(57)【要約】【課題】光学補償機能に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に、広い視野角拡大性能を有する新規な光学補償シートを提供する。【解決手段】  透明支持体と、該支持体上にハイブリッド配向に固定された液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する光学補償シートであって、前記光学異方性層の空気界面側表面の窒素原子数／炭素原子数が０．１未満であり、且つフッ素原子数／炭素原子数が０．１以上である光学補償シートである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体と、該支持体上にハイブリッド配向に固定された液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する光学補償シートであって、前記光学異方性層の空気界面側表面の窒素原子数／炭素原子数が０．１未満であり、且つフッ素原子数／炭素原子数が０．１以上である光学補償シート。
【請求項２】
前記光学異方性層が、液晶性化合物の分子を水平配向させる工程と、該水平配向した液晶性化合物の分子をハイブリッド配向させる工程とを含む方法により製造された層であり、前記ハイブリッド配向させる工程における加熱温度よりも低い温度において、前記光学異方性層の空気界面側表面の窒素原子数／炭素原子数が０．００１以上であり、且つフッ素原子数／炭素原子数が０．１以上である請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項３】
前記光学異方性層が、下記一般式（１）で表される化合物を少なくとも一種含有する請求項１又は２に記載の光学補償シート：
一般式（１）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
式（１）中、Ａｒは（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環基又は芳香族炭化水素環基を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆはアルキル基又はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１又は２を表し、ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲｆおよびＸは同一でも異なっていてもよい。
【請求項４】
前記光学異方性層が、トリアジン環基を有する化合物を少なくとも一種含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項５】
前記光学異方性層が、さらに、フルオロ脂肪族ポリマーを少なくとも一種含有し、該光学異方性層の空気界面側表面のフッ素原子数／炭素原子数が０．５以上である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項６】
前記光学異方性層が、さらに、セルロースエステルを含有する請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項７】
前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項８】
前記光学異方性層が、ハイブリッド配向した液晶性化合物から形成され、かつ、ハイブリッド配向が固定されている請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学補償シートを有する液晶表示装置。
【請求項１０】
透明支持体と、該透明支持体上に配向膜と、該配向膜上に光学異方性層とを少なくとも有する光学補償シートの製造方法であって、
少なくとも液晶性化合物を含有する光学異方性層形成用の組成物を、連続走行する、表面に配向膜が形成された透明支持体であるウェブの表面に塗布した後に、前記ウェブを囲むケーシングを有するドライヤにより、塗布面近傍の風の乱れを防止し乾燥中の塗布面側の溶剤蒸気を高い濃度で保ったまま乾燥を行う工程と、前記配向膜表面上で前記液晶性化合物の分子を水平配向させる工程と、該水平配向した液晶性化合物の分子をハイブリッド配向させる工程とを含む光学補償シートの製造方法。
【請求項１１】
少なくとも、偏光膜と、該偏光膜の片面に設けられた透明保護膜とからなり、該透明保護膜が、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学補償シートである偏光板。
【請求項１２】
少なくとも、液晶セルと、該液晶セルの両側にそれぞれ配置された偏光板とを有し、前記偏光板の少なくとも一方が、偏光膜と該偏光膜の片面であって液晶セルに近い側に設けられた透明保護膜とを少なくとも有し、且つ該透明保護膜が、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学補償シートである液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な光学補償シート、ならびにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置の分野に属する。また、本発明は、液晶、特にディスコティック液晶性化合物の空気界面における傾斜角を制御する方法、及び光学補償シートの製造方法の技術分野にも属する。
【背景技術】
【０００２】
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。従来、光学補償シートとしては、延伸複屈折フイルムが使用されている。また、近年、延伸複屈折フイルムに代えて、透明支持体上にディスコティック液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。この光学異方性層は、通常、ディスコティック液晶性化合物を含むディスコティック液晶組成物を配向膜の上に塗布し、配向温度よりも高い温度で加熱してディスコティック液晶性化合物を配向させ、その配向状態を固定することにより形成される。一般に、ディスコティック液晶性化合物は、大きな複屈折率を有するとともに、多様な配向形態がある。ディスコティック液晶性化合物を用いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。
【０００３】
一方、ディスコティック液晶性化合物は、多様な配向形態があるため、所望の光学特性を発現させるためには、光学異方性層におけるディスコティック液晶性化合物の配向を制御する必要がある。ディスコティック液晶性化合物を平均傾斜角が５度未満の水平配向状態に制御する方法として、ディスコティック液晶性化合物に、セルロース低級脂肪酸エステル、含フッ素界面活性剤または１，３，５−トリアジン環を有する化合物を添加する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、フッ素置換アルキル基と親水基（スルホ基が連結基を介してベンゼン環に結合した）を有する化合物を光学異方性層に添加し、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角を制御する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。さらに、疎水性排除体積効果化合物を光学異方性層に併用して、液晶性化合物の配向を制御する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。しかし、液晶性化合物のハイブリッド配向を効果的に促進する化合物の効果およびその使用法については、言及されていない。
【０００４】
また、従来の技術では、主に、１５インチ以下の小型あるいは中型の液晶表示装置を想定して、光学補償シートが開発されていた。しかし、最近では、１７インチ以上の大型、かつ輝度の高い液晶表示装置も想定する必要がある。大型の液晶表示装置の偏光板に、従来の光学補償シートを保護フイルムとして装着したところ、パネル上にムラが発生していることが判明した。この欠陥は、小型あるいは中型の液晶表示装置では、あまり目立っていなかったが、大型化、高輝度化に対応して、光漏れムラに対処した光学フイルムをさらに開発する必要が生じている。
このムラの生じる理由は、乾燥初期には塗布膜中に有機溶剤が十分に含まれた状態であり、この段階で有機溶剤の蒸発分布が生じると、その結果、塗布膜面に温度分布、表面張力分布を生じ、塗布膜面内で、いわゆるマランゴニー対流等の流動が起きることによる。このようなムラの発生は重大な塗布欠陥となる。連続走行するウェブに各種液状組成物を塗布して形成した長尺で広幅な塗布膜面を乾燥する乾燥方法および装置については、Ｅ．Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ、Ｅ．Ｄ．Ｃｏｈｅｎ  著の『Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  ＤｒｙｉｎｇＤｅｆｅｃｔｓ』（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｃｅ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ）  に非塗布面側をロールで支持し、塗布面側にエア・ノズルから風を吹いて乾燥させる乾燥方法や、塗布面、非塗布面ともにエア・ノズルから風を吹いて、ウェブを浮上させた状態、すなわち支持体がロール等に接触しないで乾燥させる非接触式のエア・フローティング乾燥方法について記されている。この非接触式の乾燥方法については、スペースを効率良く利用し、かつ効率良く乾燥させる方法として特許文献４に開示されているような弦巻き型の乾燥装置を用いた乾燥方法等がある。
【０００５】
通常これらの風を吹かせて乾燥させる方法（以下、熱風乾燥方法という）では、調湿した風を塗布面に吹きつけることにより、塗布面中に含まれる溶媒を蒸発させて乾燥させている。この熱風乾燥方法は、乾燥効率に優れるものの、塗布面に直接または多孔板、整流板等を介して風をあてるために、この風によって塗布面が乱れて塗布層の厚さが不均一となってムラを生じたり、対流によって塗布面での溶媒の蒸発速度が不均一になったりし、いわゆるユズ肌（非特許文献１参照）等が発生して、均一な塗布層が得られないという問題があった。
また、特許文献５では、塗布液溶剤の蒸発速度を０．３ｇ／（ｍ2・ｓｅｃ）以下に抑えることで乾燥による膜厚ムラを発生させずに塗布膜が作製できることが示されている。塗布膜に吹きつける風の条件を調整して蒸発速度を下げることによって良好な面状を得ることは可能であるが、塗布速度を下げると、乾燥を完了させるために長い乾燥工程が必要となるため、生産性向上のためには好ましい方法ではない。
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−３５２３２８号公報（第９−２１頁）
【特許文献２】特開２００１−３３０７２５号公報（第７−１０頁）
【特許文献３】特開２００２−２０３６３号公報（第３−２１頁）
【特許文献４】特公昭６０−５９２５０号公報
【特許文献５】特開２００４−３４００２号公報
【非特許文献１】尾崎勇次著、『コーティング工学』、朝倉書店、１９７１年、２９３頁〜２９４頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、光学異方性層のハイブリッド配向する液晶性化合物の傾斜角を制御し、光学補償機能に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に、広い視野角拡大性能を有する新規な光学補償シートを提供することを課題とする。とりわけ、空気界面側の傾斜角を制御し、ハイブリッド配向したディスコティック液晶性化合物を光学異方性層に含有する、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード等の液晶表示装置の視野角改善に寄与する光学補償シートを提供することを課題とする。さらに、大型の液晶表示装置に適用した場合でも、ムラを生じることなく、表示品位の改善に寄与する光学補償シートを提供することにある。また、本発明は、液晶表示装置の視野角拡大に寄与する偏光板、及び視野角特性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置を提供することを課題とする。
また、本発明は、連続走行する帯状可撓性支持体（以下、透明支持体とも呼ぶこともある）に光学異方性層を塗布して形成した長尺で広幅な塗布膜面において、塗布の際に発生する膜厚ムラの発生を抑制し、かつ、乾燥時に発生する膜厚ムラを抑制し、かつ効率良く乾燥させることにより膜厚均一性が高い光学補償シートを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための手段は、以下のとおりである。
［１］  透明支持体と、該支持体上にハイブリッド配向に固定された液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する光学補償シートであって、前記光学異方性層の空気界面側表面の窒素原子数／炭素原子数が０．１未満であり、且つフッ素原子数／炭素原子数が０．１以上である光学補償シート。
［２］  前記光学異方性層が、液晶性化合物の分子を水平配向させる工程と、該水平配向した液晶性化合物の分子をハイブリッド配向させる工程とを含む方法により製造された層であり、前記ハイブリッド配向させる工程における加熱温度よりも低い温度において、前記光学異方性層の空気界面側表面の窒素原子数／炭素原子数が０．００１以上であり、且つフッ素原子数／炭素原子数が０．１以上である［１］の光学補償シート。
［３］  前記光学異方性層が、下記一般式（１）で表される化合物を少なくとも一種含有する請求項１又は２に記載の光学補償シート：
一般式（１）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
式（１）中、Ａｒは（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環基又は芳香族炭化水素環基を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆはアルキル基又はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１又は２を表し、ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲｆおよびＸは同一でも異なっていてもよい。
［４］  前記光学異方性層が、トリアジン環基を有する化合物を少なくとも一種含有する［１］〜［３］のいずれかの光学補償シート。
［５］  前記光学異方性層が、さらに、フルオロ脂肪族ポリマーを少なくとも一種含有し、該光学異方性層の空気界面側表面のフッ素原子数／炭素原子数が０．５以上である［１］〜［４］のいずれかの光学補償シート。
［６］  前記光学異方性層が、さらに、セルロースエステルを含有する［１］〜［５］のいずれかの光学補償シート。
［７］  前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である［１］〜［６］のいずれかの光学補償シート。
［８］  前記光学異方性層が、ハイブリッド配向した液晶性化合物から形成され、かつ、ハイブリッド配向が固定されている［１］〜［７］のいずれかの光学補償シート。
［９］  ［１］〜［８］のいずれかの光学補償シートを有する液晶表示装置。
［１０］  透明支持体と、該透明支持体上に配向膜と、該配向膜上に光学異方性層とを少なくとも有する光学補償シートの製造方法であって、
少なくとも液晶性化合物を含有する光学異方性層形成用の組成物を、連続走行する、表面に配向膜が形成された透明支持体であるウェブの表面に塗布した後に、前記ウェブを囲むケーシングを有するドライヤにより、塗布面近傍の風の乱れを防止し乾燥中の塗布面側の溶剤蒸気を高い濃度で保ったまま乾燥を行う工程と、前記配向膜表面上で前記液晶性化合物の分子を水平配向させる工程と、該水平配向した液晶性化合物の分子をハイブリッド配向させる工程とを含む光学補償シートの製造方法。
