(57)【要約】【課題】  被測定液の酸化還元電位測定を安定的に行う。【解決手段】  酸化還元電位測定装置１００は、酸化還元電位の測定対象となる還元水１１５を収容する測定槽１０１と、測定槽１０１内の還元水１１５に接触するように配置され、還元水１１５の酸化還元電位を測定する作用極１０５および参照極１０７と、測定槽１０１の底部の近傍に設けられ、測定槽１０１に還元水１１５を供給する液体供給管１０９の連通口と、測定槽１０１の底部の近傍に設けられ、測定槽１０１から還元水１１５を排出するドレン管１１１の連通口と、を有する。液体供給管１０９の連通口よりも上部に、測定槽１０１内の余剰の還元水１１５を越流させて排出するオーバーフロー管１１３の連通口が設けられている。作用極１０５および参照極１０７は、オーバーフロー管１１３の連通口よりも下方に配置される。【選択図】  図１
2006242778.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽の前記底部の近傍に設けられ、前記測定槽から前記被測定液を排出する排出口と、
を有することを特徴とする酸化還元電位測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の酸化還元電位測定装置において、前記排出口よりも上部に、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口が設けられ、前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置されることを特徴とする酸化還元電位測定装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の酸化還元電位測定装置において、前記測定槽の前記底部の近傍に、前記測定槽に洗浄液を供給する洗浄液供給口が設けられたことを特徴とする酸化還元電位測定装置。
【請求項４】
請求項３に記載の酸化還元電位測定装置において、
水の電気分解により生じた水素ガスを水に溶解させて還元水を得る還元水生成手段と、
前記供給口から前記測定槽内に供給される液体を切り替える切替手段と、
を有し、
前記液体が、前記被測定液と前記洗浄液であって、
前記被測定液が、前記還元水であって、
前記洗浄液が、水と、前記還元水生成手段において前記水の電気分解により生じたオゾンガスと、を含むことを特徴とする酸化還元電位測定装置。
【請求項５】
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽に設けられ、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口と、
前記測定槽内の前記被測定液に振動を与える振動手段と、
を有し、
前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置されることを特徴とする酸化還元電位測定装置。
【請求項６】
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽に設けられ、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口と、
前記測定槽内の前記被測定液を攪拌する攪拌手段と、
を有し、
前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置されることを特徴とする酸化還元電位測定装置。
【請求項７】
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽に設けられ、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口と、
前記測定槽内に配置された前記電極の近傍に、不活性ガスを導くガス供給部と、
を有し、
前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置されることを特徴とする酸化還元電位測定装置。
【請求項８】
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽に設けられ、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口と、
前記測定槽の内部が外部に対して陽圧になるように前記供給口から前記測定槽内に前記被測定液を送液する送液部と、
を有し、
前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置され、
前記測定槽が密閉構造を有することを特徴とする酸化還元電位測定装置。
【請求項９】
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽に設けられ、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口と、
前記被測定液を冷却する冷却手段と、
を有し、
前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置されることを特徴とする酸化還元電位測定装置。
【請求項１０】
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記電極を洗浄する洗浄液を収容する洗浄槽と、
を有し、
前記測定槽が、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽から前記被測定液を排出する排出口と、
前記電極を前記測定槽中に取り付ける第一電極取付部と、
を有し、
前記洗浄槽が、
前記電極を前記洗浄槽中に取り付ける第二電極取付部を有することを特徴とする酸化還元電位測定装置。
【請求項１１】
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させて、前記被測定液の酸化還元電位を測定する工程と、
酸化還元電位を測定する前記工程の後、測定槽の底部の近傍から前記被測定液を排出し、前記電極の表面を露出させる工程と、
電極の表面を露出させる前記工程の後、前記測定槽の前記底部の近傍から被測定液を供給し、前記電極を再度前記被測定液に接触させる工程と、
を含むことを特徴とする酸化還元電位の測定方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の酸化還元電位の測定方法において、被測定液の酸化還元電位を測定する前記工程が、前記測定槽内に前記被測定液を供給しつつ、前記電極の設置位置よりも上部から、余剰の前記被測定液を越流させて排出しながら、前記被測定液の酸化還元電位を測定する工程であることを特徴とする酸化還元電位の測定方法。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の酸化還元電位の測定方法において、電極の表面を露出させる前記工程の後、電極を再度被測定液中に接触させる前記工程の前に、
前記測定槽の前記底部の近傍から洗浄液を供給し、前記電極を前記洗浄液に接触させる工程と、
前記測定槽の前記底部の近傍から前記洗浄液を排出する工程と、
を含むことを特徴とする酸化還元電位の測定方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の酸化還元電位の測定方法において、
被測定液の酸化還元電位を測定する前記工程が、水の電気分解で生じた水素と水とを含む還元水の酸化還元電位を測定する工程であって、
前記洗浄液が、前記水の電気分解で生じたオゾンと水とを含む液体であることを特徴とする酸化還元電位の測定方法。
【請求項１５】
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させた状態で、前記被測定液を振動させながら、前記被測定液の酸化還元電位を測定することを特徴とする酸化還元電位の測定方法。
【請求項１６】
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させた状態で、前記被測定液を攪拌しながら、前記被測定液の酸化還元電位を測定することを特徴とする酸化還元電位の測定方法。
【請求項１７】
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させるとともに、前記電極の近傍に不活性ガスを導きながら、前記被測定液の酸化還元電位を測定することを特徴とする酸化還元電位の測定方法。
【請求項１８】
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を、密閉した測定槽内で前記被測定液に接触させた状態で、前記測定槽の内部を前記測定槽の外部よりも陽圧として、前記被測定液の酸化還元電位を測定することを特徴とする酸化還元電位の測定方法。
【請求項１９】
被測定液を冷却した状態で、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させて、前記被測定液の酸化還元電位を測定することを特徴とする酸化還元電位の測定方法。
【請求項２０】
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させて、前記被測定液の酸化還元電位を測定する工程と、
酸化還元電位を測定する前記工程の後、前記電極を洗浄液に接触させて洗浄する工程と、
電極を洗浄液に接触させて洗浄する前記工程の後、前記電極を再度被測定液に接触させて、前記被測定液の酸化還元電位を測定する工程と、
を含むことを特徴とする酸化還元電位の測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、酸化還元電位測定装置および酸化還元電位の測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
機能水の一つである還元水（水素水）は、たとえば半導体装置の製造ラインにおいて、Ｃｕ配線のＣＭＰ、ＣＭＰ洗浄、剥離リンス等に用いられている。また、半導体以外の分野においても、たとえば、液晶や工業部品の洗浄に広く用いられている。
【０００３】
還元水の水質を制御するために、ｐＨおよび酸化還元電位（ＯＲＰ：Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ  Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）がモニタされる。しかしながら、ＯＲＰ電極（白金）の表面に水素ガスが付着し、正しい測定が困難となる場合がある。
【０００４】
ＯＲＰ電極への気泡接触を防止する技術として、従来、特許文献１に記載のものがある。特許文献１には、外筒および内筒からなる二重構造の測定槽とし、内筒を衝突板として用い、測定槽側面底部に液供給管を設け、測定槽側面上部に液排出管を設けた酸化還元電位測定装置が記載されている。
