(57)【要約】【課題】ダイオキシン類等の有害物質を排出させることなく，有価金属を含む残渣物を効率的に得ることができる廃棄物処理方法及び廃棄物処理システムを提供する。【解決手段】廃棄物から有価金属を回収する廃棄物処理方法において，廃棄物を燃焼させ，有価金属を含有した残渣物を回収し，前記燃焼によって発生したガスを完全燃焼させ，前記完全燃焼させたガスをダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却することとした。かかる方法によれば，廃棄物を燃焼させることにより，廃棄物中の樹脂成分を効率良くガス化させることができ，有価金属を含む残渣物を短時間で得ることができる。【選択図】図１
2006292350.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃棄物から有価金属を含有した残渣物を回収する廃棄物処理方法であって，
廃棄物を燃焼させ，有価金属を含有した残渣物を回収し，
前記燃焼によって発生したガスを燃焼させ，
前記燃焼させたガスをダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却することを特徴とする，廃棄物処理方法。
【請求項２】
前記ガスの燃焼を９００℃以上で行い，
前記ガスを９００℃以上から１８０℃以下まで，ダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却することを特徴とする，請求項１に記載の廃棄物処理方法。
【請求項３】
前記ガスの燃焼において，前記ガスを風速１０ｍ／ｓ以上で供給した空気によって攪拌させることを特徴とする，請求項１又は２に記載の廃棄物処理方法。
【請求項４】
前記残渣物を水洗することを特徴とする，請求項１，２又は３に記載の廃棄物処理方法。
【請求項５】
前記廃棄物は電子廃棄物であることを特徴とする，請求項１〜４のいずれかに記載の廃棄物処理方法。
【請求項６】
廃棄物から有価金属を含有した残渣物を回収する廃棄物処理システムであって，
廃棄物を燃焼させる一次燃焼装置と，
前記一次燃焼装置において発生したガスを燃焼させる二次燃焼装置と，
前記二次燃焼装置において燃焼させたガスをダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却させる急冷装置とを備えたことを特徴とする，廃棄物処理システム。
【請求項７】
前記一次燃焼装置は，回転するキルン本体を備えたロータリーキルン装置であって，
前記キルン本体の傾斜角度を調節可能な構成としたことを特徴とする，請求項６に記載の廃棄物処理システム。
【請求項８】
前記キルン本体を支持する支持架台と，前記支持架台を回転可能に支持する中心軸と，前記支持架台を昇降させる昇降機構とを備え，
前記支持架台が前記中心軸を中心として回転しながら，前記昇降機構によって昇降させられることにより，前記キルン本体の傾斜角度が調整される構成とし，
前記キルン本体の傾斜角度の調整を停止させた状態において前記支持架台を固定させる固定用機構を備えたことを特徴とする，請求項７に記載の廃棄物処理システム。
【請求項９】
前記一次燃焼装置は，回転するキルン本体を備えたロータリーキルン装置であって，
前記ロータリーキルン装置のキルン本体内の温度を測定する温度計を，前記キルン本体の長さ方向に複数並べて備えたことを特徴とする，請求項６〜８のいずれかに記載の廃棄物処理システム。
【請求項１０】
前記二次燃焼装置の炉本体内に空気を供給する複数の空気供給口を設け，
前記空気の供給流量を可変としたことを特徴とする，請求項６〜９のいずれかに記載の廃棄物処理システム。
【請求項１１】
前記残渣物を水中に浸漬させる水封式コンベア装置を備えたことを特徴とする，請求項６〜１０のいずれかに記載の廃棄物処理システム。
【請求項１２】
前記急冷装置は，ガスを冷却させる冷却室と，前記冷却室にガスを導入するガス導入口とを備え，
前記ガス導入口から導入されるガスが旋回しながら前記冷却室に向かうように整流する整流板を備えたことを特徴とする，請求項６〜１１のいずれかに記載の廃棄物処理システム。
【請求項１３】
前記廃棄物は電子廃棄物であることを特徴とする，請求項６〜１２のいずれかに記載の廃棄物処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，廃棄物から有価金属を含有した残渣物を回収する廃棄物処理方法及び廃棄物処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板（プリント回路板）は，ガラス繊維を樹脂で固めた基板上に導電体からなるプリント配線を形成し，コンデンサやコネクタ等の電子部品を取り付け，電子部品間をプリント配線によって接続して電子回路を形成した構造になっている。かかるプリント配線には，金や，銅に金メッキを施したもの等の有価金属が使用されている。また，電子部品にも，金，銀，銅，プラチナ等の有価金属が使用されている。このような有価金属を廃プリント基板から回収するため，従来，廃プリント基板を焼却炉によって焼却処理し，焼却後の有価金属を含む残渣物を回収して，残渣物を鉱石等の製錬所において製錬処理し，有価金属を取り出していた。しかしながら，廃プリント基板を燃焼させると，ＰＣＤＤ（ポリ塩素化ジベンゾダイオキシン），ＰＣＤＦ（ポリ塩素化ジベンゾフラン）等のダイオキシン類が発生する問題がある。そこで，廃プリント基板を無酸素状態の水蒸気雰囲気中で加熱し，樹脂を燃焼させることなく熱分解してガス化させることにより，有価金属を含む残渣物を得る方法が提案されている（例えば，特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２９０７５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら，従来の廃棄物処理方法にあっては，樹脂成分を熱分解するために長時間を要する問題があった。また，廃プリント基板を炉内に投入する際に炉を開放させるので，炉内温度を降温させる必要があり，炉内温度の降温，廃棄物を炉内に投入した後の炉内温度の昇温のために，長時間を要する問題があった。また，廃プリント基板はコンテナに入れて炉内に投入するようにしているが，コンテナの内部側では熱分解が進行し難く，熱分解達成度にばらつきが生じることがあった。
【０００５】
本発明の目的は，ダイオキシン類等の有害物質を排出させることなく，有価金属を含む残渣物を効率的に得ることができる廃棄物処理方法及び廃棄物処理システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため，本発明によれば，廃棄物から有価金属を回収する廃棄物処理方法であって，廃棄物を燃焼させ，有価金属を含有した残渣物を回収し，前記燃焼によって発生したガスを燃焼させ，前記燃焼させたガスをダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却することを特徴とする，廃棄物処理方法が提供される。かかる方法によれば，廃棄物を燃焼させる際に発生したダイオキシン類を燃焼させることにより，ダイオキシン類を分解できる。また，燃焼させたガスを急冷させることにより，ダイオキシン類の再合成を防止できる。なお，有価金属とは，例えば金（Ａｕ），銀（Ａｇ），銅（Ｃｕ），プラチナ（Ｐｔ）等の貴金属又は重金属等である。
