(57)【要約】【課題】  気相成長装置において、材料コストが増大したり装置が大型化したりすることなく、効率良く基板上に膜厚と膜質が均一な薄膜形成を行なうことができるようにする。【解決手段】  気相成長装置は、材料ガスを通過させるための反応管４と、処理対象物である基板５の表面が反応管４の内部に露出するように基板５を保持するための基板保持部６とを備える気相成長装置であって、反応管４の内部空間を基板５の中心を通る平面で切ったときの横断面形状の基板５の表面に鉛直な方向の長さに関しては、反応管４の中央におけるものより反応管４の側方両端におけるものの方が大きくなっている。【選択図】        図２
2006186271.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料ガスを通過させるための反応管と、
処理対象物である基板の表面が前記反応管の内部に露出するように前記基板を保持するための基板保持部とを備える気相成長装置であって、
前記反応管の内部空間を前記基板の中心を通る平面で切ったときの横断面形状は、前記反応管の中央における前記基板の表面に鉛直な方向の長さより前記反応管の側方両端における前記基板の表面に鉛直な方向の長さの方が大きくなっている、気相成長装置。
【請求項２】
材料ガスを通過させるための反応管と、
処理対象物である基板の表面が前記反応管の内部に露出するように前記基板を保持するための基板保持部とを備える気相成長装置であって、
前記反応管の内部空間を前記基板の中心を通る平面で切ったときの横断面形状は、前記基板の中央における前記基板の表面に鉛直な方向の長さより前記基板の両端における前記基板の表面に鉛直な方向の長さの方が大きくなっている、気相成長装置。
【請求項３】
前記反応管のうち前記基板と対向する内壁が前記反応管の内部に向かって凸形状となっている、請求項１または２に記載の気相成長装置。
【請求項４】
前記基板保持部は前記基板を自転させながら保持することができるように構成されている、請求項１から３のいずれかに記載の気相成長装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の気相成長装置を用いて前記基板の表面に成膜する工程を含む、成膜済基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、気相成長装置および成膜済基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＬＥＤ（発光ダイオード）、半導体レーザなどに利用される化合物半導体薄膜は、一般に、有機金属化学気相蒸着法（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）（「気相成長法」ともいう。）に従って形成される。気相成長法とは、原料として、トリメチルガリウム、トリメチルアルミニウムなどの有機金属ガスと、アンモニア、ホスフィン、アルシンなどの水素含有化合物とを用い、これらの材料ガスを加熱下に基板表面に供給し、基板表面に化合物半導体薄膜を形成する方法である。このような気相成長法において、膜厚および膜質の均一な薄膜を形成するためには、原料を均一に混合すること、基板の温度分布および基板表面の流速分布が均一であることなどが重要とされている。
【０００３】
従来の気相成長装置の一例を図９に示す。この気相成長装置は、反応炉１の内部に反応管１０４を備え、この反応管１０４の一端はガス導入口２２、他端はガス排気口２３となっている。反応管１０４の途中に処理対象となる基板５を載置する基板保持部６が配置されており、この基板保持部６の下部には基板５を加熱するためのヒータ７が設置されている。図９におけるＸ−Ｘ線に関する矢視断面図を図１０に示す。
【０００４】
成膜時には、材料ガスが、ガス導入口２２から反応管１０４内へ導入される。導入された材料ガスは、基板保持部６の下部に設けられたヒータ７により、基板５とともに加熱される。こうして基板５表面近傍における成膜化学反応が促進され、その結果、基板５表面に薄膜が形成される。その後、基板５の近傍を通過した材料ガスは、ガス排気口２３から排出される。
【０００５】
反応管１０４内における材料ガスの流速の流路幅方向の分布を図１１に示す。反応管１０４の側壁（図中上下に示される壁）によって生じる流路抵抗のため、流速は反応管１０４の流路幅方向中央において最大となり、流路両脇の側壁に近づくにつれて小さくなる傾向がある。その結果、基板５の中央部と外周部とではそれぞれ接している材料ガスの流速に差が生じる。この状態でそのまま成膜を行なうと、成膜後の基板５の膜厚は、反応管１０４の中心に位置していた部分が厚く積層され、反応管１０４の両脇に近い部位では次第に薄くなる。
