(57)【要約】【課題】  構造が簡単であり、かつ軽量化及び高速回転可能な投射用ロータ、このロータを備えた投射装置並びに研磨方法を提供する。【解決手段】  投射用ロータは、回転可能な円板体１１と、円板体の一方の側面に形成された凹部１２と、凹部の内周壁に形成された周溝と、この周溝から放射状に延び、かつ砥粒Ｐを投射するための断面Ｕ字状又はコ字状投射溝１５とで構成され、溝が形成された円板体１１の側面は開放している。周溝の上端部からは内方へ延出部が延出していてもよく、溝１５の上流側の側壁は、溝の閉じ方向に湾曲又は屈曲していてもよく、溝１５の軸線は、円板体１１の径方向から、円板体１１の回転方向に対して上流方向に５〜３０°の角度で傾斜していてもよい。投射装置は、前記投射用ロータの回転駆動手段と、ロータの開放側面から溝１５に砥粒を供給する供給手段と、ロータの外周に掛け渡され、開放域を除いてロータの外周を閉止するベルト２０を備えている。【選択図】      図５
2006035415.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転可能な円板体と、この円板体の少なくとも一方の側面に形成された凹部と、この凹部から放射方向に延び、かつ砥粒を案内しつつ円板体の周方向の外方へ投射するための溝とで構成されており、これらの溝が形成された円板体の側面のうち少なくとも前記凹部が開放している投射用ロータ。
【請求項２】
凹部を形成する内周壁に、周方向に延びる周溝が形成され、この周溝から放射状に延びる溝が形成されている請求項１記載の投射用ロータ。
【請求項３】
放射方向に延びる溝が断面Ｕ字状又はコ字状に形成されている請求項１記載の投射用ロータ。
【請求項４】
放射方向に延びる溝の周壁のうち、円板体の回転方向に対して少なくとも上流側の側壁が、回転に伴う遠心力に抗して砥粒を保持するための規制部を有している請求項１記載の投射用ロータ。
【請求項５】
放射方向に延びる溝の周壁のうち、円板体の回転方向に対して少なくとも上流側の側壁が、溝の閉じ方向に湾曲又は屈曲した突出部を有している請求項１記載の投射用ロータ。
【請求項６】
放射方向に延びる溝の軸線が、円板体の径方向から、円板体の回転方向に対して上流方向に５〜３０°の角度で傾斜している請求項１記載の投射用ロータ。
【請求項７】
回転可能な円板体の一方の側面に円形状又は同心円状に形成された凹部と、この凹部の内周壁に形成され、かつ周方向に延びる断面Ｕ字状又はコ字状の円周溝と、この円周溝を形成する周壁のうち、底部から開放側へいくにつれて半径方向の内方向に延びる延出部と、前記凹部から放射方向に延び、かつ前記円板体の外周面に至る複数の溝と、この溝を形成する周壁のうち、円板体の回転方向に対して少なくとも上流側で、溝の閉じ方向に湾曲又は屈曲して延出する規制部とを備えており、溝の軸線が、円板体の径方向から、円板体の回転方向に対して上流方向に１０〜２５°の角度で傾斜している請求項１記載の投射用ロータ。
【請求項８】
円板体の外周面に、放射状溝の開口を閉止可能なベルト手段が配置可能な外周凹部が形成され、円板体の外周部のうち開放した凹部側の外周縁部に起立周壁が形成されている請求項１記載の投射用ロータ。
【請求項９】
回転可能に軸支された請求項１〜８のいずれかに記載の投射用ロータと、このロータを回転駆動するための手段と、前記ロータのうち開放された側面に砥粒を供給するための供給手段とを備えており、前記砥粒が前記ロータの外周から外方向に投射可能な投射装置。
【請求項１０】
さらに、ロータの外周に掛け渡され、開放域を除いて前記ロータの外周を閉止するためのベルト手段を備えており、砥粒が前記開放域から投射可能である請求項９記載の投射装置。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれかに記載の投射用ロータを回転させるとともに、前記ロータのうち開放された側面から溝に砥粒を供給し、この砥粒を前記ロータの外周から外方向に被処理体に向けて投射して研磨する方法。
【請求項１２】
ロータの外周に、開放域を除いてベルトを掛け渡して前記ロータの外周を閉止し、砥粒を前記ロータの外周のうち前記開放域から被処理体に向けて投射する請求項１１記載の研磨方法。
【請求項１３】
供給された砥粒を、前記円板体の回転に伴って生成する負圧により吸引しつつ放射状の溝に案内し、放射状の溝を経て円板体の外周から接線方向に前記砥粒を投射する請求項１１記載の研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、砥粒の回転遠心力により金属などの被処理体（又は被研磨材などの被加工材）を効率よく表面処理（研磨処理など）するのに有用な投射用ロータ及びそれを用いた投射装置（又は噴射装置）並びに研磨方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
被研磨材に砥粒を投射して被研磨材の表面を効率よく研磨するため、種々の研磨装置が提案されている。特公表６０−５０１０９４号公報（特許文献１）には、ローラを介して回動可能な無端の特殊ベルトと、自己の外表面に被覆帯を備えていて回転可能な円板とを備え、前記特殊ベルトが被覆帯を部分的に巻回しており、砥材が被覆帯と特殊ベルトで加速可能な様式の砥材吹き付け装置において、被覆帯の外表面が長手方向の溝を有しているとともに、特殊ベルトの内表面が周方向に対して平行に向いた成形部を備えており、この成形部内に特殊ベルトを案内するローラの外表面が相応する成形部で噛み合っている携帯可能な砥材吹き付け装置が開示されている。この装置では、特殊ベルトがローラから滑動して外れることがなく、砥材を対象物に吹き付けることができる。しかし、溝を有する被覆帯などを必要とし、構造が複雑である。
【０００３】
特開平１１−３４７９４５号公報（特許文献２）には、ワークを支持する加工台の下方に砥粒の貯槽を備えた作業室と、複数の羽根を２枚の円板で挟持して羽根間の周面を開放した羽根車にベルトを巻き掛け上記周面一部を閉塞した砥粒の噴射装置と、上記羽根車内に上記円板の一方に設けた投入口を介して上記貯槽から砥粒を搬送するフィーダとを備え、前記羽根車を回転させて砥粒に遠心力を付与し、羽根車周面とベルトとの離点を通る円板の接線方向に上記砥粒をワークに吹き付けるワーク表面の研削装置が開示されている。特開２００１−９６４６４号公報（特許文献３）には、密閉可能な作業室と、この作業室の下部に連設されたホッパと、このホッパから投下筒を介して砥粒の供給を受け、かつ砥粒を上記作業室の内部に噴射する噴射装置とを備えており、この噴射装置が、２枚の円板で複数枚の羽根を挟持した羽根車に、その周面の一部を開放してベルトを巻き掛け、前記羽根車の他方の円板に駆動軸の固定部材から外周に向かって延びる複数の弾き板を設けた研削装置が開示されている。
【０００４】
