(57)【要約】【課題】  煩雑なフィルム化工程を必要とせずに〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の特性をもつ光学補償用塗工膜を安価に提供し、フィルム貼り付け等の手間を必要とせずにその特性を有する光学素子を提供することである。【解決手段】  薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄ（ｎｍ）とした時、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜とすること。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄ（ｎｍ）とした時、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜。
【請求項２】
セルロース誘導体が、セルロースの水酸基の少なくとも一つが炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換された化合物であることを特徴とする請求項１記載の光学補償用塗工膜。
【請求項３】
下記（Ａ）、（Ｂ）を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液。
（Ａ）請求項１又は請求項２記載のセルロース誘導体
（Ｂ）（Ａ）成分が可溶な溶媒
【請求項４】
請求項３記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、乾燥する光学素子の製造方法。
【請求項５】
請求項３記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、（Ｂ）成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、更に乾燥する光学素子の製造方法。
【請求項６】
請求項３記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工、乾燥してなる光学素子。
【請求項７】
請求項４または請求項５のいずれか１項に記載の製造方法を用いて製造した光学素子。
【請求項８】
セルロース誘導体を含有して形成され、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすことを特徴とする光学補償用塗工膜。
【請求項９】
面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体を含有して形成した光学補償用塗工膜。
【請求項１０】
面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体と、このセルロース誘導体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液。
【請求項１１】
面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体と、このセルロース誘導体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工し、乾燥する光学素子の製造方法。
【請求項１２】
更に、前記セルロース誘導体を可溶可能な溶媒の蒸気にさらしてアニーリングする工程を含んでいることを特徴とする請求項１１に記載の光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶セル等による位相差の光学補償を行うための光学補償用塗工膜、該塗工膜形成に好適な光学補償用塗工膜形成用塗工液、その塗工液を用いて製造した光学素子並びに光学素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置には液晶セルの複屈折による位相差を補償して視野角の拡大を図るため、光学補償用の位相差フィルムが使用されている。例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したものが挙げられる（例えば、特許文献１参照。）。最近は視野角拡大のために、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型等の液晶セルも開発されているが、光学補償材料は従来同様、必要である。このＶＡ型液晶セルの複屈折による位相差を補償するためには、ｎx≧ｎy＞ｎzの特性をもつ光学補償材料が有効であることが知られているが、前記フィルムを用いるためには煩雑なフィルム化工程が必要であり、また、液晶表示装置構成部品に貼り付ける等の手間も要する。これらを解消するために、ポリイミドのペースト塗布が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、ポリイミドは合成が煩雑である上、材料コストが高いことが問題である。
【特許文献１】特開平３−３３７１９号公報
【特許文献２】特開２００１−２９００２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、煩雑なフィルム化工程を必要とせずに、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００である大きな厚み位相差を有する光学補償用塗工膜を提供し、フィルム貼り付け等の手間を必要とせずにその特性を有する光学素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
このような課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄ（ｎｍ）とした時、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜とすることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
【０００５】
すなわち、本発明は、
薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄ（ｎｍ）とした時、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜（請求項１）であり、
セルロース誘導体が、セルロースの水酸基の少なくとも一つが炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換された化合物であることを特徴とする請求項１記載の光学補償用塗工膜（請求項２）であり、
下記（Ａ）、（Ｂ）を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液であり（請求項３）、
（Ａ）請求項１又は請求項２記載のセルロース誘導体
（Ｂ）（Ａ）成分が可溶な溶媒
請求項３記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、必要に応じ（Ｂ）成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、乾燥する光学素子の製造方法（請求項４，５）であり、
請求項３記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工、乾燥してなる光学素子（請求項６）であり、
