(57)【要約】本発明は、それぞれ、複数のサブ画素から構成される複数の画素を含む光電子ディスプレイであって、前記光電子ディスプレイは２次元のアレイにおいて複数の区分された領域を提供するようにパターニングされた色形成層から構成され、前記区分された領域をアドレスするためにアドレスアレイが供給され、前記区分された色形成領域の少なくともいくつかは前記アドレスアレイによって独立してアドレス可能な部分を有し、前記各部分が前記光電子ディスプレイのサブ画素を規定する光電子ディスプレイを提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれ、複数のサブ画素から構成される複数の画素を含む光電子ディスプレイであって、前記光電子ディスプレイは２次元のアレイにおいて複数の区分された領域を提供するようにパターニングされた色形成層から構成され、前記区分された領域をアドレスするためにアドレスアレイが供給され、前記区分された色形成領域の少なくともいくつかは前記アドレスアレイによって独立してアドレス可能な部分を有し、前記各部分が前記光電子ディスプレイのサブ画素を規定する光電子ディスプレイ。
【請求項２】
前記各アドレス可能な部分は前記光電子ディスプレイの異なる画素のサブ画素を規定する請求項１に記載の請求項１に記載のディスプレイ。
【請求項３】
前記区分された色形成領域は、２、３、４又は６個の、独立してアドレス可能な部分から構成される請求項１又は２に記載のディスプレイ。
【請求項４】
前記画素の形状は、正方形、長方形又は六角形である請求項１ないし３のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項５】
前記色形成領域の形状は、正方形、長方形、円、楕円及び六角形の１又は２である請求項１ないし４のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項６】
前記光電子ディスプレイはマルチカラーディスプレイである請求項１ないし５のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項７】
前記色形成領域は発光層から構成される請求項１ないし６のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項８】
前記光電子ディスプレイは、基板、前記基板上に配置される第１電極層、前記第１電極層上に配置される前記発光層、及び前記発光層上に配置される第２電極層から構成され、前記発光層は２次元のアレイ中に複数の区分された発光領域を提供するようにパターニングされ、前記第１電極層及び／又は第２電極層は複数の電極からから構成され、各電極は前記各区分された領域に連結される少なくとも２つの補助電極から構成される請求項７に記載のディスプレイ。
【請求項９】
前記光電子ディスプレイは、各補助電極に異なる駆動電圧を供給することができる駆動回路をさらに含む請求項８に記載のディスプレイ。
【請求項１０】
前記ディスプレイはアクティブマトリックスディスプレイであり、各サブ画素は各サブ画素に異なる駆動電圧を供給するために連結されたスイッチング素子有する請求項９に記載のディスプレイ。
【請求項１１】
前記補助電極間には前記補助電極間の横方向の導電を防ぐために間隔が設けられている請求項８ないし１０のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項１２】
前記間隔には、前記電極の上部表面を平坦化するために絶縁材料が充填されている請求項１１に記載のディスプレイ。
【請求項１３】
前記絶縁材料は無機誘電材料又は有機フォトレジスト材料である請求項１２に記載のディスプレイ。
【請求項１４】
前記補助電極は、パターニングされた導電性材料とパターニングされてない導電性材料から構成され、補助電極間の横方向の導電を防止するために、前記パターニングされてない層は前記パターニングされた層より低い導電性を有する請求項８ないし１３のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項１５】
前記パターニングされた層は前記補助電極を規定するパターニングされた導電性接触層から構成され、前記パターニングされてない層は電荷注入材料の均一層から構成される請求項１４に記載のディスプレイ。
【請求項１６】
前記発光層は複数のウェルを規定する前記第１の電極層上に配置されるバンク（盛り土）構造を供給することによってパターニングされ、各ウェルは前記区切られた発光領域を含み、少なくとも２つの補助電極が各ウェルに連結されている請求項８ないし１５のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項１７】
