(57)【要約】【課題】  電気光学装置の製造の際に基板の組ずれが発生した場合であっても、その電気光学装置によって画像を表示したときのその表示のコントラストが低下しないようにする。【解決手段】  カラーフィルタ基板２と、カラーフィルタ基板２に対向して配置された対向基板３とを有する電気光学装置１である。カラーフィルタ基板２は、複数の帯状の第１遮光膜６と、それらの第１遮光膜６の間に並べられた複数のドット状の着色要素７とを有する。対向基板３は、第１遮光膜６に対して直角方向に延びる複数の第２遮光膜１３と、それらの第２遮光膜１３の間に設けられた帯状電極１６とを有する。両方の基板２，３に遮光膜６，１３を設けたので、基板２，３に組ずれが発生しても光り抜けを防止でき、それ故、基板の組ずれが発生しても表示のコントラストが低下することがなくなる。【選択図】        図１
2006276109.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する一対の基板と、
該一対の基板の一方に設けられた複数の第１電極と、
前記一対の基板の他方に設けられていて前記第１電極と平面的に重なり合う複数の第２電極と、
前記一方の基板の前記複数の第１電極の間に設けられた第１遮光膜と、
前記他方の基板の前記複数の第２電極の間に設けられた第２遮光膜と
を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１記載の電気光学装置において、
前記第１電極は１方向へ延びる帯状電極であり、
前記第２電極は前記第１電極に対して交差する方向へ延びる帯状電極である
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の電気光学装置において、前記複数の第１遮光膜又は前記複数の第２遮光膜の間に並んで形成された複数の着色要素を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３記載の電気光学装置において、前記複数の第１遮光膜の間に並んで形成された前記複数の着色要素は前記複数の第１遮光膜の延在方向に沿って連続して並ぶことを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項３記載の電気光学装置において、前記複数の第２遮光膜の間に並んで形成された前記複数の着色要素は前記複数の第２遮光膜の延在方向に沿って連続して並ぶことを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項４記載の電気光学装置において、前記複数の着色要素は異なる３色の着色要素を含み、それら３色の着色要素が前記第１遮光膜の延在方向に沿って１色ずつ交互に繰り返して並ぶことを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１つに記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブラックマスク、ブラックマトリクス、ブラックストライプ等と呼ばれる遮光膜を備えた電気光学装置に関する。また、本発明は、その電気光学装置を用いて構成される電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、携帯電話機、携帯情報端末機等といった電子機器に液晶表示装置等といった電気光学装置が広く使用されている。例えば、電子機器に関する各種の情報を文字、数字、図形等といった画像の形で表示する際に電気光学装置が用いられている。この電気光学装置では、例えば、表示の最小単位であるサブ画素領域を複数個、液晶層等といった電気光学物質層の面内で縦横方向にマトリクス状に並べることによって表示領域を形成する。そして、電気光学物質層の電気光学的な機能によってその電気光学物質層を通過する光をサブ画素領域ごとに変調して表示を行う。
【０００３】
上記の電気光学装置において、従来、１つの基板上に遮光膜を設ける技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１には、１つの基板上にカラーフィルタ膜を形成すること（第７頁左欄）、カラーフィルタ膜にＲ，Ｇ，Ｂの色パターンが含まれること（第７頁左欄）、カラーフィルタ膜に色パターン以外に遮光膜があること（図２）、遮光膜はカラーフィルタ膜によって形成できること（第４頁右欄）、及び複数の色パターンの重ね合わせによって遮光膜が形成できること（第５頁左欄）、等といった開示が認められる。この遮光膜はサブ画素領域の周囲から光が漏れ出ることを防止して、表示のコントラストを高めることを主要な機能としている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−０５７６３２（第４，５，７頁、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示されているように、遮光膜を１つの基板だけに設けるようにすると、１つの問題があった。以下、図７及び図８を参照してその問題を説明する。図７（ａ）において、カラーフィルタ基板上にＢ（青色）、Ｇ（緑色）、Ｒ（赤色）の着色要素５１が適宜の配列、例えばストライプ配列で形成されている。また、これらの着色要素５１の間に斜線で示すように遮光膜５２が格子状に設けられている。また、着色要素５１及び遮光膜５２の上に帯状電極５３が設けられている。次に、図７（ｂ）において、複数の帯状電極５４が対向基板上に間隔をおいて設けられている。対向基板側には遮光膜は設けられておらず、その全体が光透過領域となっている。
