(57)【要約】【課題】  長辺が３００ｍｍを超える大型のペリクル膜の製造において、平滑基板上に成膜されたペリクル膜を短時間で、かつ損傷を与えずに剥離するペリクル膜の剥離方法を提供する。【解決手段】  フレームの長辺が３００ｍｍ以上の大型ペリクルの製造において、平滑基板上に成膜したペリクル膜１２を剥離治具１５を用いて剥離する際に、２つ以上の方向から剥離する。ペリクル膜を剥離する剥離治具が多角形状であることができる。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレームの長辺が３００ｍｍ以上の大型ペリクルの製造において、平滑基板上に成膜したペリクル膜を剥離治具を用いて剥離する際に、２つ以上の方向から剥離することを特徴とするペリクル膜の剥離方法。
【請求項２】
前記剥離治具が多角形状である請求項１に記載のペリクル膜の剥離方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体デバイス、プリント基板あるいは液晶ディスプレイ等を製造する際のゴミよけとして使用される、リソグラフィー用ペリクル、特には液晶ディスプレイ製造に用いられる大型のペリクルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩなどの半導体デバイス或いは液晶ディスプレイなどの製造においては、半導体ウェハー或いは液晶用ガラス原板に光を照射してパターンを作製するが、この時に用いるフォトマスクあるいはレチクル（以下、単にフォトマスクという）にゴミが付着していると、このゴミが光を遮ったり、曲げたりしてしまうために、転写したパターンが損なわれるという問題があった。
【０００３】
このため、これらの作業は通常クリーンルーム内で行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことが難しい。そこで、フォトマスク表面にゴミよけとして、ペリクルを貼付する方法が採られている。
この場合、異物はフォトマスクの表面上には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。
【０００４】
このペリクルは、通常光を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロースあるいはフッ素系樹脂などからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリクルフレームの上端面にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する（特許文献１参照）か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の接着剤で接着し（特許文献２及び特許文献３参照）、更に、ペリクルフレームの下端には、フォトマスクに装着するためのポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的とした離型層（セパレータ）が設けられる。
【０００５】
また、ペリクルをフォトマスクに貼り付けた状態において、ペリクル内部に囲まれた空間と外部との気圧差をなくすことを目的として、ペリクルフレームの一部に気圧調整用の小孔を開け、小孔を通じて移動する空気からの異物侵入を防ぐためのフィルターが設置されることもある（特許文献４参照）。
一般的に、ペリクル膜は、表面が平滑なＳｉウエハや石英ガラス基板上にスピンコート法により溶媒で適切な濃度に希釈した膜材料を塗布し、この溶媒を蒸発乾燥させて成膜される。その後、この基板上の膜には基板とほぼ同形の枠（剥離冶具）が接着される。
【０００６】
この枠の一端にはハンドルが取り付けられており、モータ等の剥離手段によりこれをゆっくりと基板から持ち上げることで基板上の乾燥膜が剥離し、ペリクル膜が得られる。
長辺が３００ｍｍを超えるような大型ペリクル膜の製造は、基本的には上記のような工程で行われている。このとき、膜の剥離は、かなりの低速で行わないと、膜に伸びなどの損傷が残ったり、成膜基板上に膜の残渣が残ったりしてしまう。そのため、長辺が３００ｍｍを超えるような大型ペリクル膜の剥離が完了するまでには多大な時間を要し、非常に生産性が悪いという問題があった。
【０００７】
【特許文献１】特開昭５８−２１９０２３号公報
【特許文献２】米国特許第４８６１４０２号明細書
【特許文献３】特公昭６３−２７７０７号公報
