(57)【要約】【課題】インクの滴下地点を検査して、滴下の誤整列を補正することによって、正確なインクの滴下を可能にする、表示装置用表示板及びその製造方法を提供する。【解決手段】表示装置用表示板は、基板と、前記基板上に形成されていて、複数の開口部を有する隔壁部材と、前記開口部に形成されていて、入射する光によって色を表示する複数のカラーフィルターと、前記カラーフィルターの誤整列を検査するための少なくとも一つの検査パターンと、を含む。【選択図】図４
2006085170.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成されていて、複数の開口部を有する隔壁部材と、
前記開口部に形成されている複数のカラーフィルターと、
前記カラーフィルターの誤整列を検査するための少なくとも一つの検査パターンと、
を含む表示装置用表示板。
【請求項２】
前記検査パターンは、前記隔壁部材の周縁または前記基板の外郭部に形成されている、請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項３】
前記隔壁部材は、遮光部材である、請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項４】
前記各検査パターンの中心点は、前記検査パターンと同一行に配置されたカラーフィルターの中心点と同一線上に位置する、請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項５】
前記検査パターンは、実質的に円形であり、目盛りが刻まれた複数の整列線を含む、請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項６】
前記複数の整列線は、互いに交差する、請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項７】
前記検査パターンの面積は、滴下された一滴のインクより広い、請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項８】
前記各カラーフィルターは、赤色、緑色及び青色のうちのいずれか一つを表示する、請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項９】
前記検査パターンは、同一の色を有するカラーフィルタの列毎に少なくとも一つが配置されている、請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項１０】
前記表示板は、液晶表示装置に使用される、請求項１に記載の表示装置用表示板。
【請求項１１】
複数の信号線と、
前記信号線に接続されている薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタを通じて前記信号線に電気的に接続されている画素電極と、
をさらに含む請求項１０に記載の表示装置用表示板。
【請求項１２】
少なくとも一つの検査パターンにインクを滴下する段階と、
前記検査パターン上に滴下されたインクの位置を検査する段階と、
前記滴下されたインクの中心点が前記検査パターンの中心点と一致するように、インクジェット印刷装置のヘッドまたは基板の位置を調整する段階と、
複数の開口部にインクを滴下する段階と、
を含む表示装置用表示板の製造方法。
【請求項１３】
前記インクの色は、赤色、緑色及び青色のうちのいずれか一つである、請求項１２に記載の表示装置用表示板の製造方法。
【請求項１４】
前記隔壁部材は、遮光部材である、請求項１２に記載の表示装置用表示板の製造方法。
【請求項１５】
前記表示板は、液晶表示装置または有機電界発光表示装置に使用される、請求項１２に記載の表示装置用表示板の製造方法。
【請求項１６】
前記表示板は、複数の信号線、前記信号線に接続されている薄膜トランジスタ、及び、前記薄膜トランジスタを通じて前記信号線に電気的に接続されている画素電極を含む、請求項１２に記載の表示装置用表示板の製造方法。
【請求項１７】
基板と、
前記基板上に形成されていて、複数の開口部を有する隔壁部材と、
前記開口部に形成されていて、それぞれの固有の色を表示する複数の有機発光体と、
前記有機発光体の誤整列を検査するための少なくとも一つの検査パターンと、
を含む表示装置用表示板。
【請求項１８】
前記検査パターンは、前記隔壁部材の周縁または前記基板の外郭部に形成されている、請求項１７に記載の表示装置用表示板。
【請求項１９】
前記検査パターンの中心点は、前記検査パターンと同一行に配置された有機発光体の中心点と同一線上に位置する、請求項１７に記載の表示装置用表示板。
【請求項２０】
前記検査パターンは、円形であり、目盛りが刻まれた複数の整列線を含む、請求項１７に記載の表示装置用表示板。
【請求項２１】
前記複数の整列線は、互いに交差する、請求項１７に記載の表示装置用表示板。
【請求項２２】
前記検査パターンの面積は、滴下された一滴のインクより広い、請求項１７に記載の表示装置用表示板。
【請求項２３】
前記各有機発光体は、赤色、緑色及び青色のうちのいずれか一つを表示する、請求項１７に記載の表示装置用表示板。
【請求項２４】
前記検査パターンは、同一の色を有する有機発光体の列毎に少なくとも一つが配置されている、請求項１７に記載の表示装置用表示板。
【請求項２５】
前記表示板は、有機電界発光表示装置に使用される、請求項１７記載の表示装置用表示板。
【請求項２６】
複数の信号線と、
前記信号線に接続されている薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタを通じて前記信号線に電気的に接続されている画素電極と、
をさらに含む請求項２５に記載の表示装置用表示板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置用表示板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、重くて大きな陰極線管（ｃａｔｈｏｄｅ  ｒａｙ  ｔｕｂｅ、ＣＲＴ）の代わりに、有機電界発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ  ｅｌｅｃｔｒｏ−ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  ｄｉｓｐｌａｙ、ＯＬＥＤ）、プラズマ表示装置（ｐｌａｓｍａ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ、ＰＤＰ）、液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）のような平板表示装置が、活発に開発されている。
【０００３】
ＰＤＰは、気体放電によって発生するプラズマを利用して文字や画像を表示する装置であり、有機ＥＬ表示装置は、特定の有機物または高分子などの電界発光を利用して文字または画像を表示する装置である。液晶表示装置は、二つの表示板の間に注入されている液晶層に電場を印加し、この電場の強さを調節して、液晶層を通過する光の透過率を調節することによって、所望の画像を表示する装置である。
