(57)【要約】【課題】  本発明は、表示装置の修理装置及び修理方法に関する。【解決手段】  本発明の一特徴による基板及び前記基板上に形成された色フィルタを含む表示装置の修理装置において、前記色フィルタは、前記基板に向かっている第１面及び前記基板の反対側に向かっている第２面を含み、前記第１面に焦点を合せて２５０ｎｍ以上の波長を有するレーザ光を照射するレーザ装備を含み、前記表示装置は、前記色フィルタを囲んでいる遮光部材をさらに含むことができる。このような方式で、適切なパルス周波数及び波長を有するレーザ装備を選択し、スリットを使用した照射方式または拡散方式を使用することによって、表示装置の画素不良を効果的に修理することができる。【選択図】  図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板及び前記基板上に形成された色フィルタを含む表示装置の修理装置であって、
前記色フィルタは、前記基板に向かっている第１面及び前記基板の反対側に向かっている第２面を含み、
前記第１面に焦点を合せて２５０ｎｍ以上の波長を有するレーザ光を照射するレーザ装備を含む、表示装置の修理装置。
【請求項２】
前記表示装置は、前記色フィルタを囲んでいる遮光部材をさらに含む、請求項１に記載の表示装置の修理装置。
【請求項３】
前記レーザ装備は、パルス波モードである、請求項１に記載の表示装置の修理装置。
【請求項４】
前記レーザ光の波長は、３８０ｎｍ以下または７４０ｎｍ以上である、請求項３に記載の表示装置の修理装置。
【請求項５】
前記レーザ装備のレーザ光源は、ＮｄＹＡＧである、請求項４に記載の表示装置の修理装置。
【請求項６】
前記レーザ光は、前記基板を通過して照射される、請求項５に記載の表示装置の修理装置。
【請求項７】
前記表示装置は、前記基板の外部に付着される偏光板をさらに含み、
前記レーザ光は、前記偏光板を通過して照射される、請求項１に記載の表示装置の修理装置。
【請求項８】
前記レーザ光の波長は、３８０ｎｍ以上である、請求項７に記載の表示装置の修理装置。
【請求項９】
前記レーザ光は、透過領域及び遮光領域を含むスリットを通じて照射される、請求項１に記載の表示装置の修理装置。
【請求項１０】
前記表示装置は、前記色フィルタに光を供給する光源部をさらに含み、
前記色フィルタは、前記レーザ光が前記色フィルタに照射される場合に透過量が変化する、請求項９に記載の表示装置の修理装置。
【請求項１１】
レーザ光が照射された前記色フィルタは、前記光源部からの光を吸収する、請求項１０に記載の表示装置の修理装置。
【請求項１２】
前記レーザ光のパルス周波数は、５５Ｈｚ以下である、請求項１１に記載の表示装置の修理装置。
【請求項１３】
前記スリットの透過領域の幅は、前記色フィルタの幅と実質的に同一であり、
前記レーザ光は、前記透過領域を通じて前記色フィルタの第１面の上側または下側から反対側に順次に照射される、請求項１２に記載の表示装置の修理装置。
【請求項１４】
前記遮光部材は、有機物質からなる、請求項２に記載の表示装置の修理装置。
【請求項１５】
前記レーザ光は、前記色フィルタの第１面の中間部分から前記遮光部材の一部まで照射される、請求項１４に記載の液晶表示装置の修理装置。
【請求項１６】
前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度である、請求項１５に記載の表示装置の修理装置。
【請求項１７】
前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含む、請求項１６に記載の表示装置の修理装置。
【請求項１８】
前記レーザ光は、前記色フィルタの中間部分から前記遮光部材の一部まで照射された後で、前記遮光部材から再び前記色フィルタの中間部分まで照射される、請求項１４に記載の表示装置の修理装置。
【請求項１９】
前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度である、請求項１８に記載の表示装置の修理装置。
【請求項２０】
前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含む、請求項１９に記載の表示装置の修理装置。
【請求項２１】
前記スリットの透過領域の幅は、前記色フィルタの幅より小さく、
前記レーザ光は、前記透過領域を通じて前記色フィルタの第１面の上側または下側から反対側に前記遮光部材まで照射される、請求項１４に記載の表示装置の修理装置。
【請求項２２】
前記色フィルタは、前記光源部からの光を吸収する変性領域及び前記遮光部材が拡散された拡散領域を含む、請求項２１に記載の表示装置の修理装置。
【請求項２３】
前記スリットは、前記色フィルタの幅より小さくて、大きさ順に第１透過領域乃至第３透過領域を含み、
前記レーザ光は、前記第１透過領域を通じて前記色フィルタの第１面の上側または下側から反対側に前記遮光部材まで照射され、前記第２透過領域を通じて前記色フィルタ及び前記遮光部材の境界を中心に前記色フィルタ及び前記遮光部材の一部に照射され、前記第３透過領域を通じて前記遮光部材に照射される、請求項１４に記載の表示装置の修理装置。
【請求項２４】
前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含む、請求項２３に記載の表示装置の修理装置。
【請求項２５】
前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度である、請求項２４に記載の表示装置の修理装置。
【請求項２６】
前記第１透過領域を通じてレーザ光が照射された領域及び前記第２透過領域を通じてレーザ光が照射された領域の一部が重畳する、請求項２５に記載の表示装置の修理装置。
【請求項２７】
基板及び前記基板上に形成された色フィルタを含む表示装置の修理方法であって、
前記表示装置を検査する段階、
レーザ装備を前記表示装置の上側に位置させる段階、
前記レーザ装備から照射されるレーザ光の焦点を合せる段階、そして
前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階を含み、
前記レーザ光の波長は、２５０ｎｍ以上である、表示装置の修理方法。
【請求項２８】
前記色フィルタは、前記基板に向かっている第１面及び前記基板の反対側に向かっている第２面を含み、
前記レーザ光の焦点を合せる段階は、
遮光領域及び透過領域を含むスリットを通じて前記レーザ光を照射する段階、そして
前記色フィルタの第１面に前記レーザ光の焦点を合せる段階を含む、請求項２７に記載の表示装置の修理方法。
【請求項２９】
前記レーザ装備は、パルス波モードである、請求項２８に記載の表示装置の修理方法。
【請求項３０】
前記レーザ光の波長は、３８０ｎｍ以下または７４０ｎｍ以上である、請求項２９に記載の表示装置の修理方法。
【請求項３１】
前記レーザ装備のレーザ光源は、ＮｄＹＡＧである、請求項３０に記載の表示装置の修理方法。
【請求項３２】
前記レーザ光は、前記基板を通過して照射される、請求項３１に記載の表示装置の修理方法。
【請求項３３】
前記表示装置は、前記基板の外部に付着される偏光板をさらに含み、
前記レーザ光は、前記偏光板を通過して照射される、請求項２７に記載の表示装置の修理装置。
【請求項３４】
前記レーザ光の波長は、３８０ｎｍ以上である、請求項３３に記載の表示装置の修理装置。
【請求項３５】
前記レーザ光のパルス周波数は、５５Ｈｚ以下である、請求項２７に記載の表示装置の修理方法。
【請求項３６】
前記表示装置は、前記色フィルタに光を供給する光源部をさらに含み、
前記色フィルタは、前記レーザ光が前記色フィルタに照射される場合に透過量が変化する、請求項３５に記載の表示装置の修理方法。
【請求項３７】
前記レーザ光が照射された色フィルタは、前記光源部からの光を吸収する、請求項３６に記載の表示装置の修理方法。
【請求項３８】
前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階は、
前記透過領域を通じて前記色フィルタの上側または下側から反対側に順次に照射する段階を含む、請求項３７に記載の表示装置の修理方法。
【請求項３９】
前記スリットの透過領域の幅は、前記色フィルタの幅と実質的に同一である、請求項３８に記載の表示装置の修理方法。
【請求項４０】
前記表示装置は、前記色フィルタを囲んでいる遮光部材をさらに含み、
前記遮光部材は、有機物質からなる、請求項２７に記載の表示装置の修理方法。
【請求項４１】
前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階は、
前記色フィルタの中間部分から前記遮光部材の一部まで照射する段階を含む、請求項４０に記載の表示装置の修理方法。
【請求項４２】
前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度である、請求項４１に記載の表示装置の修理方法。
【請求項４３】
前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含む、請求項４２に記載の表示装置の修理方法。
【請求項４４】
前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階は、
前記色フィルタの中間部分から前記遮光部材の一部まで照射した後で、前記遮光部材から再び前記色フィルタの中間部分まで照射する段階を含む、請求項４０に記載の表示装置の修理方法。
【請求項４５】
前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含む、請求項４４に記載の表示装置の修理方法。
【請求項４６】
前記スリットの透過領域の幅は、前記色フィルタの幅より小さく、
前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階は、
前記透過領域を通じて前記色フィルタの上側または下側から反対側に前記遮光部材まで照射する段階を含む、請求項４５に記載の表示装置の修理方法。
【請求項４７】
