(57)【要約】【課題】  ディスプレイ表面に用いる積層体であって、簡易、低コストで行うことのできる、色むらの緩和手段を施した積層体を提供する。【解決手段】  ディスプレイ表面に用いる積層体であって、前記積層体表面に緩やかな凹凸形状が設けられてなる積層体。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイ表面に用いる積層体であって、前記積層体表面に緩やかな凹凸形状が設けられてなることを特徴とする、積層体。
【請求項２】
前記積層体が、少なくとも基材層、AS層およびハードコート層を含んでなる、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記凹凸形状が、隣接する凸部の平均間隔Sが20μｍ〜200μｍであり、曲面状の凹凸である、請求項１に記載の積層体。
【請求項４】
前記凹凸形状の十点平均粗さRzが、0.15μｍ〜0.40μｍである、請求項１に記載の積層体。
【請求項５】
前記積層体の凹凸形状由来のHaze値が４以下である、請求項１に記載の積層体。
【請求項６】
前記積層体の表面抵抗値が１０１５Ω／□以下である、請求項１に記載の積層体。
【請求項７】
前記積層体表面の鉛筆硬度が２H以上である、請求項１に記載の積層体。
【請求項８】
基材層がTAC またはPETである、請求項１に記載の積層体。
【請求項９】
ディスプレイの表面に請求項１に記載の積層体を有する、画像表示装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の積層体を製造する方法であって、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、下地となる層への浸透性を有する溶媒を含むインキを少なくとも一部用いることにより、積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の積層体を製造する方法であって、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、下地となる層への浸透可能な樹脂を少なくとも一部用いることにより、積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の積層体を製造する方法であって、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、凝集性または硬化収縮率が違う少なくとも二種類以上の樹脂を用いることにより、積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の積層体を製造する方法であって、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、乾燥時のインキの対流により積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の積層体を製造する方法であって、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、凹凸形状を転写することにより積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の積層体を製造する方法であって、前記積層体の積層後、凹凸形状を転写することにより積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法。
【請求項１６】
請求項１に記載の積層体を製造する方法であって、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、フィラーを入れることにより積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法。
【請求項１７】
請求項１に記載の積層体を製造する方法であって、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、風紋を形成することにより積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種ディスプレイ表面に用いることのできる、積層体およびそれを用いた画像表示装置とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴ、液晶パネル、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種ディスプレイには、その表面の特性を向上させるため各種の積層体が用いられている。このような積層体としては、例えば、外光の反射による表示品質の低下を低減するため表面に低屈折率層を有する積層体、帯電による埃などの付着を防止する帯電防止層を有する積層体、擦り傷や引っかき傷を防止するハードコート層を有する積層体などが挙げられる。
【０００３】
このような積層体にあっては、各層の厚みが不均一となることが原因で色むらが発生することがある。特に基材層／AS層(導電層)／ハードコート層、あるいは基材層／ハードコート層からなる積層体においては、干渉縞が発生しやすく、ディスプレイの前面板に用いる際には視認性を著しく低下させるだけでなく、ディスプレイの製品品位をも落としてしまう。
【０００４】
したがって、従来からこのような干渉縞を含む色むらの低減された積層体が求められている。この色むらは、各層の厚みを均一にすれば解消できるが、現在では高コストの形成方法でなければ、厚みの均一性は実現できず、印刷法などの低コストの形成方法によりこの均一性を実現するのは困難である。そこで、多少厚みが不均一であっても、簡易、低コストで色むらの緩和を行うことのできる方法が求められている。このような緩和方法としては、ハードコート層上に低屈折率材料からなる低反射層を形成して表面反射率を低下することが挙げられるが、干渉縞については程度の差はあれ、完全には抑制できない。また下地表面を荒らすことにより干渉縞を抑制する方法などがなされているが、散乱光を増加させ、光学的性質・視認性の変化をも伴うという問題点のあるものであった。そこで、所望の光学的性質や視認性の変化を最小限に抑え、且つ干渉縞を含む色むらの緩和を簡易、低コストで行うことのできる手段が求められている。
【特許文献１】特開２００２−７９６００号公報
【特許文献２】特開２００３−２９２８３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、上記課題を解決すること、すなわち、ディスプレイ表面に用いる積層体であって、簡易、低コストで行うことのできる、色むらの緩和手段を施した積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、積層体表面に凹凸形状を設けることにより、意外にも色むらが緩和されることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
すなわち、本発明は、ディスプレイ表面に用いる積層体であって、前記積層体表面に緩やかな凹凸形状が設けられてなることを特徴とする、積層体である。
【０００８】
