(57)【要約】  連続ロール間堆積被覆装置および帯基材のエッジに連続被覆する方法が開示される。本発明は、緻密な被覆と基材との間の密着が向上した硬い、耐摩耗性被覆金属帯を得ることを目的とする。前記堆積被覆装置は、堆積領域（１１８）の上流のエッチング領域（１１６）を含む真空処理チャンバー（１１４）；前記エッチング領域中の少なくとも１つのイオンエッチング装置（１２０）；および前記堆積領域中の少なくとも１つの堆積装置（１２２）を含んでなり、前記の少なくとも１つの堆積装置が少なくとも１つのターゲット（１２４）を含み、前記帯基材が、前記真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部（１４０）を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットに向かって第１エッジ部を突出し、前記帯基材の第１エッジ部が第１遠位部に向かって第１近位部（１４４）から先細になっている少なくとも第１傾斜表面（１４２）を含み、前記の第１近位部が前記の第１遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第１傾斜表面が第１表面法線（１５０）を有し、前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットがターゲット法線（１２８）を有するターゲット表面（１２６）を含み、前記ターゲット法線が角度αで前記第１表面法線と交差するよう前記第１傾斜表面に対して傾斜しており、αが９０°以上である。
2009530500.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続ロール間堆積被覆装置であって、
堆積領域の上流のエッチング領域を含む真空処理チャンバー；
前記エッチング領域中の少なくとも１つのイオンエッチング装置；および
前記堆積領域中の少なくとも１つの堆積装置を含んでなり、
前記の少なくとも１つの堆積装置が少なくとも１つのターゲットを含み、
前記帯基材が、真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットに向かって第１エッジ部を突出し、
前記帯基材の第１エッジ部が第１遠位部に向かって第１近位部から先細になっている少なくとも第１傾斜表面を含み、前記の第１近位部が前記の第１遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第１傾斜表面が第１表面法線を有し、
前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度αで前記第１表面法線と交差するよう前記第１傾斜表面に対して傾斜しており、αが９０°以上である装置。
【請求項２】
αが９０°〜１３５°である、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項３】
αが約９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）であり、ｙは連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離であり、ｄは帯基材の突出距離である、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項４】
前記第１傾斜表面の第１遠位部が、前記帯基材のエッジと同一の広がりを持つ、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項５】
前記堆積領域に第２堆積装置を含んでなり、
前記第２堆積装置が第２ターゲットを含み、
第２堆積装置が前記の少なくとも１つの堆積装置からプロセスフロー方向に下流にあり、
前記帯基材の第１エッジ部が帯基材の前記第１傾斜表面の反対の主面上に第２表面を有し、
前記堆積装置の第２ターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度βで第２表面法線と交差するように帯基材の第２表面に対して傾斜しており、βが９０°以上である、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項６】
前記帯基材の第１エッジ部が帯基材の前記第１傾斜表面の反対の主面上に第２傾斜表面を有し、前記第２傾斜表面が第２近位部から第２遠位部に向かって先細になっており、前記第２近位部が第２遠位部よりも帯基材の中央領域に近く、第２傾斜表面が第２表面法線を有する、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項７】
前記第２傾斜表面の第２遠位部が前記帯基材のエッジと同一の広がりを持つ、請求項６に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項８】
前記第１傾斜表面の第１遠位部と前記第２傾斜表面の第２遠位部が完全に重なり合い、ナイフ刃先を形成する、請求項６に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項９】
前記堆積領域に第２堆積装置を含んでなり、
前記第２堆積装置が第２ターゲットを含み、
前記第２堆積装置が前記の少なくとも１つの堆積装置からプロセスフロー方向に下流にあり、
前記第２堆積装置の第２ターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度βで第２表面法線と交差するように第２傾斜表面に対して傾斜しており、βが９０°以上である、請求項６に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１０】
βが９０°〜１３５°である、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１１】
βが約９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）であり、ｙは連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離であり、ｄは帯基材の突出距離である、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１２】
αがβと等しくない、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１３】
前記第１堆積装置のターゲットが、前記第２堆積装置のターゲットと異なる材料である、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１４】
前記第１堆積装置のターゲットが、前記第２堆積装置のターゲットと同じ材料である、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１５】
複数の帯基材のそれぞれに、コイル中にそれぞれ配置されたアンコイラーを含む供給チャンバー；および
複数の帯基材のそれぞれにリコイラーを含む回収チャンバーを含み、
前記真空処理チャンバーが前記供給チャンバーと前記回収チャンバーとの間である、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１６】
複数のコイルのそれぞれのためのアンコイラーおよび複数の帯基材のそれぞれのためのリコイラーに機能的に連結しているコントローラーを含み、前記帯基材が前記供給チャンバーから前記真空処理チャンバーを通って前記回収チャンバーに移動し、前記コントローラーが、真空処理チャンバーを通る帯基材の供給および回収の速度を制御し、前記堆積領域中の帯基材の望まれる張力を得る、請求項１５に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１７】
前記の複数の帯基材が、連続する帯基材同士の任意のスペーサーにより水平方向に間隔を空けてある、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１８】
前記の複数の帯基材のそれぞれの突き出ている第１エッジ部が同じ距離突出している、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１９】
前記の複数の帯基材のそれぞれの突き出ている第１エッジ部が異なる距離突出している、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項２０】
一番下の帯基材と一番上の帯基材との間の複数の帯基材のそれぞれの第１遠位部が、前記第１距離と前記第２距離との間で段階的に変化する距離にある、請求項１９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項２１】
前記連続ロール間堆積被覆装置が雰囲気制御下にある、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項２２】
前記真空処理チャンバーが反応性ガスを全く含まない雰囲気を有する、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項２３】
前記帯基材が、コーターブレード、ドクターブレード、１つの髭剃り装置、医療機器、カッターナイフまたは工業用ナイフの基材である、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項２４】
帯基材のエッジに連続被覆する方法であって、
真空処理チャンバーに少なくとも１つの帯基材を供給する工程であって、前記帯基材がボディ、第２主面に対向する第１主面および第２側面に対向する第１側面を含み、第１および第２側面が第１および第２主面より狭い工程；
真空処理チャンバーを通って少なくとも１つの帯基材を移動させる工程であって、前記真空処理チャンバーがエッチング領域中に少なくとも１つのイオンエッチング装置を含み堆積領域中に少なくとも１つの堆積装置を含み、前記エッチング領域が前記堆積領域より上流である工程；
前記エッチング領域中で少なくとも１つの帯基材の第１エッジ部を洗浄する工程であって、第１エッジ部が、第１遠位部に向かって第１近位部から先細になっている少なくとも第１傾斜表面を含み、前記第１近位部が前記第１遠位部よりも帯基材の中央領域に近く、前記第１傾斜表面が第１表面法線を有する工程；
前記堆積領域中で第１エッジ部の第１傾斜表面に被覆を堆積させる工程；および
被覆された帯基材を回収する工程
を含むが、
前記の少なくとも１つの堆積装置が少なくとも１つのターゲットを含み、
前記の少なくとも１つの帯基材が、前記真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置の少なくとも１つのターゲットに向かって第１エッジ部を突出し、
前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度αで前記第１表面法線と交差するよう前記第１傾斜表面に対して傾斜しており、αが９０°以上である方法。
【請求項２５】
αが９０°〜１３５°である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
αが約９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）であり、ｙは連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離であり、ｄは帯基材の突出距離である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
前記帯基材の第１エッジ部が、帯基材の前記第１傾斜表面の反対の主面上に第２表面を含み、
前記エッチング領域で前記の少なくとも１つの帯基材の第２エッジ部を洗浄する工程および
前記堆積領域で前記第１エッジ部の第２傾斜表面上に被覆を堆積させる工程を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】
第２堆積装置が前記堆積領域中に位置し、
前記第２堆積装置が少なくとも１のターゲットを含み、
前記第２堆積装置が少なくとも１つの堆積装置からプロセスフロー方向の下流にあり、
前記第２堆積装置の少なくとも１つのターゲットが、ターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が前記第２表面法線と角度βで交差するように第２表面に対して傾斜しており、βが９０°以上であり、
