(57)【要約】      （修正有）【課題】ワークをベーキングする際に、複数のキャリア載置室に同時にキャリアを入れることができるとともに、ベーク開始・ベーク終了は各キャリア載置室毎に時間差をもって管理できるベーク装置を提供する。【解決手段】ワークを収容したキャリア１を格納する炉本体２と、前記ワークを加熱する加熱手段１３とを備えたベーク装置であって、前記炉本体２内を分割して構成された複数のキャリア載置室４ａ〜４ｄと、前記キャリア載置室４ａ〜４ｄのそれぞれのキャリア出入口を開閉する扉７ａ〜７ｄと、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを収容したキャリアを格納する炉本体と、前記ワークを加熱する加熱手段とを備えたベーク装置であって、
前記炉本体内を分割して構成された複数のキャリア載置室と、
前記キャリア載置室のそれぞれのキャリア出入口を開閉する扉と、を備えたことを特徴とするベーク装置。
【請求項２】
請求項１記載のベーク装置において、
前記扉の前部を覆う外扉が設けられていることを特徴とするベーク装置。
【請求項３】
請求項１または２記載のベーク装置において、
前記キャリア載置室の後方に空間部が設けられ、前記空間部から各キャリア載置室に温風を吹き込むようにしたことを特徴とするベーク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジストを塗布したワークを炉に入れてベークし、さらに、ポリイミドを塗布のあとのベーク、組立工程パッケージのベーク、回路基板自体のベーク等の処理で用いるベーク装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造工程においては、半導体ウエハにレジストを塗布後、レジスト中の溶剤成分を揮発させるなどのために、ウエハを収納したキャリアをベーク装置に複数個格納し、高温でベーキングを行うベーク装置がある。すなわち、ベーク装置の炉内に、ウェハを載せたキャリア（ボート）を複数個設置し、複数個のキャリアを同時にベーキングするようにしている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、図９に示すように、炉本体２の内部を上下に分割する仕切り板２３を設けて、上下２段、合計最大４個のキャリア１を同時にベーキングできるようにしたものもある。なお、炉本体２の前部にはキャリア１の出入口を開閉する扉２４が設けられている。
【特許文献１】特開平２−第１２３３６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１あるいは図９に示すような従来のベーク装置では、例えば、たまたまベーキング工程での仕掛かりが１つのキャリア（ボート）である場合に、ベーキング途中に、次のキャリアがベーキング工程に来ても、現在仕掛かっているキャリアの規定のベーク時間が終了するまでは、次の他のキャリアを炉内に入れることができない。これは、ベーキングの途中に炉の出入口の扉を開けると、炉内の高温空気と、炉外の常温空気が拡散し交じり合い、結果、炉内の温度が規定の高温から低下し、ベーキングの目的が果たされないためである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明によれば、
ワークを収容したキャリアを格納する炉本体と、前記ワークを加熱する加熱手段とを備えたベーク装置であって、
前記炉本体内を分割して構成された複数のキャリア載置室と、
前記キャリア載置室のそれぞれのキャリア出入口を開閉する扉と、を備えたことを特徴とするベーク装置が提供される。
ワークをベーキングする際に、複数のキャリア載置室に同時にキャリアを入れることができるとともに、ベーク開始・ベーク終了は、各キャリア載置室により時間差をもって管理することができる。
【発明の効果】
【０００６】
本発明のベーク装置によれば、独立した複数のキャリア載置室を設けることにより、キャリアのそれぞれを、時間をずらして処理することができ、したがって、ベーク処理に無駄な時間を消費することが避けられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。
図１〜図４は、本発明のベーク装置の第１実施形態を示すもので、図１は、斜視図、図２は、全扉を閉鎖した状態の正面図、図３は、図２のIII−III線断面図、図４および図５は、一部の扉を開放した状態の正面図である。
【０００８】
図１〜図３に示すように、第１実施形態のベーク装置は、炉本体２と、炉本体２の内部を４個のキャリア載置室４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄに分割する縦横の仕切り板５，６と、それぞれのキャリア載置室４ａ〜４ｄの出入口にヒンジ１０を介して開閉自在に取り付けられた扉７ａ〜７ｄとを備えたものである。扉７ａ〜７ｄの開放側の先端には、炉本体２の仕切板５に設けられた扉固定部８に係止する係止具９および取っ手１１が設けられている。それぞれのキャリア載置室４ａ〜４ｄに半導体ウエハ等のワーク（図示せず）を収容したキャリア１が収容されている。
【０００９】
図３に示すように、各キャリア載置室４ａ〜４ｄの後部には空間部１２が設けられ、この空間部１２の下部に温風ヒータ１３が設けられている。温風ヒータ１３で発生した温風は空間部１２を上昇し、排気孔１４から排出される間に、各キャリア載置室４ａ〜４ｄに吹き込まれ、ワークのベークを行う。このように、温風が後方から前方に流れるように構成することにより、扉７ａ〜７ｄを開けた際、温風が他のキャリア載置室に吹き込まれて温度変化を生じさせることが防止できる。
【００１０】
ワークをベーキングする際に、４つのキャリア載置室４ａ〜４ｄに同時にキャリア１を入れることができるが、ベーク開始・ベーク終了は、各キャリア載置室４ａ〜４ｄにより時間差をもって管理することもできる。
【００１１】
