(57)【要約】【課題】レーザ耐光性及び耐環境性の向上を図る。【解決手段】樹脂組成物からなる基材２の上面に、隣接する薄膜と屈折率が異なるように積層された主成分を同一とするアンダーコート４における複数の薄膜４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄを、膜厚が３００〜５００ｎｍの範囲内で形成し、形成されたアンダーコート４の上面に、複数の薄膜５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄからなる反射防止膜５を形成する。【選択図】図１
2006228285.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも波長３５０〜４５０ｎｍ中の特定波長の単色光から構成された光束を記録媒体に集光する光ピックアップ用光学素子において、
樹脂組成物からなる基材と、
前記基材の上面に形成され、隣接する薄膜と屈折率が異なるように積層された主成分を同一とする複数の薄膜からなり、膜厚が３００〜５００ｎｍの範囲内であるアンダーコート及び前記アンダーコートの上面に形成された複数の薄膜からなる反射防止膜とを具備することを特徴とする光ピックアップ用光学素子。
【請求項２】
前記アンダーコートの膜厚は、３９０〜４５０ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項３】
前記アンダーコートの主成分は、酸化シリコンであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項４】
前記アンダーコートは、屈折率の異なる２〜４種類の薄膜からなることを特徴とする請求項１から請求項３の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項５】
前記反射防止膜の層数は、４〜８層の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項６】
前記反射防止膜は、少なくとも１層が酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化ランタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化シリコン、酸化トリウム、酸化イットリウム、酸化プラセオジム、酸化スカンジウム又はチタン酸ジルコンの何れかの単体又はこれらの混合物によって構成されていることを特徴とする請求項１から請求項５の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項７】
前記樹脂組成物は、脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）と、一分子内に燐酸エステル構造及びフェノール構造を有する酸化防止剤（Ｂ）とを含有することを特徴とする請求項１から請求項６の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項８】
前記樹脂組成物は、脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）と、一般式（１）で表される酸化防止剤（Ｂ）とを含有することを特徴とする請求項１から請求項６の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子。
【化１】
2006228285.tif 000037
………（１）
但し、一般式（１）中、Ｒ１９〜Ｒ２４は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ２５〜Ｒ２６はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。
Ｘは単結合、硫黄原子もしくは−ＣＨＲ２７−基（Ｒ２７は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す）を示す。
Ａは炭素数２〜８のアルキレン基又は＊−ＣＯＲ２８−基（Ｒ２８は単なる結合又は炭素数１〜８のアルキレン基を、＊は酸素側に結合していることを示す。）を表す。
Ｙ及びＺは、いずれか一方がヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基又は炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基を表し、もう一方が水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。
【請求項９】
前記樹脂組成物は、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）を含有することを特徴とする請求項１から請求項８の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項１０】
前記樹脂組成物は、ヒンダードアミン系耐光安定剤（Ｄ）を含有することを特徴とする請求項１から請求項９の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項１１】
前記ヒンダードアミン系耐光安定剤（Ｄ）は、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ｛〔６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕、及びコハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物からなる群から選択される数平均分子量１５００〜５０００の物質であることを特徴とする請求項１０に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項１２】
前記樹脂組成物は、成形前の樹脂組成物中の脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）の重量平均分子量と数平均分子量との比（Ｍｗ／Ｍｎ）と、成形後の樹脂組成物中の脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）の重量平均分子量と数平均分子量との比（Ｍｗ／Ｍｎ）との差（ΔＭｗ／Ｍｎ）が０．１以下であることを特徴とする請求項１から請求項６の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子と、
前記光ピックアップ用光学素子に向けて少なくとも波長３５０〜４５０ｎｍ中の特定波長の単色光を出射する光源とを具備することを特徴とする光ピックアップ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ピックアップ用光学素子及び光ピックアップ装置に係り、特に、複数の薄膜からなるアンダーコート及び反射防止膜によって構成された多層膜を具備する光ピックアップ用光学素子及び光ピックアップ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＢＤ（Blu-ray Disc）や、ＨＤ（Hard Disc）−ＤＶＤ等に対して使用可能な光ピックアップ用光学素子の開発が盛んに行われている。これらＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤに使用される光ピックアップ用光学素子には、用途及び機能に応じた機能性の多層膜が成膜されており、この機能性の多層膜が成膜された光学素子は、光の照射に伴って、成膜された多層膜と照射光の波長域とに応じた固有の特性を示すようになっている。
【０００３】
このような多層膜において、基材である成型品の表面と接触する第１層目の薄膜には、界面におけるレーザ損傷閾値が可能な限り高い薄膜が必要とされており、一般的に、レーザ損傷閾値が高い薄膜として、低屈折率材料からなる薄膜が知られている。そのため、最下層が高屈折材料によって形成された２層反射防止膜では、所定の条件を満たすことができず、基材と高屈折材料からなる薄膜との間に、光学的に影響しないλ／２の膜厚の低屈折材料を付加することで、レーザ耐光性を効果的に向上させる技術が開発されている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００４】
また、反射防止膜の耐摩耗性及び耐薬品性、並びに合成樹脂に対する密着性を向上させることが可能な多層膜として、ケイ素酸化物を主成分とする所定の膜厚に成膜された薄膜を、反射防止特性に関与しないアンダーコートとして用いる合成樹脂製光学部品の多層膜が開発されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
さらに、可視光域及び近赤外光域を含む広い波長領域の光に対し優れた反射防止特性を有するとともに、プラスチック光学部品の表面に対する密着性及び耐薬品性に優れた多層膜として、プラスチック光学部品の表面に成膜されたケイ素酸化物のアンダーコートと、アンダーコートに積層された少なくとも６層の薄膜からなる反射防止膜とによって構成されたプラスチック光学部品の多層膜が開発されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開平６−２７３６０１号公報
【特許文献２】特開平６−３３７３０２号公報
【非特許文献１】伊沢孝男、外４名、「１．０６μmにおける光学薄膜のレーザ」  赤外線技術  赤外線技術研究会  １９９０年１１月  第１８号  p.21−29
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述した特許文献１及び特許文献２に記載の多層膜を、３５０〜４５０ｎｍのピックアップ素子に用いた場合、反射防止膜における高屈折率材料からなる薄膜が、レーザ損傷閾値に影響を与えることによって、レーザ損傷閾値が低下することにより、レーザ耐光性が劣化するといった問題が生じている。
【０００８】
このような問題に対する対応策として、アンダーコートの膜厚を大きくすることにより、レーザ損傷閾値を向上させる方法が検討されているが、顕著な効果が現れる４００ｎｍ以上の膜厚からなるアンダーコートを、樹脂からなる基材上に１層の薄膜として成膜すると、形成後に膜浮きが発生し、耐環境性が顕著に劣化するといった問題が生じている。
