(57)【要約】  【課題】柱状結晶からなる蛍光体層の柱状構造を損傷することなく、蛍光体層の厚みの均一性およびその表面の平坦度を向上させた放射線像変換パネル用蛍光体層の製造方法、およびこの蛍光体層を有する放射線像変換パネルを提供すること。  【解決手段】気相堆積法により柱状結晶からなる蛍光体層を基板上に形成する成膜工程と、形成された前記蛍光体層の表面を研磨する研磨工程とを有する放射線像変換パネルの蛍光体層の製造方法であって、前記研磨工程は、研磨材料を所定の基準面との間に所定の間隔を以って配設した状態で、前記研磨材料と前記基板とを相対的に移動させることにより、前記蛍光体層の表面を所定の厚みだけ研磨する工程であり、かつ、この研磨工程を複数回に分けて行うことにより、当該蛍光体層の表面における平面度を所望の値にすることを特徴とする蛍光体層の製造方法。【選択図】図１
2006292546.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気相堆積法により柱状結晶からなる蛍光体層を基板上に形成する成膜工程と、
形成された前記蛍光体層の表面を研磨する研磨工程とを有する放射線像変換パネルの蛍光体層の製造方法であって、
前記研磨工程は、
研磨材料を所定の基準面との間に所定の間隔を以って配設した状態で、前記研磨材料と前記基板とを相対的に移動させることにより、前記蛍光体層の表面を所定の厚みだけ研磨する工程であり、かつ、
この研磨工程を複数回に分けて行うことにより、当該蛍光体層の表面における平面度を所望の値にすることを特徴とする蛍光体層の製造方法。
【請求項２】
前記複数回に分けて行う研磨工程は、
粗さの異なる複数種の所定の研磨材料を所定の順序で適用する複数の単位研磨工程を、各単位研磨工程についてそれぞれ、所定の回数繰り返すものである請求項１に記載の蛍光体層の製造方法。
【請求項３】
前記単位研磨工程は、
それぞれ所定の研磨代を設定して繰り返すものである請求項２に記載の蛍光体層の製造方法。
【請求項４】
前記平面度の所望の値は、表面うねりＷｃａの値が１０μｍ以下であり、表面粗さＲａの値が５μｍ以下である請求項１〜３のいずれかに記載の蛍光体層の製造方法。
【請求項５】
前記所定の研磨代が、１０μｍである請求項３または４に記載の蛍光体層の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の蛍光体層の製造方法を用いて製造された蛍光体層を有する放射線像変換パネル。
【請求項７】
気相堆積法により柱状結晶からなる蛍光体層を基板上に形成する成膜工程と、
形成された前記蛍光体層の表面を研磨する研磨工程とにより形成された蛍光体層を用いる放射線像変換パネルであって、
前記蛍光体層の表面における表面うねり（ろ波中心線うねり）Ｗｃａの値が１０μｍ以下であることを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項８】
前記蛍光体層の表面粗さＲａの値が５μｍ以下である請求項７に記載の放射線像変換パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線像変換パネルに用いるに好適な蛍光体層の製造技術、およびこの蛍光体層を有する放射線像変換パネルに関し、より具体的には、気相堆積法により製造される柱状結晶からなる蛍光体層の製造方法、およびこの蛍光体層を有する放射線像変換パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線（Ｘ線，α線，β線，γ線，電子線，紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、上述の蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。
【０００３】
一例として、この種の蓄積性蛍光体を含有する層（すなわち、蛍光体層）を有するシート（蛍光体シート）をパネル（放射線像変換パネルと呼ばれる）状に加工して利用する、放射線画像情報記録再生システムが知られており、例えば、ＦＣＲ（Ｆuji Ｃomputed Ｒadiography：富士写真フイルム（株）商品名）等として実用化されている。
【０００４】
このシステムでは、上記蛍光体シートに人体などの被写体の放射線画像情報を記録し、記録後に、この蛍光体シートをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、写真感光材料等の記録材料、あるいはＬＣＤやＣＲＴ等の表示装置に、被写体の放射線画像の可視像として出力する。
【０００５】
このような蛍光体シートの製造方法として、気相堆積法である真空蒸着やスパッタリング等によって基板に蛍光体層を成膜する方法が知られている（特許第２７８９１９４号，特開平５−２４９２９９号等の各公報参照）。蒸着によって成膜される蛍光体層は、真空中で形成されるため不純物が少なく、また、バインダなどの蓄積性蛍光体以外の成分が殆んど含まれないので、性能のばらつきが少なく、しかも発光効率が非常に良好であるという、優れた特徴を有している。
【０００６】
一般に、真空蒸着は、光学部品のコーティング，磁気記録媒体や電子ディスプレイの製造等の各種の分野における薄膜の成膜方法として利用されている。これらにおける蒸着による成膜では、殆どの場合、形成する膜の厚さは１μｍ以下であり、厚くても３μｍ程度である。
これに対して、真空蒸着で形成される蛍光体シートの蛍光体層は、薄くても２００μｍ以上、通常で５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍもの厚さが必要になる。
【０００７】
本出願人は先に、このような蛍光体層の形成（蛍光体膜の成膜）に好適に用い得る蛍光体シートの製造方法または装置を提案している（例えば、特願２００２−４２９１号（特開２００３−２０１５５５号公報），同２００２−１９６３１号（特開２００３−２２１６６１号公報）参照）。これらの技術は、いわゆる二元蒸着による蛍光体シートの製造技術に係るものであり、真空チャンバ内に、蛍光体の成膜材料を加熱蒸発させる蒸発手段と、付活剤の成膜材料を加熱蒸発させる蒸発手段と、基板の保持・回転手段とを設けてなる装置を提案しているものである。
【０００８】
ところで、前述のＦＣＲのシステムにおいては、前述のように、蛍光体シートに放射線画像を記録し、記録後に、蛍光体シートをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、写真感光材料等の記録材料、あるいはＬＣＤやＣＲＴ等の表示装置に、被写体の放射線画像の可視像として出力する。
【０００９】
