(57)【要約】【課題】  薬液処理後の基板面を洗浄した後の洗浄液を、再利用のために、簡単な構成で効率よく回収する。【解決手段】  第１リキッドナイフ４２１が吐出した洗浄液と、第２リキッドナイフ４２２が吐出した洗浄液とを、基板Ｇ上における第１リキッドナイフ４２１と第２リキッドナイフ４２２との間の領域で衝突させ、この衝突によって基板Ｇの面上で洗浄液の乱流を形成させる。ローラ８１によって搬送される基板Ｇは、基板搬送方向に直交する基板幅方向において傾斜させているため、前工程で処理が施されて基板上に残存している処理液は、基板上で発生した当該乱流によって、傾斜姿勢とされている基板Ｇの下側の側端部に向けて流れる。基板Ｇの幅方向における下側の側端部から流れ落ちた洗浄液を、液置換槽４１の底面に設けられている第１排液口４１１に流入させる。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定められた搬送方向に向けて、基板を当該搬送方向に直交する基板幅方向において傾斜させた状態で支持しつつ搬送する搬送手段と、
前記搬送手段によって搬送される基板の周囲を覆う処理槽と、
前記処理槽内において前記搬送手段によって搬送される基板の上面側に設けられ、当該搬送中の基板に対して前記基板幅方向に亘る範囲で、当該基板の搬送方向に向けた流体を吐出する第１吐出手段と、
前記搬送手段によって搬送される基板の上面側であって、前記基板搬送方向における前記第１吐出手段の下流側に、前記第１吐出手段に対向させて設けられ、前記基板幅方向に亘る範囲で、当該基板の搬送方向とは逆の方向に向けた流体を吐出する第２吐出手段と、
前記基板搬送方向における前記第１吐出手段と前記第２吐出手段との間であって、前記傾斜姿勢とされた基板の幅方向における下側端部付近にあたる前記処理槽の底面に設けられた第１排液口と
を備える基板処理装置。
【請求項２】
前記基板搬送方向において前記第２吐出手段の流体吐出口が配設されている位置、又は当該流体吐出口配設位置よりも下流側となる前記処理槽の底面に設けられ、前記基板幅方向に延びて、前記処理槽の底面を、前記第１排液口が設けられている第１領域と、この第１領域よりも前記基板搬送方向の下流側となる第２領域とに仕切る仕切部材を更に備える請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記処理槽の底面における前記第２領域に設けられた第２排液口を更に備える請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第１排液口は、当該第１排液口に流入した液を廃棄する配管に接続され、
前記第２排液口は、当該第２排液口に流入した液を再利用するための配管に接続されている請求項３に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これら基板の面上に処理液を供給して洗浄等の処理を施す基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、基板処理装置では、基板を薬液処理部から洗浄部に搬送する時には、薬液処理部での薬液処理後の基板上に残存した処理液が次工程の処理部に持ち込まれないようにするために、基板上の処理液を除去する工程が設けられている。例えば、特許文献１に示されるように、薬液処理槽２１の基板搬送方向における下流側に配設される液置換槽（処理槽）４１内において、基板Ｇの上面側から基板搬送方向に向かう方向に、薬液とは異なる洗浄液を帯状に吐出する第１リキッドナイフ（第１吐出手段）４２１と、この第１リキッドナイフ４２１よりも基板搬送方向の下流側に配置され、基板搬送方向と逆方向に洗浄液を帯状に吐出する第２リキッドナイフ（第２吐出手段）４２２とを備えた基板処理装置が提案されている。この基板処理装置では、第１リキッドナイフ４２１及び第２リキッドナイフ４２２によって吐出されるそれぞれの洗浄液を基板の被処理液供給面で衝突させ、この衝突によって基板の主面に処理液の乱流を形成させることによって、各リキッドナイフからの液流が液置換槽４１の下流側に配設されている次工程の処理槽に向かわないようにしている。
【特許文献１】特開平９−２１３６６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記基板処理装置の場合、薬液処理部での工程を経た後に基板上に残存している処理液を確実に除去し、下流側の処理部に当該残存処理液が持ち込まれることは確実に防止できる。しかし、薬液処理後の基板上から処理液を洗い流した後の洗浄液を再利用する技術については提案がされていない。薬液処理後の基板面に洗浄液を吐出して基板面上を洗浄した場合、この洗浄後に基板上から下方に流れ落ちる洗浄液は、上記残存処理液が多量に混ざった再利用不可能な洗浄液と、残存処理液が少量若しくは殆ど混ざっていない再利用可能な洗浄液とに分かれるが、上記基板処理装置では、これらの洗浄液を再利用するための技術は開示されていない。
