(57)【要約】【課題】  薄い基板であっても適切に吸着保持でき、また、基板周縁が波打った状態でも保持でき、さらに、使用により基板の載置面が磨耗等しても簡単な構成で取替え等の保守作業性に優れる露光テーブルおよび一連の作業をスムーズにかつ基板の品質を向上する露光装置を提供すること。【解決手段】  露光テーブル７は、基板の載置板８と、載置板を支持するテーブル本体９と、載置板に設けた複数の吸着口と、前記テーブル本体に形成し前記吸着口に連通する連通路とを備え、前記吸着孔が、第１吸着孔８ａと第２吸着孔８ｂを有し、前記第２吸着孔を、前記第１吸着孔よりも小さな小孔８ｂ1に形成すると共に、複数を隣接して集合した吸着孔群とし、かつ、前記吸着孔群が前記基板の周縁における縦横辺の少なくとも一方に沿って所定間隔ごとに予め設定された位置に配置した。【選択図】      図２
2006276084.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形状の基板を露光するときに使用される露光テーブルにおいて、
前記基板を載置する載置板と、この載置板を支持するテーブル本体と、前記載置板の前記基板と対面する位置に貫通して形成された当該基板を吸着保持するための複数の吸着孔と、この吸着孔に連通するように前記テーブル本体に形成した連通路とを備え、
前記吸着孔は、第１吸着孔と第２吸着孔を有し、
前記第１吸着孔は、予め設定された大きさで所定間隔に配置され、
前記第２吸着孔は、小孔の複数が隣接して集合した小孔群とし、かつ、前記小孔が前記第１吸着孔よりも小さく形成されると共に、前記小孔群が前記基板の周縁における縦横辺の少なくとも一方に沿って所定間隔ごとに予め設定された位置に配置され、
前記連通路は、前記第１吸着孔に連通する第１連通路と、前記第２吸着孔に連通する第２連通路とを有することを特徴とする露光テーブル。
【請求項２】
前記第２吸着孔は、前記基板の縦辺に沿って設置される場合には、前記小孔群の縦列の小孔を横列の小孔より多く配置した縦長な集合として形成され、前記基板の横辺に沿って設置される場合には、前記小孔群の横列の小孔を縦列の小孔より多く配置した横長な集合として形成されることを特徴とする請求項１に記載の露光テーブル。
【請求項３】
前記載置板は、前記基板の大きさに対応させて載置面内を少なくとも２区画に区画した区画域を備え、前記第１吸着孔および前記第２吸着孔は、前記区画域ごとに配置され、
前記第１連通路および前記第２連通路は、前記区画域ごとに、当該連通路を切替える切替手段を介して吸引手段に接続されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の露光テーブル。
【請求項４】
前記載置板および前記テーブル本体は、対向する面の所定位置で、互いに着脱自在に係合して取付位置を設定する取付凹部と、この取付凹部に嵌合する取付凸部とをいずれかが有すると共に、対向する面の少なくとも周縁に設けた互いに当接する平面部をそれぞれ有することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の露光テーブル。
【請求項５】
矩形状の基板を露光する露光装置において、
前記基板を当該装置に投入する投入機構と、この投入機構に隣接して配置され、前記基板を載置する露光テーブルと、この露光テーブルに載置した前記基板に所定波長の紫外線を含む光を照射する露光機構と、前記投入機構および前記露光テーブルの前記基板を搬送する搬送機構とを備え、
前記露光テーブルは、前記基板を載置する載置板と、この載置板を支持するテーブル本体と、前記載置板の前記基板と対面する位置に貫通して形成された当該基板を吸着保持するための複数の吸着孔と、この吸着孔に連通するように前記テーブル本体に形成した連通路とを備え、
前記吸着孔は、第１吸着孔と第２吸着孔を有し、
前記第１吸着孔は、予め設定された大きさで所定間隔に配置され、
前記第２吸着孔は、小孔の複数が隣接して集合した小孔群とし、かつ、前記小孔が前記第１吸着孔よりも小さく形成されると共に、前記小孔群が前記基板の周縁における縦横辺の少なくとも一方に沿って所定間隔ごとに予め設定された位置に配置され、
前記連通路は、前記第１吸着孔に連通する第１連通路と、前記第２吸着孔に連通する第２連通路とを有することを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線板等の基板を露光する際に載置する露光テーブルおよび露光装置に係り、特に、基板が薄い場合に適切に対応することができる露光テーブルおよび露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プリント基板等の基板は、携帯電話、小型パソコン等、軽薄短小の電子機器の普及に合わせて非常に薄くなっている。そして、薄い基板は、パターンの形成を行う際に、その周縁の強度が特に低く、概ね平面性が損なわれている状態が多い。そのため、基板の表面を露光等パターンニングする工程では、基板周縁を如何に安定させて固定するか、基板の固定方法に工夫が必要となっている。
【０００３】
一方、基板の露光装置は大別して、基板の表裏を連続して露光する自動露光装置と、片面ごとに露光する手動露光装置がある。いずれの露光装置においても取り扱う基板は、露光の際に位置ずれ、変形しないように露光ステージ（露光テーブル）に固定する必要があり、露光作業を行う場合においては基板を露光ステージに真空吸着して固定する方法が採られている。
【０００４】
