(57)【要約】【課題】  インクの経時的な粘度増大に対処することで、材料や溶媒の選択幅を広げ、安定した吐出を実現して信頼性の高い液滴吐出装置を提供する。【解決手段】  本発明の液滴吐出装置は、吐出ヘッド１００を備え、該吐出ヘッド１００から吐出対象物Ｗの所定領域に液状体を吐出する液滴吐出装置であって、前記液状体を一時的に貯蔵する貯蔵手段５００と、前記液状体を前記吐出ヘッドに移送する移送手段４００と、前記貯蔵手段５００又は前記移送手段４００の少なくともいずれかに配設され、前記液状体を加熱する加熱手段３２０（３３０）と、前記加熱手段３２０（３３０）よりも前記吐出ヘッド１００側に配設された冷却手段３４０と、が具備されてなることを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物の所定領域に液状体を吐出する吐出ヘッドと、
前記液状体を貯蔵する貯蔵手段と、
前記液状体を前記貯蔵手段から前記吐出ヘッドに移送する移送手段と、
前記貯蔵手段又は前記移送手段の少なくともいずれかにおいて、前記液状体を加熱する加熱手段と、
前記移送手段の前記加熱手段よりも前記吐出ヘッド側或いは前記吐出ヘッドの少なくともいずれかに配設され、前記液状態を冷却する冷却手段とを有することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記液状体が、時間の経過と共に粘度が上昇するものであることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
液状体を吐出ヘッドから対象物の所定の領域に吐出する工程と、
前記液状体を貯蔵手段に貯蔵する工程と、
前記液状体を前記貯蔵手段から吐出ヘッドに移送する工程を有し、
前記貯蔵する工程又は前記移送する工程において、前記液状体を加熱した後、
前記吐出する工程前に前記液状体を冷却することを特徴とする液滴吐出方法。
【請求項４】
前記液状体が、時間の経過と共に粘度が上昇するものであることを特徴とする請求項３に記載の液滴吐出方法。
【請求項５】
前記加熱の温度が、前記液状体に含まれる溶質のガラス転移温度以下であることを特徴とする請求項３又は４に記載の液滴吐出方法。
【請求項６】
前記加熱の時間が、５分〜３０分であることを特徴とする請求項３ないし５のいずれか１項に記載の液滴吐出方法。
【請求項７】
前記加熱後、該加熱した液状体を２４時間以内に前記吐出ヘッドから吐出することを特徴とする請求項３ないし６のいずれか１項に記載の液滴吐出方法。
【請求項８】
一対の電極間に有機ＥＬ層を有してなる有機ＥＬ装置の製造方法であって、
前記有機ＥＬ層を請求項３ないし７のいずれか１項に記載の液滴吐出方法を用いて成膜する工程を含むことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置、液滴吐出方法、及び有機ＥＬ装置（有機エレクトロルミネッセンス装置）の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、インクジェット装置（液滴吐出装置）を用いたインクジェット法（液滴吐出法）により、様々な材料をパターニングする技術が注目されている。なかでも有機発光材料をインク化し、該インク（液状体）を上記インクジェット法により基板上に選択吐出することで、発光材料のパターニングを行う有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置の製造方法が、例えば特許文献１或いは特許文献２に開示されている。
【特許文献１】特開平１１−５４２７０号公報
【特許文献２】特開２００４−１２７８９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このようなインクジェット法で選択吐出によりパターニングを行う場合の重要なパラメータとしてインクの粘度を挙げることができる。インクジェット法で吐出を行う場合、使用するインクの粘度、弾性率等の等の特性に応じて、吐出ヘッドを駆動するパワー、時間等の吐出条件を最適化している。ここで、仮にインク粘度が変化してしまうと、インク滴吐出重量が変動し、所望の膜厚が得られないか、又は吐出自体が不可能になる惧れがある。
また、均一な膜厚を得るために、インクジェット法により吐出したインクの乾燥条件（温度、圧力等）の最適化も行われている。しかし、インクの粘度が変化すると、乾燥時の膜厚の分布も影響を受け、安定的に均一な膜厚を得ることが難しくなる。
