(57)【要約】【課題】蛍光体部位の輝度を低下させることがない隔壁形状の優れたプラズマディスプレイ用隔壁、その製造方法および隔壁形成用組成物の積層膜を提供すること。【解決手段】本発明の隔壁製造方法は、基板１１上に、現像液に対する溶解性が異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有する隔壁形成用組成物の膜１３を形成する工程、該膜１３上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜に選択的に放射線を照射する工程、該レジスト膜を現像処理し、レジストパターン１６を形成する工程、該レジストパターン１６を介して前記膜１３を選択的に溶解し、隔壁形成用組成物のパターン１７を形成する工程、該パターン１７を焼成する工程からなる。【選択図】図２
2006228758.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、現像液に対する溶解性が異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用隔壁形成用組成物の膜。
【請求項２】
前記現像液に対する溶解性が異なる２以上の隔壁形成用組成物が、現像液に対する溶解性が基板側から順次小さくなるように積層されていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁形成用組成物の膜。
【請求項３】
前記隔壁形成用組成物が、少なくとも（ａ）低融点ガラスフリットと、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するバインダーと、（ｃ）溶剤とを含有してなることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁形成用組成物の膜。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁形成用組成物の膜から得られることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用隔壁。
【請求項５】
少なくとも（ｉ）基板上に、現像液に対する溶解性が異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有する隔壁形成用組成物の膜を形成する工程と、
（ｉｉ）前記隔壁形成用組成物の膜上にレジストの膜を形成する工程と、
（ｉｉｉ）前記レジストの膜に選択的に放射線を照射する工程と、
（ｉｖ）前記レジストの膜を現像処理し、レジストのパターンを形成する工程と、
（ｖ）前記レジストパターンを介して隔壁形成用組成物の膜を選択的に溶解し、隔壁形成用組成物のパターンを形成する工程と、
（ｖｉ）隔壁形成用組成物のパターンを焼成する工程を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法。
【請求項６】
前記隔壁形成用組成物の膜を構成する各組成物層が、現像液に対する溶解性が基板側から順次小さくなるように積層されていることを特徴とする請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの各表示セルを区画する隔壁、その製造方法、該隔壁に用いられる隔壁形成用組成物および該組成物の積層膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、大型パネルを製造するプロセスが容易であること、視野角が広いこと、自発光タイプで表示品位が高いこと等の理由から、フラットパネル表示技術の中で注目されており、特にカラープラズマディスプレイパネルは、２０インチ以上の壁掛けハイビジョンＴＶ（ＨＤＴＶ）用の表示デバイスとして将来主流になるものと期待されている。
【０００３】
カラープラズマディスプレイパネルは、ガス放電によって紫外線を発生させ、その紫外線を螢光体に照射することにより、カラー表示を可能にする。そして、一般に、カラープラズマディスプレイパネルにおいては、基板上に、赤色発光用、緑色発光用及び青色発光用の螢光体部位が形成されることにより、各色の発光表示セルが全体に均一に混在した状態に構成されている。具体的には、ガラス基板の表面上にバリアリブと称される絶縁性材料からなる隔壁が設けられており、この隔壁によって多数の表示セルが区画され、表示セル内部がプラズマ作用空間となる。このプラズマ作用空間に螢光体部位が設けられると共に、この螢光体部位にプラズマを作用させる電極が設けられることにより、各々の表示セルを表示単位とするプラズマディスプレイパネルが構成される。
【０００４】
このようなプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法としては、（１）ペースト状の隔壁形成用組成物を用いてスクリーン印刷により基板の表面の隔壁を形成するスクリーン印刷法、（２）感光性の隔壁形成用組成物層を形成し、フォトマスクを介して紫外線を照射した上で現像することにより基板の表面に隔壁を残存させるフォトリソグラフィー法、（３）ペースト状の隔壁形成用組成物を用いてスクリーン印刷等により隔壁形成用組成物の膜を形成し、その層上にレジスト膜のパターンからなる現像用マスクを形成後、研磨材粒子を吹き付けて隔壁形成用組成物層をエッチングするサンドブラスト法等が知られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前記スクリーン印刷法では、最終的な隔壁の高さが１００〜２００μｍ必要であるのに対し、一回の印刷によって形成できる隔壁の高さは１０〜２０μｍ程度であり、所望の高さを得るために数回〜１０数回の印刷を行わなければならないが、パネルの大型化及び高精細化に伴い、重ね塗りの際の隔壁の位置精度の要求が非常に厳しくなり、通常の印刷では対応できないという問題がある。
【０００６】
また、前記フォトリソグラフィー法では、一回の露光及び現像の工程で１００〜２００μｍの膜厚を有する隔壁形成用組成物層を得るには、隔壁形成用組成物の感度が不十分であり、数回の塗布と露光工程が必要であるという問題がある。
【０００７】
さらに、サンドブラスト法では、製造工程が煩雑であり、また、アルミナ等の研磨材粒子の隔壁側面への不可避的な残留、過剰なエッチングによる基板の傷つき等によって、蛍光体部位の輝度が低下するという問題がある。
【０００８】
