(57)【要約】【課題】  簡単な装置構成により、塗布面の各部の消費量に見合った量の塗布液が安定して供給され、これにより、どの方向にも均一な厚さを有し、且つ良好な表面性状を有する塗布液層を形成する。【解決手段】  開口２７を有するマスク２５を平面基板Ｄ上に重ね合わせ、マスク２５上に塗布液４９を供給して、マスク２５に対して相対移動するブレード５１により塗布液４９を塗布して、平面基板Ｄ上にマスク２５の開口２７に応じた塗布液層を形成するブレード塗布装置１００である。ブレード塗布装置１００は、マスク２５表面から窪んで形成されブレード５１の移動方向に対して直交する溝３９と、溝３９の底部に設けられ塗布液４９を吐出する塗布液吐出口４１と、塗布液吐出口４１に塗布液４９を供給する塗布液供給手段８１と、を備える。【選択図】  図１
2006231194.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口を有するマスクを平面基板上に重ね合わせ、前記マスク上に塗布液を供給し、前記マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードにより前記塗布液を前記マスク上に塗布して、前記平面基板上に前記マスクの開口に応じた塗布液層を形成するブレード塗布装置であって、
前記マスク表面から窪んで形成され前記ブレードの移動方向に対して直交する溝と、
前記溝の底部に設けられ前記塗布液を吐出する塗布液吐出口と、
前記塗布液吐出口に塗布液を供給する塗布液供給手段と、
を備えたことを特徴とするブレード塗布装置。
【請求項２】
前記塗布液吐出口が、前記溝内で前記ブレード移動方向に直交する方向に沿って複数箇所に配置されたことを特徴とする請求項１記載のブレード塗布装置。
【請求項３】
前記溝を前記ブレード移動方向に対して異なる位置で、それぞれ溝の長手方向幅を異ならせて複数列形成したことを特徴とする請求項１又は請求項２記載のブレード塗布装置
【請求項４】
前記溝を前記ブレード移動方向に直交する方向に沿って溝幅を変化させて形成したことを特徴とする請求項１又は請求項２記載のブレード塗布装置。
【請求項５】
前記溝が前記マスクの開口の両脇側に少なくとも一対設けられ、前記ブレードが前記両脇側の溝を通過する位置までの間を移動することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項記載のブレード塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブレード塗布装置に関し、特にマスク上に塗布液を供給する塗布液供給装置を備えたブレード塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスク等のディスク状記録媒体に塗布液を１００μｍ程度の厚さに塗布して、印刷可能な塗布液層（インク受理層）を形成する従来のブレード塗布装置としては、図１２に示すものがある。このブレード塗布装置１は、光ディスクＤを吸着載置する吸着台２、光ディスクＤを吸着台２と共に上下方向に移動させるエアシリンダ３、円形縁部４ａで画成された開口８を有するマスク板（マスク）４、及びマスク板４上を所定の隙間を保ちながら水平駆動されて塗布液６を光ディスクＤに塗布し、塗布液層９を形成するブレード５を備えている。
【０００３】
このようなブレード塗布装置１による塗布液６の塗布は、図１２（ａ）に示すように、吸着台２上に光ディスクＤを載置して吸着固定した後、エアシリンダ３を作動して光ディスクＤを上昇させ、これによりマスク板４を光ディスクＤ上に重ね合わる。そして、マスク板４上に塗布液６を供給しながら、マスク板４上方でブレード５を矢印Ａ方向に相対移動することにより、塗布液６をマスク板４の開口８から露出する光ディスクＤの塗布面に塗布する。次いで、図１２（ｂ）に示すように、エアシリンダ３を作動して吸着台２を下降（矢印Ｂ方向）させてマスク板４から光ディスクＤを離反させ、光ディスクＤ上にマスク板４の開口８に応じた塗布液層９を形成する。
【０００４】
このようなブレード塗布装置１において、マスク板４上への塗布液６の供給は、マスク板４の上方に配設された塗布液供給機構（図示せず）により行われる。塗布液供給機構は、塗布液供給ノズルと、塗布液供給装置と、ノズル昇降装置とからなり、塗布液供給装置から供給される塗布液６は、塗布液供給ノズルから開口８と待機状態のブレード５との間の
マスク板４上に滴下供給される。塗布液供給ノズルは、ブレード５との干渉を防止するために、塗布液６を滴下供給するときだけノズル昇降装置によってマスク板４の近傍高さに移動（即ち、下降）し、通常は塗布工程に支障とならない位置まで上昇して待機状態とされる。
【０００５】