【０００４】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、薬液処理後の基板面を洗浄した後の洗浄液を、再利用のために、簡単な構成で効率よく回収することができる基板処理装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の請求項１に記載の発明は、予め定められた搬送方向に向けて、基板を当該搬送方向に直交する基板幅方向において傾斜させた状態で支持しつつ搬送する搬送手段と、
前記搬送手段によって搬送される基板の周囲を覆う処理槽と、
前記処理槽内において前記搬送手段によって搬送される基板の上面側に設けられ、当該搬送中の基板に対して前記基板幅方向に亘る範囲で、当該基板の搬送方向に向けた流体を吐出する第１吐出手段と、
前記搬送手段によって搬送される基板の上面側であって、前記基板搬送方向における前記第１吐出手段の下流側に、前記第１吐出手段に対向させて設けられ、前記基板幅方向に亘る範囲で、当該基板の搬送方向とは逆の方向に向けた流体を吐出する第２吐出手段と、
前記基板搬送方向における前記第１吐出手段と前記第２吐出手段との間であって、前記傾斜姿勢とされた基板の幅方向における下側端部付近にあたる前記処理槽の底面に設けられた第１排液口と
を備える基板処理装置である。
【０００６】
この構成では、第１吐出手段が吐出した流体と、第２吐出手段が吐出した流体とが、基板上における第１吐出手段と第２吐出手段との間の領域で衝突し、この衝突によって基板面上で流体の乱流が形成される。また、搬送手段によって搬送される基板は、搬送方向に直交する基板幅方向に傾斜しているので、当該処理槽の前工程で処理が施されて基板上に残存している処理液は、基板上で発生した当該乱流によって、この傾斜姿勢とされている基板の下側の側端部に向けて流れる。そして、この基板の幅方向における下側の側端部から流れ落ちた流体は、処理槽の底面に設けられている第１排液口に流入するようになっている。
【０００７】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置であって、前記基板搬送方向において前記第２吐出手段の流体吐出口が配設されている位置、又は当該流体吐出口配設位置よりも下流側となる前記処理槽の底面に設けられ、前記基板幅方向に延びて、前記処理槽の底面を、前記第１排液口が設けられている第１領域と、この第１領域よりも前記基板搬送方向の下流側となる第２領域とに仕切る仕切部材を更に備えるものである。
【０００８】
この構成では、第１吐出手段及び第２吐出手段から吐出される各流体で形成される上記乱流によって、基板の幅方向における下側の側端部に向かって流れる残存処理液は、基板から流れ落ちた後、仕切部材で仕切られた第１領域に流れ込む。また、第２吐出手段の流体吐出口の配置位置を通過し、上記乱流による洗浄を終えた後に基板から流れ落ちる流体は、上記残存処理液を多く含まないと考えられるが、この流体は、第２領域に流れ込むようになっている。
【０００９】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の基板処理装置であって、前記処理槽の底面における前記第２領域に設けられた第２排液口を更に備えるものである。
【００１０】
この構成では、第２領域に流れ込んだ流体（残存処理液を多く含まない流体）を第２排液口に流れ込ませることが可能になる。
【００１１】
また、請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の基板処理装置であって、前記第１排液口は、当該第１排液口に流入した液を廃棄する配管に接続され、
前記第２排液口は、当該第２排液口に流入した液を再利用するための配管に接続されているものである。
【００１２】
この構成では、基板上から処理槽の底面に流れ落ちる流体であって、残存処理液を多く含む流体は上記第１排液口に流れ込ませて廃棄処理を行うようにし、残存処理液を多く含まない流体を上記第２領域に流れ込ませて再利用に供することが可能となるようにしている。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に記載の発明は、残存処理液を多く含んで再利用が困難な流体を、第１吐出手段及び第２吐出手段によって形成される乱流によって第１排液口に集中させて回収するため、再利用不可能な流体と、再利用可能な流体とを分別した回収が可能となり、簡単な構成でもって、基板洗浄後に基板から流れ落ちる再利用可能な流体を効率よく回収することができる。
【００１４】
