(57)【要約】【課題】塗布面状故障の改良された光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルムを提供する。また、適切な手段により反射防止処理がされている偏光板、画像表示装置を提供する。【解決手段】５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法であって、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層が、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップのランドを近接させ、該先端リップのスロットから吐出される塗布液を塗布する光学機能フィルムの製造方法、この製造方法で作製された光学機能フィルム、およびこの製造方法で作製された反射防止フィルムを適用した偏光板、画像表示装置によって達成された。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎｍ以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップの平坦部を近接させ、該先端リップのスロットから吐出される塗布液を塗布する方法であって、前記ウェブの進行方向側の先端リップの平坦部のウェブ走行方向における長さを３０μm以上１００μm以下とする塗布方法により形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項２】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎｍ以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、スロットダイを塗布位置にセットしたときに、ウェブの進行方向と逆側の先端リップとウェブとの隙間を、ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも大きくなるように設置した塗布装置を用いて形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項３】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎｍ以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、ウェブの表面に塗布された塗膜の湿潤膜厚が２０μm以下で、ウェブ表面の中心線平均粗さＲａが１μm以下のウェブまたは進行方向における前記Ｒａが１μmより大きい凹凸部分が連続して１０ｃｍ未満のウェブを用いて形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項４】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎｍ以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、ウェブに近接させたスロットダイコーターまたはスライドビードコーターのダイの先端リップからウェブにかけてビードを形成し、前記ビード近傍をバックプレートを有する減圧チャンバーにより減圧して、バックアップロール上の前記ウェブに塗布液を塗布する方法であって、前記バックプレートと前記ウェブとの隙間を前記先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくなるように前記減圧チャンバーを設置する塗布方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項５】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎｍ以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、スロットダイから吐出される塗布液を連続走行するウェブの表面に塗布する方法であって、前記スロットダイの下流側リップ先端とウェブとの距離Ｌ１が、ウェブに塗布された塗布液の湿潤膜厚Ｌ２に対してＬ１≧２×Ｌ２の関係を有し、前記スロットダイのポケット内の液圧を大気圧以上とする塗布方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項６】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎｍ以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、バックアップロールで支持されたウェブにダイを近接させて、ダイからウェブに塗布液を塗布する方法であって、ダイに対してウェブ走行方向の上流側および下流側の一方に配置される光源と、他方に配置される撮像手段とを用いて、光源から照射されたダイとウェブとの隙間を前記撮像手段により撮像し、この撮像結果に基づいて前記隙間を計測することにより塗布する方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項７】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎｍ以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、スロットダイコーターまたはスライドビードコーターを用いて、回転による振れの振れ幅が１０μm未満であるバックアップロールで支持されて走行するウェブに対して塗布液を塗布することにより形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項８】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップの平坦部を近接させて、少なくとも２層の塗膜を多層同時塗布で塗布する方法であって、前記ウェブの走行方向における最上流側の前記先端リップ以外の少なくとも一つの前記先端リップの平坦部のウェブ走行方向における長さを３０μm以上１００μm以下である塗布方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項９】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、スロットが開口されたダイのスロット内に塗布幅規制のための幅規制部材が備えられ、前記スロット内に送液された塗布液を前記ダイの先端リップから、連続走行するウェブの表面に塗布する方法であって、前記ウェブ進行方向側の第一先端リップと前記ウェブとの隙間Ｌ１を、前記ウェブの進行方向とは逆側第二先端リップと前記ウェブとの隙間Ｌ２よりも小さくし、前記幅規制部材の先端位置を、前記第一先端リップの先端位置と同一または上流側で、かつ前記第二先端リップの先端位置と同一または下流側に設置した塗布装置を用いた塗布方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項１０】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎｍ以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップを近接させ、スロットから塗布液を吐出して塗布する方法であって、スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも２つのブロックから構成され、かつ前記先端リップが段差を有するスロットダイであり、基台の基準平面に前記ブロックを先端リップとは反対側の面を揃えた状態で密着させてブロック同士を締結したスロットダイによって塗布する方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項１１】
５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎｍ以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、ウェブにダイを近接させ制御された減圧下でダイからウェブに塗布液を塗布する方法であって、前記ダイが塗布位置とウェブから離れた退避位置との間で移動するように構成されており、塗布開始前に定常塗布時に必要な減圧度とする設定条件で稼動させてから、前記ダイを塗布位置に移動させ、かつ退避位置から塗布位置へのダイの移動速度を３mm/秒以上３０mm/秒以下とする塗布方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【請求項１２】
光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層が、面状改良剤を含むことを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【請求項１３】
面状改良剤がフルオロ脂肪族基を含有する化合物であることを特徴とする請求項１２記載の光学機能フィルムの製造方法。
【請求項１４】
フルオロ脂肪族基を含有する化合物が、下記一般式（ｉ）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから形成されるポリマーであり、且つ該モノマーが全モノマー量に対して５０モル％以上含有することを特徴とする請求項１３記載の光学機能フィルムの製造方法。
【化１】
2006075698.tif 000027
一般式（ｉ）中、Ｒ21は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。Ｘ2は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ22）−を表す。Ｒ22は水素原子又は、炭素数１〜８のアルキル基を表す。ａは１〜６の整数を表し、ｂは１〜１８の整数を表す。
【請求項１５】
光学機能フィルムが帯電防止層を有し、該帯電防止層を最外層に隣接されて塗布することを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれかに記載の製造方法によって製造された光学機能フィルム。
【請求項１７】
請求項１〜１５のいずれかに記載の製造方法であって、支持体上に、光拡散層または該支持体より屈折率の高い高屈折率層の少なくとも１層と、該支持体より屈折率の低い低屈折率層の少なくとも１層を塗布することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の製造方法によって製造された反射防止フィルム。
【請求項１９】
請求項１７に記載の製造方法によって製造された反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に有することを特徴とする偏光板。
【請求項２０】
請求項１７記載の製造方法によって製造された反射防止フィルム又は請求項１９に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルム及びこれらのフィルムを用いた偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は大画面化が進み、反射防止フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される光学機能フィルムである。反射防止フィルムには高い物理強度（耐擦傷性など）、透明性、耐薬品性、耐候性（耐湿熱性、耐光性など）が要求される。さらにまた、ディスプレイの視認性を低下させる塵埃（埃など）が、反射防止フィルムの表面に付着するのを防止することも要求される。
【０００３】
光学機能フィルムに用いる反射防止層（高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層など）としては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられている。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法により形成することが通常に行われてきた。しかし、蒸着による金属酸化物の透明薄膜の形成方法は生産性が低く大量生産に適しておらず、生産性が高い塗布により形成する方法が提案されている（例えば特許文献１〜４参照）。
さらに光拡散によって反射防止効果を付与する方法も知られており、このために表面に凹凸を形成したり層内部に屈折率差を有するミクロな界面を形成する方法が提案されている。このような光拡散性を付与する方法に対しても塗布方式のほうが好適であり、種々の塗布方式が提案されている。
塗布方式の中で例えば、写真感光性乳剤液、磁性体液、光学フィルム機能層、顔料液等の高機能性薄層用塗布液をフィルムに塗布する方式が提案されている（例えば特許文献５〜１６参照）。これらは湿潤膜厚が数十ミクロン以下の薄層塗布液を、例えばプラスチックフィルムに特定のスロットダイや塗布方法を用いて塗布する方法を開示している。しかしながら、本発明に係る反射防止フィルムの塗布方式として該特定のスロットダイや塗布方法が好適であることを明確に示したものではなかった。また、該特定のスロットダイや塗布方法を用いて塗布面状故障の少ない反射防止層を形成するためには、従来の反射防止層では不十分であることが分かった。
【０００４】
一方、液晶表示装置において偏光板は不可欠な光学材料であり、一般に、偏光膜が２枚の保護フィルムによって保護されている構造をしている。これらの保護フィルムに反射防止機能を付与することによりコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
【特許文献１】特開２００２−１１６３２３号公報
【特許文献２】特開２００２−１５６５０８号公報
【特許文献３】特開２００２−３６１７６９号公報
【特許文献４】特開２００３−４９０３号公報
【特許文献５】特開平７−１５１９０４号公報
【特許文献６】特開２００３−２０００９７号公報
【特許文献７】特開２００３−２１１０５２号公報
【特許文献８】特開２００３−２３０８６２号公報
【特許文献９】特開２００３−２３６４３４号公報
【特許文献１０】特開２００３−２３６４５１号公報
【特許文献１１】特開２００３−２４５５９５号公報
【特許文献１２】特開２００３−２５１２６０号公報
【特許文献１３】特開２００３−２６０４００号公報
【特許文献１４】特開２００３−２６０４０２号公報
【特許文献１５】特開２００３−２７５６５２号公報
【特許文献１６】特開２００４−１４１８０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、塗布面状故障の改良された光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルムを提供することである。
また本発明は、適切な手段により反射防止処理がされている偏光板、画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、下記構成の光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルム及び、偏光板、画像表示装置により達成される。
【０００７】
（１）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップの平坦部を近接させ、該先端リップのスロットから吐出される塗布液を塗布する方法であって、前記ウェブの進行方向側の先端リップの平坦部のウェブ走行方向における長さを３０μm以上１００μm以下とする塗布方法によって形成されたことを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
（２）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００ｎm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、スロットダイを塗布位置にセットしたときに、ウェブの進行方向と逆側の先端リップとウェブとの隙間を、ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも大きくなるように設置した塗布装置を用いて形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【０００８】
（３）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、ウェブの表面に塗布された塗膜の湿潤膜厚が２０μm以下で、ウェブ表面の中心線平均粗さＲａが１μm以下のウェブ、または進行方向における前記Ｒａが１μmより大きい凹凸部分が連続して１０ｃｍ未満のウェブを用いて形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
（４）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、ウェブに近接させたスロットダイコーターまたはスライドビードコーターのダイの先端リップからウェブにかけてビードを形成し、前記ビード近傍をバックプレートを有する減圧チャンバーにより減圧して、バックアップロール上の前記ウェブに塗布液を塗布する方法であって、前記バックプレートと前記ウェブとの隙間を前記先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくなるように前記減圧チャンバーを設置する塗布方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【０００９】
（５）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、スロットダイから吐出される塗布液を連続走行するウェブの表面に塗布する方法であって、前記スロットダイの下流側リップ先端とウェブとの距離Ｌ１が、ウェブに塗布された塗布液の湿潤膜厚Ｌ２に対してＬ１≧２×Ｌ２の関係を有し、前記スロットダイのポケット内の液圧を大気圧以上とする方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
（６）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、バックアップロールで支持されたウェブにダイを近接させて、ダイからウェブに塗布液を塗布する方法であって、ダイに対してウェブ走行方向の上流側および下流側の一方に配置される光源と、他方に配置される撮像手段とを用いて、光源から照射されたダイとウェブとの隙間を前記撮像手段により撮像し、この撮像結果に基づいて前記隙間を計測することによって前記塗設層を塗布する方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【００１０】
（７）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、スロットダイコーターまたはスライドビードコーターを用いて、回転による振れの振れ幅が１０μm未満であるバックアップロールで支持されて走行するウェブに対して塗布液を塗布する方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
（８）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップの平坦部を近接させて、少なくとも２層の塗膜を多層同時塗布で塗布する方法であって、前記ウェブの走行方向における最上流側の前記先端リップ以外の少なくとも一つの前記先端リップの平坦部のウェブ走行方向における長さを３０μm以上１００μm以下である塗布方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【００１１】
（９）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、スロットが開口されたダイのスロット内に塗布幅規制のための幅規制部材が備えられ、前記スロット内に送液された塗布液を前記ダイの先端リップから、連続走行するウェブの表面に塗布する方法であって、前記ウェブ進行方向側の第一先端リップと前記ウェブとの隙間Ｌ１を、前記ウェブの進行方向とは逆側第二先端リップと前記ウェブとの隙間Ｌ２よりも小さくし、前記幅規制部材の先端位置を、前記第一先端リップの先端位置と同一または上流側で、かつ前記第二先端リップの先端位置と同一または下流側に設置した塗布装置を用いる塗布法法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
（１０）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップを近接させ、スロットから塗布液を吐出して塗布する方法であって、スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも２つのブロックから構成され、かつ前記先端リップが段差を有するスロットダイであり、基台の基準平面に前記ブロックを先端リップとは反対側の面を揃えた状態で密着させてブロック同士を締結したスロットダイによって塗布する方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【００１２】
（１１）  ５ｍ／分から２００ｍ／分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が２００nm以下の光学機能層を少なくとも１層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層を、ウェブにダイを近接させ制御された減圧下でダイからウェブに塗布液を塗布する方法であって、前記ダイは塗布位置とウェブから離れた退避位置との間で移動するように構成されており、塗布開始前に定常塗布時に必要な減圧度とする設定条件で稼動させてから、前記ダイを塗布位置に移動させ、かつ退避位置から塗布位置へのダイの移動速度を３mm/秒以上３０mm/秒以下とする塗布方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
【００１３】
（１２）光学機能フィルムの塗布層の少なくとも１層が、面状改良剤を含むことを特徴とする前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（１３）面状改良剤がフルオロ脂肪族基を含有する化合物であることを特徴とする前記（１２）の光学機能フィルムの製造方法。
（１４）前記フルオロ脂肪族基を含有する化合物が、下記一般式（ｉ）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから形成されるポリマーであり、且つ該モノマーが全モノマー量に対して５０モル％以上含有することを特徴とする前記（１３）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００１４】
【化１】
2006075698.tif 000002
【００１５】
一般式（ｉ）中、Ｒ21は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。Ｘ2は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ22）−を表す。Ｒ22は水素原子又は、炭素数１〜８のアルキル基を表す。ａは１〜６の整数を表し、ｂは１〜１８の整数を表す。
【００１６】
（１５）含フッ素化合物を含有する低屈折率層及び帯電防止層を有することを特徴とする前記（１）〜（１４）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（１６）前記低屈折率層を有する側の表面抵抗が１×１０13Ω／□以下であることを特徴とする前記（１５）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（１７）前記低屈折率層を有する側の表面抵抗が１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする前記（１６）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（１８）前記低屈折率層を有する側の表面の動摩擦係数が０．２５以下であることを特徴とする前記（１５）〜（１７）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（１９）前記低屈折率層を有する側の表面の水に対する接触角が９０゜以上であることを特徴とする前記（１５）〜（１８）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００１７】
（２０）帯電防止層が電子伝導型の導電材を含有することを特徴とする前記（１５）〜（１９）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（２１）電子伝導型の導電材が金属酸化物であることを特徴とする前記（２０）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（２２）電子伝導型の導電材が金属であることを特徴とする前記（２０）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（２３）電子伝導型の導電材が１０〜４００ｍ2／ｇの比表面積を有する微粒子であることを特徴とする前記（２０）〜（２２）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（２４）電子伝導型の導電材が平均粒径１〜２００ｎｍの微粒子であることを特徴とする前記（２０）〜（２３）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００１８】
（２５）導電材が分散剤を用いて分散されていることを特徴とする前記（２０）〜（２４）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（２６）分散剤がアニオン性基を有することを特徴とする前記（２５）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（２７）アニオン性基が、カルボキシル基、スルホン酸基又はリン酸基であることを特徴とする前記（２６）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（２８）分散剤が架橋又は重合性の官能基を有することを特徴とする前記（２５）〜（２７）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００１９】
（２９）帯電防止層が、有機化合物のバインダーを含有することを特徴とする前記（２０）〜（２８）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（３０）帯電防止層が含有する有機化合物のバインダーが、架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有することを特徴とする前記（２９）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（３１）帯電防止層が含有する有機化合物のバインダーが、分散剤と架橋又は重合性の官能基を有する化合物から形成された硬化物を含有することを特徴とする前記（３０）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（３２）帯電防止層が含有する有機化合物のバインダーが、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成された硬化物を含有することを特徴とする前記（２９）〜（３１）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００２０】
（３３）帯電防止層が透明支持体と最外層の間に塗設されたことを特徴とする前記（１５）〜（３２）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（３４）帯電防止層が最外層と隣接して塗設されたことを特徴とする前記（３３）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００２１】
（３５）前記低屈折率層の含フッ素化合物が、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物の架橋又は重合反応により形成されていることを特徴とす前記（１５）〜（３４）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（３６）架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物が、該架橋又は重合性の官能基として電離放射線硬化性の官能基を有することを特徴とする前記（３５）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（３７）前記低屈折率層の含フッ素化合物が、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰り返し単位と側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰り返し単位からなる共重合体を主成分として含有することを特徴とする前記（３５）又は（３６）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（３８）前記共重合体が下記一般式（１）で表されることを特徴とする前記（３７）に記載の光学機能フィルム。
【００２２】
【化２】
2006075698.tif 000003
【００２３】
一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０または１を表す。Ｘは水素原子またはメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。
【００２４】
（３９）共重合体が下記一般式（２）で表されることを特徴とする前記（３８）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００２５】
【化３】
2006075698.tif 000004
【００２６】
一般式（２）中、Ｘ、ｘ、ｙはそれぞれ一般式（１）と同義である。Ｂは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。ｚ１およびｚ２はそれぞれの構成成分のモル％を表し、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。ｎは２≦ｎ≦１０を満たす整数を表す。
【００２７】
（４０）一般式（２）で表される共重合体が、４０≦ｘ≦６０、３０≦ｙ≦６０、ｚ２＝０を満たすことを特徴とする前記（３９）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００２８】
（４１）前記低屈折率層が下記一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体を含有することを特徴とする前記（１５）〜（４０）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００２９】
【化４】
2006075698.tif 000005
