(57)【要約】      （修正有）【課題】２成分現像剤を使用する電子写真方式において、クリーニング残のキャリアが感光体に付着することを防止する。【解決手段】感光体と、帯電手段と、露光手段と、現像手段と、転写手段と、クリーニング手段と、クリーニング手段の上流側と転写手段の下流側との間に設けられたキャリア除去手段と、を有し、感光体は最表層に、メチロール基を有するフェノール誘導体を架橋したフェノール系樹脂及びシリル誘導体を架橋したシロキサン系樹脂のうち少なくとも１種であって、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を含む電荷輸送性構造単位を有する樹脂を含む保護層を備える。【選択図】図２
2006276103.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光体に潜像を形成し、前記潜像をトナーと磁性キャリアとを有する２成分現像剤を用いて現像して転写材に転写する画像形成装置であって、
感光体と、
前記感光体を帯電する帯電手段と、
前記帯電された感光体を露光し画像情報に応じて静電潜像を形成する露光手段と、
前記２成分現像剤により前記静電潜像上にトナー像を形成し可視化する現像手段と、
前記感光体表面に形成されたトナー像を転写材に転写する転写手段と、
転写後の感光体表面上に残存したトナーを除去するクリーニング手段と、
前記クリーニング手段の上流側と前記転写手段の下流側との間に設けられた、磁気的吸引手段により感光体表面に付着した磁性キャリアを除去するキャリア除去手段と、
を有し、
前記感光体は最表層に、
メチロール基を有するフェノール誘導体を架橋したフェノール系樹脂及びシリル誘導体を架橋したシロキサン系樹脂のうち少なくとも１種であって、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を含む電荷輸送性構造単位を有する樹脂を含む保護層を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載の画像形成装置であって、
前記磁気的吸引手段は、
所定方向に回転する円筒状のスリーブと、前記スリーブの外周に沿って前記スリーブに植設された磁性毛と、前記感光体側に向いた前記磁性毛が磁化されると共に、前記感光体から離れた方向に向いた前記磁性毛の磁化が解除されるように周方向に磁極を有する、前記スリーブに装入されたマグネットと、を有するキャリア回収ローラと、
前記磁性毛に吸着されて運ばれてくる前記磁性キャリアを、前記磁性毛から回収するキャリア回収機構と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
請求項２に記載の画像形成装置であって、
前記キャリア回収機構は、磁化が解除された位置の前記磁性毛から前記磁性キャリアを回収することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯電、露光、現像、転写、クリーニングなどの工程を含む画像形成プロセスに用いられる電子写真方式の画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より電子写真方式を利用した画像形成装置が広く普及している。この電子写真方式の画像形成装置は、通常、ドラム状に構成された感光体（像担持体）を一様に帯電し、原稿に記録された画像の情報に基づいて光をその感光体に照射することにより感光体表面に静電潜像を形成し、その静電潜像を現像剤（トナー）で現像してその現像像を直接にもしくは転写体を介して用紙等の転写材に転写することにより、プリント（コピー）画像を得る装置である。
【０００３】
従来の電子写真複写機等の画像形成装置において、転写後に感光体上に残存するトナーをクリーニング装置により除去するが、トナーと磁性キャリア（キャリア）とを有する２成分現像剤を用いて作像した場合、画像部におけるトナー以外に、非画像部にはキャリアが付着する現象が時としてみられる。こうした場合、多量のキャリアが感光体表面に付着すると白抜けし、画像欠陥となる。
【０００４】
感光体表面に付着したキャリアを除去するクリーニング方法としては、例えば特許文献１や特許文献２に開示されているように、ブラシにキャリアとは逆極性のバイアスを印加し、感光体表面上のキャリアをブラシで除去し、そのブラシから磁気吸引装置を用いてキャリアを除去してキャリアの感光体表面への再付着を防止する手段が提案されている。
【０００５】
また、特許文献３に開示されているように、キャリアクリーナの磁石の近くに鉄などの磁力集中部材をおき、磁力線を集中させることで磁気による除去能力を高める手段が提案されている。
【０００６】
その他磁力を応用した方式としては、内部に永久磁石を固定配置し、繊維を植毛したブラシを、その永久磁石を取り囲んで回転可能に配置した方式が、例えば特許文献４〜６等に提案されている。
【０００７】
さらに、特許文献７に開示されているように、所定方向に回転する円筒状のスリーブと、そのスリーブの外周に沿ってスリーブに植設された磁性毛と、感光体側に向いた磁性毛が磁化されるとともに感光体から離れた方向に向いた磁性毛の磁化が解除されるように周方向に磁極を有する、上記スリーブに装入された棒状のマグネットとを有するクリーニングローラ、及び上記磁性毛に吸着されて運ばれてくる磁性トナーを、磁性毛から回収するトナー回収機構を備えたクリーニング装置が提案されている。これにより、感光体に強く圧接することなく感光体からキャリアを有効に取り除いて回収することができる。
【０００８】
【特許文献１】特開平０５−１０７９８９号公報
【特許文献２】特開平０５−１０７９９０号公報
【特許文献３】特開平１０−１１６００７号公報
【特許文献４】特公平２−４９１０号公報
【特許文献５】実公平１−７７６７３号公報
【特許文献６】実公平１−４３７２８号公報
【特許文献７】特開平８−３６３４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１及び２に示されている方法では、感光体表面に付着したキャリアの電荷分布は必ずしも均一ではなく、完全には除去できない場合が発生する。また磁気吸引装置で捕捉したキャリアの除去にも課題が残る。
【００１０】
また、特許文献３に示されている方法では、非接触の空間が形成されるため、磁力が十分に届かず、完全にはキャリアを除去できないという問題がある。
【００１１】
また、特許文献４〜６に示されている方法では、磁力を発生する内部磁石と、除去すべき感光体表面上のキャリアに作用する繊維先端との間に、磁気的に広い空間が形成されており、０．１ｍｍ遠ざかるにつれて、磁束密度は概ね２５〜３０ガウスの割合で減少するため、繊維の先端の磁力は弱まってしまい、十分な磁気的吸引力が作用しなくなり、完全にはキャリアを除去できない。またこの方式では、ブラシで撹拌された磁性キャリアは、磁力が最も高い植毛された根元に吸引される方向にあるため、その根元に磁性キャリアの堆積が生じ、ブラシに付着したキャリアの回収が難しいという問題がある。
【００１２】
さらに、特許文献７に記載のクリーニング方式によっても、感光体の表面に付着したキャリアの除去は完全ではない。
【００１３】
このように、感光体表面に付着したキャリアの除去が完全でなくキャリアが少量付着した時には、例えばクリーニング装置がブレードの場合、キャリアがブレードと感光体の間に食い込み、特に表面が脆弱な有機感光体の場合には、感光体を磨耗させたり傷をつけたり、ブレードのエッジを破損し、感光体とブレードの寿命を短くすることがある。
【００１４】
本発明は、感光体表面に付着したキャリアとクリーニング装置との摺擦で発生する感光体表面の傷を低減し、長期間に渡り高品位な画像を得ることができる電子写真方式の画像形成装置である。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、感光体に潜像を形成し、前記潜像をトナーと磁性キャリアとを有する２成分現像剤を用いて現像して転写材に転写する画像形成装置であって、感光体と、前記感光体を帯電する帯電手段と、前記帯電された感光体を露光し画像情報に応じて静電潜像を形成する露光手段と、前記２成分現像剤により前記静電潜像上にトナー像を形成し可視化する現像手段と、前記感光体表面に形成されたトナー像を転写材に転写する転写手段と、転写後の感光体表面上に残存したトナーを除去するクリーニング手段と、前記クリーニング手段の上流側と前記転写手段の下流側との間に設けられた、磁気的吸引手段により感光体表面に付着した磁性キャリアを除去するキャリア除去手段と、を有し、前記感光体は最表層に、メチロール基を有するフェノール誘導体を架橋したフェノール系樹脂及びシリル誘導体を架橋したシロキサン系樹脂のうち少なくとも１種であって、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を含む電荷輸送性構造単位を有する樹脂を含む保護層を備える。
【００１６】
また、前記画像形成装置において、前記磁気的吸引手段は、所定方向に回転する円筒状のスリーブと、前記スリーブの外周に沿って前記スリーブに植設された磁性毛と、前記感光体側に向いた前記磁性毛が磁化されると共に、前記感光体から離れた方向に向いた前記磁性毛の磁化が解除されるように周方向に磁極を有する、前記スリーブに装入されたマグネットと、を有するキャリア回収ローラと、前記磁性毛に吸着されて運ばれてくる前記磁性キャリアを、前記磁性毛から回収するキャリア回収機構と、を有することが好ましい。
【００１７】
また、前記画像形成装置において、前記キャリア回収機構は、磁化が解除された位置の前記磁性毛から前記磁性キャリアを回収することが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明により、電子写真方式の画像形成装置において、感光体表面に付着したキャリアを磁気的吸引力で除去し、また感光体の表面保護層として特定の構造を有する樹脂を含む保護層を設けることにより、感光体表面に付着したキャリアとクリーニング装置との摺擦で発生する感光体表面の傷を低減し、長期間に渡り高品位な画像を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の実施の形態について以下説明する。
【００２０】
＜画像形成装置＞
本実施形態に係る画像形成装置の一例の概略を図１に示し、その構成について説明する。画像形成装置１は、帯電部１０と、露光部１２と、感光体ドラム１４と、現像部１６と、転写部１８と、クリーニング部２０と、キャリア除去装置２２と、定着部２４とを備える。
【００２１】
画像形成装置１において、感光体ドラム１４の周囲には、感光体を帯電する帯電手段である帯電部１０、帯電された感光体を露光し画像情報に応じて静電潜像を形成する露光手段である露光部１２、トナーと磁性キャリアとを有する２成分現像剤により静電潜像上にトナー像を形成し可視化する現像手段である現像部１６、感光体表面に形成されたトナー像を転写材に転写する転写手段である転写部１８、転写後の感光体表面上に残存したトナーを除去するクリーニング手段であるクリーニング部２０がこの順で配置され、さらに、クリーニング部２０の上流側と転写部１８の下流側との間に、磁気的吸引手段により感光体ドラム１４の表面に付着した磁性キャリアを除去するキャリア除去手段であるキャリア除去装置２２が配置されている。また、転写材に転写されたトナー像を定着する定着部２４が転写部１８の左側に配置されている。
【００２２】
本実施形態に係る画像形成装置１の動作について説明する。まず、帯電部１０により感光体ドラム１４の表面を均一に帯電する。露光部１２により光を当て、光の当たった部分の帯電電荷を除去し、画像情報に応じて静電潜像を形成する。例えば、感光体として有機感光体を用い、露光部１２としてレーザビーム光を用いたデジタル式電子写真複写機の場合、感光体ドラム１４の表面は、帯電部１０により負電荷を付与され、レーザビーム光によりドット状にデジタル潜像が形成され、レーザビーム光の当たった部分に現像部１６でトナーを付与され可視像化される。この場合、現像部１６にはマイナスのバイアスが印加されている。次に転写部１８で、用紙等の転写材２６をこのトナー像に重ね、転写材２６の裏側からトナーとは逆極性の電荷を転写材２６に与え、静電気力によりトナー像を転写材２６に転写する。転写されたトナー像は、定着部２４において熱あるいは圧力が加えられ、転写材２６に融着されて定着される。一方、転写されずに感光体ドラム１４の表面に残存したトナーはクリーニング部で除去される。この帯電からクリーニングに至る一連のプロセスで一回のサイクルが終了する。なお、図１において、転写部１８で用紙等の転写材２６に直接トナー像が転写されているが、中間転写体等の転写体を介して転写されても良い。
