(57)【要約】【課題】  ＩＴＯ焼結体の反りを抑制することができる酸化インジウム粉末を提案する。【解決手段】  レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定し得られる凝集粒度体積基準分布において、粒度範囲０．０３〜５μｍにおける最高頻径の頻度が１〜７％、好ましくは２〜５％であり、粒度範囲５μｍ以上における最高頻径の頻度が０．３〜２％、好ましくは０．５〜１．５％である粒度分布を備えた酸化インジウム粉末を提案する。このような酸化インジウム粉末を用いてＩＴＯ焼結体を製造すると、酸化インジウム粉末の急激な熱収縮が起りにくく、ＩＴＯ焼結体の反りを有効に抑制することができる。【選択図】    図１
2006044994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる凝集粒度体積基準分布において、
粒度範囲０．０３〜５μｍにおける最高頻径の頻度が１〜７％であり、
粒度範囲５μｍ以上における最高頻径の頻度が０．３〜２％であることを特徴とする粒度分布を備えた酸化インジウム粉末。
【請求項２】
粒度範囲０．０３〜０．２μｍにおける最高頻径の頻度が１〜３％であり、
粒度範囲０．２〜５μｍにおける最高頻径の頻度が２〜５％であり、
粒度範囲５μｍ以上における最高頻径の頻度が０．３〜２％であることを特徴とする請求項１に記載の酸化インジウム粉末。
【請求項３】
レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる凝集粒度体積基準分布において、
粒度範囲０．０３〜５μｍにおける最高頻径が０．４〜０．７μｍの間に存在し、
粒度範囲５μｍ以上における最高頻径が８〜２３μｍの間に存在することを特徴とする粒度分布を備えた酸化インジウム粉末。
【請求項４】
粒度範囲０．０３〜０．２μｍにおける最高頻径が０．１〜０．２μｍの間に存在し、
粒度範囲０．２〜５μｍにおける最高頻径が０．４〜０．７μｍの間に存在し、
粒度範囲５μｍ以上における最高頻径が８〜２３μｍの間に存在することを特徴とする請求項３に記載の酸化インジウム粉末。
【請求項５】
粒度範囲０．０３〜５μｍにおける最高頻径と粒度範囲５μｍ以上における最高頻径との間の粒度範囲における最低頻径の頻度が１％以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の酸化インジウム粉末。
【請求項６】
粒度範囲０．０３〜５μｍにおける頻度合計が８０〜９５％であり、
粒度範囲５μｍ以上における頻度合計が２０〜５％であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の酸化インジウム粉末。
【請求項７】
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真観察により測定される一次粒子平均粒径が０．１〜０．３μｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の酸化インジウム粉末。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の酸化インジウム粉末と酸化スズ粉末とを混合してなるＩＴＯ焼結体の前駆体としてのプレミックス粉体。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかに記載の酸化インジウム粉末と酸化スズ粉末とを混合し、焼成してなるＩＴＯ焼結体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＩＴＯ膜（Indium Tin Oxide膜）を形成する際のスパッタリングターゲット原料として用いる酸化インジウム粉末に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＴＯ膜は、高い導電性と可視光透過性を併せ持つため、太陽電池や液晶表示デバイス、タッチパネル、窓ガラス用結露防止発熱膜など、様々な透明導電膜用途に広く用いられている。
