(57)【要約】【課題】  ＥＬ素子からなる発光素子の光をロッドレンズアレイによって集光する際の結像のボケを無くし、正確な潜像を形成することで高精細な印字を行うラインヘッドモジュール、及び画像形成装置を提供する。【解決手段】  ＥＬ素子からなる複数の発光素子を備えたラインヘッド１と、発光素子が発光する光を集光するロッドレンズアレイと、ロットレンズアレイにより集光された光によって感光される感光ドラムと、を備えたラインヘッドモジュールである。発光素子の発光スペクトルにおける半値幅を示す波長領域の短波長をλ１、長波長をλ２とし、ロッドレンズアレイの波長分散における短波長λ１の屈折率をｎ１、長波長λ２の屈折率をｎ２としたとき、ｎ１／ｎ２の値が概ね１を満足するようなラインヘッド及びロッドレンズアレイを備えている。【選択図】        図５
2006130804.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＬ素子からなる複数の発光素子を整列配置したラインヘッドと、前記発光素子が発光した光を集光するレンズアレイと、を備えたラインヘッドモジュールであって、
前記発光素子の発光スペクトルにおける半値幅を示す波長領域の短波長をλ１、長波長をλ２とし、
前記レンズアレイの波長分散における前記短波長λ１の屈折率をｎ１、前記長波長λ２の屈折率をｎ２としたとき、
ｎ１／ｎ２の値が概ね１を満足するような前記ラインヘッド及び前記レンズアレイを備えていることを特徴とするラインヘッドモジュール。
【請求項２】
前記ｎ１／ｎ２の値が、０．９５以上１．０５以下となっていることを特徴とする請求項１に記載のラインヘッドモジュール。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のラインヘッドモジュールが、前記波長領域を制御する波長制御手段を備えていることを特徴とするラインヘッドモジュール。
【請求項４】
前記波長制御手段は、前記ラインヘッドに設けられた誘電体積層膜を用いた共振器構造からなることを特徴とする請求項３に記載のラインヘッドモジュール。
【請求項５】
露光手段として、請求項１〜４のいずれか一項に記載のラインヘッドモジュールを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ラインヘッドモジュール及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を利用したプリンタとして、ラインプリンタ（画像形成装置）が知られている。このラインプリンタは、被露光部となる感光体ドラムの周面上に、帯電器、ライン状のプリンタヘッド（ラインヘッド）、現像器、転写器などの装置を近接配置したものである。すなわち、帯電器によって帯電された感光体ドラムの周面上に、ラインヘッドに設けられた、発光素子の選択的な発光動作で露光を行なうことにより、静電潜像を形成し、この潜像を現像器から供給されるトナーで現像して、そのトナー像を転写器で用紙に転写するようにしたものである。
このラインプリンタで高精細な印字を行うためには、発光素子の光を効率的に感光体ドラム上に結像させることが必要となる。
【０００３】
ところで、発光素子の光の利用効率を高める方法としては、ロッドレンズアレイを用いることで発光素子からの光を屈折させて集光し、発光素子の光を効率的に感光体ドラム上に結像させる技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。
また、近年では、発光素子としてＥＬ素子を用いたラインヘッドが考えられている。
【特許文献１】特開２００２−２９０９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ＥＬ素子からなる発光素子を備えたプリンタヘッドを用いた場合に、この発光素子の発光スペクトルには様々な波長の光が含まれている。そのため、発光素子による光を集光するために前述したようにロッドレンズアレイを設けると、このロッドレンズアレイ内には様々な波長の光が入り込むようになる。また、ロッドレンズアレイは球面レンズと同様に色収差を有していて、ロッドレンズアレイに入射される光の波長によってロッドレンズアレイ内での屈折率が異なってしまう。よって、ロッドレンズアレイは、例えば入射された光の波長が短い側では屈折率が高く、波長が長い側では屈折率が低くなる波長分散となっている。
つまり、このロッドレンズアレイ内に様々な波長の光を含んだＥＬ素子からなる発光素子の光が入射した場合、前述した波長分散による屈折率の違いから焦点距離がずれてしまう。よって、例えば感光体ドラム上に光を結像させる場合に、焦点距離のズレから結像のボケが生じてしまうのである。
【０００５】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、ＥＬ素子からなる発光素子の光をロッドレンズアレイによって集光する際に、結像のボケを無くしたラインヘッドモジュールと、このラインヘッドモジュールを露光手段として備えた画像形成装置と、を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明のラインヘッドモジュールは、ＥＬ素子からなる複数の発光素子を整列配置したラインヘッドと、前記発光素子が発光した光を集光するレンズアレイと、を備えたラインヘッドモジュールであって、前記発光素子の発光スペクトルにおける半値幅を示す波長領域の短波長をλ１、長波長をλ２とし、前記レンズアレイの波長分散における前記短波長λ１の屈折率をｎ１、前記長波長λ２の屈折率をｎ２としたとき、ｎ１／ｎ２の値が概ね１を満足するような前記ラインヘッド及び前記レンズアレイを備えていることを特徴とする。
【０００７】
本発明のラインヘッドモジュールによれば、発光素子の発光スペクトルの半値幅を示す波長領域での、短波長λ１と長波長λ２とにおけるレンズアレイの屈折率が概ね等しくなる。よって、前記短波長λ１及び長波長λ２の光は、前記レンズアレイによって概ね等しい屈折率で屈折されるので、光が集光して結像する焦点距離が概ね等しくなる。このとき、前記レンズアレイの波長分散は、光の波長が長くなるに従って単調増加又は単調減少するようになっている。例えば、前記レンズアレイの波長分散が単調減少となっている場合に、前記波長領域のうち短波長λ１における屈折率ｎ１が最も高い屈折率となり、長波長λ２における屈折率ｎ２が最も低い屈折率となるので、半値幅を示す波長領域のすべての屈折率はｎ１〜ｎ２の範囲に収まり、この波長領域の光の焦点距離がほぼ等しくなる。
