(57)【要約】  本発明は、貴金属が入っている化学ニッケル浴、貴金属を含有する化学メッキニッケルコート層の製造方法、それによって製造されたニッケルコート層、及びその使用に関するものである。【特許請求の範囲】
【請求項１】
貴金属イオンが０．０５〜５ｇ／Ｌの範囲とし、ニッケルが２〜２０ｇ／Ｌの範囲とし、還元剤が１０〜８０ｇ／Ｌの範囲とする含有量で、中身に入っていることを特徴とする無電解でのニッケル堆積用の化学ニッケル浴。
【請求項２】
前記貴金属イオンが、銀、金、白金、パラジウム、及び／又はロジウムから選ばれる金属のイオンであることを特徴とする請求項１に記載のニッケル浴。
【請求項３】
前記貴金属イオンが、０．１〜２ｇ／Ｌ、特に０．３〜０．７ｇ／Ｌの範囲とする含有量で、入っていることを特徴とする請求項１に記載のニッケル浴。
【請求項４】
前記貴金属イオンが、対イオンとして弱酸イオンを有しており、該対イオンが、とりわけ亜硫酸イオン、スルホン酸イオン、及びホスホン酸イオンから選ばれるものであることを特徴とする請求項１に記載のニッケル浴。
【請求項５】
前記ニッケル浴内のｐＨ値が、４〜６、とりわけ４．５〜５．１の範囲であることを特徴とする請求項１に記載のニッケル浴。
【請求項６】
請求項１に記載のニッケル浴を用い、その中で化学堆積されたニッケルコート層を調製する方法。
【請求項７】
貴金属が１〜８０重量％とし、リンが５〜２０重量％とする含有量で、含有されていることを特徴とする基材上のニッケルコート層。
【請求項８】
前記貴金属が１〜４０重量％、とりわけ４〜２０重量％とする含有量で、含有されていることを特徴とする請求項７に記載のニッケルコート層。
【請求項９】
前記リンが５〜１７重量％の範囲とし、かつニッケルが５５〜９０重量％とりわけ７５〜９０重量％の範囲とする含有量で、含有されていることを特徴とする請求項７に記載のニッケルコート層。
【請求項１０】
層厚が、最大でも１００μｍとりわけ最大でも２μｍであり、かつ最小でも０．１μｍとりわけ最小でも１μｍであることを特徴とする請求項７に記載のニッケルコート層。
【請求項１１】
防汚コート層、塩水接触表面とりわけ海水脱塩装置のコート層、潤滑性コート層、防腐食性コート層、エレクトロニクスに特に用いられる即溶性ハンダコート層、抗接着性コート層、及び／又は高導電性コート層に利用されている請求項７に記載のニッケルコート層の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、貴金属イオンが入っている化学ニッケル浴、化学堆積された貴金属含有ニッケルコート層の調製方法、調製されたそのニッケルコート層、及びそれの使用に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
化学堆積されたニッケルは、耐摩耗性あるいは耐腐食性のコート層として、通常、金属部材上に、メッキされたものである。電気メッキされたニッケルとの主な違いは、堆積させるのに電流が用いられないという点である。このような化学的ニッケル堆積法によれば、層厚が５０μｍ以上だとコート層内に応力の発生が危惧されるが、大抵は層厚が８μｍ〜８０μｍで許容誤差±２μｍ〜±３μｍの範囲にある極めて均質なコート層が得られる。ポリアミドのようなプラスチック材料へも、コーティングすることができる。
【０００３】
化学堆積されたニッケル−リンコート層は、公知であって、例えば自動車工業、エレクトロニクス工業、印刷工業、化学プラント建設、機械製作、宇宙航行、石油ガス工業などの多くの工業的応用分野で、見受けられる。このようなコート層の主な役割は、基材を腐食や摩耗から保護することである。化学堆積されたニッケルコート層は、他のコート層、例えば印刷工業におけるクロムコート層、又はエレクトロニクス分野における仕上げの金コート層と、併用してもよい。しかし、無電解での化学堆積工程は、通常５〜１５μｍ／時間でニッケルを堆積するものであるから、電解でニッケルを堆積させる電気メッキ工程と比較すると、明らかに緩慢である。高い耐腐食性が要求される場合、その層は通常少なくとも２５〜３０μｍであることが必要となるが、その場合、一因としてニッケル原材のコストの所為で、また別な一因として堆積工程時間が長い所為で、その層の形成は、コストが比較的高いものとなってしまう。