【０００４】
このような平板表示装置のうちの例えば液晶表示装置や有機電界発光表示装置は、スイッチング素子を含む画素と、ゲート線及びデータ線を含む表示信号線とを備えており、様々な色に画像を表示するためにカラーフィルターを備えている。有機ＥＬ表示装置では、有機発光層が、カラーフィルターの代わりをすることもできる。
【０００５】
カラーフィルターや有機発光層を形成するために、最近では、従来のフォトリソグラフィ方式に代わる多様な新たな工程の方式が行われており、代表的なものとして、インクジェット印刷方式がある。
【０００６】
インクジェット印刷方式は、絶縁基板上にブラックマトリックスなどの遮光部材を積層して、露光及び現像工程などを経て画素に対応する遮光部材に開口部を形成し、開口部にカラーフィルター用インクを滴下する方式である。インクジェット印刷方式は、カラーフィルターを形成する際に、別途のコーティング、露光、現像などの工程が不必要なので、工程に必要な材料を節減することができ、工程の単純化を可能にする。
【０００７】
開口部に滴下されるカラーフィルター用インクは、顔料、溶剤、その他の分散剤などを含む液体組成物である。したがって、微細な開口部に、液体のインクを所望の量だけ所望の位置に滴下する工程は、非常に難しく、所望の滴下地点を基準にしてどの程度逸脱した位置に滴下されたかなどの誤整列を、開口部に滴下されたインクの形状から数値化するのは難しい。滴下されたインクは、開口部内で自由に拡散するため、インクの拡散した形状だけから誤整列の位置を判断するのは難しいのである。そのため、誤った滴下によって隣接したカラーフィルター相互間にインクが広がる現象が発生する可能性があり、さらに、表示装置の表示特性を悪化させる可能性がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、インクの滴下地点を検査して、滴下の誤整列を補正することによって、正確なインクの滴下を可能にする、表示装置用表示板及びその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の１形態による表示装置用表示板は、基板と、前記基板上に形成されていて、複数の開口部を有する隔壁部材と、前記開口部に形成されており、入射する光によって色を発現する複数のカラーフィルターと、前記カラーフィルターの誤整列を検査するための少なくとも一つの検査パターンと、を含む。
【００１０】
前記検査パターンは、隔壁部材の周縁または基板の外郭部に形成されることができる。
前記隔壁部材は、遮光部材であることが好ましい。
前記各検査パターンの中心点は、前記検査パターンと同一行に配置されたカラーフィルターの中心点と同一線上に位置することが好ましい。
【００１１】
前記検査パターンは、実質的に円形であり、目盛りが刻まれた複数の整列線を含むことが好ましい。
前記複数の整列線は、互いに交差することが好ましい。
【００１２】
前記検査パターンの面積は、滴下された一滴のインクより広いことが好ましい。
前記各カラーフィルターは、赤色、緑色及び青色のうちのいずれか一つを表示することができる。
【００１３】
前記検査パターンは、同一の色を有するカラーフィルタの列毎に少なくとも一つが配置されていることが好ましい。
前記表示板は、液晶表示装置に使用されることができる。
【００１４】
本発明による表示装置用表示板は、複数の信号線と、前記信号線に接続されている薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタを通じて前記信号線に電気的に接続されている画素電極と、をさらに含むことができる。
【００１５】
本発明の他の形態による表示装置用表示板の製造方法は、少なくとも一つの検査パターンにインクを滴下する段階と、前記検査パターン上に滴下されたインクの位置を検査する段階と、前記滴下されたインクの中心点が前記検査パターンの中心点と一致するように、インクジェット印刷装置のヘッドまたは基板の位置を調整する段階と、複数の開口部にインクを滴下する段階と、を含む。
【００１６】
前記インクの色は、赤色、緑色及び青色のうちのいずれか一つであり得る。
前記隔壁部材は、遮光部材であることが好ましい。
前記表示板は、液晶表示装置または有機電界発光表示装置に使用されることができる。
【００１７】
前記表示板は、複数の信号線、前記信号線に接続されている薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタを通じて前記信号線に電気的に接続されている画素電極と、を含むことが好ましい。
【００１８】
本発明の更なる他の形態による表示装置用表示板は、基板と、前記基板上に形成されていて、複数の開口部を有する隔壁部材と、前記開口部に形成されており、それぞれの固有の色を表示する複数の有機発光体と、前記有機発光体の誤整列を検査するための少なくとも一つの検査パターンと、を含む。
【００１９】
前記検査パターンは、前記隔壁部材の周縁または前記基板の外郭部に形成されることができる。
前記検査パターンの中心点は、前記検査パターンと同一行に配置された有機発光体の中心点と同一線上に位置することが好ましい。
【００２０】
前記検査パターンは、実質的に円形であり、目盛りが刻まれた複数の整列線を含むことができる。
前記複数の整列線は、互いに交差することが好ましい。
【００２１】
前記検査パターンの面積は、滴下された一滴のインクより広いことが好ましい。
前記各有機発光体は、赤色、緑色及び青色のうちのいずれか一つを表示することができる。
【００２２】
前記検査パターンは、同一の色を有する有機発光体の列毎に少なくとも一つが配置されていることが好ましい。
前記表示板は、有機電界発光表示装置に使用されることができる。
【００２３】
本発明による表示装置用表示板は、複数の信号線と、前記信号線に接続されている薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタを通じて前記信号線に電気的に接続されている画素電極と、をさらに含むことが好ましい。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によるカラーフィルターを有する表示板及びその製造方法では、カラーフィルター用インクの滴下位置を検査することができる検査パターンによって滴下位置の誤整列を補正することにより、画素にインクを正確に滴下することができ、これにより、カラーフィルター相互間にインクが広がる現象を防止することができ、さらには、表示装置の色特性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
それでは、添付した図面を参考にして、本発明の実施例について、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように、詳細に説明する。しかし、本発明は、多様な相異した形態で実現でき、ここで説明する実施例に限定されない。
【００２６】
