(57)【要約】      （修正有）【課題】複数段からなる基板用棚部を有する基板の焼成処理装置において、エネルギー効率がよく、設備コストおよびランニングコストを低減できる基板焼成装置を提供する。【解決手段】内部に焼成室Ｖが形成されてなる焼成炉２０と、この焼成炉に向けて基板を搬送する上流側搬送路と、焼成炉から導出された焼成処理済の基板を受け取って搬送する下流側搬送路とを有し、焼成炉には、上流側搬送路によって搬送されてくる基板を順次受け入れて保持する複数段の基板収納棚段３４を備えた基板収納装置３０と、この基板収納装置を昇降させる昇降装置４０とが内装され、昇降装置は、焼成処理の完了した基板が収納されている基板収納棚段を下流側搬送路と対向する位置に向かわせるべく基板収納装置を順次昇降させる。【選択図】図１
2006084109.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に空間を有するとともに、側壁に基板搬入搬出部とが形成された焼成炉と、前記基板搬入搬出部に接続され、前記焼成炉に基板を搬送する上流側搬送路と、前記基板搬入搬出部に接続され、焼成後の基板を下流に搬送する下流側搬送路とを備え、
前記焼成炉は、内部に基板を保持する複数段からなる棚部と、前記棚部を段毎に昇降する昇降機構とを備えたことを特徴とする基板焼成装置。
【請求項２】
前記基板搬入搬出部は、基板を搬入する基板搬入部と、基板を搬出する基板搬出部とからなり、
前記基板搬入部および基板搬出部は、基板が通過可能な寸法を有する開口と、この開口の開閉を行う開閉部とからなることを特徴とする請求項１記載の基板焼成装置。
【請求項３】
前記棚部の各段部は、前記上流側搬送路および下流側搬送路における基板搬送方向に並設された複数の搬送ローラと、この搬送ローラの少なくとも１つを回転させる駆動源とを備えたことを特徴とする請求項１または２記載の基板焼成装置。
【請求項４】
前記基板搬入部と基板搬出部とは前記一の側壁の上下に形成され、
前記上流側搬送路および下流側搬送路は上下に配設されていることを特徴とする請求項３記載の基板焼成装置。
【請求項５】
基板を受け渡しする基板受渡し手段を備え、
前記基板受渡し手段は、前記上流側搬送路と前記基板搬入搬出部との間、かつ前記下流側搬送路と前記基板搬入搬出部との間に配置され、前記上流側搬送路と前記棚部との間で、および前記下流側搬送路と前記棚部との間で基板の受け渡しを行うことを特徴とする請求項１または２記載の基板焼成装置。
【請求項６】
前記上流側搬送路と下流側搬送路とは略直線状に配置されていることを特徴とする請求項５記載の基板焼成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に対し焼成処理を施す基板焼成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、特許文献１に記載されているような基板の熱処理装置（基板焼成装置）が知られている。この熱処理装置は、基板に熱処理（焼成処理）を施す加熱炉と、この加熱炉内に複数段で設けられ、加熱炉に対し各段毎に基板を搬入出し得る搬送ラックと、加熱炉を昇降させる昇降装置とを備えて構成されている。加熱炉の上流側と下流側の所定高さ位置には、上流側搬送路と下流側搬送路とが配設されている。
【０００３】
かかる熱処理装置は、昇降装置により加熱炉を昇降させ、空いている搬送ラックを上流側搬送路に対向させることで基板を加熱炉内に受け入れる動作を繰り返すことにより全ての搬送ラックに基板を収納するようになっている。そして、加熱炉を昇降させながら各段の搬送ラックに基板を保持させていく過程で加熱炉に最初に受け入れた基板から順番に焼成処理が完了していくため、昇降装置により焼成処理が完了した基板を保持する搬送ラックを下流側搬送ラックに対向させて順次搬出させるようになっている。
【特許文献１】特開２００３−３１７６２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の基板の熱処理装置にあっては、加熱炉を昇降させなければならず、そのために加熱炉に各段毎の基板搬入出用の開口とシャッタとを設ける必要があり、かつ、昇降装置が大規模なものになって設備コストの高騰を余儀なくされ、さらに昇降動作のために多大のエネルギーが消費され、ランニングコストも嵩むという問題点を有している。
【０００５】
本発明は、かかる状況に鑑みなされたものであって、基板の焼成処理の効率化を達成した上で設備コストおよびランニングコストの低減化に寄与することができる基板焼成装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１記載の発明は、内部に空間を有するとともに、側壁に基板搬入搬出部とが形成された焼成炉と、前記基板搬入搬出部に接続され、前記焼成炉に基板を搬送する上流側搬送路と、前記基板搬入搬出部に接続され、焼成後の基板を下流に搬送する下流側搬送路とを備え、前記焼成炉は、内部に基板を保持する複数段からなる棚部と、前記棚部を段毎に昇降する昇降機構とを備えたことを特徴とするものである。
【０００７】
かかる構成によれば、焼成炉内に設けられた各段の棚部に上流側搬送手段から搬入されることにより順次保持されていった基板は、焼成炉内の焼成雰囲気に曝されることにより順次焼成処理が施されていく。焼成処理が完了した基板を保持している棚部は、昇降装置の駆動により昇降されて下流側搬送手段と対向され、この状態で当該棚部に保持されていた基板が下流側搬送手段に移されていく。空になった棚部の高さ位置を変更して上流側搬送手段に合わされることで上流側から搬送されてきた基板を搬入し得ることになる。このように棚部の昇降によって基板を上流側搬送手段から焼成炉を介して下流側搬送手段に向けて通常の搬送速度で送り込みつつ焼成炉での焼成処理を複数枚同時に実行することが可能になり、基板の焼成処理効率の向上やタクトタイムの短縮が図られる。
【０００８】
そして、昇降装置は、棚部のみを昇降させるようになされているため、従来の焼成炉そのものを昇降させるものに比べて簡素な構造となり、その分設備コストが低減化されるとともに、焼成炉そのものを昇降させる場合に比較し、エネルギーコストが低減化される。
【０００９】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記基板搬入搬出部は、基板を搬入する基板搬入部と、基板を搬出する基板搬出部とからなり、前記基板搬入部および基板搬出部は、基板が通過可能な寸法を有する開口と、この開口の開閉を行う開閉部とからなることを特徴とするものである。
【００１０】
かかる構成によれば、開口を開閉部によって閉止することで焼成炉内が密封されるので、基板に効率的に焼成処理が施される。
【００１１】
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の発明において、前記棚部の各段部は、前記上流側搬送路および下流側搬送路における基板搬送方向に並設された複数の搬送ローラと、この搬送ローラの少なくとも１つを回転させる駆動源とを備えたことを特徴とするものである。
