(57)【要約】【課題】小型軽量で信頼性の高い走査型露光用光源ユニットを提供する。【解決手段】走査型露光用光源ユニットは、基板上の露光面に対して平行に相対移動をしながら露光面に光を照射する。光源ユニットは、複数の光源を備える。複数の光源は、相対移動の方向を横切る方向に沿って配列される。各々の光源は、発光ユニット１を含む。発光ユニット１は、少なくとも一つの半導体面発光素子５を有する。複数の半導体面発光素子５を六角形に集合させ、発した光を光学六角柱６に入射させると、照度が均一な六角形の照射領域が露光面上に得られる。【選択図】図１
2006186302.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の露光面に対して平行に相対移動をしながら該露光面に光を照射する走査型露光用光源ユニットにおいて、
前記相対移動の方向を横切る方向に沿って配列された複数の光源を含み、
前記光源のそれぞれが、少なくとも一つの半導体面発光素子を有する発光ユニットを備える、
走査型露光用光源ユニット。
【請求項２】
前記光源のそれぞれが、平面状に集合させた複数の半導体面発光素子を有する発光ユニットを備える、請求項１に記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項３】
前記光源のそれぞれが、前記発光ユニットから発せられる光を前記露光面に導くための光学系をさらに備えている、請求項１または２に記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項４】
前記光学系が、前記発光ユニットに一端を近接して配置された光学多角柱にして、前記発光ユニットからの光を前記一端に入射され且つ照度を均一にした光を他端から出射する光学多角柱と、該光学多角柱の前記他端から出射した光を集光させる集光レンズと、を含む、請求項３に記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項５】
前記光学多角柱が光学六角柱であり、前記発光ユニットにおける前記少なくとも一つの半導体面発光素子の全体の形が六角形に近似している、請求項４に記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項６】
前記光学系が、前記集光レンズから受けた光を平行光にするためのレンズをさらに含む、請求項４または５に記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項７】
前記光学系が、前記集光レンズから受けた光を平行光にするための凹面鏡をさらに含む、請求項４または５に記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項８】
前記凹面鏡が、前記光学多角柱および前記集光レンズの光軸と共通の光軸を有している、請求項７に記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項９】
前記複数の光源からの光による前記露光面上の複数の照射領域が、前記相対移動の方向に沿って見たときに、隣接するものどうしの間で互いに一部が重なり合うようになされており、
走査型露光用光源ユニットが前記相対移動をしながら前記露光面に光を照射するときに、前記露光面上で前記相対移動の方向に直交する方向に沿って露光量が均一になるように、前記照射領域の形状および前記重なり合う一部の面積があらかじめ定められている、請求項１ないし８のいずれかに記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項１０】
前記相対移動が往復相対移動であり、往路および復路の双方において前記複数の光源から前記露光面に光を照射するようになされている、請求項１ないし９のいずれかに記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項１１】
前記復路における照射領域の経路が、前記往路における照射領域の経路に対して、互いに隣接する前記照射領域間のピッチの半分だけ平行移動した位置となるようになされている、請求項１０に記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項１２】