例えば、図７に示されるように、露光ステージ１００は、基板（図示せず）を矢印方向に真空吸着して固定するものであり、ステージ本体１０１に固定された基板保持面１０２に多数の真空孔１０３が形成してあり、その真空孔１０３に図示しない真空ポンプ等から連通する真空用通路１０４がステージ本体１０１側に設けられている。この露光ステージ１００は、基板保持面１０２の表面に基板が接触するので、真空吸着するための真空孔１０３を基板ごとのサイズに対応するようにエリアを区分して設定すること等、様々な工夫がなされている。なお、露光ステージ上面にソルダーレジストインク等の異物の付着がないように清浄な状態に維持する等、メンテナンスが常に行われている。
【０００５】
しかし、図７に示す構成の露光ステージ１００では、厚みが１ｍｍ以上の基板を固定することを主眼と考えた真空孔径の設定で孔径が決定されている。そのため、基板が薄くなると、真空で基板を吸引したときに吸着部分が吸い込まれてしまい、その結果基板が真空吸着孔のエッジ部の外周付近で盛り上がり、反対に真空吸着孔の中心では基板が真空吸着孔の内部方向へ窪んでしまうことになった。そして、基板は、このような変形により、露光に最も重要な平面性が保てなくなってしまう。
【０００６】
さらに、薄い基板は、その表面の中央領域にソルダーレジストインクや、銅箔その他回路部品を取り付けると、基板の表裏で表面張力に差が出来るために、基板表裏のバランスが崩れて、いずれかの方向に反ることになる。そして、基板の周縁には、前記したことと逆に表面張力のばらつきを生じさせる要因が設けられてないこと（ほとんどコア素材に近い状態）から、表面張力がフリーとなり、かえって基板中央領域と基板周縁との表面張力の差が出てきてしまうことになる。このことにより、基板は、周縁にある所定幅の帯状の範囲において波状の平面でない部分が生じてしまう。
【０００７】
その結果、基板は、その平面性が下がり、平面性が下がった付近ではパターンニングの解像度が下がる等の原因となっていた。
このような問題点を解決するため、従来は基板を固定する真空度を強めたり、露光ステージ側の平面度の精度を上げたり、各種露光装置の保守に注目して、結果を確保するための工夫を凝らしていた。また、図８に示すように、基板と対面して吸着する基板吸着板１２０の中央領域に吸着機構１１５を備え、吸着機構１１５の回りに吸着孔１１２を一定間隔で形成した構成の露光ステージが提案されている（特許文献１）。
【０００８】
図８（ａ）、（ｂ）に示すように、吸着機構１１５は、円環状のシリコンゴムから形成された真空漏れ防止リップ１１０と、この真空漏れ防止リップ１１０の内側に配置された吸着面１１１と、この吸着面１１１に設けた多数の吸着孔１１２と、を備えている。そして、この吸着機構１１５を設けた基板吸着板１２０は、その裏面から当接して凹凸に形成した凹部分を真空吸着するときの連通路１１８ａを有するベース板１１８が当該基板吸着板１２０と一体に形成されている。さらに、ベース板１１８に複数形成されている連通路１１８ａの周りをＯリング１１９でシールして、そのＯリング１１９でシールした内側となるエリアにおいて、真空吸引ポンプ１１６からの吸引接続管１１７と連通路１１８ａとを連通させている。
【特許文献１】２００２−３１７８１０号公報（段落番号０００９、００１０および図５、図６）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、従来の露光ステージ（以下、露光テーブルという）の構成では、以下に示すような問題点が存在していた。
従来の露光テーブルでは、極端に薄い、例えば、０．１ｍｍ以下の厚みの基板に対しては、シリコンゴムで形成した真空漏れ防止リップが真空吸着時に、他のエリアの平面状態と異なって凹凸を生じてしまい、不都合であった。また、従来の露光テーブルでは、シリコンゴムで形成した真空漏れ防止リップの弾性力により、当該真空漏れ防止リップが、基板に圧接して基板吸着板からの離脱をスムーズに行えない原因になってしまった。
【００１０】
従来の露光テーブルでは、基板吸着板とベース板とが一体に固定した状態で構成されているため、基板吸着板の平面精度が使用による変化、例えば、ソルダーレジストインクの付着、また、磨耗等を起こし劣化したときに、その平面精度を回復するためには、露光テーブルの多くの部品を調整するか、露光テーブルの大部分を取り替える必要があった。
【００１１】
従来の露光テーブルでは、真空漏れ防止リップの内側に配置された吸着孔と、その他の部分に一定間隔で形成された吸着孔の大きさについて、同じ寸法に形成されているため、基板の両面を露光するタイプであると、吸着される面に塗布されたソルダーレジストインク等を吸着孔から吸引してしまう可能性があった。また、面吸着させるための吸引孔の集合部分は、その配置についても重要であり、単に、基板吸着板の中央部分や、あるいは、四隅に配置されているだけでは、基板周縁が波打つ可能性の高い極端に薄い基板に対して、適切に吸着して固定させることが不可能であった。
【００１２】
なお、露光テーブルを備える露光装置では、投入、位置決め作業、露光作業、搬出までの一連の作業を連続して行っているが、基板を露光テーブルおいて適切に真空吸着して保持できないと、一旦装置を停止して基板を取り除く操作等、余計な作業が発生してしまった。
【００１３】
本発明は、前記した問題点に鑑み創案されたものであり、極端に薄い基板であっても適切に吸着保持でき、また、基板周縁が波打った状態である基板でも確実に、平面精度を保って保持でき、さらに、複数サイズの基板に対して対応でき、使用により基板の載置面が磨耗等しても簡単な構成で取替え等の保守作業性に優れる露光テーブルおよび一連の作業をスムーズにかつ基板の品質を向上する露光装置を提供することを目的とする。
【００１４】
本発明は、前記した目的を達成するため、以下に示す露光テーブルおよび露光装置とした。
