(57)【要約】【課題】  ＳＯＧ液等、処理液の跳ね返りによるノズル先端の汚染を防止する待機ポッドを有し、不良発生を抑制する基板塗布装置及び半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】  ノズル待機ポッド１５は、処理液供給ノズル１３が待機位置に移動してきたときに上方でノズル１３の先端部を収納し処理液Ｑ（ここではＳＯＧ液）の溶剤雰囲気にて待機させる。ノズル待機ポッド１５のカップ１５１内において溶剤貯留部１５２と処理液供給ノズル１３先端の間に、防跳部材１６が設けられている。防跳部材１６は、処理液供給ノズル１３からダミー吐出や液垂れで流下された処理液Ｑを大部分通過させて溶剤貯留部１５２に落とすと共に溶剤貯留部１５２からの跳ね返りを阻止するものである。より具体的にはステンレス等の金属製またはフッ素樹脂製で、処理液を通しかつ液跳ねを阻止するための網目またはスリット形状が加工された介在物である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板の裏面側が保持される回転台と、
前記回転台を所定の回転数で回転させる駆動制御部と、
前記被処理基板の回転中心上方で前記被処理基板に対し処理液を吐出する供給位置と前記被処理基板から外れた待機位置の間で移動可能な処理液供給ノズルと、
前記待機位置に設けられ、前記処理液供給ノズルが前記待機位置に移動してきたときに上方で前記処理液供給ノズルの先端部を収納し前記処理液の溶剤雰囲気にて待機させるノズル待機ポッドと、
前記ノズル待機ポッドのカップ底部の溶剤貯留部と、
前記溶剤貯留部の過剰量を排出する排液口と、
前記ノズル待機ポッドのカップ内において前記溶剤貯留部と前記処理液供給ノズル先端の間に設けられ、前記処理液供給ノズルから流下された処理液を大部分通過させて前記溶剤貯留部に落とすと共に前記溶剤貯留部からの跳ね返りを阻止する防跳部材と、
を含む基板塗布装置。
【請求項２】
前記防跳部材は、前記処理液供給ノズル先端側より前記溶剤貯留部表面寄りに位置する請求項１記載の基板塗布装置。
【請求項３】
前記防跳部材は、網目状の構成を含む請求項１または２記載の基板塗布装置。
【請求項４】
前記防跳部材は、薄い金属板または樹脂板に複数の開口を有する構成を含む請求項１または２記載の基板塗布装置。
【請求項５】
前記防跳部材は、複数の薄い長手の金属板または樹脂板を対向させたスリットの構成を含む請求項１または２記載の基板塗布装置。
【請求項６】
前記防跳部材は、各々波状に成形した複数の薄い長手の金属板または樹脂板どうし対向させ一部を接触または接近させた構成を含む請求項１または２記載の基板塗布装置。
【請求項７】
前記防跳部材は、傾斜して取り付けられている請求項１〜６いずれか一つに記載の基板塗布装置。
【請求項８】
前記防跳部材は、前記処理液供給ノズル先端に対向する所定領域に窪みを有する請求項１〜６ずれか一つに記載の基板塗布装置。
【請求項９】
前記防跳部材は、二重構造となっている請求項１〜７いずれか一つに記載の基板塗布装置。
【請求項１０】
被処理基板を回転させながら処理液を塗布する半導体装置の製造方法において、
処理液供給ノズルが前記被処理基板に対し処理液を吐出する工程と、
処理液供給ノズルが待機位置に移動し、ノズル待機ポッドに前記処理液供給ノズルの先端部を収納して前記処理液の溶剤雰囲気にて待機させる工程と、を含み、
