(57)【要約】【課題】  可視光領域全体にわたって透過率が高く、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）のフェースプレート中のＮａ+ 等のアルカリ金属イオンのマイグレーションを抑え、かつ生産性のよいＦＥＤ用反射防止フィルム、および視認性が良く、フェースプレート中のＮａ+ 等のアルカリ金属イオンのマイグレーションが抑えられたＦＥＤ装置を提供する。【解決手段】  基材１０の一方の面に反射防止層２０が設けられ、他方の面に導電層３０が設けられたＦＥＤ用反射防止フィルム１であって、前記導電層３０の表面抵抗値が１０4 〜１０11Ω／□であり、ＦＥＤ用反射防止フィルム１の視感透過率が９０％以上であるＦＥＤ用反射防止フィルム１を用いる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の一方の面に反射防止層が設けられ、他方の面に導電層が設けられたフィールドエミッションディスプレイ用反射防止フィルムであって、
前記導電層の表面抵抗値が１０4 〜１０11Ω／□であり、反射防止フィルムの視感透過率が９０％以上であるフィールドエミッションディスプレイ用反射防止フィルム。
【請求項２】
前記導電層が、ＳｎＯ2 とＩｎ2 Ｏ3 とからなり、かつＳｎを、ＳｎとＩｎとの合計（１００原子％）中３０〜５０原子％含有する層、またはＧａ2 Ｏ3 、Ｉｎ2 Ｏ3 およびＳｎＯ2 とからなり、Ｇａを、ＧａとＩｎとＳｎとの合計（１００原子％）中２〜１５原子％含有し、Ｉｎを、ＧａとＩｎとＳｎとの合計（１００原子％）中２〜１５原子％含有する層である、請求項１に記載のフィールドエミッションディスプレイ用反射防止フィルム。
【請求項３】
前記反射防止層が、基材側から順に、屈折率が１．７〜２．２であり、表面抵抗値が１０4 〜１０11Ω／□である第１の酸化物層と、屈折率が１．６以下である第２の酸化物層と、Ｉｎ2 Ｏ3 とＣｅＯ2 との混合物を９０質量％以上含む第３の酸化物層と、屈折率が１．６以下である第４の酸化物層とから構成される層である、請求項１または請求項２に記載のフィールドエミッションディスプレイ用反射防止フィルム。
【請求項４】
フィールドエミッションディスプレイ本体と、
該フィールドエミッションディスプレ本体の視認側に直接貼り付けられた請求項１〜３のいずれか一項に記載のフィールドエミッションディスプレイ用反射防止フィルムと
を有するフィールドエミッションディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィールドエミッションディスプレイ用反射防止フィルムおよびフィールドエミッションディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
次世代の薄型ディスプレイ装置として、フィールドエミッションディスプレイ（以下、ＦＥＤと記す。）が注目されている。該ＦＥＤは、ガラス製の素子基板と、該素子基板から離間して配置されたガラス製のフェースプレートと、素子基板の内面に配置された複数の電子銃と、フェースプレートの内面に形成された蛍光体層およびメタルバックとから構成される。電子銃から出力された電子ビームは、高電圧が印可されたメタルバックに照射され、蛍光体を励起させ、発光させる。蛍光体の発光により、フェースプレートの外面に画像が表示される。
【０００３】
該ＦＥＤにおいては、フェースプレートの内面のメタルバックに高電圧が印可されると、ガラス内のＮａ+ 等のアルカリ金属イオンがフェースプレートの内面から外面に向かって移動すること（マイグレーション）が知られている。そして、フェースプレートの外面にＮａ+ 等のアルカリ金属イオンが析出することにより、（ｉ）フェースプレートの外面が粗面化する、（ii）析出したＮａ+ が空気中の水分と反応して水酸化物となり、フェースプレートの外面が浸食されるため白濁するという問題が生じる。
【０００４】
