(57)【要約】【課題】  隔壁形成にアディティブ法を採用するに際して、一回の露光で十分な高さを有し、且つ所望の断面形状を有する隔壁（隔壁を形成するための雌型）を形成する。【解決手段】  多官能ラジカル反応性化合物、光重合開始剤、および光増感剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物を用い、この液状光硬化組成物によって、雌型４Ａを形成する感光性樹脂膜４を形成することで、底面が広い台形断面の雌型４Ａを形成することができる。【選択図】図２
2006252996.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型材料であって、
多官能ラジカル反応性化合物、および光重合開始剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型材料。
【請求項２】
プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型材料であって、
多官能ラジカル反応性化合物、光重合開始剤、および光増感剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型材料。
【請求項３】
前記光線透過率を４０％以上にすることを特徴とする請求項１又は２に記載された隔壁パターン形成用雌型材料。
【請求項４】
前記光重合開始剤および／または光増感剤の添加量は、前記光線透過率に応じて調整されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型材料。
【請求項５】
プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型の形成方法であって、
多官能ラジカル反応性化合物、および光重合開始剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型の形成方法。
【請求項６】
プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型の形成方法であって、
多官能ラジカル反応性化合物、光重合開始剤、および光増感剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型の形成方法。
【請求項７】
前記光線透過率を４０％以上にすることを特徴とする請求項５又は６に記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。
【請求項８】
前記光重合開始剤および／又は光増感剤の添加量は、前記光線透過率に応じて調整されることを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。
【請求項９】
前記光線透過率を前記光重合開始剤および／又は光増感剤の添加量によって調整することによって、前記雌型の断面形状を台形又は長方形或いはその複合形状に任意に設定することを特徴とする請求項５〜８のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。
【請求項１０】
隔壁を形成しようとする基板の周囲に液漏れガイド板を立設し、該液漏れガイド板で囲まれた前記基板上に前記液状光硬化性組成物を充填する工程、
この充填された前記液状光硬化性組成物の上に前記隔壁パターンの光不透過部を有するフォトマスクを載置させ反応光を照射する工程、
前記光不透過部下の未硬化部を除去して前記隔壁パターンの雌型を得る工程を有することを特徴とする請求項５〜９のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。
【請求項１１】
隔壁を形成しようとする基板上に前記液状光硬化性組成物を乾燥して形成したフィルムを載置する工程、
該フィルム上に前記隔壁パターンの光不透過部を有するフォトマスクを載置させ反応光を照射する工程、
前記光不透過部下の未硬化部を除去して前記隔壁パターンの雌型を得る工程を有することを特徴とする請求項５〜１０のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。
【請求項１２】
前記光線透過率を所望の値に設定した前記液状光硬化性組成物を乾燥して複数のフィルムを形成する工程、
前記雌型の所望の断面形状に応じて、前記複数のフィルムを隔壁を形成しようとする基板上に積層する工程、
該複数のフィルム上に前記隔壁パターンの光不透過部を有するフォトマスクを載置させ反応光を照射する工程、
前記光不透過部下の未硬化部を除去して前記隔壁パターンの雌型を得る工程を有することを特徴とする請求項５〜１０のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。
【請求項１３】
請求項５〜１２のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法によって形成された雌型間に、隔壁材を充填した後、前記雌型及び隔壁材を同時焼成して、隔壁のパターンを形成する隔壁パターン形成方法。
【請求項１４】
請求項１３の隔壁パターン形成方法によって形成された隔壁によって放電セルが区画されたプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】
