(57)【要約】【課題】  機能部の表面を平坦にすると共に、機能部を均一に乾燥することが可能な有機ＥＬ装置、有機ＥＬ装置の製造方法及び電子機器を提供すること。【解決手段】  機能部３０からの距離がほぼ一定になるように液体保持部３７が設けられているので、機能部３０と液体保持部３７に保持される溶媒５０との距離が均一になる。また、溶媒５０を保持する保持幅ｔ２が均一になるように液体保持部３７が設けられているので、当該液体保持部３７に保持される溶媒５０が不規則なパターンになることは無い。したがって、機能部３０に沿った部分で溶媒分子の分圧を均一にすることができるので、機能部３０を均一に乾燥させることができる。【選択図】  図５
2006252838.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に設けられた隔壁と、
前記隔壁に区画されるように設けられ、光を発光する発光部を含む機能部と、
平面視した状態で前記機能部からの距離がほぼ一定になるように前記機能部に沿って設けられ、液体を保持可能に形成されており、前記液体を保持する部分が前記機能部に沿う方向に対してほぼ等しい幅を有する液体保持部と
を具備することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項２】
前記機能部が複数設けられており、
前記液体保持部が、前記複数の機能部の間の領域に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項３】
前記液体保持部が、前記隔壁に設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項４】
前記液体保持部が、前記隔壁に設けられた溝であることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項５】
前記液体保持部が、前記隔壁に設けられた一対の土手の間に形成された部分であることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項６】
前記液体保持部が、前記隔壁に形成された親液性の領域であることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項７】
光を発光する発光部を含む機能部を区画する隔壁を基板上に形成する工程と、
平面視した状態で前記機能部からの距離がほぼ一定になるように前記機能部に沿い、かつ、前記液体を保持する部分が前記機能部に沿う方向に対してほぼ等しい幅を有する液体保持部を形成する工程と、
前記隔壁に区画される部分に、前記機能部を構成する材料を含んだ液体材料を吐出する工程と、
前記液体材料に含まれる液体を前記液体保持部に保持させる工程と、
前記液体材料に含まれる液体を除去して、前記機能部を形成する工程と
を具備することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項６のうちいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置又は請求項７に記載の有機ＥＬ装置の製造方法により製造された有機ＥＬ装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ装置、有機ＥＬ装置の製造方法及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ装置は、例えば基板に隔壁が設けられ、当該隔壁で区画された部分に発光部等を含む機能部が設けられた構成となっている。この機能部を形成する手法の一つとして、液滴吐出法が知られている。液滴吐出法は、有機発光材料等を溶媒に溶解した液体材料を隔壁で区画された部分に吐出し、溶媒を蒸発させて機能部を形成する手法である。
【０００３】
例えばアクティブマトリクス型の有機ＥＬ装置等のように基板上に複数の機能部を配列する場合、基板の周辺部分に配置された機能部は、中央部分に配置された機能部に比べて溶媒分子の分圧が小さくなることがある。溶媒分子の分圧が小さいと、機能部から蒸発する溶媒の蒸発速度が大きくなり、溶媒が急激に蒸発するため、形成される機能部の表面が平坦にならない。機能部の表面が平坦でないと、有機ＥＬ装置において、その部分の表示特性が低くなってしまう。
【０００４】
これに対して、周辺部分の機能部から蒸発する溶媒の蒸発速度を抑えて機能部の表面を平坦にする技術が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１の記載によれば、基板上の領域のうち、機能部が形成される領域の外側の領域を表示に寄与しないダミー領域とし、機能部を形成する際に当該ダミー領域に液体材料の溶媒を滴下して、周辺部分の溶媒分子の分圧を大きくしている。溶媒分子の分圧を大きくすることで、溶媒が急激に蒸発するのを抑えている。  
