(57)【要約】  本願ではカミソリを開示する。場合により、本カミソリは、ガード、キャップ、及び、ガードとキャップとの間に配置される少なくとも２枚の平行かつ鋭利な刃先を有する刃を有する安全カミソリ刃ユニットを備える。第１の刃はガードに近い方の刃先を画定し、第２の刃はキャップに近い方の刃先を画定する。第１の刃は第２の刃の切断抵抗よりも高い切断抵抗を有する。場合により、本カミソリは深剃り度の向上した快適性を提供する。
2009530013.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガード、キャップ、及び、ガードとキャップとの間に配置される少なくとも２枚の平行かつ鋭利な刃先を有する刃を有する安全カミソリ刃ユニットであって、第１の刃はガードに近い方の刃先を画定し、第２の刃はキャップに近い方の刃先を画定する安全カミソリ刃ユニットを備えたカミソリにおいて、第１の刃は第２の刃の切断抵抗よりも高い切断抵抗を有することを特徴とするカミソリ。
【請求項２】
第１の刃は第２の刃の切断抵抗よりも少なくとも約０．４４Ｎ（０．１ｌｂｓ．）高い切断抵抗を有する請求項１に記載のカミソリ。
【請求項３】
第１の刃は第２の刃の切断抵抗よりも約０．４４Ｎ（０．１ｌｂｓ．）〜約４４Ｎ（１０ｌｂｓ．）高い切断抵抗を有する請求項１に記載のカミソリ。
【請求項４】
刃が高分子組成物でコーティングされている請求項１に記載のカミソリ。
【請求項５】
前記高分子組成物はポリフルオロカーボンである請求項４に記載のカミソリ。
【請求項６】
前記ポリフルオロカーボンはポリテトラフルオロエチレンである請求項５に記載のカミソリ。
【請求項７】
第２の刃は第１の刃よりも多量の高分子組成物によってコーティングされる請求項４に記載のカミソリ。
【請求項８】
第１の刃と第２の刃とは異なる高分子組成物によってコーティングされる請求項４に記載のカミソリ。
【請求項９】
第１の刃をコーティングする高分子組成物は第２の刃をコーティングする高分子組成物よりも潤滑性が低い請求項８に記載のカミソリ。
【請求項１０】
第１の刃は実質上高分子コーティングを有さない請求項１に記載のカミソリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はカミソリの刃に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヒゲ剃りにおいてはヒゲ剃りの良好な快適性を確保する一方で深剃りを実現することが望ましい。ヒゲ剃り性能を左右する要素としては、刃先と皮膚との間の摩擦抵抗、刃が毛髪に与える切断抵抗などが挙げられる。
【０００３】
湿式剃り用のカミソリ刃では、刃先に薄い高分子コーティングを有するものが一般的であり、このコーティングが刃先と皮膚との間の摩擦抵抗を低下させることによって刃の切断抵抗を低下させる結果、ヒゲ剃りの快適性が大幅に向上する。こうしたコーティングは、その全容を本明細書に援用するトランキーム（Trankiem）に付与された米国特許第５，２６３，２５６号に例えば記載されている。更にこうした高分子コーティングによって、刃が皮膚の表面に沿って滑らかに滑りやすくなることから、カミソリが使用者の皮膚に沿って引き動かされる際に皮膚の隆起に対処しやすくなることが考えられる。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
