(57)【要約】  【課題】ボートエレベータのスムーズな昇降作動を確保する。  【解決手段】ウエハ１群をボート１３に保持して処理する処理室２０と、処理室２０の真下に形成されボート１３が待機する待機室１２と、ボート１３を支持した昇降台４３を昇降させて処理室２０に搬入搬出するボートエレベータ２３とを有し、有機物質による汚染を防止するためにボートエレベータ２３が待機室１２の外部に設置されたロードロック式熱処理装置において、ボートエレベータ２３は待機室１２に挿通し昇降台４３を支持する昇降軸３１と、昇降軸３１の内側に同心円に配置されて昇降軸３１を昇降させる送りねじ軸２８とを有する。送りねじ軸および駆動軸に作用するモーメントを抑止できるので、ボートエレベータのスムーズな昇降作動を確保できる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板をボートに保持した状態で処理する処理室と、この処理室の下側に連設されて前記ボートが前記処理室に対して待機する待機室と、前記ボートを支持する蓋体と、前記蓋体を支持するアームと、前記待機室の外部に配置されたボートエレベータとを備えており、  前記ボートエレベータは前記待機室に挿通し前記待機室において前記アームを支持する円筒形の昇降軸と、この昇降軸の中空部内に同心に配置された駆動軸とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置に関し、特に、密閉室内における搬送技術に係り、例えば、半導体素子を含む半導体集積回路が作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に拡散、ＣＶＤまたはエピタキシャル成長等の熱処理（thermal treatment ）を施す熱処理装置（furnace)に利用して有効なものに関する。
【背景技術】
【０００２】
ウエハに熱処理を施す熱処理装置として、複数枚のウエハをボートに保持した状態で熱処理を施す処理室が形成されたプロセスチューブと、このプロセスチューブの真下に形成されてボートが処理室に対する搬入搬出を待機する待機室と、ボートを昇降させて処理室に搬入搬出するボートエレベータとを備えているバッチ式縦形ホットウオール形熱処理装置が、広く使用されている。
従来のバッチ式縦形ホットウオール形熱処理装置においては、ボートエレベータは送りねじ軸装置によって構成されて待機室に縦形に設置されており、送りねじ軸は下端が待機室において支持され、上端において待機室の外部に設置されたモータによって回転駆動されるようになっている。
【０００３】
ところが、従来のこのようなバッチ式縦形ホットウオール形熱処理装置においては、ボートエレベータが待機室の内部に設置されているため、送りねじ軸装置やガイドレールにおいて使用されたグリースや配線ケーブル等から有機物質が飛散することにより、ウエハを汚染する原因になるという問題点がある。
そこで、ボートエレベータを待機室の外部に設置するとともに、ボートエレベータの昇降体とボートとを昇降軸によって連結することにより、ボートエレベータからの有機物質の飛散を防止することが、提案されている。例えば、特許文献１参照。
【特許文献１】特開平１１−３８６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ボートエレベータを待機室の外部に設置するとともに、ボートエレベータの昇降体とボートとを昇降軸によって連結したバッチ式縦形ホットウオール形熱処理装置においては、ボートとボートエレベータとの間隔が長くなるために、ボートエレベータの駆動軸に作用するモーメントが大きくなってスムーズな昇降作動に支障を来し、また、待機室の幅が大きくなるという問題点がある。
【０００５】
本発明の目的は、昇降作動性能の低下や装置の大形化を防止しつつボートエレベータによる汚染を防止することができる基板処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願が開示する発明のうち代表的なものは、次の通りである。
（１）基板をボートに保持した状態で処理する処理室と、この処理室の下側に連設されて前記ボートが前記処理室に対して待機する待機室と、前記ボートを支持する蓋体と、前記蓋体を支持するアームと、前記待機室の外部に配置されたボートエレベータとを備えており、
前記ボートエレベータは前記待機室に挿通し前記待機室において前記アームを支持する円筒形の昇降軸と、この昇降軸の中空部内に同心に配置された駆動軸とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
