(57)【要約】【課題】  光情報記録層の厚さが均一であるため、生産適性に優れ、取り扱いが容易な光記録媒体を提供する。【解決手段】  ２枚の光透過性基板の間に、記録光によって情報が記録される厚さ１００μｍ以上の光情報記録層を備える光記録媒体であって、前記光情報記録層が、厚さが１００μｍ以上、かつヤング率が１０００〜３００００ＭＰａであることを特徴とする光記録媒体。【選択図】      図１
2006085763.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の光透過性基板の間に、記録光によって情報が記録される厚さ１００μｍ以上の光情報記録層を備える光記録媒体であって、
前記光情報記録層のヤング率が１０００〜３００００ＭＰａであることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記２枚の光透過性基板が、厚さ２００μｍ以上の基板と、厚さ５０μｍ以上の基板とで構成されることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記光情報記録層が、光記録材料の多層塗布、射出成形、熱圧着およびスピンコートから選ばれるいずれか１種の方法で形成されたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体に関し、特に、多層光メモリ、ホログラムメモリ等の３次元記録用の光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、実用化され、または実用化が目前となっている光記録媒体として、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）やブルーレイディスク（Blu-Ray  Disk）等の各種の光記録媒体が知られている。しかし、これらの光記録媒体の記録容量は、最高でも２７ＧＢ程度であり、近年の高度情報化社会の進展に伴う情報の大容量化に対応するためには、さらなる高記録容量の光記録媒体の開発が求められている。そこで、高記録容量の光記録媒体として、ホログラフィックメモリ、多層光メモリ、近接場光を利用する光記録媒体などが注目され、次世代の光記録媒体として開発が進められている。
【０００３】
ホログラフィックメモリを利用して情報を記録する光記録媒体において、情報の記録は、光記録媒体の面内方向だけでなく深さ方向にも行われる。すなわち、光記録媒体に設けられた光情報記録層の面内方向と、光情報記録層の深さ方向（記録媒体の厚さ方向）とを利用して３次元的に情報が記録され、さらに、同じ場所に多重記録を行なうことによって、高密度かつ大容量の情報の記録が可能となる（特許文献１、特許文献２等参照）。また、多層光メモリにおいても、光情報記録層の面内方向と深さ方向に３次元的に情報が記録される。
【０００４】
こうした３次元方向に情報が記録される光記録媒体では、体積方向（面内方向と深さ方向）に記録がなされるため、光記録材料で形成される光情報記録層が厚く、約１ｍｍ程度（もしくはそれ以上）になる場合がある。このような比較的厚い光情報記録層を有し、しかも光情報記録層の深さ方向にも情報が記録される光記録媒体では、光情報記録層の厚さを均一にすることが重要になってくる。例えば、ホログラフィックメモリにおいては、一度に多量のデータの記録・再生を行うため、光情報記録層の厚さが不均一であると、厚さが不均一な部分において、記録・再生特性が低下するおそれがある。また、他の多層光メモリを利用する光記録媒体においても、厚さが不均一であると、記録・再生特性が低下する。そして、比較的厚い光情報記録層が変形し易いと、厚さの均一性を保持することが困難となり、さらに、光記録媒体の取り扱いの観点からも光情報記録層が変形し難いことが求められる。
【特許文献１】特開平６−４３６３４号公報（段落０００６〜０００７、図１）
【特許文献２】特開平２−３０８２号公報（第４頁右上欄第１４行〜第２０行）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明では、比較的厚い光情報記録層を有する光記録媒体において、光情報記録層が変形し難いため、均一な厚さを保持して安定した記録・再生特性を示すとともに、生産適性に優れ、取り扱いが容易な光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するため、本発明の光記録媒体は、２枚の光透過性基板の間に、記録光によって情報が記録される厚さ１００μｍ以上の光情報記録層を備える光記録媒体であって、前記光情報記録層のヤング率が１０００〜３００００ＭＰａであることを特徴とする。
【０００７】
