(57)【要約】【課題】  電気光学装置において配向膜にラビングスジが発生するのを防止する。【解決手段】  電気光学装置において電気光学物質を挟持する一対の基板のいずれかを構成する基板と、該基板上の周辺領域に形成されると共に、電気光学物質に画素毎に所定の電圧を印加するための駆動信号が供給される複数の端子と、複数の端子と電気光学物質とを電気的に絶縁するために、複数の端子より上層側に形成されると共に、基板上で平面的に見て、周辺領域内に、複数の端子を夫々結ぶ方向に、連続的に延在させて第１の孔が開孔されると共に、該第１の孔の底部より端子の表面に至る第２の孔が開孔された絶縁膜とを備える。【選択図】  図５
2006292778.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置を構成する電気光学装置用基板であって、
前記一対の基板のいずれかを構成する基板と、
該基板上の画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に形成されると共に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の端子と、
該複数の端子より上層側に形成されると共に、前記基板上で平面的に見て、前記周辺領域内に、前記複数の端子の配列方向に延在する第１の孔が開孔されると共に、前記基板上で平面的に見て前記第１の孔に含まれ、前記第１の孔の底部より前記複数の端子の表面に夫々至る複数の第２の孔が開孔された絶縁膜と
を備えることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項２】
前記複数の端子は夫々、前記基板の少なくとも一辺に沿って配列されて、前記信号又は電源としての電位を供給する外部回路と電気的に接続される外部回路接続端子として形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項３】
前記複数の端子は夫々、前記一対の基板間の電気的導通を行うための上下導通端子として設けられると共に、前記基板の少なくとも一辺の両端に位置する２隅に配置されて形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項４】
前記絶縁膜には、前記基板に垂直な方向の前記第１及び第２の孔の深さについて、前記第１の孔の深さが、前記第２の孔の深さ以上の値となるように、前記第１及び第２の孔が開孔されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項５】
前記絶縁膜には、前記基板上で平面的に見て、前記第１の孔と対向する前記画像表示領域の一辺と比較して、該一辺に沿う方向の前記第１の孔の径が大きくなるように、前記第１の孔が開孔されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項６】
前記絶縁膜には、前記基板上で平面的に見て、前記第１の孔の形状が楕円形となるように、前記第１の孔が開孔されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項７】
前記絶縁膜には、前記基板上で平面的に見て、前記第１の孔の形状が前記配列方向に長手状に延びるトラック形となるように、前記第１の孔が開孔されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項８】
前記絶縁膜には、前記基板上で平面的に見て、前記第１の孔の、前記配列方向に交わる方向に延びる少なくとも一辺が、曲線形状となるように、前記第１の孔が開孔されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項９】
一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置が複数形成される電気光学装置用基板であって、
前記一対の基板のいずれかの基板を夫々構成することになる複数の基板部分を含むマザー基板と、
該複数の基板部分の各々について、該基板部分上の画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に形成されると共に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の端子と、
該複数の端子より上層側に形成されると共に、前記マザー基板上で平面的に見て、前記複数の基板部分の各々について、前記周辺領域内に、前記複数の端子の配列方向に、前記複数の基板部分のうち前記配列方向に並ぶものを跨って延在する第１の孔が開孔されると共に、前記基板上で平面的に見て前記第１の孔に含まれ、前記第１の孔の底部より前記複数の端子の表面に夫々至る複数の第２の孔が開孔された絶縁膜と
を備えることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１０】
請求項１から８のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板と、
前記基板上において、前記絶縁膜より上層側に、少なくとも前記画像表示領域に形成された配向膜と、
前記基板と対向して配置され、前記基板と一対をなす他の基板と、
該一対の基板間に挟持される電気光学物質と
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【請求項１２】
一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置を構成する電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記一対の基板のいずれかを構成する基板上において、画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の端子を形成する工程と、
該複数の端子より上層側に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜に、前記基板上で平面的に見て、前記周辺領域内に、前記複数の端子の配列方向に延在する第１の孔を開孔すると共に、前記基板上で平面的に見て前記第１の孔に含まれ、前記第１の孔の底部より前記複数の端子の表面に夫々至る複数の第２の孔を開孔する工程と
を備えることを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１３】
前記第１及び第２の孔を開孔する工程において、前記第１の孔を、前記絶縁膜を貫通させること無く、前記絶縁膜に掘り込んで開孔した後、前記第２の孔を、前記第１の孔の底部より前記絶縁膜を貫通させて開孔することを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１４】
前記第１及び第２の孔を開孔する工程において、前記絶縁膜における前記第２の孔の開孔位置に、前記絶縁膜を貫通して前記端子の表面に至る小穴を前駆的に開孔した後、前記第１の孔を、前記絶縁膜を貫通させること無く、前記絶縁膜に掘り込んで開孔させて、前記第１の孔の底部より前記端子の表面に至る前記小穴の一部を残存させて、該残存させた前記小穴の一部を前記第２の孔として形成することを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置に用いられる電気光学装置用基板及びその製造方法、該電気光学装置用基板を備えてなる電気光学装置並びに例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置として、一対の基板間に電気光学物質として液晶を挟持してなる液晶装置がある。このような液晶装置では、例えば一対の基板間において液晶を所定の配向状態としておき、例えば画像表示領域に形成された画素部毎に、液晶に所定の電圧を印加することにより、液晶における配向や秩序を変化させて、光を変調することにより階調表示を行う。尚、一対の基板の少なくともいずれか一方上には、このような階調表示を行うため、外部回路から駆動信号が供給される、外部回路接続端子等の各種端子が、画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に形成される。このような各種端子より上層側には、端子の延在部或いは端子から引き回された配線部と液晶等とを電気的に絶縁するため、絶縁膜が形成されると共に、該絶縁膜を貫通させて凹状の開口部が開孔されることで、端子の表面が絶縁膜より露出される。
【０００３】
また、液晶装置では、液晶の配向制御を、特定の表面形状をもつ配向膜により行う。このような配向膜として、例えば、一対の基板の少なくともいずれか一方上に、ポリイミド等の有機材料により形成される有機膜にラビング処理を施すことにより得られる有機配向膜が形成される。ラビング処理は、例えば、周面が布等のクロス材により形成されたラビングローラを用いて、このラビングローラの周面に有機膜の表面を当接させることにより行われる。
【０００４】
特許文献１には、表示不良を解消するために、一対の基板のいずれか一方上に、画素部に形成された画素電極と、各種端子に供給される駆動信号に基づいて画素電極を駆動するために形成された配線等とを層間絶縁する絶縁膜が形成されると共に、該絶縁膜に分離凹溝を開孔する構成が開示されている。この分離凹溝は、画像表示領域において、隣接する画素部の各々に形成された画素電極間に位置する絶縁膜の一部に開孔されると共に、その底部に垂直配向膜が形成される。