［１１］  少なくとも、偏光膜と、該偏光膜の片面に設けられた透明保護膜とからなり、該透明保護膜が、［１］〜［８］のいずれかの光学補償シートである偏光板。
［１２］  少なくとも、液晶セルと、該液晶セルの両側にそれぞれ配置された偏光板とを有し、前記偏光板の少なくとも一方が、偏光膜と該偏光膜の片面であって液晶セルに近い側に設けられた透明保護膜とを少なくとも有し、且つ該透明保護膜が、［１］〜［８］のいずれかの光学補償シートである液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明では、ハイブリッド配向状態に固定された液晶性化合物を含有する光学異方性層の空気界面側表面の窒素原子数／炭素原子数、及びフッ素原子数／炭素原子数を制御することにより、光学補償機能に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に、広い視野角拡大性能を有する新規な光学補償シートを提供している。視野角が拡大する要因として、ハイブリッド配向の傾斜角とりわけ空気界面側の傾斜角を制御したことが考えられる。また、実質的にハイブリッド配向させる工程における加熱温度よりも低い温度において、前記光学異方性層の空気界面側表面の窒素原子数／炭素原子数、及びフッ素原子数／炭素原子数を制御することにより、欠陥の少ない光学異方性層を短時間に塗布することができる。またウェブを囲むケーシングを有するドライヤにより、塗布面近傍の風の乱れを防止し乾燥中の塗布面側の溶剤蒸気を高い濃度で保ったまま乾燥を行うことにより、溶剤の蒸発速度を０．３ｇ／（ｍ2・ｓｅｃ）以上にしても従来の熱風乾燥で見られたような乾燥ムラが発生しない。このことより従来の乾燥方式よりも蒸発速度を高く設定しても乾燥に起因する膜厚ムラが発生しないので、より高速での製造にも対応可能になる。
【発明の実施の形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、ハイブリッド配向に固定された液晶性化合物を含有する光学異方性層を有する光学補償シートであって、前記光学異方性層の空気界面側表面の窒素原子数／炭素原子数が０．１未満であり、且つフッ素原子数／炭素原子数が０．１以上である光学補償シートに関する。本発明において、光学異方性層の空気界面側表面の窒素原子数／炭素原子数（以下、「Ｎ／Ｃ」と省略する場合がある）、及びフッ素原子数／炭素原子数（以下、「Ｆ／Ｃ」と省略する場合がある）とは、Ｘ線光電子分光法で求めた窒素原子と炭素原子との、及びフッ素原子と炭素原子との光電子エネルギーのピーク強度比をいう。前記光学異方性層の空気界面側表面のＮ／Ｃは０．１未満であることが好ましく、０．０２５未満であることがより好ましい。また、Ｆ／Ｃは０．１以上であることが好ましく、１．０以上であることがより好ましく、１．０〜４．０であることが最も好ましい。Ｎ／Ｃ及びＦ／Ｃが前記範囲であると、液晶性化合物の分子の空気界面における傾斜角を増加させることができ、その結果、良好な光学補償能を有する光学異方性層となる。
【００１１】
前記光学異方性層は、液晶性化合物の分子を水平配向させた後、ハイブリッド配向させて、その状態に固定して形成するのが好ましい。かかる工程を経て製造された光学異方性層は、欠陥が少ないので好ましい。前記液晶性化合物の分子を温度Ｔ1℃でハイブリッド配向させる場合、温度Ｔ1℃よりも低い温度Ｔ2℃において、前記光学異方性層の空気界面側表面のＦ／Ｃは０．１以上であることが好ましく、１．０以上であることがより好ましく、１．０〜４．０であることが最も好ましい。また、Ｎ／Ｃは０．００１以上であることが好ましく、０．０２５以上であることがより好ましい。Ｆ／Ｃ及びＮ／Ｃが前記範囲であると、より欠陥の少ない光学異方性層となるので好ましい。
【００１２】
本発明におけるＸ線光電子分光法とは、試料表面（即ち光学異方性層表面）にエネルギー幅の狭い軟Ｘ線（半値幅約１ｅＶ）を照射した時の光電効果により試料中から真空中に放出される原子の内殻・外殻電子の光電子エネルギーとその数を測定して、表面近傍（深さ数ｎｍ）に存在する原子の量やその原子の周囲の環境、化学結合状態を分析する方法である。Ｘ線光電子分光法を用いて、表面のフッ素原子（あるいは窒素原子）と炭素原子との光電子エネルギーのピーク強度比を求めることにより光学異方性層の表面におけるフッ素原子又は窒素原子の存在状態を知ることができる。
【００１３】
本明細書におけるＦ／Ｃ（あるいはＮ／Ｃ）比は、クレイトスアナリティカル社製Ｘ線光電子分光装置ＥＳＣＡ−３４００（測定条件：Ｍｇアノードを使用し、Ｘ線出力１２ｋＶ−１０ｍＡ、パスエネルギー７５ｅＶで測定、測定範囲はＣ  １ｓ；３００〜２７５ｅＶ、Ｆ１ｓ；７００〜６００ｅＶ、Ｎ１ｓ；４１０〜３９０ｅＶを０．１ｅＶステップ、０．５ｏｒ１秒／ステップで測定した。）を用い、Ｆ１ｓ、Ｎ１ｓ、Ｃ１ｓのエネルギーのピーク強度を測定し、下記の計算式で求めた値である。Ｆ／Ｃ、Ｎ／Ｃ比は、フッ素化合物の含有量、窒素化合物の含有量を適宜変えることによりコントロールできる。後述するフッ素化合物、窒素化合物を光学異方性層中に含有させることで、Ｆ／Ｃ及びＮ／Ｃ比を前記範囲に容易に調整することができる。
Ｆ／Ｃ比＝（Ｆ１ｓのピーク強度）／（Ｃ１ｓのピーク強度）
Ｎ／Ｃ比＝（Ｎ１ｓのピーク強度）／（Ｃ１ｓのピーク強度）
【００１４】
次に、本発明の光学補償シートの作製に用いられる種々の材料、及び製造方法について詳細に説明する。
［光学異方性層］
本発明の光学補償シートは、ハイブリッド配向状態に固定された液晶性化合物を含有する光学異方性層を有する。該光学異方性層は、空気界面側表面のＮ／Ｃ及びＦ／Ｃが前記範囲となるために、液晶性化合物以外の種々の添加剤を含有していてもよい。該添加剤は、光学異方性層形成用の組成物、一般的には塗布液中に液晶性化合物とともに含有させることで、光学異方性層中に含有される。
【００１５】
［一般式（１）で表される化合物］
前記光学異方性層は、下記一般式（１）で表される化合物を含有しているのが好ましい。下記一般式（１）で表される化合物は、液晶性化合物の空気界面における傾斜角を増加させるのに寄与する。
一般式（１）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
式（１）中、Ａｒは（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環基又は芳香族炭化水素環基を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆはアルキル基又はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１又は２を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲｆおよびＸは同一でも異なっていてもよい。
【００１６】
更に詳細に説明すると、上記一般式（１）において、Ａｒで表される（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環基は、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２の芳香族ヘテロ環の基である。例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子の少なくとも１種を含む芳香族ヘテロ環の残基であり、より具体的には、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、イソキサゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、１，３，５−トリアジン環、インドール環、インダゾール環、キノリン環、カルバゾール環の残基が好ましい。Ａｒで表される（ｍ＋ｎ）価の芳香族炭化水素環の基は、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環の残基であり、ベンゼン環の残基が最も好ましい。Ａｒは（ｍ＋ｎ）価の芳香族炭化水素環の基であるのが好ましい。
【００１７】
Ａｒで表される（ｍ＋ｎ）価の芳香族ヘテロ環の基又は芳香族炭化水素環の基は、−Ｘ−Ｒｆ及び−Ｗ以外の置換基を有していてもよく、該置換基の例としては以下のものが挙げられる。
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００１８】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００１９】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２０】
Ａｒの−Ｘ−Ｒｆ及び−Ｗ以外の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基が好ましく、特に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基である。但し、Ａｒは、−Ｘ−Ｒｆ及び−Ｗ以外の置換基で置換されていないのが最も好ましい。
【００２１】
前記式（１）中、Ｘで表される２価の連結基はアルキレン基、アルケニレン基、２価の芳香族基、２価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。２価の連結基は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる２価の連結基を少なくとも２つ組み合わせた基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、可能であれば前述のＡｒの置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基など）によって置換されていてもよい。
Ｘは２価の連結基であるのが好ましく、中でもアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であるのがより好ましい。
【００２２】
Ｒｆで表されるアルキル基は、環状構造であっても、分岐構造を有していてもよい。炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数４〜２０であることがより好ましく、炭素数８〜２０であることが特に好ましい。
【００２３】
Ｒｆで表されるフッ素原子で置換されたアルキル基は、環状構造であっても、分岐構造を有していてもよく、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数４〜１６であることがより好ましく、炭素数４〜１２であることが特に好ましい。フッ素原子の置換率は、アルキル基に含まれる水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されていることが好ましく、６０％以上が置換されていることがより好ましい。Ｒｆは、末端がＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基であることが好ましく、ＣＦ3基であることが特に好ましい。Ｒｆで表されるフッ素原子で置換されたアルキル基は、可能であれば前述のＡｒの置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基など）によって置換されていてもよい。
以下に、Ｒｆの具体例を示す。
【００２４】
Ｒｆ１：ｎ−Ｃ8Ｆ17−
Ｒｆ２：ｎ−Ｃ6Ｆ13−
Ｒｆ３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−
Ｒｆ４：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ５：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ７：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）3−
Ｒｆ８：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）3−
Ｒｆ９：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）3−
Ｒｆ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−
Ｒｆ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−
Ｒｆ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−
Ｒｆ１３：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１４：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１５：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−ＣＨ2ＣＨ2−（ｎ−Ｃ4Ｆ9−ＣＨ2ＣＨ2−）ＣＨＣＨ2−
【００２５】
Ｗはスルホ基であることが好ましく、ｍは１又は２が好ましく、ｎは１が好ましい。
【００２６】
前記一般式（１）の範囲には、下記一般式（１ａ）が含まれる。
【００２７】
【化１】
2006091731.tif 000002
一般式（１ａ）において、Ｘ2は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ2はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｒは水素原子又はアルコキシ基を表す。
【００２８】
一般式（１ａ）において、Ｘ2及びＲｆ2は一般式（１）におけるＸ及びＲｆと同義であり、好ましい範囲も同一である。Ｒで表されるアルコキシ基のアルキル基部分は、環状構造であっても、分岐構造を有していてもよい。前記アルコキシ基は、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数４〜２０であることがより好ましく、炭素数８〜２０であることが特に好ましい。Ｒで表されるアルコキシ基は、可能であれば前述のＡｒの置換基として例示された基によって置換されていてもよい。Ｒは無置換のアルコキシ基が特に好ましい。
【００２９】
また、前記一般式（１）の範囲には、下記一般式（２）が含まれる。
【００３０】
一般式（２）
（Ｒｆ1−Ｘ1−）2Ａｒ1（−Ｗ1）n1
式（２）中、Ａｒ1は芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘ1は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ1はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗ1はスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｎ１は１又は２を表す。
【００３１】
更に詳細に説明すると、上記一般式（２）において、Ａｒ1、Ｘ1、Ｒｆ1、Ｗ1、及びｎ１は、前記一般式（１）におけるＡｒ、Ｘ、Ｒｆ、Ｗ、及びｎと同義であり、好ましい範囲も同一である。式（２）中、二つのＸ1及びＲｆ1は、各々同一でも異なっていてもよい。
【００３２】
前記一般式（２）で表される化合物の中でも、下記一般式（２ａ）で表される化合物が好ましい。
【００３３】
【化２】
2006091731.tif 000003
一般式（２ａ）において、Ｘ3は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ3はフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。
【００３４】
前記一般式（２ａ）において、Ｘ3及びＲｆ3は、前記一般式（２）におけるＸ1及びＲｆ1と同義であり、好ましい範囲も同一である。
【００３５】
上記一般式（１）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【００３６】
