(57)【要約】【課題】  インクジェット方式で微細配線の印刷が可能なＩＴＯインクと、焼成後ガラス基板との密着性に優れ、透明性が高く、かつ比抵抗値及びその経時劣化が小さなＩＴＯ導電膜を提供する。【解決手段】  スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物を含む有機系分散剤にＩＴＯ粉末を分散させた有機系ＩＴＯインクとすることでインクジェット印刷が可能となり、ガラス基板上に印刷して焼成後、初期比抵抗値０．５×１０−２Ω・ｃｍ〜１．０×１０−１Ω・ｃｍで経時劣化指標値が１〜３であり、密着性と透明性にも優れたＩＴＯ導電膜の微細配線を、還元雰囲気又は大気雰囲気という焼成環境を限定することなく作成できる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機系分散剤にＩＴＯ粉末を分散させた有機系ＩＴＯインクであって、
該有機系分散剤は、有機溶剤と、スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物とを含むことを特徴とする有機系ＩＴＯインク。
【請求項２】
前記ＩＴＯ粉末は、一次粒子径が１００ｎｍ以下のＩＴＯ粒子で構成されたものである請求項１に記載の有機系ＩＴＯインク。
【請求項３】
前記有機系分散剤は、カップリング剤を含むものである請求項１又は請求項２に記載の有機系ＩＴＯインク。
【請求項４】
前記カップリング剤は、ジルコニウム系カップリング剤、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤から選択された１種又は２種以上である請求項３に記載の有機系ＩＴＯインク。
【請求項５】
前記有機系分散剤は、アミン類を含むものである請求項３又は請求項４に記載の有機系ＩＴＯインク。
【請求項６】
前記アミン類は、鎖状骨格を持つアミン類である請求項５に記載の有機系ＩＴＯインク。
【請求項７】
請求項１〜請求項４のいずれかに記載の有機系ＩＴＯインクであって、ＩＴＯインク重量を１００ｗｔ％としたとき、以下の記載の成分組成を備えることを特徴とするＩＴＯインク。
ＩＴＯ粉末：１０ｗｔ％〜５０ｗｔ％
有機溶剤：４０ｗｔ％以上
有機スズ化合物：５ｗｔ％〜２０ｗｔ％
カップリング剤：０．１ｗｔ％〜３０ｗｔ％
【請求項８】
請求項５又は請求項６に記載の有機系ＩＴＯインクであって、ＩＴＯインク重量を１００ｗｔ％としたとき、以下の記載の成分組成を備えることを特徴とするＩＴＯインク。
ＩＴＯ粉末：１０ｗｔ％〜５０ｗｔ％
有機溶剤：４０ｗｔ％以上
有機スズ化合物：５ｗｔ％〜２０ｗｔ％
カップリング剤：０．１ｗｔ％〜３０ｗｔ％
アミン類：１０ｗｔ％以下
【請求項９】
請求項１〜請求項８に記載の有機系分散剤にＩＴＯ粉末が分散した有機系ＩＴＯインクの製造方法であって、
ＩＴＯ粉末と有機系分散剤を構成する有機溶剤とを混合して湿式解砕処理をおこなってスラリーとし、
該スラリーに対し、有機系分散剤を構成するスズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物と、必要に応じて有機系分散剤に含ませるカップリング剤及びアミン類から選ばれる１種以上とを添加し、
更に、湿式解砕処理を行うことを特徴とする有機系ＩＴＯインクの製造方法。
【請求項１０】
湿式解砕処理して得られたインクをフィルターで濾過することを特徴とする請求項９に記載の有機系ＩＴＯインクの製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜請求項８のいずれかに記載の有機系ＩＴＯインクを用いて得られるＩＴＯ導電膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件発明は、有機系ＩＴＯインク及びその製造方法並びに該有機系ＩＴＯインクを用いて得られたＩＴＯ導電膜に関する。ここに言うＩＴＯとは、スズ含有の酸化インジウム、即ちインジウムとスズと酸素との化合物であり、フラットパネルディスプレイ等に使用されるガラス基板上に透明電極を形成する際の導電性材料として一般的に使用されているものである。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイ用のガラス基板上に透明電極を形成する方法として、従来は特許文献１及び特許文献２に開示されているようなスパッタリング法が採用されてきた。当該方法は、ＩＴＯターゲット表面に磁界を印加してプラズマを安定化させるマグネトロンスパッタリング法や反応性ガスを基板近傍に供給して成膜組成を制御する反応性スパッタリング法等として知られ、広く普及している。
【０００３】
さらに、近年、携帯情報機器や薄型ディスプレイ等の急激な需要増加により、ＩＴＯ導電膜の当該機器等のディスプレイ部品への適用が拡大し、ＩＴＯ導電膜の原料であるインジウムの価格が高騰している。にもかかわらず、スパッタリング法を上回る回路形成技術が存在しないため、透明電極の形成は、従来のスパッタリング法を採用せざるを得ない状況にある。
【０００４】
しかし、前記スパッタリング法では真空ラインの使用が必須であるため、設備投資額や維持コストが高く、また使用されるＩＴＯターゲットが最終的にＩＴＯ導電膜として透明電極になる割合は略４ｗｔ％〜６ｗｔ％程度と原料の有効活用率が著しく低い。即ち、現行の方法は資源節約の観点について劣っており、同時に経済性にも欠けているのである。さらに、スパッタリング法により透明電極を形成するには、パネルの全面にＩＴＯ膜を形成後、レジスト塗布工程、エッチング工程、洗浄工程等が不可欠であるために、各工程から排出されるエッチング液等産業廃棄物の処理も必要とされ、製造コストの増大のみならず環境保全性の面からも問題を持っているのである。
【０００５】
上記問題に鑑み、スパッタリング法に替わるＩＴＯ導電膜の形成方法として、特許文献３及び特許文献４に示すように、ＩＴＯ粉末をスラリー状又はインク状の組成物とし（以降当該スラリー状又はインク状の組成物を総称してＩＴＯインクと称する。）、このＩＴＯインクを用いてスピンコート法によりＩＴＯ導電膜を形成し、帯電防止や電磁波シールド用途に使用する報告がなされている。しかし、上記スピンコート技術ではスパッタリング法の代替技術としてフラットパネルディスプレイ用のファインピッチ化された回路形成には対応できないのである。
【０００６】
一方、インク類を用いて回路を直接形成する手法としては従来からスクリーン印刷が一般的に採用されておりグラビア印刷の検討もなされていた。しかし、近年になり極微細配線形成方法としてインクジェット印刷技術を利用した方法が注目されてきている。このインクジェット印刷技術にＩＴＯインクが適用可能であれば、スパッタリング法で必須とされる真空ラインは不要となり、所望位置に所望量のＩＴＯインクを用いてファインピッチ印刷が可能となり、原料の有効活用率が飛躍的に向上し、さらにまたレジスト塗布、エッチング、洗浄等の工程も不要となる。よって、インクジェット印刷技術に使用可能かつ好適なＩＴＯインクが存在すれば、透明電極の製造工程において大幅なコストダウンが可能となるのである。
【０００７】
そこで、特許文献５には、溶剤として有機溶剤を用いた有機系ＩＴＯインクを開示しているが、この有機系ＩＴＯインクにより形成されたＩＴＯ導電膜の比抵抗値は、例えば本件出願人が既に開発した水系ＩＴＯインクにより形成されたＩＴＯ導電膜の比抵抗値よりも大きく、劣っている。
【０００８】
また、特許文献６には、必須構成要素にインジウムの有機化合物を含む有機系ＩＴＯインクを開示している。この有機系ＩＴＯインクを焼成したＩＴＯ導電膜の比抵抗値は大きく、フラットパネルディスプレイ用透明電極の形成には適さないのである。より具体的には、本件出願人がすでに開発済みの上記水系ＩＴＯインクにより形成されたＩＴＯ導電膜の比抵抗値よりも大きい値を示すものである。
【０００９】
【特許文献１】特開平５−２３９６４１号公報
【特許文献２】特開平５−３４３７１６号公報
【特許文献３】特開平６−２３２５８６号公報
【特許文献４】特開平５−２７９５９７号公報
【特許文献５】特開平７−２４２８４２号公報
【特許文献６】特開２００４−２２２２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上述のように、インクジェット印刷に適用できて実用に至るＩＴＯインクは未だに完成していないのが現状である。よって、インクジェット印刷などの手法によりフラットパネルディスプレイ等の透明電極を安価に形成する技術を実用化するために、該印刷手法に対応できるＩＴＯインクの開発が希求されている。本件出願人は、溶剤として水を用い、ＩＴＯ粉末、及び密着性向上剤を含んだ上述の水系ＩＴＯインクにより上記目的をほぼ達成し得ることを既に見出しているが、透明性及び密着性については優れた数値が得られたものの、導電性については、さらなる向上が望まれていた。
【００１１】
さらに、これまでのＩＴＯインクの導電性に関する焼成後の経時劣化の知見によれば、大気雰囲気焼成のみで形成されたＩＴＯ導電膜の比抵抗値の経時劣化は還元雰囲気焼成を追加して形成されたＩＴＯ導電膜の経時劣化よりも少ないことが分かっていた。しかし、大気雰囲気焼成によるＩＴＯ導電膜の導電性（初期比抵抗値自体）については満足な値を得ることができていなかった。よって比抵抗値の初期値を下げるためには、当該大気雰囲気焼成後に比抵抗値を上げる要因となる酸素をＩＴＯ導電膜から除去する目的で、還元雰囲気焼成を追加して行う必要があったのである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
