(57)【要約】  本発明は、アルキル芳香族化合物の非平衡混合物を二つの順次ゾーンで異性化する方法に関する。第一のゾーンは水素の不在下で白金を含まない触媒を用いて運転され、第二のゾーンは分子ふるいと白金族金属成分を含む触媒を用いることにより、先行技術の方法と比べて、混合物から改良された収量のパラキシレンが得られる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つ又は複数のエチル芳香族炭化水素を含む非平衡アルキル芳香族供給混合物の異性化法であって、
（ａ）第一の異性化ゾーンにおいて水素の実質的不在下で液相の供給混合物を、１０〜９９質量％の少なくとも一つのゼオライト型アルミノケイ酸塩と無機酸化物バインダとを含み、白金族金属を実質的に含有しない第一の異性化触媒、と第一の異性化条件で接触させて中間体ストリームを得ること；及び
（ｂ）第二の異性化ゾーンにおいて前記中間体ストリームの少なくとも一部を、０．１〜２質量％の少なくとも一つの白金族金属成分、１０〜９０質量％の少なくとも一つの分子ふるい、及び無機酸化物バインダを含む第二の異性化触媒、と第二の異性化条件で接触させて、第二の異性化条件における平衡濃度より高い濃度の少なくとも一つのアルキル芳香族異性体を含む異性化生成物を得ること、
の順次ステップを含む方法。
【請求項２】
第一の異性化条件が、１００℃〜５００℃の温度、５００ｋＰａ〜５ＭＰａの圧力及び０．５〜５０ｈｒ−１の毎時液空間速度を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第二の異性化条件が、２００℃〜６００℃の温度、１００ｋＰａ〜５ＭＰａの圧力及び０．５〜５０ｈｒ−１の毎時液空間速度を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
第二の異性化ゾーンで更なる処理ステップなしに全部の中間体ストリームを処理することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
異性化生成物において平衡濃度より高い少なくとも一つのアルキル芳香族異性体がパラキシレンである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
供給混合物に対するＣ８芳香環の損失が３．５％未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
供給混合物に対するＣ８芳香環の損失が３％未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
異性化生成物と新鮮なＣ８芳香族供給物との組合せを選択的吸着によって処理し、高純度のパラキシレンと非平衡供給混合物を得ることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
第一の異性化触媒の少なくとも一つの分子ふるいがＭＴＷ及びＧａ−ＭＦＩの一つ又は両方から選ばれる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
全部の中間体ストリームが第二の異性化ゾーンで処理され、異性化生成物において平衡濃度より高い少なくとも一つのアルキル芳香族異性体がパラキシレンである、請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
発明の背景
本発明は接触炭化水素変換に関し、更に詳しくは芳香族化合物の異性化に関する。
一般的背景及び先行技術
キシレン異性体は化学合成で広く多様な用途を持つ重要な中間体である。パラキシレンは合成繊維及び樹脂の製造に使用されるテレフタル酸の原料である。メタキシレンは可塑剤、アゾ染料、木材防腐剤などの製造に使用される。オルトキシレンは無水フタル酸製造の原料である。
【０００２】
接触改質又はその他の供給源から得られるキシレン異性体の割合は、一般的に化学中間体としての需要割合に合致していない上に、分離又は変換の困難なエチルベンゼンを含んでいる。特にパラキシレンは主要な化学中間体で需要が急速に拡大しているが、典型的なＣ８芳香族化合物ストリームの２０〜２５％にしか達しない。異性体の比率を需要に合わせるための調整は、キシレン異性体の回収（例えばパラキシレン回収のための吸着）を異性化と組み合わせて所望異性体の量を追加することによって達成することができる。異性化は、所望のキシレン異性体が少ないキシレン異性体の非平衡混合物を、平衡濃度に近い混合物に変換する。
【０００３】
キシレンの異性化を達成する様々な触媒及び方法が開発されている。適当な技術の選択にあたっては、パラキシレンの収量を最大化するために、できるだけ平衡に近い芳香族異性体の比率を得るのが望ましい。しかしながら、平衡への接近は副反応のために環状Ｃ８損失の増大を伴う。平衡にどの程度接近するかは、高変換率で環状Ｃ８を多く損失すること（すなわち平衡に極めて接近）と、未変換Ｃ８芳香族化合物のリサイクル率が高くなることによる光熱費の増大との間の最適化された妥協である。従って、触媒は、活性、選択性及び安定性の好適なバランスに基づいて評価される。
