(57)【要約】【課題】  反射光の輝度が高いとともに、優れた耐久性を備えた再帰反射シートと、このような再帰反射シートを簡便に製造するための製造方法を提供する。【解決手段】  支持体の少なくとも一方の面に担持層を有し、この担持層に単粒子膜状態となるように透明粒子を一部埋め込んで複数配設された透明粒子膜を有し、この透明粒子膜との間に気体層を形成するように接合部材を介して透明保護フィルムを備え、上記の透明粒子は担持層側の半体表面に光反射膜を有し、透明粒子膜における透明粒子の面積充填率を８０％以上とし、接合部材は光反射膜を介することなく透明粒子および／または担持層に直に接合した再帰反射シートとする。【選択図】  図１
2006276186.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、該支持体の少なくとも一方の面に配設された担持層と、該担持層に一部が埋め込まれた透明粒子が単粒子膜状態となるように複数配設されてなる透明粒子膜とを備え、前記透明粒子は前記担持層側の半体表面に光反射膜を有し、前記透明粒子膜における透明粒子の面積充填率は８０％以上であることを特徴とする再帰反射シート。
【請求項２】
前記透明粒子膜は所望のパターンであり、該パターンの前記透明粒子膜内での前記透明粒子の面積充填率は８０％以上であることを特徴とする請求項１に記載の再帰反射シート。
【請求項３】
前記透明粒子膜との間に気体層を形成するように接合部材を介して前記透明粒子膜上に配設された透明保護フィルムを備え、前記接合部材は光反射膜を介することなく前記透明粒子および／または前記担持層に接合していることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の再帰反射シート。
【請求項４】
前記接合部材は、前記気体層に複数の小区画を形成するような連続あるいは不連続の線状パターンであることを特徴とする請求項３に記載の再帰反射シート。
【請求項５】
前記透明粒子膜における透明粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の再帰反射シート。
【請求項６】
基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に透明粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された透明粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、
支持体に担持層を形成し、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに前記担持層に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を形成する工程と、を備えることを特徴とする再帰反射シートの製造方法。
【請求項７】
前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えることを特徴とする請求項６に記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項８】
前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項９】
前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えることを特徴とする請求項６乃至請求項８のいずれかに記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項１０】
熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に透明粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に透明粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、
支持体に担持層を形成し、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに前記担持層に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を形成する工程と、を備えることを特徴とする再帰反射シートの製造方法。
【請求項１１】
前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えることを特徴とする請求項１０に記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項１２】
前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項１３】
基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に透明粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
前記原版に載置された透明粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、
前記転写シートの透明粒子配設面を前記担持層に間隔を設けて対向させ、前記転写シートの基材の透明粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および／または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を担持層に突出させ、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに担持層上に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を所望のパターンで形成する工程と、を備えることを特徴とする再帰反射シートの製造方法。
【請求項１４】
前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えることを特徴とする請求項１３に記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項１５】
前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項１３または請求項１４に記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項１６】
前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えることを特徴とする請求項１３乃至請求項１５のいずれかに記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項１７】
熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に透明粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に透明粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、
前記転写シートの透明粒子配設面を前記担持層に間隔を設けて対向させ、前記転写シートの基材の透明粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および／または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を担持層に突出させ、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに担持層上に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を所望のパターンで形成する工程と、を備えることを特徴とする再帰反射シートの製造方法。
【請求項１８】
前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えることを特徴とする請求項１７に記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項１９】
前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであることを特徴とする請求項１７または請求項１８に記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項２０】
前記熱収縮性フィルムは二軸収縮型の熱収縮性フィルムであり、前記転写シートにおける粒子の配列は最密六方格子配列であることを特徴とする請求項６乃至請求項１９のいずれかに記載の再帰反射シートの製造方法。
【請求項２１】
前記熱収縮性フィルムは一軸収縮型の熱収縮性フィルムであり、前記転写シートにおける粒子の配列は単純立方格子配列であることを特徴とする請求項６乃至請求項１９のいずれかに記載の再帰反射シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は再帰反射シートと、この再帰反射シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
入射した光を入射方向に反射する再帰反射シートは、道路標識、看板等、種々の分野で利用されている。従来の再帰反射シートは、支持体上に設けられた接着層に、複数のガラスビーズが直径の約半分程度まで埋め込まれ、このガラスビーズとの間に気体層を形成するように透明保護フィルムが支持体に接合部材を介して配設され、また、接着層とガラスビーズとの間に光反射膜（金属蒸着膜）が設けられた構造である（特許文献１〜３）。このような再帰反射シートでは、外部から透明保護フィルムを透過してガラスビーズに入射した光は、ガラスビーズ表面で屈折した後、ガラスビーズ内を透過して、光反射膜で反射される。このように反射された光は、ガラスビーズを出るときに再度屈折して入射光と略平行となり、入射方向に戻される。
【特許文献１】特開平８−１７１００５号公報
【特許文献２】特開平９−２１１２１３号公報
【特許文献３】特開平１１−６９０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、再帰反射シートに使用されるガラスビーズは、平均粒径が２０〜１５０μｍ程度であり、従来、このような微細な粒子を相互に接近した単粒子状態で配列することは困難であった。このため、従来の再帰反射シートでは、支持体に保持されたガラスビーズの面積充填率（ガラスビーズが最密充填状態にあるときを１００％としたときの相対的な面積占有率）が８０％未満で低いものであり、ガラスビーズが存在しない部位（再帰反射に寄与しない部位）が多いものであった。したがって、従来の再帰反射シートでは、入射光の輝度に比べて反射光の輝度（入射方向に反射された光の輝度）が低く、視認性が不充分であるという問題があった。また、ガラスビーズが存在しない部位にも光反射膜が存在する場合には、この光反射膜上に、透明保護フィルムと支持体とを接合するための接合部材が位置することになる。この場合、光反射膜の剥離により透明保護フィルムの脱落や浮きが生じ、反射性能の低下、耐久性の低下を来たすという問題もあった。