【０００４】
従来、ニッケル−リンコート層のリン含有量を高めつつ、クロムや金などのコート層を更に設けることによって、耐腐食性を高めることもあった。しかしこのような場合、さらに１工程以上の追加の塗布段階が必要になってしまう。
【０００５】
特許文献１に、ニッケル含有量が最大で４重量％であるニッケル−金合金の電気メッキについて、記載されている。
【０００６】
非特許文献１に、ニッケルと銀との混和は、ニッケル含有量が高くなると実質上できなくなるが、ニッケル中に最大で６．６重量％の含有量の銀を含ませる特殊な粉砕方法によってのみ達成できると、記載されている。
【０００７】
さらに、所謂「浸漬による金／ニッケル」法もある。この方法によれば、ニッケル−リンコート層上に、通常０．２μｍまでの層厚の金コート薄層が堆積され、次いで耐摩耗性コーティングが施される。この方法は、コーティングに数工程を要するうえ、金コート層が欠陥により損壊されると、ニッケルコート層が腐食されるという重大な欠点がある。
【０００８】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００５／００３５８４３号明細書
【非特許文献１】ジェイ・シュー（J. Xu）ら、ジャーナル  オブ  アプライド・フィジックス（J.Appl. Phys.）、１９９６年４月１５日、第７９巻、第８号、ｐ．３９３５−３９４５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
前記課題に鑑みてなされた本発明は、新しい応用分野を開拓して潜在的な市場を大きくするために、耐腐食性を改良した化学堆積ニッケルコート層を提供すること、より好ましい工程パラメータを有する製造方法を提供することを、目的とする。また、本発明は、比較的厚い層厚であって厚さ約１０μｍ／時間程度の相当緩慢でしか堆積しかできないというニッケルの化学堆積に起因して生産コストがかかるという従来の諸問題を回避し、先行技術に比較してより薄い層であっても同等以上に改善された特性を有する化学堆積ニッケルコート層を提供することを、もう一つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記目的を達成するためになされた本発明の第１の実施態様は、貴金属イオンが０．０５〜５ｇ／Ｌの範囲とし、ニッケルが２〜２０ｇ／Ｌの範囲とし、還元剤が１０〜８０ｇ／Ｌの範囲とする含有量で、中身に入っている無電解でのニッケル堆積用の化学ニッケル浴である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のニッケル浴によれば、先行技術に比較して、堆積されたコート層を、一層薄くすることができる。それ故、そのコート層が堆積するのに要する時間を短くすることができ、しかも耐腐食性が同等以上に改善されたコート層を得ることができるので、製造方法を一層経済的に行うことができる。このニッケル浴によれば、個々のコーティングすべき品目毎の工程時間を短縮できるので、工業的利用上、大量生産を可能としつつ、この工程をより柔軟に適用し得る。このように、本発明のニッケル浴によれば、単位時間あたりの生産能を高めることができる。
【００１２】
