(57)【要約】電子デバイスを形成する方法は、基板（１００）の上に位置する半導体層（１０６）の上にパターン形成された耐酸化層（１２４）を形成することと、半導体層をパターン形成して半導体島（２０２，２０４，２０６，２０８）を形成することとを含む。半導体島は第１の表面と、第１の表面に対向する第２の表面とを含み、第１の表面は第２の表面と比較して基板のより近くに位置している。また、この方法は、半導体島の側面に沿って耐酸化材料（４２４）を形成すること、または半導体島の側面に沿って半導体材料を選択的に堆積させることも含む。さらに、この方法は、パターン形成された耐酸化層および半導体島を酸素含有雰囲気に露出することを含み、第１の表面に沿った半導体島の第１の部分は、パターン形成された耐酸化層、半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出している間に酸化される。
2009530828.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子デバイスの形成方法であって、
基板の上に位置する半導体層の上にパターン形成された耐酸化層を形成することと、
半導体層をパターン形成して第１の半導体島を形成することと、第１の半導体島は第１の表面と、第１の表面に対向する第２の表面とを含むことと、第１の表面は第２の表面と比較して基板のより近くに位置していることと、
第１の半導体島の側面に沿って耐酸化材料を形成することと、
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出することと、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出している間に、第１の表面に沿った第１の半導体島の第１の部分は酸化されることと、からなる方法。
【請求項２】
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出した後で、パターン形成された耐酸化層を除去することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出した後で、耐酸化材料を除去することを含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】
パターン形成された耐酸化層および耐酸化材料は窒化物を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出することは、約８００℃以上の温度で実行される請求項１に記載の方法。
【請求項６】
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出することは、第１の半導体島の第１の部分が第１の表面のほぼ全部に沿って位置するように実行される請求項１に記載の方法。
【請求項７】
半導体層をパターン形成することは、第１の半導体島の横方向の寸法が約１マイクロメートル以下であるように実行される請求項６に記載の方法。
【請求項８】
半導体層をパターン形成することによって、第２の半導体島も形成されることと、第２の半導体島は第３の表面と、第３の表面に対向する第４の表面とを含むことと、第３の表面は第４の表面と比較して基板のより近くに位置していることと、
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出することは、第３の表面に沿って位置する第２の半導体島の第２の部分が酸化され、第２の半導体島の第２の部分が第３の表面の全部ではなく一部に沿って位置するように実行されることと、を含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
半導体層をパターン形成することは、第２の半導体島の横方向の寸法が約１マイクロメートル以上であるように実行される請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出した後、第１の半導体島の第２の表面および第２の半導体島の第４の表面はほぼ同じ高さに位置する請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
電子デバイスの形成方法であって、
基板の上に位置する半導体層の上にパターン形成された耐酸化層を形成することと、
半導体層をパターン形成して第１の半導体島を形成することと、第１の半導体島は第１の表面と、第１の表面に対向する第２の表面とを含むことと、第１の表面は第２の表面と比較して基板のより近くに位置していることと、
第１の半導体島の側面に沿って半導体材料を選択的に堆積させることと、
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出することと、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出している間に、第１の表面に沿った第１の半導体島の第１の部分は酸化されることと、からなる方法。
【請求項１２】
