(57)【要約】【課題】  簡単な機構を持ち、調整操作が簡単で短時間に取付け位置の設定作業を行うことができ、メンテナンスにおいても、再調整が簡単で短時間に行うことができる撮像素子の光軸の向きを三次元的に調整可能な撮像素子取付け具を提供する。【解決手段】  スライド調整ねじ軸２４に対してスライド調整ナット２６のねじ込みを調整して支持フレーム２を移動させることで撮像素子３５のキャリブレーション用サンプルに対する焦点合わせを行う。調整ナット３１ａを調整ねじ軸３０ａにねじ込みを調整することによって、支持フレーム２は、調整ナット３１ｂ，３１ｃについて当接する部分を結ぶ接触線を中心にして、想像線で示すように傾斜し、その傾斜に応じて撮像素子３５の光軸３６が調整される。他の調整ナット３１ｂ，３１ｃについても調整をすることによって、撮像素子３５の光軸３６を三次元的に調整することができる。【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像素子を直接支持する支持フレーム、前記撮像素子を取り付けるべき機器側に固定可能な取付けフレーム、及び前記撮像素子の光軸を調整するため前記支持フレームを前記取付けフレームに対して三次元的に揺動可能に調整するとともに調整された位置を保持可能な光軸調整機構を備えていることから成る撮像素子取付け具。
【請求項２】
前記光軸調整機構は、前記取付けフレームと前記支持フレームのいずれか一方に立設されていると共に前記取付けフレームと前記支持フレームの他方に形成された貫通孔を遊嵌状態に貫通している少なくとも三つの調整ねじ軸、前記各調整ねじ軸にねじ込み量が可変に螺合される調整ナット、及び前記支持フレームと前記取付けフレームとの間に配設され前記取付けフレームと前記支持フレームの前記他方を前記調整ナットに係合する状態に押し付ける弾性手段を備えていることから成る請求項１に記載の撮像素子取付け具。
【請求項３】
前記弾性手段は、前記各調整ねじ軸の軸部に圧縮状態に嵌装されるコイルばねであることから成る請求項２に記載の撮像素子取付け具。
【請求項４】
前記支持フレームには前記撮像素子を嵌入させた状態で前記撮像素子を支持する支持孔が形成されており、前記調整ねじ軸は前記支持孔の周りに等間隔に配置されていることから成る請求項２又は３に記載の撮像素子取付け具。
【請求項５】
前記取付けフレームは、前記機器側に固定されるベースフレーム及び前記ベースフレームに対して移動可能な可動フレームを備え、前記各調整ねじ軸は前記可動フレームに立設され且つ前記弾性手段は前記支持フレームと前記可動フレームとの間に配設されていることから成る請求項２〜４のいずれか１項に記載の撮像素子取付け具。
【請求項６】
前記可動フレームは、前記ベースフレームに対して、前記可動フレームと前記ベースフレームとのいずれか一方が取り付けられる軌道レールと、前記可動フレームと前記ベースフレームの他方が取り付けられ且つ前記軌道レールに対してスライド移動可能なスライダとを備える直動軸受けユニットを介して移動可能であり、前記ベースフレームに対する前記可動フレームの位置を調整するため、前記ベースフレームに立設されており且つ前記可動フレームに形成されている貫通孔を貫通するスライド調整ねじ軸、前記スライド調整ねじ軸に螺合し前記可動フレームに係合可能なスライド調整ナット、及び前記可動フレームと前記ベースフレームとの間に圧縮状態に配設された付勢手段を備えたスライド調整機構が設けられていることから成る請求項５に記載の撮像素子取付け具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、撮像素子の光軸を調整可能に取り付けることができる撮像素子取付け具に関し、特に、基板上に有機エレクトロルミネセンス（以下、「有機ＥＬ」と略す）発光材料から成る薄膜状の発光層のように所定のパターンの薄膜層を形成する真空成膜装置において、基板に対するパターン形成用のマスクの位置合わせを確認するのに用いられる撮像素子を装置に対して光軸調整可能に取付け可能な撮像素子取付け具に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜表示素子や薄膜半導体素子において成膜される薄膜層としては、有機ＥＬ発光材料から成る薄膜状の発光層の他、半導体層、電極材料からなる薄膜状の電極層等が挙げられる。