(57)【要約】      （修正有）【課題】パターンを形成するための工程数を削減し、その生産性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供する。【解決手段】着色層領域２３の中心位置２３ｃにのみ、照射強度の鋭いピークを有した流動プロファイルを成形し、その流動プロファイルのレーザ光を、着色層領域２３に形成した液滴ＦＤに対して照射するようにした。そして、着色層領域２３の液滴ＦＤを反射領域Ｓｒに偏移させて、透過領域Ｓｔに対応する吐出面２１ａを露出する形状に変形させた。【選択図】図９
2006276780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン形成領域を含む吐出領域に、パターン形成材料を含む液滴を吐出する液滴吐出手段を備えた液滴吐出装置において、
前記吐出領域の液滴を、前記吐出領域の非パターン形成領域から前記パターン形成領域に流動させるレーザ光を、前記非パターン形成領域の液滴に照射するレーザ照射手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出装置において、
前記レーザ照射手段は、前記パターン形成材料を透過して、前記非パターン形成領域の液滴を前記パターン形成領域に流動させる第１の波長のレーザ光を照射することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項３】
請求項２に記載の液滴吐出装置において、
前記液滴は、前記パターン形成材料と分散媒あるいは溶媒を含む液体であって、
前記第１の波長のレーザ光は、前記分散媒あるいは前記溶媒に吸収されることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記レーザ照射手段は、前記非パターン形成領域に、前記パターン形成材料を昇華あるいは蒸発可能にする第２の波長のレーザ光を照射することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液滴吐出装置において、
前記液滴は、前記パターン形成材料と分散媒あるいは溶媒を含む液体であって、
前記第２の波長のレーザ光は、前記分散媒あるいは前記溶媒に対する吸収よりも前記パターン形成材料に対する吸収が大きいことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記レーザ照射手段は、前記パターン形成領域の液滴にレーザ光を照射して、前記パターン形成領域の液滴を乾燥することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記レーザ照射手段は、レーザ光の照射位置を、前記吐出領域に対して、相対的に、静止可能にするレーザ光走査手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
パターン形成材料を含む液滴を吐出領域に吐出し、前記吐出領域に着弾した前記液滴を乾燥することによってパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、
前記吐出領域であって、パターンを形成しない非パターン形成領域の液滴に、レーザ光を照射し、前記非パターン形成領域の液滴を、前記吐出領域であって、パターンを形成するパターン形成領域に流動させるようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項９】
請求項８に記載のパターン形成方法において、
前記非パターン形成領域の液滴を流動させた後に、前記パターン形成領域の液滴にレーザ光を照射して前記液滴を乾燥するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１０】
基板の着色層領域に金属微粒子を分散させた液滴を吐出し、前記着色層の液滴を乾燥することによって反射層を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
前記反射層を、請求項８又は９に記載のパターン形成方法によって形成するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法によって製造した電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置等に備えられるカラーフィルタの製造工程には、各色の着色層形成材料を含む液体を、隔壁で囲まれた着色層領域に吐出し、吐出した液体を乾燥することによって着色層を形成する、いわゆる液相プロセスが利用されている。
【０００３】
その液相プロセスにおけるインクジェット法は、前記液体を微小液滴として着色層領域に吐出し、その微小液滴を乾燥することによって着色層を形成している（例えば、特許文献１）。そのため、インクジェット法は、使用する液体の容量を他の液相プロセス（例えば、スピンコート法やディスペンサ法）に比べて低減することができ、しかも、着色層の形成位置を、より高い精度で制御できる。
【特許文献１】特開２００２−１８９１２０  号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記するカラーフィルタには、ＬＥＤ等の光源からの光を、前記着色層を介して透過する透過部と、前記着色層を介した外光を反射する反射部とを備え、透過光と反射光の双方を表示面側に出射する反射透過型のカラーフィルタが知られている。
【０００５】
こうした反射透過型のカラーフィルタでは、一般的に、前記反射部にのみ、外光を反射するためのパターンとしての金属層を形成するようにしている。そのため、反射透過型のカラーフィルタでは、前記金属層を形成するためのフォトリソグラフィ工程やエッチング工程が別途必要となり、カラーフィルタの製造工程を増加させる、ひいてはカラーフィルタの生産性を低下させる問題があった。
【０００６】
こうした問題は、上記するインクジェット法を使用し、金属層形成材料を含む液滴を、前記反射部にのみ吐出することによって回避可能と考えられる。しかし、前記透過部を避けて、前記反射部にのみ金属層形成材料を塗布するためには、前記透過部と前記反射部との間に、別途隔壁を形成する必要がある。そのため、隔壁を形成する分だけ、カラーフィルタの製造工程を増加させる問題を招く。
【０００７】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、パターンを形成するための工程数を削減し、その生産性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の液滴吐出装置は、パターン形成領域を含む吐出領域に、パターン形成材料を含む液滴を吐出する液滴吐出手段を備えた液滴吐出装置において、前記吐出領域の液滴を、前記吐出領域の非パターン形成領域から前記パターン形成領域に流動させるレーザ光を、前記非パターン形成領域の液滴に照射するレーザ照射手段を備えた。
【０００９】
本発明の液滴吐出装置によれば、非パターン形成領域の液滴を、レーザ光によって、パターン形成領域に流動させるため、パターン形成領域と非パターン形成領域との間に、別
途隔壁を形成することなく、パターン形成領域にのみ、パターンを形成することができる。その結果、パターンを形成するための工程数を削減することができ、パターンの生産性を向上することができる。
【００１０】
この液滴吐出装置において、前記レーザ照射手段は、前記パターン形成材料を透過して、前記非パターン形成領域の液滴を前記パターン形成領域に流動させる第１の波長のレーザ光を照射するようにしてもよい。
【００１１】
この液滴吐出装置によれば、第１の波長のレーザ光によって、パターン形成材料の硬化を抑制することができる。その結果、非パターン形成領域の液滴の流動性を維持することができ、パターン形成領域にのみ、確実にパターンを形成することができる。
【００１２】
この液滴吐出装置において、前記液滴は、前記パターン形成材料と分散媒あるいは溶媒を含む液体であって、前記第１の波長のレーザ光は、前記分散媒あるいは前記溶媒に吸収されるようにしてもよい。
【００１３】
この液滴吐出装置によれば、第１の波長のレーザ光によって、分散媒あるいは溶媒の流動性を高めることができる。
この液滴吐出装置において、前記レーザ照射手段は、前記非パターン形成領域に、前記パターン形成材料を昇華あるいは蒸発可能にする第２の波長のレーザ光を照射するようにしてもよい。
【００１４】
この液滴吐出装置によれば、第２の波長のレーザ光によって、非パターン形成領域のパターン形成材料を、確実に除去することができる。その結果、パターン形成領域にのみ、より確実にパターンを形成することができる。
【００１５】
この液滴吐出装置において、前記液滴は、前記パターン形成材料と分散媒あるいは溶媒を含む液体であって、前記第２の波長のレーザ光は、前記分散媒あるいは前記溶媒に対する吸収よりも前記パターン形成材料に対する吸収が大きいようにしてもよい。
【００１６】
この液滴吐出装置によれば、非パターン形成領域に残るパターン形成材料の昇華あるいは蒸発を促進することができる。
この液滴吐出装置において、前記レーザ照射手段は、前記パターン形成領域の液滴にレーザ光を照射して、前記パターン形成領域の液滴を乾燥するようにしてもよい。
【００１７】
この液滴吐出装置によれば、非パターン形成領域の液滴を流動させるとき、あるいは非パターン形成領域のパターン形成材料を昇華あるいは蒸発させるときに、パターン形成領域の液滴を乾燥させることができる。その結果、別途乾燥工程を行うことなく、パターンを形成することができる。しかも、パターン形成領域に流動させた液滴の非パターン形成領域への濡れ広がりを回避することができる。
【００１８】
この液滴吐出装置において、前記レーザ照射手段は、レーザ光の照射位置を、前記吐出領域に対して、相対的に、静止可能にするレーザ光走査手段を備えるようにしてもよい。
