(57)【要約】【課題】  組織・組成・粒径・形状の均一化が達成可能な簡便な造粒手法を提供する。【解決手段】  攪拌機３４と噴霧乾燥装置４２との間の超音波分散濾過装置４０の濾過室１４０において、セラミックスラリーに超音波照射部１４２から超音波を照射し、チタン酸バリウム粒子を振動させる。これにより、凝集したチタン酸バリウム粒子が単一粒子化するとともに、溶媒に均一に分散する。しかも、こうした分散をもたらす超音波分散濾過をスプレーノズル４３へのスラリーの供給の間に亘って行う。スプレーノズル４３は、チタン酸バリウム粒子が好適に分散した状態でスラリー噴霧乾燥を行い、分級を経て均質な造粒粒子(顆粒)を生成する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミック原料の造粒方法であって、
セラミック原料を粉砕したセラミック粉体を得る工程と、
該セラミック粉体を懸濁したスラリーを調整する工程と、
該スラリーを噴霧乾燥装置内のスプレー装置から噴霧して、セラミック原料の顆粒を造粒する工程とを備え、
前記スプレー装置に至る配管路に設けた超音波分散濾過装置の濾過室において、前記スラリーに対する超音波照射を前記スプレー装置への前記スラリーの供給の間に亘って継続しつつ、前記濾過室で濾過したスラリーを前記スプレー装置に供給する
セラミック原料の造粒方法。
【請求項２】
請求項１記載のセラミック原料の造粒方法であって、
前記濾過室における前記超音波濾過は、
前記配管路に設けた濾過室において対向する超音波照射部と濾過フィルタの間に前記スラリーを供給しつつ、前記超音波照射部から前記スラリーに超音波を照射し、前記フィルタを通過しない余剰のスラリーを前記濾過室へのスラリー供給部に環流させる
セラミック原料の造粒方法。
【請求項３】
請求項２記載のセラミック原料の造粒方法であって、
前記フィルタのメッシュサイズが１０〜１００μｍとされる
セラミック原料の造粒方法。
【請求項４】
セラミック原料の造粒装置であって、
セラミック原料を粉砕したセラミック粉体を懸濁させたスラリーを調整するスラリー調整部と
前記スラリーをスプレー装置から乾燥室内に噴霧して乾燥させ、セラミック原料の顆粒を造粒する噴霧乾燥装置とを備え、
更に、前記噴霧乾燥装置と前記スラリー調整部との間の配管路に超音波分散濾過装置を備え、
該超音波分散濾過装置は、
前記配管路に設けた濾過室と、
前記濾過室において対向する超音波照射部と濾過フィルタとを備え、
前記超音波照射部とフィルタとの間に供給された前記スラリーに対する前記超音波照射部からの超音波照射を、前記スプレー装置へのスラリー供給の間に亘って継続しつつ、前記フィルタで濾過したスラリーの前記スプレー装置への供給と、前記フィルタを通過しない余剰のスラリーを前記スラリー調整部に環流させるスラリー環流とを行う
セラミック原料の造粒装置。
【請求項５】
請求項４記載のセラミック原料の造粒装置であって、
前記濾過室は、
前記フィルタで上流側濾過室と下流側濾過室に区分され、
前記下流側濾過室をフィルタ下流の直管管路と、前記スプレー装置に至る配管路を前記直管管路と連結する連結管路で形成し、
前記直管管路における管路内径と管路長の比を、１：０．５〜１：５の範囲とした
セラミック原料の造粒装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セラミック原料の造粒方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
セラミックは優れた電気的特性・熱的特性・耐久特性を備えると共に、その機械的強度にも優れることから、近年、電子デバイスの基材等に多用されている。ところで、セラミック部品はセラミック粉末を所定形状に成形、焼成して得られるので、成形に好適なセラミック粉末(顆粒状)を造粒するに当たっては、その粒径や形状の均一化が求められている。こうした要求に応えるため造粒過程において種々の技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１３０９６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この特許文献の技術によれば、セラミック粉末を分散媒に混合攪拌する際に、超音波照射を行う事によって、スラリーの均一化を確実に得ることができる。しかしながら、混合攪拌後にスラリーはスプレー装置に搬送されるため、この搬送過程においてセラミック粒子の再凝集が起き得ることから、セラミック顆粒の均質・均一化には改善の余地が残されていた。