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−２３２３９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述したような液晶装置を製造する際、配向膜のラビング処理で、基板上の周辺領域に位置する絶縁膜に開孔された、端子の表面を露出させるための開口部に、ラビングローラの周面を形成するクロスが当接し、該クロスの当接部分の毛先が開口部内に落ち込むことで、クロスに毛羽立ち等の乱れが生じる恐れがある。これにより、開口部通過後、ラビングローラの周面において、開口部に当接する部分と当接しない部分とで、クロスの毛並みの状態が異なることとなり、該クロスの毛並みの状態に起因して、画像表示領域上に位置する配向膜において例えば帯状のラビングスジが発生することがある。このようなラビングスジが配向膜において生じると、一対の基板間で液晶の配向状態に乱れが生じ、画像表示時に、表示不良が発生する恐れがある。
【０００７】
本発明は上述の問題点に鑑みなされたものであり、配向膜におけるラビングスジの発生を防止することが可能な電気光学装置用基板及びその製造方法、並びにこのような電気光学装置用基板を備えてなる電気光学装置、及び該電気光学装置を具備する液晶プロジェクタ等の電子機器を提供することを解決課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の電気光学装置用基板は上記課題を解決するために、一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置を構成する電気光学装置用基板であって、前記一対の基板のいずれかを構成する基板と、該基板上の画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に形成されると共に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の端子と、該複数の端子より上層側に形成されると共に、前記基板上で平面的に見て、前記周辺領域内に、前記複数の端子の配列方向に延在する第１の孔が開孔されると共に、前記基板上で平面的に見て前記第１の孔に含まれ、前記第１の孔の底部より前記複数の端子の表面に夫々至る複数の第２の孔が開孔された絶縁膜とを備える。
【０００９】
本発明の第１の電気光学装置用基板は、例えば液晶装置である電気光学装置に用いられ、該電気光学装置の、電気光学物質を挟持する一対の基板のいずれか一方の基板を備えている。該基板上の画像表示領域には、例えば画素部毎に画素電極が形成されると共に、例えば外部回路から供給される画像信号、電源信号、制御信号或いは駆動信号等の各種信号に基づいて、画素電極を駆動するための配線や、薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；以下適宜、”ＴＦＴ”と称する）等のトランジスタ、若しくは薄膜ダイオード（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ；以下適宜、”ＴＦＤ”と称する）等の画素スイッチング用の駆動素子が形成される。或いは、基板上には、該基板を含む一対の基板の他方に形成された画素電極と対向する対向電極や、例えば格子状のパターンを有する遮光膜等が画像表示領域に形成されてもよい。
【００１０】
また、基板上の画像表示領域の周辺に位置する周辺領域には、対向電極若しくは画素電極を駆動するための各種信号が供給される、２以上の端子が形成される。これら複数の端子は、例えば、基板の少なくとも一辺に沿って配列され、各種信号を供給する外部回路と電気的に接続される外部回路接続端子として形成される。若しくは、複数の端子は、基板の少なくとも一辺の両端に位置する２隅に配置され、一対の基板間の電気的導通を行うための上下導通端子として形成されてもよい。
【００１１】
尚、本発明の第１の電気光学装置用基板を用いて構成される電気光学装置では、複数の端子に供給された各種信号に基づいて、配線や画素スイッチング素子によって画素電極又は対向電極が駆動されることにより、一対の基板間に挟持された電気光学物質に画素部毎に所定の電圧が印加されることで、画像表示が行われる。
【００１２】
加えて、本発明の第１の電気光学装置用基板によれば、基板上において、複数の端子の延在部或いは複数の端子から引き出された配線部と電気光学物質等とを電気的に絶縁するために、基板上における複数の端子より上層側に、絶縁膜が形成される。この絶縁膜は、画素電極若しくは対向電極と、画素電極若しくは対向電極を駆動するための配線等とを電気的に絶縁するように、周辺領域から画像表示領域に連続的に跨って形成されてもよい。
【００１３】
そして、絶縁膜において周辺領域内に位置する部分には、基板上で平面的に見て、複数の端子が、例えば一列或いは複数列に配列された配列方向に延在する第１の孔が掘り込まれて開孔される。第１の孔は、絶縁膜を貫通させないで、絶縁膜に掘り込まれて開孔されており、更に、第１の孔の底部より絶縁膜を貫通させて端子の表面に至る第２の孔が複数開孔される。即ち、基板上で平面的に見て、第１の孔は、複数の第２の孔に跨るように、第２の孔より大きいサイズで開孔されていると共に、これより小さいサイズとして開孔された第２の孔より、端子の表面が露出される。典型的には、第１の孔は、複数の端子の配列方向に延びる長方形や楕円などの長手状の平面形状を有する。このように、本発明の第１の電気光学装置用基板では、端子の表面を露出させるための第２の孔は、第１の孔の底部より開孔されるため、該第１の孔を開孔させないで、絶縁膜に、端子の表面を露出させるための開孔部を複数開孔する場合と比較して、該開孔部より、第２の孔の基板に垂直方向の深さを浅くすることができる。
【００１４】
尚、基板上で平面的に見て、各端子の形状、第１及び第２の孔の形状は、任意の形状として形成されると共に、第１又は第２の孔の、基板に垂直な方向の断面形状について、第１の孔の側壁から絶縁膜の表面に至る一部、又は第２の孔の側壁から第１の孔の底部に至る一部に面取りが施されてもよい。このように面取りを施すことにより、後述するようなラビング処理の際、ラビングローラの周面におけるクロスの毛乱れをより低減することが可能となる。
【００１５】
以上のような構成を有する第１の電気光学装置用基板を用いて電気光学装置を製造する際、該第１の電気光学装置用基板において、基板上の少なくとも画像表示領域には、絶縁膜、及び画素電極若しくは対向電極より上層側に、配向膜が形成される。この配向膜は、画素電極若しくは対向電極より上層側に成膜された、例えばポリイミド等の有機材料により形成される有機膜にラビング処理を施すことにより、形成される。
【００１６】
ラビング処理は、例えば、ラビングローラの進行方向が、複数の端子の配列方向に対して、即ち第１の孔の延在方向に対して、概ね垂直となるように、ラビングローラの周面を有機膜の表面に当接させることにより行うようにする。或いは、少なくとも、係る第１の孔の延在方向に対して交わる方向となるように、ラビングローラの周面を有機膜の表面に当接させることにより行うようにする。この際、画像アレイ領域に対して、第１の孔がラビングの上流側に位置するように、ラビング方向を定めるとよい。但し、後述の如くマザー基板に含まれる複数の基板部分に対して一括にラビング処理を施すのであれば、このようなラビングの上流側或いは下流側といった差異は殆どない。
【００１７】
このようなラビング処理の際、ラビングローラの周面は、第１の孔に当接し、更に第１の孔内において第２の孔に当接する。ラビングローラの周面を形成するクロスにおいて、複数の端子上を通過する一部の毛並みは、第１の孔内において所定の状態に均される、即ちリセットされる。また、第２の孔は既に説明したように、比較的浅く形成されるため、このようにリセットされたクロスの一部の毛先が第２の孔内に当接したとしても、該第２の孔における当接により、クロスの毛先に加わる圧力を小さくすることが可能となる。そして、第２の孔に当接されたクロスの毛先は、再び第１の孔に当接することで、所定の状態にリセットされ、第１の孔から絶縁膜の表面に向かって進行する。
【００１８】
よって、第２の孔内に当接された、ラビングローラの周面の一部を形成するクロスの毛先において毛羽立ち等の乱れを低減することが可能となると共に、該クロスの毛先が第２の孔内から第１の孔に当接して、所定の状態に均される。即ち、第２の孔を通過する部分を含む、第１の孔を通過する、ラビングローラの周面の一部では、クロスの毛並みは所定の状態にリセットされるため、第２の孔を通過することで発生した毛羽立ち等の乱れを、当該一部において消滅させるか又は更に低減することが可能となる。
【００１９】
よって、ラビングローラが、基板上において、複数の端子の存在箇所から画像表示領域に向かって進行する際、複数の端子の表面を露出させるための第２の孔の存在に起因して、ラビングローラの周面において発生したクロスの毛乱れによって、画像表示領域において、配向膜にラビングスジが発生するのを防止することが可能となる。
【００２０】
尚、基板上で平面的に見て、第１の孔の形状を所定の形状、より具体的には、例えば第１の孔の径等を所定値にすることにより、例えば、上述したように、ラビングローラの進行方向に対する第１の孔の延在方向が、概ね垂直となる場合のほか、垂直以外の角度となるように、ラビング処理を行う場合においても、ラビングローラの基板に対する進行方向によらず、画像表示領域全体に亘って、配向膜にラビングスジが発生するのを防止することができる。
【００２１】
従って、ラビング処理を良好に行うと共に、電気光学装置において、配向膜におけるラビングスジに起因して、液晶の配向状態に乱れが生じるのを防止することが可能となり、表示画面において表示不良が発生するのを防止することができる。
【００２２】
本発明の第１の電気光学装置用基板の一態様では、前記複数の端子は夫々、前記基板の少なくとも一辺に沿って配列されて、前記信号又は電源としての電位を供給する外部回路と電気的に接続される外部回路接続端子として形成されている。
【００２３】
この態様によれば、基板上で平面的に見て、絶縁膜において、第１の孔は、２以上の外部回路接続端子の配列方向に沿う方向に、即ち、基板の少なくとも一辺に沿って延在するように、開孔されている。
