(57)【要約】【課題】ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳して光量変動を防止すると共に、モアレを目立たなくして高画質な画像を得ることができるマルチビーム走査装置を提供する。また、放射ノイズの発生が抑制されたマルチビーム走査装置を提供する。【解決手段】画像データが抵抗制御部８４に入力されると、入力された画像データの周波数をカウントする。次に図示しないメモリから走査速度を読み出し、読み出した走査速度を用いてモアレのピッチが０．３ｍｍ以下となる高周波電流の周波数の下限値を演算する。次に、高周波電流の周波数を演算された下限値にするための可変抵抗８０Ａ、８０Ｂの制御量を演算し、演算した制御量に基づいて可変抵抗８０Ａ、８０Ｂの抵抗値を増減する。これにより、高周波重畳ＩＣ７６Ａ、７６Ｂの各々から演算された周波数の高周波電流が発振される。【選択図】図２
2006231702.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
独立に制御される複数の発光点を備えた半導体レーザと、
前記複数の発光点の各々から出射された複数の光ビームを走査する走査手段と、
画像データに基づいて前記複数の発光点の各々に駆動電流を印加して前記半導体レーザを駆動する駆動手段と、
前記駆動電流に所定周波数の高周波電流を重畳する高周波重畳手段と、
前記画像データの周波数と高周波電流の周波数との間で発生するビートにより目視可能なモアレが生じないように前記駆動電流に重畳する高周波電流の周波数を演算し、演算された周波数の高周波電流が前記駆動電流に重畳されるように、前記高周波重畳手段を制御する制御手段と、
を含むマルチビーム走査装置。
【請求項２】
前記高周波重畳手段は、重畳する高周波電流の周波数を所定周波数に調整する周波数調整手段を備え、前記駆動電流に前記周波数調整手段で調整された所定周波数の高周波電流を重畳する請求項１記載のマルチビーム走査装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記モアレのピッチが所定値以下になるように前記駆動電流に重畳する高周波電流の周波数を演算する請求項１又は２記載のマルチビーム走査装置。
【請求項４】
前記周波数調整手段は、前記半導体レーザと前記走査手段とを含む走査ユニットの外部にありＯＮ／ＯＦＦ機能を有した請求項２記載のマルチビーム走査装置。
【請求項５】
前記高周波重畳手段は、前記複数の発光点の各々に印加する駆動電流に発光点ごとに異なる周波数の高周波電流を重畳する請求項１乃至４のいずれか１項記載のマルチビーム走査装置。
【請求項６】
前記高周波重畳手段は、重畳する高周波電流の振幅を所定振幅に調整する振幅調整手段を更に備え、前記駆動電流に前記振幅調整手段で調整された所定振幅の高周波電流を重畳する請求項５記載のマルチビーム走査装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記モアレのピッチが０．３ｍｍ以下となるように前記駆動電流に重畳する高周波電流の周波数を演算する請求項１乃至６のいずれか１項記載のマルチビーム走査装置。
【請求項８】
前記制御手段は、下記の関係式を満たすように前記駆動電流に重畳する高周波電流の周波数を演算する請求項１乃至７のいずれか１項記載のマルチビーム走査装置。
高周波電流の周波数＝画像データの周波数×ｎ−モアレのピッチ  （ｎは自然数）
モアレのピッチ＝走査速度×（１／モアレの周波数）≦０．３ｍｍ