【０００７】
この廃棄物処理方法にあっては，前記ガスの燃焼を９００℃以上で行い，前記ガスを９００℃以上から１８０℃以下まで，ダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却することが好ましい。また，前記ガスの燃焼において，前記ガスを風速１０ｍ／ｓ以上で供給した空気によって攪拌させるようにしても良い。前記残渣物は水洗しても良い。前記廃棄物は電子廃棄物であっても良い。
【０００８】
また，本発明によれば，廃棄物から有価金属を含有した残渣物を回収する廃棄物処理システムであって，廃棄物を燃焼させる一次燃焼装置と，前記一次燃焼装置において発生したガスを燃焼させる二次燃焼装置と，前記二次燃焼装置において燃焼させたガスをダイオキシン類の再合成が生じないように急冷させる急冷装置とを備えたことを特徴とする，廃棄物処理システムが提供される。
【０００９】
前記一次燃焼装置は，回転するキルン本体を備えたロータリーキルン装置とし，前記キルン本体内の温度分布に基づいて，キルン本体の傾斜角度を調節可能な構成としても良い。この場合，キルン本体の回転によって廃棄物を攪拌しながら燃焼させることにより，廃棄物を効率的に燃焼させることができ，また，キルン本体の傾斜角度を変えることにより，廃棄物の移動速度を調節し，廃棄物を確実に燃焼させることができる。例えば，前記キルン本体を支持する支持架台と，前記支持架台を回転可能に支持する中心軸と，前記支持架台を昇降させる昇降機構とを備え，前記支持架台が前記中心軸を中心として回転しながら，前記昇降機構によって昇降させられることにより，前記キルン本体の傾斜角度が調整される構成とし，前記キルン本体の傾斜角度の調整を停止させた状態において前記支持架台を固定させる固定用機構を備えた構成にしても良い。また，前記ロータリーキルン装置のキルン本体内の温度を測定する温度計を，前記キルン本体の長さ方向に複数並べて備えても良い。
【００１０】
前記二次燃焼装置の炉本体内に空気を供給する複数の空気供給口を設け，前記空気の供給流量を可変としても良い。また，前記残渣物を水中に浸漬させる水封式コンベア装置を備えても良い。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば，一次燃焼装置によって廃棄物を燃焼させることにより，廃棄物中の樹脂等の燃焼成分を効率良くガス化させることができ，有価金属を含む残渣物を短時間で得ることができる。例えば，ロータリーキルン装置によって廃棄物を攪拌しながら燃焼させることにより，廃棄物を効率良く燃焼させることができる。さらに，一次燃焼装置において発生したガスを二次燃焼装置において燃焼させ，排ガス中のダイオキシン類を分解した後，急冷させることにより，ダイオキシン類の再合成を防止できる。従って，ダイオキシン類が大気中に排出されることを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下，本発明の好ましい実施の形態を，廃プリント基板を処理する廃棄物処理システムに基づいて説明する。本実施の形態において，廃棄物とは，廃プリント基板（廃棄品，ロットアウト品を含む）であり，ガラス繊維を樹脂で固めた基板上に，金，銅等の有価金属が使用されたプリント配線が施され，さらに，金，銀，銅，プラチナ等の有価金属が使用されたコンデンサやコネクタ等が取り付けられた構造になっている。
【００１３】
図１に示すように，廃棄物処理システム１は，廃プリント基板を破砕する破砕装置２，破砕装置２において破砕した破砕物を定量的に切り出す例えばベルトフィーダ等の定量供給装置３，破砕物を燃焼させる一次燃焼装置の一例としてのロータリーキルン装置４，ロータリーキルン装置４において発生した排ガスを燃焼させる二次燃焼装置５，二次燃焼装置５において燃焼させた排ガスを急冷する急冷装置６を備えている。さらに，冷却した排ガスから飛灰を分離するバグフィルター装置７，飛灰を除去した排ガスを大気中に排出する煙突８を備えている。二次燃焼装置５の下部には，ロータリーキルン装置４において燃焼させた後の残渣物を搬送する水封式コンベア装置１０が設けられている。
【００１４】
図２に示すように，ロータリーキルン装置４は，略円筒状の回転可能なキルン本体２０と，キルン本体２０を回転させる駆動部２１とを備えている。キルン本体２０は，長さ方向を横方向に向けて備えられており，内部の空洞が一次燃焼室２２となっている。キルン本体２０の内面は，耐酸性及び耐熱性を有する材質によって覆われている。キルン本体２０の一端部には，キルン本体２０の端部を閉塞する壁部２３が取り付けられており，キルン本体２０の他端部は，後述する二次燃焼装置５の炉本体５１の側面に接続され，炉本体５１内において開口している。キルン本体２０の端部と壁部２３との間には，図示しないシール機構が備えられている。また，キルン本体２０の外周面と炉本体５１との間にも，シール機構２４が備えられている。そして，キルン本体２０の端部と壁部２３との間，及び，キルン本体２０の外周面と炉本体５１との間を密閉した状態で，固定された壁部２３及び炉本体５１に対してキルン本体２０を回転させることができるようになっている。なお，キルン本体２１は，壁部２３側から開口端側に向かうに従い下方に僅かに傾斜させるように備えることが好ましく，例えば水平方向に対して約１〜５°程度傾斜させても良い。このようにすると，後述する破砕物供給口３１から燃焼室２２内に供給された破砕物を，低く配置された開口端側に円滑に移動させることができる。
【００１５】
キルン本体２０の外周面には，略円環状のガースギア２５及び略円環状のタイヤローラ２６，２６が固定されている。キルン本体２０の下方には，各タイヤローラ２６に接触しながらそれぞれ回転可能な複数の支持ローラ２７が備えられている。駆動部２１は，ガースギア２５の外周面に形成された歯車に噛み合わせられたピニオンギア２８，及び，ピニオンギア２８を回転させるモータ２９を備えている。即ち，モータ２９を駆動させると，ピニオンギア２８が回転し，ピニオンギア２８の回転に伴ってガースギア２５が回転するようになっている。そして，ガースギア２５と一体的にキルン本体２０が回転するようになっている。支持ローラ２７は，キルン本体２０と一体的に回転するタイヤローラ２６，２６に回転させられながら，タイヤローラ２６，２６をガイドし，タイヤローラ２６，２６を介してキルン本体２０を下方から支持する。なお，モータ２８の回転数及び回転方向，即ちキルン本体２０の回転数及び回転方向は可変となっており，燃焼処理中も，燃焼室２２内の燃焼状態に応じて回転数及び回転方向を調節することが可能である。
【００１６】