本発明の目的は、蛍光体部位の輝度を低下させることがない隔壁形状の優れた、プラズマディスプレイ用隔壁およびその製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、プラズマディスプレイパネルの各表示セルを区画する隔壁の製造において、好適に使用しうる隔壁形成用組成物および該組成物の積層膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のプラズマディスプレイパネル用隔壁形成用組成物の膜は、基板上に、現像液に対する溶解性が異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有することを特徴とする。
【００１０】
上記現像液に対する溶解性が異なる２以上の隔壁形成用組成物は、現像液に対する溶解性が基板側から順次小さくなるように積層されていることが好ましい。
上記隔壁形成用組成物は、少なくとも（ａ）低融点ガラスフリットと、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するバインダーと、（ｃ）溶剤とを含有してなる。
【００１１】
本発明のプラズマディスプレイパネル用隔壁は、上記プラズマディスプレイパネル用隔壁形成用組成物の膜からなることを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法は、
少なくとも（ｉ）基板上に、現像液に対する溶解性が異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有する隔壁形成用組成物の膜を形成する工程と、
（ｉｉ）前記隔壁形成用組成物の膜上にレジストの膜を形成する工程と、
（ｉｉｉ）前記レジストの膜に選択的に放射線を照射する工程と、
（ｉｖ）前記レジストの膜を現像処理し、レジストのパターンを形成する工程と、
（ｖ）前記レジストパターンを介して隔壁形成用組成物の膜を選択的に溶解し、隔壁形成用組成物のパターンを形成する工程と、
（ｖｉ）隔壁形成用組成物のパターンを焼成する工程を行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本願発明によれば、プラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法に好適に使用しうる隔壁形成用組成物を提供することができ、該隔壁形成用組成物を用いることにより、蛍光体部位の輝度を低下させることがない隔壁形状の優れた、プラズマディスプレイ用隔壁が得られる。
【００１３】
特に隔壁形成用組成物の膜を多層構造とすることにより、アルカリ現像工程における隔壁形成組成物のエッチングに対する深さ方向の異方性が生じるため、従来の方法による隔壁の形状に比べ、アスペクト比の高い隔壁が形成可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面によって本発明を具体的に説明する。図１（イ）〜（ニ）及び図２（ホ）〜（チ）は、本発明の一実施例に係るプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法を、工程順に示す説明用断面図である。
【００１５】
図１（イ）は、本発明の製造方法に用いられる基板１１の説明用断面図である。この基板１１においては、平板状の基板材料（例えばガラス板）の表面に、プラズマ発生用の電極１２が多数、例えば互いに並行に離間した状態で設けられている。このような基板１１に対し、下記の各工程からなる隔壁の形成操作が行われる。
【００１６】
（ｉ）基板上に隔壁形成用組成物の膜を形成する工程
前記基板１１に対し、図１（ロ）に示すように隔壁形成用組成物の膜１３を形成する。
前記膜の形成方法は、通常の塗膜形成方法を使用することができ、特に塗布方法が使用される。具体的には、例えばスクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法等を挙げることができる。また、前記膜１３の厚さは、通常、乾燥後の厚さが５０〜３００μｍである。前記膜１３の乾燥温度は、後の各工程に影響がない程度に前記膜１３中の溶媒を除去できる限り適宜選定できるが、例えば６０〜１３０℃程度である。
【００１７】
本発明においては、前記隔壁形成用組成物の膜は、現像液に対する溶解性の異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有することが好ましい。特に本発明においては、前記現像液に対する溶解性の異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有する隔壁形成用組成物の膜において、隔壁形成用組成物の各層の現像液に対する溶解性が、基板側から順次小さくなるように積層されていることが好ましい。
【００１８】
すなわち、隔壁形成性組成物の膜の基板から遠い上層部分は、後述する隔壁形成用組成物を溶解する現像液と接触する時間が、基板に近い下層部分と比較し長時間に及ぶため、設定された現像時間において、上層部分に望ましくないサイドエッチングが生じ、その結果、隔壁の形状は、上層部分のパターンが細い台形状になる場合がある。これは、隔壁形成用組成物の膜において、上層部分と下層部分との現像液に対する溶解性が同一であるために生じるもので、隔壁形成用組成物の膜の膜厚が大きいほど顕著になる。
【００１９】
本発明においては、前記現像液に対する溶解性の異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有する隔壁形成用組成物の膜とすることにより、さらに、隔壁形成用組成物の各層の現像液に対する溶解性が、基板側から順次小さくなるように積層することにより、形成される隔壁の断面形状は、より基板に対して垂直な構造とすることができる。前記現像液は、アルカリ現像液であることが好ましい。
【００２０】
（ｉｉ）レジストの膜を形成する工程
前記膜１３が形成された基板に対し、図１（ハ）に示すように、前記膜１３上にレジストの膜１４を形成する。前記レジストとしては、通常のポジレジストやネガレジストを使用することができる。前記膜１４の形成は、前記膜１３の形成と同様に、通常塗布方法を使用することができる。前記膜１４の厚さは、乾燥後の膜厚が、通常０．１〜４０μｍ、好ましくは０．５〜２０μｍである。また、前記膜１４の乾燥温度は、例えば６０〜１３０℃程度である。
【００２１】
（ｉｉｉ）放射線を照射する工程
次いで前記膜１４に、図１（ニ）に示すように、例えば露光用マスク１５を配置し、この露光用マスク１５を介して、放射線、例えば紫外線を選択的に前記膜１４に照射する。放射線の照射のための装置としては、感光性の隔壁形成用組成物を用いて隔壁を形成するフォトリソグラフィー法に使用されている放射線照射装置や、半導体や液晶表示装置の製造に使用される露光装置等を使用できる。