ここで問題になるのは、上述の蛍光体シートからの放射線画像情報の読み取りに際しては、読み取りヘッド（受光部）と蛍光体シート上の蛍光体層表面との間の距離が均一である必要があるということである。
ところが、前述のような厚膜の蛍光体層を蒸着によって成膜する場合、特に、前述のような厚膜の蛍光体層を有する大サイズの蛍光体シートを製造する場合には、全面を均一な厚みに成膜することは難しく、膜厚分布を±３％程度に収めることがその限界であった。
【００１０】
蛍光体シートに記録された画像情報を読み取る場合、図７に示すように、蛍光体シート９０の基板９２上に形成された蛍光体層９４に、図示されていない光ビーム照射手段から光ビーム（励起光）を照射し、発生する輝尽発光光をラインＣＣＤセンサ９６で読み取る。この際、ラインＣＣＤセンサ９６と蛍光体シート９０表面との距離Ａは、約１００μｍである。
【００１１】
これに対して、蛍光体層９４の膜厚を約５００μｍとすると、前述の膜厚分布が±３％程度ということから、蛍光体層９４の膜厚の変動幅Ｂは約３０μｍになる。従って、ラインＣＣＤセンサ９６と蛍光体シート９０表面との距離Ａが、場所によって大きく変動するため、画像にボケが発生するという問題がある。このため、蛍光体層９４の膜厚の変動幅をできるだけ小さくすることが望まれる。
【００１２】
また、成膜条件によっては、成膜中に、材料に含まれる異物等の影響で、スプラッシュ（突沸）と呼ばれる突起状の面あれが発生することがある。このようなスプラッシュが発生した場合には、読み取りヘッドによる読み取り時における励起光または輝尽発光光の散乱が発生して、やはり読み取り時における情報の劣化（画像のボケ等）が発生する。
【００１３】
本出願人は、先に、特願２００２−２３６３０６号（特開２００４−７７２３６号公報参照）により、蒸着により形成した蛍光体層（蒸着蛍光体層）を成膜後に研磨して、その厚みを均一化することにより、読み取りヘッドによる読み取り時における読み取りヘッドと蛍光体層との間の距離の不均一さをなくし、前述のような、読み取り時における励起光または輝尽発光光の散乱に起因する情報の劣化（画像のボケ等）を防止することが可能な蒸着蛍光体層の製造方法を提案している。
【００１４】
また、上記先願では回転蒸着型の装置を用いて形成した蛍光体層を成膜後に研磨する例を示しているが、本出願人は、これとは別に、特願２００４−３４６８３２号により、直線搬送型の蒸着装置を提案しており、本発明に係る蒸着蛍光体層の製造方法においては、この直線搬送型の蒸着装置を用いて形成した蛍光体層を成膜後に研磨することによっても、その厚みを均一化することにより、良好な特性を有する蒸着蛍光体層の製造方法を実現することが可能である。
【００１５】
【特許文献１】特開２００４−７７２３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、蛍光体シートからの放射線画像情報の読み取り時における情報の劣化を防止可能とすることにある。より具体的には、通常で５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍもの厚さを有する、柱状結晶からなる蛍光体層の柱状構造を損傷することなく、蛍光体層の厚みの均一性およびその表面の平坦度を向上させることにより、読み取りヘッドと蛍光体層との距離均一性を実現可能とする、光学的特性に優れた放射線像変換パネル用蛍光体層の製造方法、およびこの蛍光体層を有する放射線像変換パネルを提供することにある。
【００１７】
より具体的には、本発明の目的は、本出願人が、その先願に係る特願２００２−２３６３０６号（特開２００４−７７２３６号公報参照）、並びに特願２００４−３４６８３２号により提案した、蒸着蛍光体層の製造方法（真空蒸着方法）にさらなる改良を加え、これらの方法で形成された柱状結晶からなる蛍光体層中の柱状結晶構造を損傷することなく、蛍光体層表面を好適に平坦化する蛍光体層の平滑化を含む放射線像変換パネル用蛍光体層の製造方法、およびその方法で製造される蛍光体層を有する放射線像変換パネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上述の目的を達成するために、本発明に係る蛍光体層の製造方法は、気相堆積法により柱状結晶からなる蛍光体層を基板上に形成する成膜工程と、形成された前記蛍光体層の表面を研磨する研磨工程とを有する放射線像変換パネルの蛍光体層の製造方法であって、
前記研磨工程は、研磨材料を所定の基準面との間に所定の間隔を以って配設した状態で、前記研磨材料と前記基板とを相対的に移動させることにより、前記蛍光体層の表面を所定の厚みだけ研磨する工程であり、かつ、この研磨工程を複数回に分けて行うことにより、当該蛍光体層の表面における平面度を所望の値にすることを特徴とする。
【００１９】
ここで、前記複数回に分けて行う研磨工程は、粗さの異なる複数種の所定の研磨材料を所定の順序で適用する複数の単位研磨工程を、各単位研磨工程についてそれぞれ、所定の回数繰り返すものであることが好ましい。
また、前記単位研磨工程は、それぞれ所定の研磨代を設定して繰り返すものであることが好ましい。
さらに、前記平面度の所望の値は、表面うねりＷｃａの値が１０μｍ以下であり、表面粗さＲａの値が５μｍ以下であることが好ましい。
またさらに、前記所定の研磨代が、１０μｍであることが好ましい。
【００２０】
また、本発明に係る放射線像変換パネルは、上述の蛍光体層の製造方法により製造された蛍光体層を有することを特徴とするものである。
また、本発明に係る放射線像変換パネルは、気相堆積法により柱状結晶からなる蛍光体層を基板上に形成する成膜工程と、形成された前記蛍光体層の表面を研磨する研磨工程とにより形成された蛍光体層を用いる放射線像変換パネルであって、
前記蛍光体層の表面における表面うねり（ろ波中心線うねり）Ｗｃａの値が１０μｍ以下であることを特徴とする。
ここで、前記蛍光体層の表面粗さＲａの値が５μｍ以下であることが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付の図面に基づいて、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、以下の説明においては、まず、真空蒸着装置により所定の基板に蛍光体膜を成膜して、蛍光体シートを作成する過程の概要を説明した後、作成された蛍光体シートの蛍光体層の研磨を行う過程を詳細に説明する。
【００２２】
本発明の蛍光体層の製造方法を実施するための装置（真空蒸着装置）について、添付の図面に示される好適実施形態を基に、詳細に説明する。
【００２３】
なお、ここでは、最初に、一例として、直線搬送（詳細は、後述する）型の真空蒸着装置を用いて、抵抗加熱源となる蒸発容器（ルツボ）の内部で温度測定を行い、その結果に応じてルツボの加熱、すなわち成膜材料の蒸発量（＝蒸着レート）を制御する場合を説明する。
