(57)【要約】【課題】  合成樹脂製品等を研磨する用途においてより好適に使用可能な研磨用組成物を提供する。【解決手段】  本発明の研磨用組成物は、アルミナを含む研磨材と、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルと、無機酸の金属塩、有機酸の金属塩、無機酸のアンモニウム塩、有機酸のアンモニウム塩よりなる群から選ばれる少なくとも一種の塩を含む研磨促進剤と、水とを含有する。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミナを含む研磨材と、
ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルと、
無機酸の金属塩、有機酸の金属塩、無機酸のアンモニウム塩、及び有機酸のアンモニウム塩よりなる群から選ばれる少なくとも一種の塩を含む研磨促進剤と、
水と
を含有する研磨用組成物。
【請求項２】
前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルのポリアルキレンオキサイド基は、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの共重合体から水素原子が失われて生じる基である請求項１に記載の研磨用組成物。
【請求項３】
前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルのアルキル基は３個以上の炭素原子を有する請求項１又は２に記載の研磨用組成物。
【請求項４】
前記アルキル基はブチル基である請求項３に記載の研磨用組成物。
【請求項５】
前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの平均分子量は４５００以下である請求項１〜４のいずれか一項に記載の研磨用組成物。
【請求項６】
前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルのポリアルキレンオキサイド基の分子量は、前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルのアルキル基の分子量の３０倍以上である請求項１〜５のいずれか一項に記載の研磨用組成物。
【請求項７】
コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、コロイダルジルコニア、コロイダルチタニア、フュームドシリカ、フュームドアルミナ、フュームドジルコニア、フュームドチタニア、シリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル、及びチタニアゾルよりなる群から選ばれる少なくとも一種をさらに含有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の研磨用組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の研磨用組成物を用いて研磨対象物を研磨する研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、合成樹脂製品等を研磨する用途に用いられる研磨用組成物、及びそうした研磨用組成物を用いて合成樹脂製品等を研磨する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に開示されている研磨用組成物は、アルミナからなる研磨材、硝酸アルミニウムやグリコール類等を含む研磨促進剤、及び水を含有し、合成樹脂製品等を研磨する用途に用いられる。
【０００３】
こうした研磨用組成物には、研磨対象物を迅速に研磨する能力（即ち、高い研磨能力）を有することが求められている。研磨用組成物の研磨能力は通常、研磨用組成物中の研磨材又は研磨促進剤の含有量を増やすことによって、あるいは研磨材の粒子径を大きくすることによってある程度は向上する。しかしながら、このようにして向上する研磨能力の程度は、研磨材又は研磨促進剤の増量や研磨材の粗大化によってもたらされる弊害を補うには不足である。例えば、特許文献１の研磨用組成物において、アルミナを増量した場合には原料コストが増大し、アルミナの粒子径を大きくした場合には研磨後の研磨対象物の表面粗さが大きくなる。また、硝酸アルミニウムを増量した場合には研磨機の腐食及び手あれの問題が生じ、グリコール類を増量した場合にはアルミナの場合と同様、原料コストが増大する。
【特許文献１】特開平７−１１２３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、合成樹脂製品等を研磨する用途においてより好適に使用可能な研磨用組成物を提供すること、及びそうした研磨用組成物を用いて研磨対象物を研磨する研磨方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、アルミナを含む研磨材と、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルと、無機酸の金属塩、有機酸の金属塩、無機酸のアンモニウム塩、及び有機酸のアンモニウム塩よりなる群から選ばれる少なくとも一種の塩を含む研磨促進剤と、水とを含有する研磨用組成物を提供する。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルのポリアルキレンオキサイド基がエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの共重合体から水素原子が失われて生じる基である請求項１に記載の研磨用組成物を提供する。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルのアルキル基が３個以上の炭素原子を有する請求項１又は２に記載の研磨用組成物を提供する。