しかし、これらの研削装置は、羽根車が複数の羽根と、これらの羽根を教示する円板とで構成され、両側面が円板で閉じているため、構造が複雑であるだけでなく、重量が大きく大きな回転動力を必要とする。また、羽根車の両側面が円板で閉じているため、投入口の位置が羽根車の中心位置に制約される。
【０００５】
特開２００３−２０５４６５号公報（特許文献４）には、樹脂一体構造の円板体の軸方向に開口部を形成するとともに、前記円板体の周方向に所定間隔で、一端が前記開口部に開口し他端が前記円板体の外周面に開口する複数の貫通孔を形成し、回転駆動され、前記開口部から導入された砥粒を、前記貫通孔を経て円板体の周方向外方へ噴射する噴射用ロータであって、前記貫通孔の軸線の方向を前記円板体の径方向から所定角度傾斜させ、前記各貫通孔から噴射される砥粒の噴射拡散角度を最小とする噴射用ロータが開示されている。この文献には、回転軸が水平となる姿勢で配置された前記噴射用ロータと、このロータを回転駆動するための回転駆動手段と、前記ロータの開口部内に砥粒を供給するための供給手段と、前記ロータの下端近傍から回転方向に沿って上端近傍に至る位置においてその外周面を閉塞するようにベルトを前記ロータの外周の一部に係合させるためのベルト係合手段とを備えており、前記開口部から導入された砥粒を、貫通孔を経て前記ロータの上端近傍の開放位置から周方向外方に噴出させ被研磨材に吹き付ける研磨装置も開示されている。
【０００６】
この装置では、ロータを樹脂で形成できるため、軽量化できる。しかし、樹脂で構成された円板体に開口部と貫通孔とを形成する必要があり、樹脂円板体の加工が煩雑である。
【特許文献１】特公表６０−５０１０９４号公報（特許請求の範囲、第１図）
【特許文献２】特開平１１−３４７９４５号公報（特許請求の範囲、図６）
【特許文献３】特開２００１−９６４６４号公報（特許請求の範囲、図４）
【特許文献４】特開２００３−２０５４６５号公報（特許請求の範囲、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、構造が簡単であり、かつ軽量化及び高速回転可能な投射用ロータ、このロータを備えた投射装置（噴射又は研磨装置）並びに研磨方法（投射方法）を提供することにある。
【０００８】
本発明の他の目的は、簡単な構造で砥粒（又は砥材）を被処理体（被研磨材などの被加工材）に投射して効率よく表面処理（又は研磨処理）するのに有用な投射用ロータ、このロータを備えた投射装置（噴射又は研磨装置）並びに研磨方法（投射方法）を提供することにある。
【０００９】
本発明のさらに他の目的は、供給手段による砥粒（又は砥材）の供給位置の自由度が高いだけでなく、吸引力により砥粒（又は砥材）の流動を円滑化できる投射用ロータ、このロータを備えた投射装置（噴射又は研磨装置）並びに研磨方法（投射方法）を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、円板状回転体の一方の側面に同心円状に形成された円形状又は環状凹部と、この凹部の内周壁に形成され、かつ砥粒を受けるための周溝（又は環状溝、環状受け部）と、前記凹部から半径方向に対して傾斜して延びる放射状の溝とを備え、かつ前記凹部及び溝が形成された側面が開放されたロータを構成し、このロータを回転させながら、円板状回転体のうち開放された一方の側面から前記凹部に砥粒を供給すると、砥粒（又はメディア）が吸引されながら溝に円滑に案内され、円板状回転体の外周から接線方向に砥粒を投射できることを見いだし、本発明を完成した。
【００１１】
すなわち、本発明の投射用ロータは、回転可能な円板体（又は円板状回転体）と、この円板体の少なくとも一方の側面に形成された凹部（中心軸を中心として対称形状の凹部など）と、前記凹部から放射方向に延び、かつ砥粒（又はメディア）を案内しつつ円板体の周方向の外方へ投射するための溝（投射溝）とで構成されており、これらの溝（投射溝）が形成された円板体の側面のうち少なくとも前記凹部が開放している。換言すれば、投射用ロータは、前記円板体の少なくとも一方の側面のうち外周縁部に形成された環状凸部と、この環状凸部を貫通して放射方向に形成された溝（投射溝）を備えている。円板体のうち前記溝が形成された側面は、通常、閉塞することなく開放している。
【００１２】
なお、前記凹部を形成する内周壁は、底面から種々の形態で起立させて形成でき、内周壁には、周方向に延びる周溝（又は環状溝、凹溝）を形成してもよい。また、放射状に延びる溝は、前記内周壁の周溝から（又はこの周溝に通じて）形成してもよい。
【００１３】
放射方向に延びる溝の形状は特に制限されず、例えば、断面Ｕ字状（アール形状などの断面湾曲状）又はコ字状に形成してもよい。前記ロータにおいて、前記溝の周壁のうち、円板体の回転方向に対して少なくとも上流側の側壁は、通常、回転に伴う遠心力に抗して砥粒（又はメディア）を保持するための規制部（砥粒の漏出規制部）を有している。例えば、放射方向に延びる溝の周壁のうち、円板体の回転方向に対して少なくとも上流側の側壁は、溝（又は放射方向に延びる溝の開口部）の閉じ方向にアール状などの形態で湾曲又は屈曲した突出部を有していてもよい。さらに、砥粒（又はメディア）の投射効率を高めるため、放射方向に延びる溝の軸線は、円板体の径方向から、円板体の回転方向に対して上流方向に５〜３０°の角度で傾斜していてもよい。
【００１４】
より具体的には、投射用ロータは、回転可能な円板体（又は円板状回転体）の一方の側面に円形状又は同心円状に形成された凹部と、この凹部の内周壁に形成され、かつ周方向に延びる断面Ｕ字状又はコ字状の円周溝と、この円周溝を形成する周壁のうち、底部から開放側へいくにつれて半径方向の内方向に延びる延出部（例えば、周壁の上端部（開放側の端部）から内方向に延びる延出部）と、前記凹部から放射方向に延び、かつ前記円板体の外周面に至る複数の溝と、これらの溝を形成する周壁のうち、円板体の回転方向に対して少なくとも上流側で、溝の閉じ方向に湾曲又は屈曲して延出している規制部とを備えていてもよい。また、溝（投射溝）の軸線は、円板体の径方向から、円板体の回転方向に対して上流方向に１０〜２５°程度の角度で傾斜していてもよい。さらに、円板体の外周面には、放射状溝の開口を閉止可能なベルト手段が配置可能な外周凹部を形成してもよい。また、円板体の外周部のうち開放した凹部側の外周縁部には起立周壁を形成してもよい。
【００１５】
本発明の投射装置（又は噴射若しくは研磨装置）は、前記投射用ロータを備えている。すなわち、投射装置は、回転可能に軸支された前記投射用ロータと、このロータを回転駆動するための手段と、前記ロータのうち開放された側面に砥粒（又はメディア）を供給するための供給手段とを備えており、前記砥粒（又はメディア）が前記ロータの外周から外方向に投射可能である。例えば、投射装置は、投射用ロータの円板体のうち、開放された一方の側面に円形状又は同心円状に形成された凹部（円形状凹部、環状凹部など）と、この凹部に砥粒を供給するための供給手段とを備えていてもよい。前記装置は、さらに、前記ロータの外周に掛け渡され、開放域を除いて前記ロータの外周を閉止するためのベルト手段を備えていてもよく、前記砥粒（又はメディア）が前記開放域から投射可能であってもよい。
