単一または複数の光束を放射している。本実施例では光源101、101´は単一の光束を放射している場合を示している。
【００８６】
102、102´は各々コリメーターレンズであり、光源101、101´から放射された光束を略平行光束に変換している。
【００８７】
103、103´は各々開口絞りであり、通過光束を制限してビーム形状を整形している。
【００８８】
104、104´は各々シリンドリカルレンズであり、副走査断面内にのみ所定のパワーを有しており、開口絞り103、103´を通過した光束を副走査断面内で後述する光偏向器105の偏向面（反射面）105ａにほぼ線像として結像させている。
【００８９】
尚、コリメーターレンズ102、102´、開口絞り103、103´、そしてシリンドリカルレンズ104、104´等の各要素は第１の光学系（入射光学系）LA、LA´の一要素を構成している。
【００９０】
105は偏向手段としての光偏向器であり、例えば外接円半径１０mmで偏向面が４面より成るポリゴンミラー（回転多面鏡）より成り、モーター等の駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回転している。
【００９１】
106は集光機能とｆθ特性とを有する第２の光学系としての結像光学系(ｆθレンズ系)であり、第１、第２のｆθレンズ106a，106bより成り、ポリゴンミラー105によって反射偏向された画像情報に基づく光束を被走査面としての感光ドラム面108上に結像させ、かつ副走査断面内においてポリゴンミラー105の偏向面105aと感光ドラム面108との間を共役関係にすることにより、倒れ補正を行っている。
【００９２】
108は被走査面としての感光ドラム面である。
【００９３】
本実施例において半導体レーザー101、101´から出射した各々の光束はコリメーターレンズ102、102´により略平行光束に変換され、開口絞り103、103´によって該光束（光量）が制限され、シリンドリカルレンズ104、104´に入射している。シリンドリカルレンズ104、104´に入射した略平行光束のうち主走査断面においてはそのままの状態で射出する。また副走査断面内においては収束してポリゴンミラー105の偏向面105aにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結像している。このとき偏向面105aに入射する光束をポリゴンミラー105の回転軸と結像光学系106の光軸を含む副走査断面内から、該ポリゴンミラー105の回転軸と垂直な平面（光偏向器５の回転平面）に対して所定の角度（φ=1.5°）をもって斜め方向から入射させている（斜入射光学系）。
【００９４】
そしてポリゴンミラー105の偏向面105aで反射偏向された各々の光束は第１、第２のｆθレンズ106a，106bを介して感光ドラム面108上にスポット状に結像され、該ポリゴンミラー105を矢印Ａ方向に回転させることによって、該感光ドラム面108上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に等速度で光走査している。これにより記録媒体としての感光ドラム面108上に画像記録を行なっている。
【００９５】
本実施例においては結像光学系106の光軸Ｌに対して90°方向と86°方向の２方向からポリゴンミラー105の偏向面105aに対してビームを入射させている。よって、主走査方向のビームの開き角(入射角度差)はγ=4°である。また副走査断面内において偏向面に対し斜め方向から入射するビームの斜入射角φは上記の如くφ=1.5°である。
【００９６】
本実施例における結像光学系106の副走査断面内の結像倍率（副走査倍率）はβ=-1.87で、第１、第２の結像レンズ106a，106bの副走査断面内のパワーを最適化することで、走査開始端から走査終了端にかけて副走査断面内の結像倍率をほぼ一定としている。また本装置の解像度はR=600dpi(1/mm)である。
【００９７】
図１１は走査開始端におけるポリゴンミラー上でのビームの主光線高さを説明する図、図１２は走査終了端におけるポリゴンミラー上でのビームの主光線高さを説明する図である。
【００９８】
ここで結像光学系106の光軸Ｌに対して86°方向から入射するビームをLD1、90°方向から入射するビームをLD2とする。走査開始端における偏向面上でのLD1の主光線高さは、光軸Ｌを基準にして、Z1s=-0.01917mm、LD2の主光線高さはZ2s=0.00014mmであり、走査終了端における偏向面上でのLD1の主光線高さはZ1e=-0.02743mm、LD2の主光線高さはZ2e=0.00031mmである。
