(57)【要約】      （修正有）【課題】感光体又は中間転写体のいずれも損傷することなく白抜け画像の発生を十分に防止することができ、良好な画像品質を長期にわたって安定的に得ることが可能な画像形成装置を提供する。【解決手段】感光体の感光層は、導電性基体と反対側の面上に設けられた表面層を有し、この表面層はメチロール基を有するフェノール誘導体と、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を有する電荷輸送材料とを含有するフェノール誘導体含有層を含み、フェノール誘導体含有層の赤外吸収スペクトルは次式で示される条件を満たす。（Ｐ２／Ｐ１）≦０．２［Ｐ１は１５６０ｃｍ−１〜１６４０ｃｍ−１に存在する最大吸収ピークの吸光度、Ｐ２は１６４５ｃｍ−１〜１７００ｃｍ−１に存在する最大吸収ピークの吸光度］【選択図】図１
2006276263.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像情報に応じた静電潜像を形成する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像として可視化する現像装置と、
前記電子写真感光体から１次転写されるトナー像を記録媒体に２次転写する中間転写体と、
を備える画像形成装置において、
前記電子写真感光体が、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層とを備え、前記感光層は、前記導電性基体と反対側の面上に設けられた表面層を有し、
前記表面層が、メチロール基を有するフェノール誘導体と、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を有する電荷輸送材料とを含有するフェノール誘導体含有層を含み、
前記フェノール誘導体含有層の赤外吸収スペクトルが下記式（１）で示される条件を満たし、且つ
前記中間転写体の転写面の表面抵抗率が１×１０１１〜１×１０１３Ω／□であることを特徴とする画像形成装置。
（Ｐ２／Ｐ１）≦０．２      （１）
［式（１）中、Ｐ１は１５６０ｃｍ−１〜１６４０ｃｍ−１に存在する最大吸収ピークの吸光度を、Ｐ２は１６４５ｃｍ−１〜１７００ｃｍ−１に存在する最大吸収ピークの吸光度を示す。］
【請求項２】
前記電子写真感光体の表面層のイオン化ポテンシャルが５．０〜６．０ｅＶであり、且つ前記中間転写体の転写面のイオン化ポテンシャルが４．７ｅＶ以下であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記中間転写体が導電剤分散のポリイミド樹脂材料を含んで構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記熱硬化性フェノール樹脂がレゾール型フェノール樹脂であることを特徴とする請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記中間転写体がベルト状又はドラム状であることを特徴とする請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式により画像形成を行う画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置は、像担持体である電子写真感光体（以下、場合により「感光体」と略す。）上に一様な電荷を形成し、次いで、画像信号を変調したレーザー光等で静電濳像を形成した後、帯電したトナーで前記静電濳像を現像して可視化したトナー像とし、このトナー像を用紙等の記録媒体に静電的に転写せしめることで所要の再生画像を得るものである。
【０００３】
このような画像形成装置における転写方式としては、感光体表面上のトナー像を被転写媒体に直接転写するものと、感光体表面のトナー像を中間転写体に１次転写し、その１次転写像を被転写媒体に２次転写するもの（中間転写方式）とに大別される。このうち、中間転写方式は、カラーの原稿画像を色分解して所定の色（ブラック、シアン、マゼンタ、イエローなど）のトナー像を形成し、これらを中間転写体に重ねて転写することによってカラー画像を再現できるので、特にフルカラー画像形成装置に広く利用されている。
【０００４】
しかし、かかる中間転写方式において各色トナー像の全てを確実に転写することは非常に困難であり、各色トナー像の１次転写工程での局所的な転写抜けにより、原稿画像の色合いが忠実に再現されなかったり、再現された画像上に白抜け状の部分が生じたりすることがある。
【０００５】
そこで、かかる現象を回避すべく、１次転写工程における転写性を向上させるための様々な方法が検討されている。例えば下記特許文献１〜５には、中間転写体表面を粗くして感光体と中間転写体との密着性を高める技術が開示されている。また、下記特許文献６には、感光体の線速度と中間転写体の線速度とを異なる値に設定し、その線速度差に起因する機械的な力と転写電界による電気的な力との双方により１次転写工程における転写性を高める技術が開示されている。さらに、下記特許文献７、８には転写ニップ圧を制御する方法が、下記特許文献９、１０には中間転写体の濡れ性を低減して転写性を高める方法が、下記特許文献１１には中間転写体の表面張力を感光体の表面張力よりも大きくする方法が、それぞれ開示されている。
【特許文献１】特開昭６３−１９４２７２号公報
【特許文献２】特開平３−２４２６６７号公報
【特許文献３】特開平４−３０３８６９号公報
【特許文献４】特開平４−３０３８７２号公報
【特許文献５】特開平５−１９３０２０号公報
【特許文献６】特開平２−２１３８８２号公報
【特許文献７】特開平１−１７７０６３号公報
【特許文献８】特開平４−２８４４７９号公報
【特許文献９】特開平２−１９８４７６号公報
【特許文献１０】特開平２−２１２８６７号公報
【特許文献１１】特開平８−２１１７５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記従来の画像形成装置であっても、白抜け画像の発生を十分に防止することは必ずしも容易とは言えない。また、中間転写体表面を粗くする方法や感光体−中間転写体間の線速度差を設定する方法の場合は、感光体や中間転写体の表面に摩耗や損傷が生じやすく、これらの方法では画像形成装置の寿命が短くなってしまう。
【０００７】
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、感光体又は中間転写体のいずれも損傷することなく白抜け画像の発生を十分に防止することができ、良好な画像品質を長期にわたって安定的に得ることが可能な画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、従来の画像形成装置における白抜け画像の発生要因の一つが、二次転写部での用紙剥離時に中間転写体と用紙との間に発生する剥離放電によって中間転写体の用紙走行部の表面抵抗率が周辺部位よりも低下し、これによって用紙走行部での転写効率が周辺部位より低下することに起因していることを見出した。そして、かかる知見に基づいてさらに研究した結果、特定の条件を満たす中間転写体と電子写真感光体とを組み合わせて用いた場合に上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明の画像形成装置は、画像情報に応じた静電潜像を形成する電子写真感光体と、電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像として可視化する現像装置と、電子写真感光体から１次転写されるトナー像を記録媒体に２次転写する中間転写体と、を備える画像形成装置において、電子写真感光体が、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層とを備え、感光層は、導電性基体と反対側の面上に設けられた表面層を有し、表面層が、メチロール基を有するフェノール誘導体と、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を有する電荷輸送材料とを含有するフェノール誘導体含有層を含み、該フェノール誘導体含有層の赤外吸収スペクトルが下記式（１）で示される条件を満たし、且つ中間転写体の転写面の表面抵抗率が１×１０１１〜１×１０１３Ω／□であることを特徴とする。
（Ｐ２／Ｐ１）≦０．２      （１）
［式（１）中、Ｐ１は１５６０ｃｍ−１〜１６４０ｃｍ−１に存在する最大吸収ピークの吸光度を、Ｐ２は１６４５ｃｍ−１〜１７００ｃｍ−１に存在する最大吸収ピークの吸光度を示す。］
本発明の画像形成装置では、帯電した感光体の露光により静電潜像が形成され、当該静電潜像が現像されて感光体表面にトナー像が形成される。このトナー像は感光体から中間転写体に１次転写され、さらに中間転写体から被転写媒体に２次転写される。このとき、上記特定の表面層を備える感光体と、転写面の表面抵抗率が上記特定の条件を満たす中間転写体とを組み合わせることによって、感光体又は中間転写体のいずれも損傷することなくトナー像を十分に均一に転写することができる。従って、本発明の画像形成装置によって、白抜け画像などの画像欠陥の発生を十分に防止することができ、良好な画像を長期にわたって安定的に得ることが可能となる。
【００１０】
なお、上記特定のフェノール誘導体含有層を設けることにより上述の効果が得られる理由は必ずしも明確ではないが、本発明者らは以下のように推察する。
【００１１】
すなわち、メチロール基を有するフェノール誘導体を用いて塗膜を形成する過程において、フェノール誘導体のメチロール基のうち一部は、ホルミル基等の酸化物になると考えられる。このようなホルミル基等の酸化物は、感光体中の電荷輸送を妨げるキャリアトラップとして作用し、感光体の電気特性を低下させると考えられる。ここで、赤外吸収スペクトルにおいて、１５６０ｃｍ−１〜１６４０ｃｍ−１に存在する最大吸収ピーク（Ｐ１）は、フェノール誘導体の芳香族Ｃ−Ｃ伸縮振動に相当する。また、１６４５ｃｍ−１〜１７００ｃｍ−１に存在する最大吸収ピーク（Ｐ２）は、ホルミル基等の酸化物に由来すると考えられる。つまり、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が小さい感光体は、感光体中のホルミル基等の酸化物が少なく、キャリア輸送性に優れると考えられる。そして、本発明にかかる電子写真感光体が上記特定の材料を用いて構成され、且つ吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が０．２以下であると、電気特性に優れ、高画質化が達成できるものと考えられる。
【００１２】
また、本発明の画像形成装置においては、電子写真感光体の表面層のイオン化ポテンシャルが５．０〜６．０ｅVであり、且つ中間転写体の転写面のイオン化ポテンシャルが４．７ｅV以下であることが好ましい。感光体の表面層及び中間転写体の転写面のイオン化ポテンシャルがそれぞれ上記条件を満たすことにより、中間転写体への転写残りなどが少ない良好な転写を実現できる。
【００１３】
また、本発明の画像形成装置が備える中間転写体は、導電剤分散のポリイミド樹脂材料を含んで構成されていることが好ましい。
【００１４】
また、電子写真感光体の表面層に含まれる熱硬化性フェノール樹脂はレゾール型フェノール樹脂であることが好ましい。
【００１５】
本発明の画像形成装置が備える中間転写体の形状は特に制限されないが、ベルト状又はドラム状とするのが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の画像形成装置によれば、感光体又は中間転写体のいずれも損傷することなく白抜け画像の発生を十分に防止することができ、良好な画像品質を長期にわたって安定的に得ることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
【００１８】
図１は本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す概略構成図である。図１中、１は像担持体としての感光体ドラム、２は中間転写体としての転写ベルト、３は転写電極であるバイアスロール、４は転写媒体である用紙を供給するトレー、５はＢ（ブラック）トナーによる現像装置、６はＹ（イエロー）トナーによる現像装置、８はＣ（シアン）トナーによる現像装置、９はベルトクリーナ、１３は剥離爪、２１、２３、２４はベルトローラ、２２はバックアップロール、２５は導電性ロール、２６は電極ロール、３１はクリーニングブレード、４１は用紙、４２はピックアップローラ、４３はフィードローラである。そして、感光体ドラム１は、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、該感光層の前記導電性基体と反対側の面上に設けられた熱硬化性フェノール樹脂を含有する表面層とを有するものである。また、転写ベルト２は、その転写面の表面抵抗率が１×１０１１〜１×１０１３Ω／□のものである。
【００１９】
図１に示した画像形成装置において、感光体ドラム１は矢印Ａ方向に回転し、図示しない帯電装置でその表面が一様に帯電される。帯電された感光体ドラム１にレーザー書き込み装置等の画像書き込み手段により第１色（例えばＢ）の静電潜像が形成される。この静電潜像は現像装置５によってトナー現像されて可視化されたトナー像Ｔが形成される。トナー像Ｔは、感光体ドラム１の回転で導電性ロール２５が配置された一次転写部に至り、導電性ロール２５から作用する逆極性の電界により静電的に転写ベルト２に吸着されつつ転写ベルト２の矢印Ｂ方向の回転で一次転写される。以下、同様にして第２色のトナー像、第３色のトナー像、第４色のトナー像が順次形成され転写ベルト２において重ね合わされ、多重トナー像が形成される。
【００２０】
このようにして転写ベルト２に形成された多重トナー像は、転写ベルト２の回転でバイアスロール３が設置された二次転写部に至る。この二次転写部は、転写ベルト２のトナー像が担持された表面側に設置されたバイアスロール３と当該転写ベルト２の裏側からバイアスロールに対向するごとく配置されたバックアップロール２２及びこのバックアップロール２２に圧接して回転する電極ロール２６から構成されている。
【００２１】
用紙４１は用紙トレー４に収容された用紙からピックアップローラ４２で一枚ずつ取り出され、フィードロール４３で二次転写部の転写ベルト２とバイアスロール３との間に所定のタイミングで給送される。給送された用紙４１には、バイアスロール３とバックアップロール２２とによる圧接搬送と、転写ベルト２の回転とによって、当該転写ベルト２に担持されたトナー像が転写される。トナー像が転写された用紙４１は、最終トナー像の一次転写終了まで退避位置にある剥離爪１３を作動せることにより転写ベルト２から剥離され、図示しない定着装置に搬送され、加圧／加熱処理でトナー像を固定して永久画像とされる。
【００２２】
なお、多重トナー像の用紙４１への転写の終了した転写ベルト２は、二次転写部の下流に設けたベルトクリーナ９で残留トナーの除去が行われて次の転写に備える。また、バイアスロール３にはポリウレタン等からなるクリーニングブレード３１が常時当接するごとく取り付けられており、転写で付着したトナー粒子や紙紛等の異物が除去される。
