(57)【要約】【課題】極めて簡易かつ短時間で膜厚を高精度に測定することのできる新規な膜厚測定方法及び膜厚測定装置を提供する。【解決手段】薄膜を形成した基板の光学的な波長依存性の計測スペクトルを得、次いで、所定の１次シミュレーションに基づき、前記計測スペクトルに近似させた１次シミュレーションスペクトルを得る。その後、前記計測スペクトル及び前記１次シミュレーションスペクトルに対して演算処理を施し、得られた演算値に対して近似的な関数を設定し、所定の２次シミュレーションに基づき、前記計測スペクトルに最近似させた２次シミュレーションスペクトルを得る。その後、前記２次シミュレーションの結果より前記薄膜の膜厚を算出する。この際、前記２次シミュレーションにおいては、導出過程にあるシミュレーションスペクトルに前記近似的な関数を乗じる。【選択図】図３
2006145480.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜を形成した基板の光学的な波長依存性の計測スペクトルを得る工程と、
所定の１次シミュレーションに基づき、前記計測スペクトルに近似させた１次シミュレーションスペクトルを得る工程と、
前記計測スペクトル及び前記１次シミュレーションスペクトルに対して演算処理を施し、得られた演算値に対して近似的な関数を設定する工程と、
所定の２次シミュレーションに基づき、前記計測スペクトルに最近似させた２次シミュレーションスペクトルを得る工程と、
前記２次シミュレーションの結果より前記薄膜の膜厚を算出する工程とを具え、
前記２次シミュレーションは、導出過程にあるシミュレーションスペクトルに前記近似的な関数を乗じる処理を含むことを特徴とする、膜厚測定方法。
【請求項２】
前記演算処理は、前記計測スペクトルを前記１次シミュレーションスペクトルで除する除算であることを特徴とする、請求項１に記載の膜厚測定方法。
【請求項３】
前記関数は１次関数であることを特徴とする、請求項２に記載の膜厚測定方法。
【請求項４】
前記１次シミュレーションスペクトルは、前記膜の散乱を考慮し、補正して得ることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一に記載の膜厚測定方法。
【請求項５】
前記１次シミュレーションスペクトル及び前記２次シミュレーションスペクトルの少なくとも一方は、波長420nm〜700nmの範囲で得ることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一に記載の膜厚測定方法。
【請求項６】
薄膜を形成した基板に対して光を照射するための光源と、
前記光の、前記薄膜を含む前記基板からの反射光及び透過光の少なくとも一方を受光するための受光部と、
受光した光を分光し、前記薄膜及び前記基板の光学的な波長依存性の計測スペクトルを得る分光検出部と、
所定の１次シミュレーションに基づき、前記計測スペクトルに近似させた１次シミュレーションスペクトルを得、前記計測スペクトル及び前記１次シミュレーションスペクトルに対して演算処理を施し、得られた演算値に対して近似的な関数を設定し、所定の２次シミュレーションに基づき、前記計測スペクトルに最近似させた２次シミュレーションスペクトルを得るための演算部とを具え、
前記演算部においては、前記２次シミュレーションにおいて、導出過程にあるシミュレーションスペクトルに前記近似的な関数を乗じる処理を行うことを特徴とする、膜厚測定装置。
【請求項７】
前記演算処理は、前記計測スペクトルを前記１次シミュレーションスペクトルで除する除算であることを特徴とする、請求項６に記載の膜厚測定装置。
【請求項８】
前記関数は１次関数であることを特徴とする、請求項７に記載の膜厚測定装置。
【請求項９】
前記演算部における前記１次シミュレーションスペクトルは、前記膜の散乱を考慮し、補正して得ることを特徴とする、請求項６〜８のいずれか一に記載の膜厚測定装置。
【請求項１０】
前記１次シミュレーションスペクトル及び前記２次シミュレーションスペクトルの少なくとも一方は、波長420nm〜700nmの範囲で得ることを特徴とする、請求項６〜９のいずれか一に記載の膜厚測定装置。
【請求項１１】
請求項１〜５のいずれか一に記載の方法で得た前記薄膜の前記膜厚と、前記薄膜の設計膜厚との差を算出し、得られた算出結果に基づいて、前記薄膜の膜厚が前記設計膜厚となるように前記薄膜の膜厚制御を行うことを特徴とする、膜厚制御方法。