前記複数の光源からの光による前記露光面上の複数の照射領域が、前記相対移動の方向を横切る方向に沿って互いに等間隔ピッチで位置づけられるようになされており、
前記相対移動が往復相対移動であり、往路および復路の双方において前記複数の光源から前記露光面に光を照射するようになされており、前記復路における前記照射領域の経路が、前記往路における前記照射領域の経路に対して、前記ピッチの半分だけ平行移動した位置となるようになされており、
前記往路における前記複数の照射領域と前記復路における前記複数の照射領域とが、前記相対移動の方向に沿って見たときに、隣接するものどうしの間で互いに一部が重なり合うようになされており、
前記照射領域の形状および前記重なり合う一部の面積は、走査型露光用光源ユニットが前記往復相対移動をしながら前記露光面に光を照射するときに、前記露光面上で前記相対移動の方向に直交する方向に沿って露光量が均一になるようになされている、
請求項１ないし８のいずれかに記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項１３】
二つの露光ステーションにおけるそれぞれの基板の露光面に対して交互に前記相対移動を行うことができる、請求項１ないし１２のいずれかに記載の走査型露光用光源ユニット。
【請求項１４】
前記露光面が基板の両面に形成されており、これらの露光面を同時に露光するために、各露光面に対して１ユニットずつ設けられ、これらのユニットが前記相対移動可能となされている、請求項１ないし１３のいずれかに記載の走査型露光用光源ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、走査型の露光処理に用いられる光源ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
基板の表面に形成された感光膜（フォトレジスト）の露光面に、パターン（例えば電気回路）が描かれたフォトマスクを通して光源からの光を照射することによって、パターンを感光膜上に転写することができる。
【０００３】
照射面積が小さい光源を用いて大きな基板を露光処理する場合、複数の光源を列にして並べて形成した光源ユニットを用いた走査型露光が行われる。光源ユニットは、露光面の一辺の寸法全体にわたる細長い領域を照射することができる。この光源ユニットが基板の露光面に対して平行に相対移動しながら露光面を連続的に照射することにより、露光面全体に対して露光が行われる。従来、かかる走査型露光に用いられる光源ユニットの個々の光源には、発光体として水銀ランプ等のランプが用いられていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光用光源の発光体として用いられるこの種のランプは、高出力の製品が容易に製作できる反面、いくつかの欠点がある。まず、ランプからの光は広角度で放射されるため、この光をいったん集光するための凹面鏡が必要になる。したがって、露光に適した光（理想的には平行光）を作り出すまでの光路が長くなる。また、ランプは発熱量が大きいので、高出力になるほど冷却のための負荷も大きくなる。さらに、電気スイッチのオン・オフでランプの発光を制御することはできないので、迅速に作動するシャッター機構が必要となる。
【０００５】
さらに言えば、上記の理由から、個々の光源を小型化するのは難しく、複数の光源から形成される光源ユニットもまた、大型で複雑な構造となる。  また、ランプは使用時の内圧が高くなるため破裂する危険性がある。寿命も比較的短い。
【０００６】
なお、一つの高出力のランプを発光体として用い、光ファイバ等で光を分配することによって複数の光源を形成する方式も提案されているが、大型で複雑な構造であることなど、同様の欠点を有する。
【０００７】
そこで本発明の課題は、従来のランプの持つ欠点が解消された、走査型露光用光源ユニットを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明によれば、
基板上の露光面に対して平行に相対移動をしながら該露光面に光を照射する走査型露光用光源ユニットにおいて、