請求項４または請求項５のいずれか１項に記載の製造方法を用いて製造した光学素子（請求項７）である。
【０００６】
また、セルロース誘導体を含有して形成され、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすことを特徴とする光学補償用塗工膜を提供した（請求項８）。
【０００７】
また、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体を含有して形成した光学補償用塗工膜を提供した（請求項９）。
【０００８】
また、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体と、このセルロース誘導体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を提供した（請求項１０）。
【０００９】
また、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎy、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体と、このセルロース誘導体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工し、必要に応じ前記セルロース誘導体を可溶可能な溶媒の蒸気にさらしてアニーリングし、更に乾燥する光学素子の製造方法を提供した（請求項１１，１２）。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の光学補償用塗工膜を用いると、煩雑なフィルム化工程やフィルム貼り付け等の手間を必要とせずに〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の特性をもつ光学補償層が安価に得られ、光学素子が製造できることから、工業的に極めて有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１２】
本発明における、薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄ（ｎｍ）とした時、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体、または、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすセルロース誘導体は（以下（Ａ）成分と言うことがある）、例えば、各種木材パルプ、綿リンター、綿リント等から得られるセルロースを原料とし、化学修飾することにより製造することができる。例えば、ギ酸セルロース、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、トリフルオロ酢酸セルロース等のカルボン酸エステル系誘導体；硫酸セルロース、硝酸セルロース、リン酸セルロース等の無機酸エステル系誘導体；メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、シアノエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等のエーテル系誘導体等が挙げられる。
【００１３】
これらのうち、低加水分解性、低吸湿性等、物性面の安定性から、エーテル系誘導体が好ましい。より好ましくはセルロースの水酸基の少なくとも一つが炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換されたエーテル系誘導体であり、さらに好ましくはセルロースの水酸基の少なくとも一つが炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されたエーテル系誘導体である。
【００１４】
好ましい（Ａ）成分を具体的に例示すると、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロース、ペンチルセルロース、ヘキシルセルロース、ヘプチルセルロース、オクチルセルロース、シクロペンチルセルロース、シクロヘキシルセルロース、メチルエチルセルロース、メチルプロピルセルロース、メチルブチルセルロース、メチルペンチルセルロース、メチルヘキシルセルロース、メチルヘプチルセルロース、メチルオクチルセルロース、メチルシクロペンチルセルロース、メチルシクロヘキシルセルロース、エチルプロピルセルロース、エチルブチルセルロース、エチルペンチルセルロース、エチルヘキシルセルロース、エチルヘプチルセルロース、エチルオクチルセルロース、エチルシクロペンチルセルロース、エチルシクロヘキシルセルロース等が挙げられる。これらのセルロース誘導体は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１５】
上記セルロースのエーテル系誘導体は、例えば、水酸化ナトリウム等によりアルカリセルロースとした後、塩素化アルキル等のアルキルハライドを加えて加熱攪拌することにより製造できる。この時、２種以上のアルキルハライドを用いると、２種以上のアルコキシ基で置換されたエーテル系誘導体が得られる。
【００１６】
また、セルロースはその構成単位であるグルコース残基当たり３個の水酸基を有しており、グルコース残基当たりの置換度（以下、ＤＳと称する場合あり）は最大３になるが、置換度の下限は好ましくは０．１、より好ましくは０．５、さらに好ましくは１であり、上限は好ましくは３、より好ましくは２．９５、さらに好ましくは２．９である。置換度が０．１より低いと溶媒に溶け難くなる傾向がある。本発明では、置換度が異なるセルロース誘導体の２種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。
【００１７】
さらに、（Ａ）成分の数平均分子量の下限は好ましくは５０００、より好ましくは８０００、さらに好ましくは１００００であり、上限は好ましくは３０００００、より好ましくは２５００００、さらに好ましくは２０００００である。数平均分子量が５０００より小さいと塗工膜強度が低下する傾向があり、数平均分子量が３０００００より大きいと溶媒に溶け難くなる傾向がある。なお、当該数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定した値である。本発明では、数平均分子量が異なるセルロース誘導体の２種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。
【００１８】
また、本発明では、（Ａ）成分として例示した各種セルロース誘導体を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１９】
以下、光学補償用塗工膜形成用塗工液（以下、単に塗工液と言うことがある）について説明する。塗工液は、（Ａ）前記セルロース誘導体，（Ｂ）（Ａ）成分が可溶な溶媒、を含有して形成されていることが好ましい。
【００２０】