このようなＩＴＯ薄膜を製造する方法として、スパッタリング、真空蒸着、ゾル・ゲル法、クラスタービーム蒸着、ＰＬＤなどの方法が挙げられるが、中でもスパッタリング法は、大面積基板上に低抵抗な膜を比較的低温で作製できるため工業的に広く用いられている。
【０００３】
このようにスパッタリング法によってＩＴＯ薄膜を製造する際、スパッタリングターゲットとして用いられるのがＩＴＯ焼結体である。このＩＴＯ焼結体は酸化インジウム粉末と酸化スズ粉末との混合粉末（プレミックス粉体）を加圧成型後、焼結して製造するのが一般的である。
ＩＴＯ焼結体原料としての酸化インジウム粉末の物性が、ＩＴＯ焼結体及びＩＴＯ薄膜の性能に大きく影響するため、従来から酸化インジウム粉末及びその製造に関する様々な提案がなされている。
【０００４】
例えば特許文献１には、酸化インジウム粉末を仮焼し、平均粒径が３〜６μｍの酸化インジウム又は酸化スズとしこれを用いる方法が提案され、
特許文献２には、焼成時の雰囲気を１気圧以上の加圧酸素雰囲気とすることにより理論密度の９５％以上の高密度ＩＴＯターゲットを得る方法が提案されている。
【０００５】
また、特許文献３には、硝酸インジウム水溶液を７０〜９５℃に加熱し、該水溶液にアルカリ水溶液を添加し、水酸化インジウムスラリーを生成した後、濾過、乾燥処理して得られた針状水酸化インジウム粉末を仮焼することにより、結晶子径が２００〜５００オングストロームであり、且つ粒度分布から求めた平均粒径が０．５μｍ以下である酸化インジウム粉末が提案され、
特許文献４には、水酸化インジウムを針状結晶とすることにより、水酸化インジウムの状態で凝集を抑制し、さらには、該針状結晶の粒子径を制御することにより、仮焼して得られる酸化インジウム粉末の凝集及び粒子径を制御して、焼結密度５．３ｇ／ｃｍ3以上の高密度焼結体を製造可能な酸化インジウム粉末が提案されている。
【０００６】
【特許文献１】特開昭６２−２１７５１号公報
【特許文献２】特開平３−２０７８５８号公報
【特許文献３】特開平４−３２５４１５号公報（特許第３３１４３８８）
【特許文献４】特開２００２−３１６８１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記の如く酸化インジウム粉末と酸化スズ粉末とを混合して加工することで、透明導電膜用途のＩＴＯ焼結体を製造することができるが、酸化インジウム粉末の物性によっては焼結体に反りが生じ、平らにするために研磨をしなければならず、そのために歩留まりが悪くなりコスト高になってしまうという課題を抱えていた。
【０００８】
そこで本発明は、ＩＴＯ焼結体の反りを抑制することができる酸化インジウム粉末を提案せんとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、酸化インジウム粉末からＩＴＯ焼結体を製造し、反りが見られないＩＴＯ焼結体を製造することができた一群の酸化インジウム粉末を抽出し、これらについて様々な方向から分析を行った結果、凝集粒度体積基準分布パターンに共通の特徴があることを見出し、かかる知見に基いて本発明を想到したものである。
【００１０】
本発明は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定し得られる凝集粒度体積基準分布において、粒度範囲０．０３〜５μｍにおける最高頻径（；所定の粒度範囲において最も頻度の高い粒径。本明細書において以下同様。）の頻度が１〜７％、好ましくは２〜５％であり、粒度範囲５μｍ以上における最高頻径の頻度が０．３〜２％、好ましくは０．５〜１．５％であることを特徴とする粒度分布を備えた酸化インジウム粉末を提案する。
【００１１】
また、本発明は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる凝集粒度体積基準分布において、粒度範囲０．０３〜５μｍにおける上記最高頻径が０．４〜０．７μｍ、好ましくは０．５〜０．６μｍの間に存在し、粒度範囲５μｍ以上における上記最高頻径が８〜２３μｍ、好ましくは１８〜２３μｍの間に存在することを特徴とする粒度分布を備えた酸化インジウム粉末をも提案する。
【００１２】
