(57)【要約】【課題】  発光面の傾きによって生じる感光体における光ビームのビーム径の変動を抑制する。【解決手段】  光源１２を支持する光源支持面から第一調整ネジ５４、第二調整ネジ５６、固定ピン５８を突出させて、発光面５０の周囲の３点に当接させる。第一調整ネジ５４、第二調整ネジ５６によって発光面５０の傾きを調整して感光体における光ビームのビーム径を調整する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の発光点が二次元配列された発光面から複数の光ビームを射出する光源部と、
前記光源部から射出された複数の光ビームで被走査面を偏向走査する走査光学系と、を備える光走査装置であって、
前記光源部が支持される光源支持面から突出して前記光源部の前記発光面を囲む３点に当接し、前記発光面の姿勢を決める３点の当接点を備え、
３点の前記当接点のうち少なくとも１点の前記当接点が、前記光源支持面からの突出量を調整可能とされた調整当接点であることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記光源部は、前記発光面に対して略平行で３点の前記当接点が当接する基準面を有することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記調整当接点が、前記光源支持面を貫通し、装置内部から調整される調整ネジであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光走査装置。
【請求項４】
複数の発光点が二次元配列された発光面から複数の光ビームを射出する光源部と、
前記光源部から射出された複数の光ビームで被走査面を偏向走査する走査光学系と、を備える光走査装置であって、
前記光源部の前記発光面を囲む３点から突出して前記光源部が支持される光源支持面に当接し、前記発光面の姿勢を決める３点の当接点を備え、
３点の前記当接点のうち少なくとも１点の前記当接点が、前記光源部からの突出量を調整可能とされた調整当接点であることを特徴とする光走査装置。
【請求項５】
前記調整当接点によって前記発光面の姿勢を調整することで、前記被走査面における複数の光ビームのビーム径を調整することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項６】
３点の前記当接点のうちの２点を前記調整当接点としてそれぞれを前記発光面の長手方向の一側及び他側に配設し、他の１点の前記当接点を前記光源支持面又は前記光源部に固定された固定当接点として前記発光面の長手方向の他側に配設し、
前記発光面の長手方向の一側に配設された前記調整当接点と前記固定当接点を結ぶ直線と前記発光面の長手方向との角度Ａと、前記発光面の長手方向の他側に配設された前記調整当接点と前記固定当接点を結ぶ直線と前記発光面の短手方向との角度Ｂとの関係をＡ＞Ｂとしたことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項７】
３点の前記当接点のうちの１点を前記調整当接点とし、
他の２点の前記当接点を、主走査方向及び副走査方向の何れかで、前記発光面の傾きによって発生する、前記被走査面における複数の光ビームのビーム径の変動が大きい方に対して略直角な直線上に配設したことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項８】
３点の前記当接点のうちの１点を前記調整当接点とし、
他の２点の前記当接点を、主走査方向に対して略平行な直線上に配設したことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記走査光学系を底面に支持し、前記光源支持面が側壁に設けられた光学ハウジングと、前記光学ハウジングに被せられるハウジングカバーと、を備え、
前記調整当接点を副走査方向の前記ハウジングカバー側に配設し、他の前記当接点を副走査方向の前記底面側に配設したことを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の発光点が二次元配列された発光面から射出された複数の光ビームで被走査面を偏向走査する光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年のレーザビームプリンタでは、高速高解像度の画像形成を行うために、二次元配列された複数の発光点から複数の光ビームを射出する所謂面発光レーザが光源として用いられている。この面発光レーザでは、３０本程のマルチビームでの走査が可能であり、例えば２４００ｄｐｉで毎分１００枚出力することが可能である。