深剃り度を向上させる方法の１つは、カミソリ刃と毛髪との接触時間を長くすることによってカミソリ刃が毛包から毛髪を引き出す効果を高めることである。これは刃の表面を改質して高い摩擦抵抗及び高い切断抵抗を有する刃とすることによって実現することが可能である。切断抵抗は羊毛フェルト切断試験によって測定される。この試験は、羊毛フェルトを切断するのにそれぞれの刃が必要とする力を測定することによって刃の切断抵抗を測定するものである。それぞれの刃の切断抵抗は羊毛フェルトを切断するのにそれぞれの刃が必要とする力を測定することによって求められる。羊毛フェルト裁断機でそれぞれの刃を用いて５回の切断を行い、各切断における切断抵抗を記録計で測定する。５回の切断の内で最も低い値を切断抵抗とする。
【０００５】
カミソリが複数の刃を有する場合、１以上の刃を例えば高い摩擦抵抗を有するような毛髪との接触時間を増大させた構成とし、他の刃を、例えば米国特許第５，２６３，２５６号に記載されるような高分子コーティングを用いた、切断抵抗を低減するとともに快適性を向上させた構成とすることが考えられる。場合によっては、異なる摩擦抵抗を有する異なる刃のこうした組合せにより、ヒゲ剃りの快適性を維持しつつ深剃り度が向上する。
【０００６】
本発明はその特定の態様において一般的に、ガード、キャップ、及び、ガードとキャップとの間に配置される少なくとも２枚の平行かつ鋭利な刃先を有する刃を有する安全カミソリ刃ユニットを備えたカミソリに関する。刃先を画定する第１の刃はガードに近い方に配置され、別の刃先を画定する第２の刃はキャップに近い方に配置される。
【０００７】
こうした態様の１つでは、第１の刃は第２の刃の切断抵抗よりも高い切断抵抗を有する。
【０００８】
別の一態様では、第２の刃は第１の刃よりも多量の高分子組成物によってコーティングされる。
【０００９】
更なる別の一態様では、第１及び第２の刃は高分子コーティングを有し、第１の刃の高分子コーティングは、第２の刃の高分子コーティングよりも潤滑性が低い。
【００１０】
特定の実施態様には次の特徴の１以上が含まれる。第１の刃は、第２の刃の切断抵抗よりも少なくとも約０．４４Ｎ（０．１ｌｂｓ．）高い、例えば少なくとも約０．８９Ｎ（０．２ｌｂｓ．）高い切断抵抗を有していてよい。例えば、第１の刃は、第２の刃よりも約０．４４Ｎ（０．１ｌｂｓ．）〜約４．４Ｎ（１．０ｌｂｓ．）高い、好ましくは約０．４４〜２．２Ｎ（０．１〜０．５ｌｂｓ．）高い切断抵抗を有していてよい。第１の刃の切断抵抗は約５．３〜６．７Ｎ（１．２ｌｂｓ．〜１．５ｌｂｓ．）の間の値を有しうる。各刃はポリテトラフルオロエチレンなどのポリフルオロカーボンを含む高分子組成物でコーティングされていてもよい。第２の刃は第１の刃よりも多量の高分子組成物によってコーティングされてもよい。第１の刃と第２の刃とは異なる高分子組成物でコーティングされてもよい。例えば、第１の刃をコーティングする高分子組成物は第２の刃をコーティングする高分子組成物よりも潤滑性が低いものでもよい。場合によっては、第１の刃は高分子コーティングを実質上有さないものであってもよい。
【００１１】
本発明は更にカミソリの刃を処理する方法に関する。
【００１２】
例えば、本発明は、カミソリの刃に高分子コーティングを配置し、コーティングされたカミソリ刃をプラズマ、レーザー、または電流に曝露することによって高分子コーティングの少なくとも一部分を改質することを含む方法に関する。
【００１３】
本発明は更に、ガード、キャップ、及び、ガードとキャップとの間に配置される少なくとも２枚の平行かつ鋭利な刃先を有する刃を有する安全カミソリ刃ユニットであって、第１の刃はガードに近い方の刃先を画定し、第２の刃はキャップに近い方の刃先を画定する安全カミソリ刃ユニットを備えたカミソリを製造する方法に関する。こうした方法の１つでは、第２の刃に第１の刃よりも低い切断抵抗を与えるように第１または第２の刃を処理する。
【００１４】
