(57)【要約】【課題】  石鹸を使用してもすぐに線画が消失することなく、線画を保つことができ、また、レーザー光により石鹸内部に残留する水分を気体爆発させて空洞を形成し線画を描画していることから、石鹸の成分を変質させず、石鹸の品質を維持しやすい石鹸の内部加工方法及び石鹸加工品を提供することにある。【解決手段】  レーザー光を透過する平滑なフィルムによって表面を覆われた透明又は半透明な石鹸に、レーザー光を照射し、石鹸内部に残留する水分を気体爆発させて空洞を形成し、空洞により線画を描画することを特徴とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー光を透過する平滑なフィルムによって表面を覆われた透明又は半透明な石鹸に、該レーザー光を照射し、
該石鹸内部に残留する水分を気体爆発させて空洞を形成し、
該空洞により線画を描画することを特徴とする石鹸の内部加工方法。
【請求項２】
前記石鹸の透明度が１０％以上であることを特徴とする請求項１記載の石鹸の内部加工方法。
【請求項３】
前記石鹸が、アミノ酸系活性剤を基材とする透明石鹸であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の石鹸の内部加工方法。
【請求項４】
前記フィルムが、ポリエチレン又はセロファンであることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の石鹸の内部加工方法。
【請求項５】
前記レーザー光が、ＹＡＧレザー、ＹＶＯ４レーザー又はフェムト秒レーザーによるものであることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の石鹸の内部加工方法。
【請求項６】
レーザー光を透過する平滑なフィルムによって表面を覆われた透明又は半透明な石鹸で、
該石鹸内部に残留する水分を該レーザー光によって気体爆発させてできた空洞を有し、
該空洞により線画が描画されてなることを特徴とする石鹸加工品。
【請求項７】
前記石鹸の透明度が１０％以上であることを特徴とする請求項６記載の石鹸加工品。
【請求項８】
前記石鹸が、アミノ酸系活性剤を基材とする透明石鹸であることを特徴とする請求項６又は請求項７記載の石鹸加工品。
【請求項９】
前記フィルムが、ポリエチレン又はセロファンであることを特徴とする請求項６〜請求項８のいずれかに記載の石鹸加工品。
【請求項１０】
前記レーザー光が、ＹＡＧレザー、ＹＶＯ４レーザー又はフェムト秒レーザーによるものであることを特徴とする請求項６〜請求項９のいずれかに記載の石鹸加工品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザーによる石鹸の内部加工方法及びレーザーにより加工された石鹸加工品に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の石鹸では、石鹸自体の成分や内容物を変えることなく文字や模様などの線画による描画を行う場合、石鹸表面に凹凸を作り文字や模様を形成させていた。また、透明や半透明の石鹸の内部に、文字や模様を形成させるためのビーズ状やシート状等の石鹸の成分とは異なる物質を入れることにより、描画を行う方法も採用されてきた。
尚、この先行技術は、文献公知に係るものでないため、記載すべき先行技術文献情報はない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の石鹸の表面に凹凸を作り描画を行う方法では、石鹸の使用中に凹凸が消えてしまうという問題があった。
また、石鹸の成分と異なる物質を入れる加工では、石鹸の成分を変質させてしまうという問題があった。