【００２２】
（ｉｖ）レジストのパターンを形成する工程
前記膜１４に放射線を照射することにより、レジストの膜には選択的に潜像が形成されているので、現像処理によりレジストのパターンを形成する。すなわち現像処理により、図２（ホ）に示すように、選択的にレジストの膜が現像され除去され（１６Ａ）、露光マスク１５に対応するレジストのパターン１６が形成され、このパターン１６は、次の隔壁形成用組成物の膜の現像用マスクとして作用する。
【００２３】
前記現像処理の方法としては、例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法等の方法を利用することができる。また、現像処理条件は、用いるレジストの種類によって異なり、例えば現像液の種類又は組成、現像液の濃度、現像時間、現像温度、現像
方法、現像装置等が適宜決定される。
【００２４】
（ｖ）隔壁形成用組成物のパターンを形成する工程
前記現像処理により、前記パターン１６（現像用マスク）が形成され、続いて行われる隔壁形成用組成物の膜の現像処理工程おいて、隔壁形成用組成物用の現像液は、前記パターン１６を介して、選択的に前記膜１３に作用し、隔壁形成用組成物を溶解し、除去する。具体的に図２（ヘ）に示すように、前記パターン１６によって露出された前記隔壁形成用組成物の膜１３の中央部分（１６Ａ）、すなわち前記電極１２設置部位の上部から、前記膜１３の溶解が進行する。
【００２５】
従って、現像処理により、隔壁形成用組成物のパターン１７及びプラズマ作用空間１８が形成されると共に、このプラズマ作用空間１８に前記電極１２の表面が露出された状態、具体的に図２（ト）により示される隔壁形成用組成物のパターン１７が形成された、パネル中間体１９が得られる。
【００２６】
前記現像処理の方法としては、例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法等の方法を利用することができる。また、現像処理条件は、用いる隔壁形成用組成物の種類によって異なり、例えば現像液の種類又は組成、現像液の濃度、現像時間、現像温度、現像の方法、現像装置等が適宜決定される。
【００２７】
特にレジストの膜の現像と隔壁形成用組成物の現像が、同種の現像液、特にアルカリ現像液を用いることができる場合、（ｉｖ）レジストのパターンを形成する工程及び（ｖ）隔壁形成用組成物のパターンを形成する工程とが連続的に行うことができ、工程の短縮の点から好ましい。
【００２８】
前記レジストのパターン１６は、前記隔壁形成用組成物の膜１３に比較して、現像液への溶解に対する抵抗性が大きいことが必要であり、具体的には隔壁形成用組成物よりも現像液に対する溶解速度が小さいことが好ましい。特に、隔壁形成用組成物のパターン１７の形成が完了するまでに、レジストのパターン１６が徐々に溶解し、現像処理の工程の終了時に完全に溶解消失するものが好ましい。また現像処理の工程が終了するまでに完全に溶解消失せず、例えば残渣が隔壁形成用組成物のパターン１７の表面上に残留する程度のもの、あるいは全く溶解消失しないが、次の隔壁形成用組成物を焼成する工程で消失するものであってもよい。
【００２９】
（ｖｉ）隔壁形成用組成物のパターンを焼成する工程
次いで、前記隔壁形成用組成物のパターン１７が形成されたパネル中間体１９に対して焼成処理が施され、これにより、隔壁形成用組成物のパターン１７に含有される有機物質が焼失して、図２（チ）に示すように、基板１１上にプラズマディスプレイパネル用隔壁２０が製造される。
【００３０】
この焼成処理の温度は、隔壁形成用組成物に含有される有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常、４００〜６００℃であり、また焼成処理時間は、通常、１０〜６０分間である。
【００３１】
次に前記の各工程に用いられる材料、各種条件等について説明する。
（１）基板
本発明において用いられる基板は、絶縁性材質の基板材料の表面に適宜の電極が形成されたものである。
【００３２】
（１−１）基板材料
基板材料としては、例えばガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等の絶縁性物質を挙げることができる。この基板材料の表面に対しては、必要に応じて、シランカップリング剤等による薬品処理；プラズマ処理；又はイオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法等による薄膜形成処理の如き適宜の前処理を施しておくことができる。
【００３３】
（１−２）隔壁の寸法
隔壁は、プラズマディスプレイパネルにおいて、表示単位となる表示セルを区画するものであり、これによって区画される表示セルの形状及び寸法は適宜選定され、例えば縦方向ピッチが０．１０〜１．２０ｍｍ、横方向ピッチが０．１０〜１．００ｍｍとされる。
【００３４】
隔壁の断面形状、幅、高さ、隔壁の離間距離等の寸法は、目的とするプラズマディスプレイパネルの特性に応じて適宜選定することができる。具体的には、例えば隔壁の底面の幅が１０〜３００μｍ、高さが１０〜５００μｍ、隔壁の離間距離が５０〜１０００μｍ、電極の寸法が５０〜５００μｍ角である。特に典型的な一例においては、例えば隔壁の底面の幅が１００μｍ、高さが２００μｍ、隔壁の離間距離が４００μｍ、電極の寸法が２００μｍ角である。
【００３５】
（２）隔壁形成用組成物
本発明において用いられる隔壁形成用組成物は、少なくとも（ａ）低融点ガラスフリット、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するバインダー及び（ｃ）溶剤を含有してなる。具体的には、例えば鉛ホウケイ酸ガラス等の低融点ガラスフリットとバインダーとよりなり、適宜の有機溶剤等よりなるペースト状とされた組成物である。
【００３６】
この隔壁形成用組成物における各成分の配合割合は、（ａ）低融点ガラスフリット１００重量部に対し、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するバインダーが１〜５０重量部であり、好ましくは１〜４０重量部である。さらに（ｃ）溶剤の割合は、隔壁形成用組成物の膜の形成に適した流動性又は可塑性が得られるよう適宜決定される。
【００３７】
（２−１）（ａ）低融点ガラスフリット
本発明の隔壁形成用組成物に使用される低融点ガラスフリットとしては、例えば、
酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化珪素の混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）；
酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）；
酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素、酸化アルミニウムの混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2
−Ａｌ2Ｏ3系）；
酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化珪素の混合物（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2
系）
等を挙げることができる。
【００３８】
（２−２）（ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するバインダー
本発明の隔壁形成用組成物に使用されるバインダーとしては、種々の樹脂を用いることができるが、特にアルカリ可溶性樹脂を含有するバインダーであることが好ましい。ここに、「アルカリ可溶性」とは、後述するアルカリ現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
【００３９】
前記アルカリ可溶性樹脂の具体例としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。
このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下記の（ｂ−１）及び（ｂ−２）のモノマーの共重合体、又は（ｂ−１）、（ｂ−２）及び（ｂ−３）のモノマーの共重合体等を挙げることができる。
【００４０】
（ｂ−１）アルカリ可溶性官能基含有モノマー類
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸等のカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル等の水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類等。
【００４１】
（ｂ−２）上記（ｂ−１）以外の重合性モノマー類
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の（ａ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；
スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル系モノマー類；
ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類等。
【００４２】
（ｂ−３）マクロモノマー類：
ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に、例えば（メタ）アクリロイル基等の重合性不飽和基を有するマクロモノマー。
【００４３】
（２−３）（ｃ）溶剤
前記（ａ）低融点ガラスフリット及び（ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するバインダーと、（ｃ）溶剤とが混合されることによって、適当な流動性あるいは可塑性を有し、良好な膜形成性を有するペースト状又は溶液状の隔壁形成用組成物が得られる。
【００４４】
溶剤としては通常の有機溶剤を用いることができ、例えばエーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等を挙げることができる。
【００４５】
具体的には、例えばテトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等を挙げることができる。これらの有機溶剤は単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４６】
（２−４）他の添加剤
本発明に用いる隔壁形成用組成物には、必要に応じて、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー、蛍光体、顔料、染料等の添加剤を配合することができる。
【００４７】
（３）レジスト
本発明のレジストの膜を形成するためのレジスト組成物は、形成されるレジストの膜がネガ型であっても、ポジ型であってもよいが、例えば、
（３−１）アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物、
（３−２）有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物、
（３−３）水性現像型感放射線性レジスト組成物
等のレジスト組成物を用いることができる。
【００４８】
（３−１）アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物に用いるアルカリ可溶性樹脂としては、前記隔壁形成用組成物の成分として掲げられているアルカリ可溶性樹脂を挙げることができる。
【００４９】
アルカリ現像型の感放射線性成分としては、例えば多官能性（メタ）アクリレート等の多官能性モノマーと光重合開始剤との組み合わせ、メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせ等を好ましいものとして挙げることができる。
【００５０】
このアルカリ現像型感放射線性レジスト組成物における各成分の使用割合は、アルカリ可溶性樹脂１００重量部当たり、感放射線成分が１〜３００重量部、好ましくは１０〜２００重量部である。
【００５１】
前記レジスト組成物における特に好ましい感放射線性成分は、多官能性（メタ）アクリレートと光重合開始剤との組み合わせである。
このような多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ジペンタエリスリトール等の３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；
１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類等の環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；
ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類；
等を挙げることができる。これらは単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５２】