選択的に堆積させることは、第１の半導体島の側面にてシリコン層をエピタキシャル成長させることを含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
選択的に堆積させることは、第１の半導体島の側面にてシリコンゲルマニウム層をエピタキシャル成長させることを含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出している間に、シリコンゲルマニウム層のゲルマニウムは第１の半導体島へ移動する請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出することは、約８００℃以上の温度で実行される請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出することは、第１の半導体島の第１の部分が第１の表面のほぼ全部に沿って位置するように実行される請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
半導体層をパターン形成することは、第１の半導体島の横方向の寸法が約１マイクロメートル以下であるように実行される請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出している間に、第１の半導体島の第２の表面は実質的に酸化されない請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
半導体層をパターン形成することによって、第２の半導体島も形成されることと、第２の半導体島は第３の表面と、第３の表面に対向する第４の表面とを含むことと、第３の表面は第４の表面と比較して基板のより近くに位置していることと、
パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出することは、第３の表面に沿って位置する第２の半導体島の第２の部分が酸化され、第２の半導体島の第２の部分が第３の表面の全部ではなく一部に沿って位置するように実行されることと、を含む請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
半導体層をパターン形成することは、第２の半導体島の横方向の寸法が約１マイクロメートル以上であるように実行される請求項１９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子デバイスおよび方法に関する。より詳細には、本発明は、絶縁層の上に厚さの異なる複数の半導体領域を含む電子デバイスと、その電子デバイスを形成する方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子デバイスの性能の増大によって、電子デバイスにおいて用いられる構造は、より複雑となっている。集積回路においては、設計された性能仕様を満たすため、厚さの異なる様々な半導体領域が用いられる。
【０００３】
絶縁層の上に厚さの異なる複数の半導体領域を得るための１つの試みには、半導体層の部分部分を選択的に薄化させることが含まれる。選択的な薄化の前には、半導体層はほぼ一様な厚さを有し得る。１つ以上のマスクを１つ以上のエッチング操作とともに用いることで、半導体層の全部ではなく一部が薄化される。選択的な薄化の後、異なる半導体領域の最上部の表面は、主表面の上で異なる高さに位置し得る。この結果として得られる構造は、リソグラフィ操作に関する問題（例えば、焦点深度）および研磨操作に関する問題を生じることがある。
【０００４】
絶縁層の上に厚さの異なる複数の半導体領域を形成するための別の試みには、ＳＩＭＯＸ（Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ  ｂｙ  Ｉｍｐｌａｎｔｅｄ  Ｏｘｙｇｅｎ）法が含まれる。半導体層は、下にある絶縁層の上にほぼ一様な厚さを有する。この半導体層は、トランジスタ構造のうち、より薄いチャネル領域が所望される１つ以上の領域にて、選択的に酸素を注入される。ＳＩＭＯＸ法は、注入されている半導体層の１つ以上の部分に激しく損傷を与え、高機能トランジスタに用いられるのに充分低いレベルまでアニーリングによって結晶欠陥が低減されないので、一般に好適でない。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００５】
電子デバイスを形成する方法は、基板の上に位置する半導体層の上にパターン形成された耐酸化層を形成することと、半導体層をパターン形成して半導体島を形成することとを含む。半導体島は第１の表面と、第１の表面に対向する第２の表面とを含み、第１の表面は第２の表面と比較して基板のより近くに位置している。また、この方法は、半導体島の側面に沿って耐酸化材料を形成すること、または半導体島の側面に沿って半導体材料を選択的に堆積させることも含む。さらに、この方法は、パターン形成された耐酸化層および半導体島を酸素含有雰囲気に露出することを含み、第１の表面に沿った半導体島の第１の部分は、パターン形成された耐酸化層、半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出している間に酸化される。この実施形態によって、半導体島の上面を主表面に対して上方でほぼ同じ平面に沿って、かつ、ほぼ同じ高さに保持しつつ、厚さの異なる複数の半導体島の形成を補助することが可能である。