前記第１の電極は前記補助電極から構成される請求項８ないし１６のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項１８】
前記補助電極はアノードである請求項８ないし１７のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項１９】
前記発光層は有機発光材料から構成される請求項８ないし１８のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項２０】
前記発光層はポリマー発光材料から構成される請求項１９に記載のディスプレイ。
【請求項２１】
導電性ポリマー層が前記電極層の１つと前記発光層の間に配置される請求項８ないし２０のいずれかに記載のディスプレイ。
【請求項２２】
請求項１ないし２１のいずれかに記載のディスプレイの製造方法であって、前記色形成層が溶液から積層される製造方法。
【請求項２３】
前記色形成層はインクジェット印刷又はスピンコートによって積層される請求項２２に記載の製造方法。
【請求項２４】
請求項２２又は２３に記載の製造方法であって、前記製造方法は、基板を供給する工程、前記基板上に第1の電極層を積層する工程、前記第１の電極上に前記色形成層として発光層を積層する工程、及び前記発光層上に第２の電極を積層する工程を含み、前記発光層は区切られた発光領域の２次元のアレイを提供するようにパターニングされ、前記第１電極層及び／又は前記第２電極層は複数の電極から構成され、各電極は各区分された発光領域に連結される少なくとも２つの補助電極から構成される製造方法。
【請求項２５】
請求項２４に記載の製造方法であって、前記発光層を積層する前に複数のウェルを規定するバンク（盛り土）構造を前記第１電極上に積層することによって、前記発光層がパターニングされ、前記発光層は各ウェルが前記区分された領域を含むように積層され、少なくとも２つの補助電極が各ウェルに連結されている製造方法。
【請求項２６】
請求項２４又は２５に記載の製造方法であって、前記補助電極は、レーザーアブレーション、ｅ−ビームアブレーション、ドライエッチング、湿式エッチング、又は直接書き込みによってパターニングされている製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光電子ディスプレイ及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
多様な種類の光電子ディスプレイが公知である。これらには、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤｓ）、電子発光（ＥＬ）ディスプレイ及びプラズマディスプレイがある。
【０００３】
マルチカラーディスプレイは、通常、それぞれ複数のサブ画素から構成される複数の画素を含む。フルカラーディスプレイにおいては、赤、緑及び青色サブ画素が供給される。サブ画素は色形成層によって規定される。色形成層は、サブ画素を規定する異なる発光材料の複数の区分された発光領域から構成される発光層であることができる。例えば、ＥＬディスプレイは、発光層の区分された発光領域に対応する個々のサブ画素にアドレスできるようにパターニングされた電極間に配置される発光層を有する。
【０００４】
あるいは、色形成層は、異なる色規定サブ画素の複数の区分された領域から構成されるカラーフィルターであることができる。例えば、ＬＣＤはバックライトと共にそのようなフィルター有し、また、前記フィルターの区分された色領域に対応する個々のサブ画素にアドレスするための液晶配列を有する。
【０００５】
発光ディスプレイの画素及びサブ画素のための多様な異なる配列が公知技術において提案されている。図１は、各画素２が、すべて同じ大きさの単一の赤色サブ画素４、単一の緑色サブ画素６及び単一の青色サブ画素から構成される標準的なの画素配列を示す。
【０００６】
ＵＳ２００３／０１１７４２３、ＷＯ０３／０６０８７０及び２００４／００８０４７９に開示される配列のような図１で示される基本配列の改良が提案されている。これらの「チェッカーボード」配列は、図１で示される標準的な配列に比較して、良好な映像特性を提供できるように採用されている。例としては、本出願の図２に示されており、各画素２は中央の青色サブ画素８、対角線上の１対のコーナーに赤色サブ画素、他の対角線上の１対のコーナーに緑色サブ画素を有する。サブ画素は、４つの隣接する画素間の結合点を経てサブ画素が赤と緑の間で変わるように配列される。
【特許文献１】米国特許公開２００３／０１１７４２３号明細書