また、前記多官能性（メタ）アクリレートと組合せて使用される光重合開始剤の具体例としては、例えば、
ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のカルボニル化合物；
アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒド等のアゾ化合物あるいはアジド化
合物；
メルカプタンジスルフィド等の有機硫黄化合物；
ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｒｅｔ−ブチルパーオキシド、ｔｒｅｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシド等の有機パーオキシド；
１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等のトリハロメタン類；
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾール等のイミダゾール二量体；
等を挙げることができる。これらは単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５３】
前記アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物については、必要な膜形成性を得るために、適宜有機溶剤が用いられる。その具体例としては、隔壁形成用組成物のための溶剤と同様の有機溶剤を挙げることができる。
【００５４】
（３−２）有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物
有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物における成分としては、例えばアジド化合物と天然ゴム、合成ゴム、あるいはこれらを環化させた環化ゴム等との組み合わせを挙げることができる。
【００５５】
好ましいアジド化合物の具体例としては、例えば４，４’−ジアジドベンゾフェノン、４，４’−ジアジドジフェニルメタン、４，４’−ジアジドスチルベン、４，４’−ジアジドカルコン、４，４’−ジアジドベンザルアセトン、２，６−ジ（４’−アジドベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ジ（４’−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン等を挙げることができる。これらのアジド化合物は、単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５６】
前記有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物については、必要な膜形成性を得るために、適宜有機溶剤が用いられる。その具体例としては、隔壁形成用組成物のための溶剤と同様の有機溶剤を挙げることができる。
【００５７】
（３−３）水性現像型感放射線性レジスト組成物
水性現像型感放射線性レジスト組成物における成分としては、例えばポリビニルアルコールとジアゾニウム化合物、あるいは重クロム酸化合物との組み合わせを挙げることができる。
【００５８】
（３−４）他の添加剤
本発明に用いられるレジストの組成物には、必要に応じて、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー、蛍光体、顔料、染料等の添加剤を配合することができる。
【００５９】
（４）露光用マスク
本発明において、レジストのパターン１６を形成するための露光用マスク１５の露光パターンは、隔壁形成用組成物のパターン１７がプラズマ作用空間を形成するために必要な１００〜１，０００μｍ角又は３０〜５００μｍ幅のストライプであることが好ましく、典型的な一例においては、４００μｍ角又は２００μｍ幅のストライプである。
【００６０】
（５）現像液
前記現像処理の工程に使用される現像液としては、使用するレジストの種類に応じて、アルカリ現像液、有機溶剤現像液又は水性現像液が用いられる。
【００６１】
（５−１）アルカリ現像液
アルカリ現像液の有効成分としては、具体的に、例えば、
水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア等の無機アルカリ性化合物；
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン等の有機アルカリ性化合物
等を挙げることができる。
【００６２】
本発明のアルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物を単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用い、通常、０．００１〜１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％の濃度となるように通常は水に溶解してアルカリ現像液とする。前記アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００６３】
（５−２）有機溶剤現像液
有機溶剤現像液の具体例としては、トルエン、キシレン、酢酸ブチル等の有機溶剤を挙げることができ、これらは単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。有機溶剤現像液による現像処理がなされた後は、必要に応じて貧溶媒によるリンス処理が施される。
【００６４】
（５−３）水性現像液
水性現像液の具体例としては、水、アルコール等を挙げることができる。
（６）隔壁形成用組成物の膜の現像処理
前記隔壁形成用組成物の膜の現像処理においては、前記本発明の隔壁形成用組成物がアルカリ可溶性樹脂を含有するので、通常アルカリ現像液が用いられる。前記隔壁形成用組成物の現像液としては、レジストの現像液として使用されるアルカリ現像液と同様のものを用いることができる。
【００６５】
従って、前記レジストの現像処理にアルカリ現像液が用いられる場合には、レジストの現像処理の工程と、隔壁形成用組成物の現像処理の工程を、中断せず連続的に行うことができる。このアルカリ現像液による処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００６６】
また、前記隔壁形成用組成物の膜の現像処理に、有機溶剤を用いることもできる。すなわち前記隔壁形成用組成物に含有される（ｃ）溶剤と同様の溶剤からなる有機溶剤現像液により、前記隔壁形成用組成物の膜を再溶解させることにより、現像することもできる。
