(57)【要約】      （修正有）【課題】  偏光板の製造を簡易とするとともに、IPS、ＶＡモードに十分対応することができる帯電防止積層体を提供する。【解決手段】  偏光板に使用される帯電防止積層体であって、光透過性基材２と、該光透過性基材の上に形成され、帯電防止剤（微粒子）５でなる帯電防止層３とにより構成されてなり、かつ、前記帯電防止層が前記偏光板の偏光素子よりも上面に位置しないものである帯電防止積層体により達成される。【選択図】  図１
2006030983.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光板に使用される帯電防止積層体であって、
前記帯電防止積層体が、光透過性基材と、該光透過性基材の上に形成されてなる帯電防止層とにより構成されてなり、かつ、
前記偏光板に使用される際に、前記帯電防止層が、画像表示側からみて、前記偏光板における偏光素子より下部に位置する、帯電防止積層体。
【請求項２】
前記帯電防止層が、帯電防止剤と硬化型樹脂とにより形成されてなり、
前記帯電防止剤と前記硬化型樹脂の混合重量比が、９０：１０〜１０：９０である、請求項１に記載の帯電防止積層体。
【請求項３】
前記硬化型樹脂が、電離放射線硬化型樹脂であり、前記帯電防止剤が透明金属酸化物または有機導電性材料である、請求項１または２に記載の帯電防止積層体。
【請求項４】
前記帯電防止層の表面の抵抗値が１０４以上１０１２Ω／□以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の帯電防止積層体。
【請求項５】
帯電防止積層体を備えてなる偏光板であって、
前記帯電防止積層体が、光透過性基材と、該光透過性基材の上に形成されてなる帯電防止層とにより構成されてなり、かつ、
前記帯電防止層が、画像表示側からみて、前記偏光板における偏光素子より下部に位置する、偏光板。
【請求項６】
光透過性表示部位が第１偏光板と第２偏光板とに挟持されてなる、光透過性表示体であって、
第１偏光板が、前記光透過性表示部位の画像表示側に形成されてなり、かつ、請求項５に記載のものであり、
第２偏光板が、前記光透過性表示部位の非画像表示側に形成されてなり、かつ、帯電防止積層体を含まないものにより構成されてなる、光透過性表示体。
【請求項７】
光透過性表示部位が第１偏光板と第２偏光板とに挟持されてなる、光透過性表示体であって、
第１偏光板が、前記光透過性表示部位の画像表示側に形成されてなり、かつ、帯電防止積層体を含まないものにより構成されてなり、
第２偏光板が、前記光透過性表示部位の非画像表示側に形成されてなり、かつ、請求項５に記載のものである、光透過性表示体。
【請求項８】
光透過性表示部位が第１偏光板と第２偏光板とに挟持されてなる、光透過性表示体であって、
第１偏光板が、前記光透過性表示部位の画像表示側に形成されてなり、かつ、帯電防止積層体を含まないものにより構成されてなり、
第２偏光板が、帯電防止積層体と偏光素子とにより構成されてなるものであり、かつ、
前記帯電防止積層体と前記偏光子との順により、または、前記偏光子と前記帯電防止積層体との順により構成されてなり、
前記帯電防止積層体が、光透過性基材と、該光透過性基材の上に形成されてなる帯電防止層とにより構成されてなる、光透過性表示体。
【請求項９】
前記帯電防止積層体が、請求項１〜４のいずれか一項に記載のものである、請求項８に記載の光透過性表示体
【請求項１０】
光透過性表示体と、該光透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えて成る画像表示装置であって、
前記光透過性表示体が請求項６〜９のいずれか一項に記載のものである、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ、特に、液晶ディスプレイ、ＣＲＴ、プラズマディスプレイパネル等に利用される、帯電防止積層体およびそれを用いた偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光板を用いるディスプレイは、光透過性表示部位を二枚の偏光板（例えば、第１偏光板と第２偏光板）で挟持する構成をとるのが一般的である。また、放電による不快感の防止、塵埃の吸着の抑制、および視認性の向上を図るために、ディスプレイの画像表示側において、第１偏光板における偏光素子の上側に帯電防止層が配置されるのが一般的である。帯電防止積層体が、画像表示側において、第１偏光板の最表面側（偏光素子の上側）に配置してなる偏光板としては、特開２００１−３１６５０４号（特許文献１）に提案されている。
【０００３】
確かに、画面表示側において、帯電防止積層体が第１偏光板の偏光素子より上部に配置されることにより、最も効率的に帯電防止機能を得ることが可能となる。しかし、実際には、帯電防止積層体はディスプレイの最表面に配置されるべき必要な強度が足りないことが一般的である。このために、従来、帯電防止積層体は、その層強度を向上させるために、ハードコート層または防眩性層等の他の層をさらに塗工する必要性があるとされていた。このような他の層の構成は、偏光板用の保護フィルムとして、層強度と多様な光学特性を付与することが可能となるが、幾重に積層する製造工程が必要とされる。このため、製造工程が煩雑となるだけではなく、多層構成による塗工に細心の注意を払う必要が生じ、その結果、製造時間を費やし、かつ、製造コストが嵩むこととなる。
【０００４】
従って、今尚、一枚の光透過性基材に対し、一層でも層構成を排除し、製造工程を簡略化して、廉価な帯電防止積層体とそれを用いた偏光板の提供が急務となっている。
【特許文献１】特開２００１−３１６５０４号
【発明の概要】
【０００５】
本発明者等は、本発明時において、画像表示側からみて、第１偏光板における偏光素子の上側に帯電防止積層体を配置しないことにより、偏光素子用保護フィルムにおける多層コーティングを簡略化し、偏光板の製造を短時間でかつ容易になし得ることができ、その結果、製造コストを抑制し、かつ、帯電防止積層体をディスプレイの最表面に配置した場合と同等の帯電防止効果が付与されることを見出した。よって、本発明はかかる知見に基づくものであり、本発明は、偏光板の製造を容易にし、かつ、帯電防止積層体自体の機能を十分に発揮できる、帯電防止積層体とそれを用いた偏光板を提供することをその目的とする。
【０００６】
本発明の第１の態様
従って、本発明による偏光板に使用される帯電防止積層体は、
