(57)【要約】【課題】  短時間で露光が可能な露光装置を提供する。【解決手段】  露光装置１は暗箱３を有し、暗箱３の内部には紫外線を照射するランプ５ａ、５ｂが設けられている。ランプ５ａの両端には位置センサ７ａ、７ｂが設けられており、ランプ５ｂの両端には位置センサ９ａ、９ｂが設けられている。  ランプ５ａ、５ｂの上部には基板７１を搬送する搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃが設けられている。  ランプ５ａ、５ｂの光源には紫外線発光ダイオードが用いられる。  光源に紫外線発光ダイオードを用いることによって、露光装置１内が高温となることを防ぐことができる。【選択図】  図８
2006276331.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光層を有する基板を露光する露光装置であって、
前記基板に対して紫外線を照射する紫外線発光ダイオードからなる紫外線照射装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記基板は、カラーフィルタ用の基板であることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記感光層を構成する感光剤は、少なくとも酸化チタンゾル液と、フルオロアルキルシランの加水分解溶液とを含むことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
前記紫外線照射装置は、暗箱内に設けられることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
前記露光装置は、前記基板を搬送する搬送手段を有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項６】
前記搬送手段は、コロであることを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記紫外線照射装置は、紫外線を照射する複数の光源を有し、前記複数の光源は千鳥配列により並べられていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項８】
前記紫外線照射装置は、センサを有し、
前記センサが、前記紫外線照射装置の上方を前記基板が通過したことを感知したときのみ前記基板に対して紫外線を照射することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項９】
前記紫外線照射装置は多段に設けられることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の小型化、細密化が進み、電子機器を構成する部品においても、精度の高い微細なパターンが求められている。
特に、携帯電話やノート型パーソナルコンピュータの普及により、これらの表示装置に求められるカラー液晶ディスプレイの精細さの向上には著しいものがある。
【０００３】
カラー液晶ディスプレイは、通常、赤、緑、青の三原色の着色パターンを備えたカラーフィルタを有しており、赤、緑、青のそれぞれの画素に対応する電極を流れる電流を入、切させることにより、液晶がシャッタとして作動し、それぞれの画素を光が通過してカラー表示を行う。
【０００４】
カラーフィルタの着色方法としては、基板を染色浴に浸漬する染色法や、顔料を分散した感光性樹脂層を形成して、これをパターニングする顔料分散法などがあるが、近年、インクジェット方式で着色インクを基板に吹きつける方法が提案されている。
【０００５】
インクジェット方式を用いる場合、基板表面には、あらかじめ感光剤を塗布し、その後暗箱内で紫外線等を用いて基板の一部を露光することにより、親インク面と撥インク面を形成しておく必要がある。
【０００６】
このような処理を行った面にインクを吹きつけると、親インク面にのみインクが定着するため、所望の着色層のパターンを形成することができる。このような方法としては、以下のようなものが知られている。
（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００１-７４９２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、感光剤を露光する際に用いる紫外線は、水銀ランプ等を光源とするため、大きな熱エネルギーを持っている。そのため、この熱エネルギーによる露光装置や基板の昇温を防ぐために、水冷や空冷等の冷却機構を大掛かりにする必要があった。
