(57)【要約】【課題】  基板上に設けた金属膜がヨウ素イオンに溶解せず、基板との密着性も良好な色素増感型太陽電池用金属電極を提供すること。【解決手段】  基板上に設けられた透明導電膜１とこの膜上に設けられた多孔質半導体膜２とこの半導体膜に担持された色素３とで構成される光電極４と、光電極に対向して配置された基板上の光電極側に設けられた金属膜６により構成される金属電極５と、光電極と金属電極との間に封入されたヨウ素系電解質７とを具備する色素増感型太陽電池の金属電極であって、金属膜６が、気相成膜法により形成された化学式Ａ１−ｘＢｘ（ＡはＲｕまたはＩｒの元素、ＢはＴａ、Ｔｉ、Ｈｆから選択される少なくとも一つの元素を示し、ｘは０．０５以上０．３０以下）で表される合金により構成されていることを特徴とする。【選択図】  図１
2006164593.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に設けられた透明導電膜と、この透明導電膜上に設けられた多孔質半導体膜と、この多孔質半導体膜に担持された色素とで構成される光電極と、
上記光電極に対向して配置された基板上の光電極側に設けられた金属膜により構成される金属電極と、
上記光電極と金属電極との間に封入されたヨウ素系電解質とを具備する色素増感型太陽電池の上記金属電極において、
上記金属膜が、気相成膜法により形成された化学式Ａ１−ｘＢｘ（但し、ＡはＲｕ若しくはＩｒから選択されるいずれかの元素、ＢはＴａ、Ｔｉ、Ｈｆから選択される少なくとも一つの元素を示し、かつ、ｘは０．０５以上０．３０以下である）で表される合金により構成されていることを特徴とする色素増感型太陽電池用金属電極。
【請求項２】
上記化学式Ａ１−ｘＢｘで表される合金膜上にＰｔ膜が積層されていることを特徴とする請求項１に記載の色素増感型太陽電池用金属電極。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は色素増感型太陽電池に係り、特に、色素増感型太陽電池における金属電極の改良に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
色素増感型太陽電池はスイスのグレツェル等が開発したもので、光電変換効率が高く、製造コストが安い等の利点があり、新しいタイプの太陽電池として注目を集めている（非特許文献１参照）。
【０００３】
図１は、色素増感型太陽電池の一例を示すものである。ガラスや有機樹脂等から成る基板（図示せず）の一面には透明導電膜１が形成されている。また、この透明導電膜１上には酸化チタン等の酸化物半導体微粒子から成る多孔質半導体膜２が形成され、その上に有機色素３が担持されて光電極４を構成している。
【０００４】
他方、上記光電極４の対極となる金属電極５は、光電極４に対向して配置された基板（図示せず）上の光電極４側に設けられた金属膜６にて構成されており、上記光電極４と金属電極５との間にはヨウ素／ヨウ素イオン等のレドックス対を含む非水溶液から成る電解液が封入されてヨウ素系電解質７を構成している。
【０００５】
そして、この色素増感型太陽電池においては、太陽光等の光が光電極４の透明導電膜１側から入射されると、透明導電膜１と金属電極５との間に起電力が生じる。
【０００６】
尚、この色素増感型太陽電池において、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２等の酸化物半導体微粒子で構成される多孔質半導体膜２は、光増感用の有機色素３の坦持量を高めるために多孔質となっており、上記酸化物半導体微粒子が分散された分散液を塗布し、焼成する等の方法によって作製されている。
【０００７】
ところで、有機色素で増感された酸化物半導体を適用した色素増感型太陽電池としては、例えば、金属酸化物半導体の表面に遷移金属錯体等の分光増感色素層を有するもの（特許文献１参照）、金属イオンでドープした酸化チタン半導体層の表面に遷移金属錯体等の分光増感色素層を有するもの（特許文献２参照）等が知られている。
【０００８】
