(57)【要約】【課題】  解像度、密着性、高サンドブラスト圧力時の耐サンドブラスト性、はく離性に優れた感光性樹脂組成物及びこれを用いたサンドブラスト用感光性フィルムを提供すること。【解決手段】  （Ａ）バインダポリマー、（Ｂ）光重合性開始剤、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）リンを含有する可塑剤を必須成分として含有してなる感光性樹脂組成物であって、前記（Ａ）バインダポリマーとして少なくとも（A１）セルロース誘導体を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物及びこれを用いたサンドブラスト用感光性フィルム。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）バインダポリマー、（Ｂ）光重合性開始剤、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）リンを含有する可塑剤を必須成分として含有してなる感光性樹脂組成物であって、前記（Ａ）バインダポリマーとして少なくとも（A１）セルロース誘導体を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記（A1）セルロース誘導体の重量平均分子量が10,000〜200,000である請求項1記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記（Ｃ）光重合性化合物が、分子内に3つ以上の不飽和結合を有するビニル化合物を含む請求項1、2記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記（Ｃ）光重合性化合物が、分子内に2つ以上の不飽和結合を有するウレタン化合物を含む請求項1〜3いずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記（Ｄ）リンを含有する可塑剤が一般式（I）
【化１】
2006145606.tif 000006
式（I）中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示し、Ｒ４はフェニレン基又は下記一般式（II）で表される２価の基を示す。
【化２】
2006145606.tif 000007
式（II）中、Ｒ５は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。］で表される請求項1記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
サンドブラスト法によるパターン形成の際に、マスク材として用いることを特徴とする請求項1〜5いずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を用いた感光性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス、セラミック等の基材にサンドブラスト法を用いパターンを形成する際に、解像度、密着性、耐サンドブラスト性、はく離性に優れた感光性樹脂組成物及びこれを用いたサンドブラスト用感光性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ガラス、セラミック等の基板の表面に凹凸のパターンを形成する方法の一つとしてサンドブラスト法が用いられてきた。サンドブラスト法でガラス、セラミック等に凹凸のパターンを形成する際には、基板上に感光性フィルム層を設け、ホトリソグラフィーによりマスクパターンを形成させた後、サンドブラストで比マスク部分を彫刻するという方法がとられており、近年フォトリソグラフィー技術の発達、サンドブラスト技術の発達に伴いより微細なパターンを形成することが可能になってきた。このサンドブラスト法に用いることのできる感光性樹脂組成物としては、例えば特許文献１及び特許文献２等が挙げられる。
【０００３】
【特許文献１】特開平６−１６１０９８号公報
【特許文献２】特開平１１−１１９４３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記感光性樹脂組成物では高精細なパターンを形成する際の解像度、密着性が充分ではなく、また加工時間の短縮、加工厚みの厚膜化に有効な高サンドブラスト圧力時の耐サンドブラスト性が充分ではない。
特にプラズマディスプレイパネルの製造工程においては画素ピッチの狭幅化に伴い、より高精細なパターン形成が要求されてきている。また、感光性フィルムの解像度、密着性の向上、加工時間の短縮、加工厚みの厚膜化のため高サンドブラスト圧力時の耐サンドブラスト性の向上が要求されてきている。
【０００５】
こうした現状から、本発明者等は、上記問題点を解決するサンドブラスト用感光性樹脂組成物として、バインダポリマー、光重合性開始剤、光重合性化合物、リンを含有する可塑剤を必須成分として含有してなる感光性樹脂組成物であって、前記バインダポリマーとして少なくともセルロース誘導体を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を発明するに到った。
【０００６】
このサンドブラスト用感光性樹脂組成物の発明は解像度、密着性、高サンドブラスト圧力時の耐サンドブラスト性、はく離性に優れた樹脂組成物を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は次の発明に関する。
<1>（Ａ）バインダポリマー、（Ｂ）光重合性開始剤、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）リンを含有する可塑剤を必須成分として含有してなる感光性樹脂組成物であって、前記（A）バインダポリマーとして少なくとも（A１）セルロース誘導体を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
