(57)【要約】【課題】  電子線露光装置等に用いられるレチクルを検査する場合でも、レチクルの酸化が発生しないレチクル検査装置を提供する。【解決手段】  レチクル検査装置本体１には、レチクル搬送系２が結合され、レチクル検査装置本体１へのレチクルの搬入と搬出を行っている。レチクル搬送系２の出入り口には、シャッタ３が設けられ、レチクルの搬入、搬出を行うとき以外はシャッタ３を閉じることにより気密性が保たれるようになっている。レチクル検査装置本体１は、チャンバ４内に収納されており、チャンバ４内には、水蒸気の含有率が１０％以下の窒素ガス又は乾燥空気が吹き込まれるようになっている。このようにして、チャンバ４内の雰囲気は、常に水蒸気の含有率が１０％以下である状態に保たれるので、静電チャックによりレチクルを吸着しても、レチクルの一部が酸化されることが無くなる。【選択図】  図１
2006091228.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置に用いられるレチクルを静電チャックにより固定した状態で検査するレチクル検査装置であって、当該検査装置を覆うチャンバを有し、少なくとも前記レチクルを前記静電チャックで固定した状態の時に、前記チャンバ内が水蒸気の含有率が  １０％以下の気体で満たされるようにされていることを特徴とするレチクル検査装置。
【請求項２】
露光装置に用いられるレチクルを静電チャックにより固定した状態で検査するレチクル検査装置であって、当該検査装置を覆うチャンバを有し、少なくとも前記レチクルを前記静電チャックで固定した状態の時に、前記チャンバ内の雰囲気が窒素で満たされていることを特徴とするレチクル検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子線露光装置等に用いられるレチクルを検査するレチクル検査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体集積回路の微細化に伴い、光の回折限界によって制限される光学系の解像力を向上させるために、従来の紫外線に代えて電子線を使用した電子線露光装置が開発されている。
【０００３】
電子線露光装置に用いられるレチクルは、シリコン基板で形成され、シリコン基板にリソグラフィにより所定のパターン形状を有する穴を形成したものである。このようなレチクルの製作完了時には、目的とするパターンが形成されているかどうかを検査（座標計測）しなければならない。又、使用の途中においても、ゴミ等の付着がないかどうかを、定期的に検査する必要がある。
【０００４】
このような目的のために、顕微鏡を使用し、レチクル上のパターンを検査するレチクル検査装置が使用されている。その概略構成を図２に示す。レチクル２１は、不図示のレチクル搬送装置により搬送され、レチクル検査装置のステージ２２上に設けられた静電チャック２３の上に載置され、不図示の位置決め装置により位置決めされる。
【０００５】
位置決めが完了した時点で、電源装置２４により静電チャック２３に電圧が印加され、レチクル２１が静電チャック２３に吸着される。その状態で、ステージ２２を２次元的に駆動しながら、レチクル２１上のパターンを、顕微鏡を使用した光学検査装置２５により検査する。特に、パターン位置の座標計測を行う場合には、高い測定精度が要求されるため、露光時と同様な状態で検査を行う必要がある。そのため、レチクルを保持するチャックは大気中で計測するにも拘わらず、真空チャック等ではなく、電子線露光装置で用いられるものと同じ静電チャックが使われる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、レチクル検査装置において、シリコンからなるレチクルを静電チャックにより吸着して検査を行う場合に、レチクルの、静電チャックとの接触部分が酸化され、この部分に剥がれが発生する場合がある。このように、レチクルの表面に剥がれが発生すると、剥がれた部分がパターン部分に付着して露光されるパターンの形状を変化させたり、電子線露光装置内に入り込んで、露光精度を悪化させるという問題点がある。
【０００７】
同様の酸化の問題は、静電チャックとの接触面に金属等の酸化される物質を使用した、電子線露光装置以外の露光装置に使用されるレチクルについても発生する。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、電子線露光装置等に用いられるレチクルを検査する場合でも、レチクルの酸化が発生しないレチクル検査装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題は、露光装置に用いられるレチクルを静電チャックにより固定した状態で検査するレチクル検査装置であって、当該検査装置を覆うチャンバを有し、少なくとも前記レチクルを前記静電チャックで固定した状態の時に、前記チャンバ内が水蒸気の含有率が１０％以下の気体で満たされるようにされていることを特徴とするレチクル検査装置により解決される。
【００１０】
