(57)【要約】【課題】  探針の先端の尖り程度を常に良好に維持し、探針の使用寿命を延長し、測定・検査の精度を良好に保持し、コストを低下し、データ再現性を向上する探針再生方法および走査型プローブ顕微鏡を提供する。【解決手段】  この探針再生方法は、試料に対向する探針を有する探針部と、探針に接近・退避移動および走査移動を行わせる探針移動機構と、探針が試料の表面を走査するとき探針と試料の間で生じる物理量を測定する測定部と、試料が載置される試料ステージとを備え、測定部で物理量を一定に保ちながら探針移動機構で前記試料に対する前記探針の位置を変え探針で試料の表面を走査して試料の表面を測定する走査型プローブ顕微鏡で実行される方法であって、再生加工用サンプルを用意するステップと、探針を装着状態のまま再生加工用サンプルに対して押し付けて探針の先端を再生するステップとを有する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料に対向する探針を有する探針部と、前記探針に接近・退避移動および走査移動を行わせる探針移動機構と、前記探針が前記試料の表面を走査するとき前記探針と前記試料の間で生じる物理量を測定する測定部と、前記試料が載置される試料ステージとを備え、前記測定部で前記物理量を一定に保ちながら前記探針移動機構で前記試料に対する前記探針の位置を変え前記探針で前記試料の表面を走査して前記試料の表面を測定する走査型プローブ顕微鏡で実行され、
再生加工用サンプルを用意するステップと、
前記探針を装着状態のまま前記再生加工用サンプルに対して押し付けて前記探針の先端を再生するステップと、
を有することを特徴とする探針再生方法。
【請求項２】
前記探針移動機構によって、前記探針を前記再生加工用サンプルに接近・退避移動を繰り返し、前記探針の先端を先鋭化することを特徴とする請求項１記載の探針再生方法。
【請求項３】
前記探針移動機構によって、前記探針を前記再生加工用サンプルに押し付けた状態で特定方向に移動させ、前記探針の先端を先鋭化することを特徴とする請求項１記載の探針再生方法。
【請求項４】
試料に対向する探針を有する探針部と、前記探針に接近・退避移動および走査移動を行わせる探針移動機構と、前記探針が前記試料の表面を走査するとき前記探針と前記試料の間で生じる物理量を測定する測定部と、前記試料が載置される試料ステージとを備え、前記測定部で前記物理量を一定に保ちながら前記探針移動機構で前記試料に対する前記探針の位置を変え前記探針で前記試料の表面を走査して前記試料の表面を測定する走査型プローブ顕微鏡において、
再生加工用サンプルを備えるサンプル設置部と、
前記探針の先端が鈍った時に、前記サンプル設置部に備えられた前記再生加工用サンプルを用いて、この再生加工用サンプルに対して前記移動機構により前記探針の先端を押し付け加工させることにより前記探針の先端を再生する探針再生実行手段と、
を備えることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡。
【請求項５】
前記再生加工用サンプルは、前記探針の先端が接触する傾斜面を有し、その傾斜面の表面が硬質膜で被覆されていることを特徴とする請求項４記載の走査型プローブ顕微鏡。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は探針再生方法および走査型プローブ顕微鏡に関し、特に、例えば多数の試料を測定した結果探針の先端が鈍ったとき当該探針の先端を先鋭化して再生するのに好適な探針再生方法と、当該探針再生方法を実施する装置機能を備えた走査型プローブ顕微鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
走査型プローブ顕微鏡は、従来、原子のオーダまたはサイズの微細な対象物を観察できる測定分解能を有する測定装置として知られている。近年、走査型プローブ顕微鏡は、半導体デバイスが作られた基板やウェハの表面の微細な凹凸形状の測定など各種の分野に適用されている。測定に利用する検出物理量に応じて各種のタイプの走査型プローブ顕微鏡がある。例えばトンネル電流を利用する走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）、原子間力を利用する原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）、磁気力を利用する磁気力顕微鏡（ＭＦＭ）等があり、それらの応用範囲も拡大しつつある。