【０００３】
ところで、光走査装置の走査光学系は、ポリゴンミラーの面倒れを補正する光学系等を備えるので、図１３（Ａ）に示すように、主走査方向の横倍率βｔと副走査方向の横倍率βｓが異なるのが一般的である。その中でも、マルチビーム走査光学系では、発光点間隔と走査線ピッチとの関係を満足させるために副走査方向の横倍率が規制される等、副走査方向の横倍率の設計制約が特に厳しくなっているので、主走査方向及び副走査方向の横倍率を合わせることが困難である。
【０００４】
このため、図１３（Ｂ）に示すように、発光面１００の位置に光軸方向への誤差Δが生じた場合には、結像点の光軸方向への位置ずれ量が、主走査方向Δｓ（＝Δ×βｔ2）と副走査方向Δｓ（＝Δ×βｓ2）とで異なる。これによって、被走査面１０２でのビーム径が主走査方向と副走査方向とで異なってしまうので、被走査面１０２（Ｚ０）において、ノミナル状態では円形（図１３（Ａ）参照）であるビーム形状が、楕円状となる。なお、副走査方向における結像点Ｚ１では、横長に線結像し、主走査方向における結像点Ｚ２では、縦長に線結像する。
【０００５】
そして、図１４（Ａ）には、発光面１００が、走査光学系の光軸１０６に対して主走査方向又は副走査方向へ傾斜することで、各発光点１０４（図１４（Ｂ）参照）の位置に光軸方向への誤差が生じた状態を示している。この場合、走査光学系の光軸１０６から主走査方向又は副走査方向へ離れた発光点１０４から射出された光ビームの結像点は、被走査面１０２から光軸方向へ大きくずれる。このため、被走査面１０２における光ビームのビーム径は、光軸１０６から主走査方向又は副走査方向へ離れるにつれて拡大し、また、ビーム形状の変動も光軸１０６から離れるにつれて大きくなる。これによって、濃度ムラ等の画質ディフェクトが発生するという問題があった。
【０００６】
このため、光ビームの本数が増え、光学系の光軸１０６から各光ビームまでの距離の差が大きくなった光走査装置においては、各光ビームのビーム径やビーム形状の均一性を維持するために、発光面の傾きを厳しく規制することが重要になっている。
【０００７】
なお、従来から発光面の角度を調整する構成は公知である（例えば、特許文献１参照）。しかし、特許文献１は、ノミナル光路からのずれによって生じるピッチ偏差の低減が課題で、副走査方向へ発光面を傾けて走査線の湾曲を低減するというものであって、被走査面における光ビームのビーム径の差を抑制したり、ビーム径の差による画質ディフェクトを抑制したりといった調整機構は一切開示されていない。
【特許文献１】特開２００１−１２５０２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記事実を考慮してなされたものであり、複数の発光点が二次元配列された発光面から射出された複数の光ビームの被走査面におけるビーム径の差を抑制すること、及び、ビーム径の差による画質ディフェクトを効果的に抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の光走査装置は、複数の発光点が二次元配列された発光面から複数の光ビームを射出する光源部と、前記光源部から射出された複数の光ビームで被走査面を偏向走査する走査光学系と、を備える光走査装置であって、前記光源部が支持される光源支持面から突出して前記光源部の前記発光面を囲む３点に当接し、前記発光面の姿勢を決める３点の当接点を備え、３点の前記当接点のうち少なくとも１点の前記当接点が、前記光源支持面からの突出量を調整可能とされた調整当接点であることを特徴とする。
【００１０】
請求項１に記載の光走査装置では、光源部が、複数の発光点が二次元配列された発光面から複数の光ビームを射出し、走査光学系が、光源部から射出された複数の光ビームで被走査面を偏向走査する。これによって、高速高解像度の画像形成が可能となっている。
【００１１】
ここで、光源部は光源支持面に支持されているが、光源支持面からは３点の当接点が突出して光源部の発光面を囲む３点に当接しており、発光面の姿勢が決められている。この３点の当接点のうち少なくとも１点の当接点は、光源支持面からの突出量を調整可能とされた調整当接点とされている。これによって、３点の当接点の位置関係を調整して発光面の姿勢を調整することができるので、被走査面における複数の光ビームのビーム径の変動を補正できる。また、３点の当接点を光源部の発光面を囲む３点に当接させたことで、発光面の姿勢を安定させることができ、組立誤差を抑制できる。
【００１２】