この液滴吐出装置によれば、液滴に対して、相対的に静止した照射位置で、レーザ光を照射させることができる。その結果、レーザ光の照射位置を、より安定させることができる。しかも、ビームスポットの形状や強度（ビームプロファイル）を連続して変更する場合、吐出領域の移動速度等に制約されることなく、エネルギービームの照射条件を変更することができる。ひいては、パターンの生産性を向上することができる。
【００１９】
本発明のパターン形成方法は、パターン形成材料を含む液滴を吐出領域に吐出し、前記
吐出領域に着弾した前記液滴を乾燥することによってパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、前記吐出領域であって、パターンを形成しない非パターン形成領域の液滴に、レーザ光を照射し、前記非パターン形成領域の液滴を、前記吐出領域であって、パターンを形成するパターン形成領域に流動させるようにした。
【００２０】
本発明のパターン形成方法によれば、非パターン形成領域の液滴を、レーザ光によって、パターン形成領域に流動させるため、パターン形成領域と非パターン形成領域との間に、別途隔壁を形成することなく、パターン形成領域にのみ、パターンを形成することができる。その結果、パターンを形成するための工程数を削減することができ、パターンの生産性を向上することができる。
【００２１】
このパターン形成方法において、前記非パターン形成領域の液滴を流動させた後に、前記パターン形成領域の液滴にレーザ光を照射して前記液滴を乾燥するようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、パターン形成領域の液滴を、レーザ光の照射によって乾燥させるため、パターン形成領域に流動したパターン形成材料を、瞬時に硬化させることができる。その結果、パターン形成領域にのみ、確実にパターンを形成することができる。
【００２２】
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板の着色層領域に金属微粒子を分散させた液滴を吐出し、前記着色層の液滴を乾燥することによって反射層を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記反射層を、上記するパターン形成方法によって形成するようにした。
【００２３】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、反射層を形成するための工程数を削減することができ、電気光学装置の生産性を向上することができる。
本発明の電気光学装置は、上記する電気光学装置の製造方法によって製造するようにした。
【００２４】
本発明の電気光学装置によれば、反射層を形成するための工程数を削減することができ、電気光学装置の生産性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図１２に従って説明する。
まず、本発明の電気光学装置としての液晶表示装置について説明する。図１は液晶表示装置の斜視図、図２は液晶表示装置に備えられたカラーフィルタ基板の斜視図、図３は、図２のＡ−Ａに沿う要部断面図である。
【００２６】
図１において、液晶表示装置１は、液晶パネル２と、前記液晶パネル２に平面状の光Ｌ１を照明する照明装置３を備えている。
照明装置３は、ＬＥＤ等の光源４と、前記光源４から出射された光を透過して平面状の光として前記液晶パネル２に照射する導光体５を備えている。一方、液晶パネル２は、前記照明装置３側に備えられたカラーフィルタ基板１０と前記カラーフィルタ基板１０と相対向する素子基板１１を備え、これらカラーフィルタ基板１０と素子基板１１を貼り合せて、その間隙に、図示しない液晶分子を封入することによって形成されている。
【００２７】
素子基板１１は、四角板状の無アルカリガラス基板であって、その照明装置３側（カラーフィルタ基板１０）側の側面（素子形成面１１ａ）には、Ｘ矢印方向に延びる複数の走査線１２が所定の間隔をおいて形成されている。各走査線１２は、それぞれ素子基板１１の一側端に配設される走査線駆動回路１３に電気的に接続されている。走査線駆動回路１３は、図示しない制御回路からの走査制御信号に基づいて、複数の走査線１２の中から所
定の走査線１２を所定のタイミングで選択駆動し、その走査線１２に走査信号を出力するようになっている。
【００２８】
また、素子形成面１１ａには、前記走査線１２と直交するＹ矢印方向に延びる複数のデータ線１４が所定の間隔をおいて形成されている。各データ線１４は、それぞれ素子基板１１の一側端に配設されるデータ線駆動回路１５に電気的に接続されている。データ線駆動回路１５は、図示しない外部装置からの表示データに基づいてデータ信号を生成し、そのデータ信号を対応するデータ線１４に所定のタイミングで出力するようになっている。
【００２９】
前記走査線１２と前記データ線１４の交差する位置には、対応する走査線１２及びデータ線１４に接続されて、ｉ行×ｊ列のマトリックス状に配列される複数の画素領域１６が形成されている。各画素領域１６内には、それぞれＴＦＴ等からなる図示しない制御素子とＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極が形成されている。すなわち、本実施形態の液晶表示装置１は、制御素子であるＴＦＴを備えた、いわゆるアクティブマトリックス方式の液晶表示装置である。
【００３０】
尚、前記走査線１２、データ線１４及び画素領域１６の上側には、素子形成面１１ａの全体にわたり、ラビング処理等による配向処理が施され、液晶分子の配向を設定可能にする図示しない配向膜が形成されている。
【００３１】
図２に示すように、カラーフィルタ基板１０には、無アルカリガラスからなる四角形状の透明ガラス基板２１が備えられている。
図３に示すように、カラーフィルタ基板１０（透明ガラス基板２１）の一側面であって前記素子基板１１と相対向する側面（吐出面２１ａ）には、遮光層２２ａが形成されている。遮光層２２ａは、クロムやカーボンブラック等の遮光性材料を含有する樹脂によって形成され、前記走査線１２及び前記データ線１４と相対する格子状に形成されている。遮光層２２ａの上側には、撥液層２２ｂが形成されている。撥液層２２ｂは、後述する液滴ＦＤ（図６参照）を撥液する撥液性を有したフッ素系樹脂からなる樹脂層であって、液滴ＦＤ（図６参照）を、後述する吐出領域としての着色層領域２３内に収容するためのものである。
【００３２】
そして、これら遮光層２２ａ及び撥液層２２ｂによって、図２に示すように、吐出面２１ａの略全面に格子状の隔壁２２が形成され、この隔壁２２で囲まれる領域（着色層領域２３）が、前記画素領域１６と対峙するように、ｉ行×ｊ列のマトリックス状に配列される。その着色層領域２３は、Ｙ矢印方向の長さが、画素幅ＷＰからなる略正方形状に形成されている。
【００３３】
本実施形態では、最もＹ矢印方向の着色層領域２３から順に、１行目の着色層領域２３、２行目の着色層領域２３、・・・、ｉ行目の着色層領域２３という。
図３に示すように、各着色層領域２３内には、Ｙ矢印方向に離間した２つの反射層２３ｒが、Ｘ矢印方向の全幅にわたり形成されている。反射層２３ｒは、前記素子基板１１側から入射する外光を反射するパターン形成材料としての金属微粒子（例えば、銀微粒子とマンガン微粒子を混合させた微粒子）によって形成されている。詳述すると、反射層２３ｒは、後述する液滴吐出装置３０（図４参照）の吐出ノズルＮ（図５参照）から、前記金属微粒子を分散させた微小液滴Ｆｂを、前記着色層領域２３に吐出させ、吐出面２１ａに着弾した微小液滴Ｆｂ（液滴ＦＤ：図６参照）を乾燥・焼成させることによって形成されている。尚、液滴ＦＤによって形成される前記反射層２３ｒは、図３及び図１０（ｂ）に示すように、着色層領域２３の中央位置側の端部が、テーパー状に形成され、これによって、後述する反射光と透過光の境目を緩やかにし、液晶表示装置１の表示画質を向上している。
【００３４】
本実施形態では、着色層領域２３内であって、この反射層２３ｒの形成される領域を、パターン形成領域としての反射領域Ｓｒとし、着色層領域２３内であって、前記反射領域Ｓｒを除く領域を非パターン形成領域としての透過領域Ｓｔという。
【００３５】
前記反射層２３ｒの上側であって、前記着色層領域２３の全体には、前記照明装置３からの光Ｌ１及び前記外光を透過して有色の光に変換する着色層２４が形成されている。詳述すると、着色層２４は、図２における反Ｘ矢印方向側から順に、赤色の光に変換する赤色着色層２４Ｒ、緑色の光に変換する緑色着色層２４Ｇ、青色の光に変換する青色着色層２４Ｂの順序で繰り返し形成されている。
【００３６】
すなわち、本実施形態のカラーフィルタ基板１０は、前記透過領域Ｓｔから、前記着色層２４を介した前記照明装置３の光Ｌ１を出射し、前記反射領域Ｓｒから、前記着色層２４を介した前記外光の反射光を出射する、いわゆる反射透過型のカラーフィルタである。
【００３７】
図３に示すように、各着色層２４の上側には、素子基板１１の前記画素電極に相対向して所定の共通電位の供給される対向電極２５が形成され、その対向電極２５の上側には、対向電極２５近傍の液晶分子の配向を設定可能にする配向膜２６が形成されている。
【００３８】
そして、前記走査線駆動回路１３が、走査線１２を線順次走査に基づき１本ずつ順次選択すると、画素領域１６の制御素子が順次、選択期間中だけオン状態になる。制御素子がオン状態となると、データ線駆動回路１５から出力されるデータ信号が、データ線１４及び制御素子を介して前記画素電極に出力される。すると、素子基板１１の画素電極とカラーフィルタ基板１０の対向電極２５の電位差に応じて、液晶分子の配向状態が、前記照明装置３からの透過光あるいは前記外光の反射光を変調するように維持される。そして、変調された光が図示しない偏光板を通過するか否かによって、液晶パネル２に、カラーフィルタ基板１０を介した所望するフルカラーの画像が表示される。
【００３９】
次に、前記反射層２３ｒを形成するために使用する液滴吐出装置３０について説明する。図４は、液滴吐出装置３０の構成を示す斜視図である。