【０００８】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は光源を変更することにより装置構成の簡略化が可能な露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前述した目的を達成するために、本発明は、感光層を有する基板を露光する露光装置であって、暗箱と、前記暗箱の内面に設けられ、上方を搬送される前記基板に対して紫外線を照射する紫外線照射装置と、を有し、前記紫外線照射装置は光源を有し、前記光源は、紫外線発光ダイオードであることを特徴とする露光装置である。
前記基板は、カラーフィルタ用の基板であってもよい。
前記感光層を構成する感光剤は、少なくとも酸化チタンゾル液と、フルオロアルキルシランの加水分解溶液とを含んでもよい。
前記紫外線照射装置は、暗箱内に設けられる。
前記露光装置は、前記基板を搬送する搬送手段を有する。
前記搬送手段は、コロであってもよい。
前記紫外線照射装置は、紫外線を照射する複数の光源を有し、前記複数の光源は千鳥配列により並べられていてもよい。
前記紫外線照射装置は、センサを有し、前記センサが、前記紫外線照射装置の上方を前記基板が通過したことを感知したときのみ前記基板に対して紫外線を照射してもよい
前記紫外線照射装置は多段に設けられてもよい。
【００１０】
本発明では、露光装置の光源が、発熱量の少ない紫外線発光ダイオードである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、露光装置の光源が、発熱量の少ない紫外線発光ダイオードであるため、冷却機構が簡素化できる。また紫外線ランプを使用した場合のエネルギーに比べ少ないエネルギーで露光することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面に基づいて本発明に好適な実施形態であるカラーフィルタの例を説明する。
最初に、図１を用いてカラーフィルタ用の基板７１の着色工程の概略を説明する。
【００１３】
図１は、本実施形態に係るカラーフィルタ用の基板７１の着色工程を示すフローチャートあって、図２は処理前の基板７１を示す図であり、図３は感光層１９を形成するための基板７１への感光剤の塗布工程を示す図である。
また、図４は基板７１に感光剤を塗布して形成した感光層１９の乾燥工程を示す図、図５は基板７１の水洗工程を示す図、図６は基板７１の露光工程を示す図であり、図７は基板７１へのインクの吹き付け工程を示す図である。
【００１４】
図２に示すように、カラーフィルタ用の基板７１は、ガラス基板７３上にブラックマトリクス７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄを配置した構造を有している。
【００１５】
まず、図１および図３に示すように、ダイヘッド７７を用いて、感光剤を基板７１上に塗布し、感光層１９を形成する（ステップ１０１）。
感光層１９の具体例については後述する。
【００１６】
次に、図１および図４に示すように、乾燥機８１内で基板７１上に塗布した感光層１９を乾燥させる（ステップ１０２）。
なお、この状態では、感光層１９の表面はインクを弾く撥インク性を有している。
【００１７】
次に、図１および図５に示すように、感光層１９を塗布した基板７１をシャワー８３で水洗する（ステップ１０３）。
水洗を行う目的は、一つは基板７１上に付着したゴミを除去するためであるが、もう一つは、感光層１９の表面に水を付着させることにより、感光剤の反応が促進され、露光における時間を短縮させるためである。
【００１８】
次に、図１および図６に示すように、感光層１９を塗布した基板７１に紫外線８９を照射し、感光層１９の一部を露光する（ステップ１０４）。
この際、基板７１の裏面、即ちガラス基板７３側から紫外線８９を照射するため、遮光部となるブラックマトリクス７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄの上部に塗布された感光層１９には紫外線８９が当たらず、この部分は撥インク性を有する撥インク部８７ａ、８７ｂ、８７ｃ、８７ｄのままである。
【００１９】
一方、ブラックマトリクス７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄが載置されていない部分に塗布された感光層１９には紫外線８９が当たるため、この部分は紫外線によって感光されて物性が変化し、親インク性を有する親インク部８５ａ、８５ｂ、８５ｃとなる。
【００２０】
次に、ノズル等を用い、カラーインク９１ａ、９１ｂ、９１ｃを基板７１の表面に吹きつける（ステップ１０５）。
