(57)【要約】      （修正有）【課題】高圧下の超臨界流体と接する洗浄・乾燥処理チャンバー等の内面金属材から金属が溶出して、半導体ウエハー等に悪影響が及ぶことを防止した超臨界流体洗浄・乾燥装置を提供する。【解決手段】洗浄・乾燥処理チャンバー内を超臨界状態に維持することによって、被洗浄物の洗浄・乾燥処理を行う超臨界流体洗浄・乾燥装置において、上記洗浄・乾燥処理チャンバーと、該洗浄・乾燥処理チャンバー内に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、該洗浄・乾燥処理チャンバー内の不要物を排出する流体排出手段とを備え、上記洗浄・乾燥処理チャンバーを、被洗浄物を入れる容器本体１０ａと該容器本体１０ａの開口部を覆う蓋体とから構成し、容器本体１０ａおよび蓋体の少なくとも超臨界流体と接する面ａに不活性な酸化皮膜３０を形成する。【選択図】図４
2006130418.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄・乾燥処理チャンバーと、該洗浄・乾燥処理チャンバー内に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、上記洗浄・乾燥処理チャンバー内の不要物を排出する流体排出手段とを備え、上記洗浄・乾燥処理チャンバー内を超臨界状態に維持することによって、当該洗浄・乾燥処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄・乾燥処理を行うようにしてなる超臨界流体洗浄・乾燥装置であって、上記洗浄・乾燥処理チャンバーを、被洗浄物を入れる容器本体と、該容器本体の開口部を覆う蓋体とから構成し、これら容器本体および蓋体の少なくとも超臨界流体と接する面に不活性な酸化皮膜を形成することにより、金属の溶出を防止するようにしたことを特徴とする超臨界流体洗浄・乾燥装置。
【請求項２】
洗浄流体供給系路のバルブ類、配管材料、その他の系路にも不活性な酸化皮膜を形成することにより、金属溶出による影響を排除したことを特徴とする請求項１記載の超臨界流体洗浄・乾燥装置。
【請求項３】
酸化皮膜は、酸化不働態皮膜であることを特徴とする請求項１又は２記載の超臨界流体洗浄・乾燥装置。
【請求項４】
フッソ樹脂等の耐薬品効果の高い樹脂によるコーティング処理を施したことを特徴とする請求項１，２又は３記載の超臨界流体洗浄・乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、超臨界流体洗浄・乾燥装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近のＩＣチップ製造工程等の半導体製造分野では、回路パターンの極微細化が進み、極微量の金属、有機物等の不純物による汚染の影響が問題視されている。そして、その解決手段として、超臨界流体を用いた洗浄・乾燥技術が実用化されようとしている。
【０００３】
このような超臨界流体洗浄・乾燥装置は、所定の洗浄・乾燥処理チャンバーを備え、該洗浄・乾燥処理チャンバーの洗浄・乾燥処理空間内に半導体ウエハー等の微細構造物を入れた後に、外部の液化状態で二酸化炭素を収納した二酸化炭素ボンベ等洗浄流体ボンベから、加圧ポンプ等の加圧手段を介して同洗浄流体を供給し、その温度および圧力を各々所定の値に調整することによって超臨界状態を実現する。
【０００４】
そして、同超臨界状態において上記微細構造物に付着している液体溶媒等を洗浄流体で置換し、その後、同洗浄流体を外部に排出することを複数回繰り返すことにより、溶媒を除去して確実に乾燥させる（特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１７３９９７号公報（明細書第１〜５頁、図１〜３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、以上のような超臨界流体洗浄・乾燥装置では、常温常圧下での液相、あるいは気相状態のものと異なり、高圧下での高拡散力、高浸透力、高エネルギーからなる高溶解力により、装置そのものの容器、配管系、弁その他超臨界流体と接する金属材から金属が溶出し、被洗浄物である半導体ウエハー等に悪影響を及ぼす問題がある。