本発明の酸化インジウム粉末は、粒度分布において所定の特徴を備えており、このような酸化インジウム粉末を用いてＩＴＯ焼結体を製造すると、酸化インジウム粉末の急激な熱収縮が起りにくく、ＩＴＯ焼結体の反りを有効に抑制することができる。本発明の酸化インジウム粉末がＩＴＯ焼結体の反りを抑制できる理由について解明できた訳ではないが、本発明の凝集粒度分布を備えた酸化インジウム粉末は、加熱による急激な熱収縮及びそれによって生じる歪みが小さいため、ＩＴＯ焼結体の反り発生を抑制できるものと考えられる。
なお、酸化インジウム粉末と酸化スズ粉末とを用いてＩＴＯ焼結体を製造する場合、反りやピンホールの少ない焼結体を製造するには、原料混合粉末の粒度分布が適度にばらついている方が好ましい。このばらつきと本発明が規定する粒度分布とは一致するものではないが、本発明が規定する粒度分布を備えた酸化インジウム粉末を酸化スズ粉末と混合してボールミル等で分散処理（粉砕混合）すると、粒度分布のばらつきが最適化され、反りが抑制されたＩＴＯ焼結体を得ることができる。
【００１３】
以上の点より、本発明は、上記本発明の酸化インジウム粉末と酸化スズ粉末とを混合してなるＩＴＯ焼結体の前駆体としてのプレミックス粉体、さらには該プレミックス粉体を焼成して得られるＩＴＯ焼結体も本発明として提案するものである。
【００１４】
なお、本発明において「粒度範囲Ｘ〜Ｙ」と表した場合、特にことわらない限り、Ｘ以上Ｙ未満の粒度範囲を意味する。
本発明が特定する数値範囲の上限値及び下限値は、特定する数値範囲から僅かに外れる場合であっても、当該数値範囲内と同様の作用効果を備えている限り本発明の範囲に含まる意を包含する。
【００１５】
また、本発明において「一次粒子」とは、粉末を構成する最も小さい粒子を意味し、具体的には、ＴＥＭ写真観察（倍率：１０万〜３０万倍）した時に、最も小さな輪郭を構成する粒子を意味し、単結晶及び多結晶を含むものである。そして、この一次粒子が２以上凝集した状態を「二次粒子」又は「凝集粒子」という。
殆どの酸化インジウム粉末を構成する粉粒は、個々の粒子が完全に分離した単分散粉ではなく、複数個の粉粒が凝集して集合した状態になっている。レーザー回折散乱式粒度分布測定法は、凝集した粉粒を一個の粒子（凝集粒子）として捉えて粒径を算出する測定方法であるため、二次粒子の粒子径の値を反映したものとなる。但し、凝集を起こしていない孤立した一次粒子も広義の二次粒子とみなされる。
これに対して、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて観察される平均粒径は、ＴＥＭ観察像から直接得るものであるため、一次粒子が確実に捉えられることになり、粉粒の凝集状態の存在を反映しないことになる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、実施形態の一例に基づいて本発明を説明するが、本発明が下記実施形態に限定されるものではない。
【００１７】
本実施形態に係る酸化インジウム粉末は、図１〜５に示されるように、凝集粒度体積基準分布において次の特徴を有するものが好ましい。
すなわち、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定し得られる凝集粒度体積基準分布において、
（１）粒度範囲０．０３〜０．２μｍにおける最高頻径（第１ピークトップ）の頻度が１〜３％、中でも１．５〜２．５％であり、
（２）粒度範囲０．２〜５μｍにおける最高頻径（第２ピークトップ）の頻度が２〜５％、中でも３〜５％であり、
（３）粒度範囲５μｍ以上における最高頻径（第３ピークトップ）の頻度が０．３〜２％、中でも０．５〜１．５％であるという特徴を備えたものが好ましい。
【００１８】
また、見方を変えると、本実施形態に係る酸化インジウム粉末は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる凝集粒度体積基準分布において、
（１）粒度範囲０．０３〜０．２μｍにおける最高頻径（第１ピークトップ）が０．１〜０．２μｍ、中でも０．１４〜０．１６μｍの間に存在し、
（２）粒度範囲０．２〜５μｍにおける最高頻径（第２ピークトップ）が０．４〜０．７μｍ、中でも０．５〜０．６μｍの間に存在し、
（３）粒度範囲５μｍ以上における最高頻径（第３ピークトップ）が８〜２３μｍ、中でも１８〜２３μｍの間に存在するという特徴を備えたものが好ましい。