図面においては、各層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示した。明細書全体を通じて類似した部分については、同一な図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の“上に”あるとする時、これは、他の部分の“真上に”ある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も意味する。反対に、ある部分が他の部分の“真上に”あるとする時、これは、中間に他の部分がない場合を意味する。
【００２７】
以下、添付した図面を参照して、本発明をより詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施例によるカラーフィルターを有する表示板の構造を示した平面図である。図２は、本発明の一実施例による検査パターンの構造を具体的に示した平面図である。図３は、本発明の一実施例による検査パターン上に一滴のインクを滴下した形状を示した平面図である。
【００２８】
図１を参照すれば、本発明の実施例による表示装置用表示板２００は、絶縁基板２１０と、絶縁基板２１０上に形成されており、画素に対応する位置に開口部を有する遮光部材２２０と、遮光部材２２０の開口部に形成されている複数のカラーフィルター２３０と、を含む。カラーフィルター２３０は、赤色、緑色及び青色などの原色のうちのいずれか一つを表示することができ、遮光部材２２０は、互いに隣接する画素間で漏洩する光を遮断して輝度を向上させ、製造工程時にカラーフィルター用インクを閉じ込める隔壁部材の機能を有する。
【００２９】
前記遮光部材２２０は、基板２１０上にクロムなどの金属膜を真空蒸着などの方法で形成して感光性樹脂をコーティングした後、写真工程でパターニングして、感光性樹脂をエッチングマスクとしてクロムをエッチングする方法で形成される。或いは、遮光部材２２０は、絶縁基板２１０上に高分子樹脂溶液を積層してスピンコーティング処理して形成されることもでき、様々な慣用的な方法で形成されることができる。
【００３０】
前記カラーフィルター２３０が配置されている領域の外側、つまり、遮光部材２２０の外側周縁には、カラーフィルター２３０の製造工程時にインクの滴下位置を正確に検査するための検査（または整列）パターン２４０が、形成されている。本実施例では、検査パターン２４０は、円形の開口部からなるが、様々な形状が可能であり、水平及び垂直方向に突出部を有することが好ましい。前記検査パターン２４０の中心点（Ａ）は、カラーフィルター２３０の中心点（Ｂ）と同一直線上に配置される。カラーフィルター２３０の全ての中心点及び検査パターン２４０の中心点は、全て図１に示されたＩ-Ｉ´線上に配置されなければならない。もし、このような配置関係が維持されなければ、製造工程時にカラーフィルター用インクの正確な滴下が不可能になり、検査パターン２４０によって行われる誤整列検査の信頼性が大きく低下することがある。
【００３１】
前記検査パターン２４０は、遮光部材２２０の外郭周縁上に少なくとも一つ以上が配置され、遮光部材２２０の周縁外に配置されることもできる。インクを滴下するための各々のインク供給ノズル（図示せず）の間隔及びカラーフィルター２３０の間隔は、正確な数値計算によって構造を事前に均一に設定することができる。したがって、一つの検査パターン２４０上でインクの滴下位置を正確に検査してインク供給ノズルの位置を設定すれば、開口部内へのインクの滴下が正確に行える。検査パターン２４０は、複数からなることができ、この場合、検査の信頼性は向上する。或いは、検査パターン２４０は、同一の色のカラーフィルター２３０の列であるため、行毎に一つずつ配置されることもできる。
【００３２】
前記検査パターン２４０を形成する具体的な方法は、インク供給装置（図示せず）の特性やインクの滴下方式によって、多様に変更することができる。
前記検査パターン２４０で定義される内部の大きさは、多様でありえるが、少なくともカラーフィルター用インク一滴が滴下された時に、インクが拡散した面積よりは広くなければならない。前記検査パターン２４０は、遮光部材２２０の材質が有機高分子である場合には、遮光部材２２０上にポジティブ（Ｐｏｓｉｔｉｖｅ）またはネガティブ（Ｎｅｇａｔｉｖｅ）方式によって露光、現像などの工程だけで形成される。しかし、遮光部材の材質が無機物である場合には、別途のフォトレジスト（Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）膜を積層した後で、露光、現像、エッチングなどの工程を経て検査パターン２４０が遮光部材２２０上に共に形成される。
【００３３】
図２を参照すれば、検査パターン２４０は、インク注入方向上に形成された第１整列線２４０ａと、中心点（Ａ）で第１整列線２４０ａと直交する第２整列線２４０ｂと、を含む。前記検査パターン２４０の突出部は、第１整列線２４０ａ及び第２整列線２４０ｂの延長線上に配置されている。前記突出部は、上下左右の位置関係をガイドしてインクの滴下状態をより容易に検査することができるようにする。前記第１整列線２４０ａ及び第２整列線２４０ｂには、複数の整列目盛り２４０ｃが、形成されている。検査パターン２４０に第１整列線２４０ａ及び第２整列線２４０ｂが形成されているため、滴下されたインクの位置を数値化することができるので、正確なインクの滴下の誤整列検査が可能である。したがって、インク供給ノズル（図示せず）の位置調整をより精巧に行うことができる。さらに、前記検査パターン２４０上に形成された第１整列線２４０ａ及び第２整列線２４０ｂは、様々な形態に形成することができる。
【００３４】
第１整列線２４０ａ及び第２整列線２４０ｂは、検査パターン２４０の形状をパターニングする時に同時にパターニングすることもでき、円形の検査パターン２４０の形状をパターニングした後で別途にパターニングすることもできるが、製造工程の単純化のために、一括でパターニングすることが好ましい。また、第１整列線２４０ａ及び第２整列線２４０ｂは、浮き出し（relief）又は彫り込み（intaglio）の形態にパターニングされるが、第１整列線２４０ａ及び第２整列線２４０ｂと遮光部材２２０との高さの差がほとんどないことが好ましい。これは、滴下されたインクの流動を防止するためである。
【００３５】
以下、図１及び図３を参照して、本発明の実施例による検査パターンを含む表示板の製造方法で、カラーフィルターを形成する方法を、具体的に説明する。
図１のように、遮光部材２２０及び検査パターン２４０を設けた基板２１０上に、インク供給ノズルが付着されたインクジェット印刷装置のヘッドが整列される。次に、インクジェットのインク装置は、インク供給ノズルを通じて該当検査パターン２４０に一滴のインク２３５を滴下する（図３参照）。インクジェット印刷装置は、滴下されたインク２３５の中心点（Ｃ）の位置を検査し、基準インク滴下位置を決めるように、ヘッドまたはインク供給ノズルの位置を水平または垂直方向に調整する。次に、インクジェット印刷装置は、決められた基準インク滴下位置の基づいてインク供給ノズルを横方向に移動させながら遮光部材２２０に設けられた開口部、つまり、検査パターン２４０と同一線上に位置した開口部にインクを滴下する。前記遮光部材２２０（図１参照）の開口部は、インクが満たされる空間として、一般の露光、現像などの工程を経て形成され、満たされたインクは硬化過程を経てカラーフィルターとなる。