【０００７】
本願発明は、このような事情に基いてなされたもので、少なくとも超臨界流体と接する洗浄・乾燥処理チャンバー等の内面に不活性な酸化不働態皮膜を形成することにより、可及的に金属の溶出を防止した超臨界流体洗浄・乾燥装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本願発明は、上記の目的を達成するために、次のような課題解決手段を備えて構成されている。
【０００９】
（１）  第１の課題解決手段
この発明の第１の課題解決手段は、洗浄・乾燥処理チャンバーと、該洗浄・乾燥処理チャンバー内に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、上記洗浄・乾燥処理チャンバー内の不要物を排出する流体排出手段とを備え、上記洗浄・乾燥処理チャンバー内を超臨界状態に維持することによって、当該洗浄・乾燥処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄・乾燥処理を行うようにしてなる超臨界流体洗浄・乾燥装置であって、上記洗浄・乾燥処理チャンバーを、被洗浄物を入れる容器本体と、該容器本体の開口部を覆う蓋体とから構成し、これら容器本体および蓋体の少なくとも超臨界流体と接する面に不活性な酸化皮膜を形成することにより、金属の溶出を防止するようにしたことを特徴としている。
【００１０】
このように、洗浄・乾燥処理チャンバーを構成する容器本体および蓋体の少なくとも超臨界流体と接する面に不活性な酸化皮膜を形成すると、特に耐食性が高くなり、常温常圧下での液相、あるいは気相状態のものと異なる、高圧の超臨界状態下での高拡散力、高浸透力、高エネルギーによる高溶解力が作用しても、金属が溶出しにくくなる。
【００１１】
その結果、溶出金属が被洗浄物である半導体ウエハー等に及ぼす悪影響を、可及的に排除、或いは低減させることが可能となる。
【００１２】
（２）  第２の課題解決手段
この発明の第２の課題解決手段は、上記第１の課題解決手段の構成において、洗浄流体供給系路のバルブ類、配管材料、その他の系路にも不活性な酸化皮膜を形成することにより、金属溶出による影響を排除したことを特徴としている。
【００１３】
このような構成によると、洗浄流体供給系路のバルブ類、配管材料、その他の系路においても、容器本体や蓋体と同様にそれら各部の耐食性が高くなり、常温常圧下での液相、あるいは気相状態のものと異なる、高圧の超臨界状態下の高拡散力、高浸透力、高エネルギーによる高溶解力が作用しても、金属が溶出しにくくなる。
【００１４】
その結果、溶出金属が被洗浄物である半導体ウエハー等に及ぼす影響を、可及的に排除、或いは低減させることが可能となる。
【００１５】
（３）  第３の課題解決手段
この発明の第３の課題解決手段は、上記第１又は第２の課題解決手段の構成において、酸化皮膜は、酸化不働態皮膜であることを特徴としている。
【００１６】
このような構成によると、同酸化不働態皮膜によって、上記第１，第２の課題解決手段の作用を実現することができる。
【００１７】
（４）  第４の課題解決手段
この発明の第４の課題解決手段は、上記第１，第２又は第３の課題解決手段の構成において、フッソ樹脂等の耐薬品効果の高い樹脂によるコーティング処理を施したことを特徴としている。
【００１８】
このような構成によると、フッソ樹脂等の耐薬品効果の高い樹脂等によるコーティング層により、薬品による腐食にも耐えられるようになり、製品の耐久性、信頼性が大きく向上する。