【００２４】
図２に、本発明の一実施形態に係る蛍光体層の製造方法の第１段階である蛍光体シートの製造方法を具体化した蛍光体シート製造装置の概念図を示す。なお、図２において、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
図２に示す蛍光体シート製造装置（以下、製造装置という）１０は、蛍光体（母体）となる成膜材料（蒸発源）と、付活剤（賦活剤：activator )となる成膜材料とを別々に蒸発する二元の真空蒸着によって、基板Ｓの表面に蓄積性蛍光体からなる層（以下、蛍光体層という）を形成して、（蓄積性）蛍光体シートを製造する装置である。
【００２５】
このような製造装置１０は、基本的に、真空チャンバ１２と、基板保持搬送機構１４と、加熱蒸発部１６と、ガス導入ノズル１８とを有して構成される。
なお、製造装置１０は、これ以外にも、必要に応じて、プラズマ発生装置（イオン銃）等、公知の真空蒸着装置が有する各種の構成要素を有してもよいことは、いうまでもないことである。
【００２６】
図示例においては、好適な一例として、蛍光体成分となる臭化セシウム（ＣｓＢｒ）と、付活剤成分となる臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒx（ｘは、通常、２〜３であり、特に２が好ましい））とを成膜材料として用い、抵抗加熱による二元の真空蒸着を行って、基板Ｓに蓄積性蛍光体であるＣｓＢｒ：Ｅｕからなる蛍光体層を成膜して、蛍光体シートを作製する。そのため、加熱蒸発部１６には、蛍光体用の抵抗加熱源となる蒸発容器（以下、ルツボという）５０、および付活剤用の抵抗加熱源となるルツボ５２が配置される。
【００２７】
ここで、図面を簡略化して構成を明瞭にするために、図示は省略するが、個々のルツボ５２には、抵抗加熱用の抵抗加熱電源が接続される。また、同様の理由で、図２（ａ）では１箇所のみを示し、図２（ｂ）では図示は省略するが、個々のルツボ５０には、温度測定手段である後述する熱電対５８が装着され、さらに、抵抗加熱用電源２０および加熱制御手段２２が接続される。
【００２８】
また、本実施形態に係る製造装置１０は、成膜中に不活性ガスの導入を行うガス導入ノズル１８を有し、好ましくは、一旦、真空チャンバ１２内を高真空度まで排気した後、排気を行いつつガス導入ノズル１８からアルゴン等の不活性ガスを導入して真空チャンバ１２内を０．１Ｐａ〜１０Ｐａ（特に、０．５〜３Ｐａ）程度の真空度（以下、中真空という）とし、この中真空下で、蛍光体層の成膜を行う。
【００２９】
すなわち、加熱蒸発部１６において抵抗加熱によって成膜材料（臭化セシウムおよび臭化ユーロピウム）を加熱蒸発して、基板保持搬送機構１４によって基板Ｓを直線状に搬送（以下、直線搬送という）しつつ、真空蒸着による基板Ｓへの蛍光体層の成膜を行う。
このような、ガス導入を行った中真空下で蛍光体層を形成することにより、蛍光体層が良好な柱状結晶構造を有する、画像鮮鋭性や輝尽発光特性に優れた蛍光体シートを製造することができる。
【００３０】
真空チャンバ１２には、図示しない真空ポンプが接続される。
真空ポンプにも、特に限定はなく、必要な到達真空度を達成できるものであれば、真空蒸着装置で利用されている各種のものが利用可能である。一例として、油拡散ポンプ、クライオポンプ、ターボモレキュラポンプ等を利用すればよく、また、補助として、クライオコイル等を併用してもよい。なお、前述の蛍光体層を成膜する製造装置１０においては、真空チャンバ１２内の到達真空度は、８．０×１０-4Ｐａ以下であるのが好ましい。
【００３１】
基板保持搬送機構１４は、基板Ｓを保持して、直線状の搬送経路で搬送（以下、直線搬送とする）するものであり、基板保持手段３０と、搬送手段３２とを有して構成される。
搬送手段３２は、ガイドレール３４およびガイドレールに案内される係合部材３６を有するリニアモータガイド、ネジ軸４０およびナット４２からなるボールネジ、ネジ軸４０の回転駆動源４４等を有する、ネジ伝動を利用する公知の直線状の移動機構である。
【００３２】
他方、基板保持手段３０は、ボールネジのナット４２およびリニアモータガイドの係合部材３６に係合する係合部材４８を有し、下端部に基板Ｓを保持する、公知のシート状物の保持手段であり、搬送手段３２によって、所定の方向（図２（ａ）では左右方向、図２（ｂ）では紙面に垂直な方向）に直線移動される。
【００３３】
図示例の製造装置１０においては、基板Ｓを基板保持手段３０によって保持した状態で、基板保持手段３０を搬送手段３２によって搬送することにより、基板Ｓを前記所定方向に直線搬送する。図示例においては、このように基板Ｓの搬送を直線状とし、かつ、複数の蒸発源を搬送直交方向に配列することにより、膜厚分布均一性の高い蛍光体層の形成を実現している。
【００３４】
なお、一般的に、同じ膜厚であれば、加熱蒸発部１６の上部の通過回数が多い程、膜厚分布均一性を高くすることができるので、複数回の往復動を行って蛍光体層を形成するのが好ましい。また、往復動の回数は、蛍光体層の目的膜厚や目的とする膜厚分布均一性等に応じて、適宜、決定すればよい。搬送速度も、装置の有する搬送速度限界，往復動の回数，目的とする蛍光体層の膜厚等に応じて、適宜、決定すればよい。
【００３５】
真空チャンバ１２内の下方には、加熱蒸発部１６が配置される。
加熱蒸発部１６は、抵抗加熱によって，成膜材料である臭化セシウムおよび臭化ユーロピウムを蒸発させる部位である。また、先と同様の理由で図示は省略するが、加熱蒸発部１６の上には、加熱蒸発部１６（ルツボ５０およびルツボ５２）からの成膜材料の蒸気を遮蔽するシャッタが配置される。
【００３６】
前述のように、製造装置１０は、好ましい態様として、蛍光体成分である臭化セシウムと、付活剤成分である臭化ユーロピウムとを、独立して加熱蒸発する、二元の真空蒸着を行うものである。従って、加熱蒸発部１６には、臭化セシウム用（蛍光体用）のルツボ５０、および臭化ユーロピウム用（付活剤用）のルツボ５２が配置される。
【００３７】
図３の概略上面図に示すように、図示例の製造装置１０においては、ルツボ５０およびルツボ５２は、共に、前記基板Ｓの搬送方向（以下、単に搬送方向という）に直交する方向に６個が配列されている。なお、各ルツボは、離間や絶縁材の挿入等によって、互いに絶縁状態に有る。
【００３８】
また、ルツボ５０およびルツボ５２共に、このルツボの列を２列有し、２つのルツボ５２の列を搬送方向に挟む様に、ルツボ５０の列が配置される。さらに、搬送方向に隣り合わせるルツボ５０およびルツボ５２は、列の配列方向に一致して配置されて対を成し、かつ、異なる列のルツボ５０同士およびルツボ５２同士は、配列方向に互い違いになるように配置され、同方向の互いの間隙を埋めている。これにより、配列方向に均一な蒸気の排出を可能にしている。
