(57)【要約】【課題】  短時間で露光が可能な露光装置を提供する。【解決手段】  ランプ９ａは、光源２１ａを有し、光源２１ａの上部にはコールドフィルタ２３が設けられている。  また、光源２１ａの周囲には反射板２５ａ、２５ｂが設けられている。  コールドフィルタ２３と反射板２５ａ、２５ｂの間には排熱口２７ａ、２７ｂが設けられており、反射板２５ａ、２５ｂの間には排熱口２９が設けられている。  なおランプ９ａは、露光装置の内部に設けられている。  ランプ９ａに反射板２５ａ、２５ｂを設けることにより、光源２１ａの側面や下面に照射された紫外線３９ａ、３９ｅも光源２１ａの上面に照射されるため、基板に照射される紫外線量を増やすことができる。【選択図】  図１１
2006276635.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光層を有する基板を露光する露光装置であって、
暗箱と、
前記暗箱の内部に設けられ、搬送される前記基板に対して紫外線を照射する紫外線照射装置と、
を有し、
前記紫外線照射装置は、
光源と、
前記光源の周囲に設けられた紫外線反射板と、
を具備することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記紫外線反射板の表面には、前記光源から照射された紫外線を反射する皮膜が設けられていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記皮膜は、誘電体多層膜であることを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記感光層を構成する感光剤は、少なくとも酸化チタンゾル液と、フルオロアルキルシランの加水分解溶液とを含むことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の小型化、細密化が進み、電子機器を構成する部品においても、精度の高い微細なパターンが求められている。
特に、携帯電話やノート型パーソナルコンピュータの普及により、これらの表示装置に求められるカラー液晶ディスプレイの精細さの向上には著しいものがある。
【０００３】
カラー液晶ディスプレイは、通常、赤、緑、青の三原色の着色パターンを備えたカラーフィルタを有しており、赤、緑、青のそれぞれの画素に対応する電極を流れる電流を入、切させることにより、液晶がシャッタとして作動し、それぞれの画素を光が通過してカラー表示を行う。
【０００４】
カラーフィルタの着色方法としては、基板を染色浴に浸漬する染色法や、顔料を分散した感光性樹脂層を形成して、これをパターニングする顔料分散法などがあるが、近年、インクジェット方式で着色インクを基板に吹きつける方法が提案されている。
【０００５】
インクジェット方式を用いる場合、基板表面には、あらかじめ感光剤を塗布し、その後暗箱内で紫外線等を用いて基板の一部を露光することにより、親インク面と撥インク面を形成しておく必要がある。
【０００６】
このような処理を行った面にインクを吹きつけると、親インク面にのみインクが定着するため、所望の着色層のパターンを形成することができる。このような方法としては、以下のようなものが知られている。
（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００１-７４９２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、感光剤を露光する際に用いる紫外線は、あらゆる方向に照射されるため、基板以外の方向に照射された紫外線は、無駄であるばかりでなく、その熱エネルギーによって暗箱内の装置を熱変形させる原因にもなる。そのため、紫外線の出力を落として照射する必要があり、露光に時間がかかっていた。
【０００８】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は短時間で露光が可能な露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前述した目的を達成するために、本発明は、感光層を有する基板を露光する露光装置であって、暗箱と、前記暗箱の内部に設けられ、搬送される前記基板に対して紫外線を照射する紫外線照射装置と、を有し、前記紫外線照射装置は、光源と、前記光源の周囲に設けられた紫外線反射板と、を具備することを特徴とする露光装置である。
前記紫外線反射板の表面には、前記光源から照射された紫外線を反射する皮膜が設けられている。
前記皮膜は、誘電体多層膜であってもよい。
前記感光層を構成する感光剤は、少なくとも酸化チタンゾル液と、フルオロアルキルシランの加水分解溶液とを含んでもよい。
【００１０】
