(57)【要約】  本発明は、（ａ）アクリレート高分子樹脂５〜３０重量％；（ｂ）架橋性オリゴマー５〜３０重量％；（ｃ）光重合開始剤０．１〜５重量％；および（ｄ）金属粉末５０〜８５重量％を含む印刷用ペースト組成物を提供する。本発明による印刷用ペースト組成物は、微細パターンを直接形成することができるグラビアオフセット印刷に特に適し、従来のフォトリソグラフィ方法を利用したプラズマディスプレイパネルの電極パターンや電磁波遮蔽用微細電極の製造時に発生する材料の再処理問題点を根本的に解決することができ、同時に適切なオフセット印刷特性の発揮のためにそれぞれの印刷工程に要求されるペースト組成物の多様な要求物性を充足させることができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷用ペースト組成物であって、
（ａ）アクリレート高分子樹脂５〜３０重量％；
（ｂ）架橋性オリゴマー５〜３０重量％；
（ｃ）光重合開始剤０．１〜５重量％；および
（ｄ）金属粉末５０〜８５重量％
を含むことを特徴とする印刷用ペースト組成物。
【請求項２】
前記（ａ）のアクリレート高分子樹脂が、（ｉ）不飽和カルボン酸単量体２０〜５０重量％、（ii）芳香族単量体１０〜３０重量％、および（iii）２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、およびｎ−ブチルアクリレートからなる群より選択される１種以上単量体２０〜６０重量％を溶媒存在下で重合して製造される請求項１に記載の印刷用ペースト組成物。
【請求項３】
前記不飽和カルボン酸単量体が、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、およびこれらの酸無水物形態からなる群より選択される１種以上である請求項２に記載の印刷用ペースト組成物。
【請求項４】
前記芳香族単量体が、スチレン、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、２−ニトロフェニルアクリレート、４−ニトロフェニルアクリレート、２−ニトロフェニルメタクリレート、４−ニトロフェニルメタクリレート、２−ニトロベンジルメタクリレート、４−ニトロベンジルメタクリレート、２−クロロフェニルアクリレート、４−クロロフェニルアクリレート、２−クロロフェニルメタクリレート、および４−クロロフェニルメタクリレートからなる群より選択される１種以上である請求項２に記載の印刷用ペースト組成物。
【請求項５】
前記（ａ）のアクリレート高分子樹脂の重量平均分子量が１０，０００〜１００，０００である請求項１に記載の印刷用ペースト組成物。
【請求項６】
前記（ｂ）の架橋性オリゴマーが、少なくとも２つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性オリゴマーである請求項１に記載の印刷用ペースト組成物。
【請求項７】
前記（ｂ）の架橋性オリゴマーが、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート誘導体、ウレタン結合を含むジアクリレート誘導体、トリメチルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、およびこれらのメタクリレート類からなる群より選択される１種以上である請求項１に記載の印刷用ペースト組成物。
【請求項８】
前記（ｃ）の光重合開始剤が、２，４−ビストリクロロメチル−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、２−ｐ−メトキシスチリル−４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−４−メチルナフチル−６−トリアジン、ベンゾフェノン、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２，２’−ジブトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロリオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２−メチルチオキサントン、２−イソブチルチオキサントン、２−ドデシルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，２’−ビス−２−クロロフェニル−４，５，４’，５’−テトラフェニル−２’−１，２’−ビイミダゾール、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、および２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体からなる群より選択される１種以上である請求項１に記載の印刷用ペースト組成物。
【請求項９】
前記（ｄ）の金属粉末が、銀、銅、ニッケル、およびこれらを含む合金からなる群より選択される１種以上である請求項１に記載の印刷用ペースト組成物。
【請求項１０】
前記印刷用ペースト組成物が、分散剤、ブラック顔料、およびガラス粉末からなる添加剤０．０１〜１０重量％を追加的に含む請求項１に記載の印刷用ペースト組成物。
【請求項１１】
