(57)【要約】【課題】  液体を乾燥することによって形成するパターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供する。【解決手段】    ビームスポットＢｓの反Ｙ矢印方向に、Ｙ矢印方向の幅が、積算照射時間で約５０μ秒に相対する幅になるように成形され、その照射強度が、中心位置近傍で、鋭いピークを有するブロースポットＢｓ１を成形するようにした。そして、着色層領域２３に着弾した液滴ＦＤが、Ｙ矢印方向に沿って搬送速度Ｖｙ（２００ｍｍ／秒）で搬送されて、ブロースポットＢｓ１に侵入すると、液滴ＦＤのＸ矢印方向の中央位置近傍に、約５０μ秒間で、その照射強度を急激に増加して下降させるレーザビームＢが照射されるようにした。【選択図】      図６
2006276509.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン形成材料を含む液滴を、被吐出面のパターン形成領域に吐出する液滴吐出手段を備えた液滴吐出装置において、
前記被吐出面に着弾した液滴の少なくとも一部に、第１の強度からなるエネルギービームを照射し、前記エネルギービームの照射した領域から前記液滴を流動させて、前記液滴を前記パターン形成領域内に濡れ広げるエネルギービーム照射手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギービーム照射手段は、前記液滴を濡れ広げる方向に、前記エネルギービームを走査することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項３】
請求項１に記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギービーム照射手段は、前記液滴を濡れ広げる方向に沿って、前記エネルギービームを照射することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギービームは、光であることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギービームは、コヒーレント光であることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギービーム照射手段は、着弾した前記液滴の領域に、前記第１の強度よりも強い第２の強度からなるエネルギービームを照射して、前記液滴を乾燥させることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項７】
請求項６に記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギービーム照射手段は、着弾した前記液滴の領域に、前記第２の強度よりも強い第３の強度からなるエネルギービームを照射して、前記液滴を焼成させることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
着弾した前記液滴の領域に、相対的に、静止したビームスポットのエネルギービームを照射可能にするエネルギービーム走査手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
前記エネルギービーム照射手段は、前記パターン形成領域に着弾した液滴の濡れ広がりを抑制する位置に、さらにエネルギービームを照射することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１０】
被吐出面に吐出されたパターン形成材料を含む液体を乾燥することによってパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、
前記液体の少なくとも一部に、第１の強度からなるエネルギービームを照射し、前記エネルギービームの照射した領域から、前記液体を流動させるようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載のパターン形成方法において、
前記液体を乾燥する前に、前記第１の強度からなるエネルギービームを照射するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載のパターン形成方法において、
前記液体に第１の強度のエネルギービームを照射し、前記液体を流動させた後に、前記第１の強度よりも強い第２の強度のエネルギービームを照射して前記液体を乾燥するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１３】
基板の着色層領域に着色層形成材料を含む液滴を吐出し、前記着色層領域に着弾した液滴を乾燥することによって着色層を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
前記着色層を、請求項１０〜１２のいずれか１つに記載のパターン形成方法によって形成するようにしたこと特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１４】
基板の発光素子形成領域に発光素子形成材料を含む液滴を吐出し、前記発光素子形成領域内に着弾した液滴を乾燥することによって発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
前記発光素子を、請求項１０〜１２のいずれか１つに記載のパターン形成方法によって形成するようにしたこと特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１３又は１４に記載の電気光学装置の製造方法によって製造した電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置等に備えられるカラーフィルタの製造工程には、各色の着色層形成材料を含む液体を、隔壁で囲まれた画素形成領域に吐出し、吐出した液体を乾燥することによって着色層を形成する、いわゆる液相プロセスが利用されている。
【０００３】
その液相プロセスにおけるインクジェット法は、前記液体を微小液滴として画素形成領域に吐出し、その微小液滴を乾燥することによって着色層を形成している（例えば、特許文献１）。そのため、インクジェット法は、使用する液体の容量を他の液相プロセス（例えば、スピンコート法やディスペンサ法）に比べて低減することができ、しかも、着色層の形成位置を、より高い精度で制御できる。
【特許文献１】特開２００２−１８９１２０  号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、インクジェット法では、吐出した微小液滴の表面張力や画素形成領域の表面状態等に応じて、吐出した微小液滴が、画素形成領域全体に濡れ広がらず、濡れ残した部位に着色層を形成できない問題があった。
【０００５】
こうした問題は、画素形成領域内に表面処理（例えば、微小液滴を親液する親液処理）を施す、あるいは微小液滴の材料を変更してその表面張力を小さくすることによって回避可能と考えられるが、いずれも画素形成領域全体にわたり液滴を濡れ広がらせるためには十分ではなかった。
【０００６】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、液体を乾燥することによって形成するパターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液滴吐出装置は、パターン形成材料を含む液滴を、被吐出面のパターン形成領域に吐出する液滴吐出手段を備えた液滴吐出装置において、前記被吐出面に着弾した液滴の少なくとも一部に、第１の強度からなるエネルギービームを照射し、前記エネルギービームの照射した領域から前記液滴を流動させて、前記液滴を前記パターン形成領域内に濡れ広げるエネルギービーム照射手段を備えた。
【０００８】
本発明の液滴吐出装置によれば、エネルギービーム照射手段の照射するエネルギービームによって、液滴を、エネルギービームの照射した領域から流動させることができる。その結果、着弾した液滴の形状を制御することができ、パターンの形状制御性を向上することができる。
【０００９】
この液滴吐出装置において、前記エネルギービーム照射手段は、前記液滴を濡れ広げる方向に、前記エネルギービームを走査するようにしてもよい。
この液滴吐出装置によれば、エネルギービームを走査する分だけ、液滴の濡れ広がる量
を拡大することができる。その結果、着弾した液滴の形状の制御範囲を、より拡大することができる。
【００１０】
この液滴吐出装置において、前記エネルギービーム照射手段は、前記液滴を濡れ広げる方向に沿って、前記エネルギービームを照射するようにしてもよい。
この液滴吐出装置によれば、エネルギービームの照射方向を、液滴を濡れ広げる方向に対応させることができ、エネルギービームのエネルギーを、液滴を流動させるための並進エネルギー等に、より効率良く変換することできる。
【００１１】
この液滴吐出装置において、前記エネルギービームは、光であってもよい。
この液滴吐出装置によれば、エネルギービームを光で構成することにより、液滴の構成材料（例えば、溶媒や分散媒等）の選択範囲を拡大することができる。
【００１２】
この液滴吐出装置において、前記エネルギービームは、コヒーレント光であってもよい。
この液滴吐出装置によれば、エネルギービームをコヒーレント光で構成することにより、所望のビーム形状を、より高い精度で成形することができ、液滴の形状制御性、ひいてはパターンの形状制御性を、さらに向上することができる。
【００１３】
この液滴吐出装置において、前記エネルギービーム照射手段は、着弾した前記液滴の領域に、前記第１の強度よりも強い第２の強度からなるエネルギービームを照射して、前記液滴を乾燥させるようにしてもよい。
【００１４】
この液滴吐出装置によれば、液滴を所望の形状に形成した後に、その液滴を乾燥させることができる。従って、パターンの形状制御性を、より確実に向上することができる。
この液滴吐出装置において、前記エネルギービーム照射手段は、着弾した前記液滴の領域に、前記第２の強度よりも強い第３の強度からなるエネルギービームを照射して、前記液滴を焼成させるようにしてもよい。
【００１５】
