(57)【要約】【課題】  本発明は、少なくとも、Ａ液供給口と水供給口と排出口とを備えた出口共用部を有する希釈装置を提供する。【解決手段】  希釈装置１は、少なくとも、Ａ液供給口１０ａとＢ液供給口１０ｂと水供給口１０ｃと排出口１０ｄとを備えた出口共用部１０と、Ａ液供給口１０ａに接続され、出口共用部１０へＡ液を供給するＡ液供給通路３２と、Ａ液供給通路３２内のＡ液を圧送するＡ液用ポンプ３３と、Ｂ液供給口に接続され、出口共用部１０へＢ液を供給するＢ液供給通路４２と、Ｂ液供給通路４２内のＢ液を圧送するＢ液用ポンプ４３と、水供給口１０ｃに接続され、出口共用部１０へ水を供給する水供給通路２２と、水供給通路２２内の水を圧送する水用ポンプ２３と、Ａ液を水で希釈する場合、排出口１０ｄよりの最後の排出が水、Ａ液とＢ液を水で希釈する場合、排出口１０ｄよりの最後の排出が水、になるようにＡ液用ポンプ３３  、Ｂ液用ポンプ４３及び水用ポンプ２３を制御する制御手段２００とを備えている。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、Ａ液供給口とＢ液供給口と水供給口と排出口とを備えた出口共用部と、
前記Ａ液供給口に接続され、前記出口共用部へＡ液を供給するＡ液供給通路と、
前記Ａ液供給通路内の前記Ａ液を圧送するＡ液用ポンプと、
前記Ｂ液供給口に接続され、前記出口共用部へＢ液を供給するＢ液供給通路と、
前記Ｂ液供給通路内の前記Ｂ液を圧送するＢ液用ポンプと、
前記水供給口に接続され、前記出口共用部へ水を供給する水供給通路と、
前記水供給通路内の前記水を圧送する水用ポンプと、
前記Ａ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水、前記Ａ液と前記Ｂ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水、になるように前記Ａ液用ポンプ、前記Ｂ液用ポンプ及び前記水用ポンプを制御する制御手段とを備えている
ことを特徴とする希釈装置。
【請求項２】
少なくとも、Ａ液供給口と水供給口と排出口とを備えた出口共用部と、
前記Ａ液供給口に接続され、前記出口共用部へＡ液を供給するＡ液供給通路と、
前記Ａ液供給通路内の前記Ａ液を圧送するＡ液用ポンプと、
前記水供給口に接続され、前記出口共用部へ水を供給する水供給通路と、
前記水供給通路内の前記水を圧送する水用ポンプと、
前記Ａ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水になるように前記Ａ液用ポンプ及び前記水用ポンプを制御する制御手段とを備えている  ことを特徴とする希釈装置。
【請求項３】
排出口の下方には、前記排出口よりの液体を入れる容器を置く載置部が形成され、
前記容器には、少なくとも、高さＨ、底面積Ｓの第１の容器と、高さｈ、底面積ｓの第２の容器（Ｈ＞ｈ、Ｓ＜ｓ）とを有し、
前記載置部と前記排出口との距離は前記第１の容器の高さＨより大きく設定され、
前記第１の容器に前記排出口より液体を入れる場合、前記載置部に前記第１の容器を置き、
前記第２の容器に前記排出口より液体を入れる場合、前記載置部に補助載置台を置き、この補助載置台に前記第２の容器を置いて前記第２の容器の注入口を前記排出口に近づくようにする
ことを特徴とする請求項１記載の希釈装置。  
【請求項４】
排出口の下方には、前記排出口よりの液体を入れる容器を置く載置部が本体に形成され、この本体の側壁に水平方向に張り出す張り出し部が形成され、
前記容器には、少なくとも、高さＨ、底面積Ｓの第１の容器と、高さｈ、底面積ｓの第２の容器（Ｈ＞ｈ、Ｓ＜ｓ）とを有し、
前記載置部と前記排出口との距離は前記第１の容器の高さＨより大きく設定され、