本発明の積層体は好ましくは、前記積層体が、少なくとも基材層、AS層およびハードコート層を含んでなるものとする。
【０００９】
本発明の積層体は好ましくは、前記凹凸形状が、隣接する凸部の平均間隔Sが20μｍ〜200μｍであり、曲面状の凹凸であるものとする。
【００１０】
本発明の積層体は好ましくは、前記凹凸形状の十点平均粗さRzが、0.15μｍ〜0.40μｍであるものとする。
【００１１】
本発明の積層体は好ましくは、前記積層体の凹凸形状由来のHaze値が４以下であるものとする。
【００１２】
本発明の積層体は好ましくは、前記積層体の表面抵抗値が１０１５Ω／□以下であるものとする。
【００１３】
本発明の積層体は好ましくは、前記積層体表面の鉛筆硬度が２H以上であるものとする。
【００１４】
本発明の積層体は好ましくは、基材層がTAC またはPETであるものとする。
【００１５】
本発明の画像表示装置は、好ましくは、ディスプレイの表面に前記積層体を有するものとする。
【００１６】
また、前記積層体を製造する本発明の方法は、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、下地となる層への浸透性を有する溶媒を含むインキを少なくとも一部用いることにより、積層体に凹凸を形成する、積層体の製造法である。
【００１７】
また、前記積層体を製造する本発明の方法は、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、下地となる層への浸透可能な樹脂を少なくとも一部用いることにより、積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法である。
【００１８】
また、前記積層体を製造する本発明の方法は、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、凝集性または硬化収縮率が違う少なくとも二種類以上の樹脂を用いることにより、積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法である。
【００１９】
また、前記積層体を製造する本発明の方法は、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、乾燥時のインキの対流により積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法である。
【００２０】
また、前記積層体を製造する本発明の方法は、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、凹凸形状を転写することにより積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法である。
【００２１】
また、前記積層体を製造する本発明の方法は、前記積層体の積層後、凹凸形状を転写することにより積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法である。
【００２２】
また、前記積層体を製造する本発明の方法は、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、フィラーを入れることにより積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法である。
【００２３】
また、前記積層体を製造する本発明の方法は、前記積層体中の少なくとも一層の形成にあたり、風紋を形成することにより積層体に凹凸を形成する、積層体の製造方法である。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によってディスプレイ表面に用いる積層体であって、簡易、低コストで行うことのできる色むらの緩和手段を施した積層体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
積層体
本発明の積層体は、ディスプレイ表面に用いられるものであれば特に限定されないが、好ましくは、防眩性フィルム（ＡＧフィルム）や散乱フィルムでないもの、例えばクリアタイプの積層体であれば、色むら緩和効果が明らかなため好ましい。
【００２６】
本発明の積層体の層構成は特に限定されないが、基材層、帯電防止層（ＡＳ層）、ハードコート層のいずれかまたは組合せを含むことができ、例えば、順に基材層、帯電防止層、ハードコート層が積層されているもの、あるいは順に基材層、ハードコート層が積層されているものとすることができる。これらの層は、一般にディスプレイ表面用積層体に用いられる一般的なものを使用することができる。例えば基材層の素材としては、ＴＡＣやＰＥＴを用いることができる。ハードコート層としては、表面の鉛筆硬度が２H以上であることが好ましい。
【００２７】
また、本発明の積層体は、好適態様における帯電防止性においては、例えば、表面抵抗値を１０１５Ω／□以下とすることが好ましい。
【００２８】
表面凹凸形状
本発明の積層体は、表面に凹凸形状を有するものである。この凹凸は、通常のＡＧフィルムなどの凹凸と比べてピッチの長いうねり状の凹凸（緩やかな凹凸、曲面状の凹凸）とできる。このうねり状の凹凸の存在によって若干の散乱（ヘイズ）を生じ、色味がキャンセルされる。もっとも、あまりヘイズが大きくなると透明度を減じるという問題が生じるので、好ましい凹凸の程度の上限は許容され得るヘイズの値によって限定される。また、好ましい凹凸の下限は要求される色味のキャンセル能の程度によって限定される。
【００２９】
本発明の積層体の表面凹凸形状は、具体的には、隣接する凸部の平均間隔Ｓを好ましくは２０〜２００μｍ、とする。また、凹凸の十点平均粗さ（ＪＩＳＢ０６０１参照）Ｒｚを、好ましくは０．１５μｍ〜０．４０μｍ、とする。また、凹凸形状由来のＨａｚｅ値が好ましくは４以下とする。
【００３０】
画像表示装置
本発明の積層体は、ＣＲＴ、液晶パネル、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の表面に用い、例えばテレビ、パーソナルコンピューター、ＰＤＡ、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルムービー、その他の画像表示装置として用いることができる。
【００３１】
製造方法
本発明の積層体の製造は、凹凸の形成以外は、通常のディスプレイ用積層体の製造方法によって行うことができる。
【００３２】
本発明の積層体の凹凸の形成は、積層体中の少なくとも一層の形成の際に行うことができる。具体的には、例えば、下地となる層への浸透性を有する溶媒を含むインキを少なくとも一部用いる方法、下地となる層への浸透可能な樹脂を少なくとも一部用いる方法、凝集性または硬化収縮率が違う少なくとも二種類以上の樹脂を用いる方法、乾燥時のインキの対流により積層体に凹凸を形成する方法、少なくとも一層にフィラーを入れる方法、乾燥時に用いる風により風紋を形成する方法、層の形成にあたり凹凸形状を転写する方法が挙げられる。
【００３３】
また、本発明の積層体の凹凸の形成は、積層後に凹凸を形成することもでき、例えば、積層後、凹凸形状を転写する方法が挙げられる。