【００２３】
このような一連のサイクルにおいて、現像部１６でトナーと磁性キャリア（キャリア）とを有する２成分現像剤を用いて作像した場合、感光体ドラム１４の表面にはトナー以外にもキャリアが付着する。転写後に残存するキャリアを除去するために、画像形成装置１にはキャリア除去装置２２を備える。
【００２４】
＜キャリア除去装置＞
次にキャリア除去装置２２について説明する。キャリア除去装置２２では、磁気的吸引手段により感光体ドラム１４の表面に付着した磁性キャリアを除去する。本実施形態に係るキャリア除去装置２２の一例の概略の断面を図２に示し、その構成について説明する。
【００２５】
キャリア除去装置２２は、キャリア回収ローラ３０と、キャリア回収機構３２と、搬送用パドル３４、廃トナー回収箱３６とを備える。また、本実施形態では、クリーニング部２０であるクリーニングブレードはキャリア除去装置２２内に備えられている。
【００２６】
図２において、感光体ドラム１４の周囲にキャリア除去装置２２が配置されている。なお、キャリア除去装置２２、クリーニング部２０以外の上記各装置は図２においては省略してある。キャリア除去装置２２において、キャリア回収ローラ３０が備えられ、キャリア回収ローラ３０に隣接して、キャリア回収機構３２が備えられている。キャリア回収機構３２の下部には搬送用パドル３４が設置されており、これらを覆う筐体の一部が廃トナー回収箱３６となっている。
【００２７】
本実施形態に係るキャリア除去装置２２の動作について説明する。感光体ドラム１４は、所定の回転速度で図示の矢印Ａ方向に回転する。キャリア除去装置２２のキャリア回収ローラ３０は、非磁性体である円筒形のスリーブ３８と、そのスリーブ３８の外周に沿ってスリーブ３８の全周（図面では一部のみ図示）に植設された磁性体の繊維（ここではこれを磁性毛と称する）４０と、スリーブ３８の内部に装入された棒状の永久磁石（マグネット）４２を有している。スリーブ３８の外径はφ１０ｍｍ〜５０ｍｍ程度である。このスリーブ３８は、感光体ドラム１４の周速よりも速く（例えば２２０ｍｍ／ｓｅｃ〜６００ｍｍ／ｓｅｃ）回転し、その方向は感光体ドラム１４の回転方向に対して順方向に回転するＷｉｔｈモードあるいは逆方向に回転するＡｇａｉｎｓｔモードのいずれでも良いが、感光体ドラム１４に付着しているキャリアの付着力を弱めるためには感光体ドラム１４との相対速度の大きいＡｇａｉｎｓｔモードであることが好ましい。本実施形態の場合は、Ａｇａｉｎｓｔモードを採用し、スリーブ３８は図示の矢印Ｂ方向に回転する。
【００２８】
スリーブ３８に植設される磁性毛４０としては、例えば、アクリル繊維表面にニッケルを施したもの、ステンレス（ＳＵＳ３０４）を細いファイバ状に形成したもの、ポリプロピレン繊維中にフェライトを分散させたもの等を採用することができる。
【００２９】
キャリア回収ローラ３０に隣接してキャリア回収機構３２が備えられているが、図２のキャリア除去装置２２では、キャリア回収機構３２として、ポリアセタール樹脂（ＰＯＭ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ＡＢＳ）等の樹脂で作られたキャリア回収ブレード３２１が備えられている。キャリア回収ローラ３０は、図示のように、スリーブ３８のＢ方向への回転により、その磁性毛４０の先端が感光体ドラム１４の表面を擦り、更にキャリア回収ブレード３２１を擦るように、磁性毛４０の長さやスリーブ３８の寸法、キャリア回収ローラ３０の配置位置等が定められている。磁性毛４０を含めたキャリア回収ローラ３０の外径は、例えばφ１７ｍｍ〜６０ｍｍ程度である。また、感光体ドラム１４と磁性毛４０との干渉量（ＢＰＩと称する）は、概ね０．５ｍｍ〜３．０ｍｍの範囲になるように設定される。更にキャリア回収ブレード３２１と磁性毛４０との干渉量は、例えば１．５ｍｍ〜２．５ｍｍ程度に設定される。
【００３０】
スリーブ３８の内部に装入された永久磁石４２は、図２の紙面に垂直な方向に長い円柱形状のものであって、回動不能に固定されている。この永久磁石４２は、本実施形態ではその周方向に３つの磁極、即ちＳ１極、Ｎ１極、Ｎ２極を有しており、主極であるＳ１極は感光体ドラム１４に最近接した位置にあり、Ｎ１極、Ｎ２極はＳ１極を挟んで周方向にＳ１極からそれぞれ６０度離れた位置に形成されている。本実施形態の場合、主極（Ｓ１極）の磁束密度は例えば、５００ガウス〜１０００ガウスであり、Ｎ１極、Ｎ２極の磁束密度は例えば５００ガウス〜８００ガウスである。なお、永久磁石４２の各極の磁束密度、及び着磁パターンはこの例に限ったものではない。
【００３１】
感光体ドラム１４側に向いた（感光体ドラム１４と接触している）磁性毛４０は、永久磁石４２により磁化され、感光体ドラム１４に付着していた磁性キャリア（図示せず）は磁性毛４０により撹乱されて付着力が弱められ、磁化された磁性毛４０に吸着する。また、Ｎ１極とＮ２極とが同磁極であるため感光体ドラム１４から離れた側に反発磁界領域が形成され、その領域にあり感光体ドラム１４から離れた方向に向いた（感光体ドラム１４と非接触の）磁性毛４０は磁化が解除される。
【００３２】
キャリア回収ブレード３２１は、その反発磁界領域内の磁性毛４０と接するように備えられており、磁力により磁性毛４０に吸着されて運ばれてきたキャリアは、その磁性毛４０の磁化が解除されたこととその磁性毛４０がキャリア回収ブレード３２１にぶつかって撹乱されることから、その磁性毛４０から離れ、回収される。
【００３３】
キャリア回収ブレード３２１の下部には搬送用パドル３４が設置されており、この搬送用パドル３４が回転し、磁性毛４０から離れたキャリアが廃トナー回収箱３６に送り込まれる。
【００３４】
なお、キャリアを磁性毛４０から掻き落とすための部材は、ブレード状のものに限定されるものではなく、例えば丸棒状、平板状、楔状等の掻き落とし部材を備えてもよい。
【００３５】
図３は、本実施形態に係るキャリア除去装置２２の他の例の概略断面図である。図２に示す構成要素と対応する構成要素には、図２に付した番号と同一の番号を付して示し、相違点のみについて説明する。
【００３６】
図３に示す例では、図２に示すキャリア回収ブレード３２１に代えて、図示の回収ロール３２２とブレード３２３が備えられている。
【００３７】
回収ロール３２２は、非磁性体の回転可能な円筒状のスリーブ３２４と、そのスリーブ３２４に収納され回転不能に固定された円柱状の永久磁石３２５とから構成されている。
【００３８】
ブレード３２３はスリーブ３２４に接している。スリーブ３２４は外径φが例えば、１０ｍｍ〜５０ｍｍであり、材質はＳＵＳ等で形成されており、キャリア回収ローラ３０の周速よりも速い周速（例えば１６０〜６４０ｍｍ／ｓｅｃ）で、キャリア回収ローラ３０に対しＡｇａｉｎｓｔ方向（図示の矢印Ｃの方向）に回転する。
【００３９】
またスリーブ３２４に収納された永久磁石３２５は、その周方向にＳ１極とＮ１極との２極を備えたものであり、各磁極の磁束密度は例えば５００ガウス〜１０００ガウスの範囲である。もちろん永久磁石３２５の磁束密度および着磁パターンはこれに限られるものではない。
【００４０】
回収ロール３２２の中心軸の配置位置は、本実施形態の場合、キャリア回収ローラ３０の後方にあって、かつキャリア回収ローラ３０の中心水平軸に対し５度〜３０度上方の位置である。もちろん配置位置はこれに限ったものではないが、キャリア回収ローラ３０の同磁極Ｎ１，Ｎ２間に形成される反発磁界の領域に配置される。本実施形態の場合、回収ロール３２２の内部に固定配置する永久磁石３２５の主極は、キャリア回収ローラ３０の回転方向における最終極（Ｎ２極）に対し異極となる磁極（本実施形態の場合Ｓ１極）とし、その主極を磁性毛４０と回収ロール３２２とが接する点に配置すると、最も良い回収結果が得られる。
【００４１】
回収ロール３２２により磁性毛４０から引き離されたキャリアは、ブレード３２３によって掻き落とされて、搬送用パドル３４により廃トナー回収箱３６に溜められる。プレード３２３は、ポリウレタン等の高分子材料、あるいは金属部材で構成することができる。ブレード３２３は回収ロール３２２の磁束密度の最も弱くなる領域に配置することが好ましい。
【００４２】
図４は、本実施形態に係るキャリア除去装置２２の他の例の概略断面図である。図３に示す例との相違点についてのみ説明する。
【００４３】
図４に示す実施例では、回収ロール３２２のスリーブ３２４の回転方向は、キャリア回収ローラ３０の回転方向に対しＷｉｔｈ方向（図示の矢印Ｄ方向）であり、それに伴ってスリーブ３２４に収納された永久磁石３２５の磁極位置、ブレード３２３や搬送用パドル３４の取付位置が異なっている。
【００４４】
この例に示すように、回収ロール３２２をキャリア回収ローラ３０に対して順方向に回転させても、永久磁石３２５の磁力により磁性毛４０からキャリアを引き離して回収することができる。
【００４５】
なお、本実施形態において、キャリア除去装置は、ブラシにキャリアとは逆極性のバイアスを印加し、感光体表面上のキャリアをブラシで除去し、そのブラシから磁気吸引装置を用いてキャリアを除去してキャリアの感光体表面への再付着を防止する手段も更に有効となる。
【００４６】
以上説明したように本実施形態に係るキャリア除去装置によれば、クリーニング部２０であるクリーニングブレードに入る前にキャリア除去が可能となるため、キャリアによるクリーニングブレードエッジの損傷を抑制することができる。また、磁性毛４０の磁化が解除されるためにキャリアの回収が良好となり、長期に亘って安定したクリーニング性が確保される。
【００４７】
＜感光体＞
次に本実施形態に係る感光体について説明する。感光体は、導電性支持体上に、電荷発生層及び電化輸送層を含む感光層を有し、最表面には保護層を有する。また、導電性支持体と感光層との間には下引き層（中間層）を有してもよい。
【００４８】
導電性支持体としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いた金属板、金属ドラム、金属ベルト、あるいは導電性ポリマ、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着、あるいはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。
【００４９】
感光体ドラムがレーザプリンタに使用される場合には、レーザの発振波長としては３５０ｎｍから８５０ｎｍのものが好ましく、短波長のものほど解像度に優れるため好ましい。
【００５０】
さらに、本実施形態に係る感光体を用いることで、ブレードクリーナや転写ベルト等との摩擦係数が低減できるため、感光体の回転がスムーズになり、バンディングなどの画質欠陥を防止できる。さらにまた、感光体などの駆動モータにかかる負荷が低減でき、低消費電力化することにも効果がある。
【００５１】
導電性支持体において、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、支持体表面は、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ〜０．５μｍに粗面化することが好ましい。粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、あるいは、回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化などが好ましい。Ｒａが０．０４μｍより小さいと、鏡面に近くなるので干渉防止効果が得られない場合があり、Ｒａが０．５μｍより大きいと、画質が粗くなる場合がある。非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、基材の表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
【００５２】
導電性支持体としてアルミニウムを使用する場合、表面に陽極酸化処理、酸性処理液による処理、ベーマイト処理等を施すことが好ましい。陽極酸化処理はアルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、そのままの多孔質陽極酸化膜は化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張で塞ぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行う。
【００５３】
陽極酸化膜の膜厚については０．３μｍ〜１５μｍの範囲であることが好ましい。陽極酸化膜の膜厚が０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分でない場合がある。また、陽極酸化膜の膜厚が１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招く場合がある。