【００２４】
ここで、外部回路接続端子は、例えば各種信号の種類に応じて、基板上の周辺領域内に形成される。よって、各種信号が多種類であれば、多数の外部回路接続端子が基板上に形成されることとなる。これにより、第１の孔を開孔させずに、第２の孔より、基板に対して垂直方向の深さが深い開孔部を絶縁膜に多数開孔して、各外部回路接続端子の表面を露出させる場合、ラビング処理で、ラビングローラの周面において、多数の開孔部に落ち込んだクロスの毛先に比較的大きな圧力が加わることにより、毛乱れが生じ、配向膜により顕著にラビングスジが発生する恐れがある。
【００２５】
この態様によれば、電気光学装置の製造プロセスにおいて、絶縁膜より上層側に配向膜を形成する際、ラビング処理において、ラビングローラが、基板上において、複数の外部回路接続端子の存在箇所から画像表示領域に向かって進行する際、外部回路接続端子の表面を露出させるための第２の孔の存在に起因して、ラビングローラの周面において発生するクロスの毛乱れを低減し、且つ第１の孔によってこのクロスの毛先をリセットすることにより、クロスの毛乱れを消滅させるか又は低減することができる。よって、画像表示領域において、配向膜に顕著にラビングスジが発生するのを、より効果的に防止することが可能となる。
【００２６】
本発明の第１の電気光学装置用基板の他の態様では、前記複数の端子は夫々、前記一対の基板間の電気的導通を行うための上下導通端子として設けられると共に、前記基板の少なくとも一辺の両端に位置する２隅に配置されて形成されている。
【００２７】
この態様によれば、基板上で平面的に見て、絶縁膜において、第１の孔は、２以上の上下導通端子の配列方向に沿う方向に、即ち、基板の少なくとも一辺に沿って延在するように、開孔されている。
【００２８】
電気光学装置の製造プロセスにおいて、絶縁膜より上層側に配向膜を形成する際、ラビング処理において、ラビングローラが、基板上において、複数の上下導通端子の存在箇所から画像表示領域に向かって進行する際、上下導通接続端子の表面を露出させるための第２の孔の存在に起因して、ラビングローラの周面において発生するクロスの毛乱れを低減し、且つ第１の孔によってこのクロスの毛先をリセットすることにより、クロスの毛乱れを消滅させるか又は低減することができる。よって、画像表示領域において、配向膜にラビングスジが発生するのを防止することが可能となる。
【００２９】
本発明の第１の電気光学装置用基板の他の態様では、前記絶縁膜には、前記基板に垂直な方向の前記第１及び第２の孔の深さについて、前記第１の孔の深さが、前記第２の孔の深さ以上の値となるように、前記第１及び第２の孔が開孔されている。
【００３０】
この態様によれば、第１の孔の深さを、第２の孔の深さより、より深くすることにより、ラビング処理の際、第１の孔を通過するラビングローラの周面の一部では、第１の孔内におけるクロスの毛先に加わる圧力をより大きくすると共に、当該一部において、第２の孔内を通過するクロスの毛先に加わる圧力をより小さくすることが可能となる。これにより、第２の孔に当接することによりクロスの毛先に生じる毛乱れをより低減すると共に、第１の孔に当接するクロスの毛先を所定の状態に均す、リセット効果をより増大させることが可能となる。尚、第２の孔の深さは、第２の孔の側壁における耐久性を確保することができる程度の値とするのが好ましい。
【００３１】
本発明の第１の電気光学装置用基板の他の態様では、前記絶縁膜には、前記基板上で平面的に見て、前記第１の孔と対向する前記画像表示領域の一辺と比較して、該一辺に沿う方向の前記第１の孔の径が大きくなるように、前記第１の孔が開孔されている。
【００３２】
この態様によれば、基板上で平面的に見て、例えば、外部回路接続端子若しくは上下導通端子として、複数形成された端子の配列方向であって、基板の少なくとも一辺に沿って延在する第１の孔の径が、第１の孔と対向する画像表示領域の一辺よりも大きくなるように、第１の孔が絶縁膜に開孔される。
【００３３】
これにより、電気光学装置の製造プロセスにおいて、絶縁膜より上層側に配向膜を形成する際、ラビング処理において、第２の孔の存在に起因して、ラビングローラの周面において発生するクロスの毛乱れを低減すると共に、第１の孔によってこのクロスの毛先がリセットされ、このようにリセットされたクロスの毛先が画像表示領域概ね全体に亘って通過することにより、配向膜にラビングスジが発生するのを、画像表示領域全体に亘って防止することが可能となる。言い換えれば、第１の孔が開孔されていない周辺領域を通過するラビングローラ部分を、画像表示領域に掛からない周辺領域のみを通過するようにラビング処理を行うことが可能となる。
【００３４】
本発明の第１の電気光学装置用基板の他の態様では、前記絶縁膜には、前記基板上で平面的に見て、前記第１の孔の形状が楕円形となるように、前記第１の孔が開孔されている。
【００３５】
この態様によれば、基板上で平面的に見て、絶縁膜において、楕円形の第１の孔が、例えば、その長手方向の径が複数の端子の配列方向であって、基板の少なくとも一辺に沿って延在するように、開孔されている。
【００３６】
よって、電気光学装置の製造プロセスにおいて、絶縁膜より上層側に配向膜を形成する際、ラビング処理で、第１及び第２の孔を通過するラビングローラの周面において、第２の孔の存在に起因して発生するクロスの毛乱れを低減し、且つ第１の孔によってこのクロスの毛先をリセットすることにより、クロスの毛乱れを消滅させるか又は低減する。加えて、楕円形の第１の孔の端部において、ラビングローラの周面が当接するのを防止することで、クロスの毛羽立ち等の乱れが発生するのを防止する。
【００３７】
よって、この態様によれば、より確実に、ラビングローラの周面におけるクロスの毛乱れが発生するのを防止することができる。
【００３８】
本発明の第１の電気光学装置用基板の他の態様では、前記絶縁膜には、前記基板上で平面的に見て、前記第１の孔の形状が前記配列方向に長手状に延びるトラック形となるように、前記第１の孔が開孔されている。
【００３９】
この態様によれば、基板上で平面的に見て、絶縁膜において、トラック形の第１の孔が、長手方向が複数の端子の配列方向であって、基板の少なくとも一辺に沿って延在するように、開孔されている。ここに本発明に係る「トラック形」とは、例えば陸上競技の運動場等のトラックと同じような、矩形或いは長方形における相対向する二辺が半円又は半楕円とされている形状をいい、好ましくは、半円又は半楕円と直線部分との接続箇所が滑らかにされている。更に、トラック形が「配列方向に長手状に延びる」とは、トラックの直線部分が配列方向に沿っていることを意味する。
【００４０】
よって、電気光学装置の製造プロセスにおいて、絶縁膜より上層側に配向膜を形成する際、ラビング処理で、第１及び第２の孔を通過するラビングローラの周面において、第２の孔の存在に起因して発生するクロスの毛乱れを低減し、且つ第１の孔によってこのクロスの毛先をリセットすることにより、クロスの毛乱れを消滅させるか又は低減する。加えて、トラック形の第１の孔の端部において、ラビングローラの周面が当接するのを防止することで、クロスの毛羽立ち等の乱れが発生するのを防止する。
【００４１】
よって、この態様によれば、より確実に、ラビングローラの周面におけるクロスの毛乱れが発生するのを防止することができる。
【００４２】
本発明の第１の電気光学装置用基板の他の態様では、前記絶縁膜には、前記基板上で平面的に見て、前記第１の孔の、前記配列方向に交わる方向に延びる少なくとも一辺が、曲線形状となるように、前記第１の孔が開孔されている。
【００４３】
この態様によれば、電気光学装置の製造プロセスにおいて、絶縁膜より上層側に配向膜を形成する際、ラビング処理で、第１及び第２の孔を通過するラビングローラの周面において、第２の孔の存在に起因して発生するクロスの毛乱れを低減し、且つ第１の孔によってこのクロスの毛先をリセットすることにより、クロスの毛乱れを消滅させるか又は低減する。加えて、基板上で平面的に見て、複数の端子の配列方向に沿って延在する第１の孔の径の一端若しくは両端付近において、ラビングローラの周面が当接するのを防止することで、クロスの毛羽立ち等の乱れが発生するのを防止することが可能となる。
【００４４】
よって、この態様によれば、より確実に、ラビングローラの周面におけるクロスの毛乱れが発生するのを防止することができる。
【００４５】
本発明の第２の電気光学装置用基板は上記課題を解決するために、一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置が複数形成される電気光学装置用基板であって、前記一対の基板のいずれかの基板を夫々構成することになる複数の基板部分を含むマザー基板と、該複数の基板部分の各々について、該基板部分上の画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に形成されると共に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の端子と、該複数の端子より上層側に形成されると共に、前記マザー基板上で平面的に見て、前記複数の基板部分の各々について、前記周辺領域内に、前記複数の端子の配列方向に、前記複数の基板部分のうち前記配列方向に並ぶものを跨って延在する第１の孔が開孔されると共に、前記基板上で平面的に見て前記第１の孔に含まれ、前記第１の孔の底部より前記複数の端子の表面に夫々至る複数の第２の孔が開孔された絶縁膜とを備える。
【００４６】
本発明の第２の電気光学装置用基板を用いて、複数の電気光学装置が製造される。本発明の第２の電気光学装置用基板は夫々、電気光学装置において、電気光学物質を挟持する一対の基板のいずれか一方を構成することになる、複数の基板部分を含むマザー基板或いは大型基板を備える。マザー基板において、例えば、複数の基板部分は縦方向及び横方向に配列される。尚、例えば、第２の電気光学装置用基板を用いて複数の電気光学装置が作製された後、大型のマザー基板を構成する各基板部分を、例えばスクライビング、ダイシング等により個別に切り分けることで、各電気光学装置が得られる。
