(57)【要約】【課題】  液滴によって形成するパターンの形状の均一性を向上したパターン形成基板、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】  液滴受容空間Ｓを形成する第２隔壁Ｗ２の着弾面２０ａ側に、親液性材料からなる第３層間絶縁膜２１を形成し、同第３層間絶縁膜２１に貫通孔２１ｈを形成した。そして、貫通孔２１ｈの内周面（第１隔壁Ｗ１）を、その着弾面２０ａ側（底部Ｗ１ａ）から同着弾面２０ａの面方向外側に広がるように形成し、着弾面２０ａの外周に第１隔壁Ｗ１からなる引込溝２３を形成するようにした。【選択図】      図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下地層に形成した隔壁によって囲まれる液滴受容空間にパターン形成材料を含む液滴を吐出することによって形成したパターンを備えるパターン形成基板において、
前記隔壁は、前記下地層側に、前記液滴に対する親液性を有して前記下地層の面方向外側に向かう凹部を備えたことを特徴とするパターン形成基板。
【請求項２】
請求項１に記載するパターン形成基板において、
前記隔壁は、前記下地層上に形成した第１隔壁と、前記第１隔壁上に形成した第２隔壁とを備え、
前記液滴受容空間は、前記第２隔壁によって形成され、
前記凹部は、前記第２隔壁よりも前記面方向外側に位置する前記第１隔壁によって形成されたことを特徴とするパターン形成基板。
【請求項３】
請求項２に記載するパターン形成基板において、
前記第１隔壁は、前記下地層の前記液滴受容空間と相対向する位置から前記第２隔壁に向かって前記面方向外側に広がるように形成されたことを特徴とするパターン形成基板。
【請求項４】
請求項２に記載するパターン形成基板において、
前記第１隔壁は、前記下地層の前記液滴受容空間と相対向する位置から前記第２隔壁に向かって前記面方向外側に狭くなるように形成されたことを特徴とするパターン形成基板。
【請求項５】
請求項２〜４に記載するパターン形成基板において、
前記第１隔壁は、前記液滴を親液する親液性を有し、前記第２隔壁は、前記液滴を撥液する撥液性を有したことを特徴とするパターン形成基板。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載のパターン形成基板において、
前記パターン形成材料は、発光素子形成材料であって、前記パターンは、発光素子であることを特徴とするパターン形成基板。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載のパターン形成基板において、
前記パターン形成材料は、カラーフィルタ形成材料であって、前記パターンは、カラーフィルタであることを特徴とするパターン形成基板。
【請求項８】
下地層に形成した隔壁によって囲まれる液滴受容空間に発光素子形成材料を含む液滴を吐出することによって形成した発光素子を備える電気光学装置において、
前記隔壁は、前記下地層側に、前記液滴に対する親液性を有して前記下地層の面方向外側に延びる凹部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項８に記載する電気光学装置において、
前記隔壁は、前記下地層上に形成した第１隔壁と、前記第１隔壁上に形成した第２隔壁とを備え、
前記液滴受容空間は、前記第２隔壁によって形成され、
前記凹部は、前記第２隔壁よりも前記面方向外側に位置する前記第１隔壁によって形成されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項９に記載する電気光学装置において、
前記第１隔壁は、前記下地層の前記液滴受容空間と相対向する位置から前記第２隔壁に向かって前記面方向外側に広がるように形成されたことを特徴とするパターン形成基板。
【請求項１１】
請求項１０に記載する電気光学装置において、
前記第１隔壁は、前記液滴を親液する親液性を有し、前記第２隔壁は、前記液滴を撥液する撥液性を有したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項９〜１１のいずれか１つに記載する電気光学装置において、
前記発光素子は、透明電極と背面電極との間に発光層を備えたエレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載する電気光学装置において、
前記発光素子は、有機材料からなる発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載する電気光学装置において、
前記下地層は、前記透明電極と前記背面電極のいずれか１つであることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１５】
下地層に液滴受容空間を囲う隔壁を形成し、発光素子形成材料を含む液滴を前記液滴受容空間に吐出して発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
前記液滴を吐出する前に、前記隔壁の下地層側に、前記液滴に対する親液性を有して前記下地層の面方向外側に延びる凹部を形成するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記隔壁は、前記液滴受容空間を形成する第２隔壁と、前記第２隔壁と前記下地層との間であって前記凹部を形成する第１隔壁とを備え、
前記下地層上の第１隔壁層に積層した第２隔壁層をパターニングして前記液滴受容空間を囲う前記第２隔壁を形成した後に、前記第１隔壁層をパターニングして前記第２隔壁よりも前記面方向外側に位置する前記第１隔壁を形成するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記第２隔壁をマスクにして、前記第１隔壁層を等方的にエッチングすることによって前記第１隔壁を形成するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１４〜１７のいずれか１つに記載する電気光学装置の製造方法において、
前記下地層は、透明電極と背面電極のいずれか１つであって、
前記発光素子は、前記透明電極と前記背面電極との間に発光層を有するエレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１６に記載する電気光学装置の製造方法において、
前記発光素子は、有機材料からなる発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２０】
請求項１３〜１７のいずれか１つに記載する電気光学装置の製造方法において、
