(57)【要約】【課題】  本発明は、デジタルカメラなどの光学機器に使用される光学ローパスフィルタや赤外カットフィルタ、サバール板の主面にコーティングする反射防止膜に関し、光学デバイスとして利用する波長に対して効率良く反射防止効果を得する成膜を実現することを目的とする。【解決手段】  課題を解決するために本発明は、光学系に用いられる光学デバイスの反射防止処理方法に、ナノインプリントリソグラフィ技術を応用し、ナノインプリントリソグラフィ技術で形成する５０μｍ〜１００μｍの凸部成膜を施してある光学デバイスで、前記の成膜手法には、ＵＶ式ナノインプリントプロセス技術により処理されていることにより課題を解決する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学系に用いられる光学デバイスの反射防止処理方法に、ナノインプリントリソグラフィ技術を応用し、ナノインプリントリソグラフィ技術で形成する５０μｍ〜１００μｍの凸部成膜を施してあることを特徴とする光学デバイス。
【請求項２】
請求項１記載のナノインプリントリソグラフィ技術を用いた反射防止処理方法はＵＶ式ナノインプリントプロセス技術により処理されており、凸状のパターンピッチが２７０ｎｍで形成されていることを特徴とする光学デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、デジタルカメラなどの光学機器に使用される光学ローパスフィルタや赤外カットフィルタ、サバール板の主面にコーティングする反射防止膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
動画撮影に用いられるビデオカメラや静止画撮影に用いられるデジタルスチルカメラには、モアレを防止するため、光学ローパスフィルタがレンズとCCDイメージセンサの間に配置されている。この光学ローパスフィルタは水晶やニオブ酸リチウムなどの複屈折圧電性結晶板から成っている。該複屈折圧電性結晶板と赤外カットガラスを貼り合せたタイプ、該複屈折圧電性結晶板を複数枚貼り合せたタイプ、該複屈折圧電性結晶板複数枚と赤外カットガラスを貼り合せたタイプ、及び該複屈折圧電結晶板を単独で使用する単板タイプの光学ローパスフィルタがある。
【０００３】
光学ローパスフィルタを薄片化及び低価格化するため、複屈折圧電性結晶板を一枚（単板タイプ）とし、該複屈折圧電性結晶板の一方の面に誘電体の材料から成る反射防止膜を、また他方の面に誘電体の材料から成る赤外カットコート（IRコート）または紫外・赤外カットコート(UV−IRカットコート)を成膜する光学ローパスフィルタが求められている。
【０００４】
この光学ローパスフィルタは、前述したようにレンズとCCDイメージセンサの間に配置され、CCDイメージセンサの直近に配置されることが一般的である。
【０００５】
上述する反射防止膜は、光学デバイスを介して光線が通過したとき、その通過する光線を余すところ無く透過させることにより、コントラスト成分や輝度成分の減衰を解消することができる。従って光学系に用いる光学デバイスで、光線を透過させるものについての殆どには反射防止膜は必要不可欠な存在にある。
【０００６】
そして、上記の反射防止膜の成膜については、現在蒸着法やスパッタリング法によって形成しているのが一般的な方法である。
【特許文献１】特開２００４−３０１８９１号公報
【特許文献２】特開２００１−２３５７０９号公報  なお出願人は前記した先行技術文献情報で特定される先行技術文献以外には、本発明に関連する先行技術文献を、本件出願時までに発見するに至らなかった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述する反射防止膜の形成方法は、従来技術に示すように蒸着法やスパッタリング法が用いられている。しかし従来技術の反射防止膜の成膜手段について例えば蒸着法による成膜の場合には、（１）蒸着装置を用いるために装置の中で微細なゴミ（コンタミ）が光学デバイスに付着してしまう。（２）反射防止膜は複数回の成膜処理を伴うことから成膜工程が煩雑になり、成膜後の膜厚みが厚くなってしまい、成膜厚みの厚み制御が難しい現状にある。（３）成膜装置が高価であるために製品単価を安価にすることが難しい。（４）成膜工程を繰り返すために光線の透過率を低下させてしまう。（５）扱う波長（ＲＧＢ）によって成膜条件が異なるため、全波長に対して効率の良い成膜形成が難しい。そして、（６）将来的には光学デバイスの製造過程が大型化で薄型化した材料を用いることから、蒸着法による反射防止膜の成膜では蒸着ムラが発生するために材料に反りが発生するおそれがある。
【０００８】
前述のような課題があることから、従来の反射防止膜の成膜方法では成膜装置の面から、また成膜工程の面からも製品に対するコスト低減が難しく、製品歩留まりの向上が難しいのが現状にある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
