(57)【要約】
2009508910.tif 000025  式（Ｉ）（式中、Ｔ１は、酸素（Ｏ）又はイオウ（Ｓ）からなる群から選択され；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、水素原子又は炭化水素基である）を有するシクロペンタジエン誘導体の製造方法であって、（ａ）式（ＩＩ）の化合物を式（ＩＩＩ）の化合物と、パラジウム又はニッケルをベースとする触媒及び塩基の存在下で反応させ；（ｂ）得られた化合物をカルボニル化系と接触させ；そして（ｃ）工程（ｂ）で得られた生成物を還元剤によって処理する；工程を含む方法。
2009508910.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2009508910.tif 000019
（式中、Ｔ１は、酸素（Ｏ）又はイオウ（Ｓ）からなる群から選択され；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、互いに同一か又は異なり、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４０炭化水素基であるか、或いは、Ｒ１とＲ２及び／又はＲ３とＲ４は、結合して１以上のＣ３〜Ｃ６芳香族若しくは脂肪族縮合環を形成してもよく；好ましくは、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、互いに同一か又は異なり、水素原子、或いは、線状又は分岐鎖で環式又は非環式の、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、Ｃ７〜Ｃ２０アルキルアリール、又はＣ７〜Ｃ２０アリールアルキル基である）
を有するシクロペンタジエン誘導体の製造方法であって、
（ａ）式（ＩＩ）：
【化２】
2009508910.tif 000020
の化合物を、式（ＩＩＩ）：
【化３】
2009508910.tif 000021
（上式において、Ｔ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、上記に示す意味を有し、Ｘは、塩素、ヨウ素、臭素からなる群から選択され；Ｒ５は、互いに同一か又は異なり、水素原子、線状又は分岐鎖で環式又は非環式の、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、Ｃ７〜Ｃ２０アルキルアリール、又はＣ７〜Ｃ２０アリールアルキル基である）
の化合物と、パラジウム又はニッケルをベースとする触媒及び塩基の存在下で反応させ；
（ｂ）式（ＩＶａ）：
【化４】
2009508910.tif 000022
の化合物を得るために、工程（ａ）から得られた式（ＩＶ）：
【化５】
2009508910.tif 000023
の化合物をカルボニル化系と接触させ；そして
（ｃ）工程（ｂ）で得られた生成物を還元剤によって処理する；
工程を含む方法。
【請求項２】
工程（ａ）において、パラジウムが酸化状態（０）で存在する化合物を触媒として用いる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
パラジウムをベースとする触媒が、パラジウムケトネート、パラジウムアセチルアセトネート、ニトリルパラジウムハライド、パラジウムハライド、アリルパラジウムハライド、及び／又はパラジウムビスカルボキシレートから選択される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
パラジウムをベースとする触媒が更にリン含有リガンドを含むか、或いは、リン含有リガンドを工程（ａ）における反応混合物に別に加えることができる、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
工程（ａ）において用いる触媒の量が、化合物（ＩＩ）に対して０．００１〜０．５モル％である、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
Ｒ４及びＲ１が水素原子であり、Ｒ３及びＲ２が線状又は分岐鎖で環式又は非環式のＣ１〜Ｃ２０アルキル基である、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
工程（ｂ）が、
（ｉ）工程（ａ）から得られた式（ＩＶ）の化合物を２当量の塩基と接触させ；そして
（ｉｉ）工程（ｉ）から得られたジアニオン性化合物を、式（Ｖ）：
【化６】
2009508910.tif 000024
（式中、Ｒ６及びＲ７は、互いに同一か又は異なり、水素、塩素、臭素、ヨウ素、ＯＲ、及びＮＲ２（ここで、Ｒは、場合によっては元素周期律表第１３〜１７族に属するヘテロ原子を含むＣ１〜Ｃ２０炭化水素基である）からなる群から選択される）