前記液滴は、液滴吐出装置から吐出するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン形成基板、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、発光素子を備えるディスプレイには、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を備える電気光学装置としての有機エレクロトルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）が知られている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、一般的に、その有機ＥＬ層の構成材料によって製造方法が大別される。すなわち、低分子有機材料を有機ＥＬ層の構成材料とする場合には、同低分子有機材料を蒸着して有機ＥＬ層を形成する、いわゆる気相プロセスが利用されている。一方、高分子有機材料を有機ＥＬ層の構成材料とする場合には、同高分子有機材料を有機溶媒等に溶解した溶液を塗布して乾燥する、いわゆる液相プロセスが利用されている。
【０００４】
なかでも、その液相プロセスにおけるインクジェット法は、前記溶液を微小な液滴（微小液滴）として吐出するため、他の液相プロセス（例えば、スピンコート等）に比べて、有機ＥＬ層（パターン）の形成位置や膜厚等をより高い精度で制御することができる。
【０００５】
しかし、こうしたインクジェット法では、乾燥後のパターン形状が、パターン形成面に着弾した微小液滴の形状に影響される。そのため、着弾した微小液滴が平坦な形状でない（例えば、半球面の凸形状である）場合には、そのパターン形状を不均一にする問題を招く。
【０００６】
そこで、従来より、インクジェット法では、こうしたパターン形状の均一性を向上する提案がなされている（例えば、特許文献１）。特許文献１では、液滴に対して親液性を有する第１膜（第１隔壁）によってパターン形成面を囲い、同第１隔壁上に、液滴に対して撥液性を有する第２隔壁を形成するようにしている。そして、第２隔壁によって、液滴を受容する液滴受容空間を形成し、同液滴受容空間を通過してパターン形成面に着弾した液滴を、第１隔壁の界面張力によって濡れ広がらせるようにしている。これによって、パターン形成面上に形成するパターンの形状の均一性を向上することができる。
【特許文献１】特開２００４−１３３０３１  号広報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１では、第１隔壁が前記液滴受容空間と同じサイズで形成されるため、第１隔壁の界面張力の働く範囲が、同液滴受容空間（第２隔壁）の内周のサイズに制限される。そのため、吐出した液滴がパターン形成面の外周に塗れ広がらない問題を招く虞がある。
【０００８】
従って、こうした第１隔壁の液滴に対する接触範囲を拡大することができれば、パターン形成面に着弾した液滴をさらに濡れ広がらせることができ、ひいては液滴によって形成するパターン形状の均一性を向上することができる。
【０００９】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、液滴によって形成するパターンの形状の均一性を向上したパターン形成基板、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のパターン形成基板は、下地層に形成した隔壁によって囲まれる液滴受容空間にパターン形成材料を含む液滴を吐出することによって形成したパターンを備えるパターン形成基板において、前記隔壁は、前記下地層側に、前記下地層の面方向外側に向かう凹部を備えた。
【００１１】
本発明のパターン形成基板によれば、親液性を有する凹部を形成する分だけ、液滴と親液する領域を拡大することができ、その凹部内に液滴を引き込む分だけ、液滴受容空間に吐出した液滴を、下地層の面方向外側に濡れ広がらせることができる。従って、均一な形状のパターンを形成することができ、ひいてはパターン形成基板の生産性を向上することができる。
【００１２】
このパターン形成基板において、前記隔壁は、前記下地層上に形成した第１隔壁と、前記第１隔壁上に形成した第２隔壁とを備え、前記液滴受容空間は、前記第２隔壁によって形成され、前記凹部は、前記第２隔壁よりも前記面方向外側に位置する前記第１隔壁によって形成された。
【００１３】
このパターン形成基板によれば、第１隔壁が第２隔壁よりも下地層の面方向外側に形成される分だけ、液滴受容空間に吐出した液滴を下地層の面方向外側に濡れ広がらせることができる。
【００１４】
このパターン形成基板において、前記第１隔壁は、前記下地層の前記液滴受容空間と相対向する位置から前記第２隔壁に向かって前記面方向外側に広がるように形成された。
このパターン形成基板によれば、第１隔壁が液滴受容空間と相対向する位置から第２隔壁に向かって広がるように形成される分だけ、液滴と親液する領域を拡大することができ、液滴受容空間に吐出された液滴を確実に濡れ広がらせることができる。
【００１５】
このパターン形成基板において、前記第１隔壁は、前記第１隔壁は、前記下地層の前記液滴受容空間と相対向する位置から前記第２隔壁に向かって前記面方向外側に狭くなるように形成された。
【００１６】
このパターン形成基板によれば、第１隔壁が液滴受容空間と相対向する位置から第２隔壁に向かって狭くなるように形成される分だけ、液滴と親液する領域を拡大することができ、液滴受容空間に吐出された液滴を確実に濡れ広がらせることができる。
【００１７】
このパターン形成基板において、前記第１隔壁は、前記液滴を親液する親液性を有し、前記第２隔壁は、前記液滴を撥液する撥液性を有した。
このパターン形成基板によれば、第２隔壁が液滴を撥液する撥液性を有するため、液滴受容空間に吐出された液滴を確実に第１隔壁側に誘導することができる。従って、パターンの形状の均一性を、さらに向上することができる。
【００１８】
このパターン形成基板において、前記パターン形成材料は、発光素子形成材料であって、前記パターンは、発光素子である。
このパターン形成基板によれば、均一な形状の発光素子を形成することができ、同発光素子を備えたパターン形成基板の生産性を向上することができる。
【００１９】
このパターン形成基板において、前記パターン形成材料は、カラーフィルタ形成材料であって、前記パターンは、カラーフィルタである。
このパターン形成基板によれば、均一な形状のカラーフィルタを形成することができ、同カラーフィルタを備えたパターン形成基板の生産性を向上することができる。
【００２０】
本発明の電気光学装置は、下地層に形成した隔壁によって囲まれる液滴受容空間に発光素子形成材料を含む液滴を吐出することによって形成した発光素子を備える電気光学装置において、前記隔壁は、前記下地層側に、前記液滴に対する親液性を有して前記下地層の面方向外側に延びる凹部を形成した。
【００２１】
本発明の電気光学装置によれば、親液性を有する凹部を形成する分だけ、液滴と親液する領域を拡大することができ、その凹部内に液滴を引き込む分だけ、液滴受容空間に吐出した液滴を、下地層の面方向外側に濡れ広がらせることができる。従って、発光素子の形状の均一性を向上することができ、ひいては電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００２２】
