(57)【要約】  【課題】薬品メーカ、装置メーカおよびデバイスメーカのそれぞれに好都合な基板処理システムおよび基板処理装置、ならびにそれらに適用される処理流体使用代価算出方法を提供する。  【解決手段】薬液供給装置２から基板処理装置１に供給される薬液の状態（流量、薬液中の金属汚染物の濃度、薬液に含まれる微粒子の量）に応じて、その供給される薬液の単価が決定されるとともに、基板処理装置１における薬液の使用量が算出されて、その単価と使用量とを乗じることによって、基板処理装置１における薬液の使用に対する代価が算出される。【選択図】        図１
2006228815.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して処理流体を用いた処理を行う基板処理装置と、この基板処理装置に処理流体を供給するための処理流体供給装置とを備える基板処理システムであって、
前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体の状態を検出する処理流体状態検出手段と、
この処理流体状態検出手段による検出結果に基づいて、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給された処理流体の予め定める単位量あたりの価格である単価を決定する単価決定手段と、
前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体の流量を検出する流量検出手段と、
この流量検出手段によって検出される流量に基づいて、前記基板処理装置における処理流体の使用量を算出する使用量算出手段と、
前記単価決定手段によって決定された単価と前記使用量算出手段によって算出された使用量とを乗じて、前記基板処理装置における処理流体の使用に対する代価を算出する代価算出手段とを含むことを特徴とする基板処理システム。
【請求項２】
前記処理流体供給装置から前記基板処理装置への処理流体の供給に先立って、予め定める初期ポイントに対する処理流体の前記単位量あたりの価格である初期単価を設定するための初期単価設定手段をさらに含み、
前記単価決定手段は、前記初期ポイントから前記処理流体状態検出手段による検出結果に応じた減算ポイントを減算することにより、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給された処理流体の最終ポイントを算出する最終ポイント算出手段を備え、前記初期単価設定手段によって設定された初期単価および前記最終ポイント算出手段によって算出された最終ポイントに基づいて、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給された処理流体の単価を決定することを特徴とする請求項１記載の基板処理システム。
【請求項３】
前記処理流体供給装置に設けられ、前記基板処理装置に供給される処理流体の流量を調節する流量調節手段をさらに含み、
前記流量検出手段は、前記処理流体状態検出手段を兼ねていることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理システム。
【請求項４】
前記処理流体供給装置は、前記基板処理装置に複数種類の処理流体を供給するものであり、
前記流量調節手段は、処理流体の種類ごとに設けられていることを特徴とする請求項３記載の基板処理システム。
【請求項５】
前記処理流体状態検出手段は、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体中の金属汚染物の濃度を検出する金属汚染物濃度検出手段を含むことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理システム。
【請求項６】
前記処理流体状態検出手段は、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体中の微粒子の量を検出する微粒子量検出手段を含むことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理システム。
【請求項７】
処理流体供給装置から基板処理装置に供給された処理流体の使用に対する代価を算出する方法であって、
前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体の状態を検出する処理流体状態検出ステップと、
この処理流体状態検出ステップにおける検出結果に基づいて、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給された処理流体の単位量あたりの価格である単価を決定する単価決定ステップと、
前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体の流量を検出する流量検出ステップと、
この流量検出ステップにおいて検出される流量に基づいて、前記基板処理装置における処理流体の使用量を算出する使用量算出ステップと、
前記単価決定ステップにおいて決定された単価と前記使用量算出ステップにおいて算出された使用量とを乗じて、処理流体の使用に対する代価を算出する代価算出ステップとを含むことを特徴とする処理流体使用代価算出方法。
【請求項８】
処理流体供給装置から供給される処理流体を用いて基板を処理するための処理部と、
前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体の状態を検出する処理流体状態検出手段と、
この処理流体状態検出手段による検出結果に基づいて、前記処理流体供給装置から前記処理部に供給された処理流体の単位量あたりの価格である単価を決定する単価決定手段と、
前記処理流体供給装置から前記処理部に供給される処理流体の流量を検出する流量検出手段と、
この流量検出手段によって検出される流量に基づいて、前記処理部における処理流体の使用量を算出する使用量算出手段と、
前記単価決定手段によって決定された単価と前記使用量算出手段によって算出された使用量とを乗じることにより、処理流体の使用に対する代価を算出する代価算出手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板を処理するための基板処理システムおよび基板処理装置、ならびに、それらの基板処理システムおよび基板処理装置において使用された処理流体に対する代価を算出する処理流体使用代価算出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体ウエハや液晶表示装置用ガラス基板などの基板に処理液や処理ガスなどの処理流体を供給して、その処理流体による処理を基板に施すための基板処理装置が知られている。
このような基板処理装置は、装置メーカによって製造され、その装置メーカから半導体装置や液晶表示装置のメーカ（デバイスメーカ）に納品される。この納品先のデバイスメーカにおいて、基板処理装置が設置される工場には、処理流体を貯留しておくためのタンクが備えられている。基板の処理に使用される処理流体は、そのタンクから処理流体供給配管を通して基板処理装置に供給される。
【０００３】