すなわち、本発明に係る露光テーブルは、矩形状の基板を露光するときに使用される露光テーブルにおいて、前記基板を載置する載置板と、この載置板を支持するテーブル本体と、前記載置板の前記基板と対面する位置に貫通して形成された当該基板を吸着保持するための複数の吸着孔と、この吸着孔に連通するように前記テーブル本体に形成した連通路とを備えている。そして、当該露光テーブルは、前記吸着孔が、第１吸着孔と第２吸着孔を有し、前記第１吸着孔を、予め設定された大きさで所定間隔に配置し、また、前記第２吸着孔を、小孔の複数が隣接して集合した小孔群とし、かつ、前記小孔が前記第１吸着孔よりも小さく形成されると共に、前記小孔群が前記基板の周縁における縦横辺の少なくとも一方に沿って所定間隔ごとに予め設定された位置に配置している。さらに、当該露光テーブルは、前記連通路は、前記第１吸着孔に連通する第１連通路と、前記第２吸着孔に連通する第２連通路とを有する構成とした。
【００１５】
このように構成した露光テーブルでは、例えば、０．１ｍｍ以下の厚みである極めて薄い基板が載置板に載置されると、第１連通路および第２連通路から第１吸着孔および第２吸着孔を介して基板を載置板に沿って吸引して真空吸着する。この基板を真空吸着するときに、第２吸着孔は、基板の例えば横辺に沿って配置されていた場合、基板周縁の横辺が波を打っていても、小孔の集合である小孔群のいずれかが、波を打って載置板の面から離間する基板の凸部分の立ち上がり位置を吸着して、凸部分の裾野の部分から載置板の面に近づけ、最終的には基板の波打つ凸部分を平坦な状態で真空吸着して保持する。なお、第２吸着孔は、第１吸着孔より小径に形成されていることにより、第１吸着孔と同じ力で真空吸引しても、基板のソルダーレジストインク等を引き剥がすような力で吸引することはない。
【００１６】
また、前記露光テーブルにおいて、前記第２吸着孔は、前記基板の縦辺に沿って設置される場合には、前記小孔群の縦列の小孔を横列の小孔より多く配置した縦長な集合として形成され、前記基板の横辺に沿って設置される場合には、前記小孔群の横列の小孔を縦列の小孔より多く配置した横長な集合として形成される構成とした。
このように構成したことにより、露光テーブルは、基板周縁の縦辺において波打ちとなる凸状態を生じている場合、その縦辺に沿って配置した第２吸着孔が、縦長な小孔の集合であるために、波打つ凸部分の立ち上がり位置に対応する縦長な小孔のいずれかが吸着してその凸部分の裾野側から凸部分の高さ徐々に低くして、最終的には波打つ凸部分をすべて平坦な状態として載置板に沿って真空吸着して保持する。
【００１７】
さらに、前記露光テーブルにおいて、前記載置板は、基板の大きさに対応させて載置面内を少なくとも２区画に区画した区画域を備え、前記第１吸着孔および前記第２吸着孔は、前記区画域ごとに配置され、前記第１連通路および前記第２連通路は、前記区画域ごとに、当該連通路を切替える切替手段を介して吸引手段に接続される構成とした。
このように構成した露光テーブルは、基板のサイズが大きなときには、その大きなサイズの基板周縁において縦横辺となるいずれか一方に沿って形成された第２吸着孔により真空吸着して基板を保持し、他の区画域における第２吸着孔および基板からはみ出す位置の区画域となる第１吸着孔から真空吸着をしないように切替手段により各連通路を切り替える。また、基板のサイズが小さなときには、その小さなサイズの基板周縁において縦横辺となるいずれか一方に沿って形成された第２吸着孔により基板を真空吸着保持し、他の区画域では、切替手段により両連通路を真空ポンプと連通しないように切り替える。
【００１８】
そして、前記露光テーブルにおいて、前記載置板および前記テーブル本体は、対向する面の所定位置で、互いに着脱自在に係合して取付位置を設定する取付凹部と、この取付凹部に嵌合する取付凸部とをいずれかが有すると共に、対向する面の少なくとも周縁に設けた互いに当接する平面部をそれぞれ有する構成とした。
このように構成した露光テーブルは、例えば、載置板に取付凸部を設け、かつ、テーブル本体に取付凹部を設けてその取付凸部を取付凹部に嵌合して係合状態とすれば、載置板およびテーブル本体に設けたそれぞれの平面部が当接した状態となる。そのため、基板を真空吸着するときに載置板がテーブル本体に密着する状態となる。また、載置板を他の載置板と取り替える場合には、載置板とテーブル本体とは取付凸部および取付凹部とが嵌合して互いに係合しているだけなので、載置板をテーブル本体から持ち上げれば簡単に外すことができる。
【００１９】
また、矩形状の基板を露光する露光装置は、前記基板を当該装置に投入する投入機構と、この投入機構に隣接して配置され、前記基板を載置する露光テーブルと、この露光テーブルに載置した基板に所定波長の紫外線を含む光を照射する露光機構と、前記投入機構および前記露光テーブルの前記基板を搬送する搬送機構とを備えている。そして、前記露光テーブルは、前記基板を載置する載置板と、この載置板を支持するテーブル本体と、前記載置板の前記基板と対面する位置に貫通して形成された当該基板を吸着保持するための複数の吸着孔と、この吸着孔に連通するように前記テーブル本体に形成した連通路とを備えている。さらに、当該露光テーブルにおいて前記吸着孔は、第１吸着孔と第２吸着孔を有し、前記第１吸着孔は、予め設定された大きさで所定間隔に配置され、また、前記第２吸着孔は、小孔の複数が隣接して集合した小孔群とし、かつ、前記小孔が前記第１吸着孔よりも小さく形成されると共に、前記小孔群が前記基板の周縁における縦横辺の少なくとも一方に沿って所定間隔ごとに予め設定された位置に配置されている。そして、当該露光テーブルにおいて、前記連通路は、前記第１吸着孔に連通する第１連通路と、前記第２吸着孔に連通する第２連通路とを有する構成とした。