【化３】
2006091731.tif 000004
【００３７】
【化４】
2006091731.tif 000005
【００３８】
【化５】
2006091731.tif 000006
【００３９】
【化６】
2006091731.tif 000007
【００４０】
前記一般式（１）で表される化合物は、一般的なヒドロキシ基のアルキル化反応及び芳香族化合物のスルホ化反応等を組み合わせることによって容易に合成することができる。
【００４１】
前記一般式（１）で表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％が特に好ましく、０．０５〜１質量％が最も好ましい。本発明では、前記一般式（１）で表される化合物の１種を用いてもよく、また２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、少なくとも１種は、前記一般式（２）で表される化合物であるのが好ましい。前記一般式（１ａ）で表される化合物の少なくとも一種と、前記一般式（２）で表される化合物の少なくとも一種との組み合わせが好ましく、前記一般式（１ａ）で表される化合物の少なくとも一種と、前記一般式（２ａ）で表される化合物の少なくとも一種との組み合わせがより好ましい。
【００４２】
［１，３，５−トリアジン環基を有する化合物］
前記光学異方性層は、１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の少なくとも一種を含有しているのが好ましい。該化合物は、液晶性化合物、特にディスコティック液晶性化合物を、水平配向状態からハイブリッド配向状態に安定的に転移させるのに寄与する。１，３，５−トリアジン環基を有する化合物は、光学異方性層を形成する際に用いる組成物中に含有させることができる。なお、本発明に使用可能な１，３，５−トリアジン環基を有する化合物としては、下記一般式（５）または（６）で表される化合物が好ましい。
【００４３】
【化７】
2006091731.tif 000008
【００４４】
一般式（５）において、Ｌ1、Ｌ2およびＬ3はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表し、Ａ1、Ａ2およびＡ3はそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、ｍ2、ｍ3およびｍ4は０以上の整数を表す。Ｒ10、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ独立に有機基であり、ｍ2が０の時、Ｒ10はアルキル基であり、ｍ3が０の時、Ｒ11はアルキル基であり、ｍ4が０の時、Ｒ12はアルキル基である。
【００４５】
【化８】
2006091731.tif 000009
【００４６】
一般式（６）において、Ｘ4及びＹ4はそれぞれ独立に、ＮＲa（Ｒaは水素原子またはアルキル基を表す）、Ｏ及びＳのいずれかを表し、Ｚ4は二価の連結基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ独立に、置換基を表す。
【００４７】
まず、前記一般式（５）で表される化合物について詳細に説明する。
Ｌ1、Ｌ2およびＬ3で各々表される二価の連結基の例としては、例えば−ＣＯ−、―ＮＲa−（Ｒaはアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。より好ましくは、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基であり、さらに好ましくは−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ2−からなる群選ばれる二価の連結基、又は該群から選ばれる二価の連結基の２種又は３種の組み合わせである。最も好ましくは、−ＮＲa−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の連結基、又は該群から選ばれる二価の連結基の２種又は３種の組み合わせである。
【００４８】
Ａ1、Ａ2およびＡ3で各々表されるアルキレン基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、また置換されていてもよい。前記置換もしくは無置換のアルキレン基は、炭素数２〜３０のアルキレン基であるのが好ましく、その例には、−ＣＨ2−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2−及び−（ＣＨ2）4−）が含まれる。好ましくは−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−（ＣＨ2）4−である。
【００４９】
ｍ2、ｍ3およびｍ4は０以上の整数を表わし、好ましくは１〜１０で、より好ましくは１〜５である。
【００５０】
Ｒ10、Ｒ11およびＲ12で各々表される有機基としては、アルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ドデシル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２−エチルヘキシル基、２‐へキシルデシル基、２−オクチルドデシル基、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル基、
【００５１】
シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基が挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ（１．２．２）ヘプタン−２−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクタン−３−イル基）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が得に好ましい。）、
【００５２】
アルケニル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基、多シクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ（２．２．１）ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクト−２−エン−４−イル基またはトリシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が特に好ましい）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基）、
【００５３】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェニル基、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェニル基、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェニル基、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェニル基）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族ヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、等が挙げられる。
【００５４】
Ｒ10、Ｒ11およびＲ12で各々表される有機基は、置換基を有してもよく、該置換基としては、前記一般式（１）においてＡｒで表される芳香族ヘテロ環基または芳香族炭化水素環基の置換基として挙げた基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｒ10、Ｒ11およびＲ12で各々表される有機基の置換基は、特に好ましくは、置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基である。
【００５５】
前記一般式（５）で表される化合物の中でも、下記一般式（５ａ）で表される化合物が好ましい。
【００５６】
【化９】
2006091731.tif 000010
【００５７】
一般式（５ａ）において、Ａ1、Ａ2およびＡ3はそれぞれ独立し、アルキレン基を表し、ｍ2、ｍ3およびｍ4は０以上の整数を表し、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ独立し有機基であり、ｍ2が０の時、Ｒ10はアルキル基であり、ｍ3が０の時、Ｒ11はアルキル基であり、ｍ4が０の時、Ｒ12はアルキル基である。
【００５８】
一般式（５ａ）においてＡ1、Ａ2およびＡ3、ｍ2、ｍ3およびｍ4、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12は一般式（５）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲も同一である。
【００５９】
次に、前記一般式（６）で表される化合物について詳細に説明する。
式中、Ｚ4で表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価のアリール基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。
【００６０】
Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16で各々表される置換基としては、アルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ドデシル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２−エチルヘキシル基、２‐へキシルデシル基、２−オクチルドデシル基、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル）基、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基が挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ（１．２．２）ヘプタン−２−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクタン−３−イル基）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が得に好ましい。）、
【００６１】
アルケニル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基が挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ（２．２．１）ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクト−２−エン−４−イル基）、やトリシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が得に好ましい。）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基）、
【００６２】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェニル基、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェニル基、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェニル、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェニル基）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
【００６３】
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノキシ基、２−パーフルオロヘキシルエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェノキシ基、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェノキシ基、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェノキシ基、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、
【００６４】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、
【００６５】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、３−パーフルオロヘキシルプロピルアミノ基、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミノ、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ基、３−（２−ヘキシルデカノオキシ）プロピルアミノ基、３−ドデシルオキシプロピルアミノ基、３−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）プロピルアミノ基、３−（３−（６Ｈ−パーフルオロヘキシル）プロピルオキシ）プロピルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、２−メチルオキシアニリノ基、２−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基、２−（２−パーフルオロブチルエチルオキシ）アニリノ基、２、４−ジ（２−パーフルオロヘキシルエチルオキシ）アニリノ基、２−（６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）アニリノ基、３，４−ジ（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基、Ｎ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、
【００６６】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、
【００６７】
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイ基ル、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、
【００６８】
アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、
【００６９】
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールアゾ基およびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、
【００７０】
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）が挙げられる。
【００７１】
上記置換基の中で水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていてもよい。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基などが挙げられる。
【００７２】
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、それらの置換基は同一でも、異なっていてもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００７３】