【０００６】
液晶表示装置を製造する際には、図７（ａ）に示すカラーフィルタ基板と図７（ｂ）に示す対向基板とを図８（ｃ）に示すように貼り合わせ、それらの基板の間に液晶を封入する。そして、カラーフィルタ基板側の電極５３と対向基板側の電極５４との間に所定の電圧を印加して液晶を駆動することにより、カラーフィルタ基板又は対向基板のいずれかの表面に文字、数字、図形等といった画像を表示する。
【０００７】
ところで、図８（ｃ）に示す状態はカラーフィルタ基板と対向基板とが正規の相対位置で貼り合わされた状態を示している。しかしながら、現実の製造過程では、カラーフィルタ基板と対向基板とが位置ずれした状態で貼り合わされることがある。図８（ｄ）は、カラーフィルタ基板と対向基板とがそのように位置ずれして貼り合わされている状態の一例を示している。図８（ｄ）では、電極５４を有する対向基板が着色要素５１を有するカラーフィルタ基板に対して矢印Ｈ方向へずれている。
【０００８】
この位置ずれにより、対向基板側で電極５４が存在しない領域Ａ０の一部はカラーフィルタ基板上で着色要素５１の一部に平面的に重なっている。この部分は、光が着色要素５１を通過するにもかかわらず、液晶に電界が加わらない部分であり、それ故、着色要素５１を通過した光は変調されることなく外部へ抜け出て観察者によって明るい光として視認される。観察者によって観察される表示のコントラストは、上記のように抜け出た光によって低下する。
【０００９】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、電気光学装置の製造の際に基板の組ずれが発生した場合であっても、その電気光学装置によって画像を表示したときのその表示のコントラストが低下しないようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る電気光学装置は、互いに対向する一対の基板と、該一対の基板の一方に設けられた複数の第１電極と、前記一対の基板の他方に設けられていて前記第１電極と平面的に重なり合う複数の第２電極と、前記一方の基板の前記複数の第１電極の間に設けられた第１遮光膜と、前記他方の基板の前記複数の第２電極の間に設けられた第２遮光膜とを有することを特徴とする。
【００１１】
この電気光学装置によれば、互いに対向する一対の基板の両方に遮光膜を設けたので、互いに対向する一対の電極が基板の組ずれによって相対的に位置ずれした場合でも、光が抜け出てしまう領域が発生することがなくなる。このため、基板が組ずれの状態で電気光学装置が製造された場合でも、その電気光学装置によって表示される画像においてコントラストが低下することを防止できる。
【００１２】
次に、本発明に係る電気光学装置において、前記第１電極は１方向へ延びる帯状電極であり、前記第２電極は前記第１電極に対して交差する方向、例えば直角方向へ延びる帯状電極であることが望ましい。一対の基板の両方に帯状電極が設けられる構造は、例えば、単純マトリクス方式の液晶表示装置において用いられる。一対の基板の両方に帯状電極を設けた場合には、基板の組ずれによって光り抜けが発生するおそれが大きい。従って、このような電気光学装置に対して本発明を適用すれば、基板の組ずれに起因するコントラストの低下を防止することに関して非常に有効である。
【００１３】
次に、本発明に係る電気光学装置は、前記複数の第１遮光膜又は前記複数の第２遮光膜の間に並んで形成された複数の着色要素を有することが望ましい。こうして着色要素を設ければ、フルカラー表示、モノカラー表示等といったカラー表示を行うことができる。このようなカラー表示を行う場合には、光り抜けに起因して発生するコントラストの低下が顕著になるおそれがある。従って、このような電気光学装置に対して本発明を適用すれば、コントラストの低下を抑制することに関して非常に有効である。
【００１４】
次に、着色要素を設ける構成の本発明に係る電気光学装置において、前記複数の第１遮光膜の間に並んで形成された前記複数の着色要素は前記複数の第１遮光膜の延在方向に沿って連続して並ぶことが望ましい。
また、着色要素を設ける構成の本発明に係る電気光学装置において、前記複数の第２遮光膜の間に並んで形成された前記複数の着色要素は前記複数の第２遮光膜の延在方向に沿って連続して並ぶことが望ましい。
【００１５】
複数の着色要素が連続して並ぶというのは、複数の着色要素の間に別の要素が存在しないということであり、着色要素の１つ１つを最大限に大きな面積で設けるということである。このように個々の着色要素を大きな面積で形成すれば、個々の着色要素の間に遮光膜を設ける場合に比べて鮮明なカラー表示が可能である。