前記隔壁は逆台形断面を有することを特徴とする請求項１４に記載されたプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、隔壁パターン形成用雌型材料、隔壁パターン形成用雌型の形成方法、隔壁パターン形成方法、プラズマディスプレイパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネルは、一対の平面基板間に形成された気密空間内を、ストライプ状又はマトリクス状に区画して複数の放電セルを形成し、この複数の放電セル内で選択的に放電を発生させ、この放電によって放電セル内に形成した蛍光層を発光させて画像を表示するものである。
【０００３】
前述した放電セルは、基板（背面基板）上に形成される隔壁によって区画されているが、この隔壁の基板上でのパターンは、基板上に形成された電極（アドレス電極）との間に高精度な相対位置関係が求められるので、この隔壁を基板上に精度良く形成するために、各種の隔壁形成方法が提案され、また実施されている。
【０００４】
この隔壁形成方法の中で、現在広く量産に採用されている方法の一つにサンドブラスト法がある。このサンドブラスト法は、隔壁材料となる低融点ガラスペーストを基板上に塗布して乾燥させた後、その上に、サンドブラスト工程では削れないマスクパターンを隔壁パターンに応じて形成し、微少粉体（研磨材）を吹き付けるサンドブラスト工程によってマスクで覆われていない箇所の隔壁材料乾燥膜を切削除去して隔壁を形成する方法である。
【０００５】
このサンドブラスト法は、フォトリソグラフィによってマスクパターンを形成するので、高精度な隔壁位置の設定が可能であり、比較的短時間で処理が完了するので、量産に適した方法として広く採用されているが、放電セルの形状（隔壁側面の形状）がサンドブラスト工程によって決められてしまうので、放電セルの形状を任意に設定することができず、また、奥行きのある放電セル、即ち高さのある隔壁の形成には適さないという問題がある。
【０００６】
また、前述したサンドブラスト法の他に、アディティブ法（雌型形成法）と呼ばれる隔壁形成方法が知られている。このアディティブ法は、基板上の隔壁を形成する以外の部分に感光性樹脂によるフォトリソグラフィ工程によって雌型のパターンを形成した後、雌型間の隔壁となる部分に隔壁材のペーストを充填し、その後雌型を除去することによって隔壁パターンを形成する方法である。
【０００７】
このアディティブ法の工程を図１によって説明する。まず、電極Ｊ１ａが形成された基板Ｊ１上にドライフィルムレジストを載置するか、或いは感光性樹脂ペーストを塗布することによって、感光性樹脂膜Ｊ２を形成する（同図（ａ））。そして、隔壁パターンに応じた光不透過部Ｍａを有するフォトマスクＭを感光性樹脂膜Ｊ２上に設置し、反応光（紫外線）を照射して露光を行い（同図（ｂ）、その後の現像処理によって雌型Ｊ２Ａを得る（同図（ｃ））。その後、形成された雌型Ｊ２Ａ間に隔壁材ペーストを充填し（同図（ｄ））、雌型Ｊ２Ａを除去することで、隔壁Ｊ３のパターンを形成する。この際、雌型Ｊ２Ａを除去する工程としては、基板Ｊ１をアルカリ水溶液等に浸漬させて雌型Ｊ２Ａを膨潤剥離させる方法と、雌型Ｊ２Ａとその間に充填された隔壁材を共に焼成して、雌型Ｊ２Ａを分解除去すると同時に、隔壁材をガラス化させる方法がある。
【０００８】
また、下記特許文献１には、このアディティブ法による隔壁形成の従来技術が記載されており、フォトマスクを介して感光性樹脂板の断面領域へ入射される照射光の照射角度を変化させて、感光性樹脂板にフォトレジスト加工を施すことによって、感光性樹脂板の開口を台形状にした雌型を形成して台形状の隔壁断面を形成することが開示されている。
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−５７１４７号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
表示画像の高精細化はプラズマディスプレイパネルの抱える主要な課題になっており、ＶＧＡ、ＸＧＡ、ＳＸＧＡ、ＱＸＧＡ、更に高精細な画像に対応するパネル形成技術の開発が進められている。この際、設定された画面サイズにおいて画像の高精細化を進めようとすると、個々の放電セルの開口面積或いはピッチが小さくなるが、良好な画質を得るためには放電セル内で十分な発光空間を確保する（プラズマ発生のためのガス占有体積を大きくして、発光効率を高める）必要があるので、放電セルの奥行き（高さ）を大きくすること、或いは放電セルの底面を広くすること等が必要になる。また、良好な発光効率を得るためには放電セルの形状を所望の形状に設計することも必要になる。
【００１１】
このように、高精細且つ高画質の画像を得るために必要な放電セルを形成するには、放電セルを区画する隔壁の形成技術を改善する必要がある。しかしながら、前述したサンドブラスト法では、その方法から必然的に放電セルの開口面積に対して底面積が小さく成らざるを得ず、また、放電セルの奥行きを大きくすることにも適さないという根本的な不利がある。
【００１２】
