(57)【要約】【課題】  半球レンズもしくは超半球レンズと薄膜磁気ヘッド素子とを有する光アシスト型磁気ヘッド装置にあって、光スポットと、磁気ヘッド素子からの磁界の位置関係を所定の位置関係に高い精度で設定する。【解決手段】  半球レンズもしくは超半球レンズ２の底面側に、これと同等の屈折率を有する光透過性層５が被着され、これに磁気ヘッド素子４を埋設する構成としたことによって、レンズの加工を磁気ヘッドの形成前に高い加工精度によって形成することから、レンズ部と磁気ヘッド素子部との位置関係の設定、したがって、光スポットと、磁気ヘッド素子からの磁界の位置関係を所定の位置関係に高い精度で設定することができるものである。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半球レンズもしくは超半球レンズと磁気ヘッド素子とを有する光アシスト型磁気ヘッド装置であって、
前記半球レンズもしくは超半球レンズの底面に、使用光の波長に対して光透過性を有し、前記半球レンズもしくは超半球レンズと同等の屈折率を有する光透過性層が被着され、
該光透過性層内の、前記半球レンズもしくは超半球レンズの底面に、磁気コアと、該磁気コアを巻回する磁気ヘッドコイルとが形成された磁気ヘッド素子が埋設されて成ることを特徴とする光アシスト型磁気ヘッド装置。
【請求項２】
前記磁気ヘッド素子は、前記単磁極型磁気コアが、前記半球レンズもしくは超半球レンズの光軸に沿って配置されて成ることを特徴とする請求項１に記載の光アシスト型磁気ヘッド装置。
【請求項３】
前記磁気ヘッド素子が埋設された光透過性層が、フォトレジスト層より成ることを特徴とする請求項２に記載の光アシスト型磁気ヘッド装置。
【請求項４】
半球レンズもしくは超半球レンズと磁気ヘッド素子とを有する光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法であって、
前記半球レンズもしくは超半球レンズの底面に、導電性薄膜を形成する工程と、
該導電性薄膜上に、メッキレジストパターンを形成して、最終的に磁気ヘッド素子の磁気コアの形成部と磁気ヘッドコイルの形成部とに、選択的に前記磁気コアと前記磁気ヘッドコイルとを電解メッキによって形成する磁気ヘッド素子の形成工程と、
上記レジストパターンを除去する工程と、
ドライエッチングによって前記電解メッキ部分以外の前記導電性薄膜を除去する工程と、
使用光の波長に対して光透過性を有し、かつ前記半球レンズもしくは超半球レンズと同等の屈折率を有する光透過性層を、前記磁気コアの先端を露出して前記磁気ヘッド素子を埋設するように形成する工程とを有することを特徴とする光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法。
【請求項５】
前記導電性薄膜上に、前記磁気コアと磁気ヘッドコイルを形成する磁気ヘッド素子の形成工程が、
前記導電性薄膜上に第１のフォトレジスト層を塗布し、該フォトレジスト層の、最終的に磁気ヘッド素子の磁気コアの形成部に第１の開口を形成する第１のレジストパターンの形成工程と、
前記第１のレジストパターンの上記第１の開口を通じて上記導電性薄膜上に選択的に高透磁率磁性体を電解メッキして前記磁気コアを形成する工程と、
該磁気コア上と、前記磁気ヘッドコイルの形成部とに第２の開口を形成する第２のフォトレジスト層の形成工程と、
該第２のフォトレジストの上記第２の開口を通じて上記導電性薄膜上に選択的に高透磁率磁性体を電解メッキして上記導電性薄膜上に選択的に前記磁気コア肉厚化と、前記磁気ヘッドコアおよびその配線を行うことを特徴とする請求項４に記載の光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法。
【請求項６】
光源部と、
磁気記録媒体配置部と、
光アシスト型磁気ヘッド装置と、
記録信号電源部と、
前記光源部からの光を前記光アシスト型磁気ヘッド装置に導く光路を形成する光学系とを有し、
前記光アシスト型磁気ヘッド装置は、半球レンズもしくは超半球レンズと薄膜磁気ヘッド素子とを有する光アシスト型磁気ヘッド装置であって、
前記半球レンズもしくは超半球レンズの底面に、使用光の波長に対して光透過性を有し、前記半球レンズもしくは超半球レンズと同等の屈折率を有する光透過性層が被着され、