【００２０】
このように構成した露光装置は、はじめに、投入機構に基板を投入すると、基板は所定位置まで搬送されて停止し、予備位置きめ機構が備えられていれば、予備位置決め作業が行われる。そして、投入機構に投入された基板は、ハンドラ等の搬送機構により、露光テーブルに搬送されて、載置板の上に載置される。さらに、露光テーブルの載置板に載置された基板は、第１吸着孔および第２吸着孔により真空吸着して載置板上に保持される。この真空吸着して保持される場合、第２吸着孔が小孔を隣接して集合させた小孔群で形成されていることにより、例えば、基板周縁の波打ち状態が生じていても、その波打ち状態の凸部分となる裾の側から順に第２吸着孔である小孔により吸着することで、波打つ周縁の状態の基板であっても載置板に沿って平坦な状態で真空吸着して保持する。露光装置は、基板が露光テーブルに保持されると、マスクとの整合作業が行われ、露光機構により光源から所定波長の紫外線を含む光が照射されて露光作業が行われる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る露光テーブルおよび露光装置では、以下に示すように優れた効果を奏するものである。
（１）露光テーブルは、薄い基板の周縁が波打ち状態となっていても、第２吸着孔により載置板に平坦な状態で真空吸着して保持することができる。また、基板の真空吸着による保持を確実に行うことができるため、一連の作業動作の中断をすることがない。そのため、露光テーブルは、マスクと基板の整合作業および露光作業の精度を維持して、スムーズに動作し、また、露光した基板の品質を格段に向上させることができる。
【００２２】
（２）露光テーブルは、基板の周縁において平面精度が変化しやすい状態であっても、第２吸着孔の縦長あるいは横長な小孔の集合である小孔群のいずれかの小孔が基板面に真空吸着することで、載置面から離間している基板の凸部分を裾野側から引き寄せ、確実に真空吸着して保持することができる。
（３）露光テーブルは、基板の大きさに対応して適切に載置板に載置された基板を真空吸着して保持することができる。
【００２３】
（４）露光テーブルは、使用により基板を載置する載置板が磨耗あるいは汚れ等が生じた場合に、簡易な構成で、かつ、簡単にテーブル本体から離脱して、保守あるいは変更ができる。そのため、常に、精度よく基板の位置決め作業および露光作業を行うことが可能となる。
【００２４】
（５）露光装置は、基板の位置決め精度、露光精度を保ち、かつ、投入から位置決め作業、露光作業、搬出にわたる一連の作業を連続してスムーズに行うことが可能となる。また、極めて薄い基板であっても、同様に、基板の位置決め精度、露光精度を保ち、かつ、一連の作業を連続してスムーズに行うことが可能となる。そのため、露光装置は、基板の品質を格段に向上させことができる。また、露光装置では、０．３ｍｍ以下あるいは０．１ｍｍ以下の薄い基板であっても、一連の作業を精度よくスムーズに行うことが可能になり、スループットの向上に貢献することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明に係る露光テーブルおよび露光装置を実施するための最良の形態を、図面を参照して説明する。なお、露光装置は、ここでは、基板の表裏面を露光する両面露光装置を一例として説明するが、基板の片面を露光する露光装置であってもよいことはもちろんである。図１は露光装置の全体を側面から模式的に示す模式図、図２は露光テーブルの平面図である。
【００２６】
図１に示すように、露光装置１は、基板Ｗの表裏を露光するためのものであり、基板Ｗを予備位置決めする投入機構２と、この投入機構２に隣接して配置され、基板Ｗの表面Ｗａを露光する表面露光機構３と、この表面露光機構３に隣接して配置され、基板Ｗの表裏を反転する反転機構４と、この反転機構４に隣接して配置され、基板Ｗの裏面の予備位置決めをする投入機構５と、この投入機構５に隣接して配置され、基板Ｗの裏面Ｗｂを露光する裏面露光機構６とを備えている。なお、露光装置１は、投入機構２と表面露光機構３との間、表面露光機構３と反転機構４との間、および、投入機構５と裏面露光機構６との間には、基板Ｗを搬送する搬送機構２１，２２，２３，２４を備えている。
【００２７】
投入機構２は、基板Ｗを装置内に投入するものである。投入機構２の構成によっては、基板Ｗの予備位置決めを行う予備位置決め機構２ｃを備えているものもある。この投入機構２は、基板Ｗを投入する投入口２ａと、この投入口２ａから投入された基板Ｗを載置して所定位置まで搬送する搬送ローラ２ｂと、この搬送ローラ２ｂ上の基板Ｗの少なくとも２方の端面を押動して基板Ｗを、予め設定した位置に予備位置決めする予備位置決め機構２ｃとを備えている。なお、予備位置決め機構２ｃは、搬送ローラ２ｂの間（基板Ｗの送り方向に沿った基板Ｗの前後位置）と、搬送ローラ２ｂの回転軸（図示せず）の間（基板Ｗの送り方向に直交する基板Ｗの左右位置）に、基板Ｗの端面を直接押動する押動ピンを出没自在に設けてその押動ピンを保持する躯体が基板Ｗに向かって軌道上を移動する構成としている。投入機構２において予備位置決めが終了した基板Ｗは、投入機構２および表面露光機構３の間に配置したハンドラ等の搬送機構２１を介して表面露光機構３に搬送される。
【００２８】