【０００８】
なお、前記ラインヘッドモジュールの発光スペクトルには、半値幅を示す波長領域以外の波長の光も含まれているが、本発明では、発光スペクトルでの全波長においては半値幅の波長領域が大半を占めるものとし、前記レンズアレイの波長分散による結像のボケは半値幅の波長領域の光により生じるものとし、半値幅以外の波長領域での結像のボケは考慮しないものとした。
よって、前記レンズアレイの波長分散によって光が集光される位置（焦点距離）のズレが無くなり、発光スペクトルでの全波長において大半を占める半値幅の波長領域のすべての光を略等しい位置で結像させることができることから、発光スペクトルでの全波長の光に対して実質的にボケを生じさせることなく結像させることができる。
したがって、例えば感光体上での結像のボケを無くすことで、正確な潜像を形成でき高精細な印字を行う事ができる。
【０００９】
また、前記ラインヘッドモジュールにおいては、前記ｎ１／ｎ２の値が、０．９５以上１．０５以下となっていることが好ましい。
このようにすれば、例えばラインヘッドモジュールを露光手段として用いた場合に、露光精度に影響を与える結像のボケを無くすことができる。
【００１０】
また、前記ラインヘッドモジュールにおいては、前記ラインヘッドモジュールは、前記波長領域を制御する波長制御手段を備えていることが好ましい。
このようにすれば、波長制御手段を用いて、例えば発光素子の半値幅を示す波長領域を狭めることで、短波長λ１と長波長λ２との値がほぼ等しくなる。よって、レンズアレイの波長分散での短波長λ１における屈折率ｎ１と長波長λ２における屈折率ｎ２とを略等しくすることができ、半値幅を示す波長領域の光の焦点距離を等しくすることができる。よって、例えば感光ドラム上での結像のボケを無くすことができ、露光精度を向上させることができる。
【００１１】
また、前記ラインヘッドモジュールにおいては、前記波長制御手段は、前記ラインヘッドに設けられた誘電体積層膜を用いた共振器構造からなることが好ましい。
このようにすれば、発光素子からの光が誘電体積層膜を用いた共振器構造を通過することで、発光スペクトルのピーク値の波長を共振して強めて、発光素子の発光スペクトルの半値幅を示す波長領域を狭めるようになる。よって、例えばレンズアレイの波長分散が大きい場合に、前述したように半値幅を示す波長領域を狭めることで、前記レンズアレイの短波長λ１における屈折率ｎ１と長波長λ２における屈折率ｎ２との値の差を間接的に小さくすることができる。よって、レンズアレイの波長分散による結像のボケを無くすことができる。
【００１２】
本発明の画像形成装置は、露光手段として、前記ラインヘッドモジュールを備えたことを特徴とする。
本発明の画像形成装置によれば、レンズアレイの波長分散による感光体ドラム上の結像のボケを無くしたラインヘッドモジュールを露光手段として備えているので、画像形成装置の露光精度が向上し正確な潜像を形成することで高精細の印字が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明のラインヘッドモジュール及び画像形成装置を詳しく説明する。
まず、本発明のラインヘッドモジュールについて説明する。
最初に、画像形成装置の露光手段として用いられるラインヘッドモジュールについて説明する。
【００１４】
（第１の実施形態）
図１は、ラインヘッドモジュールの側面断面図である。ラインヘッドモジュール１０１は、複数の有機ＥＬ素子（不図示）を整列配置したラインヘッド１と、ラインヘッド１からの光を正立等倍結像させるロッドレンズ３１ａを整列配置したレンズアレイ（ロッドレンズアレイ）３１とを、ヘッドケース５２に固定して構成されている。このラインヘッドモジュール１０１では、ラインヘッド１に整列配置された有機ＥＬ素子からの光をレンズアレイ３１を構成するロッドレンズ３１ａに入射させ、図１中２点鎖線で示す感光体ドラム４１の外周面に等倍結像させて露光するようになっている。
【００１５】
（ラインヘッド）
図２は、ラインヘッド１を模式的に示した図である。このラインヘッド１は、長細い矩形の素子基板２上に、複数の有機ＥＬ素子３を配列してなる発光素子列３Ａと、有機ＥＬ素子３を駆動させる駆動素子４からなる駆動素子群と、これら駆動素子４の駆動を制御する制御回路群５とを一体形成したものである。発光素子列３Ａは、本実施形態では二つ（２列）形成されており、これら発光素子列３Ａ、３Ａにおいて各有機ＥＬ素子３は、千鳥状に配置されている。このような構成のもとにラインヘッド１は、その長手方向における有機ＥＬ素子３間の見掛け上のピッチが小さくなり、したがって後述する画像形成装置の解像度を向上させることができるようになっている。なお、発光素子列３Ａは一列のみ配置されるようにしてもよい。
【００１６】
なお、このラインヘッド１は、後述するようにその光出射側の面が感光体ドラム４１に対向して配置されるようになっており、その際、前記の発光素子列３Ａの列方向（発光素子の整列方向）が、感光体ドラム４１の回転軸と平行に配置されるようになっている。
また、前述したようにラインヘッド１とレンズアレイ３１とは互いにアライメントされた状態でヘッドケース５２に一体的に保持されてラインヘッドモジュール１０１を構成しているので、使用に際しては、単にラインヘッドモジュール１０１を感光体ドラム４１にアライメントするだけでよい。
したがって、このラインヘッドモジュール１０１にあっては、ラインヘッド１とレンズアレイ３１とにおける、感光体ドラム４１に対するアライメントが容易になり、アライメント不良に起因する露光むらが確実に防止されるようになっている。
【００１７】
有機ＥＬ素子３は、一対の電極間に少なくとも有機発光層を備えたもので、その一対の電極から発光層に電流を供給することにより、発光するようになっている。なお、本発明においては、前記有機ＥＬ素子３は、後述するように赤の発光スペクトルを備えたものとなっている。
有機ＥＬ素子３における一方の電極には電源線８が接続され、他方の電極には駆動素子４を介して電源線７が接続されている。この駆動素子４は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や薄膜ダイオード（ＴＦＤ）等のスイッチング素子で構成されている。駆動素子４にＴＦＴを採用した場合には、そのソース領域に電源線８が接続され、ゲート電極に制御回路群５が接続される。そして、制御回路群５により駆動素子４の動作が制御され、駆動素子４により有機ＥＬ素子３への通電が制御されるようになっている。
