(57)【要約】      （修正有）【課題】溶解性及び耐光性に優れ、特に、画像表示装置用の光学フィルター及びレーザ光による光学記録材料に用いられる光学要素に適した化合物を提供すること。【解決手段】式（Ｉ）で表されるシアニン化合物。2006312710.tif 000037（式中、環Ａ1は、置換基を有してもよいベンゼン環又はナフタレン環を表し、Ｂは少くとも窒素１個を含む５員複素環基を表し、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はアリール基を表し、Ｒ２は、メタロセン含有基を表し、Ｙ１は水素原子、有機基又はメタロセン含有基を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表されるシアニン化合物。
【化１】
2006312710.tif 000029
（式中、環Ａ1は、置換基を有してもよいベンゼン環又はナフタレン環を表し、Ｂは、下記一般式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）で表される基を表し、Ｒ1は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、Ｒ2は、下記一般式（ＩＶ）で表される置換基を表し、Ｙ1は水素原子、炭素原子数１〜３０の有機基又は下記一般式（ＩＶ）で表される置換基を表す。）
【化２】
2006312710.tif 000030
（上記一般式（II）中、Ｙ2は上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基を表し、Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、−ＣＲ3Ｒ4−、−ＮＨ−又は−ＮＹ’−を表し、Ｒ3及びＲ4は、各々独立に炭素原子数１〜４のアルキル基、下記一般式（ＩＶ）で表される基、下記一般式（Ｖ）で表される基又は連結して３〜１０員環を形成する基を表し、Ｙ’は、炭素原子数１〜３０の有機基を表し、Ｒ21、Ｒ22は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、Ｒ21とＲ22とは結合して環構造を形成してもよい。:上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ5は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1と同様の基を表し、Ｙ3は上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基を表し、Ｒ21、Ｒ22は上記一般式（ＩＩ）におけるＲ21、Ｒ22と同様の基を表す。）
【化３】
2006312710.tif 000031
（式中、Ｒa〜Ｒiは各々独立に水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基中のメチレン基は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置換されていてもよく、Ｚは直接結合又は置換基を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中のメチレン基は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−−Ｎ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、ＭはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｐｔ又はＩｒを表す。）
【化４】
2006312710.tif 000032
（式中、Ｒ6〜Ｒ9はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ6とＲ7とは結合して環構造を形成してもよい。）
【請求項２】
下記一般式（ＶＩ）又は(ＶＩＩ)で表されるシアニン化合物。
【化５】
2006312710.tif 000033
（式中、環Ａ2は上記一般式（Ｉ）における環Ａ1と同様の基を表し、Ｙ4及びＹ5は各々独立に上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基を表し、Ｘ2は上記一般式（Ｉ）におけるＸ1と同様の基を表し、Ｒ10は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ1と同様の基を表し、Ｒ11は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ2と同様の基を表し、Ｒ23及びＲ24は、上記一般式(ＩＩ)及び(ＩＩＩ)におけるＲ21及びＲ22と同様の基を表し、ｎは０〜６の整数を表し、ポリメチン鎖は置換基を有していてもよく、Ａｎq-はｑ価のアニオンを表し、ｑは１又は２を表し、ｐは電荷を中性に保つ係数を表す。）
【請求項３】
上記一般式（Ｉ）における環Ａ1が、置換基を有してもよいベンゼン環である請求項１記載のシアニン化合物。
【請求項４】
上記一般式（ＩＩ）におけるＲ21及びＲ22が、結合して置換基を有してもよいベンゼン環を形成する請求項１又は３記載のシアニン化合物。
【請求項５】
上記一般式（ＩＩ）におけるＸ1が、−ＣＲ3Ｒ4−である請求項１、３又は４のいずれかに記載のシアニン化合物。
【請求項６】
上記一般式（ＩＩＩ）におけるＲ21及びＲ22が、結合して置換基を有してもよいベンゼン環を形成する請求項１又は３記載のシアニン化合物。
【請求項７】
上記一般式（ＶＩＩ）における環Ａ2が、置換基を有してもよいベンゼン環である請求項２記載のシアニン化合物。
【請求項８】
上記一般式（ＶＩＩ）におけるＲ23及びＲ24が、結合して置換基を有してもよいベンゼン環を形成する請求項２又は７記載のシアニン化合物。
【請求項９】
上記一般式（ＶＩＩ）におけるＸ2が、−ＣＲ3Ｒ4−である請求項２、７又は８のいずれかに記載のシアニン化合物。
【請求項１０】
上記一般式（ＩＶ）におけるＺが、置換基を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基である請求項１〜９のいずれかに記載のシアニン化合物。
【請求項１１】
上記一般式（ＩＶ）におけるＭが、Ｆｅである請求項１〜１０のいずれかに記載のシアニン化合物。
【請求項１２】
下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される請求項１〜１１のいずれかに記載のシアニン化合物の中間体。
【化６】
2006312710.tif 000034
（式中、環Ａ3は上記一般式（Ｉ）における環Ａ1と同様の基を表し、Ｒ12は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ1と同様の基を表し、Ｒ13は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ2と同様の基を表す。）
【請求項１３】
下記一般式(ＩＸ)で表される請求項１〜１１のいずれかに記載のシアニン化合物の中間体。
【化７】
2006312710.tif 000035
（式中、環Ａ4は上記一般式（Ｉ）における環Ａ1と同様の基を表し、Ｙ6は上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基を表し、Ｒ14は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ1と同様の基を表し、Ｒ15は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ2と同様の基を表す。）
【請求項１４】
下記一般式（Ｘ）で表される請求項１〜１１のいずれかに記載のシアニン化合物の中間体
【化８】
2006312710.tif 000036
（式中、環Ａ5は上記一般式（Ｉ）における環Ａ1と同様の基を表し、Ｙ7は上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基を表し、Ｒ16は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ1と同様の基を表し、Ｒ17は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ2と同様の基を表し、Ｒ18は、水素原子又は炭素原子数１〜８のアルキル基を表す。）
【請求項１５】
請求項１〜１１のいずれかに記載のシアニン化合物を含有してなる光学フィルター。
【請求項１６】
請求項１〜１１のいずれかに記載のシアニン化合物が、粘着剤層に含有されていることを特徴とする請求項１５記載の光学フィルター。
【請求項１７】
画像表示装置用である請求項１５又は１６に記載の光学フィルター。
【請求項１８】
上記画像表示装置がプラズマディスプレイである請求項１７記載の光学フィルター。
【請求項１９】
基体上に光学記録層が形成された光学記録媒体の該光学記録層に用いられる、請求項１〜１１のいずれかに記載のシアニン化合物を含有してなる光学記録材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なシアニン化合物、光学フィルター及び光学記録材料に関する。該シアニン化合物は、光学要素等、特に、画像表示装置用の光学フィルターに含有させる光吸収剤、及びレーザ光により記録、再生される光学記録媒体の光学記録層に用いられる光学記録材料に含有させる光学記録剤として有用である。
【背景技術】
【０００２】
５００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲に強度の大きい吸収を有する化合物、特に極大吸収（λmax）が５５０〜６２０ｎｍにある化合物は、ＤＶＤ−Ｒ等の光学記録媒体の光学記録層や、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の画像表示装置用の光学フィルターにおいて、光学要素として用いられている。
【０００３】