表面露光機構３は、基板Ｗを載置してマスクＭとの位置決め作業を行い、かつ、基板Ｗの表面Ｗａの露光作業を行うものである。この表面露光機構３は、基板Ｗを保持する露光テーブル７と、この露光テーブル７上方に配置されたマスクＭを保持するマスク保持部３ｃと、反射鏡などの光学系３ｂを介して紫外線を含む光を照射する光源３ａ等を主として備えている。なお、表面露光機構３は、基板ＷとマスクＭとの位置決め作業を行う場合には、ＸＹθ方向に露光テーブル７側が整合移動する構成と、マスク保持部３ｃ側が整合移動する構成のどちらであっても構わないが、ここでは露光テーブル７を整合移動するように構成している。また、光源３ａから所定波長の紫外線を含む光が照射されるときの光学系３ｂは、基板Ｗに平行光として光を照射できるものであれば、特にその反射鏡の配置、数、あるいは、フライアイレンズの有無等を限定するものではない。
【００２９】
図２および図３に示すように、露光テーブル７は、ワークＷを載置する載置板８と、この載置板８を支持するテーブル本体９と、このテーブル本体９を整合移動させることで基板Ｗの位置決め作業を行う整合機構１０とを備えている。
載置板８は、基板Ｗに対面する位置に所定間隔をあけて板厚方向に貫通して形成された第１吸着孔８ａと、基板Ｗの周縁で縦横辺のいずれか一方に沿って、板厚方向に貫通して形成された第２吸着孔８ｂと、テーブル本体９との位置決めを行う取付凸部８ｃと、この取付凸部８ｃの外周側および内側に平面に形成された対向面８ｄとを備えている。
【００３０】
載置板８は、基板Ｗのサイズに対応して区画された区画域Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３毎において、予め設定された位置に第１吸着孔８ａおよび第２吸着孔８ｂが配置されている。ここでは、載置板８の区画域Ｓ１，Ｓ２では、第２吸着孔８ｂは、基板Ｗの搬送方向に対して直交する横辺に沿って配置されている。また、載置板８の区画域Ｓ３では、第２吸着孔８ｂは、基板Ｗの搬送方向に対して平行となる縦辺に沿って配置されている。また、第１吸着孔８ａは、ここでは、基板Ｗの対面する位置にほぼ一定間隔に配置され、予め設定された大きさの円孔に形成されている。なお、載置板８は、一例として、１〜３ｍｍの板厚のアルミニウム合金板で形成し、基板Ｗと対面する載置面に硬質、かつ、基板Ｗとの離脱性が優れるテフロン（登録商標）含有の硬質皮膜を施したもので構成すると都合がよい。
【００３１】
基板Ｗは、薄いと、その一辺側がある一定の長さを超えると、波打つ状態が発生しても基板の柔らかさにより、その波打つことによる凹凸が吸収されてあまり目立たなくなる。そのため、ここでは、区画域Ｓ１，Ｓ２では、基板Ｗの短辺となる搬送方向に直交する横辺側に第２吸着孔８ｂが配置されている。また、基板Ｗは、その一辺がある一定の長さより短い場合には、中央領域の影響を受けて平坦性は保たれることが多い。そのため、区画域Ｓ３では、基板Ｗの長辺となる縦辺側に第２吸着孔８ｂを配置している。
【００３２】
第２吸着孔８ｂは、図２に示すように、第１吸着孔８ａより小さく形成された小孔８ｂ1を多数隣接して形成した集合である小孔群として配置している。この第２吸着孔８ｂは、基板Ｗの横辺に沿って形成されている場合には、小孔８ｂ1を横辺に沿って横列の小孔８ｂ1の数が縦列の小孔８ｂ1の数より多く配置された横長な集合となる小孔群として形成される。また、第２吸着孔８ｂは、基板Ｗの縦辺に沿って形成されている場合には、小孔８ｂ1を縦辺に沿って縦列の小孔８ｂ1の数が横列の小孔８ｂ1の数より多く配置された縦長な集合となる小孔群として形成される。このように、第２吸着孔８ｂは、横長あるいは縦長に集合する小孔群として形成されることで、基板Ｗの周縁における縦辺あるいは横辺が、波打ち状態となって載置板８の載置面から離間する凸部分が生じても、その凸部分の立ち上がり位置となる裾野側から基板Ｗを真空吸着している。
【００３３】
また、図４に示すように、第１吸着孔８ａは、載置板８の開口部分にテーパ面８Ｔを備え、また、第２吸着孔８ｂは、各小孔８ｂ1において載置板８の開口部分にテーパ面８ｔをそれぞれ備えている。各テーパ面８Ｔ、８ｔは、基板Ｗを真空吸着したときに、基板Ｗの当接する部分に対して傷を付けないために形成されている。また、各テーパ面８Ｔ、８ｔを形成することで、テーパ面がないものと比べて、真空吸着する力を大きくしている。各テーパ面８Ｔ，８ｔは、６０度より小さくなる傾斜角度に形成されており、５０〜３０度の範囲に形成されることが好ましい。このテーパ面８Ｔ，８ｔは、平面状であることや、また、曲面状に形成するものであっても構わない。なお、一例として、小孔８ｂ1は、ここでは、φ１ｍｍ以下に形成されている。
【００３４】
図３に示すように、載置板８のテーブル本体９と対向する対向面８ｄは、ここでは、後記するテーブル本体９の支持面９ｄと当接するように平面に形成されている。この載置板８の対向面８ｄは、取付凸部８ｃ以外の面がすべて平面に形成されているが、少なくとも、取付凸部８ｃより外縁側の周囲が平面に形成されていれば足りる。
【００３５】
また、載置板８の取付凸部８ｃは、後記するテーブル本体９の取付凹部９ｃに嵌合するように形成されている。なお、載置板８の取付凸部８ｃは、載置板８の四隅に近い位置に４箇所形成されている。そして、取付凸部８ｃは、柱状の基部と、この基部の先に先端に向かうに従って先細りとなる平面または曲面からなるテーパ面と、を備えている。
【００３６】
図３に示すように、テーブル本体９は、載置板８の第１吸着孔８ａおよび第２吸着孔８ｂに対応する位置にそれぞれ形成した第１連通路９ａおよび第２連通路９ｂと、載置板８の取付凸部８ｃに対応する位置に形成した取付凹部９ｃと、載置板８の対向面８ｄに当接する位置に形成した支持面９ｄと、を備えている。
【００３７】