【００３９】
図示例の製造装置１０においては、前述のように、基板Ｓを直線搬送とし、抵抗加熱蒸発用のルツボ５０および５２を、搬送方向と直交する方向に配列することにより、基板Ｓの全面を成膜材料の蒸気で均一に暴露して、極めて膜厚分布均一性が高い蛍光体層の形成を可能にしている。
【００４０】
すなわち、基板Ｓを直線搬送しつつ真空蒸着によって蛍光体層の形成を行うことにより、基板Ｓ表面（非成膜面）における移動速度を全面的に均一にし、かつ複数のルツボ（抵抗加熱蒸発源）を搬送方向と直交する方向に直線状に並べただけの、極めて簡易な蒸発源の配置で、基板Ｓの全面的に均一に成膜材料の蒸気を暴露することができ、膜厚分布均一性の高い蛍光体層を形成できる。特に、前述のような中真空での真空蒸着では、アルゴン等のガス粒子と蒸発した成膜材料との衝突があるため、通常の高真空での蒸着に比して、基板とルツボとの間隔を狭くする必要が有るため、成膜材料が系内に拡散する前に基板Ｓに至ってしまうため、その効果は大きい。
【００４１】
しかも、このような構成を有することにより、蛍光体層の面方向および厚さ方向共に、蓄積性蛍光体層中に付活剤成分を高度に均一に分散することができ、これにより、輝尽発光特性および感度等の均一性に優れた蛍光体シートを得ることができる。
【００４２】
ルツボ５０および５２は、通常の抵抗加熱による真空蒸着に用いられるルツボと同様、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）などの高融点金属で形成され、電極（図示省略）から通電されることにより自身が発熱し、充填された成膜材料を加熱／溶融して蒸発させる、抵抗加熱源となるルツボである。
【００４３】
蓄積性蛍光体において、付活剤と蛍光体とは、例えばモル濃度比で０．０００５／１〜０．０１／１程度と、蛍光体層の大部分が蛍光体である。
蒸着量の少ない臭化ユーロピウム用（付活剤用）のルツボ５２は、通常のボート型のルツボの上面を、ルツボの配列方向と一致する方向に延在するスリット状の蒸気排出口を有する蓋体で閉塞してなるものである。また、この蒸気排出口には、同形状の上下開口面を有する四角筒状のチムニー（煙突）５２ａが固定され、成膜材料の蒸気は、このチムニー５２ａから排出される。
【００４４】
前述のように、図示は省略するが、各ルツボ５２には抵抗加熱用電源が接続される。また、付活剤は、蒸着量（蒸発量）が少ないので、一例として、加熱の制御は定電流制御によって行われる。なお、ルツボ５２の加熱制御方法は、これに限定はされず、サイリスタ方式、ＤＣ方式、熱電対フィードバック方式等、抵抗加熱による真空蒸着で用いられる各種の方式が利用可能である。
【００４５】
他方、蒸着量の多い臭化セシウム用（蛍光体用）のルツボ５０は、ドラム型（円筒状）の大型のルツボを用いている。このルツボ５０は、ドラムの側面に、ドラムの軸線方向に延在するスリット状の蒸気排出口を有する。また、蒸気排出口には、同形状の上下開口面を有する四角筒状のチムニー５０ａが固定され、同様に、成膜材料の蒸気は、このチムニー５０ａから排出される。ルツボ５０は、ドラムの軸線をルツボ５０の配列方向に一致して配置され、すなわち、スリット状のチムニー５０ａは、長手方向をルツボ５０の配列方向に一致する。
【００４６】
このようなチムニー（煙突状の蒸気排出部）を有することにより、ルツボ内における局所加熱や異状加熱によって突沸が生じた際に、成膜材料が不意にルツボから噴出することを防止でき、周囲や基板Ｓの汚染を防止できる。特に、前述のような中真空の蒸着では、前述のように、基板Ｓと蒸発源とを近接する必要があるので、その効果は大きい。
【００４７】
ここで、臭化セシウム用のルツボ５０は、ルツボ内で温度測定を行い、その結果に応じて、加熱すなわち個々のルツボからの成膜材料の蒸発量（すなわち蒸着レート）を制御する、本発明の真空蒸着方法を実施するものである。
【００４８】
図４に、ルツボ５０の概略図を示す。なお、図４において、（ａ）は上面図、（ｂ）は一部切欠き正面図（図２（ｂ）と同方向から見た図）、（ｃ）は側面図（図２（ａ）と同方向から見た図）である。
【００４９】
前述のように、ルツボ５０は、ドラム型のルツボであり、ドラムの側面に軸線方向に一致するスリット状の蒸気排出口５０ｂが形成され、蒸気排出口５０には、上下面が開放する四角筒状のチムニー５０ａが固定される。チムニー５０ａには、内部から支えて強度を向上するために、略Ｚ字状のリブ５０ｃが配置される。
【００５０】
また、ルツボ５０内には、突沸した成膜材料が噴出するのを防止するための遮蔽部材６２が固定される。遮蔽部材６２は、長尺な矩形の板材を短手方向に折り返して、略Ｔ字状としたもので、Ｔ字上部の長手方向両端を上方に垂直に折り返して取付部６２ａが形成される。この遮蔽部材６２は、上方から見た際に、Ｔ字上面で蒸気排出口５０を閉塞するようにルツボ５０（ドラム）内に配置され、取付部６２ａが内側からドラム端面に固定される。
【００５１】
ルツボ５０（ドラム）の両端面には、電極６０が固定される。
この電極６０には、抵抗加熱用電源２０（以下、単に電源２０という）が接続される。なお、電源２０には、特に限定はなく、抵抗加熱による真空蒸着において、抵抗加熱源となるルツボの発熱に用いられるものが、各種利用可能である。
【００５２】
図示例において、ルツボ５０のチムニー５０ａには、側面（スリット延在方向の端面）を貫通して、温度測定手段である熱電対５８が挿入される。なお、電源２０からの微弱電圧の回り込みに起因する温度測定誤差を防止するために、熱電対５８（その熱接点）は、ルツボ５０に接触しないように配置するのが好ましい。また、図示例においては、熱伝対５８は、スリット延在方向のチムニー５０ａの端面から挿入されるが、本発明は、これに限定はされず、スリット短手方向のチムニー５０ａの端面から熱電対５８を挿入するのも好ましい。
【００５３】
ルツボ５０においては、通常の使用状態では、溶融した成膜材料（溶融蒸発源）が遮蔽部材６２に接触しないように、成膜材料が充填される。従って、チムニー５０ａ内に配置された熱電対５８は、溶融蒸発源に接触することは無い。なお、この溶融蒸発源に接触することなく温度測定を行う態様においては、高精度な温度測定を行うために、熱電対５８の熱接点が、直接、成膜材料蒸気に接触するようにするのが好ましい。
【００５４】
熱電対５８には、加熱制御手段２２が接続される。
加熱制御手段２２は、ここでは、熱電対５８による温度測定結果に応じて、温度測定位置の温度が所定温度となるように（すなわち、成膜材料の蒸発量が所定レートとなるように）、電源２０からルツボ５０に供給する電力を制御するものである。
【００５５】