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マルチビーム走査装置に係り、特に、複数の光ビームを出射する半導体レーザを用いたマルチビーム走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザダイオード（ＬＤ）等のレーザ光源から照射される光ビームを、画像データに応じて制御して、像担持体としての感光体ドラムを回転させながら、光ビームをポリゴンミラー等の走査手段を介して主走査を繰り返すことで、感光体ドラムに静電潜像を形成して画像の記録を行う画像形成装置は、高画質の画像を高速で得ることができるため、複写機やレーザプリンタに広く用いられている。
【０００３】
上記の画像形成装置では、高速且つ高密度の画像形成を行うために、一体に形成され独立に制御される複数のビームを出射する半導体レーザ（以下、「ＭＳＬＤ（マルチスポットレーザダイオード）」という。）が光源として用いられている。ＭＳＬＤは、走査ユニットの中でシングルビームのＬＤと同等の方法で使用することができる。このため、ＭＳＬＤを用いることで、シンプルで且つ高性能な走査ユニットを構成することができる。
【０００４】
ＭＳＬＤは、通常、同一の組成、形状からなる光共振器をひとつの基材上に複数並置して形成される。従って、複数の発光ビームの特性は極めて揃ったものとなり、発振波長もほぼ同一となる。このような条件下では、光共振器間の漏れ光や光共振器外からの戻り光による複数の共振器間の光結合で位相同期が起こり、容易に可干渉状態となる。複数の共振器間で干渉が発生すると、コリメータレンズからの出射光には光強度の強弱の分布が生じる。この分布は出射光の位相が安定しないと変動する。
【０００５】
例えば、図１６（Ａ）に示すように、このレーザ出射ユニットでは、発光点１００Ａ，１００Ｂを備えたＭＳＬＤ１０２の光出射側にはコリメータレンズ１０６が配置され、コリメータレンズ１０６の光出射側には制限開口１１４が配置される。制限開口１１４は、結像光学系により結像させたときのビームスポット径の決定と、ビームスポット径のバラツキ低減とのために設けられるので、制限開口１１４は、複数のビームに均等に作用するように、光軸上のコリメータレンズ１０６のバックフォーカス位置に配置される。
【０００６】
この制限開口１１４は、干渉ビームの一部のみを透過するため、光の位相が不安定であると開口を通過する光量が変動する。即ち、図１６（Ｂ）に示すように、発光点１００Ａ，１００Ｂの各々から出射されたビームが干渉し、干渉後のプロファイルが変化する。そのため、制限開口１１４通過後の光量は一定にはならない。
【０００７】
このようなレーザ出射ユニットを走査型の画像形成装置に利用した場合、光量変動が発生し画像上の目に見える欠陥となって表れることがある。例えば、複数のビームを連続的に点灯するような画像（たとえば全面黒画像）を形成しようとしたときに不規則な白筋が発生する。また、水平同期ビーム検知タイミングで光量変動が発生すると、同期誤差が発生し画像にジッターが発生する。
【０００８】
このような光量変動の問題を回避する方法として、ＬＤの駆動電流に高周波電流を重畳して、縦シングルモードを多重縦モード発振させることが提案されている。
【特許文献１】特許第２８７９４８７公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳すると、画像データの周波数と重畳した高周波電流との間でモアレが発生し、画質が低下する、という問題がある。また、高周波電流を重畳することで放射ノイズが大きくなり、ＥＭＣ上の問題を起こすことがある。EMC（Electro-Magnetic Compatibility）とは、電磁環境両立性のことで、他の機器に妨害を与えない性能（EMI）と他の機器から妨害を受けない性能（EMS；イミュニティ）とを両立させる性能のことである。
【００１０】
