(57)【要約】【課題】  露光用の装置全体のフットプリントを小さくすることができる露光装置用プリアライメント装置を提供する。【解決手段】  基板及びマスクを選択的に保持可能で、且つ移動可能に配置された保持プレート６０と、該保持プレート６０に保持された基板及びマスクの位置を測定する位置測定手段７０と、該位置測定手段による測定結果に基づいて保持プレート６０を移動させて基板及びマスクの位置を補正する駆動手段８０とを備える。【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置に搬送されて該露光装置の所定部位に保持される被露光材としての基板と露光パターンを有するマスクとをそれぞれ前記搬送前にプリアライメントするための露光装置用プリアライメント装置であって、
前記基板及び前記マスクを選択的に保持可能で、且つ移動可能に配置された保持プレートと、該保持プレートに保持された前記基板及び前記マスクの位置を測定する位置測定手段と、該位置測定手段による測定結果に基づいて前記保持プレートを移動させて前記基板及び前記マスクの位置を補正する駆動手段とを備えたことを特徴とする露光装置用プリアライメント装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイ等の基板上にマスクのパターンを近接（プロキシミティ）露光転写する近接露光装置に使用するプリアライメント装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近接露光は、表面に感光剤を塗布した透光性の基板（被露光材）を近接露光装置の基板ステージ上に保持すると共に、該基板をマスクステージのマスク保持枠に保持されたマスクに接近させて両者のすき間を例えば数１０μｍ〜数１００μｍにし、次いで、マスクの基板から離間する側から照射装置によって露光用の光をマスクに向けて照射することにより該基板上に該マスクに描かれたパターンを露光転写するようにしたものである。
【０００３】
ところで、基板及びマスクは露光装置に搬送されてそれぞれ前記基板ステージ及び前記マスク保持枠に吸着保持されるが、搬送前において予め基板ステージに対する基板の位置決めとマスク保持枠に対するマスクの位置決めを行うプリアライメントがなされる。
高精度の位置合わせは露光装置に搬入後に行われるのであるが、露光装置へのマスクや基板の搬入位置が所定の状態に対し、ずれが大きすぎると、この高精度な位置合わせが不可能、或いは長時間を要することとなる。このようなことを避けるために、プリアライメントが行われる。
【０００４】
このプリアライメントは、図９に示すように、露光装置の外側にマスクのプリアライメント装置４０Ａと基板のプリアライメント装置４０Ｂとをそれぞれ配置し、マスク用プリアライメント装置４０Ａでプリアライメントされたマスクをローダ４１で露光装置に搬送してマスク保持枠で吸着保持し、基板用プリアライメント装置４０Ｂでプリアライメントされた基板をローダ４２で露光装置に搬送して基板ステージ上に吸着保持するようにしている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来においては、露光装置の外側にマスクのプリアライメント装置４０Ａと基板のプリアライメント装置４０Ｂとをそれぞれ配置しているので、露光装置やプリアライメント装置等を含めた露光用の装置全体のフットプリントが大きくなるという問題がある。
本発明はこのような不都合を解消するためになされたものであり、露光用の装置全体のフットプリントを小さくすることができる露光装置用プリアライメント装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、請求項１に係る発明は、露光装置に搬送されて該露光装置の所定部位に保持される被露光材としての基板と露光パターンを有するマスクとをそれぞれ前記搬送前にプリアライメントするための露光装置用プリアライメント装置であって、  前記基板及び前記マスクを選択的に保持可能で、且つ移動可能に配置された保持プレートと、該保持プレートに保持された前記基板及び前記マスクの位置を測定する位置測定手段と、該位置測定手段による測定結果に基づいて前記保持プレートを移動させて前記基板及び前記マスクの位置を補正する駆動手段とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、基板及びマスクのプリアライメントを一台のプリアライメント装置で行うことができるので、露光装置やプリアライメント装置等を含めた露光用の装置全体のフットプリントを小さくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の実施の形態の一例を図を参照して説明する。