請求項１記載の印刷用ペースト組成物を利用してグラビアオフセット印刷法でパターンを形成する工程を含むプラズマパネルディスプレイの電極形成方法。
【請求項１２】
請求項１記載の印刷用ペースト組成物を利用してグラビアオフセット印刷法でパターンを形成する工程を含む電磁波遮蔽用メッシュフィルターの電極形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は印刷用ペースト組成物に関するものであって、より詳しくは、微細パターンを直接形成することができるグラビアオフセット印刷に特に適し、従来のフォトリソグラフィ方法を利用したプラズマディスプレイパネルの電極パターンや電磁波遮蔽用微細電極の製造時に発生する材料の再処理問題を根本的に解決することができ、同時に適切なオフセット印刷特性の発揮のためにそれぞれの印刷工程手続に要求されるペースト組成物の多様な要求物性を充足させることができる印刷用ペースト組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近、ディスプレイ装置において、大型化、高密度化、高精密化、および高信頼性の要求が高まることに伴って、多様なパターン加工技術の開発が行われており、またこのような多様なパターン加工技術に適した各種の微細電極形成用組成物に関する研究が活発に行われている。
【０００３】
プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」と称する。）は液晶パネルと比較して応答速度が速く、大型化が容易であって、現在多様な分野に利用されている。従来にこのようなＰＤＰ上に電極を形成する方法としては一般にスクリーン印刷法を利用した電極材料のパターニング方法が使用されてきた。しかし、従来のスクリーン印刷法は高度な熟練度を要し、スクリーン印刷を行う時に粘度が低くて基板上でペーストが流れることがあり、スクリーンによる精密度が落ちるためスクリーン印刷法を利用してＰＤＰに要求される高精密度の大画面パターンを得るのが困難であった。また、従来のスクリーン印刷法には印刷時にスクリーンによる短絡または断線が発生することがあるという短所があった。
【０００４】
一方、最近は大面積に適した高精密の電極回路を形成するために感光性樹脂組成物を利用したフォトリソグラフィ法が開発された。これは、微細導電性粉末の分散された感光性樹脂組成物を利用して、印刷法を通して均一な厚膜を形成し、形成された厚膜を所望の形状のマスクを使用して露光した後、アルカリ現像液を使用して必要なパターンを実現する方法である。
【０００５】
しかし、このようなフォトリソグラフィ法を利用してパターンを形成する場合、製造費用節減のために現象工程時に除去される材料の再処理が要求され、これに関する多くの議論が進められている。
【０００６】
このような問題点を解決するために従来の印刷産業で幅広く使用されているグラビアオフセット印刷法やインクジェットプリンティング方式のように基材に所望のパターンを直接形成する方法に関する研究が進められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このような従来技術の問題点を解決しようと、本発明は、微細パターンを直接形成することができるグラビアオフセット印刷に特に適し、従来のフォトリソグラフィ方法を利用したプラズマディスプレイパネルの電極パターンや電磁波遮蔽用微細電極の製造時に発生する材料の再処理問題点を根本的に解決することができる印刷用ペースト組成物および前記ペースト組成物を利用したプラズマパネルディスプレイ電極形成方法および電磁波遮蔽用メッシュフィルターの電極形成方法を提供することを目的とする。
【０００８】
本発明の他の目的は、適切なオフセット印刷特性の発揮のためにそれぞれが印刷工程に要求されるペースト組成物の多様な要求物性を充足させることができる印刷用ペースト組成物および前記ペースト組成物を利用したプラズマパネルディスプレイ電極形成方法および電磁波遮蔽用メッシュフィルターの電極形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は前記目的を達成する印刷用ペースト組成物であって、
（ａ）アクリレート高分子樹脂５〜３０重量％；（ｂ）架橋性オリゴマー５〜３０重量％；（ｃ）光重合開始剤０．１〜５重量％；および（ｄ）金属粉末５０〜８５重量％を含むことを特徴とする印刷用ペースト組成物を提供する。
【００１０】
また、本発明は、前記印刷用ペースト組成物を利用してグラビアオフセット印刷法でパターンを形成する工程を含むプラズマパネルディスプレイの電極形成方法を提供する。
【００１１】
また、本発明は、前記印刷用ペースト組成物を利用してグラビアオフセット印刷法でパターンを形成する工程を含む電磁波遮蔽用メッシュフィルターの電極形成方法を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明による印刷用ペースト組成物は、微細パターンを直接形成することができるグラビアオフセット印刷に特に適し、従来のフォトリソグラフィ方法を利用したプラズマディスプレイパネルの電極パターンや電磁波遮蔽用微細電極製造時に発生する材料の再処理問題点を根本的に解決することができ、同時に適切なオフセット印刷特性の発揮のためにそれぞれの印刷工程手続に要求されるペースト組成物の多様な要求物性を充足させることができる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１４】