前記堆積領域での第１エッジ部の第２表面への被覆の堆積が、第２堆積装置での被覆の堆積を含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記帯基材の第１エッジ部が、帯基材の前記第１傾斜表面の反対の主面上に第２傾斜表面を含み、前記第２傾斜表面が、第２近位部から第２遠位部に向かって先細になっており、前記第２近位部が、前記第２遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第２傾斜表面が第２表面法線を有し、
前記エッチング領域で少なくとも１つの帯基材の第２エッジ部を洗浄する工程および
前記堆積領域中で第１エッジ部の第２傾斜表面上に被覆を堆積させる工程
を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項３０】
第２堆積装置が前記堆積領域中に位置し、
前記第２堆積装置が少なくとも１のターゲットを含み、
前記第２堆積装置が前記の少なくとも１つの堆積装置からプロセスフロー方向の下流にあり、
前記の第２堆積装置の少なくとも１つのターゲットが、ターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が前記第２表面法線と角度βで交差するように第２傾斜表面に対して傾斜しており、βが９０°以上であり、
前記堆積領域での第１エッジ部の第２傾斜表面への被覆の堆積が、第２堆積装置での被覆の堆積を含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
βが９０°〜１３５°である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
βが約９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）であり、ｙは連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離であり、ｄは帯基材の突出距離である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
αがβと等しくない、請求項３０に記載の方法。
【請求項３４】
前記第１堆積装置のターゲットが、前記第２堆積装置のターゲットと異なる材料である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３５】
前記第１堆積装置のターゲットが、前記第２のターゲットと同じ材料である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３６】
前記真空処理チャンバーを通る帯基材の供給速度および回収速度を制御し、前記堆積領域中の帯基材の望まれる張力を得る工程を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項３７】
前記の複数の帯基材のそれぞれの突き出ている第１エッジ部が同じ距離突出している、請求項２４に記載の方法。
【請求項３８】
前記の複数の帯基材のそれぞれの突き出ている第１エッジ部が異なる距離突出している、請求項２４に記載の方法。
【請求項３９】
一番下の帯基材と一番上の帯基材との間の複数の帯基材のそれぞれの第１遠位部が、前記第１距離と前記第２距離との間で段階的に変化する距離にある、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
少なくとも前記真空処理チャンバー中の雰囲気を制御する工程を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項４１】
前記の少なくとも１つの帯基材が供給チャンバーから供給され、被覆された帯基材が回収チャンバーに回収され、前記供給チャンバーと回収チャンバーの少なくとも一方の雰囲気を制御する工程を含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記真空処理チャンバーが反応性ガスを全く含まない雰囲気を有する、請求項２４に記載の方法。
【請求項４３】
前記被覆の厚さが全体で最大２５μｍであり、鋼帯基材の引張強度が少なくとも１２００ＭＰａである、請求項２４に記載の方法。
【請求項４４】
前記被覆が、ＣｒまたはＮｉを含む金属被覆である、請求項２４に記載の方法。
【請求項４５】
前記帯基材の厚さが０．０１５ｍｍ〜５．０ｍｍである、請求項４２に記載の方法。
【請求項４６】
前記帯基材が、焼入れ炭素鋼、焼入れステンレスクロム鋼または析出硬化型帯鋼である、請求項４２に記載の方法。
【請求項４７】
前記被覆が、遷移金属窒化物、遷移金属炭化物、遷移金属炭窒化物、ダイヤモンド様カーボンまたはそれらの混合物を含む、請求項２４に記載の生成物。
【請求項４８】
前記被覆が、遷移金属窒化物、遷移金属炭化物、遷移金属炭窒化物、ダイヤモンド様カーボンまたはそれらの混合物を含む多層である、請求項２４に記載の方法。
【請求項４９】
前記被覆が純粋な金属を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項５０】
前記被覆がＭＡＸ相材料を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項５１】
前記被覆が最大２０の副層を含む多層である、請求項２４に記載の方法。
【請求項５２】
前記被覆が、厚さが最大２μｍの少なくとも１層のニッケルを含み、前記の少なくとも１層が帯基材に隣接していない、請求項２４に記載の方法。
【請求項５３】
コーターブレード、ドクターブレード、１つの髭剃り装置、医療機器、カッターナイフまたは工業用ナイフに前記被覆帯基材を組み入れる工程を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項５４】
連続ロール間堆積被覆装置であって、
堆積領域の上流のエッチング領域を含む真空処理チャンバー；
前記エッチング領域中の少なくとも１つのイオンエッチング装置；および
前記堆積領域中の少なくとも１つの堆積装置を含んでなり、
前記の少なくとも１つの堆積装置が少なくとも１つのターゲットを含み、
前記帯基材が、前記真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットに向かって第１エッジ部を突出し、
前記帯基材の第１エッジ部が四角にされ、第１近位部および第１遠位部を有し、前記の第１近位部が前記の第１遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第１エッジ部が第１表面法線を有し、
前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度αで前記第１表面法線と交差するよう前記第１エッジ部に対して傾斜しており、αが９０°以上である装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば金属帯基材などの基材のエッジに連続的に被覆を堆積させる連続堆積被覆装置および方法に関する。より詳細には、本開示は、硬く、緻密で、かつ／または低摩擦性被覆で被覆された鋼帯材料に関する。本開示は、金属帯基材上に硬く、緻密で、かつ／または低摩擦性の被覆の非常に良好な密着を生み出す連続ロール間プロセス（連続ロール・ツー・ロールプロセス（continuous roll-to-roll process）：連続して帯材をロールから解き出し、処理して、別のロールに巻き取るプロセス）でそのような被覆鋼帯を製造する方法にも関する。被覆鋼帯は、被覆の良好な密着を有し、例えば、コーターおよびドクターブレード、髭剃り装置、医療機器、カッターナイフおよび工業的ナイフならびに鋸用途または被覆されたエッジを持つ金属帯基材を利用する他の用途での使用に好適である。
【背景技術】
【０００２】
以下の議論において、特定の構造および／または方法が言及される。しかし、以下の言及は、これらの構造および／または方法が先行技術を構成することを認めるとは解釈されるべきではない。出願者は、そのような構造および／または方法が先行技術として適格ではないことを示す権利を明らかに保有する。
【０００３】
被覆鋼製品は種々の用途に利用可能である。一例としては、カッターナイフなどのナイフ、例えば、スライサー、大型包丁、パン切り包丁、肉切り包丁、ミキサーブレード、狩猟用ナイフおよび漁業用ナイフ、ポケットナイフおよび合成繊維、紙、プラスティックフィルム、布およびカーペットを切るための工業用ナイフの製造がある。さらに、これらの製品は、鋸用途において、また医療機器および手術用ナイフとしても使用できる。他の例としては、レーザーブレードおよびカッターなどの髭剃り用途がある。さらなる例はドクターブレードおよびコーターブレードであり、紙の製造および印刷産業で使用されており、表面からそれぞれ紙および印刷インクを掻き取る。これに関して、表面上およびコーターまたはドクターブレード上の摩耗とともに問題がしばしば起こる。コーターおよびドクターブレードは通常、焼入れ鋼帯から製造される。摩耗の問題を軽減する通常の方法は、鋼の刃がコーターおよびドクターブレードの形態の最終的な幾何構造に製造された後で、鋼の刃に耐摩耗性被覆を塗布することである。これに関して、通常ニッケル層が塗布されて、基材と耐摩耗性被覆との間の接合層として作用しなければならない。数例挙げる。これらは全て、硬く緻密な摩耗被覆が好適な、または必要ですらある用途である。例えば、摩耗は、被覆の引きはがれまたは割れを起こすことがある。これらは、硬く鋭いエッジおよび切削表面を持つことが必要な用途でもある。さらに、上記の用途の多くは腐食性の環境で使用され、したがって、耐腐食性表面から利益を得る。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このように、耐摩耗性被覆が使用できることは公知であるが、要求される品質に合う、コスト効率がよく環境に優しい方法を見つけることは困難である。耐摩耗性被覆が塗布されたコーターおよびドクターブレードのコストは現在非常に高い。さらに、印刷産業または製紙工場での使用の間に起こる品質の問題のコストは高い。また、頻繁に刃を替えるとコストがかかる。エッジへの被覆の良好な密着は、最終製品の機能的品質のために必要である。劣った密着あるいは多孔質または粗い被覆は、塗布された物品、例えば工業用ナイフまたは鋸の使用中に、例えば、被覆がはげ落ち始め、粒子または小さいかけらが引きはがれ、亀裂の問題が起こるなどの問題が起こるであろう。全体として、これは品質およびコストの観点から許容できない。
【０００５】
被覆を作る通常の方法がいくつかあり、利用される被覆の種類もいくつかある。例として以下のものが挙げられる。
【０００６】
セラミック被覆、Ａｌ2Ｏ3からなることが多く、ＴｉＯ2および／またはＺｒＯ2が加えられることがある。この種の被覆は、通常、溶射法を利用して塗布される。溶射法の例は、例えば米国特許第6,431,066号に記載されており、セラミック被覆がドクターブレードのエッジに沿って塗布されている。溶射法の他の例は、欧州特許EP-B-758026に記載されており、耐摩耗性被覆が、溶射を含むかなり複雑な連続プロセス中のいくつかの塗布工程を利用してエッジに沿って塗布されている。
【０００７】
従来の溶射法は一般的にいくつかの大きな欠点がある。例えば、形成された被覆は粗く、通常、塗布後に研磨または他のさらなる処理を表面に行わなくてはならないことを意味している。また、溶射被覆は通常高度の多孔性を含み、薄く緻密な被覆が通常得られないことを意味する。さらに、溶射された被覆の厚さは、通常かなり高い。使用中に、厚く粗い被覆は亀裂形成の危険性が高く、あるいは粒子が表面からはがれおちる。多くの場合、セラミック被覆の密着を高めるため、高価なニッケルまたはニッケル合金を接合層として使用しなければならない。
【０００８】
純粋なニッケルまたはクロムからなる、あるいはニッケル−燐などの化合物の形態での従来の金属被覆は、通常、メッキ法および特には電解メッキ法により塗布される。電解メッキ法にはいくつかの欠点があり、主な欠点は均一な厚さを得るのが困難なことと被覆の密着が劣ることである。また、メッキプロセスは環境に優しくなく、それどころかこれらのプロセスは環境問題を含むことが多い。
【０００９】
耐摩耗性粒子、例えばＳｉＣを含んでなるニッケル被覆などの被覆の組み合わせは、国際公開番号WO 02/46526に記載されており、異なる層が電解ニッケル被覆のための連続プロセスで、いくつかの工程において、これら工程の少なくとも１工程に研磨粒子を加えることにより塗布される。この方法にもいくつかの欠点があり、基本的には上述の電解メッキと同じ欠点であるが、ニッケルが接合層として大規模に使用され、被覆が非常に高価であるという点もある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