図１は本発明の実施の形態の一例である露光装置用プリアライメント装置と近接露光装置との配置を示す概略平面図、図２は近接露光装置の一例を示す説明図、図３は図２の矢印Ａ方向から見た図、図４はプリアライメント装置の平面図、図５は図４の矢印Ｂ方向から見た図、図６は駆動手段の一例を示す説明図、図７は位置測定手段の一例を示す説明図、図８は図７の矢印Ｃ方向から見た図である
本発明の実施の形態一例である露光装置用プリアライメント装置５０は、図１に示すように、近接露光装置の外側に配置されてマスクＭ及び基板Ｗの両方のプリアライメントを行うものであり、プリアライメントされたマスクＭはローダ５１で近接露光装置に搬送されて後述するマスク保持枠２５によって吸着保持されると共に、プリアライメントされた基板Ｗはローダ５１で近接露光装置に搬送されて後述する基板ステージ２上に吸着保持される。
【０００９】
まず、説明の便宜上、近接露光装置から説明すると、この近接露光装置は、図２に示すように、被露光材としての基板Ｗより小さいマスクＭを用い、該マスクＭをマスクステージ１のマスク保持枠２５で保持すると共に、基板Ｗを基板ステージ２で保持し、この状態で基板ステージ２をマスクＭに対してＸ軸方向とＹ軸方向の二軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にマスクＭと基板Ｗとを近接して対向配置した状態で、照射手段３からパターン露光用の光をマスクＭに向けて照射することにより、マスクＭの複数のパターンを基板Ｗ上に露光転写するようにしたものである。
【００１０】
図２において符号４は装置ベースであり、この装置ベース４上には基板ステージ２をＹ軸方向にステップ移動させるためのＹ軸ステージ送り機構５が設置され、Ｙ軸ステージ送り機構５のＹ軸送り台５ａ上には基板ステージ２をＸ軸方向にステップ移動させるためのＸ軸ステージ送り機構６が設置され、該Ｘ軸ステージ送り機構６のＸ軸送り台６ａ上に基板ステージ２が設置されている。該基板ステージ２上には、図１を参照して、プリアライメント装置５０でプリアライメントがなされた基板Ｗがローダ５１によって搬送され、該基板ステージ２上に搬送された基板Ｗはワークチャック等で真空吸引された状態で保持される。
【００１１】
Ｘ軸ステージ送り機構６と基板ステージ２の間には、基板ステージ２の単純な上下動作を行うことにより該基板ステージ２を予め設定した位置までマスクＭと基板Ｗとのすき間の計測を行うことなく昇降させる上下粗動装置７と、基板ステージ２を上下に微動させてマスクＭと基板Ｗとの対向面間のすき間を所定量に微調整する上下微動装置（進退移動手段）８が設置されている。
【００１２】
上下微動装置８は、Ｘ軸送り台６ａに固定された固定台９と、該固定台９にその内端側を斜め下方に傾斜させた状態で取り付けられたリニアガイドの案内レール１０とを備えており、該案内レール１０に跨架されたスライダ１１にはボールねじのナット（図示せず）が連結されると共に、筒部１２が固定され、該筒部１２の上端面は基板テーブル２のテーブル微動軸１４のフランジ１４ａに対して水平方向に摺動自在に接している。
【００１３】
また、テーブル微動軸１４のフランジ１４ａと固定台９とは図３に示すような板ばね１５によって連結されている。この板ばね１５は三枚の舌片１６ａ，１６ｂ，１６ｃを有しており、中央の舌片１６ｂがフランジ１４ａに固定され、両側の舌片１６ａ，１６ｃが固定台９に固定されている。
そして、固定台９に取り付けられたモータ１７によってボールねじのねじ軸を回転駆動させると、ナット、スライダ１１及び筒部１２が一体となって案内レール１０に沿って斜め方向に移動し、これにより、フランジ１４ａを介してテーブル微動軸１４が上下微動して基板テーブル２の高精度の上下微動運動に変換され、また、この上下微動運動は板ばね１５により許容される。