図４において、液滴吐出装置３０には、直方体形状に形成される基台３１が備えられている。基台３１は、後述する基板ステージ３３に前記カラーフィルタ基板１０を載置する状態で、その長手方向が、前記Ｙ矢印方向に沿うように形成されている。その基台３１の上面には、Ｙ矢印方向に延びる１対の案内凹溝３２が、Ｙ矢印方向全幅にわたり形成され、前記案内凹溝３２に対応する図示しない直動機構を備えた基板ステージ３３が取付けられている。基板ステージ３３の直動機構は、例えば案内凹溝３２に沿ってＹ矢印方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸がステッピングモータよりなるＹ軸モータＭＹ（図１１参照）に連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号がＹ軸モータＭＹに入力されると、Ｙ軸モータＭＹが正転又は逆転して、基板ステージ３３が同ステップ数に相当する分だけ、Ｙ矢印方向に沿って所定の速度（搬送速度Ｖｙ）で往動又は復動する（Ｙ矢印方向に移動する）ようになっている。
【００４０】
本実施形態では、図４に示すように、最も反Ｙ矢印方向に位置する基台３１の配置位置を往動位置とし、最もＹ矢印方向の配置位置（図４に示す２点鎖線）を復動位置という。
基板ステージ３３の上面（載置面３４）には、図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、カラーフィルタ基板１０が、前記着色層領域２３を上側にして載置面３４に載置されると、カラーフィルタ基板１０が載置面３４に対して位置決めされるようになっている。この状態から基板ステージ３３を搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に往動すると、基板ステージ３３は、各着色層領域２３を、搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に移動さ
せるようになっている。
【００４１】
基台３１のＸ矢印方向両側には、一対の支持台３５ａ、３５ｂが立設され、その一対の支持台３５ａ、３５ｂには、Ｘ矢印方向に延びる案内部材３６が架設されている。案内部材３６は、その長手方向の幅が基板ステージ３３のＹ矢印方向の幅よりも長く形成され、その一端が支持台３５ａ側に張り出すように配置されている。この支持台３５ａの張り出した部分の直下には、後述する吐出ヘッドＦＨのノズル形成面４１ａ（図５参照）を払拭して、そのノズル形成面４１ａを洗浄する図示しないメンテナンスユニットが配設されている。
【００４２】
案内部材３６の上側には、収容タンク３７が配設されている。収容タンク３７内には、前記金属微粒子を分散媒（例えば、テトラデカン）に分散させた反射層形成液Ｆ（図６参照）が、後述する液滴吐出ヘッドＦＨに導出可能に収容されている。
【００４３】
図４に示すように、案内部材３６の下側には、Ｘ矢印方向に延びる上下一対の案内レール３８に対応する図示しない直動機構を備えたキャリッジ３９が取付けられている。キャリッジ３９の直動機構は、例えば案内レール３８に沿ってＹ矢印方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、ステッピングモータよりなるＸ軸モータＭＸ（図１１参照）に連結されている。そして、所定のステップ数に相当する駆動信号をＸ軸モータＭＸに入力すると、Ｘ軸モータが正転又は逆転して、キャリッジ３９が同ステップ数に相当する分だけＸ矢印方向に沿って往動又は復動する（Ｘ矢印方向に移動する）ようになっている。
【００４４】
本実施形態では、図４に示すように、最も支持台３５ａ側（反Ｘ矢印方向側）に位置するキャリッジ３９の配置位置を往動位置とし、最も支持台３５ｂ側（Ｘ矢印方向側）に位置する配置位置（図４に示す２点鎖線）を復動位置という。
【００４５】
図４に示すように、そのキャリッジ３９の下側には、液滴吐出手段を構成する複数の液滴吐出ヘッド（以下単に、吐出ヘッドＦＨという。）がＸ矢印方向に沿って配設されている。図５は、その吐出ヘッドＦＨの下面（基板ステージ３３側の面）を上方に向けた場合の斜視図を示す。図６は、その吐出ヘッドＦＨの内部構造を説明するための要部断面図である。
【００４６】
図５において、吐出ヘッドＦＨには、その下側にノズルプレート４１が備えられ、そのノズルプレート４１の下面（ノズル形成面４１ａ）には、後述する微小液滴Ｆｂを吐出するための１８０個のノズルＮが、Ｘ矢印方向に一列となって等間隔に貫通形成されている。そのノズルＮの形成ピッチの幅は、前記着色層領域２３の形成ピッチと同じ大きさで形成されて、カラーフィルタ基板１０（着色層領域２３）がＹ矢印方向に沿って往復直線移動するときに、各ノズルＮが、着色層領域２３と対峙するようになっている。各ノズルＮの形成方向は、ノズル形成面４１ａに対して垂直であって、カラーフィルタ基板１０の法線方向（Ｚ矢印方向）に沿って形成されて、吐出する微小液滴Ｆｂ（図６参照）をＺ矢印方向に沿って飛行させるようになっている。
【００４７】
図６において、各ノズルＮのＺ矢印方向には、それぞれ圧力室としてのキャビティ４２が形成されている。キャビティ４２は、対応する連通孔４３及び各連通孔４３に共通する供給路４４を介して、前記収容タンク３７に連通し、収容タンク３７内の導出する反射層形成液Ｆが、導入されるようになっている。そして、キャビティ４２は、導入された反射層形成液Ｆを、それぞれ対応するノズルＮに供給するようになっている。
【００４８】
キャビティ４２のＺ矢印方向には、振動板４５が備えられている。振動板４５は、Ｚ矢
印方向及び反Ｚ矢印方向に振動可能に貼り付けられ、キャビティ４２内の容積を拡大・縮小するようになっている。振動板４５のＺ矢印方向には、各ノズルＮに対応する１８０個の圧電素子ＰＺが配設されている。圧電素子ＰＺは、その圧電素子ＰＺを駆動制御するための信号（圧電素子駆動信号ＣＯＭ：図１１参照）を受けて収縮・伸張し、前記振動板４５を、Ｚ矢印方向及び反Ｚ矢印方向に振動させるようになっている。
【００４９】
そして、圧電素子ＰＺが収縮・伸張すると、キャビティ４２内の容積が拡大・縮小し、縮小した容積に対応する反射層形成液Ｆが、ノズルＮから微小液滴Ｆｂとして吐出される。吐出された微小液滴Ｆｂは、ノズルＮの直下に位置する吐出面２１ａに着弾する。
【００５０】
本実施形態では、各着色層領域２３内であって、前記微小液滴Ｆｂの着弾する位置を、目標吐出位置Ｐａという。尚、本実施形態では、各目標吐出位置Ｐａに、複数の微小液滴Ｆｂを吐出させ、各着色層領域２３内に、前記微小液滴Ｆｂの合一した液滴ＦＤを形成するようにしている。
【００５１】
また、前記目標吐出位置Ｐａは、各着色層領域２３の中心位置２３ｃからＹ矢印方向側に、所定の距離（調整距離Ｌｙ１）だけ偏倚する位置に設定されている。これによって、各着色層領域２３のＹ矢印方向側で、前記液滴ＦＤが濡れ広がり、各着色層領域２３の反Ｙ矢印方向側で、前記液滴ＦＤの濡れ広がらない領域（濡れ残し領域Ｓ）が所定の幅（濡れ残し幅Ｗｄ）で形成されるようになっている。
【００５２】
図４において、キャリッジ３９の下側であって、各吐出ヘッドＦＨのＹ矢印方向側には、それぞれレーザ照射手段を構成するレーザヘッドＬＨが併設されている。図５に示すように、レーザヘッドＬＨの下面であって、各ノズルＮのＸ矢印方向には、各ノズルＮに対応する１８０個の出射口４７が形成されている。
【００５３】
図６に示すように、レーザヘッドＬＨの内部には、前記出射口４７に対応するレーザ光源ＬＥが備えられている。レーザ光源ＬＥは、そのレーザ光源ＬＥを駆動制御するための信号（第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１及び第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２：図１１参照）を受けて、２種類の波長領域のレーザ光Ｂを出力するようになっている。詳述すると、レーザ光源ＬＥは、前記第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１を受けて、前記液滴ＦＤの金属微粒子を透過して、前記分散媒に対して高い吸収を持つ第１の波長（波長λ１：例えば、１２００ｎｍ付近）のレーザ光Ｂを出力するようになっている。また、レーザ光源ＬＥは、前記第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２を受けて、主に前記金属微粒子に対して高い吸収を持つ第２の波長（波長λ２：例えば、３００ｎｍ付近〜６００ｎｍ付近）のレーザ光Ｂを出力するようになっている。
【００５４】
レーザヘッドＬＨの内部であって、前記レーザ光源ＬＥの出射口４７側には、レーザ光源ＬＥ側から順に、回折素子４８、シリンドリカルレンズＬｚ１、レーザ光走査手段を構成するポリゴンミラー４９及び走査レンズＬｚ２が配設されている。
【００５５】
回折素子４８は、機械的あるいは電気的に駆動し、その回折素子４８を駆動制御するための信号（拡張プロファイル成形信号ＳＢ１、流動プロファイル成形信号ＳＢ２、乾燥プロファイル成形信号ＳＢ３：図１１参照）を受けて、レーザ光源ＬＥからのレーザ光Ｂに、予め設定された所定の位相変調を施すようになっている。シリンドリカルレンズＬｚ１は、Ｚ矢印方向にのみ曲率を有するレンズであって、ポリゴンミラー４９の面倒れを補正して、レーザ光Ｂをポリゴンミラー４９に導入するようになっている。ポリゴンミラー４９は、正三十六角形を構成する位置に配置された３６枚の反射面Ｍを有し、これらの反射面Ｍを、ポリゴンモータＭＰ（図１１参照）によって、図６に示す矢印Ｒ方向に回転させるようになっている。すなわち、本実施形態のポリゴンミラー４９は、その回転角θｐが
矢印Ｒ方向に１０°回転する毎に、レーザ光Ｂの導入される反射面Ｍが、後続する反射面Ｍに切り替わるようになっている。走査レンズＬｚ２は、ポリゴンミラー４９によって反射偏向されたレーザ光Ｂの吐出面２１ａでの走査速度を一定に制御する、いわゆるｆθレンズである。
【００５６】
本実施形態では、図６に示すように、シリンドリカルレンズＬｚ１からのレーザ光Ｂが、ポリゴンミラー４９の反射面Ｍ（反射面Ｍａ）の矢印Ｒ方向側端部に導入される状態であって、反射偏向されたレーザ光Ｂの偏向角が、走査レンズＬｚ２の光軸ＬｚＡを基準として、偏向角θ１（本実施形態では５°）だけ偏向されるときを、ポリゴンミラー４９の回転角θｐが０°であるという。