緻密な被覆と基材との密着性が向上した、硬い耐摩耗性被覆金属帯が開示される。コストの理由から、連続ロール間被覆プロセスが好ましく、前記ラインは、同じロール間被覆プロセスにおいて１つまたは複数の帯のエッジを被覆できる。さらに、品質の理由から、基材との密着の非常に良好な緻密な被覆が有利である。コストの観点から、耐摩耗性被覆のそのような良好な密着があれば、別な接合層が任意に必要ないということもさらなる利点である。
【００１１】
連続ロール間堆積被覆装置の代表的な実施形態は、堆積領域の上流のエッチング領域を含む真空処理チャンバー、前記エッチング領域中の少なくとも１つのイオンエッチング装置および前記堆積領域中の少なくとも１つの堆積装置を含んでなり、前記の少なくとも１つの堆積装置は少なくとも１つのターゲットを含み、前記帯基材が、真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットに向かって第１エッジ部を突出し、前記帯基材の第１エッジ部は第１遠位部に向かって第１近位部から先細になっている少なくとも第１傾斜表面を含み、前記の第１近位部は前記の第１遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第１傾斜表面は第１表面法線を有し、前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットはターゲット法線を有するターゲット表面を含み、ターゲット法線が角度αで前記第１表面法線と交差するよう前記第１傾斜表面に対して傾斜しており、αは９０°以上である。
【００１２】
帯基材のエッジに連続被覆する方法の代表的な実施形態は、真空処理チャンバーに少なくとも１つの帯基材を供給する工程であって、前記帯基材がボディ、第２主面に対向する第１主面および第２側面に対向する第１側面を含み、第１および第２側面が第１および第２主面より狭い工程、真空処理チャンバーを通って少なくとも１つの帯基材を移動させる工程であって、前記真空処理チャンバーがエッチング領域中に少なくとも１つのイオンエッチング装置を含み堆積領域中に少なくとも１つの堆積装置を含み、前記エッチング領域が堆積領域より上流である工程、前記エッチング領域中で少なくとも１つの帯基材の第１エッジ部を洗浄する工程であって、第１エッジ部が、第１遠位部に向かって第１近位部から先細になっている少なくとも第１傾斜表面を含み、第１近位部は第１遠位部よりも帯基材の中央領域に近く、第１傾斜表面が第１表面法線を有する工程、前記堆積領域中で第１エッジ部の第１傾斜表面に被覆を堆積させる工程および被覆された帯基材を回収する工程を含んでなるが、前記の少なくとも１つの堆積装置は少なくとも１つのターゲットを含み、前記少なくとも１つの帯基材が、真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置の少なくとも１つのターゲットに向かって第１エッジ部を突出し、前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットはターゲット法線を有するターゲット表面を含み、ターゲット法線が角度αで前記第１表面法線と交差するよう前記第１傾斜表面に対して傾斜しており、αは９０°以上である。
【００１３】
堆積領域の上流のエッチング領域、前記エッチング領域中の少なくとも１つのイオンエッチング装置、前記堆積領域中の少なくとも１つの堆積装置を含む真空処理チャンバーを含んでなる他の代表的な連続ロール間堆積被覆装置であって、前記の少なくとも１つの堆積装置が少なくとも１つのターゲットを含んでなる。帯基材は、真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットに向かって第１エッジ部を突出する。帯基材の第１エッジ部は四角にされており、第１近位部および第１遠位部を有し、第１近位部が第１遠位部よりも帯基材の中央領域に近く、第１エッジ部は第１表面法線を有する。少なくとも１つの堆積装置のターゲットは、ターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度αで第１表面法線と交差するように第１エッジ部に対して傾斜しており、αは９０°以上である。
【００１４】
好ましい実施形態の以下の詳細な説明を、同様な数字が同様な要素を示す添付図面に関連して読むことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
良好な密着性を持つ緻密で耐摩耗性の被覆および連続堆積被覆装置が開示される。硬化可能な帯鋼の形態の帯基材などの最終製品上の被覆は、被覆されたエッジを持つ金属帯基材を利用する用途、例えば、髭剃り装置、医療機器、カッターナイフおよび工業用ナイフ、鋸用途、ドクターブレードおよびコーターブレード用途または製紙で紙のクレーピングに使用するクレーピングブレードなどでの使用に好適な被覆である。上述の用途に使用するのに好適な被覆は、良好な密着性を持つ耐摩耗性被覆の緻密な層を持ち、硬いが使用時の作業負荷および圧力に耐えるに十分な靭性があり、脆性またははがれおちの傾向が低減されているか全くない。低摩擦性被覆も、単独または被覆の他の性質と組み合わせて使用できる。
【００１６】
〔被覆材料および配置の説明〕
耐摩耗性は、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＴｉＡｌＮ、ＺｒＡｌＮ、ＶＮ、ＴｉＶＮ、ＶＡｌＮ、ＣｒＮ、Ｃｒ2Ｎ、ＣｒＡｌＮ、ＭｏＮｘ、ＷＮｘなどの緻密な遷移金属窒化物またはこれらの窒化物の混合物の少なくとも１層、好ましくはＴｉＮまたはＣｒＮ系材料の層を含む被覆を堆積することにより得られる。要件によっては、要求される硬さ、靭性および／または耐食性の最適条件が、被覆中に混合した窒化物を使用して得られる。これは、例えばアーク蒸発による堆積またはスパッター堆積などの堆積用のターゲット材料の合金組成を選択的に選ぶことにより実施できる。硬さおよび靭性を最適化するため窒化物の組み合わせを可能にするために、副層中に異なる窒化物を持つ多層被覆中に最大２０の副層を持つことにより多層被覆を使用でき、副層中に任意の炭化物が添加されているか、別な炭化物系副層を持つ。
【００１７】
耐摩耗性は、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＶＣｘ、ＣｒＣｘ、ＭｏＣｘ、ＷＣまたはこれら炭化物の混合物の形態の緻密な金属炭化物材料の少なくとも１層、好ましくはＴｉＣ、ＷＣまたはＣｒＣｘ系材料の層を持つ被覆を堆積することによっても得られる。要件によっては、要求される硬さおよび靭性および耐食性の最適条件が、被覆中に混合炭化物を使用して得られる。これは、例えば、アーク蒸発による堆積またはスパッター堆積などの堆積用のターゲット材料の合金組成を選ぶことにより実施できる。硬さおよび靭性を最適化するため炭化物の組み合わせを可能にするために、副層中に異なる炭化物を持つ多層被覆中に最大２０の副層を持つことにより多層被覆を使用でき、副層中に任意の窒化物が添加されているか、別な窒化物系副層を持つ。
【００１８】
Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）などの炭窒化物を、被覆中に、または副層中に、単独または混合物で使用することもできる。
【００１９】
耐摩耗性または低摩擦は、例えば、緻密なダイヤモンド様カーボン層（ＤＬＣ）の少なくとも１層を持つ被覆を堆積することにより達成できる。前記ＤＬＣ層は、微量のＴｉ、Ｔａ、Ｗおよび／またはＣｒなどの遷移金属と混合することができる。要件によっては、要求される硬さおよび靭性および耐食性および摩擦の最適条件が、最大約２０％、あるいは０〜約１０％の有効量の遷移金属添加を利用して達成できる。これは、例えば、アーク蒸発による堆積またはスパッター堆積などの堆積用のターゲット材料の合金組成を選ぶことにより実施できる。硬さおよび靭性を最適化するためＤＬＣの組み合わせを可能にするために、副層中に異なる窒化物を持つ多層被覆中に最大２０の副層を持つことにより多層被覆を使用でき、副層中に任意の炭化物が添加されているか、別な炭化物系副層を持つ。
【００２０】
基本的に窒化物からなる上述の耐摩耗性層の代わりとして、金属被覆などの他の被覆も開示される実施形態に使用できる。できるだけコストを低減するために単純で安い被覆が好まれる場合、基本的に純粋なＴｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｗ、Ｆｅ、Ｍｏ、ＮｉおよびＦｅまたはこれらの物質の合金、ＴｉＡｌ、ＮｉＡｌおよびＦｅＣｒＡｌＹなどの金属被覆を使用してよい。本願記載のものなど、例えば金属被覆などの純粋な金属被覆の薄層を、帯鋼のエッジと第２被覆との間の接合層としても使用できるが、第２被覆は、遷移金属窒化物または炭化物あるいはダイヤモンド様カーボンを含む金属（Ｍｅ−ＤＬＣ、前式においてＭｅはＴｉ、Ｔａ、ＣｒおよびＷなどの遷移金属である）またはダイヤモンド様カーボン（ＤＬＣ）層を含む組成を有してよい。
【００２１】
耐摩耗性および／または低摩擦ＤＬＣ被覆の代わりとして、ＭＡＸ相を含む材料を堆積できる。ＭＡＸ相材料は、式Ｍn+1ＡzＸnを有する三元化合物である。Ｍは、Ｔｉ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａの群から選択される少なくとも１種の遷移金属であり；Ａは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｇｅおよび／またはＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の元素であり；Ｘは非金属Ｃおよび／またはＮの少なくとも１種である。単相材料の異なる成分の範囲は、ｎおよびｚにより決まるが、ｎは０．８〜３．２の範囲であり、ｚは０．８〜１．２の範囲である。したがって、ＭＡＸ相材料群の中の組成の例はＴｉ3ＳｉＣ2、Ｔｉ2ＡｌＣ、Ｔｉ2ＡｌＮおよびＴｉ2ＳｎＣである。純粋なＭＡＸ相被覆に加え、ＭＡＸ相を含む複合被覆も堆積できる。独立した接合層は全く必要ないが、例えば靭性向上などの技術的観点から望ましい場合、ニッケルまたはチタンなどの金属被覆元素をそれらの層の１つに任意に使用してよい。ニッケルに関しては、ニッケルは高価なので、非常に薄い層でのみ通常使用され、好適には０〜２μｍ、好ましくは０〜１μｍおよび最も好ましくは０〜０．５μｍである。しかし、ニッケル層は用いられたとしても、帯基材に隣接する層としてではないであろう。
【００２２】
本願に開示および記載する方法は、帯基材のエッジ部の各側面の厚さが、全体で２５μｍまで、通常全体で２０μｍまで、好ましくは全体で１５μｍまでの厚さの硬く緻密な耐摩耗性被覆の薄い被覆に好適である。全体で最大１２μｍまたは好ましくは最大１０μｍがコストの観点から好ましい。より厚い被覆を塗布すべき場合、コスト対性質における最適値が最大１０層の多層を使用して達成できるが、その場合各層は０．１〜１５μｍの厚さであり、好適には０．１〜１０μｍ、より好適には０．１〜７μｍ、好ましくは０．１〜５μｍ、さらにより好ましくは０．１〜３μｍである。他の好適な被覆厚さには、１０μｍ未満、５μｍ未満および１μｍ未満がある。被覆は、処理される材料が及ぼす摩耗および剪断に耐えるため十分に耐摩耗性でなくてはならないが、その一方で、経済的理由および脆性および／または脆さのため厚すぎてはいけない。例えば、コーターブレードおよびドクターブレード用途では、被覆と基材材料の厚さの比は０．１％〜１２％であり、標準的には０．１〜１０％、通常０．１〜７．５％、最も好ましくは０．１〜５％である。
【００２３】
〔被覆対象とする基材材料の説明〕
被覆すべき材料は、目的とする用途に対して好適な、良好な基本的機械的強度を持たなくてはならない。１例において、帯基材は、焼入れおよび焼戻し条件における焼入れ鋼であり、あるいは国際公開番号ＷＯ９３／０７３０３に開示される合金などの析出硬化型鋼であり、最終状態において、１２００ＭＰａを超える引張強度、または１３００ＭＰａを超える、またはせいぜい１４００ＭＰａを超える、さらには１５００ＭＰａの引張強度を達成することができる。
【００２４】
最終被覆製品が腐食性環境で使用されるようになっている場合、帯基材の鋼合金は良好な基本的耐腐食性を得るために十分なクロムが添加されていないといけない。例えば、Ｃｒ含量は１０重量％を超え、または少なくとも１１％、好ましくは最低１２％でよい。
【００２５】