<２>  前記（A1）セルロース誘導体の重量平均分子量が10,000〜200,000である<1>記載の感光性樹脂組成物。
<３>  前記（Ｃ）光重合性化合物が、分子内に3つ以上の不飽和結合を有するビニル化合物を含む<1>又は<２>記載の感光性樹脂組成物。
<４>  前記（Ｃ）光重合性化合物が、分子内に2つ以上の不飽和結合を有するウレタン化合物を含む<1>〜<３>いずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
<５>  前記（Ｄ）リンを含有する可塑剤が一般式（I）
【化１】
2006145606.tif 000002
式（I）中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示し、Ｒ４はフェニレン基又は下記一般式（II）で表される２価の基を示す。
【化２】
2006145606.tif 000003
式（II）中、Ｒ５は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。］で表される<1>記載の感光性樹脂組成物。
<６>  サンドブラスト法によるパターン形成の際に、マスク材として用いることを特徴とする<1>〜<５>いずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を用いた感光性フィルム。
【発明の効果】
【０００８】
請求項１記載の樹脂組成物は、密着性、解像度、耐サンドブラスト性、はく離性が優れ、ＰＤＰのサンドブラスト工法のマスク材に好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）バインダポリマー、（Ｂ）光重合性開始剤、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）リンを含有する可塑剤を必須成分として含有してなる感光性樹脂組成物であって、前記（Ａ）バインダポリマーとして少なくとも（A１）セルロース誘導体を必須成分とする。
【００１０】
次に、本発明の感光性樹脂組成物に含まれる各成分について詳述する。（Ａ）成分のバインダーポリマーは、少なくとも（A1）セルロース誘導体を必須成分としており、セルロース誘導体としては、セルロースフタレート、セルロースアセテートフタレート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートフタレート等が好ましい。また（Ａ）成分はセルロース誘導体の他にも必要に応じて、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエステルとこれらと共重合し得るビニルモノマー等を共重合した共重合体などを含有することができる。これらの共重合体は、単独でも２種類以上を組み合わせても用いることができる。アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル等のアクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルやこれらのアルキル基の水素原子が、水酸基、エポキシ基、ハロゲン基等に置換したアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルなどが挙げられる。また、アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルやアクリル酸又はメタクリル酸と共重合しうるビニルモノマーとしては、アクリルアミド、アクリロニトリル、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビニルトルエンなどが挙げられる。これらの構成モノマーは、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００１１】
次に（Ｂ）成分として用いる光重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（ミヘラーケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−モルホリノフェノン）−ブタノン−１，２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体などが挙げられる。これらは、単独又は２種類以上を組み合わせて用いられる。
【００１２】
（Ｃ）成分の光重合性化合物としては、分子内に3つ以上の不飽和結合を有するビニル化合物、及び分子内に2つ以上の不飽和結合を有するウレタン化合物の2種類を混合することが望ましい。分子内に3つ以上の不飽和結合を有するビニル化合物としては、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー卜、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等が上げられる。さらに、分子内に2つ以上の不飽和結合を有するウレタン化合物とは、ジオール化合物とジイソシアネート化合物とが反応した末端イソシアネート基（―NCO基）を有する化合物と、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート化合物との反応生成物をいう。ここで前記ジオール化合物としては、カルボキシル基を含有するジオール化合物が好ましい。カルボキシル基を含有するジオール化合物としては例えば2，2−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、2，2−ビス（ヒドロキシエチル）プロピオン酸、2，2−ビス（ヒドロキシプロピル）プロピオン酸等が挙げられる。また、このジオール化合物としては、カルボキシル基を含有するジオール化合物と共にジカルボン酸やカルボキシル基を有しないジオール化合物を組み合わせて用いても良い。
