(57)【要約】【課題】パルスレーザを照射する位置に常に気泡が存在し、確実な欠陥画素の修正が行われる液晶ディスプレイを提供することにある。【解決手段】液晶ディスプレイの欠陥画素Ｇを修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記欠陥画素Ｇと隣接する信号線１３及びゲート線１５のうち少なくとも一方にパルスレーザＬを照射し、上記欠陥画素Ｇに対応した位置の液晶材料３０中に上記欠陥画素Ｇの略全体を覆う大きさの気泡Ｂを発生させる気泡発生工程と、上記気泡発生工程により発生した気泡Ｂが消滅する前に、上記欠陥画素Ｇの略全体に対してパルスレーザＬを照射し、上記欠陥画素Ｇを滅点化する滅点化工程とを具備する。【選択図】      図３
2006091672.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、
上記欠陥画素と隣接する信号線及びゲート線のうち少なくとも一方にパルスレーザを照射し、上記欠陥画素に対応した位置の液晶材料中に上記欠陥画素の略全体を覆う大きさの気泡を発生させる気泡発生工程と、
上記気泡発生工程により発生した気泡が消滅する前に、上記欠陥画素の略全体に対してパルスレーザを照射し、上記欠陥画素を滅点化する滅点化工程と、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項２】
二枚の基板で液晶材料を挟んでなる液晶ディスプレイにおいて、
上記二枚の基板のうち、一方の基板にマトリクス状に設けられ、上記液晶材料に駆動電圧を印加するための画素電極と、
上記一方の基板の上記各画素電極に対応する位置に設けられ、上記各画素電極に電荷を充放電するためのＴＦＴと、
上記一方の基板に格子状に設けられ、上記各ＴＦＴを駆動するための信号線及びゲート線と、
上記一方の基板の上記各画素電極に対応して設けられ、パルスレーザの照射により加熱されて上記液晶材料中に気泡を発生させる気泡発生用ターゲットと、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイ。
【請求項３】
上記気泡発生用ターゲットは、上記液晶材料と接する位置に設けられていることを特徴とする請求項２記載の液晶ディスプレイ。
【請求項４】
上記気泡発生用ターゲットは、上記各画素電極と対向する位置に設けられていることを特徴とする請求項２記載の液晶ディスプレイ。
【請求項５】
上記気泡発生用ターゲットは、上記信号線または上記ゲート線に近接して設けられていることを特徴とする請求項４記載の液晶ディスプレイ。
【請求項６】
上記気泡発生用ターゲットは、金属で形成されていることを特徴とする請求項２記載の液晶ディスプレイ。
【請求項７】
上記気泡発生用ターゲットは、上記信号線または上記ゲート線と同じ材料で形成されていることを特徴とする請求項２記載の液晶ディスプレイ。
【請求項８】
上記気泡発生用ターゲットは、上記信号線またはゲート線と対向する位置に設けられていることを特徴とする請求項２記載の液晶ディスプレイ。
【請求項９】
上記信号線またはゲート線と対向する位置に設けられ、上記二枚の基板間に所定の間隔を形成するためのスペーサをさらに具備し、
上記気泡発生用ターゲットは、上記スペーサと同じ材料で形成されていることを特徴とする請求項８記載の液晶ディスプレイ。
【請求項１０】
上記気泡発生用ターゲットと他方の基板との間には上記液晶材料が介在していることを特徴とする請求項９記載の液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パルスレーザの照射により欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び液晶ディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイは、アレイ基板と対向基板を有している。このアレイ基板と対向基板は、スペーサを介して所定間隔で対向配置され、その間には液晶材料が充填されている。
【０００３】
アレイ基板は、その内面に液晶材料に駆動電圧を印加するための画素電極、画素電極に電荷の充放電を行うためのＴＦＴ、ＴＦＴを駆動するための信号線及びゲート線を備え、さらにその上に液晶材料を配向させるための配向膜を備えている。
【０００４】