好ましくはＲ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は、置換もしくは無置換のアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基又はヘテロ環アミノ基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換のアルキルアミノ基（例えばメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、３−パーフルオロヘキシルプロピルアミノ基、３−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミノ基、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ基、３−（２−ヘキシルデカノオキシ）プロピルアミノ基、３−ドデシルオキシプロピルアミノ基、３−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）プロピルアミノ基、３−（３−（６Ｈ−パーフルオロヘキシル）プロピルオキシ）プロピルアミノ）基、アリールアミノ基（例えばアニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、２−メチルオキシアニリノ基、２−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基、２−（２−パーフルオロブチルエチルオキシ）アニリノ基、２，４−ジ（２−パーフルオロヘキシルエチルオキシ）アニリノ基、２−（６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）アニリノ基、３，４−ジ（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基）である。
【００７４】
前記一般式（６）で表される化合物の中でも、下記一般式（６ａ）で表される化合物が特に好ましい。
【００７５】
【化１０】
2006091731.tif 000011
【００７６】
一般式（６ａ）において、Ｚ5はポリ（アルキレンオキシ）基を表し、Ｒaは水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20はそれぞれ独立に置換基を表し、ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４はそれぞれ０〜５の整数を表す。ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４が２以上のとき複数の、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。
【００７７】
ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４はそれぞれ０〜５の整数を表す。好ましくは１、２又は３である。
【００７８】
Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20で各々表される置換基の例としては、前記一般式（６）におけるＲ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16として挙げた基が挙げられる。好ましくは置換もしくは無置換のアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基である。さらに好ましくは置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノキシ基、２−パーフルオロヘキシルエトキシ基、３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ基、２−パーフルオロブチルエチルオキシ基、６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ基）である。
【００７９】
本発明に使用可能な１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【００８０】
【化１１】
2006091731.tif 000012
【００８１】
【化１２】
2006091731.tif 000013
【００８２】
【化１３】
2006091731.tif 000014
【００８３】
１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の添加量としては、液晶性化合物（好ましくはディスコティック液晶性化合物）に対して、０．０１〜２０質量％であるのが好ましく、０．０５〜１０質量％であるのがより好ましく、０．１〜５質量％であるのがさらに好ましい。
【００８４】
［液晶性化合物］
本発明の光学補償シートは、液晶性化合物の配向によって発現された光学異方性を有する。光学異方性層中において液晶性化合物の分子は、配向状態に固定されているのが好ましく、ハイブリッド配向状態に固定されているのがより好ましい。本発明に用いられる液晶性化合物については特に制限はなく、種々の化合物を用いることができる。棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましく、ディスコティック液晶性化合物を用いるのがより好ましい。また、液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶であってもよい。さらに、低分子液晶性化合物が層を形成する際に架橋され、もはや液晶性を示さなくなったものも含まれる。
【００８５】
［棒状液晶性化合物］
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、本発明の棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。棒状液晶性化合物については、例えば、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載のものを採用できる。
棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
【００８６】
棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基またはエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。
【００８７】
［ディスコティック液晶性化合物］
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年））に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０））に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年））に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年））、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【００８８】
ディスコティック液晶性化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。ディスコティック液晶性化合物から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物がディスコティック液晶性化合物である必要はなく、例えば、低分子のディスコティック液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００８９】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００９０】
一般式（ＩＩＩ）
Ｄ（−ＬＱ）n
一般式（ＩＩＩ）中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｑは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
【００９１】
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（またはＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｑ）との組み合わせを意味する。
【００９２】
【化１４】
2006091731.tif 000015
【００９３】
【化１５】
2006091731.tif 000016
【００９４】
【化１６】
2006091731.tif 000017
【００９５】
【化１７】
2006091731.tif 000018
【００９６】
【化１８】
2006091731.tif 000019
【００９７】
【化１９】
2006091731.tif 000020
【００９８】
【化２０】
2006091731.tif 000021
【００９９】
【化２１】
2006091731.tif 000022
【０１００】
ハイブリッド配向では、ディスコティック液晶性化合物の物理的な対称軸と支持体の面との角度、すなわち傾斜角が、光学異方性層の深さ（すなわち、透明支持体に垂直な）方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加または減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、または、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。しかしながら、傾斜角は連続的に変化することが好ましい。
【０１０１】
液晶性化合物の物理的な対称軸の平均方向は、一般に液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の液晶性化合物の物理的な対称軸方向は、液晶性化合物の種類を選択することによって、及び液晶性化合物と共に使用する、上記一般式（１）で表される化合物の作用により調整することができる。
【０１０２】
光学異方性層中には、液晶性化合物、上記一般式（１）で表される化合物、１，３，５−トリアジン環基を有する化合物以外に、他の添加剤を含有させてもよい。他の添加剤の例には、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどが含まれる。これらの添加剤は、液晶性化合物等の必須成分に対し相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角の制御に寄与するか、又は配向を阻害しないことが好ましい。
【０１０３】
［フルオロ脂肪族基含有ポリマー］
前記光学異方性層は、フルオロ脂肪族基含有ポリマーをさらに含有しているのが好ましい。フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、光学異方性層の形成時に用いられる組成物（塗布液）中に含有させることができる。該フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、光学異方性層のムラの防止に寄与する。従来の大型液晶表示装置では、光学フイルムに起因する表示ムラの問題があったが、本発明の光学補償シートを用いることによって、大型液晶表示装置のムラを軽減し、大型液晶表示装置の画像品位を改善することができる。
【０１０４】
本発明では、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーとして、下記一般式（３）で表されるモノマーから誘導される少なくとも一種の繰り返し単位を含む重合体を用いるのが好ましい。
【０１０５】
【化２２】
2006091731.tif 000023
【０１０６】
一般式（３）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ2）−を表し、Ｈfは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。ｍは１〜６の整数であり、１又は２が好ましい。ｎは２〜４の整数であり、２又は３が好ましい。前記重合体は、複数種の前記一般式（３）で表されるモノマーの共重合体であってもよい。
前記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーのより具体的なモノマーの例を以下にあげるがこの限りではない。
【０１０７】
【化２３】
2006091731.tif 000024
【０１０８】
【化２４】
2006091731.tif 000025
【０１０９】
【化２５】
2006091731.tif 000026
【０１１０】
【化２６】
2006091731.tif 000027
【０１１１】
【化２７】
2006091731.tif 000028
【０１１２】
【化２８】
2006091731.tif 000029
【０１１３】
【化２９】
2006091731.tif 000030
【０１１４】
フルオロ脂肪族基含有モノマーは、電解フッ素化法、テロメリゼーション法（テロマー法）またはオリゴメリゼーション法（オリゴマー法）により製造することができる。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  ＩＩ」（Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ  １８７，Ｅｄ  ｂｙ  Ｍｉｌｏｓ  Ｈｕｄｌｉｃｋｙ  ａｎｄ  Ａｔｔｉｌａ  Ｅ．Ｐａｖｌａｔｈ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９９５）の７４７−７５２ページに記載されている。テロメリゼーション法とは、ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である（Ｓｃｈｅｍｅ−１に例を示した）。
【０１１５】
【化３０】
2006091731.tif 000031
【０１１６】
得られた、末端ヨウ素化テロマーは通常、例えば（Ｓｃｈｅｍｅ２）のごとき適切な末端化学修飾を施され、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合物は必要に応じ、さらに所望のモノマー構造へと変換され、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの製造に使用される。
【０１１７】
【化３１】
2006091731.tif 000032
【０１１８】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、さらに下記一般式（４）で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
【０１１９】
【化３２】
2006091731.tif 000033
一般式（４）において、Ｒ3は水素原子又はメチル基を表し、Ｙは２価の連結基を表し、Ｒ4は置換もしくは無置換のポリ（アルキレンオキシ）基、置換基もしくは無置換の炭素数１〜２０の直鎖、又は炭素数４〜２０の分岐もしくは炭素数３〜２０の環状のアルキル基を示す。
【０１２０】
Ｙが表す２価の連結基としては、酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ5）−が好ましい。ここでＲ5は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましい。Ｒ5は、より好ましくは、水素原子又はメチル基である。Ｙは、酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−および−Ｎ（ＣＨ3）−がより好ましい。
【０１２１】
Ｒ4が表す置換換基を有してもよいポリ（アルキレンオキシ）基は、（ＲＯ）xで表すことができ、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基であり、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）−であることが好ましい。
