(57)【要約】【課題】  たとえ基板の処理に液回収型ノズル装置を採用しても、基板にパーティクルの固着や結晶の析出が生じないようにする。【解決手段】  搬送路１７１に沿って略水平姿勢で搬送されつつある基板Ｂに処理液を供給することにより、該基板Ｂに所定の処理（本実施形態においては洗浄処理）を施す基板処理装置１０であって、搬送路１７１の上流側に基板Ｂに向けて供給された処理液（本実施形態おいては洗浄水）を基板Ｂから回収可能に構成された液回収型ノズル装置２０（本実施形態においては第３洗浄室１４に設けられた液回収型ノズル装置２０）が設けられているとともに、同下流側に基板Ｂ上の洗浄水を吹き飛ばすエアナイフ３０が設けられ、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との間には、基板Ｂに乾燥防止用の洗浄水を供給する液保持用ノズル装置４０が設けられている。【選択図】      図１
2006015276.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送路に沿って略水平姿勢で搬送中の基板に処理液を供給することにより、前記基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、前記搬送中の基板に向けて処理液を供給して基板処理を施すとともに処理後の処理液を基板から回収する液回収型ノズル部と、前記液回収型ノズル部の基板搬送路の下流側に基板上の処理液をエアを吹き付けて液切りを行う液切り部と、前記液回収型ノズル部と前記液切り部との間に配置され、少なくとも前記液切り部に搬送されるまで基板をウエット状態に保持する処理液を供給する保持液供給部とを備えてなることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記液切り部は、基板搬送方向であって、基板搬送面と平行な面上で所定角度だけ傾斜して配置されていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記保持液供給部は、前記液回収型ノズル部と前記液切り部との略中間位置に設けられていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記液回収型ノズル部、液切り部及び保持液供給部は基板搬送方向上下流側の壁面に基板搬出入口を有する１つの処理室に内装され、前記処理室は、基板の搬送路を除いて基板搬送方向に対して仕切り壁で仕切られており、この仕切り壁で囲まれた下流側の空間内に前記液切り部を備え、上流側の空間内に前記保持液供給部を備えたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記処理液は、基板を洗浄する洗浄水であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶や各種の電子部品等がマウントされるガラス基板を含む各種の基板を製造するに際し、これら基板に所定の処理を施す基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等に用いられる基板は、その製造に際し処理液の種類毎に複数設けられた処理槽内に当該基板を順番に装入していき、各処理槽内で所定の処理液が供給されることによりそれぞれ独自の処理が施されるのが一般的である。基板に対してかかる処理を施すべく、各処理槽を貫通した搬送路が設けられるとともに、この搬送路に沿って複数の搬送ローラ等の搬送手段が配設され、基板はこの搬送手段に搬送されつつ各処理槽内に順番に送り込まれることになる。
【０００３】
各処理槽で基板に供給された処理液は、一旦処理槽の底部に貯留され、所定の無害化処理が施されたのち系外に排出されたり、あるいは再生処理が施されて循環使用されたりする。
【０００４】
かかる基板の処理方式にあっては、各処理槽内に導入された基盤に対して処理液を供給する液供給ノズルが重要な役割を果たすことになるが、近年、特許文献１に記載されたような、搬送方向の下流側で基板に供給した処理液を上流側で基板上から回収するようにした液回収型ノズル装置が提案されている。
