(57)【要約】【課題】  図形の微細化、測定箇所が増大しても、測定を効率良くフォトマスクの寸法検査を実施できる、更には、正確に寸法測定箇所を特定できる、フォトマスク寸法検査機用のスクリプトを生成するスクリプト生成装置、スクリプト生成方法を提供する。【解決手段】  フォトマスク寸法検査機に寸法測定箇所を指定して寸法検査を行わせるためのスクリプトで、且つ、寸法測定対象のフォトマスクの各測定位置毎に、寸法測定領域をその領域として表わすＢＯＸを対応させ、ＢＯＸ内において、目的とする寸法測定図形のエッジ位置を把握し、該図形の寸法測定を行うための、スクリプトを、フォトマスク製造のための描画用図形データを用いて、生成するスクリプト生成装置で、スクリプトを、測定箇所リストと、各測定箇所を正確に特定するためのパターンマッチング用の画像データとから生成するものである。【選択図】  図１
2006292873.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスク寸法検査機に寸法測定箇所を指定して寸法検査を行わせるためのスクリプトで、且つ、寸法測定対象のフォトマスクの各測定位置毎に、寸法測定領域を指定するための領域を表わすＢＯＸを対応させ、ＢＯＸ内において、目的とする寸法測定図形のエッジ位置を把握し、該図形の寸法測定を行うための、スクリプトを、フォトマスク製造のための描画用図形データを用いて、生成するスクリプト生成装置であって、前記スクリプトを、ＢＯＸの位置、範囲を指定するための測定箇所情報と測定長さ等の測定に必要な情報を含むリストである測定箇所リストと、該測定箇所情報の各測定箇所を正確に特定するためのパターンマッチング用の画像データとから生成するもので、検査対象のフォトマスクに対応する描画用図形データ、該描画用図形データに対応して生成されたスクリプト、該スクリプト形成用の、寸法測定箇所リストと該リストの各寸法測定箇所に対応したパターンマッチング用の画像データ等を、データとして蓄積しておく、第１の記憶手段と、処理対象の描画用図形データのファイル名、寸法測定箇所に対応した描画用図形データ上の位置を入力する入力手段と、前記第１の記憶手段から、入力手段により入力されたファイル名の、処理対象の描画用図形データの、指定されたデータ上の位置に対応する所定の範囲内の図形データを、処理対象部分図形データとして取り込む、描画用図形データ取得手段と、少なくとも該描画用図形データ取得手段により得られた処理対象部分図形データを、図形として表示する表示手段と、入力手段から入力された寸法測定位置に対応して、あるいは、表示手段に表示された処理対象部分図形データの、図形表示上で寸法測定位置を指定して得られた処理対象部分データ上の位置に対応して、寸法測定領域を指定するための領域を表わすＢＯＸの位置と領域情報と、測定幅に関する情報とを少なくとも含むＢＯＸに関する情報であるＢＯＸデータを生成するＢＯＸ生成手段と、前記ＢＯＸ生成手段により生成された各ＢＯＸデータに対応して、それぞれ、該描画用図形データ取得手段により得られた処理対象部分図形データから、ＢＯＸ位置付近の図形データを、前記表示手段あるいは他の表示手段の所定の複数の表示倍率に対応して、決められた所定の倍率毎に、ＢＯＸ近傍画像データとして、それぞれ、取り出す、ＢＯＸ近傍画像データ取得手段と、前記各ＢＯＸデータと、各ＢＯＸに対応した複数のＢＯＸ近傍画像データとを、それぞれ、対応付けて記憶させる、寸法測定情報記憶手段と、前記寸法測定情報記憶手段から、前記各ＢＯＸデータと、各ＢＯＸに対応した複数のＢＯＸ近傍画像データとを取り出し、これらから、ＢＯＸ毎に、前記ＢＯＸデータ内容と関連するコメントを列記した、測定箇所リストを、そして、該リストの各ＢＯＸに関連つけて、各ＢＯＸ毎に、前記複数の表示倍率に対応したＢＯＸ近傍画像データを列記したパターンマッチング用の画像データを、前記第１の記憶手段に、保存する、寸法測定情報保存手段と、前記ＢＯＸデータと、ＢＯＸ近傍画像データと、前記処理対象部分図形データとの、前記表示手段への表示を制御する、表示制御手段と、入力手段からの指示のもとに、前記第１の記憶手段から、所定の描画用図形データに対応する測定箇所リスト、パターンマッチング用の画像データの組みを取り出し、測定位置範囲を指定するための測定箇所情報と、各測定箇所を正確に特定するためのパターンマッチング用の画像データ情報とを含み、且つ、寸法測定を行う装置に対応した構造に、フォーマット変換して、寸法測定箇所特定用のスクリプトを生成し、更に、生成されたスクリプトを前記第１の記憶手段に保存する、フォーマット変換手段と、入力手段からの指示のもとに、各手段を関連付けて制御する制御手段とを、備えていることを特徴とするスクリプト生成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のスクリプト生成装置であって、前記ＢＯＸ生成手段は、前記描画用図形データ取得手段から得られた、処理対象部分図形データを用いて、測定ＢＯＸが、寸法測定対象図形の隣接図形に干渉しないように、その幅、高さを、あるいは、その幅、高さ、位置を調整する、第１のＢＯＸ調整手段を備えていることを特徴とするスクリプト生成装置。
【請求項３】