【００２３】
単色画像の転写の場合は、一次転写されたトナー像Ｔを直ちに二次転写して定着装置に搬送するが、複数色の重ね合わせによる多色画像の転写の場合は各色のトナー像が一次転写部で正確に一致するように転写ベルト２と感光体ドラム１との回転を同期させて各色のトナー像がずれないようにする。上記二次転写部では、バイアスロール３と転写ベルト２を介して対向配置したバックアップロール２２に圧接した電極ロール２６にトナー像の極性と同極性の出圧（転写電圧）を印加することで当該トナー像を用紙４１に静電反発で転写する。
【００２４】
このような画像形成装置において、感光体ドラム１として、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、該感光層の導電性基体と反対側の面上に設けられた熱硬化性フェノール樹脂を含有する表面層とを有するものを用い、また、転写ベルト２として、その転写面の表面抵抗率が１×１０１１〜１×１０１３Ω／□であるものを用いることによって、感光体又は中間転写体のいずれも損傷することなく白抜け画像の発生を十分に防止することができ、良好な画像品質を長期にわたって安定的に得ることが可能となる。
【００２５】
また、本発明の画像形成装置は中間転写ドラム方式が採用されたものであってもよい。図２は中間転写ドラムを備えるカラー画像形成装置の好適な一実施形態を示す概略構成図である。図２に示したカラー画像形成装置は、図１中の転写ベルト２の代わりに中間転写ドラム３０を備える。また、図１中のベルト搬送ロール１７、１８、１９は、当然不要であり、バックアップロール２０に対応する電極部材は必ずしも必要ではない。かかる構成からなるカラー画像形成装置は、図１に示す画像形成装置とほぼ同様に動作するので、その作用の説明を省略する。
【００２６】
このような画像形成装置において、感光体ドラム１として、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、該感光層の導電性基体と反対側の面上に設けられた熱硬化性フェノール樹脂を含有する表面層とを有するものを用い、また、中間転写ドラム３０として、その転写面の表面抵抗率が１×１０１１〜１×１０１３Ω／□であるものを用いることによって、感光体又は中間転写体のいずれも損傷することなく白抜け画像の発生を十分に防止することができ、良好な画像品質を長期にわたって安定的に得ることが可能となる。
【００２７】
次に、本発明の画像形成装置が備える電子写真感光体及び中間転写体について詳述する。
（電子写真感光体）
本発明にかかる電子写真感光体は、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、該感光層の前記導電性基体と反対側の面上に設けられた熱硬化性フェノール樹脂を含有する表面層とを有する。なお、本発明にかかる電子写真感光体が備える感光層は、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層に含有する単層型感光層、又は電荷発生材料を含有する層（電荷発生層）と電荷輸送材料を含有する層（電荷輸送層）とを別個に設けた機能分離型感光層のいずれであってもよい。機能分離型感光層の場合、電荷発生層と電荷輸送層の積層順序はいずれが上層であってもよい。なお、機能分離型感光層の場合、それぞれの層がそれぞれの機能を満たせばよいという機能分離ができるため、より高い機能を実現できる。
【００２８】
図３は、本発明にかかる電子写真感光体の好ましい一例を示す模式断面図である。図３に示すように、電子写真感光体１は、導電性基体２０２と、感光層２０３とから構成されている。感光層２０３は、導電性基体２０２上に、下引層２０４、電荷発生層２０５及び電荷輸送層２０６がこの順序で積層された構造を有している。図３に示す電子写真感光体１では、電荷輸送層２０６がフェノール誘導体含有層である。
【００２９】
また、図４〜７はそれぞれ本発明にかかる電子写真感光体の他の例を示す模式断面図である。図４〜５に示す電子写真感光体は、図３に示す電子写真感光体と同様に電荷発生層２０５と電荷輸送層２０６とに機能が分離された感光層２０３を備えるものである。また、図６〜７は、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（単層型感光層２０８）に含有するものである。
【００３０】
図４に示す電子写真感光体１は導電性基体２０２上に下引層２０４、電荷発生層２０５、電荷輸送層２０６及び保護層２０７が順次積層された構造を有するものである。また、図５に示す電子写真感光体１は、導電性基体２０２上に下引層２０４、電荷輸送層２０６、電荷発生層２０５、保護層２０７が順次積層された構造を有するものである。図４及び５に示す電子写真感光体１において、保護層２０７がフェノール誘導体含有層である。また、図６に示す電子写真感光体１は、導電性基体２０２上に下引層２０４、単層型感光層２０８が順次積層された構造を有するものであり、単層型感光層２０８がフェノール誘導体含有層である。また、図７に示す電子写真感光体１は、導電性支持体２上に下引層２０４、単層型感光層２０８、保護層２０７が順次積層された構造を有するものであり、保護層２０７がフェノール誘導体含有層である。なお、電子写真感光体１においては、下引層２０４は必ずしも設けられなくともよい。
【００３１】
以下、図４に示す電子写真感光体１を例にとり、電子写真感光体の各要素について説明する。
【００３２】
導電性基体２０２としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体２０２としては、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等も使用できる。
【００３３】
導電性基体２０２の表面は、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ〜０．５μｍに粗面化することが好ましい。導電性基体２０２の表面のＲａが０．０４μｍ未満であると、鏡面に近くなるので干渉防止効果が不十分となる傾向がある。他方、Ｒａが０．５μｍを越えると、被膜を形成しても画質が不十分となる傾向がある。非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、導電性基体２０２表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
【００３４】
粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、又は回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が好ましい。
【００３５】
粗面化の方法としては、導電性基体２０２表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる微粒子により粗面化する方法も好ましく用いられる。
【００３６】
上記陽極酸化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、そのままの多孔質陽極酸化膜は、化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行う。
【００３７】
陽極酸化膜の膜厚については、０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍ未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、１５μｍを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向がある。
【００３８】
また、導電性基体２０２には、酸性水溶液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調整する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が１０〜１１質量％の範囲、クロム酸が３〜５質量％の範囲、フッ酸が０．５〜２質量％の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５〜１８質量％の範囲が好ましい。処理温度は４２〜４８℃が好ましいが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜を形成することができる。被膜の膜厚は、０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍ未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、１５μｍを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向がある。
【００３９】
ベーマイト処理は、９０〜１００℃の純水中に５〜６０分間浸漬すること、又は９０〜１２０℃の加熱水蒸気に５〜６０分間接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚は、０．１〜５μｍが好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４０】
下引層２０４は、導電性基体２０２上に形成される。下引層２０４は、有機金属化合物及び／又は結着樹脂を含有して構成される。
【００４１】
有機金属化合物としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤等の有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤等の有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤等の有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物等が挙げられる。
【００４２】
有機金属化合物としては、残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、特に有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物が好ましく使用される。
【００４３】
結着樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知のものが挙げられる。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて適宜設定することができる。
【００４４】
また、下引層２０４には、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス２メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させてもよい。
【００４５】
また、下引層２０４中には、低残留電位化や環境安定性の観点から、電子輸送性顔料を混合／分散して使用することもできる。電子輸送性顔料としては、特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。
【００４６】
これらの顔料の中では、ペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、酸化亜鉛又は酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。
【００４７】
また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、結着樹脂等で表面処理してもよい。
【００４８】
電子輸送性顔料は多すぎると下引層２０４の強度を低下させ、塗膜欠陥の原因となるため、下引層２０４の固形分全量を基準として好ましくは９５質量％以下、より好ましくは９０質量％以下で使用される。
【００４９】
また、下引層２０４には、電気特性の向上や光散乱性の向上等の目的により、各種の有機化合物の微粉末若しくは無機化合物の微粉末を添加することが好ましい。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料やアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料やポリテトラフルオロエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子等が有効である。
【００５０】
添加微粉末の粒径は、０．０１〜２μｍのものが好ましい。微粉末は必要に応じて添加されるが、その添加量は下引層２０４の固形分全量を基準として、１０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがより好ましい。
【００５１】
下引層２０４は上述した各構成材料を含有する下引層形成用塗布液を用いて形成される。下引層形成用塗布液に使用される有機溶剤としては、有機金属化合物や結着樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合及び／又は分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであればよい。
【００５２】
有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常のものが挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００５３】
各構成材料の混合及び／又は分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、振動ボールミル、コロイドミル、ペイントシェーカー超音波等を用いる常法が適用される。混合及び／又は分散は有機溶剤中で行われる。
【００５４】
下引層２０４を形成する際の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００５５】
乾燥は、通常、溶剤を蒸発させ、成膜可能な温度で行われる。特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った導電性基体２０２は、基材の欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引層２０４を形成することが好ましい。
【００５６】
下引層２０４の膜厚は、好ましくは０．０１〜３０μｍ、より好ましくは０．０５〜３０μｍ、さらに好ましくは０．１〜３０μｍ、特に好ましくは０．２〜２５μｍである。
【００５７】
電荷発生層２０５は、電荷発生材料、さらには必要に応じて結着樹脂を含んで構成される。
【００５８】