この際、図７に示すように、撥インク部８７ａ、８７ｂ、８７ｃ、８７ｄは撥インク性を有するためカラーインク９１ａ、９１ｂ、９１ｃはインクが広がらず、親インク部８５ａ、８５ｂ、８５ｃのみにカラーインク９１ａ、９１ｂ、９１ｃが塗布される。
【００２１】
このようにして、基板７１上にインクが塗布される。
【００２２】
ここで、感光層１９を構成する感光剤の成分について説明する。
感光剤は２種類の溶液を混合してなる溶液であり、一方の溶液は少なくとも酸化チタンとアルキルシリケートを含有する溶液であり、他方の溶液は少なくともポリシロキサンを含有する溶液である。
【００２３】
まず、酸化チタンについて説明する。酸化チタンは、紫外線を照射した際に光触媒として作用し、チタン表面に活性酸素を生じさせ、有機物を分解する。
本実施形態においては、光の照射により生じた活性酸素が撥インク性を発現させる有機物を分解するため、親インク性に変化させる。
酸化チタンにはアナタ−ゼ型とルチル型があり、本実施形態ではいずれも使用可能であるが、アナタ−ゼ型を使用するのが好ましい。
【００２４】
また、酸化チタンの粒径は小さいほど、光触媒反応が効果的に起こることから、平均粒径５０ｎｍ以下であることが好ましく、特に２０ｎｍ以下の酸化チタンを使用することが好ましい。
【００２５】
次に、アルキルシリケートについて説明する。アルキルシリケートは酸化チタンの分散安定剤として用いられる。
【００２６】
アルキルシリケートは一般式Ｓｉｎ  Ｏｎ−１  （ＯＲ）２ｎ＋２（ただしＳｉはケイ素、Ｏは酸素、Ｒはアルキル基を示す。）で表される化合物であり、ｎは１〜６の範囲内、Ｒは炭素数が１〜４のアルキル基であるものが好ましい。
【００２７】
アルキルシリケートの配合量としては、アルキルシリケート中のケイ素をＳｉＯ２に換算した量と、酸化チタン中のチタンをＴｉＯ２に換算した量との重量比（ＳｉＯ２／ＴｉＯ２）が０．２〜１．５であるのが好ましく、特に好ましくは０．２〜１．０である。
これは、アルキルシリケートの配合量が、上記範囲より少ないと分散安定性が低下しやすく、逆に上記範囲より多いと、酸化チタンの光触媒機能が低下するからである。
【００２８】
次にポリシロキサンについて説明する。本実施形態では、撥インク性を有する置換基がポリシロキサンを構成するＳｉ原子に直接結合しているポリシロキサンが用いられる。
【００２９】
撥インク性を有する置換基としては、具体的には、アルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、またはエポキシ基等が挙げられる。
この撥インク性を有する置換基が、ポリシロキサンを構成するＳｉ原子に直接結合していることから、感光剤を塗布して感光層１９を形成した際に、感光層１９の表面が撥インク性を発現する。
【００３０】
一方、濡れ性変化層に紫外線等を照射することにより、これらの置換基は分解され、感光層１９の表面が親インク性を発現する。
【００３１】
なお、置換基が、ポリシロキサンを構成するＳｉ原子に直接結合している状態とは、置換基が、Ｏ原子等を介さず、Ｓｉ原子に直接結合していることをいう。
【００３２】
また、本実施形態で用いられるポリシロキサンは、通常、複数のアルコキシル基、アセチル基、またはハロゲンを置換基とし有するものである。
【００３３】
このようなポリシロキサンは、加水分解により縮合し、濡れ性変化層を形成した際に、主骨格が酸化チタンの光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えばゾルゲル反応等により、加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するもの等を挙げることができる。
【００３４】
この場合、一般式
Ｙｎ  ＳｉＸ（４−ｎ）
（ここでＹはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である）で示されるケイ素化合物の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であることが好ましく、上記２種類以上のケイ素化合物同士の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であってもよい。
【００３５】
なお、ここでＹで示される基の炭素数は１〜２０の範囲内であることが好ましく、また、Ｘで示されるアルコキシル基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。
【００３６】