また、上記金属電極５の金属膜６として、特許文献３に、金、銀、プラチナ等の貴金属、ニッケル、アルミニウム、鉄、亜鉛等の一般金属、更に、銀とプラチナの合金、金と銀合金や銀／プラチナ積層膜または金／銀積層膜等が挙げられ、また、金属膜の成膜方法として気相成膜法、特に、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法またはプラズマＣＶＤ法等が挙げられている。
【特許文献１】特開平１−２２０３８０号公報
【特許文献２】特表平５−５０４０２３号公報
【特許文献３】特開２００３−１２３８５７号公報
【非特許文献１】O' Regan, Brian、Graetzel, Michael 著 Nature (London, United Kingdom) VOL. 353（1991年）、Nature Publishing Group 発行、738頁
【非特許文献２】ジャーナル・フィジカルケミストリー（J Phys. Chem. ），第94巻，8720頁（1990年）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、色素増感型太陽電池において金属電極５の上記金属膜６は、構造上、ヨウ素系電解質７に接触することから、上記金属膜６を白金（プラチナ）以外の金属で構成した場合、その金属膜６はヨウ素系電解質７のヨウ素イオンで溶解してしまうため、特許文献３に挙げられた金属膜材料として白金以外は現実的に使用できない問題があった。
【００１０】
また、上述した銀／プラチナ積層膜等の白金（プラチナ）を最表面とした積層膜においても、ピンホールを無くすことが現実的には困難なことから白金膜の下側に位置する金属が溶解してしまう問題があった。
【００１１】
一方、白金（プラチナ）等の貴金属はガラスや有機樹脂との密着性が低いため、白金等の貴金属をガラスや有機樹脂から成る基板上に直接成膜した場合、その金属膜が基板から剥離し易いといった問題を有していた。
【００１２】
このため、従来においては、ガラスや有機樹脂から成る基板上に密着性を改善させるフッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）やインジウムドープ酸化錫（ＩＴＯ）等の透明導電膜を形成し、この透明導電膜を介し白金（プラチナ）等の貴金属を成膜する方法が採られている。
【００１３】
しかし、上記ＦＴＯやＩＴＯは高価な材料のため、その分、金属電極が高額となる別の問題があり、また、高い特性を得るためには基板温度を２００℃〜３００℃程度にする必要があり、有機樹脂（プラスチック）から成る基板の適用が困難となる問題があった。
【００１４】
本発明はこのような問題点に着目してなされたもので、その課題とするところは、ガラスや有機樹脂から成る基板上に形成された金属膜がヨウ素イオンに溶解せず、しかも基板との密着性も良好な色素増感型太陽電池用金属電極を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
そこで、このような課題を解決するため本発明者等が鋭意研究を行ったところ、金属電極の金属膜として、気相成膜法により形成された化学式Ａ１−ｘＢｘ（但し、ＡはＲｕ若しくはＩｒから選択されるいずれかの元素、ＢはＴａ、Ｔｉ、Ｈｆから選択される少なくとも一つの元素を示し、かつ、ｘは０．０５以上０．３０以下である）で表される合金を適用した場合、その金属膜がヨウ素イオンに溶解され難く、しかも、基板との密着性も良好であることを見出すに至った。本発明はこのような技術的発見に基づき完成されている。
【００１６】
すなわち、請求項１に係る発明は、
基板上に設けられた透明導電膜と、この透明導電膜上に設けられた多孔質半導体膜と、この多孔質半導体膜に担持された色素とで構成される光電極と、
上記光電極に対向して配置された基板上の光電極側に設けられた金属膜により構成される金属電極と、
上記光電極と金属電極との間に封入されたヨウ素系電解質とを具備する色素増感型太陽電池の上記金属電極を前提とし、
上記金属膜が、気相成膜法により形成された化学式Ａ１−ｘＢｘ（但し、ＡはＲｕ若しくはＩｒから選択されるいずれかの元素、ＢはＴａ、Ｔｉ、Ｈｆから選択される少なくとも一つの元素を示し、かつ、ｘは０．０５以上０．３０以下である）で表される合金により構成されていることを特徴とし、
