(57)【要約】  この装置は、ワイピング液槽１、回転可能に支持され外周面を有するワイピングローラ２及びローラ２の表面を洗浄するための洗浄手段を備え、洗浄手段は、ローラ２の表面にワイピング液を噴霧するための第一噴霧ユニット４及びローラ２の表面から残留ワイピング液を取り除くために第一噴霧ユニットの下流に配置される乾燥ブレード１２を備える。洗浄手段は、さらに一連の穴５’,３０,３１,３２,３３を持つ支持プレート５,２５及び支持プレートを保持するための保持手段７,８,１０,１１を含む洗浄アセンブリを備える。支持プレートはローラ２に触れることなくローラ２の外周面の一部に対して平行に伸びるように形成される。洗浄アセンブリは、さらに支持プレートに配置されローラ２の表面からインキを取り除くためにローラ２の表面と当接する多孔性材料で作られる洗浄シート６；２６,２６ａ,２６ｂを備える。
2009533250.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイピング液槽（１、１ａ〜１ｅ）と、前記ワイピング液槽において回転可能に支持されかつ凹版印刷機の少なくとも１つの印刷版（３ａ）と転がり接触するように配置される外周面を有するワイピングローラ（２）と、前記ワイピングローラ（２）の前記表面を洗浄するための洗浄手段と、を備える凹版印刷機用のインキワイピング装置であって、
前記洗浄手段が、前記ワイピングローラ（２）の前記表面にきれいなワイピング液を噴霧するための少なくとも第一噴霧ユニットと、前記ワイピングローラ（２）の前記表面から残留ワイピング液を取り除くために前記ワイピングローラ（２）の回転方向で見て前記第一噴霧ユニット（４）の下流に配置される乾燥ブレード（１２）とを備え、
前記洗浄手段が、さらに、前記第一噴霧ユニット（４）と前記乾燥ブレード（１２）との間に配置される洗浄アセンブリを備え、前記洗浄アセンブリが一連の穴（５’、３０、３１、３２、３３）を持つ少なくとも１つの支持プレート（５；２５）及び前記支持プレート（５;２５）を保持するための保持手段（７、８、１０、１１）を含み、前記支持プレート（５；２５）が前記ワイピングローラ（２）に触れることなく前記ワイピングローラ（２）の前記外周面の一部に対して平行に伸びるように形成され、前記洗浄アセンブリがさらに、前記支持プレート（５；２５）に配置されかつ前記ワイピングローラ（２）の前記表面からインキを取り除くために前記表面と当接する多孔性材料で作られる少なくとも１枚の洗浄シート（６；２６、２６ａ、２６ｂ）を備え、
かつ、前記第一噴霧ユニット（４）が、前記ワイピングローラ（２）の前記表面と前記洗浄アセンブリの前記上流端との間に直接きれいなワイピング液を噴霧するように前記ワイピングローラ（２）の回転方向で見て前記洗浄アセンブリの上流端の前に配置されることを特徴とする、
インキワイピング装置。
【請求項２】
前記第一噴霧ユニット（４）が前記洗浄アセンブリの前記上流端の直前に配置されることを特徴とする、請求項１に記載のインキワイピング装置。
【請求項３】
前記第一噴霧ユニット（４）によって噴霧された前記ワイピング液を前記ワイピングローラ（２）の前記表面と前記支持プレート（５；２５）の前記表面との間に拘束するために前記第一噴霧ユニット（４）の設置位置のすぐ後に続く前記支持プレート（５；２５）の第一の部分（Ｚ１）が全く穴を持たないことを特徴とする、請求項Ｉまたは２に記載のインキワイピング装置。
【請求項４】
前記支持プレート（５；２５）が金属板であることを特徴とする、請求項１または３に記載のインキワイピング装置。
【請求項５】
前記支持プレートの前記穴（５’；３０、３３）の形状及び寸法が前記洗浄シートを前記支持プレートの所定の位置に保持するように形状および寸法が定められることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項６】
前記穴（５’；３０、３３）が前記ワイピングローラ（２）の回転方向に対して直角に伸びる細長い開口として形成されることを特徴とする、請求項５に記載のインキワイピング装置。
【請求項７】
前記ワイピングローラ（２）の回転方向で見て前記洗浄シート（６；２６、２６ａ）の上流端を固定するための手段（９）が配置されることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項８】
前記洗浄シート（６；２６、２６ａ）が前記上流端でのみ固定されることを特徴とする、請求項７に記載のインキワイピング装置。
【請求項９】
前記洗浄シート（６；２６、２６ａ）の前記上流端が解除可能な締付けメカニズムによって保持されることを特徴とする、請求項７または８に記載のインキワイピング装置。
【請求項１０】
前記支持プレート（５；２５）の上流端も前記締付けメカニズムによって保持され、かつ前記締付けメカニズム（９）が、締付け位置に維持される支持プレート（５；２５）を解除することなく前記洗浄シート（６；２６、２６ａ）の取り外し及びその交換を可能にしたことを特徴とする、請求項９に記載のインキワイピング装置。
【請求項１１】
前記洗浄手段が、さらに前記ワイピングローラ（２）の表面にきれいなワイピング液を噴霧するために前記ワイピングローラ（２）の回転方向で見て前記第一噴霧ユニット（４）の下流に配置される第二噴霧ユニット（２４）を備えることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項１２】