前記相対移動の方向を横切る方向に沿って配列された複数の光源を含み、
前記光源のそれぞれが、少なくとも一つの半導体面発光素子を有する発光ユニットを備える、
走査型露光用光源ユニットが提供される。
【０００９】
前記光源のそれぞれは、平面状に集合させた複数の半導体面発光素子を有する発光ユニットを備えるようにしてもよい。
前記光源のそれぞれが、前記発光ユニットから発せられる光を前記露光面に導くための光学系をさらに備える構成とすることができる。
【００１０】
前記光学系は、前記発光ユニットに一端を近接して配置された光学多角柱にして、前記発光ユニットからの光を前記一端に入射され且つ照度を均一にした光を他端から出射する光学多角柱と、該光学多角柱の前記他端から出射した光を集光させる集光レンズと、を含むことができる。
【００１１】
前記光学多角柱を光学六角柱とし、前記発光ユニットにおける前記少なくとも一つの半導体面発光素子の全体の形を六角形に近似した形にしてもよい。
前記光学系は、前記集光レンズから受けた光を平行光にするためのレンズをさらに含むことができる。
【００１２】
あるいはまた、前記光学系は、前記集光レンズから受けた光を平行光にするための凹面鏡をさらに含むことができる。
前記凹面鏡は、前記光学多角柱および前記集光レンズの光軸と共通の光軸を有するものとしてもよい。
【００１３】
前記複数の光源からの光による前記露光面上の複数の照射領域が、前記相対移動の方向に沿って見たときに、隣接するものどうしの間で互いに一部が重なり合うようになされており、
走査型露光用光源ユニットが前記相対移動をしながら前記露光面に光を照射するときに、前記露光面上で前記相対移動の方向に直交する方向に沿って露光量が均一になるように、前記照射領域の形状および前記重なり合う一部の面積があらかじめ定められている構成とすることができる。
【００１４】
前記相対移動が往復相対移動であり、往路および復路の双方において前記複数の光源から前記露光面に光を照射するようにしてもよい。
この場合において、前記復路における照射領域の経路が、前記往路における照射領域の経路に対して、互いに隣接する前記照射領域間のピッチの半分だけ平行移動した位置となるようにしてもよい。
【００１５】
別の実施態様の走査型露光用光源ユニットにおいては、前記複数の光源からの光による前記露光面上の複数の照射領域が、前記相対移動の方向を横切る方向に沿って互いに等間隔ピッチで位置づけられるようになされており、
前記相対移動が往復相対移動であり、往路および復路の双方において前記複数の光源から前記露光面に光を照射するようになされており、前記復路における前記照射領域の経路が、前記往路における前記照射領域の経路に対して、前記ピッチの半分だけ平行移動した位置となるようになされており、
前記往路における前記複数の照射領域と前記復路における前記複数の照射領域とが、前記相対移動の方向に沿って見たときに、隣接するものどうしの間で互いに一部が重なり合うようになされており、
前記照射領域の形状および前記重なり合う一部の面積は、走査型露光用光源ユニットが前記往復相対移動をしながら前記露光面に光を照射するときに、前記露光面上で前記相対移動の方向に直交する方向に沿って露光量が均一になるようになされているようにしてもよい。
【００１６】
一つの走査型露光用光源ユニットが二つの露光ステーションにおける基板のそれぞれの露光面に対して交互に前記相対移動を行うことができるようにしてもよい。
前記露光面が基板の両面に形成されている場合、これらの露光面を同時に露光するために、走査型露光用光源ユニットを各露光面に対して１ユニットずつ設け、これらのユニットが前記相対移動可能としてもよい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の走査型露光用光源ユニットによれば、少なくとも一つの半導体面発光素子を有する発光ユニットをランプに代えて使用することにより、狭角度での発光が得られ、集光のための凹面鏡は必要なくなる。したがって光路も短くてすむ。また、本発明における発光ユニットはランプに比べて小型軽量であり、組み立ても容易である。さらに、発熱量が極めて小さいので、冷却のための負荷も小さい。また、電気スイッチ操作により発光を瞬時にオン・オフすることができるので、シャッター機構を設ける必要がない。