該光透過性層内の、前記半球レンズもしくは超半球レンズの底面に、磁気コアと、該磁気コアを巻回する磁気ヘッドコイルとが形成された磁気ヘッド素子が埋設されて成ることを特徴とする磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光アシスト型磁気ヘッド装置、光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法、および磁気記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報記録媒体に対する高密度記録化の要求が益々高まっている。
磁気記録媒体、例えば磁気テープ、磁気ディスク等に対する情報記録においても、超高密度記録化が要求されている。この場合、記録ビットの微小化のために垂直記録が採られ、また、磁性層の保磁力が高められる。
このように、高い保磁力を有する磁気記録媒体に対して信号記録磁界を高めることなく、情報記録を行って微小幅の情報記録ビットによる情報記録を行うことができる磁気ヘッドとして、磁気記録媒体の、記録部位を局部的に、光照射によって昇温させ、此処における保磁力を低下させる光アシスト型磁気ヘッドの提案がなされている。
【０００３】
このような光アシスによる磁気記録においては、高記録密度化、すなわち微小記録ビットを形成する上で、その光スポットの微小化が必要となる。
しかしながら、通常の集光レンズにおいては、そのスポット径は、使用光の波長と、レンズの開口数（Ｎ．Ａ．）によって決まり、通常のレンズにおいては、開口数に制約があり、スポット径の微小化に限界を来たしている。
これに対して、使用する光の波長に対して高屈折率を有する、すなわち半球レンズもしくは超半球レンズ（ＳＩＬもしくは超ＳＩＬ）を用いた近接場光によるスポットは、スポット径の微小化が図られることから、このＳＩＬもしくは超ＳＩＬによる近接場光を用いた光アシストによるものの提案もなされている（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
ところで、この近接場光によるスポットを用いる場合、そのＳＩＬもしくは超ＳＩＬと、磁気記録媒体との間隔は、使用波長λの１／１０程度の狭小ギャップに選定することが必要であり、また、磁気記録媒体上における光スポット位置と、記録磁気ヘッドからの信号磁界の印加位置とが一致もしくは至近位置の所定の位置関係に正確に設定することが必要である。
したがって、この光アシスト型磁気ヘッドにおいては、そのＳＩＬもしくは超ＳＩＬと、磁気記録ヘッド素子との配置関係に高い精度が必要となる。
【特許文献１】特開２０００−２８５５４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上述した集光レンズ系と磁気コアを具備する磁気ヘッドとの配置関係の設定を、高い精度をもって行うことができるようにして、有効に光アシスト効果を得ることができるようにし、高記録密度化を図ることができるようにした光アシスト型磁気ヘッド装置、光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法、および磁気記録装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置は、半球レンズもしくは超半球レンズと磁気ヘッド素子とを有する光アシスト型磁気ヘッド装置であって、前記半球レンズもしくは超半球レンズの底面に、使用光の波長に対して光透過性を有し、前記半球レンズもしくは超半球レンズと同等の屈折率を有する光透過性層が被着され、該光透過性層内の、前記半球レンズもしくは超半球レンズの底面に、磁気コアと、該磁気コアを巻回する磁気ヘッドコイルとが形成された磁気ヘッド素子が埋設されて成ることを特徴とする。
【０００７】
本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置においては、すでに所要の曲率半径、高さ等の、これに必要とされる寸法、形状に必要精度内をもって形成された半球もしくは超半球レンズ（ＳＩＬもしくは超ＳＩＬ）の底面に、磁気ヘッドを埋設する光透過性層を形成する構成としたことから、ＳＩＬもしくは超ＳＩＬは、その球面加工を、磁気ヘッド素子との位置関係を考慮することなく行うことができる。