【００１２】
かかる構成によれば、上流側搬送手段から棚部へ向かわされる基板は、棚部に設けられている駆動源の駆動による搬送ローラの回転によって棚部上に搬入されるとともに、基板を棚部から下流側搬送手段に向けて搬出するに際しても駆動源の駆動による搬送ローラの回転で棚部上の基板が下流側搬送手段へ向けて搬出される。
【００１３】
このように、棚部に基板搬送方向に並設された基板を載置する複数本の搬送ローラと、この搬送ローラを駆動する駆動源を設けることによって、特に作業ロボットなどの基板搬出入装置を設けなくても基板を棚部に対して搬出入することが可能になり、設備コストが低減化する。
【００１４】
請求項４記載の発明は、請求項３記載の発明において、前記基板搬入部と基板搬出部とは前記一の側壁の上下に形成され、前記上流側搬送路および下流側搬送路は上下に配設されていることを特徴とするものである。
【００１５】
かかる構成によれば、上流側搬送手段と下流側搬送手段とを上下で互いに対向するように敷設することにより、基板焼成装置を設置するための敷地面積が少なくて済む。
【００１６】
請求項５記載の発明は、請求項１または２記載の発明において、基板を受け渡しする基板受渡し手段を備え、前記基板受渡し手段は、前記上流側搬送路と前記基板搬入搬出部との間、かつ前記下流側搬送路と前記基板搬入搬出部との間に配置され、前記上流側搬送路と前記棚部との間で、および前記下流側搬送路と前記棚部との間で基板の受け渡しを行うことを特徴とするものである。
【００１７】
かかる構成によれば、上流側搬送手段から送り込まれてくる基板は、基板受渡し手段の所定の動作によって棚部に移されるとともに、棚部に収納されていた基板は、基板受渡し手段の所定の動作によって下流側搬送手段に移されるため、上流側搬送手段および下流側搬送手段を同一平面上で対向配置させる等のレイアウト上の制約を必要最小限にすることができ、装置設計におけるレイアウト上の自由度が向上する。
【００１８】
請求項６記載の発明は、請求項５記載の発明において、前記上流側搬送路と下流側搬送路とは略直線状に配置されていることを特徴とするものである。
【００１９】
かかる構成によれば、上流側搬送手段と下流側搬送手段とを略直線状に配置しているため、基板受渡し手段の動作範囲を狭くすることが可能になり、基板受渡し手段の構造を簡単なものにした上で、焼成炉に対する基板の搬入出が確実に行われる。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１記載の発明によれば、昇降装置は、焼成炉の基板焼成室内の棚部のみを昇降させるようになされているため、従来の焼成炉そのものを昇降させるものに比べて簡素な構造にすることができ、その分設備コストの低減化に貢献することができるとともに、焼成炉そのものを昇降させる場合に比較し、エネルギーコストの低減化にも寄与することができる。
【００２１】
請求項２記載の発明によれば、焼成炉に設けられた開口を密閉状態で閉止し得る開閉部が設けられているため、この開閉部の閉止で焼成炉内を密封することができ、効率的な焼成処理を実現することができる。
【００２２】
請求項３記載の発明によれば、棚部に基板搬送方向に並設された基板を載置する複数本の搬送ローラと、この搬送ローラを駆動する駆動源を設けることによって、特に作業ロボットなどの基板搬出入装置を設けなくても基板を棚部に対して搬出入することができ、設備コストの低減化に貢献することができる。
【００２３】
請求項４記載の発明によれば、上流側搬送手段と下流側搬送手段とが上下で互いに対向するように敷設することができるため、基板焼成装置を設置するための敷地面積を少なくしてその分敷地の有効利用を図ることができる。
【００２４】
請求項５記載の発明によれば、基板の棚部に対する搬入出が基板受渡し手段の所定の動作によって行われるため、上流側搬送手段および下流側搬送手段を同一平面上で対向配置させる等のレイアウト上の制約が必要最小限になり、これによって装置建設におけるレイアウト上の自由度が向上し、基板焼成装置をローカルコンディションに応じて適正に配設することができる。
【００２５】
請求項６記載の発明によれば、上流側搬送手段と下流側搬送手段とを略直線状に配置しているため、基板受渡し手段の動作範囲を狭くすることが可能になり、基板受渡し手段の構造を簡単なものにした上で、焼成炉に対する基板の搬入出を確実に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１は、本発明に係る第１実施形態の基板焼成装置１０を示す一部切り欠き斜視図であり、図２は、図１に示す基板焼成装置１０のＡ−Ａ線断面図である。なお、これらの図において、Ｘ−Ｘ方向を幅方向、Ｙ−Ｙ方向を前後方向といい、特に−Ｘ方向を左方、＋Ｘ方向を右方、−Ｙ方向を前方、＋Ｙ方向を後方という。
【００２７】
図１および図２に示すように、第１実施形態の基板焼成装置１０は、基板Ｂに所定の焼成処理を施すための上下方向に長尺の箱形を呈した焼成炉２０と、この焼成炉２０に昇降可能に内装された基板収納装置（棚部）３０と、この基板収納装置３０を昇降させる昇降装置４０と、焼成炉２０内に高温の非酸化性ガス（本実施形態では窒素ガス）を供給するガス供給部５０と、焼成炉２０内での焼成処理に先立って基板Ｂに所定の前処理を施す前処理装置６０と、焼成炉２０内における焼成処理が完了した基板Ｂに所定の後処理を施す後処理装置７０とを備えた基本構成を有している。
【００２８】
前記焼成炉２０は、平面視で長方形状を呈した底板２１と、この底板２１の幅方向の各縁部から立設された幅方向一対の側板２２と、底板２１の前縁部から立設された前板２３と、底板２１の後縁部から立設された後板２４と、これら側板２２、前板２３および後板２４の上縁部間に架設された天板２５とを備えて上下方向に長尺の箱状に形成され、内部に基板Ｂを焼成するための焼成室（空間）Ｖが設けられている。この焼成室Ｖにガス供給部５０からの高温の非酸化性ガスＧが導入されることにより、基板収納装置３０に保持されている基板Ｂに焼成処理が施されるようになっている。
【００２９】
かかる焼成炉２０の前板２３の底部には、非酸化性ガスＧを導入するためのガス導入孔２３１が設けられているとともに、同天板２５には、非酸化性ガスＧを導出するための導出孔２５１が設けられ、ガス供給部５０から供給された非酸化性ガスＧは、これらガス導入孔２３１および導出孔２５１を介して循環するようになっている。
【００３０】
また、焼成室Ｖの四隅には、アングル材からなる上下方向に延びたガイドレール２６がそれぞれ設けられ、基板収納装置３０は、各四隅部がこれらガイドレール２６ガイドされつつ昇降し得るようになっている。
【００３１】
また、焼成炉２０の後板（一の側壁）２４における上下方向の中央位置より若干上方位置には、前処理装置６０からの基板Ｂを焼成室Ｖ内の基板収納装置３０に搬入するための搬入口（開口、基板搬入部）２７が設けられているとともに、同若干下方位置には、基板収納装置３０からの焼成処理済の基板Ｂを後処理装置７０へ向けて搬出するための搬出口（開口、基板搬出部）２８が設けられている。
【００３２】