【０００９】
本発明は前記した点に鑑みてなされたものであり、レーザ耐光性及び耐環境性の向上を図ることが可能な光ピックアップ用光学素子及び光ピックアップ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
以上の課題を解決するために、請求項１に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、
少なくとも波長３５０〜４５０ｎｍ中の特定波長の単色光から構成された光束を記録媒体に集光する光ピックアップ用光学素子において、
樹脂組成物からなる基材と、
前記基材の上面に形成され、隣接する薄膜と屈折率が異なるように積層された主成分を同一とする複数の薄膜からなり、膜厚が３００〜５００ｎｍの範囲内であるアンダーコート及び前記アンダーコートの上面に形成された複数の薄膜からなる多層膜によって構成された反射防止膜とを具備することを特徴とする。
【００１１】
請求項２に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記アンダーコートの膜厚が、３９０〜４５０ｎｍの範囲内であることを特徴とする。
【００１２】
請求項３に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記アンダーコートの主成分が、酸化シリコンであることを特徴とする。
【００１３】
請求項４に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記アンダーコートが、屈折率の異なる２〜４種類の薄膜からなることを特徴とする。
【００１４】
請求項５に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記反射防止膜の層数が、４〜８層の範囲内であることを特徴とする。
【００１５】
請求項６に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記反射防止膜が、少なくとも１層が酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化ランタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化シリコン、酸化トリウム、酸化イットリウム、酸化プラセオジム、酸化スカンジウム又はチタン酸ジルコンの何れかの単体又はこれらの混合物によって構成されていることを特徴とする。
【００１６】
請求項７に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記樹脂組成物が、脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）と、一分子内に燐酸エステル構造及びフェノール構造を有する酸化防止剤（Ｂ）とを含有することを特徴とする。
【００１７】
請求項８に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記樹脂組成物が、脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）と、一般式（１）で表される酸化防止剤（Ｂ）とを含有することを特徴とする。
【化１】
2006228285.tif 000003
………（１）
但し、一般式（１）中、Ｒ１９〜Ｒ２４は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ２５〜Ｒ２６はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。
Ｘは単結合、硫黄原子もしくは−ＣＨＲ２７−基（Ｒ２７は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す）を示す。
Ａは炭素数２〜８のアルキレン基又は＊−ＣＯＲ２８−基（Ｒ２８は単なる結合又は炭素数１〜８のアルキレン基を、＊は酸素側に結合していることを示す。）を表す。
Ｙ及びＺは、いずれか一方がヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基又は炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基を表し、もう一方が水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。
【００１８】
請求項９に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記樹脂組成物が、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）を含有することを特徴とする。
【００１９】
請求項１０に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記樹脂組成物が、ヒンダードアミン系耐光安定剤（Ｄ）を含有することを特徴とする。
【００２０】
請求項１１に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記ヒンダードアミン系耐光安定剤（Ｄ）が、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ｛〔６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕、及びコハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物からなる群から選択される数平均分子量１５００〜５０００の物質であることを特徴とする。
【００２１】
請求項１２に記載の発明に係る光ピックアップ用光学素子は、前記樹脂組成物が、成形前の樹脂組成物中の脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）の重量平均分子量と数平均分子量との比（Ｍｗ／Ｍｎ）と、成形後の樹脂組成物中の脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）の重量平均分子量と数平均分子量との比（Ｍｗ／Ｍｎ）との差（ΔＭｗ／Ｍｎ）が０．１以下であることを特徴とする。
【００２２】
請求項１３に記載の発明に係る光ピックアップ装置は、請求項１から請求項１２の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子と、
前記光ピックアップ用光学素子に向けて少なくとも波長３５０〜４５０ｎｍ中の特定波長の単色光を出射する光源とを具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係る光ピックアップ用光学素子によれば、樹脂組成物からなる基材と、基材の上面に形成され、隣接する薄膜と屈折率が異なるように積層された主成分を同一とする複数の薄膜からなり、膜厚が３００〜５００ｎｍの範囲内であるアンダーコート及びアンダーコートの上面に形成された複数の薄膜からなる多層膜によって構成された反射防止膜とを具備するので、アンダーコートの膜厚を調整することで、レーザ損傷閾値の向上を図るとともに、屈折率の異なる材料によってアンダーコートにおける複数の薄膜を成膜することで、成膜後に発生する膜浮きを抑制することが可能となり、これによって、レーザ耐光性及び耐環境性の向上を図ることができる。
【００２４】
また、本発明に係る光ピックアップ装置によれば、請求項１から請求項１２の何れか一項に記載の光ピックアップ用光学素子と、光ピックアップ用光学素子に向けて少なくとも波長３５０〜４５０ｎｍ中の特定波長の単色光を出射する光源とを具備するので、装置自体の寿命の延長とともに、使用可能な環境の拡大を図ることが可能となり、これによって、光ピックアップ装置における利便性の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を用いて説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
図１から図３を参照しながら、本発明に係る光ピックアップ用光学素子及び光ピックアップ装置について説明する。
【００２６】
まず始めに、図１を参照しながら、光ピックアップ用光学素子について説明する。
図１に示すように、本実施形態における光ピックアップ用光学素子１は、樹脂組成物からなる基材２と、反射を防止するための多層膜３とからなる。
以下、基材２及び多層膜３の詳細について、それぞれ説明する。
【００２７】
まず始めに、基材２について説明する。
本実施形態における基材２には、脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体が用いられる。この脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位は、脂環基含有エチレン性不飽和単量体を付加重合反応させることによって形成することが可能であるが、通常、芳香族ビニル単量体を付加重合反応させ、次いで芳香環を水素化することによって形成するようになっている。
なお、脂環基としては、シクロアルカン構造を有する基、シクロアルケン構造を有する基等が挙げられるが、耐光安定性の観点からシクロアルカン構造を有する基、特に、シクロヘキサン構造を有する基が好ましい。
【００２８】