【特許文献１】特開２００２−２８０３４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に記載されたような液回収型ノズル装置を採用した場合であっても、その下流側には液切りを確実に行うべく空気流を吹き付けて基板を乾燥させるエアナイフが配置された構成が採用されているが、基板上における液回収型ノズル装置の範囲内で処理液が略回収されてしまうため、基板は、液回収型ノズル装置の下流側に設けられたエアナイフに到達するまでの間に部分的に乾燥してしまうことがあり、乾燥むらが生じて基板表面にパーティクルが部分的に固着したり、処理液の成分が結晶となって部分的に析出してしまうなどして、いわゆるウォーターマークが付いてた状態になることがあるという問題点を有している。
【０００６】
このような不都合を解消するためにエアナイフを可能な限り液回収型ノズル装置の液吐出口に近づけることが考えられるが、基板搬送方向と直交する幅方向に長尺のエアナイフは、通常、液切り効率を上げるために基板搬送方向に対して斜めに設けられるため、その一端を液回収型ノズル装置に近接させても他端が離間した状態になるのを避けることができない。また、液回収型ノズル装置およびエアナイフを設置する際の両者の設置空間の取り合いのために各吐出口を近接させることは困難である。さらに、エアナイフを基板の乾燥用として採用した場合、基板に処理液を供給する空間内の雰囲気が基板を乾燥させる空間に移らないように、両空間の境界位置には仕切り壁が設けられるが一般的であるが、かかる仕切り壁が設けられると、エアナイフを液回収型ノズル装置の液吐出口に近づけることが著しく困難になる。
【０００７】
従来、これらの理由で液回収型ノズル装置からエアナイフに到達するまでの間に基板が乾燥してその表面にパーティクルが部分的に固着したり、処理液の成分が結晶となって部分的に析出してしまうという問題点を解消することができないというのが実情であった。
【０００８】
本発明は、かかる状況に鑑みなされたものであって、処理後の基板にパーティクルの固着や結晶の析出やウォーターマークの付着を生じさせることがなく、基板処理用としての液回収型ノズル装置の特性を最大限に引き出すことができる基板処理装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１記載の発明は、搬送路に沿って略水平姿勢で搬送中の基板に処理液を供給することにより、前記基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、前記搬送中の基板に向けて処理液を供給して基板処理を施すとともに処理後の処理液を基板から回収する液回収型ノズル部と、前記液回収型ノズル部の基板搬送路の下流側に基板上の処理液をエアを吹き付けて液切りを行う液切り部と、前記液回収型ノズル部と前記液切り部との間に配置され、少なくとも前記液切り部に搬送されるまで基板をウエット状態に保持する処理液を供給する保持液供給部とを備えてなることを特徴とするものである。
【００１０】
かかる構成を採用したことにより、基板処理装置内に導入された基板は、搬送されつつ、まず液回収型ノズル部から供給された処理液によって処理され、引き続き保持液供給部からの処理液が供給されて液濡れ状態で液切り部に到達し、この液切り部によって液切り処理が施されるため、液回収型ノズル部から必要最小限の処理液しか供給されないことにより基板が液切り用ノズルに到達するまでに乾燥してしまい、これによって基板上にパーティクルが部分的に固着したり処理液中の成分が部分的に結晶化して析出するような不都合の発生が防止される。
【００１１】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記液切り部は、基板搬送方向であって、基板搬送面と平行な面上で所定角度だけ傾斜して配置されていることを特徴とするものである。
【００１２】
かかる構成を採用したことにより、液切り部から吐出されたエアは、その押圧力が基板に付着した処理液に対して基板幅方向に向かう分力として作用するため、液切り部が基板搬送方向に対して直交している場合に比較し、基板に付着した処理液の除去が効率的に行われる。
【００１３】
請求項３記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記保持液供給部は、前記液回収型ノズル部と前記液切り部との略中間位置に設けられていることを特徴とするものである。
【００１４】
かかる構成を採用したことにより、保持液供給部設置の容易性を確保した上で、液回収型ノズル部によって処理された基板は、乾燥が可能な限り乾燥が抑えられた状態になる。