【０００３】
上記のうち特に原子間力顕微鏡は、試料表面の微細な凹凸形状を高分解能で検出するのに適し、半導体基板、ディスクなどの分野で実績を上げている。最近ではインライン自動検査工程の用途でも使用されてきている。
【０００４】
原子間力顕微鏡等をインライン自動検査工程で使用するときには、半導体製品である多数の試料を連続的に順次に測定し、当該半導体製品の検査を行わなければならない。原子間力顕微鏡の測定精度は、探針の先端の尖り状態（先鋭度）に大きく依存する。そのため、多数の試料の測定・検査を継続すると、次第に探針の先端が鈍り、その尖り状態が劣化する。探針の先端が鈍り、分解能が低下し、測定精度が低下してきた場合、従来では、通常、探針を交換するようにしていた（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−３２３４３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
インライン自動検査工程等で使用される原子間力顕微鏡等において、探針の先端が鈍ってきたときに探針を交換することは、探針の有効利用を図れず、無駄が発生してコストがかかり、さらに再び測定・検査を開始するとデータ再現性が低下するという問題が提起される。そこで、インライン自動検査工程等で使用される原子間力顕微鏡等において、探針の先端が鈍ってきたとき、容易に探針を交換するのではなく、探針の有効利用を図るべく、探針の先端を加工し、その尖り度合いを改善して先鋭化し、当該探針を再利用することが望まれる。
【０００６】
そこで本発明の課題は、走査型プローブ顕微鏡において、顕微鏡装置に装着された探針の先端の尖り程度を常に良好に維持しながら当該探針の使用寿命を延長すると共に、測定・検査精度を常に高く保ち、さらにコストの低下を達成することである。
【０００７】
さらに本発明の目的は、上記の課題に鑑み、走査型プローブ顕微鏡に装着された探針の先端の尖り程度を必要に応じて良好に改善し、探針の使用寿命を延長し、測定・検査の精度を良好に保持し、さらにコストを低下し、かつデータ再現性を向上する探針再生方法および走査型プローブ顕微鏡を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る探針再生方法および走査型プローブ顕微鏡は、上記目的を達成するために、次のように構成される。
【０００９】
第１の探針再生方法（請求項１に対応）は、試料に対向する探針を有する探針部と、探針に接近・退避移動および走査移動を行わせる探針移動機構と、探針が試料の表面を走査するとき探針と試料の間で生じる物理量を測定する測定部と、試料が載置される試料ステージとを備え、測定部で物理量を一定に保ちながら探針移動機構で前記試料に対する前記探針の位置を変え探針で試料の表面を走査して試料の表面を測定する走査型プローブ顕微鏡で実行される方法であって、再生加工用サンプルを用意するステップと、探針を装着状態のまま前記再生加工用サンプルに対して押し付けて探針の先端を再生するステップとを有する探針再生方法である。
【００１０】
上記の探針再生方法では、半導体製造プロセス中の例えばインライン自動検査工程に走査型プローブ顕微鏡を配備して当該測定・検査を行う場合において、探針の寿命を延長し探針の有効利用を図るので、コストを低減し、データを再現性を良好に保持することが可能となる。用意された再生加工用サンプルは、探針を再生するときに、例えば、通常の試料と同様に試料ステージ上にセットされ、当該再生加工用サンプルの表面に形成された傾斜面に対して探針の先端を接触させ摩擦を生じさせることにより先鋭化する。
【００１１】
第２の探針再生方法（請求項２に対応）は、上記の探針再生方法において、好ましくは、探針移動機構によって、探針を再生加工用サンプルに接近・退避移動を繰り返し、探針の先端を先鋭化することで特徴づけられる。再生加工用サンプルには硬質膜で被覆された傾斜面を有しており、当該傾斜面に対して探針の先端を接近・退避移動動作で反復的に押し付けることにより探針の先端を先鋭化する。