脂環基含有エチレン性不飽和単量体は、重合性のエチレン性不飽和基と脂環基を有するものであり、具体的には、ビニルシクロペンタン、ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘプタン、α−メチルビニルシクロヘキサン、ビニルメチルシクロヘキサン、ビニルブチルシクロヘキサンのごときビニルシクロアルカン；ビニルシクロペンテン、ビニルシクロヘキセン、ビニルメチルシクロヘキセン、ビニルシクロヘプテンのごときビニルシクロアルケン；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート；テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、９−エチルテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、９−エチリデンテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、９−メチルテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、８−エチルテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、８−エチリデンテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、８−メチルテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、８，９−エチルテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、８，９−エチリデンテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、８，９−メチルテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、２，７−ジメチルテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、２，１０−ジメチルテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、１１，１２−ジメチルテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデシル−３−（メタ）アクリレート、ヘキサシクロ〔６．６．１．１３，６．１１０，１３．０２，７．０９，１４〕ヘプタデシル−４−（メタ）アクリレート、１２−メチルヘキサシクロ〔６．６．１．１３，６．１１０，１３．０２，７．０９，１４〕ヘプタデシル−４−（メタ）アクリレート、１１−メチルヘキサシクロ〔６．６．１．１３，６．１１０，１３．０２，７．０９，１４〕ヘプタデシル−４−（メタ）アクリレート、１２−エチルヘキサシクロ〔６．６．１．１３，６．１１０，１３．０２，７．０９，１４〕ヘプタデシル−４−（メタ）アクリレート、１１−エチルヘキサシクロ〔６．６．１．１３，６．１１０，１３．０２，７．０９，１４〕ヘプタデシル−４−（メタ）アクリレート、オクタシクロ〔８．８．１２，３．１４，７．１１１，１８．１１３，１５．０．０３，８．０１２，１７〕ドコシル−５−（メタ）アクリレート、１５−メチルオクタシクロ〔８．８．１２，３．１４，７．１１１，１８．１１３，１５．０．０３，８．０１２，１７〕ドコシル−５−（メタ）アクリレート、ペンタシクロ〔６．６．１．１３，６．０２，７．０９，１４〕ヘキサデシ���−４−（メタ）アクリレート、１，６−ジメチルペンタシクロ〔６．６．１．１３，６．０２，７．０９，１４〕ヘキサデシル−４−（メタ）アクリレート、１５，１６−ジメチルペンタシクロ〔６．６．１．１３，６．０２，７．０９，１４〕ヘキサデシル−４−（メタ）アクリレート、１，３−ジメチルペンタシクロ〔６．６．１．１３，６．０２，７．０９，１４〕ヘキサデシル−４−（メタ）アクリレート、ペンタシクロ〔６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３〕ペンタデシル−４−（メタ）アクリレート、１，６−ジメチルペンタシクロ〔６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３〕ペンタデシル−４−（メタ）アクリレート、１，３−ジメチルペンタシクロ〔６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３〕ペンタデシル−４−（メタ）アクリレート、１５，１６−ジメチルペンタシクロ〔６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３〕ペンタデシル−４−（メタ）アクリレートのごときノルボルナン環構造含有（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２９】
芳香族ビニル単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−イソプロピルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシメチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、クロロメチルスチレン、２−フルオロスチレン、３−フルオロスチレン、ペンタフルオロスチレン、ビニルトルエン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン等が挙げられ、特に、スチレンが好ましい。
【００３０】
上述した重合体は、脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位のみからなるものであってもよいが、機械的強度などの観点から、他の単量体単位を有する共重合体であってもよい。また、脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位の量は、該共重合体中に、通常、１０〜９９重量％、好ましくは２０〜９８重量％である。
他の単量体単位としては、共役ジエン単量体に由来し、かつ、その不飽和結合が水素化された単量体単位（以下、水素化された共役ジエン単量体単位ともいう。）；芳香族ビニル単量体を付加重合させて得られる単量体単位；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、１−シアノ−１−クロロエチレン等のエチレン性不飽和ニトリル単量体を付加重合させて得られる単量体単位；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸エステル単量体を付加重合させて得られる単量体単位；アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸を付加重合させて得られる単量体単位；１−ヒドロカルボニルエチレン、２−ヒドロカルボニル−プロペン、１−メチルカルボニルエチレン、２−メチルカルボニル−プロペン、Ｎ−フェニルマレイミド等のその他のビニル単量体を付加重合させて得られる単量体単位等が挙げられる。
上述した単量体単位のうち、弾性、柔軟性及び形状安定性の観点から、水素化された共役ジエン単量体単位が好適である。水素化された共役ジエン単量体単位の量は、共重合体中に通常１〜９０重量％であり、２〜８０重量％であることが好ましい。
【００３１】
水素化された共役ジエン単量体単位は、通常、共役ジエン単量体を付加重合させ、次いで不飽和結合部分を水素化することによって形成される。
共役ジエン単量体としては１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等が挙げられる。中でも１，３−ブタジエン、イソプレンが好ましい。水素化された共役ジエン単量体単位の結合様式としては、１，４−結合、１，２−結合又は３，４−結合があるが、１，４−結合が全水素化共役ジエン単量体単位の中に、通常１０〜９５モル％、好ましくは４０〜９０モル％、特に好ましくは５０〜９０モル％占める。
水素化された共役ジエン単量体単位は、エチレン、プロピレン、ブテンなどのアルケンを付加重合させて得られる構造と同じになるので、アルケンを付加重合させて形成したものも含む。
共重合体の構造としては、ランダム共重合体、ブロック共重合体などがあるが、本実施例においてはランダム共重合体が好ましい。
【００３２】
重合体中の脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位が、芳香族ビニル単量体を付加重合し次いで芳香環を水素化したものである場合、水素化されていない芳香族ビニル単量体単位と水素化された芳香族ビニル単量体単位との合計量に対する、水素化されていない芳香族ビニル単量体単位の量は、通常１０モル％以下であり、５モル％以下であることが好ましく、１モル％以下であることが特に好ましい。
また、水素化されていない共役ジエン単量体単位と水素化された共役ジエン単量体単位との合計に対して、水素化されていない共役ジエン単量体単位の量は、通常１０モル％以下であり、５モル％以下であることが好ましく、１モル％以下であることが特に好ましい。水素化されていない芳香族ビニル単量体単位又は水素化されていない共役ジエン単量体単位の量が多いと熱安定性が低下することがある。
【００３３】
本実施例における重合体は、そのガラス転移温度（以下、Ｔｇということがある。）が、通常６０〜２００℃の範囲内であり、７０〜１８０℃の範囲内であるものが好ましく、９０〜１６０℃の範囲内であるものが特に好ましい。Ｔｇが低すぎると耐熱性が低下する傾向がある。Ｔｇが高すぎると加工性が悪くなる傾向がある。
ここで、Ｔｇは示差走査熱量計を用いて測定した値であり、ブロック共重合体でＴｇが２個以上あるものは高い値の方をいう。
【００３４】
重合体の分子量は、特に制限されないが、本実施例に用いる重合体がブロック共重合体である場合には、ブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）が、５０，０００〜３００，０００の範囲内であり、５５，０００〜２００，０００の範囲内であることが好ましく、６０，０００〜１５０，０００であることが特に好ましい。ランダム共重合体又は単独重合体である場合には、これらの重量平均分子量（Ｍｗ）が、通常、５，０００〜５００，０００の範囲内であり、１０，０００〜２００，０００の範囲内であることが好ましい。
このようなＭｗは、値が小さ過ぎる場合には、機械的強度が不十分となる。一方、大きすぎる場合には、成形時間が長くかかり重合体の熱分解を起こしやすくなり、有機物放出量が増加する傾向となる。また、後述する水素化反応が進みにくくなり水素化率が低くなることがある。
重合体は、その分子量分布が、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）による表記で、通常２．０以下であり、１．５以下であることが好ましく、１．２以下であることがより好ましい。Ｍｗ／Ｍｎがこれらの範囲内であると、機械強度と耐熱性とが高度にバランスされるからである。
【００３５】