の化合物によって処理する；
下位工程を含む、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
工程（ｂ）が、
（ｉ）アニオン性モノハロゲン化誘導体を得るために、工程（ａ）から得られた式（ＩＶ）の化合物を、２当量の塩基、及び続いて塩素、臭素、又はヨウ素から選択される１当量の化合物と接触させ；そして
（ｉｉ）工程（ｉ）から得られたアニオン性モノハロゲン化化合物を、式（Ｖａ）：
［ＭｍＬｊ（ＣＯ）ｎ］ａ      （Ｖａ）
（式中、Ｍは周期律表第４〜１１族の遷移金属であり；Ｌは、中性であっても或いは陽電荷若しくは陰電荷を有していてもよい金属Ｍを配位するリガンドであり；ａは−４〜＋４の範囲であり、コンプレックスの電荷をあらわし（ａが０の場合にはコンプレックスは中性である）；ｍは１〜２０の範囲であり；ｊは０〜３０の範囲であり；ｎは１〜５０の範囲である）
の化合物によって処理する；
下位工程を含む、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
工程（ｂ）において用いる塩基が、アルカリ及びアルカリ土類金属の水酸化物及び水素化物、金属ナトリウム及びカリウム、並びに有機金属リチウム化合物から選択される、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
還元工程（ｃ）が、
（ｉ）請求項１に記載の式（ＩＶａ）の化合物をＮ２Ｈ４と接触させ；
（ｉｉ）水中のＫＯＨの溶液を加え；そして
（ｉｉｉ）固体を濾過し、生成物を回収する；
下位工程を含む、請求項１〜１９のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、式（Ｉ）：
【０００２】
【化１】
2009508910.tif 000003
【０００３】
（式中、Ｔ１はイオウ又は酸素原子であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、水素原子、又はＣ１〜Ｃ４０炭化水素基であるか、或いは、Ｒ１とＲ２及び／又はＲ３とＲ４は、一緒に結合して縮合環を形成してもよい）
のシクロペンタジエン誘導体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００４】
複素環式縮合環を含むシクロペンタジエン誘導体は、オレフィンの重合のための触媒成分として当該技術において周知のメタロセン化合物の合成のための出発点として用いられる。この種のメタロセン化合物は、例えば、ＷＯ  ９８／２２４８６において開示されている。
【０００５】
ＷＯ  ０２／０９２５６４は、式：
【０００６】
【化２】
2009508910.tif 000004
【０００７】
のシクロペンタジエン誘導体を製造するための３段階プロセスに関する。
このプロセスの工程（ａ）においては、式（ＩＩ）：
【０００８】
【化３】
2009508910.tif 000005
【０００９】
の化合物を式（ＩＩＩ）：
【００１０】
【化４】
2009508910.tif 000006
【００１１】
の化合物と反応させる（ここで、特にＸは、塩素、ヨウ素、臭素からなる群から選択される）。したがって、この文献は、２種類のハロゲン置換化合物から出発してカップリング工程を行うプロセスに関する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
このプロセスは極めて効率的であると主張されているが、本出願人は、予期しなかったことに、ＷＯ  ０２／０９２５６４において記載されている式（ＩＶ）の化合物を得るために、工程（ａ）において異なる出発物質を用いることによって、全プロセス収量を向上させる可能性があることを見出した。
【００１３】
【化５】
2009508910.tif 000007
【００１４】
別の見方をすれば、第１のチオフェン環が３位においてハロゲン原子によって置換されており、第２のチオフェン環が３位においてホウ素誘導体によって置換されている二つの置換チオフェン環のカップリングは、Ｉｓｒａｅｌ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｖｏｌ．２８，１９８６，ｐｐ．２５〜２８において公知である。しかしながら、この文献において報告されているこの反応に関する収量は非常に低く、６５％〜３６％の範囲である。用いるチオフェン誘導体は全てハロゲン置換されている。これは、この文献を考慮すると、この反応は、ＷＯ  ０２／０９２５６４において記載されているプロセスの収量を向上させるためには有用でないと明確に認められることを意味する。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本出願人は、予期しなかったことに、チオフェン環を炭化水素基によって置換するか、或いは非置換とすると、後者の反応の収量が大幅に改良され、ＷＯ  ０２／０９２５６４に記載されているプロセスの全収量を向上させるために用いることができることを見出した。本発明の第１の対象は、式（Ｉ）：