この液滴吐出装置によれば、液滴を所望の形状で乾燥した後に、その液滴を焼成させることができる。従って、パターンの形状制御性を、より確実に向上することができる。
この液滴吐出装置において、着弾した前記液滴の領域に、相対的に、静止したビームスポットのエネルギービームを照射可能にするエネルギービーム走査手段を備えるようにしてもよい。
【００１６】
この液滴吐出装置によれば、被吐出面が搬送される場合等、移動する液滴に対して、相対的に、静止したビームスポットのエネルギービームを照射することができ、その照射位置を維持することができる。また、ビームスポットの形状や強度を所定の時間で変更する場合等、液滴の移動速度や移動量等に制約されることなく、エネルギービームの照射条件を変更することができ、パターンの形状制御性を、さらに向上することができる。
【００１７】
この液滴吐出装置において、前記エネルギービーム照射手段は、前記パターン形成領域に着弾した液滴の濡れ広がりを抑制する位置に、さらにエネルギービームを照射するようにしてもよい。
【００１８】
この液滴吐出装置によれば、第１の強度のエネルギービームによる液滴の過剰な濡れ広がりを抑制することができ、液滴を、より高い精度で所望の形状に制御することができる。
【００１９】
本発明のパターン形成方法は、被吐出面に吐出されたパターン形成材料を含む液体を乾
燥することによってパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、前記液体の少なくとも一部に、第１の強度からなるエネルギービームを照射し、前記エネルギービームの照射した領域から、前記液体を流動させるようにした。
【００２０】
本発明のパターン形成方法によれば、エネルギービームの照射によって、被吐出面の液体の形状を制御することができ、パターンの形状制御性を向上することができる。
このパターン形成方法において、前記液体を乾燥する前に、前記第１の強度からなるエネルギービームを照射するようにしてもよい。
【００２１】
このパターン形成方法によれば、乾燥する前に液体を流動せることができ、乾燥途中でエネルギービームを照射する場合に比べ、より円滑に、パターン形状を制御することができる。
【００２２】
このパターン形成方法において、前記液体に第１の強度のエネルギービームを照射し、前記液体を流動させた後に、前記第１の強度よりも強い第２の強度のエネルギービームを照射して前記液体を乾燥するようにしてもよい。
【００２３】
このパターン形成方法によれば、液体を流動させて所望の液状パターンに形成した後に、その液体を乾燥させることができる。従って、パターンの形状制御性を、より確実に向上することができる。
【００２４】
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板の着色層領域に着色層形成材料を含む液滴を吐出し、前記着色層領域に着弾した液滴を乾燥することによって着色層を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記着色層を、上記するパターン形成方法によって形成するようにした。
【００２５】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、着色層の形状制御性を向上することができる。
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板の発光素子形成領域に発光素子形成材料を含む液滴を吐出し、前記発光素子形成領域内に着弾した液滴を乾燥することによって発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記発光素子を、上記のパターン形成方法によって形成するようにした。
【００２６】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、発光素子の形状制御性を向上することができる。
本発明の電気光学装置は、上記の電気光学装置の製造方法によって製造した。
【００２７】
本発明の電気光学装置によれば、着色層又は発光素子の形状を所望の形状に制御することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した第１実施形態を図１〜図１０に従って説明する。
まず、本発明の電気光学装置としての液晶表示装置について説明する。図１は液晶表示装置の斜視図、図２は液晶表示装置に備えられたカラーフィルタ基板の斜視図、図３はカラーフィルタ基板の要部断面図である。
【００２９】
図１において、液晶表示装置１は、液晶パネル２と、前記液晶パネル２に平面状の光Ｌ１を照明する照明装置３を備えている。
照明装置３は、ＬＥＤ等の光源４と、前記光源４から出射された光を透過して平面状の
光として前記液晶パネル２に照射する導光体５を備えている。一方、液晶パネル２は、前記照明装置３側に備えられたカラーフィルタ基板１０と前記カラーフィルタ基板１０と相対向する素子基板１１を備え、これらカラーフィルタ基板１０と素子基板１１を貼り合せ、その間隙に図示しない液晶分子が封入されることによって形成されている。
【００３０】
素子基板１１は、四角板状の無アルカリガラス基板であって、その照明装置３側（カラーフィルタ基板１０）側の側面（素子形成面１１ａ）には、Ｘ矢印方向に延びる複数の走査線１２が所定の間隔をおいて形成されている。各走査線１２は、それぞれ素子基板１１の一側端に配設される走査線駆動回路１３に電気的に接続されている。走査線駆動回路１３は、図示しない制御回路からの走査制御信号に基づいて、複数の走査線１２の中から所定の走査線１２を所定のタイミングで選択駆動し、その走査線１２に走査信号を出力するようになっている。
【００３１】
また、素子形成面１１ａには、前記走査線１２と直交するＹ矢印方向に延びる複数のデータ線１４が所定の間隔をおいて形成されている。各データ線１４は、それぞれ素子基板１１の一側端に配設されるデータ線駆動回路１５に電気的に接続されている。データ線駆動回路１５は、図示しない外部装置からの表示データに基づいてデータ信号を生成し、そのデータ信号を対応するデータ線１４に所定のタイミングで出力するようになっている。
【００３２】
前記走査線１２と前記データ線１４の交差する位置には、対応する走査線１２及びデータ線１４に接続されて、ｉ行×ｊ列のマトリックス状に配列される複数の画素領域１６が形成されている。各画素領域１６内には、それぞれＴＦＴ等からなる図示しない制御素子とＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極が形成されている。すなわち、本実施形態の液晶表示装置１は、制御素子であるＴＦＴを備えた、いわゆるアクティブマトリックス方式の液晶表示装置である。
【００３３】
尚、前記走査線１２、データ線１４及び画素領域１６の上側には、素子形成面１１ａの全体にわたり、ラビング処理等による配向処理が施され、近傍の液晶分子の配向を設定可能にする図示しない配向膜が形成されている。
【００３４】
図２に示すように、カラーフィルタ基板１０には、無アルカリガラスからなる四角形状のカラーフィルタ基板１０が備えられている。
図３に示すように、カラーフィルタ基板１０の一側面であって前記素子基板１１と相対向する側面（着色層形成面２１ａ）には、遮光層２２ａが形成されている。遮光層２２ａは、クロムやカーボンブラック等の遮光性材料を含有する樹脂によって形成され、前記走査線１２及び前記データ線１４と相対する格子状に形成されている。遮光層２２ａの上側には、撥液層２２ｂが形成されている。撥液層２２ｂは、後述する液滴ＦＤ（図６参照）を撥液する撥液性を有したフッ素系樹脂からなる樹脂層であって、液滴ＦＤ（図６参照）を、後述する着色層領域２３内に収容するためのものである。
【００３５】
そして、これら遮光層２２ａ及び撥液層２２ｂによって、図２に示すように、着色層形成面２１ａの略全面に格子状の隔壁２２が形成され、隔壁２２で囲まれる領域（パターン形成領域としての着色層領域２３）が、前記画素領域１６と対峙するように、ｉ行×ｊ列のマトリックス状に配列される。本実施形態における着色層領域２３は、略正方形に形成され、その１辺の長さ（画素幅ＷＰ）が１００μｍで形成されている。
【００３６】
本実施形態では、最もＹ矢印方向の着色層領域２３から順に、１列目の着色層領域２３、２列目の着色層領域２３、・・・、ｉ列目の着色層領域２３という。
図２及び図３に示すように、着色層領域２３内には、パターンとしての着色層２４が形成されている。詳述すると、着色層２４は、図２における反Ｘ矢印方向側から順に、赤色
着色層２４Ｒ、緑色着色層２４Ｇ、青色着色層２４Ｂの順序で繰り返し形成されている。
【００３７】
詳述すると、着色層２４は、後述する液滴吐出装置３０（図４参照）の吐出ノズルＮ（図５参照）からパターン形成材料としての各色の着色層形成材料を含む微小液滴Ｆｂ（図６参照）を、前記着色層領域２３に吐出させ、着色層形成面２１ａに着弾した微小液滴Ｆｂ（液滴ＦＤ）を乾燥させることによって形成されている。
【００３８】
図３に示すように、各着色層２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂの上側には、素子基板１１の前記画素電極に相対向して所定の共通電位の供給される対向電極２５が形成され、その対向電極２５の上側には、対向電極２５近傍の液晶分子の配向を設定可能にする配向膜２６が形成されている。
【００３９】
そして、前記走査線駆動回路１３が、走査線１２を線順次走査に基づき１本ずつ順次選択すると、画素領域１６の制御素子が順次、選択期間中だけオン状態になる。制御素子がオン状態となると、データ線駆動回路１５から出力されるデータ信号が、データ線１４及び制御素子を介して前記画素電極に出力される。すると、素子基板１１の画素電極とカラーフィルタ基板１０の対向電極２５の電位差に応じて、液晶分子の配向状態が照明装置３の照射する光Ｌ１を変調するように維持される。そして、変調された光が図示しない偏光板を通過するか否かによって、液晶パネル２に、カラーフィルタ基板１０を介した所望するフルカラーの画像が表示される。
【００４０】
次に、前記着色層２４を形成するために使用する液滴吐出装置３０について説明する。図４は、液滴吐出装置３０の構成を示す斜視図である。