この問題を解決するために、フェースプレートの外面に設けられる保護板に、電位規定層と呼ばれる、導電性材料からなる導電層を設けることが提案されている（特許文献１の段落［０１１７］〜［０１３０］）。該保護板は、基材の一方の表面に、反射防止および帯電防止の機能を兼ね備えた帯電防止層が設けられ、基材の他方の面に、複数の開口部を有するカーボンペーストからなる導電層が設けられている。
【０００５】
しかし、最近では、（ｉ）可視光領域全体にわたって保護板の透過率をさらに向上させる、（ii）保護板の生産性をさらに向上させる、という要求が高まっている。
【特許文献１】特開２０００−２３５８３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
これら要求に応えるために、カーボンペーストの代わりに、Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 （ＩＴＯ）等の透明金属酸化物層を設けることが考えられる。しかし、通常のＩＴＯは、保護板をフェースプレートに貼り付けるために用いられる粘着剤に対する耐性（耐薬品性）が低いため、透明金属酸化物層が粘着剤に侵されることによりその抵抗値が変わり、結果、電位規定層としての機能を満足できなくなり、Ｎａ+ 等のアルカリ金属イオンのマイグレーションを抑えられないという問題がある。
【０００７】
よって、本発明の目的は、可視光領域全体にわたって透過率が高く、ＦＥＤのフェースプレート中のＮａ+ 等のアルカリ金属イオンのマイグレーションを抑え、かつ生産性のよいＦＥＤ用反射防止フィルム、および視認性が良く、フェースプレート中のＮａ+ 等のアルカリ金属イオンのマイグレーションが抑えられたＦＥＤ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のＦＥＤ用反射防止フィルムは、基材の一方の面に反射防止層が設けられ、他方の面に導電層が設けられたＦＥＤ用反射防止フィルムであって、前記導電層の表面抵抗値が１０4 〜１０11Ω／□であり、反射防止フィルムの視感透過率が９０％以上であることを特徴とする。
前記導電層は、ＳｎＯ2 とＩｎ2 Ｏ3 とからなり、かつＳｎを、ＳｎとＩｎとの合計（１００原子％）中３０〜５０原子％含有する層、またはＧａ2 Ｏ3 、Ｉｎ2 Ｏ3 およびＳｎＯ2 とからなり、Ｇａを、ＧａとＩｎとＳｎとの合計（１００原子％）中２〜１５原子％含有し、Ｉｎを、ＧａとＩｎとＳｎとの合計（１００原子％）中２〜１５原子％含有する層であることが好ましい。
【０００９】
前記反射防止層は、基材側から順に、屈折率が１．７〜２．２であり、表面抵抗値が１０4 〜１０11Ω／□である第１の酸化物層と、屈折率が１．６以下である第２の酸化物層と、Ｉｎ2 Ｏ3 とＣｅＯ2 との混合物を９０質量％以上含む第３の酸化物層と、屈折率が１．６以下である第４の酸化物層とから構成される層であることが好ましい。
本発明のＦＥＤ装置は、ＦＥＤ本体と、該ＦＥＤ本体の視認側に直接貼り付けられた本発明のＦＥＤ用反射防止フィルムとを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のＦＥＤ用反射防止フィルムは、可視光領域全体にわたって透過率が高く、ＦＥＤのフェースプレート中のＮａ+ 等のアルカリ金属イオンのマイグレーションを抑え、かつ生産性がよい。
本発明のＦＥＤ装置は、視認性が良く、フェースプレート中のＮａ+ 等のアルカリ金属イオンのマイグレーションが抑えられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
＜ＦＥＤ用反射防止フィルム＞
図１は、本発明のＦＥＤ用反射防止フィルムの一例を示す概略断面図である。該ＦＥＤ用反射防止フィルム１は、基材１０と、基材１０の一方の面に設けられた透明な反射防止層２０と、基材１０の他方の面に設けられた透明な導電層３０と、導電層３０上に設けられた粘着剤層４０とを有して構成される。
ＦＥＤ用反射防止フィルム１の視感透過率は、９０％以上であることが必要であり、これにより、可視光透過性に優れたものとなる。本発明における視感透過率は、ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１の規定に則り測定する。
