(57)【要約】【課題】  光記録ヘッドおよび画像形成装置において、記録光を出射する開口の配置、大きさ、形状を比較的自由に設定することができ、比較的高強度で良好なスポット径が得られるとともに、組立・製造が容易となるようにする。【解決手段】  駆動制御部１９により駆動電圧を印加され、独立駆動される複数の発光源をガラス基板２上に形成した光記録ヘッド１において、ＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５、アルミ電極７をこの順に積層して、ＩＴＯ電極４と有機ＥＬ層５とで光導波層を形成する。そして、反射層３ａ、クラッド層３ｂ、アルミ電極７により、開口７ａ以外で光導波層内を伝搬する記録光を閉じ込める。そして、開口７ａに位置された光導波層に散乱部６を形成する。【選択図】      図１
2006167985.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準電位に設定された第１の電極に対向して配置され、画像信号に応じて駆動電圧を印加する第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極の間に挟まれ、前記駆動電圧に応じて記録光を発生する発光層と、前記記録光を外部に出射する開口とを有する複数の発光源が、ベース基板の板面上に形成されるとともに前記ベース基板の板面に沿う方向において前記各開口が光記録面の画素位置に応じて配列された光記録部を備える光記録ヘッドであって、
前記各発光源に、前記発光層が発生する記録光を前記発光層の層厚方向と直交する方向に伝搬可能とする光導波層が形成され、
前記各発光源の前記発光層の層厚方向視の面積が、対応する各開口の開口面積より大きく設定され、
前記各開口が、前記光導波層を伝搬する記録光を前記発光層の層厚方向に出射可能な位置に設けられ、
前記光導波層の周囲に、前記記録光の前記開口以外からの出射光を前記光導波層内に閉じ込める光封止手段が設けられ、
前記開口に位置された光導波層に、該光導波層内を伝搬する前記記録光の光路を乱す散乱手段が設けられたことを特徴とする光記録ヘッド。
【請求項２】
前記散乱手段が、前記光導波層と屈折率が異なる複数の粒状体からなることを特徴とする請求項１に記載の光記録ヘッド。
【請求項３】
前記粒状体が、前記記録光の波長により光が励起される蛍光体からなることを特徴とする請求項２に記載の光記録ヘッド。
【請求項４】
前記散乱手段が、回折格子からなることを特徴とする請求項１に記載の光記録ヘッド。
【請求項５】
前記散乱手段が、前記開口に位置された光導波層の前記開口側層表面およびそれと対向する層底面の少なくともいずれかに設けられた凹凸からなることを特徴とする請求項１に記載の光記録ヘッド。
【請求項６】
前記発光層が有機ＥＬ層からなり、
前記第１および第２の電極の一方が、前記記録光を透過する透明電極からなり、
前記第１および第２の電極の他方が、前記記録光を反射する光反射性の電極からなり、
前記発光層と前記前記第１および第２の電極の一方とが前記光導波層を構成し、
前記開口が第１および第２の電極の他方に形成されたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光記録ヘッド。
【請求項７】
前記透明電極の厚みが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とされたことを特徴とする請求項６に記載の光記録ヘッド。
【請求項８】
光導電性の光記録面を有する感光体に露光手段を用いて静電潜像を形成し、該静電潜像を現像手段により現像して可視像を形成する画像形成装置であって、
前記露光手段が、請求項１〜７のいずれかに記載の光記録ヘッドを備えることを特徴とする光記録ヘッドを用いた画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録ヘッドおよび画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真方式の画像形成装置、例えば、光プリンタ、デジタル複写機などにおいて、静電潜像を形成するための露光手段として、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子と略称する）を記録画素に応じて複数配置し、記録画素ごとの画像信号に応じて各発光素子を点灯制御するようにした光記録ヘッドを備えたものが知られている。
有機ＥＬ素子は、ディスプレイ装置などでは、面発光素子として発光層の法線方向に光を出射するようにしているが、光プリンタの必要露光量は、ディスプレイ装置の光量よりも高いため、画素面積よりも広い面積の発光層を形成し、発光された光を発光層が延びる側面方向に集めることにより発光強度を増大させる端面発光型の素子が提案されている。
例えば、特許文献１には、そのような端面発光型のＥＬ素子により多階調記録が可能な光記録ヘッド及びこれを用いた光プリンタが記載されている。すなわち、このＥＬ素子は、反射率良好な金属製のベース電極、対向電極との間に絶縁層を介して発光層が形成された層状断面構造が帯状に延されており、それらＥＬ素子が絶縁性基板上に所定ピッチで多数並列されて光記録ヘッドが構成されている。そして、各ＥＬ素子の発光層で発生した光は、絶縁層、ベース電極または対向電極により反射されながら帯状の長手方向の端部に到達して、外部に出射されるようになっている。
【特許文献１】特開平２−４８９６５号公報（第５−１０頁、図２−４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記のような従来の光記録ヘッドおよび画像形成装置には以下のような問題があった。
特許文献１に記載の技術では、光記録ヘッドは、出射光を形成するＥＬ素子の端部がそれらを配置するガラス基板などの絶縁性基板の側端面に整列された構成となっている。そのため、ＥＬ素子から放射される記録光を集光するレンズなどの集光素子を保持するスペースが絶縁性基板の厚み程度の狭いものとなり、直接的に設置することが困難となる。そのため、例えば両者を別の保持部材上に位置合わせして取り付けるといったことが必要となり、構成が複雑で、製造効率が劣ってしまうという問題がある。
また、ＥＬ素子の発光層の層厚は極めて薄いので、光量を確保するためには、層厚に直交する方向の開口幅を広げなければならないが、開口部の幅を広げると、発光面が扁平になりすぎ、集光素子を介しても光記録面に良好なスポット径を結像できなくなるという問題がある。例えば、集光素子としてアナモフックレンズなどを採用することも考えられるが、各画素にそのような特殊な集光素子を設けると高価な装置となってしまうという問題がある。
【０００４】