【００９９】
よって走査開始端における２本のビームの主光線高さの差は、
｜Z1s−Z2s｜=0.01931mm、
走査終了端における２本のビームの主光線高さの差は、
｜Z1e−Z2e｜=0.02774mm
になる。これに副走査倍率βをかけたものが、被走査面での２本のビームのピッチ間隔となる。
【０１００】
尚、２本のビームの主光線位置の相対差が重要であるので、高さの基準（Z＝0の位置）はどこにとっても構わない。
【０１０１】
ピッチ間隔のズレ量は、｜Z1s−Z2s｜と｜Z1e−Z2e｜の差に副走査倍率βをかけたものであるので、本実施例の場合
|｜Z1s−Z2s|−|Z1e−Z2e||×|β|=｜0.01931-0.02774｜×｜-1.87｜
=0.0158mm
となる。
【０１０２】
一方、マルチビーム光走査装置の解像度Ｒが600dpi(1/mm)の場合、１画素は0.0423mmとなる。ピッチ間隔のズレが１／２画素以下であれば、ビーム同士の干渉による画像への影響は小さいと考えられる。
【０１０３】
25.4/(2R)=0.0216mm
よって、本実施例においては、２本のビームのピッチ間隔のズレがマルチビーム光走査装置の解像度から決まる１画素の半分以下となれば良いので、下記に示す条件式(1)を満足させれば良いことになる。
【０１０４】
｜｜Z1s−Z2s｜−｜Z1e−Z2e｜｜×｜β｜＜25.4/(2R)・・・(1)
被走査面上におけるビームピッチ間隔のズレ量を小さくするためには主走査方向のビームの開き角γや副走査断面内における斜入射角φ等を小さくすればよい。また結像光学系の副走査倍率βの絶対値も小さいほどビームピッチ間隔のズレ量を低減することができる。
【０１０５】
しかしながらビームの開き角γが小さすぎると２つのコリメーターレンズ102、102´などが干渉するため、
１°＜γ＜１０°
の間で設定するのが好ましい。
【０１０６】
また斜入射角φも小さすぎると前記図２７に示したようなカラー画像形成装置の場合、光線の分離がし難いため、
０．５°＜φ＜１０°
の間で設定するのが好ましい。
【０１０７】
また結像光学系の副走査倍率βの絶対値も小さすぎると被走査面近傍に長尺のレンズを配置しなければならず製造面(コスト面)で不利となるため、
０．４＜｜β｜＜２．５
の間で設定するのが好ましい。
【０１０８】
またモノリシックな２ビームのレーザー素子など複数の発光点を有する光源を複数合成した場合、上述した各パラメータZ1s、Z2s、Z1e、Z2eなどの数値は、被走査面上での隣接する異なる光源から出射した２つの光ビームについて計算すればよい。
【０１０９】
次に本実施例におけるマルチビーム光走査装置の諸元を表―２に示す。
【０１１０】
【表２】
2006330581.tif 000006
【０１１１】
ｆθレンズ106a及び106ｂの入射面、出射面の母線形状は、10次までの関数として表せる非球面形状により構成している。ｆθレンズ106a、106ｂと光軸との交点を原点とし、光軸方向をＸ軸、主走査断面内において光軸と直交する軸をＹ軸としたとき、主走査方向と対応する母線方向が、
【０１１２】
【数３】
2006330581.tif 000007
【０１１３】
（但し、Rは母線曲率半径，K，B4，B6，B8，B10，は非球面係数）
なる式で表されるものである。
【０１１４】
また、副走査方向と対応する子線方向が、
【０１１５】
【数４】
2006330581.tif 000008
【０１１６】
なる式で表されるものである。Sは母線方向の各々の位置における母線の法線を含み主走査面と垂直な面内に定義される子線形状である。
【０１１７】
ここで主走査方向に光軸からＹ離れた位置における副走査方向の曲率半径（子線曲率半径）Rs*が、
【０１１８】
【数５】
2006330581.tif 000009
【０１１９】
（但し、Rsは光軸上の子線曲率半径，D2，D4，D6，D8，D10は子線変化係数）
なる式で表されるものである。
【実施例３】
【０１２０】
図１３〜図１６は各々本発明の実施例３の主要部分の要部概略図である。
【０１２１】
本実施例において前述の実施例１と異なる点は、ビームピッチ間隔の不均一を低減させるために被走査面上の中央、もしくは中央近傍において、該複数本の光束のピッチ間隔が解像度から定まる所定の値になるように各要素(調整手段)を調整したことである。その他の構成及び光学的作用は実施例１と同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１２２】