【００５７】
そして、ポリゴンミラー４９の回転角θｐが０°のときに、レーザ光源ＬＥ及び回折素子４８に、それぞれ第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１（第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２）及びプロファイル成形信号ＳＢ１が供給されると、レーザ光源ＬＥからの波長λ１（波長λ２）のレーザ光Ｂが、回折素子４８によって位相変調される。そして、位相変調されたレーザ光ＢがシリンドリカルレンズＬｚ１に導入されると、シリンドリカルレンズＬｚ１は、紙面に直交する方向に対するレーザ光Ｂの光軸を調整して、レーザ光Ｂをポリゴンミラー４９に導く。レーザ光Ｂの導入されたポリゴンミラー４９は、反射面Ｍａによって、波長λ１（波長λ２）のレーザ光Ｂを、光軸ＬｚＡに対する偏向角θ１の方向に反射偏向し、走査レンズＬｚ２を介して、吐出面２１ａ上に導く。吐出面２１ａに導かれたレーザ光Ｂは、回折素子４８の位相変調に対応して、所定の形状及び強度分布（ビームプロファイル）を有したレーザ光断面（ビームスポット）を吐出面２１ａ上に形成する。
【００５８】
本実施形態では、回転角θｐが０°のときに、前記ビームスポットの形成される位置を照射開始位置Ｐｅ１という。
そして、目標吐出位置Ｐａに着弾した液滴ＦＤが、搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に搬送されて、前記ビームスポット内に侵入すると、液滴ＦＤには、反射面Ｍａの偏向反射した所定のビームプロファイルのレーザ光Ｂが照射される。
【００５９】
本実施形態では、図６に示すように、前記照射開始位置Ｐｅ１と前記目標吐出位置Ｐａとの間の距離を照射待機距離Ｌｙ２とし、微小液滴Ｆｂの吐出開始時から、その微小液滴Ｆｂ（液滴ＦＤ）が前記照射開始位置Ｐｅ１に到達するまでの時間を、待機時間Ｔという。
【００６０】
続いて、ポリゴンミラー４９が矢印Ｒ方向に回転して、その回転角θｐが略１０°になると、図７に示すように、ポリゴンミラー４９は、前記反射面Ｍａの反矢印Ｒ方向側の端部によって、レーザ光Ｂを、光軸ＬｚＡに対する偏向角θ２（本実施形態では−５°）の方向に偏向反射し、走査レンズＬｚ２を介して、吐出面２１ａ上に導く。吐出面２１ａに導かれたレーザ光Ｂは、回折素子４８の位相変調に対応して、所定のビームプロファイルのビームスポットを吐出面２１ａ上に形成する。
【００６１】
本実施形態では、回転角θｐが略１０°のときに、前記ビームスポットの形成される位置を照射終了位置Ｐｅ２とし、この照射終了位置Ｐｅ２と前記照射開始位置Ｐｅ１との間の領域を、走査領域Ｌｓという。この走査領域ＬｓのＹ矢印方向の幅（走査幅ＷＰｙ）は、着色層領域２３のＹ矢印方向に沿う形成ピッチと同じ幅に設定されている。つまり、レーザヘッドＬＨは、ポリゴンミラー４９の偏向反射によって、レーザ光Ｂを、着色層領域２３の単位で、Ｙ矢印方向に沿って走査する（照射開始位置Ｐｅ１から照射終了位置Ｐｅ２までの移動を繰り返す）ように構成されている。
【００６２】
また、ポリゴンモータＭＰ（図１１参照）の回転速度は、各着色層領域２３が、照射開
始位置Ｐｅ１から照射終了位置Ｐｅ２まで搬送される間に、レーザ光Ｂを、一回だけ走査する速度に設定されている。つまり、走査領域Ｌｓを通過する各液滴ＦＤには、レーザ光Ｂの走査によって、相対的に、その照射位置を静止させたレーザ光Ｂが照射されるように構成されている。
【００６３】
そして、レーザヘッドＬＨ（レーザ光源ＬＥ及び回折素子４８）は、それぞれ前記第１及び第２レーザ駆動信号ＳＬＥ１，ＳＬＥ２と各種プロファイル成形信号ＳＢ１、ＳＢ２、ＳＢ３を受けて、前記レーザ光Ｂの走査周期に同期した周期内に、後述する３種類のビームプロファイルを、対応する着色層領域２３（液滴ＦＤ）上に順次成形するようになっている。
【００６４】
次に、本実施形態のビームプロファイルについて以下に説明する。図８〜図１０は、そのビームプロファイルを説明する説明図であって、図８（ａ）は、液滴ＦＤが走査領域Ｌｓ内に侵入した直後に成形されるビームプロファイルである。図９（ａ）は、液滴ＦＤが走査領域Ｌｓの反Ｙ矢印方向側に位置する間に成形されるビームプロファイルであり、図１０（ａ）は、液滴ＦＤが走査領域ＬｓのＹ矢印方向側に位置する間に成形されるビームプロファイルである。
【００６５】
尚、図８（ａ）、図９（ａ）、図１０（ａ）において、横軸は、ビームスポットの反Ｙ矢印方向側の端部を基点としたＹ矢印方向に沿う相対位置であり、縦軸は、レーザ光Ｂの照射強度である。図８（ｂ）、図９（ｂ）、図１０（ｂ）は、各ビームプロファイルに対応した液滴ＦＤの状態を説明する説明図である。
【００６６】
レーザヘッドＬＨは、前記第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１と前記拡張プロファイル成形信号ＳＢ１を受けて、図８（ａ）に示すように、着色層領域２３のＹ矢印方向側（濡れ残し領域Ｓの反対側）にのみ、照射強度の鋭いピークを有したビームプロファイル（拡張プロファイルＢＰ１）を成形する。拡張プロファイルＢＰ１は、その照射強度のピーク位置が、着色層領域２３のＹ矢印方向側（濡れ残し領域Ｓの反対側）であって、前記目標吐出位置Ｐａに相対する位置に設定されて、前記走査領域Ｌｓ内で、所定の時間（拡張時間Ｔ１）だけ成形されるようになっている。
【００６７】
そして、着色層領域２３に形成した液滴ＦＤに拡張プロファイルＢＰ１のレーザ光Ｂが照射されると、液滴ＦＤのＹ矢印方向側には、局所的に強い照射強度を有した波長λ１のレーザ光Ｂが照射される。すると、レーザ光Ｂからの光エネルギーは、液滴ＦＤの局部（目標吐出位置Ｐａの近傍）でのみ、分散媒の励起エネルギー（例えば、熱振動エネルギー）として変換される。すなわち、レーザ光Ｂからの光エネルギーは、目標吐出位置Ｐａの近傍で、局所的な分散媒の蒸発を誘起する。すると、目標吐出位置Ｐａの近傍の液滴ＦＤは、蒸発する分散媒からの反作用等によって、目標吐出位置ＰａのＹ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に流動する。この際、Ｙ矢印方向に流動する液滴ＦＤは、隔壁２２からの反作用を受けるため、流動する液滴ＦＤの大半は、反Ｙ矢印方向に流動して、濡れ残し領域Ｓの全体にまで濡れ広がるようになる。
【００６８】
従って、上記する拡張プロファイルＢＰ１のレーザ光Ｂが、着弾後の液滴ＦＤに拡張時間Ｔ１だけ照射されると、その液滴ＦＤは、図８（ｂ）に示すように、Ｙ矢印方向に偏倚する形状（図８（ｂ）の破線）から、濡れ残し領域Ｓ全体にまで濡れ広がる形状（図８（ｂ）の実線）に変形する。この間、液滴ＦＤは、拡張プロファイルＢＰ１が、波長λ１のレーザ光Ｂによって成形されるため、金属微粒子の硬化が抑制され、その流動性が維持される。
【００６９】
レーザヘッドＬＨは、前記第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１と前記流動プロファイル成形信
号ＳＢ２を受けて、図９（ａ）に示すように、着色層領域２３の中心位置２３ｃにのみ、照射強度の鋭いピークを有したビームプロファイル（流動プロファイルＢＰ２）を成形する。流動プロファイルＢＰ２は、前記走査領域Ｌｓ内で、前記拡張時間Ｔ１よりも長い所定の時間（流動時間Ｔ２）だけ成形されるようになっている。
【００７０】
そして、着色層領域２３の全体に濡れ広がった液滴ＦＤに流動プロファイルＢＰ２のレーザ光Ｂが照射されると、液滴ＦＤの中心位置には、局所的に強い照射強度を有した波長λ１のレーザ光Ｂが照射される。すると、レーザ光Ｂからの光エネルギーは、液滴ＦＤの局部（中心位置２３ｃの近傍）でのみ、分散媒の励起エネルギー（熱振動エネルギー）として変換される。すなわち、レーザ光Ｂからの光エネルギーは、中心位置２３ｃの近傍で、局所的な分散媒の蒸発を誘起する。すると、中心位置２３ｃの近傍の液滴ＦＤは、蒸発する分散媒からの反作用等によって、中心位置２３ｃを中心として、Ｙ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に流動し、やがて吐出面２１ａを露出させるようになる。
【００７１】
従って、上記する流動プロファイルＢＰ２のレーザ光Ｂが、前記拡張プロファイルＢＰ１の後に流動時間Ｔ２だけ照射されると、その液滴ＦＤは、図９（ｂ）に示すように、着色層領域２３の全体に広がる形状（図９（ｂ）の破線）から、反射領域Ｓｒに偏移して、透過領域Ｓｔに対応する吐出面２１ａを露出する形状（図９（ｂ）の実線）に変形する。この間、液滴ＦＤは、前記拡張プロファイルＢＰ１と同じく、流動プロファイルＢＰ２が、波長λ１のレーザ光Ｂによって成形されるため、金属微粒子の硬化が抑制され、その流動性が維持される。尚、露出した吐出面２１ａ上には、流動した液滴ＦＤの金属微粒子や分散媒が、残渣として、若干吸着している。
【００７２】
また、レーザヘッドＬＨは、前記第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２と前記乾燥プロファイル成形信号ＳＢ３を受けて、図１０（ａ）に示すように、着色層領域２３の中心位置２３ｃに、照射強度の鋭いピークを有して、その中心位置２３ｃの近傍を除く着色層領域２３の全体に、略均一な照射強度を有したビームプロファイル（乾燥プロファイルＢＰ３）を成形する。乾燥プロファイルＢＰ３は、その照射強度が、前記拡張プロファイルＢＰ１及び前記流動プロファイルＢＰ２よりも強い強度に設定されて、前記走査領域Ｌｓ内で、前記流動時間Ｔ２よりも長い所定の時間（乾燥時間Ｔ３）だけ成形されるようになっている。
【００７３】