【請求項１２】
請求項１〜５のいずれか一に記載の方法を時系列的に繰り返し実行して、前記薄膜の前記膜厚と、前記薄膜の設計膜厚との差を時系列的に算出し、得られた算出結果に基づいて、前記薄膜の膜厚が前記設計膜厚となるように前記薄膜の膜厚制御を時系列的に行うことを特徴とする、請求項１１に記載の膜厚制御方法。
【請求項１３】
請求項６〜１０のいずれか一に記載の膜厚測定装置を具えることを特徴とする、膜厚制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、膜厚測定方法及び膜厚測定装置に関し、さらには前記膜厚測定方法を用いた膜厚制御方法及び前記膜厚測定装置を用いた膜厚制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
所定の基板上に単層膜あるいは２層以上の多層膜を形成し、これら膜の各層の厚さを測定するに際しては、所定の数値計算ソフトを用いた光学的な膜厚測定装置において、前記膜の層構成や多層の屈折率及び反射率などの光学定数を予め入力しておくことにより、前記膜厚測定装置を用い、前記膜の各層の厚さを計測することができる。そして、実際の成膜操作においては、前記膜厚測定装置による、前記膜の測定結果を随時フィードバックさせ、成膜過程にある膜の厚さが当初の設計値からずれているような場合は、随時成膜条件を変更することによって、前記膜の厚さが当初の設計値に従うようにしている。
【０００３】
例えば、特開平7-72307号公報においては、膜厚測定装置内に設けられたコンピュータ内に形成すべき膜の、光学特性、層数及び材料などの基礎データを入力し、これらの入力値に基づいて前記膜の厚さを計測することが開示されている。
【特許文献１】特開平7-72307号公報
【０００４】
しかしながら、上述したような従来の光学的な膜厚測定装置においては、測定に用いる数値計算ソフトが理想的に平坦な膜を想定しているものであるため、前記膜表面に微小な凹凸が存在するような場合には、膜測定の基になる光学スペクトル中に前記凹凸の影響を考慮させることができない。例えば、前記凹凸による回折（散乱）の影響は、測定に使用する波長が短波長化するにつれて大きくなる。この結果、前記膜厚測定装置を用いた膜厚の測定精度は、特に短波長の光を用いた測定において劣化してしまい、従って、膜厚測定の精度が悪いという問題があった。
【０００５】
このような問題に鑑み、上述した膜表面の凹凸の影響を、２次元あるいは３次元の数値計算を用いて考慮することも試みられているが、この場合の計算量は極めて膨大となり、計算時間に極めて長時間を要するという問題がある。このため、オンラインで膜形成を行い、時系列的に得た膜に対してその膜厚測定を随時実行し、その測定結果を前記オンラインの膜形成に対して随時フィードバックさせることは極めて困難であった。
【０００６】
また、前記膜表面に形成された凹凸に起因した前記回折（散乱）の影響を除去すべく、膜厚測定装置の受光部において積分球などを設置することも試みられているが、上述したオンライン膜形成などにおいて、膜厚の測定対象である膜が高温であったり、装置構造的な観点から、前記積分球を前記膜に近接して配置させることができず、結果的に、前記回折（散乱）の影響を除去できずにいた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、極めて簡易かつ短時間で膜厚を高精度に測定することのできる新規な膜厚測定方法及び膜厚測定装置を提供することを目的とする。
【０００８】
また、本発明は、前記膜厚測定方法及び前記膜厚測定装置を用い、その測定結果をオンライン膜形成などの膜形成工程に随時フィードバックさせ、形成過程にある膜の膜厚制御を時系列、特にはリアルタイムで高精度に制御することが可能な新規な膜厚制御方法及び膜厚制御装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成すべく、本発明は、
薄膜を形成した基板の光学的な波長依存性の計測スペクトルを得る工程と、
所定の１次シミュレーションに基づき、前記計測スペクトルに近似させた１次シミュレーションスペクトルを得る工程と、
前記計測スペクトル及び前記１次シミュレーションスペクトルに対して演算処理を施し、得られた演算値に対して近似的な関数を設定する工程と、