【００１６】
本発明の方法では、前記投射用ロータを回転させるとともに、前記ロータのうち開放された側面から溝に砥粒（又はメディア）を供給し、この砥粒を前記ロータの外周から外方向に被処理体（被研磨材などの被加工材）に向けて投射して研磨又は表面処理する。この方法において、前記ロータの外周に、開放域を除いてベルトを掛け渡して前記ロータの外周を閉止し、この砥粒を前記ロータの外周のうち前記開放域から被処理体に向けて投射して研磨してもよい。また、開放された側面から供給された砥粒を、前記円板体の回転に伴って生成する負圧により吸引しつつ放射状の溝に案内し、放射状の溝を経て円板体の外周から接線方向に前記砥粒を投射してもよい。
【００１７】
なお、本明細書において、「放射状」とは、円板体の中心軸から半径方向に直線的に延びる方向だけでなく、中心軸から外方向にいくにつれて、円板体の回転方向の上流側（又は下流側）に傾斜して直線的又は湾曲して延びる方向も含む意味に用いる。放射状溝は、通常、円板体の中心軸から、半径方向に対して円板体の回転方向の上流側に傾斜して直線的又は湾曲して延びる場合が多い。
【発明の効果】
【００１８】
本発明では、ロータが一方の側面に凹部と投射用案内溝（投射溝）とを形成した簡単な構造であるため、軽量化が可能であるとともに、高速回転可能である。そのため、簡単な構造で砥粒（又は砥材）を被加工材（又は被処理体、被研磨材）に投射して効率よく表面処理（又は研磨処理）できる。さらに、ロータの一方の開放側部に砥粒を供給すればよいため、供給手段による砥粒（又は砥材）の供給位置の自由度を高めることができるとともに、ロータの回転に伴って生成する吸引力を利用して砥粒（又は砥材）を円滑に流動できる。すなわち、吸引力により砥粒を溝に円滑に案内しつつ、砥粒に遠心力を付与でき、ロータの外周から砥粒を投射できる。そのため、砥粒による被加工材（又は被研磨体）の処理効率を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下に添付図面を参照しつつ本発明を詳細に説明する。
【００２０】
図１は本発明の投射用ロータ及びそれを用いた投射装置の一例を示す概略側面図であり、図２は図１の投射用ロータ及びそれを用いた投射装置を示す概略正面図であり、図３は図１の投射用ロータを示す概略側面図であり、図４は図１の投射用ロータを示す概略縦断面図であり、図５は図１の投射用ロータによる投射機構を説明するための概略図であり、図６は図１の投射用ロータを示す部分概略図である。
【００２１】
図示する投射装置は、移動可能な基台２上に配置され、かつ下部に砥粒（又はメディア）Ｐを収容するための収容空間（又は貯留部）３を有する開閉可能なケーシング１と、このケーシング内に回転可能に配設され、前記砥粒Ｐを投射するためのロータ１０と、前記収容空間３内の砥粒Ｐを上方に搬送して前記ロータ１０に供給するための搬送供給手段と、前記ロータ１０の外周に掛け渡され、開放域を除いて前記ロータ１０の外周を閉止（又は閉塞）するためのエンドレスベルト１９とを備えている。なお、前記ケーシング１のうち砥粒Ｐが投射される側（フロント側、投射空間）の下部には、投射された砥粒Ｐを収容空間（又は貯留部）３に案内して捕集するための傾斜ガイド壁（又は傾斜壁）１ａが形成されている。
【００２２】
より詳細には、前記搬送供給手段は、ケーシング内を縦方向に区画する取り付け板４の上下部に設けられた一対のローラ５ａ，５ｂと、これらのローラ間に掛け渡され、上下方向に循環可能なベルトコンベア６と、このコンベアの搬送方向に所定間隔毎に取り付けられた複数のポケット状トレイ７と、前記一対のローラのうち、一方のローラを回転駆動するための回転駆動手段（モータ）８と、前記コンベア６のうち頂部で反転したポケット状トレイ７からの砥粒Ｐを受けて前記ロータ１０の所定部に案内するためのシュート（案内筒）９とで構成されている。このような搬送供給手段では、ベルトコンベア６の下端を前記砥粒Ｐの収容空間３に位置させて回転駆動すると、ベルトコンベア６の下端でのポケット状トレイ７の反転により収容空間３内の砥粒Ｐをポケット状トレイ７に収容して上方に搬送でき、コンベア６のうち頂部でのポケット状トレイ７の反転により砥粒Ｐをポケット状トレイ７から吐出させてシュート９に搬送できる。
【００２３】
前記投射用ロータ１０は、前記取り付け板４に回転可能に軸支された円板体（円板状回転体）１１で構成されており、前記取り付け板４に取り付けられた回転駆動手段（モータ）１８により回転駆動される。そして、前記円板体（円板状回転体）１１の一方の側面には、前記円板体（円板状回転体）１１の中心軸を中心とする環状又は円形状凹部（同心円状凹部又は切欠部）１２が形成され、この凹部を形成する内周壁（外方側の内周壁）には円周方向に延びる断面Ｕ字状の周溝（周壁溝）１３が形成されているとともに、凹部１２の底部から開放側（上端部側）にいくにつれて半径方向の内方向に延出する延出部１４が形成されている。すなわち、前記凹部１２を形成する内周壁上部は、半径方向の内方向へ延出する延出部１４を有しており、内周壁には、砥粒を受けるための環状受け部（又は樋状受け部）が形成され、半径方向への砥粒Ｐの漏出を規制している。
【００２４】
前記凹部１２からは内周壁の周溝１３に通じて放射方向に延び、かつ前記円板体（円板状回転体）１１の外周面に至る複数の断面Ｕ字状溝（投射溝）１５が形成されている。すなわち、放射状の投射溝１５は、前記凹部１２の内周壁の周溝１３から円板体（円板状回転体）１１の外周面に至り、円板体（円板状回転体）１１の外周面で開口している。なお、複数の断面Ｕ字状の投射溝１５の底部は前記凹部１２の底面と同じ高さレベルに形成されている。また、複数の投射溝１５は、円板体（円板状回転体）１１の中心軸を軸心として、円板体（円板状回転体）１１の周縁部に形成される渦流状の形態又は軌跡で、周方向に所定間隔をおいて形成されている。
【００２５】
また、前記周溝１３の砥粒を投射溝１５に円滑に案内するため、隣接する投射溝１５において互いに隣り合う側壁は、投射溝１５の入口側で狭まり先細状（又は鋭角）に形成されている。この例では、図３に示されるように、隣接する投射溝１５間で隣り合う側壁のうち下流側の側壁は、投射溝１５の軸線と略同軸に形成されており、上流側の側壁は、投射溝１５の吐出側（又は投射側）から入口側にいくにつれて回転方向の下流方向に延びて前記下流側の側壁と合流し、前記周溝１３の先細状の壁を形成している。すなわち、投射溝１５の上流側の側壁は、下流側の側壁のうち入口側の先端部に向かって延びて合流している。換言すれば、投射溝１５を形成する両側壁のうち上流側の側壁は投射溝１５の軸線に沿って形成されており、下流側の側壁は、投射溝１５の吐出側（又は投射側）から入口側にいくにつれて円板体１１の回転方向の下流方向に延びており、投射溝１５の入口が拡がっている。