本発明は更にヒゲ剃りの方法に関する。こうした方法の１つでは、（ａ）ガード、キャップ、及び、ガードとキャップとの間に配置される少なくとも２枚の平行かつ鋭利な刃先を有する刃を有する安全カミソリ刃ユニットであって、第１の刃はガードに近い方の刃先を画定し、第２の刃はキャップに近い方の刃先を画定し、第１の刃は第２の刃の切断抵抗よりも高い切断抵抗を有し、かつ／または第２の刃は第１の刃よりも大きな量の高分子組成物によってコーティングされた安全カミソリ刃ユニットを提供し、（ｂ）前記安全カミソリ刃ユニットを皮膚表面に接触させる。
【００１５】
他の態様では、本発明は本明細書で述べる刃ユニットを備えたカミソリに関する。
【００１６】
場合により、本明細書で述べるカミソリは、例えばすべての刃がほぼ同じ摩擦抵抗を有する同様のカミソリである対象カミソリと比較して深剃り度が向上したヒゲ剃りを可能とする。場合により、本明細書で述べるカミソリは、上記対象カミソリと比較して高いヒゲ剃り効率を与えることにより、単位ストローク当たりで切断される毛髪数が増大する。
【００１７】
本発明の１以上の実施形態の詳細を、付属の図面ならびに以下の説明文にて説明する。本発明の他の特徴及び利点は、説明文及び図面、ならびに特許請求の範囲より明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
カミソリによる切断に先立って毛髪を引っ張ることによってその毛髪を深剃りすることが可能となる。多刃式カミソリでは、第１の刃が、毛髪を毛包から引き出してこれを所定の第１の長さに切断するのに使用され、第１の刃の後方に配置された第２の刃が、この毛髪をより短い第２の長さに切断するような構成が考えられる。図１を参照すると、第１の刃によって毛髪が上方かつ前方に引っ張られている状態が示されている。毛髪はこの位置にある状態で、第１の刃によって所定の第１の長さに切断される。毛髪は比較的ゆっくりと毛包内に戻るため、毛包から毛髪が延出した状態にある間に、第２の刃がこれをより短い第２の長さに切断することが可能である。張力が緩和すると毛髪は皮膚の表面下に定位し、深剃りと使用者の皮膚に対する滑らかな触感が得られる。
【００１９】
摩擦抵抗が異なる刃を有するカミソリ
図２を参照すると、カミソリ用カートリッジは、ガード１０、キャップ１２、及び２枚の刃１４、１６を有している。第１の刃１４は、第２の刃１６よりも高い切断抵抗を有し、ガードと第２の刃との間に配置されている。したがってカミソリの使用時には第１の刃１４は第２の刃１６よりも先に毛髪と接触することになる。第１の刃１４は使用者の皮膚を通過する際に毛髪と接触し、これを引っ張ることによって毛髪を毛包の外部へと引き出し、所定の第１の長さに切断する。毛髪が元の位置にまで完全に引っ込む前に、第２の刃１６が使用者の皮膚を通過して毛髪をより短い長さに再び切断する。切断後、毛髪は皮膚の表面下の毛包内に定位する。
【００２０】
本明細書中、文章及び図において用いる「第１の刃」なる語は、相対的に高い切断抵抗を有する刃を指す。相対的に高い切断抵抗とは、第２の刃と称される刃よりも高い摩擦抵抗に該当する。同様に、「第２の刃」なる語は相対的に低い切断抵抗を有する刃を指す。相対的に低い切断抵抗とは、第１の刃と称される刃よりも低い摩擦抵抗に該当する。
【００２１】
図３ａ、ｂ、図４ならびに図５ａ〜ｃを参照すると、他のカミソリでは、ガード、キャップ、及び複数の刃（それぞれ３枚、４枚、５枚刃）を有していてもよい。それぞれの場合において、第２の刃１６よりも高い切断抵抗を有する第１の刃１４がガード１０と第２の刃１６との間に配置される。図３ａ及び３ｂに示されるように、カミソリが３枚の刃を有する場合、第１の刃１４はガードに最も近い刃（先頭位置）（図３ａ）であってもよく、あるいは先頭位置の後方の位置に配置されてもよい。後者の場合は第３の刃１８が先頭位置となる（図３ｂ）。第３の刃は通常３．６Ｎ〜６．７Ｎ（０．８ｌｂｓ．〜１．５ｌｂｓ．）の範囲内の所望のいかなる切断抵抗を有していてもよい。