そこで、本件出願人は、今一度有機系ＩＴＯインクについて鋭意研究し、ＩＴＯ粉末を分散させる当該有機系分散剤が、基本的に有機溶剤と、スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物とを含むものとすることにより、ガラス基板上に印刷後焼成して得られるＩＴＯ導電膜の比抵抗値が０．５×１０−２Ω・ｃｍ〜１．０×１０−１Ω・ｃｍであり、密着性及び透明性にも優れていることを特徴とする有機系ＩＴＯインクを完成したのである。
【００１３】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクは、特に、従来の有機系ＩＴＯインクに比して優れた導電性を示すＩＴＯ導電膜を形成できるばかりではなく、当該比抵抗値の経時劣化が少ない（１ヶ月後で１〜３倍）という優れた特性をも持っている。さらに本件発明品は大気雰囲気下の焼成のみでも低比抵抗値を示すＩＴＯ導電膜を形成でき、この場合には特に経時劣化が少ないという特徴をも併せ持つことになるのである。
【００１４】
以下、本件発明に係る有機系ＩＴＯインク及び当該有機系ＩＴＯインクを用いたＩＴＯ導電膜について述べる。
【００１５】
本件発明に係るＩＴＯインク：  本件発明は、有機系分散剤にＩＴＯ粉末を分散させた有機系ＩＴＯインクであって、該有機系分散剤は、有機溶剤と、スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物とを含むことを特徴とする有機系ＩＴＯインクを提供する。
【００１６】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクにおいて、前記ＩＴＯ粉末は一次粒子径が１００ｎｍ以下のＩＴＯ粒子で構成されたものを用いることが好ましい。
【００１７】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクにおいて、前記有機系分散剤はカップリング剤を含むものであることが好ましい。
【００１８】
そして、前記カップリング剤は、ジルコニウム系カップリング剤、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤から選択された１種又は２種以上を用いることが好ましい。
【００１９】
更に、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクにおいて、前記有機系分散剤はアミン類を含むものとすることが好ましい。
【００２０】
そして、前記アミン類は、鎖状骨格を持つアミン類であることが特に好ましい。
【００２１】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクは、ＩＴＯインク重量を１００ｗｔ％としたとき、以下の記載の成分組成を備えることが好ましい。
【００２２】
ＩＴＯ粉末：１０ｗｔ％〜５０ｗｔ％
有機溶剤：４０ｗｔ％以上
有機スズ化合物：５ｗｔ％〜２０ｗｔ％
カップリング剤：０．１ｗｔ％〜３０ｗｔ％
【００２３】
また、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクにおいて、ＩＴＯインク重量を１００ｗｔ％としたとき、以下の記載の成分組成を備えるものとすることも好ましい。
【００２４】
ＩＴＯ粉末：１０ｗｔ％〜５０ｗｔ％
有機溶剤：４０ｗｔ％以上
有機スズ化合物：５ｗｔ％〜２０ｗｔ％
カップリング剤：０．１ｗｔ％〜３０ｗｔ％
アミン類：１０ｗｔ％以下
【００２５】
有機系ＩＴＯインクの製造方法：  本件発明に係る有機系分散剤にＩＴＯ粉末が分散した有機系ＩＴＯインクの製造方法は、ＩＴＯ粉末と有機系分散剤を構成する溶剤とを混合して湿式解砕処理をおこなってスラリーとし、該スラリーに対し、有機系分散剤を構成するスズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物と、必要に応じて有機系分散剤に含ませるカップリング剤及びアミン類から選ばれる１種以上を添加し、更に、湿式解砕処理を行うことを特徴とする製造方法を採用することが好ましい。
【００２６】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクの製造方法において、前記湿式解砕処理は、湿式メディアミルを用いることが好ましい。
【００２７】
また、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクの製造方法において、湿式解砕処理して得られたインクをフィルターで濾過することも好ましい。
【００２８】
ＩＴＯ導電膜：  以上の述べた有機系ＩＴＯインクは、基材等の表面に塗膜を形成し、この塗膜を焼成若しくは固化させることによりＩＴＯ導電膜として、種々の電子材料分野に於いて用いられる。
【発明の効果】
【００２９】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクは、インクジェット印刷技術を適用することにより微細回路の形成を可能とする有機系ＩＴＯインクである。この有機系ＩＴＯインクを用いてフラットパネルディスプレイ等に使用されるガラス基板上に形成したＩＴＯ導電膜は、密着性及び透明性に優れ、さらに０．５×１０−２Ω・ｃｍ〜１．０×１０−１Ω・ｃｍという低比抵抗値を持ち、当該比抵抗値の経時劣化が少ないものである。
【００３０】
さらに、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクを使用すると、大気雰囲気下の焼成によっても焼成直後のＩＴＯ導電膜の初期比抵抗値は小さく、大気雰囲気焼成プロセスを採用した場合には比抵抗値の経時劣化が小さいため、形成されたＩＴＯ導電膜への特性要求レベルにもよるが、形成プロセスの工程数の削減が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
本件発明に係るＩＴＯインクの形態：  一般的にＩＴＯインクは、所定の条件下でフラットパネルディスプレイ等に使用されるガラス基板上にコーティング又は印刷された後、焼成されＩＴＯ導電膜として使用される。ここで、フラットパネルディスプレイ等の用途を鑑みると、当該ＩＴＯ導電膜に要求される特性は、主に、「高導電性（低比抵抗値）」、「高透明性（高全光線透過率）」、「高密着性（対ガラス基板）」、及び比抵抗値の「低経時劣化」であると考えられる。
【００３２】
ここに言う、「高導電性」はフラットパネルディスプレイ等のドライバーに供給される電力による発熱を抑えるために、「高透明性」は画像の鮮明度を保ち画質を劣化させないために、「高密着性」はフラットパネルディスプレイ等に家庭用電化製品としての耐久性を保証するために要求されている。そして、比抵抗値の「経時劣化」が少ないことは、基本的には長期間にわたる映像品質の維持が要求されていることもあるが、同時にＩＴＯ導電膜形成後、パネルアセンブリ迄の一次保管の間に起こりうる経時劣化がある許容範囲内であることを要求されるために必要とされているのである。
【００３３】
従って、本件発明者等は上記の各特性に優れ、しかもバランスがとれている有機系ＩＴＯインクを提供するものである。後述する表１に本件発明に係る有機系ＩＴＯインクの組成を列挙して掲載しているが、ＩＴＯ粉末及び有機系分散剤を主に用いた構成を備えている。そして、有機系分散剤の構成要素として有機溶剤及びスズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物を用い、更に導電性、透明性及び密着性の向上を目的とし、必要に応じてカップリング剤及びアミン類を添加するものとしたのである。
【００３４】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクは、有機系分散剤にＩＴＯ粉末を分散させた有機系ＩＴＯインクであって、前記有機系分散剤が有機溶剤と、スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物とを含むことを基本的特徴としている。
【００３５】
ここで言う「有機系分散剤」は、ＩＴＯ粉末の粒子を均一に分散させ、かつ、形成されたＩＴＯ導電膜の導電性を向上させる目的で調製された有機系の分散剤であり、高い透明性と高い導電性とを備えたＩＴＯ導電膜を得ることを目的としている本件発明に係る有機系ＩＴＯインクには必須のものである。
【００３６】
そして、「有機系分散剤が有機溶剤と、スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物とを含む」とある。ここで、「スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物」を用いた理由に関して述べる。即ち、「スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物」は、有機スズ化合物の炭素鎖とスズ原子とが直接結合していることで、他の有機スズ化合物と比べ、電子の偏りが大きく極性が大きくなる。従って、極性が大きくなれば、スズ原子中の電子の動きが容易になり、導電性が良好となって低比抵抗化に寄与すると考えたからである。ここで、金属原子のうちスズを選択した理由は、原子価が４価であり、ＩＴＯ成分と共通の元素であるためＩＴＯに対して、異種元素をドープしたと類似の効果が得られると考えたからである。
【００３７】
上記「スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物」を具体的に列記すれば、ジブチルビス（２，４−ペンタンジオナト）スズ、ジオクチルスズビス（２−エチルヘキシルマレート）、ジブチルスズジオクトエート、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジステアセトナート、ジオクチルスズビス（エチルキシルマレート）、ジオクチルスズビス（オレイルマレート）、スタナスオクトエート、又はジ−ｎ−ブチルスズラウレートオキサイド又は類似した物質から選択して使用することが好ましい。