前記帯電防止積層体が、光透過性基材と、該光透過性基材の上に形成されてなる帯電防止層とにより構成されてなり、かつ、
前記偏光板に使用される際に、前記帯電防止層が、画像表示側からみて、前記偏光板における偏光素子より下部に位置するものである。
【０００７】
別の態様によれば、帯電防止積層体を備えてなる偏光板を提案することができ、該偏光板は、
前記帯電防止積層体が、光透過性基材と、該光透過性基材の上に形成されてなる帯電防止層とにより構成されてなり、かつ、
前記帯電防止層が、画像表示側からみて、前記偏光板における偏光素子より下部に位置するものである。
【０００８】
さらに別の態様によれば、光透過性表示部位が第１偏光板と第２偏光板とに挟持されてなる、光透過性表示体を提案することができ、該光透過性表示体は、
第１偏光板が、前記光透過性表示部位の画像表示側に形成されてなり、かつ、本発明による偏光板により構成されてなり、
第２偏光板が、前記光透過性表示部位の非画像表示側に形成されてなり、かつ、帯電防止積層体を含まないものにより構成されてなるものである。
【０００９】
本発明の第１の態様によれば、帯電防止層を第１偏光板の偏光素子の下部に形成することにより、他の光学積層体の層数を減らした帯電防止積層体とすることができ、偏光板の製造が簡便に行えるとの利点を有する。
【００１０】
本発明の第２の態様
本発明の第２の態様によれば、光透過性表示部位が第１偏光板と第２偏光板とに挟持されてなる、光透過性表示体が提案され、該光透過性表示体は、
第１偏光板が、前記光透過性表示部位の画像表示側に形成されてなり、かつ、帯電防止積層体を含まないものにより構成されてなり、
第２偏光板が、前記光透過性表示部位の非画像表示側に形成されてなり、かつ、本発明の第１の態様による偏光板により構成されてなるものである。
【００１１】
さらに、別の態様によれば、光透過性表示部位が第１偏光板と第２偏光板とに挟持されてなる、光透過性表示体が提案され、該光透過性表示体は、
第１偏光板が、前記光透過性表示部位の画像表示側に形成されてなり、かつ、帯電防止積層体を含まないものにより構成されてなり、
第２偏光板が、帯電防止積層体と偏光素子とにより構成されてなるものであり、かつ、
前記帯電防止積層体と前記偏光子との順により、または、前記偏光子と前記帯電防止積層体との順により構成されてなるものである。
【００１２】
ＬＣＤにおけるＩＰＳ「in-plane switching」、ＶＡ「domain vertical alignment」モードに十分対応する光学積層体には、乱れのない美しい画像を得るために、液晶表示体の製造工程において、帯電防止層が必須とされている。よって、本発明によれば、安定かつ簡易に生産できる帯電防止積層体の存在は重要不可欠なものである。
【発明の具体的説明】
【００１３】
本発明の第１の態様
本発明の第１の態様による帯電防止積層体は、第１偏光板の偏光素子よりも上側（最表面側）には形成されず、偏光板における偏光素子よりも下側に配置される点に特徴を有する。
帯電防止積層体（塵埃付着防止積層体）
本発明による偏光板に使用される帯電防止積層体（塵埃付着防止積層体）の一態様を図１により説明する。図１は本発明による帯電防止積層体１の断面図を示す。光透過性基材２の上面に硬化型樹脂と帯電防止剤（微粒子）５により構成されてなる帯電防止層３が形成されている。帯電防止積層体１は偏光板に使用される場合に、帯電防止積層体１の帯電防止層３は第１偏光板の最表面側、即ち、偏光素子よりも上に位置しないものである。
【００１４】
帯電防止積層体を用いた偏光板
本発明による帯電防止積層体（塵埃付着防止積層体）１は、上記した通り簡易な層構成を有するが、その特徴は偏光板に使用されることにより発揮される。そこで、本発明による光透過性表示体１１の一態様を示す図２を用いて説明する。図２は本発明による光透過性表示体１１の断面図を示す。本発明による光透過性表示体１１は、光透過性表示部位４０を第１偏光板１２と第２偏光板１３とが、好ましくはそれぞれ粘着剤（層）２４および３０により挟持された構成となっている。
本発明の態様による第１偏光板１２は画像表示側から光透過性表示部位４０の上面に形成されてなるものである。第１偏光板１２は本発明による帯電防止積層体１（帯電防止層３と光透過性基材２）の上に偏光素子（層）２１がさらに形成されてなるものである。本発明にあっては、偏光素子（層）２１は、帯電防止積層体１の帯電防止層３または光透過性基材２のいずれと接して良く、好ましくは、図２で示すように、偏光素子（層）２１はと接して良い。本発明の好ましい態様によれば、第１偏光板１２の最表面に任意層２０がさらに形成される。任意層２０は、第１偏光板１２の偏光素子（層）２１最表面を保護する目的で形成されてよく、具体的には光透過性基材が用いられる。また、任意層２０は、他の光学特性を発揮させるために、ハードコート層、防眩層、耐汚染層等として形成されてよい。
【００１５】
本発明の第２の態様
本発明の第２の態様によれば、第１偏光板には、帯電防止層が形成されておらず、第２の偏光板に帯電防止積層体が形成されてなるものである。
【００１６】
本発明による光透過性表示体１４の一態様を図３により説明する。図３は本発明による光透過性表示体１４の断面図を示す。本発明による光透過性表示体１４は、光透過性表示部位４０を第１偏光板１５と第２偏光板１６とが、好ましくはそれぞれ粘着剤（層）２４および３０により挟持された構成となっている。第１偏光板１５は画像表示側から光透過性表示部位４０の上面に形成されてなるものである。第１偏光板１５は帯電防止層を有しないように形成されてなるものである。第２偏光板１６は本発明による帯電防止積層体１（光透過性基材２と帯電防止層３）と、偏光素子（層）３３とがこれらの順で形成されてなるものである。つまり、本発明にあっては、帯電防止積層体１は、偏光素子（層）３３の画像表示側（上面）に形成されてなるものである。本発明にあっては、偏光素子（層）３３は、帯電防止積層体１の帯電防止層３または光透過性基材２のいずれと接して良く、好ましくは、図３で示すように、偏光素子（層）３３は、帯電防止積層体１の光透過性基材２と接して良い。また、本発明にあっては、帯電防止積層体１を形成する光透過性基材２を用いず、偏光素子（層）３３と、帯電防止層３とが接した構成のものであってよい。本発明の好ましい態様によれば、第２偏光板１６の最下面（偏光素子（層）３３の下面）に任意層３４がさらに形成される。任意層３４は、第２偏光板１６の偏光素子（層）３３の最表面を保護する目的で形成されてよく、具体的には光透過性基材が用いられる。また、任意層３４は、他の光学特性を発揮させるために、ハードコート層、防眩層、耐汚染層等として形成されてよい。
