(57)【要約】【課題】  周囲から研磨用スラリーの浸入を規制することができ、研磨対象物の吸着状態を良好に保持することができる研磨用吸着パッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】  研磨用吸着パッド１２は、液晶ガラス等の研磨対象物を吸着し、その状態で研磨用スラリーにより研磨対象物を研磨するためのものである。連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体１９の一方の面を研磨対象物の吸着面２０とし、他方の面に研磨時の温度より高い軟化温度を有するホットメルト接着剤層２１が設けられる。そのホットメルト接着剤層２１の軟化温度より高い温度での加熱及び加圧により板状体１９の周縁が圧縮されて圧縮部２３が形成される。その圧縮部２３にはホットメルト接着剤層２１が溶融し浸透して研磨用スラリーの浸入が規制されるとともに、前記加熱及び加圧により板状体１９の他方の面が支持フィルム２２に接着されている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨対象物を吸着し、その状態で研磨用スラリーにより研磨対象物を研磨するための研磨用吸着パッドであって、
連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体の一方の面を研磨対象物の吸着面とし、他方の面に研磨時の温度より高い軟化温度を有する接着剤層を設け、板状体の周縁において接着剤層の軟化温度より高い温度での加熱及び加圧によって圧縮されることにより圧縮部が形成され、その圧縮部には接着剤層が溶融し浸透して研磨用スラリーの浸入が規制されるとともに、前記加熱及び加圧により板状体の他方の面が支持フィルムに接着されて構成されていることを特徴とする研磨用吸着パッド。
【請求項２】
前記接着剤層はホットメルト接着剤により形成され、そのホットメルト接着剤は、軟化温度が９０〜１４０℃の熱可塑性樹脂により構成されていることを特徴とする請求項１に記載の研磨用吸着パッド。
【請求項３】
前記ホットメルト接着剤の塗布量は、板状体の厚さ１ｍｍに対して２５〜１５０ｇ／ｍ２であることを特徴とする請求項２に記載の研磨用吸着パッド。
【請求項４】
研磨対象物を吸着し、その状態で研磨用スラリーにより研磨対象物を研磨するための研磨用吸着パッドの製造方法であって、
連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体の一方の面を研磨対象物の吸着面とし、他方の面に研磨時の温度より高い軟化温度を有する接着剤層を設け、板状体の周縁を接着剤層の軟化温度より高い温度に加熱及び加圧して圧縮し圧縮部を形成するとともに、その圧縮部には接着剤層を溶融させ浸透させて研磨用スラリーの浸入を規制するとともに、前記加熱及び加圧により板状体の他方の面を支持フィルムに接着することを特徴とする研磨用吸着パッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば研磨対象物としてコンピュータのハードディスクに用いられる液晶ガラスやテレビの画面に用いられる液晶ガラスを研磨して厚さ精度を高める場合、液晶ガラスを保持するために使用される研磨用吸着パッド及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の液晶ガラスを製造する場合には、厚さ精度を高めるため、研磨砥粒としての酸化セリウムを水に分散したスラリーで液晶ガラスの表面を研磨する工程が設けられる。係る研磨工程においては液晶ガラスを保持する必要があり、そのためにポリウレタン発泡体、イソプレンゴム発泡体等の多孔質体が用いられている。そのような多孔質体として例えば、発泡ポリウレタン樹脂からなる多孔質軟質樹脂製シートにより構成された吸着パッドが開示されている（例えば、特許文献１を参照）。係る吸着パッドは、加圧盤の盤面に貼着され、その吸着パッドに水を介してガラス基板が吸着保持される。一方、ガラス基板と対向する位置には、回転駆動軸により回転する研磨盤上に貼付された研磨布が配置される。そして、ガラス基板を研磨布に押し付け、そこへ酸化セリウムからなる研磨砥粒を水に分散させたスラリーを供給しながら回転させることにより、ガラス基板の表面が精度良く研磨される。