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、記録光を出射する開口の配置、大きさ、形状を比較的自由に設定することができ、比較的高強度で良好なスポット径が得られるとともに、組立・製造が容易となる光記録ヘッドおよび画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明では、基準電位に設定された第１の電極に対向して配置され、画像信号に応じて駆動電圧を印加する第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極の間に挟まれ、前記駆動電圧に応じて記録光を発生する発光層と、前記記録光を外部に出射する開口とを有する複数の発光源が、ベース基板の板面上に形成されるとともに前記ベース基板の板面に沿う方向において前記各開口が光記録面の画素位置に応じて配列された光記録部を備える光記録ヘッドであって、前記各発光源に、前記発光層が発生する記録光を前記発光層の層厚方向と直交する方向に伝搬可能とする光導波層が形成され、前記各発光源の前記発光層の層厚方向視の面積が、対応する各開口の開口面積より大きく設定され、前記各開口が、前記光導波層を伝搬する記録光を前記発光層の層厚方向に出射可能な位置に設けられ、前記光導波層の周囲に、前記記録光の前記開口以外からの出射光を前記光導波層内に閉じ込める光封止手段が設けられ、前記開口に位置された光導波層に、該光導波層内を伝搬する前記記録光の光路を乱す散乱手段が設けられた構成とする。
この発明によれば、第２の電極に画像信号に応じた駆動電圧を印加することにより、発光層から記録光が発生される。そして、この記録光が開口以外では、光封止手段により光導波層内に閉じ込められるので、光導波層内での反射を繰り返すことにより層厚方向と直交する方向への伝搬を繰り返し、散乱手段に到達すると光路が乱されて開口へ向かう記録光が増大し、その記録光が開口から外部に出射される。これを繰り返すことにより、発光層で発生した記録光が一部の減衰光を除いて開口から出射される。
すなわち、開口より広い面積内で発生する記録光が発光層の層厚方向と直交する方向の開口から外部に出射するので、開口の大きさに比べて大きな光量が得られる。
そして、各発光源がベース基板の板面上に形成されるとともに開口がベース基板の板面に沿う方向に２次元的に配列できるので、開口の配置位置の自由度が高く、光記録面の画素位置に応じて配列しやすくなる。また、集光素子などを配置する場合、開口の前面に配置するためにベース基板上に取り付けることができる。
また、開口を発光層の厚みに依存することなく発光層の面積の範囲で、自由な形状、例えば縦横比の差が少ない矩形や、円形、楕円形などの形状に設定することができるから、集光したときのスポット径を良好とすることが容易となる。
【０００６】
ここで、光封止手段は、光を閉じ込めるために内部側に光を反射する手段でもよいし、屈折率を変えて光路を屈曲させることにより光を閉じ込める手段であってもよい。
【０００７】
請求項２に記載の発明では、請求項１に記載の光記録ヘッドにおいて、前記散乱手段が、前記光導波層と屈折率が異なる複数の粒状体からなる構成とする。
この発明によれば、光導波層に光導波層と屈折率が異なる複数の粒状体を配置することにより、記録光が粒状体に入射すると、一部が屈折されて伝搬方向を変えて透過し、その他が粒状体の表面で反射されて種々の方向に散乱される。そして記録光の光路が乱される。
また、このような構成によれば光導波層に粒状体を配置するだけでよいので、製造容易な散乱手段となる。
【０００８】
請求項３に記載の発明では、請求項２に記載の光記録ヘッドにおいて、前記粒状体が、前記記録光の波長により光が励起される蛍光体からなる構成とする。
この発明によれば、記録光の波長により光が励起される蛍光体により粒状体を構成するので、粒状体として記録光を散乱するとともに、記録光の強度に応じた光量の励起光が蛍光体から発生する。そのため、開口から出射される記録光の光量を増大させることができる。
【０００９】
請求項４に記載の発明では、請求項１に記載の光記録ヘッドにおいて、前記散乱手段が、回折格子からなる構成とする。
この発明によれば、回折格子を設けることにより、記録光の波長と、回折格子に対する入射角に応じて記録光が回折され、高次光を発生するので記録光の光路を乱すことができる。その結果、０次光が開口から出射されない場合でも、高次光が出射される可能性が高くなるので、開口から出射される記録光を増大させることができる。
【００１０】
請求項５に記載の発明では、請求項１に記載の光記録ヘッドにおいて、前記散乱手段が、前記開口に位置された光導波層の前記開口側層表面およびそれと対向する層底面の少なくともいずれかに設けられた凹凸からなる構成とする。
この発明によれば、開口に位置された光導波層に開口側層表面およびそれと対向する層底面の少なくともいずれかに凹凸が設けられるので、その凹凸により記録光の反射、屈折が乱されて光路が散乱される。そのため、内部から開口に向けて透過する記録光を増大させることができる。
【００１１】
ここで、凹凸とは、凹面、凸面のいずれかを含むことを意味し、それぞれは、滑らかな曲面であってもよいし、底部または頂部が尖った溝状、山形状などの形状であってもよい。
これらの形状を製作するには、例えば光導波層を略一定厚みで形成する製造プロセスにおいては、光導波層が形成される下地層を削ったり、エッチングしたりして、凹凸を形成することにより製作できる。また例えば、光導波層を形成後、開口を形成する前に、光導波層の表面を削ったり、エッチングしたりして、直接凹凸を形成することにより製作することもできる。
【００１２】
請求項６に記載の発明では、請求項１〜５のいずれかに記載の光記録ヘッドにおいて、前記発光層が有機ＥＬ層からなり、前記第１および第２の電極の一方が、前記記録光を透過する透明電極からなり、前記第１および第２の電極の他方が、前記記録光を反射する光反射性の電極からなり、前記発光層と前記前記第１および第２の電極の一方とが前記光導波層を構成し、前記開口が第１および第２の電極の他方に形成された構成とする。
この発明によれば、発光層が、比較的層厚が薄い有機ＥＬ層であっても、透明電極と合わせた層厚を有する光導波層を形成し、有機ＥＬ層全体で発光された記録光を伝搬させ、散乱手段により層厚方向に配置された開口から効率的に取り出すことができる。
また光反射性の第１および第２の電極の他方により開口を形成する部材と光封止手段とを兼用することができるから、簡素な構成とすることができる。
【００１３】
請求項７に記載の発明では、請求項６に記載の光記録ヘッドにおいて、前記透明電極の厚みが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とされた構成とする。
この発明によれば、透明電極の厚みが適切となるので、光導波の効率が向上し、光量損失を低減することができる。
なお、透明電極の厚みは、上記範囲より狭いことがより好ましく、例えば上限値を、６００ｎｍとすることが好ましい。