【００６７】
このような隔壁形成用組成物の有機溶剤現像液の具体例としては、前記隔壁形成用組成物の（ｃ）溶剤として例示した有機溶剤を挙げることができる。これらは単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。また、有機溶剤現像液による現像処理がなされた後は、必要に応じて貧溶媒によるリンス処理が施される。
【００６８】
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明がこれらによって制約されるものではない
。但し、実施例中に記載の％及び部は特に断らない限り重量単位である。また、ポリスチレン換算重量平均分子量（以下、Ｍｗという。）は、東ソー株式会社製ゲルパーミィエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）により、ポリスチレン換算で測定した。
【００６９】
［合成例１］
Ｎ−メチル−２−ピロリドン              ２００  部
ｎ−ブチルメタクリレート                  ７０  部
メタクリル酸                              ３０  部
アゾビスイソブチロニトリル                  １  部
の混合物を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下で室温で均一になるまで攪拌した後、８０℃で３時間重合し、さらに１００℃で１時間反応を続けた後、室温まで冷却し、ポリマー溶液Ａを得た。得られたポリマー（以下、ポリマーＡという。）は、重合率９８％であり、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は７０，０００であった。
【００７０】
［合成例２］
Ｎ−メチル−２−ピロリドン              ２００  部
ｎ−ブチルメタクリレート                  ８０  部
メタクリル酸                              ２０  部
アゾビスイソブチロニトリル                  １  部
を用いた以外は、合成例１と同様にして、ポリマー溶液Ｂを得た。得られたポリマー（以下、ポリマーＢという。）は、重合率９７％であり、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は１００，０００であった。
【００７１】
［合成例３］
Ｎ−メチル−２−ピロリドン              ２００  部
ｎ−ブチルメタクリレート                  ９０  部
メタクリル酸                              １０  部
アゾビスイソブチロニトリル                  １  部
を用いた以外は、合成例１と同様にして、ポリマー溶液Ｃを得た。得られたポリマー（以下、ポリマーＣという。）は、重合率９７％であり、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は９０，０００であった。
【００７２】
［合成例４］
３−エトキシプロピオン酸エチル          ２００  部
ｎ−ブチルメタクリレート                  ８５  部
メタクリル酸                              １５  部
アゾビスイソブチロニトリル                  １  部
を用いた以外は、合成例１と同様にして、ポリマー溶液Ｄを得た。得られたポリマー（以下、ポリマーＤという。）は、重合率９８％であり、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は５０，０００であった。
【００７３】
［実施例１］
厚さ１．１ｍｍのガラス基板の表面に電極を形成してなる基板を用い、スクリーン印刷法により、下記組成による隔壁形成用組成物（１）を塗布し、８０℃のクリーンオーブン中で１０分間乾燥して、膜厚５０μｍの隔壁形成用組成物の膜を形成した。さらに同様の操作を４回繰り返して、最終的に、膜厚２００μｍの隔壁形成用組成物の膜を形成した。
【００７４】
隔壁形成用組成物（１）
低融点ガラスフリット：鉛ホウケイ酸ガラス              ５００重量部
アルカリ可溶性樹脂：メタクリル酸３０重量％とメタクリル酸ベンジル７０重量％の共重合体（Ｍｗ＝４０，０００）                            １００重量部
溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                  １５０重量部
次いで、隔壁形成用組成物の膜の表面上に、回転数１０００ｒｐｍのスピンコーターを用いて下記組成のレジスト組成物（１）を塗布し、８０℃のクリーンオーブン中で１０分間乾燥して、膜厚１５μｍのレジストの膜を形成した。
【００７５】
レジスト組成物（１）
アルカリ可溶性樹脂：メタクリル酸３０重量％とメタクリル酸ベンジル７０重量％の共重合体（Ｍｗ＝４０，０００）                                          ５０重量部
感放射線性成分：
（ａ）多官能性モノマー：ペンタエリスリトールテトラアクリレート      ４０重量部
（ｂ）光重合開始剤：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン      １０重量部
溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                              １５０重量部
このようにして得られたレジストの膜を有する隔壁形成用組成物の膜に対して、マスクを介して、超高圧水銀灯のｉ線と称される波長３６５ｎｍの紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ2
の照射量で照射した。
【００７６】
次いで、０．１重量％の水酸化カリウム水溶液で３分間シャワー現像し、続いて１分間超純水のシャワーを浴びせることにより、レジストの膜の紫外線未照射部を除去した上、さらにこのレジストの膜の除去に続けて、隔壁形成用組成物の膜を現像して隔壁形成用組成物のパターンを形成し、空気中で乾燥した。その後、５５０℃の焼成炉内で３０分間焼成処理してプラズマディスプレイパネル用隔壁を作製した。
【００７７】
［実施例２］
隔壁形成用組成物として下記の隔壁形成用組成物（２）を用いた以外は、実施例１と同様にして、膜厚２００μｍの隔壁形成用組成物の膜を形成した。
