(57)【要約】【課題】  平面基板上に塗布された塗布液の液ダレを防止しながら乾燥装置に搬送し、液ダレや塗布面でのスジの発生のない良好な表面性状を有し、均一な膜厚を有する塗布液層を形成する。【解決手段】  保持機構１０５により、平面基板Ｄの外周部下面を係止して平面基板Ｄを水平状態に保持しつつ搬送し、乾燥装置に配設されたトレイ８１上に載置することにより、平面基板Ｄを塗布装置から乾燥装置に水平状態を維持したまま移載する。【選択図】  図１
2006228382.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布装置の塗布液供給部から供給される塗布液を平面基板上に塗布して前記平面基板上に塗布膜を形成した後、前記平面基板をトレイに載せて前記塗布膜を乾燥させる乾燥装置へ搬送する塗布膜付き基板の搬送装置であって、
前記平面基板を水平面に対する角度が±５°以下の水平状態に維持したまま、前記塗布装置から前記平面基板を取り出し、前記乾燥装置に配設されたトレイに移載する移載手段を備えたことを特徴とする塗布膜付き基板の搬送装置。
【請求項２】
前記トレイが、開口を有して前記平面基板の外周部下面を係止するものであり、
前記移載手段が、
前記塗布膜が形成された前記平面基板の外周部下面を係止して前記平面基板を水平状態に保持し、前記塗布装置から前記乾燥装置に搬送する保持機構と、
前記トレイの開口から出没自在とされて前記トレイの下方に配設され、前記開口から上方に突出する上昇途中で前記保持機構に保持された前記平面基板を前記保持機構から受け取り、前記開口から下方に引き込む下降途中で前記平面基板を前記トレイに載置させるリフタと、を備えたことを特徴とする請求項１記載の塗布膜付き基板の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布膜付き基板の搬送装置に関し、特に塗布液供給部から供給された塗布液が平面基板上に厚膜状に塗布された塗布膜付き基板の搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液状塗料を被塗布部材の塗布面に安定的に塗布するには、従来より種々の提案がなされている。例えば下記特許文献１に開示される基板塗布装置では、下部が塗布液槽に浸漬されたマイクロロッドバーと、このマイクロロッドバーの上方に対向配置されたニップローラとの間に基板を挟んで送ることにより、基板の下面に塗布液を塗布するものであって、マイクロロッドバーの基板進入側に基板の前縁を下方から支えて基板前縁の撓みを制限する押上げ部材を設けている。これにより、基板の前縁中央付近の塗布厚がその両側より厚くなるのを防ぎ、均一な塗布厚での塗布を図っている。また、基板の後縁中央付近が塗布液槽の出口側せきに接触するのを防ぎ、均一な塗布厚での塗布を図っている。
【０００３】
また、特許文献２に開示されるロールコータでは、塗布処理すべき薄板を搬送する搬送台と塗布ロールとを設け、塗布ロールの下側に搬送台を移動通過させることにより液剤を薄板の表面に塗布するものであって、搬送台を基盤上面に薄板把持用の把持板を隙間を介在させて配置し、隙間の面方向中間部に薄板の中心を搬送台の移動方向に通る線分に対して線対称に弾性材を配置し、かつ把持板の周縁部を隙間規制手段により隙間を調整可能に規制している。これにより、把持板が塗布ロールを押圧して通過するとき、隙間の範囲内で傾動して接触侵入時の衝撃を緩和するように弾性材の反力（弾性力）を制御し、衝撃振動に伴う塗布ムラを生じないようにしている。
【０００４】
【特許文献１】特開平９−１０６４６号公報
【特許文献２】特開平１０−１２８２２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
光ディスク等の平面基板上に形成される１００μｍ程度の比較的厚い膜厚を有する印刷可能な塗布液層（インク受理層）は、塗布装置において光ディスク上に塗布液をブレードにより塗布した後、塗布液層が形成された光ディスクを乾燥工程に搬送し、乾燥装置において乾燥して形成される。
【０００６】