【特許文献２】国際公開０３／０６０８７０号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記の配列の問題点は、複雑にパターニングされる色形成層の提供が困難であることである。さらに、使用される材料及びパターニング技術に依存して、容易に形成される区分された色形成領域の大きさを小さくすることに限界があることである。
【０００８】
本発明の実施態様は、容易に製造することができ良好な映像特性を有する画素／サブ画素配列を提供することにより上述の問題を解決することを試みる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の側面によれば、複数のサブ画素から構成される複数の画素を含む光電子ディスプレイであって、前記光電子ディスプレイは２次元のアレイにおいて複数の区分された領域を提供するようにパターニングされた色形成層から構成され、前記区分された領域をアドレスするためにアドレスアレイが供給され、前記区分された色形成領域の少なくともいくつかは前記アドレスアレイによって独立してアドレスされる部分を有し、それぞれに部分が前記光電子ディスプレイのサブ画素を規定する光電子ディスプレイが供給される。
【００１０】
２次元アレイとは、複数の点状の区分された色形成領域から構成されるアレイを意味する。点状の色形成領域は、円、長円、長方形、四角形及び六角形などの多様な形であることができる。
【００１１】
「区分された色形成領域」とは、複数の色形成領域ではなく色形成材料の連続した領域を意味する。連続した領域とはディスプレイの平面において連続していることを意味する。区分された色形成領域は、複数の層、前記ディスプレイの平面に垂直な方向において、他の表面上にあるものを含む。しかしながら、このような層がディスプレイの表面において連続しているならば、それらは区分された色形成領域を構成する。
【００１２】
本発明は、各サブ画素が対応する区分された色形成領域によって規定される必要のない従来の「チェックボード」に関した以前の問題点を解決する。前記区分された色形成領域の少なくともいくつかは前記アドレスアレイによって個別にアドレスされる複数のサブ画素を提供する。これは、前記ディスプレイの映像特性を大きく損なうことなく色形成層のパターニングプロセスを簡略化する。さらに、解像度の増加は前記色形成層のパターンに変化なしで達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
好ましくは、それぞれ独立してアドレスされる部分は光電子ディスプレイにおける異なる画素のサブ画素を規定する。区分された色形成領域は独立してアドレス可能な部分を任意の数有することができる。しかしながら、好ましい配列においては、区分された色形成領域は、２，３，４又は６個の、独立してアドレス可能な領域を有する。
【００１４】
本発明のいくつかの実施態様によれば、色形成層は発光性である。あるいは、色形成層はカラーフィルター、燐光体層、又は蛍光染料のような色変化媒体である。１つの例は、基板、前記基板上に配置される第１電極、前記第１電極上に配置される発光層、及び前記発光層上に配置される第２電極から構成される光電子ディスプレイである。前記発光層は２次元アレイにおける複数の区分された発光領域を提供するようにパターニングされた色形成層を構成する。電極層は、第１電極層を有する前記アドレスアレイ及び／又は複数の電極であって、それぞれ各区分された発光領域に駆動可能に連結された少なくとも２つの補助電極を有する電極から構成される第２電極層を構成する。
【００１５】
各区分された発光領域に連結される少なくとも２つの補助電極の提供によって、前記区分された発光領域を異なって駆動することが可能になる。したがって、区分された発光領域は複数の異なるサブ画素に貢献する。
【００１６】
好ましい実施態様において、発光層は複数のウェルを規定する第１の電極層上に配置されるバンク（盛り土）構造を供給することによってパターニングされ、それぞれのウェルは前記区分された発光領域の１つを含み、これによって前記補助電極の少なくとも２つが各ウェルと連結されている。
【００１７】
好ましくは、前記第１の電極層は、各区分された発光領域と連結されている前記補助電極の少なく２つを有する前記複数の電極を含む。好ましくは、前記第１電極はアノードである。アノードは任意の適切な材料であり得るが、好ましくはＩＴＯである。
【００１８】
光電子ディスプレイの１つの種類は、発光用の有機材料を使用するものである。この装置の基本構造は、発光有機層、例えば、負電荷キャリア（電子）を注入するカソードと正電荷キャリア（正孔）を発光層へ注入するアノードの間に挟まれたポリ（ｐ−フェニレンビニレン）（”ＰＰＶ”）又はポリフルオレンの薄膜である。電子及び正孔は有機層で結合して光子を生成する。ＷＯ９０／１３１４８においては、有機発光材料はポリマーである。ＵＳ４，５３９，５０７においては、有機発光層は、（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（“Ａｌｑ３”）のような低分子材料として分類されるものである。実用上の装置において、電極の１つは透明であり、光子が装置から放出するのを可能にする。