【００１６】
【化６】
2009508910.tif 000008
【００１７】
（式中、Ｔ１は、酸素（Ｏ）又はイオウ（Ｓ）からなる群から選択され；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、互いに同一か又は異なり、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４０炭化水素基であるか、或いは、Ｒ１とＲ２及び／又はＲ３とＲ４は、結合して、１以上のＣ３〜Ｃ６芳香族若しくは脂肪族縮合環を形成してもよく；好ましくは、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、互いに同一か又は異なり、水素原子、或いは線状又は分岐鎖で環式又は非環式の、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、Ｃ７〜Ｃ２０アルキルアリール、又はＣ７〜Ｃ２０アリールアルキル基であり、より好ましくは、Ｒ４及びＲ１は水素原子であり、Ｒ３及びＲ２は、線状又分岐鎖で環式又は非環式の、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、更に好ましくは、線状又分岐鎖のＣ１〜Ｃ１０アルキル基、例えばメチル又はエチル基である）
を有するシクロペンタジエン誘導体の製造方法であって、
（ａ）式（ＩＩ）：
【００１８】
【化７】
2009508910.tif 000009
【００１９】
の化合物を、式（ＩＩＩ）：
【００２０】
【化８】
2009508910.tif 000010
【００２１】
（上式において、Ｔ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、上記に示す意味を有し、Ｘは、塩素、ヨウ素、臭素からなる群から選択され；Ｒ５は、互いに同一か又は異なり、水素原子、線状又は分岐鎖で環式又は非環式の、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、Ｃ７〜Ｃ２０アルキルアリール、又はＣ７〜Ｃ２０アリールアルキル基であり；好ましくは、Ｒ５は、水素原子、又は、線状又は分岐鎖で環式又は非環式のＣ１〜Ｃ２０アルキルである）
の化合物と、パラジウム又はニッケルをベースとする触媒及び塩基の存在下で反応させ；
（ｂ）式（ＩＶａ）：
【００２２】
【化９】
2009508910.tif 000011
【００２３】
の化合物を得るために、工程（ａ）から得られた式（ＩＶ）：
【００２４】
【化１０】
2009508910.tif 000012
【００２５】
の化合物をカルボニル化系と接触させ；そして
（ｃ）工程（ｂ）で得られた生成物を還元剤によって処理する；
工程を含む方法である。
【００２６】
工程（ａ）において、パラジウム又はニッケルをベースとする触媒は、パラジウム金属、パラジウム化合物、及び／又はニッケル化合物である。触媒は、また、活性炭又は酸化アルミニウムのような固体担体に施すこともできる。好ましくは、パラジウムが酸化状態（０）で存在する化合物を用いる。これらの化合物の例は、パラジウムケトネート、パラジウムアセチルアセトネート、ニトリルパラジウムハライド、パラジウムハライド、アリルパラジウムハライド、及び／又はパラジウムビスカルボキシレートである。特に好ましい触媒は、パラジウムビスアセチルアセトネート、ビス（ベンゾニトリル）パラジウムジクロリド、ＰｄＣｌ２、Ｎａ２ＰｄＣｌ４、Ｎａ２ＰｄＣｌ６、ビス（アセトニトリル）パラジウムジクロリド、パラジウム−ＩＩ−アセテート、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン−パラジウムジクロリド、及び／又はテトラクロロパラジウム酸である。パラジウム化合物は、また、その場で生成させることもでき、例えばパラジウム（ＩＩ）クロリド及びＮａＯＡｃからパラジウム（ＩＩ）アセテートを生成させることができる。
【００２７】
好ましく用いられる触媒の量は、化合物（ＩＩ）に対して０．００１〜０．５モル％、特に好ましくは０．０１〜０．２モル％である。
触媒はリン含有リガンドを含むことができ、或いは、リン含有リガンドを反応混合物に別に加えることができる。
【００２８】
