(57)【要約】容器又は管等の製品空間内にある分析すべき物質の電磁スペクトル分析又は光学分析、特に粉体、バルク材料、粒体等の測光分析、分光光度分析用の装置に、ハウジング内に配置される測定プローブと、少なくとも１つの放射線測定要素又は光測定要素と、前記ハウジングの壁の光路に配置される測定窓と、分析用の少なくとも１つの検出要素とが備えられている。前記ハウジングの少なくとも前記測定部分が位置する部分が、前記分析すべき物質のある前記製品空間に開口から入るように、前記測定プローブは軸方向に変位可能に形成されており、その移動がガイドされる。少なくとも１つの測定窓が前記ハウジングの前記周壁の少なくとも１箇所に配置される。密閉キャップは前記ハウジングの前端面と前記周壁に配置された前記測定窓との間に位置し、前記密閉キャップは前記製品空間(３)の開口（５）部分に少なくとも部分的に止まっており、その結果該密閉キャップは、前記測定窓が前記製品空間の外にある前記プローブの後退位置において該開口（５）を覆う。
2009501320.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジング内に配置される測定プローブと、少なくとも１つの放射線測定要素又は光測定要素と、前記ハウジングの壁の光路に配置される測定窓と、分析用の少なくとも１つの検出要素とを備えており、容器又は管等の製品空間内に入れられる分析すべき物質の電磁スペクトル分析又は光学分析、特に、粉体、バルク材料、粒体等の測光分析、分光光度分析、又は画像分析用の装置であって、前記測定プローブは、前記ハウジングの少なくとも前記測定窓が位置する部分が前記分析すべき物質が入れられる前記製品空間に開口を通じて入るように、軸方向に変位可能に形成及びガイドされる、装置において、
少なくとも１つの測定窓（１３）が、前記ハウジング（１）の前記周壁の少なくとも１つの一部領域に配置され、
密閉キャップ（１４）が、前記ハウジング（１）の前端面と前記周壁に配置された前記測定窓（１３）との間に位置しており、
前記密閉キャップ（１４）は、前記測定窓（１３）が前記製品空間（３）の外にある前記測定プローブ（２）の後退位置において、前記製品空間（３）の前記開口（５）の領域に少なくとも部分的にまだ存在する結果として該開口（５）を覆うことを特徴とする、装置。
【請求項２】
前記密閉キャップ（１４）は、前記測定プローブ（２）の前記後退位置において、前記容器（３）のシールとなることを特徴とする、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記測定プローブ（２）の前記ハウジング（１）は、前記製品空間（３）の前記開口（５）内に位置決め可能であるか又は前記製品空間（３）の一部を形成するガイド、特にシリンダガイド（６）内で軸方向に変位可能であることを特徴とする、請求項１又は請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記ガイド（６）に、前記測定窓（１３）及び／又は前記ハウジング（１）の前記密閉キャップ（１４）と相互作用する密閉部分（７）を設けることを特徴とする、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記密閉部分（７）はスクレーパ・リングとして形成されることを特徴とする、請求項４記載の装置。
【請求項６】
前記測定プローブ（２）の前記後退位置において該測定プローブ（２）の少なくとも前記測定窓（１３）をクリーニングする洗浄機構（１９）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項５のいずれか１項記載の装置。
【請求項７】
前記洗浄機構（１９）は、少なくとも前記測定窓（１３）の領域で前記ハウジング（１）と前記ガイド（６）との間の中間空間に配置される洗浄媒体室（２３）を有し、該洗浄媒体室（２３）に、洗浄媒体用の少なくとも１つの流入部（２４）及び少なくとも１つの流出部（２５）を設けることを特徴とする、請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記密閉キャップ（１４）又は前記製品空間（３）の内部をクリーニングするように、前記測定プローブ（２）を、前記洗浄媒体室（２３）と前記製品空間（３）との間の接続部がある位置に押し込むことができることを特徴とする、請求項７記載の装置。
【請求項９】
前記ガイド（６）に、前記シリンダガイド（６）の内部に乾燥ガスを供給する少なくとも１つのガス接続部（２６）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項８のいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】
前記ガイド（６）に、該ガイド（６）の内部のガス圧力試験用のガス圧力試験機構（２８）を設けることを特徴とする、請求項８記載の装置。
【請求項１１】
比較対照要素及び／又は試験要素を前記ガイド（６）内に配置することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項記載の装置。
【請求項１２】
白色標準用に少なくとも１つの比較対照要素を設けることを特徴とする、請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
試験要素として、少なくとも１つの校正機構を設けることを特徴とする、請求項１１記載の装置。
【請求項１４】
測定要素として、少なくとも１つの送り光ガイド（１１）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項１３のいずれか１項記載の装置。
【請求項１５】
検出要素として、少なくとも１つの受取り光ガイド（１２）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項１４のいずれか１項記載の装置。
【請求項１６】
前記受取り光ガイド（１２）の束を設けることを特徴とする、請求項１５記載の装置。
【請求項１７】
軸方向に送られる前記送り光ガイド（１１）及び前記受取り光ガイド（１２）はそれぞれ、前記製品空間（３）に面するそれらの前部領域において前記測定窓（１３）に向かって少なくともほぼ半径方向に偏向されることを特徴とする、請求項１〜請求項１５のいずれか１項記載の装置。
【請求項１８】
少なくとも１つのビーム偏向機構を、前記ハウジング（１）の内部の前記測定窓（１３）の領域に配置することを特徴とする、請求項１〜請求項１６のいずれか１項記載の装置。
【請求項１９】
少なくとも１つのミラー（１７）が、前記ビーム偏向機構として設けられ、軸方向に入射した光又は放射線を少なくともほぼ半径方向に偏向させることができるように配置することを特徴とする、請求項１８記載の装置。
【請求項２０】
円周全体に分散配置される複数のミラー（１７）を設けることを特徴とする、請求項１９記載の装置。
【請求項２１】
前記少なくとも１つのミラー（１７）は、複数の鏡面（１７ａ）を有する少なくともほぼ角錐又は円錐の形態を有することを特徴とする、請求項２０記載の装置。
【請求項２２】
前記ビーム偏向機構は、回転又は枢動可能となっていることを特徴とする、請求項１〜請求項２１のいずれか１項記載の装置。