前記第二噴霧ユニット（２４）が前記支持プレート（５；２５）に固定されることを特徴とする、請求項１１に記載のインキワイピング装置。
【請求項１３】
前記洗浄シート（２６）が前記支持プレート（２６）上で相互に前後に配置される少なくとも２つの連続する洗浄シート部分（２６ａ、２６ｂ）に分割され、その間にフリーゾーン（２７）を持つことを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項１４】
前記洗浄シート（２６）が前記支持プレート（２６）上で相互に前後に配置される少なくとも２つの連続する洗浄シート部分（２６ａ、２６ｂ）に分割され、その間にフリーゾーン（２７）を持ち、かつ前記第二噴霧ユニット（２４）が前記フリーゾーン（２７）を通過してきれいなワイピング液を噴霧することを特徴とする、請求項１１または１２に記載のインキワイピング装置。
【請求項１５】
少なくとも１つのブラシ（２８）が前記支持プレート（２５）の前記洗浄シート（２６）とは反対の側に配置され、前記ブラシ（２８）が前記支持プレート（２５）の穴（３２）を通って前記洗浄シート（２６）の中へ伸びる剛毛を備えることを特徴とする、請求項１から１４のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項１６】
さらに、前記ワイピングローラの表面から残留インキを取り除くために前記ワイピングローラ（２）の回転方向で見て前記洗浄アセンブリの下流でかつ前記乾燥ブレード（１２）の上流に配置される追加のブレード（１３）を備える、請求項１から１５のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項１７】
前記追加のブレードが合成材料で作られるかまたは合成材料でコーティングされ、好ましくはプラスチックで作られるかまたはテフロン（登録商標）でコーティングされることを特徴とする、請求項１６に記載のインキワイピング装置。
【請求項１８】
前記支持プレート（５；２５）の下流端の部分が前記洗浄アセンブリと前記ワイピングローラ（２）との接触面を変化させるために調整可能であることを特徴とする、請求項１から１７のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項１９】
さらに、前記洗浄アセンブリによって前記ワイピングローラ（２）の表面に加えられる圧力を調整するための手段（１４、１５、１６、１７）を備える、請求項１から１８のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項２０】
前記洗浄シート（６；２６、２６ａ、２６ｂ）が前記ワイピングローラの表面と少なくとも７０°の円弧にわたって当接することを特徴とする、請求項１から１９のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項２１】
前記噴霧ユニット（４；２４）が前記ワイピングローラ（２）の回転軸（２’）に対して実質的に平行に伸びかつ約１平方ミリメートルまたはそれ以上の直径を持つ噴霧孔を持つ有孔ホースとして形成されることを特徴とする、請求項１から２０いずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項２２】
前記洗浄シート（６；２６、２６ａ、２６ｂ）が多孔性不織合成繊維で構成される材料で作られることを特徴とする、請求項１から２１のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【請求項２３】
前記洗浄シート（６；２６、２６ａ、２６ｂ）が２ｍｍから２０ｍｍまでの範囲好ましくは５ｍｍから２０ｍｍまでの範囲の厚みを有することを特徴とする、請求項１から２２のいずれか一項に記載のインキワイピング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はシートまたは連続巻き取り紙に印刷するための凹版印刷機に使用されるインキワイピング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種のワイピング装置自体は先行技術において既知である。例えば、米国特許第4,236,450号（その内容は参照によって本出願に組み込まれる）は、凹版印刷機のワイピングローラの連続洗浄用設備について説明している。開示される設備は液槽を備えるワイピング装置から成り、液槽の上にワイピングローラが回転可能に取り付けられる。液槽は、洗浄液（一般に「ワイピング液」と呼ばれる）の作用によりワイピングローラの表面を洗浄するためにワイピングローラの外周と当接する各種の洗浄部材を取り囲む。洗浄部材は数個のブラシ及びスクレーパブレードを備える。ブラシ及びスクレーパブレードはワイピングローラの外周に沿って等間隔に配分される。特に、ワイピング装置は、ワイピングローラの回転方向で見て上流に、ワイピングローラの表面にワイピング液を噴霧するためにワイピングローラの軸に平行に伸びる第一列の噴霧ノズル及びワイピングローラに付着するインキの質量の約９５％を取り除く第一スクレーパブレードを備える。第一列の噴霧ノズル及び第一スクレーパブレードの下流に、ワイピングローラの外周に沿って一連の噴霧ノズルの列が配列される。これらのノズルの列は各々ブラシと組み合わされる。