(57)【要約】【課題】  プロセッサ内の送風装置を用いて、スコープ内を適温に保つ内視鏡装置を提供する。【解決手段】  プロセッサ３０内の冷却ファンが送風する、光源を冷却するための風を、スコープ２０に送り込む。矢印Ａが示すように、風がスコープ２０内のＤＳＰ基板２８の表面に沿って進むように、ＤＳＰ基板２８を配置する。さらに、風がＤＳＰ基板２８から離れることを防ぐために、ＤＳＰ基板２８に平行な整流板を設け、スコープ２０の上面２０Ｕには、風を外部に逃がすためのスコープ側排気口５２を設ける。風が、ＤＳＰ基板２８の表面にて生じる熱を効率的に放熱し、ＤＳＰ基板２８を冷却するため、スコープ２０内は適温に保たれる。【選択図】        図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
送風手段と、前記送風手段による風を外部に排出するための第１の排気口を有するプロセッサと、
前記第１の排気口を通過した風を受け入れるための通気口と、前記風が通過する領域であるスコープ側空間領域に配置された電子回路基板とを有し、かつ前記プロセッサに着脱自在に取付けられるスコープと
を備えることを特徴とする内視鏡装置。
【請求項２】
前記プロセッサが、
前記送風手段による風を外部に排出する第２の排気口と、
前記風が前記第１の排気口と前記第２の排気口に向かってそれぞれ進むように、前記風の進行方向を分岐する風向フィルタと
をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の内視鏡装置。
【請求項３】
前記プロセッサが、
被写体を照明するための光を照射する光源をさらに有し、
前記光源が、前記風向フィルタから前記第２の排気口に向かう前記風が通過する領域であるプロセッサ側空間領域に配置されることを特徴とする請求項２に記載の内視鏡装置。
【請求項４】
前記第１の排気口と前記通気口とが、前記スコープが前記プロセッサに取付けられた際に互いに対向するように、それぞれ配置されていることを特徴とする請求項１に記載の内視鏡装置。
【請求項５】
前記第１の送気口と前記通気口とが略同一形状であり、前記スコープが前記プロセッサに取付けられた際に、前記第１の送気口と前記通気口とが重なることを特徴とする請求項４に記載の内視鏡装置。
【請求項６】
送風手段を有するプロセッサに着脱自在に取付けられる内視鏡装置のスコープであって、
前記送風手段による風を受け入れるための通気口と、
前記通気口からの風が通過する領域であるスコープ側空間領域に配置された電子回路基板と、
前記スコープ側空間領域を通過した風を外部に排出するスコープ側排気口と
を備えることを特徴とするスコープ。
【請求項７】
前記電子回路基板が、前記通気口を通過した風が進む方向に平行に配置されていることを特徴とする請求項６に記載のスコープ。
【請求項８】
前記通気口を通過した風の進む方向に平行な整流板をさらに有することを特徴とする請求項６に記載のスコープ。
【請求項９】
前記通気口を通過した風が、前記スコープ側排気口に向かって進むように、前記風の進行方向を変えるための風向偏向板をさらに有することを特徴とする請求項６に記載のスコープ。
【請求項１０】
前記スコープ側排気口が、前記スコープにおいて前記通気口が設けられている面とは異なる面に設けられていることを特徴とする請求項６に記載の内視鏡装置。
【請求項１１】
スコープが着脱自在に取付けられる内視鏡装置のプロセッサであって、
送風手段と、
前記送風手段による風を外部に排出するための排気口と
を備え、前記排気口が、前記スコープが前記プロセッサに取付けられた際に前記スコープに対向することを特徴とするプロセッサ。
【請求項１２】
前記スコープが、前記排気口を通過した風を受け入れるための通気口を有し、
前記送気口と、前記通気口とが略同一形状であり、前記スコープが前記プロセッサ取付けられた際に、前記送気口と前記通気口とが重なることを特徴とする請求項１１に記載のプロセッサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、内視鏡装置に関し、特に、スコープ内の基板上に配置された様々な回路等によって生じる熱を放熱させ、スコープ内を適温に保つ放熱機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
内視鏡装置は、一般に、被写体を照明するための光を照射する光源等を備えたプロセッサと、スコープとで構成される。スコープは、光源からの光を被写体に照射するためのライトガイド等を備えている。プロセッサには、光の照射に伴って発熱する光源を冷却するための冷却用のファンと、光源からの熱を放熱させるためにファンから送られた風を外部に通過させる通気口が設けられている。
【０００３】
一方、スコープには、通常、内部を冷却するための送風装置、排気口等は設けられていない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