【請求項２３】
前記ハウジング（１）に配置される前記測定プローブ（２）は、無段階式又は段階式に前記容器（３）の内部に入ることができるように前記シリンダガイド（６）内に形成されることを特徴とする、請求項１〜請求項２２のいずれか１項記載の装置。
【請求項２４】
前記製品空間（３）の内部に異なる進入深さで前記測定プローブ（２）を入れて、分析を実行することができることを特徴とする、請求項２３記載の装置。
【請求項２５】
前記測定窓（１３）はサファイア又は水晶から形成されることを特徴とする、請求項１〜請求項２４のいずれか１項記載の装置。
【請求項２６】
複数の測定窓（１３）が、前記ハウジング（１）の前記周壁全体に分散配置されることを特徴とする、請求項１〜請求項２５のいずれか１項記載の装置。
【請求項２７】
前記測定窓（１３）を通じて区画的に分析を実行することができることを特徴とする、請求項１〜請求項２６のいずれか１項記載の装置。
【請求項２８】
前記区画的な分析は、同じか又は異なる測定方法に基づいて実行することができることを特徴とする、請求項２７記載の装置。
【請求項２９】
前記測定プローブ（２）に温度測定要素（１６）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項２８のいずれか１項記載の装置。
【請求項３０】
ハウジング内に配置される測定プローブと、少なくとも１つの放射線測定要素又は光測定要素と、前記ハウジングの壁の光路に配置される少なくとも１つの測定窓と、分析用の少なくとも１つの検出要素とを用い、容器又は管等の製品空間内に入れられる分析すべき物質の電磁スペクトル分析又は光学分析、特に、粉体、バルク材料、粒体等の測光分析、分光光度分析、又は画像分析の方法であって、
前記測定プローブは、前記分析すべき材料が入れられる前記製品空間の内部に開口を通じて入り、その後、前記測定窓を通じて測定が実行され、該測定は、前記ハウジング（１）の前記周壁の少なくとも１つの一部領域に配置される前記少なくとも１つの測定窓（１３）を通じて実行され、
その後、前記測定プローブ（２）は、クリーニング位置で前記測定窓（１３）が前記製品空間（３）の外にくるまで前記容器（３）の前記開口（５）から後退させられることを特徴とする、方法。
【請求項３１】
前記製品空間（３）から前記測定プローブ（２）を部分的に後退させることにより、該測定プローブ（２）の前記ハウジング（１）が、密閉部分（７）としてのスクレーパ・リングを通過してガイドされることを特徴とする、請求項３０記載の方法。
【請求項３２】
前記測定プローブ（２）の少なくとも前記測定窓（１３）をクリーニングするように、クリーニング媒体を、前記ガイド（６）と前記測定プローブ（２）の前記ハウジング（１）との間の中間空間に導入することを特徴とする、請求項３０又は請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
前記密閉（１４）及び／又は前記製品空間（３）の内部をクリーニングするように、前記測定プローブ（２）を、前記洗浄媒体室（２３）と前記製品空間（３）との間の接続部がある位置に押し込むことを特徴とする、請求項３１記載の方法。
【請求項３４】
前記測定プローブ（２）の前記後退位置で校正を実行することを特徴とする、請求項３０〜請求項３３のいずれか１項記載の方法。
【請求項３５】
前記測定プローブ（２）の前記後退位置において、乾燥ガスを前記シリンダガイド（６）の内部に導入することを特徴とする、請求項３１〜請求項３４のいずれか１項記載の方法。
【請求項３６】
前記シリンダガイド（６）の内部における前記乾燥ガスのガス圧力を監視することを特徴とする、請求項３５記載の方法。
【請求項３７】
前記製品空間（３）の内部における前記測定プローブ（２）の異なる進入深さで、測定を実行することを特徴とする、請求項３０〜請求項３６のいずれか１項記載の方法。
【請求項３８】
前記ハウジング（１）の前記周壁全体に分散配置される複数の測定窓（１３）を通じて区画領域で測定を行うことを特徴とする、請求項３０〜請求項３７のいずれか１項記載の方法。
【請求項３９】
前記区画領域の少なくともいくつかで異なる測定方法を実施することを特徴とする、請求項３８記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハウジング内に配置される測定プローブと、少なくとも１つの放射線測定要素又は光測定要素と、前記ハウジングの壁の光路に配置される測定窓と、分析用の少なくとも１つの検出要素とを用いる、容器又は管等の製品空間内に入れられる分析すべき物質の電磁スペクトル分析又は光学分析、特に、粉体、バルク材料、粒体等の測光分析、分光光度分析、又は画像分析用の装置に関する。この装置において前記測定プローブは、分析用に、前記ハウジングの少なくとも前記測定窓が位置する部分が前記分析すべき物質が入れられる前記製品空間に開口を通じて入るように、軸方向に変位可能に形成及びガイドされる。また本発明は、製品空間内にある分析すべき物質を分析する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
分析すべき物質の組成、密度、含水量等を、上記物質を入れた容器の内部に導入される測定プローブを用いた反射又は反射透過での測光分析又は分光光度分析によって分析することが、米国特許第６，８７３，４０９号で知られている。このために用いられる場所は、例えば、特に製薬業界におけるミキサ、ドライヤ、造粒装置、反応器、噴霧器、コータ等である。従来技術によれば、測定及び検出要素がハウジング内に配置されている測定プローブは、測定プローブの最前端又は測定プローブのハウジングに配置される測定窓を有する。これにより、光が軸方向に、プローブの方向に放射する。それから光は、例えば粒子に反射し、吸収されない光は測定プローブに反射し戻される。
【０００３】
分析の目的で、ウルブリヒト球として知られる積分球を用いることも知られている。ウルブリヒト球は、固体試料又は液体試料でのスペクトル反射測定に用いられる。これは、光源の光を光学石英ガラス窓によってウルブリヒト球に進行させることを伴う。測定すべき試料は、拡散照明されて全反射が測定されるか、又は直接照明されて拡散反射が検出される。反射光は、スペクトル評価のためにさらなるガラス繊維を介して光ファイバ分光計に送られる。ウルブリヒト球自体は中空の球であり、その内面は高拡散反射性物質から成る。球内の多重反射により、球は、ランバート特性を有する発光体又は検出器のいずれかとして働く。
【０００４】
既知の構成の場合、プロセス中に測定窓を通じて測定が実行される。しかしながら、この構成では、分析すべき物質に応じて、測定窓がそのプロセスから生じる粒子で汚れるか又は覆われるか、すなわち曇るのが非常に早いという問題を伴う。容器内に位置する測定プローブのクリーニングは、非常に困難であり、場合によっては不可能なことさえある。容器の開口に入って自身の長手方向で軸方向に測定を行う測定プローブが用いられる場合、測定窓は、測定プローブを取り出す、すなわち取り外すことによって、又は代替的に、測定プローブが容器内に残っている場合には製造プロセス後に洗浄を実行することによってしかクリーニングすることができない。プロセス中のクリーニングは、プロセスを中断しない限り不可能である。