【００２２】
図３ａ及び３ｂではいずれも第１の刃１４と第２の刃１６とが互いに隣り合って配置されたカミソリが示されているが、第１の刃１４と第２の刃１６とが互いに隣り合って配置されない構成も考えられる。例えば場合（図示せず）によっては、第１の刃１４をガード１０に最も近い位置に配置し、第１の刃１４と第２の刃１６との間に第３の刃１８を配置する。一般に、第１の刃１４が第２の刃１６よりもガードに近い位置に配置されていれば、複数の刃はいかなる配置でも受け入れられる。
【００２３】
図４に示すように、カミソリは４枚の刃を有していてもよい。図４は、切断抵抗の高い２枚の刃１４と切断抵抗の低い２枚の刃１６を有するカミソリを示したものである。切断抵抗の高い刃と切断抵抗の低い刃は交互に配置されている。切断抵抗の高い刃１４はガードに最も近い位置（先頭位置）とガードから３番目の位置に配置されている。切断抵抗の低い刃１６はガードから２番目と４番目の位置に配置されている。
【００２４】
図５ａ〜ｃはいずれも５枚の刃を有するカミソリを示したものである。これらのカミソリでは、第１の刃１４及び第２の刃１６の位置が異なっている。図５ａでは、第１の刃１４は先頭位置に配置され、第２の刃１６はガード１０から３番目の位置に配置されている。カミソリは更に３枚の更なる刃１８、２０及び２２を有している。通常これらの刃の切断抵抗は、７．１Ｎ（１．６ｌｂｓ．）未満、例えば３．６Ｎ〜６．７Ｎ（０．８ｌｂｓ．〜１．５ｌｂｓ．）の範囲内である。
【００２５】
図５ｂは、第１の刃１４が先頭位置にはなく、ガード１０から２番目の位置にあるカミソリの例を示したものである。第２の刃１６は、第１の刃の直ぐ後ろの３番目の位置に配置されている。図５ａと同様、カミソリは更に刃１８、２０及び２２を有している。図５ｃは、２枚の第１の刃１４と２枚の第２の刃１６を有するカミソリを示したものである。カミソリは更にキャップ１２に最も近い位置に刃１８を有している。
【００２６】
場合によっては、第１の刃は第２の刃の切断抵抗よりも少なくとも約０．４４Ｎ（０．１ｌｂｓ．）大きな切断抵抗を有する。一般に第１の刃の切断抵抗は第２の刃の切断抵抗よりも約０．４４Ｎ〜４．４Ｎ（０．１〜１．０ｌｂｓ．）大きい（例、少なくとも約０．８９、１．３３、１．７８、または２．２２Ｎ（約０．２、０．３、０．４または０．５ｌｂｓ．）、かつ最大で約４．４５、４．０、３．５６、３．１１及び２．６７Ｎ（約１．０、０．９、０．８、０．７及び０．６ｌｂｓ．））。第１の刃は、第２の刃に対して約０．８９Ｎ（０．２ｌｂｓ．）高い切断抵抗を有することが好ましい。
【００２７】
高い切断抵抗を有する刃は種々の方法によって得ることができる。場合によっては、改質高分子コーティングを有する第１の刃を提供することが望ましい。例えば、プラズマエッチングなどによってその表面摩擦が徐々に増加するように改質されたテフロン（登録商標）コーティングを刃が有していてもよい。コーティングされた刃を適当な条件下でプラズマに曝露することで高分子コーティングに化学的及び物理的変化をもたらすことができる。こうした変化は、これらに限定されるものではないが、粗さ、濡れ性、架橋、分子量といったいずれも刃の切断抵抗に影響するコーティングの様々な性質に影響を与える。高分子コーティングを改質する上で適当な方法としては、本明細書中にその全容を援用する、２００６年３月２９日出願の発明の名称が「カミソリの刃及びカミソリ」である米国特許出願第１１／３９２，１２７号に記載のものがある。
【００２８】
場合によっては、高分子コーティングを実質上有さない刃を使用することも可能である。しかしながら、高分子コーティングを一切有さない刃では快適性が低下する場合があり望ましくない。例えば、そうした刃によって毛髪が過剰な力で引っ張られる場合がある。