前記のポリ（アルキレンオキシ）基中のアルキレンオキシ単位はポリ（プロピレンオキシ）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のアルキレンオキシが不規則に分布されたものであってもよい。直鎖もしくは分岐状のプロピレンオキシ又はエチレンオキシ単位、直鎖もしくは分岐状のプロピレンオキシ単位のブロック又はエチレンオキシ単位のブロックとして存在するものであってもよい。
【０１２２】
前記ポリ（アルキレンオキシ）鎖は、複数のポリ（アルキレンオキシ）単位同士が１つまたはそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など、ここでＰｈはフェニレン基を表す）で連結されたものであってもよい。連鎖の結合が３つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、分岐鎖のアルキレンオキシ単位を得ることができる。また、ポリ（アルキレンオキシ）基の化合物量は２５０〜３，０００が適当である。
【０１２３】
Ｒ4で表される炭素数１〜２０の直鎖、炭素数４〜２０の分岐または炭素数３〜２０の環状のアルキル基の例には、直鎖および分岐してもよいメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等；シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基；及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基等の多環シクロアルキル基が含まれる。
【０１２４】
Ｒ4で表されるポリ（アルキレンオキシ）基またはアルキル基は置換されていてもよく、該置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等が挙げられるが、この限りではない。
【０１２５】
前記一般式（４）で表されるモノマーは、アルキル（メタ）アクリレートまたはポリ（アルキレンオキシ）（メタ）アクリレートであることが特に好ましい。
一般式（４）で示されるモノマーの具体例を次に示すが、この限りではない。
【０１２６】
【化３３】
2006091731.tif 000034
【０１２７】
【化３４】
2006091731.tif 000035
【０１２８】
【化３５】
2006091731.tif 000036
【０１２９】
【化３６】
2006091731.tif 000037
【０１３０】
【化３７】
2006091731.tif 000038
【０１３１】
【化３８】
2006091731.tif 000039
【０１３２】
【化３９】
2006091731.tif 000040
【０１３３】
【化４０】
2006091731.tif 000041
【０１３４】
【化４１】
2006091731.tif 000042
【０１３５】
【化４２】
2006091731.tif 000043
【０１３６】
【化４３】
2006091731.tif 000044
【０１３７】
【化４４】
2006091731.tif 000045
【０１３８】
【化４５】
2006091731.tif 000046
【０１３９】
なお、ポリ（アルキレンオキシ）アクリレートおよびメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（アルキレンオキシ）材料、例えば商品名“プルロニック”（Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製）、“アデカポリエーテル”（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”（Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス））、“トリトン”（Ｔｏｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ製））および“Ｐ．Ｅ．Ｇ”（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。また、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。
【０１４０】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーとしては、前記一般式（３）で表されるモノマーのホモポリマー、又は前記一般式（３）で表されるモノマーと前記一般式（４）で表されるモノマー（より好ましくは、ポリアルキレンオキシ（メタ）アクリレート、さらに好ましくはポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートまたはポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレート）との共重合体が好ましい。
【０１４１】
本発明に用いるフルオロ脂肪族基含有ポリマーは、上記一般式（３）及び上記一般式（４）で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位以外の繰り返し単位を含んだ共重合体であってもよい。上記各モノマーと共重合可能なモノマーの好ましい共重合比率としては、全モノマー中の２０モル％以下、より好ましくは１０モル％以下である。このようなモノマーとしては、「ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）」の第２章の１〜４８３頁記載のものを用いることが出来る。例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【０１４２】
具体的には、以下のモノマーを挙げることができる。
アクリル酸エステル類：
フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど、
メタクリル酸エステル類：
フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど、
【０１４３】
アリル化合物：
アリルエステル類（例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど
【０１４４】
ビニルエーテル類：
アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど
【０１４５】
ビニルエステル類：
ビニルビチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。
【０１４６】
イタコン酸ジアルキル類：
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。
フマール酸のジアルキルエステル類またはモノアルキルエステル類：
ジブチルフマレートなど
その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど。
【０１４７】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマー中の前記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該ポリマーの構成モノマー総量の５モル％以上であるのが好ましく、より好ましくは２０モル％以上、さらに好ましくは３０モル％以上である。本発明のフルオロ脂肪族基含有ポリマー中の前記一般式（４）で表されるモノマーの量は、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの構成モノマー総量の１０モル％以上であるのが好ましく、より好ましくは１５〜７０モル％であり、さらに好ましくは２０〜６０モル％である。
【０１４８】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの好ましい重量平均分子量は、３，０００〜１００，０００であり、より好ましく６，０００〜８０，０００である。
更に、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの、光学異方性層形成用の組成物中における含有量は、好ましくは０．００５〜８質量％であり、より好ましくは０．０１〜１質量％であり、さらに好ましくは０．０５〜０．５質量％である。前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの添加量を０．００５質量％以上とすることにより、より良好なものが得られ、また８質量％以下とすることにより、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、光学フイルムとしての性能（例えばレターデーションの均一性等）に悪影響を及ぼすのをより効果的に防止できる。
【０１４９】
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは公知の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有する（メタ）アクリレート、ポリアルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート等の単量体を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。
以下、本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有ポリマーの具体的な構造の例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは重量平均分子量を表す。
【０１５０】
【化４６】
2006091731.tif 000047
【０１５１】
【化４７】
2006091731.tif 000048
【０１５２】
【化４８】
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【０１５３】
【化４９】
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【０１５４】
【化５０】
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【０１５５】
【化５１】
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【０１５６】
【化５２】
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【０１５７】
【化５３】
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【０１５８】
【化５４】
2006091731.tif 000055
【０１５９】
［セルロースエステル］
前記光学異方性層中に、セルロースエステルを含有させると、空気界面側の液晶性化合物の分子の傾斜角をより増加させることができるので、好ましい。また、セルロースエステルは、組成物を支持体面上等に塗布した際のハジキの発生を軽減するのにも寄与する。本発明に使用可能なセルロースエステルの好ましい例には、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース及びカルボキシメチルセルロースが含まれる。中でも、セルロースアセテートブチレートが好ましい。前記セルロースエステルの添加量は、液晶性化合物の総量に対して質量百分率で、好ましくは０．０１〜８％、より好ましくは０．０１〜４％、さらに好ましくは０．０１〜２％である。
【０１６０】
［光学異方性層の製造方法］
本発明の光学補償シートは、液晶性化合物及び所望により他の添加剤を含有する組成物（通常は塗布液）を、支持体表面、好ましくは配向膜表面に塗布して、液晶性化合物の分子を配向させ、該配向状態に固定することで作製することができる。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。均一性の高い光学フイルムを作製する場合には、塗布液の表面張力は、２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。
【０１６１】
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【０１６２】
次に、本発明の光学補償シートを、長尺状の形態で連続的に作製する場合の塗布・乾燥ラインの例を図１〜図５に示す。本発明では、光学異方性層形成用塗布液を、表面に配向膜を有する支持体（「ウェブ」又は「帯状可撓性支持体」という場合がある）上に塗布した後、好ましくは塗布した直後に、前記ウェブを囲むケーシングを有するドライヤにより、塗布面近傍の風の乱れを防止し乾燥中の塗布面側の溶剤蒸気を高い濃度で保ったまま乾燥を行うのが好ましい。図１〜図５に示す塗布・乾燥ラインは、かかる乾燥が可能な乾燥装置を組み込んだ塗布・乾燥ラインの概念図である。
【０１６３】
図示されるように、塗布・乾燥ライン１０は、主として、ロール状に巻回された帯状可撓性支持体１２を送り出す送り出し装置１４、帯状可撓性支持体１２に塗布液を塗布する塗布手段１６、帯状可撓性支持体１２に塗布形成された塗布膜の塗布液中の溶媒を凝縮、回収させるドライヤ１８、必要に応じて設けられる、塗布膜を乾燥させる通風乾燥手段２０、および塗布・乾燥により製造された製品を巻き取る巻き取り装置２４と、帯状可撓性支持体１２が走行する搬送経路を形成する多数のガイドローラ２２、２２…とで形成される。
【０１６４】
塗布手段１６は、公知の方法（例、スロット・ダイコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、スライドホッパ塗布方式、カーテン塗布方式）により実施できる。
【０１６５】
なお、塗布手段１６は、図１及び後述する図２に示されるように塗布面が水平方向に対して上側になるような構成であってもよいし、水平方向に対して下側になるような構成であってもよい。また、水平方向に対して傾斜するような構成であってもよい。
【０１６６】
ドライヤ１８は、帯状可撓性支持体１２と所定距離をおいて平行に設けられる板状部材である凝縮板３０と、凝縮板３０の前後辺から下方に垂設される側面板等とで構成される。これにより、塗布膜の塗布液中の溶媒が揮発した際に、揮発した溶媒が凝縮板３０に凝縮し回収される構成となっている。
【０１６７】
図１に示す乾燥装置では、塗布面と凝縮板３０との間が、二枚の板が挟まれたような空間になり、その空間へ溶媒が蒸発するとともに、蒸発した溶媒が凝縮板３０の凝縮面から回収される。
【０１６８】
塗布面の均一な乾燥が行われるには、塗布面と凝縮板３０の凝縮面の間に、乱れのない境界層が形成され、均一な物質移動と熱伝達が行われることが必要である。しかし、本発明における塗布膜の乾燥装置におけるような、温度の違う二平面間では、それら均一な熱伝達を阻害するものとして、熱自然対流が一般的に知られている。熱自然対流が発生すると、この境界層を不安定にし、境界層を乱すことにより、不均一な乾燥速度分布を生じる。その結果、塗布膜の均一な乾燥を行うことができなくなる。自然対流に関する研究は古くから行われており、たとえば、Ｈｅａｔ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ、ｖｏｌ．１（１９５３）、Ｍａｘ  Ｊａｃｏｂ  著（出版社：Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ）には、様々な場合における自然対流に関する実験的研究が紹介されている。化学工学便覧、改訂六版、化学工学会編（出版社：丸善）には、自然対流に関する研究がまとめて紹介されている。
【０１６９】
これらは、垂直平板、水平正方形板、傾斜平板、水平円柱面、傾斜円柱面、垂直平板で挟まれた間隙、水平平面板で挟まれた間隙、等に関する。これらの研究で明らかなように、固体表面の形状が伝熱量に大きな影響を及ぼす。しかし、これらの研究は主に空気中に単純に置かれた板または円柱に関するものである。一方、今回対象とするような、一方が連続走行する、塗布液を塗られた面を含む二平面間の問題に関する研究は少なく、自然対流を抑え、均一な境界層の形成するための条件については、明確になっていない。また、自然対流は流体塊の浮力によって生じる対流であるので、浮力に対する粘性力の比、運動量拡散率に対する熱拡散率の比などが重要である。これらを表す無次元数として、それぞれ次の形で表現できる。
