(57)【要約】【課題】  液晶表示装置の周縁で発生する光漏れを最少化する。【解決手段】  表示領域を有する第１絶縁基板２１０、第１絶縁基板上に形成されて開口部を有する反射板１９４、反射板上に形成されて互いに異なるカラーを有する複数のカラーフィルタ２３０Ｒ，２３０Ｇ，２３０Ｂ、表示領域を定義し、第１絶縁基板の周縁に形成され、少なくとも一色以上の前記カラーフィルタと同一の物質からなる遮光パターン２２０、カラーフィルタ上に形成されている共通電極を有するカラーフィルタ表示板２００、第１絶縁基板と対向する第２絶縁基板１１０、第２絶縁基板上に形成され、絶縁されて交差するゲート線及びデータ線、ゲート線及びデータ線で囲まれた領域に形成され、ゲート線及びデータ線と接続されている薄膜トランジスタ、前記領域に形成され、薄膜トランジスタと接続されている画素電極を有する薄膜トランジスタ表示板１００、カラーフィルタ表示板と薄膜トランジスタ表示板の間に充填されている液晶層を備える。【選択図】            図２
2006091886.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１絶縁基板、前記第１絶縁基板上に形成されて開口部を有する反射板、前記反射板上に形成された複数のカラーフィルタ、前記第１絶縁基板の周囲に形成されて表示領域を定義し少なくとも一色の前記カラーフィルタと同一の物質からなる遮光パターン、前記カラーフィルタ上に形成されている共通電極を有するカラーフィルタ表示板と、
前記第１絶縁基板と対向する第２絶縁基板、前記第２絶縁基板上に形成され、絶縁されて交差するゲート線及びデータ線、前記ゲート線及び前記データ線に接続されている薄膜トランジスタ、前記領域に形成され、前記薄膜トランジスタと接続されている画素電極を有する薄膜トランジスタ表示板と、
前記カラーフィルタ表示板と前記薄膜トランジスタ表示板の間に充填されている液晶層とを備える液晶表示装置。
【請求項２】
前記表示領域の周縁に形成され、前記液晶層を封止する封止材をさらに有し、
前記遮光パターンが前記封止材より内側に形成されている請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記表示領域の周縁に形成され、前記液晶層を封止する封止材をさらに有し、
前記封止材が前記遮光パターン上に形成されている請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記カラーフィルタは、赤、緑、青のカラーフィルタからなり、
前記遮光パターンは、前記赤、緑、青のカラーフィルタの少なくとも一つのカラーフィルタと同一の物質からなる請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記遮光パターンは、赤及び青のカラーフィルタからなる請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記遮光パターンの一部分が前記反射板と重畳している請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記開口部が前記領域の一部を占めている請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記反射板が凹凸を有している請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記カラーフィルタ表示板は、前記第１絶縁基板上に形成され、凹凸を有する絶縁膜をさらに有する請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記カラーフィルタ上に形成されている層間絶縁膜をさらに有する請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
絶縁基板と、
前記絶縁基板上に形成されて開口部を有する反射板と、
前記反射板上に形成されている複数のカラーフィルタと、
前記絶縁基板の周縁に形成されて表示領域を定義し、少なくとも一つの前記カラーフィルタと同一の層からなる遮光パターンと、
前記カラーフィルタ上に形成されている共通電極と、を有するカラーフィルタ表示板。
【請求項１２】
前記カラーフィルタは、赤、緑、青のカラーフィルタからなり、
前記遮光パターンは、前記赤、緑、青のカラーフィルタの少なくとも二つのカラーフィルタと同一の物質からなる請求項１１に記載のカラーフィルタ表示板。
【請求項１３】
前記遮光パターンは、赤及び青のカラーフィルタからなるカラーフィルタ表示板。
【請求項１４】
前記遮光パターンの一部分が前記反射板と重畳している請求項１１に記載のカラーフィルタ表示板。
【請求項１５】
前記反射板が凹凸を有している請求項１１に記載のカラーフィルタ表示板。