【００１４】
請求項８に記載の発明では、光導電性の光記録面を有する感光体に露光手段を用いて静電潜像を形成し、該静電潜像を現像手段により現像して可視像を形成する画像形成装置であって、前記露光手段が、請求項１〜７のいずれかに記載の光記録ヘッドを備える構成とする。
この発明によれば、請求項１〜７のいずれかに記載の光記録ヘッドを用いた画像形成装置とすることができる。そのため、請求項１〜７のいずれかに記載の発明と同様の作用効果を有する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の光記録ヘッドおよび画像形成装置によれば、ベース基板上に形成された光導波層を含む複数の光源を、ベース基板の板面に沿う方向に配列し、発光層の層厚方向に発光層よりも広い面積の開口を設けるので、開口の配置位置、大きさ、形状を比較的自由に設定することができるから、比較的高強度で良好なスポット径を容易に得ることができるとともに、例えば開口側に集光素子など部材が配置しやすいなど組立・製造が容易となるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下では、本発明の実施の形態について添付図面を参照して説明する。すべての図面において、実施形態が異なる場合であっても、同一または相当する部材には同一の符号を付し、共通する説明は省略する。
【００１７】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態に係る光記録ヘッドについて説明する。
図１（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る光記録ヘッドの主要部の構成について説明するための平面視の模式説明図である。ただし、模式図のため駆動制御部１９など一部の断面の図示を省略している。図１（ｂ）は、図１（ａ）におけるＡ−Ａ断面図である。図１（ｃ）は、図１（ａ）におけるＢ−Ｂ断面図である。図２（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図１（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面視の模式説明図である。
【００１８】
本実施形態の光記録ヘッド１は、光記録面上の画素に対応して独立に発光駆動可能な発光源がガラス基板２（ベース基板）上に複数配置され、画像信号に応じて点灯制御できるようにしたものであり、例えば画像形成装置の露光手段として好適となるものである。
光記録ヘッド１の概略構成は、図１（ａ）に示すように、画像信号もしくは画像信号に適宜の信号処理を施した駆動制御信号に応じて点灯制御を行う駆動制御部１９と、駆動制御部１９に接続された複数の発光源がガラス基板２上に適宜ピッチをおいて配置された記録部１７とからなる。
電源部１８は、駆動制御部１９に駆動電圧として直流電圧を供給するためのもので、光記録ヘッド１に内蔵されていてもよいし、外部に設けられていてもよい。
駆動制御部１９は、記録部１７の発光源ごとに駆動電圧を印加するもので、例えばオン／オフ制御するためのスイッチング手段からなる。
【００１９】
記録部１７を構成する発光源の構成について説明する。
それぞれの発光源の概略構成は、図１（ｂ）、（ｃ）に断面構成を示すように、絶縁体基板であるガラス基板２上に、反射層３ａ（光封止手段）、クラッド層３ｂ（光封止手段）、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）電極４（第２の電極）、有機ＥＬ層５（発光層）、アルミ電極７（第１の電極）、封止膜８、および散乱部６（散乱手段）からなる。
ガラス基板２は、例えばコーニング社製Ｃｏｒｎｉｎｇ１７３７などが採用できる。
【００２０】
反射層３ａは、上部で発生される記録光を反射してガラス基板２を透過する漏れ光を防止するための金属反射膜層であり、ガラス基板２上に設けられている。金属の種類としては、必要な反射率が得られれば、どのような金属でもよいが、例えば、クロムを採用することができる。その場合、膜厚は、例えば、１００ｎｍ程度とするとよい。
クラッド層３ｂは、その上層のＩＴＯ電極４よりも屈折率が小さい透明膜でありＩＴＯ電極４内を伝搬する記録光を反射するために設けられるものである。クラッド層３ｂの材質は、例えば、ＳｉＯ２膜を採用することができる。
クラッド層３ｂの層厚は、１５０ｎｍ〜５００ｎｍが好適である。
【００２１】
なお、反射層３ａ、クラッド層３ｂは、光封止手段としてガラス基板２への漏れ光を効率的に低減し、透明電極内で記録光が効率的に光導波されるように設けられているが、いずれか一方のみで、ガラス基板２側への漏れ光の量を十分規制できれば、いずれか一方のみを設ける構成としてもよい。
例えば、透明電極の抵抗値が高い場合には、クラッド層３ｂを設けずに、反射層３ａの上に直接透明電極を形成してもよい。その場合には、記録光は反射層３ａに反射することにより光導波される。
【００２２】
ＩＴＯ電極４は、インジウムスズ酸化物（Indium Tin Oxide）から構成された陽極となる透明電極であり、クラッド層３ｂ上に短冊状に形成され、駆動制御部１９を介して電源部１８に接続されている。そして、画素信号に応じて各発光源への駆動電圧が印加できるようになっている。
各発光源のＩＴＯ電極４は、平面視で短手方向に後述する所定ピッチをおいて、互いに平行に配置されている。
また、ＩＴＯ電極４の屈折率は、約２．１程度である。また、ＩＴＯ電極４の層厚は、５０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲が好適であり、５０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲であることがより好ましい。本実施形態では、層厚は約０．４μｍとしている。
【００２３】
ここで、ＩＴＯ電極４の厚さの範囲について、シミュレーション結果を参照して説明する。
簡単のために、ガラス基板２、ＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５、アルミ電極７がこの順に積層された場合の２次元導波路モデルの場合で考察する。ここで、有機ＥＬ層５は、アルミ電極７による光量損失を防ぐためのバッファ層となっている。計算を簡単にするために、有機ＥＬ層５は、他の層に比べて十分厚いものとする。また、ＩＴＯ電極４は光導波層となっている
ガラス基板２、ＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５の屈折率を、それぞれ、１．５、２．０、１．７とする。
このとき、マックスウェルの方程式からＴＥモードについて固有値方程式を解くと、光導波される光をカットオフする光導波層の厚さＴが次式のように求められる。