なお、前記有機ＥＬ素子３及び駆動素子４の構造については後述する。また、このラインヘッド１では、ＥＬ素子として、有機ＥＬ素子３を用いているが、これに代えて無機ＥＬ素子を用いてもよいのはもちろんである。
【００１８】
図３は、前記有機ＥＬ素子３の発光スペクトルを示したグラフである。前述したように図３は、赤の発光スペクトルである。図３中、横軸は前記有機ＥＬ素子３の発光スペクトルにおける波長を示し、縦軸は発光スペクトルの強度を示している。
図３中、一点鎖線に挟まれた両矢印Ａが示す領域は、発光スペクトルのピーク値の半値以上を示す波長間領域であって所謂、半値幅Ａである。また、半値幅Ａを示す波長領域のうち短い波長を短波長λ１、半値幅Ａを示す波長領域のうち長い波長を長波長λ２とした。
図３に示したグラフから、本実施形態における半値幅は約８９ｎｍである。このとき、前記短波長λ１は６０３ｎｍ、前記長波長λ２は６９２ｎｍとなっている。
【００１９】
（レンズアレイ）
図４は、前記レンズアレイ３１の斜視図である。このレンズアレイ３１は、例えばセルフォック（登録商標）レンズアレイ（日本板硝子社の商品名）からなるもので、セルフォック（登録商標）レンズ素子またはこれと同様の構成からなるロッドレンズ３１ａを、千鳥状に２列配列（配置）したものである。また、千鳥状に配置された各ロッドレンズ３１ａの隙間には黒色のシリコーン樹脂３２が充填されており、さらにその周囲にはフレーム３４が配置されている。ここで、ロッドレンズ３１ａは、円柱状のレンズ素子であって、正立等倍結像させるものである。このようなロッドレンズ３１ａを千鳥状に２列配列（配置）したことにより、レンズアレイ３１は、広範囲の画像の結像を可能にしたものとなっている。なお、レンズアレイ３１としては、前記のセルフォック（登録商標）レンズアレイに限定されることなく、有機ＥＬ素子３（発光素子）からの光を結像させるレンズ素子を配列してなるレンズアレイであれば、各種のものが使用可能である。
【００２０】
前記レンズアレイ３１は、通常の球面レンズと同様に色収差を有している。この色収差は、各ロッドレンズ３１ａの光軸上での屈折率ｎ０と、屈折率分布定数（√Ａ）の後述する波長分散とに起因している。
図５は、前記レンズアレイ３１の波長分散を示したグラフである。図５に示すように、前記レンズアレイ３１に入射した光は、波長によって屈折率が異なるようになっている。
この波長分散のため、レンズアレイ３１に入射する光の波長によって物体像面間距離が異なるようになり、結果として、前記レンズアレイ３１は後述するように感光体ドラム４１上での結像にボケを生じさせてしまう。
【００２１】
図５中、横軸は前記レンズアレイ３１に入射される光の波長を示し、縦軸はその波長に対応する屈折率を示している。なお、前記レンズアレイ３１を構成するロッドレンズ３１ａは、その中心部（光軸）における屈折率ｎ０を最大値として、この中心部から外周部に遠ざかるつれて屈折率が低下するようになっている。本実施形態では、前記ロッドレンズ３１ａの中心部（光軸）における最大の屈折率をレンズアレイ３１の屈折率と定義し、本発明のレンズアレイ３１の波長分散のグラフが示す屈折率とした。
また、波長分散のグラフは、一般的に単調増加又は単調減少しているものであり、本実施形態に用いたレンズアレイ３１の波長分散のグラフは、単調減少のグラフとなっている。
【００２２】
ここで、前記レンズアレイ３１には、前記ラインヘッド１から図３に示した発光スペクトルの光が入射するようになっている。このとき、図３に示した短波長λ１＝６０３ｎｍにおける前記レンズアレイ３１の屈折率をｎ１とすると、図５に示した波長分散のグラフから屈折率ｎ１＝１．６３９９となっている。また、図３に示した長波長λ２＝６９２ｎｍにおける前記レンズアレイ３１の屈折率をｎ２とすると、図５に示した波長分散のグラフから屈折率ｎ２＝１．６３９４となている。
よって、前記屈折率ｎ１とｎ２は概略等しい値となる。また、前記屈折率ｎ１とｎ２との比（ｎ１／ｎ２）をとると、ｎ１／ｎ２＝１．０００３となり、概ね１となる。
【００２３】
このとき、前述したように前記レンズアレイ３１の波長分散が単調減少となっているので、前記波長領域のうち短波長λ１における屈折率ｎ１が最も高い屈折率（１．６３９９）となり、長波長λ２における屈折率ｎ２が最も低い屈折率（１．６３９４）となるので、半値幅Ａを示す波長領域のすべての屈折率は１．６３９４〜１．６３９９の範囲に収まるようになっている。本発明におけるｎ１／ｎ２の値が概ね１とは、前記レンズアレイ３１での短波長λ１における屈折率ｎ１と短波長λ２における屈折率ｎ２とがほぼ等しく、半値幅Ａを示す前記短波長λ１から前記長波長λ２の間における波長では、前記レンズアレイ３１の波長分散の影響をほとんど受けないことを示している。
【００２４】
（有機ＥＬ素子および駆動素子）
次に、ラインヘッドにおける有機ＥＬ素子や駆動素子等の詳細な構成について、図６（ａ）、（ｂ）を参照して説明する。
発光層６０で発光した光を画素電極２３側から出射する、いわゆるボトムエミッション型である場合には、素子基板２側から発光光を取り出す構成であるので、素子基板２としては透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等が挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。
【００２５】
また、発光層６０で発光した光を陰極（対向電極）５０側から出射する、いわゆるトップエミッション型である場合には、この素子基板２の対向側である封止基板側から発光光を取り出す構成となるので、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
本実施形態では、ボトムエミッション型が採用され、したがって素子基板２には透明なガラスが用いられるものとする。
【００２６】
素子基板２上には、画素電極２３に接続する駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）などを含む回路部１１が形成されており、その上に有機ＥＬ素子３が設けられている。有機ＥＬ素子３は、陽極として機能する画素電極２３と、この画素電極２３からの正孔を注入／輸送する正孔輸送層７０と、有機ＥＬ物質からなる発光層６０と、陰極５０とが順に形成されたことによって構成されている。
