(57)【要約】【課題】垂直記録方式においてポールイレージャー現象を防止することができる薄膜磁気ヘッド等を提供する。【解決手段】垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドは、磁界を発生させるコイルと、前記コイルによって発生した磁界によって垂直記録を行う主磁極層とを備え、前記主磁極層の媒体対向面側端部における、膜成長方向でみた下面には、凹凸が設けられている。【選択図】図１
2006302489.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁界を発生させるコイルと、
前記コイルによって発生した磁界によって垂直記録を行う主磁極層とを備え、
前記主磁極層の媒体対向面側端部における、膜成長方向でみた下面には、凹凸が設けられている、
垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項２】
前記主磁極層における積層方向の下方には、上面に凹凸を有する非磁性層が設けられている、
請求項１に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項３】
前記コイルの少なくとも一部を挟んで前記主磁極層と反対側には、ライトシールド層が設けられている、
請求項１又は２に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項４】
前記主磁極層に設けられていた前記凹凸は、該主磁極層における前記ライトシールド層と逆側に位置している、
請求項３に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項５】
前記主磁極層に設けられていた前記凹凸は、一方向に延長する複数の溝を含む、
請求項１乃至４の何れか一項に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項６】
前記溝は、媒体対向面の延長方向と垂直方向又は平行方向に延長している、
請求項５に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項７】
前記コイルは、前記主磁極の成膜方向でみた上方に第１のコイル部を有する、
請求項１乃至６の何れか一項に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項８】
前記コイルは、前記主磁極の成膜方向でみた下方に第２のコイル部を有する、
請求項７に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項９】
前記コイルは、前記主磁極を軸に巻き回された少なくとも一つのコイル部を有する、
請求項１乃至８の何れか一項に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項１０】
前記非磁性層の上面に設けられた前記凹凸の高低差は、０．１〜０．３μｍである、
請求項１乃至９の何れか一項に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項１１】
前記主磁極の厚みは、０．２０〜０．３５μｍである、
請求項１乃至１０の何れか一項に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項１２】
前記主磁極の積層方向の下方に読み取り素子を更に備える、
請求項１乃至１１の何れか一項に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。
【請求項１３】
非磁性層の積層方向上方に垂直記録を行う主磁極層を有する垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、
前記非磁性層を、その上面に凹凸を有するように設け、
前記非磁性層の上面であって、少なくとも前記凹凸を含む範囲の上に、前記主磁極層を積層し、
前記主磁極層の上方に、垂直記録を行うための磁界を発生させるコイルを形成する、
垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１４】
前記非磁性層の凹凸は、エッチングによって溝を設けることによって形成される、
請求項１３に記載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直磁気記録方式によって記録媒体に情報を記録するために用いられる垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
薄膜磁気ヘッドにおける記録方式には、信号磁化方向を記録媒体の記録面内方向（長手方向）にして記録する長手記録方式と、信号磁化方向を記録媒体の記録面と垂直な方向にして記録する垂直記録方式とがある。垂直記録方式によれば、情報を記録した記録媒体が熱揺らぎの影響を受けにくく、また、高い記録密度を実現できることができるという利点がある。