【００１４】
この上下微動装置８は、Ｚ軸送り台６ａのＸ軸方向の一端側（図２の左端側）に１台、他端側に２台合計３台設置されてそれぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置８は、後述するギャップセンサ３１によるマスクＭの下面と基板Ｗの上面との位置の測定結果に基づいて図示しない制御装置で求められたマスクＭの下面と基板Ｗの上面とのすき間量が予め定められた目標値となるように制御装置によって制御されることで、基板ステージ２の高さを微調整すると共に、水平面に対する傾斜の微調整（チルト機能）を行う。
【００１５】
また、Ｘ軸送り台６ａ上には、基板ステージ２のＹ軸送り誤差を検出する送り誤差検出手段としてのＹ軸レーザ干渉計１８のバーミラー１９と、基板ステージ２のＸ軸送り誤差を検出する送り誤差検出手段としてのＸ軸レーザ干渉計のバーミラー（共に図示せず）とが設置されている。
Ｙ軸レーザ干渉計１８のバーミラー１９はＸ軸送り台６ａの一側でＹ軸方向に沿って延びており、Ｘ軸レーザ干渉計のバーミラーはＸ軸送り台６ａの一端側でＸ軸方向に沿って延びている。Ｙ軸レーザ干渉計及びＸ軸レーザ干渉計はそれぞれバーミラーに対向配置されて装置ベース４に支持されている。
【００１６】
Ｙ軸レーザ干渉計１８によりＸ軸送り台６ａひいては基板ステージ２のＹ軸方向のステップ送り誤差を検出してその検出信号を制御装置（図示せず）に出力し、制御装置がこの検出信号に基づいて補正量を算出して、その算出結果を後述するマスク位置調整手段（及び必要に応じて上下微動装置８）の駆動回路に出力することで、該補正量に応じてマスク位置調整手段等が制御されてＹ軸方向の位置ずれが補正され、Ｙ軸方向のステップ位置の位置決めがなされる。
【００１７】
Ｘ軸レーザ干渉計についても、同様にＸ軸送り台６ａひいては基板ステージ２のＸ軸方向のステップ送り誤差を検出してその検出信号を制御装置（図示せず）に出力し、制御装置がこの検出信号に基づいて補正量を算出して、その算出結果を後述するマスク位置調整手段（及び必要に応じて上下微動装置８）の駆動回路に出力することで、該補正量に応じてマスク位置調整手段等が制御されてＸ軸方向の位置ずれが補正され、Ｘ軸方向のステップ位置の位置決めがなされる。
【００１８】
マスクステージ１は、略長方形状の枠体からなるマスクフレーム２４と、該マスクフレーム２４の中央部開口にすき間を介して挿入されてＸ，Ｙ，θ方向（Ｘ，Ｙ平面内）に移動可能に支持されたマスク保持枠２５とを備えており、マスクフレーム２４は装置ベース４から突設された支柱４ａによって基板ステージ２の上方の定位置に保持されている。
マスク保持枠２５の中央部開口の下面には内方に張り出すフランジ２６が開口の全周に沿って設けられている。このフランジ２６の下面には、図１を参照して、プリアライメント装置５０でプリアライメントがなされた露光パターンを有するマスクＭがローダ５１によって搬送され、該フランジ２６に搬送されたマスクＭは真空式吸着装置（図示せず）等を介して着脱自在に保持される。
【００１９】
また、フランジ２６の上方には、マスクＭの下面と基板Ｗの上面との対向面間のすき間量を測定する手段としてのギャップセンサ３１、及びマスクＭの露光領域に設けられたアライメントマーク（図示せず）と、基板Ｗ側に一層目の露光で焼付けられたアライメントマーク（図示せず：二層目以降のアライメントに使用）又は基板ステージ２に設けられたアライメントマーク（図示せず）とを撮像する手段としてのアライメントカメラ３０がそれぞれ移動可能にマスクステージ１に支持されている。
【００２０】
ギャップセンサ３１は、投光部からマスクＭの下面と基板Ｗの上面にレーザー光を当て、各面での反射光を受光部（例えばラインセンサ）で受けてマスクＭの下面と基板Ｗの上面との位置を測定するものであり、フランジ２６のＹ軸方向に沿う二辺の内側上方にＹ軸方向に互いに離間して２カ所ずつ、合計４箇所配置されている。
これらの４個のギャップセンサ３１による測定結果に基づいて図示しない制御装置で演算処理を行うことで、マスクＭの下面と基板Ｗの上面とのすき間量を求めると共に、マスクＭと基板Ｗとの対向面間の平行度のずれ量を検出することができ、この検出ずれ量に応じて上述した上下微動装置８の上下微動機能とチルト機能が制御されてマスクＭと基板Ｗとの対向面間の平行度が確保されるようになっている。