本発明のニッケル浴は、ニッケルの化学堆積用に通常使用される電解質が基本的に中身の水溶液として入ったものであり、それに、例えば、メタンスルホン酸銀が加えられたものであることが好ましい。それに代えて、又はそれに加えて、入手可能な市販の酸性貴金属電解質が使用されてもよい。本発明のニッケル浴を用いてその浴内で、ニッケルと、リンと、銀のような貴金属とを、同時に化学堆積させることにより、初めてメッキすることが可能となったのである。また、銀のような貴金属の対イオンと電解質組成とを適切に選択することにより、ニッケルと銀とを同時に堆積させることが可能となったのである。
【発明を実施するための好ましい形態】
【００１３】
前記の通り、今までは、ニッケルと、例えば銀とは、高ニッケル濃度で混和できないと考えられてきた。また今までは、これらの材料のコート層は、互いに異質の二層のコート層の一方の上に他方が付されるというものであった。しかし驚くべきことに、本質的に混和できないと考えられていた材料が、本発明のニッケル浴を使用することにより、単層のコート層中で混在して堆積されることを、見出した。
【００１４】
さらに、本発明のコ−ト層は、意外にも、ニッケル−リンと例えば銀領域などの貴金属領域とから構成されている結果、塩水噴霧や酸に対して鋭敏である局所的なガルバニ電池とは成り得ないので、腐食され難い。しかも、本発明のニッケル浴が用いられると、貴金属を含まずかつ同等の厚みを有するニッケル−リン層に比較しても、一層腐食防止性に優れたコート層が得られる。
【００１５】
貴金属イオンは、銀、金、プラチナ、パラジウム、及び／又はロジウムの金属のイオンであることが、好ましい。銀イオンが入っているニッケル浴によれば、特に高い耐腐食性が認められた。極めて微細に粉砕された銀は、弱い毒性を有する殺菌剤として作用することが知られており、また、その大きな反応性表面積のために可溶性銀イオンを十分に生成する。そのため、本発明のコート層の表面も、このような作用を奏するから、海水脱塩装置用として、特に好適である。
【００１６】
そのニッケル浴内の貴金属イオン含有量は、０．１〜２ｇ／Ｌの範囲にあることが好ましく、０．３〜０．７ｇ／Ｌの範囲にあると特に好ましい。もし、貴金属イオンの含有量がこの範囲を超えると、浴内で堆積が「開始」せず、即ちニッケルの無電解メッキを施すことができない。
【００１７】
ニッケル浴内のｐＨ値が酸性に傾きすぎるとコーティング工程を緩慢にしてしまうので、これを避けるために、貴金属イオンは、弱酸のイオンを対イオンとして有していることが好ましい。特に、対イオンは、亜硫酸イオン、スルホン酸イオン、及びホスホン酸イオンから、選択されるものであることが、好ましい。対イオンは、望ましくは部分的にフッ素化されていてもよいアルキル基又はアリール基を有していることが、好ましい。対イオンは、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、及び／又はトルエンスルホン酸イオンであると、より一層好ましい。対イオンを適切に選択することにより、金属イオンの溶解性が向上する。
【００１８】
本発明のニッケル浴内のｐＨ値は、４〜６の範囲であることが好ましく、４．５〜５．１の範囲であるとなお一層好ましい。ｐＨがこれより低いと、ニッケル浴での沈着速度が緩慢になり過ぎ、一方ｐＨがこれより高いと、図らずも貴金属水酸化物が形成されてしまう。
【００１９】
本発明のニッケル浴内のニッケルイオンは、塩化ニッケル、硫酸ニッケル、及び／又は酢酸ニッケルのような塩の溶液で形成されているものであることが、望ましい。ニッケル含有量は、３〜１０ｇ／Ｌの範囲であることが、好ましい。
【００２０】
還元剤は、次亜リン酸塩であることが、好ましい。還元剤は、次亜リン酸ナトリウムであると、なお一層好ましい。還元剤は、本発明のニッケル浴内に、３２〜４２ｇ／Ｌの範囲の濃度で、入っていることが好ましい。
【００２１】
