(57)【要約】【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた配向膜を提供すること、このような配向膜を効率良く製造することが可能な配向膜の形成方法を提供すること、前記配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供すること。【解決手段】本発明の配向膜は、液晶分子の配向を制御する配向膜であって、少なくとも有機ケイ素材料で構成され、有機ケイ素材料は、その分子内に、液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有することを特徴とする。親和性付与基は、ビニル基、アルキレン基、シアノアルキル基のうち、少なくとも１種である。配向性付与基は、フェニル基、置換フェニル基、フェニルアルキル基、置換フェニルアルキル基、炭素数が３〜１２の分岐アルキル基のうち、少なくとも１種である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶分子の配向を制御する配向膜であって、
少なくとも有機ケイ素材料で構成され、
前記有機ケイ素材料は、その分子内に、前記液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、前記液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有することを特徴とする配向膜。
【請求項２】
前記親和性付与基は、ビニル基、アルキレン基、シアノアルキル基のうち、少なくとも１種である請求項１に記載の配向膜。
【請求項３】
前記配向性付与基は、フェニル基、置換フェニル基、フェニルアルキル基、置換フェニルアルキル基、炭素数が３〜１２の分岐アルキル基のうち、少なくとも１種である請求項１または２に記載の配向膜。
【請求項４】
前記有機ケイ素材料は、籠形構造または部分開裂籠形構造を有するオルガノポリシルセスキオキサンである請求項１ないし３のいずれかに記載の配向膜。
【請求項５】
前記有機ケイ素材料の重量平均分子量は、５００〜５００００である請求項１ないし４のいずれかに記載の配向膜。
【請求項６】
配向膜の平均厚さは、０．０１〜１０μｍである請求項１ないし５のいずれかに記載の配向膜。
【請求項７】
基材上に、請求項１ないし６のいずれかに記載の配向膜を形成する方法であって、
アルコキシシランを縮重合させ、前記親和性付与基と前記配向性付与基とを有するポリシロキサン材料を調製する工程を有し、
前記ポリシロキサン材料を含む配向膜形成用液体を用いて、前記基材上に、前記配向膜を成膜することを特徴とする配向膜の形成方法。
【請求項８】
前記アルコキシシランとして、組成の異なる複数種のものを用いる請求項７に記載の配向膜の形成方法。
【請求項９】
組成の異なる複数種の前記アルコキシシランとして、前記親和性付与基を有するアルコキシシランと、前記配向性付与基を有するアルコキシシランとを用いる請求項８に記載の配向膜の形成方法。
【請求項１０】
前記配向膜は、前記配向膜形成用液体が硬化することにより成膜されるものであって、
前記ポリシロキサン材料が、前記配向膜形成用液体の硬化反応に寄与する硬化反応基を有する請求項７ないし９のいずれかに記載の配向膜の形成方法。
【請求項１１】
前記硬化反応基は、グリシドキシアルキル基、脂環式エポキシアルキル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、スチリルアルキル基のうち、少なくとも１種である請求項１０に記載の配向膜の形成方法。
【請求項１２】
前記配向膜形成用液体の硬化は、加熱処理および／またはエネルギー線照射処理を施すことにより行う請求項１０または１１に記載の配向膜の形成方法。
【請求項１３】
基板上に、電極と、
請求項１ないし６のいずれかに記載の配向膜とを備えることを特徴とする電子デバイス用基板。
【請求項１４】
請求項１ないし６のいずれかに記載の配向膜と、液晶層とを備えたことを特徴とする液晶パネル。
【請求項１５】
請求項１４に記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配向膜、配向膜の形成方法、電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
スクリーン上に画像を投影する投射型表示装置が知られている。この投射型表示装置では、その画像形成に主として液晶パネルが用いられている。
このような液晶パネルは、通常、液晶分子を一定方向に配向させるため、所定のプレチルト角が発現するように設定された配向膜を有している。これらの配向膜を製造するには、基材上に成膜されたポリイミド等の高分子化合物からなる薄膜を、レーヨン等の布で一方向に擦るラビング処理する方法等が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
しかしながら、ポリイミド等の有機材料で構成された配向膜は、使用環境、使用時間等により、光劣化を生じることがあった。このような光劣化が起こると、配向膜、液晶層等の構成材料が分解し、その分解生成物が液晶の性能等に悪影響を及ぼすことがある。
このような問題を解決する目的で、無機材料で構成された配向膜（無機配向膜）を採用する試みがある。無機配向膜は、一般に、斜方蒸着法により形成される。
しかしながら、この無機配向膜は、有機材料で構成された配向膜に比べ、耐光性、耐熱性に優れるものの、液晶分子を配向させる能力が低いという問題がある。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−１６１１３３号公報（特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた配向膜を提供すること、このような配向膜を効率良く製造することが可能な配向膜の形成方法を提供すること、前記配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の配向膜は、液晶分子の配向を制御する配向膜であって、
少なくとも有機ケイ素材料で構成され、
前記有機ケイ素材料は、その分子内に、前記液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、前記液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有することを特徴とする。
これにより、耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた配向膜を提供することができる。
【０００７】
本発明の配向膜では、前記親和性付与基は、ビニル基、アルキレン基、シアノアルキル基のうち、少なくとも１種であることが好ましい。
これにより、液晶分子との親和性をより効果的に向上させることができるため、液晶分子をより安定した状態で配置することができ、配向特性が向上する。
本発明の配向膜では、前記配向性付与基は、フェニル基、置換フェニル基、フェニルアルキル基、置換フェニルアルキル基、炭素数が３〜１２の分岐アルキル基のうち、少なくとも１種であることが好ましい。
これにより、液晶分子のプレチルト角をより効果的に所望のものとすることができ、より優れた配向特性を示す。
【０００８】
本発明の配向膜では、前記有機ケイ素材料は、籠形構造または部分開裂籠形構造を有するオルガノポリシルセスキオキサンであることが好ましい。
これにより、耐光性に優れた配向膜を提供することができる。
本発明の配向膜では、前記有機ケイ素材料の重量平均分子量は、５００〜５００００であることが好ましい。
これにより、光学的にも物理的にも安定な配向膜とすることができる。
【０００９】
本発明の配向膜では、配向膜の平均厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましい。
これにより、液晶分子の配向性をより効果的に規制することができる。
本発明の配向膜の形成方法は、基材上に、本発明の配向膜を形成する方法であって、
アルコキシシランを縮重合させ、前記親和性付与基と前記配向性付与基とを有するポリシロキサン材料を調製する工程を有し、
前記ポリシロキサン材料を含む配向膜形成用液体を用いて、前記基材上に、前記配向膜を成膜することを特徴とする。
これにより、耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた配向膜を効率良く形成することができる。