そして、反射領域Ｓｒに偏倚した液滴ＦＤに乾燥プロファイルＢＰ３のレーザ光Ｂが乾燥時間Ｔ３だけ照射されると、液滴ＦＤには、波長λ２のレーザ光Ｂが、前記液滴ＦＤの広範囲にわたって照射される。すると、レーザ光Ｂからの光エネルギーは、液滴ＦＤの全体にわたり、前記金属微粒子の励起エネルギー（熱振動エネルギー）として変換される。すなわち、レーザ光Ｂからの光エネルギーは、液滴ＦＤの全体にわたり、分散媒の蒸発と金属微粒子の乾燥・焼成を誘起する。すると、反射領域Ｓｒに偏倚した液滴ＦＤは、金属微粒子の乾燥・焼成によって、透過領域Ｓｔ側の端部がテーパー状の前記反射層２３ｒを形成する。
【００７４】
一方、露出した吐出面２１ａに、上記する乾燥プロファイルＢＰ３のレーザ光Ｂが乾燥時間Ｔ３だけ照射されると、その吐出面２１ａには、波長λ２のレーザ光Ｂが局所的に照射されて、前記金属微粒子や分散媒の残渣が、昇華あるいは蒸発される。
【００７５】
従って、反射領域Ｓｒに偏倚した液滴ＦＤ及び露出した吐出面２１ａに、上記する流動プロファイルＢＰ２のレーザ光Ｂが流動時間Ｔ２だけ照射されると、図１０（ｂ）に示すように、反射領域Ｓｒに反射層２３ｒが形成され、透過領域Ｓｔが形成される。この間、乾燥プロファイルＢＰ３が、波長λ２のレーザ光Ｂによって成形されるため、液滴ＦＤでは、金属微粒子の硬化が促進され、透過領域Ｓｔでは、金属微粒子の昇華が促進される。
【００７６】
尚、本実施形態では、乾燥プロファイルＢＰ３のレーザ光Ｂによって、露出した吐出面２１ａの金属微粒子等を昇華あるいは蒸発させる構成にした。これに限らず、例えば、前記流動プロファイルＢＰ２のレーザ光Ｂによって、吐出面２１ａに金属微粒子等の残渣が残らない場合には、乾燥プロファイルＢＰ３の照射強度を、着色層領域２３の全体にわたり均一化して、上記する昇華あるいは蒸発をさせない構成にしてもよい。あるいは、吐出面２１ａに金属微粒子等の残渣が多く残る場合には、上記する乾燥プロファイルＢＰ３の成形後に、別途、波長λ２のレーザ光Ｂを、透過領域Ｓｔにのみに、局所的に照射するプロファイルを成形してもよい。
【００７７】
次に、上記のように構成した液滴吐出装置３０の電気的構成を図１１に従って説明する。
図１１において、制御装置５０には、ＣＰＵ等からなる制御部５１、ＤＲＡＭ及びＳＲＡＭからなり各種データを格納するＲＡＭ５２、各種制御プログラムを格納するＲＯＭ５３が備えられている。また、制御装置５０には、前記圧電素子駆動信号ＣＯＭを生成する駆動信号生成回路５４、前記第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１及び第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２を生成する電源回路５５、各種信号を同期するためのクロック信号ＣＬＫを生成する発振回路５６等が備えられている。そして、制御装置５０には、これら制御部５１、ＲＡＭ５２、ＲＯＭ５３、駆動信号生成回路５４、電源回路５５、発振回路５６が、図示しないバスを介して接続されている。
【００７８】
制御装置５０には、入力装置６１が接続されている。入力装置６１は、起動スイッチ、停止スイッチ等の操作スイッチを有し、各スイッチの操作による操作信号を制御装置５０（制御部５１）に出力する。また、入力装置６１は、前記反射層２３ｒを形成するための情報を描画データＩａとして制御装置５０に出力する。制御装置５０は、入力装置６１からの描画データＩａと、ＲＯＭ５３等に格納された制御プログラム（例えば、カラーフィルタ製造プログラム）に従って、基板ステージ３３を移動させてカラーフィルタ基板１０の搬送処理動作を行い、吐出ヘッドＦＨの各圧電素子ＰＺを駆動させて液滴吐出処理動作を行う。また、制御装置５０は、カラーフィルタ製造プログラムに従って、レーザ光源ＬＥを駆動させて液滴ＦＤを拡張、流動及び乾燥させる処理動作を行う。
【００７９】
詳述すると、制御部５１は、入力装置６１からの描画データＩａに所定の展開処理を施し、二次元描画平面（吐出面２１ａ）上における位置に、液滴ＦＤを吐出するか否かを示すビットマップデータＢＭＤを生成し、生成したビットマップデータＢＭＤをＲＡＭに格納するようになっている。このビットマップデータＢＭＤは、各ビットの値（０あるいは１）に応じて、前記圧電素子ＰＺのオンあるいはオフ（液滴ＦＤを吐出するか否か）を規定するものである。
【００８０】
また、制御部５１は、入力装置６１からの描画データＩａに前記ビットマップデータＢＭＤの展開処理と異なる展開処理を施し、描画条件に応じた圧電素子駆動信号ＣＯＭの波形データを生成して駆動信号生成回路５４に出力するようになっている。駆動信号生成回路５４は、制御部５１からの波形データを図示しない波形メモリに格納する。そして、駆動信号生成回路５４は、格納した波形データをデジタル／アナログ変換して、アナログ信号の波形信号を増幅することにより、対応する圧電素子駆動信号ＣＯＭを生成するようになっている。
【００８１】
そして、制御部５１は、前記ビットマップデータＢＭＤを、発振回路５６の生成するクロック信号ＣＬＫに同期させて、各スキャン（基板ステージ２３の１回の往動もしくは復動分）毎のデータを、吐出制御データＳＩとして、後述する吐出ヘッド駆動回路６７（シフトレジスタ６７ａ）に逐次シリアル転送する。そして、制御部５１は、シリアル転送した１スキャン分の吐出制御データＳＩをラッチするためのラッチ信号ＬＡＴを出力する。
【００８２】
また、制御部５１は、前記圧電素子駆動信号ＣＯＭを、発振回路５６の生成するクロック信号ＣＬＫに同期させて、後述する吐出ヘッド駆動回路６７（スイッチ回路６７ｄ）に出力する。また、制御部５１は、圧電素子駆動信号ＣＯＭを選択するための選択信号ＳＥＬを、吐出ヘッド駆動回路６７（スイッチ回路６７ｄ）に出力し、選択信号ＳＥＬに対応する圧電素子駆動信号ＣＯＭを、各圧電素子ＰＺに印加させるように構成されている。
【００８３】
また、制御部５１は、前記第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１及び第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２を、後述するレーザヘッド駆動回路６８に出力する。
図１１に示すように、制御装置５０には、Ｘ軸モータ駆動回路６２が接続され、Ｘ軸モータ駆動回路６２にＸ軸モータ駆動制御信号を出力するようになっている。Ｘ軸モータ駆動回路６２は、制御装置５０からのＸ軸モータ駆動制御信号に応答して、前記キャリッジ３９を往復移動させるＸ軸モータＭＸを正転又は逆転させるようになっている。そして、例えば、Ｘ軸モータＭＸを正転させると、キャリッジ３９はＸ矢印方向に移動し、逆転させると、キャリッジ３９は反Ｘ矢印方向に移動するようになっている。
【００８４】
制御装置５０には、Ｙ軸モータ駆動回路６３が接続され、Ｙ軸モータ駆動回路６３にＹ軸モータ駆動制御信号を出力するようになっている。Ｙ軸モータ駆動回路６３は、制御装置５０からのＹ軸モータ駆動制御信号に応答して、前記基板ステージ３３を往復移動させるＹ軸モータＭＹを正転又は逆転させるようになっている。例えば、Ｙ軸モータＭＹを正転させると、基板ステージ３３はＹ矢印方向に移動し、逆転させると、基板ステージ３３は反Ｙ矢印方向に移動する。
【００８５】
制御装置５０には、基板検出装置６４が接続されている。基板検出装置６４は、カラーフィルタ基板１０の端縁を検出し、制御装置５０によって吐出ヘッドＦＨ（ノズルＮ）の直下を通過するカラーフィルタ基板１０（着色層領域２３）の位置を算出する際に利用される。
【００８６】
制御装置５０には、Ｘ軸モータ回転検出器６５が接続され、Ｘ軸モータ回転検出器６５からの検出信号が入力される。制御装置５０は、Ｘ軸モータ回転検出器６５からの検出信号に基づいて、Ｘ軸モータＭＸの回転方向及び回転量を検出し、キャリッジ３９のＸ矢印方向の移動量と、移動方向とを演算するようになっている。
【００８７】
制御装置５０には、Ｙ軸モータ回転検出器６６が接続され、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号が入力される。制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、Ｙ軸モータＭＹの回転方向及び回転量を検出し、基板ステージ３３（着色層領域２３）のＹ矢印方向の移動方向及び移動量を演算する。
【００８８】
制御装置５０には、吐出ヘッド駆動回路６７及びレーザヘッド駆動回路６８が接続されている。
吐出ヘッド駆動回路６７には、シフトレジスタ６７ａ、ラッチ回路６７ｂ、レベルシフタ６７ｃ及びスイッチ回路６７ｄが備えられている。シフトレジスタ６７ａは、クロック信号ＣＬＫに同期した制御装置５０からの吐出制御データＳＩを、各圧電素子ＰＺに対応させたシリアル／パラレル変換を行う。ラッチ回路６７ｂは、シフトレジスタ６７ａのパラレル変換した吐出制御データＳＩを、制御装置５０からのラッチ信号ＬＡＴに同期してラッチし、ラッチした吐出制御データＳＩを、レベルシフタ６７ｃと後述するレーザヘッド駆動回路６８の遅延回路６８ａに、クロック信号ＣＬＫに同期した所定の周期で、順次出力する。レベルシフタ６７ｃは、ラッチ回路６７ｂのラッチした吐出制御データＳＩを、スイッチ回路６７ｄの駆動する電圧まで昇圧して、各圧電素子ＰＺに対応するスイッチ開閉信号ＧＳ１を生成する。
【００８９】
スイッチ回路６７ｄには、各圧電素子ＰＺに対応する図示しないスイッチ素子が備えられている。各スイッチ素子の入力側には、前記選択信号ＳＥＬに対応した圧電素子駆動信号ＣＯＭが入力され、出力側には、それぞれ対応する圧電素子ＰＺが接続されている。そして、スイッチ回路６７ｄの各スイッチ素子には、レベルシフタ６７ｃからの対応するスイッチ開閉信号ＧＳ１がそれぞれ入力され、各スイッチ開閉信号ＧＳ１に応じて、圧電素子駆動信号ＣＯＭを、対応する圧電素子ＰＺに供給するか否かを制御するようになっている。
【００９０】
すなわち、本実施形態の液滴吐出装置３０は、駆動信号生成回路５４の生成した圧電素子駆動信号ＣＯＭを、対応する各圧電素子ＰＺに印加するとともに、その圧電素子駆動信号ＣＯＭの印加を、制御装置５０からの吐出制御データＳＩ（スイッチ開閉信号ＧＳ１）で制御するようになっている。そして、吐出制御データＳＩに基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応する圧電素子ＰＺに、圧電素子駆動信号ＣＯＭが印加されると、その圧電素子ＰＺに対応するノズルＮから微小液滴Ｆｂ（液滴ＦＤ）が吐出される。