Ｔ＝０．１５・（０．７６＋ｍ・π）・λ                          ・・・（１）
ここで、λは光の波長λ、ｍは導波モード番号である。
【００２４】
式（１）により、波長λが５００ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲における厚さＴを算出すると次表が得られる。
【表１】
2006167985.tif 000003
【００２５】
表１より、５７ｎｍ〜９９３ｎｍの範囲で各波長ごとに光をカットオフする最適な層厚が存在することが分かる。波長範囲を表１の範囲から若干広げれば、５０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲に好適な値が存在することが分かる。
このように、ＩＴＯ電極４の層厚には、波長、導波モード番号により飛び飛びの最適値が存在するが、有機ＥＬ層５の発光波長にバラツキがあり、導波モードも種々のモードが混在することを考慮すると、このような範囲内の層厚とすれば、良好な光導波層を得ることができるものである。
【００２６】
有機ＥＬ層５は、ＩＴＯ電極４、アルミ電極７により駆動電圧を印加することにより発光可能であればどのような層構成でもよいが、例えば、正孔輸送材料としてＴＰＤ（テトラフェニルジアミン誘導体）、蛍光性材料としてＡｌｑ３（aluminato-tris-8-hydroxyquinolate、アルミニウムキノリノール錯体）をこの順にそれぞれ５０ｎｍ〜７０ｎｍ程度の２層構造としてＩＴＯ電極４上に形成し、平面視では、ＩＴＯ電極４に重なる範囲に延されている構成を採用することができる。
この構成の場合、ＴＰＤは正孔輸送層を構成し、Ａｌｑ３は狭義の発光層と電子輸送層とを兼ねている。
このような有機ＥＬ層５は、記録光が透過可能であり、屈折率は約１．７程度である。
このように、ＩＴＯ電極４と有機ＥＬ層５とは、有機ＥＬ層５により発光された記録光を伝搬する光導波層を構成している。
【００２７】
アルミ電極７は、ＩＴＯ電極４との間で有機ＥＬ層５を挟持するように設けられた光反射性の陰極を形成する部材であり、各発光源の間で同電位（基準電位）となるように互いに導通されるとともに、電源部１８の負極に接続されている。アルミ電極７の層厚は、１５０ｎｍ程度が好適である。
本実施形態では、ＩＴＯ電極４の短冊形状に対応して有機ＥＬ層５の上面および側面を覆うＢ−Ｂ断面視で略コ字状に設けられた画素電極部７ｂ…と、画素電極部７ｂ…の長手方向の端部において、それぞれを導通させる導通部７ｃとからなり、各画素電極部７ｂの長手方向の略中央の上面に、例えば矩形状の開口７ａが形成されている。
そのため、アルミ電極７は、開口７ａを除いて、光導波層を略覆い、光導波層と伝搬する記録光を反射できるようになっている。そのため、反射層３ａ、クラッド層３ｂとともに、光導波層を伝搬する記録光を封止する光封止手段を構成している。
【００２８】
開口７ａ間のピッチは、光記録面の画素の配列ピッチそのもの、あるいは記録部１７と光記録面のとの間に集光素子が配置される場合にはその倍率などに応じた適宜値に設定される。本実施形態では、例えば２０μｍピッチとしている。この配列ピッチは、１つの発光源の短手方向の配列ピッチにもなっている。
したがって、開口７ａの平面視の大きさは、このピッチの範囲内で適宜に設定できるが、できるだけ大きくすることが好ましい。
また、形状は、矩形に限定されるものではなく、例えば、正方形状、円形状、楕円状などの適宜の形状とすることができる。
【００２９】
このような構成によれば、発光層の面積が開口と一致する場合と比べてより大きな光出力を取り出すことができる。
また、開口上に集光素子を配置して光記録面に結像する場合、例えば開口の縦横比が大きく発光像が扁平な場合などに比べると、球面レンズなどの簡素な集光素子により整った形状のスポットが得られ、スポット径の大きさや形状も比較的容易に設定できるという利点がある。
【００３０】
封止膜８は、記録部１７の上面全体を覆って保護するための透明膜であり、例えば、Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２膜を約５０ｎｍ程度蒸着したものを採用することができる。
【００３１】
散乱部６は、一定の入射角で入射する記録光を反射したり屈折したりすることにより、記録光を反射層３ａ（クラッド層３ｂ）に対する正反射光の光路と異なる方向に散乱するための部材である。
図２（ａ）に示すのは、光導波層と屈折率が異なる粒状体１１…をクラッド層３ｂ上かつ開口７ａの下方に配置することにより散乱部６を構成した例である。図２（ａ）は模式図のため、単純化して描いているが、粒状体１１…は、クラッド層３ｂ上に直に配置してもよいし、層状に配置してもよいし、光導波層内に分散して配置してもよい。また記録光が通る光導波層内であれば、ＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５のいずれに配置してもよい。
粒状体１１は、記録光に対する反射率を高め、散乱させやすくするために、光導波層に比べて屈折率が大きい微粒子とすることが好ましい。
例えば、二酸化チタンＴｉＯ２の微粒子、例えば粒径３０ｎｍ〜５０ｎｍのものを採用することができる。ＴｉＯ２の屈折率は、可視光波長域において約２．４以上であり、ＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５のいずれに比べても大きいものである。
【００３２】
本実施形態の光記録ヘッド１の製造方法について、記録部１７の製造方法を中心にして説明する。
まず、ガラス基板２に、反射層３ａとして、必要に応じてパターニングを行って、Ｃｒ（クロム）を蒸着し、膜厚１００ｎｍ程度の金属層を形成する。
その上にクラッド層３ｂとして、膜厚１５０ｎｍ〜５００ｎｍ程度のＳｉＯ２層を形成する。
【００３３】
次に、散乱部６を設ける部分に粒状体１１の層をパターニングする。
例えば、ＴｉＯ２微粒子をＩＰＡに１５ｗｔ％分散させた溶液に、ＴｉＯ２のアルコラート（例えば、高純度化学社製ＳＹＭ−Ｔ１０５）を５〜３０％程度混合した溶液をインクジェット方により所定部分に滴下する。そして、１８０℃で２０分間乾燥させる。
このようにして、ＴｉＯ２の微粒子が極薄膜ＴｉＯ２層として、ガラス基板２上に固着され、散乱部６が形成される。
【００３４】
次にＩＴＯ電極４を形成する。
まず、ＩＴＯをスパッタ法により、厚み約０．４μｍ程度に膜付けし、散乱部６が各ＩＴＯ電極４の略中央に来るような所定の配置パターンに従ってエッチングする。
そして、ＩＴＯ電極４の上面を覆うように有機ＥＬ層５を形成する。すなわち、真空蒸着により、例えば成膜速度０．１ｎｍ／ｓで、ＴＰＤを形成し、その上面に同様の成膜速度でＡｌｑ３を形成する。いずれの場合も特にパターニングしなくともよい。