電荷発生材料は、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等の有機顔料や三方晶セレン、酸化亜鉛等の無機顔料等公知のものを使用することができる。電荷発生材料としては、特に、３８０〜５００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料、三方晶セレン、ジブロモアントアントロン等が好ましい。その中でも、特開平５−２６３００７号公報及び特開平５−２７９５９１号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報及び特開平５−１４０４７３号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報及び特開平５−４３８１３号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
【００５９】
結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。
【００６０】
結着樹脂としては、好ましくは、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００６１】
電荷発生層２０５は、電荷発生材料を蒸着により、又は電荷発生材料及び結着樹脂を含有する電荷発生層形成用塗布液により形成される。電荷発生層２０５を電荷発生層形成用塗布液を用いて形成する場合、電荷発生材料と結着樹脂の配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
【００６２】
電荷発生層形成用塗布液に、上記各構成材料を分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができる。この際、分散によって顔料の結晶型が変化しない条件が必要とされる。さらにこの分散の際、粒子を好ましくは０．５μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。
【００６３】
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００６４】
電荷発生層形成用塗布液を用いて電荷発生層２０５を形成する際には、塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００６５】
電荷発生層２０５の膜厚は、好ましくは０．１〜５μｍ、より好ましくは０．２〜２．０μｍである。
【００６６】
電荷輸送層２０６は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して構成される。
【００６７】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物が挙げられるが、特にこれらに限定されない。これらの電荷輸送材料は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００６８】
また、電荷輸送材料としては、モビリティーの観点から、下記一般式（ａ−１）、（ａ−２）又は（ａ−３）で示される化合物が好ましい。
【００６９】
【化１】
2006276263.tif 000003
【００７０】
上記式（ａ−１）中、Ｒ３４は水素原子又はメチル基を、ｋ１０は１又は２を示す。また、Ａｒ６及びＡｒ７は置換又は未置換のアリール基を示し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数１〜３のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【００７１】
【化２】
2006276263.tif 000004
【００７２】
ここで、上記式（ａ−２）中、Ｒ３５及びＲ３５’はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を、Ｒ３６、Ｒ３６’、Ｒ３７及びＲ３７’はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ３８）＝Ｃ（Ｒ３９）（Ｒ４０）、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を、Ｒ３８、Ｒ３９及びＲ４０はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。ｍ３及びｍ４はそれぞれ独立に０〜２の整数を示す。
【００７３】
【化３】
2006276263.tif 000005
【００７４】
ここで、上記式（ａ−３）中、Ｒ４１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を示す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を示す。Ｒ４２、Ｒ４２’、Ｒ４３、及びＲ４３’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
【００７５】
電荷輸送層２０６に用いる結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：５が好ましい。
【００７６】
高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、特に好ましいものである。
【００７７】
高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層２０６の構成材料として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【００７８】
電荷輸送層２０６は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。
【００７９】
電荷輸送層形成用塗布液の溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【００８０】
電荷輸送層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００８１】
電荷輸送層２０６の膜厚は、好ましくは５〜５０μｍ、より好ましくは１０〜３０μｍである。
【００８２】
感光層２０３には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、又は光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。
【００８３】
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。
【００８４】
また、感光層２０３には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させることができる。
【００８５】
電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等を挙げることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【００８６】
保護層２０７は、熱硬化性フェノール樹脂を含んで構成されるもので、本発明にかかる電子写真感光体の表面層に相当する。保護層２０７に含まれる熱硬化性フェノール樹脂としては、レゾール型フェノール樹脂が好ましい。
【００８７】
保護層２０７は、好ましくは、電荷輸送性を有するフェノール樹脂架橋膜、より好ましくは、少なくともメチロール基を有するフェノール誘導体の1種以上と、電荷輸送成分として水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基、アミノ基から選択される置換基を少なくとも１つ含有する電荷輸送材料の１種以上とからなる架橋膜で構成されることが望ましい。
【００８８】
メチロール基を有するフェノール誘導体としては、レゾルシン、ビスフェノールなど、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノールなどの水酸基を１個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノンなどの水酸基を２個含む置換フェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺなどのビスフェノール類、ビフェノール類など、フェノール構造を有する化合物とホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等を酸、あるいは、アルカリ触媒下で反応させ、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類、トリメチロールフェノール類のモノマー、及びそれらの混合物、又はそれらをオリゴマー化されたもの、およびモノマーとオリゴマーの混合物を作製する。このうち、分子の構造単位の繰り返しが２〜２０程度の比較的大きな分子がオリゴマー、それ以下のものがモノマーである。この時用いられる酸触媒としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、リン酸などが用いられ、アルカリ触媒として、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）２等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物やアミン系触媒が用いられる。アミン系触媒として、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等あるが、これらに限定されるものではない。塩基性触媒を使用した場合には、残留する触媒によりキャリアが著しくトラップされ、電子写真特性を悪化させる場合が多いため、酸で中和するか、シリカゲルなどの吸着剤や、イオン交換樹脂などと接触させることにより不活性化、あるいは、除去することが好ましい。
【００８９】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体としては、フェノール樹脂が好ましく、レゾール型フェノール樹脂がより好ましい。
【００９０】
水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を有する電荷輸送材料としては、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）で示される化合物であることが好ましい。
【００９１】
Ｆ−［（Ｘ１）ｍ１−（Ｒ１）ｍ２−Ｙ］ｍ３            （Ｉ）
上記式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）を、Ｙは水酸基、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、チオール基（−ＳＨ）又はアミノ基（−ＮＨ２）を示し、ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立に０又は１を、ｍ３は１〜４の整数を示す。
【００９２】
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ）ｎ３Ｇ］ｎ４    （ＩＩ）
上記式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ２はアルキレン基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）を、Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、Ｇはエポキシ基を、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に０又は１を、ｎ４は１〜４の整数を示す。
【００９３】
Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３-ａ）Ｑａ］ｂ              （ＩＩＩ）
上記式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｄは可とう性を有する２価の基を、Ｒ３は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）又は置換若しくは未置換のアリール基（炭素数は６〜２０が好ましく、６〜１５がより好ましい）を、Ｑは加水分解性基を、ａは１〜３の整数を、ｂは１〜４の整数を示す。
【００９４】
また、上記可とう性を有する２価の基Ｄとしては、具体的には、光電特性を付与するためのＦの部位と、３次元的な無機ガラス質ネットワークの構築に寄与する置換ケイ素基とを結びつける働きを担う２価の基である。また、Ｄは、堅い反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークの部分に適度な可とう性を付与し、膜としての機械的強靱さを向上させる働きを担う有機基構造を表す。Ｄとして具体的には、−ＣαＨ２α−、−ＣβＨ２β−２−、−ＣγＨ２γ−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、αは１〜１５の整数を表し、βは２〜１５の整数を表し、γは３〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ６Ｈ４）−（Ｃ６Ｈ４）−、及び、これらの特性基を任意に組み合わせた構造を有する特性基、更にはこれらの特性基の構成原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。また、上記加水分解性基Ｑとしては、アルコキシ基が好ましく、炭素数１〜１５のアルコキシ基がより好ましい。
【００９５】
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ）ｎ３Ｇ］ｎ４    （ＩV）
上記式（ＩV）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ２はアルキレン基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）を、Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、Ｇはエポキシ基を、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に０又は１を、ｎ４は２〜４の整数を示す。
【００９６】
さらに、本実施形態においては、保護層２０７が、メチロール基を有するフェノール誘導体と、下記式（V）又は（VＩ）で示される電荷輸送材料とを含有することが好ましい。なお、これらの電荷輸送材料は、樹脂と反応或いは樹脂を構成する化合物と反応して、電荷輸送能を有する構造単位として架橋構造に組み込まれていてもよい。
【００９７】
【化４】
2006276263.tif 000006
【００９８】
ここで、式（V）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ７価の有機基を、Ｔは２価の基を、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を、Ｒ７は１価の有機基を、ｍ１は０又は１を、ｎ７は１〜４の整数を、それぞれ示す。但し、Ｒ６とＲ７は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。