そして、その底面に磁気コアと磁気ヘッドコイルとを配置することから、光学的および磁気的に高い精度に、また、両者の位置関係を高い精度に設定することができる。
【０００８】
また、本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法は、半球レンズもしくは超半球レンズと薄膜磁気ヘッド素子とを有する光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法であって、前記半球レンズもしくは超半球レンズの底面に、導電性薄膜を形成する工程と、該導電性薄膜上に、メッキレジストパターンを形成して、最終的に磁気ヘッド素子の磁気コアの形成部と磁気ヘッドコイルの形成部とに、選択的に前記磁気コアと前記磁気ヘッドコイルとを電解メッキによって形成する磁気ヘッド素子の形成工程と、上記レジストパターンを除去する工程と、ドライエッチングによって前記電解メッキ部分以外の前記導電性薄膜を除去する工程と、使用光の波長に対して光透過性を有し、かつ前記半球レンズもしくは超半球レンズと同等の屈折率を有する光透過性層を、前記磁気コアの先端を露出して前記磁気ヘッド素子を埋設するように形成する工程とを有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明による磁気記録装置は、光源部と、磁気記録媒体配置部と、光アシスト型磁気ヘッド装置と、記録信号電源部と、前記光源部からの光を前記光アシスト型磁気ヘッド装置に導く光路を形成する光学系とを有し、前記光アシスト型磁気ヘッド装置は、半球レンズもしくは超半球レンズと薄膜磁気ヘッド素子とを有する光アシスト型磁気ヘッド装置であって、前記半球レンズもしくは超半球レンズの底面に、使用光の波長に対して光透過性を有し、前記半球レンズもしくは超半球レンズと同等の屈折率を有する光透過性層が被着され、該光透過性層内の、前記半球レンズもしくは超半球レンズの底面に、磁気コアと、該磁気コアを巻回する磁気ヘッドコイルとが形成された磁気ヘッド素子が埋設されて成ることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
上述したように、本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置によれば、ＳＩＬもしくは超ＳＩＬとして高い精度のレンズを用いることができること、更に磁気ヘッド素子をレンズの光軸と所定の位置関係に設定するように配置することができることから、光スポットと、磁気ヘッド素子からの磁界の位置関係を所定の位置関係に設定することができて、有効に光アシスト効果を得ることができ、ひいては、記録磁区、すなわち記録ビットの狭小化が図られ、高記録密度化が図られるものである。
【００１１】
また、本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法によれば、ＳＩＬもしくは超ＳＩＬの底面側に、選択的電解メッキによって磁気ヘッドの磁気コアと、磁気ヘッドコイルとを形成し、これを埋設する光透過性層を被着形成する方法によることから、容易にＳＩＬもしくは超ＳＩＬと磁気ヘッド素子との位置関係を正確に設定することができるものである。
【００１２】
また、本発明による磁気記録装置は、上述したように、高い精度に構成された光アシスト型磁気ヘッド装置によって、磁気記録がなされることから、微小記録ビットの形成によって高密度記録を行うことができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置、光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法、および磁気記録装置の各実施の形態を、図面を参照して例示説明する。しかしながら、本発明は、これら例示に限定されるものではない。
図１ＡおよびＢは、本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置１０の一実施形態の概略縦断面図および概略底面図である。
この例においては、光アシスト型磁気ヘッド装置１０は、対物レンズ１と、ソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ）となる半球レンズもしくは超半球レンズ（以下半球／超半球レンズと記す。）２とが、例えば円筒状の保持体１１によって同一光軸Ｏ−Ｏ上に保持された２群集光レンズ系３によって構成される。