（２）基板をボートに保持した状態で処理する処理室と、この処理室の下側に連設されて前記ボートが前記処理室に対して待機する待機室と、前記ボートを支持する蓋体と、前記蓋体を支持するアームと、このアームを支持する円筒形の昇降軸と、この昇降軸の中空部内に同心に配置されて上端側から支持し下端側が自由端とされた駆動軸と、前記昇降軸と前記駆動軸とを接続する接続手段とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
（３）基板をボートに保持した状態で処理する処理室と、この処理室の下側に連設されて前記ボートが前記処理室に対して待機する待機室と、前記ボートを支持する蓋体と、前記蓋体を支持するアームと、前記待機室の外部に配置されたボートエレベータとを備えており、
前記ボートエレベータは前記待機室に挿通し前記待機室において前記アームを支持する円筒形の昇降軸と、この昇降軸の中空部内に同心に配置されて上端側から支持し下端側が自由端とされた駆動軸とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
（４）前記駆動軸を挟んで前記昇降軸の昇降を案内する複数のガイド軸が水平方向に略直線に配置されていることを特徴とする前記（１）または（２）に記載の基板処理装置。
（５）基板をボートに保持した状態で処理する処理室と、この処理室を加熱するヒータユニットと、前記処理室にガスを供給するガス供給管と、前記処理室を排気する排気管と、前記ボートが前記処理室に対して待機する待機室と、前記ボートを支持する蓋体と、前記蓋体を支持するアームと、前記待機室の外部に配置されたボートエレベータとを備えており、前記ボートエレベータは前記待機室に挿通し前記待機室において前記アームを支持する円筒形の昇降軸と、この昇降軸の中空部内に同心に配置された駆動軸とを備えている基板処理装置を使用した半導体装置の製造方法であって、
前記アームに前記蓋体を介して支持された前記ボートに前記基板を移載するステップと、
前記駆動軸を駆動させることにより、前記昇降軸と共に前記蓋体および前記ボートを上昇させるステップと、
前記処理室を前記ヒータユニットによって加熱するステップと、
前記処理室に前記ガス供給管によってガスを供給するステップと、
前記処理室を前記排気管によって排気するステップと、
を備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の効果】
【０００７】
前記（１）の手段によれば、ボートエレベータが待機室の外部に設置されているため、ボートエレベータの有機物質が待機室に飛散するのを必然的に防止することができる。
しかも、昇降軸と駆動軸とが同心円に配置されているので、ボートエレベータのスムーズな昇降作動を確保することができ、また、待機室を小さく設定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
【０００９】
本実施の形態において、本発明に係る基板処理装置は、半導体装置の製造方法にあってウエハに熱処理を施すバッチ式縦形ホットウオール形熱処理装置（以下、熱処理装置という。）として構成されている。
【００１０】
図１に示されているように、本実施の形態に係る熱処理装置は、ロードロック方式の熱処理装置（以下、ロードロック式熱処理装置という。）１０として構成されている。
ロードロック方式とは、被処理物を処理する処理室に隣接して被処理物が処理に対して待機する予備室である待機室を連設し、処理室と待機室とをシャッタやゲートバルブ等の仕切弁を用いて隔離することにより、処理室への空気の侵入を防止したり、温度や圧力等の外乱を小さくして処理を安定化させる方式、である。
【００１１】
ロードロック式熱処理装置１０は筐体１１を備えており、筐体１１にはボート１３が待機する待機室１２が形成されている。待機室１２は大気圧未満の圧力を維持可能な気密性能を有する密閉室に構成されており、ボート１３を収納可能な容積に形成されている。
筐体１１の側壁には、待機室１２へ窒素ガス等の不活性ガスを供給する供給管１２ａと、待機室１２を排気する排気管１２ｂとが接続されている。
筐体１１の正面壁にはウエハ搬入搬出口１４が開設されており、ウエハ搬入搬出口１４はゲート１５によって開閉されるようになっている。
筐体１１の天井壁にはボート搬入搬出口１６が開設されており、ボート搬入搬出口１６は処理室と待機室とを隔離する仕切弁としてのシャッタ１７によって開閉されるようになっている。
筐体１１の上には処理室を加熱するヒータユニット１８が垂直方向に設置されており、ヒータユニット１８の内部には処理室２０を形成するプロセスチューブ１９が配置されている。