【００２９】
刃の高分子コーティング
カミソリの刃先をポリフルオロカーボンでコーティングする方法は当該技術分野において公知であり、例えばトランキーム（Trankiem）に付与された米国特許第５，２６３，２５６号に開示されている。ポリフルオロカーボンでコーティングされた刃先は、当該技術分野において知られるいずれの方法によっても製造することができる。例えば刃先をポリフルオロカーボンの分散液によりコーティングしてもよい。
【００３０】
ポリフルオロカーボンの例としては、デュポン（DuPont）社製のＭＰ１１００、ＭＰ１２００、ＭＰ１６００、及びＬＷ１２００銘柄のポリテトラフルオロエチレン粉末が挙げられる。
【００３１】
一般的にポリフルオロカーボン分散液は、０．０５〜５重量％、好ましくは０．７〜１．２重量％のポリフルオロカーボンを分散媒に分散したものである。高分子は媒質流中に導入するか、または攪拌槽中に直接混入した後に均質化してもよい。媒質流中に注入する場合は、スタティックミキサーの下流が一般に用いられる。
【００３２】
分散媒としては一般に、フルオロカーボン（例、デュポン（DuPont）社のフレオン（Freon）銘柄）、水、揮発性有機化合物（例、イソプロピルアルコール）及び／または超臨界二酸化炭素の１以上が挙げられる。
【００３３】
分散液は分散液中への浸漬、または分散液の刃先への噴霧など、任意の適当な方法で刃先に塗布することができる。噴霧法を用いる場合、静電場を噴霧器と組み合わせることによって付着効率を高めることができる。付着性を向上させるため、コーティングを塗布時に加熱することが一般的である。
【００３４】
次いでコーティングした刃を加熱して分散媒を除去し、ポリフルオロカーボンを刃先に対して焼結する。化学気相成長法、レーザー、またはスパッタリング成膜によって刃をコーティングしてもよい。
【００３５】
刃のコーティングの改質
テフロン（登録商標）のような表面摩擦が低く濡れ性が低い材料は、例えばプラズマエッチングなどによってその表面摩擦が徐々に増加するように改質することができる。プラズマの例としては、高周波（ＲＦ）プラズマや直流（ＤＣ）プラズマを挙げることができる。コーティングされた刃を適当な条件下でプラズマに曝露することで高分子コーティングに化学的及び物理的変化をもたらすことができる。こうした変化によって、これらに限定されるものではないが、粗さ、濡れ性、架橋、分子量といったいずれも刃の切断抵抗に影響する様々な性質（例、高分子の性質）に影響を与えることができる。
【００３６】
図６に概略的に示されるようなＲＦプラズマ成膜システムを用いてこの改質プロセスを行うことができる。当業者によれば認識されるように、他の従来のプラズマシステムを用いることも可能である。例として示すシステム３０は、例えばスチール製の気密真空室３２を備え、それぞれ例えばアルミニウム製の高電圧電極３４及び接地電極３６を備える。
【００３７】
高電圧電極３４は、ガス４０が例えば従来のシャワーヘッド型の配置を有する高電圧電極内部の複数の管を通じて真空室に導入されるように供給ガス源３８に接続された構成を有することが好ましい。このシャワーヘッド管は、上側の電極の単位面積当たりほぼ均等なガス流を供給することが好ましい。したがって複数のシャワーヘッド管は、シャワーヘッドから射出されるガスの濃度が比較的均一となるように間隔をおいて配置される必要がある。管の数及び間隔は、当業者によれば認識されるように、比圧、電極間隔、温度、及びプロセスの他のパラメータに依存する。
【００３８】
高電圧電極から真空室へのガス流を調節するため、流量調節器４２を配置することが好ましい。高電圧電極は真空室内で供給ガスのプラズマを発生させるために高周波（ＲＦ）電源４４または他の適当な電源に更に電気的に接続されている。