図４において、液滴吐出装置３０には、直方体形状に形成される基台３１が備えられている。基台３１は、後述する基板ステージ３３に前記カラーフィルタ基板１０を載置する状態で、その長手方向が、前記Ｙ矢印方向に沿うように形成されている。その基台３１の上面には、Ｙ矢印方向に延びる１対の案内凹溝３２が、Ｙ矢印方向全幅にわたり形成され、前記案内凹溝３２に対応する図示しない直動機構を備えた基板ステージ３３が取付けられている。基板ステージ３３の直動機構は、例えば案内凹溝３２に沿ってＹ矢印方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸がステッピングモータよりなるＹ軸モータＭＹ（図９参照）に連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号がＹ軸モータＭＹに入力されると、Ｙ軸モータＭＹが正転又は逆転して、基板ステージ３３が同ステップ数に相当する分だけ、Ｙ矢印方向に沿って所定の速度（搬送速度Ｖｙ）で往動又は復動する（Ｙ矢印方向に移動する）ようになっている。
【００４１】
本実施形態では、図４に示すように、最も反Ｙ矢印方向に位置する基台３１の配置位置を往動位置とし、最もＹ矢印方向の配置位置（図４に示す２点鎖線）を復動位置という。
基板ステージ３３の上面（載置面３４）には、図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、カラーフィルタ基板１０が、着色層領域２３を上側にして載置面３４に載置されると、カラーフィルタ基板１０が載置面３４に対して位置決めされるようになっている。この状態から基板ステージ３３を搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に往動すると、基板ステージ３３は、各着色層領域２３を、搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に移動させるようになっている。尚、本実施形態における搬送速度Ｖｙは、２００ｍｍ／秒に設定されているが、これに限られるものではない。
【００４２】
基台３１のＸ矢印方向両側には、一対の支持台３５ａ、３５ｂが立設され、その一対の支持台３５ａ、３５ｂには、Ｘ矢印方向に延びる案内部材３６が架設されている。案内部材３６は、その長手方向の幅が基板ステージ３３のＹ矢印方向の幅よりも長く形成され、その一端が支持台３５ａ側に張り出すように配置されている。この支持台３５ａの張り出
した部分の直下には、後述する吐出ヘッドＦＨのノズル形成面４１ａ（図５参照）を払拭して、そのノズル形成面４１ａを洗浄する図示しないメンテナンスユニットが配設されている。
【００４３】
案内部材３６の上側には、収容タンク３７が配設されている。収容タンク３７内には、各色の着色層形成材料（例えば、有機系顔料）を分散媒に分散させた各色の着色層形成液Ｆ（図６参照）が、後述する液滴吐出ヘッドＦＨに導出可能に収容されている。
【００４４】
尚、本実施形態における着色層形成液Ｆは、後述するレーザビームＢの光吸収率が９０％となる液体であって、その分散媒の気化熱が２×１０８Ｊ／ｍ３である液体であるが、これに限られるものではない。
【００４５】
図４に示すように、案内部材３６の下側には、Ｘ矢印方向に延びる上下一対の案内レール３８に対応する図示しない直動機構を備えたキャリッジ３９が取付けられている。キャリッジ３９の直動機構は、例えば案内レール３８に沿ってＹ矢印方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、ステッピングモータよりなるＸ軸モータＭＸ（図８参照）に連結されている。そして、所定のステップ数に相当する駆動信号をＸ軸モータＭＸに入力すると、Ｘ軸モータが正転又は逆転して、キャリッジ３９が同ステップ数に相当する分だけＸ矢印方向に沿って往動又は復動する（Ｘ矢印方向に移動する）ようになっている。
【００４６】
本実施形態では、図４に示すように、最も支持台３５ａ側（反Ｘ矢印方向側）に位置するキャリッジ３９の配置位置を往動位置とし、最も支持台３５ｂ側（Ｘ矢印方向側）に位置する配置位置（図４に示す２点鎖線）を復動位置という。
【００４７】
図４に示すように、そのキャリッジ３９の下側には、各着色層２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂの色に対応する各色用（赤色用、緑色用、青色用）の複数の液滴吐出手段を構成する液滴吐出ヘッド（以下単に、吐出ヘッドＦＨという。）がＸ方向に沿って配設されている。図５は、その吐出ヘッドＦＨの下面（基板ステージ３３側の面）を上方に向けた場合の斜視図を示す。図６は、その吐出ヘッドＦＨの内部構造を説明するための要部断面図である。
【００４８】
図５において、吐出ヘッドＦＨには、その下側にノズルプレート４１が備えられ、そのノズルプレート４１の下面（ノズル形成面４１ａ）には、後述する微小液滴Ｆｂを吐出するための１８０個のノズルＮが、Ｘ矢印方向に一列となって等間隔に貫通形成されている。そのノズルＮの形成ピッチの幅は、前記着色層領域２３の形成ピッチと同じ大きさで形成されて、カラーフィルタ基板１０（着色層領域２３）がＹ矢印方向に沿って往復直線移動するときに、各ノズルＮが、着色層領域２３と対峙するようになっている。各ノズルＮの形成方向は、ノズル形成面４１ａに対して垂直であって、カラーフィルタ基板１０の法線方向（Ｚ矢印方向）に沿って形成されて、吐出する微小液滴Ｆｂ（図６参照）がＺ矢印方向に沿って飛行するようになっている。
【００４９】
図６において、各ノズルＮのＺ矢印方向には、それぞれ圧力室としてのキャビティ４２が形成されている。キャビティ４２は、対応する連通孔４３及び各連通孔４３に共通する供給路４４を介して、前記収容タンク３７に連通し、収容タンク３７内の導出する各色の着色層形成液Ｆが、対応する色用の吐出ヘッドＦＨのキャビティ４２に導入されるようになっている。そして、キャビティ４２は、導入された着色層形成液Ｆを、それぞれ対応するノズルＮに供給するようになっている。
【００５０】
キャビティ４２のＺ矢印方向には、振動板４５が備えられている。振動板４５は、例えば、厚さが約２μｍからなるポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）フィルムであって、
Ｚ矢印方向及び反Ｚ矢印方向に振動可能に貼り付けられ、キャビティ４２内の容積を拡大・縮小するようになっている。振動板４５のＺ矢印方向には、各ノズルＮに対応する１８０個の圧電素子ＰＺが配設されている。圧電素子ＰＺは、その圧電素子ＰＺを駆動制御するための信号（圧電素子駆動信号ＣＯＭ１：図９参照）を受けて収縮・伸張し、前記振動板４５を、Ｚ矢印方向及び反Ｚ矢印方向に振動させるようになっている。
【００５１】
そして、圧電素子ＰＺが収縮・伸張すると、キャビティ４２内の容積が拡大・縮小し、縮小した容積に対応する着色層形成液Ｆが、ノズルＮから微小液滴Ｆｂとして吐出される。吐出された微小液滴Ｆｂは、着色層形成面２１ａであって、ノズルＮの直下に着弾する。尚、本実施形態における圧電素子ＰＺは、前記圧電素子駆動信号ＣＯＭを受けて、図６に示すように、１回の吐出動作によって、７０μ秒以内に５滴の微小液滴Ｆｂを連結させるように吐出し、総容量が５０ｐｌの液滴ＦＤを吐出するように構成されているが、これに限られるものではない。
【００５２】
本実施形態では、各着色層領域２３内であって、液滴ＦＤの着弾する位置を、目標吐出位置Ｐａという。尚、本実施形態では、図６に示すように、前記目標吐出位置Ｐａが、各着色層領域２３の中心位置２３ｃからＹ矢印方向側に、所定の距離（調整距離Ｌｙ１）だけ偏倚する位置に設定されている。これによって、各着色層領域２３のＹ矢印方向側で、前記液滴ＦＤの濡れ広がらない領域（濡れ残し領域Ｓｒ）の形成を回避し、各着色層領域２３の反Ｙ矢印方向側で、所定の幅（濡れ残し幅Ｗｄ）の濡れ残し領域Ｓｒが形成されるようになっている。
【００５３】
図４において、キャリッジ３９の下側であって、前記吐出ヘッドＦＨのＹ矢印方向側には、エネルギービーム照射手段を構成するレーザヘッドＬＨが併設されている。
図５及び図６に示すように、レーザヘッドＬＨの下面であって、各ノズルＮのＸ矢印方向には、各ノズルＮに対応する１８０個の出射口４７が形成されている。
【００５４】
図６に示すように、レーザヘッドＬＨの内部には、前記出射口４７に対応する半導体レーザアレイＬＤが備えられている。半導体レーザアレイＬＤは、その半導体レーザアレイＬＤを駆動制御するための信号（レーザ駆動信号ＣＯＭ２：図９参照）を受けて、レーザビームＢを出力するようになっている。尚、本実施形態におけるレーザビームＢは、前記液滴ＦＤの分散媒を蒸発可能にする波長領域、あるいはその光エネルギーを、前記液滴ＦＤを構成する分子の並進運動に変換可能な波長領域であって、コヒーレント光としてのレーザビームＢを出力するようになっている。
【００５５】
レーザヘッドＬＨの内部であって、前記半導体レーザアレイＬＤの出射口４７側には、回折素子４８が備えられている。回折素子４８は、機械的あるいは電気的に駆動し、その回折素子４８を駆動制御するための信号（スポット成形信号ＳＢ１：図９参照）を受けて、半導体レーザアレイＬＤからのレーザビームＢに、予め設定された所定の位相変調を施すようになっている。
【００５６】
そして、半導体レーザアレイＬＤ及び回折素子４８に、それぞれレーザ駆動信号ＣＯＭ２及びスポット成形信号ＳＢ１が供給されると、半導体レーザアレイＬＤからのレーザビームＢに、回折素子４８による所定の位相変調が施され、着色層形成面２１ａ上に、所定のレーザビーム断面（ビームスポットＢｓ）を形成する。
【００５７】
そして、目標吐出位置Ｐａに着弾した液滴ＦＤが、搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に搬送されて、前記ビームスポットＢｓ内に侵入すると、レーザヘッドＬＨは、液滴ＦＤの搬送速度Ｖｙに反比例した照射時間で、前記ビームスポットのレーザビームＢを、対応する液滴ＦＤに照射する。
【００５８】
本実施形態では、図６に示すように、前記ビームスポットＢｓの反Ｙ矢印方向側（目標吐出位置Ｐａ側）の端部と、前記目標吐出位置Ｐａに位置する着色層領域２３のＹ矢印方向側の端部との間の距離を照射待機距離Ｌｙ２とし、目標吐出位置Ｐａに着弾した液滴ＦＤを、この照射待機距離Ｌｙ２だけ搬送するために要する時間を待機時間Ｔとする。
