(57)【要約】  本発明は表面を構造化する方法、すなわち、剛性ガラス要素（１）及び該ガラス要素（１）に付着された少なくとも一つの層（１ａ）を含む製品の平表面上にサブミクロンスケールの横方向の特性寸法を有するパターン（ｆｅａｔｕｒｅ）のアレイを少なくとも一つ形成する方法に関し、構造化は前記層（１ａ）上で行われ、塑性変形又は粘塑性変形による表面構造化はマスク（１０）と呼ばれる構造化された要素との圧力下での接触によって行われ、構造化は製品の表面と平行な連続的な運動及び製品の表面の平面に平行な軸の周りのマスクの運動によって行われる。本発明はさらに、構造化された表面を持つガラス製品、及びその使用に関する。【選択図】図１ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面を構造化する方法、すなわち、剛性ガラス要素（１）及び該ガラス要素（１）に付着された少なくとも一つの層（１ａ）を含む製品の平表面上にサブミリメートルスケールの横方向の特性寸法を有するパターンのアレイを少なくとも一つ形成する方法であって、前記構造化は前記層（１ａ）上で行われ、塑性変形又は粘塑性変形による表面構造化はマスク（１０、１０´、１０´´）と呼ばれる構造化された要素との接触及び圧力の印加によって行われ、前記構造化は前記製品の連続的な並進運動及び前記製品の表面の平面に平行な軸の周りの前記マスクの運動によって行われる、方法。
【請求項２】
特性寸法が５０μｍ未満であって、好ましくはミクロン又はサブミクロンスケールであることを特徴とする請求項１に記載の表面構造化方法。
【請求項３】
表面（１）が０．１ｍ2と等しいか若しくはこれより広い面積、好ましくは０．５ｍ2と等しいか若しくはこれより広い面積を持つことを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の表面構造化方法。
【請求項４】
構造化が、前記連続運動方向の複数のパターンをカバーする接触幅を有する特定の接触表面上で行われ、横方向、すなわち前記運動の方向、の特性寸法に対する前記接触幅の比は、前記パターンの前記横方向の寸法がサブミクロンスケールである場合は５０乃至１００００であり、前記横方向の寸法が少なくともミクロンスケールである場合は、前記横方向の寸法に対する前記接触幅の比は５００乃至５００００であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項５】
前記マスク（１０、１０´´）が、前記製品の表面の平面に対して平行であり好ましくは移動しないものとして選択される前記軸の周りを回転する支持体上に固定され、前記製品（１）が好ましくは該支持体と少なくとも一つの回転裏面支持要素、特に二つの回転裏面支持要素、との間を通過することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項６】
前記マスク（１０´）が、移動可能であり、前記製品の表面の平面に対して平行であり好ましくは移動しないものとして選択される前記軸の周りを回転し、特に回転ローラー系によって駆動され、重なり合った前記マスク及び製品が圧力下に接触される時に構造化が行われることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項７】
マスク支持体と連結された手段、特にはサスペンションシステムによって、前記製品の表面と構造化に用いられる前記マスクの表面とが、接触している間、平行に維持されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項８】
構造化の間、マスク（１０、１０´、１０´´）の表面が、パターンのスケールで、及び／又はより大きなスケール、特には基板のうねりのスケールで、局所的に形状追随するよう変形されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項９】
前記層の表面及び／又は前記マスク（１０、１０´、１０´´）の表面が界面活性剤タイプの非粘着剤、好ましくはフルオロシラン層を含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項１０】
前記層（１ａ）が透明であり、及び／又は稠密若しくは多孔質であり、及び／又は本質的に無機若しくは有機、特にはポリマー、若しくはハイブリッドであり、及び／又は金属粒子が充填されており、及び／又はゾルゲル法で得られたものであり、及び／又は導電性、半導電性、若しくは誘電性であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項１１】
前記層（１ａ）がゾルゲル法により、好ましくはシラン又はシリケートを主体とするゾルを用いて得らること、及び構造化を６５℃乃至１５０℃、好ましくは８０℃乃至１２０℃の温度で行うことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項１２】
構造化を、上部層としてシード層、好ましくは導電性のシード層を含む多層上で行うことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項１３】
前記層（１ａ）の表面が、加熱処理及び／又は照射処理及び／又は制御された雰囲気との相互作用によって構造化が可能な状態とされることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項１４】
前記層（１ａ）の構造化が室温よりも高い温度において行われることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項１５】
前記パターンが、接触の最中及び／又は接触の後に、以下に挙げる処理の少なくとも一つ：加熱若しくは照射処理、又は制御された雰囲気への曝露、によって硬化されることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項１６】
構造化によって、突起物、特に角柱状である突起物のアレイ、及び／又は細長いパターン、特に長方形若しくは三角形の断面を有するパターンのアレイ、又は角度のついた、特にＨ、Ｌ、若しくはＹ字形のアレイ、が形成され、パターン（２）が傾斜していてもよいことを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項１７】
前記パターンを形成するために第一の構造化工程が行われること、及び該パターン上で少なくとも第二の構造化工程が行われることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項１８】
マスクが、各々が異なるパターン及び／又は異なるパターン配向を有する構造化ドメインから構成される場合、前記平表面は構造化ドメインの状態で構造化されることを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項１９】
別の層、好ましくは導電性、半導電性、及び／又は疎水性の層（３）、特に酸化物主体の層を、好ましくは連続して、構造化された層（１ａ）上に堆積する工程を含むことを特徴とする請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項２０】
前記層（１ａ）の構造化に続いて、好ましくは連続して、パターン上若しくはパターン間に導電性層を選択的に堆積する工程、及び／又はガラス基板をエッチングする工程を行うことを特徴とする請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項２１】
前記選択的な堆積が金属層（３）、特に銀層の電着を含むことを特徴とする請求項１乃至２０のいずれか１項に記載の表面構造化方法。
【請求項２２】
請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の方法を実施するための構造化装置であって、パターンのスケールで、及び／又は基板のうねりのスケールで形状追随し、マスク支持体又はマスクへ圧力を印加する手段として作用する形状追随性回転要素（１２０、１２０´、１２０´´）を含むこと、並びに形状追随のための変形可能マスク（１０、１０´、１０´´）を含み、該マスクとマスク支持体が一体的に作られていてもよいことを特徴とする構造化装置。
【請求項２３】
この形状追随性回転要素（１２０、１２０´、１２０´´）が以下に示す要素：バネを主体とする要素、布材料を主体とする要素、フェルトを主体とする要素、工業用発泡体を主体とする要素、又は空気要素、の少なくとも一つから選択されること、及び好ましくは前記マスクが弾性体、特にＰＤＭＳから作られることを特徴とする請求項２２に記載の、前記方法を実施するための構造化装置。
【請求項２４】
請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の方法によって得られる構造化されたガラス製品。
【請求項２５】
前記パターン（２）が表面に対して傾斜していることを特徴とする請求項２４に記載の構造化されたガラス製品。
【請求項２６】
横方向の特性寸法（ｗ）がミクロン又はサブミクロンスケールであって、好ましくは、前記アレイが０．１ｍ2と等しいか若しくはこれより広い面積、好ましくは０．５ｍ2と等しいか若しくはこれより広い面積に広がっていることを特徴とする請求項２４又は２５のいずれかに記載の構造化されたガラス製品。
【請求項２７】
前記パターンが高さｈ、幅ｗ、及び間隔ｄによって決まり、間隔ｄが１０乃至５００μｍの間で選択され、比ｈ／ｗが５と等しいか又はこれより小さい値で選択され、比ｗ／ｄが２×１０-5乃至５×１０4の間で選択されることを特徴とする請求項２４乃至２６のいずれか１項に記載の構造化された製品。
【請求項２８】
建築用、特に赤外線回折格子を含む太陽光制御及び／若しくは熱制御ガラス、自然光誘導用ガラス、又は自動車若しくはエレクトロニクスに使用されるガラス、又はマイクロ流体用途、又は可視光若しくは赤外線を反射する偏光子などの光学機能を有するガラス、又は特に液晶ディスプレイ用、発光装置の光抽出手段用である光を前面へ誘導する要素、又は疎水性若しくは親水性ガラス、として使用されることを意図していることを特徴とする請求項２４乃至２７のいずれか１項に記載の構造化された製品。
【請求項２９】
特に反射偏光子を形成するために、細長い誘電性パターン（２）のアレイと該誘電性パターンに隣接する、及び／若しくは重なっている細長い金属パターン（３）のアレイとを含むこと、並びに／又は、特に光を前面に誘導することを意図した要素を形成するために、幅が５０μｍと等しいか若しくはそれ未満であり、その傾きの絶対値が平均して１０°と等しいか若しくはそれを超える幾何学的パターンのアレイを含み、該パターンが規則的に若しくはランダムに分布していることを特徴とする請求項２４乃至２８のいずれか１項に記載の構造化された製品。
【請求項３０】
拡散層、特に本質的に無機層である拡散層を構造化とは反対側の面上に有し、並びに／又は、構造化された層の下、及び／若しくは任意の拡散層の下に配置された、屈折率がガラス基板よりも低い層、特に多孔質層を有することを特徴とする請求項２４乃至２９のいずれか１項に記載の構造化された製品。
【請求項３１】
