(57)【要約】【課題】形成すべき無機配向膜の品質の低下を、確実に防止することができる無機配向膜成形装置、無機配向膜の形成方法を提供すること、また、前記無機配向膜形成装置、前記形成方法を用いて得られる信頼性の高い無機配向膜を提供すること、前記無機配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供すること。【解決手段】本発明の無機配向膜形成装置は、チャンバ内において、成膜用のターゲットを用いて、気相成膜法により無機配向膜を製造するのに用いられるものであって、チャンバの内壁面の少なくとも一部が、ターゲットの構成材料と同一の材料で構成されていることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバ内において、成膜用のターゲットを用いて、気相成膜法により無機配向膜を製造するのに用いられる無機配向膜形成装置であって、
前記チャンバの内壁面の少なくとも一部が、前記ターゲットの構成材料と同一の材料で構成されていることを特徴とする無機配向膜形成装置。
【請求項２】
イオンビーム源からのイオンビームを前記ターゲットに照射することにより、スパッタ粒子を引き出し、前記スパッタ粒子を前記基材上に入射させることにより、前記無機配向膜を形成する請求項１に記載の無機配向膜形成装置。
【請求項３】
前記ターゲットおよび前記チャンバの内壁面の少なくとも一部は、酸化ケイ素で構成されたものである請求項１または２に記載の無機配向膜形成装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の装置を用いることを特徴とする無機配向膜の形成方法。
【請求項５】
前記スパッタ粒子を、前記基材の前記無機配向膜を形成する面の垂直方向に対して所定の角度θｓだけ傾斜させた方向から前記基材上に入射させ、
前記基材上に、主として無機材料で構成された柱状の結晶が、前記基材の前記無機配向膜を形成する面の面方向に対して、傾斜した状態で配向した前記無機配向膜を形成する請求項１ないし４のいずれかに記載の無機配向膜の形成方法。
【請求項６】
前記所定の角度θｓは、４０°以上である請求項５に記載の無機配向膜の形成方法。
【請求項７】
前記基材上に到達する前記スパッタ粒子のエネルギーおよび／または数を制御することにより、前記柱状の結晶の頂部付近の形状を制御する請求項１ないし６のいずれかに記載の無機配向膜の形成方法。
【請求項８】
前記柱状の結晶は、前記基材に対して所定の角度θｃだけ傾斜した状態で配向したものである請求項７に記載の無機配向膜の形成方法。
【請求項９】
請求項１ないし３のいずれかに記載の装置を用いて形成されたことを特徴とする無機配向膜。
【請求項１０】
請求項４ないし８のいずれかに記載の無機配向膜の形成方法により形成されたことを特徴とする無機配向膜。
【請求項１１】
無機配向膜の平均厚さは、０．０２〜０．３μｍである請求項１０に記載の無機配向膜。
【請求項１２】
基板上に、電極と、
請求項１０または１１に記載の無機配向膜とを備えることを特徴とする電子デバイス用基板。
【請求項１３】
請求項１０または１１に記載の無機配向膜と、液晶層とを備えたことを特徴とする液晶パネル。
【請求項１４】
請求項１３に記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機配向膜形成装置、無機配向膜の形成方法、無機配向膜、電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
スクリーン上に画像を投影する投射型表示装置が知られている。この投射型表示装置では、その画像形成に主として液晶パネルが用いられている。
このような液晶パネルは、通常、液晶分子を一定方向に配向させるため、所定のプレチルト角が発現するように設定された配向膜を有している。これらの配向膜を製造するには、基材上に成膜されたポリイミド等の高分子化合物からなる薄膜を、レーヨン等の布で一方向に擦るラビング処理する方法等が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、ポリイミド等の高分子化合物で構成された配向膜は、使用環境、使用時間等により、光劣化を生じることがあった。このような光劣化が起こると、配向膜、液晶層等の構成材料が分解し、その分解生成物が液晶の性能等に悪影響を及ぼすことがある。また、このラビング処理では静電気や埃が発生し、それにより信頼性等が低下するといった問題がある。
このような問題を解決する目的で、無機材料で構成された配向膜（無機配向膜）を採用する試みがある。無機配向膜は、一般に、無機材料（無機配向膜形成用材料）をターゲットとして用いる気相成膜法により形成されるが、従来の方法では、以下のような問題があった。
【０００４】
すなわち、ターゲットの成膜材料が、無機配向膜を形成すべき基材上の他に、気相成膜装置（チャンバ）の内壁等にも付着する。このような付着物は、内壁から剥落し、粉塵、ダスト状の異物（汚れ）として、チャンバ内を汚染することとなる。このような異物が存在すると、基材や形成された無機配向膜に付着することがあった。このような異物が基板や無機配向膜に付着すると、無機配向膜の配向特性等を著しく損なう。また、無機配向膜の形成後に、無機配向膜の表面から付着物を除去することも考えられるが、付着物を完全に除去するのは困難であり、また、無機配向膜の生産性（歩留り）の観点からも好ましくない。
上記のような問題を解決する目的で、例えば、表面にアルミを溶射した防着板をチャンバの内壁面に取り付けることが行われてきた。このような構成では、防着板を取り外すことにより、防着板に付着した汚れをチャンバ内から取り除くことができ、チャンバ内の異物を除去する作業を簡易化できるという利点がある。
【０００５】
しかしながら、上記のような防着板を使用した場合であっても、付着物の付着量が多くなったり、装置（チャンバ）内の温度や圧力の変化を生じること等により、この付着物が防着板から剥落し、上記と同様な問題を起こすことがあった。
そこで、マスクを使用した溶射により、防着板の表面に、所定の表面形状のＡｌ層を形成する技術が提案されている（例えば、特許文献２参照）。このような技術を採用することにより、温度変化等による付着物の剥離等は、抑制されるもの依然として、上記のような問題を十分に解決するには至っていない。
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１６１１３３号公報
【特許文献２】特開平８−１７６８１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、形成すべき無機配向膜の品質の低下を、確実に防止することができる無機配向膜成形装置、無機配向膜の形成方法を提供すること、また、前記無機配向膜形成装置、前記形成方法を用いて得られる信頼性の高い無機配向膜を提供すること、前記無機配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の無機配向膜形成装置は、チャンバ内において、成膜用のターゲットを用いて、気相成膜法により無機配向膜を製造するのに用いられる無機配向膜形成装置であって、
前記チャンバの内壁面の少なくとも一部が、前記ターゲットの構成材料と同一の材料で構成されていることを特徴とする。
これにより、形成すべき無機配向膜の品質の低下を、確実に防止することができる無機配向膜成形装置を提供することができる。
【０００９】
本発明の無機配向膜形成装置では、イオンビーム源からのイオンビームを前記ターゲットに照射することにより、スパッタ粒子を引き出し、前記スパッタ粒子を前記基材上に入射させることにより、前記無機配向膜を形成することが好ましい。
イオンビームを用いたスパッタ法では、一般に、電子ビーム蒸着法などと比較して、チャンバ壁面へのダスト付着量が少ないという利点が得られるが、パネル特性を考慮した場合には、発生するダスト量は過多であり、それに伴う弊害も生じ易い。本発明では、このようなイオンビームスパッタ法を適用した場合であっても、上記のような問題の発生を十分に防止しつつ、イオンビーム法を適用することによる利点を享受することができる。その結果、優れた特性の無機配向膜をより確実に形成することができる。
【００１０】
本発明の無機配向膜形成装置では、前記ターゲットおよび前記チャンバの内壁面の少なくとも一部は、酸化ケイ素で構成されたものであることが好ましい。
これにより、チャンバの内壁面に付着した付着物が剥落すること等を、より確実に防止することができるとともに、無機配向膜の配向特性を特に優れたものとすることができる。
本発明の無機配向膜の形成方法は、本発明の装置を用いることを特徴とする。
これにより、形成すべき無機配向膜の品質の低下を、確実に防止することができる無機配向膜の成形方法を提供することができる。
【００１１】
本発明の無機配向膜の形成方法では、前記スパッタ粒子を、前記基材の前記無機配向膜を形成する面の垂直方向に対して所定の角度θｓだけ傾斜させた方向から前記基材上に入射させ、