【００５９】
次に、本実施形態における前記ビームスポットＢｓの形状とその強度分布について以下に説明する。図７（ａ）及び図７（ｂ）は、前記ビームスポットＢｓの強度分布を説明する説明図である。尚、図７（ｂ）において、横軸は、前記ビームスポットＢｓの反Ｙ矢印方向側を基準としたＹ矢印方向に沿う位置（スポット位置）と、前記液滴ＦＤがビームスポットＢｓ内に侵入してから経過する時間（積算照射時間）である。縦軸は、レーザビームＢの強度（照射強度Ｉｅ）である。図８（ａ）〜図８（ｃ）は、ビームスポットＢｓと着色層領域２３（液滴ＦＤ）の相対位置を説明する説明図である。
【００６０】
図７（ａ）に示すように、ビームスポットＢｓは、その反Ｙ矢印方向に成形されたブロースポットＢｓ１と、前記ブロースポットＢｓ１のＹ矢印方向に成形された乾燥スポットＢｓ２を有し、これらブロースポットＢｓ１及び乾燥スポットＢｓ２が、Ｙ矢印方向に連結されて、そのＹ矢印方向の幅（走査幅ＷｙＡ）が前記画素幅ＷＰと略同じ幅になるように成形されている。
【００６１】
ブロースポットＢｓ１は、Ｘ矢印方向に長い半楕円形のスポットであって、そのＸ矢印方向の幅（ブロースポット幅Ｗｘ１）が、前記画素幅ＷＰよりも小さい幅になるように成形されている。図７（ｂ）に示すように、ブロースポットＢｓ１は、そのＹ矢印方向の幅が、積算照射時間で約５０μ秒に相対する幅になるように成形され、その照射強度Ｉｅが、中心位置近傍で、鋭いピークを有するように成形されている。
【００６２】
尚、本実施形態では、ブロースポットＢｓ１の照射強度Ｉｅの最高値（第１の強度）を２０ｍＷに設定しているが、これに限られるものではない。
そして、図８（ａ）に示すように、着色層領域２３に着弾した液滴ＦＤが、Ｙ矢印方向に沿って搬送速度Ｖｙ（２００ｍｍ／秒）で搬送されて、ブロースポットＢｓ１（図８（ａ）に示す破線）に侵入する。すると、液滴ＦＤのＹ矢印方向側には、そのＸ矢印方向の中央位置近傍に、約５０μ秒間で、その照射強度Ｉｅを急激に増加して下降させるレーザビームＢが照射される。そして、液滴ＦＤが、Ｙ矢印方向に搬送され続けると、液滴ＦＤには、約５０μ秒間で、その照射強度Ｉｅを急激に増加して下降させるレーザビームＢが、相対的に、反Ｙ矢印方向に沿って走査される。
【００６３】
この際、液滴ＦＤには、ブロースポットＢｓ１のレーザビームＢの照射によって、局所的に高い光エネルギーが、短時間（本実施形態では約５０μ秒）で供給される。これによって、レーザビームＢからの光エネルギーは、液滴ＦＤの局部（ブロースポットＢｓ１の領域）でのみ、分子の励起エネルギーとして変換され、分散媒等の振動エネルギーや、レーザビームＢ（フォトン）の入射方向に沿う分散媒等の並進運動エネルギーに変換される。すなわち、レーザビームＢからの光エネルギーによって、ブロースポットＢｓ１の近傍では、分散媒が局所的に蒸発し、液滴ＦＤがレーザビームＢの入射方向に移動する。
【００６４】
そのため、ブロースポットＢｓ１近傍の液滴ＦＤは、蒸発する分散媒からの反作用や前記並進運動エネルギーによって、ブロースポットＢｓ１を中心とした径方向外側（図８（ａ）に示す矢印方向）に流動する。すなわち、ブロースポットＢｓ１近傍の液滴ＦＤは、前記濡れ残し領域Ｓｒのサイズを縮小する方向に流動する。
【００６５】
やがて、図８（ｂ）に示すように、液滴ＦＤがブロースポットＢｓ１に対して相対移動
し、ブロースポットＢｓ１のレーザビームＢが、反Ｙ矢印方向側に向かって走査されると、反矢印方向に流動する液滴ＦＤによって、濡れ残し領域Ｓｒ全体に液滴ＦＤが濡れ広がる、すなわち着色層領域２３の全体に液滴ＦＤが濡れ広がる。
【００６６】
尚、このブロースポットＢｓ１の照射時間や照射強度Ｉｅは、上記する着色層形成液Ｆの光吸収率や分散媒の気化熱に基づいて適宜変更するのが好ましい。
図７（ａ）に示すように、乾燥スポットＢｓ２は、前記ブロースポットＢｓ１よりも大きいサイズで、Ｙ矢印方向に長い小判状のスポットに成形され、そのＸ矢印方向の幅（乾燥スポット幅Ｗｘ２）が、前記画素幅ＷＰと略同じ幅になるように成形されている。図７（ｂ）に示すように、乾燥スポットＢｓ２は、そのＹ矢印方向の幅が、積算照射時間で約４００μ秒に相対する幅になるように成形され、その照射強度Ｉｅが、Ｙ矢印方向に向かって、緩やかに上昇するように成形されている。
【００６７】
尚、本実施形態では、乾燥スポットＢｓ２の照射強度Ｉｅの平均値（第２の強度）を２５ｍＷに設定しているが、これに限られるものではない。
そして、図８（ｂ）に示すように、前記ブロースポットＢｓ１を通過した液滴ＦＤが、Ｙ矢印方向に搬送されて、乾燥スポットＢｓ２に侵入すると、液滴ＦＤには、そのＸ矢印方向略全幅にわたって、約４００μ秒間で、その照射強度Ｉｅを緩やかに上昇させるレーザビームＢが照射される。そして、液滴ＦＤが、Ｙ矢印方向に搬送され続けると、液滴ＦＤのＸ矢印方向略全幅には、約４００μ秒間で、その照射強度Ｉｅを緩やかに上昇させるレーザビームＢが、相対的に、反Ｙ矢印方向に沿って走査される。
【００６８】
この際、液滴ＦＤには、乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢの照射によって、液滴ＦＤの広い範囲に、緩やかに上昇する光エネルギーが、長時間にわたり供給される。これによって、レーザビームＢからの光エネルギーは、液滴ＦＤの広い範囲で、分子の励起エネルギーとして変換され、分散媒の振動や、ランダムな並進運動等に変換される。すなわち、レーザビームＢからの光エネルギーは、液滴ＦＤの広い範囲で、分散媒の蒸発に変換される。
【００６９】
やがて、図８（ｃ）に示すように、液滴ＦＤが乾燥スポットＢｓ２に対して相対移動し、乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢが、反Ｙ矢印方向側に向かって走査されると、着色層領域２３全体にわたる液滴ＦＤの分散媒が蒸発し、液滴ＦＤが乾燥される。
【００７０】
従って、乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢは、着色層領域２３の全体に広がる状態で液滴ＦＤを乾燥し、着色層領域２３と整合した着色層２４を形成する。
尚、本実施形態では、前記画素幅ＷＰ、前記ブロースポット幅Ｗｘ１、乾燥スポット幅Ｗｘ２及び走査幅ＷｙＢを、それぞれ１００μｍ、６０μｍ、９０μｍ及び９０μｍに設定しているが、これに限られるものではない。また、本実施形態のレーザヘッドＬＨは、回折素子４８によって、ブロースポットＢｓ１及び乾燥スポットＢｓ２を成形するようにしたが、これに限らず、例えばマスクや回折格子等からなる光学系によって、ブロースポットＢｓ１あるいは乾燥スポットＢｓ２を成形する構成にしてもよい。
【００７１】
次に、上記のように構成した液滴吐出装置３０の電気的構成を図９に従って説明する。
図９において、制御装置５０には、ＣＰＵ等からなる制御部５１、ＤＲＡＭ及びＳＲＡＭからなり各種データを格納するＲＡＭ５２、各種制御プログラムを格納するＲＯＭ５３が備えられている。また、制御装置５０には、前記圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を生成する駆動信号生成回路５４、前記レーザ駆動信号ＣＯＭ２を生成する電源回路５５、各種信号を同期するためのクロック信号ＣＬＫを生成する発振回路５６等が備えられている。そして、制御装置５０には、これら制御部５１、ＲＡＭ５２、ＲＯＭ５３、駆動信号生成回路５４、電源回路５５、発振回路５６が、図示しないバスを介して接続されている。
【００７２】
制御装置５０には、入力装置６１が接続されている。入力装置６１は、起動スイッチ、停止スイッチ等の操作スイッチを有し、各スイッチの操作による操作信号を制御装置５０（制御部５１）に出力する。また、入力装置６１は、カラーフィルタ基板１０に形成する着色層２４の情報を描画データＩａとして制御装置５０に出力する。制御装置５０は、入力装置６１からの描画データＩａと、ＲＯＭ５３等に格納された制御プログラム（例えば、カラーフィルタ製造プログラム）に従って、基板ステージ３３を移動させてカラーフィルタ基板１０の搬送処理動作を行い、吐出ヘッドＦＨの各圧電素子ＰＺを駆動させて液滴吐出処理動作を行う。また、制御装置５０は、カラーフィルタ製造プログラムに従って、半導体レーザアレイＬＤを駆動させて液滴ＦＤを乾燥させる乾燥処理動作を行う。
【００７３】
詳述すると、制御部５１は、入力装置６１からの描画データＩａに所定の展開処理を施し、二次元描画平面（着色層形成面２１ａ）上における位置に、液滴ＦＤを吐出するか否かを示すビットマップデータＢＭＤを生成し、生成したビットマップデータＢＭＤをＲＡＭに格納するようになっている。このビットマップデータＢＭＤは、各ビットの値（０あるいは１）に応じて、前記圧電素子ＰＺのオンあるいはオフ（液滴ＦＤを吐出するか否か）を規定するものである。
【００７４】
また、制御部５１は、入力装置６１からの描画データＩａに前記ビットマップデータＢＭＤの展開処理と異なる展開処理を施し、描画条件に応じた圧電素子駆動信号ＣＯＭ１の波形データを生成して駆動信号生成回路５４に出力するようになっている。駆動信号生成回路５４は、制御部５１からの波形データを図示しない波形メモリに格納する。そして、駆動信号生成回路５４は、格納した波形データをデジタル／アナログ変換して、アナログ信号の波形信号を増幅することにより、対応する圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を生成するようになっている。
【００７５】
そして、制御部５１は、前記ビットマップデータＢＭＤを、発振回路５６の生成するクロック信号ＣＬＫに同期させて、各スキャン（基板ステージ２３の１回の往動もしくは復動分）毎のデータを、吐出制御データＳＩとして、後述する吐出ヘッド駆動回路６７（シフトレジスタ６７ａ）に逐次シリアル転送する。そして、制御部５１は、シリアル転送した１スキャン分の吐出制御データＳＩをラッチするためのラッチ信号ＬＡＴを出力する。
【００７６】