【００１７】
本発明の別の態様である光透過性表示体１７を図４により説明する。図４は、本発明による光透過性表示体１７の断面図を示す。本発明による光透過性表示体１７は、光透過性表示部位４０を第１偏光板１８と第２偏光板１９とが、好ましくはそれぞれ粘着剤（層）２４および３０により挟持された構成となっている。第１偏光板１８は画像表示側から光透過性表示部位４０の上面に形成されてなるものである。第１偏光板１８は帯電防止層を有しないように形成されてなるものである。第２偏光板１９は偏光素子（層）３３と、帯電防止積層体１（光透過性基材２と帯電防止層３）とにより形成されてなるものである。つまり、本発明にあっては、帯電防止積層体１は、偏光素子（層）３３の非画像表示側（下面）に形成されてなるものである。本発明にあっては、偏光素子（層）３３は、帯電防止積層体１の帯電防止層３または光透過性基材２のいずれと接して良く、好ましくは、図４で示すように、偏光素子（層）３３は、帯電防止積層体１の光透過性基材２と接して良い。また、本発明にあっては、帯電防止積層体１を形成する光透過性基材２を用いず、偏光素子（層）３３と、帯電防止層３とが接した構成のものであってよい。本発明の好ましい態様によれば、  第２偏光板１９の最下面（偏光素子（層）３３の下面）に任意層３４がさらに形成される。任意層３４は、第２偏光板１９の偏光素子（層）３３の最表面を保護する目的で形成されてよく、具体的には光透過性基材が用いられる。また、任意層３４は、他の光学特性を発揮させるために、ハードコート層、防眩層、耐汚染層等として形成されてよい。
【００１８】
Ａ．本発明の第１の態様
１．帯電防止積層体（塵埃付着防止積層体）
帯電防止層（導電層：塵埃付着防止積層）
帯電防止層は、光透過性基材の表面に導電性金属もしくは導電性金属酸化物等を蒸着またはスパッタリングすることにより蒸着膜を形成する方法または樹脂中に導電性微粒子を分散した樹脂組成物を塗布するにより塗膜を形成する方法が挙げられるが、本発明にあっては、硬化型樹脂中に帯電防止剤（導電性微粒子）を混合した樹脂組成物を塗布するにより塗膜を形成する方法が好ましい。
【００１９】
帯電防止剤
帯電防止層を蒸着膜で形成する場合、帯電防止剤として導電性金属もしくは導電性金属酸化物、例えばアンチモンドープのインジウム・錫酸化物（以下、「ＡＴＯ」という）、インジウム・錫酸化物（以下、「ＩＴＯ」という）が挙げられる。本発明の好ましい態様によれば、帯電防止層は帯電防止剤、好ましくは導電性微粒子を含む塗液により形成されることが好ましい。導電性微粒子としては、（透明）金属、（透明）金属酸化物または有機導電性材料（有機化合物からなる導電性微粒子）が挙げられ、好ましくは、透明金属酸化物または有機導電性材料が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、アンチモンドープのインジウム・錫酸化物（以下、「ＡＴＯ」という）、インジウム・錫酸化物（以下、「ＩＴＯ」という）等の透明金属酸化物または金、ニッケルで表面処理した有機化合物微粒子があげられる。また、有機導電性材料の具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等が挙げられる。
【００２０】
導電性微粒子の平均粒径は、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、好ましくは上限が１５０ｎｍ以下であり、下限が５０ｎｍ以上である。
帯電防止剤の添加量は、帯電防止層の全重量に対して、５重量％以上７０重量％以下であり、好ましくは上限が６７重量％以下であり、下限が１５重量％以上である。塗膜（帯電防止層）の厚さは、０．０５μｍ以上２μｍ以下であり、好ましくは下限が０．１μｍ以上であり上限が１μｍ以下である。
【００２１】
硬化型樹脂
本発明にあっては、導電性微粒子を用いて塗膜する場合、好ましくは硬化型樹脂を用いる。硬化型樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線（例えば紫外線）により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
【００２２】
分散剤
本発明にあっては、帯電防止剤の分散性を向上させる為に、分散剤を使用することもできる。このような分散剤としては、たとえば、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル等の高級脂肪酸エステルが用いられ得る。ポリグリセリン脂肪酸エステルが好ましいが、特にポリグリセリンはα位で縮合した直鎖状ポリグリセリン以外に一部β位で縮合した分岐状ポリグリセリンおよび環状ポリグリセリンを含有していてもよい。ポリグリセリン脂肪酸エステルを構成するポリグリセリン脂肪酸エステルを構成するポリグリセリンは、より良好な分散状態を得る上で、数平均重合度が２〜２０程度が好ましいが、より好ましくは２〜１０程度である。脂肪酸としては、分岐状または直鎖状の飽和または不飽和脂肪酸が好ましく、たとえば、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ノナン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ベヘニン酸、パルミチン酸、イイソステアリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、イソノナン酸、アラキン酸などの脂肪族モノカルボン酸などが好ましく挙げられる。また、高級脂肪酸エステルとして用いられるポリグリセリン脂肪酸エステルとしては、特に、味の素ケミカル社製、アジスパー-PN-411やPA-111、阪本薬品工業社製のSYグリスターなどが好ましく使用できる。
さらに、上記の他にも、スルホン酸アミド系、ε−カプロラクトン系、ハロイドロステアリン酸系、ポリカルボン酸系、ポリエステル系など各種分散剤を使用することができる。具体的には、ソルパース３０００、９０００、１７０００、２００００、２４０００、４１０９０（以上、ゼネカ社製）、Disperbyk-１６１、−１６２、−１６３、−１６４、Disperbyk−１０８、１１０、１１１、１１２、１１６、１４０、１７０、１７１、１７４、１８０、１８２、２２０Ｓ（以上、ビックケミー社製）などが挙げられる。