【００３０】
一般式（Ａ）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に炭素数１〜２０の置換基を表し、それぞれの基が複数ある場合それらは互いに同じであっても異なっていてもよく、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4のうち少なくとも一つの基が架橋又は重合性の官能基を表す。ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。
【００３１】
（４２）一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体が、架橋又は重合性の官能基として、電離放射線硬化性の官能基を有することを特徴とする前記（４１）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（４３）低屈折率層が、含フッ素化合物と架橋又は重合するバインダーを含有することを特徴とする前記（１５）〜（４２）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００３２】
（４４）前記低屈折率層の含フッ素化合物が、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と、前記一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体、及び／又は、該架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と架橋又は重合するバインダーと、から形成される硬化物であることを特徴とする上記（３５）〜（４０）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００３３】
（４５）前記低屈折率層に、微粒子を含有することを特徴とする前記（１５）〜（４４）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（４６）前記低屈折率層に含有する微粒子の少なくとも１種類が中空の微粒子であることを特徴とする前記（４５）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（４７）前記低屈折率層に含有する微粒子の平均粒径が該最外層の厚みの２０〜１００％であることを特徴とする前記（４５）又は（４６）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（４８）前記低屈折率層に含有する微粒子が二酸化珪素微粒子であることを特徴とする前記（４５）〜（４８）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（４９）前記低屈折率層が最外層であることを特徴とする前記（１５）〜（４８）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００３４】
（５０）平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層を有することを特徴とする前記（１）〜（４９）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（５１）平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子の屈折率と、該粒子を含有する層のマトリックスの屈折率との屈折率の差が０．０２以上であることを特徴とする前記（５０）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（５２）平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子の粒径分布を示す下記Ｓ値が２．０以下であることを特徴とする前記（５０）又は（５１）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００３５】
Ｓ＝［Ｄ（０．９）−Ｄ（０．１）］／Ｄ（０．５）
【００３６】
Ｄ（０．１）：体積換算粒径の積算値の１０％値、
Ｄ（０．５）：体積換算粒径の積算値の５０％値、
Ｄ（０．９）：体積換算粒径の積算値の９０％値。
【００３７】
（５３）Ｓ値が１．０以下であることを特徴とする前記（５２）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（５４）平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層が、有機化合物のバインダーを含有することを特徴とする前記（５０）〜（５３）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（５５）平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層が含有するバインダーが、架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有することを特徴とする前記（５４）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（５６）平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層が含有するバインダーが、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成された硬化物を含有することを特徴とする前記（５４）又は（５５）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（５７）平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層がハードコート層であることを特徴とする前記（５０）〜（５６）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（５８）平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有する層が前記低屈折率層と隣接する層であることを特徴とする前記（５０）〜（５７）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００３８】
（５９）前記低屈折率層を有する側の表面に凹と凸が形成されており、防眩性を有する反射防止フィルムを製造することを特徴とする前記（１５）〜（５８）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（６０）反射防止フィルムの表面の１ｍｍ2の面積当たりに対し、面積が１０００μｍ2以上の凹部分が存在しないことを特徴とする前記（５９）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（６１）反射防止フィルムの表面の１ｍｍ2の面積当たりに対する平均表面粗さ（Ｒａ）が０．０１〜１μｍであることを特徴とする前記（５９）又は（６０）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（６２）前記低屈折率層を有する側の表面の凹と凸が、上記（５０）〜（５８）のいずれかに記載の平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層の凹と凸によって形成されたものであり、該粒子含有層の上に該最外層を形成されたことを特徴とする前記（５９）〜（６１）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００３９】
（６３）透明支持体と低屈折率層の間に、平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層を有することを特徴とする前記（１）〜（６２）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（６４）前記無機微粒子が、１０〜４００ｍ2／ｇの比表面積を有することを特徴とする前記（６３）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（６５）前記無機微粒子が、分散剤を用いて分散されていることを特徴とする前記（６３）又は（６４）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（６６）前記分散剤がアニオン性基を有することを特徴とする前記（６５）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（６７）前記アニオン性基が、カルボキシル基、スルホン酸基又はリン酸基であることを特徴とする前記（６６）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（６８）前記分散剤が、架橋又は重合性の官能基を有することを特徴とする前記（６５）〜（６７）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００４０】
（６９）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が有機化合物のバインダーを含有することを特徴とする前記（６３）〜（６８）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（７０）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が含むバインダーが、架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有することを特徴とする前記（６９）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（７１）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が含むバインダーが、分散剤と架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有することを特徴とする前記（７０）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（７２）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が含むバインダーが、電離放射線硬化反応により硬化した硬化物を含有することを特徴とする前記（７０）または（７１）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００４１】
（７３）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層の屈折率が、１．５５〜２．４０であることを特徴とする前記（６３）〜（７２）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（７３）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層の屈折率が、１．６５〜２．２０であることを特徴とする前記（７２）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（７５）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が、ハードコート層であることを特徴とする前記（６３）〜（７４）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（７６）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が光学干渉層であることを特徴とする前記（６３）〜（７４）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（７７）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が、低屈折率層と隣接する層であることを特徴とする前記（６３）〜（７６）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００４２】
（７８）透明支持体上のいずれかの層に、下記一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物及び／又はその誘導体を含有することを特徴とする前記（１）〜（７７）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００４３】
一般式（ａ）    （Ｒ10）s−Ｓｉ（Ｚ）4-s
【００４４】
（一般式（ａ）中、Ｒ10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｚは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｓは１〜３の整数を表す。）
（７９）一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物の誘導体が、金属キレート触媒または酸触媒の存在下で調製されたオルガノシラン化合物誘導体であることを特徴とする前記（７８）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（８０）Ｒ10で表される基が、架橋又は重合性の官能基を有することを特徴とする前記（７８）または（７９）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（８１）Ｒ10で表される基が、アシルオキシ基、アシルアミノ基又はエポキシ基のいずれかを有することを特徴とする前記（８０）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（８２）一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物が、下記一般式（ｂ）で表されることを特徴とする前記（７８）〜（８１）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００４５】
【化５】
2006075698.tif 000006
【００４６】
（一般式（ｂ）中、Ｒ11は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。Ｙは単結合、エステル基、アミド基、エーテル基、又はウレア基を表す。Ｌ1は２価の連結鎖を表す。ｔは０または１を表す。Ｒ10は置換もしくは無置換のアルキル基、又は、置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｚは水酸基または加水分解可能な基を表す。）
【００４７】
（８３）前記オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体が、該オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体を含有する層の他の成分と架橋又は重合反応することを特徴とする前記（７８）〜（８２）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（８４）前記オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体を含有する層が、前記低屈折率層及び／又は前記低屈折率層の隣接層であることを特徴とする前記（７８）〜（８３）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００４８】
（８５）透明支持体上のいずれかの層が、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成される硬化物を含み、該架橋または重合反応における開始剤が光重合開始剤であることを特徴とする前記（１）〜（８４）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（８６）光重合開始剤が光ラジカル重合開始剤であることを特徴とする前記（８５）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００４９】
（８７）透明支持体上のいずれかの層が、酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で形成されていることを特徴とする前記（１）〜（８６）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（８８）窒素ガス置換により他の気体を除去すること（窒素パージ）で、酸素濃度が４体積％以下の雰囲気としたことを特徴とする前記（８７）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（８９）透明支持体上のいずれかの層が、酸素濃度が１体積％以下の雰囲気で形成されていることを特徴とする前記（８８）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００５０】
（９０）透明支持体上のいずれかの層が、架橋又は重合性の官能基を有する化合物を含む塗料の塗布と同時または塗布後に、該架橋又は重合性の官能基を有する化合物を架橋又は重合反応させることにより形成された層であることを特徴とする前記（１）〜（８９）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（９１）透明支持体がトリアセチルセルロースから形成されたことを特徴とする前記（１）〜（９０）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００５１】
（９２）透明支持体上の少なくとも一層の主成分がケトン類、芳香族炭化水素類及びエステル類から選択される少なくとも１種の溶媒を含む塗料を塗布して形成することを特徴とする前記（１）〜（９１）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（９３）溶媒の主成分がケトン類又はエステル類であることを特徴とする前記（９２）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００５２】
（９４）前記面状改良剤が、面状改良剤を含有しない塗料と比較して、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げることを特徴とする前記（１２）〜（９３）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（９５）面状改良剤が、層の形成後に層の表面に存在することを特徴とする前記（９４）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
（９６）面状改良剤が表面に存在する層の上に、該面状改良剤を溶解する溶媒を含有する塗料を塗布することにより、該面状改良剤を該塗料の中に溶出させて塗布することを特徴とする前記（９５）に記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００５３】
（９７）ウェブ状支持体の搬送速度を２０ｍ／分〜１００ｍ／分で塗布したことを特徴とする前記（１）〜（９６）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（９８）光学機能層の硬化後の膜厚が０．０４μｍ〜３０μｍであることを特徴とする前記（１）〜（９７）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
【００５４】
（９９）前記（１）〜（９８）のいずれかに記載の製造方法によって製造された光学機能フィルム。
（１００）前記（１）〜（９８）のいずれかに記載の製造方法で作製した、少なくとも１層の低屈折率層を有する反射防止フィルムを鹸化処理することを特徴とする偏光板用保護フィルム。
（１０１）低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体表面の水に対する接触角が４０°以下であることを特徴とする前記（１００）に記載の偏光板用保護フィルム。
【００５５】
（１０２）前記（１）〜（９８）のいずれかに記載の製造方法で作製した、少なくとも１層の低屈折率層を有する反射防止フィルムを鹸化処理することを特徴とする偏光板用保護フィルムの製造方法。
【００５６】
（１０３）前記（１００）または（１０１）のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムを偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に有することを特徴とする偏光板。
（１０４）前記（１００）または（１０１）のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムを偏光膜の２枚の保護フィルムの一方に有し、他方の保護フィルムに光学異方性層を有する光学補償フィルムを有することを特徴とする偏光板。
（１０５）光学補償フィルムが、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する光学異方性層を有し、該ディスコティック構造単位の円盤面がフィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面とフィルム面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向において変化していることを特徴とする前記（１０４）に記載の偏光板。
【００５７】
（１０６）前記（１）〜（９８）のいずれかに記載の製造方法によって製造された光学機能フィルム、前記（１００）もしくは（１０１）に記載の偏光板用保護フィルム、または前記（１０３）〜（１０５）のいずれかに記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
（１０７）液晶セルの両側に配置された２枚の偏光板のうち、表示側の偏光板として前記（１０３）〜（１０５）のいずれかに記載の偏光板を有し、且つ、該偏光板の保護フィルムである反射防止フィルムが偏光膜に対し液晶セルとは反対側に配置されている液晶表示装置であることを特徴とする前記（１０６）に記載の画像表示装置。
（１０８）画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする前記（１０６）または（１０７）に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【００５８】
本発明によれば、塗布面状が良好で、耐擦傷性が高く、埃など塵埃に対する防塵性や防汚性に優れた光学機能フィルムを安価で大量に提供することができる。
さらにこれらにより、上記特徴を保持した偏光板用保護フィルム、偏光板、画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５９】
以下に、本発明について更に詳細に説明する。
本発明の光学機能フィルムは、セルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に光学機能層を少なくとも１層有するものであり、例えば、反射防止フィルム、視野角拡大フィルム、光学補償フィルム、防眩フィルム、輝度上昇フィルム、光学フィルター等が挙げられる。また、光学機能層としては、低屈折率層、光拡散層、光学干渉層（高屈折率層及び／又は中屈折率層）、光学異方性層、反射層、フィルター層等が挙げられ、かかる光学機能フィルムを構成する塗布層の少なくとも１層が、本発明に従う上記塗布方法で形成されていることを特徴とする。
以下、順に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。
【００６０】
＜帯電防止層＞
本発明の帯電防止層について説明する。
本発明の光学機能フィルムにおいて、帯電防止層を構築することで、光学機能フィルム表面に塵埃（埃など）が付着するのを防止する、すなわち優れた防塵性を発現させることができる。防塵性は、光学機能フィルム（反射防止フィルム等）表面の表面抵抗値を下げることで発現され、帯電防止層の導電性が高いほど高い効果が得られる。本発明の反射防止フィルムにおいては、含フッ素化合物を含有する低屈折率層を有する側の表面の表面抵抗値が、１×１０13Ω／□以下であることが好ましく、１×１０12Ω／□以下であることがより好ましく、好ましく１×１０11Ω／□以下であることが更に好ましく、１×１０9Ω／□以下であることが更に
より好ましく、１×１０8Ω／□以下であることが特に好ましい。
【００６１】
本発明の光学機能フィルムにおいて、帯電防止層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）、塗布法のどちらで作製してもよいが、低コストで帯電防止層を作製できる点で塗布法が好ましい。
帯電防止層は、透明支持体上に少なくとも１層以上が作製される。帯電防止層は、透明支持体と含フッ素化合物を有する最外の低屈折率層との間、透明支持体に対し前記低屈折率層とは反対側、のどちらにも作製することができ、好ましくは透明支持体と前記低屈折率層の間、特に透明支持体と前記低屈折率層の間で前記低屈折率層により近い方に設置されることが好ましい。
【００６２】
気相法による帯電防止層の作製は、例えば、フィルム上に導電性物質を真空蒸着やスパッタリングすることで実施できる。導電性物質としては、具体的にはアルミニウム、銅、金、銀、ニッケル、クロム、鉄、モリブデン、チタン、タングステン、タンタル等の金属単体若しくは合金、又は、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛等の金属酸化物などを用いることができる。
【００６３】
帯電防止層を塗布で作製する場合、導電材（電子伝導型の導電性粒子、イオン伝導型の有機化合物など）を結着剤（バインダーなど）に含有させて、帯電防止層を作製することが好ましい。特に、電子伝導型の導電材は、環境の変化を受け難く導電性能が安定し、特に低湿環境下でも良好な導電性能を発現する点で好ましい。
以下、塗布法で帯電防止層を作製する好ましい態様について記載する。
【００６４】
（導電材）
帯電防止層に用いられる好ましい導電材としては、π共役系導電性有機化合物、導電性微粒子などの電子伝導型の導電材が好ましい。
π共役系導電性有機化合物としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）等が挙げられる。
【００６５】
導電性微粒子としては、カーボン系、金属系、金属酸化物系、導電被覆系微粒子等が挙げられる。
カーボン系微粒子としては、カーボンブラック、ケッチェンブラック、アセチレンブラック等のカーボン粉末、ＰＡＮ系炭素繊維、ピッチ系炭素繊維等のカーボン繊維、膨張化黒鉛粉砕品のカーボンフレーク等が挙げられる。
金属系微粒子としては、アルミニウム、銅、金、銀、ニッケル、クロム、鉄、モリブデン、チタン、タングステン、タンタル等の金属、及び、それらの金属を含有する合金の粉末や、金属フレーク、鉄、銅、ステンレス、銀メッキ銅、黄銅等の金属繊維等が挙げられる。
金属酸化物系微粒子としては、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、などが挙げられる。
導電被覆系微粒子としては、例えば、酸化チタン（球状、針状）、チタン酸カリウム、ホウ酸アルミニウム、硫酸バリウム、マイカ、シリカ等の各種微粒子表面を、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ等の導電材で被覆した導電性微粒子、金及び／又はニッケルなどの金属で表面処理されたポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂ビーズが好ましい。
【００６６】
帯電防止層の導電材としては、π共役系導電性有機化合物（特に、ポリチオフェン系導電性ポリマー）、導電性微粒子としては金属系微粒子（特に、金、銀、銀／パラジウム合金、銅、ニッケル、アルミニウム）や金属酸化物系微粒子（特に、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛）が好ましい。特に、金属や金属酸化物などの電子伝導型の導電材が好ましく、なかでも金属酸化物系微粒子が特に好ましい。
【００６７】
導電材の一次粒子の質量平均粒径は１〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは１〜１００ｎｍ、特に好ましくは１〜８０ｎｍである。導電材の平均粒径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
導電材の比表面積は、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。
導電材の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、鱗片状、針状あるいは不定形状であることが好ましく、特に好ましくは、不定形状、針状、鱗片状である。
【００６８】
（帯電防止層の形成法）
帯電防止層を塗布法で作製する場合、導電材は、分散物の状態で帯電防止層の形成に使用することが好ましい。
導電材の分散においては、分散剤の存在下で、分散媒体中に分散することが好ましい。
分散剤を用いて分散することにより、導電材は極めて微細に分散することができ、透明な帯電防止層の作製を可能にする。特に、帯電防止層を光学干渉層として用いて層に反射防止機能ももたせる場合には、導電材を微細に分散することで層の透明性が上がり、反射防止性能も向上させることができる点で好ましい。
【００６９】
本発明の導電材の分散には、アニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましい。アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基（スルホ基）、リン酸基（ホスホノ基）、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、またはその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基またはその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。１分子当たりの分散剤に含有されるアニオン性基の数は、１個以上が含有されていればよい。導電材の分散性をさらに改良する目的で分散材にはアニオン性基が１分子当たり複数個含有されていてもよい。１分子当たり平均で２個以上であることが好ましく、より好ましくは５個以上、特に好ましくは１０個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、１分子中に複数種類が含有されていてもよい。
アニオン性の極性基を有する分散剤としては、ホスファノール（PE−510、PE−610、LB−400、EC−6103、RE−410など；東邦化学工業（株）製）、Disperbyk（−110、−111、−116、−140、−161、−162、−163、−164、−164、−170、−171など；ビックケミー・ジャパン社製）などが挙げられる。