【００３９】
接地電極３６は真空室システムの接地端子４６に電気的に接続されている。接地電極３６は基板または他の構造体を支持するための表面４８を与えることが好ましい。接地電極及びその支持面は、使用者が例えば水による冷却によって所望の電極温度を設定、維持できるように、冷却コイル５１及び温度コントローラ５２に接続された冷却ループ５０のような冷却システムによって冷却されることが好ましい。
【００４０】
真空室を所望の圧力にまで脱気するためにポンプ５４が配置されている。真空室の圧力は例えば圧力計５６によって監視される。使用者によるプロセスの進行過程の監視を可能とするため、分析用ポート７６も好ましくは設けられる。
【００４１】
プラズマを得るうえで適当なガスの例としては、酸素、アルゴン、窒素及び各種のフルオロカーボン類が挙げられる。ガスの種類、プラズマ電力、ガス圧、及び刃の形状を変えることによって、刃または高分子コーティングの改質の程度や質を変化させることが可能である。これにより異なる摩擦特性（切断抵抗）を有する刃を得ることが可能となる。
【００４２】
例えば高イオン衝突プラズマ（例、ＲＦまたはＤＣプラズマ）のようなプラズマによって、例えば刃の先端の高分子を選択的に除去することができる。したがって刃が高分子によってコーティングされている場合、刃もしくは刃の一部をプラズマ（例、アルゴン、酸素またはそれらの混合物）に曝露することにより高分子の一部を物理的に食刻して除去することが可能である。一般にプラズマの組成（例、各元素の反応性）は、プラズマへの曝露の所望の結果に応じて変えることができる。例えば、高分子を物理的に改質する目的で食刻する場合、アルゴンと酸素の混合物（例、アルゴン／酸素の９０／１０混合物）が一般的に好ましい。酸素含量が高いほど、食刻速度は速くなる。他の適当なガスとしてはネオンや窒素が挙げられる。
【００４３】
場合によっては、図７ａ及び７ｂに示されるように、刃８６の先端８４のみをプラズマ８８で食刻する。異なる方法によって刃８６の一部分のみを選択的に食刻することができる。例えば、マスク９０によって刃８６の改質されない部分を被覆する（図７ａ参照）か、または刃の一部分のみ、例えば刃８８の先端８４のみが曝露されるような配置にてプラズマ流内に刃８６を置く（図７ｂ参照）ことによって刃の所望の部分を選択的に曝露することができる。
【００４４】
コーティングされた刃をプラズマに曝露する場合、プラズマによって高分子の厚みの全体を食刻し、高分子コーティングを実質上有さない刃の部分（例、刃の先端）を得ることができる。また、プラズマによって高分子の厚みの一部のみを食刻し、高分子コーティングを薄肉化したり、その肌理を変化させることも可能である。例えば高分子コーティングを有する刃を、粗い肌理を有するコーティングを与えるような条件下でプラズマに曝露することにより刃の切断抵抗を増大させることができる。
【００４５】
一般に、コーティングされた刃の物理的な改質は、コーティングされた刃を５秒〜約１０分間（例、約１〜８分間、好ましくは約５分間）プラズマに曝露することによって行うことができる。その際の圧力は一般に約０．０１３〜約１．３Ｐａ（約１〜約１００ｍｔｏｒｒ）（例、約０．１３〜約１Ｐａ（約１０〜約７５ｍｔｏｒｒ）、好ましくは約０．２７〜約０．５３Ｐａ（約２０〜約４０ｍｔｏｒｒ））である。一般に、プラズマは約１〜約１００ワット（例、約５〜８０ワット、約１０〜約５０ワット、または約２０ワット）のエネルギーにて供給される。
【００４６】
プラズマにて食刻した刃の先端の一例を図８に示す。この刃はＭＰ１６００高分子でコーティングし、０．２７〜０．５３Ｐａ（２０〜４０ｍｔｏｒｒ）の圧力下、２０Ｗにて５分間、９０％アルゴン／１０％酸素のプラズマに曝露したものである。曝露により、約３μｍの高分子が先端から除去されて実質上高分子コーティングを有さない刃の先端部が得られる。