好ましいリン含有リガンドは、トリ−ｎ−アルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン、及び／又はヘテロアリールホスフィン、例えばトリピリジルホスフィン及びトリフリルホスフィンであり、リン上の三つの置換基は同一であっても異なっていてもよく、１以上の置換基は２以上のホスフィンのリン基を結合することができ、この結合の一部はまた金属原子であることができる。トリフェニルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、及び／又はトリス（３−スルホフェニル）ホスフィントリナトリウム塩（ＴＰＰＴＳ）のようなホスフィンが特に好ましい。リン含有リガンドの全濃度は、式（ＩＩ）の化合物を基準として、好ましくは１モル％以下、最も好ましくは０．００１〜１モル％、特に０．０１〜０．５モル％である。
【００２９】
プロセス工程（ａ）において通常用いられる塩基は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属アルコキシド、アルカリ金属フッ化物、第１級アミン、第２級アミン、又は第３級アミンである。水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、又はフッ化カリウムのような塩基が好ましい。複数の塩基の混合物を用いることもできる。用いる塩基の量は、好ましくは、芳香族化合物（ＩＩ）を基準として、１〜１０、特に好ましくは１〜５、特に１〜２．５モル当量の塩基である。
【００３０】
工程（ａ）において好ましく用いられる溶媒は、アルコール、エーテル、ポリエチレングリコール、スルホキシド、ホルムアミド、又はこれらの混合物である。好ましい溶媒は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、又はこれらの混合物である。全ての場合において、水、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、或いはトルエン、キシレン、クロロベンゼン、又はジクロロメタンのような脂溶性溶媒を、共溶媒として加えることができる。
【００３１】
工程（ａ）は、好ましくは、１０℃〜１５０℃、より好ましくは４０℃〜１００℃、更に好ましくは７０℃〜９０℃の範囲の温度で行う。
パラジウム又はニッケルをベースとする触媒の例は、”Ｍｉｙａｕｒａ，Ｎ．；Ｓｕｚｕｋｉ，Ａ；Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９７９，８６６”；”Ｍｉｙａｕｒａ，Ｎら；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９７９，３４３７”；”Ｍｉｙａｕｒａ，Ｎ；Ｓｕｚｕｋｉ，Ａ；Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．１９９５，９５，２４５７”；”Ｓｕｚｕｋｉ，Ａ；Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９９９，５７６，１４７”；”Ｈａｓｓａｎ，Ｊ；Ｓｅｖｉｇｎｏｎ，Ｍ；Ｇｏｚｚｉ，Ｃ；Ｓｃｈｕｌｚ，Ｅ；Ｌｅｍａｉｒｅ，Ｍ；Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００２，１０２，１３５９”において見ることができる。
【００３２】
本発明の目的のためには、カルボニル化系は、式（ＩＶａ）の化合物を得るために、１以上の工程において５員環を閉環ことのできる試薬又は一連の試薬として定義される。カルボニル化工程（ｂ）は、用いるカルボニル系による。好ましい工程（ｂ）は、
（ｉ）工程（ａ）から得られた式（ＩＶ）の化合物を２当量の塩基と接触させ；そして
（ｉｉ）工程（ｉ）から得られたジアニオン性化合物を、式（Ｖ）：
【００３３】
【化１１】
2009508910.tif 000013
【００３４】
（式中、Ｒ６及びＲ７は、互いに同一か又は異なり、水素、塩素、臭素、ヨウ素、ＯＲ、及びＮＲ２（ここで、Ｒは、場合によっては元素周期律表第１３〜１７族に属するヘテロ原子を含むＣ１〜Ｃ２０炭化水素基であり；好ましくは、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ３〜Ｃ２０シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、Ｃ７〜Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ７〜Ｃ２０アリールアルキル基である）からなる群から選択され；好ましくは、Ｒ７は、塩素、臭素、ヨウ素、ＣＦ３、ＣＣｌ３、又はＯＲであり、より好ましくは塩素又はＯＣＨ２ＣＨ３であり；好ましくは、Ｒ６は、ＣＦ３、ＣＣｌ３、ＯＲ、及びＮＲ２（ここで、Ｒは上記に記載した通りである）からなる群から選択され、より好ましくは、Ｒ６はＮＲ２であり、更に好ましくは、Ｒ６はＮ（ＣＨ３）２である）