【００７０】
分散剤は、さらに架橋又は重合性の官能基を含有することが好ましい。架橋又は重合性の官能基としては、ラジカル種による架橋反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基（例えば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等）、カチオン重合性基（エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。分散剤の架橋又は重合性の官能基は側鎖に有することが特に好ましい。
【００７１】
アニオン性基、及び、架橋又は重合性の官能基を有し、かつ、該架橋又は重合性の官能基を側鎖に有する分散剤の質量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが１０００以上であることが好ましい。該分散剤のより好ましい質量平均分子量（Ｍｗ）は２０００〜１００００００であり、さらに好ましくは５０００〜２０００００、特に好ましくは１００００〜１０００００である。
【００７２】
分散剤の導電材に対する使用量は、１〜５０質量％の範囲であることが好ましく、５〜３０質量％の範囲であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが最も好ましい。また、分散剤は２種類以上を併用してもよい。
導電材は分散剤の存在下で、分散媒体中に分散することが好ましい。
【００７３】
分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が含まれる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが好ましい。
特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。
【００７４】
導電材は、分散機を用いて分散することが好ましい。分散機の例には、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、ダイノミル、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルなどが含まれる。サンドグラインダーミル、ダイノミルなどのメディア分散機が特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。
導電材は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均粒径は１〜２００ｎｍである。好ましくは５〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは１０〜１００ｎｍ、特に好ましくは１０〜８０ｎｍである。
導電材を２００ｎｍ以下に微細化することで透明性を損なわない帯電防止層を作製できる。
【００７５】
本発明の帯電防止層は、上記導電材以外に有機化合物のバインダーを含有することが好ましく、該バインダーにより層のマトリックスを形成し、導電材を分散させることが好ましい。このため帯電防止層は、分散媒体中に導電材を分散した分散液に、好ましくは、バインダーまたはバインダー前駆体を添加して作製することが好ましい。バインダーまたはバインダー前駆体としては、非硬化系の熱可塑性樹脂、あるいは熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のような硬化系樹脂等を用いることができる。
バインダーまたはバインダー前駆体の軟化温度又はガラス転移点は、５０℃以上であることが好ましく、７０℃以上であることがより好ましく、１００℃以上であることが特に好ましい。
【００７６】
本発明の帯電防止層のバインダー前駆体としての架橋又は重合性の官能基を有する化合物としては、電離放射線硬化性化合物が好ましく、例えば、後述する電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなどが好ましい。
上記作製法において帯電防止層のバインダーは、架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物として形成される。さらに、帯電防止層のバインダーを層の塗布と同時または塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させて硬化させて形成することが好ましい。
【００７７】
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。尚、本明細書においては、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリル酸」は、それぞれ「アクリレート又はメタクリレート」、「アクリロイル又はメタクリロイル」、「アクリル酸又はメタクリル酸」を表す。
【００７８】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、等を挙げることができる。
【００７９】
さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【００８０】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
【００８１】
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
【００８２】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製のKAYACURE（DETX-S、BP-100、BDMK、CTX、BMS、2-EAQ、ABQ、CPTX、EPD、ITX、QTX、BTC、MCAなど）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１、１８４、５００、９０７、３６９、１１７３、２９５９、４２６５、４２６３など）、サートマー社製のEsacure（KIP100F、KB1、EB3、BP、X33、KT046、KT37、KIP150、TZT）等が挙げられる。
【００８３】
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、高薄一弘著「最新ＵＶ硬化技術」（（株）技術情報協会、１５９頁、１９９１年）に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１、１８４、９０７）等が挙げられる。
【００８４】
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のKAYACURE（DMBI、EPA）などが挙げられる。
光重合反応は、帯電防止層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
紫外線照射には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【００８５】
帯電防止層の架橋又は重合しているバインダーは、ポリマーの主鎖が架橋又は重合している構造を有することが好ましい。ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン（飽和炭化水素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。
【００８６】
アニオン性基は、連結基を介してバインダーの側鎖として、主鎖に結合していることが好ましい。
アニオン性基とバインダーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。架橋又は重合構造は、二つ以上の主鎖を化学的に結合（好ましくは共有結合）する。架橋又は重合構造は、三つ以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋又は重合構造は、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基およびこれらの組み合わせから選ばれる二価以上の基からなることが好ましい。
【００８７】
バインダーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋又は重合構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、２〜９６モル％であることが好ましく、４〜９４モル％であることがさらに好ましく、６〜９２モル％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二つ以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋又は重合構造を有する繰り返し単位の割合は、４〜９８モル％であることが好ましく、６〜９６モル％であることがさらに好ましく、８〜９４モル％であることが最も好ましい。
【００８８】
バインダーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋又は重合構造の双方を有していてもよい。バインダーには、その他の繰り返し単位（アニオン性基も架橋又は重合構造もない繰り返し単位）が含まれていてもよい。
架橋又は重合しているバインダーは、帯電防止層形成用の塗料を透明支持体上に塗布して、塗布と同時または塗布後に、架橋又は重合反応によって作製することが好ましい。
【００８９】
帯電防止層の中において、導電材はなるべく微細に分散されていることが好ましく、質量平均粒径は１〜２００ｎｍである。帯電防止層中の導電材の質量平均粒径は、５〜１５０ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。
導電材を２００ｎｍ以下に微細化することで透明性を損なわない帯電防止層を作製できる。
【００９０】
帯電防止層における導電材の含有量は、帯電防止層の質量に対し３０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは４０〜８０質量％、特に好ましくは５０〜７５質量％である。導電材は帯電防止層内で二種類以上を併用してもよい。
【００９１】
帯電防止層の好ましい塗布溶媒としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、水などを挙げることができる。
特に好ましい塗布溶媒としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、又は、エステル類であり、最も好ましい溶媒としては、ケトン類である。ケトン類の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。
塗布溶媒は、その他の溶媒を含んでいてもよい。例えば、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が含まれる。
【００９２】
塗布溶媒は、ケトン系溶媒の含有量が塗料に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
【００９３】
帯電防止層の形成は、特に帯電防止層を電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成する場合には、酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。
帯電防止層を酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で作製することにより、帯電防止層の物理強度（耐擦傷性など）、耐薬品性、耐候性、更には、帯電防止層と帯電防止層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が３体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下である。
酸素濃度を４体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【００９４】
帯電防止層の膜厚は用途により適切に設計することができる。優れた透明性を有する帯電防止層を作製する場合、膜厚は１μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下、更に好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下である。
また、帯電防止層がハードコート処理されハードコート層を兼ねる場合、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。
【００９５】
帯電防止層のヘイズは、低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。
帯電防止層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。このために帯電防止層がハードコート処理されていることも好ましい。
【００９６】
帯電防止層には、前記の成分（導電材、重合開始剤、光増感剤、バインダーなど）以外に、樹脂、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
【００９７】
＜低屈折率層＞
本発明の低屈折率層は、含フッ素化合物を含有することが好ましい。特に、含フッ素化合物を主体とする低屈折率層を構築することが好ましい。含フッ素化合物を主体とする低屈折率層は最外層として保護層又は防汚層として機能することができる。ここで、「含フッ素化合物を主体とする」とは、低屈折率層の中に含まれる構成成分のうち、含フッ素化合物の質量比が最も大きいことを意味し、含フッ素化合物の含有率が低屈折率層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上含まれることがより好ましい。
【００９８】
本発明の含フッ素化合物を有する低屈折率層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）、塗布法のどちらで作製してもよいが、低コストで作製できる点で塗布法が好ましい。
塗布法で作製する場合、低屈折率層の含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物の架橋又は重合反応により形成することが好ましく、該架橋又は重合性の官能基は電離放射線硬化性の官能基であることが好ましい。以下、低屈折率層に含まれる含フッ素化合物について記載する。
【００９９】
（含フッ素化合物）
低屈折率層に含まれる含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７、さらに好ましくは１．３８〜１．４５である。
含フッ素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素シラン化合物、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテルなどが挙げられる。
含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの架橋又は重合反応により合成されたものが挙げられる。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレフィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが含まれる。
【０１００】
含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰り返し構造単位とフッ素原子を含まない繰り返し構造単位からなる共重合体も用いることができる。
上記共重合体は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーとフッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることができる。
フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーとしては、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル等）、メタクリル酸エステル（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレンおよびその誘導体（例、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド（例、Ｎ−tert−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。
【０１０１】
含フッ素シラン化合物としては、パーフルオロアルキル基を含むシラン化合物などが挙げられる。
【０１０２】
含フッ素界面活性剤は、疎水性部分を構成する炭化水素の水素原子の一部または全部が、フッ素原子により置換されているもので、その親水性部分はアニオン性、カチオン性、ノニオン性および両性のいずれであってもよい。
【０１０３】
含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使用されている化合物である。含フッ素エーテルとしては、パーフルオロポリエーテル等が挙げられる。
【０１０４】
低屈折率層の含フッ素化合物としては、架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーが特に好ましい。架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーは、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物を架橋又は重合させることにより得られる。
【０１０５】
架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有さない含フッ素化合物に、架橋又は重合性の官能基を側鎖として導入することにより得ることができる。架橋又は重合性の官能基としては、光（好ましくは紫外線照射）、電子ビーム（ＥＢ）照射あるいは加熱などにより反応して含フッ素ポリマーが架橋又は重合構造を有するようになる官能基であることが好ましい。架橋又は重合性の官能基としては、（メタ）アクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロールおよび活性メチレン等の基が挙げられる。架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物として、市販品を用いてもよい。
【０１０６】
低屈折率層の含フッ素化合物は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位をからなる共重合体を主成分として含有することが好ましい。該共重合体由来の成分は最外層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。以下に、最外層に用いられるのに好ましい上記共重合体について説明する。
【０１０７】
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学工業（株）製）やＭ−２０２０（商品名、ダイキン工業（株）製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％であり、特に好ましくは３０〜５０質量％である。
【０１０８】
上記共重合体は（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を有する。（メタ）アクリロイル基の導入法は特に限定されるものではないが、例えば、(i)水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、（メタ）アクリル酸クロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法、(ii)上記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、（メタ）アクリル酸を作用させる方法、(iii)上記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(iv)エポキシ基を有するポリマーを合成した後に（メタ）アクリル酸を作用させる方法、(v)カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(vi)３−クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法などが挙げられる。これらの中で本発明では特に水酸基を含有するポリマーに対して(i)または(ii)の手法によって（メタ）アクリロイル基を導入することが好ましい。
【０１０９】
側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位は、上記共重合体中に５〜９０質量％を占めることが好ましく、３０〜７０質量％を占めることがより好ましく、４０〜６０質量％を占めることが特に好ましい。
【０１１０】
上記共重合体には、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合させることもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、より好ましくは０〜４０モル％、特に好ましくは０〜３０モル％である。
【０１１１】
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ,Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。
【０１１２】
本発明に用いられる含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体の好ましい形態として、下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。
【０１１３】
【化６】
2006075698.tif 000007
【０１１４】
一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖、分岐、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
好ましい例としては、*−(CH2)2−O−**、*−(CH2)2−NH−**、*−(CH2)4−O−**、*−(CH2)6−O−**、*−(CH2)2−O−(CH2)2−O−**、−CONH−(CH2)3−O−**、*−CH2CH(OH)CH2−O−**、*−CH2CH2OCONH(CH2)3−O−**（*はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表す。
【０１１５】
一般式（１）中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【０１１６】
一般式（１）中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。
【０１１７】
好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【０１１８】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０である。
【０１１９】
さらに上記共重合体の特に好ましい形態として一般式（２）で表されるものが挙げられる。
【０１２０】
【化７】
2006075698.tif 000008
【０１２１】
一般式（２）中、Ｘ、ｘ、ｙはそれぞれ一般式（１）と同義であり、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表し、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数組成によって構成されていてもよい。例としては、前記一般式（１）におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のモル％を表し、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。
一般式（２）で表される共重合体としては、４０≦ｘ≦６０、３０≦ｙ≦６０、ｚ２＝０を満たすものが特に好ましい。
【０１２２】
一般式（１）又は一般式（２）で表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。
【０１２３】
本発明で有用な共重合体の好ましい例として、特開２００４−４５４６２号公報の［００４３］〜［００４７］に記載されたものが挙げられる。また、それらの共重合体の合成法も該公報に詳しく記載されている。
【０１２４】
また、本発明に用いられる共重合体の合成は、上記以外の種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって（メタ）アクリロイル基を導入することによって行なうこともできる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行なうことができる。
【０１２５】
重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版（日刊工業新聞社刊、１９７１）や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和４７年刊、１２４〜１５４頁に記載されている。
【０１２６】
上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールのような種々の有機溶剤の単独又は２種以上の混合物でもよいし、水との混合溶媒としてもよい。
【０１２７】
重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり０℃以下から１００℃以上まで可能であるが、５０〜１００℃の範囲で重合を行うことが好ましい。
【０１２８】
反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、１〜１００ｋｇ／ｃｍ2、特に、１〜３０ｋｇ／ｃｍ2程度が望ましい。反応時間は、５〜３０時間程度である。
【０１２９】
得られたポリマーの再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
【０１３０】
本発明の低屈折率層を作製するのに用いる組成物は、塗料の形態をとることが好ましく、含フッ素化合物を必須の構成成分とし、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤を適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが０．０１〜６０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。
【０１３１】
低屈折率層は、目的に応じて充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）、オルガノシラン化合物及びその誘導体、バインダー、界面活性剤等の添加剤を含有することができる。特に、充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）を添加することは好ましい。
以下に、低屈折率層に用いる好ましい充填剤、滑り剤等について記載する。
【０１３２】
（低屈折率層の好ましい充填剤）
充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）は、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）を改良する点で、添加することが好ましい。低屈折率層に添加する充填剤としては無機微粒子が好ましく、中でも屈折率が低い二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）などが好ましい。特に好ましいのは二酸化珪素（シリカ）である。
【０１３３】
充填剤の一次粒子の質量平均粒径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１〜８０ｎｍであることが最も好ましい。低屈折率層において充填剤は、より微細に分散されていることが好ましい。充填剤の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状、リング状、あるいは不定形状であることが好ましい。特に好ましいのは、球形状、不定形状である。充填剤は、結晶質、非晶質のいずれでも良い。
【０１３４】
充填剤は、分散液中又は塗料中で、分散安定化を図るために、あるいは低屈折率層の構成成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。カップリング剤による表面処理が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシ化合物（例、チタネートカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。特に、シランカップリング剤処理が有効である。
【０１３５】
充填剤の表面処理は、低屈折率層の塗料の調製前にあらかじめ表面処理を実施しておくことが好ましいが、カップリング剤による表面処理の場合、塗料の調製時に塗料中にカップリング剤を添加して実施することも好ましい。
【０１３６】
充填剤は、媒体（溶媒など）中に予め分散されていることが好ましい。
充填剤の添加量は、低屈折率層の全質量に対し５〜７０質量％であることが好ましく、より好ましくは１０〜５０質量％、特に好ましくは２０〜４０質量％である。少なすぎると物理強度（耐擦傷性など）の改良効果が減り、多すぎると低屈折率層が白濁することがある。
【０１３７】
充填剤の平均粒径は、低屈折率層の膜厚に対し２０〜１００％が好ましく、より好ましくは３０〜８０％、特に好ましくは３０％〜５０％である。
【０１３８】
低屈折率層に添加する充填剤が二酸化珪素微粒子の場合、中空の二酸化珪素微粒子を用いることが特に好ましい。
中空のシリカ微粒子は屈折率が１．１７〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１７〜１．３５、最もに好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式（VIII）で表される空隙率xは、好ましくは１０〜６０%、更に好ましくは２０〜６０%、最も好ましくは３０〜６０%である。
【０１３９】
（数式VIII）
ｘ=(４πa3／３)／（４πb3／３）×１００
【０１４０】
中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から１．１７未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定をおこなった。
中空シリカの製造方法は、例えば特開２００１−２３３６１１号や特開２００２−７９６１６号に記載されている。
【０１４１】