【０００５】
さらに他の従来技術として、米国特許第６，０５８，７７６号及び米国特許第５，５９１，９０７号を参照されたい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、製造プロセス中でも簡単に測定プローブを、特に１つ又は複数の測定窓をクリーニングすることを可能にする、冒頭で述べたタイプの測定プローブを提供するという目的に基づくものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、この目的は、ハウジングの周壁の少なくとも１つの一部領域に配置される少なくとも１つの測定窓と、ハウジングの前端面と周壁に配置された測定窓との間に位置付けられる密閉キャップとによって達成される。そして密閉キャップは、測定窓が製品空間の外にある測定プローブの後退位置にあるときに、製品空間の開口の領域に少なくとも部分的にまだ存在することによって当該開口を覆うものとなっている。
【０００８】
本発明に従って配置した周壁の測定窓と密閉キャップとの配置を行うには、ハウジングを測定プローブとともに容器の開口から後退させるだけでよい。このときハウジングは測定プローブとともに開口を通って測定窓が製品空間の外にくるまで押し出されるが、それと同時に密閉キャップは依然として内側にあることから、密閉キャップによって開口を密閉するという効果を得ることができる。そしてその後退位置で、密閉キャップが製品空間の内部に対するシールを形成すれば、全く問題なくつまり正確には製品空間内で実行されているプロセスを中断させることなく、有利な方法で測定窓をクリーニングすることが可能である。続いて、ハウジングを、測定要素及び検出要素を有する測定プローブとともに、開口を通じて製品空間の内部に再び下ろすことができ、その後、さらなる測定及び分析を実行することができる。
【０００９】
本発明の非常に有利な改良では、前記測定プローブの前記後退位置において前記測定プローブの少なくとも前記測定窓をクリーニングするための洗浄機構を設けることができる。
【００１０】
本発明による洗浄機構は、測定プローブのハウジング、特に測定窓のある領域をクリーニングできるようにする。
【００１１】
このための１つの構成形態では、前記洗浄機構は、少なくとも前記測定窓の領域で前記ハウジングと前記ガイドとの間の中間空間に配置される洗浄媒体室を有し、該洗浄媒体室に、洗浄媒体用の少なくとも１つの流入部及び少なくとも１つの流出部を設けることができる。
【００１２】
さらなる有利な改良では、乾燥ガスをシリンダガイドの内部に供給するための少なくとも１つのガス接続部をガイドに設けることができる。乾燥ガスは、測定プローブを製品空間の内部に再度導入する前に、クリーニング後にハウジングの外部、特に測定窓のある領域を乾燥させるために用いることができる。
【００１３】
一つの発展形態では、ガイドの内部のガス圧力を、ガス圧力試験機構によってチェックすることができる。このようにして、製品空間の外への漏れ及び内部への漏れの両方を確認することができる。特に、このようにして、測定プローブ又は測定プローブのハウジングと容器又は閉鎖型ガイド、例えばシリンダガイドとの間の密閉部分の機能をチェックすることができる。
【００１４】
本発明による非常に有利な改良では、ハウジングの内部で放射線又は光が軸方向に送られるようにするため、少なくとも１つのビーム偏向機構を設けることができる。そのビーム偏向機構は、ビームすなわち光を半径方向に偏向させ、それによって、分析すべき物質が周壁に配置された測定窓を介して対応して照射され、反射光線が再び窓を通じて検出され、続いて偏向させた後に分析又は評価のために測定プローブの中から再び導出させることができる。
【００１５】
ビーム偏向機構は多種多様な機構にて実施することができる。単純な方法では、１つ又は複数のミラーをこの目的のために設け、円周全体に分散させ、１つ又は複数の測定窓の円周長さに応じて配置及び形成することができる。同様に、角錐形又は円錐形又は円錐台形としての構造も可能である。このようにして複数の鏡面が得られる。四角錐、六角錐、又は八角錐が用いられる場合、さらなる利点として、対応する数の測定窓とともに異なるパラメータを用いて複数の測定又は分析を行う可能性が得られる。この目的のためには、この場合もまた、対応する数の検出要素、例えば受取り光ガイド等を設けるだけでよい。
【００１６】
本発明に従って測定プローブが形成される方法及び測定窓が配置される方法のさらなる大きな利点は、測定中に比較対照、例えばホワイトバランス又は他の何らかの校正を実行することも結果として可能であることである。この目的のためには、ハウジングを測定プローブとともに製品空間から対応する量だけ部分的に出すだけでよく、その後で、ハウジングのためのガイドに配置された比較対照及び／又は試験要素によって測定窓を通じて対応する校正又は比較対照測定を実行することができる。
【００１７】
さらに、本発明による装置は、多様な送り光ガイド及び受取り光ガイドを異なる測定配置で配置すること、及び異なる測定方法でそれらを用いることも可能にする。
【００１８】
さらに、このようにして、測定プローブを取り外す必要なく機能チェックを実行することができる。
【００１９】
本発明による装置では、光ガイドを対応して配置することによって、例えば反射／レミッション若しくは透過反射（ＵＶ、ＶＩＳ、ＮＩＲ、ＩＲ）、蛍光若しくはレーザ誘起蛍光（ＬＩＦ）、生物発光若しくは化学発光、又はラマン分光法等、事実上全ての既知の測定方法を実行することができる。同様に、比較対照信号の帰還を用いるレーザ誘起ブレークダウン分光法（ＬＩＢＳ）又は二光束配置が可能である。
【００２０】
さらに、例えば測定プローブ又は受取り検出器に接続される温度測定要素が密閉キャップに配置される場合、本発明による装置を温度測定に用いることもできる。このようにして、製品空間内での試料物質の温度測定も可能である。
【００２１】
測定プローブ自体には、多種多様な送り要素及び検出要素並びに送り機構及び検出機構が収容され得る。これに関して、送り／検出要素は、種々の分析を実行することができるように、同様であっても異なっていてもよい。
【００２２】
本発明のさらなる改良では、実施中にビーム偏向機構、例えばミラー体を回転又は枢動させることもできる。このようにして、例えば容器内でより大きな面積を対象とすることが可能である。
【００２３】
本発明による装置のさらなる利点は、その長さに応じて、製品を入れた容器内に測定プローブを任意の所望の長さまで導入することもできることである。このようにして、異なる進入深さでの測定によって全内容物の対応する輪郭を得ることが可能である。異なる深さでの測定を用いて、例えば混合、乾燥、造粒、及びコーティングのプロセスの監視及び／又は分析をさらに改善することが可能である。
【００２４】