また、ブレード塗布装置に類似する技術を有する装置として、フラックス供給装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。図１３はフラックス供給装置を示し、図１３（ａ）はフラックス供給装置の要部斜視図、図１３（ｂ）は図１３（ａ）におけるＰ−Ｐ矢視縦断面図である。フラックス供給装置１０はボールマウンタ（図示せず）のフラックス供給部として用いられる。ボールマウンタは、転写ユニット（図示せず）およびボールマウントヘッドを備え、フラックステーブル９１に供給されたフラックス９８を転写ユニットに付着して位置決めされたワーク（図示せず）に転写し、更に転写されたフラックス９８上にハンダボールをマウントするなどの処理を行う。
【０００６】
図１３に示すように、フラックス供給装置１０は、フラックステーブル９１、スキージ９２、フラックス供給ボトル９３、残量センサ９４を備える。フラックステーブル９１は、その上面に一段低く形成されたフラックス層形成部９１ａが設けられている。フラックス層形成部９１ａ内にはフラックス吐出口９６が開口し、フラックス層形成部９１ａ外のフラックステーブル９１の上面にはフラックス供給ボトル９３の受け口９７が形成され、フラックス吐出口９６と受け口９７とはフラックス供給路９５により連通する。そして、フラックス供給ボトル９３から受け口９７、フラックス供給路９５、およびフラックス吐出口９６を通ってフラックス層形成部９１ａに供給されたフラックス９８は、スキージ９２が水平方向に作動することにより薄膜状のフラックス層となる。
【特許文献１】特開平１０−７５０４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、図１２に示す従来のブレード塗布装置１によると、塗布液供給機構がマスク板４の上方に配置されているので、塗布液６を塗布液供給ノズルからマスク板４上に滴下供給する際、塗布液６の液はねが生じて、その飛沫が光ディスクＤの塗布液層９に付着し、塗布液層９の表面性状を劣化させ、その後の印刷等において不具合を生じる問題があった。また、塗布液６の飛沫により、ブレード塗布装置１の周囲を汚染する虞があった。更に、塗布液６を滴下供給するときに空気を巻き込み、塗布液６内に気泡が混入して良好な塗布液層９の確保が困難となる欠点があった。
飛沫の影響を排除するために、光ディスクから、より離れた位置に供給することも考えられるが、マスク板４の非製品部（助走区間）を必要以上に長く確保することとなり、装置の大型化、塗布液の使用量増大等の不具合となる。
【０００８】
また、塗布液供給ノズルから吐出する塗布液６は、マスク板４上の一点に集中供給されるので、幅の広い塗布面に塗布する場合、塗布液６は横方向、即ち、ブレード５の長手方向に広がり難く、塗布面の全面に亘って厚さが均一な塗布液層９を形成し難かった。即ち、塗布液層９の厚さのバラツキは、縦方向（ブレード５の移動方向）のバラツキに対して横方向（ブレード５の移動方向に直交する方向）のバラツキが大きくなる傾向があり、後の印刷において印刷不良の要因となり、好ましくなかった。また、マスク板４上を往復移動するブレード５との干渉を防止するため、塗布液供給ノズルを昇降させるノズル昇降装置が必要となり、装置が複雑となる問題があった。
【０００９】
特許文献１に開示されているフラックス供給装置１０は、フラックステーブル９１に設けられたフラックス層形成部９１ａ内にフラックス吐出口９６が開口し、該フラックス吐出口９６からフラックス９８を供給するので、上方に配設されたノズルなどからフラックス９８を滴下供給する場合と比較すると、フラックス９８の液はね、空気の巻き込みの虞はない。しかし、フラックス吐出口９６は、製品部であるフラックス層形成部９１ａに形成されているので、フラックス吐出口９６の配置位置や形状などが制限される場合が多く、均一な塗布液層（フラックス層）が得られない虞があった。
【００１０】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、簡単な機構により、どの方向にも均一な厚さを有し、且つ良好な表面性状を有する塗布液層を形成することができるブレード塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る上記目的は、下記構成により達成できる。
（１）  開口を有するマスクを平面基板上に重ね合わせ、前記マスク上に塗布液を供給し、前記マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードにより前記塗布液を前記マスク上に塗布して、前記平面基板上に前記マスクの開口に応じた塗布液層を形成するブレード塗布装置であって、
前記マスク表面から窪んで形成され前記ブレードの移動方向に対して直交する溝と、
前記溝の底部に設けられ前記塗布液を吐出する塗布液吐出口と、
前記塗布液吐出口に塗布液を供給する塗布液供給手段と、
を備えたことを特徴とするブレード塗布装置。
【００１２】