【００５４】
リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下の様に実施される。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が、１０〜１１質量％の範囲、クロム酸が３〜５質量％の範囲、フッ酸が０．５〜２質量％の範囲であって、これらの酸全体の濃度は、１３．５〜１８質量％の範囲が好ましい。処理温度は、４２〜４８℃の範囲であるが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜を形成することができる。被膜の膜厚については０．３μｍ〜１５μｍの範囲であることが好ましい。被膜の膜厚が０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分でない場合がある。また、被膜の膜厚が１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招く場合がある。
【００５５】
ベーマイト処理は、９０〜１００℃の純水中に５分〜６０分間浸漬するか、９０〜１２０℃の加熱水蒸気に５分〜６０分間接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚については０．１μｍ〜５μｍの範囲であることが好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩などの皮膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００５６】
また、所望により基材と感光層の間に下引き層（中間層）を形成することもできる。下引き層に用いられる材料としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤などの有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤などの有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤などの有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物、などの有機金属化合物、特に有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物は残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、好ましく使用される。
【００５７】
また、下引き層には、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス２−メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させて使用することができる。さらに、従来より下引き層に用いられるポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知の結着樹脂を用いることもできる。これらの混合割合は、必要に応じて適宜設定することができる。
【００５８】
また、下引き層中には電子輸送性顔料を混合／分散して使用することもできる。電子輸送性顔料としては、特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。これらの顔料の中ではペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料と多環キノン顔料、酸化亜鉛、酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。
【００５９】
また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、バインダなどで表面処理しても良い。電子輸送性顔料は多すぎると下引き層の強度が低下し、塗膜欠陥を生じるため９５質量％以下、好ましくは９０質量％以下で使用される。
【００６０】
電子輸送性顔料の混合／分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライタ、超音波等を用いる常法が適用される。混合／分散は有機溶剤中で行われるが、有機溶剤としては、有機金属化合物や樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合／分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであれば如何なるものでも使用できる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００６１】
下引き層の厚みは一般的には、０．１μｍ〜３０μｍの範囲、好ましくは０．２μｍ〜２５μｍの範囲であることが適当である。
【００６２】
また、下引き層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。塗布したものを乾燥させて下引き層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜可能な温度で行われる。特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理等を行った基材は、基材の欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引き層を形成することが好ましい。
【００６３】
次に電荷発生層について説明する。
【００６４】
電荷発生層に含まれる電荷発生材料は、ビスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料、ジブロモアントアントロンなどの縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等の有機顔料や、三方晶セレン、酸化亜鉛などの無機顔料など既知のもの全て使用することができるが、特に３８０ｎｍ〜５００ｎｍの露光波長を用いる場合には無機顔料が好ましく、特に７００ｎｍ〜８００ｎｍの露光波長を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましい。その中でも、特開平５−２６３００７号公報及び特開平５−２７９５９１号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報及び特開平５−１４０４７３号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報及び特開平５−４３８１３号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
【００６５】
電荷発生層に使用する結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００６６】
電荷発生材料と結着樹脂との配合比は（質量比）は１０：１〜１：１０の範囲であることが好ましい。
【００６７】
また電荷発生材料を分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライタ分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができるが、この際、分散によって電荷発生材料の結晶型が変化しない条件が必要とされる。ちなみに本実施形態で実施した上記の分散法のいずれについても分散前と結晶型が変化していないことが確認されている。さらにこの分散の際、粒子を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。またこれらの分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００６８】
また、本実施形態で用いる電荷発生層の厚みは一般的には、０．１μｍ〜５μｍの範囲、好ましくは０．２μｍ〜２．０μｍの範囲であることが適当である。
【００６９】
また、電荷発生層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００７０】
次いで、電荷輸送層について説明する。
【００７１】
電荷輸送層としては、公知の技術によって形成されたものを使用できる。それらの電荷輸送層は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して形成されるか、あるいは高分子電荷輸送材を含有して形成される。
【００７２】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送材料は単独または２種以上混合して用いることができるが、これらに限定されるものではない。また、これらの電荷輸送材料は単独あるいは２種以上混合して用いることができるが、モビリティの観点から、以下の構造のものが好ましい。
【００７３】
【化１】
2006276103.tif 000003
（式中、Ｒ１４は、水素原子またはメチル基を示す。また、ｎは１又は２を意味する。Ａｒ６及びＡｒ７はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基あるいは、−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、―ＣＨ＝ＣＨ―ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表わし、置換基としてはハロゲン原子、炭素数が１〜５の範囲のアルキル基、炭素数が１〜５の範囲のアルコキシ基、又は炭素数が１〜３の範囲のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。また、Ｒ１８，Ｒ１９，Ｒ２０はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、または置換もしくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換または未置換のアリール基を表す。）
【００７４】
【化２】
2006276103.tif 000004
（式中Ｒ１５、Ｒ１５'は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、を表わす。Ｒ１６，Ｒ１６'，Ｒ１７，Ｒ１７'は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基、あるいは、−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、―ＣＨ＝ＣＨ―ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表わし、Ｒ１８，Ｒ１９，Ｒ２０はそれぞれ独立に水素原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表す。Ａｒは置換または未置換のアリール基を表す。ｍおよびｎは０〜２の整数である。）
【００７５】
【化３】
2006276103.tif 000005
（式中Ｒ２１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、または、―ＣＨ＝ＣＨ―ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を表す。Ｒ２２、Ｒ２３は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基を表す。）
【００７６】
さらに電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材など高分子電荷輸送材を用いることもできる。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（質量比）は１０：１〜１：５の範囲が好ましい。
【００７７】
また、電荷輸送層としては、高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、特に好ましいものである。高分子電荷輸送材は単独でも電荷輸送層として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【００７８】
本実施形態で用いる電荷輸送層の厚みは一般的には、５μｍ〜５０μｍの範囲、好ましくは１０μｍ〜３０μｍの範囲であることが適当である。
【００７９】
塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００８０】