【００２６】
さらに、前記放射状の投射溝１５の周壁のうち、円板体１１の回転方向に対して上流側及び下流側の側壁は、回転に伴う遠心力に抗して砥粒を保持するための規制部（遠心力により砥粒が漏出するのを規制するための漏出規制部）１６ａ，１６ｂを有している。より詳細には、円板体１１の回転方向に対して上流側の湾曲側壁で砥粒Ｐの脱落又は漏出を規制しつつ砥粒Ｐを保持するため、前記放射状の投射溝１５を形成する周壁（又は側壁）は、円板体１１の回転方向に対して上流側及び下流側（上流壁及び下流壁の上部）で、投射溝１５の閉じ方向（又は円板体の回転方向）に湾曲して延出した規制部（又は突出部）１６ａ，１６ｂを備えている。すなわち、円板体１１の一方の側面において、投射溝１５の径は、その底部から開口部側にいくにつれて湾曲して拡がり、次第に狭まって幅狭のスリット状開口部に至る円筒状溝を形成している。そのため、規制部（又は突出部）１６ａ，１６ｂにより、円板体１１の回転方向への砥粒の漏出を規制できる。
【００２７】
前記投射溝１５の軸線の起点（内方側の延長線）は、円板体（円板状回転体）１１の中心軸から外れており、前記軸線の外方向の延長線は、円板体１１の回転方向に対して上流方向に傾斜している。すなわち、砥粒Ｐの投射効率を高めるため、前記放射状の投射溝１５の軸線は、円板体（円板状回転体）１１の径方向（中心軸を通る径方向）から、円板体１１の回転方向に対して上流方向に角度θ＝１０〜３０°程度の角度で傾斜している。
【００２８】
なお、この例では、円板体（円板状回転体）１１の裏面には、取付孔１７ａに装着可能な取り付け手段（ボルト、ビスなど）を利用して支持板１７ｂが取り付けられている。この支持板１７ｂは、円滑に回転させるためのバランス体として機能させてもよい。
【００２９】
このような円板体（円板状回転体）１１のうち、前記凹部１２や投射溝１５が形成された側面は、円板で閉塞又は閉止することなく開放されている。すなわち、円板体（円板状回転体）１１のうち、前記凹部１２や投射溝１５が形成された側面は、円板で挟持されておらず、凹部１２及び投射溝１５が開放している。そのため、羽根車のように複数の羽根を２つの円板で挟持する必要がなく、樹脂円板体に貫通孔を形成する必要もない。
【００３０】
なお、前記ロータ１０の所定部（円形状凹部１２、この例では、円形状凹部の下部域）に前記シュート（案内筒）９の排出口が位置している。
【００３１】
前記ロータ１０の外周には、開放域を除いて前記ロータ１０の外周を閉止（又は閉塞）してエンドレスベルト２０が掛け渡されている。より詳細には、ロータ１０の外周域の複数箇所（この例では、４箇所）には回転可能なプーリ（又はローラ）１９が前記取り付け板４に回転可能に取り付けられており、これらのプーリ１９にエンドレスベルト２０が掛け渡され、ロータ１０のフロント側（開放域）を残してロータ１０の外周がエンドレスベルト（又はエンドレスベルトの内周）２０で閉止されている。すなわち、ロータ１０の下端の前方域からロータ１０の上端の前方域に亘って、ロータ１０の外周面がエンドレスベルト２０で閉塞されており、ロータ１０のフロント域が開放している。なお、ケーシング１のうち、ロータ１０の開放域の開始部の接線方向には、被加工材（被研磨材、ワーク）Ｗが位置している。
【００３２】
このようなロータ１０及びそれを用いた投射装置において、搬送供給手段のベルトコンベア６の回転に伴ってシュート９に搬送された砥粒Ｐは、前記円板体（円板状回転体）１１の開放された側面から円形状凹部１２に供給され、この円形状凹部１２に供給された砥粒Ｐは、前記円板体（円板状回転体）１１の回転に伴って前記投射溝１５に案内されながら遠心力が付与され、前記円板体（円板状回転体）１１の外周域においてエンドレスベルト２０の内面を転動する。特に、前記円板体（円板状回転体）１１の回転に伴って前記円板体（円板状回転体）１１の中心域に負圧が生じ、砥粒Ｐには吸引力が作用するため、砥粒Ｐを漏出させることなく円滑に流動できるとともに砥粒Ｐに遠心力を有効に付与できる。そのため、前記ロータ１０の回転に伴って砥粒Ｐが開放域に到達すると、ロータ１０の外周の開放域から砥粒Ｐを接線方向に向けて投射でき、被加工材（被研磨材、ワーク）Ｗを表面処理（又は研磨処理）できる。
【００３３】
なお、本発明の投射用ロータは、回転可能な円板体（円板状回転体）と、この円板体の少なくとも一方の側面に形成された凹部と、この凹部から放射方向に延び、かつ砥粒を案内しつつ円板体の周方向の外方へ投射するための溝（投射溝）とで構成すればよい。換言すれば、前記円板体の少なくとも一方の側面のうち周縁部に形成された環状凸部（又は環状肉厚部）と、この環状凸部（又は環状肉厚部）を貫通して放射方向に形成された溝（投射溝）とを備えていればよい。
【００３４】
前記凹部の平面形状は、前記円板体の中央域に形成された円形状凹部（又は円板体の軸部又は中心部を除く環状凹部）に限らず、種々の形状（多角形状、楕円形状、星形状など）であってもよいが、通常、円板体の中心軸を中心として対称形状、例えば、円形状又は環状である場合が多い。回転可能な円板体の少なくとも一方の側面に円形状又は同心円状凹部を形成すると、砥粒に吸引力を効率よく作用できる利点がある。前記凹部の深さは投射溝の深さより浅くてもよいが、通常、投射溝の深さと同等又はそれより大きい場合が多い。また、砥粒を円滑に投射溝に案内するため、凹部の底面と投射溝の底面は略同じ高さレベルで形成する場合が多い。
【００３５】
また、凹部の断面形状は、特に制限されず、平坦な凹部であってもよく、円板体の内方向で深く外方向にいくにつれて浅い逆円錐状又は逆円錐台状凹部であってもよく、円板体の内方向で浅く外方向にいくにつれて深い円錐状又は円錐台状凹部であってもよい。必要であれば、円板体の回転に伴って砥粒を投射溝（又は外周域）に案内するため、凹部には、中心軸から外方向に渦巻き状又は螺旋状に拡がる案内凹部（案内溝）を形成してもよい。すなわち、円板体の側面には渦巻き状又は螺旋状の軌跡で溝を形成してもよい。
【００３６】
前記凹部を形成する内周壁（遠心力が作用する外側の内周壁、又は外周域の肉厚部、環状肉厚部の内壁）は、凹部の底面から種々の形態で起立していてもよく、例えば、凹部の底面に対して直交して起立していてもよく、凹部の底面から半径方向の外方向又は内方向に傾斜していてもよい。好ましい態様では、砥粒の半径方向への漏出を防止するため、前記内周壁には砥粒の受け部が形成されている。
【００３７】