本実施形態においては、上記撥インク性を有する置換基の中でも、フルオロアルキル基であることが特に好ましい。
【００３７】
上記フルオロアルキル基を含むケイ素化合物としては、フルオロアルキルシランが挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものを使用することができ、例えば以下のようなものが挙げられる。
【００３８】
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；および
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）Ｃ２Ｈ４ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
【００３９】
次に第１の実施形態の露光工程で用いられる露光装置１の構造について説明する。図８は露光装置１の構造を示す図であり、図９は図８の斜視図である。
なお、図９では暗箱３の表記を省略してある。
【００４０】
図８に示すように、露光装置１は暗箱３を有し、暗箱３の内部には紫外線を照射するランプ５ａ、５ｂが設けられている。
ランプ５ａの両端には位置センサ７ａ、７ｂが設けられており、ランプ５ｂの両端には位置センサ７ｃ、７ｄが設けられている。
位置センサ７ａ、７ｂおよび位置センサ７ｃ、７ｄは、センサの上部を通過する物体を検知する。
【００４１】
ランプ５ａ、５ｂの上部には基板７１を搬送する搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃが設けられている。
【００４２】
図９に示すように、搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃは円筒形状を有し、平面部は連結板１６ａ、１６ｂに軸支されている。
搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃは図示しないモータ等により回転し、基板７１をＡ方向およびＢ方向に搬送する。
【００４３】
また、搬送コロ１１ａに隣接するようにしてリフトピン１３ａ、１３ｂが設けられており、搬送コロ１１ｂに隣接するようにしてリフトピン１３ｃ、１３ｄが設けられている。
同様に、搬送コロ１１ｃに隣接するようにしてリフトピン１３ｅ、１３ｆが設けられている。
【００４４】
リフトピン１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ、１３ｅ、１３ｆには、それぞれアクチュエータ１５ａ、１５ｂ、１５ｃ、１５ｄ、１５ｅ、１５ｆが設けられ、リフトピン１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ、１３ｅ、１３ｆは各アクチュエータによって上下する。
【００４５】
次に、ランプ５ａの構造について詳細に説明する。
図１０はランプ５ａの斜視図である。
なお、ランプ５ｂ、５ｃの構造はランプ５ａの構造と同様であるため、説明を省略する。
【００４６】
図１０に示すように、ランプ５ａは紫外線を発光する複数の光源６および光源の周囲を覆うカバー８からなり、各光源及びカバーは複数の列に並べられている。
なお、光源６の配列はいわゆる千鳥配列となっているのが望ましい。これは、基板７１に対する紫外線の照射密度を一定にするためである。
【００４７】
光源８には紫外線発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ：Ultraviolet  Light Emitting
Diode）が用いられる。
【００４８】
紫外線発光ダイオードは、水銀ランプやメタルハライドランプ等のような、放電現象を利用した光源に比べて発熱量が小さいため、露光装置１の内部が高温になるのを防ぐことができ、冷却機構を簡素化できる。
また、紫外線発光ダイオードは必要なときのみ点灯が可能であるため、消費電力を抑制することができる。
【００４９】
次に、図９を用いて具体的な露光の手順を説明する。
まず、基板７１は図示しないフォークによって矢印Ｃ方向に移動される。
この際、リフトピン１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ、１３ｅ、１３ｆの先端はあらかじめ、搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃよりも高い位置に上昇させておく。
【００５０】