この電気光学装置において、前記隔壁は、前記下地層上に形成した第１隔壁と、前記第１隔壁上に形成した第２隔壁とを備え、前記液滴受容空間は、前記第２隔壁によって形成され、前記凹部は、前記第２隔壁よりも前記面方向外側に位置する前記第１隔壁によって形成された。
【００２３】
この電気光学装置によれば、第１隔壁が第２隔壁よりも下地層の面方向外側に形成される分だけ、液滴受容空間に吐出した液滴を下地層の面方向外側に濡れ広がらせることができる。
【００２４】
この電気光学装置において、前記第１隔壁は、前記下地層の前記液滴受容空間と相対向する位置から前記第２隔壁に向かって前記面方向外側に広がるように形成された。
この電気光学装置によれば、第１隔壁が液滴受容空間と相対向する位置から形成されるため、液滴受容空間に吐出された液滴を確実に濡れ広がらせることができる。
【００２５】
この電気光学装置において、前記第１隔壁は、前記液滴を親液する親液性を有し、前記第２隔壁は、前記液滴を撥液する撥液性を有した。
この電気光学装置によれば、第２隔壁が液滴を撥液する撥液性を有するため、液滴受容空間に吐出された液滴を確実に第１隔壁側に誘導することができる。従って、発光素子の形状の均一性を、さらに向上することができる。
【００２６】
この電気光学装置において、前記発光素子は、透明電極と背面電極との間に発光層を備えたエレクロトルミネッセンス素子である。
この電気光学装置によれば、エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができ、同エレクトロルミネッセンス素子を備えた電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００２７】
この電気光学装置において、前記発光素子は、有機材料からなる発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子である。
この電気光学装置によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができ、同有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００２８】
この電気光学装置において、前記下地層は、前記透明電極と前記背面電極のいずれか１つである。
この電気光学装置によれば、透明電極上と背面電極上のいずれか１つに形成される発光層の均一性を向上することができる。
【００２９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、下地層に液滴受容空間を囲う隔壁を形成し、発光
素子形成材料を含む液滴を前記液滴受容空間に吐出して発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記液滴を吐出する前に、前記隔壁の下地層側に、前記液滴に対する親液性を有して前記下地層の面方向外側に延びる凹部を形成するようにした。
【００３０】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、親液性を有する凹部を形成する分だけ、液滴と親液する領域を拡大することができ、その凹部内に液滴を引き込む分だけ、液滴受容空間に吐出した液滴を、下地層の面方向外側に濡れ広がらせることができる。従って、発光素子の形状の均一性を向上することができ、ひいては電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００３１】
この電気光学装置の製造方法において、前記隔壁は、前記液滴受容空間を形成する第２隔壁と、前記第２隔壁と前記下地層との間であって前記凹部を形成する第１隔壁とを備え、前記下地層上の第１隔壁層に積層した第２隔壁層をパターニングして前記液滴受容空間を囲う前記第２隔壁を形成した後に、前記第１隔壁層をパターニングして前記第２隔壁よりも前記面方向外側に位置する前記第１隔壁を形成するようにした。
【００３２】
この電気光学装置の製造方法によれば、第２隔壁を形成した後に、その第２隔壁の面方向外側に第１隔壁を形成するため、液滴と親液する凹部を、確実に液滴受容空間よりも拡大することができる。従って、液滴受容量空間に吐出された液滴を、確実に下地層の面方向外側に濡れ広がらせることができる。
【００３３】
この電気光学装置の製造方法において、前記第２隔壁をマスクにして、前記第１隔壁層を等方的にエッチングすることによって前記第１隔壁を形成するようにした。
この電気光学装置の製造方法によれば、第２隔壁をマスクにして第１隔壁層を等方的にエッチングするため、第１隔壁を、液滴受容空間と相対向する位置から前記第２隔壁に向かって面方向外側に広がるように形成することができる。従って、液滴受容空間に吐出された液滴を確実に濡れ広がらせることができる。しかも、第１隔壁を形成するためのマスク等の形成工程を削減することができる。その結果、発光素子の形状の均一性を向上することができ、電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００３４】
この電気光学装置の製造方法において、前記下地層は、透明電極と背面電極のいずれか１つであって、前記発光素子は、前記透明電極と前記背面電極との間に発光層を有するエレクトロルミネッセンス素子である。
【００３５】
この電気光学装置の製造方法によれば、エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができ、同エレクトロルミネッセンス素子を備えた電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００３６】
この電気光学装置の製造方法において、前記発光素子は、有機材料からなる前記発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子である。
この電気光学装置の製造方法によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子の形状の均一性を向上することができ、同有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた電気光学装置の生産性を向上することができる。
【００３７】
この電気光学装置の製造方法において、前記液滴は、液滴吐出装置から吐出するようにした。
この電気光学装置の製造方法によれば、液滴吐出装置によって微細な液滴を形成する分だけ、より均一な形状の発光素子を形成することができ、電気光学装置の生産性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図１０に従って説明する。図１は、電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）を示す概略平面図である。
【００３９】