最後に、別のスクレーパブレード（一般に「乾燥ブレード」と呼ばれる）がワイピングローラに当接するように配置され、ワイピングローラの表面に残る残留ワイピング液を除去できるようにする。インキ粒子が第一スクレーパブレードの後に蓄積しないようにするために、第一スクレーパブレードの後に追加の噴霧ノズルの列を取り付けることができる。噴霧ノズルは、きれいなワイピング液をノズルに供給するポンプの出口に接続される。スクレーパブレード、噴霧ノズル及びブラシは液槽内で機械的に支持され、その位置は調節可能である。特に、油圧作動制御アームによって第一スクレーパブレードの位置を調整することができ、第一スクレーパブレードをワイピングローラの表面から後退させたりまたはワイピングローラに対するブレードの圧力を調整したりできるようにする。一方、ブラシ及び関連する噴霧ノズルの列が共通の１対の湾曲レールに取り付けられ、レールは液槽内においてガイドローラ間で案内されるので、ブラシ−噴霧ノズルのアセンブリ全体はワイピングローラの回転軸と同心で回転することができる。
【０００３】
凹版回転印刷機用の別のインキワイピング装置が米国特許第4,499,825号（その内容は参照により本出願に組み込まれる）において開示されている。開示された装置はワイピング液が入いる液槽を備える。この液槽の中にワイピングローラ並びにワイピングローラの外周面を洗浄するための洗浄アセンブリが浸漬される。洗浄アセンブリは、ワイピングローラの回転方向に沿って、少なくとも１つのブラシユニットを含む。ブラシユニットは液槽内において調節可能に支持され、ワイピングローラの外周面付近に遠位端を有する複数列の剛毛を持つ。さらに、各ブラシユニットは、ブラシユニットによって支えられワイピングローラの外周面と剛毛の遠位端との間に配置される合成繊維不織布で作られる洗浄シートを含む。従って、版面から取り除かれてインキワイピングローラに転移したインキは、剛毛の弾性力を受けてインキワイピングロールに押し付けられる洗浄シートによってワイピングローラから拭き取られ、洗浄液に溶解する。ローラ及び洗浄アセンブリ（すなわち、ブラシユニット）は洗浄液に浸漬されるので、インキワイピングローラから洗浄液を擦り落とすために乾燥ブレード（この特許において指摘するように硬質ゴムで作られる）を使用する必要がある。乾燥ブレードの下すなわちワイピングローラの回転方向で見てブレードの上流には、ワイピングローラが回転するときワイピングローラによって運ばれる傾向があるワイピング液を遮断するために、ワイピング液の液面上方でホルダに支えられる追加の合成繊維不織布パッドがある。この特許によって教示されるデザインは、洗浄アセンブリ及びワイピングローラがワイピング液に浸漬されるので、液槽内に相当量のワイピング液を必要とする、という点で不利である。さらに、ワイピングローラは部分的にワイピング液に浸漬されるので、この種の洗浄設備の洗浄効率はやや低い傾向がある。なぜなら、ワイピングローラがインキ成分で汚染されているワイピング液に常に接しているからである。実際、洗浄効率はワイピングローラの表面をきれいにするための非浸漬洗浄パッドの効率に依存している。
【０００４】
別の装置がＥＰ 0,514,756として公開されたヨーロッパ特許出願（その内容は参照により本出願に組み込まれる）において開示されている。この出願は、各々ワイピングローラの回転軸に対して平行に配列されるベースから成る一連の洗浄部材を含む洗浄アセンブリを備える凹版印刷機用ワイピング装置を教示している。ワイピングローラは炭素工具鋼のストリップで作られるアーチ形シートパッドを支え、シートパッドはインキを擦り取るための複数の小さい開口を有し、かつワイピングローラの外周面と弾接する。さらに、アーチ形洗浄部材の下流にブラシユニットが配置され、ブラシユニットの剛毛はワイピングローラの表面と弾接する。従って、拭き取り作業によって凹版印刷版からワイピングローラに転移されたインキは、シートパッドに作られたこの複数の小さい開口を通過して擦り取られ、洗浄液に溶解し、ワイピングローラの表面は最終的にブラシユニットによって浄化される。このような先行技術の解決法によれば、ワイピングローラの下部を洗浄部材と一緒にワイピング液に浸漬するか（上述の米国特許第4,499,825号の解決法と同様に）、またはワイピング液をワイピングローラの表面に噴霧する（上述の米国特許第4,236,450号の解決法と同様に）ことができる。ＥＰ 0,514,756号において教示される解決法の主要な不利な点は、ワイピングローラの表面が炭素工具鋼で作られる非常に耐性が高いアーチ形シートパッドと直接接触する点である。ブラシか柔らかい洗浄シード／パッドを用いる他の解決法に比べて、この方法はワイピングローラの比較的柔らかい表面（ワイピングローラは一般にＰＶＣなど高分子化合物でコーティングされる）の広範囲の磨耗を生じさせる。このためワイピング装置の洗浄効率を低下させ、ワイピングローラのコーティングの頻繁な再生を必要とする。最悪の場合には、ワイピングローラとこのように高耐性の材料との当接はワイピングローラの外面にかなりの損傷さえ生じさせる可能性がある。
【０００５】