【０００５】
本発明は、上記問題点を解決するための造粒手法、即ち、組織・組成並びに粒径・形状の均質・均一化が達成可能な簡便な造粒手法を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
かかる課題の少なくとも一部を解決するため、本発明のセラミック原料の造粒方法では、粉砕したセラミック原料を溶媒に懸濁させスラリー化したのち、スプレー装置から噴霧してセラミック顆粒を造粒するに際して、スプレー装置に至る配管路の濾過室において、スラリーが供給される間に亘ってスラリーヘ超音波照射濾過がなされる。すなわち、本発明では、セラミック懸濁スラリーに超音波分散濾過が施され、その直後にスラリーをスプレー装置に供給する方法を提供するものである。
【０００７】
スラリーに懸濁したセラミック粒子は、微細であるため、溶媒中での懸濁に際しては凝集し易く、再凝集も生じ易い。しかし、たとえ強固に凝集したセラミック粒子であっても、スプレー装置に至る直前の配管路の濾過室で超音波照射を受けることによって、その凝集は解かれ、分散化する。よって、濾過室で超音波分散濾過を経たスラリーは単一セラミック粒子とバインダーが均一に分散したスラリーとなり、スプレー装置に供給される。また、セラミック粒子の懸濁の際に、セラミック以外の粗大異物がスラリー中に混入する恐れもあるが、こうした粗大異物は、濾過室で捕獲されるため、超音波分散濾過を経たスラリーは、特性上有害となる不純物が除去され、高品位で高品質なスラリーとなり得る。
【０００８】
均一に分散し、単一粒子化したセラミックスラリーは、スプレー装置への直前の配管途中で超音波濾過を施されるので、粒子の再凝集を招かず、均質な噴霧乾燥が可能となる。この結果、得られるセラミック造粒粒子は均質で、組織や組成並びに粒径や形状の不揃いも生じない。こうした均質化は、スプレー装置の上流側で超音波分散濾過を行うことによって図ることができる。この場合、粒子の再凝集を招かないよう、スラリー噴霧に当たっては、超音波分散濾過室とスプレー装置の近接配置やスプレー装置ヘのスラリーの高流速圧送が重要となる。
【０００９】
また、本発明では、配管路に設けた濾過室においてセラミックスラリーを超音波分散濾過しながら、濾過フィルタを通過しない余剰のスラリーを濾過室上流側のスラリー調整部に還流させることもできる。こうすれば、以下の利点がある。一般に、濾過フィルタは、濾過に伴い、捕獲物(所謂、バインダーに起因する未溶解状のダマ)により、目詰まりを生じやすい。しかし、上記に示した如く、セラミックスラリーを還流させていることから、この際のスラリーの戻りにより、濾過フィルタのダマを濾過室外に持ち出すことができ、かつ繰り返し超音波を照射できるので、濾過フィルタの目詰まりの抑制及び効率良いダマの微細化、微小化が可能となる。ひいては、造粒中のトラブル(濾過フィルタ交換、清掃頻度)が減少し、生産性が高まる。
【００１０】
更に、超音波照射によるセラミック粒子の分散促進と濾過フィルタ(詳しくは濾過フィルタ細孔)による物理的な凝集抑制との相乗作用によって、濾過フィルタ通過後のセラミックスラリー粒子の再凝集をより一層抑制できる。
【００１１】
この場合、濾過フィルタのメッシュサイズを１０〜１００μｍとすれば、濾過室内の圧力上昇も顕著とはならず、また、濾過フィルタの目詰まりによる交換、洗浄周期（メンテナンスインターバル）も延び、即ち 造粒可能期間が延び、好ましい。
【００１２】