従来、これらの薄膜表示素子や薄膜半導体素子の製造は、内部が高度に真空化可能な（１０- 4 Ｐａのオーダー）真空チャンバのような真空雰囲気の中で基板上に措定の材料から成る薄膜を線状或いは点状のパターンに成形することにより行われている。真空チャンバの内部には蒸発筒が配設されており、蒸発筒の内部には、有機原料が収容された蒸発セルが昇降棒によって昇降可能に配置されている。蒸発セルの上昇位置において、加熱手段が蒸発セルを加熱することによって蒸発セル内に収容されている有機原料が蒸発する。下降位置に降下した蒸発セルを冷却手段によって冷却することにより、高価な有機原料を無駄に消費するのが防止される。蒸発セルから蒸発した有機原料の蒸発ガスは、蒸発筒内を上昇し、基板に蒸着される。薄膜形成用のために微細な開口部が形成されたマスクを基板に対して位置合わせ可能にするマスク位置合わせ装置を用いることによって、薄膜層が基板上に所定パターンに高精度に形成される。特に、有機ＥＬ素子の製造については、有機ＥＬ素子の材料となる有機原料が耐高温性に乏しく高温工程を含む製造工程は採用できないので、基板を所定の微細なパターンで開口するマスクで密着させて覆い、マスクで覆われた基板を真空チャンバ内に配置し、真空チャンバ内で蒸発させた有機原料をマスクの微細な開口部を通して基板上の部分に蒸着することにより、薄膜製造の当初段階から所定のパターンとなるように成膜される。
【０００３】
近年の有機ＥＬ素子の開発は、解像度の高いカラー画像を指向しており、そのため、上記のように、マスクの開口部は非常に微細に製作されている。また、有機ＥＬ素子の製造では、カラー画像に対応して赤・緑・青の３色の発光層を形成するための複数種類の有機原料や電極材料が、各材料毎に段階を踏んで蒸着される。従って、各蒸着段階において、先の工程で蒸着が行われた基板と、微細な開口部が多数形成されたマスクとの相対位置を高度に制御する必要がある。基板とマスクとの相対的な位置合わせのために、従来、例えば、ＣＣＤカメラを用いて、多次元の位置合わせが可能なステージを用いる位置合わせ機構が用いられている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１１−１５８６０５号公報（段落［００２０］〜［００２１］，［００２９］、図４，図７）
【０００４】
図５に示されているように、位置合わせ機構４１は、成膜ゾーン５０の手前側にゲートバルブ５２によって成膜ゾーン５０とは区別して構成されたマスク着脱ゾーン５１のマスク着脱室５３内に配設されており、マスクＭと基板Ｂとをマスクセット基板４５として位置合わせ可能である。成膜ゾーン５０及びマスク着脱ゾーン５１は、排気系５８によって高度に真空化可能である。位置合わせ機構４１は、マスクＭを基板Ｂに対して接近・離反させるために、マスクＭを載せるマスク吸着体４０を基板Ｂの表面に対して垂直なＺ方向に移動させることができる。また、マスクＭの開口部を基板Ｂに対して正確に合わせるため、マスク吸着体４０は、基板Ｂの表面と平行な２軸（ＸＹ）の方向に移動可能であると共に、基板Ｂの表面に垂直な軸線回りにも回転可能である。このようなマスク吸着体４０の動きを可能にするために、マスク吸着体４０は、ＸＹ駆動ステージ４２、Ｚ駆動ステージ４３及びθ駆動ステージ４４がこの順に積み重ねられたステージ機構の上に搭載されている。
【０００５】
基板Ｂの表面上とマスクＭ上とには、それぞれ例えば十字形をした２個のアライメントマークが形成されており、マスク着脱室５３の外部からＣＣＤカメラ４６，４６にて両アライメントマークを観察し、２対のアライメントマークが一致するように、ＸＹ駆動ステージ４２、Ｚ駆動ステージ４３及びθ駆動ステージ４４が駆動される。即ち、各ＣＣＤカメラ４６で撮像したアライメントマークを含む画像において、両アライメントマークの位置ずれ量が検出され、コンピュータは検出した位置ずれ量がゼロになるようにマスク吸着体４０をＸＹＺ及びθ方向に微調整している。なお、成膜室５４の上部には基板ホルダ５５が配置されており、冷却系５６で基板Ｂを冷却している。成膜室５４の下部には、有機原料を加熱・蒸発させる蒸発源５７が配置されている。
【０００６】