一方有機ＥＬ装置の機能層に用いる材料をインク化した場合、インク調製後から経時的な粘度の変化が起こることが多い。このようなインク粘度の経時的な変化が、形成した有機機能層の膜厚の変化の原因となり、インクジェット法による有機ＥＬ装置の安定的な形成を難しくしている。更には、使用する材料（発光材料、正孔注入材料、インターレイヤ材料等）と、溶媒の組み合わせによってはインク粘度の著しい経時変化が置き、インクジェット法による成膜への適用を困難にしている。
【０００４】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、上記のような経時的な粘度増大に対処することで、材料や溶媒の選択幅を広げることを目的とする。また、安定した吐出を実現して工程再現性の高い液滴吐出装置と、液滴吐出法とを提供することを目的とする。さらには安定的に良好な特性の有機ＥＬ装置を製造することのできる製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明の液滴吐出装置は、対象物の所定領域に液状体を吐出する吐出ヘッドと、前記液状体を貯蔵する貯蔵手段と、前記液状体を前記貯蔵手段から前記吐出ヘッドに移送する移送手段と、前記貯蔵手段又は前記移送手段の少なくともいずれかにおいて、前記液状体を加熱する加熱手段と、前記移送手段の前記加熱手段よりも前記吐出ヘッド側或いは前記吐出ヘッドの少なくともいずれかに配設され、前記液状態を冷却する冷却手段とを有することを特徴とする。
【０００６】
このような液滴吐出装置によると、液状体の貯蔵中に増粘が生じたとしても、貯蔵手段又は移送手段において加熱手段により液状体を加熱することで、ヘッドからの吐出前に、液状体の粘度を元の状態（貯蔵開始時の状態）に戻すことが可能となり、さらに加熱した液状体を吐出前に冷却するものとしているため、安定した吐出を行うことができるようになる。具体的には、加熱されたままで液状体を吐出すると、吐出ヘッドに設けられた吐出口（ノズル）付近で溶媒が乾燥し易く、これにより吐出不良が生じる場合があるが、上記冷却手段により液状体を冷却することで溶媒の乾燥を抑制し、該吐出不良を防止ないし抑制するものとしたのである。また、特に積極的に冷却を行うことで、自然放熱とする場合に比して、移送手段の経路長を短くすることができ、当該液滴吐出装置に充填すべき液状体の量を低減することができ、しかも経路の抵抗が小さくなって液状体の供給能力が安定するといった周波数特性の向上を実現できる。さらに、本発明は、特に経時的に増粘する液状体を吐出する場合でも、加熱手段及び冷却手段を備えたことにより、液状体の吐出安定性を好適に高めることができるようになる。
【０００７】
また、上記課題を解決するために、本発明の液滴吐出方法は、液状体を吐出ヘッドから対象物の所定の領域に吐出する工程と、前記液状体を貯蔵手段に貯蔵する工程と、前記液状体を前記貯蔵手段から吐出ヘッドに移送する工程を有し、前記貯蔵する工程又は前記移送する工程において、前記液状体を加熱した後、前記吐出する工程前に前記液状体を冷却することを特徴とする。
【０００８】
このような液滴吐出方法によると、液状体の貯蔵中に増粘が生じたとしても、その貯蔵中又は移送中に液状体を加熱するものとしているため、液状体の粘度を元の状態（貯蔵開始時の状態）に戻すことが可能となり、そして吐出前には加熱した液状体を冷却するものとしているため、安定した吐出を行うことができるようになる。また、特に経時的に増粘する液状体を吐出する場合でも、該貯蔵中又は移送中の加熱と、吐出直前の冷却により、液状体の吐出安定性を好適に高めることができるようになる。
【０００９】
前記加熱の温度は、前記液状体に含まれる溶質のガラス転移温度以下とすることができる。ガラス転移温度を超える温度で加熱を行うと、溶質の材料特性が変化してしまい、所望の膜特性が得られない不具合が生じる場合があるからである。なお、加熱の下限値は、液状体の貯蔵温度（例えば室温）を超える温度であることは言うまでもない。
【００１０】
また、前記加熱の時間は、５分〜３０分とすることができる。加熱時間が５分未満の場合、粘度を低下させる効果が十分に得られない場合がある一方、加熱時間が３０分を超えると、必要以上の加熱となってしまい、材料の変質が生じてしまう場合がある。
【００１１】
さらに、前記加熱後、該加熱した液状体を２４時間以内に前記吐出ヘッドから吐出するものとすることができる。加熱後２４時間程度の間はインクの粘度、弾性率は殆ど変化すること無く安定しており、その間に吐出及び乾燥を行うように管理することで、安定して均一な膜を形成することができる。
【００１２】