請求項２に記載の光走査装置は、請求項１に記載の光走査装置であって、前記光源部は、前記発光面に対して略平行で３点の前記当接点が当接する基準面を有することを特徴とする。
【００１３】
請求項２に記載の光走査装置では、光源部には発光面に対して略平行な基準面が設けられており、この基準面に３点の当接点が当接することで、発光面の姿勢が決められる。ここで、面発光レーザを矩形状のパッケージに実装する場合、パッケージ表面の平面度、パッケージ表面と発光面との平行度を高精度化することは容易なので、パッケージ表面を基準面とすることで、光源部の組立精度、調整精度を確保できる。
【００１４】
請求項３に記載の光走査装置は、請求項１又は２に記載の光走査装置であって、前記調整当接点が、前記光源支持面を貫通し、装置内部から調整される調整ネジであることを特徴とする。
【００１５】
請求項３に記載の光走査装置では、光源支持面を貫通した調整ネジが装置内部から調整されることで発光面の姿勢が調整される。このように、調整当接点を光源支持面を貫通した調整ネジとし、調整部を装置内部に設けたので、光走査装置に衝撃が加わっても発光面の角度の精度を維持することができる。
【００１６】
請求項４に記載の光走査装置は、複数の発光点が二次元配列された発光面から複数の光ビームを射出する光源部と、前記光源部から射出された複数の光ビームで被走査面を偏向走査する走査光学系と、を備える光走査装置であって、前記光源部の前記発光面を囲む３点から突出して前記光源部が支持される光源支持面に当接し、前記発光面の姿勢を決める３点の当接点を備え、３点の前記当接点のうち少なくとも１点の前記当接点が、前記光源部からの突出量を調整可能とされた調整当接点であることを特徴とする。
【００１７】
請求項４に記載の光走査装置では、光源部が光源支持面に支持されているが、光源部の発光面を囲む３点からは３点の当接点が突出して光源支持面に当接しており、発光面の姿勢が決められている。この３点の当接点のうち少なくとも１点の当接点は、光源部からの突出量を調整可能とされた調整当接点とされている。これによって、３点の当接点の位置関係を調整して発光面の姿勢を調整することができるので、被走査面における複数の光ビームのビーム径の変動を補正できる。また、３点の当接点を光源部の発光面を囲む３点から突出させて光源支持面に当接させたことで、発光面の姿勢を安定させることができ、組立精度を維持できる。
【００１８】
請求項５に記載の光走査装置は、請求項１乃至４の何れか１項に記載の光走査装置であって、前記調整当接点によって前記発光面の姿勢を調整することで、前記被走査面における複数の光ビームのビーム径を調整することを特徴とする。
【００１９】
ここで、発光面が傾斜している場合、被走査面における複数の光ビームのビーム径は、走査光学系の光軸から発光面の傾斜方向へ離れるにつれて規則的に拡大する。なお、この点については詳細に後述する。
【００２０】
そこで、請求項５に記載の光走査装置では、調整当接点によって３点の当接点の位置関係を調整して発光面の傾きを調整することで、被走査面における複数の光ビームのビーム径を調整する。これによって、被走査面における複数の光ビームのビーム径の変動を抑制できるので、濃度ムラ等の画質ディフェクトを抑制できる。
【００２１】
請求項６に記載の光走査装置は、請求項１乃至５の何れか１項に記載の光走査装置であって、３点の前記当接点のうちの２点を前記調整当接点としてそれぞれ前記発光面の長手方向の一側及び他側に配設し、他の１点の前記当接点を前記光源支持面又は前記光源部に固定された固定当接点として前記発光面の長手方向の他側に配設し、前記発光面の長手方向の一側に配設された前記調整当接点と前記固定当接点を結ぶ直線と前記発光面の長手方向との角度Ａと、前記発光面の長手方向の他側に配設された前記調整当接点と前記固定当接点を結ぶ直線と前記発光面の短手方向との角度Ｂとの関係をＡ＞Ｂとしたことを特徴とする。
【００２２】
請求項６に記載の光走査装置では、発光点の配列がｍ×ｎとされる等、発光面のＸ方向、Ｙ方向の長さが異なっており、発光面の長手方向の両端の発光点と走査光学系の光軸との距離が長くなっている。このため、発光面の姿勢の調整誤差が発光面の長手方向に対して大きくなると、被走査面におけるビーム径の変動が大きくなる。
【００２３】
そこで、本発明では、発光面の姿勢の調整誤差が、発光面の長手方向に対して小さくなるように３点の当接点を配設している。詳細には、３点の当接点のうちの２点を調整当接点としてそれぞれを発光面の長手方向の一側及び他側に配設する。そして、光源支持部又は光源部に固定された他の１点の固定当接点を発光面の長手方向の他側に配設し、長手方向の一側に配設された調整当接点と固定当接点を結ぶ直線と発光面の長手方向との角度Ａと、発光面の長手方向の他側に配設された調整当接点と固定当接点を結ぶ直線と発光面の短手方向との角度Ｂとの関係をＡ＞Ｂとしている。
