(57)【要約】【課題】回転対陰極内部の冷媒通路に配置するセパレータの形状を工夫することにより，高速回転をしても回転駆動源の負荷がそれほど大きくならないようにする。【解決手段】円筒状のターゲット部材１０の外周面の軸方向長さは２０〜１００ｍｍである。冷媒通路内に配置するセパレータ５２は接近表面８２を備えていて，この接近表面８２から被冷却面９２までの距離は０．１〜３．０ｍｍである。接近表面８２の軸方向長さは５ｍｍ以下である。このように，接近表面の軸方向長さを短くすることで，回転対陰極を高速で回転させても回転駆動源の負荷をそれほど大きくしなくても済む。回転駆動源として電動モータを使う場合は，そのモータドライバの容量を大きなものに変える必要がない。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の構成を備える回転対陰極Ｘ線管。
（ア）Ｘ線発生材料で構成された円筒状のターゲット部材を備える回転対陰極であって，前記円筒状のターゲット部材の外周面の軸方向長さが２０〜１００ｍｍである回転対陰極。
（イ）前記回転対陰極の内部に形成された冷媒通路であって，前記ターゲット部材の外周面上の電子線照射領域の裏側に存在する被冷却面に沿って冷媒が流れるように構成された冷媒通路。
（ウ）前記冷媒通路内に配置されていて静止しているセパレータであって，前記被冷却面までの距離が０．１〜３．０ｍｍの範囲内の接近表面を備えていて，前記被冷却面と前記接近表面との間の接近通路に向かって冷媒が流れる流入通路と前記接近通路から遠ざかるように冷媒が流れる流出通路とに前記冷媒通路を分割し，前記接近表面の軸方向長さが５ｍｍ以下であるセパレータ。
【請求項２】
請求項１に記載の回転対陰極Ｘ線管において，前記接近表面の軸方向長さが３ｍｍ以下であることを特徴とする回転対陰極Ｘ線管。
【請求項３】
請求項１に記載の回転対陰極Ｘ線管において，前記ターゲット部材の外周面上の電子ビーム照射領域の軸方向長さが３ｍｍ以下であることを特徴とする回転対陰極Ｘ線管。
【請求項４】
請求項４に記載の回転対陰極Ｘ線管において，前記ターゲット部材の外周面上の電子ビーム照射領域の軸方向長さが１ｍｍ以下であることを特徴とする回転対陰極Ｘ線管。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか１項に記載の回転対陰極Ｘ線管において，前記セパレータは，円板部と，前記円板部の外周につながっている傾斜部とを備えていて，前記傾斜部は切頭円錐の形状をしていて，前記傾斜部の半径方向の外端における外周面が前記接近表面であることを特徴とする回転対陰極Ｘ線管。
【請求項６】
次の構成を備えるＸ線発生装置。
（ア）請求項１から５までのいずれか１項に記載の回転対陰極Ｘ線管。
（イ）前記回転対陰極Ｘ線管の冷媒通路に冷媒を供給する冷媒供給装置。
（ウ）前記回転対陰極Ｘ線管に管電圧と管電流を供給する高圧電源。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転対陰極の内部の冷媒通路に配置されたセパレータに特徴のある回転対陰極Ｘ線管に関する。
【背景技術】
【０００２】
回転対陰極Ｘ線管の回転対陰極の内部には冷却水通路が形成されて，この冷却水通路内に冷却水を流して回転対陰極を冷却している。図１３は従来の回転対陰極の縦断面図（回転中心線を含む平面で切断した断面図）である。回転対陰極１０の内部には冷却水通路１２が形成されていて，この冷却水通路１２内にセパレータ１４が配置されている。回転対陰極１０が回転するときに，セパレータ１４は静止している。回転対陰極１０の外周面は，Ｘ線発生材料からなるターゲット部材で構成されている。ターゲット部材の外周面に電子ビーム１６が照射されると，電子ビーム照射領域１８からＸ線が発生する。回転対陰極１０の内面（冷却水通路の表面）のうち，電子ビーム照射領域１８の裏側の部分が最も冷却を要する部分であり，これを被冷却面２０と呼ぶことにする。セパレータ１４の表面のうち，被冷却面２０に対面する部分を接近表面２２と呼ぶことにする。回転対陰極１０の内面とセパレータ１４の表面との間の距離は，被冷却面２０と接近表面２２との間（これを接近通路と呼ぶことにする）で最も狭くなっている。この接近通路における，回転対陰極１０の内面とセパレータ１４の表面との間の距離を接近距離Ｇとすると，この接近距離Ｇは１．５ｍｍ程度に設定される。接近距離Ｇをこのように狭くすることで，被冷却面２０を冷却する能力を高めている。