その後、連続して、アルミ電極７を形成するために、メタルマスクを用いて、画素電極部７ｂによりＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５の上面側とそれらの側方とを覆い、所定の開口７ａ、導通部７ｃを形成するような所定のパターンにパターニングしてアルミを蒸着する。成膜速度は０．０５ｎｍ／ｓ程度が好適である。
このようにして、記録部１７を形成することができる。
【００３５】
駆動制御部１９は、詳細の説明は省略するが、必要な回路パターンを記録部１７とともにガラス基板２上に形成することにより製作できる。そして、適宜の電源部１８を配線し、必要に応じて開口７ａ上に不図示の集光素子を配置し、適宜の筐体などに収納することにより、光記録ヘッド１が製作される。
集光素子は、例えば合成樹脂のモールド成形品などをからなるレンズアレイなどを採用することができる。この場合、光軸方向を開口７ａが形成された面の法線方向、すなわちガラス基板２の法線方向に合わせて配置する。そのため、ガラス基板２上に回路領域などを避けた取付領域を設けることにより、取付用または位置決め用の脚部を接着するなどして容易かつ位置決め容易に集光素子を取り付けることができる。
【００３６】
次に、本実施形態の光記録ヘッド１の作用について説明する。
図３は、本発明の第１の実施形態に係る光記録ヘッド１の作用について説明するための層厚方向断面の模式説明図である。
【００３７】
画像信号が駆動制御部１９に入力され、特定の発光源がスイッチングされると、その発光源のＩＴＯ電極４、アルミ電極７の間に駆動電圧が印加される。
それにより、有機ＥＬ層５では、アルミ電極７側から電子が移動し、ＩＴＯ電極４側から正孔が移動し、有機ＥＬ層５の内部で、それらが再結合する結果、エレクトロルミネッセンス発光が行われる。
すなわち、有機ＥＬ層５は面発光源として有機ＥＬ層５の内部から外部に向かって種々の方向に光を放射する。
【００３８】
有機ＥＬ層５で放射された光は、図１（ｂ）、（ｃ）に示すように、開口７ａを通して、外部に出射される記録光９ａと、ＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５からなる光導波層の内部で繰り返し反射される記録光９ｂとに分かれる。そして記録光９ｂのうち、光導波層を透過する角度で開口７ａに入射するものが記録光９ａとして開口７ａから出射されていく。
その際、本実施形態では、散乱部６を備えるので、それを備えない場合に比べて記録光９ｂが開口７ａから出射される割合を増大することができる。
【００３９】
この点について図３を用いて説明する。
ＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５は、屈折率が異なるので、その境界面で屈折、反射が起こるが、簡単のために、以下の説明ではこれらの光導波層内では光が直進するとして説明する。
【００４０】
図３に示すように、散乱部６（図示破線）を有しない場合、記録光９ｂを閉じ込めるクラッド層３ｂ、反射層３ａが均一な反射面を形成し、アルミ電極７と対向して平行反射面が形成されている。側面方向は、図１に示すようにアルミ電極７により光が閉じ込められている。
記録光９ｂが光線Ｒ４のように比較的大きな入射角θ１で入射すると、出射角θ１で反射され、光導波層の層厚方向に直交する方向へ光伝搬が繰り返される。入射角θ１の余角が臨界角を超えていれば、反射層３ａ、クラッド層３ｂが存在しなくても全反射して、同様な伝搬が起こる。
また、記録光９ｂが光線Ｒ１のように比較的小さな入射角θ２で入射すると、出射角θ２で反射される光線Ｒ３と、屈折してクラッド層３ｂ内を屈折角θ３（θ３＞θ２）で進む光線Ｒ２に分かれる。光線Ｒ２は反射層３ａにより反射され、入射角がθ２よりも大きな光線として、光導波層内に反射される。
【００４１】
記録光９ｂは、種々の入射角を有するものの、光導波層が平行反射面に挟まれているので、定常的な反射光路での伝搬を繰り返す。そのため、比較的小さな入射角を有する記録光９ｂは反射点のピッチが短く、開口７ａの近傍に到達したとき、開口７ａから出射されて記録光９ａとなるが、比較的大きな入射角を有する光路の記録光９ｂでは反射点のピッチが大きいため、開口７ａに到達して出射される確率が少ないものである。また、入射角が全反射条件を満たす場合には全反射を繰り返して閉じ込められることになる。
そのため、光導波層を伝搬する記録光９ｂの多くが記録光９ａとして開口７ａから出射されないことになる。
【００４２】
一方、本実施形態の場合、破線で示すように粒状体１１…からなる散乱部６が、クラッド層３ｂ上かつ開口７ａの下方に配置されるので、散乱部６に入射した光線Ｒ１、Ｒ４が、粒状体１１…により散乱されてそれぞれ入射角とは無関係な方向、例えば比較的小さな出射角で出射される光線Ｓ１、Ｓ２として伝搬する。粒状体１１の粒径を適宜に設定すれば、散乱部６はその位置に点光源を分布させたのと同様となる。
そのため、これらが開口７ａから出射されて記録光９ａに加わり、記録光９ｂの中から記録光９ａとして出射される割合が増大される。
その結果、有機ＥＬ層５で発光された光は、多くが開口７ａから記録光９ａとして出射されるようになる。
【００４３】
このように、本実施形態の光記録ヘッド１によれば、開口７ａより広い有機ＥＬ層５で発光された光が光導波層内を伝搬し、高効率で開口７ａから出射される。そのため発光層が開口７ａと同程度の面積の発光源に比べて高出力の発光源を形成できる。
したがって、例えば、潜像形成のために高出力が要求される画像形成装置の露光手段などに好適に用いることができる。
また、開口７ａを、記録光が発光層の層厚方向に出射可能な位置に設けるので、開口を発光層の側端面に設ける場合に比べて、大きい面積に設定できる。
また開口の形状も自由度が高くなり、光記録面に集光する場合に整ったスポット径が形成できる。例えば、縦横比が１に近い矩形とすれば、特別な収差補正を行わなくても集光側の像も略矩形となるので、簡素な集光素子を用いることができる。
【００４４】
また、記録光９ａを集光する集光素子を設ける場合に、ガラス基板２の表面上に設けることができるので、回路領域などを避けた取付領域を設けやすく設置の自由度が高くなる。そのため、組立容易な光記録ヘッド１とすることができる。
【００４５】
次に、本実施形態の第１変形例について説明する。
本変形例は、図２（ａ）に示すように、第１の実施形態の光記録ヘッド１において、有機ＥＬ層５に代えて有機ＥＬ層５Ａを備え、同じく散乱部６において、粒状体１１に代えて、蛍光体粒子１２を備えるものである。
【００４６】
有機ＥＬ層５Ａは、蛍光体粒子１２の励起波長となる光を発光するようにしたもので、例えば、正孔輸送層としてＴＰＤ、発光層と電子輸送層とを兼ねる蛍光性材料としてトリアゾール（Triazole）誘導体（ＤＡ−ＴＡＺなど）を積層した構成を採用している。
このような有機ＥＬ層５Ａによれば、発光波長が４００ｎｍ〜４６０ｎｍ近辺となる。
【００４７】