【発明の効果】
【００１９】
以上の結果、本願発明によると、従来のような金属汚染による悪影響を防止した高品質の超臨界流体洗浄・乾燥装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
図１〜図４は、例えば洗浄流体として二酸化炭素（ＣＯ2）を採用し、アルコール等所定の液体溶媒と併用して洗浄を行うようにした本願発明の最良の実施の形態に係る超臨界流体洗浄・乾燥装置の全体的なシステムおよび要部の構成を示している。
【００２１】
（全体の特徴）
この最良の実施の形態の超臨界流体洗浄・乾燥装置は、所定の洗浄・乾燥処理チャンバー内で、洗浄流体である二酸化炭素（ＣＯ2）が全く液相状態を経ることなく、気体→超臨界流体→気体の相変化を伴ってシリコンウエハー等所定の被洗浄物（マイクロマシン）の洗浄および乾燥を行うことができるようになっている。そして、同洗浄・乾燥処理チャンバーの開閉から、加減圧、洗浄・乾燥処理チャンバー内への置換用溶媒の充填までを、人手を介さず、自動運転が可能とし、超臨界二酸化炭素流体による洗浄・乾燥システムの量産工程へ導入を可能とすることで、従来の乾燥方法ではスティッキングを起こすために不可能であった構造やパターン設計の自由度を向上させ得るようにしたことを特徴としている。
【００２２】
（システム構成）
先ず同装置の全体的なシステム構成を示す図１中、符号１０は本願発明の中心となる洗浄・乾燥処理チャンバーであり、該洗浄・乾燥処理チャンバー１０は、例えば図３に示すように上部が開口した有底筒状の耐圧性のある容器本体１０ａと、該容器本体１０ａの上部をカバーするとともに例えば加熱保温用の電気ヒータ（図示省略）を備えた同形状の蓋体１０ｂとからなり、これら容器本体１０ａと蓋体１０ｂとを嵌合一体化することにより形成されている。そして、該洗浄・乾燥処理チャンバー１０を形成する容器本体１０ａおよび蓋体１０ｂの外周部には、同一体化されて洗浄・乾燥処理チャンバー１０を形成した時に当該洗浄・乾燥処理チャンバー１０内の洗浄・乾燥処理空間内をシールするシール構造を備えたフランジ部１１，１２が設けられており、これらフランジ部１１，１２を介して両者が上述のように一体に嵌合固定されるようになっている。
【００２３】
そして、該洗浄・乾燥処理チャンバー１０内に、例えばナノレベルの太さのセンサーワイヤーを設置したシリコンウエハー等の被洗浄物（マイクロマシン）が納入されると、蓋体１０ｂが閉められ、その後、図２のように挟圧部材１３，１３により挟着固定されて高精度にシールされるようになっている（詳細については、後述）。
【００２４】
一方、符号１は洗浄流体としての液化された二酸化炭素（ＣＯ2）を所望の量保存している二酸化炭素ボンベ、２は同二酸化炭素ボンベ１からの二酸化炭素（ＣＯ2）の供給状態を開閉する流体開閉バルブ、３は同流体開閉バルブ２の開状態において供給される二酸化炭素（ＣＯ2）流体を所定の圧力に加圧する加圧ポンプ（加圧手段）、４は同加圧ポンプ３によって加圧された二酸化炭素（ＣＯ2）流体の温度を液相状態から気相状態となるに十分な所定の温度に加熱調節する電気ヒータを備えた流体温度調節手段であり、上記流体開閉バルブ２、加圧ポンプ３、流体温度調節手段４は、それぞれ上記二酸化炭素ボンベ１から、上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０内洗浄・乾燥処理空間への洗浄流体供給配管Ｌ1上に設けられている。そして、上記二酸化炭素ボンベ１、流体開閉バルブ２、加圧ポンプ３、流体温度調節手段４、洗浄流体供給配管Ｌ1により、洗浄流体供給手段が形成されている。
【００２５】