前記受け部は、前記内周壁の周方向に延びる周溝（又は凹溝、環状溝）として形成され、凹部の内周壁は、谷部が半径方向の外方向に位置し、開口部が半径方向の内方向に向いた断面形状、例えば、Ｖ字状、Ｕ字状、コ字状などの断面形状（すなわち、断面Ｖ字状、Ｕ字状、コ字状などの周溝）を有していてもよい。受け部は、周方向に延びる断面湾曲状（Ｕ字状などのアール状）又はコ字状の円周溝として形成する場合が多い。すなわち、凹部の内周壁（又は外周域の肉厚部、環状肉厚部の内壁）は、凹部の底面から上方（又は開放方向）へいくにつれて、半径方向の外方向に湾曲又は屈曲した領域（湾曲又は屈曲部）を経て、上端部で半径方向の内方向に屈曲又は湾曲して延出する屈曲又は湾曲壁として形成してもよい。例えば、前記内周壁は、底部から開放側（上方）へいくにつれて半径方向の内方向に延びる延出部を有していてもよく、通常、内周壁の上端部（開放側の端部）は、半径方向の内方向に延びる延出部を有している。
【００３８】
この延出部（例えば、延出部の先端部）には、凹部の底部側に下降（湾曲又は屈曲）して内周壁に形成された周溝の開口部を狭める下降部を有していてよく、周溝の開口部を狭める鈎状の延出部を構成してもよい。例えば、周溝を形成する壁面は、凹部の底面と面一又は凹部の底面から連続的に傾斜して連なり、開放方向（上部）にいくにつれて半径方向の外方向に拡大しつつ湾曲し、周壁の上部では内面が凹部の底面方向に湾曲又は屈曲して延出又は下降していてもよい。凹部の内周壁の上部に、半径方向の内方向に延出する延出部を形成すると、内周壁に形成された周溝（環状収容凹部）で砥粒の保持能を高めることができる。
【００３９】
なお、凹部の底面と周溝（受け部）の底面との間には段差があってもよいが、通常、凹部の底面と周溝の底面とは略同じ高さレベルに形成したり、凹部の底面から連続的に周溝の壁面が連なる場合が多い。すなわち、周溝（受け部）は、通常、凹部の底面から平滑に連続的に連なっている場合が多い。例えば、前記凹部（平面円形状凹部など）と周溝との底面との間に段差がある場合には、凹部（円形状凹部など）の底面と周溝の底面との間に傾斜面（平滑面）を形成してもよい。前記凹部や投射溝は、投射用ロータの円板体のうち開放された両側面に形成してもよいが、通常、開放された一方の側面に形成される。
【００４０】
投射溝は前記円板体の少なくとも外周域（外周肉厚部）に放射状に形成すればよく、投射溝に代えて又は投射溝とともに、溝の開口部が閉じた貫通孔を形成してもよい。さらに、投射溝は、直線的に延びていてもよく、必要であれば湾曲又は蛇行していてもよい。複数の投射溝は、円板体（円板状回転体）の周辺部（外周肉厚部）において、円板体（円板状回転体）の中心軸を軸心として、放射状又は渦流状の形態又は軌跡で、周方向に所定間隔をおいて形成する場合が多い。凹部が形成された円板体（円板状回転体）の側面において、投射溝は、通常、前記凹部から放射方向に延びて円板体の外周面に至っており、前記内周壁（特に内周壁の周溝）に臨んでいるとともに、円板体の外周面で開口している。換言すれば、投射溝は、前記内周壁（特に内周壁の周溝）から、円板体の周辺部（外周肉厚部）を放射状又は渦巻き状の形態で貫通して円板体の外周面に至っており、入口側が前記内周壁（特に内周壁の周溝）に臨んで開口しているとともに、出口側（投射側）が円板体の外周面で開口している。
【００４１】
投射溝の形状は、砥粒を案内しつつロータの外周から投射可能である限り特に制限されず、通常、断面Ｕ字状（断面アール状）又は断面コ字状である場合が多い。フラットな面を有する投射溝に比べて湾曲面（又はアール面）を有する投射溝を利用すると、遠心力を分散させることなく砥粒に集中させることができ、遠心力を有効に付与できる。また、回転方向に対して投射溝の上流側及び／又は下流側の側壁は必ずしも閉じ方向に湾曲又は屈曲している必要はないが、投射溝の周壁（対峙する両側壁）のうち、少なくとも上流側の側壁は、回転に伴う遠心力に抗して砥粒を保持するための漏出規制壁（規制部）として形成するのが有利である。なお、漏出規制壁（規制部）は、円板体の回転方向に対して下流側の側壁には必ずしも必要ではない。前記規制部は、例えば、溝を形成する周壁（両側壁）のうち、円板体の回転方向に対して少なくとも上流側（上流側の側壁上部）で、溝の閉じ方向に湾曲又は屈曲して延出した規制部（延出部又は突出部）で構成できる。なお、投射溝の底面は、凹部の底面と面一に形成してもよく、凹部の底面と同じ高さレベルで形成してもよい。また、前記凹部（円形状凹部など）と投射溝との間に段差がある場合には、前記凹部（円形状凹部など）と投射溝との間に、砥粒を溝に案内するための傾斜面（平滑面）を形成してもよい。
【００４２】
なお、投射溝の内径は、投射効率を損なわない限り特に制限されず、例えば、５〜２０ｍｍφ、好ましくは８〜１５ｍｍφ、さらに好ましくは１０〜１２ｍｍφ程度であってもよい。また、外周域（周辺肉厚部又は環状肉厚部）での投射溝の開口幅（スリット状開口幅）は、投射溝の内径に応じて調整でき、例えば、１〜１０ｍｍ（例えば、２〜１０ｍｍ）、好ましくは２〜８ｍｍ（例えば、２〜５ｍｍ）程度であってもよい。投射溝の開口幅（スリット状開口幅）は、通常、投射溝の内径（又は最大径）よりも小さく形成され、投射溝の開口部で投射溝の内径が狭まっている。
【００４３】
図７は本発明の投射用ロータに形成された投射溝の他の例を示す部分概略図である。この例では、円板状回転体２１の外周域（環状肉厚部）には、受け部としての周溝を形成することなく、投射溝２５が外周域（環状肉厚部）を貫通しており、円形状又は同心円状凹部２２と通じる断面円形状の投射溝２５が形成されている。この投射溝２５は、円板状回転体２１の回転方向に対して上流側の側壁上端部が下流方向に延出した突出部（又は延出部）２６を有している。
【００４４】
このような投射溝の構造では、上流側の側壁上端部から下流方向に延出片が延出しているため、捕捉した砥粒を投射溝で案内しつつ投射できる。
【００４５】
図８は本発明の投射用ロータの投射溝のさらに他の例を示す部分概略図である。この例では、円板状回転体３１の外周域（環状肉厚部）の内周壁には、凹部３２と通じる断面コ字状の投射溝３５が形成されており、この投射溝３５のうち、円板状回転体３１の回転方向に対して上流側の側壁上端部からは下流方向に向かって突出部又は延出部３６が延出している。なお、凹部３２の底面と投射溝３５の底面とは面一に形成されている。また、前記内周壁の上端部からは半径方向の内方へ延出部３４が延びており、断面コ字状の周溝（又は受け部）３３を形成している。
【００４６】
なお、投射溝の周壁のうち、円板体の回転方向に対して下流側の側壁は、規制部、例えば、閉じ方向（回転方向に対して上流方向）に湾曲又は屈曲して延出する突出又は延出部を有する必要はない。また、投射溝の下流側の側壁は必ずしも必要ではなく、円板体の回転方向に対して投射溝の下流側の側壁は、溝の底部から起立することなく、比較的平坦であってもよく、湾曲していてもよい。
【００４７】
図９は本発明の投射用ロータの別の例を示す部分概略図である。
【００４８】