前記処理液供給ノズルの待機中、前記ノズル待機ポッドのカップ底部の溶剤貯留部と前記処理液供給ノズル先端の間に設けられた防跳部材により、前記処理液供給ノズルから流下される処理液に関し大部分通過させて前記溶剤貯留部に落とすと共に前記溶剤貯留部からの跳ね返りを防止することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上方のノズルから処理液を供給し回転させた基板表面に塗布する基板塗布装置に係り、特に処理液供給ノズルからのパーティクル対策を図る基板塗布装置及び半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ製造工程（ウェハ工程）の一つにＳＯＧ（Spin On Glass）塗布工程がある。ＳＯＧ膜は、平坦性を向上させる塗布ガラス処理として広く用いられている。一般に、ＳＯＧ塗布はスピンコート方式で達成される。すなわち、ウェハ基板上方の処理液供給ノズルからウェハ基板の中央部にＳＯＧ液（シリコン化合物を有機溶剤に混合させた液）を供給し、ウェハ基板を所定の回転数で回転させてＳＯＧ液を振り切る。これにより、ウェハ主表面に所望の膜厚を有するＳＯＧ膜を得る。その後、ベークすることで、所望の絶縁膜となる。
【０００３】
処理液供給ノズルは、ウェハ基板上方にて処理液（例えばＳＯＧ液）を吐出した後、待機場所に移動する。この待機場所では処理液中の溶媒が揮発して処理液がノズル先端部で固化することを防止するための待機ポッドを備えている。待機ポッドの底部には溶剤が貯留されており、上方に位置するノズル先端は溶剤雰囲気にさらされている。これにより、ノズル先端の固化防止、ひいては固化物の剥離が原因になるパーティクル汚染の防止に寄与する（例えば、特許文献1参照）。
【特許文献１】特開平１０−１３７６６５号公報（図５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
待機ポッドに収納された処理液供給ノズル先端からは、供給口固化防止のためのダミー吐出や液垂れがあり、底部の溶剤貯留部に落ちて跳ね返る。処理液がＳＯＧ液の場合、跳ね返ったＳＯＧ液がポッドの内壁やノズル先端部に付着する。溶剤貯留部から遠いノズル先端部やその近傍のポッド内壁は溶剤の雰囲気が希薄で、固化したＳＯＧ結晶が堆積し易い。ノズル先端がＳＯＧ結晶等の異物で汚染されると、ノズルが基板上方の塗布位置に移動して塗布を行う際、ＳＯＧ結晶の異物剥離を起こし易い。ＳＯＧ結晶の異物剥離は、基板上にパーティクル汚染を蔓延させ、不良の原因となる。
【０００５】
本発明は上記のような事情を考慮してなされたもので、ＳＯＧ液等、処理液の跳ね返りによるノズル先端の汚染を防止する待機ポッドを有し、不良発生を抑制する基板塗布装置及び半導体装置の製造方法を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る基板塗布装置は、被処理基板の裏面側が保持される回転台と、前記回転台を所定の回転数で回転させる駆動制御部と、前記被処理基板の回転中心上方で前記被処理基板に対し処理液を吐出する供給位置と前記被処理基板から外れた待機位置の間で移動可能な処理液供給ノズルと、前記待機位置に設けられ、前記処理液供給ノズルが前記待機位置に移動してきたときに上方で前記処理液供給ノズルの先端部を収納し前記処理液の溶剤雰囲気にて待機させるノズル待機ポッドと、前記ノズル待機ポッドのカップ底部の溶剤貯留部と、前記溶剤貯留部の過剰量を排出する排液口と、前記ノズル待機ポッドのカップ内において前記溶剤貯留部と前記処理液供給ノズル先端の間に設けられ、前記処理液供給ノズルから流下された処理液を大部分通過させて前記溶剤貯留部に落とすと共に前記溶剤貯留部からの跳ね返りを阻止する防跳部材と、を含む。
【０００７】
上記本発明に係る基板塗布装置によれば、防跳部材は、処理液供給ノズルから流下された処理液を跳ね返すことなく大部分通過させる。かつ、溶剤貯留部からの処理液または溶剤の跳ね返りを阻止し、処理液供給ノズル先端やその近傍のカップ壁面への付着をなくする。これにより、パーティクルの原因となるノズル先端の汚染を防止する。
【０００８】
上記本発明に係る基板塗布装置において、次のいずれかの特徴を有することにより、防跳部材の性能を発揮する有用な構成となり得る。
前記防跳部材は、前記処理液供給ノズル先端側より前記溶剤貯留部表面寄りに位置することを特徴とする。
前記防跳部材は、網目状の構成を含むことを特徴とする。
前記防跳部材は、薄い金属板または樹脂板に複数の開口を有する構成を含むことを特徴とする。