本出願人は、既に、有機ＥＬ素子のような成膜素子の製造に関して、アライメント機構全体を真空チャンバ内に配置して成膜原料の蒸発ガスが蒸着される基板と蒸発ガスが通過可能な開口部が形成されているマスクとの相対位置を高精度に位置決め可能にした真空成膜装置（特開２００４−９５４１９号公報）を提案している。この真空成膜装置は、内部が真空化可能であると共に有機原料のような成膜原料を加熱蒸発させる蒸発源を内部に備え、成膜原料の蒸発ガスが蒸着される基板と、基板に密着状態に接離可能であり且つ基板への蒸着のために蒸発ガスが通過可能な開口部が形成されているマスクとが内部に配置される真空チャンバ、及び基板とマスクとを両者の相対位置を微調整可能に保持するため駆動源を含むアライメント機構を備えており、アライメント機構を真空仕様に構成し、アライメント機構の全体を真空チャンバ内に配置している。真空仕様に構成されたアライメント機構は、真空チャンバ内を潤滑油や摩耗粉で汚染することがなく、アライメント機構を作動させる駆動源を真空チャンバの外部に設置したり駆動源から真空チャンバ内に延びる長い操作軸を設ける必要もない。したがって、アライメント機構は、非常に簡素に構成されると共に、駆動源の出力を正確にステージの作動に反映させることを可能にし、真空成膜装置としても、全体的に嵩高にならず簡単な構造となり、省スペースに構成することを可能にしている。アライメント機構は、真空チャンバに取り付けられ且つ基板とマスクとのいずれか一方が取り付けられた基準ステージ、及び基準ステージに対して相対位置が微調整可能であり且つ基板とマスクとの他方が取り付けられた可動ステージを有する構成とすることができ、両ステージの隅部において両ステージ間に配置された互いに直交する軸方向にスライド可能な面内変位構造を真空使用に構成された駆動源によって運動変換機構を介して駆動することで、アライメント作用を行う。
【０００７】
高精度を出せる位置合わせ機構を用いてアライメントマークが一致するように基板とマスクとの相対位置を調整可能であっても、ＣＣＤカメラのようなセンサカメラの光軸が正しく設定されていなければ、基板とマスクとの相対位置が真に一致しているかどうかは判らない。そこで、有機ＥＬ素子を製造する成膜装置においては、アライメントマーク検出用のＣＣＤカメラを装置に取り付ける際に、基板とマスクとを正確に一致させたキャリブレーション用のサンプルを用いて、ＣＣＤカメラから見たアライメントマークが一致するように設定した上で取付け位置を決めている。こうした取付け作業は、ネジのような固着具の締め付け程度を加減する等の微妙な設定を必要としており、手間と時間がかかる作業である。また、一度設定した後でも、温度や装置の振動によって取付け位置を定期的にチェックし、必要があればその都度、取付け位置を再設定しなければならず、メンテナンス作業においても同様の手間と時間を必要としていた。
【０００８】
デジタルカメラ等の撮影装置に汎用使用できるコンパクトで且つ堅牢な接写フレームとして、固定位置許容範囲を上下・左右・前後の三次元方向に大きく持たせて、カメラのレンズ光軸と三脚穴の位置関係にかかわらず、殆どの全機種で位置調節を図った三次元台座付きフレームが提案されている（特許文献２）。この三次元台座付きフレームは、三次元方向に位置調節を行うため基本的に上下・左右・前後の方向に延びる溝内に固定用ネジのネジ軸を挿入して構成されており、各溝における固定用ネジの位置を変更して取り付けることによって、カメラの光軸を上下・左右・前後の方向に移動させることを図っている。しかしながら、この種のカメラ支持フレームは、カメラの平行移動をすることで光軸を所定の方向に合わせる型式のものであり、移動すべき量が一度で決定されないと、３軸方向のいずれの方向にもネジの緩めと固定とを繰り返すことになり、移動量の調整に手間がかかるものである。
【特許文献２】特開２００２−１４８７０８号公報（段落［０００８］〜［００１１］，図１〜図３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、ＣＣＤカメラのような撮像素子光軸の向きを調整可能にする撮像素子取付け具において、撮像素子を直接支持する支持フレームを、装置や機器側への取付けフレームに対して揺動調節可能として、撮像素子の光軸の向きを三次元的に簡単に調整し設定することを可能にする点で解決すべき課題がある。
【００１０】