さらに電荷輸送層を設けるときに用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００８１】
また、複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。
【００８２】
また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させることができる。本実施形態の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等を挙げることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やＣｌ，ＣＮ，ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【００８３】
また本実施形態の感光体は最表面の層にフッ素系樹脂粒子を含有することが好ましい。フッ素系樹脂粒子を含有することで、クリーニングブレードと感光体の摺擦摩擦力が低減し、感光体摩耗を抑制し、球状のトナーを用いた場合に於いても良好なクリーニング性を維持する事が可能である。
【００８４】
フッ素系樹脂粒子の電荷輸送層中含量は、電荷輸送層全量に対し、０．１〜４０質量％の範囲が適当であり、１〜３０質量％の範囲がより好ましく、３〜１０質量％の範囲がさらに好ましい。含量が０．１質量％未満ではフッ素系樹脂粒子の分散による摩擦低減効果が接触型帯電器との組合せに於いては十分でない場合があり、一方、４０質量％を越えると光通過性及び電荷輸送性が低下し、かつ、繰返し使用による残留電位の上昇が生じてくる場合がある。黒色用の感光体のフッ素系樹脂粒子の電荷輸送層中含量は、カラー用の感光体のフッ素系樹脂粒子の電荷輸送層中含量よりも少なく、且つ０〜３質量％の範囲が適当であり、０〜２質量％の範囲が適当である。含量が３質量％よりも多い場合は、高速画像形成時電荷移動速度が低下し易い。
【００８５】
本実施形態で用いるフッ素系樹脂粒子としては、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を適宜選択するのが望ましいが、特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。前記フッ素系樹脂の一次粒径は０．０５μｍ〜１μｍの範囲が良く、更に好ましくは０．１μｍ〜０．５μｍの範囲が好ましい。一次粒径が０．０５μｍを下回ると分散時の凝集が進みやすくなる。又、１μｍを上回ると画質欠陥が発生しやすくなる。
【００８６】
次いで、最表面に形成する保護層について説明する。
【００８７】
本実施形態の感光体には表面の傷などに対する耐性を持たせ長寿命化をはかるため高強度の保護層を設ける。この保護層としては、膜強度等の観点から、電荷輸送性構造単位をを有し、かつ架橋構造を有する樹脂を用いる。すなわち、保護層は、電荷輸送性構造単位を有する、メチロール基を有するフェノール誘導体を架橋したフェノール系樹脂及びシリル誘導体を架橋したシロキサン系樹脂のうち少なくとも１種を含む。当該架橋樹脂は、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を含む電荷輸送性化合物から得られる。すなわち、当該架橋フェノール系樹脂及び架橋シロキサン系樹脂は、上記フェノール誘導体及びシリル誘導体のうち少なくとも１種と、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を含む電荷輸送性化合物とを架橋することにより得ることができる。また、当該架橋シロキサン系樹脂は、シリル誘導体である、アルコキシシリル基を含む電荷輸送性化合物を架橋させることによっても得ることができる。当該架橋樹脂は、メチロール基を有するフェノール誘導体と、シリル誘導体と、上記電荷輸送性化合物とを架橋させた樹脂であってもよく、メチロール基を有するフェノール誘導体と、アルコキシシリル基を含む電荷輸送性化合物とを架橋させた樹脂であってもよい。
【００８８】
感光体の表面（最表面層）に架橋構造を有する樹脂が含まれるために、表面の硬度が高く耐磨耗性に優れ、本実施形態でのキャリア進入抑制効果と合わせることでクリーニングブレードの摺擦等により起こる感光体表面の傷を大幅に抑制させることができる。
【００８９】
架橋構造を有する樹脂は、電気特性や画質維持性などの観点から、電荷輸送性を有する（電荷輸送能を有する構造単位を含む）。更に当該メチロール基を有するフェノール誘導体を架橋したフェノール系樹脂含有層の赤外吸収スペクトルが下記式で示される条件を満たすことで電気特性に優れ高画質化が図れるために好ましい。
【００９０】
（Ｐ２／Ｐ１）≦０．２      （１）
（式中、Ｐ１は１５６０ｃｍ−１〜１６４０ｃｍ−１に存在する最大吸収ピークの吸光度を、Ｐ２は１６４５ｃｍ−１〜１７００ｃｍ−１に存在する最大吸収ピークの吸光度を示す。）
【００９１】
上記式で上述の効果が得られる理由は必ずしも明確ではないが、本発明者らは以下のように推察する。
【００９２】
すなわち、メチロール基を有するフェノール誘導体を用いて塗膜を形成する過程において、フェノール誘導体のメチロール基のうちの一部は、ホルミル基等の酸化物になると考えられる。このようなホルミル基等の酸化物は、感光体中の電荷輸送を妨げるキャリアトラップとして作用し、感光体の電気特性を低下させると考えられる。ここで、赤外吸収スペクトルにおいて、１５６０ｃｍ−１〜１６４０ｃｍ−１に存在する最大吸収ピーク（Ｐ１）は、フェノール樹脂の芳香族Ｃ−Ｃ伸縮振動に相当する。また、１６４５ｃｍ−１〜１７００ｃｍ−１に存在する最大吸収ピーク（Ｐ２）は、ホルミル基等の酸化物に由来すると考えられる。
【００９３】
つまり、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が小さい感光体は、感光体中のホルミル基等の酸化物が少なく、キャリア輸送性に優れると考えられる。そして、本実施形態の電子写真感光体は、上記特定の材料を用い、かつ吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が０．２以下であることにより、電気特性に優れ、高画質化が達成できると考えられる。なお、本実施形態の電子写真感光体は、電気特性と共に機械強度も優れており、この点も高画質化が達成できた要因であると考えられる。
【００９４】
なお、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）は、０．１８以下であることがより好ましく、０．１７以下であることがさらに好ましい。吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が０．２を超えると、キャリア輸送性が低下し、感光体の電気特性が不十分となり、画質が低下する場合がある。
【００９５】
架橋フェノール系樹脂の前駆体である、メチロール基を有するフェノール誘導体としては、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類若しくはトリメチロールフェノール類のモノマ、それらの混合物、それらがオリゴマ化されたもの、又はそれらモノマとオリゴマの混合物が挙げられる。このようなメチロール基を有するフェノール誘導体は、レゾルシン、ビスフェノール等、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノール等の水酸基を１個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン等の水酸基を２個含む置換フェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ等のビスフェノール類、ビフェノール類等、フェノール構造を有する化合物と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等とを、酸触媒又はアルカリ触媒下で反応させることで得られるもので、一般にフェノール樹脂として市販されているものも使用できる。なお、本明細書では、分子の構造単位の繰り返しが２〜２０程度の比較的大きな分子をオリゴマといい、それ以下のものをモノマという。
【００９６】
上記酸触媒としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、リン酸等が用いられる。また、アルカリ触媒としては、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）２、Ｂａ（ＯＨ）２等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物やアミン系触媒が用いられる。
【００９７】
アルカリ触媒としてはアミン系触媒等が挙げられ、例えば、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。アルカリ触媒を使用した場合には、残留する触媒によりキャリアが著しくトラップされ、電子写真特性を悪化させる傾向がある。そのため、酸で中和するか、シリカゲル等の吸着剤や、イオン交換樹脂等と接触させることにより不活性化又は除去することが好ましい。
【００９８】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体としては、フェノール樹脂が好ましく、レゾール型フェノール樹脂がより好ましい。
【００９９】
水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を含む、電荷輸送性構造単位を有する電荷輸送性化合物としては、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）で示される化合物であることが好ましい。
【０１００】
Ｆ−［（Ｘ１）ｍ１−（Ｒ１）ｍ２−Ｙ］ｍ３            （Ｉ）
上記式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）を、Ｙは水酸基（−ＯＨ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、チオール基（−ＳＨ）又はアミノ基（−ＮＨ２）を示し、ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立に０又は１を、ｍ３は１〜４の整数を示す。
【０１０１】
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ）ｎ３Ｇ］ｎ４    （ＩＩ）
上記式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ２はアルキレン基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）を、Ｚはアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、Ｇはエポキシ基を、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に０又は１を、ｎ４は１〜４の整数を示す。
【０１０２】
Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａ］ｂ              （ＩＩＩ）
式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｄは可とう性を有する２価の基を、Ｒ３は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）又は置換若しくは未置換のアリール基（炭素数は６〜２０が好ましく、６〜１５がより好ましい）を、Ｑは加水分解性基を、ａは１〜３の整数を、ｂは１〜４の整数を示す。
【０１０３】
また、上記可とう性を有する２価の基Ｄとしては、具体的には、光電特性を付与するためのＦの部位と、３次元的な無機ガラス質ネットワークの構築に寄与する置換ケイ素基とを結びつける働きを担う２価の基である。また、Ｄは、堅い反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークの部分に適度な可とう性を付与し、膜としての機械的強靱さを向上させる働きを担う有機基構造を表す。Ｄとして具体的には、−ＣαＨ２α−、−ＣβＨ２β−２−、−ＣγＨ２γ−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、αは１〜１５の整数を表し、βは２〜１５の整数を表し、γは３〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ６Ｈ４）−（Ｃ６Ｈ４）−、及び、これらの特性基を任意に組み合わせた構造を有する特性基、更にはこれらの特性基の構成原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。また、上記加水分解性基Ｑとしては、アルコキシ基が好ましく、炭素数１〜１５のアルコキシ基がより好ましい。式（ＩＩＩ）で表される化合物は上記シリル誘導体の好ましい例である。