前記色フィルタは、前記光源部からの光を吸収する変性領域及び前記遮光部材が拡散された拡散領域を含む、請求項４６に記載の表示装置の修理方法。
【請求項４８】
前記スリットは、前記色フィルタの幅より小さくて、大きさ順に第１透過領域乃至第３透過領域を含み、
前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階は、
前記第１透過領域を通じて前記色フィルタの第１面の上側または下側から反対側に前記遮光部材まで照射する段階、
前記第２透過領域を通じて前記色フィルタ及び前記遮光部材の境界を中心に前記色フィルタ及び前記遮光部材の一部に照射する段階、そして
前記第３透過領域を通じて前記遮光部材に照射する段階を含む、請求項４０に記載の表示装置の修理方法。
【請求項４９】
前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含む、請求項４８に記載の表示装置の修理方法。
【請求項５０】
前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度である、請求項４９に記載の表示装置の修理方法。
【請求項５１】
前記第１透過領域を通じてレーザ光が照射された領域及び前記第２透過領域を通じてレーザ光が照射された領域の一部が重畳する、請求項５０に記載の表示装置の修理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置の修理装置及び修理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）は、画素電極及び共通電極が形成された二つの表示板、及びその間に注入されている誘電率異方性（ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ ａｎｉｓｏｔｒｏｐｙ）を有する液晶層を含む。画素電極は、行列形態に配列されて、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）などのスイッチング素子に連結されていて、一行ずつ順次にデータ電圧の印加を受ける。共通電極は、表示板の全面に形成されていて、共通電圧の印加を受ける。画素電極、共通電極、及びその間の液晶層は、回路的に見る時、液晶キャパシタを構成し、液晶キャパシタは、これに連結されたスイッチング素子と共に画素を構成する基本単位となる。
【０００３】
このような液晶表示装置では、二つの電極に電圧を印加して液晶層に電界を生成し、この電界の強さを調節して液晶層を通過する光の透過率を調節することによって、所望の画像を表示する。また、画素電極に対応する共通電極領域に三原色、例えば赤色、緑色、または青色の色フィルタを形成して、色表示を実現する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方、液晶表示装置においては、製造過程で様々な検査過程を経て検査過程で発見された欠陥が修理される。
例えば、このような液晶表示装置を製造する過程で、表示信号線などの断線または短絡や画素に欠陥がある場合には、これらを一定の検査過程で予め検出する。このような検査の種類には、アレイテスト（ａｒｒａｙ ｔｅｓｔ）、ＶＩ（ｖｉｓｕａｌ ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ）テスト、グロステスト（ｇｒｏｓｓ ｔｅｓｔ）、及びモジュールテスト（ｍｏｄｕｌｅ ｔｅｓｔ）などがある。
【０００５】
アレイテストは、個別のセル（ｃｅｌｌ）に分離される前に一定の電圧を印加して、出力電圧の有無によって表示信号線の断線の有無を検査するテストであり、ＶＩテストは、個別のセルに分離された後に一定の電圧を印加して、肉眼で見ながら表示信号線の断線の有無を検査するテストである。グロステストは、上部表示板及び下部表示板を結合して駆動回路を実装する前に実際の駆動電圧と同一な電圧を印加して、画面の表示状態によって画質及び表示信号線の断線の有無を検査するテストであり、モジュールテストは、駆動回路を装着した後に最終的に駆動回路の適正な動作の有無を検査するテストである。
【０００６】
一方、実際の駆動状況と類似した状況で行われるグロステストでは、画面全体を黒くして画素不良の有無も検査する。この時、液晶層に異物が存在したり表示信号線の断線または短絡などによって不良部分が明るく光る、いわゆる明画素（ｂｒｉｇｈｔ ｐｉｘｅｌ）または高画素（ｈｉｇｈ ｐｉｘｅｌ）現象が現れる。
このような明画素または高画素現象は、前記液晶表示装置だけでなく、大部分の表示装置で現れる。
【０００７】
このような高画素現象の不良を修理するために、表示板の外部に化学気相蒸着などで高画素が位置した外部領域を遮光膜で覆う。しかし、このような方式は、表示装置の正面では光漏れが発生しないが、横面では光漏れが発生するので、修理の目的を完全に達成することができない問題がある。
本発明が目的とする技術的課題は、表示装置の画素不良を修理することができる、表示装置の修理装置及び修理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような技術的課題を構成するために、本発明の一実施例による基板及び前記基板上に形成された色フィルタを含む表示装置の修理装置では、前記色フィルタは、前記基板に向かっている第１面及び前記基板の反対側に向かっている第２面を含み、前記第１面に焦点を合せて２５０ｎｍ以上の波長を有するレーザ光を照射するレーザ装備を含む。
この時、前記表示装置は、前記色フィルタを囲んでいる遮光部材をさらに含むのが好ましい。
【０００９】
一方、前記レーザ装備は、パルス波モード（ｐｕｌｓｅ ｗａｖｅ ｍｏｄｅ）であるのが好ましく、レーザ光の波長は、３８０ｎｍ以下または７４０ｎｍ以上であるのが好ましい。
また、前記レーザ装備のレーザ光源は、ＮｄＹＡＧであるのが好ましく、前記レーザ光は、前記基板を通過して照射されるのが好ましい。
【００１０】
ここで、前記表示装置は、前記基板の外部に付着される偏光板をさらに含み、この場合、前記レーザ光は、前記偏光板を通過して照射され、前記レーザ光の波長は、３８０ｎｍ以上であるのが好ましい。
前記レーザ光は、透過領域及び遮光領域を含むスリットを通じて照射される。
また、前記表示装置は、前記色フィルタに光を供給する光源部をさらに含み、前記色フィルタは、前記レーザ光が前記色フィルタに照射される場合に透過量が変化するのが好ましい。レーザ光が照射された前記色フィルタは、前記光源部からの光を吸収するのが好ましい。
【００１１】
一方、前記レーザ光のパルス周波数は、５５Ｈｚ以下であるのが好ましい。
この時、前記スリットの透過領域の幅は、前記色フィルタの幅と実質的に同一であり、前記レーザ光は、前記透過領域を通じて前記色フィルタの第１面の上側または下側から反対側に順次に照射されるのが好ましい。
ここで、前記遮光部材は、有機物質からなるのが好ましい。
【００１２】
この時、前記レーザ光は、前記色フィルタの照射表面の中間部分から前記遮光部材の一部まで照射される。この場合、前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度であるのが好ましい。前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含むのが好ましい。
これとは異なって、前記レーザ光は、前記色フィルタの中間部分から前記遮光部材の一部まで照射された後で、前記遮光部材から再び前記色フィルタの中間部分まで照射されることもできる。この場合にも、前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度であるのが好ましく、前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含むのが好ましい。
【００１３】
また、前記スリットの透過領域の幅は、前記色フィルタの幅より小さく、前記レーザ光は、前記透過領域を通じて前記色フィルタの照射表面の上側または下側から反対側に前記遮光部材まで照射されるとよい。この場合、前記色フィルタは、前記光源部からの光を吸収する変性領域及び前記遮光部材が拡散された拡散領域を含むのが好ましい。
これとは異なって、前記スリットは、前記色フィルタの幅より小さくて、大きさ順に第１透過領域乃至第３透過領域を含み、前記レーザ光は、前記第１透過領域を通じて前記色フィルタの第１面の上側または下側から反対側に前記遮光部材まで照射され、前記第２透過領域を通じて前記色フィルタ及び前記遮光部材の境界を中心に前記色フィルタ及び前記遮光部材の一部に照射され、前記第３透過領域を通じて前記遮光部材に照射されることができる。この場合にも、前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含むのが好ましい。また、前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度であるのが好ましい。
【００１４】
ここで、前記第１透過領域を通じてレーザ光が照射された領域及び前記第２透過領域を通じてレーザ光が照射された領域の一部が重畳することもできる。
本発明の一実施例による基板及び前記基板上に形成された色フィルタを含む表示装置の修理方法では、前記表示装置を検査する段階、レーザ装備を前記表示装置の上側に位置させる段階、前記レーザ装備から照射されるレーザ光の焦点を合せる段階、そして前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階を含み、前記レーザ光の波長は、２５０ｎｍ以上である。
【００１５】
この時、前記色フィルタは、前記基板に向かっている第１面及び前記基板の反対側に向かっている第２面を含み、前記レーザ光の焦点を合せる段階は、遮光領域及び透過領域を含むスリットを通じて前記レーザ光を照射する段階、そして前記色フィルタの第１面に前記レーザ光の焦点を合せる段階を含むのが好ましい。
前記レーザ装備は、パルス波モードであるのが好ましく、 前記レーザ光の波長は、３８０ｎｍ以下または７４０ｎｍ以上であるのが好ましい。