請求項４に記載の発明は、前記アルキル基がブチル基である請求項３に記載の研磨用組成物を提供する。
【０００８】
請求項５に記載の発明は、前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの平均分子量が４５００以下である請求項１〜４のいずれか一項に記載の研磨用組成物を提供する。
請求項６に記載の発明は、前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルのポリアルキレンオキサイド基の分子量が前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルのアルキル基の分子量の３０倍以上である請求項１〜５のいずれか一項に記載の研磨用組成物を提供する。
【０００９】
請求項７に記載の発明は、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、コロイダルジルコニア、コロイダルチタニア、フュームドシリカ、フュームドアルミナ、フュームドジルコニア、フュームドチタニア、シリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル、及びチタニアゾルよりなる群から選ばれる少なくとも一種をさらに含有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の研磨用組成物を提供する。
【００１０】
請求項８に記載の発明は、請求項１〜７のいずれか一項に記載の研磨用組成物を用意する工程と、その研磨用組成物を用いて研磨対象物を研磨する工程とを備える研磨方法を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、合成樹脂製品等を研磨する用途においてより好適に使用可能な研磨用組成物が提供される。また本発明によれば、そうした研磨用組成物を用いて研磨対象物を研磨する研磨方法も提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の一実施形態を説明する。
本実施形態に係る研磨用組成物は、研磨材、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテル、研磨促進剤、及び水からなる。研磨用組成物は、例えば、プラスチックレンズ、ディスク基板、風防ガラス、医療用品、食器、ラジオ部品、小型歯車やベアリング等の機械部品、ボタン、キャップ、キャビネット、化粧板、眼鏡枠、積層ガラスといった合成樹脂製品を研磨する用途に用いられる。換言すれば、研磨用組成物は、例えば、研磨製品としての合成樹脂製品を得るべく半製品を研磨する用途に用いられる。合成樹脂製品は、熱可塑性ポリアクリル、熱可塑性ポリスチレン、アリル樹脂、熱可塑性ポリカーボネート、熱可塑性ポリウレタン、熱可塑性ポリエステル、又は熱可塑性ポリオレフィンから形成されたものであってもよい。
【００１３】
前記研磨材は、研磨対象物を機械的に研磨する役割を担う。研磨材はアルミナからなる。アルミナは、α−アルミナ、δ−アルミナ、θ−アルミナ、κ−アルミナ、及び非晶質アルミナのいずれであってもよく、好ましくは水酸化アルミニウムをか焼して得ら
れるα−アルミナである。水酸化アルミニウムをか焼して得られるα−アルミナは、研
磨対象物を研磨する能力に特に優れている。α−アルミナを得るとき、水酸化アルミニウムのか焼温度は、好ましくは１１００〜１５００℃、より好ましくは１１００〜１２
００℃であり、か焼時間は、好ましくは１〜５時間、より好ましくは２〜４時間である
。か焼温度が１１００℃未満又はか焼時間が１時間未満のときに得られるα−アルミナ
は、研磨対象物を研磨する能力があまり高くない。これは、水酸化アルミニウムのα化が不十分又は不均一になりやすいためである。一方、か焼温度が１５００℃を超えると
き又はか焼時間が５時間を超えるときに得られるα−アルミナは、研磨後の研磨対象物
の表面粗さを大きくしたり、研磨中の研磨対象物にスクラッチを招来したりする虞がある。これは、α−アルミナの一次粒子径が大きくなりすぎるためである。
【００１４】
平均粒子径が小さすぎる研磨材は、研磨対象物を研磨する能力があまり高くない。従って、研磨材による研磨対象物の研磨を迅速化するという観点から見た場合、電気抵抗法（Coulter Counter法）により測定される研磨用組成物中の研磨材の平均粒子径は、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは０．６μｍ以上、最も好ましくは０．７μｍ以上である。一方、研磨材の平均粒子径が大きすぎる場合には、研磨後の研磨対象物の表面粗さが大きくなったり、研磨中の研磨対象物にスクラッチが発生したりする虞がある。従って、研磨後の研磨対象物の表面粗さを低減し、且つ研磨中の研磨対象物にスクラッチが発生するのを抑制するという観点から見た場合、電気抵抗法により測定される研磨用組成物中の研磨材の平均粒子径は、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは８μｍ以下、最も好ましくは６μｍ以下である。