【００２７】
ここで、有機ＥＬ素子３および駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）を図２に対応した模式図で示すと、図６（ｂ）に示すようになる。図６（ｂ）において、電源線７は駆動素子４のソース／ドレイン電極に接続し、電源線８は有機ＥＬ素子３の陰極５０に接続している。
そして、このような構成のもとに有機ＥＬ素子３は、図６（ａ）に示すように、正孔輸送層７０から注入された正孔と陰極５０からの電子とが発光層６０で結合することにより、発光をなすようになっている。
【００２８】
また、本実施形態においては、画素電極２３上にＳｉＯ２等の親液性の絶縁材料からなる無機隔壁２５が形成されており、この無機隔壁２５には開口２５ａが形成されている。
ここで、無機隔壁２５は絶縁材料からなっているので、後述するように前記開口２５ａ内に臨むようにして設けられた機能層においては、この無機隔壁２５で覆われた箇所には電流が流れず、したがって発光する領域、すなわち発光面積は、この無機隔壁２５の開口２５ａによって決定されるようになっている。
【００２９】
陽極として機能する画素電極２３は、特にボトムエミッション型である場合、透明導電材料によって形成され、具体的にはＩＴＯが好適に用いられる。
正孔輸送層７０の形成材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
なお、正孔輸送層７０の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。
【００３０】
発光層６０を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。なお、本実施形態では、前述したように例えば発光波長帯域が赤色に対応した発光層が採用されるが、もちろん、発光波長帯域が緑色や青色に対応した発光層を採用するようにしてもよい。
【００３１】
発光層６０の形成材料として具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【００３２】
陰極５０は、前記発光層６０を覆って形成されたもので、例えばＣａを厚さ２０ｎｍ程度に形成し、その上にＡｌを厚さ２００ｎｍ程度に形成して積層構造の電極とし、Ａｌを反射層としても機能させたものである。
また、この陰極５０上には接着層を介して封止基板（図示せず）が貼着されている。
【００３３】
また、このような有機ＥＬ素子３の下方には、前述したように回路部１１が設けられている。この回路部１１は素子基板２上に形成されたものである。すなわち、素子基板２の表面にはＳｉＯ２を主体とする下地保護層２８１が下地として形成され、その上にはシリコン層２４１が形成されている。このシリコン層２４１の表面には、ＳｉＯ２及び／又はＳｉＮを主体とするゲート絶縁層２８２が形成されている。
【００３４】
また、前記シリコン層２４１のうち、ゲート絶縁層２８２を挟んでゲート電極２４２と重なる領域がチャネル領域２４１ａとされている。なお、このゲート電極２４２は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層２４１を覆い、ゲート電極２４２を形成したゲート絶縁層２８２の表面には、ＳｉＯ２を主体とする第１層間絶縁層２８３が形成されている。
【００３５】
また、シリコン層２４１のうち、チャネル領域２４１ａのソース側には、低濃度ソース領域２４１ｂおよび高濃度ソース領域２４１Ｓが設けられる一方、チャネル領域２４１ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域２４１ｃおよび高濃度ドレイン領域２４１Ｄが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Light Doped Drain ）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域２４１Ｓは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４３ａを介して、ソース電極２４３に接続されている。このソース電極２４３は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域２４１Ｄは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４４ａを介して、ソース電極２４３と同一層からなるドレイン電極２４４に接続されている。
【００３６】
ソース電極２４３およびドレイン電極２４４が形成された第１層間絶縁層２８３の上層には、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とする平坦化膜２８４が形成されている。この平坦化膜２８４は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）やソース電極２４３、ドレイン電極２４４などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。
【００３７】
そして、ＩＴＯ等からなる画素電極２３が、この平坦化膜２８４の表面上に形成されるとともに、該平坦化膜２８４に設けられたコンタクトホール２３ａを介してドレイン電極２４４に接続されている。すなわち、画素電極２３は、ドレイン電極２４４を介して、シリコン層２４１の高濃度ドレイン領域２４１Ｄに接続されている。
【００３８】
画素電極２３が形成された平坦化膜２８４の表面には、画素電極２３と、前述した無機隔壁２５とが形成されており、さらに無機隔壁２５上には、有機隔壁２２１が形成されている。そして、画素電極２３上には、無機隔壁２５に形成された前記開口２５ａと、有機隔壁２２１に形成された開口２２１ａとの内部、すなわち画素領域に、前記の正孔輸送層７０と発光層６０とが画素電極２３側からこの順で積層され、これによって機能層が形成されている。
【００３９】
次に、このような構成からなるラインヘッドモジュール１０１によって、ラインヘッド１が出射した光をレンズアレイ３１で集光し、感光体ドラム４１上に結像させる使用形態について説明する。図７は、ラインヘッドモジュール１０１の使用形態を模式的に示す図である。なお、図７においては、ラインヘッド１及びレンズアレイ３１を固定しているヘッドケース５２の図示を省略している。