次に、基板７１は図示しないフォークによってリフトピン１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ、１３ｅ、１３ｆ上に載置され、その後、図示しないフォークはＤ方向に移動し、基板７１から引き抜かれる。
【００５１】
次に、リフトピン１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ、１３ｅ、１３ｆは下降し、基板７１は搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ上に載置される。
【００５２】
次に、搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃは回転し、基板７１をＡ方向およびＢ方向に揺動し、同時にランプ５ａ、５ｂ、５ｃは基板７１に紫外線を照射する。
基板７１を揺動させ、繰り返し紫外線を照射することによって、照射される紫外線量を増やすことができると共に、一方向に搬送しながら照射する場合と比べてランプの数を少なくすることができ、露光装置１を小型化することができる。
【００５３】
なお、ランプ５ａ、５ｂ、５ｃは、上方を基板７１が通過したときのみ紫外線を照射する。
【００５４】
具体的には、ランプ５ａは、位置センサ７ａ、７ｂのいずれかが基板７１を検知したときのみ、紫外線を照射する。
同様にランプ５ｂは、位置センサ９ａ、９ｂのいずれかが基板７１を検知したときのみ、紫外線を照射し、ランプ５ｃは、位置センサ１１ａ、１１ｂのいずれかが基板７１を検知したときのみ、紫外線を照射する。
【００５５】
ランプ５ａ、５ｂ、５ｃは上部を基板７１が通過したときのみ紫外線を照射するため、ランプ５ａ、５ｂ、５ｃの発熱を抑制することができる。
【００５６】
このように、本実施の形態によれば、露光装置１が、ランプ５ａ、５ｂ、５ｃを有し、ランプ５ａ、５ｂ、５ｃの光源が紫外線発光ダイオードであるため、露光装置１内が高温となることを防ぐことができる。
したがって、露光装置１の冷却機構を簡素化できる。
【００５７】
次に、第２の実施形態について説明する。図１１は第２の実施形態に係る露光装置１７の構造を示す図である。
【００５８】
第２の実施形態に係る露光装置１７は第１の実施形態にかかる露光装置１において、ランプ１９ａ、１９ｂを複数段重ねた構造を有している。
【００５９】
図１１に示すように、露光装置１７は暗箱１８を有し、暗箱１８の内部には紫外線を照射するランプ１９ａ、１９ｂが設けられている。ランプ１９ａ、１９ｂの上方にはランプ１９ｃ、１９ｄが設けられ、ランプ１９ｃ、１９ｄの上方にはランプ１９ｅ、１９ｆが設けられている。
【００６０】
ランプ１９ａの両端には位置センサ２１ａ、２１ｂが設けられており、ランプ１９ｂの両端には位置センサ２３ａ、２３ｂが設けられている。
ランプ１９ｃの両端には位置センサ２５ａ、２５ｂが設けられており、ランプ１９ｄの両端には位置センサ２７ａ、２７ｂが設けられている。
ランプ１９ｅの両端には位置センサ２９ａ、２９ｂが設けられており、ランプ１９ｆの両端には位置センサ３１ａ、３１ｂが設けられている。
【００６１】
ランプ１９ａ、１９ｂとランプ１９ｃ、１９ｄの間には遮蔽板２０ａが設けられており、ランプ１９ｃ、１９ｄとランプ１９ｅ、１９ｆの間には遮蔽板２０ｂが設けられている。
【００６２】
ランプ１９ａ、１９ｂの上部には基板７１ａを搬送する搬送コロ３３ａ、３３ｂ、３３ｃが設けられており、ランプ１９ｃ、１９ｄの上部には基板７１ｂを搬送する搬送コロ３５ａ、３５ｂ、３５ｃが設けられている。また、ランプ１９ｅ、１９ｆの上部には基板７１ｃを搬送する搬送コロ３７ａ、３７ｂ、３７ｃが設けられている
【００６３】
また、搬送コロ３３ａに隣接するようにしてリフトピン３９ａが設けられており、搬送コロ３３ｂに隣接するようにしてリフトピン３９ｂが設けられている。
同様に、搬送コロ３３ｃに隣接するようにしてリフトピン３９ｃが設けられている。
【００６４】
また、搬送コロ３５ａに隣接するようにしてリフトピン３９ｄが設けられており、搬送コロ３５ｂに隣接するようにしてリフトピン３９ｅが設けられている。
同様に、搬送コロ３５ｃに隣接するようにしてリフトピン３９ｆが設けられている。
【００６５】
また、搬送コロ３７ａに隣接するようにしてリフトピン３９ｇが設けられており、搬送コロ３７ｂに隣接するようにしてリフトピン３９ｈが設けられている。
同様に、搬送コロ３７ｃに隣接するようにしてリフトピン３９ｉが設けられている。
【００６６】
リフトピン３９ａ、３９ｂ、３９ｃ、３９ｄ、３９ｅ、３９ｆ、３９ｇ、３９ｈ、３９ｉにはアクチュエータ４１ａ、４１ｂ、４１ｃ、４１ｄ、４１ｅ、４１ｆ、４１ｇ、４１ｈ、４１ｉが設けられ、リフトピン３９ａ、３９ｂ、３９ｃ、３９ｄ、３９ｅ、３９ｆ、３９ｇ、３９ｈ、３９ｉはアクチュエータ４１ａ、４１ｂ、４１ｃ、４１ｄ、４１ｅ、４１ｆ、４１ｇ、４１ｈ、４１ｉによって上下に移動可能となっている。