被覆法は、前記の鋼合金の種類でできていて、良好な熱間加工性を有し薄い寸法に冷間圧延もできる帯の形態であるどのような種類の基材にも適用できる。合金は、典型的には、成型、研磨、削り、切断、磨き、打ち抜きなどの工程を含む製造プロセスにおいて、コーターまたはドクターブレード用途、レーザーブレードおよび／またはカッターなどの髭剃り装置、医療機器、カッターナイフおよび工業用ナイフ、種々の鋸および他の帯製品用途などの所望の最終製品に容易に製造可能でもある。帯基材の厚さは、通常０．０１５ｍｍ〜５．０ｍｍであり、好適には０．０３ｍｍ〜３ｍｍである。好ましくは、０．０３〜２ｍｍ、さらにより好ましくは０．０３〜１．５ｍｍである。コーターブレードの通常の厚さは、０．３〜１．０ｍｍの範囲であり、ドクターブレードでは０．１〜０．４ｍｍの範囲であり、レーザーブレードでは帯材料の通常の厚さ範囲は０．０７６〜０．１ｍｍである。帯基材材料の幅および被覆すべきエッジの形状は、最終製品の意図される用途による。さらに、幅を任意に選択して、被覆された製品の最終的な幅へのさらなる製造に好適な幅にできる。適当な典型的な幅は、最終製品によって、１〜５００ｍｍであり、好適には１〜２５０ｍｍであり、好ましくは１〜１００ｍｍである。帯基材材料の長さは好適には１０〜２０，０００ｍ、好ましくは１００〜２０，０００ｍである。帯基材材料は、一般的に被覆塗布の前後の両方でコイルの形態で取り扱われる。当然、帯基材の寸法は最終製品の意図される用途に適合され、他の最低および最大厚さも好適に利用できる。
【００２６】
〔被覆方法および装置の説明〕
被覆媒体／材料の塗布のための種々の物理蒸着または化学蒸着法ならびに被覆プロセスは、連続的で均一で密着性のある被覆を提供する限り使用できる。堆積方法の例として、化学蒸着（ＣＶＤ）、有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ）、スパッタリングなどの物理蒸着（ＰＶＤ）、抵抗加熱による、電子線による、誘導による、アーク抵抗による蒸発、またはレーザー堆積法が考えられる。アーク蒸発またはスパッタリング、特にマグネトロンスパッタリングは、堆積に好ましい２つの典型法である。
【００２７】
堆積装置は、アーク蒸発およびスパッタリング堆積法への言及により、本願のある点で言及および開示されるが、その開示、原理および方法は同様に他の種類の堆積法および技術にも適用可能である。したがって、一般的に堆積装置を、または具体的にアーク蒸発およびスパッタリングを議論していても、他の堆積法が本願の開示の範囲内であることが当業者には理解されるであろう。
【００２８】
被覆方法はロール間帯製造ラインに一体化され、被覆は、選択された堆積装置、例えば、アーク蒸発またはスパッタリングによりロール間連続堆積被覆装置中で堆積する。多層が必要な場合、堆積チャンバー（複数可）中に直列で数種のアーク蒸発またはスパッタリングターゲットをまとめることにより多層の形成が達成される。さらに、帯基材のエッジ部の被覆は、被覆を堆積すべき表面に好適な角度でターゲットを向けることにより制御できる。金属被覆の堆積は、基本的に純粋な金属フィルムを促進するために反応性ガスを全く加えることなく、１×１０-2ミリバールの最大圧力での減圧下で金属ターゲットから作られる。ＴｉＮ、ＴｉＣ、ＣｒＮ、ＣｒＣｘ、ＶＮ、ＴｉＡｌＮおよびＣｒＡｌＮなどの金属炭化物および／または窒化物の堆積は、反応性ガスを添加して金属ターゲットから作られる。ＴｉＣおよびＴｉ（Ｃ、Ｎ）などの金属炭化物および金属炭窒化物は、遷移金属および炭素の両方を含む複合ターゲットから堆積できる。被覆中の状態は、目的とする化合物の形成を可能とするように反応性ガスの分圧に関して調整できる。窒素の場合、Ｎ2、ＮＨ3またはＮ2Ｈ4などの反応性ガス、しかし好ましくはＮ2が使用できる。炭素の場合、炭素を含むどのようなガスも反応性ガスとして使用でき、例えばＣＨ4、Ｃ2Ｈ2またはＣ2Ｈ4がある。金属酸化物の堆積は、チャンバー中に反応性ガスとして酸素源を添加して減圧下で実施される。
【００２９】
良好な密着を可能にするため、様々な種類の洗浄工程が用いられる。第１に、基材材料の表面が洗浄され油残渣が除去されるが、これは洗浄されないと被覆プロセスの効率ならびに被覆の密着および品質に悪影響を与えることがある。さらに、鋼の表面に通常存在する非常に薄い固有の酸化物層が除去される。これは、被覆堆積前に、表面の前処理を含むことにより好ましくは実施できる。ロール間製造ラインにおいて、第１製造工程は洗浄工程であり、例えば、好ましくは、第１被覆の良好な密着を得るための金属帯基材表面のイオンアシストエッチングである。被覆は、最低１分当たり０．１メートルの速度で、好ましくは最低０．５ｍ／分で、最も好ましくは最低１ｍ／分で実施される。帯基材の移動の速度は、ターゲットの数および堆積技術の堆積速度に依存し、ターゲットが多いと堆積速度が上昇し、したがって使用すべき帯基材の移動の速度も上昇する。
【００３０】
図１は、第１の開示された実施形態による被覆金属帯の製造のための製造ラインの一例を模式的に示す。図１において、被覆金属帯の製造のための製造ラインは、連続ロール間堆積被覆装置１００として示されている。連続ロール間堆積被覆装置１００は、複数の帯基材１０６のそれぞれに、コイル１０８中にそれぞれ配置されたアンコイラー１０４を含む供給チャンバー１０２および複数の帯基材１０６のそれぞれにリコイラー１１２を含む回収チャンバー１１０を含む。真空処理チャンバー１１４は、供給チャンバー１０２と回収チャンバー１１０との間に位置している。真空処理チャンバー１１４は、堆積領域１１８の上流にエッチング領域１１６を含む。少なくとも１つのイオンエッチング装置１２０がエッチング領域１１６に配置され、少なくとも１つのターゲット１２４を含む少なくとも１つの堆積装置１２２が堆積領域１１８に配置される。
【００３１】
示された連続ロール間堆積被覆装置１００において、４の別な帯基材が示されている。しかし、連続ロール間堆積被覆装置１００がどのような数の帯基材も持つことができることを理解されたい。例えば、１〜１０またはそれ以上の帯基材を使用できる。他の例において、連続ロール間堆積被覆装置１００は、レーザーブレード用途のための帯基材を形成する場合ライン中に最大１００の帯基材を持つことができるが、コーターまたはドクターブレード用途のために帯基材を形成するよう設計される場合ライン中に４のみの帯基材を持つことがある。一般的に、帯が多くなるとラインの生産性は高まるが、はるかに複雑にもなる。
【００３２】
帯基材に衝撃を与えるプラズマを生み出す不活性ガスプラズマ発生装置を含むイオンエッチング装置１２０の構成部分は、真空処理チャンバー１１４内に機能的に配置され、被覆の堆積前に帯基材材料上の薄い酸化物層が除去される。
【００３３】
アークを生み出すアーク発生装置および蒸発ターゲットを含むアーク蒸発器１２２の構成部分およびスパッターソースおよびスパッタリングターゲットを含むスパッタリング装置１２２は、真空処理チャンバー１１４内に機能的に配置され、帯基材が真空処理チャンバー１１４を通って移動する際に帯基材１０６上に被覆が堆積される。
【００３４】
帯基材の側面が被覆できる。例えば、図１に示すとおり、複数のコイルのそれぞれから出た帯基材１０６は、供給チャンバー１０２から真空処理チャンバー１１４を通って回収チャンバー１１０に移動する際に、第１エッジ部（その例は、図２および３において１４０で示され、図４において１４０’、１４０’’、１４０’’’および１４０’’で示されている）を、エッチング領域１１６中の少なくとも１つのイオンエッチング装置１２０に向かって突出し、堆積領域１１８中の少なくとも１つのアーク蒸発器またはスパッタリング装置１２２のターゲットに向かって第１エッジ部を突出する。
【００３５】
代表的な実施形態において、図２に示すとおり、帯基材１０６の第１エッジ部１４０は、第１近位部１４４から第１遠位部１４６に向かって先細になっている少なくとも第１傾斜表面１４２を含む。第１近位部１４４は、第１遠位部１４６よりも、帯基材１０６の中央領域１４８に近く図示されている。しかし、帯基材上の第１近位部の位置は限定されておらず、任意の実施形態において、傾斜表面の先細りが帯基材の全寸法に渡って延びるよう、帯基材の第１エッジ部の反対の末端でもよい。
【００３６】
いくつかの実施形態において、第１傾斜表面１４２の第１遠位部１４６は、帯基材１０６のエッジ、例えば帯基材１０６の側面の１つと同一の広がりを持つ。第１傾斜表面１４２は第１表面法線１５０を持つ。図２において、帯基材１０６は側面から見られており、第１傾斜表面１４２を含む第１エッジ部１４０は図の中央に向かっており、ターゲット１２４に向かって突出している。
【００３７】
図３は、種々のエッジの外形の例およびその表面に施された種々の被覆の例を示す。図３では、帯基材１０６の種々の形態が被覆１３０とともに示されている。図３に見えるとおり、帯基材１０６ａは、第１エッジ部１４０で四角にされており第１エッジ部を完全に覆う被覆１３０を有する。やはり図３に示されるのが、第１エッジ部１４０に種々の外形を有する帯基材１０６ｂ〜１０６ｅであり、四角くされている（１０６ａ）、四角くされていて角が丸くまたは面取りされている（１０６ｂ）、１面で先細になっている（１０６ｃおよび１０６ｄ）、両面で先細になっている（１０６ｅ）、丸くなっている（１０６ｅ）ものがある。先細にされる部分は角度が付いていて終わっていても、丸くまたは面取りされていてもよい。各場合で、被覆１３０は、下にある第１エッジ部１４０の形状に従い、または実質的に従う。堆積の端部では、任意に被覆１３０は薄くなって下にある帯基材１０６の表面と同一面になってよい。
【００３８】
帯基材１０６の第１エッジ部１４０の表面はターゲット１２４と特定の空間的関係がある。これらの関係により、例えば、帯基材が真空処理チャンバー１１４の領域を通過する際に、垂直方向に間隔を空けて配置されている（例えば、ｙ軸方向に間隔を空けて配置されている）多数の帯基材がそれぞれイオンエッチング装置１２０により洗浄され、それぞれ堆積装置１２２により被覆が堆積される。多数の帯基材は任意に水平方向にずらされ（例えば、図４に示すとおり、ｚ軸方向に距離ｄｎずれて配置される）、帯基材が真空処理チャンバー１１４の領域を通過する際に、それぞれイオンエッチング装置１２０により洗浄され、それぞれ堆積装置１２２により被覆が堆積される。
【００３９】
１実施形態において、堆積装置１２２のターゲット１２４は、図２のγで表される所望の角度だけ垂直から傾斜している。２以上の材料の被覆の堆積および／または帯基材の第１エッジ部の１面より多い面への被覆の堆積など、多数のターゲット１２４がある実施形態において、連続するターゲットまたは一群のターゲットが使用できる。
【００４０】
各ターゲット１２４を所望の被覆効果のために配置できる。例えば、連続するターゲットまたは一群のターゲットは、垂直から、図２のγおよびγ’で表される異なる所望の角度だけ傾斜していてよい。一般的に、各ターゲットはターゲットホルダー（図示せず）に載せられており、ターゲットホルダーは各ターゲットに対して個別化されていてもよいが、２つ以上のターゲットをまとめて収納してもよい。ターゲットホルダーは、枢軸点の周りに回転でき、かつ／または多数の方向に可動であり、かつ／または組み合わさって動いて斜めの操作ができ、少なくとも１の自由度、好ましくは少なくとも２の自由度または３の自由度を有する。ターゲットホルダーは、連続ロール間堆積被覆装置１００の準備中は手動で操作することもできるが、ターゲットホルダーの位置をその場で変更できるコントローラーインターフェースにより遠隔制御することもできる。そのような遠隔制御は、例えば、圧電性装置、圧縮空気装置または他のエレクトロニクス装置または機械的装置の操作により、較正された位置または方向に対してターゲットホルダーの位置および方向を変えることができる。自由度の１つは、ターゲットの表面が被覆すべき帯基材の表面に対して傾斜するように、ｘ方向に位置する軸の周りに回転できる。この種の動きは図２に示してあり、ターゲット１２４の角度γおよびγ’はどのような所望の角度でもよい。ある実施形態において、角度γおよびγ’は帯基材１０６の第１エッジ部１４０上の被覆の堆積を極限まで増加させるように選択される。ある実施形態において、角度γおよびγ’は、被覆堆積実行中の他の隣接または近い第１エッジ部により第１エッジ部が影になるのを最小限にし、または所望の影つけ効果を得るために選択される。ある実施形態において、上記の考察が両方考察され、釣り合いの取れた手法が用いられる。γおよびγ’は同じ角度でも、余角でも、水平基準面に対する鏡像でもよく、所望の被覆効果を得るために必要なとおり異なっていてもよい。
【００４１】