なお、導電性微粒子の分散方法については、種種の分散方法で分散することができる。例えば、超音波ミル、ビーズミル、サンドミル、ディスクミルなどの粉砕機を用いる。
【００２３】
電離放射線硬化型樹脂
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２４】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。
【００２５】
溶剤乾燥型樹脂
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。
【００２６】
本発明の好ましい態様によれば、基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、基材と帯電防止層との密着性と透明性とを向上させることができる。
【００２７】
熱硬化性樹脂
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。
【００２８】
本発明の好ましい態様によれば、上記した樹脂の中でも電離放射線硬化型樹脂が好ましくは挙げられ、特に紫外線硬化型樹脂が好ましくは挙げられる。また、本発明の好ましい態様によれば、帯電防止剤と硬化型樹脂との混合重量比は９０：１０〜１０：９０であり、好ましくは７０：３０〜３０：７０であり、より好ましくは６０：４０〜４０：６０である。帯電防止剤と硬化型樹脂とを混合する際には、有機溶剤、とくに揮発性のある有機溶剤が使用され、例えば、トルエン、シクロヘキサノンが挙げられる。
本発明のより好ましい態様によれば、帯電防止剤と硬化型樹脂との混合重量比は有機溶剤が光透過性基材に浸透しない溶剤（例えばトルエン）を使用した場合、７０：３０〜６０：４０であり、好ましくは７５：２５〜５０：５０、より好ましくは６５：３５〜６０：４０である。また本発明のより好ましい態様によれば、帯電防止剤と硬化型樹脂との混合重量比は、有機溶剤が光透過性に浸透する溶剤（例えばシクロヘキサノン）を使用した場合、１０：９０〜９０：１０（好ましくは２０：８０、より好ましくは１５：８５）である。
【００２９】
本発明の好ましい態様によれば、帯電防止積層体の表面（帯電防止層）の表面抵抗値は、１０４Ω／□以上１０１２Ω／□以下が好ましく、帯電防止剤と硬化型樹脂の混合重合比も、この表面抵抗値が得られるものを選択するのが好ましい。本発明による帯電防止積層体を使用した偏光板の画像表示側の最表面の表面抵抗値もまた上記した範囲内にある。
【００３０】
本発明の好ましい態様によれば、前記帯電防止層を鹸化処理した際の帯電防止層の強度が処理前とほぼ同一のものであるものが好ましい。例えば、鹸化処理した後の帯電防止層を爪で軽く擦ったときに、傷が付かないことが好ましい。
鹸化処理とは、ＫＯＨ水溶液に、本発明による帯電防止積層体を浸漬しその表面を処理（例えば、ＯＨ基導入）するものである。本発明にあって、この鹸化処理による評価は、ＫＯＨ（濃度２ｍｏｌ／Ｌ）に本発明による帯電防止積層体を４０℃で５分間浸漬した後の帯電防止層の表面の強度を爪で軽く擦った時の「傷」の有無を黙視にて確認する方法により行われる。
【００３１】
光透過性基材
光透過性基材は、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル、セルローストリアセテートが挙げられる。また、本発明にあっては、光透過性基材として位相差フィルムを使用することも挙げられる。
【００３２】
本発明にあっては、これらの熱可塑性樹脂を薄膜の柔軟性に富んだフィルム状体として使用するが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板またはガラス板の板状体のものも使用することができる。
【００３３】
光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは上限が２００μｍ以下であり、下限が３０μｍ以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを越える厚さであってもい。基材は、その上に防眩層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。
【００３４】
帯電防止層の形成
帯電防止層として塗膜を形成するには、硬化型樹脂に帯電防止剤（導電性微粒子）を混合分散させた塗液を、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の塗布方法により光透過性基材の表面に塗布する。塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。電離放射線硬化型樹脂の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。
【００３５】
２．偏光板
偏光板は、偏光素子を光透過性基材により挟持した積層体を基本構成とする。偏光素子には、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができ、好ましくはポリビニールアルコールフィルムが挙げられる。偏光素子を挟持する光透過性基材は先に説明したものであって良いが、好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム、好ましくは、無延伸トリアセチルセルロースフィルムが挙げられる。偏光素子は、例えば、ヨウ素を含有したＰＶＡを1軸延伸し、鹸化処理を行ったＴＡＣ２枚でラミネートすることにより形成されてよい。
【００３６】
第１偏光板／第２偏光板
本発明による第１偏光板は光透過性表示部位の画像表示面に形成されてなるものである。第１偏光板の偏光素子（層）より下面に本発明による帯電防止積層体が形成され、さらにこの帯電防止積層体の下面に発光素子（層）が形成されてなるものである。また、本発明による第２偏光板は光透過性表示部位の非画像表示面に形成されてなるものである。本発明による第２偏光板は、帯電防止積層体を有しない形態で形成される以外は第１偏光板と同様であってよい。
任意層
本発明の第１偏光板の最表面には任意層を形成してよく、具体的には、光透過性基材により形成されてよい。また、任意層は、他の光学特性を発揮させるために、ハードコート層、防眩層、耐汚染層等として形成されてよい。
【００３７】
ハードコート層