【０００６】
このような基板の面内領域における膜厚のばらつきは半導体特性のばらつきをもたらし、１枚の基板から取得できるデバイスの歩留まりを著しく低下させるため、生産分野における歩留まり確保の観点から大変重要な問題となっていた。
【０００７】
このような装置においては、反応管の流路幅を拡張することにより、基板に関わる領域の材料ガスの流速分布を均一化する方法がとられてきた。また、流速分布を均一にすることを目的とした技術が特開平５―４７６７１号公報（特許文献１）が開示されている。この技術では、気相成長装置において、反応管の内壁に凹凸面を設け、凹凸によって発生する乱流によりいわゆる境界層を薄くする構成となっている。この技術は、境界層を薄くすることによって、内壁近傍での流速が増加し、基板の中央部と周縁部とにおける流速分布を均一化させることができるというものである。
【特許文献１】特開平５―４７６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述のように反応管の流路幅を拡張する方法では、基板の面内領域における材料ガスの流速分布をなくすためには、反応管の流路幅を基板の外径に対して十分に広くする必要がある。このような構成では、大量の材料ガスが無駄に消費され、材料コストの増大を招く。また、反応管の幅が広がることによって装置の大型化も必要となる。
【０００９】
また、特許文献１に開示される構成では、反応管の内壁に設けた凹凸により反応管内に乱流を生じさせることで、反応管の中央部と内壁近傍との流速差を緩和する仕組みであるが、内壁に設けた凹凸には気相成長時に副生成物として生成されるパーティクルが溜まりやすく、パーティクルが蓄積されてその後の気相成長時に悪影響を与えるという問題があった。これに対処するため、生産工程で行なう装置のメンテナンスの頻度が必然的に増えてしまい、結果的に生産能力が激減するという問題があった。
【００１０】
本発明は、このような従来技術の問題点に鑑み、材料コストが増大したり装置が大型化したりすることなく、効率良く基板上に膜厚と膜質が均一な薄膜形成を行なうことができる気相成長装置および均一な薄膜を有する成膜済基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明に基づく気相成長装置の第１の局面は、材料ガスを通過させるための反応管と、処理対象物である基板の表面が上記反応管の内部に露出するように上記基板を保持するための基板保持部とを備える気相成長装置であって、上記反応管の内部空間を上記基板の中心を通る平面で切ったときの横断面形状は、上記反応管の中央における上記基板の表面に鉛直な方向の長さより上記反応管の側方両端における上記基板の表面に鉛直な方向の長さの方が大きくなっている。この構成を採用することにより、反応管の中央の流速は流路抵抗によって抑えられるため、反応管の中央と側壁近傍とで流速の差が小さくなり、均一な成膜を行なうことができるようになる。
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明に基づく気相成長装置の第２の局面は、材料ガスを通過させるための反応管と、処理対象物である基板の表面が上記反応管の内部に露出するように上記基板を保持するための基板保持部とを備える気相成長装置であって、上記反応管の内部空間を上記基板の中心を通る平面で切ったときの横断面形状は、上記基板の中央における上記基板の表面に鉛直な方向の長さより上記基板の両端における上記基板の表面に鉛直な方向の長さの方が大きくなっている。この構成を採用することにより、基板の中央の流速は流路抵抗によって抑えられるため、基板の中央と両端近傍とで流速の差が小さくなり、均一な成膜を行なうことができるようになる。
【００１３】
上記発明において好ましくは、上記反応管のうち上記基板と対向する内壁が上記反応管の内部に向かって凸形状となっている。この構成を採用することにより、反応管の内部空間のうち凸形状によって狭くなる部分では流路抵抗によって材料ガスの流速が抑えられるため、均一な成膜を行なうことができるようになる。
【００１４】
上記発明において好ましくは、上記基板保持部は上記基板を自転させながら保持することができるように構成されている。この構成を採用することにより、基板の各部位がより均一な条件で材料ガスにさらされるようになるので、得られる膜の厚みを均一にすることができるようになる。