一方、基板の処理に使用される処理流体は、その処理流体を製造する薬品メーカからデバイスメーカに納品され、薬品メーカの管理の下で工場のタンクに供給（補充）される。そして、デバイスメーカは、タンクに供給された処理流体の量に応じた代価（代金）を薬品メーカに支払う。また、処理流体がタンクに供給された後も、薬品メーカによって、タンク内の処理流体の品質（清浄度など）が管理されている。そのため、タンク内の処理流体は、基板の処理に好適な品質が保証されている。
【特許文献１】特開平７−１３０６９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、タンクから汲み出された処理流体に対して、薬品メーカによる品質管理は行われていない。そのため、タンク内における処理流体の品質が管理されていても、その処理流体が処理流体供給配管を流れる間に汚染されるおそれがある。汚染された処理流体は、基板の処理に使用することができないので、タンクに供給された処理流体の量に応じた代価を薬品メーカに支払っているデバイスメーカは、薬品メーカまたは装置メーカに対して苦情を訴える。
【０００５】
また、薬品メーカによる管理の下で、処理流体供給配管から基板処理装置に供給される処理流体の流量が調節されるといったことは行われていない。そのため、従来の基板処理装置では、処理流体の流量を調節するためのバルブが組み込まれており、このバルブの制御によって、処理流体供給配管から供給される処理流体の流量が基板の処理に適した流量に調節されるといったことが行われている。しかしながら、処理流体の取扱いに関する知識および技術は、装置メーカよりも薬品メーカの方が優れているため、薬品メーカの管理の下であれば、処理流体供給配管から基板処理装置に供給される処理流体の流量をより高精度に調節することができると考えられる。
【０００６】
そこで、本願発明者は、基板の処理に使用される処理流体の状態（品質および流量）を、基板処理装置に供給されるまで、ひいては基板に供給される直前まで薬品メーカが管理すれば、基板に対して処理に適した状態の処理流体を供給することができ、より良好な基板処理を実現することができると考えた。そして、そのように処理流体の状態を保証したうえで、デバイスメーカから薬品メーカに代価が支払われるようにすれば、デバイスメーカから薬品メーカおよび装置メーカへの処理流体の状態に関する苦情の訴えが少なくなると考えた。また、装置メーカにとっては、基板処理装置の開発にあたって、処理流体の状態管理に関する部分の開発費を削減することができ、その分、基板のハンドリング技術の向上などに力を注ぐことができるといったメリットがあると考えた。さらに、デバイスメーカにとっては、基板を良好に処理することができる結果、高品質な半導体装置や液晶表示装置などを製造することができるといったメリットがあると考えた。
【０００７】
この発明は、上述のような背景の下でなされたものであり、その目的は、薬品メーカ、装置メーカおよびデバイスメーカのそれぞれに好都合な基板処理システムおよび基板処理装置、ならびにそれらに適用される処理流体使用代価算出方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板（Ｓ）に対して処理流体を用いた処理を行う基板処理装置（１）と、この基板処理装置に処理流体を供給するための処理流体供給装置（２）とを備える基板処理システムであって、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体の状態を検出する処理流体状態検出手段（１５１，１５２，１５３）と、この処理流体状態検出手段による検出結果に基づいて、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給された処理流体の予め定める単位量あたりの価格である単価を決定する単価決定手段（３３，３５）と、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体の流量を検出する流量検出手段（１５１）と、この流量検出手段によって検出される流量に基づいて、前記基板処理装置における処理流体の使用量を算出する使用量算出手段（３６）と、前記単価決定手段によって決定された単価と前記使用量算出手段によって算出された使用量とを乗じて、前記基板処理装置における処理流体の使用に対する代価を算出する代価算出手段（３７）とを含むことを特徴とする基板処理システムである。
【０００９】
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この構成によれば、処理流体供給装置から基板処理装置に供給される処理流体の状態に応じた単価が決定されるとともに、基板処理装置における処理流体の使用量が算出されて、その単価と使用量とを乗じることによって、基板処理装置における処理流体の使用に対する代価が算出される。
【００１０】
たとえば、処理流体供給装置から基板処理装置に供給される処理流体の流量が予め設定されている基準値と一致していないなど、処理流体の状態が悪い場合には、処理流体の単価が低く決定されるようにすれば、薬品メーカは、その処理流体の取扱いに関する高度な知識および技術を駆使して、基板処理装置に供給されるまで、ひいては基板に供給される直前まで、処理流体の状態が良好に保たれるように管理することによって、少しでも多額の代価の支払いをデバイスメーカから受けようと努力する。したがって、従来よりも良好な状態の処理流体が基板処理装置に供給されるようになるので、基板処理装置において、より良好な基板処理を実現することができる。そのため、デバイスメーカは、高品質な半導体装置や液晶表示装置などを製造することができる。また、装置メーカにとっては、基板処理装置の開発にあたって、処理流体の状態管理に関する部分の開発費を削減することができ、その分、基板の処理技術や搬送技術の向上などに力を注ぐことができる。一方、薬品メーカにとっては、基板の処理に良好な状態の処理流体が用いられる結果、デバイスメーカから高い評価を受け、処理流体の受注量が増えるといった利益を受けることができる。
【００１１】
請求項２記載の発明は、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置への処理流体の供給に先立って、予め定める初期ポイントに対する処理流体の前記単位量あたりの価格である初期単価を設定するための初期単価設定手段（３１）をさらに含み、前記単価決定手段は、前記初期ポイントから前記処理流体状態検出手段による検出結果に応じた減算ポイントを減算することにより、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給された処理流体の最終ポイントを算出する最終ポイント算出手段（３５）を備え、前記初期単価設定手段によって設定された初期単価および前記最終ポイント算出手段によって算出された最終ポイントに基づいて、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給された処理流体の単価を決定することを特徴とする請求項１記載の基板処理システムである。
【００１２】