また、重合体は、揮発成分含有量が０．５重量％以下のものが好ましい。ここで揮発成分含有量は、示差熱重量測定装置（セイコー・インスツルメント社製：ＴＧ／ＤＴＡ２００）を用いて、３０℃から３５０℃まで１０℃／分で加熱したときに揮発する成分の量である。揮発成分の低減方法は、特に限定されるものではないが、例えば、貧溶媒によるポリマー凝固法、直接乾燥法、スチームストリッピング法、減圧ストリッピング法、窒素ストリッピング法等が挙げられる。
【００３６】
さらに、本実施形態における重合体は、その製法によって、特に限定されるものではないが、通常、脂環基含有エチレン性不飽和単量体及び必要に応じてその他の単量体とを付加重合することによって、あるいは芳香族ビニル単量体及び必要に応じてその他の単量体とを付加重合して芳香族ビニル系重合体を得、次いでその芳香環を水素化することによって得られる。重合は、塊状重合、乳化重合、懸濁重合、溶液重合などの方法によって行うことが可能であり、芳香環や不飽和結合を水素化する方法は、公知の水素化方法を用いて行うことが可能である。
芳香環を水素化した場合の芳香環水素化率は、特に限定されないが、通常９０〜１００モル％の範囲内であり、９５〜１００モル％の範囲内であることが好ましく、９９〜１００モル％の範囲内であることが特に好ましい。
また、芳香環の水素化反応と同時に、共役ジエン単量体に由来の不飽和結合も水素化され、共役ジエン単量体に由来の不飽和結合の水素化率は、通常９０〜１００モル％の範囲内であり、９５〜１００モル％の範囲内であることが好ましく、９９〜１００％の範囲内であることが特に好ましい。
【００３７】
本実施例において、樹脂組成物に用いられる酸化防止剤（Ｂ）は、一分子内に燐酸エステル構造とフェノール構造とを有するものである。燐酸エステル構造は、燐酸エステル、亜燐酸エステル、ジ亜燐酸エステル等のＰ−Ｏ−Ｒの構造を含むものであり、フェノール構造は、ベンゼン環に水酸基が少なくとも１つ結合したものである。
【００３８】
酸化防止剤（Ｂ）の具体例としては、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
【化２】
2006228285.tif 000004
………（１）
ただし、一般式（１）において、Ｒ１９〜Ｒ２４は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又はフェニル基を表し、好適には、それぞれ独立してメチル基、エチル基、２−フェニルプロピル基又はｔ−ブチル基である。Ｒ２５〜Ｒ２６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基である。
Ｘは単結合、硫黄原子もしくは−ＣＨＲ２７−基（Ｒ２７は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す）を表す。
Ａは炭素数２〜８のアルキレン基又は＊−ＣＯＲ２８−基（Ｒ２８は単なる結合又は炭素数１〜８のアルキレン基を、＊は酸素側に結合していることを示す。）を表す。
ＹおよびＺは、いずれか一方がヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基又は炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基を表し、もう一方が水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。
【００３９】
このような上記一般式（１）で表される化合物の具体例としては、６−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン、６−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン等が挙げられる。
【００４０】
樹脂組成物における酸化防止剤（Ｂ）の量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して、通常０．０１〜１．５重量部の範囲内であり、０．０３〜１．０重量部の範囲内であることが好ましく、０．０５〜０．５重量部の範囲内であることが特に好ましい。酸化防止剤（Ｂ）の量が少なすぎると、樹脂組成物の青紫色レーザ照射による着色防止効果が十分に発揮されないことがあり、酸化防止剤（Ｂ）が多すぎると、樹脂組成物の機械的特性が損なわれることがあるからである。
【００４１】
なお、樹脂組成物には、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）が含有されていることが好ましい。このように２種類の酸化防止剤を併用することによって青紫色レーザ照射による着色が少なくなるからである。また、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の分子量は、３５０以上であることが好ましく、これにより、溶融成形時等の高温条件下においても、分解され難くなり、樹脂組成物からの分解ガスの発生を抑制することができる。
【００４２】
分子量３５０以上のフェノール系酸化防止剤（Ｃ）としては、３，３’，３”，５，５’，５”−ヘキサ−ｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ”−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス［３―（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］等が挙げられる。
【００４３】
樹脂組成物におけるフェノール系酸化防止剤（Ｃ）の量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して０．０１〜１．０重量部の範囲内であることが好ましく、０．０５〜０．５重量部の範囲内であることがより好ましい。フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の量が少ないと、その併用効果を十分に発揮することができないことがあり、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の量は多いと、脂組成物の機械的特性が損なわれることがあるからである。
【００４４】
また、樹脂組成物には、ヒンダードアミン系耐光安定剤（Ｄ）が含有されていることが好ましい。このヒンダードアミン系耐光安定剤（Ｄ）は、窒素原子に隣接する２つの炭素原子の双方にそれぞれ置換基が結合した複数のピペリジン環を含有するものが好ましく、テトラヒドロフランを溶媒として用いたゲルパーミエーション・クロマトグラフィ法により測定した平均分子量が、通常３００〜１０，０００の範囲内であり、５００〜８，０００の範囲内であるものが好ましく、１，５００〜５，０００の範囲内であるものが特に好ましい。
窒素原子に隣接する炭素原子に結合する置換基としては、メチル基又はエチル基等のアルキル基が好ましく、双方の炭素原子のそれぞれにメチル基が結合しているものが特に好ましい。
【００４５】
ヒンダードアミン系耐光安定剤（Ｄ）の具体例としては、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス−（４，６−ビス（ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）−トリアジン−２−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−アミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ〔（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕、などのピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ヒンダードアミン系耐光安定剤；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等のピペリジン環がエステル結合を介して結合した高分子量ヒンダードアミン系耐光安定剤等が挙げられる。
【００４６】
上述したヒンダードアミン系耐光安定剤のうち、ポリ〔｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕が特に好ましい。
【００４７】
ヒンダードアミン系耐光安定剤（Ｄ）の量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して、通常０．０１〜１．５重量部の範囲内であり、０．０３〜１．０重量部の範囲内であることが好ましく、０．０５〜０．５重量部の範囲内であることが特に好ましい。
【００４８】
一分子内に燐酸エステル構造およびフェノール構造を有する酸化防止剤（Ｂ）、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）及びヒンダードアミン系耐光安定剤（Ｄ）は、クロロホルム中に５重量％の濃度に溶解させ溶液にして、それを１０ｍｍ光路の石英セルに入れて４００ｎｍの光線透過率を測定したときに、９０％以上の値を示すものが好ましく、９５％以上の値を示すものが特に好ましい。
【００４９】
また、本実施形態における樹脂組成物には、他の樹脂又はエラストマーが含有されていてもよい。他の樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；アクリル樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂；ポリスチレン；ポリカーボネート等が挙げられる。