中空シリカの塗布量は、１ｍｇ／ｍ2〜１００ｍｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ2〜８０ｍｇ／ｍ2、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ2〜６０ｍｇ／ｍ2である。少なすぎると、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
中空シリカの平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１５０％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、中空シリカの粒径は３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の低下が見込めず、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【０１４２】
本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、更に好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満であるシリカ微粒子（「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）の少なくとも１種を上記の粒径のシリカ微粒子（「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
【０１４３】
（低屈折率層の好ましい滑り剤）
滑り剤は、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、防汚性を改良する点で添加することが好ましい。
滑り剤としては、含フッ素エーテル化合物（パーフルオロポリエーテル、及び、その誘導体など）、ポリシロキサン化合物（ジメチルポリシロキサン、及び、その誘導体など）などが挙げられる。ポリシロキサン化合物が好ましい。
【０１４４】
ポリシロキサン化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物の末端、及び／又は、側鎖に置換基を有するものが挙げられる。
ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として含む化合物中にはジメチルシリルオキシ単位以外の構造単位（置換基）を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。
【０１４５】
好ましい置換基の例としては（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。
【０１４６】
滑り剤の分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シロキサン化合物のＳｉ原子含有量には特に制限はないが５質量％以上であることが好ましく、１０〜６０質量％であることが特に好ましく、１５〜５０質量％であることが最も好ましい。
【０１４７】
特に好ましい滑り剤は、下記一般式（Ａ）で表される架橋又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及びその誘導体（誘導体とは、例えば、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物の架橋又は重合体、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物とポリシロキサン化合物以外の架橋又は重合可能な官能基を有する化合物との反応生成物など）である。
【０１４８】
【化８】
2006075698.tif 000009
【０１４９】
一般式（Ａ）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に炭素数１〜２０の置換基を表し、それぞれの基が複数ある場合それらは互いに同じであっても異なっていてもよく、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4のうち少なくとも一つの基が架橋又は重合性の官能基を表す。
ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、｛    ｝で囲われているポリシロキサン部分はランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。
【０１５０】
本発明の低屈折率層は、一般式（Ａ）で表される架橋又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体と含フッ素化合物とを含む硬化物を含有することが好ましい。
【０１５１】
ポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体の含有量は、含フッ素化合物に対し、０．１〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。
【０１５２】
ポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体において、好ましい架橋又は重合性の官能基は、低屈折率層の他の構成成分（含フッ素化合物、バインダー、など）と架橋又は重合反応して結合を形成することができる官能基であればよく、例えば、活性水素原子を有する基（たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β−ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、カチオン重合可能な基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニル基、ビニルオキシ基等）、ラジカル種による架橋または重合が可能な不飽和二重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基等）、加水分解性シリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、酸無水物、イソシアネート基、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）等が挙げられる。
【０１５３】
これらの架橋又は重合性官能基は最外層の構成成分に合わせて適宜選択される。好ましくは、電離放射線硬化性の官能基である。
【０１５４】
また、一般式（Ａ）の架橋又は重合性の官能基は、含フッ素化合物が有する架橋又は、重合性の官能基と架橋又は重合反応することが好ましく、特に好ましい官能基はカチオン開環重合反応性基（特に、エポキシ基、オキセタニル基など）、ラジカル重合反応性基（特に、（メタ）アクリロイル基）である。
【０１５５】
一般式（Ａ）のＲ2が表す置換基は、炭素数１〜２０の置換又は無置換の有機基であり、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等）、フッ素化アルキル基（トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等）または炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）であり、より好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、フッ素化アルキル基またはフェニル基であり、特に好ましくはメチル基である。これらはさらに置換基で置換されていてもよい。
一般式（Ａ）のＲ1、Ｒ3、Ｒ4が架橋又は重合性の官能基でない場合、上記有機基をとることができる。
【０１５６】
ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、好ましくは５０≦ｑ≦４００であり、特に好ましくは１００≦ｑ≦３００である。ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、好ましくは０≦ｒ≦ｑであり、特に好ましくは０≦ｒ≦０．５ｑである。
【０１５７】
一般式（Ａ）で表される化合物のポリシロキサン構造は、その繰り返し単位（−ＯＳｉ（Ｒ2）2−）が単一の置換基（Ｒ2）のみで構成された単独重合体であっても、異なる
置換基を有する繰り返し単位の組み合わせによって構成されたランダム共重合体であっても、ブロック共重合体であってもよい。
【０１５８】
一般式（Ａ）で表される化合物の質量平均分子量は、１０3〜１０6であることが好ましく、より好ましくは５×１０3〜５×１０5であり、特に好ましくは１０4〜１０5である。
【０１５９】
一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物は市販されているもの、例えば、KF-100T、X-22-169AS、KF-102、X-22-3701IE、X-22-164B、X-22-164C、X-22-5002、X-22-173B、X-22-174D、X-22-167B、X-22-161AS、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(信越化学工業（株）製)、AK-5、AK-30、AK-32（東亜合成化学（株）製）、サイラプレーンFM-0275、FM-0721、FM-0725、FM-7725、DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182(チッソ（株）製)等を用いることもできる。また、市販のポリシロキサン化合物が含有する水酸基、アミノ基、メルカプト基等に架橋、又は、重合性官能基を導入することで作製することもできる。
【０１６０】
以下に、一般式（Ａ）で表される好ましいポリシロキサン化合物の具体例としては、特開２００３−３２９８０４号公報の［００４１］〜［００４５］に記載された化合物Ｓ−（１）〜Ｓ−（３２）が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６１】
一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体の添加量は、最外層の全固形分に対し、０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜２０質量％、更に好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。
【０１６２】
（低屈折率層及びその形成法）
低屈折率層は、上記含フッ素化合物、さらに必要に応じて、上記充填剤、上記ポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体、を溶媒に溶解、又は、分散した塗料を塗布することにより作製することが好ましい。
好ましい溶媒としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、水などを挙げることができる。
特に好ましい溶媒としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、エステル類であり、最も好ましい溶媒としては、ケトン類である。ケトン類の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。溶媒には、ケトン系溶媒の含有量が塗料に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
２種類以上の溶剤を併用することもできる。
【０１６３】
架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物であれば、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、含フッ素化合物を架橋又は重合反応させ、低屈折率層を作製することが好ましい。
含フッ素化合物が、ラジカルで架橋又は重合する官能基を有していれば、ラジカル重合開始剤、特に光ラジカル重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。また、カチオンで架橋又は重合する官能基を有していれば、カチオン重合開始剤、特に光カチオン重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。
【０１６４】
ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、あるいは光の作用によりラジカルを発生するものが好ましい。特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。光ラジカル重合開始剤は前記帯電防止層の項に記載のものが好ましく用いられる。
【０１６５】
光ラジカル重合開始剤は、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましくこれについては、高薄一弘著「最新ＵＶ硬化技術」（（株）技術情報協会、１５９頁、１９９１年）に記載されている。
【０１６６】
光重合開始剤は、含フッ素化合物１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
さらには、これらの光重合開始剤と併用して光増感剤も好ましく用いることができ、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤も好ましく用いることができ、帯電防止層で記載した増感剤等が挙げられる。
【０１６７】
バインダーは、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、低屈折率層と隣接する層との密着性を改良する点で、添加することが好ましい。
含フッ素化合物が、架橋又は重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーは含フッ素化合物と架橋又は重合する官能基を有するバインダーであることが好ましい。
特に、含フッ素化合物が、光架橋又は光重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーとして光架橋又は光重合性の官能基を有する多官能モノマーであることが好ましい。光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、帯電防止層で記載したものが挙げられる。多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
最外層の含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体、及び／又は、該架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と架橋又は重合するバインダーとから形成される硬化物であることが好ましい。
【０１６８】
低屈折率層は、含フッ素化合物、その他最外層の構成成分を溶解あるいは分散させた塗料を、塗布と同時又は塗布後に、光照射、電子線ビーム照射、加熱処理などを実施して、架橋又は重合反応させ、作製することが好ましい。
紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【０１６９】
低屈折率層の作製は、特に最外層として電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成する場合には、酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。
低屈折率層を酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で作製することにより、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、耐薬品性、耐候性、更には、低屈折率層と低屈折率層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が３体積％以下の雰囲気で、電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下である。
酸素濃度を４体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０１７０】
低屈折率層の膜厚は３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１２０ｎｍである。
また低屈折率層の上にさらに最外層（例えば防汚層）を用いる場合、最外層の膜厚は３〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３５ｎｍ、特に好ましくは７〜２５ｎｍである。
【０１７１】
低屈折率層は反射防止フィルムの物理強度を改良するために、表面の動摩擦係数が０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
【０１７２】
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
また、低屈折率層の表面の水に対する接触角は後述する鹸化処理の前後で変わらないことが望ましく、鹸化処理の前後で変化量が１０°以内であることが好ましく、特に好ましくは５°以内である。
【０１７３】
低屈折率層のヘイズは、低いほど好ましい。３％以下であることが好ましく、さらに好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。
【０１７４】
低屈折率層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１７５】
低屈折率層には、前記の成分（含フッ素化合物、重合開始剤、光増感剤、充填剤、滑り剤、バインダーなど）以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
【０１７６】
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は、ケイ素化合物を含むことが好ましい。
また、低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましい。より好ましくは１．３０〜１．５０、更に好ましくは１．３５〜１．４８、特に好ましくは１．３７〜１．４５である。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は塗布法または気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により作製することができる。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
【０１７７】
低屈折率層を塗布で作製する場合、下記一般式（Ｉ）で表されるケイ素化合物、及び、その誘導体（加水分解物、および該加水分解物が縮合して生成した架橋ケイ素化合物など）からなる群から選ばれた化合物で作製することもできる。この場合架橋、又は、重合ケイ素化合物で作製することが好ましい。
【０１７８】
一般式（Ｉ）  (Ｘ1)a(Ｙ1)bＳｉ(Ｚ1)4-a-b
【０１７９】
一般式（Ｉ）中：Ｘ1は、炭素数１〜１２の有機基（例えばアルキル、アリール、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、アルケニル、またはエポキシ基、（メタ）アクリルオキシ基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基等）を表す。Ｙ1は、炭素数１〜３の炭化水素基である。Ｚ1は、ハロゲン原子またはアルコキシ基（例えば、ＯＣＨ3、ＯＣ2Ｈ5、ＯＣ3Ｈ7等）を表す。ａおよびｂは、同一または異なってもよく、０〜２の整数である。
【０１８０】
特に限定されないが、一般式（Ｉ）の具体例として、メチルシリケート、エチルシリケート等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシドキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシ又はトリアシルオキシシラン類、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシランなどのジアルコキシ又はジアシルオキシシラン類などが挙げられる。
【０１８１】
特に硬度を必要とする場合には、電離放射線硬化性ケイ素化合物、特に、電離放射線によって架橋又は重合反応する複数の官能基を有する分子量５，０００以下のケイ素化合物が好ましい。例えば、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。エポキシ基、（メタ）アクリロイル基を含むケイ素化合物が好ましい。これらのケイ素化合物は単独又は２種類以上組み合わせることができる。
【０１８２】
これらのケイ素化合物は各種硬化剤、触媒を用いて硬化することが好ましく、例えば、ルイス酸、ルイス塩基を含む各種酸・塩基、及びこれらから作製される中性又は塩基性塩、例えば有機カルボン酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、臭素酸、亜セレン酸、チオ硫酸、オルトケイ酸、チオシアン酸、亜硝酸、アルミン酸、炭酸の金属塩、特にアルカリ金属塩又はアンモニウム塩、更にアルミニウム、ジルコニウム、チタニウムのアルコキシド又はこれらの錯化合物などが挙げられる。特に、好ましいのはアルミキレート化合物で、例えば、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスアセチルアセテートなどである。
【０１８３】
また、低屈折率層には、無機微粒子、例えばＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2等の微粒子を添加することが好ましく、なかでもＳｉＯ2が特に好ましい。
【０１８４】
＜ハードコート層＞
本発明の光学機能フィルム（反射防止フィルム等）には、物理強度を付与するためにハードコート層を設けることができる。特に、透明支持体と前記最外層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成された層は、広義にハードコート層と称することができる。ハードコート層は、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗料を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋又は重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０１８５】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、帯電防止層で例示したものが挙げられ、光重合開始剤、光増感剤を用いて重合することが好ましい。光重合反応は、ハードコート層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
ハードコート層は、透明支持体の表面に、ハードコート層形成用の塗料を塗布することで構築することが好ましい。
【０１８６】
塗布溶媒としては、帯電防止層で例示したケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類であることが好ましい。特に、ケトン系溶媒を用いることで、例えば、透明支持体（特に、トリアセチルセルロース支持体）の表面とハードコート層との接着性がさらに改良する。
特に好ましい塗布溶媒は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。
塗布溶媒は、帯電防止層で例示したケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。
塗布溶媒は、ケトン系溶媒の含有量が塗布組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
【０１８７】
ハードコート層が電離放射線硬化性の化合物の架橋又は重合反応により作製される場合、架橋又は重合反応は酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で作製することにより、物理強度（耐擦傷性など）や耐薬品性に優れたハードコート層を作製することができる。
好ましくは酸素濃度が３体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下である。
酸素濃度を４体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０１８８】
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１８９】
ハードコート層には樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
また、ハードコート層には、層の硬度を硬くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御するなどの目的で、後述する一次粒子の平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を添加することができる。
さらには、光拡散機能を付与する目的で後述する平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有することもできる。
【０１９０】
＜光学機能フィルムの表面の凹凸＞
本発明に用いる光学機能フィルムは、低屈折率層を有する側の表面に凹凸を形成し、防眩性を付与することもできる。
防眩性は表面の平均表面粗さ（Ｒａ）と相関している。表面の凹凸は１００ｃｍ2の面積の中からランダムに１ｍｍ2を取り出し、取り出した表面の１ｍｍ2の面積当たりに対し、平均表面粗さ（Ｒａ）が０．０１〜１μｍ以下であり、０．０１〜０．４μｍであることが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．３μｍ、さらに好ましくは０．０５〜０．２５μｍ、特に好ましくは０．０７〜０．２μｍである。平均表面粗さ（Ｒａ）に関しては、奈良次郎著、テクノコンパクトシリーズ（６）「表面粗さの測定・評価法」（（株）総合技術センター）に記載されている。
【０１９１】
また、上記表面の１ｍｍ2の面積当たりに対し、面積が１００μｍ2以上の凹部分が存在しないことが好ましい。面積１００μｍ2以上の凹が存在すると反射防止フィルムを画素のサイズが小さい画像表示装置の表面に配置したとき、画素中に存在する３原色(赤，緑，青)のいずれかの色が強調されて目に見える故障(ギラツキ故障)を引き起こし、著しく画質を悪化させることがある。特に、断面積８０μｍ2以上の凹部分が存在しないことが好ましい。
本発明に用いる反射防止フィルムの表面のこのような凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。
【０１９２】
表面の凹凸の形成法としては公知の手法が用いられる。本発明では、フィルムの表面に高い圧力で凹凸の形状を有する版を押し当てる(例えば、エンボス加工)ことにより形成する手法、また、後述する反射防止フィルム上のいずれかの層に粒子を含有させて、反射防止フィルムの表面に凹凸を形成する手法が好ましい。特に、後述する平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子をいずれかの層に含有させ、該層表面に凹凸を形成し、該層上に最外層を形成することで最外層の表面に凹凸を形成する手法が好ましい。
エンボス加工により表面に凹凸を形成する方法では、公知の手法が適用できるが、特開２０００−３２９９０５号公報に記載されている手法により凹凸を形成することが特に好ましい。
【０１９３】
＜光拡散層＞
本発明に係る光学機能フィルムにおいて、透明支持体と最外層の間に光拡散層を設けることが好ましい。光拡散層は実質的にハードコート機能を兼ねることもでき、前記ハードコート層に光拡散機能を付与した層を光拡散層と称することもできる。光拡散層は低屈折率層を有する側の表面に凹凸を形成して防眩機能を付与したり、液晶表示装置の視野角拡大機能を付与する目的でマトリックスと屈折率差を設けて光を拡散させるために、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有する。光拡散層は前記、表面凹凸形成、内部での光拡散機能のうちのどちらか一方の機能を有するだけでもよい。
【０１９４】
（平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子）
光拡散層に含有する粒子としては、無機粒子と有機粒子が挙げられる。ここでいう平均粒径は、二次粒子（粒子が凝集していない場合は一次粒子）の質量平均径である。
【０１９５】
無機粒子の具体例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＩＴＯ、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリンおよび硫酸カルシウムなどの粒子が挙げられる。二酸化珪素、酸化アルミニウムが好ましい。
【０１９６】
有機粒子としては樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子の具体例としては、シリコン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ（メチルメタクリレート／スチレン）共重合樹脂、ポリ弗化ビニリデン樹脂から作製される粒子などが挙げられる。好ましくは、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ（メチルメタクリレート／スチレン）共重合樹脂、から作製される粒子であり、特に好ましくはポリメチルメタクリレート樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ（メチルメタクリレート／スチレン）共重合樹脂、から作製される粒子である。
これらの樹脂粒子は共重合樹脂粒子でもよく、さらには、架橋剤成分を含有した架橋樹脂粒子であることが好ましい。
【０１９７】
粒子の平均粒径は、好ましくは０．２〜１０μm、更に好ましくは０．５〜７．０μm、特に好ましくは１．０〜５．０μmである。
粒子の粒径分布は狭いほど好ましい。粒子の粒径分布を示すＳ値は下記式で表され、２．０以下であることが好ましく、さらに好ましくは１．０以下、特に好ましくは０．７以下である。
【０１９８】
Ｓ＝［Ｄ（０．９）−Ｄ（０．１）］／Ｄ（０．５）
【０１９９】
Ｄ（０．１）：体積換算粒径の積算値の１０％値、
Ｄ（０．５）：体積換算粒径の積算値の５０％値、
Ｄ（０．９）：体積換算粒径の積算値の９０％値。
【０２００】
粒子の屈折率は１．３５〜１．８０であることが好ましく、より好ましくは１．４０〜１．７５、さらに好ましくは１．４５〜１．７５である。
粒子の屈折率と、層のマトリックスの屈折率をほぼ同じにすることで、反射防止フィルムを画像表示面に装着したときのコントラストが改良される。一方、粒子の屈折率と層のマトリックスの屈折率との間に屈折率の差を付けることで、反射防止フィルムを液晶表示面に装着したときの視認性（ギラツキ故障、液晶表示装置の視野角特性など）が改良される。