このように構成されたブレード塗布装置によれば、マスク上の溝内の塗布液吐出口から塗布液が供給されると、まず、溝内に塗布液が満たされて、その後、塗布液が溝から盛り上がり、マスク上でブレードと塗布液が接触可能な状態となる。このブレードと接触可能な状態となったときには、塗布液が溝の長手方向に沿って均等に盛られた状態となり、ブレードの長手方向に沿って均等な塗布液の供給が可能となる。また、マスク上方に塗布液供給機構を設けることなく、マスク表面に形成された溝の塗布液吐出口から塗布液を連続的に供給することができる。従って、ブレードの移動機構が塗布液供給機構との干渉を考慮する制約がなくなり、装置全体の機構を簡略化できる。また、液はねや塗布液内への気泡の混入が防止されて塗布液が常に安定して供給される。
【００１３】
（２）  前記塗布液吐出口が、前記溝内で前記ブレード移動方向に直交する方向に沿って複数箇所に配置されたことを特徴とする上記（１）記載のブレード塗布装置。
【００１４】
このように構成されたブレード塗布装置によれば、ブレードの移動方向に直交する方向、即ち、ブレードの長手方向に沿う複数箇所に塗布液を供給することができる。これにより、ブレードの長手方向にも塗布液を均等に供給することができ、塗布液の供給量を均一にすることができる。
【００１５】
（３）  前記溝を前記ブレード移動方向に対して異なる位置で、それぞれ溝の長手方向幅を異ならせて複数列形成したことを特徴とする上記（１）または（２）記載のブレード塗布装置。
【００１６】
このように構成されたブレード塗布装置によれば、塗布液の消費量の多い部分に、複数列の溝を形成し、消費量に見合った多量の塗布液を供給することができる。また、これによって、塗布液層の厚さは、各部で均一な厚さとなる。
【００１７】
（４）  前記溝を前記ブレード移動方向に直交する方向に沿って溝幅を変化させて形成したことを特徴とする上記（１）又は（２）記載のブレード塗布装置。
【００１８】
このように構成されたブレード塗布装置によれば、塗布液消費量の多い塗布面に対応して配置される溝の溝幅を広く形成し、また塗布液消費量の少ない塗布面に対応して配置される溝の溝幅を狭く形成することにより、各部の塗布液消費量に見合った量の塗布液を容易に供給することができる。これにより、各部の塗布液層の厚さを均一化できる。
【００１９】
（５）  前記溝が前記マスクの開口の両脇側に少なくとも一対設けられ、前記ブレードが前記両脇側の溝を通過する位置までの間を移動することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれか１項記載のブレード塗布装置。
【００２０】
このように構成されたブレード塗布装置によれば、ブレードを往復動させると、その移動パス毎に塗布工程を実施することができ、塗布工程のタクトタイムを短縮することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のブレード塗布装置によれば、簡単な機構により、各部の消費量に見合った量の塗布液が安定して供給され、これにより、どの方向にも均一な厚さを有し、且つ良好な表面性状を有する塗布液層を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明に係るブレード塗布装置の好適な実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００２３】
（第１実施形態）
図１は本発明に係るブレード塗布装置の概略を表す構成図、図２は図１に示したブレード塗布装置の外観の概略を表した斜視図である。
【００２４】
本実施の形態によるブレード塗布装置１００は、例えば平面基板の一例であるディスク状記録媒体（光ディスク）Ｄを被塗布部材とする液膜の塗布に用いられる。
まず、ブレード塗布装置１００の基本構成について説明する。
図１に示すように、ブレード塗布装置１００の塗布部１１には、光ディスクＤが吸着載置可能となる円形状の吸着台１３が設けられる。この吸着台１３の上面には複数の吸着孔１５が開口されて、各吸着孔１５には吸引路１７を介して真空ポンプ１９が接続される。吸着台１３は、真空ポンプ１９が作動することで吸着孔１５を介して光ディスクＤを上面に吸着保持することができる。
【００２５】
また、吸着台１３は、昇降軸２１によって下面中央が上下方向に移動自在に支持される。この昇降軸２１の上下移動は、マスク剥離手段の一例であるエアシリンダ２３の駆動によりなされる。そして、吸着台１３の上方にはマスク板（マスク）２５が設けられ、マスク板２５は光ディスクＤの塗布面５７を露出させる開口２７を有している。吸着台１３に載置された光ディスクＤは、エアシリンダ２３の駆動によって昇降軸２１が上昇して、上限位置に到達したときに、外周縁がマスク板２５の開口縁部２５ａによって覆われる。
【００２６】
また、塗布部１１には、光ディスクＤの中央部上方に、マスクキャップ着脱手段２９が具備される。マスクキャップ着脱手段２９は、キャップ吸着ノズル３１と、真空ポンプ３３と、昇降手段３５とからなる。マスクキャップ着脱手段２９は、真空ポンプ３３の駆動によってキャップ吸着ノズル３１の下端に、マスクキャップ３７を吸着保持する。この状態で昇降手段３５が駆動されることで、キャップ吸着ノズル３１が下降して、光ディスクＤの中央部の穴にマスクキャップ３７が挿着されるようになっている。なお、マスクキャップ（センターキャップ）３７は、これに限らず、他の機械的手段で脱着してもよい。例えば、マスクキャップ３７の下方から突き上げてマスク板２５から浮き上がらせ、マスクキャップ３７を、その側方からすくい取る等の方法がある。