【０００４】
本発明は上述のような実情に鑑みてなされたものであり、反射光の輝度が高いとともに、優れた耐久性を備えた再帰反射シートと、このような再帰反射シートを簡便に製造するための製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような目的を達成するために、本発明の再帰反射シートは、支持体と、該支持体の少なくとも一方の面に配設された担持層と、該担持層に一部が埋め込まれた透明粒子が単粒子膜状態となるように複数配設されてなる透明粒子膜とを備え、前記透明粒子は前記担持層側の半体表面に光反射膜を有し、前記透明粒子膜における透明粒子の面積充填率は８０％以上であるような構成とした。
【０００６】
本発明の他の態様として、前記透明粒子膜は所望のパターンであり、該パターンの前記透明粒子膜内での前記透明粒子の面積充填率は８０％以上であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明粒子膜との間に気体層を形成するように接合部材を介して前記透明粒子膜上に配設された透明保護フィルムを備え、前記接合部材は光反射膜を介することなく前記透明粒子および／または前記担持層に接合しているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記接合部材は、前記気体層に複数の小区画を形成するような連続あるいは不連続の線状パターンであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明粒子膜における透明粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であるような構成とした。
【０００７】
本発明の再帰反射シートの製造方法は、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に透明粒子を載置する工程と、熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された透明粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、支持体に担持層を形成し、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに前記担持層に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を形成する工程と、を備えるような構成とした。
【０００８】
本発明の他の態様として、前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるような構成とした。
【０００９】
本発明の再帰反射シートの製造方法は、熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に透明粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に透明粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、支持体に担持層を形成し、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに前記担持層に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を形成する工程と、を備えるような構成とした。
【００１０】
本発明の他の態様として、前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
【００１１】
本発明の再帰反射シートの製造方法は、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に透明粒子を載置する工程と、熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、前記原版に載置された透明粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、前記転写シートの透明粒子配設面を前記担持層に間隔を設けて対向させ、前記転写シートの基材の透明粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および／または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を担持層に突出させ、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに担持層上に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を所望のパターンで形成する工程と、を備えるような構成とした。
【００１２】
本発明の他の態様として、前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部の配列ピッチＰ（μｍ）、前記凹部の深さＳ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるような構成とした。
【００１３】
本発明の再帰反射シートの製造方法は、熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に透明粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に透明粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、前記転写シートの透明粒子配設面を前記担持層に間隔を設けて対向させ、前記転写シートの基材の透明粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および／または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を担持層に突出させ、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに担持層上に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を所望のパターンで形成する工程と、を備えるような構成とした。
【００１４】
本発明の他の態様として、前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔の配列ピッチＰ（μｍ）、前記基体の厚みＴ（μｍ）と、平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、ｄ≦Ｐ、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは二軸収縮型の熱収縮性フィルムであり、前記転写シートにおける粒子の配列は最密六方格子配列であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは一軸収縮型の熱収縮性フィルムであり、前記転写シートにおける粒子の配列は単純立方格子配列であるような構成とした。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の再帰反射シートは、透明粒子膜における透明粒子の面積充填率が８０％以上なので、入射光に比べて輝度低下の少ない再帰反射光が得られ、視認性に優れたものである。また、接合部材を介して透明保護フィルムを備える場合には、接合部材が接合している透明粒子や担持層との間には光反射層が介在していないので、透明保護フィルムが強固に接合され、良好な反射性能と高い耐久性を備えたものとなる。
【００１６】
本発明の再帰反射シートの製造方法では、熱収縮性フィルムを熱収縮させた状態で、透明粒子が接近し面積充填率が８０％以上の単粒子膜状態となり、また、透明粒子は平均粒径の半分未満の深さで粘着層に埋め込まれているので、後工程において粘着層上に成膜した光反射膜のうち、透明粒子の半体表面を被覆した光反射膜と、透明粒子が存在しない部位の粘着層上に形成された光反射膜との間に、高さの差が生じ、これにより、担持層に単粒子膜状態の透明粒子のみが転写されて面積充填率が８０％以上の透明粒子膜を形成することが可能となる。また、透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して透明保護フィルムを配設する場合には、粘着層上に形成された光反射膜が担持層に転写されていないので、光反射膜を介することなく、接合部材を透明粒子や担持層に直に接合することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
［再帰反射シート］
図１は本発明の再帰反射シートの一例を示す平面図であり、図２は図１に示される再帰反射シートのＡ−Ａ線における拡大縦断面図である。図１および図２において、本発明の再帰反射シート１は、支持体２と、この支持体２の一方の面に配設された担持層３と、担持層３に一部が埋め込まれるように配設された複数の透明粒子５と、接合部材８を介して配設されている透明保護フィルム９とを備えている。
【００１８】
複数の透明粒子５は、担持層３側の半体表面に光反射膜６を有しており、かつ、単粒子膜状態で配設されて透明粒子膜４を構成している。図１では、支持体２の全面に亘って透明粒子膜４が形成されている。この透明粒子膜４における透明粒子５の面積充填率は８０％以上、好ましくは９０％以上である。面積充填率が８０％未満であると、透明粒子５が存在しない部位（再帰反射に寄与しない部位）が多くなり、入射光の輝度に対する再帰反射光の輝度の低下率が大きくなり、視認性が低下し好ましくない。上記の透明粒子膜４における面積充填率が８０％以上となるような透明粒子５の配列としては、例えば、最密六方格子配列、単純立方格子配列が挙げられる。
【００１９】
上記の面積充填率は、画像解析により、透明粒子５が最密充填状態にあるときを１００％として、粒子占有面積比から計測する。したがって、上記の単純立方格子配列の場合、面積充填率は約８６．５％となる。
また、担持層３に埋め込まれる透明粒子５の深さは、その平均粒径の２０〜５０％、好ましくは３０〜５０％の範囲であり、透明粒子５の半分以上が担持層３から露出していることが好ましい。担持層３への透明粒子５の埋め込み深さが平均粒径の２０％未満であると、透明粒子５の脱落、担持層３と接合部材８との接着不良等が生じるおそれがあり好ましくない。また、担持層３への透明粒子５の埋め込み深さが平均粒径の５０％を超えると、反射効率が低下して好ましくない。尚、本発明において、透明粒子５の平均粒径は、ＪＩＳ  Ｚ２５００に準拠して測定するものとする。