壁部２３には，廃プリント基板の破砕物を燃焼室２２内に供給する破砕物供給口３１が開口されている。破砕物供給口３１には破砕物供給路３２が接続されている。破砕物供給路３２は，破砕物供給口３１側に向かうほど下方に向かうように傾斜しており，破砕物が自重により供給路２５内を滑降して破砕物供給口３１に供給されるようになっている。図１に示すように，破砕物供給路３２の入口には，破砕物を一時的に貯蔵するためのホッパー３３が備えられている。また，ホッパー３３の排出口と破砕物供給路３２の入口との間を開閉するダンパ３４が介設されている。なお，破砕物供給路３２，ホッパー３３，ダンパ３４は，燃焼室２２内の雰囲気に対して連続的に接続されており，燃焼室２２からの伝熱により加熱されるようになっている。そのため，ホッパー３３，破砕物供給路３２内の破砕物は，燃焼室２２に供給される前に予備加熱されるようになっている。
【００１７】
また，壁部２３には，キルン本体２０内に燃焼ガスを供給するバーナー４１が設けられている。バーナー４１は，キルン本体２０の長さ方向に沿って略水平方向に対して傾斜した方向に燃焼ガスを噴射するように備えられている。なお，破砕物供給口３１は，バーナー４１より上方にあることが好ましい。このようにすると，破砕物供給口３１から落下した破砕物が，燃焼室２２の底部に落下する前にバーナー４１から噴射された直後の燃焼ガスに接触して加熱されるので，破砕物の燃焼を促進させることができる。これにより，供給された破砕物と高温になっているキルン本体２０との温度差によるキルン本体２０への悪影響や，供給された破砕物と燃焼室２２内に堆積している破砕物との温度差による伝熱むらが抑制される。
【００１８】
さらに，壁部２３には，燃焼室２２内に空気を供給する空気供給口４２が設けられている。空気供給口４２は，例えば破砕物供給口３１の上方に開口されている。
【００１９】
上記空気供給口４２から供給される空気の流量，及び，バーナー４１に供給される燃料油の流量は，それぞれ可変となっている。即ち，空気の供給流量やバーナー４１の出力を調節することにより，燃焼室２２内の温度や空気比（破砕物中に含まれる炭素分を完全に酸化させるために必要な理論酸素量によって実際に導入する酸素量を除算した値）を調節できるようになっている。これにより，燃焼室２２内を酸化雰囲気に維持することができる。
【００２０】
なお，破砕物を酸化雰囲気中で燃焼させると，残渣物からＢｒ（臭素）を効率的に減少させることができる。図３は，燃焼効果について本発明者らが行った実験の結果であり，破砕物の加熱処理時間と加熱処理後の残渣物中に含まれていたＢｒの量（熱灼減量値）との関係を示したグラフである。図３より，破砕物を還元雰囲気中で熱分解する場合よりも酸化雰囲気中で燃焼させるほうが，また，空気比を少なくした場合（空気供給流量９Ｌ／ｍｉｎ）よりも空気比を多くした場合（空気供給流量１８Ｌ／ｍｉｎ）のほうが，Ｂｒの揮発が速く，最終的に残渣物中に残留するＢｒの量も少ないことがわかる。従って，破砕物を酸化雰囲気中で空気比を高くして燃焼させることで，残渣物中のＢｒの低減を促進することができる。
【００２１】
図１に示すように，二次燃焼装置５は，例えば縦長の略直方体状に形成された炉本体５１を備えている。炉本体５１は，長手方向を縦に向け，また，側壁を略鉛直にした状態で備えられている。炉本体５１の内壁は，例えば煉瓦等によって形成されており，炉本体５１の内面が耐酸性，耐熱性を有する構造となっている。そして，この炉本体５１の内側が二次燃焼室５２となっている。炉本体５１の一側壁５１ａには，前述したキルン本体２０の端部を支持する略円形の開口が形成されており，この開口内にキルン本体２０の開口端部が挿入されている。キルン本体２０の端部は，側壁５１ａの内面より内側まで挿入されている。即ち，燃焼室２２で破砕物を燃焼させた後に残った残渣物（燃え殻）や，燃焼室２２内のガス，飛灰が，キルン本体２０の開口端から燃焼室５２内に確実に導入されるようになっている。また，炉本体５１の下端部には，水封式コンベア装置１０に接続された残渣物排出口５３が設けられている。燃焼室２２から燃焼室５２に排出された残渣物は，残渣物排出口５３から水封式コンベア装置１０に排出されるようになっている。
【００２２】
図４に示すように，水封式コンベア装置１０は，冷却水を貯留するケーシング６１と，ケーシング６１内に配設されたスクレーパコンベア機構６２とを備えている。残渣物排出口５３はケーシング６１内の冷却水に浸漬されており，冷却水によって封じられ，外気の流入が遮断されている。ケーシング６１には，冷却水が貯留された底部６１ａから上方に向かって傾斜する傾斜部６１ｂが形成されており，傾斜部６１ｂの上端部には，残渣物を排出する排出口６３が設けられている。スクレーパコンベア機構６２は，一対の無端状のチェーン６５，６５と，チェーン６５，６５の間に設けられた複数のスクレーパ６６と，チェーン６５，６５を支持する複数のローラ６７とを備えている。チェーン６３，６３は，互いに略平行に配設され，複数のローラ６７に巻回されており，ローラ６７の回転に伴い周動する。スクレーパ６６は，チェーン６３，６３の走行方向に沿って所定間隔ごとに設けられている。そして，チェーン６３，６３の周動に伴い，底部６１ａから傾斜部６１ｂに向かって走行し，傾斜部６１ｂにおいて水面上に上昇して排出口６３上に移動した後，再び傾斜部６１ｂから底部６１ａに向かい，水中に戻るように走行する。かかる構成において，残渣物排出口５３から排出された残渣物は，ケーシング６１内の冷却水中に沈降し，底部６１ａの底部においてスクレーパ６６によって掻き取られ，冷却水から引き上げられ，傾斜部６１ｂの上端部においてスクレーパ６６から排出口６３に落下して，ケーシング６１から排出されるようになっている。排出口６３から排出された残渣物は，ヤード６８に集積される。
【００２３】
このように残渣物を冷却水に通過させると，残渣物が冷却されると共に，残渣物中に含まれている水溶性塩類，臭素（Ｂｒ），塩素（Ｃｌ），硫黄（Ｓ）分等が水に溶解して，残渣物から分離される。図５は，残渣物の水洗効果について本発明者らが行った実験の結果であり，破砕物の燃焼処理時間と燃焼処理後の残渣物に含まれているＢｒ，Ｃｌ，Ｓの残留濃度との関係を示したグラフである。また，燃焼させた後に残渣物を水洗しない場合と水洗した場合における各残留濃度を比較して示している。図５より，残渣物中のＢｒ，Ｃｌ，Ｓは，燃焼処理後に水洗することで低減できることがわかる。従って，残渣物を水封式コンベア装置１０において水洗することで，Ｂｒ，Ｃｌ，Ｓ等の有害物質を減少させた状態で回収することが可能である。
【００２４】
図１に示すように，炉本体５１の上端部には，燃焼室５２からガスを導出する導出口７１が開口されている。図示の例では，導出口７１は側壁５１ａに対向する側面５１ｂに設けられている。導出口７１には導出路７２が接続されている。導出路７２の出口は急冷装置６に接続されている。
【００２５】