このような構成によれば、初期ポイントから処理流体の状態に応じた減算ポイントが減算され、これによって算出される最終ポイントに基づいて、処理流体供給装置から基板処理装置に供給された処理流体の単価が決定される。そのため、処理流体の状態に応じた単価を適切に決定することができる。
請求項３記載の発明は、前記処理流体供給装置に設けられ、前記基板処理装置に供給される処理流体の流量を調節する流量調節手段（２６，Ｍ）をさらに含み、前記流量検出手段は、前記処理流体状態検出手段を兼ねていることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理システムである。
【００１３】
このような構成によれば、基板処理装置に供給される処理流体の流量が調節される場合に、処理流体の単価がその流量の調節精度に応じて決定される。そのため、基板処理装置における処理流体の使用に対して、処理流体の流量の調節精度に応じた適切な代価を算出することができる。
請求項４記載の発明は、前記処理流体供給装置は、前記基板処理装置に複数種類の処理流体を供給するものであり、前記流量調節手段は、処理流体の種類ごとに設けられていることを特徴とする請求項３記載の基板処理システムである。
【００１４】
このような構成によれば、複数種類の処理流体の流量をそれぞれ個別に調節することができる。そのため、たとえば、複数種類の処理流体が基板処理装置に備えられるミキシングバルブなどで混合される場合に、各種の処理流体の流量を時間の経過とともに変化させることにより、ミキシングバルブで作成される混合流体中の各種処理流体の混合比を変化させることができる。その結果、多種多様な基板処理を実現することができる。
【００１５】
請求項５記載の発明は、前記処理流体状態検出手段は、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体中の金属汚染物の濃度を検出する金属汚染物濃度検出手段（１５２）を含むことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理システムである。
このような構成によれば、処理流体の単価がその処理流体中の金属汚染物の濃度に応じて決定される。そのため、基板処理装置における処理流体の使用に対して、処理流体中の金属汚染物の濃度に応じた適切な代価を算出することができる。
【００１６】
請求項６記載の発明は、前記処理流体状態検出手段は、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体中の微粒子の量を検出する微粒子量検出手段（１５３）を含むことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理システムである。
このような構成によれば、処理流体の単価がその処理流体中の微粒子の量に応じて決定される。そのため、基板処理装置における処理流体の使用に対して、処理流体中の微粒子の量に応じた適切な代価を算出することができる。
【００１７】
請求項７記載の発明は、処理流体供給装置（２）から基板処理装置（１）に供給された処理流体の使用に対する代価を算出する方法であって、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体の状態を検出する処理流体状態検出ステップと、この処理流体状態検出ステップにおける検出結果に基づいて、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給された処理流体の単位量あたりの価格である単価を決定する単価決定ステップと、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体の流量を検出する流量検出ステップと、この流量検出ステップにおいて検出される流量に基づいて、前記基板処理装置における処理流体の使用量を算出する使用量算出ステップと、前記単価決定ステップにおいて決定された単価と前記使用量算出ステップにおいて算出された使用量とを乗じて、処理流体の使用に対する代価を算出する代価算出ステップとを含むことを特徴とする処理流体使用代価算出方法である。
【００１８】
このような方法が採用されることにより、請求項１に関連して述べた効果と同様な効果を得ることができる。
請求項８記載の発明は、処理流体供給装置から供給される処理流体を用いて基板（Ｓ）を処理するための処理部（１０）と、前記処理流体供給装置から前記基板処理装置に供給される処理流体の状態を検出する処理流体状態検出手段（１５１，１５２，１５３）と、この処理流体状態検出手段による検出結果に基づいて、前記処理流体供給装置から前記処理部に供給された処理流体の単位量あたりの価格である単価を決定する単価決定手段（３３，３５）と、前記処理流体供給装置から前記処理部に供給される処理流体の流量を検出する流量検出手段（１５１）と、この流量検出手段によって検出される流量に基づいて、前記処理部における処理流体の使用量を算出する使用量算出手段（３６）と、前記単価決定手段によって決定された単価と前記使用量算出手段によって算出された使用量とを乗じることにより、処理流体の使用に対する代価を算出する代価算出手段（３７）とを含むことを特徴とする基板処理装置（１）である。
【００１９】
このような構成によれば、請求項１に関連して述べた効果と同様な効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理システムの構成図である。この基板処理システムは、基板Ｓに対して処理流体を用いた処理を行う基板処理装置１と、この基板処理装置１に薬液（処理流体）を供給するための薬液供給装置２とを備えている。これらの基板処理装置１および薬液供給装置２は、半導体装置や液晶表示装置などを製造するデバイスメーカの工場に設置される。また、デバイスメーカの工場には、基板処理装置１における処理流体の使用に対する代価を算出するためのコンピュータ３が備えられる。
【００２１】
基板処理装置１は、たとえば、基板Ｓを１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置であって、処理室１０内に、基板Ｓをほぼ水平に保持して回転するスピンチャック１１と、このスピンチャック１１に保持された基板Ｓに処理流体を供給するためのノズル１２とを備えている。この基板処理装置１で処理される基板Ｓとしては、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディプレイパネル用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板および磁気／光ディスク用基板などを例示することができる。また、基板Ｓに対する処理は、処理流体を用いた処理であれば、たとえば、基板Ｓの表面からパーティクルや各種金属不純物などの不要物を除去する洗浄処理であってもよいし、基板Ｓの表面に酸化膜を形成させる酸化処理であってもよい。
【００２２】
ノズル１２には、ミキシングバルブ１３から処理流体が供給されるようになっている。このミキシングバルブ１３からノズル１２に供給される処理流体が流れる最終供給路１４には、この最終供給路１４を流れる処理流体中の異物を除去するためのフィルタ１４１が介装されている。