【０００４】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、石鹸を使用してもすぐに線画が消失することなく、線画を保つことができ、また、レーザー光により石鹸内部に残留する水分を気体爆発させて空洞を形成し線画を描画していることから、石鹸の成分を変質させず、石鹸の品質を維持しやすい石鹸の内部加工方法及び石鹸加工品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１記載の石鹸の内部加工方法は、レーザー光を透過する平滑なフィルムによって表面を覆われた透明又は半透明な石鹸に、レーザー光を照射し、石鹸内部に残留する水分を気体爆発させて空洞を形成し、空洞により線画を描画することを特徴とする。
【０００６】
請求項２記載の石鹸の内部加工方法は、石鹸の透明度が１０％以上であることを特徴とする。
【０００７】
請求項３記載の石鹸の内部加工方法は、石鹸が、アミノ酸系活性剤を基材とする透明石鹸であることを特徴とする。
【０００８】
請求項４記載の石鹸の内部加工方法は、フィルムが、ポリエチレン又はセロファンであることを特徴とする。
【０００９】
請求項５記載の石鹸の内部加工方法は、レーザー光が、ＹＡＧレザー、ＹＶＯ４レーザー又はフェムト秒レーザーによるものであることを特徴とする。
【００１０】
請求項６記載の石鹸加工品は、レーザー光を透過する平滑なフィルムによって表面を覆われた透明又は半透明な石鹸で、石鹸内部に残留する水分をレーザー光によって気体爆発させてできた空洞を有し、空洞により線画が描画されてなることを特徴とする。
【００１１】
請求項７記載の石鹸加工品は、石鹸の透明度が１０％以上であることを特徴とする。
【００１２】
請求項８記載の石鹸加工品は、石鹸が、アミノ酸系活性剤を基材とする透明石鹸であることを特徴とする。
【００１３】
請求項９記載の石鹸加工品は、フィルムが、ポリエチレン又はセロファンであることを特徴とする。
【００１４】
請求項１０記載の石鹸加工品は、レーザー光が、ＹＡＧレザー、ＹＶＯ４レーザー又はフェムト秒レーザーによるものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１の発明によれば、レーザー光によって石鹸内部に描画していることから、石鹸を使用してもすぐに線画が消失することなく、線画を保つことができる。また、レーザー光により石鹸内部に残留する水分を気体爆発させて空洞を形成し線画を描画していることから、石鹸の成分を変質させず、石鹸の品質を維持しやすい。
【００１６】
請求項２の発明によれば、石鹸の透明度が１０％以上であることから、外側から線画を目視可能な多くの石鹸に描画可能である。
【００１７】
請求項３の発明によれば、石鹸がアミノ酸系活性剤を基材とする透明石鹸であることから、透明度に優れ描画が鮮明に見えると共に、石鹸自体が低刺激で肌に優しい。
【００１８】
請求項４の発明によれば、フィルムが、ポリエチレン又はセロファンであることから、石鹸表面の凹凸がより少なく、線画を鮮明に描画することが可能である。
【００１９】
請求項５の発明によれば、レーザー光が、ＹＡＧレザー、ＹＶＯ４レーザー又はフェムト秒レーザーによるものであることから、石鹸内部に正確に描画を施すことができる。
【００２０】
請求項６の発明によれば、レーザー光によって石鹸内部に描画していることから、石鹸を使用してもすぐに線画が消失することなく、線画を保つことができる。また、レーザー光により石鹸内部に残留する水分を気体爆発させて空洞を形成し線画を描画していることから、石鹸の成分が変質しておらず、石鹸の品質が維持されている。
【００２１】
請求項７の発明によれば、石鹸の透明度が１０％以上であることから、外側から線画を目視可能である。
【００２２】
請求項８の発明によれば、石鹸がアミノ酸系活性剤を基材とする透明石鹸であることから、透明度に優れ描画が鮮明に見えると共に、石鹸自体が低刺激で肌に優しい。
【００２３】
請求項９の発明によれば、フィルムが、ポリエチレン又はセロファンであることから、石鹸表面の凹凸がより少なく、線画が鮮明に描画されている。
【００２４】