図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１０には、パターン形成基板としての透明基板１１が備えられている。透明基板１１は、四角形状に形成される無アルカリガラス基板であって、その表面（素子形成面１１ａ）には、四角形状の素子形成領域１２が形成されている。その素子形成領域１２には、上下方向（列方向）に延びる複数のデータ線Ｌｙが所定の間隔をおいて形成されている。各データ線Ｌｙは、それぞれ透明基板１１の下側に配設されるデータ線駆動回路Ｄｒ１に電気的に接続されている。データ線駆動回路Ｄｒ１は、図示しない外部装置から供給される表示データに基づいてデータ信号を生成し、そのデータ信号を対応するデータ線Ｌｙに所定のタイミングで出力するようになっている。
【００４０】
また、素子形成領域１２には、列方向に延びる複数の電源線Ｌｖが所定の間隔をおいて各データ線Ｌｙに併設されている。各電源線Ｌｖは、それぞれ素子形成領域１２の下側に形成される共通電源線Ｌｖｃに電気的に接続され、図示しない電源電圧生成回路の生成する駆動電源を各電源線Ｌｖに供給するようになっている。
【００４１】
さらにまた、素子形成領域１２には、データ線Ｌｙ及び電源線Ｌｖと直交する方向（行方向）に延びる複数の走査線Ｌｘが所定の間隔をおいて形成されている。各走査線Ｌｘは、それぞれ透明基板１１の左側に形成される走査線駆動回路Ｄｒ２に電気的に接続されている。走査線駆動回路Ｄｒ２は、図示しない制御回路から供給される走査制御信号に基づいて、複数の走査線Ｌｘの中から所定の走査線Ｌｘを所定のタイミングで選択駆動し、その走査線Ｌｘに走査信号を出力するようになっている。
【００４２】
これらデータ線Ｌｙと走査線Ｌｘの交差する位置には、対応するデータ線Ｌｙ、電源線Ｌｖ及び走査線Ｌｘに接続されることによってマトリックス状に配列される複数の画素１３が形成されている。その画素１３内には、それぞれ制御素子形成領域１４と発光素子形成領域１５が区画形成されている。そして、素子形成領域１２の上側を四角形状の封止基板１６（図１における２点鎖線）で覆うことによって、画素１３が保護されるようになっている。
【００４３】
尚、本実施形態における各画素１３は、それぞれ対応する色の光を発光する画素であって、赤色の光を発光する赤色画素又は緑色の光を発光する緑色画素又は青色を発光する青色画素である。そして、これら各画素１３によって、透明基板１１の裏面（表示面１１ｂ）側にフルカラーの画像を表示するようになっている。
【００４４】
次に、上記する画素１３について以下に説明する。図２は、制御素子形成領域１４及び発光素子形成領域１５のレイアウトを示す概略平面図である。図３及び図４は、それぞれ図２の一点鎖線Ａ−Ａ及びＢ−Ｂに沿った制御素子形成領域１４を示す概略断面図であって、図５は、図２の一点鎖線Ｃ−Ｃに沿った発光素子形成領域１５を示す概略断面図である。
【００４５】
まず、制御素子形成領域１４の構成について以下に説明する。図２に示すように、各画素１３の下側には、それぞれ制御素子形成領域１４が形成され、その制御素子形成領域１４には、それぞれ第１トランジスタ（スイッチング用トランジスタ）Ｔ１、第２トランジスタ（駆動用トランジスタ）Ｔ２及び保持キャパシタＣｓが形成されている。
【００４６】
図３に示すように、スイッチング用トランジスタＴ１は、その最下層に第１チャンネル膜Ｂ１を備えている。第１チャンネル膜Ｂ１は、素子形成面１１ａ上に形成される島状のｐ型ポリシリコン膜であって、その中央位置には第１チャンネル領域Ｃ１が形成されている。その第１チャンネル領域Ｃ１を挟む左右両側には、活性化したｎ型領域（第１ソース領域Ｓ１及び第１ドレイン領域Ｄ１）が形成されている。つまり、スイッチング用トランジスタＴ１は、いわゆるポリシリコン型ＴＦＴである。
【００４７】
第１チャンネル領域Ｃ１の上側には、素子形成面１１ａ側から順に、ゲート絶縁膜Ｇｏｘ及び第１ゲート電極Ｇ１が形成されている。ゲート絶縁膜Ｇｏｘは、シリコン酸化膜等の光透過性を有する絶縁膜であって、第１チャンネル領域Ｃ１の上側及び素子形成面１１ａの略全面に堆積されている。第１ゲート電極Ｇ１は、タンタルやアルミニウム等の低抵抗金属膜であって、第１チャンネル領域Ｃ１と相対向する位置に形成され、図２に示すように、走査線Ｌｘと電気的に接続されている。その第１ゲート電極Ｇ１は、図３に示すように、ゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側に堆積される第１層間絶縁膜ＩＬ１によって電気的に絶縁されている。
【００４８】
そして、走査線駆動回路Ｄｒ２が走査線Ｌｘを介して第１ゲート電極Ｇ１に走査信号を入力すると、スイッチング用トランジスタＴ１は、その走査信号に基づいたオン状態となる。
【００４９】
第１ソース領域Ｓ１には、前記第１層間絶縁膜ＩＬ１及びゲート絶縁膜Ｇｏｘを貫通するデータ線Ｌｙが電気的に接続されている。また、第１ドレイン領域Ｄ１には、第１層間絶縁膜ＩＬ１及びゲート絶縁膜Ｇｏｘを貫通する第１ドレイン電極Ｄｐ１が電気的に接続されている。これらデータ線Ｌｙ及び第１ドレイン電極Ｄｐ１は、図３に示すように、第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側に堆積される第２層間絶縁膜ＩＬ２によって電気的に絶縁されている。
【００５０】
そして、走査線駆動回路Ｄｒ２が、走査線Ｌｘを線順次走査に基づき１本ずつ順次選択すると、画素１３のスイッチング用トランジスタＴ１が順次、選択期間中だけオン状態になる。スイッチング用トランジスタＴ１がオン状態となると、データ線駆動回路Ｄｒ１から出力されるデータ信号が、データ線Ｌｙ及びスイッチング用トランジスタＴ１（チャンネル膜Ｂ１）を介して第１ドレイン電極Ｄｐ１に出力される。
【００５１】
図４に示すように、駆動用トランジスタＴ２は、第２チャンネル領域Ｃ２、第２ソース領域Ｓ２及び第２ドレイン領域Ｄ２を有したチャンネル膜Ｂ２を備えるポリシリコン型ＴＦＴである。その第２チャンネル膜Ｂ２の上側には、ゲート絶縁膜Ｇｏｘを介して第２ゲート電極Ｇ２が形成されている。第２ゲート電極Ｇ２は、タンタルやアルミニウム等の低抵抗金属膜であって、図２に示すように、スイッチング用トランジスタＴ１の第１ドレイン電極Ｄｐ１及び保持キャパシタＣｓの下部電極Ｃｐ１と電気的に接続されている。これら第２ゲート電極Ｇ２及び下部電極Ｃｐ１は、図４に示すように、ゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側に堆積される前記第１層間絶縁膜ＩＬ１によって電気的に絶縁されている。
【００５２】
第２ソース領域Ｓ２は、この第１層間絶縁膜ＩＬ１を貫通する保持キャパシタＣｓの上部電極Ｃｐ２に電気的に接続されている。その上部電極Ｃｐ２は、図２に示すように、対応する電源線Ｌｖに電気的に接続されている。つまり、駆動用トランジスタＴ２の第２ゲート電極Ｇ２と第２ソース領域Ｓ２間との間には、図２及び図４に示すように、第１層間絶縁膜ＩＬ１を容量膜とする保持キャパシタＣｓが接続されている。第２ドレイン領域Ｄ２は、第１層間絶縁膜ＩＬ１を貫通する第２ドレイン電極Ｄｐ２に電気的に接続されている。これら第２ドレイン電極Ｄｐ２及び上部電極Ｃｐ２は、第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側に堆積される第２層間絶縁膜ＩＬ２によって電気的に絶縁されている。