【００４０】
図７に示すように、前記ラインヘッド１が出射した光は、前記レンズアレイ３１によって集光されて被露光部となる感光体ドラム４１上に正立等倍結像し、前記ラインヘッド１の光の出射のタイミングと同期させて前記感光体ドラム４１を図７中矢印方向に回転させることで、感光体ドラム４１を露光することができる。
このとき、前述したように前記ラインヘッド１が出射する光の発光スペクトルには、半値幅Ａを示す波長領域以外の波長の光も含まれているが、本発明では、発光スペクトルでの全波長においては半値幅Ａの波長領域が大半を占めるものとし、前記レンズアレイ３１の波長分散による結像のボケは半値幅Ａの波長領域の光により生じるものとし、半値幅Ａ以外の波長領域での結像のボケは考慮しないものとした。
【００４１】
本発明のラインヘッドモジュール１０１では、前述したように発光素子３の発光スペクトルの半値幅Ａを示す波長領域での、短波長λ１と長波長λ２とにおけるレンズアレイ３１の屈折率が概ね等しくなる。よって、前記短波長λ１及び長波長λ２の光が前記レンズアレイ３１によって略等しい屈折率で屈折されるので、感光体ドラム４１上の略等しい位置（焦点距離）に集光して結像する。なお、本実施形態におけるレンズアレイ３１の波長分散は、図５に示したように波長が長くなるに従って単調減少するようになっている。
よって、前記レンズアレイ３１の波長分散が単調減少しているので、前記波長分散を示す波長領域のうち短波長λ１における屈折率ｎ１が最も高い屈折率（１．６３９９）となり、長波長λ２における屈折率ｎ２が最も低い屈折率（１．６３９４）となるので、半値幅Ａを示す波長領域のすべての屈折率はｎ２（１．６３９４）〜ｎ１（１．６３９９）の範囲に収まる。また、前述したように波長分散が単調減少しているので、半値幅Ａを示す波長領域から僅かに外れた波長の光であれば、略等しい屈折率とすることができる。
【００４２】
また、前記レンズアレイ３１の波長分散によって、ラインヘッド１の光が感光体ドラム４１上に集光する位置（焦点距離）のズレを無くすことで、半値幅Ａを示す波長領域のすべての光を前記感光体ドラム４１上の略等しい位置に結像できる。
したがって、前述した条件（ｎ１／ｎ２）を満たすような、発光スペクトルを持つラインヘッド１とレンズアレイ４１とを用いることで、レンズアレイ４１の波長分散による感光体ドラム４１上の結像のボケを無くすことができ、正確な潜像を形成することで高精細な印字を行う事ができる。
【００４３】
（第２の実施形態）
次に、ラインヘッドモジュールの第２の実施形態について説明する。
本実施形態では、前記第１の実施形態のラインヘッドモジュール１０１と後述する所以外は同様な構成のものを用いたが、第１の実施形態と比べて後述するようにレンズアレイ３１の波長分散が大きく、ラインヘッドの光源として誘電体積層膜を用いた共振器構造を備えた有機ＥＬ素子部を用いた。ここでは、前記第１の実施形態のラインヘッドモジュール１０１と異なる部分について説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化している。
まず始めに、本実施形態に用いたラインヘッドについて説明する。
【００４４】
（共振器構造）
図８は、第２の実施形態のラインヘッドが備えた誘電体積層膜を用いた共振器構造を備えた有機ＥＬ素子部１００を模式的に示した図である。なお、図８においては、駆動回路等を含むＴＦＴ素子については図示を省略している。
図８に示すように、共振器構造１１０は、ラインヘッドを構成する素子基板２とＩＴＯからなる画素電極２３との間に設けられた誘電体積層膜からなっている。なお、前記画素電極２３の上には、正孔輸送層７０、発光層６０、陰極５０が順次積層された構造となっている。
【００４５】
この誘電体積層膜は、素子基板２側から７５ｎｍの膜厚のＳｉＮからなるＳｉＮ層１１０ａと、１２０ｎｍの膜厚のＳｉＯ２からなるＳｉＯ２層１１０ｂとが交互に繰り返し３層づつ積層されていて共振器構造１１０として作用するようになっている。また、前記ＳｉＮ層１１０ａの屈折率は前記ＳｉＯ２層１１０ｂの屈折率に比べて高くなっている。
前記共振器構造１１０は、ＳｉＮ層１１０ａとＳｉＯ２層１１０ｂとの屈折率差によって、発光層６０の発光スペクトルのピーク値を共振して強め、発光層６０の発光スペクトルの半値幅を示す波長領域を狭めることができる。ここで、共振器構造１１０を通る前の発光スペクトルは第１の実施形態に用いた有機ＥＬ素子３による発光スペクトルとする。
【００４６】
次に、本実施形態における共振器構造１１０を備えた有機ＥＬ素子部１００の発光スペクトルについて説明する。
図９は、前記有機ＥＬ素子部１００の発光スペクトルを示したグラフである。なお、前記第１の実施形態と同様に図９は、赤の発光スペクトルとなっている。図９中、横軸は前記有機ＥＬ素子部１００の発光スペクトルにおける波長を示し、縦軸は発光スペクトルの強度を示している。なお、図９と前記第１の実施形態で示した図３とにおける横軸（波長）及び縦軸（発光スペクトルの強度）を共通のものとしている。
図９中、一点鎖線に挟まれた両矢印Ｂが示す領域は発光スペクトルの半値幅Ｂである。また、半値幅Ｂを示す波長領域のうち短い波長を短波長λ１、半値幅Ｂを示す波長領域のうち長い波長を長波長λ２とした。
図９に示したグラフから、本実施形態における半値幅は約３５ｎｍである。このとき、前記短波長λ１は６１６ｎｍ、前記長波長λ２は６５１ｎｍとなっていて、前述したように前記共振器構造１１０を用いることで半値幅Ｂ（３５ｎｍ）は前記第１の実施形態における半値幅Ａ（８９ｎｍ）に比べて狭められている。
【００４７】
次に、本実施形態におけるレンズアレイの波長分散について説明する。前述したように、本実施形態のレンズアレイは前記第１の実施形態のレンズアレイ３１と波長分散が異なる以外は、同一の構造となっている。
図１０は、レンズアレイの波長分散を示したグラフである。図１０中、横軸は前記レンズアレイに入射される光の波長を示し、縦軸はその波長に対応する屈折率を示している。なお、本実施形態における波長分散のグラフは、前記第１の実施形態における波長分散のグラフに比べて変化が大きくなっている。つまり、本実施形態においては、前記第１の実施形態におけるレンズアレイ３１に比べて、波長分散が大きいレンズアレイを用いることとした。
【００４８】