本発明では、露光装置内に設けられた紫外線照射装置が、紫外線反射板を備えており、紫外線反射板が紫外線を反射することにより、基板に照射される紫外線量を増やしている。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、露光装置が短時間で露光を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面に基づいて本発明に好適な実施形態であるカラーフィルタの例を詳細に説明する。
最初に、図１を用いてカラーフィルタ用の基板７１の着色工程の概略を説明する。
【００１３】
図１は、本実施形態に係るカラーフィルタ用の基板７１の着色工程を示すフローチャートあって、図２は処理前の基板７１を示す図であり、図３は感光層１９を形成するための基板７１への感光剤の塗布工程を示す図である。
また、図４は基板７１に感光剤を塗布して形成した感光層１９の乾燥工程を示す図、図５は基板７１の水洗工程を示す図、図６は基板７１の露光工程を示す図であり、図７は基板７１へのインクの吹き付け工程を示す図である。
【００１４】
図２に示すように、カラーフィルタ用の基板７１は、ガラス基板７３上にブラックマトリクス７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄを配置した構造を有している。
【００１５】
まず、図１および図３に示すように、ダイヘッド７７を用いて、感光層１９を基板７１上に塗布する（ステップ１０１）。
感光層１９の具体例については後述する。
【００１６】
次に、図１および図４に示すように、乾燥機８１内で基板７１上に塗布した感光層１９を乾燥させる（ステップ１０２）。
なお、この状態では、感光層１９の表面はインクを弾く撥インク性を有している。
【００１７】
次に、図１および図５に示すように、感光層１９を塗布した基板７１をシャワー８３で水洗する（ステップ１０３）。
水洗を行う目的は、一つは基板７１上に付着したゴミを除去するためであるが、もう一つは、感光層１９の表面に水を付着させることにより、感光層１９の反応が促進され、露光における時間を短縮させるためである。
【００１８】
次に、図１および図６に示すように、感光層１９を塗布した基板７１に紫外線８９を照射し、感光層１９の一部を露光する（ステップ１０４）。
この際、基板７１の裏面、即ちガラス基板７３側から紫外線８９を照射するため、遮光部となるブラックマトリクス７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄの上部に塗布された感光層１９には紫外線８９が当たらず、この部分は撥インク性を有する撥インク部８７ａ、８７ｂ、８７ｃ、８７ｄのままである。
【００１９】
一方、ブラックマトリクス７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄが載置されていない部分に塗布された感光層１９には紫外線８９が当たるため、この部分は紫外線によって感光されて物性が変化し、親インク性を有する親インク部８５ａ、８５ｂ、８５ｃとなる。
【００２０】
次に、ノズル等を用い、カラーインク９１ａ、９１ｂ、９１ｃを基板７１の表面に吹きつける（ステップ１０５）。
この際、図７に示すように、撥インク部８７ａ、８７ｂ、８７ｃ、８７ｄは撥インク性を有するためカラーインク９１ａ、９１ｂ、９１ｃはインクが広がらず、親インク部８５ａ、８５ｂ、８５ｃのみにカラーインク９１ａ、９１ｂ、９１ｃが塗布される。
【００２１】
このようにして、基板７１上にインクが塗布される。
【００２２】
ここで、感光層１９を構成する感光剤の成分について説明する。
感光剤は２種類の溶液を混合してなる溶液であり、一方の溶液は少なくとも酸化チタンとアルキルシリケートを含有する溶液であり、他方の溶液は少なくともポリシロキサンを含有する溶液である。
【００２３】
まず、酸化チタンについて説明する。酸化チタンは、紫外線を照射した際に光触媒として作用し、チタン表面に活性酸素を生じさせ、有機物を分解する。
本実施形態においては、光の照射により生じた活性酸素が撥インク性を発現させる有機物を分解するため、親インク性に変化させる。
酸化チタンにはアナタ−ゼ型とルチル型があり、本実施形態ではいずれも使用可能であるが、アナタ−ゼ型を使用するのが好ましい。
【００２４】
また、酸化チタンの粒径は小さいほど、光触媒反応が効果的に起こることから、平均粒径５０ｎｍ以下であることが好ましく、特に２０ｎｍ以下の酸化チタンを使用することが好ましい。
【００２５】
次に、アルキルシリケートについて説明する。アルキルシリケートは酸化チタンの分散安定剤として用いられる。
【００２６】