前記基材上に、主として無機材料で構成された柱状の結晶が、前記基材の前記無機配向膜を形成する面の面方向に対して、傾斜した状態で配向した前記無機配向膜を形成することが好ましい。
これにより、プレチルト角をより確実に制御することができ、無機配向膜の配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）を特に優れたものとすることができる。
【００１２】
本発明の無機配向膜の形成方法では、前記所定の角度θｓは、４０°以上である事が好ましい。
これにより、無機配向膜を構成する柱状結晶の頂部付近の形状を、液晶材料がより安定して配向することが可能な形状とすることができ、その結果、無機配向膜の配向特性をさらに優れたものとすることができる。
【００１３】
本発明の無機配向膜の形成方法では、前記基材上に到達する前記スパッタ粒子のエネルギーおよび／または数を制御することにより、前記柱状の結晶の頂部付近の形状を制御することが好ましい。
これにより、無機配向膜を構成する柱状結晶の頂部付近の形状を、液晶材料がより安定して配向することが可能な形状とすることができ、その結果、無機配向膜の配向特性をさらに優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明の無機配向膜の形成方法では、記柱状の結晶は、前記基材に対して所定の角度θｃだけ傾斜した状態で配向したものであることが好ましい。
これにより、適度なプレチルト角を発現させることができ、液晶材料の配向状態をより好適に規制することができる。
本発明の無機配向膜は、本発明の装置を用いて形成されたことを特徴とする。
これにより、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れ、かつ、耐光性に優れた無機配向膜を提供することができる。
【００１５】
本発明の無機配向膜は、本発明の無機配向膜の形成方法により形成されたことを特徴とする。
これにより、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れ、かつ、耐光性に優れた無機配向膜を提供することができる。
本発明の無機配向膜では、無機配向膜の平均厚さは、０．０２〜０．３μｍであることが好ましい。
これにより、より適度なプレチルト角を発現させることができ、液晶材料の配向状態をより好適に規制することができる。
【００１６】
本発明の電子デバイス用基板は、基板上に、電極と、
本発明の無機配向膜とを備えることを特徴とする。
これにより、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れ、かつ、耐光性に優れた電子デバイス用基板を提供することができる。
本発明の液晶パネルは、本発明の無機配向膜と、液晶層とを備えたことを特徴とする。
これにより、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れ、かつ、耐光性に優れた液晶パネルを提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の液晶パネルを備えたことを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
まず、無機配向膜形成装置、無機配向膜の形成方法の説明に先立ち、本発明の液晶パネルについて説明する。
図１は、本発明の液晶パネルの第１実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、本発明の方法により形成された無機配向膜を示す縦断面図である。
図１に示すように、液晶パネル１Ａは、液晶層２と、無機配向膜３Ａ、４Ａと、透明導電膜５、６と、偏光膜７Ａ、８Ａと、基板９、１０とを有している。
【００１８】
液晶層２は、主として、液晶材料で構成されている。
液晶層２を構成する液晶材料としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶など配向し得るものであればいかなる液晶材料を用いても構わないが、ＴＮ型液晶パネルの場合、ネマチック液晶を形成させるものが好ましく、例えば、フェニルシクロヘキサン誘導体液晶、ビフェニル誘導体液晶、ビフェニルシクロヘキサン誘導体液晶、テルフェニル誘導体液晶、フェニルエーテル誘導体液晶、フェニルエステル誘導体液晶、ビシクロヘキサン誘導体液晶、アゾメチン誘導体液晶、アゾキシ誘導体液晶、ピリミジン誘導体液晶、ジオキサン誘導体液晶、キュバン誘導体液晶等が挙げられる。さらに、これらネマチック液晶分子にモノフルオロ基、ジフルオロ基、トリフルオロ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基などのフッ素系置換基を導入した液晶分子も含まれる。
液晶層２の両面には、無機配向膜３Ａ、４Ａが配置されている。
また、無機配向膜３Ａは、後述するような透明導電膜５と基板９とからなる基材１００上に形成されており、無機配向膜４Ａは、後述するような透明導電膜６と基板１０とからなる基材１０１上に形成されている。
無機配向膜３Ａ、４Ａは、液晶層２を構成する液晶材料（液晶分子）の（電圧無印加時における）配向状態を規制する機能を有している。
【００１９】
このような無機配向膜３Ａ、４Ａは、例えば、後述するような方法（本発明の無機配向膜の形成方法）により形成され、図２に示すように、柱状の結晶が、基材１００の無機配向膜が形成されている面の面方向に対して、所定（一定）の方向に所定の角度θｃだけ傾斜した状態で配列した構成となっている。特に、本実施形態では、無機配向膜３Ａ、４Ａを構成する柱状結晶の頂部付近の形状が、液晶材料を安定して配向させることが可能な形状となっている。
【００２０】
本実施形態では、無機配向膜３Ａ、４Ａを構成する各柱状結晶は、柱状結晶の頂部付近において、図２に示すように、比較的平坦で、かつ、基材１００の無機配向膜が形成されている面とのなす角度θｃ’が柱状結晶の傾斜角θｃよりも小さい部位を有している。このような構成とすると、各柱状結晶の比較的平坦な部位のそれぞれに、液晶分子が安定した状態で配置されるため、適度なプレチルト角を発現させることができ、電圧の印加時における液晶分子の立ち上がりをより好適に規制することができる。
【００２１】
基材１００に対する柱状の結晶の傾きθｃは、３０〜６０°であるのが好ましく、４０〜５０°であるのがより好ましい。これにより、より適度なプレチルト角を発現させることができ、液晶分子の配向状態をより好適に規制することができる。
また、このような柱状の結晶の幅Ｗは、１０〜４０ｎｍであるのが好ましく、１０〜２０ｎｍであるのがより好ましい。これにより、より適度なプレチルト角を発現させることができ、液晶分子の配向状態をより好適に規制することができる。
【００２２】
無機配向膜３Ａ、４Ａは、主として無機材料で構成されている。一般に、無機材料は、有機材料に比べて、優れた化学的安定性を有しているため、従来のような有機材料で構成された配向膜に比べ、特に優れた耐光性を有するものとなる。
また、無機配向膜３Ａ、４Ａを構成する無機材料は、図２に示すように、柱状に結晶化し得るものであるのが好ましい。これにより、液晶層２を構成する液晶分子の（電圧無印加時における）配向状態（プレチルト角）をより容易に規制することができる。
【００２３】
上述したような無機材料としては、例えば、ＳｉＯ２やＳｉＯ等の酸化ケイ素（シリコンの酸化物）、Ａｌ２Ｏ３等の酸化アルミニウム（アルミニウムの酸化物）、ＺｎＯ等の酸化亜鉛（亜鉛の酸化物）、ＭｇＯ、ＩＴＯ等の各種金属酸化物等を用いることができる。中でも、特に、酸化ケイ素を用いるのが好ましい。これにより、得られる液晶パネルは、より優れた耐光性を有するものとなる。
【００２４】
このような無機配向膜３Ａ、４Ａは、その平均厚さが０．０２〜０．３μｍであるのが好ましく、０.０２〜０.０８μｍであるのがより好ましい。平均厚さが前記下限値未満であると、各部位におけるプレチルト角を十分に均一にするのが困難となる場合がある。一方、平均厚さが前記上限値を超えると、駆動電圧が高くなり、消費電力が大きくなる可能性がある。
【００２５】
無機配向膜３Ａの外表面側（液晶層２と対向する面とは反対側の面側）には、透明導電膜５が配置されている。同様に、無機配向膜４Ａの外表面側（液晶層２と対向する面とは反対側の面側）には、透明導電膜６が配置されている。
透明導電膜５、６は、これらの間で通電を行うことにより、液晶層２の液晶分子を駆動する（配向を変化させる）機能を有する。
【００２６】
透明導電膜５、６間での通電の制御は、透明導電膜に接続された制御回路（図示せず）から供給する電流を制御することにより行われる。
透明導電膜５、６は、導電性を有しており、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）等で構成されている。
透明導電膜５の外表面側（無機配向膜３Ａと対向する面とは反対側の面側）には、基板９が配置されている。同様に、透明導電膜６の外表面側（無機配向膜４Ａと対向する面とは反対側の面側）には、基板１０が配置されている。