本発明は上記問題を解決するために成されたものであり、本発明の目的は、ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳して光量変動を防止すると共に、モアレを目立たなくして高画質な画像を得ることができるマルチビーム走査装置を提供することにある。また、本発明の他の目的は、放射ノイズの発生が抑制されたマルチビーム走査装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために本発明のマルチビーム走査装置は、独立に制御される複数の発光点を備えた半導体レーザと、前記複数の発光点の各々から出射された複数の光ビームを走査する走査手段と、画像データに基づいて前記複数の発光点の各々に駆動電流を印加して前記半導体レーザを駆動する駆動手段と、前記駆動電流に所定周波数の高周波電流を重畳する高周波重畳手段と、前記画像データの周波数と高周波電流の周波数との間で発生するビートにより目視可能なモアレが生じないように前記駆動電流に重畳する高周波電流の周波数を演算し、演算された周波数の高周波電流が前記駆動電流に重畳されるように、前記高周波重畳手段を制御する制御手段と、を含むことを特徴とする。
【００１２】
本発明のマルチビーム走査装置では、駆動手段が画像データに基づいて複数の発光点の各々に駆動電流を印加して半導体レーザを駆動する際に、高周波重畳手段が駆動電流に所定周波数の高周波電流を重畳する。制御手段は、画像データの周波数と高周波電流の周波数との間で発生するビートにより目視可能なモアレが生じないように駆動電流に重畳する高周波電流の周波数を演算し、演算された周波数の高周波電流が駆動電流に重畳されるように、高周波重畳手段を制御する。これにより光量変動が防止されると共に、モアレを目立たなくして高画質な画像を得ることができる。
【００１３】
また、複数の発光点ごとに駆動電流に異なる周波数の高周波電流を重畳することで、放射ノイズの発生を抑制することができる。
【発明の効果】
【００１４】
以上説明したように本発明によれば、ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳して光量変動を防止することができると共に、モアレを目立たなくして高画質な画像を得ることができる、という効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
（画像形成装置の概略構成）
図１７は、本実施の形態に係る画像形成装置の全体構成を示す概略図である。図１７に示すように、画像形成装置１０では、感光体４２の周囲に回転方向Ｂに沿って帯電器４４、マルチビーム走査装置１２、現像器４６、転写器５０が配設されており、帯電器４４によって帯電された感光体１２上をマルチビーム走査装置１２で露光走査することによって静電潜像を形成し、この現像器４６によって静電潜像にトナーを付着させて顕像化する。感光体１２上に形成されたトナー像は、転写器５０によって搬送されてきた用紙４８に転写され、定着器５２によって用紙４８上に定着される。そして、感光体４２上に残留されたトナーは、クリーニングブレード５４で除去される。
【００１６】
（マルチビーム走査装置の構成）
図１は、本実施の形態に係るマルチビーム走査装置の構成を示す斜視図である。図１に示すように、マルチビーム走査装置１２は、所定間隔おいて２つの発光点１８Ａ、１８Ｂが形成されたマルチスポットレーザダイオード（以下、ＭＳＬＤという）１６を備えている。ＭＳＬＤ１６の２つの発光点１８Ａ、１８Ｂは、ＬＤ駆動部９０により各々独立に制御される。このため、発光点１８Ａ、１８ＢをＬＤ１８Ａ、１８Ｂということがある。
【００１７】
ＭＳＬＤ１６の光ビーム出射側には、コリメータレンズ２２、スリット２４、エキスパンダレンズ２６、２８、及び折り返しミラー３０がこの順に配置されている。また、折り返しミラー３０の光ビーム反射側には、ｆθレンズ３４、３６、及びポリゴンミラー３８がこの順に配置されている。なお、ＭＳＬＤ１６、コリメータレンズ２２、スリット２４は、マルチビーム出射ユニット１４として一体化されている。