プロセスチューブ１９は上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されてヒータユニット１８に同心円に配置されており、プロセスチューブ１９の円筒の中空部によって処理室２０が構成されている。
プロセスチューブ１９の下端部には処理室２０に原料ガスやパージガス等を供給するためのガス供給管２１と、プロセスチューブ１９の内部を排気するための排気管２２とが接続されている。
【００１２】
図１および図２に示されているように、筐体１１の待機室１２の天井壁には、ボートを昇降させるボートエレベータ２３が据え付けられている。ボートエレベータ２３は上側取付板２４および下側取付板２５を備えており、両取付板２４と２５との間には一対のガイド軸２６、２６が間隔をおいてそれぞれ垂直に敷設されている。両ガイド軸２６、２６には昇降板２７が垂直方向に昇降自在に支承されている。
【００１３】
両取付板２４と２５との間の一対のガイド軸２６、２６の中央には、駆動軸としての送りねじ軸２８が垂直に敷設されており、送りねじ軸２８は上端側が回転自在に支承され、下端側が自由端に構成されている。
上側取付板２４の上にはウオーム歯車減速装置付きモータ（以下、単にモータという。）２９が設置されており、送りねじ軸２８はモータ２９によって正逆方向に回転駆動されるように構成されている。
送りねじ軸２８の中間部は昇降板２７の中央部を上方から貫通しており、昇降板２７の送りねじ軸２８が貫通した部位にはナット３０が設置されている。ナット３０には送りねじ軸２８が垂直方向に進退自在に螺合されており、昇降板２７は送りねじ軸２８の正逆方向の回転に伴って、ナット３０と共に昇降するように構成されている。
なお、作動やバックラッシュを良好なものとするために、ナット３０と送りねじ軸２８との螺合部には、ボールねじ機構が使用されている。
【００１４】
昇降板２７の下面の中央には円筒形状に形成された昇降軸３１が、垂直方向下向きに固定されており、昇降軸３１と送りねじ軸２８とは同心円に配置されている。また、昇降軸３１と送りねじ軸２８と一対のガイド軸２６、２６とは水平方向に一列に配置されているとともに、一対のガイド軸２６、２６は昇降軸３１を挟んで対称形に配置されている。
【００１５】
昇降軸３１の下端には肉厚の円筒形のプラグ３３が昇降軸３１の中空部３２の下端開口を塞ぐように固定されており、昇降軸３１の中空部３２には、昇降軸３１の内径よりも小径の外径を有する円筒形状に形成された外筒３４が同心円に配置されて固定されている。昇降軸３１の内周と外筒３４の外周との間の空間には、冷却水が流通する冷却水路３５が形成されている。
外筒３４の中空部には、外筒３４の内径よりも小径の外径を有する円筒形状に形成された内筒３６が同心円に配置されており、内筒３６は上下両端部に介設された上下で一対のリング３７、３７によって外筒３４およびプラグ３３にそれぞれ固定されている。
外筒３４の内周と内筒３６の外周との間の空間には挿通路３８が形成されている。図３に示されているように、上下のリング３７、３７には挿通孔３７ａ、３７ａがそれぞれ開設されている。
また、送りねじ軸２８が垂直方向に移動する移動路３９が、内筒３６の中空部によって形成されている。
【００１６】
昇降軸３１は筐体１１の天井壁に開設された挿通孔４１を挿通して下端部が待機室１２に挿入されており、下側取付板２５の上面と昇降板２７の下面との間には挿通孔４１を気密封止するベローズ４２が介設されている。
昇降軸３１の下端には、ボートを昇降させるためのアームとしての昇降台４３がプラグ３３を介して水平に配置されて固定されている。昇降台４３は上面が開口した箱形状に形成された本体４４と、平面形状が本体４４と同一の平板形状に形成された蓋体４５とを備えており、本体４４に蓋体４５がシールリング４６を挟んで被せ付けられることにより、気密室４７を形成するようになっている。
【００１７】
昇降台４３の気密室４７の天井面である蓋体４５の下面には磁性流体シール装置４８によってシールされた軸受装置４９が設置されており、軸受装置４９は蓋体４５を垂直方向に挿通した回転軸５０を回転自在に支持しており、回転軸５０はボート回転駆動用モータ５１によって回転駆動されるようになっている。
回転軸５０の上端にはボート１３が垂直に立脚するように設置されている。
ボート１３は複数枚（例えば、２５枚、５０枚、７５枚、１００枚ずつ等）のウエハ１をその中心を揃えて水平に支持した状態で、処理室２０に対してボートエレベータ２３による昇降台４３の昇降に伴って搬入搬出するように構成されている。
昇降台４３の上面には蓋体としてのシールキャップ５３がシールリング５２を介されて設置されている。シールキャップ５３は処理室２０の炉口になる筐体１１のボート搬入搬出口１６をシールするように構成されている。