【００２０】
さらに、透明粒子５の半体表面に配設された光反射膜６は、透明粒子５の担持層３側の半体表面の３０〜５０％、好ましくは４０〜５０％を被覆する。光反射膜６の被覆割合が上記の範囲から外れると、反射効率が低下して好ましくない。
尚、本発明では、透明粒子膜４が支持体２の全面に亘って形成されたものでなくてもよく、例えば、図３および図４に示すような所望のパターン（図３に斜線で示されるパターン）で透明粒子膜４が形成されたものであってもよい。この場合の透明粒子５の面積充填率は、透明粒子膜４が存在しない部位（担持層３が露出している部位）は考慮せず、パターンを構成する透明粒子膜４内での透明粒子５の面積充填率となる。
【００２１】
再帰反射シート１の透明保護フィルム９は、上記の透明粒子膜４との間に、図示例では六角形状の小区画（図１参照）からなる複数の気体層７を形成するように、蜂の巣状パターンである接合部材８を介して配設されている。そして、接合部材８は、光反射膜６を介することなく、透明粒子５に直に接合（図２に示される例）、あるいは、担持層３や透明粒子５に直に接合（図４に示される例）されている。尚、図示例では、接合部材８は連続した蜂の巣状の線状パターンであるが、これに限定されるものでなく、例えば、ドット状の不連続な状態での蜂の巣状パターンであってもよい。
本発明の再帰反射シート１を構成する支持体２は、担持層３から上層の構造体を支持可能なものであれば特に制限はなく、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂等の樹脂基板、ガラス基板等を使用することができ、厚みは１０μｍ〜５ｍｍ、好ましくは５０μｍ〜１ｍｍの範囲で適宜設定することができる。
【００２２】
また、担持層３を構成する材料としては、例えば、ゴム系、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、光硬化型、熱硬化型等の粘着剤および接着剤、あるいはホットメルト型の接着剤等を挙げることができる。担持層３の厚みは、透明粒子５の平均粒径等を考慮して適宜設定することができ、例えば、透明粒子５の平均粒径が２０〜１５０μｍの範囲内にある場合、担持層３の厚みは５０〜１００μｍ程度の範囲で設定することができる。
本発明の再帰反射シート１を構成する透明粒子５は、レンズとして機能する高屈折率の透明粒子、例えば、フルオレン系、シラン系、チオール系、スルフィド系等の樹脂粒子、ガラス粒子、樹脂とガラスとを組み合わせた複合粒子等を使用することができる。透明粒子５の平均粒径は、２０〜２００μｍ、好ましくは４０〜１２０μｍの範囲内で適宜設定することができる。尚、本発明において透明とは、可視光領域における光透過率が７０％以上であることを意味する。
【００２３】
また、透明粒子５の担持層３側の半体表面に設けられている光反射膜６は、アルミニウム、銀、金、クロム、ニッケル、銅等の金属薄膜、あるいは、上記の金属の２種以上の積層膜とすることができる。このような光反射膜６の厚みは、３０〜３００ｎｍ、好ましくは５０〜１５０ｎｍの範囲内で適宜設定することができる。また、光反射膜６は、銀顔料等の金属鱗片状顔料や白色顔料を含むインキを使用し、コーティング、噴霧等の公知の成膜手段により形成したものであってもよく、この場合、厚みは１〜３０μｍ、好ましくは１〜１０μｍの範囲内で適宜設定することができる。
【００２４】
本発明の再帰反射シート１を構成する接合部材８は、透明保護フィルム９を支持可能なものであれば特に制限はなく、材質は、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂等の樹脂等を使用することができる。接合部材８の高さは、気体層７の厚み設定に応じて適宜設定することができ、例えば、２０〜１５０μｍの範囲で適宜設定することができる。また、接合部材８の幅は、使用する材料、気体層７の各小区画の面積等を考慮して設定することができ、例えば、１００〜２０００μｍの範囲で適宜設定することができる。
【００２５】
また、本発明の再帰反射シート１を構成する透明保護フィルム９は、上記の支持体２に使用できる樹脂の中から透明樹脂を単独で、あるいは任意の組み合わせによる混合物として使用し成型した樹脂フィルム等を使用することができる。このような透明保護フィルム９の厚みは、使用する材料の強度、気体層７の各小区画の面積等を考慮して設定することができ、例えば、３０〜３００μｍの範囲で適宜設定することができる。
上記のような接合部材８、透明保護フィルム９で形成された小区画の気体層７内の気体は、通常、空気であるが、窒素やアルゴン等の不活性ガス等であってもよい。
【００２６】
上述のような本発明の再帰反射シート１は、透明粒子膜４における透明粒子５の面積充填率が８０％以上なので、入射光に対して輝度低下の少ない再帰反射光が得られ、視認性に優れたものである。また、接合部材８が接合している担持層３や透明粒子５との間には光反射層６が介在していないので、光反射層６の剥離による接合部材８の接着不良が生じることがなく、透明保護フィルム９が強固に接合され、このため透明保護フィルム９の浮きや波打ちが防止され、優れた反射性能と高い耐久性を備えたものである。
【００２７】
尚、本発明の再帰反射シートは、上述のような透明粒子５の面積充填率が８０％以上である透明粒子膜４を全面に備えた例（図１参照）、所望のパターンで備えた例（図３参照）の他に、必要に応じて、故意に透明粒子５の面積充填率を８０％未満としたような領域を有するものであってもよい。このような領域では、透明粒子５が均一に分布していてもよく、また、密に分布している部位が海島模様に点在していてもよい。
また、本発明の再帰反射シートでは、接合部材８で区画される気体層７の形状は、例示の六角形状（蜂の巣状パターン）に限定されるものではなく、任意に設定することができる。
さらに、本発明の再帰反射シートは、接合部材８と透明保護フィルム９を備えないものであってもよい。この場合も、透明粒子膜における透明粒子の面積充填率が８０％以上なので、入射光に対して輝度低下の少ない再帰反射光が得られ、視認性に優れたものである。
【００２８】
［再帰反射シートの製造方法］
本発明の再帰反射シートの製造方法では、基本的に、原版と熱収縮性フィルムを使用して、透明粒子の単粒子膜を備えた転写シートを作製し、次に、透明粒子に光反射膜を形成した後、転写シートの透明粒子のみを支持体の担持層に転写するような工程からなる。また、この転写工程後に、接合部材を介して透明保護フィルムを配設するような工程を有する場合もある。
【００２９】
（製造方法の実施形態１）
図５および図６は、上述の再帰反射シート１を例とした本発明の再帰反射シートの製造方法の一実施形態を説明するための工程図である。
本実施形態では、複数の凹部２３を基体２２の一方の面に備えた原版２１を使用する。まず、透明粒子５を原版２１の各凹部２３に１個づつ載置する（図５（Ａ））。各凹部２３内への透明粒子５の載置は、乾燥状態にある透明粒子５をスキージ２５を用いて原版２１上に塗布する方法、ブレードコート方法、例えば、乾燥状態にある透明粒子５を原版２１上に散布し、ブレードにより不要な透明粒子５を除去する方法、透明粒子５を分散させた分散液を原版２１上に塗布し、ブレードにより不要な透明粒子５を除去する方法等を用いることができる。スキージやブレードと原版２１とのギャップは、透明粒子５の平均粒子径未満に設定することが好ましい。また、凹部２３に予め粘着層を形成しており、透明粒子５を凹部２３内に粘着保持するようにしてもよい。
【００３０】
使用する原版２１を構成する凹部２３は球面形状であり、凹部２３の円形の開口径Ｄ（μｍ）、各凹部２３の配列ピッチＰ（μｍ）、凹部２３の深さＳ（μｍ）と、透明粒子５の平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、好ましくはｄ≦Ｄ≦１．４ｄの関係、ｄ≦Ｐの関係、０．１ｄ≦Ｓ≦１．５ｄ、好ましくは０．２５ｄ≦Ｓ≦１．２５ｄの関係が成立する。凹部２３の開口径Ｄ、各凹部２３の配列ピッチＰ、凹部２３の深さＳと、透明粒子５の平均粒子径ｄとの間に上記の関係が成立することにより、透明粒子５を含有する塗布液等を原版２１に塗布し、余分な塗布液をブレード等により除去した際に、各凹部２３に粒子を１個づつ確実に載置することができる。
【００３１】
尚、各凹部２３の配列ピッチＰ（μｍ）と透明粒子５の平均粒子径ｄ（μｍ）との関係における配列ピッチＰの下限はｄ≦Ｐであるが、上限には特に制限はなく、後述する工程で熱収縮性フィルム３２′を熱収縮させて基材３２を形成した際に、粘着層３３上の単粒子膜状態にある透明粒子５が接近して面積充填率が８０％以上となるように、熱収縮性フィルム３２′の熱収縮率等を考慮して配列ピッチＰの上限を適宜設定することができる。また、図３及び図４に示されるように、所望のパターンで透明粒子膜４を形成する場合には、凹部２３が形成されていない部位が基体２２に存在してもよい。ここで、透明粒子５の平均粒径ｄは、ＪＩＳ  Ｚ２５００に準拠して測定するものとする。
【００３２】
このような原版２１における凹部２３は、例えば、図７に示すように、上述の範囲で設定されたピッチＰを有する六方格子配列とすることができる。また、図８に示すように、上述の範囲で設定されたピッチＰを有する単純立方格子配列とすることができる。尚、このような凹部２３の配列は例示であり、他の配列であってもよい。
【００３３】
上述のような原版２１を構成する基体２２は、ガラス板、アルミニウム、銅、クロム、インバー、スーパーインバー、４２鉄ニッケル合金、コバール、工具鋼（ＳＫＤ１１）等の金属、ポリイミド、フッ素樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルホン、ポリサルホン等の耐熱性のある有機材料を使用することができる。また、原版の繰り返し使用における耐久性を向上させる目的で、少なくとも表面２２ａ側にクロム、ニッケル、炭化珪素、窒化チタン等の薄膜を形成してもよい。また、基体２２の厚みは特に制限されず、例えば、５０μｍ〜１０ｍｍの範囲で使用する材質等を考慮して適宜設定することができる。
また、基体への凹部の形成は、エレクトロフォーミング法、サンドブラスト法、エキシマレーザー法、イオンビーム法等の乾式法、エッチング液浸漬法等の湿式法により行なうことができる。
【００３４】
次に、熱収縮性フィルム３２′上に粘着層３３を形成し、この粘着層３３を、原版２１上に載置された透明粒子５に接触させ（図５（Ｂ））、その後、原版２１を取り除くことにより、粘着層３３上に単粒子膜状態で透明粒子５を転写する（図５（Ｃ））。
次いで、熱収縮性フィルム３２′を加熱して熱収縮させて基材３２を形成するとともに、粘着層３３上の単粒子膜状態にある透明粒子５を接近させて転写シート３１を作製する（図５（Ｄ））。この転写シート３１では、単粒子膜状態にある透明粒子５の面積充填率は８０％以上となる。また、転写シート３１では、透明粒子５が粘着層３３に埋め込まれたように保持されるが、この透明粒子５の埋め込み深さは、透明粒子５の平均粒径の半分未満の範囲となるようにする。