この発明の目的は、撮像素子の光軸の向きを三次元的に調整可能な撮像素子取付け具を、部品点数を抑えた簡単な機構で構成することにより、調整操作が簡単で短時間に取付け位置の設定作業を行うことができ、メンテナンスにおいても、再調整が簡単で短時間に行うことができる撮像素子取付け具を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、この発明による撮像素子取付け具は、撮像素子を直接支持する支持フレーム、前記撮像素子を取り付けるべき機器側に固定可能な取付けフレーム、及び前記撮像素子の光軸を調整するため前記支持フレームを前記取付けフレームに対して三次元的に揺動可能に調整するとともに調整された位置を保持可能な光軸調整機構を備えていることから成っている。
【００１２】
この撮像素子取付け具によれば、光軸を持つ撮像素子は支持フレームに直接支持され、支持フレームは、撮像素子を取り付けるべき機器側に固定可能な取付けフレームに対して、光軸調整機構によって光軸が三次元的に揺動可能に調整されると共にその調整された位置が保持される。光軸調整機構による調整は、三次元的に揺動可能な調整であるので、取付けフレームに対して一次元毎に調整可能なフレームを順次調整する型式のものと比較して、光軸調整機構が簡素になるとともに調整操作が簡単になる。
【００１３】
この撮像素子取付け具において、前記光軸調整機構は、前記取付けフレームと前記支持フレームのいずれか一方に立設されていると共に前記取付けフレームと前記支持フレームの他方に形成された貫通孔を遊嵌状態に貫通している少なくとも三つの調整ねじ軸、前記各調整ねじ軸にねじ込み量が可変に螺合される調整ナット、及び前記支持フレームと前記取付けフレームとの間に配設され前記取付けフレームと前記支持フレームの前記他方を前記調整ナットに係合する状態に押し付ける弾性手段を備える構成とすることができる。光軸調整機構はこのように構成されているので、調整ナットの調整ねじ軸へのネジ込み量を加減することにより、支持フレームは弾性手段の付勢力によって調整ナットの移動に追従して移動する。支持フレームは調整ナットのネジ込みに応じて傾斜するが、調整ねじ軸は支持フレームの他方に形成された貫通孔を遊嵌状態に貫通しているので、支持フレームの傾斜については許容される。また、弾性手段によって取付けフレーム又は支持フレームの調整位置が保持されるので、調整ナットの調整の度に調整位置の固定作業が必要でなく、迅速な調整操作を行うことができる。更に、アライメントマーク位置のズレ等に基づいて各調整段階で調整誤差の大きい方向が認識されるので、三つの調整ねじ軸のうち操作すべき調整ナットの選択が適切となり、上記の調整操作を適宜繰り返すことにより最終調整位置までに素早く収束することができる。このように、支持フレームは取付けフレームに対して三次元的に揺動され、撮像素子の光軸をいずれの方向にも迅速に調整可能となる。
【００１４】
光軸調整機構を調整ねじ軸、調整ナット及び弾性手段を備える構成とした上記の撮像素子取付け具において、前記弾性手段を、前記各調整ねじ軸の軸部に圧縮状態に嵌装されるコイルばねとすることができる。弾性手段を調整ねじ軸に嵌装されるコイルばねとすることで、その配置及びガイドにおいては調整ねじ軸が利用されるので、弾性手段の配置のための特別な手段が必要でなく、且つ安定して配置することができる。
【００１５】
この撮像素子取付け具において、前記支持フレームには前記撮像素子を嵌入させた状態で前記撮像素子を支持する支持孔を形成し、前記調整ねじ軸を前記支持孔の周りに等間隔に配置することができる。撮像素子を支持する支持孔の周りに調整ねじ軸を等間隔に配置することで、撮像素子の支持フレームへの支持が安定し、しかも調整ナットのネジ込み量に対して支持フレームの移動量が少なくなるので、撮像素子の光軸調整を一層高精度に行うことができる。
【００１６】
光軸調整機構を調整ねじ軸、調整ナット及び弾性手段を備える構成とした上記の撮像素子取付け具において、前記取付けフレームを、前記機器側に固定されるベースフレーム及び前記ベースフレームに対して移動可能な可動フレームを備える構成とし、前記各調整ねじ軸を前記可動フレームに立設し、前記弾性手段を前記支持フレームと前記可動フレームとの間に配設することができる。取付けフレームを、機器側に固定されるベースフレームとベースフレームに対して移動可能な可動フレームとを備える構成とすることにより、支持フレームはベースフレームに対して可動フレームと共に移動可能となる。移動方向は、各調整ねじ軸の軸方向、即ち、取るべき光軸と平行な方向とするのが好ましい。光軸方向と平行な方向に移動させることによって、撮像素子の焦点位置を光軸方向に移動させることができ、撮像素子によって撮像しようとする対象物へのピント合わせが容易になる。