乾燥前における光ディスク上に塗布された塗布液層は液状であり、また比較的厚い膜厚を有することから、乾燥前に光ディスクが傾く等すると、塗布された塗布液が下方に向かって流動して塗布液のダレが生じ、膜厚の均一なインク受理層を形成することが困難となる。これは、後の印刷工程において画像品質に悪影響を及ぼして良好な印刷ができず、製品価値を低下させる問題があった。
【０００７】
特許文献１及び特許文献２に示す従来の基板塗布装置は、基板をニップして下側からマイクロロッドバーで塗布液を塗布し、或いは塗布ロールにより被塗布体に塗布液を塗布するようにしたものであり、液膜の厚みが厚くなると、塗布方向に略平行なスジが発生する場合が多く、良好な塗膜面の確保が困難であった。また、これらの特許文献に開示されている基板塗布装置は、光ディスク等に対して塗布液を均一な厚さに塗布することを意図したものであり、塗布後の液ダレや、その後の乾燥工程に関しては考察されていない。
【０００８】
また、図８に一般的なディスク移載機構を示した。このディスク移載機構１は、ディスクＤの中央孔２を利用して係止するもので、アーム３の先端部にチャック部４を有し、チャック爪が開くことでディスクＤの内周部を係止している。チャック部４によるディスクＤの係止手順としては、図９（ａ）に示すように、まず、閉状態としたチャック部４をディスクＤの中央孔２に挿入する。次いで、図９（ｂ）に示すように、チャック機構４を開状態にして、チャック爪４ａ，４ｂの外周部の一部をディスクＤの中央孔２の内周面に当接させる。これにより、図９（ｃ）に示すように、ディスクＤがチャック部４に支持されて、アーム３を駆動してチャック部４を引き上げる等してディスクＤの移載が行える
【０００９】
上記構造のディスク移載機構にあっては、ディスクＤを水平状態に維持したまま移動させることが困難であり、チャッキング時に僅かにディスクＤとの間に隙間が生じただけでも、ディスクＤが水平から大きく傾斜することがある。
【００１０】
本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、塗布液が塗布された平面基板を、水平状態に維持しつつ塗布装置から乾燥装置に移送することができる基板の搬送装置を提供し、もって、液ダレや塗布面でのスジの発生のない良好な表面性状を有する塗布液層の形成を可能とすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る上記目的は、下記構成により達成できる。
（１）  塗布装置の塗布液供給部から供給される塗布液を平面基板上に塗布して前記平面基板上に塗布膜を形成した後、前記平面基板をトレイに載せて前記塗布膜を乾燥させる乾燥装置へ搬送する塗布膜付き基板の搬送装置であって、前記平面基板を水平面に対する角度が±５°以下の水平状態に維持したまま、前記塗布装置から前記平面基板を取り出し、前記乾燥装置に配設されたトレイに移載する移載手段を備えたことを特徴とする塗布膜付き基板の搬送装置。。
【００１２】
このように構成された塗布膜付き基板の搬送装置においては、塗布液が塗布されて塗布膜が形成された平面基板は、水平面に対する角度が±５°以下の水平状態に維持された状態で塗布装置からトレイに載せられ、乾燥装置に搬送される。これにより、塗布膜の液ダレの発生が防止されて乾燥されるので、均一の膜厚を有するインク受理層を形成することができ、もって平面基板に良好な印刷が可能となる。
【００１３】
（２）  前記トレイが、開口を有して前記平面基板の外周部下面を係止するものであり、前記移載手段が、前記塗布膜が形成された前記平面基板の外周部下面を係止して前記平面基板を水平状態に保持し、前記塗布装置から前記乾燥装置に搬送する保持機構と、前記トレイの開口から出没自在とされて前記トレイの下方に配設され、前記開口から上方に突出する上昇途中で前記保持機構に保持された前記平面基板を前記保持機構から受け取り、前記開口から下方に引き込む下降途中で前記平面基板を前記トレイに載置させるリフタと、を備えたことを特徴とする上記（１）記載の塗布膜付き基板の搬送装置。
【００１４】