請求項２に記載の発明によれば、残存処理液を多く含む再利用が困難な流体を第１領域に流れ込ませ、残存処理液を多く含まない再利用可能な流体を第２領域に流れ込ませて、それぞれ別々の領域に分けて集めるようにしているので、第１領域に流れ込んだ流体を廃棄し、第２領域に流れ込んだ流体を再利用のために回収する等、流体の再利用に必要な分別処理を簡単に行うことができる。
【００１５】
請求項３に記載の発明によれば、第２領域に流れ込んだ流体（残存処理液を多く含まない再利用可能な流体）を第２排液口に流れ込ませることができるので、再利用可能な流体を、第２排液口によって、再利用不可能な流体とは分別して確実に回収することができる。
【００１６】
請求項４に記載の発明によれば、基板上から処理槽の底面に流れ落ちる流体であって、残存処理液を多く含む再利用が困難な流体を上記第１排液口に流れ込ませて廃棄処理を行うようにし、残存処理液を多く含まない再利用可能な流体を上記第２排液口に流れ込ませて再利用のために回収できるので、基板から流れ落ちた流体を再利用するか否かに応じて選択的に行う別々の処理を簡単に実施することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の一実施形態に係る基板処理装置について図面を参照して説明する。図１は、本発明に係る基板処理装置１の一実施形態を示す説明図である。この図に示すように、基板処理装置１は、薬液処理部２、水洗部３、および乾燥部７がそれぞれ上流側（図１の左方）から下流側に向けて相互に隣接しながら直列に配設されて形成されている。そして、上記薬液処理部２、水洗部３、および乾燥部７を上流側から下流側に向けて貫通するように搬送手段８が設けられ、薬液処理部２に順次送り込まれた基板Ｇは、この搬送手段８によって搬送されつつ薬液処理部２、水洗部３、および乾燥部７において所定の処理が施される。
【００１８】
本実施形態においては、搬送手段８はローラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、矩形でガラス製の基板Ｇの搬送方向（図１の左方から右方に向かう方向）に直交する方向に支持軸を配した複数のローラ８１が等ピッチで搬送方向に並設されて形成されている。そして、駆動している搬送手段８上に基板Ｇを載置することにより、図略の駆動手段の駆動による各ローラ８１の同一方向の同期回転に伴って基板Ｇは搬送方向に向けて搬送される。
【００１９】
搬送手段８のローラ８１は、水平方向において、基板Ｇの搬送方向に直交する方向に傾斜した状態で設けられており、基板Ｇをその搬送方向に直交する方向に傾斜した状態として搬送するようになっている。
【００２０】
また、基板Ｇは、前工程からコンベアあるいはロボット等の上流側引継ぎ手段を介して薬液処理部２内のローラ８１上に導入され、ついで搬送手段８の駆動によるローラ８１の回転によって薬液処理部２、水洗部３、および乾燥部７内を所定速度（例えば1m/min）で搬送されつつ各部で所定の処理が施された後、乾燥部７の下流端からコンベアあるいはロボット等からなる下流側引継ぎ手段を介して次工程に向けて導出される。
【００２１】
上記薬液処理部２は、搬送手段８によって搬送されつつある基板Ｇの表裏にアルカリ洗浄液等の薬液（第１処理液）を供給して基板Ｇを洗浄（薬洗）するためのものであり、内部に搬送手段８が敷設された薬液処理槽（第１処理槽）２１、この薬液処理槽２１内に搬送手段８を挟んで上下に配設された複数の薬液供給ノズル２２、薬液を貯留する薬液槽２３、および、この薬液槽２３内の薬液を薬液供給管路２３０を通して薬液供給ノズル２２に供給する薬液ポンプ（薬液供給手段）２４を備えている。
【００２２】
上記薬液処理槽２１は、上流側および下流側の壁部に基板Ｇを通過させる基板通過口１１を有しており、前工程からの基板Ｇは上流側の通過口１１を通って薬液処理槽２１内に導入されるとともに、薬液処理部２での薬洗処理が完了した基板Ｇは下流側の通過口１１から水洗部３に向けて導出される。
【００２３】
上記薬液供給ノズル２２は、各ローラ８１の上部に形成された基板通過通路８０を挟むように上下に設けられ、これら上下の薬液供給ノズル２２からの薬液吐出によって基板Ｇの表裏面に薬液が供給されるようになっている。また、上記薬液ポンプ２４の下流側の薬液供給管路２３０にはフィルター２５が介設され、薬液供給ノズル２２に供給される薬液が濾過処理により清浄化されるようにしている。そして、薬液処理槽２１内で薬液供給ノズル２２から吐出され、基板Ｇの薬洗に使用された後の薬液は、戻り管路２３１を通って薬液槽２３に返され、薬液は循環使用される。
【００２４】