【００１５】
研磨材を少量しか含有しない研磨用組成物は、研磨能力が低い。従って、研磨用組成物の研磨能力をより確実に向上させるという観点から見た場合、研磨用組成物中の研磨材の含有量は、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上である。一方、研磨用組成物が研磨材を大量に含有する場合には、研磨用組成物の粘度が過剰に増大する虞があるうえに研磨用組成物の原料コストが増大する。従って、研磨用組成物の粘度を適正化し、且つ研磨用組成物の原料コストを低減するという観点から見た場合、研磨用組成物中の研磨材の含有量は、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２５質量％以下、最も好ましくは２０質量％以下である。なお、粘度が過剰に増大した研磨用組成物は、研磨機の内壁等に付着しやすく、流動性及び消泡性が悪く、また取り扱いが困難でもある。
【００１６】
前記ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルは粘性を有しており、研磨用組成物の粘度を適度に増大させる。これにより、研磨用組成物中の研磨材の分散性が向上するし、研磨中に研磨パッドに保持される研磨材の量が増大もし、延いては研磨用組成物の研磨能力が向上する。ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルはまた湿潤性を有しており、研磨中の研磨対象物の表面を潤滑するし、研磨用組成物の乾燥を抑制もする。研磨中の研磨対象物の表面が潤滑されることによって、研磨用組成物による研磨対象物の研磨は促進される。また、研磨用組成物の乾燥が抑制されることによって、研磨用組成物の乾燥固形物により研磨中の研磨対象物にスクラッチが発生することが抑制される。また、研磨機の内壁等への研磨用組成物の付着も抑制される。
【００１７】
ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルは、ポリアルキレンオキサイド基及びアルキル基を有している。ポリアルキレンオキサイド基は、好ましくはエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの共重合体から水素原子が失われて生じる基である。エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの共重合体から水素原子が失われて生じる基を有するポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルは、研磨用組成物の研磨能力を特に向上させる。アルキル基は、好ましくは３個以上の炭素原子を有し、より好ましくは４個の炭素原子を有するブチル基である。炭素数が３以上のアルキル基を有するポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルは、研磨用組成物の研磨能力を特に向上させる。
【００１８】
ポリアルキレンオキサイド基は親水性であり、アルキル基は疎水性である。ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの水との親和性は、ポリアルキレンオキサイド基とアルキル基の分子量の比によって決まる。アルキル基の比率が高すぎる場合には、研磨用組成物の分散安定性が低下する虞がある。従って、研磨用組成物の分散安定性の低下を抑制するという観点から見た場合、ポリアルキレンオキサイド基の分子量は、好ましくはアルキル基の分子量の３０倍以上である。
【００１９】
ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの平均分子量が大きすぎる場合には、研磨用組成物の粘度が過剰に増大する虞がある。従って、研磨用組成物の粘度を適正化するという観点から見た場合、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの平均分子量は、好ましくは４５００以下である。
【００２０】
ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルを少量しか含有しない研磨用組成物は、研磨能力があまり高くない。従って、研磨用組成物の研磨能力をより確実に向上させるという観点から見た場合、研磨用組成物中のポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの含有量は、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上である。一方、研磨用組成物がポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルを大量に含有する場合には、研磨用組成物の粘度が過剰に増大する虞があるうえに研磨用組成物の原料コストが増大する。従って、研磨用組成物の粘度を適正化し、且つ研磨用組成物の原料コストを低減するという観点から見た場合、研磨用組成物中のポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの含有量は、好ましくは３０質量％以下である。
【００２１】