【００２４】
即ち、長手方向の一側の調整当接点を調整する際には、長手方向の他側の調整当接点と固定当接点を結ぶ直線を回転軸として発光面が回転されるので、この回転軸が発光面の短手方向に対して傾いている場合、発光面の傾き調整が長手方向に対してだけではなく短手方向に対しても行われる。また、長手方向の他側の調整当接点を調整する際には、長手方向の一側の調整当接点と固定当接点を結ぶ直線を回転軸として発光面が回転されるので、この回転軸が発光面の長手方向に対して傾いている場合、発光面の傾き調整が短手方向に対してだけではなく長手方向に対しても行われる。
【００２５】
このため、長手方向の他側の調整当接点と固定当接点とを結ぶ直線と短手方向との角度Ｂが大きくなると、発光面の傾き調整を長手方向に対して行う際に短手方向への傾き変化が大きくなり、発光面の長手方向に対する傾き量を所望の量だけ変化させることができなくなる。そこで、この角度Ｂを、長手方向の一側の調整当接点と固定当接点とを結ぶ直線と長手方向との角度Ａよりも小さくすることで、発光面の長手方向に対する傾き調整の調整誤差を抑制している。
【００２６】
請求項７に記載の光走査装置は、請求項１乃至５の何れか１項に記載の光走査装置であって、３点の前記当接点のうちの１点を前記調整当接点とし、他の２点の前記当接点を、主走査方向及び副走査方向の何れかで、前記発光面の傾きによって発生する、前記被走査面における複数の光ビームのビーム径の変動が大きい方に対して略直角な直線上に配設したことを特徴とする。
【００２７】
請求項７に記載の光走査装置では、発光面の主走査方向の幅と副走査方向の幅の違いや、走査光学系の主走査方向の横倍率と副走査方向の横倍率の違い等によって、被走査面における光ビームのビーム径の変動の仕方が主走査方向と副走査方向とで違ってくる。
【００２８】
そこで、３点の当接点のうちの１点を調整当接点とし、他の２点の当接点を、主走査方向及び副走査方向の何れかで、被走査面における複数の光ビームのビーム径の発光面の傾きによる変動が大きい方に対して略直角な直線上に配設する。これによって、発光面の傾き調整が、発光面の傾きによって発生する、ビーム径の変動が大きくなる方向に対して実行可能になるので、被走査面における光ビームのビーム径の変動を全体的に小さくでき、画質低下の発生を抑制できる。
【００２９】
請求項８に記載の光走査装置は、請求項１乃至５の何れか１項に記載の光走査装置であって、３点の前記当接点のうちの１点を前記調整当接点とし、他の２点の前記当接点を、主走査方向に対して略平行な直線上に配設したことを特徴とする。
【００３０】
請求項８に記載の光走査装置では、被走査面における複数の光ビームのビーム径の変動が副走査方向に対して発生すると、濃度変化の周期が長くなり、濃度ムラが顕著になる。そこで、３点の当接点のうち１点を調整当接点とし、他の２点の当接点を、主走査方向に対して略平行な直線上に配設する。これによって、発光面の傾き調整が、副走査方向に対して実行可能となるので、副走査方向に対する光ビームのビーム径の変動を抑制でき、濃度ムラの発生を抑制できる。
【００３１】
請求項９に記載の光走査装置は、請求項１乃至８の何れか１項に記載の光走査装置であって、前記走査光学系を底面に支持し、前記光源支持面が側壁に設けられた光学ハウジングと、前記光学ハウジングに被せられるハウジングカバーと、を備え、前記調整当接点を副走査方向の前記ハウジングカバー側に配設し、他の前記当接点を副走査方向の前記底面側に配設したことを特徴とする。
【００３２】
請求項９に記載の光走査装置では、光学ハウジングの底面に走査光学系が支持され、光学ハウジングの側壁に光源支持面が設けられている。また、この光学ハウジングにはハウジングカバーが被せられる。
【００３３】
ここで、光源部の近傍にはコリメータレンズ等が実装されており、調整当接点を調整するスペースに限りがある。そこで、調整当接点を副走査方向のハウジングカバー側、即ち光学ハウジングの開放側に配設し、他の当接点を副走査方向の底面側に配設することで、調整当接点を光学ハウジングの底面から離して設け、調整時のアクセスの自由度を確保している。
【発明の効果】
【００３４】
本発明は上記構成にしたので、複数の発光点が二次元配列された発光面から射出された複数の光ビームの被走査面におけるビーム径の差を抑制でき、また、ビーム径の差による画質ディフェクトを効果的に抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下に図面を参照しながら本発明の第１実施形態について説明する。