前記第１の容器に前記排出口より液体を入れる場合、前記張り出し部の内方に前記第１の容器が位置して、前記載置部に前記第１の容器を置き、
前記第２の容器に前記排出口より液体を入れる場合、前記張り出し部に前記第２の容器を置いて前記第２の容器の注入口を前記排出口に近づくようにする
ことを特徴とする請求項１記載の希釈装置。
【請求項５】
Ａ液及びＢ液は頭髪用であり、水供給通路内の水は、ヒータにより温度調節されて加温されている
ことを特徴とする請求項１記載の希釈装置。
【請求項６】
少なくとも、Ａ液供給口とＢ液供給口と水供給口と排出口とを備えた出口共用部と、
前記Ａ液供給口に接続され、前記出口共用部へＡ液を供給するＡ液供給通路と、
前記Ａ液供給通路内の前記Ａ液を圧送するＡ液用ポンプと、
前記Ｂ液供給口に接続され、前記出口共用部へＢ液を供給するＢ液供給通路と、
前記Ｂ液供給通路内の前記Ｂ液を圧送するＢ液用ポンプと、
前記水供給口に接続され、前記出口共用部へ水を供給する水供給通路と、
前記水供給通路内の前記水を圧送する水用ポンプとを有し、
前記Ａ液用ポンプ、前記Ｂ液用ポンプ及び前記水用ポンプを制御して、前記Ａ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水、前記Ａ液と前記Ｂ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水、になるようにして、前記水で前記Ａ液又は前記Ａ液と前記Ｂ液を前記水で希釈すると共に、前記出口共用部を前記水で洗浄する
ことを特徴とする希釈洗浄方法。
【請求項７】
少なくとも、Ａ液供給口と水供給口と排出口とを備えた出口共用部と、
前記Ａ液供給口に接続され、前記出口共用部へＡ液を供給するＡ液供給通路と、
前記Ａ液供給通路内の前記Ａ液を圧送するＡ液用ポンプと、
前記水供給口に接続され、前記出口共用部へ水を供給する水供給通路と、
前記水供給通路内の前記水を圧送する水用ポンプとを有し、
前記Ａ液用ポンプ及び前記水用ポンプを制御して、前記Ａ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水になるようにして、前記水で前記Ａ液を前記水で希釈すると共に、前記出口共用部を前記水で洗浄する
ことを特徴とする希釈洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、希釈装置及び希釈洗浄方法に係り、特に、少なくとも、Ａ液供給口と水供給口と排出口とを備えた出口共用部を有する希釈装置及び希釈洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、美容院等で頭髪用の液体（例えば、酸性の度合いを調整する酸性液、リンス、毛染め、整髪、パーマネントウエーブ用液体）を水で希釈する場合、作業者がその都度、容器内に頭髪用の液体を入れ、その後、水を入れて希釈しており、その作業性は悪く、自動化が望まれていた。
【０００３】
自動化する場合、頭髪用の液体（例えば、Ａ液）と、希釈用の水があるため、Ａ液、希釈用の水の排出口をそれぞれ専用に設けようとすれば、希釈水を入れる容器の口が大きいものでなければならないという制約を受けることとなる。