【００１８】
磁性流体シール装置４８の外側には磁性流体シール装置４８や軸受装置４９およびボート回転駆動用モータ５１を冷却するための冷却装置５４が設置されており、冷却装置５４には冷却水供給チューブ５５が接続されている。
冷却水供給チューブ５５は気密室４７から外筒３４と内筒３６との間の挿通路３８を挿通されて待機室１２の外部に引き出されており、冷却水供給源５７に可変流量制御弁５６を介して接続されるようになっている。
シールキャップ５３の内部には冷却水５８が流通する通水路５９が開設されており、通水路５９には冷却装置５４の冷却水が導入側連絡管６０によって導入されるようになっている。
通水路５９には導出側連絡管６１の一端が接続されており、導出側連絡管６１の他端はプラグ３３を挿通されて、昇降軸３１と外筒３４との間の冷却水路３５の下端に接続されている。冷却水路３５の上端には冷却水排出管６２が接続されており、冷却水排出管６２は冷却水供給源５７に接続されるようになっている。したがって、冷却水路３５には冷却水５８が下端の導出側連絡管６１から導入されて上端の冷却水排出管６２から排出されることによって流通するようになっている。
なお、外筒３４と内筒３６との間の挿通路３８には、ボート回転駆動用モータ５１の電力供給電線６３が挿通されて、外部に引き出されている。
【００１９】
以下、前記構成に係るロードロック式熱処理装置を使用した成膜工程を説明する。
【００２０】
これから成膜すべきウエハ１は大気圧状態の待機室１２へ、筐体１１のウエハ搬入搬出口１４を通してウエハ移載装置（wafer transfer equipment )によって搬入され、ボート１３に装填（ウエハチャージング）される。
この際、図１に示されているように、ボート搬入搬出口１６がシャッタ１７によって閉鎖されることにより、処理室２０の高温雰囲気が待機室１２に流入することは防止されている。このため、装填途中のウエハ１および装填されたウエハ１が高温雰囲気に晒されることはなく、ウエハ１が高温雰囲気に晒されることによる自然酸化等の弊害の派生は防止されることになる。
【００２１】
予め指定された枚数のウエハ１がボート１３へ装填されると、ウエハ搬入搬出口１４はゲート１５によって閉鎖される。
その後、待機室１２の排気管１２ｂおよび処理室２０の排気管２２に設けた圧力センサ（図示せず）の検知圧力を比較しつつ、待機室１２が排気管１２ｂによって減圧され、待機室１２を予め減圧化された処理室２０と同圧化される。
そして、ボート搬入搬出口１６がシャッタ１７によって開放される。
【００２２】
次に、ボートエレベータ２３のモータ２９によって送りねじ軸２８が正方向に回転される。送りねじ軸２８に進退自在に螺合したナット３０が、送りねじ軸２８の正方向の回転に伴って相対的に上昇することにより、ナット３０に固定された昇降板２７が一対のガイド軸２６、２６に沿って水平に上昇するので、昇降板２７に吊持された昇降軸３１およびこれに固定された昇降台４３が上昇する。
図４および図５に示されているように、この昇降台４３の上昇によって、昇降台４３に支持されたシールキャップ５３およびボート１３が上昇し、ボート１３がプロセスチューブ１９の処理室２０へボート搬入搬出口１６から搬入（ボートローディング）される。
ボート１３が処理室２０へ搬入される際に、昇降板２７が上昇すると、ベローズ４２は上方向に伸長する。
ボート１３が予め設定された所望の上限に達すると、シールキャップ５３の上面の周辺部がボート搬入搬出口１６をシール状態に閉塞するため、プロセスチューブ１９の処理室２０は気密に閉じられた状態になる。
【００２３】
その後、プロセスチューブ１９の処理室２０は気密に閉じられた状態で、所定の圧力となるように排気管２２によって排気され、ヒータユニット１８によって所定の温度に加熱され、所定の原料ガスがガス供給管２１によって所定の流量だけ供給される。
これにより、予め設定された処理条件に対応する所望の膜がウエハ１に形成される。
この際、ボート１３がボート回転駆動用モータ５１によって回転されることにより、原料ガスがウエハ１の表面に均一に接触される。
このため、ウエハ１にはＣＶＤ膜が均一に形成される。
【００２４】
ここで、冷却水５８が冷却装置５４およびシールキャップ５３の通水路５９に、冷却水供給チューブ５５および冷却水排出管６２を通じて流通されることにより、熱によるシールキャップ５３のシールリング５２や磁性流体シール装置４８および軸受装置４９の劣化が防止される。
このとき、冷却水５８が昇降軸３１の内周と外筒３４の外周との間の冷却水路３５を流通するために、昇降軸３１、プラグ３３、外筒３４および内筒３６等も冷却されることになる。