【００６７】
すなわち、基板７１ａはランプ１９ａ、１９ｂから照射される紫外線によって露光され、基板７１ｂはランプ１９ｃ、１９ｄから照射される紫外線によって露光される。また、基板７１ｃはランプ１９ｅ、１９ｆから照射される紫外線によって露光される。
【００６８】
このようにランプを複数段重ね、それぞれが別の基板を露光する構造にすることにより、装置を小型化することができる。
【００６９】
なお、ランプ１９ａ、１９ｂ，１９ｃ，１９ｄ、１９ｅ、１９ｆ、搬送コロ３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３５ａ、３５ｂ、３５ｃ、３７ａ、３７ｂ、３７ｃ、リフトピン３９ａ、３９ｂ、３９ｃ、３９ｄ、３９ｅ、３９ｆ、３９ｇ、３９ｈ、３９ｉ、アクチュエータ４１ａ、４１ｂ、４１ｃ、４１ｄ、４１ｅ、４１ｆ、４１ｇ、４１ｈ、４１ｉ、位置センサ２１ａ、２１ｂ、２３ａ、２３ｂ、２５ａ、２５ｂ、２７ａ、２７ｂ、基板７１ａ、７１ｂ、７１ｃの構造は、第１の実施形態におけるランプ５ａ、５ｂ、５ｃ、搬送コロ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、リフトピン１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ、１３ｅ、１３ｆ、アクチュエータ１５ａ、１５ｂ、１５ｃ、１５ｄ、１５ｅ、１５ｆ、位置センサ７ａ、７ｂ、９ａ、９ｂ、基板７１と同様であるため、説明を省略する。
【００７０】
このように第２の実施形態によれば、露光装置１７が、ランプ１９ａ、１９ｂ，１９ｃ，１９ｄ、１９ｅ、１９ｆ、ランプ１９ａ、１９ｂ，１９ｃ，１９ｄ、１９ｅ、１９ｆの光源が紫外線発光ダイオードであるため、露光装置１７内が高温となることを防ぐことができる。
したがって、第１の実施形態と同様の効果を奏する。
【００７１】
また、第２の実施形態によれば、露光装置１７がランプを複数段重ね、それぞれが別の基板を露光する構造であるため、装置を小型化することができる。
【００７２】
以上、添付図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明したが、本発明の技術的範囲は、前述した実施の形態に左右されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００７３】
例えば、本発明の装置は、カラーフィルタの着色層を設けるとき以外にも、有機ＥＬの発光層を設けるとき、ディスプレイの電極を設けるとき、基板に電子回路を設けるとき等の微細なパターンを形成する際にも利用することができる。
また、基板上に遮光部を設けて、基板、遮光部、及び感光層が一体になった例について説明してきたが、感光層付基板と遮光部が別体となっていてもよく、また、遮光部はブラックマトリクス以外にも、ストライプ状でも曲線状であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】カラーフィルタ用の基板７１の着色工程を示すフローチャート
【図２】処理前の基板７１を示す図
【図３】感光層１９を形成するための基板７１への感光剤の塗布工程を示す図
【図４】基板７１に感光剤を塗布した感光層１９の乾燥工程を示す図
【図５】基板７１の水洗工程を示す図
【図６】基板７１の露光工程を示す図
【図７】基板７１へのインクの吹き付け工程を示す図
【図８】露光装置１を示す図
【図９】図８の斜視図
【図１０】ランプ５ａの斜視図
【図１１】露光装置１７の構造を示す図
【符号の説明】
【００７５】
１…………露光装置
３…………暗箱
５ａ………ランプ
６…………光源
７ａ………位置センサ
８…………カバー
１１ａ……搬送コロ
１３ａ……リフトピン
１５ａ……アクチュエータ
１７………露光装置
１９………感光層
１９ａ……ランプ
２０ａ……遮蔽板
２１ａ……位置センサ
３３ａ……搬送コロ
３９ａ……リフトピン
４１ａ……アクチュエータ
７１………基板
７３………ガラス基板
７５ａ……ブラックマトリクス
７７………ダイヘッド
８１………乾燥機
８３………シャワー
８５ａ……撥インク部
８７ａ……親インク部
８９………紫外線
９１ａ……カラーインク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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