請求項１０の発明によれば、ＹＡＧレザー、ＹＶＯ４レーザー又はフェムト秒レーザーのレーザー光によるものであることから、石鹸内部に描画が正確に描かれている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の形態について図面を参照しながら具体的に説明する。図１は、本発明に係る石鹸の加工手段を示す説明図である。図２は同石鹸の可視透過率の一例を示すグラフ、図３は同石鹸の可視透過率の他の例を示すグラフである。図４は、同石鹸の加工後の断面を示す説明図である。図５は同石鹸の加工前のフーリエ変換赤外線分光分析の結果を示すグラフ、図６は同石鹸の加工後のフーリエ変換赤外線分光分析の結果を示すグラフである。
【００２６】
本実施の形態における石鹸は、透明又は半透明な石鹸２０であって、表面がフィルム２２で覆われている。石鹸２０の本体である石鹸本体２１の成分としては、透明石鹸の場合、例えば、石鹸素地、水、グリセリン、ミリスチルアルコール、ココイルグルタミン酸ＴＥＡ等である。具体的には、四ツ葉油化社製の川研ノンアルコール透明石鹸やニコスター社製の尿素とヒアルロン酸の美肌せっけん等である（特開昭５５−２５４６５号公報記載）。また、アミノ酸系活性剤を基材とする透明石鹸も使用可能である。透明な石鹸の透明度（透過度）は、図２に示すように、純水を透明度１００％として可視光域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍに於いて約４８％〜約６８％である。
【００２７】
また、半透明な石鹸の場合、成分としては、例えば、石鹸素地、水、グリセリン、スクロース、ソルビトール、エタノール、エチドロン酸等である。また、添加可能成分としては、尿素、ヒアルロン酸、コエンザイム、海洋深層水等である。具体的には、ヴィダ・ジャパン社製の無添加洗顔石鹸等である。半透明な石鹸の透明度（透過度）は、図３に示すように、純水を透明度１００％として可視光域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍに於いて約８％〜約２８％である。透明及び半透明な石鹸を総合すると透明度（透過度）は、約１０％以上であればよい。
【００２８】
また、フィルム２２は、ポリエチレンやソロファン製のシートであり、レーザー光を透過する平滑なものである。
【００２９】
次に、石鹸２０を内部加工する装置を説明する。図１に示すように、レーザー光を発射するレーザー装置１及びレーザー光を走査するガルバノメータ（レーザー光内部偏光装置）７とから構成されている。そして、レーザー装置１は、レーザー光発振装置本体５と、照射光調整部（集光径調整）６とからなる。実際に使用可能なレーザー光としては、ＹＡＧレザー、ＹＶＯ４レーザー又はフェムト秒レーザー等である。
【００３０】
次に、石鹸２０を内部加工する方法を説明する。まず、フィルム２２を石鹸本体２１の表面に備える石鹸２０を、ガルバノメータ７でレーザー光を走査可能な位置に配置する。そして、石鹸２０にレーザー光を照射する。このレーザー光の照射により、石鹸本体２１の内部に残留する水分が気体爆発させられ空洞（２１ａ〜２１ｃ）が形成される。ガルバノメータ７によりレーザー光を走査し、所望の線画を形成するように次々と空洞（２１ａ〜２１ｃ）を形成させていく。そして、石鹸２０の外側から見ると、空洞（２１ａ〜２１ｃ）が寄り集まって線画が描画された線画部２１ａ〜２１ｃとして見えることとなる。尚、レーザー光の強弱を変化させつつ走査することで、石鹸本体２１の深さの異なる位置に空洞（２１ａ〜２１ｃ）を作ることができ、すなわち立体的な描画を石鹸本体２１の内部に形成することが可能である。尚、線画とは、線、文字、図形、模様などの視覚的に認識可能な図柄のことで、立体てきなものも含んでいる。
【００３１】
尚、石鹸２０を内部加工する装置としては、レーザー光自体を走査するガルバノメータ７を用いた装置に限られない。例えば、図７に示すように、ガルバノメータ７を用いず、レーザー装置２から発射されたレーザー光をミラー８ａ〜８ｃで照射位置を固定的に定めてＸＹＺテーブル１０に照射するようにしてもよい。この場合、石鹸２５をＸＹＺテーブル１０に載せ、モーター１１，１２によりＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向に石鹸２５を移動させることにより、相対的にレーザー光が走査されたことになる。そして、石鹸２５内部に水蒸気爆発により空洞（２６ａ〜２６ｃ）が形成され、石鹸２５の外側から見ると、空洞（２６ａ〜２６ｃ）が寄り集まって線画が描画された線画部２６ａ〜２６ｃとして見えることとなる。