【００１０】
本発明の配向膜の形成方法では、前記アルコキシシランとして、組成の異なる複数種のものを用いることが好ましい。
これにより、配向膜を構成する有機ケイ素材料中における親和性付与基および配向性付与基の存在比率を容易に調整することができる。
本発明の配向膜の形成方法では、組成の異なる複数種の前記アルコキシシランとして、前記親和性付与基を有するアルコキシシランと、前記配向性付与基を有するアルコキシシランとを用いることが好ましい。
これにより、配向膜を構成する有機ケイ素材料中における親和性付与基および配向性付与基の存在比率をより容易に調整することができる。
【００１１】
本発明の配向膜の形成方法では、前記配向膜は、前記配向膜形成用液体が硬化することにより成膜されるものであって、
前記ポリシロキサン材料が、前記配向膜形成用液体の硬化反応に寄与する硬化反応基を有することが好ましい。
これにより、配向膜形成用液体の成膜性（成型性）を向上させることができる。その結果、物理的に安定な配向膜を効果的に形成することができる。
【００１２】
本発明の配向膜の形成方法では、前記硬化反応基は、グリシドキシアルキル基、脂環式エポキシアルキル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、スチリルアルキル基のうち、少なくとも１種であることが好ましい。
これにより、安定な配向膜をより容易に形成することができる。
本発明の配向膜の形成方法では、前記配向膜形成用液体の硬化は、加熱処理および／またはエネルギー線照射処理を施すことにより行うことが好ましい。
これにより、安定した配向膜をより効率良く形成することができる。
【００１３】
本発明の電子デバイス用基板は、基板上に、電極と、
本発明の配向膜とを備えることを特徴とする。
これにより、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れ、かつ、耐光性に優れた電子デバイス用基板を提供することができる。
本発明の液晶パネルは、本発明の配向膜と、液晶層とを備えたことを特徴とする。
これにより、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れ、かつ、耐光性に優れた液晶パネルを提供することができる。
本発明の液晶パネルは、本発明の液晶パネルを備えたことを特徴とする電子機器。
これにより、信頼性の高い電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
まず、配向膜、配向膜の形成方法の説明に先立ち、本発明の液晶パネルについて説明する。
図１は、本発明の液晶パネルの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
図１に示すように、液晶パネル１Ａは、液晶層２と、配向膜３Ａ、４Ａと、透明導電膜５、６と、偏光膜７Ａ、８Ａと、基板９、１０とを有している。
液晶層２は、主として、液晶材料で構成されている。
【００１５】
液晶層２を構成する液晶材料としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶など配向し得るものであればいかなる液晶材料を用いても構わないが、ＴＮ型液晶パネルの場合、ネマチック液晶を形成させるものが好ましく、例えば、フェニルシクロヘキサン誘導体液晶、ビフェニル誘導体液晶、ビフェニルシクロヘキサン誘導体液晶、テルフェニル誘導体液晶、フェニルエーテル誘導体液晶、フェニルエステル誘導体液晶、ビシクロヘキサン誘導体液晶、アゾメチン誘導体液晶、アゾキシ誘導体液晶、ピリミジン誘導体液晶、ジオキサン誘導体液晶、キュバン誘導体液晶等が挙げられる。さらに、これらネマチック液晶分子にモノフルオロ基、ジフルオロ基、トリフルオロ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基などのフッ素系置換基を導入した液晶分子も含まれる。
【００１６】
液晶層２の両面には、配向膜３Ａ、４Ａが配置されている。
また、配向膜３Ａは、後述するような透明導電膜５と基板９とからなる基材１００上に形成されており、配向膜４Ａは、後述するような透明導電膜６と基板１０とからなる基材１０１上に形成されている。
配向膜３Ａ、４Ａは、液晶層２を構成する液晶材料（液晶分子）の（電圧無印加時における）配向状態を規制する機能を有している。
【００１７】
このような配向膜３Ａ、４Ａは、例えば、後述するような方法（本発明の配向膜の形成方法）により形成され、主として、有機ケイ素材料で構成されている。
有機ケイ素材料は、ポリシロキサンと有機化合物との複合材料で、有機材料に比べて、優れた化学的安定性を有しているため、従来のような有機材料で構成された配向膜に比べ、特に優れた耐光性を有するものとなる。
【００１８】
特に、本発明では、配向膜を構成する有機ケイ素材料として、その分子内に、官能基として、前述した液晶材料（液晶分子）との親和性を向上させる親和性付与基と、液晶材料の配向状態を制御する配向性付与基とを有するものを用いる点に特徴を有している。
ところで、無機材料で構成された配向膜は、従来の有機材料で構成された配向膜と比べ、優れた耐光性を有しているが、液晶分子との親和性が低く、液晶分子の配向状態を規制するのが困難で、液晶分子を配向させる能力が低いという問題があった。
【００１９】
しかしながら、本発明のように、配向膜を構成する材料として、親和性付与基と配向性付与基とを有する有機ケイ素材料を用いることにより、液晶分子との親和性を向上させて、液晶分子を配向膜に引き寄せて、液晶分子の配向状態を規制しやすくし、配向性付与基により液晶分子の配向状態を規制し、所望のプレチルト角に液晶分子を配向させることができる。その結果、優れた耐光性を有しつつ、優れた配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）を有する配向膜を提供することができる。また、後述するような透明導電膜との密着性も向上するため、最終的に得られる電子機器の信頼性も向上する。
【００２０】
このような効果は、有機ケイ素材料が、親和性付与基、配向性付与基の一方のみを有する場合には、得られない。
すなわち、親和性付与基のみを有する場合、液晶分子を配向膜の表面に十分に引きつけることはできるが、液晶分子を所定の方向に配向させるのが困難である。
また、配向性付与基のみを有する場合、液晶分子との親和性が低いため、液晶分子を配向膜の表面に十分に引きつけることが困難となり、液晶分子の配向状態を規制するのが困難となる。
【００２１】
親和性付与基としては、例えば、ビニル基、アルキレン基、シアノアルキル基、フェニル基、置換フェニル基、アルキリデン基等が挙げられる。
上述した中でも、特に、配向膜３Ａ、４Ａは、親和性付与基として、ビニル基、アルキレン基、アルキリデン基、シアノアルキル基のうち、少なくとも１種または２種以上を有している有機ケイ素材料で構成されているのが好ましい。これにより、液晶分子との親和性をより効果的に向上させることができるため、液晶分子をより安定した状態で配置することができ、配向特性が向上する。
【００２２】
また、配向性付与基としては、例えば、フェニル基、置換フェニル基、フェニルアルキル基、置換フェニルアルキル基、炭素数が３〜１２の分岐アルキル基等が挙げられる。
上述した中でも、特に、配向膜３Ａ、４Ａは、配向性付与基として、フェニル基、置換フェニル基、フェニルアルキル基、置換フェニルアルキル基、炭素数が３〜１２の分岐アルキル基のうち、少なくとも１種または２種以上を有している有機ケイ素材料で構成されているのが好ましい。これにより、液晶分子の配向方向がより揃ったものとなり、より優れた配向特性を示す。
【００２３】
さらに、上述したような配向性付与基の中でも、フェニル基、置換フェニル基、フェニルアルキル基、置換フェニルアルキル基を有する有機ケイ素材料を用いた場合、液晶分子との親和性も向上するため、液晶分子が安定した状態で配置され、より優れた配向特性を有するものとなる。
上述したような有機ケイ素材料として、籠形構造または部分開裂籠形構造を有するオルガノポリシルセスキオキサンを用いるのが好ましい。これにより、任意に、親和性、配向性の比率を変化させることができ、かつ、耐熱性が高く、可視光透過特性の高い配向膜を得ることができる。
【００２４】
このような有機ケイ素材料の重量平均分子量は、５００〜５００００であるのが好ましく、７００〜５００００であるのがより好ましい。これにより、光学的にも物理的にも安定な配向膜とすることができる。