（Ｂ）成分の溶媒としては、（Ａ）成分が可溶であれば特に限定されるものではないが、具体的な例としては、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンの異性体混合物等の炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒；エチルエーテル、イソプロピルエーテル、１，３−ジオキソラン、１,４−ジオキサン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１,２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、１−クロロプロパン、２−クロロプロパン、１，１−ジクロロプロパン、１，２−ジクロロプロパン、１，３−ジクロロプロパン、２，２−ジクロロプロパン、１，２，３−トリクロロプロパン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベンゼン、１，４−ジクロロベンゼン、１，２，３−トリクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、１，３，５−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２１】
本発明では、溶媒量は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総重量に対する（Ａ）成分の割合が下限１重量％、上限７０重量％の範囲で用いるのが好ましく、下限２重量％、上限６０重量％の範囲で用いるのがより好ましく、下限３重量％、上限５０重量％の範囲で用いるのがさらに好ましい。（Ａ）成分の割合が１重量％より小さい場合は塗工膜厚が薄くなり、必要な膜厚が得られ難くなる傾向があり、７０重量％より大きい場合は塗工液の粘度が高くなり、作業性が劣る傾向がある。
【００２２】
次に、本発明の塗工膜の特性を改質する目的で添加することが可能な樹脂について説明する。当該添加することが可能な樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等が例示されるが、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。
【００２３】
次に、本発明の塗工膜、塗工液の特性を改質する目的で加えることが可能な添加剤について説明する。
【００２４】
添加剤としては、酸化防止剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ  １１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ  １３３０等のヒンダードフェノール類）、加工安定剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＨＰ−１３６、ＩＲＧＡＮＯＸ  Ｅ２０１、ＩＲＧＡＦＯＳ  １６８等）、光安定剤（例えば、三共ライフテック製サノールＬＳ−７６５、サノールＬＳ−７７０等のヒンダードアミン類）、紫外線吸収剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６等のベンゾトリアゾール類）、接着性改良剤（例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤）、シラノール縮合触媒（例えば、川研ファインケミカル製アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミキレートＭ等のアルミニウムキレート類）、可塑剤（例えば、ジ２−エチルヘキシルフタレート、ジイソブチルアジペート等のエステル類）、界面活性剤（例えば、住友スリーエム製Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４３０、Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４４３０等のフッ素系化合物）、帯電防止剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＩＲＧＡＳＴＡＴ  Ｐ１８、ＩＲＧＡＳＴＡＴ  Ｐ２２等）等が挙げられ、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。
【００２５】
本発明の塗工液は、例えば上記各成分を溶媒の融点以上、沸点以下の温度で、混合後静置又は攪拌混合等することにより得られる。
【００２６】
次に、光学素子用の基板について説明する。基板としては、各種のものが使用可能であるが、特に用途から考えると透明であることが好ましい。具体的な例としては、ビスフェノールＡと塩化カルボニルより重縮合して製造されたポリカーボネート系重合体；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル；アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の２塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合又はラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体；ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のスチレン系重合体；アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体；ポリエチレン、ポリノルボルネン、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体；トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂；ナイロン６、ナイロン６６等のポリアミド；ポリイミド；ポリアミドイミド；ポリビニルアルコール；塩化ビニル；ポリエーテルスルホン；エポキシ樹脂；シリコーン樹脂；国際公開第０１／３７００７号パンフレットに記載される化合物等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したもの、これらのフィルムを偏光板に貼り付けたもの、ガラス板、カラーフィルター、液晶セル等が挙げられる。
【００２７】
次に、光学素子の製造方法について説明する。光学素子は、前記基板の片面又は両面に本発明の塗工液を塗工後、乾燥；又は塗工後、アニーリング、乾燥することにより製造できる。塗工方法としては、グラビヤロールコート法、マイヤーバーコート法、ドクターブレードコート法、リバースロールコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カレンダーコート法、スキーズコート法、キスコート法、バーコート法、スロットダイコート法、スピンコート法等が挙げられる。
【００２８】
乾燥方法としては、空気中又は窒素等の不活性ガス中に放置（風乾）、熱風オーブン、赤外線加熱炉等での加熱乾燥、真空乾燥機等での減圧乾燥等により行うことができる。乾燥温度は種々設定できるが、下限−３０℃、上限３００℃の温度範囲が好ましく、下限０℃、上限２８０℃がより好ましく、下限１０℃、上限２６０℃がさらに好ましい。乾燥温度が−３０℃より低いと乾燥時間が長くなる傾向があり、３００℃より高いと塗工膜や基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。
【００２９】