【０１７０】
グラスホフ数＝［熱膨張率×（Ｔ1−Ｔ2）×Ｌ3×ｄ2×ｇ］／δ2…（式２）
プラントル数＝（比熱容量×δ）／熱伝導度…（式３）
一般的に、前者（式２）はグラスホフ数、後者（式３）はプラントル数と呼ばれる。これらの値と自然対流の発生との関係は、特有の場合についてのみ実験式が示されているのみである。なお、これら二つの無次元数を掛けた値は、一般にレイリー数と言われる。
【０１７１】
詳細な研究を行った結果、本発明における塗布膜の乾燥装置において、レイリー数を５０００未満にするように、凝縮板と帯状可撓性支持体との距離、凝縮板の温度および塗布膜の温度を設定することにより、溶媒の種類、凝縮板３０の形状、凝縮板３０の配置角度、帯状可撓性支持体１２の走行角度、等によらず、乾燥ムラのない良好な面の塗布膜が得られることがわかった。
【０１７２】
レイリー数が２０００未満になるように各条件を設定すると、塗布膜の表面性状はさらに改善される。
【０１７３】
凝縮板３０の溶媒を凝縮させる面に用いる材質は、金属、プラスチック、木材等、特に限定はされないが、塗布液中に有機溶剤が含まれる場合には、その有機溶剤に対して耐性のある材料を使用するか、または表面にコーティングを施すことが望ましい。
【０１７４】
ドライヤ１８において、凝縮板３０に凝縮した溶媒を回収させる手段は、たとえば、凝縮板３０の凝縮面に溝を設け、毛管力を利用して溶媒を回収させる。溝の方向は、帯状可撓性支持体１２の走行方向であってもよく、これに直交する方向であってもよい。凝縮板３０が傾斜している場合には、溶媒を回収させやすい方向に溝を設ければよい。
【０１７５】
ドライヤ１８に板状部材である凝縮板３０を採用する構成以外に、同様な機能を奏する構成、たとえば、多孔板、網、簀の子、ロール等を使用する構成も採用できる。また、ＵＳ５６９４７０１  に示されるような回収装置と併用してもよい。
【０１７６】
ドライヤ１８は、塗布液を塗布した直後の自然対流の発生による塗布膜の乾燥ムラを防止するため、塗布手段１６のできるだけ近くに配設することが好ましい。具体的には、ドライヤ１８の入口が塗布手段１６から５ｍ以内の位置になるように配設することが好ましく、２ｍ以内の位置になるように配設することがより好ましく、０．７ｍ以内の位置になるように配設することが最も好ましい。
【０１７７】
同様の理由で、帯状可撓性支持体１２の走行速度は、帯状可撓性支持体１２が塗布手段１６による塗布後３０秒以内にドライヤ１８に到達する速度であることが好ましく、塗布後２０秒以内にドライヤ１８に到達する速度であることがより好ましい。
【０１７８】
塗布液の塗布量および塗布膜厚さは、大きい程、塗布膜内部での流動が起きやすいことよりムラが発生しやすいが、本発明によれば、塗布量および塗布膜厚さが大きい場合でも十分な効果が得られる。塗布膜の厚さが０．００１〜０．０８ｍｍであれば、ムラなくかつ効率よく乾燥することができる。
【０１７９】
帯状可撓性支持体１２の走行速度が大きすぎると、同伴風によって塗布膜近傍の境界層が乱され、塗布膜に悪影響を及ぼす。したがって、帯状可撓性支持体１２の走行速度は１〜１００ｍ／分に設定することが好ましく、５〜８０ｍ／分に設定することがより好ましい。
【０１８０】
塗布膜のムラは、乾燥初期で特に発生しやすいので、ドライヤ１８が塗布液中の溶媒の１０％以上を凝縮、回収し、残りの塗布液を通風乾燥手段２０で乾燥させることが好ましい。塗布液中の溶媒の何％を凝縮、回収させるかは、塗布膜の乾燥ムラへの影響、生産効率、等を総合的に判断して決定すればよい。
【０１８１】
塗布液中の溶媒の蒸発、凝縮を促進させるため、帯状可撓性支持体１２および／または塗布膜を加熱するか、凝縮板３０を冷却するか、またはその両手段を採用することが好ましい。たとえば、ドライヤに冷却手段を配し、また、帯状可撓性支持体１２を挟んでドライヤ１８の反対側に加熱手段を配する。
【０１８２】
いずれの場合も、塗布膜の乾燥速度を制御するために、温度管理されていることが望ましい。凝縮板３０は、温度コントロールできるようにし、冷却したい場合には、冷却するための設備を設置する必要がある。冷却には、冷媒等を使った水冷式の熱交換器方式のもの、風を使った空冷式、電気を用いた方式、たとえばペルチェ素子を使用した方式、等を用いることができる。
【０１８３】
帯状可撓性支持体１２または塗布膜、またはその両方を加熱したい場合には、反塗布膜側にヒータを配設して加熱することができる。また、昇温可能な搬送ロール（加熱ロール）を配設して加熱することもできる。その他、赤外線ヒータ、マイクロ波加熱手段等を用いて加熱してもよい。
【０１８４】
帯状可撓性支持体１２、塗布膜、凝縮板３０の温度を決定する際、注意しなければならないのは、蒸発させた溶媒が凝縮板３０以外の場所、たとえば、搬送ロールの表面等に結露しないようにしなければならないことである。このため、たとえば、凝縮板３０以外の部分の温度を凝縮板３０の温度よりも高くしておくことによりこの種の結露を回避することができる。
【０１８５】
塗布膜の表面とドライヤ１８の凝縮板３０表面との距離（間隔）は、所望の塗布膜の乾燥速度を考慮した上で、適当な距離に調整する必要がある。距離を短くすると乾燥速度が上がる一方、設定した距離精度の影響を受けやすい。一方、距離を大きくすると乾燥速度が大幅に低下するのみならず、熱による自然対流が起きて乾燥ムラを引き起こす。
【０１８６】
塗布膜の表面とドライヤ１８の凝縮板３０表面との距離は、式（１）に示されるレイリー数が５０００未満となる条件を満たす範囲で決定する必要があるが、０．１〜２００ｍｍの範囲で調整することが好ましく、０．５〜１００ｍｍの範囲で調整することがより好ましい。
【０１８７】
なお、ドライヤ１８において、帯状可撓性支持体１２を挟んで凝縮板３０の反対側に多数のガイドローラ２２、２２…を設ける 図１（ｂ）、 図２（ｂ）の構成も採り得、ガイドローラ２２、２２…を設けない図１（ａ）、 図２（ａ）の構成も採り得る。
【０１８８】
ドライヤ１８は、必ずしも 図１に示されるような直線状である必要はなく、たとえば、 図２に示されるような円弧状のドライヤ２６であってもよい。また、大きなドラムを設け、それにドライヤを配設してもよい。
【０１８９】
なお、 図２に示される例では、円弧状のドライヤ２６を塗布手段１６に近づけて溶媒の回収効率の向上を図っている。
【０１９０】
通風乾燥手段２０としては、従来技術として使用されているローラ搬送ドライヤ方式またはエアフローティングドライヤ方式の乾燥装置が使用できる。いずれの方式の乾燥装置であっても、乾燥した空気を塗布膜の表面に供給して塗布膜を乾燥させる点では共通する。
【０１９１】
なお、通風乾燥手段２０を設けず、ドライヤ１８のみで塗布膜を乾燥させる方法も採り得る。 図３、 図４、 図５は、いずれもドライヤ１８のみで塗布膜を乾燥させる構成の例である。
【０１９２】
図３の例において、ドライヤ１８は複数のゾーンに分割し、かつ、それぞれのゾーンにおいて凝縮板３０と塗布膜との距離が階段的に変化する構成としてある。また、帯状可撓性支持体１２を挟んで凝縮板３０の反対側に多数のガイドローラ２２、２２…が設けてある。
【０１９３】
図４の例において、ドライヤ１８は複数のゾーンに分割し、かつ、それぞれのゾーンにおいて凝縮板３０と塗布膜との距離が階段的に変化する構成としてある。ガイドローラ２２、２２…は設けていない。
【０１９４】
図５の例において、ドライヤ１８は複数のゾーンに分割されておらず、また、それぞれの凝縮板３０と塗布膜との距離は一定とした構成としてある。また、帯状可撓性支持体１２を挟んで凝縮板３０の反対側に多数のガイドローラ２２、２２…が設けてある。
【０１９５】
その他、本発明の塗布膜の乾燥方法および装置が適用される乾燥装置を組み込んだ塗布・乾燥ライン１０に使用されている送り出し装置１４、ガイドローラ２２、巻き取り装置２４等には慣用の部材を使用しており、それらの説明は省略する。
【０１９６】
以上に詳述した乾燥方法および装置によれば、塗布直後の塗布膜に発生するムラを抑制しかつ効率よく均一に塗布膜を乾燥できる。また、塗布、乾燥工程のレイアウトを大きく変更することなく、さらに、塗布液の物性や溶媒の種類等に制約されないので、塗布液処方手段の柔軟な設計が可能である。
【０１９７】
また、前記塗布膜の乾燥方法および装置によれば、省エネルギー化、コストダウンにも効果がある。すなわち、塗布・乾燥ラインで発生する蒸発気体のうち、水以外の溶媒はそのまま大気へ放出できないので、蒸発気体を液化して回収する必要があり、そのための溶剤ガス回収設備が必要である。ところが、塗布・乾燥ライン１０では、塗布液の一部を凝縮・回収するドライヤにより溶媒を液体の状態で直接回収できるため、溶剤ガス回収設備の負荷を減らすことができる。
【０１９８】
前記乾燥工程と同時に又は乾燥工程の後に、液晶性化合物を、所望の配向状態とした後、その配向状態に固定して光学異方性層を形成する。上記した様に、液晶性化合物の分子を一旦水平配向させた後、ハイブリッド配向させるのが好ましく、水平配向からハイブリッド配向への移行は、例えば、配向温度を上昇させることにより促進される。
【０１９９】
固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。塗布液中には、液晶性化合物の固定化に寄与する、重合性モノマーや重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合性モノマーとしては、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。上記化合物の添加量は、液晶性化合物に対して、一般に１〜５０質量％であり、５〜３０質量％であるのが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が３以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることができる。
【０２００】
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各公報記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号公報記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号公報記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各公報記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号公報記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号、米国特許４２３９８５０号の各公報記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号公報記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であるのが好ましく、０．５〜５質量％であるのがさらに好ましい。
【０２０１】
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０２０２】
この様にして形成された光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。また、光学異方性層上に、保護層を設けてもよい。
【０２０３】
［配向膜］
前記光学異方性層の形成には、配向膜を用いるのが好ましい。前記光学異方性層の形成に用いられる配向膜については特に制限はなく、ポリビニルアルコール等のポリマー層を形成した後、該ポリマー層の表面を所定の方向にラビング処理することによって形成された配向膜などが利用できる。配向膜として好ましい例は、特開平８−３３８９１３号公報に記載されている。前記配向膜の膜厚は、１０μｍ以下であるのが好ましい。なお、配向膜は光学異方性層の形成時のみに用い、光学異方性層を形成した後は、剥離可能な場合は剥離してもよい。かかる場合は、仮支持体上に配向膜を形成し、配向膜上で光学異方性層を形成した後に、該光学異方性層を、透明支持体に転写して、本発明の光学補償シートを作製してもよい。
【０２０４】
［透明支持体］
本発明の光学補償シートは、前記光学異方性層を支持する支持体を有する。支持体は、ガラス又は透明なポリマーフイルムであることが好ましい。
支持体は、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフイルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースジアセテート）、ノルボルネン系ポリマーおよびポリメチルメタクリレートが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートンおよびゼオネックスいずれも商品名））を用いてもよい。
中でもセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。とくに炭素原子数が２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）が好ましい。セルロースアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
【０２０５】
なお、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、ＷＯ００／２６７０５号明細書に記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明の光学フイルムに用いることもできる。
偏光板保護フイルム、もしくは位相差フイルムに本発明の光学フイルムを使用する場合は、ポリマーフイルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度は、５７．０〜６２．０％であることがさらに好ましい。
【０２０６】
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算によって求められる。
セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７であることが好ましく、１．０乃至１．６５であることがさらに好ましく、１．０乃至１．６であることが最も好ましい。
【０２０７】
セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるポリマーフイルムでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度または多い方が好ましい。
２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０乃至４０％であることが好ましく、３１乃至４０％であることがさらに好ましく、３２乃至４０％であることが最も好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。
各位置の置換度は、ＮＭＲによって測定することできる。
６位置換度が高いセルロースアセテートは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、そして段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【０２０８】
本発明の光学補償シートは、単独で液晶表示装置の部材に用いることができるが、偏光板と一体化して、偏光板中の一部材として液晶表示装置に組み込むこともできる。本発明の光学補償シートが一体化された偏光板は、偏光機能を有するのみならず、液晶表示装置の視野角の拡大にも寄与する。さらに、偏光膜の保護フイルムとして本発明の光学補償シートを用いた偏光板を用いることは、液晶表示装置の薄型化にも寄与する。
【０２０９】