例えば、少なくとも１つのアーク堆積装置１２２のターゲットは、ターゲット法線１２８を有するターゲット表面１２６を含む。ターゲット表面１２６は、ターゲット法線１２８が第１表面法線１５０と角度αで交差するように、第１エッジ部１４０の第１傾斜表面１４２に対して傾斜している。一例において、角度αは９０°以上である。他の例において角度αは９０°〜１３５°である。２以上のターゲットに対して類似の角度関係が、連続ロール間堆積被覆装置１００において発生および実施でき、堆積領域１１８中の堆積装置のターゲットおよびエッチング領域１１６中のイオンエッチング装置のターゲットの両方に適用できる。
【００４２】
もう１つの自由度は、（図２の軸に示すとおり）ｚ方向のずれであり、それによりターゲット１２４、１８０が、第１エッジ部１４０からある距離に配置される。ターゲット１２４、１８０と第１エッジ部１４０との間の距離の変化は堆積速度および被覆の質に影響を与えることがある。さらなる自由度は、（図２の軸に示すとおり）ｙ方向の並進であり、それによりターゲット１２４、１８０が、第１エッジ部１４０に対して異なる高さに配置される。第１エッジ部１４０に対するターゲット１２４、１８０の並進は堆積速度および被覆の質に影響を与えることがある。
【００４３】
自由度によってターゲットを巧みに動かすことにより、ターゲットの自由度は、１つまたは複数の帯基材の多数の表面の被覆に便宜を図る。１例において、ターゲットホルダーは裏面、例えば衝突の表面１２６、１８２の反対面に搭載され、ターゲットホルダーはレール、ラックおよび／または必要な自由度を与えるギアを含む。
【００４４】
例えば、ある実施形態において、帯基材１０６の第１エッジ部１４０には、被覆すべき２以上の表面および／または傾斜している２以上の表面がある。例えば、帯基材のエッジ、傾斜していてもいなくても、帯基材の第１および／または第２主面および／またはこれら表面の組み合わせは、堆積領域でその上に堆積する被覆を有することがある。
【００４５】
例えば、帯基材１０６の第１エッジ部１４０は、帯基材１０６の第１傾斜表面１４２の反対の主面に第２傾斜表面１６０を含んでよい。第２傾斜表面１６０は、第２近位部１６２から第２遠位部１６４に向かって先細になっている。第２近位部１６２は、第２遠位部１６４より、帯基材１０６の中央領域１４８に近い。ある実施形態において、第２傾斜表面１６０の第２遠位部１６４は、帯基材１０６のエッジ、例えば帯基材１０６の側面の１つと同一の広がりを持つ。ある実施形態において、第１傾斜表面１４２の第１遠位部１４６と第２傾斜表面１６０の第２遠位部１６４は完全に重なり合い、ナイフ刃先を形成する。第２傾斜表面１６４は第２表面法線１７０を有する。図２において、帯基材１０６は側面の一方から見られており、第２傾斜表面１６０を含む第１エッジ部１４０は見えてくる方向にあり、蒸発ターゲット１２４に向いて突出している。
【００４６】
連続ロール間堆積被覆装置は、真空処理領域に、例えばアーク蒸発器またはスパッタリング装置など複数の堆積装置を有してよい。例えば、連続ロール間堆積被覆装置の実施形態は第２の（またはより多くの）堆積装置を堆積領域に含んでよい（例えば、図１（６のターゲット）および図２（２のターゲット）に模式的に示すとおり）。これらの例において、第２（またはその次の）堆積装置１７２は、プロセスフロー方向に下流であり、例えば、少なくとも１つの堆積装置１２２から図１の１７４の方向にある。少なくとも１つの堆積装置１２２と同様に、第２（またはその次の）堆積装置１７２はターゲット１８０を含む。第２の堆積装置１７２の第２のターゲット１８０は、ターゲット法線１８４を有するターゲット表面１８２を含み、ターゲット法線１８４が角度βで第２表面法線１７０と交差するように第２傾斜表面１６０に対して傾斜している。１例において、角度βは９０°以上である。他の例において、角度βは９０°〜１３５°である。さらに他の例において、αはβと同じでよく、あるいはαはβと異なっていてよい。
【００４７】
その次の堆積装置が、連続ロール間堆積被覆装置１００に含まれていてよく、それぞれターゲットを含んでよい。図１において、例えば、６の堆積装置が示されているが、それぞれ別々のターゲット１２４を有し、異なる角度γおよびγ’を交互にしてターゲット１２４が示してあり（図１で同様に傾斜しているターゲットは同様な濃淡により表してある）、そしてさらには、異なる角度αおよびβを交互にしている。しかし、異なる被覆効果を得るために各ターゲットに異なる角度を利用してよく、ターゲットが同様に傾斜することは要求されない。さらに、第１堆積装置のターゲットソースは、第２堆積装置のターゲットソースおよび／またはその次の堆積装置のターゲットソースと同じ材料でも、異なる材料でもよい。
【００４８】
図１は、コイル１０８中に配置された複数の帯基材１０６のそれぞれのためのアンコイラー１０４および複数の帯基材１０６のそれぞれのためのリコイラー１１２に機能的に連結している任意のコントローラー１８６を表している。コントローラー１８６は、真空処理チャンバー１１４を通る帯基材１０６の供給および回収の速度を制御し、堆積領域１１８中の帯基材１０６の望まれる張力を得る。
【００４９】
本願で言及されるとおり、多数の帯基材は、垂直方向に間隔を空けて配置されていても（例えば、ｙ軸方向に間隔を空けて配置）、任意に水平にずれていても（例えば、ｚ軸方向にずらして配置）、さらにこれら２つの組み合わせでもよい。例えば、図２に示すとおり、複数の帯基材１０６は、連続した帯基材１０６同士の間に任意のスペーサー１８８を入れた状態で、垂直方向に間隔を空けて（例えばｙ軸方向に間隔を空けて）配置できる。他の例において、図２に示すとおり、複数の帯基材１０６のそれぞれの突き出た第１エッジ部１４０は、真空処理チャンバー１１４の内部表面１９０から同じ距離ｄ突出している。
【００５０】
ある実施例において、複数の帯基材１０６のそれぞれの第１遠位部１４６および／または第２遠位部１６４はずらされている。例示のため、一番下の帯基材の第１遠位部が第１距離にあり、一番上の帯基材の第１遠位部が第２距離にあってよく、第２距離が第１距離より大きい。他の例示として、一番下の帯基材と一番上の帯基材との間の複数の帯基材１０６のそれぞれの第１遠位部１４６は、第１距離と第２距離との間で段階的に変化する距離にある。
【００５１】
図４は、水平に移動した配置（例えば、ｚ軸に沿って移動）と垂直に移動した配置（例えば、ｙ軸に沿って移動）の任意の組み合わせを示す。例として、垂直変位ｄn、ｎ＝１、２、３…および水平変位ｙが、帯基材１０６’の１つが、堆積プロセスの実行中に次の帯基材１０６’’の第１エッジ部１４０’’への材料の堆積を妨害しないような、例えば、次の帯基材を影にしないような状態であり得る。次の帯基材の垂直および水平変位は、堆積プロセス中の妨害を最低限にし、または防ぐよう同様に距離を持つことができる。
【００５２】
図４において、複数の帯基材１０６’、１０６’’、１０６’’’、１０６’’’’のそれぞれの突き出た第１エッジ部１４０’、１４０’’、１４０’’’、１４０’’’’は、真空処理チャンバー１１４の内部表面１９０から異なる距離ｄn、ｎ＝１、２、３…突出しており、水平に移動している（例えば、ｚ軸方向にずれて配置されている）。スペーサー１８８および内部表面１９０の壁など堆積領域の他の部分は、例えば、冷却チャネル１９２を通る流体またはガスの流れにより冷却できる。
【００５３】
エッチング領域中の装置、例えばイオンエッチング装置は、堆積装置の１つまたは複数のターゲットの傾斜、移動および並進と類似の、１つまたは複数の自由度で、任意に傾斜し、移動され、並進できるターゲットを有することを認識されたい。
【００５４】
連続ロール間堆積被覆装置１００は、任意に、例えば真空および特定の雰囲気など雰囲気制御下にでき、任意に連続ロール間堆積被覆装置１００の一部をそのような雰囲気制御下にすることもできる。例えば、真空処理チャンバー１１４は雰囲気制御下にあり、連続ロール間堆積被覆装置１００は、真空処理チャンバー１１４の入口側２０２の入口真空ロックシステム２００および真空処理チャンバー１１４の出口側２０６の出口真空ロックシステム２０４を含んでよい。他の実施形態において、供給チャンバー１０２、真空処理チャンバー１１４および回収チャンバー１１０は、全て雰囲気制御下にある。
【００５５】
雰囲気制御は、真空処理チャンバー１１４を特定の操作圧力に維持することも含む。雰囲気制御は、供給チャンバー１０２および回収チャンバー１１０をそれぞれ特定の操作圧力に維持することも含む。特定の操作圧力は、各チャンバーで同じである必要はない。例の操作圧力は、最大１×１０-2ミリバールである。雰囲気制御は、反応性ガスまたは特定のガスまたはガス濃度の無い少なくとも真空処理チャンバー１１４の雰囲気を維持することも任意に含む。１例において、アンコイラー１０４およびリコイラー１１２の両方が雰囲気制御下にある。例えば、アンコイラー１０４およびリコイラー１１２は真空下でよく、これら２つのチャンバーに接続した、例えば真空ポンプなどの必要な装置（図示せず）を有してよい。
【００５６】
供給チャンバー１０２と真空処理チャンバー１１４との間に、真空処理チャンバー１１４中に位置するストリップガイド１８８と類似のストリップガイドを持つ真空ロックシステム２００がある。１例において、帯基材１０６は、供給チャンバー１０２から真空処理チャンバー１１４への気体の拡散を防ぐよう狭いセクションを通ることができる。他の例において、エッチング領域１１６から出たガス、例えばアルゴンガスが供給チャンバー１０２へ拡散し、供給チャンバー１０２から出た「残留ガス」が真空処理チャンバー１１４に流入しないよう、供給チャンバー１０２は、真空処理チャンバー１１４より低圧にでき、または少なくともエッチング領域１１６よりも低圧にできる。
【００５７】
他の例において、エッチング領域１１６と堆積領域１１８との間に、真空処理チャンバー１１４中に位置するストリップガイド１８８と類似のストリップガイドを持つ中間真空ロックシステム２１０がある。中間真空ロックシステム２１０中のポンプ能力は、堆積領域１１８中のポンプ能力より大きく、エッチング領域１１６中のポンプ能力より大きく、中間真空ロックシステム２１０中で堆積領域１１８およびエッチング領域１１６のそれぞれに対しより低い圧力を生みだし維持するが、そのため堆積領域１１８から出た反応性ガスがエッチング領域１１６中に拡散せず、すなわち、中間真空ロックシステム２１０はガスロックとして機能する。
【００５８】
ガスロックは２つの方法で実施できるが、第１は真空ロックシステム２１０中の低圧による方法で、例えば中間真空ロックシステム２１０中のチャンバーが、エッチング領域１１６および堆積領域１１８の両方から拡散してくるガスを除去し、第２は中間真空ロックシステム２１０中の高いガス圧により、例えば、中間真空ロックシステム２１０中のチャンバーがエッチング領域１１６および堆積領域１１８中に拡散するガスを供給するが、そのような拡散は堆積領域１１８からエッチング領域１１６へと拡散する反応性ガスを阻止するので、この方法は許容できる。
【００５９】
さらなる例において、真空処理チャンバー１１４と回収チャンバー１１０との間に、供給チャンバー１０２と真空処理チャンバー１１４との間の真空ロックシステム２００に関して記載した種類と類似の真空ロックシステム２０４がある。
【００６０】
一例の装置の種々のチャンバー、領域および／または真空ロックの圧力関係の例は、以下のとおりである。
【００６１】
圧力（供給チャンバー）＜圧力（エッチング領域）＞圧力（中間真空ロック）＜圧力（堆積領域）＞圧力（回収チャンバー）……………式１
または、アルゴンガスを中間チャンバーに導入する場合は下記のとおりである。
【００６２】
圧力（アンコイラー）＜圧力（エッチャー）＜圧力（中間、アルゴン）＞圧力（堆積）＞圧力（リコイラー）……………式２
帯基材の突出距離（ｄ）、連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離（ｙ）および各ターゲットの垂直からの角度（それぞれγおよびγ’）の間の追加の典型的な関係を、図５Ａおよび５Ｂを参照して示す。図５Ａにおいて、図２の特徴のいくつかが示され、同様な参照符号をつけられている。さらに、一番下の２つの帯基材１０６に関連する特徴が示される。これらには、参照符号Ｍにより表される、帯基材が真空処理チャンバー１１４の内部表面１９０を過ぎて突出し始める、一番下の帯基材の表面上の位置；参照符号Ｎにより表される、帯基材の形状に関わらず（図３参照）、帯基材１６０の最も遠い突出程度を表す一番下の帯基材の表面の突出上の位置；および参照符号Ｏにより表される、真空処理チャンバー１１４の内部表面１９０を過ぎて帯基材が突出し始める、次の連続した帯基材の表面上の位置がある。示すとおり、線分ＭＮは、次の連続した帯基材に面する、下にある帯基材の表面を表し、その表面は点Ｏを含み、線分ＭＮの距離はｄであり、線分ＭＮから点Ｏへの分離は線分ＭＯの距離であり、ｙとして表される。