【００３５】
上述の熱収縮性フィルム３２′の熱収縮は、例えば、図９（Ａ）に示されるように、離型層３６，３８を備えた１組の基板３５，３７で転写シート３１を挟持（離型層３６，３８が転写シート３１側となるようにして挟持）し、この状態で加熱し、その後、冷却することにより行うことができる。１組の基板３５，３７で挟持された状態の転写基材３１は、熱収縮性フィルム３２′が離型層３８上にて加熱により熱収縮を生じて、また、粘着層３３は加熱によりタック値が低下する。これに伴って、透明粒子５は熱収縮性フィルム３２′と離型層３６との間を移動して相互に接近する（図９（Ｂ））。加熱時の昇温速度は、熱収縮性フィルム３２′に厚み方向の凹凸が生じないような穏やかな条件で設定することが好ましい。その後、室温まで冷却することにより、透明粒子５は粘着層３３に保持された単粒子膜を構成する。
【００３６】
上記のような熱収縮処理に使用する１組の基板３５，３７としては、ガラス基板、金属基板、樹脂基板、合金基板等を挙げることができる。また、上記の離型層３６，３８は、加熱冷却工程において、熱収縮する熱収縮性フィルム３２′の挙動、および、熱収縮応力による透明粒子５の挙動の妨げとなる摩擦抵抗を低減するものである。この離型層３６，３８は、例えば、長鎖アルキル基を有するアクリルエステル、ビニルエステル、ビニルエーテル、アクリルアマイド、マイレン酸誘導体、アリルエステル等、および、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン化合物、フッ素化合物、アミノアルキド化合物、ポリエステル化合物等の従来公知の材料を用いて形成することができる。尚、両基板３５，３７が、例えば、シリコーン樹脂基板等のように離型性を具備している場合には、離型層３６，３８は不要である。
本発明における熱収縮性フィルム３２′の熱収縮は、上述のような離型層３６，３８を備えた１組の基板３５，３７を使用することなく、オーブン等の中に載置した状態で所定の昇温速度、到達温度で加熱するような方法を採用してもよい。
【００３７】
次に、転写シート３１の粘着層３３上に、透明粒子５の半体表面を被覆するように光反射膜６を形成する（図６（Ａ））。光反射膜６の形成は、アルミニウム、銀、金、クロム、ニッケル、銅等の１種、あるいは２種以上を用いて真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜法により行なうことができる。また、光反射膜６の形成は、銀顔料等の金属鱗片状顔料や白色顔料を含むインキを使用し、コーティング、噴霧等の公知の成膜手段により行なうこともできる。尚、図６（Ａ）は、透明粒子５が存在せずに粘着層３３が露出している部位での光反射膜６′の形成状態を示すために、透明粒子５が存在しない部位を故意に示している。
【００３８】
次いで、光反射膜６が形成された透明粒子５を保持する転写シート３１を、担持層３が形成された支持体２に接触させる（図６（Ｂ））。上述にように、転写シート３１では、透明粒子５がその平均粒径の半分未満の深さで粘着層３３に埋め込まれたように保持されているので、図６（Ｂ）に示されるように透明粒子５が担持層３に接触した状態であっても、透明粒子５が存在せずに粘着層３３が露出している部位に形成された光反射膜６′は、担持層３に接触しないことになる。その後、転写シート３１の基材３２と粘着層３３を剥離することにより、透明粒子５のみを光反射膜６とともに担持層３に転写して単粒子膜である透明粒子膜４を形成する（図６（Ｃ））。尚、この図６（Ｃ）では、図６（Ａ）、図６（Ｂ）で図示したような透明粒子５が存在しない部位は図示していない。
【００３９】
この透明粒子膜４における透明粒子５の面積充填率は８０％以上である。また、担持層３に埋め込まれる透明粒子５の深さは、その平均粒径の２０〜５０％、好ましくは３０〜５０％の範囲とする。
尚、接合部材８と透明保護フィルム９を備えていない再帰反射フィルムの場合、この工程までで製造が完了する。
【００４０】
次いで、接合部材８を介して透明保護フィルム９を、透明粒子膜４に対して気体層７を形成するように配設して、本発明の再帰反射フィルム１が得られる（図６（Ｄ））。透明保護フィルム９の配設は、例えば、透明保護フィルム９に所望のパターン形状で接合部材８を形成し、この接合部材８を透明粒子膜４に固着することにより行なうことができる。透明粒子膜４と接合部材８との固着は、接着剤を使用した固着、接合部材８の硬化反応に伴う固着、熱変形成形等により行なうことができる。尚、図４に示されるような本発明の再帰反射シートでは、透明粒子膜４が存在するパターン部位と、透明粒子膜４が存在しない部位との間に段差が存在し、透明保護フィルム９を平坦な状態で配設するためには、高さの異なる接合部材８が必要となる。この場合、透明保護フィルム９の配設は、接合部材８を軟化状態として、ラミネートする際の圧力を増加させ、透明粒子膜４が存在するパターン部位に位置する接合部材８をある程度押し潰し、透明粒子膜４が存在しない部位の接合部材８が担持層３に圧着されるようにする。あるいは、接合部材８形成時に、予め段差を考慮した長さで接合部材８を形成してもよい。
【００４１】
上述の実施形態では、複数の凹部２３を基体２２の一方の面に備えた原版２１を使用した例を示したが、本発明の再帰反射フィルムの製造方法は、図１０に示すように、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を使用することもできる。この場合、使用する原版４１は、熱収縮性フィルム３２′の粘着層３３上に配置され（図１０（Ａ））、この状態で貫通孔４３に１個づつ透明粒子５が載置される（図１０（Ｂ））。次いで、原版４１を取り除くことにより、粘着層３３上に単粒子膜状態の透明粒子５を配設する（図１０（Ｃ））。その後、熱収縮性フィルム３２′を加熱収縮させることにより、上記転写シート３１を作製することができる。
【００４２】
原版４１は基体４２に断面円形の貫通孔４３を複数備え、貫通孔４３の孔径Ｄ（μｍ）、各貫通孔４３の配列ピッチＰ（μｍ）、基体４２の厚みＴ（μｍ）と、透明粒子５の平均粒子径ｄ（μｍ）との間に、ｄ≦Ｄ≦１．５ｄ、好ましくはｄ≦Ｄ≦１．４ｄの関係、ｄ≦Ｐの関係、０．１ｄ≦Ｔ≦１．５ｄ、好ましくは０．２５ｄ≦Ｔ≦１．２５ｄの関係が成立する。貫通孔４３の孔径Ｄ、各貫通孔４３の配列ピッチＰ、基体４２の厚みＴと、透明粒子５の平均粒子径ｄとの間に上記の関係が成立することにより、粘着層３３上に配置された原版４１に、乾燥状態にある透明粒子５をスキージを用いて塗布した際に、あるいは、透明粒子５を含有する塗布液等を塗布し、余分な塗布液をブレード等により除去した際に、各貫通孔４３に粒子を１個づつ確実に載置することができる。この原版４１においても、各貫通孔４３の配列ピッチＰ（μｍ）と透明粒子５の平均粒子径ｄ（μｍ）との関係における配列ピッチＰの下限はｄ≦Ｐであるが、上限には特に制限はなく、上述の原版２１の凹部２３の配列ピッチＰ（μｍ）と同様に、上限を適宜設定することができる。
【００４３】
このような原版４１は、上述の原版２１の基体２２と同様の基体４２に、エレクトロフォーミング法、サンドブラスト法、エキシマレーザー法、イオンビーム法等の乾式法、エッチング液浸漬法等の湿式法により貫通孔４３を形成して作製することができる。また、貫通孔４３は、例えば、上述の範囲で設定されたピッチＰを有する六方格子配列（図７参照）、単純立方格子配列（図８参照）とすることができ、また、他の配列であってもよい。
尚、図１０に示される例では、貫通孔４３は、基体４２の両面での孔径が等しいものであるが、これに限定されるものではない。すなわち、貫通孔４３の最小孔径が透明粒子５の平均粒径と上記関係を満足すればよく、また、透明粒子５が供給される面の孔径のみが、透明粒子５の平均粒径と上記関係を満足する場合には、反対面の孔径が同等以上の大きさであれば問題はない。また、貫通孔４３の内壁面形状には特に制限はない。
【００４４】
上述の本発明の再帰反射シートの製造方法で使用する熱収縮性フィルム３２′としては、例えば、熱収縮率が１〜８０％、好ましくは１０〜５０％の範囲内にある一軸収縮型、あるいは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用することができる。このような熱収縮性フィルムとしては、例えば、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂等の一軸延伸フィルム、あるいは、二軸延伸フィルム等を使用することができる。尚、本発明における熱収縮率とは、５０〜１００℃の範囲で各温度に設定したウォーターバス中に１０ｃｍ平方のフィルムを１０秒間浸漬して収縮させ、浸漬前後のフィルムの寸法変化から算出［（１０ｃｍ−浸漬後の一辺の長さ（ｃｍ））／（１０ｃｍ）×１００］する。尚、熱収縮フィルムが一軸延伸フィルムの場合は、延伸方向に平行な一辺について測定する。
【００４５】
上記の塩化ビニル系樹脂としては、例えば、数平均重合度が８００〜２５００、好ましくは１０００〜１８００のポリ塩化ビニル、塩化ビニルを主体とする共重合体（例えば、エチレン−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−ハロゲン化オレフィン共重合体等）、あるいは、これらのポリ塩化ビニルまたは塩化ビニル共重合体を主体とする他の相溶性樹脂（例えば、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン共重合体、部分ケン化ポリビニルアルコール等）とのブレンド物等を挙げることができ、これらを単独で、あるいは２種以上の組み合わせで使用することができる。これらの塩化ビニル系樹脂は、塊状重合法、乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法等の公知の製造方法により得られたものであってよい。
【００４６】
また、上記のポリエステル系樹脂としては、例えば、芳香族ジカルボン酸、それらのエステル形成誘導体、脂肪族ジカルボン酸等のジカルボン酸成分と、多価アルコール成分を主成分とするものである。芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン−１，４−ジカルボン酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸等が挙げられる。また、これらのエステル誘導体としては、ジアルキルエステル、ジアリールエステル等の誘導体が挙げられる。また、脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、ダイマー酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、シュウ酸、コハク酸等が挙げられる。また、ｐ−オキシ安息香酸等のオキシカルボン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の多価のカルボン酸を必要に応じて併用してもよい。