【０００５】
この装置は、液体排出管が、液体供給管および酸化還元電位測定電極よりも上方に位置するように構成されるとともに、液がオーバーフローにより常時流出するように構成されている。これにより、上昇流により常時新しい液体が電極に接触し、測定値の変動を防止することができるとされている。
【特許文献１】特開２００４−３４０７１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、特許文献１に記載の技術について本発明者が検討したところ、簡素な装置構成で酸化還元電位の測定を長期間安定的に行う点で、改善の余地があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽の前記底部の近傍に設けられ、前記測定槽から前記被測定液を排出する排出口と、
を有することを特徴とする酸化還元電位測定装置が提供される。
【０００８】
また、本発明によれば、
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させて、前記被測定液の酸化還元電位を測定する工程と、
酸化還元電位を測定する前記工程の後、測定槽の底部の近傍から前記被測定液を排出し、前記電極の表面を露出させる工程と、
電極の表面を露出させる前記工程の後、前記測定槽の前記底部の近傍から被測定液を供給し、前記電極を再度前記被測定液に接触させる工程と、
を含むことを特徴とする酸化還元電位の測定方法が提供される。
【０００９】
本発明によれば、測定槽の底部の近傍に、被測定液を排出する排出口が設けられているため、排出口から被測定液を排出して電極を露出させることができる。このため、被測定液との接触中に電極に付着した気泡を除去し、その後再度被測定液に電極を接触させて酸化還元電位の測定を行うことができる。よって、この測定装置を用いることにより、酸化還元電位の測定を安定的に行うことができる。
【００１０】
なお、本発明において、排出口が測定槽の近傍に設けられているとは、被測定液を排出した際に電極を露出させることができる程度に充分低い位置に配置されていることを指し、たとえば、供給口を測定槽の底面または側面の低い位置に設けることができる。
【００１１】
また、本発明においては、供給口が測定槽の底部の近傍に設けられているため、測定槽内に被測定液を供給する際に、被測定液が測定槽内の気泡を巻き込むことを抑制できる。このため、被測定液への気体の混入による、酸化還元電位の変動を抑制することができる。
【００１２】
なお、本発明において、測定槽が被測定液を収容するとは、酸化還元電位を測定する電極が被測定液に接する程度の量の被測定液が測定槽内に満たされることをいい、被測定液が測定槽内にとどまっている場合には限られず、被測定液の流動経路中に測定槽が配置されており、被測定液が測定液中に連続的に供給および排出される構成であってもよい。また、供給口および排出口は、電極が被測定液に接する程度の量の被測定液が測定槽内に満たされるように構成される。
【００１３】
また、供給口が測定槽の近傍に設けられているとは、被測定液への気体の混入を充分抑制できる位置であって、被測定液を測定槽の下部から上部に向かって穏やかに供給できる位置に供給口が配置されていることを指し、たとえば、供給口を測定槽の底面または側面の低い位置に設けることができる。
【００１４】
本発明によれば、
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽に設けられ、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口と、
前記測定槽内の前記被測定液に振動を与える振動手段と、
を有し、
前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置されることを特徴とする酸化還元電位測定装置が提供される。
【００１５】
また、本発明によれば、
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させた状態で、前記被測定液を振動させながら、前記被測定液の酸化還元電位を測定することを特徴とする酸化還元電位の測定方法が提供される。
【００１６】
本発明によれば、被測定液の酸化還元電位を測定する際に、被測定液に振動を与えることができる。被測定液に振動を与えるとは、電極の近傍に乱流が生じるような振動を被測定液に与えることを指す。こうすることにより、電極表面に付着した気泡を効果的に除去することができる。よって、被測定液の酸化還元電位測定を安定的に行うことができる。
【００１７】
本発明によれば、
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽に設けられ、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口と、
前記測定槽内の前記被測定液を攪拌する攪拌手段と、
を有し、
前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置されることを特徴とする酸化還元電位測定装置が提供される。
【００１８】
また、本発明によれば、
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させた状態で、前記被測定液を攪拌しながら、前記被測定液の酸化還元電位を測定することを特徴とする酸化還元電位の測定方法が提供される。
【００１９】
本発明によれば、被測定液の酸化還元電位を測定する際に、被測定液を攪拌することができる。被測定液を攪拌するとは、電極の近傍に乱流が生じるように被測定液を攪拌することを指す。こうすることにより、電極表面に付着した気泡を効果的に除去することができる。よって、被測定液の酸化還元電位測定を安定的に行うことができる。
【００２０】
本発明によれば、
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽に設けられ、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口と、
前記測定槽内に配置された前記電極の近傍に、不活性ガスを導くガス供給部と、
を有し、
前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置されることを特徴とする酸化還元電位測定装置が提供される。
【００２１】
また、本発明によれば、
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させるとともに、前記電極の近傍に不活性ガスを導きながら、前記被測定液の酸化還元電位を測定することを特徴とする酸化還元電位の測定方法が提供される。
【００２２】
本発明によれば、電極の近傍に不活性ガスを導きながら、被測定液の酸化還元電位を測定を行うことができる。このため、長期間測定を続けた場合にも、不活性ガスの上昇とともに電極表面に付着した気泡を除去することができる。よって、被測定液の酸化還元電位測定を安定的に行うことができる。
【００２３】
なお、本発明において、ガス供給部は、不活性ガスを供給して、電極の近傍に気泡を除去できる程度の気流を生じさせる部材であればよく、たとえば、不活性ガスの噴出口とすることができる。また、本発明において、不活性ガスとは、酸化還元電位測定に影響を与えないガスを指す。
【００２４】
本発明によれば、
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽に設けられ、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口と、
前記測定槽の内部が外部に対して陽圧になるように前記供給口から前記測定槽内に前記被測定液を送液する送液部と、
を有し、
前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置され、
前記測定槽が密閉構造を有することを特徴とする酸化還元電位測定装置が提供される。
【００２５】
また、本発明によれば、
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を、密閉した測定槽内で前記被測定液に接触させた状態で、前記測定槽の内部を前記測定槽の外部よりも陽圧として、前記被測定液の酸化還元電位を測定することを特徴とする酸化還元電位の測定方法が提供される。
【００２６】
本発明によれば、被測定液を外部よりも陽圧にした状態で被測定液を電極に接触させて、酸化還元電位の測定を行うことができる。このため、測定槽内における気泡の発生を抑制できるため、酸化還元電位測定を長期間安定的に行うことができる。
【００２７】
本発明によれば、
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽に設けられ、前記測定槽内の余剰の前記被測定液を越流させて排出する余剰液排出口と、
前記被測定液を冷却する冷却手段と、
を有し、
前記電極が、前記余剰液排出口よりも下方に配置されることを特徴とする酸化還元電位測定装置が提供される。
【００２８】
また、本発明によれば、
被測定液を冷却した状態で、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させて、前記被測定液の酸化還元電位を測定することを特徴とする酸化還元電位の測定方法が提供される。
【００２９】
本発明によれば、被測定液を冷却した状態で電極に接触させて、酸化還元電位の測定を行うことができる。このため、測定槽内における気泡の発生を抑制できるため、酸化還元電位測定を長期間安定的に行うことができる。
【００３０】
なお、本発明において、被測定液を冷却するとは、被測定液中の気泡の発生が抑制できる程度の温度まで被測定液の温度を低下させることを指し、たとえば１０℃以下に被測定液を冷却することをいう。
【００３１】
本発明によれば、
酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽と、
前記測定槽内の前記被測定液に接触するように配置され、前記被測定液の酸化還元電位を測定する電極と、
前記電極を洗浄する洗浄液を収容する洗浄槽と、
を有し、
前記測定槽が、
前記測定槽の底部の近傍に設けられ、前記測定槽に前記被測定液を供給する供給口と、
前記測定槽から前記被測定液を排出する排出口と、
前記電極を前記測定槽中に取り付ける第一電極取付部と、
を有し、
前記洗浄槽が、
前記電極を前記洗浄槽中に取り付ける第二電極取付部を有することを特徴とする酸化還元電位測定装置が提供される。
【００３２】
また、本発明によれば、