【００１４】
半球／超半球レンズ２の底面側には、磁気ヘッド素子４が埋設された光透過性層５が被着される。
半球／超半球レンズ２および光透過性層５は、使用光の波長に対して光透過性を有し、かつこの波長における屈折率が例えば１．８以上、好ましくは２以上の同等、すなわちできるだけ近似する屈折率を有する材料によって構成される。
また、この半球／超半球レンズ２は、光透過性層５を含めた光軸方向の高さが、例えば半径Ｒの半球、もしくはＲ｛１＋（１／ｎ）｝（ｎはレンズ材の屈折率）の超半球に構成される。
【００１５】
磁気ヘッド素子４は、例えば半球／超半球レンズ２の光軸Ｏ−Ｏに沿って、この例では光軸Ｏ−Ｏ上に、単磁極型の磁気コア４Ｐが形成され、これを中心にその周囲に例えば１ターンもしくは複数ターン巻回された磁気ヘッドコイル４Ｃを有する垂直磁気記録型磁気ヘッド素子４として構成される。
単磁極型磁気コア４Ｐは、基部側コア４Ｐｂと、その先端すなわち磁気記録媒体との対向部に延長形成された小径ないしは幅狭の先端コア４Ｐｓとを有する構成とし得る。
磁気ヘッドコイル４Ｃは、薄膜導電層による薄膜コイルとして形成され、その両端から、光透過性層５外の保持体１１の底面に端子導出がなされる薄膜の配線部４Ｌが延長形成される。
【００１６】
次に、本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置１０の製造方法の実施の形態例を、図２〜図６を参照して説明する。
図２Ａに示すように、予め所要の寸法形状に、所要の精度範囲内によって形成された半球／超半球レンズ２を、保持体１１によって保持する。
保持体１１の底面１１Ｂと、半球／超半球レンズ２の底面２Ｂは、鏡面とされた共通の連続した一平坦面１３として形成される。
この平坦面１３上に例えばＣｕのスパッタリングによって後述する電解メッキにおける通電のための導電性が得られる程度の充分薄い導電性薄膜１４を被着形成する。
【００１７】
図２Ｂに示すように、この導電性薄膜１４上に、メッキレジストパターン１５を形成する。このメッキレジストパターン１５は、フォトレジスト層を導電性薄膜１４上に全面的に塗布し、フォトリソグラフィによって最終的に形成する磁気ヘッド素子４の磁気コア４Ｐの形成部に、第１の開口１５Ｗを形成する。
このメッキレジストパターン１５の厚さは、最終的に形成する磁気コア４Ｐの基部側磁気コア４Ｐｂの一部の高さに相当する厚さの例えば１０μｍとする。
そして、この開口１５Ｗを通じて露呈する導電性薄膜１４に、軟磁性金属の例えばＦｅＮｉＳｉを電解メッキして、例えばメッキレジストパターン１５の厚さの磁気コア４Ｐｂを形成する。
【００１８】
次に、図３Ａに示すように、メッキレジストパターン１６を形成する。このメッキレジストパターン１６は、例えば先に形成したメッキレジストパターン１５を除去し、あらためて全面的に、フォトレジスト層を塗布し、フォトリソグラフィによって、最終的に形成する磁気ヘッド素子４の磁気ヘッドコイル４Ｃの配線部４ＣＬを含めた形成部に、第２の開口１６Ｗを形成する。
そして、この開口１６Ｗを通じて露呈する導電性薄膜１４上に、Ｃｕ、Ａｌ等の導電性にすぐれた金属を、電解メッキする。このようにして、磁気コア４Ｐｂの回りに薄膜状の磁気ヘッドコイル４Ｃとその配線部４ＣＬを形成する。
【００１９】
図３Ｂに示すように、メッキレジストパターン１６を除去する。その後、導電性薄膜１４をエッチング除去する。この除去は、全面的ドライエッチング例えばＲＩＥ（Reactive Ion Etching）を行って、膜厚が磁気コア４Ｐｂや磁気ヘッドコイル４Ｃに比して格段に薄い導電性薄膜１４のみを除去することができる。
このようにして半球／超半球レンズ２の底面に磁気ヘッド素子４が構成される。
【００２０】
次に、図４Ａに示すように、磁気ヘッド素子４の磁気ヘッドコイル４Ｃを埋設し、磁気コア４Ｐの先端を露呈させる表面平坦化された高屈折率を有する下層の光透過性層５Ａを形成する。
図４Ｂに示すように、更に、下層の光透過性層５Ａ上に、この光透過性層５Ａに比して充分薄い上層の光透過性層５Ｂを形成する。この光透過性層５Ｂには、基部側磁気コア４Ｐｂ上に、この磁気コア４Ｐｂの直径ないしは幅に比して小なる直径もしくは幅を有する第３の開口１７Ｗを磁気コア４Ｐｂと同心的に形成する。