サブミクロンスケールの横方向の寸法ｗ、１５０ｎｍ乃至７００ｎｍのピッチｐ、及び１μｍ、特には２０乃至２００ｎｍの高さｈを有する少なくとも一つの周期的なアレイを含み、前記パターンが特に長方形の断面を持ち、該アレイが発光装置を形成するために発光システムと合わせることができるガラス基板の面内若しくは面上にあってもよいこと、並びに／又は、ミクロンスケールの横方向の寸法ｗ、５０μｍ未満の高さｈを有する周期的なアレイを含み、特に幾何学的パターンが整列した状態若しくはずれた状態で、発光装置を形成するために発光システムと合わせることができるガラス基板の面とは反対側の面内若しくは面上に六角形のアレイを形成することを特徴とする請求項２４乃至２８のいずれか１項に記載の構造化された製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面構造化の分野に関し、詳細には、ガラス製品を構造化する方法、構造化されたガラス製品、及びその使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
材料の構造化は、多くの技術分野における応用が考えられることから、大きな関心を集めている。
【０００３】
幾何学的なパターンのアレイを作り出すことにより、材料に対して、その体積組成及び体積特性を変えることなく新たに新規な機能が付与される。
【０００４】
従って、特にローリング加工技術、レーザーエッチング技術、又は化学エッチング技術により、ガラス製品上に（ガラス基板上に直接、又はコーティング上に）周期的な繰り返しパターンを描画してミリメートルスケール又は１０分の１ミリメートルのオーダーでのパターンを得ることはすでに行われている。
【０００５】
より小さい特性寸法、特にミクロン若しくはサブミクロンスケールの幅又は周期を有するパターンに対しての構造化技術は、主にリソグラフィ技術（光リソグラフィ、電子ビームリソグラフィ、など）であり、マイクロエレクトロニクスにおいて小型集積光学素子のために使用される。
【０００６】
しかし、以下に示す１又は２個以上の理由から、これらの技術は大量のガラス製品を製造する方法には適していない：
‐コストが高いこと；
‐時間がかかること（スキャンのため）及び複雑であること（いくつかの工程があるため）；
‐パターンのサイズに限界があること（波長による）；及び
‐構造化可能な表面が小さいこと。
【０００７】
より最近の代替技術は一般にエンボス加工と呼ばれ、これを用いて、周期的に複製される基本パターンが型からガラス基板上の軟質層へ転写される。
【０００８】
この層は、複製されるべきパターンを有する平面形状の押し型を下げることによって構造化され、そのパターンはＵＶ又は熱を加えることで固定される。
【０００９】
軟質層は、典型的には、無機前駆体を出発物質とするゾルゲル法によって作製される。
【００１０】
この方法は、電気通信分野の部品の製造、又は全く別の分野である親水性層を有するガラスの製造に用いられる。例えば、ＦＲ２７９２６２８には、疎水化されたゾルゲル材料を成型して得られた、凸部（穴部、くぼみ部、又は溝部）を有する疎水性ガラスについて記載されている。
【００１１】
この技術がリソグラフィ方法よりも優れた点は数多い。
【００１２】
コストの面では、同じ押し型を何回も繰り返し使用することができ、一つの原型から数多くの複製を得ることができる。
【００１３】
速度の面では、いくつかのパターン形成工程が必要である他のリソグラフィ技術と異なり、これは一段階で行われる方法である。
【００１４】
パターンサイズの面では、押し型上のパターンのサイズが、所望のパターンのサイズを限定する主たるパラメータであり、波長によって限定される光リソグラフィとは異なる。
【００１５】
平面形状の押し型を用いるこのような公知のエンボス技術は、生産力という点でまだ十分ではなく（製造に要する時間及び生産回数の限界）、大型で剛性かつもろい表面に対するこの技術の実施は満足の行くものではない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
従って、本発明の目的は、工業的な制約：低コスト並びに／又はデザインの容易さ並びに／又はあらゆる表面サイズ及びパターンサイズへの適合性、に合った、高性能構造化ガラス製品を製造する方法を提供することである。
【００１７】
特に新規な機能及び／又は用途を有する新規な形状を得るために、入手可能な構造化ガラス製品の範囲を広げることも、この方法の目的である。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
この目的のために、本発明はまず、表面を構造化する、すなわちガラス製品の平表面上、特に平面状製品の主面上に、サブミリメートルスケールの横方向の特性寸法を有するパターンのアレイを少なくとも一つ形成する方法を提供し、この製品は剛性ガラス要素及び該ガラス要素に付着された層を少なくとも一つ含み、構造化は該層上で行われ、塑性変形又は粘塑性変形による表面構造化はマスクと呼ばれる構造化された要素を接触させ、圧力を加えることで行われ、構造化は、前記製品の連続的な並進運動及び製品表面の平面に平行な軸周りのマスクの運動によって行われる。
【００１９】
従って、本発明の表面構造は、マスクの製品に対する相対的な運動又は製品のマスクに対する相対的な運動によって描画される。例えば、マスク又は製品が、製品の表面と平行な方向に（任意に回転運動と組み合わせて）並進運動する。
【００２０】
とりわけ、製品が並進運動を行い、マスクが回転運動、又は製品の流れを妨げたり製品が大きく減速することを妨げたりする傾向にないその他の移動を行う。
【００２１】
マスクを動かすことによって、製品の並進運動を誘起したり又は製品の並進運動に関与したりすることもできる。
【００２２】
この、又はこれらの運動は連続的であるが、接触、従って構造化は逐次的であってよい。
【００２３】
この、又はこれらの運動は、再現性を確保するために一定の速度で行われてよく、又は様々な種類の構造化を行うために１若しくは２種類以上の可変速度で行われてもよい。
【００２４】
さらに、本発明の構造化が運動によって行われることから、マスクツールの位置決め工程、すなわち典型的には平面状の押し型を上げ下げする工程、を省くことによって生産速度を上げることが可能である。さらに、マスクの位置合わせも容易になる。
【００２５】
本発明の構造化の方法は、容易に自動化可能であり、製品上で行われる他の加工作業と組み合わせることもできる。従ってこの方法により生産工程が簡略化される。
【００２６】
この方法は、大量の及び／又は大スケールでの製品の製造、特にエレクトロニクス用のガラス製品及び特に建築物用若しくは自動車用の窓に適している。
【００２７】
当然、製造パラメータ（圧力、接触時間、など）はガラス要素の靭性に従って調節される。
【００２８】
運動の速度及び製品とマスクとの圧力下での接触時間は、構造化される表面の性質、特に：
‐粘度及び表面張力；及び
‐場合によっては、所望のパターンの種類（マスクのパターンの最も忠実な再現、又は意図的に先端が欠けた形での再現、など）、
に従って調節される。
【００２９】
本発明に関連する範囲内において、「ガラス要素」という用語は、無機ガラス（ソーダ石灰シリカ、ホウ珪酸塩、ガラスセラミック、など）及び有機ガラス（例えば、ポリウレタン、ポリカーボネートなどの熱可塑性ポリマー）の両方を意味するものであると理解される。
【００３０】
本発明に関連する範囲内において、標準温度と標準圧力の条件下での弾性係数が、無機要素の場合は少なくとも６０ＧＰａ、有機要素の場合は少なくとも４ＧＰａである要素を「剛性」と言う。
【００３１】
ガラス要素は透明、特に全光透過率が少なくとも７０乃至７５％であることが好ましい。
【００３２】
ガラス要素の組成に関しては、用途にとって有用なスペクトルの部分、一般的には３８０乃至１２００ｎｍの範囲のスペクトルにおける線吸収係数が０．０１ｍｍ-1未満であるガラスを用いることが好ましい。
【００３３】
さらに好ましくは、高透過ガラス、すなわち３８０乃至１２００ｎｍの波長範囲のスペクトルにおける線吸収係数が０．００８ｍｍ-1未満であるガラスが用いられる。例えば、Ｓａｉｎｔ‐Ｇｏｂａｉｎ  Ｇｌａｓｓ社のＤｉａｍａｎｔシリーズのガラスを選択することができる。
【００３４】
ガラス要素は一枚構造でも、積層されていても、又は二成分であってもよい。構造化の後、製品は、強化、成形、積層など、種々のガラス加工工程に付されてもよい。
【００３５】
ガラス要素は、例えば無機ガラスの場合で０．１ｍｍのオーダーの厚さ、有機ガラスの場合で１ミリメートルのオーダーの厚さといった薄いものであってよく、又は、例えば厚さが数ｍｍ若しくは数ｃｍと等しいか若しくはそれより厚いといったような厚いものでもよい。
【００３６】
本発明による構造化を行う前の段階で、表面は必ずしも平滑である必要はなく、構造化形状を有していてもよい。
【００３７】
マスク上のパターンは必ずしも複製されるパターンのネガ型である必要はない。従って、最終的なパターンはいくつかのマスク又は何回かの操作によって形成されてもよい。
【００３８】
マスクは、サイズ（幅若しくは高さ）及び／又は配向及び／又は間隔が異なるパターンを持ついくつかの領域を有してもよい。
【００３９】
意図する構造化の形状によっては、この方法は必ずしも完全に幾何学的な形状をもたらさなくてもよい。特に角のあるパターンの場合、所望の性能を損なわずにパターンの角を丸めてもよい。
【００４０】
本発明の構造化の方法により、容認することができる、すなわち所望の性能を損なうことのない構造欠陥の許容範囲内で、さらに大きな表面上にパターンのさらに小さい特性寸法を実現することも可能となる。
【００４１】
この製造方法によって脆性材料の構造化が可能となり、大型のガラス基板に新規な形状が提供される。
【００４２】
層の構造化を行う間、ガラス（無機又は有機）要素は剛性である状態が保持され、その表面は構造化が可能な状態にされないことが好ましい。
【００４３】
一つの有利な態様において、幅とも称するパターンの横方向の特性寸法は５０μｍ未満であり、１０μｍ未満が好ましく、ミクロン又はサブミクロンスケールがさらに好ましい。
【００４４】
有利に、構造化は、０．１ｍ2と等しいか又はこれより広い面積、さらに好ましくは５ｍ2と等しいか又はこれより広い面積を有する製品上で連続的に行うことができる。特に、製品の幅は１ｍと等しいか又はこれより大きくてもよい。
【００４５】
有利に、構造化は、前記連続運動の方向の複数のパターンを含むことができる接触幅を有する、接触表面と称する特定の表面上で行われる。
【００４６】
横方向の、すなわち前記運動方向の特性寸法に対する接触幅の比率は、横方向の寸法がサブミクロンスケールの場合、５０と１００００の間、特には１００と１０００の間から選択される。
【００４７】
横方向の特性寸法に対する接触幅の比率は、横方向の寸法が少なくともミクロンスケールの場合、５００と５００００の間、特には５００と１０００の間から選択される。
【００４８】
さらに、接触表面の長さは３０ｃｍと等しいか又はそれより長くてもよい。
【００４９】
有利に、マスクは曲面構造でもよい。ところで、従来技術の平面形状の押し型と製品との間は平面同士で接触しており、このためこの種の接触は圧力が均一に分布せず、系統的にマスクの中央部の圧力が低くなる。さらに、平面／平面接触によって成形型の端部に高い応力が生じ、ここで破壊領域が発生することが多い。