被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させて、前記被測定液の酸化還元電位を測定する工程と、
酸化還元電位を測定する前記工程の後、前記電極を洗浄液に接触させて洗浄する工程と、
電極を洗浄液に接触させて洗浄する前記工程の後、前記電極を再度被測定液に接触させて、前記被測定液の酸化還元電位を測定する工程と、
を含むことを特徴とする酸化還元電位の測定方法が提供される。
【００３３】
本発明によれば、酸化還元電位測定を行った後、電極を洗浄槽中で洗浄液に接触させて洗浄し、再度、酸化還元電位の測定を行うことができる。電極は取り外し可能であって、第一電極取付部または第二電極取付部のいずれかに電極を取り付けることにより、測定槽および洗浄槽のいずれにも配置することができる。このため、電極表面に水素が吸着または吸蔵した場合にも、これを除去して再度測定を行うことができる。よって、酸化還元電位測定を長期間安定的に行うことができる。
【００３４】
本発明において、前記測定槽内に前記被測定液を供給しつつ、前記電極の設置位置よりも上部から、余剰の前記被測定液を越流させて排出しながら、前記被測定液の酸化還元電位を測定することができる。こうすれば、電極を被測定液に接触させつつ、測定槽内の被測定液を入れ替えながら測定を行うことができる。このため、被測定液の酸化還元電位の経時変化を長期間安定的に測定することができる。
【００３５】
本発明において、前記被測定液は、還元水とすることができる。こうすることにより、還元水の酸化還元電位を安定的に測定することができる。よって、還元の酸化還元電位を確実に把握することができる。本明細書において、還元水とは、純水よりも還元作用の高い水であり、たとえば純水に水素ガスを溶解して得られる水素水や、純水を電気分解して得られる電解水が挙げられる。還元水の酸化還元電位は、たとえば０ｍＶ未満であり、さらに具体的には、−１Ｖ以上−５００ｍＶ以下とすることができる。なお、ここでは酸化還元電位は銀・塩化銀電極を用いた値として記載しており、標準水素電極を用いた値に換算するには、その想定温度での補正値（通常、約＋２００ｍＶ）を加算すればよい。また、還元水の水素イオン濃度は、たとえばｐＨ６．５以上１４以下である。
【００３６】
なお、これらの各構成の任意の組み合わせや、本発明の表現を方法、装置などの間で変換したものもまた本発明の態様として有効である。
【００３７】
たとえば、本発明によれば、前記酸化還元電位測定装置と、酸化還元電位の測定を制御する制御部とを備える酸化還元電位測定システムが提供される。
【００３８】
また、本発明によれば、被測定液の酸化還元電位を測定する電極を前記被測定液に接触させて、前記被測定液の酸化還元電位を測定し、酸化還元電位を測定した後、前記測定槽の底部の近傍から前記被測定液を排出し、前記電極の表面を露出させ、その後、前記測定槽の前記底部の近傍から被測定液を供給し、前記電極を再度被測定液に接触させるように制御されることを特徴とする酸化還元電位測定システムが提供される。
【発明の効果】
【００３９】
本発明によれば、簡素な構成で酸化還元電位を安定的に測定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の実施形態においては、還元水の水質を制御するための酸化還元電位のモニタに酸化還元電位測定装置を用いる場合を例に説明する。また、すべての図面において、同様の構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
【００４１】
（第一の実施形態）
図１は、本実施形態の酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。図１に示した酸化還元電位測定装置１００は、酸化還元電位の測定対象となる被測定液（還元水１１５）を収容する測定槽１０１と、測定槽１０１内の還元水１１５に接触するように配置され、還元水１１５の酸化還元電位を測定する電極（作用極１０５、参照極１０７）と、測定槽１０１の底部の近傍に設けられ、測定槽１０１に還元水１１５を供給する供給口（液体供給管１０９の連通口）と、測定槽１０１の底部の近傍に設けられ、測定槽１０１から還元水１１５を排出する排出口（ドレン管１１１の連通口）と、を有する。
液体供給管１０９の連通口よりも上部に、測定槽１０１内の余剰の還元水１１５を越流させて排出する余剰液排出口（オーバーフロー管１１３の連通口）が設けられている。作用極１０５および参照極１０７は、オーバーフロー管１１３の連通口よりも下方に配置される。
オーバーフロー管１１３の連通口は、図１に示したように測定槽１０１の壁面の一部に設けられていてもよいし、測定槽１０１の上面全面であってもよい。
【００４２】
以下、酸化還元電位測定装置１００の構成をさらに詳細に説明する。酸化還元電位測定装置１００は、測定槽１０１、測定槽１０１内の所定の位置に配置されるセンサ１０３、測定槽１０１に還元水１１５を供給する液体供給管１０９、ならびにセンサ１０３から還元水１１５を排出するドレン管１１１およびオーバーフロー管１１３を有する。
【００４３】
測定槽１０１の形状はたとえば直方体とし、その大きさは、たとえば底面の幅１５ｃｍ程度、奥行き１０ｃｍ程度、高さを１０ｃｍ程度である。
【００４４】
液体供給管１０９は、測定槽１０１の底面から測定槽１０１内に挿入されており、測定槽１０１に連通している。なお、液体供給管１０９に還元水１１５の供給量を調節するバルブ等の流量調節部材（不図示）が設けられていてもよい。ドレン管１１１も、測定槽１０１の底面から測定槽１０１内に挿入されており、測定槽１０１に連通している。オーバーフロー管１１３は、測定槽１０１の側面から測定槽１０１に挿入されており、測定槽１０１に連通している。オーバーフロー管１１３の固定位置は、測定槽１０１中にセンサ１０３を配置したときの作用極１０５および参照極１０７の位置よりも高い位置とする。こうすることにより、酸化還元電位のモニタ時の測定槽１０１中の還元水１１５の液面１１７の高さを充分に確保し、作用極１０５および参照極１０７を還元水１１５に確実に接触させておくことができる。
【００４５】
酸化還元電位測定装置１００においては、ドレン管１１１からの排液とオーバーフロー管１１３からの排液とが切り替え可能に構成されている。たとえば、ドレン管１１１およびオーバーフロー管１１３のそれぞれにバルブ（図１３の第一還元水排出バルブ１５９および第二還元水排出バルブ１６１）を設け、一方のバルブを開状態とするとともに、他方のバルブを閉状態とすることもできる。
【００４６】
センサ１０３は、酸化還元電位測定センサであり、電極として、作用極１０５および参照極１０７を有する。なお、本実施形態および以下の実施形態において、センサ１０３の電極が作用極と参照極とからなる二極式である場合を例に説明するが、二極式の場合には限られず、さらに対極を備える三極式とすることもできる。また、本実施形態および以下の実施形態において、たとえば作用極を白金（Ｐｔ）とし、参照極は、内部液を３．３ｍｏｌ／ＬのＫＣｌとするＡｇ−ＡｇＣｌ電極とする。
【００４７】
次に、酸化還元電位測定装置１００を用いた還元水１１５の酸化還元電位測定方法を説明する。
本実施形態の測定方法は、以下のステップを含む。
ステップ１０１：被測定液（還元水１１５）の酸化還元電位を測定する電極（作用極１０５、参照極１０７）を還元水１１５に接触させて、還元水１１５の酸化還元電位を測定する工程、
ステップ１０２：酸化還元電位を測定する工程（ステップ１０１）の後、測定槽１０１の底部の近傍から還元水１１５を排出し、作用極１０５および参照極１０７の表面を露出させる工程、および
ステップ１０３：作用極１０５および参照極１０７の表面を露出させる工程（ステップ１０２）の後、測定槽１０１の底部の近傍から還元水１１５を供給し、作用極１０５および参照極１０７を還元水１１５に接触させる工程、
を含む。
ステップ１０１の被測定液の酸化還元電位を測定する工程は、測定槽１０１内に還元水１１５を供給しつつ、作用極１０５および参照極１０７の設置位置よりも上部から、余剰の還元水１１５を越流させて排出しながら、還元水１１５の酸化還元電位を測定する工程である。
【００４８】
以下、本実施形態の酸化還元電位測定方法をさらに詳細に説明する。
まず、測定槽１０１にセンサ１０３を設置し、液体供給管１０９から還元水１１５を送液する。このとき、作用極１０５および参照極１０７の設置位置よりも高い所定の位置にオーバーフロー管１１３が設けられているため、過剰量の還元水１１５がオーバーフロー管１１３から測定槽１０１の外部に排出される。よって、液面１１７の高さが略一定に保たれる。
【００４９】
そして、センサ１０３による還元水１１５の酸化還元電位測定を行う（ステップ１０１）。酸化還元電位のモニタ時間が長くなると、センサ１０３の表面に気泡１１９が付着する。そこで、所定のタイミングで気泡１１９の除去操作を行う。具体的には、オーバーフロー管１１３からの排液を停止し、ドレン管１１１からの排液に切り替える。すると、測定槽１０１の底面近傍から還元水１１５が測定槽１０１外部に排出されて、液面１１７の位置が下がり、作用極１０５および参照極１０７の表面が露出する（ステップ１０２）。
【００５０】
作用極１０５および参照極１０７の表面を露出させた後、ドレン管１１１からの排液を停止し、再度液体供給管１０９から測定槽１０１内に還元水１１５を供給して、作用極１０５および参照極１０７を還元水１１５に接触させる（ステップ１０３）。その後、上に述べた手順で酸化還元電位の測定を繰り返す。
【００５１】
次に、酸化還元電位測定装置１００の効果を説明する。
酸化還元電位測定装置１００においては、測定槽１０１の底面にドレン管１１１が設けられている。このため、センサ１０３の表面に気泡１１９が付着した際に、ドレン管１１１から一旦還元水１１５を排出して作用極１０５および参照極１０７の表面を露出させた後、再度還元水１１５に接触させることができる。よって、酸化還元電位測定装置１００は、還元水１１５を排出して電極表面を露出させることにより、気泡１１９を除去することができる。よって、還元水１１５の酸化還元電位の測定を長期間安定的に行うことができる。
【００５２】
たとえば、ドレン管１１１からの廃液を行わずに還元水１１５の酸化還元電位の測定を続けた場合、測定開始時は、−０．７５Ｖを示した酸化還元電位が、数時間後以降は−０．３Ｖ程度しか示さなくなることがある。また、還元水製造装置から半導体洗浄装置に供給される還元水１１５の酸化還元電位をモニタする場合、還元水１１５を半導体洗浄装置の本体へ供給する配管から、ｐＨ／ＯＲＰ測定部への配管が分岐されるが、ＯＲＰ測定部（測定槽１０１）に流れる還元水１１５の流量が少ないため、センサ１０３に水素ガスが付着しやすい。特に、電極材料として用いられる白金は水素吸蔵性の金属であるため、水素ガスを引き寄せやすい。