図１７はモノリシックな２ビームのレーザー素子を２個合成したマルチビーム光走査装置のビームピッチ間隔の調整を走査開始端で行った場合の走査線を描いており、図１８はビームピッチ間隔の調整を走査中央で行った場合の走査線を描いており、図１９はビームピッチ間隔の調整を走査終了端で行った場合の走査線を描いている。
【０１２３】
本実施例においてピッチ間隔の調整を走査開始端で行った場合は、走査開始端でのピッチ間隔は均一であるが（点線で囲った部分）、走査終了端でピッチ間隔が大きく広がったり大きく狭まったりして安定しない。走査終了端で行った場合も同様である。画像中央で調整を行った場合は、走査開始端と走査終了端の２箇所でピッチ間隔がばらつくが、前者２つの場合と比べズレの量が半分になり、画像としては目立たなくなる。
【０１２４】
そこで本実施例においては被走査面上におけるビームピッチ間隔の不均一を低減させるために、該被走査面上の中央、もしくは中央近傍において、該被走査面上に形成されるビームピッチ間隔が解像度から定まる所定の値になるように図１３〜図１６に示す各要素(調整手段)が配置されている。
【０１２５】
次に調整手段の調整方法について説明する。
【０１２６】
図１３における調整手段は、光源１と該光源１から出射された光束の状態を他の状態に変換するコリメーターレンズ３とを有する光源ユニットLUであり、該光源ユニットLUは副走査断面内において第１の光学系LAの光軸Lに対して矢印Aの如く傾くように配置されている。これにより被走査面上での光束の到達位置（照射位置）が変化し、画像中央で解像度から定まるピッチ間隔となるように調整することが可能となる。
【０１２７】
図１４における調整手段は、光源１から出射された光束の状態を他の状態に変換するコリメーターレンズ３であり、該コリメーターレンズ３は第１の光学系LAの光軸Lに対して矢印Aの如く偏心するように配置されている。これにより上記の同様な効果を得ている。      
【０１２８】
図１５における調整手段は、光源１からの光束を偏向手段５の偏向面５a近傍に副走査方向に一端結像させるシリンドリカルレンズ４であり、該シリンドリカルレンズ４は第１の光学系LAの光軸Lに対して矢印Aの如く偏心（平行偏心）するように配置されている。これにより上記の同様な効果を得ている。
【０１２９】
図１６における調整手段は、光源１からの光束を偏向手段５の偏向面５ａ近傍に副走査方向に一端結像させるシリンドリカルレンズ４であり、該シリンドリカルレンズ４は母線上の任意の垂線が第１の光学系LAの光軸Lに対して矢印Aの如く傾くように配置されている。これにより上記の同様な効果を得ている。
【０１３０】
尚、上記に示した調整手段は複数の光源に対応して設けた複数の第１の光学系において全て行っているが、これに限らず、少なくとも１つの第１の光学系のみでも良い。
【０１３１】
また本実施例では光源手段としてシングルビームレーザー素子を複数個用いても良く、あるいは２ビーム以上のモノリシックなマルチビームレーザー素子や、発光点が２次元に配列した面発光レーザーを用いても良い。
【０１３２】
尚、モノリシックなマルチビームレーザー素子や発光点が複数個ある面発光レーザーを用いた場合には１つの光源手段内での調整も必要になる。それには光源手段を光軸を中心に回転させても良く、あるいは第１の光学系に配置された光学素子を光軸方向にシフトすることで光源手段から被走査面までの結像倍率を変化させて行っても良い。
【０１３３】
［画像形成装置］
図２０は、本発明の画像形成装置の実施例を示す副走査方向の要部断面図である。図において、符号１０４は画像形成装置を示す。この画像形成装置１０４には、パーソナルコンピュータ等の外部機器１１７からコードデータDｃが入力する。このコードデータDｃは、装置内のプリンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドットデータ）Dｉに変換される。この画像データDｉは、実施例１〜３のいずれかに示した構成を有する光走査ユニット１００に入力される。そして、この光走査ユニット１００からは、画像データDｉに応じて変調された光束１０３が出射され、この光束１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方向に走査される。