【００１７】
取付けフレームをベースフレームと可動フレームとを備える構成とした撮像素子取付け具において、前記可動フレームを、前記ベースフレームに対して、前記可動フレームと前記ベースフレームとのいずれか一方が取り付けられる軌道レールと、前記可動フレームと前記ベースフレームの他方が取り付けられ且つ前記軌道レールに対してスライド移動可能なスライダとを備える直動軸受けユニットを介して移動可能とし、前記ベースフレームに対する前記可動フレームの位置を調整するため、前記ベースフレームに立設されており且つ前記可動フレームに形成されている貫通孔を貫通するスライド調整ねじ軸、前記スライド調整ねじ軸に螺合し前記可動フレームに係合可能なスライド調整ナット、及び前記可動フレームと前記ベースフレームとの間に圧縮状態に配設された付勢手段から成るスライド調整機構を設けることが好ましい。可動フレームのベースフレームに対する移動を、軌道レールと軌道レールに対してスライド移動可能なスライダとを備える高精度な直動軸受けユニットを介して行うことにより、定まった光軸の方向を変えることなく可動フレームをベースフレームに対して移動させることができる。また、可動フレームのベースフレームに対する位置は、ベースフレームに立設されており且つ可動フレームに形成されている貫通孔を貫通するスライド調整ねじ軸、スライド調整ねじ軸に螺合し可動フレームに係合可能なスライド調整ナット、及び可動フレームとベースフレームとの間に圧縮状態に配設された付勢手段を備えたスライド調整機構によって行うことで、スライド調整ナットのねじ込み量に応じて高精度に調整することができる。
【発明の効果】
【００１８】
この発明による撮像素子取付け具は、上記のように、撮像素子を直接支持する支持フレームを取付けフレームに対して三次元的に揺動可能に調整するとともに調整された位置を保持可能な光軸調整機構を備えているので、光軸を持つ撮像素子を直接支持する支持フレームは取付けフレームに対して光軸調整機構によって三次元的に揺動可能に調整されると共にその調整された位置が保持される。したがって、撮像素子の光軸の向きを三次元的に簡単に調整し設定することが可能となるので、光軸調整機構の部品点数を抑えて簡単な機構で撮像素子取付け具を構成することができる。また、取付けフレームに対して一次元毎に調整可能なフレームを順次調整することに比較して、構造が簡素になるとともに光軸も調整操作も簡単に行うことができる。更に、調整操作が簡単で短時間に取付け位置の設定作業を行うことができ、メンテナンスにおいても、再調整が簡単で短時間に行うことができる光軸調整可能な撮像素子取付け具を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付した図面に基づいて、この発明による撮像素子取付け具の実施の態様について説明する。図１は、この発明による撮像素子取付け具の一実施例を示す正面図、図２は図１に示す撮像素子取付け具の側面図、図３は図１に示す撮像素子取付け具の平面図である。図１〜図３に示す撮像素子取付け具１は、撮像素子３５を直接支持する支持フレーム２と、撮像素子３５を取り付けるべき機器である有機ＥＬ素子製造装置のマスク着脱室（例えば、図５に符号５３で示す）側に固定可能な取付けフレーム３と、撮像素子３５の光軸を調整するため支持フレーム２を取付けフレーム３に対して三次元的に揺動可能に調整するとともに調整された位置を保持可能な光軸調整機構４とを備えている。
【００２０】
支持フレーム２は、特に図３に示すように平面が概略三角形の板状部材１０であり、その中央には撮像素子３５を嵌入させた状態で支持する支持孔１１が形成されている。支持フレーム２には、外側から支持孔１１の中心に向かって三つの支持ピン１２，１２，１２が進退可能に設けられている。各支持ピン１２は、例えばドライバによって支持フレーム２にねじ込まれる小ねじであり、ねじ込み量を調整することで、その先端部１３で撮像素子３５を支持する位置を微調整することができる。各支持ピン１２は、支持孔１１の周りに等間隔に配置されているので、最小の数の支持ピン１２で撮像素子３５を安定して支持することができる。