次に、上記課題を解決するために、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、一対の電極間に有機ＥＬ層を有してなる有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記有機ＥＬ層を上述した液滴吐出方法を用いて成膜する工程を含むことを特徴とする。このような製造方法により信頼性の高い有機ＥＬ層を構築することができ、ひいては高品質の有機ＥＬ装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（インクジェット装置（液滴吐出装置）の全体構成）
図１は、本発明の液滴吐出装置の一実施形態であるインクジェット装置の全体構成を示す概略斜視図である。
図１に示すように、本実施形態のインクジェット装置１は、吐出ヘッド群１００、Ｘ方向駆動モータ２、Ｘ方向駆動軸４、Ｙ方向駆動モータ３、Ｙ方向ガイド軸５、制御装置６、ステージ７、クリーニング機構部８、および基台９を有している。
【００１４】
吐出ヘッド群１００は複数の吐出ヘッドを備えており、インク（液状体）が貯蔵されたタンク（貯蔵手段）５００から供給パイプ（移送手段）４００を介して供給されるインクを、各吐出ヘッドから吐出するようになっている。なお、供給パイプ４００は、吐出するインクが内部を流通可能な管状部材であって、各吐出ヘッド毎に対応する液供給路の集合を意味するものである。ここで、本実施形態のインクジェット装置１においては、これらタンク５００、および供給パイプ４００には、当該タンク５００および供給パイプ４００の内部のインクを加熱するための第１ヒータ３２０、第２ヒータ３３０が各々設けられている。さらに、供給パイプ４００には、第２ヒータ３３０よりも吐出ヘッド群１００に近い側に冷却装置３４０が設けられている。
【００１５】
ステージ７は、吐出ヘッド群１００からインクが吐出される基板（吐出対象物）Ｗを載置するためのものであり、この基板Ｗを所定の基準位置に固定する機構を有している。
【００１６】
Ｘ方向駆動軸４は、ボールねじなどから構成され、端部にはＸ方向駆動モータ２が接続されている。このＸ方向駆動モータ２は、ステッピングモータなどであり、制御装置６からＸ軸方向の駆動信号が供給されると、Ｘ方向駆動軸４を回転させる。このＸ方向駆動軸４が回転すると、吐出ヘッド群１００がＸ方向駆動軸４上をＸ方向に移動する。
【００１７】
Ｙ方向ガイド軸５もボールねじなどから構成されているが、基台９上の所定位置に配置されている。このＹ方向ガイド軸５上にステージ７が配置され、このステージ７はＹ方向駆動モータ３を備えている。このＹ方向駆動モータ３は、ステッピングモータなどであり、制御装置６からＹ軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ７は、Ｙ方向ガイド軸５に案内されながらＹ方向に移動する。このようにしてＸ軸方向の駆動とＹ軸方向の駆動とを行うことにより、吐出ヘッド群１００を基板Ｗ上の任意の場所に移動させることができる。
【００１８】
図２に示すように、制御装置６は、吐出ヘッド群１００にインクの吐出制御用の信号を供給する駆動信号制御装置３１を備えている。また、制御装置６は、Ｘ方向駆動モータ２およびＹ方向駆動モータ３に吐出ヘッド群１００とステージ７との位置関係を制御する信号を供給するヘッド位置制御装置３２を備えている。また、制御装置６は、後述の図３に示す温度制御部３００を備えている。これらの制御装置による制御に基づいて、吐出ヘッド群１００と基板Ｗが相対的に移動し、該相対移動に基づいて所定の描画を実現している。
【００１９】
（温度制御のための構成）
上述した通り、タンク５００及び供給パイプ４００にはヒータ３２０，３３０が配設され、さらに供給パイプ４００の途上であって、上記ヒータ３３０よりも吐出ヘッド群１００側には冷却装置３４０が配設されている。図３は、インクジェット装置１の温度制御のための構成を示すブロック図である。図３に示すように、タンク５００に対しては、第１ヒータ３２０、および第１温度センサ３２５が設けられるとともに、供給パイプ４００には、第２ヒータ３３０、および第２温度センサ３３５が設けられ、さらに恒温循環装置からなる冷却装置３４０が設けられている。なお、各部位には、保温材なども配置されるが、図３では図示を省略してある。
【００２０】
温度制御部３００は、図１に示す制御装置６に設けられ、第１温度センサ３２５、および第２温度センサ３３５は、タンク５００、および供給パイプ４００に対する各温度監視結果を温度制御部３００に出力するように構成されている。そして、これらの温度センサ３２５、３３５の温度監視結果に基づいて、温度制御部３００は、第１ヒータ３２０、および第２ヒータ３３０を個別に制御する。このため、本実施形態においては、タンク５００、および供給パイプ４００の温度を各々独立して所定の温度に制御することができる。また、温度制御部３００にタイマーを備え、前回のインクの加熱処理から一定時間経過した後に再度インクの加熱を行うようにしても良い。