請求項１ないし２のいずれか１項に記載のスクリプト生成装置であって、前記ＢＯＸ生成手段は、前記描画用図形データ取得手段から得られた、処理対象部分図形データを用いて、寸法測定対象図形のＪＯＧ図形が存在する場合には、ＪＯＧ図形の存在しない領域に測定ＢＯＸが収まるように、その幅、高さを、あるいは、その幅、高さ、位置を調整する第２のＢＯＸ調整手段を備えていることを特徴とするスクリプト生成装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載のスクリプト生成装置であって、前記描画用図形データは、ＯＰＣ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ  Ｃｏｒｒｅｃｔ、光近接効果補正とも言う）を施したもので、設計データのＯＰＣが施された図形には、補正用図形が該図形のＪＯＧ図形として付加されているものであることを特徴とするスクリプト生成装置。
【請求項５】
フォトマスク寸法検査機に寸法測定箇所を指定して寸法検査を行わせるためのスクリプトで、且つ、寸法測定対象のフォトマスクの各測定位置毎に、寸法測定領域を指定するための領域を表わすＢＯＸを対応させ、ＢＯＸ内において、目的とする寸法測定図形のエッジ位置を把握し、該図形の寸法測定を行うための、スクリプトを、フォトマスク製造のための描画用図形データを用いて、生成するスクリプト生成方法であって、ＢＯＸの位置、範囲を指定するための測定箇所情報と測定長さ等の測定に必要な情報を含むリストである測定箇所リストと、該測定箇所情報の各測定箇所を正確に特定するためのパターンマッチング用の画像データとから、前記スクリプトを、生成するもので、前記パターンマッチング用の画像データとして、処理対象の描画用図形データから、各ＢＯＸ毎に、ＢＯＸ位置付近の図形データを、表示手段の所定の複数の表示倍率に対応して、決められた所定の倍率毎に、それぞれ、取り出したＢＯＸ近傍画像データの群を用いることを特徴とするスクリプト生成方法。
【請求項６】
請求項５に記載のスクリプト生成方法であって、各ＢＯＸ毎、それぞれ、前記処理対象の描画用図形データから得られたＢＯＸ位置付近の図形データを用いて、寸法測定対象図形の隣接図形に干渉しないように、その幅、高さを、あるいは、その幅、高さ、位置を調整していることを特徴とするスクリプト生成方法。
【請求項７】
請求項５ないし６のいずれか１項に記載のスクリプト生成方法であって、寸法測定対象図形のＪＯＧ図形が存在する場合には、各ＢＯＸ毎、それぞれ、前記処理対象の描画用図形データから得られたＢＯＸ位置付近の図形データを用いて、ＪＯＧ図形の存在しない領域に測定ＢＯＸが収まるように、その幅、高さを、あるいは、その幅、高さ、位置を調整していることを特徴とするスクリプト生成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスク製造のための描画用図形データを用い、フォトマスク寸法検査における寸法測定箇所特定用のスクリプトを生成させるスクリプト生成装置およびスクリプト生成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化やシステムオンチップによる回路規模の増大によりフォトマスク製造におけるフォトマスクデータに関しても、大規模化が顕著となっており、１枚のフォトマスク製造に数ギガバイトから数百ギガバイトオーダーのデータが使われている。
フォトマスクデータ量の増加は、年々速度を速め、且つ、データ内に収容される図形数も増大している。
加えて、図形の微細化、マスク出来上がり時の図形寸法の高精度要求により寸法測定箇所も増大している。
尚、フォトマスクは、一般に、描画用データを用い、電子線描画装置等の露光描画装置にて、描画露光され、現像、エッチング等のプロセス処理を経て作製される。
そして、該フォトマスクの絵柄をウエハ上に縮小投影して、半導体の作製を行う。
【０００３】
このような中、フォトマスク製造における、マスク製造後の寸法検査は、得意先指示の測定箇所を寸法検査機上でオペレータがマニュアルオペレーションにて測定箇所（以下、測定図形とも言う）を探し、更に、測定領域を表すＢＯＸを立てて、ＢＯＸ内において測長を実施していた。
このため、先に述べた、近年の、フォトマスクにおける図形の微細化、図形数の増大化、測定箇所の増大化により、ますます、寸法検査の時間が増大化してきており、マスク検査時間の増大化を招いている。
【０００４】
このように、従来、フォトマスクの寸法検査を行う場合、検査機上にて、測定を行う図形に対してマニュアルにて測定ＢＯＸを立てていた。
しかし、近年、フォトマスクにおける図形の精細化、図形の高密度化により、フォトマスクの絵柄をウエハ上に縮小投影する際に光近接効果の影響を無視することができなくなってきており、本願出願人の出願である特開２０００- ３１０８５１号公報（特許文献１）にも記載されるように、光近接効果の影響を考慮して、フォトマスク作製の際に、設計上の図形に対して補正用の図形を付加するＯＰＣ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ  Ｃｏｒｒｅｃｔ、光近接効果補正、ＯＰＣ補正とも言う）を施すようになり、更に、寸法検査の時間が増大化してきている。