【請求項１６】
前記基板上に形成され、凹凸を有する絶縁膜をさらに有する請求項１１に記載のカラーフィルタ表示板。
【請求項１７】
前記カラーフィルタ上に形成されている層間絶縁膜をさらに有する請求項１１に記載のカラーフィルタ表示板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ表示板及びこれを含む液晶表示装置に関し、特に半透過型液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、現在最も広く使用されている平板表示装置の一つであって、電界生成電極が形成されている二枚の表示板とその間に挿入されている液晶層からなり、電極に電圧を印加して液晶層の液晶分子を再配列することによって、液晶層を通過する光の透過率を調節する表示装置である。
【０００３】
液晶表示装置のうち現在の主流は、両基板に電極が各々備えられ、電極に印加される電圧をスイッチングする薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を有している液晶表示装置であり、薄膜トランジスタは、両基板のうちの一方に形成されているものが一般的である。
【０００４】
液晶表示装置は、その光源として別途のバックライトを用いるか、あるいは外部光を反射して用いるかによって、透過型液晶表示装置と反射型液晶表示装置とに分類され、反射型または透過型を混合した半透過型液晶表示装置も開発されている。
【０００５】
反射型と透過型を混合した半透過型液晶表示装置において、反射板をカラーフィルタ表示板に形成する場合、反射板がブラックマトリックスの役割を果たすため、ブラックマトリックスを省略することができるので、工程が単純化できる。
【０００６】
この場合、液晶表示装置の表示領域には光漏れが発生しないが、液晶表示装置の周縁には外部から入る光が反射板によって反射されて、光漏れを誘発するという問題点がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の技術的課題は、液晶表示装置の周縁で発生する光漏れを最少化することができるカラーフィルタ表示板及びこれを含む液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するための本発明による液晶表示装置は、表示領域を有する第１絶縁基板、第１絶縁基板上に形成されて開口部を有する反射板、反射板上に形成され、互いに異なるカラーを有する複数のカラーフィルタ、表示領域を定義し、第１絶縁基板の周囲に形成され、少なくとも一色以上の前記カラーフィルタと同一の物質からなる遮光パターン、カラーフィルタ上に形成されている共通電極を有するカラーフィルタ表示板、第１絶縁基板と対向する第２絶縁基板、第２絶縁基板上に形成され、絶縁されて交差するゲート線及びデータ線、ゲート線及びデータ線で囲まれた領域に形成され、ゲート線及びデータ線と接続されている薄膜トランジスタ、前記領域に形成され、薄膜トランジスタと接続されている画素電極を有する薄膜トランジスタ表示板、カラーフィルタ表示板と薄膜トランジスタ表示板の間に充填されている液晶層を有する。
【０００９】
ここで、表示領域の周縁に形成され、液晶層を封止する封止材をさらに有することができ、遮光パターンは、封止材より内側に形成されることが好ましい。
【００１０】
または、表示領域の周縁に形成され、前記液晶層を封止する封止材をさらに有し、封止材が前記遮光パターン上に形成されていることが好ましい。
【００１１】
なお、カラーフィルタは、赤、緑、青のカラーフィルタからなり、遮光パターンは、赤、緑、青のカラーフィルタの少なくとも二つのカラーフィルタと同一の物質からなることが好ましい。
【００１２】
ここで、遮光パターンは赤及び緑のカラーフィルタからなることが好ましい。
【００１３】
また、遮光パターンの一部分が反射板と重畳することが好ましい。
【００１４】
また、開口部が前記領域の一部を占めることが好ましい。
【００１５】
また、反射板が凹凸を有することが好ましい。
【００１６】
また、カラーフィルタ表示板は、第１絶縁基板上に形成され、凹凸を有する絶縁膜をさらに有することができる。
【００１７】
また、カラーフィルタ上に形成されている層間絶縁膜をさらに有することができる。
【００１８】
前記他の目的を達成するための本発明によるカラーフィルタ表示板は、表示領域を有する絶縁基板、第１絶縁基板上に形成されて開口部を有する反射板、反射板上に形成されているカラーフィルタ、表示領域を定義し、第１絶縁基板の周囲に形成され、カラーフィルタと同一の物質からなる遮光パターン、カラーフィルタ上に形成されている共通電極を有する。
【００１９】
ここで、カラーフィルタは、赤、緑、青のカラーフィルタからなり、遮光パターンは、赤、緑、青のカラーフィルタの少なくとも二つのカラーフィルタと同一の物質からなることが好ましい。