【０００３】
従来の垂直記録方式の磁気記録技術としては、例えば、米国特許第6,504,675号明細書や米国特許第4,672,493号明細書などが挙げられる。
【０００４】
ところで、かかる垂直記録方式の薄膜磁気ヘッドにおいては、情報の書き込みを停止している間に、書き込み中にヘッドに生じた残留磁場が記録媒体に漏れ出し、記録済みの情報を誤って消去してしまう、ポールイレージャー（pole erasure）現象を生じる問題がある。
【特許文献１】米国特許第6,504,675号明細書
【特許文献２】米国特許第4,672,493号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、垂直記録方式においてポールイレージャー現象を防止することができる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決するため、本発明に係る垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドは、磁界を発生させるコイルと、前記コイルによって発生した磁界によって垂直記録を行う主磁極層とを備え、前記主磁極層の媒体対向面側端部における、膜成長方向でみた下面には、凹凸が設けられている。
【０００７】
本発明は、課題を解決するための薄膜磁気ヘッドの製造方法も提供する。
【０００８】
本発明に係る製造方法は、非磁性層の積層方向上方に垂直記録を行う主磁極層を有する垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記非磁性層を、その上面に凹凸を有するように設け、前記非磁性層の上面であって、少なくとも前記凹凸を含む範囲の上に、前記主磁極層を積層し、前記主磁極層の上方に、垂直記録を行うための磁界を発生させるコイルを形成する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、垂直記録方式においてポールイレージャー現象を防止することができる。
【００１０】
なお、本発明の他の特徴及びそれによる作用効果は、添付図面を参照し、実施の形態によって更に詳しく説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、この発明に係る垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの実施の形態を添付図面に基づいて説明する。なお、図中、同一符号は同一又は対応部分を示すものとする。また、説明中における上下方向（厚さ方向）は、図１の紙面を基準にしたものとして用いられており、幅方向は図１の紙面直交方向を、長さ方向は図１の紙面左右方向を示すものとする。
【００１２】
図１及び図２に示されるように、垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド１は、読み取り素子３と、書き込み素子５とを備えている。読み取り素子３は、例えばスピンバルブ素子やＴＭＲ（Tunneling Magneto Resistance）素子など周知既存の磁気抵抗効果素子７でよく、ここでは、その詳細な説明は省略する。
【００１３】
読み取り素子３は、例えばＡｌ2Ｏ3などからなる絶縁層９に埋設されている。絶縁層９は、上部シールド層１１及び下部シールド層１３の間に挟まれている。これら上部シールド層１１及び下部シールド層１３は、例えばＮｉＦｅから構成されている。下部シールド層１３は、所定の基体１５の上方に成膜されている。
【００１４】
書き込み素子５は、読み取り素子３に対して積層方向の上方に設けられている。書き込み素子５は主に、コイル１７と、主磁極層１９と、非磁性層２１と、ライトシールド層２３とを備えている。
【００１５】
コイル１７は、まず、主磁極層１９の積層方向（成膜方向）の上方に設けられた第１のコイル部１７ａと、主磁極層１９の積層方向（成膜方向）の下方に設けられた第２のコイル部１７ｂとを有している。第１のコイル部１７ａ及び第２のコイル部１７ｂはそれぞれ、主磁極層１９とほぼ直交するような軸回りに巻き回されており、例えばＣｕなどの導体材料から構成されている。
【００１６】
ライトシールド層２３は、コイル１７の一部すなわち第１のコイル部１７ａの媒体対向面（ＡＢＳ（Air Bearings Surface）とも称する）側部分を挟んで、主磁極層１９とは反対側に設けられている。ライトシールド層２３は、主磁極層１９とほぼ平行に延びる部分２３ａと、その媒体対向面側端部において主磁極層１９に接近するように下方に延長する部分２３ｂとを有する。ライトシールド層２３は、例えばＣｏＮｉＦｅなどの磁性材料によって構成されている。
【００１７】