【００２７】
開口２７より外側のマスク板２５の表面には、後述するブレード５１の移動方向（図１において左右方向）に対して直交する方向、即ち、紙面に垂直方向に沿って長手方向を有する長溝３９が、マスク板２５の表面より一段低く窪んで形成されている。長溝３９の長手方向長さは、マスク板２５の開口２７の長さ（ブレード５１の移動方向に対して直交する方向長さ）と略同じ長さに設定される。長溝３９の底面には、ブレード５１の移動方向に対して直交する方向に複数の塗布液吐出口４１が形成されている。各塗布液吐出口４１は互いに連通しており、マスク板２５に形成された塗布液供給路４３を介して塗布液供給手段８１に接続されている。塗布液供給手段８１は、塗布液供給ポンプ４５および塗布液タンク４７を備える。そして、塗布液供給ポンプ４５は、塗布液タンク４７に貯留された塗布液４９を圧送して、塗布液吐出口４１から吐出して長溝３９内に供給する。
【００２８】
ここで、塗布液４９は、例えば、液粘度が１５０ｃＰ〜８００ｃＰのものが利用でき、特に、２００ｃＰ〜６００ｃＰの塗布液４９が好適に用いられる。なお、ここでいう液粘度は、２５℃の環境下でＢ型粘度計（ビスメトロン）により測定した値である。
【００２９】
長溝３９のさらに外側には、ブレード５１が待機状態で配置される。換言すれば、塗布液４９は、塗布液吐出口４１からブレード５１の助走区間に供給されることになる。ブレード５１は、移動手段５３によってマスク板２５上を所定の隙間Ｇを保ちながら水平駆動され、前側面５５で塗布液４９を押しながら、図２に示すように、マスク板２５の開口２７によって露出された光ディスクＤの塗布面５７に塗布液４９を塗布するように移動する。
【００３０】
ブレード５１は、図１の紙面垂直方向に長尺に形成されたステンレス材等の金属材料からなり、ブレード５１長手方向に垂直方向の断面形状が、略台形形状に形成されている。また、ブレード５１の下面５９とマスク板２５との間には隙間（ギャップ）Ｇが形成され、塗布液４９はブレード５１の前側面５５により流れが案内されるに伴い押圧されることで、このギャップＧに押し込まれる。そして、塗布面５７に対面するブレード５１の下面（押圧面）５９を通過することで塗布液４９がマスク板２５の開口２７内に充填される。その結果、塗布面５７に塗布液４９が平坦に塗布されるようになる。
【００３１】
上記した真空ポンプ１９、エアシリンダ２３、真空ポンプ３３、昇降手段３５、塗布液供給ポンプ４５、移動手段５３は、それぞれが制御部６３によって動作が制御される。
【００３２】
また、マスク板２５の開口２７は、ブレード５１の長手方向に沿って連続する少なくとも５０ｍｍを超える開口を有することで、詳細を後述する本発明に係るブレード塗布による均一塗布性の効果が顕著となる。本実施の形態においては、開口２７が直径１２０ｍｍ程度の円形状に形成される。
【００３３】
本実施の形態によるブレード塗布装置１００においては、塗布時における塗布液層の膜厚が、少なくとも１００μｍ以上で塗布される。このような１００μｍ以上の厚みで塗布液が塗布される場合、薄膜の塗布の場合と比較して、塗布液層の表面性状は塗布面５７の表面に倣う傾向が低くなり、ブレード５１の形状が大きな影響を及ぼすことになる。つまり、塗布面５７の凹凸に影響されにくく、ブレード５１による塗布液４９の圧力、ブレード５１形状による塗布液４９の濡れ上がり性等が、塗布液層の表面性状を決定する主要因となる。
【００３４】
また、直径１２０ｍｍ程度の比較的大きな塗布面５７に塗布液４９を塗布する場合、塗布必要量に見合った量の塗布液４９がバランスよく供給されることが肝要である。ここで、塗布必要量とは、塗布面５７に塗布される総量での必要量だけでなく、幅の大きい塗布面５７に対して直線移動するブレード５１で塗布する場合、塗布面５７をブレード５１の幅方向に複数に区画し、それぞれの区画ごとの塗布必要量を考慮する必要がある。これは、マスク板２５上に供給された塗布液４９は、ブレード５１の移動方向に伸ばされながら塗布面５７に塗布され、ブレード５１の移動方向と直交する方向にはあまり伸ばされないからである。
【００３５】
本ブレード塗布装置１００は、ディスク状記録媒体の記録層の少なくとも１層を形成するディスク塗布装置として使用する場合、例えばインクジェットプリンタを用いた印刷を行うための印刷層（インク受理層）を形成することができる。このディスク塗布装置によれば、印刷層への印刷の際、良好な色再現性が確保できるように、必要十分な厚みの印刷層を形成することができる。実際には、塗布液層が塗布時１００μｍ程度の厚みであると、乾燥後の目減り時において３０μｍ程度の塗膜が形成され、この３０μｍ程度のインク受理層が良好な色再現性を可能にする。
【００３６】