所定の２次シミュレーションに基づき、前記計測スペクトルに最近似させた２次シミュレーションスペクトルを得る工程と、
前記２次シミュレーションの結果より前記薄膜の膜厚を算出する工程とを具え、
前記２次シミュレーションは、導出過程にあるシミュレーションスペクトルに前記近似的な関数を乗じる処理を含むことを特徴とする、膜厚測定方法に関する。
【００１０】
また、本発明は、
薄膜を形成した基板に対して光を照射するための光源と、
前記光の、前記薄膜を含む前記基板からの反射光及び透過光の少なくとも一方を受光するための受光部と、
受光した光を分光し、前記薄膜及び前記基板の光学的な波長依存性の計測スペクトルを得る分光検出部と、
所定の１次シミュレーションに基づき、前記計測スペクトルに近似させた１次シミュレーションスペクトルを得、前記計測スペクトル及び前記１次シミュレーションスペクトルに対して演算処理を施し、得られた演算値に対して近似的な関数を設定し、所定の２次シミュレーションに基づき、前記計測スペクトルに最近似させた２次シミュレーションスペクトルを得るための演算部とを具え、
前記演算部においては、前記２次シミュレーションにおいて、導出過程にあるシミュレーションスペクトルに前記近似的な関数を乗じる処理を行うことを特徴とする、膜厚測定装置に関する。
【００１１】
本発明によれば、従来のように、光源を用いて特定の波長領域での、薄膜を形成した基板における、前記基板を含む前記薄膜の波長依存性の計測スペクトルを得、次いで、形成すべき薄膜の光学定数、層構成及び必要に応じて散乱などを考慮した補正係数を入力した演算部にて、前記計測スペクトルに近似させたスペクトルを得るための前記薄膜の厚さ及びその際の１次シミュレーションスペクトルを、例えば前記演算部における所定のシミュレーション（１次シミュレーション）に基づいて実施する。
【００１２】
次いで、前記計測スペクトル及び前記１次シミュレーションスペクトルに対して所定の演算処理を施し、得られた演算値に対して近似的な関数を設定する。次いで、前記演算部にて、前記シミュレーション（１次シミュレーション）処理に、前記近似的な関数をさらに考慮させた２次シミュレーション処理により、前記計測スペクトルに最近似させた、最近似シミュレーションスペクトルを得るようにしている。この際、導出過程にあるシミュレーションスペクトルに対して前記近似的な関数を乗じるようにしている。
【００１３】
このようにして得た最近似シミュレーションスペクトルは、特に２次シミュレーション処理によって、例えば前記薄膜の表面における凹凸に起因した回折（散乱）の効果を自動的に補正するようになるので、前記波長依存性スペクトルに基づいて前記膜の膜厚を高精度に簡易かつ短時間で知ることができる。
【００１４】
したがって、上述した本発明の膜厚測定装置を、例えばオンラインの膜形成装置などに組み込むことによって、形成された膜の膜厚を時系列的に、特にはリアルタイムで計測することができ、この計測結果を随時時系列に膜厚制御のために成膜装置へフィードバックさせることができる。したがって、前記フィードバック結果に基づき、オンラインにおける膜形成過程において、形成過程にある膜の厚さが当初の設計値よりもずれているような場合においては、適宜に成膜条件を変更することによって、時系列的、特にはリアルタイムで膜厚制御を行うことができる。
【００１５】
なお、本発明の好ましい態様においては、前記演算処理は、前記計測スペクトルを前記１次シミュレーションスペクトルで除する除算とする。この場合、前記演算処理を簡易化することができ、目的とする２次シミュレーションスペクトルをより簡易に得ることができる。
【００１６】
また、本発明の他の好ましい態様においては、前記関数は１次関数とすることができる。この場合、前記２次シミュレーションにおいて、導出過程にあるシミュレーションスペクトルに前記近似的な関数を乗じる処理を簡易化することができる。なお、このような１次関数を設定するのみでも、特に上記演算処理として、前記計測スペクトル及び前記１次シミュレーションスペクトルの除算を採用する場合においては、前記２次シミュレーションスペクトルの精度を十分に向上させることができる。
【発明の効果】
【００１７】