【０００６】
以下に記載の実施形態の詳細に注意を向ける前に、幾つかの用語を定義して明確化する。用語「高さ（ｅｌｅｖａｔｉｏｎ）」は、基準面までの最短距離を意味するものである。一実施形態では、基準面は基板の主表面である。
【０００７】
用語「高ｋ（ｈｉｇｈ−ｋ）」は、誘電率に関して８．０以上を意味するものである。用語「低ｋ（ｌｏｗ−ｋ）」は、誘電率に関して８．０未満を意味するものである。
用語「横方向の寸法（ｌａｔｅｒａｌ  ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）」は、物体を参照するとき、物体の平面図から分かる１つの寸法を表す。横方向の寸法には、長さおよび幅が含まれる。長さと幅との間では、幅は長さと同じか、または長さより短い。円の直径は幅であると考えられ、本明細書においては、円は長さを有しない。
【０００８】
用語「主表面（ｐｒｉｍａｒｙ  ｓｕｒｆａｃｅ）」は、その表面からもしくはその表面の上に続いて１つ以上の電子部品が形成される、基板の表面またはその一部を意味するものである。
【０００９】
図１には、基板１００の一部の断面図を示す。基板１００は、基層１０２、絶縁層１０４および半導体層１０６を含むことが可能である。基層１０２は、支持層であって他の層に機械的な支持を提供することが可能であり、また、主表面１０３を有する。基層１０２は、シリコン、ゲルマニウム、炭素もしくはそれらの任意の組み合わせなどの半導体材料、石英、ガラスなどの絶縁材料、もしくは窒化物、単体金属、金属合金またはそれらの任意の組み合わせを含むことが可能である。基層１０２の結晶方向または構造は、半導体層１０６と同じであっても、異なってもよい。絶縁層１０４は、二酸化ケイ素、窒化物、酸窒化物、ハフニウム酸化物、ハフニウムケイ酸塩、電気絶縁性を有する任意の酸化物コンパウンドまたはそれらの任意の組み合わせなど、低ｋもしくは高ｋの誘電体であることが可能であり、約５〜約１０００ｎｍの範囲の厚さを有することが可能である。半導体層１０６は、シリコン、ゲルマニウム、炭素、ＳｉＧｅ、ＳｉＣ、Ｓｉ−Ｇｅ−Ｃもしくはそれらの任意の組み合わせなど、半導体元素またはコンパウンドアロイを含むことが可能であり、約５〜約１５０ｎｍの範囲のほぼ一様な厚さを有することが可能である。特定の実施形態では、半導体層１０６は、ほぼ単結晶である。半導体層１０６は、ｐ型のドーパントまたはｎ型のドーパントを用いてドーピングが行われてもよく、あるいはほぼドーピングが行われていなくてもよい。基板１００が１つ以上の市販元から取得されてもよく、あるいは基板１００が従来のもしくは専用の堆積または成長技術を用いて形成されてもよい。
【００１０】
耐酸化層１２４およびパターン形成されたマスク層１２８が、図１に示すように、基板１００の一部の上に形成される。耐酸化層１２４は、続く酸化中に、耐酸化層１２４を通じた半導体層１０６への酸素の拡散その他による移動の減少を補助する材料を含むことが可能である。耐酸化層１２４は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、金属窒化物またはそれらの任意の組み合わせを含むことが可能である。別の実施形態では、耐酸化層１２４は、シリコン酸窒化物、アルミニウム酸窒化物、金属酸窒化物またはそれらの任意の組み合わせなど、酸化物を含んでよい。さらに別の実施形態では、耐酸化層は、その耐酸化層を通じて下にある半導体層１０６へ移動することによる酸化をほぼ防止する、金属元素を含んでよい。例えば、耐酸化層１２４は、Ａｌ２Ｏ３、ＬａＡｌＯ３もしくはＳＯＩ基板の処理時に従来用いられる温度にて熱的にほぼ安定な別の金属絶縁コンパウンド、またはそれらの任意の組み合わせを含むことが可能である。
【００１１】
この特定の実施形態では、拡散、反応、または金属元素と半導体層１０６との間の望ましくない相互作用のすべての尤度を減少させるため、耐酸化層１２４を形成する前に、半導体層１０６の上に比較的薄い酸化物または窒化物の層（図示せず）が形成され得る。
【００１２】
耐酸化層１２４の厚さは、耐酸化層１２４に用いられる材料および続く酸化処理条件に応じて異なってよい。耐酸化層１２４は、約１０〜約１０，０００ｎｍの範囲の厚さを有することが可能である。特定の実施形態では、耐酸化層１２４は窒化物または酸窒化物を含むことが可能であり、約３０〜５００ｎｍの範囲の厚さを有することが可能である。耐酸化層１２４は、従来のもしくは専用の堆積または成長技術を用いて形成されることが可能である。
【００１３】
マスク層１２８は耐酸化層１２４の上に形成され、従来のまたは専用のリソグラフィ技術を用いてパターン形成される。マスク層１２８は、放射線造影可能な有機レジスト材料を含んでよい。マスク層１２８のうち残る部分は、一般に、半導体層１０６から半導体島が形成される領域に相当する。