前記基板収納装置３０は、底板２１より若干小さい長方形状のボトムボード３１と、このボトムボード３１と同一サイズのトップボード３２と、これらボトムボード３１およびトップボード３２の各隅部間に介設された角材からなる４本の支柱３３と、各支柱３３に支持された状態で形成された複数段の基板収納棚段（段部）３４とを備えて構成されている。各支柱３３は、前記各ガイドレール２６の内側にそれぞれ当接され、これによって基板収納装置３０は、ガイドレール２６と摺動しながら昇降し得るようになっている。
【００３３】
かかる基板収納装置３０は、上下寸法が焼成炉２０の底板２１と天板２５との間の内寸法の１／２より若干短めに設定され、これによって最下位置に位置した状態で、最上段の基板収納棚段３４が搬出口２８と対向するとともに、最上位置に設定された状態で最下段の基板収納棚段３４が搬入口２７と対応し得るようになっている。これにより基板収納装置３０の高さ位置を調節することで全ての段の基板収納棚段３４が搬入口２７および搬出口２８と対向し得るようになっている。
【００３４】
図３は、基板収納棚段３４の一実施形態を示す斜視図である。この図に示すように、基板収納棚段３４は、前後で互いに対向した支柱３３間に架設される幅方向一対の横梁材３４１と、幅方向で互いに対向した支柱３３間に架設される横梁材３４１と同一高さレベルの前後方向一対の縦梁材３４２と、横梁材３４１間に等ピッチで架設される複数本（本実施形態においては５本）の棚部搬送ローラ３５と、一方の横梁材３４１に装着された前記棚部搬送ローラ３５を駆動する駆動モータ（駆動源）３６とを備えて構成されている。
【００３５】
前記棚部搬送ローラ３５は、一対の横梁材３４１間に架設されたローラ軸３５１回りに同心で一体回転可能に軸支されている。また、前記駆動モータ３６は、本実施形態においては、最前列の棚部搬送ローラ３５に対応した状態で左方の横梁材３４１に固定され、この駆動モータ３６の図略の駆動軸が最前列の棚部搬送ローラ３５のローラ軸３５１に同心で一体回転可能に連結されている。したがって、駆動モータ３６の駆動回転は、駆動軸およびローラ軸３５１を介して最前列の棚部搬送ローラ３５に伝達され、これによって最前列の棚部搬送ローラ３５がローラ軸３５１回りに共回りするようになっている。
【００３６】
そして、一方の横梁材３４１（本実施形態においては左方の横梁材３４１）と棚部搬送ローラ３５の端面との間にはギヤ機構３７が介設され、駆動モータ３６の駆動回転は、このギヤ機構３７によって最前列以外の各棚部搬送ローラ３５へ伝達されるようになっている（最前列の棚部搬送ローラ３５は、ギヤ機構３７を介することなく棚部搬送ローラ３５の駆動力が直接伝達される）。
【００３７】
ギヤ機構３７は、最前列のローラ軸３５１に同心で一体回転可能に外嵌された駆動ギヤ３７１と、最前列以外のローラ軸３５１にそれぞれ同心で一体回転可能に外嵌された従動ギヤ３７２と、駆動ギヤ３７１とこの駆動ギヤ３７１の隣の従動ギヤ３７２との間および各従動ギヤ３７２間に介設されたアイドルギヤ３７３とを備えて構成されている。したがって、駆動モータ３６の駆動回転は、駆動ギヤ３７１およびアイドルギヤ３７３を介して各従動ギヤ３７２に伝達され、これによって全ての棚部搬送ローラ３５が同一方向へ向けて一斉に回転するようになっている。
【００３８】
そして、搬入口２７（図２）を介して基板Ｂを基板収納棚段３４に受け入れるに際しては、駆動モータ３６が図３における時計方向へ駆動回転され、これにより基板Ｂは各棚部搬送ローラ３５の時計方向へ向かう回転に誘導されて基板収納棚段３４上に搬入される一方、基板収納棚段３４上に載置された基板Ｂを搬出口２８（図２）を介して搬出するに際しては、駆動モータ３６が図３における反時計方向へ駆動回転され、これにより基板収納棚段３４上の基板Ｂは、各棚部搬送ローラ３５の反時計方向へ向かう回転に誘導され、搬出口２８を通って後処理装置７０へ向け搬出されることになる。
【００３９】
前記昇降装置４０は、図１および図２に示すように、焼成炉２０が据え付けられたフロアの下方位置に縦置きで配設される昇降モータ４１と、この昇降モータ４１の駆動軸４１１に同心で一体回転可能に連結されたスプライン軸４２と、このスプライン軸４２に同心で一体回転、かつ、昇降可能に外嵌されたスパイラルロッド４３と、このスパイラルロッド４３が螺着可能なように焼成炉２０の底板２１の下面側に固定されたナット部材４４と、基板収納装置３０のボトムボード３１の下面中央位置に固定され、スパイラルロッド４３の頂部が摺接状態で嵌入される円筒体４５とを備えて構成されている。
【００４０】
前記昇降モータ４１は、円筒体４５の直下位置に据え付けられているとともに、スパイラルロッド４３は、ナット部材４４に螺着された状態で底板２１を貫通して焼成室Ｖ内に侵入され、この状態で頂部が円筒体４５に相対回転可能に嵌入されている。前記スパイラルロッド４３は、基板収納装置３０の上下外寸法と略同一に長さ設定されているとともに、前記スプライン軸４２は、スパイラルロッド４３より若干長めに長さ設定されている。
【００４１】
かかる昇降装置４０によれば、ローラ軸４１の駆動でスプライン軸４２を軸心回りに回転させることにより、この回転はスパイラルロッド４３に伝達されてスパイラルロッド４３も軸心回りに回転する。そして、スパイラルロッド４３は、ナット部材４４に螺着されているため、その回転によって昇降することになり、この昇降は、円筒体４５を介して基板収納装置３０に伝達され、基板収納装置３０が昇降することになる。
【００４２】
前記ガス供給部５０は、非酸化性ガスＧを貯留するガスタンク等のガス源５１と、このガス源５１からの非酸化性ガスＧを加熱し焼成室Ｖ内にこの加熱された非酸化性ガスＧを供給して基板Ｂに焼成処理を施す焼成ガス供給部５２と、前記前処理装置６０および後処理装置７０にガス源５１からの非酸化性ガスＧを供給して前処理装置６０および後処理装置７０内を非酸化性ガス雰囲気にする雰囲気ガス供給部５３とを備えている。
【００４３】
前記焼成ガス供給部５２は、前記ガス源５１から焼成炉２０のガス導入孔２３１へ向けて配管された加熱ガス供給管５２１に設けられた第１送気ブロワ５２２と、この第１送気ブロワ５２２の下流側に設けられた温調装置５２３と、この温調装置５２３の下流側に設けられた第１制御弁５２４と、焼成炉２０の天板２５の導出孔２５１から第１送気ブロワ５２２と温調装置５２３との間の加熱ガス供給管５２１へ配管されたガス回収管５２５とを備えて構成されている。
【００４４】
前記温調装置５２３は、非酸化性ガスＧの温度を基板Ｂの焼成処理に適した温度に温度調節するものであり、本実施形態においては、第１送気ブロワ５２２の駆動でガス源５１から加熱ガス供給管５２１を介して導出された非酸化性ガスＧを、基板Ｂの焼成処理に適した温度である２５０℃〜３５０℃に加熱するようになされている。この加熱処理後の非酸化性ガスＧは、第１制御弁５２４を介して焼成炉２０の焼成室Ｖ内に導入され、その気流が基板収納装置３０の各段の基板収納棚段３４に載置されている基板Ｂと接触することにより当該基板Ｂに焼成処理を施すようになされている。
【００４５】