【００５３】
そこで本実施形態では、所定のタイミングで還元水１１５の排出と再充填を行うことにより、センサ１０３に付着した気泡１１９を簡便で確実に除去することができる。このため、還元水１１５の酸化還元電位を長期間安定的に測定することができる。
【００５４】
なお、酸化還元電位測定装置１００は、液体供給管１０９、ドレン管１１１、およびオーバーフロー管１１３の開閉を制御する制御部を有してもよい。こうすれば、排出経路を自動的に調節して、センサ１０３の電極表面をさらに容易に露出させるとともに、再度還元水１１５に接触させることができる。
【００５５】
なお、図１においては、ドレン管１１１とオーバーフロー管１１３の二つのドレン管を有する構成の酸化還元電位測定装置１００を例示したが、酸化還元電位測定装置１００は、少なくとも測定槽１０１の底面近傍に設けられるドレン管１１１を有していればよい。
【００５６】
図２は、このような構成の酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。図２に示した酸化還元電位測定装置１１０の基本構成は図１に示した酸化還元電位測定装置１００と同様であるが、オーバーフロー管１１３を有しない点が異なる。酸化還元電位測定装置１１０のように、オーバーフロー管１１３を有しない構成の場合、還元水１１５をたとえば０．２〜０．３ＭＰａ程度に加圧して供給するとよい。こうすれば、さらに安定的に液面１１７の高さを電極上に維持することができる。
【００５７】
また、図１に示した酸化還元電位測定装置１００のように、オーバーフロー管１１３をさらに有する構成とすることにより、酸化還元電位のモニタ中の液面１１７の高さを所定の位置にさらに確実に維持することができる。よって、酸化還元電位測定を長期間さらに安定的に行うことができる。
【００５８】
以下の実施形態においては、第一の実施形態に記載の酸化還元電位測定装置（図１または図２）と異なる点を中心に説明する。
【００５９】
（第二の実施形態）
図３は、本実施形態の酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。図３に示した酸化還元電位測定装置２００は、酸化還元電位の測定対象となる被測定液（還元水２１５）を収容する測定槽２０１と、測定槽２０１内の還元水２１５に接触するように配置され、還元水２１５の酸化還元電位を測定する電極（作用極２０５、参照極２０７）と、測定槽２０１の底部の近傍に設けられ、測定槽２０１に還元水２１５を供給する供給口（液体供給管２０９の連通口）と、測定槽２０１に設けられ、測定槽２０１の余剰の還元水２１５を越流させて排出する余剰液排出口（オーバーフロー管２１３の連通口）と、測定槽２０１内の還元水２１５に振動を与える振動手段（振動板２２１）と、を有する。作用極２０５および参照極２０７は、オーバーフロー管２１３の連通口よりも下方に配置される。
【００６０】
以下、図３の酸化還元電位測定装置２００の構成をさらに詳細に説明する。酸化還元電位測定装置２００は、測定槽２０１、測定槽２０１内の所定の位置に配置されるセンサ２０３、測定槽２０１に還元水２１５を供給する液体供給管２０９、測定槽２０１から還元水２１５を排出するオーバーフロー管２１３、および測定槽２０１の底部に設けられた振動板２２１を有する。センサ２０３は、酸化還元電位センサであり、電極として、作用極２０５および参照極２０７を有する。
【００６１】
液体供給管２０９は、測定槽２０１の底面から測定槽２０１内に挿入されており、測定槽２０１に連通している。なお、液体供給管２０９に還元水２１５の供給量を調節するバルブ等の流量調節部材（不図示）が設けられていてもよい。オーバーフロー管２１３は、測定槽２０１の側面から測定槽２０１に挿入されており、測定槽２０１に連通している。オーバーフロー管２１３の固定位置は、測定槽２０１中にセンサ２０３を配置したときの作用極２０５および参照極２０７の位置よりも高い位置とする。こうすることにより、酸化還元電位のモニタ時の測定槽２０１中の還元水２１５の液面２１７の高さを電極に対して充分高く保つとともに、作用極２０５および参照極２０７を還元水２１５に確実に接触させ続けることができる。
【００６２】
次に、酸化還元電位測定装置２００を用いた還元水２１５の酸化還元電位測定方法を説明する。
本実施形態においては、被測定液（還元水２１５）の酸化還元電位を測定する電極（作用極２０５、参照極２０７）を還元水２１５に接触させた状態で、還元水２１５に振動を与えながら、還元水２１５の酸化還元電位を測定する。
【００６３】
以下、本実施形態の酸化還元電位測定方法をさらに詳細に説明する。
まず、測定槽２０１にセンサ２０３を設置し、液体供給管２０９から還元水２１５を送液する。このとき、作用極２０５および参照極２０７の設置位置よりも高い所定の位置にオーバーフロー管２１３が設けられているため、過剰量の還元水２１５がオーバーフロー管２１３から測定槽２０１の外部に排出される。
【００６４】
そして、センサ２０３による還元水２１５の酸化還元電位測定を行う。このとき、振動板２２１を動作させて、測定槽２０１内に振動波２２３を生じさせながら測定を行う。
【００６５】
次に、本実施形態の効果を説明する。
酸化還元電位測定装置２００は、測定槽２０１の底部に振動板２２１が設けられ、振動板２２１を振動させることにより、測定槽２０１中に振動波２２３を生じさせることができる。このため、振動波２２３のエネルギーにより、還元水２１５中の水素ガスが気泡２１９としてセンサ２０３の表面に付着しないようにするとともに、付着した気泡２１９を確実に除去することができる。よって、還元水２１５の酸化還元電位の測定を安定的に行うことができる。
【００６６】
なお、図３の酸化還元電位測定装置２００においては、測定槽２０１の底面に振動板２２１を配置する構成を例示したが、振動板２２１を設ける位置は測定槽２０１の底面には限られず、たとえば、測定槽２０１の側面に設けることもできる。
【００６７】
また、図３の酸化還元電位測定装置２００においても、第一の実施形態に記載の酸化還元電位測定装置１００（図１）と同様に、オーバーフロー管２１３に加えて、測定槽２０１の底面にさらに別のドレン管が設けられていてもよい。
【００６８】
図４は、このような構成の酸化還元電位測定装置を示す断面図である。図４に示した酸化還元電位測定装置２１０の基本構成は図３の酸化還元電位測定装置２００と同様であるが、さらに、測定槽２０１の底面にドレン管２１１が設けられ、ドレン管２１１およびオーバーフロー管２１３からの排出が切り替え可能に構成されている。酸化還元電位測定装置２１０によれば、振動板２２１を用いた気泡２１９の除去効果に加えて、さらに、還元水２１５のドレン管２１１からの排出と再供給を行うことができる。このため、センサ２０３に付着する気泡２１９をより一層確実に除去することができる。
【００６９】
（第三の実施形態）
図５は、本実施形態の酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。図５に示した酸化還元電位測定装置３００は、酸化還元電位の測定対象となる被測定液を収容する測定槽３０１と、測定槽３０１内の還元水３１５に接触するように配置され、還元水３１５の酸化還元電位を測定する電極（作用極３０５、参照極３０７）と、測定槽３０１の底部の近傍に設けられ、測定槽３０１に還元水３１５を供給する供給口（液体供給管３０９の連通口）と、測定槽３０１に設けられ、測定槽３０１内の余剰の還元水３１５を越流させて排出する余剰液排出口（オーバーフロー管３１３の連通口）と、測定槽３０１内の還元水３１５を攪拌する攪拌手段（スターラー３２１、攪拌子３２３）と、を有する。作用極３０５および参照極３０７は、オーバーフロー管３１３の連通口よりも下方に配置される。スターラー３２１としては、マグネティックスターラーを用いることができる。
【００７０】
以下、図５の酸化還元電位測定装置３００の構成をさらに詳細に説明する。酸化還元電位測定装置３００は、測定槽３０１、測定槽３０１内の所定の位置に配置されるセンサ３０３、測定槽３０１に還元水３１５を供給する液体供給管３０９、測定槽３０１から還元水３１５を排出するオーバーフロー管３１３、測定槽３０１の下部に設けられたスターラー３２１、および測定槽３０１の底面に配置されるとともに測定槽３０１の底面を介してスターラー３２１上に配置された攪拌子３２３を有する。スターラー３２１は、センサ３０３の配置領域の下方に設置される。センサ３０３は、酸化還元電位センサであり、電極として、作用極３０５および参照極３０７を有する。
【００７１】
液体供給管３０９は、測定槽３０１の底面から測定槽３０１内に挿入されており、測定槽３０１に連通している。なお、液体供給管３０９に還元水３１５の供給量を調節するバルブ等の流量調節部材（不図示）が設けられていてもよい。オーバーフロー管３１３は、測定槽３０１の側面から測定槽３０１に挿入されており、測定槽３０１に連通している。オーバーフロー管３１３の固定位置は、測定槽３０１中にセンサ３０３を配置したときの作用極３０５および参照極３０７の位置よりも高い位置とする。こうすることにより、酸化還元電位のモニタ時の測定槽３０１中の還元水３１５の液面３１７の高さを電極に対して充分に高く保ち、作用極３０５および参照極３０７を還元水３１５に確実に接触させ続けることができる。
【００７２】
次に、酸化還元電位測定装置３００を用いた還元水３１５の酸化還元電位測定方法を説明する。
本実施形態においては、被測定液（還元水３１５）の酸化還元電位を測定する電極（作用極３０５、参照極３０７）を還元水３１５に接触させた状態で、還元水３１５を攪拌しながら、還元水３１５の酸化還元電位を測定する。
【００７３】
以下、本実施形態の酸化還元電位測定方法をさらに詳細に説明する。
まず、測定槽３０１にセンサ３０３を設置し、液体供給管３０９から還元水３１５を送液する。このとき、作用極３０５および参照極３０７の設置位置よりも高い所定の位置にオーバーフロー管３１３が設けられているため、過剰量の還元水３１５がオーバーフロー管３１３から測定槽３０１の外部に排出される。
【００７４】
そして、センサ３０３による還元水３１５の酸化還元電位測定を行う。このとき、スターラー３２１を動作させて、測定槽３０１の底面上で攪拌子３２３を回転させて、還元水３１５を攪拌しながら測定を行う。
【００７５】
次に、本実施形態の効果を説明する。
酸化還元電位測定装置３００は、測定槽３０１の下部にスターラー３２１が設けられ、スターラー３２１を動作させることにより、測定槽３０１中で攪拌子３２３を回転させて、還元水３１５を攪拌することができる。このため、攪拌子３２３の攪拌により生じる還元水３１５の水流により、還元水３１５中の水素ガスが気泡３１９としてセンサ３０３の表面に付着しないようにするとともに、付着した気泡３１９を確実に除去することができる。よって、還元水３１５の酸化還元電位の測定を安定的に行うことができる。