【００３６】
図１に示すように、光走査装置１０では、ＶＣＳＥＬ光源部１２（図２参照、以下、光源部という）が実装されたＶＣＳＥＬ制御基板１４（以下、基板という）が光学ハウジング１６の側壁１６Ａに取付けられている。側壁１６Ａには光源部１２に面して貫通孔１６Ｂが空けられており、光源部１２から射出された光ビームＬがこの貫通孔１６Ｂから光学ハウジング１６内に入射する。
【００３７】
そして、光学ハウジング１６の底面１６Ｃには走査光学系１５が配設されている。この走査光学系１５は、光ビームＬの光路に沿って順に配設された、コリメータレンズ１８、アパーチャ２０、ハーフミラー２２、シリンドリカルレンズ２４、ポリゴンミラー２６、Ｆθレンズ２８、第一のシリンドリカルミラー３０、折返しミラー３２、第二のシリンドリカルミラー３４で構成されている。
【００３８】
光ビームＬは、コリメータレンズ１８により平行ビームとされてアパーチャ２０によって所定のビーム幅に成形される。そして、ハーフミラー２２を透過してシリンドリカルレンズ２４に入射し、シリンドリカルレンズ２４によってポリゴンミラー２６の反射面近傍に主走査方向に伸びた線状に結像される。
【００３９】
そして、光ビームＬは、ポリゴンミラー２６の回転により偏向され、２枚組のＦθレンズ２８により等速度走査する光ビームとされた後、第一のシリンドリカルミラー３０、折返しミラー３２、第二のシリンドリカルミラー３４により反射され、防塵ウィンドウ（図示省略）を透過して、感光体３６を走査する。
【００４０】
なお、ハーフミラー２２は、主走査方向の断面形状が台形状のウェッジプリズムであり、アパーチャ２０を通過した光ビームＬの一部を反射する。このハーフミラー２２によって反射された光ビームＬの進行方向には、レンズ３８、光量検知センサ４０が配設されており、ハーフミラー２２によって反射された光ビームＬは、レンズ３８により集光されて光量検知センサ４０に入射する。光量検知センサ４０は、受光した光ビームＬの光量を検知して光源部１２の制御部（図示省略）に光量を電流値に変換して出力し、光源部１２の制御部は、入力された電流値に応じて光源部１２の光量制御を行う。
【００４１】
また、折返しミラー３２と第二のシリンドリカルミラー３４との間の有効走査領域外にはＳＯＳミラー４２が配設されており、折返しミラー３２で反射された光ビームＬを反射する。ＳＯＳミラー４２によって反射された光ビームＬの光路には、ＳＯＳレンズ４４、同期検出センサ４６が配設されており、ＳＯＳミラー４２によって反射された光ビームＬは、ＳＯＳレンズ４４によって副走査方向に集光されて同期検出センサ４６に入射する。光源部１２の制御部は、同期検出センサ４６が光ビームＬを受光したタイミングに基づいて同期制御を行う。
【００４２】
なお、走査光学系１５の主走査方向の横倍率βｔと副走査方向の横倍率βｓとの関係は、下記（１）式のようになっている。
【００４３】
βｔ＞βｓ…（１）。
【００４４】
ここで、光源部１２の構造について説明する。
【００４５】
図２に示すように、光源部１２は、主走査方向に４列、副走査方向に８列、合計３２個の発光点４８が二次元配列された発光面５０が、矩形状のパッケージ５２内に実装された構成になっている。発光点４８の間隔は、主走査方向に２８μｍ、副走査方向に３５μｍとなっている。即ち、発光面５０の主走査方向の幅Ｌｔと副走査方向の幅Ｌｓとの関係は、下記の（２）式のようになっている。
【００４６】
Ｌｔ＜Ｌｓ…（２）
また、発光点４８は、主走査方向及び副走査方向に対して傾斜した直線状に配列されており、同時に３２本の光ビームＬで感光体３６を走査することが可能となっている。
【００４７】
図３に示すように、光源部１２は基板１４に実装されており、基板１４を光学ハウジング１６の側壁１６Ａに取付けることで、光源部１２が側壁１６Ａに支持される。ここで、図３乃至図５に示すように、側壁１６Ａに空けられた貫通孔１６Ｂの周囲からは３本のピンが突出しており、パッケージ５２の表面５２Ａに当接している。この３本のピンのうちの２本は第一調整ネジ５４、第二調整ネジ５６で、残りの１本は側壁１６Ａに固定された固定ピン５８である。
【００４８】
第一調整ネジ５４、第二調整ネジ５６は、側壁１６Ａの内面に取付けられた板金６０に螺合しており、側壁１６Ａに形成された穴を貫通して側壁１６Ａから突出している。また、第一調整ネジ５４は、発光面５０より副走査方向の一側（ハウジングカバー１７側）に配設され、第二調整ネジ５６は、発光面５０より副走査方向の他側（底面１６Ｃ側）に配設され、さらに、固定ピン５８は、副走査方向の第一調整ネジ５４と第二調整ネジ５６との間に配設されている。また、第二調整ネジ５６は、発光面５０より主走査方向の一側（図２中の右側）に配設され、固定ピン５８は、発光面５０より主走査方向の他側（図２中の左側）に配設され、さらに、第一調整ネジ５４は、主走査方向の第二調整ネジ５６と固定ピン５８との間に配設されている。