逆に、排出口をＡ液と希釈用の水の共用として使用すれば、Ａ液の希釈水を作った後、Ａ液の希釈水を作る場合、Ａ液の希釈水に残留していたＡ液が混入し、正確なＡ液の希釈水を得ることができという問題点が生じた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上述した問題点を除去するようにした希釈装置及び希釈洗浄方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記した目的を達成するための本発明の希釈装置は、少なくとも、Ａ液供給口とＢ液供給口と水供給口と排出口とを備えた出口共用部と、前記Ａ液供給口に接続され、前記出口共用部へＡ液を供給するＡ液供給通路と、前記Ａ液供給通路内の前記Ａ液を圧送するＡ液用ポンプと、前記Ｂ液供給口に接続され、前記出口共用部へＢ液を供給するＢ液供給通路と、前記Ｂ液供給通路内の前記Ｂ液を圧送するＢ液用ポンプと、前記水供給口に接続され、前記出口共用部へ水を供給する水供給通路と、前記水供給通路内の前記水を圧送する水用ポンプと、前記Ａ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水、前記Ａ液と前記Ｂ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水、になるように前記Ａ液用ポンプ、前記Ｂ液用ポンプ及び前記水用ポンプを制御する制御手段とを備えている。
【０００６】
また、請求項２記載の希釈装置は、少なくとも、Ａ液供給口と水供給口と排出口とを備えた出口共用部と、前記Ａ液供給口に接続され、前記出口共用部へＡ液を供給するＡ液供給通路と、前記Ａ液供給通路内の前記Ａ液を圧送するＡ液用ポンプと、前記水供給口に接続され、前記出口共用部へ水を供給する水供給通路と  、前記水供給通路内の前記水を圧送する水用ポンプと、前記Ａ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水になるように前記Ａ液用ポンプ及び前記水用ポンプを制御する制御手段とを備えている。
【０００７】
また、請求項３記載の希釈装置は、請求項１記載の希釈装置において、排出口の下方には、前記排出口よりの液体を入れる容器を置く載置部が形成され、
前記容器には、少なくとも、高さＨ、底面積Ｓの第１の容器と、高さｈ、底面積ｓの第２の容器（Ｈ＞ｈ、Ｓ＜ｓ）とを有し、前記載置部と前記排出口との距離は前記第１の容器の高さＨより大きく設定され、前記第１の容器に前記排出口より液体を入れる場合、前記載置部に前記第１の容器を置き、前記第２の容器に前記排出口より液体を入れる場合、前記載置部に補助載置台を置き、この補助載置台に前記第２の容器を置いて前記第２の容器の注入口を前記排出口に近づくようにするものである。 
【０００８】
また、請求項４記載の希釈装置は、請求項１記載の希釈装置において、排出口の下方には、前記排出口よりの液体を入れる容器を置く載置部が本体に形成され、この本体の側壁に水平方向に張り出す張り出し部が形成され、前記容器には、少なくとも、高さＨ、底面積Ｓの第１の容器と、高さｈ、底面積ｓの第２の容器（Ｈ＞ｈ、Ｓ＜ｓ）とを有し、前記載置部と前記排出口との距離は前記第１の容器の高さＨより大きく設定され、前記第１の容器に前記排出口より液体を入れる場合、前記張り出し部の内方に前記第１の容器が位置して、前記載置部に前記第１の容器を置き、前記第２の容器に前記排出口より液体を入れる場合、前記張り出し部に前記第２の容器を置いて前記第２の容器の注入口を前記排出口に近づくようにするものである。
【０００９】
また、請求項５記載の希釈装置は、請求項１記載の希釈装置において、Ａ液  ｖ及びＢ液は頭髪用であり、水供給通路内の水は、ヒータにより温度調節されて加温されているものである。
【００１０】