前記防跳部材は、複数の薄い長手の金属板または樹脂板を対向させたスリットの構成を含むことを特徴とする。
前記防跳部材は、各々波状に成形した複数の薄い長手の金属板または樹脂板どうし対向させ一部を接触または接近させた構成を含むことを特徴とする。
前記防跳部材は、傾斜して取り付けられていることを特徴とする。
前記防跳部材は、前記処理液供給ノズル先端に対向する所定領域に窪みを有することを特徴とする。
前記防跳部材は、二重構造となっていることを特徴とする。
【０００９】
本発明に係る半導体装置の製造方法は、被処理基板を回転させながら処理液を塗布する半導体装置の製造方法において、処理液供給ノズルが前記被処理基板に対し処理液を吐出する工程と、処理液供給ノズルが待機位置に移動し、ノズル待機ポッドに前記処理液供給ノズルの先端部を収納して前記処理液の溶剤雰囲気にて待機させる工程と、を含み、前記処理液供給ノズルの待機中、前記ノズル待機ポッドのカップ底部の溶剤貯留部と前記処理液供給ノズル先端の間に設けられた防跳部材により、前記処理液供給ノズルから流下される処理液に関し大部分通過させて前記溶剤貯留部に落とすと共に前記溶剤貯留部からの跳ね返りを防止することを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る半導体装置の製造方法によれば、ノズル待機ポッドで処理液供給ノズルから流下された処理液は溶剤貯留部へ落ちた後、防跳部材を越えて跳ね返ってくることはない。従って、溶剤貯留部からの処理液または溶剤の跳ね返りで処理液供給ノズル先端やその近傍のカップ壁面が汚染されることもなくなる。これにより、パーティクルを抑制し、基板塗布を含むウェハ製造工程の高信頼性を得る。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板塗布装置の要部構成を示す概観図である。スピンコート方式であり、図示しない処理室の内部に被処理基板ＷＦの回転台１１が配備されている。回転台１１は、被処理基板ＷＦの裏面を真空チャックし、駆動制御部１２によって所定の回転数で回転される。被処理基板ＷＦ周囲に設けられるドレーンカップ等は省略している。
【００１２】
被処理基板ＷＦの回転中心上方には、被処理基板ＷＦに対し処理液Ｑを吐出する処理液供給ノズル１３が設けられている。処理液Ｑは例えばＳＯＧ液であり、被処理基板ＷＦにスピン塗布される。処理液供給ノズル１３は、被処理基板ＷＦに対し処理液Ｑを吐出する供給位置と、被処理基板ＷＦから外れた待機位置の間で移動可能である。
【００１３】
待機位置にはノズル待機ポッド１５が設けられている。ノズル待機ポッド１５は、処理液供給ノズル１３が待機位置に移動してきたときに上方でノズル１３の先端部を収納し処理液Ｑ（ここではＳＯＧ液）の溶剤雰囲気にて待機させる。溶剤はＳＯＧ溶剤に適した有機溶剤（アルコール類）とする。そのため、ノズル待機ポッド１５のカップ１５１底部には溶剤貯留部１５２が設けられ、溶剤貯留部１５の過剰量を排出し、溶剤貯留量を調節する排液口１５３が設けられている。
【００１４】
このようなノズル待機ポッド１５のカップ１５１内において溶剤貯留部１５２と処理液供給ノズル１３先端の間に、防跳部材１６が設けられている。防跳部材１６は、処理液供給ノズル１３からダミー吐出や液垂れで流下された処理液Ｑを大部分通過させて溶剤貯留部１５２に落とすと共に溶剤貯留部１５２からの跳ね返りを阻止するものである。より具体的にはステンレス等の金属製またはポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂製で、処理液を通しかつ液跳ねを阻止するための網目またはスリット形状が加工された介在物である。防跳部材１６は、僅かな処理液Ｑの付着を伴うためノズル１３先端側よりむしろ溶剤貯留部１５２表面寄りに位置することが望ましい。溶剤雰囲気の濃度が高い位置に配置した方が、防跳部材１６への付着物の定着が防げるからである。
【００１５】