【００１５】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の発明において、前記液回収型ノズル部、液切り部及び保持液供給部は基板搬送方向上下流側の壁面に基板搬出入口を有する１つの処理室に内装され、前記処理室は、基板の搬送路を除いて基板搬送方向に対して仕切り壁で仕切られており、この仕切り壁で囲まれた下流側の空間内に前記液切り部を備え、上流側の空間内に前記保持液供給部を備えたことを特徴とするものである。
【００１６】
かかる構成によれば、基板搬入口を介して処理室本体内に導入された基板は、搬送路に沿って処理室本体内に設けられた液回収型ノズル部、液切り部および保持液供給部へ順次搬送され、各ノズル装置による所定の処理が施されたのち基板排出口から系外に排出される。そして、処理室内には仕切り壁が設けられてその上流側に保持液供給部が設けられている一方、下流側に液切り部が設けられているため、たとえ保持液供給部内に浮遊パーティクルや処理液の飛沫が生じても、仕切り壁に阻まれて液切り部が設けられている空間（乾燥空間）にこれら浮遊パーティクル等が移動することが防止され、これによって乾燥空間の清浄な雰囲気が維持される。
【００１７】
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明において、前記処理液は、基板を洗浄する洗浄水であることを特徴とするものである。
【００１８】
かかる構成によれば、基板処理装置を基板の洗浄装置として利用することができ、基板は、洗浄水によって清浄化処理される。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１記載の発明によれば、液回収型ノズル部から必要最小限の処理液しか供給されないことにより基板が液切り用ノズルに到達するまでに部分的に乾燥しても、これによって基板上にパーティクルが部分的に固着したり処理液中の成分が部分的に結晶化して析出するような不都合の発生を確実に防止することができる。
【００２０】
したがって、基板処理装置のコンパクト化およびランニングコストの低減化のために液回収型ノズル部を採用したにも拘らず、基板上にパーティクル等が部分的に固着することで製品の不良率が増大するような事態を回避することが可能になり、基板処理装置を液回収型ノズル部の利点を最大限に引き出したものにすることができる。
【００２１】
請求項２記載の発明によれば、液切り部は、基板搬送方向であって、基板搬送面と平行な面上で所定角度だけ傾斜して配置されているため、液切り部から吐出されたエアは、その押圧力が基板に付着した処理液に対して基板幅方向に向かう分力として作用し、これによって液切り部が基板搬送方向に対して直交している場合に比較し、基板に付着した処理液の除去を効率的に行うことができる。
【００２２】
請求項３記載の発明によれば、保持液供給部は、液回収型ノズル部と液切り部との間の基板搬送方向における中央位置より液回収型ノズル部寄りの位置に設けられているため、保持液供給部設置の容易性を確保した上で、液回収型ノズル部によって処理された基板の乾燥を可能な限り抑えることができる。
【００２３】
請求項４記載の発明によれば、処理室内には仕切り壁が設けられてその上流側に保持液供給部が設けられている一方、下流側に液切り部が設けられているため、たとえ保持液供給部内に浮遊パーティクルや処理液の飛沫が生じても、仕切り壁に阻まれて液切り部が設けられている空間（乾燥空間）にこれら浮遊パーティクル等が移動することが防止され、これによって乾燥空間の清浄な雰囲気を維持することができる。
【００２４】
請求項５記載の発明によれば、処理液として基板を洗浄する洗浄水が採用されているため、基板処理装置を洗浄装置として利用することができ、基板に付着したパーティクル等の汚染物が洗浄水によって洗い流されることで基板を清浄化処理することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
図１は、本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す断面視の説明図である。この実施形態においては、基板処理装置１０として基板処理の最終段階に配設される基板洗浄装置を例に挙げている。図１に示すように、基板処理装置１０は、直方体状を呈した処理室本体１１内（すなわち処理室）に、基板Ｂに対して予備的な洗浄処理を施す第１洗浄室１２と、この第１洗浄室１２からの基板Ｂに対して中間的な洗浄処理を施す第２洗浄室１３と、この第２洗浄室１３からの基板Ｂに対して最終的な洗浄を施す第３洗浄室１４と、この第３洗浄室１４で最終的な洗浄処理が施された基板Ｂに対し乾燥処理を施す乾燥室１５とを備えて構成されている。