【００３８】
そして、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクの有機系分散剤には、有機溶剤を用いている。有機溶剤を使用することで、有機系ＩＴＯインクとしての適正な粘度と他の成分に対する溶解力を持ち、且つ、インクとして使用する際に適度と考えられる蒸発速度を持たせることができる。従って、使い勝手のよい有機系ＩＴＯインクとすることが出来るのである。
【００３９】
さらに、前記有機溶剤は、カップリング剤とスズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物とに対して同時に相溶性を有するものでなければならず、更には、焼成により形成されたＩＴＯ導電膜がガラス基板に対して高い密着強度を示すのである必要がある。また、各構成要素の分散性を向上させ、比抵抗値を下げることにも寄与できるものであれば、より好ましいものである。具体的な有機溶剤としては、アルコール類、ケトン類、グリコール類又はそれらの混合物を用いることが好ましい。
【００４０】
上記「アルコール類」としては、１−ブタノール、１−ペンタノール、グリシドール、ベンジルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ｎ−ブトキシエタノール、２−フェノキシエタノール、カルビトール、エチルカルビトール、ｎ−ブチルカルビトール、ジアセトンアルコール又は類似した物質から選択された１種又は２種以上を組み合わせて用いることが好ましい。中でも、常圧での沸点が１００℃以上で、且つ、室温の常圧下で気化しづらいものが良く、１−ブタノール、１−ペンタノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ｎ−ブトキシエタノール、２−フェノキシエタノール、またはジアセトンアルコールから選択して使用することがより好ましい。
【００４１】
上記「ケトン類」としては、アセチルアセトン、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、メチシルオキシド、ホロン、イソホロン又は類似した物質から選択された１種又は２種以上を組み合わせて用いることが好ましい。中でも、ＩＴＯインクとしての連続使用期間を長くしようとすると常圧での沸点が１００℃以上で室温の常圧下で気化しづらいものが良く、アセチルアセトン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、メチシルオキシド、ホロン、又はイソホロンから選択して使用することがより好ましい。
【００４２】
上記「グリコール類」としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、ペンタメチレングリコール、へキシレングリコール又は類似した物質から選択された１種又は２種以上を組み合わせて用いることが好ましい。中でも、常温での粘度が１００ｃＰ以下であるものが良く、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、又はトリエチレングリコール又は類似の物質から選択されることがより好ましい。粘度が高すぎるとインクジェット法に適した粘度調整が困難となるからである。
【００４３】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクに用いるＩＴＯ粉末の平均一次粒子径は１００ｎｍ以下であることが好ましいとしている。そして、より好ましくは８０ｎｍ以下、さらに好ましくは５０ｎｍ以下の範囲から選択することが推奨されるのである。
【００４４】
そして、ここで用いるＩＴＯ粉末のスズの含有率は５ｗｔ％〜１５ｗｔ％であることが好ましいのである。ＩＴＯ粉末のスズの含有率は、５ｗｔ％未満でも１５ｗｔ％を超えてもキャリア濃度が不十分となるため導電性が悪化するのである。
【００４５】
ここで、キャリア濃度について説明しておく。Ｉｎ２Ｏ３の結晶中のＩｎ３＋をＳｎ４＋で置換するとＩｎ２Ｏ３の結晶全体の電荷バランスを保とうとして電子が結晶中を動き回るようになるが、この動き回る電子をキャリアといっている。当該キャリアのＩＴＯ導電膜内における濃度をキャリア濃度といい、高い導電性を維持するためにはＩＴＯ導電膜内のキャリア濃度を最適範囲に設定する必要があるのである。
【００４６】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクは、カップリング剤を含むことが好ましい。そして、前記カップリング剤は、ジルコニウム系カップリング剤、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤から選択された１種又は２種以上であることがより好ましい。これらカップリング剤は主に「透明性向上剤」又は「密着性向上剤」として機能するものである。
【００４７】
まず、本件発明に係るカップリング剤としてジルコニウム系カップリング剤を含むことが好ましいとしている。このジルコニウム系カップリング剤は、主に「透明性向上剤」として機能するのである。
【００４８】
上記「透明性向上剤」は、有機系ＩＴＯインクを焼成することによって形成されるＩＴＯ塗膜の表面を平滑にし、光の散乱を抑制する作用を持つ添加剤である。従って、有機系ＩＴＯインクを用いて形成するＩＴＯ導電膜の透明性を高めるため、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクに含有させることが好ましいのである。
【００４９】
本件発明者等は、「透明性向上剤」たるジルコニウム系カップリング剤がＩＴＯ粒子間の微細な隙間を埋め込み、もって平滑性が向上し、その結果として透明性を向上させるものと考えている。優れた透明性を備えていることでＩＴＯ導電膜の形成後もガラス基板の優れた透明性を維持することができ、フラットパネルディスプレイ等の画像を鮮明にするという効果が得られるのである。
【００５０】
上記ジルコニウム系カップリング剤としては、ジルコニウムノルマルプロピレート、ジルコニウムノルマルブチレート、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムモノアセチルアセトネート、ジルコニウムビスアセチルアセトネート、ジルコニウムアセトアセテート、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムモノステアレート又は類似した物質から選択して使用することが好ましい。
【００５１】
さらに、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクには、シラン系カップリング剤を含むことが好ましいとしている。特にシラン系カップリング剤は、ジルコニウム系カップリング剤と併用することで透明性向上効果を損なうことなくＩＴＯ導電膜とガラス基板の密着性を向上させることのできる、有用なものである。
【００５２】
ここに言う「密着性向上剤」とは、焼結する際に有機系ＩＴＯインク中のフィラーであるＩＴＯ粉末とガラス基板とを化学結合によって強く密着させる作用を持つものである。従って、有機系ＩＴＯインクによって形成された透明なＩＴＯ導電膜と無機材料であるガラス基板との密着性を高める効果を得ることができるのである。
【００５３】
そして、上記シラン系カップリング剤には、ヘキサメチルジシラザン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、テシルトリメトキシシラン、又はメチルハイドロジェンシロキサン又は類似した物質から選択して使用することが好ましい。中でも、基板への密着性の安定化を図るという観点から、安定した性能を発揮する、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、又はジメチルトリエトキシシランを用いることがより好ましい
【００５４】
また、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクには、チタン系カップリング剤を含むことが好ましいともしている。チタンはジルコニウムよりもイオン半径が小さいため、より緻密でガラスに対して密着性の高い膜を形成することができ、「密着性向上剤」として作用すると考えられるのである。また、緻密な膜は、結果として透明性をも向上させるのみならず、より導電性の良好な膜として機能するのである。
【００５５】
上記チタン系カップリング剤には、テトライソプロピルチタン、テトラノルマルブチルチタン、ブチルチタンダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタン、テトラメチルチタン、ポリヒドロキシチタンステアレート、チタンアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセトナート、チタンオクチレングリコレート、チタンエチルアセトアセテート、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネート又は類似した物質から選択して使用することが好ましい。
【００５６】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクは、アミン類を含むことも好ましい。このアミン類はカップリング剤と組み合わせて使用することで、特にその効果が顕著になる。そして、ここで言うアミン類は、鎖状骨格を持つアミン類を用いることがより好ましい。更に、アミン類は上記チタン系カップリング剤と組み合わせて使用することが更に好ましい。