上記の光学要素として、例えば、下記特許文献１及び２には、メタロセン結合基を含むシアニン化合物が報告されている。しかし、画像表示装置用の光学フィルター及びレーザ光による光学記録材料に用いられる光学要素には、耐光性、溶解性等の点においてさらなる性能の向上が求められている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−１７１５７１号公報
【特許文献２】特開２００４−２８１０２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、本発明の目的は、溶解性及び耐光性に優れ、特に、画像表示装置用の光学フィルター及びレーザ光による光学記録材料に用いられる光学要素に適した化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、検討を重ねた結果、特定の位置にメタロセン結合基を有する特定のシアニン化合物が、溶解性及び耐光性に優れることを知見した。
【０００７】
本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、下記一般式（Ｉ）、（ＶＩ）又は(ＶＩＩ)で表されるシアニン化合物、該シアニン化合物を含有してなる光学フィルター、及び、基体上に光学記録層が形成された光学記録媒体の該光学記録層に用いられる、該シアニン化合物を含有してなる光学記録材料を提供するものである。
【０００８】
【化１】
2006312710.tif 000002
（式中、環Ａ1は、置換基を有してもよいベンゼン環又はナフタレン環を表し、Ｂは、下記一般式（II）又は(III)で表される基を表し、Ｒ1は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、Ｒ2は、下記一般式（ＩＶ）で表される置換基を表し、Ｙ1は水素原子、炭素原子数１〜３０の有機基又は下記一般式（ＩＶ）で表される置換基を表す。）
【０００９】
【化２】
2006312710.tif 000003
（上記一般式（ＩＩ）中、Ｙ2は上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基を表し、Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、−ＣＲ3Ｒ4−、−ＮＨ−又は−ＮＹ’−を表し、Ｒ3及びＲ4は、各々独立に炭素原子数１〜４のアルキル基、下記一般式（ＩＶ）で表される基、下記一般式（Ｖ）で表される基又は連結して３〜１０員環を形成する基を表し、Ｙ’は、炭素原子数１〜３０の有機基を表し、Ｒ21、Ｒ22は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、Ｒ21とＲ22とは結合して環構造を形成してもよい。:上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ5は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1と同様の基を表し、Ｙ3は上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基を表し、Ｒ21、Ｒ22は上記一般式（ＩＩ）におけるＲ21、Ｒ22と同様の基を表す。）
【００１０】
【化３】
2006312710.tif 000004
（式中、Ｒa〜Ｒiは各々独立に水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基中のメチレン基は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置換されていてもよく、Ｚは直接結合又は置換基を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中のメチレン基は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−−Ｎ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、ＭはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｐｔ又はＩｒを表す。）
【００１１】
【化４】
2006312710.tif 000005
（式中、Ｒ6〜Ｒ9はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ6とＲ7とは結合して環構造を形成してもよい。）
【００１２】
【化５】
2006312710.tif 000006
（式中、環Ａ2は上記一般式（Ｉ）における環Ａ1と同様の基を表し、Ｙ4及びＹ5は各々独立に上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基を表し、Ｘ2は上記一般式（Ｉ）におけるＸ1と同様の基を表し、Ｒ10は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ1と同様の基を表し、Ｒ11は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ2と同様の基を表し、Ｒ23及びＲ24は、上記一般式(ＩＩ)及び（ＩＩＩ）におけるＲ21及びＲ22と同様の基を表し、ｎは０〜６の整数を表し、ポリメチン鎖は置換基を有していてもよく、Ａｎq-はｑ価のアニオンを表し、ｑは１又は２を表し、ｐは電荷を中性に保つ係数を表す。）
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、光学要素として適する溶解性及び耐光性に優れた新規なシアニン化合物を提供することができる。また、該シアニン化合物を用いた光学フィルターは、画像表示用光学フィルターとして好適なものであり、該シアニン化合物を含有してなる光学記録材料は、光学記録媒体の光学記録層の形成に好適に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明のシアニン化合物、並びに該シアニン化合物を含有してなる光学フィルター及び光学記録材料について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。
【００１５】
まず、上記一般式（Ｉ）、（ＶＩ）又は(ＶＩＩ)で表される本発明のシアニン化合物について説明する。
上記一般式（Ｉ）における環Ａ1及び上記一般式（ＶＩ）及び(ＶＩＩ)における環Ａ2で表される置換基を有してもよいベンゼン環又はナフタレン環の置換基としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等のアルキル基(好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基)；該アルキル基(好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基)のハロゲン置換体；メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、プロポキシ、ブトキシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ等のアルコキシ基；該アルコキシ基のハロゲン置換体；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ等のアルキルチオ基(好ましくは炭素原子数１〜８のアルキルチオ基)；フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、２，５−ジ第三ブチルフェニル、２，６−ジ−第三ブチルフェニル、２，４−ジ第三ペンチルフェニル、２，５−ジ第三アミルフェニル、２，５−ジ第三オクチルフェニル、２，４−ジクミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェニル、２，４，５−トリメチルフェニル、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリール基(好ましくは炭素原子数６〜３０のアリール基)；ニトロ基；シアノ基等が挙げられる。
【００１６】
上記一般式（Ｉ）におけるＲ1、上記一般式（ＩＩ）及び(ＩＩＩ)におけるＲ21及びＲ22、上記一般式（ＩＩＩ）におけるＲ5、上記一般式（ＶＩ）及び(ＶＩＩ)におけるＲ10、Ｒ23及びＲ24で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、Ｒ1、Ｒ5、Ｒ10、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23及びＲ24で表される炭素原子数１〜８のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられ、Ｒ1、Ｒ5、Ｒ10、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23及びＲ24で表される炭素原子数１〜８のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、イソプロピルオキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ等が挙げられ、Ｒ1、Ｒ5、Ｒ10、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23及びＲ24で表される炭素原子数６〜３０のアリール基としては、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、２，５−ジ第三ブチルフェニル、２，６−ジ−第三ブチルフェニル、２，４−ジ第三ペンチルフェニル、２，５−ジ第三アミルフェニル、２，５−ジ第三オクチルフェニル、２，４−ジクミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェニル、２，４，５−トリメチルフェニル、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等が挙げられ、Ｒ21とＲ22と、並びにＲ23とＲ24とが結合して形成される環構造としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロペンタジエン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ジヒドロピロール環、ピリジン環、ピラン環、イソキサゾール環、ピラジン環、ピリミジン環、ポリダジン環、ピラゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、キノリン環、カルバゾール環等が挙げられ、これらの環はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい。