また、制御部５１は、前記圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を、発振回路５６の生成するクロック信号ＣＬＫに同期させて、後述する吐出ヘッド駆動回路６７（スイッチ回路６７ｄ）に出力する。また、制御部５１は、圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を選択するための選択信号ＳＥＬを、吐出ヘッド駆動回路６７（スイッチ回路６７ｄ）に出力し、選択信号ＳＥＬに対応する圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を、各圧電素子ＰＺに印加させるように構成されている。
【００７７】
図９に示すように、制御装置５０には、Ｘ軸モータ駆動回路６２が接続され、Ｘ軸モータ駆動回路６２にＸ軸モータ駆動制御信号を出力するようになっている。Ｘ軸モータ駆動回路６２は、制御装置５０からのＸ軸モータ駆動制御信号に応答して、前記キャリッジ３９を往復移動させるＸ軸モータＭＸを正転又は逆転させるようになっている。そして、例えば、Ｘ軸モータＭＸを正転させると、キャリッジ３９はＸ矢印方向に移動し、逆転させると、キャリッジ３９は反Ｘ矢印方向に移動するようになっている。
【００７８】
制御装置５０には、Ｙ軸モータ駆動回路６３が接続され、Ｙ軸モータ駆動回路６３にＹ軸モータ駆動制御信号を出力するようになっている。Ｙ軸モータ駆動回路６３は、制御装置５０からのＹ軸モータ駆動制御信号に応答して、前記基板ステージ３３を往復移動させるＹ軸モータＭＹを正転又は逆転させるようになっている。例えば、Ｙ軸モータＭＹを正
転させると、基板ステージ３３はＹ矢印方向に移動し、逆転させると、基板ステージ３３は反Ｙ矢印方向に移動する。
【００７９】
制御装置５０には、基板検出装置６４が接続されている。基板検出装置６４は、カラーフィルタ基板１０の端縁を検出し、制御装置５０によって吐出ヘッドＦＨ（ノズルＮ）の直下を通過するカラーフィルタ基板１０（着色層領域２３）の位置を算出する際に利用される。
【００８０】
制御装置５０には、Ｘ軸モータ回転検出器６５が接続され、Ｘ軸モータ回転検出器６５からの検出信号が入力される。制御装置５０は、Ｘ軸モータ回転検出器６５からの検出信号に基づいて、Ｘ軸モータＭＸの回転方向及び回転量を検出し、キャリッジ３９のＸ矢印方向の移動量と、移動方向とを演算するようになっている。
【００８１】
制御装置５０には、Ｙ軸モータ回転検出器６６が接続され、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号が入力される。制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、Ｙ軸モータＭＹの回転方向及び回転量を検出し、基板ステージ３３のＹ矢印方向の移動方向及び移動量を演算する。
【００８２】
制御装置５０には、吐出ヘッド駆動回路６７及びレーザヘッド駆動回路６８が接続されている。
吐出ヘッド駆動回路６７には、シフトレジスタ６７ａ、ラッチ回路６７ｂ、レベルシフタ６７ｃ及びスイッチ回路６７ｄが備えられている。シフトレジスタ６７ａは、クロック信号ＣＬＫに同期した制御装置５０からの吐出制御データＳＩを、各圧電素子ＰＺに対応させたシリアル／パラレル変換を行う。ラッチ回路６７ｂは、シフトレジスタ６７ａのパラレル変換した吐出制御データＳＩを、制御装置５０からのラッチ信号ＬＡＴに同期してラッチし、ラッチした吐出制御データＳＩを、レベルシフタ６７ｃと後述するレーザヘッド駆動回路６８の遅延回路６８ａに、クロック信号ＣＬＫに同期した所定の周期で、順次出力する。レベルシフタ６７ｃは、ラッチ回路６７ｂのラッチした吐出制御データＳＩを、スイッチ回路６７ｄの駆動する電圧まで昇圧して、各圧電素子ＰＺに対応する第１開閉信号ＧＳ１を生成する。
【００８３】
スイッチ回路６７ｄには、各圧電素子ＰＺに対応する図示しないスイッチ素子が備えられている。各スイッチ素子の入力側には、前記選択信号ＳＥＬに対応した圧電素子駆動信号ＣＯＭ１が入力され、出力側には、それぞれ対応する圧電素子ＰＺが接続されている。そして、スイッチ回路６７ｄの各スイッチ素子には、レベルシフタ６７ｃからの対応する第１開閉信号ＧＳ１がそれぞれ入力され、各第１開閉信号ＧＳ１に応じて、圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を、対応する圧電素子ＰＺに供給するか否かを制御するようになっている。
【００８４】
すなわち、本実施形態の液滴吐出装置３０は、駆動信号生成回路５４の生成した圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を、対応する各圧電素子ＰＺに印加するとともに、その圧電素子駆動信号ＣＯＭ１の印加を、制御装置５０からの吐出制御データＳＩ（第１開閉信号ＧＳ１）で制御するようになっている。そして、吐出制御データＳＩに基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応する圧電素子ＰＺに、圧電素子駆動信号ＣＯＭ１が印加されると、その圧電素子ＰＺに対応するノズルＮから液滴ＦＤが吐出される。
【００８５】
図１０は、上記するラッチ信号ＬＡＴ、吐出制御データＳＩ及び第１開閉信号ＧＳ１のパルス波形を示すタイミングチャートである。
図１０に示すように、吐出ヘッド駆動回路６７に入力されるラッチ信号ＬＡＴが立ち下がると、ラッチした吐出制御データＳＩに基づいて第１開閉信号ＧＳ１が生成され、第１開閉信号ＧＳ１が立ち上がった時に、対応する圧電素子ＰＺに圧電素子駆動信号ＣＯＭ１
が供給される。そして、圧電素子駆動信号ＣＯＭ１に基づいた圧電素子ＰＺの伸縮動によって、対応するノズルＮから、液滴ＦＤが吐出される。吐出された液滴ＦＤは、対応する着色層領域２３の目標吐出位置Ｐａに着弾して、その着色層領域２３の反Ｙ矢印方向側に、濡れ残し幅Ｗｄからなる濡れ残し領域Ｓｒを形成する。そして、第１開閉信号ＧＳ１が立ち下がると、圧電素子ＰＺの駆動による液滴ＦＤの吐出動作が終了する。
【００８６】
レーザヘッド駆動回路６８には、遅延回路６８ａ、回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃが備えられている。
遅延回路６８ａは、ラッチ回路６７ｂのラッチした吐出制御データＳＩを、それぞれ前記待機時間Ｔだけ遅延させた所定の時間幅のパルス信号（第２開閉信号ＧＳ２）を生成し、その第２開閉信号ＧＳ２を、回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力する。
【００８７】
回折素子駆動回路６８ｂは、遅延回路６８ａからの第２開閉信号ＧＳ２を受けて、スポット成形信号ＳＢ１を、対応する回折素子４８に出力するようになっている。そして、回折素子４８は、スポット成形信号ＳＢ１を受けて、前記ブロースポットＢｓ１及び前記乾燥スポットＢｓ２を成形するための各回折素子４８の駆動制御を行うようになっている。
【００８８】
スイッチ回路６８ｃには、各半導体レーザアレイＬＤに対応する図示しないスイッチ素子が備えられている。各スイッチ素子の入力側には、電源回路５５の生成したレーザ駆動信号ＣＯＭ２が入力され、出力側には、対応する各半導体レーザアレイＬＤが接続されている。そして、スイッチ回路６８ｃの各スイッチ素子には、遅延回路６８ａからの対応する第２開閉信号ＧＳ２がそれぞれ入力され、各第２開閉信号ＧＳ２に応じて、レーザ駆動信号ＣＯＭ２を対応する半導体レーザアレイＬＤに供給するか否かを制御するようになっている。
【００８９】
すなわち、本実施形態の液滴吐出装置３０は、電源回路５５の生成したレーザ駆動信号ＣＯＭ２を、対応する各半導体レーザアレイＬＤに共通に印加するとともに、そのレーザ駆動信号ＣＯＭ２の印加を、制御装置５０（吐出ヘッド駆動回路６７）からの吐出制御データＳＩ（第２開閉信号ＧＳ２）によって制御するようにしている。そして、吐出制御データＳＩに基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応する半導体レーザアレイＬＤに、レーザ駆動信号ＣＯＭ２が供給されると、対応する半導体レーザアレイＬＤからレーザビームＢが出射され、ブロースポットＢｓ１及び乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢが照射される。
【００９０】
そして、図１０に示すように、ラッチ信号ＬＡＴが吐出ヘッド駆動回路６７に入力されてから、待機時間Ｔを経過すると、遅延回路６８ａによって、第２開閉信号ＧＳ２が生成され、その第２開閉信号ＧＳ２が、回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに供給される。そして、第２開閉信号ＧＳ２が立ち上がった時に、回折素子駆動回路６８ｂは、スポット成形信号ＳＢ１を回折素子４８に出力して、スポット成形信号ＳＢ１に基づく駆動制御を行う。これと同時に、第２開閉信号ＧＳ２が立ち上がった時に、スイッチ回路６８ｃは、対応する半導体レーザアレイＬＤにレーザ駆動信号ＣＯＭ２を印加して、半導体レーザアレイＬＤからレーザビームＢを出射させる。
【００９１】
従って、待機時間Ｔを経過すると、ブロースポットＢｓ１と乾燥スポットＢｓ２からなるビームスポットＢｓが成形され、着弾した液滴ＦＤが、そのビームスポットＢｓ内への侵入を開始する。そして、ビームスポットＢｓ内に侵入した液滴ＦＤには、相対的に、ブロースポットＢｓ１と乾燥スポットＢｓ２が、反Ｙ矢印方向に沿って走査される。この走査によって、前記濡れ残し領域Ｓｒの全体に、液滴ＦＤが濡れ広がり、液滴ＦＤが、着色層領域２３の全体に広がる状態で乾燥される。すなわち、着色層領域２３と整合した着色
層２４が形成される。そして第２開閉信号ＧＳ２が立ち下がると、レーザ駆動信号ＣＯＭ２の供給が遮断されて半導体レーザアレイＬＤによる乾燥処理動作が終了する。
【００９２】
次に、液滴吐出装置３０を使ってカラーフィルタ基板１０（着色層２４）を製造する方法について説明する。
まず、図４に示すように、往動位置に位置する基板ステージ３３上に、カラーフィルタ基板１０を配置固定する。このとき、カラーフィルタ基板１０のＹ矢印方向側の辺は、案内部材３６より反Ｘ矢印方向側に配置されている。また、キャリッジ３９（吐出ヘッドＦＨ）は、カラーフィルタ基板１０がＸ矢印方向に移動したとき、各ノズルＮの直下を、対応する着色層領域２３が通過する位置にセットされている。
【００９３】