【００１９】
典型的な有機発光ディスプレイは、インジウム−錫−酸化物のような透明電極を有するガラス又はプラスチック基板上に製造される。少なくとも１つの電子発光有機材料の薄膜層は第１の電極を覆う。最後に、カソードが電子発光有機材料層を覆う。このカソードは、通常、金属又は合金であり、アルミニウムのような単一層、またはカルシウム及びアルミニウムのような複数層から構成されることができる。
【００２０】
作動においては、正孔がアノードを貫通して装置に注入され、電子がカソードを貫通して装置に注入される。正孔と電子は有機電子発光層で結合して励起子を形成し、次いで、放射性崩壊して光を放出する（光検出装置においては、このプロセスは本質的に逆に進行する）。
【００２１】
有機発光ディスプレイは特に有利な電子−光ディスプレイの形を提供することができる。
これらは、明るく、カラフルで、立ち上がりが早く、広い視野角を提供し、多様な基板上に簡易に安価で作製することができる。有機（本明細書では、有機金属を含む）発光ディスプレイは、使用されるディスプレイに応じて、色の範囲で（又はマルチカラーディスプレイにおいて）ポリマー又は低分子化合物を使用して製造される。
【００２２】
単色又はマルチカラー画素ディスプレイを形成するために、有機発光ディスプレイが画素のマトリックス内の基板上に積層される。マルチカラーディスプレイが、赤、緑及び青色発光画素のグループを使用して形成される。いわゆるアクティブマトリックスディスプレイは各画素に連結されたメモリ素子、通常、蓄積容量とトランジスタを有しており、他方、パッシブマトリックスディスプレイはそのようなメモリ素子を有さず、その代り固定イメージの印象を与えるために繰り返しスキャンされる。
【００２３】
好ましくは、導電性ポリマーが第１の電極層と発光層の間に配置される、この層は任意の適切な材料であることができるが、好ましくは、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳである。
【００２４】
好ましくは、導電性ポリマーと発光層の少なくとも１つはインクジェット印刷により積層される。
【００２５】
補助電極の材料が横方向の導電性が無視できるように十分に低い導電性を有するならば、補助電極間に間隔を設ける必要はない。例えば、補助電極は横方向の抵抗を増加させ、横方向の導電性を低下させ、補助電極間の間隔を設ける必要性を無くすために材料の薄い層から形成されることができる。しかしながら、この場合、追加の導電性結合線は、特にパッシブマトリックスディスプレイには通常必要とされ、そうしないと、ディスプレイを横切る抵抗は通常高くなりすぎる。
【００２６】
例えば、パッシブマトリックスディスプレイにおいては、１５０ｎｍの厚さのＩＴＯアノードが標準的な装置において使用される。補助電極間の横方向の導電を回避するために本発明の実施態様ではより薄い層、この厚さの１／２又は１／４が使用される。この場合、導電性結合線がより必要とされる。アクティブマトリックスにおいては、この薄さのＩＴＯアノードがドライバー間の間隔として利用され、画素は小さい。
【００２７】
本発明の実施態様においては、補助電極は、例えば、電極材料の薄い部分によって供給される抵抗接続によって導電性接続線に接続される。共通の導電線と補助電極の間に抵抗接続を供給することによって「ソフトな」電気接続ができ、もし短絡が生じる場合ディスプレイ中の画素の全てのラインが損失されることはない。
【００２８】
あるいは、補助電極間に間隔が設けられる。この間隔は、アノードの上部表面を平坦化するために絶縁材料で満たすことができる。適切な平坦化、絶縁材料としては、２酸化シリコン又はフォトレジストのような誘電体がある。平坦化、絶縁材料は、その上に積層される材料のために、補助電極の材料と同様の濡れ性を有することが有利である。さらに、平坦化、絶縁材料は、バンク材料のパターニング時にエッチング除去されないものを選ぶことが有利である。平坦化、絶縁材料を供給する代わりの補助電極間の間隔は、その上に積層される材料がその間隔を埋めることができるように十分小さくすることができる。もし、電極層が薄い場合、この層を平坦化する必要は無いか、ほとんど無い。
【００２９】
電極層は、これを覆う層の不均一性を防止するために、一定の厚さを有することが好ましい。
【００３０】