アルキルシリケートは一般式Ｓｉｎ  Ｏｎ−１  （ＯＲ）２ｎ＋２（ただしＳｉはケイ素、Ｏは酸素、Ｒはアルキル基を示す。）で表される化合物であり、ｎは１〜６の範囲内、Ｒは炭素数が１〜４のアルキル基であるものが好ましい。
【００２７】
アルキルシリケートの配合量としては、アルキルシリケート中のケイ素をＳｉＯ２に換算した量と、酸化チタン中のチタンをＴｉＯ２に換算した量との重量比（ＳｉＯ２／ＴｉＯ２）が０．２〜１．５であるのが好ましく、特に好ましくは０．２〜１．０である。
これは、アルキルシリケートの配合量が、上記範囲より少ないと分散安定性が低下しやすく、逆に上記範囲より多いと、酸化チタンの光触媒機能が低下するからである。
【００２８】
次にポリシロキサンについて説明する。本実施形態では、撥インク性を有する置換基がポリシロキサンを構成するＳｉ原子に直接結合しているポリシロキサンが用いられる。
【００２９】
撥インク性を有する置換基としては、具体的には、アルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、またはエポキシ基等が挙げられる。
この撥インク性を有する置換基が、ポリシロキサンを構成するＳｉ原子に直接結合していることから、パターン形成体用塗工液を塗布して濡れ性変化層を形成した際に、感光層１９の表面が撥インク性を発現する。
【００３０】
一方、濡れ性変化層に紫外線等を照射することにより、これらの置換基は分解され、感光層１９の表面が親インク性を発現する。
【００３１】
なお、置換基が、ポリシロキサンを構成するＳｉ原子に直接結合している状態とは、置換基が、Ｏ原子等を介さず、Ｓｉ原子に直接結合していることをいう。
【００３２】
また、本実施形態で用いられるポリシロキサンは、通常、複数のアルコキシル基、アセチル基、またはハロゲンを置換基とし有するものである。
【００３３】
このようなポリシロキサンは、加水分解により縮合し、濡れ性変化層を形成した際に、主骨格が酸化チタンの光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えばゾルゲル反応等により、加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するもの等を挙げることができる。
【００３４】
この場合、一般式
Ｙｎ  ＳｉＸ（４−ｎ）
（ここでＹはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である）で示されるケイ素化合物の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であることが好ましく、上記２種類以上のケイ素化合物同士の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であってもよい。
【００３５】
なお、ここでＹで示される基の炭素数は１〜２０の範囲内であることが好ましく、また、Ｘで示されるアルコキシル基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。
【００３６】
本実施形態においては、上記撥インク性を有する置換基の中でも、フルオロアルキル基であることが特に好ましい。
【００３７】
上記フルオロアルキル基を含むケイ素化合物としては、フルオロアルキルシランが挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものを使用することができ、例えば以下のようなものが挙げられる。
【００３８】
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；および
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）Ｃ２Ｈ４ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
【００３９】
次に露光工程で用いられる露光装置１の構造について説明する。図８は露光装置１の構造を示す図である。
【００４０】
図８に示すように、露光装置１は外箱３ａを有し、外箱３ａの内部には内箱３ｂが設けられている。
内箱３ｂには、排熱口５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｆ、５ｇ、５ｈ、５ｉ、５ｊ、５ｋ、５ｌが設けられており、排熱口５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｆ、５ｇ、５ｈ、５ｉ、５ｊ、５ｋ、５ｌを覆うようにして、遮蔽板７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、７ｅ、７ｆ、７ｇ、７ｈ、７ｉ、７ｊ、７ｋ、７ｌが所定の角度で設けられている。