【００１２】
第３の探針再生方法（請求項３に対応）は、上記の探針再生方法において、好ましくは、探針移動機構によって、探針を再生加工用サンプルに押し付けた状態で特定方向に移動させ、探針の先端を先鋭化することで特徴づけられる。この方法では、探針の先端部の一側部が選択的に磨耗されることにより探針の先端を先鋭化する。
【００１３】
第１の走査型プローブ顕微鏡（請求項４に対応）は、試料に対向する探針を有する探針部と、探針に接近・退避移動および走査移動を行わせる探針移動機構と、探針が試料の表面を走査するとき探針と試料の間で生じる物理量を測定する測定部と、試料が載置される試料ステージとを備え、測定部で物理量を一定に保ちながら探針移動機構で試料に対する探針の位置を変え探針で試料の表面を走査して試料の表面を測定する走査型プローブ顕微鏡であり、さらに、再生加工用サンプルを備えるサンプル設置部と、探針の先端が鈍った時に、サンプル設置部に備えられた再生加工用サンプルを用いて、この再生加工用サンプルに対して移動機構により探針の先端を押し付け加工させることにより探針の先端を再生する探針再生実行部を備えるように構成される。
【００１４】
上記の走査型プローブ顕微鏡では、好ましくは、試料ステージの近傍にサンプル設置部を設け、連続する試料測定の最中において探針の先端が鈍り測定の精度が低下してきたとき、サンプル設置部に備えられた再生加工用サンプルを用いて、当該再生加工用サンプルに対して探針の先端を接触させるように所要の動作を行わせることにより、探針の先端を研磨して先鋭化し、再生処理を行う。その後は、再度、探針は試料ステージの本来の測定・検査すべき試料に対して当該試料の測定・検査を継続する。再生加工用サンプルの用い方としては、探針再生時に、再生加工用サンプルを試料代わりに試料ステージ上に設置し、当該再生加工用サンプルに対して探針を接触させるように所要の動作制御を行うように構成することが望ましい。また試料ステージ上に、再生加工用サンプルを固定するサンプル設置部を設け、探針をサンプル設置部に自動的に移動させて同様な再生加工動作を行わせるようにすることもできる。
【００１５】
第２の走査型プローブ顕微鏡（請求項５に対応）は、上記の第１の構成において、好ましくは、再生加工用サンプルは、探針の先端が接触する傾斜面を有し、その傾斜面の表面が硬質膜で被覆されていることで特徴づけられる。この構成では、再生加工用サンプルは硬質膜で被覆処理されており、サンプルの傾斜面に探針の先端が接触して擦りつけられることにより、サンプルは探針の先端を特定の形状に積極的に磨耗させ、当該探針を先鋭化することが可能となる。再生加工用サンプルの表面の傾斜面の形成の仕方は、探針の先端の研磨の目的に応じて任意に作ることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係る探針再生方法によれば、半導体製造プロセス中の例えばインライン自動検査工程に走査型プローブ顕微鏡を配備して当該測定・検査を行う場合において、探針の寿命を延長し、探針の有効利用を図ることができ、さらにコストを低減し、データの再現性を良好に保持することができる。また探針の先端部を選択的に研磨して短時間で先鋭化することができる。さらに本発明に係る走査型プローブ顕微鏡によれば、測定・検査の途中に使用中の探針の先端の鈍化を先鋭化する装置構成を備えているため、探針を有効利用を図りつつ、測定・検査作業を効率よく行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、本発明の好適な実施形態（実施例）を添付図面に基づいて説明する。
【００１８】
図１は本発明に係る走査型プローブ顕微鏡の実施形態を示し、走査型プローブ顕微鏡の正面図を示している。この走査型プローブ顕微鏡は一例として原子間力顕微鏡である。走査型プローブ顕微鏡は原子間力顕微鏡に限定されない。図１で、１１は試料ステージ、１２は、例えば試料ステージ１１上に設けられた粗動機構である。粗動機構１２は、半導体デバイス等が形成されたウェハーのごとき試料１３を、図１中の水平面（Ｘ軸とＹ軸の各方向）および垂直方向（上下方向：Ｚ軸方向）にて比較的に大きな距離で移動させる移動機構である。粗動機構１２では、Ｘ軸およびＹ軸の各方向の移動機構は例えばパルスモータを用いて構成される。また粗動機構１２は試料ホルダとしての機能も持っている。試料１３は、例えば比較的に大きな面積を有する平板状の形状を有する半導体基板のごときものである。なお図１では、試料１３は、実際とは異なり、厚みを誇張して描いている。当該試料１３は、図示しない固定手段を介して粗動機構１２の上に固定配置される。