【００５０】
曲面構造のマスクを用いることにより、構造化されるガラス製品の面積が大きい場合でも接触面積は小さくなり、そのため接触領域のより良い制御が可能となる。表面全体の構造化は１又は２個以上の帯状で順次行われるため、変形可能な材料がマスクの凹部へより入り込みやすくなり、マスクのキャビティ内に存在する空気がより多く押し出され、複製されたパターンがより忠実なものとなる。
【００５１】
第一の構成では、マスクは、製品表面の平面と平行な前記軸の周りを回転する支持体に固定され、好ましくは移動しないよう選択され、製品が支持体と回転裏面支持要素（ｒｏｔａｒｙ  ｂａｃｋｉｎｇ  ｅｌｅｍｅｎｔ）との間を通過することが好ましい。
【００５２】
曲面構造の回転支持体は、例えば単純な円筒部材であってよく、又は例えば多角形表面などの部分的に円形内に収まる表面を有してもよい。さらに、マスクは必ずしも、その表面全体に複製されるパターンを有している必要はない。
【００５３】
回転軸は、必ずしも製品の運動方向に対して垂直である必要はない。
【００５４】
マスクは、以下に示す手段の１又は２種類以上によって支持体へ固定することができる：
‐支持体にボルト留めされた棒部材；
‐リング部材；
‐マスクを支持体に対して押し付けるのに十分な数の磁石；
‐静電力発生品（ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ  ｆｏｒｃｅ  ｐｒｏｄｕｃｔ）；
‐真空発生品（ｖａｃｕｕｍ  ｐｒｏｄｕｃｔ）（ポンプと接続された空孔部による）；
‐付着性物質、低融点の金属層、両面付着テープ（修飾ポリエステル／アクリレート樹脂）、又は磁化付着テープ。
【００５５】
製品が流れる速度に対するマスクの回転速度の比は、製品と構造化用マスクとの間の（圧力下での）接触に必要な接触時間に応じて調節される。
【００５６】
構造化は、好ましくは製品が、支持体と、特に形は同一だがサイズは異なっているか又は同一である適切な回転「裏面支持」要素との間を通過する時に行うことができる。回転支持体及び回転「裏面支持」要素の回転速度は、独立したモーターによって制御することができる。
【００５７】
特に、単一の回転裏面支持要素をいくつかの、少なくとも二つの、裏面支持体（ｂａｃｋｉｎｇ  ｓｕｐｐｏｒｔ）で置き換えて、ガラス製品上の圧力を分配することができる。
【００５８】
軸は移動可能であり、特に製品表面に平行な方向への並進運動を行う。
【００５９】
従って、第二の構成では、回転支持体上のマスクは製品の表面上を転がりながら移動し、表面を構造化するのに十分な圧力を印加する。
【００６０】
横滑りを避けるために、及び／又は製品を進めるために、マスクは一定の摩擦を有することができる。典型的には、支持体のガイドとしてその側面上に摩擦帯を作製することができる。
【００６１】
第三の構成では、マスクは、移動可能であって製品表面の平面に平行な軸周りを回転し、好ましくは移動しないように選択され、構造化はマスクと製品が圧力を印加することによって接触された時に行われる。
【００６２】
マスクは、例えば回転するローラーから成り、その少なくとも一つ、好ましくは中央に位置するものが加圧手段の一部を形成する種類の輸送システムによって駆動される。
【００６３】
例えば、マスクの動きは卵形又は楕円形を成す。
【００６４】
さらに、構造化に用いられるマスクの表面が製品平表面と一定の角度を成す場合がある。
【００６５】
従って、層の表面と構造化に用いられるマスクの表面とを、接触の間、マスクの支持体に取り付けられた手段、とりわけサスペンションシステムによって（自動的に）平行に保持できることが好ましい。
【００６６】
構造化を行う間、マスク表面は、好ましくはいくつかのスケール：局所的、従ってパターンのスケール、及び／又は大スケール、特に基板のうねりのスケールでの一定量のコンプライアンス（追従）を持って、特に圧縮又は沈み込みによって変形することができる。
【００６７】
従って、このことにより、埃粒子、又は例えば製品表面上（欠陥など）及び／若しくは存在する場合のあるうねりなどの欠陥に局所的に適合することによって接触の質が向上される。
【００６８】
マスクのパターンが小さくなるほど、マスクが製品表面と接触する面積が増大するために製品表面との相互作用が大きくなる。さらに、マスクの表面は酸化される場合がある。
【００６９】
さらに、この起こりうる二つのマスクによる汚染の影響に対応するため、平表面及び／又はマスクは、有利に、界面活性剤タイプの非粘着剤を含むことができる。
【００７０】
この目的のために、Ｓ．Ｐａｒｋ、Ｊ．Ｇｏｂｒｅｃｈｔ、Ｃ．Ｐａｄｅｓｔｅ、Ｈ．Ｓｃｈｉｆｔ、Ｋ．Ｖｏｇｅｌｓａｎｇ、Ｂ．Ｓｃｈｎｙｄｅｒ、Ｕ．Ｐｉｅｌｅｓ、及びＳ．Ｓａｘｅｒ著、「Ｉｍｐｒｏｖｅｄ  ａｎｔｉ‐ａｄｈｅｓｉｖｅ  ｃｏａｔｉｎｇ  ｆｏｒ  ｎａｎｏｉｍｐｒｉｎｔ  ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」、Ｐａｕｌ  Ｓｈｅｒｒｅｒ  Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ｒｅｐｏｒｔｓ、２００３年、に記載のように、使用前にマスク表面又は基板表面にフルオロシラン層を付着することができる。この層は厚さが数ナノメートルを超えないことが好ましく、これによってマスクのキャビティを埋めてしまうことによってたとえサブミクロンのスケールでもパターンの形を変えてしまうリスクがなくなる。このような非粘着層を形成することによって、マスクを数回使用することも可能になる。
【００７１】
構造化は（任意にガラス要素が構造化された後に）、該ガラス要素に付着された少なくとも一つの層上で行われる。
【００７２】
この構造化を受ける層は、粘着結合などによって付着されてもよく、又は好ましくは前記のガラス基板上に堆積されてもよい。この層は、ガラス基板上の多層積層体の一部を形成する。
【００７３】
この層は無機層でもよく、特にポリマーなどの有機層でもよく、又はハイブリッド層でもよく、金属粒子が充填されていてもよい。
【００７４】
この層は、例えば屈折率がガラス（典型的には約１．５）よりも大きいなど、完全に透明であってもよい。
【００７５】
この層は緻密質であってよく、又は多孔質若しくはメソ多孔質であってもよい。
【００７６】
この、又はこれらの層は、特に、例えば以下に示す工程を含むゾルゲル方法によって得ることができる：
‐層を構成する物質、酸化物の前駆体であるゾル、特にシリコンアルコキシド又はハロゲン化シリコンなどの加水分解性化合物を、特に水性及び／又はアルコール性の溶媒中で熟成させる工程；及び
‐前駆体を縮合し、必要に応じて溶媒を除去して粘度を上昇させる工程。
【００７７】
多くの化学元素によってゾルゲル層の主成分を形成することができる。主たる構成物質として、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｗ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｖ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｎ、及びＣｅの元素の少なくとも一つから得られる少なくとも一つの化合物を含むことができる。特に、前述の元素の少なくとも一つの単純酸化物又は混合酸化物を含むことができる。
【００７８】
この層は、特にそのガラス要素に対する付着性及び適合性のために、主にシリカを主成分とすることができる。
【００７９】
目安のために、６００ｎｍにおける屈折率は、通常、シリカ層は約１．４５、酸化チタン層は約２、そしてジルコニア層は約１．７である。
【００８０】
この層を構成する物質の前駆体ゾルはシラン又はシリケートであってよい。
【００８１】
完全に無機である層としては、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）又は珪酸リチウム、珪酸ナトリウム、若しくは珪酸カリウムを主成分とする層を選択し、例えばフローコーティングなどで塗布することができる。
【００８２】
従って、この層は水溶液中の珪酸ナトリウムであってよく、これをＣＯ2雰囲気下に曝露して硬質層とする。
【００８３】
ハイブリッド層としては、非反応性の有機基を有する有機シランであるメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）を主成分とする層を選択することができる。ＭＴＥＯＳは加水分解基を３個有する有機シランであり、その有機部位は非反応性のメチルである。これを用いると厚い層を形成することができる。この化合物を主成分とするゾルの合成は、一段階で行われ、加熱の必要がないため非常に容易である。さらに、調製されたゾルは安定であり、ゲル化することなく数日間保存可能である。
【００８４】
有機成分、無機成分、又はハイブリッド成分（着色剤、フォトクロミック材料、無機若しくはハイブリッドナノ粒子）をゾルゲルマトリックス中に封入することができる。
【００８５】
ゾル層は緻密質であってよく、又は特に界面活性剤などの孔形成剤によって構造化されていてもよい多孔質若しくはメソ多孔質であってもよい。
【００８６】
この合成は、好ましくは室温において希釈水溶液中にて行うことができる。これは、環境被害を低減する及び省エネルギーの方法であると言う二つの利点を持つ。
【００８７】
ゾルゲルマトリックスは有機界面活性剤を用いてメソ構造化することもできる。該マトリックスは官能性を持たせることもできる。
【００８８】
ゾルゲル方法については、例えばＢｒｉｎｋｅｒ及びＳｈｅｒｅｒによる著書（Ｃ．Ｊ．Ｂｒｉｎｋｅｒ及びＧ．Ｗ．Ｓｃｈｅｒｅｒ著、「Ｓｏｌ‐ｇｅｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ」、Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ、１９９０年）に記載されており、この中では有機／無機ハイブリッド材料の合成方法について述べられている。このようなハイブリッド材料は、単純（未修飾）金属アルコキシドの存在下で若しくは非存在下で縮合された、有機基で修飾されたハロゲン化金属又は金属アルコキシドを加水分解することで合成することができる。例えばシロキサンを主成分とする有機／無機ハイブリッド材料を挙げることができ、ここで二官能又は三官能の有機シランを、主としてＳｉ（ＯＲ）4、Ｔｉ（ＯＲ）4、Ｚｒ（ＯＲ）4、又はＡｌ（ＯＲ）4である金属アルコキシドと共に共縮合する。例としては、Ｆｒａｕｎｈｏｆｅｒ  Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ社より販売されているＯＲＭＯＣＥＲ（ＯＲｇａｎｉｃａｌｌｙ  ＭＯｄｉｆｉｅｄ  ＣＥＲａｍｉｃ（有機修飾セラミック））という製品が挙げられる。
【００８９】
ＭｉｃｒｏＲｅｓｉｓｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社より販売されているＯＲＭＯＳＩＬ（ＯＲｇａｎｉｃａｌｌｙ  ＭＯｄｉｆｉｅｄ  ＳＩＬｉｃａｔｅ（有機修飾シリケート））及びＯＲＭＯＣＥＲ  ＣＥＲＡＭＥＲ（ＣＥＲＡｍｉｃ  ｐｏｌｙＭＥＲ（セラミックポリマー））という製品も挙げることができる。