【特許文献４】実公昭６３−３９７０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、長辺が３００ｍｍを超える大型ペリクル膜の製造において、平滑基板上に成膜されたペリクル膜を短時間で、かつ損傷を与えずに剥離するペリクル膜の剥離方法を得ることである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
即ち、上記課題を解決するための本発明のペリクル膜の剥離方法は、フレームの長辺が３００ｍｍ以上の大型ペリクルにおいて、平滑基板上に成膜したペリクル膜を剥離治具を用いて剥離する際に、２つ以上の方向から剥離する。
前記剥離治具は多角形状であることができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、長辺が３００ｍｍを超える大型のペリクル膜の製造において、平滑基板上に成膜されたペリクル膜について、２つ以上の方向から同時に剥離を行うことで剥離速度が大幅に向上し、また、膜を引っ張る方向が分散されて、膜の損傷が生じにくくなる。その結果、大型ペリクル膜製造の生産性を大幅に向上することができる。
このとき使用する、ペリクル膜を剥離するための剥離治具が多角形状であれば、剥離しにくい角部に対して特に大きな効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を用いて説明する。
図１は、本発明のペリクル膜の剥離方法の一実施の形態を示す説明図である。
図２は、本発明のペリクル膜の剥離方法により成膜基板からペリクル膜を剥離している状態を順に示す説明図である。
図３は、従来の手法で成膜基板からペリクル膜を剥離している状態を順に示す説明図である。
図１において、表面を研磨した石英基板１１上に塗工されたぺリクル膜１２上に接着剤層１３を介して枠状の剥離冶具１４が接着されている。剥離冶具１４の角部の２箇所に剥離ハンドル１５が取り付けられており、これをモータとボールねじから構成される駆動手段（図示しない）によって上方へ引き上げる構成となっている。
【００１２】
図２は、このときの剥離の進行状況を平面的に示したものである。石英基板からのペリクル膜の剥離は、図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示す順に進行し、１６はまだ剥離していない領域、１７は剥離して基板から浮き上がった領域、１８はその境界線を示している。
石英基板からのペリクル膜の剥離は、まず剥離ハンドル１５の取り付けられている両角部より始まり（ａ）、次第に剥離部分を増やしながら進行して、やがて２つの剥離部分は結合し（ｂ）、１本の剥離線となって剥離していく（ｃ）。そして、最後には成膜基板の端部まで剥離が進み（ｄ）、完了する。
【００１３】
２方向から剥離を行うことで、剥離速度を大幅に向上することができるうえ、膜を引っ張る方向が分散されるため、膜の損傷も生じにくい。また、さらに剥離速度を向上させるため、剥離ハンドルからの距離が伸びて剥離速度が低下する剥離後半において、引き上げ駆動手段の速度を高速に変速させることも有効である。
【００１４】
この実施の形態である４角形の剥離治具の場合、３箇所からでも剥離自体は好適に進めることができるが、剥離終了後の剥離冶具の落ち着きが悪く、成膜基板からの剥離終了と同時にずり落ちてしまうことがある。そのため、剥離治具が４角形の場合には２方向が特に好適である。
剥離治具は４角形に限られない。４角形よりも角の多い多角形状である場合、あるいは円形等である場合も、２つ以上の方向から剥離することは有効である。
例えば剥離治具が８角形の場合には、３方向もしくは４方向から剥離することが好適である。もちろん、円形剥離治具の場合にも本発明は利用することができるが、剥離しにくい角部がある角型剥離治具において特に効果が大きい。
【実施例１】
【００１５】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
図１に示す実施の形態を用いた本発明の一実施例を行った。８００×９２０×厚さ８ｍｍの長方形石英基板１１上にフッ素系ポリマー［商品名サイトップ、旭硝子（株）製］をスピンコート法により塗布し、１８０℃に加熱して溶媒を完全に乾燥させ、ペリクル膜１２を得た。乾燥後の膜厚は約４μｍである。そして、基板外形と同形の枠状のアルミニウム合金製剥離冶具１４にシリコーン樹脂の接着剤層１３を設け、ペリクル膜１２上に押し付けて貼り合わせた。その後、上方からイオナイザ（図示しない）にて除電しながら、２箇所に取り付けられた剥離ハンドル１５を定速モータとボールねじからなる駆動装置（図示しない）にて、１ｍｍ／ｍｉｎの速度で上方に引き上げ、ペリクル膜１２を剥離させた。