本発明者はそれぞれの印刷工程に要求される組成物の多様な要求物性を充足させることができるグラビアオフセット印刷用ペースト組成物を製造しようと、オフ工程（OFF mode）で要求される組成物の適切な弾性特性の発揮のために適切な分子量のアクリレート高分子を使用し、セット工程（SET mode）時に発生するブランケットの膨潤現象を最少化するために印刷用ペースト組成物中に存在する有機溶剤の代わりに架橋性オリゴマーを使用した結果、グラビアオフセット印刷法に特に適した印刷用ペースト組成物を製造することができることを確認し、これに基づいて本発明を完成するに至った。
【００１５】
本発明の印刷用ペースト組成物は、（ａ）アクリレート高分子樹脂５〜３０重量％；（ｂ）架橋性オリゴマー５〜３０重量％；（ｃ）光重合開始剤０．１〜５重量％；および（ｄ）金属粉末５０〜８５重量％を含むことを特徴とする。
【００１６】
本発明に使用される前記（ａ）のアクリレート高分子樹脂は通常のアクリレート高分子樹脂を使用できるのはもちろんであり、好ましく本発明で使用するアクリレート高分子樹脂は不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体、およびその他の単量体を重合して製造することができる。
【００１７】
前記不飽和カルボン酸単量体は、高分子内の水素結合を通して高分子の弾性を増加させる作用を果たす。具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物形態のもの等を使用することができる。
【００１８】
前記不飽和カルボン酸単量体は、アクリレート高分子樹脂製造時使用される総単量体に２０〜５０重量％で含まれるのが好ましい。その含量が前記範囲内である場合、高分子の弾性特性、重合時ゲル化の防止、および重合度調節を全て満足させることができる。
【００１９】
前記芳香族単量体は、基板との密着性と安定的なパターンを形成させる作用を果たす。具体的には、スチレン、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、２−ニトロフェニルアクリレート、４−ニトロフェニルアクリレート、２−ニトロフェニルメタクリレート、４−ニトロフェニルメタクリレート、２−ニトロベンジルメタクリレート、４−ニトロベンジルメタクリレート、２−クロロフェニルアクリレート、４−クロロフェニルアクリレート、２−クロロフェニルメタクリレート、または４−クロロフェニルメタクリレート等を使用することができる。
【００２０】
前記芳香族単量体は、アクリレート高分子樹脂製造時使用される総単量体に１０〜３０重量％で含まれるのが好ましく、１５〜２０重量％で含まれるのがさらに好ましい。その含量が前記範囲内である場合、基板との密着性、パターンの接着力、形成されたパターンの直進性、安定的なパターンの実現、焼成工程時有機物の容易な除去を全て満足させることができる。
【００２１】
前記不飽和カルボン酸単量体と芳香族単量体以外にアクリレート高分子樹脂製造時使用されるその他の単量体は、高分子のガラス転移温度と極性を調節する作用を果たす。
【００２２】
前記その他の単量体としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、またはｎ−ブチルアクリレート等を使用することができ、その含量は高分子のガラス転移温度、耐熱性、基材との密着性等を考慮して、アクリレート高分子樹脂製造時使用される総単量体に２０〜６０重量％で含まれるのが良い。
【００２３】
前記のような単量体を重合して製造されるアクリレート高分子樹脂は、不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体、およびその他の単量体のゲル化を防止し、オフセット印刷工程時に適切な揮発性を制御することができるように溶媒存在下で重合して製造することができる。
【００２４】
前記溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチルエーテルプロピオネート、テルピネオール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアミノホルムアルデヒド、メチルエチルケトン、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、γ−ブチロラクトン、または乳酸エチル等を単独または２種以上混合して使用することができる。
【００２５】
前記のような単量体を溶媒の存在下で重合して得られた前記アクリレート高分子樹脂は、重量平均分子量が１０，０００〜１００，０００であるのが好ましく、２０，０００〜５０，０００であるのがさらに好ましい。重量平均分子量が前記範囲内である場合、高分子樹脂のガラス転移温度が低く高分子の流動特性が増加して、オフ工程時グラビア溝からブランケットへのパターンの伝達が難しいことがあるという問題点と、高分子樹脂の過度な弾性特性によってグラビア溝への組成物の投入が難しいという問題点を同時に解決することができる。
【００２６】