【００１８】
ＭＳＬＤ１６から出射された光ビームは、コリメータレンズ２２により平行光化され、スリット２４の制限開口３２で光束の一部が透過され、エキスパンダレンズ２６、２８で拡大されて、折り返しミラー３０に入射して所定方向に折り返される。折り返しミラー３０で折り返された光ビームは、非走査方向にのみパワーを有するｆθレンズ３４、３６を介してポリゴンミラー３８の反射面３８Ａに入射して反射される。ポリゴンミラー３８は３８Ｃを回転軸として所定速度で矢印方向に回転しており、この回転により入射されたビームが偏向され、感光体４２が矢印Ａ方向に走査される。
【００１９】
ポリゴンミラー３８の光ビーム反射側には、ｆθレンズ３４、３６、折り返しミラー４０がこの順に配置されている。ポリゴンミラー３８の反射面３８Ａで反射された光ビームは、ｆθレンズ３４、３６により感光体４２上での走査速度が一定となるように走査速度を補正され、折り返しミラー４０に入射して感光体４２の方向に折り返され、感光体４２に照射される。
【００２０】
また、ｆθレンズ３４、３６と折り返しミラー４０との間で且つ光ビームの走査開始方向には、ピックアップミラー５６が配置されており、ピックアップミラー５６の光ビーム反射側には、レンズ５８及びＳＯＳセンサ６０がこの順に配置されている。ポリゴンミラー３８で反射された光ビームのうち、走査開始端に相当する位置の光ビームは、ピックアップミラー５６により反射されて、ＳＯＳセンサ６０に入射する。ＳＯＳセンサ６０では、１走査ごとに走査開始タイミングを検出することができる。
【００２１】
（ＬＤ駆動部の回路構成）
図２は、ＬＤ駆動部９０の回路構成を示す回路図である。
【００２２】
図２に示すように、ＬＤ駆動部９０は、入力される画像データに基づいてＬＤ１８Ａ、１８ＢにＬＤ駆動電流を出力するＬＤ駆動回路（以下、「ＬＤドライブＩＣ」という。）７０、ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳する高周波発振回路７２、及び高周波発振回路７２から発振される高周波の周波数及び振幅を変換する周波数変換手段７４を備えている。なお、ＬＤドライブＩＣ７０は図示しないコントローラにより制御されている。
【００２３】
ＬＤドライブＩＣ７０には、ＬＤ１８Ａ、１８ＢとＰＤ１９Ａ、１９Ｂとが接続されている。ＬＤ１８Ａを点灯させてＰＤ１９Ａで発光光量を検出し、検出した光量に基づいてＬＤドライブＩＣ７０でＬＤ１８Ａの発光光量を制御する。同様にＰＤ１９Ｂで検出した光量に基づいてＬＤ１８Ｂの発光光量を制御する。高周波発振回路７２は、高周波重畳ＩＣ７６Ａ、７６Ｂとコンデンサ７８Ａ、７８Ｂとを備えており、高周波重畳ＩＣ７６Ａはコンデンサ７８Ａを介してＬＤ１８Ａに接続され、高周波重畳ＩＣ７６Ｂはコンデンサ７８Ｂを介してＬＤ１８Ｂに接続されている。
【００２４】
高周波重畳ＩＣ７６Ａには、外付けの抵抗として、重畳される高周波の周波数を変更するための可変抵抗８０Ａと、重畳される高周波の振幅を変更するための可変抵抗８２Ａとが各々並列に接続されている。同様に高周波重畳ＩＣ７６Ｂには可変抵抗８０Ｂと可変抵抗８２Ｂとが各々並列に接続されている。可変抵抗８０Ａ、８２Ａ、８０Ｂ、８２Ｂの各々には、抵抗値を変化させ可変抵抗を制御する抵抗制御部８４が接続されている。また、抵抗制御部８４には、抵抗制御部８４に指示を入力するためのコントロールパネル８６が接続されている。これら可変抵抗８０Ａ、８２Ａ、８０Ｂ、８２Ｂと抵抗制御部８４とで周波数変換手段７４が構成されている。
【００２５】