【００９０】
有機基はいかなる有機官能基であってもよい。これは、ネットワークを修飾する働きをする単純非加水分解性基であってもよい。これによって、柔軟性、疎水性、屈折率、又は光学応答など通常の性質を調整することができる。このような基は反応性であることができ（ビニル基、メタクリル基、若しくはエポキシ基を持つ場合）、基同士で、又は追加的な重合性モノマーと反応することができる。
【００９１】
後者の有機重合は、例えば温度又は照射処理（光重合）によって誘発することができる。
【００９２】
この層は、２種類の異なる有機シランの反応性有機基から形成される、重なり合った形の有機／無機ネットワークから構成されていてもよい。
【００９３】
この合成は、それぞれＡ及びＹという記号で表すアミノシラン（３‐アミノプロピルトリエトキシシラン）及びエポキシシラン（γ‐グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン）を用いて行う。この生成物を用いることでガラスが強化される。この生成物は、エポキシ基とアミノ基との有機反応、及びシラノールの無機縮合反応の両方によって架橋している。従って、一つは有機、もう一つは無機という２種類の重なり合った形のネットワークが形成されることになる。
【００９４】
ゾルゲルは、熱処理に対する耐性（例えば曲げ、強化といった種類の加工における高温でも）、及びＵＶ曝露への耐性を持つという利点を有する。
【００９５】
好ましくは、構造化される層の厚さは５０ｎｍ乃至５０μｍであって、より好ましくは１００ｎｍ乃至１２μｍである。
【００９６】
特に時間が経つにつれて変化していくゾルゲルの場合、層の堆積後早く構造化を行うほど良い結果が得られる。
【００９７】
前記の層の堆積を行う工程を、構造化を行う生産ライン上で提供することも可能である。
【００９８】
有機層を堆積する方法としては、特に以下の題名の論文、Ｗ‐Ｓ．Ｋｉｍ，Ｋ‐Ｓ．Ｋｉｍ，Ｙ‐Ｃ．Ｋｉｍ及びＢ‐Ｓ．Ｂａｅ，「Ｔｈｅｒｍｏｗｅｔｔｉｎｇ  ｅｍｂｏｓｓｉｎｇ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｏｒｇａｎｉｃ-‐ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  ｈｙｂｒｉｄ  ｍａｔｅｒｉａｌｓ」，２００５，Ｔｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ，４７６（１），１８１‐１８４、に記載のように、ゾルをディップコーティング又はスプレーし、続いてドクターブレード若しくはブラシによって液滴を広げるか、又は加熱する方法が好ましい。方法としてスピンコーティングを選択することもできる。
【００９９】
構造化は、続いて行われる電着のために導電性であることが好ましいシード層を上層として有することが好ましい多層上で行うことができる。
【０１００】
層の表面は、以下に挙げる処理のうちの少なくとも一つによって構造化可能とすることができる：加熱処理、照射処理（ＵＶ、ＩＲ、マイクロ波）、又は制御された雰囲気との相互作用（例えばＣＯ2などのガスによる珪酸ナトリウム層の固定化）。
【０１０１】
表面の到達温度は、構造化される層及び構造化条件（接触時間、圧力など）に応じて様々に変えることができる。
【０１０２】
例えば、熱可塑性ポリマーは、エンボス加工が可能なようにそのガラス転移点より高い温度まで加熱される。
【０１０３】
表面は接触の直前に又はその接触によって構造化が可能な状態とすることができる。従って、マスクは、支持体の内部及び／若しくは加圧手段の内部又は二つの裏面支持体の間に設置したカートリッジヒーターによって加熱することができる。接触面における製品及び／又はマスクの表面温度を検知するために、温度センサーを用いることができる。
【０１０４】
加熱は、赤外線ランプ若しくはハロゲンランプ、又は加熱流体によって行うことができる。
【０１０５】
この補助的な処理（加熱処理、照射処理など）は、接触工程の一部の間を通じて継続してもよく、又は停止してもよく、又は製品を硬化するために逆の処理（冷却など）を行ってもよい。
【０１０６】
全接触工程は室温を超える温度で行うことができる。
【０１０７】
ここで、層はおおよそ構造化が可能であり、その構造を維持することができる。ゾルゲルの場合、堆積された状態の層は室温でエンボス加工することができるが、低温エンボス加工されたパターンは不明瞭となる傾向があり、続いて行われる硬化に必要な加熱の際に層が流動化しているものと推察される。
【０１０８】
従って、高温下で転写を行うことが好ましい。しかし、温度は高すぎてはならず、高すぎると構造が速く硬化され過ぎてマスクが層内へ完全に沈み込むことができない。
【０１０９】
構造化は好ましくは６５℃乃至１５０℃の温度で行うことができ、特にシラン、特にはＴＥＯＳを主体としたゾルゲルの場合、１００℃乃至１２０℃であることが好ましい。
【０１１０】
エンボス加工の圧力の限界は温度と共に上昇する。
【０１１１】
製品をマスクから取り外す前に表面を十分に硬化することで構造が失われないようにすることができる。
【０１１２】
従って、パターンは、接触の最中及び／又は接触の後に、以下に挙げる処理の少なくとも一つによって硬化する（若しくは少なくとも硬化し始める）ことが好ましい：加熱処理、照射処理、制御された雰囲気への曝露、表面の機械的性質を変化させる処理。
【０１１３】
接触の開始直後から硬化を始めてもよい。
【０１１４】
熱可塑性ポリマー、特にポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）の場合は、接触の最中に冷却して固定し、これによってマスクの構造が保持され「脱型」によってパターンの忠実な複製が得られる。
【０１１５】
光架橋性ポリマーの場合は、層をＵＶへ曝露することによって硬化する。
【０１１６】
パターンは、凹状及び／又は凸状の形であってよく、特に互いに平行及び／又は一定の間隔である細長い形状であってよい（波型パターン、ジグザグ型パターンなど）。パターンは傾斜した形でもよい。
【０１１７】
構造化によって形成されるのは、例えば、特に角柱状である突起物（ｓｔｕｄ）のアレイ、及び／又は特に長方形、三角形、台形、若しくはその他の形の断面を有する細長い形状のアレイである。
【０１１８】
構造は周期的であってよく、擬似周期的、準周期的、又はランダムであってもよい。
【０１１９】
細長い形状のパターンは、特にマイクロ流体への応用のために、例えばＨ、Ｙ、又はＬ字の形に角度のついた形状でもよい。
【０１２０】
表面の構造化は、例えばパターンがより小さいサイズであるなどの、類似の又は異なるマスクを用いて数回、好ましくは連続して行ってもよい。
【０１２１】
さらに、パターンそのものを構造化してもよい。
【０１２２】
例えば、構造化された表面が疎水性であって、パターンが長方形の断面である場合、パターンを長方形の（サブ）パターンで構造化することによって疎水性が高まる。
【０１２３】
前記製品の二つの主表面を、同時に又は順に、類似の又は異なるパターンによって構造化してもよい。
【０１２４】
方法は、構造化された表面に層を堆積させ、続いて少なくとも一つの新たな構造化を行う工程を含んでもよい。
【０１２５】
方法は、清浄な雰囲気下（クリーンルームなど）で行われることが好ましい。
【０１２６】
一つの態様において、マスクを、異なるパターン（形状若しくは特性寸法の一つ、特にピッチｐが異なる）を有する、及び／又は配向が異なるパターンを有する構造化ドメインから構成した場合、平表面は構造化ドメインの状態で構造化される。
【０１２７】
特に、いくつかの（同じか又は異なる）サブマスクを用いて大きなマスクを形成することもできる。これによって、マスクの製造が容易になり、より自由度が高まる（磨耗又は欠陥などの場合、必要であればマスクの一つを交換することができる）。
【０１２８】
導電性、半導電性、及び／又は疎水性の層、特に酸化物を主体とする層を堆積する工程は、構造化又は一回目の構造化に引き続いて行うことができる。
【０１２９】
この堆積は連続的に行われることが好ましい。
【０１３０】
例えば、この層は銀又はアルミニウムの金属層である。
【０１３１】
構造化された表面上、例えば誘電性若しくは導電性の低いパターン上又はその間に、導電性層（特に酸化物を主体とする金属層）を選択的に堆積する工程を提供することが有利であり得る。
【０１３２】
例えば、特に銀又はニッケルなどの層を電解堆積することもできる。後者の場合、電解用の電極を形成するために、構造化された層は有利に、ゾルゲルタイプの（半）導電性層若しくは誘電性層、金属粒子が充填された層、又は導電性のシード層を上層に有する多層とすることができる。
【０１３３】
電解性混合物の化学ポテンシャルを調節して、高曲率の領域に選択的に堆積されるようにする。
【０１３４】
層が構造化された後、パターンのアレイをガラス基板及び／又は下にある層へ、特にエッチングにより転写することも考えられる。
【０１３５】
構造化された層は、その一部又は全部を除去することもある犠牲層であってもよい。
【０１３６】
本発明はさらに、マスクの支持体として及び／又はマスクへの圧力印加手段として作用し、パターンのスケール及び／又は基板のうねりのスケールで形状追随する（ａｃｃｏｍｍｏｄａｔｉｎｇ）回転要素と、その形状追随（ａｃｃｏｍｍｏｄａｔｉｏｎ）のために変形可能なマスクと、を有する、上述の方法を実行するための構造化装置に関する。
【０１３７】
マスクとマスク支持体は、例えば中空又は中実のローラーなど、一体部品として作製することができる。
【０１３８】
これは、いくつかのスケールで沈み込むことが可能な要素を、マスクの複製用のパターンがある面とは反対側の面に組み合わせることにより可能である。
【０１３９】
前述の、マスクが移動しない第一の構成及びマスクが固定される第二の構成においては、この要素は支持体とマスクとの間に位置する中間要素としてもよい。
【０１４０】
マスクが移動可能な前述の第三の構成においては、この要素は圧力印加手段の一つの上にあってもよい。
【０１４１】
例えば環状部材などのこの形状追随性要素（ａｃｃｏｍｍｏｄａｔｉｎｇ  ｅｌｅｍｅｎｔ）は以下のようであってよい：
‐バネが主体のもの；又は
‐布タイプの材料（有機若しくは無機、特に炭素繊維若しくはガラス繊維）、若しくはフェルトが主体のもの；又は
‐繊維状若しくは非繊維状で、特にゴム、ポリイミド、二トリル、ＥＰＤＭなどから作られた工業用弾性発泡体が主体のもの；又は
‐流体（液体若しくは気体）が充填されたバッグを含む空気部材。
【０１４２】
マスクは方法条件（耐性、熱など）に適合する材料から作られ、例えばニッケルなどの金属から作られることが好ましい。構造化用のパターンを有するのは、マスクの一部及び／又は一領域だけであってよい。
【０１４３】
マスクは弾性体、特に、任意にＴＭＣＳ（トリクロロメチルシロキサン）で表面処理されたＰＤＭＳ（ポリジメチルシロキサン）から作製されていてもよい。
【０１４４】
本発明はさらに、上述の方法で得ることのできるガラス製品に関する。
【０１４５】
このガラス製品は前述のすべての利点（低生産コスト、パターンの均一性など）を有する。
【０１４６】
前記のパターンは、表面に対して傾斜していてもよい。
【０１４７】