【特許文献１】特開２００４−２７６１３３号公報（第２頁、第４頁及び第５頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、特許文献１に記載の吸着パッドは、ガラス基板の研磨時において研磨用スラリーに晒されることから、吸着パッドの周囲から研磨用スラリー（水とその水に分散された研磨砥粒）が吸着パッド内に浸入する。吸着パッド内に研磨用スラリーが浸入すると、研磨用スラリーの浸入部分で進入量に応じて膨らみが生じ、吸着パッドの表面に微小な凹凸が形成される。一方、ガラス基板は吸着パッドの平坦な表面に水を介して吸着されている。吸着パッド表面の状態が平滑ではなく、凹凸部分が形成されていると、その上に存在する水の量が変化し、表面張力が場所によって変わり、吸着パッドに対するガラス基板の吸着性が変化する。その結果、ガラス基板の研磨精度が低下したり、さらにはガラス基板が吸着パッドに対して位置ずれしたりする場合がある。
【０００４】
そこで本発明の目的とするところは、周囲から研磨用スラリーの浸入を規制することができ、研磨対象物の吸着状態を良好に保持することができる研磨用吸着パッド及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明の研磨用吸着パッドは、研磨対象物を吸着し、その状態で研磨用スラリーにより研磨対象物を研磨するための研磨用吸着パッドであって、連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体の一方の面を研磨対象物の吸着面とし、他方の面に研磨時の温度より高い軟化温度を有する接着剤層を設け、板状体の周縁において接着剤層の軟化温度より高い温度での加熱及び加圧によって圧縮されることにより圧縮部が形成され、その圧縮部には接着剤層が溶融し浸透して研磨用スラリーの浸入が規制されるとともに、前記加熱及び加圧により板状体の他方の面が支持フィルムに接着されて構成されていることを特徴とするものである。
【０００６】
請求項２に記載の発明の研磨用吸着パッドは、請求項１に係る発明において、前記接着剤層はホットメルト接着剤により形成され、そのホットメルト接着剤は、軟化温度が９０〜１４０℃の熱可塑性樹脂により構成されていることを特徴とするものである。
【０００７】
請求項３に記載の発明の研磨用吸着パッドは、請求項２に係る発明において、前記ホットメルト接着剤の塗布量は、板状体の厚さ１ｍｍに対して２５〜１５０ｇ／ｍ２であることを特徴とするものである。
【０００８】
請求項４に記載の発明の研磨用吸着パッドの製造方法は、研磨対象物を吸着し、その状態で研磨用スラリーにより研磨対象物を研磨するための研磨用吸着パッドの製造方法であって、連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体の一方の面を研磨対象物の吸着面とし、他方の面に研磨時の温度より高い軟化温度を有する接着剤層を設け、板状体の周縁を接着剤層の軟化温度より高い温度に加熱及び加圧して圧縮し圧縮部を形成するとともに、その圧縮部には接着剤層を溶融させ浸透させて研磨用スラリーの浸入を規制するとともに、前記加熱及び加圧により板状体の他方の面を支持フィルムに接着することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、次のような効果を発揮することができる。
請求項１に記載の発明の研磨用吸着パッドにおいては、連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体の一方の面を研磨対象物の吸着面とし、他方の面に研磨時の温度より高い軟化温度を有する接着剤層が設けられる。そして、板状体の周縁において接着剤層の軟化温度より高い温度での加熱及び加圧によって圧縮されることにより圧縮部が形成されるとともに、その圧縮部には接着剤層が溶融し浸透して板状体の他方の面が支持フィルムに接着される。このため、板状体周縁の圧縮部において密封され、板状体の周囲から研磨用スラリーの浸入を規制することができ、ひいては研磨対象物の吸着状態を良好に保持することができる。
【００１０】
請求項２に記載の発明の研磨用吸着パッドにおいては、接着剤層はホットメルト接着剤により形成され、そのホットメルト接着剤は、軟化温度が９０〜１４０℃の熱可塑性樹脂により構成されている。このため、請求項１に係る発明の効果に加え、ホットメルト接着剤を容易に溶融させることができる。
【００１１】
請求項３に記載の発明の研磨用吸着パッドでは、ホットメルト接着剤の塗布量が板状体の厚さ１ｍｍに対して２５〜１５０ｇ／ｍ２に設定されている。このため、請求項２に係る発明の効果に加え、ホットメルト接着剤による十分な接着力と圧縮部内へのホットメルト接着剤の浸透性を向上させることができる。
【００１２】
請求項４に記載の発明の研磨用吸着パッドの製造方法では、連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体の一方の面を研磨対象物の吸着面とし、他方の面に研磨時の温度より高い軟化温度を有する接着剤層を設ける。次いで、板状体の周縁を接着剤層の軟化温度より高い温度に加熱及び加圧を行って圧縮し圧縮部を形成するとともに、その圧縮部には接着剤層を溶融させ浸透させた状態で板状体の他方の面を支持フィルムに接着する。この製造方法によれば、請求項１に係る発明の効果を有する研磨用吸着パッドを容易に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