【００９９】
【化５】
2006276263.tif 000007
【０１００】
ここで、式（VＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ８価の有機基を、Ｔは２価の基を、Ｒ８は１価の有機基を、ｍ２は０又は１を、ｎ８は１〜４の整数を、それぞれ示す。
【０１０１】
上記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩV）、（V）又は（VＩ）で示される化合物における正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基Ｆとしては、下記一般式（VＩＩ）で示される化合物が好ましい。
【０１０２】
【化６】
2006276263.tif 000008
【０１０３】
ここで、式（VＩ）中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を、ｋは０又は１を、それぞれ示す。但し、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４及びＡｒ５のうち１〜４個は、上記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩV）、（V）又は（VＩ）で示される化合物における、−［（Ｘ１）ｍ１−（Ｒ１）ｍ２−Ｙ］、−［（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ）ｎ３Ｇ］、−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３-ａ）Ｑａ］、下記式（V−１）で示される構造単位、又は下記式（VＩ−１）で示される構造単位で表される部位と結合するための結合手を有する。
【０１０４】
【化７】
2006276263.tif 000009
【０１０５】
【化８】
2006276263.tif 000010
【０１０６】
一般式（VＩＩ）で示される化合物におけるＡｒ１〜Ａｒ４で示される置換又は未置換のアリール基としては、具体的には、下記式（VＩＩ−１）〜（VＩＩ−７）に示されるアリール基が好ましい。
【０１０７】
【表１】
2006276263.tif 000011
【０１０８】
上記式（VＩＩ−７）で示されるアリール基におけるＡｒとしては、下記式（VＩＩ−８）又は（VＩＩ−９）で示されるアリール基が好ましい。
【０１０９】
【表２】
2006276263.tif 000012
【０１１０】
また、上記式（VＩＩ−７）で示されるアリール基におけるＺとしては、下記式（VＩＩ−１０）〜（VＩＩ−１７）で示される２価の基が好ましい。
【０１１１】
【表３】
2006276263.tif 000013
【０１１２】
ここで、上記式（VＩＩ−１）〜（VＩＩ−１７）中、Ｒ１６は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基を、Ｒ１７〜Ｒ２３はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を、ｍ及びｓはそれぞれ独立に０又は１を、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１〜１０の整数を、ｔはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。
【０１１３】
また、上記式（VＩＩ−１）〜（VＩＩ−７）中、Ｘは上記式（Ｉ）〜（VＩ）で示される化合物における、−［（Ｘ１）ｍ１−（Ｒ１）ｍ２−Ｙ］、−［（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ）ｎ３Ｇ］、−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３-ａ）Ｑａ］、上記式（V−１）で示される構造単位、又は上記式（VＩ−１）で示される構造単位で表される部位と結合するための結合手を有する。
【０１１４】
また、上記式（VＩＩ−１６）〜（VＩＩ−１７）中、Ｗは下記式（VＩＩ−１８）〜（VＩＩ−２６）で示される２価の基を示す。なお、式（VＩＩ−２５）中、ｕは０〜３の整数を示す。
【０１１５】
【表４】
2006276263.tif 000014
【０１１６】
また、上記一般式（VＩＩ）におけるＡｒ５の具体的構造としては、ｋ＝０の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｍ＝１の構造が、ｋ＝１の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｍ＝０の構造が挙げられる。
【０１１７】
また、上記一般式（ＩＩＩ）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６１）が挙げられる。なお、下記化合物（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６１）は、一般式（VＩＩ）で示される化合物のＡｒ１〜Ａｒ５及びｋを下記の表に示されるように組み合わせ、且つ、アルコキシシリル基（ｓ）を下記の表に示される特定のものとしたものである。
【０１１８】
【表５】
2006276263.tif 000015
【０１１９】
【表６】
2006276263.tif 000016
【０１２０】
【表７】
2006276263.tif 000017
【０１２１】
【表８】
2006276263.tif 000018
【０１２２】
【表９】
2006276263.tif 000019
【０１２３】
【表１０】
2006276263.tif 000020
【０１２４】
【表１１】
2006276263.tif 000021
【０１２５】
【表１２】
2006276263.tif 000022
【０１２６】
上記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩV）、（V）又は（VＩ）で示される化合物の具体例としては、下記化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−３８）、下記化合物（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−２）、下記化合物（ＩV−１）〜（ＩV−４５）、下記化合物（V−１）〜（V−４０）、又は下記化合物（VＩ−１）〜（VＩ−１３）を挙げることができる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０１２７】
【表１３】
2006276263.tif 000023
【０１２８】
【表１４】
2006276263.tif 000024
【０１２９】
【表１５】
2006276263.tif 000025
【０１３０】
【表１６】
2006276263.tif 000026
【０１３１】
【表１７】
2006276263.tif 000027
【０１３２】
【表１８】
2006276263.tif 000028
【０１３３】
【表１９】
2006276263.tif 000029
【０１３４】
【表２０】
2006276263.tif 000030
【０１３５】
【表２１】
2006276263.tif 000031
【０１３６】
【表２２】
2006276263.tif 000032
【０１３７】
【表２３】
2006276263.tif 000033
【０１３８】
【表２４】
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【０１３９】
【表２５】
2006276263.tif 000035
【０１４０】
【表２６】
2006276263.tif 000036
【０１４１】
【表２７】
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【０１４２】
【表２８】
2006276263.tif 000038
【０１４３】
【表２９】
2006276263.tif 000039
【０１４４】
【表３０】
2006276263.tif 000040
【０１４５】
【表３１】
2006276263.tif 000041
【０１４６】
【表３２】
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【０１４７】
【表３３】
2006276263.tif 000043
【０１４８】
【表３４】
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【０１４９】
【表３５】
2006276263.tif 000045
【０１５０】
【表３６】
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【０１５１】
【表３７】
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【０１５２】
【表３８】
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【０１５３】
【表３９】
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【０１５４】
【表４０】
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【０１５５】
【表４１】
2006276263.tif 000051
【０１５６】
【表４２】
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【０１５７】
【表４３】
2006276263.tif 000053
【０１５８】
【表４４】
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【０１５９】
【表４５】
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【０１６０】
【表４６】
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【０１６１】
【表４７】
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【０１６２】
【表４８】
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【０１６３】
【表４９】
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【０１６４】
【表５０】
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【０１６５】
【表５１】
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【０１６６】
【表５２】
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【０１６７】
また、保護層２０７には、保護層２０７の強度、膜抵抗等の種々の物性をコントロールするために、下記一般式（VＩＩＩ−１）で示される化合物を添加することもできる。
Ｓｉ（Ｒ５０）（４−ｃ）Ｑｃ            （VＩＩＩ−１）
上記式（VＩＩＩ−１）中、Ｒ５０は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｃは１〜４の整数を示す。
【０１６８】
上記一般式（VＩＩＩ−１）で示される化合物の具体例としては以下のようなシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシラン（ｃ＝４）；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の三官能性アルコキシシラン（ｃ＝３）；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシラン（ｃ＝２）；トリメチルメトキシシラン等の１官能アルコキシシラン（ｃ＝１）等を挙げることができる。膜の強度を向上させるためには３及び４官能のアルコキシシランが好ましく、可とう性、成膜性を向上させるためには１及び２官能のアルコキシシランが好ましい。
【０１６９】
また、主にこれらのカップリング剤より作製されるシリコーン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、及びＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等を用いることができる。
【０１７０】
また、保護層２０７には、その強度を高めるために、一般式（VＩＩＩ−２）に示すような２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
Ｂ−（Ｓｉ（Ｒ５１）（３−ｄ）Ｑｄ）２              （VＩＩＩ−２）
上記式（VＩＩＩ−２）中、Ｂは２価の有機基を、Ｒ５１は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ａは１〜３の整数を示す。一般式（VＩＩＩ−２）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（VＩＩＩ−２−１）〜（VＩＩＩ−２−１６）が好ましいものとして挙げることができる。
【０１７１】
【表５３】
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【０１７２】
さらに、膜特性のコントロール、液寿命の延長等のため、アルコール系、ケトン系溶剤に可溶な樹脂を添加してもよい。このような樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂等のポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。特に、電気特性上ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。
【０１７３】
また、放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度コントロール、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長等の目的で種々の樹脂を添加することができる。特にシロキサン系樹脂の場合はアルコールに溶解する樹脂を加えることが好ましい。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂等のポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。特に、電気特性上ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。
【０１７４】