【００５７】
上記アミン類は「密着性向上剤」としてその効果を発揮するものである。しかし、チタン系カップリング剤と併用した場合には、「透明性向上剤」としても、その効果を大きく発揮するのである。その理由は、アミン類をチタン系カップリング剤と併用した場合、溶液ｐＨをアルカリ側に変化させ、チタン系カップリング剤の加水分解を促し、より緻密なＩＴＯ導電膜を作ることに寄与するからである。
【００５８】
上記アミン類には、２−ジエチルアミノエタノール、イミノジエタノール、ポリオキシエチレンラウリルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、ポリエチレンイミン、２−アミノエタノール、トリエタノールアミン又は類似した物質から選択して使用することが好ましい。
【００５９】
続いて上記の各構成要素の数値範囲の限定理由を下記に記述する。ＩＴＯインク中の「ＩＴＯ粉末」の含有量の調整は、有機系ＩＴＯインクの粘度及び該有機系ＩＴＯインクから形成されたＩＴＯ導電膜の導電性の調整を目的としているのである。「ＩＴＯ粉末」の含有量が１０ｗｔ％未満の場合には、粉密度が低すぎてＩＴＯ導電膜の比抵抗値が高くなってしまい好ましくない。また、「ＩＴＯ粉末」の含有量が５０ｗｔ％を超えると、有機系ＩＴＯインクの粘度が増加し、当該有機系ＩＴＯインクを使用して印刷するＩＴＯ膜の幅及び厚みを目的の範囲に管理することが困難になり好ましくないのである。
【００６０】
次に、上記「ＩＴＯ粉末」を構成する粒子の平均一次粒子径の範囲に関して述べる。この平均一次粒子径は、形成したＩＴＯ導電膜の透明性に影響を与える要素である。ＩＴＯ粉末粒子の平均一次粒子径が１００ｎｍを超えると、当該ＩＴＯ粉末を使用して４０μｍ回路幅レベルのファインピッチパターンを形成したとき、導電性に優れた回路形成は可能ではあるが、透明性が低下してしまう。しかも、平均一次粒子径が大きくなるとインクジェットノズルに有機系ＩＴＯインクが目詰まりしやすくなる傾向が高くなる。一方、平均一次粒子径の下限については、現段階で工業的に生産可能な製品の下限値は１０ｎｍ程度と考えられており、１０ｎｍが実質平均一次粒子径の下限であるといえる。
【００６１】
一方、平均一次粒子径は、小さければ小さいほどインクジェットのノズルの目詰まりを引き起こす可能性が低くなり、これら不具合を回避できるであろうことも明らかである。しかしながら、ＩＴＯ粉末の平均一次粒子径が小さくなる程、有機系ＩＴＯインク中の粒子同士が凝集して二次構造体が形成されやすくなり、二次構造体の粒子径が大きくなった場合にはインクジェットノズルの目詰まりが発生し易くなるとの懸念も出てくるのである。この点について実験的に確認した結果では、凝集粒子の最大粒子径が０．８μｍ以下になっていればインクジェットノズルの目詰まりを防止できる。即ち、ＩＴＯ粉末は、本来高い均一分散性を備えているため、全てのＩＴＯ粒子が必ずしも凝集するものではないのである。確かに、最大粒子径レベルの凝集粒子の存在は確認されてはいるものの、その発生する確率が極めて低いため、インクジェットノズルの目詰まりを引き起こすには至らないと考えられる。なお、この凝集粒子径の確認はレーザー式粒度分布測定装置を用いて行った。
【００６２】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクを構成する「有機溶剤」は、有機系ＩＴＯインクの粘度調整を主目的としているのであり、４０ｗｔ％以上を有機溶剤とすることが好ましい。本件発明に係る有機系ＩＴＯインクにおいて、有機溶剤が４０ｗｔ％未満の場合には、有機系ＩＴＯインクの粘度が増加し、当該有機系ＩＴＯインクを使用して印刷するＩＴＯ膜の幅及び厚みを目的の範囲に管理することが困難になり好ましくないのである。
【００６３】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクを構成する「スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物」は、形成されたＩＴＯ導電膜に対する異種元素のドープと類似の効果を得て、スズ原子の電子が動き易くなるように用いるものである。本件発明に係る有機系ＩＴＯインクにおいて、「スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物」の含有量が、５ｗｔ％未満の場合には、キャリア濃度が不足して導電性向上の効果が得られず好ましくない。また、「スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有する有機スズ化合物」の含有量が、２０ｗｔ％を超えて添加しても、それ以上に導電性向上の効果は得られない。
【００６４】
そして、このカップリング剤は、１種で用いる場合も２種以上を併用する場合も、有機系ＩＴＯインク重量を基準として、総量として０．１ｗｔ％〜３０ｗｔ％の範囲含ませることが好ましい。２種以上を併用する場合には、ＩＴＯ導電膜の透明性と密着性とのバランス等を考慮して、その配合バランスを定めれば良く、特段の限定は要さない。以下、本件発明に言うカップリング剤を単独で使用した場合の適正量を説明する。
【００６５】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクに対し、必要に応じて添加する「ジルコニウム系カップリング剤」は、主に透明性の調整を目的としているものである。そして、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクにおいて、「ジルコニウム系カップリング剤」の含有量が０．０５ｗｔ％未満とした場合には、形成されたＩＴＯ導電膜の平滑性が十分に向上しないため透明性の向上に効果が得られず好ましくない。また、「ジルコニウム系カップリング剤」の含有量が、１０ｗｔ％を超えるとすると、有機系ＩＴＯインクの粘度が低下して、当該有機系ＩＴＯインクを使用して印刷するＩＴＯ膜の幅及び厚みを目的の範囲に制御することが困難になり好ましくないのである。
【００６６】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクに対し、必要に応じて添加する「シラン系カップリング剤」は、主にＩＴＯ導電膜の経時劣化防止と密着性の向上を目的として用いるものである。そして、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクにおいて、「シラン系カップリング剤」の含有量が、０．０５ｗｔ％未満の場合には、「密着性向上剤」としての効果が不十分であり、また形成されたＩＴＯ導電膜の経時劣化が大きくなる傾向があるので好ましくない。また、当該「シラン系カップリング剤」の含有量が、２０ｗｔ％を超えるものとしても、ガラス基板とＩＴＯ導電膜との密着性向上効果は、それ以上に向上せず、むしろ有機系ＩＴＯインクの粘度が低下して、当該有機系ＩＴＯインクを使用して印刷するＩＴＯ膜の幅及び厚みを目的の範囲に制御することが困難になる。
【００６７】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクに対し、必要に応じて添加する「チタン系カップリング剤」は、主に透明性の向上を目的として使用するものである。そして、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクにおいて、「チタン系カップリング剤」の含有量が０．０５ｗｔ％未満であると、形成したＩＴＯ導電膜の平滑性が十分に向上しないため透明性が得られず好ましくないのである。また、「チタン系カップリング剤」の含有量が３０ｗｔ％を超えるものとしても、有機系ＩＴＯインクの粘度が低下してしまい、当該有機系ＩＴＯインクを使用して印刷するＩＴＯ膜の幅及び厚みを目的の範囲に制御することが困難になり好ましくないのである。
【００６８】
更に、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクにおいて、「アミン類」を添加して用いる場合には、「密着性向上剤」としての効果と、チタン系カップリング剤と併用した場合の「透明性向上剤」としての効果を得ることを目的とし、ごく少量（例えば０．１ｗｔ％程度）であってもその効果が発揮されるのである。しかし、「アミン類」自身は、適量の使用であれば焼成時に蒸発するためＩＴＯ導電膜中に残存することがないが、「アミン類」の含有量が１０ｗｔ％を超えると、焼成時に蒸発しきれずにＩＴＯ導電膜中に残留し、導電性及び透明性に悪影響を及ぼすこととなり好ましくないのである。
【００６９】
以上に述べた有機系ＩＴＯインクを用いることで、インクジェット法を用いて、フラットパネルディスプレイ等のガラス基板へのＩＴＯ導電膜による微細配線形成が極めて容易となり、且つ、得られた配線は「導電性」、「透明性」、「密着性」及び「比抵抗値の経時劣化」に優れたものとなるのである。
【００７０】
有機系ＩＴＯインクの製造方法：  本件発明に係る有機系ＩＴＯインクの製造方法には、以下に述べる製造方法を採用することが好ましい。この有機系ＩＴＯインクの製造方法は、ＩＴＯ粉末と有機系分散剤を構成する溶剤とを混合して湿式解砕処理をおこなってスラリーとし、該スラリーに対し、有機系分散剤を構成する有機スズ化合物と、必要に応じて有機系分散剤に含ませるカップリング剤及びアミン類から選ばれる１種以上を添加し、更に、湿式解砕処理を行うことを特徴とするものである。
【００７１】