【００１９】
但し、本実施形態の酸化インジウム粉末の凝集粒度体積基準分布において、上記の第１ピークトップは顕著なピークではなく、第２ピークトップ及び第３ピークトップが特徴的であるため、上記第２ピークトップ及び第３ピークトップを備えていれば下記実施例１〜５と同様の効果が期待できるため、第１ピークトップの存在に関係なく第２ピークトップ及び第３ピークトップを備えている酸化インジウム粉末は本発明に包含されるものと考えることができる。
【００２０】
また、本実施形態に係る酸化インジウム粉末は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定し得られる凝集粒度体積基準分布において、粒度範囲０．０３〜５μｍにおける最高頻径（本実施形態では第２ピークトップ）と粒度範囲５μｍ以上における最高頻径（本実施形態では第３ピークトップ）との間の粒度範囲における最低頻径（；所定の粒度範囲において最も頻度の低い粒径。本明細書において同様。）の頻度が１％以下、特に０．１〜１％であるという特徴を備えているのが好ましい。この際、上記の最低頻径は３〜８μｍの間に存在するのが好ましい。
上記の特徴に加えてこのような最低頻径に関する特徴を備えていれば、本実施形態に係る酸化インジウム粉末と同様の効果をより一層確実に奏することが期待される。
但し、上記最低頻径の頻度（最低頻度）は１％以下であるから、当該最低頻径の粒子の影響は極めて小さいと考えられるため、上記最低頻径の頻度（最低頻度）が０である粒度分布を備えた酸化インジウム粉末も、本実施形態に係る酸化インジウム粉末と同様の効果が期待され、本発明に包含される。
【００２１】
また、本実施形態に係る酸化インジウム粉末は、粒度範囲０．０３〜５μｍにおける頻度合計が８０〜９５％であり、粒度範囲５μｍ以上における頻度合計が２０〜５％であるという特徴を有しているものが好ましく、さらに粒度範囲０．０３〜０．２μｍにおける頻度合計が１０〜３５％であるものがより好ましい。
上記の特徴に加えてこのような頻度合計に関する特徴を備えていれば、本実施形態に係る酸化インジウム粉末と同様の効果をより一層確実に奏することが期待される。
【００２２】
さらにまた、本実施形態に係る酸化インジウム粉末は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真観察により測定される一次粒子平均粒径は０．１〜０．３μｍ、特に０．１〜０．２μｍであるという特徴を有しているのが好ましい。
上記の特徴に加えてこのような一次粒子平均粒径に関する特徴を備えていれば、本実施形態に係る酸化インジウム粉末と同様の効果をより一層確実に奏することが期待される。
【００２３】
なお、本実施形態に係る酸化インジウム粉末の粒度分布は、上記凝集粒度体積基準分布において、Ｄmin０．０３μｍからＤmax５０μｍの範囲にある粒度分布を有するものであれば、本実施形態に係る酸化インジウム粉末と同様の効果をより一層確実に奏することが期待される。ここで、Ｄmin、Ｄmaxは、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる凝集粒度体積基準分布における最小粒子径、最大粒子径である。
但し、上記Ｄmin及びＤmaxを超える範囲まで広がる粒度分布を有するものであっても、０．０３μｍより小さい粒子の頻度合計或いは５０μｍより大きい粒子の頻度合計が１％以下であれば、それらの影響は少ないから本実施形態に係る酸化インジウム粉末と同様の効果を奏することが期待され、本発明に包含される。
【００２４】
（酸化インジウム粉末の製造方法）
次に、本実施形態に係る酸化インジウム粉末の製造方法について説明するが、本発明の酸化インジウム粉末の製造方法が次に説明する製造方法に限定されるものではない。
【００２５】
例えば硝酸インジウム溶液、硫酸インジウム溶液などのインジウム塩溶液を、６０〜８５℃程度に保ちながらｐＨ７．４〜７．６程度となるようにアルカリ水溶液（例えばアンモニア水）を加え、所定時間攪拌して十分に反応させる。この際、反応が十分進行するように所定時間（例えば３０分程度）攪拌することは必要であるが数時間に及ぶ熟成はする必要がない。