【００３２】
以上のようなレーザー光による石鹸の内部加工方法によれば、レーザー光によって石鹸本体２１内部に描画していることから、石鹸２０、２５を使用してもすぐに線画が消失することなく、線画を保つことができる。
【００３３】
また、レーザー光により石鹸本体２１内部に残留する水分を気体爆発させて空洞を形成し線画を描画していることから、石鹸２０の成分を変質させず、石鹸２０の品質を維持しやすい。具体的には、例えば、図５のレーザー光による内部加工前のフーリエ変換赤外線分光分析と図６のレーザー光による内部加工前のフーリエ変換赤外線分光分析の結果に示すように、約８００ｃｍ−１〜約１８００ｃｍ−１の範囲で、石鹸本体２１の成分に変化が無いことからも明かである。さらに、従来の石鹸では、表面に文字・描画を加工するに当り金型が必要不可欠であったが、本発明ではレーザー光を使用するため金型が不要になり多品種・小ロット加工が可能である。
【００３４】
更に、石鹸本体２１の透明度が１０％以上であることから、外側から線画を目視可能な多くの石鹸に描画可能である。尚、半透明石鹸においては内部の残留水分が多い場合、内部に線画の認識が困難になる場合がある。この場合、半透明石鹸では内部の残留水分を減らすことにより石鹸自体の透明度を上げることが不可欠となる。
【００３５】
更に、石鹸本体２１にアミノ酸系活性剤を基材とする透明石鹸を用いることで、透明度に優れ描画が鮮明に見えると共に、石鹸自体が低刺激で肌に優しい。
【００３６】
更に、フィルム２２が、ポリエチレン又はセロファンであることから、石鹸本体２１の表面の凹凸をより少なくし、線画を鮮明に描画することが可能である。予めフィルム２２で覆われている石鹸については、加工時に石鹸表面にある包装であるフィルム２２を剥がさず加工できる。尚、加工する製品表面の面粗度に依りレーザー光の進入角度が変化するため、石鹸本体２１の表面の面粗度を向上させないといけない（面粗度に依り気体爆発の位置が微妙に変わる）。
【００３７】
更に、レーザー光が、ＹＡＧレザー、ＹＶＯ４レーザー又はフェムト秒レーザーによるものであることから、石鹸内部に正確に描画を施すことができる。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
以上のように、本発明によればレーザー光によって石鹸内部に描画していることから、石鹸を使用してもすぐに線画が消失することなく線画を保つことができ、線画を施す必要のある石鹸に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明に係る石鹸の加工手段を示す説明図である。
【図２】同石鹸の可視透過率の一例を示すグラフである。
【図３】同石鹸の可視透過率の他の例を示すグラフである。
【図４】同石鹸の加工後の断面を示す説明図である。
【図５】同石鹸の加工前のフーリエ変換赤外線分光分析の結果を示すグラフである。
【図６】同石鹸の加工後のフーリエ変換赤外線分光分析の結果を示すグラフである。
【図７】本発明に係る石鹸の他の加工手段を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４０】
１，２・・・・・・・レーザー装置
５・・・・・・・・・レーザー光発振装置本体
６・・・・・・・・・照射光調整部
７・・・・・・・・・ガルバノメータ
８ａ〜８ｃ・・・・・ミラー
１０・・・・・・・・ＸＹＺテーブル
１１，１２・・・・・モータ
２０，２５・・・・・石鹸
２１，２６・・・・・石鹸本体
２１ａ〜２１ｃ・・・線画部
２６ａ〜２６ｃ・・・線画部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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