さらに、本発明のニッケル浴内に、少なくとも１種類の錯化剤、とりわけ、モノカルボン酸、ジカルボン酸、ヒドロキシカルボン酸、アンモニア、及びアルカノールアミンから選択される錯化剤が、入っていることが、好ましい。錯化剤は、本発明のニッケル浴内に、１〜１５ｇ／Ｌの範囲の濃度で、入っていることが好ましい。錯化剤は、ニッケルイオンを封鎖して遊離ニッケルイオン濃度が高くなり過ぎるのを防止するのに、特に有効である。錯化剤は、溶液を安定化し、例えば亜硫酸ニッケルのような沈殿を、抑制している。
【００２２】
本発明のニッケル浴内に、少なくとも１種類の促進剤、とりわけ、モノカルボン酸、ジカルボン酸、フッ化物、及び／又はホウ化物の各アニオンから選択される促進剤が、入っていることが、好ましい。この促進剤は、本発明のニッケル浴内に、０．００１〜１ｇ／Ｌの濃度で、入っていることが、好ましい。本発明によれば、促進剤は、例えば次亜リン酸イオンを活性化して、堆積を促進するために、特に有効である。
【００２３】
通常、ニッケル浴に、好ましくは、少なくとも１種類の安定化剤、とりわけ、鉛、錫、ヒ素、モリブデン、カドミウム、タリウムから選ばれるイオン、及び／又はチオ尿素である安定化剤が、入っている。本発明のニッケル浴内にも、この安定化剤が、０．０１〜２５０ｍｇ／Ｌの範囲の濃度で、入っていることが、好ましい。本発明によれば、安定化剤は、触媒的に活性である反応原子団を封鎖し、溶液の変質を防ぐのに、特に有効である。
【００２４】
本発明のニッケル浴内に、少なくとも１種類のｐＨ緩衝剤、とりわけ、錯化剤のナトリウム塩及び／又はそれに対応する酸が、入っていることが好ましい。ｐＨ緩衝剤は、本発明のニッケル浴内に、０．５〜３０ｇ／Ｌの範囲の濃度で、入っていることが、好ましい。本発明によれば、ｐＨ緩衝剤は、処理期間中のｐＨを一定に維持するのに、特に有効である。
【００２５】
本発明のニッケル浴内に、少なくとも１種類のｐＨ調整剤、とりわけ、硫酸、塩酸、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、及び／又はアンモニアから選択されるｐＨ調整剤が、入っていることが、好ましい。このｐＨ調整剤は、本発明のニッケル浴内に、１〜３０ｇ／Ｌの範囲の濃度で、含まれていることが、好ましい。本発明によれば、ｐＨ制御剤は、ｐＨを再調整することができるので、特に有効である。
【００２６】
本発明のニッケル浴内に、少なくとも１種類の湿潤剤、とりわけ、イオン性界面活性剤、及び／又は非イオン性界面活性剤から選択される湿潤剤が、入っていることが、好ましい。この湿潤剤は、本発明のニッケル浴内に、０．００１〜１ｇ／Ｌの範囲の濃度で、入っていることが、好ましい。本発明によれば、湿潤剤は、とりわけ電解質浴でニッケルコートすべき表面に対する湿潤性を、向上させることができるので、特に有効である。
【００２７】
本発明のニッケル浴内で、粒子、とりわけポリマー粒子が、分散されていてもよい。粒子は、フッ素ポリマーからなることが好ましく、テトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）からなるとなお一層好ましい。このような粒子は、１〜３０ｇ／Ｌの範囲で、混在していることが、好ましい。それの平均粒子径は、０．０１〜１μｍの範囲であることが、好ましい。分散状態にあるこのような機能性粒子は、本発明によって調製されるコート層中に組み込まれて、コート層にさらなる機能を付与する。例えば、前記比率と粒子径と有するＰＴＦＥは摩擦を低減させ、同じくＳｉＣ又は他の硬質材料は、耐摩耗性を向上させる。
【００２８】
本発明の目的を達成するためになされた別な実施態様は、本発明のニッケル浴を使用して、化学堆積されたニッケルコート層を調製するという製造方法である。
【００２９】