さらに、１つ又は複数の測定窓により、３６０度の完全測定を実行するだけでなく、区画測定を行うことも可能である。例えば、試料が均一に分散している場合、分析中の製品の特性を特定の波長で１つの区画で測定することができる一方で、製品の別の特性は、別の区画領域でおそらくは異なる波長で測定又は分析される。同様に、例えば、色を測定するために可視光を用いて１つの区画領域で作業することが可能である一方で、例えば蛍光又はＮＩＲ（近赤外線）が別の区画領域で測定される。これは、測定窓によって形成される測定すべき個々の区画領域で同じか又は異なる測定方法で作業すること、及び１つの動作で、すなわち測定プローブを製品空間に一度挿入することでこれを行うことが可能であることを意味する。
【００２５】
本発明の例示的な実施形態を、原則的に図面に基づいて以下で説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１に示す装置は、ハウジング１を有する測定プローブ２を有し、これらには、製品空間、例えば容器３に位置する分析すべき物質の電磁スペクトル又は光学分析用の多様な機構が設けられる。これに関連して「光学分析」という用語は、不可視光の使用も指すものとする。容器３については、開口５のある壁４の細部及び一部のみが示されている。容器３の代わりに、管若しくは管状容器、又は任意の他の形態を製品空間として設けることもできる。開口５は、ガイド、例えば閉鎖型シリンダガイド６と、シリンダガイド６の前端壁に配置された密閉リング７とによって外部から密閉される。シリンダガイド６は同時に、ハウジング１、したがって測定プローブ２のガイドにもなる。ハウジング１及びシリンダガイド６は、円筒形に形成されている。測定プローブ２は、ハウジング１とともに、シリンダガイド６に対して軸方向に沿って変位可能であり、それによって容器３の内部に導入することができる。
【００２７】
原則的に、測定プローブ２の構成は既知のタイプのものであるため、本発明に重要な部分のみをより詳細に後述する。
【００２８】
図１には、送り光ガイド用の接続部８及び受取り光ガイド用の接続部９が示されている。さらに、必要ならば、温度センサ用の接続部１０も設けることができる。接続部８、９、及び１０は、試験・評価ユニット（図示せず）に既知の方法で接続される。
【００２９】
測定プローブ２の内部には、例えば、円周全体に分散配置された複数の送り光ガイド１１と、１つ又は複数の受取り光ガイド１２とが配置される。この場合、例えばラマン、蛍光、ＬＩＦ、又はＬＩＢＳ等の多様な既知の測定方法を実行するために、各光ガイドは、必要ならば、複数の光ガイドの組み合わせを含むか、又は光ガイド束であることもできる。光ガイドの設計に応じて、異なる光ガイド構成との多様な測定方法の組み合わせ、例えば反射の測定及び蛍光測定等を実行することもできる。これらの目的にとって、もし適切ならば、関連する光ガイドを対応する検出器（図示せず）と結合する。
【００３０】
容器３の中に入れる測定プローブ２のハウジング１の前部領域には、１つ又は複数の測定窓１３がハウジング１の周壁に設けられている。測定窓１３がハウジング１の全周にわたって環状形態のものである場合には、３６０度の測定が可能である。１つ又は複数の測定窓１３の材料として用いられるのは、強力な媒体に耐える材料、例えばサファイア又は水晶等である。ハウジング１の末端部には、１つ又は複数の測定窓１３が密閉キャップ１４と隣接している。密閉キャップ１４は、１つ又は複数の測定窓１３とハウジング１の残りの部分とに対して、これ以上詳細に示さないやり方で密閉効果を有するように隣接し、測定プローブ２の内部に対する密閉状態を形成している。密閉要素との中央ねじ接続部１５（これ以上詳細には図示せず）を、例えば締結部として設けることができる。必要ならば、分析すべき物質を入れた容器３の内部の温度を測定するために、密閉キャップ１４内に温度センサ１６を配置することもできる。
【００３１】
１つ又は複数の送り光ガイド１１によって発生する光線を偏向させるために、偏向ミラー１７の形態の放射偏向機構が、１つ又は複数の測定窓１３の領域に配置される。偏向ミラー１７は、例えば、円周全体にわたって測定プローブ２及びハウジング１の長手軸に対して約４５度の角度を成して分散するように配置することができる。それにより、軸方向に入射した光線を半径方向に偏向させて、このようにして、１つ又は複数の測定窓１３から半径方向に出現させることができ、それにより、分析すべき物質に応じて分析することができる。偏向ミラー１７は同時に、容器の内部で反射した放射線及びさらなる測定値を偏向させるようにも機能するものであり、それらは１つ又は複数の受取り光ガイド１２を経て評価ユニット（図示せず）に戻される。
【００３２】
円周全体に分散配置された複数のミラーの代わりに、例えば図７による角錐１８の平面図に示すように、対応する鏡面１７ａが設けられる円錐形の形態、円錐台形の形態、又は角錐形の形態のミラーユニットを用いることもできる。３６０度にわたって延在する１つ又は複数の測定窓１３が用いられる場合、対応する数の受取り光ガイド１２が設けられていれば、異なる測定方法の組み合わせを複数のミラー１７又は鏡面１７ａとともに実行することができる。
【００３３】
図２に示す中央測定要素は、１本の透過光ガイド又は受取り光ガイド１２であってもよく、又はいずれの場合もこれらが多数あってもよい。円周全体に例えば６本分散配置される送り光ガイド１１にも同じことが当てはまり、これは同様に送り光ガイド１１及び受取り光ガイド１２の組み合わせを含んでもよい。
【００３４】
例えば図３のこの態様では、図２の細部「Ｘ」の拡大によるような個々のユニットの拡大図が示されており、これも同様に、例えば６本の送り光ガイド１１及び１本の中央受取り光ガイド１２を備える。この場合も、多種多様な組み合わせが可能である。同様に、送り光ガイド１１及び受取り光ガイド１２を均一に配置及び分散させることが可能である。図２に示す全部で７本のユニットの異なる分散にも同じことが当てはまる。
【００３５】
図４には、１本の中央受取り光ガイド１２及び直径方向に対向して配置される２本の送り光ガイド１１を有する、測定プローブ２の単純な設計が示されている。２本の直径方向に対向する光ガイドは、同様に、それぞれが複数の送り光ガイド１１及び受取り光ガイド１２を有していてもよい。
【００３６】
図５は、多数の送り光ガイド１１及び受取り光ガイド１２を有する設計を示す。見て分かるように、送り光ガイド１１及び受取り光ガイド１２は、リング状に交互に、又は図示のように複数のリング状に、又は列状に交互に配置することができる。
【００３７】
測定領域に十分な照明を確保するために、適当であれば、送り光ガイド１１の数が受取り光ガイド１２の数を上回ることもできる。
【００３８】
ハウジング１を測定プローブ２とともに、無段階式又は段階式に容器３の内部に入れることができる。図１は、測定実行時の測定プローブ２の位置を示すが、図６は、測定プローブ２が押し込み位置にある位置を示し、この位置では、洗浄機構１９（これ以上詳細には図示せず）によって測定窓１３のクリーニングが行われ、洗浄機構１９から洗浄媒体が測定窓１３の領域に導入され、また同様にそこからシリンダガイド６内に配置された１つ又は複数のチャネル２０を経て排出される。
【００３９】
図１及び図６の比較から分かるように、ハウジング１の端面に配置されている密閉キャップ１４と密閉要素としての密閉リング７とによって開口５が密閉され続けるため、１つ又は複数の測定窓１３のクリーニングは、プロセスの正常な進行過程中に実行することもできる。他方、その結果、１つ又は複数の測定窓１３の領域は容器３の外にあり、このようにクリーニングすることができる。