上記のような配向膜３Ａ、４Ａは、その平均厚さが、０．０１〜１０μｍであるのが好ましく、０．０１〜０．１μｍであるのがより好ましく、０．０２〜０．０５μｍであるのがさらに好ましい。平均厚さが前記下限値未満であると、有機ケイ素材料の組成等によっては、配向膜としての機能が十分に発揮されない場合がある。一方、平均厚さが前記上限値を超えると、駆動電圧が高くなり、ＴＦＴにより駆動不可能となる可能性がある。
【００２５】
配向膜３Ａの外表面側（液晶層２と対向する面とは反対の面側）には、透明導電膜５が配置されている。同様に、配向膜４Ａの外表面側（液晶層２と対向する面とは反対の面側）には、透明導電膜６が配置されている。
透明導電膜５、６は、これらの間で通電を行うことにより、液晶層２の液晶分子を駆動する（配向を変化させる）機能を有する。
【００２６】
透明導電膜５、６間での通電の制御は、透明導電膜に接続された制御回路（図示せず）から供給する電流を制御することにより行われる。
透明導電膜５、６は、導電性を有しており、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）等で構成されている。
透明導電膜５の外表面側（配向膜３Ａと対向する面とは反対の面側）には、基板９が配置されている。同様に、透明導電膜６の外表面側（無機配向膜４Ａと対向する面とは反対側の面側）には、基板１０が配置されている。
【００２７】
基板９、１０は、前述した液晶層２、配向膜３Ａ、４Ａ、透明導電膜５、６、および後述する偏光膜７Ａ、８Ａを支持する機能を有している。基板９、１０の構成材料は、特に限定されず、例えば、石英ガラス等のガラスやポリエチレンテレフタレート等のプラスチック材料等が挙げられる。この中でも特に、石英ガラス等のガラスで構成されたものであるのが好ましい。これにより、そり、たわみ等の生じにくい、より安定性に優れた液晶パネルを得ることができる。なお、図１では、シール材、配線等の記載は省略した。
【００２８】
基板９の外表面側（透明導電膜５と対向する面とは反対の面側）には、偏光膜（偏光板、偏光フィルム）７Ａが配置されている。同様に、基板１０の外表面側（透明導電膜６と対向する面とは反対の面側）には、偏光膜（偏光板、偏光フィルム）８Ａが配置されている。
偏光膜７Ａ、８Ａの構成材料としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等が挙げられる。また、偏光膜としては、前記材料にヨウ素をドープしたもの等を用いてもよい。
【００２９】
偏光膜としては、例えば、上記材料で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いることができる。
このような偏光膜７Ａ、８Ａに配置することにより、通電量の調節による光の透過率の制御をより確実に行うことができる。
偏光膜７Ａ、８Ａの偏光軸の方向は、通常、配向膜３Ａ、４Ａの配向方向に応じて決定される。
次に、本発明の配向膜の形成方法について説明する。
なお、以下の説明では、代表的に、籠形構造または部分開裂籠形構造を有するオルガノポリシルセスキオキサンで構成される配向膜の形成方法について説明する。
【００３０】
本実施形態の配向膜の形成方法では、組成の異なる複数種のアルコキシシランを縮重合させ、ポリシルセスキオキサン材料（ポリシロキサン材料）を調製するポリシルセスキオキサン材料調製工程と、得られたポリシルセスキオキサン材料を含む配向膜形成用液体を調製する配向膜形成用液体調製工程と、基材上に得られた配向膜形成用液体を塗布し、塗膜を形成する塗膜形成工程と、形成された塗膜を硬化させる硬化工程とを有している。
【００３１】
［ポリシルセスキオキサン材料調製工程］
＜１＞
まず、最終的に得られる配向膜内の親和性付与基、配向性付与基等の官能基の存在比率が所望のものとなるように、それに対応する比率で、親和性付与基を有するアルコキシシラン、配向性付与基を有するアルコキシシラン、後述する成膜する際の硬化反応に寄与する硬化反応基を有するアルコキシシランの複数種のアルコキシシランを用意する。
このように複数種のアルコキシシランを用いることにより、配向膜を構成する有機ケイ素材料中における親和性付与基および配向性付与基の存在比率を容易に調整することができる。
【００３２】
親和性付与基を有するアルコキシシランとしては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−シアノプロピルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリイソプロポキシシラン、ブテニルトリメトキシシラン、ブテニルトリエトキシシラン、ブテニルイソプロポキシシラン、２−シアノエチルトリメトキシシラン、２−シアノエチルトリエトキシシラン、２−シアノエチルトリイソプロポキシシラン、３−シアノプロピルトリエトキシシラン、３−シアノプロピルトリイソプロポキシシラン、（３−シアノブチル）メチルトリメトキシシラン、（３−シアノブチル）エチルトリメトキシシラン、（３−シアノブチル）メチルトリイソプロポキシシラン等が挙げられる。
【００３３】
また、配向性付与基を有するアルコキシシランとしては、例えば、フェニルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリイソプロポキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリイソプロポキシシラン、フェネチルトリメトキシシラン、フェネチルトリエトキシシラン、フェネチルトリイソプロポキシシラン等が挙げられる。
【００３４】
硬化反応基は、所定の条件下で硬化反応基同士を反応させることにより、塗膜を硬化させる機能を有する官能基である。このような硬化反応基を有するアルコキシシランを用いることにより、配向膜形成用液体の成膜性（成型性）を向上させることができる。その結果、物理的に安定な配向膜を効果的に形成することができる。
このような硬化反応基としては、例えば、グリシドキシアルキル基、脂環式エポキシアルキル基、アクリロイルアルキル基、メタクリロイルアルキル基、ビニル基、アルキレン基、アルキリデン基、スチリル基、スチリルアルキル基等が挙げられる。
【００３５】
上述した中でも、特に、グリシドキシアルキル基、脂環式エポキシアルキル基、メタクリロイルアルキル基を用いるのが好ましい。このような官能基を有することにより、安定な配向膜をより効果的に形成することができる。
このような硬化反応基を有するアルコキシシランとしては、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシルロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００３６】
＜２＞
次に、前述したような複数種のアルコキシシランと、水および必要に応じて、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエンなどの炭化水素類にそれぞれ代表される希釈溶剤とを所定の割合で混合し、混合液を得る。
【００３７】
＜３＞
次に、得られた混合液に、撹拌しつつ、酸触媒、塩基触媒等の加水分解および重縮合触媒を添加する。なお、これらの触媒は、予め反応に用いる溶剤もしくは水に加えておいても良い。
酸触媒（固体酸触媒を含む）としては、例えば、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸、有機スルホン酸（例えば、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等）等の有機酸等が挙げられ、塩基触媒としては、例えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、第三アミン（トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、ピリジン等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、コリン等の有機塩基等が挙げられる。このうち塩基としての活性が高くかつ後処理の際に除去しやすい水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラアルキルアンモニウムが好ましい。
【００３８】
＜４＞
加水分解触媒を添加した後、撹拌しつつ、所定の温度で加温し、アルコキシシランを縮重合させる。