【００４７】
そして、このマザー基板を構成する複数の基板部分の各々について、上述した本発明の第１の電気光学装置用基板と同様に、基板部分上の画像表示領域に、画素電極若しくは対向電極等が形成されると共に、周辺領域には、複数の端子が夫々、例えば外部回路接続端子又は上下導通端子として形成される。
【００４８】
また、各基板部分上において、複数の端子より上層側に、絶縁膜が形成される。この際好ましくは、複数の基板部分に跨って、即ちマザー基板の一面に絶縁膜が形成される。
【００４９】
更に、マザー基板を構成する複数の基板部分の各々について周辺領域内に、マザー基板上で平面的に見て、複数の端子の配列方向に並べられた複数の基板部分を跨って複数の端子の配列方向に延在するように、第１の孔が掘り込まれて開孔される。この第１の孔は、絶縁膜を貫通させないで、絶縁膜に掘り込まれて開孔されており、更に、第１の孔の底部より絶縁膜を貫通させて端子の表面に至る第２の孔が複数開孔される。
【００５０】
尚、第２の電気光学装置用基板では、平面的に見た各端子の形状、第１及び第２の孔の形状や、第１又は第２の孔の、マザー基板に垂直な方向の断面形状は、第１の電気光学装置用基板と同様に形成されてもよい。
【００５１】
以上のような構成を有する第２の電気光学装置用基板を用いて電気光学装置を製造する際、該第２の電気光学装置用基板において、マザー基板を構成する複数の基板部分の各々について、該基板部分上の少なくとも画像表示領域には、絶縁膜、及び画素電極若しくは対向電極より上層側に、配向膜が形成される。この際、ラビング処理は、例えば、大型のマザー基板を構成する複数の基板部分に対して、一括してまとめて行われる。ここでは、例えばラビングローラの進行方向が、第１の孔の延在方向に対して、概ね垂直となるように、ラビングローラの周面を有機膜の表面に当接させることにより行うようにする。或いは、少なくとも、係る第１の孔の延在方向に対して交わる方向となるように、ラビングローラの周面を有機膜の表面に当接させることにより行うようにする。
【００５２】
このようなラビング処理の際、ラビングローラの周面は、マザー基板上において、該マザー基板を構成する複数の基板部分のうち、隣接する基板部分に跨って形成された第１の孔に当接し、更に第１の孔内において第２の孔に当接する。よって、ラビングローラの周面において、第１の孔に当接した一部で、クロスの毛先が所定の状態に均されるリセット効果が得られることにより、マザー基板を構成する複数の基板のうち隣接する基板に跨って、第２の孔に当接されたクロスの毛先の毛乱れを消滅させるか又は更に低減することが可能となる。
【００５３】
従って、例えば平面的に見て縦方向又は横方向に沿って配列された基板部分毎に、これらの基板部分上を通過するラビングローラの周面において前述したようなリセット効果を得ることができる。よって、マザー基板全体に亘って、該マザー基板を構成する複数の基板部分の各々について、画像表示領域に形成された配向膜にラビングスジが発生するのを防止することが可能となる。
【００５４】
従って、以上説明したような第２の電気光学装置用基板によれば、該第２の電気光学装置用基板において形成される複数の電気光学装置において、夫々、液晶の配向状態に乱れが生じるのを防止することができ、表示画面において表示不良が発生するのを防止することが可能となる。
【００５５】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、上述した本発明の第１の電気光学装置用基板（但し、その各種態様も含む）と、前記基板上において、前記絶縁膜より上層側に、少なくとも前記画像表示領域に形成された配向膜と、前記基板と対向して配置され、前記基板と一対をなす他の基板と、該一対の基板間に挟持される電気光学物質とを備える。
【００５６】
本発明の電気光学装置によれば、電気光学装置の製造において、ラビング処理を良好に行うことが可能となり、配向膜におけるラビングスジに起因して、液晶の配向状態に乱れが生じるのを防止することができる。よって、表示画面において表示不良が発生するのを防止して、高品質な画像表示を行うことが可能となる。
【００５７】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置を具備する。
【００５８】
本発明の電子機器は、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置、電子放出装置（Field Emission Display及びConduction Electron-Emitter Display）、これら電気泳動装置、電子放出装置を用いた装置としてDLP（Digital  Light  Processing）等を実現することも可能である。
【００５９】
本発明の電気光学装置用基板の製造方法は上記課題を解決するために、一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置を構成する電気光学装置用基板の製造方法であって、前記一対の基板のいずれかを構成する基板上において、画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に、前記電気光学物質を画素毎に駆動するための信号又は電源としての電位が供給される複数の端子を形成する工程と、該複数の端子より上層側に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜に、前記基板上で平面的に見て、前記周辺領域内に、前記複数の端子の配列方向に延在する第１の孔を開孔すると共に、前記基板上で平面的に見て前記第１の孔に含まれ、前記第１の孔の底部より前記複数の端子の表面に夫々至る複数の第２の孔を開孔する工程とを備える。
【００６０】
本発明の電気光学装置用基板の製造方法によれば、上述した本発明の第１の電気光学装置用基板と同様に、当該製造方法により製造された電気光学装置用基板を用いて電気光学装置を製造する際、配向膜の形成において、ラビング処理を良好に行うと共に、電気光学装置において、配向膜におけるラビングスジに起因して、液晶の配向状態に乱れが生じるのを防止することが可能となり、表示画面において表示不良が発生するのを防止することができる。尚、ラビング方向としては、好ましくは平面的に見て複数の端子の配列方向に対して即ち第１の孔の延在方向に対して直交する方向、少なくとも交わる方向が望ましい。
【００６１】
本発明の電気光学装置用基板の製造方法の一態様では、前記第１及び第２の孔を開孔する工程において、前記第１の孔を、前記絶縁膜を貫通させること無く、前記絶縁膜に掘り込んで開孔した後、前記第２の孔を、前記第１の孔の底部より前記絶縁膜を貫通させて開孔する。
【００６２】
この態様によれば、第１及び第２の孔を開孔する工程では、絶縁膜に、例えばフォトリソグラフィ法及びエッチング法により、第１の孔を開孔した後、端子の表面を露出させるための第２の孔を、第１の孔の底部に開孔する。よって、絶縁膜に、第１の孔を開孔させないで、端子の表面を露出させるための開孔部を複数開孔する場合と比較して、該開孔部より、第２の孔の基板に垂直方向の深さを浅くすることができる。
【００６３】
本発明の電気光学装置用基板の製造方法の他の態様では、前記第１及び第２の孔を開孔する工程において、前記絶縁膜における前記第２の孔の開孔位置に、前記絶縁膜を貫通して前記端子の表面に至る小穴を前駆的に開孔した後、前記第１の孔を、前記絶縁膜を貫通させること無く、前記絶縁膜に掘り込んで開孔させて、前記第１の孔の底部より前記端子の表面に至る前記小穴の一部を残存させて、該残存させた前記小穴の一部を前記第２の孔として形成する。
【００６４】
この態様によれば、第１及び第２の孔を開孔する工程では、第１の孔の開孔前に、例えばフォトリソグラフィ法及びエッチング法により、予め絶縁膜における第２の孔の開孔位置に小穴を開孔して、絶縁膜より端子の表面を露出させる。その後、基板上で平面的に見て、複数の端子を夫々結ぶ方向に、複数の小穴に跨って連続的に延在するように、第１の孔を例えばドライエッチング法により開孔する。この際、絶縁膜のエッチングレートが、端子より大きくなるように、ドライエッチング法を行うことにより、小穴内に露出した端子の表面が損傷するのを防止することができる。そして、第１の孔を、絶縁膜を貫通させることなく開孔することにより、第１の孔の底部より端子の表面に至る小穴の一部を第２の孔として残存させる。
【００６５】
よって、この態様によれば、絶縁膜に、第１の孔を開孔させないで、端子の表面を露出させるための小穴を開孔したままにする場合と比較して、該小穴より、第２の孔の基板に垂直方向の深さを浅くすることができる。
【００６６】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６７】
本発明の実施の形態について図を参照しつつ説明する。以下の実施形態は、本発明の電気光学装置を液晶装置に適用したものである。
【００６８】
＜１：第１実施形態＞
本発明の電気光学装置に係る第１実施形態について、図１から図１１を参照して説明する。
【００６９】
＜１−１：液晶装置の構成＞
先ず、本実施形態における液晶装置の全体構成について、図１から図３を参照して説明する。図１は、対向基板側から見た液晶装置の平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ’断面図である。更に、図３は、液晶装置の電気的な構成を示すブロック図である。
【００７０】
図１及び図２において、液晶装置は、対向配置されたＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とから構成されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。