この光記録媒体では、厚さ１００μｍ以上の比較的厚い光情報記録層のヤング率が１０００〜３００００ＭＰａであることによって、光記録媒体の記録・再生特性の低下や取り扱い性の悪化を招く光情報記録層の変形が生じ難い。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光記録媒体は、光情報記録層が変形し難いため厚さの均一性を保持でき、良好な記録・再生特性を維持できるとともに、光記録媒体の取り扱いが容易となり、また、光情報記録層自体の形成も容易となるためコスト的に有利である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る、ホログラフィック記録用の光記録媒体ＯＭ１の概略斜視図である。
図１に示す光記録媒体ＯＭ１は、光透過性基板１，２と、図２に示す模式断面図のとおり、その光透過性基板１と光透過性基板２の間に介設された光情報記録層３とを有し、中心にホログラムによる記録および再生の際に、光記録媒体ＯＭ１を回転するための駆動機構（図示せず）の嵌装孔４が穿設された円盤状の積層体で構成される。
【００１０】
光透過性基板１，２は、特に限定されず、天然または合成の有機合成樹脂からなるフィルムまたはシートで構成される。例えば、ガラス等の無機物、ポリカーボネート（以下、「ＰＣ」と略す。）、トリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」と略す。）、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」と略す。）、ポリフェニレンスルフィド（以下、「ＰＰＳ」と略す。）、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アモルファスポリオレフィン等の有機合成樹脂等が挙げられる。特に、複屈折が低いことから、ＰＣ（ポリカーボネート）などが好ましい。この光透過性基板１と光透過性基板２とは、同一の材料で形成されていてもよく、また、異なる材料で形成されていてもよい。
【００１１】
光透過性基板１は、光情報記録層３に接する表面１ａ（図２参照）に、反射層を設けてもよく、反射層は、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｃｒ等の元素成分を単独もしくは他の元素を含んだ状態でスパッタしたものを用いて形成されることが好ましい。
【００１２】
また、光透過性基板１，２は、取り扱い時の剛性の観点から、厚さが５０μｍ以上の比較的厚みのあるものが好ましく、特に５０〜１５００μｍ程度の厚さであることが好ましい。特に、光透過性基板１の厚さが２００μｍ以上であり、また、光透過性基板２の厚さが５０μｍ以上であることが好ましい。記録光が光透過性基板２の側から照射されるため、光透過性基板２の厚さを薄くすることにより、基板に由来する光の散乱を低減することができ、ノイズを低減させることができる。
【００１３】
さらに、光透過性基板１の光情報記録層３と接する表面１ａに、トラッキング・サーボ、フォーカス・サーボ等のサーボ制御を行うための情報、また、光情報記録層のアドレスを識別する情報などを示す凸凹プリフォーマットパターンや、ピットからなるサーボ信号記録領域を予め形成しておいてもよい。これによって、ホログラムメモリにおいて、光情報記録層における参照光および情報光の干渉による干渉縞の形成が正確に行われ、光情報を正確に記録することが可能となる。また、再生においても、参照光による光情報の再生を正確に行うことが可能となる。このサーボ信号記録領域に記録する情報は、光情報記録層３を構成する光記録材料が吸収しない６００ｎｍ以上のレーザを使用して再生される。また、また、光情報記録層３の上に、酸素や水分を遮断するための保護層を設けてもよい。
【００１４】
光情報記録層３は、記録光が照射されたときに光情報記録層３内に形成される干渉縞の明暗に沿って、屈折率、透過率、誘電率、反射率、吸収率等の光学的特性が変化する光記録材料で形成される。
【００１５】
この光情報記録層３の厚さは、ホログラムメモリ等の高記録密度および高容量の３次元光記録を良好に行なうことができる点で、１００μｍ以上、好ましくは１００μｍ〜２ｍｍ、さらに好ましくは５００μｍ〜１．５ｍｍである。
【００１６】
また、光情報記録層３は、ヤング率が１０００〜３００００ＭＰａ、好ましくは２０００〜２００００ＭＰａのものである。ヤング率が１０００〜３００００ＭＰａである光情報記録層３は、変形し難いため厚さの均一性を保持でき、良好な記録・再生特性を維持できるとともに、光記録媒体の取り扱いが容易となり、また、光情報記録層３自体の形成も容易となるためコスト的に有利である。
【００１７】
一般的なホログラフィックメモリの素材としては、ハロゲン化銀や重クロム酸ゼラチン、フォトリフラクティブ材料、フォトクロミック材料、フォトポリマ材料などが挙げられる。これらの中でも、フォトポリマ材料は、高回折効率が得られること、低ノイズであること、記録後に完全に定着をすれば保存安定性が良好である特徴を有する。このフォトポリマ材料は、通常、バインダ、重合性モノマー、増感色素、重合開始剤などを含有する。