次に、このブレード塗布装置１００を用いた塗布液の塗布方法を説明する。
図３は本発明に係る塗布方法の手順を（ａ）〜（ｃ）で表した説明図、図４は本発明に係る塗布方法の手順を（ｄ）〜（ｇ）で表した説明図である。
まず、制御部６３の指令により、図３（ａ）に示すように、昇降軸２１の下降位置において、吸着台１３上に光ディスクＤが吸着され、図３（ｂ）に示すように、エアシリンダ２３の駆動によって吸着台１３が上昇して光ディスクＤがマスク板２５の開口縁部２５ａに当接する。次いで、図３（ｃ）に示すように、マスクキャップ着脱手段２９の駆動により、マスクキャップ３７が光ディスクＤの中央穴に挿着される。
【００３７】
そして、図４（ｄ）に示すように、塗布液４９が塗布液供給手段８１により塗布液吐出口４１から吐出して長溝３９内に溜まり、やがて長溝３９から盛り上がるようにマスク板２５上（ブレード５１の助走区間）に供給される。このとき、複数の塗布液吐出口４１は互いに連通しているので、塗布液４９は複数の塗布液吐出口４１から同一のタイミングで供給される。供給される塗布液４９の量は、光ディスクＤの塗布面５７の面積により必要量が適宜調整される。
【００３８】
ここで、塗布液４９の供給について図５を参照して詳述する。図５（ａ）〜（ｅ）は塗布液吐出口から吐出する塗布液が長溝に溜まる状態を示す平面図である。図５に示すように、長溝３９内に形成された複数の塗布液吐出口４１から吐出する塗布液４９は、吐出初期において、その表面張力により互いに独立した平面形状円形（実質は半球状）であるが（ａ）、吐出量が多くなるに従って横方向に広がり、長溝３９の長辺３９ａに案内されて次第に平面形状楕円形となる（ｂ）。塗布液４９が更に供給されると、独立していた平面形状楕円形の両端同士が接触して繋がり（ｃ）、やがて長溝３９内が塗布液４９で充満し（ｄ）、ついには長溝３９から溢れ出して平面形状長円形となって長溝３９上に盛り上がり（ｅ）、必要量の塗布液４９が供給される。
【００３９】
この状態においては、溢れるように長溝３９上に溜まった塗布液４９は、レベリング効果により長溝３９の長手方向に流れて長手方向に均等な量の塗布液４９が供給される。即ち、各塗布液吐出口４１から供給される塗布液４９の供給量に多少のバラツキがあっても、長溝３９内に一時貯留することにより、最終的にはレベリング効果によって塗布液４９は長溝３９の長手方向（即ち、ブレード５１の長手方向）に均等な量となる。
【００４０】
図４（ｅ）に示すように、ブレード５１は、長溝３９に一時貯留されてブレード５１の長手方向に均等な量が供給された塗布液４９を押圧しながら、移動手段５３によって図中右方から左方に移動する。すると、ブレード５１が光ディスクＤの塗布面５７を塗布液４９と共に通過して、光ディスクＤの塗布面５７に所定厚の塗布液層が形成される。
【００４１】
尚、塗布液吐出口４１から長溝３９内、即ち、マスク板２５上に供給される塗布液４９の供給量は、一回の塗布により光ディスクＤの塗布面５７に塗布される量より僅かに多い程度に設定されているので、ブレード５１が移動終端位置（図において左端）に達したときには、殆ど残っていることはない。また、塗布液４９は、長溝３９内に一時溜められて長溝３９の長手方向に均等な量とした後、塗布されるので、塗布液がノズルなどから集中供給される場合と比較すると、塗布液層の厚さを遥かに均一なものとすることができる。
なお、塗布液４９としては、光ディスクＤにインク受理層を形成するための塗布液４９である表１に示す組成物が例示される。
【００４２】
【表１】
2006231194.tif 000003
【００４３】
次いで、図４（ｆ）に示すように、マスクキャップ着脱手段２９が駆動され、マスクキャップ３７が光ディスクＤから脱着される。これにより、光ディスクＤの中央部には塗布液４９の塗布されない円形段部６９が形成されることとなる。次いで、図４（ｇ）に示すように、エアシリンダ２３の駆動によって吸着台１３が下降することにより、マスク板２５の開口縁部２５ａから光ディスクＤが下方へと離反される。これにより、塗布面５７に塗布された塗布液４９は、マスク板２５上の塗布液４９と剪断により分離される。この結果、光ディスクＤの外周縁にはマスク板２５に覆われていたことで、塗布液４９の塗布されていない非塗布部７１が形成されることとなる。
なお、マスク板２５の開口形状を適宜変更することによって、塗布部の形状は自由に設定できる。
【００４４】
このようにして塗布液４９の塗布が完了した光ディスクＤは、図示は省略するが、吸着台１３から取り外され、次工程の塗布液４９の乾燥工程へと移送される。同時に、移動手段５３によってブレード５１が図中左方から右方に移動して元の位置に戻り、次の塗布液４９の塗布準備を行う。
【００４５】
なお、上記のブレード塗布装置１００においては、ブレード５１をステンレス材により形成したが、本発明はこれに限らず、例えば樹脂材料や硬質ゴムであってもよい。また、本実施形態では、光ディスクの印刷面の塗布に本ブレード塗布装置を用いているが、対象物はこれに限らず、厚膜を形成するものであれば、種々の対象物に塗布することができる。