一方の対向基板は、その内面にバックライトにＲＧＢフィルターをかけるためのカラーフィルタ、液晶材料に駆動電圧を印加するための透明電極を備え、さらにその上に液晶材料を配向させるための配向膜を備えている。
【０００５】
ところで、液晶ディスプレイの製造工程では、画面の大型化、高精細化に伴い、不良の発生率が高まっている。不良の中で特に問題となるのが、ＴＦＴが動作しない画素や液晶が駆動しない画素の発生である。このような画素が形成されると、液晶材料がバックライトを遮断できなくなり、その画素（以下、「欠陥画素」と称する。）が輝点となって現れることがある。
【０００６】
この輝点は、液晶ディスプレイの表示品質を著しく低下させるため、設計や製造プロセスの工夫により発生率の低減が図られている。しかしながら、設計や製造プロセスの工夫では発生率の低減に限界があり、未だ完全な解消には至っていない。
【０００７】
そこで、現在では液晶ディスプレイを製造した後に、液晶ディスプレイ上に輝点が存在するかどうかを調べ、輝点が存在した場合にその欠陥画素を１つずつ修正する方法が採られている。
【０００８】
液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する方法として、欠陥画素にパルスレーザを照射して、配向膜や透明電極を加工することで、欠陥画素の透過光を減少させて輝点を目立たなくする方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００９】
パルスレーザの照射により欠陥画素の透過光が減少するのは、パルスレーザのエネルギーにより配向膜や透明電極が加工され、これにより発生した微粒子が欠陥画素の内面に堆積するからである。
【００１０】
欠陥画素の内面に微粒子が堆積すると、液晶材料に対する配向膜の配向性が低下し、液晶材料を構成する液晶分子の向きがランダムとなる。その結果、欠陥画素の透過光が減少する。気泡が存在しないと、加工後の表面が不均一になって透過光の低減が不十分になる。
【特許文献１】特開平８−１５６６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ところで、従来のガラス基板の内面には、隣接する画素の間に段差が存在していた。そのため、パルスレーザの照射により発生した気泡を対象の画素、すなわち欠陥画素の位置に留めておくことができた。
【００１２】
しかしながら、最近では液晶材料の配向の乱れを抑制する等の目的で、ガラス基板の内面を平坦化した、いわゆる平坦化基板を使用することがある。この平坦化基板では、隣接する画素の間に段差が存在しないため、パルスレーザの照射により発生した気泡が欠陥画素の周囲に移動し、続くパルスレーザによる加工点に気泡が存在しないことがある。
【００１３】
また、最近では画素開口部の透過率を向上させ、液晶ディスプレイの高輝度化、高コントラスト化を図るために、透明電極膜等が薄膜化している。このため、パルスレーザの照射により発生する微粒子が減少し、従来の欠陥画素修正方法では透過光を十分に低減させることが困難となってきている。
【００１４】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、パルスレーザを照射する位置に常に気泡が存在し、確実に欠陥画素の修正を行うことができる液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び液晶ディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決し目的を達成するために、本発明の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び液晶ディスプレイは次のように構成されている。
【００１６】
（１）液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記欠陥画素と隣接する信号線及びゲート線のうち少なくとも一方にパルスレーザを照射し、上記欠陥画素に対応した位置の液晶材料中に上記欠陥画素の略全体を覆う大きさの気泡を発生させる気泡発生工程と、上記気泡発生工程により発生した気泡が消滅する前に、上記欠陥画素の略全体に対してパルスレーザを照射し、上記欠陥画素を滅点化する滅点化工程とを具備することを特徴とする。
【００１７】