【特許文献１】特開２００２−２２２６９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ダミー領域には隔壁で区画された部分が無く、平坦な面に直接溶媒を滴下することになる。このため、滴下された溶媒同士がくっついてしまい、溶媒の大きさが不均一になる。また、隔壁で区画されない平坦な面に滴下された溶媒は不規則なパターンに形成されやすく、平面視した状態で機能部との距離が不均一になる。この結果、溶媒分子の分圧がダミー領域の中で不均一になり、機能部を均一に乾燥することができなくなってしまう。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、機能部の表面を平坦にすると共に、機能部を均一に乾燥することが可能な有機ＥＬ装置、有機ＥＬ装置の製造方法及び電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る有機ＥＬ装置は、基板と、前記基板上に設けられた隔壁と、前記隔壁に区画されるように設けられ、光を発光する発光部を含む機能部と、平面視した状態で前記機能部からの距離がほぼ一定になるように前記機能部に沿って設けられ、液体を保持可能に形成されており、前記液体を保持する部分が前記機能部に沿う方向に対してほぼ等しい幅を有する液体保持部とを具備することを特徴とする。  
ここで、「平面視」とは、平面に対して垂直な方向から見ることをいい、ここでは、例えば基板面に対して垂直な方向から見ることをいう。
【０００８】
本発明では、液体を保持することが可能な液体保持部が機能部に沿って設けられているので、例えば液滴吐出法により隔壁に区画された部分に液体材料を吐出して機能部を形成する際においては、この液体保持部に液体材料の溶媒等を保持させておくことにより、機能部に沿った部分で溶媒分子の分圧を大きくすることができる。これにより、機能部から溶媒が急激に蒸発するのを抑えることができ、機能部の表面を平坦にすることができる。
【０００９】
一方、機能部からの距離がほぼ一定になるように液体保持部が設けられているので、機能部と液体保持部に保持される溶媒との距離が均一になる。また、液体を保持する部分が前記機能部に沿う方向に対してほぼ等しい幅を有するように液体保持部が設けられているので、当該液体保持部に保持される溶媒が不規則なパターンになることは無い。これにより、機能部に沿った部分で溶媒分子の分圧を均一にすることができるので、機能部を均一に乾燥することができる。
【００１０】
また、前記機能部が複数設けられており、前記液体保持部が、前記複数の機能部の間の領域に設けられていることが好ましい。  
分圧の分布は、吐出された液体材料の溶媒が蒸発する部分で高くなる。機能部の間の領域には液体材料が吐出されず、それだけ分圧が低くなっている。機能部の間の領域での分圧は、機能部が形成される領域の外側の領域での分圧に比べれば高いとはいうものの、液体材料を乾燥する際に影響し乾燥が不均一になるおそれがある。本発明では、機能部の間にも液体保持部を設けるようにしたので、液体材料を乾燥する際のかかる影響を防ぐことができる。
【００１１】
また、前記液体保持部が、前記隔壁に設けられていることが好ましい。  
液体保持部を隔壁に設けることにより、隔壁と液体保持部とを一体的に形成することができる。
【００１２】
また、前記液体保持部が、前記隔壁に設けられた溝であることが好ましい。  
隔壁を形成する工程では、通常は一度レジストを形成し、当該レジストのうち液体材料を吐出する部分をパターニングして削るように形成する。本発明によれば、当該パターニングする工程において、液体材料を吐出する部分と溝部とを一度にパターニングすることができるという利点がある。
【００１３】
また、前記液体保持部が、前記液体保持部が、前記隔壁に設けられた一対の土手の間に形成された部分であることが好ましい。  
液滴吐出法により吐出された液体材料を乾燥する際、液体保持部に保持されている溶媒は残らず蒸発させる必要がある。本発明では、隔壁に形成された溝ではなく、溶媒が隔壁に設けられた一対の土手の間に保持されているので、例えば溝部に保持されている場合よりも蒸発させやすくなる。
【００１４】
また、前記液体保持部が、前記隔壁に形成された親液性の領域であることが好ましい。
液滴吐出法を行う場合、液体材料を吐出する前に、隔壁のうち機能部を形成する部分に親液処理を施して液体材料が付着しやすい状態にしておく。また、隔壁の表面等、液体材料を付着させない部分に撥液処理を施して液体材料がなじみにくい状態にしておく。本発明によれば、上記親液処理を行うのと同時に液体保持部を形成することができるので、隔壁に溝や土手を設ける必要も無く、簡単に形成することができる。
【００１５】
本発明の別の観点に係る有機ＥＬ装置の製造方法は、光を発光する発光部を含む機能部を区画する隔壁を基板上に形成する工程と、平面視した状態で前記機能部からの距離がほぼ一定になるように前記機能部に沿い、かつ、前記液体を保持する部分が前記機能部に沿う方向に対してほぼ等しい幅を有する液体保持部を形成する工程と、前記隔壁に区画される部分に、前記機能部を構成する材料を含んだ液体材料を吐出する工程と、前記液体材料に含まれる液体を前記液体保持部に保持させる工程と、前記液体材料に含まれる液体を除去して、前記機能部を形成する工程とを具備することを特徴とする。
【００１６】
本発明では、液体保持部に、液体材料に含まれる液体を保持しておくことで、機能部に沿った部分で溶媒分子の分圧を大きくすることができ、機能部から溶媒が急激に蒸発するのを抑えることができる。これにより、隔壁に区画された部分の液体材料を除去する際においては、機能部の表面を平坦にすることができる。
【００１７】
一方、機能部からの距離がほぼ一定になるように液体保持部が設けられているので、機能部と液体保持部に保持される液体との距離が均一になる。また、液体を保持する保持幅が均一になるように液体保持部が設けられているので、当該液体保持部に保持される液体が不規則なパターンになることは無い。これにより、機能部に沿った部分で溶媒分子の分圧を均一にすることができ、液体材料から液体を除去した場合に機能部の表面が不均一になることは無い。