【００４７】
コーティングされた刃は高分子コーティングを除去、薄肉化、粗面化する目的でプラズマに曝露してもよいが、高分子コーティングを化学的に改質する目的でプラズマに曝露してもよい。例えば、刃の切断抵抗を増大させたい場合には、ＰＴＦＥ高分子のような高分子のフッ素化度を低下させることなどによって高分子コーティングの潤滑性を低下させるようなプラズマに高分子コーティングを曝露することができる。その場合、ＲＦまたはＤＣプラズマを用い、曝露時間を数秒〜２０分間とすることができる。
【００４８】
一般にコーティングされた刃を化学的に改質するには、プラズマの供給圧力は約０．０１３〜約１．３Ｐａ（約１〜約１００ｍｔｏｒｒ）（例、少なくとも約０．０１３、０．０６７、０．１３、０．２、０．２７、０．３３、０．４、または０．５３Ｐａ（約１、５、１０、１５、２０、２５、３０、または４０ｍｔｏｒｒ）かつ最大で約１．３、１．２７、１．２、１．１３、１．０７、１．０、０．６７、または０．５３Ｐａ（約１００、９５、９０、８５、８０、７５、５０、または４０ｍｔｏｒｒ）である。）プラズマ曝露の条件は所望の改質の性質に応じて変わるが、一般に、約５秒〜約３０分（例、約１５秒、３０秒、１分、２分、５０分、１０分）の間、プラズマに刃を曝露する。プラズマは一般的に約１〜約１００Ｗにて（例、約５、１０、１５、２０、２５、３０、４０、４５、５０、６０、７０、８０、９０、または１００Ｗ）与えられる。好ましくは基底真空度（成膜前の圧力）は、０．０００１３Ｐａ（１０−６Ｔｏｒｒ）よりも高く、成膜の際には、少なくとも０．１３Ｐａ（１０−６Ｔｏｒｒ）である。加熱は高分子の融点よりも低い温度、通常３００℃未満に限定して行われることが更に好ましい。好適な条件は使用されるガスに応じて変わる。
【００４９】
プラズマを用いた刃へのコーティングの塗布
場合により、高分子でコーティングされていない刃をプラズマに曝露してこれにコーティングを成膜する。例えば、プラズマを用いてフッ素含有部分（例、ＣＦ２化学種）を刃に直接（例えばダイヤモンド状炭素などの硬質コーティング上に）成膜することによって切断抵抗が高い、コーティングされていない刃を切断抵抗の低い刃へと改質することができる。例えば高イオン衝突プラズマなどのプラズマ蒸着を用いることによって上記に述べた方法を用いて高分子（例、ＰＴＦＥ高分子）をコーティングした刃とは異なる性質を有する刃を得ることができる。
【００５０】
モノマーガスはヘキサフルオロプロピレンオキサイドを含むことが好ましく、熱源は、構造体表面の上方に懸吊された抵抗熱伝導性フィラメントまたは構造体に対向した熱分解表面を有する加熱プレートであることが好ましい。熱源温度は好ましくは約２２６．９℃（５００Ｋ）よりも高い温度であり、構造体表面は好ましくは約２６．９℃（３００Ｋ）よりも低い温度に維持される。高分子コーティングを有する刃よりも高い切断抵抗を有する刃が望ましい場合、コーティングしていない刃と比較して切断抵抗が低くなるが高分子コーティングした刃よりも高い切断抵抗が維持されるような時間にわたってＣＦ２含有プラズマに刃を曝露することが可能である。
【００５１】
プラズマ曝露の条件は所望の刃の性質に応じて変わりうる。例えば大きなプラズマ蒸着量が望ましい場合、長時間にわたって刃を曝露するとよい。一般に、上述の方法によればＰＴＦＥのバルク材料と同様の性質を有する薄膜を成膜することが可能である。
【００５２】
本発明の実施形態を多数記載してきた。しかしながら、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく様々な改変を行いうる点は理解されるであろう。