上記水洗部３は、搬送手段８によって搬送されつつある薬洗後の基板Ｇを水洗するためのものであり、内部が仕切壁１２によって３室に仕切られ、それぞれ上流側から液置換部４、超音波洗浄部５、および仕上げ洗浄部６に区分されている。上記液置換部４、超音波洗浄部５、および仕上げ洗浄部６は、それぞれ液置換槽（第２処理槽）４１、超音波洗浄槽５１、および仕上げ洗浄槽６１を備えて形成され、各槽は仕切壁１２に穿設された通過口１１によって連通されている。そして、基板Ｇは搬送手段８により各通過口１１を通って液置換槽４１、超音波洗浄槽５１、および仕上げ洗浄槽６１内に順次導入され、各槽内で所定の洗浄処理が施されたのち仕上げ洗浄槽６１の下流側の通過口１１から乾燥部７に向けて導出されるようになっている。
【００２５】
上記液置換部４は、基板通路８０の上方に２本のリキッドナイフ４２を有する。なお、本実施形態では、特に示していないが、基板Ｇの裏面の液置換を行うために、更に２本のリキッドナイフ４２を基板Ｇの下方に設けるようにしてもよい。超音波洗浄部５は、基板通路８０を通過する基板Ｇの表面に吐出口を向けた超音波水供給ノズル５２を有している。また、仕上げ洗浄部６は、基板通路８０を挟むように上下に配設された純水供給ノズル６２を有している。
【００２６】
上記リキッドナイフ４２は、基板Ｇの搬送方向に直交しかつ水平方向（以下、この方向を基板幅方向という）に延びる細長いスリット状の液吐出口（流体吐出口）を備えている。これら２つのリキッドナイフ４２が、液吐出口を互いに斜めに対向させた状態で基板通路８０の上部に設けられている。具体的には、後述する図２に示すように、液置換槽４１内で、基板Ｇの表面（一方の主面）に向かう方向であり、かつ基板搬送方向に向かう方向に洗浄液（流体の一例）を吐出する第１リキッドナイフ４２１が設けられている。この第１リキッドナイフ４２１よりの基板搬送方向の下流側には、第１リキッドナイフ４２１に対向して配置され、かつ、基板Ｇの表面に向かう方向であって、基板搬送方向と逆方向に向かう方向に洗浄液を帯状に吐出する第２リキッドナイフ４２２が設けられている。なお、基板Ｇの裏面側にもリキッドナイフ４２を設ける場合は、上記第１リキッドナイフ４２１及び第２リキッドナイフ４２２と同様の構成からなる一対のリキッドナイフを、基板Ｇの下方に設ける。
【００２７】
一方、水洗部３の近傍には第１水槽４３および第２水槽５３が配置され、第１水槽４３とリキッドナイフ４２との間には、ナイフ用ポンプ４４およびフィルター４５の介設された第１管路４３０が設けられている。そして、第１水槽４３内の洗浄液は、ナイフ用ポンプ４４の駆動によって第１管路４３０を通して汲み上げられ、フィルター４５によって清浄化されたのちリキッドナイフ４２から基板Ｇの面上に供給される。
【００２８】
リキッドナイフ４２から吐出されて上記乱流により基板Ｇを洗浄した後の洗浄液は、第１排液口（詳細は後述）に流入し、排水管路４３１を通って系外に排出される。また、リキッドナイフ４２よりも基板搬送方向の下流側において、基板Ｇの面上から流れ落ちた洗浄液は、第２排液口（詳細は後述）に流入し、この第２排液口と第１水槽４３とを繋ぐ配管４３２によって、第１水槽４３に戻るようになっている。そして、第１水槽４３に集められた洗浄液（一度基板Ｇの洗浄に使用された洗浄液）を、再び基板Ｇの表面上に供給するようになっている。
【００２９】
上記第２水槽５３と超音波水供給ノズル５２との間には第２管路５３０が設けられている。この第２管路５３０には超音波水用ポンプ５４およびフィルター５５が介設され、超音波水用ポンプ５４の駆動によって第２水槽５３内の洗浄液がフィルター５５で清浄化されたのち超音波水供給ノズル５２に供給されるようになっている。
【００３０】
超音波水供給ノズル５２は、洗浄液に超音波振動を付与する機能を備えたノズルであり、内部に図略の超音波発振器を有している。超音波水供給ノズル５２に供給された洗浄液は、この超音波発振器によって略４０ｋＨｚの振動が付与された状態で吐出口から吐出され、この洗浄液の超音波振動によって基板Ｇに洗浄処理が施される。そして、超音波水供給ノズル５２から基板Ｇに供給された洗浄液は基板Ｇの表面を洗浄した後、戻り管路５３１を通って第２水槽５３に返送される。
【００３１】
上記仕上げ洗浄部６は、基板Ｇに最終段階の洗浄処理を施す部分であり、純水を用いて洗浄される。仕上げ洗浄槽６１内には基板通路８０を挟むように所定本数の純水供給ノズル６２が配設されている。各純水供給ノズル６２には純水源６３からの純水が純水管路６３０を介して供給されるようになっており、基板通路８０を通過中の基板Ｇの表裏面に純水を供給することによって仕上げの洗浄処理を行うようにしている。
【００３２】
この仕上げ洗浄部６においては、基板通路８０の上方にリキッドナイフタイプの純水供給ノズル６２が設けられているとともに、基板通路８０の下方にはコーンタイプ等の純水供給ノズル６２が設けられている。そして、純水供給ノズル６２から吐出された純水は、基板Ｇの表裏面を洗浄した後、戻り管路６３１を通して第２水槽５３に戻される。