【００１２】
（基材）
基材１０は、平滑で、可視光領域の波長の光を透過し得るプラスチックフィルムであればよい。
プラスチックとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。
基材１０の厚さは、用途に応じて適宜選定され、５０〜２００μｍが好ましい。基材１０は、単一の層で構成されていてもよく、複数の層からなる積層体であってもよい。
【００１３】
（反射防止層）
本発明における反射防止層としては、適宜必要に応じて従来より公知の反射防止層を適用できる。反射防止層２０としては、基材１０側から、第１の酸化物層２１と、第２の酸化物層２２と、第３の酸化物層２３と、第４の酸化物層２４とから構成され、帯電防止および反射防止の機能を兼ね備えた層が好ましい。
【００１４】
第１の酸化物層２１は、屈折率が１．７〜２．２であり、かつ表面抵抗値が１０4 〜１０11Ω／□である層であればよい。第１の酸化物層２１を設けることにより、高い導電性による帯電防止性、電磁波遮断性が発揮される。また、第１の酸化物層２１は、屈折率が１．７以上であるため、高屈折率層としての役割も果たす。また、屈折率が２．２以下であるため、低反射膜として適度な特性を有する。本発明における「屈折率」は、波長５５０ｎｍの光における屈折率である。
【００１５】
第１の酸化物層２１としては、たとえば、Ｉｎ2 Ｏ3 （酸化インジウム）とＳｎＯ2 （酸化スズ）との混合物（以下、ＩＴＯと記す。）からなり、かつＳｎを、ＳｎとＩｎとの合計（１００原子％）中５〜２０原子％含有する層、ＳｎＯ2 からなる層、ＺｎＯ（酸化亜鉛）とＡｌ2 Ｏ3 （酸化アルミニウム）との混合物（以下、ＡＺＯと記す。）からなり、かつＡｌを、ＡｌとＺｎとの合計（１００原子％）中２〜１０原子％含有する層等が挙げられる。
【００１６】
ＩＴＯ層には、物性を損なわない範囲で、ＳｎおよびＩｎ以外の、他の金属が酸化物として適宜必要に応じて含まれていてもよい。たとえば、Ｇａ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ等が含まれていてもよい。
ＳｎＯ2 層には、物性を損なわない範囲で、Ｓｎ以外の、他の金属が酸化物として適宜必要に応じて含まれていてもよい。たとえば、Ｉｎ、Ｇａ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ等が含まれていてもよい。
ＡＺＯ層には、物性を損なわない範囲で、ＡｌおよびＺｎ以外の、他の金属が酸化物として適宜必要に応じて含まれていてもよい。たとえば、Ｉｎ、Ｇａ、Ｓｉ、Ｍｇ等が含まれていてもよい。
【００１７】
第１の酸化物層２１の物理的膜厚（以下、単に「膜厚」と記す。）は、３０ｎｍ以下が好ましく、１０〜２０ｎｍが特に好ましい。本発明における「膜厚」は、触針式表面粗さ測定機により測定される膜厚である。
【００１８】
第２の酸化物層２２および第４の酸化物層２４は、屈折率が１．６以下の低屈折率層である。
第２の酸化物層２２および第４の酸化物層２４としては、例えば、ＳｉＯ2 （二酸化ケイ素）からなる層等が挙げられる。
第２の酸化物層２２および第４の酸化物層２４には、物性を損なわない範囲で、Ｓｉ以外の、他の金属が酸化物として適宜必要に応じて含まれていてもよい。たとえば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇａ、Ａｌ、Ｍｇ等が含まれていてもよい。
【００１９】
第２の酸化物層２２の膜厚は、２０〜４０ｎｍが好ましく、２５〜３５ｎｍがより好ましい。
第４の酸化物層２４の膜厚は、８０〜１００ｎｍが好ましく、８５〜９５ｎｍがより好ましい。
【００２０】
第３の酸化物層２３は、Ｉｎ2 Ｏ3 とＣｅＯ2 （酸化セリウム）との混合物（以下、ＩＣＯと記す。）を、第３の酸化物層２３（１００質量％）中に９０質量％以上含む層である。第３の酸化物層２３は、ＩＣＯを９５質量％以上含むことが好ましく、ＩＣＯのみからなる層が最も好ましい。また、第３の酸化物層２３は、Ｃｅを、ＣｅとＩｎとの合計（１００原子％）中１０〜３０原子％含有することが好ましい。