上記の如くインジウム塩水溶液にアルカリ水溶液を加えて反応させると、水酸化インジウムが晶析してスラリー状となる。このスラリーを固液分離し、得られた固体分（ケーキ）を洗浄及び乾燥し、大気中１０７０℃〜１２５０℃程度で焼成し、次に粉砕機にて解砕又は粉砕して酸化インジウム粉末を得ることができる。
【００２６】
上記の製造方法において、アルカリ水溶液を加える順序は、インジウム塩溶液にアルカリ水溶液を加えるようにしても、アルカリ水溶液にインジウム塩溶液を加えるようにしても、同時に反応槽に供給するようにしてもよいが、インジウム塩溶液にアルカリ水溶液を加えるようにするのが好ましい。
【００２７】
（用途）
本発明の酸化インジウム粉末は、酸化スズ粉末と混合して焼成して得られるＩＴＯ膜（Indium Tin Oxide膜）を形成する際のスパッタリングターゲット原料として好適に用いることができ、反りが抑制されたＩＴＯ焼結体を製造することができる。
【００２８】
特に、所定の酸化スズ粉末、例えばレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定し得られる凝集粒度体積基準分布において、凝集粒度体積基準分布のＤminが０．０８μｍ以上で、且つＤmaxが８０μｍ以下であり、且つ粒度範囲０．０８〜３μｍにおける最高頻径が０．５〜０．７μｍの間に存在し、且つ粒度範囲３〜８０μｍにおける最高頻径が８〜１５μｍの間に存在する酸化スズ粉末と混合してＩＴＯ焼結体を製造すれば、酸化スズ粉末とより均一に混合することができＩＴＯ焼結体のピンホール発生をも抑制することができる。
【００２９】
ＩＴＯ焼結体の製造方法としては、例えば、酸化インジウム粉末に酸化スズ粉末を例えば５〜１５ｗｔ％加え、ボールミルや振動ミル等によって混合してＩＴＯ粉末とし、所望の形に成型した後、適宜条件で焼結すればＩＴＯ焼結体を製造することができる。但し、この製造方法に限定されるものではない。
【００３０】
ＩＴＯ粉末の成型手段としては、金形プレス、鋳込み成型、冷間静水圧プレス（ＣＩＰ）、スリップキャスト成型等の成形方法を採用することができる。
また、焼結は、例えば１３５０℃〜１６００℃の温度で焼結すればよいが、この温度に限定されるものではない。焼結時間は数時間〜数十時間が一般的であるが、この時間に限定されるものではない。焼結雰囲気は特に限定されず、大気中、酸素中、不活性ガス中等で行うことができる。
【実施例】
【００３１】
以下、本発明の実施例を比較例と共に挙げ、本発明をより詳細に説明する。
【００３２】
（実施例１）
純水中にインジウムショットを投入し、適量の硝酸を添加し、オイルバス内で１３０℃にて１５時間溶解させた。溶解完了後、純水にて稀釈してインジウムイオン濃度３．４３ｍｏｌ／Ｌの硝酸インジウム溶液とした。この硝酸インジウム溶液の温度を７５℃に管理すると共に、攪拌しながら２８％アンモニア水を５５分間かけて添加してｐＨ７．５に調整して水酸化インジウムを析出させた。
得られた水酸化インジウムを純水にて十分洗浄し、得られたケーキを１４０℃の雰囲気にて２２時間乾燥させた後、ＳｉＣ焼成容器に入れて１０７０℃の雰囲気にて１８０分間保持して焼成して酸化インジウム粉末とした。得られた酸化インジウム粉末を、目開き１ｍｍφのハンマーミルを用いて粉砕して実施例１の酸化インジウム粉末を得た。
【００３３】
こうして得られた酸化インジウム粉末のＴＥＭ写真観察による一次粒子平均粒径は０．１７μｍであった。
実施例１の酸化インジウム粉末についてレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図（横軸：粒径、縦軸：頻度（％））を図１に示し、その特徴を表１−１及び表１−２に示した。
熱機械特性試験機（「Thermo Mechanical Analyzer（以下、ＴＭＡと略す）」を用いて、熱収縮率（％）を測定し、測定結果を図８に示した。また、収縮開始温度（℃）を表１−２に示した。
【００３４】
