(57)【要約】【課題】画像描画装置から排出されるエアを循環使用することにより、空調部の負荷を軽減する。【解決手段】露光機４２には、循環系５４を介してファン４４、第１フィルタ４６、第１冷却部４８、空調部５０及び第２フィルタ５２が接続される。露光機４２から排気されるエアは、第１フィルタ４６で除塵され、第１冷却部４８で所定の温度に冷却された後、空調部５０によって所定の温度と湿度に制御される。そして、第２フィルタ５２を介して再び露光機４２に導入される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
クリーンルーム内の画像描画装置から排出されるエアを直接空調部に導入し、前記空調部で前記画像描画装置にとって必要とされる温度領域及び／又は湿度領域に至るように調整し、前記調整されたエアを再び前記画像描画装置に直接導入して使用することを特徴とする画像描画装置用空調方法。
【請求項２】
クリーンルームと前記クリーンルーム内に設けられる画像描画装置と空調部とを有し、
前記画像描画装置と空調部とはダクトからなる循環系を介して互いに環状に接続され、
前記空調部は、前記画像描画装置から排出されるエアを空調処理して該画像描画装置に再び直接供給する
ことを特徴とする画像描画装置用空調装置。
【請求項３】
請求項２記載の画像描画装置用空調装置において、
前記空調部の上流側に冷却機構が設けられている
ことを特徴とする画像描画装置用空調装置。
【請求項４】
請求項３記載の画像描画装置用空調装置において、
前記空調部に対し、その上流及び／又は下流にフィルタ機構を設ける
ことを特徴とする画像描画装置用空調装置。
【請求項５】
請求項４記載の画像描画装置用空調装置において、
前記空調装置の上流側に設けられるフィルタは、前記冷却機構のさらに上流の循環系に介装される
ことを特徴とする画像描画装置用空調装置。
【請求項６】
請求項２乃至５のいずれか１項に記載の画像描画装置用空調装置において、
前記空調部には、クリーンルーム内のエアの一部を導入するように構成する
ことを特徴とする画像描画装置用空調装置。
【請求項７】
請求項２乃至６のいずれか１項に記載の画像描画装置用空調装置において、前記画像描画装置が露光機であることを特徴とする画像描画装置用空調装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像描画装置用空調方法及び画像描画装置用空調装置に関し、一層詳細には、画像描画装置からの排気を空調部によって処理した後、再び画像描画装置に直接循環供給するよう構成した画像描画装置用空調方法及び画像描画装置用空調装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶表示用の基板や半導体基板を加工処理するために、基板処理装置が用いられている。この基板処理装置は、一般的にクリーンルーム内に配置される。クリーンルームはもとより、一般家屋の中とは異なり、より一層清浄性が求められ、このためにクリーンルーム内で浮遊する塵埃等を可及的に少なくするように構成されている。
【０００３】
特許文献１は、この種のクリーンルーム内に配置される基板処理装置を開示している。この引用文献１には、例えば、クリーンルーム内で用いられるダウンフローのうち、紫外線照射ユニット、スピンコータ、端縁リンスユニット及びスピンデベロッパに供給されたダウンフローが、下流の排気ダクトとフィルタを介してクリーンルーム外へ放出される技術的思想が開示されている。
【０００４】
この場合、スピンスクラバー及びベークユニットのうち再循環使用が可能なベークユニットに供給されたダウンフローは、帰還ダクト、排気ダクトを経由して最終的にフィルタに導かれて清浄化され、空調部で適温湿度に調整された後、エア導入部の帰還口に戻される。そして、建物からのダウンフローと混合されて各所ユニットに供給される構成が採用されている。
【０００５】
これをさらに詳しく図３に沿って説明する。
【０００６】
この図３には、図示しない建物からのダウンフローＲＦが、開口２からエア導入部４に導入され、送風機６でエア導入部４内の前方側に吹き出され、エア供給口７を経てエアチャンバ８に導かれる。エアチャンバ８に導かれたエアは、ここで拡散されて、エアフィルタ１０を介して処理空間にダウンフローＤＦとして供給される。この場合、回転テーブル１２には、ワーク１４が載置されている。
【０００７】
そこで、前記ダウンフローＤＦは、吸引手段１６によってフード１８と回転テーブル１２間の隙間を経て回収孔２０に案内され、さらに、排気ダクト２２を経て帰還ダクト２４に導かれる。そして、帰還ダクト２４を通過したエアはフィルタ２６を通り、空調部２８で空調される。この場合、必要に応じて温湿度調整手段３０により前記エアの温度、湿度の制御指示が行われる。前記のように空調部２８で空調されたエアは、帰還ダクト３２を経てエア導入部４に再び帰還される、というものである。