また、本実施形態においては、第１制御弁５２４の開度が制御されることによる非酸化性ガスＧの焼成室Ｖ内への導入量の調節によって焼成室Ｖ内の圧力が常圧に設定されているが、本発明は、焼成室Ｖ内が常圧であることに限定されるものではなく、状況に応じて常圧より高圧の正圧にしたり、常圧より低圧の負圧に設定してもよい。
【００４６】
焼成室Ｖ内で基板Ｂの焼成処理に供された後の非酸化性ガスＧは、ガス回収管５２５を介して第１送気ブロワ５２２と温調装置５２３との間の加熱ガス供給管５２１へ戻され循環使用される。
【００４７】
前記雰囲気ガス供給部５３は、前記ガス源５１（ガス源５１は焼成ガス供給部５２と雰囲気ガス供給部５３とで共用される）と、このガス源５１と前記前処理装置６０および後処理装置７０との間に配管された雰囲気ガス供給管５３１と、この雰囲気ガス供給管５３１の適所に設けられた第２送気ブロワ５３２とを備えて構成されている。前処理装置６０および後処理装置７０に供給された非酸化性ガスＧは、前処理装置６０および後処理装置７０を非酸化性ガス雰囲気にした上で外部へ排出されるようになっている。
【００４８】
前記前処理装置６０は、下流端（前端）が焼成炉２０の搬入口２７と対向するように後板２４に固定された前後方向に長尺の上部筐体６１と、この上部筐体６１内に上流（前方）側から順次形成された上流側置換室６２、第１ＵＶ室６３および第２ＵＶ室６４とを備えて構成されている。これら各室６２，６３，６４には、上部筐体内搬送ローラ６５が基板搬送方向に沿って並設されている。各上部筐体内搬送ローラ６５は、図略の搬送モータの駆動で同期回転するようになされている。そして、これら上部筐体内搬送ローラ６５と上部筐体６１の後方に並設された上流側搬送ローラ１１とで基板Ｂを焼成炉２０へ向けて搬送する上流側搬送路１２が形成されている。
【００４９】
前記上流側置換室６２は、外部から侵入した酸素を含むの気体をガス源５１からの非酸化性ガスＧと置換して前処理装置６０内を非酸化性ガス雰囲気にするためのものである。かかる上流側置換室６２の上流壁にはその基板搬入口を開閉する所定の軸回りに回動自在に軸支された開閉可能のシャッタ（開閉部）６６が設けられているとともに、上流側置換室６２と第１ＵＶ室６３との間の仕切壁には、上下動で基板通過口を開閉するシャッタ６６より密閉度が高いゲートバルブ（開閉部）６７が設けられている。
【００５０】
そして、下流端のゲートバルブ６７が閉じられ、かつ、上流端のシャッタ６６が開かれた上流側置換室６２に基板Ｂが搬入された状態で雰囲気ガス供給管５３１の下流端に設けられた第２制御弁５３３が開弁されることにより、上流側置換室６２内の気体が非酸化性ガスＧと置換されるようになっている。
【００５１】
前記第１ＵＶ室６３および第２ＵＶ室６４は、基板Ｂに第１次および第２次の紫外線照射処理を施すたのものであり、それぞれ内部に紫外線ランプ６８が設けられている。かかる第１ＵＶ室６３と第２ＵＶ室６４との間の仕切壁、および第２ＵＶ室６４の下流端の後板２４には、それぞれ基板通過口および搬入口２７を開閉するためのシャッタ６６が設けられている。これらの第１および第２ＵＶ室６３，６４にも、雰囲気ガス供給管５３１から分岐した支管を介してガス源５１からの非酸化性ガスＧが供給され、これによって第１および第２ＵＶ室６３，６４内は常に非酸化性ガス環境になっている。
【００５２】
そして、第２ＵＶ室６４で第２次の紫外線照射処理が施された基板Ｂは、下流端のシャッタ６６が開放された状態で、上部筐体内搬送ローラ６５の駆動回転および棚部搬送ローラ３５の駆動回転に誘導されて基板収納装置３０の基板収納棚段３４に搬入されるようになっている。
【００５３】
前記後処理装置７０は、焼成炉２０の焼成室Ｖ内において基板収納棚段３４に載置された状態で焼成処理が施された基板Ｂに所定の後処理を施すものであり、上部筐体６１の若干下方位置で上流端（前端）が焼成炉２０の搬出口２８と対向するように後板２４に固定された前後方向に長尺の下部筐体７１と、この下部筐体７１内に上流（前方）側から順次形成された第１冷却室７２、第２冷却室７３および下流側置換室７４とを備えて構成されている。これら各室７２，７３，７４には、下部筐体内搬送ローラ７５が基板搬送方向に沿って並設されている。各上部筐体内搬送ローラ７５は、図略の搬送モータの駆動で同期回転するようになされている。そして、これら上部筐体内搬送ローラ７５と下部筐体７１の後方に並設された下流側搬送ローラ１３とで基板Ｂを次工程へ向けて搬出する下流側搬送路１４が形成されている。
【００５４】
前記第１冷却室７２および第２冷却室７３は、基板収納装置３０の基板収納棚段３４から導出された焼成処理済の基板Ｂに対して冷却処理を施すためのものである。かかる各冷却室７２，７３の天井面にはクールプレート７６がそれぞれ固定されているとともに、下部筐体内搬送ローラ７５に支持された基板Ｂを持ち上げてクールプレート７６と当接させる基板持上げ機構７７が設けられている。
【００５５】
前記基板持上げ機構７７は、複数の下部筐体内搬送ローラ７５間に設けられた基板Ｂを支持するための複数本の基板支持ピン７７１を有している。そして、基板持上げ機構７７の駆動で基板支持ピン７７１を上昇させることにより、基板Ｂは、基板支持ピン７７１に持上げられてクールプレート７６と面接触し冷却処理が施される一方、基板持上げ機構７７の逆駆動で基板支持ピン７７１を下降させることにより基板Ｂが下部筐体内搬送ローラ７５に支持され、下部筐体内搬送ローラ７５の駆動によって搬送され得るようになっている。
【００５６】
前記各クールプレート７６には、図略の冷熱源からの冷媒が供給されるようになされており、これによって基板Ｂを冷却するための低温を維持し得るようになっている。そして、第２冷却室７３側のクールプレート７６は、第１冷却室７２側のクールプレート７６より低温とされている。したがって、焼成炉２０から搬出された基板Ｂは、第１冷却室７２で第１次の冷却処理が施された後、第２冷却室７３でこれより低温になるように第２次の冷却処理が施され、かかる２段階の冷却処理によって急激な温度変化による基板Ｂの熱破損を防止するようになされている。
【００５７】
そして、第１冷却室７２の上流端が対向した焼成炉２０の後板２４および第１および第２冷却室７２，７３間の仕切壁には、焼成炉２０から基板Ｂを搬出するための搬出口２８および基板を通過させるための通過開口を開閉するシャッタ（開閉部）７８がそれぞれ設けられている。このシャッタ７８は、前処理装置６０に設けられているシャッタ６６と同一構造のものである。
【００５８】
これに対し、第２冷却室７３と下流側置換室７４との間を仕切る仕切壁には、当該仕切壁に設けられた基板通過開口を開閉するためのゲートバルブ（開閉部）７９が設けられている。このゲートバルブ７９は、前処理装置６０に設けられているゲートバルブ６７と同一構造のものであり、高度な気密性を備えている。したがって、各ゲートバルブ６７，７９が閉止されることにより、第１ＵＶ室６３、第２ＵＶ室６４、焼成室Ｖ、第１冷却室７２および第２冷却室７３には、前処理および後処理を含めた基板焼成処理のための高度な密閉空間が形成されることになる。
【００５９】