第３の酸化物層２３には、物性を損なわない範囲で、ＣｅおよびＩｎ以外の、他の金属が酸化物として適宜必要に応じて含まれていてもよい。たとえば、Ｓｎ、Ｇａ、Ａｌ、Ｍｇ等が含まれていてもよく、Ｓｎを含むことが好ましい。
【００２１】
第３の酸化物層２３の屈折率は、１．７〜２．５が好ましく、２〜２．３がより好ましい。第３の酸化物層２３は、高屈折率層としての役割を果たす。第３の酸化物層２３がＩＣＯを９０質量％以上含むことにより、４２０〜４５０ｎｍの波長領域について高い透過率を得ることができ、また、高い耐水性を得ることができる。
【００２２】
第３の酸化物層２３の膜厚は、１１０〜１５０ｎｍが好ましく、１２０〜１４０ｎｍがより好ましい。
各酸化物層の形成方法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタ法、イオンプレート法等の物理気相析出法；プラズマＣＶＤ法等の化学気相析出法等が挙げられる。大面積で均一膜厚が得られやすい理由からスパッタ法が特に好ましい。
【００２３】
ＦＥＤ用反射防止フィルム１の反射防止層２０の表面抵抗値は、１０4 〜１０11Ω／□が好ましい。放電の発生を抑える点から、１０4 Ω／□以上が好ましく、帯電防止性の点から、１０11Ω／□以下が好ましい。
【００２４】
（導電層）
導電層３０は、表面抵抗値が１０4 〜１０11Ω／□である。これにより、フェースプレート中のＮａ+ 等のアルカリ金属イオンのマイグレーションを抑制できる。
【００２５】
導電層３０は、ＳｎＯ2 とＩｎ2 Ｏ3 とからなり、かつＳｎを、ＳｎとＩｎとの合計（１００原子％）中３０〜５０原子％（好ましくは３０〜４５原子％）含有する層（以下、本ＩＴＯ層と記す。）、またはＧａ2 Ｏ3 、Ｉｎ2 Ｏ3 およびＳｎＯ2 とからなり、Ｇａを、ＧａとＩｎとＳｎとの合計（１００原子％）中２〜１５原子％含有し、Ｉｎを、ＧａとＩｎとＳｎとの合計（１００原子％）中２〜１５原子％含有する層（以下、ＧＩＴ層と記す。）である。導電層３０が、本ＩＴＯ層またはＧＩＴ層であることにより、電位規定層としての機能を十分に発揮でき、ＦＥＤのフェースプレートにおけるマイグレーションを抑えることができる。
【００２６】
本ＩＴＯ層におけるＳｎの比率、またはＧＩＴ層におけるＧａおよびＩｎの比率をこの範囲内とすることにより、可視光透過率を維持しつつ、本ＩＴＯ層またはＧＩＴ層が充分な耐薬品性を有するようになって粘着剤に侵されにくくなり、結果、電位規定層としての機能が長期間低下することがなく、ＦＥＤのフェースプレートにおけるマイグレーションが長期間抑えられる。また、耐薬品性を有するため、粘着剤に侵されにくくなり、結果、透過率の低下が抑えられる。また、本ＩＴＯ層におけるＳｎの比率、またはＧＩＴ層におけるＧａおよびＩｎの比率をこの範囲内とすることにより、ガスバリア性が高くなり、水分の透過が抑えられ、結果、ＦＥＤのフェースプレートにおけるＮａ+ 等のアルカリ金属イオンのマイグレーションがさらに抑えられる。
【００２７】
本ＩＴＯ層には、物性を損なわない範囲で、ＳｎおよびＩｎ以外の、他の金属が酸化物として適宜必要に応じて含まれていてもよい。たとえば、Ｇａ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ等が含まれていてもよい。
【００２８】
ＧＩＴ層には、物性を損なわない範囲で、Ｇａ、ＩｎおよびＳｎ以外の、他の金属が酸化物として適宜必要に応じて含まれていてもよい。たとえば、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ等が含まれていてもよい。
【００２９】
導電層３０の膜厚は、５〜２０ｎｍが好ましく、５〜１０ｎｍが特に好ましい。
導電層３０の形成方法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタ法、イオンプレート法等の物理気相析出法；プラズマＣＶＤ法等の化学気相析出法等が挙げられる。大面積で均一膜厚が得られやすい理由からスパッタ法が特に好ましい。
【００３０】
（粘着剤層）