また、請求項６記載の希釈洗浄方法は、少なくとも、Ａ液供給口とＢ液供給  口と水供給口と排出口とを備えた出口共用部と、前記Ａ液供給口に接続され、前記出口共用部へＡ液を供給するＡ液供給通路と、前記Ａ液供給通路内の前記Ａ液を圧送するＡ液用ポンプと、前記Ｂ液供給口に接続され、前記出口共用部へＢ液を供給するＢ液供給通路と、前記Ｂ液供給通路内の前記Ｂ液を圧送するＢ液用ポンプと、前記水供給口に接続され、前記出口共用部へ水を供給する水供給通路と  、前記水供給通路内の前記水を圧送する水用ポンプとを有し、前記Ａ液用ポンプ、前記Ｂ液用ポンプ及び前記水用ポンプを制御して、前記Ａ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水、前記Ａ液と前記Ｂ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水、になるようにして、前記水で前記Ａ液又は前記Ａ液と前記Ｂ液を前記水で希釈すると共に、前記出口共用部を前記水で洗浄するものである  。
【００１１】
また、請求項７記載の希釈洗浄方法は、少なくとも、Ａ液供給口と水供給口と排出口とを備えた出口共用部と、前記Ａ液供給口に接続され、前記出口共用部へＡ液を供給するＡ液供給通路と、前記Ａ液供給通路内の前記Ａ液を圧送するＡ液用ポンプと、前記水供給口に接続され、前記出口共用部へ水を供給する水供給通路と、前記水供給通路内の前記水を圧送する水用ポンプとを有し、前記Ａ液用ポンプ及び前記水用ポンプを制御して、前記Ａ液を前記水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水になるようにして、前記水で前記Ａ液を前記水で希釈すると共に、前記出口共用部を前記水で洗浄するものである。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１記載の希釈装置によれば、出口共用部の排出口からＡ液、Ｂ液、水を排出するが、制御手段によりＡ液用ポンプ、Ｂ液用ポンプ及び水用ポンプを制御して、Ａ液を水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水、Ａ液とＢ液を水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水、になるように制御されるため、出口共用部内の残留液体が水で洗浄され、Ａ液を水で希釈した後、Ａ液とＢ液を水で希釈する場合、Ａ液とＢ液の希釈水に残留したＡ液が、又は逆に、Ａ液とＢ液を水で希釈した後、Ａ液を水で希釈する場合に、Ａ液の希釈水に残留したＡ液とＢ液の混合液が混入するのを防ぎ、正確なＡ液の希釈水、Ａ液とＢ液の希釈水を得ることができる。
【００１３】
また、請求項２記載の希釈装置によれば、出口共用部の排出口からＡ液、水を排出するが、制御手段によりＡ液用ポンプ及び水用ポンプを制御して、Ａ液を水で希釈する場合、前記排出口よりの最後の排出が水になるように制御されるため、出口共用部内の残留したＡ液が水で洗浄され、Ａ液を水で希釈した後、Ａ液を水で希釈する場合、Ａ液の希釈水に出口共用部内に残留したＡ液が混入するのを防ぎ、正確なＡ液の希釈水を得ることができる。
【００１４】
また、請求項３記載の希釈装置によれば、前述した請求項１記載の発明の効果に加え、第１の容器に希釈液を排出口より排出して入れる場合、載置部に前記第１の容器を置き、第２の容器に希釈液を前記排出口より排出して入れる場合、前記載置部に補助載置台を置き、この補助載置台に前記第２の容器を置いて前記第２の容器の注入口を前記排出口に近づくようにするため、背の低い第２の容器より液体が飛散するのを防ぐことができる。
【００１５】
また、請求項４記載の希釈装置によれば、前述した請求項１記載の発明の効  果に加え、第２の容器に希釈液を排出口より排出して入れる場合、張り出し部に第２の容器を置いて第２の容器の注入口を前記排出口に近づくようにするため、背の低い第２の容器より液体が飛散するのを防ぐことができる。
【００１６】