【００７１】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。尚、シール材５２中に、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されるようにしてもよい。
【００７２】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００７３】
ＴＦＴアレイ基板１０上における、画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域では、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２が、ＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設けられている。尚、例えば、外部回路接続端子１０２は、データ線駆動回路１０１と画像表示領域１０ａを介して対向するＴＦＴアレイ基板１０２の一辺に沿って設けられるようにしてもよい。或いは、外部回路接続端子１０２が、ＴＦＴアレイ基板１０の２辺以上に沿って設けられるようにしてもよい。
【００７４】
また、対向基板２０及びＴＦＴアレイ基板１０には夫々、基板の少なくとも一辺の両端に位置する２隅に配置されて、上下導通端子１０６が配置されている。これらの上下導通端子１０６により、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００７５】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴや各種配線等より上層側に画素電極９ａが、更にその上に、配向膜１６が形成されている。尚、画素スイッチング素子はＴＦＴのほか、各種トランジスタ或いはＴＦＤ等により構成されてもよい。
【００７６】
他方、対向基板２０上の画像表示領域１０ａには、液晶層５０を介して複数の画素電極９ａと対向する対向電極２１が形成されている。即ち、夫々に電圧が印加されることで、画素電極９ａと対向電極２１との間には液晶保持容量が形成される。この対向電極２１より下層側（即ち、図２中、対向電極２１より上側）には、格子状又はストライプ状の遮光膜２３が形成され、更にその上を配向膜２２が覆っている。
【００７７】
ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０上において、配向膜１６又は２２は、例えばポリイミド等の有機材料により形成される。本実施形態では、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０のいずれか一方上にのみ配向膜を形成するか、或いはこれらのいずれか一方上に形成される配向膜を無機材料により形成するようにしてもよい。
【００７８】
液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００７９】
尚、ここでは図示しないが、ＴＦＴアレイ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４の他に、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等が形成されていてもよい。
【００８０】
次に、図３を参照して、上述した液晶装置の電気的な構成について説明する。図３において、液晶装置は、例えば石英基板、ガラス基板或いはシリコン基板等からなるＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０（ここでは図示せず）とが液晶層を介して対向配置され、画像表示領域１０ａにおいて区画配列された画素電極９ａに印加する電圧を制御し、液晶層にかかる電界を画素毎に変調する構成となっている。これにより、両基板間の透過光量が制御され、画像が階調表示される。尚、本実施形態では、この液晶装置はＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式を採るものとする。
【００８１】
ＴＦＴアレイ基板１０における画像表示領域１０ａには、マトリクス状に配置された複数の画素電極９ａと、互いに交差して配列された複数の走査線２及びデータ線３とが形成され、画素に対応する画素部が構築されている。尚、ここでは図示しないが、各画素電極９ａとデータ線３との間には、走査線２を介して夫々供給される走査信号に応じて導通、非導通が制御される画素スイッチング素子としてのＴＦＴや、画素電極９ａに印加した電圧を維持するための蓄積容量が形成されている。また、画像表示領域１０ａの周辺領域には、データ線駆動回路１０１等の駆動回路が形成されている。
【００８２】
データ線駆動回路１０１には、サンプリング信号供給回路５２及びサンプリング回路７が含まれる。サンプリング信号供給回路５２は、データ線駆動回路１０１内に入力される所定周期のＸ側クロック信号ＣＬＸ（及びその反転信号ＣＬＸＢ）、ＸスタートパルスＤＸに基づいて、各段からサンプリング信号Ｓｉ（ｉ＝１、…、ｎ）を順次生成して出力するように構成されている。
【００８３】
サンプリング回路７は、データ線３に設けられたサンプリングスイッチ７１を複数含み、各サンプリングスイッチ７１は、図３に示す画像信号線６に供給される画像信号ＶＩＤを、サンプリング信号供給回路５２から出力されるサンプリング信号Ｓｉに応じてサンプリングし、対応するデータ線３に供給する。尚、各サンプリングスイッチ７１は、例えばＰチャネル型又はＮチャネル型の片チャネル型ＴＦＴ若しくは相補型のＴＦＴにより整形される。
【００８４】
本実施形態では、画像信号線６は一本とし、いずれのサンプリングスイッチ７１もこの画像信号線６から画像信号ＶＩＤを供給される場合について説明するが、画像信号は、シリアル−パラレル展開（即ち、相展開）されていてもよい。例えば、画像信号を画像信号ＶＩＤ１〜ＶＩＤ６の６相にシリアル−パラレル展開した場合、これらの画像信号は、６本の画像信号線を夫々介してサンプリング回路７に入力される。複数の画像信号線に対し、シリアルな画像信号を変換して得たパラレルな画像信号を同時供給すると、データ線３への画像信号入力をグループ毎に行うことができ、駆動周波数が抑えられる。
【００８５】
走査線駆動回路１０４は、マトリクス状に配置された複数の画素電極９ａを画像信号及び走査信号により走査線２の配列方向に走査するために、走査信号印加の基準クロックであるＹ側クロック信号ＣＬＹ（及びその反転信号ＣＬＹＢ）、ＹスタートパルスＤＹに基づいて生成される走査信号を、複数の走査線２に順次印加するように構成されている。その際には、図３において、各走査線２には、両端から同時に電圧が印加される。
【００８６】
尚、クロック信号ＣＬＸやＣＬＹ等の各種タイミング信号は、本発明に係る「駆動信号」の例として、図示しない外部回路に形成されたタイミングジェネレータにて生成され、ＴＦＴアレイ基板１０上の各回路に外部回路接続端子１０２を介して供給される。また、各駆動回路の駆動に必要な電源電圧等もまた「駆動信号」として外部回路から供給される。更に、上下導通端子１０６から引き出された信号線には、外部回路から対向電極電位ＬＣＣが「駆動信号」として供給される。対向電極電位ＬＣＣは、上下導通端子１０６を介して対向電極２１に供給される。対向電極電位ＬＣＣは、画素電極９ａとの電位差を適正に保持して液晶保持容量を形成するための対向電極２１の基準電位となる。
【００８７】
液晶装置には、本発明の第１の電気光学装置用基板が含まれる。図４及び図５を参照して、第１の電気光学装置用基板の構成について説明する。図４は、第１の電気光学装置用基板の構成を示す概略的な平面図であり、図５（ａ）は、図４のＡ−Ａ’断面図であり、更に図５（ｂ）は、第２の孔の平面形状を概略的に示す図である。
【００８８】
第１の電気光学装置用基板は、上述したように、画像表示領域１０ａに画素電極９ａ等が形成されたＴＦＴアレイ基板１０と、該ＴＦＴアレイ基板１０上における周辺領域において、ＴＦＴアレイ基板１０の少なくとも一辺に沿って形成された外部回路接続端子１０２と、図５（ａ）に示すように、外部回路接続端子１０２と液晶とを電気的に絶縁するように、複数の外部回路接続端子１０２より上層側に形成された絶縁膜１２とから構成される。
【００８９】
絶縁膜１２は、ＴＦＴアレイ基板１０上において、周辺領域から画像表示領域１０ａに連続的に形成され、画像表示領域１０ａに形成された絶縁膜１２の一部によって、画素電極９ａと、走査線２及びデータ線３等の配線やＴＦＴ等とが電気的に絶縁されるようにしてもよい。尚、絶縁膜１２は、２層以上の積層膜として形成されるようにしてもよい。
【００９０】
また、絶縁膜１２において周辺領域内に位置する部分には、第１の孔１０２ａ及び第２の孔１０２ｂが開孔されている。尚、図４には、ＴＦＴアレイ基板１０上における、画像表示領域１０ａと、絶縁膜１２に開孔された第１及び第２の孔１０２ａ及び１０２ｂとの各々の配置関係を概略的に示してある。
【００９１】
図４及び図５（ａ）に示すように、第１の孔１０２ａは、絶縁膜１２に掘り込まれて、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、複数の外部回路接続端子１０２を夫々結ぶ方向に連続的に延在させて開孔されると共に、複数の外部回路接続端子１０２に重畳的に配置されている。第１の孔１０２ａは、絶縁膜１２を貫通させないで開孔されており、更に、第１の孔１０２ａの底部より絶縁膜１２を貫通させて、外部回路接続端子１０２の表面に至る第２の孔１０２ｂが開孔される。即ち、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、第１の孔１０２ａは、複数の第２の孔１０２ｂに跨るように、第２の孔１０２ｂより大きいサイズで開孔されていると共に、これより小さいサイズとして開孔された第２の孔１０２ｂより、外部回路接続端子１０２の表面が露出される。このように、外部回路接続端子１０２の表面を露出させるための第２の孔１０２ｂは、第１の孔１０２ａの底部より開孔されるため、該第１の孔１０２ａを開孔させないで、絶縁膜１２に、外部回路接続端子１０２の表面を露出させるための開孔部を複数開孔する場合と比較して、該開孔部より、第２の孔１０２ｂの基板に垂直方向の深さｄ２を浅くすることができる。