光透過性層５は、電解メッキレジストとして用いられ、第３の開口１７Ｗ内に、上層の光透過性層５の厚さに対応する厚さの例えばＦｅＮｉＳｉによる軟磁性材を電解メッキして、基部側磁気コア４Ｐｂ上に、これと同心上その直径もしくは幅が小とされた先端磁気コア４Ｐｓを形成する。
【００２１】
更に、図５に示すように、光透過性層５の周辺部を、例えば切削加工して、磁気コア４Ｐの先端部を頂部とする円錐状の傾斜面にすなわち周辺部が後退する形状とする。
このようにして、半球／超半球レンズ２の底面２Ｂに、磁気ヘッド素子４が埋設され、その先端磁気コア２Ｐｓの線端面を露呈させた光透過性層５が形成される。
このようにして、光アシスト型磁気ヘッド装置１０が形成される。
【００２２】
上述したように、磁気ヘッド素子４の配置部が突き出るように形成され、その周辺部において後退する形状とことによって、光アシスト型磁気ヘッド装置１０が磁気記録媒体との間のギャップが、使用光の波長の１／１０程度の狭小な狭小ギャップを介して対向させた状態において、相対的に傾いた場合における両者の衝突をできるだけ回避することができる。すなわちスキューの余裕を得ることができる。
【００２３】
尚、上述した光アシスト型磁気ヘッド装置において、半球／超半球レンズ２と、光透過性層５は、同程度の高屈折率を有する構成とするものであり、半球／超半球レンズ２は、例えばＬＡＨ７９（オハラ製、製品名：波長４００ｎｍにおける屈折率ｎ＝２．０７５）、あるいはＬＡＨ６５（オハラ製、製品名：波長４００ｎｍにおける屈折率ｎ＝１．８３３）によるガラスによって、また、光透過性層５（５Ａおよび５Ｂ）は、例えばＯＰｔｉＮＤＥＸＡ１４（Ｂｒｅｗｅｒ  Ｓｃｉｅｎｎｃｅ社製、製品名：波長４００ｎｍにおいて、ｎ＝２．１６）のフォトレジスト材によって構成することができる。
【００２４】
また、上述した各レジストパターン１５，１６、光透過性層５Ａおよび５Ｂのそれぞれの開口の形成におけるフォトリソグラフィにおけるパターン露光は、電子描画によって行うことによって微細パターンすなわち各開口の形成を行うことができる。
しかし、光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法は上述した例に限られるものではなく、種々の手順方法によることができる。
すなわち、基本的には、半球／超半球レンズ２底面に、導電性薄膜１４を形成する工程と、この導電性薄膜上に、メッキレジストパターンを形成して、最終的に磁気ヘッド素子の磁気コア４Ｐの形成部と、磁気ヘッドコイル４Ｃおよびその配線部とに選択的に前記電解メッキを行って、磁気ヘッド素子４を形成し、レジストパターンを除去して、ドライエッチングによって電解メッキ部分以外の導電性薄膜を除去し、磁気コアの先端を露出して磁気ヘッド素子を埋設する光透過性層５を形成するものである。
【００２５】
本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置の実施例を示す。
図６の構成において、各部の寸法を、
半球／超半球レンズ２を半球レンズ２として、その半径：４００μｍ
光透過性層５の高さ（厚さ）：１１μｍ
先端側磁気コア４Ｐｓの高さ（長さ）：１μｍ
先端側磁気コア４Ｐｓの半径：０．４μｍ
基部側磁気コア４Ｐｂの高さ（長さ）：１０μｍ
基部側磁気コア４Ｐｂの半径：１μｍ
磁気ヘッドコイル４Ｃの内径：２μｍ
磁気ヘッドコイル４Ｃの外径：３μｍ
磁気ヘッドコイル４Ｃと表面の最小距離：５μｍ
磁気ヘッドコイル４Ｃと表面の最大距離：１１μｍ
とした。
【００２６】
上述の構成において、磁気ヘッドコイル４Ｃに０．３Ａの電流を供給するとき、先端側磁極４Ｐｓに誘導される磁場は、およそ０．７Ｔの磁場が得られることになる。この値は、ＡＮＳＯＦＴ社の２次元電磁界シミュレーションソフトＭＡＸＷＥＬＬによって求めることができる。
この磁場の大きさは、垂直磁気記録の磁場と比べると小さいものであるが、光アシスト記録によって、磁気記録媒体に対する記録部の保磁力を小さくする効果が与えられることによって、充分に磁気記録が実現できる。
【００２７】