また、請求項５記載の希釈装置によれば、前述した請求項１記載の発明の効  果に加え、Ａ液及びＢ液は頭髪用のため、単に希釈するだけでなく希釈液を使用する際、頭髪に冷たい希釈液がかからないようにすることができる。
【００１７】
また、請求項６記載の希釈洗浄方法によれば、Ａ液用ポンプ、Ｂ液用ポンプ  及び水用ポンプを制御して、Ａ液を水で希釈する場合、排出口よりの最後の排出が水、Ａ液とＢ液を前記水で希釈する場合、排出口よりの最後の排出が水、になるようにして、Ａ液又はＡ液とＢ液を水で希釈すると共に、出口共用部を前記水で洗浄するため、Ａ液を水で希釈した後、Ａ液とＢ液を水で希釈する場合、Ａ液とＢ液の希釈水に残留したＡ液が、又は逆に、Ａ液とＢ液を水で希釈した後、Ａ液を水で希釈する場合に、Ａ液の希釈水に残留したＡ液とＢ液の混合液が、混入するのを防ぎ、正確なＡ液の希釈水、Ａ液とＢ液の希釈水を得ることができる。
【００１８】
また、請求項７記載の希釈洗浄方法によれば、Ａ液用ポンプ及び水用ポンプ  を制御して、Ａ液を水で希釈する場合、排出口よりの最後の排出が水になるようにして、Ａ液を水で希釈すると共に、出口共用部を前記水で洗浄するため、Ａ液を水で希釈した後、Ａ液を水で希釈する場合、Ａ液の希釈水に残留したＡ液が、混入するのを防ぎ、正確なＡ液の希釈水、Ａ液とＢ液の希釈水を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の一実施例である希釈装置及び希釈洗浄方法を図面を参照して説明する  。
図１乃至図６において、１は希釈装置で、希釈装置１は、例えば、美容院等で頭髪用の液体（例えば、酸性の度合いを調整する酸性液、リンス、毛染め、整髪  、パーマネントウエーブ用液体等）を水で希釈するために使用されるものである  。  
【００２０】
希釈装置１は、少なくとも、水を貯留する水貯留部２と、Ａ液（例えば、酸性の度合いを調整する酸性液）が入った容器を収納するＡ容器収納部３と、Ａ液と異なるＢ液（例えば、リンス）が入った容器を収納するＢ容器収納部４とを有している（図１参照）。
水貯留部２は希釈装置１の背面側に、Ａ容器収納部３は希釈装置１の右側に、Ｂ容器収納部４は希釈装置１の左側に、それぞれ位置している。
２１は水貯留部２の開口部を開閉する蓋であり、３１はＡ容器収納部３にＡ  液を入れたＡ容器３０を出し入れするための右側扉であり、４１はＢ容器収納部４にＢ液を入れたＢ容器４０を出し入れするための左側扉である。
【００２１】
右側扉３１と左側扉４１との間には、Ａ液又はＢ液を希釈する希釈液を入れる容器６を置く載置部５が形成され、載置部５は排出口１０ｄの下方に位置している。容器６には、少なくとも、高さＨ、底面積Ｓの第１の容器６１と、高さｈ、底面積ｓの第２の容器６２（Ｈ＞ｈ、Ｓ＜ｓ）とを有している。そして、載置部５と排出口１０ｄとの距離は第１の容器６１の高さＨより大きく設定され、第１の容器６１に希釈液を排出口１０ｄより入れる場合、載置部５に第１の容器６１を置く（図５参照）。
また、第２の容器６２に希釈液を排出口１０ｄより入れる場合、載置部５に補助載置台５１を置き、この補助載置台５１に第２の容器６２を置いて第２の容器６２の注入口を排出口１０ｄに近づくようにしている（図１及び図２参照）。
特に、補助載置台５１に第２の容器６２を置いて第２の容器６２の注入口を排出口１０ｄに近づくようにするため、背の低い第２の容器６２より液体が飛散するのを防ぐことができる。
【００２２】
１０は排出口１０ｄを共通とする出口共用部で（図２、図３、図４及び図６参照）、出口共用部１０は、例えば、筒形状のもので、少なくとも、Ａ液供給口１０ａとＢ液供給口１０ｂと水供給口１０ｃと排出口１０ｄとを備え、液体の流れにおいて、水供給口１０ｃは、Ａ液供給口１０ａ及びＢ液供給口１０ｂより上流側に位置している。