【００２１】
なお、第２ヒータ３３０は、供給パイプ４００全体に設けても良く、供給パイプ４００の吐出ヘッド群１００近傍のみに設けても良い。また、加熱手段として、通電するのみで一定温度まで加熱する自己制御式のヒータを用いれば、上記各温度センサ３２５，３３５及び温度制御部３００を省略することができる。さらに、加熱手段として図４に示すような恒温循環装置を用いることもできる。
【００２２】
図４は恒温循環装置の一例について、その概略構成を示すブロック図である。この場合の恒温循環装置（チラー装置）５０は、図３のヒータ３２０、３３０に代えて冷媒を循環する熱交換機を配設する。恒温循環装置５０は、図示しない温度制御対象に配設された熱交換機から取り出した冷媒（例えば、ブライン）を冷凍機５１により冷却した後にヒータ５２により加熱することにより温度制御を行い、ポンプ５３によってバッファタンク５４に供給し、バッファタンク５４から温度制御対象に冷媒を供給するようにしている。そして、バッファタンク５４から吐出される冷媒の温度を温度センサ５５により検出し、設定温度および検出温度に基づいてＰＩＤ制御などを行って制御信号を出力して冷凍機５１およびヒータ５２を制御するものである。このようなチラー装置を用いることにより、精密な温度制御を行うことができる。特に６０℃〜８０℃程度の比較的低い温度での加熱を行う場合に、ヒータに比べて高い精度の温度制御を行うことができる。
【００２３】
一方、冷却装置３４０は、ヒータ３３０により加熱されたインクを冷却する装置である。加熱されたインクは、加熱されたままで吐出されると、吐出ヘッド群１００に設けられたノズル開口６２１付近で乾燥による高粘度化、固形化が起こり易く、これにより吐出の不安定化及び吐出不良が生じる場合がある。そこで、本実施形態では、吐出の直前において加熱されたインクを１５℃〜２５℃の室温付近（例えば２０℃）まで冷却（放熱）するものとした。冷却装置３４０としては、図４に示した恒温循環装置５０の他、図７に示すような恒温循環装置（チラー装置）３４２を用いることができ、図７の例では、バス３４３内に充填したオイル等の熱媒体３４１を介して供給パイプ４００が冷却されるものとなっている。また、例えば冷却装置３４０として、図８に示す放熱フィン３４５を供給パイプ４００に付与したものを採用することもできる。この場合、簡単な構成でインクを室温に制御することが可能となる。さらに、このような放熱フィン３４５は吐出ヘッド群１００の裏側に配設することも可能で、これにより吐出前のインクを確実に冷却することができる。
【００２４】
以上のような構成の本実施形態のインクジェット装置１は、その粘度が経時的に変化するインクに特化した装置とされている。つまり、タンク５００に貯蔵しておいたインクについて、その粘度が経時的に増加したとしても、タンク５００に配設されたヒータ３２０の作動により所定の温度（ここではインクを構成する溶質のガラス転移温度以下、具体的には６０℃〜１２０℃（具体的には８０℃））に加熱するものとしているため、該インクの粘度を貯蔵当初の状態に戻すことが可能となり、安定した吐出を行うことができるようになる。なお、吐出を行いながらインクの供給パイプの加熱を行う場合に、供給パイプ内のインクの移動速度を考慮して実質のインクの加熱時間が５〜３０分程度となるように加熱するのが良い。
インクの加熱は温度が高いほど短い時間の処理で、インクを調製した当初の粘度に戻すことが可能であるが、溶質として使用する高分子材料（発光材料、正孔注入／輸送材料等）のガラス転移温度以上の温度とすると高分子材料が劣化し、所望の特性が得られなくなるおそれがある。高分子の発光材料は１５０℃〜２５０℃のガラス転移を有するものが多いため、マージンを考慮して１２０℃以下とすることが望ましい。また、６０℃未満の温度ではインクを調製した当初の粘度に戻す効果が得られないか、或いはその効果が得られるまでの処理時間が長くなり、インクジェット装置の稼働率を保つことが難しくなる。
【００２５】
そして更に、加熱したインクを吐出前に室温付近まで冷却しているため、吐出ヘッド群１００に設けられたノズル開口６２１付近でインクの乾燥による高粘度化や固形化が発生することは無く、これによりノズル開口６２１の目詰まり等の不具合発生が防止ないし抑制されている。
また、強制的に冷却を行う手段を有することでインクの加熱手段を吐出ヘッドに近い位置に配設することが可能となるため、加熱手段から吐出ヘッドの間にあるインクの量を少なくすることができる。従って、加熱処理を行ったインクをより短い経過時間で吐出することができ、吐出の安定性が向上する。さらに冷却装置３４０を吐出ヘッド群１００も含めて冷却するように配設してもよい。これにより、更に加熱手段から吐出ヘッドの間にあるインクの量を少なくすることができるとともに、吐出ヘッド郡１００の温度の安定化を図ることもできる。
