(57)【要約】【課題】第１の磁極が第２の磁極を囲んでいる平面マグネトロン用のマグネット装置を提供すること。【解決手段】このマグネット装置は、特定の値だけターゲットに対して長さ方向に直線的に移動し、同じ値だけ反対方向に戻る。ある態様の場合には、その他に垂直方向にも移動する。このマグネット装置は、Ｎ極とＳ極がインターロックし、波形のレーストラックが形成されるように設計されている。これにより全ターゲット面から均一なスパッタを行うことができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形フレームとして設計された第１の磁極が、直線状の棒として設計された第２の磁極を備え、前記直線状の棒がその縦軸上にいくつかの垂直アームを有する平面マグネトロン用のマグネット装置であって、それぞれが前記棒（２）の端部のところに位置する２つのアーム（９，１０）が、前記棒（２）の前記縦軸に対して約６０度の角度（α）で位置することを特徴とするマグネット装置。
【請求項２】
前記第１の磁極が、前記第２の磁極の棒（２）の方を向いているいくつかのアーム（１６，２１〜２３；１５，２４〜２６）を有する矩形フレーム（１１〜１３）であることを特徴とする請求項１に記載のマグネット装置。
【請求項３】
前記フレーム（１１〜１３）の前記アーム（１６）のうちの２つが、前記棒（２）の縦軸の想像上の延長部上に位置し、この棒（２）から少し離れていることを特徴とする請求項２に記載のマグネット装置。
【請求項４】
いくつかのアーム（３〜８）が、前記直線状の棒（２）の前記縦軸上に直角に位置することを特徴とする請求項１に記載のマグネット装置。
【請求項５】
前記フレーム（１１〜１３）のアーム（２１〜２３；１５，２４〜２６）からの縦軸、および前記棒（２）のアーム（３〜８）からの縦軸が相互に平行であることを特徴とする前記請求項のうちの１つまたはいくつかに記載のマグネット装置。
【請求項６】
前記フレーム（１１〜１３）のアーム（２１〜２３；１５，２４〜２６）、および前記棒（２）のアーム（３〜８）がインターロックすることを特徴とする前記請求項のうちの１つまたはいくつかに記載のマグネット装置。
【請求項７】
第１の磁極が第２の磁極を囲み、前記第２の磁極が第１の方向を向いている第１のグループのアーム（３１〜３５）と、前記第１の方向とは反対方向を向いている第２のグループのアーム（３６〜４０）とを有する平面マグネトロン用のマグネット装置であって、前記第１のグループのアーム（３１〜３５）の縦軸が、前記第２のグループのアーム（３６〜４０）の縦軸からズレていて、そのため前記第１のグループの１つのアーム（例えば、３４）の縦軸が、前記第２のグループの２つのアーム（例えば、３８，３９）の前記縦軸の間に位置することを特徴とするマグネット装置。
【請求項８】
前記第１のグループのアーム（３１〜３５）が等間隔で配置されることを特徴とする請求項７に記載のマグネット装置。
【請求項９】
前記第２のグループのアーム（３６〜４０）が等間隔で配置されることを特徴とする請求項７に記載のマグネット装置。
【請求項１０】
前記第１のグループのアーム（３１〜３５）、および前記第２のグループのアーム（３６〜４０）が、対角線棒（５１〜５９）により接続されることを特徴とする請求項７に記載のマグネット装置。
【請求項１１】
前記対角線棒（５１〜５９）が、ブロック（４１〜４５；４６〜５０）を介して前記アーム（３１〜３５；３６〜４０）と接続されることを特徴とする請求項１０に記載のマグネット装置。
【請求項１２】
前記第１の極が、２つ（例えば、６３，６４）がそれぞれ切妻屋根状素子を形成する第１のグループの対角線アーム（６１〜７０）を有し、アーム（例えば、６４）の端部が、第１のブロック（例えば、１２７）と接触し、前記アーム（例えば、６４）の他の端部が第２のブロック（例えば、７２）と接触することを特徴とする請求項７に記載のマグネット装置。
【請求項１３】
前記第１のブロック（１２７）の前記縦軸が、前記第２のブロック（７２）の前記縦軸に垂直であることを特徴とする請求項１２に記載のマグネット装置。