【０００３】
ノーマルフォーカスと呼ばれる焦点サイズでは，電子ビーム１６の軸方向長さ（回転対陰極の回転軸線の方向における長さ）Ｌ１は，例えば，約１０ｍｍである。電子ビーム１６の周方向長さ（回転対陰極の外周面の周方向における長さであり，図１３の紙面に垂直な方向の長さ）は，例えば，約１ｍｍである。したがって，このときの電子ビーム１６の断面サイズは約１０ｍｍ×１ｍｍであり，これは電子ビーム照射領域１８のサイズに等しい。この電子ビーム照射領域１８の裏側の被冷却面２０を十分に冷却するには，接近表面２２の軸方向長さＬ２は，上述のＬ１よりも長くするのが好ましい。例えば，Ｌ２は約１５ｍｍである。この回転対陰極は６０００ｒｐｍ程度の回転速度で回転させて用いる。このようなセパレータを有する回転対陰極は，例えば，次の特許文献１に開示されている。
【特許文献１】特開２０００−２５１８１０号公報
【０００４】
図１３に示した従来の回転対陰極において，ファインフォーカスと呼ばれる微小な焦点サイズを用いることがある。図１４はファインフォーカスにした場合の図１３と同様の縦断面図である。電子ビーム１６は細くなり，その断面サイズは，例えば，約１ｍｍ×０．１ｍｍである。すなわち，電子ビーム１６の軸方向長さＬ１が約１ｍｍであり，周方向長さが約０．１ｍｍである。このとき，電子ビーム照射領域１８の軸方向長さもＬ１に等しく，約１ｍｍである。従来は，このファインフォーカスにおいても，ノーマルフォーカスの場合と同じセパレータ１４をそのまま用いていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図１４において，ファインフォーカスであって，かつ，強度の強いＸ線ビームを得るためには，電子ビーム１６のエネルギーを高くする必要がある。具体的には，Ｘ線管に投入するＸ線発生用電力（管電圧と管電流との積に依存する）を大きくする必要がある。そして，Ｘ線発生用電力を大きくした場合には，電子ビーム照射領域１８を，より強力に冷却する必要がある。冷却能力を高める方法のひとつとして，回転対陰極の回転速度を上げる方法がある。回転速度を上げると，回転対陰極の外周面上の同一の領域が電子ビームに照射され続ける時間が短くなり，電子ビーム照射領域が高熱で溶ける前に，その高熱部分が電子ビームから外れることになる。本発明は，回転速度を上げることで，ファインフォーカスのＸ線ビームの強度を上げることに関連している。
【０００６】
図１４に示す従来の回転対陰極において，回転対陰極の回転速度を６０００ｒｐｍから，例えば，９０００ｒｐｍに上昇させると，次のような問題が生じる。回転する回転対陰極１０と，静止するセパレータ１４との間には，冷却水が存在するので，冷却水の粘性抵抗が，回転対陰極１０を回転させる電動モータの負荷として働く。回転対陰極１０とセパレータ１４とが最も接近しているところが，セパレータ１４の接近表面２２のところであり，この部分での冷却水の粘性抵抗が回転負荷に大きく影響する。接近距離Ｇは１．５ｍｍ程度に狭くなっていて，かつ，接近表面２２の軸方向長さＬ２は約１５ｍｍと長いので，回転速度を上げる際には，この部分での回転負荷の増大が問題になる。回転負荷が増えると，回転駆動源としての電動モータの投入電力を大きくする必要がある。また，モータドライバの容量も大きなものに交換する必要がある。
【０００７】