【００４０】
同時に、図６の位置では、必要ならば、特定の比較対照物質により、例えばホワイトバランス装置２１により、さらなる測定方法を実行することも可能である。この目的のために、第２の校正位置で黒色標準校正要素との比較を行う白色標準校正要素、例えば同一の又は異なるセンサを設けることができる。同様に、対応してこれ以上詳細には図示しないが、白色均衡機構２１と同様の方法でシリンダガイド６内に配置される校正機構２２を用いて、これ以上詳細には説明しない校正作業を実行することも可能である。しかしながら、原則的に、このような測定方法及び校正作業は一般に知られている。
【００４１】
図８に長手方向断面で示す装置は、上述の装置と原則的に同じ構成である。こうした理由から、同じ部分には同じ参照符号が付けられている。
【００４２】
図８には、クリーニングシステムが図６に対応する測定プローブ２の後退位置の状態でより詳細に示されている。見て分かるように、その密閉機能以外に、シリンダガイド６の容器４内に配置されて開口５と円周方向に境界を接する密閉部分７は、この場合はスクレーパ・リングにも相当する。ハウジング１の外壁に付着する容器の内部からの製品は、測定プローブ２の後退中にスクレーパ・リングとして形成された密閉部分７からこのように掻き落とされる。
【００４３】
見て分かるように、この位置では、測定窓１３は容器３の外にある。測定プローブ２のハウジング１とシリンダガイド６の内壁との間には、中間空間２３がある。シリンダガイド６には、洗浄媒体用の流入部２４及び戻り部２５が設けられ、流入部２４及び戻り部２５の開口は、シリンダ空間２３内に突出する。洗浄媒体、例えば洗浄液は、好ましくは圧力下で洗浄機構から流入部２４を経て供給され（図６も参照されたい）、それにより測定窓１３の窓表面をクリーニングすることができる。
【００４４】
さらに、中間空間２３は、圧力接続部２６を経て圧縮空気源２７に接続することができる。測定窓１３及びハウジング１の残りの領域のクリーニング後、圧縮空気を中間空間２３に追加供給することによって、乾燥を達成することができる。さらに、ガス圧力試験機構２８への接続部も存在する場合、乾燥と同時に、密閉部分７と後部シール２９との間のシールの完全性について中間空間２３の圧力試験を実行することもできる。
【００４５】
図８から、図１及び図６に原則的に示す送り光ガイド１１に接続される光源３０も、原則的に見ることができる。
【００４６】
受取り光ガイド１２を経て戻った光又は光線を受け取るために、光ファイバコレクタ３１を設けることができる。
【００４７】
ビーム偏向機構、例えば図示されている偏向ミラー１７の代わりに、送り光ガイド１１及び受取り光ガイド１２をそれらの下部領域で、すなわち測定窓１３の領域で、それらの軸方向から半径方向に、又は斜めに偏向させ、それにより、光線又は光が直接的にさらに送られ、また直接的に受け取られるようにすることもできる（それぞれ送り光ガイド及び受取り光ガイドの破線表示を参照されたい）。
【００４８】
図８には、測定プローブ２を容器３内へ導入することができるとともに、再びそれから部分的又は完全に取り出すこともできるようにするアクチュエータ３２も示されている。
【００４９】
プロセスの正常な動作を妨げることなく後退位置でさらに他の試験方法及び測定方法を実行することも可能であることは、言うまでもない。ハウジング１の上、又は測定プローブ２及びその個別部分の中若しくは上のさらなるクリーニング及び／又は修理動作にも、同じことが当てはまる。
【００５０】
例えば、図９に示すように、アクチュエータ３２によって、測定プローブ２をハウジング１と一緒にさらに大きく後退させることができる。その結果、容器３の内部の開口５をこのようにして露出させることができ、密閉キャップ１４は中間空間２３の流入部２４の領域に位置し、これを通じて洗浄が行われることが分かる。この位置では、密閉キャップ１４はまた、結果としてその周壁及びその下側もクリーニングすることができる。同様に、容器３の内部を洗浄、すなわちクリーニングすることも可能である。この目的のために、容器の内部の方を向いている密閉キャップ１４の下側は、丸形であるかさらには円錐形の形態であるように形成される（図９の破線表示を参照されたい）。このように、洗浄媒体のジェットが偏向される結果として、容器３の内部への導入がより良好になる。さらに、密閉部分７と対向するハウジング１の側面には面取り部を設けることができる。これによって密閉部分７とハウジング１との間にはわずかな隙間が形成されることになり、したがってクリーニング流体の流速を高めることができ、良好なクリーニング結果を得ることができる。この目的のために、上述の円錐を用いることもできる。シリンダガイド６が円形に形成される必要はなく、必要ならば、断面で見たとき、楕円形、多角形、又は他の何らかの形状を有することもできることは、言うまでもない。
【００５１】
したがって、測定プローブ２が後退位置にあるとき、一般的に既知の試験標準に従って、システム試験を行うことができる。したがって、校正以外のシステムチェックも可能であり、また、クリーニング以外に、測定プローブ２又はプローブハウジング１の乾燥も可能である。
【００５２】
上述の装置は、粒径測定、特に光学粒径測定にも有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明による装置を容器の一部とともに断面で示す図である。
【図２】測定プローブの断面を示す図である。
【図３】図２の細部「Ｘ」による送り／受取り光ガイドユニットの拡大図である。
【図４】送り光ガイドユニット及び受取り光ガイドユニットの別の配置を有する測定プローブの断面を示す図である。
【図５】多数の送り／受取り光ガイドユニットを有する測定プローブのさらなる断面を示す図である。
【図６】ハウジングが後退し、すなわち押し戻され、測定プローブが測定窓の測定位置／比較対照位置及び洗浄位置にある図１に示す装置を示す図である。
【図７】角錐の形態のビーム偏向機構の平面図である。
【図８】図１に示す装置と同様の本発明による装置をクリーニングシステムの図とともに示す図である。
【図９】測定プローブをさらに大きく後退させた、図８に示す装置に対応する装置を示す図である。
【図１】
2009501320.tif 000003
【図２】
2009501320.tif 000004
【図３】
2009501320.tif 000005
【図４】
2009501320.tif 000006
【図５】
2009501320.tif 000007
【図６】
2009501320.tif 000008
【図７】
2009501320.tif 000009
【図８】
2009501320.tif 000010
【図９】
2009501320.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジング（１）内に配置される測定プローブ（２）と、少なくとも１つの放射線測定要素又は光測定要素と、前記ハウジング（１）の壁の光路に配置される測定窓（１３）と、分析用の少なくとも１つの検出要素とを備えており、容器又は管等の製品空間内に入れられる分析すべき物質の電磁スペクトル分析又は光学分析、特に、粉体、バルク材料、粒体等の測光分析、分光光度分析、又は画像分析用の装置であって、前記測定プローブ（２）は、前記ハウジング（１）の少なくとも前記測定窓が位置する部分が前記分析すべき物質が入れられる前記製品空間に開口を通じて入るように、ガイド(６)内を軸方向に変位可能に形成及びガイドされる、装置において、