前記下流側置換室７４は、基板Ｂを系外に搬出するに際し外部から侵入する酸素を含んだ雰囲気を非酸化性ガスＧと置換するためのものである。かかる下流側置換室７４の下流端壁には、該下流端壁に形成された基板搬出口を開閉するためのシャッタ７８が設けられている。そして、ゲートバルブ７９の開放で下流側置換室７４に基板Ｂが搬入されたのちゲートバルブ７９が閉止され、この状態でシャッタ７８を開放して基板Ｂを系外に搬出するのであるが、このとき酸素を含む外気が下流側置換室７４に侵入してきて下流側置換室７４内が酸素を含む雰囲気環境になる。そしてこの下流側置換室７４内の雰囲気は、シャッタ７８が閉止された後の非酸化性ガスＧとの置換で非酸化性ガス雰囲気に置換されることになる。
【００６０】
図４は、第１実施形態の基板焼成装置１０における焼成炉２０の作用を説明するための説明図であり、（イ）は、最初の基板Ｂが最上位の基板収納棚段３４へ搬入されつつある状態、（ロ）は、全ての基板収納棚段３４へ基板Ｂが搬入された状態、（ハ）は、最初に搬入された基板Ｂが最上位の基板収納棚段３４から搬出されつつある状態、（ニ）は、空になった基板収納棚段３４に基板Ｂを搬入させるべく基板収納装置３０が上昇しつつある状態をそれぞれ示している。
【００６１】
まず、基板焼成装置１０の操業の当初は、昇降モータ４１の駆動によって最上段の基板収納棚段３４が前処理装置６０の第２ＵＶ室６４と対向するように基板収納装置３０の高さレベルが設定される。この状態で、第２ＵＶ室６４の下流端のシャッタ６６が開放され、同時に上部筐体内搬送ローラ６５が駆動されるとともに、最上位の基板収納棚段３４の駆動モータ３６が駆動されて棚部搬送ローラ３５が回転させられる。これによって、第２ＵＶ室６４内の基板Ｂは、図４の（イ）に示すように、搬入口２７を通って基板収納棚段３４上に搬入される。そして、基板Ｂの基板収納棚段３４上への搬入が完了すると、駆動モータ３６が停止され、これによって基板Ｂが最上位の基板収納棚段３４に保持された状態になる。
【００６２】
ついで、昇降モータ４１の駆動によるスプライン軸４２を介したスパイラルロッド４３の軸心回りの回転によって基板収納装置３０が１ピッチ分だけ上昇され、上から２番目の基板収納棚段３４につぎの基板Ｂが装填され、かかる操作が繰り返されることによって、図４の（ロ）に示すように、全ての基板収納棚段３４に基板Ｂが装填された状態になる。
【００６３】
そして、本実施形態においては、昇降モータ４１は、全ての基板収納棚段３４に基板Ｂが装填された時点（すなわち１サイクルが経過した時点）で最初に装填された基板Ｂの焼成処理が完了するように時間的に駆動設定されているため、最下段の基板収納棚段３４に基板Ｂが搬入された時点で最上段の基板Ｂの焼成処理は完了している。
【００６４】
この状態で基板収納装置３０が昇降モータ４１の駆動により下降され、図４の（ハ）に示すように、最上段の基板収納棚段３４が搬出口２８と対向され、この状態で基板Ｂは、開放されたシャッタ７８を介して第１冷却室７２へ向けて搬出される。これによって最上段の基板収納棚段３４は空になる。
【００６５】
ついで、空になった最上段の基板収納棚段３４に基板Ｂを搬入するべく、基板収納装置３０は、昇降モータ４１の駆動で上昇され、これによって、図３の（ニ）に示すように、最上段の基板収納棚段３４が搬入口２７と対向させられる。この状態で第２ＵＶ室６４内の基板Ｂが最上段の基板収納棚段３４へ搬入され、このような基板Ｂの基板収納棚段３４に対する搬入出操作が最上位から２番目の基板収納棚段３４、３番目の基板収納棚段３４と順次繰り返され、これによって前処理装置６０から順次焼成炉２０へ供給される基板Ｂは、焼成炉２０内で順次連続的に焼成処理が施されて仕上がったものから順次後処理装置７０へ搬出されることになる。
【００６６】
以上詳述したように、第１実施形態に係る基板焼成装置１０は、内部に焼成室Ｖが形成されてなる焼成炉２０と、この焼成炉２０に向けて基板Ｂを搬送する上流側搬送路１２と、焼成炉２０から導出された焼成処理済の基板Ｂを受け取って搬送する下流側搬送路１４とを有し、焼成炉２０には、上流側搬送路１２によって搬送されてくる基板Ｂを順次受け入れて保持する複数段の基板収納棚段３４を備えた基板収納装置３０と、この基板収納装置３０を昇降させる昇降装置４０とが内装され、昇降装置４０は、焼成処理の完了した基板Ｂが収納されている基板収納棚段３４を下流側搬送路１４と対向する位置に向かわせるべく基板収納装置３０を順次昇降させるようになされている。
【００６７】
したがって、焼成炉２０内に設けられた基板収納装置３０の各基板収納棚段３４に上流側搬送路１２から搬入されることにより順次保持されていった基板Ｂは、焼成炉２０内の焼成雰囲気に曝されることにより順次焼成処理が施されていく。焼成処理が完了した基板Ｂを保持している基板収納棚段３４は、昇降装置４０の駆動による焼成炉２０内での基板収納装置３０の昇降によって高さ位置が下流側搬送路１４と合わされ、この状態で基板収納棚段３４に保持されていた基板Ｂが順次下流側搬送路１４に移されていく。空になった基板収納棚段３４に上流側搬送路１２によって搬送されてきた基板Ｂを昇降装置４０による基板収納装置３０の昇降動作に基づき順次搬入するようにすれば、基板Ｂを上流側搬送路１２から焼成炉２０を介して下流側搬送路１４に向けて通常の搬送速度で送り込みつつ焼成炉２０での焼成処理を実行することが可能になり、基板Ｂの焼成処理効率を向上させることができる。
【００６８】
そして、昇降装置４０は、焼成炉２０の焼成室Ｖ内の基板収納装置３０のみを昇降させるようになされているため、従来の焼成炉２０そのものを昇降させるものに比べて簡素な構造にすることができ、その分設備コストの低減化に貢献するとともに、焼成炉２０そのものを昇降させる場合に比較し、エネルギーコストの低減化にも寄与することができる。
【００６９】
また、基板収納棚段３４には、基板搬送方向に並設された基板Ｂを載置する複数本の棚部搬送ローラ３５と、この棚部搬送ローラ３５を駆動する駆動モータ３６が設けられているため、上流側搬送路１２から基板収納装置３０の基板収納棚段３４へ向かわせられる基板Ｂは、基板収納棚段３４に設けられている駆動モータ３６の駆動による棚部搬送ローラ３５の回転によって基板収納棚段３４上に搬入されるとともに、基板Ｂを基板収納棚段３４から下流側搬送路１４に向けて搬出するに際しても駆動モータ３６の駆動による棚部搬送ローラ３５の回転で基板収納棚段３４上の基板Ｂが下流側搬送路１４へ向けて搬出される。
【００７０】
このように、基板収納棚段３４に基板搬送方向に並設された基板Ｂを載置する複数本の棚部搬送ローラ３５と、この棚部搬送ローラ３５を駆動する駆動モータ３６を設けることによって、特に作業ロボットなどの基板搬出入装置を設けなくても基板Ｂを基板収納棚段３４に対して搬出入することが可能になり、設備コストの低減化に寄与することができる。
【００７１】
さらに、上流側搬送路１２と下流側搬送路１４とは、上下で互いに対向するように敷設されているため、基板焼成装置１０を設置するための敷地面積を少なくして敷地の有効利用を図ることができる。
【００７２】