【００１８】
この光記録材料として用いられるフォトポリマにおいて、バインダと重合性モノマーは屈折率の異なるものを使用することが望ましい。光情報の記録時において、光記録媒体の光情報記録層３内に干渉縞が形成されると、干渉縞の明部においては、増感色素が励起されて電子を放出する。放出された電子は、重合開始剤に移動してラジカルを発生させ、このラジカルが重合性モノマーに移動して重合が開始される。重合性モノマーによっては、酸発生剤で重合を起こすものもある。その結果、干渉縞の明部ではモノマーリッチに、干渉縞暗部ではバインダリッチな構成になり、屈折率差が干渉縞として光記録媒体内に記録される。光情報の記録に使用されなかった重合性モノマーは、記録後にレーザや白色光源を用いて全面露光され、定着処理される。また、素材によっては、熱処理によって定着される場合もある。
【００１９】
バインダは、透過率が高く、複屈折の低いものが望ましい。バインダの具体例としては、塩素化ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレートと他の（メタ）アクリル酸アルキルエステルの共重合体、塩化ビニルとアクリロニトリルの共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、アセチルセルロース、ポリカーボネートなどが挙げられる。
【００２０】
フォトポリマ材料の場合には、バインダとモノマーの屈折率差で記録がなされるため、記録に適した屈折率を有するモノマーが使用される。重合性モノマーは、重合可能な重合性基を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ラジカル重合性モノマー、カチオン重合性モノマーもしくは両モノマーを併用してもよく、具体的には、エポキシ基、エチレン性不飽和基等の重合性基を含む化合物が挙げられる。これらの重合性基を分子内に１つ以上含む重合性モノマーが使用され、分子内に２つ以上の重合性基が含まれる場合は、２つ以上の重合性基は異なるものでもよいし、同じものでもよい。
【００２１】
増感色素は、記録光の波長に吸収ピークを有するものが使用され、記録光の波長における色素自体の光吸収係数εが低いものが好ましい。この増感色素としては、シアン系、メロシアン系、フタロシアン系、アゾ系、アゾメチン系、インドアニリン系、キサンテン系、クマリン系、ポリメチン系、ジアリルエテン系、フルギドフルオラン系、アントラキノン系、スチリル系等の公知の有機色素や錯体色素を用いることができる。
【００２２】
さらに、重合開始剤は、８０℃以下で熱不活性であり、適当な遊離ラジカルを発生するものであれば、特に制限されない。また、カチオン重合性の重合性モノマーを用いる場合は、酸発生剤を用いることが好ましい。
【００２３】
また、光記録材料は、前記以外の成分として、増感剤、光学的増白剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、連鎖移動剤、可塑剤、着色剤等のこの種の光記録媒体の光情報記録層の形成に常用されるものを、必要に応じて含んでいてもよい。
【００２４】
また、光記録材料として、屈折率変調を起こす色素と、その色素を発色もしくは消色させる光反応剤と、光反応剤を発現させるための増感色素と、バインダとを含む光記録組成物を用いることもできる。この光記録組成物では、色素の発色もしくは消色に伴う屈折率変調により、ホログラム記録が可能になる。
【００２５】
また、上記の物質以外でも、干渉縞の明暗に沿って素材の物性が変化し、屈折率差や透過率差などが生じる物質であれば、光記録材料として用いることができる。例えば、色素の発色や消色に伴う屈折率変化を生じるものを用いることができる。また、これらの組み合わせ、例えば、光の照射によって発色または消色する色素とフォトポリマ−を含む組成物、フォトリフラクティブ材料とフォトポリマ−を含む組成物なども、ホログラム記録材料として用いることができる。
【００２６】