蒸着操作が開始されると、蒸発容器内の温度を計測することにより、蒸発状況を判定する。これは、例えば、予め求めておいた、蒸発容器内の温度と蒸発レートとの関係を示すグラフ、あるいはそれを基に作成した対照テーブル等を用いて行えばよい。
そして、加熱制御手段２２は、蒸着の進行状況を継続的に観測して、熱電対５８による温度測定結果に応じて、蒸発レートが所定の値になるように、加熱制御を行う。
【００５６】
なお、前述のように、付活剤は蒸着量（蒸発量）が極めて少ないので、上記実施形態においては、付活剤用のルツボ５２における加熱蒸発の制御は、定電流制御であるが、本発明は、これに限定はされず、付活剤用のルツボ５２においても、ルツボ内で温度を測定して、この測定結果に応じて加熱を制御して蒸着レートを制御するようにしてもよいことはいうまでもない。
【００５７】
以下、製造装置１０による基板Ｓへの蛍光体層の形成（蛍光体シートの製造）の作用について説明する。
【００５８】
まず、真空チャンバ１２を開放して、基板保持搬送機構１４の基板保持手段３０に基板Ｓを保持し、かつ、全てのルツボ５０に臭化セシウムを、全てのルツボ５２に臭化ユーロピウムを所定量まで充填した後、シャッタを閉塞し、さらに、真空チャンバ１２を閉塞する。
【００５９】
次いで、真空排気手段を駆動して真空チャンバ１２内を排気し、真空チャンバ内が例えば８×１０-4Ｐａとなった時点で、排気を継続しつつ、ガス導入ノズル１８によって真空チャンバ１２内にアルゴンガスを導入して、真空チャンバ１２内の圧力を例えば１Ｐａに調整し、さらに、抵抗加熱用の電源を駆動して全てのルツボ５０およびルツボ５２に通電して成膜材料を加熱し、所定時間経過後、回転駆動源４４を駆動して、基板Ｓの搬送を開始し、シャッタを開放して、基板Ｓの表面への蛍光体層の形成を開始する。
【００６０】
成膜中は、全てのルツボ５０において、熱電対５８によってルツボ５０内の温度を測定し、その結果に応じて、加熱制御手段２２は、電源２０からルツボ５０に供給する電力を制御し、各ルツボ５０からの成膜材料の蒸発量を制御して、蒸着レートを制御する。
【００６１】
形成する蛍光体層の膜厚等に応じて設定された所定回数の直線搬送の往復動が終了したら、基板Ｓの直線搬送を停止し、シャッタを閉塞し、抵抗加熱用の電源を切り、ガス導入ノズル１８によるアルゴンガスの導入を停止し、乾燥した窒素ガスあるいは乾燥空気を導入して、真空チャンバ１２内を大気圧とし、次いで真空チャンバを開放して、蛍光体層を形成した基板Ｓすなわち作製した蛍光体シートを取り出す。
【００６２】
なお、この蛍光体シートは、ルツボ５０の内部における温度測定結果に応じて蒸着レートを制御して蛍光体層を形成したものであるので、適正な蒸着レートで成膜された、高精度な膜厚の蛍光を有する、高品質なものである。
【００６３】
次に、蛍光体層の製造方法の他の例として、一般的な回転蒸着型の真空蒸着装置を用いる場合を説明する。
【００６４】
ここでは、蒸着量が多い蛍光体材料の蒸発を電子線加熱で行い、成膜のコントロールを、より好適に行うとともに、抵抗加熱は、微量な成膜材料を空間的に高い均一性で分散して蒸発させることができるので、これを付活剤材料の加熱手段として用いることにより、混合蒸気中に微量の付活剤材料の蒸気を好適に分散して、付活剤をより均一に分散した、高品質な蛍光体層を形成することを可能としている。
【００６５】
図５に、本発明の他の実施形態に係る蛍光体層の製造方法の第１段階である蛍光体シートの製造方法を具体化した蛍光体シート製造装置の概念図を示す。
なお、図示例の蛍光体シート製造装置（以下、単に製造装置ともいう）１１０は、本出願人が前述の特願２００２−４２９１号，同２００２−１９６３１号により提案した真空蒸着型の製造装置に準ずるものである。
【００６６】
本実施形態に係る製造装置は、シート状の基板（ここでは、ガラス基板とする）Ｓの表面に、蓄積性蛍光体層を二元蒸着によって形成して、（蓄積性）蛍光体シートを作製するもので、基本的に、真空チャンバ１１２と、基板保持・回転機構１１４と、加熱蒸発部１２２とを有して構成される、いわゆる基板回転型の真空蒸着装置を利用するものである。
【００６７】
なお、真空チャンバ１１２には、系内を排気して所定の真空度にするための、図示しない真空ポンプ（真空排気手段）が接続される。
また、図示例の製造装置１１０では、一例として、臭化セシウム（ＣｓＢｒ）および臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒx （ｘは、通常、２〜３））を成膜材料とした二元の真空蒸着を行って、ガラス基板Ｓ上にＣｓＢｒ：Ｅｕを蓄積性蛍光体とする蛍光体層を形成する。
【００６８】
また、本発明に係る製造装置により作製される蛍光体シートにおいて、蓄積性蛍光体は、上記ＣｓＢｒ：Ｅｕに限定はされず、各種のものが利用可能である。
好ましくは、波長が４００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲の励起光の照射により、３００ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が利用される。このような輝尽性蛍光体は、特公平７−８４５８８号，特開平２−１９３１００号，同４−３１０９００号の各公報に詳述されている。
【００６９】
図５に戻って、説明を続ける。真空チャンバ１１２は、鉄，ステンレス，アルミニウム等で形成される、真空蒸着装置で利用される公知の真空チャンバ（ベルジャー，真空槽）である。
図示例において、真空チャンバ１１２内には、上方に基板保持・回転機構１１４が、また、下方に加熱蒸発部１２２が配設される。なお、ここでは、加熱蒸発部１２２が１組だけ設けられている場合を例示したが、加熱蒸発部１２２は複数組設けてもよいことはいうまでもない。
【００７０】
基板保持・回転機構１１４はガラス基板Ｓを保持して回転するものであり、回転駆動源（モータ）２８ａと、ターンテーブル１３０とから構成される。
ターンテーブル１３０は、上側のガラス基板Ｓを保持する本体１３２と下側（加熱蒸発部１２２側）のシースヒータ１３４とからなる円板で、その中心に、モータ１２８ａと係合する回転軸１２８が固定される。ターンテーブル１３０は、後述する加熱蒸発部１２２（成膜材料の蒸発位置）に対応する所定位置において、下面（すなわち、シースヒータ１３４の下面）にガラス基板Ｓを保持して、回転軸１２８によって所定速度で回転される。また、シースヒータ１３４は、成膜されるガラス基板Ｓを裏面（成膜面と逆側の面）から加熱する。なお、ガラス基板Ｓは、公知の治具１１４ａ等を用いる方法（図５参照）で、成膜面を下方に向けてターンテーブル１３０（シースヒータ１３４の下面）に保持すればよい。
【００７１】
真空チャンバ内の、基板保持・回転機構１１４の下方には、１組（２つ）の加熱蒸発部１２２が配置される。図６（旧図３）に、加熱蒸発部１２２の概念図を示す。なお、図６中、（ａ）は上面図（図５の上方から見た図）、（ｂ）は正面図（図５と同方向から見た図）を、それぞれ示す。