【特許文献１】特開２０００- ３１０８５１号公報  ＯＰＣが施されたマスクをＯＰＣマスクというが、ＯＰＣマスクの寸法測定の場合、出来上がりマスク上で、ＢＯＸを立てる際の位置の微小なズレにより、合否判定が変わる問題が出ている。  尚、補正用の図形をＯＰＣ図形とも言う。  ＯＰＣ図形は、設計上の図形に対して、ウエハへの縮小投影を考慮して、特にその角部に小さな凹凸をつけている。  このため、ＯＰＣ図形は、図形上では、設計上の図形とは異なり、主となる図形にＪＯＧ図形を伴うものとなり、出来上がりのマスク上の対応する図形では、なだらかな段差を発生させることとなるが、この段差が目視では判定できないレベルであることが多い。  結果、寸法検査機における寸法検査の際、寸法測定位置、領域を表すＢＯＸを立てる位置に微妙なズレが発生することがあり、このズレにより、測定結果へ悪影響を及ぼすことが多々あった。  例えば、ＯＰＣ補正が施される場合、図７（ａ）に示す設計データ上、図形１からなる絵柄１０が、図７（ｂ）に示すように、描画データ上、図形２〜９にて表わされる絵柄１０Ａになり、対応するフォトマスク上の絵柄１０Ｂのようになるとする。  この場合、設計データ上で、図形１の幅を測定するための寸法測定位置Ｐ１、Ｐ２を指定するが、対応する描画図形データ上のＢＯＸ１５の領域内に、主なる図形１の他に、これに接する図形９（ＪＯＧ図形である）を含むこととなり、結果、描画図形データ上の図形９の影響により、対応するフォトマスク上のＢＯＸ１５ａでの寸法測定は、なだらかな段差を含んだ部分を測定することとなり、正確な測定ができない。  また、フォトマスクに複数の図形が隣接する場合、測定対象外の図形と、ＢＯＸが干渉する場合には、寸法測定結果が期待した結果と異なる、又は測定できないこともあった。  例えば、図８（ａ）に示すように、描画図形データ上で図形２０Ａの幅を測定するための寸法測定位置Ｐ１、Ｐ２（設計データ上と同じ位置）が決められた場合、これに対応するフォトマスク上のＢＯＸ２５ａは、図８（ｂ）に示すように、図形２０Ａに対応するフォトマスク上の図形２０Ｂに隣接するフォトマスク上の図形２２ａ、２３ａに、その領域が重なる、即ち、ＢＯＸ２５ａはフォトマスク上の測定対象の図形以外の図形と干渉することとなり、図形のエッジを元に寸法測定を行う場合には、正確な寸法測定ができなくなる。  尚、対象がフォトマスクではないが、特開平５−２８２３８８号公報（特許文献２）には、寸法検査装置が記載されている。
【特許文献２】特開平５−２８２３８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のように、近年、フォトマスクにおける図形の微細化、高密度化は激しく、ＯＰＣが施されたＯＰＣマスクも作製されるようになってきているが、これらに伴い、フォトマスクの寸法測定時間の増大化、不正確な寸法測定の発生が問題になってきている。
本発明は、これに対応するもので、図形の微細化、測定箇所が増大しても、測定を効率良くフォトマスクの寸法検査を実施できる、更には、正確に寸法測定箇所を特定できる、フォトマスクの寸法検査機用のスクリプトを生成するスクリプト生成装置、スクリプト生成方法を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のスクリプト生成装置は、フォトマスク寸法検査機に寸法測定箇所を指定して寸法検査を行わせるためのスクリプトで、且つ、寸法測定対象のフォトマスクの各測定位置毎に、寸法測定領域を指定するための領域を表わすＢＯＸを対応させ、ＢＯＸ内において、目的とする寸法測定図形のエッジ位置を把握し、該図形の寸法測定を行うための、スクリプトを、フォトマスク製造のための描画用図形データを用いて、生成するスクリプト生成装置であって、前記スクリプトを、ＢＯＸの位置、範囲を指定するための測定箇所情報と測定長さ等の測定に必要な情報を含むリストである測定箇所リストと、該測定箇所情報の各測定箇所を正確に特定するためのパターンマッチング用の画像データとから生成するもので、検査対象のフォトマスクに対応する描画用図形データ、該描画用図形データに対応して生成されたスクリプト、該スクリプト形成用の、寸法測定箇所リストと該リストの各寸法測定箇所に対応したパターンマッチング用の画像データ等を、データとして蓄積しておく、第１の記憶手段と、処理対象の描画用図形データのファイル名、寸法測定箇所に対応した描画用図形データ上の位置を入力する入力手段と、前記第１の記憶手段から、入力手段により入力されたファイル名の、処理対象の描画用図形データの、指定されたデータ上の位置に対応する所定の範囲内の図形データを、処理対象部分図形データとして取り込む、描画用図形データ取得手段と、少なくとも該描画用図形データ取得手段により得られた処理対象部分図形データを、図形として表示する表示手段と、入力手段から入力された寸法測定位置に対応して、あるいは、表示手段に表示された処理対象部分図形データの、図形表示上で寸法測定位置を指定して得られた処理対象部分データ上の位置に対応して、寸法測定領域を指定するための領域を表わすＢＯＸの位置と領域情報と、測定幅に関する情報とを少なくとも含むＢＯＸに関する情報であるＢＯＸデータを生成するＢＯＸ生成手段と、前記ＢＯＸ生成手段により生成された各ＢＯＸデータに対応して、それぞれ、該描画用図形データ取得手段により得られた処理対象部分図形データから、ＢＯＸ位置付近の図形データを、前記表示手段あるいは他の表示手段の所定の複数の表示倍率に対応して、決められた所定の倍率毎に、ＢＯＸ近傍画像データとして、それぞれ、取り出す、ＢＯＸ近傍画像データ取得手段と、前記各ＢＯＸデータと、各ＢＯＸに対応した複数のＢＯＸ近傍画像データとを、それぞれ、対応付けて記憶させる、寸法測定情報記憶手段と、前記寸法測定情報記憶手段から、前記各ＢＯＸデータと、各ＢＯＸに対応した複数のＢＯＸ近傍画像データとを取り出し、これらから、ＢＯＸ毎に、前記ＢＯＸデータ内容と関連するコメントを列記した、測定