この状態から、制御装置５０は、Ｙ軸モータＭＹを駆動制御し、基板ステージ３３を介してカラーフィルタ基板１０を搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に搬送させる。やがて、基板検出装置６４がカラーフィルタ基板１０のＹ矢印方向側の端縁を検出すると、制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、１列目の着色層領域２３の目標吐出位置Ｐａが、対応するノズルＮの直下まで搬送されたかどうか演算する。
【００９４】
この間、制御装置５０は、コード作成プログラムに従って、ＲＡＭ５２に格納したビットマップデータＢＭＤに基づく吐出制御データＳＩと、駆動信号生成回路５４で生成した圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を吐出ヘッド駆動回路６７に出力する。また、制御装置５０は、電源回路５５で生成したレーザ駆動信号ＣＯＭ２をレーザヘッド駆動回路６８に出力する。そして、制御部５１は、吐出ヘッド駆動回路６７に、ラッチ信号ＬＡＴを出力するタイミングを待つ。
【００９５】
そして、１列目の着色層領域２３の目標吐出位置Ｐａが、対応するノズルＮの直下まで搬送されると、制御装置５０は、ラッチ信号ＬＡＴを吐出ヘッド駆動回路６７に出力する。吐出ヘッド駆動回路６７は、制御装置５０からのラッチ信号ＬＡＴを受けると、吐出制御データＳＩに基づいて第１開閉信号ＧＳ１を生成し、その第１開閉信号ＧＳ１をスイッチ回路６７ｄに出力する。そして、閉じた状態のスイッチ素子に対応する圧電素子ＰＺに、選択信号ＳＥＬに対応した圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を供給し、対応するノズルＮから、圧電素子駆動信号ＣＯＭ１に相対する液滴ＦＤを一斉に吐出する。吐出された液滴ＦＤは、対応する着色層領域２３内に一斉に着弾し、濡れ残し領域Ｓｒを形成する。
【００９６】
一方、ラッチ信号ＬＡＴが吐出ヘッド駆動回路６７に入力されると、レーザヘッド駆動回路６８（遅延回路６８ａ）は、ラッチ回路６７ｂからの吐出制御データＳＩを受けて第２開閉信号ＧＳ２の生成を開始し、第２開閉信号ＧＳ２を、それぞれ回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力するタイミングを待つ。
【００９７】
そして、圧電素子ＰＺが吐出動作を開始した時から、すなわち吐出ヘッド駆動回路６７が第１開閉信号ＧＳ１を出力した時から、待機時間Ｔだけ経過すると、レーザヘッド駆動回路６８は、第２開閉信号ＧＳ２を、回折素子駆動回路６８ｂ及びスイッチ回路６８ｃに出力する。
【００９８】
すると、回折素子駆動回路６８ｂは、対応する回折素子４８にスポット成形信号ＳＢ１を出力し、そのスポット成形信号ＳＢ１に基づく回折素子４８の駆動制御を行う。また、スイッチ回路６８ｃは、第２開閉信号ＧＳ２に基づいて、閉じた状態のスイッチ素子に対応する半導体レーザアレイＬＤに、レーザ駆動信号ＣＯＭ２を供給し、対応する半導体レーザアレイＬＤから、一斉にレーザビームＢを出射する。
【００９９】
これによって、ブロースポットＢｓ１と乾燥スポットＢｓ２からなるビームスポットＢ
ｓが成形され、着弾した液滴ＦＤが、そのビームスポットＢｓ内への侵入を開始する。そして、ビームスポットＢｓ内に侵入した液滴ＦＤは、ブロースポットＢｓ１と乾燥スポットＢｓ２によって、着色層領域２３の全体に広がる状態で乾燥される。すなわち、着色層領域２３と整合した着色層２４が形成される。
【０１００】
以後、同様に、制御装置５０は、各着色層領域２３の目標吐出位置Ｐａが、対応するノズルＮの直下に位置する状態で、対応するノズルＮから、液滴ＦＤを一斉に吐出し、その待機時間Ｔの後に、着弾した液滴ＦＤに対して、相対的に、ブロースポットＢｓ１と乾燥スポットＢｓ２からなるレーザビームＢの走査を開始する。
【０１０１】
そして、全ての着色層領域２３に対応する各色の着色層２４が形成されると、制御装置５０は、Ｙ軸モータＭＹを制御して、基板ステージ３３（カラーフィルタ基板１０）を往動位置に配置させる。
【０１０２】
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、ビームスポットＢｓの反Ｙ矢印方向に、Ｙ矢印方向の幅が、積算照射時間で約５０μ秒に相対する幅になるように成形され、その照射強度Ｉｅが、中心位置近傍で、鋭いピークを有するブロースポットＢｓ１を成形するようにした。そして、着色層領域２３に着弾した液滴ＦＤが、Ｙ矢印方向に沿って搬送速度Ｖｙ（２００ｍｍ／秒）で搬送されて、ブロースポットＢｓ１に侵入すると、液滴ＦＤのＸ矢印方向の中央位置近傍に、約５０μ秒間で、その照射強度Ｉｅを急激に増加して下降させるレーザビームＢを照射するようにした。
【０１０３】
その結果、ブロースポットＢｓ１近傍の液滴ＦＤを、ブロースポットＢｓ１を中心とした径方向外側に流動させることができる。従って、ブロースポットＢｓ１近傍の液滴ＦＤを流動させる分だけ、濡れ残し領域Ｓｒのサイズを縮小することができる。
【０１０４】
ひいては、ブロースポットＢｓ１のレーザビームＢを照射する分だけ、着色層２４の形状制御性を向上することができる。
（２）上記実施形態によれば、液滴ＦＤをブロースポットＢｓ１に対して相対移動させて、ブロースポットＢｓ１のレーザビームＢが、液滴ＦＤに対して、相対的に、反Ｙ矢印方向側に向かって走査されるようにした。
【０１０５】
その結果、ブロースポットＢｓ１の相対的な走査によって、液滴ＦＤを、さらに反Ｙ矢印方向に流動させることができ、濡れ残し領域Ｓｒ全体に、確実に液滴ＦＤを濡れ広げることができる。従って、着色層領域２３に整合した形状に、液滴ＦＤを濡れ広げることができ、着色層領域２３に整合した形状の着色層２４を形成することができる。
【０１０６】
（３）上記実施形態によれば、前記ブロースポットＢｓ１のＹ矢印方向側に、ブロースポットＢｓ１よりも大きいサイズで、Ｙ矢印方向に長い小判状のスポットを成形し、そのＸ矢印方向の幅が、前記画素幅ＷＰと略同じ幅になる乾燥スポットＢｓ２を成形するようにした。そして、乾燥スポットＢｓ２のＹ矢印方向の幅が、積算照射時間で約４００μ秒に相対する幅になるように成形して、その照射強度Ｉｅが、Ｙ矢印方向に向かって、緩やかに上昇するように成形した。
【０１０７】
その結果、液滴ＦＤに、そのＸ矢印方向略全幅にわたって、約４００μ秒間で、その照射強度Ｉｅを緩やかに上昇するレーザビームＢを照射することができる。すなわち、乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢの照射によって、液滴ＦＤの広い範囲に、緩やかに上昇する光エネルギーを、長時間にわたり供給することができる。
【０１０８】
従って、前記ブロースポットＢｓ１を通過した液滴ＦＤに対して、そのブロースポットＢｓ１を通過した直後に、乾燥を開始することができ、着色層領域２３内に濡れ広がった状態で、乾燥させることができる。
【０１０９】
（４）上記実施形態によれば、液滴ＦＤを乾燥スポットＢｓ２に対して相対移動させて、乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢが、液滴ＦＤに対して、相対的に、反Ｙ矢印方向側に向かって走査するようにした。
【０１１０】
その結果、乾燥スポットＢｓ２の相対的な走査によって、液滴ＦＤの全体に、より均一な乾燥スポットＢｓ２からなるレーザビームＢを照射することができ、着色層領域２３のサイズに整合した状態で、液滴ＦＤを、より均一に乾燥することができる。従って、着色層領域２３に整合した着色層２４を、より確実に形成することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を、図１１〜図１５に従って説明する。尚、第２実施形態では、第１実施形態におけるレーザヘッドＬＨの光学系を変更した構成である。そのため以下では、レーザヘッドＬＨの変更点ついて詳細に説明する。
【０１１１】
図１１において、レーザヘッドＬＨには、第１実施形態に示す半導体レーザアレイＬＤ及び回折素子４８に加え、シリンドリカルレンズ７１、エネルギービーム走査手段を構成するポリゴンミラー７２及び走査レンズ７３が配設されている。
【０１１２】
シリンドリカルレンズ７１は、Ｚ矢印方向にのみ曲率を有するレンズであって、ポリゴンミラー７２の面倒れを補正して、レーザビームＢをポリゴンミラー７２に導入するようになっている。ポリゴンミラー７２は、正三十六角形を構成する位置に配置された３６枚の反射面Ｍを有し、これらの反射面Ｍを、ポリゴンモータ（図１４参照）によって、図１１に示す矢印Ｒ方向に回転させるようになっている。すなわち、本実施形態のポリゴンミラー７２は、その回転角θｐが矢印Ｒ方向に１０°回転する毎に、レーザビームＢの導入される反射面Ｍが、後続する反射面Ｍに切り替わるようになっている。走査レンズ７３は、ポリゴンミラー７２によって反射されたレーザビームＢの着色層形成面２１ａでの走査速度を一定に制御する、いわゆるｆθレンズである。
【０１１３】
本実施形態では、図１１に示すように、シリンドリカルレンズ７１からのレーザビームＢが、ポリゴンミラー７２の反射面Ｍ（反射面Ｍａ）の矢印Ｒ方向側端部に導入される状態であって、反射偏向されたレーザビームＢの偏向角が、走査レンズ７３の光軸７３Ａを基準として、偏向角θ１（本実施形態では５°）だけ偏向されるときを、ポリゴンミラー７２の回転角θｐが０°であるという。
【０１１４】
そして、ポリゴンミラー７２の回転角θｐが０°のときに、回折素子４８で位相変調されたレーザビームＢがシリンドリカルレンズ７１に導入されると、シリンドリカルレンズ７１は、紙面に直交する方向に対するレーザビームＢの光軸を調整して、レーザビームＢをポリゴンミラー７２に導く。レーザビームＢの導入されたポリゴンミラー７２は、反射面Ｍａによって、レーザビームＢを、光軸７３Ａに対する偏向角θ１の方向に反射偏向し、走査レンズ７３を介して、着色層形成面２１ａ上に導く。
【０１１５】
本実施形態では、回転角θｐが０°のときに、レーザビームＢの照射される着色層形成面２１ａ上の位置を照射開始位置Ｐｅ１という。この照射開始位置Ｐｅ１は、第１実施形態におけるビームスポットＢｓのレーザビームＢの照射位置と同じ位置である。すなわち、着色層領域２３に着弾した液滴ＦＤが、その吐出開始時から、待機時間Ｔの後に搬送される位置である。