次に、上記の如く得られた酸化インジウム粉末と酸化スズ粉末とを質量割合で９０：１０となるように混合し、ＺｒＯ2ボールを用いた乾式ボールミルにて２１時間分散処理を行った。得られた粉末にポリビニルアルコールを添加して攪拌擂潰機にて混合し、２００ｋｇｆ／ｃｍ2の圧力でプレス機で成形した後、この成形体を目開き３ｍｍφのハンマーミルを用いて粉砕し、得られた粉体を１０００ｋｇｆ／ｃｍ2の圧力でプレス成形を行って３００ｍｍ×７００ｍｍ×７ｍｍの直方体状の成形体を得た。そして、この成形体を８０℃で１５時間乾燥させた後、脱脂炉を用いて大気中６００℃で６時間脱脂した後、ゲージ圧０．９気圧の加圧酸素雰囲気下において１５５０℃で８時間焼成してＩＴＯ焼結成形体を得た。得られたＩＴＯ焼結成形体の反りを測定したところ、１．２ｍｍであった。
【００３５】
なお、上記酸化スズ粉末についてレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図（横軸：粒径、縦軸：頻度（％））を図７に示し、その特徴を表２に示した。
【００３６】
（実施例２）
酸化インジウム粉末を得るための焼成温度を１０７５℃にした以外は、実施例１と同様に酸化インジウム粉末及びＩＴＯ焼結成形体を作製した。
こうして得られた酸化インジウム粉末のＴＥＭ写真観察による一次粒子平均粒径は０．１８μｍであった。また、酸化インジウム粉末についてレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図を図２に示し、その特徴を表１−１及び表１−２に示した。
また、実施例２で得られたＩＴＯ焼結成形体の反りは１．０ｍｍであった。
【００３７】
（実施例３）
酸化インジウム粉末を得るための焼成温度を１０８０℃にした以外は、実施例１と同様に酸化インジウム粉末及びＩＴＯ焼結成形体を作製した。
こうして得られた酸化インジウム粉末のＴＥＭ写真観察による一次粒子平均粒径は０．１６μｍであった。また、酸化インジウム粉末についてレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図を図３に示し、その特徴を表１−１及び表１−２に示した。
また、実施例３で得られたＩＴＯ焼結成形体の反りは１．１ｍｍであった。
【００３８】
（実施例４）
酸化インジウム粉末を得るための焼成温度を１０８５℃にした以外は、実施例１と同様に酸化インジウム粉末及びＩＴＯ焼結成形体を作製した。
こうして得られた酸化インジウム粉末のＴＥＭ写真観察による一次粒子平均粒径は０．１８μｍであった。また、酸化インジウム粉末についてレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図を図４に示し、その特徴を表１−１及び表１−２に示した。
また、実施例４で得られたＩＴＯ焼結成形体の反りは０．８ｍｍであった。
【００３９】
（実施例５）
酸化インジウム粉末を得るための焼成温度を１０９０℃にした以外は、実施例１と同様に酸化インジウム粉末及びＩＴＯ焼結成形体を作製した。
こうして得られた酸化インジウム粉末のＴＥＭ写真観察による一次粒子平均粒径は０．１９μｍであった。また、酸化インジウム粉末についてレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図を図５に示し、その特徴を表１−１及び表１−２に示した。
また、実施例５で得られたＩＴＯ焼結成形体の反りは０．８ｍｍであった。
【００４０】
（比較例１）
酸化インジウム粉末を得るための焼成温度を７５０℃にした以外は、実施例１と同様に酸化インジウム粉末及びＩＴＯ焼結成形体を作製した。
こうして得られた酸化インジウム粉末のＴＥＭ写真観察による一次粒子平均粒径は０．０６μｍであった。また、酸化インジウム粉末についてレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図を図６に示し、その特徴を表１−１及び表１−２に示した。
また、比較例１で得られたＩＴＯ焼結成形体の反りは２．５ｍｍであった。
【００４１】
（透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真観察による一次粒子の観察）
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真観察による一次粒子の観察は、透過型電子顕微鏡（（株）日立製作所製  Ｈ−９０００ＵＨＲ型）を使用し、加速電圧２００ｋＶ、倍率３０万倍にて観察した。また、一次粒子平均粒径は電子顕微鏡写真の粒子像をノギスで２００個測定して算出した。