【００７６】
なお、酸化還元電位測定装置３００において、攪拌子３２３の形状には特に限定はないが、たとえば円盤状とするとよい。このようにすれば、攪拌子３２３をスターラー３２１上にさらに安定的に保持して回転させることができる。よって、さらに確実に気泡３１９を除去することができる。
【００７７】
なお、図５の酸化還元電位測定装置３００においても、第一の実施形態に記載の酸化還元電位測定装置１００（図１）と同様に、オーバーフロー管３１３に加えて、測定槽３０１の底面にさらに別のドレン管が設けられていてもよい。
【００７８】
図６は、このような構成の酸化還元電位測定装置を示す断面図である。図６に示した酸化還元電位測定装置３１０の基本構成は図５の酸化還元電位測定装置３００と同様であるが、さらに、測定槽３０１の底面にドレン管３１１が設けられ、ドレン管３１１およびオーバーフロー管３１３からの排出が切り替え可能に構成されている。酸化還元電位測定装置３１０によれば、スターラー３２１を用いた気泡３１９の除去効果に加えて、さらに、還元水３１５のドレン管３１１からの排出と再供給を行うことができる。このため、センサ３０３に付着する気泡３１９をより一層確実に除去することができる。
【００７９】
（第四の実施形態）
図７は、本実施形態の酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。図７に示した酸化還元電位測定装置４００は、酸化還元電位の測定対象となる被測定液（還元水４１５）を収容する測定槽４０１と、測定槽４０１内の還元水４１５に接触するように配置され、還元水４１５の酸化還元電位を測定する電極（作用極４０５、参照極４０７）と、測定槽４０１の底部の近傍に設けられ、測定槽４０１に還元水４１５を供給する供給口（液体供給管４０９の連通口）と、測定槽４０１に設けられ、測定槽４０１内の余剰の還元水４１５を越流させて排出する余剰液排出口（オーバーフロー管４１３の連通口）と、測定槽４０１内に配置された作用極４０５および参照極４０７の近傍に、不活性ガス（Ｎ2ガス４２３）を導くガス供給部（不活性ガス供給管４２１）と、を有する。
作用極４０５および参照極４０７は、オーバーフロー管４１３の連通口よりも下方に配置される。
【００８０】
以下、図７の酸化還元電位測定装置４００の構成をさらに詳細に説明する。酸化還元電位測定装置４００は、測定槽４０１と、測定槽４０１内の所定の位置に配置されるセンサ４０３、測定槽４０１に還元水４１５を供給する液体供給管４０９、測定槽４０１から還元水４１５を排出するオーバーフロー管４１３、および測定槽４０１の側面から測定槽４０１内に導入されるとともに測定槽４０１と連通する不活性ガス供給管４２１を有する。センサ４０３は、酸化還元電位センサであり、電極として、作用極４０５および参照極４０７を有する。
【００８１】
液体供給管４０９は、測定槽４０１の底面から測定槽４０１内に挿入されており、測定槽４０１に連通している。なお、液体供給管４０９に還元水４１５の供給量を調節するバルブ等の流量調節部材（不図示）が設けられていてもよい。オーバーフロー管４１３は、測定槽４０１の側面から測定槽４０１に挿入されており、測定槽４０１に連通している。オーバーフロー管４１３の固定位置は、測定槽４０１中にセンサ４０３を配置したときの作用極４０５および参照極４０７の位置よりも高い位置とする。こうすることにより、酸化還元電位のモニタ時の測定槽４０１中の還元水４１５の液面４１７の高さを電極に対して充分に高く保ち、作用極４０５および参照極４０７を還元水４１５に確実に接触させ続けることができる。
【００８２】
不活性ガス供給管４２１の先端は、センサ４０３の下方に配置されており、先端から不活性ガス、たとえばＮ2ガス４２３が測定槽４０１内に供給される。また、不活性ガス供給管４２１の他端は、たとえばＮ2ボンベ等の不活性ガス収容部に接続されている。
【００８３】
次に、酸化還元電位測定装置４００を用いた還元水４１５の酸化還元電位測定方法を説明する。
本実施形態においては、被測定液（還元水４１５）の酸化還元電位を測定する電極（作用極４０５、参照極４０７）を還元水４１５に接触させるとともに、作用極４０５および参照極４０７の近傍に不活性ガス（Ｎ2ガス４２３）を導きながら、還元水４１５の酸化還元電位を測定する。
【００８４】
以下、本実施形態の酸化還元電位測定方法をさらに詳細に説明する。
まず、測定槽４０１にセンサ４０３を設置し、液体供給管４０９から還元水４１５を送液する。このとき、作用極４０５および参照極４０７の設置位置よりも高い所定の位置にオーバーフロー管４１３が設けられているため、過剰量の還元水４１５がオーバーフロー管４１３から測定槽４０１の外部に排出される。
【００８５】
そして、センサ４０３による還元水４１５の酸化還元電位測定を行う。このとき、不活性ガス供給管４２１を動作させて、センサ４０３の下方からＮ2ガス４２３を噴出させながら測定を行う。Ｎ2ガス４２３の供給方法は、たとえば間欠バブリングとする。
【００８６】
次に、本実施形態の効果を説明する。
酸化還元電位測定装置４００は、不活性ガス供給管４２１を有し、不活性ガス供給管４２１の先端がセンサ４０３の下方に位置するように構成されている。このため、センサ４０３の下方からＮ2ガス４２３を噴出させながら酸化還元電位測定を行うことができる。Ｎ2ガス４２３は、還元水４１５の酸化還元電位に影響を与えないガスである。このため、このようなガスをバブリングしながら測定することにより、Ｎ2ガス４２３の気流によりセンサ４０３の表面に気泡４１９が付着することを抑制するとともに、付着した気泡４１９を確実に除去することができる。よって、還元水４１５の酸化還元電位の測定を安定的に行うことができる。
【００８７】
（第五の実施形態）
図８は、本実施形態の酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。図８に示した酸化還元電位測定装置５００は、酸化還元電位の測定対象となる被測定液（還元水５１５）を収容する測定槽５０１と、測定槽５０１内の還元水５１５に接触するように配置され、還元水５１５の酸化還元電位を測定する電極（作用極５０５、参照極５０７）と、測定槽５０１の底部の近傍に設けられ、測定槽５０１に還元水５１５を供給する供給口（液体供給管５０９の連通口）と、測定槽５０１に設けられ、測定槽５０１内の余剰の還元水５１５を越流させて排出する余剰液排出口（オーバーフロー管５１３の連通口）と、測定槽５０１の内部が外部に対して陽圧になるように、液体供給管５０９の連通口から測定槽５０１内に還元水５１５を送液する送液部（液体供給管５０９、ポンプ５２３、オーバーフロー管５１３、流量調整バルブ５２１）と、を有する。
作用極５０５および参照極５０７は、オーバーフロー管５１３の連通口よりも下方に配置される。オーバーフロー管５１３の連通口は、測定槽５０１の上面近傍に設けられている。
また、測定槽５０１は密閉構造を有する。
送液部は、液体供給管５０９の連通口から測定槽５０１への還元水５１５の供給速度が、オーバーフロー管５１３の連通口からの還元水５１５の排出速度よりも大きくなるようにする。
ポンプ５２３は、液体供給管５０９の還元水５１５を測定槽５０１に圧送する。
流量調整バルブ５２１は、オーバーフロー管５１３に設けられ、オーバーフロー管５１３の連通口からの還元水５１５の排出速度を調節する。
【００８８】
以下、図８の酸化還元電位測定装置５００の構成をさらに詳細に説明する。酸化還元電位測定装置５００は、測定槽５０１、測定槽５０１内の所定の位置に配置されるセンサ５０３、測定槽５０１に還元水５１５を供給する液体供給管５０９、液体供給管５０９に設けられたポンプ５２３、測定槽５０１から還元水５１５を排出するオーバーフロー管５１３、およびオーバーフロー管５１３に設けられた流量調整バルブ５２１を有する。センサ５０３は、酸化還元電位センサであり、電極として、作用極５０５および参照極５０７を有する。
【００８９】
液体供給管５０９は、測定槽５０１の底面から測定槽５０１内に挿入されており、測定槽５０１に連通している。また、液体供給管５０９に還元水５１５の供給量を調節するバルブ等の流量調節部材（不図示）が設けられていてもよい。ポンプ５２３は、液体供給管５０９から測定槽５０１内に供給される還元水５１５を圧送し、測定槽５０１内を加圧する機能を有する。オーバーフロー管５１３は、測定槽５０１の上面近傍から測定槽５０１に挿入されており、測定槽５０１に連通している。オーバーフロー管５１３が測定槽５０１の上面近傍に固定されているため、測定槽５０１内は還元水５１５で満たすことができる。
【００９０】
次に、酸化還元電位測定装置５００を用いた還元水５１５の酸化還元電位測定方法を説明する。
本実施形態においては、被測定液（還元水５１５）の酸化還元電位を測定する電極（作用極５０５、参照極５０７）を、密閉した測定槽５０１内で還元水５１５に接触させた状態で、測定槽５０１の内部を測定槽５０１の外部よりも陽圧として、還元水５１５の酸化還元電位を測定する。
【００９１】
以下、本実施形態の酸化還元電位測定方法をさらに詳細に説明する。
まず、測定槽５０１にセンサ５０３を設置し、液体供給管５０９から還元水５１５を送液する。このとき、オーバーフロー管５１３からの排液速度に応じて、必要に応じてポンプ５２３を用い、還元水５１５を加圧する。前述したように、測定槽５０１の上面近傍にオーバーフロー管５１３が設けられているため、測定槽５０１内は、ほぼ１００％還元水５１５で満たされ、水位が一定に保たれる。
【００９２】
そして、センサ５０３による還元水５１５の酸化還元電位測定を行う。このとき、流量調整バルブ５２１を調節し、オーバーフロー管５１３からの還元水５１５の排出速度を調節する。具体的には、測定槽５０１内が充分に加圧される程度に、流量調整バルブ５２１をしぼり、排出速度を低下させる。
【００９３】
次に、本実施形態の効果を説明する。
酸化還元電位測定装置５００は、流量調整バルブ５２１を有する。このため、流量調整バルブ５２１を調整して、還元水５１５のオーバーフロー管５１３からの排出速度を液体供給管５０９からの供給速度に対して充分に小さくすることができる。また、ポンプ５２３を有するため、還元水５１５を測定槽５０１に所定の速度で圧送することができる。このため、簡素な構成で測定槽５０１内の還元水５１５を加圧した状態に維持することができる。測定槽５０１内を加圧した状態に保つことにより、還元水５１５中の水素ガスが気泡５１９となることを抑制し、気泡５１９がセンサ５０３の表面に付着することを抑制できる。
【００９４】