【０１１６】
従って、図１１に示すように、ポリゴンミラー７２の回転角θｐが０°になるときに、液滴ＦＤが前記照射開始位置Ｐｅ１に搬送されると、搬送された液滴ＦＤに、反射面Ｍａの偏向反射したレーザビームＢが照射される。
【０１１７】
続いて、ポリゴンミラー７２を矢印Ｒ方向に回転し、その回転角θｐが略１０°になると、図１２に示すように、ポリゴンミラー７２は、その反射面Ｍａの反矢印Ｒ方向側の端部によって、レーザビームＢを、光軸７３Ａに対する偏向角θ２（本実施形態では−５°）の方向に偏向反射し、走査レンズ７３を介して、着色層形成面２１ａ上に導く。
【０１１８】
本実施形態では、回転角θｐが１０°のときに、レーザビームＢの照射される着色層形成面２１ａ上の位置を照射終了位置Ｐｅ２とし、この照射終了位置Ｐｅ２と前記照射開始位置Ｐｅ１との間の領域を走査領域Ｌｓとする。この走査領域ＬｓのＹ矢印方向の幅（走査幅ＷＰｙ）は、着色層領域２３のＹ矢印方向に沿う形成ピッチと同じ幅に設定されている。
【０１１９】
つまり、レーザヘッドＬＨは、ポリゴンミラー７２の偏向反射によって、レーザビームＢ（ビームスポットＢｓ）を、着色層領域２３の単位で走査する（照射開始位置Ｐｅ１から照射終了位置Ｐｅ２まで移動する）ように構成されている。
【０１２０】
また、本実施形態におけるポリゴンモータＭＰの回転速度は、各着色層領域２３が、照射開始位置Ｐｅ１から照射終了位置Ｐｅ２まで搬送される間に、レーザビームＢを、一回だけ走査する速度に設定されている。従って、走査領域Ｌｓを通過する各液滴ＦＤには、レーザビームＢの走査によって、相対的に、静止した状態のレーザビームＢが照射される。
【０１２１】
一方、本実施形態の回折素子４８は、スポット成形信号ＳＢ１を受けて、前記レーザビームＢの走査周期（走査幅ＷＰｙ／搬送速度Ｖｙ）に同期した周期で、所定の動的な位相変調を施すようになっている。そして、本実施形態における回折素子４８は、走査領域Ｌｓを通過する各着色層領域２３（液滴ＦＤ）に対して、第１実施形態で示すビームスポットＢｓを、反Ｙ矢印方向に向かって、ブロースポットＢｓ１から乾燥スポットＢｓ２の順で、相対的に走査するような位相変調を施すようになっている。
【０１２２】
詳述すると、図１３（ａ）に示すように、Ｙ矢印方向に先行する着色層領域２３（２３ａ）のＹ矢印方向の端部が、走査領域Ｌｓ（図１３（ａ）における１点鎖線）から離脱し、後続する着色層領域２３（２３ｂ）のＹ矢印方向の端部が、走査領域Ｌｓに侵入する。すると、後続の着色層領域２３ｂには、ポリゴンミラー７２の走査によって、相対的に、静止したレーザビームＢの照射が開始され、図１３（ａ）の破線で示すように、そのＹ矢印方向の端部に、第１実施形態で示すブロースポットＢｓ１の領域のレーザビームＢが照射される。そして、着色層領域２３ｂが走査領域Ｌｓ内への侵入を続けるに従い、その着色層領域２３ｂには、ブロースポットＢｓ１の領域が、相対的に、反Ｙ矢印方向に走査されるように、動的に変動するビームスポットＢｓのレーザビームＢが照射され続ける。
【０１２３】
続いて、着色層領域２３ｂが、走査領域Ｌｓの略中心位置まで搬送されると、図１３（ｂ）の破線で示すように、着色層領域２３ｂには、その反Ｙ矢印方向の端部にまで、相対的に、ブロースポットＢｓ１のレーザビームＢが走査され、そのＹ矢印方向側に、第１実施形態で示す乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢが照射され始める。そして、着色層領域２３ｂが、走査領域Ｌｓ内への侵入を続けるに連れて、その着色層領域２３ｂには、乾燥スポットＢｓ２の領域が、相対的に、反Ｙ矢印方向に走査されるように、動的に変動するビームスポットＢｓのレーザビームＢが照射され続ける。
【０１２４】
やがて、着色層領域２３ｂのＹ矢印方向側の端部が、走査領域ＬｓのＹ矢印方向側の端部に近接すると、図１３（ｃ）の破線で示すように、着色層領域２３ｂには、その反Ｙ矢印方向の端部にまで、相対的に、乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢが走査される。
【０１２５】
そして、着色層領域２３ｂが走査領域Ｌｓから離脱すると、後続の着色層領域２３dが
走査領域Ｌｓに侵入し、同様にして、着色層領域２３dに、上記するビームスポットＢｓ
のレーザビームＢが照射され始める。
【０１２６】
従って、走査領域Ｌｓを通過する各着色層領域２３には、レーザビームＢの走査周期と同期して動的に変動するビームスポットＢｓによって、相対的に、そのＹ矢印方向から、ブロースポットＢｓ１のレーザビームＢと乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢが、順に反Ｙ矢印方向に向かって走査される。すなわち、走査領域Ｌｓ内の走査によって、前記濡れ残し領域Ｓｒの全体に、液滴ＦＤが濡れ広がり、液滴ＦＤが、各着色層領域２３の全体に広がる状態で乾燥される。
【０１２７】
次に、上記のように構成した液滴吐出装置３０の電気的構成を図１４に従って説明する。
レーザヘッド駆動回路６８には、ポリゴンモータ駆動回路６８ｄが備えられている。ポリゴンモータ駆動回路６８ｄは、制御装置５０からのポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを受けてポリゴンモータ駆動制御信号ＳＭＰを生成し、そのポリゴンモータ駆動制御信号ＳＭＰをポリゴンモータＭＰに出力してポリゴンモータＭＰを回転駆動する。
【０１２８】
制御装置５０は、基板検出装置６４からの検出信号に基づいて、ポリゴンモータＭＰの回転駆動を開始させるポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを出力する。詳述すると、制御装置５０は、１列目の着色層領域２３のＹ矢印方向側の端部が、前記照射開始位置Ｐｅ１に位置するときに、ポリゴンミラー７２の回転角θｐを０°にする所定のタイミングで、ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを前記レーザヘッド駆動回路６８に出力する。
【０１２９】
図１５は、ラッチ信号ＬＡＴ、第１開閉信号ＧＳ１、第２開閉信号ＧＳ２、スポット成形信号ＳＢ１、回転角θｐ及び走査領域Ｌｓに位置する着色層領域２３の列番号を示す。
基板ステージ３３に載置されたカラーフィルタ基板１０が、搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に搬送され、基板検出装置６４が、カラーフィルタ基板１０のＹ矢印方向側の端縁を検出すると、図１５に示すように、上記する所定のタイミングで、制御装置５０が、ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを生成する。そして、ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰが立ち上がった時に、ポリゴンモータ駆動回路６８ｄによってポリゴンモータ駆動制御信号ＳＭＰが生成され、ポリゴンミラー７２が矢印Ｒ方向に回転駆動する。
【０１３０】
これによって、１列目の着色層領域２３のＹ矢印方向側の端部が、前記照射開始位置Ｐｅ１に位置するときに、ポリゴンミラー７２の回転角θｐが０°となる。
続いて、第１実施形態と同じく、１列目の着色層領域２３の目標吐出位置ＰａがノズルＮの直下にまで搬送されて、ラッチ信号ＬＡＴが立ち下がると、第１開閉信号ＧＳ１が生成され、対応するノズルＮから、一斉に液滴ＦＤが吐出される。吐出された液滴ＦＤは、対応する１列目の着色層領域２３に一斉に着弾する。
【０１３１】
そして、第１開閉信号ＧＳ１が立ち上がった時（１列目に対する吐出動作開始時）から、待機時間Ｔだけ経過すると、１列目の着色層領域２３のＹ矢印方向側の端部が走査領域Ｌｓに侵入する。これと同時に、レーザヘッド駆動回路６８で第２開閉信号ＧＳ２が生成されて、第２開閉信号ＧＳ２が立ち上がった時に、対応する出射口４７から、一斉にビームスポットＢｓ（ブロースポットＢｓ１）のレーザビームＢが出射される。
【０１３２】
この時、図１５に示すように、回転駆動するポリゴンミラー７２の回転角θｐは０°である。そのため、ブロースポットＢｓ１のレーザビームＢは、照射開始位置Ｐｅ１に位置する液滴ＦＤに照射される。そして、液滴ＦＤが走査領域Ｌｓ内に搬送され続けると、レーザビームＢの走査によって、対応する着色層領域２３の液滴ＦＤにのみ、相対的に、走査されたブロースポットＢｓ１と乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢが照射され続ける。
【０１３３】
やがて、第２開閉信号ＧＳ２が立ち下がると、半導体レーザアレイＬＤからのレーザビームＢの出射が停止され、一列目の液滴ＦＤの乾燥・焼成処理動作が終了する。
そして、２列目の吐出動作の開始時から待機時間Ｔだけ経過すると、１列目の着色層領域２３が、走査領域Ｌｓから離脱し、後続する２列目の着色層領域２３のＹ矢印方向の端部が、走査領域Ｌｓに侵入する。そして、レーザヘッド駆動回路６８で第２開閉信号ＧＳ２が生成されて、第２開閉信号ＧＳ２が立ち上がった時に、対応する出射口４７から、一斉にブロースポットＢｓ１のレーザビームＢが出射される。
【０１３４】
この時、図１５に示すように、回転駆動するポリゴンミラー７２の回転角θｐは１０°である。従って、反射面Ｍに反射偏向されたブロースポットＢｓ１のレーザビームＢは、照射開始位置Ｐｅ１に位置する２列目の液滴ＦＤに照射される。
【０１３５】
以後、同様に、後続する着色層領域２３が、着弾した液滴ＦＤを有して、走査領域Ｌｓ内を通過する度に、相対的に、反Ｙ矢印方向に走査されるブロースポットＢｓ１と乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢが液滴ＦＤに対して照射され、着色層領域２３と略整合した着色層２４が形成される。
【０１３６】
上記実施形態においても、第１実施形態と同じく、ブロースポットＢｓ１近傍の液滴ＦＤを流動させる分だけ、濡れ残し領域Ｓｒのサイズを縮小することができ、ひいては、ブロースポットＢｓ１のレーザビームＢを照射する分だけ、各着色層２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂの形状制御性を向上することができる。そして、乾燥スポットＢｓ２の相対的な走査によって、着色層領域２３のサイズに整合した状態で、液滴ＦＤを、より均一に乾燥することができ、着色層領域２３に整合した着色層２４を、より確実に形成することができる。（第３実施形態）