【００１７】
上記一般式（Ｉ）におけるＹ1、上記一般式（ＩＩ）におけるＹ2、上記一般式（ＩＩＩ）におけるＹ3、並びに上記一般式（ＶＩ）及び(ＶＩＩ)におけるＹ4及びＹ5で表される炭素原子数１〜３０の有機基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ペプタデシル、オクタデシル等のアルキル基、ビニル、１−メチルエテニル、２−メチルエテニル、プロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、１−フェニルプロペン−３−イル等のアルケニル基、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、シクロヘキシルフェニル等のアルキルアリール基、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基等、それがエーテル結合、チオエーテル結合で中断されたもの、例えば、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、３−メトキシブチル、２−フェノキシエチル、３−フェノキシプロピル、２−メチルチオエチル、２−フェニルチオエチル等が挙げられる。
【００１８】
上記一般式（ＩＩ）におけるＸ1及び上記一般式（ＶＩ）及び(ＶＩＩ)におけるＸ2中の基であるＲ3及びＲ4で表される炭素原子数１〜４のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル等が挙げられる。Ｒ3とＲ4が連結して形成される３〜１０員環の基としては、シクロプロパン−１，１−ジイル、シクロブタン−１，１−ジイル、２，４−ジメチルシクロブタン−１，１−ジイル、３−ジメチルシクロブタン−１，１−ジイル、シクロペンタン−１，１−ジイル、シクロヘキサン−１，１−ジイル、テトラヒドロピラン−４，４−ジイル、チアン−４，４−ジイル、ピペリジン−４，４−ジイル、Ｎ−置換ピペリジン−４，４−ジイル、モルホリン−２，２−ジイル、モルホリン−３，３−ジイル、Ｎ−置換モルホリン−２，２−ジイル、Ｎ−置換モルホリン−３，３−ジイル等が挙げられ、そのＮ−置換基としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等のアルキル基；該アルキル基のハロゲン置換体；メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、プロポキシ、ブトキシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ等のアルコキシ基；該アルコキシ基のハロゲン置換体；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ等のアルキルチオ基；ニトロ基；シアノ基等が挙げられる。Ｘ1及びＸ2中の基であるＹ’で表される炭素原子数１〜３０の有機基としては、上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基が挙げられる。
【００１９】
上記一般式（ＩＶ）におけるＲa〜Ｒiで表される炭素原子数１〜４のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル等が挙げられ、該アルキル基中のメチレン基が−Ｏ−で置換された基としては、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、２−メトキシエチル等が挙げられ、該アルキル基中のメチレン基が−ＣＯ−で置換された基としては、アセチル、１−カルボニルエチル、アセチルメチル、１−カルボニルプロピル、２−オキソブチル、２−アセチルエチル、１−カルボニルイソプロピル等が挙げられる。上記一般式(ＩＶ)におけるＺで表される置換基を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、ブチレン、１−メチルプロピレン、２−メチルプロピレン、１，２−ジメチルプロピレン、１，３−ジメチルプロピレン、１−メチルブチレン、２−メチルブチレン、３−メチルブチレン、４−メチルブチレン、２，４−ジメチルブチレン、１，３−ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、エタン−１，１−ジイル、プロパン−２，２−ジイル等が挙げられ、該アルキレン基中のメチレン基が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−−Ｎ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換された基としては、メチレンオキシ、エチレンオキシ、オキシメチレン、チオメチレン、カルボニルメチレン、カルボニルオキシメチレン、メチレンカルボニルオキシ、スルホニルメチレン、アミノメチレン、アセチルアミノ、エチレンカルボキシアミド、エタンイミドイル、エテニレン、プロペニレン等が挙げられる。
【００２０】
上記一般式（Ｖ）において、Ｒ6〜Ｒ9で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。Ｒ6〜Ｒ9で表されるハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル等が挙げられる。Ｒ6〜Ｒ9で表されるハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ、トリフルオロメチルオキシ等が挙げられる。Ｒ5とＲ6とが結合して形成される環構造としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロペンタジエン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ジヒドロピロール環、ピリジン環、ピラン環、イソキサゾール環、ピラジン環、ピリミジン環、ポリダジン環、ピラゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、キノリン環、カルバゾール環等が挙げられ、これらの環はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい。
【００２１】
上記一般式（ＶＩ）及び(ＶＩＩ)において、Ａｎq-で表されるアニオンとしては、例えば、一価のものとして、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、フッ素アニオン等のハロゲンアニオン；過塩素酸アニオン、塩素酸アニオン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リンアニオン、六フッ化アンチモンアニオン、四フッ化ホウ素アニオン等の無機系アニオン；ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ジフェニルアミン−４−スルホン酸アニオン、２−アミノ−４−メチル−５−クロロベンゼンスルホン酸アニオン、２−アミノ−５−ニトロベンゼンスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン；オクチルリン酸アニオン、ドデシルリン酸アニオン、オクタデシルリン酸アニオン、フェニルリン酸アニオン、ノニルフェニルリン酸アニオン、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）ホスホン酸アニオン等の有機リン酸系アニオン等が挙げられ、二価のものとしては、例えば、ベンゼンジスルホン酸アニオン、ナフタレンジスルホン酸アニオン等が挙げられる。また、励起状態にある活性分子を脱励起させる（クエンチングさせる）機能を有するクエンチャーアニオンやシクロペンタジエニル環にカルボキシル基やホスホン酸基、スルホン酸基等のアニオン性基を有するフェロセン、ルテオセン等のメタロセン化合物アニオン等も、必要に応じて用いることができる。
【００２２】
上記のクエンチャーアニオンとしては、例えば、下記一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表されるもの、特開昭６０−２３４８９２号公報、特開平５−４３８１４号公報、特開平５−３０５７７０号公報、特開平６−２３９０２８号公報、特開平９−３０９８８６号公報、特開平９−３２３４７８号公報、特開平１０−４５７６７号公報、特開平１１−２０８１１８号公報、特開２０００−１６８２３７号公報、特開２００２−２０１３７３号公報、特開２００２−２０６０６１号公報、特開２００５−２９７４０７号公報、特公平７−９６３３４号公報、国際公開９８／２９２５７号パンフレット等に記載されたようなアニオンが挙げられる。
【００２３】
【化６】
2006312710.tif 000007
（式中、Ｍは、ニッケル原子又は銅原子を表し、Ｒ14及びＲ15は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基又は−ＳＯ2−Ｇ基を表し、Ｇは、アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、ピペリジノ基又はモルフォリノ基を表し、ａ及びｂは、各々０〜４を表す。また、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は、各々独立にアルキル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基又はハロゲン化フェニル基を表す。）
【００２４】