【請求項１４】
前記第１の極の切妻屋根状素子（例えば、６５，６６）が、前記第２の極のアーム（３３）を囲むことを特徴とする請求項１２に記載のマグネット装置。
【請求項１５】
切妻屋根状素子の前記２つの対角線アーム（例えば、６５，６６）が、相互に鏡像対称であることを特徴とする請求項１２に記載のマグネット装置。
【請求項１６】
切妻屋根状素子の前記２つの対角線アーム（例えば、６５，６６）が、ブロック（例えば、１２８）を通る縦軸に対して異なる傾斜角を有することを特徴とする請求項１２に記載のマグネット装置。
【請求項１７】
前記第２の磁極の前記アーム（３１〜３５，３６〜４０）が、前記第１の磁極のブロック（例えば、１２８）を通る縦軸に対して異なる傾斜角を有することを特徴とする請求項７に記載のマグネット装置。
【請求項１８】
前記マグネット装置が、スパッタ・システムのマグネトロンの一部であることを特徴とする請求項１または７に記載のマグネット装置。
【請求項１９】
前記マグネット装置が、ターゲット（７７）の近くに位置することを特徴とする請求項１８に記載のマグネット装置。
【請求項２０】
前記ターゲット（７７）が、基板（７８）に対向して位置することを特徴とする請求項１９に記載のマグネット装置。
【請求項２１】
前記マグネット装置を、ターゲット（７７）に対して移動することができることを特徴とする請求項１または７に記載のマグネット装置。
【請求項２２】
前記マグネット装置（１）を、前記ターゲット（７７）に対してｘまたはｙ方向に移動することができることを特徴とする請求項１に記載のマグネット装置。
【請求項２３】
前記マグネット装置（１）を前後に移動することができることを特徴とする請求項２２に記載のマグネット装置。
【請求項２４】
前記マグネット装置（３０）を、ターゲット（７７）に対してｘ方向に移動することができることを特徴とする請求項７に記載のマグネット装置。
【請求項２５】
前記マグネット装置（３０）を前後に移動することができることを特徴とする請求項２４に記載のマグネット装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１および７の前文記載のマグネット装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
スパッタ・システムにおいては、真空スパッタ・チャンバ内でプラズマが発生する。プラズマは、自由電子およびイオン、および可能な中性粒子、すなわち、原子、分子またはラジカルのガス状混合物の形をしている準中性の多くの粒子からなる物質であると考えられている。プラズマの正イオンは、いわゆるターゲットとなるカソードの負の電位に引き寄せられる。正イオンは、このターゲットに衝突し、後で基板上に析出する小さな粒子を発生する。これらの粒子の発生は「スパッタリング」と呼ばれる。プラズマは、非反応性スパッタリングの場合には、例えば、アルゴンのような不活性ガスであってもよいイオン化ガスを含む。反応性スパッタリングの場合には、例えば、酸素は単独でまたは不活性ガスと一緒に使用される。
【０００３】
スパッタ工程に必要なイオンは、グロー放電の際にガス原子と電子との衝突により発生し、電界の力によりカソードを形成しているターゲットの方向に加速される。
【０００４】
従来のＤＣおよびＨＦスパッタリングの場合には、ターゲットをスパッタリングした際に発生する数個の二次電子だけが、スパッタ・ガス原子のイオン化に貢献する。
【０００５】
スパッタ効果を改善するために、ターゲット近くでマグネットが使用される。その磁界がターゲットのところにプラズマを保持する。磁界と電界の相互作用により、プラズマ内の電荷キャリアは、最初にもはや電界に平行に移動しなくなるばかりでなく、電界に直角に移動し、その結果、サイクロイド電子軌道が生じる。その質量が小さいために、電子の偏向半径は、イオンの偏向半径より遥かに小さいので、電子はターゲット面の前に集中する。それ故、スパッタ・ガス原子が電子との衝突によりイオン化する確率は遥かに高くなる。電子のＥ×Ｂドリフトのために、電子はレーストラックと呼ばれる軌道を通り、ターゲット面の前にプラズマが集中し、電子は、もはや基板に直接衝突しない。それ故、基板の加熱が低減する。