発明者が、レチクル検査装置において、レチクルと静電チャックとの接触部が酸化される原因を調査したところ、その原因は雰囲気中の酸素によるものではなく、水蒸気によるものであることが判明した。そのメカニズムは必ずしも明らかではないが、静電チャック表面とレチクルとの間にかかる電位と水蒸気との相互作用により、レチクルを構成するSiが酸化されるものであると考えられる。
【００１１】
そこで、レチクルと静電チャックが置かれる雰囲気中の水蒸気を１０％以下としたところ、酸化を抑えることができた。本発明はこのような知見に基づいてなされたものであって、少なくともレチクルを静電チャックで固定した状態においては、チャンバ内が、水蒸気の含有率が１０％以下の気体で満たされるようにする機能を設けることにより、レチクルの酸化を防止するようにしている。
【００１２】
本手段は、静電チャックとの接触面に金属等の酸化される物質を使用した、電子線露光装置以外の露光装置に使用されるレチクルを検査する場合にも有効である。
【００１３】
また、前記課題は、露光装置に用いられるレチクルを静電チャックにより固定した状態で検査するレチクル検査装置であって、当該検査装置を覆うチャンバを有し、少なくとも前記レチクルを前記静電チャックで固定した状態の時に、前記チャンバ内の雰囲気が窒素で満たされていることを特徴とするレチクル検査装置により解決される。
【００１４】
本手段によれば窒素雰囲気で静電チャックを用いるため、レチクルの酸化を防止することが可能となる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、電子線露光装置等に用いられるレチクルを検査する場合でも、レチクルの酸化が発生しないレチクル検査装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態の例を、図を用いて説明する。図１は、本発明の実施の形態の１例であるレチクル検査装置を示す概要図である。レチクル検査装置本体１は、図２に示したような従来のレチクル検査装置と変わるところはない。レチクル検査装置本体１には、レチクル搬送系２が結合され、レチクル検査装置本体１へのレチクルの搬入と搬出を行っている。レチクル搬送系２の出入り口には、シャッタ３が設けられ、レチクルの搬入、搬出を行うとき以外はシャッタ３を閉じることにより気密性が保たれるようになっている。レチクル検査装置本体１は、チャンバ４内に収納されており、チャンバ４内には、水蒸気の含有率が１０％以下の窒素ガス又は乾燥空気が吹き込まれるようになっている。不図示であるが、チャンバ４内またはガス導入の途中に水蒸気の含有率をモニターするためのセンサを設け、チャンバ４内の水蒸気含有率が１０％以下となっているかモニタすることもできる。後述する脱湿器を配置する場合にはこの検出結果に応じて脱湿器の稼働を制御しても良い。
【００１７】
工場に設けられた窒素ガスライン又は圧縮空気ラインから供給される上述のような低湿度（低露点）の窒素ガス又は圧縮空気は、圧力制御装置５により所定の圧力に減圧され、バッファタンク６、温度調節装置７を介してチャンバ４内に導入される。
【００１８】
温度調節装置７から放出された窒素ガス又は乾燥空気は、矢印８で示されるようにチャンバ４内を循環する。そのとき、温度調節装置７は、チャンバ４内の温度を一定に保つ役割を果たしている。このようにしてチャンバ４内の圧力は正圧に保たれるが、チャンバ４には放出口９が設けられており、導入された窒素ガス又は乾燥空気の一部が矢印１０で示されるように、チャンバ４の外部に放出されるようになっている。チャンバ４内の圧力は、圧力制御装置５により間接的に一定に調節される。
【００１９】
このようにして、チャンバ４内の雰囲気は、常に水蒸気の含有率が１０％以下である状態に保たれるので、静電チャックによりレチクルを吸着しても、レチクルの一部が酸化されることが無くなる。
【００２０】
なお、工場用空気等、供給される空気の湿度が高いときは、脱湿器を空気供給ライン又は４内に設けることにより、チャンバ４内の雰囲気の水蒸気の含有率が１０％以下であるようにする。
【００２１】
図１においては、工場用の窒素ライン、圧縮空気ラインから窒素又は空気を取り出しているが、ガスボンベやコンプレッサ等から供給するようにしてもよい。
【００２２】
なお、本手段は、静電チャックとの接触面に金属等の酸化される物質を使用した、電子線露光装置以外の露光装置に使用されるレチクルを検査する場合にも有効である。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態の１例であるレチクル検査装置を示す概要図である。
【図２】レチクル検査装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００２４】
１…レチクル検査装置本体、２…レチクル搬送系、３…シャッタ、４…チャンバ、５…圧力制御装置、６…バッファタンク、７…温度調節装置、９…放出口
【図１】
2006091228.tif 000003
【図２】
2006091228.tif 000004