【００１５】
上記目的を達成するため、本発明に基づく成膜済基板の製造方法は、上述のいずれかの気相成長装置を用いて上記基板の表面に成膜する工程を含む。この方法を採用することにより、膜厚が均一な成膜済基板を得ることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、反応室の幅方向での材料ガスの流速分布のばらつきを小さくすることができるので、得られる膜厚をより均一にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
（実施の形態１）
（構成）
図１、図２を参照して、本発明に基づく実施の形態１における気相成長装置について説明する。この気相成長装置は、図１に示すように、材料ガスを通過させるための反応管４と、処理対象物である基板５の表面が反応管４の内部に露出するように基板５を保持するための基板保持部６とを備える気相成長装置である。基板保持部６の下方には基板５を加熱するためのヒータ７が配置されている。反応炉１はガス導入口２２およびガス排気口２３を有しており、反応管４はガス導入口２２およびガス排気口２３を結んで反応炉１の内部を貫通するように設置されている。基板保持部６およびヒータ７も反応炉１の内部に配置されている。
【００１８】
図１のＩＩ−ＩＩ線に関する矢視断面図を図２に示す。この気相成長装置では、反応管４の内部空間を基板５の中心を通る平面で切ったときの横断面形状、すなわち、図２に示す反応管４の断面形状では、反応管４の中央における基板５の表面に鉛直な方向の長さ（以下、この長さを「高さ」という。）より反応管４の側方両端における高さの方が大きくなっている。言い換えれば、反応管４のうち基板５と対向する内壁が反応管４の内部に向かって凸形状となっている。この場合、反応管４のうち基板５と対向する内壁は天井であるが、全体の配置を異なる向き、たとえば天地逆や、一定角度だけ回転させた向きにした場合であっても、基板５と対向する内壁が反応管４の内部に向かって凸形状となっていればよい。
【００１９】
（作用・効果）
この気相成長装置において成膜を行なう際には、材料ガスは、図１の矢印で示すようにガス導入口２２から導入されてヒータ７に加熱される基板５の近傍を通過し、反応管４を通過し、ガス排気口２３から排出される。このとき図２に示す断面形状においては材料ガスは紙面に垂直に通過することになるが、反応管４は中央においては側方両端よりも高さが低くなっているため、材料ガスに対して作用する流路抵抗は中央において大きくなる。
【００２０】
従来の気相成長装置においては図１１に示すように、側壁近傍よりも中央の方が流速が速くなっていたが、本実施の形態では、中央の流速は流路抵抗によって抑えられるため、結果的には反応管４内での材料ガスの流速分布は図３に示すようになる。こうして、中央と側壁近傍とで流速の差が小さくなるので、反応管４の幅方向中央部において基板５に対応する程度の幅の範囲内を流れる材料ガスは流速がほぼ均一なものとなる。図３を図１１と比較すると、流速分布の改善度合いが明らかである。このように流速分布が均一化された結果、基板５の面内に生成される膜の厚みはほぼ均一なものとなる。従来の気相成長装置によって成膜した場合と本発明を適用した本実施の形態における気相成長装置によって成膜した場合とで、得られた膜の厚みのばらつきを比較したグラフを図４に示す。図４によれば、従来例では１枚の基板の面内で膜厚は±６％程度の差を生じていたが、本実施の形態では±１％程度に抑えることができており、本発明の適用により大幅な改善が達成されていることがわかる。
【００２１】
なお、本実施の形態では、縦断面図が図１に示すようなもの、すなわち、ガス導入口２２およびガス排気口２３と反応管４の中央部とで断面形状の高さが異なるものを例示したが、これに限らず、図５に示すように、ガス導入口２２およびガス排気口２３と反応管４の中央部とで断面形状の高さが一定となっているものであってもよい。ガス導入口２２およびガス排気口２３の横断面形状は、反応管４と等しくてもよい。
【００２２】