【００２６】
前記処理室本体１１の上流側壁１１１（図１における右方）には、基板搬入口１６が開口されているとともに、下流側壁１１２には、前記基板搬入口１６と対向した位置に基板搬出口１６′が開口されている。そして、これら基板搬入口１６と基板搬出口１６′との間には、基板搬送方向（図１において左方へ向う方向）に等ピッチで複数の搬送ローラ１７が並設され、これら複数の搬送ローラ１７上に処理室本体１１内で基板Ｂを搬送するための搬送路１７１が形成されている。各搬送ローラ１７は、図略の駆動モータの駆動で図１における反時計方向に駆動回転するようになっている。
【００２７】
したがって、系外から基板搬入口１６を介して処理室本体１１内に導入された基板Ｂは、各搬送ローラ１７の駆動回転により搬送路１７１を下流側へ向けて搬送されつつ、第１〜第３洗浄室１２，１３，１４でそれぞれ所定の洗浄処理が施され、引き続き乾燥室１５で乾燥処理が施されたのち、基板搬出口１６′を介して系外に排出されるようになっている。
【００２８】
前記第１〜第３洗浄室１２，１３，１４および乾燥室１５の搬送路１７１より下方位置には、第１ホッパ１２１、第２ホッパ１３１、第３ホッパ１４１および第４ホッパ１５１がそれぞれ設けられ、搬送路１７１に沿って搬送中の基板Ｂから滴り落ちた洗浄水がこれら第１〜第４ホッパ１２１，１３１，１４１，１５１によって受けられた後、底部の開口から後述する気液分離器１８１を通って処理室本体１１の底部に一時貯留され、適宜排水されるようになっている。
【００２９】
また、第１〜第３洗浄室１２，１３，１４における搬送路１７１より上方空間には、各室を仕切る仕切り壁が設けられていないのに対し、第３洗浄室１４と乾燥室１５との間には処理室本体１１の天板１１３から搬送路１７１の直上方位置まで垂下された仕切り壁１１４が設けられ、これによって第３洗浄室１４内で生じた水滴等が乾燥室１５内に侵入するのを防止するようになされている。
【００３０】
また、第３洗浄室１４は、基板搬送方向の長さ寸法が第１および第２洗浄室１２，１３の長さ寸法より長尺に設定されている。このようにされるのは、最終的な洗浄処理が施された後の基板Ｂに対しさらに後述の液保持用ノズル装置（保持液供給部）４０によるパーティクル形成防止処置を施すための空間を確保するためである。
【００３１】
そして、処理室本体１１内に導入された基板Ｂに対し、前記第１洗浄室１２においてオゾン水による洗浄処理が施され、第２洗浄室１３においてアルカリ水素水による中間的な洗浄処理が施され、第３洗浄室１４において高度に純水化処理されたいわゆる超純水による仕上げの洗浄処理が施された後、乾燥室１５において洗浄処理済の基板Ｂに対し乾燥処理が施されるようになっている。
【００３２】
前記洗浄処理のために、第１〜第３洗浄室１２，１３，１４には、搬送路１７１を挟むように上下で対向した一対の液回収型ノズル装置（液回収型ノズル部）２０がそれぞれ設けられているとともに、第１および第２洗浄室１２，１３には、液回収型ノズル装置２０の直下流側に搬送路１７１を挟んで上下一対のエアナイフ（液切り部）３０がそれぞれ設けられている。これに対し、第３洗浄室１４においては液回収型ノズル装置２０の下流側に搬送路１７１を挟んだ状態で上下一対の液保持用ノズル装置４０が設けられている。
【００３３】
第３洗浄室１４にエアナイフ３０に代えて液保持用ノズル装置４０が設けられているのは、エアナイフ３０による本格的な乾燥処理は、乾燥室１５において行われるため、第３洗浄室１４では、基板Ｂを乾燥までさせる必要はなく、特にエアナイフ３０による乾燥処理を行う必要がないこと、および第３洗浄室１４において液回収型ノズル装置２０により最終的な洗浄処理が施された基板Ｂは、乾燥室１５に到達するまでの間に乾燥してしまうことがあり、そうなると、基板Ｂの表裏面にパーティクルが固着したりウォーターマークが付いた状態になる場合があるため、これを防止するべくさらなる最終的な洗浄処理として液保持用ノズル装置４０から超純水が基板Ｂの表裏面に向けて吐出されるのである。こうすることによって、乾燥室１５における乾燥処理で基板Ｂ上にパーティクルやウォーターマークが生じないようにすることができる。
【００３４】