このように構成された塗布膜付き基板の搬送装置においては、保持機構により平面基板の外周部下面を係止して水平状態に保持しつつ搬送し、平面基板の外周部下面を乾燥装置に配設されたトレイ上に載置することにより、平面基板を塗布装置から乾燥装置に移載して、簡易な機構で平面基板を水平状態に維持しつつ移載することができる。これによって塗布膜の膜厚を均一とすることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の塗布膜付き基板の搬送装置によれば、平面基板が水平面に対する角度±５°以下の水平状態に維持されつつ塗布装置から乾燥装置のトレイに搬送されて乾燥されるので、乾燥前における塗布膜の液ダレや塗布面でのスジの発生のない良好な表面性状を有し、均一の膜厚を有するインク受理層を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明に係る塗布膜付き基板の搬送装置の好適な実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明に係る塗布膜付き基板の移載装置が配設された搬送装置の概略外観を表す斜視図、図２は図１に示した塗布装置の概略構成図である。
【００１７】
図１に示すように、搬送装置３０は、塗布ステーションＰＳと、乾燥ステーションＤＳと、塗布ステーションＰＳ及び乾燥ステーションＤＳの間に配設され平面基板である光ディスクＤを、塗布ステーションＰＳから、乾燥ステーションＤＳに向けて搬送する図示しないコンベアに移載する移載装置１００とを含んで構成される。
【００１８】
塗布ステーションＰＳは、塗布装置の一例であるディスク塗布装置１０を具備しており、平面基板の一例であるディスク状記録媒体、例えば光ディスクＤを被塗布部材とする液膜の塗布に用いられる。乾燥ステーションＤＳは、ディスク塗布装置１０により光ディスクＤ上に塗布された塗布膜を乾燥させるものであり、塗布ステーションＰＳから搬送された光ディスクＤを水平に載置するトレイ８１とこのトレイ８１を搬送するコンベア等を具備する。
【００１９】
まず、ディスク塗布装置１０の構成について説明する。
図２に示すように、ディスク塗布装置１０の塗布部１１には、光ディスクＤが吸着載置可能となる円形状の吸着台１３が設けられる。この吸着台１３の上面には複数の吸着孔１５が開口されて、各吸着孔１５には吸引路１７を介して真空ポンプ１９が接続される。吸着台１３は、真空ポンプ１９が作動することで吸着孔１５を介して光ディスクＤを上面に吸着保持することができる。
【００２０】
また、吸着台１３は、昇降軸２１によって下面中央が上下方向に移動自在に支持される。この昇降軸２１の上下移動は、マスク剥離手段の一例であるエアシリンダ２３の駆動によりなされる。
【００２１】
そして、吸着台１３の上方にはマスク板（マスク）２５が設けられ、マスク板２５は光ディスクＤの塗布面５７を露出させる開口２７を有している。吸着台１３に載置された光ディスクＤは、エアシリンダ２３の駆動によって昇降軸２１が上昇して、上限位置に到達したときに、外周縁がマスク板２５の開口周縁部２５ａによって覆われる。
【００２２】
また、塗布部１１には、光ディスクＤの中央部上方に、マスクキャップ着脱手段２９が具備される。マスクキャップ着脱手段２９は、キャップ吸着ノズル３１と、真空ポンプ３３と、昇降手段３５とからなる。マスクキャップ着脱手段２９は、真空ポンプ３３の駆動によってキャップ吸着ノズル３１の下端に、マスクキャップ３７を吸着保持する。この状態で昇降手段３５が駆動されることで、キャップ吸着ノズル３１が下降して、光ディスクＤの中央部の穴にマスクキャップ３７が挿着されるようになっている。なお、マスクキャップ（センターキャップ）は、これに限らず、他の機械的手段で脱着してもよい。例えば、マスクキャップ３７の下方から突き上げてマスク板２５から浮き上がらせ、マスクキャップ３７を、その側方からすくい取る等の方法がある。
【００２３】