以下、本発明の光学補償シートを付加した偏光板について詳細に説明する。
［偏光板］
偏光板は一般に、基材フイルムに二色性物質を吸着、配向させて作製された偏光膜と、該偏光膜の少なくとも片面に貼合された保護膜とを有する。偏光膜の基材フイルムに使用されるポリマーとしては、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡ）系ポリマーが一般的である。二色性物質としてはヨウ素あるいは、二色性染料が単独、あるいは組み合わせて用いられる。保護膜としては、低複屈折性、透明性、適度な透湿性、寸度安定性等の物性が求められ、従来はセルロースアセテートフイルムが広く用いられ、その作製において塩素系有機溶媒であるメチレンクロライドを使用しており、環境保全の観点でその改良が望まれている。非塩素系有機溶媒を用いて作製されたセルロースアシレートフイルムは、その作製に際して非塩素系溶媒で流延しフイルム化することで、これらの改良したものである。
【０２１０】
ここで偏光膜に用いるＰＶＡは、通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。ＰＶＡのケン化度は特に限定されないが、溶解性、偏光性、耐熱、耐湿性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。またＰＶＡの重合度は特に限定されないが、フイルム強度や耐熱、耐湿性、延伸性などから１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。また、ＰＶＡのシンジオタクチシチーについては特に限定されず、目的に応じ任意の値をとることもできる。
【０２１１】
ＰＶＡを染色、延伸して偏光膜を作製する手順には、原反となるＰＶＡフイルムを乾式または湿式で延伸した後、ヨウ素あるいは二色性染料の溶液に浸漬する方法、ヨウ素あるいは二色性染料の溶液中でＰＶＡフイルムを延伸し配向させる方法、ヨウ素あるいは二色性染料にＰＶＡフイルムを浸漬後、湿式または乾式で延伸し配向させる方法などがある。また、ＰＶＡ原反を溶液製膜法により製膜する際、ＰＶＡ溶液中に二色性物質をあらかじめ含有させる手法もとることができる。
【０２１２】
代表的な偏光板の湿式延伸による製造法を以下に述べる。まず、原反ＰＶＡフイルムを水溶液で予備膨潤する。次いで二色性物質の溶液に浸漬し、二色性物質を吸着させる。さらにホウ酸等のホウ素化合物の水溶液中で進行方向に一軸延伸する。必要に応じ色味調整浴、硬化浴等をこの後に設けても良い。ある程度乾燥したところでＰＶＡ等の接着剤を用い保護膜を貼合する。さらに乾燥して偏光板が得られる。
【０２１３】
予備膨潤液中には、各種有機溶媒、無機塩、可塑剤、ホウ酸類等を水溶液中に添加してもよい。
【０２１４】
染色液は、二色性物質としてヨウ素を用いる場合を例にすると、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液を用いる。ヨウ素は０．１〜２０ｇ／リットル、ヨウ化カリウムは１〜１００ｇ／リットル、ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比は１〜１００が好ましい。染色時間は３０〜５０００秒が好ましく、液温度は５〜５０℃が好ましい。染色液中にホウ素化合物等ＰＶＡを架橋する化合物を含有させることも好ましい。延伸浴中のホウ素化合物は、ホウ酸が特に好ましい。ホウ酸濃度は、好ましくは１〜２００ｇ／リットルであり、さらに好ましくは１０〜１２０ｇ／リットルである。延伸浴には、ホウ素化合物の他にヨウ化カリウム等の無機塩、各種有機溶媒、あるいは二色性染料等を含むことができる。色味調整浴、硬化浴には二色性染料のほか、ヨウ化カリウム等の無機塩、ホウ素化合物等を必要に応じ含有させる。
【０２１５】
ＰＶＡの延伸工程としては、上に例示した如く連続フイルムの進行方向に張力を付与し、進行方向にフイルムを延伸、配向させる方法が一般的であるが、いわゆるテンター方式等の延伸手段でフイルムの幅手方向に張力を付与し、幅手方向に配向させる方法も適用可能である。延伸は一軸方向に３倍以上行うことが好ましく、４．５倍以上がより好ましい。偏光膜の使用目的により二軸延伸を行ってもよい。延伸後の膜厚は特に限定されないが、取り扱い性、耐久性、経済性の観点より、５〜１００μｍが好ましく、１０〜４０μｍがより好ましい。延伸時の温度は延伸条件によって異なるが、通常１０〜２５０℃である。１００℃以上の温度で乾式延伸する場合は、窒素等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。また、予め延伸したフイルムを染色する前には、１００℃以上の温度で結晶化処理を行うことが好ましい。
【０２１６】
染色方法としては上に例示した浸漬法だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。また、既に述べた液層吸着のみでなく、寄贈による吸着も必要に応じ行うことができる。二色性色素で染色することも好ましい。二色性色素の具体例としては、例えばアゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素、アントラキノン系色素等の色素系化合物をあげることができる。水溶性のものが好ましいが、この限りではない。又、これらの二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入されていることが好ましい。
【０２１７】
二色性分子の代表的なものとしては、例えばシー．アイ．ダイレクト．イエロー１２、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ３９、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ７２、シー．アイ．ダイレクト．レッド２８、シー．アイ．ダイレクト．レッド３９、シー．アイ．ダイレクト．レッド７９、シー．アイ．ダイレクト．レッド８１、シー．アイ．ダイレクト．レッド８３、シー．アイ．ダイレクト．レッド８９、シー．アイ．ダイレクト．バイオレット４８、シー．アイ．ダイレクト．ブルー６７、シー．アイ．ダイレクト．ブルー９０、シー．アイ．ダイレクト．グリーン５９、シー．アイ．アシッド．レッド３７等が挙げられ、さらに特開平１−１６１２０２号、特開平１−１７２９０６号、特開平１−１７２９０７号、特開平１−１８３６０２号、特開２０００−４８１０５号、特開２０００−６５２０５号、特開平７−２６１０２４号の各公報に記載の色素等を挙げることができる。特に、シー．アイ．ダイレクト．レッド２８（コンゴーレッド）は古くよりこの用途に好ましいとして知られている。これらの二色性分子は遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として用いられる。
【０２１８】
これらの二色性分子は２種以上を配合することにより、各種の色相を有する偏光子を製造することができる。偏光素子または偏光板として偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）や黒色を呈するように各種の二色性分子を配合したものが単板透過率、偏光率とも優れており好ましい。
【０２１９】
偏光膜の耐熱、耐湿性を高める観点から、偏光膜の製造工程においてＰＶＡに架橋させる添加物を含ませることが好ましい。架橋剤としては、米国再発行特許第２３２８９７号に記載のものが使用できるが、ホウ酸、ホウ砂が実用的に好ましく用いられる。また、亜鉛、コバルト、ジルコニウム、鉄、ニッケル、マンガン等の金属塩を偏光膜に含有させることも、耐久性を高めることが知られており好ましい。これら架橋剤、金属塩は、上に述べた予備膨潤浴、二色性物質染色浴、延伸浴、硬化浴、色調整浴等のいずれの工程に含有させても良く、工程の順序は特に限定されない。保護膜と偏光膜を接着する接着剤としては特に限定はなく、ＰＶＡ系、変性ＰＶＡ系、ウレタン系、アクリル系等、知られているものを任意に用いることができる。接着層の厚みは０．０１〜２０μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがさらに好ましい。
【０２２０】
偏光膜の一方の表面には、本発明の光学補償シート（支持体表面が偏光膜と接する様に）貼合し、その反対側の表面には、セルロースアシレート等からなるポリマーフイルムを配置する（光学異方性層／偏光膜／ポリマーフイルムの配置とする）のが好ましい。
【０２２１】
本発明の光学補償シートは、種々の液晶表示装置に用いることができる。本発明の光学補償シートは、液晶セルと、該液晶セルを挟持する一対の偏光膜とを有する液晶表示装置に配置する場合は、前記一対の偏光膜の少なくとも一方と前記液晶セルとの間に配置するのが好ましい。本発明の光学補償シートは、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶性化合物を補償するように、光学異方性層の光学特性を決定するのが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶性化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なるので、前記光学異方性層の光学特性の好ましい範囲も、用途によって異なる。液晶セル中の液晶性化合物の配向状態に関しては、ＩＤＷ’００、ＦＭＣ７−２のＰ４１１〜４１４等に記載されている。
【０２２２】
本発明の光学補償シートの光学特性は、前記した様に、その用途、例えば、いずれのモードの液晶セルの光学補償に用いられるかによって、好ましい範囲が異なる。一般的には、光学異方性層のＲｅは０〜７０ｎｍであるのが好ましく、２０〜７０ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｔｈは５０〜４００ｎｍであるのが好ましく、１００〜４００ｎｍであるのがより好ましい。かかる光学特性を示す光学異方性層を形成するには、例えば、ディスコティック液晶性化合物を用い、ハイブリッド配向に固定して光学異方性層を形成する場合は、最小傾斜角０〜９０°（より好ましくは０〜６０°）で、且つ最大傾斜角が３０〜９０°（より好ましくは５０〜９０°）のハイブリッド配向とするのが好ましい。また、透明支持体のＲｅは０〜７０ｎｍであるのが好ましく、０〜５０ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｔｈは、１０〜４００ｎｍであるのが好ましく、４０〜２５０ｎｍであるのがより好ましい。但し、前記一例であり、本発明の光学補償シートの光学特性は、この範囲に限定されるものではない。
【０２２３】
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフイルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フイルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フイルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【０２２４】
以下、液晶表示装置であって、各液晶モードにおける、本発明の光学補償シートの好ましい形態について説明する。
（ＴＮモード液晶表示装置）
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性化合物が寝た配向状態にある。
【０２２５】
セル中央部分の棒状液晶性化合物に対しては、ホメオトロピック配向（円盤面が寝ている水平配向）のディスコティック液晶性化合物もしくは（透明）支持体で補償し、セルの基板近傍の棒状液晶性化合物に対しては、ハイブリット配向（長軸の傾きが偏光膜との距離に伴って変化している配向）のディスコティック液晶性化合物で補償することができる。また、セル中央部分の棒状液晶性化合物に対しては、ホモジニアス配向（長軸が寝ている水平配向）の棒状液晶性化合物もしくは（透明）支持体で補償し、セルの基板近傍の棒状液晶性化合物に対しては、ハイブリット配向のディスコティック液晶性化合物で補償することもできる。
【０２２６】
ホメオトロピック配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が８５〜９５度の状態で配向している。
ホモジニアス配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が５度未満の状態で配向している。
ハイブリット配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が１５度以上であることが好ましく、１５度〜８５度であることがさらに好ましい。
【０２２７】
支持体もしくはディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層、さらにはホメオトロピック配向したディスコティック液晶性化合物とホモジニアス配向した棒状液晶性化合物の混合体からなる光学異方性層は、上記式で定義されるＲｔｈレターデーション値が４０ｎｍ〜２００ｎｍであり、上記式で定義されるＲｅレターデーション値が０〜７０ｎｍであることが好ましい。
ホメオトロピック配向（水平配向）しているディスコティック液晶性化合物層およびホモジニアス配向（水平配向）している棒状液晶性化合物層に関しては、特開２０００−３０４９３１号および同２０００−３０４９３２号の各公報に記載されている。ハイブリット配向しているディスコティック液晶性化合物層に関しては、特開平８−５０２０６号公報に記載がある。
【０２２８】
（ＯＣＢモード液晶表示装置）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性化合物を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各公報に開示されている。棒状液晶性化合物が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性化合物が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性化合物が寝た配向状態にある。
【０２２９】
黒表示にＴＮモードと液晶の配向は同じ状態であるため、好ましい態様もＴＮモード対応を同じである。ただし、ＴＮモードに比べ、ＯＣＢモードの方がセル中央部で液晶性化合物が立ち上がった範囲が大きいために、ディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層について、若干のレターデーション値の調整が必要である。具体的には、（透明）支持体上のディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が１５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が２０〜７０ｎｍであることが好ましい。
【０２３０】
支持体もしくはディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が１５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が２０〜７０ｎｍであることが好ましい。
【０２３１】
（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモードおよびＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
【実施例】
【０２３２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作などは本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
［実施例１］
（ポリマー基材の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（質量部）      内層              外層