【００１８】
なお、「前記隔壁に区画される部分に、前記機能部を構成する材料を含んだ液体材料を吐出する工程」と、「前記液体材料に含まれる液体を前記液体保持部に保持させる工程」とについては、ともに「前記液体材料に含まれる液体を除去して、前記機能部を形成する工程」の前に行われるが、両者のうちいずれを先に行っても良いし、可能であれば同時に行っても良い。
【００１９】
本発明の別の観点に係る電子機器は、上記の有機ＥＬ装置又は上記の有機ＥＬ装置の製造方法により製造された有機ＥＬ装置を搭載したことを特徴とする。  
本発明では、機能部の表面を平坦にすると共に、機能部を均一に乾燥することが可能な有機ＥＬ装置を搭載したので、表示ムラが無く、表示特性の高い電子機器を得ることができる。
【００２０】
また、例えば感光性ドラムを露光するラインヘッドモジュールに用いられる有機ＥＬ装置、例えば機能部が２列に並んだ有機ＥＬ装置を液滴吐出法により形成する場合、機能部の端と中央部とでは溶媒の分圧が異なる。機能部が均一に乾燥されなければ、感光性ドラムの露光が不均一になってしまう。特に機能部が２列しかない有機ＥＬ装置だと、当該機能部の乾燥が不均一であった場合の発光特性の低下が甚だしい。
【００２１】
本発明によれば、このような有機ＥＬ装置の機能部を形成する工程で液体材料を吐出する際に、当該機能部を形成するための溶媒を液体保持部に保持させておくことができるので、機能部を均一に乾燥することができる。このため、有機ＥＬ装置の発光特性の低下を防ぐことができ、感光ドラムを均一に露光することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の第１実施形態を図面に基づき説明する。  
本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。
【００２３】
図１は、有機ＥＬ装置１の全体構成を概略的に示す斜視図である。  
有機ＥＬ装置１は、基板２に配線や絶縁層等が形成された基体１０と、この基体１０上に形成された有機ＥＬ素子部３と、基体１０の端部２ａに取り付けられた駆動部４と、有機ＥＬ素子部３及び基体１０を覆う封止部５とを有しており、駆動部４から供給される電気信号に応じて有機ＥＬ素子部３が発光することで、画像や動画等を表示できるようになっている。
【００２４】
本実施形態では、薄膜トランジスタ（Thin film Transistor：ＴＦＴ）が形成されたアクティブマトリクス型であり、有機ＥＬ素子部３により発生した光が基体１０を透過して取り出されるボトムエミッション型である有機ＥＬ装置１を例に挙げて説明する。
【００２５】
図２は、有機ＥＬ装置１の平面図である。この図では、有機ＥＬ素子部３及び封止部５を省略している。  
同図に示すように、基体１０は、画素部７（一点鎖線内の領域）と周縁部８（当該一点鎖線の外の領域）とに区画されており、画素部７内では、実表示領域Ｐ（二点鎖線内の領域）とダミー領域Ｑ（一点鎖線と二点鎖線との間の領域）とに更に区画されている。画素部７の実表示領域Ｐは、当該発光領域１４からの光が通過する画素領域Ｋを有している。
【００２６】
図３は、有機ＥＬ装置１のＡ−Ａ断面を概略的に示す図である。図４は、有機ＥＬ装置１のＢ−Ｂ断面を概略的に示す図である。  
図３及び図４に示すように、基体１０の構成要素である基板２は、例えば、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等からなる透明基板である。本実施形態に係る有機ＥＬ装置１はボトムエミッション型のものであり、光を取り出すには基板２を透明にする必要がある。基板２の表面２ｂには、下地として例えばＳｉＯ２等の透明な下地保護層１１が形成されている。
【００２７】
画素部７の実表示領域Ｐでは、下地保護層１１上に、シリコン膜１２、第１絶縁層（ゲート絶縁層）１３、ゲート電極１５ａ、第２絶縁層１６、ソース電極１７ａ、ドレイン電極１８、第３絶縁層１９が形成されている。また、画素部７のダミー領域Ｑでは、下地保護層１１上に、走査駆動回路２０、データ駆動回路２１、検査回路２２等が形成されており、駆動部４に接続されるように電源線（図示せず）が形成されている。
【００２８】
シリコン膜１２は、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を有する駆動用トランジスタである。シリコン膜１２のうち、ゲート絶縁層１３を挟んでゲート電極１５ａと重なる領域がチャネル領域１２ａである。チャネル領域１２ａのソース側には、低濃度ソース領域１２ｂ及び高濃度ソース領域１２ｓが形成され、チャネル領域１２ａのドレイン側には、低濃度ドレイン領域１２ｃ及び高濃度ドレイン領域１２ｄが形成されている。このようにシリコン膜１２は、ＬＤＤ（Light Doped Drain）構造になっている。
【００２９】
高濃度ソース領域１２ｓ及び高濃度ドレイン領域１２ｄには、ゲート絶縁層１３と第２絶縁層１６とを連通して開孔されたコンタクトホール２３、２４が形成されている。一方、高濃度ドレイン領域１２ｄ側には、ドレイン電極１８に接続されるように、第３絶縁層１９を貫通してコンタクトホール２５が形成されている。  
ゲート絶縁層１３は、例えばＳｉＯ２やＳｉＮ等で形成された透明な層であり、シリコン膜１２とゲート電極１５ａとを絶縁している。
【００３０】