【００３６】
前記検査パターン２４０にインクを滴下するとき、インクジェット印刷装置は、複数の検査パターン２４０に同時にインクを滴下するか、または、カラーフィルター２３０の色相（Ｒ、Ｇ、Ｂ）別に各色相に対応する検査パターン２４０に同時にインクを滴下することもできる。検査パターン２４０は、色相別に一つずつ形成される。前記カラーフィルター２３０を形成するために使用される検査パターンの数及び配置方法は、カラーフィルター２３０の配置によって多様に変更することができる。
【００３７】
次に、本発明の他の実施例によるカラーフィルタ及び検査パターンの構造について、図４を参考にして説明する。
図４は、本発明の他の実施例による表示装置用表示板のカラーフィルター及び整列パターンの構造を具体的に示した平面図である。
【００３８】
図４のように、本実施例による表示装置用表示板２００の構造は、図１乃至図３の表示板とほぼ同一である。つまり、絶縁基板２１０の上部に、画素に対応する開口部を有する遮光部材２２０が形成されており、開口部には、複数のカラーフィルター２３０が形成されており、基板２１０の周縁には、整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｇ、２４０Ｂ、２４０Ｒ´、２４０Ｇ´、２４０Ｂ´が形成されている。
【００３９】
図１乃至図３とは異なり、本実施例による表示板２００では、３原色の一例である赤色、緑色、青色のカラーフィルター２３０が、縦方向に順に配置されており、整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｇ、２４０Ｂ、２４０Ｒ´、２４０Ｇ´、２４０Ｂ´が、遮光部材２２０の外郭部に配置されている。この時、整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｇ、２４０Ｂ、２４０Ｒ´、２４０Ｇ´、２４０Ｂ´は、同一線上に横方向に配列された複数の開口部２３０の延長線上で、遮光部材２２０を中心に両側領域に位置している。従って、整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｇ、２４０Ｂ、２４０Ｒ´、２４０Ｇ´、２４０Ｂ´の横中心線及びカラーフィルター２３０の横中心線が、同一線上に位置する。整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｇ、２４０Ｂ、２４０Ｒ´、２４０Ｇ´、２４０Ｂ´は、一つのカラーフィルター２３０の行に対して一つずつ配置されていて、赤のカラーフィルター用整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｒ´、緑のカラーフィルター用整列パターン２４０Ｇ、２４０Ｇ´、及び青のカラーフィルター用整列パターン２４０Ｂ、２４０Ｂ´を含むが、互いにずれて位置する。これは、整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｇ、２４０Ｂ、２４０Ｒ´、２４０Ｇ´、２４０Ｂ´の大きさが、カラーフィルター２３０より１．５倍以上大きいためであり、同一の色の整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｇ、２４０Ｂ、２４０Ｒ´、２４０Ｇ´、２４０Ｂ´は、縦方向の中心線に対して同一線上に位置する。
【００４０】
この時、本実施例とは異なり、カラーフィルター２３０の形状、並びに、整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｇ、２４０Ｂ、２４０Ｒ´、２４０Ｇ´、２４０Ｂ´の形状及び数は、多様に変更でき、整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｇ、２４０Ｂ、２４０Ｒ´、２４０Ｇ´、２４０Ｂ´の配置も、多様に変更できる。
【００４１】
また、整列パターン２４０Ｒ、２４０Ｇ、２４０Ｂ、２４０Ｒ´、２４０Ｇ´、２４０Ｂ´は、遮光部材２２０と同一層からなることができ、遮光部材２２０を形成する前に線形に描いたり他の薄膜でパターニングして形成することもできる。
【００４２】
ここで、表示板は、カラーフィルターだけを有するカラーフィルター表示板であることができ、遮光部材２２０は、隣接する画素間で漏洩する光を遮断して表示装置の輝度を向上させる機能を有する。また、表示板は、液晶表示装置または有機電界発光表示装置では、薄膜トランジスタ表示板または共通電極表示板であることができ、遮光部材２２０は、製造工程時に滴下された液体のカラーフィルター用インクを閉じ込める隔壁で代替することができる。
【００４３】
次に、本発明の実施例による表示板の製造工程で、カラーフィルターを形成するインクジェット印刷装置について、図面を参照して説明する。
図５は、本発明の一実施例によるインクジェット印刷装置の構造を具体的に示した斜視図である。図６は、本発明の一実施例によるカラーフィルターを滴下するヘッドの構造を具体的に示した配置図である。
【００４４】
図５及び図６に示したように、本発明の一実施例によるるインクジェット印刷装置は、表示装置用表示板２００の絶縁基板２１０が位置するステージ５００と、ヘッドユニット７００と、ヘッドユニット７００を所定の位置に移動させる移送装置３００と、を含む。
【００４５】
ヘッドユニット７００は、ヘッド４００と、ヘッド４００に付着された少なくとも一つのノズル（＃１−＃ｎ）と、を含み、該ノズル（＃１、＃２、…、＃ｎ）を通してカラーフィルタ用インク２３５を基板２１０上に滴下する。
【００４６】
ステージ５００上の基板２１０にカラーフィルター２３０を形成するために、インクジェット印刷装置は、ヘッドユニット７００を移送装置３００を利用してＸ方向に移動させながら、ヘッド４００のノズル（＃１、＃２、…、＃ｎ）を通じてインク２３５を滴下する。従って、所定の位置にインク２３０が滴下されて、基板２１０上にカラーフィルター２３０が形成される。基板２１０の大きさは、大型化されたが、ヘッド４００の大きさ及びインクを噴射するノズル（＃１、＃２、…、＃ｎ）の数は、限定されているので、１回のスキャニングではカラーフィルター２３０を形成することができないため、ヘッドユニット７００は、何回もの反復移動によって基板２１０の全ての領域にカラーフィルター２３０を形成する。
【００４７】
移送装置３００は、ヘッドユニット７００を基板２１０の上方に所定間隔離隔するように位置させる支持部３１０、ヘッドユニット７００をＸまたはＹ方向に移動させる移送部３３０と、ヘッドユニット７００を昇降させる昇降部３４０と、を含む。
【００４８】
前述したヘッドユニット７００のヘッドは、ノズル（＃１、＃２、…、＃ｎ）を支持し、ヘッド４００は、赤色用ヘッド、緑色用ヘッド、及び青色用ヘッドの三つのヘッドであることが好ましい。本実施形態では、長い棒状のヘッド４００の全面に、複数のノズル（＃１、＃２、…、＃ｎ）が配置されている。