粘着剤層４０は、ＦＥＤ用反射防止フィルム１をＦＥＤのフェースプレートの外面に貼り付けるための層である。
粘着剤としては、公知の粘着剤をもちいればよい。リペア性（ＦＥＤ用反射防止フィルム１をフェースプレートに貼り付け後、ＦＥＤ用反射防止フィルム１を剥がし、再度、ＦＥＤ用反射防止フィルム１をフェースプレートに貼り直すといった、貼り直し作業の容易性）のためには、ＦＥＤ用反射防止フィルム１をフェースプレートに貼り付けてから７日以内は粘着力が低く、１４日以降に粘着力が高くなる粘着剤が好ましい。
【００３１】
以上説明したＦＥＤ用反射防止フィルム１にあっては、導電層３０が、特定のＩＴＯ層またはＧＩＴ層であるため、可視光透過率を維持しつつ、導電層３０が充分な耐薬品性を有するようになって粘着剤に侵されにくくなる。結果、電位規定層としての機能が長期間低下することがないため、ＦＥＤのフェースプレートにおけるマイグレーションが抑えられる。また、透過率の低下が抑えられる。
また、導電層３０が、金属酸化物からなる層であるため、従来のカーボンペーストからなる層に比べて形成しやすく、生産性がよい。また、可視光透過率も高い。
【００３２】
（他の形態）
本発明のＦＥＤ用反射防止フィルムにおける反射防止層は、図示例の４層構造のものに限定はされず、反射防止および帯電防止の機能を兼ね備えた層であればよい。
【００３３】
本発明のＦＥＤ用反射防止フィルムは、反射防止層２０を保護し、防汚染性能を高めるために、反射防止層２０上に防汚層を設けてもよい。防汚層を設けることにより、反射防止層２０の機能が阻害されることなく、また、最表面に指紋等の汚れがついた場合に容易に拭き取れる。
防汚層としては、パーフルオロシラン、フルオロカーボン等を含む撥油性の膜が好ましい。
【００３４】
防汚層の形成方法としては、適宜必要に応じて蒸着法、スパッタ法、塗布乾燥法等が挙げられる。
防汚層の膜厚は、２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
【００３５】
本発明のＦＥＤ用反射防止フィルムは、基材１０と反射防止層２０との間に、ＦＥＤ用反射防止フィルム１に所望の硬さを付与するため、ハードコート層を有していてもよい。
ハードコート層としては、透明性があり、基材１０の屈折率と等しいか、または、基材１０の屈折率に対し±０．１以内の屈折率である材料が好ましい。ハードコート層の材料としては、紫外線硬化型のアクリル樹脂、シリコーン樹脂、または、これらに添加剤を含有させたもの等が挙げられる。
【００３６】
ハードコート層の形成方法としては、バーコート法、ドクターブレード法、リバースロールコート法、グラビアロールコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
ハードコート層の膜厚は、１０μｍ以下が好ましい。
【００３７】
さらに、基材１０と第１の酸化物層２１との間、各酸化物層間の全部または一部に、成膜時の酸化を防ぎ、密着性を向上させるため、酸化バリア層を設けてもよい。
酸化バリア層は、その下に形成されている別の層の酸化を防ぐために形成される薄膜であり、光学的には意味を持たないものである。酸化バリア層としては、各種の金属または窒化シリコン等の金属窒化物が挙げられる。
【００３８】
酸化バリア層の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。
酸化バリア層の膜厚は、５ｎｍ以下が好ましい。
【００３９】
＜ＦＥＤ装置＞
本発明のＦＥＤ装置は、ＦＥＤ本体と、該ＦＥＤ本体の視認側に直接貼り付けられた本発明のＦＥＤ用反射防止フィルムとを有するものである。これにより、フェースプレート中のＮａ+ 等のアルカリ金属イオンのマイグレーションを抑制でき、白濁化することなく、視認性のよいＦＥＤ装置が得られる。
【００４０】
ＦＥＤ本体は、例えば、ガラス製の素子基板と、該素子基板から離間して配置されたガラス製のフェースプレートと、素子基板の内面に配置された複数の電子銃と、フェースプレートの内面に形成された蛍光体層およびメタルバックとから構成される。ＦＥＤ用反射防止フィルムは、フェースプレートの外面に、粘着剤層を介して貼り付けられる。