【０００６】
遥かに重いイオンがターゲットに衝突すると、負の電極またはカソードの効果を生じ、ターゲットをスパッタする。それ故、イオン化は、主として、磁界ベクトルがターゲット面に平行な場所で起こる。プラズマの密度はここで最も高く、そのためターゲットはこの点で最も大きく侵食する。グロー放電プラズマは、事実上、磁界で囲まれていて、電子が軸としての働きをする磁界の周囲を回転するために電子の軌道が延び、それにより、ガス原子と電子とが衝突する割合が増大する。
【０００７】
広いエリアをコーティングするには、一般的に平面マグネトロンが使用される。しかし、平面マグネトロンはターゲットを使用する割合が低く、例えば、４０％以下である。
【０００８】
そのため、９０％以上のターゲット使用率を達成する回転シリンダ・マグネトロンが最近盛んに使用されるようになってきている。
【０００９】
シリンダ・マグネトロン（場合によってはパイプ・カソードとも呼ばれる）および平面マグネトロンの両方が持つ欠点は、ターゲットの磨耗が均一でないことである。パイプ・カソードの場合には、縁部のスパッタ量が少なく、実際、縁部で再コーティングが起こる恐れがある。いわゆるレーストラック、すなわち、マグネトロン内のマグネット装置による侵食によるトレンチは、平面マグネトロン内で発生する。これらのエロージョン・トレンチは、イオン化されたガス粒子の衝突により直接発生する。イオン化されたガス粒子は、負の電極またはカソードとしての働きをし、スパッタとして機能するターゲットに不均一に衝突する。電子の軌道と相互関係を有する磁界により決まるプラズマの軌道、すなわちレーストラックは、特に平面マグネトロンのターゲット利用率を低減する。ターゲットが所与の点で完全に侵食すると、他の場所には依然として十分な材料があっても、ターゲットはもはや使用することができない。固定状態の場合、シリンダ・マグネトロンが、マグネットの構成に対応するプラズマ・レーストラックを有していても、回転ターゲット上にトレンチ状の凹部はできない。
【００１０】
チューブ状のレーストラック・エロージョンとは別に、まっすぐなレーストラックを有する矩形平面マグネトロンは、さらに、同様にターゲットの使用率を制限する、いわゆる対向コーナー効果を有する。対向コーナーは、矩形マグネトロンの対角線方向の対向コーナーである。マグネトロン・カソードの端子領域内の磁界が、中央領域内の磁界と異なる場合には、例えば、弱い場合には、電子はこの端子領域内で中央領域より速く移動する。すなわち、電子は対向コーナー領域では迅速に到着する。これにより、この領域に電子が集中し、イオン化が盛んになり、そのためターゲットの侵食が増大する。（Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｄ：Ａｐｐｌ．Ｐｈｙ．３６（２００３）、２４４〜２５１ページ掲載のＱ．Ｈ．Ｆａｎ、Ｌ．Ｑ．ＺｈｏｕおよびＪ．Ｊ．Ｇｒａｃｉｏの「矩形スパッタリング・マグネトロン内の対向コーナー効果」（Ａ  ｃｒｏｓｓ−ｃｏｒｎｅｒ  ｅｆｆｅｃｔ  ｉｎ  ａ  ｒｅｃｔａｎｇｕｌａｒ  ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ  ｍａｇｎｅｔｒｏｎ）参照）。
【００１１】
第１の極性の二重Ｔ字形マグネットが、第２の極性の矩形フレームワーク・マグネットで囲まれているマグネトロン・スパッタ・システムがすでに開発されている（ＵＳ５，４５８，７５９）。このシステムは、ターゲットの磨耗をできるだけ均一にするためにマグネット装置を使用している。
【００１２】
もう１つの手順も、マグネット装置がターゲット上の侵食を起こすという仮定に基づいている（ＤＥ１９７  ０１  ５７５  Ａ１）。この場合、カソードのマグネットが、スパッタ・エロージョン表面領域の２つの閉ループを形成していて、カソードの縦方向に垂直に移動できるように、これらのマグネットが配置されている場合の、カソードの縦方向に垂直な方向の基板の位置を示唆している。