【００９２】
図４に示すように、絶縁膜１２において、第１の孔１０２ａは、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、該第１の孔１０２ａと対向する画像表示領域１０ａの一辺の長さＸ１１と比較して、該一辺に沿う方向の第１の孔１０２ａの径ｗ１２が大きくなるように開孔されるのが好ましい。また、該径ｗ１２に対して、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、垂直方向の第１の孔１０２ａの径ｗ１１が、例えば１０００μｍから数ｍｍ程度の範囲内の値となるように、第１の孔１０２ａは絶縁膜１２に開孔される。更に、ＴＦＴアレイ基板１０に対して垂直方向の、第１の孔１０２ａの深さｄ１及び第２の孔１０２ｂの深さｄ２について、好ましくは、第１の孔１０２ａの深さｄ１が、第２の孔１０２ｂの深さｄ２以上の値となるように、第１及び第２の孔１０２ａ及び１０２ｂが絶縁膜１２に開孔される。
【００９３】
図５（ｂ）に示すように、絶縁膜１２において、第２の孔１０２ｂは、例えば、複数の外部回路接続端子１０２の配列方向に沿う方向の径ｗ２２が５００μｍとなるように、及び該径ｗ２２に対して垂直方向の径ｗ２１が２００μｍとなるように開孔されている。加えて、隣接する第２の孔１０２ｂの間隔ａ１は、例えば、１００μｍとなるように、絶縁膜１２において第２の孔１０２ｂが複数開孔される。
【００９４】
＜１−２;液晶装置の製造方法＞
次に、上述した本実施形態の液晶装置の製造プロセスについて、図１から図５に加えて図６及び図７を参照して説明する。図６は、第１の電気光学装置用基板の製造プロセスの各工程における図５（ａ）に示す断面の構成を、順を追って示す工程図であり、図７は、本実施形態における電気光学装置の製造プロセスの各工程を説明するためのフローチャートを示す図である。
【００９５】
先ず、図６を参照して、第１の電気光学装置用基板の製造プロセスについて説明する。尚、以下では、ＴＦＴアレイ基板１０上の周辺領域における、外部回路接続端子１０２及び絶縁膜１２、並びに絶縁膜１２に開孔された第１及び第２の孔１０２ａ及び１０２ｂに係る製造工程について、特に詳しく説明し、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａにおける画素電極９ａ等の各種構成要素に係る製造工程の説明に関しては省略する。
【００９６】
図６（ａ）の工程において、ＴＦＴアレイ基板１０上に、夫々所定パターンで、複数の外部回路接続端子１０２を、ＴＦＴアレイ基板１０の少なくとも一辺に沿って配列させて、形成する。このように、本実施形態では、各外部回路接続端子１０２は、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、任意の形状として形成することができる。
【００９７】
続いて、図６（ｂ）の工程では、ＴＦＴアレイ基板１０上において、外部回路接続端子１０２より上層側に絶縁膜１２を、例えば常圧ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により形成する。
【００９８】
その後、図６（ｃ）の工程では、例えばフォトリソグラフィ法及びエッチング法により絶縁膜１２を掘り込んで、絶縁膜１２に第１の孔１０２ａを開孔する。
【００９９】
その後、図６（ｄ）の工程では、例えば第１の孔１０２ａの開孔と同様に、フォトリソグラフィ法及びエッチング法により、第１の孔１０２ａの底部より絶縁膜１２を貫通させて、外部回路接続端子１０２の表面に至る第２の孔１０２ｂを開孔する。これにより、絶縁膜１２に、第１の孔１０２ａを開孔させないで、外部回路接続端子１０２の表面を露出させるための開孔部を複数開孔する場合と比較して、該開孔部より、図５（ａ）に示す第２の孔１０２ｂの深さｄ２を浅くすることができる。
【０１００】
次に、以上のように製造された第１の電気光学装置用基板を用いた、液晶装置の製造方法について、図７を参照して説明する。
【０１０１】
図７において、ＴＦＴアレイ基板１０上に、絶縁膜１２並びに画素電極９ａより上層側に、少なくとも画像表示領域１０ａに例えばポリイミド等の有機材料により形成される有機膜を形成する（ステップＳ１）。続いて、この有機膜に次のようなラビング処理を施すことにより、配向膜１６を形成する（ステップＳ２）。
【０１０２】
ラビング処理は、図４中に矢印Ｒｂによって示すように、例えばラビングローラの進行方向が、複数の外部回路接続端子１０２を夫々結ぶ方向に沿う、第１の孔１０２ａの延在方向に対して概ね垂直となるように、ラビングローラの周面を有機膜の表面に当接させることにより行う。
【０１０３】
この際、ラビングローラの周面は、絶縁膜１２の表面において、第１の孔１０２ａに当接し、更に第１の孔１０２ａ内において第２の孔１０２ｂに当接する。ラビングローラの周面を形成するクロスにおいて、外部回路接続端子１０２上を通過する一部の毛並みは、第１の孔１０２ａ内において所定の状態に均されることにより、リセットされる。また、第２の孔１０２ｂは既に説明したように、深さｄ２が比較的浅く形成されるため、このようにリセットされたクロスの一部の毛先が第２の孔１０２ｂ内に当接したとしても、該第２の孔１０２ｂにおける当接により、クロスの毛先に加わる圧力を小さくすることが可能となる。そして、第２の孔１０２ｂに当接されたクロスの毛先は、再び第１の孔１０２ａに当接することで、所定の状態にリセットされ、第１の孔１０２ａから絶縁膜１２の表面に向かって進行する。
【０１０４】
ここで、図５（ａ）を参照して説明したように、好ましくは、第１の孔１０２ａの深さｄ１が、第２の孔１０２ｂの深さｄ２以上の値となるように、第１及び第２の孔１０２ａ及び１０２ｂが絶縁膜１２に開孔される。このように第１および第２の孔１０２ａ及び１０２ｂを形成することにより、ラビング処理の際、第１の孔１０２ａを通過するラビングローラの周面の一部では、第１の孔１０２ａ内におけるクロスの毛先に加わる圧力をより大きくすると共に、当該一部において、第２の孔１０２ｂ内を通過するクロスの毛先に加わる圧力をより小さくすることが可能となる。これにより、第２の孔１０２ｂに当接することによりクロスの毛先に生じる毛羽立ち等の乱れをより低減すると共に、第１の孔１０２ａに当接するクロスの毛先を所定の状態に均す、リセット効果をより増大させることが可能となる。この場合、第２の孔１０２ｂの深さは、第２の孔１０２ｂの側壁における耐久性を確保することができる程度の値とするのが好ましい。また、第１又は第２の孔１０２ａ又は１０２ｂの、ＴＦＴアレイ基板１０に垂直な方向の断面形状について、第１の孔１０２ａの側壁から絶縁膜１２の表面に至る一部、又は第２の孔１０２ｂの側壁から第１の孔１０２ａの底部に至る一部に面取りが施されてもよい。このように面取りを施すことにより、ラビングローラの周面におけるクロスの毛乱れをより低減することが可能となる。
【０１０５】
このように、第２の孔１０２ｂを通過する部分を含む、第１の孔１０２ａを通過する、ラビングローラの周面の一部では、クロスの毛並みは所定の状態にリセットされるため、第２の孔１０２ｂを通過することで発生した毛羽立ち等の乱れを、当該一部において消滅させるか又は更に低減することが可能となる。
【０１０６】
ここで、図３を参照して説明したように、例えば複数種類の駆動信号が入力可能なように、該駆動信号の種類に応じて、複数の外部回路接続端子１０２が、ＴＦＴアレイ基板１０上の周辺領域内に形成される。第１の孔１０２ａを開孔させずに、第２の孔１０２ｂより、より深い開孔部を絶縁膜１２に多数開孔して、各外部回路接続端子１０２の表面を露出させる場合、ラビング処理で、ラビングローラの周面において、多数の開孔部に落ち込んだクロスの毛先に比較的大きな圧力が加わることにより、毛乱れが生じ、配向膜１６により顕著にラビングスジが発生する恐れがある。
【０１０７】
これに対して、本実施形態では、ラビング処理において、ラビングローラが、ＴＦＴアレイ基板１０上において、複数の外部回路接続端子１０２の存在箇所から画像表示領域１０ａに向かって進行する際、外部回路接続端子１０２の表面を露出させるための第２の孔１０２ｂの存在に起因して、ラビングローラの周面において発生したクロスの毛乱れによって、画像表示領域１０ａにおいて、配向膜１６に顕著にラビングスジが発生するのを、効果的に防止することが可能となる。
【０１０８】
尚、図４を参照して説明したように、絶縁膜１２に、画像表示領域１０ａの一辺の長さＸ１１と比較して、該一辺に沿う方向の第１の孔１０２ａの径ｗ１２が大きくなるように、第１の孔１０２ａを開孔することにより、第２の孔１０２ｂを通過する部分を含む、第１の孔１０２ａを通過する、ラビングローラの周面の一部におけるクロスの毛先が第１の孔１０２ａによってリセットされた後、このようにクロスの毛先がリセットされたラビングローラの周面の一部が、画像表示領域１０ａを概ね全体に亘って通過することにより、配向膜１６にラビングスジが発生するのを、画像表示領域１０ａ全体に亘って防止することが可能となる。
【０１０９】
加えて、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見た第１の孔１０２ａの形状を所定の形状、より具体的には、例えば第１の孔１０２ａの径ｗ１２等を所定値にすることにより、上述したように、ラビングローラの進行方向に対する第１の孔１０２ａの延在方向が、概ね垂直となる場合のほか、垂直以外の角度となるように、ラビング処理を行う場合においても、画像表示領域１０ａ全体に亘って、配向膜１６にラビングスジが発生するのを防止することができる。