少なくとも１つの測定窓（１３）が、前記ハウジング（１）の前記周壁の少なくとも１つの一部領域に配置され、
密閉キャップ（１４）が、前記ハウジング（１）の前端面と前記周壁に配置された前記測定窓（１３）との間に位置しており、
前記密閉キャップ（１４）は、前記測定窓（１３）が前記製品空間（３）の外にある前記測定プローブ（２）の後退位置において、前記製品空間（３）の前記開口（５）の領域に少なくとも部分的にまだ存在する結果として該開口（５）を覆うものであり、
前記ガイド（６）内には比較対照要素及び／又は試験要素を備えることを特徴とする、装置。
【請求項２】
前記ハウジング（１）と前記ガイド（６）の内壁との間には中間空間（２３）が形成されており、そこには前記比較対照要素（２１）及び／又は前記試験要素（２２）が配置されることを特徴とする、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記ガイド（６）はシリンダガイド（６）であり、該シリンダガイド（６）は、前記製品空間（３）の前記開口（５）内に位置決めすることができるか又は前記製品空間（３）の一部を形成することを特徴とする、請求項１又は請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記ガイド（６）に、前記測定窓（１３）及び／又は前記ハウジング（１）の前記密閉キャップ（１４）と相互作用する密閉部分（７）を設けることを特徴とする、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記密閉部分（７）はスクレーパ・リングとして形成されることを特徴とする、請求項４記載の装置。
【請求項６】
前記測定プローブ（２）の前記後退位置において該測定プローブ（２）の少なくとも前記測定窓（１３）をクリーニングする洗浄機構（１９）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項５のいずれか１項記載の装置。
【請求項７】
前記洗浄機構（１９）は、少なくとも前記測定窓（１３）の領域で前記ハウジング（１）と前記ガイド（６）との間の中間空間に配置される洗浄媒体室（２３）を有し、該洗浄媒体室（２３）に、洗浄媒体用の少なくとも１つの流入部（２４）及び少なくとも１つの流出部（２５）を設けることを特徴とする、請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記密閉キャップ（１４）又は前記製品空間（３）の内部をクリーニングするように、前記測定プローブ（２）を、前記洗浄媒体室（２３）と前記製品空間（３）との間の接続部がある位置に押し込むことができることを特徴とする、請求項７記載の装置。
【請求項９】
前記ガイド（６）に、前記シリンダガイド（６）の内部に乾燥ガスを供給する少なくとも１つのガス接続部（２６）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項８のいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】
前記ガイド（６）に、該ガイド（６）の内部のガス圧力試験用のガス圧力試験機構（２８）を設けることを特徴とする、請求項８記載の装置。
【請求項１１】
白色標準用に少なくとも１つの比較対照要素を設けることを特徴とする、請求項１記載の装置。
【請求項１２】
試験要素として、少なくとも１つの校正機構を設けることを特徴とする、請求項１記載の装置。
【請求項１３】
測定要素として、少なくとも１つの送り光ガイド（１１）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項１２のいずれか１項記載の装置。
【請求項１４】
検出要素として、少なくとも１つの受取り光ガイド（１２）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項１３のいずれか１項記載の装置。
【請求項１５】
前記受取り光ガイド（１２）の束を設けることを特徴とする、請求項１４記載の装置。
【請求項１６】
軸方向に送られる前記送り光ガイド（１１）及び前記受取り光ガイド（１２）はそれぞれ、前記製品空間（３）に面するそれらの前部領域において前記測定窓（１３）に向かって少なくともほぼ半径方向に偏向されることを特徴とする、請求項１〜請求項１４のいずれか１項記載の装置。
【請求項１７】
少なくとも１つのビーム偏向機構を、前記ハウジング（１）の内部の前記測定窓（１３）の領域に配置することを特徴とする、請求項１〜請求項１５のいずれか１項記載の装置。
【請求項１８】
少なくとも１つのミラー（１７）が、前記ビーム偏向機構として設けられ、軸方向に入射した光又は放射線を少なくともほぼ半径方向に偏向させることができるように配置することを特徴とする、請求項１７記載の装置。
【請求項１９】
円周全体に分散配置される複数のミラー（１７）を設けることを特徴とする、請求項１８記載の装置。
【請求項２０】
前記少なくとも１つのミラー（１７）は、複数の鏡面（１７ａ）を有する少なくともほぼ角錐又は円錐の形態を有することを特徴とする、請求項１９記載の装置。
【請求項２１】
前記ビーム偏向機構は、回転又は枢動可能となっていることを特徴とする、請求項１〜請求項２０のいずれか１項記載の装置。
【請求項２２】
前記ハウジング（１）に配置される前記測定プローブ（２）は、無段階式又は段階式に前記容器（３）の内部に入ることができるように前記シリンダガイド（６）内に形成されることを特徴とする、請求項１〜請求項２１のいずれか１項記載の装置。
【請求項２３】
前記製品空間（３）の内部に異なる進入深さで前記測定プローブ（２）を入れて、分析を実行することができることを特徴とする、請求項２２記載の装置。
【請求項２４】
前記測定窓（１３）はサファイア又は水晶から形成されることを特徴とする、請求項１〜請求項２３のいずれか１項記載の装置。
【請求項２５】
複数の測定窓（１３）が、前記ハウジング（１）の前記周壁全体に分散配置されることを特徴とする、請求項１〜請求項２４のいずれか１項記載の装置。
【請求項２６】
前記測定窓（１３）を通じて区画的に分析を実行することができることを特徴とする、請求項１〜請求項２５のいずれか１項記載の装置。
【請求項２７】
前記区画的な分析は、同じか又は異なる測定方法に基づいて実行することができることを特徴とする、請求項２６記載の装置。
【請求項２８】
前記測定プローブ（２）に温度測定要素（１６）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項２７のいずれか１項記載の装置。
【請求項２９】
ハウジング内に配置される測定プローブと、少なくとも１つの放射線測定要素又は光測定要素と、前記ハウジングの壁の光路に配置される少なくとも１つの測定窓と、分析用の少なくとも１つの検出要素とを用い、容器又は管等の製品空間内に入れられる分析すべき物質の電磁スペクトル分析又は光学分析、特に、粉体、バルク材料、粒体等の測光分析、分光光度分析、又は画像分析の方法であって、