そこで、高精細且つ高画質に対応する隔壁形成技術として前述したアディティブ法に期待が寄せられている。しかしながら、従来の技術では一回の露光で所望の高さ（１００〜３００μｍの隔壁高さを形成するもの）を有する雌型を形成できる感光性樹脂自体が得られておらず、十分な奥行きを有する放電セルを区画する隔壁を形成することができない問題があり、また、一般に、反応光が直接照射される表面よりも感光性樹脂膜の底面での反応が進み難くなるので、必然的に雌型の断面が逆台形になってしまい、放電セルの底面を広くして、放電セル内に所望の発光空間を形成することができないという問題がある。
【００１３】
更には、所望の形状の放電セルを形成しようとすると、前述した特許文献１に記載される従来技術のように、照射光の照射角度を変化させるなど煩雑な露光処理が必要になり、生産性の高い隔壁形成を行うことができない問題があった。
【００１４】
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、高精細且つ高画質の画像を得るための有効な隔壁形成方法を提供すること、隔壁形成にアディティブ法を採用するに際して、一回の露光で十分な高さを有し、且つ所望の断面形状を有する隔壁（隔壁を形成するための雌型）を形成することができること、等が本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
このような目的を達成するために、本発明は、以下の各独立請求項に係る構成を少なくとも具備するものである。
【００１６】
［請求項１］プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型材料であって、多官能ラジカル反応性化合物、および光重合開始剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型材料。
【００１７】
［請求項5］プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型の形成方法であって、多官能ラジカル反応性化合物、光重合開始剤、および光増感剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型の形成方法。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を説明する。本発明の実施形態は、プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための隔壁パターン形成用雌型材料に特徴があり、多官能ラジカル反応性化合物、光重合開始剤、および光増感剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴としている。ここで、最大発光波長とは、その照射光源の発光エネルギーが最大値となる波長であり、照射光源がＵＶランプである場合には、通常３６５ｎｍである。また、光線透過率は液状光硬化性組成物を１００μｍ厚に塗工して得られるフィルムを透過する最大発光波長光の透過率を表す。
【００１９】
すなわち、本発明の実施形態で用いる液状光硬化性組成物は、多官能ラジカル反応性化合物と光開始剤を必須成分として含有する。使用する多官能ラジカル反応性化合物としては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジイルジメタノールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの両末端（メタ）アクリル酸付加体、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエポキシ（メタ）アクリレート（以下、「ビスフェノールＡのジエポキシ（メタ）アクリレート」ともいう。）、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。
【００２０】
これらの多官能ラジカル反応性化合物のうち、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリシクロデカンジイルジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００２１】
本発明の隔壁パターン形成用雌型材料である液状光硬化性組成物中の多官能ラジカル重合性化合物の配合割合は、一般的には液状光硬化性組成物１００重量部あたり３０重量部から９９．９重量部、より好ましくは５０重量部から９９重量部である。
【００２２】
また、本発明の実施形態における液状光硬化性樹脂組成物には、単官能ラジカル重合性化合物を添加することもできる。そのような化合物としては、例えばＮ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタムの如きビニル基含有ラクタム、イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレートの如き脂環式構造含有（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテルを挙げることができる。
【００２３】
本発明の隔壁パターン形成用雌型材料である液状光硬化性組成物中の単官能ラジカル重合性化合物の配合量は、一般的には液状光硬化性組成物１００重量部あたり０重量部から６９重量部、より好ましくは０重量部から４９重量部である。