前記アクリレート高分子樹脂は、本発明の印刷用ペースト組成物に５〜３０重量％で含まれるのが好ましい。前記含量が５重量％未満である場合には組成物の弾性減少によってオフ工程時に問題が発生する可能性があり、３０重量％を超過する場合には形成されたパターンの電気抵抗が増加するという問題点がある。
【００２７】
本発明に使用される前記（ｂ）の架橋性オリゴマーは、少なくとも２つ以上のエチレン系二重結合を有するのが好ましい。具体的には、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート誘導体、ウレタン結合を含むジアクリレート誘導体、トリメチルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、またはこれらのメタクリレート類等を単独または２種以上混合して使用することができる。
【００２８】
前記架橋性オリゴマーは、本発明の印刷用ペースト組成物に５〜３０重量％で含まれるのが好ましく、５〜１５重量％で含まれるのがさらに好ましい。前記含量が５重量％未満である場合には印刷用ペースト組成物の粘度増加によってパターンの実現が難しいという問題点があり、３０重量％を超過する場合には印刷用ペースト組成物の弾性減少によってオフ特性（OFF mode）が落ち、パターンの直進性が悪くなるという問題点がある。
【００２９】
本発明に使用される前記（ｃ）の光重合開始剤は、トリアジン系、ベンゾイン、アセトフェノン系、イミダゾール系、またはキサントン系等の化合物を１種以上混合して使用することができる。具体的には、前記光重合開始剤として、２，４−ビストリクロロメチル−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、２−ｐ−メトキシスチリル−４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−４−メチルナフチル−６−トリアジン、ベンゾフェノン、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２，２’−ジブトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロリオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２−メチルチオキサントン、２−イソブチルチオキサントン、２−ドデシルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，２’−ビス−２−クロロフェニル−４，５，４’，５’−テトラフェニル−２’−１，２’−ビイミダゾール、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、または２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の化合物を単独または２種以上混合して使用することができる。
【００３０】
前記光重合開始剤は、本発明の印刷用ペースト組成物に０．１〜５重量％で含まれるのが好ましく、０．１〜３重量％で含まれるのがさらに好ましい。前記含量が０．１重量％未満である場合には形成されたパターンの接着力が低下するという問題点があり、５重量％を超過する場合には光重合開始剤の溶解性に問題が発生することがあるという問題点がある。
【００３１】
本発明に使用される前記（ｄ）の金属粉末は、ＰＤＰ電極形成に用いることができる金属粉末や電磁波遮蔽用メッシュフィルターの電極に用いることができる金属粉末であれば特に限定されない。具体的な例として、銀、銅、ニッケルまたはこれらを含む合金等を使用することができる。
【００３２】
前記金属粉末は本発明の印刷用ペースト組成物に５０〜８５重量％で含まれるのが好ましい。前記含量が５０重量％未満である場合には形成されたパターンの電気抵抗の増加によって要求される電極としての性能や電磁波遮蔽性能が低下することがあるという問題点があり、８５重量％を超過する場合には印刷用ペースト組成物が粘度が上昇し分散が難しくなって印刷特性が低下することがあるという問題点がある。
【００３３】
前記のような成分からなる本発明の印刷用ペースト組成物は必要によって選択的に金属粉末の分散のための分散剤、明暗（contrast）調節のためのブラック顔料、焼成時ガラスとの接着力の増加のためのガラス粉末（glass powder）等をさらに含むことができ、その含量は本発明の印刷用ペースト組成物に対して０．０１〜１０重量％を使用するのが良く、０．１〜３重量％を使用するのがさらに好ましい。
【００３４】
また、本発明は前記印刷用ペースト組成物を利用してグラビアオフセット印刷法でパターンを形成する工程を含むプラズマディスプレイパネルの電極形成方法を提供する。本発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成方法は印刷用ペーストを使用してプラズマディスプレイパネルの電極を形成する方法において、前記従来のペースト組成物の代わりに前記本発明の印刷用ペースト組成物を使用し、グラビアオフセット印刷方法を採択することに特徴があり、その他公知の法及び工程を利用してプラズマディスプレイ電極を形成することができるのはもちろんである。