【００４９】
ヘッドが三つである場合、三つのヘッド４００は、互いに平行に同一の間隔を保っており、複数のヘッドは、水平移動、垂直移動及び回転移動を通じて個別整列が可能であることが好ましい。
【００５０】
ヘッド４００は、所定角度（θ）でＹ方向に対して傾いている。これは、ノズル（＃１−＃ｎ）間の距離であるノズルピッチと、プリンティングされる画素間の距離である画素ピッチとの間に差があるため、ヘッド４００を所定間隔回転させることによって、ノズルから滴下されるインク間の間隔を画素ピッチと一致させる。
【００５１】
次に、本発明の実施例によるインクジェット印刷装置を利用してカラーフィルターを形成する方法について、図７を参考にして具体的に説明する。
図７は、図４の表示板を製造する工程で、カラーフィルターを形成する前に整列パターンを利用してヘッドを整列させる工程を示した工程図である。ここでは、代表的に一つのカラーフィルターを形成する方法についてのみ説明する。
【００５２】
図５に示したように、まず、整列パターン２４０、２４０´及び画素に対応する位置に開口部２２１を有する遮光部材２２０が形成されている表示板２００を、ステージ５００上に整列して配置する。次に、既に入力された整列パターン２４０の位置情報によって移送装置３００を利用してヘッドユニット７００を移動させた後、ノズル（＃１）を通じて整列パターン２４０にカラーフィルター用インクの一滴のインク２３５を滴下する。このような工程は、一つのカラーフィルターに対して実施することができ、二つまたは三つのカラーフィルターに対して、同時に実施することもできる。次に、滴下されたインク２３５の中心点（Ｃ）の位置を検査して、インク２３５の中心点（Ｃ）と整列パターン２４０の中心点（Ａ）とが一致するように、インクジェット印刷装置のヘッド７００またはインク供給ノズル（＃１）の位置を調整する。好ましくは、インク供給ノズル（＃１）の位置を調整する。このような整列工程を、遮光部材２２０を中心に両側に配置されている残りの整列パターン２４０、２４０´及びノズル（＃２−＃ｎ）に対して反復的に実施する。また、ノズル（＃１、＃２、…、＃ｎ）と基板２１０との誤整列を検査するために、二つ以上の整列パターン２４０、２４０´が選択されることができ、この場合には、互いに遠く離れて配置されている整列パターン２４０、２４０´を選択することが好ましい。次に、調整された位置にノズル（＃１、＃２、…、＃ｎ）または基板２１０の位置を補正した後、ヘッドを移動させながら開口部２２１にインクを滴下する。
【００５３】
代案として、複数の整列パターン２４０に同時にインクを滴下して、誤整列を検査することもできる。または、カラーフィルター２３０の色別に対応する整列パターン２４０に同時に滴下することもできる。整列パターン２４０、２４０´の数及び配置方法は、カラーフィルター２３０の配置によって、多様に変更することができる。
【００５４】
以下、製造工程中に発生し得る誤整列の形態とそれに応じる補正方法について、図８Ａ乃至図８Ｄを参考にして説明する。
図８Ａ乃至図８Ｄは、本発明の実施例によるカラーフィルターの製造工程で、整列パターンを利用した誤整列の形態を各々示した平面図である。
【００５５】
図８Ａのように、整列パターン２４０内に滴下されたインク２３５の中心点（Ｃ）と整列パターン２４０の中心点（Ａ）とがＸ軸方向にｄ１の距離だけ誤整列された時には、ヘッド４００の初期固定位置を、ｄ１の距離だけ調整して、誤整列を補正する。
【００５６】
図８Ｂのように、整列パターン２４０内に滴下されたインク２３５の中心点（Ｃ）と整列パターン２４０の中心点（Ａ）とがＹ軸方向にｄ２の距離だけ誤整列された時には、基板２１０またはステージ５００の初期固定位置を、ｄ２の距離だけ調整して、誤整列を補正する。
【００５７】
図８Ｃのように、一つの整列パターン２４０内に滴下されたインク２３５の中心点（Ｃ）と整列パターン２４０の中心点（Ａ）とは一致したが、同一のヘッド４００に含まれている他のノズル、例えば、第２ノズル（＃２）を通じて第２整列パターン２４０´にインク２３５´を滴下した時に、インク２３５´の中心点（Ｃ´）が、整列パターン２４０の中心点（Ａ）と一致しなかった。このような場合には、ヘッド４００の傾斜角が誤整列されたものであるので、ヘッド４００の傾斜角を調整して、誤整列を補正する。
【００５８】
図８Ｄのように、一つの整列パターン２４０内に滴下されたインク２３５の中心点（Ｃ）と整列パターン２４０の中心点（Ａ）とは一致した。しかしながら、他の整列パターン２４０´内に滴下されたインク２３５´の中心点（Ｃ´）が、整列パターン２４０´の中心点（Ａ´）に対してＹ軸方向にｄ４の距離だけ誤整列された。この場合、基板２１０またはステージ５００の傾斜角が誤整列されたものであるので、基板２１０またはステージ５００の傾斜角を調整して、ｄ４の距離だけ誤整列を補正する。
【００５９】
このような本実施例による表示板は、前述のように、液晶表示装置の共通電極表示板または有機電界発光表示装置の薄膜トランジスタ表示板でありえる。
次に、本発明の実施例による表示板を備えた液晶表示装置について、図９を参考にして説明する。
【００６０】
図９は、本発明の実施例による製造工程で完成した表示板を含む液晶表示装置の構造を示した断面図である。
図９に示したように、本実施例による液晶表示装置は、薄膜トランジスタ表示板１００と、共通電極表示板２００と、これら二つの表示板１００、２００間に注入されている液晶層３と、を含む。
【００６１】
まず、薄膜トランジスタ表示板１００について詳細に説明する。
絶縁基板１１０上に、ゲート信号または走査信号を伝達するゲート線（図示せず）に接続されている複数のゲート電極１２４が、形成されている。ゲート線を覆うゲート絶縁膜１４０の上部には、水素化非晶質シリコン （ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｅｄ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ）（非晶質シリコンは、略して「ａ-Ｓｉ」とする）などからなる半導体１５１、１５４が、形成されている。半導体１５４の上部には、シリサイド（ｓｉｌｉｃｉｄｅ）またはリンなどのｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどの物質から形成されたオーミックコンタクト部材（ｏｈｍｉｃ ｃｏｎｔａｃｔ）１６１、１６３、１６５が、形成されている。
【００６２】