エラストマーとしては、天然ゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ネオプレン、ポリスルフィドゴム、チオコールゴム、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体の主鎖水素化物（ＳＥＢ）、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の主鎖水素化物（＝スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体〔ＳＥＢＳ〕）、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体の主鎖水素化物（ＳＥＰ）、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の主鎖水素化物（＝スチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体〔ＳＥＰＳ〕）；エチレンプロピレンゴム（ＥＰＭ）、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、直鎖状低密度ポリエチレン系エラストマー等のオレフィン系ゴム；ブタジエン−アクリロニトリル−スチレン−コアシェルゴム（ＡＢＳ）、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン−コアシェルゴム（ＭＢＳ）、メチルメタクリレート−ブチルアクリレート−スチレン−コアシェルゴム（ＭＡＳ）、オクチルアクリレート−ブタジエン−スチレン−コアシェルゴム（ＭＡＢＳ）、アルキルアクリレート−ブタジエン−アクリロニトリル−スチレン−コアシェルゴム（ＡＡＢＳ）、ブタジエン−スチレン−コアシェルゴム、メチルメタクリレート−ブチルアクリレート−シロキサンのごときシロキサン含有コアシェルゴム等のコアシェルタイプの粒子状弾性体、またはこれらを変性したゴム等が挙げられる。
【００５０】
樹脂組成物に配合可能な他の樹脂又はエラストマーとしては、耐熱性、誘電特性、表面光沢等の観点から、ＳＥＢＳや、ＳＥＰＳが好ましい。また、エラストマーは、金属含量が５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、３０ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。このようなエラストマーの量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して、通常０．０５〜７０重量部の範囲内であり、０．１〜５０重量部の範囲内であることが好ましい。この範囲で含有することにより、高温高湿下において白濁しにくくなり、コーティング剤等との密着性が高くなり、平滑性も高くなる。
【００５１】
また、樹脂組成物には、機械的性質を向上させる目的で、ガラス繊維、炭素繊維、金属繊維、金属フレーク、ガラスビーズ、ワラストナイト、ロックフィラー、炭酸カルシウム、タルク、シリカ、マイカ、ガラスフレーク、ミルドファイバー、カオリン、硫酸バリウム、黒鉛、二硫化モリブデン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛ウィスカー、チタン酸カリウムウィスカー等の充填材を、単独で又は２種以上を混合して用いることが可能である。
【００５２】
さらに、樹脂組成物には、本来の目的を損なわない範囲で、公知の他の酸化防止剤、難燃剤、抗菌剤、木粉、カップリング剤、可塑剤、着色剤、滑剤、シリコンオイル、発泡剤、界面活性剤、離型剤、充填剤等の添加剤を配合することも可能である。
【００５３】
さらに、樹脂組成物は、成形前の樹脂組成物（例えば、ペレット）中の脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）の重量平均分子量と数平均分子量との比（Ｍｗ／Ｍｎ）と、成形後の樹脂組成物（例えば前記ペレットを用いて得られた成形品）中の脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）の重量平均分子量と数平均分子量との比（Ｍｗ／Ｍｎ）との差（ΔＭｗ／Ｍｎ）が、０．１以下であり、０．０７以下であることが好ましく、０．０６以下のものであることが特に好ましい。ΔＭｗ／Ｍｎがこの範囲にあることにより、青紫色レーザ等の高強度の短波長光線を照射する場合においても、光線透過率が低下し難く、強度の高い成形品が得られる。
ここで、Ｍｗ／Ｍｎの値は、成形前の樹脂組成物（例えば、ペレット）又は成形後の樹脂組成物（例えば、成形品）を、テトラヒドロフランを溶媒として用いたゲルパーミエーション・クロマトグラフィで測定し、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量から計算して求めた値である。
【００５４】
次に、多層膜３について説明する。
多層膜３は、図１に示すように、上述した基材２の上面に形成されており、このような多層膜３は、アンダーコート４と、反射防止膜５とによって構成されている。
以下、アンダーコート４及び反射防止膜５の詳細について、それぞれ説明する。
【００５５】
まず始めに、アンダーコート４について説明する。
アンダーコート４とは、基材２の上面に成膜された複数の薄膜４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄからなる膜層であって、基材２の上面に対して直交する方向（以下、直交方向Ｘ）に向かって基材２の側から薄膜の層を数えた際に、波長５００ｎｍの光に対する屈折率が１．７以上である薄膜が最初に現れた層の下側に存在するすべての層の薄膜をいう。このようなアンダーコート４は、アンダーコート４の全組成の５０％以上を占める材料、すなわち主成分が同一の材料によって形成されているとともに、アンダーコート４において隣接する薄膜の有する屈折率が異なるように成膜されている。
【００５６】
また、アンダーコート４は、波長５００ｎｍの光に対する屈折率が１．７未満の材料であって、酸化シリコン、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化イットリウム、フッ化鉛、フッ化セリウム、フッ化ネオジム、フッ化ランタン、フッ化アルミニウムの何れかの単体若しくはこれら化合物の２種類以上の混合物又は酸化シリコンと酸化アルミニウムとの混合物（以下、低屈折率材料）を適用することが可能であり、このうち、酸化シリコンが好適に適用される。上述した物質は、レーザ損傷閾値が高いため、レーザ耐光性の向上を図ることが可能となるからである。
【００５７】
なお、アンダーコート４の膜厚は、３００〜５００ｎｍの範囲内であり、３９０〜４５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。アンダーコート４の膜厚が３００ｎｍ以下の場合では、レーザ耐光性の劣化が生じてしまい、５００ｎｍ以上の場合では、得られたアンダーコート４の耐熱性が劣化してしまうからである。
【００５８】
また、アンダーコート４は、屈折率の異なる２〜４種類の薄膜からなることが好ましい。アンダーコート４が１種類の屈折率を有する薄膜、すなわち単一の薄膜からなる場合では、耐環境性の劣化が生じてしまい、５種類以上の異なる屈折率を有する薄膜からなる場合では、膜厚分布が相違することにより、屈折率の種類毎に膜厚補正を行う必要性があるため、屈折率の種類がアンダーコートで５種類以上あると、膜厚補正が困難となり、生産性の低下が生じてしまうからである。
なお、１種類の屈折率を有する薄膜からなるアンダーコート４は、単一の薄膜によって形成されている場合と、複数の薄膜によって形成されている（例えば２７０ｎｍの膜厚を有するアンダーコート４を１００ｎｍ、７０ｎｍ及び１００ｎｍの膜厚を有する３層の薄膜によって形成されている）場合とを比較すると、分光特性及び耐光性については同一であり、耐環境性についてもほぼ同一の結果が得られ、総合的には同程度の性能を示す。
【００５９】
次に、反射防止膜５について説明する。
反射防止膜５は、上述したアンダーコート４の上面に成膜された複数の薄膜５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄからなる膜層であって、直交方向Ｘに向かって基材２の側から薄膜の層を数えた際に、１．７以上の屈折率を有する薄膜が最初に現れた層を含めて上側に存在するすべての層の薄膜をいう。
【００６０】
このような反射防止膜５は、波長５００ｎｍの光に対する屈折率が１．７以上の材料であって、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化ランタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化シリコン、酸化トリウム、酸化イットリウム、酸化プラセオジム、酸化スカンジウム又はチタン酸ジルコンの何れかの単体又はこれら化合物の２種類以上の混合物（以下、高屈折材料）と、上述した低屈折率材料とからなる。
【００６１】
なお、反射防止膜５の層数は、４〜８層の範囲内であることが好ましい。反射防止膜５の層数が８層以上の場合では、成膜時間が長くなるため、生産性が低下してしまい、４層以下の場合では、好ましい分光特性が得られないからである。
【００６２】
次に、光ピックアップ用光学素子１の製造方法について説明する。
まず始めに、公知の射出成形技術により、上述した「脂環式構造を有する重合体を含有する樹脂」からなる基材２を構成する第１成型品１１及び第２成型品１２を作製し、得られた第１成型品１１及び第２成型品１２のうち、第２成型品１２の表面１２ａの上面に、複数の薄膜４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄからなり、膜厚が３００〜５００ｎｍのアンダーコート４を形成する。そして、形成されたアンダーコート４の上面に、複数の薄膜５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄからなる反射防止膜５を形成する。
【００６３】
アンダーコート４及び反射防止膜５の形成方法は、周知の蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）、ゾルゲル法等を適用した方法によって行われ、透明度の高いアンダーコート４及び反射防止膜５を成膜することができれば、アンダーコート４及び反射防止膜５の成膜方法は、特に限定されるものではない。
また、アンダーコート４及び反射防止膜５における光の吸収量を極めて少なくするために、成膜処理時に導入する酸素ガスの導入量と成膜速度とを適宜調整し、酸素ガスが不足した状態で薄膜の形成が行われることを防止する必要がある。
【００６４】
ここで、上述した形成方法の一例として、蒸着法によるアンダーコート４及び反射防止膜５の形成方法を例に挙げ、以下、詳細について説明する。