以上説明したように、本発明によれば、極めて簡易かつ短時間で膜厚を高精度に測定することのできる新規な膜厚測定方法及び膜厚測定装置を提供することができる。また、前記膜厚測定方法及び前記膜厚測定装置を用い、その測定結果をオンライン膜形成などの膜形成工程に随時フィードバックさせ、形成過程にある膜の膜厚制御を時系列、特にはリアルタイムで高精度に制御することが可能な新規な膜厚制御方法及び膜厚制御装置を提供するが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の詳細、並びにその他の特徴及び利点について、最良の形態に基づいて詳細に説明する。
【００１９】
図１は、本発明の膜厚測定装置の一例を示す構成図である。図１に示す膜厚測定装置１０は、白色光源１１と、光ファイバから構成される発光部１２と、同じく光ファイバから構成される受光部１３と、分光検出器１４と、演算部としての解析用ＰＣ１５とを具えている。発光部１２は具体的には前記光ファイバの一端側の開口部から構成されており、受光部１３は具体的には前記光ファイバの一端側の開口部から構成されており、基板S上に形成された膜Fに対向するようにして設けられている。
【００２０】
なお、白色光源１１及び発光部１２は前記光ファイバの本体部分で接続されており、分光検出器１４及び受光部１３も前記光ファイバの本体部分で接続されている。また、分光器１４及びＰＣ１５は電気的に接続されている。分光検出器１４は汎用のものを用いることができる。
【００２１】
白色光源１１から発せられた白色光は、発光部１２を介して基板S上に形成された膜Fに対して所定の時間間隔又は時間的に連続して照射される。すると、前記白色光の一部は、膜Fの表面、基板Sの表面、及び膜Fが多層膜である場合においては膜同士の界面で反射されるようになる。このようにして得た反射光は受光部１３で受光した後、分光検出器１４へ送信される。分光検出器１４では、前記反射光は5nmピッチで分光され、各波長毎に電気信号に変換されてＰＣ１５に伝送される。ＰＣ１５では、前記反射光は一定の時間間隔で計測スペクトルとして取り出され、このようにして得た計測スペクトルに対して以下に詳述するような演算処理を含む本発明の特徴的な工程が施される。
【００２２】
次に、図１に示す装置を用いた本発明の膜厚測定方法について詳述する。なお、以下に説明する具体例はあくまで本発明の一例であって、本発明はこの内容に限定されるものでない。また、以下においては、基板Sとして厚さ３mmのガラス基板を用い、このガラス基板上に、CVD法により、SnO2層及びSiO2層の2層構造の多層膜Fを形成する場合について説明する。
【００２３】
最初に、基板Sを含む多層膜Fを図１に示す膜厚測定装置１０に設置する。そして、上述したような操作によって多層膜Fに対して白色光を白色光源１１から発光部１２を介して照射し、得られた反射光を受光部１３で受光するとともに、分光検出器１４に導く。次いで、ＰＣ１５において、前記反射光を一定の時間間隔で計測スペクトルとして取り出す。
【００２４】
次に、前記計測スペクトルに近似させた１次シミュレーションスペクトルを導出する。最初に、ＰＣ１５内には数値計算ソフトがインストールされており、数値計算ソフトには、SnO2層及びSiO2層の光学定数（屈折率及び吸収係数）、SnO2層及びSiO2層の層構成、これらの層の目標とする厚さ（設計膜厚）ｄ（SnO2）及びｄ（SiO2）、及び必要に応じて膜の回折（散乱）などにより発生する計測スペクトルとシミュレーション処理により求めた結果との不一致を補正するための補正値を予め入力しておく。
【００２５】
次に計測スペクトルに近似させた１次シミュレーションスペクトルを得る方法について説明する。先ず設計膜厚d（SnO2）及びd（SiO2）とした場合に得られるスペクトルと計測スペクトルとのズレを計算し、次に膜厚をそれぞれ少し変更し、膜厚d1（SnO2）及びd１（SiO2）とした場合に得られるスペクトルと計測スペクトルとのズレを計算する。計算は膜厚を少しずらして得られるスペクトルと計測スペクトルとのズレを計算した値が最も小さくなる値を得るまで繰り返し行う。このようにして最も小さくなる値となるスペクトル（１次シミュレーションスペクトル）とその際の膜厚dm(SnO2)及びdm（SiO2）を得る。なお、スペクトルは光学定数、膜厚及び必要に応じて改定する補正値により算術的に求めることが出来る。前記計測スペクトル及び１次シミュレーションスペクトルのグラフを図２に示す。