【００２７】
基板９、１０は、前述した液晶層２、無機配向膜３Ａ、４Ａ、透明導電膜５、６、および後述する偏光膜７Ａ、８Ａを支持する機能を有している。基板９、１０の構成材料は、特に限定されず、例えば、石英ガラス等のガラスやポリエチレンテレフタレート等のプラスチック材料等が挙げられる。この中でも特に、石英ガラス等のガラスで構成されたものであるのが好ましい。これにより、そり、たわみ等の生じにくい、より安定性に優れた液晶パネルを得ることができる。なお、図１では、シール材、配線等の記載は省略した。
基板９の外表面側（透明導電膜５と対向する面とは反対側の面側）には、偏光膜（偏光板、偏光フィルム）７Ａが配置されている。同様に、基板１０の外表面側（透明導電膜６と対向する面とは反対側の面側）には、偏光膜（偏光板、偏光フィルム）８Ａが配置されている。
【００２８】
偏光膜７Ａ、８Ａの構成材料としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等が挙げられる。また、偏光膜としては、前記材料にヨウ素をドープしたもの等を用いてもよい。
偏光膜としては、例えば、上記材料で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いることができる。
【００２９】
このような偏光膜７Ａ、８Ａに配置することにより、通電量の調節による光の透過率の制御をより確実に行うことができる。
偏光膜７Ａ、８Ａの偏光軸の方向は、通常、無機配向膜３Ａ、４Ａの配向方向に応じて決定される。
なお、本実施形態では、無機配向膜として、図２に示すような構成のものについて説明したが、これに限定されず、液晶分子が安定して配向するような形状であれば、いずれの形状であってもよい。
【００３０】
次に、上述したような無機配向膜の形成に用いる無機配向膜形成装置および無機配向膜の形成方法について説明する。
図３は、無機配向膜の形成方法に用いる本発明の無機配向膜形成装置の模式図である。
まず、無機配向膜形成装置について説明する。
図３に示す無機配向膜形成装置Ｓ１００は、イオンビームを照射するイオン源（イオンビーム源）Ｓ１と、真空チャンバＳ３と、真空チャンバＳ３内の圧力を制御する排気ポンプＳ４と、無機配向膜が形成されるべき基材を真空チャンバＳ３内に固定する基材ホルダーＳ５と、ターゲット５００を保持するターゲット保持部材（バッキングプレート）Ｓ６とを有している。
【００３１】
イオン源Ｓ１は、その内部にプラズマ放電室と、引き出し電極Ｓ１２とを有している。また、イオン源Ｓ１には、イオン源Ｓ１内にガスを供給するガス供給源Ｓ１３が接続されている。
また、ターゲット保持部材Ｓ６は、通常、ステンレス鋼、銅、銅合金等の熱伝導性に優れる金属材料で構成されている。無機配向膜の形成時には、ターゲット５００は、Ｉｎ等のボンディング剤を介して、ターゲット保持部材Ｓ６に固定される。
【００３２】
真空チャンバ（チャンバ）Ｓ３は、その内面が、ターゲットと同一の材料で構成された板状部材Ｓ３１で構成されている。言い換えると、真空チャンバＳ３は、その内壁面Ｓ３２の少なくとも一部が、ターゲット５００と同一の材料で構成されている。このような内壁面Ｓ３２（板状部材Ｓ３１）は、ターゲット５００から引き出されたスパッタ粒子との密着性に優れている。このため、ターゲット５００へのイオンビームの照射が行われた際に、ターゲット５００から引き出されたスパッタ粒子の一部が、基材上に堆積せず、真空チャンバＳ３の内壁面Ｓ３２に付着したとしても、このような付着物を確実に保持することができる。特に、真空チャンバＳ３内において、温度変化や圧力変化が生じた場合であっても、十分な密着性を保持することができる。これにより、スパッタ粒子による付着物が、内壁面Ｓ３２から剥落するのを効果的に防止することができる。その結果、スパッタ粒子による付着物が、内壁面から剥落し、粉塵、ダスト状の異物（汚れ）として、チャンバ内や、基材等を汚染するといった問題の発生を確実に防止することができる。また、真空チャンバＳ３の内壁面Ｓ３２がターゲット５００と同一の材料で構成されていることにより、後述するような無機配向膜の形成時において、イオンビームの一部が、ターゲットではなく、真空チャンバＳ３の内壁面Ｓ３２に照射されてしまったとしても、無機配向膜の構成材料以外の材料が引き出されてしまうのを防止することができ、成形される無機配向膜の特性に悪影響を及ぼすのを、より確実に防止することができる。また、このような構成の真空チャンバＳ３は、長期間にわたって、上記のような優れた効果を発揮することができる。したがって、無機配向膜形成装置Ｓ１００のメンテナンスも容易である。
【００３３】
真空チャンバＳ３は、その内壁面Ｓ３２の少なくとも一部が、ターゲット５００と同一の材料で構成されるものであればよいが、図示の構成では、真空チャンバＳ３の内壁面Ｓ３２全体が、ターゲット５００と同一の材料で構成された板状部材Ｓ３１によって形成されている。これにより、スパッタ粒子による付着物が、内壁面Ｓ３２から剥落するのを効果的に防止することができる。
【００３４】
真空チャンバＳ３の内壁面Ｓ３２を構成する板状部材Ｓ３１の厚さ（ターゲット５００と同じ材料で構成された部分の厚さ）は、特に限定されないが、０．５〜３．０ｍｍであるのが好ましく、１〜２ｍｍであるのがより好ましい。板状部材Ｓ３１の厚さが前記下限値未満であると、ターゲット５００、板状部材Ｓ３１の構成材料等によっては、本発明の効果が十分に発揮されない可能性がある。一方、板状部材Ｓ３１の厚さが前記上限値を超えると、上述したような効果は飽和し、さらなる向上が望めなくなる。
【００３５】
また、板状部材Ｓ３１は、必要に応じて、チャンバ本体Ｓ３０から、取り外し可能であるのが好ましい。これにより、板状部材Ｓ３１上への付着物の堆積量が多くなった場合（例えば、付着物の厚さが５０００ｎｍ以上となった場合等）に、板状部材Ｓ３１を容易に交換することができる。なお、付着物は、板状部材Ｓ３１との密着性に優れているので、このような板状部材の取り外しの際にも、付着物が剥落するのを確実に防止することができる。
【００３６】
上述したように、無機配向膜形成装置Ｓ１００は、真空チャンバＳ３の内壁面Ｓ３２がターゲット５００と同一材料で構成されたものであればよいが、真空チャンバＳ３内の部材、すなわち、基材ホルダーＳ５、ターゲット保持部材Ｓ６等も、その表面付近がターゲット５００と同一の材料（内壁面Ｓ３２と同一の材料）で構成されていてもよい。これにより、上述したような問題の発生をより確実に防止することができる。このような場合、これらの部材についての、ターゲット５００と同一の材料（内壁面Ｓ３２と同一の材料）で構成された部位の厚さは、０．５〜３．０ｍｍであるのが好ましく、１〜２ｍｍであるのがより好ましい。
【００３７】
次に、図示の構成のような無機配向膜形成装置を用いた、本発明の無機配向膜の形成方法について説明する。以下、代表的に、無機配向膜３Ａを形成する場合について説明する。
＜１＞まず、真空チャンバＳ３内のターゲット保持部材Ｓ６にターゲット５００を設置する。ターゲット５００を構成する材料は、無機配向膜３Ａを形成する材料によって適宜選択され、例えば、ＳｉＯ２で構成された無機配向膜を形成する場合には、ターゲット５００として、ＳｉＯ２で構成されたものを好適に用いることができ、また、ＳｉＯで構成された無機配向膜を形成する場合には、ターゲット５００として、ＳｉＯで構成されたものを好適に用いることができる。
【００３８】
＜２＞次に、真空チャンバＳ３内の基材ホルダーＳ５に、基材１００を設置する。
＜３＞次に、排気ポンプＳ４により、真空チャンバＳ３内を減圧する。
＜４＞次に、イオン源Ｓ１内に、ガス供給源Ｓ１３よりガスを供給する。
＜５＞次に、フィラメントに電源（図示せず）より、電圧を印加し、熱電子を発生させる。このようにして発生した熱電子は、イオン源Ｓ１内に導入されたガスと衝突する。これにより、ガスがイオン化し、プラズマが発生する。このような状態で、引き出し電極Ｓ１２にイオン加速電圧を印加することにより、イオンを加速し、イオンビームとして、ターゲット５００に照射させる。
【００３９】
イオンビームが照射されたターゲット５００からは、スパッタ粒子が引き出され、当該スパッタ粒子を基材１００上に入射、堆積させる。
そして、上記のようなイオンビームの照射を続けることにより、スパッタ粒子の基材１００上への入射、堆積が進行し、基材１００上に無機配向膜３Ａが形成された基板（本発明の電子デバイス用基板（電子デバイス用基板２００））が得られる。
【００４０】
なお、イオンビームの照射時には、ターゲット５００より発生したスパッタ粒子が、基材１００に、基材１００の無機配向膜３Ａを形成する面の垂直方向に対して所定の角度（照射角）θｓだけ傾斜した方向から入射するように、基材ホルダーＳ５の設置角度を設定するのが好ましい。これにより、主として無機材料で構成された柱状の結晶が、基材の無機配向膜を形成する面の面方向に対して、傾斜した状態で配向した無機配向膜を形成することができる。その結果、無機配向膜のプレチルト角をより確実に制御することができ、無機配向膜の配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）を特に優れたものとすることができる。