上記一般式（Ｉ）におけるＹ1、上記一般式（ＩＩ）におけるＹ2、上記一般式（ＩＩ）におけるＸ1及び上記一般式（ＶＩ）及び(ＶＩＩ)におけるＸ2中の基であるＹ’、上記一般式（ＩＩＩ）におけるＹ3、並びに上記一般式（ＶＩ）及び(ＶＩＩ)におけるＹ4及びＹ5の導入方法は、特に制限されるものではないが、例えば、Ｙ1は、３Ｈ−インドール誘導体のＮＨ基とＨａｌ−Ｙ1（Ｈａｌ：フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）等のハロゲン化有機化合物とを反応させることで導入することができる。Ｙ2〜Ｙ5及びＹ’もＹ1の導入方法に準じて導入可能である。Ｙ1、Ｙ2、Ｙ’、Ｙ3、Ｙ4、及びＹ5は、炭素原子数が大きくなると分子量が大きくなり、これらの基を有する上記一般式（Ｉ）又は（Ｖ）で表される本発明のシアニン化合物のモル吸光係数が低下する場合があるので、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ’、Ｙ3、Ｙ4、及びＹ5それぞれの炭素原子数は、２０以下が好ましく、１０以下がより好ましい。
【００２５】
上記一般式（Ｉ）で表される本発明のシアニン化合物の中でも、上記一般式（Ｉ）においてＢが上記一般式（ＩＩ）で表される基である場合は、上記一般式（Ｉ）における環Ａ1が置換基を有してもよいベンゼン環であるもの；上記一般式（ＩＩ）におけるＲ21とＲ22とが結合して置換基を有してもよいベンゼン環を形成するもの；上記一般式（ＩＩ）におけるＸ1が−ＣＲ3Ｒ4−であるものが、特にコスト及び耐光性の点で優れるので好ましい。従って、上記一般式（Ｉ）においてＢが上記一般式（ＩＩ）で表される基である場合の特に好ましい代表例としては、下記一般式（１）で表されるシアニン化合物が挙げられる。
【００２６】
【化７】
2006312710.tif 000008
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｙ1及びＹ2は、上記一般式（Ｉ）及び上記一般式（ＩＩ）においてと同様の基を表し、Ｒ1'及びＲ2'は、各々独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、該アルキル基のハロゲン置換体、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、該アルコキシ基のハロゲン置換体、炭素原子数１〜８のアルキルチオ基又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、ｍ1及びｍ2は各々独立に０〜４の整数を表す。）
【００２７】
本発明のシアニン化合物の中でも、上記一般式（Ｉ）においてＢが上記一般式（ＩＩＩ）で表される基である場合は、上記一般式（Ｉ）における環Ａ1が置換基を有してもよいベンゼン環であるもの；上記一般式（ＩＩＩ）におけるＲ21とＲ22とが結合して置換基を有してもよいベンゼン環を形成するものが、特にコスト及び耐光性の点で優れるので好ましい。従って、上記一般式（Ｉ）においてＢが上記一般式（ＩＩＩ）で表される基である場合の特に好ましい代表例としては、下記一般式（２）で表されるシアニン化合物が挙げられる。
【００２８】
【化８】
2006312710.tif 000009
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ5、Ｙ1及びＹ3は、上記一般式（Ｉ）及び上記一般式（III）においてと同様の基を表し、Ｒ1'及びｍ1は、上記一般式(Ｉ)においてと同様の基を表し、Ｒ3'は、上記一般式（１）におけるＲ1'と同様の基を表し、ｍ3は０〜４の整数を表す。）
【００２９】
上記一般式（ＶＩＩ）で表される本発明のシアニン化合物の中でも、上記一般式（ＶＩＩ）において、環Ａ2が置換基を有してもよいベンゼン環であるもの；Ｒ23とＲ24とが結合して置換基を有してもよいベンゼン環を形成するもの；Ｘ2が−ＣＲ3Ｒ4−であるものが、特にコスト及び耐光性の点で優れるので好ましい。従って、上記一般式（ＶＩＩ）において特に好ましい代表例としては、下記一般式（３）で表されるシアニン化合物が挙げられる。
【００３０】
【化９】
2006312710.tif 000010
（式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ3、Ｒ4、Ｙ4、Ｙ5及びｎは、上記一般式（ＩＩ）、（ＶＩ）及び(ＶＩＩ)においてと同様の基を表し、Ｒ4' 及びＲ5'は、各々独立に上記一般式（１）におけるＲ1'と同様の基を表し、ｍ4及びｍ5は各々独立に０〜４の整数を表す。）
【００３１】
また、上記一般式（Ｉ）、（ＶＩ）又は(ＶＩＩ)で表される本発明のシアニン化合物が有する上記一般式（ＩＶ）で表される置換基は、上記一般式（ＩＶ）におけるＺが置換基を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基であるもの；ＭがＦｅであるものが好ましい。従って、上記一般式（ＩＶ）で表される置換基の中でも、下記一般式（４）で表される置換基が特に好ましい。
【００３２】
【化１０】
2006312710.tif 000011
（式中、Ｒa〜Ｒiは、上記一般式（ＩＶ）においてと同様であり、Ｚは置換基を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基を表す。）
【００３３】
上記一般式（Ｉ）、(ＶＩ)又は（ＶＩＩ）で表される本発明のシアニン化合物の具体例としては、下記化合物Ｎｏ．１〜３０が挙げられる。
【００３４】
【化１１】
2006312710.tif 000012
【００３５】
【化１２】
2006312710.tif 000013
【００３６】
【化１３】
2006312710.tif 000014
【００３７】
【化１３Ａ】
2006312710.tif 000015
【００３８】
上記一般式（Ｉ）で表される本発明のシアニン化合物は、その製造方法は特に限定されず、周知一般の反応を利用した方法で得ることができるが、製造方法としては、例えば、下記[化１４]に示されるルートの如く、該当する構造を有する環構造を誘導する化合物及びスクエア酸誘導体の反応により合成する方法が挙げられる。尚、下記[化１４]は、上記一般式（Ｉ）におけるＢが上記一般式（ＩＩＩ）で表される基であるシアニン化合物の製造方法を示しているが、Ｂが上記一般式（ＩＩ）で表される基である場合も、該製造方法に準じて製造することができる。
【００３９】
【化１４】
2006312710.tif 000016
（式中、環Ａ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ21、Ｒ22、Ｙ1及びＹ2は、上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩＩ）と同様であり、Ｒは、アルキル基を表し、Ｄ-は、ハロゲンアニオン又はスルホニルオキシアニオンを表す。）
【００４０】
上記[化１４]において、Ｄで表されるハロゲンとしては、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、スルホニルオキシとしては、フェニルスルホニルオキシ、４−メチルスルホニルオキシ、４−クロロスルホニルオキシ等が挙げられる。
【００４１】
上記[化１４]における中間体ｂは、下記[化１５]に示されるルートにより、中間体ａから合成することができる。
【００４２】
【化１５】
2006312710.tif 000017
（式中、環Ａ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｙ1及びＹ2は、上記一般式（Ｉ）と同様であり、Ｄ-は、ハロゲンアニオン又はスルホニルオキシアニオンを表す。）
【００４３】
上記中間体ａは、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表すことができる。
【００４４】
【化１６】
2006312710.tif 000018
（上記一般式（ＶＩＩＩ）中、環Ａ3は上記一般式（Ｉ）における環Ａ1と同様の基を表し、Ｒ12は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ1と同様の基を表し、Ｒ13は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ2と同様の基を表す。）
【００４５】
上記中間体ａの具体例としては、下記化合物Ｎｏ．３１〜３９が挙げられる。
【００４６】
【化１７】
2006312710.tif 000019
【００４７】
上記中間体ａは、例えば下記[化１８Ａ]のようにして製造することができる。
【００４８】
【化１８Ａ】
2006312710.tif 000020
【００４９】
上記[化１５]における中間体ｂは、下記一般式（ＩＸ）で表すことができる。
【００５０】
【化１８】
2006312710.tif 000021
（上記一般式（ＩＸ）中、環Ａ4は上記一般式（Ｉ）における環Ａ1と同様の基を表し、Ｙ6は上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基を表し、Ｒ14は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ1と同様の基を表し、Ｒ15は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ2と同様の基を表す。）
【００５１】
上記中間体ｂの具体例としては、下記化合物Ｎｏ．４０〜４８が挙げられる。
【００５２】
【化１９】
2006312710.tif 000022
【００５３】
上記[化１４]における中間体ｃは、下記一般式（Ｘ）で表すことができる。
【００５４】
【化２０】
2006312710.tif 000023
（上記一般式（Ｘ）中、環Ａ5は上記一般式（Ｉ）における環Ａ1と同様の基を表し、Ｙ7は上記一般式（Ｉ）におけるＹ1と同様の基を表し、Ｒ16は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ1と同様の基を表し、Ｒ17は、上記一般式（Ｉ）におけるＲ2と同様の基を表し、Ｒ18は、水素原子又は炭素原子数１〜８のアルキル基を表す。）
【００５５】
上記中間体ｃの具体例としては、下記化合物Ｎｏ．４９〜５７が挙げられる。
【００５６】
【化２１】
2006312710.tif 000024
【００５７】