の化合物によって処理する；
下位工程を含む。
【００３５】
工程（ｂ）を行うことに関する他の態様は、
（ｉ）アニオン性モノハロゲン化誘導体を得るために、工程（ａ）から得られた式（ＩＶ）の化合物を、２当量の塩基、及び続いて塩素、臭素、又はヨウ素から選択される１当量の化合物と接触させ；そして
（ｉｉ）工程（ｉ）から得られたアニオン性モノハロゲン化化合物を、式（Ｖａ）：
［ＭｍＬｊ（ＣＯ）ｎ］ａ      （Ｖａ）
（式中、Ｍは周期律表第４〜１１族の遷移金属であり；Ｌは、中性であっても或いは陽電荷若しくは陰電荷を有していてもよい金属Ｍを配位するリガンドであり；ａは−４〜＋４の範囲であり、コンプレックスの電荷をあらわし、ａが０の場合にはコンプレックスは中性であり；ｍは１〜２０の範囲であり；ｊは０〜３０の範囲であり；ｎは１〜５０の範囲であり；好ましくは、ａは−２〜＋２の範囲であり；ｍは１〜１０の範囲であり；ｊは０〜５の範囲であり；ｎは１〜２０の範囲である）
の化合物によって処理する；
下位工程を含む。
【００３６】
工程（ｂ）を行うことに関する更に他の態様は、
（ｉ）アニオン性モノハロゲン化誘導体を得るために、工程（ａ）から得られた式（ＩＶ）の化合物を、ハロゲン化化合物、及び続いて１当量の塩基と接触させ；そして
（ｉｉ）工程（ｉ）から得られたアニオン性モノハロゲン化化合物を、式（Ｖａ）：
［ＭｍＬｊ（ＣＯ）ｎ］ａ      （Ｖａ）
（式中、Ｍは周期律表第４〜１１族の遷移金属であり；Ｌは、中性であっても或いは陽電荷若しくは陰電荷を有していてもよい金属Ｍを配位するリガンドであり；ａは−４〜＋４の範囲であり、コンプレックスの電荷をあらわし（ａが０の場合にはコンプレックスは中性である）；ｍは１〜２０の範囲であり；ｊは０〜３０の範囲であり；ｎは１〜５０の範囲であり；好ましくは、ａは−２〜＋２の範囲であり；ｍは１〜１０の範囲であり；ｊは０〜５の範囲であり；ｎは１〜２０の範囲である）
の化合物によって処理する；
下位工程を含む。
【００３７】
工程（ｂ）において用いる塩基は、好ましくは、アルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物及び水素化物、金属ナトリウム及びカリウム、並びに有機金属リチウム化合物から選択される。最も好ましくは、該塩基は、場合によってはテトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）によって活性化されている、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、又はｔｅｒｔ−ブチルリチウムである。
【００３８】
ハロゲン化化合物の例は、”Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ”，１９８９版，ＶＣＨ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ｐ．３１５〜３１８において記載されており、例えば、塩素、臭素、ヨウ素、ＣｕＣｌ２、ＣＢｒ４、Ｎ−ブロモ−スクシンイミド、Ｎ−クロロ−スクシンイミドである。
【００３９】
式（Ｖ）の化合物の非限定的な例は、カルベトキシイミダゾール、トリホスゲン、エチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバメート、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバミン酸の塩化物である。
リガンドＬの非限定的な例は、ハロゲン、水素、窒素、アミン、ホスフィン、シクロペンタジエニル誘導体、オクタジエンである。
【００４０】
式（Ｖａ）の化合物の非限定的な例は、Ｃ（ＣＯ）６、Ｃｒ（ＣＯ）６、Ｃｒ（ＣＯ）５Ｈ２、Ｍｎ（ＣＯ）５Ｈ、Ｍｎ（ＣＯ）５Ｉ、Ｍｎ２（ＣＯ）１０、Ｍｎ２（ＣＯ）８Ｈ２、Ｆｅ（ＣＯ）５、Ｆｅ（ＣＯ）４Ｈ２、Ｆｅ（ＣＯ）２Ｘ２、Ｆｅ（ＣＯ）４Ｘ２、Ｆｅ（ＣＯ）５Ｘ２、Ｆｅ２（ＣＯ）９、Ｃｏ（ＣＯ）４Ｈ、Ｃｏ（ＣＯ）２Ｘ２、Ｃｏ（ＣＯ）４Ｘ２、Ｃｏ（ＣＯ）５Ｘ２、Ｃｏ２（ＣＯ）６、Ｎｉ（ＣＯ）４、Ｎｉ２（ＣＯ）６Ｈ２、Ｆｅ３（ＣＯ）１２、［Ｆｅ３（ＣＯ）１１Ｈ］−、Ｏｓ３（ＣＯ）１２、［Ｒｅ３（ＣＯ）１２Ｈ６］−、［Ｒｅ４（ＣＯ）１６］２−、Ｃｏ４（ＣＯ）１２、［Ｆｅ４（ＣＯ）１３］２−、Ｏｓ５（ＣＯ）１６、［ＯＳ５（ＣＯ）１５Ｉ］−、［Ｎｉ５（ＣＯ）１２］２−、［Ｆｅ５Ｃ（ＣＯ）１５］−、Ｒｈ６（ＣＯ）１６、Ｒｈ６（ＣＯ）１５Ｉ、［Ｃｏ６（ＣＯ）１４］４−、［Ｆｅ６Ｃ（ＣＯ）１６］２−、［Ｃｏ６Ｈ（ＣＯ）１５］−、［Ｒｈ６Ｃ（ＣＯ）１５］２−、［Ｃｏ６Ｎ（ＣＯ）１５］−、Ｏｓ６（ＣＯ）１８である（ここで、Ｘは、塩素、臭素、ヨウ素である）。