【００４１】
角度θｓは、４０°以上であるのが好ましく、５０〜８７°であるのがより好ましく、７０〜８７°であるのがさらに好ましい。これにより、無機配向膜３Ａを構成する柱状結晶の頂部付近の形状を、液晶分子がより安定して配向することが可能な形状とすることができ、その結果、得られる無機配向膜３Ａは液晶分子の配向状態を規制する機能がより優れたものとなる。これに対し、角度θｓが小さすぎると、十分なプレチルト角が得られず、液晶分子の配向状態を規制する機能が十分に得られない可能性がある。一方、角度θｓが大きすぎると、ターゲット５００から引き出されたスパッタ粒子を、基材１００上に確実に付着させるのが困難となり、その結果、基材１００と無機配向膜３Ａとの密着性が低下するといった問題が生じる可能性がある。
【００４２】
また、本発明者は、上述のように成膜する際に基材に到達するスパッタ粒子のエネルギーおよび／または数を制御することにより、無機配向膜の配向性をより好適に制御することができることを見出した。より詳しく説明すると、基材に到達するスパッタ粒子のエネルギーおよび／または数を制御することにより、無機配向膜３Ａを構成する柱状結晶の頂部付近の形状を、液晶材料がより安定して配向することが可能な形状とすることができ、その結果、無機配向膜の配向特性をさらに優れたものとすることができる。
【００４３】
さらに、以下のような条件（１）および（２）のうち、少なくとも１つを満足するのが好ましく、２つを同時に満足するのがより好ましい。
（１）引き出し電極Ｓ１２に印加するイオンビームの加速電圧が、１２００Ｖ以上である。
（２）照射されるイオンビームのイオンビーム電流が、５０〜５００ｍＡである。
【００４４】
このような条件（１）および（２）のうち、少なくとも１つを満足することにより、無機配向膜を構成する柱状結晶の頂部付近の形状を、液晶分子がより安定して配向する形状とすることができ、結果として、プレチルト角をより確実に制御することができる。
特に、前記条件（１）および（２）を同時に満足することにより、前述の効果がより顕著なものとなる。
【００４５】
イオンビームの加速電圧は、上述したように１２００Ｖ以上であるのが好ましいが、１４００Ｖ以上であるのがより好ましい。加速電圧が前記下限値未満であると、柱状結晶の頂部付近の形状をより確実に制御するのが困難となる場合がある。
イオンビーム電流は、上述したように５０〜５００ｍＡであるのが好ましいが、２００〜５００ｍＡであるのがより好ましい。イオンビーム電流が前記下限値未満であると、スパッタレートが低下し、十分な生産性が得られない場合がある。一方、イオンビーム電流が前記上限値を超えると、液晶分子の配向性にばらつきが生じる傾向がある。
【００４６】
一般に、基材に対して所定の条件でスパッタ粒子を傾斜させて入射させると、スパッタ粒子の入射角（照射角）に対応した方向に傾斜した柱状結晶を成長させることができ、無機配向膜全体として配向性を有するものとすることができるが、液晶分子の配向性にばらつきが生じてしまう可能性がある。しかしながら、上記のような条件を満足すると、無機配向膜３Ａを構成する柱状結晶の頂部付近の形状を、液晶分子がより安定して配向することが可能な形状に制御することができ、その結果、より確実にプレチルト角を制御することができる。
【００４７】
また、真空チャンバＳ３内の圧力、すなわち、無機配向膜３Ａを形成する際の雰囲気の圧力は、５．０×１０−２Ｐａ以下であるのが好ましく、１．０×１０−２Ｐａ以下であるのがより好ましい。これにより、液晶分子がより安定して配向可能な無機配向膜３Ａを形成することができる。これに対し、真空チャンバＳ３内の圧力が高すぎると、スパッタ粒子の直進性が低下してしまう場合があり、その結果、柱状の結晶が十分に形成されない可能性がある。また、結晶の配向が十分に揃わない可能性がある。
【００４８】
ガス供給源Ｓ１３よりイオン源Ｓ１内に供給されるガスは、特に限定されないが、希ガスであるのが好ましく、アルゴンガスであるのがより好ましい。これにより、無機配向膜３Ａの形成速度（スパッタレート）を向上させることができる。
無機配向膜３Ａを形成する際の基材１００の温度は、比較的低いのが好ましい。具体的には、基材１００の温度は、１５０℃以下とするのが好ましく、８０℃以下とするのがより好ましく、２０〜５０℃とするのがさらに好ましい。これにより、基材１００に付着したスパッタ粒子が最初に付着した位置から移動する現象、すなわちマイグレーションという現象を抑制し、液晶分子がより安定して配向可能な無機配向膜３Ａを形成することができる。なお、無機配向膜３Ａを形成する際の基材１００の温度が、上記範囲のものとなるように、必要に応じて冷却してもよい。
【００４９】
無機配向膜３Ａの形成速度（成膜速度）は、特に限定されないが、１〜１５ｎｍ／分であるのが好ましく、６〜１０ｎｍ／分であるのがより好ましい。これにより、得られる無機配向膜の配向性を損なうことなく、より効率よく無機配向膜を形成することができる。
以上、無機配向膜３Ａを形成する場合について説明したが、無機配向膜４Ａについても同様に形成することができる。
【００５０】
次に、本発明の液晶パネルの第２実施形態について説明する。
図４は、本発明の液晶パネルの第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。以下、図４に示す液晶パネル１Ｂについて、前記第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図４に示すように、液晶パネル（ＴＦＴ液晶パネル）１Ｂは、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された無機配向膜３Ｂと、液晶パネル用対向基板１２と、液晶パネル用対向基板１２に接合された無機配向膜４Ｂと、無機配向膜３Ｂと無機配向膜４Ｂとの空隙に封入された液晶よりなる液晶層２と、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７の外表面側（無機配向膜４Ｂと対向する面とは反対側の面側）に接合された偏光膜７Ｂと、液晶パネル用対向基板１２の外表面側（無機配向膜４Ｂと対向する面とは反対側の面側）に接合された偏光膜８Ｂとを有している。無機配向膜３Ｂ、４Ｂは、前記第１実施形態で説明した無機配向膜３Ａ、４Ａと同様の方法（本発明の無機配向膜の形成方法）で形成されたものであり、偏光膜７Ｂ、８Ｂは、前記第１実施形態で説明した偏光膜７Ａ、８Ａと同様なものである。
液晶パネル用対向基板１２は、マイクロレンズ基板１１と、かかるマイクロレンズ基板１１の表層１１４上に設けられ、開口１３１が形成されたブラックマトリックス１３と、表層１１４上にブラックマトリックス１３を覆うように設けられた透明導電膜（共通電極）１４とを有している。
【００５１】
マイクロレンズ基板１１は、凹曲面を有する複数（多数）の凹部（マイクロレンズ用凹部）１１２が設けられたマイクロレンズ用凹部付き基板（第１の基板）１１１と、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板１１１の凹部１１２が設けられた面に樹脂層（接着剤層）１１５を介して接合された表層（第２の基板）１１４とを有しており、また、樹脂層１１５では、凹部１１２内に充填された樹脂によりマイクロレンズ１１３が形成されている。
【００５２】
マイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、平板状の母材（透明基板）より製造され、その表面には、複数（多数）の凹部１１２が形成されている。凹部１１２は、例えば、マスクを用いた、ドライエッチング法、ウェットエッチング法等により形成することができる。
このマイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、例えば、ガラス等で構成されている。
【００５３】
前記母材の熱膨張係数は、ガラス基板１７１の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）であることが好ましい。これにより、得られる液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことにより生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。
かかる観点からは、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と、ガラス基板１７１とは、同種類の材質で構成されていることが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨張係数の相違によるそり、たわみ、剥離等が効果的に防止される。