本発明のコーティング工程は、従来の工程に比べ高速である。その理由は、本発明のニッケル浴を用いて、従来の工程と同等な耐腐食性を得るためには、従来のものよりも薄い層で十分だからである。さらに、「浸漬による金／ニッケル」法とは対照的に、単工程のみで、コーティングが完了する。
【００３０】
コーティングすべき基材表面は、必要に応じて、活性化又は不動態化されることが、好ましい。活性化は、通常の市販の活性化材で行うのが好ましいが、簡便のために半濃縮塩酸で行ってもよい。それを準用し、同様にして、不動態化も行える。
【００３１】
ｐＨや温度のような工程パラメータを、便宜的に従来の浴管理の上限に合わせてもよい。例えば本発明の工程中、温度は少なくとも８５℃であることが好ましく、少なくとも８８℃であると一層このましい。温度は、最高でも９５℃であることが、好ましい。
【００３２】
好都合なことに、この構成は、無電解状態で行われる。このことによって、製造許容誤差内にするのが難しい電着工程において生ずるような層厚偏差、特に端部での層厚偏差を、回避することができる。
【００３３】
本発明の目的を達成するためになされたさらに別な実施態様は、基材上のニッケルコート層が、含有量１〜８０重量％の貴金属成分と、含有量５〜２０重量％のリン成分とを、含有するというものである。今までは、ニッケルと、ある種の貴金属、例えば銀とは、高ニッケル濃度で混和できないと考えられてきた。本発明によれば、驚くべきことに、貴金属含有ニッケルコート層が、得られた。さらに、今までは、貴金属の存在下、ニッケルは、極めて容易に腐食してしまうと、考えられてきた。しかし意外にも、本発明のコート層は、ニッケルの腐食すら、生じない。
【００３４】
本発明のコート層は、かなり肉厚の従来のニッケル−リンコート層と比較しても耐腐食性の点で同等であるから、製造許容誤差内に十分収めることができる。
【００３５】
本発明のニッケルコート層中に、貴金属が、好ましい順に並べると少なくとも１、４、５、７、１０重量％の含有量で含まれ、なおかつ、好ましい順に並べると多くとも８０、４０、２０、１２重量％の含有量で含まれる。これにより、ニッケルコート層は、本発明適用外の態様よりも、化学的に相当安定にすることができる。
【００３６】
本発明のニッケル層中、リン成分が、５〜１７重量％の範囲の含有量であり、なおかつ、ニッケル成分が、５５〜９０重量％、とりわけ７５〜９０重量％の範囲の含有量であることが、好ましい。
【００３７】
とりわけ、本発明のリンを含有する化学堆積ニッケルコート層（ニッケル−リン合金）は、主として機能的分野に使用可能である。本発明のこの層の特性は、コート層中に堆積したリン成分の含有量によって制御可能である。その特質は、リン成分の含有量が高含有量（１０〜１４重量％）、中含有量（９〜１２重量％）、低含有量（３〜７重量％）であるかで、決まる。リン含有量は、８〜９重量％の中含有量の範囲であることが、好ましい。
【００３８】
このコート層の耐腐食効果は、主にリン含有量が高いことと、細孔の無いコート層が堆積されていることとに、起因している。このような細孔の無いコート層となるのは、基材原料と、それの加工方法（例えば、研ぎ、磨き、削り、機械加工）とに、依存している。このような材料の前処理の仕方は、取りも直さずコート層との密着性に影響を与える。
【００３９】
本発明によれば、耐摩耗性は、リン含有量を減少させたり、好ましくはコート層を最高４００℃で１時間、熱処理を施すことにより、８００〜１１００ＨＶ（ビッカース硬度）に上げたりすることにより、改良できる。
【００４０】
本発明のニッケルコート層の層厚は、最大で１００μｍであることが好ましく、最大で１５μｍであると一層好ましく、最大で２μｍであるとなお一層好ましい。一方、その層厚は、最小で０．１μｍであることが好ましく、最小で１μｍであると一層好ましい。本発明のコート層は、好ましいとされる最大層厚が薄いにもかかわらず、驚くべきことに優れた耐腐食効果が達成されたものである。