本発明は上述の問題点を解決するためになされたものであり，その目的は，高速回転をしても回転駆動源の負荷がそれほど大きくならないような回転対陰極Ｘ線管を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の回転対陰極Ｘ線管は，回転対陰極と冷媒通路とセパレータとを備えている。回転対陰極は，Ｘ線発生材料で構成された円筒状のターゲット部材を備えていて，円筒状のターゲット部材の外周面の軸方向長さが２０〜１００ｍｍ，好ましくは３０〜１００ｍｍ，である。すなわち，ファインフォーカス専用の，軸方向長さが特に短くされたような回転対陰極ではなくて，ノーマルフォーカスも可能な，軸方向長さが比較的長い回転対陰極に適用されるものである。冷媒通路は回転対陰極の内部に形成されていて，冷媒通路内の冷媒は，ターゲット部材の外周面上の電子線照射領域の裏側に存在する被冷却面に沿って流れるようになっている。冷媒は，典型的には冷却水であるが，その他の冷却用液体を用いてもよい。セパレータは，冷媒通路内に配置されていて静止している。このセパレータは接近表面を備えていて，この接近表面から被冷却面までの距離は０．１〜３．０ｍｍの範囲内にある。３ｍｍを超えると，被冷却面の冷却効率が低下してくる。一方，０．１ｍｍを下回ると，静止するセパレータが，回転する回転対陰極に接触する危険が増大する。セパレータは，前記冷媒通路を流入通路と流出通路とに分割するものであり，流入通路内の冷媒は，被冷却面と接近表面との間の接近通路に向かって流れる。流出通路内の冷媒は，接近通路から遠ざかるように流れる。接近表面の軸方向長さは５ｍｍ以下，好ましくは３ｍｍ以下，である。ファインフォーカスの電子ビーム照射領域を想定すると，接近表面の軸方向長さは５ｍｍ以下にしても冷却能力は十分であり，それより長くしても利益はない。このように，接近表面の軸方向長さを短くすることで，回転対陰極を高速で回転させても回転駆動源の負荷をそれほど大きくしなくても済む。回転駆動源として電動モータを使う場合は，そのモータドライバの容量を大きなものに変える必要がない。
【０００９】
本発明の回転対陰極Ｘ線管はファインフォーカスの強力なＸ線ビームを発生させるのに適している。ファインフォーカスの電子ビーム照射領域のサイズは，３ｍｍ×０．３ｍｍ程度が上限であり，その軸方向長さは３ｍｍ以下である。より好ましくは，ファインフォーカスの電子ビーム照射領域のサイズは，１ｍｍ×０．１ｍｍ，またはそれ以下（例えば，０．７ｍｍ×０．０７ｍｍ，）であり，その軸方向長さは１ｍｍ以下である。
【００１０】
セパレータは，例えば，円板部と，この円板部の外周につながっている傾斜部とを備えることができる。傾斜部は切頭円錐の形状をしていて，この傾斜部の半径方向の外端における外周面を前記接近表面とすることができる。
【００１１】
本発明は，また，上述の回転対陰極Ｘ線管を備えたＸ線発生装置であることを特徴とする。このＸ線発生装置は，回転対陰極Ｘ線管の冷媒通路に冷媒を供給する冷媒供給装置と，回転対陰極Ｘ線管に管電圧と管電流を供給する高圧電源とを備えている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の回転対陰極Ｘ線管は，セパレータの接近表面の軸方向長さを短くしたので，回転速度をより高速にする場合に，回転駆動源の負荷をそれほど大きくしなくても済むという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下，図面を参照して本発明の実施例を詳しく説明する。図１は本発明の回転対陰極Ｘ線管の一実施例の要部の断面図（回転対陰極の回転中心線を含む平面で切断した断面図）である。回転対陰極Ｘ線管は真空容器２４と，その内部に収容された回転対陰極１０及び電子銃２６を備えている。電子銃２６と回転対陰極１０の間に高圧電源から高電圧を印加することで，電子銃２６から電子ビーム１６を発生させることができる。この電子ビーム１６を，円筒状の回転対陰極１０（ターゲット部材）の外周面に照射することで，Ｘ線が発生する。回転対陰極１０は対陰極組立体２８に属しており，この対陰極組立体２８を真空容器２４に取り付けることで，回転対陰極１０を真空容器２４の内部空間の所定の位置に配置することができる。
【００１４】
対陰極組立体２８はケーシング３０を備えている。このケーシング３０のフランジ３２は真空容器２４に気密に取り付けることができる。回転対陰極１０には回転シャフト３４が固定されている。回転シャフト３４の外周面とケーシング３０の内壁の間には，回転真空シールのための磁性流体シール装置３６と，回転シャフト３４を回転可能に支持する転がり軸受３８，４０と，回転シャフト３４からケーシング３０に電流を逃がす電気ブラシ４２と，冷却水を回転シールするメカニカルシール４４が配置されている。ケーシング３０の内壁にはダイレクトモータのステータ４６が固定されている。一方，回転シャフト３４の外周面にはダイレクトモータのロータ４８が固定されている。このダイレクトモータの働きにより，回転シャフト３４が回転し，その結果，回転対陰極１０が回転する。