蛍光体粒子１２は、有機ＥＬ層５Ａで発生する光の波長により発光する蛍光体からなる微粒子である。粒径は、例えば粒状体１１と同程度とすることができるが、光導波層内に配置できる大きさであれば、粒状体１１よりも大きくてもよい。蛍光体粒子１２の発光波長は光記録面の波長感度領域に含まれる範囲で設定する。
本変形例では、励起波長が４６０ｎｍ付近の青色領域にあり、５７０ｎｍ帯域で発光する蛍光体粒子を採用している。このような蛍光体粒子として、例えば、化成オプトニクス社製ＹＡＧ系蛍光体Ｐ４６−Ｙ３などを挙げることができる。
波長５７０ｎｍは、例えば複写機や光プリンタなどに用いられる感光体ドラムに対して十分な感度を有している。
【００４８】
このような構成によれば、上記実施形態の製造方法において、Ａｌｑ３、粒状体１１に代えて、トリアゾール誘導体、蛍光体粒子１２を置き換えるのみで、同様にして製造することができる。
【００４９】
本変形例によれば、散乱部６に入射する記録光９ｂは、一部が蛍光体粒子１２により散乱されるとともに、その他が蛍光体粒子１２に吸収される。記録光９ｂは、波長が４００ｎｍ〜４６０ｎｍ近辺にあるため、励起波長が４６０ｎｍ付近の青色領域にある蛍光体粒子１２を励起して、波長５７０ｎｍの光を発生する。励起光の出射角は記録光９ｂの入射角に依存せず、ランダム方向に放射されるので、散乱光と同様に開口７ａから出射されやすくなっている。出射された励起光は、光記録面において光記録を行うことが可能となる。
このように、本変形例では、光導波層を伝搬する記録光９ｂを励起光としても用いて開口７ａから出射するので、記録光９ｂをより効率的に記録光９ａに変換することができる。
【００５０】
次に、本実施形態の第２変形例について説明する。
図２（ｂ）は、本発明の第１の実施形態の第２変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図１（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面視の模式説明図である。
本変形例は、図２（ｂ）に示すように、第１の実施形態の光記録ヘッド１の散乱部６において、粒状体１１に代えて、回折格子１３を備えるものである。
【００５１】
回折格子１３は、入射する記録光９ｂを種々の方向に回折して光路を変えるために設けられるもので、例えばグレーティング周期を波長の数倍から数十倍の周期でチャープして出射光の出射方向を適宜の角度範囲で連続的に可変できるようにしたチャープトグレーティングからなる。このようなチャープトグレーティングにより光路および拡散範囲を制御する技術は、例えば、特開２００４−９５１３８公報などに記載されている技術を好適に採用することができる。
【００５２】
本変形例の製造方法は、上記第１の実施形態において、粒状体１１の層をパターニングする代わりに、回折格子１３を形成する。すなわち、散乱部６を形成する開口７ａの下方の製造工程を次のように変更する。
ＩＴＯ電極４を形成する前までに、例えば、ＥＢ描画装置を用いてレジストをパターニングし、開口７ａの下方に位置するガラス基板２をエッチングして、所定のグレーティング周期で深さ０．１μｍ程度の格子溝を形成する。
例えば、格子溝を形成する部分以外を耐フッ酸性のレジストで覆うようにパターニングし、フッ酸にてエッチング処理を行い、格子溝が浸食された後、レジストを剥離する。
そして、その上に直接、ＩＴＯ電極４を形成することにより、屈折率分布型の回折格子を形成する。
このようなグレーティング周期Λを設定することにより、効率的な回折を行うことができるので、記録光９ｂにより、高次回折光が多く発生し、種々の方向へ光を散乱することが可能となる。
【００５３】
本変形例によれば、種々の入射角で散乱部６に入射する記録光９ｂを回折することで、高次光により種々の方向に散乱させることができる。そのため、記録光９ｂの波長に応じてグレーティング周期を調整することにより、容易に散乱度合いを可変することができるという利点がある。また、屈折率分布型の回折格子とするため、パターニングにより容易に製造できるという利点がある。
【００５４】
次に、本実施形態の第３変形例について説明する。
図２（ｃ）は、本発明の第１の実施形態の第３変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図１（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面視の模式説明図である。
本変形例は、図２（ｃ）に示すように、第１の実施形態の光記録ヘッド１の散乱部６を開口７ａに位置する有機ＥＬ層５の上面に配置した例である。そして、散乱部６として、回折格子１４を形成したものである。
【００５５】
回折格子１４は、クラッド層３ｂ、反射層３ａなどにより反射された記録光９ｂのうち、開口７ａを通る光を回折し、比較的入射角が大きい記録光９ｂの一部を、より小さな出射角で出射されるようにするものである。つまり、０次光は、回折格子１４がない場合と同様に出射されるが、高次光は０次光と異なる角度で出射される。そのため、高次光により出射角が小さく、集光しやすい記録光９ａが増大される。
【００５６】
本変形例の製造方法は、第１の実施形態において、開口７ａの下方に散乱部６を形成する代わりに、有機ＥＬ層５を形成後、式（１）から決まるグレーティング周期で、ＩＴＯ電極４と屈折率の異なる材料、例えばＳｉＯ２をエッチングして格子を形成する。
【００５７】
次に、本実施形態の第４変形例について説明する。
図２（ｄ）は、本発明の第１の実施形態の第４変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図１（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面視の模式説明図である。
本変形例は、図２（ｄ）に示すように、第３変形例の回折格子１４に代えて、開口７ａに位置する有機ＥＬ層５の上面に拡散層６０を形成したものである。
【００５８】
拡散層６０は、クラッド層３ｂ、反射層３ａなどにより反射された記録光９ｂのうち、開口７ａを通る光を透過させる際、拡散光として外部に出射するためのものである。
拡散層６０としては、例えば、高い屈折率を有するＴｉＯ２の膜層を採用することができる。
【００５９】
本変形例の製造方法は、第１の実施形態において、開口７ａの下方に散乱部６を形成する代わりに、有機ＥＬ層５を形成後、アルミ電極７を形成し、開口７ａを覆うようにパターニングされたＴｉＯ２膜をＥＢ蒸着することにより製造できる。ＴｉＯ２膜の膜厚は拡散光の拡がりが適宜範囲となるように設定する。
【００６０】
次に、本実施形態の第５変形例について説明する。
図４（ａ）は、本発明の第１の実施形態の第５変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図１（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面視の模式説明図である。