まず、液晶ガラスの研磨装置について説明すると、図３に示すように、定盤１１上には研磨用吸着パッド１２が固着され、その研磨用吸着パッド１２上には水１３を介して研磨対象物としての液晶ガラス１４が吸着されている。液晶ガラス１４は、水１３の表面張力により研磨用吸着パッド１２上に吸着される。液晶ガラス１４は、コンピュータのハードディスクや画面、テレビの画面、携帯電話の画面等に用いられるものである。液晶ガラス１４の上方位置には、回転軸１５に支持された円盤状の回転治具１６が所定の回転速度で回転可能に配設されている。回転治具１６の下面には研磨パッド１７が固着され、前記液晶ガラス１４の表面に摺接されるようになっている。
【００１４】
そして、回転治具１６が下降して研磨パッド１７が液晶ガラス１４の表面に接触する状態で、液晶ガラス１４表面に研磨用スラリー１８が供給され、液晶ガラス１４の表面が研磨されるようになっている。研磨用スラリー１８としては、例えば研磨砥粒としての酸化セリウムが水に分散されたものが用いられる。この研磨により、液晶ガラス１４の厚さ精度が高められる。
【００１５】
図１及び図２（ａ）、（ｂ）に示すように、四角板状に形成された板状体１９の一方の面（上面）が液晶ガラス１４の吸着面２０となり、他方の面（下面）にはホットメルト接着剤によるホットメルト接着剤層２１が設けられている。板状体１９は、連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体により形成されている。前記ホットメルト接着剤層２１の下面には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム２２が接着されている。前記板状体１９の周縁（四辺）はホットメルト接着剤層２１の軟化温度より高い温度での加熱及び加圧により圧縮されて圧縮部２３となり、その圧縮部２３にはホットメルト接着剤層２１が溶融し浸透する。前記加熱及び加圧は、例えばアイロンを用いて手で板状体１９の四辺を順に押圧することにより行われる。その場合、加熱は１４０〜１６０℃の温度で３〜１０分程度の条件にて行われる。加熱温度が１４０℃未満では圧縮の効果が弱く、１６０℃を越えるとポリウレタン発泡体の強度等の物性が低下して好ましくない。
【００１６】
これにより、圧縮部２３での研磨用スラリー１８の浸透が規制（シール）されると同時に、圧縮部２３における下面が支持フィルム２２に接着されている。圧縮部２３の厚さは、圧縮前の厚さの２０〜４０％程度が好ましい。その割合が２０％未満の場合には、圧縮後の厚さが薄くなり過ぎて圧縮部２３に浸透されるホットメルト接着剤量が少なくなって支持フィルム２２に対する接着力が低下する傾向となる。一方、４０％を越える場合には、圧縮量が少なく、ホットメルト接着剤を圧縮部２３に十分浸透させることができず、シール性が低下するおそれがある。
【００１７】
前記板状体１９を構成する連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体としては、イソプレンゴム発泡体、軟質ポリウレタン発泡体等が用いられる。これらの材料によって得られる板状体１９の表面はより平滑であることが好ましい。そのため、発泡体原料を表面が平滑なフィルム上に供給して発泡させた後、フィルムを剥離し、その剥離面を吸着面２０とする手法を採ることが好ましい。具体的な手法について説明すると、図４に示すように、上下一対の送り出しローラ２４、２５には各々離型処理されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製の樹脂フィルム２６、２７が巻回され、両樹脂フィルム２６、２７が重ね合されるようにして前方（図中では右方）へ送り出されるようになっている。樹脂フィルム２６、２７としては、アクリル樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等を用いることもできる。この場合、下部位置の送り出しローラ２５は右回転し、上部位置の送り出しローラ２４は左回転する。
【００１８】
上部位置の送り出しローラ２４の下方には、例えば軟質ポリウレタン発泡体の原料（液体）を下方へ開口された供給口２８から吐出する原料供給装置２９が配設されている。そして、原料供給装置２９の供給口２８から吐出される原料３０が、下部位置の送り出しローラ２５から送り出され支持台３１に支持された樹脂フィルム２７上に供給されるようになっている。原料供給装置２９の前方位置には押えローラ３２が配設され、両樹脂フィルム２６、２７間に軟質ポリウレタン発泡体の原料３０が挟まれた状態で、両樹脂フィルム２６、２７の上面から押圧し、両樹脂フィルム２６、２７間の厚さを調整するようになっている。