また、請求項２に係る発明は、
請求項１記載の発明に係る色素増感型太陽電池用金属電極を前提とし、
上記化学式Ａ１−ｘＢｘで表される合金膜上にＰｔ膜が積層されていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る色素増感型太陽電池用金属電極によれば、
ガラスや有機樹脂から成る基板上に形成される金属膜が、気相成膜法により形成された化学式Ａ１−ｘＢｘ（但し、ＡはＲｕ若しくはＩｒから選択されるいずれかの元素、ＢはＴａ、Ｔｉ、Ｈｆから選択される少なくとも一つの元素を示し、かつ、ｘは０．０５以上０．３０以下である）で表される合金により構成されているため、上記金属膜が色素増感型太陽電池におけるヨウ素系電解質に接触しても、そのヨウ素イオンにより溶解され難く、しかも、上記基板から剥がれ難い効果を有している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１９】
まず、色素増感型太陽電池における光電極４の一部を構成する上記透明導電膜１の材料としては、例えば、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）やインジウムドープ酸化錫（ＩＴＯ）が用いられる。
【００２０】
また、光電極４の一部を構成する上記多孔質半導体膜２の材料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タンタル等が用いられ、この半導体膜２は多孔質として形成することが必要である。このような多孔質半導体膜を表面に有する半導体膜は、例えば非特許文献２に記載されている方法を参考にして得られる。すなわち、２‐プロパノールと脱イオン水と硝酸との混合物中にチタンテトライソプロポキシドを溶かし、加水分解して安定な酸化チタンコロイド溶液（粒子径約８ｎｍ）を調製し、この溶液を、ＴｉＯ２微粉末（日本エアロジル社製，商品名「Ｐ−２５」）およびポリエチレングリコールと混合し、この混合物を半導体膜上にスピンコーティングした後、５００℃以上で焼成することにより製造することができる。
【００２１】
また、上記多孔質半導体膜２には光増感用の有機色素３が坦持される。この色素には、ビピリジン構造、ターピリジン構造等の配位子を含むルテニウム錯体、ポルフィリン、フタロシアニン等の金属錯体、エオシン、ローダミン、メロシアニン等の有機色素等が用いられ、用途、多孔質半導体膜２の種類等に応じて適宜選択することができる。
【００２２】
他方、光電極４の対極となる金属電極５における上記金属膜６の材料としては、Ｒｕ若しくはＩｒに、Ｔｉ、ＨｆあるいはＴａから選択される少なくとも一つの元素を５mol％以上、３０mol％以下含ませた合金が適用される。Ｔｉ、ＨｆあるいはＴａから選択される少なくとも一つの元素の濃度を５mol％以上にすることで基板との密着力を増加させることが可能となる。但し、Ｔｉ、ＨｆあるいはＴａから選択される少なくとも一つの元素の濃度が３０mol％を超えた場合、形成された金属膜がヨウ素系電解質のヨウ素イオンにより溶解され易くなるので好ましくない。Ｔｉ、ＨｆあるいはＴａから選択される少なくとも一つの元素の特に好ましい濃度は、９mol％以上、２０mol％以下である。尚、この金属膜６は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の気相成膜法により形成することができる。
【００２３】
また、本発明において光電極４の一部を構成する上記透明導電膜１の厚さについては、０．４〜０．６μｍの範囲、好ましくは０．５μｍに設定され、上記多孔質半導体膜２の厚さは、５〜３０μｍ、好ましくは１０〜１５μｍの範囲に設定され、その微粒子サイズは０．０１〜０．０６μｍ、好ましくは０．０１〜０．０３μｍの範囲に設定される。また、金属電極５における上記金属膜６の厚さについては、０．１０〜０．３０μｍ、好ましくは０．１５〜０．２５μｍの範囲に設定される。
【００２４】