ゲート電極１５ａは、例えばアルミニウムや銅等により形成されており、走査線１５に接続されている。ソース電極１７ａは、ゲート電極１５ａと同様にアルミニウムや銅等により形成されており、データ線１７に接続されている。ソース電極１７ａは、コンタクトホール２３を介して高濃度ソース領域１２ｓに接続されている。また、ドレイン電極１８は、高濃度ドレイン領域１２ｄに接続されている。
【００３１】
第２絶縁層１６は、主にＳｉＯ２からなる透明な層であり、ゲート電極１５ａ、ソース電極１７ａ及びドレイン電極１８をそれぞれ絶縁している。  
第３絶縁層１９は、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とし、ソース電極１７ａとドレイン電極１８及びコンタクトホール２５とを絶縁している。なお、アクリル系の絶縁膜以外の材料、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ２などを用いることもできる。
【００３２】
また、ダミー領域Ｑに設けられる走査駆動回路２０は、シフトレジスタ等のメモリや信号レベルを変換するレベルシフタ等の回路を有しており、走査線１５に接続されている。データ駆動回路２１は、このシフトレジスタ、レベルシフタの他、ビデオラインやアナログシフタ等の回路を有しており、データ線１７に接続されている。走査駆動回路２０及びデータ駆動回路２１は、駆動制御信号線２８ａ、２８ｂを介して駆動部４に接続されており、当該駆動部４の制御により走査線１５及びデータ線１７に電気信号を出力するようになっている。検査回路２２は、有機ＥＬ装置１の作動状況を検査するための回路であり、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段（図示せず）等を備え、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。また、走査駆動回路２０、データ駆動回路２１及び検査回路２２は、駆動電源線２９ａ、２９ｂを介して電源に接続されている。
【００３３】
周縁部８には、有機ＥＬ素子３に接続する接続用配線２７が形成されている。この接続用配線２７は駆動部４に接続されており、当該接続用配線２７を介して駆動部４からの電気信号を有機ＥＬ素子３に供給することができるようになっている。
【００３４】
一方、有機ＥＬ素子３は、陽極３１と、正孔注入層３２と、発光部３３と（以下、正孔注入層３２と発光部３３とをまとめて「機能部３０」と表記することがある。）、共通電極（陰極）３４と、画素開口膜３５と、有機バンク層３６とを有している。これらは上述した基体１０上に積層されている。
【００３５】
陽極３１は、正孔注入層３２に正孔を注入する透明な電極であり、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等から形成されている。当該陽極３１は、コンタクトホール２５を介してドレイン電極１８に接続されており、正孔注入層３２を圧迫するように、凸状に形成されている。
【００３６】
発光部３３は、正孔注入層３２からの正孔と陰極３４からの電子とが結合して光を発する層であり、例えば低分子材料や高分子材料等により形成されている。発光部３３には、赤色光を発する層（３３Ｒ）、緑色光を発する層（３３Ｇ）、青色光を発する層（３３Ｂ）の３種類がある。このような発光部３３からの光が正孔注入層３２、陽極３１及び基体１０を透過することで、基板２の実表示領域Ｐに画像や動画等が表示されるようになっている。
【００３７】
陰極３４は、駆動部４からの電気信号に応じて発光部３３に電子を注入する層であり、例えばカルシウム等の金属により形成されている。陰極３４は、実表示領域Ｐおよびダミー領域Ｑの総面積より広い面積を備え、それぞれの領域を覆うように形成されたもので、有機ＥＬ素子３の外側を覆った状態で基体１０上に形成されている。この陰極３４は、接続用配線２７に接続されており、当該接続用配線２７を介して駆動部４に接続されている。製造時の陰極３４の腐食防止のため、陰極３４の上層部に例えばアルミニウム等の保護層を形成してもよい。
【００３８】
画素開口膜３５は、例えばＳｉＯ２等からなる絶縁膜である。この画素開口膜３５は、壁面３５ｂで囲まれた開口部３５ａにおいて陽極３１からの正孔の移動を可能にすると共に、開口部３５ａが設けられない部位での正孔の移動が起こらないようにしている。
【００３９】
有機バンク層３６は、正孔注入層３２や発光部３３をインクジェット法等の液滴吐出法で形成する際の隔壁である。また、隣接する正孔注入層３２及び発光部３３の間で電子の移動が起こらないようにする絶縁層である。有機バンク層３６は、例えばアクリルやポリイミド等の耐熱性・耐溶性のある材料で形成されており、各正孔注入層３２及び発光部３３を遮断している。有機バンク層３６には、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域とが形成されている。
【００４０】
有機バンク層３６の厚さは、１．０μｍ〜３．０μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度が好ましい。有機バンク層３６層の厚さが１．０μｍ未満だと、発光層３３の液体材料を吐出したときに、液体材料があふれてしまうおそれがあるので好ましくない。この厚さが３．０μｍ以上を超えると、有機バンク層３６と発光部３３との段差が大きくなり、陰極３４とのステップカバレッジを確保できなくなる場合があるので好ましくない。また、有機バンク層３６には、液体保持部３７が設けられている。
【００４１】