日本実用新案第07−015339Ｕ号（その内容は参照により本出願に組み込まれる）は、凹版印刷機のワイピングローラの余分なインキを拭き取るワイピング設備を開示している。これはＥＰ 0,514,756 号において教示されるのと同様の経過を辿る。相違は、ＪＰ 07−015339Ｕ号によれば各種のアーチ形洗浄部材の代わりに炭素工具鋼の大型の洗浄シートが使用されることであり、洗浄シートはかなり大きな部分にわたってワイピングローラの表面と当接する。ＥＰ 0,514,756号の解決法と同様、洗浄シートはローラの表面にあるインキを取り除くために複数の小さい開口を備える。この解決法の主要な欠点は、この場合にも、洗浄シートが硬い材料で作られていて、ワイピングローラの表面と直接接触する点にある。このような解決法は上述の問題につながる。ワイピングローラと炭素工具鋼製洗浄シートとの間の接触面はＥＰ 0,514,756号に開示される解決法より実質的に大きいので、後者の場合前記の欠点はより顕著である。
【０００６】
米国特許第ＵＳ 6,341,556号（その内容は参照により本出願に組み込まれる）は、凹版印刷機の別のワイピング装置を開示している。このワイピング装置はベース部材に取り付けられるワイピングロール洗浄シートを使用する。ワイピングロール洗浄シートは各々貫通穴を有する３層に重ねられたシート、すなわちベース部材によって支えられる支持シート、ローラの外周面と当接する洗浄シート及び洗浄シートをワイピングローラの表面に押し付けるために洗浄シートと支持シートとの間に配置されるプレスシートよって形成される。上述のように、支持シート及び洗浄シートは両方ともステンレス鋼で作られる金網として形成され、プレスシートは合成樹脂（ナイロンなど）の不織布で作られることが好ましい。特定の実施態様において、洗浄シートを金網の代わりに鋼板で作ることができる。鋼板には多数の小さい穴が形成され、上述の日本実用新案ＪＰ 07−015339Ｕ号から既知の鋼板と同様である。開示されるワイピング装置は、さらにワイピングロールの回転方向で見て前記ワイピングロール洗浄シートの下流に（例えば合成樹脂の）不織布で作られる洗浄シートを備える第二のワイピングユニットを含む。洗浄シートは例えば上述の米国特許第4,499,825号において教示される複数のブラシの上に置かれる。従って、この先行技術において、この教示は、ブラシに被せて取り付けられる繊維シートに加えてインキ及びワイピング液を取り除くためにワイピングローラと直接接触する金属板または金網を使用する。
【０００７】
米国特許第5,765,480号及び4,899,654号（両方とも凹版印刷機用のワイピング装置に関する特許）からさらに他の同様の装置が既知である。
【０００８】
別の解決法が日本特許出願第ＪＰ 2000−202984号において開示される。この出願は、きれいなワイピング液をワイピングローラの表面に噴霧するための第一噴霧ユニット及びワイピングローラの外周面の一部に合致する有孔金属支持部材を備える下流に配置される洗浄アセンブリを備えるインキワイピング装置について説明している。支持部材はワイピングローラの表面に当接する多孔性洗浄シートを支持する。この洗浄アセンブリは、さらに、支持部材及び洗浄シートを通過してワイピングローラの表面にワイピング液を噴霧する噴霧ノズルの形式の自身の噴霧手段を備える。この解決法の１つの不利な点は、第一噴霧ユニットによって噴霧されるワイピング液のほとんどは落ちてワイピング液槽に戻り適切に利用されないので、第一噴霧ユニットの洗浄効率が制限される点である。その結果、下流に配置される洗浄アセンブリはワイピングローラの表面にワイピング液を噴霧するための自身の噴霧手段を備えなければならない。さらに、噴霧されたワイピング液はワイピングローラの表面に達する前にまず洗浄シートを貫通しなければならないので、この後者の洗浄アセンブリの効率も制限される。従って、改良された解決法がさらに必要である。
【０００９】
ワイピング液を噴霧する既知の設備に見られる問題は、小さい直径のノズルに洗浄液の中の粒子が詰まってまたは閉塞して、洗浄効果が低下することである。この様な場合、印刷機を停止し、ノズルと一緒にシャフトに近づいてワイピングローラを取り外し、離れた場所でノズルを清掃するために印刷機からシャフトを取り外す必要がある。これが行われた後、シャフトを組立て、機械に合わせて調整し、その後はじめてワイピングローラを所定の位置に戻すことができる。
【００１０】
同じ欠点が上述のように複数の小さい穴を持つプレートを使用する装置にも存在する。穴は粒子によって詰まったり閉塞したりして、プレートの効率を低下させる可能性がある。この問題は浸漬される装置においてはさらに悪化する。上述のように、この場合印刷機を停止して、洗浄作業を実施する必要がある。
【００１１】
ＪＰ 2000−202984号の解決法にも、同じ問題が生じる。この場合、洗浄アセンブリは粒子によって詰まる傾向を持つノズルを備える。
【００１２】
これらの作業は全て時間がかかり、機械はその間作動しないのでかなりのコスト負担となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は既知の装置及び方法を改良することである。
【００１４】
単純で、効率よくかつ生産コストの低いワイピング装置を提供することが本発明のさらなる目的である。
【００１５】
本発明の別の目的は設置し易いワイピング装置を提供することである。
【００１６】
本発明のさらに別の目的は必要なワイピング液が少なくてすむワイピング装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
これらの目的は、特許請求の範囲において定義される装置によって達成される。
【００１８】