【００２５】
予め設定された処理時間が経過すると、待機室１２の排気管１２ｂおよび処理室２０の排気管２２に設けた圧力センサ（図示せず）の検知圧力を比較しつつ、待機室１２が排気管１２ｂによって減圧され、待機室１２を処理室２０と同圧化される。
【００２６】
次に、ボートエレベータ２３のモータ２９によって送りねじ軸２８が逆方向に回転される。送りねじ軸２８に進退自在に螺合したナット３０が送りねじ軸２８の逆方向の回転に伴って相対的に下降することにより、ナット３０に固定された昇降板２７が一対のガイド軸２６、２６に沿って水平に下降するので、昇降板２７に吊持された昇降軸３１およびこれに固定された昇降台４３が下降する。
図１および図２に示されているように、この昇降台４３の下降によって、昇降台４３に支持されたシールキャップ５３およびボート１３が下降し、ボート１３がプロセスチューブ１９の処理室２０から搬出（アンボートローディング）される。
ボート１３が処理室２０から搬出される際に、昇降板２７が下降すると、ベローズ４２は下方向に収縮する。
ボート１３が予め設定された所望の下限に達すると、モータ２９は自動的に停止する。
【００２７】
ここで、昇降軸３１が冷却されない状態で、処理済みのボート１３やウエハ１群が高い温度のまま待機室１２に下降されて来ると、昇降軸３１が加熱されて熱膨張することにより、ボート１３の基準高さに対する位置がずれるため、ウエハ１をボート１３からウエハ移載装置によって脱装（ディスチャージング）することができなくなる。
【００２８】
しかし、本実施の形態においては、冷却水５８が昇降軸３１の内周と外筒３４の外周との間の冷却水路３５に流通されて昇降軸３１が強制的に冷却されていることにより、昇降軸３１が熱膨張するのを防止されているため、ボート１３が待機室１２に高温度のまま下降されて来ても、ボート１３の基準高さがずれることはない。
したがって、ウエハ移載装置によるウエハ１のボート１３からの脱装作業は昇降軸３１の自然冷却を待つことなく、直ちに実施することができる。つまり、昇降軸３１の自然冷却の待ち時間を省略することができるため、ウエハ１のボート１３からの脱装作業のスループットの低下を防止することができる。
【００２９】
ボート１３が処理室２０から待機室１２に搬出されると、ボート搬入搬出口１６がシャッタ１７によって閉鎖される。
次に、待機室１２が大気圧に復帰された後に、待機室１２のウエハ搬入搬出口１４がゲート１５によって開放され、ボート１３の処理済みウエハ１がウエハ移載装置によって脱装（ウエハディスチャージング）される。
この際、昇降軸３１の熱膨張が防止されることにより、ボート１３の基準高さがずれるのを防止されているため、ウエハ移載装置による処理済みウエハ１のボート１３からの脱装作業は適正かつ迅速に実行されることになる。
【００３０】
以降、前述した作用が繰り返されることにより、ウエハ１が例えば、２５枚、５０枚、７５枚および１００枚ずつ、ロードロック式熱処理装置１０によってバッチ処理されて行く。
【００３１】
前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。
【００３２】
1)  ボートエレベータを待機室の外部に設置することにより、ボートエレベータの有機物質が待機室に飛散するのを防止することができるため、有機物質によるウエハの汚染を未然に防止することができる。
ウエハの汚染があると、曇り等の異常成膜が発生してしまう４００〜７００℃という低温で実施するシリコンエピタキシャル成長またはシリコンゲルマニウムエピタキシャル成長の成膜処理を行う基板処理装置に、利用して特に有効である。
【００３３】
2)  昇降軸と送りねじ軸とを同心円に配置することにより、送りねじ軸に作用するモーメントを抑えることができるので、ボートエレベータのスムーズな昇降作動を確保することができ、ボート上のウエハの位置ずれ等を起こすことを防止することができ、また、昇降スピードを上げることができ、より高速昇降可能となり、スループットを向上することができる。
さらに、一対のガイド軸を昇降軸ないし送りねじ軸を中心とし対称位置に配置することにより、ボートエレベータのより一層スムーズな昇降作動を確保することができ、ボート上のウエハの位置ずれ等を起こすことを防止することができ、また、昇降スピードを上げることができ、より高速昇降可能となり、スループットを向上することができる。
【００３４】
3)  昇降軸と送りねじ軸とを同心円に配置することにより、ボートとボートエレベータとの間の距離すなわち昇降台の長さを短く設定することができるので、待機室の容積を小さくすることができる。