【００１４】
図２では、パターン形成された耐酸化層１２４および半導体島２０２，２０４，２０６，２０８を形成するように、耐酸化層１２４および半導体層１０６の露出された部分が除去される。この除去は、１つ以上の従来のまたは専用のエッチング技術を用いて実行されてよい。絶縁層１０４は、一実施形態ではエッチング停止層として作用することが可能である。マスク層１２８（図２には示さず）は、従来のまたは専用の技術を用いて除去されることが可能である。
【００１５】
図３には、方法のこの時点におけるワークピースの平面図を示す。基層１０２と半導体島２０２，２０４，２０６，２０８との寸法および位置関係についての理解を向上させるため、図３には、耐酸化層１２４および絶縁層１０４を示していない。半導体島２０２，２０４，２０６，２０８は、同じ形状を有しても異なる形状を有してもよく、同じ寸法を有しても異なる寸法を有してもよく、またはそれらの任意の組み合わせであってもよい。
【００１６】
半導体島２０２，２０４，２０６は、それぞれ対応する幅３０２，３０４，３０６を有する。幅３０２，３０４，３０６は、酸化種が半導体島２０２，２０４，２０６またはそれらの任意の組み合わせのほぼ全部の下に拡散その他によって移動することを可能とするのに充分なだけ狭くてよい。幅３０２，３０４，３０６の各々は、約１マイクロメートル以下であってよく、特定の実施形態においては、約０．５マイクロメートル未満であってよく、さらに特定の実施形態では約０．２マイクロメートル未満であってよい。半導体島２０８は、半導体島２０２，２０４，２０６より有意に大きく、半導体島２０８の幅は約１．１マイクロメートルより大きくてよい。したがって、半導体島２０８の一部のみ（全部でなく）が、続く酸化中に酸化され得る。
【００１７】
図４に示すように、耐酸化材料は、基板の上に半導体島２０２，２０４，２０６，２０８の側面に沿って形成され、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８の側面に隣接した耐酸化スペーサ４２４を形成するようにエッチングされる。耐酸化スペーサ４２４は、上述において耐酸化層１２４に関して記載した材料のうちの１つ以上を含んでもよい。耐酸化層１２４および耐酸化スペーサ４２４は、同じ組成を有してもよく、異なる組成を有してもよい。耐酸化スペーサ４２４の厚さは、耐酸化層１２４に関して記載した通りであってよいが、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８またはそれらの任意の組み合わせの厚さより大きくはない。耐酸化層１２４および耐酸化スペーサ４２４は、同じ厚さを有してもよく、異なる厚さを有してもよい。耐酸化スペーサ４２４は、従来のまたは専用の堆積およびエッチング処理を用いて形成されてよい。
【００１８】
パターン形成された耐酸化層１２４、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８および耐酸化スペーサ４２４を含むワークピースは、図５に示すように、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８の一部を酸化して、それぞれ酸化物部分５２２，５２４，５２６，５２８を形成するように、酸素含有雰囲気に露出される。酸化物部分５２２，５２４，５２６，５２８の各々の厚さは、約１ｎｍである。特定の実施形態では、酸化物部分５２２，５２４，５２６，５２８の各々は、約１０〜約５００ｎｍの範囲の厚さを有し得る。別の実施形態では、酸化物部分５２２，５２４，５２６の各々は、その上の半導体島２０２，２０４または２０６の残る部分の厚さの最小約１％の厚さを有することが可能である。特定の実施形態では、酸化物部分５２２，５２４，５２６の各々は、その上の半導体島２０２，２０４または２０６の残る部分の厚さの約２０％〜約３００％の厚さを有することが可能である。
【００１９】
酸素含有雰囲気は、酸素、蒸気、オゾン、１つ以上の他の適切な酸化種またはそれらの任意の組み合わせを含むことが可能である。一実施形態では、酸化は約８００℃以上の温度で実行されることが可能である。特定の実施形態では、酸化は約９００℃〜約１２００℃の範囲で実行されてよい。
【００２０】
酸化中、酸素含有雰囲気の酸化種は、絶縁層１０４の一部を通じて拡散その他によって移動し、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８のそれぞれの底面５０２，５０４，５０６，５０８を酸化させることができる。耐酸化層１２４および耐酸素耐性を有するスペーサ４２４の存在によって、酸素含有雰囲気の酸化種が半導体島２０２，２０４，２０６，２０８のそれぞれの上面５１２，５１４，５１６，５１８に達することはほぼ防止される。したがって、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８は、それらの上面５１２，５１４，５１６，５１８に有意に影響を与えることなく薄化されることが可能であり、したがって、上面５１２，５１４，５１６，５１８を基層１０２の主表面１０３に対して上方にほぼ同じ高さのまま残すことができる。