ミキシングバルブ１３は、たとえば、４つの薬液導入バルブ１３１を備えている。各薬液導入バルブ１３１には、薬液供給装置２から供給される薬液を導入するための薬液導入路１５が接続されている。各薬液導入路１５には、薬液供給装置２から供給される薬液の流量を検出する流量センサ１５１と、その薬液中に含まれる各種金属汚染物（たとえば、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ）の濃度を検出する金属汚染物濃度センサ１５２と、その薬液中に含まれる微粒子（パーティクル）の量を検出する微粒子量センサ１５３とが介装されている。
【００２３】
また、ミキシングバルブ１３には、純水導入路１６が接続されている。この純水導入路１６には、ＤＩＷバルブ１６１を介して、ＤＩＷ（脱イオン化された純水）が供給されるようになっている。また、純水導入路１６には、ＤＩＷバルブ１６１に対して純水流通方向の上流側に、純水導入路１６を流れるＤＩＷの流圧を調節するためのレギュレータ１６２が介装されている。
【００２４】
各薬液導入バルブ１３１およびＤＩＷバルブ１６１を１つずつ選択的に開成することによって、各薬液導入路１５から供給される各種薬液および純水導入路１６から供給される純水を、ミキシングバルブ１３からノズル１２に向けて選択的に送ることができる。また、各薬液導入バルブ１３１およびＤＩＷバルブ１６１を複数同時に開成することによって、ミキシングバルブ１３において、各薬液導入路１５から供給される各種薬液および純水導入路１６から供給される純水の混合液を作成することができ、その混合液をミキシングバルブ１３からノズル１２に向けて送ることができる。
【００２５】
また、基板処理装置１には、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを含むマイクロコンピュータで構成される制御部１７が備えられている。制御部１７は、基板Ｓの処理のために、各薬液導入バルブ１３１およびＤＩＷバルブ１６１の開閉を制御する。また、制御部１７は、コンピュータ３に接続されている。
薬液供給装置２は、基板処理装置１における基板Ｓの処理に使用される各種薬液を貯留しておくための４つのタンク２１と、各タンク２１から延びる薬液供給配管２２とを備えている。
【００２６】
各薬液供給配管２２は、基板処理装置１がデバイスメーカの工場に設置されたときに、その基板処理装置１の各薬液導入路１５と接続される。各薬液供給配管２２には、タンク２１側から順に、薬液供給配管２２を流れる薬液中の異物を除去するためのフィルタ２３と、薬液供給配管２２を開閉するためのタンク側バルブ２４とが介装されている。さらに、薬液供給配管２２には、タンク側バルブ２４に対して薬液流通方向の下流側に、吸引／吐出路２５の一端が分岐接続されており、この吸引／吐出路２５の他端は、シリンジ２６に接続されている。
【００２７】
シリンジ２６は、中空円筒状のシリンダ２６１と、このシリンダ２６１内に挿入されていて、シリンダ２６１の内周面に対して液密性を保持しながら摺動可能なピストン２６２とで構成されている。シリンダ２６１は、その先端に吸引／吐出口２６１ａを有しており、この吸引／吐出口２６１ａに吸引／吐出路２５が接続されている。また、シリンダ２６１は、中空部分の内径（ピストン２６２の摺動方向に直交する平面で切断したときの断面積）がピストン２６２の摺動方向の各部分で一定に形成されている。
【００２８】
ピストン２６２は、ボールねじ機構２７によって、シリンダ２６１に対して往復動されるようになっている。ボールねじ機構２７は、ピストン２６２の摺動方向に沿って配置されたねじ軸２７１と、このねじ軸２７１に螺合されたナット２７２と、ねじ軸２７１を回転駆動するためのモータ（たとえば、ステッピングモータまたはサーボモータ）Ｍとを含む。ピストン２６２の後端部（シリンダ２６１の外に出ている部分）がナット２７２に連結されており、これにより、モータＭによってねじ軸２７１を正逆回転させると、ナット２７２がねじ軸２７１に対して往復動し、このナット２７２の往復動に伴って、ピストン２６２がシリンダ２６１に対して往復動する。
【００２９】
薬液供給配管２２上のタンク側バルブ２４が開かれ、その薬液供給配管２２に接続されている薬液導入路１５上の薬液導入バルブ１３１が閉じられた状態で、モータＭによってねじ軸２７１を回転させて、ピストン２６２をシリンダ２６１から引き抜く方向に摺動させることにより、タンク２１に貯留されている薬液を吸引／吐出路２５を通してシリンダ２６１内に吸い上げることができる。また、こうしてシリンダ２６１内に薬液が吸い上げられた後、薬液供給配管２２上のタンク側バルブ２４を閉じるとともに、その薬液供給配管２２に接続されている薬液導入路１５上の薬液導入バルブ１３１を開いて、その状態で、モータＭによってねじ軸２７１をシリンダ２６１内に薬液を吸い上げる時とは逆方向に回転させて、ピストン２６２をシリンダ２６１に押し込む方向に摺動させることにより、シリンダ２６１内の薬液を吸引／吐出路２５を通して薬液供給配管２２に流入させることができる。そして、モータＭの速度を制御することにより、基板処理装置１に向けて送り出される薬液の流量を調節することができる。
【００３０】
また、薬液供給装置２には、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを含むマイクロコンピュータで構成される制御部２８が備えられている。各モータＭの駆動および各タンク側バルブ２４の開閉は、制御部２８によって制御される。
なお、図１では、簡素化のために、１種類の薬液の供給系統のみが示されているが、その他の３種類の薬液の供給系統も同様な構成を備えている。
【００３１】
図２は、コンピュータ３の構成を示すブロック図である。コンピュータ３は、たとえば、コンピュータ本体、ディスプレイ、キーボードおよびポインティングデバイス（マウス、ポインティングペンなど）を備えるパーソナルコンピュータで構成されている。
コンピュータ３のコンピュータ本体は、ＣＰＵやバックアップ機能付きのメモリなどを内蔵している。このコンピュータ本体には、基板処理装置１の制御部１７および薬液供給装置２の制御部２８が接続されており、コンピュータ３、制御部１７および制御部２８でそれぞれ実行される処理（制御）に必要なデータなどが、コンピュータ本体と制御部１７との間およびコンピュータ本体と制御部２８との間で送受信される。また、コンピュータ本体には、基板処理装置１の各センサ１５１，１５２，１５３の検出信号が、直接または制御部１７を介して入力されるようになっている。
【００３２】
そして、コンピュータ３のコンピュータ本体は、ＣＰＵによるプログラム処理によってソフトウエア的に実現される機能処理部やメモリによって構成される記憶部などを備えている。