【００１８】
また、上記の理由から、個々の光源ひいては光源ユニットを、簡素な構造を有する小型で軽量なものとすることができる。したがってまた、走査時の駆動も小さな負荷で信頼性高く行うことができる。
【００１９】
さらに、半導体面発光素子はランプに比べて長寿命であり、破損の可能性も小さい。シャッター機構も不要である。したがって、故障の可能性は低い。
もし、一つの発光ユニットに一つの半導体面発光素子では必要な出力が得られないようであれば、複数の半導体面発光素子を平面状に集合させることによって補うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
図１（ａ）および（ｂ）は、本発明による走査型露光用光源ユニットの一実施態様に用いられる光源の発光ユニット１を示す。発光ユニット１は、金属製のベース２を含む。ベース２は、長さが約１０ｍｍの短辺３と長さが約２０ｍｍの長辺４とで囲まれた上面を有する。この上面に半導体面発光素子５が平面状に集合した状態で配置される。図１（ａ）および（ｂ）に示した実施態様では、半導体面発光素子５が１２個配列されている。半導体面発光素子５として、面発光ダイオード、面発光レーザ、その他の半導体面発光素子を利用することができる。
【００２１】
発光ユニット１の半導体面発光素子５に近接して、光学六角柱６が配置される。面発光素子５からの光は、光学六角柱６の一端に入射し、その内部で乱反射することにより照度を均一化され、六角形の断面を有する光として光学六角柱６の他端から出射する。光学六角柱６は、他の形状の光学多角柱に置き換えても良いが、本実施態様では露光面で正六角形の照射領域を得るために光学六角柱６を使用している。
【００２２】
複数の面発光素子５は、光学六角柱６の端面形状に合わせて、正六角形に近似した形に配置されている。こうすることにより、光の有効使用率を高くすることができる。
図１（ｃ）は、大きめの光学六角柱６’の端面形状に合わせて２１個の面発光素子５を正六角形に近似した形に配置した例を示す。図１（ａ）および（ｂ）の実施態様に比べて高出力の発光ユニットが得られる。
【００２３】
図１（ｄ）は、光学四角柱７を用いた場合の面発光素子５の配置を示す。この例の場合、断面四角形の照射領域が得られる。
図２は、本発明による走査型露光用光源ユニットに用いられる光源の一例を示す。光源８は、発光ユニット１と、一端を発光ユニットに近接するようにして配置された光学六角柱６と、光学六角柱６の他端に近接して配置された集光レンズ９とを含む。発光ユニット１から出射した光は光学六角柱６の一端に入射し、照度を均一にされて光学六角柱６の他端から出射し、集光レンズ９に入射する。集光レンズ９から出射した光１０は、パターンが描かれたフォトマスク１１を通して基板１２の露光面に照射される。発光ユニット１から発せされる光を基板１２の露光面に導くための光学系を構成する光学六角柱６と集光レンズとは、共通の光軸を有している。光１０は非平行光であるが、高解像度が要求されない露光処理においては非平行光が利用可能である。この光源８は、光学系の構成が簡素なので安価に製作できる。
【００２４】
図３は、光源の別の例を示す。図３の光源１３が、図２の光源８と異なる点は、光学系にレンズ１４が追加されていることである。光学六角柱６および集光レンズ９と共通の光軸を有するレンズ１４は、集光レンズ９から出射した非平行光を平行光１５にする。この光源１３は、基板１２の露光面に平行光を照射することができるので、高解像度が要求される露光に適している。高解像度を得るための光は、平行度が６度以内、露光面に対する直角度が３度以内、照度の均一性が１５パーセント以内の光質を有することが望ましい。
【００２５】
本発明による走査型露光用光源ユニットは、図２または図３に示す光源８または１３を複数個用意し、これらを配列して構成される。複数の光源は、基板１２上の露光面に対して平行に光源ユニットが相対移動する方向を横切る方向に沿って配列される。図４は、このようにして構成された走査型露光用光源ユニット１６の各光源から基板１２上の露光面に照射された領域１７を示す。光源ユニット１６の各光源の位置は、各照射領域１７の位置に対応していると考えてよい。すなわち、光源ユニット１６には、８個の光源が光源ユニット１６の相対移動方向を横切る方向に沿ってジグザグに配列されている。矢印は光源ユニット１６の相対移動方向を示す。