【０００８】
すなわち、特許文献１の技術的思想は、その請求項２で特定されるように、発明の名称が、「露光処理装置」であったとしても、基板処理を行う各装置のうち、洗浄ユニットに関連するものであって、洗浄ユニットをクリーンルームと同じ条件に温度調節し、空調部２８は、帰還ダクト３２に送り込むエアだけを空調する。結局、特許文献１では、帰還されるエアをクリーンルームから供給されるダウンフローＲＦの温度及び湿度と一致するように、温湿度調整手段３０によって制御している。
【０００９】
【特許文献１】特開平９−１４８２９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、半導体基板やプリント基板の表面に所定のパターンを描出する画像描画装置があり、この画像描画装置には露光機も含まれる。この種の露光機は、通常、一般的なクリーンルームの空調に比較して１０倍以上の空調精度が要求される。このため、露光機に供給されるエアを全てクリーンルームの外部から導入しようとすると、空調機に過大な負荷を掛けてしまうことになる。しかしながら、前記特許文献１に開示される技術的思想を露光機自体の空調に適用することができない。蓋し、クリーンルームと同じ条件に温度と湿度を調整するだけでは、精密な処理を行い、製品の品質を確保しようとする露光機の要求に沿わないからである。
【００１１】
本発明は、前記の不都合を克服するためになされたものであって、画像描画装置から排出される高精度に空調されているエアを極めて限られた範囲で制御し、さらに再び直接画像描画装置に供給することにより、少ない設備投資で高精度に且つ容易に画像描画装置内のエアの温度と湿度とを制御することが可能な画像描画装置用空調方法及び画像描画装置用空調装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記の目的を達成するために、本発明は、クリーンルーム内の画像描画装置から排出されるエアを直接空調部に導入し、前記空調部で前記画像描画装置にとって必要とされる温度領域及び／又は湿度領域に至るように調整し、前記調整されたエアを再び前記画像描画装置に直接導入して使用することを特徴とする。
【００１３】
さらにまた、本発明は、クリーンルームと前記クリーンルーム内に設けられる画像描画装置と空調部とを有し、
前記画像描画装置と空調部とはダクトからなる循環系を介して互いに環状に接続され、
前記空調部は、前記画像描画装置から排出されるエアを空調処理して該画像描画装置に再び直接供給する
ことを特徴とする。
【００１４】
すなわち、本発明によれば、画像描画装置から排出されるエアは、循環系を介して直接空調部に至り、前記空調部で所望の範囲に温度と湿度を調整されたエアが、再び前記循環系を介して画像描画装置に導入される。元々、画像描画装置から排出されるエアは、画像描画装置で使用されていたがために、使用前と使用後とでさほどに温度及び湿度に大きく隔たりはない。従って、空調された後、再び空調後のエアを画像描画装置に直接導入すれば、さほどに広範囲にわたってその温度と湿度を制御をすることなく、再度、容易に画像描画装置内で画像描出処理に用いることが可能である。
【００１５】
しかも、画像描画装置から排出されるエアが空調部に至る間に、例えば、冷却機構に導入してもよい。広範囲で空調がし易く、空調部での温度と湿度の制御が画像描画装置によって要求される範囲に容易に近づけることができるからである。
【００１６】
さらにまた、空調部の上流及び／又は下流にフィルタ機構を設けておけば、画像描画装置から排出されるエア中に含まれる極微量のパーティクルも捕捉することが可能である。この場合、上流側のフィルタは、冷却機構の前に介装してもよく、一方、空調部には、画像描画装置から排出されるエアとともにクリーンルーム内のエアを一部導入してもよい。
【００１７】
なお、前記画像描画装置が露光機であると本発明の以下に述べる効果が一層容易に得られて好適である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係る画像描画装置用空調方法及び画像描画装置用空調装置によれば、画像描画装置に導入されるエアの温度と湿度とを含む空調を相当広範囲にわたって制御する必要がなく、従って、空調部の負荷が大幅に削減され、低コストで円滑な画像描画装置用の高度に調整されたエアを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