前述のように、本実施形態に係る製造装置１１０は、臭化セシウムおよび臭化ユーロピウムを成膜材料として用い、これらを個々に加熱蒸発させる二元の真空蒸着を行うものであり、このため、加熱蒸発部１２２は、ユーロピウム蒸発部（以下、Ｅｕ蒸発部という）１３８と、セシウム蒸発部（以下、Ｃｓ蒸発部という）１４０と、材料供給装置１４６とを有する。
【００７２】
Ｅｕ蒸発部１３８は、抵抗加熱装置１４２によって、蒸発位置Ｐｅ（ルツボ）に収容した臭化ユーロピウム（付活剤材料）を、抵抗加熱して蒸発させる部位である。ここで、付活剤材料を抵抗加熱して蒸発させるための抵抗加熱装置１４２には特に限定はなく、用いる付活剤材料に応じて、これを好適に蒸発できるものであれば、真空蒸着装置に利用されている各種のものが利用可能である。
また、抵抗加熱を行う際の出力にも特に制限はなく、付活剤材料等に応じて適宜設定すればよいが、図示例においては（ヒータの抵抗値によって異なるが）、５０Ａ〜１０００Ａ程度とすればよい。
【００７３】
一方、Ｃｓ蒸発部１４０は、電子銃１４４から出射した電子線（ＥＢ）を蒸発位置Ｐｃ（ハース）に照射することにより、蛍光体材料である臭化セシウムを加熱蒸発させる、電子線加熱装置である。
本実施形態に係る製造装置１１０は、真空蒸着による蛍光体層の形成において、蛍光体材料と付活剤材料とを別々に加熱蒸発させる二元蒸着とし、かつ、付活剤材料の加熱蒸発を抵抗加熱で行い、蛍光体材料の加熱蒸発を電子線加熱で行うことにより、蛍光体層（すなわち蛍光体中）に付活剤が均一に分散された、極めて高品質な蛍光体層を有する蛍光体シートを効率よく製造可能としている。
【００７４】
本実施形態に係る製造装置１１０において、Ｃｓ蒸発部１４０は、電子線による加熱を行うものであれば、基本的に、公知の各種の蒸発手段が利用可能である。
従って、電子銃にも、特に限定はなく、電子線を１８０°偏向して蒸発位置に入射する１８０°偏向銃，同２７０°偏向銃，９０°偏向直進銃等、真空蒸着において利用されている各種の電子銃が利用可能である。図示例においては、電子銃１４４は、一例として、２７０°偏向銃を利用している。
【００７５】
電子銃１４４のエミッション電流やＥＢの加速電圧にも限定はなく、成膜材料や成膜する膜厚に応じた十分なものであればよい。
図示例においては、一例として、ＥＢの加速電圧は−１ＫＶ〜−３０ＫＶ、エミッション電流はＣｓ蒸発部１４０が５０ｍＡ〜２Ａとするのが好ましい。
【００７６】
ここで、前述のように、基板上に形成される蛍光体層は、通常の真空蒸着膜に比して非常に厚く、薄くても２００μｍ程度、通常５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍを超える場合もある。また、付活剤と蛍光体とは、例えば、モル濃度比で０．０００１／１〜０．０１／１程度と、蛍光体層の大部分が蛍光体である。そのため、図示例の製造装置１１０においては、好ましい態様として、Ｃｓ蒸発部１４０は、臭化セシウムの供給手段である、材料供給手段１４６を有している。
【００７７】
図示例において、材料供給手段１４６は、基本的に、シリンダ１４８と、ピストン１５０と、ケーシング１５２と、昇降手段（モータ）１５４とから構成される。
シリンダ１４８は、その上端部が電子線の照射位置と一致するように、真空チャンバ１１２の下面を貫通して一部が外部に突出した状態で、真空チャンバ１１２の壁面に固定される円筒である。すなわち、図示例においては、シリンダ１４８がいわゆるハースとなっており、その上端部が臭化セシウムの蒸発位置Ｐｃとなる。
【００７８】
また、ピストン１５０は、シリンダ１４８内に緩く嵌装される円柱状のピストンヘッド１５０ａと、先端にピストンヘッド１５０ａを固定するピストンピン１５０ｂとから構成される。ピストンピン１５０ｂには、ピストン１５０を昇降（矢印ｃ方向）する昇降手段１５４が係合する。
さらに、シリンダ１４８の開放端はケーシング１５２で覆われて真空チャンバ１１２内は気密に保たれ、かつ、ピストンピン１５０ｂは、図示しないベアリングによって、前記昇降方向に往復動可能にケーシング１５２に気密に軸支される。
【００７９】
臭化セシウムは、シリンダ１４８の内径よりも若干小径の円柱状に成型されて、ピストンヘッド１５０ａに載置された状態でシリンダ１４８に収容される。
基板への成膜によって、蒸発位置Ｐｃの臭化セシウムが消費されると、それに応じて、昇降手段１５４が作動して円柱状の臭化セシウムを上昇させる。これにより、シリンダ１４８の上面すなわち蒸発位置には、常に臭化セシウムが供給され、２００μｍを超えるような厚膜の成膜にも好適に対応することができる。
【００８０】
前述のように、蛍光体層に含まれる付活剤は蛍光体に対して極めて微量であり、蛍光体層の成分コントロールは重要である。本発明者らの検討によれば、付活剤を蛍光体中に均一に分散して添加（ドープ）した、厚みが２００μｍを超える高品質な蛍光体層を形成するためには、蛍光体の成膜材料と付活剤の成膜材料とで別々に蒸気を発生させて、両者を十分に混合した混合蒸気を生成し、この混合蒸気で基板に成膜を行うのが好ましい。
【００８１】
なお、ここでは、蒸着量が多い蛍光体材料の蒸発を電子線加熱で行うことにより、良好な制御性かつ効率で蒸発を行うことができ、成膜のコントロールを、より好適に行うことが可能になる。他方、抵抗加熱は、微量な成膜材料を空間的に高い均一性で分散して蒸発させることができるので、これを付活剤材料の加熱手段として用いることにより、混合蒸気中に微量の付活剤材料の蒸気を好適に分散して、付活剤をより均一に分散した、高品質な蛍光体層を形成することが可能である。
【００８２】
次に、本実施形態に係る蛍光体シートの製造方法の第２段階である、基板上に形成された蛍光体層の研磨を行う研磨装置について説明する。
【００８３】
図１は、本実施形態に係る蒸着蛍光体層の研磨工程を説明するための模式側面図であり、ここでは、一例として、４３０ｍｍ角の蛍光体シート１６４の蛍光体層１６４ａの表面を、送り出し・巻き取り駆動機構により移送される幅４５０ｍｍの長尺の研磨材料（ラッピングシート）１６２を用いて、研磨する場合を例に挙げている。
【００８４】
すなわち、図１に示す研磨装置１００を用いる研磨工程では、シート支持台１６６上に係止された蛍光体シート１６４の表面（実際には、蛍光体シート６４上の蛍光体層１６４ａの表面）に、上述の長尺の研磨材料６２を接触駆動させつつ、シート支持台１６６を研磨ユニット１６０に対して、図１（ｂ）の矢印ｂで示す方向に相対的に移動させることにより研磨を行うように構成されている。
【００８５】