【００５３】
そして、データ線駆動回路Ｄｒ１から出力されるデータ信号がスイッチング用トランジスタＴ１を介して第１ドレイン領域Ｄ１に出力されると、保持キャパシタＣｓが、出力されたデータ信号に相対する電荷を蓄積する。続いて、スイッチング用トランジスタＴ１がオフ状態になると、保持キャパシタＣｓに蓄積される電荷に相対した駆動電流が、駆動用トランジスタＴ２（チャンネル膜Ｂ２）を介して第２ドレイン領域Ｄ２に出力される。
【００５４】
次に、発光素子形成領域１５の構成について以下に説明する。
図２に示すように、各画素１３の上側には、それぞれ四角形状の発光素子形成領域１５が形成されている。図５に示すように、その発光素子形成領域１５であって第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側には、下地層としての透明電極（陽極）２０が形成されている。
【００５５】
陽極２０は、ＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜であって、その一端が、図４に示すように、第２層間絶縁膜ＩＬ２を貫通して第２ドレイン領域Ｄ２に電気的に接続されている。
【００５６】
その陽極２０の上側には、第１隔壁層としての第３層間絶縁膜２１が堆積されている。この第３層間絶縁膜２１は、後述する正孔層液滴２５Ｄ（図９参照）に対して親液性を有する材料（例えば、シリコン酸化膜等）によって形成され、各陽極２０を互いに絶縁している。その第３層間絶縁膜２１には、陽極２０の略中央位置を上側に向かってテーパ状に貫通する貫通孔２１ｈが形成されている。貫通孔２１ｈは、陽極２０上面から上側に向かって同陽極２０の面方向外側に広がるように形成されている。
【００５７】
そして、この貫通孔２１ｈの内周面によって、正孔層液滴２５Ｄに対する親液性を有して、陽極２０上面から同陽極２０の面方向外側に広がる第１隔壁Ｗ１（図８参照）が形成されている。また、その第１隔壁Ｗ１が陽極２０上面を囲うことによって、同陽極２０上面に、第１隔壁Ｗ１の底部Ｗ１ａによって区画される着弾面２０ａが形成されている。
【００５８】
その第３層間絶縁膜２１の上側には、第２隔壁層としての撥液膜２２が形成されている。撥液膜２２は、所定の波長からなる露光光Ｌｐｒ（図７参照）を露光すると、露光された部分のみがアルカリ性溶液等の現像液に可溶となる、いわゆるポジ型の感光性材料で形成され、後述する正孔層液滴２５Ｄ及び発光層液滴２７Ｄを撥液する撥液性を有したフッ素系樹脂等によって形成されている。
【００５９】
その撥液膜２２には、第１隔壁Ｗ１の底部Ｗ１ａと相対向する位置から上側に向かってテーパ状に開口する受容孔２２ｈが形成されている。つまり、この受容孔２２ｈから下側（着弾面２０ａ側）に向かって前記貫通孔２１ｈが形成されている。尚、この受容孔２２ｈは、後述する微小正孔層液滴２５ｂ及び微小発光層液滴２７ｂ（図９及び図１０参照）を対応する発光素子形成領域１５内に受容可能にする大きさで形成されている。
【００６０】
そして、この受容孔２２ｈの内周面によって、正孔層液滴２５Ｄ及び発光層液滴２７Ｄに対する撥液性を有して、後述する正孔層液滴２５Ｄ（図９参照）及び発光層液滴２７Ｄ（図１０参照）を収容する第２隔壁Ｗ２が形成されている。また、その第２隔壁Ｗ２が着弾面２０ａ上の空間を囲むことによって、着弾面２０ａに対する微小正孔層液滴２５ｂ及び微小発光層液滴２７ｂの着弾を許容する液滴受容空間Ｓが形成されている。
【００６１】
そして、貫通孔２１ｈ（第１隔壁Ｗ１）の上側が受容孔２２ｈを備えた撥液膜２２によって覆われ、受容孔２２ｈから下側に向かって貫通孔２１ｈが拡開形成されることにより、着弾面２０ａの外周に、着弾面２０ａの面方向外側に延びる凹部としての引込溝２３が形成されている。
【００６２】
着弾面２０ａ上であって貫通孔２１ｈ内には、前記引込溝２３（第１隔壁Ｗ１）を外縁とするパターンとしての正孔輸送層２５（以下単に、正孔層２５という。）が形成されている。その正孔層２５は、パターン形成材料及び発光素子形成材料としての正孔層形成材料２５ｓ（図９参照）からなるパターンである。
【００６３】
尚、本実施形態における正孔層形成材料２５ｓは、例えばベンジジン誘導体、スチリルアミン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、及びヒドラゾン誘導体等の低分子化合物、又はこれらの構造を一部に含む高分子化合物や、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、α−ナフチルフェニルジアミン、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）（Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ、バイエル社商標）等の高分子化合物である。
【００６４】
前記正孔層２５上であって前記受容孔２２ｈ内には、発光層２７が積層されている。尚、本実施形態における発光層２７は、それぞれ対応する色の発光層形成材料（赤色の光を発光する赤色発光層形成材料、緑色の光を発光する緑色発光層形成材料及び青色を発光する青色発光層形成材料）で形成されている。尚、赤色用発光層形成材料は、例えばポリビニレンスチレン誘導体のベンゼン環にアルキル又はアルコキシ置換基を有する高分子化合物や、ポリビニレンスチレン誘導体のビニレン基にシアノ基を有する高分子化合物等である。また、緑色用発光層形成材料は、例えばアルキル、又はアルコキシ又はアリール誘導体置換基をベンゼン環に導入したポリビニレンスチレン誘導体等である。青色用発光層形成材料は、例えばポリフルオレン誘導体（ジアルキルフルオレンとアントラセンの共重合体やジアルキルフルオレンとチオフェンの共重合体等）である。
【００６５】
そして、これら正孔層２５と発光層２７によって有機エレクトロルミネッセンス層（有機ＥＬ層）３０が形成されている。
有機ＥＬ層３０上側であって撥液膜２２（第２隔壁Ｗ２）の上側には、アルミニウム等の光反射性を有する金属膜からなる背面電極としての陰極３１が形成されている。陰極３１は、素子形成面１１ａ側全面を覆うように形成され、各画素１３が共有することによって各発光素子形成領域１５に共通する電位を供給するようになっている。
【００６６】
すなわち、これら陽極２０、有機ＥＬ層３０及び陰極３１によって、発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）が構成される。