【００２０】
また、遮光パターンは、赤及び緑のカラーフィルタからなることが好ましい。
【００２１】
また、遮光パターンの一部分が前記反射板と重畳することが好ましい。
【００２２】
また、反射板が凹凸を有することが好ましい。
【００２３】
また、基板上に形成されて凹凸を有する絶縁膜をさらに有することができる。
【００２４】
また、カラーフィルタ上に形成されている層間絶縁膜をさらに有することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明による液晶表示装置は、カラーフィルタを利用して遮光パターンを形成することによって、別途の追加工程なしにカラーフィルタを利用して液晶表示装置の周縁で発生する光漏れを完全に遮断することができ、液晶表示装置の表示品質が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、添付した図面を参照して、本発明の実施形態を、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように詳細に説明する。しかし、本発明は、多様な形態で実現することができ、ここで説明する実施形態には限定されない。
【００２７】
図面は、各種層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示している。明細書全体を通じて類似した部分については同一の参照符号を付けている。層、膜、領域、板などの部分が、他の部分の“上に”あるとする時、これは他の部分の“すぐ上に”ある場合に限らず、その中間に更に他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の“すぐ上に”あるとする時、これは中間に他の部分がない場合を意味する。
【００２８】
本発明の実施形態に係る下部表示板及びこれを含む液晶表示装置について、図面を参照して詳細に説明する。
【００２９】
図１は、本発明の一実施形態に係る半透過型液晶表示装置の概略的な配置図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ´線に沿った断面図である。
【００３０】
図１及び図２に示すように、本発明の実施形態に係る液晶表示装置は、互いに対向する薄膜トランジスタ表示板１００と、カラーフィルタ表示板２００と、これらの間に充填されている液晶層３とを有する。
【００３１】
上部に位置する薄膜トランジスタ表示板１００には、絶縁されて交差する複数のゲート線１２１とデータ線１７１が形成されている。なお、ゲート線１２１及びデータ線１７１と接続され、ゲート線１２１とデータ線１７１によって定義される複数の画素領域Ｐに、各々薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）及び薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と接続されている画素電極（図示せず）が形成されている。複数の画素領域Ｐが集まって液晶表示装置の映像を表示する表示領域Ｄを構成する。
【００３２】
ここで、ゲート線１２１及びデータ線１７１の一端部は、外部信号の入力を受けるために表示領域Ｄを離れた周辺領域までに延びており、これらはペン状に群集している。液晶表示装置において、信号線１２１、１７１の端部が集まっており、表示領域Ｄを除く残りの部分を周辺領域という。
【００３３】
一方、下部に位置するカラーフィルタ表示板２００上には、凹凸を有する絶縁膜１９３と絶縁膜１９３の凹凸に沿って形成されている反射板１９４が形成されている。なお、反射板１９４上には、液晶表示装置の周縁の光漏れを防止するため、表示領域Ｄの外部に閉曲線状に遮光パターン２２０が形成されている。ここで、カラーフィルタ表示板２００に反射板１９４が形成されて、薄膜トランジスタ表示板１００側に光が放出される。
【００３４】
遮光パターン２２０は、カラーフィルタ表示板２００の表示領域Ｄのカラーフィルタと同一の物質からなり、少なくとも２層以上の複数層２３１、２３２、２３３からなる。例えば、赤色及び緑色のカラーフィルタと同一の物質で重畳して形成したり、赤、緑、青のカラーフィルタと同一の物質を重畳したりして形成することが好ましい。
【００３５】
本発明の実施形態のように、遮光パターン２２０を形成することによって、外部光が反射板１９４に入射されることを最少化することができ、反射板１９４に入射されても、外部に放出できず液晶表示装置の周縁で発生し得る光漏れを完全に防ぐことができる。
【００３６】
また、遮光パターン２２０は、表示領域Ｄのカラーフィルタと同一の物質からなるため、別途の追加工程が不要である。
【００３７】