この製造方法では、最初にＩＴＯ粉末と有機系分散剤を構成する溶剤とを混合して湿式解砕処理をおこなってスラリーとする。このときの湿式解砕処理とは、仮に凝集したＩＴＯ粒子があれば、その凝集状態を粉砕することで一次粒子の状態に近づけ分散性を高める処理（以下、単に「解粒」と称する。）であり、流体ミル、湿式メディアミル、ＴＫフィルミックス等を用いる処理である。
【００７２】
そして、湿式解砕処理には、凝集粒子を単分散に近づけることの出来る湿式処理装置を使用すれば良く、特段の限定は要さない。例えば、湿式メディアミルを使用する場合には、メディアビーズとして、ジルコニア、アルミナ又はガラス製を使用することが、ＩＴＯ粉末の凝集粒子の解粒効果を得るための物理的強度を備えるメディアとして好ましい。そして、前記湿式メディアミルに使用するメディアビーズは、その平均粒径が１ｍｍ以下であることが、微粒のＩＴＯ粉末の凝集粒子を解粒する効率が高くなるために好ましい。また、このときのＩＴＯ粉末と有機系分散剤を構成する溶剤との混合時の液温、混合方法等の他の条件に関しての特段の限定はない。
【００７３】
そして、該スラリーに対し有機系分散剤を構成する有機スズ化合物（スズ原子が炭素鎖に直接結合している構造を有するもの）と、必要に応じて有機系分散剤に含ませるカップリング剤及びアミン類から選ばれる１種以上を添加する。このときの有機スズ化合物、カップリング剤、アミン類の添加順序に関しては特段の制限はない。また、このときの混合時の液温、混合方法等の他の条件に関しての特段の限定はない。
【００７４】
続いて、更に湿式解砕処理を施し、有機系分散剤中にＩＴＯ粉末を更に均一に分散させ、残留している凝集粒子の解粒処理による分散性向上効果を確実なものとするのである。なお、ここで言う湿式解砕処理とは、上述の湿式解砕処理と同様である。
【００７５】
以上に述べてきた本件発明に係る有機系ＩＴＯインクの製造方法の技術的概念の中には、例えば、容器ＡにＩＴＯ粉末と有機系分散剤を構成する有機溶剤とを投入して湿式解砕処理をおこないスラリーとし、容器Ｂに有機系分散剤を構成する有機スズ化合物と、必要に応じて有機系分散剤に含ませるカップリング剤及びアミン類から選ばれる１種以上とを混合して冷却した有機スズ溶液とし、その後、容器Ａ内のスラリーと容器Ｂ内の有機スズ溶液とを混合して湿式解砕処理を行う場合等を含むことを明記しておく。
【００７６】
また、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクの製造方法において、最終的に湿式解砕処理して得られたＩＴＯインクは、２回の湿式解砕処理を施されているが、意図せぬ粗粒のＩＴＯ粒子が含まれている場合もあり、粗粒を完全に除去するため、最終的にフィルターで濾過することも好ましい。このときのフィルターとは、特定のフィルターを示唆するものではなく、粗粒の除去の出来る濾過が可能なものであればよい。
【００７７】
以下に実施例及び比較例を示すが、本件発明はこれらに限定されて解釈されるものではない。ここでは、実施例で調製した有機系ＩＴＯインク及び比較例で調製したＩＴＯインクの調整方法に関しては、以下に述べる実施例及び比較例にて個別に説明するが、一目して理解しやすいように表１に纏めて示しておく。表１では、本件発明に基づき調製した有機系ＩＴＯインクをＩＴＯインクＡ〜ＩＴＯインクＨとして掲載し、そして比較用に調製したＩＴＯインク（ＩＴＯインク１のみ「水系」、その他は有機系）をＩＴＯインク１〜ＩＴＯインク５として掲載した。なお、各例とも湿式解砕処理としてジルコニアビーズをメディアとした湿式メディアミルを使用しており、且つ最終的に得られたＩＴＯインクを濾別しているが、これはデータ比較のために再現性を重視した故に実施したものであり、実際の製造に当たっては必要に応じた実施でかまわない。
【００７８】
【表１】
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【実施例１】
【００７９】
［ＩＴＯインクＡの調製］ 
１．  容量５０ｃｃの容器中にＩＴＯ粉末（インジウムとして７５．３ｗｔ％、スズとして７．１ｗｔ％、平均一次粒子径２０ｎｍ：以降「標準ＩＴＯ粉末」と称する）：３．６ｇと溶剤としてのジアセトンアルコール：２８．６ｇを混合し、φ０．６５ｍｍジルコニウムビーズを使用した「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。上記「平均一次粒子径」とは、透過型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したときの一視野中に含まれた少なくとも２０個の粒子の粒子径を観察し、これらを積算し平均することにより求められる粒子径を指す。）。
【００８０】
２．  次に、ジブチルビス（２，４−ペンタンジオナト）スズ：２．８８ｇ及びジルコニウム系カップリング剤ＺＢ１２０（松本純薬工業社製：以下同様）：０．２４ｇを添加し、さらに「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を５時間行いスラリーを得た。
【００８１】
３．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子をカートリッジ式フィルター（アドバンテック東洋株式会社製ＭＣＰ−ＪＸ−Ｅ１０Ｓ、平均孔径１μｍ以下：以下共通）に通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が１０ｗｔ％で、有機スズ化合物含有率が８．２ｗｔ％のＩＴＯインクＡを得た。
【００８２】
［評価結果］
上記ＩＴＯインクＡを使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値２．８×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値６．８×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値８．１×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は２．９であった。また、密着性は良好であり、透明性も９０．０％と良好であった。より詳細には表２に掲載する。
【実施例２】
【００８３】
［ＩＴＯインクＢの調製］ 
１．  容量５０ｃｃの容器中で「標準ＩＴＯ粉末」：３．６ｇと溶剤としてのジアセトンアルコール：２８．６ｇを混合し、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【００８４】
２．  次に、該スラリー中へ、ジブチルビス（２，４−ペンタンジオナト）スズ：２．８８ｇ、ジルコニウム系カップリング剤ＺＢ１２０：０．２４ｇ、及びヘキサメチルジシラザン：０．７２ｇを添加し、さらに「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を５時間行った。
【００８５】
３．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が１０ｗｔ％であり、有機スズ化合物含有率が８．２ｗｔ％のＩＴＯインクＢを得た。 
【００８６】
［評価結果］
上記ＩＴＯインクＢを使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値７．８×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値１４．８×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値１７．１×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は２．２であった。また、密着性は良好であり、透明性も９１．０％と良好であった。より詳細には表２に掲載する。
【実施例３】
【００８７】
［ＩＴＯインクＣの調製］ 
１．  容量５０ｃｃの容器中で「標準ＩＴＯ粉末」：３．６ｇと溶剤としてのジアセトンアルコール：２８．６ｇを混合し、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【００８８】
２．  次に、該スラリー中へ、ジオクチルスズビス（２−エチルヘキシルマレート）：２．５７ｇ、ジルコニウム系カップリング剤ＺＢ１２０：０．２４ｇ、及びメチルトリエトキシシラン：０．７２ｇを添加し、さらに「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を５時間行いスラリーを得た。
【００８９】
３．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が１０ｗｔ％で、有機スズ化合物含有率が７．２ｗｔ％のＩＴＯインクＣを得た。  
【００９０】
［評価結果］
上記ＩＴＯインクＣを使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値６．４×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値１５．１×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値１６．６×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は２．６であった。また、密着性は良好であり、透明性も９０．９％と良好であった。より詳細には表２に掲載する。
【実施例４】
【００９１】
［ＩＴＯインクＤの調製］ 
１．  容量５０ｃｃの容器中で「標準ＩＴＯ粉末」：３．６ｇと溶剤としてのジアセトンアルコール：２８．６ｇを混合し、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【００９２】