【００６３】
図５Ｂを参照すると、上記の幾何学的位置および特徴が非常に概略的な図で示してあるが、ＭＮＯにより形成される三角形の角度θおよび本明細書ですでに記載した角度γの関係が決定できる。図５Ｂに示されているとおり、直角三角形ＭＮＯは、Ｍで直角をＮで角度θを持ち２つの帯基材１０６同士の間に形成できる。角度θは、以下の式により線分ＭＮとＭＯの距離に関係する：
θ＝ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）………………式３
三角形３００は図５ｂに示されているとおり形成でき、底辺はターゲット１２４の表面１２６と一致していて、一辺が三角形ＭＮＯからの線分ＮＯを含む法線１２８からできており、かつ／または三角形ＭＮＯの斜辺ＮＯに平行である。三角形３００は、角度９０°および角度θに等しい角度λを有する。
【００６４】
この情報から、２つの追加的な角度が決定される。第一に、角度γは角度θに等しいと決定できる。したがって、ターゲット１２４および１８０を方向付ける角度γは、以下のとおり帯基材１０６の空間的位置および関係の関数として表すことができる：
γ＝ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）＝θ………………式４
類似の関係が角度γ’に対して生じる。
【００６５】
第２に、角度αおよびβも、以下のとおり帯基材１０６の空間的位置および関係の関数として表すことができる：
α’＝９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）………………式５
α’はおよそαに等しく、帯基材１０６の突出端の傾斜表面によりのみ異なる（例えば図３参照）。第１の近似において、この傾斜表面は、平面第１表面ＭＮから角度δだけ変化している。したがって、角度αは第１の近似において以下のように表すことができる：
α＝α’＋δ………………式６
類似の関係が角度βにも生じる。
【００６６】
多数の帯基材配置のうち下の２つの帯基材に関して記載および説明するが、同じ原理および関係が、典型的な連続ロール間堆積装置１００の帯基材のいずれにももたらされることが理解されるだろう。連続ロール間堆積被覆装置１００は、連続操作で帯基材に被覆を堆積させることが可能である。帯基材のエッジを連続的に被覆する代表的な方法は、供給チャンバーから真空処理チャンバーに少なくとも１つの帯基材を供給する工程であって、前記帯基材がボディ、第２主面に対向する第１主面および第２側面に対向する第１側面を含み、前記第１および第２側面の表面が第１および第２主面の表面より狭い供給工程、前記の少なくとも１つの帯基材を、真空処理チャンバーを通って移動させる工程であって、前記真空処理チャンバーがエッチング領域に少なくともイオンエッチング装置および堆積領域に少なくとも１つのターゲットを含む少なくとも１つの堆積装置を含み、前記エッチング領域が前記堆積領域の上流である工程、前記エッチング領域で前記の少なくとも１つの帯基材の第１エッジ部を洗浄する工程であって、前記第１エッジ部が第１近位部から第１遠位部に向かって先細になっている少なくとも第１傾斜表面を含み、前記第１近位部が前記第１遠位部よりも帯基材の中央領域に近く、第１傾斜表面が第１表面法線を有する工程、前記堆積領域で第１エッジ部の第１傾斜表面に被覆を堆積させる工程および回収チャンバーで被覆された帯基材を回収する工程を含んでなる。前記の少なくとも１つの帯基材は、供給チャンバーから真空処理チャンバーを通って回収チャンバーへ移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の堆積装置の少なくとも１つのターゲットに向かって第１エッジ部を突出する。少なくとも１つの堆積装置のターゲットは、ターゲット法線を有するターゲット表面を含み、ターゲット法線が前記第１表面法線と角度αで交差するように第１傾斜表面に対して傾斜している。角度αは、装置１００の実施形態に関して本願に記載したとおりでよい。角度αの例には、９０°以上のα、αが９０°〜１３０°、αが約９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）であり、ｙは連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離であり、ｄは帯基材の突出距離である。
【００６７】
いくつかの実施形態において、帯基材の２つの表面を被覆できる。例えば、帯基材の第１エッジ部には、帯基材の第１傾斜表面の反対の主面上に第２傾斜表面がある。第２傾斜表面は、第２近位部から第２遠位部に向かって先細になっており、第２近位部は、第２遠位部より帯基材の中央領域に近い。第２傾斜表面は第２表面法線を有する。この例において、前記方法は、前記エッチング領域で前記の少なくとも１つの帯基材の第２エッジ部を洗浄する工程および前記堆積領域において第１エッジ部の第２傾斜表面上に被覆を堆積させる工程を含んでなる。代表的な方法は、１つまたは複数のイオンエッチング装置を含む１つまたは複数のエッチング領域を利用してよく、１つまたは複数の堆積装置を含む１つまたは複数の堆積領域を利用してよい。例えば、第２の（または次の、３番目の、４番目の、など）ターゲットを含む第２の（または次の、３番目の、４番目の、など）堆積装置が堆積領域にあってよい。第２の（または次の、３番目の、４番目の、など）アーク蒸発またはスパッタリング装置が、少なくとも１つのアーク蒸発器またはスパッタリング装置からプロセスフロー方向の下流にある。第２のターゲットは、ターゲット法線を有するターゲット表面を含み、ターゲット法線が前記第２表面法線と角度βで交差するように第２傾斜表面に対して傾斜している。角度βは、装置１００の実施形態に関して本願に記載したとおりでよい。角度βの例には、９０°以上のβ、βが９０°〜１３０°、βが約９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）であり、ｙは連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離であり、ｄは帯基材の突出距離である。ある例においてαはβと等しく、他の例ではαはβに等しくない。この例において、前記堆積領域で第１エッジ部の第２傾斜表面上に被覆を堆積させる工程は、第２のアーク蒸発またはスパッタリング装置による被覆の堆積を含む。
【００６８】
典型的な方法の全てにおいて、追加のターゲット操作が、ターゲットホルダーに与えられた自由度により、例えば自由度１、自由度２または自由度３により実施可能である。代表的な方法は、真空処理チャンバーを通る帯基材の供給速度および回収速度を制御して、堆積領域中の帯基材の望ましい張力を得る工程を任意に含んでよい。
【００６９】
真空処理チャンバー内の帯基材の位置を制御して、被覆の望ましい配置および質に影響を与えることができる。例えば、複数の帯基材のそれぞれの突き出ている第１エッジ部は同じ距離突出できる。ここで、被覆すべき表面に対するターゲット表面の傾斜は、隣接する帯基材が被覆すべき表面を影にしないことに役立つ。他の例において、複数の帯基材のそれぞれの突き出ている第１エッジ部は、異なる距離突出する。ここで、異なる突出距離および被覆すべき表面に対するターゲット表面の傾斜の両方が、隣接する帯基材が被覆すべき表面を影にしないことに役立つ。帯基材の配置の他の例には、複数の帯基材のそれぞれの第１遠位部がずれており、一番下の帯基材の第１遠位部が第１位置にあり、一番上の帯基材の第１遠位部が第２距離にあり、第２距離が第１距離より大きい例がある。さらなる例には、一番下の帯基材と一番上の帯基材との間の複数の帯基材のそれぞれの第１遠位部が、第１距離と第２距離との間の段階的な距離にある例がある。
【００７０】
前記方法は、装置の１または複数の領域の雰囲気を任意に制御できる。例えば、真空処理チャンバーは制御された雰囲気を有し、入口真空ロックシステムが真空処理チャンバーの入口側にあり、出口真空ロックシステムが真空処理チャンバーの出口側にあってよい。前記エッチング領域と堆積領域も真空ロックシステムにより分離されている。この例において、前記方法は、少なくとも１つの帯基材を、入口真空ロックシステムおよび出口真空ロックシステムを通して移動させる工程を含んでなる。他の例において、供給チャンバーおよび回収チャンバーも、真空処理チャンバーに加え、制御された雰囲気であってよい。制御された圧力の例には、真空処理チャンバーを最大１×１０-2ミリバールの操作圧力に維持すること、供給チャンバーおよび回収チャンバーをそれぞれ最大１×１０-2ミリバールの操作圧力に制御すること、反応性ガスを全く含まない雰囲気に真空処理チャンバーを制御することまたはこれらの方法の組み合わせがある。例えば式１および２に記載されているとおり、代表的な装置の種々のチャンバー、領域および／または真空ロックの圧力関係に、追加の雰囲気制御が含まれてよい。
【００７１】
堆積した被覆は、材料、厚さ、硬さおよび引張強度を含み、本願で様々に記載したとおりでよい。例えば、被覆の厚さは全体で最大２５μｍであり、鋼帯基材の引張強度は少なくとも１２００ＭＰａである。
【００７２】
さらに、例えば、第１アーク蒸発器またはスパッタリング装置のターゲットソースが、第２アーク蒸発器またはスパッタリング装置のターゲットソースと異なる材料でよく、その被覆は、複数の材料の混合した組成または層になった組成を有することがあり、あるいは異なる材料を帯基材の異なる表面に堆積することもできる。さらに、例えば、第１アーク蒸発器またはスパッタリング装置のターゲットソースが、第２アーク蒸発器またはスパッタリング装置のターゲットソースと同じ材料でよく、その被覆は帯基材の同じ表面にも異なる表面にも堆積できる。
【００７３】
帯基材材料は、例えば以下のとおりの、焼き入れに好適な組成を有する。
【００７４】
焼入れ炭素鋼：  ０．１〜１．５％のＣ、０．００１〜４％のＣｒ、０．０１〜１．５％のＭｎ、０．０１〜１．５％のＳｉ、最大１％のＮｉ、０．００１〜０．５％のＮ、残部は基本的にＦｅ。
【００７５】
焼入れクロム鋼：  ０．１〜１．５％のＣ、１０〜１６％のＣｒ、０．００１〜１％のＮｉ、０．０１〜１．５％のＭｎ、０．０１〜１．５％のＳｉ、最大３％のＭｏ、０．００１〜０．５％のＮ、残部は基本的にＦｅ。
【００７６】
析出硬化型鋼：  ０．００１〜０．３％のＣ、１０〜１６％のＣｒ、４〜１２％のＮｉ、０．１〜１．５％のＴｉ、０．０１〜１．０％のＡｌ、０．０１〜６％のＭｏ、０．００１〜４％のＣｕ、０．００１〜０．３％のＮ、０．０１〜１．５％のＭｎ、０．０１〜１．５％のＳｉ、残部は基本的にＦｅ。
【実施例】
【００７７】
〔実施例１〕
実施例の基材材料の化学組成は、基本的に以下の公称組成を持つサンドビック内部名称２０Ｃ２および１３Ｃ２６による。
【００７８】
サンドビック２０Ｃ２：  １．０％のＣ、１．４％のＣｒ、０．３％のＳｉおよび０．３％のＭｎ（重量％）および
サンドビック１３Ｃ２６：  ０．７％のＣ、１３％のＣｒ、０．４％のＳｉおよび０．７％のＭｎ（重量％）。
【００７９】
まず、基材材料を、上述の化学組成どおりに通常の冶金製鋼により製造する。その後、それらを中間の大きさに熱間圧延し、その後、圧延工程はいくつかの再結晶工程をはさみながら数工程で冷間圧延し、最終の厚さを０．２ｍｍ、幅を最大４００ｍｍとする。その後、帯鋼を焼き入れ、焼き戻し、好ましくは少なくとも１２００ＭＰａの所望の機械的強度レベルにする。その後、広幅の帯を切断し製品の最終幅にする。切断した帯に沿ったエッジを、例えば削り、研磨および磨きによりエッジ処理し、丸いエッジ、角のとがったエッジ、四角いエッジ、ばり取りされたエッジおよび斜角をつけたエッジを含む、意図される用途に好適と考えられる状態および形態にする。次いで、基材材料の表面およびエッジを洗浄し、被覆プロセスの前に、先の操作に由来する油残渣を除去する。
【００８０】
その後、被覆プロセスが連続処理ラインで起こるが、別な真空または低圧巻き戻しチャンバーに配置されている巻き戻し装置から始まる。ロール間処理ラインの第１工程は、真空チャンバーおよび／または入口真空ロック、次いでエッチングチャンバーであり、そこで、被覆すべき基材材料のエッジの上の薄い酸化物層を除去するためにイオンアシストエッチングが起こる。ついで、帯は堆積チャンバー（複数可）に入り、エッジへの被覆の堆積が起こる。この実施例では、ＴｉＮを堆積すべき材料として選択する。通常０．１〜２５μｍの金属窒化物層がエッジに堆積するが、好ましい厚さは用途による。本願記載の実施例では、厚さ２μｍが、１つのアーク蒸発チャンバーを利用して堆積する。アーク蒸発の後、被覆された帯基材は出口真空チャンバーまたは出口真空ロックを通り、その後コイラー上に巻かれる。