撮像素子によって生じる画像信号を処理することにより、被写体像を表示する電子内視鏡装置においては、一般に、スコープ内に、画像信号処理のための回路等を配置した基板が設けられている。このように、電子回路を備えた基板等を有するスコープは、作動時の発熱によって内部が高温となるものの、冷却のための装置は設けられておらず、また密閉された構造を有する。このため、スコープ内の電子回路等は、長時間に渡って連続的に使用された場合においては、高温になる。
【０００５】
本発明は、プロセッサ内の送風装置を用いて、スコープ内を適温に保つ、内視鏡装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の内視鏡装置は、プロセッサと、プロセッサに着脱自在に取付けられるスコープとを備える。プロセッサは、送風手段と、送風手段による風を外部に排出するための第１の排気口を有し、スコープは、第１の排気口を通過した風を受け入れるための通気口と、風が通過する領域であるスコープ側空間領域に配置された電子回路基板とを有する。
【０００７】
プロセッサは、送風手段による風を外部に排出する第２の排気口と、風が第１の排気口と第２の排気口に向かってそれぞれ進むように、風の進行方向を分岐する風向フィルタとをさらに有することが好ましい。この場合、プロセッサは、被写体を照明するための光を照射する光源をさらに有しており、光源が、風向フィルタから第２の排気口に向かう風が通過する領域であるプロセッサ側空間領域に配置されることがより好ましい。
【０００８】
第１の排気口と通気口とは、スコープがプロセッサに取付けられた際に互いに対向するように、それぞれ配置されていることが望ましい。この場合、第１の送気口と通気口とが略同一形状であり、スコープがプロセッサ取付けられた際に、第１の送気口と通気口とが重なることがより望ましい。
【０００９】
本発明のスコープは、送風手段を有するプロセッサに着脱自在に取付けられる内視鏡装置のスコープである。スコープは、送風手段による風を受け入れるための通気口と、通気口からの風が通過する領域であるスコープ側空間領域に配置された電子回路基板と、スコープ側空間領域を通過した風を外部に排出するスコープ側排気口とを備えている。
【００１０】
スコープ内の電子回路基板は、通気口を通過した風が進む方向に平行に配置されていることが好ましい。また、スコープは、通気口を通過した風の進む方向に平行な整流板をさらに有することが好ましい。さらに、スコープは、通気口からの風がスコープ側排気口に向かって進むように、風の進行方向を変えるための風向偏向板をさらに有することが望ましい。
【００１１】
スコープ側排気口は、スコープにおいて通気口が設けられている面とは異なる面に設けられていることが好ましい。
【００１２】
本発明のプロセッサは、スコープが着脱自在に取付けられる内視鏡装置のプロセッサである。プロセッサは、送風手段と、送風手段による風を外部に排出するための排気口とを備え、排気口が、スコープがプロセッサに取付けられた際にスコープに対向する。
【００１３】
スコープが排気口を通過した風を受け入れるための通気口を有し、送気口と通気口とが略同一形状であって、スコープがプロセッサに取付けられた際に、送気口と通気口とが重なることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、プロセッサ内の送風装置を用いて、スコープ内を適温に保つ内視鏡装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。図１は、本実施形態における電子内視鏡装置のプロセッサと、スコープを概略的に示す斜視図である。図２は、プロセッサとスコープを概略的に示す上面図である。
【００１６】
電子内視鏡装置１０は、被写体である患者の体腔内の撮影に用いられるスコープ２０と、スコープ２０から送られてくる画像信号を処理するプロセッサ３０を備える。スコープ２０は、プロセッサ３０に着脱自在に接続される。また、プロセッサ３０において処理された画像信号に基づく被写体像は、プロセッサ３０に接続されたモニタ（図示せず）上に表示される。
【００１７】
スコープ２０は、ＣＣＤ（図示せず）を備えたスコープ先端部２２と、プロセッサ３０に接続するための連結部２４、通気口２６を有する。また、スコープ２０内には、ＣＣＤによって生じた被写体像に対応した画像信号を、プロセッサ３０に送信する前に処理するための信号処理回路等が設けられたＤＳＰ基板（ここでは図示せず）が設置されている。
【００１８】
一方、プロセッサ３０には、光源３２、光源３２による光の照射に伴う熱を放熱し、光源３２を冷却するための風を送る冷却ファン３４、風を外部に送り出す第１及び第２排気口３８、４０が設けられている（図２参照）。光源３２は、生じた熱がプロセッサ３０内の他の部品に伝わることを防ぐために、断熱性の部材による断熱壁４２によって囲まれたプロセッサ側空間領域Ｐに配置されている。冷却ファン３４と光源３２の間の断熱壁４２には、風を通過させるための風向フィルタ３６が設けられている。このため、冷却ファン３４からの風は、プロセッサ側空間領域Ｐを通過して、第１又は第２排気口３８、４０から排出される。なお、第１排気口３８とスコープ２０の通気口２６とは、略同一の形状を有し、スコープ２０とプロセッサ３０との接続時に、互いに重なるように対向する。