上記一般式（ＶＩ）又は(ＶＩＩ)で表される本発明のシアニン化合物は、その製造方法は特に限定されず、周知一般の反応を利用した方法で得ることができるが、製造方法としては、例えば、下記[化２２]に示されるルートの如く中間体ｂから合成する方法が挙げられる。尚、下記[化２２]は、上記一般式(ＶＩ)で表されるシアニン化合物の製造方法を示しているが、上記一般式(ＶＩＩ)で表されるシアニン化合物についても、該製造方法に準じて製造することができる。
【００５８】
【化２２】
2006312710.tif 000025
【００５９】
上述した本発明のシアニン化合物は、５００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の光に対する光学要素、特に５５０〜６２０ｎｍの範囲の光に対する光学要素として好適である。該光学要素とは、特定の光を吸収することにより機能を発揮する要素のことであり、具体的には、光吸収剤、光学記録剤、光増感剤等が挙げられる。例えば、光学記録剤は、ＤＶＤ−Ｒ等の光学記録媒体における光学記録層に用いられ、光吸収剤は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の画像表示装置用、あるいは分析装置用、半導体装置製造用、天文観測用、光通信用等の光学フィルターに用いられる。
【００６０】
本発明のシアニン化合物は、光学特性及び光安定性に優れるばかりでなく、吸光係数が高いため、添加量が少なくて済むという特徴を有し、また有機溶剤に対する溶解性が大きいという特徴も有している。これらの特徴は、光学記録媒体や光学フィルターへの応用に有利である。
【００６１】
例えば、光学記録媒体へ応用する場合、光学ディスク等の光学記録層の形成には、光学記録剤を有機溶剤に溶解した溶液をスピンコートやスプレー等で塗布する方法が一般的に用いられているので、光学記録剤として用いる化合物は、有機溶剤に対する溶解性が大きい方が光学記録層形成プロセスマージンが大きくなり有利である。また、一般に、有機溶剤への溶解性が大きい化合物は、合成樹脂との相溶性も良好であるので、合成樹脂中へ光学要素を均一に分散又は相溶させることが必要である光学フィルターの製造においても有利である。
【００６２】
次に、本発明のシアニン化合物を含有する本発明の光学フィルターについて以下に説明する。
本発明の光学フィルターは、特に画像表示装置用において、本発明のシアニン化合物の使用量は、光学フィルターの単位面積当たり、通常１〜１０００ｍｇ／ｍ2、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2である。１ｍｇ／ｍ2未満の使用量では、光吸収効果を十分に発揮することができず、１０００ｍｇ／ｍ2を超えて使用した場合には、フィルターの色目が強くなりすぎて表示品質等を低下させるおそれがあり、さらには、明度が低下するおそれもある。
【００６３】
本発明の光学フィルターは、画像表示装置用として用いる場合、通常ディスプレイの前面に配置される。例えば、本発明の光学フィルターは、ディスプレイの表面に直接貼り付けてもよく、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側（外側）または裏側（ディスプレイ側）に光学フィルターを貼り付けてもよい。
【００６４】
画像表示装置用として用いる場合、本発明の光学フィルターには、色調調整等のために、本発明のシアニン化合物以外の光吸収剤を用いたり、外光の反射や映り込みを防止するために、本発明のシアニン化合物以外の４８０ｎｍ〜５００ｎｍ対応の光吸収剤を用いてもよい。また、画像表示装置がプラズマディスプレイの場合、７５０〜１１００ｎｍ対応の近赤外線吸収剤を用いてもよい。
【００６５】
色調調整用の上記光吸収剤としては、５５０〜６００ｎｍのオレンジ光の除去のために用いられるものとして、トリメチンインドリウム化合物、トリメチンベンゾオキサゾリウム化合物、トリメチンベンゾチアゾリウム化合物等のトリメチンシアニン誘導体；ペンタメチンオキサゾリウム化合物、ペンタメチンチアゾリウム化合物等のペンタメチンシアニン誘導体；スクアリリウム色素誘導体；アゾメチン色素誘導体；キサンテン色素誘導体；アゾ色素誘導体；ピロメテン色素誘導体；アゾ金属錯体誘導体：ローダミン色素誘導体；フタロシアニン誘導体；ポルフィリン誘導体；ジピロメテン金属キレート化合物等が挙げられる。
【００６６】
また、外光の映り込み防止用の４８０〜５００ｎｍ対応の上記光吸収剤としては、トリメチンインドリウム化合物、トリメチンオキサゾリウム化合物、トリメチンチアゾリウム化合物、インドリデントリメチンチアゾニウム化合物等のトリメチンシアニン誘導体；フタロシアニン誘導体；ナフタロシアニン誘導体；ポルフィリン誘導体；ジピロメテン金属キレート化合物等が挙げられる。
【００６７】
また、赤外リモコン誤作動防止用の７５０〜１１００ｎｍ対応の近赤外線吸収剤としては、ビスイミニウム誘導体；ペンタメチンベンゾインドリウム化合物、ペンタメチンベンゾオキサゾリウム化合物、ペンタメチンベンゾチアゾリウム化合物等のペンタメチンシアニン誘導体；ヘプタメチンインドリウム化合物、ヘプタメチンベンゾインドリウム化合物、ヘプタメチンオキサゾリウム化合物、ヘプタメチンベンゾオキサゾリウム化合物、ヘプタメチンチアゾリウム化合物、ヘプタメチンベンゾチアゾリウム化合物等のヘプタメチンシアニン誘導体；スクアリリウム誘導体；ビス（スチルベンジチオラト）化合物、ビス（ベンゼンジチオラト）ニッケル化合物、ビス（カンファージチオラト）ニッケル化合物等のニッケル錯体；スクアリリウム誘導体；アゾ色素誘導体；フタロシアニン誘導体；ポルフィリン誘導体；ジピロメテン金属キレート化合物等が挙げられる。
【００６８】
本発明の光学フィルターにおいて、上記の色調調整のための光吸収剤、４８０〜５００ｎｍ対応の光吸収剤、及び近赤外線吸収剤は、本発明のシアニン化合物と同一の層に含有されていてもよく、別の層に含有されていてもよい。それらの使用量はそれぞれ、通常光学フィルターの単位面積当たり１〜１０００ｍｇ／ｍ2の範囲であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2である。
【００６９】
本発明の光学フィルターの代表的な構成としては、透明支持体に、必要に応じて、下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層等の各層を設けたものが挙げられる。本発明のシアニン化合物や、本発明のシアニン化合物以外の色素化合物である光吸収剤、各種安定剤の任意成分を本発明の光学フィルターに含有させる方法としては、例えば、（１）透明支持体又は任意の各層に含有させる方法、（２）透明支持体又は任意の各層にコーティングする方法、（３）透明支持体及び任意の各層から選択される任意の隣合う二者間の粘着剤層に含有させる方法、（４）任意の各層とは別に、本発明のシアニン化合物等の光吸収剤等を含有する光吸収層を設ける方法が挙げられる。本発明に係るシアニン化合物は、上記（３）の方法により粘着剤層に含有させるか、又は上記（４）の方法により光吸収材に含有させるのに好適である。
【００７０】
上記透明支持体の材料としては、例えば、ガラス等の無機材料；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロースエステル；ポリアミド；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４'−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリスチレン；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン；ポリメチルメタクリレート、等のアクリル系樹脂；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテルイミド；ポリオキシエチレン、ノルボルネン樹脂などの高分子材料が挙げられる。透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましい。
【００７１】
上記透明支持体中には、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、フェノール系、リン系等の酸化防止剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、無機微粒子等を添加することができ、また、上記透明支持体には、各種の表面処理を施すことができる。
【００７２】
上記無機微粒子としては、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、カオリン等が挙げられる。
【００７３】
上記各種表面処理としては、例えば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理等が挙げられる。
【００７４】