図２（ａ），（ｂ）は、それぞれ上記図１中のノズル待機ポッド１５における、カップ１５１内の防跳部材１６に関する第１構成例を示す平面図、断面図である。ステンレス等の金属ワイヤ２１を網目状に組んだ構成となっている。これにより、処理液Ｑ（または溶剤貯留部１５２から）の跳ねや飛散を阻止する。なお、金属ワイヤ２１に代えてフッ素樹脂製の細線を網目状に組んだ構成を採用してもよい。
【００１６】
図３（ａ），（ｂ）は、それぞれ上記図１中のノズル待機ポッド１５における、カップ１５１内の防跳部材１６に関する第２構成例を示す平面図、断面図である。ステンレス等の薄い金属板３１に複数の開口３２を有する構成となっている。開口３２は、打ち抜きとせずに、開けしろ３３をある程度残し、開口端を揃えるよう仕上げている。これにより、処理液Ｑ（または溶剤貯留部１５２から）の跳ねや飛散を阻止する。なお、金属板３１に代えてフッ素樹脂板に複数の開口を有する構成を採用してもよい。
【００１７】
図４（ａ），（ｂ）は、それぞれ上記図１中のノズル待機ポッド１５における、カップ１５１内の防跳部材１６に関する第３構成例を示す平面図、断面図である。複数の薄い長手のステンレス等の金属板４１を対向させ、スリットを構成している。対向させる金属板４１各々は溶剤貯留部１５２表面に垂直でなく少し斜めに配置し、処理液Ｑ（または溶剤貯留部１５２から）の跳ねや飛散を阻止する。金属板４１の傾斜度合いは処理液供給ノズル１３から流下される処理液Ｑの通過の抵抗が大きすぎないようを考慮すべきである。なお、金属板４１に代えてフッ素樹脂板を対向させ、上記と同様のスリットを構成してもよい。
【００１８】
図５（ａ），（ｂ）は、それぞれ上記図１中のノズル待機ポッド１５における、カップ１５１内の防跳部材１６に関する第４構成例を示す平面図、断面図である。それぞれ波形状に成形した複数の薄い長手の金属板（例えばステンレス製）５１を対向させ、波形のピーク部分５２を接触または接近させた構成となっている。これにより、処理液Ｑ（または溶剤貯留部１５２から）の跳ねや飛散を阻止する。対向させる金属板５１各々を溶剤貯留部１５２表面に垂直でなく少し斜めに配置してもよい。なお、金属板５１に代えてフッ素樹脂板を用い、波形にして対向させて上記と同様に波形のピーク部分を接触または接近させた構成をとってもよい。
【００１９】
上記実施形態、各防跳部材の構成によれば、防跳部材１６は、処理液供給ノズル１３から流下された処理液Ｑを跳ね返すことなく大部分通過させる。かつ、溶剤貯留部１５２からの処理液Ｑまたは溶剤の跳ね返りを阻止し、処理液供給ノズル１３先端やその近傍のカップ１５１壁面への付着をなくする。これにより、パーティクルの原因となるノズル先端の汚染を防止することができる。
なお、各例示した防跳部材１６は交換可能であり、汚染が許容範囲を越えたら交換するようにすればよい。
【００２０】
図６は、本発明の第２実施形態に係る基板塗布装置の要部構成を示す概観図である。前記第１実施形態と同様の箇所には図１と同一の符号を付す。前記図１に比べて異なる構成は、防跳部材の取り付け形態である。防跳部材６６として、ノズル待機ポッド１５のカップ１５１内に、溶剤貯留部１５２表面に対し傾斜をもって取り付けられている。傾斜角度θは限定されないが、θ＝２０°〜６０°程度が適当である。これにより、防跳部材６６は、処理液供給ノズル１３から流下された処理液Ｑを大部分通過させて溶剤貯留部１５２に落とすと共に溶剤貯留部１５２からの跳ね返りを阻止する。
【００２１】
上記図６中のノズル待機ポッド１５における、カップ１５１内の防跳部材６６に関する第１構成例として、前記図２（ａ），（ｂ）の構成があげられる。すなわち、ステンレス等の金属ワイヤ２１を網目状に組んだ構成を所定角度傾斜させて取り付ける。これにより、処理液Ｑ（または溶剤貯留部１５２から）の跳ねや飛散を阻止する。もちろん、金属ワイヤ２１に代えてフッ素樹脂製の細線を網目状に組んだ構成を採用してもよい。
【００２２】