【００１６】
この時、前記レーザ光は、前記基板を通過して照射されるのが好ましい。
一方、前記表示装置は、前記基板の外部に付着される偏光板をさらに含み、前記レーザ光は、前記偏光板を通過して照射されるのが好ましく、前記レーザ光の波長は、３８０ｎｍ以上であるのが好ましい。
また、前記レーザ装備のレーザ光源は、ＮｄＹＡＧであるのが好ましく、前記レーザ光の前記パルス周波数は、５５Ｈｚ以下であるのが好ましい。
【００１７】
一方、前記表示装置は、前記色フィルタに光を供給する光源部をさらに含み、前記色フィルタは、前記レーザ光が前記色フィルタに照射される場合に透過量が変化するのが好ましい。前記レーザ光が照射された色フィルタは、前記光源部からの光を全て吸収するのが好ましい。
前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階は、前記透過領域を通じて前記色フィルタの上側または下側から反対側に順次に照射する段階を含むのが好ましく、この時、前記スリットの透過領域の幅は、前記色フィルタの幅と実質的に同一であるのが好ましい。
【００１８】
一方、前記表示装置は、前記色フィルタを囲んでいる遮光部材をさらに含み、前記遮光部材は、有機物質からなるのが好ましい。
この時、前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階は、前記色フィルタの中間部分から前記遮光部材の一部まで照射する段階を含む。前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度であるのが好ましく、前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含むのが好ましい。
【００１９】
これとは異なって、前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階は、前記色フィルタの中間部分から前記遮光部材の一部まで照射した後で、前記遮光部材から再び前記色フィルタの中間部分まで照射する段階を含むこともできる。前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度であるのが好ましく、前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含むのが好ましい。
【００２０】
また、前記スリットの透過領域の幅は、前記色フィルタの幅より小さく、前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階は、前記透過領域を通じて前記色フィルタの上側または下側から反対側に前記遮光部材まで照射する段階を含むのが好ましい。この時、前記色フィルタは、前記光源部からの光を吸収する変性領域及び前記遮光部材が拡散された拡散領域を含むのが好ましい。
【００２１】
一方、前記スリットは、前記色フィルタの幅より小さくて、大きさ順に第１透過領域乃至第３透過領域を含み、前記色フィルタに前記レーザ光を照射する段階は、前記第１透過領域を通じて前記色フィルタの第１面の上側または下側から反対側に前記遮光部材まで照射する段階、前記第２透過領域を通じて前記色フィルタ及び前記遮光部材の境界を中心に前記色フィルタ及び前記遮光部材の一部に照射する段階、そして前記第３透過領域を通じて前記遮光部材に照射する段階を含むのが好ましい。
【００２２】
この時、前記色フィルタは、前記遮光部材が拡散された拡散領域を含むのが好ましい。前記レーザ光の強さは、前記色フィルタを変性させない程度であるのが好ましい。前記第１透過領域を通じてレーザ光が照射された領域及び前記第２透過領域を通じてレーザ光が照射された領域の一部が重畳することもできる。
本発明によれば、適切なパルス周波数及び波長を有するレーザ装備を選択し、スリットを使用した照射方式または拡散方式を使用することによって、表示装置の画素不良を効果的に修理することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、適切な波長を有するレーザ装備を用い、表示装置の画素不良を効果的に修理することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付した図面を参照して、本発明の実施例について、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように詳細に説明する。
図面では、各層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示した。明細書全体にかけて類似した部分については、同一な図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の“上”にあるとする時、これは他の部分の“直上”にある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も意味する。反対に、ある部分が他の部分の“直上”にあるとする時、これは中間に他の部分がない場合を意味する。
【００２５】
それでは、本発明の実施例による表示装置の修理装置及び修理方法について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明の一実施例による液晶表示装置のブロック図であり、図２は本発明の一実施例による液晶表示装置の一つの画素に対する等価回路図である。
図１に示したように、本発明の一実施例による液晶表示装置は、液晶表示板組立体（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｐａｎｅｌ ａｓｓｅｍｂｌｙ）３００、これに連結されたゲート駆動部４００及びデータ駆動部５００、データ駆動部５００に連結された階調電圧生成部８００、液晶表示板組立体３００に光を照射するバックライト装置９００、そしてこれらを制御する信号制御部６００を含む。
【００２６】
液晶表示板組立体３００は、等価回路で見る時、複数の表示信号線（Ｇ1−Ｇn、Ｄ1−Ｄm）、及びこれに連結されて、ほぼ行列形態に配列されている複数の画素（ｐｉｘｅｌ）を含む。
表示信号線（Ｇ1−Ｇn、Ｄ1−Ｄm）は、ゲート信号（走査信号ともいう）を伝達する複数のゲート線（Ｇ1−Ｇn）及びデータ信号を伝達するデータ線（Ｄ1−Ｄm）を含む。 ゲート線（Ｇ1−Ｇn）は、ほぼ行方向にのびて、互いにほぼ平行であり、データ線（Ｄ1−Ｄm）は、ほぼ列方向にのびて、互いにほぼ平行である。
【００２７】
各画素は、表示信号線（Ｇ1−Ｇn、Ｄ1−Ｄm）に連結されたスイッチング素子（Ｑ）、これに連結された液晶キャパシタ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｃａｐａｃｉｔｏｒ）（ＣLC）、及びストレージキャパシタ（ｓｔｏｒａｇｅ ｃａｐａｃｉｔｏｒ）（ＣST）を含む。ストレージキャパシタ（ＣST）は、必要に応じて省略することができる。
薄膜トランジスタなどのスイッチング素子（Ｑ）は、下部表示板１００に形成されていて、三端子素子であって、その制御端子及び入力端子は各々ゲート線（Ｇ1−Ｇn）及びデータ線（Ｄ1−Ｄm）に連結されており、出力端子は液晶キャパシタ（ＣLC）及びストレージキャパシタ（ＣST）に連結されている。
【００２８】
液晶キャパシタ（ＣLC）は、下部表示板１００の画素電極１９０及び上部表示板２００の共通電極２７０を二端子とし、二つの電極１９０、２７０の間の液晶層３は誘電体として機能する。画素電極１９０は、スイッチング素子（Ｑ）に連結され、共通電極２７０は、上部表示板２００の全面に形成されて、共通電圧（Ｖcom）の印加を受ける。図２とは異なって、共通電極２７０は、下部表示板１００に形成されることもあり、この場合には、二つの電極１９０、２７０のうちの少なくとも一つが線状または棒状に形成される。
【００２９】
液晶キャパシタ（ＣLC）の補助的な役割を果たすストレージキャパシタ（ＣST）は、下部表示板１００に形成された別個の信号線（図示せず）及び画素電極１９０が絶縁体を媒介として重畳して構成され、この別個の信号線には共通電圧（Ｖcom）などの決められた電圧が印加される。しかし、ストレージキャパシタ（ＣST）は、画素電極１９０及び真上の前段ゲート線が絶縁体を媒介として重畳して構成されることもできる。
【００３０】
一方、色表示を実現するためには、各画素が三原色のうちの一つを固有に表示したり（空間分割）、各画素が時間によって交互に三原色を表示するようにして（時間分割）、これら三原色の空間的、時間的合計によって所望の色相が認識されるようにする。図２は空間分割の一例であって、各画素が画素電極１９０に対応する領域に赤色、緑色、または青色の色フィルタ２３０を形成することを示している。図２とは異なって、色フィルタ２３０は、下部表示板１００の画素電極１９０上または下に形成されることもできる。
【００３１】
バックライト装置９００は、インバータ（図示せず）及び光源部９１０を含み、光源部９１０は、液晶表示板組立体３００の下部に装着されていて、少なくとも一つのランプを含む。ランプとしては、ＣＣＦＬ（ｃｏｌｄ ｃａｔｈｏｄｅ ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ ｌａｍｐ）またはＥＥＦＬ（ｅｘｔｅｒｎａｌ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ ｌａｍｐ）を使用するが、発光ダイオード（ＬＥＤ）などを使用することもできる。
【００３２】
液晶表示板組立体３００の二つの表示板１００、２００の外側面には、光源部９１０から照射される光を偏光させる 偏光板(図示せず）が付着されている。
階調電圧生成部８００は、画素の透過率に関する二組の複数の階調電圧を生成する。二組のうちの一組は共通電圧（Ｖcom）に対して正の値を有し、他の一組は負の値を有する。
【００３３】
ゲート駆動部４００は、液晶表示板組立体３００のゲート線（Ｇ1−Ｇn）に連結されて、外部からのゲートオン電圧（Ｖon）及びゲートオフ電圧（Ｖoff）の組み合わせからなるゲート信号をゲート線（Ｇ1−Ｇn）に印加し、通常は複数の集積回路からなる。