ライトシールド層２３の媒体対向面側の部分２３ｂは、ライトギャップ層２５を挟んで、主磁極層１９と離隔している。ライトギャップ層２５は、例えばＡｌ2Ｏ3などから構成されている。一方、ライトシールド層２３の媒体対向面と反対側の部分２３ａは、バックギャップ層２７によって、主磁極層１９と接続されている。前述の第１のコイル部１７ａは、かかるバックギャップ層２７回りに巻き回されていた。バックギャップ層２７は、例えばＣｏＮｉＦｅなどの磁性材料によって構成されている。
【００１８】
主磁極層１９は、コイル１７によって発生した磁界によって垂直記録を行う部分を含み、本実施の形態では、メインポール膜２９と、下部ヨークポール膜３１とを備えている。メインポール膜２９は例えばＣｏＮｉＦｅ又はＮｉＦｅなどの磁性材料によって、下部ヨークポール膜３１は例えばＣｏＮｉＦｅなどの磁性材料によってそれぞれ構成されている。
【００１９】
メインポール膜２９は、下部ヨークポール膜３１の上面に設けられている。下部ヨークポール膜３１の媒体対向面側の先端部は、メインポール膜２９の媒体対向面側の先端部よりも媒体対向面からより離隔した位置（図１の紙面でいえば右側の位置）で終端している。よって、メインポール膜２９の下方であって、下部ヨークポール膜３１の媒体対向面側の側方には、非磁性層２１が設けられている。非磁性層２１は、例えばＡｌ2Ｏ3などの非磁性材料によって構成されている。
【００２０】
また、メインポール膜２９の媒体対向面側の端部の下面、つまり、下部ヨークポール膜３１の先端部よりも媒体対向面側に延出する部分であって非磁性層２１に積層されている部分の下面には、凹凸２９ａが形成されている。さらに、かかるメインポール膜２９の下面の凹凸２９ａに対応するように、非磁性層２１におけるメインポール膜２９が積層されている部分の上面にも、凹凸２１ａが形成されている。
【００２１】
このような凹凸２１ａ及び凹凸２９ａの作用によって、メインポール膜２９における凹凸２９ａの上方の結晶構造は、下面に凹凸２９ａが形成されていない部分の上の結晶構造に比べて一様ではない構造となっているが、それについては、本発明の方法に係る記述部分として後述する。また、これら凹凸２１ａ及び凹凸２９ａは、複数の平行且つ幅方向に延長する溝を含むような態様で構成されている。
【００２２】
また、特に図２によく示されるように、主磁極層１９のメインポール膜２９は、ライトシールド層２３などと比較して幅が狭く形成されている（読み取り素子３も同様）。さらに、メインポール膜２９は、媒体対向面側からみて台形状の端面を有している。
【００２３】
主磁極層１９の下方には、第２のコイル部１７ｂの他に、シールド層３３やバックギャップ層３５が設けられている。これらシールド層３３やバックギャップ層３５は、例えばＮｉＦｅなどの磁性材料によって構成されている。
【００２４】
シールド層３３は、上部シールド層１１の上方に絶縁層３７を介して積層されている。また、バックギャップ層３５は、主磁極層１９の下部ヨークポール膜３１における媒体対向面と反対側の部分を、シールド層３３に接続している。また、第２のコイル部１７ｂは、バックギャップ層３５回りに巻き回されている。
【００２５】
なお、全体を通していえることであるが、垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド１は、プロセスの都合上、複数の層の成膜を繰り返すことによって構成されているが、構成材料が同一の層については、将来を含めプロセス的に可能であるならば一体部分として一度に形成される態様であってもよい。
【００２６】
次に、上述した構成を有する本実施の形態に係る垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド１の製造方法について説明する。図３及び図４に示されるように、まず、例えばアルテックなどからなる基体１５の上に、下部シールド層１３を２．０μｍの厚みで形成する。次に、下部シールド層１３の上に、磁気抵抗効果素子７を埋設した絶縁層９を形成する。より詳細には２段階のステップで行われており、第１のステップとして、下部シールド層１３の上面にアルミナ膜を成膜した後、その表面をＣＭＰ（Chemical Mechanical Polish）処理で平坦化する。その後、磁気抵抗効果素子７を形成し、第２のステップとして、磁気抵抗効果素子７を覆うアルミナ膜を成膜する。
【００２７】
次に、絶縁層９の上に、上部シールド層１１を１．５μｍの厚みで形成し、さらにその上に、絶縁層３７を形成し、その上に、シールド層３３を１．５μｍの厚みで形成する。図３及び図４は、かかるシールド層３３の形成が終了した段階を示している。
【００２８】