パターンの特性寸法、特に幅は、ミクロン又はサブミクロンスケールであることが好ましく、アレイは０．１ｍ2と等しいか若しくはこれより広い領域に広がっていることが好ましく、０．５ｍ2と等しいか若しくはこれより広い領域に広がっていることがより好ましい。
【０１４８】
構造化されたガラス製品は、エレクトロニクス、建築、若しくは自動車での用途を意図することができ、又は幅ｗが１０乃至８００μｍであって深さｗが１０乃至５００μｍである角度付きチャネルによってマイクロ流体用途を意図することもできる。
【０１４９】
とりわけ、種々製品、特にガラス製品を挙げることができ、すなわち：
‐化学的性質を調節した（「超」疎水性又は親水性）製品；
‐光学製品、特にＬＣＤタイプのフラットスクリーンにおけるライト又はバックライトシステム用光学製品（反射偏光子、光を前面へ誘導する要素など）、特に、発光装置用の光抽出手段で、例えば表示スクリーン、電飾、及び信号用途を意図した光学製品；及び
‐建築用の製品、特に、好ましくは周期ｐが２００乃至１５００ｎｍであり、赤外線を回折する回折格子を含む太陽光及び／若しくは熱調節用ガラス、又は好ましくは周期ｐが１００ｎｍ乃至５００μｍであり、可視光を回折若しくは反射する、自然採光ガラス（ｄａｙｌｉｇｈｔｉｎｇ  ｇｌａｚｉｎｇ）と呼ばれる自然光を誘導するガラス、
が挙げられる。
【０１５０】
格子は３Ｄ格子であってよく、より詳細には２Ｄ格子であってよく、パターンの特性寸法の一つは本質的に表面の好ましい方向に対して一定である。
【０１５１】
構造は周期的であってよく、擬似周期的、準周期的、又はランダムであってもよい。
【０１５２】
平表面の反対側の表面も構造化及び／又は機能層で被覆されてもよい。
【０１５３】
構造化に伴う機能及び特性は、以下に示す特性寸法に依存する：
‐パターンの高さｈ（高さが数多く存在する場合は最大高さ）及び幅ｗ（幅が数多く存在する場合は最大幅）、並びに特にはｈ／ｗ比；
‐パターンの間隔ｄ（いくつか存在する場合は最大間隔）、及び特にはｗ／ｄ比又はピッチｐ、すなわちｗとｄの合計。
【０１５４】
本発明において、好ましくは：
‐間隔ｄは１０ｎｍ乃至５００μｍであり；
‐幅ｗは１０ｎｍ乃至５０μｍ、又はアスペクト比ｗ／ｄが２×１０-5乃至５×１０4であり；及び
‐比ｈ／ｗが５と等しいか又はそれより小さい。
【０１５５】
好ましくは、一つの、いくつかの、又はすべての特性寸法が、ミクロン又はサブミクロンスケールであってよい。
【０１５６】
構造化によって、物理化学的調節、特に表面エネルギーの調節を行うこともできる。この構造化は従って、超疎水性（「ロータス」効果）をもたらすことができる。濡れ性を調節するために、パターンのサイズの範囲は１ミクロンまで可能である。
【０１５７】
光学的な目的のために、ガラス製品は、全体の広がりが≧１００ｃｍ2である一つの又は多くの光源から発せられた光を部分的に透過してもよい。
【０１５８】
マイクロ構造化又はナノ構造化された製品の光学的な機能範囲は広い。
【０１５９】
特定の用途には、回折効果を制限するために（そしてガラス製品の透明性を維持するために）、ピッチｐが約１００ナノメートル、とりわけ４００ｎｍ未満であるナノ構造化された凸部が必要である。
【０１６０】
例えば、所望の構造は、周期が８０ｎｍ乃至４００ｎｍの範囲である線の格子である。
【０１６１】
本発明のアレイは、誘電性（透明）の線又は導電性の線の格子を含んでよく、そのピッチは動作波長未満である。可視スペクトルの範囲内での用途に対しては、導電体は金属であってよく、特にアルミニウム又は銀である。この場合、誘電性格子の高さ（凸状であると仮定）及び金属格子の高さが規定される。
【０１６２】
その他の格子の構成も可能である：
‐誘電性格子を金属の均一層で被覆（「二重金属（ｄｏｕｂｌｅ  ｍｅｔａｌ）」格子及び側壁上）；
‐金属格子を誘電性格子のパターン上、又はパターン間に配置（この構造を「盛り上げ（ｒａｉｓｅｄ）」と呼ぶ）。
【０１６３】
誘電性のパターンは、構造全体を支持する基板と同じ材料から成っていてもよい。誘電性のパターンは、基板よりも屈折率が低くてよい。
【０１６４】
基板よりも屈折率が低い材料を基板と誘電性格子との間に配置してもよい。この構造を「リブ付き（ｒｉｂｂｅｄ）」と呼ぶ。
【０１６５】
ピッチが動作波長、特には可視波長よりも著しく小さい場合は（例えば波長の半分）、格子は反射偏光子として働く。入射平面に対して垂直（金属線に対して平行）な偏光ｓ→（ベクトル）は９０％超まで反射されることが好ましく、偏光ｐ→（ベクトル）（線に対して垂直、入射平面に対して平行）は８０乃至８５％が透過されることが好ましい。
【０１６６】
反射偏光子はその他の波長範囲、特にＩＲで使用することができる。
【０１６７】
光源又はバックライトから成るバックライトシステムは、例えばＬＣＤ（液晶ディスプレイ）スクリーンのバックライト光源として使用される。バックライトシステムでこのように発せられる光は均一性が十分でなく、過大なコントラストを生ずるということが分かっている。従って、均一な光を得るために、バックライトシステムと共に使用される剛性光拡散板が必要とされている。
【０１６８】
光の均一化という観点からの一つの満足の行く解決策は、バックライトシステムの前面を、例えば厚さが２ｍｍである、無機充填材を含有するポリカーボネート又はアクリルポリマーなどのプラスチックのシートで覆うことから成る。しかし、この材料は熱の影響を受けやすいため、プラスチックはひどく老朽化し、発生した熱によって一般的にはプラスチック製拡散手段は構造が変形する結果となり、具体的には、例えばＬＣＤスクリーンによる投影像の明るさが不均一になるといった結果を招く。
【０１６９】
従って、剛性光拡散板として、仏国特許出願ＦＲ２８０９４９６に記載のように拡散層を持つガラス基板を有することが好ましいであろう。この拡散層はバインダー中で凝集した光散乱性粒子から成る。
【０１７０】
一般的に剛性光拡散板に含まれるのは（観察者側、光源とは反対側）以下の光学要素である：
‐まず、通常ＰＥＴから作られ、プラスチックフィルムから形成される、一般に拡散フィルムと呼ばれる薄膜プラスチックフィルムであって、剛性光拡散板の拡散性をさらに高めるのに十分な粗面である有機層を外部表面に有し、さらに光を前面側、すなわち光拡散板に対して直角な方向へ誘導することも知られているプラスチックフィルム；
‐次に、平滑な内側面と、光をより前面側へ誘導するよう頂角９０°の溝が施された外側面とを有するプラスチックフィルム；及び、最後に
‐光の一方の偏光を透過し他方の偏光を反射する反射偏光子。
【０１７１】
本発明の構造化されたガラス製品は、ＬＣＤスクリーン用の反射偏光子であってよい。この製品は、ＬＣＤマトリックスに適合する偏光成分を透過して他の偏光を反射することにより連続して不適合な偏光成分を再生して偏光効率を向上し、それによって吸収損失を限定することによって、液晶スクリーンへ誘導される光の偏光を全体として増加させる。
【０１７２】
本発明の反射偏光子は、屈折率がｎ2であるいわゆる低屈折率層を、構造化された格子と屈折率がｎ1であるガラス基板（好ましくは無機材料から作られた）との間に有していてよく、両者の差であるｎ1−ｎ2は０．１と等しいか又はこれより大きく、好ましくは０．２と等しいか又はこれより大きい。
【０１７３】
この低屈折率層は、格子に使用されるスペクトル帯を増やす役目を持つ。
【０１７４】
低屈折率層は好ましくは多孔質であって、特に第一の要素又は第二の要素上に堆積することができる。この層は、本質的に無機材料を主体とすることが好ましい。
【０１７５】
多孔質層は、例えば、最も詳細には、基板又はいずれかの副層との界面から空気又は他の媒体との界面まで、その全厚さにわたってほぼ均一な分布を有することができる。この均一分布は、最も詳細には、この層の等方性を確立するのに役立たせることができる。
【０１７６】
細孔の形状は、例えば細長い形状、特に米粒形状であってよい。さらに好ましくは、細孔はほぼ球状又は楕円形状であってよい。
【０１７７】
多くの化学元素が多孔質層の主成分を形成することができる。主たる構成物質として、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｗ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｖ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｎ、及びＣｅの元素の少なくとも一つから成る少なくとも一つの化合物を含むことができる。特に、前述の元素の少なくとも一つの単純酸化物又は混合酸化物であってよい。
【０１７８】
好ましくは、多孔質層は、特にガラス基板に対する付着性及び適合性のために、主にシリカを主成分とすることができる。
【０１７９】
本発明の多孔質層は、好ましくは機械的に安定、すなわち細孔密度が高くてもくずれない状態であることができる。細孔はお互いに容易に分離して十分に独立させることもできる。さらに、本発明の多孔質層は、すぐれた付着性及び機械的強度の両方を有することができる。
【０１８０】
多孔質層の構成材料は、好ましくは、特定の波長に対して透過性を持つように選択することができる。さらに、６００ｎｍにおいて、この層の屈折率は少なくとも０．１であってよく、さらに好ましくは少なくとも０．２又は０．３であり、稠密である（孔のない）同じ無機材料の層の屈折率よりも低い。好ましくは、この６００ｎｍにおける屈折率は特に１．３と等しいか若しくはそれより低くてよく、又は１．１と等しいか若しくはそれより低くてもよく、さらに１に近い値（例えば１．０５）であってもよい。
【０１８１】
参考までに、非多孔質シリカ層の６００ｎｍにおける屈折率は、通常約１．４５である。
【０１８２】
従って、屈折率は細孔容積によって調節することができる。第一近似として、以下に示す式を用いて屈折率を算出することができる。
【０１８３】
【数１】
2009517310.tif 000003
【０１８４】
ここでｆは層の構成材料の容積成分、ｎ1はその屈折率であり、ｎporeは細孔の屈折率で、細孔が空洞であれば一般的には１に等しい。
【０１８５】
多孔質層の細孔の容積率は、１０％乃至９０％であってよく、好ましくは５０％と等しいか若しくはそれより大きいか、又は７０％と等しいか若しくはそれより大きい。
【０１８６】
シリカを選択することにより、屈折率が全厚さにわたって１．０５まで容易に低下する。
【０１８７】
多孔質層は種々の技術を用いて形成することができる。
【０１８８】
第一の態様では、細孔は、非密集状態の多数のナノスケールのボール、特にはシリカボールの隙間であり、このような層は例えばＵＳ２００４／０２５８９２９に記載されている。
【０１８９】
第二の態様では、多孔質層は、ＮＨ3ガスで高密度化された縮合シリカゾル（シリカオリゴマー）の堆積によって得ることができ、このような層は例えばＷＯ２００５／０４９７５７に記載されている。
【０１９０】
第三の態様では、多孔質層はゾルゲルタイプの層であってもよい。細孔という点での層の形成はゾルゲル合成技術によるもので、それによって無機材料を適切に選択した細孔形成剤と共に縮合させる。細孔は空洞であってよく、任意に充填されていてもよい。
【０１９１】