【０００４】
この四半世紀ほどは分子ふるいを含有する触媒がキシレンの異性化用として目立つようになってきた。例えば、米国特許第３，８５６，８７２号は、ＺＳＭ−５、−１２又は−２１ゼオライトを含有する触媒によるキシレンの異性化とエチルベンゼンの変換を教示している。米国特許第４，８９９，０１１号は、それぞれが強力な水素化金属と関連する二つのゼオライトを用いるＣ８芳香族化合物の異性化を教示している。米国特許第５，２４０，８９１号は、骨格のマグネシウム比率が狭い範囲に限られたＭｇＡＰＳＯ分子ふるいとキシレン異性化におけるその使用を開示している。米国特許第６，２２２，０８６号は、キシレンとエチルベンゼンの混合物の異性化に二つのゼオライト触媒を使用することを教示している。前記触媒において第二の触媒中の白金族金属の含量は第一の触媒の３０％以下である。米国特許第６，４４８，４５９号は、豊富化されたエチルベンゼンコンセントレートの第一のフラクションの回収と異性化、エチルベンゼン豊富化の第二のフラクションから吸着によるパラキシレンの回収、及びパラキシレン吸着ステップからのラフィネートと脱着剤の異性化を含むプロセスの組合せを開示している。米国特許第６，６６０，８９６号は、エチルベンゼンとキシレン異性体混合物を含有する供給原料を水素の存在下で第一及び第二の触媒を用いて異性化し、平衡より高濃度のパラキシレンを有する生成物を製造する方法を教示している。これらの文献は本発明の個々のエレメントを教示してはいるが、いずれの技術も、本発明のプロセスの重要な特徴を得るための各エレメントの組合せについては示唆していない。
【０００５】
Ｃ８芳香族化合物の異性化用触媒は通常、キシレン異性体に随伴するエチルベンゼンの処理方式によって分類される。エチルベンゼンはキシレンに容易に異性化されないが、通常は異性化装置の中で変換される。なぜならば、超分別(superfractionation)又は吸着によるキシレンからの分離が非常にコスト高だからである。広く使用されている手法は、エチルベンゼンを脱アルキル化して主にベンゼンを形成させ、一方でキシレンを異性化して近平衡混合物にするという方法である。代替の手法は、水素化−脱水素化機能を有する固体酸触媒の存在下で、ナフテンへの変換及びナフテンからの再変換によってキシレン混合物が形成されるようにエチルベンゼンを反応させるという方法である。前者の手法は、一般的に、より高いエチルベンゼン変換とより効果的なキシレン異性化をもたらすので、異性化／パラキシレン回収ループにおけるリサイクル量が減少し、随伴する処理コストが削減される。しかし、後者の手法は、エチルベンゼンからキシレンを形成させることによってキシレンの収量を増大させる。これらの手法の特徴を併せ持つ、すなわちエチルベンゼンのキシレンへの異性化をエチルベンゼンとキシレン両方の高い変換で達成する触媒系と方法があれば、キシレン製造経済に著しい改良がもたらされることになろう。
【０００６】
発明の要旨
本発明の主目的は、Ｃ８芳香族炭化水素の異性化のための特定の反応に合わせた触媒と系の組合せを用いて、改良された収量の所望のキシレン異性体を低い環損失とリサイクル率で得るための新規方法を提供することである。
【０００７】
本発明は、水素の不在下でキシレンを異性化するための液相プロセスとＣ８芳香族化合物中のエチルベンゼンを変換するための気相プロセスとの組合せを含む触媒系は平衡より高濃度のパラキシレンをもたらすという発見に基づく。
【０００８】
本発明の広範な態様は、一つ又は複数のエチル芳香族炭化水素を含む非平衡アルキル芳香族供給混合物の異性化法であって、第一の異性化ゾーンにおいて水素の実質的不在下で液相の供給混合物を、第一の異性化触媒、すなわち１０〜９９質量％の少なくとも一つのゼオライト型アルミノケイ酸塩と無機酸化物バインダとを含み、白金族金属を実質的に含有しない第一の異性化触媒と第一の異性化条件で接触させて中間体ストリームを得るステップと、そして、第二の異性化ゾーンにおいて前記中間体ストリームの少なくとも一部を第二の異性化触媒、すなわち０．１〜２質量％の少なくとも一つの白金族金属成分、１０〜９０質量％の少なくとも一つの分子ふるい、及び無機酸化物バインダを含む第二の異性化触媒と第二の異性化条件で接触させて、第二の異性化条件における平衡濃度より高い濃度の少なくとも一つのアルキル芳香族異性体を含む異性化生成物を得るステップの順次ステップを含む。
【０００９】
本発明の更に特定的な態様は、キシレン及びエチルベンゼンを含む非平衡供給混合物の異性化法であって、第一の異性化ゾーンにおいて水素の実質的不在下で液相の供給混合物を、第一の異性化触媒、すなわち１０〜９９質量％の少なくとも一つのゼオライト型アルミノケイ酸塩と無機酸化物バインダとを含み、白金族金属を実質的に含有しない第一の異性化触媒と第一の異性化条件で接触させて中間体ストリームを得るステップと、そして、第二の異性化ゾーンにおいて前記中間体ストリームの少なくとも一部を第二の異性化触媒、すなわち０．１〜２質量％の少なくとも一つの白金族金属成分、１０〜９０質量％の少なくとも一つの分子ふるい、及び無機酸化物バインダを含む第二の異性化触媒と第二の異性化条件で接触させて、第二の異性化条件における平衡濃度より高い濃度のパラキシレンを含む異性化生成物を得るステップの順次ステップを含む。