液体保持部３７は、有機バンク層３６の表層部に溝状に形成されたもので、当該有機バンク層３６の上面３６ｃに開口を有したものであり、図２に示すようにＸ方向に延在するように設けられている。
【００４２】
当該溝のこのような構成のもとに、液体保持部３７は液体を保持することができるようになっている。液体保持部３７の深さＴ１は、１．０μｍ〜５．０μｍとなるような範囲が好ましい。
【００４３】
図５は、有機ＥＬ装置１の表示部の一部を拡大して示す平面図である。  
同図に示すように、各機能部３０を構成する発光部３３が、液体保持部３７と均一の間隔ｔ１となるように配置されており、当該ｔ１は、１０μｍ〜５０μｍの範囲になっている。  
また、液体保持部３７の幅（Ｙ方向の長さ）ｔ２は、１．０μｍ〜５．０μｍの範囲になっており、Ｘ方向に沿って均一になるように形成されている。
【００４４】
次に、このように構成された有機ＥＬ装置１を製造する工程を説明する。  
図６は、有機ＥＬ装置１の製造工程を示すフローチャートである。基体１０及び有機ＥＬ素子３の画素部７の領域を形成する工程を中心に説明し、周縁部８を形成する工程の説明は省略する。
【００４５】
本実施形態において正孔注入層３２及び発光部３３を形成する際には、正孔注入層３２の材料及び発光部３３の材料を溶媒に溶解させ、所定の場所に滴下する液滴吐出法を行っている。正孔注入層３２及び発光部３３の材料が有機材料であるため、例えば正孔注入層３２及び発光部３３に共通する有機溶媒が用いられる。
【００４６】
基板２にＴＦＴ素子や絶縁膜等を形成することにより、基体１０を形成する工程について説明する（ＳＴ１）。  
公知の方法により基板２に下地保護層１１を形成する。当該下地保護層１１の上に、シリコン膜１２を形成し、レーザーアニールしてポリシリコン化する。ポリシリコン化されたシリコン膜１２をゲート絶縁層１３で覆った後、ゲート電極１５ａを形成し、その上に再びゲート絶縁層１３を形成する。また、ソース側のコンタクトホール２３をパターニングして形成する。
【００４７】
次に、第２絶縁層１６を形成し、コンタクトホール２４及びこのコンタクトホール２４に接続するソース電極１７ａをパターニングして形成する。第２絶縁層１６上には、ソース電極１７ａ及びドレイン電極１８をパターニングして形成する。当該ソース電極１７ａ及びドレイン電極１８上には第３絶縁層１９を形成し、ドレイン側のコンタクトホール２５をパターニングして形成する。  
このように、基体１０が形成される。
【００４８】
次に、有機ＥＬ素子３を形成する工程を説明する（ＳＴ２〜ＳＴ９）。  
基体１０のほぼ全面を覆うように透明な導電膜を形成し、陽極３１が所定の領域に形成されるようにこの導電膜をパターニングする（ＳＴ２）。同時にダミー領域Ｑのダミーパターン（図示せず）も形成する。画素領域Ｋでコンタクトホール２５と陽極３１とを接続し、陽極とドレイン電極１８とを導通させる。
【００４９】
次に、第３絶縁層１９上に画素開口膜３５を形成する（ＳＴ３）。画素開口膜３５は、壁面３５ｂで囲まれた開口部３５ａが形成されるように、例えば陽極３１に重ねて形成する。
【００５０】
次に、図７に示すように、画素開口膜３５上に有機バンク層３６を形成する（ＳＴ４）。アクリル樹脂やポリイミド等の樹脂からなる材料を溶媒に溶解したレジストをスピンコート法、ディップコート法などの各種塗布法により塗布してレジスト層３８を形成し（図７（ａ））、フォトリソグラフィ技術等によりパターニングして、開口部３５ａ及び液体保持部３７を所定のパターンに形成する（図７（ｂ））。
【００５１】
次に、全面を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱してプラズマ処理を施す（ＳＴ５）。大気雰囲気中で酸素を反応ガスとするＯ２プラズマ処理により、有機バンク層３６の壁面３６ｃ、液体保持部３７、陽極３１の上面３１ａ及び画素開口膜３５の上面３５ｃ（図３参照）をそれぞれ親液性にする。また、大気雰囲気中で四フッ化メタンを反応ガスとするＣＦ４プラズマ処理により、有機バンク層３６の上面３６ｅおよび壁面３６ｃを撥液性にする。その後、各部を室温まで冷却する。
【００５２】
次に、図８に示すように、インクジェット法等の液滴吐出法により、液体保持部３７内に有機溶媒５０を吐出する（ＳＴ６）。当該有機溶媒５０は、正孔注入層３２の材料を溶解する溶媒である。液体保持部３７の内面はＳＴ５でプラズマ処理されているため親液性になっており、有機溶媒５０は、当該液体保持部３７の内面に広がるように保持される。
【００５３】
次に、例えば液滴吐出法や、スピンコート法などにより、正孔注入層３２を形成する（ＳＴ７）。吐出された液滴は、親液化処理がなされた陽極３１上で広がって開口部３５ａ内に満たされる。その一方で、撥液化処理された有機バンク層３６の上面では液滴がはじかれて付着しない。なお、本工程以降では、酸化を防止するため、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などの不活性ガス雰囲気で行うのが好ましい。
【００５４】
次に、液滴を吐出したら、当該液滴と溶媒５０とを一括して乾燥する。例えば、室温のまま数分〜１０分程度かけて常圧から１００Ｐａまで減圧すると、溶媒５０が蒸発して液体保持部３７が空になると共に、液滴中の溶媒が蒸発して正孔注入層３２が形成される。なお、常圧から１００Ｐａに減圧するまでの時間については、短すぎると突沸が起こりやすくなり、長すぎると膜厚の均一性が低下する。このため、突沸が起こらず、膜厚が均一になるような時間に設定すればよい。正孔注入層３２が形成された後、さらに減圧し、蒸発した溶媒を除去するようにしても良い。