ここで、図９に示した短波長λ１＝６１６ｎｍにおける前記レンズアレイの屈折率をｎ１とすると、図１０に示した波長分散のグラフから屈折率ｎ１＝１．６３４６となる。また、図９に示した長波長λ２＝６５１ｎｍにおけるレンズアレイの屈折率をｎ２とすると、図１０に示した波長分散のグラフから屈折率ｎ２＝１．６３２１となる。
よって、本実施形態における屈折率ｎ１とｎ２との比（ｎ１／ｎ２）をとると、ｎ１／ｎ２＝１．００２となり、概ね１となる。このとき、前記レンズアレイ２５５の波長分散が単調減少となっているので、前記波長領域のうち短波長λ１における屈折率ｎ１が最も高い屈折率（１．６３４６）となり、長波長λ２における屈折率ｎ２が最も低い屈折率（１．６３２１）となるので、半値幅Ｂを示す波長領域のすべての屈折率は１．６３２１〜１．６３４６の範囲に収まるようになっている。よって、本実施形態のレンズアレイでの短波長λ１における屈折率ｎ１と短波長λ２における屈折率ｎ２とがほぼ同じであるので、半値幅Ｂを示す前記短波長λ１から前記長波長λ２の間では、前記レンズアレイの波長分散の影響をほとんど受けないようになっている。
【００４９】
次に、本実施形態のラインヘッドモジュールの使用形態について説明する。
本実施形態では、有機ＥＬ素子３からの光が誘電体積層膜からなる共振器構造１１０によって、発光スペクトルのピーク値を共振することで強めて、前記発光スペクトルの半値幅Ｂの波長領域を狭めている。
そして、ラインヘッドが出射した光は、前記第１の実施形態のラインヘッドモジュール１０１と同様に、レンズアレイによって集光されて被露光部となる感光体ドラム４１上に等倍結像する。
本実施形態のラインヘッドモジュールによれば、波長分散が大きいレンズアレイを用いた場合に、前述したように半値幅Ｂを示す波長領域を狭めることで、前記レンズアレイの短波長λ１における屈折率ｎ１と長波長λ２における屈折率ｎ２との値の差を間接的に小さくするようになる。このとき、前記レンズアレイの波長分散は、光の波長が長くなるに従って単調増加するようになっているので、半値幅Ｂを示す波長領域のすべての屈折率はｎ２（１．６３２１）〜ｎ１（１．６３４６）の範囲に収まる。つまり、発光素子の発光スペクトルの半値幅Ｂを示す波長領域での、短波長λ１と長波長λ２との屈折率が概ね等しくなることで、前記短波長λ１及び長波長λ２の光は略等しい屈折率で屈折して、感光体ドラム４１上の等しい位置に集光するようになる。よって、前記レンズアレイの波長分散によって光を集光する位置（焦点距離）のズレを無くすことで、前記波長領域のすべての光を前記感光体ドラム４１上の略等しい位置に結像できる。
したがって、感光体ドラム４１上での結像のボケを無くすことができ、正確な潜像を形成することで高精細な印字を行う事ができる。
また、本実施形態のようにラインヘッドに共振器構造を設けることで、波長分散によるレンズアレイとラインヘッドとの制約を少なくすることができ、ロッドレンズアレイの使用する際の自由度を向上することができる。
【００５０】
なお、本実施形態においては、共振器構造１１０を用いて半値幅を狭めて発光スペクトルのピーク値を向上させたが、前記共振器構造１１０以外の波長制御手段を用いることで、半値幅を狭めて、短波長λ１と長波長λ２との値を等しくするようにしてもよい。このようにすれば、ロッドレンズアレイの波長分散での短波長λ１における屈折率ｎ１と長波長λ２における屈折率ｎ２とを略等しくすることができ、半値幅を示す波長領域の光を感光体ドラム上の略等しい位置に集光することができ、感光ドラム上での結像のボケを無くすことで露光精度を向上できる。
【００５１】
なお、本発明は前述した第１及び第２の実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない限り種々の変更が可能である。例えば、前記第１の実施形態と前記第２の実施形態を組み合わせることで、ラインヘッド１に共振器構造１１０を設けて発光スペクトルの半値幅を狭め、波長分散が小さいレンズアレイ３１を用いることで、前述した短波長λ１と長波長λ２とにおける前記レンズアレイ３１における屈折率ｎ１及びｎ２の差を無くすことで、感光体ドラム４１上での結像のボケを無くすようにしてもよい。
【００５２】
（実験例）
次に、本発明のラインヘッドモジュールにおいて、前記レンズアレイの波長分散を可変として、前記第１の実施形態及び第２の実施形態で説明したレンズアレイによる短波長λ１の屈折率ｎ１と長波長λ２の屈折率ｎ２とのｎ１／ｎ２の値と感光体ドラム４１上に形成する結像スポットのボケとの関係を示した実験例について説明する。なお、結像スポットとは、有機ＥＬ素子３が発光した光がレンズアレイによって感光体ドラム４１上に集光することで結像される領域である。また、結像スポットのボケとは、レンズアレイの波長分散による影響で結像スポットの径がどれだけ拡がったかを定めたものである。
【００５３】
図１１（ａ）は、前述した実験による結像スポットのボケとｎ１／ｎ２の値の関係を示した表である。また、図１１（ｂ）は、結像スポットのボケを模式的に示した図である。
本実験例においては、６００ｄｐｉの有機ＥＬ素子を備えたラインヘッドと、作動距離が２．５ｍｍとなるように設定されたレンズアレイとを備えたラインヘッドモジュールを用いた。
なお、本実験例に用いたラインヘッドは、４２μｍピッチで有機ＥＬ素子からなる発光部を備えていて、径が４２μｍの発光部となっている。よって、結像スポットのボケが生じなければ、感光体ドラム４１上に４２μｍの径の結像スポットを形成するようになっている。したがって、前述した結像スポットのボケが生じた場合、感光体ドラム４１上に４２μｍ以上の径の結像スポットが形成されるようになる。
【００５４】
以下、図１１（ａ）に示した実施例の結果について説明する。
図１１（ａ）に示した表でｎ１/ｎ２の値が１の場合、つまりレンズアレイの波長分散が生じていない状態である。したがって、前記レンズアレイ内に入射した半値幅を示す波長領域の光は、波長によらず同じ屈折率でレンズアレイ内を通って感光体ドラム４１上に等しい焦点距離で結像される。よって、結像スポットのボケは０μｍとなる。
【００５５】
本発明においては、有機ＥＬ素子による隣合う結像スポット同士が影響を及ぼし合わないことが好ましい。具体的には、本実験例においては図１１（ｂ）に示すように、前記有機ＥＬ素子のピッチ４２μｍの半分となる図１１（ｂ）中に２点鎖線で示す２１μｍ以下の結像スポットのボケであれば隣合う結像スポットが形成する潜像に影響を与えることはなく、印字精度に影響がないものとした。なお、本実験例においては、結像スポットのボケが印字精度に影響を与えない範囲の場合は、波長分散による結像のボケは無いものとしている。