そして、基板処理装置１０の近傍には液回収型ノズル装置２０および液保持用ノズル装置４０に洗浄用の水を供給するための洗浄水供給源５０が設置されている。この洗浄水供給源５０は、第１洗浄室１２の液回収型ノズル装置２０にオゾン（O３）を含む洗浄水（いわゆるオゾン水）を供給する第１洗浄水供給源５１と、第２洗浄室１３の液回収型ノズル装置２０にアンモニア（ＮＨ３）および水素（Ｈ２）が溶解された洗浄水（いわゆるアルカリ水素水）を供給する第２洗浄水供給源５２と、第３洗浄室１４の液回収型ノズル装置２０に純水化処理され、かつ、水素（Ｈ２）を含んだ洗浄水（いわゆる超純水）を供給する第３洗浄水供給源５３とからなっている。
【００３５】
前記乾燥室１５には、搬送路１７１を挟むように配設された上下一対のエアナイフ３０が上流側と下流側とにそれぞれ設けられている。かかる各エアナイフ３０は、その吐出口が搬送路１７１に向うように上流側に向けて斜めに配設されている。かかるエアナイフ３０に清浄化処理された加圧エアを供給するエア供給装置６０が装置本体１１の近傍に設けられている。このエア供給装置６０からの加圧エアは、第１および第２洗浄室１２，１３のエアナイフ３０へも供給されるようになっている。
【００３６】
そして、乾燥室１５に導入された基板Ｂは、上流側のエアナイフ３０によってまず液切りが行われ、引き続き下流側のエアナイフ３０によって十分な乾燥処理が施されるようになっている。かかる乾燥室１５での乾燥処理が完了した基板Ｂは、基板搬出口１６′を通って系外に排出され、つぎの工程へ向わせられることになる。
【００３７】
図２は、液回収型ノズル装置２０、エアナイフ３０および液保持用ノズル装置４０を説明するための斜視図であり、液回収型ノズル装置２０および液保持用ノズル装置４０が第３洗浄室１４に、エアナイフ３０が乾燥部１５にそれぞれ設けられた状態を示している。図２に示すように、液回収型ノズル装置２０は、搬送路１７１の上方側に設けられる上部ノズル装置２０１と、同下方側に上部ノズル装置２０１と対向配置された下部ノズル装置２０２とからなっている。
【００３８】
かかる液回収型ノズル装置２０は、図３に示すように、基板搬送方向に直交する幅方向（図３の紙面に直交する方向）に長尺の直方体状を呈した上下一対のノズル本体２１と、各ノズル本体２１の基板搬送方向下流側の端部に接続された導入管２２と、同基板搬送方向上流側の端部に接続された導出管２３と、上下一対のノズル本体２１の各対向面に導入管２２と連通するように形成された基板搬送方向に直交する基盤幅方向に細長い液導入口２４と、同導出管２３と連通するように前記液導入口２４と対向配置された液導出口２５とを備えて構成されている。
【００３９】
一方、第２洗浄水供給源５３の下流側には、図２に示すように、この第２洗浄水供給源５３の超純水を送出する送出ポンプ５３１が設けられている。この送出ポンプ５３１は前記各導入管２２に接続されているとともに、前記各導出管２３は処理装置本体１１の近傍に設けられた吸引ポンプ５３２に接続されている。したがって、送出ポンプ５３１の駆動で第２洗浄水供給源５３からの超純水が各導入管２２へ導入されると、この超純水は、上下のノズル装置２０１，２０２間に挟持された状態の基板Ｂの表裏面と上下のノズル本体２１の対向面との間に液導入口２４を介して供給され、毛細管現象によって基板Ｂとノズル本体２１の隙間から外部に漏洩することなく液導出口２５の方向へ向って移動することになる。そして、液導出口２５に到達した超純水は、吸引ポンプ５３２の駆動で導出管２３を介して吸引され、系外へ排出される。
【００４０】
また、図３に示すように、下部のノズル本体２１の上面側には、基板Ｂを支持する複数の支持コロ２６が設けられ、基板Ｂがこれらの支持コロ２６に支持されることにより、当該基板Ｂと下部のノズル本体２１の上面との間に超純水を通過させる通路が形成されるようになっている。
【００４１】
このように、液回収型ノズル装置２０を採用することにより、基板Ｂには必要最小限の超純水を供給することで確実な洗浄処理が実現するため、高価な超純水を用いた基板洗浄処理のランニングコストの低減化に貢献することができる。
【００４２】
前記エアナイフ３０は、側面視で五角形状を呈した基板幅方向に長尺のエアナイフ本体３１と、このエアナイフ本体３１の先端側に形成された先細りのノズル部３２と、エアナイフ本体３１の基端側に接続されたエア導入管３３とを備えている。ノズル部３２の先端には、基板幅方向に長尺のエア吹付けスリット３２１が設けられている。したがって、エア供給装置６０の駆動で送出された加圧エアは、エア導入管３３を介してエアナイフ本体３１内に導入されたのちエア吹付けスリット３２１から基板Ｂへ向けて吹き付けられ、これによる加圧気流で基板Ｂの表裏面に付着している超純水が吹き飛ばされるようになっている。