【００２１】
アライメントカメラ３０はフランジ２６のＹ軸方向に沿う二辺の各内側上方でＹ軸方向の略中央部にそれぞれ一カ所ずつ合計２カ所配置されおり、これらの２個のアライメントカメラ３０で、マスクＭの露光領域に設けられたアライメントマークと、基板Ｗ側に一層目の露光で焼付けられたアライメントマーク又は基板ステージ２に設けられたアライメントマーク（図示せず）とを撮像してその画像データに基づいて図示しない制御装置で演算処理を行うことで、マスクＭと基板Ｗ（又は基板ステージ２）との平面ずれ量を検出することができ、この検出平面ずれ量に応じてマスク位置調整手段がマスク保持枠２５をＸ，Ｙ，θ方向に移動させて該マスク保持枠２５に保持されたマスクＭの基板Ｗに対する向きを調整するようになっている。
【００２２】
マスク位置調整手段は、マスクフレーム２４のＸ軸方向に沿う一辺に取り付けられたＹ軸方向駆動装置（図示せず）と、マスク保持枠２５のＹ軸方向に沿う一辺に互いにＹ軸方向に離間して取り付けられた二台のＸ軸方向駆動装置（図示せず）とを備えており、Ｙ軸方向駆動装置によりマスク保持枠２５のＹ軸方向の調整を、二台のＸ軸方向駆動装置によりマスク保持枠２５のＸ軸方向及びθ軸方向（Ｚ軸まわりの揺動）の調整を行うようになっている。
【００２３】
なお、図２において符号２８は、マスク保持枠２５に保持されたマスクＭ上の任意の範囲の露光光を必要に応じて遮光することで露光範囲を制限する遮光ブレードを有するマスキングアパーチャ機構である。
上記構成の近接露光装置を用いて例えばＹ軸方向にステップ露光を行うには、まず、プリアライメント装置５０でプリアライメントがなされたマスクＭをローダ５１によってマスク保持枠２５のフランジ２６下面に搬送し、該フランジ２６に搬送されたマスクＭを真空式吸着装置（図示せず）等を介して吸着保持する。
【００２４】
次に、アライメントカメラ３０で撮像された基板ステージ２側のアライメントマーク（図示せず）とマスク保持枠２５のフランジ２６に保持されたマスクＭの露光領域に設けられたアライメントマークとのずれ量に応じてマスク位置調整手段がマスク保持枠２５を所定方向に移動させることでマスクＭの向きを調整して基板ステージ２に対するマスクＭの初期位置を合わせ、そのときのマスクＭの姿勢（位置）を図示しない制御装置の記憶領域等に記憶しておく。
【００２５】
次に、プリアライメント装置５０にてプリアライメントされた基板Ｗをローダ５１によって基板ステージ２上に搬送して露光位置に吸着保持し、この状態で制御装置が上下微動装置８を制御して基板ステージ２を上昇させて基板ＷをマスクＭに接近させながら、ギャップセンサ３１によってマスクＭの下面と基板Ｗの上面との位置を測定しつつ制御装置が該測定結果に基づいてマスクＭの下面と基板Ｗの上面とのすき間量を求める。
【００２６】
そして、制御装置は、前記すき間量が前記目標値となるように上下微動装置８を制御して基板ステージ２を上下微動させるギャップ制御を行い、前記すき間量が目標値となった状態で照射手段３から露光用の光をマスクＭに向けて照射して該マスクＭの一層目のパターンを基板Ｗに露光転写する。
露光後、制御装置が上下微動装置８を制御して基板ステージ２を下降させてマスクＭの下面と基板Ｗの上面とのすき間量を一定量拡大し、この状態でＹ軸ステージ送り機構５で基板ステージ２をマスクＭに対してＹ軸方向に１ステップ量だけ送る。
【００２７】
このとき、Ｙ軸レーザ干渉計１８による基板ステージ２のＹ軸方向のステップ送り誤差の検出信号と上記記憶領域に記憶されたマスクＭの初期姿勢情報とに基づいて制御装置がステップ送り誤差に応じたマスクＭの向きの補正量を算出し、この算出結果をマスク位置調整手段（及び必要に応じて上下微動装置８）の駆動回路に出力することで、補正量に応じてマスク位置調整手段等が制御されてマスク保持枠２５を介してマスクＭの向きが調整される。この状態で次ステップ目の露光を行うことにより、基板Ｗ上の個々の露光パターンの相対位置にずれが生じないようにしている。
【００２８】
次に、図４〜図８を参照して、本発明の実施の形態一例である露光装置用プリアライメント装置５０について詳述する。