【００４７】
上記の多価アルコール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ダイマージオール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール等のアルキレングリコール、ビスフェノール化合物、またはその誘導体のエチレンオキサイド付加物、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられる。また、多価アルコールではないが、イプシロンカプロラクトンも同様に使用可能である。上記したジカルボン酸成分と多価アルコール成分を通常それぞれ１種類以上組み合わせて用いることが好ましい。
【００４８】
上述の熱収縮性フィルム３２′の厚みは、例えば、５〜２００μｍ、好ましくは２０〜１００μｍの範囲とすることができる。熱収縮性フィルム３２′の厚みが５μｍ未満であると、熱収縮時の応力が弱く、粘着層３３上での透明粒子５の十分な接近が得られない場合がある。また、２００μｍを超えると、厚み方向の熱収縮歪により透明粒子５の接近が妨げられる場合がある。
【００４９】
転写シート３１を構成する粘着層３３は、常温でのタック値が５０〜１００℃におけるタック値よりも大きいことが好ましい。また、粘着層３３は、例えば、常温でのタック値が３〜３２、好ましくは５〜２０の範囲内にあり、５０〜１００℃におけるタック値が２〜１８、好ましくは３〜１２の範囲内にあるものとすることができる。これにより、上述の熱収縮性フィルム３２′が熱収縮を生じる温度において、粘着層３３に載置された透明粒子５が、熱収縮性フィルム３２′の熱収縮応力により粘着層３３上を移動して接近することが可能となり、最も接近した状態では、最密充填状態が得られる。また、粘着層３３は、タック値が低下する温度（熱収縮応力により粒子が粘着層３３上を移動可能となる温度）が、上述の熱収縮性フィルム３２′の熱収縮開始温度以下であることが好ましい。
【００５０】
尚、本発明におけるタック値は、ＪＩＳ  Ｚ０２３７に準拠し、（株）上島製作所製のボールタックテスタ（ＶＲ−５７１０）を使用し、３０°に傾斜したガラス基板上に測定試料をセットし、種々の大きさのクロム鋼球を転がし、粘着層上で停止する球の大きさをタック値として測定する。
【００５１】
上記のような粘着層３３を構成する材料としては、例えば、粘着剤、光硬化型剥離性粘着剤等を挙げることができる。
粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤等を使用することができる。
ゴム系粘着剤は、エラストマーをベースポリマーとし、ガラス転移温度が低く、高温までゴム域の広いポリマー（ゴム状物質）である。エラストマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、ブチルゴム、ポリイソブチレン、シリコーンゴム、ポリビニルイソブチルエーテル、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、グラフトゴム、再生ゴム、ポリビニルエーテル、アタクティックポリプロピレン、ポリエステル、ポリウレタン、ブタジエンラバー等を挙げることができる。また、粘着剤の構成成分として、上記のエラストマーの他に、粘着付与剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤等を含有してもよい。
【００５２】
アクリル系粘着剤は、粘着性を与えるガラス転移温度の低い柔らかいアクリル酸エステル等の主モノマーに、接着性や凝集力を与えるための高ガラス転移温度で硬いコモノマー、架橋や接着性の改良のための官能基含有モノマーが共重合されたものである。上記の主モノマーとしては、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸オクチル−メタクリル酸共重合体等のアクリル系モノマーを挙げることができる。
【００５３】
光硬化型剥離性粘着剤は、上述の転写シート３１の加熱冷却を行った後、光照射することにより粘着層３３に剥離性を付与し、転写工程にて被形成体に粒子を容易に転写可能とすることを目的とするものである。光硬化型剥離性粘着剤としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等の（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主モノマーとし、これに乳化剤、脱イオン水、重合開始剤を添加して通常の手段によりエマルジョン重合して得ることができる。また、モノマー種を選択することにより粘着力を調整することができる。このようなアクリル樹脂エマルジョン系の光硬化型剥離性粘着剤は、ガラス転移温度が０℃未満となるようなモノマー組成で選定される。
【００５４】
このような粘着層３３の厚みは、対象となる透明粒子５の平均粒径の半分以下とし、例えば、平均粒径が２０〜１５０μｍの範囲内にある透明粒子５を対象とする場合、粘着層３３の厚みは１〜１０μｍ程度の範囲で設定することができる。粘着層３３の厚みが１μｍ未満であると、透明粒子５を確実に載置することができず、１０μｍを超えると、熱収縮性フィルム３２′の熱収縮時に粘着層３３上での粒子の十分な接近が得られない場合があり、また、担持層３への透明粒子５の転写において、透明粒子５が存在せずに粘着層３３が露出している部位に形成された光反射膜６′も担持層３に転写されることがあり好ましくない。
【００５５】
ここで、上述の熱収縮性フィルム３２′の熱収縮により透明粒子５を接近させて転写シート３１を作製する際の透明粒子５の挙動について図１１および図１２にて説明する。
図１１（Ａ）は、原版２１，４１を用いて熱収縮性フィルム３２′の粘着層３３上に転写（載置）された透明粒子５の配列が、ピッチＰを有する六方格子配列である場合を示す図である。そして、熱収縮性フィルム３２′として、一軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図１１（Ｂ）に示されるように、熱収縮性フィルム３２′が一軸収縮（矢印ａ方向への収縮）を生じ、この収縮方向での透明粒子５の接近が生じることにより、作製された転写シート３１では、透明粒子５が面心立方格子配列をとる。また、熱収縮性フィルム３２′として、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図１１（Ｃ）に示されるように、熱収縮性フィルム３２′が二軸収縮（矢印ａ方向と矢印ｂ方向への収縮）を生じ、直交する二方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート３１では、透明粒子５が最密六方格子配列をとる。
【００５６】
図１２（Ａ）は、原版２１，４１を用いて熱収縮性フィルム３２′の粘着層３３上に転写（載置）された透明粒子５の配列が、ピッチＰを有する単純立方格子配列である場合を示す図である。そして、熱収縮性フィルム３２′として、一軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図１２（Ｂ）に示されるように、熱収縮性フィルム３２′が一軸収縮（矢印ａ方向への収縮）を生じ、この収縮方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート３１では、透明粒子５がストライプ状配列をとる。また、熱収縮性フィルム３２′として、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図１２（Ｃ）に示されるように、熱収縮性フィルム３２′が二軸収縮（矢印ａ方向と矢印ｂ方向への収縮）を生じ、直交する二方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート３１では、透明粒子５が単純立方格子配列をとる。
【００５７】
（製造方法の実施形態２）
図１３及び図１４は、本発明の再帰反射シートの製造方法の他の実施形態を説明するための工程図である。
本発明では、まず、熱収縮性フィルム５２′上に光熱変換層５３、発泡層５４、粘着層５５をこの順に積層する（図１３（Ａ））。
熱収縮性フィルム５２′としては、上述の実施形態の熱収縮性フィルム３２′として挙げたものを使用することができる。
【００５８】
光熱変換層５３は、後工程にて作製される転写シートに照射された光を効率良く熱に変換するためのものであり、例えば、樹脂バインダー中にシアニン系、ポリメチン系、アズレニウム系、スクワリウム系、チオピリリウム系、ナフトキノン系、アントラキノン系色素等の有機化合物、フタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯体等の赤外吸収色素を含有したもの、あるいは、酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）、鉛丹（Ｐｂ3Ｏ4）、黄鉛（ＰｂＣｒＯ4）、銀朱（ＨｇＳ）、群青（Ｎａ6Ａｌ6Ｓｉ6Ｏ24Ｓ4）、酸化コバルト（ＣｏＯ又はＣｏ3Ｏ4）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、二酸化チタン被覆雲母（ＴｉＯ2／Ｋ2Ｏ・３Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2・２Ｈ2Ｏ）、ストロンチウムクロメイト（ＳｒＣｒＯ4））、チタニウム・イエロー（ニッケルイエロー、クロムイエロー）、鉄黒（Ｆｅ3Ｏ4）、モリブデン赤（ＰｂＣｒＯ4・ｎＰｂＭｏＯ4・ｍＰｂＳＯ4・ｘＡｌ（ＯＨ）3）、モリブデンホワイト（ＺｎＭｏＯ4・ＺｎＯ又はＣａＺｎＭｏＯ4・ＣａＣＯ3）、リトポン（ＢａＳＯ4＋ＺｎＳ）、カドミウム赤（ＣｄＳ・ｎＣｄＳｅ）、ブロンズ粉（銅と亜鉛の合金）、アルミニウム粉等の近赤外領域に吸収帯をもつ金属酸化物やカーボンブラックを含有したもの、あるいは、上記物質単体からなる薄膜とすることができる。上記の樹脂バインダーとしては、上述の発泡層で挙げたような樹脂バインダーを使用することができる。また、樹脂バインダー中に含有される光熱変換性物質の含有量は、樹脂バインダー１００重量部に対して０．１〜５重量部の範囲で設定することが好ましい。
【００５９】
光熱変換層５３の形成は、上述の樹脂バインダーに光熱変換性物質と、必要に応じて架橋剤等を添加したものを、適当な有機溶剤、有機溶剤と水との混合体、または水に溶解したり、あるいは分散させた溶液、または分散体を調製し、これを、例えば、スクリーン印刷、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、エアーナイフコート法等の公知の手段により所望の厚みで熱収縮性フィルム５２′上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。このような光熱変換層５３の厚みは、樹脂バインダー中に光熱変換性物質を含有する場合、例えば、１〜１００μｍの範囲で設定することができ、また、光熱変換性物質の薄膜である場合には、０．００１〜１０μｍの範囲で設定することができる。