開口２７より外側のマスク板２５の上方には塗布液供給手段４１が設けられている。塗布液供給手段４１は、塗布液供給ノズル４３と、塗布液供給装置４５と、ノズル昇降装置４７とからなる。塗布液供給手段４１は、塗布液供給装置４５から供給される塗布液４９を、塗布液供給ノズル４３からマスク板２５上に滴下供給する。この際、塗布液供給ノズル４３は、塗布液４９を滴下供給するときだけノズル昇降装置４７によってマスク板２５の近傍高さに移動し、通常は塗布工程に支障とならない位置まで上昇して待機状態とされる。
ここで、塗布液４９は、例えば、液粘度が１５０ｃＰ〜８００ｃＰのものが利用でき、特に、２００ｃＰ〜６００ｃＰの塗布液４９が好適に用いられる。なお、上記の塗布液の液粘度は、２５℃でＢ型粘度計（ビスメトロン）により測定した場合の値である。
【００２４】
塗布液供給手段４１によってマスク板２５上に供給された塗布液４９のさらに外側には、ブレード５１が待機状態で配置される。ブレード５１は、移動手段５３によってマスク板２５上を所定の隙間を保ちながら水平駆動され、前側面５５で塗布液４９を押しながら、マスク板２５の開口２７によって露出された光ディスクＤの塗布面５７に塗布液４９を塗布するように移動する。
【００２５】
ブレード５１は、図２の紙面垂直方向に長尺に形成されたステンレス材等の金属材料からなり、ブレード５１長手方向に垂直方向の断面形状が、略台形形状に形成されている。また、ブレード５１の下面とマスク板２５との間には隙間（ギャップ）Ｇが形成され、塗布液４９はブレード５１の前側面５５により流れが案内されるに伴い押圧されることで、このギャップＧに押し込まれる。そして、塗布面５７に対面するブレード５１の下面（押圧面５９）を通過することで塗布液４９がマスク板２５の開口２７内に充填される。その結果、塗布面５７に塗布液４９が平坦に塗布されるようになる。
【００２６】
上記した真空ポンプ１９、エアシリンダ２３、真空ポンプ３３、昇降手段３５、塗布液供給装置４５、ノズル昇降装置４７、移動手段５３は、それぞれが制御部６３によって動作が制御される。
【００２７】
また、マスク板２５の開口２７は、ブレード５１の長手方向に沿って連続する少なくとも５０ｍｍを超える開口を有することで、ブレード塗布による均一塗布性の効果が顕著となる。本実施の形態においては、開口２７が直径１２０ｍｍ程度の円形状に形成される。
【００２８】
本実施の形態によるディスク塗布装置１０においては、塗布時における塗布液層の膜厚が、少なくとも１００μｍ以上で塗布される。このような１００μｍ以上の厚みの塗布である場合、薄膜の塗布の場合と比較して、塗布液層の表面性状は塗布面５７の表面に倣う傾向が低くなり、ブレード５１の形状が大きな影響を及ぼすことになる。つまり、塗布面５７の凹凸に影響されにくく、ブレード５１による塗布液４９の圧力、ブレード５１形状による塗布液４９の濡れ上がり性等が、塗布液層の表面性状を決定する主要因となる。なお、塗布液層の膜厚は、表面性状を整えるには１０００μｍ以下に抑えることが好ましい。
【００２９】
本ディスク塗布装置１０は、ディスク状記録媒体（光ディスク）の記録層の少なくとも１層を形成するディスク塗布装置として使用する場合、例えばインクジェットプリンタを用いた印刷を行うための印刷層（インク受理層）を形成することができる。このディスク塗布装置によれば、印刷層への印刷の際、良好な色再現性が確保できるように、必要十分な厚みの印刷層を形成することができる。実際には、塗布液層が塗布時１５０μｍ程度の厚みであると、乾燥後の目減り時において３０μｍ程度の塗膜が形成され、この３０μｍ程度のインク受理層が良好な色再現性を可能にする。
【００３０】
図１に示すように、乾燥ステーションＤＳは、移載装置１００により塗布ステーションＰＳから搬送される光ディスクＤを載置するトレイ８１を具備する。トレイ８１は、水平面に対する角度が±５°以下、更に好ましくは±２°以下の水平状態にされており、光ディスクＤの外径より僅かに小さな直径を有する開口８３が形成されている。そして、光ディスクＤがトレイ８１上に載置されたとき、光ディスクＤの外周部下面を係止して光ディスクＤを水平状態に保持する。トレイ８１の下方には、リフタ９０が配設されている。リフタ９０は、昇降軸８９によって下面中央が上下方向に移動自在に支持された載置台８５、及び昇降軸８９を上下移動させるエアシリンダ８７からなる。
【００３１】