一方、半球／超半球レンズにレーザ光を入射したときの光線は、磁気コア部分と磁気ヘッドコイルによって遮蔽をうけたのち、磁気コア先端すなわち磁極先端部に集光させることができる。実際上、遮蔽の比率が大きいのは磁気ヘッドコイルである。焦点からみたコイルの立体角は３０°程度である。一方、レーザ光の入射角の最外角は、上記の屈折率、開口数で４５°を上回る。したがって、入射角が３０°よりも大きい成分によって、光アシスト型磁気ヘッド装置１０からの光の供給、すなわち熱アシストを行うことができる。
このようにして、近接場光を磁気記録媒体の記録領域に集光し、かつ、その領域に記録磁界印加する光アシスト磁気記録がなされる。
【００２８】
上述したように、本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置１０は、磁気ヘッド素子４が形成される半球／超半球レンズ２において、このレンズ２に関しては、磁気ヘッド素子４の形成と係わりなくこれを独立に作製することができることから、高い精度で作製できる製造方法例えば真球研磨加工、フォトリソグラフィを適用した加工等を適用することができ、収差の発生等の光学的特性が改善された半球／超半球レンズ２レンズによって構成することができ、磁気記録媒体上における近接場光スポットに歪みのないすぐれた微小スポットを得ることができるものである。
【００２９】
次に、本発明による磁気記録装置は、磁気ヘッド装置として本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置が用いられるものであり、図６は、その一実施の形態例の概略構成図を示す。
この磁気記録装置７０は、例えば波長４００ｎｍのレーザ光を発生する半導体レーザを有して成る光源部７１と、前述した本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置１０と、磁気記録媒体配置部７２と、記録信号電源部７３と、光源部７１からの光を前記光アシスト型磁気ヘッド装置に導く光路を形成する光学系７４とを少なくとも有する。
【００３０】
磁気記録媒体配置部７２は、例えばハードディスク等の磁気ディスクによる磁気記録媒体２０が、光アシスト型磁気ヘッド装置１０の半球／超半球レンズ２に近接対向するように配置されるようになされ、磁気記録媒体２０が配置された状態で、スピンドルモータ７２によって回転駆動することができるようになされる。
【００３１】
光学系７４は、例えばコリメートレンズ７６、ビームスプリッタ７７等を有し、光源部からのレーザ光を、光アシスト型磁気ヘッド装置１０に導入するようになされる。
また、光アシスト型磁気ヘッド装置１０からの戻り光を検出する光検出部７８、マルチアンプ７９等が設けられる。
【００３２】
磁気記録媒体（例えばハードディスク）は、垂直記録型磁気記録媒体より成り、例えばガラスやアルミなどの基板２１上に、２００ｎｍ程度の厚みで成長させたＦｅＳｉＮｉなどによる軟磁性層２２、２０ｎｍ程度の厚みで成長させた例えば[（ＣｏＣｒ）Ｐｔ]ＳｉＯ２（グラニュラ構造）などの垂直磁化膜による記録磁性層２３を有する構成とされる。また、その表面には図示しないが、１０ｎｍ程度のカーボンカバー層を積層することができる。
【００３３】
この構成による磁気記録装置においては、その磁気記録媒体配置部７２に、磁気記録媒体２０を配置し、スピンドルモータ７５によって回転駆動し、その記録磁性層２３が光アシスト型磁気ヘッド装置１０に対して相対的に移行するようになされる。
このとき、光アシスト型磁気ヘッド装置１０の半球／超半球レンズ２すなわち半球ＳＩＬもしくは超半球ＳＩＬと、磁気記録媒体２０との間隔すなわちギャップは、近接場光によるスポットが磁気記録媒体２０に生じるように、使用光の波長をλとするとき例えばλ／１０の小ギャップに選定される。
このギャップの制御は、通常のハードディスクの磁気ヘッドで適用されている浮上スライダに光アシスト型磁気ヘッド装置１０を配置する構成とすることもできるし、例えば光アシスト型磁気ヘッド装置１０を、２軸アクチュエータ７９に配置する構成とすることができる。
この２軸アクチュエータ７９は、光アシスト型磁気ヘッド装置１０の光軸方向とこれと直交する方向との２軸方向に電磁コイルによって移動制御する構成を有する。
【００３４】
そして、光源部７１からの例えば４００ｎｍの青色レーザ光を、コリメートレンズ７６によって平行光として、ビームスプリッタ７７を通じて光アシスト型磁気ヘッド装置１０の対物レンズ１および半球／超半球レンズ２の集光レンズ３によって、磁気記録媒体２０上に、近接場光の微小スポットを照射する。