上記所定の温度（反応温度）は、５〜１４０℃であるのが好ましく、特に３０〜６０℃であるのがより好ましい。反応温度が高すぎると、硬化反応基の反応が起こる恐れがあり、逆に低すぎると反応の進行が著しく遅くなる。
また、反応時間は、１〜４８時間であるのが好ましく、特に３〜１８時間であるのがより好ましい。反応時間が長すぎると、硬化反応基の反応が起こる恐れがあり、逆に短すぎると反応が完結しない。
＜５＞
次に、必要に応じて、中和、希釈溶剤の除去、乾燥等の処理を施す。
上記のような方法を用いることにより、籠形構造もしくは部分開裂籠形構造を有するポリシルセスキオキサン材料（ポリシロキサン材料）を得ることができる。
【００３９】
［配向膜形成用液体調製］
次に、上記工程で得られたポリシルセスキオキサン材料を含む配向膜形成用液体を調製する。
なお、上記工程で得られたポリシルセスキオキサン材料をそのまま配向膜形成用液体として用いてもよいし、必要に応じて溶剤等添加してもよい。
また、配向膜形成用液体には、必要に応じて、硬化剤（重合開始剤）を添加してもよい。これにより、後述するような塗膜の硬化を容易に行うことができる。
【００４０】
このような硬化剤としては、例えば、ベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、（チオフェノキシフェニル）ジフェニルサルフォニウムヘキサフルオロホスフェイト、ビス（ジフェニルサルフォニウム）ジフェニルチオエーテルヘキサフルオロホスフェイト等の光重合開始剤、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスメチルブチロニトリル等の熱重合開始剤等が挙げられ、これらのうち１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、配向膜形成用液体に対して、必要に応じてろ過処理を施してもよい。これにより、配向膜形成用液体中に含まれる不純物を取り除くことができ、均一な膜厚の配向膜を効率良く形成することができる。
【００４１】
［塗膜形成工程］
次に、上記工程で得られた配向膜形成用液体を、基材（基材１００、基材１０１）上に塗布し、配向膜形成用液体で構成された塗膜を形成する。
配向膜形成用液体を塗布する方法としては、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【００４２】
［硬化工程］
次に、形成された塗膜を硬化させ、配向膜（配向膜３Ａ、配向膜４Ａ）を形成する。
塗膜の硬化は、例えば、加熱処理、エネルギー線照射処理等を施すことにより行うことができる。
エネルギー線としては、例えば、可視光線、紫外線、放射線、赤外線等が挙げられる。
【００４３】
このような処理を施すことにより、塗膜中において、前述したような硬化反応基同士が、ラジカル重合、カチオン重合、重縮合等し、塗膜が硬化して、配向膜が形成される。これにより、基材上に配向膜が形成された基板（本発明の電子デバイス用基板）が得られる。
塗膜の硬化は、特に、塗膜を構成する配向膜形成用液体中に含まれる水分や溶媒等を除去した後（塗膜に対して乾燥処理を施した後）に行うのが好ましい。これにより、膜厚の安定した配向膜を効率良く形成することができる。
【００４４】
また、塗膜の硬化は、例えば、エネルギー線を照射して塗膜を仮硬化させた後に、加熱処理により本硬化することにより行ってもよい。すなわち、塗膜の硬化は、塗膜を、一旦、比較的低いエネルギーで仮硬化させた後に、完全に硬化させるものであってもよい。これにより、膜厚の安定した配向膜をより効率良く形成することができる。
なお、塗膜を硬化させた後に、ラビング処理を施してもよい。これにより、得られる配向膜の配向特性をより優れたものとすることができる。
次に、本発明の液晶パネルの第２実施形態について説明する。
【００４５】
図２は、本発明の液晶パネルの第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。以下、図２に示す液晶パネル１Ｂについて、前記第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図２に示すように、液晶パネル（ＴＦＴ液晶パネル）１Ｂは、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された配向膜３Ｂと、液晶パネル用対向基板１２と、液晶パネル用対向基板１２に接合された配向膜４Ｂと、配向膜３Ｂと配向膜４Ｂとの空隙に封入された液晶よりなる液晶層２と、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７の外表面側（配向膜４Ｂと対向する面とは反対の面側）に接合された偏光膜７Ｂと、液晶パネル用対向基板１２の外表面側（配向膜４Ｂと対向する面とは反対の面側）に接合された偏光膜８Ｂとを有している。配向膜３Ｂ、４Ｂは、前記第１実施形態で説明した配向膜３Ａ、４Ａと同様の方法（本発明の配向膜の形成方法）で形成されたものであり、偏光膜７Ｂ、８Ｂは、前記第１実施形態で説明した偏光膜７Ａ、８Ａと同様なものである。
【００４６】
液晶パネル用対向基板１２は、マイクロレンズ基板１１と、かかるマイクロレンズ基板１１の表層１１４上に設けられ、開口１３１が形成されたブラックマトリックス１３と、表層１１４上にブラックマトリックス１３を覆うように設けられた透明導電膜（共通電極）１４とを有している。
マイクロレンズ基板１１は、凹曲面を有する複数（多数）の凹部（マイクロレンズ用凹部）１１２が設けられたマイクロレンズ用凹部付き基板（第１の基板）１１１と、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板１１１の凹部１１２が設けられた面に樹脂層（接着剤層）１１５を介して接合された表層（第２の基板）１１４とを有しており、また、樹脂層１１５では、凹部１１２内に充填された樹脂によりマイクロレンズ１１３が形成されている。
【００４７】
マイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、平板状の母材（透明基板）より製造され、その表面には、複数（多数）の凹部１１２が形成されている。凹部１１２は、例えば、マスクを用いた、ドライエッチング法、ウェットエッチング法等により形成することができる。
このマイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、例えば、ガラス等で構成されている。
【００４８】
前記母材の熱膨張係数は、ガラス基板１７１の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）であることが好ましい。これにより、得られる液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことにより生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。
かかる観点からは、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と、ガラス基板１７１とは、同種類の材質で構成されていることが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨張係数の相違によるそり、たわみ、剥離等が効果的に防止される。
【００４９】
特に、マイクロレンズ基板１１を高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルに用いる場合には、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、石英ガラスで構成されていることが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有している。かかるＴＦＴ基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスが好ましく用いられる。このため、これに対応させて、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１を石英ガラスで構成することにより、そり、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得ることができる。
【００５０】
マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の上面には、凹部１１２を覆う樹脂層（接着剤層）１１５が設けられている。