【００２１】
取付けフレーム３は、有機ＥＬ素子製造装置のマスク着脱室の上壁３７に直接に固定されるベースフレーム１５と、ベースフレーム１５に対して移動可能な可動フレーム１６とを備えている。ベースフレーム１５は水平板部１７と水平板部１７に対して直角に交差する起立板部１８とから成っている。ベースフレーム１５に対する可動フレーム１６の位置を調整するため、スライド調整機構２０が設けられている。可動フレーム１６は、起立板部１８に取り付けられた直動軸受けユニット２１を介して水平板部１７に対して垂直な方向に移動可能である。直動軸受けユニット２１は、起立板部１８に固定される軌道レール２２と、可動フレーム１６が固定され且つ軌道レール２２を跨いだ状態で軌道レール２２に対してスライド移動可能に設けられているスライダ２３とから成っている。内部については詳細には図示しないが、スライダ２３内に設けられる転動体が軌道レール２２の軌道路を転がる構造を備えており、そうした構造によって高精度且つ低摩擦で移動し位置決め可能である。こうした構造を持つ直動軸受けユニット２１については、公知のものを用いることができる。なお、軌道レール２２は可動フレーム１６に固定し、スライダ２３をベースフレーム１５に固定しても良いことは明らかである。
【００２２】
ベースフレーム１５の水平板部１７にはスライド調整ねじ軸２４が立設されており、スライド調整ねじ軸２４は可動フレーム１６に形成された貫通孔２５を遊嵌貫通して延びている。スライド調整ねじ軸２４には、先端側からスライド調整ナット２６が螺合されている。また、スライド調整ねじ軸２４には、可動フレーム１６と水平板部１７との間に付勢手段としてのコイルばね２７が圧縮状態で嵌装されており、可動フレーム１６はコイルばね２７の復元力によって付勢されて、スライド調整ナット２６に当接係合した位置に保持されている。スライド調整ナット２６のスライド調整ねじ軸２４に対するねじ込み位置を変更することで、可動フレーム１６は、スライド調整ねじ軸２４の軸方向について、コイルばね２７の付勢力によってスライド調整ナット２６に当接する位置に調整される。
【００２３】
光軸調整機構４は、この実施例においては、取付けフレーム３側の可動フレーム１６に立設されている少なくとも三つの調整ねじ軸３０ａ，３０ｂ，３０ｃ（総称するときは符号３０を用いる）と、各調整ねじ軸３０にねじ込み量が可変に螺合される調整ナット３１ａ，３１ｂ，３１ｃ（総称するときは符号３１を用いる）と、支持フレーム２と可動フレーム１６との間に配設され支持フレーム２を調整ナット３１に係合する状態に押し付ける弾性手段３２ａ，３２ｂ，３２ｃ（総称するときは符号３２を用いる）とを備えている。弾性手段３２の復元力は支持フレーム２を調整ナット３１に向けて押し上げる作用を及ぼすので、支持フレーム２は、調整ねじ軸３０のヘッド部が可動フレーム１６の下面に当接するのに対応した位置まで持ち上げ保持された状態で位置決めされる。各調整ねじ軸３０は、支持孔１１の周りに等間隔、即ち、支持ピン１２と交互に配置することができる。各弾性手段３２は、調整ねじ軸３０の軸部に圧縮状態に嵌装されるコイルばねとすることができる。各調整ねじ軸３０は、支持フレーム２に形成された貫通孔３３を遊嵌状態に貫通している。各調整ナット３１の調整ねじ軸３０に対するねじ込み位置を変更することで、支持フレーム２は、各調整ねじ軸３０の軸方向について、コイルばね３２の復元力によって調整ナット３１に当接する位置に調整される。調整ねじ軸３０と調整ナット３１とは、それぞれ、支持フレーム２側に調整ねじ軸３０を配置し可動フレーム１６側に調整ナット３１を配置することで、図示の例とは逆に配置して取り付けることもできる。
【００２４】
撮像素子取付け具１の調整操作は、次のとおりに行うことができる。撮像素子３５は図示のように支持孔１１内に挿入可能な概略円筒形をしており、撮像素子３５を支持フレーム２の支持孔１１内に挿入した状態で周囲から三つの支持ピン１２を支持孔１１内に向けて進めることによって、撮像素子３５が支持フレーム２に支持される。この状態では、撮像素子３５は正しい姿勢で支持されているか判らず、また、製造すべき有機ＥＬ素子に使われるマスクが基板に対して正確に重ねられているかも不明である。従って、基板とマスクとの整合性を検査することはできない。そこで、基板に対してマスクが正確に重ねられたキャリブレーション用サンプルが用意される。