【００４６】
（第２実施形態）
図６は第２実施形態のブレード塗布装置の外観の概略を表した斜視図、図７は図６に示したブレード塗布装置の縦断面図、図８は本発明に係る塗布方法の手順を（ａ）〜（ｆ）で表した説明図である。
【００４７】
図６および図７に示すように、第２実施形態のブレード塗布装置２００は、ブレード５１の往動および復動のそれぞれの移動時に、ブレード５１が光ディスクＤの塗布面５７に塗布液４９を塗布して所定厚の塗布液層を形成する。マスク板２５の開口２７の両脇側、更に詳細にはブレード５１の移動方向において開口２７の両脇側に、ブレード５１の移動方向と直交する方向に長手方向を一致させて、マスク板２５の表面から一段低く掘り込まれた一対の長溝３９（３９Ａ，３９Ｂ）が形成されている。それぞれの長溝３９（３９Ａ，３９Ｂ）の底部には、複数の塗布液吐出口４１（４１Ａ，４１Ｂ）が設けられている。
【００４８】
複数の塗布液吐出口４１（４１Ａ，４１Ｂ）は、マスク板２５に形成された塗布液供給路４３（４３Ａ，４３Ｂ）を介して塗布液供給手段８１に接続されている。塗布液供給手段８１は、切替弁８３、塗布液供給ポンプ４５および塗布液タンク４７を備える。塗布液供給手段８１は、切替弁８３で塗布液供給ポンプ４５に連通する供給路を塗布液供給路４３Ａまたは塗布液供給路４３Ｂに切り換え、塗布液タンク４７に貯留された塗布液４９を塗布液供給ポンプ４５により塗布液吐出口４１Ａまたは塗布液吐出口４１Ｂから吐出して長溝３９Ａまたは長溝３９Ｂ内に供給する。
【００４９】
ブレード５１は、開口２７の両脇側に設けられた一対の長溝３９Ａ，３９Ｂを通過する位置、換言すれば、一対の長溝３９Ａ，３９Ｂの外側までの間を移動する。また、ブレード５１は、長手方向に垂直方向の断面形状が、下方部分で先細りとなる略６角形に形成されており、両側面に塗布液４９の流れを案内する傾斜面である前側面５５Ａ、および後側面５５Ｂが形成されている。そして、ブレード５１の往動時には前側面５５Ａで塗布液４９を押圧し、ブレード５１の復動時には後側面５５Ｂで塗布液４９を押圧して光ディスクＤの塗布面５７に塗布液４９を塗布する。
その他の部分は、第１実施形態のブレード塗布装置１００と同様であるので、同一部分には同一符合または相当符合を付して説明を簡略化、または省略する。
【００５０】
次に、このブレード塗布装置２００を用いた塗布液の塗布方法を説明する。
図８は本発明に係る塗布方法の手順を（ａ）〜（ｆ）で表した説明図である。
まず、制御部６３の指令により、図８（ａ）に示すように、昇降軸２１の下降位置において、吸着台１３上に光ディスクＤが吸着された後、エアシリンダ２３の駆動によって吸着台１３が上昇して光ディスクＤがマスク板２５の開口縁部２５ａに当接する。次いで、図８（ｂ）に示すように、切替弁８３を塗布液供給路４３Ａに切り換え、塗布液タンク４７に貯留された塗布液４９をブレード５１が待機している側の塗布液吐出口４１（図８においては左側の塗布液吐出口４１Ａ）から吐出して長溝３９Ａに供給する。長溝３９Ａの底部に形成された複数の塗布液吐出口４１Ａから吐出した塗布液４９は、レベリング効果によって次第に長溝３９Ａ内に広がり、長溝３９Ａの形状に沿った平面形状長円形となって盛り上がる（図５参照）。このとき、塗布液４９は、長溝３９Ａの長手方向に均等な量となっている。
【００５１】
図８（ｃ）に示すように、塗布液吐出口４１Ａから所定量（光ディスクＤに一回の塗布を行うのに必要な量）の塗布液４９が長溝３９Ａに供給されると、ブレード５１が移動手段５３によって図中左方から右方に塗布液４９を押圧しながら移動して光ディスクＤの塗布面５７に所定厚の塗布液層が形成される。塗布液４９はブレード５１の長手方向に均等な量が供給されているので、塗布面５７に塗布される塗布液層の厚さも均一となる。そして、ブレード５１は、長溝３９Ｂを通過して右移動終端位置に達して停止する。このとき、塗布液４９は塗布面５７の塗布に消費されて殆ど残っていない。次いで、図８（ｄ）に示すように、エアシリンダ２３の駆動によって、吸着台１３が下降することによりマスク板２５の開口縁部２５ａから光ディスクＤが下方へと離反される。これにより、塗布面５７に塗布された塗布液４９は、マスク板２５上の塗布液４９と剪断により分離される。そして、吸着台１３の下降位置において、塗布液４９の塗布が完了した光ディスクＤが取り外されて次工程の塗布液４９の乾燥工程へと移送される。
【００５２】
次に、図８（ｅ）に示すように、吸着台１３上に新しい光ディスクＤ（未塗布の光ディスク）が吸着され、エアシリンダ２３の駆動によって吸着台１３が上昇して光ディスクＤがマスク板２５の開口縁部２５ａに当接する。光ディスクＤの交換作業と同時に、切替弁８３は塗布液供給路４３を塗布液供給路４３Ａから塗布液供給路４３Ｂに切り換え、所定量の塗布液４９を複数の塗布液吐出口４１Ｂから吐出して長溝３９Ｂ内に供給する。複数の塗布液吐出口４１Ｂ、換言すれば、複数箇所に供給された塗布液４９は、先と同様にレベリング効果により長溝３９Ｂ内に広がり、やがてそれぞれが繋がって一体となり長溝３９Ｂの形状に沿った平面形状長円形に盛り上がる。これにより、長溝３９Ｂに供給された塗布液４９も、ブレード５１の長手方向に均等となる。そして、図８（ｆ）に示すように、ブレード５１が移動手段５３によって図中右方から左方に塗布液４９を押圧しながら移動して光ディスクＤの塗布面５７に所定厚の塗布液層を形成する。