さらに炉本体５１には，燃焼室５２に空気を供給する空気供給口８１が複数個備えられている。図示の例では，空気供給口８１は，炉本体５１の対向する２つの側壁５１ａ，５１ｂにおいて，それぞれ上下に並べて設けられている。側壁５１ａでは，キルン本体２０の端部より上方に設けられ，側壁５１ｂでは，導出口７１より下方に設けられている。また，図６に示すように，各側壁５１ａ，５１ｂにおいて，空気供給口８１は，燃焼室５２の中心側から見て左側の縁部に沿って上下に並べて設けられている。即ち，上方から見たとき燃焼室５２の中心部を中心として互いに点対称になる位置に配置されている。側壁５１ａ（５１ｂ）において上下に並んだ空気供給口８１からは，互いに略平行な向きに空気が噴射される。また，燃焼室５２の中心側から見たとき，燃焼室５２の中心より左側に向かって空気が噴射される。かかる構成においては，各空気供給口８１から燃焼室５２内に空気を供給すると，供給された空気によって燃焼室５２内の雰囲気が攪拌され，上方からみたときに燃焼室５２の中心部を中心として反時計方向に旋回する気流が形成される。このようにすると，気流を確実に燃焼させることができ，また，燃焼室５２の容積を有効に使用して燃焼させることができる。なお，空気供給口８１の位置や向きはかかるものに限定されず，例えば炉本体５１の内面に沿って空気が流れるように供給しても良い。そうすれば，炉本体５１の内面に沿ったエアーカーテンが形成され，クリンカや残渣物等が炉本体５１の内面に付着することを防止できる。また，炉本体５１の内壁面同士の間に形成された角部に空気供給口８１を開口させても良い。この場合も，炉本体５１の角部にクリンカや残渣物等が付着することを防止できる。
【００２６】
また，図１に示すように，炉本体５１には，燃焼室５２に燃焼ガスを供給するバーナー８２が設けられている。図示の例では，バーナー８２は側壁５１ａに設けられ，キルン本体２０の開口端上方において，キルン本体２０の開口端の近傍で燃焼ガスを噴射するように配置されている。このようにすると，開口端から導入された直後の排ガスに燃焼ガスを混合させ，効率良く燃焼させることができる。また，図示の例では，燃焼ガスの噴射方向が，側壁５１ａに備えられた空気供給口８１からの空気の噴射方向と略平行になるように備えられている。なお，バーナー８２は，少なくとも１個の空気供給口８１より上方に配置されていること，また，空気供給口８１同士の間に配置されていることが好ましい。このようにすると，旋回気流の間に燃焼ガスを供給することができ，旋回気流を効率良く燃焼させることができる。
【００２７】
なお，空気供給口８１から供給される空気の流量，及び，バーナー８２に供給される酸素の流量は，それぞれ可変となっている。即ち，空気の供給流量やバーナー８２の出力を調節することにより，燃焼室５２内の温度や気流の速度を調節できるようになっている。また，二次燃焼装置５には，排ガスの温度をフィードバック系によって自動制御する構成を備えても良い。例えば導出口７１での排ガスの温度を測定する温度計を設け，この排ガスの温度測定値に基づいて，バーナー８２に供給される燃料油の流量を調節する構成とし，該温度測定値が目標値になるようにフィードバック制御すれば良い。
【００２８】
図１に示すように，急冷装置６は，例えば略円筒状の側壁を有する縦長の冷却塔本体９１を備えており，冷却塔本体９１の内部が冷却室９２となっている。冷却塔本体９１の天井面は，中央部から周縁部に向かうに従い下方に向かい径が大きくなる略円錐台面状に形成されている。天井面の中央部には，燃焼室５２において燃焼させたガスを冷却室９２に導入するガス導入口９３が開口されている。ガス導入口９３には，前述した導出路７２の出口が接続されている。また，ガス導入口９３内には，ガスを整流するための整流板９５が設けられている。
【００２９】
図７に示すように，整流板９５は，複数枚，例えば４枚備えられている。各整流板９５は薄い平板状に形成されており，例えば略菱形の菱形部９５ａの対向する２つの角部からそれぞれ細長い長方形部９５ｂが両側に延設された形状になっている。長方形部９５ｂの両端部は，ガス導入口９３の中央部に設けられた略円柱状の支持部９６の外周面と，ガス導入口９３の内周面とにそれぞれ固定されている。そして，支持部９６から半径方向に放射状に延びるように備えられている。各整流板９５の長方形部９５ｂ同士の間の角度は，ほぼ等角度をなしている。また，各整流板９５は，鉛直方向に対して傾斜させて備えられている。各整流板９５の傾斜方向は，ガス導入口９３の中心からみてほぼ同じ傾斜角度になっている。図示の例では，上方から見てガス導入口９３の中心を中心とした時計方向に向かうに従い下方に傾斜するように備えられている。従って，各整流板９５の上方から排ガスが下方に向かって流れてくると，排ガスが整流板９５の傾斜方向に沿って流れ，時計方向に沿って外周側に向かいながら下降していく。こうして，排ガスが時計方向に沿って旋回しながら冷却室９２に向かうように整流させることができる。また，排ガスが整流板９５から冷却塔本体９１の天井面や内側面の近傍に沿って流れるようにすることができる。このようにすると，冷却塔本体９１の天井面や内側面が，ガス導入口９３から導入された直後の高温の排ガスによって温められる。即ち，冷却塔本体９１の天井面や内側面の温度が低下しすぎることを防止でき，冷却塔本体９１の天井面や内側面にクリンカが付着することを抑制できる。
【００３０】
また,図１に示すように，冷却室９２内に冷却用の液体として例えば水を噴射する冷却水供給口１００が設けられている。図示の例では，冷却水供給口１００は，冷却塔本体９１の天井部において，ガス導入口９３の周囲を囲むように複数備えられている。冷却水は，各冷却水供給口１００からミスト状に噴霧される。また，各冷却水供給口１００の噴射方向は，斜め下方，かつ，例えば上方からみたときにガス導入口９３を中心として互いに同じ回転方向，例えば時計方向に沿った方向に向かうようにすることが好ましい。この場合，各冷却水供給口１００から冷却水を噴射させると，冷却室９２内の雰囲気が攪拌され，冷却室９２の中央部を中心とした螺旋状の下降気流が形成される。そうすれば，冷却室９２内でのガスの流路が長くなり，ガスを長時間旋回させて十分に冷却させることができる。即ち，冷却室９２の容積を有効に使用して冷却することができる。また，冷却塔本体９１の内面にクリンカが付着することを抑制できる。
【００３１】
上記冷却水供給口１００からの冷却水の噴射量は可変となっており，冷却室９２内で排ガスが急冷されるように適宜調節される。排ガスを急速に冷却すると，燃焼室５２における燃焼により分解された成分が再合成することを防止できる。特に，ダイオキシン類の再合成が発生しやすい温度（約３００℃程度）以下に急速に冷却すると，ダイオキシン類の再合成を防止できる。なお，急冷装置６には，排ガスの温度をフィードバック系によって自動制御する構成を備えても良い。例えば後述する導出口１１１での排ガスの温度を測定する温度計を設け，この排ガスの温度測定値に基づいて，冷却水供給口１００に供給する冷却水の供給流量を調節する構成とし，該温度測定値が目標値になるようにフィードバック制御すれば良い。
【００３２】
冷却室９２の下部には，冷却室９２内のガスを導出する導管１１０が設けられている。導管１１０は，冷却室９２の下部中央部から冷却塔本体９１の側壁に向かって上昇するように傾斜しており，側壁を貫通して外部に延設されている。導管１１０の入口は，冷却室９２の下部中央部において，下方に向かって開口している。この入口が，冷却室９２内のガスを導出する導出口１１１となっており，導管１１０の内部が導出路１１２となっている。
【００３３】