ここで、上述の研磨ユニット１６０は、長尺の研磨材料１６２を送り出す送り出し部１６０ａとこれを巻き取る巻き取り部１６０ｂ、および研磨材料１６２を蛍光体シート１６４に対して鉛直方向（図１（ａ）の矢印ａで示される方向）に位置決めして接触させる当接ローラ１６０ｃから構成されている。また、シート支持台１６６は、図示されていない水平面内の移動機構により、図中の矢印ｂ方向に沿って往復移動するように構成されている。
【００８６】
すなわち、本実施形態に係る研磨ユニット１６０は、上記研磨材料１６２を、蛍光体シート１６４の基準面（例えば、シート支持台１６６の表面）との間に所定のクリアランス（図中に、Ｐで示す距離）を有するように、垂直方向（図１（ａ）の矢印ａで示す）における位置決めを行い、シート支持台１６６を研磨材料１６２に対して相対的に、かつ基準面に平行に往復移動させる（図１（ｂ）の矢印ｂで示す方向）ことにより、研磨を行うように構成されている。
【００８７】
なお、以下の説明では、研磨材料１６２が蛍光体層１６４ａを実際に研磨する面を上記の基準面に対して研磨面とよぶ。この研磨面は、上記基準面と平行で、かつ研磨材料１６２の最下点（当接ローラ）１６０ｃに接する面である。
【００８８】
ここでのシート支持台１６６の移動機構としては、ラックアンドピニオンによる機構、ボールねじによる機構等、公知の種々の機構を用いて、駆動源であるモータ等の回転を変換するものでよく、移動方向も一方向への移動でもよく、移動方向を周期的に切り換える往復移動としてもよい。この場合の、移動方向の切り換え速度（周波数）は、適宜決定してよい。
【００８９】
なお、蛍光体シート１６４と研磨材料１６２との相対的な移動速度（研磨材料の当接速度）については、蛍光体層の特性や研磨材料の特性に応じて適宜決定すればよいが、本実施形態に示す蛍光体層（ＣｓＢｒ：Ｅｕ）の場合は、比較的軟質なので、低速でもかなりの研磨速度が得られるものである。
【００９０】
また、上記のクリアランスＰの値は、用いる研磨材料１６２の特性や、研磨対象となる蛍光体層１６４ａの特性や、所望の削り代に応じて適宜決定すればよい。
具体的には、図１に示す通り、蛍光体層の好ましい厚み（平均的な厚み）ｔと基板Ｓの厚みＳｔとの合計値、すなわち、Ｐ＝ｔ＋Ｓｔとし、この値を初期値として前述の基準面との間に設定するようにする。
【００９１】
以下、上述のように構成される製造装置における蛍光体層の成膜手順と、研磨装置における研磨手順を説明する。
前述のように、製造装置１１０は、回転型の真空蒸着装置を利用するもので、蛍光体パネルを製造する際には、まず、基板保持・回転機構１１４のターンテーブル１３０の下面に成膜面を下方に向けてガラス基板Ｓを装着した後、真空チャンバ１１２を閉塞して減圧するとともに、シースヒータ１３４を駆動して、ガラス基板Ｓを裏面から加熱する。
【００９２】
真空チャンバ１１２の内部が所定の真空度に達したら、モータ１２８ａによってターンテーブル１３０を所定速度で回転しつつ、加熱蒸発部１２２において、Ｅｕ蒸発部１３８の抵抗加熱装置１４２を駆動して蒸発位置Ｐｅ（ルツボ）に収容された臭化ユーロピウムを蒸発させ、かつ、Ｃｓ蒸発部１４０の電子銃１４４を駆動して蒸発位置Ｐｃの臭化セシウムを蒸発させて、基盤ＳへのＣｓＢｒ：Ｅｕの蒸着すなわち蛍光体層の成膜を開始する。
【００９３】
ここで、前述のように、両蒸発位置は近接して配置され、かつ、臭化ユーロピウムの蒸発は抵抗加熱で行われるので、加熱蒸発部１２２では、ごく微量な臭化ユーロピウムの蒸気が均一に分散された、両成膜材料の混合蒸気が構成され、この混合蒸気によって、付活剤が均一に分散されたＣｓＢｒ：Ｅｕが蒸着される。
所定厚さの蛍光体膜が成膜されたら、ターンテーブル１３０の回転を停止し、真空チャンバ１１２を開放して、蛍光体層の成膜を終了したガラス基板Ｓを取り出す。連続的に成膜を行う場合には、以下、上と同様にして、新たなガラス基板Ｓを装填して、成膜を行えばよい。
【００９４】
上述のような過程で蛍光体層が成膜されたガラス基板Ｓ、つまり蛍光体シート１６４は、所定の時間経過後に、研磨装置１００による研磨工程にかけられる。
本実施形態における蛍光体シート１６４のセットは、例えば、シート支持台１６６に蛍光体シート１６４を公知の係止部材により係止することにより行う。
【００９５】
ここで、本発明における蛍光体層の研磨方法は、蛍光体層１６４ａを所定の削り代（研磨代）ずつ研磨する研磨工程を複数回繰り返すことにより、所望の厚みを有し、かつ、表面うねりＷｃａおよび表面粗さＲａの値が所定の範囲内である蛍光体シートを製造するものである。
なお、この際、所定の粗さ（粒度）の研磨材料（所定の番手のラッピングシート）を、順次交換して使用することにより、上記の蛍光体シートを得るものでもある。
【００９６】
また、上記研磨工程は、蛍光体層１６４ａの最上部（ほとんどの場合は上面）から基準面に対して所定の距離を以って上述の研磨面を設定し、所定の研磨回数（少なくとも研磨屑が発生しなくなるまで研磨したときのその回数）だけ研磨を行い、所定の削り代を設定して蛍光体層１６４ａを研磨する工程である。
なお、上記研磨回数は、シート支持台１６６が、図１（ｂ）中の矢印ｂで示す方向に片道移動して、蛍光体シート１６４の蛍光体層１６４ａを研磨することを、１回ということにする。
【００９７】
以下、本発明の研磨方法についてより具体的に説明する。
【００９８】
上述のように、パネル支持台１６６に蛍光体シート１６４を図示しない係止部材により係止し、次に、研磨ユニット１６０を垂直方向（図１（ａ）の矢印ａで示す）に移動させて研磨面を設定し、位置決め固定する。
ところで、研磨工程を全く行っていない蛍光体層に対して研磨面を設定する場合は、研磨材料１６２が蛍光体層１６４ａの表面にわずかに当接する程度の位置で研磨材料１６２の位置（図１（ａ）中の矢印ａ方向）を固定し、蛍光体層１６４ａをわずかに研磨して面出しを行い、その面に対して所定の削り代で研磨面を設定すればよい。
【００９９】
研磨ユニット１６０の位置決めが完了したら、まず、研磨ユニット１６０における研磨材料１６２の送りを開始する。さらに、支持体１６６が備える移動機構（図示しない）の駆動を開始して、シート支持台１６６を図１（ａ）の状態から図中の左方向に所定の速度で移動させて、蛍光体シート１６４の蛍光体層１６４ａの表面の研磨を開始する。
支持体６６が、図１（ｂ）の矢印ｂに示される方向に往復移動を行うことにより蛍光体層６４ａの表面の研磨を行う。
【０１００】
研磨屑が発生しなくなるまで研磨を行ったら、図１（ａ）に示すように研磨ユニット１６０の研磨材料当接部（当接ローラ）１６０ｃが蛍光体シート１６４の上方から退避する位置までシート支持台１６６が移動する。
【０１０１】