凹部１１２内には、樹脂層１１５の構成材料が充填されることにより、マイクロレンズ１１３が形成されている。
樹脂層１１５は、例えば、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の構成材料の屈折率よりも高い屈折率の樹脂（接着剤）で構成することができ、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリルエポキシ系のような紫外線硬化樹脂等で好適に構成することができる。
【００５１】
樹脂層１１５の上面には、平板状の表層１１４が設けられている。
表層（ガラス層）１１４は、例えばガラスで構成することができる。この場合、表層１１４の熱膨張係数は、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）とすることが好ましい。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と表層１１４の熱膨張係数の相違により生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。このような効果は、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と表層１１４とを同種類の材料で構成すると、より効果的に得られる。
【００５２】
表層１１４の厚さは、マイクロレンズ基板１１が液晶パネルに用いられる場合、必要な光学特性を得る観点からは、通常、５〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは１０〜１５０μｍ程度とされる。
なお、表層（バリア層）１１４は、例えばセラミックスで構成することもできる。なお、セラミックスとしては、例えば、ＡｌＮ、ＳｉＮ、ＴｉＮ、ＢＮ等の窒化物系セラミックス、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２等の酸化物系セラミックス、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＴａＣ等の炭化物系セラミックスなどが挙げられる。表層１１４をセラミックスで構成する場合、表層１１４の厚さは、特に限定されないが、２０ｎｍ〜２０μｍ程度とすることが好ましく、４０ｎｍ〜１μｍ程度とすることがより好ましい。
なお、このような表層１１４は、必要に応じて省略することができる。
【００５３】
ブラックマトリックス１３は、遮光機能を有し、例えば、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ等の金属、カーボンやチタン等を分散した樹脂等で構成されている。
透明導電膜１４は、導電性を有し、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）等で構成されている。
ＴＦＴ基板１７は、液晶層２の液晶を駆動する基板であり、ガラス基板１７１と、かかるガラス基板１７１上に設けられ、マトリックス状（行列状）に配設された複数（多数）の画素電極１７２と、各画素電極１７２に対応する複数（多数）の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７３とを有している。なお、図２では、シール材、配線等の記載は省略した。
【００５４】
ガラス基板１７１は、前述したような理由から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。
画素電極１７２は、透明導電膜（共通電極）１４との間で充放電を行うことにより、液晶層２の液晶を駆動する。この画素電極１７２は、例えば、前述した透明導電膜１４と同様の材料で構成されている。
【００５５】
薄膜トランジスタ１７３は、近傍の対応する画素電極１７２に接続されている。また、薄膜トランジスタ１７３は、図示しない制御回路に接続され、画素電極１７２へ供給する電流を制御する。これにより、画素電極１７２の充放電が制御される。
配向膜３Ｂは、ＴＦＴ基板１７の画素電極１７２と接合しており、配向膜４Ｂは、液晶パネル用対向基板１２の透明導電膜１４と接合している。
【００５６】
液晶層２は液晶材料（液晶分子）で構成されており、画素電極１７２の充放電に対応して、かかる液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。
このような液晶パネル１Ｂでは、通常、１個のマイクロレンズ１１３と、かかるマイクロレンズ１１３の光軸Ｑに対応したブラックマトリックス１３の１個の開口１３１と、１個の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２に接続された１個の薄膜トランジスタ１７３とが、１画素に対応している。
【００５７】
液晶パネル用対向基板１２側から入射した入射光Ｌは、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１を通り、マイクロレンズ１１３を通過する際に集光されつつ、樹脂層１１５、表層１１４、ブラックマトリックス１３の開口１３１、透明導電膜１４、液晶層２、画素電極１７２、ガラス基板１７１を透過する。このとき、マイクロレンズ基板１１の入射側に偏光膜８Ｂが設けられているため、入射光Ｌが液晶層２を透過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。その際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層２の液晶分子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パネル１Ｂを透過した入射光Ｌを偏光膜７Ｂに透過させることにより、出射光の輝度を制御することができる。
【００５８】
このように、液晶パネル１Ｂは、マイクロレンズ１１３を有しており、しかも、マイクロレンズ１１３を通過した入射光Ｌは、集光されてブラックマトリックス１３の開口１３１を通過する。一方、ブラックマトリックス１３の開口１３１が形成されていない部分では、入射光Ｌは遮光される。したがって、液晶パネル１Ｂでは、画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、かつ、画素部分での入射光Ｌの減衰が抑制される。このため、液晶パネル１Ｂは、画素部で高い光の透過率を有する。
【００５９】
この液晶パネル１Ｂは、例えば、公知の方法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１２とに、それぞれ、配向膜３Ｂ、４Ｂを形成し、その後、シール材（図示せず）を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔（図示せず）から液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することができる。
【００６０】
なお、上記液晶パネル１Ｂでは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦＴ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、ＳＴＮ基板などを用いてもよい。
また、上述したような配向膜を備える液晶パネルは、光源の強いものや、屋外で用いられるものに好適に用いることができる。
【００６１】
次に、前述したような液晶パネル１Ａを備える本発明の電子機器（液晶表示装置）について、図３〜図５に示す実施形態に基づき、詳細に説明する。
図３は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
【００６２】
このパーソナルコンピュータ１１００においては、表示ユニット１１０６が、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとを備えている。バックライトからの光を液晶パネル１Ａに透過させることにより画像（情報）を表示し得るものである。
図４は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
【００６３】
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとを備えている。