次に、上記光電極４と金属電極５との間に封入（介挿）されるヨウ素系電解質７の厚さについては、絶縁性を保持できるのであれば可能な限り薄いことが望ましい。このヨウ素系電解質としては、従来、色素増感型太陽電池のヨウ素系電解質として使用されていたものの中から適宜選択して用いることができる。このようなものとしては、例えば、上述したグレツェル等のルテニウムビピリジンカルボン酸色素を用いた色素増感型太陽電池で用いられているヨウ素系電解質、すなわち、ヨウ素とヨウ化カリウムを、プロピレンカーボネート２５質量％と炭酸エチレン７５質量％との混合物からなる媒質に溶解させたものが挙げられる。
【００２５】
そして、上記金属電極５の金属膜６が気相成膜法により形成された化学式Ａ１−ｘＢｘ（但し、ＡはＲｕ若しくはＩｒから選択されるいずれかの元素、ＢはＴａ、Ｔｉ、Ｈｆから選択される少なくとも一つの元素を示し、かつ、ｘは０．０５以上０．３０以下である）で表される合金で構成され、かつ、上記光電極４の透明導電膜１、多孔質半導体膜２、有機色素３、および、上記ヨウ素系電解質７がそれぞれ上述した従来の材料で構成される色素増感型太陽電池は、図１に示すように光電極４と金属電極５間を導線で接続して電流回路を形成させ、光電極４側から４２０ｎｍの白色光を照射すると６．３％以上の高い光電変換効率で発電することができる。
【００２６】
この光電変換効率は、各膜の厚さ、多孔質半導体膜の状態、有機色素の吸着量、ヨウ素系電解質の種類等に左右されるので、これらの最適条件を選ぶことにより更に向上させることができる。
【００２７】
尚、この色素増感型太陽電池においては、金属電極５の上記金属膜６が気相成膜法により形成された化学式Ａ１−ｘＢｘ（但し、ＡはＲｕ若しくはＩｒから選択されるいずれかの元素、ＢはＴａ、Ｔｉ、Ｈｆから選択される少なくとも一つの元素を示し、かつ、ｘは０．０５以上０．３０以下である）で表される合金により構成されているため、上記金属膜６がヨウ素系電解質７に接触してもそのヨウ素イオンにより溶解され難くしかも上記基板から剥がれ難いことから、長期に亘って高い光電変換効率を維持しながら発電させることが可能となる。
【００２８】
次に、基板上に形成された金属膜により構成される本発明に係る色素増感型太陽電池用金属電極について実施例により具体的に説明する。
【実施例１】
【００２９】
スライドガラス（MATUNAMI GLASS社製  Ｓ１１１２）から成る基板上に、スパッタ装置（芝浦社製  ＣＦＳ−８ＥＰ−５５）を用いてＲｕ−Ｔａ合金から成る厚さ２００ｎｍの金属膜を成膜し実施例１に係る金属電極を製造した。
【００３０】
尚、金属膜の組成を変えるため、直径５インチのＲｕターゲット上に３ｍｍ角のＴａチップを、０枚、２枚、４枚、６枚、８枚、１２枚置いて、Ａｒガス圧０．８Ｐａ、ターゲット−基板間距離１００ｍｍ、２００Ｗの条件で静止対向させて厚さ２００ｎｍの金属膜をそれぞれ成膜した。
【００３１】
得られた各金属膜の組成を、Ｘ線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ：Electron Probe Micro-Analyzer）で分析した。
【００３２】
その結果、Ｔａチップが０枚のとき、Ｔａが０at％のＲｕ膜、Ｔａチップが２枚のとき、Ｔａが４．２at％のＲｕ−Ｔａ合金膜、Ｔａチップが４枚のとき、Ｔａが８．８at％のＲｕ−Ｔａ合金膜、Ｔａチップが６枚のとき、Ｔａが１４．５at％のＲｕ−Ｔａ合金膜、Ｔａチップが８枚のとき、Ｔａが１９．３at％のＲｕ−Ｔａ合金膜、Ｔａチップが１２枚のとき、Ｔａが３１．９at％のＲｕ−Ｔａ合金膜であることが確認された。
【００３３】
この結果を以下の表１に示す。
【実施例２】
【００３４】
Ｒｕ−Ｔａ合金に代えてＲｕ−Ｔｉ合金とした以外、実施例１と同様にして実施例２に係る金属電極を製造した。
【００３５】
尚、Ｒｕターゲット上に３ｍｍ角のＴｉチップを、０枚、２枚、４枚、６枚、８枚、１２枚置き、実施例１と同一の条件でそれぞれ成膜させ、かつ、Ｘ線マイクロアナライザーで分析した各Ｒｕ−Ｔｉ合金膜の組成も表１に示す。
【実施例３】
【００３６】
Ｒｕ−Ｔａ合金に代えてＲｕ−Ｈｆ合金とした以外、実施例１と同様にして実施例３に係る金属電極を製造した。
【００３７】
尚、Ｒｕターゲット上に３ｍｍ角のＨｆチップを、０枚、２枚、４枚、６枚、８枚、１２枚置き、実施例１と同一の条件でそれぞれ成膜させ、かつ、Ｘ線マイクロアナライザーで分析した各Ｒｕ−Ｈｆ合金膜の組成も表１に示す。