【０１１０】
図７に戻り、ステップＳ１及びＳ２のＴＦＴアレイ基板１０に係る製造工程と並行して又は相前後して、対向基板２０において、遮光膜２３や対向電極２１等が作り込まれ、続いて、配向膜２２が形成される（ステップＳ３）。
【０１１１】
ここで、第１の電気光学装置用基板は、ＴＦＴアレイ基板１０に代えて対向基板２０を含む構成とし、例えば該対向基板２０上において周辺領域に形成された上下導通端子１０６の表面を、該上下導通端子１０６と、対向電極２１又は液晶とを電気的に絶縁するための絶縁膜より、図４及び図５（ａ）を参照して説明した構成と同様の構成により、露出させるようにしてもよい。このように構成すれば、対向基板２０の側においても、画像表示領域１０ａにおいて、配向膜２２に顕著にラビングスジが発生するのを、効果的に防止することが可能となる。
【０１１２】
その後、ＴＦＴアレイ基板１０において配向膜１６が形成された側と、対向基板２０において配向膜２２が形成された側とをシール材５２を介して貼り合わせる（ステップＳ４）。続いて、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶を注入する（ステップＳ５）。
【０１１３】
従って、本実施形態では、ラビング処理を良好に行うと共に、液晶装置において、配向膜１６又は２２におけるラビングスジに起因して、液晶の配向状態に乱れが生じるのを防止することが可能となり、表示画面において表示不良が発生するのを防止することができる。その結果、液晶装置では、表示画面において表示不良が発生するのを防止して、高品質な画像表示を行うことが可能となる。
【０１１４】
＜１−３;変形例＞
以上説明した本実施形態の変形例について、図８から図１１を参照して説明する。
【０１１５】
先ず、図８及び図９を参照して、絶縁膜１２に開孔された第１及び第２の孔１０２ａ及び１０２ｂの構成に係る変形例について説明する。図８は、本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の一の構成を示す概略的な平面図であり、図９は、本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の他の構成を示す概略的な平面図である。
【０１１６】
ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、第１及び第２の孔１０２ａ及び１０２ｂの形状は、任意の形状として形成することができる。例えば、図８に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、第１の孔１０２ａの形状が楕円形となるように、絶縁膜１２に第１の孔１０２ａが開孔されるようにしてもよい。この場合、例えば、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、絶縁膜１２において、楕円形の第１の孔１０２ａが、その長手方向の径ｗ１４が外部回路接続端子１０２の配列方向であって、ＴＦＴアレイ基板１０の少なくとも一辺に沿って延在するように、開孔されている。
【０１１７】
よって、液晶装置の製造プロセスにおいて、絶縁膜１２より上層側に配向膜１６を形成する際、ラビング処理で、第１及び第２の孔１０２ａ及び１０２ｂを通過するラビングローラの周面において、楕円形の第１の孔１０２ａの端部において、ラビングローラの周面が当接するのを防止することで、クロスの毛羽立ち等の乱れが発生するのを防止する。
【０１１８】
若しくは、図９に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、第１の孔１０２ａの、外部回路接続端子１０２の配列方向に対して垂直な方向に延びる少なくとも一辺が曲線形状となるように、絶縁膜１２に第１の孔１０２ａが開孔されるようにしてもよい。即ち、第１の孔１０２ａが、本発明に係る「トラック形」を有していてもよい。この場合、ラビング処理で、第１及び第２の孔１０２ａ及び１０２ｂを通過するラビングローラの周面において、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、外部回路接続端子１０２の配列方向に沿って延在する第１の孔の径ｗ１５の一端若しくは両端付近において、ラビングローラの周面が当接するのを防止することで、クロスの毛羽立ち等の乱れが発生するのを防止することが可能となる。
【０１１９】
従って、図８又は図９に示す構成によれば、より確実に、ラビングローラの周面におけるクロスの毛乱れが発生するのを防止することができる。
【０１２０】
次に、図１０を参照して、本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の、さらに他の構成について説明する。図１０は、本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の他の構成を示す概略的な平面図である。
【０１２１】
図１０に示すように、絶縁膜１２の周辺領域内に位置する部分において、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、外部回路接続端子１０２に代えて若しくは加えて、ＴＦＴアレイ基板１０の一辺の両端に位置する２隅に配置されて形成された上下導通端子１０６を夫々結ぶ方向に連続的に延在させて、第１の孔１０６ａが、これら上下導通端子１０６に重畳的に配置されて開孔されるようにしてもよい。この場合、第１の孔１０６ａの底部より絶縁膜１２を貫通させて、上下導通端子１０６の表面に至る第２の孔１０６ｂが開孔される。これにより、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、絶縁膜１２において、第１の孔１０６ａは、ＴＦＴアレイ基板１０の少なくとも一辺に沿って延在するように開孔される。
【０１２２】
よって、液晶装置の製造プロセスにおいて、絶縁膜１２より上層側に配向膜１６を形成する際、ラビング処理で、ラビングローラが、ＴＦＴアレイ基板１０上において、複数の上下導通端子１０６の存在箇所から画像表示領域１０ａに向かって進行する際、上下導通接続端子１０６の表面を露出させるための第２の孔１０６ｂの存在に起因して、ラビングローラの周面において発生するクロスの毛乱れを低減し、且つ第１の孔１０６ａによってこのクロスの毛先をリセットすることにより、クロスの毛乱れを消滅させるか又は低減することができる。よって、画像表示領域１０ａにおいて、配向膜１６にラビングスジが発生するのを防止することが可能となる。
【０１２３】
次に、図１１を参照して、第１の電気光学装置用基板の製造プロセスに係る変形例について説明する。図１１は、本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の製造プロセスの各工程における図５（ａ）に示す断面の構成を、順を追って示す工程図である。
【０１２４】
先ず、図１１（ａ）の工程では、例えば図６を参照して説明した工程と同様の手順により、ＴＦＴアレイ基板１０上に、複数の外部回路接続端子１０２及び絶縁膜１２が形成された状態で、例えばフォトリソグラフィ法及びエッチング法により、絶縁膜１２に、該絶縁膜１２を貫通して外部回路接続端子１０２の表面に至る小孔１０２ｂｂを、第２の孔１０２ｂに対する前駆的な孔として開孔する。これにより、小孔１０２ｂｂより、外部回路接続端子１０２の表面が露出される。
【０１２５】
続いて、図１１（ｂ）の工程では、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、複数の外部回路接続端子１０２を夫々結ぶ方向に、複数の小穴１０２ｂｂに跨って連続的に延在するように、第１の孔１０２ａを例えばドライエッチング法により開孔する。この際、絶縁膜１２のエッチングレートが、外部回路接続端子１０２より大きくなるように、ドライエッチング法を行うことにより、小穴１０２ｂｂ内に露出した外部回路接続端子１０２の表面が損傷するのを防止することができる。そして、第１の孔１０２ａを、絶縁膜１２を貫通させることなく開孔することにより、第１の孔１０２ａの底部より外部回路接続端子１０２の表面に至る小孔１０２ｂｂの一部を第２の孔１０２ｂとして残存させる。これにより、絶縁膜１２に、第１の孔１０２ａを開孔させないで、外部回路接続端子１０２の表面を露出させるための小孔１０２ｂｂを開孔したままにする場合と比較して、該小穴１０２ｂｂより、第２の孔１０２ｂのＴＦＴアレイ基板１０に垂直方向の深さを浅くすることができる。
【０１２６】
＜２；第２実施形態＞
次に、本発明の第２電気光学装置用基板について、第２実施形態として説明する。尚、第２実施形態について、第１実施形態と重複する説明を省略すると共に、第１実施形態との共通箇所には、同一符号を付して示し、異なる点についてのみ図１２を参照して説明する。図１２は、第２の電気光学装置用基板の構成を示す概略的な平面図である。尚、第１実施形態との共通箇所について、図１から図５を参照して説明することもある。
【０１２７】
第２の電気光学装置用基板は、複数のＴＦＴアレイ基板１０を含む、本発明に係る「マザー基板」の一例たる大型基板Ｍ０を有している。図１２に示すように、大型基板Ｍ０において、複数のＴＦＴアレイ基板１０は、縦方向及び横方向に配列される。そして、この大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに画素電極９ａ等が形成されると共に、周辺領域には、複数の外部回路接続端子１０２が形成される。また、各ＴＦＴアレイ基板１０上において、複数の外部回路接続端子１０２より上層側に、絶縁膜１２が形成される。大型基板Ｍ０上において、該大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０のうち、互いに隣接するＴＦＴアレイ基板１０に跨って絶縁膜１２が形成される。これにより、絶縁膜１２が、大型基板Ｍ０上において、該大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０に跨って形成されるようにしてもよい。