図５は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
【００６４】
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとが設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、液晶パネル１Ａは、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
【００６５】
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が液晶パネル１Ａに表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
【００６６】
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【００６７】
次に、本発明の電子機器の一例として、上記液晶パネル１Ｂを用いた電子機器（液晶プロジェクター）について説明する。
図６は、本発明の電子機器（投射型表示装置）の光学系を模式的に示す図である。
同図に示すように、投射型表示装置３００は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２５と、青色に対応した（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム（色合成光学系）２１と、投射レンズ（投射光学系）２２とを有している。
【００６８】
また、照明光学系は、インテグレータレンズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有している。
【００６９】
液晶ライトバルブ２５は、前述した液晶パネル１Ｂを備えている。液晶ライトバルブ２４および２６も、液晶ライトバルブ２５と同様の構成となっている。これら液晶ライトバルブ２４、２５および２６が備えている液晶パネル１Ｂは、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されている。
なお、投射型表示装置３００では、ダイクロイックプリズム２１と投射レンズ２２とで、光学ブロック２０が構成されている。また、この光学ブロック２０と、ダイクロイックプリズム２１に対して固定的に設置された液晶ライトバルブ２４、２５および２６とで、表示ユニット２３が構成されている。
【００７０】
以下、投射型表示装置３００の作用を説明する。
光源３０１から出射された白色光（白色光束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグレータレンズ３０２および３０３により均一にされる。光源３０１から出射される白色光は、その光強度が比較的大きいものであるのが好ましい。これにより、スクリーン３２０上に形成される画像をより鮮明なものとすることができる。また、投射型表示装置３００では、耐光性に優れた液晶パネル１Ｂを用いているため、光源３０１から出射される光の強度が大きい場合であっても、優れた長期安定性が得られる。
【００７１】
インテグレータレンズ３０２および３０３を透過した白色光は、ミラー３０４で図６中左側に反射し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図６中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラー３０５を透過する。
ダイクロイックミラー３０５を透過した赤色光は、ミラー３０６で図６中下側に反射し、その反射光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶ライトバルブ２４に入射する。
【００７２】
ダイクロイックミラー３０５で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー３０７で図６中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー３０７を透過する。
ダイクロイックミラー３０７で反射した緑色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液晶ライトバルブ２５に入射する。
【００７３】
また、ダイクロイックミラー３０７を透過した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）３０８で図６中左側に反射し、その反射光は、ミラー３０９で図６中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用の液晶ライトバルブ２６に入射する。
このように、光源３０１から出射された白色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバルブに導かれ、入射する。
【００７４】
この際、液晶ライトバルブ２４が有する液晶パネル１Ｂの各画素（薄膜トランジスタ１７３とこれに接続された画素電極１７２）は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。
同様に、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２５および２６に入射し、それぞれの液晶パネル１Ｂで変調され、これにより緑色用の画像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライトバルブ２５が有する液晶パネル１Ｂの各画素は、緑色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御され、液晶ライトバルブ２６が有する液晶パネル１Ｂの各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御される。
【００７５】
これにより赤色光、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２４、２５および２６で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用の画像がそれぞれ形成される。
前記液晶ライトバルブ２４により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２４からの赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図６中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出射面２１６から出射する。
【００７６】
また、前記液晶ライトバルブ２５により形成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２５からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。
また、前記液晶ライトバルブ２６により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２６からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図６中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過して、出射面２１６から出射する。
【００７７】
このように、前記液晶ライトバルブ２４、２５および２６からの各色の光、すなわち液晶ライトバルブ２４、２５および２６により形成された各画像は、ダイクロイックプリズム２１により合成され、これによりカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ２２により、所定の位置に設置されているスクリーン３２０上に投影（拡大投射）される。
【００７８】
なお、本発明の電子機器は、図３のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図４の携帯電話機、図５のディジタルスチルカメラ、図６の投射型表示装置の他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータなどが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部、モニタ部として、前述した本発明の液晶パネルが適用可能なことは言うまでもない。