箇所リストを、そして、該リストの各ＢＯＸに関連つけて、各ＢＯＸ毎に、前記複数の表示倍率に対応したＢＯＸ近傍画像データを列記したパターンマッチング用の画像データを、前記第１の記憶手段に、保存する、寸法測定情報保存手段と、前記ＢＯＸデータと、ＢＯＸ近傍画像データと、前記処理対象部分図形データとの、前記表示手段への表示を制御する、表示制御手段と、入力手段からの指示のもとに、前記第１の記憶手段から、所定の描画用図形データに対応する測定箇所リスト、パターンマッチング用の画像データの組みを取り出し、測定位置範囲を指定するための測定箇所情報と、各測定箇所を正確に特定するためのパターンマッチング用の画像データ情報とを含み、且つ、寸法測定を行う装置に対応した構造に、フォーマット変換して、寸法測定箇所特定用のスクリプトを生成し、更に、生成されたスクリプトを前記第１の記憶手段に保存する、フォーマット変換手段と、入力手段からの指示のもとに、各手段を関連付けて制御する制御手段とを、備えていることを特徴とするものである。
そして、上記のスクリプト生成装置であって、前記ＢＯＸ生成手段は、前記描画用図形データ取得手段から得られた、処理対象部分図形データを用いて、測定ＢＯＸが、寸法測定対象図形の隣接図形に干渉しないように、その幅、高さを、あるいは、その幅、高さ、位置を調整する、第１のＢＯＸ調整手段を備えていることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかのスクリプト生成装置であって、前記ＢＯＸ生成手段は、前記描画用図形データ取得手段から得られた、処理対象部分図形データを用いて、寸法測定対象図形のＪＯＧ図形が存在する場合には、ＪＯＧ図形の存在しない領域に測定ＢＯＸが収まるように、その幅、高さを、あるいは、その幅、高さ、位置を調整する第２のＢＯＸ調整手段を備えていることを特徴とするものである。
また、上記いずれかのスクリプト生成装置であって、前記描画用図形データは、ＯＰＣ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ  Ｃｏｒｒｅｃｔ、光近接効果補正とも言う）を施したもので、設計データのＯＰＣが施された図形には、補正用図形が該図形のＪＯＧ図形として付加されているものであることを特徴とするものである。
尚、ここでのスクリプトは、フォトマスク寸法検査機に寸法測定箇所を指定して寸法検査を行わせる寸法検査処理の手続きを意味し、コンピュータに処理させる手順をテキストを用いて記述するスクリプト言語、なしいしコンピュータに可読なバイナリ形式のデータのいずれかによって記載された手続きのことである。
また、描画用図形データは、描画装置に用いられる描画用図形データで、例えば、電子線を用いる電子線描画装置やレーザ光を用いるフォト描画装置等に用いられる描画用図形データがこれに当たるが、これらに限定はされない。
【０００７】
本発明のスクリプト生成方法は、フォトマスク寸法検査機に寸法測定箇所を指定して寸法検査を行わせるためのスクリプトで、且つ、寸法測定対象のフォトマスクの各測定位置毎に、寸法測定領域を指定するための領域を表わすＢＯＸを対応させ、ＢＯＸ内において、目的とする寸法測定図形のエッジ位置を把握し、該図形の寸法測定を行うための、スクリプトを、フォトマスク製造のための描画用図形データを用いて、生成するスクリプト生成方法であって、ＢＯＸの位置、範囲を指定するための測定箇所情報と測定長さ等の測定に必要な情報を含むリストである測定箇所リストと、該測定箇所情報の各測定箇所を正確に特定するためのパターンマッチング用の画像データとから、前記スクリプトを、生成するもので、前記パターンマッチング用の画像データとして、処理対象の描画用図形データから、各ＢＯＸ毎に、ＢＯＸ位置付近の図形データを、表示手段の所定の複数の表示倍率に対応して、決められた所定の倍率毎に、それぞれ、取り出したＢＯＸ近傍画像データの群を用いることを特徴とするものである。
そして、上記のスクリプト生成方法であって、各ＢＯＸ毎、それぞれ、前記処理対象の描画用図形データから得られたＢＯＸ位置付近の図形データを用いて、寸法測定対象図形の隣接図形に干渉しないように、その幅、高さを、あるいは、その幅、高さ、位置を調整していることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかのスクリプト生成方法であって、寸法測定対象図形のＪＯＧ図形が存在する場合には、各ＢＯＸ毎、それぞれ、前記処理対象の描画用図形データから得られたＢＯＸ位置付近の図形データを用いて、ＪＯＧ図形の存在しない領域に測定ＢＯＸが収まるように、その幅、高さを、あるいは、その幅、高さ、位置を調整していることを特徴とするものである。
【０００８】
（作用）
本発明のスクリプト生成装置は、このような構成にすることにより、図形の微細化、測定箇所が増大しても、測定を効率良くフォトマスクの寸法検査を実施できる、フォトマスク寸法検査機用のスクリプトを生成するスクリプト生成装置の提供を可能としている。
寸法検査機外で、描画データを用いて寸法検査機制御を行うスクリプト（イメージデータを含む）を予め作成しておくことができる。
具体的には、第１の記憶手段と、入力手段と、描画用図形データ取得手段と、表示手段と、ＢＯＸ生成手段と、ＢＯＸ近傍画像データ取得手段と、寸法測定情報記憶手段と、寸法測定情報保存手段と表示制御手段と、フォーマット変換手段と、制御手段とを、備えていることにより、これを達成している。