「ハードコート層」とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は樹脂と任意成分とにより形成されてなる。
【００３８】
１）樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げら、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
【００３９】
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４０】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。
【００４１】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
【００４２】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。
【００４３】
防眩層
防眩層は、樹脂と防眩剤とにより形成されてよく、樹脂は、ハードコート層の項で説明したものと同様であってよい。
【００４４】
本発明の好ましい態様によれば、防眩層は微粒子の平均粒径をＲ（μｍ）とし、防眩層凹凸のの十点平均粗さをＲｚ（μｍ）とし、防眩層の凹凸平均間隔をＳｍ（μｍ）とし、凹凸部の平均傾斜角をθａとした場合に、下記数式：
３０≦Ｓｍ≦６００
０．０５≦Ｒｚ≦１．６０
０．１≦θａ≦２．５
０．３≦Ｒ≦１５
を全て同時に満たすものが好ましい。
【００４５】
また、本発明の別の好ましい様態によれば、微粒子と透明樹脂組成物の屈折率をそれぞれ、ｎ１、ｎ２とした場合に、△ｎ＝│ｎ１−ｎ２│＜０．１を満たすものであり、かつ、防眩層内部のヘイズ値が５５％以下である防眩層が好ましい。
【００４６】
防眩剤
防眩剤としては微粒子が挙げられ、その形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられる。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、透明樹脂組成物１００重量部に対し、２〜３０重量部、好ましくは１０〜２５重量部程度である。
【００４７】
防眩層用組成物を調整する際に沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が０．５μｍ以下、好ましくは０．１〜０．２５μｍ程度のシリカビーズが挙げられる。
【００４８】
防眩層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。
【００４９】
低屈折率層
低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が１．４６以下の、やはり３０ｎｍ〜１μｍ程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。
【００５０】
低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％（以降も含め、百分率は、いずれも質量基準）を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が６０〜７０％であるフッ素含有共重合体１００部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４６以下）の低屈折率層を形成する。
【００５１】
低屈折率層を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、好ましくは４０〜８０％、特に好ましくは４０〜７０％であり、又ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％、好ましくは１０〜５０％、特に好ましくは１５〜４５％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０％、好ましくは０〜３５％、特に好ましくは１０〜３０％含有するものであってもよい。
【００５２】
上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、２０％以下、好ましくは１０％以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。
【００５３】
以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０％、特に好ましくは６４〜６８％である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。
【００５４】
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５，０００〜２００，０００、特に１０，０００〜１００，０００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。
【００５５】
このほか、低屈折率層は、ＳｉＯ２からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により、またはＳｉＯ２ゾルを含むゾル液からＳｉＯ２ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、ＳｉＯ２以外にも、ＭｇＦ２の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、ＳｉＯ２薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマＣＶＤ法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。
【００５６】
本発明の好ましい態様によれば、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。
【００５７】
空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。
【００５８】
塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
【００５９】
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。
【００６０】
耐汚染層