【００５６】
図１１（ａ）に示したように、例えばｎ１／ｎ２の値が０．９５である場合に、結像スポットのボケは１７．９３μｍとなる。また、ｎ１／ｎ２の値が１．０５である場合に、結像スポットのボケは１７．９８μｍとなる。
つまり、有機ＥＬ素子の発光スペクトルの半値幅を示す波長領域（短波長λ１〜長波長λ２）で前記レンズアレイの波長分散におけるｎ１／ｎ２の値が、０．９５以上１．０５以下であれば、前述した結像スポットのボケは２１μｍ以下とすることができ、結像スポットのボケがラインヘッドモジュールの印字精度に影響を与えることはない。
したがって、本実験例の結果によれば、本発明のラインヘッドモジュールは前記レンズアレイの波長分散によらず、感光体ドラム４１上の結像のボケを無くして、感光体ドラム４１の露光精度を向上させることができる。
【００５７】
（画像形成装置）
次に、本発明のラインヘッドモジュールを露光手段として備えた画像形成装置について説明する。
【００５８】
（タンデム方式の画像形成装置）
図１２は本発明の画像形成装置の第１の実施形態を示す図であり、図１２中符号８０はタンデム方式の画像形成装置である。この画像形成装置８０は、本発明に係るラインヘッドモジュール１０１Ｋ、１０１Ｃ、１０１Ｍ、１０１Ｙを、対応する同様な構成である４個の感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙの露光装置にそれぞれ配置したもので、タンデム方式のものとして構成されたものである。
【００５９】
この画像形成装置８０は、駆動ローラ９１と従動ローラ９２とテンションローラ９３とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト９０を、図１２中矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト９０に対して、感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
【００６０】
ここで、前記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。
なお、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、図１２中矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。
【００６１】
各感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査するラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
ここで、ラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、前述したようにヘッドケースによってラインヘッド１とレンズアレイ３１と集光レンズ５８とが互いにアライメントされた状態で一体化されたものである。
【００６２】
また、このラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト９０に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、転写された後に感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００６３】
ここで、各ラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、各ラインヘッド１のアレイ方向（有機ＥＬ素子３の整列方向）が感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転軸に平行となるように設置されている。そして、各ラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エネルギーピーク波長と、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。
【００６４】
現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
【００６５】
このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ６６において用紙等の記録媒体Ｐに二次転写され、さらに定着部である定着ローラ対６１を通ることで記録媒体Ｐ上に定着され、その後、排紙ローラ対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。
【００６６】
なお、図１２中の符号６３は多数枚の記録媒体Ｐが積層保持されている給紙カセット、６４は給紙カセット６３から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラ、６５は二次転写ローラ６６の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ対、６６は中間転写ベルト９０との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラ、６７は二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。
【００６７】
（４サイクル方式の画像形成装置）
次に、本発明に係る画像形成装置の第２の実施の形態について説明する。図１３は４サイクル方式の画像形成装置の縦断側面図である。図１３において、画像形成装置１６０には主要構成部材として、ロータリ構成の現像装置１６１、像担持体として機能する感光体ドラム１６５、前記ラインヘッドモジュールからなる像書込手段１６７、中間転写ベルト１６９、用紙搬送路１７４、定着器の加熱ローラ１７２、給紙トレイ１７８が設けられている。
【００６８】