【０１０４】
上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で示される化合物における正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基Ｆとしては、下記一般式（ＩＶ）で示される有機基であることが好ましい。
【０１０５】
【化４】
2006276103.tif 000006
ここで、上記式（ＩＶ）中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つＡｒ１〜Ａｒ５のうち１〜４個は、上記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で示される化合物における−［（Ｘ１）ｍ１−（Ｒ１）ｍ２−Ｙ］、−［（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ）ｎ３Ｇ］、−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａ］で示される部位と結合手を有し、ｋは０または１である。
【０１０６】
上記一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、例えば、下記化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−３６）を挙げることができる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０１０７】
【表１】
2006276103.tif 000007
【０１０８】
【表２】
2006276103.tif 000008
【０１０９】
【表３】
2006276103.tif 000009
【０１１０】
【表４】
2006276103.tif 000010
【０１１１】
【表５】
2006276103.tif 000011
【０１１２】
【表６】
2006276103.tif 000012
【０１１３】
【表７】
2006276103.tif 000013
【０１１４】
【表８】
2006276103.tif 000014
【０１１５】
上記一般式（ＩＩ）で示される化合物の具体例としては、例えば、下記化合物（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４７）を挙げることができる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０１１６】
【表９】
2006276103.tif 000015
【０１１７】
【表１０】
2006276103.tif 000016
【０１１８】
【表１１】
2006276103.tif 000017
【０１１９】
【表１２】
2006276103.tif 000018
【０１２０】
【表１３】
2006276103.tif 000019
【０１２１】
【表１４】
2006276103.tif 000020
【０１２２】
【表１５】
2006276103.tif 000021
【０１２３】
【表１６】
2006276103.tif 000022
【０１２４】
【表１７】
2006276103.tif 000023
【０１２５】
【表１８】
2006276103.tif 000024
【０１２６】
【表１９】
2006276103.tif 000025
【０１２７】
【表２０】
2006276103.tif 000026
【０１２８】
【表２１】
2006276103.tif 000027
【０１２９】
【表２２】
2006276103.tif 000028
【０１３０】
また、上記一般式（ＩＩＩ）で示される化合物の具体例としては、例えば、下記化合物（Ｆ−１）〜（Ｆ−６１）が挙げられる。なお、下記化合物（Ｆ−１）〜（Ｆ−６１）は、一般式（ＩＶ）で示される化合物のＡｒ１〜Ａｒ５及びｋを下記の表に示されるように組み合わせ、且つ、アルコキシシリル基（ｓ）を下記の表に示される特定のものとしたものである。
【０１３１】
【表２３】
2006276103.tif 000029
【０１３２】
【表２４】
2006276103.tif 000030
【０１３３】
【表２５】
2006276103.tif 000031
【０１３４】
【表２６】
2006276103.tif 000032
【０１３５】
【表２７】
2006276103.tif 000033
【０１３６】
【表２８】
2006276103.tif 000034
【０１３７】
【表２９】
2006276103.tif 000035
【０１３８】
【表３０】
2006276103.tif 000036
【０１３９】
なお、保護層には、上記架橋構造を有する樹脂以外にも必要に応じて、架橋構造を有さないバインダ樹脂や、導電性微粒子、また、フッ素樹脂やアクリル樹脂などからなる潤滑性微粒子が含まれていてもよく、保護層の形成に際しては、必要に応じてシリコンや、アクリルなどのハードコート剤を使用することができる。また、保護層の形成方法の詳細については後述するが、保護層の形成には架橋構造を有する樹脂を構成する前駆体を少なくとも含む保護層形成用塗布液が用いられる。
【０１４０】
導電性粒子としては、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等が挙げられる。これらの中でも、金属又は金属酸化物がより好ましい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ、及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いることもできる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の観点から、０．３μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以下が特に好ましい。
【０１４１】
また、保護層には、保護層の強度、膜抵抗等の種々の物性をコントロールするために、シリル誘導体である、下記一般式（Ｖ−１）で示される化合物を添加することもできる。
【０１４２】
Ｓｉ（Ｒ３０）（４−Ｃ）ＱＣ        （Ｖ−１）
上記式（Ｖ−１）中、Ｒ３０は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、Ｃは１〜４の整数を示す。
【０１４３】
上記一般式（Ｖ−１）で示される化合物の具体例としては、例えば、以下のようなシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシラン（Ｃ＝４）；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の三官能性アルコキシシラン（Ｃ＝３）；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシラン（Ｃ＝２）；トリメチルメトキシシラン等の１官能アルコキシシラン（Ｃ＝１）等を挙げることができる。膜の強度を向上させるためには３及び４官能のアルコキシシランが好ましく、可とう性、成膜性を向上させるためには１及び２官能のアルコキシシランが好ましい。
【０１４４】
また、主にこれらのカップリング剤より作製されるシリコン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、及びＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等を用いることができる。
【０１４５】
また、保護層には、その強度を高めるために、シリル誘導体である、一般式（Ｖ−２）に示すような２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
【０１４６】
Ｂ−（Ｓｉ（Ｒ３１）（３−ｄ）Ｑｄ）２              （Ｖ−２）
上記式（Ｖ−２）中、Ｂは２価の有機基を、Ｒ３１は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｄは１〜３の整数を示す。
【０１４７】
上記一般式（Ｖ−２）で示される化合物の具体例としては、例えば、下記（Ｖ−２−１）〜（Ｖ−２−１６）が挙げられる。
【０１４８】
【表３１】
2006276103.tif 000037
【０１４９】
また、保護層には、ポットライフの延長、膜特性のコントロール、トルク低減、塗布膜表面の均一性向上のため、シリル誘導体である、下記一般式（Ｖ−３）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物、若しくはその化合物からの誘導体を含有させることもできる。
【０１５０】
【化５】
2006276103.tif 000038
上記式（Ｖ−３）中、Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に一価の有機基を示す。
【０１５１】
一般式（Ｖ−３）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンを挙げることができる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素原子含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等を挙げることができる。これらの環状シロキサン化合物は１種を単独で用いてもよいが、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１５２】
更に、電子写真感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性、硬度等を制御するために、各種微粒子を添加することもできる。それらは、単独で用いることもできるが、２種以上を併用してもよい。
【０１５３】
微粒子の一例として、ケイ素原子含有微粒子を挙げることができる。ケイ素原子含有微粒子とは、構成元素にケイ素を含む微粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコン微粒子等が挙げられる。ケイ素原子含有微粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒子径が好ましくは１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲、より好ましくは１０ｎｍ〜３０ｎｍの範囲であり、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、或いはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、成膜性、電気特性、強度の面から保護層の固形分全量を基準として好ましくは０．１〜５０質量％の範囲、より好ましくは０．１〜３０質量％の範囲で用いられる。
【０１５４】
ケイ素原子含有微粒子として用いられるシリコン微粒子は、球状で、平均粒子径が好ましくは１ｎｍ〜５００ｎｍの範囲、より好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であり、シリコン樹脂粒子、シリコンゴム粒子及びシリコン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。
【０１５５】
シリコン微粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状を改善することができる。即ち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐摩耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。保護層中のシリコン微粒子の含有量は、保護層の固形分全量を基準として好ましくは０．１〜３０質量％の範囲であり、より好ましくは０．５〜１０質量％の範囲である。
【０１５６】