このプリアライメント装置５０は、基板Ｗ及びマスクＭを選択的に保持可能で、且つ移動可能に配置された保持プレート６０と、該保持プレート６０に保持された基板Ｗ及びマスクＭの位置を測定する位置測定手段７０と、該位置測定手段７０による測定結果に基づいて保持プレート６０を移動させて基板Ｗ及びマスクＭの位置を補正する駆動手段８０とを備える。
【００２９】
保持プレート６０は、図４及び図５に示すように、Ｚ1 軸方向の動きは拘束され、Ｘ1 ，Ｙ1 ，θ1 （Ｚ1 軸回りの揺動）方向に移動可能にベース５１に立設された摺動案内部５２及び駆動手段８０（図６参照）によって支持されており、上面側には基板Ｗを真空吸着する基板吸着面６１が中央部及び該中央部のＹ1 軸方向の両側にそれぞれＸ1 軸方向に沿って帯状に延設されていると共に、基板吸着面６１のＹ1 軸方向の両側にはマスクＭを真空吸着するマスク吸着面６２が片側で互いにＸ1 方向に離間して２箇所、合計４箇所配置されている。
【００３０】
マスク吸着面６２は、通常は基板吸着面６１より下方に位置してマスクＭを吸着保持するときにのみ、図示しないシリンダ装置等によって上昇するようになっている。なお、保持プレート６０上には、図示しないカセットに段積みされた基板Ｗ及びマスクＭがローダ５１を介して搭載される。
位置測定手段７０は、保持プレート６０のＹ1 軸に沿う一方の辺部にＹ1 軸方向に互いに離間して２箇所配置されたセンサ部７１ａと、保持プレート６０のＸ1 軸に沿う両側辺部の略中央部にそれぞれ一箇所ずつ合計２箇所配置されたセンサ部７１ｂとを備える。
【００３１】
センサ部７１ａは、図７及び図８を参照して、保持プレート６０に吸着保持された基板Ｗ又はマスクＭのＸ1 軸方向を向く端面に当接可能なローラ７２と、該ローラ７２を回転自在に支持するスライド部材７３とを備えており、該スライド部材７３はリニアガイド７４等によってＸ1 軸方向にスライド可能に支持されると共に、エアシリンダ７５等によって同方向に往復駆動されるようになっている。
【００３２】
また、スライド部材７３には接触式の電気マイクロメータ７６の接触子７６ａが接触しており、この接触式電気マイクロメータ７６は前記ローラ７２が基板Ｗ又はマスクＭの端面に当接してスライド部材７３が停止したときの変位を検出するようになっている。
一方、センサ部７１ｂは、保持プレート６０に吸着保持された基板Ｗ又はマスクＭのＹ1 軸方向を向く側面に当接可能なローラ７２と、該ローラ７２を回転自在に支持するスライド部材７３とを備えており、該スライド部材７３はリニアガイド７４等によってＹ1 軸方向にスライド可能に支持されると共に、エアシリンダ７５等によって同方向に往復駆動されるようになっている。
【００３３】
即ち、センサ部７１ｂ自体の構成はセンサ部７１ａと同様である。但し、センサ部７１ｂは基板Ｗ又はマスクＭの幅の違いに応じてＹ1 軸方向に進退可能に設けられている。即ち、センサ部７１ｂはベース５１上に設けられた一軸アクチュエータ７９に載置されている。該一軸アクチュエータ７９は、後述の駆動部８１ａ，８１ｂを構成する直動装置と略同様なものであり、必要とされるストロークを得られるものである。
【００３４】
また、スライド部材７３には接触式の電気マイクロメータ７６の接触子７６ａが接触しており、この接触式電気マイクロメータ７６は前記ローラ７２が基板Ｗ又はマスクＭの側面に当接してスライド部材７３が停止したときの変位を検出するようになっている。
そして、上述した２つのセンサ部７１ａと２つのセンサ部７１ｂの各接触式電気マイクロメータ７６によって得られた検出信号から基板Ｗ及びマスクＭの位置が測定され、該測定結果に基づいて駆動手段８０が基板Ｗ及びマスクＭの位置が予め設定された基板Ｗ及びマスクＭの基準位置になるように保持プレート６０を移動させて基板Ｗ及びマスクＭの位置を補正する。
【００３５】
駆動手段８０は、保持プレート６０のＹ1 軸に沿う他方の辺部（センサ部７１ａの反対側の辺部）にＹ1 軸方向に互いに離間して２箇所配置された駆動部８１ａと、保持プレート６０のＸ1 軸に沿う一方の辺部の略中央部に一箇所配置された駆動部８１ｂとを備えている。
駆動部８１ａは、図６を参照して、保持プレート６０の下部にＸ1 軸方向外方に張り出したフランジ６０ａの先端部に当接するローラ８２と、該ローラ８２を回転自在に支持するスライド部材８３とを備えており、該スライド部材８３は直動装置等によってＸ1 軸方向にスライド可能に支持されている。