また、上記図６中のノズル待機ポッド１５における、カップ１５１内の防跳部材６６に関する第２構成例として、前記図３（ａ），（ｂ）の構成があげられる。すなわち、ステンレス等の薄い金属板３１に複数の開口３２を有する構成である。開口３２は、打ち抜きとせずに、開けしろ３３をある程度残し、開口端を揃えるよう仕上げている。図示しないが、開口自体をある程度傾斜させてもよい。これにより、処理液Ｑ（または溶剤貯留部１５２から）の跳ねや飛散を阻止する。もちろん、金属板３１に代えてフッ素樹脂板に複数の開口を有する構成を採用してもよい。
【００２３】
また、上記図６中のノズル待機ポッド１５における、カップ１５１内の防跳部材６６に関する第３構成例として、前記図４（ａ），（ｂ）の構成があげられる。すなわち、複数の薄い長手の金属板（例えばステンレス製）４１を対向させ、スリットを構成するものである。対向させる金属板４１各々は、相対的に溶剤貯留部１５２表面に垂直でなく少し斜めに配置する。金属板４１の傾斜度合いは処理液供給ノズル１３から流下される処理液Ｑの通過の抵抗が大きすぎないようを考慮して設定される。これにより、処理液Ｑ（または溶剤貯留部１５２から）の跳ねや飛散を阻止する。もちろん、金属板４１に代えてフッ素樹脂板を利用し、対向させて上記と同様のスリットを構成してもよい。
【００２４】
図７（ａ），（ｂ）は、それぞれ上記図６中のノズル待機ポッド１５における、カップ１５１内の防跳部材６６に関する第４構成例を示す平面図、断面図である。前記図５（ａ），（ｂ）と同じ符号を付して説明する。それぞれ波形状に成形した複数の薄い長手の金属板（例えばステンレス製）５１を対向させ、波形のピーク部分５２を接触または接近させた構成となっている。各金属板５１は、防跳部材６６の傾斜に合わせて僅かずつずらして対抗させる。これにより、処理液Ｑ（または溶剤貯留部１５２から）の跳ねや飛散を阻止する。もちろん、金属板５１に代えてフッ素樹脂板を用い、波形にして対向させて上記と同様に波形のピーク部分を接触または接近させた構成をとってもよい。
【００２５】
上記実施形態、各防跳部材の構成によれば、防跳部材６６は、処理液供給ノズル１３から流下された処理液Ｑを跳ね返すことなく大部分通過させる。かつ、溶剤貯留部１５２からの処理液Ｑまたは溶剤の跳ね返りを阻止し、処理液供給ノズル１３先端やその近傍のカップ１５１壁面への付着をなくする。これにより、パーティクルの原因となるノズル先端の汚染を防止することができる。
なお、各例示した防跳部材６６は交換可能であり、汚染が許容範囲を越えたら交換するようにすればよい。
【００２６】
図８は、本発明の第３実施形態に係る基板塗布装置の要部構成を示す概観図である。前記第１実施形態と同様の箇所には図１と同一の符号を付す。前記図１に比べて異なる構成は、防跳部材の形態である。防跳部材７６として、ノズル待機ポッド１５のカップ１５１内に、処理液供給ノズル１３先端に対向する所定領域に窪み７６１を形成した構成となっている。窪みの広さ、深さは限定されないが、処理液供給ノズル１３から流下される処理液Ｑを窪み７６１中で受け入れ、飛散せずに窪み７６１底部で処理液Ｑを大部分通過させるよう構成する。これにより、防跳部材７６は、処理液供給ノズル１３から流下された処理液Ｑを大部分通過させて溶剤貯留部１５２に落とすと共に溶剤貯留部１５２からの跳ね返りを阻止する。
【００２７】
図９（ａ），（ｂ）は、それぞれ上記図８中のノズル待機ポッド１５における、カップ１５１内の防跳部材７６に関する一構成例を示す平面図、断面図である。ステンレス等の金属ワイヤ９１を網目状に組んだ構成となっている。窪み７６１に相当する箇所が設けられる。これにより、処理液Ｑ（または溶剤貯留部１５２から）の跳ねや飛散を阻止する。もちろん、金属ワイヤ９１に代えてフッ素樹脂製の細線を網目状に組んだ構成で窪み７６１に相当する箇所が設けられるようにしてもよい。
【００２８】
上記実施形態、各防跳部材の構成によれば、防跳部材７６は、処理液供給ノズル１３から流下された処理液Ｑを跳ね返すことなく窪み７６１底部で大部分通過させる。かつ、溶剤貯留部１５２からの処理液Ｑまたは溶剤の跳ね返りを阻止し、処理液供給ノズル１３先端やその近傍のカップ１５１壁面への付着をなくする。これにより、パーティクルの原因となるノズル先端の汚染を防止することができる。