【００３３】
上記乾燥部７は、水洗部３の仕上げ洗浄部６から導出された基板Ｇを乾燥するものであり、乾燥槽７１と、この乾燥槽７１内の基板通路８０を挟むように設けられた上下一対のエアーナイフ７２とを備えている。上記乾燥槽７１の上流壁および下流壁には通過口１１が開口され、これらの通過口１１を介して乾燥槽７１に対する基板Ｇの搬入および搬出が行われる。上記乾燥槽７１は、基板Ｇの搬送方向に直交するように設けられたスリット状の気体吐出口を有しており、この気体吐出口から清浄化された帯状のエアーを基板Ｇの表裏面に吹き付けることにより基板Ｇを乾燥するようにしている。
【００３４】
そして、各エアーナイフ７２は気体管路７３０を介してエアー源７３に接続され、エアー源７３からの高圧気体がエアーナイフ７２に供給されるようになっている。また、乾燥槽７１と第２水槽５３との間には戻り管路７３１が接続され、乾燥槽７１の底部に溜った純水を第２水槽５３に導入し得るようにしている。
【００３５】
図２は、図１に示す液置換槽４１の一部切欠き斜視図である。図２に示すように、液置換部４の液置換槽４１内には、複数のローラ８１の上部に形成された基板通路８０の上方に２本のリキッドナイフ４２が配設されている（基板Ｇの表裏面側にリキッドナイフ４２を配設する場合は、基板通路８０を上下から挟むように、一対ずつで合計４本のリキッドナイフ４２が配設される）。各リキッドナイフ４２は、基板通路８０を横断する方向に延びるナイフ本体４２ａ、このナイフ本体４２ａの内部に長手方向に延びるように形成された液通路４２ｂ、およびこの液通路４２ｂに帯状で連通し、かつ、先端部で長手方向に延びるように開口したスリット状の吐出口４２ｃを備えて形成されている。
【００３６】
基板通路８０の上方側に設けられている一対のリキッドナイフ４２は、各吐出口４２ｃからの液流がそれぞれ斜めに互いに接近する方向に吐出されるようになっている。すなわち、第２リキッドナイフ４２２は、基板搬送方向において第１リキッドナイフ４２１の下流側に、第１リキッドナイフ４２１に対向させて設けられ、基板Ｇの幅方向に亘る範囲で、当該基板Ｇの搬送方向とは逆の方向に向けた流体を吐出するようになっている。これによって、基板Ｇが存在しないときには、液流の交差位置が基板通路８０の下方に形成されるように側面視でＶ字形状に配設されている。なお、基板通路８０の下方側に一対のリキッドナイフ４２を設ける場合は、上方側の一対のリキッドナイフ４２に対して基板通路８０を挟んで上下対称に位置設定される。
【００３７】
本実施形態では、液置換槽４１の互いに対向した内側壁にリキッドナイフ４２の両端部を外嵌し得るナイフ支持部４２ｄを備えたナイフ支持部材４２ｅが固定され、これらナイフ支持部材４２ｅのナイフ支持部４２ｄにリキッドナイフ４２の両端部を嵌め込むことによってリキッドナイフ４２が液置換槽４１内に装着され、また、リキッドナイフ４２の中央頂部は、第１管路４３０の先端部に設けられたジョイント部材４２ｆが接続し得るように構成され、このジョイント部材４２ｆをリキッドナイフ４２に接続することにより、ナイフ用ポンプ４４によって昇圧された第１水槽４３内の洗浄液が第１管路４３０およびジョイント部材４２ｆを介してリキッドナイフ４２の液通路４２ｂに供給される。
【００３８】
かかるリキッドナイフ４２の構成および液置換槽４１内における配置によれば、液置換槽４１内のローラ８１上の基板通路８０に基板Ｇが存在する状態で、上部のリキッドナイフ４２の各吐出口４２ｃから吐出された洗浄液は、それぞれ斜めに基板Ｇの表面に衝突し、しかも左右の吐出口４２ｃからの液流が基板Ｇの表面で衝突し、この衝突によって基板Ｇ上の洗浄液が吐出される吐出域Ｒに激しい乱流が生じる。
【００３９】
上記乱流の形成された後の吐出域Ｒの洗浄液は、傾斜姿勢とされている基板Ｇの下側となっている幅方向の側端部から液置換槽４１の底部に落下する。この吐出域Ｒにおける乱流の形成によって、薬液処理部２で付与され、基板Ｇの表面に付着している薬液が洗い流され、これによって基板Ｇの表面からは薬液が除去され、リキッドナイフ４２から吐出された洗浄液に置換される。基板Ｇの裏面に一対のリキッドナイフ４２を設ける場合は、下方の一対のリキッドナイフ４２から吐出される洗浄液によって洗浄され、基板Ｇの裏面の薬液も洗浄液に置換される。
【００４０】
本実施形態においては、各リキッドナイフ４２が液置換槽４１内に装着された状態で、吐出口４２ｃからの液流の基板搬送面に対する角度は１０°〜８０°に設定されている。
【００４１】