【００１９】
図３は、光源３２側から見た風向フィルタ３６を示す図である。図４は、スコープ２０がプロセッサ３０に接続された状態の電子内視鏡装置１０を示す上面図である。
【００２０】
風向フィルタ３６には、スコープ側通風口４４と、光源側通風口４６が設けられており、冷却ファン３４からの風の進行方向を分岐させる。すなわち、冷却ファン３４から送風され、スコープ側通風口４４を通過した風は、風向板４８によって風向きを変えられ、光源側通風口４６を通過した風は、そのまま直進する。この結果、プロセッサ側空間領域Ｐにおいて、風の一部は、矢印Ａが示すように、第１排気口３８に向かって進み、一部は、矢印Ｂが示すように、光源３２に当たるように進んで、熱を奪いつつ第２排気口からプロセッサ３０の外に排出される（図４参照）。第１排気口３８を通過した風は、通気口２６を介して、スコープ２０内に送り込まれる。なお、冷却ファン３４は、スコープ２０がプロセッサ３０に接続され、光源３２が光を照射する間、自動的に風を送風するように制御される。
【００２１】
図５は、風が送り込まれた状態のスコープ２０の上面図である。図６は、風が送り込まれた状態のスコープ２０の側面図である。
【００２２】
ＤＳＰ基板２８は、スコープ２０内に送り込まれた風が通過する領域であるスコープ側空間領域Ｓ内に配置されている。そして、ＤＳＰ基板２８は、風がその表面に沿って進むように、矢印Ａの示す風向きと平行に配置されている。さらに、風の通路を形成し、風がＤＳＰ基板２８から離れることを防ぐために、２枚の整流板５０が設けられている。整流板５０は、通気口２６を通過した風の風向きと平行に、すなわちＤＳＰ基板２８に平行に配置される。
【００２３】
さらに、スコープ２０の上面２０Ｕには、風を外部に逃がすためのスコープ側排気口５２が設けられており、スコープ２０内には、スコープ側空間領域Ｓを通過した後の風をスコープ側排気口５２に向かわせるように、風向きを変える風向偏向板５４が設けられている（図６参照）。スコープ側排気口５２は、連結部２４と通気口２６とが設けられている面とは異なる面に設けられているので、プロセッサ３０とスコープ２０とを接続した状態でも、閉塞されない。この結果、高温の風は、矢印Ｃが示す方向に進み、速やかにスコープ２０外に送り出される。以上のことから、ＤＳＰ基板２８の表面において生じる熱は、風によって効率的に放熱され、ＤＳＰ基板２８は適温に保たれる。なお、図６においては、説明の便宜上、整流板５０が省略されている。
【００２４】
スコープ２０に設けられた通気口２６、スコープ側排気口５２、及びプロセッサ３０に設けられた第１及び第２排気口３８、４０は、いずれも、風のみを通過させ、機器の内部に異物等が侵入することを防ぐために、フィルタで覆われている。
【００２５】
以上のように、本実施形態によれば、プロセッサ３０内の光源３２を冷却する冷却ファン３４を有効に活用し、スコープ２０内に風を送り込むことにより、発熱するＤＳＰ基板２８を備えたスコープ２０内を適温に保つ電子内視鏡装置が実現できる。
【００２６】
ＤＳＰ基板２８は、効率的な放熱のために、風がその表面に沿って進むように配置されていることが好ましいが、風が当たり、適度に冷却される限り、ＤＳＰ基板２８の配置は本実施形態に限定されない。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本実施形態における電子内視鏡装置のプロセッサと、スコープを示す斜視図である。
【図２】プロセッサとスコープを示す上面図である。
【図３】風向フィルタを示す図である。
【図４】スコープがプロセッサに接続された状態の電子内視鏡装置を示す上面図である。
【図５】風が送り込まれた状態のスコープの上面図である。
【図６】風が送り込まれた状態のスコープの側面図である。
【符号の説明】
【００２８】
１０  電子内視鏡装置
２０  スコープ
２６  通気口
２８  ＤＳＰ基板（電子回路基板）
３０  プロセッサ
３２  光源
３４  冷却ファン（送風手段）
３６  風向フィルタ
３８  第１排気口（第１の排気口・排気口）
４０  第２排気口（第２の排気口）
５０  整流板
５２  スコープ側排気口
５４  風向偏向板
Ｐ  プロセッサ側空間領域
Ｓ  スコープ側空間領域
【図１】
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【図２】
2006075308.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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