【００３５】
4)  待機室の容積を小さく設定することにより、待機室の排気時間やパージ時間を短縮することができる。また、ロードロック式熱処理装置を小さく設定することができるので、ロードロック式熱処理装置のコストを低減することができるばかりでなく、クリーンルームを有効に活用することができる。
【００３６】
5)  送りねじ軸は上端側を回転自在に吊持し下端側を自由端に構成することにより、下端側を回転自在に支承した際における送りねじ軸の下端側への荷重の影響での座屈による振動の発生等を未然に防止することができるので、ボートエレベータのスムーズな昇降作動をより一層確実に創出することができる。
【００３７】
6)  冷却水を昇降軸の内周と外筒の外周との間の冷却水路に流通させることにより、昇降軸を強制的に冷却して、昇降軸が熱膨張するのを防止することができるので、ウエハ移載装置によるウエハのボートからの脱装作業を昇降軸の自然冷却を待つことなく、直ちに実施することができる。つまり、昇降軸の自然冷却の待ち時間を省略することができるため、ウエハのボートからの脱装作業のスループットの低下を防止することができる。
【００３８】
7)  円筒形の昇降軸の中空部に外筒と内筒とを送りねじ軸を囲むように同心円に配置することにより、外筒の内周と内筒の外周との間の挿通路に冷却水供給チューブや電力供給電線を挿通することができるとともに、内筒の中空部によって送りねじ軸の移動路を形成することができるので、冷却水供給チューブや電力供給電線が送りねじ軸に絡みつくのを防止することができる。
【００３９】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【００４０】
例えば、ガイド軸は一対設置するに限らず、一本だけを設置してもよいし、三本以上設置してもよいし、さらには、省略してもよい。
【００４１】
前記実施の形態では、送りねじ軸を回転させる駆動用モータを上側取付板の上に取付けているが、構成はこれに限らない。
昇降軸を強制的に冷却するための冷却装置は省略してもよいし、冷却水を用いずに待機室内の温度具合により冷却された不活性ガス等を代用してもよい。
【００４２】
ロードロック式熱処理装置は成膜処理に使用するに限らず、酸化膜形成処理や拡散処理およびアニーリング等の熱処理にも使用することができる。
【００４３】
前記実施の形態ではロードロック式熱処理装置の場合について説明したが、本発明はこれに限らず、基板処理装置全般に適用することができる。
例えば、ロードロック式でない待機室として送風ファンにより室内を清浄化した雰囲気に保つようなオープン式の待機室に適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の一実施の形態であるロードロック式熱処理装置を示す側面断面図である。
【図２】ボートエレベータを通る背面断面図である。
【図３】（ａ）は上側リングの部分の横断面図、（ｂ）は下側リングの部分の横断面図である。
【図４】ボート搬入時を示す一部切断側面図である。
【図５】同じくボートエレベータを通る背面断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１…ウエハ（基板）、１０…ロードロック式熱処理装置（基板処理装置）、１１…筐体、１２…待機室（予備室）、１２ａ…供給管、１２ｂ…排気管、１３…ボート、１４…ウエハ搬入搬出口、１５…ゲート、１６…ボート搬入搬出口、１７…シャッタ、１８…ヒータユニット、１９…プロセスチューブ、２０…処理室、２１…ガス供給管、２２…排気管、２３…ボートエレベータ、２４…上側取付板、２５…下側取付板、２６…ガイド軸、２７…昇降板、２８…送りねじ軸（駆動軸）、２９…モータ、３０…ナット、３１…昇降軸、３２…中空部、３３…プラグ、３４…外筒、３５…冷却水路、３６…内筒、３７…リング、３７ａ…挿通孔、３８…挿通路、３９…移動路、４１…挿通孔、４２…ベローズ、４３…昇降台（アーム）、４４…本体、４５…蓋体、４６…シールリング、４７…気密室、４８…磁性流体シール装置、４９…軸受装置、５０…回転軸、５１…ボート回転駆動用モータ、５２…シールリング、５３…シールキャップ（蓋体）、５４…冷却装置、５５…冷却水供給チューブ、５６…可変流量制御弁、５７…冷却水供給源、５８…冷却水、５９…通水路、６０…導入側連絡管、６１…導出側連絡管、６２…冷却水排出管、６３…電力供給電線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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