これらの中でも、光情報記録層３を構成する素材としては、前記光記録組成物が適している。この光記録組成物は、ヤング率が１０００〜３００００ＭＰａの光情報記録層３を容易に形成することができる点で、有利である。また、前記の光記録材料には、充填剤、可塑剤、膨張剤、硬化剤等を配合して、ヤング率が前記の範囲の光情報記録層３を形成してもよい。用いられる充填剤は、有機微粒子、無機微粒子等が挙げられる。有機微粒子としては、例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末等が挙げられる。また、無機微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化クロム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化銅、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化ホルミウム、酸化ビスマス、酸化コバルト、酸化エルビウム、酸化ガドリニウム、酸化インジウム、酸化ニッケル、酸化ストロンチウム、酸化イッテルビウム等の金属酸化物；窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ニオブ等の窒化物；炭化ケイ素、炭化チタン、炭化モリブデン、炭化タングステン等の炭化物などの誘電体微粒子、Ｓｉ、Ｇｅ等のＩＶ族半導体、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＺｎＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ等のＩＩ−ＶＩ族半導体微粒子、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＩｎＳｂ等のＩＩＩ−Ｖ族半導体微粒子、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ等のＩＶ−ＶＩ族半導体微粒子、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、ニオブ等の金属微粒子等が挙げられる。このとき、充填剤は、記録光を吸収しない材質または粒径のものであることが好ましい。
【００２７】
前記第１の実施形態の光記録媒体ＯＭ１は、回転円盤状の記録媒体の例であるが、本発明の光記録媒体は、この第１の実施形態に限定されず、カード型、小型チップ型、直方体型、テープ型等の各種の形態のものでもよい。例えば、光透過性基板１、光情報記録層３、光透過性基板３の順に積層された構造をするカード型の光記録媒体が挙げられる。このカード型の光記録媒体においても、光透過性基板１と光情報記録層３の間に反射層、および光情報記録層３と光透過性基板２の間に保護層等を設けてもよい。また、テープ型媒体に関しては、ヤング率が１０００〜３０００ＭＰａであることから可能となる。さらに、テープ型媒体は、記録面積を大きくすることにより、高容量化が可能となる。
【００２８】
さらに、前記の実施形態は、ホログラフィック記録用の光記録媒体を例として説明したが、本発明は、ホログラフィック記録用の光記録媒体に限定されず、他の３次元光記録媒体、例えば、２光子吸収を利用する多層光メモリによる光記録媒体等の各種の光記録媒体に適用可能である。光記録媒体以外にも、セキュリティ用途のカード、イメージング用媒体等としても使用でき、これらの用途の媒体、カード、テープ等の作成においても、前記実施形態は適用可能である。
【００２９】
この光記録媒体ＯＭ１は、２枚の光透過性基板１，２の間に、光情報記録層３が介設された構造の積層体を形成することによって製造することができる。例えば、光透過性基板１の片面に、光記録材料を塗布して光情報記録層３を形成する工程と、前記光情報記録層の上に、もう１枚の光透過性基板２を貼り合わせる工程を含む方法が挙げられる。光透過性基板１，２は、所定の形状に成形しておき、光透過性基板１の片面に光情報記録層３を形成した後、光透過性基板２を貼り合わせて、所定の形状の光記録媒体を製造することもできるし、光透過性基板１、２の間に光情報記録層３を形成した後、打ち抜き、切断等の方法によって所定の形状に成形する。光記録媒体は、その用途にしたがって、ディスク状（光記録媒体ＯＭ１）、カード状などの所定の形状に成形される。
【００３０】
光透過性基板１の上に光情報記録層３を形成する工程は、光透過性基板１の上に、多層塗布、射出成形、熱圧着およびスピンコートのいずれかの方法によって光記録材料を形成することによって行なうことができる。
【００３１】
多層塗布では、光透過性基板１の上に光記録材料を含む塗布液を塗布して乾燥する工程を繰返して所定の厚さの光情報記録層３を形成することができる。
【００３２】
光記録材料を含む塗布液は、前記の光記録材料および必要に応じて配合されるその他の成分を混合し、溶剤を加えて撹拌することによって調製することができる。この塗布液の調製は、光記録材料の硬化を防止するため、赤色灯等の暗室照明下で行うことが好ましい。
【００３３】