上記下塗り層は、光吸収剤を含有する光吸収層を設ける場合に、透明支持体と光吸収層との間に用いる層である。上記下塗り層は、ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーを含む層、光吸収層側の表面が粗面である層、又は光吸収層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む層として形成する。また、下塗り層は、光吸収層が設けられていない透明支持体の面に設けて、透明支持体とその上に設けられる層（例えば、反射防止層、ハードコート層）との接着力を改善するために設けてもよく、光学フィルターと画像表示装置とを接着するための接着剤と光学フィルターとの親和性を改善するために設けてもよい。下塗り層の厚みは、２ｎｍ〜２０μｍが好ましく、５ｎｍ〜５μｍがより好ましく、２０ｎｍ〜２μｍがさらに好ましく、５０ｎｍ〜１μｍがさらにまた好ましく、８０ｎｍ〜３００ｎｍが最も好ましい。ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーは、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル又はメチルビニルエーテルの重合又はこれらの共重合により得ることができる。ガラス転移温度は、５０℃以下であることが好ましく、４０℃以下であることがより好ましく、３０℃以下であることがさらに好ましく、２５℃以下であることがさらにまた好ましく、２０℃以下であることが最も好ましい。下塗り層の２５℃における弾性率は、１〜１０００ＭＰａであることが好ましく、５〜８００ＭＰａであることがさらに好ましく、１０〜５００ＭＰａであることが最も好ましい。光吸収層の表面が粗面である下塗り層は、粗面の上に光吸収層を形成することで、透明支持体と光吸収層とを接着する。光吸収層の表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテックスの塗布により容易に形成することができる。ラテックスの平均粒径は、０．０２〜３μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。光吸収層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーとしては、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、可溶性ナイロン及び高分子ラテックス等が挙げられる。また、本発明の光学フィルターには、二以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤、硬膜剤等を添加してもよい。
【００７５】
上記反射防止層においては、低屈折率層が必須である。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５０であることがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、５０〜４００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平３−１３０１０３号、特開平６−１１５０２３号、特開平８−３１３７０２号、特開平７−１６８００４号の各公報記載）、ゾルゲル法により得られる層（特開平５−２０８８１１号、特開平６−２９９０９１号、特開平７−１６８００３号の各公報記載）、あるいは微粒子を含む層（特公昭６０−５９２５０号、特開平５−１３０２１号、特開平６−５６４７８号、特開平７−９２３０６号、特開平９−２８８２０１号の各公報に記載）として形成することができる。微粒子を含む層では、微粒子間又は微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む層は、３〜５０体積％の空隙率を有することが好ましく、５〜３５体積％の空隙率を有することがさらに好ましい。
【００７６】
広い波長領域の反射を防止するためには、上記反射防止層において、低屈折率層に加えて、屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．９０であることが好ましく、１．５５〜１．７０であることがさらに好ましい。中・高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１０μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜１μｍであることが最も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、環状（脂環式又は芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタン等が挙げられる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応により形成されたポリマーを用いてもよい。
【００７７】
さらに高い屈折率を得るため、上記ポリマーバインダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子の屈折率は、１．８０〜２．８０であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。金属の酸化物又は硫化物としては、酸化チタン（例えば、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛等が挙げられる。これらの中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物又は硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他の元素としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ等が挙げられる。被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物（例えばキレート化合物）、活性無機ポリマーを用いて、中・高屈折率層を形成することもできる。
【００７８】
上記反射防止層の表面には、アンチグレア機能（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に移るのを防止する機能）を付与することができる。例えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成してその表面に反射防止層を形成するか、あるいは、反射防止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成することにより、アンチグレア機能を有する反射防止層を得ることができる。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３〜３０％のヘイズを有する。
【００７９】
上記ハードコート層は、上記透明支持体の硬度よりも高い硬度を有する。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマー又はモノマー（例えば紫外線硬化型樹脂）等を用いて形成することができる。シリカ系材料からハードコート層を形成することもできる。
【００８０】
上記反射防止層（低屈折率層）の表面は、潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、低屈折率層表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン（例えばシリコンオイル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤又はその誘導体を用いて形成することができる。潤滑層の厚さは、２〜２０ｎｍであることが好ましい。
【００８１】
本発明のシアニン化合物を光学フィルターに含有させる際に前記「（３）透明支持体及び任意の各層から選択される任意の隣合う二者間の粘着剤層に含有させる方法」を採用する場合には、本発明のシアニン化合物等を粘着剤に含有させた後、該粘着剤を用いて、上述した透明支持体及び任意の各層のうちの隣合う二者を接着すればよい。該粘着剤としては、シリコン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂用接着剤、ポリビニルブチラール接着剤、エチレン−酢酸ビニル系接着剤等の公知の合わせガラス用透明接着剤を用いることができる。また、該粘着剤を用いる場合、必要に応じて、硬化剤として、金属キレート系、イソシアネート系、エポキシ系等の架橋剤を用いることができる。また、粘着剤層の厚みは、２〜４００μｍとすることが好ましい。
【００８２】
前記「（４）任意の各層とは別に、本発明に係るシアニン化合物等の光吸収剤を含有する光吸収層を設ける方法」を採用する場合、本発明のシアニン化合物は、そのまま使用して光吸収層を形成することもできるし、バインダーに分散させて光吸収層を形成することもできる。該バインダーとしては、例えば、ゼラチン、カゼイン、澱粉、セルロース誘導体、アルギン酸等の天然高分子材料、あるいは、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド等の合成高分子材料が用いられる。
【００８３】
上記バインダーを使用する際には、同時に有機溶媒を使用することもでき、該有機溶媒としては、特に限定されることなく公知の種々の溶媒を適宜用いることができ、例えば、イソプロパノール等のアルコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルジグリコール等のエーテルアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類；アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ化アルコール類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類；メチレンジクロライド、ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素類等が挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で又は混合して用いることができる。
【００８４】
また、上記の下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層、光吸収層等は、一般的な塗布方法により形成することができる。塗布方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ホッパーを使用するエクストルージョンコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書記載）等が挙げられる。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時塗布法については、米国特許第２７６１７９１号、米国特許第２９４１８９８号、米国特許第３５０８９４７号、米国特許第３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店発行）に記載がある。
【００８５】
次に、基体上に光学記録層が形成された光学記録媒体の該光学記録層に用いられる、本発明のシアニン化合物を含有してなる本発明の光学記録材料について、以下に説明する。