また、符号５はチッ素Ｎ2等の不活性ガスを所望の量保存している不活性ガスタンク、６は同不活性ガスの供給状態を開閉制御する不活性ガス開閉バルブであり、不活性ガス開閉バルブ６は、上記不活性ガスタンク５から上記洗浄流体供給配管Ｌ1の流体温度調節手段４の入口側に到る不活性ガス供給配管Ｌ2上に設けられている。
【００２６】
そして、それら不活性ガスタンク５、不活性ガス開閉バルブ６、不活性ガス供給配管Ｌ2により、不活性ガス供給手段が形成されている。
【００２７】
また、符号７は、上記二酸化炭素（ＣＯ2）流体との親和性が高く、その液体密度が同二酸化炭素（ＣＯ2）流体の調節可能な密度範囲に対応した、例えばアルコール等の液体溶媒を所望の量保存している溶媒タンク、８は同液体溶媒の供給状態を開閉する溶媒開閉バルブであり、溶媒開閉バルブ８は、上記溶媒タンク７から上記洗浄流体供給配管Ｌ1の流体温度調節手段４の出口までの溶媒供給配管Ｌ3上に設けられている。そして、それら溶媒タンク７、溶媒開閉バルブ８、溶媒供給配管Ｌ3により、溶媒供給手段が形成されている。該溶媒供給手段により供給された溶媒は、上述した洗浄流体供給配管Ｌ1上の流体温度調節手段４の出口側で二酸化炭素（ＣＯ2）流体中に混入され、開閉バルブ９を介して上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０内の洗浄・乾燥処理空間の底部に所定量貯留され、上記被洗浄物を浸漬した状態に保持する。
【００２８】
さらに、符号Ｌ4は上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０内の洗浄・乾燥処理空間での洗浄により取り出された溶媒その他の廃液等を排出するドレン配管、１７は上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０内洗浄・乾燥処理空間の圧力を検出する圧力センサ、１８は同排出流体の流量を可変することによって上記洗浄・乾燥処理空間内の圧力を調整する圧力調節バルブ、１９は安全弁であり、圧力調節バルブ１８は上記ドレン配管Ｌ4上に、また圧力センサ１７、安全弁１９は、上記ドレン配管Ｌ4と並列なバイパス配管Ｌ5上に、それぞれ設けられている。そして、これらドレン配管Ｌ4、バイパス配管Ｌ5、圧力調節バルブ１８、圧力センサ１７、安全弁１９により、流体排出手段が形成されている。
【００２９】
圧力センサ１７の圧力検出値は、制御器２０に入力され、制御器２０は、その入力値に基いて上記圧力調節バルブ１８の開度を調節することにより、上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０内の圧力を所望の圧力に調節する。
【００３０】
（洗浄・乾燥処理方法）
以上の構成において、被洗浄物は、例えば次のようにして洗浄・乾燥処理される。
【００３１】
（１）  先ず不活性ガス開閉バルブ６および溶媒開閉バルブ８を開いて、不活性ガスタンク５内の不活性ガスおよび溶媒タンク７内の溶媒を上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０の洗浄・乾燥処理空間内底部に所定量貯留する。同不活性ガスおよび溶媒が所定量入ると、上記不活性ガス開閉バルブ６および溶媒開閉バルブ８を閉じる。
【００３２】
（２）  次に、被洗浄物を、洗浄・乾燥処理チャンバー１０内の底部に入れて上記貯留された溶媒中に浸漬させて、蓋体１０ｂを閉じる（詳細は後述）。
【００３３】
（３）  次に、流体温度調節手段４およびチャンバー温度調整手段を調整操作して、洗浄・乾燥処理チャンバー１０内に供給される二酸化炭素流体（ＣＯ2流体）の温度および洗浄・乾燥処理チャンバー１０の洗浄・乾燥処理空間内の温度を超臨界状態を形成するのに適した所定の温度となるように調整設定する。
【００３４】
また、それと同時に、上記圧力調節バルブ１８の開度を電気的に調節制御する制御器２０内に上記圧力センサ１７の圧力検出値を入力し、その検出値が超臨界状態を形成するのに適した所望の圧力値になるように、上記圧力調節バルブ１８の開度を適切に調節制御する。