本発明によれば、ワイピング装置は洗浄アセンブリを持つ洗浄手段を備え、洗浄アセンブリは、少なくとも、穴を持つ支持プレート及び多孔性材料の洗浄シートを含み、ワイピングローラの表面と洗浄アセンブリの上流端との間に直接きれいなワイピング液を噴霧するためにワイピングローラの回転方向で見て洗浄アセンブリの上流端の前に配置される噴霧ユニットと結合される。
【００１９】
別の実施態様において、洗浄シートは少なくとも２つの部分に分離され、噴霧ユニットが２つの部分の間にワイピング液を噴霧できるようにする。
【００２０】
さらに別の実施態様において、洗浄シートの他にブラシが使用される。
【００２１】
その結果、ブラシの剛毛など柔らかい媒体によってではなく改良された一貫した方法でワイピングローラにシートが当てられる効率的な装置が得られる。この装置はまた金属板または金網とワイピングローラとの接触を避けるので、結果として意に反して接触した場合ローラの表面を損傷させる危険を避ける。
【００２２】
本発明の望ましい実施態様は従属請求項に示される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明の他の特徴及び利点は本発明の実施態様の詳細な説明を読むことによってさらに明確になるだろう。詳細な説明は非限定的な例としてのみ示されており、添付図面によって説明される。
【００２４】
図１は、本発明に係るワイピング装置の第一の側面図を示している。印刷技術において既知のように（例えば、米国特許第4,236,450号により）、ワイピングローラ２は液槽１の中で回転軸２’の周りを回転可能に支持され、凹版印刷機の凹版胴３によって支えられる少なくとも１枚の印刷版３ａと転がり接触するように配置される外周面を有する。従って、装置は、少なくとも第一噴霧ユニット４によってワイピングローラ２の表面に噴霧されたワイピング液を回収するために、ワイピングローラ２の下に配置され側壁１ａ〜１ｄ及び底壁１ｅを備えるワイピング液槽１を備える。ローラ２の表面にあるインキ及び噴霧されたワイピング液を効率よく取り除くために、ワイピング装置は、さらに、第一噴霧ユニット４の後に、好ましくはステンレス鋼など金属で作られる支持プレート５及び洗浄シート６を持つ洗浄アセンブリを備える。支持プレート５は一連の穴５’（図２及び３に示される）を有し、これらの穴５’は行列状に配列される。支持プレートは下でさらに詳しく説明される保持手段によって保持される。支持プレートは、ワイピングローラ２の外周面に触れることなく、ワイピングローラ２の外周面の一部に対して平行に伸びるように形成される。多孔性材料で作られる洗浄シート６は支持プレート５の上に置かれて、ワイピングローラの表面からインキを取り除くためにこの表面に当接する。
【００２５】
好ましくは、洗浄シート６は例えば３Ｍ社によって 商品名“SCOTCH BRITE”（登録商標）として市販されるまたは米国特許第5,390,598号において言及される多孔性不織合成材料で作られる材料である。
【００２６】
洗浄シート６は２ｍｍから２０ｍｍまでの範囲、望ましくは５ｍｍから２０ｍｍの範囲の厚みを有する。好ましくは、洗浄シート６は少なくとも７０度の円弧に亘ってワイピングローラ２の表面に当接する。
【００２７】
第一噴霧ユニット４は、液槽１の側壁１ｄに取り付けられ、ワイピングローラ２の回転軸２’に対して実質的に平行に伸びかつ約１平方ミリメートルまたはそれ以上の直径の噴霧孔を有する有孔ホースで作られることが好ましい。本発明の範囲内において、第一噴霧ユニット４は、きれいなワイピング液がワイピングローラ２の表面と洗浄アセンブリの上流端との間に直接的に効率よく噴霧されるように、図１において矢印で示されるワイピングローラ２の回転方向で見て洗浄アセンブリの上流端の前（好ましくは、洗浄アセンブリの上流端のすぐ前）に配置されることが分かるだろう。従って、きれいなワイピング液が噴霧された後すぐに、（日本の特許公開第2000−202984号において説明される解決法のように）きれいなワイピング液が落ちて液槽１の中へ戻ることが避けられ、このきれいなワイピング液がワイピングローラ２の表面を洗浄するために効率よく使用されるようにする。
【００２８】
支持プレート５及び洗浄シート６は、両方とも、洗浄アセンブリの上流端で保持手段を介して液槽１に固定される。保持手段は、支持プレート５の上流端を保持するために好ましくは一緒にネジ止めされる下部バー７及び上部バー８を備える締付けバー装置、及び洗浄シート６を上部バーに留めるためのさらなる締付けメカニズム９を含む（図８ａ及び８ｂ及び下の論証を参照）。このメカニズムは洗浄シート６を取り外してこれを交換できるように配列され、この作業中支持プレート５は外されず、バー７と８との間で締付け位置に維持される。
【００２９】
ワイピングローラ２の回転方向で見て洗浄アセンブリの下流端において、支持プレート５は、好ましくはネジによって一緒に固定されるベース部材１０とカバー部材１１を備える別の締付けアセンブリに保持される。ベース部材とカバー部材との間に支持プレート５の下流端が留められる。洗浄シート６はこの端では留められない。
【００３０】
ワイピングローラ２の回転方向で見てさらに下流において、ローラ２の表面に残っている残留ワイピング液及び残留インキを取り除くためにワイピングローラ２の表面に直角に少なくとも１つのスクレーパブレード１２（または乾燥ブレード）が配列される。図１に示される実施態様においては、任意の第二のブレード１３が示されている。乾燥ブレード１２の前にローラ２の表面のさらなる擦り落としを実施するためにこのブレードを使用することができる。この第二のブレード１３を、合成材料で作るかまたは合成材料でコーティングすることができ、好ましくはプラスチックで作るかまたはテフロン（登録商標）でコーティングする。これらのブレードを例えば米国特許第5,765,48０号または米国特許第4,899,654号に説明されるように調整可能なメカニズムに取り付けることができる。