【００４１】
工程（ｂ）は、−７８℃〜１００℃、好ましくは−２０℃〜３０℃の温度範囲で行う。通常、ジエチルエーテル、ヘキサン、トルエン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、及びジオキサンのような非プロトン性溶媒を用いる。工程（ｂ）から得られた生成物は、濾過、再結晶、クロマトグラフィー、蒸留のような当該技術において公知の方法によって精製するか、或いはそのまま用いる。
【００４２】
工程（ｃ）においては、当該技術において公知の種々の還元剤を用いることができる。工程（ｃ）において用いる好適な還元剤の例は、”Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ”，１９８９版、ＶＣＨ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ｐ．３５〜４０に記載されている。好ましい還元剤は、ＬｉＡｌＨ４／ＡｌＣｌ３、及びＮ２Ｈ４／塩基（例えばＮａＯＨ及びＫＯＨ）である。
【００４３】
工程（ｃ）を行うための溶媒は、用いる還元剤に依存する。例えば、ＬｉＡｌＨ４／ＡｌＣｌ３を用いる場合には、反応は、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、トルエン、ペンタン、ヘキサンのような、極性又は非極性のいずれかの非プロトン性溶媒中で行う。Ｎ２Ｈ４／塩基を用いる場合には、水又はジエチレングリコールのようなプロトン性溶媒を、場合によっては相転移剤の存在下で用いることもできる。温度は用いる還元剤に依存し、一般に、−８０℃〜３００℃、好ましくは０℃〜１５０℃の範囲である。
【００４４】
好ましくは、工程（ｃ）は、
（ｉ）式（ＩＶａ）の化合物をＮ２Ｈ４と接触させ；
（ｉｉ）水中のＫＯＨの溶液を加え；そして
（ｉｉｉ）固体を濾過し、生成物を回収する；
下位工程を含む。
【００４５】
工程（ｉ）は、好ましくは、水、トルエン、又はジエチレングリコール中で行い；工程（ｉｉ）は、好ましくは、相転移剤、好ましくはジエチレングリコールの存在下で行う。
工程（ｃ）から得られた生成物は、濾過、結晶化、カラムクロマトグラフィーのような当該技術において公知の方法、好ましくは濾過によって精製する。
【実施例】
【００４６】
以下の実施例は本発明を例示するものであり、本発明を限定するものではない。
実施例
一般的手順
全ての操作は、窒素下において、通常のＳｃｈｌｅｎｋライン法を用いることによって行った。溶媒は、Ｎ２によって脱気し、活性化（８時間、Ｎ２パージ、３００℃）Ａｌ２Ｏ３上を通過させることによって精製し、窒素下で保管した。３−ブロモチオフェン（Ａｌｄｒｉｃｈ、９７％）、３−チオフェンボロン酸（Ａｌｄｒｉｃｈ）、ＰＰｈ３（Ａｌｄｒｉｃｈ、９９％）、ＫＯＨ（Ａｌｄｒｉｃｈ、８５％）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ａｌｄｒｉｃｈ、９９．９％）、２−メチルチオフェン（Ａｌｄｒｉｃｈ、９８％）、Ｂ（ＯＭｅ）３（Ａｌｄｒｉｃｈ、９９．５）、ｎ−ＢｕＬｉ（Ａｌｄｒｉｃｈ）を、受容したままで用いた。
【００４７】
室温において、それぞれ２００．１３ＭＨｚ及び５０．３２ＭＨｚでフーリエ変換モードで操作するＢｒｕｋｅｒ  ＤＰＸ  ２００分光計によって、得られた化合物のプロトン及び炭素スペクトルを得た。試料をＣＤＣｌ３又はＣＤ２Ｃｌ２中に溶解した。ＣＤＣｌ３（Ａｌｄｒｉｃｈ、９９．８原子％−Ｄ）及びＣＤ２Ｃｌ２（Ａｌｄｒｉｃｈ、９９．５原子％）は、モレキュラーシーブ（４〜５Å）上で保管した。
【００４８】
試料の調製は、窒素下において、標準的な不活性雰囲気法を用いて行った。１Ｈスペクトル中のＣＨＣｌ３又はＣＨＤＣｌ２の残留ピーク（それぞれ、７．２５ｐｐｍ及び５．３５ｐｐｍ）、並びに１３Ｃスペクトル中の溶媒のピーク（ＣＤＣｌ３については７７．００ｐｐｍ及びＣＤ２Ｃｌ２については５３．８０ｐｐｍ）を、参照として用いた。
【００４９】
１５°のパルス及び２秒のパルス間遅延を用いてプロトンスペクトルを得た。３２の過渡スペクトルをそれぞれのスペクトルに関して保存した。４５°のパルス及び６秒のパルス間遅延を用いて炭素スペクトルを得た。約５１２の過渡スペクトルをそれぞれのスペクトルに関して保存した。
【００５０】
ＧＣ−ＭＳ分析は、ＨＰ５８９０−シリーズ２ガスクロマトグラフ及びＨＰ５９８９Ｂ四極子質量分析計によって行った。
実施例１
工程（ａ）３，３’−ジチオフェンの合成
【００５１】
【化１２】
2009508910.tif 000014
【００５２】