【００２３】
水供給口１０ｃは、出口共用部１０へ水を供給する水供給通路２２に接続さ  れ、水供給通路２２内の水は水用ポンプ２３により圧送されるようになっている  。水供給通路２２の他端は、水貯留部２内に位置している。なお、特に、Ａ液及びＢ液は頭髪用の場合、水供給通路２２内の水は、ヒータＨ’により温度調節されて加温されている。ヒータＨ’は水貯留部２内にあっても良いし、また、図示しないが水供給通路２２内に設けても良い。その結果、Ａ液及びＢ液が頭髪用のためのものである場合、単に希釈するだけでなく希釈液を使用する際、頭髪に冷たい希釈液がかからないようにしている。
【００２４】
Ａ液供給口１０ａは、出口共用部１０へＡ液を供給するＡ液供給通路３２に  接続され、Ａ液供給通路３２内のＡ液はＡ液用ポンプ３３により圧送されるようになっている。Ａ液供給通路３２の他端は、Ａ容器３０内に位置している。
【００２５】
Ｂ液供給口１０ｂは、出口共用部１０へＢ液を供給するＢ液供給通路４２に  接続され、Ｂ液供給通路４２内のＢ液はＢ液用ポンプ４３により圧送されるようになっている。Ｂ液供給通路４２の他端は、Ｂ容器４０内に位置している。
【００２６】
２００は、Ａ液用ポンプ３３、Ｂ液用ポンプ４３及び水用ポンプ２３を制御  する制御手段で、制御手段２００は、Ａ液を水で希釈する場合、排出口１０ｄよりの最後の排出が水、Ａ液とＢ液を水で希釈する場合、排出口１０ｄよりの最後の排出が水、になるように、Ａ液用ポンプ３３、Ｂ液用ポンプ４３及び水用ポンプ２３を制御する。
例えば、濃度１０％Ａ液を１００ｍｌが必要なとき、図示しない入力部に濃度が１０％、入手したい液がＡ液、希釈液が１００ｍｌであることを入力すると、例えば、水供給通路２２及びＡ液供給通路３２の通路の断面積を同じとすれば、  液用ポンプ３３及び水用ポンプ２３が同時に同回転し、出口共用部１０への水とＡ液がそれぞれ１０ｍｌまでは、水供給通路２２及びＡ液供給通路３２より出口共用部１０へ水とＡ液が流れ込むが、Ａ液が１０ｍｌに達するとＡ液用ポンプ３３を停止させ、Ａ液の供給は停止する。その後は、水が８０ｍｌに達するまで水用ポンプ２３の動作は継続し、排出口１０ｄよりの最後の排出が水、になるようにしている。
また、濃度３３％Ａ液とＢ液を１５０ｍｌ（Ａ液５０ｍｌ、Ｂ液５０ｍｌ、水５０ｍｌ）が必要なとき、Ａ液用ポンプ３３、Ｂ液用ポンプ４３及び水用ポンプ２３が同時に同回転し、出口共用部１０への水の量が、例えば、５０ｍｌの手前の例えば、４５ｍｌに達すると水用ポンプ２３の回転を落とし、Ａ液、Ｂ液が５０ｍｌに達すると、Ａ液用ポンプ３３、Ｂ液用ポンプ４３を停止させ、先にＡ液  、Ｂ液の供給を停止し、排出口１０ｄよりの最後の排出が水、になるようにしている。
【００２７】
このように、Ａ液用ポンプ３３、Ｂ液用ポンプ４３及び水用ポンプ２３を制御して、Ａ液を水で希釈する場合、排出口１０ｄよりの最後の排出が水、Ａ液とＢ液を水で希釈する場合、排出口１０ｄよりの最後の排出が水、になるようにしてＡ液又はＡ液とＢ液を水で希釈すると共に、出口共用部１０を水で洗浄する（希釈洗浄方法）。そのため、Ａ液を水で希釈した後、Ａ液とＢ液を水で希釈する場合、Ａ液とＢ液の希釈水に残留したＡ液が、又は逆に、Ａ液とＢ液を水で希釈した後、Ａ液を水で希釈する場合に、Ａ液の希釈水に残留したＡ液とＢ液の混合液が、混入するのを防ぎ、正確なＡ液の希釈水、Ａ液とＢ液の希釈水を得ることができる。
【００２８】