【００４１】
ランプ９ａ、９ｂは、内箱３ｂの内部に設けられており、ランプ９ａ、９ｂの上部には、基板７１を搬送する搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ、１１ｇが設けられている。
ランプ９ａ、９ｂは、紫外線を照射する光源２１ａ、２１ｂを有している。
【００４２】
搬送コロ１１ｂ、１１ｃ、１１ｅ、１１ｆの周囲には３角カバー１３ａ，１３ｂ、１３ｃ、１３ｄが設けられ、搬送コロ１１ａ、１１ｄ、１１ｇの周囲には４角カバー１５ａ、１５ｂ、１５ｃが設けられている。
基板７１は、搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ、１１ｇ上を搬送され、ランプ９ａ、９ｂから照射される紫外線によって露光される。
【００４３】
搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ、１１ｇの上部には遮光板１７が設けられている。
【００４４】
次に、遮蔽板７ｇ、遮光板１７の構造について詳細に説明する。図９は図８の、遮蔽板７ｇ付近をＢ方向から見た斜視図であり、図１０は図８の遮光板１７付近のＣ方向矢視図である。
【００４５】
まず、遮蔽板７ｇの構造について説明する。
図９に示すように、遮蔽板７ｇ、７ｈは、「く」の字形状をしており、その一端は内箱３ｂにボルト８ｇ、８ｈ等を用いて接続されている。
なお、遮蔽板７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、７ｅ、７ｆ、７ｉ、７ｊ、７ｋ、７ｌの構造も同様であるため、説明を省略する。
【００４６】
次に遮光板１７の構造について説明する。
図１０に示すように、遮光板１７は平板状の形状を有しており、ランプ９ａ、９ｂの上部には開口部である露光部１７ａ、１７ｂが設けられている。
【００４７】
即ち、基板７１は、露光部１７ａ、１７ｂの上部にある部分のみがランプ９ａ、９ｂによって露光される。
【００４８】
ここで、遮蔽板７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、７ｅ、７ｆ、７ｇ、７ｈ、７ｉ、７ｊ、７ｋ、７ｌ、内箱３ｂおよび遮光板１７の表面には、紫外線を吸収する皮膜が設けられており、ランプ９ａ、９ｂから照射された紫外線は、遮蔽板７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、７ｅ、７ｆ、７ｇ、７ｈ、７ｉ、７ｊ、７ｋ、７ｌ、内箱３ｂおよび遮光板１７に照射されると、大部分が皮膜に吸収される。
【００４９】
このような皮膜としては、黒色皮膜が用いられるが、紫外線が照射された皮膜は紫外線のエネルギーを吸収して高温となるため、皮膜には耐熱性も要求される。
【００５０】
紫外線を吸収し、かつ耐熱性を具備する皮膜としては、無電解黒色ニッケルーリンメッキ、あるいは無電解黒色ニッケルーボロンメッキ等が用いられる。
【００５１】
また、遮蔽板７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、７ｅ、７ｆ、７ｇ、７ｈ、７ｉ、７ｊ、７ｋ、７ｌは、所定の角度で内箱３ｂに設けられているため、仮に遮蔽板７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、７ｅ、７ｆ、７ｇ、７ｈ、７ｉ、７ｊ、７ｋ、７ｌの表面で紫外線が反射しても、反射した紫外線は基板に照射されることはない。
【００５２】
例えば図８に示すように、仮にランプ９ａから照射された紫外線１０ａ、１０ｂ、１０ｃが遮蔽板７ｄ、７ｅ、７ｇの表面で反射した場合、反射光は隣接する遮蔽板７ｅ、７ｆに照射される。
【００５３】
その後、反射光は、いずれかの遮蔽板に吸収されるまで反射を繰り返すか、もしくは排熱口より外側に排出されるため、基板７１に照射されることはない。
【００５４】
さらに、もし、反射光が迷光１０ｄ、１０ｅとなって基板７１側に照射されたとしても、遮光板１７に吸収されるため、迷光１０ｄ、１０ｅが基板７１に照射されることはない。
【００５５】
このように、本実施の形態では、遮蔽板７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、７ｅ、７ｆ、７ｇ、７ｈ、７ｉ、７ｊ、７ｋ、７ｌ、内箱３ｂおよび遮光板１７の表面には、紫外線を吸収する皮膜が設けられ、かつ遮蔽板７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、７ｅ、７ｆ、７ｇ、７ｈ、７ｉ、７ｊ、７ｋ、７ｌは、所定の角度で内箱３ｂに設けられているため、露光装置１内で反射した紫外線が、基板７１内で本来露光しないはずの部分にまで照射されてしまうことを防ぐことができる。