また、アニーリングは塗工膜のレベリング性向上、応力緩和等の為に行うことが好ましく、例えば面内位相差の低減、面内位相差の振れの低減等に有効である。本発明では、アニーリングは、（Ｂ）成分の蒸気中に塗工基板の塗工膜を上にして水平に静置して行うことが好ましい。アニーリング時の温度は種々設定できるが、下限−３０℃、上限〔（Ｂ）成分の沸点（℃）〕の範囲が好ましく、下限−１５℃、上限〔（Ｂ）成分の沸点（℃）−５℃〕がより好ましく、下限０℃、上限〔（Ｂ）成分の沸点（℃）−１０℃〕がさらに好ましい。アニーリング時の温度が−３０℃より低いとアニーリング時間が長くなる傾向があり、アニーリング時の温度が（Ｂ）成分の沸点（℃）より高いと塗工膜の基板からの流れ出しが生じ易くなる傾向がある。アニーリング時の圧力も種々設定でき、大気圧、加圧下、又は減圧下で行うことができるが、作業性の点で大気圧が好ましい。
【００３０】
次に、本発明における光学補償用塗工膜の光学特性について説明する。
【００３１】
本発明の光学補償用塗工膜は〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の特性をもつことが好ましい。光学補償用塗工膜の厚みをｄ（ｎｍ）とすると、面内位相差は、（ｎx−ｎy）×ｄで表され、厚み位相差は、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄで表されるが、面内位相差は下限０ｎｍ、上限１００ｎｍが好ましく、下限０ｎｍ、上限８０ｎｍがより好ましく、下限０ｎｍ、上限６０ｎｍがさらに好ましい。面内位相差が１００ｎｍより大きいと液晶セルの複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。また、厚み位相差は下限１ｎｍ、上限１０００ｎｍが好ましく、下限１０ｎｍ、上限８００ｎｍがより好ましく、下限２０ｎｍ、上限６００ｎｍがさらに好ましい。厚み位相差が１０００ｎｍより大きいと液晶セルの複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。
【００３２】
また、本発明の光学補償用塗工膜、該塗工膜形成用塗工液及びその塗工液を用いて製造した光学素子は、ビデオ、カメラ、携帯電話、パソコン、テレビ、モニター、自動車のインパネ等の液晶表示装置作製部品等に好適に使用できる。
【実施例】
【００３３】
以下に、本発明をより詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【００３４】
（実施例１）
エチルセルロース（ダウケミカル製ＥＴＨＯＣＥＬ  ＳＴＤ−１００，数平均分子量：６３４００，ＤＳ：２．５）２０．０ｇにクロロホルム８０．０ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に塗工した後、２５℃で６時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を下記の方法によって行い、結果を表１に示した。ここでは、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００  （尚、ｎx＝ｎyであった）の光学素子が得られた。
【００３５】
（１）屈折率（ｎx，ｎy，ｎz）の測定
王子計測機器製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて、２５℃下で５９０ｎｍ光における屈折率を測定した。得られた結果から、面内位相差を（ｎx−ｎy）×ｄにより求めた。また、厚み位相差を〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄにより求めた。
【００３６】
（実施例２）
実施例１で作製した塗工液を用い、バーコーターの印加圧を低減して１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に塗工した後、２５℃で６時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例１記載の方法によって行い、結果を表１に示した。ここでは、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００  （尚、ｎx＞ｎyであった）の光学素子が得られた。
【００３７】
（実施例３）
実施例１で作製した塗工液を用い、バーコーターの印加圧を低減して１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に塗工した後、この塗布基板を大気圧でクロロホルム蒸気が充満したガラス容器に入れ、密閉後、２５℃で７２時間アニーリングした。その後、塗布基板を取り出し、２５℃で６時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例１記載の方法によって行い、結果を表１に示した。実施例２では厚み位相差が上がると同時に面内位相差も上昇したが、ここでは、実施例２と同程度の厚み位相差をもち、面内位相差が０ｎｍである、すなわち、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００  （尚、ｎx＝ｎyであった）の光学素子が得られ、アニーリングの有無により、特性の異なる光学補償層の作製が可能であった。
【００３８】
（実施例４）
エチルセルロース（ダウケミカル製ＥＴＨＯＣＥＬ  ＳＴＤ−１００，数平均分子量：６３４００，ＤＳ：２．５）２０．０ｇに塩化メチレン８０．０ｇを加え、２５℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に塗工した後、２５℃で６時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例１記載の方法によって行い、結果を表１に示した。ここでは、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００  （尚、ｎx＞ｎyであった）の光学素子が得られた。
【００３９】
（比較例１）
市販の膜厚４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（＝三酢酸セルロースフィルム）を１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に貼り付けることにより、光学素子を作製した。得られた光学素子の物性測定を実施例１記載の方法によって行った結果、面内位相差が０ｎｍ、厚み位相差が３７ｎｍであり、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすものではなかった（厚み位相差の低いものであった）。
【００４０】
（比較例２）
市販の膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（＝三酢酸セルロースフィルム）を１５０μｍ厚のガラス基板（平均屈折率：１．５２，面内位相差：０ｎｍ，厚み位相差：１ｎｍ）に貼り付けることにより、光学素子を作製した。得られた光学素子の物性測定を実施例１記載の方法によって行った結果、面内位相差が１ｎｍ、厚み位相差が７０ｎｍであり、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ≧１００の関係を満たすものではなかった（厚み位相差の低いものであった）。
【００４１】
尚、比較例１，２では、煩雑なフィルム化工程（フィルム化したものを購入することで代用した）やフィルム貼り付け等の手間が必要であった。
【００４２】
【表１】
2006227222.tif 000002