ＥＰ１３２９４３３に記載のように、多孔質層は、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）ゾルを酸性媒体中、ポリエチレングリコール-ｔｅｒｔ-フェニルエーテル（Ｔｒｉｔｏｎ）主体の細孔形成剤と共に、５乃至５０ｇ／ｌの濃度で加水分解することによって作製することができる。この細孔形成剤を５００℃で燃焼することによって細孔が形成される。
【０１９２】
他の公知の細孔形成剤としては、溶液の形、及び任意に加水分解された形でのカチオン性界面活性剤分子のミセル、アニオン性若しくは非イオン性界面活性剤のミセル、又は例えばブロックコポリマーなどの両親媒性分子のミセルである。このような細孔形成剤により、２乃至５ｎｍという小サイズの細いチャネル状の細孔又は比較的円形の細孔が形成される。
【０１９３】
多孔質層は２０ｎｍ、好ましくは４０ｎｍ、より好ましくは５０ｎｍに等しいか若しくはそれより大きいサイズの細孔を有してよい。
【０１９４】
細孔が大きいと、水による影響、及び性質、特に光学的性質を低下させやすい有機汚染による影響を受けにくくなる。
【０１９５】
多孔質層は、少なくとも１種類の固体細孔形成剤を用いることによって作製できることが好ましい。固体細孔形成剤のサイズを適切に選択することによって、層内の細孔サイズを様々に変化させることができる。
【０１９６】
固体細孔形成剤を用いることによって、細孔サイズのより適切な制御、特に大きなサイズの形成、細孔の配置のより適切な制御、特に均一な分布、並びに層内の細孔含有量及びより良い再現性のより適切な制御が可能となる。
【０１９７】
固体細孔形成剤は中空であってもそうでなくてもよく、単一成分であっても複数成分であってもよく、無機、有機、若しくはハイブリッド型のいずれであってもよい。
【０１９８】
固体細孔形成剤は好ましくは粒子状、好ましくは（準）球状の粒子状であってもよい。好ましくは、粒子は十分に独立していてよく、これによって細孔サイズの制御が非常に容易になる。固体細孔形成剤の表面が粗面であっても平滑であってもよい。
【０１９９】
中空細孔形成剤としては、特に中空シリカビーズを挙げることができる。
【０２００】
非中空細孔形成剤としては、１成分又は２成分ポリマービーズ、特にはコア物質とシェルを有するものを挙げることができる。
【０２０１】
ポリマー細孔形成剤は、一般に取り除くことで多孔質層が作製され、その細孔はほぼ細孔形成剤の形及びサイズを有している。
【０２０２】
固体、特にポリマー細孔形成剤は、様々な形のものを入手することができる。安定な溶液の形であってもよく、この場合典型的にはコロイド分散液が用いられ、又はゾルの形成に用いられる溶媒若しくはこの溶媒と親和性のある溶媒に対応する水性若しくはアルコール性溶媒中に再分散可能な粉末の形であってもよい。
【０２０３】
特に、以下に挙げるポリマーのうちの１種類から作製された細孔形成剤を選択することができる：
‐ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）；
‐メチル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸コポリマー；
‐ポリカーボネート、ポリエステル、若しくはポリスチレンポリマー；又は
‐これらの材料のうちのいくつかの組み合わせ。
【０２０４】
集積化のために、本発明の反射偏光子はさらに、特に仏国特許出願ＦＲ２８０９４９６に記載のように、構造化された面とは反対側の面（光源側に向いた面）に、好ましくは本質的に無機層である拡散層を含んでよく、拡散層のすぐ下に低屈折率層（既述）含むことも可能である。
【０２０５】
この拡散層は、例えば蛍光管型の光源に面した帯状のような、厚さが一定であるか若しくは厚い領域を有する連続した層とすることができる。
【０２０６】
均一性を高めるため、この拡散層は有利に：
‐表面を覆う領域によって異なる平均厚さを有してよく；及び／又は
‐例えば被覆密度が異なることによる不連続層であってもよい。例えば、領域ごとにサイズ、及び／又は間隔、及び又は厚さが異なっていてもよい散乱ディスク形状（及び／又はその他の本質的に硬質で特に幾何学的なパターン）のアレイを作製することにより、完全に被覆された領域から分散した点から成る領域まで変化させることが可能であり、その変化は漸進的であってもそうでなくてもよい。
【０２０７】
この層は、例えば屈折率が約１．５であるバインダー中の散乱粒子を含んでもよい。
【０２０８】
バインダーは、好ましくは、珪酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸リチウム、リン酸アルミニウム、及びガラスフリット又はフラックスフリット（ｆｌｕｘ  ｆｒｉｔ）などの無機バインダーから選択することができる。
【０２０９】
無機散乱粒子は、好ましくは、窒化物、炭化物、又は酸化物から選択することができ、酸化物はシリカ、アルミナ、ジルコニア、チタン、セリウムから選択されることが好ましく、又はこれら酸化物の少なくとも２種類の混合物である。散乱粒子は、例えば０．３乃至２μｍの平均粒子径を有する。
【０２１０】
２５０乃至４００ｎｍの範囲の紫外線を吸収する粒子を組み込むことも可能であり、該吸収剤粒子は、酸化チタニウム、酸化バナジウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、及び酸化マンガンのうちの１種類又はこれらの混合物から選択される紫外線吸収性を有する酸化物から成る。
【０２１１】
一つの例においては、拡散層はバインダーとしてガラスフリットを、散乱粒子としてアルミナを、そして吸収剤粒子として混合物に対する重量比で１乃至２０％の酸化チタニウムを含む。吸収剤粒子は、例えば０．１μｍ以下の平均粒子径を有する。
【０２１２】
本発明のガラス製品は、発せられた光を前面へ（その垂直方向へ）誘導する要素とすることもできる。
【０２１３】
構造化された面上には、少なくとも一つのパターン、特には幾何学的パターンの繰り返しを有することができ、パターンは規則的に又はランダムに分布していて幅は５０μｍ若しくはそれ未満であり、その傾きの絶対値は平均して１０°と、より好ましくは２０°と、又はさらには３０°と等しいか若しくはそれより大きい。
【０２１４】
パターンは以下に挙げたものから少なくとも一つが選択される：
‐凹状又は凸状の細長い形状のパターンで、特には頂角がおよそ９０°に等しいプリズム、又はマイクロレンズ；
‐凹状又は凸状の三次元構造のパターンで、特には、好ましくは基部の幅が５０μｍと等しいか若しくはそれより小さく頂角が１４０°未満、より好ましくは１１０°未満のプラミッド型；
‐フレネルレンズ型のパターン。
【０２１５】
さらに、この光を前面へ誘導する要素が、光学的に平滑な反対側の面上で、剛性拡散板と合わせられていてもよく、又は単に拡散層を含んでいてもよく（既述）、又は低屈折率層（既述）及び外部拡散層と合わせられていてもよい。
【０２１６】
構造化された層は、従って、好ましくはガラス基板よりも高い屈折率を有していてよい。パターンは、０．５乃至５０μｍ、好ましくは５μｍ未満のピッチを有する連続した構造とすることができる。
【０２１７】
本発明のガラス製品は、特にＯＬＥＤ若しくはＰＬＥＤタイプの有機若しくは無機のエレクトロルミネッセンス層を有する少なくとも一つの発光装置、又はＴＦＥＬ装置、又はＴＤＥＬ装置と一緒に用いるか、又はこれらと一体化することもできる。
【０２１８】
公知のように、エレクトロルミネッセンス層を有する特定の装置は：
‐ガラス基板；
‐基板の一方の同一面上に、少なくとも一つが透明である第一の電極及び第二の電極；及び
‐少なくとも一つのエレクトロルミネッセンス層が第一の電極と第二の電極との間に挿入されたエレクトロルミネッセンスシステム、
を含む。
【０２１９】
無機エレクトロルミネッセンス層を有する場合、これはＴＥＦＬ（薄膜エレクトロルミネッセンス）システムと呼ばれる。一般的に、このシステムは蛍光体層及び少なくとも一つの誘電性層を含む。
【０２２０】
誘電性層は、例えば次のような材料、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＡｌＮ、ＢａＴｉＯ3、ＳｒＴｉＯ3、ＨｆＯ、 ＴｉＯ2、を主体とすることができる。
【０２２１】
蛍光体層は、例えば次のような材料、ＺｎＳ：Ｍｎ、ＺｎＳ：ＴｂＯＦ、ＺｎＳ：Ｔｂ、ＳｒＳ：Ｃｕ、Ａｇ、ＳｒＳ：Ｃｅ、又はＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎなどの酸化物から構成することができる。
【０２２２】
無機エレクトロルミネッセンス積層体の例としては、例えばＵＳ６３５８６３２に記載のものが挙げられる。
【０２２３】
誘電性層は厚いもの（厚さ数ミクロン）であってもよい。この場合はＴＤＥＬ（厚膜誘電体エレクトロルミネッセンス）システムと呼ばれる。ＴＤＥＬシステムの態様は、ＥＰ１１８２９０９に記載されている。
【０２２４】
有機エレクトロルミネッセンス層を有する場合、この装置はＯＬＥＤと呼ばれる。ＯＬＥＤは使用されている有機材料によって、一般に大きく二種類に分類される。有機エレクトロルミネッセンス層がポリマーの場合、この装置はＰＬＥＤ（ポリマー発光ダイオード）と呼ばれる。エレクトロルミネッセンス層が低分子の場合、この装置はＳＭ‐ＯＬＥＤ（低分子有機発光ダイオード）と呼ばれる。
【０２２５】
ＰＬＥＤの例としては、以下の積層体から構成される：ポリ（スチレンスルホネート）をドープしたポリ（２，４‐エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）の５０ｎｍの層、及びフェニルポリ（ｐ‐フェニレンビニレン）、Ｐｈ‐ＰＰＶ、の５０ｎｍの層。上部電極はＣａの層であってよい。
【０２２６】
一般に、ＳＭ‐ＯＬＥＤの構造は、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、及び電子輸送層の積層体から成る。
【０２２７】
ホール注入層の例としては銅フタロシアニン（ＣｕＰＣ）であり、ホール輸送層は例えばＮ，Ｎ’‐ビス（ナフタレン‐１‐イル）-Ｎ，Ｎ’-ビス（フェニル）ベンジジン（アルファ‐ＮＰＢ）とすることができる。発光層は、例えばｆａｃ‐トリス（２‐フェニルピリジン）イリジウム、［Ｉｒ（ｐｐｙ）3］、をドープした４，４’，４’’‐トリ（Ｎ‐カルバゾイル）トリフェニルアミン（ＴＣＴＡ）とすることができる。電子輸送層は、トリス（８‐ヒドロキシキノリン）アルミニウム（Ａｌｑ３）、又はバソフェナントロリン（ＢＰｈｅｎ）から構成することができる。上部電極は、Ｍｇ／Ａｌ又はＬｉＦ／Ａｌの層とすることができる。
【０２２８】
有機発光積層体の例としては、例えばＵＳ６６４５６４５に記載されている。
【０２２９】
発光装置において、二つの電極が導電性層を形成していることが好ましい。
【０２３０】
装置は、上部発光装置（ｔｏｐ‐ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｅｖｉｃｅ）、下部発光装置（ｂｏｔｔｏｍ‐ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｅｖｉｃｅ）、又は上下発光装置（ｔｏｐ‐ａｎｄ‐ｂｏｔｔｏｍ‐ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｅｖｉｃｅ）である。
【０２３１】