上述したＬＤ駆動部９０では、入力された画像データに応じて、抵抗制御部８４により可変抵抗８０Ａ、８２Ａ、８０Ｂ、８２Ｂの各々が所定の抵抗値に制御される。抵抗制御部８４の制御動作については後述する。また、オペレータがコントロールパネル８６から抵抗制御部８４に指示を入力することもできる。例えば、実際に使用されるスクリーンによってモアレの見え方が変化するので、オペレータがプリントされた画像を見て、モアレが目視されるときには、コントロールパネル８６から周波数、振幅の変更を指示する。
【００２６】
これにより、高周波重畳ＩＣ７６Ａ、７６Ｂの各々から、所定の周波数と振幅とを備えた高周波電流が発振される。そして、ＬＤドライブＩＣ７０から出力されたＬＤ駆動電流には、高周波重畳ＩＣ７６Ａから発振された高周波電流が重畳されてＬＤ１８Ａに印加されると共に、高周波重畳ＩＣ７６Ｂから発振された高周波電流が重畳されてＬＤ１８Ｂに印加される。即ち、このＬＤ駆動部９０では、ＬＤ１８ＡとＬＤ１８Ｂとを各々駆動するＬＤ駆動電流に異なる高周波電流を重畳することができる。
【００２７】
なお、上記では高周波電流の周波数と振幅を変えるために抵抗値を可変する例について説明したが、使用する高周波重畳ＩＣ、回路に応じ他の方法で高周波電流の周波数、振幅を変更することもできる。
【００２８】
さらに、周波数変換手段７４は、コントロールパネル８６から高周波重畳を選択する、即ち高周波をＯＮ／ＯＦＦする機能を有することが好ましい。干渉によるデフェクトはコピーサンプルをみることでわかるし、デフェクトは環境温度やとられる画像によって異なるため、必ずしも発生する訳ではない。高周波を重畳すると目視しにくい高周波のモアレが発生するので、必要に応じて重畳有無を選択できることは有効である。
【００２９】
（高周波電流の最適周波数）
図３は、高周波重畳の効果を確認するための実験装置の構成を示す概略図である。
【００３０】
図３に示すように、基板２１上には、ＬＤ１８Ａ、１８Ｂ、ＬＤドライバＩＣ９１、ｆθレンズ３４、３６、ポリゴンミラー３８、及び折り返しミラー４０を含むマルチビーム走査装置１２が配設されている。
【００３１】
ＬＤ１８Ａ、１８Ｂの近傍には、ＬＤの発光光量を検出するためのＰＤ１９Ａ、１９Ｂが各々配置されている。ＰＤ１９Ａ、１９Ｂには、オシロスコープ９２が接続されている。ＬＤ１８Ａ、１８Ｂが点灯されると、ＰＤ１９に同時にビームが入射し、受光光量に応じた電流が発生する。発生した電流波形はオシロスコープ９２により計測される。
【００３２】
また、ＬＤドライバＩＣ９１は、基板９３上に実装されると共に、ＬＤ１８Ａ、１８Ｂ及びコントローラ９６に各々接続されている。コントローラ９６からの指示により、ＬＤドライバＩＣ９１は、ＡＰＣのためのＬＤ点灯、ＳＯＳサーチのためのＬＤ点灯、及び画像スキャン範囲でのＬＤ点灯を行う。ＬＤ１８Ａ、１８Ｂには、基板９３上に実装された所定の回路を介してファンクションジェネレータ９４が電気的に接続されている。ファンクションジェネレータ９４は、ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳する高周波発振回路として機能する。
【００３３】
図４は、図３の点線で囲った部分Ｐの回路図である。この回路は、抵抗９５Ａ、９５Ｂ、コンデンサ９７Ａ、９７Ｂを備えており、ＬＤドライバＩＣ９１から出力されたＬＤ１８Ａの駆動電流は、抵抗９５Ａを介してＬＤ１８Ａに印加され、ＬＤ１８Ｂの駆動電流は、抵抗９５Ｂを介してＬＤ１８Ｂに印加される。このとき、ファンクションジェネレータ９４で生成された高周波電流が、コンデンサ９７Ａを介してＬＤ１８Ａの駆動電流に重畳されると共に、コンデンサ９７Ｂを介してＬＤ１８Ｂの駆動電流に重畳される。なお、この回路構成では、ＬＤ１８ＡとＬＤ１８Ｂとを各々駆動するＬＤ駆動電流に同じ高周波電流が重畳される。
【００３４】