オーミックコンタクト部材１６１、１６３、１６５及びゲート絶縁膜１４０上には、データ電圧を伝達するデータ線１７１、及び、これから分離されている複数のドレイン電極１７５が形成されている。一つのゲート電極１２４、データ線１７１に接続されたソース電極１７３及びドレイン電極１７５は、半導体１５４と共に一つの薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）を構成し、薄膜トランジスタのチャネルは、ソース電極１７３とドレイン電極１７５との間の半導体１５４に形成される。オーミックコンタクト部材１６３、１６５は、その下部の半導体１５４とその上部のデータ線１７１及びドレイン電極１７５との間にだけ存在して、接触抵抗を下げる役割を果たす。データ線１７１及びドレイン電極１７５、並びに、これらで覆われずに露出された半導体１５４部分の上には、保護膜１８０が形成されている。保護膜１８０は、平坦化特性が優れていて感光性を有する有機物質、プラズマ化学気相蒸着（ｐｌａｓｍａ ｅｎｈａｎｃｅｄ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＥＣＶＤ）で形成されるａ-Ｓｉ：Ｃ：Ｏ、ａ-Ｓｉ：Ｏ：Ｆなどの４．０以下の低誘電率絶縁物質、または、無機物質である窒化ケイ素や酸化ケイ素などからなるのが好ましい。保護膜１８０には、ドレイン電極１７５を露出する複数のコンタクトホール１８５が形成されており、保護膜１８０上には、ＩＴＯまたはＩＺＯからなる画素電極（ｐｉｘｅｌ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１９０が形成されている。これとは異なって、画素電極１９０は、透明な導電性ポリマーから形成されることもでき、反射型液晶表示装置の場合には、画素電極１９０が、不透明な反射性金属から形成されることもできる。
【００６３】
画素電極１９０及び共通電極２７０は、キャパシタ（蓄電器）（以下、“液晶キャパシタ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｃａｐａｃｉｔｏｒ）”と言う）を構成して、薄膜トランジスタがターンオフされた後にも印加された電圧を維持するが、電圧維持能力を強化するために、液晶キャパシタと並列に接続された他のキャパシタを設けるが、それをストレージキャパシタ（ｓｔｏｒａｇｅ ｃａｐａｃｉｔｏｒ）という。
【００６４】
次に、共通電極表示板２００について説明する。
透明なガラスなどからなる絶縁基板２１０上に、遮光部材２２０が形成されており、遮光部材２２０は、画素電極１９０と対向して、画素電極１９０とほぼ同一な形状を有する複数の開口部を有している。これとは異なって、遮光部材２２０は、データ線１７１に対応する部分及び薄膜トランジスタに対応する部分からなることもできる。また、基板２１０上には複数のカラーフィルター２３０が、形成されていて、遮光部材２３０で囲まれた領域内に位置する。カラーフィルター２３０上には、カバー膜２５０が形成されており、その上部には、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電体などからなる共通電極２７０が形成されている。
【００６５】
トランジスタ薄膜表示板１００と共通電極表示板２００との内部面には、配向膜１１、２１が各々形成されている。トランジスタ薄膜表示板１００と共通電極表示板２００との外部面には、偏光板１２、２２が形成されている。
【００６６】
図１０は、本発明の実施例による製造工程によって完成した有機電界発光表示装置用薄膜トランジスタ表示板の構造を示した配置図である。図１１及び図１２は、それぞれ、図１０の薄膜トランジスタ表示板のＸＩ-ＸＩ´線及びＸＩＩ-ＸＩＩ´線による断面図である。
【００６７】
図１０乃至図１２を参照すれば、透明なガラスまたはプラスチックなどからなる絶縁基板１１０上に、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）または酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）などからなる遮断膜１１１が形成されている。遮断膜１１１は、二重膜の構造であり得る。
【００６８】
遮断膜１１１上に、多結晶シリコンなどからなる複数対の第１及び第２島型半導体１５１ａ、１５１ｂが形成されている。島型半導体１５１ａ、１５１ｂの各々は、ｎ型またはｐ型の導電性不純物を含む複数の不純物領域（ｅｘｔｒｉｎｓｉｃ  ｒｅｇｉｏｎ）と導電性不純物をほとんど含まない少なくとも一つの真性領域（ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ  ｒｅｇｉｏｎ）とを含む。
【００６９】
スイッチング薄膜トランジスタ（Ｑｓ）用第１半導体１５１ａを見れば、不純物領域は、第１ソース領域１５３ａ、中間領域１５３５及び第１ドレイン領域１５５ａを含み、これらは、ｎ型不純物でドーピングされていて、互いに分離されている。真性領域は、不純物領域１５３ａ、１５３５、１５５ａの間に位置した一対の第１チャネル領域１５４ａ１、１５４ａ２などを含む。
【００７０】
駆動薄膜トランジスタ（Ｑｄ）用第２半導体１５１ｂを見れば、不純物領域は、第２ソース領域１５３ｂ及び第２ドレイン領域１５５ｂを含み、これらは、ｐ型不純物でドーピングされていて、互いに分離されている。真性領域は、第２ソース領域１５３ｂと第２ドレイン領域１５５ｂとの間に位置した第２チャネル領域１５４ｂを含む。第２ソース領域１５３ｂは、上に長く伸び、維持領域１５７をなす。
【００７１】
不純物領域は、チャネル領域１５４ａ１、１５４ａ２、１５４ｂと、ソース及びドレイン領域１５３ａ、１５５ａ、１５３ｂ、１５５ｂとの間に位置した低濃度ドーピング領域（図示せず）をさらに含むことができる。このような低濃度ドーピング領域は、不純物をほとんど含まないオフセット領域（ｏｆｆｓｅｔ  ｒｅｇｉｏｎ）で代替することができる。
【００７２】
これとは異なり、第１半導体１５１ａの不純物領域１５３ａ、１５５ａがｐ型不純物でドーピングされたり、第２半導体１５１ｂの不純物領域１５３ｂ、１５５ｂがｎ型不純物でドーピングされることができる。ｐ型導電性不純物としては、ホウ素（Ｂ）、ガリウム（Ｇａ）などがあり、ｎ型導電性不純物としては、リン（Ｐ）、砒素（Ａｓ）などがある。
【００７３】
島型半導体１５１ａ、１５１ｂは、非晶質シリコンからなることができる。この場合、不純物領域が存在せず、島型半導体１５１ａ、１５１ｂと他の金属層との間の接触特性を補強するための抵抗性接触部材が、半導体１５１ａ、１５１ｂ上に形成されることができる。
【００７４】
半導体１５１ａ、１５１ｂ及び遮断膜１１１上には、窒化ケイ素または酸化ケイ素などからなるゲート絶縁膜１４０が形成されている。
ゲート絶縁膜１４０上には、第１制御電極１２４ａを含む複数のゲート線１２１と複数の第２制御電極１２４ｂとを含む複数のゲート導電体が形成されている。
【００７５】
ゲート線１２１は、ゲート信号を伝達し、主に横方向にのびている。第１制御電極１２４ａは、ゲート線１２１から上にのびて第１半導体１５１ａと交差し、特に、第１チャネル領域１５４ａ１、１５４ａ２と重畳する。各ゲート線１２１は、他層または外部駆動回路との接続のために、面積の広い端部を含むことができる。ゲート信号を生成するゲート駆動回路（図示せず）が基板１１０上に集積されている場合、ゲート線１２１が、伸びてゲート駆動回路と直接接続される。
【００７６】