【００１６】
次に、複数の着色要素を用いるようにした本発明に係る電気光学装置において、前記複数の着色要素は異なる３色の着色要素を含み、それら３色の着色要素が前記第１遮光膜の延在方向に沿って１色ずつ交互に繰り返して並ぶことが望ましい。異なる３色の着色要素を用いることにすれば、フルカラー表示を行うことが可能となる。フルカラー表示を行う場合に光り抜けの不良が発生すると、白黒表示やモノカラー表示に比べて表示品質の低下が顕著に現れる。従って、このような電気光学装置に関して本発明を適用して光り抜けの発生を未然に防止すれば、表示品質の低下を抑制することに関して好都合である。
【００１７】
次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置を有することを特徴とする。本発明に係る電気光学装置によれば、基板が組ずれの状態で貼り合わされた場合でも、その電気光学装置によって表示される画像においてコントラストが低下することを防止できる。従って、この電気光学装置を用いて構成される電子機器においても、コントラストの低下を防止して鮮明な表示を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
（電気光学装置の第１実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置をその一例である液晶表示装置を例示して説明する。本実施形態では、単純マトリクス方式でカラー表示が可能でＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶を用いた液晶表示装置を用いるものとする。なお、本発明がその実施形態に限定されないことはもちろんである。また、これ以降の説明では図面を用いて各種の構造を例示するが、これらの図面に示される構造は特徴的な部分を分かり易く示すために実際の構造に対して寸法を異ならせて示す場合があることに注意を要する。
【００１９】
図１は、電気光学装置の一例である液晶表示装置に本発明を適用した場合の、その液晶表示装置の主要部の断面構造を示している。図１において、液晶表示装置１は、カラーフィルタ基板２と、対向基板３とを有する。これらの基板は間隙Ｇが空くようにシール材（図示せず）によって貼り合わされる。間隙Ｇはセルギャップとも呼ばれるものであり、この間隙は一方の基板の表面にランダムに分散された球状のスペーサや、フォトリソグラフィ処理によって一方の基板の表面に形成された柱状のスペーサ等によって所定の寸法に保持される。セルギャップＧの中には電気光学物質としてのＳＴＮ液晶が封入されて液晶層４が形成されている。
【００２０】
カラーフィルタ基板２は、ガラス、プラスチック等といった透光性の材料によって形成された第１の透光性基板２ａを有する。この第１透光性基板２ａは矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形に形成されている。この透光性基板２ａの内側表面、すなわち液晶側表面には、図２に示すように、複数の第１遮光膜６と複数の着色要素７とから成るカラーフィルタ層８が設けられ、その上にオーバーコート層９が形成され、その上に帯状の第１電極１１が形成され、そしてその上に配向膜１２ａが形成されている。
【００２１】
複数の第１遮光膜６は、それぞれが行方向Ｘに延び、列方向Ｙに互いに間隔をおいて平行に設けられている。第１遮光膜６は、例えば、Ｃｒ等といった遮光性の金属材料を材料としてフォトエッチング処理によって形成される。また、第１遮光膜６は、例えば、異なる色の着色要素７を積層することによって形成することもできる。着色要素７は、Ｂ（青色）、Ｇ（緑色）、Ｒ（赤色）の３色のうちの１色を透過させる材料によって形成される。また、着色要素７は、例えば、それらの色の顔料や染料を含んだ感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成される。
【００２２】
オーバーコート層９は、例えば、アクリル，ポリイミド等といった樹脂やシリコン酸化膜等を印刷することによって形成される。第１帯状電極１１は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料としてフォトエッチング処理によって所定形状に形成される。また、配向膜１２ａは、例えば、ポリイミド系の樹脂を印刷することによって形成される。この配向膜１２ａに配向処理、例えばラビング処理が施され、カラーフィルタ基板２の近傍の液晶層４の初期配向が決められる。
【００２３】
図１に戻って、カラーフィルタ基板２に対向する対向基板３は、ガラス、プラスチック等といった透光性の材料によって形成された第２の透光性基板３ａを有する。この第２透光性基板３ａは、第１透光性基板２ａと同様に、矢印Ａから見て長方形又は正方形に形成されている。この透光性基板３ａの内側表面、すなわち液晶側表面には、図３に示すように、複数の第２遮光膜１３が形成され、その上にオーバーコート層１４が設けられ、その上に帯状の第２電極１６が形成され、そしてその上に配向膜１２ｂが形成されている。