データ駆動部５００は、液晶表示板組立体３００のデータ線（Ｄ1−Ｄm）に連結されて、階調電圧生成部８００からの階調電圧を選択してデータ信号として画素に印加し、通常は複数の集積回路からなる。
【００３４】
複数のゲート駆動集積回路またはデータ駆動集積回路は、ＣＯＧ（ｃｈｉｐ ｏｎ ｇｌａｓｓ）方式で液晶表示板組立体３００に装着される。これとは異なって、ＴＣＰ（ｔａｐｅ ｃａｒｒｉｅｒ ｐａｃｋａｇｅ）に実装してＴＣＰを液晶表示板組立体３００に付着することもでき、これらの集積回路チップと同一に機能する回路を液晶表示板組立体３００に直接形成することもできる。
【００３５】
信号制御部６００は、ゲート駆動部４００及びデータ駆動部５００などの動作を制御する。
それでは、このような液晶表示装置の表示動作について詳細に説明する。
信号制御部６００は、外部のグラフィック制御機（図示せず）から入力映像信号（Ｒ、Ｇ、Ｂ）及びその表示を制御する入力制御信号、例えば垂直同期信号（Ｖsync）及び水平同期信号（Ｈsync）、メインクロック（ＭＣＬＫ）、データイネーブル信号（ＤＥ）などの提供を受ける。信号制御部６００は、入力映像信号（Ｒ、Ｇ、Ｂ）及び入力制御信号に基づいて映像信号（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を液晶表示板組立体３００の動作条件に合うように適切に処理して、ゲート制御信号（ＣＯＮＴ１）及びデータ制御信号（ＣＯＮＴ２）などを生成した後、ゲート制御信号（ＣＯＮＴ１）をゲート駆動部４００に 印加し、データ制御信号（ＣＯＮＴ２）及び処理した映像信号（ＤＡＴ）をデータ駆動部５００に印加する。
【００３６】
ゲート制御信号（ＣＯＮＴ１）は、ゲートオン電圧（Ｖon）の出力開始を指示する垂直同期開始信号（ＳＴＶ）、ゲートオン電圧（Ｖon）の出力時期を制御するゲートクロック信号（ＣＰＶ）、及びゲートオン電圧（Ｖon）の持続時間を限定する出力イネーブル信号（ＯＥ）などを含む。
データ制御信号（ＣＯＮＴ２）は、映像データ（ＤＡＴ）の入力開始を知らせる水平同期開始信号（ＳＴＨ）、データ線（Ｄ1−Ｄm）に当該データ電圧の印加を指示するロード信号（ＬＯＡＤ）、共通電圧（Ｖcom）に対するデータ電圧の極性（以下、「共通電圧に対するデータ電圧の極性」を略して「データ電圧の極性」とする）を反転させる反転信号（ＲＶＳ）、及びデータクロック信号（ＨＣＬＫ）などを含む。
【００３７】
データ駆動部５００は、信号制御部６００からのデータ制御信号（ＣＯＮＴ２）によって一つの行の画素に対する映像データ（ＤＡＴ）の入力を順次に受けてシフトさせ、階調電圧生成部８００からの階調電圧のうちの各映像データ（ＤＡＴ）に対応する階調電圧を選択することによって、映像データ（ＤＡＴ）を当該データ電圧に変換した後で、これを当該データ線（Ｄ1−Ｄm）に印加する。
【００３８】
ゲート駆動部４００は、信号制御部６００からのゲート制御信号（ＣＯＮＴ１）によってゲートオン電圧（Ｖon）をゲート線（Ｇ1−Ｇn）に印加し、このゲート線（Ｇ1−Ｇn）に連結されたスイッチング素子（Ｑ）を導通させることによって、データ線（Ｄ1−Ｄm）に印加されたデータ電圧が導通したスイッチング素子（Ｑ）を通じて当該画素に印加される。
【００３９】
画素に印加されたデータ電圧と共通電圧（Ｖcom）との差は、液晶キャパシタ（ＣLC）の充電電圧、つまり画素電圧として現れる。液晶分子は、画素電圧の大きさによってその配向が異なり、光源部９１０から照射された光は液晶層３を通過しながら液晶分子の配向によってその偏光が変化する。このような偏光の変化は、 偏光板によって光の透過率の変化として現れる。
【００４０】
１水平周期（または１Ｈ）[水平同期信号（Ｈsync）、データイネーブル信号（ＤＥ）、ゲートクロック（ＣＰＶ）の一周期]が経過すると、データ駆動部５００及びゲート駆動部４００は、次の行の画素に対して同一な動作を繰り返す。このような方式で、１フレーム（ｆｒａｍｅ）間に全てのゲート線（Ｇ1−Ｇn）に対して順次にゲートオン電圧（Ｖon）が印加され、全ての画素にデータ電圧が印加される。１フレームが終われば次のフレームが始まって、各画素に印加されるデータ電圧の極性が直前のフレームでの極性と反対になるように、データ駆動部５００に印加される反転信号（ＲＶＳ）の状態が制御される（フレーム反転）。この時、１フレーム内でも反転信号（ＲＶＳ）の特性によって一つのデータ線を通じて流れるデータ電圧の極性が変化したり（例：行反転、点反転）、一つの画素行に印加されるデータ電圧の極性も互いに異なることがある（例：列反転、点反転）。
【００４１】
以下、図３乃至図６を参照して、本発明の一実施例による液晶表示装置の構造について詳細に説明する。
図３は本発明の一実施例による液晶表示装置用薄膜トランジスタ表示板の配置図であり、図４は本発明の一実施例による液晶表示装置用共通電極表示板の配置図であり、図５は図３の薄膜トランジスタ表示板及び図４の共通電極表示板からなる液晶表示装置の配置図であり、図６は図５の液晶表示装置のＶＩ−ＶＩ´線による断面図である。
【００４２】
本発明の一実施例による液晶表示装置は、薄膜トランジスタ表示板１００、共通電極表示板２００、そして二つの表示板１００、２００の間の液晶層３を含む。
まず、図３、図５及び図６を参照して、薄膜トランジスタ表示板１００について詳細に説明する。
絶縁基板１１０上に、複数のゲート線（ｇａｔｅ ｌｉｎｅ）１２１、複数の維持電極線（ｓｔｏｒａｇｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｌｉｎｅｓ）１３１ａ、１３１ｂ、及び複数の容量性補助電極１３６が形成されている。
【００４３】
ゲート線１２１は、主に横方向にのびて、互いに分離されていて、ゲート信号を伝達する。各ゲート線１２１は、上に突出した複数のゲート電極（ｇａｔｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１２４、及び他の層または外部装置との接続のために面積が広い端部１２９を含む。
各々の維持電極線１３１ａ、１３１ｂは、主に横方向にのびていて、互いに隣接するゲート線１２１間で各々対をなして位置している。各々の維持電極線１３１ａ、１３１ｂは、隣接するゲート線１２１付近に位置して、下上に突出した維持電極１３７ａ、１３７ｂを各々含む。二つの維持電極線１３１ａ、１３１ｂは、隣接するゲート線１２１の中間に位置した横線に対して対称構造をなす。維持電極線１３１ａ、１３１ｂには、液晶表示装置の共通電極表示板２００の共通電極（ｃｏｍｍｏｎ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）２７０に印加される共通電圧（ｃｏｍｍｏｎ ｖｏｌｔａｇｅ）などの所定の電圧が印加される。
【００４４】
各々の容量性補助電極１３６は、隣接する二つのゲート線１２１間の中央に位置して、横方向に長い長方形で、端部にゲート線１２１に対して約４５゜に傾いた斜辺を有して、じょうご形態をなしている。
ゲート線１２１、維持電極線１３１ａ、１３１ｂ、及び容量性補助電極１３６は、アルミニウム系金属、銀系金属、銅系金属、モリブデン系金属、クロム、チタニウム、タンタルなどからなるのが好ましく、単一膜構造や多層膜構造からなることができる。ここで多層膜は、例えば物理的性質が異なる二つの膜、つまり下部膜及びその上の上部膜を含むことができる。一つの導電膜は、信号遅延や電圧降下を減少させることができるように、低い比抵抗（ｒｅｓｉｓｔｉｖｅｌｙ）の金属、例えばアルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などのアルミニウム系金属、銀（Ａｇ）や銀合金などの銀系金属、銅（Ｃｕ）や銅合金などの銅系金属からなることができる。これとは異なって、もう一つの導電膜は、他の物質、特にＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）及びＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）との接触特性が優れている物質、例えばクロム、モリブデン（Ｍｏ）、モリブデン合金、タンタル（Ｔａ）、またはチタニウム（Ｔｉ）などからなることができる。二つの導電膜の好ましい例としては、クロム／アルミニウム−ネオジム（Ｎｄ）合金、またはモリブデンまたはモリブデン合金／アルミニウム合金がある。
【００４５】
また、ゲート線１２１、維持電極線１３１ａ、１３１ｂ、及び容量性補助電極１３６の側面は基板１１０の表面に対して傾いていて、その傾斜角は約３０−８０゜であるのが好ましい。
ゲート線１２１、維持電極線１３１ａ、１３１ｂ、及び容量性補助電極１３６上には窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）などからなるゲート絶縁膜（ｇａｔｅ ｉｎｓｕｌａｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）１４０が形成されている。
【００４６】
ゲート絶縁膜１４０の上部には、水素化非晶質シリコン（ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｅｄ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ）（非晶質シリコンは略してａ−Ｓｉとする）などからなる複数の島型半導体１５４が形成されている。各々の島型半導体１５４は、主にゲート電極１２４の上部に位置して、後に形成されるデータ線１７１が通るゲート線１２１の上部まで拡張されている。島型半導体１５４と同一な層でデータ線１７１が通る維持電極線１３１の上部にバッファー層が追加されることもできる。
【００４７】