【００５５】
正孔注入層３２を形成したら、インクジェット法等の液滴吐出法により、液体保持部３７内に有機溶媒５１を吐出する（ＳＴ８）。当該有機溶媒５１は、正孔注入層３２の材料を溶解する溶媒である。液体保持部３７の内面はＳＴ５でプラズマ処理されているため親液性になっており、有機溶媒５０は、当該液体保持部３７の内面に広がるように保持される。
【００５６】
次に、図９に示すように、正孔注入層３２上に、例えばインクジェット法等の液滴吐出法や、スピンコート法などにより液滴６０を吐出する（ＳＴ９）。液滴６０を吐出したら、図１０に示すように、溶媒５０及び液滴６０を一括して乾燥する。例えば、室温のまま数分〜１０分程度かけて常圧から１００Ｐａまで減圧すると、溶媒５０が蒸発して液体保持部３７が空になると共に、図１１に示すように、液滴６０中の溶媒が蒸発して発光部３３が形成される。
【００５７】
なお、正孔注入層３２の形成時と同様に、常圧から１００Ｐａに減圧するまでの時間については、短すぎると突沸が起こりやすくなり、長すぎると膜厚の均一性が低下する。このため、突沸が起こらず、膜厚が均一になるような時間に設定すればよい。発光部３３が形成された後、さらに減圧し、蒸発した溶媒を除去するようにしても良い。
【００５８】
発光部３３を形成したら、例えば蒸着法等の物理的気相蒸着法によりカルシウムを成膜して陰極３４を形成する（ＳＴ１０）。陰極３４が、発光部３３、有機バンク層３６の上面３６ｅ、有機バンク層３６の壁面３６ｃの一部を覆い、上述した接続用配線２７に接続されるように形成する。なお、陰極３４上に陰極保護層を形成させる場合には、蒸着法等の物理的気相蒸着法により陰極３４上に例えばアルミニウム等を成膜する。このようにして、有機ＥＬ素子３を形成する。  
基体１０及び有機ＥＬ素子３を形成したら、当該基体１０及び有機ＥＬ素子３のほぼ全体を封止部５により缶封止して有機ＥＬ装置１が完成する（ＳＴ１１）。
【００５９】
本実施形態によれば、液体を保持することが可能な液体保持部３７が機能部３０に沿って設けられているので、例えば液滴吐出法により有機バンク層３６に区画された部分に液滴６０を吐出して機能部３０を形成する工程においては、この液体保持部３７に溶媒５０を保持しておくことにより、機能部３０に沿った部分で溶媒分子の分圧を大きくすることができる。これにより、機能部３０から溶媒が急激に蒸発するのを抑えることができ、機能部３０の表面を平坦にすることができる。
【００６０】
一方、機能部３０からの距離がほぼ一定になるように液体保持部３７が設けられているので、機能部３０と液体保持部３７に保持される溶媒５０との距離が均一になる。また、溶媒５０を保持する保持幅ｔ２が均一になるように液体保持部３７が設けられているので、当該液体保持部３７に保持される溶媒５０が不規則なパターンになることは無い。これにより、機能部３０に沿った部分で溶媒分子の分圧を均一にすることができ、機能部３０を均一に乾燥させることができる。
【００６１】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、液体保持部の構成が第１実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
【００６２】
図１２は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置１０１の一部（有機ＥＬ素子）の構成を示す断面図である。  
有機ＥＬ素子１０３は、陽極１３１と、正孔注入層１３２と、発光部１３３と、共通電極（陰極）１３４と、画素開口膜１３５と、有機バンク層１３６と、液体保持部１３７とを有している。
【００６３】
陽極１３１、正孔注入層１３２、発光部１３３、陰極１３４、画素開口膜１３５については、第１実施形態と同様の構成であるため、説明を省略する。  
有機バンク層１３６は、正孔注入層１３２や発光部１３３をインクジェット法等の液滴吐出法で形成する際の隔壁である。また、隣接する正孔注入層１３２及び発光部１３３の間で電子の移動が起こらないようにする絶縁層である。
【００６４】
液体保持部１３７は、第１実施形態とは異なり、平行に設けられた土手部分１３７ａ及び土手部分１３７ｂが有機バンク層１３６の上面１３６ｃに設けられている。この平行な土手部分１３７ａと土手部分１３７ｂとで挟まれた部分１３７ｃに液体を保持することができるようになっている。液体保持部１３７の深さＴ２は、１．０μｍ〜５．０μｍの範囲が好ましい。
【００６５】
図１３は、有機ＥＬ装置１の有機バンク層１３６を拡大して示す平面図である。  
同図に示すように、各発光部１３３（発光部１３３Ｒ、発光部１３３Ｇ及び発光部１３３Ｂ）が、液体保持部１３７と均一の間隔ｔ３となるように配置されており、当該ｔ３は、１０μｍ〜５０μｍの範囲になっている。また、液体保持部１３７の幅（Ｙ方向の長さ）ｔ４は、１０μｍ〜５０μｍの範囲になっており、Ｘ方向に沿って均一になるように形成されている。
【００６６】
液滴吐出法により吐出された液体材料を乾燥する際、液体保持部１３７に保持されている溶媒は残らず蒸発させる必要がある。本実施形態では、溶媒が有機バンク層１３６の上面１３６ｃに保持されているので、例えば溝部に保持されている場合よりも蒸発しやすくなる。
【００６７】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態を説明する。上記各実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、液体保持部の構成が第１実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