【００５６】
次に、ランプ９ａの構造について詳細に説明する。図１１はランプ９ａの構造を示す断面図である。なお、ランプ９ｂの構造は、ランプ９ａの構造と同様であるため、説明を省略する。
【００５７】
図１１に示すように、ランプ９ａは、光源２１ａを有し、光源２１ａの上部にはコールドフィルタ２３が設けられている。
また、光源２１ａの周囲には反射板２５ａ、２５ｂが設けられている。
【００５８】
コールドフィルタ２３と反射板２５ａ、２５ｂの間には排熱口２７ａ、２７ｂが設けられており、反射板２５ａ、２５ｂの間には排熱口２９が設けられている。
これは、光源２１ａは紫外線照射時に高温となるため、外部に熱を排出する必要があるからである。
【００５９】
コールドフィルタ２３は、ガラス３１と、その表面に設けられた熱線吸収フィルタ３３からなる。
【００６０】
熱線吸収フィルタ３３は、光源２１ａから照射される紫外線の熱を吸収する。
熱線吸収フィルタ３３の材料としては、例えば金属酸化物が用いられ、これをガラス３１の表面に蒸着する。
【００６１】
コールドフィルタ２３を設けることにより、光源２１ａから照射された紫外線の熱がコールドフィルタ２３に吸収されるため、基板７１等に照射される熱量が減少する。そのため、露光装置１内の温度上昇を防ぐことができる。
従って、より強い出力で紫外線を照射することができ、露光時間を短縮することができる。
【００６２】
一方、反射板２５ａ、２５ｂは、ガラス３５ａ、３５ｂとその表面に設けられた反射膜３７ａ、３７ｂからなる。
【００６３】
反射膜３７ａ、３７ｂは、光源２１ａから照射される紫外線を光源２１ａの上面に反射する。
反射膜３７ａ、３７ｂの材料としては、例えば誘電体多層膜が用いられる。
【００６４】
図１１に示すように、反射板２５ａ、２５ｂを設けることにより、光源２１ａの上面に照射された紫外線３９ｂ、３９ｃ、３９ｄだけでなく、光源２１ａの側面や下面に照射された紫外線３９ａ、３９ｅも光源２１ａの上面に照射されるため、基板７１に照射される紫外線量を増やすことができる。
従って露光時間を短縮することができる。
【００６５】
ところで、本実施形態では、図６に示したように、基板７１の下面から紫外線を照射するが、この際、紫外線の波長によっては、ガラス基板７３を透過することができず、ガラス基板７３上に塗布されている感光層１９を露光できない場合がある。
【００６６】
図１２は、紫外線の波長と、紫外線のガラス基板７３への透過率の関係を示したグラフである。
【００６７】
図１２に示すように、紫外線の波長が短くなるほど、透過率が低くなっている。
そのため、本実施形態で使用する光源２１ａは、長波長紫外線、具体的には波長が２８０〜３６５ｎｍ、更に好ましくは３００〜３５０ｎｍの波長を主として照射する光源であることが好ましい。
このような光源としては、例えばメタルハライドランプが挙げられる。
なお、メタルハライドランプとは、発光管の中に、水銀等に加えて金属ハロゲン化物を封入した光源である。
【００６８】
次に、搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ、１１ｇおよび３角カバー１３ａ，１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ、４角カバー１５ａ、１５ｂ、１５ｃの構造について詳細に説明する。
図１３は、搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ、１１ｇおよび３角カバー１３ａ，１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ、４角カバー１５ａ、１５ｂ、１５ｃの構造を示す図である。
また、図１４は、図８の搬送コロ１１ｂ、１１ｃ付近の拡大図である。
【００６９】
図１３に示すように、搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ、１１ｇは円筒形状を有し、平面部は連結板１６ａ、１６ｂに軸支されている。
基板７１を搬送する際は、搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ、１１ｇは図示しないモータ等により回転し、基板７１をＡ方向に搬送する。
【００７０】
また、ランプ９ａ、９ｂに隣接する搬送コロ１１ｂ、１１ｃ、１１ｅ、１１ｆの周囲には、３角カバー１３ａ，１３ｂ、１３ｃ、１３ｄが設けられており、
それ以外の搬送コロ１１ａ，１１ｄ、１１ｇには、４角カバー１５ａ、１５ｂ、１５ｃが設けられている。
【００７１】