前記研磨促進剤は、研磨対象物を化学的に研磨する役割を担う。研磨促進剤は、無機酸の金属塩、有機酸の金属塩、無機酸のアンモニウム塩、及び有機酸のアンモニウム塩よりなる群から選ばれる少なくとも一種の塩からなる。無機酸は、硝酸、硫酸、及び塩酸のいずれであってもよい。有機酸は、シュウ酸、乳酸、酢酸、ギ酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、グルコン酸、グリコール酸、及びマロン酸のいずれであってもよい。金属塩は、アルミニウム塩、ニッケル塩、リチウム塩、マグネシウム塩、ナトリウム塩、及びカリウム塩のいずれであってもよい。但し、研磨促進剤は、硝酸アルミニウム、シュウ酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、及び硝酸ニッケルよりなる群から選ばれる少なくとも一種の塩からなることが好ましく、硝酸アルミニウムからなることがより好ましい。硝酸アルミニウム、シュウ酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、及び硝酸ニッケルは、研磨対象物を化学的に研磨する能力に特に優れている。硝酸アルミニウムは、研磨対象物を化学的に研磨する能力に特に優れていることに加えて安価でもある。
【００２２】
研磨促進剤を少量しか含有しない研磨用組成物は、研磨能力が低い。従って、研磨用組成物の研磨能力をより確実に向上させるという観点から見た場合、研磨用組成物中の研磨促進剤の含有量は、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは１質量％以上である。一方、研磨用組成物が研磨促進剤を大量に含有する場合には、研磨用組成物の原料コストが増大する虞がある。加えて、研磨促進剤が無機酸の金属塩又はアンモニウム塩からなるときには、研磨用組成物のｐＨが過剰に低下し、研磨機に腐食が発生したり作業者の手に肌荒れが発生したりする虞がある。従って、研磨用組成物の原料コストを低減し、且つ研磨用組成物のｐＨを適正化するという観点から見た場合、研磨用組成物中の研磨促進剤の含有量は、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下である。
【００２３】
前記水は、研磨用組成物中の水以外の成分を分散又は溶解する媒質としての役割を担う。水は、工業用水、水道水、蒸留水、又はそれらをフィルター濾過したものであってもよく、不純物をできるだけ含有しないことが好ましい。
【００２４】
研磨用組成物のｐＨが低すぎる場合には、研磨機に腐食が発生したり作業者の手に肌荒れが発生したりする虞がある。従って、研磨機の腐食及び作業者の肌荒れを防止するという観点から見た場合、研磨用組成物のｐＨは好ましくは２以上である。一方、研磨用組成物のｐＨが高すぎる場合には、研磨用組成物の研磨能力が低下する虞がある。従って、研磨用組成物の研磨能力の低下を抑制するという観点から見た場合、研磨用組成物のｐＨは、好ましくは７以下、より好ましくは５以下である。
【００２５】
研磨用組成物を用いて研磨対象物を研磨するときには、研磨パッドを研磨対象物に押し付けた状態で、研磨用組成物を研磨パッドに供給しながら研磨パッド及び研磨対象物のいずれか一方を他方に対して摺動させる。研磨時に供給する研磨用組成物の温度が低すぎる場合には、研磨用組成物が凍結したり、研磨用組成物の冷却コストが嵩んだりする虞がある。従って、研磨用組成物の凍結を防止し、且つ研磨用組成物の冷却コストを低減するという観点から見た場合、研磨用組成物の温度は、好ましくは０℃以上、より好ましくは５℃以上である。一方、研磨用組成物の温度が高すぎる場合には、研磨用組成物の研磨能力及び安定性が低下する虞がある。従って、研磨用組成物の研磨能力及び安定性の低下を抑制するという観点から見た場合、研磨用組成物の温度は、好ましくは３０℃以下、より好ましくは２５℃以下である。
【００２６】
本実施形態は、以下の利点を有する。
・  本実施形態に係る研磨用組成物は、研磨用組成物の研磨能力の向上に寄与するポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルを含有している。そのため、従来の研磨用組成物と比べて高い研磨能力を有しており、研磨対象物、特に合成樹脂製品を迅速に研磨することができる。従って、本実施形態に係る研磨用組成物は、合成樹脂製品を研磨する用途において特に有用である。
【００２７】
・  本実施形態に係る研磨用組成物では、研磨材又は研磨促進剤の増量や研磨材の粗大化でなく、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの添加によって、研磨能力の向上が図られている。そのため、研磨用組成物は、高い研磨能力を有しながらも、原料コストの増大や研磨後の研磨対象物の表面粗さの増大、研磨機の腐食といった研磨材又は研磨促進剤の増量や研磨材の粗大化に起因する弊害を有さない。
【００２８】
前記実施形態は以下のように変更されてもよい。
・  前記実施形態に係る研磨用組成物は、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、コロイダルジルコニア、コロイダルチタニア、フュームドシリカ、フュームドアルミナ、フュームドジルコニア、フュームドチタニア、シリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル、及びチタニアゾルよりなる群から選ばれる少なくとも一種をさらに含有してもよい。これらの金属酸化物は、研磨用組成物中においてコロイド状に分散することによって研磨用組成物の粘度を増大する。これにより、研磨用組成物中の研磨材の分散性が向上し、研磨材のケーキングが抑制される。これらの金属酸化物はまた、研磨用組成物中において、研磨材同士の凝集を抑制する。これにより、凝集した研磨材に起因するスクラッチの発生が抑制される。