図５は、本発明に係る第２実施形態の基板焼成装置１０′を示す一部切り欠き斜視図であり、図６は、図５に示す基板焼成装置１０′のＢ−Ｂ線断面図である。なお、これらの図において、Ｘ−Ｘ方向を幅方向、Ｙ−Ｙ方向を前後方向といい、特に−Ｘ方向を左方、＋Ｘ方向を右方、−Ｙ方向を前方、＋Ｙ方向を後方という。
【００７３】
図５および図６に示すように、第２実施形態の基板焼成装置１０′は、基板Ｂに所定の焼成処理を施すための上下方向に長尺の箱形を呈した焼成炉２０と、この焼成炉２０に昇降可能に内装された基板収納装置３０′（図６）と、この基板収納装置３０′を昇降させる昇降装置４０と、焼成炉２０内に高温の非酸化性ガス（本実施形態では窒素ガス）を供給するガス供給部５０と、焼成炉２０内での焼成処理に先立って基板Ｂに所定の前処理を施す前処理装置６０と、焼成炉２０内における焼成処理が完了した基板Ｂに所定の後処理を施す後処理装置７０と、基板Ｂを前処理装置６０から基板収納装置３０′へ並びに基板収納装置３０′から後処理装置７０へ搬入出する基板搬入出装置（基板受渡し手段）８０を備えた基本構成を有している。
【００７４】
基板焼成装置１０′を構成するこれら構成要素の内、焼成炉２０、昇降装置４０、ガス供給部５０、前処理装置６０および後処理装置７０については、第１実施形態のものと同様のものが採用されているのに対し、基板収納装置３０′は第１実施形態のものと若干構成上相違している。また、レイアウト的には、第１実施形態においては前処理装置６０と後処理装置７０とが上下で対向した２階建て方式であったのに対し、第２実施形態では前処理装置６０と後処理装置７０とが基板搬入出部１５を挟み同一平面上で前後方向に直列配設されている点が第１実施形態と相違している。したがって、焼成炉２０の後板２４には、第１実施形態の搬入口２７および搬出口２８に代えて基板Ｂを搬入出する１つの搬入出口２９のみが設けられている。
【００７５】
前記基板収納装置３０′は、図６に示すように、ボトムボード３１と、トップボード３２と、これら各ボード３１，３２間の四隅部に介設された４本の支柱３３と、これら支柱３３に上下方向等ピッチで支持された複数の基板収納棚段３４とを備えて構成されている点については第１実施形態の基板収納装置３０と共通しているが、各基板収納棚段３４に棚部搬送ローラ３５に代えて４本の基板支持ピン３８が立設されている点が第１実施形態の基板収納装置３０と相違している。
【００７６】
前記基板支持ピン３８は、これらを結んだ線が四辺形を形成するように基板収納棚段３４上に立設されている。かかる基板支持ピン３８は、長さ寸法が上下方向に隣設された基板収納棚段３４間の隙間寸法より相当短めに設定され、これによって基板Ｂは、各基板収納棚段３４において基板支持ピン３８上に上方の基板収納棚段３４と干渉することなく余裕をもって支持されるようになっている。
【００７７】
前記基板搬入出部１５（図７）は、前記基板搬入出装置８０が動作し得る空間を確保するためのものであり、前処理装置６０の下流端（前端）と、後処理装置７０の上流端（後端）との間に介設され、かつ、その右方に設けられた焼成炉２０に向けて延設されている。かかる基板搬入出部１５は、前処理装置６０および後処理装置７０の底部と同一高さレベルの底板１５１と、前処理装置６０および後処理装置７０の左面と面一の左面板１５２と、前処理装置６０および後処理装置７０の各右面と焼成炉２０の各側板２２の左方に突出している部分との間に架設された前後方向一対の架設板１５３と、これら一対の架設板１５３の上縁部と間から左面板１５２へ亘り、さらに側板２２の左方に突出している部分の上縁部を介して後板２４にまで延設された天板１５４とを備えている。
【００７８】
これら底板１５１、左面板１５２、一対の架設板１５３および天板１５４に囲繞された空間によって基板Ｂを中継するための中継室Ｖ１が形成されている。中継室Ｖ１は、前処理装置６０から搬入された基板Ｂをリフトするための後述のリフト機構８１が内装される基板リフト室Ｖ１１と、この基板リフト室Ｖ１１と焼成炉２０との間で基板Ｂを遣り取りする後述のロボット８５が装着されるロボット室Ｖ１２とに区分されている。基板リフト室Ｖ１１とロボット室Ｖ１２との間には仕切板１５５が設けられている。この仕切板１５５と天板１５４との間には、基板Ｂを通過させるための隙間が形成されている。
【００７９】
図７は、基板搬入出装置８０の詳細を示す斜視図である。なお、図７におけるＸおよびＹによる方向表示は図５の場合と同様である。図７に示すように、基板搬入出装置８０は、基板搬入出部１５の底板１５１における幅方向の中央部より左側に設けられた、基板Ｂを持上げるリフト機構８１と、このリフト機構８１によってリフトされた基板Ｂを焼成炉２０内の基板収納装置３０′に収納したり、基板収納装置３０′から基板Ｂを取り出してリフト機構８１に渡す動作を行うロボット（基板受渡し手段）８５とを備えて構成されている。
【００８０】
前記リフト機構８１は、前処理装置６０から中継室Ｖ１内に搬入された基板Ｂをリフトするリフト板８２と、このリフト板８２を昇降させる偏心カム機構８３と、この偏心カム機構８３を駆動する駆動機構８４とを備えて構成されている。前記リフト板８２は、略正方形状を呈し、四隅部に基板Ｂをリフトするリフトピン８２１がそれぞれ立設されている。一方、基板搬入出部１５の左面板１５２と仕切板１５５との間には、所定本数のリフト室内搬送ローラ１６が架設されている。これらのリフト室内搬送ローラ１６は、図略の駆動モータの駆動で回転されるようになっている。
【００８１】
そして、前処理装置６０から搬入されてきた基板Ｂは、リフト板８２が下方位置に位置設定された状態でリフト室内搬送ローラ１６の駆動回転によりリフトピン８２１と干渉することなく基板リフト室Ｖ１１の中央部まで搬入されるとともに、リフト板８２が上方位置に位置設定された状態で４本のリフトピン８２１が基板Ｂをリフトするようになっている。
【００８２】
前記偏心カム機構８３は、リフト板８２の下部で左面板１５２と仕切板１５５との間に架設された前後方向一対のカム軸８３１と、各カム軸８３１に一体に外嵌された１本のカム軸８３１当たり２個の偏心カム８３２とからなっている。偏心カム８３２は、円形に形成され、それぞれ同一位相になるように偏心位置が設定されている。そして、前記リフト板８２は、かかる４個の偏心カム８３２に前後左右方向に対し位置決め状態で上下動可能に支持されている。したがって、各カム軸８３１が軸心回りに回転されることにより、４個の偏心カム８３２は、偏心状態が同期しながらカム軸８３１回りに回転し、これによってリフト板８２は下方位置と上方位置との間で昇降することになる。
【００８３】
前記駆動機構８４は、基板搬入出部１５の底板１５１の前後方向中央部から左方に突設された架台１７に据え付けられたリフトモータ８４１と、このリフトモータ８４１の駆動軸８４２に同心で一体に外嵌された駆動ギヤ８４３と、前記各カム軸８３１にそれぞれ同心で一体に外嵌された従動ギヤ８４４と、各従動ギヤ８４４と前記駆動ギヤ８４３との間にそれぞれ介設されたアイドルギヤ８４５とを備えて構成されている。したがって、リフトモータ８４１が駆動されると、この駆動力は駆動軸８４２、駆動ギヤ８４３、アイドルギヤ８４５および従動ギヤ８４４を介してカム軸８３１へ伝達され、カム軸８３１の軸心回りの回転によって偏心カム８３２がカム軸８３１回りに偏心回転し、これによって偏心カム８３２に支持されているリフト板８２が下方位置と上方位置との間で昇降することになる。