【００３１】
ベース部材１０及びカバー部材１１を持つ締付けアセンブリは１対の湾曲レール１４（液槽の両側壁１ａ、１ｂにそれぞれ１本）を備える可動支持材に取り付けられる。可動支持材は数個の案内ローラ１５によって案内される。参照番号１５ａは案内ローラ１５の軸を示す。湾曲レール１４の一方（この例においては側壁１ｂに取り付けられる湾曲レール１４）は、この湾曲レール１４に取り付けられる対応するラック１７とかみ合う歯車１６によって駆動される。このような配置及び歯車１６とラック１７の協働によって、ローラ１５間におけるレール１４の弓形移動が可能となり、ワイピングローラ２に対して相対的な支持プレート５の正確な位置決めが可能になる。特に、この構成は、洗浄シート６をワイピングローラ２に当てる際の圧力を調整できるようにする。この構成は、また、ワイピングローラのサイズ（直径）に洗浄装置を簡単に合わせることができるようにする。
【００３２】
図１に示されるように（図２及び３も参照）、ベース部材１０は各湾曲レール１４に固定される支持部材１４ａに取り付けられる。この支持部材１４ａは、支持部材１４ａと湾曲レール１４との間に案内ローラ１５のうちの１つを取り囲むような寸法を持つ開口１４ｂを持つと有利である。この開口１４ｂは洗浄アセンブリの角変位が制限されるようにする。
【００３３】
ある生産現場において使用される印刷機が米国特許第4,236,450号において開示されるのと同様のワイピング装置を持つ場合、上述の構成は本発明に係る洗浄手段を簡単に後から取り付けることができるようにし、有利である。実際、この構成は米国特許第4,236,450号に係る機械に全て存在する手段（湾曲レール、案内ローラ、歯車、ラック）を使用する。
【００３４】
図２において、第一実施態様の斜視図が示されており、この実施態様において図１を参照して説明される要素は同じ参照番号によって特定される。図２においては液槽１の一部のみが示されている。すなわち、洗浄アセンブリの両端に配置される側壁１ａ及び１ｂのみが示されている。上述のように、支持プレート５は行列状に配列される一連の穴５’を備える。穴５’はこの例においては実質的に長方形であるが（長いほうの辺がワイピングローラ２の回転方向に直角を成す方向を向く）、他の形状も可能である。また、この図にはレール１４、ローラ１５、歯車１６及びラック１７を備える調整メカニズムも示されている。図２においては一方の湾曲レール１４しか示されておらず、もう一方は側壁１ａの背後に隠れている。
【００３５】
支持プレート５は、ワイピングローラの回転方向（図１の矢印を参照）で見てプレートの上流端に配置される第一ゾーンＺ１を備えることが好ましい。第一ゾーンＺ１には穴５’がない。これによって、噴霧されたワイピング液が支持プレートの上面とワイピングローラ２（図２には示されていない）の表面によって形成される容積に維持され、ワイピング液は最初の列の穴５’に達するまでは液槽１に戻らないので、装置の洗浄効率上げることができる。
【００３６】
液槽１の１つの側壁１ａには、第二湾曲レールを案内する案内ローラ１５のそれぞれの軸１５ａが示されている。側壁１ｂの隣には、有孔噴霧ホース４の一端に結合される接続ホース２０が示されている。同様の接続ホース（図には示されていない）が側壁１ａの隣の有孔ホース４の他方の端にも配置される。
【００３７】
図３には、第一実施態様の第二の斜視図が示されている。この図において、対応する要素は同じ参照番号で特定され、図１及び２に関する上の説明がこの図に適用される。前の図と比べて図３において追加された要素は洗浄シート６であり、その半分だけが示されている。当然、洗浄シート６はプレート５の幅全体に広がっていることが分かるだろう。図１に示される通り、洗浄シートは上部バー８と締付けメカニズム９との間に留められ、図１に示される下部バー７は図２及び３においては見えない。
【００３８】
図４には、本発明の第二実施態様の側面図が示されている。この第二実施態様において、第一実施態様と共通の要素は同じ参照番号で特定され、上述の説明が適用される。
【００３９】
この実施態様は、きれいなワイピング液を供給するための接続ホース２２を持つ第二噴霧ユニット２４を備える。第二噴霧ユニット２４は、この第二実施態様において参照番号２５で示される支持プレート２５に取り付けられるレール２３に取り付けられることが好ましい。洗浄シート２６は２つの別個の部分２６ａ及び２６ｂに分割されることが好ましい。洗浄シート２６の第一の部分２６ａはワイピングローラ２の回転方向（矢印によって示される方向）で見て第一の位置に置かれ、この部分２６ａの上流端は図１から３までの第一実施態様に関連して説明した同じ保持手段によってすなわち上部締付けバー８と締付けメカニズム９との間に保持される。支持プレート２５は、さらにその上流端において、下部締付けバー７と上部締付けバー８との間で留められる。
【００４０】