粒子の屈折率と層のマトリックスの屈折率との間に屈折率の差を付ける場合、その差は０．０３〜０．５であることが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．４、特に好ましくは０．０５〜０．３である。
【０２０１】
平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層は、光拡散層以外には、前記のハードコート層、帯電防止層、最外層、低屈折率層、後述する高屈折率層、中屈折率層であってもよい。好ましくは光拡散層、ハードコート層、帯電防止層、高屈折率層、である。また、粒子を含有する層は最外層と隣接する層であることが最も好ましい。
【０２０２】
平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子は、平均粒径の異なる粒子を複数組み合わせて使用してもよい。また、異なる材質の粒子を複数組み合わせて使用することも好ましい。
【０２０３】
平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層は、有機化合物のバインダーを含有することが好ましい。また、上記帯電防止層、ハードコート層と同様に、バインダーが架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。
【０２０４】
平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層のヘイズは、３〜８０％であることが好ましく、さらに好ましくは５〜６０％、特に好ましくは７〜５０％、最も好ましくは１０〜４０％である。
平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０２０５】
（平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子）
本発明の光学機能フィルムにおいて、透明支持体と最外層の間に一次粒子の平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層を構築することが好ましい。ここでいう平均粒径は質量平均径である。一次粒子の平均粒径を１〜２００ｎｍにすることで透明性を損なわない層を作製できる。
一次粒子の平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子は、層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御するなどの目的で用いられる。
無機微粒子としては、帯電防止層、最外層で例示した無機微粒子（導電性微粒子、充填剤など）に加え、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛などの微粒子が挙げられる。好ましくは、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ、酸化亜鉛である。
平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子は、平均粒径の異なる粒子を複数組み合わせて使用してもよい。また、異なる材質の粒子を複数組み合わせて使用することも好ましい。
【０２０６】
無機微粒子の一次粒子の平均粒径は好ましくは５〜２００ｎｍであり、より好ましくは１０〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは２０〜１００ｎｍ、特に好ましくは２０〜５０ｎｍである。
層の中において、無機微粒子はなるべく微細に分散されていることが好ましく、分散剤を用いて分散されていることが好ましい。層の中における無機微粒子の粒子サイズは、好ましくは平均粒径で５〜３００ｎｍ、より好ましくは１０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは２０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは２０〜８０ｎｍである。特に、光学干渉層に用いる場合は、２００ｎｍ以下であることが好ましい。
分散剤および分散方法については、前述の帯電防止層で説明した事項を適用できる。
【０２０７】
層における無機微粒子の含有量は、層の全質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％、特に好ましくは１５〜７５質量％である。
高い屈折率を有する層（例えば、高屈折率層、中屈折率層など）を作製する場合、帯電防止層で記載した手法を用いて高い屈折率を有する無機微粒子（例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ、酸化亜鉛など）を微細に分散して層に含有させて作製することが好ましい。
【０２０８】
平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層として好ましいのは、前記ハードコート層、光拡散層、後述する光学干渉層（高屈折率層、中屈折率層など）である。また、平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層は最外層と隣接する層であることが好ましい。
【０２０９】
平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層は、有機化合物のバインダーを含有することが好ましい。また、バインダーが架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。
【０２１０】
平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層の屈折率は、１．５５〜２．４０であることが好ましく、より好ましくは１．６５〜２．２０、特に好ましくは１．６５〜２．００である。
平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。
平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０２１１】
光拡散層には塗布液の粘度調整の目的で、ウレタン、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、アクリル樹脂（ポリメタクリル酸メチル等）の樹脂類を含有することも好ましい。
【０２１２】
＜光学機能フィルムのその他の層＞
より優れた反射防止性能を有する光学機能フィルムを作製するためは、ハードコート層と低屈折率層の間に、低屈折率層より高い屈折率を有する光学干渉層（高屈折率層、及び／又は、中屈折率層）を設けることが好ましい。
高屈折率層、中屈折率層は、前述の帯電防止層の説明であげた、高い屈折率を有する無機微粒子（例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ、酸化亜鉛など）を皮膜中に微細に分散させて作製することが好ましい。分散剤および分散方法については、前述の帯電防止層で説明した事項を適用できる。
また、高屈折率層、中屈折率層には、芳香環、及び／又は、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性化合物、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。高屈折率層、中屈折率層の屈折率は、適宜制御することができ、高い屈折率を有する微粒子を含有する場合、皮膜中の微粒子の含有率を制御することで屈折率の調整が可能である。高屈折率層、中屈折率層の膜厚も適宜調整できる。ここで、高屈折率、中屈折率とは、層相互の相対的な屈折率の高低を意味する。
【０２１３】
高屈折率層、中屈折率層の好ましい屈折率と膜厚に関しては、後述する反射防止フィルムの構成において説明する。高屈折率層の屈折率は１．６５〜２．４０が好ましく、より好ましくは１．７０〜２．２０、さらに好ましくは１．７５〜２．１０、特に好ましくは１．８０〜２．１０である。中屈折率層の屈折率は１．５５〜１．８０が好ましく、より好ましくは１．６０〜１．８０、さらに好ましくは１．６０〜１．７５、特に好ましくは１．６０〜１．７０である。
【０２１４】
高屈折率層、中屈折率層は、有機化合物のバインダーを含有することが好ましい。また、上記帯電防止層、ハードコート層と同様に、バインダーが架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。したがって、高、中屈折率層はハードコート層を兼ねることもでき、広義にはハードコート層の定義に入ることもできる。
【０２１５】
高屈折率層、中屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。
高屈折率層、中屈折率層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０２１６】
光学機能フィルムには、以上に述べた以外の層を設けてもよい。例えば、接着層、シールド層などを設けてもよい。シールド層は電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
【０２１７】
光学機能フィルムの各層を塗布法で作製する上で、層を作製するのに用いる塗布液には、面状改良剤を添加することが好ましい。以下に、面状改良剤について説明する。
【０２１８】
（面状改良剤）
本発明の透明支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗料には、面状故障（塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など）を改良するために、フッ素系及び／又はシリコーン系の面状改良剤を添加することが好ましい。
【０２１９】
面状改良剤は、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上変化させることが好ましい。ここで、塗料の表面張力が１ｍＮ／ｍ以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗料の表面張力が、塗布／乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加してない塗料の表面張力と比較して、１ｍＮ／ｍ以上変化することを意味する。
好ましくは、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げる効果がある面状改良剤であり、更に好ましく２ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤、特に好ましくは３ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤である。
【０２２０】
フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物（「フッ素系面状改良剤」と略記する）が挙げられる。特に、下記一般式（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位、及び、下記一般式（ii）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が好ましい。
このような単量体としては、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２，Ｐａｇｅ１〜４８３記載のものを用いることが好ましい。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【０２２１】
【化９】
2006075698.tif 000010
【０２２２】
一般式（ｉ）においてＲ21は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘ2は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ22）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ22）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ22は水素原子又は、炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。ａは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが特に好ましい。ｂは１〜１８の整数を表し、４〜１２がより好ましく、６〜８が特に好ましい。
フッ素系面状改良剤中に一般式（ｉ）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが２種類以上構成成分として含まれていてもよい。
【０２２３】
【化１０】
2006075698.tif 000011
【０２２４】
一般式（ii）において、Ｒ23は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙ2は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ25）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ25）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ25は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒ24は水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜２０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、又は置換もしくは無置換の芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は総炭素数６〜１８の芳香族がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基が更に好ましい。以下でポリ（アルキレンオキシ）基について説明する。
【０２２５】
ポリ（アルキレンオキシ）基は、−（ＯＲ）−を繰り返し単位とした基であり、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2−、−ＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ(ＣＨ3)−が挙げられる。
前記のポリ（オキシアルキレン）基中のオキシアルキレン単位（前記−ＯＲ−）はポリ（オキシプロピレン）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであってもよく、直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレンもしくはオキシエチレン単位であったり、または直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレン単位のブロックもしくはオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであってもよい。
【０２２６】
このポリ（オキシアルキレン）鎖は１つまたはそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など：Ｐｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が３つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。またこの共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（オキシアルキレン）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名“プルロニック”［Pluronic（旭電化工業（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”［Carbowax（グリコ・プロダクス）］、“トリトン”［Toriton（ローム・アンド・ハース（Rohm and Haas製））およびP.E.G（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。
【０２２７】
本発明で用いられるフッ素系面状改良剤において、フッ素系面状改良剤の形成に用いられる全モノマー量に対する一般式（i）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量が５０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは７０〜１００モル％であり、特に好ましくは８０〜１００モル％の範囲である。
【０２２８】
本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、６，０００〜８０，０００がより好ましく、８，０００〜６０，０００が更に好ましい。
ここで、質量平均分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。
【０２２９】
更に、本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい添加量は、添加する層の塗料に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。
【０２３０】
以下、本発明によるフッ素系面状改良剤の具体的な構造の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０２３１】
【化１１】
2006075698.tif 000012
【０２３２】
【化１２】
2006075698.tif 000013
【０２３３】
【化１３】
2006075698.tif 000014
【０２３４】
【化１４】
2006075698.tif 000015
【０２３５】
【化１５】
2006075698.tif 000016
【０２３６】
【化１６】
2006075698.tif 000017
【０２３７】
【化１７】
2006075698.tif 000018
【０２３８】
本発明の面状改良剤は、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン等）を含有する塗料に用いることが好ましくい。特に、ケトン系溶媒が好ましい。ケトン系溶媒の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが好ましい。
また、特にケトン系溶媒を全溶媒の１０質量％以上含有する塗料であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
【０２３９】
塗料の溶媒は、ケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。例えば、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）などがあげられる。
【０２４０】
面状改良剤は、層と層の界面の密着性を悪化させることがある。従って、層の表面に存在する面状改良剤を、該層の隣接層を形成する塗料中に溶出させて、層と層の界面近傍に面状改良剤が残らないようにすることが好ましい。そのため、隣接層の塗料中に面状改良剤を溶解する溶媒を含有させることが好ましい。そのような溶媒としては、上記ケトン系溶媒が好ましい。
【０２４１】
透明支持体上に形成する層の塗料において、面状改良剤を添加するのが特に好ましいのは、ハードコート層、光散乱層、帯電防止層、高屈折率層、低屈折率層を形成するための塗料であり、特に好ましいのはハードコート層、光拡散層、を形成するための塗料である。
【０２４２】
（オルガノシラン化合物）
本発明において、反射防止フィルムの各層に特に好ましく用いることができるオルガノシラン化合物について記載する。
皮膜の物理強度（耐擦傷性など）、皮膜と皮膜に隣接する層の密着性を改良する点でオルガノシラン化合物及び／又はその誘導体を透明支持体上のいずれかの層に添加することが好ましい。
【０２４３】
オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体としては、下記一般式（ａ）で表される化合物及び／又はその誘導体を用いることができる。好ましいのは、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するオルガノシラン化合物であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイルなど）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノなど）を含有するオルガノシラン化合物である。
【０２４４】
一般式（ａ）    （Ｒ10）s−Ｓｉ（Ｚ）4-s
【０２４５】
一般式（ａ）中、Ｒ10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、sec−ブチル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６である。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｚは水酸基または加水分解可能な基を表す。例えばアルコキシ基（炭素数1〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ12ＣＯＯ（Ｒ12は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ3ＣＯＯ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｓは１〜３の整数を表す。好ましくは１または２であり、特に好ましくは１である。
Ｒ10あるいはＺが複数存在するとき、複数のＲ10あるいはＺはそれぞれ異なっていてもよい。
【０２４６】
Ｒ10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ基（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更にこれらの置換基で置換されていてもよい。
【０２４７】
これらのうちで更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基である。特に、架橋又は重合性の官能基が好ましく、エポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイル）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）が好ましい。またこれら置換基は更に上記の置換基で置換されていてもよい。
【０２４８】
Ｒ10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物及びその誘導体の中でも、下記一般式（ｂ）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物及び／又はその誘導体が好ましい。
【０２４９】
【化１８】
2006075698.tif 000019
【０２５０】
一般式（ｂ）において、Ｒ11は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合、*−ＣＯＯ−**、*−ＣＯＮＨ−**、*−Ｏ−**、又は*−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−**を表し、単結合、*−ＣＯＯ−**、*−ＣＯＮＨ−**が好ましく、単結合、*−ＣＯＯ−**が更に好ましく、*−ＣＯＯ−**が特に好ましい。ここで、*は＝Ｃ（Ｒ11）−に結合する位置を、**はＬに結合する位置を表す。
【０２５１】
Ｌ1は２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０２５２】
ｔは０または１を表す。ｔとして好ましくは０である。
Ｒ10は一般式（ａ）と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｚは一般式（ａ）と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。Ｚが複数存在するとき、複数のＺはそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【０２５３】
一般式（ａ）、一般式（ｂ）の化合物、及びその誘導体は、２種類以上を併用してもよい。
一般式（ａ）、一般式（ｂ）で表されるオルガノシラン化合物の好ましい具体例としては、特開２００４−１７０９０１号公報の［００３６］〜［００４４］に記載されたＭ−１〜Ｍ−６０が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２５４】
これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、および（Ｍ−５）が特に好ましい。
【０２５５】
本発明において、一般式（ａ）、一般式（ｂ）で表されるオルガノシラン化合物の誘導体とは、一般式（ａ）、一般式（ｂ）で表されるオルガノシラン化合物の加水分解物、部分縮合物などを意味する。以下、本発明で用いるオルガノシラン化合物の好ましい誘導体（加水分解物及び／又は部分縮合物）について説明する。
オルガノシラン化合物の加水分解反応及び／又は縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。無機酸では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数(ｐＫa値（２５℃）)が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
【０２５６】
オルガノシランの加水分解・縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒を塗料あるいは塗料の一部として用いることが好ましく、その他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
【０２５７】
このうち、アルコール類としては、例えば１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることができ、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。
これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。
【０２５８】
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、１種単独であるいは２種以上を混合して使用することもできる。該反応における固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常１％〜９０％の範囲であり、好ましくは２０％〜７０％の範囲である。
【０２５９】
オルガノシラン化合物の加水分解性基１モルに対して０．３〜２モル、好ましくは０．５〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
本発明では、一般式Ｒ13ＯＨ（式中、Ｒ13は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式Ｒ14ＣＯＣＨ2ＣＯＲ15(式中、Ｒ14は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ15は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ及びＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物の存在下で、２５〜１００℃で撹拌することにより加水分解を行うことが好ましい。
【０２６０】
金属キレート化合物は、一般式Ｒ13ＯＨ（式中、Ｒ13は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式Ｒ14ＣＯＣＨ2ＣＯＲ15(式中、Ｒ14は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ15は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ13）p1（Ｒ14ＣＯＣＨＣＯＲ15）p2、Ｔｉ（ＯＲ13）q1（Ｒ14ＣＯＣＨＣＯＲ15）q2、およびＡｌ（ＯＲ13）r1（Ｒ14ＣＯＣＨＣＯＲ15）r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
【０２６１】
金属キレート化合物中のＲ13およびＲ14は、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ15は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１およびｒ２は、それぞれ、ｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。
【０２６２】
金属キレート化合物の具体例としは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、等が好ましい。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【０２６３】
金属キレート化合物は、前記オルガノシラン化合物に対し、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％の割合で用いられる。０．０１質量％未満では、オルガノシラン化合物の縮合反応が遅く、塗膜の耐久性が低下するおそれがあり、一方５０質量％を超えると、オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物と金属キレート化合物を含有してなる組成物の保存安定性が低下するおそれがあり好ましくない。
【０２６４】
上記オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体（加水分解物、部分縮合物）、さらに必要に応じて添加される金属キレート化合物などを含む組成物に、β−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を添加することが好ましい。
【０２６５】
本発明では、一般式Ｒ14ＣＯＣＨ2ＣＯＲ15で表されるβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物が好ましく用いられる。β−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を構成するＲ14及びＲ15は、前記金属キレート化合物を構成するＲ14及びＲ15と同様である。
【０２６６】
このβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトン等があげられ、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。
【０２６７】