【０１３４】
静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム１０１は、モータ１１５によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の感光面が光束１０３に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方には、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラム１０１の表面に、前記光走査ユニット１００によって走査される光束１０３が照射されるようになっている。
【０１３５】
先に説明したように、光束１０３は、画像データDｉに基づいて変調されており、この光束１０３を照射することによって感光ドラム１０１の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光束１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１の回転方向の下流側で感光ドラム１０１に当接するように配設された現像器１０７によってトナー像として現像される。
【０１３６】
現像器１０７によって現像されたトナー像は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対向するように配設された転写ローラ１０８によって被転写材たる用紙１１２上に転写される。用紙１１２は感光ドラム１０１の前方（図２０において右側）の用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット１０９端部には、給紙ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内の用紙１１２を搬送路へ送り込む。
【０１３７】
以上のようにして、未定着トナー像を転写された用紙１１２はさらに感光ドラム１０１後方（図２０において左側）の定着器へと搬送される。定着器は内部に定着ヒータ（図示せず）を有する定着ローラ１１３とこの定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧ローラ１１４とで構成されており、転写部から搬送されてきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１４の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１１２上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ローラ１１３の後方には排紙ローラ１１６が配設されており、定着された用紙１１２を画像形成装置の外に排出せしめる。
【０１３８】
図２０においては図示していないが、プリントコントローラ１１１は、先に説明したデータの変換だけでなく、モータ１１５を始め画像形成装置内の各部や、後述する光走査ユニット内のポリゴンモータなどの制御を行う。
【０１３９】
［カラー画像形成装置］
図２１は本発明の実施例のカラー画像形成装置の要部概略図である。本実施例は、マルチビーム光走査装置を４個並べ各々並行して像担持体である感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。図２１において、６０はカラー画像形成装置、１１，１２，１３，１４は各々実施例１〜３に示したいずれかの構成を有するマルチビーム光走査装置、２１，２２，２３，２４は各々像担持体としての感光ドラム、３１，３２，３３，３４は各々現像器、５１は搬送ベルトである。
【０１４０】
図２１において、カラー画像形成装置６０には、パーソナルコンピュータ等の外部機器５２からＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の各色信号が入力する。これらの色信号は、装置内のプリンタコントローラ５３によって、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）、Ｂ（ブラック）の各画像データ（ドットデータ）に変換される。これらの画像データは、それぞれマルチビーム光走査装置１１，１２，１３，１４に入力される。そして、これらのマルチビーム光走査装置からは、各画像データに応じて変調された光束４１，４２，４３，４４が出射され、これらの光束によって感光ドラム２１，２２，２３，２４の感光面が主走査方向に走査される。