このように、酸化還元電位測定装置５００は、抑泡手段として機能する送液部を有し、液体供給管５０９、ポンプ５２３、オーバーフロー管５１３、および流量調整バルブ５２１からなる送液部が測定槽５０１内の還元水５１５を加圧するため、簡素な構成で効果的に還元水５１５中の気泡の発生を抑制し、還元水５１３の酸化還元電位の測定を安定的に行うことができる。この効果は、液体供給管５０９にポンプ５２３が設けられ、液体供給管５０９から測定槽５０１内に加圧して供給する場合に顕著に発揮される。
【００９５】
（第六の実施形態）
図９は、本実施形態の酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。図９に示した酸化還元電位測定装置６００は、酸化還元電位の測定対象となる被測定液（還元水６１５）を収容する測定槽６０１と、測定槽６０１内の還元水６１５に接触するように配置され、還元水６１５の酸化還元電位を測定する電極（作用極６０５、参照極６０７）と、測定槽６０１の底部の近傍に設けられ、測定槽６０１に還元水６１５を供給する供給口（液体供給管６０９の連通口）と、測定槽６０１に設けられ、測定槽６０１内の余剰の還元水６１５を越流させて排出する余剰液排出口（オーバーフロー管６１３の連通口）と、還元水６１５を冷却する冷却手段（冷却器６２１）と、を有する。
作用極６０５および参照極６０７は、オーバーフロー管６１３の連通口よりも下方に配置される。
【００９６】
以下、図９の酸化還元電位測定装置６００の構成をさらに詳細に説明する。酸化還元電位測定装置６００は、測定槽６０１、測定槽６０１内の所定の位置に配置されるセンサ６０３、測定槽６０１に還元水６１５を供給する液体供給管６０９、ならびに液体供給管６０９に接して設けられ、液体供給管６０９およびその内部の還元水５１５を冷却する冷却器６２１を有する。センサ６０３は、酸化還元電位センサであり、電極として、作用極６０５および参照極６０７を有する。また、センサ６０３は、測定値の温度較正を行う較正部（不図示）を有する。
【００９７】
液体供給管６０９は、測定槽６０１の底面から測定槽６０１内に挿入されており、測定槽６０１に連通している。なお、液体供給管６０９に還元水６１５の供給量を調節するバルブ等の流量調節部材（不図示）が設けられていてもよい。オーバーフロー管６１３は、測定槽６０１の側面から測定槽６０１に挿入されており、測定槽６０１に連通している。オーバーフロー管６１３の固定位置は、測定槽６０１中にセンサ６０３を配置したときの作用極６０５および参照極６０７の位置よりも高い位置とする。こうすることにより、酸化還元電位のモニタ時の測定槽６０１中の還元水６１５の液面６１７の高さを充分に高く保ち、作用極４０５および参照極６０７を還元水６１５に確実に接触させ続けることができる。
【００９８】
次に、酸化還元電位測定装置６００を用いた還元水６１５の酸化還元電位測定方法を説明する。
本実施形態においては、被測定液（還元水６１５）を冷却した状態で、還元水６１５の酸化還元電位を測定する電極（作用極６０５、参照極６０７）を還元水６１５に接触させて、還元水６１５の酸化還元電位を測定する。
【００９９】
以下、本実施形態の酸化還元電位測定方法をさらに詳細に説明する。
まず、測定槽６０１にセンサ６０３を設置し、液体供給管６０９から還元水６１５を送液する。このとき、冷却器６２１を動作させて、還元水６１５を冷却して測定槽６０１内に供給する。冷却温度は、還元水６１５が凍結しない温度以上とする。また、凍結しない範囲でできるだけ低い温度とすることができ、たとえば１０℃以下、好ましくは５℃以下とする。そして、センサ６０３による還元水６１５の酸化還元電位測定を行う。このとき、較正部（不図示）において、測定値の温度較正を行う。
【０１００】
なお、本実施形態においても、作用極６０５および参照極６０７の設置位置よりも高い所定の位置にオーバーフロー管６１３が設けられているため、過剰量の還元水６１５がオーバーフロー管６１３から測定槽６０１の外部に排出される。よって、液面６１７の高さが略一定に保たれる。
【０１０１】
次に、酸化還元電位測定装置６００の効果を説明する。
酸化還元電位測定装置６００は、冷却器６２１にて還元水６１５を冷却して測定槽６０１に連続的に供給する構成となっている。このため、測定槽６０１内を冷却した状態で酸化還元電位を測定することができる。よって、測定槽６０１内の還元水６１５中に溶解している水素ガスが気泡６１９となることを効果的に抑制することができる。したがって、酸化還元電位の測定時にセンサ６０３の表面に気泡６１９が付着することを抑制し、酸化還元電位測定を安定的に行うことができる。
【０１０２】
なお、図９に示した酸化還元電位測定装置６００においては、液体供給管６０９にインライン冷却器として冷却器６２１を設けた構成を例示したが、冷却器６２１に加えて、さらに測定槽６０１を冷却する冷却器を設けてもよい。こうすれば、測定槽６０１内の還元水６１５をより一層確実に冷却することができるため、気泡６１９の発生をさらに効果的に抑制することができる。また、測定槽６０１を冷却する冷却器のみを用いることもできる。
【０１０３】
（第七の実施形態）
以上の実施形態に記載の酸化還元電位測定装置は、センサの電極を酸性液または酸化性液に接触させる機構を有していてもよい。以下、第一の実施形態に記載の酸化還元電位測定装置（図１、図２）の構成を基本構成とする場合を例に説明するが、他の実施形態に記載の酸化還元電位測定装置を本実施形態の構成に適用したり、本実施形態の構成に組み合わせたりすることができる。
【０１０４】
はじめに、測定槽中でセンサの電極の洗浄を行うタイプの酸化還元電位測定装置について、洗浄液がオゾン水であって、酸化還元電位測定装置を還元水製造システムに適用する場合を例に説明する。図１０は、本実施形態の還元水製造システムの構成を示す図である。図１０に示した還元水製造システム７００は、第一の実施形態に記載の酸化還元電位測定装置において、測定槽１０１の底部の近傍に、測定槽１０１に洗浄液を供給する洗浄液供給口（液体供給管１０９の連通口）が設けられている。なお、図１０および図１１に示した還元水製造システムでは、還元水１１５の供給口と洗浄液の供給口が同じであって、この液体供給管１０９の連通口への液体の供給を切り替える構成となっているが、これらの供給口を別々に設けることもできる。
還元水製造システム７００は、水の電気分解により生じた水素ガスを水に溶解させて還元水１１５を得る還元水生成手段（電気分解装置７２０、第一溶解モジュール７３７、第二溶解モジュール７３５、脱イオン水供給管７２９、オゾンガス供給管７３１、水素ガス供給管７３３）と、液体供給管１０９の連通口から測定槽１０１内に供給される液体を切り替える切替手段（還元水供給バルブ７４９、オゾン水供給バルブ７５１）と、を有する。
液体は、被測定液と洗浄液である。被測定液は、還元水１１５である。また、洗浄液が、水と、上記前記還元水生成手段において水の電気分解により生じたオゾンガスと、を含む。
【０１０５】
以下、図１０に示した還元水製造システム７００の構成をさらに詳細に説明する。還元水製造システム７００は、図２に示した酸化還元電位測定装置１１０および電気分解装置７２０を有する。
【０１０６】
電気分解装置７２０は、外部給水源から水が供給される電気分解槽を備える。電気分解槽中に供給される水中に一対の電極を配置して、電極間に電圧を付与することにより電気分解する。得られた水素ガスとオゾンガスをそれぞれ水に溶解させて、還元水（水素水）酸化水（オゾン水）とを生成する。具体的には、電気分解槽７２１と、電気分解槽７２１を二つの室に区画する隔壁７２５と、電気分解槽７２１の一方の室に配置されたアノード電極７２３と、電気分解槽７２１の他方の室に配置されたカソード電極７２７とを有する。
【０１０７】
カソード電極７２７が設けられた室からは、水素（Ｈ2）ガスが発生する。この水素ガスは、カソード電極７２７が設けられた室から水素ガス供給管７３３を経由して、第一溶解モジュール７３７に至る。第一溶解モジュール７３７には、脱イオン水（ＤＩＷ）収容部（不図示）中の脱イオン水が脱イオン水供給管７２９を経由して供給される。第一溶解モジュール７３７は、脱イオン水中に水素ガスを溶解させて還元水１１５を生成するモジュールである。第一溶解モジュール７３７にて生成した還元水１１５は、第一溶解モジュール７３７に連通する第一還元水供給管７４３中でｐＨ調整がなされた後、第一還元水供給管７４３から還元水１１５の使用目的の装置に供給される。
【０１０８】
第一還元水供給管７４３には、希釈アンモニア供給管７４１を介して希釈アンモニア収容部７３９が連通しており、希釈アンモニア収容部７３９には、還元水１１５のｐＨ調整用のアンモニアが収容されている。希釈アンモニア供給管７４１には、希釈アンモニア収容部７３９から第一還元水供給管７４３への希釈アンモニアの供給の有無および供給量を調節する希釈アンモニア供給バルブ７５３が設けられている。
【０１０９】
また、還元水１１５の一部は、第一還元水供給管７４３から分岐する第二還元水供給管７４５を経由して液体供給管１０９に至る。第二還元水供給管７４５は、希釈アンモニア供給管７４１との合流部よりも下流側すなわち電気分解装置７２０から遠ざかる側において第一還元水供給管７４３から分岐している。液体供給管１０９と第二還元水供給管７４５との接続部には還元水供給バルブ７４９が設けられており、酸化還元電位測定装置１１０の測定槽１０１への還元水１１５の供給を調節することができる。
【０１１０】
一方、アノード電極７２３が設けられた室からは、オゾン（Ｏ3）ガスが発生する。このオゾンガスは、アノード電極７２３電極が設けられた室から、オゾンガス供給管７３１を経由して第二溶解モジュール７３５に至る。第二溶解モジュール７３５には、脱イオン水収容部（不図示）中の脱イオン水が脱イオン水供給管７２９を経由して供給される。第二溶解モジュール７３５は、脱イオン水中にオゾンガスを溶解させてオゾン水を生成するモジュールである。オゾン水は、酸化水の一つであり、洗浄液として用いられる。第二溶解モジュール７３５にて生成したオゾン水は、第二溶解モジュール７３５に連通するオゾン水供給管７４７を経由して液体供給管１０９に至る。オゾン水供給管７４７と液体供給管１０９との接続部には、オゾン水の供給の有無および供給量を調節するオゾン水供給バルブ７５１が設けられている。
【０１１１】
液体供給管１０９は二つに分岐しており、一方が第二還元水供給管７４５に接続され、他方がオゾン水供給管７４７に接続されている。このため、測定槽１０１に供給する液体を、オゾン水と還元水１１５との間で切り替えることができる。
【０１１２】
次に、図１０に示した還元水製造システム７００の制御系の構成を説明する。図１１は、還元水製造システム７００の構成を示すブロック図である。図１１に示したように、還元水製造システム７００は、還元水供給バルブ７４９、オゾン水供給バルブ７５１および希釈アンモニア供給バルブ７５３の動作を制御する制御部７５５（図１０には不図示）を有する。制御部７５５は、ｐＨ制御部７６７（図１０には不図示）およびＯＲＰ制御部７６５（図１０には不図示）を有する。