上記角度が１０°〜８０°に設定されるのは、１０°未満であると互いに対向した吐出口４２ｃから吐出された洗浄液が基板Ｇ上で正面衝突した状態になり、これによって洗浄液の飛沫が飛散し、それが薬液処理槽２１内に侵入するおそれがあり、また、８０°を越えると、吐出口４２ｃから突出された洗浄液が基板Ｇに反射しただけで基板Ｇの両側部から流れ落ちてしまい、吐出域Ｒに適切な乱流が形成されず、基板Ｇに対する良好な置換効果が得られ難いからである。なお、本実施形態においては、上記角度は略３０°に設定されている。
【００４２】
基板Ｇの搬送方向における第１リキッドナイフ４２１と第２リキッドナイフ４２２との間であって、傾斜姿勢とされた基板Ｇの基板幅方向において下側となる側端部付近には、液置換槽４１の底面４１０に第１排液口４１１が設けられている。この第１排液口４１１は、当該第１排液口４１１に流入した液を廃棄する配管に接続されている。
【００４３】
また、基板Ｇの搬送方向において、第２リキッドナイフ４２２の吐出口４２ｃの配設位置よりも下流側となる液置換槽４１の底面４１０には、基板Ｇの基板幅方向に延びる仕切板（仕切部材）４１２が設けられている。仕切り板４１２の配設位置は、少なくとも第２リキッドナイフ４２２の吐出口４２ｃの配設位置を含む基板搬送方向の下流側であればよい。
【００４４】
仕切板４１２は、液置換槽４１の一方の内側壁から他方の内側壁まで達するように配設され、液置換槽４１の底面４１０を、第１リキッドナイフ４２１が設けられている側の第１領域Ａと、この第１領域よりも基板搬送方向の下流側となる第２領域Ｂとに仕切る。液置換槽４１の底面４１０の第１領域Ａには、上記第１排液口４１１が設けられており、第２領域Ｂには、第１排液口４１１とは別個の第２排液口４１３が設けられている。第２排液口４１３は、当該第２排液口４１３に流入した液を再利用するために、配管４３２により、上述した第水槽４３に接続されている。
【００４５】
また、液置換槽４１内のローラ８１は、ローラ支持軸８２、このローラ支持軸８２の中央部に設けられた中央ローラ８３、および上記ローラ支持軸８２の両側部に設けられ、かつ、外側に鍔部８４ａを有する一対の側部ローラ８４からなる、いわゆる部分支持型ローラが採用されている。そして、基板Ｇは、その幅方向両側部が左右の側部ローラ８４に、中央部が中央ローラ８３に載置され、かつ、左右の鍔部８４ａにより幅方向の移動が規制された状態で複数のローラ８１に支持され、図略の駆動手段によるローラ８１の回転駆動によって搬送される。
【００４６】
かかる部分支持型のローラ８１を用いることにより、ローラ８１と基板Ｇ裏面との接触面積を少なくし、基板Ｇの裏面側にリキッドナイフ４２を設ける場合における、基板Ｇの裏面への洗浄液の供給を良好に行い得るようにしている。なお、このローラ８１は、薬液処理槽２１、超音波洗浄槽５１、洗浄槽６１、および乾燥槽７１にも採用され、これによって他の洗浄過程や乾燥過程での基板Ｇの裏面の処理を行い易くするとともに、ローラ８１との接触による基板Ｇの裏面の汚染を最小限に抑えることができる。
【００４７】
図３は、液置換槽４１における液切り処理の前半を説明するための説明図であり、（イ）は、基板Ｇが液置換槽４１内に導入される状態、（ロ）は、基板Ｇの上流側端部が吐出域Ｒに突入した状態、（ハ）は、基板Ｇの前半部分が液切り処理されつつある状態をそれぞれ示している。なお、図３の（ロ）および（ハ）においては、リキッドナイフ４２から吐出された洗浄液の状態を判り易くするために、右側に斜視図を示している。
【００４８】
また、図４は、液置換槽４１における液切り処理の後半を説明するための説明図であり、（イ）は、基板Ｇの後半部分が液切り処理されつつある状態、（ロ）は、基板Ｇの下流側端部が吐出域Ｒから抜け出しつつある状態、（ハ）は、基板Ｇが液置換槽４１から導出される直前の状態をそれぞれ示している。さらに、図５は第１リキッドナイフ４２１及び第２リキッドナイフ４２２による基板Ｇの洗浄時における液の流れを模式的に示した斜視図、図６は同平面図、図７は同側面図である。
【００４９】
まず、図３（イ）に示すように、基板Ｇが液置換槽４１内に導入されるときであって、液置換槽４１内の吐出域Ｒに基板Ｇが存在していない状態では、各リキッドナイフ４２から吐出された洗浄液は、吐出域Ｒまで到達した後そのまま液置換槽４１の底部に落下している。
【００５０】
ついで、基板Ｇが吐出域Ｒに突入すると、図３（ロ）に示すように、基板Ｇの下流側の端部の表面に、基板搬送方向状両側の第１リキッドナイフ４２１から吐出される洗浄液が供給され、これによって基板Ｇの表面の洗浄液による洗浄が開始され、薬液処理槽２１で基板Ｇの表裏面に付着した薬液が基板Ｇの搬送に伴って順次洗い流される。
【００５１】
そして、基板Ｇの下流側の端部が吐出域Ｒを通過した状態では、図３（ハ）および図４（イ）に示すように、基板Ｇの中央部分が完全に吐出域Ｒに位置した状態になり、これによって洗浄液が第１リキッドナイフ４２１及び第２リキッドナイフ４２２から基板Ｇの表面に向かって吐出される。