上記樹脂の分子量は２０００〜１０００００が好ましく、５０００〜５００００がさらに好ましい。分子量は２０００より小さいと所望の効果が得られなくなる傾向があり、１０００００より大きいと溶解度が低くなり添加量が限られてしまったり、塗布時に製膜不良の原因になったりする傾向がある。添加量は１〜４０％が好ましく、さらに好ましくは１〜３０％であり、５〜２０％が最も好ましい。１％よりも少ない場合は所望の効果が得られにくくなり、４０％よりも多くなると高温高湿下での画像ボケが発生しやすくなる恐れがある。また、それらの樹脂は単独で用いてもよいが、それらを混合して用いてもよい。
【０１７５】
また、ポットライフの延長、膜特性のコントロールのため、下記一般式（VＩＩＩ−３）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物、若しくはその化合物からの誘導体を含有させることが好ましい。
【０１７６】
【化９】
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【０１７７】
上記式（VＩＩＩ−３）中、Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に一価の有機基を示す。
【０１７８】
一般式（VＩＩＩ−３）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンを挙げることができる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素原子含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等を挙げることができる。これらの環状シロキサン化合物は１種を単独で用いてもよいが、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１７９】
また、残留電位を下げるために保護層に導電性粒子を添加してもよい。導電性粒子としては、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等が挙げられるが、金属または金属酸化物がより好ましい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、またはこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いることもできる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の点で０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が好ましい。
【０１８０】
更に、電子写真感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性、硬度等を制御するために、各種微粒子を添加することもできる。それらは、単独で用いることもできるが、２種以上を併用してもよい。
【０１８１】
微粒子の一例として、ケイ素原子含有微粒子又はフッ素原子含有樹脂粒子を挙げることができる。ケイ素原子含有微粒子とは、構成元素にケイ素を含む微粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン微粒子等が挙げられる。ケイ素原子含有微粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒子径が好ましくは１〜１００ｎｍ、より好ましくは１０〜３０ｎｍであり、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、或いはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。保護層２０７中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、成膜性、電気特性、強度の面から保護層２０７の固形分全量を基準として好ましくは０．１〜５０質量％の範囲、より好ましくは０．１〜３０質量％の範囲で用いられる。
【０１８２】
ケイ素原子含有微粒子として用いられるシリコーン微粒子は、球状で、平均粒子径が好ましくは１〜５００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍであり、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子及びシリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。
【０１８３】
シリコーン微粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状を改善することができる。即ち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐摩耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。保護層２０７中のシリコーン微粒子の含有量は、保護層２０７の固形分全量を基準として好ましくは０．１〜３０質量％の範囲であり、より好ましくは０．５〜１０質量％の範囲である。
【０１８４】
フッ素原子含有樹脂粒子としては、４弗化エチレン、３弗化エチレン、６弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系微粒子や”第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９”に示される様な、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる微粒子が挙げられる。
【０１８５】
また、その他の微粒子としては、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物を挙げることができる。
【０１８６】
また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等を挙げることができる。これらは、保護層形成用塗布液に予め添加してもよいし、感光体を作製後、減圧、或いは加圧下等で含浸処理してもよい。
【０１８７】
また、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を使用することもできる。可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。保護層２０７にはヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
【０１８８】
酸化防止剤としては以下のような化合物が挙げられる。例えば、ヒンダートフェノール系としては、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＨＴ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＭＤＰ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＢＭ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＷＸ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＮＷ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−７６」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−１０１」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＭ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＳ」（以上住友化学社製）、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」（以上チバスペシャリティーケミカルズ社製）、「アデカスタブＡＯ−２０」、「アデカスタブＡＯ−３０」、「アデカスタブＡＯ−４０」、「アデカスタブＡＯ−５０」、「アデカスタブＡＯ−６０」、「アデカスタブＡＯ−７０」、「アデカスタブＡＯ−８０」、「アデカスタブＡＯ−３３０」（以上旭電化社製）；ヒンダートアミン系としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」（以上三共ライフテック社製）、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」（以上チバスペシャリティーケミカルズ社製）、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」（以上旭電化社製）、「スミライザーＴＰＳ」（以上住友化学社製）；チオエーテル系としては、「スミライザーＴＰ−Ｄ」（以上住友化学社製）；ホスファイト系としては、「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ・８」、「マークＰＥＰ・２４Ｇ」、「マークＰＥＰ・３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ・１０」（以上旭電化社製）が挙げられ、特にヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が好ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基等の置換基で変性してもよい。
【０１８９】
また、保護層２０７には、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を含有させてもよい。この場合、絶縁性樹脂は、所望の割合で添加することができ、これにより、電荷輸送層２０６との接着性、熱収縮やハジキによる塗布膜欠陥等を抑制することができる。
【０１９０】
保護層２０７は、上述した各構成材料を含有する保護層形成用塗布液を用いて形成される。
【０１９１】
保護層形成用塗布液の調製時には、触媒を用いることが好ましい。かかる触媒としては、塩酸、酢酸、リン酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸等の有機酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリエチルアミン等のアルカリ触媒が挙げられる。
【０１９２】
さらに、以下に示すような系に不溶な固体触媒を用いることもできる。アンバーライト１５、アンバーライト２００Ｃ、アンバーリスト１５Ｅ（以上、ローム・アンド・ハース社製）；ダウエックスＭＷＣ−１−Ｈ、ダウエックス８８、ダウエックスＨＣＲ−Ｗ２（以上、ダウ・ケミカル社製）；レバチットＳＰＣ−１０８、レバチットＳＰＣ−１１８（以上、バイエル社製）；ダイヤイオンＲＣＰ−１５０Ｈ（三菱化成社製）；スミカイオンＫＣ−４７０、デュオライトＣ２６−Ｃ、デュオライトＣ−４３３、デュオライト−４６４（以上、住友化学工業社製）；ナフィオン−Ｈ（デュポン社製）等の陽イオン交換樹脂；アンバーライトＩＲＡ−４００、アンバーライトＩＲＡ−４５（以上、ローム・アンド・ハース社製）等の陰イオン交換樹脂；Ｚｒ（Ｏ３ＰＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ）２，Ｔｈ（Ｏ３ＰＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）２等のプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体；スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサン等のプロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン；コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸等のヘテロポリ酸；ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸等のイソポリ酸；シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、ＣａＯ、ＭｇＯ等の単元系金属酸化物；シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類等複合系金属酸化物；酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイト等の粘土鉱物；ＬｉＳＯ４，ＭｇＳＯ４等の金属硫酸塩；リン酸ジルコニア、リン酸ランタン等の金属リン酸塩；ＬｉＮＯ３，Ｍｎ（ＮＯ３）２等の金属硝酸塩；シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体等のアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体；アミノ変性シリコーン樹脂等のアミノ基を含有するポリオルガノシロキサン等が挙げられる。
【０１９３】
また、保護層形成用塗布液の調製の際に、光機能性化合物、反応生成物、水、溶剤などに不溶な固体触媒を用いると、塗工液の安定性が向上する傾向にあるため好ましい。系に不溶な固体触媒とは、触媒成分が、架橋構造を有する樹脂を形成するための材料、他の添加剤、水、溶剤等に不溶であれば特に限定されない。これらの固体触媒の使用量は特に制限されないが、加水分解性基を有する化合物の合計１００質量部に対して０．１〜１００質量部が好ましい。また、これらの固体触媒は、前述の通り、原料化合物、反応生成物、溶剤などに不溶であるため、反応後、常法にしたがって容易に除去することができる。反応温度及び反応時間は原料化合物や固体触媒の種類及び使用量に応じて適宜選択されるものであるが、反応温度は通常０〜１００℃、好ましくは１０〜７０℃、より好ましくは１５〜５０℃であり、反応時間は好ましくは１０分〜１００時間である。反応時間が前記上限値を超えるとゲル化が起こりやすくなる傾向にある。
【０１９４】
保護層形成用塗布液の調製の際に、系に不溶な触媒を用いた場合は、強度、液保存安定性などを向上させる目的で、さらに系に溶解する触媒を併用することが好ましい。そのような触媒としては、前述のものに加え、アルミニウムトリエチレート、アルミニウムトリイソプロピレート、アルミニウムトリ（ｓｅｃ−ブチレート）、モノ（ｓｅｃ−ブトキシ）アルミニウムジイソプロピレート、ジイソプロポキシアルミニウム（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノアセチルアセトネート、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムジイソプロポキシ（アセチルアセトネート）、アルミニウムイソプロポキシ−ビス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（トリフルオロアセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（ヘキサフルオロアセチルアセトネート）等の有機アルミニウム化合物を使用することができる。