【００１５】
図２は回転対陰極１０の一部を拡大して示した断面図である。回転対陰極１０の内部には第１の冷却水通路５０が形成されている。この第１の冷却水通路５０は，セパレータ５２によって，第１の流入通路５６と第１の流出通路５４に分かれている。一方，回転シャフト３４の内部には第２の冷却水通路５８が形成されている。この第２の冷却水通路５８も，仕切りパイプ６０によって，外側の第２の流入通路６４と，内側の第２の流出通路６２に分かれている。セパレータ５２は仕切りパイプ６０に固定されていて，図１に示すように，仕切りパイプ６０の根元（図１の右端）はケーシング３０に固定されている。回転対陰極１０と回転シャフト３４は回転するが，その内部のセパレータ１４と仕切りパイプ６０は静止している。図２において，第１の流入通路５６は第２の流入通路６４に連通しており，第１の流出通路５４は第２の流出通路６２に連通している。図１に示すように，ケーシング３０には冷却水入口６８と冷却水出口６６が形成されている。冷却水入口６８には入口用配管ニップル７２が取り付けられ，冷却水出口６６には出口用配管ニップル７０が取り付けられる。冷却水入口６８に入った冷却水は，第２の流入通路６４（図２を参照）を通って第１の流入通路５６に入り，回転対陰極１０を内面から冷却する。戻り側の冷却水は，第１の流出通路５４と第２の流出通路６２（図２を参照）を通って，冷却水出口６６から出て行く。
【００１６】
図２において，セパレータ５２は円板部７４と傾斜部７６と羽根７８からなる。図３はセパレータ５２の正面図であり，図４はセパレータ５２の一部を切り欠いて示した斜視図である。図２乃至図４を参照して説明すると，円板部７４の中央には冷却水が通る貫通孔８０が形成されていて，この貫通孔８０のところで円板部７４が仕切りパイプ６０に接合されている。円板部７４の外周は傾斜部７６につながっている。傾斜部７６は，図４に明瞭に示すように，切頭円錐の形状をしている。回転対陰極の回転中心線で切断した断面において，傾斜部７６は，図２に示すように，回転対陰極の軸方向に対して角度θだけ傾斜している。この実施例ではθは３０度である。傾斜部７６の半径方向の外端における外周面が接近表面８２となる。接近表面８２は円筒面であり，その軸方向長さＬ２は２ｍｍである。羽根７８は，図３に示すように，放射状に４個，円板部７４に取り付けられている。
【００１７】
図２において，この回転対陰極１０は，カップ状の第１部材８４と，回転シャフト３４と一体に形成された第２部材８６とで構成されている。第１部材８４は，その全体が，ターゲット部材（例えば，銅）でできている。第１部材８４は第２部材８６にねじ部８８で結合している。第１部材８４と第２部材８６の結合部分ではＯリング９０によって冷却水がシールされている。第１部材８４と第２部材８６とを組み合わせることで第１の冷却水通路５０が形成される。第１部材８４の外周面にはファインフォーカスの電子ビーム１６が照射される。この電子ビーム１６の断面サイズは，この実施例では，約１ｍｍ×０．１ｍｍである。すなわち，電子ビーム１６の軸方向長さが約１ｍｍであり，周方向長さが約０．１ｍｍである。このとき，電子ビーム照射領域１８の軸方向長さＬ１は約１ｍｍとなる。このような焦点サイズのときに，図２の左方向に取り出し角６度でＸ線ビームを取り出すと，約０．１ｍｍ×０．１ｍｍのポイントフォーカスのＸ線源となる。
【００１８】
回転対陰極１０の外径は１００ｍｍであり，軸方向の長さＬ３は約４３ｍｍである。この回転対陰極１０は，セパレータを変更するだけで，ノーマルフォーカス用の回転対陰極としても使えるようになっているので，ファインフォーカス専用に作られた回転対陰極と比較して，長さＬ３が，通常の回転対陰極と同程度に，長くなっている。
【００１９】