現像装置１６１は、現像ロータリ１６１ａが軸１６１ｂを中心として矢印Ａ方向に回転するよう構成されたものである。現像ロータリ１６１ａの内部は４分割されており、それぞれイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｋ）の４色の像形成ユニットが設けられている。１６２ａ〜１６２ｄは、前記４色の各像形成ユニットに配置されており、矢印Ｂ方向に回転する現像ローラ、１６３ａ〜１６３ｄは、矢印Ｃ方向に回転するトナー供給ローラである。また、１６４ａ〜１６４ｄはトナーを所定の厚さに規制する規制ブレードである。
【００６９】
図１３中符号１６５は、前記のように像担持体として機能する感光体ドラム、１６６は一次転写部材、１６８は帯電器である。また、１６７は本発明における露光手段となる像書込手段であり、前述した本発明のラインヘッドモジュールからなるものである。感光体ドラム１６５は、図示を省略した駆動モータ、例えばステップモータにより、現像ローラ１６２ａとは逆の方向となる矢印Ｄ方向に回転駆動されるようになっている。なお、像書込手段１６７を構成するラインヘッドモジュールは、これと感光体ドラム１６５との間で位置合わせ（光軸合わせ）がなされた状態に配設されている。
【００７０】
中間転写ベルト１６９は、駆動ローラ１７０ａと従動ローラ１７０ｂとの間に張架されたものである。駆動ローラ１７０ａは、前記感光体ドラム１６５の駆動モータに連結されたもので、中間転写ベルト１６９に動力を伝達するようになっている。すなわち、該駆動モータの駆動により、中間転写ベルト１６９の駆動ローラ１７０ａは感光体ドラム１６５とは逆の方向となる矢印Ｅ方向に回動するようになっている。
【００７１】
用紙搬送路１７４には、複数の搬送ローラと排紙ローラ対１７６などが設けられており、用紙が搬送されるようになっている。中間転写ベルト１６９に担持されている片面の画像（トナー像）が、二次転写ローラ１７１の位置で用紙の片面に転写されるようになっている。二次転写ローラ１７１は、クラッチによって中間転写ベルト１６９に離当接されるようになっており、クラッチオンで中間転写ベルト１６９に当接され、用紙に画像が転写されるようになっている。
【００７２】
前記のようにして画像が転写された用紙は、次に、定着ヒータＨを有する定着器で定着処理がなされる。定着器には、加熱ローラ１７２、加圧ローラ１７３が設けられている。
定着処理後の用紙は、排紙ローラ対１７６に引き込まれて矢印Ｆ方向に進行する。この状態から排紙ローラ対１７６が逆方向に回転すると、用紙は方向を反転して両面プリント用搬送路１７５を矢印Ｇ方向に進行する。１７７は電装品ボックス、１７８は用紙を収納する給紙トレイ、１７９は給紙トレイ１７８の出口に設けられているピックアップローラである。
【００７３】
用紙搬送路において、搬送ローラを駆動する駆動モータとしては、例えば低速のブラシレスモータが用いられている。また、中間転写ベルト１６９については、色ずれ補正などが必要となるためステップモータが用いられている。これらの各モータは、図示を省略した制御手段からの信号によって制御されるようになっている。
【００７４】
図１３に示した状態で、イエロー（Ｙ）の静電潜像が感光体ドラム１６５に形成され、現像ローラ１６２ａに高電圧が印加されることにより、感光体ドラム１６５にはイエローの画像が形成される。イエローの裏側および表側の画像がすべて中間転写ベルト１６９に担持されると、現像ロータリ１６１ａが矢印Ａ方向に９０度回転する。
【００７５】
中間転写ベルト１６９は１回転して感光体ドラム１６５の位置に戻る。次に、シアン（Ｃ）の２面の画像が感光体ドラム１６５に形成され、この画像が中間転写ベルト１６９に担持されているイエローの画像に重ねて担持される。以下、同様にして現像ロータリ１６１の９０度回転、中間転写ベルト１６９への画像担持後の１回転処理が繰り返される。
【００７６】
４色のカラー画像担持には中間転写ベルト１６９は４回転して、その後さらに回転位置が制御されて二次転写ローラ１７１の位置で用紙に画像を転写する。給紙トレー１７８から給紙された用紙を搬送路１７４で搬送し、二次転写ローラ１７１の位置で用紙の片面に前記カラー画像を転写する。片面に画像が転写された用紙は前記のように排紙ローラ対１７６で反転されて、搬送径路で待機している。その後、用紙は適宜のタイミングで二次転写ローラ１７１の位置に搬送されて、他面に前記カラー画像が転写される。ハウジング１８０には、排気ファン１８１が設けられている。
【００７７】
このような図１２、図１３に示した画像形成装置８０、１６０においては、図１に示したような本発明のラインヘッドモジュールが露光手段として備えられている。
したがって、これら画像形成装置８０、１６０にあっては、前述したようにロッドレンズの波長分散による感光体ドラム上の結像のボケを無くしたラインヘッドモジュールを露光手段として備えているので、露光精度が向上し正確な潜像を形成することで高精細な印字が可能となる。
なお、本発明のラインヘッドを備えた画像形成装置は前記実施形態に限定されることなく、種々の変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明のラインヘッドモジュールの概略構成を示す模式図。
【図２】ラインヘッドの模式図。
【図３】第１の実施形態における発光スペクトルを示す図。
【図４】レンズアレイの斜視図。
【図５】第１の実施形態におけるレンズアレイの波長分散を示すグラフ。
【図６】（ａ）はラインヘッドの要部側断面図、（ｂ）は模式図。
【図７】ラインヘッドモジュールの使用形態の説明図。
【図８】ラインヘッドが備えた共振器構造を模式的に示した図。
【図９】第２の実施形態における発光スペクトルを示す図。
【図１０】第の実施形態におけるレンズアレイの波長分散を示すグラフ。
【図１１】（ａ）は実験結果を示す図、（ｂ）は結像のボケの説明図。
【図１２】本発明の画像形成装置の第１の実施形態を示す概略構成図。
【図１３】本発明の画像形成層値の第２の実施形態を示す概略構成図。
【符号の説明】
【００７９】
１…ラインヘッド、３…有機ＥＬ素子（ＥＬ素子）、３Ａ…発光素子列、
３１…レンズアレイ（ロッドレンズアレイ）、８０、１６０…画像形成装置、
１００…有機ＥＬ素子部、１０１…ラインヘッドモジュール、１１０…共振器構造
Ａ、Ｂ…半値幅
【図１】
2006130804.tif 000003
【図２】
2006130804.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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