【００４１】
好ましくは、この層中のニッケルに対する貴金属の比は、モル数換算で、ニッケル浴内のニッケルに対する貴金属の比の０．５〜２倍である。
【００４２】
粒子、特に好ましくは硬質材料粒子又はポリマー粒子が、本発明のニッケルコート層に、加えられていてもよい。ポリマー粒子は、フッ素ポリマー製であることが好ましく、テトラフルオロポリエチレン（ＰＴＦＥ）製であるとなお一層好ましい。このような粒子は１〜３０重量％の範囲で混在していることが、好ましい。また、それの平均粒子径は０．０１〜１μｍの範囲であることが、好ましい。
【００４３】
基材として、導電性基材、とりわけ金属製基材が好ましい。
【００４４】
本発明のコート層の耐腐食性は、極めて高い。例えば、ドイツ工業規格５００２１に準拠した塩水噴霧試験によれば、１５μｍの層厚で銀含有量７％のコート層を有する鋼鉄（ＳＴ３７）で、１０００ｈ以上の値を、達成することができる。本発明の層は、硫酸と接触しても輝斑を形成するだけであるから、硫酸による腐食反応が、ニッケルコート層に比較して明らかに進行し難く、一層緩慢である。
【００４５】
本発明のコート層の耐摩耗性は、極めて優れている。
【００４６】
本発明の目的を達成するためになされたさらに別な実施態様は、例えば、防汚コート層、塩水接触表面とりわけ海水脱塩装置のコート層、潤滑性コート層、耐腐食性コート層、エレクトロニクスに特に用いられる即溶性ハンダコート層、抗接着性コート層、及び／又は高導電性コート層の何れかに利用される本発明のニッケルコート層を、使用するというものである。
【００４７】
コート層中にフッ素ポリマーが混在していると、接着性が減少し、使用開始当初から藻類の付着が殆んど無くなるため、防汚コート層として使用するのが、特に好ましい。
【００４８】
製品のクロムコーティングは、広く行われている。このようなクロムコート層は、しばしば割れを生じてしまっているので、実際、その下地基材は、腐食から保護しなければならない。このような保護は、特に製紙産業とりわけそこで使用されている印刷ロールにとって、必須である。下地基材に施されているクロムコート層のような適切な基板上に、本発明のニッケルコート層を施すことによって、下地基材の腐食から保護することができるので、クロムコート層の諸特性の改良が可能となる。
【実施例】
【００４９】
（実施例１）
入手可能な市販のニッケル−リン電解液Ｅｎｉｇｍａ１６１３（Ｄｒ.Ｍ.Ｋａｍｐｓｃｈｕｌｔｅ ＧｍｂＨ＆Ｃｏ.ＫＧ社製；推奨ｐＨ値４．２〜４．８；ニッケル含有量約５．５ｇ／Ｌ；還元剤含有量約４０ｇ／Ｌ）の２．５Ｌに、０．１Ｌの２０重量％のメタンスルホン酸銀水溶液を加え、その混合液を攪拌した。さらに０．０５Ｌの半濃縮のメタンスルホン酸銀溶液を加えた。次いで、浴を約８９℃に加熱した。０．５モル硫酸と１０重量％のアンモニア溶液とで、ｐＨ値を約４．８〜５．０に調整すると、堆積が開始した。温度を調節することにより、得られる層の銀含有量が調節できた（高温では低銀含有量となる）。このようにして、あらかじめ通常の方法で活性化させたアルミニウム基板（１ｍｍ，ＡｌＭｇ１）上に、約４５分間で１０μｍ堆積させた。この結果、約７重量％の銀、８１重量％のニッケル、１２重量％のリンを夫々成分として含有するニッケル−リン−銀コート層が、得られた。
【００５０】
本発明により得られた層厚１０μｍの銀−ニッケル−リンコート層を有するアルミニウムシートを、０．５モル硫酸に１６時間、曝したところ、コート層に腐食が認められなかった。
【００５１】
（比較例）
メタンスルホン酸銀を加えないこと以外は実施例１と同様にして、前記通り層厚１０μｍのニッケル−リンコート層に堆積させたアルミニウムシートを、０．５モル硫酸に１６時間、曝さしたところ、コート層は、損傷した（破泡の発生、アルミニウムの腐食）。
【００５２】