【００２４】
また、本発明の実施形態における液状光硬化性組成物には光重合開始剤が用いられる。光重合開始剤は、液状光硬化性組成物の光硬化反応を開始させる役割を担うことに加え、液状光硬化性組成物の光線透過率を制御するためにも添加される。液状光硬化性組成物の光線透過率は、光重合開始剤の配合量のみにより制御してもよいし、光重合開始剤に後述の光増感剤を併用してこれら両成分の配合量により制御してもよい。この光重合開始剤としては、例えば１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォフフィンオキシド；また、市販品としてはＩＲＵＧＡＣＵＲＥ１８４、３６９、６５１、５００、９０７、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１（以上、チバスペシャリティーケミカルズ（株）製）；ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８（ＢＡＳＦ製）；Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１１６、１１７３（以上、メルク製）；ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ製）等が挙げられる。
【００２５】
この光重合開始剤の添加量は、得られた液状光硬化性組成物を硬化して得られる１００μｍ厚のフィルムの光線透過率に応じて調整する。光重合開始剤の好ましい添加量は、光重合開始剤種、光硬化に用いる光源の発光波長によっても異なるが、一般的には液状光硬化性組成物１００重量部あたり０．１重量部から２０重量部、より好ましくは０．５重量部から１０重量部である。
【００２６】
また、本発明の実施形態における液状光硬化性組成物では光増感剤を併用することが好ましい。光増感剤は、液状光硬化性組成物の光硬化反応における光重合開始剤の作用を増感する役割を担うことに加え、液状光硬化性組成物の光線透過率を制御するためにも添加される。一般に、光増感剤は、光重合開始剤よりも吸光係数が大きいために、光重合開始剤よりも少ない配合量で効果的に光線透過率を制御することができる。このため、光重合開始剤と光増感剤を併用して、液状光硬化性組成物の光線透過率を制御することが好ましい。この光増感剤としては、例えば４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、チオキサントン、２，４―ジメチルチオキサントン、２，３−ジエチルチオキサントン、市販品としてはユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ製）等が挙げられる。
【００２７】
この光増感剤の添加量は、光重合開始剤と同様に、硬化フィルムの光線透過率に応じて調整する。光増感剤の好ましい添加量は、光増感剤種、光硬化に用いる光源の発光波長によっても異なるが、一般的には液状光硬化性組成物１００重量部あたり０．０１重量部から１５重量部、より好ましくは０．０５重量部から１０重量部、更に好ましくは０．１重量部から５重量部である。
【００２８】
また、本発明の実施形態における液状光硬化性組成物には、塗布膜厚を調整するために溶媒を加えて液状光硬化性組成物の粘性を制御することができる。そのための溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、クロロホルム、塩化メチレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、水などが使用できる。これらの溶媒を組み合わせて使用することもできる。
【００２９】
溶媒の添加量は液状光硬化性組成物の粘性を制御する目的で任意の割合で用いる事ができるが、溶剤の添加量が多すぎると塗布時に溶剤の乾燥に時間がかかり、また完全に溶剤が除去されずに得られる隔壁パターン形成用雌型材料の機械的強度が劣る場合がある。溶媒の添加量は液状光硬化性組成物１００重量部あたり９００重量部以下が好ましい。
【００３０】
このような本発明の実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型材料、或いは前述の液状光硬化性組成物を用いる隔壁パターン形成用雌型の形成方法によると、前述の光透過率を１０〜６０％の範囲で任意に調整することで、隔壁パターン用雌型の断面形状を逆台形，長方形，台形に任意に設定することができる。
【００３１】
特に、前述の光透過率を４０％以上にすることで、底面が広い台形形状を有する雌型断面を得ることができ、底面が広い放電セルを区画する隔壁を形成することが可能になる。これによって、高精細画面を形成するために放電セルの開口面積を小さくした場合であっても、放電セルの底面積を広くすることで、十分な発光空間を確保することができ、良好な画質を得ることができる。
【００３２】
また、前述の光透過率を比較的高くすることで、前述した液状光硬化性組成物の形成膜厚を厚くした場合であっても膜の底部を効率的に反応させることができるようになるので、高さの高い雌型を形成することができ、奥行きのある放電セルを区画する隔壁を形成することができる。
【００３３】