【００４３】
かかるエアナイフ３０は、図２に示すように、基板Ｂの搬送方向に対して斜めになるように姿勢設定されている。こうすることでエア吹付けスリット３２１から吐出された吹き付けエアは、その押圧力が基板Ｂに付着した洗浄水に対して基板幅方向に向かう分力として作用するため、エア吹付けスリット３２１が基板搬送方向に対して直交している場合に比較し、基板Ｂに付着した洗浄水の除去が効率的に行われる。
【００４４】
前記液保持用ノズル装置４０は、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との間にあって搬送路１７１を挟むように上下一対で設けられるものであり、円筒状のノズル管４１と、このノズル管４１の一端部に接続され、前記送出ポンプ５３１の駆動で第３洗浄水供給源５３からの超純水が導入される導入管４２と、各ノズル管４１における基板Ｂに対向した面に長手方向の略全長に亘って等ピッチで穿設された複数のノズル孔４３とを備えて構成されている。
【００４５】
搬送路１７１を挟んで上下一対で設けられたかかる液保持用ノズル装置４０のノズル孔４３から超純水が基板Ｂの表裏面に噴霧されることにより、液回収型ノズル装置２０によって洗浄処理された基板Ｂは、エアナイフ３０に到達するまでに乾燥することが防止されるとともに、液保持用ノズル装置４０からの噴霧水によってさらに最終段階の洗浄処理が施されるため、エアナイフ３０による基板Ｂの乾燥処理が実行された状態で、基板Ｂの表裏面にパーティクルが固着するような不都合の発生が確実に防止される。
【００４６】
そして、本実施形態においては、かかる液保持用ノズル装置４０は、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との間の中間位置より液回収型ノズル装置２０寄りの位置であって、可能な限り液回収型ノズル装置２０に接近した位置に設けられている。このようにされるのは、液回収型ノズル装置２０では必要最小限の超純水しか基板Ｂに接触しないため付着水の量が少なく、したがって、基板Ｂの洗浄されていた部分が液回収型ノズル装置２０から外れた瞬間から速やかに自然乾燥が進行してしまうため、これを避けるべく液保持用ノズル装置４０は可能な限り液回収型ノズル装置２０に近づけて設置されるのである。
【００４７】
一方、第１〜第４ホッパ１２１，１３１，１４１，１５１の低部には、図１に示すように、処理装置本体１１内の気液の導出を案内する案内管１８が設けられている。各案内管１８は、下端部が開放されて処理装置本体１１の底部に臨まされているとともに、案内管１８の途中には排気管１９が分岐されている。案内管１８の排気管１９に対する分岐位置には、所定の気液分離器１８１が設けられ、案内管１８に集められた清浄空気および処理液は、これらの気液分離器１８１によって分離された後、処理液は案内管１８の下端開口から処理装置本体１１の底部へ導出される一方、第１洗浄室１２、第２洗浄室１３、第３洗浄室１４および乾燥室１５を通過した用済み空気は排気管１９へ向わせられるようになっている。
【００４８】
前記各排気管１９は、その下流端が基板処理装置１０の近傍に配設された、工場内各所の排気を吸引するための集中排気管（排気手段）７４に接続されている。したがって、気液分離器１８１で分離された排気管１９内の用済み空気は集中排気管７４へ集められ、工場内に設置された図略の集塵装置で所定の集塵処理が施された後、系外に排出されることになる。
【００４９】
そして、各排気管１９内には、吸引風量を調節するための調節ダンパー１９１がそれぞれ設けられている。この調節ダンパー１９１は、第１洗浄室１２、第２洗浄室１３および乾燥室１５に設けられたエアナイフ３０から加圧エアが吐出されている場合と吐出されていない場合とで開度を調節するものであり、これによって処理装置本体１１内の圧力を常に予め設定された負圧環境にすることができる。なお、第３洗浄室１４にはエアナイフ３０が設けられていないが、第３洗浄室１４は、第１洗浄室１２、第２洗浄室１３および乾燥室１５と連通しており、したがって、第３洗浄室１４内の圧力は、第１洗浄室１２、第２洗浄室１３および乾燥室１５に設けられたエアナイフ３０が稼働しているか否かで影響を受けるため、第３洗浄室１４の調節ダンパー１９１についてもエアナイフ３０から加圧エアが吐出されている場合と吐出されていない場合とで開度が調節される。