【００１９】
なお上記粗動機構１２は試料ステージ１１の上に設けたが、試料ステージ１１の移動機能部として試料ステージ１１の内部に組み込むこともできる。
【００２０】
試料１３の上方の位置には、試料１３の測定表面に対向する探針２１を備えたカンチレバー２２が配置される。カンチレバー２２は、相対的に柔らかい弾性特性を備えた片持ち梁の形状特性を有し、その基端部は、円筒形のＺ軸微動アクチュエータ２３の下端に取り付けられている。Ｚ軸微動アクチュエータ２３は、圧電部材で作られた円筒部材である。Ｚ軸微動アクチュエータ２３は、所定位置に少なくとも２つの電極（不図示）を備えており、これらの電極に所要の電圧を印加することで、相対的に小さい距離でＺ軸方向に伸縮する特性を有している。
【００２１】
上記のＺ軸微動アクチュエータ２３は、平行平板型のＸＹ微動アクチュエータ２４の中央可動部２４ａに取り付けられている。ＸＹ微動アクチュエータ２４はＸ軸微動機構とＹ軸微動機構とから構成されている。ＸＹ微動アクチュエータ２４は、制御部２５から走査用の制御信号を与えられることにより、Ｚ軸微動アクチュエータ２３、延いてはカンチレバー２２および探針２１を、ＸＹ平面内にて微動させる機能を有している。試料１３の表面に沿う探針２１の走査方向の移動は、平行平板型のＸＹ微動アクチュエータ２４の微動動作に基づいて行われる。
【００２２】
上記制御部２５は、前述の粗動機構１２の動作を制御する機能も有し、さらにコンピュータで構成され、信号処理を行う機能も有している。
【００２３】
円筒形のＺ軸微動アクチュエータ２３の筒内部には、上方から挿入して配置された光学顕微鏡２６が設けられる。当該光学顕微鏡２６によって、探針２１と試料１３の測定表面との位置関係を観察することができる。光学顕微鏡２６で得られる観察画像はＣＣＤカメラ２７等で撮像される。
【００２４】
カンチレバー２２に対しては、カンチレバー２２の撓みや捩れ等を検出するカンチレバー変位検出部が設けられる。カンチレバー変位検出部は、所定配置関係で配置されるレーザ光源２８と光検出器２９で構成される。カンチレバー変位検出部とカンチレバー２２は一定の位置関係に保持され、レーザ光源２８から出射されたレーザ光３０はカンチレバー２２の背面で反射されて光検出器（４分割フォトダイオード等）２９に入射されるようになっている。上記カンチレバー変位検出部は光てこ式光学検出装置を構成する。この光てこ式光学検出装置によって、カンチレバー２２で捩れや撓み等の変形が生じると、当該変形による変位を検出することができる。
【００２５】
光検出器２９から出力される検出信号はＺ軸制御部３１に入力される。Ｚ軸制御部３１は、光検出器２９から出力される検出信号が所定信号となるように、Ｚ軸微動アクチュエータ２３の伸縮量を調整し、探針２１と試料１３の表面との間で生じる原子間力（物理量の一例）が一定値となるように、探針・試料間距離を一定の設定距離に保持する制御を行う。Ｚ軸制御部３１から出力される制御信号は、信号処理を行う上記制御部２５にも与えられる。
【００２６】
図３において、ＸＹ微動アクチュエータ２４、Ｚ軸微動アクチュエータ２３、カンチレバー２２および探針２１、レーザ光源２８、光検出器２９、レーザ光３０をより詳細に示す。図３では、Ｚ軸微動アクチュエータ２３と、Ｘ軸微動機構１２９とＹ軸微動機構１３０から成るＸＹ微動アクチュエータ２４の一具体例を示している。Ｚ軸微動アクチュエータ２３は円筒形状の圧電素子で形成され、その基部を可動部２４ａに固定されている。Ｚ軸微動アクチュエータ２３の下端には、探針２１を有するカンチレバー２２が取り付けられている。Ｚ軸微動アクチュエータ２３によってＺ軸方向に矢印３０１に示されるように変位を生じる。この変位は例えば５μｍ程度である。可動部２４ａは、両側に配置されたロッド状圧電素子であるＸ軸微動機構１２９によってＸ軸方向（矢印３０２）に変位する。なおＸ軸微動機構１２９にはＸ軸変位計１２９ａが付加されている。Ｘ軸変位計１２９ａによってＸ軸微動機構２９で生じた変位量を計測し、Ｘフィードバック信号を発生する。さらに可動部２４ａに対しては、他の両側に配置されたロッド状圧電素子であるＹ軸微動機構１３０によってＹ軸方向（矢印３０３）に変位する。またＹ軸微動機構１３０にはＹ軸変位計１３０ａが付加されている。Ｙ軸変位計１３０ａによってＹ軸微動機構１３０で生じた変位量を計測し、Ｙフィードバック信号を発生する。Ｘ軸方向およびＹ軸方向の変位量は例えば１０μｍである。