詳しくは、描画用図形データ取得手段を備えていることにより、第１の記憶手段から、入力手段により入力されたファイル名の、処理対象の描画用図形データの、指定されたデータ上の位置に対応する所定の範囲内の図形データを、処理対象部分データとして取り込むことを可能としている。
そして、表示手段を備えており、対象とする描画用図形データを用い、その部分データを表示させ、寸法測定箇所を特定することができるものとしている。
これにより、フォトマスクの寸法検査を実施する前に、寸法測定箇所を精確に特定することを可能としている。
また、ＢＯＸ近傍画像取得手段を備えていることにより、前記描画用図形データ取得手段により得られた図形データから、ＢＯＸ位置付近の図形データを、前記表示手段あるいは他の表示手段の所定の複数の表示倍率に対応して、決められた所定の倍率毎に、ＢＯＸ近傍画像データとし取得することを可能としている。
また、寸法測定情報記憶手段を備えていることにより、各ＢＯＸと、各ＢＯＸに対応した複数のＢＯＸ近傍画像データとを、それぞれ、対応付けて記憶させることができるものとしている。
また、寸法測定情報保存手段を備えていることにより、前記寸法測定情報記憶手段から、各ＢＯＸと、各ＢＯＸに対応した複数のＢＯＸ近傍画像データとを取り出し、測定箇所リストと、そして、各測定箇所に関連つけて、各測定箇所毎に、複数のＢＯＸ近傍画像データを備えたパターンマッチ画像データとを、第１の記憶手段に、蓄積保存することができるものとしている。
そして更に、フォーマット変換手段を備えていることにより、入力手段からの指示のもとに、第１の記憶手段から、所定の描画用図形データに対応する測定箇所リスト、パターンマッチ画像データの組みを取り出し、測定位置範囲を指定するための測定箇所情報と、各測定箇所を正確に特定するためのパターンマッチ画像データ情報とを含み、且つ、寸法測定を行う装置に対応した構造に、フォーマット変換して、寸法測定箇所特定用のスクリプトを生成し、更に、生成されたスクリプトを第１の記憶手段に保存することを可能としている。
特に、スクリプトは、寸法測定検査機によって異なる場合があるが、フォーマット変換手段を備えていることにより、スクリプトのデータ構造や書式が異なる各種の寸法測定検査機にも対応することを可能としている。
即ち、測定箇所リスト及びパターンマッチ画像データを元に、各種寸法測定装置に可読な形式のスクリプトファイルを出力し、各種寸法検査装置へ読み込ませることにより、フルオートないしセミオートにて寸法測定を実施することを可能としている。
そして、請求項２の発明の構成にすることにより、更には、請求項３の発明の構成にすることにより、図形の微細化、測定箇所が増大しても、正確に寸法測定箇所を特定できる、スクリプトを生成するスクリプト生成装置の提供を可能としている。
特に、前記描画用図形データは、ＯＰＣ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ  Ｃｏｒｒｅｃｔ、光近接効果補正とも言う）を施したもので、設計データのＯＰＣが施された図形には、補正用図形が該図形のＪＯＧ図形として付加されている請求項４の構成の場合には、有効である。
【０００９】
本発明のスクリプト生成方法は、このような構成にすることにより、図形の微細化、測定箇所が増大しても、測定を効率良くフォトマスクの寸法検査を実施できる、更には、正確に寸法測定箇所を特定できる、フォトマスク寸法検査機用のスクリプトを生成するスクリプト生成方法の提供を可能としている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、上記のように、図形の微細化、測定箇所が増大しても、測定を効率良くフォトマスクの寸法検査を実施できる、更には、正確に寸法測定箇所を特定できる、フォトマスク寸法検査機用のスクリプトを生成するスクリプト生成装置、およびスクリプト生成方法の提供を可能とした。
詳しくは、寸法検査機外にて検査スクリプトを作成することで寸法検査上でのオペレーションが簡略化できることから検査効率が向上する。
そして、ＪＯＧ等に起因する寸法測定結果への誤差混入が防げる。
これにより出来上がり寸法の要求精度との比較が正しく行われることとなる。
また、寸法検査機上の画像と、スクリプト画像のマッチングをとることにより、測定位置のアライメント調整を自動で行うことが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１は本発明のスクリプト生成装置の実施の形態の１例の機能構成とデータの流れを示した概略構成図で、図２は図１に示すスクリプト生成装置の動作の１例を示したフロー図で、図３はＢＯＸデータの生成における処理フローを示した図で、図４はＢＯＸデータの生成における処理フローを示した図で、図５（ａ）は測定箇所リストの書式を示した図で、図５（ｂ）は測定箇所リストの１例を示した図で、図６はイメージマッチ画像データの１例を示した図で、図７はＯＰＣ補正が施された場合において、従来の寸法測定と本発明の寸法測定を説明する概略図で、図８は、従来の寸法測定装置では図形の干渉が起こる場合において、本発明の装置を用いた場合には図形の干渉が起こさずに寸法測定できることを示した図である。
尚、図７（ａ）は設計データ上の絵柄１０を示し、図７（ｂ）、図７（ｄ）は描画データ上の絵柄１０Ａと対応するＢＯＸとを示し、図７（ｃ）、図７（ｅ）はフォトマスク上の絵柄１０Ｂと対応するＢＯＸとを示しており、また、図８（ａ）は描画データ上の絵柄を示し、図８（ｂ）はフォトマスク上の絵柄と対応するＢＯＸを示し、図８（ｃ）は描画データ上の絵柄と対応するＢＯＸとを示し、図８（ｄ）はフォトマスク上の絵柄と対応するＢＯＸとを示している。