また、濾過室を濾過フィルタで上流側濾過室と下流側濾過室に区分した下流側濾過室において、濾過フィルタ下流の直管管路とスプレー装置に至る配管路を直結する連結管路において、直管管路の管路内径と直管管路長の比を１：０．５〜１：５の範囲にすることもできる。こうすれば、濾過フィルタ通過後のスラリーをスプレー装置に至る配管路ヘ流れ易くできるので、下流側濾過室内でのスラリーの沈殿及び閉塞を抑制でき、不用意な濾過室内の圧力上昇も避けることができる。この場合、望ましくは、上記比を１：１〜１：２とすることが、スラリーの滞留、沈降、閉塞抑制の点から好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態について、その実施例を図面に基づき説明する。図１は実施例のセラミック原料の造粒工程を模式的に示す概略図である。この図１に示すように、本実施例の造粒工程は、最終生産品として、チタン酸バリウムのセラミック顆粒を造粒するものであり、以下の手順にて実現される。
【００１４】
STEP S1では、セラミック原料となる高純度の酸化チタンおよび炭酸バリウムを準備し、これを溶媒(純水)と混合し、攪拌機１０にて攪拌する。この際、酸化チタンおよび炭酸バリウムは、純水に対する最適配合比で秤量、調整する。次いで、適宜な粉砕機１２(例えば、ボールミル、ビーズミル等)を用いて微粉砕し、酸化チタンと炭酸バリウムの混合粉(以下混合粉)をスラリー化する(STEP S2)。スラリーの粉砕粒度は、平均粒子径が約０．５〜１．５μmに調整することが望ましい。こうして粉砕したスラリーは、下流の攪拌機１６に移送して、純水とより一層の均一混合化を図る(STEP S3)。
【００１５】
攪拌機１６で純水と混合したスラリーは噴霧乾燥装置18のスプレーノズルから噴霧し、顆粒状の乾燥粉末とする(STEP S4)。これにより、スラリーの水分はほぼ完全に除去されると共に、均質な脱水乾燥粉末ができる。次に、乾燥粉末を振動篩機２０に投入し、分級する(STEP S5)。篩分級後の乾燥粉末は、仮焼サヤ２１内に入れ、サヤ２１ごと、仮焼炉22にて仮焼する(STEP S6)。この仮焼により、固相反応、粒成長促進を図り、組織、組成共均質なチタン酸バリウム仮焼粉末を得る。
【００１６】
得られたチタン酸バリウム仮焼粉末を純水と共に攪拌機２４に投入し、混合攪拌させる(STEP S7)。この場合も、投入するチタン酸バリウム仮焼粉末は、純水に対し、好適な配合比で秤量、添加する。その後、粉砕機２６による粗粉砕(STEP S8)を、次いで粉砕機３０による微粉砕(STEP S9)とを連続して行う。
【００１７】
この粗粉砕・微粉砕は、粗粉砕の平均粒子径が約２〜５μｍ、微粉砕では約０．５〜１．５μｍに調整することが望ましいので、こうした粒度調整に適した粉砕機（ボールミル、ビーズミル等）が適宜用いられる。
【００１８】
続くSTEP S10では、攪拌機３４において、粉砕されたチタン酸バリウム仮焼粉末をバインダーと混合攪拌して、均質なセラミックスラリーを調整する。この際、投入するバインダーは正確に秤量され、STEP S7における仮焼粉末量に対し、最適な配合比にて添加される。本実施例では、バインダーとして、結合剤ポリビニルアルコール(PVA)を、可塑剤ポリエチレングリコール(PEG)を、滑剤グリセリンを、分散剤ポリアクリル酸アンモニウムを用いた。なお、これらの配合例として、結合剤０．５ｗｔ％、可塑剤０．１ｗｔ％、滑剤０．１ｗｔ％、分散剤０．３ｗｔ％をあげることができる。
【００１９】
本実施例では、攪拌機３４におけるチタン酸バリウム仮焼粉末の分散に際し、固形分濃度を３０ｗｔ％とした。一般的に、セラミック粉末にバインダーを添加し、スラリー化を図る場合、その固形分濃度は、凡そ５０〜６０ｗｔ％とされるが、本実施例では、ここでのスラリー調整を、固形分濃度が３０〜４０ｗｔ％の範囲となるように行った。つまり、固形分濃度が３０〜４０ｗｔ％の範囲であれば、後述する超音波分散濾過による懸濁スラリーの分散が好適に行われる上、スプレーノズル４３に至る配管内での再凝集も抑制でき好ましい。固形分濃度が低すぎる場合はセラミック顆粒の造粒効率が低下する問題が生じ、大きすぎる場合は、超音波の伝播が阻害され分散が不十分となる問題が生じ、懸濁スラリーの分散性、再凝集性の点で劣る結果となる。また、スラリー粘度についても、できる限り低粘度に調整(4ｍPaS(=4CPS))することによって、上記の固形分濃度調整と相俟って、超音波分散濾過による懸濁スラリーの分散促進、再凝集抑制の実効性を高めることができる。
【００２０】