【００５２】
基板Ｇが図３（ハ）及び図４（イ）の状態にあるとき、第１リキッドナイフ４２１からは洗浄液が基板Ｇの搬送方向に吐出され、第２リキッドナイフ４２２からは洗浄液が基板Ｇの搬送方向とは逆方向に吐出される。第１リキッドナイフ４２１及び第２リキッドナイフ４２２から吐出された洗浄液は、基板Ｇが有する傾斜角αにより、それぞれ吐出された直後から基板Ｇの傾斜方向下側に向かって流れ出すため、図６に「液の流れ」として矢印で示す方向に向かう。そして、図３（ハ）の右側の斜視図に示すように、上流側のリキッドナイフ４２の吐出口４２ｃ（図２）からの液流と、下流側の吐出口４２ｃ（図２）からの液流とが、基板Ｇの表面における吐出域Ｒの中央部（基板Ｇの搬送方向における第１リキッドナイフ４２１と第２リキッドナイフ４２２の間の基板Ｇ面上）で互いに衝突し、これによって基板Ｇの表面で洗浄液の乱流が形成される。この乱流は、基板Ｇの傾斜により、図５に示す矢印ａ方向（基板Ｇの傾斜方向下側方向）に向かって案内される。これにより、上記ぶつかり合いによって生じた乱流と、基板Ｇの傾斜によって生じる洗浄液の下方向への流れとによって、基板Ｇの表面上に残存する前工程で付与された薬液を洗い流す作用が大きくなって、当該残存薬液の除去効果が向上する。
【００５３】
上記乱流により基板Ｇの表面を洗浄した後の洗浄液は、傾斜姿勢とされている基板Ｇの下側となっている側端部から、液置換槽４１の底面４１０に設けられている第１排液口４１１に向けて落下し、当該第１排液口４１１に流入する。そして、排水管路４３１を通って系外に排出される。
【００５４】
このように第１リキッドナイフ４２１及び第２リキッドナイフ４２２から吐出された洗浄液が基板Ｇの傾斜に沿って流下するため、液切り効果の向上が図られている。また、基板Ｇを傾斜姿勢にしているため、リキッドナイフ４２を基板Ｇの傾斜面に沿う上方側にのみ配置したとしても、吐出口４２ｃから吐出された洗浄液が基板Ｇの傾斜面に沿って流下し、基板Ｇの傾斜面の下方側も洗浄し得るため、リキッドナイフ４２の長さ寸法を短くすることも可能になる。
【００５５】
また、上記第１リキッドナイフ４２１及び第２リキッドナイフ４２２による洗浄処理後の洗浄液が循環使用されずに系外に排出されるのは、当該洗浄処理後の洗浄液には多くの薬液（液置換槽４１よりも前の工程で基板Ｇに対して付与され、基板Ｇの表面上に残存していた残存処理液）が含まれており、これを循環使用すると、基板Ｇに供給する洗浄液が薬液で汚染された状態になり、液置換槽４１内での基板Ｇの表面洗浄用として不適になるからである。
【００５６】
基板Ｇの搬送が進み、図４（イ）乃至（ハ）のように、基板Ｇの先端部分が仕切板４１２が、その前進によって上記吐出域Ｒから抜け出した状態では、基板Ｇはその表面に付着していた薬液が洗浄液と置換され、しかも乾燥しない程度に液切りされた状態になる。そして、第１リキッドナイフ４２１及び第２リキッドナイフ４２２から吐出された洗浄液であって、まだ基板Ｇの表面上に存在しているものは、基板Ｇの傾斜角αによって、基板αの面上から流れ落ちる。この場合、基板Ｇの一部が、仕切板４１２を越えて基板搬送方向下流側に進んでいると、図７に示すように、仕切板４１２を越えた部分の基板Ｇから流れ落ちた洗浄液は、液置換槽４１の底面４１０の第２領域Ｂに流れ落ちる。
【００５７】
第２領域Ｂに流れ落ちた洗浄液は、液置換槽４１の底面４１０を流れて、第２排液口４１３に流入する。この第２排液口４１３に流入した洗浄液は、配管４３２を通って上記図１の第１水槽４３に流れ込み、再利用のための洗浄液として蓄積される。
【００５８】
ついで、基板Ｇの前進により吐出域Ｒにおいてその上流側の端部が、上流側の第１リキッドナイフ４２１から吐出される洗浄液が供給されない位置に到達すると、図４（ロ）に示すように、基板Ｇの表面は、下流側の第２リキッドナイフ４２２から吐出された洗浄液を受けるのみとなるため、基板Ｇの表面には上流側に向かう液流が形成され、この一方向に向かう液流によって基板Ｇの表面は、順次液置換処理が施された状態になる。
【００５９】
上記工程を経た基板Ｇは、つぎの超音波洗浄槽５１に送り込まれる。また、各リキッドナイフ４２から吐出された洗浄液は、図４（ハ）に示すように、吐出域Ｒを通り過ぎて液置換槽４１の底部に落下し、つぎに搬送されてくる基板Ｇを待つ状態になる。
【００６０】
本実施形態の基板処理装置１は、以上説明したように、水洗部３が液置換部４（液置換槽４１）、超音波洗浄部５（超音波洗浄槽５１）、および仕上げ洗浄部６（仕上げ洗浄槽６１）に３分割され、しかも液置換槽４１と超音波洗浄槽５１との間は仕切壁１２によって下部に溜った液が相互に混ざり合わないように仕切られた状態で、液置換槽４１においてリキッドナイフ４２から吐出される洗浄液により基板Ｇの表面を洗浄し、液切りするようにしているため、薬液処理部２において薬液が供給されることによって表裏面に薬液の付着した基板Ｇの薬液は液置換槽４１内で確実に洗い落され、しかも表面が乾燥しない程度に液切りされた状態でつぎの超音波洗浄槽５１に送り込まれる。