【００５０】
すなわち、エアナイフ３０から加圧エアが吐出される場合には、このことが所定のセンサによって検出され、この検出信号が図略の制御装置に入力されることにより、当該制御装置からの制御信号が調節ダンパー１９１へ向けて出力され、この制御信号に基づく調節ダンパー１９１の開度増大で調節ダンパー１９１への用済み空気の吸引量が増加される一方、エアナイフ３０からの加圧エアの吐出が停止されると、このことが所定のセンサによって検出され、この検出信号に基づく制御装置からの制御信号によって調節ダンパー１９１の開度が小さくされ、用済み空気の吸引量が減少されるようになっている。
【００５１】
かかる調節ダンパー１９１の開度制御によって、エアナイフ３０からの加圧エアの吐出および吐出停止に拘らず、第１〜第３洗浄室１２〜１４および乾燥室１５内の圧力が常に一定になるようにしている。
【００５２】
以上詳述したように、本発明に係る基板処理装置１０は、搬送路１７１に沿って略水平姿勢で搬送されつつある基板Ｂに処理液を供給することにより、該基板Ｂに所定の処理（本実施形態においては洗浄処理）を施すものであり、搬送路１７１の上流側に基板Ｂに向けて供給された処理液（本実施形態おいては洗浄水）を基板Ｂから回収可能に構成された液回収型ノズル装置２０（本実施形態においては第３洗浄室１４に設けられた液回収型ノズル装置２０）が設けられているとともに、同下流側に基板Ｂ上の洗浄水を吹き飛ばすエアナイフ３０が設けられ、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との間には、基板Ｂに乾燥防止用の洗浄水を供給する液保持用ノズル装置４０が設けられている。
【００５３】
かかる構成によれば、基板処理装置内に導入された基板Ｂは、搬送されつつ、まず液回収型ノズル装置２０から供給された洗浄水によって洗浄処理され、引き続き液保持用ノズル装置４０からの洗浄水が供給されて液濡れ状態でエアナイフ３０に到達し、このエアナイフ３０によって液切り処理が施されるため、液回収型ノズル装置２０から必要最小限の洗浄水しか供給されないことにより基板Ｂが液切り用ノズルに到達するまでに乾燥してしまい、これによって基板Ｂ上にパーティクルが固着した状態になることを確実に防止することができる。
【００５４】
したがって、基板処理装置のコンパクト化およびランニングコストの低減化のために液回収型ノズル装置２０を採用したにも拘らず、基板Ｂ上にパーティクル等が固着することで製品の不良率が増大するような事態を回避することが可能になり、基板処理装置１０を液回収型ノズル装置２０の利点を最大限に引き出したものにすることができる。
【００５５】
また、液保持用ノズル装置４０は、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との間の基板搬送方向における中央位置より液回収型ノズル装置２０寄りの位置に設けられているため、液回収型ノズル装置２０によって洗浄された基板Ｂの乾燥を可能な限り抑えることができる。
【００５６】
また、処理室本体１１内に清浄空気を導入する清浄空気用ブロア６１が設けられているとともに、処理室本体１１内の空気を工場内に配設された集中排気管７４を介して排気するようになされているため、処理室本体１１内には清浄空気用ブロア６１からの清浄空気が常に導入されるとともに、処理室本体１１内の空気は集中排気管７４を介して常に排気される。したがって、たとえ処理室本体１１内に浮遊パーティクルが存在しても排気に同伴して系外に排出され、これによって処理室本体１１内の雰囲気を常に清浄に維持することができ、基板Ｂが処理室本体１１内の汚染された雰囲気に起因してパーティクルで汚染されるような不都合を確実に防止することができる。
【００５７】
さらに、第３洗浄室１４で使用される洗浄水として超純水が採用されているため、基板Ｂを洗浄処理の最終段階で極めて清浄なものにすることができる。
【００５８】
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。
【００５９】
（１）上記の実施形態においては、基板処理装置１０として基板Ｂに洗浄処理を施すものを挙げているが、本発明は、基板処理装置１０が洗浄処理用のものであることに限定されるものではなく、処理液としてエッチング液などの薬液を使用した薬液処理用のものであってもよい。
【００６０】