この例では、円板体（回転体）４１の凹部４２（又は環状肉厚部）の内周壁には、半径方向の外方向に膨らんだ断面円形状の周溝４３が形成され、この周溝により、凹部４２の内周壁の上端部からは、半径方向の内方へ延出する延出部４４が形成されている。また、前記凹部４２の底面と周溝４３の底面とは略同じ高さレベルに形成されている。さらに、環状肉厚部を貫通して形成され、かつ前記凹部４２（又は周溝４３）と通じる投射溝４５の周壁（又は両側壁）のうち、円板体４１の回転方向に対して上流側の側壁は、断面形状が上流方向に向かって窪んで湾曲して延出する湾曲壁（鈎状湾曲壁）を構成し、上流側の側壁上部には突出部又は延出部４６が形成されている。この湾曲壁（又は投射溝）は底部を経てなだらかに湾曲して下流方向に延びている。すなわち、下流側の周壁は形成されていない。このような投射溝４５では、下流側のなだらかな湾曲部を経て、凹部４２の砥粒を周溝４３で受けて保持しつつ、円滑かつ確実に投射溝４５に案内又は導入できるとともに、捕捉した砥粒を投射溝４５で確実に案内しつつ投射できる。
【００４９】
投射溝の周壁のうち、円板体の回転方向に対して上流側の周壁は、投射溝の軸線に沿って平行に延びていてもよく、必要であれば、投射溝の入口側（又は砥粒の導入側）にいくにつれて下流側へ延びていてもよく、投射溝の出口側（砥粒の吐出側）にいくにつれて下流側へ延びていてもよい。
【００５０】
図１０は本発明の投射用ロータのさらに別の例を示す部分概略図である。
【００５１】
この例では、図９に示す投射溝と同様に、投射溝５５の周壁のうち、円板体５１の回転方向に対して上流側の側壁は湾曲壁を構成しており、この湾曲壁（又は投射溝）は底部を経てなだらかに外方向に湾曲して下流に至っている。なお、円板体５１の外周域（環状肉厚部）の内周壁には、前記と同様に、周溝５３が形成され、この周溝の上部壁からは内方へ延出部５４が延出している。そして、前記湾曲壁の上端から下流方向に延出する突出又は延出部５６は、投射溝５５の出口側（吐出側）にいくにつれて連続的に下流側へ延出し舌片を形成している。このような投射溝５５では、突出部又は延出部５６が投射溝５５の出口側（吐出側）で下流方向に延出しているため、凹部５２に供給された砥粒を円滑に投射溝５５に案内又は導入できるとともに、砥粒を漏出することなく、砥粒を投射溝５５で確実に案内しつつ投射できる。
【００５２】
投射溝の軸線は、円板体の径方向（中心軸から半径方向）に沿っていてもよいが、砥粒に遠心力を効率よく作用させて投射効率を高めるため、通常、円板体の径方向（中心軸から半径方向）から、円板体の回転方向に対して上流方向に所定の角度θで傾斜している。すなわち、投射溝の軸線は、円板体の径方向（中心軸から半径方向）を基準として、投射溝の出口から入口方向にいくにつれて、円板体の回転方向に対して下流方向に所定の角度θで傾斜している。傾斜角度θは、砥粒の種類や円板体の回転速度などに応じて５〜４５°程度の範囲から選択でき、通常、５〜３０°、好ましくは１０〜３０°（例えば、１０〜２５°）程度であり、１２〜２２°（例えば、１５〜２０°）程度であってもよい。砥粒の種類や円板体の回転速度などに応じて前記傾斜角度θを調整することにより、砥粒に投射の方向性を付与でき、砥粒の投射拡散角度を小さくし、投射効率を高めることができる。
【００５３】
なお、投射溝の数は、円板体の大きさなどの応じて選択でき、通常、１０〜５０程度であってもよい。投射溝の幅は、入口側（砥粒の導入側又は内側）から出口側（砥粒の吐出側又は外方向）に向かって、同じあってもよく、拡がっていてもよく狭まっていてもよい。すなわち、投射溝の周壁のうち、回転方向に対して上流側及び／又は下流側（特に下流側）の側壁は、出口側から入口側に向かって、回転方向に対して上流方向及び／又は下流方向に、アール状、直線状又は屈曲した形態で、拡がっていてもよい。例えば、隣接する投射溝において互いに隣り合う側壁は、投射溝の入口側で狭まり先細状（又は鋭角）に形成してもよい。すなわち、投射溝は、入口側の幅を広くしてもよい。特に、砥粒を投射溝の入口へ円滑に案内するため、投射溝の周壁（両側壁）のうち下流側の側壁は、投射溝の吐出側（又は投射側）から入口側にいくにつれて円板体（円板状回転体）の回転方向の下流方向に、湾曲（アール状）、直線状又は屈曲した形態で傾斜し、入口側の幅が拡がっていてもよい。換言すれば、隣接する投射溝において隣り合う側壁のうち上流側の側壁は、投射溝の吐出側（又は投射側）から入口側にいくにつれて回転方向の下流方向に傾斜して前記下流側の側壁と合流し、前記周溝で先細状の内壁を形成してもよい。また、前記凹部の内周壁と投射溝の入口側の周壁との合流部（又はコーナー部）は、直線的又は湾曲して平滑に面取してもよい。また、投射溝の入口側の幅を拡げてガイド壁を形成してもよい。
【００５４】
図１１は本発明の投射用ロータの一例を示す部分概略図である。
【００５５】
この例では、円板体（円板状回転体）６１には、円形状又は同心円状凹部６２が形成され、この凹部６２の外周域（外周肉厚部又は環状肉厚部）の内周壁には前記と同様に断面コ字状の周溝６３が形成され、内周壁の上端部からは内方に向かって延出部６４が延出している。また、凹部６２の外周域（外周肉厚部又は環状肉厚部）には、前記と同様に投射溝６５が形成されている。この投射溝６５の底部は平坦に形成されているとともに、下流側の側壁はＬ字状に起立しているとともに、コーナー部は面取されている。また、投射溝６５の上流側の側壁上部には下流方向に向かって延びる突出部又は延出部６６を有している。なお、円形状凹部６２と投射溝６５の底部とは同じ深さレベルに形成されている。さらに、投射溝６５の上流側の側壁からは半径方向の内方向へ延出するガイド壁６７が形成されている。なお、このガイド壁６７は、内方向にいくにつれて、円板体（円板状回転体）６１の回転方向に対して下流側へ傾斜している。このような投射用ロータでは、ガイド壁６７により砥粒を投射溝に効率よく案内できる。
【００５６】
なお、前記ガイド壁の構造は特に制限されず、投射溝の上流側で半径方向の内方へ延出していればよく、ガイド壁の内壁（下流側の壁面）は湾曲していてもよい。さらに、前記投射溝の形状又は構造と、前記周溝の形状又は構造とは、種々の形成で組み合わせることができ、投射溝の形状と周溝の形状との組合せにより、砥粒の漏出をさらに防止してもよい。
【００５７】
図１２は本発明の投射用ロータの他の例を示す部分概略図である。
【００５８】
この例では、円板体（円板状回転体）７１には、同心円状凹部７２と、この凹部の内周壁に形成された断面円形状の周溝７３と、この周溝の上端部において、鈎状の形態で周溝７３の開口幅を狭める下降部又は肉厚部を有する延出部７４（凹部７２の方向に下降する下降部を有する延出部）と、前記凹部７２から外方向へ周縁肉厚部（環状肉厚部）を貫通して延びる投射溝７５と、この投射溝７５の内壁のうち少なくとも上流側の側壁上部から下流方向に延出する突出又は延出部７６とが形成されている。なお、投射溝７５の側壁のうち下流側の側壁は吐出側から入口側に向かって下流方向に直線的又は湾曲して延び、上流側の側壁は投射溝７５の軸線に沿って形成されている。そのため、隣接する投射溝７５において、互いに隣り合う側壁は、投射溝７５の入口側で合流し、先細状の壁面を形成している。