続いて、図５に示されるように、第２のコイル部の形成を行う。まず、シールド層３３の上面に、第２のコイル部１７ｂの形成に要する面積よりも広範な面積で絶縁層４３を成膜する。さらに、かかる絶縁層４３の上面、及び、露出しているシールド層３３の部分の上面を覆うように、シード（ｓｅｅｄ）膜を成膜する。かかるシード膜の成膜は、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）などの薄膜形成手法によって行うことができる。
【００２９】
続いて、シード膜の上にフォトレジスト膜を、スピンコート法などの適用によって形成した後、コイルパターンを有するマスクを用いて露光し、現像する。これにより、所定のパターンを有するレジストフレームが形成される。フォトレジスト膜は、ポジティブフォトレジスト、ネガティブフォトレジストの何れでもよい。そして、Ｃｕメッキ処理を実行し、コイル形成用パターンの内部に存在するシード膜の上に、第２のコイル部１７ｂを、２．０μｍの厚みとなるように成長させる。
【００３０】
次に、バックギャップ層３５及び磁性層４５を形成するためのフォトリソグラフィ工程を実行して、レジストフレームを形成する。そして、メッキ処理を行い、シールド層３３の上にバックギャップ層３５を成長させると共に、バックギャップ層３５を挟んで媒体対向面と逆側の第２のコイル部１７ｂの上に磁性層４５を成長させる。その後、レジストフレームを、ケミカルエッチングなどの手段によって除去する。これにより、図５の状態を得る。磁性層４５は、例えばＮｉＦｅなどの磁性材料によって構成されている。
【００３１】
次に、図６及び図７に示されるように、第２のコイル部１７ｂと、バックギャップ層３５及び第２のコイル部１７ｂ（バックギャップ層３５を挟んで媒体対向面と逆側）の間の部分とを、覆うように、フォトレジスト膜４７を形成する。さらに、フォトレジスト膜４７を覆うように、非磁性層４９を成膜する。非磁性層４９は、例えばＡｌ2Ｏ3によって構成されている。その後、バックギャップ層３５の厚みが３．０μｍ程度となるまでＣＭＰ処理を行って平坦化し、図６及び図７に示す状態を得る。
【００３２】
次に、図８及び図９に示されるように、フォトリソグラフィ工程を用いて、バックギャップ層３５及び第２のコイル部１７ｂの上方に位置する領域と、磁性層４５の上方に位置する領域とに、それぞれ下部ヨークポール膜３１及び磁性層５１を１．０μｍの厚みとなるように形成する。下部ヨークポール膜３１の媒体対向面側の先端部は、媒体対向面から離隔した位置で終端している。また、下部ヨークポール膜３１で覆われていない非磁性層４９の媒体対向面近傍の上面に、非磁性層２１及び非磁性層５３を形成する。これにより、図８及び図９に示す状態を得る。
【００３３】
次に、図１０及び図１１に示されるように、非磁性層２１、下部ヨークポール膜３１、磁性層５１及び非磁性層５３の上面に、フォトレジスト膜５５を形成する。そして、フォトレジスト膜５５における非磁性層２１の上方部分には、幅方向すなわち図１０の紙面直交方向に延長するスリット５５ａを、複数個、平行に設ける。そして、かかるフォトレジスト膜５５の上方から、ＲＩＥ（reactive ion etching）［ＢＣｌ3＋Ｃｌ2＋ＣＦ4］を施すことによって非磁性層２１の上面に凹凸２１ａを形成する。凹凸２１ａは、スリット５５ａに対応して、複数個、平行な態様で幅方向に延長するように形成される。さらに、凹凸２１ａは、深さが０．１０〜０．３０μｍであって側面がテーパーしている溝を設けることで形成される。
【００３４】
次に、図１２及び図１３に示されるように、一旦、フォトレジスト膜５５を除去した後、メインポール膜形成用のフォトレジスト膜５７を形成する。そして、フォトレジスト膜５７をレジストフレームとしてメッキ処理を行い、メインポール膜２９を成膜する。このとき、メインポール膜２９の媒体対向面側端部の成膜方向でいう下面においては、非磁性層２１の凹凸２１ａの上方に位置する部分に、凹凸２１ａと対応するような凹凸２９ａが形成される。そして、かかる凹凸２９ａをベースとした上方の結晶構造は、凹凸２９ａが形成されていない平坦面をベースとした他の部分の結晶構造に比べて一様な構造ではなくなっている。また、メインポール膜２９は、０．５０〜０．７０μｍの厚みとなるように成長させる。
【００３５】
次に、図１４及び図１５に示されるように、メインポール膜形成用のフォトレジスト膜５７を除去した後、メインポール膜２９及び非磁性層５３覆うように非磁性層５９を形成する。かかる非磁性層５９も、例えばＡｌ2Ｏ3によって構成されている。
【００３６】
続いて、図１６及び図１７に示されるように、メインポール膜２９の厚みが０．２０〜０．３５μｍ程度となるまでＣＭＰ処理を行って平坦化する。
【００３７】
次に、図１８及び図１９に示されるように、メインポール膜２９の上面にライトギャップ層２５を４００〜５００Åの厚みで形成する。さらに、図示の如くライトシールド層２３を構成する磁性層及びバックギャップ層２７を構成する磁性層とを形成すると共に、ライトギャップ層２５の上面に絶縁層６１を形成した後、ＣＭＰ処理を行って平坦化する。ＣＭＰ処理は、厚みが０．５０〜０．７０μｍの磁性層を厚みが０．２５〜０．５０μｍ程度となるまで行われる。