載置台８５の外径は、トレイ８１の開口８３の内径より小さく設定されており、載置台８５がエアシリンダ８７の駆動により開口８３から上下方向に出没自在となっている。即ち、載置台８５が上限位置に到達したとき載置台８５はトレイ８１の開口８３より上方に位置し、下限位置に到達したとき載置台８５はトレイ８１の下方に位置する。また、光ディスクＤを載置したトレイ８１は、水平状態に維持されつつ、コンベア装置等により乾燥装置（図示せず）に搬送されて、光ディスクＤに塗布された塗布膜を乾燥させる。エアシリンダ８７は、制御部６３により動作が制御される。
【００３２】
移載装置１００は、図１に示すように、一対の把持腕１０１，１０３を有する保持機構１０５を備える。一対の把持腕１０１，１０３のそれぞれの基部１０１ａ、１０３ａは、それぞれ支持軸９５に回動自在に嵌合する。また、一対の把持腕１０１，１０３の先端である把持部１０１ｂ、１０３ｂは、一対の把持腕１０１，１０３が閉じたとき、略Ｕ字形の二又保持部を形成するようになっている。把持部１０１ｂ、１０３ｂは、その上半部に光ディスクＤの外径と同じ半径を有する大径部１０１ｃ、１０３ｃが、また、下半部に該大径部１０１ｃ、１０３ｃと同心の小径部１０１ｄ、１０３ｄとが形成されている。そして、大径部１０１ｃ、１０３ｃで光ディスクＤの外周部の一部に当接すると共に、小径部１０１ｄ、１０３ｄと大径部１０１ｃ、１０３ｃとで形成された段部１０１ｅ、１０３ｅで光ディスクＤの外周部下面を係止するようになっている。
【００３３】
把持腕１０１，１０３の基部１０１ａ、１０３ａには、支持軸９５に固定されて配設された開閉駆動部１０７が連結されており、一対の把持腕１０１，１０３をそれぞれ矢印Ｅ及びＧ方向、或いは矢印Ｆ及びＨ方向に回動させて一対の把持腕１０１，１０３を開いたり、又は閉じるようになっている。また、支持軸９５は回転駆動部９３に連結されており、回転駆動部９３を駆動して、支持軸９５、即ち、開閉駆動部１０７を揺動させて、該開閉駆動部１０７に連結されている一対の把持腕１０１，１０３（保持機構１０５）の全体を矢印ＫまたはＬ方向に揺動させる。保持機構１０５は、矢印Ｋ方向に回動したとき一対の把持腕１０１，１０３がトレイ８１の上方、且つ載置台８５の真上に位置し、矢印Ｌ方向に回動したとき一対の把持腕１０１，１０３がマスク板２５と下降した吸着台１３の中間位置、且つ吸着台１３の真上に位置する。開閉駆動部１０７および回転駆動部９３は、制御部６３により動作が制御される。
【００３４】
上記構成の搬送装置３０の動作について、以下に詳細に説明する。
図３（ａ）〜（ｄ）及び図４（ｅ）〜（ｈ）は光ディスクに塗布膜が形成され、乾燥装置に搬送される各工程を示す概略説明図、図５（ａ）〜（ｃ）はディスク塗布装置により光ディスクに塗布液が塗布される各工程を示す斜視図、図６は表面に塗布された塗布膜が乾燥されてインク受理層が形成されて完成した光ディスクの平面図である。
【００３５】
まず、ディスク塗布装置１０による光ディスクＤに対する塗布液４９の塗布について説明する。図１及び図２に示すように、吸着台１３が下限位置にあるとき、開閉駆動部１０７を駆動して一対の把持腕１０１，１０３を矢印Ｅ及びＧ方向に回動させて開くと共に、回転駆動部９３を駆動して一対の把持腕１０１，１０３を矢印Ｌ方向に回動させて、開いた状態の一対の把持腕１０１，１０３をマスク板２５の下方、且つ吸着台１３の上方に位置させる。次いで、図３（ａ）及び図５（ａ）に示すように、吸着台１３上に光ディスクＤを載置して吸着固定した後、エアシリンダ２３を作動して光ディスクＤを上昇させ、これによりマスク板２５を光ディスクＤ上に重ね合わる。このとき、一対の把持腕１０１，１０３は開いているので、光ディスクＤの上昇を阻害することはない。
【００３６】
そして、図５（ｂ）に示すように、マスク板２５上に塗布液４９を供給しながら、マスク板２５上方でブレード５１を矢印Ｘ方向に相対移動することにより、塗布液４９をマスク板２５の開口２７から露出する光ディスクＤの塗布面５７に塗布する。次いで、図３（ｂ）及び図５（ｃ）に示すように、エアシリンダ２３を作動して吸着台１３を下降（矢印Ｂ方向）させてマスク板２５から光ディスクＤを離反させる。