【００６０】
上述の発泡層５４は、下記の樹脂バインダーに発泡剤と、必要に応じて熱伝導性物質、架橋剤等を添加したものを、適当な有機溶剤、有機溶剤と水との混合体、または水に溶解したり、あるいは分散させた溶液、または分散体を調製し、これを、例えば、スクリーン印刷、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、エアーナイフコート法等の公知の手段により所望の厚みで光熱変換層５３上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。
使用する発泡剤としては、例えば、アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、Ｎ，Ｎ′ジニトロソ−Ｎ，Ｎ′ジメチルテレフタルアミド、Ｐ−トルエンスルホニルヒドラジド、ヒドラゾルカルボンアミド、Ｐ−トルエンスルホニルアジド、アセトンバーＰ−スルホニルヒドラゾン等の有機系発泡剤、重炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム等の無機系発泡剤、内部に低温で揮発する溶媒を含有した熱膨張性マイクロカプセル等が挙げられる。
【００６１】
上記の熱膨張性マイクロカプセルは、低温で揮発する炭化水素を熱可塑性樹脂からなる壁材の内部に包含させたカプセル構造をとるものであり、光照射（加熱）等により、未発泡状態の１０〜１５０倍程度の体積膨張を生じる。熱膨張性マイクロカプセルに内包させる炭化水素としては、塩化メチル、臭化メチル、トリクロロエタン、ジクロロエタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ペンタン、イソブタン、イソヘプタン、ネオペンタン、石油エーテル、フレオン等のフッ素原子をもつ脂肪族炭化水素、あるいは、これらの炭化水素の複合混合体等を用いることができる。
【００６２】
また、熱膨張性マイクロカプセルの壁材としては、塩化ビニリデン、塩化ビニル、アクリロニトリル、スチレン、ポリカーボネート、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、酢酸ビニルのポリマー、あるいは、これらの樹脂の共重合体や混合物等を用いることができる。また、必要の応じて、架橋剤を使用することもできる。このような熱膨張性マイクロカプセルの平均粒径は、例えば、０．１〜５０μｍ程度であってよい。
【００６３】
発泡層５４を構成する樹脂バインダーとしては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリ酢酸ビニルやポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル等のビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリウレタン、アクリロニトリル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデン共重合体、また、加硫ゴムや未加硫ゴム等のゴム系樹脂等を挙げることができる。上記のゴム系樹脂としては、クロロプレンゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴム、合成イソプレンゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム、ポリイソプレンゴム、ブタジエンゴム、ニトリルゴム、塩素化ブチルゴム等の合成ゴムや天然ゴム等の未加硫ゴム、あるいは、加硫ゴムを挙げることができる。特に好ましいものとしては、ポリエステル、アクリロニトリル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ゴム系樹脂を挙げることができる。
【００６４】
発泡層５４では、光照射（加熱）等により、含有される発泡剤が発泡した際に、光照射（加熱）した部位と、他の部位との境界で正確に発泡層が盛り上がることが必要であり、このため、上記のバインダー樹脂の数平均分子量は１０００〜３００００、好ましくは３０００〜２５０００の範囲であることが望ましい。
発泡層５４における発泡剤の含有量は、有機系発泡剤や無機系発泡剤の場合、樹脂バインダー１００重量部に対して５〜１００重量部の範囲で設定することが好ましい。また、発泡剤が熱膨張性マイクロカプセルの場合、樹脂バインダー１００重量部に対して５〜８０重量部の範囲で設定することが好ましい。発泡剤の含有量が上記の範囲未満であると、発泡層が充分に発泡せず、また、上記の範囲を超えると、発泡層の破裂を生じ、正確な突出形状が形成できなくなり好ましくない。
【００６５】
上述のような発泡剤、バインダー樹脂を含有する発泡層５４の厚みは、使用する発泡剤、発泡剤の含有量、透明粒子５の大きさ等を考慮して、発泡時に透明粒子５の大きさよりも高く突出可能なように設定することが望ましく、例えば、１〜１５０μｍの範囲で設定することができる。
尚、発泡層５４には、熱伝導性に優れた物質、例えば、銅、アルミニウム、酸化スズ、二硫化モリブデン等の金属、金属酸化物、あるいは、金属硫化物、カーボンブラック等の炭素質物質等を含有させてもよい。
【００６６】
また、上述の粘着層５５は、転写対象となる透明粒子５を保持可能であり、かつ、光照射（加熱）等により、発泡層５４が突出したときに、粒子の転写が可能なものである。このような粘着層５５は、例えば、微粘着タイプあるいは再剥離性タイプの粘着剤を用いて形成することができる。粘着層５５の形成は、上記の粘着性物質を、適当な有機溶剤、有機溶剤と水との混合体、または水に溶解したり、あるいは分散させた溶液、または分散体を調製し、これを、例えば、スクリーン印刷、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、エアーナイフコート法等の公知の手段により所望の厚みで発泡層５４上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。粘着層５５の厚みは、使用する材料の粘着性、膜切れ性等を考慮して適宜設定することができ、例えば、１〜１０μｍの範囲で設定することができる。
【００６７】
次に、粘着層５５上に本発明の原版４１を配置し（図１３（Ｂ））、原版４１の貫通孔４３内に透明粒子５を１個づつ載置し（図１３（Ｃ））、その後、原版４１を取り除くことにより、粘着層５５上に単粒子膜状態で透明粒子５を転写する（図１３（Ｄ））。各貫通孔４３内への透明粒子５の載置は、乾燥状態にある透明粒子５をスキージ４５を用いて原版２１上に塗布する方法、ブレードコート方法、例えば、乾燥状態にある透明粒子５を原版２１上に散布し、ブレードにより不要な透明粒子５を除去する方法、透明粒子５を分散させた分散液を原版４１上に塗布し、ブレードにより不要な透明粒子５を除去する方法等を用いることができる。スキージやブレードと原版４１とのギャップは、透明粒子５の平均粒子径未満に設定することが好ましい。
【００６８】
次いで、熱収縮性フィルム５２′を加熱して熱収縮させて基材５２を形成するとともに、粘着層５５上の透明粒子５を接近させて転写シート５１を作製する（図１４（Ａ））。この転写シート５１では、単粒子膜状態にある透明粒子５の面積充填率は８０％以上となる。また、転写シート５１では、透明粒子５が粘着層５５に埋め込まれたように保持されるが、この透明粒子５の埋め込み深さは、透明粒子５の平均粒径の半分未満の範囲とする。この熱収縮性フィルム５２′の熱収縮は、例えば、図９に示した熱収縮性フィルム３２′の熱収縮と同様の方法、あるいは、オーブン等の中に載置した状態で所定の昇温速度、到達温度で加熱するような方法を用いて行なうことができる。尚、熱収縮性フィルム５２′の熱収縮により透明粒子５を接近させて転写シート５１を作製する際の透明粒子５の挙動は、図１１および図１２に基づいた上述の説明と同様である。
【００６９】
次に、転写シート５１の粘着層５５上に、透明粒子５の半体表面を被覆するように光反射膜６を形成した後、転写シート５１の粒子配設面を、支持体２に設けられた担持層３に間隔を設けて対向させ、転写シート５１の基材５２側（粒子配設面と反対側の面）から所望のパターン部位５０に光および／または熱を供給する（図１４（Ｂ））。
転写シート５１と担持層３の対向間隔は、後述のように、発泡層５４の発泡による盛り上がりによって突出した透明粒子５が、担持層３に当接し得る間隔であり、使用する転写シートに応じて、例えば、１０〜１１０μｍの範囲で設定することができる。
所望のパターン部位５０に供給する光としてはレーザー光を用い、供給された光は光熱変換層５３により熱に変換される。また、所望のパターン部位５０に熱を直接供給する場合には、サーマルヘッド、赤外線照射装置等を用いることができる。
【００７０】
上述のように所望のパターン部位５０に光および／または熱を供給することにより、転写シート５１の発泡層５４のうち、パターン部位５０に対応する部位にて、含有する発泡剤が発泡する。これにより、発泡層５４が盛り上がり、透明粒子５が担持層３方向に突出して当接する（図１４（Ｃ））。尚、上述にように、転写シート５１では、透明粒子５がその平均粒径の半分未満の深さで粘着層５５に埋め込まれたように保持されているので、透明粒子５が担持層３方向に突出して接触した状態であっても、透明粒子５がなく粘着層５５が露出している部位に形成された光反射膜が存在しても、このような光反射膜は、担持層３に接触しないことになる。
【００７１】
その後、転写シート５１を除去することにより、透明粒子５のみが光反射膜６とともに担持層３に所望のパターンで単粒子状態で転写され、これにより、図３、図４に示されるようなパターン形状の透明粒子膜４を形成することができる。このパターン形状の透明粒子膜４における透明粒子５の面積充填率は８０％以上である。また、担持層３に埋め込まれる透明粒子５の深さは、その平均粒径の２０〜５０％、好ましくは３０〜５０％の範囲とする。
尚、接合部材８と透明保護フィルム９を備えていない本発明の再帰反射フィルムの場合、この工程までで製造が完了する。
次いで、接合部材８を介して透明保護フィルム９を、透明粒子膜４に対して気体層７を形成するように配設して、本発明の再帰反射フィルム１が得られる。
【００７２】
上述の製造方法では原版４１を使用しているが、原版２１を使用してもよいことは勿論である。
また、転写シートとして、光熱変換層５３を備えていないもの、光熱変換層５３と発泡層５４の代わりに光熱変換発泡層を備えるもの、光熱変換層５３と発泡層５４と粘着層５５の代わりに光熱変換発泡性粘着層を備えているもの、基材５２の裏面に光熱変換層を備えるもの等を使用することもできる。
【００７３】