【００８４】
前記ロボット８５は、ロボット室Ｖ１２の底板１５１の中央位置に下方から貫通固定されたアクチュエータ８５１と、このアクチュエータ８５１から上方に突設された回動ロッド８５２と、この回動ロッド８５２の頂部に装着された水平方向に延びる基端側アーム８５３と、この基端側アーム８５３の先端部に連結軸８５５回りに回動可能に連結された先端側アーム８５４とを備えて構成されている。
【００８５】
前記アクチュエータ８５１は、回動ロッド８５２を軸心回りに回転させる機能を備えている。また、前記基端側アーム８５３および先端側アーム８５４は、これらの内部に形成された図略のリンク機構によって連動しながら屈伸するように互いに連結されている。回動ロッド８５２の回動動作および各アーム８５３，８５４の屈伸動作は、焼成室Ｖに搬入される基板Ｂの状況（基板リフト室Ｖ１１内の基板Ｂを焼成炉２０に移送するのか、あるいは焼成炉２０内の基板Ｂを焼成室Ｖへ取り出すのか等）に応じて予め設定されている。
【００８６】
図８〜図１０は、第２実施形態の基板焼成装置１０′における基板搬入出装置８０の作用を説明するための説明図であり、図８の（イ）は、各アーム８５３，８５４がホームポジションに位置した状態、図８の（ロ）は、先端側アーム８５４が基板Ｂをすくった状態、図９の（イ）は、先端側アーム８５４が基板Ｂをロボット室Ｖ１２まで運んだ状態、図９の（ロ）は、先端側アーム８５４が基板Ｂを焼成炉２０内の基板収納装置３０′内に挿入した状態、図１０の（イ）は、先端側アーム８５４に支持された基板Ｂが基板収納棚段３４へ移された状態、図１０の（ロ）は、先端側アーム８５４が焼成炉２０から引き抜かれつつある状態をそれぞれ示している。なお、これらの図において、「ａ」は平面視の図であることを示し、「ｂ」は側面断面視の図であることを示す。
【００８７】
まず、図８の（イ）に示す状態では、前処理装置６０からリフト室内搬送ローラ１６の駆動で基板リフト室Ｖ１１内に搬入された基板Ｂは、リフトモータ８４１の駆動によるリフトピン８２１の上昇によって持上げられた状態になっている。この状態でアクチュエータ８５１が駆動されて回動ロッド８５２が軸心回りに時計方向に回転することにより、各アーム８５３，８５４は、図８の（ロ）に示すように、左方に向かって真っ直ぐに延び、これによって先端側アーム８５４が基板Ｂの下に潜り込む。ついでリフトモータ８４１が逆駆動され、これによるリフトピン８２１の下降で基板Ｂが先端側アーム８５４にリフト（支持）された状態になる。
【００８８】
引き続きアクチュエータ８５１が逆駆動され、これによる回動ロッド８５２の反時計方向に向かう回転によって先端側アーム８５４に支持されている基板Ｂは、図９の（イ）に示すように、基板リフト室Ｖ１１から一旦ロボット室Ｖ１２へ移され、さらに回動ロッド８５２の回転が継続されることにより、図９の（ロ）に示すように、焼成炉２０内における基板収納装置３０′の基板収納棚段３４の上方位置に挿入される。
【００８９】
ついで、昇降モータ４１（図６）の駆動により基板収納装置３０′が若干上方に満ち上げられ、これによって基板Ｂは、図１０の（イ）に示すように、基板支持ピン３８に支持された状態になる。この状態で、アクチュエータ８５１の正駆動により各アーム８５３，８５４が、図１０の（ロ）に示すように、焼成炉２０から引き抜かれ、これによって基板Ｂの基板収納装置３０′への搬入が完了する。
【００９０】
そして、各アーム８５３，８５４が焼成炉２０から引き出されると、基板収納装置３０′が昇降されて焼成処理が完了した基板Ｂを支持している基板収納棚段３４が焼成炉２０の搬入出口２９と対向され、この焼成処理の完了した基板Ｂが、先端側アーム８５４によってすくい取られ、引き続き回動ロッド８５２の駆動で基板リフト室Ｖ１１まで引き出され、この基板リフト室Ｖ１１へ移された基板Ｂは、棚部搬送ローラ３５に受けられたのち棚部搬送ローラ３５の駆動回転で後処理装置７０へ向けて搬出される。
【００９１】
このような一連の動作が繰り返されることにより、前処理装置６０から順次中継室Ｖ１へ搬入された基板Ｂは、ロボット８５により逐一焼成炉２０へ挿入されるとともに、焼成炉２０で焼成処理の完了した基板Ｂは、ロボット８５により中継室Ｖ１を介して逐一後処理装置７０へ搬出され、これによって従来の完全バッチ処理のように、焼成炉２０内で１枚の基板Ｂの焼成処理が完了してから、つぎの基板Ｂを焼成炉２０へ装填する方式に比べて焼成処理時間が大幅に短縮され、焼成処理の作業性が各段に向上する。
【００９２】
以上詳述したように、第２実施形態の基板焼成装置１０′によれば、前処理装置６０と後処理装置７０との間には、前処理装置６０から搬送されてきた基板Ｂを焼成炉２０に内装された基板収納装置３０′の基板収納棚段３４に搬入するとともに、焼成処理が完了した基板Ｂを基板収納棚段３４から後処理装置７０へ搬出する基板搬入出装置８０が設けられているため、前処理装置６０から送り込まれてくる基板Ｂは、基板搬入出装置８０のロボット８５の所定の動作によって基板収納棚段３４に移されるとともに、基板収納棚段３４に収納されていた焼成処理完了後の基板Ｂは、ロボット８５の所定の動作によって後処理装置７０に移される。したがって、前処理装置６０および後処理装置７０を同一平面上で対向配置させる等のレイアウト上の制約を必要最小限にすることができ、装置設計におけるレイアウト上の自由度を向上させることができる。
【００９３】
また、前処理装置６０と後処理装置７０とは、同一平面上に略直線状で、かつ、対向位置に所定の空間（中継室Ｖ１の基板リフト室Ｖ１１）を挟んで配設され、焼成炉２０は、中継室Ｖ１から外れた位置に設けられ、基板搬入出装置８０は、ロボット室Ｖ１２に設けられているため、基板搬入出装置８０の構造を簡単なものにした上で、焼成炉２０に対する基板Ｂの搬入出を確実に行うことができる。
【００９４】
さらに、焼成炉２０には、基板Ｂを搬入出する搬入出口２９が設けられ、この搬入出口２９には、焼成炉２０内を密封状態にし得る開閉可能なシャッタ６６が設けられているため、このシャッタ６６を閉めることによって焼成炉２０内を密封することができ、これによって効率的な焼成処理を実現することができる。
【００９５】
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。
【００９６】
（１）上記の実施形態においては、昇降装置４０としてスプライン軸４２およびスパイラルロッド４３を備えたものが採用されているが、本発明は、昇降装置がスパイラルロッド４３を備えてなるものに限定されるものではなく、例えば、油圧によるシリンダ装置の駆動で基板収納装置３０，３０′を昇降させるようにしてもよい。
【００９７】
（２）上記の実施形態においては、前処理装置６０に上流側置換室６２、第１ＵＶ室６３および第２ＵＶ室６４が設けられているとともに、後処理装置７０に第１冷却室７２、第２冷却室７３および下流側置換室７４が設けられているが、本発明は、前処理装置６０および後処理装置７０がかかるレイアウトであることに限定されるものではなく、状況に応じてＵＶ室および冷却室の数を増減させてもよい。