前記測定プローブは、ガイド（６）内に配置されると共に、前記分析すべき材料が入れられる前記製品空間の内部に開口を通じて入り、その後、前記測定窓を通じて測定が実行され、該測定は、前記ハウジング（１）の前記周壁の少なくとも１つの一部領域に配置される前記少なくとも１つの測定窓（１３）を通じて実行され、
その後、前記測定プローブ（２）は、クリーニング位置で前記測定窓（１３）が前記製品空間（３）の外にくるまで前記容器（３）の前記開口（５）から後退させられ、
前記製品空間（３）の内部における前記測定プローブ（２）の異なる進入深さで、測定が実行されることを特徴とする、方法。
【請求項３０】
前記製品空間（３）から前記測定プローブ（２）を部分的に後退させることにより、該測定プローブ（２）の前記ハウジング（１）が、密閉部分（７）としてのスクレーパ・リングを通過してガイドされることを特徴とする、請求項２９記載の方法。
【請求項３１】
前記測定プローブ（２）の少なくとも前記測定窓（１３）をクリーニングするように、クリーニング媒体を、前記ガイド（６）と前記測定プローブ（２）の前記ハウジング（１）との間の中間空間に導入することを特徴とする、請求項２９又は請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記密閉（１４）及び／又は前記製品空間（３）の内部をクリーニングするように、前記測定プローブ（２）を、前記洗浄媒体室（２３）と前記製品空間（３）との間の接続部がある位置に押し込むことを特徴とする、請求項３０記載の方法。
【請求項３３】
前記測定プローブ（２）の前記後退位置で校正を実行することを特徴とする、請求項２９〜請求項３２のいずれか１項記載の方法。
【請求項３４】
前記測定プローブ（２）の前記後退位置において、乾燥ガスを前記シリンダガイド（６）の内部に導入することを特徴とする、請求項３０〜請求項３３のいずれか１項記載の方法。
【請求項３５】
前記シリンダガイド（６）の内部における前記乾燥ガスのガス圧力を監視することを特徴とする、請求項３４記載の方法。
【請求項３６】
前記ハウジング（１）の前記周壁全体に分散配置される複数の測定窓（１３）を通じて区画領域で測定を行うことを特徴とする、請求項２９〜請求項３５のいずれか１項記載の方法。
【請求項３７】
前記区画領域の少なくともいくつかで異なる測定方法を実施することを特徴とする、請求項３６記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月18日(2008.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジング（１）内に配置される測定プローブ（２）と、少なくとも１つの放射線測定要素又は光測定要素と、前記ハウジング（１）の壁の光路に配置される測定窓（１３）と、分析用の少なくとも１つの検出要素とを用いる、容器又は管等の製品空間内に入れられる分析すべき物質の電磁スペクトル分析又は光学分析、特に、粉体、バルク材料、粒体等の測光分析、分光光度分析、又は画像分析用の装置であって、前記測定プローブ（２）は、前記ハウジング（１）の少なくとも前記測定窓が位置する部分が前記分析すべき物質が入れられる前記製品空間に開口を通じて入るように、ガイド(６)内を軸方向に変位可能に形成及びガイドされる、装置において、
少なくとも１つの測定窓（１３）が、前記ハウジング（１）の前記周壁の少なくとも１つの一部領域に配置され、
密閉キャップ（１４）が、前記ハウジング（１）の前端面と前記周壁に配置された前記測定窓（１３）との間に位置し、
前記密閉キャップ（１４）は、前記測定窓（１３）が前記製品空間（３）の外にある前記測定プローブ（２）の後退位置において、前記製品空間（３）の前記開口（５）の領域に少なくとも部分的にまだ存在する結果として該開口（５）を覆うものであり、
前記ガイド（６）内には比較対照要素及び／又は試験要素を備えており、
また前記測定プローブ（２）の前記後退位置において該測定プローブ（２）の少なくとも前記測定窓（１３）をクリーニングする洗浄機構（１９）が設けられ、前記洗浄機構（１９）は、少なくとも前記測定窓（１３）の領域で前記ハウジング（１）と前記ガイド（６）との間の中間空間に配置される洗浄媒体室（２３）を有し、該洗浄媒体室（２３）に、洗浄媒体用の少なくとも１つの流入部（２４）及び少なくとも１つの流出部（２５）が設けられることを特徴とする、装置。
【請求項２】
前記ハウジング（１）と前記ガイド（６）の内壁との間には中間空間（２３）が形成されており、そこには前記比較対照要素（２１）及び／又は前記試験要素（２２）が配置されることを特徴とする、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記ガイド（６）はシリンダガイド（６）であり、該シリンダガイド（６）は、前記製品空間（３）の前記開口（５）内に位置決めすることができるか又は前記製品空間（３）の一部を形成することを特徴とする、請求項１又は請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記ガイド（６）に、前記測定窓（１３）及び／又は前記ハウジング（１）の前記密閉キャップ（１４）と相互作用する密閉部分（７）を設けることを特徴とする、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記密閉部分（７）はスクレーパ・リングとして形成されることを特徴とする、請求項４記載の装置。
【請求項６】
前記密閉キャップ（１４）又は前記製品空間（３）の内部をクリーニングするように、前記測定プローブ（２）を、前記洗浄媒体室（２３）と前記製品空間（３）との間の接続部がある位置に押し込むことができることを特徴とする、請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記ガイド（６）に、前記シリンダガイド（６）の内部に乾燥ガスを供給する少なくとも１つのガス接続部（２６）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項６のいずれか１項記載の装置。
【請求項８】
前記ガイド（６）に、該ガイド（６）の内部のガス圧力試験用のガス圧力試験機構（２８）を設けることを特徴とする、請求項６記載の装置。
【請求項９】
白色標準用に少なくとも１つの比較対照要素を設けることを特徴とする、請求項１記載の装置。
【請求項１０】
試験要素として、少なくとも１つの校正機構を設けることを特徴とする、請求項１記載の装置。
【請求項１１】
測定要素として、少なくとも１つの送り光ガイド（１１）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項１０のいずれか１項記載の装置。
【請求項１２】
検出要素として、少なくとも１つの受取り光ガイド（１２）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項１１のいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】