図５は、画像スキャン範囲でのＬＤ点灯時にオシロスコープ９２で計測された電流波形を示す図である。高周波電流を重畳する前は、図５（Ａ）に示すように、波形の上部が変形しており、１ライン内で光量変動が発生している。これに対し、高周波電流を重畳した後は、図５（Ｂ）に示すように、光量変動を示さない。また、図６は、ＳＯＳ検知のためのＬＤ点灯時にオシロスコープ９２で計測された電流波形を示す図である。この場合も同様に、高周波電流を重畳する前は、図６（Ａ）に示すように、光量変動が発生しているが、高周波電流を重畳した後は、図６（Ｂ）に示すように、光量変動を示さない。これらの結果から、ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳することで、ＬＤ１８ＡとＬＤ１８Ｂの発光光量の変動が防止されていることが分る。
【００３５】
なお、ＬＤは駆動電流がしきい値電流（Ｉｔｈ）を超えた場合にレーザ発振を始める。従って、図７に示すように、ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳するときには、ＬＤ駆動電流にしきい値電流（Ｉｔｈ）まで到達する振幅を与える必要がある。グラフ下のサインカーブはそのことを示すものである。
【００３６】
なお、以下では、モアレピッチは「ビート周期」、画像データの周期は「画素周期」という場合がある。また、画像データの周期とは、画像データの変調周期のことである。画像データより高速で変調した高周波を重畳した場合に画像データの周波数と高周波電流の周波数との間でモアレが発生する。モアレとは、２つの規則的なパターンが合成されたときに生じる一種の空間周波数のビート(うなり)現象である。
【００３７】
例えば、図９（Ａ）に画像データの周波数と高周波電流の周波数との間で発生するビートを示す。このビートの周期がモアレのピッチに相当する。画像データの周波数が２５．６２ＭＨｚ、高周波の周波数が２６．７ＭＨｚの場合に、両周波数のサイン波を足し合わせると約１ｍｍピッチの周期のビートになる。一点鎖線が画像データの周波数、破線が高周波の周波数、実線が画像データの周波数に高周波の周波数を足したものである。図９（Ｂ）は横軸のレンジ（画素の１周期を４２．３μｍ相当とした。）を拡大した図である。
【００３８】
下記式（１）及び（２）に示すように、モアレのピッチは、書き込む画像データの周波数、印加する高周波の周波数、及びスキャンするビームの速度から求めることができる。
【００３９】
画像データの周波数−高周波の周波数＝モアレの周波数        式（１）
モアレのピッチ＝走査速度ｘ（１／モアレの周波数）          式（２）
具体的な例で説明すると、画像データの周波数が２５．６２ＭＨｚ、印加する高周波の周波数が２６．７ＭＨｚ、スキャン速度が１．０８４６６６ｍｍ／μｓであると、２つの周波数で発生するモアレのピッチは１．０４ｍｍになる。
【００４０】
また、図１０には、画素周期を６００ＳＰＩ相当とし、瞬間的に書込みをしたときの波形に、高周波の周波数２６．７ＭＨｚのサイン波を乗じた波形を示している。なお、振幅は最小値がゼロとなるようにオフセットをかけている。この場合には、図９と同様に光強度が周期性に変化する。図１０から２つの周波数で発生するモアレのピッチは１．０６ｍｍであることが読み取れる。
【００４１】
図１１、図１２は、印加する高周波電流の周波数を整数倍した場合のビートを示す図である。図１２（Ｂ）は、図１２（Ａ）の横軸を部分的に拡大したものである。一方、図１３は、ビートの周期が小さくなる例である。発生するモアレのピッチは０．１７ｍｍとなる。この通り、発生するモアレのピッチは、印加する高周波電流の周波数により異なっている。
【００４２】
図１４は、画素周波数と筋（モアレ）の見えやすさを規格化したグラフである。図１４の縦軸はコントラストであり、横軸は単位長さ当りのライン本数である。コントラストは、（ＭＡＸ振幅−ＭＩＮ振幅）／平均振幅で表される。
【００４３】