第２制御電極１２４ｂは、ゲート線１２１と分離されていて、第２半導体１５１ｂの第２チャネル領域１５４ｂと重畳する。第２制御電極１２４ｂは、伸びて維持電極１２７をなし、維持電極１２７は、第２半導体１５１ｂの維持領域１５７と重畳してストレージキャパシタ（Ｃｓｔ）を構成する。
【００７７】
ゲート導電体１２１、１２４ｂは、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などアルミニウム系金属、銀（Ａｇ）や銀合金など銀系金属、銅（Ｃｕ）や銅合金など銅系金属、モリブデン（Ｍｏ）やモリブデン合金などモリブデン系金属、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）及びチタニウム（Ｔｉ）などからなることができる。しかし、これらは、物理的性質が異なる二つの導電膜（図示せず）を含む多重膜構造を有することもできる。このうちのいずれか一つの導電膜は、信号遅延や電圧降下を減らすように比抵抗（ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ）が低い金属、例えば、アルミニウム系金属、銀系金属、銅系金属などからなる。これとは異なって、他の導電膜は、他の物質、特にＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）及びＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）との物理的、化学的、電気的接触特性に優れた物質、例えば、モリブデン系金属、クロム、チタニウム、タンタルなどからなる。このような組み合わせの良い例としては、クロム下部膜とアルミニウム（合金）上部膜、及び、アルミニウム（合金）下部膜とモリブデン（合金）上部膜がある。しかし、ゲート導電体１２１、１２４ｂは、その他にも多様な金属または導電体で形成することができる。
【００７８】
ゲート導電体１２１、１２４ｂの側面は、基板１１０面に対して傾斜しており、その傾斜角は、約３０゜乃至約８０゜であることが好ましい。
ゲート導電体１２１、１２４ｂ上には、層間絶縁膜１６０が形成されている。層間絶縁膜１６０は、窒化ケイ素や酸化ケイ素などの無機絶縁物、有機絶縁物、低誘電率絶縁物などからなる。有機絶縁物と低誘電率絶縁物の誘電常数は、４．０以下であることが好ましく、低誘電率絶縁物の例としては、プラズマ化学気相蒸着で形成されるａ-Ｓｉ:Ｃ:Ｏ、ａ-Ｓｉ:Ｏ:Ｆなどが挙げられる。有機絶縁物のうちの感光性を有するもので層間絶縁膜１６０を形成することもでき、層間絶縁膜１６０の表面は、平坦であり得る。
【００７９】
層間絶縁膜１６０には、第２制御電極１２４ｂを露出する複数のコンタクトホール１６４が形成されている。また、層間絶縁膜１６０とゲート絶縁膜１４０には、ソース及びドレイン領域１５３ａ、１５３ｂ、１５５ａ、１５５ｂを露出する複数のコンタクトホール１６３ａ、１６３ｂ、１６５ａ、１６５ｂが形成されている。
【００８０】
層間絶縁膜１６０上には、複数のデータ線１７１と、複数の駆動電圧線１７２と、複数の第１及び第２出力電極１７５ａ、１７５ｂとを含む複数のデータ導電体が形成されている。
【００８１】
データ線１７１は、データ信号を伝達し、主に縦方向にのびてゲート線１２１と交差する。各データ線１７１は、コンタクトホール１６３ａを通じて第１ソース及びドレイン領域１５３ａと接続されている複数の第１入力電極１７３ａを含み、他層または外部駆動回路との接続のために面積の広い端部を含むことができる。データ信号を生成するデータ駆動回路（図示せず）が基板１１０上に集積されている場合、データ線１７１が、延在してデータ駆動回路と直接接続される。
【００８２】
駆動電圧線１７２は、駆動電圧を伝達し、主に縦方向にのびてゲート線１２１と交差する。各駆動電圧線１７２は、コンタクトホール１６３ｂを通じて第２ソース及びドレイン領域１５３ｂと接続されている複数の第２入力電極１７３ｂを含む。駆動電圧線１７２は、互いに接続される。
【００８３】
第１出力電極１７５ａは、データ線１７１及び駆動電圧線１７２と分離されている。第１出力電極１７５ａは、コンタクトホール１６５ａを通じて第１ドレイン領域１５５ａに接続されており、コンタクトホール１６４を通じて第２制御電極１２４ｂと接続されている。
【００８４】
第２出力電極１７５ｂは、データ線１７１、駆動電圧線１７２及び第１出力電極１７５ａと分離されていて、コンタクトホール１６５ｂを通じて第２ドレイン領域１５５ｂに接続されている。
【００８５】
データ導電体１７１、１７２、１７５ａ、１７５ｂは、モリブデン、クロム、タンタル及びチタニウムなどの耐火性金属、またはこれらの合金からなることが好ましく、耐火性金属膜（図示せず）と低抵抗導電膜（図示せず）とを含む多重膜構造を有することができる。多重膜構造の例としては、クロムまたはモリブデン（合金）下部膜とアルミニウム（合金）上部膜の二重膜、及び、モリブデン（合金）下部膜とアルミニウム（合金）中間膜とモリブデン（合金）上部膜の三重膜がある。しかし、データ導電体１７１、１７２、１７５ａ、１７５ｂは、その他にも多様な金属または導電体からなることができる。
【００８６】
ゲート導電体１２１、１２１ｂと同様に、データ導電体１７１、１７２、１７５ａ、１７５ｂもまた、その側面が基板１１０面に対して３０゜乃至８０゜程度の角度で傾斜していることが好ましい。
【００８７】
データ導電体１７１、１７２、１７５ａ、１７５ｂ上には、保護膜１８０が形成されている。保護膜１８０は、無機物、有機物、低誘電率絶縁物質などからなる。
保護膜１８０には、第２出力電極１７５ｂを露出する複数のコンタクトホール１８５が形成されている。保護膜１８０にはまた、データ線１７１の端部を露出する複数のコンタクトホール（図示せず）が形成されることができ、保護膜１８０と層間絶縁膜１６０には、ゲート線１２１の端部を露出する複数のコンタクトホール（図示せず）が形成されることができる。
【００８８】
保護膜１８０上には、複数の画素電極１９１が形成されている。
画素電極１９１は、コンタクトホール１８５を通じて第２出力電極１７５ｂと接続されている。画素電極１９１は、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な導電物質からなることが好ましいが、アルミニウム、銀、カルシウム、バリウム、マグネシウムなどの不透明の反射性金属からなることもできる。
【００８９】
保護膜１８０上にはまた、複数の接触補助部材（図示せず）または接続部材（図示せず）が形成されることができ、これらは、ゲート線１２１とデータ線１７１の露出された端部に接続される。
【００９０】
保護膜１８０上には、有機発光表示装置の画素を分離するための隔壁３６１が形成されている。隔壁３６１は、画素電極１９１の周縁を囲んで、有機発光物質で満たされる開口部を定義し、有機絶縁物または無機絶縁物からなる。
【００９１】
隔壁３６１が定義する画素電極１９１上の開口部内には、有機発光部材３７０が形成されている。有機発光部材３７０は、赤色、緑色及び青色の三原色など基本色のうちのいずれか一つの光を固有に放出する有機物質からなる。有機発光表示装置は、有機発光部材３７０が放出する基本色の色光の空間的な総合によって所望する画像を表示する。