第１連通路９ａは、第１吸着孔８ａに対応して一つ一つ形成される構成であってもよく、また、各区画域Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３毎に、ある範囲の第１吸着孔８ａに対応して形成されるものであっても構わない。また、第２連通路９ｂは、第２吸着孔８ｂの小孔８ｂ1の小孔群に対応して一つ一つ形成される構成でもよく、また、各区画域Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３毎に、ある範囲の第２吸着孔８ｂに連通するように対応して形成されるものであっても構わない。そして、第１連通路９ａおよび第２連通路９ｂは、さらに形成される連通路９ｅ、および、各通路を切り替えるための切替手段９ｆを介して、真空ポンプ（吸引手段）９ｇに接続されている。
【００３８】
なお、切替手段９ｆは、各連通路９ｅを切り替えると共に、大気を通路外にリークするものである。この切替手段９ｆは、切替弁およびリーク弁等を備えており、真空ポンプ９ｇの動作による真空吸引により基板Ｗを載置板８に真空吸着するときに使用できるものであれば、特に、その構成を限定されるものではない。
【００３９】
ここで、露光テーブル７の作用について説明する。
図１に示すように、投入機構２により基板Ｗが予備位置決めされて搬送機構２１により露光テーブル７の載置板８に搬送されると、図３に示すように、露光テーブル７は、図示しないセンサ等により真空ポンプ９ｇを作動させることで、予め設定された区画域Ｓ１の第１吸着孔８ａおよび第２吸着孔８ｂから真空吸着して基板Ｗを載置板８に保持する。ここでは、区画域Ｓ１に設定されたこととして説明する。そのため、区画域Ｓ２，Ｓ３の第２連通路９ｂは、切替手段９ｆにより遮断された状態となっている。
【００４０】
基板Ｗが第２吸着孔８ｂにより吸着される場合、例えば、基板Ｗの周縁側が波打ち状態を発生して載置板８から離間している部分があったとき（例えば、図５（ａ）の状態）、図５に示すようにして吸着されることになる。なお、基板Ｗの周縁側が波打ち状態となるときには、その波打ち状態になった縦辺あるいは横辺に沿って形成されることが多い。
【００４１】
図５（ａ）、（ｂ）に示すように、はじめに、第１吸着孔８ａおよび第２吸着孔８ｂから吸引動作が行われ、基板Ｗのほとんどの部分は、載置板８に真空吸着される。そして、図５（ｂ）に示すように、基板Ｗの周縁において波打ち状態となる凸部分が発生していると、第２吸着孔８ｂの小孔８ｂ1が基板面に近い位置となる基板Ｗの凸部分の立ち上がりとなる位置Ａ１を吸引して吸着する。
【００４２】
そうすると、図５（ｂ）に示すように、基板Ｗの位置Ａ１が吸着されることで、基板Ｗの立ち上がり位置Ａ１に隣接する位置Ａ２が小孔８ｂ1に近づくため、基板Ｗの位置Ａ２をさらに吸着することができる。つぎに、図５（ｃ）に示すように、基板Ｗの位置Ａ２が真空吸着されることで、基板Ｗの凸部分の一番載置面から離れていた位置Ａ３が小孔８ｂ1に近づけられる。そのため、最終的には、図５（ｄ）に示すように、基板Ｗの位置Ａ３についても小孔８ｂ1により真空吸着され、基板Ｗは、載置板８に平面精度が良好な状態で吸着保持されることになる。
【００４３】
なお、小孔８ｂ1は、形成されている横辺あるいは縦辺に沿って縦長あるいは横長な集合とした小孔群であるため、基板Ｗの周縁側に発生する波打ち状態に対応して凸部分の立ち上がり位置から徐々に真空吸着していくことができ、都合がよい。
このようにして、基板Ｗが露光テーブル７の載置板８に真空吸着されると、基板Ｗは、整合機構１０を介してマスクＭとの位置決め作業を行われることになる。
【００４４】
つぎに、図１に戻って、露光装置１の他の構成を説明する。
整合機構１０は、基板Ｗを吸着保持する載置板８およびテーブル本体９を平面のＸＹθ方向（平面の任意な一直線方向、その一直線方向に直交する直線方向、垂直軸回りの回転方向）に整合移動させるＸ移動部１０ａ、Ｙ移動部１０ｂおよびθ移動部１０ｃを備えている。また、露光テーブル７は、整合機構１０の下方に少なくとも載置板８をマスクＭ側に上昇移動させる昇降手段１１を備えている。この昇降手段１１は、基板ＷをマスクＭに近接または当接されるように上昇させ、かつ、元の位置に降下することができるものであれば、その構成を限定されるものではない。
【００４５】
なお、整合機構１０は、図示しないカメラ装置により基板ＷとマスクＭとの整合マーク（図示せず）の位置を撮影してずれている距離を演算した結果が信号で送られることにより、その送られた信号により基板Ｗを適切な位置に整合移動させている。
【００４６】
そして、表面露光機構３は、基板Ｗを載置する載置板８の直上にマスクＭを保持するマスク保持部３ｃを設置している。また、表面露光機構３は、マスクＭおよび基板Ｗに所定波長の紫外線を含む光を照射する光源３ａおよびこの光源３ａからの光を平行光とする光学系３ｂとを備えている。
【００４７】
反転機構４は、基板Ｗの表裏を反転するものである。この反転機構４は、ここでは、基板Ｗを上下の送りローラ４ａで挟んで、その送りローラ４ａ全体を１８０度回転させることで、基板Ｗの表裏を反転している。なお、反転機構４は、基板Ｗの表裏を反転することができるものであれば、特にその構成を限定されるものではない。なお、反転機構４に基板Ｗを受け渡すときには、例えば、露光テーブル７と反転機構４の間に載置ローラ（図１参照）を設置して、搬送機構２２が露光テーブル７から載置ローラ上に基板Ｗを搬送し、載置ローラが回転して基板Ｗを反転機構４に受け渡すようにすると都合がよい。反転機構４によりその表裏を反転され裏面Ｗｂを上面となるようにした基板Ｗは、その反転機構４の送りローラ４ａにより第２投入機構５に送り出される。
【００４８】
第２投入機構５は、すでに説明した投入機構２と同じ構成であり、ここでは、投入された基板Ｗを載置して所定位置まで搬送する搬送ローラ５ｂと、この搬送ローラ５ｂ上の基板Ｗの少なくとも２方の端面を押動して基板Ｗを、予め設定した位置に予備位置決めする予備位置決め機構５ｃとを備えている。この第２投入機構５により予備位置決めされた基板Ｗは、搬送機構２３により裏面露光機構６に搬送される。