【００２６】
図４に示すように、露光面におけるそれぞれの照射領域１７は、正六角形をしており、平面図で見たときは互いに分離しているが、光源ユニットの相対移動方向に沿って見たときは、隣接するものどうしの間で互いに距離Ｓの分だけ重なり合うようになっている。距離Ｓで画成される照射領域１７の端部分は三角形をしており、距離Ｔで画成される照射領域１７の中央部分は矩形をしている。照射領域１７の形を正六角形にし、且つ、互いに隣接する照射領域１７の三角形の端部分を、光源ユニット１６の相対移動の方向に沿って見たときに重なり合うようにしたことにより、光源ユニット１６が露光面に対して相対移動しながら露光面に光を照射するときに、相対移動の方向に直交する方向に沿って露光量を均一にすることができる。
【００２７】
光学四角柱を用い、照射領域１７の形状を四角形にした場合も、同様にして露光量の均一化を図ることができる。
図５は、光学系に凹面鏡を使用した光源の例を示す。光源１８は、上ビーム１９、下ビーム２０、および上下ビーム１９，２０間を連結する一対の支持柱２１を有している。光源１８の光学系は、支持部材２２によって支持された光学六角柱６および集光レンズ９に加えて、一対の支持柱２１に支持された凹面鏡２３を備えている。凹面鏡２３は、光学六角柱６および集光レンズ９と共通の光軸を有している。発光ユニット１から発せられた光は、光学六角柱６の下端に入射し、照度を均一にされてから光学六角柱６の上端から出射し、集光レンズ９に入射する。集光レンズ９から出射した光は、凹面鏡２３によって平行光２４にされ、基板上の露光面へと導かれる。
【００２８】
図５に示す光源１８が作り出す平行光２４は、下ビーム２０によって遮られるため、露光面上の照射領域２５には影の部分２６が生じる。光の回り込みがあるため、影の部分２６は照度ゼロにはならず、低照度の領域となる。
【００２９】
図６は、図５の光源１８を複数個配列して構成した走査型露光用光源ユニット２７と、それによって露光面に作り出された照射領域２５とを示す。正六角形の照射領域２５の、距離Ｓで画成される三角形の端部分が、互いに隣接する照射領域どうしの間で重なり合うことにより露光量の均一化を図っていることは図４の場合と同様である。矢印は光源ユニット２７の相対移動方向を示す。
【００３０】
図７は、光学系に凹面鏡を使用した光源の別の例を示す。光源２８の光学系は、六角柱６および集光レンズ９に加えて、平面鏡２９および凹面鏡３０を備えている。集光レンズ９から出射した光は平面鏡２９で反射され、さらに凹面鏡３０で平行光３１にされて露光面へと導かれる。平面鏡２９および凹面鏡３０の光軸は、光学六角柱６および集光レンズ９の光軸とは一致していない。平行光３１を遮る物は無いので、露光面上に形成される照射領域には図５（ｃ）に見られるような影の部分２６は生じない。すなわち、照射領域内の照度は均一になるので、露光量の均一化も達成しやすい。しかしながらこの光源２８は、図５の光源１８に比べて構造が複雑で大型になる。
【００３１】
本発明による走査型露光用光源ユニットを用いて走査型露光を行う場合、光源ユニットが停止する位置は、フォトマスクの位置合わせ用のカメラなどの邪魔にならない位置であることが望ましい。したがって、このような理想の待機位置を走査開始位置とする光源ユニットは、走査露光が終了したならば再び同じ待機位置に復帰することが好ましい。このように光源ユニットが露光面に対して往復相対移動する場合、往路または復路においてのみ光を照射してもよいが、むしろ往路および復路の双方において露光面に照射することが望ましい。光源ユニットが光を照射せずに相対移動する無駄な時間を省略できるからである。
【００３２】
光源ユニットが往路および復路の双方において露光面に照射する場合、光源ユニットの復路の位置が、往路の位置に対して、互いに隣接する照射領域間のピッチＰ（図４および図６参照）の半分だけ平行移動した位置となるようにすることが望ましい。そうすることにより、露光量の均一化をさらに図ることができるからである。