また、その他の微粒子としては、４弗化エチレン、３弗化エチレン、６弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系微粒子や”第８回ポリマ材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９”に示される様な、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマを共重合させた樹脂からなる微粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物を挙げることができる。また、同様な目的でシリコンオイル等のオイルを添加することもできる。
【０１５７】
シリコンオイルとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコンオイル等を挙げることができる。これらは、保護層形成用塗布液に予め添加してもよいし、感光体を作製後、減圧、或いは加圧下等で含浸処理してもよい。
【０１５８】
また、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を使用することもできる。可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。保護層にはヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
【０１５９】
酸化防止剤としては以下のような化合物が挙げられる。例えば、ヒンダートフェノール系としては、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＨＴ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＭＤＰ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＢＭ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＷＸ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＮＷ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−７６」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−１０１」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＭ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＳ」以上住友化学社製、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「アデカスタブＡＯ−２０」、「アデカスタブＡＯ−３０」、「アデカスタブＡＯ−４０」、「アデカスタブＡＯ−５０」、「アデカスタブＡＯ−６０」、「アデカスタブＡＯ−７０」、「アデカスタブＡＯ−８０」、「アデカスタブＡＯ−３３０」以上旭電化製。ヒンダートアミン系としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」、「スミライザーＴＰＳ」、チオエーテル系としては、「スミライザーＴＰ−Ｄ」、ホスファイト系としては、「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ・８」、「マークＰＥＰ・２４Ｇ」、「マークＰＥＰ・３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ・１０」が挙げられ、特にヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が好ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基等の置換基で変性してもよい。
【０１６０】
また、保護層には、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を含有させてもよい。この場合、絶縁性樹脂は、所望の割合で添加することができ、これにより、電荷輸送層との接着性、熱収縮やハジキによる塗布膜欠陥等を抑制することができる。
【０１６１】
保護層は、上記電荷輸送性構造単位を有する電荷輸送性化合物、及び上記メチロール基を有するフェノール誘導体またはシリル誘導体のうち少なくとも１種、等の構成材料を含有する保護層形成用塗布液を、電荷輸送層上に塗布して硬化させることで形成される。あるいは保護層は、上記アルコキシシリル基を含む電荷輸送性化合物等の構成材料を含有する保護層形成用塗布液を、電荷輸送層上に塗布して硬化させることで形成される。
【０１６２】
保護層は、上述した電荷輸送性を有し、かつ架橋構造を有する樹脂を用いて形成されることから、保護層形成用塗布液に触媒を添加すること、又は保護層形成用塗布液作製時に触媒を用いることが好ましい。用いられる触媒としては、塩酸、酢酸、リン酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸等の有機酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリエチルアミン等のアルカリ触媒、さらに系に不溶な固体触媒を用いることもできる。
【０１６３】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体またはシリル誘導体から、合成時の触媒を除去するために、フェノール誘導体またはシリル誘導体をメタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解させ、水洗、貧溶剤を用いた再沈殿等の処理を行うか、イオン交換樹脂、又は無機固体を用いて処理を行うことが好ましい。
【０１６４】
例えば、イオン交換樹脂としては、アンバーライト１５、アンバーライト２００Ｃ、アンバーリスト１５Ｅ（以上、ローム・アンド・ハース社製）；ダウエックスＭＷＣ−１−Ｈ、ダウエックス８８、ダウエックスＨＣＲ−Ｗ２（以上、ダウ・ケミカル社製）；レバチットＳＰＣ−１０８、レバチットＳＰＣ−１１８（以上、バイエル社製）；ダイヤイオンＲＣＰ−１５０Ｈ（三菱化成社製）；スミカイオンＫＣ−４７０、デュオライトＣ２６−Ｃ、デュオライトＣ−４３３、デュオライト−４６４（以上、住友化学工業社製）；ナフィオン−Ｈ（デュポン社製）等の陽イオン交換樹脂；アンバーライトＩＲＡ−４００、アンバーライトＩＲＡ−４５（以上、ローム・アンド・ハース社製）等の陰イオン交換樹脂が挙げられる。
【０１６５】
また、無機固体としては、Ｚｒ（Ｏ３ＰＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ）２，Ｔｈ（Ｏ３ＰＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）２等のプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体；スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサン等のプロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン；コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸等のヘテロポリ酸；ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸等のイソポリ酸；シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、ＣａＯ、ＭｇＯ等の単元系金属酸化物；シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類等複合系金属酸化物；酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイト等の粘土鉱物；ＬｉＳＯ４，ＭｇＳＯ４等の金属硫酸塩；リン酸ジルコニア、リン酸ランタン等の金属リン酸塩；ＬｉＮＯ３，Ｍｎ（ＮＯ３）２等の金属硝酸塩；シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体等のアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体；アミノ変性シリコン樹脂等のアミノ基を含有するポリオルガノシロキサン等が挙げられる。
【０１６６】
保護層形成用塗布液には、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の他、種々の溶媒が使用できる。なお、電子写真感光体の生産に一般的に使用されるディップコーティング法を適用するためには、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、又はそれらの混合系溶剤が好ましい。また、使用される溶媒の沸点は５０〜１５０℃の範囲のものが好ましく、それら任意に混合して使用することができる。
【０１６７】
なお、溶剤としてアルコール系溶剤、ケトン系溶剤、又はそれらの混合系溶剤が好ましいことから、使用される保護層の形成に使用される電荷輸送性構造単位を有する化合物としては、それらの溶剤に可溶であることが好ましい。
【０１６８】
また、溶媒量は任意に設定できるが、少なすぎると構成材料が析出しやすくなるため、保護層形成用塗布液中に含まれる固形分の合計１質量部に対し好ましくは０．５〜３０質量部の範囲、より好ましくは１〜２０質量部の範囲とすることが好ましい。
【０１６９】
保護層形成用塗布液を用いて保護層を形成する際の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。ただし、１回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。なお、複数回の重ね塗布を行う場合、加熱処理は塗布の度に行ってもよいし、複数回重ね塗布した後でもよい。
【０１７０】
電荷輸送層上に保護層形成用塗布液を塗布した後に硬化処理を行う。通常、硬化処理の際には、フェノール誘導体またはシリル誘導体の架橋反応を促進し、保護層の機械強度を上げるためには硬化温度は高く、硬化時間は長いほど好ましい。しかし、そうした場合には、フェノール系樹脂の場合は吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が０．２を超えやすく、電気特性が著しく悪化してしまうことがある。そこで、フェノール系樹脂の場合は保護層のＩＲスペクトルが上記条件を満たすように、硬化温度、硬化時間、架橋雰囲気又は硬化触媒で制御することが好ましい。
【０１７１】
すなわち、フェノール系樹脂の場合は保護層のＩＲスペクトルが上記式（１）で示される条件を満たすようにするために、硬化処理の際の硬化温度は１００〜１７０℃の範囲が好ましく、１００〜１５０℃の範囲が、さらに１００〜１４０℃の範囲がより好ましい。また、硬化時間は、３０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がより好ましい。シロキサン系樹脂の場合は、硬化処理の際の硬化温度は１００〜１７０℃の範囲が好ましく、１００〜１５０℃の範囲が、さらに１００〜１４０℃の範囲がより好ましい。また、硬化時間は、３０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がより好ましい。
【０１７２】
また、硬化処理（架橋反応）を行う雰囲気としては、窒素、ヘリウム、アルゴン等の、いわゆる酸化に対して不活性なガス雰囲気（不活性ガス雰囲気）下が吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）を小さくするのに効果的である。不活性ガス雰囲気下で架橋反応を行う場合には、空気雰囲気（酸素含有雰囲気）下よりも硬化温度を高く設定することができ、硬化温度は１００〜１６０℃（好ましくは１１０〜１５０℃）とすることが可能である。また、硬化時間は３０分〜２時間（好ましくは３０分〜１時間）とすることが可能である。また、一般式（Ｉ）で示される化合物において、（−（Ｘ１）ｍ１−（Ｒ１）ｍ２−Ｙ）で示される部位が−ＣＨ２−ＯＨの場合が最も硬化温度による電気特性の影響が大きい傾向があり、酸化に対して敏感であるので、上記好ましい温度範囲で硬化処理を行うことが好ましい。
【０１７３】