【実施例】
【００４１】
〔実施例１〕
（導電層）
まず、イオンビームによる乾式洗浄によって、基材１０である縦横５０ｃｍ、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム表面の洗浄を行った。イオンビームによる乾式洗浄は、約７０体積％のアルゴンガスと約３０体積％の酸素ガスとの混合ガスをスパッタリング装置内に導入し、１００Ｗの電力が投入されたイオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基材１０表面に照射して行った。
【００４２】
７．５体積％の酸素ガスと９２．５体積％のアルゴンガスとの混合ガスをマグネトロンスパッタリング装置に導入しながら、Ｉｎ2 Ｏ3 およびＳｎＯ2 の混合ターゲット［Ｉｎ2 Ｏ3 ：ＳｎＯ2 ＝６０：４０（質量比）］を用い、圧力０．１５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、基材１０表面に厚さ１０ｎｍの導電層３０を形成した。電子プローブマイクロアナライザー（ＥＰＭＡ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｐｒｏｂｅ  Ｍｉｃｒｏ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）で測定したところ、導電層３０において、ＳｎとＩｎとの合計（１００原子％）中、Ｓｎは３７．４原子％、Ｉｎは６２．６原子％であった。
【００４３】
導電層４０の表面抵抗値を、アドバンテスト社製、デジタル超高抵抗計Ｒ８３４０によりＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠して測定した結果、５.０×１０5 Ω／□であった。また、東京電色社製、カラーアナライザーＴＣ１８００により導電層３０側から測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は８９.５４％であった。導電層を有するフィルムの透過スペクトルを図２に示す。
【００４４】
（反射防止層）
ついで、導電層３０が設けられた面とは反対側の基材１０の表面に反射防止層２０を形成した。
まず、イオンビームによる乾式洗浄によって、基材１０表面の洗浄を行った。イオンビームによる乾式洗浄は、６７体積％のアルゴンガスと３３体積％の酸素ガスとの混合ガスをスパッタリング装置内に導入し、１００Ｗの電力が投入されたイオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基材１０表面に照射して行った。
【００４５】
２体積％の酸素ガスと９８体積％のアルゴンガスとの混合ガスをマグネトロンスパッタリング装置に導入しながら、ＩＴＯターゲット［Ｉｎ2 Ｏ3 ：ＳｎＯ2 ＝９０：１０（質量比）］を用い、圧力０．３５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１．０μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、基材１０表面に厚さ２０ｎｍの第１の酸化物層２１（屈折率＝２．０）を形成した。
【００４６】
４０体積％の酸素ガスと６０体積％のアルゴンガスとの混合ガスをマグネトロンスパッタリング装置に導入しながら、ＳｉＣ（炭化ケイ素）ターゲット（旭硝子セラミックス社製、商品名：ＳＣ）を用い、圧力０．３５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度３．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅４．５μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、第１の酸化物層２１表面にＳｉＯ2 からなる厚さ３０ｎｍの第２の酸化物層２２（屈折率＝１．４７）を形成した。
【００４７】