【００３５】
（４）  次に、その上で上記二酸化炭素ボンベ１側の洗浄流体開閉バルブ２を開き、洗浄流体である二酸化炭素流体を洗浄流体供給配管Ｌ1を介して洗浄・乾燥処理チャンバー１０の洗浄・乾燥処理空間内に供給する。
【００３６】
この場合、該洗浄流体供給配管Ｌ1の下流領域の、上記加圧ポンプ３と洗浄・乾燥処理チャンバー１０の洗浄流体導入口との間には、上述のように流体温度調節手段４が設けられているために、予じめ洗浄・乾燥処理チャンバー１０に入る前の段階で、上記液相状態の二酸化炭素流体が気体ないし超臨界状態になるに適した温度に加熱、加圧され、気体ないし超臨界状態になり、その上で洗浄・乾燥処理チャンバー１０の洗浄・乾燥処理空間内に導入される。
【００３７】
（５）  その結果、上記洗浄流体である二酸化炭素流体が全く液相状態を経ることなく、気体→超臨界流体→気体の相変化を伴って被洗浄物の洗浄を行う。
【００３８】
すなわち、該構成の場合、上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０の洗浄・乾燥処理空間内に供給される洗浄流体である二酸化炭素流体は、上記圧力調節バルブ１８および流体温度調整手段４により、最初から気体又は超臨界状態にして導入されるので、速に洗浄・乾燥処理チャンバー１０の洗浄・乾燥処理空間内を超臨界状態にすることができ、かつ同気体ないし超臨界状態の高圧の洗浄流体によって洗浄初期に確実に空気が排出される。。
【００３９】
そして、その結果、液相状態の洗浄流体の作用による被洗浄物損傷の問題も解消される。従って、前述したようなマイクロマシンでも安心して洗浄・乾燥処理することができる
（６）  以上のようにして洗浄された後の、被洗浄物からの汚れ等不要物や溶媒を含む二酸化炭素流体は、上記圧力調節バルブ１８および安全弁１９の下流側で、図示しないＣＯ2分離回収機能を備えた廃液回収装置に供給され、二酸化炭素流体と溶媒および不要物が相互に分離され、個別に回収される。
【００４０】
（洗浄・乾燥処理チャンバー部分の構成）
次に図２および図３は、上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０の具体的な構成を示している。
【００４１】
該洗浄・乾燥処理チャンバー１０は、例えば図３に詳細に示すように、上部が開口した有底筒状の耐圧性の高い厚肉の容器本体１０ａと、該容器本体１０ａの上部をカバーするとともに例えば加熱保温用の電気ヒータ（図示省略）を備えた円板形状の耐圧性の高い厚肉の蓋体１０ｂとからなり、これら容器本体１０ａと蓋体１０ｂとを、図３の状態から図２の状態に示すように相互に一体に嵌合し、さらに図２に示すように所定の固定手段（詳細は後述）で固定するようになっている。
【００４２】
すなわち、該洗浄・乾燥処理チャンバー１０を形成する容器本体１０ａおよび蓋体１０ｂの外周部には、図２のように相互に一体に嵌合固定されて洗浄・乾燥処理チャンバー１０を形成した時に、当該洗浄・乾燥処理チャンバー１０内の洗浄・乾燥処理空間内を確実にシールするシール機構（詳細は後述）を備えた厚肉のフランジ部１１，１２が設けられており、これらフランジ部１１，１２を相互に対向重合させた状態で、両者が後述する固定手段により確実に固定されるようになっている。
【００４３】