【００３３】
図８は、二つの露光ステーションにおける基板の露光面に対して交互に相対移動を行うことのできる走査型露光用光源ユニットを示す。一台の走査型露光用光源ユニット３２は、８個の光源３２ａを備えており、Ａ、ＢおよびＣの三カ所の位置をとることができる。中間位置Ｂを待機位置すわなち開始位置とする光源ユニット３２は、中間位置Ｂと位置Ａとの間を往復移動する間に第１の露光ステーション（Ｉ）における基板３３の露光面に光３４を照射することにより、フォトマスク３５上に描かれたパターンを基板３３に転写する。次に、光源ユニット３２が中間位置Ｂと位置Ｃとの間を往復移動する間に第２の露光ステーション（ＩＩ）における基板３６を照射することにより、フォトマスク３７上に描かれたパターンが基板３６に転写される。
【００３４】
照射は、往路または復路においてのみ行ってもよいが、往路および復路の双方において行う方が望ましい。前述したように、光源ユニットが光を照射せずに相対移動する無駄な時間を省略できるからである。往路および復路の双方において照射を行う場合、前述したように、光源ユニットの復路の位置を、往路の位置に対して、互いに隣接する照射領域間のピッチＰ（図４および図６参照）の半分だけ平行移動した位置となるようにし、露光量の均一化を図ることが望ましい。
【００３５】
露光ステーション（Ｉ）および（ＩＩ）にそれぞれ別の基板を置いて上述したように露光処理を行ってもよいが、１枚の基板の表裏両面をそれぞれ露光ステーション（Ｉ）および（ＩＩ）で露光処理するようにしてもよい。この場合、露光ステーション（Ｉ）で一方の露光面を処理された基板は、反転して露光ステーション（ＩＩ）へと移送され、そこで他方の露光面を処理される。
【００３６】
図９は、基板の表裏両面に形成された露光面を同時に露光処理するための実施態様を示す。この実施態様では、８個の光源３８ａを備える走査型露光用光源ユニット３８が、基板３９の表側および裏側にそれぞれ対応して１ユニットずつ設けられる。基板３９の表裏両面には露光面が形成されている。これらの露光面に転写すべきパターンを描かれたフォトマスク４０および４１が、それぞれの露光面に近接または接触して配置される。二つの光源ユニット３８，３８は、それぞれ個別に移動可能としてもよいし、互いに同期して移動するようにしてもよい。二つの光源ユニット３８，３８が位置Ａと位置Ｂとの間を同時に往復相対移動する間に、基板３９の表裏の露光面に光４２が照射され、それぞれのフォトマスク４０，４１に描かれたパターンが基板３９の両面に転写される。光の照射は、往路または復路のみにおいて行ってもよいし、往路および復路の双方において行ってもよい。
【００３７】
図９の実施態様は、表裏両面にパターンを形成する、多層プリント配線基板の内層板の露光処理に適している。２枚のフォトマスク４０，４１を互いに位置合わせした状態で露光処理できるので、基板３９の両面におけるパターンどうしを容易に整合させることができる。
【００３８】
図１０に示す別の実施態様は、先に述べた実施態様の半分の数の光源を有する。４個の光源を有する走査型露光用光源ユニット４２は、基板４３の露光面に対して平行に、位置Ａと位置Ｂとの間を往復相対移動する。光源ユニット４２が位置Ａと位置Ｂとの間を往復相対移動する間、光源からは基板４３の露光面に対して光が照射され、露光面には４つの照射領域４４が形成される。４つの照射領域４４は、それぞれが正六角形をしており、光源ユニット４２の往復相対移動の方向を横切る方向に沿って互いに等間隔ピッチＰで一列に位置づけられている。
【００３９】
光源ユニット４２が位置Ａと位置Ｂとの間を往復相対移動するときの照射領域４４の移動経路を、矢印ａ，ｂ，ｃ，ｄで示す。経路ｂ、ｄの長さは、ピッチＰの半分とされる。すなわち、復路における照射領域４４の経路ｃは、往路における照射領域４４の経路ａに対して、ピッチＰの半分だけ平行移動した位置となる。
【００４０】
往路における照射領域４４と復路における照射領域とを、光源ユニット４２の往復相対移動の方向すなわち照射領域４４の経路ａおよびｃに沿って見ると、互いに隣接する正六角形の照射領域４４どうしの間で互いに距離Ｓの分だけ重なり合うようになっている。図４に関して説明したのと同様に、距離Ｓで画成される照射領域の端部分は三角形をしており、距離Ｔで画成される中央部分は矩形をしている。