１つの実施態様において、補助電極を含む電極層は２つの層、その上の均一な電荷注入材料層を有する補助電極を規定するパターニングされた導電性接触層から構成される。例えば、パターニングされた金属接触層はその上に積層されたＩＴＯの均一層で供給される。電荷注入材料は、横方向の導電を防ぐために十分に低い導電性でなければならない。これは、例えば、電荷注入層としてＩＴＯの比較的薄い層を供給することによって達成される。
【００３１】
電極層は標準的なフォトリソグラフィーによってパターニングされる。しかしながら、例えば、レーザーアブレーション、ｅ−ビームアブレーション、ドライエッチング及びウェットエッチングのような任意のパターニング技術が使用され得る。さらに、パターニング方法は、除去方法である必要はなく、例えば、インクジェット印刷のような直接書き込み技術も使用され得る。
【００３２】
本発明の他の側面によれば、カラー形成層がインクジェット印刷によって積層される本発明の第１の側面の発光ディスプレイを製造する方法が提供される。
【００３３】
インクジェット印刷は、スケール性及び適合性のために特に有益である。前者は任意の広い大きさの基板のパターニングを可能にし、後者は、基板上にドット印刷された画像がソフトウェアにより規定されるため１つの製品から他の製品への変更によるコストが無視できることを意味する。
【００３４】
しかしながら、インクジェット印刷にはいくつかの問題点がある。インクジェット印刷を使用して個々のサブ画素をいかに小さくするかについては限界がある。さらに、インクは複雑なウェル形状の角の隙間を濡らさない。これらの問題点は、サブ画素の複雑さを過度に増加しないで又は過度に大きさを縮小しないで高解像度のディスプレイを可能にする本発明によって軽減される。主として、本発明の実施態様は、大面積の平坦な薄膜を達成するために生じる問題及び非常に小さい面積を信頼性高く印刷する場合の困難性のため、インクジェット印刷されたディスプレイに有益である。しかしながら、他の積層技術を使用するときにも、本発明の実施態様は有利であることは明らかである。
【００３５】
もし、色形成層が低分子の真空蒸着により蒸着されるならば、要求される解像度を得るためにシャドウマスクが通常使用される。シャドウマスクの解像度には限界が存在し、したがって、本発明の実施態様は、サブ画素の複雑さを過度に増加しないで又は過度に大きさを縮小しないで高解像度のディスプレイを提供することができる。
【００３６】
図３は、ＯＬＥＤ装置１００の例の垂直断面図を示す。この装置の構造は図示の目的のためにいくぶん簡略化されている。
【００３７】
ＯＬＥＤ１００は、４つの独立駆動されるサブアノードを含むアノード層（図４に示される）がその上に積層されるプラスチック基板１０２であって、通常０．７ｍｍ又は１．１ｍｍのガラスであるが選択的に透明なプラスチックである基板から構成される。アノード層は通常１５０ｎｍの厚さのＩＴＯ（インジウム錫酸化物）から構成され、その上に通常約５００ｎｍの厚さのアルミニウムの金属接続層であって、しばしばアノード金属と呼ばれる層が供給される。ＩＴＯで被覆されたガラス基板及び接続金属はＣｏｒｎｉｎｇ，ＵＳＡから購入される。接続金属（及び選択的にＩＴＯ）は、従来のフォトリソグラフィー法とこれに続くエッチングによってディスプレイを覆わないようにパターニングされる。
【００３８】
ほぼ透明な正孔伝導層１０８ａはアノード金属上に供給され、続いて電子発光層１０８ｂが供給される。バンク１１２は、例えば、液滴蒸着又はインクジェット印刷によって活性有機層がその中に選択的に積層されるウェル１１４を規定するために、例えば、ポジ型又はネガ型フォトレジスト材料から基板上に形成される。したがって、このウェルはディスプレイの発光領域又は画素を規定する。
【００３９】
次いで、カソード１１０がいわゆる物理蒸着によって適用される。カソード層は、改良されたエネルギーレベルの整合のためにアルミニウムのキャップ層で覆われ、選択的にフッ化リチウム層のような電子発光層に直接隣接する追加の層を含むより厚いカルシウム又はバリウムのような低仕事関数金属から構成される。カソード線の相互の電気的隔離は、カソード分離体の使用によって達成される。通常、多くのディスプレイが単一の基板上に形成され、製造工程の最後に基板が切断され、ディスプレイが分離される。ガラスシート又は金属缶のようなカプセル材が酸素及び湿気の侵入を防ぐために利用される。
【００４０】