耐汚染層は、反射防止積層体に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善するものである。防汚層用剤の具体例としては、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物への相溶性が低く、低屈折率層中に添加することが困難とされるフッ素系化合物および／またはケイ素系化合物、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物および微粒子に対して相溶性を有するフッ素系化合物および／またはケイ系化合物が挙げられる。
【００６１】
３．光透過性表示体
本発明による光透過性表示体は光透過性表示部位とそれを挟持する二枚の偏光板とにより構成されてなり、偏光板は本発明によるものが好ましくは利用され、より好ましくは画像視認性側の偏光板は本発明による第１偏光板であり、画像非視認性側の偏光板は本発明による第２偏光板で構成されてなるものが好ましい。ここで、光透過性表示部位は、画像形成部位であり、その手法はいずれのものであってよく、例えば、液晶表示、エレクトロルミネッセンス表示、ハッコウダイオード表示等が挙げられる。
【００６２】
４．画像表示装置
本発明のさらに別の態様によれば、画像表示装置を提供することができ、この画像表示装置は、透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなり、この透過性表示体は上記した本発明によるものが利用される。
【００６３】
５．用途
本発明による防眩性積層体、反射防止積層体、偏光板の構成材料として、また画像表示装置は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、液晶パネルなどの高精細画像用ディスプレイの表面に用いられる。より具体的な用途して、液晶テレビ、コンピュータ、ワードプロセッサ、携帯電話、カーナビゲーション等のディスプレイ製品として使用される。
【００６４】
Ｂ．本発明の第２の態様
本発明の第２の態様は、光透過性表示部位が第１偏光板と第２偏光板とに挟持されてなる、光透過性表示体を提案するものである。本発明にあっては、第１偏光板は、帯電防止積層を含まないものにより構成されてなり、第２偏光板は、本発明による帯電防止積層体を備えて成るものである。従って、第１偏光板と第２偏光板と帯電防止積層体とは、本発明の第１の態様で説明したのと同様であってよい。
【００６５】
しかしながら、本発明の第２の態様の別の態様（図４）においては、第２偏光板が、帯電防止積層体と偏光素子とにより構成されてなるものであり、かつ、前記帯電防止積層体と前記偏光子との順により、または、前記偏光子と前記帯電防止積層体との順により構成されてなるものである。本発明の態様の場合、第２偏光板は、本発明による帯電防止積層体を備えて成るものが好ましいが、本発明の効果を達成しうるものであれば、別の帯電防止積層体であってよい。また、本発明の態様の場合、任意層は、光透過性基材を必須とし、ハードコート層、防眩層、低屈折率層、耐汚染層等が積層されたものであってもよい。
【実施例】
【００６６】
本発明の内容を下記の例によって詳細に説明するが本発明の内容は下記例により限定して解釈されるものではない。
【００６７】
帯電防止層形成用基本組成物
帯電防止層形成用組成物を下記の組成に従い混合して調製した。
基本組成物１
帯電防止剤（ATO）                                                 ３０質量部
（(株)ジェムコ製、商品名；T-1  ATO系超微粒子  平均１次粒径２０nm）
ペンタエリスリトールトリアクリレート                              １０質量部
（日本化薬(株)製、商品名；ＰＥＴ３０）
トルエン                                                          ６０質量部
分散剤（味の素ケミカル(株)製、商品名；アジスパーPN-411）        ２．５質量部
基本組成物２
トルエンをシクロヘキサノンに変えた以外は、基本組成物１と同様にして調製した。
基本組成物３
チオフェン系導電性ホ゜リマー塗工液（ELコート-ＴＡ  ＬＰ2010  出光テクノファイン製）を用いた。
基本組成物４
チオフェン系導電性ポリマー塗工液（ELコート  UVH515（２）  出光テクノファイン製）
基本組成物５
耐電防止剤（ATO）
（ASHD300S  ザ・インクテック(株)製）                                  ５質量部
シクロヘキサノン                                                    ２２質量部
重合開始剤
（イルガキュア１８４  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製）    ０．２質量部
【００６８】
例１
透明基材フィルム（厚み８０μmトリアセチルセルロース樹脂フィルム(富士写真フイルム(株)製、TF80UL)を準備し、フィルムの片面に、下記透明帯電防止層形成用塗工液を巻線型のコーティングロッドを用いて塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で３０秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を積算光量が９８ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、０．７ｇ／ｃｍ２(乾燥時)の透明帯電防止層を形成させて、帯電防止積層体を調製した。
透明帯電防止層形成用塗工液の調製
下記組成のものを混合して調製した。
基本組成物１                                                      １００質量部
開始剤                                                樹脂成分に対して５質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア９０７）
トルエン                                                          ４３８質量部
【００６９】
例２
透明帯電防止層形成用塗工液を下記の組成により調製した以外は実施例１と同様にして帯電防止積層体を調製した。