前記一般式（Ｉ）又は（Ｖ）で表される本発明のシアニン化合物は、情報をレーザ等による熱的情報パターンとして付与することにより記録する光学記録媒体における光学記録層に使用される光学記録材料にも有用であり、特にＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ等の光学記録層に使用される光学記録材料に好適である。なお、本発明の光学記録材料は、光学記録層を形成するために用いられる材料であり、前記一般式（Ｉ）又は（Ｖ）で表される本発明のシアニン化合物及び前記一般式（Ｉ）又は（Ｖ）で表される本発明のシアニン化合物及び後述する有機溶媒や各種化合物との混合物のことである。
【００８６】
上記光学記録媒体の光学記録層の形成方法としては、一般には、メタノール、エタノール等の低級アルコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルジグリコール等のエーテルアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類；アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ化アルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類；メチレンジクロライド、ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素類等の有機溶媒に、本発明のシアニン化合物及び各種化合物を溶解した溶液を、基体上に、スピンコート、スプレー、ディッピング等で塗布する湿式塗布法、蒸着法、スパッタリング法等が挙げられる。
【００８７】
上記光学記録層の厚さは、通常、０．００１〜１０μｍであり、好ましくは０．０１〜５μｍである。
【００８８】
また、本発明の光学記録材料中における本発明のシアニン化合物の含有量は、本発明の光学記録材料に含まれる固形分中、１０〜１００重量％が好ましい。
【００８９】
本発明の光学記録材料は、本発明のシアニン化合物の他に、必要に応じて、他のシアニン系化合物、アゾ系化合物、フタロシアニン系化合物、オキソノール系化合物、スクアリリウム系化合物、スチリル系化合物、ポルフィン系化合物、アズレニウム系化合物、クロコニックメチン系化合物、ピリリウム系化合物、チオピリリウム系化合物、トリアリールメタン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、テトラヒドロコリン系化合物、インドフェノール系化合物、アントラキノン系化合物、ナフトキノン系化合物、キサンテン系化合物、チアジン系化合物、アクリジン系化合物、オキサジン系化合物、スピロピラン系化合物、フルオレン系化合物、ローダミン系化合物等の、通常光学記録層に用いられる化合物；ポリエチレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート等の樹脂類；界面活性剤；帯電防止剤；滑剤；難燃剤；ヒンダードアミン等のラジカル捕捉剤；フェロセン誘導体等のピット形成促進剤；分散剤；酸化防止剤；架橋剤；耐光性付与剤等を含有してもよい。さらに、本発明の光学記録材料は、一重項酸素等のクエンチャーとして芳香族ニトロソ化合物、アミニウム化合物、イミニウム化合物、ビスイミニウム化合物、遷移金属キレート化合物等を含有してもよく、クエンチャーアニオンを用いてもよい。本発明の光学記録材料において、これらの各種化合物は、本発明の光学記録材料に含まれる固形分中、好ましくは０〜５０重量％の範囲となる量で使用される。
【００９０】
また、上記光学記録層上には、金、銀、アルミニウム、銅等を用いて蒸着法あるいはスパッタリング法により反射膜を形成することもできるし、アクリル樹脂、紫外線硬化性樹脂等により保護層を形成することもできる。
【実施例】
【００９１】
以下、実施例及び評価例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例等によって何ら制限を受けるものではない。
【００９２】
[実施例１]化合物Ｎｏ．３１(中間体ａ)の合成
窒素置換した反応フラスコに、２，３−ジメチルインドール３．６ｇ（２５ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１５ｍｌを仕込み、０℃まで冷却した。エチルマグネシウムブロミドの１．０ｍｏｌ／ｌ濃度のＴＨＦ溶液２５ｍｌ（２５ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した後、室温に戻した。室温で２時間攪拌後、ヨードフェロセンブタン９．２ｇ（２５ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ１０ｍｌを加え、７時間加熱還流した。室温に冷却し、２Ｎ塩酸３０ｇを加え、酢酸エチル３０ｇを２回加えて油層を分離し、水洗を行った。無水硫酸ナトリウムによる脱水、脱溶媒を行い、残渣をカラム精製（シリカゲル、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：５→１：１）を行い、褐色油状物質３．５ｇ（収率３６％）を得た。得られた褐色油状物質について1Ｈ−ＮＭＲ分析を行い、該褐色油状物質は目的物である化合物Ｎｏ．３１であることを確認した。1Ｈ−ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
【００９３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3溶媒）
（ピークトップのケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（０．６１−０．８８；ｍ；２）、（１．３３；ｓ；３）、（１．３５；ｍ；１）、（１．７６；ｍ；３）、（２．１４；ｔ；２）、（２．２４；ｓ；３）、（３．９８；ｍ；４）、（４．０３；ｓ；５）、（７．２４；ｍ；２）、（７．３０；ｔ；１）、（７．５２；ｄ；１）
【００９４】
[実施例２]化合物Ｎｏ．４０(中間体ｂ)の合成
窒素置換した反応フラスコに、実施例１で得られた化合物Ｎｏ．３１の３．４ｇ（８．８ｍｍｏｌ）、フェノキシエチル−４−クロロスルホン酸エステル４．１ｇ（１３ｍｍｏｌ）及びジメチルアセトアミド０．９２ｇを仕込み、１４５℃で５時間加熱した。室温に冷却後、反応液を減圧下で濃縮乾固し、残渣をカラム精製（シリカゲル、クロロホルム：アセトン＝２０：１→クロロホルム：メタノール＝１０：１）を行い、褐色油状物質４．０ｇ（収率６５％）を得た。得られた褐色油状物質について1Ｈ−ＮＭＲ分析を行い、該褐色油状物質は目的物である化合物Ｎｏ．４０であることを確認した。1Ｈ−ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
【００９５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3溶媒）
（ピークトップのケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（０．５３；ｍ；１）、（０．７０；ｍ；１）、（１．７０；ｍ；２）、（１．５５；ｓ；３）、（１．９０；ｔ；２）、（２．０３；ｍ；２）、（２．９９；ｓ；３）、（３．９８；ｍ；４）、（４．０３；ｓ；５）、（４．４８；ｔ；２）、（５．２９；ｔ；２）、（６．８７；ｄ；２）、（６．９８；ｔ；１）、（７．２４；ｍ；４）、（７．４２；ｄ；１）、（７．５０；ｍ；２）、（７．７５；ｄ；２）、（７．９９；ｄ；１）
【００９６】
[実施例３]化合物Ｎｏ．５０(中間体ｃ)の合成
窒素置換した反応フラスコに、実施例２で得られた化合物Ｎｏ．４０の１．４ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、３，４−ジブトキシ−３−シクロブテン０．５０ｇ（２．２ｍｍｏｌ）、ブタノール４．０ｇ及びピリジン０．２４ｇを仕込み、室温で１５時間、５０℃で４時間、７５℃で２１時間攪拌した。室温に冷却後、反応液を減圧下で濃縮乾固し、カラム精製（シリカゲル、クロロホルム：アセトン＝１０：１）を行い、褐色アモルファス状物質０．９２ｇ（収率７０％）を得た。得られた褐色アモルファス状物質について、1Ｈ−ＮＭＲ分析を行い、該褐色アモルファス状物質は目的物である化合物Ｎｏ．５０であることを確認した。1Ｈ−ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
【００９７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3溶媒）
（０．５９；ｍ；１）、（０．７７；ｍ；１）、（０．９９；ｍ；３）、（１．３９；ｍ；３）、（１．６２；ｓ；３）、（３．８４；ｍ；４）、（３．９８；ｓ；５）、（４．６９；ｔ；２）、（４．８５；ｔ；２）、（５．６１；ｓ；１）、（６．８２；ｄｄ；２）、（６．９６；ｔ；２）、（７．１０；ｔ；１）、（７．２３；ｍ；４）
【００９８】
[実施例４] 化合物Ｎｏ．４９（中間体ｃ）の合成
窒素置換した反応フラスコに、実施例３で得られた化合物Ｎｏ．５０の０．９０ｇ（１．４ｍｍｏｌ）、酢酸３．０ｇ及び水１．０ｇを仕込み、１１０℃で９時間加熱した。室温に冷却後、反応液を減圧下で濃縮乾固し、残渣にクロロホルム１０ｇを２回加えて油層を分離し、水洗を行った。無水硫酸ナトリウムによる脱水、脱溶媒を行い、褐色アモルファス状物質０．５３ｇ（粗収率６５％）を得た。得られた褐色アモルファス状物質について、1Ｈ−ＮＭＲ分析を行い、該褐色アモルファス状物質は目的物である化合物Ｎｏ．４９であることを確認した。1Ｈ−ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
【００９９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3溶媒）
（０．５９；ｍ；１）、（０．７７；ｍ；１）、（０．９９；ｍ；３）、（１．３９；ｍ；３）、（１．６２；ｓ；３）、（１.７８；ｔ；３）、（１.８５；ｍ；２）、（１．９６；ｍ；２）、（３．８４；ｍ；４）、（３．９８；ｓ；５）、（４．２５；ｔ；２）、（４．６９；ｔ；２）、（４．８５；ｔ；２）、（５．６１；ｓ；１）、（６．８２；ｄｄ；２）、（６．９６；ｔ；２）、（７．１０；ｔ；１）、（７．２３；ｍ；４）