そして、データ信号に応じた駆動電流が第２ドレイン領域Ｄ２を介して陽極２０に供給されると、有機ＥＬ層３０は、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層３０から陰極３１側（図４における上側）に向かって発光された光は、同陰極３１によって反射される。そのため、有機ＥＬ層３０から発光された光は、その殆どが、陽極２０、第２層間絶縁膜ＩＬ２、第１層間絶縁膜ＩＬ１、ゲート絶縁膜Ｇｏｘ、素子形成面１１ａ及び透明基板１１を透過して透明基板１１の裏面（表示面１１ｂ）側から外方に向かって出射する。すなわち、データ信号に基づく画像が有機ＥＬディスプレイ１０の表示面１１ｂに表示される。
【００６７】
陰極３１の上側には、エポキシ樹脂等からなる接着層３２が形成され、その接着層３２を介して素子形成領域１２を覆う封止基板１６が貼着されている。封止基板１６は、無アルカリガラス基板であって、画素１３及び各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖの酸化等を防止するようになっている。
（有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法）
次に、有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法について以下に説明する。図６は、有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法を説明するフローチャートであって、図７〜図１０は、同有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法を説明する説明図である。
【００６８】
図６に示すように、はじめに透明基板１１の素子形成面１１ａに各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖ，Ｌｖｃ及び各トランジスタＴ１，Ｔ２を形成し、撥液膜２２をパターニングして液滴受容空間Ｓを形成する受容空間形成工程を行う（ステップＳ１１）。図７は、有機ＥＬ層前工程を説明する説明図である。
【００６９】
すなわち、有機ＥＬ層前工程では、まず素子形成面１１ａの全面にエキシマレーザ等によって結晶化したポリシリコン膜を形成し、そのポリシリコン膜をパターニングして各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２を形成する。次に、各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２及び素子形成面１１ａの上側全面に、シリコン酸化膜等からなるゲート絶縁膜Ｇｏｘを形成し、そのゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側全面にタンタル等の低抵抗金属膜を堆積する。そして、その低抵抗金属膜をパターニングして、各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２、保持キャパシタＣｓの下部電極Ｃｐ１及び走査線Ｌｘを形成する。
【００７０】
各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２を形成すると、同ゲート電極Ｇ１，Ｇ２をマスクにしたイオンドーピング法によって、それぞれ各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２にｎ型不純物領域を形成する。これによって、各チャンネル領域Ｃ１，Ｃ２、各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２を形成する。各チャンネル膜Ｂ１，Ｂ２にそれぞれ各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２を形成すると、各ゲート電極Ｇ１，Ｇ２、下部電極Ｃｐ１、走査線Ｌｘ及びゲート絶縁膜Ｇｏｘの上側全面にシリコン酸化膜等からなる第１層間絶縁膜ＩＬ１を堆積する。
【００７１】
第１層間絶縁膜ＩＬ１を堆積すると、その第１層間絶縁膜ＩＬ１であって各ソース領域Ｓ１，Ｓ２及び各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２と相対する位置に一対のコンタクトホールをパターニングする。次に、同コンタクトホール内及び第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側全面にアルミニウム等の金属膜を堆積し、その金属膜をパターニングすることによって各ソース領域Ｓ１，Ｓ２に対応するデータ線Ｌｙと保持キャパシタＣｓの上部電極Ｃｐ２をそれぞれ形成する。同時に、各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２に対応する各ドレイン電極Ｄｐ１，Ｄｐ２を形成する。そして、データ線Ｌｙ、上部電極Ｃｐ２、各ドレイン領域Ｄ１，Ｄ２及び第１層間絶縁膜ＩＬ１の上側全面にシリコン酸化膜等からなる第２層間絶縁膜ＩＬ２を堆積する。これによって、スイッチング用トランジスタＴ１及び駆動用トランジスタＴ２を形成する。
【００７２】
第２層間絶縁膜ＩＬ２を堆積すると、その第２層間絶縁膜ＩＬ２であって第２ドレイン領域Ｄ２と相対向する位置にビアホールを形成する。次に、そのビアホール内及び第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側全面に、ＩＴＯ等の光透過性を有する透明導電膜を堆積し、その透明導電膜をパターニングすることによって第２ドレイン領域Ｄ２と接続する陽極２０を形成する。陽極２０を形成すると、その陽極２０及び第２層間絶縁膜ＩＬ２の上側全面にシリコン酸化膜等からなる第３層間絶縁膜２１を堆積する。
【００７３】
第３層間絶縁膜２１を堆積すると、図７に示すように、第３層間絶縁膜２１の上側全面に、感光性ポリイミド樹脂等を塗布して撥液膜２２を形成する。そして、マスクＭｋを介して、陽極２０と相対向する位置の撥液膜２２に所定の波長からなる露光光Ｌｐｒを露光し現像すると、同撥液膜２２に、第２隔壁Ｗ２を内周面にする受容孔２２ｈがパターニングされる。これによって、素子形成面１１ａに各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖ，Ｌｖｃ及び各トランジスタＴ１，Ｔ２を形成し、液滴受容空間Ｓを形成する受容空間形成工程を終了する。
【００７４】
図６に示すように、受容空間形成工程を終了すると（ステップＳ１１）、第３層間絶縁膜２１をパターニングして、引込溝２３を形成する引込溝形成工程を行う（ステップＳ１
２）。図８は、引込溝形成工程を説明する説明図である。
【００７５】
すなわち、引込溝形成工程では、撥液膜２２をマスクにして、第３層間絶縁膜２１を等方的にエッチングする。すると、第３層間絶縁膜２１は、図８に示すように、その撥液膜２２側から略円弧状にエッチング面Ｅｓを形成し、やがて陽極２０側からテーパ状に広がる第１隔壁Ｗ１を形成する。そして、底部Ｗ１ａのサイズが液滴受容空間Ｓ（受容孔２２ｈ）の陽極２０側と略同じサイズとなるときにエッチングを終了すると、陽極２０上面上に第１隔壁Ｗ１を備えた貫通孔２１ｈが形成され、その底部Ｗ１ａによって囲まれる着弾面２０ａが形成される。そして、着弾面２０ａの外周に、その面方向外側に延びる引込溝２３が形成される。これによって、第２隔壁Ｗ２（液滴受容空間Ｓ）に対する第１隔壁Ｗ１の位置を位置整合させることができる。