また、前述した光重合開始剤、又は、光重合開始剤及び光増感剤の添加量によって前述した光線透過率を調整することができるので、この調整によって、隔壁パターン形成用雌型の断面形状を台形又は長方形或いはその複合形状に任意に設定することができる。そして、これによって形成される隔壁形状の設定によって、良好な発光効率が得られる放電セルの形状設計を行うことができる。
【００３４】
以下、更に具体的な隔壁パターン形成用雌型の形成方法を図面に基づいて説明する。図２は、本発明の一実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。
【００３５】
これによると、一工程として、基板１を支持板１０の上に設置し、電極２（アドレス電極）が形成されて誘電体層３（アドレス保護層）が必要に応じて形成された基板１の周囲に液漏れガイド板１１を立設し、液漏れガイド板１１で囲まれた基板１上に前述した液状光硬化性組成物を充填して、感光性樹脂膜４を形成する（同図（ａ））。ここでは、１００〜３００μｍ程度の高さを有する隔壁を形成するために、液漏れガイド板１１を用いて所望の厚さの感光性樹脂膜４を得るようにしている。
【００３６】
また、これに限らず、前述した液状光硬化性組成物を所望の粘性を有する樹脂ペースト状にして、アプリケータ等によって基板１上に塗布するようにしても良い。この場合、１００〜３００μｍ程度の高さを有する隔壁を形成するためには、所望の厚さに塗布する必要があるので、樹脂ペーストに所望の粘性を付与することが必要になる。
【００３７】
その後の工程として、この充填された液状光硬化性組成物からなる感光性樹脂膜４の上に隔壁パターンの光不透過部１２ａを有するフォトマスク１２を載置させ反応光（例えば、最大発光波長が３６５ｎｍである紫外線）を照射する。ここでは平行光線の一回露光で処理を完了する。これによると、光不透過部１２ａ以外の開口部を介して反応光が照射された部分が硬化し、光不透過部１２ａの下に未硬化部が形成される（同図（ｂ））。そして、その後の現像処理工程で、光不透過部１２ａ下の未硬化部を除去して隔壁パターンの雌型４Ａを得る（同図（ｃ））。
【００３８】
この際、前述の光線透過率を調整した液状光硬化性組成物が用いられることで、一回の平行光線露光であっても、雌型４Ａの断面形状を任意に設定することができ、例えば、４０％以上の光線透過率の液状光硬化組成物を用いることで、図示のように底面が上面より広い台形断面の雌型４Ａを得ることができる。
【００３９】
図３は、本発明の他の実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。この実施形態では、基板１を支持板１０の上に設置し、電極２（アドレス電極）が形成されて誘電体層３（アドレス保護層）が必要に応じて形成された基板１上に、前述の液状光硬化性組成物を乾燥して形成したフィルム（ドライフィルムレジスト）を載置して感光性樹脂膜４を形成し、この感光性樹脂膜４の上に隔壁パターンの光不透過部１２ａを有するフォトマスク１２を載置させ、反応光（例えば、最大発光波長が３６５ｎｍである紫外線）を照射する（同図（ａ））。そして、その後の現像処理工程で、光不透過部１２ａ下の未硬化部を除去して隔壁パターンの雌型４Ａを得る（同図（ｂ））。
【００４０】
これによっても前述の方法と同様に、図示のような底面が上面より広い台形断面の雌型４Ａを得ることができ、また、フィルム化した感光性樹脂膜４を用いるので、感光性樹脂膜４の形成を簡略化することができる。
【００４１】
図４は、本発明の他の実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。この実施形態では、一工程として、前述した光線透過率を所望の値に設定した前記の液状光硬化性組成物を乾燥硬化して複数のフィルム４０ａ〜４０ｄ等を形成する。そして、その後の工程で、形成する雌型の所望の断面形状に応じて、複数のフィルム４０ａ〜４０ｄを電極２或いは誘電体層３が形成された基板１上に積層する。また、その後の工程として、複数のフィルム４０ａ〜４０ｄ上に隔壁パターンの光不透過部１２ａを有するフォトマスク１２を載置させ反応光を照射し、更に、前述の実施形態と同様に、光不透過部１２ａ下の未硬化部を除去して隔壁パターンの雌型を得る。
【００４２】
この実施形態によると、複数のフィルム４０ａ〜４０ｄにおける前述した光線透過率を適宜異なる値に設定しておき、その積層順を適宜設定することで、フォトマスク１２を介して一回の露光で雌型の断面形状を任意に設定することができる。特に、フィルム４０ａ〜４０ｄの積層数を多くしてそれぞれ適当な光線透過率を設定することで、図示のように、所望の曲線断面を有する雌型を形成することも可能になる。これによると、良好な発光効率を得るために、放電セルの形状を任意に設計できることになり、高精細な放電セルの配置を形成した場合であっても、適正な発光空間を形成することができ、高画質の画像を得ることができる。
【００４３】
このような各実施形態によって隔壁パターン形成用雌型を形成した後には、図１（ｄ）に示した隔壁材の充填工程、図１（ｅ）に示した雌型の除去工程を経て、隔壁のパターンを形成することができる。本発明の実施形態に係る隔壁パターンの形成方法では、形成された雌型間に、隔壁材を充填した後、雌型及び隔壁材を同時焼成する。
【００４４】