【０１４１】
本実施例におけるカラー画像形成装置はマルチビーム光走査装置（１１，１２，１３，１４）を４個並べ、各々がＣ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）、Ｂ（ブラック）の各色に対応し、各々平行して感光ドラム２１，２２，２３，２４面上に画像信号（画像情報）を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。
【０１４２】
本実施例におけるカラー画像形成装置は上述の如く４つのマルチビーム光走査装置１１，１２，１３，１４により各々の画像データに基づいた光束を用いて各色の潜像を各々対応する感光ドラム２１，２２，２３，２４面上に形成している。その後、記録材に多重転写して１枚のフルカラー画像を形成している。
【０１４３】
前記外部機器５２としては、例えばＣＣＤセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置６０とで、カラーデジタル複写機が構成される。
【図面の簡単な説明】
【０１４４】
【図１】本発明の実施例１のマルチビーム光走査装置の主走査断面図
【図２】本発明の実施例１のマルチビーム光走査装置の副走査方向の模式図
【図３】ピッチ間隔が補正された複数の走査線を示した図
【図４】シリンドリカルレンズを傾斜させた場合のピッチ間隔の設計値からのズレを示したグラフ
【図５】シリンドリカルレンズを傾斜させなかった場合のピッチ間隔の設計値からのズレを示したグラフ
【図６】オーバーフィルド光学系における主光線の移動を示す図
【図７】シリンドリカルレンズと主光線の移動方向を説明する図
【図８】シリンドリカルレンズと主光線の移動方向を説明する図
【図９】シリンドリカルレンズと主光線の移動方向を説明する図
【図１０】本発明の実施例２の主走査断面図
【図１１】走査開始端における偏向手段上でのビーム高さを説明する図
【図１２】走査終了端における偏向手段上でのビーム高さを説明する図
【図１３】ピッチ間隔の調整手段を示した図
【図１４】ピッチ間隔の調整手段を示した図
【図１５】ピッチ間隔の調整手段を示した図
【図１６】ピッチ間隔の調整手段を示した図
【図１７】ピッチ間隔の調整像高と走査線の関係を示した図
【図１８】ピッチ間隔の調整像高と走査線の関係を示した図
【図１９】ピッチ間隔の調整像高と走査線の関係を示した図
【図２０】本発明の画像形成装置の実施例を示す副走査断面図
【図２１】本発明の実施例のカラー画像形成装置の要部概略図
【図２２】従来のマルチビーム光走査装置の要部斜視図
【図２３】従来のマルチビーム光走査装置の主走査断面図
【図２４】ピッチ間隔の不均一性を説明する図
【図２５】ポリゴンミラーに主走査方向において異なる角度で入射する光線の反射点を説明する図
【図２６】ポリゴンミラーに副走査斜め方向から入射する光線の反射点を説明する図
【図２７】従来のカラー画像形成装置に搭載されるマルチビーム光走査装置の要部断面図
【符号の説明】
【０１４５】
１、１´  光源（２ビーム半導体レーザー）
２、２´  開口絞り
３、３´  集光レンズ（コリメーターレンズ）
３ａ、３ａ´  球面凹レンズ
４、４´  シリンドリカルレンズ
５  偏向手段（ポリゴンミラー）
６  結像光学系（ｆθレンズ）
６１、６２、６３  結像レンズ（ｆθレンズ）
７  折り返しミラー
８  被走査面（感光ドラム面）
９  防塵ガラス
７１  光源手段
１１、１２、１３、１４    マルチビーム光走査装置
２１、２２、２３、２４    像担持体（感光ドラム）
３１、３２、３３、３４    現像器
４１、４２、４３、４４    光束
５１    搬送ベルト
５２    外部機器
５３    プリンタコントローラ
６０    カラー画像形成装置
１００  マルチビーム光走査装置
１０１  感光ドラム
１０２  帯電ローラ
１０３  光束
１０４  画像形成装置
１０７  現像装置
１０８  転写ローラ
１０９  用紙カセット
１１０  給紙ローラ
１１１  プリンタコントローラ
１１２  転写材（用紙）
１１３  定着ローラ
１１４  加圧ローラ
１１５  モータ
１１６  排紙ローラ
１１７  外部機器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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