冷却塔本体９１の底面は，周縁部から中央部に向かうに従い下方に向かい径が小さくなる略逆円錐台面状に形成されている。底面中央部には，底面に下降した飛灰等を排出する排出口１１５が開口されている。また，排出口１１５を開閉するダンパ１１６が設けられている。排出口１１５から排出された飛灰等は，前述した水封式コンベア装置１０によって搬送された残渣物とともに，ヤード６８に集積される。
【００３４】
前述した導出路１１２は，冷却塔本体９１の外側に延出され，バグフィルター装置７に接続されている。また，導出路１１２の途中には，排ガスの脱臭及びダイオキシン類除去のため活性炭（Ｃ）を供給する活性炭供給路１２０，及び，排ガス中の臭化水素（ＨＢｒ），塩化水素（ＨＣｌ），硫黄酸化物（ＳＯＸ）等の酸性成分を中和させる消石灰（水酸化カルシウム，Ｃａ（ＯＨ）２）を供給する消石灰供給路１２１が接続されている。活性炭供給路１２０は，活性炭を貯蔵する活性炭貯留槽１２２に接続されている。消石灰供給路１２１は，消石灰を貯蔵する消石灰貯留槽１２３に接続されている。
【００３５】
バグフィルター装置７は，筐体１３０内に濾布を備えた複数のバグフィルター１３１が設けられた構造となっている。導出路１１２の出口は，筐体１３０の側壁下部に設けられた導入口１３２に接続されている。導入口１３２から筐体１３０内に導入されたガスは，濾布を通過してバグフィルター１３１の外側から内側に流入し，バグフィルター１３１の上方に設けられた導出口１３３から排出される。導出口１３３は，排出路１３５を介して煙突８に接続されている。バグフィルター１３１の外側に捕獲された飛灰は，筐体１３０の下端部に設けられた排出口１４１から排出される。
【００３６】
また，排出口１４１から排出された飛灰を貯蔵する飛灰貯留槽１５０，飛灰に液体キレート剤等の重金属固定材，水等を添加して重金属固定及び調湿を行う混練装置１５１が備えられている。
【００３７】
次に，以上のように構成された廃棄物処理システム１を用いた廃棄物処理方法について説明する。先ず，廃プリント基板を破砕装置２に供給して，細粒状に破砕する。破砕は，粒径が例えば約１０ｍｍ以下程度の大きさになるように行えばよい。細粒状になった破砕物は，破砕装置２から定量供給装置３に供給される。そして，定量供給装置３によって切り出し量（重量又は容積）が調節されながら切り出され，ホッパー２６に貯留される。ホッパー２６に所定の重量又は容積の破砕物が貯留されたら，ダンパ３４を開く。破砕物は，供給路２５を通過して供給口２２から燃焼室２２に供給される。また，破砕物は，燃焼室２２からの伝熱によりホッパー３３，破砕物供給路３２内において予備加熱される。
【００３８】
ロータリーキルン装置４においては，駆動部２１の駆動により，キルン本体２０が例えば約０．１ｒｐｍ〜１．０ｒｐｍ程度の回転数で回転させられる。また，バーナー４１から高温の燃焼ガスが供給され，燃焼室２２内の雰囲気が例えば開口端付近で約９００℃以上程度になるように加熱されている。燃焼室２２内に投入される際，破砕物は，破砕物供給口３１からばら撒かれるように落下し，さらに，バーナー４１から噴射される燃焼ガスによって加熱される。これにより，破砕物の燃焼が促進され，破砕物のうち極めて細粒のものは，落下中に十分に酸化される。こうして，破砕物はキルン本体２０の底部に落下する前に，ホッパー３３，破砕物供給路３２内における予備加熱，バーナー４１の燃焼ガスによって十分に加熱される。このようにすると，供給される破砕物とキルン本体２０との温度差が少なくなり，温度差により生じる熱応力によるキルン本体２０への影響が少なくなる。さらに，供給された破砕物と，既に燃焼室２２内に堆積している破砕物との温度差を少なくすることができるので，伝熱むらが抑制され，破砕物を効率的に燃焼させることができる。
【００３９】
燃焼室２２底部に堆積した破砕物は，キルン本体２０の回転に伴い揺動して攪拌され，開口端に向かって徐々に移動しながら燃焼する。燃焼により，破砕物中の樹脂類等の燃焼成分は酸化又は揮発しながらガス化して上昇する。燃焼室２２底部に残留した残渣物は，ガラス繊維に有価金属等が付着した状態になる。また，破砕物の燃焼は，キルン本体２０の開口端に向かうに従い促進される。
【００４０】
燃焼室２２内の雰囲気は，燃焼室２２において破砕物の燃焼が終了して残渣物中の熱灼減量の値がゼロとなるように，適宜制御される。燃焼室２２内の温度分布は，破砕物の投入量，空気供給口４２による空気の供給流量，バーナー４１の出力，キルン本体２０の回転数をそれぞれ調節することにより，最適に制御することができる。例えば，壁部２３と開口端との間の所定位置において，破砕物の温度が所定の温度（例えば９００℃）に達するように制御すれば良い。
【００４１】
また，破砕物の燃焼処理中，燃焼室２２内は酸化雰囲気，即ち，空気比１．０以上に維持して，積極燃焼が行われるようにする。このように酸化雰囲気にすると，特にＢｒの揮発が効率的に行われ，残渣物中に残留するＢｒの量を効果的に減少させることができる。空気比は，燃焼室２２内において一様ではなく，長さ方向及び半径方向において異なるが，破砕物の燃焼を確実に行うためには，空気比は１．０より多く，例えば約１．５程度にすることが好ましい。但し，高酸化雰囲気ではキルン本体２０への悪影響が懸念されるので，空気比は例えば２．０以下程度に抑えることが好ましい。なお，燃焼室２２内の雰囲気を好適に制御するためには，破砕物を燃焼室２２内に定量ずつ供給すると良い。そうすれば，酸化雰囲気の維持に必要な酸素量が把握しやすく，空気供給口４２の供給流量，バーナー４１の出力，キルン本体２０の回転数等の各制御を適切に行いやすくなる。
【００４２】
こうして破砕物が燃焼室２２内で焼却された後に残った残渣物は，キルン本体２０の開口端から二次燃焼装置５の炉本体５１内に落下して，残渣物排出口５３を介して水封式コンベア装置１０内の冷却水中に排出される。水封式コンベア装置１０では，残渣物が冷却水によって水洗されることで冷却され，また，Ｂｒ，Ｃｌ，Ｓ等の有害物質が残渣物中から除去される。なお，Ｂｒ，Ｃｌ，Ｓ等の有害物質が残渣物中から除去するためには，燃焼室２２における燃焼を長時間行い，残渣物を徹底して酸化させる方法が考えられるが，本実施の形態では水封式コンベア装置１０によってＢｒ，Ｃｌ，Ｓ等を減少させることができるため，燃焼室２２における燃焼を簡便にすることができる。従って，処理コストの低減を図ることができる。
【００４３】
一方，燃焼室２２内のガス（排ガス）は，キルン本体２０の開口端から二次燃焼装置５の炉本体５１内に排出された後，燃焼室５２内で燃焼させられる。即ち，二次燃焼装置５による再燃焼（二次燃焼）が行われる。燃焼室５２では，空気供給口８１から供給される気流により排ガスが攪拌され，螺旋状に上昇する旋回気流が形成される。燃焼室２２内から排出された排ガスは，空気供給口８１から供給される空気，及び，バーナー８２から噴射される燃料ガスと混合して，螺旋状に上昇しながら燃焼し，キルン本体２０の上端部において，導出口７１から排気される。この燃焼室５２における処理によって，排ガス中のダイオキシン類，一酸化炭素（ＣＯ）等を含む未燃ガスが燃焼する。即ち，ダイオキシン類が分解される。また，排ガスを旋回させながら燃料ガスに接触させることで，排ガスを効率的に燃焼させることができる。さらに，キルン本体２０へのクリンカの付着を抑制できる効果がある。