基本組成物１                                                      １００質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート                              ３．５質量部
開始剤                                                樹脂成分に対して５質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア９０７）
トルエン                                                          ４６０質量部
【００７０】
例３
透明帯電防止層形成用塗工液を下記の組成により調製した以外は例１と同様にして帯電防止積層体を調製した。
基本組成物１                                                      １００質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート                              ５．２質量部
開始剤                                                樹脂成分に対して５質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア９０７）
トルエン                                                          ４８５質量部
【００７１】
例４
透明帯電防止層形成用塗工液を下記の組成により調製した以外は例１と同様にして帯電防止積層体を調製した。
基本組成物２                                                      １００質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ９５質量部
（日本化薬(株)製、商品名；ＤＰＨＡ）
開始剤                                                樹脂成分に対して５質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア９０７）
シクロヘキサノン                                                  ７１０質量部
【００７２】
例５
透明帯電防止層形成用塗工液を下記の組成により調製した以外は例１と同様にして帯電防止積層体を調製した。
基本組成物２                                                      １００質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                          １４７質量部
（日本化薬(株)製、商品名；ＤＰＨＡ）
開始剤                                                樹脂成分に対して５質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア９０７）
シクロヘキサノン                                                  ７００質量部
【００７３】
例６
基本組成物３を巻線型のコーティングロッドを用いて例１の光透過性基材に塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で１分間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、かつ熱硬化し、０．７ｇ／ｃｍ２(乾燥時)の透明帯電防止層を形成させて帯電防止積層体を調製した。
【００７４】
例７
基本組成物４を巻線型のコーティングロッドを用いて例１の光透過性基材に塗布し、温度６０℃の熱オーブン中で２分間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、窒素パージ下で、紫外線を積算光量が５００ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、０．７ｇ／ｃｍ２(乾燥時)の透明帯電防止層を形成させて、帯電防止積層体を調製した。
【００７５】
比較例１
ハート゛コート層用組成物の調整
下記組成表に表された組成物を、混合分散してハート゛コート層用組成物を調整した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート
（PET30  日本化薬(株)製）                                           １００質量部
メチルエチルケトン                                                    ４３質量部
レベリング剤
（MCF-350-5  大日本インキ化学工業(株)製）                               ２質量部
重合開始剤
（イルガキュア１８４  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製）          ６質量部
【００７６】
調製
透明基材（厚み８０μmトリアセチルセルロース樹脂フィルム  TF80UL富士写真フイルム(株)製）を準備し、フィルムの片面に、帯電防止層形成用組成物の基本組成物５を巻線型のコーティングロッドを用いて塗布し、温度70℃のオーブン中で30秒間保持し、塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、紫外線を積算光量が９８ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、0.7g/cm2（乾燥時）の透明な帯電防止層を形成させた。帯電防止層を形成したあと、ハート゛コート層用組成物を塗布し、温度70℃のオーブン中で30秒間保持し、塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、紫外線を積算光量が４６ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、１５g/cm2（乾燥時）の透明なハート゛コート層を帯電防止層上に形成させ、ハート゛コート付帯電防止積層体を調整した。