【００９１】
図１２は、上記するラッチ信号ＬＡＴ及びスイッチ開閉信号ＧＳ１のパルス波形を示すタイミングチャートである。
図１０に示すように、吐出ヘッド駆動回路６７に入力されるラッチ信号ＬＡＴが立ち下がると、ラッチした吐出制御データＳＩに基づいてスイッチ開閉信号ＧＳ１が生成され、スイッチ開閉信号ＧＳ１が立ち上がった時に、対応する圧電素子ＰＺに圧電素子駆動信号ＣＯＭが供給される。そして、圧電素子駆動信号ＣＯＭに基づいた圧電素子ＰＺの伸縮動によって、対応するノズルＮから、液滴ＦＤが吐出される。吐出された液滴ＦＤは、対応する着色層領域２３の目標吐出位置Ｐａに着弾して、その着色層領域２３の反Ｙ矢印方向側に、濡れ残し幅Ｗｄからなる濡れ残し領域Ｓを形成する。そして、スイッチ開閉信号ＧＳ１が立ち下がると、圧電素子ＰＺの駆動による液滴ＦＤの吐出動作が終了する。
【００９２】
レーザヘッド駆動回路６８には、遅延回路６８ａ、回折素子駆動回路６８ｂ、スイッチ回路６８ｃ及びポリゴンモータ駆動回路６８ｄが備えられている。
遅延回路６８ａは、ラッチ回路６７ｂのラッチした吐出制御データＳＩを、それぞれ３種類の時間だけ遅延させた所定の時間幅のパルス信号を生成し、生成したパルス信号を回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力する。すなわち、遅延回路６８ａは、前記吐出制御データＳＩを、前記待機時間Ｔだけ遅延させた第１選択信号ＧＬ１を生成し、その第１選択信号ＧＬ１を回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力する。また、遅延回路６８ａは、前記吐出制御データＳＩを、前記待機時間Ｔに前記拡張時間Ｔ１を加算した時間だけ遅延させた第２選択信号ＧＬ２を生成し、その第２選択信号ＧＬ２を回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力する。さらにまた、遅延回路６８ａは、前記吐出制御データＳＩを、前記待機時間Ｔに前記拡張時間Ｔ１と前記流動時間Ｔ２を加算した時間だけ遅延させた第３選択信号ＧＬ３を生成し、その第３選択信号ＧＬ３を回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力する。
【００９３】
回折素子駆動回路６８ｂは、遅延回路６８ａからの第１、第２及び第３選択信号ＧＬ１，ＧＬ２，ＧＬ３を受けて、対応する各プロファイル成形信号ＳＢ１，ＳＢ２，ＳＢ３を、対応する回折素子４８に出力するようになっている。すなわち、回折素子駆動回路６８ｂは、遅延回路６８ａからの第１選択信号ＧＬ１を受けて、前記拡張プロファイル成形信号ＳＢ１を、対応する回折素子４８に出力するようになっている。また、回折素子駆動回路６８ｂは、遅延回路６８ａからの第２選択信号ＧＬ２を受けて、前記流動プロファイル成形信号ＳＢ２を、対応する回折素子４８に出力するようになっている。さらにまた、回折素子駆動回路６８ｂは、遅延回路６８ａからの第３選択信号ＧＬ３を受けて、前記乾燥プロファイル成形信号ＳＢ３を、対応する回折素子４８に出力するようになっている。そ
して、回折素子４８は、各プロファイル成形信号ＳＢ１，ＳＢ２，ＳＢ３を受けて、前記拡張プロファイルＢＰ１、前記流動プロファイルＢＰ２及び前記乾燥プロファイルＢＰ３を成形するための各回折素子４８の駆動制御を行うようになっている。
【００９４】
スイッチ回路６８ｃには、各レーザ光源ＬＥに対応する図示しないスイッチ素子が備えられている。各スイッチ素子の入力側には、電源回路５５の生成した第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１及び第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２が入力され、出力側には、対応する各レーザ光源ＬＥが接続されている。そして、スイッチ回路６８ｃの各スイッチ素子に、遅延回路６８ａからの第１選択信号ＧＬ１及び第２選択信号ＧＬ２が入力されると、各スイッチ素子は、第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１を、対応するレーザ光源ＬＥに供給するようになっている。また、スイッチ回路６８ｃの各スイッチ素子に、第３選択信号ＧＬ３が入力されると、各スイッチ素子は、第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２を、対応するレーザ光源ＬＥに供給するようになっている。
【００９５】
すなわち、本実施形態の液滴吐出装置３０は、電源回路５５の生成した第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１あるいは第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２を、対応する各レーザ光源ＬＥに共通に印加するとともに、その第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１あるいは第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２の印加を、制御装置５０（吐出ヘッド駆動回路６７）からの吐出制御データＳＩ（第１選択信号ＧＬ１、第２選択信号ＧＬ２、第３選択信号ＧＬ３）によって制御するようにしている。そして、吐出制御データＳＩに基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応するレーザ光源ＬＥに、第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１（第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２）が供給されると、対応するレーザ光源ＬＥから波長λ１（波長λ２）のレーザ光Ｂが出射され、拡張プロファイルＢＰ１及び流動プロファイルＢＰ２（乾燥プロファイルＢＰ３）のレーザ光Ｂが照射される。
【００９６】
ポリゴンモータ駆動回路６８ｄは、制御装置５０からのポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを受けてポリゴンモータ駆動制御信号ＳＰＭを生成し、そのポリゴンモータ駆動制御信号ＳＰＭをポリゴンモータＭＰに出力してポリゴンモータＭＰを回転駆動する。制御装置５０は、基板検出装置６４からの検出信号に基づいて、ポリゴンモータＭＰの回転駆動を開始させるポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを出力する。詳述すると、制御装置５０は、１行目の着色層領域２３のＹ矢印方向側の端部が、前記照射開始位置Ｐｅ１に位置するときに、ポリゴンミラー４９の回転角θｐを０°にする所定のタイミングで、ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを前記レーザヘッド駆動回路６８に出力する。
【００９７】
そして、図１２に示すように、スイッチ開閉信号ＧＳ１が立ち上がった時（吐出動作開始時）から、待機時間Ｔだけ経過すると、遅延回路６８ａによって、第１選択信号ＧＬ１が生成され、その第１選択信号ＧＬ１が、回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに供給される。そして、第１選択信号ＧＬ１が立ち上がった時に、回折素子駆動回路６８ｂは、拡張プロファイル成形信号ＳＢ１を回折素子４８に出力して、拡張プロファイル成形信号ＳＢ１に基づく駆動制御を行う。これと同時に、第１選択信号ＧＬ１が立ち上がった時に、スイッチ回路６８ｃは、対応するレーザ光源ＬＥに第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１を印加して、レーザ光源ＬＥから波長λ１のレーザ光Ｂを出射させる、すなわち拡張プロファイルＢＰ１を有した波長λ１のレーザ光Ｂを照射させる。
【００９８】
この時、図１２に示すように、回転駆動するポリゴンミラー４９の回転角θｐは０°である。そのため、前記拡張プロファイルＢＰ１のレーザ光Ｂは、照射開始位置Ｐｅ１に位置する液滴ＦＤに照射される。そして、液滴ＦＤが走査領域Ｌｓ内に搬送され続けると、レーザ光Ｂの走査によって、対応する着色層領域２３の液滴ＦＤにのみ、相対的に、静止した拡張プロファイルＢＰ１のレーザ光Ｂが、前記拡張時間Ｔ１の間だけ、照射され続ける。
【００９９】
続いて、図１２に示すように、第１選択信号ＧＬ１が立ち上がった時（拡張プロファイルＢＰ１の成形された時）から、拡張時間Ｔ１だけ経過すると、遅延回路６８ａによって、第２選択信号ＧＬ２が生成され、その第２選択信号ＧＬ２が、回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに供給される。そして、第２選択信号ＧＬ２が立ち上がった時に、回折素子駆動回路６８ｂは、流動プロファイル成形信号ＳＢ２を回折素子４８に出力して、流動プロファイル成形信号ＳＢ２に基づく駆動制御を行う。これと同時に、第２選択信号ＧＬ２が立ち上がった時に、スイッチ回路６８ｃは、対応するレーザ光源ＬＥに第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１を印加して、レーザ光源ＬＥから波長λ１のレーザ光Ｂを出射させる、すなわち前記流動プロファイルＢＰ２を有した波長λ１のレーザ光Ｂを照射させる。
【０１００】
この時、図１２に示すように、回転駆動するポリゴンミラー４９の回転角θｐは０°と１０°の間である。そのため、流動プロファイルＢＰ２のレーザ光Ｂは、走査領域Ｌｓ内に位置する液滴ＦＤに照射される。そして、液滴ＦＤが走査領域Ｌｓ内に搬送され続けると、レーザ光Ｂの走査によって、対応する着色層領域２３の液滴ＦＤにのみ、相対的に、静止した流動プロファイルＢＰ２のレーザ光Ｂが照射され続ける。