【００１３】
ジカルボン酸化合物としては、シュウ酸、コハク酸、マロン酸、リンゴ酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸等が挙げられる
次にカルボキシル基を有しないジオール化合物としてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、２，２，４−トリメチル−１，ペンタンジオール、１，４−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。
ジイソシアネート化合物としてはヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチレンジイソシアネート、2，2ジメチルペンタン−1，5−ジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、2，5−ジメチルヘキサン−1，6−ジイソシアネート、2，2，4−トリメチルペンタン−1，5−ジイソシアネート、2，4，4−トリメチルペンタン−1，5−ジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ウンデカメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、トリデカメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
【００１４】
次にヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート化合物とは、ヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレングリコールモノメチルアクリレート、エチレングリコールモノメチルメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタクリレート等のヒドロキシル基を有するモノマーが挙げられる。
（Ｃ）成分としては他に、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物（ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリレート等、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル（（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルなどを混合しても良い。これらは単独又は２種類以上を組み合わせて使用する。
【００１５】
（Ｄ）リンを含有する可塑剤としては前記の一般式（I）で表わされるリン系可塑剤を含有する。可塑剤とは光反応に関与せず、フィルムに柔軟性を持たせる化合物である。リン系可塑剤としては、例えば、１，３−ビス−（２’，６’−ジメチルフェニル）フォスホイルベンゼン、１，３−ビス−（２’，６’−ジエチルフェニル）フォスホイルベンゼン等があり、市販品としては、ＰＸ−２００（大八化学（株）製、商品名）、CR−７４７（大八化学（株）製、商品名）、等がある。一般式（II）で表わされるリン系可塑剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００１６】
前記（Ａ）バインダーポリマーの配合量は、（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量１００重量部に対して、２０〜８０重量部とすることが好ましく、３０〜６０重量部とすることがより好ましい。この配合量が２０重量部未満では光硬化物が脆くなり易く、感光性エレメントとして用いた場合に、塗膜性が劣る傾向があり、８０重量部を超えると光感度が不充分となる傾向がある。
【００１７】
前記（Ｂ）光重合開始剤の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量１００重量％に対して、０．１〜２０重量部であることが好ましく、０．２〜１０重量部であることがより好ましい。この配合量が０．１重量％未満では光感度が不充分となる傾向があり、２０重量％を超えると露光の際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となる傾向がある。
【００１８】
前記（Ｃ）光重合性化合物の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量１００重量部に対して、２０〜８０重量部とすることが好ましく、３０〜６０重量部とすることがより好ましい。この配合量が２０重量部未満では光感度が不充分となる傾向があり、８０重量部を超えると光硬化物が脆くなる傾向がある。（Ｃ）光重合性化合物中の必須成分であるカルボキシル基含有ウレタン（メタ）アクリレートの配合量は（Ｃ）成分中１０〜７０重量％であることが好ましく、２０〜５０重量％であることが好ましい。この配合量が１０重量％未満では耐サンドブラスト性が劣る傾向があり、７０重量％を超えると感光性樹脂組成物層が柔らかくなり、フィルム端面からのしみ出しが起きる傾向がある。
【００１９】
前記（Ｄ）成分の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量１００重量％に対して、１０〜５０重量部であることが好ましく、１５〜３０重量部であることがより好ましい。この配合量が１０重量％未満では耐サンドブラスト性が不充分となる傾向があり、５０重量％を超えると感光性樹脂組成物層が柔らかくなり、フィルム端面からのしみ出しが起きる傾向がある。
【００２０】