３角カバー１３ａ，１３ｂ、１３ｃ、１３ｄおよび４角カバー１５ａ、１５ｂ、１５ｃは、ランプ９ａ、９ｂから照射される紫外線の熱が、搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ、１１ｇに伝わらないようにするために設けられる。
【００７２】
ランプ９ａ、９ｂから照射される紫外線の熱が、搬送コロに伝わると、搬送コロが熱によって変形し、基板７１の移動に支障が出る恐れがあるため、このようなカバーを設ける必要がある。
【００７３】
なお、全てのカバーを３角カバーにしてもよいが、少なくともランプ９ａ、９ｂに隣接する搬送コロ１１ｂ、１１ｃ、１１ｅ、１１ｆの周囲には３角カバーを設けるのが望ましい。
【００７４】
これは３角カバーの方が、４角カバーよりも光源からの距離が遠くなるため、熱の影響を受けにくくなるからである。
【００７５】
例えば、図１４に示すように、搬送コロ１１ｂ、１１ｃの周囲に三角カバー１３ａ，１３ｂ、もしくは４角カバー１４ａ，１４ｂを設ける場合を考えるとする。
この場合、三角カバー１３ａ，１３ｂを設けると、光源２１ａと三角カバー１３ａ，１３ｂとの距離５１ａ、５１ｂは、４角カバー１４ａ，１４ｂを設けた場合の距離５３ａ、５３ｂよりも長くなる。
【００７６】
そのため、三角カバー１３ａ，１３ｂは４角カバー１４ａ，１４ｂと比べて熱の影響を受けにくくなり、それに伴い、搬送コロ１１ｂ、１１ｃも熱の影響を受けにくくなる。
【００７７】
このように、本実施の形態によれば、反射板２５ａ、２５ｂを設けることにより、光源２１ａの上面に照射された紫外線３９ｂ、３９ｃ、３９ｄだけでなく、光源２１ａの側面や下面に照射された紫外線３９ａ、３９ｅも光源２１ａの上面に照射されるため、基板７１に照射される紫外線量を増やすことができる。
従って露光時間を短縮することができる。
【００７８】
以上、添付図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明したが、本発明の技術的範囲は、前述した実施の形態に左右されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００７９】
例えば、本発明の装置は、カラーフィルタの着色層を設けるとき以外にも、有機ＥＬの発光層を設けるとき、ディスプレイの電極を設けるとき、基板に電子回路を設けるとき等の微細なパターンを形成する際にも利用することができる。
また、基板上に遮光部を設けて、基板、遮光部、及び感光層が一体になった例について説明してきたが、感光層付基板と遮光部が別体となっていてもよく、また、遮光部はブラックマトリクス以外にも、ストライプ状でも曲線状であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】カラーフィルタ用の基板７１の着色工程を示すフローチャート
【図２】処理前の基板７１を示す図
【図３】感光層１９を形成するための基板７１への感光剤の塗布工程を示す図
【図４】基板７１に感光剤を塗布した感光層１９の乾燥工程を示す図
【図５】基板７１の水洗工程を示す図
【図６】基板７１の露光工程を示す図
【図７】基板７１へのインクの吹き付け工程を示す図
【図８】露光装置１の構造を示す図
【図９】図８の、遮蔽板７ｇ付近をＢ方向から見た斜視図
【図１０】図８の遮光板１７付近のＣ方向矢視図
【図１１】ランプ９ａの構造を示す断面図
【図１２】紫外線の波長と、紫外線のガラス基板７３への透過率の関係を示したグラフ
【図１３】搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ、１１ｇおよび３角カバー１３ａ，１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ、４角カバー１５ａ、１５ｂ、１５ｃの構造を示す図
【図１４】図８の搬送コロ１１ｂ、１１ｃ付近の拡大図
【符号の説明】
【００８１】
１…………露光装置
３ａ………外箱
３ｂ………内箱
５ａ………排熱口
７ａ………遮蔽板
９ａ………ランプ
１１ａ……搬送コロ
１３ａ……３角カバー
１５ａ……４角カバー
１７………遮光板
１７ａ……露光部
１９………感光層
２１ａ……光源
２３………コールドフィルタ
２５ａ……反射板
２７ａ……排熱口
２９………排熱口
３１………ガラス
３３………熱線吸収フィルタ
３５ａ……ガラス
３７ａ……反射膜
７１………基板
７３………ガラス基板
７５ａ……ブラックマトリクス
７７………ダイヘッド
８１………乾燥機
８３………シャワー
８５ａ……撥インキ部
８７ａ……親インキ部
８９………紫外線
９１ａ……カラーインク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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