第１部材８４の円筒状の部分のうち，電子ビーム照射領域１８の裏側の内面が，被冷却面９２（冷却水で特に冷却すべき面）となる。この被冷却面９２とセパレータの接近表面８２との間の接近距離Ｇは約１．５ｍｍである。被冷却面９２と接近表面８２の間の通路を接近通路９３と呼ぶことにすると，この接近通路９３を境として第１の冷却水通路５０が第１の流入通路５６と第１の流出通路５４に分割されている。図５はセパレータの接近表面８２の付近を示す断面図である。第１の流入通路５６では，接近通路９３に向かって冷却水９４が流れ，第１の流出通路５４では，接近通路９３から遠ざかるように冷却水９４が流れる。接近通路９３では冷却水の通り道が狭くなっているので，この部分で流速が速くなり，被冷却面９２は十分な冷却能力をもって冷却される。そして，接近表面８２の軸方向長さは２ｍｍと短くなっているので，接近通路９３における冷却水の粘性抵抗に起因する回転負荷は，従来のセパレータを使う場合と比較して小さくなり，回転速度を例えば９０００ｒｐｍに上昇させても，モータに投入する電力は従来技術ほどには増加しない。接近表面８２の軸方向長さがこのように短いセパレータを使っても十分な冷却能力があることについては，回転速度９０００ｒｐｍで，管電圧４０ｋＶ，管電流３０ｍＡとして，ファインフォーカスの強力な電子ビームを照射してＸ線を発生させたときに，ターゲット部材の表面の荒れが生じないことによって確認した。
【００２０】
図６はセパレータの第１の変更例を示しており，図５と同様の断面図である。図７は図６に示すセパレータの，図４と同様の斜視図である。図６において，このセパレータ５２ａは，円板部７４の外周に円筒部９６がつながっていて，この円筒部９６の軸方向の端部に，半径方向の外側に突き出す突出部９８が形成されている。この突出部９８の外周面が接近表面８２ａとなっている。この接近表面８２ａの軸方向長さＬ２は２ｍｍである。接近通路９３ａでの接近距離Ｇは約１．５ｍｍである。円筒部９６に対する接近表面８２ａの突き出し量は約２ｍｍである。
【００２１】
図８はセパレータの第２の変更例を示しており，図４と同様の斜視図である。このセパレータ５２ｂは，断面図で見ると図６と同様であるが，接近表面８２ｂが三角形状の凹凸を周方向に繰り返すような形状になっている。接近表面８２ｂの山の頂上と被冷却面との距離が約１．５ｍｍである。山の頂上から谷の底部までの半径方向に計った高さは約２ｍｍである。
【００２２】
図９はセパレータの第３の変更例を示しており，図５と同様の断面図である。図１０は図９に示すセパレータの，図４と同様の斜視図である。このセパレータ５２ｃは，円板部７４の外周に円筒部９６がつながっていて，この円筒部９６の軸方向の端部に，半径方向の外側に突き出す，断面が三角形の突出部１００が形成されている。三角形の突出部１００の頂点と被冷却面９２との距離は約１．５ｍｍである。三角形の突出部１００の半径方向の高さは約２ｍｍである。この突出部１００の斜面のうち，被冷却面９２からの距離が所定値Ｄ(例えば，３ｍｍ）以内にある領域が，接近表面として機能する。被冷却面９２からの距離がＤ以上に離れると，被冷却面９２を十分に冷却するための役割が薄れる。被冷却面９２からの距離がＤのところで計った，突出部１００の軸方向長さＬ２は２ｍｍである。
【００２３】
次に，本発明の回転対陰極Ｘ線管のモータ負荷についての実験結果を説明する。図１１は，図２に示すセパレータ５２を有する回転対陰極Ｘ線管（本発明）と，図１３に示すセパレータ１４を有する回転対陰極Ｘ線管（従来例）についてのモータ負荷の実験結果のグラフである。ただし，いずれのセパレータも，羽根７８（図４を参照）を取り外したものを用いた。グラフの横軸は回転対陰極の回転速度である。縦軸は回転シャフト３４に直結されたダイレクトモータの巻線に流れる電流である。ファインフォーカスのＸ線ビームのＸ線強度を高めることを主眼として，回転速度を９０００ｒｐｍまで上昇させることを想定した実験である。回転速度９０００ｒｐｍを得るために，従来例では，モータ電流は１３．１Ａを要した。これに対して，本発明では，モータ電流は９．３Ａで済んだ。今回使用したモータの場合，モータ電流が約９Ａのときは，電力は約８００Ｗである。従来例と本発明とでは，セパレータの形状が異なるだけなので，本発明において，セパレータ５２の接近表面８２（図２）の軸方向長さＬ２を短くしたことで，モータの負荷がかなり軽くなったことが分かる。
【００２４】