上記の光熱変換発泡層は、樹脂バインダー、発泡剤として上述の発泡層５４で挙げたような樹脂バインダー、発泡剤を使用することができ、また、光熱変換物質としては、上述の光熱変換層５３で挙げた光熱変換性物質を用いることができる。光熱変換発泡層における発泡剤の含有量は、樹脂バインダー１００重量部に対して５〜１００重量部の範囲、光熱変換性物質の含有量は、樹脂バインダー１００重量部に対して０．１〜５重量部の範囲でそれぞれ設定することが好ましい。このような光熱変換発泡層の厚みは、使用する発泡剤や光熱変換性物質、これらの含有量、粒子の大きさ等を考慮して、発泡時に粒子の大きさよりも高く突出可能なように設定することが望ましく、例えば、１〜１５０μｍの範囲で設定することができる。
【００７４】
また、上記の光熱変換発泡性粘着層は、上述の発泡層５４と光熱変換層５３と粘着層５５の全機能を備えたものであり、粘着性を有する樹脂バインダー中に発泡剤と光熱変換性物質を含有するものである。光熱変換発泡性粘着層を構成する粘着性を有する樹脂バインダーとしては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤等を使用することができる。
【００７５】
ゴム系粘着剤は、エラストマーをベースポリマーとし、ガラス転移温度が低く、高温までゴム域の広いポリマー（ゴム状物質）であるものを使用することができる。上記のエラストマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、ブチルゴム、ポリイソブチレン、シリコーンゴム、ポリビニルイソブチルエーテル、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、グラフトゴム、再生ゴム、ポリビニルエーテル、アタクティックポリプロピレン、ポリエステル、ポリウレタン、ブタジエンラバー等を挙げることができる。また、粘着剤の構成成分として、上記のエラストマーの他に、粘着付与剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤等を含有してもよい。
【００７６】
アクリル系粘着剤は、粘着性を与えるガラス転移温度の低い柔らかいアクリル酸エステル等のモノマーに、接着性や凝集力を与えるための高ガラス転移温度で硬いコモノマー、架橋や接着性の改良のための官能基含有モノマーが共重合されたものである。上記のモノマーとしては、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸オクチル−メタクリル酸共重合体等のアクリル系モノマーを挙げることができる。
【００７７】
また、発泡剤は、上述の発泡層５４で挙げたような発泡剤を使用することができ、光熱変換物質としては、上述の光熱変換層５３で挙げた光熱変換性物質を用いることができる。
光熱変換発泡性粘着層における発泡剤の含有量は、粘着性を有する樹脂バインダー１００重量部に対して５〜１００重量部の範囲、光熱変換性物質の含有量は、粘着性を有する樹脂バインダー１００重量部に対して０．１〜５重量部の範囲でそれぞれ設定することが好ましい。このような光熱変換発泡性粘着層の厚みは、使用する発泡剤や光熱変換性物質、これらの含有量、粒子の大きさ等を考慮して、発泡時に粒子の大きさよりも高く突出可能なように設定することが望ましく、例えば、１〜１５０μｍの範囲で設定することができる。
【００７８】
上述のような本発明の再帰反射シートの製造方法では、熱収縮性フィルム３２′，５２′を熱収縮させた状態で、透明粒子５が接近し面積充填率が８０％以上の単粒子膜が得られる。また、透明粒子５は平均粒径の半分未満の深さで粘着層３３，５５に埋め込まれているので、後工程において粘着層３３，５５上に成膜した光反射膜のうち、透明粒子の半体表面を被覆した光反射膜６と、透明粒子が存在しない部位の粘着層上に形成された光反射膜６′との間に、高さの差が生じる。したがって、担持層３には単粒子膜状態の透明粒子のみが転写され、粘着層上に形成された光反射膜６′が担持層に転写されることが防止される。これにより、透明保護フィルム９を接合する工程にて、光反射膜６′を介することなく、接合部材８を担持層３や透明粒子５に直に接合することができる。
上述の再帰反射シートと、その製造方法の実施形態は例示であり、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。
【実施例】
【００７９】
次に、より具体的な実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
＜原版の作製＞
厚さ３ｍｍのほう珪酸ガラス板（縦１ｍ×横１ｍ）を準備し、このほう珪酸ガラス板上に真空蒸着法によりクロム薄膜（厚さ１０００Å）を成膜して基体とした。
次に、クロム薄膜上にフォトレジスト（日本ゼオン（株）製  ＺＰＰ１８００）を塗布した。その後、基体の両面を所定のフォトマスクを介して露光し、現像を行なって、厚さ２μｍのレジストパターンを形成した。露光は超高圧水銀ランプを光源とし、照射量は３６５ｎｍで１５０ｍＪ／ｃｍ2とした。また、現像は現像液（日本ゼオン（株）製  ＺＴＭＡ−Ｕ２０）を使用して行なった。
【００８０】
次いで、酸化セリウム系のエッチング液を用いて、湿式エッチングによりクロム薄膜をエッチングした。これにより、クロム薄膜とレジストパターンとの２層構造であり、円形の開口部（直径８０μｍ）を有するエッチングマスクを、基体両面に、円形の開口部の中心が一致するように形成した。
次に、上記のエッチングマスクを備えた基体をフッ化水素酸系のエッチング液に浸漬し、エッチングすることによって貫通孔を形成し、その後、水洗し、レジスト剥離剤を用いてレジストパターンを除去し、更に、酸化セリウム系のエッチング液を用いてクロム薄膜を除去して、原版を得た。この原版は、図１０に示されるような構造であり、両面の孔径が８０μｍである貫通孔（中央部の内径は７５μｍ）を図７に示すような六方最密格子配列（ピッチ１３０μｍ）で複数備えるものであった。
【００８１】
＜原版への透明粒子の載置と転写シートの作製＞
熱収縮性フィルムとして、厚さ３０μｍの二軸収縮型フィルム（三菱樹脂（株）製  ヒシペットＰＳ−４０Ｓ）を準備した。このフィルムの一方の面に、アクリル系粘着剤（東亜合成化学（株）製  アロンＳ−１６０１）をブレードコート法により塗布して、厚み１μｍの粘着層を形成した。
次に、上記の粘着層上に上述のように作製した原版を設置し、篩にかけた平均粒径７０μｍ（粒径のバラツキ：±５μｍ）の高屈折率ガラスビーズ（旭テクノグラス（株）製  ＷＧＢ２５４）をスキージを用いて塗布した。この際、原版とスキージとのギャップは２０μｍとした。これにより、原版Ａの各貫通孔の開口部に高屈折率ガラスビーズが１個づつ載置された。その後、原版を取り除いて、粘着層上に高屈折率ガラスビーズの単粒子膜（六方格子配列）を形成した。
【００８２】
次に、高屈折率ガラスビーズを備えた二軸収縮型フィルムを、オーブン中で７５℃まで加熱（昇温速度１０℃／分）し、その後、オーブンから取り出して室温まで冷却した。これにより、二軸収縮型フィルムの収縮が生じ、粘着層上に高屈折率ガラスビーズが最密六方格子状態に配列した単粒子膜（面積充填率：１００％）を作製して転写シートとした。
次いで、この転写シートの高屈折率ガラスビーズ側から真空蒸着法によりアルミニウム薄膜（厚み：１００ｎｍ）を成膜し、高屈折率ガラスビーズの半体表面に光反射膜を形成した。この光反射膜は、高屈折率ガラスビーズ間の粘着層の微細な部位にも成膜された。
【００８３】
＜再帰反射シートの作製＞
支持体として厚み５０μｍの耐熱フィルム（パナック（株）製  ５０−Ｔ６０）を準備し、この耐熱フィルム上にアクリル系粘着剤（東亜合成化学（株）製  アロンＳ−３４０３）をブレードコート法により塗布して、厚み３５μｍの担持層を形成した。
次いで、この担持層に対し、上述のように作製した転写シートを、高屈折率ガラスビーズを接触させるように貼り合わせ、その後、転写シートの基材と粘着層を剥離した。これにより、高屈折率ガラスビーズが、光反射膜（アルミニウム薄膜）が成膜された半体部分を担持層に埋設した状態で転写配設され、最密六方格子配列の高屈折率ガラスビーズ膜（面積充填率：１００％）が形成された。尚、高屈折率ガラスビーズが存在しない粘着層上に成膜された光反射膜は、担持層に転写されなかった。
【００８４】
次いで、透明保護フィルムとして厚み５０μｍの耐熱フィルム（パナック（株）製  ５０−Ｔ６０）を準備した。この透明保護フィルム上にアクリル系粘着剤（東亜合成化学（株）製  アロンＳ−３４０３）をスクリーン印刷により蜂の巣状パターンで塗布（塗布膜厚：５０μｍ、線幅：２００μｍ、パターンピッチ：２ｍｍ）して、接合部材を形成した。次に、この接合部材を高屈折率ガラスビーズ膜に当接するように圧着して、透明保護フィルムを配設した。この透明保護フィルムと高屈折率ガラスビーズ膜との間には、厚み２０μｍの空気層が形成された。
以上により、本発明の再帰反射シートを作製した。
【００８５】
この再帰反射シートについて、再帰反射測定機（スガ試験機（株）製  ＮＳ−１）を用いて、１００ｍｍ×１００ｍｍサイズの再帰反射シートの再帰反射性能を、ＪＩＳ  Ｚ９１１７「保安用反射シートおよびテープ」に準じて、観測角０．２°、入射角５°で測定した結果、３２０ｃｄ／ｌｘ・ｍ2であった。
【００８６】
また、上記の再帰反射シートについて、下記の条件で透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、透明保護フィルムの脱落はなく、接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ち発生もなかった。
（透明保護フィルムの脱落試験）
ＪＩＳ  Ｚ９１１７「保安用反射シートおよびテープ」に準じて、サンシャイン
カーボン式促進耐候試験を行った後、再帰反射シートからの保護シートの脱落、
あるいは剥がれの有無を観察する。
【００８７】
［実施例２］
実施例１と同様にして、両面の孔径が８０μｍである貫通孔（中央部の内径は７５μｍ）を図８に示すような単純立方格子配列（ピッチ１３０μｍ）で複数備える原版を作製し、この原版を使用して、実施例１と同様にして、本発明の再帰反射シートを作製した。
この再帰反射シートでは、高屈折率ガラスビーズが、光反射膜（アルミニウム薄膜）が成膜された半体部分を埋設した状態で担持層に担持され、面積充填率は８６％であった。また、高屈折率ガラスビーズが存在しない担持層上には、光反射膜は存在しないものであった。
【００８８】
この再帰反射シートについて、実施例１と同様にして再帰反射性能を測定した結果、２９０ｃｄ／ｌｘ・ｍ2であった。
また、上記の再帰反射シートについて、実施例１と同様に透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、透明保護フィルムの脱落はなく、接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ち発生もなかった。
【００８９】
［比較例１］
基材として、厚さ５０μｍの耐熱フィルム（パナック（株）製  ５０−Ｔ６０）を準備した。このフィルムの一方の面に、アクリル系粘着剤（東亜合成化学（株）製  アロンＳ−１６０１）をブレードコート法により塗布して、厚み１μｍの粘着層を形成した。