また、本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、マラカイトグリーン等の染料、トリブロモフェニルスルホン、ロイコクリスタルバイオレット等の光発色剤、熱発色防止剤、ｐ−トルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、密着性付与剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤などを（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量１００重量部に対して各々０．０１〜２０重量部程度含有することができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２１】
本発明の感光性樹脂組成物は、これを支持体フィルム上に塗布、乾燥し、感光性フィルムとして使用することもできる。支持体としては、重合体フィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン等からなるフィルムが用いられ、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。支持体の厚みは、５〜２５μｍであることが好ましく、８〜２０μｍであることがより好ましく、１０〜１７μｍであることが特に好ましい。この厚みが５μｍ未満では現像前の支持体はく離の際に破ける傾向があり、２５μｍを超えると解像度が低下する傾向がある。また、上記支持体のヘーズは０．００１〜５．０であることが好ましく、０．００１〜２．０であることがより好ましく、０．０１〜１．８であることが特に好ましい。このヘーズが２．０を超えると、解像度が低下する傾向がある。上記ヘーズはＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に準拠して測定したものであり、例えば、ＮＤＨ−１００１ＤＰ（日本電色工業(株)製、商品名）等の市販の濁度計などで測定が可能である。
【００２２】
感光性フィルムを製造するに際しては、まず、（Ａ）〜（Ｄ）成分を含む感光性樹脂組成物を溶剤に均一に溶解する。溶剤は、感光性樹脂組成物を溶解する溶剤であればよく、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチルアルコールなどが用いられる。これらの溶剤は単独で又は２種以上を組み合わせてもよい。次いで、溶液状に感光性樹脂組成物を前記支持体フィルム層としての重合体フィルム上に均一に塗布した後、加熱及び／又は熱風吹き付けにより溶剤を除去し、乾燥皮膜とする。乾燥後の感光性樹脂組成物層の厚みは、用途により異なるが、乾燥後の厚みで１〜１００μｍであることが好ましく、１〜５０μｍであることがより好ましい。この厚みが１μｍ未満では工業的に塗工困難な傾向があり、１００μｍを超えると本発明の効果が小さくなり、接着力、解像度が低下する傾向がある。
【００２３】
このようにして得られる感光層と重合体フィルムとの２層からなる本発明の感光性フィルムは、そのまま又は感光層の他の面に保護フィルムをさらに積層してロール状に巻きとって貯蔵される。この保護フィルムは、厚みが５〜３０μｍであることが好ましく、１０〜２８μｍであることがより好ましく、１５〜２５μｍであることが特に好ましい。この厚みが５μｍ未満ではラミネートの際、保護フィルムが破れる傾向があり、３０μｍを超えると廉価性に劣る傾向がある。
【００２４】
これら支持体及び保護フィルムは、後に感光性樹脂組成物層から除去可能でなくてはならないため、除去が不可能となるような表面処理が施されたものであってはならないが、特に制限はなく必要に応じて処理を行ってもよい。更にこれらの支持体、保護フィルムは必要に応じて帯電防止処理が施されていてもよい。
【００２５】
本発明の感光性フィルムを用いてフォトレジスト画像を製造するに際しては、前記の保護フィルムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、感光性樹脂組成物層を加熱しながら基板に圧着することにより積層する方法などが挙げられ、密着性及び追従性の見地から減圧下で積層することが好ましい。積層される表面は、特に制限はない。感光性樹脂組成物層の加熱温度は７０〜１３０℃とすることが好ましく、圧着圧力は、０．１〜１．０MPa程度（１〜１０kgf/cm2程度）とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。また、感光性樹脂組成物層を前記のように７０〜１３０℃に加熱すれば、予め基板を予熱処理することは必要ではないが、積層性をさらに向上させるために、基板の予熱処理を行うこともできる。
【００２６】
このようにして積層が完了した感光性樹脂組成物層は、ネガ又はポジマスクパターンを通して活性光線が画像状に照射される。上記活性光線の光源としては、公知の光源、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線、可視光などを有効に放射するものが用いられる。また、レーザー直接描画露光法にも使用される。
【００２７】
次いで、露光後、感光性樹脂組成物層上に支持体が存在している場合には、支持体を除去した後、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等の現像液によるウエット現像、ドライ現像等で未露光部を除去して現像し、レジストパターンを製造することができる。
上記アルカリ性水溶液としては、例えば、０．１〜５重量％炭酸ナトリウムの希薄溶液、０．１〜５重量％炭酸カリウムの希薄溶液、０．１〜５重量％水酸化ナトリウムの希薄溶液等が挙げられる。上記アルカリ性水溶液のpHは９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光性樹脂組成物層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、有機溶剤等を混入させてもよい。上記現像の方式としては、例えば、ディップ方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピング等が挙げられる。