【００４９】
即ち、第一調整ネジ５４、第二調整ネジ５６、固定ピン５８は、発光面５０の周囲に面して配設されており、パッケージ５２の表面５２Ａの発光面５０を囲む３点に当接し、パッケージ５２の表面５２Ａの姿勢（角度）を決定する。ここで、パッケージ５２の表面５２Ａと発光面５０との平行度、及び、表面５２Ａの平面度が、高精度に出されている。このため、この表面５２Ａを基準面として、発光面５０の姿勢（角度）を高精度に決めることができる。
【００５０】
ところで、上記（１）、（２）式を満たす本実施形態においては、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、発光面５０が傾いた場合には、その向きに関わらず、感光体３６における光ビームＬが、走査光学系１５の倍率が大きい方向、即ち主走査方向へ広がり、ビーム形状が楕円になる。
【００５１】
また、図６（Ａ）に示すように、発光面５０が主走査方向に傾いた場合には、感光体３６における光ビームＬのビーム径が、走査光学系１５の光軸６２から主走査方向へ離れるにつれて次第に拡大する。
【００５２】
また、図６（Ｂ）に示すように、発光面５０が副走査方向に傾いた場合には、感光体３６における光ビームＬのビーム径が、走査光学系１５の光軸６２から副走査方向へ離れるにつれて次第に拡大する。
【００５３】
即ち、発光面５０の長手方向である副走査方向に発光面５０が傾いた場合の方が、主走査方向に傾いた場合よりも、感光体３６における光ビームＬのビーム径の変動が大きくなる。このため、発光面５０の長手方向に対する傾き調整の誤差が大きくなると、感光体３６における光ビームＬのビーム径の変動が大きくなる。
【００５４】
そこで、本実施形態では、発光面５０の傾き調整の誤差が、発光面５０の長手方向に対して小さくなるように、第一調整ネジ５４、第二調整ネジ５６、固定ピン５８を配設している。詳細には、発光面５０の長手方向の一側に配設された第一調整ネジ５４と固定ピン５８を結ぶ直線Ｌ１と発光面５０の長手方向との角度Ａと、発光面５０の長手方向の他側に配設された第二調整ネジ５６と固定ピン５８を結ぶ直線Ｌ２と発光面５０の短手方向との角度Ｂとの関係をＡ＞Ｂとしている。
【００５５】
即ち、第一調整ネジ５４を調整する際には、第二調整ネジ５６と固定ピン５８を結ぶ直線Ｌ２を回転軸として発光面５０が回転されるので、この回転軸Ｌ２が発光面５０の短手方向に対して傾いていると、発光面５０の傾き調整が長手方向に対してだけではなく短手方向に対しても行われる。また、第二調整ネジ５６を調整する際には、第一調整ネジ５４と固定ピン５８を結ぶ直線Ｌ１を回転軸として発光面５０が回転されるので、この回転軸Ｌ１が発光面５０の長手方向に対して傾いていると、発光面５０の傾き調整が短手方向に対してだけではなく長手方向に対しても行われる。
【００５６】
このため、直線Ｌ２と短手方向との角度Ｂが大きくなると、発光面５０の傾き調整を長手方向に対して行う際に短手方向への傾き変化が大きくなり、発光面５０の長手方向に対する傾き調整を高精度に行うことができなくなる。そこで、この角度Ｂを、直線Ｌ１と長手方向との角度Ａよりも小さくすることで、発光面５０の長手方向に対する傾き調整の調整誤差を抑制している。
【００５７】
これによって、発光面５０の傾きによって発生する、感光体３６における光ビームＬのビーム径の変動が大きい方向に対して、発光面５０の姿勢を高精度に調整できるので、ビーム径の差による画質ディフェクトを効果的に抑制できる。
【００５８】
なお、図７に示すように、直線Ｌ１を発光面５０の長手方向に対して平行に、直線Ｌ２を発行面５０の短手方向に対して平行にした場合、発光面５０の傾き調整を長手方向に対して行う際の短手方向への傾き変化、及び発光面５０の傾き調整を短手方向に対して行う際の長手方向への傾き変化をゼロにすることが可能となり、発光面５０の長手方向及び短手方向に対する傾き調整の調整誤差を無くすことができる。
【００５９】
しかし、パッケージ５２の表面５２Ａに対して３本のピンが当接するポイントが、発光面５０の片側に偏ってしまうため、発光面５０の姿勢を安定させることができない。このため、本実施形態のように、パッケージ５２の表面５２Ａの発光面５０を囲む３点にピンを当接させ、上記した角度Ａと角度Ｂとの関係をＡ＞Ｂとすることで、発光面５０の姿勢を安定させると共に、発光面５０の長手方向に対する傾き調整の誤差を抑制することが望ましい。