【００４９】
図１に示すように、裏面露光機構６は、基板Ｗの裏面Ｗｂの位置決め作業を行い、かつ、基板Ｗの裏面Ｗｂに対して露光作業を行うものである。この裏面露光機構６は、基板Ｗを保持する露光テーブル７と、この露光テーブル７の上方に設置するマスクＭを保持するマスク保持部６ｃと、反射鏡などの光学系６ｂを介して紫外線を含む光を照射する光源６ａ等を主として備えている。
【００５０】
なお、裏面露光機構６の露光テーブル７は、すでに説明したものと同じ構成であるため、ここでは説明を省略する。裏面露光機構６は、基板Ｗを載置板８に真空吸着して、マスクＭとの位置決め作業を行う場合には、ＸＹθ方向に露光テーブル７側が整合移動する構成と、マスク保持部６ｃ側が整合移動する構成のどちらであっても構わないが、ここでは露光テーブル７を整合移動するように構成している。また、光源６ａから照射されるときの光学系６ｂは、基板Ｗに平行光として光を照射できるものであれば、フライアイレンズを使用する等、特にその反射鏡の配置、数、構成等を限定するものではない。この裏面露光機構６により裏面Ｗｂの露光作業が終了した基板Ｗは、搬送機構２４により搬出される。
【００５１】
搬送機構２４は、ここでは、ハンドラあるいは搬送ローラを備えており、基板Ｗを装置外に送り出すものであり、特にその構成を限定されるものではない。
【００５２】
つぎに、すでに説明した露光装置１を用いて、基板Ｗの露光方法を説明する。
【００５３】
図１に示すように、はじめに、露光装置１は、基板Ｗを投入口２ａから投入機構２に投入すると、搬送ローラ２ｂが回転して基板Ｗを載置した状態で所定位置まで移動させる。そして、露光装置１は、所定位置まで移動した基板Ｗの端面を、予備位置決め機構２ｃにより押動することで、予め設定した位置となるように予備位置決め作業を行う。予備位置決め作業が終了した基板Ｗは、搬送機構２１により表面露光機構３の露光テーブル７に搬送される。
【００５４】
露光装置１は、基板Ｗが表面露光機構３の露光テーブル７に搬送されて載置板８に載置されると、真空ポンプ９ｇが作動して予め切替手段９ｆにより切り替えられた連通路９ｅに連通する第１吸着孔８ａおよび第２吸着孔８ｂにより基板Ｗを載置板８に真空吸着して保持する。このとき、基板Ｗの周縁が波打ち状態として載置板８の面より離間した凸部分が存在しても、すでに図５で説明したように第２吸着孔８ｂにより吸着して基板Ｗを平坦に載置板８に真空吸着して保持することができる。
【００５５】
露光テーブル７の載置板８に基板Ｗが真空吸着されると、載置板８上の基板Ｗと、マスク保持部３ｃに保持されているマスクＭとが、露光テーブル７の上昇移動により近接あるいは当接し、さらに基板ＷとマスクＭとが、図示しない真空吸着機構により真空吸着した状態となる。そして、図示しないカメラ装置により基板ＷおよびマスクＭの位置決めマーク（図示せず）が撮影され、その撮影された画像から基板Ｗの整合移動する距離を演算して、基板ＷとマスクＭとの位置決め作業が適宜行われる。なお、ここでは、露光装置１は、基板Ｗを整合移動するため、基板ＷとマスクＭとの真空密着状態を解除して、露光テーブル７を降下させ、ＸＹθ方向に整合機構１０により基板Ｗを整合移動させる。そして、再び、マスクＭと基板Ｗとを真空密着した状態としてカメラ装置で許容範囲に図示しない位置決めマークが確認されたら、光源３ａにより紫外線を含む光を照射して、基板Ｗの表面Ｗａの露光作業を行う。
【００５６】
表面Ｗａが露光された基板Ｗは、搬送機構２２により反転機構４に搬送される。なお、ここでは、図１に示すように、搬送ローラを介して基板Ｗを反転機構４に受け取るようにしている。基板Ｗを受け取った反転機構４は、基板Ｗの表裏を反転させ、基板Ｗを第２投入機構５に、送りローラ４ａにより送り出し受け渡す。
【００５７】
反転機構４から基板Ｗを受け取った第２投入機構５は、搬送ローラ５ｂが回転して基板Ｗを載置した状態で所定位置まで移動させる。そして、露光装置１は、所定位置まで移動した基板Ｗの端面を、予備位置決め機構５ｃにより押動することで、予め設定した位置となるように予備位置決め作業を行う。予備位置決め作業が終了した基板Ｗは、搬送機構２１により裏面露光機構６の露光テーブル７に搬送される。なお、搬送機構２３に受け渡すときに載置ローラを一旦介して搬送機構２３が基板Ｗを保持して搬送する構成としても構わない。
【００５８】
図１に示すように、裏面露光機構６に搬送された基板Ｗは、すでに露光した表面Ｗａを露光テーブル７の載置板８に対面させた状態、つまり、基板Ｗの裏面ＷｂがマスクＭと対面する状態で載置される。そして、基板Ｗが載置板８に載置されると、図３に示すように、真空ポンプ９ｇにより真空吸引動作が行われ、基板Ｗが第１吸着孔８ａおよび第２吸着孔８ｂにより真空吸着されて載置板８に平坦な状態で保持される。このとき、基板Ｗの周縁で横辺側に波打ち状態が発生していても、図５ですでに説明したように、基板Ｗを載置板８に沿って平坦な状態で真空吸着して保持できる。そして、裏面ＷｂとマスクＭとの位置決め作業が行われ、その後、露光作業が行われる。さらに、両面Ｗａ，Ｗｂの露光作業が終了した基板Ｗは、搬送機構２４を介して装置外に搬出される。なお、搬送機構２４は、露光テーブル７から載置ローラに基板Ｗを搬送して、載置ローラが基板Ｗを装置外に搬出するように構成しても構わない。
【００５９】