この一般的なタイプの有機ＬＥＤは、変化する駆動電圧及び効率における波長範囲の光を放出するために、ポリマー、デンドリマー及びいわゆる低分子化合物を含む材料の範囲を使用して製造される。ポリマー系ＯＬＥＤ材料の例は、ＷＯ９０／１３１４８、ＷＯ９５／０６４００及びＷＯ９９／４８１６０に記載されている。デンドリマー系材料の例はＷＯ９９／２１９３５及びＷＯ０２／０６７３４３に記載されている。また、低分子ＯＬＥＤ材料の例はＵＳ４，５３９，５０７に記載されている。前述のポリマー、デンドリマー及び低分子は１重項の放射性崩壊によって発光（蛍光）する。しかしながら、励起の７５％までは、通常、非放射性崩壊となる３重項である。３重項の放射性崩壊による電子発光（燐光）は、例えば、“Very high-efficiency green organic light-emitting devices based on electrophosphorescence” M.A. Baldo, S. Lamansky, P.E. Burrows, M.E. Thompson, and S. R. Forrest Applied Physics Letters, Vol. 75(1) pp. 4-6, July 5, 1999”に開示されている。ポリマー系OLEDの場合、層１０８は正孔輸送層１０８ａ及び発光ポリマー（ＬＥＰ）電子発光層１０８ｂから構成される。電子発光層は、例えば、約７０ｎｍの（乾燥した）厚さのＰＰＶ（ポリ（ｐ−フェニレンビニレン））から構成されることができ、及びアノード層と電子発光層の正孔エネルギーレベルの整合を助ける正孔伝導層は、導電性有機材料、例えば、約５０〜２００ｎｍ、好ましくは約１５０ｎｍの（乾燥した）厚さのＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ（ポリスチレン−スルホネート−ドープされたポリエチレン−ジョキシチオフェン）から構成されることができる。
【００４１】
図４は、本発明の実施態様による４つの補助アノード１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃ、１０６ｄから構成されるアノード１０６の平面図を示す。
【００４２】
図５は、図４に示されたタイプの電極を利用する本発明の実施態様に補助電極の配列を示す。各画素５０は、図２に示される従来技術の配列のように、対角線上の１対の角に赤色サブ画素５４、他の対角線上の1対の角に緑色サブ画素５６と共に、中央の青色サブ画素５２から構成される。しかしながら、図２における配列と異なって、４つの隣接する画素の結合点のサブ画素は同じ色であり、単一の区分された色形成領域５８によって形成される。区分された色形成領域５８は独立してアドレス可能な４つの部分を有し、それぞれの部分は示される４つの画素の１つにおけるサブ画素として機能する。この部分は、４つのサブ画素を有する図４に示されるタイプの電極を利用することによって独立してアドレス可能である。
【００４３】
このような配列は図２に示される従来技術の配列を単純化する。区分された色形成領域はより少なくてもすみ、区分された色形成領域はより大きくかつ複雑でない形状とすることができ、しかもすぐれた画像特性を有するディスプレイを提供する。
【００４４】
本発明を利用する他の配列も明らかである。例えば、区分された色形成領域の適切な大きさ及び形状に変更可能である。有機発光材料については、青色発光材料の寿命は装置の寿命を制限する要因となる。この場合、赤及び緑色形成領域より広い面積を有する青色形成領域を提供することが有利である。大きな面積を有する青色形成領域を提供することによって、低い電圧で駆動することができ、装置における青色形成材料の寿命を延ばすことができる。青、緑及び／又は赤色形成領域のいずれかは、材料の特性及びディスプレイの目的とする特性に応じて異なる大きさを有することができる。
【００４５】
図６は、四角形ではなく丸い区分された色形成領域を利用する図５の同様の配列を示す。この配列は図５よりも低い開口率を有するが、丸い色形成領域はインクジェット印刷がより容易であるという利点を有する。区分された色形成領域５８は、図４で示されるものと同様の電極を利用することによって独立してアドレス可能であるが、４つの区域を有する円形を有する。
【００４６】
図７は、四角形ではなく六角形の区分された色形成領域を利用する図５の同様の配列を示す。この配列は良好な開口率を提供し、しかもインクが区分された色形成領域の全体を容易に濡らすことができるように四角形の配列より大きな角度を有する角を有する。
【００４７】
図８は、図５と同様の配列を示すが、区分された四角形に色形成領域がやや異なる方向に配列されている。
【００４８】
図９は、図５と同様の配列を示すが、隣接する画素の中央のサブ画素が連続した帯を形成している。
【００４９】
図１０は、図９と同様の配列を示すが、連続した帯の間に円形状の区分された色形成領域を有し、この色形成領域は図４で示されるものと同様の電極を利用することにより個々にアドレス可能な２つの部分を有するが、円形形状は２つの区域を有する。
【００５０】
図１１は、全ての区分された色形成領域が個々にアドレス可能な２つの部分から構成される。
【００５１】
図１２は、白色形成領域５８をさらに含む配列を示す。
【００５２】