さらに、硬化処理の際には、硬化触媒を使用することが好ましい。硬化触媒としては、例えば、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタンのようなビススルホニルジアゾメタン類、メチルスルホニルｐ−トルエンスルホニルメタンのようなビススルホニルメタン類、シクロヘキシルスルホニルシクロヘキシルカルボニルジアゾメタンのようなスルホニルカルボニルジアゾメタン類、２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルホニル）プロピオフェノンのようなスルホニルカルボニルアルカン類、２−ニトロベンジルｐ−トルエンスルホネートのようなニトロベンジルスルホネート類、ピロガロールトリスメタンスルホネートのようなアルキル及びアリールスルホネート類（ｇ）ベンゾイントシレートのようなベンゾインスルホネート類、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミドのようなＮ−スルホニルオキシイミド類、（４−フルオロベンゼンスルホニルオキシ）−３，４，６−トリメチル−２−ピリドンのようなピリドン類、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチル−１−（３−ビニルフェニル）−エチル−４−クロロベンゼンスルホネートのようなスルホン酸エステル類、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートのようなオニウム塩類等の光酸発生剤や、プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物、ルイス酸とトリアルキルホスフェートの混合物、スルホン酸エステル類、リン酸エステル類、オニウム化合物、無水カルボン酸化合物等が挙げられる。
【０１７４】
プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、ハロゲノカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸モノエステル類、リン酸モノ及びジエステル類、ポリリン酸エステル類、ホウ酸モノ及びジエステル類等を、アンモニア、モノエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の各種アミン若しくはトリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスファイト、トリアリールホスファイトで中和した化合物、さらには酸−塩基ブロック化触媒として市販されているネイキュア２５００Ｘ、４１６７、Ｘ−４７−１１０、３５２５、５２２５（商品名、キングインダストリー社製）等が挙げられる。また、ルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、例えば、ＢＦ３、ＦｅＣｌ３、ＳｎＣｌ４、ＡｌＣｌ３、ＺｎＣｌ２等のルイス酸を上記のルイス塩基で中和した化合物が挙げられる。
【０１７５】
オニウム化合物としては、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート等が挙げられる。
【０１７６】
無水カルボン酸化合物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水ラウリン酸、無水オレイン酸、無水ステアリン酸、無水ｎ−カプロン酸、無水ｎ−カプリル酸、無水ｎ−カプリン酸、無水パルミチン酸、無水ミリスチン酸、無水トリクロロ酢酸、無水ジクロロ酢酸、無水モノクロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水ヘプタフルオロ酪酸等が挙げられる。
【０１７７】
ルイス酸の具体例としては、例えば、三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化第一チタン、塩化第二チタン、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化第一スズ、塩化第二スズ、臭化第一スズ、臭化第二スズ等の金属ハロゲン化物、トリアルキルホウ素、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルハロゲン化アルミニウム、モノアルキルハロゲン化アルミニウム、テトラアルキルスズ等の有機金属化合物、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム、ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジブチル・ビス（アセチルアセトナト）スズ、トリス（アセチルアセトナト）鉄、トリス（アセチルアセトナト）ロジウム、ビス（アセチルアセトナト）亜鉛、トリス（アセチルアセトナト）コバルト等の金属キレート化合物、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズエステルマレート、ナフテン酸マグネシウム、ナフテン酸カルシウム、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸鉄、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ジルコニウム、ナフテン酸鉛、オクチル酸カルシウム、オクチル酸マンガン、オクチル酸鉄、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸ジルコニウム、オクチル酸スズ、オクチル酸鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸鉛等の金属石鹸が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１７８】
これら硬化触媒の使用量は特に制限されないが、保護層形成用塗布液に含まれる固形分の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部の範囲が好ましく、０．３〜１０質量部の範囲が特に好ましい。
【０１７９】
また、保護層を形成する際に、有機金属化合物を触媒として用いる場合には、ポットライフ、硬化効率の面から、多座配位子を添加することが好ましい。このような多座配位子としては、以下に示すようなもの及びそれらから誘導されるものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１８０】
具体的には、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジピバロイルメチルアセトン等のβ−ジケトン類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル類；ビピリジン及びその誘導体；グリシン及びその誘導体；エチレンジアミン及びその誘導体；８−オキシキノリン及びその誘導体；サリチルアルデヒド及びその誘導体；カテコール及びその誘導体；２−オキシアゾ化合物等の２座配位子；ジエチルトリアミン及びその誘導体；ニトリロトリ酢酸及びその誘導体等の３座配位子；エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及びその誘導体等の６座配位子；等を挙げることができる。さらに、上記のような有機系配位子の他、ピロリン酸、トリリン酸等の無機系の配位子を挙げることができる。多座配位子としては、特に２座配位子が好ましく、具体例としては、上記の他、下記一般式（Ｖ−４）で示される２座配位子が挙げられる。
【０１８１】
【化６】
2006276103.tif 000039
上記式（Ｖ−４）中、Ｒ３２及びＲ３３はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、フッ化アルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
【０１８２】
多座配位子としては、上記の中でも、下記一般式（Ｖ−４）で示される２座配位子がより好ましく、下記一般式（Ｖ−４）中のＲ３２とＲ３３とが同一のものが特に好ましい。Ｒ３２とＲ３３とを同一にすることで、室温付近での配位子の配位力が強くなり、保護層形成用塗布液のさらなる安定化を図ることができる。
【０１８３】
多座配位子の配合量は、任意に設定することができるが、有機金属化合物の使用量１モルに対し、好ましくは０．０１モル以上、より好ましくは０．１モル以上、さらに好ましくは１モル以上である。
【０１８４】
保護層の２５℃における酸素透過係数は、４×１０１２ｆｍ／ｓ・Ｐａ以下であることが好ましく、３．５×１０１２ｆｍ／ｓ・Ｐａ以下であることがより好ましく、３×１０１２ｆｍ／ｓ・Ｐａ以下であることがさらに好ましい。
【０１８５】
ここで、酸素透過係数は層の酸素ガス透過のし易さを表す尺度であるが、見方を変えると、層の物理的な隙間率の代用特性と捕らえることもできる。なお、ガスの種類が変われば透過率の絶対値は変わるものの、検体となる層間で大小関係の逆転は殆どない。したがって、酸素透過係数は、一般的なガス透過のし易さを表現する尺度と解釈して良い。
【０１８６】
つまり、保護層の２５℃における酸素透過係数が上記条件を満たす場合には、保護層においてガスが浸透しにくい。したがって、画像形成プロセスにより生じる放電生成物の浸透が抑制され、保護層に含有される化合物の劣化が抑制され、電気特性を高水準に維持することができ、高画質化、長寿命化に有効である。
【０１８７】
また、フェノール系樹脂の場合、赤外吸収スペクトルの吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が上記条件を満たすように保護層を形成しようとする場合には、空気雰囲気下では硬化温度を比較的低く設定することが必要である。そのため、保護層の２５℃における酸素透過係数を下げることは困難であるが、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が上記条件を満たすようにすると共に、保護層の２５℃における酸素透過係数が上記条件を満たすようにすることで、電気特性がさらに向上し、さらに高画質を達成できる感光体が得られる。
【０１８８】
保護層の膜厚は、０．５μｍ〜１５μｍの範囲が好ましく、１μｍ〜１０μｍの範囲がさらに好ましく、１μｍ〜５μｍの範囲がより好ましい。
【０１８９】
上記保護層を最表面に設けることで、回転する磁性毛がキャリア回収の際に感光体に作用する力で発生する感光体傷や磨耗性が著しく改善され、更には画像形成プロセスにより生じる放電生成物の浸透が抑制され、保護層に含有される化合物の劣化が抑制され、電気特性を高水準に維持することができるため、高画質化にも有効である。
【実施例】
【０１９０】
以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をより具体的に詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【０１９１】
＜感光体Ａの製造＞
〔下引き層の形成〕
４質量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチルアルコール１７０質量部に、有機ジルコニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレート）３０質量部および有機シラン化合物（γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）３質量部を添加、混合撹拌して下引き層形成用の塗布液を得た。この塗布液を、ホーニング処理により粗面化（中心線平均粗さＲａで０．６μｍ）された外径４０ｍｍのアルミニウム支持体の上に浸漬塗布し、室温で５分間風乾を行った後、支持体を１０分間で５０℃に昇温し、５０℃、８５％ＲＨ（露点４７℃）の恒温恒湿槽中に入れて、２０分間加湿硬化促進処理を行った。その後、熱風乾燥機に入れて１７０℃で１０分間乾燥を行い下引き層を形成した。
【０１９２】
〔電荷発生層及び電荷輸送層の形成〕
電荷発生材料として、塩化ガリウムフタロシアニンを用い、その１５質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０質量部およびｎ−ブチルアルコール３００質量部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液を、上記下引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン４０部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４０，０００）６０質量部とをテトロヒドロフラン２３５質量部及びモノクロロベンゼン１００質量部に十分に溶解混合して得られた塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布し、乾燥することにより、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１９３】