【００３８】
次に、図２０及び図２１に示されるように、絶縁層６１の上面に第１のコイル部１７ａを積層すると共に、ライトシールド層２３を構成する磁性層及びバックギャップ層２７を構成する磁性層を積層する。これら第１のコイル部１７ａ及び磁性層は２．０μｍの厚みとなるように形成される。これにより図２０及び図２１に示される状態を得る。さらにこの後、第１のコイル部１７ａのＣｕ層と磁性層との間にフォトレジスト膜４７を設け、その上に、Ａｌ2Ｏ3などからなる絶縁層を被覆した後、メインポール膜２９の上方に位置する領域に磁性層を形成することでライトシールド層２３を完成させ、図１及び図２に示される状態を得る。
【００３９】
以上に説明した方法により製造された垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド１においては、主磁極層１９を構成するメインポール膜２９の媒体対向面側の端部が、他の部分と比べて一様でない結晶構造を備えている。
【００４０】
すなわち、図２２を参照してその説明を行う。図２２は、メインポール膜２９を平面的に示すと共に、Ｘ−Ｘ線による縦断面において結晶構造を模式に示している。図２２に示されるように、メインポール膜２９において、凹凸２９ａが形成されていない平坦面２９ｂをベースとした部分６３の結晶構造は、成膜方向下から上へと一様に結晶が成長している。これに対して、凹凸２９ａをベースとした部分６５の結晶構造は、結晶が成膜方向上方に向けて真っ直ぐ成長してなく、すなわち結晶は一様な態様では成長していない。
【００４１】
このように、本発明では、メインポール膜２９が一様ではない結晶構造を媒体対向面側の端部に有していることにより、書き込み中にヘッドに生じた残留磁場が媒体に向けて進行することを阻害することができる。よって、書き込みを停止している間に、磁束が記録媒体に漏れ出し、記録済みの情報を誤って消去してしまう、ポールイレージャー現象を防止することができる。
【００４２】
なお、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく例えば次のように改変して実施することも可能である。
【００４３】
まず、本発明は、ライトシールド層の構造に関し上記実施の形態に限定されるものではない。図２３に示されるように、第１のコイル部１７ａを覆う部分近傍が上方に盛り上がる形態のライトシールド層１２３を備えた垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド１０１として実施することもできる。
【００４４】
かかる垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド１０１においても、メインポール膜２９が一様ではない結晶構造を媒体対向面側の端部に有していることにより、残留磁場が媒体に向けて進行することを阻害し、ポールイレージャー現象を防止することができる。
【００４５】
また、図２４に、主磁極層の構成を改変した実施の形態を示す。図２４に示されるように、垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド２０１は、メインポール膜２２９と上部ヨークポール膜２３１とを備えた主磁極層２１９を有する。
【００４６】
メインポール膜２２９は、上部ヨークポール膜２３１の下面に設けられている。上部ヨークポール膜２３１の媒体対向面側の先端部は、メインポール膜２２９の媒体対向面側の先端部よりも媒体対向面からより離隔した位置で終端している。
【００４７】
メインポール膜２２９の上方であって、上部ヨークポール膜２３１の媒体対向面側の側方には、ライトギャップ層２２５が位置している。一方、メインポール膜２２９の下方には、非磁性層２２１が位置している。
【００４８】
また、メインポール膜２２９の媒体対向面側の端部の下面には、凹凸２２９ａが形成されている。さらに、かかるメインポール膜２２９の下面の凹凸２２９ａに対応するように、非磁性層２２１におけるメインポール膜２２９が積層されている部分の上面にも、凹凸２２１ａが形成されている。
【００４９】
かかる垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド２０１においても、メインポール膜２２９が一様ではない結晶構造を媒体対向面側の端部に有していることにより、残留磁場が媒体に向けて進行することを阻害し、ポールイレージャー現象を防止することができる。
【００５０】
さらに、本発明は、凹凸の形成態様についても上記の実施の形態に限定されるものではない。図２５に示されるように、メインポール膜３２９において幅が変化する部分３６５全体に、凹凸３２１ａ、凹凸３２９ａを形成するようにしてもよい。あるいは、図２６に示されるように、メインポール膜４２９において、媒体対向面（ＡＢＳ）と直交するような方向に延びる溝によって凹凸４２１ａ、凹凸４２９ａを形成するようにしてもよい。