現像後の処理として、必要に応じて６０〜２５０℃程度の加熱又は０．２〜１０J/cm2程度の露光を行うことによりレジストパターンをさらに硬化して用いてもよい。次いで、形成したレジストパターンをマスクとし、被マスク部をサンドブラストによって彫刻することができる。このサンドブラスト工程のブラスト材としては、公知のものが用いられ、例えば２〜１００μm程度のＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ、等の微粒子が挙げられる。サンドブラスト時の圧力としては０．０５〜１MPa（０．５〜１０kg）程度で処理することが好ましい。
【００２８】
次いで、レジストパターンは、例えば、現像に用いたアルカリ性水溶液よりさらに強アルカリ性の水溶液で剥離することができる。上記強アルカリ性の水溶液としては、例えば、１〜１０重量％水酸化ナトリウム水溶液、１〜１０重量％水酸化カリウム水溶液等が用いられる。上記剥離方式としては、例えば、浸漬方式、スプレイ方式等が挙げられる。
【実施例】
【００２９】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらに制限されるものではない。下記例中の「部」は特に断らない限り、「重量部」を意味する。
【００３０】
【表１】
2006145606.tif 000004
【００３１】
実施例1
表１の成分を混合し、溶液を調製した。
次いで、この感光性樹脂組成物の溶液を16μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し100℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾燥して感光性フィルムを得た。感光性樹脂組成物の乾燥後の膜厚は、38μmであった。感光性樹脂組成物の上には、さらに、22μmのポリエチレンフィルムを保護フィルムとして貼り合わせ、本発明の感光性フィルムの感光特性感光特性、レジスト形成後の耐サンドブラスト性について下記の方法で評価した。
（１）感光特性
リブ形成用ガラス基板（リブペースト（旭ガラス（株）製、製品名RPW−033E）が160μm厚でコーティングされたガラス基板）を80℃に加温し、その表面に前記感光性樹脂組成物を保護フィルムを剥がしながら110℃のヒートロールを用い1m／分の速度でラミネートした。次に高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク(株)製）EXM-1201を用いて、ネガとして41段ステップタブレットを試験片の上に置いて、100mJ/cm2で露光した。次に35℃で0.25重量％炭酸ナトリウム水溶液を４０秒間スプレーし未露光部を除去した後、形成された光硬化膜のステップタブレット段数を測定することにより、感光性樹脂組成物のステップタブレット段数20段を得るために必要な露光量を評価した。また解像度、密着性は、41段ステップタブレットを有するフォトツールと解像度評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が30／30〜200／200（単位：μm）、密着性評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が30／400〜200／400（単位：μm）のパターンを有するフォトツールを密着させ、41段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が20となるエネルギー量で露光を行った。解像度、密着性は数字が小さいほど良好な値であり、その結果を表2に示した。
（２）耐サンドブラスト性
耐サンドブラスト性は、上記のようにラミネートし、L／S＝70／150（単位：μm）のストライプパターンネガを用い所定の露光量により露光を行い、次いで上記現像液により現像しパターンを形成した。これを不二製作所製「PNEUMABLASTER」（研磨剤ＳＵＳ＃1200、ノズル距離40mm、ブラスト圧0.1MPa、研磨剤噴射量400g／分）を用いトップとボトム幅の比が1：1.5程度になるようサンドブラスト処理を行い、処理後のレジストのダメージの評価を行い、以下のように評価した。
○：サンドブラスト後レジストパターンにダメージがほとんど認められない。
×：サンドブラスト後にレジストが大部分剥がれてしまい、リブにダメージが認められる。
（３）はく離性
はく離時間は、フィルムを上記のようにラミネートし、45×60ｍｍの長方形になるように所定の露光量により露光を行い、次いで上記現像液により現像しパターンを形成した。3％トリエタノールアミン水溶液、常温（22℃）に浸し、フィルムの剥がれるまでの時間を測定した。この時間をはく離時間とし、表2に示す。
【００３２】
実施例２
実施例1（Ａ）成分をヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート（信越化学（株）製、製品名HPMCP  HP-55）に置き換えた以外は実地例1と同様に評価を行った。
【００３３】
実施例３
実施例1（Ａ）成分をヒドロキシプロピルメチルセルロースサクシネート（信越化学（株）製、製品名HPMCP  AS-LG）に置き換えた以外は実地例1と同様に評価を行った。
【００３４】
比較例1
実施例1の（Ａ）成分をアクリル樹脂（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル（２２／７１／７（重量比）、重量平均分子量８万）の４０重量％メチルセルソルブ／トルエン（６/4(重量比)溶液抜いた以外は同様に置き換えた以外は実地例1と同様に評価を行った。
【００３５】
比較例２
実施例1の（Ｄ）成分を抜いた以外は実地例1と同様に評価を行った。
【００３６】
【表２】
2006145606.tif 000005