【００８１】
本願記載の最終製品、すなわち、帯の厚さが０．２ｍｍで２μｍのＴｉＮの薄い被覆を持つそれぞれ被覆された２０Ｃ２および１３Ｃ２６帯材料は、被覆された層の非常に良好な密着を有し、特にフレキソグラビアまたは輪転グラビア印刷用のドクターブレードの製造および工業用ナイフに使用するのに好適である。
【００８２】
〔実施例２〕
この実施例の基材材料の化学組成は、基本的に以下の公称組成を持つサンドビック内部名称２０Ｃによる。
【００８３】
サンドビック２０Ｃ：  １．０％のＣ、０．２％のＣｒ、０．３％のＳｉおよび０．４％のＭｎ（重量％）。
【００８４】
まず、基材材料を、上述の化学組成どおりに通常の冶金製鋼により製造する。その後、材料を中間の大きさに熱間圧延し、その後、圧延工程はいくつかの再結晶工程をはさみながら数工程で冷間圧延し、最終の厚さを０．４５ｍｍ、幅を最大４００ｍｍとする。その後、帯鋼を焼き入れ、焼き戻し、好ましくは１２００ＭＰａを超える所望の機械的強度レベルにする。その後、広幅の帯を切断し製品の最終幅にするが、この実施例ではコーターブレード用途に１００ｍｍである。切断した帯に沿ったエッジを、例えば削り、研磨および磨きによりエッジ処理し、丸いエッジ、角のとがったエッジ、四角いエッジ、ばり取りされたエッジおよび斜角をつけたエッジを含む、意図される用途に好適と考えられる状態および形態にする。次いで、基材材料の表面およびエッジを洗浄し、被覆プロセスの前に、先の操作に由来する油残渣を除去する。
【００８５】
最終製品は被覆された帯であり、被覆材料および厚さは実施例１と同じである。ここで、被覆された帯基材は、セクション２０６に沿って真ん中で切断でき２つの被覆帯を得るが、それぞれが最終用途に好適な寸法およびエッジの外形を有する。基本的に、要求される最終長さへの切断だけが残る。
【００８６】
この実施例に記載の最終製品、すなわち、帯厚さが０．４５ｍｍで最終切断幅が１００ｍｍである、切断されエッジ処理され被覆された帯基材材料は、被覆された層の非常に良好な密着を有する２μｍのエッジを覆う薄い窒化チタン層を有する。この製品は、さらなる処理なしに、最終用途によって求められる長さに、例えば通常３〜１０ｍに切断でき、製紙工場でコーターブレードとして使用できる。
【００８７】
本願記載の被覆鋼製品の代表的な形態は、ハサミおよび剪定バサミ、調理用具および製パン用具、左官工事用道具、こて、医療機器および手術用ナイフ、レーザーブレード、カッター、フラップ弁、打抜き道具、鋸およびカッターナイフなど一般的な種々のナイフ、例えば、スライサー、大型包丁、パン切り包丁、肉切り包丁、ミキサーブレード、狩猟用ナイフおよび漁業用ナイフ、ポケットナイフおよび合成繊維、紙、プラスティックフィルム、布およびカーペットを切るための工業用ナイフ、コーターおよびドクターブレードまたは被覆されたエッジを持つ金属帯基材を利用する他の用途など、硬く、緻密で、かつ／または低摩擦耐摩耗性被覆が好適な用途に使用できる。
【００８８】
したがって、代表的な実施形態による帯基材は、レーザーブレードおよびカッターなどの髭剃り装置および手術用ナイフなどの医療機器への使用にも好適である。基材材料の厚さは、これらの種類の用途においてかなり薄く、通常０．０１５〜０．７５ｍｍ、一般的に０．０１５〜０．６ｍｍ、好ましくは０．０３〜０．４５ｍｍである。したがって、被覆の厚さはできるだけ薄いことが好ましく、通常全体で０．１〜５μｍ、一般的には０．１〜３μｍ、好ましくは０．１〜２μｍ、さらに好ましくは０．１〜１μｍである。この場合、被覆の厚さと帯材料の厚さの比が小さいことが好ましい。この比は通常０．０１％〜７％であり、好ましくは０．０１〜５％である。
【００８９】
これらの代表的な実施形態のさらなる利用は、基材材料の焼入れおよび焼戻し処理の前に被覆を施すことである。この場合、被覆は、引張強度、すなわち最低引張強度１２００ＭＰａを得るように前記基材材料の焼入れに通常利用される焼入れ温度での焼入れ時間の間、最低４００℃、好ましくは８００℃より高く、より好ましくは９５０℃より高い焼入れ温度に耐えられなくてはならない。
【００９０】
さらに説明すると、レーザーブレード用の帯材料の場合の典型的な寸法は、０．１５ｍｍ未満、通常０．１０ｍｍ未満の厚さ、約４００ｍｍの帯幅、５μｍ未満、通常２μｍ、一般的に約１μｍ未満、あるいはさらに薄い被覆厚さを持つ基材材料であろう。
【００９１】
代表的な実施形態による帯材料は、種々のカッターナイフおよび工業用ナイフ用途ならびに鋸用途への使用にも好適である。基材材料の厚さは、これらの種類の用途において比較的厚く、通常０．１〜５ｍｍ、一般的に０．２〜３ｍｍである。しかし被覆の厚さは可能な限り薄く保たれ、通常全体で０．１〜１０μｍ、一般的に０．１〜５μｍ、好ましくは０．１〜３μｍ、さらに好ましくは０．１〜２μｍである。この場合、被覆の厚さと帯材料の厚さの比は小さいことが好ましい。その比は通常０．００２％〜７％、好ましくは０．０１〜５％である。
【００９２】
これらの代表的な実施形態のさらなる利用は、基材材料の焼入れおよび焼戻し処理の前に被覆を施すことである。この場合、硬く緻密な被覆は、引張強度、すなわち最低で１２００ＭＰａを得るように前記基材材料の焼入れに通常利用される焼入れ温度での焼入れ時間の間、最低４００℃、好ましくは８００℃より高く、より好ましくは９５０℃より高い焼入れ温度に耐えられなくてはならない。
【００９３】
上記の実施例１および２は、両方とも、類似の方法で、レーザーブレードおよび／または薄い手術用ナイフおよび／またはカッターナイフおよび工業用ナイフおよび／または鋸用途に当てはまる代表的な実施形態を示す。したがって、これらの実施例は、これらの用途に好適な被覆方法および基材材料を説明している。唯一の違いは焼入れおよび焼戻しの順番であり、上述のとおり被覆と替えることができる。
【００９４】
本発明を、好ましい実施形態に関連して説明してきたが、具体的に記載されていない追加、削除、変更および置換が、添付する特許請求の範囲に定義された本発明の精神と範囲から逸脱せずに行えることを、当業者は理解するであろう。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】図１は、開示された実施形態による被覆金属帯を製造する製造ラインを模式的に表す。
【図２】図２は、図１の線Ａ−Ａに沿って見た被覆金属帯の製造のための製造ラインを模式的に表す。
【図３】図３は、種々の例のエッジ形態およびエッジ形態上の種々の例の被覆を表す。
【図４】図４は、複数の帯基材の任意の配置の模式断面図を表す。
【図５Ａ】図５Ａは、帯基材の突出距離ｄ、連続する帯基材間のｙ軸方向の離間距離ｙおよび各ターゲットの垂直からの角度γおよびγ’の間の関係を例示する。
【図５Ｂ】図５Ｂは、帯基材の突出距離ｄ、連続する帯基材間のｙ軸方向の離間距離ｙおよび各ターゲットの垂直からの角度γおよびγ’の間の関係を例示する。
【図１】
2009530500.tif 000003
【図２】
2009530500.tif 000004
【図３】
2009530500.tif 000005
【図４】
2009530500.tif 000006
【図５Ａ】
2009530500.tif 000007
【図５Ｂ】
2009530500.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月4日(2009.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続ロール間堆積被覆装置であって、
堆積領域の上流のエッチング領域を含む真空処理チャンバー；
前記エッチング領域中の少なくとも１つのイオンエッチング装置；および
前記堆積領域中の少なくとも１つの堆積装置を含んでなり、
前記の少なくとも１つの堆積装置が少なくとも１つのターゲットを含み、
前記帯基材が、真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットに向かって第１エッジ部を突出し、
前記帯基材の第１エッジ部が第１遠位部に向かって第１近位部から先細になっている少なくとも第１傾斜表面を含み、前記の第１近位部が前記の第１遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第１傾斜表面が第１表面法線を有し、
前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度αで前記第１表面法線と交差するよう前記第１傾斜表面に対して傾斜しており、αが９０°以上である装置。
【請求項２】
αが９０°〜１３５°である、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項３】
αが９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）であり、ｙは連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離であり、ｄは帯基材の突出距離である、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項４】
前記第１傾斜表面の第１遠位部が、前記帯基材のエッジと同一の広がりを持つ、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項５】
前記堆積領域に第２堆積装置を含んでなり、
前記第２堆積装置が第２ターゲットを含み、
第２堆積装置が前記の少なくとも１つの堆積装置からプロセスフロー方向に下流にあり、
前記帯基材の第１エッジ部が帯基材の前記第１傾斜表面の反対の主面上に第２表面を有し、
前記堆積装置の第２ターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度βで第２表面法線と交差するように帯基材の第２表面に対して傾斜しており、βが９０°以上である、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項６】
前記帯基材の第１エッジ部が帯基材の前記第１傾斜表面の反対の主面上に第２傾斜表面を有し、前記第２傾斜表面が第２近位部から第２遠位部に向かって先細になっており、前記第２近位部が第２遠位部よりも帯基材の中央領域に近く、第２傾斜表面が第２表面法線を有する、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項７】
前記第２傾斜表面の第２遠位部が前記帯基材のエッジと同一の広がりを持つ、請求項６に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項８】
前記第１傾斜表面の第１遠位部と前記第２傾斜表面の第２遠位部が完全に重なり合い、ナイフ刃先を形成する、請求項６に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項９】
前記堆積領域に第２堆積装置を含んでなり、
前記第２堆積装置が第２ターゲットを含み、
前記第２堆積装置が前記の少なくとも１つの堆積装置からプロセスフロー方向に下流にあり、
前記第２堆積装置の第２ターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度βで第２表面法線と交差するように第２傾斜表面に対して傾斜しており、βが９０°以上である、請求項６に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１０】
βが９０°〜１３５°である、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１１】
βが９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）であり、ｙは連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離であり、ｄは帯基材の突出距離である、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１２】
αがβと等しくない、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１３】
前記第１堆積装置のターゲットが、前記第２堆積装置のターゲットと異なる材料である、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１４】
前記第１堆積装置のターゲットが、前記第２堆積装置のターゲットと同じ材料である、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１５】