【００２５】
撮像素子取付け具１の調整は、キャリブレーション用サンプルをマスク着脱室の所定位置に配置し、撮像素子３５でキャリブレーション用サンプルを見たときのマークを一致させることによって行うことができる。図４には、撮像素子取付け具は斜視図として示されている。具体的には、先ず、スライド調整ねじ軸２４に対してスライド調整ナット２６をねじ込み又は緩めることで、ベースフレーム１５に対して可動フレーム１６を支持フレーム２と共に移動させることで、支持フレーム２の移動によって撮像素子３５のキャリブレーション用サンプルに対する焦点合わせを行う。次に、三つのうち、一つの調整ナット３１ａを調整ねじ軸３０ａにねじ込む又は緩めると、支持フレーム２は、他の二つの調整ナット３１ｂ，３１ｃについて当接する部分では弾性手段３２ｂ，３２ｃであるコイルばねのばね作用によって押し上げられたままであるので位置を変えないが、操作した調整ナット３１ａについて当接する部分ではねじ込み量又は緩め量に応じて位置を変える。その結果、支持フレーム２は、二つの調整ナット３１ｂ，３１ｃについて当接する部分を結ぶ接触線を中心にして、想像線で示すように傾斜し、その傾斜に応じて撮像素子３５の光軸３６が調整される。上記の操作を他の調整ナット３１ｂ，３１ｃについても行うことによって、撮像素子３５の光軸３６を三次元的に調整することができ、最終的には、撮像素子３５の光軸３６をキャリブレーション用サンプルについて基板とマスクの合わされた両マークに整合させることができる。必要であれば、スライド調整ナット２６のねじ込み又は緩め操作によって、焦点合わせを精密に行うことができる。キャリブレーション用サンプルについて調整された撮像素子取付け具１によって支持された撮像素子３５は、以後、マスクを基板に対するアライメントに用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】この発明による撮像素子取付け具の一実施例を示す正面図である。
【図２】図１に示す撮像素子取付け具の側面図である。
【図３】図１に示す撮像素子取付け具の平面図である。
【図４】図１〜図３に示す撮像素子取付け具の斜視図である。
【図５】従来の真空成膜装置の一例を断面で示す概略図である。
【符号の説明】
【００２７】
１  撮像素子取付け具      ２  支持フレーム
３  取付けフレーム        ４  光軸調整機構
１０  板状部材            １１  支持孔
１２  支持ピン            １３  先端部
１５  ベースフレーム      １６  可動フレーム
１７  水平板部            １８  起立板部
２０  スライド調整機構
２１  直動軸受けユニット
２２  軌道レール          ２３  スライダ
２４  スライド調整ねじ軸  ２５  貫通孔
２６  スライド調整ナット  ２７  コイルばね（付勢手段）
３０  調整ねじ軸          ３１  調整ナット
３２  弾性手段            ３３  貫通孔
３５  撮像素子            ３６  光軸
３７  マスク着脱室の上壁  ４０  マスク吸着体
４１  位置合わせ機構      ４２  ＸＹ駆動ステージ
４３  Ｚ駆動ステージ      ４４  θ駆動ステージ
４５  マスクセット基板    ４６  ＣＣＤカメラ
５０  成膜ゾーン          ５１  マスク着脱ゾーン
５２  ゲートバルブ        ５３  マスク着脱室
５４  成膜室              ５５  基板ホルダ
５６  冷却系              ５７  蒸発源
５８  排気系
Ｍ  マスク                Ｂ  基板
【図１】
2006246263.tif 000003
【図２】
2006246263.tif 000004
【図３】
2006246263.tif 000005
【図４】
2006246263.tif 000006
【図５】
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