【００６８】
図１４は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置２０１の一部（有機ＥＬ素子）の構成を示す断面図である。  
有機ＥＬ素子２０３は、陽極２３１と、正孔注入層２３２と、発光部２３３と、共通電極（陰極）２３４と、画素開口膜２３５と、有機バンク層２３６と、液体保持部２３７とを有している。
【００６９】
陽極２３１、正孔注入層２３２、発光部２３３、陰極２３４、画素開口膜２３５については、第１実施形態と同様の構成であるため、説明を省略する。  
有機バンク層２３６は、正孔注入層２３２や発光部２３３をインクジェット法等の液滴吐出法で形成する際の隔壁である。また、隣接する正孔注入層２３２及び発光部２３３の間で電子の移動が起こらないようにする絶縁層である。
【００７０】
液体保持部２３７は、第１実施形態とは異なり、有機バンク層２３６の上面２３６ｃの一部分が親液性になっており、当該親液性の部分以外の部分が撥液性になっている。正孔注入層２３２及び発光部２３３を形成するときに、親液性の部分に当該正孔注入層２３２及び発光部２３３の溶媒を保持することができるようになっている。
【００７１】
図１５は、有機ＥＬ装置２０１の有機バンク層２３６を拡大して示す平面図である。  
同図に示すように、各発光部２３３が、液体保持部２３７と均一の間隔ｔ５となるように配置されており、当該ｔ５は、１０μｍ〜５０μｍの範囲になっている。また、液体保持部２３７の幅（Ｙ方向の長さ）ｔ６は、１．０μｍ〜５．０μｍの範囲になっており、Ｘ方向に沿って均一になるように形成されている。
【００７２】
液滴吐出法を行う場合、液体材料を吐出する前に、有機バンク層２３６のうち発光部２３３を形成する部分には親液処理を施して液体材料が付着しやすい状態にしておく。また、有機バンク層２３６の上面２３６ｃなど、液体材料を付着させない部分には撥液処理を施して液体材料がなじみにくい状態にしておく。
【００７３】
本発明によれば、有機バンク層２３６の上面２３６ｃに形成された親液性の高い領域（すなわち、液体保持部２３７）で液体を保持させることができるので、上記親液処理を行うのと同時に液体保持部２３７を形成することができる。これにより、有機バンク層２３６に溝や土手を設ける必要も無く、液体保持部２３７を簡単に形成することができる。
【００７４】
（第４実施形態）  
次に、本発明の第４実施形態を説明する。上記各実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。本実施形態では、有機ＥＬ装置をラインヘッドモジュールに搭載した例について説明する。
【００７５】
図１６は、ラインヘッドモジュール３０１の使用形態を示す図である。  
同図に示すように、ラインヘッドモジュール３０１は、被露光部となる感光体ドラム３０２へ光を照射して当該感光体ドラム３０２を露光するものであり、ヘッドケース３０３と、ラインヘッド３０４と、レンズアレイ３０５とを主体として構成されている。
【００７６】
ヘッドケース３０３は、ラインヘッド３０４およびレンズアレイ３０５の外周部を支持する支持部材であり、例えばアルミニウム等の剛性材料により形成されている。レンズアレイ３０５は、例えばセルフォック（登録商標）レンズアレイ（日本板硝子社の商品名）と同様の構成をしている円柱状のレンズ素子であり、光を正立等倍して結像させるものである。
【００７７】
ラインヘッド３０４は、感光体ドラム３０２へ光を照射する光源であり、図１７に示すように、有機ＥＬ装置３１０と、当該有機ＥＬ装置３１０を駆動する複数の駆動素子３１４ａからなる駆動素子群３１４と、当該駆動素子群３１４による駆動を制御する制御回路３１５とを主体として構成されている。
【００７８】
有機ＥＬ装置３１０は、図１８に示すように、矩形の素子基板３１２と、当該素子基板３１２上に有機ＥＬ素子３１３ａを複数配列してなる有機ＥＬ素子列３１３と、当該発光素子列３１３の配列方向に沿うように設けられた液体保持部３３７を有している。各発光素子３１３ａは、陽極、正孔注入層、発光部（正孔注入層と発光部とを合わせて「機能部３３３」と表記することがある）、陰極を有しており、素子基板３１２上に例えば千鳥状に２列配置されている。
【００７９】
液体保持部３３７は、Ｘ方向に延在する帯状の溝であり、例えば素子基板３１２上に設けられた隔壁（有機バンク層等）の上に形成されているものである。当該液体保持部３３７の溝に液体を保持することができるようになっている。液体保持部３３７と列３１３ｂに配置された機能部３３３との距離ｔ７と、液体保持部３３７と列３１３ｃに配置された機能部３３３との平面的な距離ｔ８とはほぼ等しくなっている。当該距離ｔ７及びｔ８は、例えば１０μｍ〜５０μｍの範囲になっている。
【００８０】
液体保持部２３７の幅（Ｙ方向の長さ）ｔ９は、１．０μｍ〜５．０μｍの範囲になるように形成されている。なお、当該液体保持部３３７は、列３１３ｂに配置された有機素子列と列３１３ｃに配置された有機素子列との間に設けられていても良い。
【００８１】
ラインヘッドモジュールに用いられる有機ＥＬ装置のように、例えば有機ＥＬ素子３１３ａが２列に並んだ有機ＥＬ装置３１０の機能部３３３を液滴吐出法により形成する場合、機能部３３３の端部と中央部とでは溶媒の分圧が異なる。機能部３３３が均一に乾燥されなければ、感光性ドラム３０２の露光が不均一になってしまう。特に有機ＥＬ素子３１３ａが２列しかない有機ＥＬ装置３１０だと、機能部３３３の乾燥が不均一であった場合の表示特性の低下が甚だしい。