すなわち、コンピュータ本体は、ディスプレイに薬液支払条件設定画面（図３参照）を表示させるための支払条件設定部３１と、この支払条件設定部３１における設定内容に従って、各種薬液ごとに単価テーブル（図４参照）を作成する単価テーブル作成部３２と、この単価テーブル作成部３２によって作成された単価テーブルを記憶しておくための単価テーブル記憶部３３と、ディスプレイに薬液処理判断条件設定画面（図５参照）を表示させるための判断条件設定部３４と、基板処理装置１の各センサ１５１，１５２，１５３から入力される検出信号に基づいて、各種薬液の単価を決定するための最終ポイントを算出するポイント算出部３５と、基板処理装置１の各流量センサ１５１から入力される検出信号に基づいて、基板処理装置１における各種薬液の使用量（薬液供給装置２から基板処理装置１への各種薬液の供給量）を算出する使用量算出部３６と、基板処理装置１における各種薬液の使用に対する代価を算出する代価算出部３７と、この代価算出部３７によって算出された代価をメモリに累積して記憶しておくための代価累積記憶部３８とを備えている。支払条件設定部３１、単価テーブル作成部３２、判断条件設定部３４、ポイント算出部３５、使用量算出部３６および代価算出部３７は、プログラム処理によってソフトウエア的に実現される機能処理部である。単価テーブル記憶部３３および代価累積記憶部３８は、メモリによって構成される。
【００３３】
薬液支払条件設定画面は、薬液供給装置２から基板処理装置１への薬液の供給に先立って、デバイスメーカから薬液メーカへの薬液の使用に対する代価の支払いの条件を設定するための画面である。この薬液支払条件設定画面には、図３に示すように、薬液供給装置２から基板処理装置１に供給可能な４種類の薬液（以下、「薬液１〜４」という。）の名称（薬液名）を入力するための４個の薬液名入力ボックス３１１と、薬液１〜４のそれぞれについて、予め定める対象量およびその対象量あたりの価格（以下「初期単価」という。）をそれぞれ入力するための対象量入力ボックス３１２および初期単価入力ボックス３１３とが表示されている。ポインティングデバイスを操作して、各入力ボックス３１１〜３１３にカーソルを合わせた状態で、キーボードから各入力ボックス３１１〜３１３への入力を行うことができる。この薬液支払条件設定画面で入力（設定）された内容は、支払条件設定部３１によってメモリに保存される。
【００３４】
なお、図３では、薬液支払条件設定画面の入力例が示されており、薬液１については、薬液名入力ボックス３１１に「ＮＨ４ＯＨ」が入力され、対象量入力ボックス３１２に「１０００」ｍｌが入力され、初期単価入力ボックス３１３に「１０００」円が入力されている。また、薬液２については、薬液名入力ボックス３１１に「ＨＣｌ」が入力され、対象量入力ボックス３１２に「１０００」ｍｌが入力され、初期単価入力ボックス３１３に「１２００」円が入力されている。薬液３については、薬液名入力ボックス３１１に「ＨＦ」が入力され、対象量入力ボックス３１２に「１００」ｍｌが入力され、初期単価入力ボックス３１３に「１００」円が入力されている。薬液４については、薬液名入力ボックス３１１に「Ｈ２Ｏ２」が入力され、対象量入力ボックス３１２に「１０００」ｍｌが入力され、初期単価入力ボックス３１３に「８００」円が入力されている。
【００３５】
単価テーブルは、図４に示すように、薬液１〜４のそれぞれについて、薬液支払条件設定画面（図３参照）で設定（入力）された薬液名および初期単価と、ポイント算出部３５において０〜１００ポイントの範囲で１０ポイント刻みに算出される各最終ポイントに対する単価とを定めたテーブルである。薬液支払条件設定画面において、薬液１〜４についての各入力ボックス３１１〜３１３への入力が行われると、単価テーブル作成部３２によって単価テーブルが作成される。
【００３６】
なお、図４に示す単価テーブルは、図３に示す薬液支払条件設定画面の入力例に対応したものであり、たとえば、薬液１について、薬液名「ＮＨ４ＯＨ」、初期単価「￥１０００／１Ｌ」、最終ポイント「１００」に対する単価「１０００円」、最終ポイント「９０」に対する単価「９００円」、最終ポイント「８０」に対する単価「８００円」、最終ポイント「７００」に対する単価「７００円」、最終ポイント「６０」に対する単価「６００円」、最終ポイント「５０」に対する単価「５００円」、最終ポイント「４０」に対する単価「４００円」、最終ポイント「３０」に対する単価「３００円」、最終ポイント「２０」に対する単価「２００円」、最終ポイント「１０」に対する単価「１００円」、最終ポイント「０」に対する単価「０円」を相互に関連づけて定めている。
【００３７】
薬液処理判断条件設定画面は、薬液１〜４のそれぞれについて、最終ポイントを算出するポイント算出部３５によって最終ポイントを決定する際に判断される条件を個別に設定するための画面である。この薬液処理判断条件設定画面には、図５に示すように、薬液１〜４の薬液名を表示する薬液名表示ボックス３４１が表示されている。また、その薬液名表示ボックス３４１に表示された薬液が薬液供給装置２から基板処理装置１に供給されるときの流量について、基準値（設定値）を入力するための流量基準値入力ボックス３４２と、その基準値に対する許容値１，２をそれぞれ入力するための２個の流量許容値入力ボックス３４３とが表示されている。さらに、薬液名表示ボックス３４１に表示された薬液に含まれる微粒子について、基準値（設定値）を入力するための微粒子基準値入力ボックス３４４と、その基準値に対する許容値１，２をそれぞれ入力するための２個の微粒子許容値入力ボックス３４５とが表示されている。さらにまた、薬液名表示ボックス３４１に表示された薬液中の各種金属汚染物（４種類の金属）の濃度について、それぞれ基準値（設定値）を入力するための金属濃度基準値入力ボックス３４６と、各基準値に対する許容値１，２をそれぞれ入力するための合計８個の金属濃度許容値入力ボックス３４７とが表示されている。
【００３８】
薬液名表示ボックス３４１には、薬液支払条件設定画面において設定された内容に基づいて、この薬液処理判断条件設定画面で条件が設定される１種類の薬液の薬液名が自動的に表示される。
また、各入力ボックス３４２〜３４７には、ポインティングデバイスを操作して、各入力ボックス３４１〜３４７にカーソルを合わせた状態で、キーボードから基準値などの数値の入力を行うことができる。この薬液処理判断条件設定画面で入力（設定）された内容は、判断条件設定部３４によってメモリに保存される。
【００３９】
なお、図５では、薬液処理判断条件設定画面の入力例が示されており、薬液１である「ＮＨ４ＯＨ」について、流量基準値入力ボックス３４２には、「２００」ｍｌ／ｍｉｎが入力されている。また、２個の流量許容値入力ボックス３４３には、許容値１として「（＋／−）５」ｍｌ／ｍｉｎが入力され、許容値２として「（＋／−）１０」ｍｌ／ｍｉｎが入力されている。微粒子基準値入力ボックス３４４には、「０」ｐｃｓ／ｍｌが入力されている。また、２個の微粒子許容値入力ボックス３４５には、許容値１として「（＋）２」ｐｃｓ／ｍｌが入力され、許容値２として「（＋）４」ｐｃｓ／ｍｌが入力されている。金属濃度基準値入力ボックス３４６には、Ｆｅ濃度基準値として「１００」ｐｐｔが入力され、Ａｌ濃度基準値として「２００」ｐｐｔが入力され、Ｃｕ濃度基準値として「２００」ｐｐｔが入力され、Ｚｎ濃度基準値として「２００」ｐｐｔが入力されている。また、各金属濃度許容値入力ボックス３４７には、Ｆｅ濃度基準値、Ａｌ濃度基準値、Ｃｕ濃度基準値およびＺｎ濃度基準値に対する許容値１として「（＋）１００」ｐｐｔが入力され、許容値２として「（＋）２００」ｐｐｔが入力されている。
【００４０】