【００２４】
複数の第２遮光膜１３は、それぞれが列方向Ｙに延び、行方向Ｘに互いに間隔をおいて平行に設けられている。つまり、カラーフィルタ基板２上の第１遮光膜６と対向基板３上の第２遮光膜１３は互いに直角の位置関係になっている。第２遮光膜１３は、例えば、Ｃｒ等といった遮光性の金属材料を材料としてフォトエッチング処理によって形成される。
【００２５】
オーバーコート層１４は、例えば、アクリル，ポリイミド等といった樹脂やシリコン酸化膜等を印刷することによって形成される。第２電極１６は、例えば、ＩＴＯを材料としてフォトエッチング処理によって所定形状に形成される。また、配向膜１２ｂは、例えば、ポリイミド系の樹脂を印刷することによって形成される。この配向膜１２ｂに配向処理、例えばラビング処理が施され、対向基板３の近傍の液晶層４の初期配向が決められる。
【００２６】
図１において、カラーフィルタ基板２と対向基板３とがシール材によって貼り合わされることは既述した。その貼り合わせの際、カラーフィルタ基板２と対向基板３とを貼り合わせる位置は予め決まっており、通常は、それらの基板の適所に設けたアライメントマークを基準にしてそれらの基板の位置合わせが行われる。カラーフィルタ基板２と対向基板３とが所定の位置関係に正確に位置決めされると、図４（ａ）に示す状態となる。
【００２７】
図４（ａ）において、カラーフィルタ基板側の第１電極１１と対向基板側の第２電極１６とが平面的に重なる領域Ｄが、表示の最小単位であるサブ画素領域Ｄを形成する。本実施形態のように、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色によってフルカラー表示を行う場合は、それらの３色分のサブ画素領域Ｄが集まって１つの画素が形成される。仮に、３色の着色要素を用いることなく、白黒表示又はその他の２色によるモノカラー表示を行う場合は、このサブ画素領域Ｄが１つの画素を形成する。
【００２８】
図４（ａ）のようにカラーフィルタ基板と対向基板とが互いに位置ずれすることなく正規の位置に合わされた場合には、サブ画素領域Ｄの位置と着色要素７の位置とが正しい位置関係に設定される。具体的には、互いに隣接する着色要素７同士の境界線が正確に、互いに隣接するサブ画素領域Ｄ同士の間の中心に位置することになる。この状態で、第１電極１１及び第２電極１６の一方に走査信号を伝送し、それらの他方にデータ信号を伝送することにより、液晶層４（図１参照）内の液晶分子の配向をサブ画素領域Ｄごとに制御して表示を行う。
【００２９】
仮に、図１の液晶表示装置１を製造する段階において、カラーフィルタ基板２と対向基板３とが位置ずれした状態で貼り合わされると、例えば、図４（ｂ）に示すように、第２電極１６を備えた対向基板３が第１電極１１を備えたカラーフィルタ基板に対して矢印Ｈ方向へ位置ずれした状態になることがある。この場合には、隣接するサブ画素領域Ｄ同士の間の領域が平面的に見て１つの着色要素７の中に入り込んでしまう状態が発生する。
【００３０】
このように基板間で位置ずれ、すなわち基板の組ずれが発生すると、従来は、図８（ｂ）に関連して説明したように、電極が存在しない領域が平面的に見て着色要素の中にずれ込み、その部分では液晶が駆動されず、それ故、当該着色要素を通過した光が外部へ抜け出て、表示のコントラストが低下するおそれがあった。これに対し、本実施形態では、図２に示したようにカラーフィルタ基板２に第１遮光膜６を設け、対向基板３に第２遮光膜１３を設けたので、つまり、両方の基板２，３のそれぞれに個別に遮光膜６，１３を設けたので、仮に図４（ｂ）のように基板間に矢印Ｈのような位置ずれが発生して、隣接するサブ画素領域Ｄ同士の間の領域が平面的に見て１つの着色要素７の中に入り込んだとしても、そのサブ画素領域Ｄ同士の間には第２遮光膜１３が設けられているので、光が外部へ抜け出ることはなく、それ故、表示のコントラストが低下することがない。
【００３１】
なお、図２に示したカラーフィルタ基板２側の第１遮光膜６の幅Ｗ０及び図３に示した対向基板３側の第２遮光膜１３の幅Ｗ１は、それらの適切な値がサブ画素領域Ｄの大きさに応じて変化するものと思われるが、図３における第２電極１６の幅が約８０μｍで、第２電極１６間の間隙が約９μｍであるとき、図２の第１遮光膜６の幅Ｗ０は約１５μｍで、図３の第２遮光膜１３の幅Ｗ１はＷ０と同じかそれよりも少し小さいことが望ましい。
【００３２】
（電気光学装置の第２実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を説明する。図５は電気光学装置の一例であって本発明の実施形態である液晶表示装置２１を示している。この液晶表示装置２１は、カラーフィルタ基板２２と、対向基板３とを有する。これらの基板はセルギャップとしての間隙Ｇが空くようにシール材（図示せず）によって貼り合わされる。このセルギャップＧの中には電気光学物質としてのＳＴＮ液晶が封入されて液晶層４が形成されている。
【００３３】