複数の帯基材のそれぞれに、コイル中にそれぞれ配置されたアンコイラーを含む供給チャンバー；および
複数の帯基材のそれぞれにリコイラーを含む回収チャンバーを含み、
前記真空処理チャンバーが前記供給チャンバーと前記回収チャンバーとの間である、請求項９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１６】
複数のコイルのそれぞれのためのアンコイラーおよび複数の帯基材のそれぞれのためのリコイラーに機能的に連結しているコントローラーを含み、前記帯基材が前記供給チャンバーから前記真空処理チャンバーを通って前記回収チャンバーに移動し、前記コントローラーが、真空処理チャンバーを通る帯基材の供給および回収の速度を制御し、前記堆積領域中の帯基材の望まれる張力を得る、請求項１５に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１７】
前記の複数の帯基材が、連続する帯基材同士の任意のスペーサーにより水平方向に間隔を空けてある、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１８】
前記の複数の帯基材のそれぞれの突き出ている第１エッジ部が同じ距離突出している、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項１９】
前記の複数の帯基材のそれぞれの突き出ている第１エッジ部が異なる距離突出している、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項２０】
一番下の帯基材と一番上の帯基材との間の複数の帯基材のそれぞれの第１遠位部が、前記第１距離と前記第２距離との間で段階的に変化する距離にある、請求項１９に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項２１】
前記連続ロール間堆積被覆装置が雰囲気制御下にある、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項２２】
前記真空処理チャンバーが反応性ガスを全く含まない雰囲気を有する、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項２３】
前記帯基材が、コーターブレード、ドクターブレード、１つの髭剃り装置、医療機器、カッターナイフまたは工業用ナイフの基材である、請求項１に記載の連続ロール間堆積被覆装置。
【請求項２４】
帯基材のエッジに連続被覆する方法であって、
真空処理チャンバーに少なくとも１つの帯基材を供給する工程であって、前記帯基材がボディ、第２主面に対向する第１主面および第２側面に対向する第１側面を含み、第１および第２側面が第１および第２主面より狭い工程；
真空処理チャンバーを通って少なくとも１つの帯基材を移動させる工程であって、前記真空処理チャンバーがエッチング領域中に少なくとも１つのイオンエッチング装置を含み堆積領域中に少なくとも１つの堆積装置を含み、前記エッチング領域が前記堆積領域より上流である工程；
前記エッチング領域中で少なくとも１つの帯基材の第１エッジ部を洗浄する工程であって、第１エッジ部が、第１遠位部に向かって第１近位部から先細になっている少なくとも第１傾斜表面を含み、前記第１近位部が前記第１遠位部よりも帯基材の中央領域に近く、前記第１傾斜表面が第１表面法線を有する工程；
前記堆積領域中で第１エッジ部の第１傾斜表面に被覆を堆積させる工程；および
被覆された帯基材を回収する工程
を含むが、
前記の少なくとも１つの堆積装置が少なくとも１つのターゲットを含み、
前記の少なくとも１つの帯基材が、前記真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置の少なくとも１つのターゲットに向かって第１エッジ部を突出し、
前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度αで前記第１表面法線と交差するよう前記第１傾斜表面に対して傾斜しており、αが９０°以上である方法。
【請求項２５】
αが９０°〜１３５°である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
αが９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）であり、ｙは連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離であり、ｄは帯基材の突出距離である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
前記帯基材の第１エッジ部が、帯基材の前記第１傾斜表面の反対の主面上に第２表面を含み、
前記エッチング領域で前記の少なくとも１つの帯基材の第２エッジ部を洗浄する工程および
前記堆積領域で前記第１エッジ部の第２傾斜表面上に被覆を堆積させる工程を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】
第２堆積装置が前記堆積領域中に位置し、
前記第２堆積装置が少なくとも１のターゲットを含み、
前記第２堆積装置が少なくとも１つの堆積装置からプロセスフロー方向の下流にあり、
前記第２堆積装置の少なくとも１つのターゲットが、ターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が前記第２表面法線と角度βで交差するように第２表面に対して傾斜しており、βが９０°以上であり、
前記堆積領域での第１エッジ部の第２表面への被覆の堆積が、第２堆積装置での被覆の堆積を含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記帯基材の第１エッジ部が、帯基材の前記第１傾斜表面の反対の主面上に第２傾斜表面を含み、前記第２傾斜表面が、第２近位部から第２遠位部に向かって先細になっており、前記第２近位部が、前記第２遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第２傾斜表面が第２表面法線を有し、
前記エッチング領域で少なくとも１つの帯基材の第２エッジ部を洗浄する工程および
前記堆積領域中で第１エッジ部の第２傾斜表面上に被覆を堆積させる工程
を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項３０】
第２堆積装置が前記堆積領域中に位置し、
前記第２堆積装置が少なくとも１のターゲットを含み、
前記第２堆積装置が前記の少なくとも１つの堆積装置からプロセスフロー方向の下流にあり、
前記の第２堆積装置の少なくとも１つのターゲットが、ターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が前記第２表面法線と角度βで交差するように第２傾斜表面に対して傾斜しており、βが９０°以上であり、
前記堆積領域での第１エッジ部の第２傾斜表面への被覆の堆積が、第２堆積装置での被覆の堆積を含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
βが９０°〜１３５°である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
βが９０°＋ｔａｎ-1（ｙ／ｄ）であり、ｙは連続する帯基材同士のｙ軸方向の離間距離であり、ｄは帯基材の突出距離である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
αがβと等しくない、請求項３０に記載の方法。
【請求項３４】
前記第１堆積装置のターゲットが、前記第２堆積装置のターゲットと異なる材料である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３５】
前記第１堆積装置のターゲットが、前記第２のターゲットと同じ材料である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３６】
前記真空処理チャンバーを通る帯基材の供給速度および回収速度を制御し、前記堆積領域中の帯基材の望まれる張力を得る工程を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項３７】
前記の複数の帯基材のそれぞれの突き出ている第１エッジ部が同じ距離突出している、請求項２４に記載の方法。
【請求項３８】
前記の複数の帯基材のそれぞれの突き出ている第１エッジ部が異なる距離突出している、請求項２４に記載の方法。
【請求項３９】
一番下の帯基材と一番上の帯基材との間の複数の帯基材のそれぞれの第１遠位部が、前記第１距離と前記第２距離との間で段階的に変化する距離にある、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
少なくとも前記真空処理チャンバー中の雰囲気を制御する工程を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項４１】
前記の少なくとも１つの帯基材が供給チャンバーから供給され、被覆された帯基材が回収チャンバーに回収され、前記供給チャンバーと回収チャンバーの少なくとも一方の雰囲気を制御する工程を含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記真空処理チャンバーが反応性ガスを全く含まない雰囲気を有する、請求項２４に記載の方法。
【請求項４３】
前記被覆の厚さが全体で最大２５μｍであり、鋼帯基材の引張強度が少なくとも１２００ＭＰａである、請求項２４に記載の方法。
【請求項４４】
前記被覆が、ＣｒまたはＮｉを含む金属被覆である、請求項２４に記載の方法。
【請求項４５】
前記帯基材の厚さが０．０１５ｍｍ〜５．０ｍｍである、請求項４２に記載の方法。
【請求項４６】
前記帯基材が、焼入れ炭素鋼、焼入れステンレスクロム鋼または析出硬化型帯鋼である、請求項４２に記載の方法。
【請求項４７】
前記被覆が、遷移金属窒化物、遷移金属炭化物、遷移金属炭窒化物、ダイヤモンド様カーボンまたはそれらの混合物を含む、請求項２４に記載の生成物。
【請求項４８】
前記被覆が、遷移金属窒化物、遷移金属炭化物、遷移金属炭窒化物、ダイヤモンド様カーボンまたはそれらの混合物を含む多層である、請求項２４に記載の方法。
【請求項４９】
前記被覆が純粋な金属を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項５０】
前記被覆がＭＡＸ相材料を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項５１】
前記被覆が最大２０の副層を含む多層である、請求項２４に記載の方法。
【請求項５２】
前記被覆が、厚さが最大２μｍの少なくとも１層のニッケルを含み、前記の少なくとも１層が帯基材に隣接していない、請求項２４に記載の方法。
【請求項５３】
コーターブレード、ドクターブレード、１つの髭剃り装置、医療機器、カッターナイフまたは工業用ナイフに前記被覆帯基材を組み入れる工程を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項５４】
連続ロール間堆積被覆装置であって、
堆積領域の上流のエッチング領域を含む真空処理チャンバー；
前記エッチング領域中の少なくとも１つのイオンエッチング装置；および
前記堆積領域中の少なくとも１つの堆積装置を含んでなり、
前記の少なくとも１つの堆積装置が少なくとも１つのターゲットを含み、
前記帯基材が、前記真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも１つのイオンエッチング装置に向かって第１エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットに向かって第１エッジ部を突出し、
前記帯基材の第１エッジ部が四角にされ、第１近位部および第１遠位部を有し、前記の第１近位部が前記の第１遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第１エッジ部が第１表面法線を有し、
前記の少なくとも１つの堆積装置のターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度αで前記第１表面法線と交差するよう前記第１エッジ部に対して傾斜しており、αが９０°以上である装置。
【国際調査報告】
2009530500.tif 000009
2009530500.tif 000010
2009530500.tif 000011