【００２１】
半導体島２０４，２０６のそれぞれの幅３０４，３０６は半導体島２０８と比較して比較的小さいので、半導体島２０４，２０６の底面５０４，５０６のほぼ全部に沿って酸化物部分５２４，５２６を形成することが可能となる。半導体島２０８の横方向の寸法が比較的大きいので、半導体島２０８の底面５０８の全部に沿ってではなく一部のみに沿って酸化物部分５２８を形成することが可能となる。
【００２２】
耐酸化層６２４が、図６に示すように、基板の上に形成され、パターン形成されることが可能である。図６における耐酸化層６２４の残りの部分によって、続く酸化中、半導体島２０６，２０８がさらに有意に酸化されることからの保護が補助される。耐酸化層６２４は、上述において耐酸化層１２４に関して記載した材料のうちの１つ以上を含んでもよい。耐酸化層１２４，６２４は、同じ組成を有してもよく、異なる組成を有してもよい。耐酸化層６２４は、耐酸化層１２４に関して記載した厚さを有してもよい。耐酸化層１２４，６２４は、同じ厚さを有してもよく、異なる厚さを有してもよい。耐酸化層６２４は、従来のまたは専用の堆積およびエッチング処理を用いて形成されてよい。
【００２３】
ワークピースは、図７に示すように、半導体島２０２，２０４の一部を酸化して、それぞれ酸化物部分７２２，７２４を形成するように、酸素含有雰囲気に露出される。耐酸化層６２４の存在によって、半導体島２０６，２０８がさらに酸化されることからの充分な保護が補助される。酸化物部分７２２，７２４は、元々形成された酸化物部分５２６，５２８や酸化物部分５２２，５２４（図５）よりも厚い。酸化物部分７２２，７２４の各々の厚さは約２ｎｍ以上である。特定の実施形態では、酸化物部分７２２，７２４の各々は、約１０〜約５００ｎｍの範囲の厚さを有し得る。別の実施形態では、酸化物部分７２２，７２４の各々は、その上の半導体島２０２または２０４の残る部分の厚さの最小約１％の厚さを有することが可能である。特定の実施形態では、酸化物部分７２２，７２４の各々は、その上の半導体島２０２または２０４の残る部分の厚さの約２０％〜約３００％の厚さを有することが可能である。酸素含有雰囲気は、酸素、蒸気、オゾン、１つ以上の他の適切な酸化種またはそれらの任意の組み合わせを含むことが可能である。一実施形態では、酸化は約８００℃以上の温度で実行されることが可能である。特定の実施形態では、酸化は約９００℃〜約１２００℃の範囲で実行されてよい。
【００２４】
耐酸化層１２４，６２４および耐酸化スペーサ４２４は、図８に示すように、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８を露出するように、従来のエッチング技術を用いて除去される。半導体島２０２，２０４，２０６，２０８のそれぞれの上面５１２，５１４，５１６，５１８は、ほぼ同じ平面（図８には破線８０２として示す）に沿ってほぼ位置し、基層１０２の主表面１０３にほぼ平行である。このように、厚さの異なる半導体島が形成されるので、複数の半導体島の上面が著しく異なる高さに位置する場合に続くリソグラフィ操作および研磨操作によって発生し得る問題を、ほぼ防止することが可能である。
【００２５】
図８に示した実施形態では、半導体島２０２，２０４の各々は半導体島２０６，２０８の各々より薄く、半導体島２０６は、半導体島２０８（図８の右手部分）のサイドウォールから離間した位置において、半導体島２０８よりも薄い。電子部品（例えば、トランジスタ）の性能は、その対応する半導体島の厚みを調整することによって、調整可能である。したがって、同じ集積回路上の異なる半導体島に、部分空乏型および完全空乏型のトランジスタが形成されることが可能である。また、厚みは、トランジスタの飽和電流、キャパシタもしくは（ゲート誘電体を通じた）トランジスタの静電容量、抵抗器もしくは（チャネル領域を通じた）トランジスタの抵抗、１つ以上の他の適切な電気的なパラメータまたはそれらの任意の組み合わせに影響を与える場合がある。
【００２６】
フィールド分離領域９２２は、図９に示すように、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８の間で形成されることが可能である。一実施形態では、フィールド分離領域９２２は、従来のまたは専用の堆積および研磨操作によって形成される。半導体島２０２，２０４，２０６，２０８がほぼ同じ平面に位置するので、研磨の不均一性は低下し得る。図示していないが、１つ以上の半導体島の導電型を変化させるため、１つ以上の半導体島のドーパント濃度を変化させるため、またはそれらの任意の組み合わせのために、１つ以上のドーピング作業が実行されてよい。
【００２７】