さらに、薬液処理判断条件設定画面には、たとえば、流量基準値入力ボックス３４２の左隣に、薬液供給装置２から基板処理装置１への薬液１〜４の流量を時間とともに変化させるか否か（特殊ミキシングを行うか否か）を設定するためのチェックボックス３４８が設けられている。薬液１〜４の流量を時間とともに変化させる場合には、ポインティングデバイスを操作して、チェックボックス３４８にチェックを付ける。そして、チェックボックス３４８にチェックを付けると、ディスプレイの表示が薬液処理判断条件設定画面から薬液処理流量変化特殊処理設定画面に切り替わる。
【００４１】
薬液処理流量変化特殊処理設定画面には、図６に示すように、薬液１〜４の薬液名を表示する薬液名表示ボックス６１とともに、薬液名表示ボックス３４１に表示された薬液の流量の時間変化を表すグラフを記入するグラフエリア６２が表示される。たとえば、ポインティングペンを用いて、そのグラフエリア６２に薬液の流量の時間変化を表すグラフを記入すると、そのグラフの下方の領域がその領域以外の表示色と異なる色で表示される。グラフの形状は、この薬液処理流量変化特殊処理設定画面がディスプレイに表示されている間、たとえば、ポインティングペンを用いて変更することができる。そして、グラフエリア６２へのグラフの記入が完了し、この薬液処理流量変化特殊処理設定画面が閉じられて、設定が完了すると、それ以降に薬液供給装置２から基板処理装置１に供給される薬液の流量が、グラフエリア６２に記入されたグラフの形状に応じて変化される。
【００４２】
図７は、ポイント算出部３５、使用量算出部３６および代価算出部３７によって行われる処理の流れを示すフローチャートである。なお、以下では、薬液１の使用に対する代価を算出する場合の処理を例にとって説明するが、薬液２〜４の使用に対する代価の算出についても同様な処理が行われる。
基板処理装置１における処理が開始される旨の信号が、基板処理装置１の制御部１７からコンピュータ３のコンピュータ本体に入力されると、まず、ポイント算出部３５によって、メモリが参照されて、薬液１について、薬液支払条件設定画面および薬液処理判断条件設定画面において設定された内容が確認される。また、薬液１のポイントとして、予め定める初期ポイントとして「１００」がメモリに格納される（ステップＳ１）。
【００４３】
次に、ポイント算出部３５によって、金属汚染物濃度センサ１５２から入力される検出信号に基づいて、薬液１に含まれる各種金属汚染物の濃度（金属濃度）が検出される（ステップＳ２）。そして、各種金属汚染物の濃度がそれぞれ薬液処理判断条件設定画面において設定された基準値以下であるか否かが判断される（ステップＳ３）。
薬液１に基準値を超える濃度の金属汚染物が含まれる場合、つづいて、その金属汚染物の濃度が基準値に対する許容値１の範囲内であるか否か、つまり金属汚染物の濃度が基準値＋許容値１以下であるか否かが判断される（ステップＳ４）。
【００４４】
そして、許容値１の範囲内であれば、薬液１の初期ポイントから減算すべきポイント（減算ポイント）として「１０」がメモリに格納される（ステップＳ５）。
たとえば、図５に示す薬液処理判断条件設定画面の入力例の通りに設定された場合、Ｆｅ濃度、Ａｌ濃度、Ｃｕ濃度およびＺｎ濃度が、それぞれＦｅ濃度基準値、Ａｌ濃度基準値、Ｃｕ濃度基準値およびＺｎ濃度基準値以下であるか否かが判断される。そして、Ｆｅ濃度がＦｅ濃度基準値「１００」ｐｐｔを超えている場合には、Ｆｅ濃度が基準値「１００」ｐｐｔとこれに対する許容値１「（＋）１００」ｐｐｔとの加算値「２００」ｐｐｔ以下であるか否かが判断される。Ｆｅ濃度が加算値「２００」ｐｐｔ以下であれば、金属汚染物の濃度に関する減算ポイントとして「１０」がメモリに格納される。
【００４５】
なお、複数種類の金属汚染物の濃度が基準値を超える場合には、それらの濃度がそれぞれ許容値１の範囲内であるか否かが判断され、肯定された判断の数と減算ポイント「１０」との乗算値が減算ポイントとしてメモリに格納される。たとえば、図５に示す薬液処理判断条件設定画面の入力例の通りに設定された場合において、Ｆｅ濃度以外に、Ｚｎ濃度も基準値「１００」ｐｐｔを超えている場合には、そのＺｎ濃度が基準値「１００」ｐｐｔとこれに対する許容値１「（＋）１００」ｐｐｔとの加算値「２００」ｐｐｔ以下であるか否かが判断され、この判断が肯定された場合には、金属汚染物の濃度に関する減算ポイントとして２×「１０」＝「２０」がメモリに格納される。
【００４６】
一方、薬液１に基準値を超える濃度の金属汚染物が含まれる場合において、その金属汚染物の濃度が許容値１の範囲を超えている場合、つまり金属汚染物の濃度が基準値＋許容値１を超えている場合には、さらに、金属汚染物の濃度が基準値に対する許容値２の範囲内であるか否か、つまり金属汚染物の濃度が基準値＋許容値２以下であるか否かが判断される（ステップＳ６）。
【００４７】
そして、許容値２の範囲内であれば、薬液１の減算ポイントとして「２０」がメモリに格納される（ステップＳ７）。
たとえば、図５に示す薬液処理判断条件設定画面の入力例の通りに設定された場合において、Ｆｅ濃度が基準値「１００」ｐｐｔとこれに対する許容値１「（＋）１００」ｐｐｔとの加算値「２００」ｐｐｔを超えている場合には、そのＦｅ濃度が基準値「１００」ｐｐｔと許容値２「（＋）２００」ｐｐｔとの加算値「３００」ｐｐｔ以下であるか否かが判断され、この判断が肯定された場合には、減算ポイントとして「２０」がメモリに格納される。
【００４８】
なお、複数種類の金属汚染物の濃度が許容値１を超える場合には、それらの濃度がそれぞれ許容値２の範囲内であるか否かが判断され、肯定された判断の数と減算ポイント「２０」との乗算値が減算ポイントとしてメモリに格納される。たとえば、図５に示す薬液処理判断条件設定画面の入力例の通りに設定された場合において、Ｆｅ濃度以外に、Ｚｎ濃度も基準値「１００」ｐｐｔとこれに対する許容値１「（＋）１００」ｐｐｔとの加算値「２００」ｐｐｔを超えている場合には、そのＺｎ濃度が基準値「１００」ｐｐｔとこれに対する許容値２「（＋）２００」ｐｐｔとの加算値「３００」ｐｐｔ以下であるか否かが判断され、この判断が肯定された場合には、減算ポイントとして２×「２０」＝「４０」がメモリに格納される。
【００４９】
薬液１に許容値１を超える濃度の金属汚染物が含まれる場合において、その金属汚染物の濃度が許容値２の範囲をさらに超えている場合、つまり金属汚染物の濃度が基準値＋許容値２を超えている場合には、薬液１は基板Ｓの処理に使用することができないと判断されて、コンピュータ３に接続された警報装置によるエラー発報が行われるとともに、コンピュータ３から基板処理装置１に基板Ｓの処理を停止させる信号が送信される（ステップＳ８）。
【００５０】
こうして金属汚染物の濃度に関する減算ポイントがメモリに格納された後、または、薬液１に基準値を超える濃度の金属汚染物が含まれない場合には、各種金属汚染物の濃度がそれぞれ基準値以下であるか否かの判断の後すぐに、ポイント算出部３５によって、微粒子量センサ１５３から入力される検出信号に基づいて、薬液１に含まれる微粒子の量が検出される（ステップＳ９）。そして、微粒子の量が薬液処理判断条件設定画面において設定された基準値以下であるか否かが判断される（ステップＳ１０）。
【００５１】
薬液１に基準値を超える微粒子が含まれる場合、つづいて、その微粒子の量が基準値に対する許容値１の範囲内であるか否か、つまり微粒子の量が基準値＋許容値１以下であるか否かが判断される（ステップＳ１１）。