（２）（１）に記載された液晶ディスプレイであって、二枚の基板で液晶材料を挟んでなる液晶ディスプレイにおいて、上記二枚の基板のうち、一方の基板にマトリクス状に設けられ、上記液晶材料に駆動電圧を印加するための画素電極と、上記一方の基板の上記各画素電極に対応する位置に設けられ、上記各画素電極に電荷を充放電するためのＴＦＴと、上記一方の基板に格子状に設けられ、上記各ＴＦＴを駆動するための信号線及びゲート線と、上記一方の基板の上記各画素電極に対応して設けられ、パルスレーザの照射により加熱されて上記液晶材料中に気泡を発生させる気泡発生用ターゲットとを具備することを特徴とする。
【００１８】
（３）（２）に記載された液晶ディスプレイであって、上記気泡発生用ターゲットは、上記液晶材料と接する位置に設けられていることを特徴とする。
【００１９】
（４）（２）に記載された液晶ディスプレイであって、上記気泡発生用ターゲットは、上記各画素電極と対向する位置に設けられていることを特徴とする。
【００２０】
（５）（４）に記載された液晶ディスプレイであって、上記気泡発生用ターゲットは、上記信号線または上記ゲート線に近接して設けられていることを特徴とする。
【００２１】
（６）（２）に記載された液晶ディスプレイであって、上記気泡発生用ターゲットは、金属で形成されていることを特徴とする。
【００２２】
（７）（２）に記載された液晶ディスプレイであって、上記気泡発生用ターゲットは、上記信号線または上記ゲート線と同じ材料で形成されていることを特徴とする。
【００２３】
（８）（２）に記載された液晶ディスプレイであって、上記気泡発生用ターゲットは、上記信号線またはゲート線と対向する位置に設けられていることを特徴とする。
【００２４】
（９）（８）に記載された液晶ディスプレイであって、上記信号線またはゲート線と対向する位置に設けられ、上記二枚の基板間に所定の間隔を形成するためのスペーサをさらに具備し、上記気泡発生用ターゲットは、上記スペーサと同じ材料で形成されていることを特徴とする。
【００２５】
（１０）（９）に記載された液晶ディスプレイであって、上記気泡発生用ターゲットと他方の基板との間には上記液晶材料が介在していることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、パルスレーザを照射する位置に常に気泡を発生させることができ、欠陥画素の修正を確実に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００２８】
まず、図１〜図３を用いて本発明の第１の実施の形態を説明する。
【００２９】
図１は本発明の第１の実施の形態に係る液晶ディスプレイ１００を示す断面図、図２は同実施の形態に係る液晶ディスプレイ１００の一画素を拡大して示す模式図である。
【００３０】
図１と図２に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイ１００は、アレイ基板１０、対向基板２０、及び液晶材料３０からなり、その表示画面となる部分には複数の画素４０がマトリクス状に形成されている。
【００３１】
アレイ基板１０と対向基板２０はスペーサ５０を挟んで対向配置されており、液晶材料３０はアレイ基板１０と対向基板２０の間に注入されている。スペーサ５０は、柱状または球状に形成されており、後述する信号線１３とゲート線１５の交差部分に配設されている。スペーサ５０の材料としては、通常、黒色の樹脂または無アルカリガラスが用いられる。
【００３２】
上記アレイ基板１０は透明なガラス基板１１を有し、その内面には各画素４０と対応して薄膜トランジスタ１２（以下、「ＴＦＴ」と称する）が形成されている。このＴＦＴ１２は、ソース電極１２ａ、ドレイン電極１２ｂ、ゲート電極１２ｃを有しており、ソース電極１２ａには信号線１３、ドレイン電極１２ｂには画素電極１４、ゲート電極１２ｃにはゲート線１５が接続されている。
【００３３】
信号線１３とゲート線１５は、ＴＦＴ１２を駆動するためのものであり、ガラス基板１１の内面側に格子状に、かつ平面視で各画素電極１４を囲うように形成されている。信号線１３及びゲート線１５の材料としては、ＡｌやＭｏ等の合金が用いられる。
【００３４】
ＴＦＴ１２、信号線１３、及びゲート線１５上には、厚膜絶縁膜１６が形成されている。厚膜絶縁膜１６上には、各画素４０と対応位置して上記画素電極１４が形成され、さらにその上には配向膜１７が形成されている。
【００３５】