【００５４】
特に、マイクロレンズ基板１１を高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルに用いる場合には、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、石英ガラスで構成されていることが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有している。かかるＴＦＴ基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスが好ましく用いられる。このため、これに対応させて、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１を石英ガラスで構成することにより、そり、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得ることができる。
【００５５】
マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の上面には、凹部１１２を覆う樹脂層（接着剤層）１１５が設けられている。
凹部１１２内には、樹脂層１１５の構成材料が充填されることにより、マイクロレンズ１１３が形成されている。
樹脂層１１５は、例えば、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の構成材料の屈折率よりも高い屈折率の樹脂（接着剤）で構成することができ、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリルエポキシ系のような紫外線硬化樹脂等で好適に構成することができる。
【００５６】
樹脂層１１５の上面には、平板状の表層１１４が設けられている。
表層（ガラス層）１１４は、例えばガラスで構成することができる。この場合、表層１１４の熱膨張係数は、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）とすることが好ましい。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と表層１１４の熱膨張係数の相違により生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。このような効果は、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と表層１１４とを同種類の材料で構成すると、より効果的に得られる。
【００５７】
表層１１４の厚さは、マイクロレンズ基板１１が液晶パネルに用いられる場合、必要な光学特性を得る観点からは、通常、５〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは１０〜１５０μｍ程度とされる。
なお、表層（バリア層）１１４は、例えばセラミックスで構成することもできる。なお、セラミックスとしては、例えば、ＡｌＮ、ＳｉＮ、ＴｉＮ、ＢＮ等の窒化物系セラミックス、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２等の酸化物系セラミックス、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＴａＣ等の炭化物系セラミックスなどが挙げられる。表層１１４をセラミックスで構成する場合、表層１１４の厚さは、特に限定されないが、２０ｎｍ〜２０μｍ程度とすることが好ましく、４０ｎｍ〜１μｍ程度とすることがより好ましい。
なお、このような表層１１４は、必要に応じて省略することができる。
【００５８】
ブラックマトリックス１３は、遮光機能を有し、例えば、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ等の金属、カーボンやチタン等を分散した樹脂等で構成されている。
透明導電膜１４は、導電性を有し、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）等で構成されている。
ＴＦＴ基板１７は、液晶層２の液晶を駆動する基板であり、ガラス基板１７１と、かかるガラス基板１７１上に設けられ、マトリックス状（行列状）に配設された複数（多数）の画素電極１７２と、各画素電極１７２に対応する複数（多数）の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７３とを有している。なお、図４では、シール材、配線等の記載は省略した。
【００５９】
ガラス基板１７１は、前述したような理由から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。
画素電極１７２は、透明導電膜（共通電極）１４との間で充放電を行うことにより、液晶層２の液晶を駆動する。この画素電極１７２は、例えば、前述した透明導電膜１４と同様の材料で構成されている。
【００６０】
薄膜トランジスタ１７３は、近傍の対応する画素電極１７２に接続されている。また、薄膜トランジスタ１７３は、図示しない制御回路に接続され、画素電極１７２へ供給する電流を制御する。これにより、画素電極１７２の充放電が制御される。
無機配向膜３Ｂは、ＴＦＴ基板１７の画素電極１７２と接合しており、無機配向膜４Ｂは、液晶パネル用対向基板１２の透明導電膜１４と接合している。
【００６１】
液晶層２は液晶材料（液晶分子）で構成されており、画素電極１７２の充放電に対応して、かかる液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。
このような液晶パネル１Ｂでは、通常、１個のマイクロレンズ１１３と、かかるマイクロレンズ１１３の光軸Ｑに対応したブラックマトリックス１３の１個の開口１３１と、１個の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２に接続された１個の薄膜トランジスタ１７３とが、１画素に対応している。
【００６２】
液晶パネル用対向基板１２側から入射した入射光Ｌは、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１を通り、マイクロレンズ１１３を通過する際に集光されつつ、樹脂層１１５、表層１１４、ブラックマトリックス１３の開口１３１、透明導電膜１４、液晶層２、画素電極１７２、ガラス基板１７１を透過する。このとき、マイクロレンズ基板１１の入射側に偏光膜８Ｂが設けられているため、入射光Ｌが液晶層２を透過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。その際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層２の液晶分子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パネル１Ｂを透過した入射光Ｌを偏光膜７Ｂに透過させることにより、出射光の輝度を制御することができる。
【００６３】
このように、液晶パネル１Ｂは、マイクロレンズ１１３を有しており、しかも、マイクロレンズ１１３を通過した入射光Ｌは、集光されてブラックマトリックス１３の開口１３１を通過する。一方、ブラックマトリックス１３の開口１３１が形成されていない部分では、入射光Ｌは遮光される。したがって、液晶パネル１Ｂでは、画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、かつ、画素部分での入射光Ｌの減衰が抑制される。このため、液晶パネル１Ｂは、画素部で高い光の透過率を有する。
【００６４】
この液晶パネル１Ｂは、例えば、公知の方法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１２とに、それぞれ、無機配向膜３Ｂ、４Ｂを形成し、その後、シール材（図示せず）を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔（図示せず）から液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することができる。
【００６５】
なお、上記液晶パネル１Ｂでは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦＴ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、ＳＴＮ基板などを用いてもよい。
また、上述したような無機配向膜を備える液晶パネルは、光源の強いものや、屋外で用いられるものに好適に用いることができる。
【００６６】
次に、前述したような液晶パネル１Ａを備える本発明の電子機器（液晶表示装置）について、図５〜図７に示す実施形態に基づき、詳細に説明する。