〔保護層の形成〕
電荷輸送性構造単位を有する化合物として、アルコキシシリル基を有する下記化合物１（Ｆ−１７）を５質量部、イソプロピルアルコールを１５質量部、テトラヒドロフランを９質量部、及び蒸留水を０．９質量部混合し、それにイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）を０．５質量部加え、室温で撹拌することにより２時間加水分解を行った。さらに、ブチラール樹脂を０．５質量部、メチロール基を有するフェノール誘導体としてレゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−２２１１、群栄化学社製）を５質量部、酸化防止剤としてサノールＬＳ２６２６を０．２質量部、及び硬化触媒としてネイキュア４１６７を０．５質量部加え保護層形成用塗布液を調製した。この保護層形成用塗布液を浸漬コーティング法により上記電荷輸送層上に塗布して１３０℃で３０分乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成した。得られた感光体を感光体Ａとした。
【０１９４】
【化７】
2006276103.tif 000040
【０１９５】
＜感光体Ｂの製造＞
電荷輸送性構造単位を有する化合物として化合物（Ｉ−１）を５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）を７質量部、ジメチルポリシロキサンを０．０３質量部、及びイソプロパノールを２０質量部混合して溶解し、保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬コーティング法で電荷輸送層上に塗布し、１３０℃で４０分乾燥させ、膜厚３μｍの保護層を形成したこと以外は感光体Ａと同様にして感光体Ｂを得た。
【０１９６】
＜感光体Ｃの製造＞
保護層の電荷輸送性構造単位を有する化合物として上記化合物（Ｉ−１）の代わりに化合物（Ｉ−１９）を使用し、さらに、ネイキュア２５００Ｘ（楠本化学）０．２質量部を加えた以外は感光体Ｂと同様にして感光体Ｃを製造した。
【０１９７】
＜感光体Ｄの製造＞
保護層の電荷輸送性構造単位を有する化合物として上記化合物（Ｉ−１）の代わりに化合物（Ｉ−２９）を使用し、さらに、ネイキュア２５００Ｘ（楠本化学）０．２質量部を加えた以外は感光体Ｂと同様にして感光体Ｄを製造した。
【０１９８】
＜感光体Ｅの製造＞
保護層の電荷輸送性構造単位を有する化合物として上記化合物（Ｉ−１）の代わりに化合物（Ｉ−３６）を使用した以外は感光体Ｂと同様にして感光体Ｅを製造した。
【０１９９】
＜感光体Ｆの製造＞
保護層の電荷輸送性構造単位を有する化合物として上記化合物（Ｉ−１）の代わりに化合物（ＩＩ−１４）を使用し、さらに、ネイキュア２５００Ｘ（楠本化学）０．２質量部を加えた以外は感光体Ｂと同様にして感光体Ｆを製造した。
【０２００】
＜感光体Ｇの製造＞
保護層を設けなかった以外は感光体Ａと同様にして感光体Ｇを製造した。
【０２０１】
（実施例１）
＜画像形成装置＞
富士ゼロックス株式会社製Ｄｏｃｕ  Ｃｏｌｏｒ１２５０ＣＰ機に図２に示すキャリア除去装置２２を搭載した。感光体Ａを用いた感光体ドラム１４は、所定の回転速度（感光体ドラム１４の直径φ８４ｍｍで、プロセススピード２２０ｍｍ／ｓｅｃ）で図示の矢印Ａ方向に回転させた。キャリア除去装置２２のキャリア回収ローラ３０は、スリーブ３８と、スリーブ３８の外周に沿って全周に植設された磁性毛４０と、スリーブ３８の内部に装入された棒状の永久磁石４２とを有する。スリーブ３８の外径はφ１２ｍｍとし、スリーブ３８は、感光体ドラム１４の周速よりも速く（２６４ｍｍ／ｓｅｃ）で回転させた。回転方向は感光体ドラム１４に対してＡｇａｉｎｓｔモードとし、スリーブ３８は図示の矢印Ｂ方向に回転するようにした。磁性毛４０は、表３２に示す磁性毛１を使用した。
【０２０２】
【表３２】
2006276103.tif 000041
表中の＊は、測定磁場の強さ：１０Ｋｏｅでの測定値である。
【０２０３】
キャリア回収ローラ３０に隣接して、ＰＯＭ（丸棒状）で作られたキャリア回収ブレード３２１（キャリア回収機構）を設置し、スリーブ３８のＢ方向への回転により、その磁性毛４０の先端が感光体ドラム１４の表面を擦り、更にキャリア回収ブレード３２１を擦るように、磁性毛４０の長さやスリーブ３８の寸法、キャリア回収ローラ３０の配置位置を定めた。磁性毛４０を含めたキャリア回収ローラ３０の外径はφ１９ｍｍとした。感光体ドラム１４と磁性毛４０との干渉量（ＢＰＩと称する）は、２．０ｍｍとし、キャリア回収ブレード３２１と磁性毛４０との干渉量は、１．５ｍｍに設定した。
【０２０４】
永久磁石４２は長い円柱形状のものを使用し、回動不能に固定した。永久磁石４２は、その周方向に３つの磁極、即ちＳ１極、Ｎ１極、Ｎ２極を有しており、主極であるＳ１極は感光体ドラム１４に最近接した位置にあり、Ｎ１極、Ｎ２極はＳ１極を挟んで周方向にＳ１極からそれぞれ６０度離れた位置に形成した。主極（Ｓ１極）の磁束密度は８５０ガウスであり、Ｎ１極、Ｎ２極の磁束密度はいずれも６５０ガウスとした。
【０２０５】
＜評価＞
感光体Ａのドラムに、通常のキャリアとトナーとの混合質量比率８〜１０％に対し、トナーの質量比率を１〜３％に減らすことでキャリアを含んだ現像像（これをキャリア画像と称する）を形成し、転写を行うことなく、キャリア除去装置２２を用いて初期の段階でキャリア画像をクリーニングした。キャリア除去装置２２によりクリーニングされた部分の残留キャリア量を、住友３Ｍ社製８１０メンデイングテープに転写し、目視により限定見本と比較し、キャリア除去性能を下記の評価基準により評価した。Ｇ１ほど残留キャリア量が少なく、Ｇ４ほど残留キャリア量が多いことを示している。
Ｇ１：残留キャリア無し
Ｇ２：軽微
Ｇ３：中程度
Ｇ４：多量
【０２０６】
感光体の磨耗や傷に関しては、走行試験（上記の未転写のベタ黒のキャリア画像のクリーニングを多数回繰り返すテストを行った）後の感光体表面の粗さ（Ｒｚ）を指標とし、判断基準は以下の通りとした。Tokyo  SEIMITSU社製のSurfcomにより測定した。実施例の構成を表３３に、評価結果を表３４にそれぞれ示す。
◎：Ｒｚ  ２．５μｍ以下
○：Ｒｚ  ２．５〜３．５μｍ
×：Ｒｚ  ３．５μｍ以上
【０２０７】
（実施例２〜６）
感光体Ａの代わりに感光体Ｂ〜Ｆをそれぞれ使用して実施例１と同様にしてキャリア画像を形成し、評価を行った。評価結果を表３４にそれぞれ示す。
【０２０８】
（実施例７，８）
磁性毛として表３２の磁性毛１の代わりに磁性毛２，３をそれぞれ使用して実施例１と同様にしてキャリア画像を形成し、評価を行った。評価結果を表３４にそれぞれ示す。
【０２０９】
（実施例９）
キャリア除去装置として図２に示す装置の代わりに図３に示す装置を使用して実施例１と同様にしてキャリア画像を形成し、評価を行った。評価結果を表３４に示す。なお、図３に示すキャリア除去装置２２では、回収ロール３２２は、非磁性体の回転可能な円筒状のスリーブ３２４と、そのスリーブ３２４に収納され回転不能に固定された円柱状の永久磁石３２５とから構成した。ブレード３２３（材質ポリウレタン、板状形状）はスリーブ３２４に接するようにし、スリーブ３２４は外径が１２ｍｍφのＳＵＳで形成し、キャリア回収ローラ３０の周速よりも速い周速（３１７ｍｍ／ｓｅｃ）で、キャリア回収ローラ３０に対しＡｇａｉｎｓｔ方向（図示の矢印Ｃの方向）に回転させた。永久磁石３２５は、その周方向にＳ１極とＮ１極との２極を備えたものとし、各磁極の磁束密度は共に７５０ガウスとした。回収ロール３２２の中心軸の配置位置は、キャリア回収ローラ３０の後方にあって、かつキャリア回収ローラ３０の中心水平軸に対し１５度上方の位置とし、キャリア回収ローラ３０の同磁極Ｎ１，Ｎ２間に形成される反発磁界の領域に配置した。
【０２１０】
（実施例１０）
キャリア除去装置として図２に示す装置の代わりに図４に示す装置を使用して実施例１と同様にしてキャリア画像を形成し、評価を行った。評価結果を表３４に示す。なお、図４に示すキャリア除去装置２２では、回収ロール３２２のスリーブ３２４の回転方向は、キャリア回収ローラ３０の回転方向に対しＷｉｔｈ方向（図示の矢印Ｄ方向）とした。ブレード３２３は材質ポリウレタン、板状形状のものを使用した。
【０２１１】
（実施例１１）
キャリア回収機構を設けなかった以外は実施例８と同様にしてキャリア画像を形成し、評価を行った。評価結果を表３４に示す。
【０２１２】
（比較例１）
感光体Ａの代わりに感光体Ｇを使用して実施例１と同様にしてキャリア画像を形成し、評価を行った。評価結果を表３４にそれぞれ示す。
【０２１３】
（比較例２）
磁性毛１の代わりに表３２に示す非磁性繊維１を使用して実施例１と同様にしてキャリア画像を形成し、評価を行った。なお、キャリア回収ローラ３０は、キャリア回収ローラ３０から内包する永久磁石４２を取り去ったものとし、同様にキャリア回収機構においても、キャリア回収ブレード３２１を具備させなかった。評価結果を表３４にそれぞれ示す。
【０２１４】
（比較例３）
感光体Ａの代わりに感光体Ｇを使用して比較例２と同様にしてキャリア画像を形成し、評価を行った。評価結果を表３４にそれぞれ示す。
【０２１５】
【表３３】
2006276103.tif 000042
【０２１６】
【表３４】
2006276103.tif 000043
【０２１７】
表３４からわかるように、磁気的吸引手段によるキャリア除去装置を設け、かつ架橋フェノール系樹脂及び架橋シロキサン系樹脂のうち少なくとも１種であって、電荷輸送性構造単位を有する樹脂を含む保護層を備える感光体Ａ〜Ｆを使用した実施例１〜１１は、キャリア除去性能、感光体の傷、長期走行試験についていずれも良好であった。しかし、実施例の保護層を設けない感光体Ｇを使用した比較例１では、キャリア除去性能、感光体傷、長期走行試験についていずれも結果が悪かった。さらに、実施例１と同様の保護層を設けたが、キャリア除去装置に非磁性繊維を使用した比較例２は、キャリア除去性能が悪かった。また、実施例の保護層を設けず、キャリア除去装置に非磁性繊維を使用した比較例３は、キャリア除去性能、感光体傷、長期走行試験についていずれも結果が悪かった。
【０２１８】
また、上述の未転写のベタ黒のキャリア画像のクリーニングを多数回繰り返すテストを行ったところ、キャリア回収機構を設けなかった実施例１１に関しては、それまで良好であったクリーニング性が徐々に悪化していった。クリーニング性が悪化したときのキャリア回収ローラ３０を観察したところ、磁性毛が見えなくなるほどキャリアで覆われており、ブレードでキャリアを掻き落とすことのできないほどの、いわゆるフリッキング不良となっていた。
【０２１９】
これは、感光体表面から除去したキャリアの回収が不充分となり、やがて磁性毛へのキャリアの堆積が生じ、保持しきれずブラシからキャリアの流出が起こることが原因であると考えられる。
【０２２０】
以上のように、感光体表面に付着してくるキャリアに対し、本発明の画像形成装置を用いることにより、感光体表面に付着した磁性キャリアを磁気的吸引力で除去し、除去したキャリアを回収し、またキャリアとの摺擦で発生する感光体傷を低減できるため、クリーニングの長期安定性を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２２１】
【図１】本発明の実施形態に係る画像形成装置の一例の概略を示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係るキャリア除去装置の一例の概略を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係るキャリア除去装置の他の例の概略を示す図である。
【図４】本発明の実施形態に係るキャリア除去装置の他の例の概略を示す図である。
【符号の説明】
【０２２２】
１  画像形成装置、１０  帯電部、１２  露光部、１４  感光体ドラム、１６  現像部、１８  転写部、２０  クリーニング部、２２  キャリア除去装置、２４  定着部、２６  転写材、３０  キャリア回収ローラ、３２  キャリア回収機構、３２１  キャリア回収ブレード、３２２  回収ロール、３２３  ブレード、３２４  スリーブ、３２５  永久磁石、３４  搬送用パドル、３６  廃トナー回収箱、３８  スリーブ、４０  磁性毛、４２  永久磁石（マグネット）。
【図１】
2006276103.tif 000044
【図２】
2006276103.tif 000045
【図３】
2006276103.tif 000046
【図４】
2006276103.tif 000047