【００１９】
この押えローラ３２の前方位置には１００℃の加熱エアを対象物に吹き付ける加熱装置３３が配設され、前記ポリウレタン発泡体の原料３０を発泡、反応及び硬化させるようになっている。本実施形態においては支持台３１と加熱装置３３とが一体に構成されている。そして、両樹脂フィルム２６，２７間に挟まれたポリウレタン発泡体の原料３０が押えローラ３２の通過後に自然発泡され、その後加熱装置３３内でさらに発泡、反応及び硬化（架橋）されるようになっている。次いで、得られたポリウレタン発泡体の板状体１９両表面の樹脂フィルム２６、２７を剥離することにより、両表面が平滑に形成された板状体１９が得られる。板状体１９の表面が平滑になることで、前記液晶ガラス１４を安定した状態にて吸着保持することができる。さらに、板状体１９の表面には高密度の皮膜が形成され、その皮膜は遮断性を有していることから、板状体１９の表面で水や研磨砥粒の通過が規制される。
【００２０】
また、板状体１９は連続気泡構造、すなわち発泡体のセルが連通する構造をとることにより、溶融したホットメルト接着剤を発泡体内に十分に浸透させることが可能となる。連続気泡構造を示す独立気泡率（ＡＳＴＭＤ２８５６に基づく）は２０％以下であることが好ましい。この独立気泡率が２０％を越える場合には、発泡体内のセルの連通性が低下し、溶融したホットメルト接着剤を発泡体内に十分に浸透させることができなくなる。
【００２１】
前記連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体は軟質であり、その発泡体により形成される研磨用吸着パッド１２は、液晶ガラス１４等の研磨対象物を研磨する際に研磨圧によって研磨対象物が損傷を受けないように、緩衝性を有している。そのため、熱硬化性重合体の発泡体は、一定の架橋密度を有するとともに、復元性を有することが求められる。従って、ゴム発泡体の場合には加硫剤の配合量がゴム成分に対して１〜５質量％であることが好ましい。この配合量が１質量％未満の場合には、得られるゴム発泡体の架橋密度が低く、硬度が不足して好ましくない。一方、５質量％を越える場合には、ゴム発泡体の架橋密度が高くなり過ぎて、復元性が低下し、緩衝性が不足して好ましくない。
【００２２】
また、樹脂発泡体の場合には、架橋剤（ポリオール類）の官能基数が２．０〜３．０で、水酸基価が２０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。官能基数が２．０又は水酸基価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の場合には、樹脂発泡体の架橋密度が低くなり、硬度が不足して好ましくない。一方、官能基数が３．０を越えるか又は水酸基価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇを越える場合には、樹脂発泡体の架橋密度が高くなり過ぎて、復元性が低くなり、緩衝性が不足して好ましくない。さらに、架橋剤の配合量は、樹脂成分１００質量部に対して１〜１０質量部であることが好ましい。この配合量が１質量部未満の場合、架橋反応が不十分で、得られる樹脂発泡体の架橋密度が低くなる。一方、１０質量部を越える場合、架橋反応が過度に進行し、樹脂発泡体の架橋密度が高くなり過ぎる。
【００２３】
前記ゴム発泡体は、例えばゴムエマルジョン又はゴムラテックスに触媒、界面活性剤等を配合し、加硫剤としての硫黄で加硫することにより製造される。具体的には、イソプレンゴム発泡体は、イソプレンゴムエマルジョンに、触媒、界面活性剤、硫黄及び酸化防止剤が配合され、特に硫黄の配合量がイソプレンゴムエマルジョンの固形分に対して４質量％に設定され、前記樹脂フィルム２７上に供給されて乾燥され、発泡、硬化されて得られる。この発泡過程でセルが形成されるが、その形成速度が遅いため、セル膜が破られてセルが連通し、連続気泡構造のゴム発泡体が製造される。
【００２４】