図５は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ１１００においては、表示ユニット１１０６が、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとを備えている。バックライトからの光を液晶パネル１Ａに透過させることにより画像（情報）を表示し得るものである。
【００６７】
図６は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとを備えている。
【００６８】
図７は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【００６９】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとが設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、液晶パネル１Ａは、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
【００７０】
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が液晶パネル１Ａに表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
【００７１】
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【００７２】
次に、本発明の電子機器の一例として、上記液晶パネル１Ｂを用いた電子機器（液晶プロジェクター）について説明する。
図８は、本発明の電子機器（投射型表示装置）の光学系を模式的に示す図である。
同図に示すように、投射型表示装置３００は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２５と、青色に対応した（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム（色合成光学系）２１と、投射レンズ（投射光学系）２２とを有している。
【００７３】
また、照明光学系は、インテグレータレンズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有している。
【００７４】
液晶ライトバルブ２５は、前述した液晶パネル１Ｂを備えている。液晶ライトバルブ２４および２６も、液晶ライトバルブ２５と同様の構成となっている。これら液晶ライトバルブ２４、２５および２６が備えている液晶パネル１Ｂは、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されている。
なお、投射型表示装置３００では、ダイクロイックプリズム２１と投射レンズ２２とで、光学ブロック２０が構成されている。また、この光学ブロック２０と、ダイクロイックプリズム２１に対して固定的に設置された液晶ライトバルブ２４、２５および２６とで、表示ユニット２３が構成されている。
【００７５】
以下、投射型表示装置３００の作用を説明する。
光源３０１から出射された白色光（白色光束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグレータレンズ３０２および３０３により均一にされる。光源３０１から出射される白色光は、その光強度が比較的大きいものであるのが好ましい。これにより、スクリーン３２０上に形成される画像をより鮮明なものとすることができる。また、投射型表示装置３００では、耐光性に優れた液晶パネル１Ｂを用いているため、光源３０１から出射される光の強度が大きい場合であっても、優れた長期安定性が得られる。
【００７６】
インテグレータレンズ３０２および３０３を透過した白色光は、ミラー３０４で図８中左側に反射し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図８中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラー３０５を透過する。
ダイクロイックミラー３０５を透過した赤色光は、ミラー３０６で図８中下側に反射し、その反射光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶ライトバルブ２４に入射する。
【００７７】
ダイクロイックミラー３０５で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー３０７で図８中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー３０７を透過する。
ダイクロイックミラー３０７で反射した緑色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液晶ライトバルブ２５に入射する。
【００７８】
また、ダイクロイックミラー３０７を透過した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）３０８で図８中左側に反射し、その反射光は、ミラー３０９で図８中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用の液晶ライトバルブ２６に入射する。
このように、光源３０１から出射された白色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバルブに導かれ、入射する。
【００７９】
この際、液晶ライトバルブ２４が有する液晶パネル１Ｂの各画素（薄膜トランジスタ１７３とこれに接続された画素電極１７２）は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。
同様に、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２５および２６に入射し、それぞれの液晶パネル１Ｂで変調され、これにより緑色用の画像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライトバルブ２５が有する液晶パネル１Ｂの各画素は、緑色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御され、液晶ライトバルブ２６が有する液晶パネル１Ｂの各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御される。
【００８０】
これにより赤色光、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２４、２５および２６で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用の画像がそれぞれ形成される。
前記液晶ライトバルブ２４により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２４からの赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図８中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出射面２１６から出射する。
【００８１】
また、前記液晶ライトバルブ２５により形成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２５からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。
また、前記液晶ライトバルブ２６により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２６からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図８中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過して、出射面２１６から出射する。
【００８２】
このように、前記液晶ライトバルブ２４、２５および２６からの各色の光、すなわち液晶ライトバルブ２４、２５および２６により形成された各画像は、ダイクロイックプリズム２１により合成され、これによりカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ２２により、所定の位置に設置されているスクリーン３２０上に投影（拡大投射）される。
【００８３】
なお、本発明の電子機器は、図５のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図６の携帯電話機、図７のディジタルスチルカメラ、図８の投射型表示装置の他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータなどが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部、モニタ部として、前述した本発明の液晶パネルが適用可能なことは言うまでもない。