【００６１】
本変形例は、散乱手段として、上記実施形態の光記録ヘッド１の散乱部６に代えて、凹凸部１５ａ、１５ｂ（凹凸）を形成したものである。
凹凸部１５ａは、図４（ａ）に示すように、開口７ａに位置する有機ＥＬ層５に設けられ、凹部の深さが、０．２μｍ〜２０μｍ、より好ましくは０．４μｍ〜５．０μｍとされる。
図４（ａ）は模式図のため、断面山形状に描かれているが、凹凸が形成されていれば、断面形状は山形に限定されるものではない。例えば凹部がＵ字溝状であってもよいし、凸部が曲面から構成されていてもよい。また凹凸部１５の平面視の形状は、線状につながっていてもよいし、点状に分散されていてもよい。
また本変形例の凹凸部１５ａは、同様の形状の凹凸部１５ｂがガラス基板２上に形成され、反射層３ａ、クラッド層３ｂ、ＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５のそれぞれに同様の凹凸が形成されている。
【００６２】
このような凹凸部１５ａ、１５ｂを製作するには、まず、ガラス基板２に凹凸部１５ｂの凹部を形成する部分以外を耐フッ酸性のレジストで覆うようにパターニングし、フッ酸にてエッチング処理を行う。この結果、レジストで覆われない部分のガラス基板２がエッチングされ、凹型に浸食される。
この後、レジストを剥離し、第１の実施形態と同様にして、反射層３ａ、クラッド層３ｂ、ＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５を形成する。
その結果、これら各層がガラス基板２上の凹凸に沿って略平行に形成され、凹凸部１５ａが形成される。
【００６３】
本変形例の散乱手段である凹凸部１５ａ、１５ｂの作用について説明する。
図５は、本発明の第１の実施形態の第４変形例の光記録ヘッド１の作用について説明するための層厚方向断面の模式説明図である。
【００６４】
図３の場合と同様、簡単のために、ＩＴＯ電極４、有機ＥＬ層５の境界面で屈折、反射が起こらないとして説明する。
図５に示すように、クラッド層３ｂ（反射層３ａ）、アルミ電極７に対して比較的大きな入射角θ１で入射することにより、それらの間で反射を繰り返しながら発光層内を伝搬して定常的な反射光路を形成する光線Ｒ４、Ｒ５を考える。
これら光線Ｒ４、Ｒ５は、凹凸部１５ａ、１５ｂが存在しない場合には、開口７ａに到達する機会が少ないか、到達しても全反射される可能性が高い（図示破線）。
【００６５】
一方、本実施形態の場合、ガラス基板２に凹凸部１５ｂ、有機ＥＬ層５の表面に凹凸部１５ａが形成されるので、光線Ｒ４、Ｒ５でも、入射角が小さくなる確率が高くなる。
例えば光線Ｒ４は、開口７ａの傾斜面に対して入射角θ３（ただし、θ３＜θ１）で入射するため、開口７ａから光線Ｐ４として出射される。また、例えば光線Ｒ５は、クラッド層３ｂ（反射層３ａ）に対して入射角θ４（ただし、θ４＜θ１）で入射するため、光路が層厚方向側に変換され、開口７ａから出射される。また、出射後、凹凸部１５ａの表面で再反射される場合もある。
このように、凹凸部１５ａ、１５ｂにより、開口７ａの下方で記録光９ｂが散乱され、開口７ａから記録光９ａとして出射される割合が増大するものである。
逆に、凹凸部１５ａ、１５ｂがなければ記録光９ａとして出射されていた光の一部が全反射されて光導波層内に戻る場合も生じるが、それが引き続いて全反射される確率は少ないので、全体としては散乱効果が生じて記録光９ａが増大する。
【００６６】
本変形例では、凹凸部１５ａ、１５ｂの凹部の深さやピッチを可変することにより、散乱の仕方を適宜に設定できるという利点がある。
なお、本変形例では、凹凸部１５ａ、１５ｂがともに形成された場合で説明したが、いずれか一方のみが形成されていてもよい。その場合でも散乱手段となり得るのは明らかである。
【００６７】
次に、本実施形態の第６変形例について説明する。
図４（ｂ）は、本発明の第１の実施形態の第６変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図１（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面視の模式説明図である。
【００６８】
本変形例は、散乱手段として、第４変形例の凹凸部１５ａ、１５ｂに代えて、凹部のみの凹穴部１６ａ、１６ｂを備えたものである。
凹穴部１６ａは、図４（ｂ）に示すように、開口７ａの下方の有機ＥＬ層５に、０．２μｍ〜２０μｍ、より好ましくは０．４μｍ〜５．０μｍ程度の凹部を形成したものである。凹部の形状は、例えば球面などの滑らかな曲面でもよいが、特にそれに限定されるものではなく適宜の曲面または平面の集まりでもよい。また、表面が滑らかでなくてもよい。
そして、凹凸部１５ａと同様にガラス基板２の表面を窪ませて凹穴部１６ｂを形成し、反射層３ａ、クラッド層３ｂ、ＩＴＯ電極４もともに凹型としている。
【００６９】
本変形例によれば、凹穴部１６ａにより、有機ＥＬ層５の境界面が傾斜するので、第４変形例と同様にして、記録光９ｂが開口７ａに向けて透過しやすくなる。また、凹穴部１６ｂが形成されることにより、反射層３ａ、クラッド層３ｂが凹型に形成されるので、そこへ入射する記録光９ｂが凹部の曲率に応じて反射、散乱され、凹部がない場合に比べて開口７ａに向かう光の光量が増大する。
そして、本変形例によれば、簡素な形状を備えるので、製造が容易となるという利点がある。また、多重反射による光量損失を低減できるという利点がある。
【００７０】
［第２の実施形態］
次に、本発明の第２の実施形態に係る画像形成装置について説明する。
図６は、本発明の第２の実施形態に係る画像形成装置の主要部の構成について説明するための模式説明図である。
【００７１】
本実施形態の光プリンタ１００（画像形成装置）は、１成分非接触現像方式による電子写真を用いて、印字媒体２８上に印字するための装置であり、その主要部は、図６に示すように、感光ドラム２０（感光体）、帯電ローラ２１、光記録ヘッド２００（露光手段）、現像器３０（現像手段）、転写ローラ２７、信号処理部３１、および電源部１８からなる。
【００７２】
感光ドラム２０は、表面に光導電性の感光体層が形成され一定の波長範囲に波長感度を有する光記録面を備える円筒ドラムであり、不図示の駆動手段により、図示矢印の方向に回転駆動される。
帯電ローラ２１は、感光ドラム２０に当接して回転する導電性ゴムローラであり、ローラ軸が不図示の高圧電源に電気的に接続され、感光ドラム２０の表面を均一に帯電させるものである。
【００７３】
光記録ヘッド２００の概略構成は、記録光を光記録面上に所定スポット径で結像するレンズ１ａ（集光素子）、記録部１７、駆動制御部１９からなり、信号処理部３１から送出される画像信号により各発光源から発光される記録光を光記録面である感光ドラム２０に照射する露光手段である。