対向基板３は図１の実施形態で用いた対向基板３と同じとすることができる。また、カラーフィルタ基板２２は従来の構成として説明した図７（ａ）に示す基板を用いることができる。以下、カラーフィルタ基板２２について説明すれば、図５において、カラーフィルタ基板２２は、ガラス、プラスチック等といった透光性の材料によって形成された第１の透光性基板２２ａを有する。この第１透光性基板２２ａは矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形に形成されている。
【００３４】
この透光性基板２２ａの内側表面、すなわち液晶側表面には、図６に示すように、第１遮光膜２６と複数の着色要素７とから成るカラーフィルタ層２８が設けられ、その上にオーバーコート層９が形成され、その上に帯状の第１電極１１が形成され、そしてその上に配向膜１２ａが形成されている。
【００３５】
第１遮光膜２６は、平面図に示すように、マトリクス状に並ぶ複数のドット形状の着色要素７の間を埋める格子状に形成されている。この第１遮光膜２６は、例えば、Ｃｒ等といった遮光性の金属材料を材料としてフォトエッチング処理によって形成される。また、第１遮光膜２６は、例えば、異なる色の着色要素７を積層することによって形成することもできる。着色要素７は、Ｂ（青色）、Ｇ（緑色）、Ｒ（赤色）の３色のうちの１色を透過させる材料によって形成される。また、着色要素７は、例えば、それらの色の顔料や染料を含んだ感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成される。
【００３６】
オーバーコート層９は、例えば、アクリル，ポリイミド等といった樹脂やシリコン酸化膜等を印刷することによって形成される。第１帯状電極１１は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料としてフォトエッチング処理によって所定形状に形成される。また、配向膜１２ａは、例えば、ポリイミド系の樹脂を印刷することによって形成される。この配向膜１２ａに配向処理、例えばラビング処理が施され、カラーフィルタ基板２の近傍の液晶層４の初期配向が決められる。
【００３７】
図２に示した先の実施形態では、カラーフィルタ基板２側の第１遮光膜６を帯状の遮光膜、すなわちブラックストライプとした。これに対し、図６に示す本実施形態では、カラーフィルタ基板２２側の第１遮光膜２６を格子状の遮光膜として形成している。カラーフィルタ基板２２側の遮光膜を格子状にした場合でも、カラーフィルタ基板２２及び対向基板３の両方に遮光膜を設けることにより、カラーフィルタ基板２２と対向基板３との間で組ずれが発生したときに、液晶表示装置２１によって実現される表示のコントラストが低下することを防止できる。
【００３８】
なお、本実施形態では図６に示したように遮光膜２６を行方向Ｘ及び列方向Ｙの両方向へ延びるように設けている。一方、図２の実施形態では、遮光膜６は行方向Ｘに延びるものだけが設けられているだけで、列方向Ｙに延びる遮光膜は設けられていない。換言すれば、色の異なる複数の着色要素７が遮光膜６の延びる方向へ連続してつなげられて設けられている。液晶表示装置によって実現される表示の輝度、すなわち明るさのことを考えれば、図２の実施形態のように列方向Ｙに関しては遮光膜を設けないことにして、その分だけ着色要素７の面積を大きくした方が、より高い輝度を得られると思われる。
【００３９】
（液晶表示装置に関する他の実施形態）
以上の実施形態はスイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶表示装置に本発明を適用したものであるが、本発明は２端子型の非線形抵抗素子、例えばＴＦＤ（Thin Film Diode）素子を用いる構成の液晶表示装置にも適用できる。この液晶表示装置では、一方の基板上に帯状電極が設けられ、それに対向する基板上にドット状の画素電極が設けられる。
【００４０】
（電子機器の実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
【００４１】
図９は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、液晶表示装置１２１と、これを制御する制御回路１２０とを有する。制御回路１２０は、表示情報出力源１２４、表示情報処理回路１２５、電源回路１２６及びタイミングジェネレータ１２７によって構成される。そして、液晶表示装置１２１は液晶パネル１２２及び駆動回路１２３を有する。
【００４２】
表示情報出力源１２４は、ＲＡＭ(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１２７により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１２５に供給する。
【００４３】
次に、表示情報処理回路１２５は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１２３へ供給する。ここで、駆動回路１２３は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１２６は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。