また、図２中のＳ１１〜Ｓ１７、図３中のＳ２１〜Ｓ２７、図４中のＳ３１〜Ｓ３６は、それぞれ、処理ステップを表している。
図１、図７、図８中、１１０は第１の記憶手段（ここでは磁気ディスク）、１１１は描画用図形データ、１１５は測定箇所リスト、１１６はパターンマッチ画像データ、１１７はスクリプト、１２０は入力手段、１３０は制御部、１４０は描画用図形データ取得手段、１５０はＢＯＸ近傍画像取得手段、１６０は表示制御手段、１７０は表示手段、１９０は寸法測定情報記憶手段（第２の記憶手段ともいう）、２００は寸法測定情報保存手段、２１０はフォーマット変換手段、２５１は表示位置データ、２５２は処理対象部分図形データ、２５３はＢＯＸ近傍画像データ、２６１はＢＯＸ位置データ、２６２はＢＯＸデータ、１０設計データの絵柄、１０ＡはＯＰＣ補正後の絵柄、１０Ｂはマスク上での絵柄、１〜９は図形、１５、１５ａ、１６、１６ａはＢＯＸ、２０Ａは（描画用図形データ上の）寸法測定対象の図形、２０Ｂは（マスク上での）寸法測定対象の図形、２１〜２３は（描画用図形データ上の）図形、２１ａ〜２３ａは（マスク上での）図形、２５ａ、２６、２６ａはＢＯＸである。
【００１２】
はじめに、本発明のスクリプト生成装置の実施の形態の１例を図１に基づいて説明する。
本例のスクリプト生成装置は、フォトマスク寸法検査機に寸法測定箇所を指定して寸法検査を行わせるためのスクリプト１１７で、且つ、寸法測定対象のフォトマスクの各測定位置毎に、寸法測定領域を指定するための領域を表わすＢＯＸを対応させ、ＢＯＸ内において、目的とする寸法測定図形のエッジ位置を把握し、該図形の寸法測定を行うための、スクリプト１１７を、フォトマスク製造のための描画用図形データ１１１を用いて、生成するスクリプト生成装置で、ＢＯＸの位置、範囲を指定するための測定箇所情報と測定長さ等の測定に必要な情報を含むリストである測定箇所リスト１１５と、該測定箇所情報の各測定箇所を正確に特定するためのパターンマッチング用の画像データ１１６とを生成し、更に、これらを用い、フォトマスクを検査する寸法測定装置にあったフォーマットに変換した、検査用のスクリプト１１７を生成するものである。
そして、検査対象のフォトマスクに対応する描画用図形データ１１１、該描画用図形データ１１１に対応して生成されたスクリプト１１７、該スクリプト形成用の、寸法測定箇所リスト１１５と該リストの各寸法測定箇所に対応したパターンマッチング用のパターンマッチ画像データ１１６等を、データとして蓄積しておく、第１の記憶手段１１０と、処理対象の描画用図形データ１１１のファイル名、寸法測定箇所に対応した描画用図形データ１１１上の位置を入力する入力手段１２０と、前記第１の記憶手段１１０から、入力手段１２０により入力されたファイル名の、処理対象の描画用図形データ１１１の、指定されたデータ上の位置に対応する所定の範囲内の図形データを、処理対象部分図形データ２５２として取り込む、描画用図形データ取得手段１４０と、少なくとも該描画用図形データ取得手段により得られた処理対象部分図形データ２５２を、図形として表示する表示手段１７０と、入力手段１２０から入力された寸法測定位置に対応して、あるいは、表示手段１７０に表示された処理対象部分図形データの、図形表示上で寸法測定位置を指定して得られた処理対象部分データ２５２上の位置に対応して、寸法測定領域を表わすＢＯＸの位置と領域情報と、測定幅に関する情報とを少なくとも含むＢＯＸに関する情報であるＢＯＸデータ２６２を生成するＢＯＸ生成手段１８０と、前記ＢＯＸ生成手段１８０により生成された各ＢＯＸデータ２６２に対応して、それぞれ、該描画用図形データ取得手段１４０により得られた処理対象部分図形データ２５２から、ＢＯＸ位置付近の図形データを、前記表示手段１７０の所定の複数の表示倍率に対応して、決められた所定の倍率毎に、ＢＯＸ近傍画像データ２５３として、それぞれ、取り出す、ＢＯＸ近傍画像データ取得手段１５０と、前記各ＢＯＸデータ２６２と、各ＢＯＸに対応した複数のＢＯＸ近傍画像データ２５３とを、それぞれ、対応付けて記憶させる、寸法測定情報記憶手段１９０と、前記寸法測定情報記憶手段１９０から、前記各ＢＯＸデータ２６２と、各ＢＯＸに対応した複数のＢＯＸ近傍画像データ２５３とを取り出し、これらから、ＢＯＸ毎に、前記ＢＯＸデータ２６２内容と関連するコメントを列記した、測定箇所リスト１１５を、そして、該リストの各ＢＯＸに関連つけて、各ＢＯＸ毎に、前記複数の表示倍率に対応したＢＯＸ近傍画像データ２５３を列記したパターンマッチ画像データ１１６を、前記第１の記憶手段１１０に、保存する、寸法測定情報保存手段２００と、前記ＢＯＸデータ２６２と、ＢＯＸ近傍画像データ２５３と、前記処理対象部分図形データ２５２との、前記表示手段１７０への表示を制御する、表示制御手段１６０と、入力手段１２０からの指示のもとに、前記第１の記憶手段１１０から、所定の描画用図形データ１１１に対応する測定箇所リスト１１５、パターンマッチ画像データ１１６の組みを取り出し、測定位置範囲を指定するための測定箇所情報と、各測定箇所を正確に特定するためのパターンマッチ画像データ情報とを含み、且つ、寸法測定を行う装置に対応した構造に、フォーマット変換して、寸法測定箇所特定用のスクリプト１１７を生成し、更に、生成されたスクリプトを前記第１の記憶手段１１０に保存する、フォーマット変換手段２１０と、入力手段からの指示のもとに、各手段を関連付けて制御する制御手段１３０とを、備えている。