上記オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体の添加量は、添加する層により適宜調整される。添加量は層の全固形分に対し、０．１〜５０質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜３０質量％、さらに好ましくは３〜２５質量％、特に好ましくは５〜２０質量％である。
【０２６８】
オルガノシラン化合物を添加するのに好ましい層は、帯電防止層、ハードコート層、光拡散層、高屈折率層、低屈折率層、最外層であり、より好ましくはハードコート層、光拡散層、低屈折率層、最外層であり、特に好ましくは最外層及び／又は該最外層の隣接層である。
【０２６９】
＜透明支持体＞
透明支持体としては、プラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムとしてはセルロースアシレート（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましく、特に、液晶表示装置に用いる場合、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
【０２７０】
透明支持体がセルロースアシレートフィルムの場合、セルロースアシレートを溶剤に溶解することで調製したセルロースアシレートドープを単層流延、複数層共流延の何れかの流延方法により作製したセルロースアシレートフィルムが好ましい。
【０２７１】
特に、環境保全の観点から、セルロースアシレートを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することで調整したセルロースアシレートドープを用いて作製したセルロースアシレートフィルムが好ましい。
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）に例示されている。
【０２７２】
上記の透明支持体の膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚は１〜３００μｍがよく、好ましくは３０〜１５０μｍ、特に好ましくは４０〜１２０μｍ、最も好ましくは４０〜１００μｍである。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
透明支持体のヘイズは低い方が好ましい。２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
透明支持体の屈折率は、１．４０〜１．７０であることが好ましい。
本発明に係る透明支持体はウェブ状で用いられ、それの表面粗さの中心線平均粗さ（Ｒａ）が１μm以下、あるいは１μmより大きい凹凸部分が塗布進行方向において連続して１０ｃｍ未満のウェブを用いることが、塗布スジ故障低減のために好ましく、Ｒａが０μm以上０．８μm以下で、凹凸部分が進行方向において連続して５ｃｍ未満であることがさらに好ましい。
【０２７３】
透明支持体には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。
また、透明支持体には、滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＢａＳＯ4、ＣａＣＯ3、タルクおよびカオリンが含まれる。
【０２７４】
透明支持体に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理とコロナ放電処理が特に好ましい。
【０２７５】
＜光学機能フィルムの形成方法＞
本発明において光学機能フィルムを構成する各層は、塗布法により作製したものが好ましい。塗布方法は後述するスロットダイコーターやスライドビードコーターを用いるようないわゆる総称してダイコート法と称する方法が好ましい。
【０２７６】
図５は本発明を実施したスロットダイを用いたコーターの概略図である。コーター１０は、バックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブ１２に対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブ１２に塗布膜１４ｂを形成する。
【０２７７】
スロットダイ１３は、その内部にポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その形状の断面が曲線及び直線で構成される。例えば図１に示すような略円形でもよいし、半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロットとは反対側の面中央から行い、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ないようにするための栓を設けている。
【０２７８】
スロット１６は、ポケット１５からウェブ１２への塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６の、スロット先端におけるバックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、一般に３０°以上９０°以下であり、さらに、本発明の効果は上記形状のスロットダイに限定されるものではない。
【０２７９】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１７ａとされている。この平坦部１７ａであって、スロット１６に対してウェブ１２の進行方向の上流側を以下、上流側リップランド１８と称し、下流側を下流側リップランド１９と称する。
【０２８０】
下流側リップランド１９のウェブ走行方向における長さＩLOは３０μｍ〜１００μｍであり、好ましくは３０μｍ〜８０μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜６０μｍである。また、上流側リップランド１８のウェブ進行方向における長さＩUPは特に限定されないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。
【０２８１】
図６は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明のスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。従来のロットダイ３０では、下流側リップランド３１のランド長さＩLOについて考慮されておらず、ほぼ上流側リップランドの長さＩUPと同様の長さとされている。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩLOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度良くおこなうことができる。しかも、この下流側リップランド１９のランド長さＩLOを３０μｍ〜１００μｍの範囲にすることで、寸法精度のよいリップランドを形成することができる。
【０２８２】
また、塗膜の膜厚を高精度で均一化するためには、下流側リップランド１９のランド長さＩLOのスロットダイ１３の幅方向における変動幅を２０μｍ以内にする。これは下流側リップランド１９のランド長さＩLOが大きくなると、ビードの形成が不安定になるからで   ある。しかも、かすかな外乱でビードが不安定となって、製造適性がなくなる。このため、スロットダイ１３の幅方向での変動幅が２０μｍ以内におさまるようにスロットダイ１３を制作する。
【０２８３】
スロット１６の開口部ａを含む先端リップ１７の強度や表面状態の向上対策としては、少なくともこの箇所を含むスロットダイの材質を、ＷＣを主成分とする超硬材質にする。超硬材質を用いることにより、表面形状の均質性と併せ、常に吐出される塗布液による先  端リップの摩耗への対策にもなる。塗布液として研磨材を含む磁性液等を塗布する場合は特に有効である。超硬材質としては、平均粒径５μｍのＷＣ炭化物結晶をＣｏをはじめとする結合金属で結合してなる材質を使用するが、結合金属はこれに限定されず、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂをはじめとする各種金属を使用することもできる。なお、ＷＣ結晶の平均粒径は５μｍ以内であれば、任意の平均粒径のものを用いてよい。
【０２８４】
さらに、薄層の塗布膜厚を高精度に均一に維持するためには、下流側リップランド１９のランド長さＩLOの塗布幅方向における寸法精度を維持するほかに、スロットダイ１３の先端リップ１７とバックアップロール１１の両方の真直度も重要である。これはスロットダイ１０の先端部とバックアップロール１３の真直度の２つの組み合わせにより達成されるので、どちらかのみを精度良くしても意味が無い。必要真直度は下記の式（１）を利用して、概算ではあるが、実用的に十分な精度で求めることができるが、これに限定されない。ここで、図７に示すようにＰ0 はウェブ１２の進行方向側におけるビードメニスカス外の圧力、Ｐp はポケット１５の内圧であり、以下図示しないが、σは塗布液１４の表面張力、μは塗布液１４ａの粘度、Ｕは塗布速度、ｈは膜厚、ｄは下流側リップランド１９とウェブ１２との隙間の長さ、Ｌはスロットダイ１３のスロット１６の長さ、Ｄはスロットダイ１３のスロット間隙である。そしてスロットダイ１３のポケット１５の内圧ＰP とウエブ進行方向側のビードメニスカス外の圧力ＰO の差圧Ｐ0−ＰP を、スロットダイ１３の幅方向に一定として、下記（１）式を用いて、必要真直度を求める。これは、スロットダイ１３の先端部とバックアップロール１１との隙間の長さｄが変化しても、スロットダイ１３のポケット１５の中と前記ビードメニスカス外の差圧が一定となるように、スロットダイ１３の幅方向の流れがポケット１５の中で発生して、流量分布となることによる。
【０２８５】
Ｐ0 −Ｐp ＝１．３４σ／ｈ  ・（μＵ／σ）2/3 ＋１２μＵＩLO（ｄ／２−ｈ）／ｄ3   −１２μｈＵＬ／Ｄ3 ・・・（１）
【０２８６】
上記（１）式を用いることにより、条件により厳密には異なるが、一般の工業的生産に用いられる塗布系においては、５μｍ程度のダイブロック幅方向の真直度で、塗布膜厚分布が２％程度発生することになる。従って、高精度の薄膜塗布を実施する際の限界はこの数字であるとみなすことができる。これにより、前記スロットダイ１３を塗布位置にセットしたときに，前記先端リップとウェブとの隙間の前記スロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以内となるように、先端リップと前記バックアップロールの真直度を出す。
本発明に係る塗布方法は、このようなスロットダイによる方法を用いることが好ましい。
【０２８７】
また本発明に係るスロットダイは、特開２００３−２１１０５２号に記載のように、スロットダイのウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さを３０μm以上１００μm以下としたとき、ダイを塗布位置にセットした状態でウェブ進行方向と逆側の先端リップとウェブとの隙間を、ウェブ進行方向側の隙間よりも大きくなるように設置した塗布装置も好ましく用いることができる（図８、９）。
図８は本発明を実施したスロットダイを用いたコーターの断面図である。スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされる。このランド１８においてスロット１６に対してウェブ１２の進行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。
【０２８８】
図９はスロットダイ１３の断面形状を示したものである。このスロットダイでは下流側リップランド長さＩＬOが、短くなっており、これによって湿潤膜厚を２０μm以下にした塗布を精度良く行うことができる。
上流側リップランド１８ａの長さＩUPは５００μm〜１０００μmの範囲が好ましい。下流側リップランド１８bの長さＩLOは、３０μm以上１００μm以下が好ましく、３０μm以上８０μm以下がより好ましく、３０μm以上６０μm以下がさらに好ましい。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブとの距離の差は、３０μm以上１２０以下が好ましく、３０μm以上１００μm以下がより好ましく、３０μm以上８０μm以下がさらに好ましい。
【０２８９】
本発明に係るウェブは、特開２００３−２３０８６２号に記載のように、ウェブの表面に湿潤膜厚が２０μm以下となる塗膜を塗布する方法において、表面の中心線平均粗さＲａ値が１μm以下、あるいは１μmより大きいＲａ値を有する凹凸部分が進行方法において連続して１０ｃｍ未満のウェブを用いることが好ましい。
Ｒａ値はＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４の方法で求められる。
ウェブの表面凹凸は、塗布面の近傍にレーザー変位計を設置して表面におけるレーザーの反射光の変位を測定し、形状を算出する方法で求められる。また、ウェブに蛍光灯のような光を反射させて、虹色の模様を観察することで表面凹凸の存在を確認できる。
【０２９０】
本発明に係るウェブは、特開２００３−２３６４３４号に記載のように、スロットダイコーターまたはスライドビードコーターのダイ先端リップからウェブにかけてビードを形成し、ビード近傍をバックプレートを有する減圧チャンバーにより減圧して、ウェブに塗布液を塗布する方法を用いることが好ましい。この方法において、バックプレートとウェブとの隙は前記先端リップとウェブとの隙間よりも大きくなるように、減圧チャンバーの設置位置によって調整される（図１０、１１）。
さらに前記減圧チャンバーはサイドブレートを有し、サイドプレートがウェブに対向するように減圧チャンバーを設置するときに、サイドプレートとウェブの隙間を、バックプレートとウェブの隙間以上に大きくすることが好ましい。あるいはサイドプレートがウェブをその上に掛けないバックアップロール部分に対向するように減圧チャンバーを設置する場合には、サイドプレートとバックアップロールの隙間をバックプレートとウェブの隙間以上に大きくすることが好ましい。バックプレートとウェブの隙間は１００μｍ以上１０００μｍ以下とすることが好ましい。
【０２９１】
本発明に係るスロットダイ法による塗布方法は、特開２００３−２３６４５１号に記載のように、スロットダイの下流側リップ先端とウェブとの距離Ｌ１が、ウェブに塗布された液の湿潤膜厚Ｌ２に対して、Ｌ１≧２×Ｌ２の関係を有し、スロットダイのポケット内の液圧が大気圧以上となるようにした方法を用いることが好ましい。
この方法においてはスロットダイの下流側リップ先端とウェブとの距離Ｌ１を、３０μｍ≦Ｌ１≦１５０μｍの範囲にすることが好ましい。さらにスロットダイの下流側リップランドの長さＬ５を３０μｍ≦Ｌ５≦１００μｍの範囲にすることが好ましい。
また湿潤膜厚Ｌ２を、０．５μｍ≦Ｌ２≦２５μｍの範囲にすることが好ましい。さらにスロットダイのスロットの長さＬ３を４０ｍｍ≦Ｌ３≦１００ｍｍの範囲にすること、スロットの幅Ｌ４を１００μｍ≦Ｌ４≦５００μｍの範囲にすることが好ましい。ウェブの走行速度Ｖは、１０ｍ／min≦Ｖとすることが好ましく、１０ｍ／min≦Ｖ≦３００ｍ／minがより好ましい（図１２）。これらの方法によって耳部（横端）の安定した塗膜が得られる。
【０２９２】
本発明に係るダイ法による塗布方法は、特開２００３−２４５５９５号に記載のように、ダイに対してウェブ走行方向の上流側および下流側において、一方に光源が配置され、他方に撮像手段が配置されて、光源により照射されたダイとウェブとの隙間を撮像手段により撮像し、この結果に基づき隙間を計測する塗布方法を用いることが好ましい。撮像手段はウェブの幅方向に走行させることが全幅域を計測できる点で好ましい。この方法においては湿潤膜厚が２５μｍ以下、特に２０μｍ以下であると効果がより大きい。
この塗布方法によりダイの設置位置の微調節が可能となり、膜厚ムラの少ない塗膜が得られる。
【０２９３】
本発明に係るスロットダイコーターまたはスライドビードコーターを用いてバックアップロールで支持されて走行するウェブに対して塗布する塗布方法は、特開２００３−２５１２６０号に記載のように、バックアップロールの回転による振れの振れ幅を１０μｍ未満とする塗布方法を用いることが好ましい。この方法においてはバックアップロールの回転による振れの振れ幅が１μｍ以上１０μｍ未満である振れの振動数を３Ｈｚ以下にすることが好ましい。このためには減圧チャンバーに対して上流側のウェブをバックアップロールに５度以上巻きかける（図１３）ことが好ましく、さらにはウェブの張力を５×１０５Ｎ／ｍ２以上にすることが好ましい。
【０２９４】
本発明に係るスロットダイ法による塗布方法は、特開２００３−２６０４００号に記載のように、塗布により形成される塗膜が少なくとも２層の多層同時塗布において、ウェブの走行方向における最上流側の先端リップ以外の少なくともひとつのリップの平坦部のウェブ走行方向における長さを３０μm以上１００μm以下とする塗布方法を用いることが好ましい（図１４）。
【０２９５】
本発明のスロットダイコート法は吐出口をなす下流側の先端リップが上流側の先端リップよりもウェブに近接することが好ましく、ウェブとの隙間の差を３０μm以上１２０μm以下とすることが好ましく、下流側の先端リップのランド長さについては、スロットダイの幅方向における変動幅が２０μm以内となるようにする（図１５）。
多層塗布用のスロットダイの塗布において、湿潤膜厚を２０μm以下の層を形成するとき、その２０μm以下の層のうち最も下の層を形成する塗布液の吐出口よりも下流側にあるすべての先端リップのランド長さを３０μm以上１００μm以下とし、さらに下流側の先端リップを上流側リップよりもウェブに近接させることが好ましい。ウェブとの隙間の差は３０μm以上１２０μm以下とすることが好ましい。
【０２９６】
本発明に係るスロットダイ法による塗布方法は、特開２００３−２６０４０２号に記載のように、ダイのスロット内に塗布幅規制のための部材が備えられ、ウェブ進行方向側の第一リップとウェブの隙間をウェブ進行方向とは逆側の第二リップとウェブの隙間よりも小さくし、幅規制部材の先端位置を、塗布液の送液方向において第一先端リップの先端位置と同一または上流側で、かつ第二先端リップの先端位置と同一または下流側に設置した塗布装置を用いることが好ましい（図１６）。これにより、耳部の安定した塗布をおこなうことができる。
【０２９７】
本発明に係るスロットダイ法による塗布方法は、特開２００３−２７５６５２号に記載のように、スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも二つのブロックから構成され、吐出口をなす二つの先端リップに段差があるスロットダイを用いる塗布方法において、基台の基準平面に先端リップとは反対側の面を揃えた状態でブロックを密着させ締結してスロットダイを構成するような塗布方法を用いることが好ましい（図１７及び図１８）。
【０２９８】
本発明に係るスロットダイ法による塗布方法は、特開２００４−１４１８０６号に記載のように、ダイが移動手段によって塗布位置とウェブから離れた退避位置との間で移動するように構成されており、塗布開始前に定常部の塗布に必要な減圧度に条件設定させてから、ダイを塗布位置に移動速度３mm／秒以上３０mm／秒以下で移動させるような塗布方法を用いることが好ましい。
【０２９９】
本発明のダイコート法の塗布速度は５ｍ／分〜２００ｍ／分が好ましく、１０ｍ／分〜１５０ｍ／分がより好ましく、２０〜１００ｍ／分が最も好ましい。
【０３００】
＜光学機能フィルム＞
本発明において光学機能フィルム、例えば、反射防止フィルムは、前述の通り、表面に塵埃（埃など）が付着するのを防止するために、低屈折率層を有する側の表面の表面抵抗値が１×１０13Ω／□以下であることが好ましい。
また、本発明の光学機能フィルムは、物理強度（耐擦傷性など）を改良するために、最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で最外層を有する側の表面を移動させたときの、最外層を有する側の表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
さらに反射防止フィルムは、防汚性能を改良するために、最外層を有する側の表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
【０３０１】
光学機能フィルムが防眩機能を持たない場合、ヘイズは低いほど好ましい。
光学機能フィルムが防眩機能を有する場合、ヘイズは、０．５〜５０％であることが好ましく、１〜４０％であることがさらに好ましく、１〜３０％であることが最も好ましい。
【０３０２】
本発明の光学機能フィルムの反射率は低いほど好ましく、好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．５％以下、更に好ましくは２．０％以下、特に好ましくは１．５％以下である。
本発明の光学機能フィルムは、紫外線照射硬化後の膜厚で、２００ｎm以下の塗布層が少なくとも１層塗布される。２００ｎｍ以下の層は、より好ましくは１６０ｎm〜２０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍ〜４０ｎｍである。２００ｎｍの層以外の構成層としてこれより膜厚の厚い層が塗布されていてもよい。
【０３０３】
（光学機能フィルムの構成）
本発明の光学機能フィルムを反射防止フィルムを例にとって、構成例を図面を引用しながら説明する。
図１は、優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。
図１（ａ）に示す態様は、透明支持体１、帯電防止層２、ハードコート層３、低屈折率層（最外層）４の順序の層構成を有する。透明支持体１と低屈折率層４は以下の関係を満足する屈折率を有することが好ましい。すなわち、透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。
【０３０４】
図１（ａ）のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、低屈折率層が下記数式（１）を満足することが好ましい。
【０３０５】
数式（１）  （ｍ1λ／４）×０．７＜ｎ1ｄ1＜（ｍ1λ／４）×１．３
【０３０６】
数式（１）中、ｍ1は正の整数（一般に１）であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。なお、上記数式（１）を満たすとは、上記各波長の範囲において数式（１）を満たすｍ（正の奇数、一般に１である）が存在することを意味している。以下、数式（２）〜（１２）についても同様である。
【０３０７】
図１（ｂ）に示す態様は、透明支持体１、ハードコート層３、帯電防止層（高屈折率層）２、低屈折率層（最外層）４の順序の層構成を有する。透明支持体１と帯電防止層２と低屈折率層４は以下の関係を満足する屈折率を有することが好ましい。すなわち、帯電防止層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。
【０３０８】
図１（ｂ）のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、帯電防止層が下記数式（２）、低屈折率層が下記数式（３）をそれぞれ満足することがさらに優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムにすることができる点で好ましい。
【０３０９】
数式（２）  （ｍ2λ／４）×０．７＜ｎ2ｄ2＜（ｍ2λ／４）×１．３
【０３１０】
数式（２）中、ｍ2は正の整数（一般に１、２または３）であり、ｎ2は帯電防止層の屈折率であり、そして、ｄ2は帯電防止層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
【０３１１】
数式（３）  （ｍ3λ／４）×０．７＜ｎ3ｄ3＜（ｍ3λ／４）×１．３
【０３１２】
数式（３）中、ｍ3は正の奇数（一般に１）であり、ｎ3は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ3は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
【０３１３】
図１（ｃ）に示す態様は、透明支持体１、ハードコート層３、帯電防止層（中屈折率層）２、高屈折率層５、低屈折率層（最外層）４の順序の層構成を有する。透明支持体１、帯電防止層２、高屈折率層５および低屈折率層４は、以下の関係を満足する屈折率を有することが好ましい。すなわち、高屈折率層の屈折率＞帯電防止層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。
【０３１４】
図１（ｃ）のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、帯電防止層が下記数式（４）、高屈折率層が下記数式（５）、低屈折率層が下記数式（６）をそれぞれ満足することがより優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムにすることができる点で好ましい。
【０３１５】
数式（４）  （ｍ4λ／４）×０．７＜ｎ4ｄ4＜（ｍ4λ／４）×１．３
【０３１６】
数式（４）中、ｍ4は正の整数（一般に１、２または３）であり、ｎ4は帯電防止層の屈折率であり、そして、ｄ4は帯電防止層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
【０３１７】
数式（５）  （ｍ5λ／４）×０．７＜ｎ5ｄ5＜（ｍ5λ／４）×１．３
【０３１８】
数式（５）中、ｍ5は正の整数（一般に１、２または３）であり、ｎ5は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ5は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
【０３１９】
数式（６）  （ｍ6λ／４）×０．７＜ｎ6ｄ6＜（ｍ6λ／４）×１．３
【０３２０】
数式（６）中、ｍ6は正の奇数（一般に１）であり、ｎ6は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ6は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
【０３２１】
図１（ｃ）のような層構成では、帯電防止層が下記数式（７）、高屈折率層が下記数式（８）、低屈折率層が下記数式（９）をそれぞれ満足することが、特に好ましい。ここで、λは５００ｎｍ、ｍ4は１、ｍ5は２、ｍ6は１である。
【０３２２】
数式（７）  （ｍ4λ／４）×０．８０＜ｎ4ｄ4＜（ｍ4λ／４）×１．００
数式（８）  （ｍ5λ／４）×０．７５＜ｎ5ｄ5＜（ｍ5λ／４）×０．９５
数式（９）  （ｍ6λ／４）×０．９５＜ｎ6ｄ6＜（ｍ6λ／４）×１．０５
【０３２３】
なお、ここで記載した高屈折率、中屈折率、低屈折率とは層相互の相対的な屈折率の高低をいう。また、図１（ｂ）〜（ｃ）では、帯電防止層を光干渉層として用いており、極めて優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムである。
ハードコート層、帯電防止層、高屈折率層に、平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有させて、防眩機能を有する反射防止フィルムを作製することも好ましい。
【０３２４】
図２（ａ）に示す態様は、透明支持体１、帯電防止層２、光拡散層６、そして低屈折率層（最外層）４の順序の層構成を有する。光拡散層に含まれる粒子７は、平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子である。
図２（ａ）に示す態様では透明支持体１、低屈折率層４は、以下の関係を満足する屈折率を有する。すなわち、透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。
【０３２５】
図２（ａ）のような層構成では、低屈折率層４が下記数式（１０）を満足することが優れた反射防止フィルムとすることができる点で好ましい。
【０３２６】
数式（１０）  （ｍ7λ／４）×０．７＜ｎ7ｄ7＜（ｍ7λ／４）×１．３
【０３２７】
数式（１０）中、ｍ7は正の奇数（一般に１）であり、ｎ7は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ7は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。また、λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
【０３２８】
図２（ｂ）に示す態様は、透明支持体１、光拡散層６、帯電防止層２、そして低屈折率層（最外層）４の順序の層構成を有する。光拡散層６に含まれる粒子７は、平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子である。
図２（ｂ）に示す態様では透明支持体１、帯電防止層２、低屈折率層４は、以下の関係を満足する屈折率を有する。すなわち、帯電防止層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。
【０３２９】
図２（ｂ）のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、帯電防止層が下記数式（１１）、低屈折率層が下記数式（１２）をそれぞれ満足することがさらに優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムとすることができる点で好ましい。
【０３３０】
数式（１１）  （ｍ8λ／４）×０．７＜ｎ8ｄ8＜（ｍ8λ／４）×１．３
【０３３１】
数式（１１）中、ｍ8は正の整数（一般に１、２または３）であり、ｎ8は帯電防止層の屈折率であり、そして、ｄ8は帯電防止層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
【０３３２】
数式（１２）  （ｍ9λ／４）×０．７＜ｎ9ｄ9＜（ｍ9λ／４）×１．３
【０３３３】
数式（１２）中、ｍ9は正の奇数（一般に１）であり、ｎ9は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ9は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
なお、図２（ａ）〜（ｂ）に示した態様は、防眩性に優れた反射防止フィルムである。
【０３３４】
（偏光板用保護フィルム）
本発明の反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いることができる。この場合、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。さらに好ましくは３０°以下であり、特に好ましくは２５°以下である。接触角を４０°以下にすることは、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。この接触角は下記の鹸化処理の処理条件により調整することができる。
【０３３５】
偏光板用保護フィルムとして用いる反射防止フィルムの透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。
【０３３６】