【００７８】
隔壁形成用組成物（２）
低融点ガラスフリット：鉛ホウケイ酸ガラス                        ５００重量部
アルカリ可溶性樹脂：メタクリル酸２０重量％とメタクリル酸メチル８０重量％の共重合体（Ｍｗ＝１００，０００）                                      １２０重量部
溶剤：プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート          １５０重量部
次いで、下記組成のレジスト組成物（２）を用いた以外は、実施例１と同様にして、隔壁形成用組成物の膜の表面上に膜厚１０μｍのレジストの膜を形成した。
【００７９】
レジスト組成物（２）
アルカリ可溶性樹脂：メタクリル酸２５重量％とメタクリル酸ベンジル５重量％とポリエチレンマクロモノマー７０重量％との共重合体（Ｍｗ＝３０，０００）  ６０重量部
感放射線性成分：
（ａ）多官能性モノマー：ペンタエリスリトールテトラアクリレート    ４０重量部
（ｂ）光重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン                                            ５重量部
溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                            １５０重量部
このようにして得られたレジストの膜を有する隔壁形成用組成物の膜に対して、マスクを介して、超高圧水銀灯のｉ線と称される波長３６５ｎｍの紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ2
の照射量で照射した。
【００８０】
次いで、０．１重量％の水酸化カリウム水溶液で４分間シャワー現像し、続いて１分間超純水のシャワーを浴びせることにより、レジストの膜の紫外線未照射部を除去した上、
さらにこのレジストの膜の除去に続けて、隔壁形成用組成物の膜を現像して隔壁形成用組成物のパターンを形成し、空気中で乾燥した。パターンの形成状態を、基板の断面写真１−１により示す。
【００８１】
その後、１８０℃のクリーンオーブン中で３０分間加熱し、さらに５５０℃の焼成炉内で３０分間焼成処理してプラズマディスプレイパネル用隔壁を作製した。隔壁の形成状態を、基板の断面写真１−２により示す。
【００８２】
［実施例３］
厚さ２．０ｍｍのガラス基板を用い、下記組成による隔壁形成用組成物（３）を用いた以外は、実施例１と同様にして、膜厚１００μｍの隔壁形成用組成物の膜（３）を形成した。
【００８３】
隔壁形成用組成物（３）
低融点ガラスフリット：鉛ホウケイ酸ガラス                        ７５０重量部
アルカリ可溶性樹脂：ポリマーＡ                                  １５０重量部
現像促進剤：プルロニック型非イオン界面活性剤
（ニューポールＰＥ６４  三洋化成工業株式会社製）                  ２０重量部
溶剤：Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                ４００重量部
さらに、隔壁形成用組成物の膜（３）の表面上に、スクリーン印刷法により、下記組成の、前記隔壁形成用組成物（３）より現像液に対する溶解性の小さい、隔壁形成用組成物（５）を塗布し、８０℃のクリーンオーブン中で１０分間乾燥して、膜厚１００μｍの隔壁形成用組成物の膜（５）を形成した。
【００８４】
隔壁形成用組成物（５）
低融点ガラスフリット：鉛ホウケイ酸ガラス                        ７５０重量部
アルカリ可溶性樹脂：ポリマーＣ                                  １５０重量部
現像促進剤：プルロニック型非イオン界面活性剤
（ニューポールＰＥ６４  三洋化成工業株式会社製）                  ２０重量部
溶剤：Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                ４００重量部
次いで、下記組成のレジスト組成物（３）を用いた以外は、実施例１と同様にして、隔壁形成用組成物の膜（５）の表面上に膜厚２０μｍのレジストの膜を形成した。
【００８５】
レジスト組成物（３）
アルカリ可溶性樹脂：ポリマーＤ                                      ５０重量部
感放射線性成分：
（ａ）多官能性モノマー：ペンタエリスリトールテトラアクリレート      ４０重量部
（ｂ）光重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン                                              ５重量部
溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                              １５０重量部
このようにして得られたレジストの膜を有する隔壁形成用組成物の膜に対して、マスクを介して、超高圧水銀灯のｉ線と称される波長３６５ｎｍの紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ2
の照射量で照射した。
【００８６】
次いで、０．２重量％の水酸化カリウム水溶液で５分間シャワー現像し、続いて１分間超純水のシャワーを浴びせることにより、レジストの膜の紫外線未照射部を除去した上、さらにこのレジストの膜の除去に続けて、隔壁形成用組成物の膜を現像して隔壁形成用組成物のパターンを形成し、空気中で乾燥した。パターンの形成状態を、基板の断面写真２−１により示す。
【００８７】
その後、１８０℃のクリーンオーブン内で３０分間加熱後、５２０℃の焼成炉内で３０分間焼成処理してプラズマディスプレイパネル用隔壁を作製した。得られたプラズマディスプレイパネル用隔壁の形状は、高さ１５０μｍ、幅７０μｍであった。隔壁の形成状態を、基板の断面写真２−２により示す。
【００８８】
実施例３において、隔壁形成用組成物の膜を現像液に対する溶解性の異なる２層の構造とすることにより、実施例２と比較し、より基板に対して垂直な断面を有する台形の形状で、隔壁が形成されることが、断面写真により明かである。
【００８９】
［実施例４］
厚さ２．０ｍｍのガラス基板を用い、下記組成による隔壁形成用組成物（３）を用いた以外は、実施例１と同様にして、膜厚５０μｍの隔壁形成用組成物の膜（３）を形成した。