【０１０１】
そして、図１２に示すように、第２選択信号ＧＬ２が立ち上がった時（流動プロファイルＢＰ２の成形された時）から、流動時間Ｔ２だけ経過すると、遅延回路６８ａによって、第３選択信号ＧＬ３が生成され、その第３選択信号ＧＬ３が、回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに供給される。そして、第３選択信号ＧＬ３が立ち上がった時に、回折素子駆動回路６８ｂは、乾燥プロファイル成形信号ＳＢ３を回折素子４８に出力して、乾燥プロファイル成形信号ＳＢ３に基づく駆動制御を行う。これと同時に、第３選択信号ＧＬ３が立ち上がった時に、スイッチ回路６８ｃは、対応するレーザ光源ＬＥに第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２を印加して、レーザ光源ＬＥから波長λ２のレーザ光Ｂを出射させる、すなわち前記乾燥プロファイルＢＰ３を有した波長λ２のレーザ光Ｂを照射させる。
【０１０２】
この時、図１２に示すように、回転駆動するポリゴンミラー４９の回転角θｐは０°と１０°の間である。そのため、流動プロファイルＢＰ２のレーザ光Ｂは、走査領域Ｌｓ内に位置する液滴ＦＤに照射される。そして、液滴ＦＤが走査領域Ｌｓ内に搬送され続けると、レーザ光Ｂの走査によって、対応する着色層領域２３の液滴ＦＤにのみ、相対的に、静止した乾燥プロファイルＢＰ３のレーザ光Ｂが照射され続ける。
【０１０３】
やがて、第３選択信号ＧＬ３が立ち上がってから乾燥時間Ｔ３だけ経過すると、第３選択信号ＧＬ３が立ち下がり、レーザ光源ＬＥからのレーザ光Ｂの出射が停止されて、１行目の液滴ＦＤの処理動作が終了する。
【０１０４】
そして、２行目の吐出動作の開始時から待機時間Ｔだけ経過すると、１行目の着色層領域２３が、走査領域Ｌｓから離脱し、後続する２行目の着色層領域２３のＹ矢印方向の端部が、走査領域Ｌｓに侵入する。そして、レーザヘッド駆動回路６８で、再び第１選択信号ＧＬ１が生成されて、第１選択信号ＧＬ１が立ち上がった時に、対応する出射口４７から、一斉に拡張プロファイルＢＰ１のレーザ光Ｂが照射される。
【０１０５】
この時、図１２に示すように、回転駆動するポリゴンミラー４９の回転角θｐは１０°である。従って、反射面Ｍに反射偏向された拡張プロファイルＢＰ１のレーザ光Ｂは、照射開始位置Ｐｅ１に位置する２行目の液滴ＦＤに照射される。
【０１０６】
以後、同様に、後続する着色層領域２３が、着弾した液滴ＦＤを有して、走査領域Ｌｓ
内を通過する度に、相対的に、反Ｙ矢印方向に走査される拡張プロファイルＢＰ１、流動プロファイルＢＰ２及び乾燥プロファイルＢＰ３のレーザ光Ｂが、順次液滴ＦＤに対して照射される。
【０１０７】
次に、液滴吐出装置３０を使ってカラーフィルタ基板１０（反射層２３ｒ）を製造する方法について説明する。
まず、図４に示すように、往動位置に位置する基板ステージ３３上に、カラーフィルタ基板１０を配置固定する。このとき、カラーフィルタ基板１０のＹ矢印方向側の辺は、案内部材３６より反Ｙ矢印方向側に配置されている。また、キャリッジ３９（吐出ヘッドＦＨ）は、カラーフィルタ基板１０がＹ矢印方向に移動したとき、各ノズルＮの直下を、対応する着色層領域２３が通過する位置にセットされている。
【０１０８】
この状態から、制御装置５０は、Ｙ軸モータＭＹを駆動制御し、基板ステージ３３を介してカラーフィルタ基板１０を搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に搬送させる。やがて、基板検出装置６４がカラーフィルタ基板１０のＹ矢印方向側の端縁を検出すると、図１２に示すように、上記する所定のタイミングで、制御装置５０が、ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを生成する。そして、ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰが立ち上がった時に、ポリゴンモータ駆動回路６８ｄによってポリゴンモータ駆動制御信号ＳＰＭが生成され、ポリゴンミラー４９が矢印Ｒ方向に回転駆動する。
【０１０９】
これによって、１行目の着色層領域２３のＹ矢印方向側の端部が、前記照射開始位置Ｐｅ１に位置するときに、ポリゴンミラー４９の回転角θｐが０°となる。
そして、制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、１行目の着色層領域２３の目標吐出位置Ｐａが、対応するノズルＮの直下まで搬送されたかどうか演算する。
【０１１０】
また、この間、制御装置５０は、カラーフィルタ製造プログラムに従って、ＲＡＭ５２に格納したビットマップデータＢＭＤに基づく吐出制御データＳＩと、駆動信号生成回路５４で生成した圧電素子駆動信号ＣＯＭを吐出ヘッド駆動回路６７に出力する。また、制御装置５０は、電源回路５５で生成した第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１及び第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２をレーザヘッド駆動回路６８に出力する。そして、制御部５１は、吐出ヘッド駆動回路６７に、ラッチ信号ＬＡＴを出力するタイミングを待つ。
【０１１１】
そして、１行目の着色層領域２３の目標吐出位置Ｐａが、対応するノズルＮの直下まで搬送されると、制御装置５０は、ラッチ信号ＬＡＴを吐出ヘッド駆動回路６７に出力する。吐出ヘッド駆動回路６７は、制御装置５０からのラッチ信号ＬＡＴを受けると、吐出制御データＳＩに基づいてスイッチ開閉信号ＧＳ１を生成し、そのスイッチ開閉信号ＧＳ１をスイッチ回路６７ｄに出力する。そして、閉じた状態のスイッチ素子に対応する圧電素子ＰＺに、選択信号ＳＥＬに対応した圧電素子駆動信号ＣＯＭを供給し、対応するノズルＮから、圧電素子駆動信号ＣＯＭに相対する微小液滴Ｆｂを一斉に吐出する。吐出された微小液滴Ｆｂは、対応する１行目の着色層領域２３内に一斉に着弾して、液滴ＦＤと濡れ残し領域Ｓを形成する。
【０１１２】
一方、ラッチ信号ＬＡＴが吐出ヘッド駆動回路６７に入力されると、レーザヘッド駆動回路６８（遅延回路６８ａ）は、ラッチ回路６７ｂからの吐出制御データＳＩを受けて第１選択信号ＧＬ１、第２選択信号ＧＬ２及び第３選択信号ＧＬ３の生成を開始し、各選択信号ＧＬ１，ＧＬ２，ＧＬ３を、それぞれ回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力するタイミングを待つ。
【０１１３】
そして、圧電素子ＰＺが吐出動作を開始した時から、すなわち吐出ヘッド駆動回路６７
がスイッチ開閉信号ＧＳ１を出力した時から、待機時間Ｔだけ経過すると、１行目の着色層領域２３の液滴ＦＤが、走査領域Ｌｓ内への侵入を開始するとともに、レーザヘッド駆動回路６８が、第１選択信号ＧＬ１を、回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力する。
【０１１４】
すると、回折素子駆動回路６８ｂは、対応する回折素子４８に拡張プロファイル成形信号ＳＢ１を出力し、その拡張プロファイル成形信号ＳＢ１に基づく回折素子４８の駆動制御を行う。また、スイッチ回路６８ｃは、第１選択信号ＧＬ１に基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応するレーザ光源ＬＥに、第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１を供給し、対応するレーザ光源ＬＥから、一斉に波長λ１のレーザ光Ｂを出射する。
【０１１５】
これによって、走査領域Ｌｓ内に侵入する液滴ＦＤに対して、相対的に、静止した拡張プロファイルＢＰ１のレーザ光Ｂが、拡張時間Ｔ１だけ照射される。そして、レーザ光Ｂの照射される液滴ＦＤは、拡張プロファイルＢＰ１のレーザ光Ｂによって、着色層領域２３の全体に広がる形状に変形する。
【０１１６】
続いて、拡張プロファイルＢＰ１の成形された時から、拡張時間Ｔ１だけ経過すると、レーザヘッド駆動回路６８は、第２選択信号ＧＬ２を、回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力する。
【０１１７】
すると、回折素子駆動回路６８ｂは、対応する回折素子４８に流動プロファイル成形信号ＳＢ２を出力し、その流動プロファイル成形信号ＳＢ２に基づく回折素子４８の駆動制御を行う。また、スイッチ回路６８ｃは、第２選択信号ＧＬ２に基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応するレーザ光源ＬＥに、第１レーザ駆動信号ＳＬＥ１を供給し、対応するレーザ光源ＬＥから、一斉に波長λ１のレーザ光Ｂを出射する。
【０１１８】
これによって、走査領域Ｌｓ内の液滴ＦＤに対して、相対的に、静止した流動プロファイルＢＰ２のレーザ光Ｂが、流動時間Ｔ２だけ照射される。そして、レーザ光Ｂの照射される液滴ＦＤは、流動プロファイルＢＰ２のレーザ光Ｂの照射によって、反射領域Ｓｒに偏移して、透過領域Ｓｔに対応する吐出面２１ａを露出する形状に変形する。
【０１１９】
そして、流動プロファイルＢＰ２の成形された時から、流動時間Ｔ２だけ経過すると、レーザヘッド駆動回路６８は、第３選択信号ＧＬ３を、回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力する。
【０１２０】
すると、回折素子駆動回路６８ｂは、対応する回折素子４８に乾燥プロファイル成形信号ＳＢ３を出力し、その乾燥プロファイル成形信号ＳＢ３に基づく回折素子４８の駆動制御を行う。また、スイッチ回路６８ｃは、第３選択信号ＧＬ３に基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応するレーザ光源ＬＥに、第２レーザ駆動信号ＳＬＥ２を供給し、対応するレーザ光源ＬＥから、一斉に波長λ２のレーザ光Ｂを出射する。
【０１２１】