【００４４】
液晶表示装置１２１は、例えば、図１に示す液晶表示装置１を用いて構成できる。この液晶表示装置によれば、互いに対向する一対の基板の両方に遮光膜を設けたので、互いに対向する一対の電極が基板の組ずれによって相対的に位置ずれした場合でも、光が抜け出てしまう領域が発生することがなくなる。このため、基板が組ずれの状態で液晶表示装置が製造された場合でも、その液晶表示装置によって表示される画像においてコントラストが低下することを防止できる。従って、この液晶表示装置を用いて構成される電子機器においても、常に、コントラストの高い鮮明な表示を提供できる。
【００４５】
次に、図１０は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機１３０は、本体部１３１と、これに開閉可能に設けられた表示体部１３２とを有する。液晶表示装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置１３３は、表示体部１３２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１３２において表示画面１３４によって視認できる。本体部１３１には操作ボタン１３６が配列されている。
【００４６】
表示体部１３２の一端部にはアンテナ１３７が伸縮自在に取付けられている。表示体部１３２の上部に設けられた受話部１３８の内部には、図示しないスピーカが配置される。また、本体部１３１の下端部に設けられた送話部１３９の内部には図示しないマイクが内蔵されている。表示装置１３３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１３１又は表示体部１３２の内部に格納される。
【００４７】
表示装置１３３は、例えば、例えば、図１に示す液晶表示装置１を用いて構成できる。この液晶表示装置によれば、互いに対向する一対の基板の両方に遮光膜を設けたので、互いに対向する一対の電極が基板の組ずれによって相対的に位置ずれした場合でも、光が抜け出てしまう領域が発生することがなくなる。このため、基板が組ずれの状態で液晶表示装置が製造された場合でも、その液晶表示装置によって表示される画像においてコントラストが低下することを防止できる。従って、この液晶表示装置を用いて構成される電子機器においても、常に、コントラストの高い鮮明な表示を提供できる。
【００４８】
（変形例）
なお、電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明に係る電気光学装置の一実施形態の要部を示す断面図である。
【図２】図１の装置で用いられるカラーフィルタ基板の平面構造及び断面構造を示す図である。
【図３】図１の装置で用いられる対向基板の平面構造及び断面構造を示す図である。
【図４】図２の基板と図３の基板を貼り合わせた状態を示し、特に（ａ）は組ずれのない状態を示し、（ｂ）は組ずれが発生した状態の一例を示している。
【図５】本発明に係る電気光学装置の他の実施形態の要部を示す断面図である。
【図６】図５の装置で用いられるカラーフィルタ基板の平面構造及び断面構造を示す図である。
【図７】従来の電気光学装置で用いられる基板を示し、特に（ａ）はカラーフィルタ基板の一部を示し、（ｂ）は対向基板の一部を示している。
【図８】図７の基板を貼り合わせた状態を示し、特に（ａ）は組ずれのない状態を示し、（ｂ）は組ずれが発生した状態の一例を示している。
【図９】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図１０】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５０】
１．液晶表示装置（電気光学装置）、  ２．カラーフィルタ基板、
２ａ，３ａ.透光性基板、  ３．対向基板、  ４．液晶層、  ６．第１遮光膜、
７．着色要素、  ８．カラーフィルタ層、  ９．オーバーコート層、
１１．第１帯状電極、  １２ａ，１２ｂ．配向膜、  １３．第２遮光膜、
１４．オーバーコート層、  １６．第２電極、  ２１．液晶表示装置（電気光学装置）、
２２．カラーフィルタ基板、  ２６．第１遮光膜、  ２８．カラーフィルタ層、
１２１．液晶表示装置（電気光学装置）
【図１】
2006276109.tif 000003
【図２】
2006276109.tif 000004
【図３】
2006276109.tif 000005
【図４】
2006276109.tif 000006
【図５】
2006276109.tif 000007
【図６】
2006276109.tif 000008
【図７】
2006276109.tif 000009
【図８】
2006276109.tif 000010
【図９】
2006276109.tif 000011
【図１０】
2006276109.tif 000012