このような薄膜トランジスタ表示板１００とカラーフィルタ表示板２００の間には、封止材２６０が形成されており、封止材２６０は二つの表示板２００の間に充填された液晶層３を封止する。図１及び図２のように、遮光パターン２２０が封止材３１０より内側、つまり表示領域Ｄにより近く形成されている。
【００３８】
なお、液晶表示装置は、光を発生する光発生部（図示せず、バックライト）を有し、外部から提供される光を偏光する偏光板が二つの表示板１００、２００の内側または外側に付着（図示せず）されている。
【００３９】
また、液晶表示装置の位相差を補償するための別途の位相差フィルム（図示せず）を有することができる。
【００４０】
次に、図３及び図４を参照して本発明の実施形態に係る液晶表示装置の一画素について詳細に説明する。
【００４１】
図３は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の一画素に対する配置図であり、図４は、図３のＶＩ−ＶＩ´線に沿った断面図である。
【００４２】
図３及び図４に示すように、カラーフィルタ表示板２００は、透明な絶縁基板２１０上に有機物質などからなり、凹凸を有する絶縁膜１９３が形成されている。
【００４３】
なお、絶縁膜１９３上には、絶縁膜１９３の凹凸に沿って反射板１９４が形成されている。絶縁膜１９３の凹凸は、反射板１９４が凹凸を有するようにして、反射板１９４に入射される光の反射を良くする。反射板１９４は、反射効率を向上するため、アルミニウムまたはアルミニウム合金などで形成されている。
【００４４】
そして、反射板１９４は、基板全体に形成され、画素毎に一定の大きさの開口部１９５を有する。以下、開口部１９５と対応する領域を透過部ＴＡとし、透過部ＴＡを除く反射板１９４と対応する領域を反射部ＲＡという。
【００４５】
反射板１９４上には、赤、緑、青のカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３９Ｂが各画素に形成されており、図１に示すように、表示領域Ｄの周縁に沿って遮光パターン２２０が形成されている。各カラーフィルタの境界線は、ゲート線またはデータ線上に位置する。
【００４６】
遮光パターン２２０は、赤、緑、青のカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと同一の物質からなり、赤、緑、青のカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂのうちの少なくとも二層以上が積層されてなる。積層順序は、表示領域Ｄに形成されるカラーフィルタの形成順に応じて異なる場合がある。
【００４７】
また、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、各々光孔（ｌｉｇｈｔ  ｈｏｌｅ）ＬＨ１、ＬＨ２、ＬＨ３を有する。これは、透過部ＴＡと反射部ＲＡの光経路差を補償するためのものである。即ち、反射部ＲＡに入射される光がカラーフィルタを通って反射板１９４に反射され、再びカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを通って外部へ出されるため、透過部ＴＡで入射された光がカラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを１度通過してから外部へ出されるものに比べて光の経路が二倍ほど長い。このような経路差は、色の彩度変化をもたらすため、反射部ＲＡに光孔を形成して、反射部ＲＡと透過部ＴＡの光経路差による彩度差を減らす。
【００４８】
この時、緑色２３０Ｇは、視認性が青色２３０Ｂまたは赤色２３０Ｒより高いため、青色２３０Ｂまたは赤色２３０Ｒの光孔ＬＨ１、ＬＨ３より光孔ＬＨ２の面積を広く形成する。本発明の実施形態では、画素を横切り光孔ＬＨ１、ＬＨ２、ＬＨ３を長く形成して光孔ＬＨ１、ＬＨ２、ＬＨ３の面積を異にしているが、同一の大きさで光孔ＬＨ１、ＬＨ２、ＬＨ３を形成（図示せず）し、その形成個数を異にして彩度差を減少させることもできる。
【００４９】
なお、カラーフィルタ２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂ上には、平坦化のための層間絶縁膜２５０が形成されている。そして、層間絶縁膜２５０上には透明な導電物質であるＩＴＯまたはＩＺＯなどからなる共通電極２７０が形成されている。共通電極２７０上には配向膜２１が形成されている。
【００５０】
一方、カラーフィルタ表示板２００に対向する薄膜トランジスタ表示板１００は、絶縁基板１１０上にゲート信号を伝達する複数のゲート線１２１が形成されている。
【００５１】
ゲート線１２１は、主に横方向に延びており、各ゲート線１２１の一部は突出した形態で複数のゲート電極１２４をなし、ゲート線１２１の他の一部は、画素領域に突出して複数の拡張部１２７を構成する。