【００２７】
再び図１において、試料ステージ１１の上に再生加工用サンプル設置部３２が設けられ、この設置部３２には再生加工用サンプル３３が配置されている。再生加工用サンプル３３の具体例を図２に示す。図２において、（Ａ）は断面形状において連続した三角山３４の形状が形成された再生加工用サンプル３３Ａを示し、（Ｂ）は複数の四角錐状窪み３５の配列が形成された再生加工用サンプル３３Ｂを示し、（Ｃ）は複数の四角錐状突起３６の配列が形成された再生加工用サンプル３３Ｃを示す。再生加工用サンプル３３Ａ，３３Ｂ，３３Ｃのそれぞれは所要の角度の傾斜面を有する。特に、再生加工用サンプル３３Ａは特定方向に直線状の谷を形成する２つの傾斜面を有し、再生加工用サンプル３３Ｂは四角錐状窪みを形成する４つの傾斜面を有し、再生加工用サンプル３３Ｃは四角錐状突起を形成する４つの傾斜面を有している。また再生加工用サンプル３３Ａ，３３Ｂ，３３Ｃのそれぞれの各傾斜面は探針２１の硬さよりも硬い硬度を有するように硬質膜で被覆されている。この硬質膜としては、ＤＬＣ（ダイヤモンドライク・カーボン）膜やＴｉＮ（窒化チタン）膜等が使用される。
【００２８】
上記の具体例で明らかなように、再生加工用サンプル３３の表面には所要の傾斜角度を有した数の多い複数の傾斜面が形成されている。再生加工用サンプル３３のこれらの傾斜面を形成するための方法としては、例えば、Ｓｉ結晶面でのエッチングレートの違いを利用した面方位エッチングを挙げることができる。例えば＜１００＞結晶面のＳｉ基板をアルカリ水溶液などにてエッチングして＜１１１＞面を露出させたものがある。他の例としては、有機膜をマスク材としてプラズマ雰囲気中でＦラジカルを用いてＳｉ基板をエッチングしたものがある。エッチングしたＳｉ基板に対しては上記のごとくＴｉやＴａのナイトライド膜をＰＶＤ法により成膜する。例えば、半径２０ｎｍに探針の先端を先鋭化する場合には、各窪みに関して開口１００ｎｍ程度、開き角７０°の再生加工用サンプル３３Ｂを作製する。再生加工用サンプル３３の傾斜面の大きさは、先鋭化され再生される探針２１の先端部の大きさに応じて決められる。
【００２９】
なお再生加工用サンプル３３の形状は上記形状に限定されない。例えば四角錐状窪みや四角錐状突起の代わりに円錐形状やその他の多角錐形状を採用することもできる。さらに、走査型プローブ顕微鏡で測定・検査される試料１３は、通常、段差測定や表面粗さ測定等のごとく比較的に平坦部の多い試料である。これに対して、探針２１の先端の先鋭化を増すための再生加工用サンプル３３は、平坦部よりも傾斜面が多く形成されたサンプルであればよい。
【００３０】
上記のごとき走査型プローブ顕微鏡は、例えば、図４に示すごとく、半導体デバイス（ＬＳＩ）のインライン製作装置の例えば途中段階で基板（ウェハ）の検査を行う自動検査工程４２として組み込まれる。図示しない基板搬送装置によって、前段の製作処理工程４１から検査対象である基板（試料１３）を搬出し、自動検査工程４２の上記走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）の基板ホルダ上に置くと、走査型プローブ顕微鏡により基板表面の所定領域の微細凹凸形状が自動的に計測され、前段での基板製作の処理内容の合否が判定され、その後、再び基板搬送装置によって後段の製作処理工程４３へ搬出される。
【００３１】
上記の走査型プローブ顕微鏡において、粗動機構１２の移動動作、ＸＹ微動アクチュエータ２４の移動動作は制御部２５によって制御される。制御部２５は、前述した通りコンピュータで構成され、その記憶部には、通常の測定動作プログラムに加えて、探針２１の再生作業を実行する探針再生動作プログラムを備えている。探針再生動作プログラムに基づいて実行される探針再生の動作内容については、図５と図６を参照して、以下に詳述される。