【００３７】
光ディスクＤが一対の把持腕１０１，１０３と同じ高さまで下降したときエアシリンダ２３の下降動作を一時停止し、開閉駆動部１０７を駆動して一対の把持腕１０１，１０３をそれぞれ矢印Ｆ及びＨ方向に回動させて閉じ、大径部１０１ｃ、１０３ｃで光ディスクＤの外周部を囲むと共に、段部１０１ｅ、１０３ｅに光ディスクＤの外周部下面を係止して光ディスクＤを水平状態に保持する（図３（ｃ））。そして、図３（ｄ）に示すように、再びエアシリンダ２３を作動して吸着台１３を更に下降（矢印Ｂ方向）させる。
【００３８】
ここで、図１に示すように、回転駆動部９３を前述した方向とは逆方向に駆動して一対の把持腕１０１，１０３（保持機構１０５）を矢印Ｋ方向に回動させて、保持機構１０５により水平状態に保持された光ディスクＤを搬送し、トレイ８１の上方位置させる（図４（ｅ））。このとき、保持機構１０５は、光ディスクＤを水平面に対する角度±５°以下、更に好ましくは±２°以下の水平状態に維持したまま矢印Ｋ方向に回動して搬送するので、光ディスクＤに塗布された未乾燥の塗布液４９の液ダレが生じることはない。
【００３９】
そして、エアシリンダ８７を駆動して載置台８５を上昇させ（矢印Ｉ方向）、トレイ８１の開口８３より上方に突出させて、載置台８５を光ディスクＤの下面に当接させる（図４（ｆ））。
【００４０】
ここで、開閉駆動部１０７を駆動して一対の把持腕１０１，１０３をそれぞれ矢印Ｅ及びＧ方向に回動させて開き、光ディスクＤを保持機構１０５から載置台８５に受け渡す（図４（ｇ））。続いて、エアシリンダ８７を駆動して載置台８５を矢印Ｊ方向に移動させてトレイ８１より下方に下降させると、載置台８５上に水平に係止されていた光ディスクＤが、載置台８５の下降途中においてトレイ８１上に移載される（図４（ｈ））。このようにしてトレイ８１上に載置された光ディスクＤは、トレイ８１と共に図示しないコンベア装置等によって水平状態が維持されたまま、乾燥装置に搬送されて乾燥される。
【００４１】
上述した全ての工程は、光ディスクＤが水平面に対する角度±５°以下、望ましくは±２°以下の水平状態に維持されて行われるので、光ディスクＤが傾いて未乾燥状態の塗布液４９が下方に流れたり、液ダレを生じることはなく、均一な膜厚を有するインク受理層７９が形成される。
ここで、光ディスクＤが水平面から±５゜を超える角度に傾斜した場合には、塗布液の表面性状が乱れ、膜厚の不均一が発生することが実験的に明らかになっている。
【００４２】
また、光ディスクＤは、乾燥前に、例えば２分間程度水平状態で維持することにより、ブレード塗布時に発生した塗布方向に略平行なスジがレベリング効果により解消されるので、更に良好な表面性状を有し、均一の膜厚を有するインク受理層を形成することができる。更に、乾燥装置において、光ディスクＤを冷却しながら乾燥するようにすれば、冷却により塗布液４９の粘度が急速に大きくなるので、乾燥前に生じる液ダレの防止効果が大きい。
【００４３】
このようにして、図６に示すように、光ディスクＤの外周縁にはマスク板２５に覆われていたことで塗布液４９の塗布されていない非塗布部７１が形成され、光ディスクＤの中央部にはマスクキャップ３７が挿着されていたことで非塗布部６９が形成されたインク受理層７９を有する光ディスクＤが製作される。なお、マスク板２５の開口形状を適宜変更することにより、塗布部の形状は自由に変更することができる。
【００４４】
なお、本発明に係る塗布膜付き基板の搬送装置は、前述した各実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形や改良等が可能である。例えば、本実施形態では、光ディスクを対象として塗布膜を形成したが、対象物はこれに限らず、厚膜を形成するものであれば種々の対象物に適用することができ、同様の効果を奏する。
また、上記説明において、保持機構１０５は開閉自在な一対の把持腕１０１，１０３を有するものとして説明したが、先端が固定二又状のアームを用いて光ディスクの側方から直線的に移動させて光ディスクの下面を係止して保持するようにしてもよい。