【００４１】
照射領域４４をこのように構成配置することにより、光源ユニット４２が往復相対移動しながら露光面に光を照射するときの、露光面上における往復相対移動の方向に直交する方向に沿った露光量を均一にすることができる。
【００４２】
４個の光源を一列に配置して設けた図１０の光源ユニットは、８個の光源を２列に配置して設けた先の実施例の光源ユニットに比べて、より小型軽量とすることができる。
以上に、本発明の走査型露光用光源ユニットのいくつかの実施態様を、それを用いた露光方法とともに説明したが、ある実施態様で説明した特徴は、他の実施態様においても適用可能である。
【００４３】
また、光学系におけるレンズとして一枚のレンズを図示して説明したが、これは複数枚のレンズの組み合わせに置き換えることもできる。
また、上述した実施態様では、平面状に集合した状態で配置された複数の半導体面発光素子がそれぞれの発光ユニットに含まれる例を説明したが、それぞれの発光ユニットは、十分な出力を有する半導体面発光素子を一つだけ含むようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】（ａ）は本発明による走査型露光用光源ユニットの一実施態様に用いられる光源の発光ユニットの平面図、（ｂ）は同じく側面図、（ｃ）は数を増やした面発光素子を六角面状に配列した別の例を示す平面図、（ｄ）は面発光素子を四角面状に配列した例を示す平面図。
【図２】本発明による走査型露光用光源ユニットの一実施態様に用いられる光源の一例を示す概略側面図。
【図３】本発明による走査型露光用光源ユニットの一実施態様に用いられる光源の別の例を示す概略側面図。
【図４】本発明による走査型露光用光源ユニットの一実施態様により露光面に照射される光の領域のパターンを示す概略平面図。
【図５】（ａ）は本発明による走査型露光用光源ユニットの一実施態様に用いられる光源のさらに別の例を示す概略側面図、（ｂ）は（ａ）におけるＡ−Ａ矢示図、（ｃ）は（ａ）に示す光源によって露光面に照射される光の領域を示す概略平面図。
【図６】図５（ａ）に示した光源を複数個配列して構成された光源ユニットにより作り出される照射領域のパターンを示す、図４と同様な概略平面図。
【図７】本発明による走査型露光用光源ユニットの一実施態様に用いられる光源のさらに別の例を示す概略側面図。
【図８】（ａ）は二つの露光ステーションで用いられる、本発明による走査型露光用光源ユニットの一実施態様を示す概略平面図、（ｂ）は同じく概略側面図。
【図９】（ａ）は基板の表裏両面に形成された露光面を同時に露光処理するための、本発明による走査型露光用光源ユニットの一実施態様を示す概略平面図、（ｂ）は同じく概略側面図。
【図１０】本発明による走査型露光用光源ユニットの別の実施態様により露光面に照射される光の領域のパターンを示す概略平面図。
【符号の説明】
【００４５】
１  発光ユニット、２  ベース、３  ベースの短辺、４  ベースの長辺、５  半導体面発光素子、６  光学六角柱、７  光学四角柱、８  光源、９  集光レンズ、１０  光、１１  フォトマスク、１２  基板、１３  光源、１４  レンズ、１５  平行光、１６  走査型露光用光源ユニット、１７  照射領域、１８  光源、１９  上ビーム、２０  下ビーム、２１  支持柱、２２  支持部材、２３  凹面鏡、２４  平行光、２５  照射領域、２６  影の部分、２７  走査型露光用光源ユニット、２８  光源、２９  平面鏡、３０  凹面鏡、３１  平行光、３２  走査型露光用光源ユニット、３２ａ  光源、３３  基板、３４  光、３５  フォトマスク、３６  基板、３７  フォトマスク、３８  走査型露光用光源ユニット、３８ａ  光源、３９  基板、４０  フォトマスク、４１  フォトマスク、４２  走査型露光用光源ユニット、４３  基板、４４  照射領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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