【００３５】
一方、例えば図１で示した光アシスト型磁気ヘッド装置１０の磁気ヘッド素子４の磁気ヘッドコイル４Ｃに、記録信号源７３からの所要の記録信号電流を通電し、単磁極構成による磁気コア４Ｐに誘導磁界を発生させ、その先端からの信号磁界を垂直磁界として、近接場光のスポットと同一位置もしくは所定の位置関係の至近位置に印加する。このようにして、光スポット照射によって局部的に昇温し、局部的に保磁力の低下がなされた状態の記録磁性層２３の部位に微小磁区による磁気記録がなされる。
このとき、磁気記録媒体２０の、軟磁性層２２によって垂直磁気記録磁気ヘッド素子４の磁気コア４Ｐの先端部（主磁極）に誘導された記録磁界を拡散せずに垂直に引き込むことができ、上層の軟磁性垂直磁化膜による記録磁性層２３に垂直磁界が印加され、良好に垂直記録がなされる。
【００３６】
また、この記録時、例えば磁気記録媒体に形成されたトラッキング用の微細凹凸による干渉で強度変調された反射戻り光が、半球／超半球レンズ２、対物レンズ１を通過し、ビームスプリッタ７７を経て、例えばいわゆる分割フォトダイオードによって構成された光検出部７８によって所要電気信号出力を得る。
この光検出部７８によって検出された信号は、図示しないが、例えばマトリックスアンプ回路、サーボ回路等によって、フォーカスおよびギャップサーボ信号、トラッキングサーボ信号を生成する。
そして、これらサーボ信号によって、例えば上述した２軸アクチュエータ７９を制御して、これによって、光アシスト型磁気ヘッド装置１０を上述した２軸方向に微小移動させて、磁気記録媒体２０に対するフォーカシングおよびギャップ、トラッキング調整がなされる。
【００３７】
この磁気記録装置によれば、前述したように光アシスト型磁気ヘッド装置が良好な近接場光スポットが得られる構成であることから、高密度記録が良好になされるものである。
【００３８】
尚、上述した光アシスト型磁気ヘッド装置、その製造方法、磁気記録装置は、上述した例に限定されるものではなく、本発明構成であって種々の形態を採り得るものであることはいうまでない。
例えば上述した例では、記録磁気ヘッド素子のみを具備する構成とした場合であるが、再生磁気ヘッド素子を設けて記録再生を可能にした光アシスト型磁気ヘッド装置、磁気記録装置とすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】ＡおよびＢは、本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置の一例の概略縦断面図および概略底面図である。
【図２】ＡおよびＢは、本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法の一例の各工程の概略断面図である。
【図３】ＡおよびＢは、本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法の一例の各工程の概略断面図である。
【図４】ＡおよびＢは、本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法の一例の各工程の概略断面図である。
【図５】本発明による光アシスト型磁気ヘッド装置の製造方法の一例の概略断面図である。
【図６】本発明による磁気記録装置の一例の構成図である。
【符号の説明】
【００４０】
１……対物レンズ、２……半球レンズもしくは超半球レンズ（半球／超半球レンズ）、２Ｂ……底面、３……２群集光レンズ、４……磁気ヘッド素子、４Ｐ……磁気コア、４Ｐｂ……基部側磁気コア、４Ｐｓ……先端磁気コア、４Ｃ……磁気ヘッドコイル、４ＣＬ……配線部、５……光透過性層、１０……光アシスト型磁気ヘッド装置、１１……保持体、２０……磁気記録媒体２１……基板、２２……軟磁性層、２３……記録磁性層、７０……磁気記録装置、７１……光源部、７２……磁気記録媒体配置部、７３……記録信号電源部、７４……光学系、７５……スピンドルモータ、７６……コリメートレンズ、７７……ビームスプリッタ、７８……２軸アクチュエータ、７８……光検出部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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