記録光の露光部分は、感光体層の電荷が放電されるので、画像信号に対応して分布する露光部分と非露光部分とによる表面電位の差が記録され、いわゆる静電潜像が形成される。露光位置は、帯電ローラ２１の下流側の所定位置に設けられる。
記録光の波長は、可視光域の適宜の波長範囲とすることができるが、例えば５５０ｎｍ近辺の周波数とすることができる。感光ドラム２０の波長感度をその範囲に持たせることは容易である。
【００７４】
光記録ヘッド２００は、第１の実施形態に記載された光記録ヘッド１のすべての構成、あるいはそれらを適宜組み合わせた構成を採用することができる。
各開口７ａは、例えば、光記録面の画素密度に合わせたピッチで、直線状に配置することができる。
レンズ１ａは、例えば合成樹脂のモールド成形品などをからなるレンズアレイなどを採用することができる。そして、各レンズの光軸を記録部１７の開口７ａ…の中心に配置した状態で、ガラス基板２上の非回路領域に設けられた取付領域に、例えば接着などにより固定されている。
【００７５】
現像器３０は、例えば帯電極性が負であるトナー２６を帯電させて、感光ドラム２０上にされた静電潜像を可視化するための機構であり、露光位置の下流側に感光ドラム１に近接して設けられている。その概略構成は、導電性ゴムローラからなる現像ローラ２２、現像ローラ上に帯電されたトナー２６の薄層を形成する現像ブレード２３、現像ローラ２２にトナー２６を供給する供給ローラ２４、トナー２６を摩擦帯電させて供給ローラ２４に搬送する攪拌翼２５からなる。
現像ローラ２２には、感光ドラム２０との一定の隙間を確保するためのキャップスペーサカラー２９が設けられ、またトナー２６を静電潜像へ選択的に移動させる電界を得るため、不図示の高圧電源に電気的に接続されている。
【００７６】
転写ローラ２７は、現像器３０の下流に設けられ、印字媒体２８が到達したタイミングで転写電圧を印加し、感光ドラム２０上で現像されたトナー像（可視像）を印字媒体２８側に静電吸着するための導電性ローラである。そして、不図示の高圧電源に電気的に接続されている。
【００７７】
このような構成によれば、信号処理部３１から送出される画像信号に応じて、光記録ヘッド２００の各発光源を点灯制御して、感光ドラム２０上に静電潜像を形成し、現像器３０により現像することができる。そしてそのトナー像を転写ローラ２７により印字媒体２８に転写し、不図示の定着手段により定着して、画像形成を行うことができる。
本実施形態の光プリンタ１００によれば、第１の実施形態の光記録ヘッドの構成を有する光記録ヘッド２００を用いるので、第１の実施形態に係る光記録ヘッドの作用効果を有する画像形成装置とすることができる。
【００７８】
なお、上記の説明では、ベース基板と第２の電極との間にクラッド層および反射層のいずれかを配置した例で説明したが、ベース基板への漏れ光が許容範囲であれば、両方とも省略してもよい。
【００７９】
また、上記の説明では、開口を光反射性の電極に設けた例で説明したが、透明電極を有する場合、透明電極の上に光反射層を設け、その光反射層に開口を設ける構成としてもよい。
【００８０】
また、上記の説明では、開口を所定ピッチだけ離して直線的に配置した例で説明したが、開口はベース基板の板面に沿う方向に設けられるので、回路パターンを適宜レイアウトすることにより２次元的に配置してもよい。例えば、千鳥状に配置したり、複数列で直線的に延はしたりする配置などでもよい。
【００８１】
また、上記の説明では、各散乱手段を個別に設けた例で説明したが、可能ならば、これら散乱手段を組み合わせた構成としてもよい。
【００８２】
また、上記の説明では、第２の電極として、透明電極を用いたため、光導波層を発光層と透明電極で構成する例で説明したが、第１、第２の電極で挟まれる発光層を含む層が光導波可能であれば、第２の電極が光反射性の電極から構成されていてもよい。
また、上記の説明では、発光層が有機ＥＬ層からなる場合で説明したが、そのような構成に限定されるものではなく、面発光できる発光層であれば他の構成も採用できる。例えば、無機ＥＬなどでもよい。
【００８３】
また、上記の説明では、透明電極として、ＩＴＯを用いた例で説明したが、材質はＩＴＯに限定されるものではない。例えば、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）なども好適に採用できる。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光記録ヘッドの主要部の構成について説明するための平面視の模式説明図、そのＡ−Ａ断面図およびＢ−Ｂ断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態およびその第１〜第４変形例に係る光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図１（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面視の模式説明図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る光記録ヘッド１の作用について説明するための層厚方向断面の模式説明図である。
【図４】本発明の第１の実施形態の第５および第６変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図１（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面視の模式説明図である。
【図５】本発明の第１の実施形態の第５変形例の光記録ヘッド１の作用について説明するための層厚方向断面の模式説明図である。
【図６】本発明の第２の実施形態に係る画像形成装置の主要部の構成について説明するための模式説明図である。
【符号の説明】
【００８５】
１  光記録ヘッド
２  ガラス基板（ベース基板）
３ａ  反射層
３ｂ  クラッド層
４  ＩＴＯ電極（第２の電極）
５  有機ＥＬ層（発光層）
６  散乱部（散乱手段）
７  アルミ電極（第１の電極）
７ａ  開口
９ａ、９ｂ  記録光
１１  粒状体（散乱手段）
１２  蛍光体粒子（散乱手段）
１３、１４  回折格子（散乱手段）
１５ａ、１５ｂ  凹凸部（凹凸）
１６ａ、１６ｂ  凹穴部（凹凸）
１７  記録部
１８  電源部
１９  駆動制御部
２０  感光ドラム（感光体）
３０  現像器（現像手段）
３１  信号処理部
６０  拡散層（散乱手段）
１００  光プリンタ（画像形成装置）
２００  光記録ヘッド（露光手段）
【図１】
2006167985.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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