なお、基板Ｗが例えば、区画域Ｓ２に対応するサイズである場合には、露光テーブル７，７において、切替手段９ｆを介して、区画域Ｓ１、Ｓ３に配置されている第２吸着孔８ｂの連通路９ｅを閉鎖し、かつ、区画域Ｓ１に配置されている第１吸着孔８ａの連通路９ｅを閉鎖した状態で、真空ポンプ９ｇを作動させる。同様に、基板Ｗが区画域Ｓ３に対応するサイズである場合には、切替手段９ｆを介して、区画域Ｓ１，Ｓ２の第１吸着孔８ａおよび第２吸着孔８ｂを閉鎖した状態で真空ポンプ９ｇを作動させている。
【００６０】
以上のようにして、基板Ｗが極めて薄い場合であっても、載置板８の第１吸着孔８ａおよび第２吸着孔８ｂにより基板Ｗを平坦な状態で真空吸着して保持することができるため、位置決め作業および露光作業するときに精度よい作業が行うことができる。しがたって、基板Ｗが極めて薄い場合であっても適切に対応でき、露光した基板Ｗの品質を格段に向上させることができる。
【００６１】
また、基板Ｗを載置する載置板８の表面にソルダーレジストインクが付着して汚れたり、あるいは、使用による磨耗で平坦性が失われたり、その他の取り替える必要が生じた場合には、載置板８を交換する作業を行うことにより、適正な位置決め作業、露光作業を確保する。
【００６２】
図６に示すように、載置板８を取り外す場合には、はじめに、真空ポンプ９ｇの動作および他の機構の動作を停止する。そして、作業者が載置板８をテーブル本体９から持ち上げて、載置板８をテーブル本体９から取り外す。載置板８は、単に、取付凸部８ｃをテーブル本体９の取付凹部９ｃに嵌合した状態で、かつ、当該載置板８の対向面８ｄとテーブル本体９の支持面９ｄとが当接した状態で係合している簡単な構成である。そのため、取り外す作業は、作業者が載置板８を上方に持ち上げることで、簡単に行える。なお、真空ポンプ９ｇを作動しているときには、載置板８がテーブル本体９に吸着するようになるため、載置板８は、常にテーブル本体９側に固定された状態となる。
【００６３】
したがって、取り外された載置板８は、その表面を洗浄すること等ができるため、他の構成を気にすることなく、洗浄、細かく破断して載置板８に付着した基板破片の除去等のメンテナンスを行う場合に都合がよい。また、露光テーブル７は、載置板８を取り替える場合も、すでに説明したようにして取り外し、他の載置板８を取付ければよく、取替え操作を簡単に行なうことができ都合がよい。
【００６４】
なお、露光テーブルでは、図示しないが、載置板に取付凹部を設け、また、テーブル本体に取付凸部を設けることや、あるいは、取付凸部および取付凹部を載置板に設け、それに対応するように、取付凹部および取付凸部をテーブル本体に設ける構成としても構わない。
また、露光テーブルでは、図示しないが、第２吸着孔を縦辺および横辺の両側に配置することや、あるいは、第２吸着孔の小孔を連続して隣接する帯状に配置する構成としても構わない。さらに、露光テーブルでは、図示しないが、区画域は、２区画あるいは４区画として構成しても構わない。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明に係る露光装置の全体を模式的に示す側面図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は、本発明に係る露光テーブルの平面図および部分拡大平面図である。
【図３】本発明に係る露光テーブルの載置板とテーブル本体の関係を模式的に示す断面図であるである。
【図４】本発明に係る露光テーブルの載置板に形成された第１吸着孔および第２吸着孔を示す断面図である。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は、本発明に係る露光テーブルの載置板における第２吸着孔が基板を吸着する状態を模式的に示す模式図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）は、本発明に係る露光テーブルの載置板を取り替える状態を模式的に示す模式図である。
【図７】従来の露光テーブルを模式的に示す断面図である。
【図８】（ａ）、（ｂ）は、従来の露光テーブルの要部を示す断面図、および、平面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１      露光装置
２      投入機構
２ａ    投入口
２ｂ    搬送ローラ
２ｃ    予備位置決め機構
３      表面露光機構
３ａ    光源
３ｂ    光学系
３ｃ    マスク保持部
４      反転機構
４ａ    ローラ
５      第２投入機構
６      裏面露光機構
６ａ    光源
６ｂ    光学系
６ｃ    マスク保持部
７      露光テーブル
８      載置板
８ａ    第１吸着孔
８ｂ    第２吸着孔
８ｂ1    小孔
８ｃ    取付凸部
８ｄ    対向面（平面部）
９      テーブル本体
９ａ    第１連通路
９ｂ    第２連通路
９ｃ    取付凹部
９ｄ    支持面（平面部）
９ｅ    連通路
９ｆ    切替手段
９ｇ    真空ポンプ（吸引手段）
１０    整合機構
１１    昇降機構
２１    搬送機構
２２    搬送機構
２３    搬送機構
２４    搬送機構
Ｍ      マスク
Ｗ      基板
Ｗｂ    裏面
Ｗａ    表面
【図１】
2006276084.tif 000003
【図２】
2006276084.tif 000004
【図３】
2006276084.tif 000005
【図４】
2006276084.tif 000006
【図５】
2006276084.tif 000007
【図６】
2006276084.tif 000008
【図７】
2006276084.tif 000009
【図８】
2006276084.tif 000010