また、バレル型反応管では、複数の基板を保持する基板保持部合体は多角柱状、反応管は円筒状のため、個々の基板と対向する反応管内壁は中央部が高く隣接基板との境界部が低くなるのが通常であるが、本発明を適用して、個々の基板と対向する反応管内壁が中央部が低く隣接基板との境界部が高くなるように、反応管を略星型筒状としてもよい。また、円形横型などと呼称される背の低い円筒状の反応管では、基板は反応管の底円盤（または天井円盤）に周状に配置され、円筒軸に位置するガス導入口から周囲へガスが供給されるが、隣接基板間に仕切りを設ける場合、本発明を適用して、基板の対向側の天井円盤（または底円盤）を、個々の基板と対向する反応管内壁が中央部が低く隣接基板との境界部が高くなるように、波形が放射状に配置された形状にしてもよい。
【００２３】
（実施の形態２）
（構成）
図６を参照して、本発明に基づく実施の形態２における気相成長装置について説明する。本実施の形態における気相成長装置は反応管４ｈを備える。図６ではこの気相成長装置のうち反応管４ｈ近傍の横断面形状を示している。反応管４ｈのように、反応管の外形断面は矩形であってもよい。反応管４ｈにおいては内部空間の上側の輪郭がＶ字形となっており、中央が両脇に比べて低くなっている。基板５ａ，５ｂは基板保持部１６に保持される。気相成長装置は、このように複数枚の基板を同時に保持して成膜するものであってよい。基板保持部１６は基板５ａ，５ｂをそれぞれ回転させる機構を備えており、基板５ａ，５ｂはそれぞれの位置で自転させられる。基板５ａ，５ｂはそれぞれ天井の平坦な斜面の真下に位置するように配置されている。
【００２４】
図６では、気相成長装置のうち反応管４ｈ近傍の横断面形状のみを示したが、他の部分の構成は実施の形態１で示したものと同様である。
【００２５】
（作用・効果）
本実施の形態においては、図６に示されるように天井が平坦な斜面となっていることから基板の上に広がる空間の高さは幅方向に一様に変化するので、通過する材料ガスの幅方向の流速分布もほぼ一様に変化したものとなる。各基板は自転しているので、各基板の各部位は材料ガスの流速が速い部分と遅い部分とに交互に均等にさらされることとなり、その結果、各基板の面内の膜厚分布を均一なものとすることができる。
【００２６】
なお、基板保持部１６が保持する基板の数は、図６では２枚のように見えているが、図６における紙面奥手前方向に同様に複数列並んでいてもよい。すなわち、たとえば紙面奥手前方向にｎ列だけ配列されている場合、同時に配置できる基板の枚数は２ｎ枚となる。あるいは、反応管４ｈの幅方向に並ぶ基板の枚数は２枚に限らず、左右対称に片側ｍ枚ずつ（ｍ≧２）の合計２ｍ枚並べてもよい。その場合、紙面奥手前方向にｍ列だけ配列されているとすると同時に配置できる基板の枚数は２ｍｎ枚となる。
【００２７】
（実施の形態３）
（構成）
図７を参照して、本発明に基づく実施の形態３における気相成長装置について説明する。本実施の形態における気相成長装置は反応管４ｉを備える。図７ではこの気相成長装置のうち反応管４ｉ近傍の横断面形状を示している。反応管４ｉは外形断面は矩形であるが内部形状は特殊な形状となっている。すなわち、上面には幅方向に並ぶ基板の数に等しい数の頂部がある。この例では、幅方向に２枚の基板５ａ，５ｂが並んでいるので２ヶ所の頂部８ａ，８ｂがある。各頂部の位置は横断面図で見たときに各基板の中心にそれぞれほぼ一致する位置となっている。
【００２８】
この気相成長装置では、反応管４ｉの内部空間を基板の中心を通る平面で切ったときの横断面形状、すなわち、図７に示す反応管４ｉの断面形状で、反応管４ｉの内部空間の高さに注目したときに、基板の中央における高さより基板の側方両端における高さの方が大きくなっている。基板が複数ある場合には、各基板についてその基板の中央における高さとその基板の側方両端における高さとを比較して、側方両端における高さの方が大きくなっていればよい。反応管４ｉの内部空間の高さが最大になる位置は、幅方向両側の内壁の位置に一致している必要はない。図７では、内壁からやや中央寄りの位置で最も高くなっている。
【００２９】
図７では、気相成長装置のうち反応管４ｉ近傍の横断面形状のみを示したが、他の部分の構成は実施の形態１で示したものと同様である。
【００３０】
（作用・効果）
本実施の形態においては、基板の上に広がる空間の高さは各基板ごとに基板の中央より側方両端の方が高くなっているので、通過する材料ガスの流速は各基板の中央においては流路抵抗によって抑えられ、その結果、各基板の幅の範囲ごとに中央と両端とでの流速の差が小さくなる。したがって、各基板の面内に生成される膜の厚みは従来より均一なものとなる。
【００３１】
（実施の形態４）
（構成）