セラミックスラリーのバインダー添加調整を上記攪拌機３４で行ったのち、強力電磁石を用いた磁力選別機３９にて、スラリー内の磁性体異物(鉄、ステンレスを主体とする原料内およびプロセス内のコンタミ異物)を除去する(STEP S11)。このような磁力選別に加えて、超音波分散濾過装置４０にても細孔濾過を行って(STEP S12)、噴霧乾燥装置４２(STEP S13)のスプレーノズル４３には、不純物の混入のない純度の高いチタン酸バリウムスラリーを供給する。この噴霧乾燥装置４２で、スラリーの噴霧、脱水乾燥、造粒を行うことによって、高品質のチタン酸バリウム顆粒を生成することができる。その後、チタン酸バリウム顆粒は、振動篩機４４に投入され、分級が施される(STEP S14)。この分級されたチタン酸バリウム顆粒は、種々のセラミック製品の原材料に用いることができる。なお、上述した造粒システムの各STEP間には、その配管経路において、スラリー移送・圧送用のポンプが適宜配設される。
【００２１】
次に、上記した超音波分散濾過装置４０の詳細について説明する。図２は超音波分散濾過装置４０を中心としたスラリー処理の様子を概略的に説明する説明図、図３は超音波分散濾過装置４０の概略構成を示す概略断面図である。
【００２２】
これら図面に示すように、超音波分散濾過装置４０は、仮焼後のセラミックスラリー(チタン酸バリウム仮焼粉末を微粉砕化し、懸濁させたスラリー)をバインダーと調整する攪拌機３４と、セラミックスラリーをスプレーノズル４３から、乾燥搭内ヘ噴霧、乾燥させ、セラミック顆粒を造粒する上記の噴霧乾燥装置４２との間の配管路に配設されている。この超音波分散濾過装置４０は、濾過室１４０を備え、その濾過室１４０において、超音波照射部１４２と濾過フィルタ１４４とを対向させている。
【００２３】
超音波照射部１４２は、超音波発振機１４６に接続され、超音波を濾過室１４０内のスラリー(超音波照射部１４２と濾過フィルタ１４４との間に供給されたスラリー)に照射する。この超音波照射は、スプレーノズル４３にスラリーが供給される間に亘って行われる。超音波発振機１４６は、その発振周波数を種々に変更でき、本実施例では、ｆ＝約２０ｋＨｚの周波数の超音波を超音波照射部１４２から照射するようにした。
【００２４】
超音波分散濾過装置４０は、その上流側ポンプ１４５の制御と濾過室１４０の入口・出口径、流量の調整によって、濾過室１４０においてセラミックスラリーに０．００５〜０．１MPａの圧力を加えながら、スラリーに超音波照射が行なえる構造を有する。すなわち、濾過室１４０でスラリー圧力が０．１MPａを超えると、超音波振動が阻害され、超音波照射能力が低下し、照射不能となるが、本装置は、こうしたことを回避できる構造となっている。
【００２５】
超音波分散濾過装置４０は、濾過室１４０から攪拌機３４にかけてリターン管路１４８を備える。そして、この超音波分散濾過装置４０は、濾過フィルタ１４４で濾過したスラリーをスプレーノズル４３に供給しつつ、濾過フィルタ１４４を通過しない余剰のスラリーをリターン管路１４８を経て攪拌機３４に環流させる。また、超音波分散濾過装置４０は、濾過室１４０の上部においてこれを取り囲む水冷ジャケット１５０を備え、スラリー濾過時の濾過室温上昇を抑制している。本実施例では、水冷ジャケット１５０により、濾過室１４０内におけるスラリー温度を約２０℃に維持した。
【００２６】
濾過室１４０は、フィルタ１４４で上流側濾過室１４０ａと下流側濾過室１４０ｂに区分され、下流側濾過室１４０ｂは、濾過フィルタ下流の直管管路１４３ａと、スプレーノズル４３に至る配管管路をこの直管管路１４３ａと連結するテーパ状の連結管路１４３ｂで形成されている。本実施例では、直管管路１４３ａにおける管路内径と管路長の比を約１：１とし、濾過フィルタ１４４の下方に、フィルタ径と同等程度の長さで直管管路１４３ａを延ばすこととした。そして、このテーパ状の連結管路１４３ｂとスプレーノズル４３との間には、ポンプ１４７（図２参照）を配設し、当該ポンプにてスラリーをスプレーノズル４３に圧送し、高い流速でスラリーをスプレーノズル４３に供給する。こうしたポンプによる圧送に加え、本実施例では、連結管路１４３ｂにて配管経路の狭小化を図り、これによってもセラミックスラリーの停滞、沈降、再凝集を抑制することとした。具体的には、直管管路１４３ａを直径４７ｍｍの管路とし、連結管路１４３ｂ下流では、直径１７．５ｍｍの管路とし、ポンプ１４７の手前で直径８ｍｍの管路とし、この管路のポンプ１４７でセラミックスラリーをスプレーノズル４３に高流速で送り込む。