以上、本発明を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００８４】
例えば、本発明の無機配向膜形成装置では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
また、前述した実施形態では、イオンビームを用いたスパッタ法に適用されるものとして説明したが、本発明は、他の気相成膜法（他のスパッタ法やイオンプレーティング法等）に適用されるものであってもよい。
【００８５】
また、本発明の無機配向膜の形成方法では、任意の目的の工程が１または２以上追加されてもよい。また、例えば、本発明の電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
また、前述した実施形態では、投射型表示装置（電子機器）は、３個の液晶パネルを有するものであり、これらの全てに本発明の液晶パネルを適用したものについて説明したが、少なくともこれらのうち１個が、本発明の液晶パネルであればよい。この場合、少なくとも、青色用の液晶ライトバルブに用いられる液晶パネルに本発明を適用するのが好ましい。
【実施例】
【００８６】
（実施例１）
［無機配向膜形成装置の製造］
まず、図３に示すような無機配向膜形成装置を製造した。
真空チャンバＳ３は、チャンバ本体Ｓ３０の内表面全体に、ＳｉＯ２製の板状部材Ｓ３１が配されたものとした。板状部材Ｓ３１の厚さは、１ｍｍであった。また、チャンバ本体の内表面は、ＳｉＯ２で構成されたものとした。
また、ターゲット保持部材Ｓ６は、銅で構成された基部と、ＳｉＯ２で構成された表面層とを有するものを用いた。表面層の厚さは、１．５ｍｍであった。
また、基材ホルダーＳ５は、銅で構成された基部と、ＳｉＯ２で構成された表面層とを有するものを用いた。表面層の厚さは、１．５ｍｍであった。
【００８７】
［液晶パネルの製造］
上記のような無機配向膜形成装置を用いて、以下のようにして、図４に示すような液晶パネルを製造した。
まず、以下のようにして、マイクロレンズ基板を製造した。
厚さ約１．２ｍｍの未加工の石英ガラス基板（透明基板）を母材として用意し、これを８５℃の洗浄液（硫酸と過酸化水素水との混合液）に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
【００８８】
その後、この石英ガラス基板の表面および裏面に、ＣＶＤ法により、厚さ０．４μｍの多結晶シリコンの膜を形成した。
次に、形成した多結晶シリコン膜に、形成する凹部に対応した開口を形成した。
これは、次のようにして行った。まず、多結晶シリコン膜上に、形成する凹部のパターンを有するレジスト層を形成した。次に、多結晶シリコン膜に対してＣＦガスによるドライエッチングを行い、開口を形成した。次に、前記レジスト層を除去した。
【００８９】
次に、石英ガラス基板をエッチング液（１０wt％フッ酸＋１０wt％グリセリンの混合水溶液）に１２０分間浸漬してウェットエッチング（エッチング温度３０℃）を行い、石英ガラス基板上に凹部を形成した。
その後、石英ガラス基板を、１５wt％テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液に５分間浸漬して、表面および裏面に形成した多結晶シリコン膜を除去することにより、マイクロレンズ用凹部付き基板を得た。
【００９０】
次に、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された面に、紫外線（ＵＶ）硬化型アクリル系の光学接着剤（屈折率１．６０）を気泡なく塗布し、次いで、かかる光学接着剤に石英ガラス製のカバーガラス（表層）を接合し、次いで、かかる光学接着剤に紫外線を照射して光学接着剤を硬化させ、積層体を得た。
その後、カバーガラスを厚さ５０μｍに研削、研磨して、マイクロレンズ基板を得た。
なお、得られたマイクロレンズ基板では、樹脂層の厚みは１２μｍであった。
【００９１】
以上のようにして得られたマイクロレンズ基板について、スパッタリング法およびフォトリソグラフィー法を用いて、カバーガラスのマイクロレンズに対応した位置に開口が設けられた厚さ０．１６μｍの遮光膜（Ｃｒ膜）、すなわち、ブラックマトリックスを形成した。さらに、ブラックマトリックス上に厚さ０．１５μｍのＩＴＯ膜（透明導電膜）をスパッタリング法により形成し、液晶パネル用対向基板を製造した。
このようにして得られた液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に無機配向膜を上述したような無機配向膜形成装置を用い、以下のようにして形成した。
【００９２】
まず、銅で構成されたターゲット保持部材Ｓ６に、ボンディング剤としてのＩｎを介して、ＳｉＯ２製のターゲット５００を設置した。
次に、真空チャンバＳ３内の基材ホルダーＳ５に、液晶パネル用対向基板を設置し、排気ポンプＳ４により、真空チャンバＳ３内を５．０×１０-4Ｐａまで減圧した。
次に、イオン源Ｓ１内に、ガス供給源Ｓ１３よりアルゴンガスを供給し、フィラメントに、電圧を印加し、プラズマを発生させ、引き出し電極Ｓ１２に１５００Ｖのイオン加速電圧を印加して、イオンを加速し、イオンビームとして、ターゲット５００に照射した。なお、照射されたイオンビームのイオンビーム電流は、２５０ｍＡであった。
【００９３】
イオンビームが照射されたターゲット５００からは、液晶パネル用対向基板に向けてスパッタ粒子が引き出され、透明導電膜上に平均厚さ０.０５μｍのＳｉＯ２で構成された無機配向膜を形成した。なお、スパッタ粒子の照射角度（入射角度）θｓは、８０°であった。また、成膜する際の液晶パネル用対向基板の温度は、１００℃であった。
上記のようにして形成された無機配向膜を構成する柱状の結晶の液晶パネル用対向基板に対する傾斜角θｃは、４５°で、柱状の結晶の幅は、２５ｎｍであった。
【００９４】
また、別途用意したＴＦＴ基板（石英ガラス製）の表面にも、上記と同様にして、無機配向膜を形成した。
無機配向膜が形成された液晶パネル用対向基板と、無機配向膜が形成されたＴＦＴ基板とを、シール材を介して接合した。この接合は、液晶層を構成する液晶分子が左ツイストするように無機配向膜の配向方向が９０°ずれるように行った。
次に、無機配向膜−無機配向膜間に形成された空隙部の封入孔から液晶（メルク社製：MJ99247）を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞いだ。形成された液晶層の厚さは、約３μｍであった。
【００９５】
その後、液晶パネル用対向基板の外表面側と、ＴＦＴ基板の外表面側とに、それぞれ、偏光膜８Ｂ、偏光膜７Ｂを接合することにより、図４に示すような構造のＴＦＴ液晶パネルを製造した。偏光膜としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いた。なお、偏光膜７Ｂ、偏光膜８Ｂの接合方向は、それぞれ、無機配向膜３Ｂ、無機配向膜４Ｂの配向方向に基づき決定した。すなわち、電圧印加時には入射光が透過せず、電圧無印加時には入射光が透過するように、偏光膜７Ｂ、偏光膜８Ｂを接合した。
なお、製造された液晶パネルのプレチルト角は、３〜７°の範囲のものであった。
【００９６】
（実施例２〜６）
無機配向膜形成装置の構成、および、無機配向膜を形成する際の各条件を表１に示すようにして、ＳｉＯ２で構成された無機配向膜を形成した以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
（実施例７〜１０）
ターゲット５００として、ＳｉＯを用い、無機配向膜形成装置の構成、および、無機配向膜を形成する際の各条件を表１に示すようにして、ＳｉＯで構成された無機配向膜を形成した以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
【００９７】
（比較例１）
図３に示すような装置を用いずに、ポリイミド系樹脂（ＰＩ）の溶液（日本合成ゴム株式会社製：AL6256）を用意し、スピンコート法により、液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に平均厚さ０.０５μｍの膜を形成し、プレチルト角が２〜３°となるように、ラビング処理を施して、配向膜とした以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。なお、比較例１では、ラビング処理する際に、埃のようなものが発生した。
【００９８】
（比較例２）
ＳｉＯ２製の板状部材Ｓ３１の代わりに、ステンレス製の基板上に、アルミニウムの溶射膜（厚さ：５０μｍ）が被覆された板材を用い、ターゲット保持部材Ｓ６、基材ホルダーＳ５として、ＳｉＯ２で構成された表面層を有さない、銅製の部材を用いた以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
【００９９】
（比較例３）