半導体１５４の上部には、シリサイド（ｓｉｌｉｃｉｄｅ）またはリンなどのｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどの物質からなる複数の島型抵抗性接触部材（ｏｈｍｉｃ ｃｏｎｔａｃｔ）１６３、１６５が形成されている。二つの島型抵抗性接触部材１６３、１６５は、対をなして半導体１５４上に位置しているので、ゲート電極１２４を中心に互いに対向する。
【００４８】
島型半導体１５４及び抵抗性接触部材１６３、１６５の側面も基板１１０の表面に対して傾いていて、その傾斜角は３０−８０゜であるのが好ましい。
抵抗性接触部材１６３、１６５及びゲート絶縁膜１４０上には、各々複数のデータ線（ｄａｔａ ｌｉｎｅ）１７１、これから分離されている複数のドレイン電極（ｄｒａｉｎ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１７７ａ、１７７ｂ、及びドレイン電極１７７ａ、１７７ｂに連結されている容量性結合電極１７６が形成されている。
【００４９】
データ線１７１は、主に縦方向にのびて、ゲート線１２１及び維持電極線１３１ａ、１３１ｂと交差していて、データ電圧（ｄａｔａ ｖｏｌｔａｇｅ）を伝達する。各データ線１７１は、他の層または外部装置との接続のために面積が広い端部１７９を含む。
各々のドレイン電極１７５は、各々の維持電極１３７ａ、１３７ｂと重畳する長方形の拡張部１７７ａ、１７７ｂを含む。ドレイン電極の拡張部１７７ａ、１７７ｂの辺は、維持電極１３７ａ、１３７ｂの辺と実質的に平行で、互いに隣接するゲート線１２１の中心線に対して対称構造をなす。データ線１７１の各々は、複数の突出部を含み、この突出部は、半導体１５４の上部に位置するドレイン電極１７５の一端部の一部を囲むソース電極１７３を構成する。一つのゲート電極１２４、一つのソース電極１７３、及び一つのドレイン電極１７５は、半導体１５４と共に一つの薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）を構成し、薄膜トランジスタのチャンネル（ｃｈａｎｎｅｌ）は、ソース電極１７３とドレイン電極１７５との間の半導体１５４に形成される。
【００５０】
容量性結合電極１７６は、容量性補助電極１３６と重畳し、容量性補助電極１３６の辺と平行な辺を有して、左側の一部はじょうご形態をなしている。容量性結合電極１７６は、境界線内で容量性補助電極１３６の上部に位置する開口部７６を含む。
ドレイン電極１７５は、ドレイン電極１７５の二つの拡張部１７７ａ、１７７ｂ及び容量性結合電極１７６を互いに連結し、データ線１７１に隣接して平行で、互いに隣接したゲート線１２１の中心線に対して対称にのびた連結部１７８ａ、１７８ｂを含む。したがって、ドレイン電極１７５、容量性結合電極１７６、及び容量性補助電極１３６は、互いに隣接するゲート線１２１の中心線に対して対称構造をなす。この時、連結部１７８ａ、１７８ｂは、ゲート線１２１及びデータ線１７１で囲まれた領域の最外側周縁に位置するので、画像が表示される透過領域を減少させず、透過領域の周縁で発生するテクスチャーを遮断する機能をする。
【００５１】
この時、データ線１７１及び容量性結合電極１７６は、他の物質、特にＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）またはＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）との物理的、化学的、電気的接触特性が優れている物質、例えばモリブデン（Ｍｏ）、モリブデン合金[例：モリブデン−アルミニウム（ＭｏＡｌ2）合金]、クロム（Ｃｒ）などからなる上部膜１７１ｒ、データ信号遅延や電圧降下を減少させることができるように、低い比抵抗（ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ）の金属、例えばアルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などのアルミニウム系金属からなる中間膜１７１ｑ、アルミニウム系金属が半導体１５１または抵抗性接触部材１６１、１６５に拡散されるのを防止するための金属、例えばモリブデン（Ｍｏ）、モリブデン合金[例：モリブデン−タングステン（ＭｏＷ）合金]、クロム（Ｃｒ）などからなる下部膜１７１ｐを含む。図６で、ソース電極１７３、ドレイン電極１７５、及びデータ線１７１の端部１７９の下部膜、中間膜、及び上部膜は、各々図面符号１７３ｐ、１７３ｑ、１７３ｒ、１７５ｐ、１７５ｑ、１７５ｒ、及び１７９ｐ、１７９ｑ、１７９ｒで示されている。
【００５２】
データ線１７１、容量性結合電極１７６、及びドレイン電極１７５の側面もゲート線１２１及び維持電極線１３１ａ、１３１ｂと同様に傾いていて、その傾斜角は約３０−８０゜であるのが好ましい。
抵抗性接触部材１６３、１６５は、その下部の半導体１５４とその上部のデータ線１７１及びドレイン電極１７５との間にだけ存在して、接触抵抗を低下させる役割を果たす。島型半導体１５４は、ソース電極１７３とドレイン電極１７５との間をはじめとして、データ線１７１及びドレイン電極１７５で覆われずに露出された部分を含む。
【００５３】
データ線１７１、ドレイン電極１７５、及び容量性結合電極１７６とこれらで覆われずに露出された半導体１５４との部分上には、保護膜（ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）１８０が形成されている。保護膜１８０は、平坦化特性が優れていて、感光性（ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｉｔｙ）がある有機物質、プラズマ化学気相蒸着（ｐｌａｓｍａ ｅｎｈａｎｃｅｄ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＥＣＶＤ）で形成されるａ−Ｓｉ：Ｃ：Ｏ、ａ−Ｓｉ：Ｏ：Ｆなど４．０以下の低誘電率絶縁物質、または無機物質である窒化ケイ素や酸化ケイ素などからなるのが好ましい。
【００５４】
保護膜１８０には、ドレイン電極１７５の拡張部１７７ａ、１７７ｂ及びデータ線１７１の端部１７９を各々露出する複数の接触孔（ｃｏｎｔａｃｔ ｈｏｌｅ）１８２、１８５ａ、１８５ｂが形成されており、ゲート絶縁膜１４０と共に容量性補助電極１３６及びゲート線１２１の端部１２９を露出する複数の接触孔１８１、１８６が形成されている。接触孔１８１、１８２、１８５ａ、１８５ｂ、１８６は、多角形または円形などの多様な形態に形成されることができる。接触孔１８１、１８２の面積は、約０．５ｍｍ×１５μｍ以上であり約２ｍｍ×６０μｍ以下であるのが好ましい。接触孔１８１、１８２、１８５ａ、１８５ｂ、１８６の側壁は、３０゜乃至８５゜の角度で傾いているか、階段型である。
【００５５】
この時、容量性補助電極１３６を露出する接触孔１８６は、容量性結合電極１７６の開口部７６内に位置し、接触孔１８６の側壁によって発生する段差によって液晶分子の配向が歪曲されるので、この部分で光漏れが発生しても容量性結合電極１７６によって遮断される。したがって、画素の開口率を確保しながら、ディスクリネーション（ｄｉｓｃｌｉｎａｔｉｏｎ）が発生するのを遮断することができる。
【００５６】
保護膜１８０上には、ＩＴＯまたはＩＺＯからなる複数の第１画素電極乃至第３画素電極（ｐｉｘｅｌ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１９０ａ、１９０ｂ、１９０ｃ、遮蔽電極（ｓｈｉｅｌｄｉｎｇ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）８８、及び複数の接触補助部材（ｃｏｎｔａｃｔ ａｓｓｉｓｔａｎｔ）８１、８２が形成されている。これとは異なって、第１画素電極乃至第３画素電極１９０ａ、１９０ｂ、１９０ｃは、透明な導電性ポリマーからなることもでき、反射型液晶表示装置である場合には、第１画素電極乃至第３画素電極１９０ａ、１９０ｂ、１９０ｃが不透明な反射性金属からなることもできる。この場合、接触補助部材８１、８２は、第１画素電極乃至第３画素電極１９０ａ、１９０ｂ、１９０ｃと異なる物質、例えばＩＴＯやＩＺＯからなることができる。
【００５７】
第１画素電極乃至第３画素電極１９０ａ、１９０ｂ、１９０ｃは、接触孔１８５ａ、１８５ｂ、１８６を通じてドレイン電極１７５と物理的・電気的に連結されて、ドレイン電極１７５からデータ電圧の印加を受ける。
画素電極１９０及び共通電極２７０は、キャパシタ[以下、液晶キャパシタ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｃａｐａｃｉｔｏｒ）とする]を構成して、薄膜トランジスタがターンオフされた後にも印加された電圧を維持するが、電圧の維持能力を強化するために、液晶キャパシタと並列に連結された他のキャパシタを構成することもでき、これをストレージキャパシタ（ｓｔｏｒａｇｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）という。ストレージキャパシタは、画素電極１９０及び維持電極線１３１ａ、１３１ｂの重畳などによって構成され、ストレージキャパシタの静電容量、つまり保持容量を増加させるために、維持電極線１３１ａ、１３１ｂに維持電極１３７ａ、１３７ｂを形成して画素電極１９０に連結されたドレイン電極１７５を延長及び拡張させて重畳させることによって、端子間の距離を近くして重畳面積を大きくする。
【００５８】
第１画素電極乃至第３画素電極１９０ａ、１９０ｂ、１９０ｃは、データ線１７１及びゲート線１２１で囲まれた領域内にほぼ位置して、境界の大部分がゲート線１２１及びデータ線１７１と平行で、長方形をなしている。第１画素電極乃至第３画素電極１９０ａ、１９０ｂ、１９０ｃは互いに分離されているので、第１画素電極及び第２画素電極１９０ａ、１９０ｂは、互いに分離されていて、第３画素電極１９０ｃを中心に上部及び下部に位置する二つの部分からなっており、第３画素電極１９０ｃは、第１画素電極１９０ａと第２画素電極１９０ｂとの間に介在された形態である。第１画素電極及び第２画素電極１９０ａ、１９０ｂと第３画素電極１９０ｃとは互いに対向し、ゲート線１２１に対して±４５゜に傾いた辺を有していて、互いに隣接するゲート線１２１間の中心線に対して対称構造をなしている。