【００１３】
さらに、蛇行状に配置されているマグネットを含むスパッタ・システムもすでに開発されている（ＥＰ０  １０５  ４０７の図５）。このシステムは、ターゲットの相対的に均一な磨耗を保証する蛇行電子軌道の形をしている所定のプラズマ・スパッタリング領域を形成する。このスパッタ・システムを使用した場合、ターゲットとマグネット・システムに相対的な運動は起こらない。その結果、個々の蛇行ループ間に再コーティングが行われる恐れがあり、基板より大きいターゲットを完全にスパッタすることができない。
【００１４】
もう１つの現在使用されているマグネトロン・スパッタリング・カソードは、そこからトングが、等間隔で直角に外側に延びる中央の棒を含む内部の磁気のＳ極を特徴とする（ＥＰ０  ２４２  ８２６  Ｂ１＝ＵＳ４，８２６，５８４）。この場合、これらがそれぞれが磁気のＳ極である２つのトング間に位置するように配置されているその縦方向の側面からトングが直角に内側に延びる矩形フレームワークの外部の磁気のＮ極が位置する。そのため蛇行状の磁界ができ、蛇行状のエロージョン・ゾーンができる。Ｓ極のトングは、すべて相互に平行である。この場合も、このスパッタリング・カソードを使用した場合、ターゲットと磁気システムとの間に相対運動は起こらない。
【００１５】
磁気のＮ極のフレームワークが直線状のＳ極を囲んでいるスパッタ・システム用のマグネット装置も開発されている（日本特許要約第０１３巻、１６９号（Ｃ−５８７）およびＪＰ６３３１７６７１  Ａの図８）。このＮ極とＳ極の間には、直線状のＳ極の左右にもう１つのＮ極およびＳ極が位置する。しかし、これらのＮ極およびＳ極はこのＳ極に接続していない。
【００１６】
さらに、主としてリング状のＮ極が直線状のＳ極を囲んでいて、Ｓ極の端部がＮ極の方向に延びるアームを有するスパッタ・システム用のマグネット装置もすでに開発されている（ＵＳ５，１８２，００３）。しかし、これらのアームは、相互にズレていない。
【００１７】
最後に、第１の楕円形の磁極が第２の直線状の磁極を囲んでいるスパッタ・システム用のマグネット装置がすでに開発されている（ＵＳ５，０２６，４７１）。２つの磁極のどちらもそこから延びるアームを有さない。
【特許文献１】ＵＳ５，４５８，７５９
【特許文献２】ＤＥ１９７  ０１  ５７５  Ａ１
【特許文献３】ＥＰ０  １０５  ４０７の図５
【特許文献４】ＥＰ０  ２４２  ８２６  Ｂ１
【特許文献５】ＵＳ４，８２６，５８４
【特許文献６】日本特許要約第０１３巻、１６９号（Ｃ−５８７）
【特許文献７】ＪＰ６３３１７６７１  Ａの図８
【特許文献８】ＵＳ５，１８２，００３
【特許文献９】ＵＳ５，０２６，４７１
【非特許文献１】（Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｄ：Ａｐｐｌ．Ｐｈｙ．３６（２００３）、２４４〜２５１ページ掲載のＱ．Ｈ．Ｆａｎ、Ｌ．Ｑ．ＺｈｏｕおよびＪ．Ｊ．Ｇｒａｃｉｏの「Ａ  ｃｒｏｓｓ−ｃｏｒｎｅｒ  ｅｆｆｅｃｔ  ｉｎ  ａ  ｒｅｃｔａｎｇｕｌａｒ  ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ  ｍａｇｎｅｔｒｏｎ」
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明は、ターゲットをできるだけ再堆積を含まない状態に維持するために、エロージョン・トレンチを適当に管理することにより、大型のターゲットを最適状態で使用するタスクをベースとしている。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