尚、寸法測定検査機においては、スクリプト１１７を用い、寸法測定対象のフォトマスクの各測定位置毎に、寸法測定領域をその領域として表わすＢＯＸを対応させ、ＢＯＸ内において、目的とする寸法測定図形のエッジ位置を把握し、該図形の寸法測定を行う。
【００１３】
本例のスクリプト生成装置における、ＢＯＸ生成手段１８０は、図示してはいないが、描画用図形データ取得手段１４０から得られた、処理対象部分図形データ２５２を用いて、測定ＢＯＸが、寸法測定対象図形の隣接図形に干渉しないように、その幅、高さ、位置を調整する、調整手段（第１のＢＯＸ調整手段とも言う）を備えている。
そしてまた、ＢＯＸ生成手段１８０は、図示してはいないが、描画用図形データ取得手段１４０から得られた、処理対象部分図形データ２５２を用いて、寸法測定対象図形のＪＯＧ図形が存在する場合には、ＪＯＧ図形の存在しない領域に測定ＢＯＸが収まるように、その幅、高さ、位置を調整する調整手段（第２のＢＯＸ調整手段とも言う）を備えている。
【００１４】
本例のスクリプト生成装置における図形の寸法測定処理の処理フローを、図２に基づいて、図１を参照にしながら簡単に説明する。
尚、これを以って、本発明のスクリプト生成方法の実施の形態の説明に代える。
先ず、入力手段１２０から、処理対象とする描画図形データ１１１のファイル名を指定し、表示位置を指定する。（Ｓ１１）
次いで、描画図形データ取得手段１４０は、制御部１３０の管理下で、表示位置データを受け取り、表示位置データに対応した、描画図形データ１１１の図形データを第１の記憶手段１１０から取り出す。（Ｓ１２）
取り出した図形データが処理対象部分図形データ２５２である。
次いで、表示制御手段１６０の管理の下、表示手段１７０に処理対象部分図形データ２５２を表示し、寸法測定箇所の位置を２点（図７、図８のＰ１、Ｐ２に相当）を決める。（Ｓ１３）
このようにして、表示手段１７０により決められた位置２点Ｐ１、Ｐ２の位置座標がＢＯＸ位置データ２６１である。
制御部１３０は、入力手段１２０から得られる第１の記憶手段（磁気ディスク）１１０上のファイル名を元に、実際に製造されるフォトマスクに対応する描画図形データ上の絵柄を表示手段１７０に表示する。
描画用図形データ取得手段１４０においてデータの表示位置を変更する場合は、入力手段１２０のマウスないしキーボードからの座標指定に従う。
所望の寸法検査箇所を拡大、縮小表示しながら得ることもできる。
【００１５】
次いで、ＢＯＸ位置データ２６１に基づき、寸法測定の位置領域を表すＢＯＸを発生するが、この際、処理対象部分図形データ２５２を用いて、測定対象とする図形以外の図形との干渉がないように、また、寸法測定の精度がＪＯＧ図形に影響を受けないように、ＢＯＸのサイズや位置を調整する。（Ｓ１４）
この調整は、先に述べた第１のＢＯＸ調整手段、第２のＢＯＸ調整手段にて行う。
第１のＢＯＸ調整手段の処理の１例を図３に基づいて簡単に説明しておく。
ここでは、測定対象の図形に接するＪＯＧ図形はない場合である。
上記のようにして、ＢＯＸ位置が決められ（Ｓ２１）、ＢＯＸ位置データがＢＯＸ生成手段１８０に与えられると、ＢＯＸ生成手段１８０は、Ｐ１、Ｐ２の座標に対応して、ＢＯＸとして位置（ここでは、ＢＯＸの中心位置Ｘ１、Ｙ１のこと）、所定の幅Ｗ１、高さＨ１の四角状領域を仮のＢＯＸ（仮ＢＯＸともいう）として設定する。（Ｓ２２）
次いで、仮のＢＯＸが、処理対象の図形以外の図形と干渉があるか否かをチェックし、否である場合には、仮のＢＯＸをそのまま、正規のＢＯＸとし、正規のＢＯＸの位置（Ｘ０、Ｙ０）、幅Ｗ０、高さＨ０をＢＯＸデータとして保存し（Ｓ２３、Ｓ２５）、また、干渉がある場合には、仮のＢＯＸの幅、高さを調整と、位置ずらしとを行い、干渉が無くなるまでこの調整を行う。（Ｓ２４）
そして、調整後の仮のＢＯＸを正規のＢＯＸとする。（Ｓ２３、Ｓ２４、Ｓ２５）
即ち、調整された後の仮のＢＯＸの位置（Ｘ２、Ｙ２）、幅Ｗ２、高さＨ２を、それぞれ、正規のＢＯＸの位置（Ｘ０、Ｙ０）、幅Ｗ０、高さＨ０とする。
また、第２のＢＯＸ調整手段の処理の１例を図４に基づいて簡単に説明しておく。
ここでは、仮のＢＯＸが測定対象の図形以外の図形と干渉しない場合である。
同様に、ＢＯＸ位置が決められ（Ｓ３１）、ＢＯＸ位置データがＢＯＸ生成手段１８０に与えられると、ＢＯＸ生成手段１８０は、Ｐ１、Ｐ２の座標に対応して、ＢＯＸとして位置（ここでは、ＢＯＸのセンター位置Ｘ１、Ｙ１のこと）、所定の幅Ｗ１、高さＨ１の四角状領域を仮のＢＯＸ（仮ＢＯＸともいう）として設定する。（Ｓ３２）
次いで、仮のＢＯＸが、処理対象の図形に接するＪＯＧ図形があるか否かをチェックし、否である場合には、仮のＢＯＸをそのまま、正規のＢＯＸとし、正規のＢＯＸの位置（Ｘ０、Ｙ０）、幅Ｗ０、高さＨ０をＢＯＸデータとして保存し（Ｓ３３、Ｓ３５）、また、処理対象の図形に接するＪＯＧ図形がある場合には、仮のＢＯＸの幅、高さを調整と、位置ずらしとを行い、接するＪＯＧ図形の影響が測定の精度に影響しないようにする。（Ｓ２４）
そして、調整後の仮のＢＯＸを正規のＢＯＸとする。（Ｓ２３、Ｓ２４、Ｓ２５）
即ち、調整された後の仮のＢＯＸの位置（Ｘ２、Ｙ２）、幅Ｗ２、高さＨ２を、それぞれ、正規のＢＯＸの位置（Ｘ０、Ｙ０）、幅Ｗ０、高さＨ０とする。