【００７６】
図６に示すように、引込溝２３を形成すると（ステップ１２）、受容孔２２ｈ内に正孔層形成材料２５ｓを含有する正孔層液滴２５Ｄを形成し、正孔層２５を形成する正孔層形成工程を行う（ステップＳ１３）。図９は、その正孔層形成工程を説明する説明図である。
【００７７】
ます、正孔層液滴２５Ｄを形成するための液滴吐出装置の構成について以下に説明する。
図９に示すように、本実施形成における液滴吐出装置を構成する液体吐出ヘッド３５には、ノズルプレート３６が備えられている。そのノズルプレート３６の下面（ノズル形成面３６ａ）には、液体を吐出する多数のノズル３６ｎが上方に向かって形成されている。各ノズル３６ｎの上側には、図示しない液体収容タンクに連通して液体をノズル３６ｎ内に供給可能にする液体供給室３７が形成されている。各液体供給室３７の上側には、上下方向に往復振動して液体供給室３７内の容積を拡大縮小する振動板３８が配設されている。その振動板３８の上側であって各液体供給室３７と相対向する位置には、それぞれ上下方向に伸縮して振動板３８を振動させる圧電素子３９が配設されている。
【００７８】
そして、液滴吐出装置に搬送される透明基板１１は、図９に示すように、素子形成面１１ａをノズル形成面３６ａと平行にして、かつ各受容孔２２ｈの中心位置をそれぞれノズル３６ｎの直下に配置して位置決めされる。
【００７９】
ここで、液体供給室３７内に、正孔層形成材料２５ｓを溶解した正孔層形成液２５Ｌを供給する。
そして、液体吐出ヘッド３５に正孔層液滴２５Ｄを形成するための駆動信号を入力すると、同駆動信号に基づいて圧電素子３９が伸縮して液体供給室３７の容積が拡大縮小する。このとき、液体供給室３７の容積が縮小すると、縮小した容積に相対する量の正孔層形成液２５Ｌが、各ノズル３６ｎから微小正孔層液滴２５ｂとして吐出される。吐出された微小正孔層液滴２５ｂは、それぞれ液滴受容空間Ｓを通過して、貫通孔２１ｈ内の着弾面２０ａに着弾する。続いて、液体供給室３７の容積が拡大すると、拡大した容積分の正孔層形成液２５Ｌが、図示しない液体収容タンクから液体供給室３７内に供給される。つまり、液体吐出ヘッド３５は、こうした液体供給室３７の拡大縮小によって、所定の容量の正孔層形成液２５Ｌを受容孔２２ｈに向かって吐出する。尚、この際、液体吐出ヘッド３５は、正孔層液滴２５Ｄに含まれる正孔層形成材料２５ｓが所望する膜厚を形成する分だけ微小正孔層液滴２５ｂを吐出する。
【００８０】
そして、着弾面２０ａに着弾した微小正孔層液滴２５ｂは、第１隔壁Ｗ１に接触し、同第１隔壁Ｗ１の微小正孔層液滴２５ｂに対する界面張力（毛管力）によって、引込溝２３に沿って濡れ広がる。すなわち、引込溝２３は、着弾面２０ａの面方向外側に向かって広がるように形成される分だけ、微小正孔層液滴２５ｂに対する界面張力の働く範囲を拡大
し、同微小正孔層液滴２５ｂを着弾面２０ａ全面に均一に濡れ広がらせる。
【００８１】
着弾面２０ａ上に均一に濡れ広がる微小正孔層液滴２５ｂは、やがて、図９の２点鎖線に示すように、その表面張力と第２隔壁Ｗ２の撥液性によって、半球面状の表面を呈する正孔層液滴２５Ｄを形成する。
【００８２】
正孔層液滴２５Ｄを形成すると、続いて、透明基板１１（正孔層液滴２５）を所定の減圧下に配置して同正孔層液滴２５Ｄを乾燥して正孔層形成材料２５ｓを硬化する。硬化する正孔層形成材料２５ｓは、陽極２０上面全体に均一に濡れ広がる分だけ、均一な形状を有する正孔層２５を形成する。これによって、貫通孔２１ｈ内であって着弾面２０ａ全面に、均一な形状を有する正孔層２５を形成する。
【００８３】
図６に示すように、正孔層２５を形成すると（ステップＳ１３）、各受容孔２２ｈ内に、発光層２７を形成する発光層形成工程を行う（ステップＳ１４）。図１０は、発光層形成工程を説明する説明図である。
【００８４】
すなわち、発光層形成工程では、図１０に示すように、正孔層形成工程と同じく、対応する色の発光層形成材料２７ｓを含有する発光層形成液２７Ｌの微小発光層液滴２７ｂを、各ノズル３６ｎから対応する正孔層２５上に吐出し、吐出した微小発光層液滴２７ｂによって形成する発光層液滴２７Ｄを乾燥することによって発光層２７を形成する。
【００８５】
この際、正孔層２５上に吐出される微小発光層液滴２７ｂは、引込溝２３によって正孔層２５の形状が均一に形成される分だけ均一に濡れ広がり、発光層２７の形状を均一にする、すなわち有機ＥＬ層３０の形状を均一にする。
【００８６】
図６に示すように、正孔層２５（有機ＥＬ層３０）を形成すると（ステップＳ１４）、発光層２７（有機ＥＬ層３０）及び撥液膜２２上に陰極３１を形成し、画素１３を封止する有機ＥＬ層後工程を行う（ステップ１５）。すなわち、有機ＥＬ層３０及び撥液膜２２の上側全面にアルミニウム等の金属膜からなる陰極３１を堆積し、陽極２０、有機ＥＬ層３０及び陰極３１からなる有機ＥＬ素子を形成する。有機ＥＬ素子を形成すると、陰極３１（画素１３）の上側全面にエポキシ樹脂等を塗布して接着層３２を形成し、その接着層３２を介して封止基板１６を透明基板１１に貼着する。
【００８７】
これによって、有機ＥＬ層３０の形状を均一にした有機ＥＬディスプレイ１０を製造することができる。
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
【００８８】
（１）上記実施形態によれば、液滴受容空間Ｓを形成する第２隔壁Ｗ２の着弾面２０ａ側に、親液性材料からなる第３層間絶縁膜２１を形成し、同第３層間絶縁膜２１に貫通孔２１ｈを形成した。そして、貫通孔２１ｈの内周面（第１隔壁Ｗ１）を、その着弾面２０ａ側（底部Ｗ１ａ）から同着弾面２０ａの面方向外側に広がるように形成し、着弾面２０ａの外周に第１隔壁Ｗ１からなる引込溝２３を形成するようにした。
【００８９】
従って、液滴受容空間Ｓを通過して着弾面２０ａに着弾した微小正孔層液滴２５ｂを、引込溝２３（第１隔壁Ｗ１）の界面張力（毛管力）によって、同着弾面２０ａ上に濡れ広がらせることができる。
【００９０】
（２）しかも、第１隔壁Ｗ１を面方向外側に広がるように形成する分だけ、微小正孔層液滴２５ｂと第１隔壁Ｗ１との接触領域を拡大することができ、同微小正孔層液滴２５ｂに対する界面張力の働く範囲を拡大することができる。
【００９１】
その結果、正孔層２５の形状を均一にすることができ、有機ＥＬ層３０の形状を均一にすることができる。ひいては、有機ＥＬディスプレイ１０の生産性を向上することができる。
【００９２】
（３）上記実施形態では、第３層間絶縁膜２１上に撥液性の撥液膜２２を積層して第２隔壁Ｗ２を形成するようにした。従って、正孔層液滴２５Ｄ及び発光層液滴２７Ｄを漏らすことなく、確実に液滴受容空間Ｓ内に収容することができる。しかも、第１隔壁Ｗ１と異なる部材によって第２隔壁Ｗ２を構成するため、微小正孔層液滴２５ｂを濡れ広がらせるための材料と正孔層液滴２５Ｄを収容するための材料の選択幅を拡張することができる。そのため、有機ＥＬ層３０の形状を均一にすることができ、かつ有機ＥＬディスプレイ１０の生産性を向上することができる。