【００５９】
このような構造のロータでは、受け部としての周溝７３及び延出部７４により、半径方向への砥粒の漏出を規制でき、前記投射溝７５の内壁に成形された突出部又は延出部７６により、回転方向への砥粒の漏出を規制できる。
【００６０】
前記投射溝が形成された円板体（円板状回転体）の側面のうち、少なくとも前記凹部がカバー又は閉止（閉塞）することなく開放されていればよいが、通常、前記投射溝が形成された円板体（円板状回転体）の側面が開放されている場合が多い。なお、投射溝が形成された円板体（円板状回転体）の一方の側面は開放されていればよく、必要であれば、例えば、網目状や格子状などの種々の形態でフレームなどの保護部材を取り付けてもよい。
【００６１】
投射用ロータは、投射溝が形成された円板体（円板状回転体）に限らず、円板と、この円板の外周域に取り付けられ、かつ複数の投射溝が周方向に所定間隔をおいて形成された帯状リング体とで構成してもよく、円板と、円板の外周域に所定間隔（前記投射溝の幅に対応する距離）をおいて取り付けられた板材とで構成してもよい。
【００６２】
図１３は本発明の投射用ロータのさらに他の例を示す部分概略図である。この例では、図７に示すロータと同様に、円板状回転体８１の外周域（環状肉厚部）には、受け部としての周溝を形成することなく、投射溝８５が外周域（環状肉厚部）を貫通しており、円形状又は同心円状凹部８２と通じる断面円形状の投射溝（放射状溝）８５が形成されている。この投射溝（放射状溝）８５は、開放した凹部８２側で開口している。また、円板状回転体８１の回転方向に対して上流側の側壁上端部は下流方向に延出し、突出部（又は延出部）８６を形成している。円板状回転体８１の外周面には、投射溝（放射状溝）８５の開口を閉止可能であり、かつ円板状回転体８１を回転駆動可能なエンドレスベルト９０が配置又は収容可能な外周凹部８７が形成されている。すなわち、円板状回転体８１の外周面の両側部には、少なくともベルト９０の一部を幅方向の中央部で収容するため、所定高さの畝部が形成され、この畝部間の外周面で投射溝８５が開口している。さらに、円板状回転体８１の外周部のうち開放した凹部８２側の外周縁部には、起立周壁８８が形成されている。
【００６３】
このような投射溝の構造では、前記と同様に、延出片が延出しているため、捕捉した砥粒を投射溝で案内しつつ投射できる。また、ベルト９０が収容可能な外周凹部８７が形成されているため、ベルト９０の蛇行などを規制しつつ、ベルト９０で確実に前記投射溝（放射状溝）８５の開口を閉止して砥粒を開放域から投射できる。さらに、起立周壁８８により、砥粒が逸散するのを規制でき、投射溝（放射状溝）８５から確実かつ効率よく投射できる。
【００６４】
なお、前記の例でも、円板状回転体の外周域（環状肉厚部）の内壁（下部）には、受け部としての周溝を形成してもよい。前記ベルトを収容するための外周凹部は必ずしも必要ではない。また、外周凹部の深さは、ベルトにより円板状回転体が円滑に回転駆動可能であれば特に制限されず、ベルトの厚みよりも浅くてもよく、同一又は深くてもよい。さらに、起立周壁も必ずしも必要ではない。また、起立周壁は、全周に限らず、投射溝（放射状溝）からの砥粒の漏出を規制するため、開放した凹部側で開口する投射溝（放射状溝）の開口幅又はその開口幅よりも長い領域に間隔を置いて形成してもよい。さらに、この起立周壁の形状に関し、起立周壁の内周壁は、半径方向の外方へ傾斜していてもよいが、外周部で起立していてもよく、半径方向の内方へ傾斜していてもよい。また、起立周壁の断面形状は、内周壁が半径方向の外方へ窪んで、コ字状に屈曲していてもよく、Ｕ字状などの形態で湾曲していてもよい。
【００６５】
投射用ロータは、耐摩耗性を有する種々の材料、例えば、金属、セラミックスや樹脂（超高分子量ポリエチレンなど）で構成できる。また、砥粒との接触部位（投射溝など）は、必要であれば、耐摩耗性の高い金属、セラミックスなどで被覆してもよい。なお、投射用ロータのバランス体は必ずしも必要ではない。また、バランス体を取り付ける場合、バランス体（又は支持板、補強板）の形状は円板状に限らず種々の形状が利用できるが、通常、リング状などの対称形状のバランス体を用いる場合が多い。
【００６６】
本発明の投射装置（噴射又は研磨装置）は、回転可能に配設された前記投射用ロータと、このロータを回転駆動するための手段と、前記ロータのうち開放された側面（例えば、側面の凹部）から溝に砥粒を供給するための供給手段とを備えていればよい。このような装置では、供給手段からの砥粒をロータの投射溝に案内し、被投射体（被研磨体）に砥粒を投射可能である。このような形態では、ロータの外周域に、必要であれば所定間隔をおいて複数の被投射体（被研磨体）を配設してもよい。
【００６７】
また、前記装置は、前記ロータの外周に掛け渡され、開放域を除いて前記ロータの外周を閉止するためのベルト手段を備えていてもよい。また、周方向に間隔をおいて複数のベルト手段をロータの外周に掛け渡し、前記ロータの外周に複数の開放域を形成してもよい。このような装置では、供給手段からの砥粒をロータの前記開放域から投射可能である。この場合、通常、前記開放域からの砥粒の投射域に被投射体（被研磨体）が配設される。
【００６８】
前記投射用ロータの回転軸の向きは横方向であってもよく縦方向であってもよい。ロータの回転軸を縦方向とする場合には、ロータは、溝が形成されたロータの側面を上方向に向けて回転可能に配設される。
【００６９】
前記供給手段は、溝に砥粒を供給可能である限り、前記ベルトコンベアやトレイは必ずしも必要ではない。例えば、前記ベルトコンベアやトレイを用いることなく、必要によりシュートを介して貯留槽から所定の速度で砥粒を供給してもよい。さらに、装置の小型化のために、砥粒の貯留部とロータとの距離を小さくしてもよい。投射装置は、例えば、ケーシングと、このケーシングと関連して閉鎖空間を形成可能であるとともに、被投射体（被研磨体）が配置可能なホッパと、前記ケーシングのうち前記ホッパの吐出口側に回転可能に配設されたロータと、このロータの外周に、開放部を残して掛け渡されたエンドレスベルトと、前記ロータの外周のうちの開放域から前記ホッパ内に延びて配設され、投射される砥粒を前記ホッパ内に案内するための筒状ガイドとで構成してもよい。このような装置では、筒状ガイドを経由してホッパ内の被投射体（被研磨体）に砥粒を投射でき、投射された砥粒は、ホッパの傾斜壁に案内されて吐出口から前記ロータの投射溝（好ましくは凹部を経由して投射溝）に供給できる。
【００７０】
好ましい態様では、供給手段により円板体（円板状回転体）の凹部（円形状又は環状凹部）に砥粒が供給される。この凹部には、種々の方向から砥粒を供給でき、砥粒の供給部位は特に制限されない。例えば、図３に示す例では、シュートを円板体（円板状回転体）の中心軸を通る鉛直方向に向けて凹部の下部に砥粒を供給してもよく、シュートを円板体（円板状回転体）の中心軸から横方向にずらして鉛直方向に向け、シュートの吐出口を凹部の内周部に位置させてもよい。さらには、シュートを、円板体（円板状回転体）の中心軸を通る鉛直方向に対して回転方向又はその反対方向に傾斜させ、シュートの吐出口を凹部の内周部に位置させてもよい。