すなわち、ＴＦＴ１２、信号線１３、画素電極１４、及びゲート線１５の位置関係は、ガラス基板１１側から順に、ＴＦＴ１２、ゲート線１５、信号線１３、画素電極１４となっている。なお、画素電極１４の材料としてはＩＴＯが使用され、配向膜１７の材料としてはＰＩが使用されている。また、ガラス基板１１の外面には、所定成分の光だけを透過させるための偏光板１８が貼付されている。
【００３６】
一方の対向基板２０も透明なガラス基板２１を有し、その内面には各画素電極１４と対応位置してＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）のカラーフィルタ２２が設けられ、さらにその上には保護膜２３、導電性薄膜２４、配向膜２５が順に設けられている。なお、導電性薄膜２４の材料としてはＩＴＯが用いられ、配向膜２５の材料としてはＰＩが用いられている。また、ガラス基板２１の外面には、所定成分の光だけを透過させるための偏光板２６が貼付されている。
【００３７】
上記構成の液晶ディスプレイ１００においては、ＴＦＴ１２の駆動によって液晶材料３０に駆動電圧を印加することで、光の透過と遮断を制御している。ところが、液晶ディスプレイ１００の画素４０の中には、ＴＦＴ１２の駆動の有無に関係なく輝点となって現れる欠陥画素Ｇが発生することがある。本実施の形態は、この欠陥画素Ｇを透過する透過光を減少させて目立たなくするものである。
【００３８】
次に、図３を参照しながら上記液晶ディスプレイ１００の欠陥画素Ｇを修正する工程について説明する。
【００３９】
図３は同実施の形態に係る液晶ディスプレイ１００の欠陥画素Ｇを修正する工程を示す平面図である。
【００４０】
液晶ディスプレイ１００の欠陥画素Ｇを修正する場合、まず欠陥画素Ｇと隣接する信号線１３及びゲート線１５の少なくとも一方、本実施の形態では欠陥画素Ｇを挟む２本の信号線１３にパルスレーザＬを連続照射する。パルスレーザＬのエネルギーとしては、０．２［Ｊ／Ｐ］〜０．３［Ｊ／Ｐ］程度が好ましい。
【００４１】
信号線１３にパルスレーザＬを照射すると、そのエネルギーによりゲート線１５が加熱され、パルスレーザＬの照射点近傍の液晶材料３０中に気泡が発生する。この気泡は、パルスレーザＬの連続照射に伴って拡大し、所定時間経過後には、欠陥画素Ｇを覆う大きさの気泡Ｂとなる。
【００４２】
このとき、図３中に矢印イで示すように、パルスレーザＬを信号線１３に沿って移動させ、その照射点を徐々にずらしていくと、気泡Ｂが欠陥画素Ｇに対してバランス良く形成されるので、最小の気泡Ｂで欠陥画素Ｇを覆うことができる。
【００４３】
欠陥画素Ｇが気泡Ｂで覆われたら、この気泡Ｂが消滅する前に欠陥画素Ｇ全体をパルスレーザＬにより矢印ロで示すように走査する。これにより、配向膜１７、２５、画素電極１４、カラーフィルタ２２、及び導電性薄膜２４が加工され、パルスレーザＬの照射点の周辺に微粒子が発生する。
【００４４】
このとき、液晶材料３０中の欠陥画素Ｇと対応する位置には、上述のように欠陥画素Ｇを覆う大きさの気泡Ｂが存在している。そのため、パルスレーザＬの照射により発生した多数の微粒子は、液晶材料３０に邪魔されることなく気泡Ｂ内を飛散し、アレイ基板１０と対向基板２０の内面に均一かつ十分な厚さに堆積する。これにより、液晶材料３０に対する配向膜１７、２５の配向性が低下し、欠陥画素Ｇが滅点化される。
【００４５】
上記構成の液晶ディスプレイ１００の欠陥画素修正方法によれば、欠陥画素Ｇ全体をパルスレーザＬで走査する前にゲート線１５にパルスレーザＬを照射し、液晶材料３０中の欠陥画素Ｇと対応する位置に欠陥画素Ｇを覆う大きさの気泡Ｂを発生させている。
【００４６】
そのため、配向膜１７、２５、画素電極１４、及び導電性薄膜２４を加工する際には、パルスレーザＬの照射点に必ず気泡Ｂが存在するから、欠陥画素Ｇを確実に滅点化することができる。
【００４７】
しかも、金属材料で形成された信号線１３にパルスレーザＬを照射して気泡Ｂを発生させているので、極めて短い時間で気泡Ｂを所望の大きさまで成長させることができ、欠陥画素の修正にかかる時間を大幅に短縮することができる。
【００４８】
次に、図４と図５を用いて本発明の第２の実施の形態を説明する。なお、ここでは上記実施の形態と同様の構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。
【００４９】
図４は本発明の第２の実施の形態に係る液晶ディスプレイ２００を示す断面図、図５は同実施の形態に係る液晶ディスプレイ２００の一画素を拡大して示す模式図である。
【００５０】