図１４に示すカーブは、ラインピッチ（サイクル／ｍｍ）ごとに同程度の筋になるところをプロットしたものである。縦軸が小さい値を示すほど、小さい変化でも筋が目視されることを意味する。図から分るように、１ｍｍピッチが最も見えやすく、ピッチが大きくいなっても小さくなっても見えにくくなる。３サイクル／ｍｍ、つまり０．３ｍｍピッチでは、１ｍｍピッチの９倍大きな変化を示したときと同程度に筋が観測される。
【００４４】
実際に図１及び図２に示すマルチビーム走査装置を画像形成装置に搭載した状態で、ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳して画像を形成した。実際に形成された画像の画質を確認しても、０．３ｍｍピッチの筋は視認できないことがわかった。従って、モアレのピッチを０．３ｍｍ以下とすることで、モアレを目立たなくすることができる。
【００４５】
実験では一般に使われる１７５線、２００線、３００線のスクリーンを用い、濃度はべた黒コピーに対し２０％〜５０％の範囲で変化させた。画像形成の結果、０．３ｍｍ以下は目視でみえにいことを確認した。なお、１７５線、２００線、３００線のスクリーンに対応する画素間隔は０．１４５ｍｍ、０．１２７ｍｍ、０．０８ｍｍである。一定量の画素ずれがあった時、画素間隔が小さい方がずれに対する変化分は大きくなる。そのため、３００線のスクリーンの方がモアレの影響を受けやすい。
【００４６】
画素周期に応じてモアレのピッチが０．３ｍｍ以下となるように高周波電流を印加するためには、上記式（１）及び（２）より下記の関係式（３）及び（４）を満たすように高周波電流の周波数を算出すればよい。
【００４７】
高周波の周波数＝画像データの周波数×ｎ−モアレの周波数（ｎは自然数）    （３）
モアレのピッチ＝走査速度×（１／モアレの周波数）≦０．３ｍｍ            （４）
なお、（画像データの周波数×ｎ）が印加する周波数に近い時に、モアレのピッチが大きくなるため、実質的にはｎ＝１の場合の印加する周波数（高周波電流の周波数）を算出すればよい。
【００４８】
（重畳電流の制御動作）
図８は、抵抗制御部８４の制御動作を示すフローチャートである。
【００４９】
ステップ１００で、画像データが抵抗制御部８４に入力されると、入力された画像データの周波数をカウントする。次にステップ１０２で、図示しないメモリから走査速度を読み出し、ステップ１０４で、読み出した走査速度を用いて上記関係式（３）及び（４）から、モアレのピッチが０．３ｍｍ以下となる高周波電流の周波数の下限値を演算する。
【００５０】
次のステップ１０６で、高周波電流の周波数を演算された下限値にするための可変抵抗８０Ａ、８０Ｂの制御量を演算し、ステップ１０８で、演算した制御量に基づいて可変抵抗８０Ａ、８０Ｂの抵抗値を増減し、高周波重畳ＩＣ７６Ａ、７６Ｂの各々から演算された周波数の高周波電流が発振される。
【００５１】
（放射ノイズの低減効果）
また、ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳して画像を形成したときのＥＭＣを測定した。ＥＭＣの測定は国際規格であるＣＩＳＰＲに従い行った。一方のＬＤ１８Ａには３００MHｚの高周波電流を重畳し、他方のＬＤ１８Ｂには３２０MHｚの高周波電流を印加した。
【００５２】
測定結果を図１５に示す。「追加デバイスのノイズ」として指摘したように、高周波重畳によるノイズとして３００MHｚ、３２０MHｚの周波数の波形が測定された。即ち、同一周波数であれば加算されるため放射ノイズが大きな値となるのに対し、２つのＬＤを各々駆動するＬＤ駆動電流に異なる高周波電流を重畳することで、高周波重畳による放射ノイズのレベルを低減することができる。
【００５３】