比較例２
防眩層用組成物の調整
下記組成表に表された組成物を、混合分散して防眩層用組成物を調整した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート
（PET30  日本化薬(株)製）                                      ７０質量部
イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート
（東亜合成(株)製）                                             ３０質量部
3.5μmスチレンビーズ
（綜研化学(株)製）                                             １５質量部
通電ビーズ
（ブライト２０GNR4.6EH  日本化学工業(株)製）               ０．１４質量部
レベリング剤
（１０−２８  ザ・インクテック(株)製）                     ０．０１質量部
トルエン                                                 １２７．５質量部
シクロヘキサノン                                           ５４．６質量部
【００７７】
調製
透明基材（厚み８０μmトリアセチルセルロース樹脂フィルム  TF80UL富士写真フイルム(株)製）を準備し、フィルムの片面に、帯電防止層形成用組成物の基本組成物５を巻線型のコーティングロッドを用いて塗布し、温度70℃のオーブン中で30秒間保持し、塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、紫外線を積算光量が９８ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、0.7g/cm2（乾燥時）の透明な帯電防止層を形成させた。帯電防止層を形成したあと、防眩層用組成物を巻線型のコーティングロッド（＃１２）を用いて塗布し、温度70℃のオーブン中で30秒間保持し、塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、紫外線を積算光量が４６ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、帯電防止層の上に防眩層を形成させ、防眩性帯電防止積層体を調整した。
【００７８】
偏光板の調製
偏光素子の調製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコールフィルムを０．３％のヨウ素水溶液中で染色した後、４％のホウ酸、２％のヨウ化カリウム水溶液中で５倍まで延伸し、次いで５０℃で４分間乾燥させて偏光素子を得た。
【００７９】
偏光板の調製
例で調整した帯電防止積層を塗工した帯電防止積層体を４０℃の２mol／LのKOH水溶液中に５分間浸漬して鹸化処理を施した後、純水で洗浄し、次いで７０℃で５分間乾燥した。次いで、この鹸化処理を施した帯電防止積層体の光透過性基材側に７％ポリビニルアルコール系水溶液からなる接着剤を塗布し、偏光子の片側に貼り合せ、片面保護フィルム付偏光板とした。その後、別の透明基材フィルム（厚み８０μmTACフィルム：富士写真フイルム（株）製  TF80UL）を上記と同様に鹸化処理し、同様な接着剤を塗布し、偏光子の残っている片面に貼り合わせ、本件の帯電防止積層体を有する偏光板を作製した。
【００８０】
評価試験
上記例で得られた帯電防止積層体について下記の評価試験を行って評価し、その結果を下記の表１に表した。
物性評価試験
１）表面抵抗値（Ω／□）は、表面抵抗率測定器（三菱化学製、製品番号；Ｈｉｒｅｓｔａ  ＩＰ  ＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて測定した。
２）全光線透過率（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いて測定した。
３）ヘイズ値（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いて測定した。
【００８１】
評価１：表面硬度試験
表面硬度は、帯電防止積層体の帯電防止層を指の腹と爪にて表面を軽く２回擦り、表面の傷の有無を目視し下記の基準で評価した。
評価基準
評価◎：傷が生じなかった
評価○：指の腹で擦っても「傷」は生じなかったが、指の爪で擦った時少々の「傷」が生じたが技術的に問題なかった
評価△：指の腹で擦っても「傷」は生じなかったが、指の爪で擦った時「傷」が生じた
評価×：指の腹で擦った時「傷」が生じた
【００８２】
評価２：塵埃付着防止試験
偏光版の片面のみＴＡＣを張り合わせた片面保護フィルムつきの偏光板（もう片面は、偏光子のまま）の偏光子側面に、透明粘着材にて実施例および比較例で作製した帯電防止積層体の、ＴＡＣ側面を張り合わせ偏光板を作製した。実施例においては、偏光素子よりも下面に帯電防止層が形成された状態を仮定し、帯電防止層のない方のＴＡＣ表面をポリエステル布にて２０往復こすり、そのこすった面をタバコの灰に近づけて塵埃付着防止を下記基準にて評価した。比較例においては、実施例とは逆面、つまり偏光素子よりも上面に帯電防止層積層体が形成された状態を仮定し、帯電防止層のある方のハート゛コート層面および防眩層面をポリエステル布にて２０往復こすり、そのこすった面をタバコの灰に近づけて塵埃付着防止を下記基準にて評価した。
評価基準
評価◎：灰の付着がなく、塵埃付着防止効果があった。
評価×：灰の付着が多数あり、塵埃付着防止効果が無かった。
【表１】
2006030983.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】図１は本発明による帯電防止積層体の断面図を示す。
【図２】図２は本発明による偏光板および光透過性表示体の断面図を示す。
【図３】図３は本発明による偏光板および光透過性表示体の断面図を示す。
【図４】図４は本発明による偏光板および光透過性表示体の断面図を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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