【００３５】
また、本発明は前記印刷用ペースト組成物を利用してグラビアオフセット印刷法でパターンを形成する段階を含む電磁波遮蔽用メッシュフィルターの電極形成方法を提供する。本発明の電磁波遮蔽用メッシュフィルターの電極形成方法は印刷用ペーストを使用して電磁波遮蔽用メッシュフィルターの電極を形成する方法において、前記従来のペースト組成物の代わりに前記本発明の印刷用ペースト組成物を使用し、グラビアオフセット印刷方法を採択することに特徴があり、その他の公知の方法及び工程を利用して電磁波遮蔽用メッシュフィルターの電極を形成することができるのはもちろんである。
【００３６】
前記本発明の印刷用ペースト組成物を利用するプラズマディスプレイパネルの電極形成方法および電磁波遮蔽用メッシュフィルターの電極形成方法は印刷特性に優れ、形成されたパターンの直進性および安定性に優れ、特に直接印刷モードを用いるためフォトリソグラフィ法を利用する方法と比較して経済性が顕著に向上する長所がある。
【００３７】
以下に本発明の理解のために好ましい実施例を提示するが、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の範囲が下記の実施例に限定されるのではない。
【実施例】
【００３８】
実施例１
アクリレート高分子樹脂としてメタクリル酸（ＭＡ）：ベンジルメタクリレート（ＢＭ）：２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（２−ＨＥＭＡ）：メチル（メタ）アクリレート（ＭＭＡ）＝３０：２０：１０：４０の重量比率で重合した高分子樹脂（重量平均分子量２５，０００）１５重量％、架橋性オリゴマーとしてＭ３１０（ミウォン社（Miwon Commercial Co.,Ltd．）提供）：ＤＰＨＡ（日本化薬提供）：Ｕ−１０８Ａ（新中村化学提供）＝１：２：１の重量比で混合された架橋性オリゴマー１０重量％、光重合開始剤としてＩ−９０７（チバスペシャリティケミカルズ提供）２重量％、金属粉末として銀７１重量％、および分散剤としてアミン基を含む有機分散剤２重量％を常温で混合、撹拌し、最終的に３本ロール（roll）ミルを利用して所望の印刷用ペースト組成物を製造した。
【００３９】
実施例２〜３および比較例１〜２
前記実施例１において下記表１に示す組成比の組成物を使用したことを除いては、前記実施例１と同様の方法で実施して印刷用ペースト組成物を製造した。下記表１中の単位は重量％である。
【００４０】
【表１】
2009535443.tif 000002
【００４１】
前記実施例１〜３、比較例１および２で製造した印刷用ペースト組成物を利用してグラビアオフセット印刷を実施し、印刷特性、最小線幅、およびパターンの直進性を評価した。その結果を下記表２に示した。
【００４２】
前記グラビアオフセット印刷は、前記実施例１〜３、比較例１および２で製造した印刷用ペースト組成物をそれぞれグラビア板に塗布した後、ブレードを利用して前記組成物をグラビア板に均一に塗布した後、ブランケットを利用してグラビア板の組成物を移転させた（オフ工程（OFF mode））。その後、ブランケットに転移されたパターンをＵＶランプを利用して１次硬化した後、ブランケットが転移されたパターンを基板が移転させた（セット工程（SET mode））。前記基板に転移されたパターンをＵＶランプを利用して２次硬化する工程で実施した。
【００４３】
また、印刷特性評価はセット工程時基板に転移されずブランケットに残っている組成物水準で光学顕微鏡で観察して評価し、セット工程時ブランケットに残存する印刷組成物がなく優れた場合を○、セット工程時ブランケットに印刷組成物が普通の水準で残存する場合を△、セット工程時ブランケットに印刷組成物が過剰で残存し基板へのパターン転移が不可能な場合を×として示した。最小線幅はグラビアオフセット印刷法を通して形成可能なパターンの最小大きさを測定し、大きさが小さいほど良い。また、パターン直進性は印刷後基板に形成されたパターンの直進性の程度を光学顕微鏡で観察し、パターンの直進性に優れた場合は良好、不良な場合は不良と示した。
【００４４】
【表２】
2009535443.tif 000003
【００４５】
前記表２に示したように、本発明による印刷用ペースト組成物を利用してグラビアオフセット印刷法によってパターンを形成した実施例１〜３は、比較例１および比較例２と比較して印刷特性に優れ、最小線幅が２０μｍ以下として狭く、パターン直進性がより少なく優れていることを確認することができた。前記比較例１の場合には印刷を行うことができず、パターンが形成されなかった。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明による印刷用ペースト組成物は、微細パターンを直接形成することができるグラビアオフセット印刷に特に適し、従来のフォトリソグラフィ方法を利用したプラズマディスプレイパネルの電極パターンや電磁波遮蔽用微細電極製造時に発生する材料の再処理問題点を根本的に解決することができ、同時に適切なオフセット印刷特性の発揮のためにそれぞれの印刷工程手続に要求されるペースト組成物の多様な要求物性を充足させることができる効果がある。
【国際調査報告】
2009535443.tif 000004
2009535443.tif 000005