【００４４】
燃焼中，空気供給口８１から燃焼室５２内に供給する空気の風速は，例えば約１０ｍ／ｓ以上，望ましくは３０ｍ／ｓ以上とすることが好ましく，また，排ガスが燃焼室５２内に滞留する時間（燃焼時間）は，２秒以上，望ましくは４秒以上，例えば６秒以上であることが好ましい。また，排ガスの燃焼温度は，少なくとも８００℃以上，望ましくは９００℃以上にすることが好ましい。これにより，排ガスを確実に燃焼させ，排ガスの完全燃焼を図ることができ，ダイオキシン類を確実に分解することができる。なお，燃焼温度が高すぎると，後の冷却工程での負担が大きくなるので，燃焼温度は１１００℃以下，望ましくは１０００℃以下にすることが好ましい。
【００４５】
導出口７１から排出された排ガスは，導出路７２，ガス導入口９３を介して冷却室９２に導入される。ガス導入口９３を通過するとき，排ガスは整流板９５によって所定の回転方向に向かうように整流され，また，冷却室９２では，各冷却水供給口１００から噴射されるミスト状の冷却水によって攪拌される。これにより，冷却室９２で螺旋状に下降する旋回気流が形成される。排ガスは，冷却水のミストと混合して冷却されながら螺旋状に下降し，導出口１１１に流入して冷却室９２から排出される。排ガスに含まれていた粉塵は，冷却塔本体９１の底部に沈積する。上記のように螺旋状の下降気流を形成することで，排ガスを確実に急冷することができる。また，冷却塔本体９１の底部に下降した粉塵が気流によって抑えられ，粉塵が舞い上がることを防止できる。従って，粉塵を確実に回収することができる。さらに，冷却塔本体９１にダストやクリンカが付着したり腐食が発生したりすることを防止できる。
【００４６】
冷却室９２内の気流の速度や温度は，冷却水の噴射量を調節することにより制御することができる。また，冷却室９２内において排ガスが短時間で所定の温度まで急冷されるように適宜調節される。例えば，ガス導入口９３から約９００℃以上の状態で導入された排ガスが，導出口１１１において約１８０℃以下程度になるように調節される。排ガスの冷却速度は，ダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度，例えば約５００℃／s以上程度であれば良い。このように排ガスを急速に冷却することで，燃焼室５２における燃焼により分解された成分が再合成することを防止できる。特に，ダイオキシン類の再合成が発生しやすい温度（約３００℃程度）以下まで急速に冷却させることで，ダイオキシン類の再合成を防止できる。また，後に排ガスの飛灰除去処理を行うバグフィルター装置７の熱による損傷，劣化を防止できる。冷却水の噴射量は，例えばガス導入口９３での排ガスの温度測定値に基づいて，該温度測定値が目標値，例えば約１８０℃になるようにフィードバック制御される。
【００４７】
導出口１１１から導出された排ガスには，導出路１１２を通過してバグフィルター装置７に導入される。排ガスが導出路１１２を通過する間に，活性炭供給路１２０，消石灰供給路１２１からそれぞれ活性炭，消石灰が供給され，排ガスと混合される。バグフィルター装置７に導入された排ガスは，バグフィルター１３１の外側から内側に流入する。排ガス中に残留していた飛灰，活性炭等はバグフィルター１３１の外側に捕獲され，排ガスから除去される。バグフィルター１３１で捕獲される飛灰には，重金属が含まれている。また，排ガスは活性炭によってさらに浄化される。さらに，排ガス中にわずかに残留していた無機類や一酸化炭素等は活性炭に吸着され，活性炭と共にバグフィルター１３１に捕獲される。また，導出路１１２内やバグフィルター１３１の濾布表面上において，排ガスに含まれていたＨＢｒ，ＨＣｌ，ＳＯＸ等の酸性成分が，消石灰によって中和される。そして，消石灰や中和により生成された塩類は，バグフィルター１３１の外側に捕獲される。なお，導出路１１２に供給する消石灰の供給量は，予測される排ガス中の酸性成分含有量に基づいて，排ガスを十分に中和できる量に決めれば良い。
【００４８】
バグフィルター１３１によって清浄化された排ガスは，導出口１３３によってグフィルター装置７から排出され，排出路１３５を通じて煙突に送られる。そして，実質的に無害な清浄ガスとして，煙突８から大気中に放出される。
【００４９】
一方，前述した水封式コンベア装置１０に集められた残渣物は，スクレーパコンベア機構６２の駆動により水封式コンベア装置１０から排出され，ヤード６８に搬送される。また，急冷装置６において冷却塔本体９１の底部に堆積した粉塵は，排出口１１５から排出され，ヤード６８に搬送される。ヤード６８に集積された残渣物等は製錬所に搬送される。そして，従来の金や銅等の製錬工程によって，残渣物中の有価金属類が回収され，再利用される。
【００５０】
また，バグフィルター装置７においてバグフィルター１３１の外側に捕獲された飛灰等は，筐体１３０の下端部に落下させられ，排出口１４１から排出される。そして，飛灰貯留槽１５０に貯留された後，混練装置１５１に供給され，重金属固定材や水等が添加され，飛灰の調湿，重金属固定，安定化が行われる。その後，最終処分場に搬送され，埋め立て処理が行われる。
【００５１】
かかる廃棄物処理システム１によれば，ロータリーキルン装置４によって破砕物を燃焼させることにより，破砕物中の樹脂等の燃焼成分を効率良くガス化させることができ，有価金属を含む残渣物を短時間で得ることができる。また，ロータリーキルン装置４の燃焼室２２を降温させることなく破砕物を供給することができるので，燃焼室２２の降温や昇温等の調整が不要であり，燃焼室２２内を高温に維持することができ，効率的である。また，廃プリント基板を破砕した状態で，ロータリーキルン装置４によって攪拌しながら燃焼させるので，破砕物を満遍なく燃焼させ，燃焼成分を確実にガス化させることができる。
【００５２】
さらに，ロータリーキルン装置４において発生した排ガスを二次燃焼装置５において燃焼させることにより，排ガス中のダイオキシン類が分解され，その後急冷装置６において急冷させることにより，ダイオキシン類の再合成を防止できる。従って，ダイオキシン類が大気中に排出されることを防止できる。また，消石灰と活性炭の添加，及び，バグフィルター装置７での集塵により，飛灰，ＨＢｒ，ＨＣｌ，ＳＯＸ等の酸性成分，ダイオキシン類を排ガスから確実に除去し，排ガスを大気中に安全に排出できる。
【００５３】
また，ロータリーキルン装置４においては，キルン本体２０の回転数，空気供給口４２からの空気の供給流量，バーナー４１の出力等を調節することにより燃焼室２２内の雰囲気を制御することができるので，破砕物の種類，成分，粒子の大きさ等に応じて，燃焼状態を任意に調節して，好適に燃焼させることができる。二次燃焼装置５においては，空気供給口８１からの空気の供給流量やバーナー８２の出力を調節することにより燃焼室５２内の雰囲気を制御できるので，排ガスの状態に応じて燃焼状態を任意に調節し，排ガスを確実に燃焼させることができる。急冷装置６においては冷却水供給口１００からの冷却水の噴射量を調節することにより冷却室９２内の雰囲気を制御できるので，ダイオキシン類の再合成が生じないように排ガスを確実に冷却させることができる。