この問題は、請求項１または７の特徴により解決することができる。それ故、本発明は、第１の磁極が第２の磁極を囲んでいる平面マグネトロン用のマグネット装置に関する。このマグネット装置は、特定の値だけターゲットの方向に縦方向に直線的に移動し、同じ値だけ反対方向に戻る。ある態様の場合には、そのほかに垂直方向の運動も行う。マグネット装置は、波形のレーストラックを形成するように、Ｎ極およびＳ極がインターロックするような設計になっている。その結果、全ターゲット面から均一なスパッタリングをすることができる。
【００２０】
本発明の利点は、その表面の５０％以上をエロージョン・トレンチでカバーするように、１つのエロージョン・トレンチしか有していない大型で平らなターゲットをコーティングすることができることである。ターゲットとマグネット・システムとの間の相対運動により、均質なエロージョン・プロファイルができる。対向磁極素子の若干のインターロックにより、ターゲットの中央部にもスパッタリングが行われる。
【００２１】
本発明が有利に設計されている場合には、１つのレーストラックまたはエロージョン・トラックしか含んでいない長い幅の広いターゲットさえもコーティングすることができる。マグネット装置の２つの極が、中央で若干インターロックしているので、高いターゲット使用率を達成することができ、１回の直線運動だけで事実上完全に再コーティングを含んでいないターゲット面にすることができる。この場合、Ｎ極およびＳ極は、蛇行状態のレーストラックがターゲット上で達成されるように、相対的に相互に配置されている。２つの対向する蛇行は相互に非常に接近しているので、ターゲットの縦方向に直線運動を行うと、ターゲットの表面が均一にスパッタされる。上昇の高さは、蛇行間隔の±５０％である。
【００２２】
図面は本発明の例示としての実施形態を示しているが、以下に本発明についてさらに詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１は、ターゲットを均一に使用することができる本発明による第１のマグネット構成１の部分図である。しかし、この場合、２つの異なる方向への運動が必要になる。一方では、マグネット・システムはターゲットの長さ方向に沿って移動しなければならないし、他方では、ターゲットの幅に沿った追加の運動も必要になる。そのため再コーティングが起こらない。図１のマグネット構成１は、倒置像で右側（図示せず）に続いている。マグネット構成の磁気のＳ極は、その上にアーム３〜８が相互に平行に棒２に対して垂直に配置されている横棒２からなる。
【００２４】
棒２の一方の端部上には、磁気のＳ極の２つの追加アーム９、１０が位置していて、その縦軸は、垂直棒２の縦軸に角度αで配置されている。角度αはほぼ６０度である。棒２の右側の表示されていない側の端部のところには、また、対角線方向に延びていて、左側にではなく右側に延びるアーム９および１０に対応するアームが位置する。右側のこれらのアームは、アーム９および１０に対して鏡像に対称に配置されている。
【００２５】
マグネット構成１のＮ極は、フレームのようにＳ極の周囲に配置されていて、一方、上下のフレーム・セグメント１１および１２、および左の側部フレーム・セグメント１３は分離することができる。セグメント１３に対応する右の側部フレーム・セグメントは図示していない。左のフレーム・セグメント１３の中央には、棒２の左の端部に対向するアーム１６が位置する。これに対応して、アーム１６に対応するアームが右側に位置する。
【００２６】
棒２の２つのアーム９、３；３、４；４、５；１０、６；６、７；７、８の間には、フレーム・セグメント１１または１２に垂直であり内側を向いているトング２１〜２３、１４および２４〜２６、１５が位置する。
【００２７】
マグネット構成１のＮ極およびＳ極は、背面でヨーク・プレート１７、１８に接続している。ライン２０は、図１には図示していないターゲットの背面上にできたエロージョン・トラックを示す。
【００２８】
静止している場合、すなわち、マグネット構成１およびターゲットが、相互に移動しない場合、エロージョン・トラックまたはレーストラック２０は、１つの蛇行を形成する。ターゲットを最適に使用するために、マグネット・ヨーク１７、１８は、ターゲットの全長に沿って移動しなければならない。この場合、マグネット構成１が蛇行を決める。さらに、ターゲットの中央部で再コーティングが行われないように、ターゲットの幅に沿って移動しなければならない。