２．  次に、該スラリー中へ、ジブチルスズジラウレート：２．４ｇ、ジルコニウム系カップリング剤ＺＢ１２０：０．２４ｇ、及びヘキサメチルジシラザン：０．７２ｇを添加し、さらに「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を５時間行いスラリーを得た。
【００９３】
３．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が１０ｗｔ％で、有機スズ化合物含有率が６．７ｗｔ％のＩＴＯインクＤを得た。  
【００９４】
［評価結果］
上記ＩＴＯインクＤを使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値９．５×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値１８．８×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値２１．８×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は２．３であった。また、密着性は良好であり、透明性も９０．４％と良好であった。より詳細には表２に掲載する。
【実施例５】
【００９５】
［ＩＴＯインクＥの調製］ 
１．  容量５０ｃｃの容器中で「標準ＩＴＯ粉末」：３．６ｇと溶剤としてのジアセトンアルコール：２８．６ｇを混合し、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【００９６】
２．  次に、該スラリー中へ、ジブチルビス（２，４−ペンタンジオナト）スズ：２．６６ｇ、ジルコニウム系カップリング剤ＺＢ１２０：０．２４ｇ、及びメチルトリエトキシシラン：０．７２ｇを添加し、さらに「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を５時間行いスラリーを得た。
【００９７】
３．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が１０ｗｔ％で、有機スズ化合物含有率が７．４ｗｔ％のＩＴＯインクＥを得た。  
【００９８】
［評価結果］
上記ＩＴＯインクＥを使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値７．７×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値１８．７×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値２０．８×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は２．７であった。また、密着性は良好であり、透明性も９１．０％と良好であった。より詳細には表２に掲載する。
【実施例６】
【００９９】
［ＩＴＯインクＦの調製］ 
１．  容量５０ｃｃの容器中に「標準ＩＴＯ粉末」：３．６ｇと溶剤としてのジアセトンアルコール：２３．７ｇを混合し、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【０１００】
２．  次に、ジブチルビス（２，４−ペンタンジオナト）スズ：２．５７ｇ及びチタン系カップリング剤ＴＣ１００（松本純薬工業社製：以下同様）：６．２０ｇを添加し、さらに「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を１時間行いスラリーを得た。なお、この実施例６では、実施例７と比較してジエチルアミンが含有されていないものである。
【０１０１】
３．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が１０ｗｔ％で、有機スズ化合物含有率が７．１ｗｔ％のＩＴＯインクＦを得た。   
【０１０２】
［評価結果］
上記ＩＴＯインクＦを使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値８．２×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値１５．８×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値２０．５×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は２．５であった。また、密着性は良好であり、透明性も９０．０％と良好であった。より詳細には表２に掲載する。
【実施例７】
【０１０３】
［ＩＴＯインクＧの調製］
１．  容量５０ｃｃの容器中に「標準ＩＴＯ粉末」：７．２ｇと溶剤としてのジアセトンアルコール：２５．０ｇを混合し、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【０１０４】
２．  次に、別の容量５０ｃｃの容器中にジブチルビス（２．４−ペンタンジオナト）スズ：２．５７ｇとチタン系カップリング剤ＴＣ１００：４．３６ｇ及びジエチルアミン：１．０８ｇを混合し、５分間攪拌した後、３時間以上冷蔵庫中で冷却し、有機スズ溶液を得た。この調製条件は、選択された添加剤、濃度及び保持時間の組み合わせについて最適の加水分解状態を得るために設定したものであって、チタン系カップリング剤濃度を変更した場合、そしてジルコニウム系又はシラン系を採用した場合、そしてアミン類の種類及び濃度に応じて最適な条件を選択することが好ましい。
【０１０５】
３．  次に、有機スズ溶液をスラリー中に全量添加し、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を１時間行いスラリーを得た。
【０１０６】
４．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯ濃度が２０ｗｔ％で、有機スズ化合物含有率が７．１ｗｔ％のＩＴＯインクＧを得た。
【０１０７】
［評価結果］
上記ＩＴＯインクＧを使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気下での焼成のみとし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値１．０×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値１．６×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値２．０×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は２．０であった。また、密着性は良好であり、透明性も９０．８％と良好であった。より詳細には表２に掲載する。
【実施例８】
【０１０８】
［ＩＴＯインクＧの調製］
ここでは、実施例７と同様のＩＴＯインクＧを使用した。従って、重複した説明を避けるためＩＴＯインクＧに関する説明は省略する。
【０１０９】
［評価結果］
上記ＩＴＯインクＧを使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件は、実施例７が大気雰囲気のみでの焼成であるのに対し、大気雰囲気下焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値１．６×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値２．５×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値３．２×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は２．０であった。また、密着性は良好であり、透明性も９０．８％と良好であった。より詳細には表２に掲載する。
【実施例９】
【０１１０】
［ＩＴＯインクＨの調製］
１．容量５０ｃｃの容器中に「標準ＩＴＯ粉末」：３．６ｇと溶剤としてのジアセトンアルコール：２３．３ｇを混合し、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【０１１１】
２．  次に、別の容量５０ｃｃの容器中にジブチルビス（２，４―ペンタンジオナト）スズ：２．５７ｇとチタン系カップリング剤ＴＣ４０１（松本純薬工業社製：以下同様）：６．２０ｇ及びジエチルアミン：０．３６ｇを混合し、攪拌した後、３時間以上冷蔵庫中で冷却し、添加剤を得た。この調製条件は、選択された添加剤、濃度及び保持時間の組み合わせについて最適の加水分解状態を得るために設定したものであって、チタン系カップリング剤濃度を変更した場合、そしてジルコニウム系又はシラン系を採用した場合、そしてアミン類の種類及び濃度に応じて最適な条件を選択することが好ましい。
【０１１２】
３．  次に、当該添加剤をスラリー中に全量添加し、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を１時間行いスラリーを得た。
【０１１３】
４．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が１０ｗｔ％で、有機スズ化合物含有率が７．１ｗｔ％のＩＴＯインクＨを得た。
【０１１４】
［評価結果］