課題を解決するために本発明は、光学系に用いられる光学デバイスの反射防止処理方法に、ナノインプリントリソグラフィ技術を応用し、ナノインプリントリソグラフィ技術で形成する５０μｍ〜１００μｍの凸部成膜を施してある光学デバイスで、前記の成膜手法には、ＵＶ式ナノインプリントプロセス技術により処理されていることを特徴とする光学デバイスである。
【００１０】
要するに、従来では蒸着法やスパッタリング法によって形成しているため、前述する現状の課題が挙げられる。そこで従来に記載する例えば蒸着法を用いた反射防止膜の成膜手法を根本的に改善しナノインプリントリソグラフィ技術を用いたことが本願発明の最大の特徴となる。
【００１１】
ナノインプリントリソグラフィ技術とは、サブミクロン（数１００ｎｍ）オーダの形状転写ができる低コスト化、量産化に適したナノ加工プロセスである。そして本願発明で使用するのは、いくつかのナノインプリントリソグラフィ技法の中のＵＶ式ナノインプリントプロセスを用いるものである。
【００１２】
ＵＶ式ナノインプリントプロセスとは、（１）高精度（熱を加えないプロセスのため、熱膨張・収縮の問題がない）、（２）アライメント（alignment成形工程）の精度が高められる（光を透過する石英の成形型を使用するため）ことが挙げられる。このＵＶ式インプリントプロセスは、ＵＶ樹脂を基板に滴下し（塗布工程）、その上から石英モールドを押し付け、位置合わせを行い（アライメント・成型工程）、ＵＶ光を照射し（硬化工程）、モールドを離型する（離型工程）という一連の工程から構成される。
【００１３】
そして、本願発明ではＵＶ式ナノインプリントプロセスで得られた凸状のある薄膜を、従来用いていた反射防止膜に代わって形成することで従来に比べて飛躍的に特性を向上することで課題を解決するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明で得る反射防止膜を用いることにより、（１）微細なゴミ（コンタミ）の発生を抑制することができ、（２）一度の形成で所望とする反射防止膜を得ることにより工程が簡略ができ、成膜厚みも均一なものを入手することができる。そして、（３）成膜工程を簡略化することにより全体的な製造コストを安価にでき、（４）扱う全ての波長（ＲＧＢ）を網羅できる反射防止膜を容易に形成できる。また（５）材料が大型化、薄型化したときでも蒸着法による反射防止膜の成膜に比べて成膜結果にムラの発生が少なく材料の反りの発生も低減できることから、光学デバイス全体の品質と製造工程の簡略化を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施例を示す少なくとも一枚以上の複屈折板と、蒸着により成膜処理が施された赤外カットフィルタとで構成する光学ローパスフィルタの側面模式図であり、その最外側にあたる光学デバイスの平面図である。本願発明者は従来から使われている光学部品として図示するような一例として４０ｍｍ×２８ｍｍの外形寸法を持った光学部品で、図１に示す少なくとも片面主面のハッチング位置にナノインプリントリソグラフィ技術を応用した反射防止膜を形成したものである。
【００１６】
本願発明者は図１に示す反射防止膜の仕様として、ＵＶ式ナノインプリントプロセス技術により、図１の斜線部の領域の範囲に厚さ（Ｈ）にして約５０μｍ〜１００μｍを施して実験をしたもので、ナノインプリントリソグラフィ技術を応用した反射防止膜は無数の凸状に突き出し、凸状のピッチ間隔（Ｐ）が２７０ｎｍのパターンで確認を進めている。
【００１７】
ここで、反射防止膜の概念図は図２に描画するもので、図２（ａ）が反射が無い状態で図２（ｂ）が反射している状態を示したものである。反射防止膜を光学デバイスの表面に処理することで、光学デバイスを介して光線が通過したとき、その通過する光線を余すところ無く透過させることにより、コントラスト成分や輝度成分の減衰を解消することができる。
【００１８】
図３に示すのは縦軸に反射率（％）と横軸に波長（ｎｍ）を取った反射率特性を示しているが、従来の蒸着法による蒸着膜の反射防止膜では、扱う波長に対して４５０ｎｍ〜６００ｎｍ程度で最も大きな反射防止効果を得るのに対して、本願発明の反射防止膜では光学デバイスとして利用する全波長（４００ｎｍ〜７５０ｎｍ）に対して安定して反射防止効果を得ることができる。
【００１９】
なお、図４に示すのは、本願発明で実験して確認するナノインプリントリソグラフィ技術を応用した反射防止膜のパターン状態の一例を示す模式図である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の反射防止膜の処理概要を説明する平面図である。
【図２】反射防止膜の有無の違いを比較する概念図である。
【図３】反射防止膜による反射防止効果を示す反射率特性を示した特性図である。
【図４】本願発明で用いるナノインプリントリソグラフィ技術を応用した反射防止膜の概念図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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