しかし、基板から最も遠い位置にある電極は、金属シート又は金属板とすることができ、さらにミラー（特に銅、ステンレス鋼、若しくはアルミニウムから作られた）を形成することもできる。
【０２３２】
一般的には下部電極である基板に最も近い位置にある導電性層は、特に光透過率ＴLが５０％と等しいか又はこれより大きく、特には７０％と等しいか又はこれより大きく、さらには８０％と等しいか又はこれより大きい、透明なものを選択することができる。
【０２３３】
この導電性層は金属酸化物、特には以下に挙げる材料：ドープされた酸化スズ、特にはフッ素をドープした酸化スズであるＳｎＯ2：Ｆ若しくはアンチモンをドープした酸化スズであるＳｎＯ2：Ｓｂ（ＣＶＤ蒸着に使用することができる前駆体はハロゲン化スズ、又はフッ化水素酸若しくは三フッ化酢酸といった種類のフッ素前駆体と共に使用する有機金属）、ドープされた酸化亜鉛、特にはアルミニウムをドープした酸化亜鉛であるＺｎＯ：Ａｌ（ＣＶＤ蒸着に使用することができる前駆体は亜鉛及びハロゲン化アルミニウム、又は有機金属）若しくはガリウムをドープした酸化亜鉛であるＺｎＯ：Ｇａ、又はドープされた酸化インジウム、特にはスズをドープした酸化インジウムであるＩＴＯ（ＣＶＤ蒸着に使用することができる前駆体はインジウム及びハロゲン化スズ、又は有機金属）若しくは亜鉛をドープした酸化インジウム（ＩＺＯ）、から選択することができる。
【０２３４】
より一般的には、例えばＴＣＯ（透明導電性酸化物）層などで厚さが例えば２乃至１００ｎｍであるものなど、いかなる種類の透明導電性層を用いることも可能である。例えばＡｇ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｃｕ、又はＡｕから作られ、厚さが典型的には２乃至５０ｎｍである薄膜金属層を使用することも可能である。
【０２３５】
当然、透明性が必要である用途においては、両電極ともに透明とする。
【０２３６】
基板から最も遠い位置にある導電性層は、特に、スパッタリング若しくは蒸着によって得られたＡｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、又はＣｒの層を含む、不透明で反射性の金属層であってもよい。
【０２３７】
構造化によって光抽出が促進され、従って発光効率を高めることができる。
【０２３８】
第一の構成では、目的は光が電極間に閉じ込められることを防ぐことである。
【０２３９】
例えば、本発明の方法で構造化された犠牲層が上面に配置されたガラス基板を、エッチングによって構造化することを選択することができる。
【０２４０】
次に、下部導電性層（単層若しくは多層）、発光システム、及び上部導電性層を、こうして構造化形状を再現しながら直接堆積する。任意に、短絡を避けるために上部導電性層（基板から最も遠い位置にある）を平坦化する。
【０２４１】
追加層を堆積し、下部導電性層が堆積される前に平表面を形成することも可能である。好ましくは、この追加層は、屈折率が少なくとも０．１であってよく、さらには少なくとも０．２であってよく、ガラス基板の屈折率よりも高くてよく、例えば、特にゾルゲルタイプのジルコニア層である。
【０２４２】
他の選択肢として、例えば、特にゾルゲルタイプのシリカ層又はジルコニア層などの層で本発明の方法によって構造化された層を有するガラス基板を選択することができる。
【０２４３】
構造化された層は、下部導電性層が直接上面に配置されるか、又は平表面を有する追加層が上面に配置される。好ましくは、構造化された層上に配置される層は、屈折率が少なくとも０．１であってよく、さらには少なくとも０．２であってよく、構造化された層の屈折率よりも高くてよく、例えば屈折率が１．９５であるＳｉＮｘ層である。
【０２４４】
構造は、サブミクロンの幅ｗ、１５０ｎｍ乃至７００ｎｍのピッチｐ、及び１μｍ未満、特には２０乃至２００ｎｍの高さを有する少なくとも一つの周期的な格子を含む。発光システムが多色系であり、特に白色光を形成する場合、構造は、サブミクロンの横方向の寸法ｗ及び１μｍ未満、特には２０乃至２００ｎｍの高さｈを各々が有する複数の隣接する格子を含むことが好ましく、これらの格子は複数の波長を抽出するように１５０ｎｍ乃至７００ｎｍの異なるピッチｐを有する。
【０２４５】
これらのパターンは、例えばほぼ基板の一方の端部からもう一方の端部まで伸びる長い線状、又は最小長さが５０μｍである短い線状、又は円形、六角形、正方形、長方形、若しくは楕円の長軸断面形（表面に平行）といったその他のパターンであってよく、特にほぼ長方形、半円筒形、円錐台形、若しくは角錐形の断面を有するものであってよい。
【０２４６】
構造化された格子を有するＯＬＥＤ装置の例は、Ｙ．Ｄｏら、「Ｅｎｈａｎｃｅｄ  ｌｉｇｈｔ  ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ  ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｆｒｏｍ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ‐ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅｓ  ｂｙ  ｉｎｓｅｒｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｗｏ‐ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ  ｐｈｏｔｏｎｉｃ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ」、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ、Ｖｏｌ．９６、Ｎｏ．１２、ｐｐ．７６２９‐７６３６、又はＹ．Ｌｅｅら、「Ａ  ｈｉｇｈ  ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ‐ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｎａｎｏｐａｔｔｅｒｎｅｄ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ‐ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ」、Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ、Ｖｏｌ．８２、Ｎｏ．２１、ｐｐ．３７７９‐３７８１、の論文に記載されており、これらは参照することで本明細書に組み入れられる。これらの製品は、小面積でのリソグラフィ技術を用いて作製される。
【０２４７】
第二の構成では、第一の構成の代わりとして、又はこれに追加して、ガラス基板中に光が閉じ込められることを防ぐことを目的とする。
【０２４８】
このためには、例えば、発光装置を形成するために発光システムと合わせることができる面とは反対側の面上に本発明の方法で構造化された犠牲層が配置されたガラス基板をエッチングによって構造化することを選択することができる。
【０２４９】
別の選択肢として、発光装置を形成するために発光システムと合わせることができる面とは反対側の面上に、例えば、特にゾルゲルタイプであるシリカ層又はジルコニア層などで、本発明の方法によって構造化された層を有するガラス基板を用いることを選択することもできる。
【０２５０】
パターンは、ガラス基板と等しいか又はそれより低い屈折率を有する材料から作られることが好ましい。
【０２５１】
アレイは周期的であり、パターンは、横方向の寸法ｗがミクロンスケール、特に１乃至５０μｍ（典型的には約１０μｍ）、間隔が０乃至１０μｍである。
【０２５２】
特に、このような幾何学的パターンは、例えば、ほぼ基板の一方の端部からもう一方の端部まで伸びる長い線状、又は最小長さが５０μｍである短い線状、又は円形、六角形、正方形、長方形、若しくは楕円の長軸断面形（表面に平行）といったその他のパターンであってよく、特にほぼ長方形、半円筒形、円錐台形、若しくは角錐形の断面（凹  状若しくは凸状）を有するものであってよい。
【０２５３】
パターンは、整列した状態、又はずれた状態で六角形状のアレイを形成してもよい。
【０２５４】
マイクロレンズアレイを有するＯＬＥＤ装置の一つの例は、Ｓ．Ｍｏｌｌｅｒら、「Ｉｍｐｒｏｖｅｄ  ｌｉｇｈｔ‐ｏｕｔ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ  ｉｎ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ‐ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅｓ  ｅｍｐｌｏｙｉｎｇ  ｏｒｄｅｒｅｄ  ｍｉｃｒｏｌｅｎｓ  ａｒｒａｙｓ」、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ、Ｖｏｌ．９１、Ｎｏ．５、ｐｐ．３３２４‐３３２７、に記載されており、これは参照することで本明細書に組み入れられる。これらの製品は、小面積でのリソグラフィ技術を用いて作製される。
【０２５５】
本発明のガラス製品は、ＬＥＤ（発光ダイオード）タイプの１又は２個以上の個別の光源を持つ発光装置に用いることもできる。この構成においては、第一の構成及び／又は第二の構成の場合において述べたように、ダイオードは１又は２種類以上のアレイを有するガラス基板上に配置及び／又は付着される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０２５６】
図１ａは、第一の態様において本発明のガラス製品を構造化する方法を実施するための第一の装置の概略図である。
【０２５７】
例えばこの装置１０００を用いて、例えばゾルゲル法によって得られた、若しくは熱可塑性ポリマーから作られた本質的に無機の、又は特にポリマーである有機の、又はハイブリッドの少なくとも一つの構造化可能層１ａによって（任意にその他の下地層と共に）被覆された剛性ガラス要素１、特にガラスシートが構造化される。
【０２５８】
従って、この構造化可能層は透明であることが好ましく、その他の特性又は機能を有していてもよい：（メソ）多孔質、疎水性、親水性、低若しくは高屈折率、導電性、半導電性、又は誘電性であってもよい。
【０２５９】
この装置１０００は、複製用マスク１０を有するローラー１００及び圧力を印加するための裏面ローラー（ｂａｃｋｉｎｇ  ｒｏｌｌ）２００から主に構成される。
【０２６０】
ローラー１００は、例えばファイバーフォーム（ｆｉｂｅｒ  ｆｏａｍ）であってもよい工業用発泡体若しくはフェルトなどの形状追随性のある膜１２０で囲まれた中空又は中実の金属円筒形コア１１０を含み、該膜は局所的に、好ましくはいくつかのスケールでの追随性を有する。
【０２６１】
裏面ローラー２００も、例えばファイバーフォーム（ｆｉｂｅｒ  ｆｏａｍ）であってもよい工業用発泡体若しくはフェルトなどの形状追随性のある膜で囲まれていてもよい。
【０２６２】
ローラー１００の回転軸は、製品表面の平面と平行であり、より正確には製品の並進運動方向に対して垂直である。
【０２６３】
マスク１０は、例えば放射状リングなどによって固定され、膜１２０上に巻きつけられる。