用いられる溶剤としては、用いる光記録材料を十分に溶解し、良好な塗膜性を与えるものであれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレングリコール系溶剤、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレートエチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶剤、ブタノール、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール等のアルコール系溶剤、メチルイソブチルケトン、ジメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドＮ−メチルピロリドン等の高極性溶剤、アセトニトリル等のシアン化炭化水素系溶剤、あるいはこれらの混合溶剤、さらには、これらに芳香族炭化水素を添加したもの、もしくはジクロロメタンやクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶剤等が挙げられる。溶剤の割合は、記録材料の総量に対して、通常、質量割合で１０〜９０％程度の範囲である。また、溶剤は、沸点が１００℃以下のものが好ましい。
【００３４】
また、塗布液の粘度は、用いる塗布方法によって適宜調整されるが、通常、０．１〜５０Ｐｓ程度である。特に、ドクターナイフ等のコーターナイフを用いて塗布する場合には、１〜３０Ｐｓ程度の粘度であることが好ましい。
【００３５】
光透過性基板１への塗布液の塗布方法は、ディップコート法、コータ、ロッド、コイルバー、ギーサー、ブレード器等によって行うことができる。特に、均一かつ厚い光情報記録層を得るためには、コイルバーまたはロッドを用いて塗布する方法が好ましい。
【００３６】
射出成形によって、光透過性基板１の上に光情報記録層３を形成する場合には、２層成形、多色成形等の射出成形方法によって、あるいは、射出成形用金型のキャビティ内に、予め光透過性基板１を載置した後、金型を閉じ、光記録材料をキャビティ内に射出する方法によって、光透過性基板１の上に光情報記録層３を有する射出成形品を得ることができる。このとき、光記録材料は、十分な耐熱性を有するものが望ましい。また、射出成形後、媒体の表面を研磨などの平滑化処理を施してもよい。
【００３７】
また、熱圧着によって、光透過性基板１の上に光情報記録層３を形成する場合には、予め光記録材料からなる所定の厚さのフィルムまたはシートを形成し、このフィルムまたはシートを光透過性基板１の上に積層して、上に光透過性基板２を載せて、上から加熱押圧して、行なうことができる。このとき、光透過性基板１と光透過性基板２は平行にすることが重要である。また、熱圧着は、光記録材料の成分であるバインダのＴｇ以上の温度で行うことが必要である。
【００３８】
さらに、スピンコートによって、光透過性基板１の上に光情報記録層３を形成する場合には、光透過性基板１の上に光記録材料を含む液をスピンコートして乾燥する工程を繰返して所定の厚さの光情報記録層３を形成することができる。このとき、回転数と液の粘度を調整することが重要である。また、ディスク型、カード型の媒体の場合には、スピンコート後に、カレンダ等の平滑化処理を施してもよい。
【実施例】
【００３９】
以下、本発明の実施例および比較例により本発明を具体的に説明する。
（比較例１）
＜塗布液Ａの調整＞
表１に示すバインダ、モノマー、重合禁止剤（モノマー中に含有されている）、増感色素および重合開始剤を、赤色灯下で秤量して褐色ナス型フラスコに入れるとともに、さらに溶剤としてジクロロメタンを入れ、スターラを用いて３時間攪拌し、下記表１に示す処方の光記録材料を含む塗布液Ａを得た。この塗布液Ａの粘度は、２１[Ｐｓ]であった。
【００４０】
【表１】
2006085763.tif 000003
【００４１】
注）
ＣＡＢ５３１−１：セルロースアセテートブチレート（イーストマンケミカル社製）
ＰＯＥＡ：アクリル酸２−フェノキシエチル(ＣａｓＮｏ.４８１４５−０４−６)
ＭＥＨＱ：４−メトキシフェノール(ＣａｓＮｏ.１５０−７６−５)
ＤＥＡＷ：シクロペンタノン−２,５−ビス[[４−(ジエチルアミノ)フェニル]メチレン](ＣａｓＮｏ.３８３９４−５３−５)
ＭＢＯ：２−メルカプトベンズオキサゾール(ＣａｓＮｏ.２３８２−９６−９)
ｏ−Ｃｌ−ＨＡＢＩ：２，２−ビス[ｏ−クロロフェニル]−４，４，５，５−テトラフェニル−１，１−ビイミダゾール(ＣａｓＮｏ.１７０７−６８−２)
【００４２】
透明基板（ＴＡＣ、厚さ１００μｍ）の上に、３００μｍのクリアランス（ギャップ長）のコータを用いて塗布液Ａを塗布して、４０℃で３分間乾燥した。さらに、引き続いて、塗布液Ａの塗布および乾燥を行う工程を２回繰返して、透明基板の上に厚さが１２３μｍの光情報記録層を形成した。次に、この光情報記録層の上に、ガラス基板（厚さ：１ｍｍ）を貼り合わせた。
【００４３】
（実施例１）
＜塗布液Ｂの調整＞
バインダ、酸で消色する色素、酸発生剤、および増感色素を赤色灯下で秤量して褐色ナス型フラスコに入れるとともに、さらに溶剤を入れ、スターラを用いて３時間攪拌し、下記表２に示す処方の光記録材料を含む塗布液Ｂを得た。