【００４２】
（レーザー回折粒度分布測定機を用いた凝集粒度体積基準分布測定）
粉末を少量ビーカーにとり、０．０２％ヘキサメタリン酸ソーダ溶液（５０ｍＬ）を添加し、超音波分散を２分間実施して分散スラリーを作製し（装置：（株）日本精機製作所製ホモジナイザ、ＴＩＰφ２０、ＯＵＴＰＵＴ：８、ＴＵＮＩＮＧ：５）、得られたスラリーの一部をレーザー回折粒度分布測定機（日機装株式会社製マイクロトラック粒度分布測定装置ＭＴ３３００）を用いて粒度を測定した。
この測定で得られた凝集粒度体積基準分布図（チャート）から、各粒度範囲における最頻度や頻度合計、Ｄmin、Ｄmaxなどを求めた。
【００４３】
（ＴＭＡによる熱収縮分析）
熱機械分析装置（Thermo Mechanical Analyzer：ＴＭＡ、セイコー電子工業社製ＴＭＡ／ＳＳ６０００）を用いて、大気雰囲気中で昇温速度１０℃／ｍｉｎで加熱しつつ熱膨張率（％）を連続して測定し、熱収縮曲線（ＴＭＡカーブ）を得た（図８参照）。熱膨張率（％）が負の場合は熱収縮率を示すことになる。
得られた熱収縮曲線（ＴＭＡカーブ）において、Δ収縮率／Δ温度＜−０．００１となった点、つまり熱収縮曲線（ＴＭＡカーブ）が当該傾きになった温度を熱収縮開始温度として評価した。
【００４４】
（ＩＴＯ焼結成形体の反りの測定方法）
実施例及び比較例で得たＩＴＯ焼結成形体を平坦なガラス板上に置き、成形体とガラス板との間に生じた隙間の最大幅を隙間ゲージにて測定した。
【００４５】
【表１−１】
2006044994.tif 000003
【００４６】
【表１−２】
2006044994.tif 000004
【００４７】
【表２】
2006044994.tif 000005
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】実施例１の酸化インジウム粉末について、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図（横軸：粒径、縦軸：頻度（％））である。
【図２】実施例２の酸化インジウム粉末について、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図（横軸：粒径、縦軸：頻度（％））である。
【図３】実施例３の酸化インジウム粉末について、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図（横軸：粒径、縦軸：頻度（％））である。
【図４】実施例４の酸化インジウム粉末について、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図（横軸：粒径、縦軸：頻度（％））である。
【図５】実施例５の酸化インジウム粉末について、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図（横軸：粒径、縦軸：頻度（％））である。
【図６】比較例１の酸化インジウム粉末について、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図（横軸：粒径、縦軸：頻度（％））である。
【図７】実施例１〜５及び比較例１で得られた酸化インジウム粉末と混合してＩＴＯ焼結成形体を製造するのに用いた酸化スズ粉末について、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られた凝集粒度体積基準分布図（横軸：粒径、縦軸：頻度（％））である。
【図８】実施例１と比較例１の酸化インジウム粉末についてのＴＭＡ測定結果を示すグラフである。
【図１】
2006044994.tif 000006
【図２】
2006044994.tif 000007
【図３】
2006044994.tif 000008
【図４】
2006044994.tif 000009
【図５】
2006044994.tif 000010
【図６】
2006044994.tif 000011
【図７】
2006044994.tif 000012
【図８】
2006044994.tif 000013