１体積％の酸素ガスと９９体積％のアルゴンガスとの混合ガスをマグネトロンスパッタリング装置に導入しながら、ＩＣＯターゲット［Ｉｎ2 Ｏ3 ：ＣｅＯ2 ＝７０：３０（質量比）］を用い、圧力０．３５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度３．６Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１．０μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、第２の酸化物層２２表面に厚さ１２５ｎｍの第３の酸化物層２３（屈折率＝２．２）を形成した。
【００４８】
４０体積％の酸素ガスと６０体積％のアルゴンガスとの混合ガスをマグネトロンスパッタリング装置に導入しながら、多結晶シリコンターゲットを用い、圧力０．２５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅４．５μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、第３の酸化物層２３表面にＳｉＯ2 からなる厚さ９０ｎｍの第４の酸化物層２４（屈折率＝１．４７）を形成した。
【００４９】
東京電色社製、カラーアナライザーＴＣ１８００により反射防止層２０側から測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は９４．８５％であった。分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ−３１５０）により反射防止層２０側から測定した視感反射率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は０．６３％であった。導電層および反射防止層を有するフィルムの透過スペクトルを図２に、反射スペクトルを図３に示す。
【００５０】
フィルムの導電層３０の耐薬品性について以下の評価を行った。結果を表１に示す。
クエン酸水溶液、燐酸水溶液、マジックリン（商品名、花王社製）、アセトン、マイペット（商品名、花王社製）各２．５μＬを導電層３０に滴下して２４時間放置後、ふき取り、外観を観察した。滴下した箇所に変化が見られないものを○、滴下した箇所に変化が見られるものを×と評価した。
【００５１】
（粘着剤層）
導電層３０上に、縦５０ｃｍ、横５０ｃｍ、厚さ２０μｍの粘着剤層４０（アクリル系粘着剤）を、表面抵抗値測定用の導電層３０の露出部が粘着剤層４０の両横に形成されるように設け、ＦＥＤ用反射防止フィルム１を得た。粘着剤層４０の粘着剤としては、リペア性を持たせるため、粘着剤層４０形成から７日後までは粘着力が２〜１０Ｎ／２５ｍｍとなり、１４日後は粘着力が２０Ｎ／２５ｍｍとなるものを用いた。
【００５２】
粘着剤層４０を形成した後の導電層３０の表面抵抗値を、アドバンテスト社製、デジタル超高抵抗計Ｒ８３４０によりＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠して測定した。また、視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）を、東京電色社製、カラーアナライザーＴＣ１８００により反射防止層２０側から測定した。
ついで、ＦＥＤ用反射防止フィルム１を温度６０℃、湿度９０％の環境下に５００時間放置して、ＦＥＤ用反射防止フィルム１の耐久テストを行った。耐久テスト後の表面抵抗値、視感透過率を同様にして測定した。
表面抵抗値については、１０4 〜１０11Ω／□の範囲だったものを○とし、範囲外のものを×とした。視感透過率については、耐久テスト前で９０％以上だったものを○とし、９０％未満だったものを×とした。また、耐久テスト後に視感透過率の劣化が５％未満だったものを○とし、５％以上だったものを×とした。結果を表２に示す。
【００５３】
〔比較例１〕
導電層を以下のように形成した以外は、実施例１と同様にしてＦＥＤ用反射防止フィルムを得て、評価を行った。結果を表１および表２に示す。