【００７９】
以上、本発明を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、本発明の配向膜の形成方法では、任意の目的の工程が１または２以上追加されてもよい。また、例えば、本発明の電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
【００８０】
また、前述した実施形態では、投射型表示装置（電子機器）は、３個の液晶パネルを有するものであり、これらの全てに本発明の液晶パネルを適用したものについて説明したが、少なくともこれらのうち１個が、本発明の液晶パネルであればよい。この場合、少なくとも、青色用の液晶ライトバルブに用いられる液晶パネルに本発明を適用するのが好ましい。
【００８１】
また、前述した実施形態では、硬化反応基を有するアルコキシシランを用いるものとして説明したが、硬化反応基を有するアルコキシシランは用いなくてもよい。
また、前述した実施形態では、複数種のアルコキシシランを用いるものとして説明したが、これに限定されず、例えば、同じ分子内に、親和性付与基と配向性付与基と硬化反応基とを有するアルコキシシランを用いてもよい。
【実施例】
【００８２】
［液晶パネルの製造］
以下のようにして、図２に示すような液晶パネルを製造した。
（実施例１）
まず、以下のようにして、マイクロレンズ基板を製造した。
厚さ約１．２ｍｍの未加工の石英ガラス基板（透明基板）を母材として用意し、これを８５℃の洗浄液（硫酸と過酸化水素水との混合液）に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
【００８３】
その後、この石英ガラス基板の表面および裏面に、ＣＶＤ法により、厚さ０．４μｍの多結晶シリコンの膜を形成した。
次に、形成した多結晶シリコン膜に、形成する凹部に対応した開口を形成した。
これは、次のようにして行った。まず、多結晶シリコン膜上に、形成する凹部のパターンを有するレジスト層を形成した。次に、多結晶シリコン膜に対してＣＦガスによるドライエッチングを行い、開口を形成した。次に、前記レジスト層を除去した。
【００８４】
次に、石英ガラス基板をエッチング液（１０ｗｔ％フッ酸＋１０ｗｔ％グリセリンの混合水溶液）に１２０分間浸漬してウェットエッチング（エッチング温度３０℃）を行い、石英ガラス基板上に凹部を形成した。
その後、石英ガラス基板を、１５ｗｔ％テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液に５分間浸漬して、表面および裏面に形成した多結晶シリコン膜を除去することにより、マイクロレンズ用凹部付き基板を得た。
【００８５】
次に、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された面に、紫外線（ＵＶ）硬化型アクリル系の光学接着剤（屈折率１．６０）を気泡なく塗布し、次いで、かかる光学接着剤に石英ガラス製のカバーガラス（表層）を接合し、次いで、かかる光学接着剤に紫外線を照射して光学接着剤を硬化させ、積層体を得た。
その後、カバーガラスを厚さ５０μｍに研削、研磨して、マイクロレンズ基板を得た。
なお、得られたマイクロレンズ基板では、樹脂層の厚みは１２μｍであった。
【００８６】
以上のようにして得られたマイクロレンズ基板について、スパッタリング法およびフォトリソグラフィー法を用いて、カバーガラスのマイクロレンズに対応した位置に開口が設けられた厚さ０．１６μｍの遮光膜（Ｃｒ膜）、すなわち、ブラックマトリックスを形成した。さらに、ブラックマトリックス上に厚さ０．１５μｍのＩＴＯ膜（透明導電膜）をスパッタリング法により形成し、液晶パネル用対向基板を製造した。
【００８７】
このようにして得られた液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に配向膜を以下のようにして形成した。
まず、親和性付与基としてビニル基を有するビニルトリメトキシシラン：５．３重量部と、配向性付与基としてフェニル基を有するフェニルトリメトキシシラン：４．８重量部と、硬化反応基としてグリシドキシアルキル基を有する３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン：１４．２重量部と、テトラヒドロフラン：５３３重量部と、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液：２２．５重量部とを用意した。
【００８８】
これら各成分を、１Ｌ３つ口フラスコに投入し、６０℃に加温し、３時間撹拌した。
その後、常温まで冷却し、１Ｎ塩酸：２２．５重量部を加え、中和し、混合液１を得た。
次に、混合液１から、エバポレーターを用いて、テトラヒドロフランを留去し、混合液２を得た。
【００８９】
次に、この混合液２から、トルエン：５０重量部を用いて、混合液２中に含まれるポリシロキサン（籠型構造を有するポリシルセスキオキサン）を抽出し、抽出液を得た。
次に、得られた抽出液を、蒸留水５０重量部および飽和食塩水５０重量部を用いて洗浄し、その後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。
次に洗浄・乾燥した抽出液から、エバポレーターを用いて、トルエンを除去した後、１３．３Ｐａの減圧下にて、ポリシロキサン中に含まれる低沸点物を除去した。
これにより、ポリシロキサン材料を得た。
【００９０】
得られたポリシロキサン材料：０．１０重量部を、溶剤（ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート）：１．９０重量部と混合し、混合液３を得た。
次に、この混合液３を、ポアサイズ０．２μｍのフィルターを用いて、ろ過し、混合液３から不純物を除去した。
ろ過した混合液３に、硬化剤として、（チオフェノキシフェニル）ジフェニルサルフォニウムヘキサフルオロホスフェイトとビス（ジフェニルサルフォニウム）ジフェニルチオエーテルヘキサフルオロホスフェイトとの混合物の５０ｗｔ％プロピレンカーボネート溶液：０．００１重量部を加え、配向膜形成用液体を得た。
【００９１】
次に、得られた配向膜形成用液体を、スピンコーターを用いて、液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に塗布し、塗膜を形成した。
得られた塗膜を、１５０℃に加熱したホットプレートを用いて、３分間乾燥した後、メタルハイドレートランプを用いて、５分間光を照射し、仮硬化させた。
次に、２００℃３時間加熱し、本硬化させた。
【００９２】
その後、ラビング処理を施すことにより、配向膜が形成された。
なお、形成された配向膜の膜厚は、０．２μｍであった。また、配向膜を構成する有機ケイ素材料１分子中、親和性付与基を持つケイ素ユニット存在比率は、２９ｍｏＬ％であった。また、同じく配向性付与基の存在比率は、２１ｍｏＬ％であった。これらの値は、配向膜作成に用いた有機ケイ素材料を合成する際の原料仕込比と良い一致を示した。また、有機ケイ素材料の重量平均分子量は、１８００であった。
【００９３】
また、別途用意したＴＦＴ基板（石英ガラス製）の表面にも、上記と同様にして、配向膜を形成した。
配向膜が形成された液晶パネル用対向基板と、配向膜が形成されたＴＦＴ基板とを、シール材を介して接合した。この接合は、液晶層を構成する液晶分子が左ツイストするように配向膜の配向方向が９０°ずれるように行った。
次に、配向膜−配向膜間に形成された空隙部の封入孔から液晶（メルク社製：MJ99247）を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞いだ。形成された液晶層の厚さは、約３μｍであった。
【００９４】
その後、液晶パネル用対向基板の外表面側と、ＴＦＴ基板の外表面側とに、それぞれ、偏光膜８Ｂ、偏光膜７Ｂを接合することにより、図２に示すような構造のＴＦＴ液晶パネルを製造した。偏光膜としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いた。なお、偏光膜７Ｂ、偏光膜８Ｂの接合方向は、それぞれ、配向膜３Ｂ、配向膜４Ｂの配向方向に基づき決定した。すなわち、電圧印加時には入射光が透過せず、電圧無印加時には入射光が透過するように、偏光膜７Ｂ、偏光膜８Ｂを接合した。
なお、製造された液晶パネルのプレチルト角は、３〜７°の範囲のものであった。
【００９５】
（実施例２〜５）