【００２７】
本実施例は、上記構成を有する超音波分散濾過装置４０を噴霧乾燥装置４２の上流側に設置し、超音波照射部１４２と濾過フィルタ１４４を有する超音波分散濾過装置４０による超音波分散濾過を経たスラリーを噴霧乾燥させるので、次の利点がある。
【００２８】
攪拌機３４にて混合されるセラミックスラリー(上記バインダー配合調整済みのスラリー)においては、チタン酸バリウム粒子が微粒子化され、高活性化しているので、セラミック粒子同士の凝集は避けられない。しかし、一旦凝集したチタン酸バリウム粒子であっても、超音波分散濾過装置内の濾過室１４０において超音波の照射を受ければ、凝集は解かれ、単一分散化し、個々に粒子が分散した状態に戻る。このスラリーはスプレーノズル４３に供給される間に亘って継続して超音波の照射を受けることができ、この結果、濾過室１４０で超音波分散濾過を経たセラミック粒子は、単分散化した状態でスプレーノズル４３から噴霧され、噴霧乾燥装置４２で造粒、振動篩機４４で分級がなされ、均質な高品位のチタン酸バリウム顆粒を生成することができる。
【００２９】
本実施例では、超音波分散濾過装置４０からスプレーノズル４３までのスラリー供給経路長を約０．５ｍ程度としたので、チタン酸バリウムスラリーの再凝集を招かない短時間のうちに、スラリーをスプレーノズル４３から噴霧できる。このこともチタン酸バリウム造粒粒子生成の際には、顆粒の均質性、均一性の点で有利である。しかも、本実施例では、チタン酸バリウム粒子の再凝集抑制のため、以下の対策も図った。
【００３０】
まず、第一に濾過フィルタ１４４を厚みが約２mmと、濾過装置一般の濾過フィルタより肉厚を厚くした。これにより、濾過フィルタ細孔をスラリーが通過するに当たって、肉厚が厚い分だけ、濾過フィルタ内で分散が促進でき、かつ再凝集を抑制する効果が期待できる。また、濾過室１４０内のセラミックスラリーに加わる圧力を調整(０．００５〜０．１MPa)しながら、スラリーへの超音波振動伝播をより確実に、強力に行うことでより一層の分散促進、再凝集抑制の実効性を高めることができる。更には、固形分濃度調整、粘度調整、スプレーノズル４３への管路径狭小化及び圧送ポンプ能力の向上によるスラリー流速の高速化によっても、噴霧直前のスラリーの再凝集を抑制でき、その実効性を高めることができる。
【００３１】
本実施例では、濾過室１４０における濾過フィルタ１４４での物理的濾過も可能であることから、攪拌機３４での磁力選別機によるスラリー内の磁性体異物除去と相俟って、超音波分散濾過を経たスラリーにおいては、磁性の有無に関わらず、粗大異物も完全に除去することができる。よって、得られるチタン酸バリウム顆粒の品質はより一層高まり、高付加価値化を図ることができる。
【００３２】
これらの結果、噴霧乾燥を経て得られるチタン酸バリウム顆粒においては、顆粒の組織、組成並びに粒径や形状の均一化を図ることができる。しかも、こうした均質・均一化を図るに当たり、本実施例では、スプレーノズル４３の上流側で超音波分散濾過装置４０による超音波分散濾過を行えば足りることから、チタン酸バリウム顆粒の組織・組成並びに粒径・形状の均一化を容易に実現できる。
【００３３】
また、本実施例では、濾過室１４０においてセラミックスラリーを超音波分散濾過する一方、濾過フィルタ１４４を通過しない余剰のスラリーを濾過室上流側の攪拌機３４にリターン管路１４８を介して環流させる。このスラリー環流に伴う流れにより、濾過フィルタ１４４での捕獲物（ダマ）を、濾過フィルタ１４４から引き離し、攪拌機３４に持ち還ることができる。よって、濾過フィルタ１４４の目詰まりを抑制でき、かつ繰り返し捕獲物に超音波を照射できるので、濾過フィルタ目詰まりによる装置停止、延いては造粒作業中断の頻度が小さくなり、その分、生産効率の向上を図ることができる。
【００３４】