そして、許容値１の範囲内であれば、薬液１の減算ポイントとして「１０」がメモリに格納される（ステップＳ１２）。
【００５２】
一方、薬液１に基準値を超える量の微粒子が含まれる場合において、その微粒子の量が許容値１の範囲を超えている場合、つまり微粒子の量が基準値＋許容値１を超えている場合には、さらに、微粒子の量が基準値に対する許容値２の範囲内であるか否か、つまり微粒子の量が基準値＋許容値２以下であるか否かが判断される（ステップＳ１３）。
そして、許容値２の範囲内であれば、薬液１の減算ポイントとして「２０」がメモリに格納される（ステップＳ１４）。
【００５３】
薬液１に許容値１を超える量の微粒子が含まれる場合において、その微粒子の量が許容値２の範囲をさらに超えている場合、つまり微粒子の量が基準値＋許容値２を超えている場合には、薬液１は基板Ｓの処理に使用することができないと判断されて、コンピュータ３に接続された警報装置によるエラー発報が行われるとともに、コンピュータ３から基板処理装置１に基板Ｓの処理を停止させる信号が送信される（ステップＳ１５）。
【００５４】
また、薬液１に基準値を超える量の微粒子が含まれない場合には、微粒子の量に関する減算ポイントは「０」であり、微粒子の量に関する減算ポイントのメモリへの格納は行われない。
その後、基板処理装置１の薬液導入バルブ１３１が選択的に開かれ、さらに薬液供給装置２のシリンジ２６の動作（ピストン２６２の摺動）が開始されることにより、基板処理装置１のミキシングバルブ１３への薬液１の供給が開始（ミキシング開始）されると（ステップＳ１６）、ポイント算出部３５では、流量センサ１５１から入力される検出信号に基づいて、薬液１の流量が検出される（ステップＳ１７）。そして、その流量が薬液処理判断条件設定画面において設定された基準値と一致している否かが判断される（ステップＳ１８）。
【００５５】
薬液１の流量が基準値と一致していない場合には、つづいて、その流量が基準値に対する許容値１の範囲内であるか否かが判断される（ステップＳ１９）。
そして、許容値１の範囲内であれば、薬液１の流量に関する減算ポイントとして「１０」がメモリに格納される（ステップＳ２０）。
一方、薬液１の流量が基準値と一致しない場合において、その流量が許容値１の範囲を超えている場合には、さらに、流量が基準値に対する許容値２の範囲内であるか否かが判断される（ステップＳ２１）。
【００５６】
そして、許容値２の範囲内であれば、薬液１の流量に関する減算ポイントとして「２０」がメモリに格納される（ステップＳ２２）。
たとえば、図５に示す薬液処理判断条件設定画面の入力例の通りに設定された場合、薬液１の流量が基準値「２００」ｍｌ／ｍｉｎと一致しているか否かが判断される。そして、流量が基準値「２００」ｍｌ／ｍｉｎと一致していない場合には、その流量が基準値「２００」ｍｌ／ｍｉｎに対する許容値１「（＋／−）５」ｍｌ／ｍｉｎの範囲内であるか否か、つまり流量が１９５〜２０５ｍｌ／ｍｉｎの範囲内であるか否かが判断される。薬液１の流量が許容値１の範囲内であれば、流量に関する減算ポイントとして「１０」がメモリに格納される。一方、許容値１の範囲を超えていれば、基準値「２００」ｍｌ／ｍｉｎに対する許容値２「（＋／−）１０」ｍｌ／ｍｉｎの範囲内であるか否か、つまり流量が１９０〜２１０ｍｌ／ｍｉｎの範囲内であるか否かがさらに判断され、その範囲を超えていれば、流量に関する減算ポイントとして「２０」がメモリに格納される。
【００５７】
薬液１の流量が許容値１の範囲を超える場合において、その流量が許容値２の範囲をさらに超えている場合には、基板Ｓに対して良好な処理が行われる状態にないと判断されて、コンピュータ３に接続された警報装置によるエラー発報が行われるとともに、コンピュータ３から基板処理装置１に基板Ｓの処理を停止させる信号が送信される（ステップＳ２３）。
【００５８】
また、シリンジ２６が動作している間、薬液１の流量が常に基準値と一致していれば、流量に関する減算ポイントは「０」であり、流量に関する減算ポイントのメモリへの格納は行われない。
その後、基板処理装置１の薬液導入バルブ１３１が閉じられて、基板処理装置１のミキシングバルブ１３への薬液１の供給が終了（ミキシング終了）すると（ステップＳ２４）、ポイント算出部３５によって、基板処理装置１の制御部１７から受信する信号に基づいて、基板処理装置１のシリンジ２６の動作が完了したか（たとえば、モータＭの回転位置が所定位置に達しているか、ピストン２６２がシリンダ２６１内に完全に押し込まれた状態になっているか）が判断される（ステップＳ２５）。
【００５９】
薬液導入バルブ１３１が閉じられているにもかかわらず、シリンジ２６の動作が完了していない場合には、基板処理装置１に異常が発生していると判断されて、コンピュータ３に接続された警報装置によるエラー発報が行われるとともに、薬液１のポイント（最終ポイント）として「０」がメモリに格納される（ステップＳ２６）。
シリンジ２６の動作が完了していれば、つづいて、ポイント算出部３５によって、これまでにメモリに格納された減算ポイントが累積加算される。そして、その加算値が初期ポイント「１００」から減算されることにより、薬液供給装置２から基板処理装置１に供給された薬液１の最終ポイントが算出される（ステップＳ２７）。
【００６０】
たとえば、図５に示す薬液処理判断条件設定画面の入力例の通りに設定された場合において、金属汚染物の濃度に関する減算ポイントとして「１０」がメモリに格納され、流量に関する減算ポイントとして「２０」がメモリに格納されていれば、それらの加算値は「２０」であるから、この「２０」が初期ポイント「１００」から減算されることによって、薬液１の最終ポイントが「８０」と算出される。
【００６１】
また、ポイント算出部３５による最終ポイントの計算と並行して、使用量算出部３６によって、薬液供給装置２から基板処理装置１への薬液１の供給量が基板処理装置１における使用量として算出される（ステップＳ２８）。使用量算出部３６は、たとえば、シリンジ２６が動作している間、使用量算出部３６によって薬液１の流量が監視しており、シリンジ２６の動作完了後、シリンジ２６の動作中の薬液１の流量およびその変化に基づいて積分演算を行うことにより、薬液供給装置から基板処理装置１への薬液１の供給量を算出する。
【００６２】
こうして算出される薬液１の使用量は、使用量算出部３６から代価算出部３７に与えられる。また、薬液１の最終ポイントは、単価テーブル記憶部３３に記憶されている単価テーブルに与えられる。そして、単価テーブルから薬液１の最終ポイントに応じた単価が読み出されて、その読み出された単価が代価算出部３７に与えられるようになっている。代価算出部３７に薬液１の使用量および薬液１の最終ポイントに応じた単価が与えられると、代価算出部３７において、これらが掛け合わされることにより、基板処理装置１における薬液１の使用に対する代価が算出される（ステップＳ２９）。
【００６３】
代価算出部３７において算出された代価は、代価累積記憶部３８に累積的に記憶されていく。そして、この基板処理システムでは、デバイスメーカと薬品メーカとの間で取り決められている期間ごとに、代価累積記憶部３８に記憶されている代価の合計額が、デバイスメーカから薬品メーカに支払われる。