【００９０】
隔壁形成用組成物（３）
低融点ガラスフリット：鉛ホウケイ酸ガラス                          ７５０重量部
アルカリ可溶性樹脂：ポリマーＡ                                    １５０重量部
現像促進剤：プルロニック型非イオン界面活性剤
（ニューポールＰＥ６４  三洋化成工業株式会社製）                    ２０重量部
溶剤：Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                  ４００重量部
次いで、隔壁形成用組成物の膜（３）の表面上に、スクリーン印刷法により、下記組成の、前記隔壁形成用組成物（３）より現像液に対する溶解性の小さい、隔壁形成用組成物（４）を塗布し、８０℃のクリーンオーブン中で１０分間乾燥して、膜厚５０μｍの隔壁形成用組成物の膜（４）を形成した。
【００９１】
隔壁形成用組成物（４）
低融点ガラスフリット：鉛ホウケイ酸ガラス                          ７５０重量部
アルカリ可溶性樹脂：ポリマーＢ                                    １５０重量部
現像促進剤：プルロニック型非イオン界面活性剤
（ニューポールＰＥ６４  三洋化成工業株式会社製）                    ２０重量部
溶剤：Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                  ４００重量部
さらに、隔壁形成用組成物の膜（４）の表面上に、スクリーン印刷法により、下記組成の、前記隔壁形成用組成物（４）より現像液に対する溶解性の小さい、隔壁形成用組成物（５）を塗布し、８０℃のクリーンオーブン中で１０分間乾燥して、膜厚１００μｍの隔壁形成用組成物の膜（５）を形成した。
【００９２】
隔壁形成用組成物（５）
低融点ガラスフリット：鉛ホウケイ酸ガラス                          ７５０重量部
アルカリ可溶性樹脂：ポリマーＣ                                    １５０重量部
現像促進剤：プルロニック型非イオン界面活性剤
（ニューポールＰＥ６４  三洋化成工業株式会社製）                    ２０重量部
溶剤：Ｎ−メチル−２−ピロリドン                                  ４００重量部
次いで、下記組成のレジスト組成物（３）を用いた以外は、実施例１と同様にして、隔壁形成用組成物の膜（５）の表面上に膜厚２０μｍのレジストの膜を形成した。
【００９３】
レジスト組成物（３）
アルカリ可溶性樹脂：ポリマーＤ                                      ５０重量部
感放射線性成分：
（ａ）多官能性モノマー：ペンタエリスリトールテトラアクリレート      ４０重量部
（ｂ）光重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェ
ニル）−ブタン−１−オン                                              ５重量部
溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                              １５０重量部
このようにして得られたレジストの膜を有する隔壁形成用組成物の膜に対して、マスクを介して、超高圧水銀灯のｉ線と称される波長３６５ｎｍの紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ2
の照射量で照射した。
【００９４】
次いで、０．２重量％の水酸化カリウム水溶液で５分間シャワー現像し、続いて１分間超純水のシャワーを浴びせることにより、レジストの膜の紫外線未照射部を除去した上、さらにこのレジストの膜の除去に続けて、隔壁形成用組成物の膜を現像して隔壁形成用組成物のパターンを形成し、空気中で乾燥した。パターンの形成状態を、基板の断面写真３−１により示す。
【００９５】
その後、１８０℃のクリーンオーブン内で３０分間加熱後、５２０℃の焼成炉内で３０分間焼成処理してプラズマディスプレイパネル用隔壁を作製した。得られたプラズマディスプレイパネル用隔壁の形状は、高さ１５０μｍ、幅７０μｍであった。隔壁の形成状態を、基板の断面写真３−２により示す。
【００９６】
実施例４において、隔壁形成用組成物の膜を現像液に対する溶解性の異なる３層の構造とすることにより、実施例２、３と比較し、より基板に対して垂直な断面を有する台形の形状で、隔壁が形成されることが、断面写真により明かである。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の一実施例に係るプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法を工程順に示す説明用断面図である。
【図２】本発明の一実施例に係る製造方法の、図１の工程に続く工程を順に示す説明用断面図である。
【図３】実施例２において形成された、隔壁形成用組成物（及びレジスト）のパターンの状態を示す基板の断面写真（写真１−１）及び焼成後の隔壁の状態を示す基板の断面写真（写真１−２）である。
【図４】実施例３において形成された、隔壁形成用組成物（及びレジスト）のパターンの状態を示す基板の断面写真（写真２−１）及び焼成後の隔壁の状態を示す基板の断面写真（写真２−２）である。
【図５】実施例４において形成された、隔壁形成用組成物（及びレジスト）のパターンの状態を示す基板の断面写真（写真３−１）及び焼成後の隔壁の状態を示す基板の断面写真（写真３−２）である。
【符号の説明】
【００９８】
１１    基板
１２    電極
１３    隔壁形成用組成物の膜
１４    レジストの膜
１５    露光マスク
１５Ａ  放射線非透過部分
１５Ｂ  放射線透過部分
１６    レジストのパターン（現像用マスク）
１６Ａ  レジスト除去部分
１７    隔壁形成用組成物のパターン
１８    プラズマ作用空間
１９    パネル中間体
２０    プラズマディスプレイパネル用隔壁
【図１】
2006228758.tif 000003
【図２】
2006228758.tif 000004
【図３】
2006228758.tif 000005
【図４】
2006228758.tif 000006
【図５】
2006228758.tif 000007