まず始めに、真空容器（図示せず）の内部に、酸素ガスを導入する。この際、真空容器内に導入する酸素ガスの量を制御しながら、電子銃加熱蒸着源（図示せず）を用いて、波長５００ｎｍの光に対する屈折率が１．７未満の材料を蒸発させ、アンダーコート４における第１層目の薄膜４ａを形成する。次に、第１層目の薄膜４ａに使用した材料と同一の材料であって、導入する酸素ガスの量又は成膜速度等を変更した材料、または屈折率の異なる材料を溶融及び蒸発させて、第１層目の薄膜４ａの上面に、第２層目の薄膜４ｂを成膜する。以後、同様の処理を繰り返し、第３層目の薄膜４ｃ及び第４層目の薄膜４ｄを形成する。
【００６５】
なお、波長５００ｎｍの光に対する屈折率が１．７未満であり、隣接する薄膜と屈折率の異なるように構成されるアンダーコート４を形成する場合には、２つ以上の蒸着源を同時に用いた多元蒸着法によって成膜されてもよい。この場合、屈折率の異なる材料の混合比を変えることにより、５００ｎｍの光に対するアンダーコート４の屈折率を、１．４５以上１．７未満の範囲内で適宜調整することが可能である。
【００６６】
上述した複数の薄膜４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄからなるアンダーコート４の形成が完了した後、このアンダーコート４を形成したときと同様に、電子銃加熱蒸着源を用いて高屈折率材料を溶融及び蒸発させ、アンダーコート４上面に、反射防止膜５における第１層目の薄膜５ａを形成する。そして、第１層目の薄膜５ａの成膜が完了した後、この第１層目の薄膜５ｂを形成したときと同様に、電子銃加熱蒸着源により、低屈折率材料又は低／中屈折率材料を溶融及び蒸発させ、第１層目の薄膜５ａの上面に、反射防止膜５における第２層目の薄膜５ｂを形成する。以後、同様の処理を繰り返し行い、第３層目の薄膜５ｃ及び第４層目の薄膜５ｄを形成する。
【００６７】
最後に、第２成型品１２の表面１２ａの上に、アンダーコート４及び反射防止膜５を形成した後、この第１成型品１１と第２成型品１２とを、組みレンズで使用することにより、一連の光ピックアップ用光学素子１の製造工程が終了する。
【００６８】
なお、反射防止膜５における第４層目の薄膜５ｄの上面に、さらに第５、第６、第７及び第８層目の薄膜を成膜する場合には、上述した第１、第２、第３及び第４層目の薄膜４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの成膜方法と同様の処理を適宜実施すればよい。
また、第２成型品１２における表面１２ａを除いた他の面、すなわち第１成型品１１の表面１１ａ及び裏面１１ｂ並びに第２成型品１２の裏面１２ｂに、アンダーコート４及び反射防止膜５と同様の薄膜を成膜する場合には、上述したアンダーコート４及び反射防止膜５の成膜方法と同様の処理を適宜実施すればよい。そして、第１成型品１１及び第２成型品１２の成膜処理がそれぞれ完了した後、第１成型品１１と第２成型品１２とを、組みレンズとすればよい。
【００６９】
次に、図２を参照しながら、光ピックアップ装置２０について説明する。
図２に示すように、本実施形態における光ピックアップ装置２０には、光源ユニット２１が設けられている。光源ユニット２１には、箱状の筐体２２が具備されており、この筐体２２の一面には、光透過性の基板２３が設けられている。また、筐体２２の内部には、ＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤ用として波長３５０〜４５０ｎｍ中の特定波長（例えば４０５ｎｍ，４０７ｎｍ）の単色光（レーザ）を出射する青色光用光源２４（レーザダイオード）と、ＤＶＤ用として波長６２０〜６８０ｎｍ中の特定波長の単色光（レーザ）を出射する赤色光用光源２５（レーザダイオード）とが配置されている。
【００７０】
青色光用光源２４から出射された光（青色光）は、図２において実線で示す光線Ｌ１として、筐体２２に設けられた光透過性の基板２３を透過し、その透過方向にそのまま伝播するようになっている。また、赤色光用光源２５から出射された光（赤色光）も、図２において点線で示す光線Ｌ２として、筐体２２に設けられた光透過性の基板２３を透過し、その透過方向にそのまま伝播するようになっている。
【００７１】
青色光用源２４及び赤色光用光源２５から出射される各光の光軸方向Ｙには、光源ユニット２１の側から、コリメータ２６、スプリッタ２７、１／４波長板２８、絞り部材２９及び光ピックアップ用光学素子１が順次配設されている。また、光ピックアップ用光学素子１を挟んで絞り部材２９と対向する位置には、光情報記録媒体としてのＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤ４０や、ＤＶＤ５０が配置されるようになっている。さらに、光軸方向Ｙと直交する方向であって、スプリッタ２７の一側には、スプリッタ２７の側から、シリンドリカルレンズ３０、凹レンズ３１及びセンサ３２が順次配設されている。
【００７２】
上述した構成部品のうち、光ピックアップ用光学素子１は、光情報記録媒体としてのＢＤ若しくはＨＤ−ＤＶＤ４０又はＤＶＤ５０に対向した位置に配置されており、青色光用光源２４及び赤色光用光源２５から出射された各光をＢＤ若しくはＨＤ−ＤＶＤ４０又はＤＶＤ５０に集光する機能を有している。また、光ピックアップ用光学素子１は、光軸方向Ｙに沿って移動自在であって、ＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤ４０に記録された情報を読み取る場合には、ＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤ４０と近接した位置に配置され、ＤＶＤ５０の情報を読み取る場合には、ＤＶＤ５０と離反した位置に配置されるようになっている。
【００７３】
次に、光ピックアップ装置２０における作用について説明する。
上述した光ピックアップ装置２０は、ＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤ４０の情報を読み取る場合には、光ピックアップ用光学素子１がＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤ４０と近接した位置に配置され、その状態において青色光用光源２４から光が出射される。この青色光用光源２４から出射された光は、コリメータ２６を透過して平行光束に変換された後、スプリッタ２７及び１／４波長板２８を透過して、絞り部材２９によって絞られる。そして、光ピックアップ用光学素子１を透過し、ＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤ４０の記録面上に集光スポットが形成される。
【００７４】
集光スポットを形成した光は、ＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤ４０の記録面における情報ピットで変調され、記録面によって反射する。この反射光は、光ピックアップ用光学素子１、絞り部材２９及び１／４波長板２８を順次透過して、スプリッタ２７で分光される。そして、分光された光は、シリンドリカルレンズ３０及び凹レンズ３１を順次透過して、センサ３２で受光されることにより、ＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤ４０に記録された情報が読み取られる。
【００７５】
一方、ＤＶＤ５０の情報を読み取る場合、光ピックアップ用光学素子１は、ＤＶＤ５０と近接した位置に配置され、その状態において赤色光用光源２５から光が出射される。以降の動作については、ＢＤ又はＨＤ−ＤＶＤ４０の情報を読み取る場合と同様であり、同様の動作によってＤＶＤ５０に記録された情報が読み取られる。
【００７６】
次に、図３を参照しながら光ピックアップ用光学素子１の構成について説明する。
図３に示すように、光ピックアップ用光学素子１は、青色光用光源２４又は赤色光用光源２５から出射された波長３５０〜４５０ｎｍ又は６２０〜６８０ｎｍ中の特定波長の光を透過光の対象とする光学素子であって、樹脂製の基材２が具備されている。この基材２は、脂環式構造を有する重合体を含有する樹脂によって所定形状に成型された２つの成型品１１，１２から構成されており、各成型品１１，１２は、互いの端部において接合されている。このように接合された各成型品１１，１２の間には、内部中空である空間部１３が形成されている。
【００７７】
上述した２つの成型品１１，１２のうち、一方の成型品（以下、第１成型品１１）は、青色光用光源２４又は赤色光用光源２５の側に配置されており、他方の成型品（以下、第２成型品１２）は、ＢＤ若しくはＨＤ−ＤＶＤ４０又はＤＶＤ５０の側に配置されている。より詳細には、第１成型品１１の表面１１ａが青色光用光源２４又は赤色光用光源２５に対向し、第２成型品１２の表面１２ａがＢＤ若しくはＨＤ−ＤＶＤ４０又はＤＶＤ５０に対向し、第１成型品１１の裏面１１ｂと、第２成型品１２の裏面１２ｂとが互いに対向するようになっている。
【００７８】
第１成型品１１の表面１１ａ及び裏面１１ｂは、共に非球面状に成型されており、図３において拡大して示すように、輪帯状の回折構造を有している。
ただし、図３において拡大して示した図においては、第１成型品１１の表面１１ａのみを図示しており、図示しない第２成形品１２の表面１２ａ及び裏面１２ｂについても、非球面状に成型されている。
【００７９】
青色光用光源２４又は赤色光用光源２５から出射された光は、第１成型品１１の表面１１ａに入射し、第１成型品１１を透過して裏面１１ｂから出射されるようになっている。そして、空間部１３を介し、第２成型品１２の裏面１２ｂに入射し、第２成型品１２を透過して表面１２ａから出射され、最終的に、ＢＤ若しくはＨＤ−ＤＶＤ４０又はＤＶＤ５０の記録面に入射するようになっている。
【００８０】
一方、ＢＤ若しくはＨＤ−ＤＶＤ４０又はＤＶＤ５０で反射した光は、第２成型品１２の表面１２ａに入射し、第２成型品１２を透過して裏面１２ｂから出射される。そして、空間部１３を介し、第１成型品１１の裏面１１ｂに入射し、第１成型品１１を透過して表面１１ａから出射されるようになっている。
【００８１】
なお、本実施形態における光ピックアップ用光学素子１は、ＢＤ若しくはＨＤ−ＤＶＤ４０又はＤＶＤ５０に対して互換するようになっているが、特に制限されるものではなく、例えば、本実施形態における記録媒体の他に、さらにＣＤに対しても互換するトリプル互換に使用される光ピックアップ用光学素子であってもよい。