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、下記２つの手法が挙げられる。
（１）鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層（例、帯電防止層、ハードコート層、低屈折率層、高屈折率層、最外層など）を塗設する手法。
（２）透明支持体の一方の面に上記の各層（例、帯電防止層、ハードコート層、低屈折率層、最外層など）を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法。
【０３３７】
上記（１）の手法において、透明支持体の一方の面のみが鹸化処理されている場合、各層は鹸化処理されていない側に塗設する。透明支持体の両方の面が鹸化処理されている場合、各層を塗設する側の鹸化処理した透明支持体の表面をコロナ放電処理、グロー放電処理、火焔処理などの手法により表面処理し、その後、各層を塗設することが好ましい。
上記（２）において、反射防止フィルム全体を鹸化液に浸漬することが好ましい。この場合、反射防止フィルムは各層を有する側の表面を保護フィルムで保護して鹸化液に浸せきし、偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面を鹸化処理することもできる。
さらにまた、反射防止フィルムの偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面に鹸化処理液を塗布して、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理することもできる。
鹸化処理は、保護フィルムの上に反射防止性能を付与した後に実施することで、よりコストを削減でき、特に（２）の手法が、偏光板用保護フィルムを安価に製造できる点で好ましい。
【０３３８】
偏光板用保護フィルムは、光学性能（反射防止性能、防眩性能など）、物理性能（耐擦傷性など）、耐薬品性、防汚性能（耐汚染性など）、耐候性（耐湿熱性、耐光性）、防塵性能において、本発明の反射防止フィルムで記載した性能を満足することが好ましい。
従って、最外層を有する側の表面の表面抵抗値が１×１０13Ω／□以下であることが好ましい。表面抵抗値は低いほど好ましく、より好ましくは１×１０12Ω／□以下、更に好ましくは１×１０11Ω／□以下、特に好ましくは１×１０9Ω／□以下、最も好ましくは１×１０8Ω／□以下である。
最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
また、最外層を有する側の表面の水に対する接触角は９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
【０３３９】
（鹸化処理）
上記の鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に透明支持体、又は、反射防止フィルムを適切な時間浸漬して実施するのが好ましい。
アルカリ液は、水酸化カリウム水溶液、及び／又は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３規定であり、特に好ましくは１〜２規定である。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７０℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【０３４０】
鹸化処理することにより、透明支持体の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２５゜以下である。
【０３４１】
＜偏光板＞
本発明の偏光板は、偏向膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方に、本発明の反射防止フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、上記のように、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。
【０３４２】
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の反射防止フィルムを２枚の保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムをもう一方に用いた偏光板は、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右の視野角を非常に広げることができるので、好ましい。
【０３４３】
＜光学補償フィルム＞
上記光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性層を有し、該ディスコティック化合物とフィルム面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向で変化していることを特徴とする光学補償フィルムが好ましい。すなわち、ディスコティック構造単位を有する化合物の配向状態としては、例えば、ハイブリッド配向、ベント配向、ツイスト配向、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向等であることが好ましく、ハイブリッド配向であることが特に好ましい。該角度は、光学異方性層中で光学補償フィルムの支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
【０３４４】
また、光学異方性層が更にセルロースエステルを含んでいる態様、光学異方性層と光学補償フィルムの透明支持体との間に配向層が形成されている態様、該光学異方性層を有する光学補償フィルムの透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に光軸を有する態様、更に下記の条件を満足する態様も好ましい。
【０３４５】
２０≦Ｒｔｈ(λ)≦４００
【０３４６】
式中、ｎｘは面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率、ｎzは面に垂直方向の屈折率である。本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA  21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)、面内の遅相軸（KOBRA  21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にKOBRA  21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA  21ADHはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【０３４７】
＜画像表示装置＞
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。反射防止フィルムは、反射防止フィルムの透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。
図３及び図４は本発明の反射防止フィルムの画像表示装置に適用する様々な態様を模式的に示す概略断面図である。
【０３４８】
図３（ａ）は、反射防止フィルムを画像表示装置、特に、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＣＲＴに適用する好ましい態様である。この反射防止フィルムは、透明支持体１を粘着剤層８を介して画像表示装置の画像表示面に接着することができる。
【０３４９】
図３（ｂ）と図４（ｃ）及び（ｄ）は、反射防止フィルムをＬＣＤに適用する好ましい態様である。
図３（ｂ）では、反射防止フィルムの透明支持体１が粘着剤層８を介して偏光膜１１の保護フィルム９に接着している。もう一方の偏光膜の保護フィルム１０側を粘着剤層８を介して液晶表示装置の液晶表示面に接着することができる。
【０３５０】
図４（ｃ）では、反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の透明支持体１が粘着剤層８を介して偏光膜１１に接着しており、偏光膜１１のもう一方の保護フィルム１０側を粘着剤層８を介して液晶表示装置の液晶表示面に接着することができる。
図４（ｄ）では、本発明の反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）は透明支持体１が直接偏光膜１１に接着しており、偏光膜１１のもう一方の保護フィルム１０側を粘着剤層８を介して液晶表示装置の液晶表示面に接着することができる。粘着剤層８には、粒子、染料などの添加剤を添加してもよい。
【０３５１】
本発明に用いる反射防止フィルム及び偏光板は、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１−１０００４３号公報等に記載されているように、上記の光学補償フィルムと反射防止フィルムを保護フィルムとして有する偏光板を用いることで、視野角特性と反射防止特性を大幅に改良できる。
また、さらに市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、透過型または半透過型の液晶表示装置において、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。
【実施例】
【０３５２】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３５３】
（オルガノシラン化合物Ａ溶液の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート（ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）３質量部を加えて混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させた。室温まで冷却し、オルガノシラン化合物Ａの溶液を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料の３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランは殆ど残存していなかった。
【０３５４】
（帯電防止層用塗料Ａの調製）
市販の透明帯電防止層用塗料「ペルトロンＣ−４４５６Ｓ−７」（固形分濃度４５％、日本ペルノックス（株）製）を帯電防止層用塗料Ａとして用いた。Ｃ−４４５６Ｓ−７は、分散剤を用いて分散された導電性微粒子ＡＴＯを含有する透明帯電防止層用塗料である。この塗料による塗膜の屈折率は１．５５であった。
【０３５５】
（帯電防止層用塗料Ｂの調製）
市販の導電性微粒子ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫Ｔ−１、比表面積８０ｍ2／ｇ、
三菱マテリアル（株）製）２０．０質量部に、アニオン性基とメタアクリロイル基を有する分散剤（Ｂ−１）６．０質量部、メチルイソブチルケトン７４質量部を添加して撹拌した。
【０３５６】
【化１９】
2006075698.tif 000020
【０３５７】
メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて上記液中のＡＴＯ粒子を分散した。光散乱法で分散液中のＡＴＯ粒子の質量平均粒径を評価した結果、５５ｎｍであった。このようにして、ＡＴＯ分散液を作製した。
上記ＡＴＯ分散液１００質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、６質量部、重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．８質量部を添加して撹拌した。このようにして帯電防止層用塗料Ｂを調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．６３であった。
【０３５８】
（帯電防止層用塗料Ｃの調製）
市販の導電性微粒子ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫Ｔ−１、比表面積８０ｍ2／ｇ、三菱マテリアル（株）製）２０．０質量部に、アニオン性基とメタアクリロイル基を有する上記分散剤（Ｂ−１）３．０質量部、シクロヘキサノン７７質量部を添加して撹拌した。  メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて上記液中のＡＴＯ粒子を分散した。光散乱法で分散液中のＡＴＯ粒子の質量平均粒径を評価した結果、６５ｎｍであった。このようにして、ＡＴＯ分散液を作製した。
上記ＡＴＯ分散液１００質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、３質量部、重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．５質量部、フッ素系面状改良剤前記Ｆ−１２、０．７質量部、を添加して撹拌した。このようにして帯電防止層用塗料Ｃを調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．６８であった。
【０３５９】
（帯電防止層用塗料Ｄの調製）
市販の導電性微粒子ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫Ｔ−１、比表面積８０ｍ2／ｇ、三菱マテリアル（株）製）２０．０質量部に、シクロヘキサノン８０質量部を添加して撹拌した。分散剤は使用しなかった。
メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて帯電防止層用塗料Ｃで記載したのと全く同様に、上記液中のＡＴＯ粒子を分散した。光散乱法で分散液中のＡＴＯ粒子の質量平均粒径を評価した結果、２５０ｎｍであり、ＡＴＯ微粒子を微細に分散できなかった。このようにして、ＡＴＯ分散液を作製した。
上記ＡＴＯ分散液１００質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）６質量部、重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．５質量部、フッ素系面状改良剤前記Ｆ−１２、０．７質量部、を添加して撹拌した。このようにして帯電防止層用塗料Ｄを調製した。
【０３６０】
（光拡散層用塗料（Ｉ）の調製）
市販の紫外線硬化型樹脂（ＰＥＴＡ、日本化薬製、屈折率：１.５１）５０重量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名：イルガキュア１８４）２．５重量部、第１の透光性粒子として平均粒子径が３.５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（綜研化学製、屈折率：１.５５）を２重量部、第２の透光性粒子として平均粒子径が３.５μｍの架橋ポリスチレン粒子（綜研化学製、屈折率：１.６０）を３重量部、オルガノシラン化合物（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）６．１９質量部、フッ素系面状改良剤前記Ｆ−１２、０．０５質量部、これらを溶媒（トルエン）５０重量部、シクロヘキサノン６．６質量部とよく混合したあと、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗料（Ｉ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．５１であった。
なお、光拡散層用塗料（Ｉ）において、塗料の表面張力は３２ｍＮ／ｍであり、架橋ポリスチレン粒子の粒度分布Ｓ値は０．８であった。
【０３６１】
（光拡散層用塗料（II）の調製）
光拡散層用塗料（Ｉ）に対して、フッ素系面状改良剤Ｆ−１２を添加しない光拡散層用塗料（II）を作製した。塗料の表面張力は３５ｍＮ／ｍであり、塗料（Ｉ）と比較して３ｍＮ／ｍ高かった。この塗料による塗膜の屈折率は１．５１であった。
【０３６２】
（光拡散層用塗料（III）の調製）
酸化ジルコニウム微粒子を含有する透明高屈折率ハードコート材料（デソライトＺ７４０４、ＪＳＲ（株）製）２８５．０質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８５．０質量部、オルガノシラン化合物（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）２８．０質量部、メチルイソブチルケトン６０．０質量部、メチルエチルケトン１７．０質量部を添加して撹拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径３．０μｍの分級を強化した架橋ＰＭＭＡ粒子（屈折率１．４９、ＭＸＳ−３００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液３５．０質量部、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径１．５μｍのシリカ粒子（屈折率１．４６、シーホスターＫＥ−Ｐ１５０、（株）日本触媒製）の３０％メチルエチルケトン分散液９０．０質量部を添加して撹拌した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗料（III）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．６１であった。
なお、光拡散層用塗料（III）の表面張力は２５ｍＮ／ｍであった。
【０３６３】
（光拡散層用塗料(IV)の調製）
光拡散層用塗料（III）に対して、フッ素系面状改良剤Ｆ−１２を３．５０質量部添加して光拡散層用塗料（IV）を作製した。塗料の表面張力は２４ｍＮ／ｍであり、フッ素系面状改良剤Ｆ−１２を添加していない光拡散層用塗料（III）と比較し１ｍＮ／ｍ低かった。この塗料による塗膜の屈折率は１．６１であった。
【０３６４】
（光拡散層用塗料（V）の調製）
酸化ジルコニウム微粒子を含有する透明高屈折率ハードコート材料（デソライトＺ７４０４、ＪＳＲ（株）製）２８５．０質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８５．０質量部、オルガノシラン化合物（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）２８．０質量部、メチルイソブチルケトン６０．０質量部、メチルエチルケトン１７．０質量部を添加して撹拌した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗料（V）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．６１であった。
【０３６５】
（ハードコート層用塗料（Ｈ−１）の調製）
ミキシングタンクに、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）７５質量部、重量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７質量部、メチルエチルケトン７３質量部、シクロヘキサノン５０質量部、および光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５．０質量部を添加して攪拌した。この溶液を孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗料（Ｈ−１）を調製した。
【０３６６】
（二酸化チタン分散液Ａの調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９Ｃ、石原産業（株）製、ＴｉＯ2 ：Ｃｏ3 Ｏ4 ：Ａｌ2 Ｏ3 ：ＺｒＯ2 ＝９０．５：３．０：４．０：０．５重量比）を使用した。
【０３６７】
この粒子２５６質量部に、下記構造の分散剤４２質量部、及びシクロヘキサノン７０２質量部を添加してダイノミルにより分散し、重量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液Ａを調製した。
【０３６８】
【化２０】
2006075698.tif 000021
【０３６９】
（中屈折率層用塗料（Ｍ−１）の調製）
上記の二酸化チタン分散液Ａ５９．６質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）４０．７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７）２．１９質量部、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．８質量部、メチルエチルケトン２８０質量部及びシクロヘキサノン１０４９．０質量部を添加して攪拌した。
前記混合液を充分に攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗料（Ｍ−１）を調製した。この塗布液の粘度は１．５ｍＰａ・秒、表面張力は２８ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は３．５ｍｌ／ｍ2 とした。この塗布液を紫外線照射して硬化した塗膜の屈折率は、１．６３であった。
【０３７０】
（高屈折率層用塗料（Ｋ−１）の調製）
上記の二酸化チタン分散液Ａ４３０．６質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３６．７質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）３．０質量部、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０質量部、メチルエチルケトン２６７．０質量部、及びシクロヘキサノン７６１．７質量部を添加して攪拌した。
前記混合液を充分に攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗料（Ｋ−１）を調製した。この塗布液の粘度はｍＰａ・秒、表面張力は２８ｍＮ／ｍであり、ウェブＷに塗布される塗布液の量は３．５ｍｌ／ｍ2 とした。この塗布液を紫外線照射して硬化した塗膜の屈折率は、１．９０であった。
【０３７１】
（低屈折率層用塗料（ａ）の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）１．３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、およびメチルエチルケトン５．０質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ａ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であり、水に対する接触角は９６°であった。
【０３７２】
（低屈折率層用塗料（ｂ）の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１５．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．６質量部、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．８質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．４質量部、およびメチルエチルケトン３．０質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｂ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であった。
【０３７３】
（低屈折率層用塗料（ｃ）の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）１．９５質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、およびメチルエチルケトン４．３５質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｃ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４０であった。
【０３７４】
（低屈折率層用塗料（ｄ）の調製）
イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）の混合溶媒に、テトラメトキシシラン１モル、０．１Ｎの塩酸２モルを添加した。室温で２時間撹拌して加水分解反応を行い、テトラメトキシシランの加水分解物の溶液を調整した。
イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）に、テトラメトキシシランの加水分解物９．０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．０質量部、重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．５質量部、固形分濃度が４．５質量％になるように添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｄ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４５であった。
【０３７５】
（低屈折率層用塗料（ｅ）の調製）
下記構造のパーフルオロオレフィン共重合体の溶液（固形分濃度３０％）１５．０質量部に、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、及び、メチルエチルケトン８１．８質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｅ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４３であり、水に対する接触角は９５°であった。
【０３７６】
【化２１】
2006075698.tif 000022
【０３７７】
（低屈折率層用塗料（ｆ）の調製）
前記パーフルオロオレフィン共重合体の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）４．５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、前記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｆ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。
【０３７８】
（低屈折率層用塗料（ｇ）の調製）
前記パーフルオロオレフィン共重合体の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）６．７５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｇ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４１であった。
【０３７９】
（低屈折率層用塗料（ｈ）の調製）
前記パーフルオロオレフィン共重合体の溶液（固形分濃度３０％）１３．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．４５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ、信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して、撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｈ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。
【０３８０】
（低屈折率層用塗料（ｉ）の調製）
前記パーフルオロオレフィン共重合体をメチルエチルケトンに２３．７質量部になるように溶解した溶液２０３．２質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学工業（株）製）１．４質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）２．４質量部、メチルエチルケトン７６４．６質量部、およびシクロヘキサノン２８．４質量部を添加して撹拌した。孔径０．４５μmのＰＴＦＥ製フィルターでろ過して低屈折率層用塗布液（ｉ）を調製した。塗布液の粘度は０．８ｍPa・ｓ、表面張力は２４mN/mであり、塗布量は３．５ml/ｍ２とした。
【０３８１】
（低屈折率層用塗料（ｊ）の調製）
前記パーフルオロオレフィン共重合体をメチルエチルケトンに２３．７質量部になるように溶解した溶液１４２．２質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学工業（株）製）１．０質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）１．７質量部、メチルエチルケトン８２６．２質量部、およびシクロヘキサノン２８．９質量部を添加して撹拌した。孔径０．４５μmのＰＴＦＥ製フィルターでろ過して低屈折率層用塗布液（ｊ）を調製した。塗布液の粘度は０．５７ｍPa・ｓ、表面張力は２４mN/mであり、塗布量は５．０ml/ｍ２とした。
【０３８２】
（ダイコーターの構成）
［ダイコーター条件１］
図５に示されるスロットダイにおいて、上流側リップランド長ＩＵＰが０．５ｍｍ、下流側リップランド長ＩＬＯが５０μｍで、スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。
【０３８３】
［ダイコーター条件２］
図９に示されるスロットダイにおいて、上流側リップランド長ＩＵＰが０．５ｍｍ、下流側リップランド長ＩＬＯが５０μｍで、スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。
上流側リップランド１８ａとウェブＷの隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧＬを５０μｍに設定した。
【０３８４】
［ダイコーター条件３］
前記ダイコーター条件２と同様の設定にした。ただし、図１０で示されるように減圧チャンバーを用い減圧チャンバー３０のバックプレート３０ａとウェブとの隙間ＧB、およびサイドプレート３０ｂとウェブとの隙間ＧS1を共に２００μmとした。
【０３８５】
［ダイコーター条件４］
前記ダイコーター条件３と同様の設定にして、光源をスロットダイの下方に設置し、スロットダイとウェブとの隙間を照射した。一方、ＣＣＤカメラをスロットダイ上方に設置したガイドレールに据え付け、スイロットダイの幅方向（塗布幅方向）に移動できるようにして、全幅域でダイとウェブの隙間の距離を計測できるようにした。スロットダイを退避位置と塗布開始位置との間を５回行き来させ、隙間の変動を調べた。
【０３８６】
［ダイコーター条件５］
図１４に示されるスロットダイにおいて、第１リップランド３０ａの長さｌａを１０００μm、第２リップランド３０ｂ、第３リップランド３０ｃ、第４リップランド３０ｄの長さｌｂ、ｌｃ、ｌｄを共に５０μmとした。
【０３８７】
［ダイコーター条件６］