【００５４】
以上，本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において，各種の変更例または修正例に想到しうることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００５５】
図８に示すように，ロータリーキルン装置４のキルン本体２０には，燃焼室２２内において異なる位置の温度を測定する複数の温度計１６０を備えても良い。温度計は，キルン本体２０の長手方向に沿って定間隔で配置しても良く，この場合，温度計１６０の間隔は，例えば約１〜３ｍ程度，好ましくは約２ｍ程度が良い。このように温度計１６０を複数個所に配置することで，各温度計１６０の測定値に基づいて，燃焼室２２内の温度分布や破砕物の温度変化を把握することが可能になる。即ち，燃焼室２２内の温度分布や破砕物の昇温速度に基づいて，空気供給口４２の供給流量，バーナー４１の出力，キルン本体２０の回転数等の調節を行うことで，燃焼室２２内の雰囲気と破砕物の温度をより適切に制御し，燃焼状態を向上させることができる。
【００５６】
なお，温度計１６０において，キルン本体２０の壁部内に内蔵される測温体１６０ａは，図９に示すように，例えばガラスウール等の耐熱性を有する材質を用いて保護することが好ましい。図９に示した例では，略棒状の測温体１６０ａの外周面が，略円筒状に形成されたガラスウールからなる保護材１６１によって覆われており，さらに保護材１６１の外周面が，略円筒状の外殻１６２によって覆われている。また，キルン本体２０には，キルン本体２０の外殻を構成するキルンシェル２０ａ及びキルンシェル２０ａの内面に沿って設けられた耐火物２０ｂを貫通する貫通孔１６３が形成されている。外殻１６２は，貫通孔１６３内に通して固定されている。また，キルン本体２０の外側において，外殻１６２の端部には，フランジ１６４が備えられている。測温体１６０ａは，このフランジ１６４に固定されており，フランジ１６４を介して外殻１６２，キルン本体２０に対して固定されている。そして，保護材１６１内を通ってキルン本体２０の耐火物２０ｂより燃焼室２２側に突出し，突出した先端部において燃焼室２２内の温度を測定できるように配置されている。なお，燃焼室２２側の測温体１６０ａの先端部を例えばセメント等によって覆うようにすれば，測温体１６０ａをさらに確実に保護することができる。
【００５７】
また，ロータリーキルン装置４のキルン本体２０の傾斜角度を調節する傾斜角度調節機構を備え，傾斜角度を可変としても良い。そうすれば，壁部２３側から開口端に向かう方向における破砕物の移動速度を制御することができ，また，燃焼室２２内の温度分布や，熱量のバランス等を制御することができる。特に，キルン本体２０の回転数を変えることなく破砕物の移動速度を調節することができるので，キルン本体２０の回転による攪拌能力を低下させず，破砕物の燃焼状態の均一性を良好に保つことができる。例えば，破砕物の流動性に応じて，破砕物の移動速度等を調節することができる。
【００５８】
傾斜角度調整機構１７０は，例えば図８に示すように，傾斜角度を調節可能な支持架台１７１と，支持架台１７１の縁部１７１ａを上下させる昇降機構１７２とを備えた構成としても良い。図８において，駆動部２１，支持ローラ２７，キルン本体２０等は，支持架台１７１上に設置されている。支持架台１７１は，二次燃焼装置５側の縁部１７１ｂ側に沿って備えられた中心軸１７３を支点として傾斜可能であり，縁部１７１ｂと対向する壁部２３側の縁部１７１ａ側は，昇降機構１７２の駆動により昇降可能になっている。昇降機構１７２は，支持架台１７１の下方に備えられており，支持架台１７１の縁部１７１ａ側の下面に接続されたシャフト１７４を昇降させる。昇降機構１７２としては，例えば油圧ジャッキ等を用いると良い。かかる昇降機構１７２を駆動させると，シャフト１７４を介して支持架台１７１の縁部１７１ａ側が上下し，支持架台１７１と一体的にキルン本体２０の傾斜角度が変化する。これにより，燃焼室２２の傾斜角度が任意に調節されるようになっている。なお，キルン本体２０の傾斜角度の可変範囲は，略水平面に対して上方に例えば約０．１°〜５°程度の間としても良い。キルン本体２０の傾斜角度は，例えば複数の温度計１６０の測定値より把握された燃焼室２２内の温度分布や，破砕物の温度等に基づいて調節しても良い。例えば破砕物の昇温や燃焼の進行が遅いときは，シャフト１７４を下降させ，キルン本体２０の傾斜角度を緩やかにして，破砕物の移動速度を遅くすれば，燃焼時間を長くして，十分に燃焼させることができる。逆に，破砕物の昇温や燃焼の進行が速いときは，シャフト１７４を上昇させ，キルン本体２０の傾斜角度を大きくすれば，破砕物の移動速度を速くして，燃焼時間を短くすることができる。また，燃焼室２２内において壁部２３側の温度が低い場合は，キルン本体２０の傾斜角度を緩やかにすれば，壁部２３側の温度を昇温させることができ，温度分布を改善することができる。なお，ロータリーキルン装置４における破砕物の焼却では，キルン本体２０の傾斜角度が１°異なるだけでも，キルン本体２０内の燃焼領域が変化し，燃焼時間，温度分布等の燃焼状況に大きな影響が及ぼされる。そのため，キルン本体２０の傾斜角度を僅かに調整するだけでも，燃焼状況を制御することができる。
【００５９】
また，例えば図１０に示すように，キルン本体２０の傾斜角度の調整を停止させた状態において支持架台１７０を固定させる固定用機構１８２を備えても良い。そうすれば，キルン本体２０や支持架台１７０をより安定した状態で支持することができ，安全性が向上する。また，キルン本体２０や支持架台１７０の荷重を固定用機構１８２に分散させることで，昇降機構１７２に加えられる荷重を軽減させることができ，昇降機構１７２の故障を防止できる。
【００６０】
図１０に例示した傾斜角度調整機構１８０は，上記の傾斜角度調整機構１７０と同様に，キルン本体２０を支持する支持架台１７１，支持架台１７１を床面１８１に対して昇降させる昇降機構１７２，支持架台１７１を回転可能に支持する中心軸１７３を備えており，支持架台１７１の縁部１７１ｂ側が中心軸１７３を中心として回転させられながら，縁部１７１ａ側が上昇又は下降させられることにより，支持架台１７１及びキルン本体２０の傾斜角度が調整される構成となっているが，昇降機構１７２が取り付けられている位置が傾斜角度調整機構１７０とは異なっている。さらに，図１０に示した実施形態においては，支持架台１７０を固定させる固定用機構１８２が複数個備えられている。
【００６１】
かかる傾斜角度調整機構１８０にあっては，昇降機構１７２のシャフト１７４の上端部は，壁部２３側に設けられているタイヤローラ２６及び支持ローラ２７の下方において，支持架台１７０の下面に取り付けられている。また，図１１に示すように，支持ローラ２７，２７は，キルン本体２０を挟むようにして，タイヤローラ２６の下部両側にそれぞれ設けられており，昇降機構１７２は，各支持ローラ２７，２７の下方にそれぞれ対応させて設けられている。即ち，支持ローラ２７から支持架台１７０に対して荷重が集中して加えられる箇所を，下方から持ち上げるように取り付けられている。このようにすると，支持架台１７０をバランス良く支持することができ，傾斜角度の調整も安定して行うことができる。