【実施例】
【００８２】
次に、光ピックアップ用光学素子１の実施例について説明する。
まず始めに、試料の作製方法について説明する。
種類の異なる真空蒸着装置を併用して、シクロオレフィンポリマー（日本ゼオン株式会社製：Ｚｅｏｎｅｘ  ３４０Ｒ）からなる成型品の上面に、酸化シリコン又は酸化シリコンと少量のアルミナとの混合物（メルク株式会社製：Ｓｕｂｓｔａｎｃｅ  Ｌ５）の少なくとも一からなる複数層のアンダーコート４を成膜した。ここで、隣接する薄膜と屈折率が異なるように積層された複数の薄膜からなるアンダーコート４を成膜する場合には、第１層目の薄膜４ａに使用した材料と同一の材料であって、導入する酸素ガスの量又は成膜速度等を変更した材料、または屈折率の異なる材料を溶融及び蒸発させ、所望の膜厚となるように制御して、順次薄膜４ｂ，４ｃ，・・・を形成させた。
ここで、本実施例において使用した酸化シリコン及び酸化シリコンと少量のアルミナとの混合物の屈折率は、各材料に導入される酸素ガスの量（以下、ガス条件）によって異なるため、これらガス条件毎の酸化シリコン及び酸化シリコンと少量のアルミナとの混合物の屈折率を、下記表１に示す。
【００８３】
【表１】
2006228285.tif 000005
【００８４】
その後、形成されたアンダーコート４の上面に、酸化シリコンと、酸化タンタルと酸化チタンとの混合物（オプトロン株式会社製：ＯＡ６００）との組合せからなる計４層の薄膜５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄによって構成された反射防止膜５を形成した。
このように得られたアンダーコート４及び反射防止膜５が形成された基材２を、試料１〜３０とし、各試料１〜３０の構成とともに、各構成材料の屈折率及び膜厚を、下記表２〜３１示す。
【００８５】
［試料１］
【表２】
2006228285.tif 000006
【００８６】
［試料２］
【表３】
2006228285.tif 000007
【００８７】
［試料３］
【表４】
2006228285.tif 000008
【００８８】
［試料４］
【表５】
2006228285.tif 000009
【００８９】
［試料５］
【表６】
2006228285.tif 000010
【００９０】
［試料６］
【表７】
2006228285.tif 000011
【００９１】
［試料７］
【表８】
2006228285.tif 000012
【００９２】
［試料８］
【表９】
2006228285.tif 000013
【００９３】
［試料９］
【表１０】
2006228285.tif 000014
【００９４】
［試料１０］
【表１１】
2006228285.tif 000015
【００９５】
［試料１１］
【表１２】
2006228285.tif 000016
【００９６】
［試料１２］
【表１３】
2006228285.tif 000017
【００９７】
［試料１３］
【表１４】
2006228285.tif 000018
【００９８】
［試料１４］
【表１５】
2006228285.tif 000019
【００９９】
［試料１５］
【表１６】
2006228285.tif 000020
【０１００】
［試料１６］
【表１７】
2006228285.tif 000021
【０１０１】
［試料１７］
【表１８】
2006228285.tif 000022
【０１０２】
［試料１８］
【表１９】
2006228285.tif 000023
【０１０３】
［試料１９］
【表２０】
2006228285.tif 000024
【０１０４】
［試料２０］
【表２１】
2006228285.tif 000025
【０１０５】
［試料２１］
【表２２】
2006228285.tif 000026
【０１０６】
［試料２２］
【表２３】
2006228285.tif 000027
【０１０７】
［試料２３］
【表２４】
2006228285.tif 000028
【０１０８】
［試料２４］
【表２５】
2006228285.tif 000029
【０１０９】
［試料２５］
【表２６】
2006228285.tif 000030
【０１１０】
［試料２６］
【表２７】
2006228285.tif 000031
【０１１１】
［試料２７］
【表２８】
2006228285.tif 000032
【０１１２】
［試料２８］
【表２９】
2006228285.tif 000033
【０１１３】
［試料２９］
【表３０】
2006228285.tif 000034
【０１１４】
［試料３０］
【表３１】
2006228285.tif 000035
【０１１５】
次に、各試料１〜３０における特性の測定方法及び評価方法について説明する。
本実施例においては、膜厚及び屈折率が測定されるとともに、レーザ耐光性、耐環境性及びこれらの組合せに基づき、総合的な評価が行われる。以下、測定方法及び評価方法の詳細について、それぞれ説明する。
【０１１６】
まず始めに、膜厚の測定方法について説明する。
各試料１〜３０における基材２の上面に形成されたアンダーコート４及び反射防止膜５を構成する各薄膜の断面を、電子顕微鏡（日本電子株式会社製：ＪＥＭ−２０１０Ｆ）で観察し、これらアンダーコート４及び反射防止膜５を構成する各薄膜の膜厚（ｎｍ）を測定した。膜厚の測定では、各試料１〜３０の薄膜が形成された面（以下、膜面）の中央部の厚さ寸法を測定し、その測定値を各試料１〜３０の膜厚とした。これら各試料１〜３０の測定結果を、下記表３２に示す。
【０１１７】
次に、屈折率の測定方法について説明する。
各試料１〜３０の基材２をガラスに代えた擬似試料１〜３０を作製し、各擬似試料１〜３０におけるアンダーコート４及び反射防止膜５を構成する各膜の屈折率をエリプソメータ（ジェー・エー・ウーラム社製：ＶＡＳＥ）で測定し、得られた屈折率を各試料１〜１９におけるアンダーコート４及び反射防止膜５を構成する各薄膜の屈折率とした。これら各擬似試料１〜３０の測定結果を、図４〜図３３にそれぞれ示すとともに、下記表３２に示す。
ここで、基材２の種類以外の膜構造や、薄膜の形成方法については、上述した膜厚の測定方法と同様である。
【０１１８】
次に、レーザ耐光性の評価方法について説明する。
まず、波長４０５ｎｍ±１０ｎｍの光をレンズ系で集光させ、ピーク強度が１２０ｍＷ／ｍｍ２の光とする。そして、この光を各試料１〜３０の膜面に照射させ、光の照射時間が１００、１６８、３３６時間経過した時点で、各試料１〜３０の膜面の観察を行った。
そして、これら観察結果に基づいて各試料１〜３０のレーザ耐光性を評価し、得られた各試料１〜３０のレーザ耐光性の評価結果を、下記表３２に示す。
ここで、表３２における「◎」、「○」、「△」、「×」の基準を、以下に示す。
◎…３３６時間経過後に測定した際においても、膜の剥離、クラックの発生又は面形状の変化等が認められなかった。
○…１６８時間経過後に測定した際は、膜の剥離等は認められないが、３３６時間経過後において膜の剥離等が認められた。
△…１００時間経過後に測定した際は、膜の剥離等は認められないが、１６８時間経過後において膜の剥離等が認められた。
×…１００時間経過後に測定した際に、膜の剥離等が認められた。
【０１１９】
次に、耐環境性の評価方法について説明する。
各試料１〜３０について、耐熱試験及び高温高湿試験を行い、これら２種の試験から各試料１〜１９の耐環境性を評価した。耐熱試験では、各試料１〜３０を温度８５℃，温度９０℃の各温度環境下に１６８時間放置し、その後、室温環境下に置いて、各試料１〜３０の膜面の外観を観察した。
一方、高温高湿試験では、各試料１〜３０を温度６０℃，湿度９０％の環境下に１６８時間放置し、その後、室温環境下に置いて、各試料１〜３０の膜面の外観を観察した。
そして、これら試験結果に基づいて各試料１〜３０の耐環境性を評価し、得られた各試料１〜３０の評価結果を、下記表３２に示す。
ここで、表３２における「○」、「△」、「×」、「××」の基準を、以下に示す。
○…耐熱試験（温度９０℃）及び高温高湿試験の両試験においてクラック又は膜の剥離は認められなかった。
△…耐熱試験（温度８５℃）及び高温高湿試験の両試験においてクラック又は膜の剥離は認められず、耐熱試験（温度８５℃）においてクラック又は膜の剥離が認められた。
×…耐熱試験（温度８５℃）又は高温高湿試験の何れかの試験においてクラック又は膜の剥離が認められた。
××…耐熱試験（温度８５℃）及び高温高湿試験の何れの試験においてクラック又は膜の剥離が認められた。
【０１２０】
最後に、総合評価の方法について説明する。
上述したレーザ耐光性及び耐環境性の評価結果を踏まえて、光ピックアップ用光学素子として最適なものか否か（実用レベルに達しているか否か）に着目して各試料１〜３０を総合的に評価し、得られた各試料１〜３０の評価結果を、下記表３２に示す。
ここで、表３２における「○」、「△」、「×」の基準を、以下に示す。
○…実用レベルを上回っている（上述したレーザ耐光性及び耐環境性の項目が共に◎又は○である。）。
△…実用レベルに達している（上述したレーザ耐光性及び耐環境性の項目が共に△以上である。）。
×…実用レベルに達していない（上述したレーザ耐光性及び耐環境性の項目の何れかが×又は××である。）。
【０１２１】
【表３２】
2006228285.tif 000036
【０１２２】
その結果、膜厚が２０５ｎｍ及び２７０ｎｍであるアンダーコートを具備する試料１，２，３，４は、耐環境性に優れたものも存在したが、レーザ耐光性が顕著に劣化しており、総合的な評価は、実用レベルに達していなかった。
また、膜厚が３２０ｎｍ及び３７０ｎｍであるアンダーコートを具備する試料５，６，７，８，９，１０のうち、屈折率が同一の材料によって成膜された単一の薄膜からなるアンダーコート４を具備する試料５，８を除いた試料、すなわち隣接する薄膜と屈折率の異なるように成膜された複数の薄膜からなるアンダーコートを具備する試料６，７，９，１０は、前述した試料１，２，３，４と比較すると、レーザ耐光性が改善されており、総合的な評価は、実用レベルに達していた。
【０１２３】