前記ダイコーター条件３と同様の設定にして、厚み１４５μmの幅規制部材をスロットに挿入した。幅規制部材の先端とウェブとの隙間は７０μmとした。
【０３８８】
［ダイコーター条件７］
図１７に示したように、吐出部の先端リップに段差があり、スロット部で二つに分割できるスロットダイを用いた。基台の基準平面に先端リップと反対側の面を揃えた状態で二つのスロットダイを密着させて締結した。その他の設定はダイコーター条件３と同じにした。
【０３８９】
［ダイコーター条件８］
前記ダイコーター条件３と同様の設定にし、ダイを塗布位置とウェブから離れた退避位置の間で移動できるようにした。また、減圧チャンバー内の定常部に必要な減圧度をあらかじめ求め、退避位置でその条件に設定し、稼動させてからダイを塗布位置に移動させた。ダイの移動速度は５ｍｍ/秒で、定常部での最適減圧度は２．３×１０３ｐａであった。
【０３９０】
（実施例Ａ１）
（反射防止フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の上に、帯電防止層塗料（Ａ）〜（Ｄ）を前記ダイコーター条件１を用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。下流側リップランドとウェブとの隙間は８０μｍにした。
塗布後、１００℃で１５０秒乾燥した後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚１．２μｍの帯電防止層を有するフィルム試料（Ａ１−１）〜（Ａ１−４）を作製した。
【０３９１】
上記帯電防止層（Ａ１−１）〜（Ａ１−４）の各々の試料上に、光拡散層用塗料（Ｉ）〜（Ｖ）を前記ダイコーター条件１を用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。下流側リップランドとウェブとの隙間は８０μｍにした。
塗布後、６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚６μｍの防眩性のある光拡散層を有するフィルム試料（Ａ１−１１）〜（Ａ１−３０）を作製した。
【０３９２】
上記光拡散層（Ａ１−１１）〜（Ａ１−３０）の各々の試料上に、低屈折率層用塗料（ａ）〜（ｈ）を前記ダイコーター条件１を用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。下流側リップランドとウェブとの隙間は８０μｍにした。さらに同様に上記光拡散層（Ａ１−１１）〜（Ａ１−３０）の各々の試料上に低屈折率層用塗料（ｉ）を６０ｍ／分の塗布速度で塗布し、低屈折率層用塗料（ｊ）を１５０ｍ／分の塗布速度で塗布した。
塗布後、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚９５ｎｍの低屈折率層（最外層）を有するフィルム試料（Ａ１−１０１）〜（Ａ１−３００）作製した。作製した反射防止フィルムの低屈折率層側は蛍光灯下で目視観察したところ、光拡散層用塗料Ｖを用いた試料（Ａ１−１４１〜１５０、Ａ１−１９１〜２００、Ａ１―２４１〜２５０、Ａ１−２９１〜３００）以外は防眩性を有していた。また、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて低屈折率層（最外層）を有する側の平均表面粗さ（Ｒａ）を評価したところ防眩性を有する試料は０．１９μmであった。さらに、任意に選んだ１ｍｍ２の面積において１０００μm２以上の凹部分は全く存在しなかった。
【０３９３】
（反射防止フィルムの評価）
前記反射防止フィルム試料Ａ１−１０１〜Ａ１−３００について、目視による面状検査をおこなった結果、いずれの試料においても塗布スジ、段状ムラ、耳部（端部）の厚塗りや塗りムラがなく、良好な塗布面状であった。
【０３９４】
（実施例Ａ２）
実施例１に対して、ダイコーター条件をダイコーター条件２に変更した以外は実施例１と同じにして、反射防止フィルム試料２−１０１〜２−３００を作製した。
試料Ａ２−１０１〜２−３００について目視による面状検査をおこなった結果、いずれの試料においても塗布スジ、段状ムラ、耳部（端部）の厚塗りや塗りムラがなく、良好な塗布面状であった。
【０３９５】
（実施例Ａ３）
実施例Ａ２に対して、使用するウェブに以下の鹸化処理を施した。それ以外は実施例２と同じに行った。１．５規定の水酸化カリウムとイソプロピルアルコール混合液をウェブの上に２５ｍｌ／ｍ２で塗布したあと、２５℃で５秒間乾燥した。表面を流水で１０秒間洗浄し、２５℃の空気を吹き付けて乾燥した。得られたウェブを表面あらさ計測器（サーフコムＳＪ−４００、ミツトヨ製）で無作為の箇所２０点を測定した結果、平均の表面粗さは、Ｒａ値で０．４μmであった。また１μmより大きい凹凸部分が進行方向において連続して１０ｃｍ以上続く箇所はなかった。このウェブを用いて塗布を実施して試料Ａ３−１０１〜Ａ３−３００を作製した。湿潤膜厚は、帯電防止層が１９．６μm、光拡散層が１６μm、低屈折率層が３．０μmであった。試料を目視で面状検査をおこなった結果、いずれの試料においても塗布スジ、段状ムラ、耳部（端部）の厚塗りや塗りムラがなく、良好な塗布面状であった。
【０３９６】
（比較例ａ１）
上記実施例Ａ２に対して、表面粗さＲａ値が１．２μmの凹凸部分が塗布方向に平均１３ｃｍ続く箇所のあるウェブを用いて塗布を実施して比較試料ａ１−１０１〜ａ１−３００を作製した。試料を目視で面状検査をおこなった結果、塗布スジが多数みられた。
【０３９７】
（実施例Ａ４）
実施例Ａ１に対して、ダイコーター条件をダイコーター条件３に変更した以外は実施例１と同じにして、反射防止フィルム試料Ａ４−１０１〜Ａ４−３００を作製した。ただし、減圧チャンバーの減圧度を０．８ｋＰａにした。さらに、低屈折率層（ｉ）の塗布速度を６０m／minに、低屈折率層（ｊ）の塗布速度を１５０ｍ／minに変更した。ダイの先端リップとウェブとの近接箇所を観察した結果、ビードが形成されていた。
試料Ａ４−１０１〜Ａ４−３００について目視による面状検査をおこなった結果、いずれの試料においても塗布ムラ（段状、スジ）、耳部（端部）の厚塗りや塗りムラがなく、良好な塗布面状であった。
【０３９８】
（比較例ａ２）
実施例Ａ４に対して、塗布方式をマイクログラビア塗工方式に変更した以外は実施例４と同じにして塗布を実施した。帯電防止層と光拡散層の塗布速度を１５ｍ／分、低屈折率層の塗布速度を２０ｍ／分の条件で塗布して比較試料ａ２−１０１〜ａ２−３００を作製した。比較試料ａ２−１０１〜ａ２−３００について目視による面状検査をおこなった結果、所々に塗布方向に段ができる段ムラと塗布スジが観察され十分満足のいく面状ではなかった。
【０３９９】
（実施例Ａ５）
実施例Ａ４において、光拡散層塗料の塗布条件を、湿潤塗布膜厚（Ｌ２）が１４μm、スロットダイの下流側リップ先端とウェブとの距離（Ｌ１）が５０μm、スロットダイのポケットの圧力が大気圧に対して＋４０００Ｐａの加圧状態になるように設定し、他の条件は実施例Ａ４と同じにして塗布を行って試料Ａ５−１０１〜Ａ５−３００を作製した。試料を目視による面状検査を行った結果、塗布ムラ（段状、スジ）の少ない均一な面状が得られた。
【０４００】
（比較例ａ３）
実施例Ａ５に対して、スロットダイのポケットの圧力を大気圧のままに設定し、他の条件は実施例Ａ５と同じにして塗布を行って比較試料ａ３−１０１〜ａ３−３００を作製した。試料を目視による面状検査を行った結果、耳部に塗布ムラ（段状、流れ状）が多く見られ、所々にスジが見られた。
【０４０１】
（実施例Ａ６）
実施例Ａ４に対して、ダイコーター条件をダイコーター条件４のように変更して、ダイのリップランド先端とウェブの隙間の距離を全幅域で計測できるようにした。スロットダイを退避位置と塗布位置の間を５回行き来させ塗布位置への収まりの再現性を該隙間を測定することで確認し、これが良好なことを確認した上で該隙間を８０μmに設定して塗布を行い、試料Ａ６−１０１〜Ａ６−３００を作製した。試料を目視による面状検査を行った結果、塗布ムラ（段状、スジ）の少ない均一な面状が得られた。
【０４０２】
（実施例Ａ７）
実施例Ａ４に対して、図１３に示したように断面の外径が１５０ｍｍのバックアップロールを用い、これへのウェブの巻き掛け角度θが５°で、ウェブの張力を５×１０５Ｎ／ｍ２にした。バックアップロールの回転による振れ幅は１μm以下で、振れ幅が１μmの振れの振動数は１．０６Ｈｚであった。この条件で塗布を行って、試料Ａ７−１０１〜Ａ７−３００を作製した。塗布時にウェブのバタツキや引き込みは発生しなかった。塗布後試料を目視による面状検査を行った結果、段状の塗布ムラやスジのほとんどない均一な面状が得られた。
【０４０３】
（比較例ａ４）
実施例Ａ７に対して、バックアップロールの回転による振れ幅が１１μm以下で、振れ幅が１１μmの振れの振動数が１．２Ｈｚであったほかは実施例７と同じにして塗布を行って比較試料ａ４−１０１〜ａ４−３００を作製した。試料を目視による面状検査を行った結果、段状の塗布ムラ（段状、スジ）が多く見られた。
【０４０４】
（実施例Ａ８）
実施例Ａ４に対して、ダイコーター条件をダイコーター条件５に変更した以外は実施例４と同じに行った。積層される塗料はウェブ側から、帯電防止層用塗料、光拡散層用塗料、低屈折率層用塗料となるようにした。ただし、塗布速度は５０ｍ／分にし、塗布後の乾燥条件、紫外線照射条件は低屈折率層の条件で行った。
作製した試料Ａ８−１０１〜Ａ８−３００について目視による面状検査を行った結果、段状ムラや塗布スジの少ない比較的均一な面状が得られた。
【０４０５】
（実施例Ａ９）
実施例Ａ４に対して、ダイコーター条件をダイコーター条件６に変更した以外は実施例Ａ４と同じに行った。ただし、塗布速度を６０ｍ／分に変更した。作製した試料Ａ９−１０１〜Ａ９−３００について目視による面状検査を行った結果、段状ムラや塗布スジの少ない均一な面状が得られた。
【０４０６】
（比較例ａ５）
実施例Ａ９に対して、スロット内に塗布幅規制部材を用いないスロットダイにした以外は実施例Ａ９と同じにして塗布を行い、比較試料ａ５−１０１〜ａ５−３００を作製した。塗布中の観察では、耳部のビードが不安定であり、塗布後の試料を目視による面状検査を行った結果、耳部に段状ムラや流れ状の痕跡が多く見られた。
【０４０７】
（実施例Ａ１０）
実施例Ａ４に対して、ダイコーター条件をダイコーター条件７に変更した以外は実施例Ａ４と同じに行って反射防止フィルム試料Ａ１０−１０１〜Ａ１０−３００を作製した。本実施例の塗布方式により、オーバーバイト長さを正確に設定したスロットダイを迅速に組み立てることができた。また、塗布後の試料を目視による面状検査を行った結果、段状ムラや塗布スジのない良好な面状が得られた。
【０４０８】
（実施例Ａ１１）
実施例Ａ４に対して、ダイコーター条件をダイコーター条件８に変更した以外は実施例Ａ４と同じに行って反射防止フィルム試料Ａ１１−１０１〜Ａ１１−３００を作製した。本実施例の塗布方式により、塗布塗りつけ開始直後から安定したビードが形成され、塗布品のロスを減少することができた。また、塗布後の試料を目視による面状検査を行った結果、段状ムラや塗布スジのない良好な面状が得られた。
【０４０９】
（実施例Ｂ１）〜（実施例Ｂ１１）及び（比較例ｂ１）〜（比較例ｂ５）
前記実施例Ａ１〜Ａ１１の各々の実施例に対して、塗設層の組み立てを変更した以外は実施例Ａ１〜Ａ１１と同様に行って、実施例Ｂ１〜Ｂ１１の塗布を実施した。塗設層の積層順は透明支持体に近い側から、光拡散層、帯電防止層とし、その上に低屈折率層（最外層）を塗設した。ただし、帯電防止層用塗料（Ａ）〜（Ｄ）各々について、塗料１質量部に対してメチルイソブチルケトン４質量部を混合し、帯電防止層の紫外線照射後の膜厚が．１１０ｎｍとなるように湿潤塗布流量も調整した。
また、比較例ａ１〜ａ５に対しても塗設層の組み立てを変更した以外は比較例ａ１〜ａ５と同様に行って、比較例ｂ１〜ｂ５の塗布を実施した。帯電防止層用塗料（Ａ）〜（Ｄ）各々のメチルイソブチルケトンによる希釈も、前記実施例Ｂ１〜Ｂ１１と同じに行った。
このようにして実施例Ｂ１〜Ｂ１１の反射防止フィルム試料Ｂ１−１０１〜Ｂ１−３００から、Ｂ１１−１０１〜Ｂ１１−３００までの試料と、比較試料ｂ１−１０１〜ｂ１−３００から、ｂ５−１０１〜ｂ５−３００までの試料を作製した。
評価の結果、実施例Ｂ１〜Ｂ１１の塗布時の状態、塗布後試料の面状ともに、実施例Ａ１〜Ａ１１とほぼ同じ結果を示し、塗布面状は良好であった。他方、比較例ｂ１〜ｂ５の塗布においては比較例ａ１〜ａ５とほぼ同じ結果を示し、段状ムラや塗布スジが多く、不満足な塗布であった。
【０４１０】
（実施例Ｃ１）〜（実施例Ｃ１１）及び（比較例ｃ１）〜（比較例ｃ５）
前記実施例Ａ１〜Ａ１１の各々の実施例に対して、塗設層の組み立てを変更した以外は実施例Ａ１〜Ａ１１と同様に行って、実施Ｃ１〜Ｃ１１の塗布を実施した。塗設層の積層順は透明支持体に近い側から、光拡散層、低屈折率層（最外層）の２層とし、帯電防止層は省いた。
また、比較例ａ１〜ａ５に対しても塗設層の組み立てを変更した以外は比較例ａ１〜ａ５と同様に行って、比較例ｃ１〜ｃ５の塗布を実施した。
このようにして実施例Ｃ１〜Ｃ１１の反射防止フィルム試料Ｃ１−１０１〜Ｃ１−１５０から、Ｃ１１−１０１〜Ｃ１１−１５０までの試料と、比較試料ｃ１−１０１〜ｃ１−１５０から、ｃ５−１０１〜ｃ５−１５０までの試料を作製した。
評価の結果、実施例Ｃ１〜Ｃ１１の塗布時の状態、塗布後試料の面状ともに、実施例Ａ１〜Ａ１１とほぼ同じ結果を示し、塗布面状は良好であった。他方、比較例ｃ１〜ｃ５の塗布においては比較例ａ１〜ａ５とほぼ同じ結果を示し、段状ムラや塗布スジが多く、不満足な塗布であった。
【０４１１】
（実施例Ｄ１）
（反射防止フィルムの作製）
実施例Ａ１で作製した帯電防止層を有するフィルム試料（Ａ１−１）〜（Ａ１−４）の上に、ハードコート層用塗料（Ｈ−１）を前記ダイコーター条件１を用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。下流側リップランドとウェブとの隙間は８０μｍにした。塗布後、実施例Ａ１と同じ乾燥、紫外線硬化条件を用いて膜厚６μｍのハードコート層を最外に有するフィルム試料（Ｄ１−１）〜（Ｄ１−４）を作製した。
【０４１２】
上記ハードコート層試料（Ｄ１−１）〜（Ｄ１−４）の各々の試料上に、中屈折率層用塗料（Ｍ１）を前記ダイコーター条件１を用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。下流側リップランドとウェブとの隙間は８０μｍにした。
塗布後、１００℃で３０秒間乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ2 、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．６３、膜厚６４ｎｍ）を最外に有するフィルム試料（Ｄ１−１１）〜（Ｄ−１４）を作製した。
【０４１３】
上記中屈折率層試料（Ｄ１−１１）〜（Ｄ１−１４）の各々の試料上に、高屈折率層用塗料（Ｋ１）を前記ダイコーター条件１を用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。下流側リップランドとウェブとの隙間は８０μｍにした。
塗布後１００°Ｃで３０秒間乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ/ ｃｍ2 、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．９０、膜厚１０３ｎｍ）を最外に有するフィルム試料（Ｄ１−１０１）〜（Ｄ１−１０４）を作製した。
【０４１４】
上記高屈折率層試料（Ｄ１−１０１）〜（Ｄ１−１０４）の各々の試料上に、低屈折率層用塗料（ａ）〜（ｊ）を前記ダイコーター条件１を用いて２５ｍ／分の塗布速度で塗布した。下流側リップランドとウェブとの隙間は８０μｍにした。
塗布後９０°Ｃで３０秒間乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ/ ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率１．４５、膜厚８３ｎｍ）を最外に有するフィルム試料（Ｄ１−１５１）〜（Ｄ１−１９０）を作製した。このようにして、反射防止フィルム試料を完成させた。
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて低屈折率層（最外層）を有する側の平均表面粗さ（Ｒａ）を評価したところ０．０７μmであった。さらに、任意に選んだ１ｍｍ２の面積において１０００μm２以上の凹部分は全く存在しなかった。
【０４１５】
（反射防止フィルムの評価）
前記反射防止フィルム試料Ｄ１−１５１〜Ｄ１−１９０について、目視による面状検査をおこなった結果、いずれの試料においても塗布スジ、段状ムラ、耳部（端部）の厚塗りや塗りムラがなく、良好な塗布面状であった。
【０４１６】
（実施例Ｄ２）〜（実施例Ｄ１１）、（比較例ｄ１）〜（比較例ｄ５）
前記実施例Ａ２〜Ａ１１の各々の実施例と塗布方式と同様にして、実施例Ｄ１と同じ塗布液、乾燥条件、紫外線硬化条件を用いて塗布を実施し、実施例Ｄ２−１５１〜Ｄ２−１９０から、Ｄ１１−１５１〜Ｄ１１−１９０の塗布試料を作製した。Ｄ８の積層塗布はハードコート層と中屈折率層で１回目の積層塗布を行い、その上に高屈折率層と低屈折率層で２回目の積層塗布を行った。
また比較例塗布においても、ａ１〜ａ５の各々の実施例と塗布方式を同様にして塗布、乾燥、硬化を実施し、比較例ｄ１−１５１〜ｄ１−１９０から、ｄ５−１５１〜ｄ５−１９０の塗布試料を作製した。
前記実施例の評価の結果、塗布時の状態、実施例Ｄ２−１５１〜Ｄ２−１９０から、Ｄ１１−１５１〜Ｄ１１−１９０の塗布後試料の面状ともに、実施例Ａ１〜Ａ１１とほぼ同じ結果を示し、塗布面状は良好であった。他方、比較例ｄ１−１５１〜ｄ１−１９０から、ｄ５−１５１〜ｄ５−１９０の塗布においては比較例ａ１〜ａ５とほぼ同じ結果を示し、塗布ムラ（段状、スジ）が多く、不満足な塗布であった。
【０４１７】
（実施例Ａ１〜Ａ１１から、Ｄ１〜Ｄ１１の反射防止フィルム試料の物理特性、光学特性の評価）
得られた反射防止フィルム試料の中から抜粋して表１と表２に記載の試料について、下記の項目の評価を行った。塗布条件と試料内容を表１と表２に、それの評価結果を表３と表４に示す。
なお、表１と表２中、積層順番として、左側の欄に記載の層ほど支持体に近いことを表し、順に右側欄にいくほど支持体から離れ、最右端の欄に記載の層は最外層である。
【０４１８】
（１）表面抵抗の評価
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面の表面抵抗を、超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１（（株）アドバンテスト製）を用いて、２５℃、相対湿度６０％の条件下で測定した。
【０４１９】
（２）塵埃除去性の評価
反射防止フィルムをモニターに張り付け、モニター表面に塵埃（布団、衣服の繊維屑）を振りかけた。クリーニングクロスで塵埃を拭き取り、塵埃の除去性を調べ、下記３段階で評価した。
○；塵埃が完全に取り除けたもの
△；塵埃が若干残ったもの
×；塵埃がかなり残ったもの
【０４２０】
（３）面状故障の評価
作製した反射防止フィルム試料から、ランダムに縦５０ｃｍ×横５０ｃｍのフィルムを１００枚取り出し、モニターに貼ったときに目視で認識できる面状故障が存在するかどうかを検証し、下記４段階で評価した。
◎；認識できる面状故障のあるフィルムが５枚以下のもの
○；認識できる面状故障のあるフィルムが５〜１０枚のもの
△；認識できる面状故障のあるフィルムが１１〜２０枚のもの
×；認識できる面状故障のあるフィルムが２１枚以上のもの
【０４２１】
（４）平均反射率の評価
分光光度計（日本分光（株）製；Ｖ−５５０）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、積分球を用いて、入射角５°における分光反射率を測定した。分光反射率の評価において、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。
【０４２２】
（５）動摩擦係数の評価
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面の滑り性の指標として動摩擦係数を評価した。動摩擦係数は試料を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、動摩擦測定機（ＨＥＩＤＯＮ−１４）で、直径５ｍｍのステンレス剛球を用い、荷重０．９８Ｎ、速度６０ｃｍ／分で測定した。
【０４２３】
（６）接触角の評価
反射防止フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面における水の接触角を評価した。
【０４２４】
（７）防汚性の評価
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面に油性マジック（ＺＥＢＲＡマッキー、赤）を付着させて３０分経時させ、それをクリーニングクロスで拭き取った時の状態を観察して、以下の３段階で評価した。
○：マジックが完全に拭き取れたもの
△：マジックの一部が拭き取れずに残ったもの
×：マジックのほとんどが拭き取れずに残ったもの
【０４２５】
【表１】
2006075698.tif 000023
【０４２６】
【表２】
2006075698.tif 000024
【０４２７】
【表３】
2006075698.tif 000025
【０４２８】
【表４】
2006075698.tif 000026
【０４２９】
表３、表４の結果から、本発明のダイコートを用いた塗布方式により、優れた反射防止フィルムを作製できることが分かる。本発明に係るフッ素系面状改良剤を用いた試料は面状改良効果があることが分かる。（試料Ａ１−２１１に対してＡ１−２０１、試料Ａ１−２２１に対してＡ１−２３１）本発明に係る帯電防止層は表面抵抗を下げる効果があり、これにより塵埃除去性が向上することが分かる。（Ｃ１−２０１、Ｃ２−２０１、Ｃ４−２０１に対してＡ１−２０１、Ａ２−２０１、Ａ４−２０１）また、帯電防止層は支持体に近い側に設けるよりも、低屈折率層に隣接して設ける方が帯電防止性、塵埃除去性に優れることも分かる。（Ａ１−２０１、Ａ２−２０１、Ａ４−２０１に対してＢ１−２０１、Ｂ２−２０１、Ｂ３―２０１）動摩擦係数は０．２５以下であるほうが防汚性に有利であることも分かる。（Ａ４−２０４に対してＡ４−２０１）
【０４３０】
（実施例Ｅ）
（偏光板用保護フィルムの作製）
１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を５０℃に保温した鹸化液を調整した。さらに、０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製した。
前記表１、表２に記載した試料（実施例Ａ１〜Ａ１１から、Ｄ１〜Ｄ１１で作製した反射防止フィルム試料からの抜粋試料）について、低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の透明支持体の表面を、上記鹸化液を用いて鹸化処理した。
鹸化処理した透明支持体表面の水酸化ナトリウム水溶液を、水で十分に洗浄した後、上記の希硫酸水溶液で洗浄し、さらに希硫酸水溶液を水で十分に洗浄して、１００℃で十分に乾燥させた。
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の、鹸化処理した透明支持体の表面の水に対する接触角を評価したところ、４０°以下であった。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。
【０４３１】
（偏光板の作製）
特開２００２−８６５５４号公報に記載の偏向膜の一方の面に、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて、本発明の反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルム（富士写真フィルム（株）製フジタック、レターデーション値３．０ｎｍ）を同じ接着剤を用いて貼り合わせた。このようにして、本発明の偏光板を作製した。
【０４３２】
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。
【０４３３】
（実施例Ｆ）
（偏光板の作製）
光学補償フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）の、光学異方性層を有する側とは反対側の表面を実施例Ｅと同様の条件で鹸化処理した。
実施例Ｅと同様にして、偏光膜の一方の面に、実施例Ｅで作製した反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう一方の面に、鹸化処理した上記光学補償フィルムのトリアセチルセルロース面を同様にして貼り合わせた。
【０４３４】
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、光学補償フィルムを用いていない偏光板を装着した液晶表示装置よりも明室でのコントラストに優れ、上下左右の視野角が広く、さらに、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
特に、光拡散層用塗料として（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）を用いて作製した反射防止フィルムにおいて、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリル−ポリスチレン粒子、架橋ＰＭＭＡ粒子、シリカ粒子による透過光の光散乱効果により、特に下方向の視野角が顕著に広がり、左右方向の黄色味が改善されていた。
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。
【０４３５】
（実施例Ｇ）
（画像表示装置の評価）
前記表１、表２に記載した反射防止フィルムを、有機ＥＬ表示装置に装着したところ、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
また、偏光膜の一方の面に実施例Ｅで作製した偏光板用保護フィルム、もう一方の面にλ／４板を有する偏光板を実施例Ｅと同様にして作製した。上記の偏光板を有機ＥＬ表示装置に装着したところ、偏光板を貼ったガラス表面からの光の反射もカットされ、極めて視認性の高い表示装置が得られた。
【０４３６】
（実施例Ｈ）
前記表１、表２に記載した反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）の隣接層（光拡散層層、帯電防止層または、高屈折率層）の作製を、窒素パージを実施せずに、大気雰囲気（酸素濃度約２１％）中で行った以外は、全く同様にして反射防止フィルムを作製した。
実施例Ａ〜Ｄと同様にして評価したところ、窒素パージを行ったフィルム試料と全く同様の結果が得られた。
【０４３７】
（実施例Ｉ）
前記表１、表２に記載した反射防止フィルムについて、鹸化処理の時間を短くして、偏向膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角を４１〜４５°に調整した偏光板用保護フィルムを作製した。実施例Ｅと同様にして偏光板を作製したところ偏向膜と偏光板用保護フィルムの間の密着性が、実施例Ｅと比較して若干劣っていたものの、実用性は問題なかった。また、実施例Ｅ〜Ｇと全く同様に評価を実施したところ、全く同様の結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０４３８】
【図１】反射防止性能に優れた反射防止フィルムの層構成を模式的に示す概略断面図である。
【図２】防眩性能を有する反射防止フィルムの層構成を模式的に示す概略断面図である。
【図３】（ａ）反射防止フィルムを画像表示装置に適用する態様を模式的に示す概略断面図である。（ｂ）反射防止フィルムを液晶表示装置に適用する態様を模式的に示す概略断面図である。
【図４】（ｃ）反射防止フィルムを液晶表示装置に適用する態様を模式的に示す概略断面図である。（ｄ）反射防止フィルムを液晶表示装置に適用する態様を模式的に示す概略断面図である。
【図５】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図６】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図７】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図８】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図９】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図１０】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図１１】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図１２】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図１３】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図１４】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図１５】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図１６】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図１７】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【図１８】本発明の光学機能層を塗布する塗布装置の一例を例示する開略断面図である。
【符号の説明】
【０４３９】
１    透明支持体
２    帯電防止層
３    ハードコート層
４    低屈折率層（最外層）
５    高屈折率層
６    光拡散層
７    平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子
８    粘着剤層
９    偏光膜の保護フィルム
１０  偏光膜の保護フィルム
１１  偏光膜
【図１】
2006075698.tif 000028
【図２】
2006075698.tif 000029
【図３】
2006075698.tif 000030
【図４】
2006075698.tif 000031
【図５】
2006075698.tif 000032
【図６】
2006075698.tif 000033
【図７】
2006075698.tif 000034
【図８】
2006075698.tif 000035
【図９】
2006075698.tif 000036
【図１０】
2006075698.tif 000037
【図１１】
2006075698.tif 000038
【図１２】
2006075698.tif 000039
【図１３】
2006075698.tif 000040
【図１４】
2006075698.tif 000041
【図１５】
2006075698.tif 000042
【図１６】
2006075698.tif 000043
【図１７】
2006075698.tif 000044
【図１８】
2006075698.tif 000045