【０１９５】
また、有機アルミニウム化合物以外には、ジブチルスズジラウリレート、ジブチルスズジオクチエート、ジブチルスズジアセテート等の有機スズ化合物；チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトネート）等の有機チタニウム化合物；ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のジルコニウム化合物；等も使用することができるが、安全性、低コスト、ポットライフ長さの観点から、有機アルミニウム化合物を使用するのが好ましく、特にアルミニウムキレート化合物がより好ましい。これらの触媒の使用量は特に制限されないが、加水分解性基を有する化合物の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部が好ましく、０．３〜１０質量部が特に好ましい。
【０１９６】
また、本発明において有機金属化合物を触媒として用いた場合は、ポットライフ、硬化効率の面から、ともに多座配位子を添加することが好ましい。このような多座配位子としては、以下に示すようなもの及びそれらから誘導されるものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。具体的には、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジピバロイルメチルアセトン等のβ−ジケトン類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル類；ビピリジン及びその誘導体；グリシン及びその誘導体；エチレンジアミン及びその誘導体；８−オキシキノリン及びその誘導体；サリチルアルデヒド及びその誘導体；カテコール及びその誘導体；２−オキシアゾ化合物等の２座配位子；ジエチルトリアミン及びその誘導体；ニトリロトリ酢酸及びその誘導体等の３座配位子；エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及びその誘導体等の６座配位子；等を挙げることができる。さらに、上記のような有機系配位子の他、ピロリン酸、トリリン酸等の無機系の配位子を挙げることができる。多座配位子としては、特に２座配位子が好ましく、中でも下記一般式（VＩＩＩ−４）で表される２座配位子がより好ましく、下記一般式（VＩＩＩ−４）中のＲ１０とＲ１１とが同一のものが特に好ましい。Ｒ１０とＲ１１とを同一にすることで、室温付近での配位子の配位力が強くなり、保護層形成用塗布液のさらなる安定化を図ることができる。
【０１９７】
【化１０】
2006276263.tif 000065
【０１９８】
ここで、式（VＩＩＩ−４）中、Ｒ１０及びＲ１１は各々独立に、炭素数１〜１０のアルキル基、フッ化アルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
【０１９９】
多座配位子の配合量は、任意に設定することができるが、用いる有機金属化合物の１モルに対し、０．０１モル以上、好ましくは０．１モル以上、より好ましくは１モル以上とするのが好ましい。
【０２００】
保護層２０７の形成は、その塗布液が液状であれば無溶媒下で行うことも可能であるが、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類；等の他、種々の溶媒を使用してもよい。このような溶媒としては、沸点が１００℃以下のものが好ましく、任意に混合して使用することができる。塗布液に有機ケイ素化合物を含有させる場合、溶媒が少なすぎると有機ケイ素化合物が析出しやすくなるため、有機ケイ素化合物１質量部に対し０．５〜３０質量部とするのが好ましく、１〜２０質量部とするのがより好ましい。
【０２０１】
さらに、架橋する際には、保護層形成用塗布液に硬化触媒を使用してもよい。硬化触媒としては、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタンのようなビススルホニルジアゾメタン類、メチルスルホニルｐ−トルエンスルホニルメタンのようなビススルホニルメタン類、シクロヘキシルスルホニルシクロヘキシルカルボニルジアゾメタンのようなスルホニルカルボニルジアゾメタン類、２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルホニル）プロピオフェノンのようなスルホニルカルボニルアルカン類、２−ニトロベンジルｐ−トルエンスルホネートのようなニトロベンジルスルホネート類、ピロガロールトリスメタンスルホネートのようなアルキル及びアリールスルホネート類（ｇ）ベンゾイントシレートのようなベンゾインスルホネート類、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミドのようなＮ−スルホニルオキシイミド類、（４−フルオロベンゼンスルホニルオキシ）−３，４，６−トリメチル−２−ピリドンのようなピリドン類、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチル−１−（３−ビニルフェニル）−エチル−４−クロロベンゼンスルホネートのようなスルホン酸エステル類、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートのようなオニウム塩類などの光酸発生剤や、プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物、ルイス酸とトリアルキルホスフェートの混合物、スルホン酸エステル類、リン酸エステル類、オニウム化合物、及び、無水カルボン酸化合物などが好ましく挙げられる。
【０２０２】
プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、ハロゲノカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸モノエステル類、リン酸モノ及びジエステル類、ポリリン酸エステル類、ホウ酸モノ及びジエステル類等を、アンモニア、モノエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の各種アミン若しくはトリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスファイト、トリアリールホスファイトで中和した化合物、さらには酸−塩基ブロック化触媒として市販されているネイキュア２５００Ｘ、４１６７、Ｘ−４７−１１０、３５２５、５２２５（商品名、キングインダストリー社製）等が挙げられる。また、ルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、例えばＢＦ３、ＦｅＣｌ３、ＳｎＣｌ４、ＡｌＣｌ３、ＺｎＣｌ２等のルイス酸を上記のルイス塩基で中和した化合物が挙げられる。
【０２０３】
オニウム化合物としては、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートなどが挙げられる。
【０２０４】
無水カルボン酸化合物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水ラウリン酸、無水オレイン酸、無水ステアリン酸、無水ｎ−カプロン酸、無水ｎ−カプリル酸、無水ｎ−カプリン酸、無水パルミチン酸、無水ミリスチン酸、無水トリクロロ酢酸、無水ジクロロ酢酸、無水モノクロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水ヘプタフルオロ酪酸等が挙げられる。
【０２０５】
ルイス酸の具体例としては、例えば、三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化第一チタン、塩化第二チタン、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化第一スズ、塩化第二スズ、臭化第一スズ、臭化第二スズ等の金属ハロゲン化物、トリアルキルホウ素、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルハロゲン化アルミニウム、モノアルキルハロゲン化アルミニウム、テトラアルキルスズ等の有機金属化合物、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム、ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジブチル・ビス（アセチルアセトナト）スズ、トリス（アセチルアセトナト）鉄、トリス（アセチルアセトナト）ロジウム、ビス（アセチルアセトナト）亜鉛、トリス（アセチルアセトナト）コバルト等の金属キレート化合物、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズエステルマレート、ナフテン酸マグネシウム、ナフテン酸カルシウム、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸鉄、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ジルコニウム、ナフテン酸鉛、オクチル酸カルシウム、オクチル酸マンガン、オクチル酸鉄、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸ジルコニウム、オクチル酸スズ、オクチル酸鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸鉛等の金属石鹸が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０２０６】
これらの触媒の使用量は特に制限されないが、保護層形成用塗布液中に含まれる固形分の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部が好ましく、０．３〜１０質量部が特に好ましい。
【０２０７】
保護層形成用塗布液を電荷輸送層２０６上に塗布する場合、塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。そして、塗布後、塗膜を乾燥させることで保護層２０７が形成する。
【０２０８】
なお、塗布の際には１回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なってもよいし、複数回重ね塗布した後でもよい。
【０２０９】
保護層形成用塗布液中の硬化性成分を硬化させる際の反応温度及び反応時間は特に制限されないが、得られる樹脂の機械的強度及び化学的安定性の点から、反応温度は好ましくは６０℃以上、より好ましくは８０〜２００℃であり、反応時間は好ましくは１０分〜５時間である。また、塗工液の硬化により得られる有機層を高湿度状態に保つことは、有機層の特性の安定化を図る上で有効である。さらには、用途に応じてヘキサメチルジシラザンやトリメチルクロロシランなどを用いて、得られる保護層２０７に表面処理を施して疎水化することもできる。
【０２１０】
保護層２０７の膜厚は、０．５〜１５μｍが好ましく、１〜１０μｍがより好ましく、１〜５μｍがさらに好ましい。
【０２１１】
また、上記の保護層形成用塗布液から形成される保護層２０７は、優れた機械強度を有する上に光電特性も十分であるため、これをそのまま積層型感光体の電荷輸送層として用いることもできる。
【０２１２】
また、保護層２０７として、メチロール基を有するフェノール誘導体と、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を有する上記電荷輸送材料、上記式（V）で示される電荷輸送材料又は上記式（VＩ）で示される電荷輸送材料と、を含有するフェノール誘導体含有層を形成する場合には、以下の方法によりかかるフェノール誘導体含有層を形成することが好ましい。
【０２１３】
フェノール誘導体含有層は、上述した保護層２０７の形成方法と同様に、構成材料を含有する保護層形成用塗布液を電荷輸送層２０６上に塗布して硬化させることで形成される。ここで、フェノール誘導体含有層の赤外吸収スペクトルが、下記式（１）で示される条件を満たすことが好ましい。これにより、電気特性及び画質のさらなる向上を図ることが可能となる。
（Ｐ２／Ｐ１）≦０．２      （１）
ここで、式（１）中、Ｐ１は１５６０ｃｍ−１〜１６４０ｃｍ−１に存在する最大吸収ピークの吸光度を、Ｐ２は１６４５ｃｍ−１〜１７００ｃｍ−１に存在する最大吸収ピークの吸光度を示す。
【０２１４】
また、電子写真感光体の表面層のイオン化ポテンシャルを５．０〜６．０ｅVとし、且つ、後述する中間転写体の転写面のイオン化ポテンシャルを４．７ｅV以下とすると、中間転写体への転写残りなどが少ない良好な転写を実現できるので好ましい。
【０２１５】
保護層形成用塗布液には、触媒を添加すること、又は保護層形成用塗布液作製時に触媒を用いることが好ましい。用いられる触媒としては、塩酸、酢酸、リン酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸等の有機酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリエチルアミン等のアルカリ触媒、さらに系に不溶な固体触媒を用いることもできる。
【０２１６】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体から、合成時の触媒を除去するために、フェノール誘導体をメタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解させ、水洗、貧溶剤を用いた再沈殿等の処理を行うか、イオン交換樹脂、又は無機固体を用いて処理を行うことが好ましい。イオン交換樹脂及び無機固体としては、上記したものと同様のものを用いることができる。
【０２１７】
保護層形成用塗布液には、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の他、種々の溶媒が使用できる。なお、電子写真感光体の生産に一般的に使用されるディップコーティング法を適用するためには、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、又はそれらの混合系溶剤が好ましい。また、使用される溶媒の沸点は５０〜１５０℃のものが好ましく、それら任意に混合して使用することができる。
【０２１８】
なお、溶剤としてアルコール系溶剤、ケトン系溶剤、又はそれらの混合系溶剤が好ましいことから、使用される保護層２０７の形成に使用される電荷輸送材料としては、それらの溶剤に可溶であることが好ましい。
【０２１９】
また、溶媒量は任意に設定できるが、少なすぎると構成材料が析出しやすくなるため、保護層形成用塗布液中に含まれる固形分の合計１質量部に対し好ましくは０．５〜３０質量部、より好ましくは１〜２０質量部とすることが好ましい。
【０２２０】