【実施例４】
【００３８】
Ｒｕ−Ｔａ合金に代えてＩｒ−Ｔａ合金とした以外、実施例１と同様にして実施例４に係る金属電極を製造した。
【００３９】
尚、Ｉｒターゲット上に３ｍｍ角のＴａチップを、０枚、２枚、４枚、６枚、８枚、１２枚置き、実施例１と同一の条件でそれぞれ成膜させ、かつ、Ｘ線マイクロアナライザーで分析した各Ｉｒ−Ｔａ合金膜の組成も表１に示す。
【実施例５】
【００４０】
Ｒｕ−Ｔａ合金に代えてＩｒ−Ｔｉ合金とした以外、実施例１と同様にして実施例５に係る金属電極を製造した。
【００４１】
尚、Ｉｒターゲット上に３ｍｍ角のＴｉチップを、０枚、２枚、４枚、６枚、８枚、１２枚置き、実施例１と同一の条件でそれぞれ成膜させ、かつ、Ｘ線マイクロアナライザーで分析した各Ｉｒ−Ｔｉ合金膜の組成も表１に示す。
【実施例６】
【００４２】
Ｒｕ−Ｔａ合金に代えてＩｒ−Ｈｆ合金とした以外、実施例１と同様にして実施例６に係る金属電極を製造した。
【００４３】
尚、Ｉｒターゲット上に３ｍｍ角のＨｆチップを、０枚、２枚、４枚、６枚、８枚、１２枚置き、実施例１と同一の条件でそれぞれ成膜させ、かつ、Ｘ線マイクロアナライザーで分析した各Ｉｒ−Ｈｆ合金膜の組成も表１に示す。
【実施例７】
【００４４】
Ｒｕターゲット上に３ｍｍ角のＴａチップを６枚載せて実施例１と同一の条件でスパッタ成膜を行って厚さ１８０ｎｍのＲｕ−Ｔａ合金膜を形成し、かつ、このＲｕ−Ｔａ合金膜上に厚さ２０ｎｍの白金（Ｐｔ）のスパッタ成膜を行って実施例７に係る積層構造の金属電極を製造した。
【実施例８】
【００４５】
Ｉｒターゲット上に３ｍｍ角のＴａチップを６枚載せて実施例４と同一の条件でスパッタ成膜を行って厚さ１８０ｎｍのＩｒ−Ｔａ合金膜を形成し、かつ、このＩｒ−Ｔａ合金膜上に厚さ２０ｎｍの白金（Ｐｔ）のスパッタ成膜を行って実施例８に係る積層構造の金属電極を製造した。
【００４６】
［比較例１］
白金（Ｐｔ）ターゲットを用い、実施例１と同一の条件でスパッタ成膜を行って厚さ２００ｎｍの白金（Ｐｔ）から成る金属膜を形成し比較例１に係る金属電極を製造した。
【００４７】
［比較例２］
Ａｕターゲットを用い、実施例１と同一の条件でスパッタ成膜を行って厚さ２００ｎｍのＡｕから成る金属膜を形成し比較例２に係る金属電極を製造した。
【００４８】
［比較例３］
Ａｇターゲットを用い、実施例１と同一の条件でスパッタ成膜を行って厚さ２００ｎｍのＡｇから成る金属膜を形成し比較例３に係る金属電極を製造した。
【００４９】
［比較例４］
Ｎｉターゲットを用い、実施例１と同一の条件でスパッタ成膜を行って厚さ２００ｎｍのＮｉから成る金属膜を形成し比較例４に係る金属電極を製造した。
【００５０】
［比較例５］
Ｔｉターゲットを用い、実施例１と同一の条件でスパッタ成膜を行って厚さ２００ｎｍのＴｉから成る金属膜を形成し比較例５に係る金属電極を製造した。
【００５１】
［比較例６］
比較例４と同一の条件で厚さ１８０ｎｍのＮｉ膜を成膜し、かつ、このＮｉ膜上に厚さ２０ｎｍの白金（Ｐｔ）のスパッタ成膜を行って比較例６に係る積層構造の金属電極を製造した。
【００５２】
［比較例７］
比較例５と同一の条件で厚さ１８０ｎｍのＴｉ膜を成膜し、かつ、このＴｉ膜上に厚さ２０ｎｍの白金（Ｐｔ）のスパッタ成膜を行って比較例７に係る積層構造の金属電極を製造した。
【００５３】
「性能試験」
（１）金属膜の耐腐食性試験
各実施例と各比較例に係る金属電極における金属膜の耐腐食性を試験した。
【００５４】
耐腐食性を調べるための電解質組成は、アセトニトリルの溶媒に、ヨウ化リチウム、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムアイオダイド、ヨウ素およびｔ−ブチルピリジンを、それぞれの濃度が０．１モル／ｌ、０．３モル／ｌ、０．０５モル／ｌ、０．５モル／ｌとなるように溶解したものを用いた。
【００５５】
そして、各実施例と各比較例に係る金属電極の金属膜上に上記電解質を各１ｃｃ滴下し、室内に１０００時間放置して変化を観察した。この結果を表２に示す。
【００５６】