図１において、参照符号４０は、クリーンルームを示す。このクリーンルーム４０の内部には、画像描画装置の一態様としての露光機４２が設けられている。さらに、前記露光機４２の排気側に接続されるファン４４、前記ファン４４に接続される第１フィルタ４６、前記第１フィルタ４６に接続される第１冷却部４８、さらに、前記第１冷却部４８に接続される空調部５０、そして、前記空調部５０に接続される第２フィルタ５２を有する。前記露光機４２、ファン４４、第１フィルタ４６、第１冷却部４８、空調部５０及び第２フィルタ５２は、主としてダクトによって構成される循環系５４によって環状に連結されている。
【００２０】
露光機４２の内部には、熱源５６となる各種装置が内設されており、一方、空調部５０の内部には、第２冷却部５８が設けられている。
【００２１】
本実施の形態に係る露光機用空調装置は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その作用効果について説明する。
【００２２】
半導体基板やプリント基板等に所定のパターンを形成する露光機４２内には、前記のように熱源５６となる各種装置が設けられている。従って、この熱源５６によって露光機４２から排気される熱は、相当高温になる。この高温のエアは、ファン４４によって循環系５４から導出され、第１フィルタ４６に到達する。第１フィルタ４６で微粒子が捕捉されたエアは、第１冷却部４８に至り所定の温度に冷却される。そして、空調部５０に導入される。前記空調部５０では、第２冷却部５８によってさらに温度制御されるとともに、この空調部５０で湿度も所定範囲に留まるように制御される。
【００２３】
前記空調部５０から導出されたエアは、第２フィルタ５２に到達し、ここでさらに微小な且つ僅少な微粒子が除去され一層清浄化される。そこで、前記露光機４２に、この清浄化され且つ温度と湿度が適当に制御されたエアが導入される。この場合、空調部５０は、クリーンルーム４０内のエアを導入することも可能である。これを図１の空調部５０に対する矢印Ａで示す。実際、露光機４２に導入されたエアの一部はクリーンルーム４０内に漏出することも考えられる。従って、前記矢印Ａで示すように、クリーンルーム４０内のエアの一部を空調部５０に導入する場合も想定される。
【００２４】
ところで、図２ａに示すように、クリーンルーム４０内のエアは、温度変化が比較的激しい。場合によって基準値に対し＋５℃〜−５℃の範囲にわたることもある。一方、空調部５０から導出されるエアは、極めて狭い領域、すなわち、この実施の形態では、基準値に対し±０．２℃の範囲にわたる（図２ｂ参照）。従って、クリーンルーム４０のエアを空調部５０に導入するだけでは、前記空調部５０における温度の制御は極めて広範囲に行わなければならない。
【００２５】
ところで、温度と湿度が精密にコントロールされたエアは、露光機４２から再び循環系５４を介して導出されるとき、熱源５６の影響により上方にシフトするに至る（図２ｃ参照）。そこで、第１冷却部４８では、これを強制的に基準値に対して所定温度下方に制御する。このように温度制御されたエアを空調部５０に導入し、第２冷却部５８の付勢作用下に図２ｄに示すように、基準値に沿うように空調制御する。従って、空調部５０から第２フィルタ５２を経て露光機４２に至るエアは略基準値内の温湿度である。結局、空調部５０自体の負荷は第１冷却部４８による一次冷却後でもあるために、さほどに大幅な制御をすることなく、容易に制御することが可能となる。なお、空調部５０には、矢印Ａで示すようにクリーンルーム内のエアを供給してもよい。その理由は、既に述べた通り、露光機４２から漏出したエアを補完するためである。
【００２６】
上記の実施の形態は露光機について説明したが、本発明は露光機のみならずインクジェット方式等の各種画像描画装置のための空調装置や空調システムにも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施の形態に係る露光機用空調システムのブロック図である。
【図２】図１に示すブロック部におけるクリーンルーム、第１冷却部、空調部のエアの温度特性の説明図である。
【図３】従来技術に係る露光処理装置の概略ブロック説明図である。
【符号の説明】
【００２８】
４０…クリーンルーム                ４２…露光機
４４…ファン                        ４６…第１フィルタ
４８…第１冷却部                    ５０…空調部
５２…第２フィルタ                  ５４…循環系
５６…熱源                          ５８…第２冷却部
【図１】
2006253202.tif 000003
【図２】
2006253202.tif 000004
【図３】
2006253202.tif 000005