【０２６４】
薄膜フルオロシラン層（図示しない）がマスク１０の表面上に付着される。
【０２６５】
ガラス要素１は、コンベヤーローラーによって並進運動される。ガラス要素は、コンベヤーローラー３００上にあるか、又は別の形としてプラットフォーム若しくはコンベヤーベルト上にある。コンベヤーローラーの一つが裏面ローラー２００に置き換えられる。ガラス要素１は０．５ｍ2又はそれより広い面積を有することが好ましい。
【０２６６】
複製用マスク１０はシリコンから作られるか、又は別の形として石英から作られるか、又は任意に透明ポリマー、ポリイミドから作られ、酸化ケイ素の層で被覆されていてもよい。マスクは、例えばニッケルなどの金属から作ることもでき、又は複合体であってもよい。マスク１０は、例えば寸法特性（特に幅、ピッチ、及び高さ）がミクロン又はサブミクロンスケールであることが好ましい平行線のアレイを含む。
【０２６７】
マスク上のアレイは、ガラス要素１がローラー１００と裏面ローラー２００との間を通過する際の接触によって構造化可能層１ａ上に転写され、マスクの凹部が構造化可能層上の凸部の領域となる。
【０２６８】
接触表面の全長さにわたって、特に端部での転写の均一性を高めるために、サスペンションシステム（図示しない）によって支持体ローラー１００の回転軸がガラス要素１の幅方向に平行に保持される。
【０２６９】
接触領域では、マスク１０は完全に又は部分的に層１２０の変形に追随する。
【０２７０】
構造化は、複数のパターン２を含む特定の接触幅にわたって行われる。
【０２７１】
パターンの幅がサブミクロンスケールの場合、接触表面の幅は例えば１００μｍである。
【０２７２】
パターンの幅がミクロンスケールの場合、接触表面の幅は例えば１ｍｍである。
【０２７３】
前記の複製されたパターン２は、図１ｂに示すように、ガラス要素１の表面に対して最大数度の傾斜２１を有する。この傾斜は材料の粘度によって調節することができる。両方の側面が傾斜していてもよく、パターンの角を丸めて例えば小波形状にしてもよい。
【０２７４】
構造化工程に続けて、好ましくは連続して、例えば銀などの金属層を構造化された面上に堆積させてもよい。
【０２７５】
この堆積は、例えば金属層３を線状のパターンの頂上部に堆積させるなど、選択的に行ってもよい。
【０２７６】
この目的のために、層１ａは、関連するインラインの手段４００を用いる電着のための電極を形成することができる。
【０２７７】
例を挙げると、ピッチｐが２００ｎｍ、半高さの位置のまでの幅ｗが８０ｎｍ、半高さの位置からの間隔ｄが１２０ｎｍ、誘電性層の高さｈが１８０ｎｍ、及び金属層の厚さｈmが１００ｎｍである可視光を反射する反射偏光子が得られる。
【０２７８】
寸法を大きくすることにより、赤外線用の偏光子を得ることも可能である。
【０２７９】
金属層の堆積の代わりに、又はその後に、以下に示す１若しくは２個以上の工程を、好ましくは連続して行うことができる：
‐好ましくは同一ライン上の下流に配置された類似の装置により、又は別の形としてマスクを装着したローラー２００により、反対側の面を構造化する；
‐好ましくは、寸法が小さい、及び／又は配向が異なる複製パターンを有する下流に配置された類似の装置による第二の構造化工程；
‐パターンをエッチングによってガラス及び／又は下地層へ転写する；及び
‐１又は２種類以上のガラス加工工程：強化、積層、切断など。
【０２８０】
さらに、この構造化の前に、以下に示す１又は２個以上の工程を、好ましくは連続して行うことができる：
‐インラインの手段５００による構造可能層の堆積；
‐実行する場合もある、１又は２個以上の下地層の堆積；及び
‐さらに上流において、例えばフロート法などによるガラス要素の形成。
【０２８１】
層１ａは加熱若しくは照射処理、又は制御された雰囲気との相互作用によって構造化が可能な状態とすることができる。
【０２８２】
別の形として、パターンは、接触の最中及び／又は後に、以下の処理：加熱若しくは照射処理、又は制御された雰囲気への曝露、のうち層の性質に応じて選択された少なくとも一つによって硬化することができる。
【０２８３】
層の例
ゾルゲル法によって得られた構造可能層の例としては、異なる種類に分類されるシランの反応に基づいたＡ、Ｂ、Ｃの３層を挙げることができる：
‐層Ａは完全に無機であるテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）層であり、任意に界面活性剤によって構造化されてもよい；
‐層Ｂはメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）及び非反応性有機基を持つ有機シランに基づいたハイブリッド層である；
‐層Ｃは、２種類の異なる有機シランの反応性有機基の反応によって形成される重なり合った形の有機／無機ネットワークである。
【０２８４】
堆積の方法は、スプレーによってコーティングし、ドクターブレード若しくはブラシによってコーティングを広げる方法を選択することができ、コーティングの粘性が高すぎる場合は加熱する場合もある。
【０２８５】
これらの層は、加熱された状態で構造化されることが好ましい。層の加熱はマスクとの接触又はプレートによる熱伝達によって行われ、加熱手段は、例えば回転裏面支持要素中に配置される。
【０２８６】
構造化の温度は、タイプＡの層の場合１００℃と等しくなるように、タイプＢ及びタイプＣの層の場合は１２０℃と等しくなるように選択される。温度は、加熱要素と組み合わされた熱電対によって制御される。
【０２８７】
脱型の前及び／又は最中に、加熱処理によって構造が固定される。
【０２８８】
ポリマー層の例としては、ＰＭＭＡのポリマー層、又は別の形としてＰＭＭＡ／ＭＭＡの二重層を挙げることができる。
【０２８９】
使用されるポリマーは、例えばＡｃｒｏｓ  Ｏｒｇａｎｉｃｓ社より提供される。これは、１５０００ｇ・ｍｏｌ-1、ガラス転移点Ｔg１０５℃のＰＭＭＡである。このＰＭＭＡは２‐ブタノン（Ｃ4Ｈ8Ｏ）で希釈し、スピンコーティングによって高品質の表面（低粗さ、平滑な外見）が得られる。
【０２９０】
層の構造化に必要な最低温度レベルは１５０℃である。温度は加熱要素と組み合わされた熱電対によって制御される。
【０２９１】
温度をＰＭＭＡのガラス転移点より低い値にした後、７０℃にて脱型を行う。
【０２９２】
ＵＶ架橋性層の例としては、有機アルコキシシラン層を挙げることができる。接触の直後にＵＶ線に曝露することにより、樹脂内の重合反応が誘起され、パターンが固定される。
【０２９３】
図２は、第二の態様において本発明のガラス製品１を構造化する方法を実施するための第二の装置２０００の概略図を示す。
【０２９４】
回転支持体に固定される代わりに、複製用マスク１０´（パターンは図示しない）は移動可能であり、ガラス要素の表面の平面に平行な軸周りに回転する。コンベヤーローラー１００ａ及び１００ｂに基づくシステムを少なくとも一つ使用する。
【０２９５】
構造化は、マスク１０´と重なったガラス要素とが圧力下に接触する時に、すなわちこの例ではローラー１００´と２００´との間を通過する時に行われる。
【０２９６】
例えばタイヤなどの形状追随性膜（ａｃｃｏｍｍｏｄａｔｉｎｇ  ｍｅｍｂｒａｎｅ）１１０´を、マスク１０´と接触しているローラー１００´上に取り付けることによって、形状の追随が可能であることは変わらない。
【０２９７】
図３は、第三の態様において本発明のガラス製品１を構造化する方法を実施するための第三の装置３０００の概略図を示す。
【０２９８】
図３は装置１０００の変形版であり、裏面支持ローラー１００が距離Ｌの間隔で離れている２個の裏面支持ローラー２１０及び２２０に置き換えられている。これらのローラーの半径Ｒは、円筒形のコア１１０´´、形状追随性膜１２０´´、及び複製用マスク１０´´を有する転写ローラー１００´´の半径Φと異なっていてもよい。
【０２９９】
この種の構成によると、パターンの固定を行うための照射の光路が確保されること、又は加熱要素６００が配置できること、という利点がある。距離ＬはＲ乃至４Φの範囲とすることができる。さらに、この構成により、転写ローラーの両側部に異なる圧力をかけることも可能となる。このことは、パターン形状及び脱型工程のより適切な制御という点で有益であることが分かっている。
【０３００】
図４は、図１ａに示す製造方法を用いて作製され、発光装置を形成する構造化されたガラス製品Ａの概略図を示す。
【０３０１】
この装置Ａは、典型的には、例えば高透過ガラスなどのガラス基板１の第一の主面上、二つの導電性層４と６との間に発光システム５を、反対側の第二の主面上には、ミクロンスケールの横方向の寸法ｗ及び５０μｍ未満の高さｈを有するレンズ状の周期的なアレイ３を含む。
【０３０２】
発光装置Ａは有機装置であってよい。第一の面は以下に示す順で被覆される：
‐任意に、例えば窒化珪素若しくは酸窒化珪素、窒化アルミニウム若しくは酸窒化アルミニウム、又は酸化珪素若しくは酸炭化珪素から作られるアルカリ金属バリア層；
‐第一の透明電極（単層又は多層）；
‐典型的に：
・アルファ‐ＮＰＤ層、
・ＴＣＴＡとＩｒ（ｐｐｙ）3との層、
・ＢＰｈｅｎの層、及び
・ＬｉＦの層、
から形成される有機発光システム（ＯＬＥＤ）；並びに
‐特に金属から作られ、特に銀又はアルミニウムを主体とする導電性層の形であることが好ましい第二の透明又は反射電極。
【０３０３】
発光装置Ａは無機装置（ＴＦＥＬ装置）であってよい。第一の面は以下に示す順で被覆される：
‐任意に、例えば窒化珪素若しくは酸窒化珪素、窒化アルミニウム若しくは酸窒化アルミニウム、又は酸化珪素若しくは酸炭化珪素であるアルカリ金属バリア層；
‐透明下部電極（単層又は多層）；
‐典型的に：
・Ｓｉ3Ｎ4層、
・ＺｎＳ：Ｍｎ層、及び
・Ｓｉ3Ｎ4層、
から形成される無機発光システム（ＴＦＥＬ装置）；並びに
‐特に金属層であって、銀又はアルミニウムを主体とすることが好ましい導電性層の形である透明又は反射上部電極。
【０３０４】
下部電極４の下に、特に、例えばＳｉＯ2から作られた任意に多孔質であってよいゾルゲル層などをこの方法を使って構造化することによって、横方向の寸法ｗがサブミクロンスケール、ピッチｐが１５０ｎｍ乃至７００ｎｍ、及び高さｈが１μｍ未満であって特には２０乃至２００ｎｍである、少なくとも一つの周期的なアレイを形成することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【０３０５】
本発明のその他の詳細及び有利な特性は以下の図面で示された例を読むことで明らかとなるであろう。
【０３０６】
【図１ａ】本発明の第一の態様においてガラス製品を構造化する方法を実施するための第一の装置の概略図である。
【図１ｂ】それぞれ構造化されたガラス製品の部分断面図である。
【図２】本発明の第二の態様においてガラス製品を構造化する方法を実施するための第二の装置の概略図である。
【図３】本発明の第三の態様においてガラス製品を構造化する方法を実施するための第三の装置の概略図である。
【図４】図１ａに示す製造方法を用いて得られた構造化されたガラス製品の概略図である。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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