なお、同一周波数の高周波電流を印加したのでは、その周波数での放射ノイズレベルが大きくなり、製品のＥＭＣ許容値を満足できないことも考えられる。２つの周波数と画素周波数との間で各々モアレが発生することを考えると、重畳する高周波電流の周波数を異ならせるのは難しいが、両方の周波数でモアレが発生しないように、高周波電流の周波数を設定することが望ましい。
【００５４】
以上説明した通り、本実施の形態では、ＬＤ駆動電流に高周波電流を重畳することで、ＭＳＬＤの２つの発光点の発光光量の変動が防止される。また、画素周期に応じてモアレのピッチが０．３ｍｍ以下となるように高周波電流を印加するので、モアレが目立たない高画質な画像を得ることができる。更に、発光点毎に印加する高周波電流の周波数を変えることで、高周波重畳による放射ノイズの発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本実施の形態に係るマルチビーム走査装置の構成を示す斜視図である。
【図２】ＬＤ駆動部の回路構成を示す回路図である。
【図３】高周波重畳の効果を確認するための実験装置の構成を示す概略図である。
【図４】図３の点線で囲った部分の回路図である。
【図５】（Ａ）及び（Ｂ）は、画像スキャン範囲でのＬＤ点灯時にオシロスコープで計測された電流波形を示す図である。
【図６】（Ａ）及び（Ｂ）はＳＯＳ検知のためのＬＤ点灯時にオシロスコープで計測された電流波形を示す図である。
【図７】ＬＤのＩＬ特性を示す図である。
【図８】抵抗制御部の制御動作を示すフローチャートである。
【図９】（Ａ）及び（Ｂ）は画素の周期と印加する高周波の周期の間で発生するビートの一例を示す図である。
【図１０】画素の周期と印加する高周波の周期の間で発生するビートの他の例を示す図である。
【図１１】画素の周期と印加する高周波の周期の間で発生するビートの他の例を示す図である。
【図１２】（Ａ）及び（Ｂ）は画素の周期と印加する高周波の周期の間で発生するビートの他の例を示す図である。
【図１３】画素の周期と印加する高周波の周期の間で発生するビートの他の例を示す図である。
【図１４】画素周波数と筋（モアレ）の見えやすさを規格化したグラフである。
【図１５】画像形成時のＥＭＣの測定結果を示す図である。
【図１６】（Ａ）及び（Ｂ）は従来のレーザ出射ユニットの問題点を説明する図である。
【図１７】本実施の形態に係る画像形成装置の構成を示す概略図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０  画像形成装置
１２  マルチビーム走査装置
１４  マルチビーム出射ユニット
１６  ＭＳＬＤ
１８Ａ、１８Ｂ    発光点
２１  基板
２２  コリメータレンズ
２４  スリット
２６  エキスパンダレンズ
３０  ミラー
３２  制限開口
３４  レンズ
３８  ポリゴンミラー
３８Ａ      反射面
４０  ミラー
４２  感光体
４４  帯電器
４６  現像器
４８  用紙
５０  転写器
５２  定着器
５４  クリーニングブレード
５６  ピックアップミラー
５８  レンズ
６０  センサ
７０  ＬＤドライブＩＣ
７２  高周波発振回路
７４  周波数変換手段
７６Ａ、７６Ｂ    高周波重畳ＩＣ
７８Ａ、７８Ｂ    コンデンサ
８０Ａ、８０Ｂ、８２Ａ、８２Ｂ  可変抵抗
８４  抵抗制御部
８６  コントロールパネル
９０  駆動部
９１  ＬＤドライブＩＣ
９２  オシロスコープ
９３  基板
９４  ファンクションジェネレータ
９５Ａ、９５Ｂ    抵抗
９６  コントローラ
９７Ａ、９７Ｂ    コンデンサ
１００Ａ，１００Ｂ      発光点
１０６      コリメータレンズ
１１４      制限開口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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