尚、測定対象の図形に接するＪＯＧ図形があり、且つ、仮のＢＯＸが測定対象の図形以外の図形と干渉する場合については、先に述べた第１の調整手段による処理と、第２の調整手段による処理とを併用する。
このようにして得られたＢＯＸの位置、幅、高さのデータと、必要に応じて付加した情報とをＢＯＸデータ２６２という。
尚、ＢＯＸデータ２６２としては、ＢＯＸの中心位置（Ｘ、Ｙ）、幅Ｗ、高さＨの他に、寸法測定の際の測定長さＬ、ＢＯＸの角度θ、ＰＮ判定を入れておく。
ＰＮ判定は、ＢＯＸ内に図形があればＰＯＳＩ、なければＮＥＧＡとするものです。
【００１６】
次いで、ＢＯＸデータ２６２と、処理対象部分図形データ２５２とから、表示倍率に対応したＢＯＸ近傍画像データ２５３を、倍率毎に作成しておく。（Ｓ１５）
そして、ＢＯＸデータ２６２とＢＯＸ近傍画像データ２５３とを、関連付けて、寸法測定情報記憶手段１９０に保管する。（Ｓ１６）
更に、寸法測定情報保存手段２００により、寸法測定情報記憶手段１９０の、ＢＯＸデータ２６２とＢＯＸ近傍画像データ２５３とから、測定箇所リスト１１５とパターンマッチ画像データ１１６とを作成し、第１の記憶手段１１０に保管する。（Ｓ１７）
これにより、スプリプトを生成するための準備が完了する。
測定箇所リスト１１５の書式としては、図５（ａ）に示すようなものが挙げられ、１例としては、図５（ｂ）のように表現される。
尚、ＣＤは幅測定を意味し、ＣＤ欄にＢＯＸの位置、範囲を指定するための測定箇所情報と測定長さ等の測定に必要な情報を含む。
測定は、幅測定に限定されない。
ＩＭＦは、パターンマッチング用の画像データ（ＢＯＸ近傍画像データ２５３に相当）を意味し、ＩＭＦ欄に画像データの位置、倍率等が含まれる。
また、パターンマッチ画像データ１１６としては、例えば、図６に示すように表現される。
この場合、各列は、画像のＸピクセル数、画像のＹピクセル数、２値のビットマップ画像を１６進での表現からなる。
【００１７】
そして、測定箇所リスト１１５とパターンマッチ画像データ１１６とから、寸法測定を行う検査機に対応したフォーマットに変換して、該検査機において寸法検査を行わせるためのスクリプト１１７を生成する。（Ｓ１８）
スクリプト１１７の書式、データ構造は使用す検査機に合わせる。
このようにして、スクリプト１１７が生成される。
【００１８】
本例のスクリプト発生装置においては、上記のように、表示手段１７０から、ＢＯＸ位置データ２６１を決めていたが、これに限定はされない。
入力手段１２０から直接入力してＢＯＸ位置データとしても良い。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明のスクリプト生成装置の実施の形態の１例の機能構成とデータの流れを示した概略構成図である。
【図２】図１に示すスクリプト生成装置の動作の１例を示したフロー図である。
【図３】ＢＯＸデータの生成における処理フローを示した図である。
【図４】ＢＯＸデータの生成における処理フローを示した図である。
【図５】図５（ａ）は測定箇所リストの書式を示した図で、図５（ｂ）は測定箇所リストの１例を示した図である。
【図６】イメージマッチ画像データの１例を示した図である。
【図７】ＯＰＣ補正が施された場合において、従来の寸法測定と本発明の寸法測定を説明する概略図である。
【図８】従来の寸法測定装置では図形の干渉が起こる場合において、本発明の装置を用いた場合には図形の干渉が起こさずに寸法測定できることを示した図である。
【符号の説明】
【００２０】
１１０            第１の記憶手段（ここでは磁気ディスク）
１１１            描画用図形データ
１１５            測定箇所リスト
１１６            パターンマッチ画像データ
１１７            スクリプト
１２０            入力手段
１３０            制御部
１４０            描画用図形データ取得手段
１５０            ＢＯＸ近傍画像取得手段
１６０            表示制御手段
１７０            表示手段
１９０            寸法測定情報記憶手段（第２の記憶手段ともいう）
２００            寸法測定情報保存手段
２１０            フォーマット変換手段
２５１            表示位置データ
２５２            処理対象部分図形データ
２５３            ＢＯＸ近傍画像データ
２６１            ＢＯＸ位置データ
２６２            ＢＯＸデータ
１０              設計データの絵柄
１０Ａ            ＯＰＣ補正後の絵柄
１０Ｂ            マスク上での絵柄
１〜９            図形
１５、１５ａ、１６、１６ａ    ＢＯＸ
２０Ａ          （描画用図形データ上の）寸法測定対象の図形
２０Ｂ          （マスク上での）寸法測定対象の図形
２１〜２３      （描画用図形データ上の）図形
２１ａ〜２３ａ  （マスク上での）図形
２５ａ、２６、２６ａ    ＢＯＸ
【図１】
2006292873.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2006292873.tif 000008
【図７】
2006292873.tif 000009
【図８】
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