【００５９】
第１画素電極及び第２画素電極１９０ａ、１９０ｂは、各々接触孔１８５ａ、１８５ｂを通じて一対のドレイン電極１７７ａ、１７７ｂと物理的に連結されて、これから直接データ電圧の印加を受ける。第３画素電極１９０ｃは、接触孔１８６を通じて容量性補助電極１３６と連結されており、容量性補助電極１３６は、ドレイン電極１７５と連結された容量性結合電極１７６と重畳している。したがって、第３画素電極１９０ｃは、第１画素及び第２電極１９０ａ、１９０ｂに電磁気的に結合（容量性結合）されている。
【００６０】
各画素電極１９０は、角が面取りされていて、面取りされた斜辺は、ゲート線１２１に対して約４５°の角度をなしている。
画素電極１９０は、中央切開部９１、９２、下部切開部９３ａ、９４ａ、９５ａ、及び上部切開部９３ｂ、９４ｂ、９５ｂを含み、画素電極１９０は、これら切開部９１−９５ｂによって複数の領域に分割される。切開部９１−９５ｂは、容量性結合電極１７６の横中心線または互いに隣接するゲート線１２１間の中心線に対してほぼ対称構造をなしていて、第１画素電極及び第２画素電極１９０ａ、１９０ｂの二つの部分と第３画素電極１９０ｃとは対向する二つの切開部９３ａ、９３ｂによって分離されている。
【００６１】
下部及び上部切開部９３ａ−９５ａ、９３ｂ−９５ｂは、画素電極１９０の左側辺から右側辺にほぼ斜めにのびていて、画素電極１９０を横方向に二等分する中心線によって分けられる下半面及び上半面に各々位置している。下部及び上部切開部９３ａ−９５ａ、９３ｂ−９５ｂは、ゲート線１２１に対して約４５°の角度をなして互いに垂直にのびていて、中央切開部９１、９２は、下部切開部９３ａ−９５ａ及び上部切開部９３ｂ−９５ｂに各々ほぼ平行な一対の分枝からなる。中央切開部９１、９２は、中央から横方向にのびた横部を含む。
【００６２】
したがって、画素電極１９０の上半面及び下半面は、切開部９１、９２、９３ａ、９３ｂ、９４ａ、９４ｂ、９５ａ、９５ｂによって各々６つの領域に分割され、このような領域は、画素電極１９０を上下に分ける二等分線または互いに隣接するゲート線１２１間の中心線に対して対称構造をなしている。また、ドレイン電極１７７ａ、１７７ｂ、維持電極線１３１ａ、１３１ｂ、容量性結合電極１７６、及び容量性補助電極１３６などのような薄膜で覆われない領域も、画素電極１９０を上下に分ける二等分線または互いに隣接するゲート線１２１間の中心線に対して対称構造をなしている。この時、領域の数または切開部の数は、画素の大きさ、画素電極の横辺及び縦辺の長さの比、液晶層３の種類や特性などの設計要素によって異なる。
【００６３】
画素電極１９０は、また、隣接するゲート線１２１またはデータ線１７１と重畳して、開口率（ａｐｅｒｔｕｒｅ ｒａｔｉｏ）を高めている。
接触補助部材８１、８２は、接触孔１８１、１８２を通じてゲート線１２１の端部１２９及びデータ線１７１の端部１７９と各々連結される。接触補助部材８１、８２は、ゲート線１２１の露出された端部１２９及びデータ線１７１の露出された端部１７９と外部装置との接着性を補完して、これらを保護する役割を果たす。接触補助部材８１、８２は、異方性導電膜（図示せず）などを通じて外部装置と連結される。
【００６４】
ゲート駆動回路が薄膜トランジスタ表示板１００に集積される場合には、接触補助部材８１は、ゲート駆動回路の金属層及びゲート線１２１を連結する役割を果たすことができる。同様に、データ駆動回路が薄膜トランジスタ表示板１００に集積される場合には、接触補助部材８２は、データ駆動回路の金属層及びデータ線１７１を連結する役割を果たすことができる。
【００６５】
遮蔽電極８８は、データ線１７１及びゲート線１２１に沿ってのびていて、データ線１７１の上部に位置する部分はデータ線１７１を完全に覆い、ゲート線１２１の上部に位置する部分はゲート線１２１の幅より幅が小さくてゲート線１２１の境界線内に位置する。しかし、その幅を調節して、データ線１７１より小さくすることもでき、ゲート線１２１の境界線外に位置する境界線を有することもできる。遮蔽電極８８には共通電圧が印加されるが、このために、保護膜１８０及びゲート絶縁膜１４０の接触孔（図示せず）を通じて維持電極線１３１に連結されたり、共通電圧を薄膜トランジスタ表示板１００から共通電極表示板２００に伝達する短絡点（ｓｈｏｒｔ ｐｏｉｎｔ）（図示せず）に連結されることもできる。この時、開口率の減少が最少になるように、遮蔽電極８８と画素電極１９０との間の距離を最少にするのが好ましい。
【００６６】
このように、共通電圧が印加される遮蔽電極８８をデータ線１７１の上部に位置させれば、遮蔽電極８８がデータ線１７１と画素電極１９０との間及びデータ線１７１と共通電極２７０との間で形成される電界を遮断して、画素電極１９０の電圧歪曲及びデータ線１７１が伝達するデータ電圧の信号遅延が減少する。
また、画素電極１９０及び遮蔽電極８８の短絡を防止するために、これらの間に距離をおかなければならないので、画素電極１９０がデータ線１７１からより遠くなって、これらの間の寄生容量が減少する。さらに、液晶層３の誘電率（ｐｅｒｍｉｔｔｉｖｉｔｙ）が保護膜１８０の誘電率より高いため、データ線１７１と遮蔽電極８８との間の寄生容量が遮蔽電極８８がない時のデータ線１７１と共通電極２７０との間の寄生容量に比べて小さい。
【００６７】
それだけでなく、画素電極１９０及び遮蔽電極８８が同一な層に形成されるため、これらの間の距離が一定に維持され、これによってこれらの間の寄生容量が一定である。
次に、図４乃至図６を参照して、共通電極表示板２００について説明する。
透明なガラスなどからなる絶縁基板２１０上に、遮光部材２２０が形成されており、遮光部材２２０は、画素電極１９０と対向して、画素電極１９０とほぼ同一な形態からなる複数の開口部を含む。これとは異なって、遮光部材２２０は、データ線１７１に対応する部分及び薄膜トランジスタに対応する部分からなることもできる。
【００６８】
基板２１０上には、また、複数の色フィルタ２３０が形成されていて、遮光部材２３０に囲まれた領域内に大部分が位置する。色フィルタ２３０は、画素電極１９０に沿って縦方向に長くのびることができる。色フィルタ２３０は、赤色、緑色、及び青色などの原色のうちの一つを表示することができる。
色フィルタ２３０上には、蓋膜２５０が形成されている。
【００６９】
蓋膜２５０上には、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電体などからなる共通電極２７０が形成されている。
共通電極２７０は、複数組の切開部７１−７６ｂの集合を含む。
一組の切開部７１−７６ｂは、一つの画素電極１９０と対向して、中央切開部７１、７２、７３、下部切開部７４ａ、７５ａ、７６ａ、及び上部切開部７４ｂ、７５ｂ、７６ｂを含む。切開部７１−７６ｂの各々は、隣接した画素電極１９０の切開部９１−９５ｂ間または周縁の切開部９５ａ、９５ｂと画素電極１９０の斜辺との間に位置している。また、各切開部７１−７６ｂは、画素電極１９０の切開部９１−９５ｂと平行にのびている少なくとも一つの斜線部を含む。
【００７０】
下部切開部及び上部切開部７４ａ−７６ａ、７４ｂ−７６ｂの各々は、ほぼ画素電極１９０の右側辺から下側辺または上側辺に向かってのびた斜線部、そして斜線部の各端部から画素電極１９０の辺に沿って辺と重畳しながらのびて斜線部と鈍角をなす横部及び縦部を含む。
中央切開部７１、７２、７３は、画素電極１９０の左側辺からほぼ横部にのびた中央横部、この中央横部の端部から中央横部と鋭角をなして画素電極１９０の左側辺に向かってのびている一対の斜線部、そして斜線部の各端部から画素電極１９０の左側辺に沿って左側辺と重畳しながらのびて斜線部と鈍角をなす縦断部を含む。
【００７１】
切開部７１−７６ｂの数は、設計要素によって異なり、遮光部材２２０が切開部７１−７６ｂと重畳して切開部７１−７６ｂ付近の光漏れを遮断することができる。
表示板１００、２００の内側面には、垂直配向膜１１、２１が各々塗布されていて、外側面には、偏光板１２、２２が付着されている。
二つの偏光板１２、２２の透過軸は直交して、このうちの一つの透過軸はゲート線１２１に対して平行である。反射型液晶表示装置である場合には、二つの偏光板１２、２２のうちの一つを省略することができる。
【００７２】
液晶層３は、負の誘電率異方性を有し、液晶層３の液晶分子３１０は、電界が生成されない状態でその長軸が二つの表示板の表面に対して垂直をなすように配向されている。したがって、入射光は直交する 偏光板１２、２２を通過することができずに遮断される。
表示板１００、２００と 偏光板１２、２２との間には、各々液晶層３の遅延値を補償するための位相遅延フィルム（ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ ｆｉｌｍ）が介在されることができる。位相遅延フィルムは、複屈折性（ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）を有して、液晶層３の複屈折性を逆に補償する役割を果たす。遅延フィルムとしては、一軸性または二軸性光学フィルムを使用することができ、特に陰性（ｎｅｇａｔｉｖｅ）一軸性光学フィルムを使用することができる。
【００７３】
また、共通電極２７０及び遮蔽電極８８に同一な共通電圧が印加されるので、両者の間には電界がほとんど生成されない。したがって、共通電極２７０と遮蔽電極８８との間に位置した液晶分子３１０は初期の垂直配向状態をそのまま維持するので、この部分に照射された光は透過されずに遮断される。
一方、液晶分子３１０の傾斜方向及び 偏光板１２、２２の透過軸が４５°の角度をなせば最高輝度を得ることができるが、本実施例の場合、全てのドメインで液晶分子３１０の傾斜方向がゲート線１２１と４５゜の角度をなし、ゲート線１２１は表示板１００、２００の周縁と垂直または水平である。従って、本実施例の場合、 偏光板１２、２２の透過軸を表示板１００、２００の周縁に対して垂直または平行になるように付着すれば、最高輝度を得ることができるだけでなく、 偏光板１２、２２を安価で製造することができる。