【００５２】
ゲート線１２１は、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などのアルミニウム系金属などからなる導電膜を有し、このような導電膜に加えて他の物質、特にＩＴＯまたはＩＺＯとの物理的、化学的、電気的な接触特性が良いクロム（Ｃｒ）、チタニウム（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）及びこれらの合金「例：モリブデン−タングステン（ＭｏＷ）合金」などからなる他の導電膜を有する多層膜構造を有することもできる。下部膜と上部膜の組み合わせの例としては、アルミニウム／モリブデン、またはアルミニウム−ネオジム（ＡｌＮｄ）合金などが挙げられる。
【００５３】
ゲート線１２１上には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）などからなるゲート絶縁膜１４０が形成されている。
【００５４】
ゲート絶縁膜１４０上部には、水素化非晶質シリコン（非晶質シリコンはａ−Ｓｉと略称する。）などからなる複数の線状半導体１５１が形成されている。線状半導体１５１は、主に縦方向に延びており、ここから複数の突出部１５４がゲート電極１２４に向けて延びている。また、線状半導体１５１は、ゲート線１２１と出会う地点の付近で幅が大きくなってゲート線１２１の広い面積を覆っている。
【００５５】
半導体１５１の上部には、シリサイドまたはｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどの物質からなる複数の線状及び島状オーミック接触部材（ｏｈｍｉｃ  ｃｏｎｔａｃｔ）１６１、１６５が形成されている。線状オーミック接触部材１６１は、複数の突出部を有し、この突出部と島状オーミック接触部材１６５は対をなして半導体１５１の突出部１５４上に位置している。
【００５６】
半導体１５１とオーミック接触部材１６１、１６５の側面も傾斜しており、上部層の密着を良くする。
【００５７】
オーミック接触部材１６１、１６５及びゲート絶縁膜１４０上には、各々複数のデータ線１７１と複数のドレイン電極１７５及び複数のストレージキャパシタ用導電体１７７が形成されている。
【００５８】
データ線１７１は、主に縦方向に延びてゲート線１２１と交差し、データ電圧を伝達する。各データ線１７１からドレイン電極１７５に向けて延びた複数の枝がソース電極１７３をなす。一対のソース電極１７３とドレイン電極１７５は、互いに分離されており、ゲート電極１２４に対して互いに反対側に位置している。
【００５９】
ゲート電極１２４、ソース電極１７３及びドレイン電極１７５は、半導体１５１の突出部１５４と共に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をなし、薄膜トランジスタのチャンネルは、ソース電極１７３とドレイン電極１７５の間の突出部１５４に形成される。ストレージキャパシタ用導電体１７７は、ゲート線１２１の拡張部１２７と重畳している。
【００６０】
データ線１７１、ドレイン電極１７５及びストレージキャパシタ用導電体１７７は、モリブデン、クロム、タンタル、チタニウムなどの耐火性金属（ｒｅｆｒａｃｔｏｒｙ  ｍｅｔａｌ）、またはこれらの合金からなることが好ましい。しかし、これらも低抵抗の導電膜と接触特性が良い導電膜を有する多層膜構造を有することができる。多層膜構造の例として、既に説明したクロム下部膜とアルミニウム上部膜、またはアルミニウム下部膜とモリブデン上部膜の二重膜以外にも、モリブデン膜−アルミニウム膜−モリブデン膜の三重膜が挙げられる。オーミック接触部材１６１、１６５は、その下部の半導体１５１とその上部のデータ線１７１及びドレイン電極１７５の間にのみ存在し、これらの間の接触抵抗を低くする役割を果たす。
【００６１】
線状半導体１５１は、ソース電極１７３とドレイン電極１７５の間を始めとして、データ線１７１及びドレイン電極１７５に覆われず露出した部分を有しており、大部分において線状半導体１５１の幅がデータ線１７１の幅より小さいが、前述したように、ゲート線１２１と出会う部分で幅が大きくなってゲート線１２１とデータ線１７１の間の絶縁を強化する。
【００６２】
データ線１７１、ドレイン電極１７５及びストレージキャパシタ用導電体１７７と、露出した半導体１５１部分の上には、平坦化特性が優れた有機物質からなる保護膜１８０が形成されている。保護膜１８０は、感光性を有する有機物質で形成することができる。
【００６３】
データ線１７１とドレイン電極１７５の間の半導体１５４が露出した部分で保護膜１８０の有機物質が接することを防ぐため、保護膜１８０は、有機膜の下部に窒化ケイ素または酸化ケイ素からなる絶縁膜（図示せず）が追加されることができる。