【０１２８】
そして、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、該ＴＦＴアレイ基板１０上において周辺領域内に位置する絶縁膜１２の一部には、ＴＦＴアレイ基板１０上で平面的に見て、複数の外部回路接続端子１０２を夫々結ぶ方向であって、且つ複数のＴＦＴアレイ基板１０のうち互いに隣接するＴＦＴアレイ基板１０に跨って、連続的に延在するように、第１の孔１０２ａが掘り込まれて開孔される。各ＴＦＴアレイ基板１０上においては、更に、第１の孔１０２ａの底部より絶縁膜１２を貫通させて外部回路接続端子１０２の表面に至る第２の孔１０２ｂが複数開孔される。
【０１２９】
以上のような構成を有する第２の電気光学装置用基板を用いて液晶装置を製造する際、該第２の電気光学装置用基板において、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、該ＴＦＴアレイ基板１０上の少なくとも画像表示領域１０ａには、絶縁膜１２、及び画素電極９ａより上層側に、配向膜１６が形成される。この際、ラビング処理は、例えば、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０に対して、一括してまとめて行われる。この場合、ラビングローラの周面は、大型基板Ｍ０上において、該大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０のうち、隣接するＴＦＴアレイ基板１０に跨って形成された第１の孔１０２ａに当接し、更に第１の孔１０２ａ内において第２の孔１０２ｂに当接する。よって、ラビングローラの周面において、第１の孔１０２ａに当接した一部で、クロスの毛先が所定の状態に均されるリセット効果が得られることにより、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０のうち隣接するＴＦＴアレイ基板１０に跨って、第２の孔１０２ｂに当接されたクロスの毛先の毛乱れを消滅させるか又は更に低減することが可能となる。
【０１３０】
従って、例えば、大型基板Ｍ０上で平面的に見て、縦方向又は横方向に沿って配列されたＴＦＴアレイ基板１０毎に、これらのＴＦＴアレイ基板１０上を通過するラビングローラの周面において前述したようなリセット効果を得ることができる。よって、大型基板Ｍ０全体に亘って、該大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、画像表示領域１０ａに形成された配向膜１６にラビングスジが発生するのを防止することが可能となる。
【０１３１】
尚、第２の電気光学装置用基板において、大型基板Ｍ０を構成する複数のＴＦＴアレイ基板１０の各々について、個別に、第２の電気光学装置用基板とは別に、対向電極２１、配向膜２２等々が作りこまれて形成された対向基板２０を、ＴＦＴアレイ基板１０に対してシール材５２を介して貼り合わせた後、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶を封入して液晶装置を作製する。その後、大型基板Ｍ０を、各ＴＦＴアレイ基板１０毎に個別に切り分けることで、各液晶装置が得られる。
【０１３２】
従って、以上説明したような第２の電気光学装置用基板によれば、該第２の電気光学装置用基板において形成される複数の液晶装置において、夫々、液晶の配向状態に乱れが生じるのを防止することができ、表示画面において表示不良が発生するのを防止することが可能となる。
【０１３３】
尚、第２の電気光学装置用基板は、ＴＦＴアレイ基板１０に代えて対向基板２０を含む大型基板Ｍ０を有する構成とし、例えば各対向基板２０上において周辺領域に形成された上下導通端子１０６の表面を、該上下導通端子１０６と、対向電極２１又は液晶とを電気的に絶縁するための絶縁膜より、図１２を参照して説明した構成と同様の構成により、露出させるようにしてもよい。このように構成すれば、対向基板２０の側においても、画像表示領域１０ａにおいて、配向膜２２に顕著にラビングスジが発生するのを、効果的に防止することが可能となる。
【０１３４】
＜３；電子機器＞
次に、上述した液晶装置が各種の電子機器に適用される場合について説明する。
【０１３５】
＜３−１：プロジェクタ＞
まず、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。図１３は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。この図に示されるように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６および２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇに入射される。
【０１３６】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、外部回路（図示省略）から外部接続用端子１０２に供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、ＲおよびＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【０１３７】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【０１３８】
なお、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
【０１３９】
＜３−２：モバイル型コンピュータ＞
次に、液晶装置を、モバイル型のパーソナルコンピュータに適用した例について説明する。図１４は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。図において、コンピュータ１２００は、キーボード１２０２を備えた本体部１２０４と、液晶表示ユニット１２０６とから構成されている。この液晶表示ユニット１２０６は、先に述べた液晶装置１００５の背面にバックライトを付加することにより構成されている。
【０１４０】
＜３−３；携帯電話＞
さらに、この液晶パネルを、携帯電話に適用した例について説明する。図１５は、この携帯電話の構成を示す斜視図である。図において、携帯電話１３００は、複数の操作ボタン１３０２とともに、反射型の液晶装置１００５を備えるものである。この反射型の液晶装置１００５にあっては、必要に応じてその前面にフロントライトが設けられる。
【０１４１】
尚、図１３から図１５を参照して説明した電子機器の他にも、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【０１４２】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置用基板及びその製造方法、該電気光学装置用基板を備えてなる電気光学装置並びにこれを備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【０１４３】
【図１】本実施形態における液晶装置の全体構成を表す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ’断面図である。
【図３】液晶装置の電気的な構成を示すブロック図である。
【図４】第１の電気光学装置用基板の構成を示す概略的な平面図である。
【図５】図５（ａ）は、図４のＡ−Ａ’断面図であり、更に図５（ｂ）は、第２の孔の平面形状を概略的に示す図である。
【図６】第１の電気光学装置用基板の製造プロセスの各工程における図５（ａ）に示す断面の構成を、順を追って示す工程図である。
【図７】本実施形態における電気光学装置の製造プロセスの各工程を説明するためのフローチャートを示す図である。
【図８】本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の一の構成を示す概略的な平面図である。
【図９】本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の他の構成を示す概略的な平面図である。
【図１０】本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の他の構成を示す概略的な平面図である。
【図１１】本変形例に係る第１の電気光学装置用基板の製造プロセスの各工程における図５（ａ）に示す断面の構成を、順を追って示す工程図である。
【図１２】第２の電気光学装置用基板の構成を示す概略的な平面図である。
【図１３】液晶装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。
【図１４】液晶装置を適用した電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図１５】液晶装置を適用した電子機器の一例たる携帯電話の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１４４】
１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、１２…絶縁膜、１０２…外部回路接続端子、１０２ａ…第１の孔、１０２ｂ…第２の孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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