７．５体積％の酸素ガスと９２．５体積％のアルゴンガスとの混合ガスをマグネトロンスパッタリング装置に導入しながら、Ｉｎ2 Ｏ3 およびＳｎＯ2 の混合ターゲット［Ｉｎ2 Ｏ3 ：ＳｎＯ2 ＝９０：１０（質量比）］を用い、圧力０．１５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、基材１０表面に厚さ１０ｎｍの導電層を形成した。アルバックファイ製、ＥＳＣＡ５５００で測定したところ、導電層において、電子プローブマイクロアナライザー（ＥＰＭＡ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｐｒｏｂｅ  Ｍｉｃｒｏ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）で測定したところ、導電層３０において、ＳｎとＩｎとの合計（１００原子％）中、Ｓｎは８．１原子％、Ｉｎは９１．９原子％であった。
【００５４】
〔比較例２〕
導電層を以下のように形成した以外は、実施例１と同様にしてＦＥＤ用反射防止フィルムを得て、評価を行った。結果を表１および表２に示す。
５体積％の酸素ガスと９５体積％のアルゴンガスとの混合ガスをマグネトロンスパッタリング装置に導入しながら、ＡＺＯターゲット［ＺｎＯ：Ａｌ2 Ｏ3 ＝９５：５（質量比）］を用い、圧力０．２１Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、基材１０表面に厚さ１０ｎｍの導電層を形成した。
【００５５】
〔比較例３〕
導電層を以下のように形成した以外は、実施例１と同様にしてＦＥＤ用反射防止フィルムを得て、評価を行った。結果を表１および表２に示す。
３８体積％の酸素ガスと６２体積％のアルゴンガスとの混合ガスをマグネトロンスパッタリング装置に導入しながら、純度９９．９％のＳｎターゲットを用い、圧力０．３２Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度１．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、基材１０表面に厚さ１０ｎｍの導電層を形成した。
【００５６】
【表１】
2006302747.tif 000003
【００５７】
【表２】
2006302747.tif 000004
【００５８】
実施例１のＦＥＤ用反射防止フィルムは、視感反射率が低く、視感透過率が高かった。また、適正な表面抵抗値を有し、帯電防止性に優れていた。また、耐薬品性に優れ、粘着剤による表面抵抗値、視感透過率の変化が抑えられていた。
比較例１のＦＥＤ用反射防止フィルムは、導電層におけるＳｎの比率が低いため、耐薬品性（耐酸性）に劣り、耐久テスト後の表面抵抗値が高くなった。
比較例２のＦＥＤ用反射防止フィルムは、導電層がＡＺＯであるため、耐久テスト前から表面抵抗値が高く、また、耐薬品性に劣るため、耐久テスト後の透過率が低くなった。
比較例３のＦＥＤ用反射防止フィルムは、導電層がＳｎＯ2 のみであるため、耐久テスト前から表面抵抗値が高かった。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明のＦＥＤ用反射防止フィルムは、可視光領域全体にわたって反射率が低くて透過率が高く、帯電防止性に優れ、ＦＥＤのフェースプレートのマイグレーションを抑えることができるため、ＦＥＤ用反射防止フィルムとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明のＦＥＤ用反射防止フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図２】導電層を有するフィルム、および導電層および反射防止層を有するフィルムの透過スペクトルである。
【図３】導電層および反射防止層を有するフィルムの反射スペクトルである。
【符号の説明】
【００６１】
１  ＦＥＤ用反射防止フィルム
１０  基材
２０  反射防止層
３０  導電層
【図１】
2006302747.tif 000005
【図２】
2006302747.tif 000006
【図３】
2006302747.tif 000007