例えば、図４に示すように、上部のキャリア載置室４ａにおいてベークが終了した場合には、そのキャリア載置室４ａの扉７ａのみを開けて、次のキャリア１を入れて扉７ａを閉め、そのキャリア載置室４ａのベークを開始することができる。他の３つのキャリア載置室４ｂ，４ｃ，４ｄは、まだベーク途中なので、扉７ｂ，７ｃ，７ｄを開けることはできない。
【００１２】
また、図５に示すように、炉内の上段の２つのキャリア載置室４ａ，４ｂにのみキャリアが入っていて、下段のキャリア載置室４ｃ，４ｄにはキャリアがまだ入っていない状態であったとする。上段のキャリア載置室４ａ，４ｂでのベーク途中に次の２個のキャリアが来た場合、上段の２つのキャリア載置室４ａ，４ｂの扉７ａ、７ｂを開けることなく、空いている下段の２つのキャリア載置室４ｃ，４ｄの扉７ｃ，７ｄを開けて、ここに２個のキャリア１を入れた後、その扉７ｃ，７ｄを閉めてベークを開始することができる。
【００１３】
以上述べたように、独立したキャリア載置室４ａ〜４ｄを設けることにより、ベーク装置の空間と時間を有効に利用することができ、ベーク処理の工期短縮が可能となる。
【００１４】
図６〜図８は、本発明の第２実施形態を示す。
同図に示すように、第２実施形態では、第１実施形態と同様、４つに分割されたキャリア載置室のキャリア出入口に扉７ａ〜７ｄを設けるとともに、４つの扉７ａ〜７ｄの全てを覆うように１つの外扉１６を設けた構成である。外扉１６は、ヒンジ１７を介して炉本体２に取り付けられるとともに、炉本体２の扉固定部２０に係止する止具２１および取っ手２２が設けられている。外扉１６の止具２１を炉本体２の扉固定部２０に係止させることにより、扉７ａ〜７ｄの前面を閉塞するようになっている。
【００１５】
４つの扉７ａ〜７ｄの構成は第１実施形態と同じであり、それぞれ独立して開閉することができる。図６、図７および図８は、それぞれ図２、図３および図４に対応しており、外扉１６を開閉する以外の動作は第１実施形態と同じである。
【００１６】
第２実施形態では、図９に示したような、従来のベーク装置を改造することにより、構成することができる。すなわち、断熱効果のある１枚の外扉１６は従来のベーク装置にも、もともと取り付けられているので、各キャリア載置室４ａ〜４ｄの扉７ａ〜７ｄは薄い金属板でよく、断熱効果のある４枚の内扉７ａ〜７ｄを設置する構造に比べて、第２実施形態の構造の方がより低コストで製作することが可能である。
【００１７】
上記した第１、第２の実施形態では、１つのキャリア載置室に１つのキャリア１を入れる構成であるが、１つのキャリア載置室に２または任意の複数個のキャリア１を設置するようにしてもよい。このように、１つのキャリア載置室に複数のキャリア１を同時に設置することにより、同時にベーキングできるワーク数が数倍になり、生産性が向上する。また、キャリア載置室は、４つに限定されず、任意の複数室で構成することができる。
【００１８】
以上のように、本実施形態に係わるベーク装置では、キャリア１に収納したワークのベーキング工程において、キャリア１のそれぞれを、時間をずらして処理できる。これに対し、従来のベーク装置では、バッチ処理（同時間処理）であり、例えば２ロットぶんをベークしている途中で、他の２ロットがベーク工程にきた場合には、先に仕掛かった２ロットのベーク終了まで待つ必要があったが、本実施形態のベーク装置では、このような場合にも、後の２ロットをベーク開始できる。したがって、ベーク処理の無駄な時間の排除ができる。
【００１９】
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
たとえば、本発明のベーク装置は、レジスト塗布後のベーク処理やポリイミドを塗布後のベーク処理、組立工程パッケージのベーク、さらに、回路基板自体のベークなど、次のような処理で用いることができる。
（ａ）リソグラフィでのレジスト塗布後のベーク処理。
（ｂ）ポリイミド樹脂塗布後のベーク処理。
（ｃ）ウェハーリメンチタンスパッタ後の、チタンとシリコンとの共晶処理。
（ｄ）タングステンエッチバック後のフッ素等残留物質を揮散させるためのベーク処理。
（ｅ）ウェハーテスト時の不良品にインクを付着した後のベーク処理。
（ｆ）モールド封入後の封入樹脂のキュア（ベーク）。
（ｇ）ドライパックベーク。
（ｈ）信頼性試験高温保管（ベーク）試験。
（ｉ）基板については、複数の部品を組み込んだ基板の高温エージング処理。  
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明のベーク装置の第１実施形態を示す斜視図である。
【図２】同じく、全扉を閉鎖した状態の正面図である。
【図３】図２のIII−III線断面図である。
【図４】上の扉の１つを開放した状態の正面図である。
【図５】下の扉を開放した状態の正面図である。
【図６】本発明のベーク装置の第２実施形態を示す正面図である。
【図７】上の扉の１つを開放した状態の正面図である。
【図８】下の扉を開放した状態の正面図である。
【図９】従来のベーク装置の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００２１】
１  キャリア
２  炉本体
４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ  キャリア載置室
５，６ 仕切り板
７ａ〜７ｄ  扉
８  扉固定部
９  係止具
１１  取っ手
１０  ヒンジ
１２  空間部
１３  温風ヒータ
１４  排気孔
１６  外扉
１７  ヒンジ
２０  扉固定部
２１  止具
２２  取っ手
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2006287107.tif 000008
【図７】
2006287107.tif 000009
【図８】
2006287107.tif 000010
【図９】
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