【００３６】
この直動装置は、ボールねじのナット８４をリニアガイドのスライダ８５で支持すると共に、ナット８４及びスライダ８５を断面凹状の案内レール８６の凹部に収容した状態で該スライダ８５を案内レール８６の軸方向に沿って案内するようにしたものであり、ボールねじのねじ軸８７にカップリング８８を介してモータ８９の駆動軸が連結されている。  このモータ８９を駆動してボールねじのねじ軸８７を回転させることで、ナット８４、スライダ８５及びスライド部材８３が一体となって案内レール８６に沿ってＸ1 軸方向に移動する。また、スライド部材８３とフランジ６０ａとの間には引っ張りコイルばね９１が架け渡されて該フランジ６０ａと前記ローラ８２とが互いに当接する方向に付勢されている。
【００３７】
一方、駆動部８１ｂは、図６を参照して、保持プレート６０の下部にＹ1 軸方向外方に張り出したフランジ６０ａの先端部に当接するローラ８２と、該ローラ８２を回転自在に支持するスライド部材８３とを備えており、該スライド部材８３は上記駆動部８１ａと同様の直動装置等によってＹ1 軸方向にスライド可能に支持され、モータ８９を駆動してボールねじのねじ軸８７を回転させることで、ナット８４、スライダ８５及びスライド部材８３が一体となって案内レール８６に沿ってＹ1 軸方向に移動する。
【００３８】
また、スライド部材８３とフランジ６０ａとの間には引っ張りコイルばね９１が架け渡されて該フランジ６０ａと前記ローラ８２とが互いに当接する方向に付勢されている。
そして、上述した位置測定手段７０の測定結果に基づいて図示しない制御装置が基板Ｗ及びマスクＭの位置が予め設定された基板Ｗ及びマスクＭの基準位置になるように２つの駆動部８１ａと一つの駆動部８１ｂの各モータ８９を独立に制御して保持プレート６０のフランジ６０ａに当接するローラ８２を支持するスライダ部材８３の軸方向の移動量を調整することで、保持プレート６０をＸ1 ，Ｙ1 ，θ1 方向にローラ８２に沿って移動させ、これにより、基板Ｗ及びマスクＭの位置を補正してプリアライメントを行う。
【００３９】
このようにこの実施の形態では、基板Ｗ及びマスクＭのプリアライメントを一台のプリアライメント装置５０で行うことができるので、露光装置やプリアライメント装置等を含めた露光用の装置全体のフットプリントを小さくすることができる。
なお、本発明のプリアライメント装置の保持プレート、位置測定手段及び駆動手段等の構成は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
例えば、上記実施の形態では、位置測定手段７０に接触式電気マイクロメータを用いているが、これに限定されず、非接触式のセンサを用いてスライド部材７３の変位を検出するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の実施の形態の一例である露光装置用プリアライメント装置と近接露光装置との配置を示す概略平面図である。
【図２】近接露光装置の一例を示す説明図である。
【図３】図２の矢印Ａ方向から見た図である。
【図４】プリアライメント装置の平面図である。
【図５】図４の矢印Ｂ方向から見た図である。
【図６】駆動手段の一例を示す説明図である。
【図７】位置測定手段の一例を示す説明図である。
【図８】図７の矢印Ｃ方向から見た図である
【図９】従来のプリアライメント装置を説明するための図である。
【符号の説明】
【００４１】
Ｗ  基板
Ｍ  マスク
５０  プリアライメント装置
６０  保持プレート
７０  位置測定手段
８０  駆動手段
【図１】
2006084782.tif 000003
【図２】
2006084782.tif 000004
【図３】
2006084782.tif 000005
【図４】
2006084782.tif 000006
【図５】
2006084782.tif 000007
【図６】
2006084782.tif 000008
【図７】
2006084782.tif 000009
【図８】
2006084782.tif 000010
【図９】
2006084782.tif 000011