【００７４】
共通電極２７０に共通電圧を印加し、画素電極１９０にデータ電圧を印加すれば、表示板の表面にほぼ垂直な主電界（ｐｒｉｍａｒｙ ｅｌｅｃｔｒｉｃ ｆｉｅｌｄ）が生成される。液晶分子３１０は、電界に応答して、その長軸が電界の生成方向に垂直をなすように傾斜方向を変化させようとする。一方、共通電極２７０及び画素電極１９０の切開部７１−７６ｂ、９１−９５ｂ及び画素電極１９０の辺は、主電界を歪曲して、液晶分子の傾斜方向を決定する水平成分を形成する。主電界の水平成分は、切開部７１−７５ｂ、９１−９６ｂの辺及び画素電極１９０の辺に垂直である。また、切開部７１−７６ｂ、９１−９５ｂの対向する二つの辺での主電界の水平成分は、互いに反対側である。
【００７５】
このような電界によって、切開部７１−７６ｂ、９１−９５ｂは、液晶層３の液晶分子の傾斜方向を制御する。隣接する切開部７１−７６ｂ、９１−９５ｂによって定義されたり、切開部７６ａ、７６ｂ及び画素電極１９０の右側斜辺によって定義される各ドメイン内にある液晶分子は、切開部７１−７６ｂ、９１−９５ｂの長さ方向に対して垂直をなす方向に傾く。各ドメインの最も長い２辺は、ほぼ平行で、ゲート線１２１と約±４５°の角度をなして、ドメイン内で液晶分子の大部分は四方向に傾く。
【００７６】
切開部７１−７６ｂ、９１−９５ｂの幅は、約９μｍ乃至約１２μｍであるのが好ましい。
少なくとも一つの切開部７１−７６ｂ、９１−９５ｂは、突起（ｐｒｏｔｒｕｓｉｏｎ）（図示せず）や陥没部（ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ）（図示せず）で代替することができる。突起は有機物または無機物からなり、電界生成電極１９０、２７０上または下に位置して、その幅は約５μｍ乃至約１０μｍであるのが好ましい。
【００７７】
それでは、このような構造の液晶表示装置の修理装置及び修理方法について、図７乃至図１７を参照して詳細に説明する。
図７は本発明の一実施例による液晶表示装置の修理方式を概略的に示す図面である。
図７を参照すれば、図６に示した液晶表示装置における下部基板１１０、前記基板２１０、及び色フィルタ２３０が示されている。この時、上部基板２１０の上側からレーザ装備７００を使用して色フィルタ２３０及び上部基板２１０の境界面２１１にレーザ光７５０の焦点（ｆｏｃｕｓ）を合せてレーザ光７５０を照射する。これによって、色フィルタ２３０の透過率が変化して、光源部９１０からの光９５０が遮断される。
【００７８】
一方、図７に示したように、レーザ装備７００は、液晶表示装置の外部に位置しながら色フィルタ２３０にレーザ光７５０を照射しなければならない。つまり、レーザ光７５０は、ガラスからなる上部基板２１０を通過しなければならず、色フィルタ２３０の境界面２１１を除く他の部分を損傷させずに色フィルタ２３０の透過率を変化させることができるレーザ装備７００を実現する必要があり、これについて、図８乃至図１１を参照して詳細に説明する。
【００７９】
図８は本発明の一実施例による液晶表示装置の修理に使用されるレーザ装備で、レーザ光を選定する条件を説明するためのグラフであり、図９は色フィルタ別透過率特性を示すグラフである。図１０は色フィルタ試片を示す図面であり、図１１は本発明の一実施例による液晶表示装置の修理に使用されるレーザ装備を選択するためのレーザ光の強さ特性を示す図面である。
【００８０】
図８には、ガラスからなって互いに厚さが異なる３つの試片（ｔｅｓｔ ｍａｔｅｒｉａｌ）に対して波長を異にして透過率を測定したグラフを示した。グラフの横軸は波長を示し、単位はマイクロメートル（μｍ）であり、縦軸は透過率を百分率で示したものである。
各試片は、商標名ＢＯＲＯＦＬＯＡＴというガラスであり、厚さは２ｍｍ、６ｍｍ、１５ｍｍである。
【００８１】
図面に示したように、レーザ光の波長が約３００ｎｍ以上、つまり０．３μｍ以上、より好ましくは２５０ｎｍ以上であれば、レーザ光は試片の厚さに関係なく透過することが分かる。
一方、図９は色フィルタ別分光特性を示すグラフであって、横軸はレーザ光の波長であって、単位はｎｍであり、縦軸は透過率を百分率で示したものである。
【００８２】
この時、色フィルタ２３０を変性させないためには、色フィルタ２３０がレーザ光のエネルギーを全て吸収するのが好ましいので、図８に示したグラフとは異なって、レーザ光を透過させずに全て吸収することができる波長が好ましい。このようにすれば、レーザ光が色フィルタ２３０を透過して、薄膜トランジスタ表示板１００に位置するデータ線１７１をはじめとする様々な配線を損傷させるのを防止することができる。
【００８３】
ここで、色フィルタ２３０の変性とは、レーザ光を色フィルタ２３０に照射することによって、色フィルタ２３０の成分または性質を変化させて、光源部９１０からの光を透過させずに吸収することをいい、また、変性する前には光源部９１０からの光を透過させることをいう。
この時、色フィルタ２３０は、赤色、緑色、及び青色の色相別に互いに異なる波長範囲で吸収及び透過が行われるので、色相別に互いに異なる波長を有するレーザ光を使用することができる。また、色相の区分なく吸収が行われる波長を有するレーザ光を選択することもでき、このようなレーザ光は、実際の工程で、作業時間及び作業容易性の側面で長所がある。
【００８４】
図示したように、透過率が０の波長、つまり色相の区分なくほぼ全てのエネルギーを吸収することができる波長は、３８０ｎｍ以下または７４０ｎｍ以上の波長が好ましいことが分かる。しかし、実際の実験では、５３２ｎｍの波長でもエネルギーを吸収することが確認された。
一方、このような波長に対する情報に基づいてレーザ装備を選択することについて説明する。
【００８５】
図１０は別途に製作された色フィルタ試片を示したものであって、上部基板２１０に色フィルタ２３０のみを形成したもの、つまり偏光板２２、蓋膜２５０、共通電極２７０、及び配向膜２１を除去したものである。
現在使用されているレーザ装備は２種類の光特性を有し、一つは持続波（ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ ｗａｖｅ、ＣＷ）モードであり、一つはパルス波（ｐｕｌｓｅ ｗａｖｅ、ＰＷ）モードであって、図１１の左側に示したグラフが持続波モードの強さ特性（ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ）であり、右側に示したグラフがパルス波モードの強さ特性である。
【００８６】
持続波モードのレーザ装備は、時間によって数ｍＷ乃至数ｋＷの範囲の一定の電力を有するレーザ光を連続的に放出し、パルス波モードのレーザ装備は、一定の時間間隔で数ｍＷ以上のパルスを周期的に放出する。
表１は現在使用されている様々なレーザ装備に対する実験条件を示したものである。
【００８７】
【表１】
2006227621.tif 000003
ここで、レーザ装備は、レーザ光を構成するソース（ｓｏｕｒｃｅ）、つまり光源によって分類した。レーザ装備（Ｈｅ−Ｃｄ）はレーザ光の波長が５４３ｎｍであって持続波モードであり、レーザ装備（ＮｄＹＡＧ）はレーザ光の波長が３５５ｎｍであってパルス波モードであり、レーザ装備（Ａｒ）はレーザ光の波長が４８８ｎｍであって持続波モードであり、レーザ装備（ＮｄＹＡＧ）はレーザ光の波長が１０６４ｎｍであって持続波モードである。
【００８８】
このようなレーザ装備を使用して、図１０に示した色フィルタ試片にレーザ光を照射した結果、二つのレーザ装備（Ｈｅ−Ｃｄ、Ａｒ）の場合には、５分以上照射しても変性が起こらず、レーザ装備（ＮｄＹＡＧ、ＣＷ）の場合には、強さによって色フィルタ２３０に孔が空いてしまうことはあっても変性は起こらなかった。しかし、レーザ装備（ＮｄＹＡＧ、ＰＷ）の場合には、色フィルタ２３０の変性が起こることが確認され、さらには、強さやパルスの数、つまり周波数によって変性程度が異なることが確認された。
【００８９】
したがって、持続波モードのレーザ装備よりはパルス波モードのレーザ装備を使用するのが好ましいことが分かり、レーザ光の波長も、前記のように、２５０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の範囲であるのが好ましい。
もちろん、持続波モードのレーザ装備でも、前記実験条件とは異なるようにレーザ光源、波長、または強さなどの特性を変化させれば、使用することができる。前記実験は一実施例であって、他のレーザ光源、波長を有する持続波またはパルス波の使用を完全に排除するわけではない。
【００９０】
それでは、前記で説明した波長が３５５ｎｍであるパルス波モードのレーザ装備（ＮｄＹＡＧ）を使用して色フィルタ２３０を変性させる様々な方式について、詳細に説明する。
図１２は本発明の一実施例による液晶表示装置の修理装置に使用されるスリットを示す図面であり、図１３は本発明の一実施例によって液晶表示装置の修理装置を使用して色フィルタにレーザ光を照射する方式を示す図面である。
【００９１】
ここで、スリット７６０は、レーザ光の焦点を所望の画素に固定する役割を果たすものであって、レーザ光の焦点が画素より大きい場合に使用される。この時、スリット７６０は、液晶表示装置の製造工程に使用されるスリットマスクと類似して、透過領域７６１及びその外側の遮光領域を含むことができ、画素の大きさに合せて透過領域７６１の大きさを調節することができる。また、透過領域７６１は、透明基板や空いた空間である切開部でありうる。
【００９２】
この時、図１３に示したように、欠陥がある色フィルタ２３０に対して、例えば色フィルタ２３０の上側から下側に矢印方向に透過領域７６１を通じてレーザ光を照射する。これによりレーザ光が照射された領域は、変性された部分７６５を有するようになり、このような変性によって色フィルタ２３０の透過特性が変化して、光源部９１０からの光９５０を全て吸収する。
【００９３】
一方、レーザ光のパルス周波数は５５Ｈｚ以下であり、この程度のパルス周波数では、色フィルタ２３０の破壊によって液晶層３に色フィルタ２３０が流れこんで生じる泡 （ｂｕｂｂｌｅ）が発生しないことが確認された。パルス周波数の一実施例は５０Ｈｚ付近の周波数でありうる。