また、樹脂発泡体としては、軟質ポリウレタン発泡体が代表例として挙げられる。すなわち、連続気泡構造のセルを有する多孔質の軟質ポリウレタン発泡体は、ポリオール類、ポリイソシアネート類、発泡剤及び触媒を含むポリウレタン発泡体の原料を反応させ、発泡及び硬化させることにより得られる。ポリオール類としては、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールが用いられる。ポリエステルポリオールとしては、アジピン酸、フタル酸等のポリカルボン酸を、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等のポリオールと反応させることによって得られる縮合系ポリエステルポリオールのほか、ラクトン系ポリエステルポリオール及びポリカーボネート系ポリオールが挙げられる。ポリエーテルポリオールとしては、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、それらの変性体、グリセリンにアルキレンオキサイドを付加した化合物等が挙げられる。このポリオール類は、原料成分の種類、分子量、縮合度等を調整することによって、水酸基の数や水酸基価を変えることができる。また、ポリオール類の１種として、１,４−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等の架橋剤を配合することもできる。
【００２５】
架橋剤を含むポリオール類の平均水酸基価は、２０〜１００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であることが好ましい。このような水酸基価を有するポリオール類を用いることにより、ポリイソシアネート類との反応性に優れ、適度に架橋されたポリウレタン発泡体を得ることができる。ポリオール類の平均水酸基価が１００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を越える場合、架橋密度が高くなり過ぎて発泡体が硬くなり、吸水性も低下する。一方、平均水酸基価が２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）未満の場合、水酸基価が小さくなり過ぎ、ポリウレタン発泡体の架橋密度が低くなって発泡体の強度が低下しやすくなる傾向を示す。また、架橋剤を含むポリオール類の平均官能基数は、２．０〜３．０であることが好ましい。この平均官能基数が２．０未満の場合には、ポリウレタン発泡体の架橋密度が低くなって発泡体の強度が不足する傾向を示す。一方、平均官能基数が３．０を越える場合には、架橋密度が高くなり過ぎて発泡体が硬くなり、セルの連通性が悪くなって吸水性も低下する。
【００２６】
次に、ポリオール類と反応させるポリイソシアネート類はイソシアネート基を複数有する化合物であって、具体的にはトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４,４−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、１,５−ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、トリフェニルメタントリイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）及びそれらのプレポリマー等が用いられる。
【００２７】
ここで、ポリイソシアネート類のイソシアネートインデックスは好ましくは１００〜１２０である。すなわち、イソシアネートインデックスは、ポリオール類の水酸基及び発泡剤（水）に対するポリイソシアネート類のイソシアネート基の当量比を百分率で表したものであるが、その値が１００を越えるということはイソシアネート基が水酸基より過剰であることを意味する。イソシアネートインデックスが１００未満の場合には、ポリオール類に対するポリイソシアネート類の反応が不足し、発泡体が軟らかくなって強度が低下する傾向を示す。一方、イソシアネートインデックスが１２０を越える場合には、発泡体が硬くなる傾向を示し、吸水性が低下するようになる。
【００２８】
発泡剤はポリウレタンを発泡させてポリウレタン発泡体とするためのものである。この発泡剤としては、水のほかメチレンクロライド等の低沸点化合物、炭酸ガス等が用いられる。発泡剤の配合量は、通常より少なくして泡化反応の進行を抑え、高密度の発泡体を得るために、ポリオール類１００質量部に対して０．０５〜０．２質量部であることが好ましい。これにより、密度が１００kg／m3以上の発泡体を得ることができる。発泡剤の配合量が０．０５質量部未満では泡化反応が不十分となり、０．２質量部を越えると泡化反応及び架橋反応が過剰となり、発泡体が硬くなりやすい。
【００２９】
触媒はポリオール類とポリイソシアネート類とのウレタン化反応を促進するためのものである。係る触媒としては、Ｎ,Ｎ´,Ｎ´−トリメチルアミノエチルピペラジン、トリエチレンジアミン、ジメチルエタノールアミン、Ｎ−エチルモルホリン等の３級アミン、オクチル酸スズ等の有機金属化合物、酢酸塩、アルカリ金属アルコラート等が用いられる。その他、ポリウレタン発泡体の原料としては、界面活性剤等の整泡剤、縮合リン酸エステル等の難燃剤、酸化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、着色剤等を添加することもできる。