この場合、本実施例では、濾過フィルタ１４４のメッシュサイズを１０〜１００μｍとしたので、濾過室１４０の内圧上昇も顕著とはならず、また、濾過フィルタ目詰まりによるフィルタメンテナンスを要するまでの時間、即ち造粒実行期間も延び、好ましい。
【００３５】
しかも、濾過室１４０を濾過フィルタ１４４で区分した下流側濾過室１４０ｂを、濾過フィルタ径と同等程度の長さで直管状に延びた直管管路１４３ａを有するようにした。よって、濾過フィルタ通過後のスラリーをその下流のテーパ状の連結管路１４３ｂ、延いてはスプレーノズル４３に流れ込み易くできると共に、下流側濾過室１４０ｂ内でのスラリーの沈降、閉塞も抑制でき、不用意な濾過室内圧の上昇も生ぜず好ましい。
【００３６】
次に、上記した本実施例の造粒システムにおける超音波分散濾過の様子や、造粒したチタン酸バリウム顆粒の性状について説明する。図４はフィルタのメッシュ径を変えた場合とスラリー流量を変えた場合の濾過の様子を示す説明図、
図５は噴霧直前のチタン酸バリウムスラリーの粒度を示す説明図、図６は得られたチタン酸バリウム顆粒の電子顕微鏡写真（倍率１００倍・５００倍）を示す説明図である。
【００３７】
図４（ａ）および（ｂ）に示すように、スラリー供給の１パス分（約１リットル／分）の超音波分散濾過において、その濾過率はいずれも実用性を備えていた。また、濾過フィルタ径が１０μｍでは、濾過室内圧の上昇が見られ、これに伴って濾過率の低下（濾過フィルタ目詰まり）が起きたが、実用上の支障はなかった。特に、濾過フィルタ径が４０μｍであれば、濾過室内圧の上昇も少なく、濾過率維持・濾過フィルタ目詰まり抑制の点で好ましかった。スラリー流量については、低流量ほど濾過率の低下（濾過フィルタ目詰まり）が起きたが、これについても実用上の支障はなかった。
【００３８】
また、図５に示すように、超音波分散濾過装置４０を用いずに、顆粒を造粒した場合の、噴霧直前のチタン酸バリウムスラリーの粒度は、平均粒子径が１．５μm、最大粒子径が５．１２μmであった。一方、超音波分散濾過装置４０による濾過分散を行った場合は、それぞれ図示するように粒度の微細、均一化を図ることができた。
【００３９】
更には、図６の写真から明らかなように、いずれの濾過フィルタ径のものであっても、ほぼ真球状のチタン酸バリウム造粒粒子を得ることができた。
【００４０】
以上本発明の実施例について説明したが、本発明は上記の実施例や実施形態になんら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる態様で実施し得ることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】実施例のセラミック原料の造粒工程を模式的に示す概略図である。
【図２】超音波分散濾過装置４０を中心としたスラリー処理の様子を概略的に説明する説明図である。
【図３】超音波分散濾過装置４０の概略構成を示す概略断面図である。
【図４】濾過フィルタのメッシュ径を変えた場合とスラリー流量を変えた場合の濾過の様子を示す説明図である。
【図５】噴霧直前のチタン酸バリウムスラリーの粒度を示す説明図である。
【図６】得られたチタン酸バリウム顆粒の電子顕微鏡写真（倍率１００倍・５００倍）を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０...攪拌機
１２...粉砕機
１６...攪拌機
１８...噴霧乾燥装置
２０...振動篩機
２１...容器
２２...仮焼炉
２４...攪拌機
２６...粉砕機
２８...攪拌機
３０...粉砕機
３４...攪拌機
３９...磁力選別機
４０...超音波分散濾過装置
４２...噴霧乾燥装置
４３...スプレーノズル
４４...振動篩機
１４０...濾過室
１４０ａ...上流側濾過室
１４０ｂ...下流側濾過室
１４２...超音波照射部
１４３ａ...直管管路
１４３ｂ...連結管路
１４４...濾過フィルタ
１４５、１４７...ポンプ
１４６...超音波発振機
１４８...リターン管路
１５０...水冷ジャケット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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