【００９２】
有機発光部材３７０は、光を発する発光層（図示せず）以外に、発光層の発光効率を向上させるための付帯層（ａｕｘｉｌｉａｒｙ  ｌａｙｅｒ）（図示せず）を含む多層構造を有することができる。付帯層には、電子と正孔とのバランスをとらせるための電子輸送層（図示せず）及び正孔輸送層（図示せず）と、電子と正孔の注入を強化するための電子注入層（図示せず）及び正孔注入層（図示せず）などがある。
【００９３】
有機発光部材３７０上には、共通電極２７０が形成されている。共通電極２７０は、共通電圧Ｖｃｏｍの印加を受け、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な導電物質からなる。
このような有機発光表示装置において、ゲート線１２１に接続されている第１制御電極１２４ａ、データ線１７１に接続されている第１入力電極１７３ａ及び第１出力電極１７５ａは、第１半導体１５４ａと共にスイッチング薄膜トランジスタ（Ｑｓ）を構成し、スイッチング薄膜トランジスタ（Ｑｓ）のチャネルは、第１入力電極１７３ａと第１出力電極１７５ａとの間の第１半導体１５４ａに形成される。第１出力電極１７５ａに接続されている第２制御電極１２４ｂ、駆動電圧線１７２に接続されている第２入力電極１７３ｂ、及び、画素電極１９０に接続されている第２出力電極１７５ｂは、第２半導体１５４ｂと共に駆動薄膜トランジスタ（Ｑｄ）を構成し、駆動薄膜トランジスタ（Ｑｄ）のチャネルは、第２入力電極１７３ｂと第２出力電極１７５ｂとの間の第２半導体１５４ｂに形成される。画素電極１９１、有機発光部材３７０及び共通電極２７０は、有機発光素子（ＬＤ）を構成し、画素電極１９１がアノード、共通電極２７０がカソードとなるか、または画素電極１９１がカソード、共通電極２７０がアノードとなる。互いに重畳する維持電極１２７と駆動電圧線１７２とは、ストレージキャパシタ（Ｃｓｔ）を構成する。
【００９４】
このような有機発光表示装置は、基板１１０の上側または下方に光を送り出して画像を表示する。不透明な画素電極１９１と透明な共通電極２７０は、基板１１０の上側方向に画像を表示する前面発光（ｔｏｐ  ｅｍｉｓｓｉｏｎ）方式の有機発光表示装置に適用し、透明な画素電極１９１と不透明な共通電極２７０は、基板１１０の下側方向に画像を表示する背面発光（ｂｏｔｔｏｍ  ｅｍｉｓｓｉｏｎ）方式の有機発光表示装置に適用する。
【００９５】
一方、半導体１５１ａ、１５１ｂが真性領域なしで多結晶シリコンである場合、Ｎ型不純物で高濃度にドーピングされた多結晶シリコンであるオーミックコンタクト部材は、半導体１５１ａ、１５１ｂとデータ導電体１７１、１７２、１７５ａ、１７５ｂとの間に形成されることができる。
【００９６】
第１及び第２制御電極１２４ａ、１２４ｂは、各々半導体層１５１ａ、１５１ｂに配置されることができ、ゲート絶縁膜１４０は、半導体層１５１ａ、１５１ｂと第１及び第２制御電極１２４ａ、１２４ｂとの間に形成されることができる。この時、データ導電体１７１、１７２、１７３ｂ、１７５ｂは、ゲート絶縁層１４０上に直ちに形成されることができる。
【００９７】
また、データ導電体１７１、１７２、１７３ｂ、１７５ｂは、半導体層１５１ａ、１５１ｂの下に形成されることができ、半導体層１５１ａ、１５１ｂと電気的に直接接触することができる。
【００９８】
以上で、本発明を実施例を参照して説明したが、当該技術分野の熟練した当業者は、特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から逸脱しない範囲内で、本発明を多様に修正及び変更することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９９】
【図１】本発明の一実施例によるカラーフィルターを有する表示板の平面図である。
【図２】本発明の一実施例によるカラーフィルターを有する表示板の検査パターンの構造を具体的に示した平面図である。
【図３】本発明の一実施例による検査パターン上に一滴のインクを滴下した形状を示す平面図である。
【図４】本発明の他の実施例による表示装置用表示板のカラーフィルター及び整列パターンの構造を具体的に示した平面図である。
【図５】本発明の一実施例によるカラーフィルターを有する表示板の製造工程に使用されるインクジェット印刷装置の構造を具体的に示した斜視図である。
【図６】本発明の一実施例によるインクジェット印刷装置で、ヘッドの構造を具体的に示した配置図である。
【図７】図４のカラーフィルターを有する表示板の製造工程で、カラーフィルターを形成する前に整列パターンを利用してヘッドを整列させる工程を示した工程図である。
【図８Ａ】本発明の実施例によるカラーフィルターを有する表示板の製造工程で、整列パターンを利用した誤整列の形態を示した平面図である。
【図８Ｂ】本発明の実施例によるカラーフィルターを有する表示板の製造工程で、整列パターンを利用した誤整列の形態を示した平面図である。
【図８Ｃ】本発明の実施例によるカラーフィルターを有する表示板の製造工程で、整列パターンを利用した誤整列の形態を示した平面図である。
【図８Ｄ】本発明の実施例によるカラーフィルターを有する表示板の製造工程で、整列パターンを利用した誤整列の形態を示した平面図である。
【図９】本発明の実施例による製造工程によって完成した表示板を含む液晶表示装置の構造を示した断面図である。
【図１０】本発明の実施例による製造工程によって完成した有機電界発光表示装置用薄膜トランジスタ表示板の構造を示した配置図である。
【図１１】図１０の薄膜トランジスタ表示板のＸＩ-ＸＩ´線による断面図である。
【図１２】図１０の薄膜トランジスタ表示板のＸＩＩ-ＸＩＩ´線による断面図である。
【符号の説明】
【０１００】
１１１  遮断膜
１２４  ゲート電極
１２７  維持電極
１４０  ゲート絶縁膜
１５１ａ、１５１ｂ  第１及び第２島型半導体
１５３ａ、１５３ｂ  第１、２ソース領域
１５３５  中間領域
１５５ａ、１５５ｂ  第１、２ドレイン領域
１５４ａ１、１５４ａ２  第１チャネル領域
１５７  維持領域
１６１、１６３、１６５  オーミックコンタクト部材
１７１  データ線
１７２  駆動電圧線
１７３  ソース電極
１７５  ドレイン電極
１７５ａ、１７５ｂ  第１、２出力電極
１８０  保護膜
１６３ａ、１６３ｂ、１６５ａ、１６５ｂ、１８５  コンタクトホール
１９１  画素電極
２００  表示装置用表示板
１１０、２１０  基板
２２０  遮光部材
２３０  カラーフィルター
２３５  整列用カラーフィルター
２４０  検査（整列）パターン
２４０ａ  第１整列線
２４０ｂ  第２整列線
２４０ｃ  整列目盛り
２７０  共通電極
３００  移送装置
３６１  隔壁
３７０  有機発光部材
４００  ヘッド
５００  ステージ
７００  ヘッドユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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