この際に隔壁材の充填は、従来技術と同様に低融点ガラスペースト等の隔壁材ペーストを採用して、スキージ或いは塗布によって雌型間に充填する。この充填工程の後は、必要に応じて、雌型の溝部以外の部分に付着或いは飛び散った隔壁材を研磨等の手段でクリーニングし、雌型及び充填した隔壁材を同時に焼成して、雌型を分解除去すると同時に、隔壁材をガラス化し、基板１上に隔壁のパターンを形成する。この際、雌型と隔壁材を同時焼成することで、雌型がどのような形状（例えば底面が広い台形等）であっても、隔壁の成形物の形状を維持したままで、雌型を除去することができる。
【００４５】
前述した液状光硬化性組成物からなる隔壁パターン形成用雌型材料は、加熱することによって収縮する特性があり、焼成時に隔壁材へのストレスが無く、隔壁形成時の隔壁成形支持材としても有効であり、特に、隔壁の歪みや割れを無くす効果もある。また、この隔壁パターン形成用雌型材料は、焼成時には炭酸ガスと水蒸気が発生するのみで環境に有害なものは発生しないので、環境保護の観点からも有益なものである。
【００４６】
そして、前述したように形成された隔壁パターンによって放電セルが区画されたプラズマディスプレイパネルによると、高精細な画像を表示するために放電セルの密度を高くした場合であっても、放電セル内に十分な発光空間を形成することができると共に、発光効率を高めるように所望の形状に放電セルを設計することができる。特に、前述したように雌型を底面が広い台形にすることで隔壁の断面を逆台形断面にした場合には、放電セルの開口部に対して底面を広げることができ、効果的に発光空間を広げることができる。
【実施例】
【００４７】
以下に、本発明の隔壁パターン形成用雌型材料の実施例を以下に示す。
【００４８】
撹拌機を備えた反応容器に、ビスフェノールＡのジエポキシアクリレート（昭和高分子（株）製ＶＲ−９０）を５０部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）を１２．５部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）を１部、２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＥＸ）を表１に示す量、メチルエチルケトンを５０部添加した。容器中の混合物は、５０℃で３時間撹拌を行い、均一な溶液を得た。
【００４９】
得られた溶液を塗布する基板Ｓとして、トリメトキシシリルプロピルメタアクリレートのエタノール溶液で表面処理を行ったガラス基板を用意した。
【００５０】
このガラス基板上にアプリケータを用いて表１に示す例毎に液状光硬化性組成物を塗布した。塗布膜厚は、硬化後に約２２０μｍとなるように調整した。これを８０℃のオーブンに１０分間静置して乾燥を行った後、パターンマスクを表面に貼り付けてＵＶコンベアを用いてＵＶ照射した。ＵＶの照度は２０ｍＷ／ｃｍ２、照射光量は４５ｍＪ／ｃｍ２とした。
【００５１】
得られた硬化物をメチルエチルケトン／エタノール（１／１）の溶液に浸漬することで現像処理を行った。
【００５２】
得られた雌型の断面形状を顕微鏡で観察した。雌型形状と組成物の関係を表１に示す（表中の符号については図５を参照）。
【００５３】
【表１】
2006252996.tif 000003
【００５４】
この実施例の結果から、光線透過率と角度θ（雌型のオーバーハング角度）の関係を図６に示す。図示のように、光線透過率を１０〜６０％の間で調整することで、オーバーハング角度θを約７０〜１１０の範囲で変化させることができる。すなわち、雌型断面を逆台形から長方形或いは台形に変えることが可能になる。
【００５５】
以上説明したように、本発明の実施形態或いは実施例によると、高精細且つ高画質の画像を得るための有効な隔壁形成方法を提供することができ、隔壁形成にアディティブ法を採用するに際して、一回の露光で十分な高さを有し、且つ所望の断面形状を有する隔壁（隔壁を形成するための雌型）を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】従来技術の説明図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。
【図３】本発明の他の実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。
【図４】本発明の他の実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。
【図５】実施例（表１）の説明図である。
【図６】実施例における光線透過率と雌型のオーバーハング角度の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００５７】
１    基板
２    電極
３    誘電体層
４    感光性樹脂膜
４Ａ    雌型
１０    支持板
１１    液漏れガイド板
１２    フォトマスク
１２ａ    光不透過部
４０ａ〜４０ｄ  フィルム
【図１】
2006252996.tif 000004
【図２】
2006252996.tif 000005
【図３】
2006252996.tif 000006
【図４】
2006252996.tif 000007
【図５】
2006252996.tif 000008
【図６】
2006252996.tif 000009