【００２９】
マグネット９、１０および１６の配置は、対向コーナー効果を除去または低減する働きをする。レーストラックの長い直線状のセグメントに沿って移動すると、対向コーナー効果が以降の曲線に沿って起こる場合がある。直線状のレーストラックだけの場合には、対向コーナー効果は起こらない。この効果は、電子が曲線の後で直線状のセグメントに遭遇するターゲットの２つの対向側面のところでだけ起こる（ＤＥ  １９７  ０１  ５７５  Ａ１の図７Ｂ参照）。本明細書に記載する本発明は、いつでも湾曲している長く延びる直線状セグメントからなるレーストラックを有していない。マグネット・アーム１６を省略し、マグネット９および１０を他のマグネットに平行に配置すると、レーストラックは、ターゲットの幅に沿って短い距離だけ直線状になり、対向コーナー効果が予想される。
【００３０】
図２は、ターゲットの長さ方向に沿って１回移動するだけでよい第２のマグネット構成３０を示す。ターゲットの幅に沿って移動する必要はない。この場合、マグネット構成３０の移動は、ターゲットの長さ方向に沿って直線的に行われる。ターゲットの端部のところで復帰運動が起こる。
【００３１】
例えば、Ｓ極のようなマグネット構成３０の極のうちの１つは、等間隔の上部アーム３１〜３５および等間隔の下部アーム３６〜４０を有する。下部アーム３６〜４０の縦軸は、上部アーム３１〜３５の縦軸に平行であるが、上部アーム３１〜３５の縦軸の間の中心を示す点を通るように横方向にズレている。
【００３２】
アーム３１〜３５または３６〜４０の端部は、ブロック４１〜４５およびブロック４６〜５０間を接続している接続素子５１〜５９に接続している矩形ブロック４１〜４５および４６〜５０内の内側を向いている端部である。これらの接続素子５１〜５９は、アーム３１〜３５および３６〜４０の縦軸に対して角度βで配置されている。
【００３３】
その結果、Ｓ極のすべての構成要素は磁気的に接続している。
【００３４】
例えば、マグネット構成３０のＮ極のような他の極は、それぞれＳ極のアーム３１〜３５または３６〜４０を囲んでいるいくつかのフード状のサブマグネットにより形成されている。これらのサブマグネットは、２つの側部６１、６２または６３、６４または６５、６６または６７、６８または６９、７０を有する。各側部は、アーム３１〜３５および３６〜４０の中心軸に対して対角線方向に配置されている。その上端部は、ブロック７１〜７５により相互に接続していて、その縦軸は水平方向を向いている。側部６１〜７０の下端部も、垂直方向を向いている縦軸を有するブロック１２５〜１３０に接続している。下のサブマグネットも、上記Ｎ極の上のサブマグネットに対応して配置されている。側部８０〜８８の端部は、ブロック９０〜９４および１００〜１０４に隣接している。前者のブロック９０〜９４は、垂直方向を向いていて、後者のブロック１００〜１０４は水平方向を向いている。
【００３５】
参照番号１０５は、静止状態の場合、すなわち、マグネット構成３０とターゲットとの間に相対運動が起こらない場合のレーストラックの形成を示していて、レーストラックの形成は正弦波曲線類似の２つの重畳する波形曲線を形成する。
【００３６】
図２は、Ｎ極およびＳ極を示すばかりでなく、ターゲットの表面上の磁界の垂直成分のゼロ交差の点も示す。ターゲットに対してマグネット構成３０が移動する方向は、両方の端部に矢を有する矢印１１１で示す。この矢印は、移動がターゲットの長さ方向だけで行われること、すなわち、最初は右、次に左等のように行われることを示す。この場合、ストローク長さは蛇行間隔の±５０％である。この場合、蛇行間隔は、正弦波状の波１０５の２つのピーク間の間隔であると見なされる。両方の端部に矢を有する矢印１１１の大きさは、ほぼ蛇行間隔に対応する。
【００３７】
ｙ軸およびｘ軸上の表示の単位はｍｍであるが、本発明とは無関係である。これらは実現できるマグネット装置の空間的な大きさを示すためのものに過ぎない。