【０１１３】
ｐＨ制御部７６７は、還元水１１５のｐＨを計測するｐＨセンサ７６３（図１０には不図示）における計測値に基づき、希釈アンモニア供給バルブ７５３の開閉を調節し、第一還元水供給管７４３へのｐＨ調整用のアンモニアの供給の有無および量を制御する。これにより、還元水１１５のｐＨが所定の範囲内に調整される。還元水１１５のｐＨは、たとえば６．５以上１４以下とする。
【０１１４】
ＯＲＰ制御部７６５は、計時部７５７（図１０には不図示）から入力される時間情報に基づいて、一定の時間ごとに還元水供給バルブ７４９およびオゾン水供給バルブ７５１の開閉を調節し、液体供給管１０９から測定槽１０１への還元水１１５およびオゾン水の供給を制御する。これにより、還元水１１５の酸化還元電位の測定に加えて、作用極１０５および参照極１０７の洗浄が行われる。
【０１１５】
次に、本実施形態の還元水１１５の酸化還元電位の測定および電極の洗浄手順を説明する。本実施形態でも、基本的な測定ステップとして、第一の実施形態のステップ１０１〜ステップ１０４を用いる。
そして、ステップ１０２の作用極１０５および参照極１０７の表面を露出させる工程の後、ステップ１０３の作用極１０５および参照極１０７を再度還元水１１５中に接触させる工程の前に、測定槽１０１の底部の近傍から洗浄液を供給し、作用極１０５および参照極１０７を洗浄液に接触させる工程と、測定槽１０１の底部の近傍から洗浄液を排出する工程と、を含む。
還元水１１５の酸化還元電位を測定する工程は、水の電気分解で生じた水素と水とを含む還元水１１５の酸化還元電位を測定する工程であって、洗浄液が、当該水の電気分解で生じたオゾンと水とを含む液体（オゾン液）である。
【０１１６】
以下、図１０〜図１２を参照して、測定槽１０１中の還元水１１５の酸化還元電位の測定および電極の洗浄手順をさらに詳細に説明する。図１２は、還元水１１５の酸化還元電位の測定および電極洗浄の手順を示すフローチャートである。
【０１１７】
まず、ＯＲＰ制御部７６５は、還元水供給バルブ７４９を開状態、オゾン水供給バルブ７５１を閉状態とし、測定槽１０１中に還元水１１５を供給する（Ｓ７０１）。これにより、センサ１０３において還元水１１５の酸化還元電位測定が可能な状態となる。所定の時間が経過した後（Ｓ７０２のＹＥＳ）、ＯＲＰ制御部７６５は還元水供給バルブ７４９を閉状態として還元水の供給を停止し（Ｓ７０３）、測定槽１０１中の還元水１１５をドレン管１１１から排出する（Ｓ７０４）。これにより、作用極１０５および参照極１０７の表面が露出し、表面に付着した気泡１１９が除去される。
【０１１８】
還元水１１５の排出を所定時間行った後（Ｓ７０５のＹＥＳ）、ＯＲＰ制御部７６５はオゾン水供給バルブ７５１を開状態とし、測定槽１０１中にオゾン水を供給する（Ｓ７０６）。これにより、作用極１０５および参照極１０７がオゾン水中に浸されて、電極表面の洗浄がなされる。なお、センサ１０３の洗浄頻度は、たとえば１回／日程度とする。また、作用極１０５および参照極１０７をオゾン水に接触させる時間は、たとえば１〜５分程度とする。
【０１１９】
所定の時間経過したら（Ｓ７０７のＹＥＳ）、オゾン水供給バルブ７５１を閉状態とし、オゾン水の供給を停止（Ｓ７０８）する。そして、測定槽１０１中のオゾン水をドレン管１１１から排出する（Ｓ７０９）。オゾン水の排水を一定時間行った後（Ｓ７１０のＹＥＳ）、酸化還元電位の測定を行う場合には（Ｓ７１１のＹＥＳ）、還元水供給バルブ７４９を開状態とし、測定槽１０１中に再度還元水を供給する（Ｓ７０１）。
【０１２０】
なお、以上の手順において、ＯＲＰ制御部７６５は、センサ１０３における酸化還元電位の測定値が所定の範囲外となったときに、還元水１１５の供給を停止し（Ｓ７０３）、ステップ７０４以降のセンサ１０３の洗浄を行う構成としてもよい。
【０１２１】
次に、図１０および図１１に示した還元水製造システム７００の効果を説明する。
還元水製造システム７００においては、液体供給管１０９にオゾン水供給管７４７が接続されており、測定槽１０１中にオゾン水を供給可能な構成となっている。このため、作用極１０５および参照極１０７を定期的にオゾン水に接触させることができる。作用極１０５および参照極１０７を定期的にオゾン水に接触させることにより、これらの電極表面の改質を行い、電極表面に付着したり、白金電極中に吸蔵されていた水素ガスを効果的に除去することができる。このため、以上の実施形態に記載の酸化還元電位測定装置のみを用いる測定の場合に比べて、さらに充分に測定値を回復させることができる。
【０１２２】
また、還元水製造システム７００においては、電気分解装置７２０のアノード電極７２３が設けられた室にて発生するオゾンガスを第一溶解モジュール７３７にて脱イオン水に溶解させてオゾン水を製造し、還元水供給バルブ７４９とオゾン水供給バルブ７５１のバルブを切り替えることにより、定期的に作用極１０５および参照極１０７の洗浄を行うことができる。このため、還元水１１５を製造するための電気分解装置７２０において副生成物として生じ、廃棄されていたオゾンガスを電極洗浄用に効率よく利用することができる。このため、還元水製造システム７００は、システム全体が簡素な構成で、電気分解装置７２０における生成物を効率よく利用して還元水１１５の品質を管理することができる。
【０１２３】
また、制御部７５５がＯＲＰ制御部７６５およびｐＨ制御部７６７を有し、還元水１１５のｐＨ調整ならびに還元水１１５の酸化還元電位測定および電極洗浄を制御する構成となっている。このため、還元水１１５のｐＨおよび酸化還元電位をより簡便な方法でより一層安定的に調整することができる。
【０１２４】
以上においては、図２に示した酸化還元電位測定装置１１０を有する還元水製造システム７００を例に説明したが、還元水製造システムが図１に示した酸化還元電位測定装置１００を有する構成とすることもできる。
【０１２５】
図１３は、酸化還元電位測定装置１００を有する還元水製造システムの構成を示す図である。図１３に示した還元水製造システム７１０の基本構成は図１０に示した還元水製造システム７００と同様であるが、酸化還元電位測定装置１１０に代えて酸化還元電位測定装置１００が設けられている点が異なる。
【０１２６】
具体的には、還元水製造システム７１０は、図１０に示した構成に加えて、さらに、オーバーフロー管１１３、オーバーフロー管１１３に設けられた第二還元水排出バルブ１６１、およびドレン管１１１に設けられた第一還元水排出バルブ１５９を有する。第二還元水排出バルブ１６１は、測定槽１０１からオーバーフロー管１１３を経由する還元水１１５の排出の有無および量を調節する。第一還元水排出バルブ１５９は、測定槽１０１からドレン管１１１を経由する還元水１１５の排出の有無および量を調節する。
【０１２７】
図１４は、図１１に示した還元水製造システム７１０の構成を示すブロック図である。図１４に示したように、還元水製造システム７１０においては、ＯＲＰ制御部７６５が還元水供給バルブ７４９およびオゾン水供給バルブ７５１に加えて、第一還元水排出バルブ１５９および第二還元水排出バルブ１６１の開閉も制御する。
【０１２８】
図１３および図１４に示した還元水製造システム７１０における還元水１１５の酸化還元電位測定およびセンサ１０３の洗浄手順は、図１２に示した手順で行うことができる。
【０１２９】
ＯＲＰ制御部７６５は、図１２のステップ７０１において、還元水１１５を供給する際に、還元水供給バルブ７４９および第二還元水排出バルブ１６１を開状態とし、オゾン水供給バルブ７５１および第一還元水排出バルブ１５９を閉状態とする。また、ステップ７０４にて還元水１１５を排出する際に、第一還元水排出バルブ１５９を開状態とし、還元水供給バルブ７４９、オゾン水供給バルブ７５１および第二還元水排出バルブ１６１を閉状態とする。また、ステップ７０６において、オゾン水を供給する際に、オゾン水供給バルブ７５１および第二還元水排出バルブ１６１を開状態とし、還元水供給バルブ７４９および第一還元水排出バルブ１５９を閉状態とする。そして、ステップ７０９にてオゾン水を排出する際に、第一還元水排出バルブ１５９を開状態とし、還元水供給バルブ７４９、オゾン水供給バルブ７５１および第二還元水排出バルブ１６１を閉状態とする。
【０１３０】
図１３および図１４に示した還元水製造システム７１０によれば、酸化還元電位測定装置として図１に示した酸化還元電位測定装置１００を有するため、測定槽１０１の水位をより一層安定的に維持することができる。よって、還元水１１５の酸化還元電位測定をさらに安定的に行うことができる。また、ドレン管１１１およびオーバーフロー管１１３からの排水の切り替えをＯＲＰ制御部７６５にて制御する構成となっているため、オーバーフロー管１１３をさらに有する構成においても、酸化還元電位の測定および電極の洗浄を簡便で確実に行うことが可能な構成となっている。
【０１３１】
なお、図１１および図１４においては、一つの制御部７５５が各バルブの動作を直接制御する構成としたが、各バルブの動作を制御する制御部が別々に設けられ、これらの制御部を管理するプロセス管理部が設けられた構成としてもよい。このとき、プロセス管理部において、計時部７５７の情報ならびに、センサ１０３およびｐＨセンサ７６３における測定結果を参照して、各制御部の動作を管理する構成とすることができる。
【０１３２】
また、作用極１０５および参照極１０７をオゾン水に接触させた後、再度還元水１１５に接触させる前に、オゾン水から純水に置換してリンスすることがさらに好ましい。こうすれば、センサ１０３表面に付着したオゾン水を確実に除去した後に還元水１１５に接触させることができるため、還元水１１５へのオゾン水の混入を抑制することができる。よって、還元水１１５の還元性の低下を抑制することができる。
【０１３３】
次に、洗浄槽を有するタイプの酸化還元電位測定装置について説明する。このタイプの酸化還元電位測定装置についても、基本構成は以上の実施形態に記載の酸化還元電位測定装置の構成、たとえば図１に示した酸化還元電位測定装置１００の構成とすることができるが、測定槽に隣接して洗浄槽が設けられており、洗浄槽に洗浄液が供給される構成となっている点が大きく異なる。
【０１３４】
図１５は、このような酸化還元電位測定装置の構成を示す図である。図１５に示した酸化還元電位測定装置８００は、酸化還元電位の測定対象となる被測定液（還元水８１５）を収容する測定槽８０１と、測定槽８０１内の還元水８１５に接触するように配置され、還元水８１５の酸化還元電位を測定する（作用極８０５、参照極８０７）と、作用極８０５および参照極８０７を洗浄する洗浄液８３１が収容される洗浄槽８２５と、を有する。