図４と図５に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイ２００は、第１の実施の形態に係る液晶ディスプレイ１００に対して、パルスレーザＬの照射によって加熱され、液晶材料３０中に気泡Ｂを発生させる照射ターゲットとしての気泡発生用パッド２０１を付加したものである。
【００５１】
この気泡発生用パッド２０１は薄膜状をしており、信号線１３と同一平面内の、画素電極１４と対向する位置に、信号線１３またはゲート線１５と近接して設けられている。気泡発生用パッド２０１の材料としては、信号線１３及びゲート線１５と同じ金属材料、すなわちＡｌやＭｏの合金が用いられる。
【００５２】
また、画素電極１４の気泡発生用パッド２０１と対向する位置には、パルスレーザＬを気泡発生用パッド２０１に到達させるための開口部１４ａが形成されている。これにより、照射されたパルスレーザＬが画素電極１４によって遮断され、気泡発生用パッド２０１に到達しない事態が回避される。
【００５３】
次に、上記構成の液晶ディスプレイ２００の欠陥画素Ｇを修正する工程について説明する。
【００５４】
上記構成の液晶ディスプレイ２００の欠陥画素Ｇを修正する場合、まず気泡発生用パッド２０１にパルスレーザＬを連続照射する。これにより、気泡発生用パッド２０１は加熱され、液晶材料３０中の欠陥画素Ｇと対応する位置に気泡が発生する。
【００５５】
この気泡は、パルスレーザＬの連続照射に伴って拡大し、所定時間経過後には欠陥画素Ｇを覆う大きさの気泡Ｂとなる。なお、気泡発生用パッド２０１に照射するパルスレーザＬのエネルギーとしては、０．２［Ｊ／Ｐ］〜０．３［Ｊ／Ｐ］程度が好ましいが、この値以上であってもよい。
【００５６】
欠陥画素Ｇが気泡Ｂで覆われたら、この気泡Ｂが消滅する前に欠陥画素Ｇ全体をパルスレーザＬにより走査する。これにより、配向膜１７、２５、画素電極１４、カラーフィルタ２２、及び導電性薄膜２４が加工され、パルスレーザＬの照射位置の周辺に微粒子が発生する。
【００５７】
このとき、液晶材料３０中の欠陥画素Ｇと対応する位置には、上述のように欠陥画素Ｇを覆う大きさの気泡Ｂが存在している。そのため、パルスレーザＬの照射により発生した多数の微粒子は、液晶材料３０に邪魔されることなく気泡Ｂ内を飛散し、アレイ基板１０と対向基板２０の内面に均一かつ十分な厚さに堆積する。その結果、液晶材料３０に対する配向膜１７、２５の配向性が低下し、欠陥画素Ｇが滅点化される。
【００５８】
このように、本実施の形態では、各画素４０に気泡発生用パッド２０１を形成し、この気泡発生用パッド２０１のパルスレーザＬを照射することで、液晶材料３０中の欠陥画素Ｇと対応する位置に欠陥画素Ｇを覆う大きさの気泡Ｂを発生させている。
【００５９】
そのため、液晶ディスプレイ２００の駆動にとって極めて重要な信号線１３やゲート線１５にパルスレーザＬを照射する必要がないので、信号線１３やゲート線１５のダメージを気にすることなく、高エネルギーのパルスレーザＬを使用することができる。その結果、気泡Ｂを発生させるのに要する時間をさらに短縮でき、ひいては欠陥画素Ｇの修正に要する時間も短縮することができる。
【００６０】
また、気泡発生用パッド２０１を信号線１３と同一平面内に、しかも同一の金属材料で形成している。そのため、気泡発生用パッド２０１を信号線１３と一緒に形成することができるから、気泡発生用パッド２０１を付加したとしても、液晶ディスプレイ２００の製造工程が煩雑化することがない。
【００６１】
さらに、気泡発生用パッド２０１を信号線１３またはゲート線１５と近接させている。こうすることで、気泡発生用パッド２０１を形成することによって開口率が低下するのを最小限に抑えることができる。
【００６２】
なお、本実施の形態では、気泡発生用パッド２０１を信号線１３と同一平面内に形成しているが、これに限定されることはない。しなしながら、信号線１３またはゲート線１５と同一平面内に形成すれば、上述のように気泡発生用パッド２０１を信号線１３またはゲート線１５と同時に形成することができるので、製造工程を簡略化することができる。
【００６３】
また、本実施の形態では、気泡発生用パッド２０１を画素電極１４のガラス基板１１側に形成しているが、図６に示すように、液晶材料３０と接する位置に形成してもよい。このようにすれば、パルスレーザＬの照射により気泡発生用パッド２０１が得た熱を液晶材料３０に効率良く与えることができるから、液晶材料３０中に気泡Ｂを発生させるのに要する時間を短縮することができる。