上記ＩＴＯインクＨを使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気下での焼成のみとし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値４．４×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値５．４×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値６．２×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は１．４であった。また、密着性は良好であり、透明性も９１．０％と良好であった。より詳細には表２に掲載する。
【実施例１０】
【０１１５】
［ＩＴＯインクＨの調製］
ここでは、実施例９と同様のＩＴＯインクＨを使用した。従って、重複した説明を避けるためＩＴＯインクＨに関する説明は省略する。
【０１１６】
［評価結果］
上記ＩＴＯインクＨを使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件は、実施例９が大気雰囲気のみでの焼成であるのに対し、大気雰囲気下焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値１．０×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値１．７×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値２．０×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は２．０であった。また、密着性は良好であり、透明性も９１．０％と良好であった。より詳細には表２に掲載する。
【比較例】
【０１１７】
［比較例１］
比較用ＩＴＯインク１の調製：
１．  容量１Lの容器中で「標準ＩＴＯ粉末」：１８０ｇと溶剤としての純水：３７８ｇを混合し、さらに表面張力調整剤として２−ｎ−ブトキシエタノール：４２ｇを添加したものを、３０分間「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を行いスラリーを得た。
【０１１８】
２．  次に、該スラリー中へジルコニウム系カップリング剤ＺＢ１２０：１２０．８ｇを添加し、さらに「湿式メディアミル」により１時間湿式解砕処理を行いスラリーを得た。
【０１１９】
３．  次に、２で得られたスラリーを、高速旋回薄膜法を用いた高速乳化分散機であるＴ．Ｋ．フィルミックス（特殊機化工業社製）にて、１０分間（線速５０ｍ／ｓ）で混合しながら、分散化処理を行った。
【０１２０】
４．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が２４ｗｔ％で、水分含有率が５２．４ｗｔ％のＩＴＯインク１を得た。
【０１２１】
評価結果：
上記ＩＴＯインク１を使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数（５０回以上）、配線の形状も良好であった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値５８×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値１７４×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値２２６×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は３．９であった。また、密着性は良好であり、透明性は８８．８％であった。より詳細には表２に掲載する。
【０１２２】
［比較例２］
比較用ＩＴＯインク２の調製： 
１．  容量５０ｃｃの容器中に「標準ＩＴＯ粉末」：３．６ｇと溶剤としてのアセチルアセトン：３０．０ｇを混合した。
【０１２３】
２．  次に、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【０１２４】
３．  有機酸インジウム化合物であるアセチルアセトンインジウム：２．４ｇを、２で 得られたスラリーへ添加した。次に、この得られたスラリーについて「湿式メディアミル」により５時間湿式解砕処理を行った。
【０１２５】
４．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が１０ｗｔ％で、有機酸インジウム化合物含有率が６．７ｗｔ％のＩＴＯインク２を得た。 
【０１２６】
評価結果：
上記ＩＴＯインク２を使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数は３０回以下であり、配線の形状にも安定性がなかった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値５６×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値１４５×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値１９６×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は３．５であった。また、密着性は良であり、透明性は８９．１％であった。より詳細には表２に掲載する。
【０１２７】
［比較例３］
比較用ＩＴＯインク３の調製： 
１．容量５０ｃｃの容器中に「標準ＩＴＯ粉末」：３．６ｇと溶剤としてのジアセトンアルコール：２９．５ｇを混合した。
【０１２８】
２．次に、１で得られた溶液について、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【０１２９】
３．  次に、２で得られたスラリーへ、有機酸スズ化合物である２−エチルヘキシル酸第１スズ：２．８８ｇを添加した。
【０１３０】
４．  さらに、３で得られたスラリーについて、「湿式メディアミル」により５時間湿式解砕処理を行った。
【０１３１】
５．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去しＩＴＯの濃度が１０ｗｔ％で、有機酸スズ化合物含有率が８．０ｗｔ％のＩＴＯインク３を得た。
【０１３２】
評価結果：
上記ＩＴＯインク３を使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数は３０回以下であり、配線の形状にも安定性がなかった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値３４×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値８８×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値１１６×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は３．４であった。また、密着性は良であり、透明性は８８．８％であった。より詳細には表２に掲載する。
【０１３３】
［比較例４］
比較用ＩＴＯインク４の調製： 
１．  容量５０ｃｃの容器中に「標準ＩＴＯ粉末」：１０ｇと溶剤としてのエチルアルコール：２０ｇを混合した。
【０１３４】
２．  次に、１で得られた溶液について、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【０１３５】
３．  次に、２で得られたスラリー中へ、有機シリコン化合物であるエチルシリケート：１．８ｇ、有機チタン化合物であるビスオキシアセテートチタン（ジオクチルバイロホスフェート）：０．２ｇ、１２Ｎ塩酸：２．０ｇ、及び水：２．０ｇを添加した。
【０１３６】
４．  次に、３で得られたスラリーについて、「湿式メディアミル」により５時間湿式解砕処理を行った。
【０１３７】
５．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が２７．８ｗｔ％で、有機シリコン化合物及び有機チタン化合物の含有率の合計が５．６ｗｔ％の有機系ＩＴＯインク４を得た。
【０１３８】
評価結果：
上記ＩＴＯインク４を使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数は３０回以下であり、配線の形状にも安定性がなかった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値４２０×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値１３６５×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値１６８０×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は４．０であった。また、密着性は良であり、透明性は８９．０％であった。より詳細には表２に掲載する。
【０１３９】
［比較例５］
比較用ＩＴＯインク５の調製： 
１．  容量５０ｃｃの容器中で「標準ＩＴＯ粉末」：３．６ｇと溶剤としてのジアセトンアルコール：２４．４ｇを混合し、「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を３０分間行いスラリーを得た。
【０１４０】
２．次に、該スラリー中へ、ジブチルビス（２，４−ペンタンジオナト）スズ：２．６６ｇ、チタン系カップリング剤ＴＣ３１０（松本純薬工業社製：以下同様）：５．３０ｇを添加し、さらに「湿式メディアミル」により湿式解砕処理を５時間行いスラリーを得た。
【０１４１】