【００３０】
そして、ポリウレタン発泡体の原料を反応させて発泡及び硬化させることによりポリウレタン発泡体が製造されるが、その際の反応は複雑であり、基本的には次のような反応が主体となっている。すなわち、ポリオール類とポリイソシアネート類との付加重合反応（ウレタン化反応）、ポリイソシアネート類と発泡剤としての水との泡化（発泡）反応及びこれらの反応生成物とポリイソシアネート類との架橋（硬化）反応である。ここで、上記のポリオール類はポリイソシアネート類と反応してポリウレタンの基本骨格を形成するものである。前記発泡過程でセルが形成されるが、その形成速度が遅いことから、セル膜が破られてセルが連通し、連続気泡構造のポリウレタン発泡体が製造される。
【００３１】
次に、前記ホットメルト接着剤層２１を形成するホットメルト接着剤は、研磨時の温度より高い軟化温度を有する熱可塑性樹脂で、その軟化温度が９０〜１４０℃の熱可塑性樹脂により構成されていることが好ましい。研磨時の温度は、通常４０〜６０℃程度である。そのようなホットメルト接着剤としては、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂（ＥＶＡ、軟化温度９５℃）、ポリエチレン（ＰＥ、軟化温度９５〜１１５℃）等が用いられる。
【００３２】
ホットメルト接着剤の塗布量としては、板状体１９の厚さ１ｍｍに対して２５〜１５０ｇ／ｍ２であることが好ましい。この塗布量が２５ｇ／ｍ２未満の場合には、塗布量が少なく、溶融したホットメルト接着剤が板状体１９周縁の圧縮部２３内に十分浸透せず、さらに圧縮部２３が圧縮状態を維持できず元に戻る傾向を示すと同時に、圧縮部２３のシール性が不十分になる傾向を示す。一方、１５０ｇ／ｍ２を越える場合には、塗布量が多くなり過ぎて溶融したホットメルト接着剤が圧縮部２３から外へはみ出し、作業性が悪くなるおそれがある。支持フィルム２２は一定の剛性を有し、前記板状体１９の形状を保持して研磨作業を円滑に行うためのものである。この支持フィルム２２としては、ＰＥＴのほか、ポリエチレン等を用いることもできる。支持フィルム２２の下面は両面粘着テープ等の接着剤層３４により定盤１１に接着されている。本実施形態の研磨用吸着パッド１２は、板状体１９と、その下面に設けられたホットメルト接着剤層２１と、板状体１９の周縁に形成された圧縮部２３と、ホットメルト接着剤層２１の下面に接着された支持フィルム２２とにより構成されている。なお、圧縮部２３の上方位置における板状体１９の側面は、前述した発泡体の皮膜が形成され、そこからの研磨用スラリー１８の浸入が規制されるようになっている。
【００３３】
さて、本実施形態の作用について説明すると、連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体１９の他方の面にホットメルト接着剤層２１を形成する。そして、板状体１９の周縁をホットメルト接着剤層２１の軟化温度より高い温度で加熱及び加圧を行うことにより圧縮して圧縮部２３を形成するとともに、ホットメルト接着剤層２１を溶融させる。この場合、板状体１９を構成する発泡体のセルが連通されていることから、板状体１９の圧縮部２３内に溶融したホットメルト接着剤が浸透する。その状態で冷却されると、ホットメルト接着剤が圧縮部２３内で固化して圧縮部２３が一体化されて高いシール性が発揮されると同時に、その圧縮部２３の下面が支持フィルム２２に接着される。このとき、板状体１９の圧縮部２３に浸透して固化したホットメルト接着剤が支持フィルム２２との接着のアンカーとなり、接着力に寄与する。従って、板状体１９の圧縮部２３から内部への水や研磨砥粒の浸入が規制されるとともに、板状体１９が支持フィルム２２に強固に接着される。
【００３４】
以上の実施形態によって発揮される効果について、以下にまとめて記載する。
・  本実施形態の研磨用吸着パッド１２においては、連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体１９の一方の面を研磨対象物である液晶ガラス１４の吸着面２０とし、他方の面にホットメルト接着剤層２１が設けられる。そして、板状体１９の周縁をホットメルト接着剤層２１の加熱及び加圧によって圧縮することにより圧縮部２３が形成されるとともに、その圧縮部２３にはホットメルト接着剤層２１が溶融し浸透して板状体１９の他方の面が支持フィルム２２に接着される。このため、研磨用吸着パッド１２は、板状体１９周縁の圧縮部２３において密封され、板状体１９の周囲から研磨用スラリー１８の浸入を規制することができ、ひいては液晶ガラス１４の吸着状態を良好に保持することができる。