処理は、電子デバイス１０００のトランジスタ構造１０２４，１０２６，１０２８の形成へ続く。トランジスタ構造１０２４，１０２６，１０２８またはそれらの任意の組み合わせは、トランジスタ、キャパシタ、抵抗器などとして構成されることが可能である。トランジスタ構造１０２４，１０２６，１０２８、またはそれらの任意の組み合わせは、ｐ−チャネルトランジスタ、ｎ−チャネルトランジスタ、エンハンストモードトランジスタ、空乏モードトランジスタ、完全空乏トランジスタ、部分空乏トランジスタまたはそれらの任意の組み合わせであることが可能である。
【００２８】
トランジスタ構造１０２４，１０２６，１０２８は、従来のもしくは専用の材料を用いる成長、堆積、エッチング、ドーピングまたはそれらの任意の組み合わせを含む、従来のまたは専用の技術を用いて形成されることが可能である。トランジスタ構造１０２４は、ゲート誘電体層１０２４２、ゲート電極１０２４４およびソース／ドレイン（Ｓ／Ｄ）領域１０２４８を含むことが可能であり、トランジスタ構造１０２６は、ゲート誘電体層１０２６２、ゲート電極１０２６４およびＳ／Ｄ領域１０２６８を含むことが可能であり、トランジスタ構造１０２８は、ゲート誘電体層１０２８２、ゲート電極１０２８４およびＳ／Ｄ領域１０２８８を含むことが可能である。サイドウォールスペーサ１０２４６，１０２６６，１０２８６は、それぞれ隣接したゲート電極１０２４４，１０２６４，１０２８４を形成した後、かつ、それぞれ隣接したＳ／Ｄ１０２４８，１０２６８，１０２８８を形成する前に形成されてよい。図１０に示す実施形態では、Ｓ／Ｄ領域１０２４８は酸化物部分７２４に接しているが、Ｓ／Ｄ領域１０２６８および１０２８８は、それぞれ下にある酸化物部分７２６および７２８から離間して配置されている。
【００２９】
図示していないが、ほぼ完成した電子デバイスを形成するために、追加の処理が実行されてもよい。絶縁層、相互接続レベル、パッシベーション層、ダイ被覆層またはそれらの任意の組み合わせが、従来のもしくは専用の堆積、エッチング、研磨またはそれらの操作の任意の組み合わせを用いて形成されてよい。
【００３０】
別の実施形態では（図示せず）、トランジスタ構造１０２４，１０２６，１０２８またはそれらの任意の組み合わせが、フィン型のトランジスタ構造として形成されてもよい。図９のフィールド分離領域９２２を形成した後、トランジスタ構造のゲート誘電体層、ゲート電極およびＳ／Ｄ領域を形成する前にフィンを形成するために、従来のもしくは専用の技術を用いて、半導体島２０４，２０６，２０８またはそれらの任意の組み合わせがエッチングされることが可能である。このように、全てプレーナ型のトランジスタ構造、全てフィン型のトランジスタ構造またはプレーナ型トランジスタおよびフィン型トランジスタの組み合わせが形成されることが可能である。
【００３１】
さらに別の実施形態では、図１１に示すように、耐酸化スペーサ４２４は、半導体層１０６から選択的に成長される層によって置換されることが可能である。半導体層１０６をパターン形成するとき、露出した絶縁層１０４の一部をエッチングして続く酸化に対して半導体島２０２，２０４，２０６，２０８をより良好に露出させるように、同じエッチングまたは異なるエッチングが実行されることが可能である。絶縁層１０４のエッチングは従来のまたは専用の技術を用いて実行されることが可能である。
【００３２】
半導体部分１２０２，１２０４，１２０６，１２０８は、従来のまたは専用の技術を用いて、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８から選択的に成長されるか、他の場合には選択的に堆積されることが可能である。一実施形態では、半導体部分１２０２，１２０４，１２０６，１２０８の厚さは、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８の底面に沿って続いて形成される酸化物部分の厚さの約３０％〜約６０％の範囲であることが可能である。別の実施形態では、半導体部分１２０２，１２０４，１２０６，１２０８の厚さは、約５〜約３００ｎｍの範囲であることが可能である。半導体部分１２０２，１２０４，１２０６，１２０８は、半導体層１０６に関して記載した材料のうちの１つ以上を含むことが可能である。１２０２，１２０４，１２０６，１２０８は、半導体層１０６と比較して、同じ組成を有してもよく、異なる組成を有してもよい。
【００３３】
ワークピースは、図１３に示すように、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８の一部を酸化して、それぞれ酸化物部分１３２２，１３２４，１３２６，１３２８を形成するように、酸素含有雰囲気に露出される。酸化物部分１３２２，１３２４，１３２６，１３２８が形成され、図５の酸化物部分５２２，５２４，５２６，５２８に関して記載した厚さを有することが可能である。酸化中、半導体部分１２０２，１２０４，１２０６，１２０８も、それぞれ酸化物部分１３０２，１３０４，１３０６，１３０８を形成するように酸化される。一実施形態では、半導体部分１２０２，１２０４，１２０６，１２０８のほぼ全てが酸化され（図１３）、別の実施形態では、半導体部分１２０２，１２０４，１２０６，１２０８の一部だけ（全部でなく）が酸化される。