【００２６】
次に、上記インクジェット装置１を用いたインクの吐出手順を説明すると、まず、用いるインクをタンク５００内に供給してインクの貯蔵を行う。ここでは、フルオレン骨格を有する高分子材料を、ベンゼン系若しくはビフェニル系溶媒（例えばイソプロピルビフェニル、シクロへキシルベンゼン、ジメチルジフェニルエーテル）に溶解ないし分散させたインクを用いた。このインクは、図６に示すように粘度が経時変化するものである。なお、図６は粘度の経時変化を示すグラフであって、縦軸は粘度を、横軸は時間変化を示している。
【００２７】
その後、制御装置６を作動させることにより、供給パイプ４００を介してタンク５００から吐出ヘッドにインクを供給する。そして、吐出ヘッドの作動に基づいて基板Ｗの所定領域にインクが吐出される。この場合、必要に応じて、第１ヒータ３２０でタンク５００を加熱することで、インクを加熱し、該インクの粘度を貯蔵当初の粘度に回復させるものとしている。また、第２ヒータ３３０で供給途上のインクを加熱することで粘度の回復を一層高めるものとしている。そして、吐出直前に冷却装置３４０でインクを常温に戻し、吐出の安定性を向上させている。
【００２８】
（有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）装置の製造）
上記実施形態の吐出方法で有機ＥＬ装置を製造する方法について説明する。製造する有機ＥＬ装置は、図５に示すような構成を有するものである。すなわち、本実施形態に係る有機ＥＬ装置２００は、ガラス等からなる透明な基体２と、マトリックス状に配置された発光素子とを具備している。ここで、発光素子は、画素電極１１１と、機能層（有機ＥＬ層）１１０と、陰極１２とにより構成されている。なお、画素電極１１１はＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電膜にて構成されており、陰極１２はアルミニウム等の光反射性導電膜にて構成されている。
【００２９】
基体２上には、画素電極１１１と、前記機能層１１０を区画するバンク部１２２とが配設されている。バンク部１２２は、基体２側に位置する無機物バンク層（第１バンク層）１１２ａと、陰極１２側に位置する有機物バンク層（第２バンク層）１１２ｂとが積層されて構成されている。
【００３０】
次に、機能層１１０は、画素電極１１１上に積層された正孔注入／輸送層１１０ａと、正孔注入／輸送層１１０ａ上に隣接して形成された発光層１１０ｂとから構成されている。正孔注入／輸送層１１０ａは、正孔を発光層１１０ｂに注入する機能を有するとともに、正孔を正孔注入／輸送層１１０ａ内部において輸送する機能を有する。また、発光層１１０ｂでは、正孔注入／輸送層１１０ａから注入された正孔と、陰極１２から注入される電子が発光層で再結合し、発光が得られる。
【００３１】
また、発光層１１０ｂは、赤色（Ｒ）に発光する赤色発光層１１０ｂ1、緑色（Ｇ）に発光する緑色発光層１１０ｂ2、及び青色（Ｂ）に発光する青色発光層１１０ｂ3、の３種類を有し、各発光層１１０ｂ1〜１１０ｂ3がストライプ配置されている。
【００３２】
続いて、上記有機ＥＬ装置２００の製造方法について説明する。本実施形態の有機ＥＬ装置を製造する工程は、隔壁（バンク部）形成工程と、正孔注入／輸送層形成工程と、発光層形成工程と、陰極形成工程と、封止工程とから基本的に構成される。これらの工程のうち、上記実施形態のインクジェット装置１を用いた液滴吐出方法を好適に適用できるのは、正孔注入／輸送層形成工程と、発光層形成工程である。
【００３３】
隔壁形成工程では、必要に応じてＴＦＴ等が予め設けられている基体２に形成されたＩＴＯ等からなる透明電極１１１上に、各画素領域を隔てるバンク部（隔壁）１２０を形成するにより行う。具体的には、無機材料からなる無機物バンク層１１２ａと、有機材料からなる有機物バンク層１１２ｂとを、それぞれフォトリソグラフィ技術を用いてパターン形成するものとしている。
【００３４】
次に、正孔注入／輸送層形成工程では、正孔注入／輸送層形成材料（正孔注入／輸送層形成インク）を上述した液滴吐出方法を用いて、各画素領域に吐出する。正孔注入／輸送層形成材料としては、例えばポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。吐出後の正孔注入／輸送層形成材料を乾燥処理して正孔注入／輸送層形成材料に含まれる極性溶媒を蒸発させることにより、正孔注入／輸送層１１０ａが形成される。