３．  次に、該スラリーに含有される１μｍ以上の粒子を、同カートリッジ式フィルターに通液濾過することで除去し、ＩＴＯの濃度が１０ｗｔ％で、有機スズ化合物含有率が７．４ｗｔ％のＩＴＯインク５を得た。
評価結果：
上記ＩＴＯインク５を使用し印刷性の評価を行った。その結果、印刷回数は３０回以下であり、配線の形状にも安定性がなかった。更に、ＩＴＯ導電膜形成時の焼成条件を、大気雰囲気焼成後に還元雰囲気焼成とし、ＩＴＯ導電膜を形成した。そのＩＴＯ導電膜の評価結果は、焼成直後の比抵抗値２７０×１０−２Ω・ｃｍ、３週間後の比抵抗値８２０×１０−２Ω・ｃｍ、５週間後の比抵抗値１０８０×１０−２Ω・ｃｍであり、経時劣化指標値は４．０であった。また、密着性は良であり、透明性は８７．０％であった。より詳細には表２に掲載する。
【０１４２】
【表２】
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【０１４３】
［評価方法］
続いて、上記実施例及び比較例で用いた各種特性の評価方法に関して述べておく。上記により調製された各インクを市販のインクジェットプリンター（セイコー・エプソン社製ＰＭ−Ｇ７００）でガラス基板上に印刷して、以下に述べるインクの印刷性を評価した。また、ガラス基板上にスピンコート法でコーティング後、焼成したＩＴＯ導電膜を用いて膜特性の評価を行った。なお、ここで評価用に使用したガラス基板は、無アルカリガラス基板ＯＡ−１０（日本電気硝子社製）である。
【０１４４】
印刷性の評価：  実施例及び比較例におけるＩＴＯインクの印刷性の評価項目について、その手法及び目的について説明する。
【０１４５】
Ａ．印刷性
この評価は、ＩＴＯインクがインクジェットプリンター用のインクとして製造ラインで連続使用できるかどうかの評価を目的として実施した。
【０１４６】
印刷性の良否はガラス基板上にライン及びスペース幅１００μｍ、長さ２ｃｍの配線パターンを印刷し、ＩＴＯインクがノズル詰まりするかどうかの観点から何回以上正常な（例えば印刷のかすれが起こらない状態で）印刷を繰り返しできたかどうかで判定した。
【０１４７】
Ｂ．ＩＴＯ導電膜形成性
ＩＴＯ導電膜形成性の評価はＩＴＯインクを使用した際に配線パターンが所期の目的形状通りに形成され、特性を満足しうるかどうかの評価を目的として実施した。
【０１４８】
印刷性評価と同様の方法で配線パターンを印刷後焼成して形成し、ＩＴＯ導電膜として得られた配線パターンの良否を光学顕微鏡（倍率×１００）を用いて観察した。特に、配線パターンの輪郭が明瞭であるか否かの観点を良好な配線パターンが形成されているかどうかの判定基準として評価した。「良」は配線パターンの輪郭が明瞭な場合、「否」は当該輪郭が凹凸があったり蛇行している等不明瞭な線のパターンが形成されている場合を指す。
【０１４９】
ＩＴＯ導電膜の特性：実施例及び比較例におけるＩＴＯインクを用いて形成したＩＴＯ導電膜の形成方法及び評価方法について、説明する。
【０１５０】
ａ．特性評価用ＩＴＯ導電膜の形成方法
１０ｃｍ×１０ｃｍ角の上記ガラス基板上にそれぞれ調製されたＩＴＯインクを回転数８００ｒｐｍのスピンコーターを用いて共通の設定厚みになるよう塗布し、ガラス基板上の塗膜を所定の条件で焼成後厚みを確認した。当該ＩＴＯ導電膜の厚さ設定の目的は、各ＩＴＯインクの焼成後のＩＴＯ導電膜の諸特性を比較評価するに当たり、特に透明性評価で当該ＩＴＯ導電膜の厚みが共通した所定厚（本実施例・本比較例では０．５μｍ）に統一されていることが必要とされるからである。そして、ＩＴＯ導電膜の厚みは、ＩＴＯ導電膜の断面をＳＥＭ観察（倍率×１０，０００）することにより測定した。
【０１５１】
このときの大気下及び還元雰囲気下における焼成条件は以下の通りである。
大気雰囲気焼成条件：ホットプレート上で２５０℃×３０分間焼成。
還元雰囲気焼成条件：水素含有量が１容量％の水素−窒素混合ガス中の還元雰囲気下で３００℃×３０分間焼成。
【０１５２】
ｂ．ＩＴＯ導電膜の導電性
当該ＩＴＯ導電膜の比抵抗値を、印刷されたＩＴＯインクの焼成後のＩＴＯ導電膜の導電性の優劣を比較するために実施した。ＩＴＯ導電膜の比抵抗値は四探針抵抗測定機ロレスタＧＰ（三菱化学社製）用いて測定した。
【０１５３】
ｃ．ガラス基板との密着性
当該ガラス基板との密着性の測定は、印刷されたＩＴＯインクの焼成後のＩＴＯ導電膜とガラス基板との密着性に与える添加剤の効果を把握するために実施した。
【０１５４】
ＩＴＯインクの焼成後のＩＴＯ導電膜とガラス基板との密着性をＪＩＳ  Ｋ  ５６００  パラグラフ５−６に準じ、クロスカット法により評価した。さらに光学顕微鏡（倍率×１００）でクロスカットの切れ味状態を観察した。表２の密着性の欄で、分類０かつクロスカットにシャープな切れ味の像が見られたときに、その評価を「◎」とし、ややクロスカットに切れ味が悪い像が見られたとき（たとえばカット周辺部やクロス部が僅かに剥がれていたとき等）に、その評価を「○」と記した。
【０１５５】
ｄ．比抵抗値の経時劣化
比抵抗値の経時変化の測定は、形成されたＩＴＯ導電膜が酸化等環境の影響を受けて経時劣化しやすいか、しにくいかを判定するために実施した。該当期間は１ヶ月強としたが、この期間はＩＴＯ導電膜が使用されうる環境においてＩＴＯ導電膜が形成された後にオーバーコートされるまでの期間の目安である。従って、この経時劣化データはＩＴＯ導電膜の製造ライン内での一次保管管理の容易性の判定指標として使用できるものである。
【０１５６】
焼成後のＩＴＯ導電膜の比抵抗値の経時変化は次の方法で測定した。ＩＴＯ導電膜の形成されたガラス基板をシーリングされたデシケーター内（湿度３０±５％、温度２０±５℃）で５週間放置した後の比抵抗値（第２比抵抗値とする）を測定し、第２比抵抗値を初期比抵抗値（焼成・冷却直後に測定）で除した値を経時劣化指標値とした。
【０１５７】
さらに、各ＩＴＯインクの比抵抗値の経時変化の推移を焼結直後〜焼結後５週間後まで１週間毎に測定し、経時劣化のしかたに有意差があるかどうかを変化の傾向からも判定した。
【０１５８】
ｅ．透明性
透明性の測定は、ＩＴＯインクに含有させた添加剤の効果を把握するために実施した。具体的には、ガラス基板上のＩＴＯ導電膜について全光線透過率を求め、これをＩＴＯ導電膜の透明性の指標として測定した。この測定のために、当該ＩＴＯ導電膜の厚みが共通した所定厚（本実施例・本比較例では０．５μｍ）に統一されていることが最も必要とされるのである。測定装置には、日本電色工業株式会社製のヘイズメーター（ＭＯＤＥＬ：１００１ＤＰ）を使用し、ＪＩＳ７１０５（プラスチックの光学特性試験方法）に準拠した積分球式測定方法を採用して全光線透過率を求めた。
【０１５９】
［実施例と比較例との対比］
表２を参照しつつ、実施例及び比較例にて得られた各データを参照して、実施例と比較例との対比を行う。
【０１６０】
表２から理解できるように、本件発明に係る実施例１〜実施例１０のＩＴＯインクＡ〜ＩＴＯインクＨのすべてについて、焼成条件によらず、比較例１〜比較例５に対しては総合的に、殆どの特性項目において優れているという結果が得られた。
【０１６１】
更に、初期比抵抗値についてみてみると、本件発明に係る実施例１〜実施例５のＩＴＯインクＡ〜ＩＴＯインクＥのガラス基板上に焼成された後の比抵抗値が１０−２のオーダーに対し、比較例１〜比較例５のＩＴＯインク１〜ＩＴＯインク５を用いて、ガラス基板上に焼成して形成された焼成膜の比抵抗値は１０−１若しくは１００オーダーとなっている。従って、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクから得られるＩＴＯ導電膜の初期比抵抗値は比較例１〜比較例５に比べて１／１０以下と著しく低く、優れた初期比抵抗値を持っているのである。
【０１６２】
更に、比抵抗値を、焼結直後から５週間後まで１週間ごとに観察した経時変化について比較すると、本件発明に係る実施例１〜実施例１０の比抵抗値の経時劣化が比較例１〜比較例５の比抵抗値の経時劣化よりも少ない。よって、本件発明に係る有機系ＩＴＯインクは、比抵抗値の経時劣化も従来のものに比して少なく、初期比抵抗値が低いと共に比抵抗値が経時劣化しにくいものになっているのである。
【０１６３】
比較例５に係るＩＴＯインク５は、チタン系の有機金属化合物を用いたＩＴＯインクではあるが、チタン系カップリング剤を用いた実施例のＩＴＯインクＦ〜ＩＴＯインクＨと比較するとかなり高い比抵抗値を示している。また導電性以外の評価項目で比較しても、本件発明に係る実施例６〜実施例１０で用いたＩＴＯインクＦ〜ＩＴＯインクＨの方が、比較例５のＩＴＯインク５よりも優れており、チタンを含んでいることよりもカップリング剤としての効果の方が大きいことが分かる。
【０１６４】
実施例８と実施例７、実施例９と実施例１０の比較から、ＩＴＯ導電膜焼成の雰囲気の違いにより、大気雰囲気焼成と還元雰囲気焼成とを組み合わせた焼成に比べ、大気雰囲気焼成のみの方が、初期比抵抗値がやや大きめにはなるものの、経時劣化が起きにくい傾向があることも確認できた。よって、実施例７又は実施例９の実施態様によれば、ユーザーが初期の比抵抗値を許容できる限り、大気雰囲気焼成のみでＩＴＯ導電膜を形成することも可能である。即ち、焼成時間の短縮と還元雰囲気焼成に係るコストを必要としないことによるコストダウンが可能となり、且つ、経時劣化の起きにくいＩＴＯ導電膜を形成することが可能となるからである。
【産業上の利用可能性】
【０１６５】
本件発明に係る有機系ＩＴＯインクは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに使用されるガラス基板上に、インクジェット印刷の技術を利用してＩＴＯ導電膜（透明電極）を形成するためのインク材料として利用できる。