【００２６】
次いで、ＰＣ１５内において、前記計測スペクトルを前記１次シミュレーションスペクトルで除する演算処理を施し、図３に示すような演算値を得る。
【００２７】
次いで、ＰＣ１５内において、前記演算値に対して所定の１次関数を設定する。この１次関数は、ＰＣ１５内において、例えば前記演算値に対して最小２乗法などの近似手法を施すことにより得ることができる。図３においては、前記演算値に対して、スペクトルの縦軸である反射率をyとし、スペクトルの横軸である波長をｘとした場合において、y＝-0.0007x+1.4115なる関係式が得られている。
【００２８】
次に、前記計測スペクトルに最近似させた２次シミュレーションスペクトルを導出する。前記２次シミュレーションスペクトルは以下の方法により得ることができる。先ず設計膜厚d(SnO2)及びd(SiO2)とした場合に得られるスペクトルに前記所定の１次関数の値を乗じたスペクトル（修正スペクトル）と計測スペクトルとのズレを計算し、次に膜厚をそれぞれ少し変更し、膜厚d1(SnO2)及びd１(SiO2)とした場合に得られる修正スペクトルと計測スペクトルとのズレを計算する。前記計算は、膜厚を少しずらして得られる修正スペクトルと計測スペクトルとのズレを計算した値が最も小さくなる値を得るまで繰り返し行う。このようにして最も小さくなる値となる修正スペクトル（２次シミュレーションスペクトル）とその際の膜厚dn(SnO2)及びdn(SiO2)を得ることができるようになる。前記計測スペクトル及び２次シミュレーションスペクトルのグラフを図４に示す。
【００２９】
なお、前記1次関数は前記補正係数を修正する意味合いを有する。
【００３０】
前記2次シュミレーションスペクトルは、上述したような膜厚をパラメータとしたアルゴリズム的な操作において、前記1次関数で修正された補正係数を用いて得ているので、散乱などの効果を自動的に補正するようになる。したがって、前記2次シミュレーションスペクトルに基づくSnO2層及びSiO2層の厚さdn(SnO2)及びdn(SiO2)は、これらの厚さを高精度に表すことになる。
【００３１】
また、上述した膜厚測定方法の手順について、図５にフローチャートとしてまとめた。
【００３２】
次に膜厚の制御方法について説明する。前述の膜厚測定方法により基板Ｓ上に形成された膜Ｆの膜厚がdn(SnO2)及びdn(SiO2)であることが求められたので、次に設計膜厚d(SnO2)及びd(SiO2)との差を求める。この差は、各層ごとに設計膜厚ｄを測定により得られた膜厚dnにより除することで求めることができる。得られた結果は成膜装置へフィードバックを行い、この結果をもとに成膜条件の変更を行う。成膜条件の変更、例えば成膜時間又は成膜のレートをd/dn倍にするなどの方法が考えられる。
【００３３】
上述の方法及び装置を用いることにより生産されたガラスの計測スペクトルを測定することにより、得られた計測スペクトルから膜厚がdn（SnO2）及びdn(SiO2)をシミュレーションにより算出することが出来る。また、算出された膜厚dnを設計膜厚で除し、その結果を成膜装置にフィードバックを行い成膜条件を修正することにより、膜厚を設計膜厚ｄとなるように修正することができる。
【００３４】
以上、具体例を挙げながら発明の実施の形態に基づいて本発明を詳細に説明してきたが、本発明は上記内容に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいてあらゆる変形や変更が可能である。
【００３５】
例えば、図３に示すように、演算値に対する１次関数の設定は所定の波長域に限定することができる。本例においては、視覚的な特徴を重視する膜を生産する観点から、可視光域での膜厚（膜厚精度）が問題となるので、図３においては可視光域である420nm〜700nmの波長範囲において前記設定を行い、この範囲内での膜厚精度を向上させるようにしている。
【００３６】
しかしながら、波長範囲の選択はこれに限るものではなく、例えば通信用部品の膜の測定であれば、実際に通信に用いる波長の光、具体的には800-1850nmの波長の一部又は全領域を用いても良い。また、光源は、測定する波長に応じて適時選択される。本例においては、可視光領域の測定のため白色光としたが、例えば、広い強度分布を持たないＬＥＤ光源やレーザ光源などの単色光を光源として用い、これらの光源の内、主波長（強度の最も強い波長）の異なる何種類かを組み合わせて用いることもできる。