すなわち、フランジ部１１側のフランジ面中央部には、容器本体１０ａの開口面（フランジ面）よりも所定の高さ高い所定の幅の凸条部２１ａが全周に亘って設けられており、その外周面側には、例えば高強度の合成樹脂よりなる所定の幅の位置合わせリング（ガイドリング）１５が、また同凸条部２１ａの内周面側には、例えば反発弾性の大きな合成ゴムよりなる断面Ｃ字形の内圧式Ｏリング１６が、それぞれ嵌合されている。位置合わせリング１５の外周面側上端部（肩部）は、上面側から側面側にかけて所定の曲率のアール面に形成され、次に述べる蓋体１０ｂ側フランジ部１２の外周側筒状部２１ｄの内周面部が、同アール面によりガイドされて確実かつスムーズに嵌合されるようになっている。また、Ｏリング１６の上部は、蓋体１０ｂとの非嵌合状態では、上記蓋体１０ｂ側フランジ部１２との衝合面となる凸条部２１ａの上端面よりも所定の高さ高く突出しているが、嵌合時には、図２のように溝部２１ｂの内周面側段部２１ｃに係合される。
【００４４】
一方、フランジ部１２側のフランジ面には、深さの小さい溝部２１ｂが形成されているとともに、その外周端部に位置して上記フランジ部１１側の凸条部２１ａと同じ高さの筒状部（嵌合壁）２１ｄが全周に亘って形成されている。
【００４５】
そして、容器本体１０ａ内に、例えばナノレベルの太さのセンサーワイヤーを設置したシリコンウエハー等の被洗浄物（マイクロマシン）が納入されて、蓋体１０ｂが容器本体１０ａに嵌合された時には、例えば図２に示されるように、それら凸条部２１ａと筒状部２１ｄとが、相互に相対するフランジ面に衝合し合うとともに、内圧式のＯリング１６を介した良好なシール機能が実現されて、洗浄・乾燥処理チャンバー１０内の洗浄・乾燥処理室が確実にシールされる。特に、この実施の形態の場合、シール部材として、断面Ｃ字形の内圧式Ｏリング１６を採用しているので、処理室内の内圧が高くなるほど確実にシール機能が高くなるので、仮に嵌合部に隙間が生じても、よりシール部の信頼性が向上する。
【００４６】
なお、容器本体１０ａの底壁部に、上記洗浄流体（ＣＯ2）の流入口３１と流出口３２がそれぞれ設けられている。
【００４７】
（固定手段の構成）
この場合、上記固定手段は、例えば図２に示すように、上記嵌合一体化された容器本体１０ａのフランジ部１１と蓋体１０ｂのフランジ部１２の外周を、半径方向両側から嵌合する上下挟圧片１３ａ，１３ｂを備えた挟圧部材１３，１３を伸縮ロッド１４ａ，１４ａ
を介して伸縮可能にに支持した油圧シリンダ１４，１４により構成されている。
【００４８】
そして、上記嵌合一体化された容器本体１０ａと蓋体１０ｂは、その重合されたフランジ部１１，１２部分を上記挟圧部材１３の挟圧片１３ａ，１３ｂによって、そのＵ状溝１３ｃ部分に左右および上下両方向から確実に挟着固定（嵌合固定）されることにより、より確実かつ安定した高圧シール機能を実現するようになっている。
【００４９】
（金属溶出対策）
ところで、このような超臨界流体を利用した洗浄・乾燥装置では、すでに述べたように、常温常圧下での液相、あるいは気相状態と異なり、高圧下での高拡散力、高浸透力、高エネルギーからなる高溶解力により、装置の容器、配管系、弁その他から金属が溶出する問題がある。
【００５０】
そこで、同溶出金属が被洗浄物であるウエハー等に及ぼす影響を排除、或いは低減させることが求められている。
【００５１】
そこで、このような要求に応じるために、この実施の形態の構成では、上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０を構成する容器本体１０ａおよび蓋体１０ｂを、クロム・ニッケル系、オーステナイト系ステンレス鋼（ＳＵＳ３１６）又は低マンガン鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）等をはじめとする可及的に金属溶出の少ないステンレス系の材料によって形成する一方、同容器本体１０ａおよび蓋体１０ｂの少なくとも洗浄流体と接する洗浄・乾燥処理室を形成する面ａ，ｂおよび洗浄流体の流入口３１、流出口３２（図３参照）部分に対して、例えば図４に示すように、酸化不働態処理等に代表されるように酸化皮膜処理を施すことにより、有効な酸化皮膜３０，３０，３０を形成して金属の溶出を排除、または低減させるように構成している。