次に、上記の粘着層上に、篩にかけた平均粒径７０μｍ（粒径のバラツキ：±５μｍ）の高屈折率ガラスビーズ（旭テクノグラス（株）製  ＷＧＢ２５４）を散布した後、ブレードコート法を用いて余分な高屈折率ガラスビーズを除去し、単粒子膜状態の高屈折率ガラスビーズ膜を形成して転写シートとした。この際、粘着層とブレードとのギャップを７５μｍに設定した。このように形成された高屈折率ガラスビーズ膜の面積充填率は７０％であった。
【００９０】
次に、転写シートの高屈折率ガラスビーズ膜側から真空蒸着法によりアルミニウム薄膜を成膜し、高屈折率ガラスビーズの半体表面に光反射膜を形成した。この光反射膜は、高屈折率ガラスビーズが存在しない粘着層上にも成膜された。
次いで、支持体として厚み５０μｍの耐熱フィルム（パナック（株）製  ５０−Ｔ６０）を準備し、この耐熱フィルム上にアクリル系粘着剤（東亜合成化学（株）製  アロンＳ−３４０３）をブレードコート法により塗布して、厚み３５μｍの担持層を形成した。
次に、この担持層に対し、上記の転写シートを、高屈折率ガラスビーズを接触させるように貼り合わせ、その後、転写シートの基材と粘着層を剥離した。これにより、高屈折率ガラスビーズが、光反射膜（アルミニウム薄膜）が成膜された半体部分を担持層に埋設した状態で転写配設され、高屈折率ガラスビーズ膜（面積充填率：７０％）が形成された。ただし、高屈折率ガラスビーズが存在しない粘着層上に成膜された光反射膜は、担持層に転写されなかった。
【００９１】
次いで、実施例１と同様に透明保護フィルムを配設し、比較としての再帰反射シートを作製した。
この再帰反射シートについて、実施例１と同様にして再帰反射性能を測定した結果、２５０ｃｄ／ｌｘ・ｍ2であった。
また、上記の再帰反射シートについて、実施例１と同様に透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、透明保護フィルムの脱落はなく、接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ち発生はなかった。
【００９２】
［比較例２］
基材として、厚さ５０μｍの耐熱フィルム（パナック（株）製  ５０−Ｔ６０）を準備した。このフィルムの一方の面に、アクリル系粘着剤（東亜合成化学（株）製  アロンＳ−１６０１）をバーコート法により塗布して、厚み３５μｍの粘着層を形成した。
次に、上記の粘着層上に、篩にかけた平均粒径７０μｍ（粒径のバラツキ：±５μｍ）の高屈折率ガラスビーズ（旭テクノグラス（株）製  ＷＧＢ２５４）を散布した後、ブレードコート法を用いて余分な高屈折率ガラスビーズを除去し、単粒子膜状態の高屈折率ガラスビーズ膜を形成して転写シートとした。この際、粘着層とブレードとのギャップを７５μｍに設定した。このように形成された高屈折率ガラスビーズ膜の面積充填率は７２％であった。
【００９３】
次に、転写シートの高屈折率ガラスビーズ膜側から真空蒸着法によりアルミニウム薄膜を成膜し、高屈折率ガラスビーズの半体表面に光反射膜を形成した。この光反射膜は、高屈折率ガラスビーズが存在しない粘着層上にも成膜された。
次いで、支持体として厚み５０μｍの耐熱フィルム（パナック（株）製  ５０−Ｔ６０）を準備し、この耐熱フィルム上にアクリル系粘着剤（東亜合成化学（株）製  アロンＳ−３４０３）をブレードコート法により塗布して、厚み３５μｍの担持層を形成した。
【００９４】
次に、この担持層に対し、上記の転写シートを、高屈折率ガラスビーズを接触させるように貼り合わせ、その後、転写シートの基材と粘着層を剥離した。これにより、高屈折率ガラスビーズが、光反射膜（アルミニウム薄膜）が成膜された半体部分を担持層に埋設した状態で転写配設され、高屈折率ガラスビーズ膜（面積充填率：４０％）が形成された。この転写工程では、高屈折率ガラスビーズが存在しない粘着層上に成膜された光反射膜も担持層に転写された。
次いで、実施例１と同様に透明保護フィルムを配設し、比較としての再帰反射シートを作製した。
【００９５】
この再帰反射シートについて、実施例１と同様にして再帰反射性能を測定した結果、１２０ｃｄ／ｌｘ・ｍ2であった。
また、上記の再帰反射シートについて、実施例１と同様に透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、高屈折率ガラスビーズが存在しない領域の光反射層に固着した接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ちがみられ、透明保護フィルムの脱落のおそれがあることが確認された。
【００９６】
［実施例３］
＜原版の作製＞
実施例１と同様にして原版を作製した。但し、この原版は、両面の孔径が８０μｍである貫通孔（中央部の内径は７５μｍ）を図７に示すような六方最密格子配列（ピッチ１３０μｍ）で複数備えたパターン（１０ｍｍ×１０ｍｍの正方形状のパターン）が、１ｍｍ幅の帯状の格子領域で区画されて配置されたものとした。
【００９７】
＜原版への透明粒子の載置と転写シートの作製＞
熱収縮性フィルムとして、厚さ３０μｍの二軸収縮型フィルム（三菱樹脂（株）製  ヒシペットＰＳ−４０Ｓ）を準備した。このフィルムの一方の面に、アクリル系粘着剤（東亜合成化学（株）製  アロンＳ−１６０１）をブレードコート法により塗布して、厚み１μｍの粘着層を形成した。
次に、上記の粘着層上に、上記のように作製した原版を設置し、実施例１と同様にして、粘着層上に高屈折率ガラスビーズが最密六方格子状態で配列した単粒子膜（面積充填率：１００％）を、５ｍｍ×５ｍｍの正方形状のパターンで備えた転写シートを作製した。
次いで、実施例１と同様して、高屈折率ガラスビーズの半体表面に光反射膜を形成した。この光反射膜は、高屈折率ガラスビーズ間の粘着層上の微細な部位にも成膜されるとともに、高屈折率ガラスビーズが存在しない０．５ｍｍ幅の帯状格子領域の粘着層にも成膜された。
【００９８】
＜再帰反射シートの作製＞
実施例１と同様に、支持体上に担持層を形成し、この担持層に対し、上述のように作製した転写シートを、高屈折率ガラスビーズを接触させるように貼り合わせ、その後、転写シートの基材と粘着層を剥離した。これにより、高屈折率ガラスビーズが、光反射膜（アルミニウム薄膜）が成膜された半体部分を担持層に埋設した状態で転写配設され、最密六方格子配列の高屈折率ガラスビーズ膜（面積充填率：１００％）が形成された。尚、高屈折率ガラスビーズが存在しない粘着層上に成膜された光反射膜は、担持層に転写されなかった。
【００９９】
次いで、実施例１と同様に透明保護フィルムを配設し、本発明の再帰反射シートを作製した。
この再帰反射シートについて、実施例１と同様にして再帰反射性能を測定した結果、３００ｃｄ／ｌｘ・ｍ2であった。
また、上記の再帰反射シートについて、実施例１と同様に透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、透明保護フィルムの脱落、接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ちは発生しなかった。
【０１００】
［比較例３］
転写シートの作製工程にて粘着層の厚みを３５μｍとした他は、実施例３と同様にして、転写シートを作製した。次いで、実施例１と同様して、高屈折率ガラスビーズの半体表面に光反射膜を形成した。この光反射膜は、高屈折率ガラスビーズ間の粘着層上の微細な部位にも成膜されるとともに、高屈折率ガラスビーズが存在しない０．５ｍｍ幅の帯状格子領域の粘着層にも成膜された。
【０１０１】
次に、実施例１と同様に、支持体上に担持層を形成し、この担持層に対し、上述のように作製した転写シートを、高屈折率ガラスビーズを接触させるように貼り合わせ、その後、転写シートの基材と粘着層を剥離した。これにより、高屈折率ガラスビーズが、光反射膜（アルミニウム薄膜）が成膜された半体部分を担持層に埋設した状態で転写配設され、最密六方格子配列の高屈折率ガラスビーズ膜（面積充填率：４５％）が形成された。また、高屈折率ガラスビーズが存在しない粘着層上に成膜された光反射膜も担持層に転写された。
次いで、実施例１と同様に透明保護フィルムを配設し、本発明の再帰反射シートを作製した。
【０１０２】
この再帰反射シートについて、実施例１と同様にして再帰反射性能を測定した結果、１５０ｃｄ／ｌｘ・ｍ2であった。
しかし、上記の再帰反射シートについて、実施例１と同様に透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、高屈折率ガラスビーズが存在しない領域の光反射層に固着した接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ちがみられ、透明保護フィルムの脱落のおそれがあることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
再帰反射シートの製造に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】本発明の再帰反射シートの一例を示す平面図である。
【図２】図１に示される再帰反射シートのＡ−Ａ線における拡大縦断面図である。
【図３】本発明の再帰反射シートの他の例を示す平面図である。
【図４】図３に示される再帰反射シートのＢ−Ｂ線における拡大縦断面図である。
【図５】本発明の再帰反射シートの製造方法の一実施形態を説明するための工程図である。
【図６】本発明の再帰反射シートの製造方法の一実施形態を説明するための工程図である。
【図７】原版の凹部の配列例を示す図である。
【図８】原版の凹部の配列例を示す図である。
【図９】本発明の再帰反射シートの製造方法における熱収縮性フィルムの熱収縮処理の一例を説明するための図である。
【図１０】本発明の再帰反射シートの製造方法の他の実施形態を説明するための工程図である。
【図１１】本発明の再帰反射シートの製造方法における熱収縮性フィルムの熱収縮時の粒子の挙動を説明するための図である。
【図１２】本発明の再帰反射シートの製造方法における熱収縮性フィルムの熱収縮時の粒子の挙動を説明するための図である。
【図１３】本発明の再帰反射シートの製造方法の他の実施形態を説明するための工程図である。
【図１４】本発明の再帰反射シートの製造方法の他の実施形態を説明するための工程図である。
【符号の説明】
【０１０５】
１…再帰反射シート
２…支持体
３…担持層
４…透明粒子膜
５…透明粒子
６…光反射膜
７…気体層
８…接合部材
９…透明保護フィルム
２１，４１…原版
２３…凹部
４３…貫通孔
３１，５１…転写シート
３２′，５２′…熱収縮性フィルム
３２，５２…基材
３３，５５…粘着層
５３…光熱変換層
５４…発泡層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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