【００６０】
次に、第２実施形態について説明する。なお、第１実施形態と同様の構成には同一の符号を付し、説明は省略する。なお、本実施形態においても、上記（１）、（２）式が満たされている。
【００６１】
図８、図９に示すように、光走査装置７０では、側壁１６Ａに空けられた貫通孔１６Ｂの周囲から３本のピンが突出しており、パッケージ５２の表面５２Ａに当接している。この３本のピンのうちの１本は調整ネジ７２で、残りの２本は側壁１６Ａに固定された固定ピン７４、７６である。
【００６２】
調整ネジ７２は、側壁１６Ａの内面に取付けられた板金６０に螺合しており、側壁１６Ａに形成された穴（図示省略）を貫通して側壁１６Ａから突出している。また、調整ネジ７２は、発光面５０より副走査方向の一側（ハウジングカバー１７側）且つ発光面５０の主走査方向中央部に配設され、固定ピン７４は、発光面５０より副走査方向の他側（底面１６Ｃ側）且つ発光面５０より主走査方向の一側（図８中の左側）に配設され、さらに、固定ピン７６は、発光面５０より副走査方向の他側且つ発光面５０より主走査方向の他側（図８中の右側）に配設されている。固定ピン７４、７６は、主走査方向と略平行な直線上に配設され、また、発光面５０の主走査方向中央部からの距離が等しくなっている。即ち、調整ネジ７２、固定ピン７４、７６は、発光面５０を囲む二等辺三角形を形成している。
【００６３】
ここで、調整ネジ５４を調整する際には、固定ピン７４、７６を結ぶ直線Ｌ３を回転軸として発光面５０が回転するが、この直線Ｌ３が主走査方向と略平行になっており、発光面５０の傾きが、副走査方向に対してのみ調整されるようになっている。
【００６４】
これは、上述したように、発光面５０が発光面５０の長手方向に相当する副走査方向へ傾いた場合に、感光体３６における光ビームＬのビーム径の変動が大きくなるためで、ビーム径の変動が大きくなる方向への発光面５０の傾き調整を実行することで、感光体３６における光ビームＬのビーム径の変動を全体的に小さくでき、画質低下の発生を抑制できる。
【００６５】
なお、本実施形態では、副走査方向に対して発光面５０の傾き調整を行ったが、発光面５０の傾きによって発生する、感光体３６における光ビームＬのビーム径変動が、副走査方向よりも主走査方向の方が大きい場合には、主走査方向に対して発光面５０の傾き調整を行えば良い。
【００６６】
また、発光面５０の傾き調整を、副走査方向に対して行うもう１つの理由としては、発光面５０の副走査方向に対する傾きが、画像の濃度変化に対して大きな影響を与えるためである。
【００６７】
図１０（Ａ）に示すように、主走査方向に発光面５０の傾きが生じた場合には、図１０（Ｂ）に示すように、１走査内のビーム径が短い周期で変動する。これに対して、図１１（Ａ）に示すように、副走査方向に発光面５０の傾きが生じた場合には、図１１（Ｂ）に示すように、１走査内のビーム径の変動の周期が長くなる。
【００６８】
ここで、二次元配列された光源を備える光走査装置は、複数の光ビームを同時に走査する。例えば、３２本の光ビームで１２００ｄｐｉの走査を行う場合には、下記（３）式に示すように１走査の副走査方向の幅が約０．７ｍｍとなる。
【００６９】
２５．４（ｍｍ／ｉｎｃｈ）／１２００×３２＝０．６８（ｍｍ）…（３）
また、電子写真方式の画像形成装置では、マーキング部を構成する感光体の帯電電位、現像器の現像性がエネルギ密度により変化するため、感光体におけるビーム径が大きくなると、画像濃度が低下する。このため、感光体におけるビーム径の変動周期に応じた濃度変動が生じる。
【００７０】
即ち、図１０（Ｂ）に示すように、ビーム径が短い周期で変動する場合には、図１０（Ｃ）に示すように、短い周期（１走査内で８周期）の濃度変化が生じるので、（３）式の条件下では、濃度変化の周期λ１が０．１０ｍｍ以下となり、濃度ムラをほとんど認識できない。これに対して、図１１（Ｂ）に示すように、ビーム径が長い周期で変動する場合には、図１１（Ｃ）に示すように、長い周期（１走査内で１周期）の濃度変化が生じるので、（３）式の条件下では、濃度変化の周期λ２が約０．７ｍｍとなり、濃度ムラが顕著に表れる。
【００７１】
このため、図８、図９に示すように、発光面５０の傾き調整を、副走査方向に対して行うことで、濃度変化の周期を長くすることができ、濃度ムラの発生を抑制できる。
【００７２】
なお、回転軸となる直線Ｌ２が光軸６２からオフセットされているので、発光面５０の傾き調整を実施すると、光軸６２上の発光点４８が光軸方向に移動し、結像点が光軸方向にずれるが、この結像点のズレは、コリメータレンズ１８（図１参照）等を光軸方向に移動させることで補正可能である。