なお、上述した実施例において、載置部５に補助載置台５１を置き、この補  助載置台５１に第２の容器６２を置いて第２の容器６２の注入口を排出口１０ｄに近づくようにしたが（図１及び図２参照）、本願発明にあってはこれに限らず、例えば、図７及び図８に示すように、Ａ液又はＡ液とＢ液を希釈する希釈液を入れる容器６を置く載置部５が本体１００に形成され、載置部５は排出口１０ｄの下方に位置している  。
本体１００の側壁には、水平方向に張り出す張り出し部５２が形成され、第１の容器６１に希釈液を排出口１０ｄより排出して入れる場合、図８に示すように  、張り出し部５２の内方に第１の容器６１が位置して、載置部５に第１の容器６１を置くことができるようになっている。
また、第２の容器６２に希釈液を排出口１０ｄより排出して入れる場合、図  ７に示すように、張り出し部５２に第２の容器６２を置いて第２の容器６２の注入口を排出口１０ｄに近づくようにしている。本実施例においては、上述した実施例と異なり、補助載置台５１を出し入れすることなく、張り出し部５２に第２の容器６２を置いて第２の容器６２の注入口を排出口１０ｄに近づくようにするため、背の低い第２の容器６２より液体が飛散するのを防ぐことができる。
【００２９】
また、上述した実施例において、出口共用部１０は、少なくとも、Ａ液供給  口１０ａとＢ液供給口１０ｂと水供給口１０ｃと排出口１０ｄとを備え、液体の流れにおいて、水供給口１０ｃは、Ａ液供給口１０ａ及びＢ液供給口１０ｂより上流側に位置するようにしたが（特に、図６参照）、Ｂ液供給口１０ｂは、必ずしも、必要ではない、かかる場合、出口共用部１０は、少なくとも、Ａ液供給口１０ａと水供給口１０ｃと排出口１０ｄとを備え、液体の流れにおいて、水供給口１０ｃは、Ａ液供給口１０ａより上流側に位置するようにすれば良く、制御手段２００は、Ａ液を水で希釈する場合、排出口１０ｄよりの最後の排出が水になるようにＡ液用ポンプ３３及び水用ポンプ２３を制御する。そのため、Ａ液を水で希釈する場合、排出口１０ｄよりの最後の排出が水になるようにして、Ａ液を水で希釈すると共に、出口共用部１０を水で洗浄するため  、Ａ液を水で希釈した後、Ａ液を水で希釈する場合、Ａ液の希釈水に残留したＡ液が、混入するのを防ぎ、正確なＡ液の希釈水を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１は、本発明の一実施例の希釈装置を開いて示す概略的斜視図である。
【図２】図２は、図１の希釈装置の使用状態の概略的断面図である。
【図３】図３は、図１の希釈装置の内部構成を示す概略的内部構成図である。
【図４】図４は、図３を背面側から見た概略的断面図である。
【図５】図５は、図１の希釈装置に背が高い容器に希釈液を入れる状態を示す概略的斜視図である。
【図６】図６は、図１の希釈装置の希釈状態を構成的に説明するための概略的説明図である。
【図７】図７は、図１の希釈装置と異なる他の実施例の希釈装置の概略的斜視図である  。
【図８】図８は、図７の希釈装置に背が高い容器に希釈液を入れる状態を示す概略的斜視図である。
【符号の説明】
【００３１】
１       希釈装置
１０     出口共用部
１０ａ   Ａ液供給口
１０ｂ   Ｂ液供給口
１０ｃ   水供給口
１０ｄ   排出口
２２     水供給通路
２３     水用ポンプ
３２     Ａ液供給通路
３３     Ａ液用ポンプ
４２     Ｂ液供給通路
４３     Ｂ液用ポンプ
２００   制御手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2006014975.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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