【００５２】
このように、洗浄・乾燥処理チャンバー１０を構成する容器本体１０ａおよび蓋体１０ｂの少なくとも超臨界流体と接する面に不活性な酸化皮膜を形成すると、特に耐食性が高くなり、常温常圧下での液相、あるいは気相状態のものと異なる、高圧の超臨界状態下での高拡散力、高浸透力、高エネルギーによる高溶解力が作用しても、金属が溶出しにくくなる。
【００５３】
その結果、溶出金属が被洗浄物である半導体ウエハー等に及ぼす悪影響を、可及的に排除、或いは低減させることが可能となる。
【００５４】
もちろん、この場合、上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０のみでは、金属溶出による影響排除が不十分である場合には、さらに図１の洗浄流体供給系路のバルブ類、配管材料、その他の系路にも同様に酸化不動態処理等の酸化皮膜処理を施すことにより、金属溶出による影響排除の効果を、より高めるようにする。
【００５５】
また上記洗浄・乾燥処理チャンバー１０内では、各種薬液による洗浄その他の各種処理や、それに伴う水洗や各種溶剤他による洗浄工程を行う必要がある。そのような場合には、上記酸化不働態処理等の酸化皮膜処理を施したのみでは耐薬品性が不足する場合も考えられる。そこで、これに対する解決手段としては、容器表面及び接液部、配管系路等にフッソ樹脂他の耐薬品効果の高い樹脂等によるコーティング処理を施すか、または樹脂等による部品を使用するようにする。
【００５６】
このような構成によると、洗浄流体供給系路のバルブ類、配管材料、その他の系路においても、容器本体１０ａや蓋体１０ｂと同様にそれら各部の耐食性が高くなり、常温常圧下での液相、あるいは気相状態のものと異なる、高圧の超臨界状態下の高拡散力、高浸透力、高エネルギーによる高溶解力が作用しても、金属が溶出しにくくなる。
【００５７】
その結果、溶出金属が被洗浄物である半導体ウエハー等に及ぼす影響を、可及的に排除、或いは低減させることが可能となる。
【００５８】
（実験例）
以上の場合、一つの実験例として、上記ＳＵＳ３１６に電解研磨（ＥＰ）処理を施した試験片Ａと、同ＳＵＳ３１６にさらに酸化不動態処理を施した試験片Ｂとを用いて、超臨界ＣＯ2洗浄／乾燥を行ない、同洗浄・乾燥処理未処理品を１とした場合の、処理後の金属溶出量の比較を行った。
【００５９】
その結果、電解研磨（ＥＰ）処理のみを行った試験片Ａに比べて、酸化不動態処理を行った試験片Ｂでは検査した全ての材質（Ｆｅ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｍｎ）の金属溶出量が減少していることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本願発明の最良の実施の形態に係る超臨界流体洗浄・乾燥装置の全体的な構成を示す配管系統図である。
【図２】同装置における洗浄・乾燥処理チャンバー部分の構成を示す断面図である。
【図３】同洗浄・乾燥処理チャンバーの容器本体および蓋部分の非嵌合時における構成を示す断面図である。
【図４】同洗浄・乾燥処理チャンバーの容器本体（蓋部分の図示省略）内壁面の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６１】
１は二酸化炭素ボンベ、２は流体開閉バルブ、３は加圧ポンプ、５は不活性ガスタンク、７は溶媒タンク、１０は洗浄・乾燥処理チャンバー、１０ａは容器本体、１０ｂは蓋体、１１，１２はフランジ部、１３は挟圧部材、１４は油圧シリンダ、３１は超臨界流体流入口、３２は超臨界流体流出口である。
【図１】
2006130418.tif 000003
【図２】
2006130418.tif 000004
【図３】
2006130418.tif 000005
【図４】
2006130418.tif 000006