測定槽８０１は、測定槽８０１の底部の近傍に設けられ、測定槽８０１に還元水８１５を供給する供給口（液体供給管８０９の連通口）と、測定槽８０１から還元水８１５を排出する排出口（ドレン管８１１の連通口）と、作用極８０５および参照極８０７を測定槽８０１中に取り付ける第一電極取付部（測定槽蓋８４１）と、を有する。
洗浄槽８２５は、作用極８０５および参照極８０７を洗浄槽８２５中に取り付ける第二電極取付部（洗浄槽蓋８４３）を有する。
【０１３５】
酸化還元電位測定装置８００は、さらに詳しくは、測定槽８０１、測定槽８０１に隣接して設けられた洗浄槽８２５、測定槽８０１内の所定の位置に配置されるセンサ８０３、測定槽８０１に還元水８１５を供給する液体供給管８０９、測定槽８０１から還元水８１５を排出するドレン管８１１、洗浄槽８２５に洗浄液８３１を供給する洗浄液供給管８２７、および洗浄槽８２５から洗浄液８３１を排出する洗浄液排出管８２９を有する。
【０１３６】
センサ８０３は、酸化還元電位センサであり、電極として、作用極８０５および参照極８０７を有する。センサ８０３は、たとえば測定槽８０１の上板である測定槽蓋８４１および洗浄槽８２５の上板である洗浄槽蓋８４３に対して取り付けおよび取り外しが可能である。これらのいずれかにセンサ８０３を取り付けることにより、測定槽８０１および洗浄槽８２５のいずれにも作用極８０５および参照極８０７を配置することができる。
【０１３７】
洗浄液８３１としては、たとえば希釈ＨＣｌ等の酸性液を用いる。また、オゾン水等の酸化液を用いてもよい。このとき、たとえば図１０に示した還元水製造用の電気分解装置７２０において生成するオゾンを水に溶解させて、洗浄槽８２５に供給することができる。
【０１３８】
液体供給管８０９は、測定槽８０１の底面から測定槽８０１内に挿入されており、測定槽８０１内に連通している。なお、液体供給管８０９に還元水８１５の供給量を調節するバルブ等の流量調節部材（不図示）が設けられていてもよい。ドレン管８１１は、測定槽８０１の底面に設けられ、測定槽８０１内に連通している。
【０１３９】
次に、酸化還元電位測定装置８００を用いた還元水８１５の酸化還元電位測定方法を説明する。
本実施形態の測定方法は、以下のステップを含む。
ステップ８０１：被測定液（測定槽８０１）の酸化還元電位を測定する電極（作用極８０５、参照極８０７）を還元水８１５に接触させて、還元水８１５の酸化還元電位を測定する工程、
ステップ８０２：酸化還元電位を測定する工程（ステップ８０１）の後、作用極８０５および参照極８０７を洗浄液８３１に接触させて洗浄する工程、および
ステップ８０３：作用極８０５および参照極８０７を洗浄液８３１に接触させて洗浄する工程（ステップ８０２）の後、再度作用極８０５および参照極８０７を還元水８１５に接触させて、還元水８１５の酸化還元電位を測定する工程。
【０１４０】
以下、酸化還元電位測定装置８００を用いた酸化還元電位測定方法をさらに詳細に説明する。
まず、測定槽８０１にセンサ８０３を設置し、液体供給管８０９から還元水８１５を送液する。そして、センサ８０３による還元水８１５の酸化還元電位測定を行う。
【０１４１】
所定の時間が経過したら、センサ８０３を測定槽８０１から洗浄槽８２５に移動させる。そして、洗浄液供給管８２７から洗浄槽８２５中に洗浄液８３１を供給し、センサ８０３の作用極８０５および参照極８０７を洗浄液８３１に接触させる。なお、測定槽８０１中の還元水８１５はドレン管８１１から排出し、新たに液体供給管８０９から測定槽８０１内に還元水８１５を供給する。
【０１４２】
所定の時間センサ８０３を洗浄液８３１に接触させて洗浄を行った後、センサ８０３を測定槽８０１に戻し、再度測定を行う。
【０１４３】
次に、酸化還元電位測定装置８００の効果を説明する。
酸化還元電位測定装置８００においては、測定槽８０１と洗浄槽８２５とが隣接する構成となっており、洗浄槽８２５に酸性液等の洗浄液８３１が収容される。そして、センサ８０３は可動であり、測定槽８０１と洗浄槽８２５との両方に配置させることができる。このため、測定を所定時間行うごとに、作用極８０５および参照極８０７を定期的に洗浄液８３１に接触させて、電極を洗浄することができる。よって、第一の実施形態に記載の酸化還元電位測定装置のみを用いる測定の場合に比べて、さらに確実に気泡８１９を除去し、より一層安定的な測定が可能となる。
【０１４４】
なお、酸化還元電位測定装置８００において、ドレン管８１１に代えて、測定槽８０１の側面に設けられ、測定槽８０１内に連通するオーバーフロー管を設けてもよい。こうすれば、還元水８１５の酸化還元電位測定時には、過剰の還元水８１５をオーバーフロー管から排出させることができるため、還元水８１５の水位をさらに安定的に維持し、測定を安定的に行うことができる。また、ドレン管８１１とオーバーフロー管をともに設けることもできる。
【０１４５】
また、センサ８０３を蓋部に固定しておき、蓋部ごと測定槽８０１と洗浄槽８２５との間で移動させる構成としてもよい。
【０１４６】
また、酸化還元電位測定装置８００においても、還元水製造システム７００および還元水製造システム７１０の場合と同様に、作用極８０５および参照極８０７を洗浄液８３１に接触させた後、再度還元水８１５に接触させる前に、洗浄液８３１から純水に置換してリンスすることがさらに好ましい。こうすれば、センサ８０３表面に付着した洗浄液８３１を確実に除去した後に還元水８１５に接触させることができるため、還元水８１５へのオゾン水の混入を抑制することができる。よって、還元水８１５の還元性をさらに充分に確保することができる。
【０１４７】
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【０１４８】
【図１】実施形態における酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。
【図２】実施形態における酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。
【図３】実施形態における酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。
【図４】実施形態における酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。
【図５】実施形態における酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。
【図６】実施形態における酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。
【図７】実施形態における酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。
【図８】実施形態における酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。
【図９】実施形態における酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。
【図１０】実施形態における還元水製造システムの構成を示す図である。
【図１１】実施形態における還元水製造システムの構成を示すブロック図である。
【図１２】実施形態における酸化還元電位測定の手順を示すフローチャートである。
【図１３】実施形態における還元水製造システムの構成を示す図である。
【図１４】実施形態における還元水製造システムの構成を示すブロック図である。
【図１５】実施形態における酸化還元電位測定装置の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１４９】
１００  酸化還元電位測定装置
１０１  測定槽
１０３  センサ
１０５  作用極
１０７  参照極
１０９  液体供給管
１１０  酸化還元電位測定装置
１１１  ドレン管
１１３  オーバーフロー管
１１５  還元水
１１７  液面
１１９  気泡
１５９  第一還元水排出バルブ
１６１  第二還元水排出バルブ
２００  酸化還元電位測定装置
２０１  測定槽
２０３  センサ
２０５  作用極
２０７  参照極
２０９  液体供給管
２１０  酸化還元電位測定装置
２１１  ドレン管
２１３  オーバーフロー管
２１５  還元水
２１７  液面
２１９  気泡
２２１  振動板
２２３  振動波
３００  酸化還元電位測定装置
３０１  測定槽
３０３  センサ
３０５  作用極
３０７  参照極
３０９  液体供給管
３１０  酸化還元電位測定装
３１１  ドレン管
３１３  オーバーフロー管
３１５  還元水
３１７  液面
３１９  気泡
３２１  スターラー
３２３  攪拌子
４００  酸化還元電位測定装置
４０１  測定槽
４０３  センサ
４０５  作用極
４０７  参照極
４０９  液体供給管
４１３  オーバーフロー管
４１５  還元水
４１７  液面
４１９  気泡
４２１  不活性ガス供給管
４２３  Ｎ2ガス
５００  酸化還元電位測定装置
５０１  測定槽
５０３  センサ
５０５  作用極
５０７  参照極
５０９  液体供給管
５１３  オーバーフロー管
５１５  還元水
５１９  気泡
５２１  流量調整バルブ
５２３  ポンプ
６００  酸化還元電位測定装置
６０１  測定槽
６０３  センサ
６０５  作用極
６０７  参照極
６０９  液体供給管
６１３  オーバーフロー管
６１５  還元水
６１７  液面
６１９  気泡
６２１  冷却器
７００  還元水製造システム
７１０  還元水製造システム
７２０  電気分解装置
７２１  電気分解槽
７２３  アノード電極
７２５  隔壁
７２７  カソード電極
７２９  脱イオン水供給管
７３１  オゾンガス供給管
７３３  水素ガス供給管
７３５  第二溶解モジュール
７３７  第一溶解モジュール
７３９  希釈アンモニア収容部
７４１  希釈アンモニア供給管
７４３  第一還元水供給管
７４５  第二還元水供給管
７４７  オゾン水供給管
７４９  還元水供給バルブ
７５１  オゾン水供給バルブ
７５３  希釈アンモニア供給バルブ
７５５  制御部
７５７  計時部
７６３  ｐＨセンサ
７６５  ＯＲＰ制御部
７６７  ｐＨ制御部
８００  酸化還元電位測定装置
８０１  測定槽
８０３  センサ
８０５  作用極
８０７  参照極
８０９  液体供給管
８１１  ドレン管
８１５  還元水
８１９  気泡
８２５  洗浄槽
８２７  洗浄液供給管
８２９  洗浄液排出管
８３１  洗浄液
８４１  測定槽蓋
８４３  洗浄槽蓋
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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