【００５３】
例えばプラズマを用いた刃の改質について上記に述べたが、他の刃の改質方法も考えられる。場合によっては、高分子コーティングを有する刃を電流に曝露することにより刃の表面を化学的及び物理的に改質する。場合によっては、高分子コーティングをレーザーまたは電子ビームに曝露することにより刃の表面を化学的及び物理的に改質する。
【００５４】
場合によっては、刃（例、高分子コーティングを有する刃）に更なる改質を行う。例えば刃を溶媒に接触させることによって刃の高分子コーティングの量または厚みを改変することが可能である。更なる改質は、例えば刃をプラズマ、レーザー、または電流に曝露する前に行ってもよく、また刃をプラズマ、レーザー、または電流に曝露した後に行ってもよい。
【００５５】
したがって他の実施形態は請求項の範囲に包含されるものである。
【００５６】
様々な図面における同様の参照記号は同様の要素を指示する。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１ａ】毛包から延出した毛髪を切断する様子を示す概略図。
【図１ｂ】毛包から延出した毛髪を切断する様子を示す概略図。
【図１ｃ】毛包から延出した毛髪を切断する様子を示す概略図。
【図２】複数の刃を有するカミソリであって、１以上の刃がそのカミソリに配置された別の刃と比較して相対的に高い切断抵抗を有するカミソリを示す図。
【図３ａ】複数の刃を有するカミソリであって、１以上の刃がそのカミソリに配置された別の刃と比較して相対的に高い切断抵抗を有するカミソリを示す図。
【図３ｂ】複数の刃を有するカミソリであって、１以上の刃がそのカミソリに配置された別の刃と比較して相対的に高い切断抵抗を有するカミソリを示す図。
【図４】複数の刃を有するカミソリであって、１以上の刃がそのカミソリに配置された別の刃と比較して相対的に高い切断抵抗を有するカミソリを示す図。
【図５ａ】複数の刃を有するカミソリであって、１以上の刃がそのカミソリに配置された別の刃と比較して相対的に高い切断抵抗を有するカミソリを示す図。
【図５ｂ】複数の刃を有するカミソリであって、１以上の刃がそのカミソリに配置された別の刃と比較して相対的に高い切断抵抗を有するカミソリを示す図。
【図５ｃ】複数の刃を有するカミソリであって、１以上の刃がそのカミソリに配置された別の刃と比較して相対的に高い切断抵抗を有するカミソリを示す図。
【図６】プラズマ生成プロセスの概略図。
【図７ａ】プラズマを用いた刃の一部分の改質を示す図。
【図７ｂ】プラズマを用いた刃の一部分の改質を示す図。
【図８】プラズマで食刻した刃の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）像である。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図１ｃ】
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【図２】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図４】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図５ｃ】
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【図６】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８】
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【国際調査報告】
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