処理は、フィールド分離領域の形成（図９）に続くことが可能である。フィールド分離領域９２２を形成する前に、酸化物部分１３０２，１３０４，１３０６，１３０８の一部または全部が除去されてもよく、酸化物部分１３０２，１３０４，１３０６，１３０８が全く除去されなくてもよい。特定の実施形態では、半導体の元素は、半導体部分１２０２，１２０４，１２０６，１２０８またはそれらの任意の組み合わせから、対応する半導体島２０２，２０４，２０６，２０８またはそれらの任意の組み合わせへ移動することが可能である。特定の一実施形態では、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８はシリコン島であり、半導体部分１２０２，１２０４，１２０６，１２０８はシリコンゲルマニウム部分である。酸化中、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８内のゲルマニウム濃度を増大させるように、半導体部分１２０２，１２０４，１２０６，１２０８のゲルマニウムは、半導体島２０２，２０４，２０６，２０８へ拡散その他によって移動することが可能である。
【００３４】
さらなる実施形態（図示せず）では、耐酸化スペーサおよび半導体部分の組み合わせが用いられてよい。特定の実施形態では、耐酸化スペーサはｎ−チャネルトランジスタの形成において用いられる半導体島に隣接して形成されてよく、シリコンゲルマニウム部分は、ｐ−チャネルトランジスタの形成において用いられる半導体島に隣接して形成されてよい。
【００３５】
本明細書に記載の実施形態のうちの１つ以上では、様々な電子部品が厚さの異なる複数の半導体島を用いて設計されることが可能となることによって、リソグラフィ、研磨または他の処理検討事項による複雑さの可能性は減少されている。電子デバイスの設計者は、特に、セミコンダクタ・オン・インシュレータ基板が用いられるときには、電子部品を設計する際に、より大きな柔軟性を有することが可能である。
【００３６】
多くの異なる態様および実施形態が可能である。それらの態様および実施形態のうちの一部を以下に記載する。本明細書を読んだ後、当業者には、それらの態様および実施形態が単なる例に過ぎず、それによって本発明の範囲が限定されないことが認められる。
【００３７】
第１の態様では、電子デバイスを形成する方法は、基板の上に位置する半導体層の上にパターン形成された耐酸化層を形成することと、半導体層をパターン形成して第１の半導体島を形成することとを含む。第１の半導体島は、第１の表面と、第１の表面に対向する第２の表面とを含み、第１の表面は第２の表面と比較して基板のより近くに位置している。また、この方法は、第１の半導体島の側面に沿って耐酸化材料を形成することと、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出することとを含む。第１の表面に沿った第１の半導体島の第１の部分は、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出している間に酸化され得る。
【００３８】
第１の態様の一実施形態では、この方法は、さらに、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出した後で、パターン形成された耐酸化層を除去することを含むことが可能である。特定の実施形態では、この方法は、さらに、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出した後で、耐酸化材料を除去することを含むことが可能である。別の実施形態では、パターン形成された耐酸化層および耐酸化材料は窒化物を含む。第１の態様のさらに別の実施形態では、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出することは、約８００℃以上の温度で実行されることが可能である。
【００３９】
さらなる実施形態では、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出することは、第１の半導体島の第１の部分が第１の表面のほぼ全部に沿って位置するように実行されることが可能である。特定の実施形態では、半導体層をパターン形成することは、第１の半導体島の横方向の寸法が約１マイクロメートル以下であるように実行される。さらなる特定の実施形態では、半導体層をパターン形成することによって第２の半導体島も形成され、第２の半導体島は第３の表面と、第３の表面に対向する第４の表面とを含み、第３の表面は第４の表面と比較して基板のより近くに位置している。パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出することは、第３の表面に沿って位置する第２の半導体島の第２の部分が酸化され、第２の半導体島の第２の部分が第３の表面の全部ではなく一部に沿って位置するように実行されることが可能である。
【００４０】