【００３７】
図２に示す膜厚測定装置１０は、例えばオンラインの膜形成装置などに組み込むことができる。この場合、上述した膜厚測定方法に基づいて、形成された膜の膜厚を時系列的に、特にはリアルタイムで計測することができ、この計測結果を随時時系列にフィードバックさせることができるようになる。したがって、前記フィードバック結果に基づき、オンラインにおける膜形成過程において、形成過程にある膜の厚さが当初の設計値よりもずれているような場合においては、適宜に成膜条件を変更することによって、時系列的、特にはリアルタイムで膜厚制御を行うことができる。
【００３８】
例えば、上記例においては、基板S上に２層構造の多層膜Fを形成し、この膜厚を測定するようにしているが、多層膜Fの層構成は２層に限定されることなく、３層以上とすることができる。また、本発明は、多層膜Fに代えて単層膜の膜厚測定に対しても用いることができる。
【００３９】
さらに、上記具体例においては、演算処理として計測スペクトルを１次シュミレーションスペクトルで除する除算を使用しているが、その他の加減算や乗算、さらにはこれらの組み合わせを用いることができる。また、その他の複雑な演算処理を用いても良い。しかしながら、演算処理が複雑になるほど目的とする最近似シュミレーションスペクトルを得るのに長時間を要するようになるため、なるべく簡単な演算処理を用いることが好ましい。
【００４０】
また、上記具体例においては、演算値に対する関数として１次関数を設定しているが、関数の次数については特に限定されるものはなく、２次以上の関数を設定することもできる。さらには、このような単純関数に代えて、あるいは加えてその他三角関数や指数関数などを組み合わせることもできる。但し、この場合においても、複雑な関数を設定することにより、逆演算処理に要する時間が長時間化するので、目的とする最近似シミュレーションスペクトルを得るのに長時間を要するようになる。したがって、なるべく簡単な関数を設定することが好ましい。
【実施例】
【００４１】
層１、層２及び層３からなる３層構造の多層膜を形成したガラスについて、上述のようなシミュレーションを行い、膜厚測定を実施した。結果を表１に示す。なお、表１においては、各層の目標膜厚を”1”とし、この膜厚を基準値とした場合の相対的な膜厚を示している。表１において、”before”なる文言は、上述したシミュレーションを行い、膜厚測定を実施した結果を示し、”after”なる文言は、”before”の結果を元に膜厚制御を行った後の多層膜を形成したガラスを、上述のようなシミュレーションを行い、膜厚測定を実施した結果を示している。
【００４２】
【表１】
2006145480.tif 000003
【００４３】
表１から明らかなように、上述した本願の制御を行う前は、各層ともに基準膜厚”1”に対して約0.05〜0.07（5〜7％）のずれがあることが分かるが、上述した本願の制御を実施した後は、各層ともに基準膜厚”1”に対してのずれが約0.001〜0.05（0.1〜5%）まで減少しており、膜厚精度が向上していることが分かる。これは、膜厚測定の精度が高いことを意味する。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の膜厚測定装置の一例を示す構成図である。
【図２】本発明の膜厚測定方法における、計測スペクトル及び１次シミュレーションスペクトルの一例を示すグラフである。
【図３】本発明の膜厚測定方法における、演算値及びこの演算値に対して設定した１次関数の一例を示すグラフである。
【図４】本発明の膜厚測定方法における、最近似シミュレーションスペクトルの一例を示すグラフである。
【図５】本発明の膜厚測定方法の手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００４５】
１０  膜厚測定装置
１１  白色光源
１２  発光部
１３  受光部
１４  分光器
１５  解析用PC
【図１】
2006145480.tif 000004
【図２】
2006145480.tif 000005
【図３】
2006145480.tif 000006
【図４】
2006145480.tif 000007
【図５】
2006145480.tif 000008