電磁スターラー及び還流凝縮器を取り付けた１０００ｍＬの三つ口丸底フラスコに、３−ブロモチオフェン（０．０９２モル、８．６ｍＬ、１当量）、３−チオフェンボロン酸（０．１１０モル、１４．０８ｇ、１．２当量）、ＫＯＨ（０．２７６モル、３当量）、ＤＭＥ（ｄ＝０．８６７、３．０７モル、３１９ｍＬ）、及びＨ２Ｏ（５４ｍＬ）を充填した。
【００５３】
反応混合物を８０℃に加熱した。別のＳｃｈｌｅｎｋフラスコ内において、ＰＰｈ３（７．３６ミリモル、０．０８当量）をＤＭＥ（５９．８ｍＬ）中に溶解し、次にＰｄ（ＯＡｃ）２（１．８４ミリモル、０．０２当量）を加えた。触媒溶液を１５分間撹拌して触媒を予備活性化し、次に８０℃において反応混合物に加えた。反応混合物は、速やかに褐色に変化した。反応は完了まで９時間かかった。反応混合物を水で希釈し、二つの相を分離し、水相をトルエンで洗浄した。有機相を合わせて、食塩水、水で洗浄し、次にＮａ２ＳＯ４及びＭｇＳＯ４上で乾燥した。真空下で溶媒を除去して、１３．８８ｇの灰色の粉末を得、これをＧＣ−ＭＳ分析及び１Ｈ−ＮＭＲ分光法によって分析した。ＧＣ分析によって、所望の生成物である３，３’−ジチオフェンの存在が示された。純粋な生成物の収率は７６．９％（０．０７１モル）であった。
【００５４】
1H-NMR (δ, ppm, CD2Cl2): 7.50-7.36 (2m, 6H)。
13C-NMR (δ, ppm, CD2Cl2): 120.19(CHα); 126.56 (CHβ); 126.71 (CHδ); 137.61 (Cq)。
【００５５】
m/z (%): 166 [M+], 134(32), 121(45)。
実施例２
工程（ａ）２−メチル−４，３’−ジチオフェンの合成
【００５６】
【化１３】
2009508910.tif 000015
【００５７】
電磁スターラー及び還流凝縮器を取り付けた５００ｍＬの二口丸底フラスコに、２−メチル−４−ブロモチオフェン（１１．５２ｇ、６５．０６ミリモル、１当量）、３−チオフェンボロン酸（１０．０ｇ、８．１５ミリモル、１．２当量）、ＫＯＨ（０．１９５モル、３当量）、ＤＭＥ（ｄ＝０．８６７、１．７９９モル、１８７ｍＬ）、及びＨ２Ｏ（３７．４ｍＬ）を充填した。反応混合物を８０℃に加熱した。別のＳｃｈｌｅｎｋ管内において、ＰＰｈ３（５．３ミリモル、０．０８当量）をＤＭＥ（３７．４ｍＬ）中に溶解し、次にＰｄ（ＯＡｃ）２（１．３ミリモル、０．０２当量）を加えた。触媒溶液を１５分間撹拌して触媒を予備活性化し、次に８０℃において反応混合物に加えた。反応混合物は、速やかに褐色に変化した。反応は完了まで６時間かかった。反応混合物を水で希釈し、二つの相を分離し、水相をトルエンで洗浄した。有機相を合わせて、食塩水、水で洗浄し、次にＮａ２ＳＯ４及びＭｇＳＯ４上で乾燥した。真空下で溶媒を除去して、１０．８２ｇの橙色の粉末を得た。後者を、ｎ−ペンタンで抽出し、真空中で乾燥して、９．２６ｇの黄色の粉末を得、これをＧＣ−ＭＳ分析及び１Ｈ−ＮＭＲ分光法によって分析した。純粋な生成物の収率は７５．７％（４９．２６ミリモル）であった。
【００５８】
1H-NMR (δ, ppm, CDCl3): 7.29 (m, 3H); 7.12 (d, 1H); 7.00 (d, 1H); 2.51 (d, 3H, CH3)。
13C-NMR (δ, ppm, CDCl3): 15.70 (CH3); 117.90 (CH in 3); 119.77 (CH in 5'); 124.98 (CH in 5);126.41 (CH in 2'及びCH in 4'); 137.29 (C in 4); 137.90 (C in 3'); 140.72 (C in 2)。
【００５９】
m/z (%): 182 [M・++2] (38), 181 [M・++1] (66), 180 [M・+] (100), 179 (100), 153 (35), 147 (100), 135 (48)。
実施例３
工程（ａ）２，２’−ジメチル−４，４’−ジチオフェンの合成
【００６０】
【化１４】
2009508910.tif 000016
【００６１】
ＷＯ  ０２／０９２５６４に記載されている手順にしたがって、２−メチル−４−ブロモチオフェンを２−チオフェンアルデヒドから２工程で調製した。第１工程では、２−チオフェンアルデヒドをＢｒ２／ＡｌＣｌ３によって臭素化して４−ブロモ−２−チオフェンアルデヒドを与え、これを次にＮＨ２ＮＨ２／ＫＯＨ／水によって２−メチル−４−ブロモチオフェンに還元した。２−チオフェンアルデヒドを基準とする全収率は約７０％であった。
【００６２】
３−チオフェンボロン酸の製造に関してＷＯ  ９５／０２０４６に報告されている手順にしたがって、２−メチル−４−チオフェンボロン酸を２−メチル−４−ブロモチオフェンから調製した。
【００６３】
２，２’−ジメチル−４，４’−ジチオフェンの合成