第１の態様のさらなる特定の実施形態では、半導体層をパターン形成することは、第２の半導体島の横方向の寸法が約１マイクロメートル以上であるように実行される。別のさらなる特定の実施形態では、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出した後、第１の半導体島の第２の表面および第２の半導体島の第４の表面はほぼ同じ高さに位置する。
【００４１】
第２の態様では、電子デバイスを形成する方法は、基板の上に位置する半導体層の上にパターン形成された耐酸化層を形成することと、半導体層をパターン形成して第１の半導体島を形成することとを含む。第１の半導体島は、第１の表面と、第１の表面に対向する第２の表面とを含み、第１の表面は第２の表面と比較して基板のより近くに位置している。また、この方法は、第１の半導体島の側面に沿って半導体材料を選択的に堆積させることと、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出することとを含むことが可能である。第１の表面に沿った第１の半導体島の第１の部分は、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および耐酸化材料を酸素含有雰囲気に露出している間に酸化され得る。
【００４２】
第２の態様の一実施形態では、選択的に堆積させることは、第１の半導体島の側面にてシリコン層をエピタキシャル成長させることを含むことが可能である。別の実施形態では、選択的に堆積させることは、第１の半導体島の側面にてシリコンゲルマニウム層をエピタキシャル成長させることを含むことが可能である。特定の実施形態では、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出している間に、シリコンゲルマニウム層のゲルマニウムは第１の半導体島へ移動することが可能である。さらに別の実施形態では、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出することは、約８００℃以上の温度で実行される。
【００４３】
第２の態様のさらなる実施形態では、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出することは、第１の半導体島の第１の部分が第１の表面のほぼ全部に沿って位置するように実行されることが可能である。特定の実施形態では、半導体層をパターン形成することは、第１の半導体島の横方向の寸法が約１マイクロメートル以下であるように実行されることが可能である。さらなる特定の実施形態では、パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出している間に、第１の半導体島の第２の表面は実質的に酸化されなくてよい。
【００４４】
第２の態様の別のさらなる特定の実施形態では、半導体層をパターン形成することによって第２の半導体島も形成されることが可能であり、第２の半導体島は第３の表面と、第３の表面に対向する第４の表面とを含み、第３の表面は第４の表面と比較して基板のより近くに位置している。パターン形成された耐酸化層、第１の半導体島および半導体材料を酸素含有雰囲気に露出することは、第３の表面に沿って位置する第２の半導体島の第２の部分が酸化され、第２の半導体島の第２の部分が第３の表面の全部ではなく一部に沿って位置するように実行されることが可能である。さらなる特定の実施形態では、半導体層をパターン形成することは、第２の半導体島の横方向の寸法が約１マイクロメートル以上であるように実行される。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】基板の上に耐酸化層およびマスク層を形成した後の基板の一部の断面図。
【図２】基板の上に耐酸化層をパターン形成した後の図１の基板の断面図。
【図３】半導体層をパターン形成して半導体島を形成した後の図２の基板の平面図。
【図４】半導体島に隣接した耐酸化スペーサを形成した後の図３の基板の断面図。
【図５】半導体島の一部を熱的に酸化させた後の図４の基板の断面図。
【図６】基板の一部の上に耐酸化層を形成した後の図５の基板の断面図。
【図７】半導体島のうち耐酸化層によって覆われていない部分を熱的に酸化させた後の図６の基板の断面図。
【図８】耐酸化スペーサおよび耐酸化層を除去した後の図７の基板の断面図。
【図９】半導体島の間にフィールド分離領域を形成した後の図８の基板の断面図。
【図１０】半導体島を用いてトランジスタ構造を形成した後の図９の基板の断面図。
【図１１】代替の実施形態による選択的堆積法を用いる場合の基板の一部の断面図。
【図１２】代替の実施形態による選択的堆積法を用いる場合の基板の一部の断面図。
【図１３】代替の実施形態による選択的堆積法を用いる場合の基板の一部の断面図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【国際調査報告】
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