【表２】
2006085763.tif 000004
【００４４】
ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレート（Aldrich社製、Ｍｗ：９９６０００）
色素Ａ：下記式（ａ）で表わされる第４級アンモニウム塩
酸発生剤Ａ：ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロりん酸
(ＣａｓＮｏ.５８１０９−４０−３)
色素Ｂ：下記式（ｂ）で表わされるＲｕ錯体化合物
【化１】
2006085763.tif 000005
【００４５】
透明基板（ＴＡＣ、厚さ１００μｍ）の上に、３００μｍのクリアランス（ギャップ長）のコータを用いて塗布液Ｂを塗布して乾燥した。引き続いて、塗布液Ｂの塗布および乾燥を行う工程を２回繰返して、透明基板の上に厚さ１２０μｍの光情報記録層を形成した。次に、この光情報記録層の上に、ガラス基板（厚さ：１ｍｍ）を貼り合わせた。
【００４６】
この塗布液Ｂによって形成された光情報記録層においては、干渉縞明部において、レーザにより増感色素Ａが励起され、励起された色素から電子が放出される。放出された電子は酸発生剤に移動して、酸発生剤より酸が発生する。この酸により、増感色素とは異なる色素Ｂ（酸により消色する色素）が消色し、屈折率が変化する。このように、干渉縞明部の色素を消色することにより、屈折率変調を起こし、ホログラムが記録される。
【００４７】
＜評価＞
実施例１および比較例１で得られた光記録媒体の回折効率、ならびに光情報記録層の厚さ、ヤング率および変形量を、下記の方法に従って測定した。
【００４８】
回折効率の測定
図３に示すとおり、ＹＡＧレーザ源３１から、対物レンズ３２、レンズ３３、ビームスプリッタ３４およびミラー３５を介して、光記録媒体３６の表面Ａに照射される波長５３２ｎｍのＹＡＧレーザ光Ｌ１を用いて、光記録媒体３６の表面に、入射角度１５度でスポット径８ｍｍφ、出力３ｍＷ／ビーム、記録エネルギ２０００[ｍＪ／ｃｍ2]で、飽和露光記録を行った。その後、光記録媒体３６に紫外線（１００Ｗキセノンランプ）を１時間照射して、記録されたホログラムの定着を行った。
【００４９】
次に、Ｈｅ−Ｎｅレーザ源３８からミラー３９およびミラー４０を介して、波長６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザ光Ｌ２を、光記録媒体（サンプル）３６の裏面Ｂに入射角度１８度で照射して、露光量に対する回折効率の変化を観測した。このとき、回折効率は、光記録媒体３６の表面Ａの側に設けられたパワーメータ４１によって測定されるＨｅ−Ｎｅレーザの回折光の光量と、光記録媒体３６の裏面Ｂに入射するＨｅ−Ｎｅレーザの入射光量（Ｈｅ−Ｎｅレーザ源３８からの出射光量）とから下記の式によって求めた。
回折効率（％）＝回折光の光量／入射光量×１００
【００５０】
光情報記録層の厚さ
ソニー社製DIGITAL MICROMETERを用いて、光情報記録層の厚さを測定した。厚さは、まずサンプル全体の厚さを測定し、透明基板とガラス基板の厚さを差し引いて求めた。
【００５１】
光情報記録層のヤング率
塗布液Ａまたは塗布液Ｂを、支持体（ＰＥＴ製、厚さ１μｍ）に塗布して、厚さ２μｍの光情報記録層の試験体を作成し、下記の引張試験機（東洋ボールドウィン社製、万能引張試験機ＳＴＭ−Ｔ−５０ＢＰ）を用いて、２３℃、７０％ＲＨの雰囲気下、引張速度１０％／分で測定した。得られたヤング率から、支持体のヤング率を差し引いて、光情報記録層のヤング率とした。
【００５２】
光情報記録層の変形量
光記録媒体の透明基板の側に、１００ｇの重りをのせて、１０秒間保持した。その後、重りを取り除いたときの光情報記録層の変形を目視で観察した。
また、表３に、用いたバインダのＴｇを記載した。
【表３】
2006085763.tif 000006
【００５３】
表３に示す結果から、実施例１では、支持体に重りをのせても、変形は確認されず、回折効率も重りをのせた部分と境界部分で変化がなかった。また、比較例１では、光情報記録層がフォトポリマで形成されているため、非常に柔らかく、重りをのせた部分に変形が発生した。また、重りをのせて窪んだ部分の境界では、回折効率が低下した。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の実施形態に係る光記録媒体の概略斜視図である。
【図２】図１に示す光記録媒体の構造を示す模式断面図である。
【図３】回折効率の測定方法を示す図である。
【符号の説明】
【００５５】
１      光透過性基板
２      光透過性基板
３      光情報記録層
【図１】
2006085763.tif 000007
【図２】
2006085763.tif 000008
【図３】
2006085763.tif 000009