【００２９】
研磨用組成物がこれらの金属酸化物を少量しか含有しない場合には、ケーキングや凝集があまり抑制されない虞がある。従って、ケーキング及び凝集を効果的に抑制するという観点から見た場合、研磨用組成物中のこれらの金属酸化物の含有量は、好ましくは０．０５質量％以上、より好ましくは１質量％以上である。一方、研磨用組成物がこれらの金属酸化物を大量に含有する場合には、研磨用組成物の粘度が過剰に増大する虞がある。従って、研磨用組成物の粘度を適正化するという観点から見た場合、研磨用組成物中のこれらの金属酸化物の含有量は、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下である。
【００３０】
・  前記実施形態に係る研磨用組成物は、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテル以外のグリコール類をさらに含有してもよい。ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテル以外のグリコール類は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、及びポリプロピレングリコールのいずれであってもよい。これらのグリコール類は、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルよりも弱い粘性を有し、その粘性によって、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルと同様、研磨用組成物の研磨能力の向上に寄与する。グリコール類はまた湿潤性も有し、その湿潤性によっても、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルと同様、研磨用組成物の研磨能力の向上に寄与する。グリコール類が有する湿潤性は、研磨機の内壁等への研磨用組成物の付着を抑制する働きもする。
【００３１】
研磨用組成物がグリコール類を少量しか含有しない場合には、研磨用組成物が研磨機の内壁等に付着しやすくなる虞がある。従って、研磨用組成物の付着を抑制するという観点から見た場合、研磨用組成物中のグリコール類の含有量は、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上である。研磨用組成物がグリコール類を大量に含有する場合には、研磨用組成物の粘度が過剰に増大する。従って、研磨用組成物の粘度を適正化するという観点から見た場合、研磨用組成物中のグリコール類の含有量は、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの含有量と合計したときに５０質量％以下となるように設定されることが好ましい。
【００３２】
・  前記実施形態に係る研磨用組成物は、消泡剤、防カビ剤、界面活性剤、防錆剤等をさらに含有してもよい。消泡剤はシリコーン系消泡剤であることが好ましい。研磨用組成物中の消泡剤の含有量は、好ましくは０．０５〜０．５質量％である。防カビ剤は、分子中に窒素原子及び硫黄原子を含有する有機系防カビ剤であることが好ましい。研磨用組成物中の防カビ剤の含有量は、好ましくは０．００５〜０．０５質量％である。
【００３３】
・  前記実施形態に係る研磨用組成物は、合成樹脂製品以外の研磨対象物を研磨する用途に用いられてもよい。例えば、前記実施形態に係る研磨用組成物は、ハードディスク用のディスク基板、半導体部品、機械部品等の金属製品を研磨する用途において使用されてもよい。
【００３４】
・  前記実施形態に係る研磨用組成物は原液を水で希釈することによって調製されてもよい。
【実施例】
【００３５】
次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１〜１２においては、研磨材、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテル、研磨促進剤、消泡剤、防カビ剤、及び水を混合し、必要に応じてグリコール類又は金属酸化物をさらに加えて研磨用組成物を調製した。実施例１〜１２に係る各研磨用組成物中の研磨材、ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテル、研磨促進剤、グリコール類、及び金属酸化物の種類及び含有量は表１に示すとおりである。比較例１〜１６においては、研磨材、研磨促進剤、消泡剤、防カビ剤、及び水を混合し、必要に応じてポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルに代わる高分子、グリコール類、又は金属酸化物をさらに加えて研磨用組成物を調製した。比較例１〜１６に係る各研磨用組成物中の研磨材、高分子、研磨促進剤、グリコール類、及び金属酸化物の種類及び含有量は表２に示すとおりである。なお、表１及び表２には示さないが、実施例１〜１２及び比較例１〜１６に係る研磨用組成物はいずれもシリコーン系消泡剤を０．５質量％含有している。
【００３６】
実施例１〜１２及び比較例１〜１６に係る研磨用組成物を用いて表３に示す研磨条件にてプラスチックレンズを研磨した。
表３に示す条件にて研磨を実施したとき、研磨前後のプラスチックレンズの重量の差、すなわち研磨によるプラスチックレンズの重量減少量を測定した。５つのサンプルで測定された重量減少量の平均値を表１及び表２の“研磨速度”欄に示す。