【００３５】
・  前記圧縮部２３を形成する作業は、アイロンを用いて簡単に行うことができ、作業性を向上させることができる。
・  また、ホットメルト接着剤層２１を形成するホットメルト接着剤として軟化温度が９０〜１４０℃の熱可塑性樹脂を用いることにより、ホットメルト接着剤を容易に溶融させることができる。
【００３６】
・  さらに、ホットメルト接着剤の塗布量を板状体１９の厚さ１ｍｍに対して２５〜１５０ｇ／ｍ２に設定することにより、ホットメルト接着剤による十分な接着力と板状体１９の圧縮部２３内へのホットメルト接着剤の浸透性を向上させることができる。
【００３７】
・  また、研磨用吸着パッド１２の製造方法では、連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体１９の一方の面を液晶ガラス１４の吸着面２０とし、他方の面にホットメルト接着剤層２１を設ける。次いで、板状体１９の周縁をホットメルト接着剤層２１の軟化温度より高い温度に加熱及び加圧を行って圧縮し圧縮部２３を形成するとともに、その圧縮部２３にはホットメルト接着剤層２１を溶融させ浸透させた状態で板状体１９の他方の面を支持フィルム２２に接着する。この製造方法によれば、前記の効果を有する研磨用吸着パッド１２を容易に製造することができる。
【実施例】
【００３８】
以下に、実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明する。
（実施例１〜３及び比較例１）
連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体として下記に示す材料１又は材料２を用い、一方ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にホットメルト接着剤として下記に示すエチレン−酢酸ビニル共重合樹脂（ＥＶＡ）を１２０℃で表１に示す量だけロールコータで塗布した。そして、ＥＶＡが塗布されたＰＥＴフィルム上に材料１又は材料２を置き、その周縁にアイロンで加熱（１４０〜１６０℃）、加圧し、材料１又は材料２の周縁の圧縮部２３をＰＥＴフィルムに接着するとともに、溶融したＥＶＡを材料１又は材料２周縁の圧縮部２３に浸透させた。圧縮部２３の厚さは約０．３ｍｍであった。このようにして得られた研磨用吸着パッド１２を定盤１１上に貼着した。
【００３９】
研磨用吸着パッド１２上には水１３を流し、下記に示す液晶ガラス１４を吸着させた。液晶ガラス１４の上方位置には回転治具１６に接合された下記の研磨パッド１７を配置した。そして、回転治具１６を下降させて研磨パッド１７を液晶ガラス１４に接触させるとともに、酸化セリウムを水に分散させた研磨用スラリー１８を研磨部分に供給して液晶ガラス１４表面の研磨を行った。
【００４０】
上記の研磨用吸着パッド１２の圧縮部２３の潰れ状態、圧縮部２３への研磨用スラリー１８の浸入状態及び液晶ガラス１４の位置ずれについて下記の方法で測定し、その結果を表１に示した。
【００４１】
材料１：連続気泡構造を有するイソプレンゴム発泡体、（株）イノアックコーポレーション製、Tendax TIR、比重０．４、厚さ０．８ｍｍ、ＡＳＴＭＤ２８５６による独立気泡率１５％、ＪＩＳＫ６４００に基づくセル数２４０
材料１の原料組成は、イソプレンゴムエマルジョン（固形分５０質量％、住友精化（株）製）１００質量部、界面活性剤（花王（株）製、ＦＲ１４）２質量部、触媒（ユニロイヤル（株）製、トリメンベース）１．５質量部、硫黄（軽井沢硫黄（株）製）２質量部、酸化防止剤（大内新興化学工業（株）製、ノクセラーＢＺ）１．５質量部である。そして、図４に示す装置を用い、前述した方法に従って板状体１９を作製した。
【００４２】
材料２：連続気泡構造を有する軟質ポリウレタン発泡体、（株）イノアックコーポレーション製、セルダンパーＢＦ１５０、比重０．１５、厚さ１．０ｍｍ、ＡＳＴＭＤ２８５６による独立気泡率２％、ＪＩＳ  Ｋ  ６４００に基づくセル数１３０、ＪＩＳ  Ｋ  ７２２２；１９９９に基づく密度１５０kg／m3
材料２の原料組成は、ポリエーテルポリオール（三洋化成工業（株）製、ＦＡ７０３、水酸基は３官能、水酸基価３４ｍｇＫＯＨ／ｇ、分子量５０００）８０質量部、１,４−ブタンジオール５質量部、水０．１５質量部、アミン触媒（中京油脂（株）製、ＬＶ３３）０．５質量部、メチレンジイソシアネートプレポリマー（ＭＤＩプレポリマー、日本ポリウレタン工業（株）製、コロネート１０５０）３３．８質量部である。そして、図４に示す装置を用い、前述した方法に従って板状体１９を作製した。
【００４３】
ＥＶＡ：エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、軟化温度９５℃、日立化成ポリマー（株）製、ハイボン９０２０