【００８２】
本実施形態によれば、このような有機ＥＬ装置３１０の有機ＥＬ素子３１３ａを形成する工程で、液体材料を吐出する際に機能部３３３を形成するための溶媒を液体保持部３３７に保持させておくことができるので、当該機能部３３３を均一に乾燥することができる。このため、有機ＥＬ装置３１０の表示特性の低下を防ぐことができ、感光ドラム３０２を均一に露光することができる。
【００８３】
（携帯電話）
次に、本発明に係る電子機器について、携帯電話を例に挙げて説明する。  
図１９は、携帯電話４００の全体構成を示す斜視図である。  
携帯電話４００は、筺体４０１、複数の操作ボタンが設けられた操作部４０２、画像や動画、文字等を表示する表示部４０３を有する。表示部４０３には、本発明に係る有機ＥＬ装置１、１０１、２０１が搭載される。  
このように、機能部の表面を平坦にすると共に、機能部を均一に乾燥することが可能な有機ＥＬ装置が搭載されているので、表示にムラのない電子機器を得ることができる。
【００８４】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
図２０は、有機ＥＬ装置１の一部の構成を示す図であり、図５に対応している。  
同図に示すように、機能部３０の形状が円形や楕円形等の場合、液体保持部３７を、例えば当該円形又は楕円形の外周に沿うような形状に形成することもできる。
【００８５】
また、機能部３０の形状が円形や楕円形の場合でも、液体保持部３７が当該機能部３０の列に沿った帯状の溝となるように形成しても良い。  
また、当該液体保持部３７が帯状の溝では無く、断続的な溝となるように形成しても勿論構わない。
【００８６】
また、上記実施形態では、有機ＥＬ装置１、１０１、２０１についてはボトムエミッション型の有機ＥＬ装置を例に挙げて説明したが、例えばトップエミッション型であっても勿論本発明の適用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ装置の構成を示す斜視図である。
【図２】本実施形態に係る有機ＥＬ装置の構成を示す平面図である。
【図３】本実施形態に係る有機ＥＬ装置の構成を示す断面図（その１）である。
【図４】本実施形態に係る有機ＥＬ装置の構成を示す断面図（その２）である。
【図５】本実施形態に係る有機ＥＬ装置の一部の構成を示す平面図である。
【図６】本実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図７】有機ＥＬ装置の製造過程を示す断面図（その１）である。
【図８】有機ＥＬ装置の製造過程を示す断面図（その２）である。
【図９】有機ＥＬ装置の製造過程を示す断面図（その３）である。
【図１０】有機ＥＬ装置の製造過程を示す断面図（その４）である。
【図１１】有機ＥＬ装置の製造過程を示す断面図（その５）である。
【図１２】本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ装置の構成を示す断面図である。
【図１３】本実施形態に係る有機ＥＬ装置の一部の構成を示す平面図である。
【図１４】本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬ装置の構成を示す断面図である。
【図１５】本実施形態に係る有機ＥＬ装置の一部の構成を示す平面図である。
【図１６】本発明の第４実施形態に係るラインヘッドモジュールの構成を示す図である。
【図１７】本実施形態に係るラインヘッドモジュールの構成を示す平面図である。
【図１８】本実施形態に係るラインヘッドモジュールの要部の構成を示す平面図である。
【図１９】本発明に係る電子機器（携帯電話）の構成を示す平面図である。
【図２０】本発明に係る有機ＥＬ装置の別の構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００８８】
１、１０１、２０１、３１０…有機ＥＬ装置  ３７…液体保持部  ５０…溶媒  ６０…液滴  ３７、１３７、２３７、３３７…液体保持部  ３０１…ラインヘッドモュール  ４００…携帯電話
【図１】
2006252838.tif 000003
【図２】
2006252838.tif 000004
【図３】
2006252838.tif 000005
【図４】
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【図５】
2006252838.tif 000007
【図６】
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【図７】
2006252838.tif 000009
【図８】
2006252838.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
2006252838.tif 000016
【図１５】
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【図１６】
2006252838.tif 000018
【図１７】
2006252838.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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