【実施例１】
【００４５】
次に、塗布膜付き基板の搬送装置の実施例を説明する。
ここでは、光ディスクＤの水平面に対する角度を、図７（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すように定義する。即ち、図１におけるＬ，Ｋ方向をθ方向とし、ディスクＤの半径方向をｒ方向とする。ｒ方向では円弧軌道の外側が高くなる傾斜をチルト角が正（プラス）とし、θ方向ではディスクＤの進行方向前側が高くなるチルト角を正（プラス）とする。
【００４６】
実施例１〜３は、θ方向への搬送速度を１００ｍｍ／ｓｅｃとし、ディスクＤのθ方向に直交する半径方向に対するディスク面と水平面とのなす角（チルト角ｒ）と、ディスクＤの搬送方向に対するディスク面と水平面とのなす角（チルト角θ）を０゜〜５゜の範囲とした場合である。このときは、いずれも液ダレなく良好に搬送できた。
比較例１，２は、θ方向への搬送速度を同じく１００ｍｍ／ｓｅｃとし、チルト角ｒとチルト角θが±５゜の範囲を超えた場合であって、いずれも液ダレを生じた。
【００４７】
また、実施例４，５は、θ方向への搬送速度を２５０ｍｍ／ｓｅｃとし、チルト角ｒとチルト角θを０゜〜−５゜の範囲とした場合である。このときは、いずれも液ダレなく良好に搬送できた。
比較例３は、θ方向への搬送速度を２５０ｍｍ／ｓｅｃとし、チルト角ｒとチルト角θが０゜〜−５゜の範囲を超えた場合であって、液ダレを生じた。さらに、比較例４は、θ方向への搬送速度を４００ｍｍ／ｓｅｃとし、チルト角ｒとチルト角θが０゜〜±５゜の範囲を超えた場合であって、搬送時にディスク外周側に液の偏りが発生した。
【００４８】
以上のように、チルト角ｒとチルト角θを０゜〜±５゜の範囲とすることで、液ダレ等の不具合を生じない良好な搬送が行えた。
【００４９】
【表１】
2006228382.tif 000003
【００５０】
【表２】
2006228382.tif 000004
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明に係る基板の移載装置が配設された搬送装置の概略外観を表す斜視図である。
【図２】図１に示した塗布装置の概略構成図である。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は光ディスクに塗布膜が形成され、乾燥装置に搬送される各工程を示す概略説明図である。
【図４】（ｅ）〜（ｈ）は光ディスクに塗布膜が形成され、乾燥装置に搬送される各工程を示す概略説明図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）はディスク塗布装置により光ディスクに塗布液が塗布される各工程を示す斜視図である。
【図６】表面に塗布された塗布膜が乾燥されてインク受理層が形成された光ディスクの平面図である。
【図７】光ディスクの水平面に対する角度を定義するための説明図（ａ），（ｂ），（ｃ）である。
【図８】従来の一般的なディスク移載機構を示す概念図である。
【図９】図８のチャック部によるディスクの係止手順を示す説明図（ａ），（ｂ），（ｃ）である。
【符号の説明】
【００５２】
１０    ディスク塗布装置（塗布装置）
３０    搬送装置
４１    塗布液供給部
４９    塗布液（塗布膜）
８１    トレイ
８３    開口
９０    リフタ
１００    移載装置（移載手段）
１０５    保持機構
Ｄ    光ディスク（平面基板）
【図１】
2006228382.tif 000005
【図２】
2006228382.tif 000006
【図３】
2006228382.tif 000007
【図４】
2006228382.tif 000008
【図５】
2006228382.tif 000009
【図６】
2006228382.tif 000010
【図７】
2006228382.tif 000011
【図８】
2006228382.tif 000012
【図９】
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