液晶ガラス１４：直径７８ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ
研磨パッド１７：直径４０．６ｃｍ（１６インチ）、厚さ２ｍｍ、ロデールニッタ（株）製、ＬＰ７７
圧縮部２３の潰れ状態：ホットメルト接着剤を材料１又は材料２に塗布した後、その周縁をアイロンで加熱及び加圧し、その圧縮部２３の潰れ状態を目視して次の判断基準で評価した。
【００４４】
良好；材料１又は材料２の圧縮部２３が均一に潰されている。不可能；材料１又は材料２の圧縮部２３が均一に潰されていない。
ガラスの位置ずれ：研磨時において液晶ガラス１４が位置ずれするまでの時間を測定した。
【００４５】
圧縮部２３への研磨用スラリー１８の浸入状態：研磨後における材料１又は材料２の圧縮部２３への研磨用スラリー１８の浸入状態を目視にて観察し、次に示す判断基準で評価した。
【００４６】
良好；材料１又は材料２の圧縮部２３内へ研磨用スラリー１８が染み込んでいない。染み込み：材料１又は材料２の圧縮部２３内へ研磨用スラリー１８が染み込んでいる。
【００４７】
【表１】
2006305650.tif 000003
表１に示した結果から、実施例１〜３においてはいずれも圧縮部２３の潰れ状態は良好で、液晶ガラス１４の位置ずれがなく、圧縮部２３への研磨用スラリー１８の浸入状態も良好であった。これに対し、材料１にホットメルト接着剤をコーティングしなかった比較例１では、圧縮部２３へホットメルト接着剤の浸透がなく、材料１の圧縮部２３を均一に潰すこともできなかった。
【００４８】
なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
・  前記ゴム発泡体又は樹脂発泡体を、図４に示す装置を用いることなく、モールド成形等によりその表面が平滑になるように成形することもできる。
【００４９】
・  前記ゴム発泡体としては、ＮＢＲ、ＳＢＲ、ＥＰＤＭ等のゴムの発泡体を用いることができる。
・  ポリエチレングリコールの誘導体として、ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等を用いることもできる。
【００５０】
・  板状体の形状を五角板状等の多角板状、円板状、楕円板状等に形成することもできる。
・  研磨対象物として、磁気ディスク、光磁気ディスク等を用いることもできる。
【００５１】
・  ポリウレタン発泡体の原料として親水性親油性比（ＨＬＢ）が８〜１８の界面活性剤を配合し、ポリウレタン発泡体の親水性を高めるように構成することも可能である。
・  研磨砥粒として、シリカ（酸化ケイ素）、アルミナ（酸化アルミニウム）等を用いることもできる。
【００５２】
さらに、前記実施形態より把握できる技術的思想について以下に記載する。
・  前記板状体は、熱硬化性重合体の発泡体の原料を樹脂フィルム上に供給して反応、発泡及び硬化させて成形した後、樹脂フィルムを剥離することにより得られるものであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の研磨用吸着パッド。この場合、請求項１から請求項３のいずれかに係る発明の効果に加え、板状体表面の平滑性を向上させることができ、研磨用吸着パッド上に支持される研磨対象物を安定して吸着保持することができる。
【００５３】
・  前記連続気泡構造を有する熱硬化性重合体の発泡体は、復元性を有する軟質のものであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の研磨用吸着パッド。この場合、請求項１から請求項３のいずれかに係る発明の効果に加え、ガラス等の研磨対象物を研磨する際に研磨圧によって研磨対象物が損傷を受けないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】研磨用吸着パッドを定盤上に接着した状態を示す断面図。
【図２】（ａ）は四角板状をなし、熱硬化性重合体の発泡体よりなる板状体を示す斜視図、（ｂ）は板状体の周縁の圧縮部を示す斜視図。
【図３】研磨用吸着パッドを備えた研磨装置全体を示す断面図。
【図４】両面が平滑な板状体を製造する装置を示す概略説明図。
【符号の説明】
【００５５】
１２…研磨用吸着パッド、１４…研磨対象物としての液晶ガラス、１８…研磨用スラリー、１９…板状体、２０…吸着面、２１…ホットメルト接着剤層、２２…支持フィルム、２３…圧縮部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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