次に、本発明を具体化した第３実施形態を、図１６（ａ）、図１６（ｂ）及び図１６（ｃ）に従って説明する。尚、第３実施形態では、第２実施形態のビームスポットＢｓを変更したものである。そのため、以下では、その変更点について説明する。
【０１３７】
図１６（ａ）において、走査領域Ｌｓに侵入する着色層領域２３の四辺の各中央位置には、ピニングスポットＢｓ３が成形されている。ピニングスポットＢｓ３は、ブロースポットＢｓ１よりも小さい径で形成されるスポットであり、照射する領域の液滴ＦＤを、乾燥して定着させる。換言すれば、ピニングスポットＢｓ３は、液滴ＦＤに対して、その照射位置よりも外側への流動を抑制する。
【０１３８】
このピニングスポットＢｓ３のレーザビームＢは、前記ブロースポットＢｓ１及び前記乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢが、相対的に、液滴ＦＤに対して反Ｙ矢印方向に走査される間、ポリゴンミラー７２の走査によって、液滴ＦＤに対して、相対的に、静的に照射される。すなわち、図１６（ｂ）及び図１６（ｃ）に示すように、ピニングスポットＢｓ３のレーザビームＢは、走査領域Ｌｓを通過する着色層領域２３に対して、常に、その四辺の各中央位置に照射されるようになっている。
【０１３９】
従って、ピニングスポットＢｓ３のレーザビームＢは、前記ブロースポットＢｓ１による液滴の過剰な流動を抑制し、液滴ＦＤを、対応する着色層領域２３内に閉じ込める（ピ
ニングする）。
【０１４０】
上記実施形態によれば、着色層領域２３に対して、相対的に、静止したピニングスポットＢｓ３を成形することによって、着色層２４の形状を、より高い精度で、着色層領域２３に整合させることができる。
【０１４１】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
○上記実施形態では、ブロースポットＢｓ１を略楕円形状に成形したが、これに限らず、例えば十字形であってもよく、所望の方向に液滴ＦＤを流動可能な形状であればよい。
【０１４２】
○上記実施形態では、ブロースポットＢｓ１の照射方向を反Ｚ矢印方向にしたが、これに限らず、液滴ＦＤを流動させる方向（反Ｙ矢印方向）の成分を有した方向から照射するようにしてもよい。これによれば、ブロースポットＢｓ１の光エネルギーを、液滴ＦＤを構成する分子の流動方向への並進運動に、より効果的に変換させることができる。
【０１４３】
○上記実施形態では、各着色層領域２３の反Ｙ矢印方向側に、濡れ残し領域Ｓｒが形成される構成にした。これに限らず、濡れ残し領域Ｓｒが、各着色層領域２３の内縁に、ランダムに形成される構成であってもよい。この際、ブロースポットＢｓ１を、着色層領域２３の中心位置から、等方的に外側に向かって走査するのが好ましい。
【０１４４】
○上記実施形態では、電気的あるいは機械的に駆動する回折素子４８を利用してブロースポットＢｓ１、乾燥スポットＢｓ２及びピニングスポットＢｓ３を成形するようにした。これに限らず、例えば、回折格子やマスク、分岐素子等を利用して、これらのブロースポットＢｓ１、乾燥スポットＢｓ２及びピニングスポットＢｓ３を成形するようにしてもよく、液滴ＦＤの領域で、これらのスポットを成形可能な光学系であればよい。
【０１４５】
○上記実施形態では、着色層領域２３を略正方形として具体化したが、この形状に限定されるものではなく、例えば、楕円形や多角形の着色層領域２３であってもよい。この際、着色層領域２３の形状に相対させて、ブロースポットＢｓ１、乾燥スポットＢｓ２及びピニングスポットＢｓ３の形状、さらにはこれらの走査方向を変更するのが好ましい。
【０１４６】
○上記実施形態では、エネルギービームをレーザビームとして具体化したが、これに限らず、例えば、インコヒーレント光、イオンビーム、さらにはプラスマ光であってもよく、着弾した液滴ＦＤを、流動及び乾燥可能なエネルギービームであればよい。
【０１４７】
○上記第２実施形態では、ポリゴンミラー７２によって、レーザビームＢの走査光学系を構成するようにした。これに限らず、例えば、ガルバノミラーで走査光学系を構成するようにしてもよい。
【０１４８】
○上記第３実施形態では、ピニングスポットＢｓ３を、液滴ＦＤに対して、相対的に静止させる構成にした。これに限らず、例えば、ブロースポットＢｓ１の走査方向、すなわち液滴ＦＤの流動方向に相対させて、ピニングスポットＢｓ３の照射位置を走査するようにしてもよい。あるいは、着色層領域２３の全外周を囲う形状に、ピニングスポットＢｓ３を成形してもよい。
【０１４９】
○上記第３実施形態では、隔壁２２（撥液層２２ｂ）を形成する構成にした。これに限らず、隔壁２２（撥液層２２ｂ）を形成することなく、ピニングスポットＢｓ３によって、液滴ＦＤの濡れ広がりを抑制し、その外周形状を所定の形状に制御する構成にしてもよい。これによれば、隔壁２２（撥液層２２ｂ）を形成するための工程を削減することができ、着色層２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂの生産性を向上することができる。
【０１５０】
○上記実施形態では、液滴吐出装置３０のＹ矢印方向に、１対の吐出ヘッドＦＨとレーザヘッドＬＨを配設する構成にした。これに限らず、Ｙ矢印方向に、複数の吐出ヘッドＦＨとレーザヘッドＬＨを配設し、１回のスキャンで、パターンの膜厚が、所望の膜厚に到達する構成にしてもよい。
【０１５１】
○上記実施形態では、レーザ出力手段を半導体レーザアレイＬＤで具体化したが、これに限らず、例えば炭酸ガスレーザやＹＡＧレーザであってもよく、液滴ＦＤを可能な波長領域のレーザビームを出力するものであればよい。
【０１５２】
○上記実施形態では、ノズルＮの数量分だけ半導体レーザアレイＬＤを設ける構成にしたが、これに限らず、レーザ光源から出射された単一のレーザビームＢを、回折素子等の分岐素子によって１６分割する光学系によって構成してもよい。
【０１５３】
○上記実施形態では、パターンをカラーフィルタ基板１０の着色層に具体化した。これに限らず、例えば、吐出した液滴ＦＤによって形成する絶縁膜や金属配線のパターンに具体化してもよい。この場合にも、上記実施形態と同様に、パターン形状の制御性を向上することができる。尚、この際、絶縁膜材料や金属配線材料の焼成が必要な場合には、上記実施形態における乾燥スポットＢｓ２のレーザビームＢを照射した後に、乾燥スポットＢｓ２の照射強度Ｉｅよりも強い第３の強度からなるレーザビームＢを照射して焼成するようにしてもよい。
【０１５４】
○上記実施形態では、電気光学装置を液晶表示装置として具体化し、パターンを着色層に具体化した。これに限らず、例えば、電気光学装置をエレクトロルミネッセンス表示装置として具体化し、発光素子形成材料を含む液滴ＦＤを発光素子形成領域に吐出して、パターンとしての発光素子を形成する構成にしてもよい。この構成においても、発光素子の形状制御性を向上することができ、エレクトロルミネッセンス表示装置の生産性を向上することができる。
【０１５５】
○上記実施形態では、電気光学装置を液晶表示装置として具体化し、パターンを着色層に具体化した。これに限らず、平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型装置（ＦＥＤやＳＥＤ等）を備えた表示装置の絶縁膜や金属配線のパターンに具体化してもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１】第１実施形態における液晶表示装置の斜視図。
【図２】同じく、カラーフィルタ基板の斜視図。
【図３】同じく、カラーフィルタ基板の概略側断面図。
【図４】同じく、液滴吐出装置の概略斜視図。
【図５】同じく、液滴吐出ヘッドの概略斜視図。
【図６】同じく、液滴吐出ヘッドを説明するための要部概略断面図。
【図７】同じく、（ａ）は、ビームスポットの形状を説明する説明図、（ｂ）は、照射強度を説明する説明図。
【図８】同じく、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ着色層領域に対するビームスポットと説明する説明図。
【図９】同じく、液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック回路図。
【図１０】同じく、圧電素子と半導体レーザの駆動タイミングを説明するためのタイミングチャート。
【図１１】第２実施形態の液滴吐出ヘッドを説明する要部断面図。
【図１２】同じく、液滴吐出ヘッドを説明する要部断面図。
【図１３】同じく、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ着色層領域に対するビームスポットと説明する説明図。
【図１４】同じく、液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック回路図。
【図１５】同じく、圧電素子と半導体レーザの駆動タイミングを説明するためのタイミングチャート。
【図１６】第３実施形態におけるビームスポットを説明するための説明図であって、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ着色層領域に対するビームスポットと説明する説明図。
【符号の説明】
【０１５７】
１…電気光学装置としての液晶表示装置、２３…パターン形成領域としての着色層領域、２４…パターンとしての着色層、３０…液滴吐出装置、７２…エネルギービーム走査手段を構成するポリゴンミラー、Ｂ…コヒーレント光としてのレーザビーム、Ｂｓ…ビームスポット、Ｂｓ１…ブロースポット、Ｂｓ２…乾燥スポット、ＦＤ…液滴、ＦＨ…液滴吐出手段を構成する液滴吐出ヘッド、ＬＨ…エネルギービーム照射手段を構成するレーザヘッド。
【図１】
2006276509.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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