【００９３】
（４）上記実施形態によれば、受容孔２２ｈ（第２隔壁Ｗ２）を有する撥液膜２２をマスクとして第３層間絶縁膜２１を等方的にエッチングし、貫通孔２１ｈ（第１隔壁Ｗ１）を形成するようにした。従って、第２隔壁Ｗ２（液滴受容空間Ｓ）に対して第１隔壁Ｗ１の位置を位置整合させることができ、着弾面２０ａの全外周に沿って、確実に引込溝２３を形成することができる。そのため、正孔層２５の形状を確実に均一にすることができ、有機ＥＬ層３０の形状を均一にすることができる。
【００９４】
（５）しかも、第１隔壁Ｗ１を形成するためのマスクを別途形成することなく第３層間絶縁膜２１をエッチングすることができるため、第１隔壁Ｗ１を形成するための工程を削減することができる。ひいては、有機ＥＬディスプレイ１０の生産性を向上することができる。
【００９５】
（６）上記実施形態によれば、正孔層液滴２５Ｄを、液滴吐出装置から吐出する微小正孔層液滴２５ｂによって形成するようにした。従って、所望する量の発光層形成材料２７ｓを液滴受容空間Ｓ内に確実に吐出させることができ、他の液相プロセス（例えば、スピンコート法等）に比べ、より均一な形状の有機ＥＬ層３０を形成することができる。
【００９６】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、第１隔壁Ｗ１の底部Ｗ１ａの位置を、受容孔２２ｈの着弾面２０ａ側と相対向する位置に形成するようにした。これに限らず、底部Ｗ１ａの位置を、図５に示す位置よりも着弾面２０ａの中心位置側に配置して、同底部Ｗ１ａが受容孔２２ｈ内と相対向する位置に形成されるようにしてもよい。これによれば、受容孔２２ｈ（液滴受容Ｓ）空間を通過して着弾面２０ａに着弾した微小正孔層液滴２５ｂに対し、その液滴と第１隔壁Ｗ１との接触面積をさらに拡大することができ、同微小正孔層液滴２５ｂを確実に濡れ広げることができる。
・上記実施形態では、第１隔壁Ｗ１を、その底部Ｗ１ａから着弾面２０ａの面方向外側に広がるように形成したが、これに限らず、受容孔２２ｈを有する撥液膜２２に覆われて引込溝２３を形成する形状であればよい。あるいは、底部Ｗ１ａから着弾面２０ａの面方向外側に狭くなる、すなわち着弾面２０ａ内側に張り出すように形成してもよい。
【００９７】
このパターン形成基板によれば、第１隔壁が液滴受容空間と相対向する位置から第２隔壁に向かって狭くなるように形成される分だけ、液滴と親液する領域を拡大することができ、液滴受容空間に吐出された液滴を確実に濡れ広がらせることができる。
・上記実施形態では、受容孔２２ｈを有する撥液膜２２をマスクとして貫通孔２１ｈ（第１隔壁Ｗ１）を形成するようにしたが、これに限らず、第１隔壁Ｗ１を形成した後に、受容孔２２ｈを形成するようにしてもよい。
・上記実施形態では、第１隔壁Ｗ１と第２隔壁Ｗ２をそれぞれ異なる部材（第３層間絶縁
膜２１と撥液膜２２）によって形成するようにした。これに限らず、第１隔壁Ｗ１及び第２隔壁Ｗ２を同一部材で構成するようにしてもよい。
・上記実施形態では、パターンを正孔層２５に具体化したが、これに限らず、例えば発光層２７であってもよく、さらには液滴によって形成した各色のカラーフィルタであってもよい。
・上記実施形態では、有機ＥＬディスプレイ１０をボトムエミッション型に具体化したが、これに限らず、トップエミッション型に具体化してもよい。すなわち、背面電極上に引込溝２３を形成するようにしてもよい。
・上記実施形態では、有機ＥＬ層３０をインクジェット法によって形成する構成にした。これに限らず、有機ＥＬ層３０の形成方法は、例えば、スピンコート法等によって塗布する液体によって正孔層液滴２５Ｄ又は発光層液滴２７Ｄを形成するようにしてもよく、液体を乾燥して硬化させることによって有機ＥＬ層３０を形成する方法であればよい。
・上記実施形態では、制御素子形成領域１４にスイッチング用トランジスタＴ１及び駆動用トランジスタＴ２を備える構成にしたが、これに限定されるものでなく、所望の素子設計によって、例えば１つのトランジスタや多数のトランジスタ、あるいは多数のキャパシタからなる構成にしてもよい。
・上記実施形態では、有機ＥＬ層３０をインクジェット法によって形成する構成にした。これに限らず、有機ＥＬ層３０の形成方法は、例えば、スピンコート法等であってもよく、液体を乾燥して硬化させることによって有機ＥＬ層３０を形成する方法であればよい。・上記実施形態では、圧電素子３９によって微小正孔層液滴２５ｂを吐出するようにしたが、これに限らず、例えば液体供給室３７に抵抗加熱素子を設け、その抵抗加熱素子の加熱によって形成される気泡の破裂によって微小正孔層液滴２５ｂを吐出するようにしてもよい。
・上記実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１０として具体化したが、これに限らず、例えば液晶パネルに装着されるバックライト等であってもよく、あるいは平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型ディスプレイ（ＦＥＤやＳＥＤ等）であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】本発明を具体化した有機ＥＬディスプレイを示す概略平面図。
【図２】同じく、画素を示す概略平面図。
【図３】同じく、制御素子形成領域を示す概略断面図。
【図４】同じく、制御素子形成領域を示す概略断面図。
【図５】同じく、発光素子形成領域を示す概略断面図。
【図６】同じく、電気光学装置の製造工程を説明するフローチャート。
【図７】同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。
【図８】同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。
【図９】同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。
【図１０】同じく、電気光学装置の製造工程を説明する説明図。
【符号の説明】
【００９９】
１０…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、１１…パターン形成基板としての透明基板、１５…発光素子形成領域、２０…透明電極としての陽極、２１…第１隔壁層としての第３層間絶縁膜、２２…第２隔壁層としての撥液膜、２５…パターンとしての正孔層、２５Ｄ…正孔層液滴、２５ｓ…パターン形成材料及び発光素子形成材料を構成する正孔層形成材料、２７…発光層、３１…背面電極としての陰極、３５…液滴吐出装置を構成する液体吐出ヘッド、Ｍｋ…マスク、Ｗ１…第１隔壁、Ｗ２…第２隔壁、Ｓ…液滴受容空間。
【図１】
2006179213.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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