一方、膜厚が４７０ｎｍ及び４９０ｎｍであるアンダーコートを具備する試料１９，２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６は、レーザ耐光性が非常に優れていた。これら試料１９，２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６のうち、屈折率が同一の材料によって成膜された単一の薄膜からなるアンダーコート４を具備する試料１９，２３を除いた試料、すなわち隣接する薄膜と屈折率の異なるように成膜された複数の薄膜からなるアンダーコートを具備する試料２０，２１，２２，２４，２５，２６は、耐環境性を兼ね備えており、総合的な評価は、実用レベルに達していた。
また、膜厚が５４０ｎｍであるアンダーコートを具備する試料２７，２８，２９，３０についても、上述した試料１９，２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６と同様に、レーザ耐光性が非常に優れていたが、耐環境性が顕著に劣化しており、総合的な評価は、実用レベルに達していなかった。
【０１２４】
さらに、上述した評価結果に対し、膜厚が４００ｎｍ及び４４０ｎｍであるアンダーコートを具備する試料１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８においては、屈折率が同一の材料によって成膜された単一の薄膜からなるアンダーコート４を具備する試料１１，１５を除いた試料、すなわち隣接する薄膜と屈折率の異なるように成膜された複数の薄膜からなるアンダーコート４を具備する試料１２，１３，１４，１６，１７，１８については、レーザ耐光性及び耐環境性共に優れており、総合的な評価に関しても実用レベルを上回っていた。
【０１２５】
これらの結果から、膜厚が３００〜５００ｎｍの範囲内であって、隣接する薄膜が異なる屈折率を有する材料によって成膜された複数の薄膜からなるアンダーコート４を形成することにより、所望のレーザ耐光性及び耐環境性を有する光ピックアップ用光学素子１が得られることが可能であると判明した。併せて、アンダーコート４の膜厚は、３９０〜４５０ｎｍの範囲内であることが好ましいことも判明した。
【０１２６】
以上より、本実施形態における光ピックアップ用光学素子１によれば、樹脂組成物からなる基材２と、基材２の上面に形成され、隣接する薄膜と屈折率が異なるように積層された主成分を同一とする複数の薄膜４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄからなり、膜厚が３００〜５００ｎｍの範囲内であるアンダーコート４及びアンダーコート４の上面に形成された複数の薄膜５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄからなる反射防止膜５とを具備するので、アンダーコート４の膜厚を調整することで、レーザ損傷閾値の向上を図るとともに、屈折率の異なる材料によってアンダーコート４における複数の薄膜４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄを成膜することで、成膜後に発生する膜浮きを抑制することが可能となり、これによって、レーザ耐光性及び耐環境性の向上を図ることができる。
【０１２７】
また、本実施形態における光ピックアップ装置２０は、波長３５０〜４５０ｎｍ中の特定波長の単色光が照射される光ピックアップ用光学素子１を具備するので、装置自体の寿命の延長とともに、使用可能な環境の拡大を図ることが可能となり、これによって、光ピックアップ装置２０における利便性の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】光ピックアップ用光学素子の表面の概略構成を示す断面図である。
【図２】光ピックアップ装置の概略構成を示す断面図である。
【図３】光ピックアップ用光学素子の概略構成を示す断面図である。
【図４】試料１における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図５】試料２における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図６】試料３における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図７】試料４における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図８】試料５における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図９】試料６における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図１０】試料７における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図１１】試料８における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図１２】試料９における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図１３】試料１０における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図１４】試料１１における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図１５】試料１２における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図１６】試料１３における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図１７】試料１４における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図１８】試料１５における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図１９】試料１６における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図２０】試料１７における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図２１】試料１８における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図２２】試料１９における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図２３】試料２０における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図２４】試料２１における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図２５】試料２２における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図２６】試料２３における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図２７】試料２４における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図２８】試料２５における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図２９】試料２６における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図３０】試料２７における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図３１】試料２８における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図３２】試料２９における波長−分光反射率を示すグラフである。
【図３３】試料３０における波長−分光反射率を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１２９】
１  光ピックアップ用光学素子
２  基材
３  多層膜
４  アンダーコート
５  反射防止膜
１１  第１成型品
１２  第２成型品
２０  光ピックアップ装置
【図１】
2006228285.tif 000038
【図２】
2006228285.tif 000039
【図３】
2006228285.tif 000040
【図４】
2006228285.tif 000041
【図５】
2006228285.tif 000042
【図６】
2006228285.tif 000043
【図７】
2006228285.tif 000044
【図８】
2006228285.tif 000045
【図９】
2006228285.tif 000046
【図１０】
2006228285.tif 000047
【図１１】
2006228285.tif 000048
【図１２】
2006228285.tif 000049
【図１３】
2006228285.tif 000050
【図１４】
2006228285.tif 000051
【図１５】
2006228285.tif 000052
【図１６】
2006228285.tif 000053
【図１７】
2006228285.tif 000054
【図１８】
2006228285.tif 000055
【図１９】
2006228285.tif 000056
【図２０】
2006228285.tif 000057
【図２１】
2006228285.tif 000058
【図２２】
2006228285.tif 000059
【図２３】
2006228285.tif 000060
【図２４】
2006228285.tif 000061
【図２５】
2006228285.tif 000062
【図２６】
2006228285.tif 000063
【図２７】
2006228285.tif 000064
【図２８】
2006228285.tif 000065
【図２９】
2006228285.tif 000066
【図３０】
2006228285.tif 000067
【図３１】
2006228285.tif 000068
【図３２】
2006228285.tif 000069
【図３３】
2006228285.tif 000070