上記の正孔注入／輸送層形成材料と極性溶媒により調製したインク組成物にも、大きなものでは無いが、インクの粘度、弾性率等の経時的な変化が見られる。このため、インクタンク或いはインク供給パイプに加熱機構を設け、インクの加熱処理を行うことで、より安定した吐出および再現性の高い乾燥処理が可能となる。従って均一な膜厚の正孔注入／輸送層１１０ａを安定して形成することができる。
【００３５】
次に、発光層形成工程では、発光層形成材料（発光層形成インク）を上記実施形態の吐出方法を用いて、各画素領域の正孔注入／輸送層上に吐出する。発光層形成材料は、各色に対応した有機ＥＬ材料等の溶質成分と非極性溶媒とから構成される。有機ＥＬ材料として、フルオレン系高分子誘導体に、非極性溶媒として、イソプロピルビフェニル、シクロヘキシルベンゼン、ジメチルジフェニルエーテルを用いている。これらの材料の組み合わせは、良好な特性の発光層を形成できるものであるが、発光層形成インクの粘度が変化し易く、安定した吐出及び成膜が難しいものであった。しかし、インクタンク或いはインク供給パイプに加熱機構を設け、インクの加熱処理を行うことで、安定した吐出および再現性の高い乾燥処理が可能となる。このため、均一な膜厚の発光層１１０ｂを安定して形成することが可能となっている。また、有機ＥＬ材料としては、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体や、ポリフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、その他ベンゼン誘導体に可溶な有機ＥＬ材料等を用いることができる。非極性溶媒としては、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。これらの材料の組み合わせを用いる場合でも、インクタンク或いはインク供給パイプに加熱機構を設け、インクの加熱処理をことで、より安定した吐出及び成膜が可能となっている。吐出後の発光層形成材料を乾燥処理することにより発光層形成材料に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、発光層１１０ｂが形成される。
【００３６】
次に陰極形成工程では、発光層１１０ｂ及びバンク部１２２の全面に陰極１２を形成する。また、封止工程では、陰極１２上の全面に熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる封止材を塗布し、封止層を形成する。さらに、封止層上に封止用基板を積層する。以上の工程により図５に示した有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００３７】
以上、本発明の実施の形態を示したが、本発明は上記実施の形態に限られるものではない。例えば、インクジェット装置１において、供給パイプ（移送手段）とタンク（貯蔵手段）の双方にヒータ（加熱手段）を設ける構成としたが、いずれか一方にヒータを設けるものとしても良い。また、冷却装置３４０は恒温循環装置に限らず、ヒータと同様、温度制御部により加熱・冷却を制御可能な構成としても良い。さらに、当該インクジェット装置１を用いて有機ＥＬ装置を製造する例を示したが、その他の配線形成工程、カラーフィルタ製造工程等においても当該インクジェット装置１を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明を適用したインクジェット装置の構成を示す概略斜視図である。
【図２】図１に示すインクジェット装置の吐出動作に対する制御系の構成を示すブロック図である。
【図３】図１に示すインクジェット装置の温度制御のための構成を示すブロック図である。
【図４】加熱手段としてのチラー装置の一例を示すブロック図である。
【図５】インクジェット装置を用いて製造した有機ＥＬ装置の構成を示す断面模式図である。
【図６】粘度の経時変化を示すグラフである。
【図７】冷却手段としての恒温循環装置の一例を示す図である。
【図８】冷却手段として放熱フィンを備えた冷却装置の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００３９】
１…インクジェット装置、１００…吐出ヘッド群（吐出ヘッド）、２００…有機ＥＬ装置、３２０，３３０…ヒータ（加熱手段）、３４０…冷却装置（冷却手段）、４００…供給パイプ（移送手段）、５００…タンク（貯蔵手段）、Ｗ…基板（吐出対象物）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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