【００３７】
Phase Shift社製の非接触式表面粗さ測定器“MicroXAM”を用いて、５０倍の対物レンズ及び１倍の中間レンズにより、研磨後のプラスチックレンズの表面粗さＲａを測定した。表面粗さＲａの測定の際には、プラスチックレンズの１６３μｍ×１２３μｍの範囲にて波長が８０μｍ以下の凸凹を計測した。その結果を表１及び表２の“表面粗さＲａ”欄に示す。
【００３８】
容量１リットルの透明ポリ瓶（内径９．５ｃｍ）に液面が底面から１５ｃｍの高さになるまで各研磨用組成物を詰めて３ヶ月間にわたって静置した。３ヶ月間静置された後の研磨用組成物では研磨材の沈殿が発生していた。この容器を静かに横向きに倒したときに沈殿に起こる変化を目視にて観察し、その観察結果に基づいて研磨用組成物の再分散性を良（◎）、可（○）、不良（×）の三段階で評価した。再分散性に関する研磨用組成物の評価の結果を表１及び表２の“再分散性”欄に示す。
【００３９】
５０枚のプラスチックレンズを研磨した後、研磨用組成物中の固形分が研磨機の内壁に付着しているか否かを目視にて観察した。付着なし（○）、わずかに付着あり（△）、多量に付着あり（×）の三段階にて研磨用組成物の付着性を評価した結果を表１及び表２の“付着性”欄に示す。
【００４０】
５０枚のプラスチックレンズを研磨した後に回収される研磨用組成物の比重を、使用前の研磨用組成物の比重で除して得られる値に１００を乗ずることによって、比重の低下率を算出した。比重の低下率が３％未満（○）、比重の低下率が３％以上１０％未満（△）、比重の低下率が１０％以上（×）の三段階にて研磨用組成物の比重安定性を評価した結果を表１及び表２の“比重安定性”欄に示す。
【００４１】
【表１】
2006036864.tif 000002
【００４２】
【表２】
2006036864.tif 000003
【００４３】
【表３】
2006036864.tif 000004
表１及び表２の“研磨材”欄において、“アルミナ*1”はCOULTER社製のCoulter Multisizer IIによって測定される平均粒子径が２．８μｍであるα−アルミナを表し、“アルミナ*2”は同じくCoulter Multisizer IIによって測定される平均粒子径が５．５μｍであるα−アルミナを表す。表１の“ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテル”欄において、“ポリオキシアルキレンモノブチルエーテル*1”は平均分子量が２３００であるポリオキシアルキレンモノブチルエーテルを表し、“ポリオキシアルキレンモノブチルエーテル*2”は平均分子量が３７５０であるポリオキシアルキレンモノブチルエーテルを表す。どちらの種類のポリオキシアルキレンモノブチルエーテルも、ポリアルキレンオキサイド基はエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの共重合体から水素原子が失われて生じる基である。“ポリオキシアルキレンモノブチルエーテル*1”について、ポリアルキレンオキサイド基の分子量はブチル基の分子量の約３９倍である。“ポリオキシアルキレンモノブチルエーテル*2”について、ポリアルキレンオキサイド基の分子量はブチル基の分子量の約５７倍である。表２の“高分子”欄において、“ＥＯ−ＰＯ*1”は平均分子量が１７５０であるエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの共重合体を表し、“ＥＯ−ＰＯ*2”は平均分子量が２０５０であるエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの共重合体を表す。表１及び表２の“グリコール類”において、“ＰＧ”はプロピレングリコールを表す。
【００４４】
表１及び表２に示すように、実施例に係る各研磨用組成物の使用時に測定される研磨速度（プラスチックレンズの重量減少量）は、対応する比較例に係る研磨用組成物の使用時に測定される研磨速度に比べて大きい。この結果は、実施例１〜１２に係る研磨用組成物が高い研磨能力を有することを示唆するものである。実施例１〜１２に係る研磨用組成物の再分散性に関する評価はいずれも良好であり、なかでもアルミナゾルを含有する実施例８及び９に係る研磨用組成物の再分散性に関する評価は特に良好である。この結果は、研磨用組成物の再分散性がポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの添加によって向上すること、また特定の金属酸化物の添加によって研磨用組成物の再分散性はさらに向上することを示唆するものである。付着性及び比重安定性に関する評価は、実施例１〜１２に係る研磨用組成物と比較例１〜１６に係る研磨用組成物との間で変わりがない。この結果は、研磨用組成物の付着性及び比重安定性がポリアルキレンオキサイドアルキルエーテルの添加によって影響されないことを示唆するものである。
【００４５】
前記実施形態より把握できる技術的思想について以下に記載する。
・  合成樹脂製品を研磨する用途に用いられる請求項１〜７のいずれか一項に記載の研磨用組成物。
【００４６】
・  前記研磨対象物は合成樹脂からなる請求項８に記載の研磨方法。
・  請求項１〜７のいずれか一項に記載の研磨用組成物を用いて半製品を研磨する工程を経て得られる研磨製品。
【００４７】
・  請求項１〜７のいずれか一項に記載の研磨用組成物を用いて半製品を研磨する工程を経て得られる合成樹脂製品。