（２）上記の実施形態においては、第１および第２洗浄室１２，１３に液保持用ノズル装置４０が設けられていないが、本発明は、第１および第２洗浄室１２，１３に液保持用ノズル装置４０を設けないことに限定されるものではなく、これらの室にも液保持用ノズル装置４０を設けてもよい。この場合、第１洗浄室１２に設けられる液保持用ノズル装置４０には、第１洗浄水供給源５１からの洗浄水が供給されるとともに、第２洗浄室１３に設けられる液保持用ノズル装置４０には、第２洗浄水供給源５２からの洗浄水が供給される。こうすることによって、第１および第２洗浄室１２，１３内での洗浄処理が液回収型ノズル装置２０と液保持用ノズル装置４０との２段処理になるため、第１および第２洗浄室１２，１３の段階におけるより効果的な洗浄処理を実現することができる。
【００６１】
（３）上記の実施形態においては、第３洗浄室１４における液回収型ノズル装置２０を用いた超純水による基板Ｂの洗浄処理で液回収型ノズル装置２０から排出された洗浄処理後の超純水を系外に排出するようにしているが、こうする代わりに、洗浄処理後の超純水を第２洗浄水供給源５２または第１洗浄水供給源５１へ戻して再利用してもよい。
【００６２】
（４）上記の実施形態においては、液保持用ノズル装置４０に洗浄水を吐出するための円形のノズル孔４３がノズル管４１に穿設されているが、本発明は、洗浄水を吐出する部分が円形のノズル孔４３であることに限定されるものではなく、角孔や多角形状の孔、あるいは星型孔等であってもよいし、孔に代えてスリットを採用してもよいし、所定のノズル部材を取り付けてもよい。
【００６３】
（５）上記の実施形態においては、第３洗浄室１４において液保持用ノズル装置４０は、液回収型ノズル装置２０とエアナイフ３０との略中間位置に設けられているが、本発明は、液保持用ノズル装置４０が前記中間位置に設けられることに限定されるものではなく、基板Ｂの種類や操業条件など基板処理に関する各種の状況に基づき適宜設置位置を設定すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す断面視の説明図である。
【図２】第３洗浄室および乾燥室における液回収型ノズル装置、エアナイフおよび液保持用ノズル装置の設置状態を説明するための斜視図である。
【図３】図２に示す液回収型ノズル装置の側面視の断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１０  基板処理装置            １１  処理室本体
１１１  上流側壁              １１２  下流側壁
１１３  天板                  １１４  仕切り壁
１２  第１洗浄室              １２１  第１ホッパ
１３  第２洗浄室              １３１  第２ホッパ
１４  第３洗浄室              １４１  第３ホッパ
１５  乾燥室                  １５１  第４ホッパ
１６  基板搬入口              １６′  基板搬出口
１７  搬送ローラ              １７１  搬送路
１８  案内管                  １８１  気液分離器
１９  排気管                  １９１  調節ダンパー
２０  液回収型ノズル装置（液回収型ノズル部）
２０１  上部ノズル装置        ２０２  下部ノズル装置
２１  ノズル本体              ２２  導入管
２３  導出管                  ２４  液導入口
２５  液導出口                ３０  エアナイフ（液切り部）
３１  エアナイフ本体          ３２  ノズル部
３２１  エア吹付けスリット    ３３  エア導入管
４０  液保持用ノズル装置（液保持ノズル部）
４１  ノズル管                ４２  導入管
４３  ノズル孔                ５０  洗浄水供給源
５１  第１洗浄水供給源        ５２  第２洗浄水供給源
５３  第３洗浄水供給源        ５３１  送出ポンプ
５３２  吸引ポンプ            ６０  エア供給装置
６１  清浄空気用ブロア（空気導入手段）
７４  集中排気管（排気手段）  Ｂ  基板
【図１】
2006015276.tif 000003
【図２】
2006015276.tif 000004
【図３】
2006015276.tif 000005