洗浄シート２６の第二の部分２６ｂはワイピングローラ２の回転方向で見て第一の部分２６ａの下流に配置される。この第二の部分２６ｂは必ずしも固定的にプレート２５に取り付けられる必要はない。実際、有孔プレート２５とワイピングローラ２の表面との間に加えられる圧力の組合せによってこの第二の部分２６ｂを所定の位置に保持することができる。支持プレート２５の穴と圧力との組合せがワイピング作業時に第二の部分２６ｂを所定の位置に適切に保持するのに充分であることが観察された。
【００４１】
洗浄シート２６は２つの部分２６ａ及び２６ｂに分離されるので、この第二の実施態様においては部分２６ａと２６ｂとの間にフリーゾーンが存在する。このフリーゾーン２７は第二噴霧ユニット２４によって第二の場所でワイピングローラ２の表面にきれいなワイピング液をさらに噴霧できるように設計されることが好ましい。このために、１列の噴霧穴（図５、６及び７における３１）が支持プレート２５に配置される。第一実施態様と比べると、ワイピング装置の洗浄効率はさらに改良される。第二噴霧ユニット２４は、第一ユニット４と同様に、ワイピングローラ２の回転軸２’に対して実質的に平行に伸びかつ約１平方ミリメートルまたはそれ以上の直径を持つ噴霧孔（図７に示される）を有する有孔ホースを備える。噴霧孔は噴霧穴３１を通過してフリーゾーン２７においてワイピングローラ２の表面にワイピング液を噴霧するような方向に向けられる。
【００４２】
または、洗浄シートを第一実施態様と同様一体式に作り、第二噴霧ユニット２４は洗浄シートを通過してきれいなワイピング液を噴霧することができる。
【００４３】
噴霧ユニット４及び２４は両方とも、きれいなワイピング液の同じ供給源を持つかまたは別個の供給源を持つ接続ホース２０及び２２を介してワイピング液の供給を受けることができる。
【００４４】
好ましくは、図４の第二実施態様においては１組のブラシ２８が使用される。ブラシ２８は、第二噴霧ユニット２４のすぐ後で支持プレート２５の下面に取り付けられる支持フレーム２９の中に配置され、その剛毛は、洗浄シート２６の第二の部分２６ｂの上流端のための保持場所を設けるように、支持プレート２５の対応する開口３２を通り抜けて伸びるように設計される。ブラシはワイピングローラ２の表面に掛けられるわけではなく、単に洗浄シートの第二の部分２６ｂを所定の場所に保持することを意図している。この実施態様においてはブラシ２８が望ましいが、洗浄シート２６の第二の部分２６ｂの上流端を支持するために他の同等の手段を配置することができる。ブラシ２８を使用することの利点は、たとえブラシの剛毛がワイピングローラ２の表面にたまたま接触した場合にでもワイピングローラ２の表面が傷つかないということである。ブラシ２８は実質的に開口３２を閉鎖し、第二の噴霧ユニット２４によって噴霧されたワイピング液がブラシ２８の設置位置の下流に配置される穴３３を通って流れて液槽１へ戻ることができることが分かるだろう。従って、ブラシ２８が配置される支持プレートのゾーンは、実質的にゾーンＺ１と同じ機能を果たす。
【００４５】
図５及び６は本発明の第二実施態様の斜視図を示しており、図６においては洗浄シート２６の２つの部分２６ａ、２６ｂの半分しか示されておらず、図５においては洗浄シートが省略されている。図から分かる通り、図２及び３に示される第一実施態様と図５及び６に示される第二実施態様との間の主要な相違は支持プレート２５のデザインにある。
【００４６】
第一ゾーンＺ１（ワイピングローラ２の回転方向で見て）において、プレート２５（図２及び３のプレート５と同様）はプレート２５の表面とワイピングローラ２の表面との間にワイピング液を捕捉するために穴を持たないので、ワイピング液の洗浄効率を最大限に高める。プレート２５は、次に行列状に配列される一連の穴３０を備える。これらの穴３０は第一実施態様の穴５’に対応し、ワイピング液が流れて液槽１に戻れるようにする。
【００４７】
第一の一連の穴３０の後に、既述のようにプレート２５は１列の噴霧穴３１を備える。この噴霧穴は第二の噴霧ユニット２４によってフリーゾーン２７（図４を参照）にワイピング液を噴霧できるようにするためにある。
【００４８】
この１列の噴霧穴３１の後に、プレート２５は、ブラシの剛毛が支持プレート２５を通って洗浄シート２６の第二の部分２６ｂの中まで伸びることができるようにブラシ２８のサイズに対応する寸法を持つ１列の穴３２を備える。
【００４９】
最後に、支持プレート２５は、第一の一連の穴３０と同様に行列状に配列されて噴霧されたワイピング液がワイピング作業時に支持プレート２５を通過して液槽１へ戻ることができるようにする別の一連の穴３３を備える。
【００５０】
図７は、第二噴霧ユニット２４及びブラシ配列体２８、２９が支持プレートに固定される場所を示すさらに詳細な斜視図である。第二噴霧ユニット２４を保持するレール２３並びにブラシ２８を保持する支持フレーム２９は支持プレート２５の両側に固定される（図７においては片側しか示されていない）。このために、支持プレート２５は取付け部２５ａ（図５及び６にも示されている）を備え、この部分で、例えばネジによって、レール２３及び支持フレーム２９を支持プレート２５に固定することができる。これらの取付け部２５ａは、洗浄シート２６及びワイピングローラ２の表面に直接向き合うことのないように配置される。これらの取付け部２５ａは洗浄シート２６及びワイピングローラ２の両方の側からずれた位置に配置される。
【００５１】