これによって、走査領域Ｌｓ内の液滴ＦＤに対して、相対的に、静止した乾燥プロファイルＢＰ３のレーザ光Ｂが、乾燥時間Ｔ３だけ照射される。そして、レーザ光Ｂの照射される液滴ＦＤは、乾燥プロファイルＢＰ３のレーザ光Ｂの照射によって、反射層２３ｒを反射領域Ｓｒに形成し、露出した吐出面２１ａの金属微粒子や分散媒の残渣を昇華あるいは蒸発させて透過領域Ｓｔを形成する。
【０１２２】
やがて、第３選択信号ＧＬ３が立ち下がると、レーザ光源ＬＥからのレーザ光Ｂの出射が停止され、１行目の液滴ＦＤの処理動作が終了する。
以後、同様に、後続する各行の着色層領域２３が、着弾した液滴ＦＤを有して、走査領
域Ｌｓ内を通過する度に、相対的に、静止した拡張プロファイルＢＰ１、流動プロファイルＢＰ２及び乾燥プロファイルＢＰ３のレーザ光Ｂを、順次液滴ＦＤに対して照射させて、反射領域Ｓｒと整合した反射層２３ｒと透過領域Ｓｔを形成する。
【０１２３】
そして、全ての着色層領域２３に反射層２３ｒが形成されると、制御装置５０は、Ｙ軸モータＭＹを制御して、基板ステージ３３（カラーフィルタ基板１０）を往動位置に配置させる。
【０１２４】
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、着色層領域２３の中心位置２３ｃにのみ、照射強度の鋭いピークを有した流動プロファイルＢＰ２を成形し、その流動プロファイルＢＰ２のレーザ光Ｂを、着色層領域２３に形成した液滴ＦＤに対して照射するようにした。そして、着色層領域２３の液滴ＦＤを反射領域Ｓｒに偏移させて、透過領域Ｓｔに対応する吐出面２１ａを露出する形状に変形させた。
【０１２５】
その結果、反射領域Ｓｒと透過領域Ｓｔとの間に、別途隔壁を形成することなく、反射層２３ｒ及び透過領域Ｓｔを形成することができる。従って、反射層２３ｒ及び透過領域Ｓｔを形成するための工程数、すなわちカラーフィルタ基板１０を形成するための工程数を削減することができ、カラーフィルタ基板１０の生産性を向上することができる。
【０１２６】
（２）上記実施形態によれば、液滴ＦＤ内の金属微粒子を透過して、分散媒に対して高い吸収を持つ波長λ１のレーザ光Ｂによって、前記流動プロファイルＢＰ２を成形するようにした。その結果、金属微粒子の硬化を抑制して、透過領域Ｓｔ上の液滴ＦＤの流動性を維持することができる。
【０１２７】
（３）上記実施形態によれば、着色層領域２３の中心位置２３ｃに、照射強度の鋭いピークを有して、その中心位置２３ｃの近傍を除く着色層領域２３の全体に、略均一な照射強度を有した乾燥プロファイルＢＰ３を、前記流動プロファイルＢＰ２の直後に成形するようにした。そして、反射領域Ｓｒ上の液滴ＦＤを乾燥して金属微粒子を焼成させるとともに、透過領域Ｓｔ上の金属微粒子等の残渣を昇華あるいは蒸発させるようにした。
【０１２８】
その結果、反射領域Ｓｒに相対する液滴ＦＤを形成した直後に、その液滴ＦＤを乾燥して、金属微粒子を焼成させることができる。従って、反射領域Ｓｒに整合した反射層２３ｒを形成することができ、透過領域Ｓｔの透過性を確保することができる。
【０１２９】
（４）上記実施形態によれば、主に前記金属微粒子に対して高い吸収を持つ波長λ２のレーザ光Ｂによって、前記乾燥プロファイルＢＰ３を形成するようにした。その結果、反射領域Ｓｒ上の金属微粒子を、より確実に焼成させることができ、透過領域Ｓｔ上の残渣を、より確実に昇華あるいは蒸発させることができる。従って、透過領域Ｓｔの透過性を、確実に確保することができる。
【０１３０】
（５）上記実施形態によれば、回折素子４８の位相変調したレーザ光Ｂを、回転駆動するポリゴンミラー４９によって反射偏向し、着色層領域２３の搬送に相対させて、着色層領域２３の単位で、走査するようにした。そして、レーザ光Ｂの照射位置を、液滴ＦＤに対して、相対的に静止させるようにした。
【０１３１】
その結果、レーザ光Ｂの照射位置を、液滴ＦＤに対して安定させることができ、前記拡張プロファイルＢＰ１、流動プロファイルＢＰ２、乾燥プロファイルＢＰ３を、液滴ＦＤの搬送速度等に制約されることなく、所望のタイミングで変更することができる。
【０１３２】
（６）上記実施形態によれば、着色層領域２３のＹ矢印方向側（濡れ残し領域Ｓの反対側）にのみ、照射強度の鋭いピークを有した拡張プロファイルＢＰ１を、前記流動プロファイルＢＰ２の前に成形するようにした。そして、着色層領域２３に形成した液滴ＦＤを、着色層領域２３の全体にまで濡れ広がるようにした。
【０１３３】
その結果、着色層領域２３の全体に広がる形状の液滴ＦＤを形成する分だけ、流動させた後の液滴ＦＤの形状、すなわち反射層２３ｒの形状及び透過領域Ｓｔの形状の再現性を確保することができる。
【０１３４】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
○上記実施形態では、レーザ光走査手段によって、レーザ光Ｂの照射位置を、液滴ＦＤに対して、相対的に、静止させる構成にしたが、これに限らず、例えばレーザ光Ｂの照射位置を固定し、各液滴ＦＤを、同走査位置に搬送して停止させる構成であってもよい。
【０１３５】
○上記実施形態では、液滴吐出手段を吐出ヘッドＦＨに具体化したが、これに限らず、例えばディスペンサ等の液滴吐出手段によって吐出するように構成してもよい。
○上記実施形態では、レーザ光走査手段を、ポリゴンミラー４９を有した光学系に具体化したが、これに限らず、例えば、ガルバノミラー等によって構成するようにしてもよい。
【０１３６】
○上記実施形態では、各着色層領域２３の反Ｙ矢印方向側に、濡れ残し領域Ｓを形成させる構成にした。これに限らず、濡れ残し領域Ｓが、各着色層領域２３の内縁に、ランダムに形成される構成であってもよい。この際、拡張プロファイルＢＰ１の照射強度のピーク位置を、着色層領域２３の中心位置近傍に設定する、あるいは、着色層領域２３内を走査させるのが好ましい。
【０１３７】
○上記実施形態では、電気的あるいは機械的に駆動する回折素子４８を利用して拡張プロファイルＢＰ１、流動プロファイルＢＰ２及び乾燥プロファイルＢＰ３を成形するようにした。これに限らず、例えば、回折格子やマスク、分岐素子等を利用して、これらの各種プロファイルＢＰ１，ＢＰ２，ＢＰ３を成形するようにしてもよく、着色層領域２３内で、これらのプロファイルを成形可能な光学系であればよい。
【０１３８】
○上記実施形態では、着色層領域２３を略正方形として具体化したが、この形状に限定されるものではなく、例えば、楕円形や多角形の着色層領域２３であってもよい。
○上記実施形態では、液滴吐出装置３０のＹ矢印方向に、１対の吐出ヘッドＦＨとレーザヘッドＬＨを配設する構成にした。これに限らず、Ｙ矢印方向に、複数の吐出ヘッドＦＨとレーザヘッドＬＨを配設し、１回のスキャンで、パターンの膜厚が、所望の膜厚に到達する構成にしてもよい。
【０１３９】
○上記実施形態では、ノズルＮの数量分だけレーザ光源ＬＥを設ける構成にしたが、これに限らず、レーザ光源から出射された単一のレーザ光Ｂを、回折素子等の分岐素子によって分割する光学系によって構成してもよい。
【０１４０】
○上記実施形態では、パターンをカラーフィルタ基板１０の反射層２３ｒに具体化した。これに限らず、例えば、吐出した液滴ＦＤによって形成する絶縁膜や金属配線のパターンに具体化してもよい。この場合にも、上記実施形態と同様に、パターンの生産性を向上することができる。
【０１４１】
○上記実施形態では、電気光学装置を液晶表示装置として具体化し、パターンを反射層２３ｒに具体化した。これに限らず、例えば、電気光学装置をエレクトロルミネッセンス
表示装置として具体化し、透明電極形成材料を含む液滴ＦＤを、対応する吐出領域に吐出して、パターンとしての透明電極を形成する構成にしてもよい。この構成においても、エレクトロルミネッセンス表示装置の生産性を向上することができる。
【０１４２】
○上記実施形態では、電気光学装置を液晶表示装置として具体化し、パターンを反射層２３ｒに具体化した。これに限らず、平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型装置（ＦＥＤやＳＥＤ等）を備えた表示装置の絶縁膜や金属配線のパターンに具体化してもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１４３】
【図１】第１実施形態における液晶表示装置の斜視図。
【図２】同じく、カラーフィルタ基板の斜視図。
【図３】同じく、カラーフィルタ基板の概略側断面図。
【図４】同じく、液滴吐出装置の概略斜視図。
【図５】同じく、液滴吐出ヘッドの概略斜視図。
【図６】同じく、液滴吐出ヘッドを説明するための要部概略断面図。
【図７】同じく、液滴吐出ヘッドを説明するための要部概略断面図。
【図８】同じく、（ａ）、（ｂ）は、ビームプロファイルを説明するための説明図。
【図９】同じく、（ａ）、（ｂ）は、ビームプロファイルを説明するための説明図。
【図１０】同じく、（ａ）、（ｂ）は、ビームプロファイルを説明するための説明図。
【図１１】同じく、液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック回路図。
【図１２】同じく、圧電素子と半導体レーザの駆動タイミングを説明するためのタイミングチャート。
【符号の説明】
【０１４４】
１…電気光学装置としての液晶表示装置、２３…吐出領域としての着色層領域、２３ｒ…パターンとしての反射層、３０…液滴吐出装置、４９…レーザ光走査手段を構成するポリゴンミラー、Ｂ…レーザ光、ＦＤ…液滴、ＦＨ…液滴吐出手段を構成する液滴吐出ヘッド、ＬＨ…レーザ照射手段を構成するレーザヘッド、Ｓｒ…パターン形成領域としての反射領域、Ｓｔ…非パターン形成領域としての透過領域。
【図１】
2006276780.tif 000003
【図２】
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【図３】
2006276780.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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