【００５１】
このような凹凸の形成に関する改変形態においても、メインポール膜３２９、４２９が一様ではない結晶構造を媒体対向面側の端部に有していることにより、残留磁場が媒体に向けて進行することを阻害し、ポールイレージャー現象を防止することができる。
【００５２】
以上、好ましい実施の形態を参照して本発明の内容を具体的に説明したが、本発明の基本的技術思想及び教示に基づいて、当業者であれば、更なる変形態様を採り得ることは自明である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施の形態に係る垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドにおける媒体対向面側の要部を示す断面図である。
【図２】図１の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドに関し、矢印ＩＩ方向すなわち媒体対向面（ＡＢＳ）側から見た端面図である。
【図３】図１及び図２の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドに関する製造工程を示す図である。
【図４】図３をＡＢＳ側から見た端面図である。
【図５】図３及び図４の次の工程を示す図である。
【図６】図５の次の工程を示す図である。
【図７】図６をＡＢＳ側から見た端面図である。
【図８】図６及び図７の次の工程を示す図である。
【図９】図８をＡＢＳ側から見た端面図である。
【図１０】図８及び図９の次の工程を示す図である。
【図１１】図１０をＡＢＳ側から見た端面図である。
【図１２】図１０及び図１１の次の工程を示す図である。
【図１３】図１２をＡＢＳ側から見た端面図である。
【図１４】図１２及び図１３の次の工程を示す図である。
【図１５】図１４をＡＢＳ側から見た端面図である。
【図１６】図１４及び図１５の次の工程を示す図である。
【図１７】図１６をＡＢＳ側から見た端面図である。
【図１８】図１６及び図１７の次の工程を示す図である。
【図１９】図１８をＡＢＳ側から見た端面図である。
【図２０】図１８及び図１９の次の工程を示す図である。
【図２１】図２０をＡＢＳ側から見た端面図である。
【図２２】図１〜図２１に係る垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドに関し、メインポール膜の凹凸形成態様及び結晶構造を説明する図である。
【図２３】本発明の別の実施の形態に係る図１と同態様の図である。
【図２４】本発明のさらに別の実施の形態に係る図１と同態様の図である。
【図２５】本発明の別の実施の形態に係る垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドに関し、メインポール膜の凹凸形成態様を説明する図である。
【図２６】本発明のさらに別の実施の形態に係る垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドに関し、メインポール膜の凹凸形成態様を説明する図である。
【符号の説明】
【００５４】
１                      垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド
１７                    コイル
１９                    主磁極層
２９ａ                  凹凸
【図１】
2006302489.tif 000003
【図２】
2006302489.tif 000004
【図３】
2006302489.tif 000005
【図４】
2006302489.tif 000006
【図５】
2006302489.tif 000007
【図６】
2006302489.tif 000008
【図７】
2006302489.tif 000009
【図８】
2006302489.tif 000010
【図９】
2006302489.tif 000011
【図１０】
2006302489.tif 000012
【図１１】
2006302489.tif 000013
【図１２】
2006302489.tif 000014
【図１３】
2006302489.tif 000015
【図１４】
2006302489.tif 000016
【図１５】
2006302489.tif 000017
【図１６】
2006302489.tif 000018
【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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