【００３２】
図５に示す探針再生では、先端が鈍った探針２１を先鋭化するため、再生加工用サンプル３３として上記のサンプル３３Ａ〜３３Ｃのいずれかが用いられる。再生加工用サンプル３３に対して探針２１は、その先端部が、接近動作５１と退避動作５２と水平移動動作５３を組み合わせて構成される走査動作５４に基づいて、接触され、押し付けられ、研磨される。探針２１の先端部は、再生加工用サンプル３３における谷を形成する両側の傾斜面３３−１によって両側から選択的に研磨され、２箇所の磨耗部分５５が形成される。走査動作５４に示されるように、再生加工用サンプル３３に対して探針２１は、水平方向に移動しながら接近・退避動作により繰り返して研磨される。その結果、探針２１の先端は、選択的に研磨され、符号５６で示されるごとく先鋭化され、再生される。
【００３３】
図６に示す探針再生では、先端が鈍った探針２１を先鋭化するため、再生加工用サンプル３３として上記のサンプル３３Ａを用いられる。再生加工用サンプル３３Ａでは、傾斜面は特定方向に直線状に形成されている。再生加工用サンプル３３Ａに対して探針２１は、その先端部が、傾斜面が形成されている上記特定方向の走査動作６１に基づいて、接触され、押し付けられ、研磨される。探針２１の先端部は、再生加工用サンプル３３Ａにおける谷を形成する両側の傾斜面３３Ａ−１によって両側から選択的に研磨され、２箇所の磨耗部分６２が形成される。走査動作６１に示されるように、再生加工用サンプル３３Ａに対して探針２１は、水平な特定方向に移動しながら研磨される。その結果、探針２１の先端は、選択的に研磨され、符号６３で示されるごとく先鋭化され、再生される。
【００３４】
上記のおいて再生加工用サンプルに探針２１を押し付けるとき、その押付け力は、通常の試料測定における押付け力よりも大きくなるように設定される。また図６の場合の探針再生の場合に、再生加工用サンプルに対する探針２１の走査速度は通常測定には用いないような相対的に速い走査速度で探針先端を先鋭化する。
【００３５】
以上の実施形態で説明された構成、形状、大きさおよび配置関係については本発明が理解・実施できる程度に概略的に示したものにすぎず、また数値および各構成の組成（材質）については例示にすぎない。従って本発明は、説明された実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示される技術的思想の範囲を逸脱しない限り様々な形態に変更することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３６】
本発明は、走査型プローブ顕微鏡において探針の先端が磨耗して鈍化したときに探針の先端を先鋭化し探針を有効利用し測定・検査精度を上げるのに利用される。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明に係る走査型プローブ顕微鏡の代表的な実施形態を示す正面図である。
【図２】本実施形態で使用される再生加工用サンプルの例を示す斜視図である。
【図３】本実施形態の走査型プローブ顕微鏡で備えられるＸＹ微動アクチュエータの斜視図である。
【図４】本実施形態に係る走査型プローブ顕微鏡が使用される段階を示す工程図である。
【図５】探針再生動作プログラムに基づいて実行される探針再生の動作内容の第１の例を説明する図である。
【図６】探針再生動作プログラムに基づいて実行される探針再生の動作内容の第２の例を説明する図である。
【符号の説明】
【００３８】
１１      試料ステージ
１２      粗動機構
１３      試料
２１      探針
２２      カンチレバー
２３      Ｚ軸微動アクチュエータ
２４      ＸＹ微動アクチュエータ
２８      レーザ光源
２９      光検出器
３２      探針再生用サンプル設置部
３３      探針再生用サンプル
【図１】
2006145333.tif 000003
【図２】
2006145333.tif 000004
【図３】
2006145333.tif 000005
【図４】
2006145333.tif 000006
【図５】
2006145333.tif 000007
【図６】
2006145333.tif 000008