また、上部基板２１０に偏光板２２が付着された状態でレーザ光を照射したり、偏光板２２を除去してレーザ光を照射することができる。偏光板２２は、レーザ光の照射面積や強さを変化させる要因として作用するので、偏光板２２を通過して色フィルタ２３０にレーザを照射する場合には、偏光板２２による変化要因を反映しなければならない。例えば、偏光板２２を付着した状態でレーザを照射する場合には、レーザ光の波長は３８０ｎｍ以上でありうる。
【００９４】
図１４は本発明の他の実施例によって色フィルタにレーザ光を照射する方式を示す図面であり、図１５Ａ乃至図１５Ｃは図１４に示した方式による色フィルタ照射方式の原理を説明するための図面である。
ここで、図１５Ａは図１４に示した色フィルタ２３０のＸＶａ−ＸＶａ´線による断面図である。
【００９５】
図１４及び図１５を参照すれば、色フィルタ２３０及び色フィルタ２３０を囲んだ遮光部材２２０が示されており、図面符号２３１はレーザ光の照射開始線を示す。
この時、レーザ光は、開始線２３１から矢印方向（ａ）に遮光部材２２０の一部まで照射される。このようにすれば、レーザ光が遮光部材２２０に達する瞬間に遮光部材２２０がレーザ光が照射された色フィルタ領域２２２に拡散される。ただし、この時のレーザ光の強さは、図１３に示したものとは異なって、変性を起こさない程度の強さであり、このような拡散によって色フィルタ２３０を変性させるのと同一な効果を得ることができる。レーザ光の強さは、電力やパルス周波数を変化させることによって変化させることができる。
【００９６】
つまり、色フィルタ２３０を変性させる程ではないレーザ光が照射されれば、変性する前の状態で色フィルタ２３０を構成する成分及び遮光部材２２０を構成する成分が分解されながら、図１３Ｃに示したように矢印方向に色フィルタ２３０の分解によって生じた空間に遮光部材２２０が拡散される。これによって、遮光部材２２０が下からの光を遮断して、色フィルタ２３０を変性させるのと同一な効果を得ることができる。
【００９７】
ここで、遮光部材２２０は有機物質からなるのが好ましい。
図１６及び図１７は本発明の他の実施例によって色フィルタにレーザ光を照射する方式を示す図面である。
図１６の場合には、図１４に示したように、矢印方向（ａ）にまずレーザ光を照射し、次に反対方向（ｂ）にレーザ光を照射する。そうすると、遮光部材２２０の拡散領域２２２をより広くすることができる。図１４に示した方式では拡散される範囲が制限的なので、拡散領域２２２の範囲が狭い。これに対して、図１６に示した方式では矢印方向（ａ）への照射によって拡散された遮光部材２２０を反対方向（ｂ）に拡散された遮光部材２２０が上側に押し上げるので、拡散領域２２２をより広くすることができる。
【００９８】
図１７の場合には、図１３に示した方式及び図１４または図１５に示した方式を結合したものであって、色フィルタ２３０の一部領域には色フィルタ２３０より幅が小さい透過領域７６１を通じてレーザ光を照射し、その外側の周縁部分、つまり遮光部材２２０と隣接した領域には遮光部材２２０を拡散する方式である。
この場合には、色フィルタ２３０及び遮光部材２２０を含む領域に変性を起こさない程度の強さでまずレーザ光を照射し、次にスリットの透過領域７６１を通じて変性を起こす程度の強さでレーザ光を照射する。そうすると、色フィルタ２３０及び遮光部材２２０の境界部分では拡散領域２２２が生じて、その内側には変性部分７６５が生じる。
【００９９】
ここで、色フィルタ２３０の変性を起こす程度のレーザ光の強さは、遮光部材２２０を破壊することもあるが、このような方式では、スリットの透過領域７６１の大きさに対してある程度の余裕をもつことができるので、遮光部材２２０が破壊されて液晶層３が汚染されるのを防止することができる。
図１８Ａ乃至図１８Ｃは本発明の他の実施例によってレーザ光を照射する方式を示す図面であって、遮光部材２２０の拡散だけで修理を行う例である。
【０１００】
まず、図１８Ａを参照すれば、色フィルタ２３０より幅が小さい透過領域７６１を通じてレーザ光を矢印方向に照射して、前記空間を形成する。つまり、この場合のレーザ光の強さは、色フィルタ２３０の変性を起こさない程度の強さである。
次に、図１８Ｂに示したように、色フィルタ２３０及び遮光部材２２０の境界を中心に色フィルタ２３０及び遮光部材２２０の一部を含む領域に透過領域７６１ａ、７６１ｂを通じてレーザ光を照射する。透過領域７６１ａ、７６１ｂの幅は図１８Ａに示した透過領域７６１の幅より小さいか同一であって、透過領域７６１を通じてレーザ光が照射された領域及び透過領域７６１ａ、７６１ｂを通じてレーザ光が照射された領域が重畳するのが好ましい。
【０１０１】
次に、図１８Ｃに示したように、遮光部材２２０と幅がほぼ同一な二つの透過領域７６１c、７６１ｄを通じてレーザ光を照射する。これによって、遮光部材２２０は両側で色フィルタ２３０の内側に拡散しながら全体に拡散する。したがって、拡散領域を含む色フィルタ２３０は、光源部９１０からの光を遮断する。
一方、本発明の実施例では液晶表示装置を中心に説明したが、、本発明は液晶表示装置だけでなく、色フィルタを含む全ての表示装置に適用することができる。例えば、ホワイト有機ＥＬ及び色フィルタを含む表示装置などに適用することができる。つまり、色フィルタに光を供給し、前記色フィルタ通過前または色フィルタ通過後に光の強さを調節することができ、観測者が色相または／及び多様な階調表現を認識することができる全ての表示装置に使用することができる。
【０１０２】
以上で、本発明の好ましい実施例について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の様々な変形及び改良形態も、本発明の権利範囲に属する。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】本発明の一実施例による液晶表示装置のブロック図である。
【図２】本発明の一実施例による液晶表示装置の一つの画素に対する等価回路図である。
【図３】本発明の一実施例による液晶表示装置用薄膜トランジスタ表示板の配置図である。
【図４】本発明の一実施例による液晶表示装置用共通電極表示板の配置図である。
【図５】図３の薄膜トランジスタ表示板及び図４の共通電極表示板からなる液晶表示装置の配置図である。
【図６】図５の液晶表示装置のＶＩ−ＶＩ´線による断面図である。
【図７】本発明の一実施例による液晶表示装置の修理方式を概略的に示す図面である。
【図８】本発明の一実施例による液晶表示装置の修理に使用されるレーザ装備で、レーザ光を選定するための条件を説明するためのグラフである。
【図９】色フィルタ別透過率特性を示すグラフである。
【図１０】本発明の一実施例による実験に使用される色フィルタ試片を示す図面である。
【図１１】本発明の一実施例による液晶表示装置の修理に使用されるレーザ装備を選択するためのレーザ光の二つの特性を示す図面である。
【図１２】本発明の一実施例による液晶表示装置の修理装置に使用されるスリットを示す図面である。
【図１３】本発明の一実施例によって液晶表示装置の修理装置を使用して色フィルタにレーザ光を照射する方式を示す図面である。
【図１４】本発明の他の実施例によって色フィルタにレーザ光を照射する方式を示す図面である。
【図１５Ａ】図１４に示した方式による色フィルタ照射方式の原理を説明するための図面である。
【図１５Ｂ】図１４に示した方式による色フィルタ照射方式の原理を説明するための図面である。
【図１５Ｃ】図１４に示した方式による色フィルタ照射方式の原理を説明するための図面である。
【図１６】本発明の他の実施例によって色フィルタにレーザ光を照射する方式を示す図面である。
【図１７】本発明の他の実施例によって色フィルタにレーザ光を照射する方式を示す図面である。
【図１８Ａ】本発明の他の実施例によって色フィルタにレーザ光を照射する方式を示す図面である。
【図１８Ｂ】本発明の他の実施例によって色フィルタにレーザ光を照射する方式を示す図面である。
【図１８Ｃ】本発明の他の実施例によって色フィルタにレーザ光を照射する方式を示す図面である。
【符号の説明】
【０１０４】
１００  下部表示板（薄膜トランジスタ表示板）
１１、２１  配向膜
１１０、２１０  絶縁基板
１２、２２  偏光板
１２１  ゲート線
１２４  ゲート電極
１２９、１７９  端部
１３１ａ、１３１ｂ  維持電極線
１３６  容量性補助電極
１３７ａ、１３７ｂ  維持電極
１４０  ゲート絶縁膜
１５４  島型半導体
１６３、１６５  島型抵抗性接触部材
１７１  データ線
１７３  ソース電極
１７５  ドレイン電極
１７６  容量性結合電極
１７７ａ、１７７ｂ  拡張部
１７８ａ、１７８ｂ  連結部
１８０  保護膜
１８１、１８２、１８５ａ、１８５ｂ、１８６  接触孔
１９０  画素電極
２００  上部表示板（共通電極表示板）
２２０  遮光部材
２３０  色フィルタ
２５０  蓋膜
２７０  共通電極
３００  液晶表示板組立体
３  液晶層
３１０  液晶分子
４００  ゲート駆動部
５００  データ駆動部
６００  信号制御部
７００  レーザ装備
７６０  スリット
７１、７２、７３、７４ａ、７４ｂ、７５ａ、７５ｂ、７６ａ、７６ｂ、９１、９２、９３ａ、９３ｂ、９４ａ、９４ｂ、９５ａ、９５ｂ  切開部
７６  開口部
８００  階調電圧生成部
８１、８２  接触補助部材
８８  遮蔽電極
９００  バックライト装置
９１０  光源部
【図１】
2006227621.tif 000004
【図２】
2006227621.tif 000005
【図３】
2006227621.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８Ａ】
2006227621.tif 000023
【図１８Ｂ】
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【図１８Ｃ】
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