【００６４】
また、本実施の形態では、気泡発生用パッド２０１を信号線１３及びゲート線１５と同一の材料で形成しているが、これに限定されるものではない。すなわち、パルスレーザＬの照射により短時間で加熱され、しかもダメージを受け難い材料であれば、特に限定されるものではない。
【００６５】
次に、図７と図８を用いて本発明の第３の実施の形態を説明する。なお、ここでは上記実施の形態と同様の構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。
【００６６】
図７は本発明の第３の実施の形態に係る液晶ディスプレイ３００の断面図、図８は同実施の形態に係る液晶ディスプレイ３００の一画素を拡大して示す模式図である。
【００６７】
図７と図８に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイ３００は、第１の実施の形態に係る液晶ディスプレイ１００に対して、パルスレーザＬの照射によって加熱され、液晶材料３０中に気泡Ｂを発生させる照射ターゲットとしての気泡発生用突起３０１を付加したものである。
【００６８】
この気泡発生用突起３０１は、アレイ基板１０の信号線１３上に対向基板２０側に突出するように設けられており、その対向基板２０側の端面と対向基板２０との間には液晶材料３０が介在するギャップが形成されている。気泡発生用突起３０１の材料としては、スペーサ５０と同一の材料、例えば樹脂や無アルカリガラスが用いられる。
【００６９】
このように、気泡発生用突起３０１をアレイ基板１０の信号線１３上に設けることで、第２の実施の形態に係る液晶ディスプレイ２００よりも画素４０の開口率を向上させることができる。
【００７０】
しかも、気泡発生用突起３０１と対向基板２０の間に液晶材料３０を介在させているため、気泡発生用突起３０１と液晶材料３０の接触面積が増加するから、パルスレーザＬの照射により得た熱を液晶材料３０に効率良く与えることができる。
【００７１】
その結果、液晶材料３０中に気泡Ｂを発生させるのに要する時間を短縮することができ、ひいては液晶ディスプレイ３００の欠陥画素Ｇの修正に要する時間も短縮することができる。
【００７２】
また、気泡発生用突起３０１としてスペーサ５０と同じ材料を用いている。そのため、スペーサ５０と一緒に形成することができるから、この気泡発生用突起３０１を付加したとしても、液晶ディスプレイ３００の製造工程が煩雑化することがない。
【００７３】
しかも、スペーサ５０の材料は黒色をしているため、パルスレーザＬの照射により効率良く加熱され、短時間で液晶材料３０中の欠陥画素Ｇに対応する位置に気泡Ｂを発生させることができる。
【００７４】
なお、本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る液晶ディスプレイを示す断面図。
【図２】同実施の形態に係る液晶ディスプレイの一画素を拡大して示す模式図。
【図３】同実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する工程を示す平面図。
【図４】本発明の第２の実施の形態に係る液晶ディスプレイを示す断面図。
【図５】同実施の形態に係る液晶ディスプレイの一画素を拡大して示す模式図。
【図６】同実施の形態に係る液晶ディスプレイの変形例を示す断面図。
【図７】本発明の第３の実施の形態に係る液晶ディスプレイを示す断面図。
【図８】同実施の形態に係る液晶ディスプレイの一画素を拡大して示す模式図。
【符号の説明】
【００７６】
１０…アレイ基板、１２…ＴＦＴ、１３…信号線、１４…画素電極、１５…ゲート線、２０…対向基板、３０…液晶材料、４０…画素、５０…スペーサ、１００…液晶ディスプレイ、２００…液晶ディスプレイ、３００…液晶ディスプレイ、２０１…気泡発生用パッド、３０１…気泡発生用突起、Ｂ…気泡、Ｇ…欠陥画素、Ｌ…パルスレーザ。
【図１】
2006091672.tif 000003
【図２】
2006091672.tif 000004
【図３】
2006091672.tif 000005
【図４】
2006091672.tif 000006
【図５】
2006091672.tif 000007
【図６】
2006091672.tif 000008
【図７】
2006091672.tif 000009
【図８】
2006091672.tif 000010