図８ａ及び８ｂは第一実施態様の洗浄シート６または第二実施態様の洗浄シート２６の第一の部分２６ａの上流端を保持するための締付けメカニズム９をさらに詳細に示す側面図である。既述のように、支持プレート５、２５の上流端は下部バー７と上部バー８との間に留められ、洗浄シート６、２６の上流端は締付けメカニズム９によって上部バー８に留められる。この締付けメカニズム９は液槽１の側壁１ｄに取付けられ、下部バー７及び上部バー８を支える本体９０を備える。可動締付け部材９２は洗浄シート６、２６の上流端を上部バー８の上面に留めるように本体９０に取り付けられ、上面は締付け効率を増すように溝付け形体８ａを持つことが好ましい。
【００５２】
可動締付け部材９２は、上端が部材９４にしっかりと固定されるピン９３に取り付けられ、部材は本体９０に固定される。可動締付け部材９２が上向きに押し上げられるとき（図８ａ及び８ｂに示されるように）バネ部材９５が部材９４と可動締付け部材９２との間で圧縮されるように、バネ部材はこの間に配置される。
【００５３】
洗浄シート６、２６の上流端は、カムメカニズム９１を用いて可動締付け部材９２を上向きに押し上げることによって解除される。カムメカニズムは右回りに回転して可動締付け部材９２の対応する部分９２ａと相互作用する。カムメカニズム９１は、基本的に可動締付け部材９２の部分９２ａと協働するカム９１ａを備え、カムは、本体９０によって支持される回転可能なシャフト９１ｂに取り付けられる。カム９１ａ及び部分９２ａは締付けメカニズム９の両側に配置される。手動でまたは半自動でカムメカニズム９１を回転させることができる。カムメカニズム９１が回転して中立位置に戻ると（図１または４に示される通り）、可動締付け部材９２は圧縮バネ部材９５の作用を受けて下向きに押し戻されて、洗浄シート６、２６の上流端を締め付ける。
【００５４】
図９はワイピングローラ２に対して相対的な支持プレート５、２５の調整のさらなる可能性を示す略図である。２つの取付け位置は、ベース部材１０及びカバー部材１１が配置される支持プレート５、２５の下流端で設定される。図９において太い実線で示される第一位置において、ベース部材１０は湾曲レール１４に対して上部位置に固定されるので、支持プレート５、２５とワイピングローラ２との間の接触面を増大する。図９において細い実線で示される第二位置において、ベース部材１０は下部位置に固定されるので、上部位置に比べて支持プレート５、２５とワイピングローラ２との間の接触面は減少する。図９に示される修正は、湾曲レール１４の位置を調整することなくワイピングローラ２に対して相対的な支持プレート５、２５の位置を（及び、その結果圧力も）調整できるようにする。この調整は、上述の歯車とラックの配列体を用いても可能である。
【００５５】
本発明の主要な利点の１つは、プレートの支持機能と洗浄シートの柔らかさの組合せにあり、それによって支持プレートとワイピングローラの表面とが直接接触するのを防止し、それによって表面の広範囲の磨耗を防止する。実際、前文において述べたように、先行技術の金属板は、通常、硬質材料で作られ、論理的に見てワイピングローラの表面に対してより強い磨耗効果を有する。また、きれいなワイピング液はローラの表面に噴霧されるので、拭き取られたインキは洗浄シートに徐々に蓄積しない。さらに、支持プレートの穴は先行技術において開示されている小さい穴に比べて大きいので、装置全体の効率に影響を与える残留インキ及び粒子による穴の遮断を防止する。さらに、上述の噴霧ホースは比較的閉塞または詰まりが生じにくい比較的広い噴霧穴を備える。
【００５６】
上述の実施態様は非限定的な例として示されており、特許請求の範囲から逸脱することなく当業者にとって自明の修正及び（または）改良が可能であることが分かるだろう。
【００５７】
例えばワイピングローラのサイズに応じてブラシの数を増減できる。第二実施態様においては１列のブラシしか示されていないが、複数列のブラシを使用することができる。さらに、上述のように、他の保持手段を設置するか、または洗浄シートの第二の部分が支持プレートに設けられる穴の保持効果と圧力との組合せによって所定の位置に適切に保持されることを条件としてこれらの保持手段を完全に省略することができる。
【００５８】
支持プレートの穴は長方形で示されているが、例えば丸いまたは細長い穴など他の寸法及び形状とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の第一実施態様に係るインキワイピング装置の側面図を示す。
【図２】第一実施態様の第一の斜視図を示す。
【図３】第一実施態様の第二の斜視図を示す。
【図４】本発明の第二実施態様の側面図を示す。
【図５】第二側面図の第一の斜視図を示す。
【図６】第二実施態様の第二の斜視図を示す。
【図７】第二実施態様の詳細斜視図を示す。
【図８ａ】ワイピング装置の上流端に配置される第一及び第二実施態様の締付けメカニズムの詳細側面図を示す。
【図８ｂ】ワイピング装置の上流端に配置される第一及び第二実施態様の締付けメカニズムの詳細側面図を示す。
【図９】ワイピング装置の下流端に配置される第一及び第二実施態様の締付けメカニズムの詳細側面図を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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【図９】
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【国際調査報告】
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