【００６１】
さらに、リキッドナイフ４２による洗浄後に基板Ｇの表面上から流れ落ちる洗浄液は、再利用可能なものを第２排液口４１３で回収して第１水槽４３に蓄積し、再利用が困難な洗浄液は第１排液口４１１で回収して系外に排出するようにしているので、簡単な構成でもって、再利用が可能な洗浄液と再利用が困難な洗浄液とを分別して効率よく回収することができる。
【００６２】
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。
【００６３】
（１）上記の実施形態においては、薬液処理槽２１において、基板Ｇに薬液供給ノズル２２からの薬液が散布供給されるようにしているが、薬液が例えば現像液である場合、薬液処理槽２１内に基板Ｇの搬送高さレベルを越えるように薬液を貯留し、基板Ｇを薬液内に潜らせながら搬送手段８によって搬送するようにしてもよい。
【００６４】
（２）上記の実施形態においては、液置換槽４１内の第１リキッドナイフ４２１及び第２リキッドナイフ４２２から洗浄液が吐出されるものとしているが、この洗浄液として純水を吐出するようにしてもよい。また、上記実施形態では、第１リキッドナイフ４２１及び第２リキッドナイフ４２２の両方から洗浄液が吐出されるものとしているが、第２リキッドナイフ４２２からは、洗浄液（純水）に代えて、空気流等の流体を吐出させて液切りを行うようにしてもよい。また、上記実施形態では、リキッドナイフ４２にスリット状のスリット状の吐出口４２ｃが設けられるものとしているが、これに代えて、リキッドナイフ４２にスプレーノズルが設けられるものとしてもよい。
【００６５】
（３）上記の実施形態においては、液置換槽４１内において、リキッドナイフ４２から洗浄液が常に吐出されるようにしているが、こうする代わりに、液置換槽４１内の適所に基板Ｇの進入および進出を検出するセンサを設け、このセンサによって基板Ｇが被処理域に存在することが検出されたときのみリキッドナイフ４２から洗浄液を吐出させるようにしてもよい。
【００６６】
（４）上記の実施形態においては、基板Ｇの表面の一対のリキッドナイフ４２は、基板の幅方向に延びるように相互に平行に配設されているが、こうする代わりに、少なくとも一方のリキッドナイフ４２を基板Ｇの幅方向に対して斜めに配設してもよい。こうすることによって、一対のリキッドナイフ４２から基板Ｇの表面に吐出された洗浄液は、リキッドナイフ４２間の幅広部分に向けて流れ易くなり、洗浄効果が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明に係る基板処理装置１の一実施形態を示す説明図である。
【図２】図１に示す液置換槽の一部切欠き斜視図である。
【図３】液置換槽における液切り処理の前半を説明するための説明図であり、（イ）は、基板が液置換槽内に導入される状態を示す図、（ロ）は、基板の上流側端部が吐出域Ｒに突入した状態を示す図、（ハ）は、基板の前半部分が液切り処理されつつある状態をそれぞれ示す図である。
【図４】液置換槽における液切り処理の後半を説明するための説明図であり、（イ）は、基板の後半部分が液切り処理されつつある状態を示す図、（ロ）は、基板の下流側端部が吐出域Ｒから抜け出しつつある状態を示す図、（ハ）は、基板が液置換槽から導出される直前の状態を示す図である。
【図５】第１リキッドナイフ及び第２リキッドナイフによる基板の洗浄時における液の流れを模式的に示した斜視図である。
【図６】第１リキッドナイフ及び第２リキッドナイフによる基板の洗浄時における液の流れを模式的に示した平面図である。
【図７】第１リキッドナイフ及び第２リキッドナイフによる基板の洗浄時における液の流れを模式的に示した側面図である。
【符号の説明】
【００６８】
１        基板処理装置
２        薬液処理部
３        水洗部
４        液置換部
４１      液置換槽
４１０    底面
４１１    第１排液口
４１２    仕切板
４１３    第２排液口
４２      リキッドナイフ
４２ｃ    吐出口
４２１    第１リキッドナイフ
４２２    第２リキッドナイフ
８        搬送手段
８１      ローラ
４３２    配管
Ａ        第１領域
Ｂ        第２領域
Ｒ        吐出域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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