【００７３】
また、図１に示すように、光源部１２の近傍にはコリメータレンズ１８等が実装されており、調整ネジ７２を調整するスペースに限りがある。そこで、本実施形態では、図９に示すように、調整ネジ７２を副走査方向のハウジングカバー１７側、即ち光学ハウジング１６の開放側に配設し、固定ピン７４、７６を副走査方向の底面１６Ｃ側に配設することで、調整ネジ７２を光学ハウジング１６の底面１６Ｃから離して設け、調整時のアクセスの自由度を確保している。
【００７４】
また、固定ピン７４、７６の主走査方向の距離を、パッケージ５２の表面５２Ａから逸脱しない範囲で最長にすることにより、無調整である発光面５０の主走査方向の傾きを最大限抑制できる。
【００７５】
次に、第３実施形態について説明する。なお、第１、第２実施形態と同様の構成には同一の符号を付し、説明は省略する。
【００７６】
図１２に示すように、光走査装置８０では、光源部１２のパッケージ５２に第一調整ネジ５４、第二調整ネジ５６が螺合し、固定ピン５８（図示省略）が固定されており、これらが側壁１６Ａに当接している。この第一調整ネジ５４、第二調整ネジ５６、固定ピン５８が当接する側壁１６Ａの面は、平面性が高くなっており、発光面５０の姿勢が高精度に決められるようになっている。
【００７７】
ここで、基板１４には第一調整ネジ５４、第二調整ネジ５６が貫通する貫通孔１４Ａ、１４Ｂが空けられており、基板１４の裏側から、即ち光走査装置８０の外側から、第一調整ネジ５４、第二調整ネジ５６を調整することができるようになっている。このため、調整作業が容易であり、また、光走査装置８０を画像形成装置に実装した状態で光源部１２の傾きを調整し、画質調整をすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】第１実施形態の光走査装置を示す斜視図である。
【図２】第１実施形態の光走査装置の光源部の調整機構を示す正面図である。
【図３】第１実施形態の光走査装置を示す平面図である。
【図４】図３に示す光走査装置の４−４断面図である。
【図５】第１実施形態の光走査装置の光源支持部を示す斜視図である。
【図６】発光面の傾きによって生じる感光体での光ビームのビーム径の変動を示す図で、（Ａ）は、発光面が主走査方向に対して傾いた場合、（Ｂ）は、発光面が副走査方向に対して傾いた場合を示している。
【図７】第１実施形態の光走査装置の光源部の調整機構の変形例を示す正面図である。
【図８】第２実施形態の光走査装置の光源部の調整機構を示す正面図である。
【図９】第２実施形態の光走査装置の光源支持部を示す斜視図である。
【図１０】発光面が主走査方向に対して傾いた時の、（Ａ）は、感光体での光ビームのビーム径の変動を示す図、（Ｂ）は、感光体での光ビームの分布状態を示す図、（Ｃ）は、画像の濃度変化を示すグラフである。
【図１１】発光面が副走査方向に対して傾いた時の、（Ａ）は、感光体での光ビームのビーム径の変動を示す図、（Ｂ）は、感光体での光ビームの分布状態を示す図、（Ｃ）は、画像の濃度変化を示すグラフである。
【図１２】第３実施形態の光走査装置を示す断面図である。
【図１３】（Ａ）は、走査光学系の横倍率と結像との関係を示す図で、（Ｂ）は、発光面が光軸方向にズレた場合の、走査光学系の横倍率と結像との関係を示す図である。
【図１４】（Ａ）は、発光面が傾いた場合の走査光学系の横倍率と結像との関係を示す図で、（Ｂ）は、発光面を示す図である。
【符号の説明】
【００７９】
１０    光走査装置
１２    光源部
１５    走査光学系
１６    光学ハウジング
１６Ａ  側壁（光源支持面）
１６Ｃ  底面
１７    ハウジング
３６    感光体（被走査面）
４８    発光点
５０    発光面
５２Ａ  表面（基準面）
５４    第一調整ネジ（当接点、調整当接点、調整ネジ）
５６    第二調整ネジ（当接点、調整当接点、調整ネジ）
５８    固定ピン（当接点、固定当接点）
７０    光走査装置
７２    調整ネジ（当接点、調整当接点、調整ネジ）
７４    固定ピン（当接点、固定当接点）
７６    固定ピン（当接点、固定当接点）
８０    光走査装置
Ｌ      光ビーム
Ｌ１    直線
Ｌ２    直線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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