【００７１】
前記のように、ロータの外周に掛け渡されるベルト手段は必ずしも必要ではないが、砥粒に方向性を付与するためには、前記ロータの外周に掛け渡され、開放域を除いて前記ロータの外周を閉止するためのベルト手段とを備えているのが有利である。このベルト手段は、少なくとも１つのベルトで構成でき、複数のベルトで構成してもよい。また、ベルトが掛け渡されるプーリの数は特に制限されず、２〜１０（例えば、２〜７）程度であってもよい。なお、通常、ロータの回転方向において、複数のプーリのうち、少なくとも２つのプーリがベルトを介してロータに圧着している場合が多い。例えば、１つのプーリが圧着開始部でベルトを介してロータに圧着し、他のプーリが前記開放域（又は開放部）でベルトを介してロータに圧着していてもよい。
【００７２】
なお、砥粒の投射方向をコントロールするため、ロータの開放域からの接線方向には、前記開放域からの砥粒を案内して被投射体（被研磨体）に投射するための投射ノズルや投射ガイドを設けてもよい。また、砥粒の投射方向性を精度よくコントロールするため、前記投射ノズル又は投射ガイドに隣接して、投射された砥粒に所定圧の圧縮空気を供給するためのエアノズルを配設してもよい。
【００７３】
本発明の装置及び方法において、前記ロータの回転数（又は周速）は砥粒の種類や被研磨体の種類などに応じて、例えば、回転数５００〜５００００ｒｐｍ程度の範囲から選択でき、１０００〜１００００ｐｐｍ（好ましくは２０００〜８０００ｒｐｍ）程度であってもよい。また、砥粒の種類は特に制限されず、種々の砥粒（又は投射メディア）、特に研磨用砥粒（例えば、複数の砥粒が複合化した複合砥粒など）が使用可能である。砥粒のサイズは、用途に応じて選択でき、例えば、平均粒径０．１〜５ｍｍ、好ましくは０．２〜３ｍｍ（例えば、０．５〜２ｍｍ）程度であってもよく、砥粒の種類によっては平均粒径５〜１００μｍ程度であってもよい。
【００７４】
本発明では、投射用ロータを回転させるとともに、前記ロータのうち開放された側面から溝に砥粒を供給し、この砥粒を前記ロータの外周から外方向に被処理体（被研磨材などの被加工材又は被投射体）に向けて投射することにより、被投射体（被研磨体など）を表面処理（研磨処理など）できる。また、前記ロータの外周に、開放域を除いてベルトを掛け渡して前記ロータの外周を閉止し、砥粒を前記ロータの外周のうち前記開放域から被処理体に向けて投射することにより、砥粒に方向性（円板体の外周のうち開放域の開始部から接線方向へ向かう方向性）を付与でき、被投射体（被研磨体など）を効率よく表面処理（研磨処理など）できる。特に、前記円板体の回転に伴って負圧が生成し、円板体の中心域から投射溝を経て外方へ気流が流れる吸引力が生成する。そのため、供給された砥粒を、吸引しつつ放射状の溝に案内し、放射状の溝を経て円板体の外周から外方向（又は接線方向）に前記砥粒を投射できる。そのため、簡単な構造で砥粒を効率よく投射できる。
【００７５】
被処理体又は被投射体（被研磨材など）に対する砥粒の投射方向は、被投射体（被研磨体）の表面処理の程度などに応じて選択でき、被投射体（被研磨材など）の表面に対して直交する方向や斜め方向から砥粒を投射してもよい。斜め方向から砥粒を投射する場合、被投射体（被研磨材など）の表面に対する投射角度は、２０〜６０°程度であってもよい。被投射体（被研磨材など）の表面で砥粒を滑動又は滑走させると、被投射体（被研磨材など）の表面を精密に表面仕上げすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明は、金属部材などの種々の被投射体（被研磨体、被加工材）を砥粒で表面処理（梨地処理、研磨処理、鏡面処理、バリ取り、メッキ又は表面被覆処理など）するのに有用であり、特に表面研磨に適している。なお、メッキ処理は、軟質メッキ材料で被覆した砥粒を被メッキ材に投射し、衝撃力と生成する熱を利用して被メッキ材をメッキすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】図１は本発明の投射用ロータ及びそれを用いた投射装置の一例を示す概略側面図である。
【図２】図２は図１の投射用ロータ及びそれを用いた投射装置を示す概略正面図である。
【図３】図３は図１の投射用ロータを示す概略側面図である。
【図４】図４は図１の投射用ロータを示す概略縦断面図である。
【図５】図５は図１の投射用ロータによる投射機構を説明するための概略図である。
【図６】図６は図１の投射用ロータを示す部分概略図である。
【図７】図７は本発明の投射用ロータに形成された投射溝の他の例を示す部分概略図である。
【図８】図８は本発明の投射用ロータの投射溝のさらに他の例を示す部分概略図である。
【図９】図９は本発明の投射用ロータの別の例を示す部分概略図である。
【図１０】図１０は本発明の投射用ロータのさらに別の例を示す部分概略図である。
【図１１】図１１は本発明の投射用ロータの一例を示す部分概略図である。
【図１２】図１２は本発明の投射用ロータの他の例を示す部分概略図である。
【図１３】図１３は本発明の投射用ロータのさらに他の例を示す部分概略図である。
【符号の説明】
【００７８】
１…ケーシング
６…ベルトコンベア
９…シュート
１０…ロータ
１１…円板体（円板状回転体）
１２…凹部（円形状又は環状凹部）
１３…周溝
１４…延出部
１５…投射溝
１６ａ，１６ｂ…突出部（規制部）
１９…プーリ
２０，９０…エンドレスベルト
２１，３１，４１，５１，６１，７１，８１…円板体（円板状回転体）
２２，３２，４２，５２，６２，７２，８２…凹部（円形状又は環状凹部）
３３，４３，５３，６３，７３…周溝
３４，４４，５４，６４，７４…延出部
２５，３５，４５，５５，６５，７５，８５…投射溝
２６，３６，４６，５６，６６，７６，８６…突出部（規制部）
８７…外周凹部
８８…起立周壁
【図１】
2006035415.tif 000003
【図２】
2006035415.tif 000004
【図３】
2006035415.tif 000005
【図４】
2006035415.tif 000006
【図５】
2006035415.tif 000007
【図６】
2006035415.tif 000008
【図７】
2006035415.tif 000009
【図８】
2006035415.tif 000010
【図９】
2006035415.tif 000011
【図１０】
2006035415.tif 000012
【図１１】
2006035415.tif 000013
【図１２】
2006035415.tif 000014
【図１３】
2006035415.tif 000015