【００１６】
図２に示すように、石英基板からのペリクル膜の剥離は進行した。すなわち、剥離は図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示す順に進行し、１６はまだ剥離していない領域、１７は剥離して基板から浮き上がった領域、１８はその境界線を示している。剥離は、まず剥離ハンドル１５の取り付けられている両角部より始まり（ａ）、次第に剥離部分を増やしながら進行して、やがて２つの剥離部分は結合し（ｂ）、１本の剥離線となって剥離していく（ｃ）。そして、最後には成膜基板の端部まで剥離が進み（ｄ）、完了した。このとき、剥離完了までの所要時間は、およそ３０ｍｉｎであった。
【００１７】
その後、剥離したペリクル膜を暗室内に運び、３０万ルクスの集光ランプを照射して外観を観察した。その結果、ペリクル膜にはキズ、伸び、変色などの欠陥は一切見受けられなかった。
【比較例】
【００１８】
上記実施例と同様の方法にて石英基板上に成膜および溶媒乾燥を行い、図１に示すように剥離冶具１４を貼り合わせた。その後、剥離ハンドル１５のうち１方だけを用いて、１ｍｍ／ｍｉｎの速度で上方に引き上げ、ペリクル膜を剥離させた。
【００１９】
図３は、このときの剥離の進行状況を平面的に示したものである。剥離は図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示す順に進行し、３３はまだ剥離していない領域、３４は剥離して基板から浮き上がった領域、３５はその境界線を示している。剥離は、まず剥離ハンドル３２の取り付けられている角部より始まり（ａ）、次第に剥離部分を増やしながら進行した（ｂ）が、ちょうど膜が中ほどまで剥離したあたり（ｃ）では、剥離速度の極端な低下が見られた。これは、剥離抵抗の増加により剥離冶具３１が撓み、剥離ハンドルの上昇量を吸収したためである。その後、膜は再び剥離を始め、剥離ハンドル３２の対角にある角部へ向かって剥離した（ｄ）。このとき、剥離終了までに要した時間は約４５ｍｉｎであった。
【００２０】
その後、剥離したペリクル膜を暗室内に運び、３０万ルクスの集光ランプを照射して外観を観察した。その結果、ペリクル膜の中央部、おおよそ図３（ｃ）の３５周辺に、膜が伸びたと思われる無数のスジ状の白濁が観察された。
【００２１】
さらに、剥離ハンドル３２の引き上げ速度を低下させて何回か同様の実験を行ったところ、このスジ状の白濁が生じなくなる剥離ハンドル３２の引き上げ速度は０．７ｍｍ／ｍｉｎ以下であった。そして、このときの剥離完了までの所要時間は約６５ｍｉｎであった。
【産業上の利用可能性】
【００２２】
長辺が３００ｍｍを超える大型のペリクル膜の製造において、平滑基板上に成膜されたペリクル膜について、２つ以上の方向から同時に剥離を行うことで剥離速度が大幅に向上し、また、膜を引っ張る方向が分散されて、膜の損傷が生じにくくなり、その結果、大型ペリクル膜製造の生産性を大幅に向上することができるので、その産業上の利用価値は極めて高い。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明のペリクル膜の剥離方法の一実施の形態を示す説明図である。
【図２】図２（ａ）〜（ｄ）は、本発明のペリクル膜の剥離方法により成膜基板からペリクル膜を剥離している状態を順に示す説明図である。
【図３】図３（ａ）〜（ｄ）は、従来の手法で成膜基板からペリクル膜を剥離している状態を順に示す説明図である。
【符号の説明】
【００２４】
１１  石英基板
１２  ペリクル膜
１３  接着剤層
１４  剥離冶具
１５  剥離ハンドル
１６  基板から剥離していないペリクル膜の領域
１７  剥離して基板から浮いているペリクル膜の領域
１８  ペリクル膜の剥離／未剥離領域の境界線
３１  剥離冶具
３２  従来の剥離ハンドル（１本）
３３  基板から剥離していないペリクル膜の領域
３４  剥離して基板から浮いているペリクル膜の領域
３５  ペリクル膜の剥離／未剥離領域の境界線
【図１】
2006330372.tif 000003
【図２】
2006330372.tif 000004
【図３】
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