前記受取り光ガイド（１２）の束を設けることを特徴とする、請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
軸方向に送られる前記送り光ガイド（１１）及び前記受取り光ガイド（１２）はそれぞれ、前記製品空間（３）に面するそれらの前部領域において前記測定窓（１３）に向かって少なくともほぼ半径方向に偏向されることを特徴とする、請求項１〜請求項１２のいずれか１項記載の装置。
【請求項１５】
ハウジング（１）内に配置される測定プローブ（２）と、少なくとも１つの放射線測定要素又は光測定要素と、前記ハウジング（１）の壁の光路に配置される測定窓（１３）と、分析用の少なくとも１つの検出要素とを用いる、容器又は管等の製品空間内に入れられる分析すべき物質の電磁スペクトル分析又は光学分析、特に、粉体、バルク材料、粒体等の測光分析、分光光度分析、又は画像分析用の装置であって、前記測定プローブ（２）は、前記ハウジング（１）の少なくとも前記測定窓が位置する部分が前記分析すべき物質が入れられる前記製品空間に開口を通じて入るように、軸方向に変位可能に形成及びガイドされる、装置において、
少なくとも１つの測定窓（１３）が、前記ハウジング（１）の前記周壁の少なくとも１つの一部領域に配置され、
密閉キャップ（１４）が、前記ハウジング（１）の前端面と前記周壁に配置された前記測定窓（１３）との間に位置しており、
前記密閉キャップ（１４）は、前記測定窓（１３）が前記製品空間（３）の外にある前記測定プローブ（２）の後退位置において、前記製品空間（３）の前記開口（５）の領域に少なくとも部分的にまだ存在する結果として該開口（５）を覆うものであり、
少なくとも１つのビーム偏向機構を、前記ハウジング（１）の内部の前記測定窓（１３）の領域に配置するとともに、軸方向に入射した光又は放射線を前記ハウジングの周壁の少なくとも１つの前記測定窓（１３）に対し、少なくともほぼ半径方向に偏向させることができるように配置することを特徴とする、装置。
【請求項１６】
少なくとも１つのミラー（１７）を、前記ビーム偏向機構として設けることを特徴とする、請求項１５記載の装置。
【請求項１７】
円周全体に分散配置される複数のミラー（１７）を設けることを特徴とする、請求項１６記載の装置。
【請求項１８】
前記少なくとも１つのミラー（１７）は、複数の鏡面（１７ａ）を有する少なくともほぼ角錐又は円錐の形態を有することを特徴とする、請求項１６又は請求項１７記載の装置。
【請求項１９】
前記ビーム偏向機構は、回転又は枢動可能となっていることを特徴とする、請求項１５〜請求項１８のいずれか１項記載の装置。
【請求項２０】
前記ハウジング（１）に配置される前記測定プローブ（２）は、無段階式又は段階式に前記容器（３）の内部に入ることができるように前記シリンダガイド（６）内に形成されることを特徴とする、請求項１〜請求項１９のいずれか１項記載の装置。
【請求項２１】
前記製品空間（３）の内部に異なる進入深さで前記測定プローブ（２）を入れて、分析を実行することができることを特徴とする、請求項２０記載の装置。
【請求項２２】
前記測定窓（１３）はサファイア又は水晶から形成されることを特徴とする、請求項１〜請求項２１のいずれか１項記載の装置。
【請求項２３】
複数の測定窓（１３）が、前記ハウジング（１）の前記周壁全体に分散配置されることを特徴とする、請求項１〜請求項２２のいずれか１項記載の装置。
【請求項２４】
前記測定窓（１３）を通じて区画的に分析を実行することができることを特徴とする、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記区画的な分析は、同じか又は異なる測定方法に基づいて実行することができることを特徴とする、請求項２４記載の装置。
【請求項２６】
前記測定プローブ（２）に温度測定要素（１６）を設けることを特徴とする、請求項１〜請求項２５のいずれか１項記載の装置。
【請求項２７】
ハウジング内に配置される測定プローブと、少なくとも１つの放射線測定要素又は光測定要素と、前記ハウジングの壁の光路に配置される少なくとも１つの測定窓と、分析用の少なくとも１つの検出要素とを用いる、容器又は管等の製品空間内に入れられる分析すべき物質の電磁スペクトル分析又は光学分析、特に、粉体、バルク材料、粒体等の測光分析、分光光度分析、又は画像分析の方法であって、
前記測定プローブは、ガイド（６）内に配置されると共に、前記分析すべき材料が入れられる前記製品空間の内部に開口を通じて入り、その後、前記測定窓を通じて測定が実行され、該測定は、前記ハウジング（１）の前記周壁の少なくとも１つの一部領域に配置される前記少なくとも１つの測定窓（１３）を通じて実行され、
その後、前記測定プローブ（２）は、クリーニング位置で前記測定窓（１３）が前記製品空間（３）の外にくるまで前記容器（３）の前記開口（５）から後退させられ、
前記製品空間（３）の内部における前記測定プローブ（２）の異なる進入深さで、測定が実行され、
また前記測定プローブ（２）の少なくとも前記測定窓（１３）をクリーニングするように、クリーニング媒体を、少なくとも１つの流入部（２４）によって前記ガイド（６）と前記測定プローブ（２）の前記ハウジング（１）との間の中間空間に導入し、また少なくとも１つの流出部（２５）によって流出させることを特徴とする、方法。
【請求項２８】
前記製品空間（３）から前記測定プローブ（２）を部分的に後退させることにより、該測定プローブ（２）の前記ハウジング（１）が、密閉部分（７）としてのスクレーパ・リングを通過してガイドされることを特徴とする、請求項２７記載の方法。
【請求項２９】
前記密閉（１４）及び／又は前記製品空間（３）の内部をクリーニングするように、前記測定プローブ（２）を、前記洗浄媒体室（２３）と前記製品空間（３）との間の接続部がある位置に押し込むことを特徴とする、請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
前記測定プローブ（２）の前記後退位置で校正を実行することを特徴とする、請求項２７〜請求項２９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３１】
前記測定プローブ（２）の前記後退位置において、乾燥ガスを前記シリンダガイド（６）の内部に導入されることを特徴とする、請求項２７〜請求項３０のいずれか１項記載の方法。
【請求項３２】
前記シリンダガイド（６）の内部における前記乾燥ガスのガス圧力を監視することを特徴とする、請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
前記ハウジング（１）の前記周壁全体に分散配置される複数の測定窓（１３）を通じて区画領域で測定を行うことを特徴とする、請求項２７〜請求項３２のいずれか１項記載の方法。
【請求項３４】
前記区画領域の少なくともいくつかで異なる測定方法を実施することを特徴とする、請求項３３記載の方法。
【国際調査報告】
2009501320.tif 000012
2009501320.tif 000013
2009501320.tif 000014
2009501320.tif 000015
2009501320.tif 000016