【０１００】
[実施例５]化合物Ｎｏ．１(前記一般式（Ｉ）で表されるシアニン化合物)の合成
窒素置換した反応フラスコに、実施例２で得られた化合物Ｎｏ．４０の０．７０ｇ（１ｍｍｏｌ）、３，４−ジヒドロキシ−３−シクロブテン５７ｍｇ（０．５０ｍｍｏｌ）、ブタノール２．７ｇ及びピリジン０．１２ｇを仕込み、１３５℃で３時間加熱した。室温に冷却後、反応液を減圧下で濃縮乾固し、カラム精製(シリカゲル、クロロホルム：アセトン＝１０：１)を行った後、エタノールから再結晶を行い、茶色結晶０．２３ｇ（収率４２％）を得た。得られた茶色結晶は、目的物である化合物Ｎｏ．１であることを確認した。得られた茶色結晶についての分析結果を以下に示す。
【０１０１】
（分析結果）
(1)1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3溶媒）
（ピークトップのケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（０．５４；ｍ；２）、（０．７７；ｍ；２）、（１．２１；ｍ；４）、（１．６５；ｓ；６）、（１．８０−１．９１；ｍ；８）、（３．８２；ｔ；８）、（３．９７；ｓ；１０）、（４．３４；ｍ；８）、（６．０９；ｔ；２）、（６．７５；ｄ；４）、（６．９２；ｔ；２）、（７．１５−７．３６；ｍ；１１）
(2)ＩＲ吸収（ｃｍ-1）
２９２５、１６００、１４９１、１４６１、１２８１、１２４１、１１８２、１１３６、１０７５
(3)ＵＶ吸収測定（クロロホルム溶媒）
λｍａｘ；６４２ｎｍ、ε；２．８２×１０5
(4)分解温度（ＴＧ−ＤＴＡ：１００ｍｌ／分窒素気流中、昇温１０℃／分）
２８７℃；ピークトップ
【０１０２】
[実施例６]化合物Ｎｏ．２(前記一般式（Ｉ）で表されるシアニン化合物)の合成
窒素置換した反応フラスコに、実施例４で得られた化合物Ｎｏ．５０の粗生成物０．５３ｇ（０．８８ｍｍｏｌ）、１−メチルインドール０．１２ｇ（０．８８ｍｍｏｌ）及びブタノール１．９ｇを仕込み、１１０℃で７．５時間加熱還流した。室温に冷却後、反応液を減圧下で濃縮乾固し、カラム精製(シリカゲル、クロロホルム：アセトン＝１０：１)を行い、銅色アモルファス状物質０．２４ｇ（収率３８％）を得た。得られた銅色アモルファス状物質は、目的物である化合物Ｎｏ．２であることを確認した。得られた銅色アモルファス状物質についての分析結果を以下に示す。
【０１０３】
（分析結果）
(1)1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3溶媒）
（ピークトップのケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（０．３４；ｍ；１）、（０．５６；ｍ；１）、（１．１３；ｍ；２）、（１．８１；ｓ；６）、（２．４９；ｍ；１）、（３．３２；ｍ；１）、（３．８０；ｍ；２）、（３．８７；ｓ；５）、（３．９２；ｍ；４）、（４．３８；ｔ；２）、（４．７６；ｔ；２）、（６．３８；ｓ；１）、（６．７７；ｄ；２）、（６．８８；ｔ；１）、（７．２２；ｍ；５）、（７．３３；ｔ；１）、（７．５３；ｄ；２）、（７．６２；ｔ；２）、（８．４３；ｓ；１）、（８．６７；ｄ；１）
(2)ＩＲ吸収（ｃｍ-1）
２９２７、１６０４、１５７５、１４９３、１４７１、１３５３、１３１２、１２９４、１１９２、１１５６、１０８８
(3)ＵＶ吸収測定（クロロホルム溶媒）
λｍａｘ；５９３．５ｎｍ、ε；１．８９×１０5
(4)分解温度（ＴＧ−ＤＴＡ：１００ｍｌ／分窒素気流中、昇温１０℃／分）
２６４℃；ピークトップ
【０１０４】
[実施例７]化合物Ｎｏ．３(前記一般式（Ｉ）で表されるシアニン化合物)の合成
【０１０５】
窒素置換した反応フラスコに、実施例２で得られた化合物Ｎｏ．４０の０．６８ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、ジフェニルホルムアミジン９８ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）、ピリジン３．０ｇ及び無水酢酸０．１５ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を仕込み、４０℃で３時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮乾固し、カラム精製（シリカゲル、クロロホルム：アセトン＝１０：１）を行い、褐色アモルファス状物質として０．４２ｇ（収率７０％）を得た。得られた褐色アモルファス状物質は、目的物である化合物Ｎｏ．３であることを確認した。得られた褐色アモルファス状物質についての分析結果を以下に示す。
【０１０６】
(分析結果)
(1)1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3溶媒）
（ピークトップのケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（０．５５；ｍ；２）、（０．７５；ｍ；２）、（１．２１；ｍ；４）、（１．６０；ｓ；６）、（２．０２；ｍ；４）、（３．８２；ｓ；１０）、（３．９５；ｍ；８）、（４．４１；ｍ；８）、（６．７０−８．０２；ｍ；２４）、（８．８９；ｔ；１）
(2)ＩＲ吸収（ｃｍ-1）
２９６３、１５９９、１５５７、１４８９、１４６０、１４２８、１３４６、１２６１、１１７１、１０９２
(3)ＵＶ吸収測定（クロロホルム溶媒）
λｍａｘ；５６４．５ｎｍ、ε；１．１１×１０5
(4)分解温度（ＴＧ−ＤＴＡ：１００ｍｌ／分窒素気流中、昇温１０℃／分）
２６０℃；ピークトップ
【０１０７】
[評価例１]溶解性評価
上記実施例５〜７で得た化合物Ｎｏ．１〜３及び以下に示す比較化合物のうちの比較化合物１〜３について、２０℃でのエチルメチルケトンへの溶解性を評価した。評価は、シアニン化合物を０．１質量％〜３．０質量％の範囲で０．０５質量％刻みでエチルメチルケトンに加え、溶解、不溶を観察して行った。結果を表１に示す。
【０１０８】
【化２３】
2006312710.tif 000026
【０１０９】
【表１】
2006312710.tif 000027
【０１１０】
[評価例２]耐光性評価
エチルメチルケトンと２，２，３，３−テトラフルオロプロパン−１−オールの体積比１：１の混合溶媒を用いて、表２に記載のシアニン化合物の１質量％溶液を調製した。これらの溶液を用いて、２０×２０ｍｍのポリカーボネート板上に２０００ｒｐｍ、６０秒でスピンコートを行い試験片を作成した。
一方、上記比較例４を用いて同様にして試験片を作成し、該試験片に５５０００ルクスの光を照射し、照射前のＵＶ吸収スペクトルのλｍａｘでの吸光度に対する照射後の吸光度残率が５０％になる時間Ｔを測定した。
表２に記載のシアニン化合物を用いて作成した上記試験片それぞれについて、５５０００ルクスの光を上記時間Ｔと同じ時間照射した後、照射前のＵＶ吸収スペクトルのλｍａｘでの吸光度残率を測定した。結果を表２に示す。
【０１１１】
【表２】
2006312710.tif 000028
【０１１２】
[評価例３]
下記の配合をプラストミルで２６０℃にて５分間溶融混練した。混練後、直径６ｍｍのノズルから押出し水冷却ペレタイザーで色素含有ペレットを得た。このペレットを、電気プレスを用いて２５０℃で０．２５ｍｍ厚の薄板に成形した。この薄板を（株）日立製作所スペクトロフォトメーターＵ−３０１０で測定したところ、λmaxが６４２ｍで半値巾が２５ｎｍであった。
【０１１３】
（配合）
ユーピロンＳ−３０００                        １００ｇ
（三菱瓦斯化学（株）製；ポリカーボネート樹脂）
化合物Ｎｏ．１                                ０．０１ｇ
【０１１４】
[評価例４]
下記の配合にてＵＶワニスを作成し、易密着処理した１８８ミクロン厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、該ＵＶワニスをバーコーター＃９により塗布した後、８０℃で３０秒乾燥させた。その後、赤外線カットフィルムフィルター付き高圧水銀灯にて紫外線を１００ｍＪ照射し、硬化膜厚約５ミクロンのフィルムを得た。これを（株）日立製作所スペクトロフォトメーターＵ−３０１０で測定したところ、λmaxが６４１ｎｍで半値巾が２５ｎｍであった。
【０１１５】
（配合）
アデカオプトマーＫＲＸ−５７１−６５          １００ｇ
（旭電化工業（株）製ＵＶ硬化樹脂、樹脂分８０重量％）
化合物Ｎｏ．１                                  ０．５ｇ
メチルエチルケトン                              ６０ｇ
【０１１６】
[評価例５]
下記の配合にてバインダー組成物を作成し、易密着処理した１８８ミクロン厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに、該バインダー組成物をバーコーター＃９により塗布し、８０℃で３０秒乾燥した。その後、このフィルムを０．９ｍｍ厚アルカリガラス板に１００℃で熱圧着し、ガラス板とＰＥＴフィルムの間のバインダー層に光吸収剤を含有するＰＥＴ保護ガラス板を作成した。これについて（株）日立製作所スペクトロフォトメーターＵ−３０１０で測定したところ、λmaxは５９３ｎｍ、半値巾は２９ｎｍであった。
【０１１７】
（配合）
アデカアークルズＲ−１０３                      １００ｇ
（旭電化工業（株）製アクリル樹脂系バインダー、樹脂分５０重量％）
化合物Ｎｏ．２                                    ０．１ｇ
【０１１８】
[評価例６]
化合物Ｎｏ．２を用い、前記の評価例２と同様にして、試験片を作成した。この試験片について薄膜の吸収ＵＶスペクトル及び入射角５°の反射光のＵＶスペクトルを測定したところ、吸収λmaxは６１７ｎｍ、反射光λmaxは６４４ｎｍであった。
【０１１９】
評価例１及び２の結果から、本発明のシアニン化合物は、溶解性及び耐光性に優れることが分かる。また、本発明のシアニン化合物は、高いモル吸光係数を有しており（実施例５〜７）、光学フィルター及び光学記録材料に好適であることが明らかであり、このことは評価例３〜６からも明らかである。