【００３８】
中心軸に非対称であるマグネット構成３０の設計により、中心領域もスパッタされる。しかし、ループ間で再コーティングが行われる。ターゲットの縁部は別として、再コーティングを含まないターゲット面が形成されるのは、ターゲットの長さ方向に沿って磁界が移動した場合だけである。
【００３９】
マグネット構成３０を使用した場合、ターゲットの頂部および底部が再コーティングされる。この再コーティング領域は望ましくないものであり、例えば、ターゲットを平行四辺形の形にすることにより除去することができる。しかし、再コーティング領域は、蛇行をある角度で位置させることによっても低減することができる。
【００４０】
図３は、蛇行がある角度で位置するマグネット構成１２０を示す。磁気素子の数およびその基本的配置は図２のそれと同じであるので、これらの磁気素子は、図２と同じ名前で表示してある。この場合、アーム３１〜４０は垂線に対して角度γだけ傾斜している。そのため、２つの正弦波状の波曲線が、レーストラック１２１として相互の頂部上に配置される。蛇行の傾斜により、ターゲットの２つの端部のところの再コーティングを低減することができる。
【００４１】
図３のマグネット構成１２０は、図２のマグネット構成３０と同じ方法でターゲットに対して移動する。
【００４２】
図４は、マグネット構成１ばかりでなく、ターゲット７７および基板７８を備える装置の略図である。マグネット構成は、図１と同じものであるので、個々のマグネット素子には同じ名前が付いている。
【００４３】
ターゲット７７および基板７８は、図示していないスパッタ・チャンバ内に立体的に配置されている。しかし、ターゲット７７の下を、ヨーク１７、１８を含むマグネット構成１は矢印９７、９８の方向に移動することができる。図示していないドライブに接続しているキャリア・プレート１１３は、この目的のためのものであり、その端部はトラック１１４、１１５により案内される。スライド１１６が、ピラー１１７を介してマグネット構成１を運ぶこのキャリア・プレート１１３上に配置されている。スライド１１６が矢印９８の方向に移動することができるので、マグネット構成１は、必要に応じて、ターゲット７７に対して移動することができる。
【００４４】
本発明の上記例示としての実施形態を使用した場合、ターゲットは、マグネット構造体より長くなる。何故なら、マグネットがターゲットの長さ方向に沿って移動するからである。しかし、ターゲットの幅はマグネット装置の幅より狭い。ターゲットの大きさは、レーストラックの大きさおよび形および運動により決まる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】平面マグネトロン内の第１のマグネット装置の部分図である。
【図２】平面マグネトロン内の第２のマグネット装置の部分図である。
【図３】平面マグネトロン内の第３のマグネット装置の部分図である。
【図４】ターゲットと基板を含むマグネット装置の図面である。
【符号の説明】
【００４６】
１、３０、１２０  マグネット構成
２  棒
３〜８  アーム
９、１０、１６  マグネット
１１、１２  フレーム・セグメント
１３  側部フレーム・セグメント
１４、１５、２１〜２６  トング
１７、１８  ヨーク・プレート
２０、１２１  レーストラック
３１〜３５  上部アーム
３６〜４０  下部アーム
４１〜５０、７１〜７５、９０〜９４、１００〜１０４  ブロック
５１〜５９  接続素子
６１〜７０  側部
７７  ターゲット
７８  基板
９７、９８  矢印
１０５  正弦波状の波
１１３  キャリア・プレート
１１４、１１５  トラック
１１６  スライド
１１７  ピラー
【図１】
2006291357.tif 000003
【図２】
2006291357.tif 000004
【図３】
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【図４】
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