【００６２】
固定用機構１８２は，支持架台１７１の縁部１７１ａの近傍と，昇降機構１７２の近傍と，駆動部２１の下方とに，それぞれ複数個ずつ設けられている。各固定用機構１８２は，例えばボルトとナット等によって構成しても良い。図１２に示す例では，両端部側に雄ねじ溝がそれぞれ形成されているボルト（スタッドボルト）１８６と４個のナット１８７とを備えた構成になっている。
【００６３】
ボルト１８６の一端部（下端部）側は，支持架台１７１の下方において，床面１８１に固定された基台１８５によって保持されている。即ち，基台１８５に設けられた保持孔１９１内に，上下に貫通するように設けられている。保持孔１９１の下方と上方においては，ナット１８７がボルト１８６に対してそれぞれ螺合されている。この２つのナット１８７によって保持孔１９１の周縁部を上下から挟むことにより，ボルト１８６の下端部側が保持孔１９１に対して固定されるようになっている。
【００６４】
一方，ボルト１８６の他端部（上端部）側は，支持架台１７１に接続されている。即ち，支持架台１７１に設けられた保持孔１９２内に，上下に貫通するように設けられている。保持孔１９２の下方と上方においては，ナット１８７がボルト１８６に対してそれぞれ螺合されている。この２つのナット１８７によって保持孔１９１の周縁部を上下から挟むことにより，ボルト１８６の上端部側が保持孔１９２に対して固定されるようになっている。
【００６５】
かかる構成において，支持架台１７１の傾斜角度を固定させるときは，各固定用機構１８２においてナット１８７を締め付け，ボルト１８６の両端部を基台１８５及び支持架台１７１に対してそれぞれ固定させれば良い。これにより，支持架台７１を複数の固定用機構１８２によって保持することができる。一方，支持架台１７１の傾斜角度を変えるときは，各固定用機構１８２において，ボルト１８６に対するナット１８７の位置を変更し，ナット１８７を保持孔１９１又は保持孔１９２から離隔させ，支持架台１７１又は基台１８５に対するボルト１８６の固定を解除すれば良い。即ち，支持架台１７１又は基台１８５に対する各ボルト１８６の固定を解除した後，昇降機構１７２の作動によって支持架台１７１の傾斜角度を調整し，傾斜角度の調整が終了したら，再び支持架台１７１又は基台１８５に対して各ボルト１８６を固定させることで，支持架台１７１の傾斜角度を再び固定させれば良い。
【００６６】
例えば支持架台１７１を持ち上げて傾斜角度を大きくする場合は，支持架台１７１側において，各保持孔１９２の上方に設けられているナット１８７を回転させ，各ボルト１８６に沿ってそれぞれ上昇させ，各保持孔１９２から上方にそれぞれ離隔させるようにすれば良い。これにより，各ボルト１８６の上端部側の固定が解除され，各保持孔１９２がボルト１８６に沿って上下移動できるようになり，支持架台１７１の傾斜角度を昇降機構１７２の作動によって調整できるようになる。なお，支持架台１７１の傾斜角度は十分に小さく，横方向におけるボルト１８６に対する保持孔１９２の位置ずれの大きさも十分に小さいので，保持孔１９２の動きがボルト１８６によって妨げられる心配は無い。従って，傾斜角度の調整を円滑に行うことができる。こうして各ボルト１８６の上端部側の固定をそれぞれ解除した状態で，昇降機構１７２の作動によってシャフト１７４を昇降させ，支持架台１７１の傾斜角度が所望の角度になったら，昇降機構１７２の作動を停止させ，支持架台１７１をシャフト１７４によって保持した状態で静止させる。そして，支持架台１７１側の各ナット１８７の位置を再度調節し，各ボルト１８６の上端部側を再び支持架台１７１に対してそれぞれ固定させ，支持架台１７１を固定させれば良い。即ち，保持孔１９２の下方に位置するナット１８７を上昇させ，２つのナット１８７によって保持孔１９２を上下から挟むようにすれば良い。
【００６７】
以上のような構成によれば，キルン本体２０及び支持架台１７１の傾斜角度を変更可能な状態と傾斜角度を固定する状態との切り替えを，ナット１８７の位置を調節することにより，簡単に行うことができる。また，各固定用機構１８２が取り付けられている位置における支持架台１７１と基台１８５との間の高さに合わせて，各ナット１８７の位置を自在に変えることができるので，支持架台１７１の傾斜角度を変えても，支持架台１７１を確実に支持することができる。
【００６８】
なお，固定用機構１８２は，例えば各支持ローラ２７，２７の下方，駆動部２１などにそれぞれ対応させて設けても良い。即ち，支持ローラ２７又は駆動部２１などから支持架台１７０に対して荷重が集中して加えられる箇所を，下方から持ち上げるように取り付けても良い。このようにすれば，支持架台１７０をバランス良く支持することができる。
【００６９】
本実施形態においては廃棄物として廃プリント回路板を例示したが，廃棄物とはかかるものに限定されず，他の電子廃棄物（例えばプリント配線板等の電子基板，電子部品等）であっても良い。また，有価金属含有スラッジ等であっても良い。
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明は，電子廃棄物やスラッジ等，有価金属を含む廃棄物から有価金属を含む残渣物を回収する方法及びシステムに適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本実施の形態にかかる廃棄物処理システムの構成を説明する説明図である。
【図２】キルン本体の概略側面図である。
【図３】燃焼時間と残渣物中のＢｒの濃度との関係を示したグラフである。
【図４】水封式スクレーパコンベアの概略縦断面図である。
【図５】燃焼時間と残渣物中のＢｒ，Ｃｌ，Ｓの濃度との関係を示したグラフである。
【図６】二次燃焼装置の燃焼室における気流を説明する概略横断面図である。
【図７】ガス導入口に備えた整流板の概略斜視図である。
【図８】キルン本体に複数の温度計を備えた実施形態，及び，キルン本体の傾斜を可変とした実施形態を示す概略縦断面図である。
【図９】温度計の近傍を拡大して示した概略縦断面図である。
【図１０】傾斜角度調整機構及び固定用機構を備えた実施形態にかかる概略側面図である。
【図１１】昇降機構の配置を説明する概略正面図である。
【図１２】固定用機構を拡大して示した概略側面図である。
【符号の説明】
【００７２】
１      廃棄物処理システム
４      ロータリーキルン装置
５      二次燃焼装置
６      急冷装置
１０    水封式コンベア装置
２０    キルン本体
２１    駆動装置
２２    燃焼室
３１    破砕物供給口
４１    バーナー
４２    空気供給口
５２    燃焼室
８１    空気供給口
８２    バーナー
９２    冷却室
１００  冷却水供給口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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