評価結果で、変色がないもの（Ａ：変化無し）および薄い変色したもの（Ｂ：表面が薄く変色）を合格とし、変色したもの（Ｃ：変色）および穴が開いたもの（Ｄ：穴があいた）は不合格とした。
（２）金属膜の密着性試験
各実施例と各比較例に係る金属電極における金属膜の密着性をＪＩＳ  Ｋ５４００に準じた以下のセロテープ（登録商標）剥離試験を行った。
【００５７】
すなわち、各実施例と各比較例に係る金属膜について、カッターナイフを用いて１ｍｍ角、１０×１０個のマス目状にカットし、次いで、セロテープ（登録商標）を用いて１０×１０個のマス目からいくつ剥離されるかを試験した。この結果を表３に示す。
【００５８】
評価結果で、剥離したマス目が１０個未満を合格とし、それ以上剥離したものを不合格とした。
【００５９】
「評価結果」
（１）金属膜の耐腐食性試験
表２において「Ａ」「Ｂ」が付された各実施例に係る金属電極（但し、ＲｕまたはＩｒターゲット上に３ｍｍ角のＴａ、Ｔｉ、Ｈｆチップを１２枚載せてスパッタ成膜した金属膜については不合格）の金属膜はヨウ素系電解質に対する耐腐食性が良好であることが確認される。
【００６０】
すなわち、ＲｕまたはＩｒターゲット上に３ｍｍ角のＴａ、Ｔｉ、Ｈｆチップを０枚、２枚、４枚、６枚、８枚載せてスパッタ成膜した金属膜（合金中におけるＴａ、Ｔｉ、Ｈｆの割合が０at％〜１９．９at％）はヨウ素系電解質に対する耐腐食性が良好であり、ＲｕまたはＩｒターゲット上に３ｍｍ角のＴａ、Ｔｉ、Ｈｆチップを１２枚載せてスパッタ成膜した金属膜（合金中におけるＴａ、Ｔｉ、Ｈｆの割合が３０at％を超える）は耐腐食性が不良であることが確認される。
【００６１】
他方、比較例に関しては、白金（Ｐｔ）が適用された比較例１を除き全て不合格であることも確認される。
（２）金属膜の密着性試験
表３において剥離したマス目が１０個未満である各実施例に係る金属電極（但し、ＲｕまたはＩｒターゲット上に３ｍｍ角のＴａ、Ｔｉ、Ｈｆチップを０枚、２枚載せてスパッタ成膜した金属膜については不合格）の金属膜は基板（スライドガラス）に対する密着性が良好であることが確認される。
【００６２】
すなわち、ＲｕまたはＩｒターゲット上に３ｍｍ角のＴａ、Ｔｉ、Ｈｆチップを４枚、６枚、８枚、１２枚載せてスパッタ成膜した金属膜（合金中におけるＴａ、Ｔｉ、Ｈｆの割合が８．１at％〜３２．２at％）は基板（スライドガラス）に対する密着性が良好であり、ＲｕまたはＩｒターゲット上に３ｍｍ角のＴａ、Ｔｉ、Ｈｆチップを０枚、２枚載せてスパッタ成膜した金属膜（合金中におけるＴａ、Ｔｉ、Ｈｆの割合が４．５at％以下）は基板（スライドガラス）に対する密着性が不良であることが確認される。
【００６３】
他方、比較例に関しては、白金（Ｐｔ）とＡｕが適用された比較例１と比較例２を除き全て合格であることも確認される。
【００６４】
【表１】
2006164593.tif 000003
【００６５】
【表２】
2006164593.tif 000004
【００６６】
【表３】
2006164593.tif 000005
（３）結果
金属膜の耐腐食性試験と金属膜の密着性試験の結果から各比較例に係る金属電極は全て不合格となることが確認される。
【００６７】
他方、合金中におけるＴａ、Ｔｉ、Ｈｆの割合が５at％以上、３０at％以下である各実施例に係る金属電極は全て合格であることが確認される。
【００６８】
特に、白金（Ｐｔ）膜が表面に設けられた実施例７と実施例８に係る積層構造の金属電極は、耐腐食性と密着性が共に良好であることが確認される。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明に係る金属電極は、その金属膜がヨウ素系電解質に接触してもヨウ素イオンにより溶解され難く基板との密着性も良好なため、色素増感型太陽電池の金属電極として好適に利用される。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】色素増感型太陽電池の概略の構成を示す説明図。
【符号の説明】
【００７１】
１  透明導電膜
２  多孔質半導体膜
３  色素
４  光電極
５  金属電極
６  金属膜
７  ヨウ素系電解質
【図１】
2006164593.tif 000006