【００５３】
以後、同様に動作を繰り返し行って、ブレード５１の往動および復動において、塗布液４９を塗布して光ディスクＤの塗布面５７に所定厚の塗布液層を形成し、効率よく塗布液４９が光ディスクＤに塗布される。
【００５４】
本実施形態のブレード塗布装置２００によれば、複数の塗布液吐出口４１から供給された塗布液４９は、長溝３９内でブレード５１の長手方向に広がり、やがてそれぞれが繋がって平面形状長円形の一体となって盛り上がり、ブレード５１の長手方向に均等な量の塗布液４９が供給される。そして、光ディスクＤの塗布面５７の幅（ブレード５１の長手方向の長さ）と略同じ幅に横方向に広がって１つの塊となった塗布液４９を、ブレード５１が押圧しながら移動して塗布するので、従来、横方向（ブレード５１の長手方向）に厚さのバラツキができ易かった、即ち、ブレード５１の移動方向と平行にスジができ易かった光ディスクＤの塗布面５７に均一な厚さの塗布液層を形成することができる。
【００５５】
（第３実施形態）
図９は第３実施形態のブレード塗布装置の要部縦断面図である。
図９に示すように、第３実施形態のブレード塗布装置３００は、ブレード５１の移動方向においてマスク板２５の開口２７の両脇側に、ブレード５１の移動方向と直交する方向に長手方向を一致させて、長さＬ１の一対の長溝３９（３９Ａ，３９Ｂ）がマスク板２５の表面から一段低く掘り込まれて形成されている。それぞれの長溝３９Ａ，３９Ｂの開口２７側には、更に長さＬ２の一対の補助長溝３９Ｃ，３９Ｄが長溝３９Ａ，３９Ｂと平行に形成されている。
【００５６】
長溝３９Ａ，３９Ｂの長さＬ１は、マスク板２５の開口２７の幅（ブレード５１の移動方向と直交する方向の長さ）と略同じであり、補助長溝３９Ｃ，３９Ｄの長さＬ２は、長溝３９Ａ，３９Ｂの長さＬ１より短くなっている（Ｌ１＞Ｌ２）。それぞれの長溝３９（３９Ａ，３９Ｂ，３９Ｃ，３９Ｄ）の底部には、複数の塗布液吐出口４１（４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃ，４１Ｄ）が設けられている。
その他の部分は、第２実施形態のブレード塗布装置２００と同様であるので、同一部分には同一符合または相当符合を付して説明を簡略化、または省略する。
【００５７】
一対の長溝３９Ａ，３９Ｂ、および長溝３９Ａ，３９Ｂの長さＬ１より短い長さＬ２の補助長溝３９Ｃ，３９Ｄを有するブレード塗布装置３００は、塗布面５７をブレード５１の移動方向と直交する方向に複数の区画に区分けしたとき、それぞれの区画の面積が異なるような形状の塗布面に塗布液４９を塗布する場合、極めて有効に作用して、均一な厚さを有する塗布液層を形成することができる。即ち、広い面積を有する区画に対応させて補助長溝３９Ｃ，３９Ｄを配置することにより、部分的に塗布液４９の供給量を増量して、長溝３９Ａ，３９Ｂからの供給量だけでは不足する塗布液４９を補充する。
【００５８】
図１０は光ディスクの塗布面に塗布液を塗布する場合の塗布液供給量（ａ）と、塗布面の面積（ｂ）を示す図である。図１０（ｂ）に示すように、光ディスクＤの塗布面５７をブレード５１の移動方向と直交する方向に複数の区画に区分けしたとき、それぞれの区画の面積（塗布面積）Ｓは、塗布面５７の両端部が少なく、中心に向かうに従って次第に増加する。塗布面５７の中心部には塗布液４９が塗布されないマスクキャップ３７が挿着されているので、面積Ｓは中心部が少なくなった中凹み形状となる。
【００５９】
一方、図９に示すように、光ディスクＤの塗布面５７の幅と同じ長さＬ１を有する長溝３９Ａ，３９Ｂ、および塗布面５７の中心に対応して配置された長さＬ２の補助長溝３９Ｃ，３９Ｄを有するブレード塗布装置３００による塗布液４９の供給量は、図１０（ａ）に示すように、中心付近の供給量が補助長溝３９Ｃ，３９Ｄによって増量された略２段ピラミッド形となる。従って、多くの塗布液４９を必要とする塗布面５７の中心部には多くの塗布液４９が供給されるので、光ディスクＤの塗布面５７に均一な厚さの塗布液層を形成することができる。
【００６０】
尚、第３実施形態のブレード塗布装置においては、補助長溝の位置を中心に配置して光ディスクの円形塗布面に対応するようにしたが、マスク板の開口形状、即ち、塗布面積に応じて補助長溝の位置を大きな塗布面積を有する塗布部に対応して配置することができ、これにより、所望の供給分布となるように供給量を調整して塗布液を供給することができる。
また、長溝３９Ａと補助長溝３９Ｃの溝同士、及び長溝３９Ｂと補助長溝３９Ｄの溝同士を互いに連通させることにより、それぞれの溝に設けていた塗布液吐出口を共通化して、例えば、長溝３９Ａ，３９Ｂの塗布液吐出口４１Ａ，４１Ｂで両溝に塗布液を供給する構成にできる。