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート    １００質量部  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）        ７．８質量部  ０．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）
３．９質量部  ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）            ２９３質量部  ３１４質量部
メタノール（第２溶媒）                      ７１質量部    ７６質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                １．５質量部  １．６質量部
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０質量部  ０．８質量部
下記レターデーション上昇剤                １．４質量部      ０質量部
────────────────────────────────────
【０２３３】
【化５５】
2006091731.tif 000056
【０２３４】
得られた内層用ドープおよび外層用ドープを三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフイルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフイルム（ＣＦ−０２）について、光学特性を測定した。
【０２３５】
得られたポリマー基材（ＰＫ−１）の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは、８０μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、８ｎｍであった。また、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、９３ｎｍであった。
作製したポリマー基材（ＰＫ−１）を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このＰＫ−１の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
このＰＫ−１上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０２３６】
（配向膜塗布液組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                        １０質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                        ０．５質量部
【０２３７】
【化５６】
2006091731.tif 000057
【０２３８】
ポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と平行方向に配向膜にラビング処理を実施した。
【０２３９】
（光学異方性層用塗布液の調製）
下記の組成物を、１０２Ｋｇのメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。
下記のディスコティック液晶性化合物（１）              ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ４．０６質量部
一般式（１）の例示化合物（ＩＩ−１）                    ０．０８質量部
１，３，５―トリアジン環を有する例示化合物（Ｈ−１６）  ０．１２質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  １．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        ０．４５質量部
【０２４０】
【化５７】
2006091731.tif 000058
【０２４１】
スロットダイの上流側リップランド長ＩＵＰを１ｍｍ、下流側リップランド長ＩＬＯを５０μｍとした。このスロットダイを用いて、湿潤膜厚が５μｍとなるようにウェブ上に塗布液を５ｍｌ／ｍ2で塗布した。塗布速度は５０ｍ／分とした。ウェブには上記の配向膜を塗布したセルロースアセテートフイルムを用い、下流側リップランドとウェブであるセルローストリアセテート基材との隙間の長さは４０μｍに設定した。配向膜塗布面の表面にラビング処理を施して、そのまま塗布工程へ搬送して塗布を実施した。なお、ラビング処理は、セルロースアセテートフイルムの遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と平行な方向に、配向膜にラビング処理を実施した。ラビング処理におけるラビングローラの回転周速を５．０ｍ／秒とし、配向膜用樹脂層に対する押しつけ圧力を９．８×１０-3Ｐａに設定した。
【０２４２】
塗布液には、下記に示す光学異方性層の組成を用いた。塗布速度は５０ｍ／分とした。塗布直後に図１に示したドライヤ１８を使用して初期乾燥を行った。ドライヤ１８の全長は５ｍとした。ドライヤ１８中の凝縮板３０は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。ドライヤ１８で初期乾燥されたウェブは、１３０℃の状態で１分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層付き光学補償シート（ＫＨ−１）を作製した。
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は５２ｎｍであった。
【０２４３】
（液晶性化合物の傾斜角評価）
光学異方性層における液晶性化合物の配向膜近傍の傾斜角および空気界面近傍の傾斜角を、エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所（株）製）を用いて観察角度を変えてレターデーションを測定し、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐｐ．１４３−１４７に記載されている手法で算出した。測定波長は６３２．８ｎｍであった。結果は、第１表に示す。以下に示す実施例２〜４、比較例１〜２についても同様に、傾斜角を求めた。
【０２４４】
（空気界面側表面の原子数評価）
光学異方性層の空気界面側表面における窒素原子数／炭素原子数（Ｎ／Ｃ）およびフッ素原子数／炭素原子数（Ｆ／Ｃ）の評価を、ＥＳＣＡ測定（クレイトスアナリティカル社製Ｘ線光電子分光装置ＥＳＣＡ−３４００）を用いて評価した。Ｎ／Ｃ、Ｆ／Ｃの結果は、第１表に示す。以下に示す実施例２〜５、比較例２、３についても同様に、Ｎ／Ｃ、Ｆ／Ｃを算出した。
【０２４５】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で作製した光学補償シートＫＨ−１を、偏光子（ＨＦ−１）の片側表面に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子（ＨＦ−１）の反対側表面に貼り付けた。
偏光子（ＨＦ−１）の透過軸と、光学補償シートの支持体であるポリマーフイルム（ＰＫ−１）の遅相軸とが平行になるように配置した。偏光子（ＨＦ−１）の透過軸と上記トリアセチルセルロースフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＨＢ−１）を作製した。
【０２４６】
（実施例２）
光学異方性層形成用の塗布液の調製において、１，３，５―トリアジン環を有する例示化合物（Ｈ−１６）の代わりに、Ｈ−１５を添加したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−２）、さらには、ＫＨ−２付偏光板（ＨＢ−２）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、５０ｎｍであった。
【０２４７】
（実施例３）
光学異方性層形成用の塗布液の調製において、ＣＡＢ５５１−０・２（イーストマンケミカル社製）およびフルオロ脂肪族基含有ポリマー（Ｐ−７２）を添加した以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−３）、さらには、ＫＨ−３付偏光板（ＨＢ−３）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、４８ｎｍであった。また、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【０２４８】
（実施例４）
光学異方性層形成用の塗布液の調製において、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの例示化合物（Ｐ−７２）の代わりに、Ｐ−１１を添加した以外は、実施例３と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−４）、さらには、ＫＨ−４付偏光板（ＨＢ−４）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、５０ｎｍであった。また、偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。
【０２４９】
（実施例５）
光学異方性層の加熱熟成方法を８０℃の恒温ゾーンで１分間加熱した以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製した。光学異方性層は水平配向を形成しており、空気界面側表面のＮ／Ｃは０．０４、Ｆ／Ｃは０．６であった。
【０２５０】
（比較例１）
光学異方性層形成用塗布液の調製において、一般式（１）の例示化合物（ＩＩ−１）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−Ｈ１）、さらには、ＫＨ−Ｈ１付偏光板（ＨＢ−Ｈ１）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、３４ｎｍであった。また偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートを観察したところ、正面から見ると光漏れが観察された。
（比較例２）
光学異方性層形成用塗布液の調製において、一般式（１）の例示化合物（ＩＩ−１）の添加量を変えた以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−Ｈ２）、さらには、ＫＨ−Ｈ２付偏光板（ＨＢ−Ｈ２）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学補償シート中の光学異方性層のＲｅレターデーション値は、３０ｎｍであった。
（比較例３）
光学異方性層の加熱熟成方法を８０℃の恒温ゾーンで１分間加熱した以外は、比較例１と同様にして光学補償シートを作製した。光学異方性層は水平配向を形成しておらず、空気界面側表面のＮ／Ｃは０．０２、Ｆ／Ｃは０であった。
（比較例４）
光学異方性層形成用塗布液の塗布について、塗布直後に設置する乾燥工程として、非塗布面側をロールで支持し、塗布面側にエア・ノズルから風を吹いて乾燥させる熱風乾燥方法を採用する以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには、光学補償シート付き偏光板を作製した。偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見るとムラが検出された。
【０２５１】
（ＴＮ液晶セルでの評価）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＱＵＯＳ  ＬＣ２０Ｃ１Ｓ、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例１で作製した偏光板（ＨＢ−１）を、光学補償シート（ＫＨ−１）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。測定結果を第１表に示す。
【０２５２】
【表１】
2006091731.tif 000059
【０２５３】
上記表１に示した結果からわかるように、Ｆ／Ｃが０．５以上かつＮ／Ｃが０．０２５未満である光学異方性層は、Ｆ／Ｃが０．５未満である光学異方性層（比較例１）あるいはＮ／Ｃが０．０２５以上である光学異方性層（比較例２）と比較して空気界面における傾斜角が大きく、液晶表示装置の視野角の拡大に大きく寄与する。さらに、実施例５では、液晶性化合物の分子をハイブリッド配向させる温度（ここでは１３０℃）よりも低温領域（８０℃の恒温ゾーン）で液晶性分子を配向させた例であり、液晶性分子が水平配向してなる光学異方性層が得られた。従って、ＫＨ−１を作製する際に、温度が１３０℃に到達する過程で、液晶性分子は水平配向していると推定され、その結果、１分間の加熱熟成で欠陥のないハイブリッド配向を形成でき、ＫＨ−１は光漏れない光学補償シートになることが理解できる。一方、比較例３の光学異方性層は低温領域（８０℃の恒温ゾーン）で水平配向を形成しないため、ＫＨ−Ｈ１は１分間の加熱熟成では、光漏れのある光学補償シートになることがわかった。
【０２５４】
（実施例６）
実施例１で用いたレターデーション上昇剤の添加量を変えて、Ｒｔｈを８０、９０、１１０、１２０、１３０ｎｍにしたポリマー基材を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。ポリマー基材のＲｔｈを８０、９０、１１０、１２０、１３０ｎｍに変えても、上下左右の視野角は実施例１で得られた視野角とほぼ同等であることを確認した。
【０２５５】
（実施例７）
実施例１で用いたレターデーション上昇剤を、下記のレターデーション上昇剤に代え、内層の添加量を１．４質量部にし、Ｒｔｈを１１０ｎｍにしたポリマー基材を作製した以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには、光学補償シート付き偏光板を作製した。上下左右の視野角は実施例１で得られた視野角とほぼ同等であることを確認した。
【０２５６】
【化５８】
2006091731.tif 000060
【０２５７】
（実施例８）
実施例７で用いたレターデーション上昇剤の添加量を変えて、Ｒｔｈを８０、９０、１００、１２０、１３０ｎｍにしたポリマー基材を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。ポリマー基材のＲｔｈを８０、９０、１００、１２０、１３０ｎｍに変えても、上下左右の視野角は実施例１で得られた視野角とほぼ同等であることを確認した。
【図面の簡単な説明】
【０２５８】
【図１】本発明の光学補償シートの作製に利用可能な塗布・乾燥ラインの一例を示す概念図である。
【図２】本発明の光学補償シートの作製に利用可能な塗布・乾燥ラインの一例を示す概念図である。
【図３】本発明の光学補償シートの作製に利用可能な塗布・乾燥ラインの一例を示す概念図である。
【図４】本発明の光学補償シートの作製に利用可能な塗布・乾燥ラインの一例を示す概念図である。
【図５】本発明の光学補償シートの作製に利用可能な塗布・乾燥ラインの一例を示す概念図である。
【符号の説明】
【０２５９】
１０…塗布・乾燥ライン、１２…帯状可撓性支持体、１４…送り出し装置、１６…塗布手段、１８…ドライヤ、２０…通風乾燥手段、２２…ガイドローラ、２４…巻き取り装置、２６…ドライヤ、３０…凝縮板
【図１】
2006091731.tif 000061
【図２】
2006091731.tif 000062
【図３】
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【図４】
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【図５】
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