以上のように、薬液供給装置２から基板処理装置１に供給される薬液の状態（流量、薬液中の金属汚染物の濃度、薬液に含まれる微粒子の量）に応じて、その供給される薬液の単価が決定されるとともに、基板処理装置１における薬液の使用量が算出されて、その単価と使用量とを乗じることによって、基板処理装置１における薬液の使用に対する代価が算出される。そして、薬液の単価は、薬液の状態が悪いほど低く設定される。そのため、薬品メーカは、その薬液の取扱いに関する高度な知識および技術を駆使して、基板処理装置１に供給されるまで、ひいては基板Ｓに供給される直前まで、薬液の状態が良好に保たれるように管理することによって、少しでも多額の代価の支払いをデバイスメーカから受けようと努力する。したがって、従来よりも良好な状態の薬液が基板処理装置１に供給されるようになるので、基板処理装置１において、より良好な基板処理を実現することができる。そのため、デバイスメーカは、高品質な半導体装置や液晶表示装置などを製造することができる。また、装置メーカにとっては、基板処理装置１の開発にあたって、薬液の状態管理に関する部分の開発費を削減することができ、その分、基板Ｓのハンドリング技術の向上などに力を注ぐことができる。一方、薬品メーカにとっては、基板Ｓの処理に良好な状態の薬液が用いられる結果、デバイスメーカから高い評価を受け、薬液の受注量が増えるといった利益を受けることができる。
【００６４】
また、この実施形態では、初期ポイントから薬液の状態に応じた減算ポイントが減算され、これによって算出される最終ポイントに基づいて、薬液供給装置２から基板処理装置１に供給された薬液の単価が決定される。そのため、薬液の状態に応じた単価を適切に決定することができる。
さらに、薬液の状態として、薬液供給装置２から基板処理装置１に供給される薬液の流量、薬液に含まれる各種金属汚染物の濃度および薬液に含まれる微粒子の量が検出され、それらに応じて薬液の単価が決定される。そのため、基板処理装置１における薬液の使用に対して、薬液の流量の調節精度、薬液に含まれる各種金属汚染物の濃度および薬液に含まれる微粒子の量に応じた適切な代価を算出することができる。
【００６５】
また、薬液供給装置２は、基板処理装置１に複数種類の薬液１〜４を供給することができ、かつ、それらの薬液１〜４の流量をそれぞれ個別に調節することができる構成となっている。これにより、たとえば、図８に概念的に示すように、薬液１および薬液４の供給を開始した後、薬液１の流量は一定のまま、薬液２および薬液３の流量を時間の経過とともに徐々に増やす一方で、薬液４の流量を時間の経過とともに減らしていき、最終的には、薬液１〜３のみが基板処理装置１に供給されるようにするといったことができる。その結果、ミキシングバルブ１３で作成される混合液における各種薬液の混合比を変化させることができ、多種多様な基板処理を実現することができる。
【００６６】
以上、この発明の一実施形態を説明したが、この発明は、他の形態で実施することもできる。たとえば、基板処理装置１は、基板Ｓを１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置に限らず、基板Ｓを処理流体中に浸漬させるための処理槽を備え、複数枚の基板Ｓを一括して処理するバッチ式の基板処理装置であってもよい。
また、上記の実施形態では、薬液供給装置２にシリンジ２６を設けて、このシリンジ２６によって薬液を基板処理装置１に向けて送り出し、また、シリンジ２６のピストン２６２を摺動させるためのモータＭの速度を制御することにより、基板処理装置１に向けて送り出される薬液の流量を調節する構成を例にとったが、シリンジ２６に代えて、ポンプおよび流量調節バルブが設けられて、ポンプによってタンク２１から薬液が送り出され、流量調節バルブの開度が制御されることにより、そのポンプによって送り出された薬液の流量が調節されるようにしてもよい。
【００６７】
さらにまた、上記の実施形態では、ミキシングバルブ１３への薬液の供給開始前に、薬液中の金属汚染物の濃度および微粒子の量が検出されるとしたが、ミキシングバルブ１３への薬液の供給中に、薬液の流量の検出に並行して、薬液中の金属汚染物の濃度および微粒子の量が検出され、これらの検出結果に応じた減算ポイントがメモリに格納されるようにしてもよい。
【００６８】
さらに、上記の実施形態では、基板処理装置１に薬液供給装置２から薬液が供給され、基板Ｓに対して薬液の単液または混合液による処理を施すための構成を例にとったが、薬液供給装置２に代えて、基板処理装置１に処理ガスおよび薬液を供給する装置が備えられ、基板処理装置１において、基板Ｓに対して処理ガスを含む処理流体による処理が行われるようにしてもよい。処理ガスとしては、たとえば、窒素ガス、炭酸ガス、水素ガス、オゾンガス、酸素ガスなどを例示することができる。また、処理ガスを含む処理としては、たとえば、酸素プラズマによるオゾンアッシング処理や、純水または薬液に高圧の窒素ガスを吹き付けることにより、純水または薬液の噴流を形成し、その噴流で基板Ｓの表面を洗浄する処理などを例示することができる。
【００６９】
さらにまた、上記の実施形態では、コンピュータ３が基板処理装置１と別に設けられているが、コンピュータ３の機能が基板処理装置１の制御部１７に組み込まれてもよい。
また、上記の実施形態では、各センサ１５１，１５２，１５３が基板処理装置１内に設けられているが、これらは、薬液供給装置２内に設けられていてもよいし、薬液処理装置１および薬液供給装置２とは別に独立して設けられていてもよい。
【００７０】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理システムの構成図である。
【図２】コンピュータの構成を示すブロック図である。
【図３】薬液支払条件設定画面の構成を示す図である。
【図４】単価テーブルの構成を示す図である。
【図５】薬液処理判断条件設定画面の構成を示す図である。
【図６】薬液処理流量変化特殊処理設定画面の構成を示す図である。
【図７】代価を算出するための処理の流れを示すフローチャートである。
【図８】複数種類の薬液の流量が時間の経過とともに変化する様子を概念的に示す図である。
【符号の説明】
【００７２】
１      基板処理装置
２      薬液供給装置
３      コンピュータ
１０    処理室
２６    シリンジ
３１    支払条件設定部
３３    単価テーブル記憶部
３４    判断条件設定部
３５    ポイント算出部
３６    使用量算出部
３７    代価算出部
１５１  流量センサ
１５２  金属汚染物濃度センサ
１５３  微粒子量センサ
Ｍ      モータ
Ｓ      基板
【図１】
2006228815.tif 000003
【図２】
2006228815.tif 000004
【図３】
2006228815.tif 000005
【図４】
2006228815.tif 000006
【図５】
2006228815.tif 000007
【図６】
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【図７】
2006228815.tif 000009
【図８】
2006228815.tif 000010