ＳｉＯ２製の板状部材Ｓ３１を用いず、真空チャンバＳ３をチャンバ本体のみで構成されたものとし、ターゲット保持部材Ｓ６、基材ホルダーＳ５として、ＳｉＯ２で構成された表面層を有さない、銅製の部材を用いた以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
（比較例４）
ターゲット５００より発生したスパッタ粒子を、傾斜させずに液晶パネル用対向基板に入射させた以外は、前記比較例２と同様にして液晶パネルを製造した。
【０１００】
［真空チャンバ内、無機配向膜表面の清浄状態の評価］
上記各実施例および比較例２〜４について、それぞれ、上述したのと同様の方法で、無機配向膜の形成を繰り返し行い、１００枚の液晶パネルを製造した。
１００枚の液晶パネルを製造した後の、真空チャンバ内の状態（清浄状態）を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：チャンバ内の床上に、粉塵、ダスト状の異物等が一切認められなかった。
○：チャンバ内の床上に、粉塵、ダスト状の異物等がほとんど認められなかった。
△：チャンバ内の床上に、粉塵、ダスト状の異物等がわずかに認められた。
×：チャンバ内の床上に、粉塵、ダスト状の異物等が顕著に認められた。
【０１０１】
また、９０〜１００枚目に製造した液晶パネルについて、その表面の様子を観察し、以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：異物の付着が一切認められなかった。
○：異物の付着がほとんど認められなかった。
△：異物の付着がわずかに認められた。
×：異物の付着が顕著に認められた。
【０１０２】
［液晶パネルの評価］
上記各実施例および各比較例で製造した液晶パネル（１枚目に製造された液晶パネル）について、光透過率を連続的に測定した。光透過率の測定は、各液晶パネルを５０℃の温度下に置き、電圧無印加の状態で、１５ｌｍ／ｍｍ２の光束密度の白色光を照射することにより行った。
【０１０３】
なお、液晶パネルの評価としては、比較例１で製造した液晶パネルの白色光の照射開始から光透過率が初期の光透過率と比較して、５０％低下するまでの時間（耐光時間）を基準として、以下のように４段階で評価を行った。
◎：耐光時間が比較例１よりも５倍以上。
○：耐光時間が比較例１よりも２倍以上５倍未満。
△：耐光時間が比較例１よりも１倍以上２倍未満。
×：耐光時間が比較例１よりも劣る。
表１には、無機配向膜形成装置の構成、無機配向膜の形成条件、無機配向膜の平均厚さ、各液晶パネルでのプレチルト角度の評価結果とともに、真空チャンバ内、無機配向膜表面の清浄状態の評価、液晶パネルの評価結果をまとめて示した。
【０１０４】
【表１】
2006227430.tif 000002
【０１０５】
表１から明らかなように、本発明では、チャンバ内、無機配向膜の表面に異物の存在が認められなかった。これに対し、比較例では、チャンバ内、無機配向膜の表面に異物の存在が認められた。このような異物は、製造された無機配向膜（液晶パネル）に悪影響を及ぼすものと考えられる。
また、本発明の液晶パネルにおいては、比較例１の液晶パネルと比較して、優れた耐光性を示した。また、本発明の液晶パネルでは、十分なプレチルト角が得られ、液晶分子の配向状態を確実に規制することができたが、比較例４の液晶パネルでは、十分なプレチルト角が得られず、液晶分子の配向状態を規制するのが困難であった。
【０１０６】
［液晶プロジェクター（電子機器）の評価］
上記各実施例および各比較例で製造したＴＦＴ液晶パネル（各実施例および比較例２〜４については、１００枚目に製造した液晶パネル）を用いて、図８に示すような構造の液晶プロジェクター（電子機器）を組み立て、この液晶プロジェクターを５０００時間連続駆動させた。
【０１０７】
なお、液晶プロジェクターの評価としては、駆動直後の投射画像と駆動後５０００時間の投射画像とを観察し、以下のように４段階で鮮明度の評価を行った。
◎：鮮明な投射画像が観察された。
○：ほぼ鮮明な投射画像が観察された。
△：やや鮮明さに劣る投射画像が観察された。
×：鮮明でない投射画像が確認された。
この結果を表２に示した。
【０１０８】
【表２】
2006227430.tif 000003
【０１０９】
表２から明らかなように、本発明の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクター（電子機器）は、長時間連続して駆動させた場合であっても、鮮明な投射画像が得られた。
これに対し、比較例１の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクターでは、駆動時間に伴い、投射画像の鮮明度が明らかに低下した。これは、初期の段階では、液晶分子の配向が揃っているが、長期駆動により、配向膜が劣化し、液晶分子の配向性が低下したためであると考えられる。なお、比較例２〜４の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクターでは、駆動当初から、鮮明な投射画像を得られるものではなかった。これは、無機配向膜の形成時に混入した異物（例えば、粉塵、ダスト状の異物や、チャンバ本体を構成する金属材料）が悪影響を及ぼしたためであると考えられる。
また、本発明の液晶パネルを備えたパーソナルコンピュータ、携帯電話機、ディジタルスチルカメラを作製して、同様の評価を行ったところ、同様の結果が得られた。
これらの結果から、本発明の液晶パネル、電子機器は、耐光性に優れ、長期間使用しても安定した特性が得られるものであることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】本発明の液晶パネルの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】本発明の方法により形成された無機配向膜を示す縦断面図である。
【図３】無機配向膜の形成方法に用いる本発明の無機配向膜形成装置の模式図である。
【図４】本発明の液晶パネルの第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図５】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図６】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
【図７】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。
【図８】本発明の電子機器を適用した投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１１１】
１Ａ、１Ｂ…液晶パネル  ２…液晶層  ３Ａ、３Ｂ…無機配向膜  ４Ａ、４Ｂ…無機配向膜  ５…透明導電膜  ６…透明導電膜  ７Ａ、７Ｂ…偏光膜  ８Ａ、８Ｂ…偏光膜  ９…基板  １０…基板  １００…基材  １０１…基材  ２００…電子デバイス用基板  ５００…ターゲット  Ｓ１…イオン源  Ｓ１２…引き出し電極  Ｓ１３…ガス供給源  Ｓ１００…無機配向膜形成装置  Ｓ３…真空チャンバ（チャンバ）  Ｓ３０…チャンバ本体  Ｓ３１…板状部材  Ｓ３２…内壁面  Ｓ４…排気ポンプ  Ｓ５…基材ホルダー  Ｓ６…ターゲット保持部材（バッキングプレート）  １１…マイクロレンズ基板  １１１…マイクロレンズ用凹部付き基板  １１２…凹部  １１３…マイクロレンズ  １１４…表層  １１５…樹脂層  １２…液晶パネル用対向基板  １３…ブラックマトリックス  １３１…開口  １４…透明導電膜  １７…ＴＦＴ基板  １７１…ガラス基板  １７２…画素電極  １７３…薄膜トランジスタ  １１００…パーソナルコンピュータ  １１０２…キーボード  １１０４…本体部  １１０６…表示ユニット  １２００…携帯電話機  １２０２…操作ボタン  １２０４…受話口  １２０６…送話口  １３００…ディジタルスチルカメラ  １３０２…ケース（ボディー）  １３０４…受光ユニット  １３０６…シャッタボタン  １３０８…回路基板  １３１２…ビデオ信号出力端子  １３１４…データ通信用の入出力端子  １４３０…テレビモニタ  １４４０…パーソナルコンピュータ  ３００…投射型表示装置  ３０１…光源  ３０２、３０３…インテグレータレンズ  ３０４、３０６、３０９…ミラー  ３０５、３０７、３０８…ダイクロイックミラー  ３１０〜３１４…集光レンズ  ３２０…スクリーン  ２０…光学ブロック  ２１…ダイクロイックプリズム  ２１１、２１２…ダイクロイックミラー面  ２１３〜２１５…面  ２１６…出射面  ２２…投射レンズ  ２３…表示ユニット  ２４〜２６…液晶ライトバルブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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