なお、ここでは、ブレードの往復動において塗布液を塗布するものとして説明したが、長溝および補助長溝を開口の一方側に配置してブレードの往動時にのみ、塗布液を塗布するようにしてもよいことは言うまでもない。この場合には、更にブレード塗布装置の機構を簡素化できる。
【００６１】
（第４実施形態）
図１１は第４実施形態のブレード塗布装置に装備されるマスク板の要部拡大平面図である。
図１１に示すように、第４実施形態のマスク板２５は、開口２７の外側に、幅Ｗが中央から端部に向かうに従って次第に狭くなる略菱形の菱形長溝９１が、マスク板２５の表面から一段低くされて形成されている。菱形長溝９１の底部には、図示しない塗布液供給手段に接続された複数の塗布液吐出口９３（９３Ａ，９３Ｂ）が設けられている。菱形長溝９１の長手方向中央の幅の広い底部に設けられた塗布液吐出口９３Ａの穴径は、他の塗布液吐出口９３Ｂの穴径よりも大きく、より多くの塗布液４９が吐出される。
【００６２】
塗布液４９は、塗布液供給手段によって複数の塗布液吐出口９３（９３Ａ，９３Ｂ）から吐出して菱形長溝９１内に供給される。複数の塗布液吐出口９３（９３Ａ，９３Ｂ）から吐出した塗布液４９は、吐出初期においては菱形長溝９１内で互いに独立しているが、吐出量が増えるのに伴ってレベリング効果により菱形長溝９１内に広がり、やがてそれぞれが繋がって一体となって盛り上がる。このとき、菱形長溝９１の中央部は幅Ｗが広いので、より多くの塗布液４９が供給されている。このような菱形長溝９１は、中央部の塗布面積が大きい被塗布体、例えば光ディスクＤの塗布面５７（図９参照）の塗布に用いるのに好適である。
【００６３】
長溝の形状は菱形に限定されるものではなく、開口の形状、即ち、塗布面積に応じて任意の形状とすることができる。より具体的には、塗布面積が大きい部分に対応する長溝の幅を大きくすることにより、多くの塗布液が必要となる部分に多くの塗布液を供給するようにして、所望の供給分布となるように供給量を調整して塗布液を供給することができる。
これによって均一な厚さを有する塗布液層を形成することができる。また、部分的に多くの塗布液を供給する場合、塗布液吐出口の穴径を大きくする以外に、塗布液吐出口の配置密度を高めて対応するようにしてもよい。
【００６４】
なお、本発明に係るブレード塗布装置は、前述した各実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形や改良等が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明に係る第１実施形態のブレード塗布装置の概略を表す構成図である。
【図２】図１に示したブレード塗布装置の外観の概略を表した斜視図である。
【図３】第１実施形態のブレード塗布装置に係る塗布方法の手順を（ａ）〜（ｃ）で表した説明図である。
【図４】第１実施形態のブレード塗布装置に係る塗布方法の手順を（ｄ）〜（ｇ）で表した説明図である。
【図５】（ａ）〜（ｅ）は塗布液吐出口から吐出する塗布液が時間経過と共に長溝に溜まる状態を示す平面図である
【図６】第２実施形態のブレード塗布装置の外観の概略を表した斜視図である。
【図７】図６に示したブレード塗布装置の縦断面図である。
【図８】第２実施形態のブレード塗布装置に係る塗布方法の手順を（ａ）〜（ｆ）で表した説明図である。
【図９】第３実施形態のブレード塗布装置の外観の概略を表した斜視図である。
【図１０】光ディスクの塗布面に塗布液を塗布する場合の塗布液供給量（ａ）と、塗布面の面積分布（ｂ）を示す図である。
【図１１】第４実施形態のブレード塗布装置に装備されるマスク板の要部拡大平面図である。
【図１２】従来のディスク塗布装置により塗布液を塗布する状態を示し、（ａ）はブレードにより光ディスクに塗布液が塗布された状態を示す斜視図、（ｂ）はマスク板から光ディスクが離反した状態を示す斜視図である。
【図１３】特許文献１に開示されたフラックス供給装置を示し、（ａ）はフラックス供給装置の要部斜視図、（ｂ）は（ａ）におけるＰ−Ｐ矢視縦断面図である。
【符号の説明】
【００６６】
２５  マスク
２７  開口
３９Ａ，３９Ｂ  長溝（溝）
３９Ｃ，３９Ｄ  補助長溝（溝）
４１（４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃ，４１Ｄ）  塗布液吐出口
４９  塗布液
５１  ブレード
８１  塗布液供給手段
９１  菱形長溝（溝）
９３（９３Ａ，９３Ｂ）    塗布液吐出口
１００  ブレード塗布装置
２００  ブレード塗布装置
３００  ブレード塗布装置
Ｄ    光ディスク（平面基板）
Ｌ１  長溝の長さ（溝の長手方向幅）
Ｌ２  補助長溝の長さ（溝の長手方向幅）
Ｗ    溝幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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