アルコキシシランとして表１に示すものを用い、各アルコキシシランの混合量を表１に示すようにして、配向膜を形成した以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
（実施例６〜８）
アルコキシシランとして表１に示すものを用い、各アルコキシシランの混合量を表１に示すようにして、さらに、硬化剤としてベンゾフェノンを用い、配向膜を形成した以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
【００９６】
（比較例１）
ポリイミド系樹脂（ＰＩ）の溶液（日本合成ゴム株式会社製：AL6256）を用意し、スピンコート法により、液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に平均厚さ０．０５μｍの膜を形成し、プレチルト角が２〜３°となるように、ラビング処理を施して、配向膜とした以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。なお、比較例１では、ラビング処理する際に、埃のようなものが発生した。
【００９７】
（比較例２）
ビニルトリメトキシシランを用いずに、各アルコキシシランの混合量を表１に示すようにして、配向膜を形成した以外は、前記実施例３と同様にして液晶パネルを製造した。
（比較例３）
イソブチルトリメトキシシランを用いずに、各アルコキシシランの混合量を表１に示すようにして、配向膜を形成した以外は、前記実施例３と同様にして液晶パネルを製造した。
【００９８】
［液晶パネルの評価］
上記各実施例および各比較例で製造した液晶パネルについて、光透過率を連続的に測定した。光透過率の測定は、各液晶パネルを５０℃の温度下に置き、電圧無印加の状態で、１５ｌｍ／ｍｍ２の光束密度の白色光を照射することにより行った。
なお、液晶パネルの評価としては、比較例１で製造した液晶パネルの白色光の照射開始から光透過率が初期の光透過率と比較して、５０％低下するまでの時間（耐光時間）を基準として、以下のように４段階で評価を行った。
◎：耐光時間が比較例１よりも５倍以上。
○：耐光時間が比較例１よりも２倍以上５倍未満。
△：耐光時間が比較例１よりも１倍以上２倍未満。
×：耐光時間が比較例１よりも劣る。
【００９９】
表１には、配向膜の形成に用いたアルコキシシランの種類および混合量、配向膜の形成の各種条件、配向膜の平均厚さ、各液晶パネルでのプレチルト角度、液晶パネルの評価結果をまとめて示した。なお、表中、アルコキシシランとして、ビニルトリメトキシシランをＶＩ、アリルトリメトキシシランをＡＬ、３−シアノプロピルトリエトキシシランをＣＮ、フェニルトリメトキシシランをＰＨ、イソブチルトリメトキシシランをＩＢ、ｐ−トリルトリメトキシシランをｔＰＨ、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランをＧＬ、２−（３，４−エポキシシルロヘキシル）エチルトリメトキシシランをＥＰ、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランをＭＡと示した。
【０１００】
【表１】
2006276501.tif 000002
【０１０１】
表１から明らかなように、本発明の液晶パネルにおいては、比較例１の液晶パネルと比較して、優れた耐光性を示した。また、本発明の液晶パネルでは、十分なプレチルト角が得られ、液晶分子の配向状態を確実に規制することができたが、比較例２、３の液晶パネルでは、十分なプレチルト角が得られず、液晶分子の配向状態を規制するのが困難であった。
【０１０２】
［液晶プロジェクター（電子機器）の評価］
上記各実施例および各比較例で製造したＴＦＴ液晶パネルを用いて、図６に示すような構造の液晶プロジェクター（電子機器）を組み立て、この液晶プロジェクターを５０００時間連続駆動させた。
なお、液晶プロジェクターの評価としては、駆動直後の投射画像と駆動後５０００時間の投射画像とを観察し、以下のように４段階で鮮明度の評価を行った。
【０１０３】
◎：鮮明な投射画像が観察された。
○：ほぼ鮮明な投射画像が観察された。
△：やや鮮明さに劣る投射画像が観察された。
×：鮮明でない投射画像が確認された。
この結果を表２に示した。
【０１０４】
【表２】
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【０１０５】
表２から明らかなように、本発明の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクター（電子機器）は、長時間連続して駆動させた場合であっても、鮮明な投射画像が得られた。
これに対し、比較例１の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクターでは、駆動時間に伴い、投射画像の鮮明度が明らかに低下した。これは、初期の段階では、液晶分子の配向が揃っているが、長期駆動により、配向膜が劣化し、液晶分子の配向性が低下したためであると考えられる。なお、比較例３の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクターでは、駆動当初から、鮮明な投射画像を得られるものではなかった。これは、配向膜の配向性がもともと低いためであると考えられる。
また、本発明の液晶パネルを備えたパーソナルコンピュータ、携帯電話機、ディジタルスチルカメラを作製して、同様の評価を行ったところ、同様の結果が得られた。
これらの結果から、本発明の液晶パネル、電子機器は、耐光性に優れ、長期間使用しても安定した特性が得られるものであることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】本発明の液晶パネルの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】本発明の液晶パネルの第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図３】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図４】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
【図５】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。
【図６】本発明の電子機器を適用した投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１０７】
１Ａ、１Ｂ…液晶パネル  ２…液晶層  ３Ａ、３Ｂ…配向膜  ４Ａ、４Ｂ…配向膜  ５…透明導電膜  ６…透明導電膜  ７Ａ、７Ｂ…偏光膜  ８Ａ、８Ｂ…偏光膜  ９…基板  １０…基板  １００…基材  １０１…基材  １１…マイクロレンズ基板  １１１…マイクロレンズ用凹部付き基板  １１２…凹部  １１３…マイクロレンズ  １１４…表層  １１５…樹脂層  １２…液晶パネル用対向基板  １３…ブラックマトリックス  １３１…開口  １４…透明導電膜  １７…ＴＦＴ基板  １７１…ガラス基板  １７２…画素電極  １７３…薄膜トランジスタ  １１００…パーソナルコンピュータ  １１０２…キーボード  １１０４…本体部  １１０６…表示ユニット  １２００…携帯電話機  １２０２…操作ボタン  １２０４…受話口  １２０６…送話口  １３００…ディジタルスチルカメラ  １３０２…ケース（ボディー）  １３０４…受光ユニット  １３０６…シャッタボタン  １３０８…回路基板  １３１２…ビデオ信号出力端子  １３１４…データ通信用の入出力端子  １４３０…テレビモニタ  １４４０…パーソナルコンピュータ  ３００…投射型表示装置  ３０１…光源  ３０２、３０３…インテグレータレンズ  ３０４、３０６、３０９…ミラー  ３０５、３０７、３０８…ダイクロイックミラー  ３１０〜３１４…集光レンズ  ３２０…スクリーン  ２０…光学ブロック  ２１…ダイクロイックプリズム  ２１１、２１２…ダイクロイックミラー面  ２１３〜２１５…面  ２１６…出射面  ２２…投射レンズ  ２３…表示ユニット  ２４〜２６…液晶ライトバルブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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