図８を参照して、本発明に基づく実施の形態４における気相成長装置について説明する。本実施の形態における気相成長装置は反応管４ｊを備える。図８ではこの気相成長装置のうち反応管４ｊ近傍の横断面形状を示している。この気相成長装置では、反応管４ｊの上部に基板保持部１６ｊおよびヒータ７が設けられている。基板保持部１６ｊは基板５ａ，５ｂを、被処理面が下方を向くように保持することができる。反応管４ｊの内部空間は下側の内壁が反応管４ｊの内部に向かって凸形状となっている。
【００３２】
基板保持装置１６ｊは各基板を自転させるとともに公転させることもできるように構成されている。
【００３３】
図８では、気相成長装置のうち反応管４ｊ近傍の横断面形状のみを示したが、他の部分の構成は実施の形態１で示したものと同様である。
【００３４】
（作用・効果）
図８に示す断面形状においては材料ガスは紙面に垂直に通過することになるが、反応管４ｊは中央においては側方両端よりも内部空間の上下方向の長さが低くなっているため、材料ガスに対して作用する流路抵抗は中央において大きくなる。中央の流速は流路抵抗によって抑えられるため、中央と側壁近傍とで流速の差が小さくなる。さらに基板保持部１６ｊは複数の基板を公転させながら保持しているので、各基板にはほぼ均一に成膜されることとなる。
【００３５】
本実施の形態においては、複数の基板を公転させる構成を示したが、実施の形態１においても複数の基板を保持して公転させるようにしてもよい。実施の形態１〜４において、複数の基板は円周状に並べてもよく、さらにこれらの基板を自転あるいは公転させてもよい。これらの基板を自転させつつ公転させてもよい。たとえば内周に３枚、外周に６枚など、複数の円周に沿って基板を並べてもよい。
【００３６】
なお、上記各実施の形態で示した反応管の内部空間の形状の詳細な条件は、反応管の寸法、材料ガスの流速、ガス種構成、設定温度などによって決まる。
【００３７】
（実施の形態５）
（成膜済基板の製造方法）
本発明に基づく実施の形態５における成膜済基板の製造方法について説明する。この成膜済基板の製造方法は、実施の形態１〜４のいずれかで説明した気相成長装置を用いて基板の表面に成膜する工程を含む。
【００３８】
（作用・効果）
本実施の形態における成膜済基板の製造方法では、実施の形態１〜４のいずれかで説明した気相成長装置すなわち膜厚を従来より均一にすることのできる気相成長装置を使用しているので、膜厚が均一な成膜済基板を得ることができる。したがって、たとえば半導体装置に用いる基板の場合、特性のばらつきを抑えることができる。
【００３９】
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明に基づく実施の形態１における気相成長装置の縦断面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に関する矢視断面図である。
【図３】本発明に基づく実施の形態１における気相成長装置の反応管内での材料ガスの流速分布の説明図である。
【図４】本発明を適用した場合と従来例によった場合とで、得られた膜の厚みのばらつきを比較したグラフである。
【図５】本発明に基づく実施の形態１における気相成長装置の縦断面図の他の例である。
【図６】本発明に基づく実施の形態２における気相成長装置の反応管の横断面図である。
【図７】本発明に基づく実施の形態３における気相成長装置の反応管の横断面図である。
【図８】本発明に基づく実施の形態４における気相成長装置の反応管の横断面図である。
【図９】従来技術に基づく気相成長装置の縦断面図である。
【図１０】図９のＸ−Ｘ線に関する矢視断面図である。
【図１１】従来技術に基づく気相成長装置の反応管内での材料ガスの流速分布の説明図である。
【符号の説明】
【００４１】
１  反応炉、４，４ｈ，４ｉ，４ｊ，１０４  反応管、５  基板、６，１６，１６ｊ  基板保持部、７  ヒータ、８ａ，８ｂ  頂部、２２  ガス導入口、２３  ガス排気口、９１  矢印。
【図１】
2006186271.tif 000003
【図２】
2006186271.tif 000004
【図３】
2006186271.tif 000005
【図４】
2006186271.tif 000006
【図５】
2006186271.tif 000007
【図６】
2006186271.tif 000008
【図７】
2006186271.tif 000009
【図８】
2006186271.tif 000010
【図９】
2006186271.tif 000011
【図１０】
2006186271.tif 000012
【図１１】
2006186271.tif 000013