【００９８】
（３）上記の実施形態においては、基板Ｂの焼成処理を、焼成炉２０内に加熱された非酸化性ガスＧを導入することによって行っているが、こうする代わりに、焼成炉２０内に例えば通電発熱体などの加熱源を配設し、この加熱源によって基板Ｂに焼成処理を施してもよいし、加熱源と加熱された非酸化性ガスＧとを併用してもよい。
【００９９】
（４）上記の実施形態においては、加熱ガス供給管５２１および雰囲気ガス供給管５３１にそれぞれ第１送気ブロワ５２２および第２送気ブロワ５３２を設け、ガス源５１からの非酸化性ガスＧを圧送するようにしているが、ガス源５１が例えば高圧のガスボンベである場合には、自信のガス圧でガス源５１から導出されるため、特に送気ブロワ５２２，５２３を設けなくてもよい。
【０１００】
（５）上記の第１実施形態においては、基板収納棚段３４は７段とされ、第２実施形態においては基板収納棚段３４は１７段とされているが、本発明は、基板収納棚段３４の段数が７段あるいは１７段に限定されるものではなく、状況に応じて各種の段数を選択することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明に係る第１実施形態の基板焼成装置を示す一部切り欠き斜視図である。
【図２】図１に示す基板焼成装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】第１実施形態の基板焼成装置に適用される基板収納棚段の一実施形態を示す斜視図である。
【図４】第１実施形態の基板焼成装置における焼成炉の作用を説明するための説明図であり、（イ）は、最初の基板が最上位の基板収納棚段へ搬入されつつある状態、（ロ）は、全ての基板収納棚段へ基板が搬入された状態、（ハ）は、最初に搬入された基板が最上位の基板収納棚段から搬出されつつある状態、（ニ）は、空になった基板収納棚段に基板を搬入させるべく基板収納装置が上昇しつつある状態をそれぞれ示している。
【図５】本発明に係る第２実施形態の基板焼成装置を示す一部切り欠き斜視図である。
【図６】図５に示す基板焼成装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図７】基板搬入出装置の詳細を示す斜視図である。
【図８】第２実施形態の基板焼成装置における基板搬入出装置の作用を説明するための説明図であり、（イ）は、各アームがホームポジションに位置した状態、（ロ）は、先端側アームが基板をすくった状態をそれぞれ示している。
【図９】第２実施形態の基板焼成装置における基板搬入出装置の作用を説明するための説明図であり、（イ）は、先端側アームが基板をロボット室まで運んだ状態、（ロ）は、先端側アームが基板を焼成炉内の基板収納装置内に挿入した状態をそれぞれ示している。
【図１０】第２実施形態の基板焼成装置における基板搬入出装置の作用を説明するための説明図であり、（イ）は、先端側アームに支持された基板Ｂが基板収納棚段へ移された状態、（ロ）は、先端側アームが焼成炉から引き抜かれつつある状態を示している。
【符号の説明】
【０１０２】
１０，１０′  基板焼成装置    １１  上流側搬送ローラ
１２  上流側搬送路            １３  下流側搬送ローラ
１４  下流側搬送路            １５  基板搬入出部
１６  リフト室内搬送ローラ    １７  架台
２０  焼成炉                  ２１  底板
２２  側板                    ２３  前板
２３１  ガス導入孔            ２４  後板（一の側壁）
２５  天板                    ２５１  導出孔
２６  ガイドレール            ２７  搬入口（開口、基板搬入部）
２８  搬出口（開口、基板搬出部）
２９  搬入出口（開口、基板搬入部、基板搬出部）
３０，３０′  基板収納装置（棚部）
３１  ボトムボード            ３２  トップボード
３３  支柱                    ３４  基板収納棚段（段部）
３４１  横梁材                ３４２  縦梁材
３５棚部搬送ローラ            ３５１  ローラ軸
３６  駆動モータ（駆動源）    ３７  ギヤ機構
３７１  駆動ギヤ              ３７２  従動ギヤ
３７３  アイドルギヤ          ３８  基板支持ピン
４０  昇降装置                ４１  昇降モータ
４１１  駆動軸                ４２  スプライン軸
４３  スパイラルロッド        ４４  ナット部材
４５  円筒体                  ５０  ガス供給部
５１  ガス源                  ５２  焼成ガス供給部
５２１  加熱ガス供給管        ５２２  第１送気ブロワ
５２３  温調装置              ５２４  第１制御弁
５３  雰囲気ガス供給部        ５３１  雰囲気ガス供給管
５３２  第２送気ブロワ        ５３３  第２制御弁
６０  前処理装置              ６１  上部筐体
６２  上流側置換室            ６３  第１ＵＶ室
６４  第２ＵＶ室              ６５  上部筐体内搬送ローラ
６６  シャッタ（開閉部）      ６７  ゲートバルブ（開閉部）
７０  後処理装置              ７１  下部筐体
７２  第１冷却室              ７３  第２冷却室
７４  下流側置換室            ７５  下部筐体内搬送ローラ
７６  クールプレート          ７７  基板持上げ機構
７７１  基板支持ピン          ７８  シャッタ（開閉部）
７９  ゲートバルブ（開閉部）  ８０  基板搬入出装置
８１  リフト機構              ８２  リフト板
８２１  リフトピン            ８３  偏心カム機構
８３１  カム軸                ８３２  偏心カム
８４  駆動機構                ８４１  リフトモータ
８４２  駆動軸                ８４３  駆動ギヤ
８４４  従動ギヤ              ８４５  アイドルギヤ
８５  ロボット                ８５１  アクチュエータ
８５２  回動ロッド            ８５３  基端側アーム
８５４  先端側アーム          ８５５  連結軸
Ｂ  基板                      Ｖ  焼成室（空間）
Ｖ１  中継室                  Ｖ１１  基板リフト室
Ｖ１２  ロボット室
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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