なお、例示した防跳部材７６は交換可能であり、汚染が許容範囲を越えたら交換するようにすればよい。
【００２９】
図１０は、本発明の第４実施形態に係る基板塗布装置の要部構成を示す概観図である。前記第１実施形態と同様の箇所には図１と同一の符号を付す。前記図１に比べて異なる構成は、防跳部材を二重に設けたことである。ノズル待機ポッド１５のカップ１５１内において溶剤貯留部１５２と処理液供給ノズル１３先端の間に、防跳部材８６１，８６２が離間して設けられている。防跳部材８６１，８６２互いの離間距離は、限定されないが、溶剤貯留部１５２表面から離れ過ぎないようにする。溶剤貯留部１５２表面から離れ過ぎて溶剤雰囲気が希薄になると処理液Ｑの付着が堆積し易いからである。このような構成によって、防跳部材８６１，８６２は、処理液供給ノズル１３から流下された処理液Ｑを大部分通過させて溶剤貯留部１５２に落とすと共に溶剤貯留部１５２からの跳ね返りを阻止する。
【００３０】
上記図１０中のノズル待機ポッド１５における、カップ１５１内の防跳部材８６１，８６２に関する具体的な構成は、前記図２〜図５の各構成を適当に選択して適用することができる。防跳部材を二重に設けることで、処理液Ｑ（または溶剤貯留部１５２から）の跳ねや飛散を阻止する能力を向上させる。なお、防跳部材８６１，８６２は交換可能であり、汚染が許容範囲を越えたら交換するようにすればよい。
【００３１】
上記各実施形態によれば、被処理基板ＷＦを回転させながら処理液Ｑを塗布する半導体装置の製造方法において有用である。処理液Ｑは、ＳＯＧ液に限らず、レジスト液、現像液、ポリイミド樹脂用薬液等に代えることが考えられる。すなわち、ノズル待機ポッド１５のカップ１５１底部の溶剤貯留部１５２と処理液供給ノズル１３先端の間に防跳部材１６，６６，７６，（８６１，８６２）いずれかが設けられる。処理液供給ノズル１３の待機中、設けられた防跳部材により、処理液供給１３ノズルから流下される処理液Ｑに関し大部分通過させて溶剤貯留部１５２に落とすと共に溶剤貯留部１５２からの跳ね返りを防止する。よって本発明の結果、ＳＯＧ液等、処理液の跳ね返りによるノズル先端の汚染を防止する待機ポッドを有し、不良発生を抑制する基板塗布装置及び半導体装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】第１実施形態に係る基板塗布装置の要部構成を示す概観図。
【図２】図１中の防跳部材に関する第１構成例を示す平面、断面各図。
【図３】図１中の防跳部材に関する第２構成例を示す平面、断面各図。
【図４】図１中の防跳部材に関する第３構成例を示す平面、断面各図。
【図５】図１中の防跳部材に関する第４構成例を示す平面、断面各図。
【図６】第２実施形態に係る基板塗布装置の要部構成を示す概観図。
【図７】図６中の防跳部材に関する第４構成例を示す平面、断面各図。
【図８】第３実施形態に係る基板塗布装置の要部構成を示す概観図。
【図９】図８中の防跳部材に関する一構成例を示す平面、断面各図。
【図１０】第４実施形態に係る基板塗布装置の要部構成を示す概観図。
【符号の説明】
【００３３】
１１…回転台、１２…駆動制御部、１３…処理液供給ノズル、１５…ノズル待機ポッド、１５１…カップ、１５２…溶剤貯留部、１５３…排液口、１６，６６，７６，８６１，８６２…防跳部材、３１，４１，５１…金属板（または樹脂板）、３２…開口、３３…開けしろ、５２…波形のピーク部分、７６１…窪み、ＷＦ…被処理基板、Ｑ…処理液。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2006228854.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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