保護層形成用塗布液を用いて保護層２０７を形成する際の塗布方法としては、上記した方法と同様にできる。
【０２２１】
電荷輸送層２０６上に保護層形成用塗布液を塗布後には、硬化処理を行う。通常、硬化処理の際には、フェノール誘導体の架橋反応を促進し、保護層２０７の機械強度を上げるためには硬化温度は高く、硬化時間長いほど好ましい。しかし、そうした場合には、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が０．２を超えやすく、この場合電気特性が低下する傾向にある。そこで、保護層２０７のＩＲスペクトルが上記条件を満たすように、硬化温度、硬化時間、架橋雰囲気又は硬化触媒で制御することが好ましい。
【０２２２】
すなわち、保護層２０７のＩＲスペクトルが上記式（Ｃ）で示される条件を満たすようにするために、硬化処理の際の硬化温度は１００〜１７０℃が好ましく、１００〜１５０℃がより好ましく、１００〜１４０℃がさらに好ましい。また、硬化時間は、３０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がより好ましい。
【０２２３】
また、硬化処理（架橋反応）を行う雰囲気としては、窒素、ヘリウム、アルゴン等の、いわゆる酸化に対して不活性なガス雰囲気（不活性ガス雰囲気）下が吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）を小さくするのに効果的である。不活性ガス雰囲気下で架橋反応を行う場合には、空気雰囲気（酸素含有雰囲気）下よりも硬化温度を高く設定することができ、硬化温度は１００〜１６０℃（好ましくは１１０〜１５０℃）とすることが可能である。また、硬化時間は３０分〜２時間（好ましくは３０分〜１時間）とすることが可能である。また、一般式（Ｉ）で示される化合物において、（−（Ｘ１）ｍ１−（Ｒ１）ｍ２−Ｙ）で示される部位が−ＣＨ２−ＯＨの場合が最も硬化温度による電気特性の影響が大きい傾向があり、酸化に対して敏感であるので、上記好ましい温度範囲で硬化処理を行うことが好ましい。
【０２２４】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体と、上記式（ＩV）で示される化合物のように複数のエポキシ基を有する電荷輸送材料とを含有する保護層２０７を形成する場合、架橋反応を十分に進行させる観点から、硬化処理の際の硬化温度は１００〜１７０℃が好ましく、１００〜１６０℃がより好ましい。また、硬化時間は、３０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がより好ましい。なお、上記の保護層２０７を形成する際に、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）を０．２以下とする場合には、上述した条件で行うことが好ましい。
【０２２５】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体と、複数のエポキシ基を有する電荷輸送材料とを含有する保護層２０７を形成するに際し、不活性ガス雰囲気下で架橋反応を行う場合には、空気雰囲気（酸素含有雰囲気）下よりも硬化温度を高く設定することができ、硬化温度は１００〜１８０℃（好ましくは１１０〜１６０℃）とすることが可能である。また、硬化時間は３０分〜２時間（好ましくは３０分〜１時間）とすることが可能である。
【０２２６】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体と、複数のエポキシ基を有する電荷輸送材料とを含有する保護層２０７を形成する場合には、硬度、接着性、可とう性などの膜特性の調整のために、保護形成用塗布液にさらに、ポリグリシジルメタクリレート、グリシジルビスフェノール類、フェノールエポキシ樹脂などのエポキシ含有化合物、テレフタル酸、マレイン酸、ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸等、又は、それらの無水物を添加してもよい。添加量としては、電荷輸送材料１質量部に対し、０．０５〜１質量部が好ましく、０．１〜０．７質量部がより好ましい。
【０２２７】
さらに、硬化処理の際には、硬化触媒を使用することが好ましい。硬化触媒としては、上記した硬化触媒を用いることができる。
【０２２８】
硬化触媒の使用量は特に制限されないが、保護層形成用塗布液に含まれる固形分の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部が好ましく、０．３〜１０質量部が特に好ましい。
【０２２９】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体と、複数のエポキシ基を有する電荷輸送材料とを含有する保護層２０７を形成する際に、有機金属化合物を触媒として用いる場合においても、ポットライフ、硬化効率の面から、上記した多座配位子を添加することが好ましい。多座配位子の配合量は、任意に設定することができるが、有機金属化合物の使用量１モルに対し、好ましくは０．０１モル以上、より好ましくは０．１モル以上、さらに好ましくは１モル以上である。
【０２３０】
赤外吸収スペクトルの吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が上記条件を満たすように保護層２０７を形成しようとする場合には、空気雰囲気下では硬化温度を比較的低く設定することが必要である。そのため、保護層２０７の２５℃における酸素透過係数を下げることは困難であるが、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が上記条件を満たすようにすると共に、保護層２０７の２５℃における酸素透過係数が上記条件を満たすようにすることで、電気特性がさらに向上し、さらに高画質を達成できる感光体が得られる。
【０２３１】
以上、本発明にかかる電子写真感光体の表面層が保護層２０７である場合の例について説明したが、例えば図３に示す電子写真感光体のように、電荷輸送層２０６に熱硬化性フェノール樹脂を含有せしめ、この電荷輸送層２０６を表面層としてもよい。
（中間転写体）
本発明では、転写面の表面抵抗率が１×１０１１〜１×１０１３Ω／□である中間転写体が用いられる。なお、転写面の表面抵抗率が１×１０１３Ω／□を超えると、一次転写部の像担持体と中間転写体が剥離するポストニップ部で剥離放電が発生してしまい、放電が発生した部分は白抜けを引き起こす放電抜けとなってしまうことがある。一方、転写面の表面抵抗率が１×１０１１Ω／□未満であると、転写面で電荷を保持できなくなり、転写効率が低下する。この中間転写体の転写面の表面抵抗率を上記の範囲に設定することにより、高画質の画像を安定して形成することができる。なお、表面抵抗率の測定は、三菱油化製ハイレスターＩＰのＨＲプローブを用いて電圧１００Vを印加し、１０秒後の電流値より求めた。
【０２３２】
中間転写体の好ましい例としては、導電剤が分散されたポリイミド樹脂材料を用いて形成された中間転写ベルトが挙げられる。ポリイミド樹脂は、その前駆体であるポリアミック酸を加熱することによって得ることができ、また、このポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体とジアミンとのほぼ等モル混合物を有機極性溶媒に溶解し、溶液状態で反応させることにより得られる。
【０２３３】
このポリアミック酸溶液の調液において、芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸、ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸、ナフタレン−２，３，６，７−テトラカルボン酸、２，３，５，６−ビフェニルテトラカルボン酸、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−アゾベンゼンテトラカルボン酸、ビス（２，３−ジカルポキシフェニル）メタン、ビス（３，４−ジカルポキシフェニル）メタン、β，β−ビス（３，４−ジカルポキシフェニル）プロパン、β，β−ビス（３，４−ジカルポキシフェニル）ヘキサフオロプロパン等が挙げられる。
【０２３４】
また、上記芳香族ジアミン成分としては、ｍ−フェニルジアミン、ｐ−フェニルジアミン、２，４−ジアミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、２，４−ジアミノクロロベンゼン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、１，４−ジアミノナフタレン、１，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジアミノナフタレン、２，４’−ジアミノナフタレビフェニル、ベンジジン、３，３−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（オキシ−ｐ，ｐ’−ジアニリン；ＯＤＡ）、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、４、４’−ジアミノフェニルスルホン、４，４’−ジアミノアゾベンゼン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、β，β−ビス（４−アミンフェニル）プロパン等が挙げられる。
【０２３５】
更に、上記有機極性溶媒としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド等を挙げることができる。これらの有機極性溶媒には、必要に応じてクレゾール、フェノール、キシレノール等のフェノール類や、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類等を混合することができる。これらの溶剤も、単独で又は２種類以上の混合物として用いられる。
【０２３６】
本発明において、このようなポリアミック酸としては、特に芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの反応によって得られるポリアミック酸が好ましい。より具体的には、ポリイミド樹脂材料としては、デュポン（ＤｕＰｏｎｔ）社のカプトンＨＡ等のポリピロメリット酸イミド系のイミド樹脂材料や、宇部興産（株）のユーピレックスＳ等のポリビフェニルテトラカルボン酸イミド系樹脂材料や、宇部興産（株）のユーピレックスＲ、三井東圧化学工業（株）のＬＡＲＣ−ＴＰＩ（熱可塑性ポリイミド樹脂）等のポリベンゾフェノンテトラカルボン酸イミド酸系樹脂材料等を挙げることができる。
【０２３７】
また、導電性を付与するために用いられる導電剤としては、好適にはファーネスブラック、ケッチエンブラック、チヤンネルブラック等のカーボンブッラクを挙げることができる。より具体的には、電気化学（株）製粒状アセチレンブラック（吸油量２８８ｍｌ／１００ｇ）、旭カーボン（株）製ＨＳ−５００（吸油量４７７ｍｌ／１００ｇ）、アサヒサーマルＦＴ（吸油量２８ｍｌ／１００ｇ）、アサヒサーマルＭＴ（吸油量３５ｍｌ／１００ｇ）、ライオンアグゾ（株）製ケッチエンブラック（吸油量３６０ｍｌ／１００ｇ）、キャボット（株）製バルカンＸＣ−７２（吸油量２６５ｍｌ／１００ｇ）、テグサ社のＳｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ  ４やＳｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ  ４等を挙げることができる。
【０２３８】
上記導電剤分散のポリイミド樹脂フィルムを製造するための一般的な方法は、ポリアミック酸溶液にカーボンブラック等の導電剤をサンドミル等を用いて分散せしめ、得られた導電剤分散のポリアミック酸溶液からなる成膜原溶液を円筒金型に注入し、例えば、１００〜２００℃に加熱し、かつ、５００〜２０００ｒｐｍの回転数で円筒金型を回転させながら、遠心成形法によりフィルム状に成膜し、次いで、得られたフィルムを半硬化した状態で脱型して鉄芯に被せ、３００℃以上の高温でポリイミド化反応（ポリアミド酸の閉環反応）を進行させて本硬化させることにより行われる。また、上記成膜原溶液を金属シート上に均一な厚みに流延して、上記と同様に１００〜２００℃に加熱して溶媒の大半を除去し、その後段階的に３００℃以上の高温に昇温してポリイミドフィルムを形成する方法等がある。
【０２３９】
また、本発明で用いられる中間転写体の転写面のイオン化ポテンシャルは４．７ｅV以下であることが好ましく、このような中間転写体を、表面層のイオン化ポテンシャルが５．０〜６．０ｅVである電子写真感光体と組み合わせて用いることが好ましい。なお、中間転写体の転写面のイオン化ポテンシャルが４．７ｅVを超えると、用紙走行部の表面抵抗率が大幅に低下して、白抜け画像を発生し易くなる。
【０２４０】
中間転写体の転写面のイオン化ポテンシャルを４．７ｅV以下とするためには、転写面を構成する材料として、イオン化ポテンシャルが４．７ｅV以下の材料を用いても勿論よいし、当該転写面に表面処理を施したり、コート層を設けたりすることによって制御しても良い。
【０２４１】
上記転写面のイオン化ポテンシャルが上記条件を満たす中間転写体の材料としては、例えば、イオン化ポテンシャルが４．４９ｅVであるエピクロルヒドリンゴム（ＥＣＯ）や，ポリイミド樹脂へカーボンブラックを分散した系などが用いられる。
【０２４２】
また、転写面に設けるコート層を形成する材料としては、Ｎ?アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が挙げられ、これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、エマルジョン樹脂系材料、例えばアクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることもできる。これらの樹脂には、さらに抵抗率を調整するために導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止するために酸化防止剤を含有させることもできる。また、被覆層を形成するときの成膜性を向上させるために、エマルジョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有させることもできる。
【０２４３】
イオン化ポテンシャルは、分子の基底状態から１個の電子を無限遠に引き離すエネルギーを表し、高分子の低エネルギー側の電子レベルを光電子放出により求めたその閾値であり、理研計測器製表面分析装置ＡＣ−１を用いて計測した（電子写真学会誌２８、Ｎｏ．４、ｐ３６４、１９８９）。このＡＣ−１では、キセノンランプを光源として試料に３．４ｅVから６．２ｅVの光をあて、この試料から放出された電子により空気中の酸素を電離せしめ、イオン化した酸素を低エネルギー電子カウンターでモニターすることによりイオン化ポテンシャルを求めている。
【実施例】
【０２４４】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
［電子写真感光体の作製］
（感光体ＰＲ−０）