図１２は図１１における本発明の方の実験データを得たときの冷却水の水圧のグラフである。実際の回転対陰極Ｘ線管でも，この程度の供給圧力で使用することになる。
【００２５】
本発明の回転対陰極Ｘ線管はファインフォーカスの電子ビームを照射することを想定しているが，図１３に示すセパレータに交換すれば，ノーマルフォーカス（例えば，約１０ｍｍ×１ｍｍの焦点サイズ）の電子ビームを照射することにも使える。さらに，Ｘ線発生用の投入電力によっては，セパレータを図２に示したもののままにしてノーマルフォーカスで使うことも可能である。ノーマルフォーカスでは，単位面積あたりの電子ビームエネルギーがそれほど大きくないので，電子ビーム照射領域の軸方向長さよりも短い接近表面であっても，冷却能力が十分であることが多いからである。
【００２６】
図１５は本発明の回転対陰極Ｘ線管を備えたＸ線発生装置の構成図である。このＸ線発生装置は，回転対陰極Ｘ線管１０２と高圧電源１０４と冷媒供給装置１０６を備えている。高圧電源１０４は，回転対陰極Ｘ線管１０２の電子銃の陰極フィラメント１０８と回転対陰極１０（接地電位である）との間に管電圧Ｅを印加して，管電流Ｉを流すものである。陰極フィラメント１０８には回転対陰極１０に対して負の高電圧（例えば，マイナス６０ｋＶ）が印加される。陰極フィラメント１０８からは回転対陰極１０の外周面に対して電子ビーム１６が照射され，その照射領域からＸ線１１０が発生する。
【００２７】
冷媒供給装置１０６からは回転対陰極Ｘ線管１０２の入口用配管ニップル７２に対して冷却水１１２が供給される。回転対陰極１０を冷却して戻ってきた冷却水１１４（温度が上昇している）は，出口用配管ニップル７４から出てくるが，この戻り冷却水１１４は，そのまま排水してもよいし，冷媒供給装置１０６で冷却して再循環して利用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の回転対陰極Ｘ線管の一実施例の要部の断面図である。
【図２】回転対陰極の一部を拡大して示した断面図である。
【図３】セパレータの正面図である。
【図４】セパレータの一部を切り欠いて示した斜視図である。
【図５】セパレータの接近表面の付近を示す断面図である。
【図６】セパレータの第１の変更例を示しており，図５と同様の断面図である。
【図７】図６に示すセパレータの，図４と同様の斜視図である。
【図８】セパレータの第２の変更例を示しており，図４と同様の斜視図である。
【図９】セパレータの第３の変更例を示しており，図５と同様の断面図である。
【図１０】図１０は図９に示すセパレータの，図４と同様の斜視図である。
【図１１】図２に示すセパレータを有する回転対陰極Ｘ線管（本発明）と，図１４に示すセパレータを有する回転対陰極Ｘ線管（従来例）についてのモータ負荷の実験結果のグラフである。
【図１２】図１１における本発明の方の実験データを得たときの冷却水の水圧のグラフである。
【図１３】従来の回転対陰極の縦断面図である。
【図１４】ファインフォーカスにした場合の図１３と同様の縦断面図である。
【図１５】本発明の回転対陰極Ｘ線管を備えたＸ線発生装置の構成図である。
【符号の説明】
【００２９】
１０  回転対陰極
１６  電子ビーム
１８  電子ビーム照射領域
２０  被冷却面
２２  接近表面
５０  第１の冷却水通路
５２  セパレータ
５４  第１の流出通路
５６  第１の流入通路
５８  第２の冷却水通路
６０  仕切りパイプ
６２  第２の流出通路
６４  第２の流入通路
７４  円板部
７６  傾斜部
８２  接近表面
８４  第１部材
８６  第２部材
９２  被冷却面
９３  接近通路
９４  冷却水
１０２  回転対陰極Ｘ線管
１０４  高圧電源
１０６  冷媒供給装置
１０８  陰極フィラメント
１１０  Ｘ線
１１２  冷却水
Ｌ１  電子ビームの軸方向長さ
Ｌ２  接近表面の軸方向長さ
Ｌ３  回転対陰極の軸方向長さ
Ｇ  被冷却面と接近表面との間の接近距離
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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