上述した研磨工程で、蛍光体層表面を所望の削り代で研磨することができる。この研磨工程を複数回繰り返すことにより蛍光体層の研磨を行う。ここで、研磨工程の回数を重ねるにつれて、研磨材料（ラッピングテープ）を粒度が細かいもの（番手が大きいもの）に変えることにより、蛍光体層１６４ａを構成する柱状構造を損傷することなく蛍光体層１６４ａの表面の平坦度を向上させるように研磨を行うことができる。
【０１０２】
これにより、所定の厚みを有し、所定の表面うねりおよび表面粗さの値を有する蛍光体層を備える蛍光体シートを製造することができる。
なお、表面研磨を行う際に用いるラッピングシートの粗さ、研磨回数、およびシート支持台６６の移動速度は、予め実験的に測定して決定すればよい。
【０１０３】
〔実施例〕
例えば、以下に示す表１を使用して、研磨の具体的な工程が実施できる。
ここで、表１は、複数回繰り返される研磨工程の各回における、使用された研磨材料のラッピングテープの番手、削り代、および研磨回数のデータを示すものである。テープの番手の値は、日本工業規格（ＪＩＳ）のＲ ６００１に規定されたものである。
【０１０４】
【表１】
2006292546.tif 000003
【０１０５】
本実施例においては、表１に示すように、まず最初に、♯６００のラッピングテープを選択し、削り代１４μｍに設定して研磨（その１単位研磨工程）を行った。１００回の研磨を行ったところで研磨屑が発生しなくなったために、さらに１０μｍの削り代を設定して研磨を行った。そして、１５０回研磨を行ったところで研磨屑が発生しなくなったので、さらに１０μｍの削り代を設定し、同じように研磨を行った。♯６００のラッピングテープを使用して、上記の研磨の工程を６回繰り返し、合計で６４μｍの研磨を行った。
【０１０６】
次に、ラッピグテープを♯１０００に変更し、削り代を１０μｍに設定して、研磨を行った。１単位研磨工程当たり２００回研磨を行ったところで研磨屑が発生しなくなった。ここでは、♯１０００のラッピングテープを使用した研磨の工程を３回繰り返し、合計で３０μｍの研磨を行った。
【０１０７】
同様に、ラッピングテープを♯３０００，♯６０００に順次変更して、それぞれ１工程（１単位研磨工程）ずつの研磨を行った。以上のようにして、蛍光体層１６４ａ表面の研磨を行い、合計で１１４μｍの研磨を行った。
【０１０８】
このようにして作製された蛍光体シート１６４の蛍光体層１６４ａは、表面うねりＷｃａの値が９．３μｍＷｃａ（ｆｈ０．０８ｍｍ、ｆｌ８ｍｍ）で、表面粗さＲａの値が２．３μｍＲａ（λｃ０．０８ｍｍ）であった。ただし、上記の表面うねりＷｃａおよび表面粗さＲａは、日本工業規格 ＪＩＳ Ｂ ０６０１；１９９４の規定によっている。
なお、ラッピングシートの繰り返し使用回数等についても、ある程度、実験的に定めるようにしてよい。
【０１０９】
上記実施例によれば、蒸着を行って作製した蛍光体シート上の蛍光体層を、予め定めた所定厚みに仕上げる（厚みの均一化）とともに、その表面から、成膜時に発生する突起状の異物等を除去して、表面状態の良好な蛍光体層を有する蛍光体シートを得ることができるという顕著な効果を奏するものである。
【０１１０】
また、上記実施形態並びに実施例によれば、基になる基板に厚みムラあるいはうねり等があった場合にも、それを吸収して、表面の平面性に優れた蛍光体シートを得ることができるという効果をも奏するものである。
【０１１１】
なお、上記実施形態並びに実施例は、いずれも本発明の一例を示したものであり、本発明はこれに限定されるべきものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において適宜の変更または改良を行ってもよいことはいうまでもない。
【０１１２】
例えば、前述の実施形態においては、長尺のラッピングシート（ラッピングテープ）を用いた研磨装置を例に挙げたが、これ以外にも、蛍光体シートの蛍光体層表面に平行な面内で回転する研磨シート（もしくは、砥石類）を用いる方法、平板状のラッピングシート（いわば、ラッピングプレート）を往復動させる方法等が利用可能である。
【０１１３】
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、通常で５００μｍ程度、厚い場合には１０００μｍもの厚さを有する蛍光体層における厚みの均一化と、それに基づく優れた光学的特性を実現可能とした蛍光体層の製造方法を実現できるという顕著な効果を奏するものである。
【０１１４】
より具体的には、成膜後における蛍光体シートの蛍光体層の表面を上述のような方法で研磨することにより、その厚みの不均一さを解消するとともに、成膜時に発生する異物等に起因して発生する突起等を除去して良好な表面状態を実現し、光学的特性の安定した、極めて高品質な蛍光体層を備えた蛍光体シートを効率よく製造することが可能になるものである。
【図面の簡単な説明】
【０１１５】
【図１】（ａ），（ｂ）は、本発明の一実施形態に係る蛍光体層の製造方法の第２段階である蛍光体層の研磨工程の説明図である。
【図２】（ａ）は、一実施形態に係る蛍光体層の製造方法の第１段階である蛍光体シート製造方法を具体化した蛍光体シート製造装置の一例の概略正面図、（ｂ）は、同概略側面図である。
【図３】図２に示す蛍光体シート製造装置の加熱蒸発部の概略平面図である。
【図４】（ａ）は、図２に示す蛍光体シート製造装置のルツボの上面図、（ｂ）は同概略正面図、（ｃ）は同内部の概略側面図である。
【図５】一実施形態に係る蛍光体層の製造方法の第１段階である蛍光体シートの製造方法を具体化した蛍光体シート製造装置の他の例を示す概念図である。
【図６】実施形態に係る加熱蒸発部の概念図である。
【図７】蛍光体シートからの情報読み取りの説明図である。
【符号の説明】
【０１１６】
１０  （蛍光体シート）製造装置
１２  真空チャンバ
１４  基板保持搬送手段
１６  加熱蒸発部
１８  ガス導入ノズル
２０  （抵抗加熱）電源
２２  加熱制御手段
３０  基板保持手段
３２  基板搬送手段
３４  ガイドレール
３６，４８  係合部材
４０  ネジ軸
４２  ナット部
４４  回転駆動源
５０，５２  ルツボ
５８  熱電対
６２  遮蔽部材
１００  研磨装置
１１４  基板保持・回転機構
１２２  加熱蒸発部
１３０  ターンテーブル
１３２  ターンテーブル本体
１３４  シースヒータ
１３８  Ｅｕ蒸発部
１４０  Ｃｓ蒸発部
１４２  抵抗加熱装置
１４４  電子銃
１４６  材料供給装置
１６０  研磨ユニット
１６０ａ  （研磨材料）送り出し部
１６０ｂ  （研磨材料）巻き取り部
１６０ｃ  当接ローラ
１６２  研磨材料
１６４  蛍光体シート
１６４ａ  蛍光体層
１６６  シート支持台
Ｓ  ガラス基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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