電磁スターラー及び還流凝縮器を取り付けた２５０ｍＬの三つ口丸底フラスコに、２−メチル−４−ブロモチオフェン（３．５４ｇ、２０．００ミリモル、１当量）、２−メチル−４−チオフェンボロン酸（３．３３ｇ、２３．４５ミリモル、１．２当量）、ＫＯＨ（５９．００ミリモル、３当量）、ＤＭＥ（ｄ＝０．８６７、０．５５４モル、５７．６ｍＬ）、及びＨ２Ｏ（１１．５ｍＬ）を充填した。反応混合物を８０℃に加熱した。別のＳｃｈｌｅｎｋフラスコ内において、ＰＰｈ３（１．６ミリモル、０．０８当量）をＤＭＥ（１１．５ｍＬ）中に溶解し、次にＰｄ（ＯＡｃ）２（０．３９ミリモル、０．０２当量）を加えた。触媒溶液を１５分間撹拌して触媒を予備活性化し、次に８０℃において反応混合物に加えた。反応混合物は、速やかに褐色に変化した。反応は完了まで５時間かかった。反応混合物を水（２００ｍＬ）で希釈し、二つの相を分離し、水相をトルエンで洗浄した。有機相を合わせて、食塩水、水で洗浄し、次にＮａ２ＳＯ４及びＭｇＳＯ４上で乾燥した。真空下、４０℃において溶媒を除去して、橙色の粉末を得た。後者を、ｎ−ペンタンで抽出し、真空中で乾燥して、３．３１ｇの橙色の粉末を得、これをＧＣ−ＭＳ分析及び１Ｈ−ＮＭＲ分光法によって分析した。純粋な生成物の収率は８５．２％（１７．０３ミリモル）であった。
【００６４】
1H-NMR (δ, ppm, CDCl3): 7.04 (d, 2H); 6.94 (d, 2H); 2.48 (d, 6H, CH3)。
13C-NMR (δ, ppm, CDCl3): 15.67 (CH3); 117.53 (CH); 124.84 (CH); 137.60 (Cq); 140.50 (Cq)。
【００６５】
m/z (%): 194 [M・+] (100), 193 [M・+-1] (32), 179 (6), 161 (18)。
工程（ｂ）２，５−ジメチル−７Ｈ−シクロペンタ［１，２−ｂ：４，３−ｂ’］チオフェン−７−オンの合成
【００６６】
【化１５】
2009508910.tif 000017
【００６７】
５．０ｇ（２５．７３ミリモル）の２，２’−ジメチル−４，４’−ジチオフェン、５０ｍＬのエーテル、及び８．５ｍＬ（５６．６１ミリモル）のＴＭＥＤＡの混合物をバルブ容器中に配置し、得られた懸濁液を−２０℃に冷却し、次に、２５．７５ｍＬ（５６．６５ミリモル）のヘキサン中２．２Ｍ−ＢｕＬｉによって処理した。混合物を室温に加温し、３時間撹拌した。反応混合物を、７０ｍＬのエーテル中の３．０ｇ（２５．７３ミリモル）のカルバメート（ＥｔＯ）Ｃ（Ｏ）ＮＭｅ２によって処理し、次に４０時間撹拌した。得られた混合物を、振盪又は撹拌下において、２５０ｍＬのＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液中に注ぎ入れた。若干の沈殿生成物を含む有機相を単離し、１２５ｍＬの水で洗浄し、１０ｍＬのヘキサンによって処理し、次に濾過した。沈殿を、水、次に１０ｍＬのヘキサンで２回洗浄し、乾燥した。第１の部分の収量は３．２０ｇであった。濾液を２５ｍＬの容量まで蒸発させて、懸濁液を得た。この懸濁液を濾過し、熱ヘキサンで洗浄し、乾燥した。第２の部分の収量は１．４５ｇであった。合計収量は４．６５ｇ（８２％）であった。
【００６８】
1H-NMR (CDCl3): 6.58 (q, 1H); 2.50 (d, 6H)。
13C-NMR (CDCl3): 178.8; 152.6; 152.2; 133.0; 118.6; 16.1。
工程（ｃ）２，５−ジメチル−７Ｈ−シクロペンタ［１，２−ｂ：４，３−ｂ’］チオフェン−７−オンの還元
【００６９】
【化１６】
2009508910.tif 000018
【００７０】
４．５ｇ（２０．４ミリモル）の２，５−ジメチル−７Ｈ−シクロペンタ［１，２−ｂ：４，３−ｂ’］チオフェン−７−オン、６０ｍＬのジエチレングリコール、及び７ｍＬのヒドラジンモノハイドレートの混合物をバルブ容器中に配置した。混合物を８０℃に加温し、撹拌しながらこの温度において１時間保持した。次に、混合物を１時間激しく還流し、室温に冷却し、２５ｍＬの水中の７ｇのＫＯＨの溶液によって処理した。得られた混合物を注意深く加熱して気体を発泡させ始めた。混合物を２時間還流し、次に７０〜８０℃に冷却し、３００ｍＬの水中に注ぎ入れた。沈殿をデカンテーションによって取り出し、濾過し、２０〜３０ｍＬの水で７回洗浄し、乾燥した。収量は３．３ｇ（７８％）であった。
【００７１】
1H-NMR (CDCl3): 6.81 (q, 2H); 3.72 (s, 2H); 2.58 (d, 6H)。
13C-NMR (CDCl3): 143.6; 142.1; 140.1; 116.4; 33.1; 15.9。
【国際調査報告】
2009508910.tif 000026
2009508910.tif 000027