図１３は、図１１に図示されるものと同様の配列を示すが、さらに白色形成領域５８を含む。
【００５３】
前述した配列は四角形の画素から構成される。しかしながら、本発明はこれに限定されない。画素は、図１４〜１６に示されるように、例えば、六角形、四角形又は三角形であることができる。
【００５４】
図１７は、区分された発光領域がほぼ長方形又は正方形であり、画素がほぼ三角形である２つの配列を示す。これらの配列は「四角形タイル」タイプの配列に対して、区分された発光領域当たり最も多くの画素を有している。表面のレイアウトは平らなマクロ画素の外形によって最適化されている。しかしながら、この配列において、マクロ画素の図心が四角形タイル配列の四角形タイル点の上に正確に重なることはない。底面のレイアウトは
平らなマクロ画素の外形を有さない。しかしながら、この配列において、マクロ画素の図心は四角形タイルの点上に重なる。他の考慮すべき点は、乾燥効果によるインク損失領域があり、この場合、それぞれのサブ画素はウェルの端部とウェルの中心部でほぼ同じ割合を有するので、表面のレイアウトはこれらの効果の被害を受けない。
【００５５】
色形成領域の多くの部分を独立してアドレスすることができるアドレスアレイを提供することによって、色形成層のパターンを変えることなくディスプレイの解像度は増加する。例えば、図１４〜１６に図示されている配列において、区別された色形成領域が個別にアドレス可能な部分を有しない類似の配列と比較するとき、色形成層のパターンを変えることなく解像度は要因３、４及び６それぞれによって増加する。
【００５６】
この配列は解像度の向上を提供し、画素の大きさが眼の空間的解像度のはずれにあり場合に最も効果的である。特に、スクリーン上の主要な色のブロックは実際には身震いするように見え、この技術によって分散ではなく１つのサブ画素の色のかたまりが存在する。しかしながら、輝度のばらつきに対する眼の解像度は、それ自体青−黄色解像度の２倍である赤−緑色解像度の２倍である。したがって、マクロ画素の空間が隣接する画素を解像する眼の能力に等しくなる非常に繊細な解像度においては、このかたまりは明確にはならない。
【００５７】
この技術は、より小さなインクウェルを必要とせずに、３Ｄディスプレイに必要な高い解像度を達成するために利用される。複数の映像を製造するために異なる方向に異なるマクロ画素が投影される３Ｄディスプレイにおいては、類似のサブ画素のグループだけが任意の方向に投影されるように配列され、これによってサブ画素のかたまりの映像効果を除去している。
【００５８】
有機発光ディスプレイを参照して本発明の好ましい実施態様を説明してきたが、ＬＣＤ及びプラズマディスプレイだけでなく無機ＥＬディスプレイのようなＥＬディスプレイなど他のタイプのディスプレイにおいても本発明が利用できることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】フルカラー発光ディスプレイの標準のサブ画素配列を示す。
【図２】フルカラー発光ディスプレイの標準の改良された従来技術のサブ画素配列を示す。
【図３】ＯＬＥＤ装置の例の垂直断面図を示す。
【図４】本発明の実施態様の４つの補助電極から構成される電極の平面図を示す。
【図５】本発明の実施態様のサブ画素の配列を示す。
【図６】本発明の他の実施態様のサブ画素の配列を示す。
【図７】本発明の他の実施態様のサブ画素の配列を示す。
【図８】本発明の他の実施態様のサブ画素の配列を示す。
【図９】本発明の他の実施態様のサブ画素の配列を示す。
【図１０】本発明の他の実施態様のサブ画素の配列を示す。
【図１１】本発明の他の実施態様のサブ画素の配列を示す。
【図１２】本発明の他の実施態様のサブ画素の配列を示す。
【図１３】本発明の他の実施態様のサブ画素の配列を示す。
【図１４】画素が六角形の配列を示す。
【図１５】画素が四角形の配列を示す。
【図１６】区分された発光領域が円形であり、画素が三角形である配列を示す。
【図１７】区分された発光領域がほぼ長方形であり、画素がほぼ三角形である配列を示す。
【符号の説明】
【００６０】
１００  ＯＬＥＤ装置の例
１０２  基板
１０６  アノード層
１０８  正孔伝導層
１１０  カソード層
１１２  バンク
１１４  ウェル
２      画素
４      赤色サブ画素
５０    画素
５２    青色サブ画素
５４    赤色サブ画素
５６    緑色サブ画素
５８    区分された色形成領域
６      緑色サブ画素
８    青色サブ画素
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【国際調査報告】
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