【００６４】
保護膜１８０にはドレイン電極１７５、データ線１７１の端部をそれぞれ露出する複数のコンタクトホール（接触孔）１８５、１８７、１８２が形成されている。この時、データ線１７１の端部は必要に応じてデータ線１７１及びゲート線１２１より広い幅を有することもできる。
【００６５】
保護膜１８０上には、ＩＺＯまたはＩＴＯからなる複数の画素電極１９０及び複数の接触補助部材８２が形成されている。
【００６６】
画素電極１９０は、コンタクトホール１８５、１８７を介してドレイン電極１７５と各々物理的・電気的に接続され、ドレイン電極１７５からデータ電圧の印加を受ける。
【００６７】
データ電圧が印加された画素電極１９０は、共通電圧の印加を受ける他の表示板２００の共通電極２７０と共に電場を生成することによって、液晶層の液晶分子を再配列させる。
【００６８】
また、前述したように、画素電極１９０と共通電極はキャパシタ（以下、液晶キャパシタという。）を構成して、薄膜トランジスタがターンオフされた後にも印加された電圧を維持しており、電圧維持能力を強化するため、液晶キャパシタと並列に接続された他のキャパシタを設けるが、それをストレージキャパシタという。
【００６９】
ストレージキャパシタは、画素電極１９０及びこれと隣接するゲート線１２１（これを前段ゲート線という。）の重畳などで形成され、ストレージキャパシタの静電容量、つまり保持容量を増やすためにゲート線１２１を拡張した拡張部を設けて重畳面積を大きくする一方、画素電極１９０と接続され、拡張部と重畳するストレージキャパシタ用導電体を保護膜１８０下に設けて、両者間の距離を近くする。
【００７０】
低誘電率の有機物質で保護膜１８０を形成する場合には、画素電極１９０を隣接するゲート線１２１及びデータ線１７１と重畳して開口率を向上させているが、重畳しない場合もある。
【００７１】
接触補助部材８２は、コンタクトホール１８２を介してデータ線１７１の端部と各々接続される。接触補助部材８２は、データ線１７１の各端部と駆動集積回路のような外部装置との接着性を補完し、それらを保護する。なお、画素電極１９０上には配向膜１１が形成されている。
【００７２】
図５は、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の断面図で、図１のＩＩ−ＩＩ´線と同一の線に沿った断面図である。
【００７３】
図５に示すように、遮光パターン２２０上に封止材２６０が形成されることができる。
【００７４】
本発明による液晶表示装置は、カラーフィルタを利用して遮光パターンを形成することによって、別途の追加工程なしにカラーフィルタを利用して液晶表示装置の周縁で発生する光漏れを完全に遮断することができ、液晶表示装置の表示品質が向上する。
【００７５】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、当該技術分野における通常の知識を有する者であれば、様々な変形及び均等な他の実施形態が実現可能であることが理解できる。よって、本発明の権利範囲はこれに限定されるものではなく、特許請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の様々な変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属するものである。
【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明は、液晶表示装置の表示品質の向上に役立てることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の一実施形態に係る半透過型液晶表示装置の概略的な平面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ´線に沿った断面図である。
【図３】図１の一画素に対する配置図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ´線に沿った断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の断面図で、図１のＩＩ−ＩＩ´線と同一の線に沿った断面図である。
【符号の説明】
【００７８】
１００  下部表示板、
１９０  画素電極、
１９４  反射板、
２００  上部表示板、
２２０  遮光パターン、
２７０  共通電極、
３００  液晶層。
【図１】
2006091886.tif 000003
【図２】
2006091886.tif 000004
【図３】
2006091886.tif 000005
【図４】
2006091886.tif 000006
【図５】
2006091886.tif 000007