（実施例２）
入手可能な市販のニッケル−リン電解液Ｅｎｉｇｍａ１６１３（Ｄｒ.Ｍ.Ｋａｍｐｓｃｈｕｌｔｅ ＧｍｂＨ＆Ｃｏ.ＫＧ社製；推奨ｐＨ値４．２〜４．８；ニッケル含有量約５．５ｇ／Ｌ；還元剤含有量約４０ｇ／Ｌ）の２．５Ｌに、０．１Ｌの２０重量％の金の酸性電解質水溶液Ａｕｒｕｎａ５２６（Ｏｍｉｃｏｒｅ社製）を加えて、混合液を攪拌した。次いで、浴を約８９℃に加熱した。０．５モル硫酸と１０重量％のアンモニア溶液で、ｐＨ値を約４．８〜５．０に調整すると、堆積が開始した。温度を調節することにより、得られる層の金含有量が調節できた（高温では低金含有量となる）。このようにして、あらかじめ通常の方法で活性化させたアルミニウム基板（１ｍｍ，ＡｌＭｇ１）上に、約１時間で１０μｍを沈着させた。この結果、化学メッキされて鮮明な黄金色に変化したニッケル−リン−金コート層が観察された。耐腐食性は非常に良好であった。
【００５３】
（実施例３）
実施例１の１．８Ｌの浴に、２５．２ｇのＰＦＡ分散体と、０．２ｇのＦＣ１３５と、０．９ｇのＥｍｕｌａｎ（ＯＧ４０，ＢＡＳＦ社製）とが含まれた溶液を、４０℃で加えた。その溶液を約８８℃に加熱した。化学メッキされたニッケルコート層（層厚５μｍ）で予め保護されている鋼鉄シートを、その中に浸漬した。約４５分間後、約２０％のフッ素ポリマーと約７％の銀を含有するニッケル−銀−リンコート層が得られた。耐腐食性は非常に良好であった。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金又は銀イオンが０．０５〜５ｇ／Ｌの範囲とし、ニッケルが２〜２０ｇ／Ｌの範囲とし、還元剤が１０〜８０ｇ／Ｌの範囲とする含有量で、中身に入っていることを特徴とする無電解でのニッケル堆積用の化学ニッケル浴。
【請求項２】
前記金又は銀イオンが、０．１〜２ｇ／Ｌ、特に０．３〜０．７ｇ／Ｌの範囲とする含有量で、入っていることを特徴とする請求項１に記載のニッケル浴。
【請求項３】
前記金又は銀イオンが、対イオンとして弱酸イオンを有しており、該対イオンが、とりわけ亜硫酸イオン、スルホン酸イオン、及びホスホン酸イオンから選ばれるものであることを特徴とする請求項１に記載のニッケル浴。
【請求項４】
前記ニッケル浴内のｐＨ値が、４〜６、とりわけ４．５〜５．１の範囲であることを特徴とする請求項１に記載のニッケル浴。
【請求項５】
請求項１に記載のニッケル浴を用い、その中で化学堆積されたニッケルコート層を調製する方法。
【請求項６】
貴金属が１〜８０重量％とし、リンが５〜２０重量％とする含有量で、含有されていることを特徴とする基材上のニッケルコート層。
【請求項７】
金又は銀イオンが１〜４０重量％、とりわけ４〜２０重量％とする含有量で、含有されていることを特徴とする請求項６に記載のニッケルコート層。
【請求項８】
前記リンが５〜１７重量％の範囲とし、かつニッケルが５５〜９０重量％とりわけ７５〜９０重量％の範囲とする含有量で、含有されていることを特徴とする請求項６に記載のニッケルコート層。
【請求項９】
層厚が、最大でも１００μｍとりわけ最大でも２μｍであり、かつ最小でも０．１μｍとりわけ最小でも１μｍであることを特徴とする請求項６に記載のニッケルコート層。
【請求項１０】
防汚コート層、塩水接触表面とりわけ海水脱塩装置のコート層、潤滑性コート層、防腐食性コート層、エレクトロニクスに特に用いられる即溶性ハンダコート層、抗接着性コート層、及び／又は高導電性コート層に利用されている請求項６に記載のニッケルコート層の使用。
【国際調査報告】
2009535511.tif 000002
2009535511.tif 000003
2009535511.tif 000004
2009535511.tif 000005
2009535511.tif 000006
2009535511.tif 000007