先ず、３０ｍｍΦの円筒状アルミニウム基体を準備した。このアルミニウム基材をセンタレス研磨装置により研磨し、表面粗さをＲｚ＝０．６μｍとした。このセンタレス研磨処理が施されたアルミニウム基材を洗浄するために、脱脂処理、２質量％水酸化ナトリウム溶液で１分間エッチング処理、中和処理及び純水洗浄をこの順に行った。次に、アルミニウム基材に対して、１０質量％硫酸溶液によりその表面に陽極酸化膜（電流密度１．０Ａ／ｄｍ２）を形成した。水洗後、８０℃の１質量％酢酸ニッケル溶液に２０分間浸漬して封孔処理を行った。更に、純水洗浄、乾燥処理を行った。このようにして、外周面上に膜厚７μｍの陽極酸化膜を有する導電性基体を得た。
【０２４５】
Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンを１質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を１質量部、及び酢酸ｎ−ブチルを１００質量部混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散させ、電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を、上記の導電性基体の外周面上に浸漬コートして１００℃で１０分間加熱乾燥し、膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０２４６】
下記式（Ａ−１）で示されるベンジジン化合物を２．５質量部、下記式（Ｂ−１）で示される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量３９，０００）を３質量部及びクロロベンゼンを２０質量部混合し溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１１０℃で４０分の加熱を行ない、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。このように、陽極酸化膜を形成されたアルミニウム基材上に、電荷発生層及び電荷輸送層が形成された感光体を得た。得られた感光体をＰＲ−０とした。
【０２４７】
【化１１】
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【０２４８】
【化１２】
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【０２４９】
（感光体ＰＲ−１−１）
表１３中の化合物（Ｉ−１）を５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）を７質量部、メチルフェニルポリシロキサンを０．０３質量部、及びイソプロパノ−ルを２０質量部混合して溶解し、保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬コーティング法で感光体ＰＲ−０の電荷輸送層上に塗布し、１３０℃で４０分乾燥させ、膜厚３μｍの保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−１−１とした。なお、本実施例においては、乾燥時の雰囲気を特に記載していない場合は空気雰囲気で行ったものである。
【０２５０】
また、得られた感光体ＰＲ−１−１の保護層の一部を剥離し、赤外分光光度計ＦＴ−７３０（堀場製作所製）にて赤外吸収（ＩＲ）スペクトルを測定し、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）を計算した。また、Ｐ２／Ｐ１は０．１６であった。
（感光体ＰＲ−１−２）
実施例１−１において保護層を形成する際の乾燥条件を窒素雰囲気下で１５０℃で１時間としたこと以外は実施例１−１と同様にして、電子写真感光体を作製した。得られた感光体をＰＲ−１−２とした。
【０２５１】
また、得られた感光体ＰＲ−１−２の保護層の一部を剥離し、赤外分光光度計ＦＴ−７３０（堀場製作所製）にてＩＲスペクトルを測定し、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）を計算した。また、Ｐ２／Ｐ１はほぼ０であった。
（感光体ＰＲ−１−３）
保護層形成用塗布液にネイキュア２５００Ｘ（キングインダストリー社製）０．２質量部を加えた以外はＰＲ−１−１と同様にして、電子写真感光体を作製した。得られた感光体をＰＲ−１−３とした。
（感光体ＲＰＲ−１−１）
保護層を形成する際の乾燥条件を１３０℃で２時間とした以外は感光体ＰＲ−１−１と同様にして保護層を形成した。得られた感光体をＲＰＲ−１−１とした。
（感光体ＲＰＲ−１−２）
保護層を形成する際の乾燥条件を空気雰囲気下とした以外は感光体ＰＲ−１−２と同様にして、電子写真感光体を作製した。得られた感光体をＲＰＲ−１−２とした。
【０２５２】
また、得られた感光体ＲＰＲ−１−２の保護層の一部を剥離し、赤外分光光度計ＦＴ−７３０（堀場製作所製）にてＩＲスペクトルを測定し、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）を計算した。また、Ｐ２／Ｐ１は０．２１であった。
（感光体ＰＲ−１−４）
感光体ＰＲ−１−３の保護層形成用塗布液を調製する際に使用した化合物（Ｉ−１）を、表１７中の化合物（Ｉ−１９）に代えた以外は感光体ＰＲ−１−３と同様にして、電子写真感光体を作製した。得られた感光体をＰＲ−１−４とした。
（感光体ＰＲ−１−５）
感光体ＰＲ−１−３の表面層形成用塗布液を調製する際に使用した化合物（Ｉ−１）を表４９中の化合物（VＩ−４）に代えた以外は感光体ＰＲ−１−３と同様にして、電子写真感光体を作製した。得られた感光体をＰＲ−１−５とした。
（感光体ＰＲ−１−６）
表４２中の化合物（V−１６）を５質量部、イソプロピルアルコールを１５質量部、テトラヒドロフランを９質量部、及び蒸留水を０．９質量部混合し、それにイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ、ローム・アンド・ハース社製）を０．５質量部加え、室温で攪拌することにより２時間加水分解を行った。さらに、ブチラール樹脂を０．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−２２１１、群栄化学社製）を５質量部、サノールＬＳ２６２６（三共ライフテック社製）を０．２質量部、及びネイキュア４１６７（キングインダストリー社製）を０．５質量部加え保護層形成用塗布液を調製した。この保護層形成用塗布液を浸漬コーティング法で感光体ＰＲ−０上に塗布して１３０℃で３０分乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−１−６とした。
（感光体ＲＰＲ−１−３）
感光体ＰＲ−１−６において保護層を形成する際の乾燥条件を１７０℃で１時間とした以外は感光体ＰＲ−１−６と同様にして、電子写真感光体を作製した。得られた感光体をＲＰＲ−１−３とした。
（感光体ＰＲ−１−７）
感光体ＰＲ−１−１の保護層形成用塗布液に、さらにフッ素微粒子を０．２質量部（ルブロンＬ−２、ダイキン工業社製）及びＧＦ−３００を０．０１質量部（東亜合成社製）を加え、また５０ｇの直径１ｍｍφのガラスビーズをメディアとして加え、ペイントシェーカーにて１時間分散して保護層形成用塗布液を調製した。この塗布液を用いて、ＰＲ−１−１と同様にして表面層を形成した。得られた感光体をＰＲ−１−７とした。
［中間転写体の作製］
（中間転写体ＴＲ１−１）
基材のカーボンブラックを分散した熱硬化性シームレスベルトは、カーボンブラックを２質量部と宇部興産（株）耐熱皮膜用ポリイミドＵワニスＡを８質量部にサンドミル法により混合した。得られた製膜原液を円筒金型に注入し、１００〜３００℃に段階的に昇温して加熱し、かつ、５００〜２０００ｒｐｍの回転数で円筒金型を回転させながら、遠心成形法によりフィルム状に成膜した。
【０２５３】
次いで、得られたフィルムを半硬化した状態で脱型して鉄芯に被せ、３８０℃の高温で２時間ポリイミド化反応（ポリアミド酸の閉環反応）を進行させて更に本硬化を行い、表面抵抗率１０１１．４Ω／□の厚さ９０μｍのシームレスベルト（ＴＲ１−１）を得た。得られたシームレスベルトのイオン化ポテンシャルは４．４１ｅVであった。
（中間転写体ＴＲ１−２）
基材のカーボンブラックを分散した熱硬化性シームレスベルトは、カーボンブラックを２質量部と、宇部興産（株）耐熱皮膜用ポリイミドＵワニスＡを８質量部にサンドミル法により混合した。得られた製膜原液を円筒金型に注入し、１００〜３００℃に段階的に昇温して加熱し、かつ、５００〜２０００ｒｐｍの回転数で円筒金型を回転させながら、遠心成形法によりフィルム状に成膜した。
【０２５４】
次いで、得られたフィルムを半硬化した状態で脱型して鉄芯に被せ、３６０℃の高温で２時間ポリイミド化反応（ポリアミド酸の閉環反応）を進行させて、更に本硬化を行い、表面抵抗率１０１２．７Ω／□の厚さ９０μｍのシームレスベルト（ＴＲ１−２）を得た。得られたシームレスベルトのイオン化ポテンシャルは４．６５ｅVであった。
（中間転写体ＴＲ１−３）
中間転写体ＴＲ１−１と同様に得られた製膜原液を円筒金型に注入して、段階的に１００〜３００℃に昇温して加熱し、かつ、５００〜２０００ｒｐｍの回転数で円筒金型を回転させながら、遠心成形法によりフィルム状に成膜した。次いで、得られたフィルムを半硬化した状態で脱型して鉄芯に被せ、３３０℃の高温で１時間ポリイミド化反応（ポリアミド酸の閉環反応）を進行させて更に本硬化を行い、表面抵抗率１０１２．１Ω／□の厚さ９０μｍのシームレスベルト（ＴＲ１−３）を得た。得られたシームレスベルトのイオン化ポテンシャルは４．８８ｅVであった。
（中間転写体ＲＴＲ１−１）
中間転写体用の金属酸化物分散のポリイミド樹脂材料を次のようにして調製した。金属酸化物として、粒子径が０．４μｍの硫酸バリウム表面に酸化錫系導電層を形成してなる三井金属（株）のパストランＴＹＰＥ−ＩV  を更にシラン系カプリング剤で表面処理してなるものを用い、また、樹脂成分１００質量部に対して、３７質量部の金属酸化物をポリイミドワニス［Ｎ−メチルピロリドンを溶媒とする耐熱皮膜用ポリイミドＵワニス−Ｓ：宇部興産（株）］に添加し、サンドミル法で十分混合して製膜原液を調製した。
【０２５５】
得られた製膜原液を金属シート上に均一に流延し、１２０℃の雰囲気で１２０分乾燥させ、更に、１５０℃で６０分、２００℃で６０分、２５０℃で６０分、３５０℃で３０分、４２０℃で３０分と段階的に昇温させ、厚み８０μｍのポリイミドフィルムを得た（ＲＴＲ１−１）。得られたポリイミドフィルムは、表面抵抗率が１０１０．８Ω／□であった。また、このポリイミドフィルムを用いて形成したシームレスベルトは、そのイオン化ポテンシャルが４．７８ｅVであった。
（中間転写体ＲＴＲ１−２）
中間転写体ＲＴＲ１−１と同様にして、中間転写体用製膜原液を調製した。得られた製膜原液を金属シート上に均一に流延し、１２０℃の雰囲気で１２０分乾燥させ、更に、２００℃で６０分、２５０℃で６０分、３５０℃で６０分、５００℃で６０分と段階的に昇温させ、厚み８０μｍのポリイミドフィルムを得た（ＲＴＲ１−２）。得られたのポリイミドフィルムは、表面抵抗率が１０１０．４Ω／□であった。また、このポリイミドフィルムを用いて形成したシームレスベルトは、そのイオン化ポテンシャルが４．９４ｅVであった。
［画像形成装置の作製及びプリント試験；実施例１〜１１、比較例１〜１１］
感光体（ＰＲ−１−１）〜（ＰＲ−１−７）及び（ＲＰＲ−１−１）〜（ＲＰＲ−１−３）と、中間転写体（ＴＲ１−１）〜（ＴＲ１−３）及び（ＲＴＲ１−１）〜（ＲＴＲ１−２）とを表５４に示すように組み合わせて画像形成装置（富士ゼロックス社製、ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  ４００ＣＰ）を構成した。表５４には、感光体の表面層における吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）、表面層のイオン化ポテンシャル（ＩＰ）及び表面電位（VＬ）、並びに中間転写体の表面抵抗率及び転写面のイオン化ポテンシャルを併せて示した。
【０２５６】
なお、吸光度比は、各感光体の表面層を剥離し、赤外分光光度計ＦＴ−７３０（堀場製作所社製）にてＩＲスペクトルを測定し、そのスペクトルから求めた。表面電位（VＬ）は、各感光体を常温常湿（２０℃、５０％ＲＨ）で−７００Vに帯電させ７８０ｎｍで５ｍＪ／ｍ２フラッシュ露光し、５０ｍｓｅｃ後の表面電位（VＬ）をモニターすることで測定した。
【０２５７】
上記各実施例１〜１１及び比較例１〜１１で得られた画像形成装置を用い、３０００枚連続プリント時の用紙走行時の白抜け発生状況を観察した。得られた結果を表５４に示す。表中、「Ａ」は白抜けが発生しなかったこと、「Ｂ」は白抜けがほとんど発生しなかったこと、「Ｃ」は白抜けが僅かに発生したこと、「Ｄ」は白抜けが発生したことをそれぞれ意味する。
【０２５８】
【表５４】
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【０２５９】
本発明を用いた実施例においては、３０００枚連続プリント時に、画質に白抜け等の画質欠陥は認められず，良好な画質を安定して得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【０２６０】
【図１】本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す概略構成図である。
【図３】本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【図４】本発明の電子写真感光体の好適な他の実施形態を示す模式断面図である。
【図５】本発明の電子写真感光体の好適な他の実施形態を示す模式断面図である。
【図６】本発明の電子写真感光体の好適な他の実施形態を示す模式断面図である。
【図７】本発明の電子写真感光体の好適な他の実施形態を示す模式断面図である。
【符号の説明】
【０２６１】
１…感光体ドラム（潜像担持体）、２…中間転写ベルト、２ａ…用紙走行部、２ｂ…用紙非走行部、３…バイアスロール（導電性ロール）、４…用紙トレイ、５…ブラック現像器、６…イエロー現像器、７…マゼンタ現像器、８…シアン現像器、９…中間転写体クリーナ、１３…用紙剥離爪、２１、２３、２４…ベルトロール、２２…バックアップロール、２５…導電性ロール、２６…導電性ロール、３０…中間転写ドラム、３１…導電性ロールクリーナ、４１…用紙（記録媒体）、４２…ピックアップローラ、４３…フィードローラ、Ｔ…未定着トナー、２０２…導電性基体、２０３…感光層、２０４…下引層、２０５…電荷発生層、２０６…電荷輸送層、２０７…保護層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2006276263.tif 000073
【図６】
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【図７】
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