【００１０】
本発明のなお更に特定的な態様は、キシレン及びエチルベンゼンを含む非平衡供給混合物の異性化法であって、第一の異性化ゾーンにおいて水素の実質的不在下で液相の供給混合物を、第一の異性化触媒、すなわち１０〜９９質量％の少なくとも一つのゼオライト型アルミノケイ酸塩と無機酸化物バインダとを含み、白金族金属を実質的に含有しない第一の異性化触媒と第一の異性化条件で接触させて中間体ストリームを得るステップと、そして、第二の異性化ゾーンにおいて全部の前記中間体ストリームを第二の異性化触媒、すなわち０．１〜２質量％の少なくとも一つの白金族金属成分、１０〜９０質量％の少なくとも一つの分子ふるい、及び無機酸化物バインダを含む第二の異性化触媒と第二の異性化条件で接触させて、第二の異性化条件における平衡濃度より高い濃度のパラキシレンを含む異性化生成物を得るステップの順次ステップを含む。
【００１１】
これら並びにその他の目的及び態様は以下の本発明の詳細な説明から明らかになるであろう。
発明の詳細な説明
芳香族化合物の異性化に供給される非平衡アルキル芳香族供給混合物は、異性化生成物中に少なくとももう一つの有益なアルキル芳香族異性体を得るための異性化に適切な、一般式Ｃ６Ｈ（６−ｎ）Ｒｎ｛式中、ｎは１〜５の整数であり、ＲはＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、Ｃ３Ｈ７、又はＣ４Ｈ９である（組合せは任意）｝の異性化可能なアルキル芳香族炭化水素を含む。供給混合物は、少なくとも１個のエチル基を含有する、すなわち少なくとも一つのアルキル芳香族炭化水素の少なくとも一つのＲがＣ２Ｈ５である一つ又は複数のエチル芳香族炭化水素を含む。供給混合物の適切な成分は、一般的に、例えばエチルベンゼン、メタキシレン、オルトキシレン、パラキシレン、エチルトルエン、トリメチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリエチルベンゼン、メチルプロピルベンゼン、エチルプロピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、及びそれらの混合物を含むが本発明はそのように限定されない。一つ又は複数のエチル芳香族炭化水素は供給混合物中に２〜１００質量％の濃度で存在する。
【００１２】
キシレン及びエチルベンゼンを含む非平衡Ｃ８芳香族供給混合物の異性化は本発明の特に好適な適用である。一般的に、そのような混合物は、およそ１〜５０ｗｔ％の範囲のエチルベンゼン含量、およそ０〜３５ｗｔ％の範囲のオルトキシレン含量、およそ２０〜９５ｗｔ％の範囲のメタキシレン含量及びおよそ０〜３５ｗｔ％の範囲のパラキシレン含量を有する。“非平衡”とは、少なくとも一つのＣ８芳香族異性体が第二の異性化条件における平衡濃度とは実質的に異なる濃度で存在することを意味する。通常、非平衡混合物は、一つ又は複数の芳香族化合物製造法又は芳香族化合物変換法から得られた新鮮なＣ８芳香族混合物からパラ−、オルト−及び／又はメタ−キシレンを除去することによって製造される。
【００１３】
アルキル芳香族供給混合物は、石油精製、炭化水素の熱又は接触分解、石炭のコーキング、又は石油化学的変換などの任意の様々な供給元から得ることができる。好ましくは、本発明で利用される供給混合物は、各種の石油精製ストリームからの適当なフラクション、例えば接触分解又は改質された炭化水素の選択的分別及び蒸留によって得られる個別成分として又はある沸点範囲のフラクションとして入手される。異性化可能な芳香族炭化水素を濃縮する必要はない。本発明の方法は、接触リフォーメートのようなアルキル芳香族含有ストリームの異性化を事後の芳香族化合物の抽出の有無にかかわらず可能にし、特定のキシレン異性体、特にパラキシレンを製造する。本プロセスに供給されるＣ８芳香族化合物は、非芳香族炭化水素、すなわちナフテン及びパラフィンを３０ｗｔ％まで含有していてもよい。しかしながら、異性化可能な炭化水素は、下流の回収プロセスから純粋な生成物を確実に得るために本質的に芳香族化合物からなるのが好ましい。
【００１４】
本発明の方法に従って、アルキル芳香族炭化水素の供給混合物は、第一及び第二の異性化ゾーンで、以下でそれぞれ説明するタイプの二つ以上の触媒と順次接触される。接触は、固定床系、可動床系、流動床系、スラリー系又は沸騰床系の触媒系を用いるゾーン、又はバッチタイプ操作のいずれかで達成できる。高価な触媒の損耗の危険性とより簡単な操作の点から、両ゾーンで固定床系の使用が好ましい。
【００１５】
好適な様式において、供給混合物は当該技術分野で公知の適切な加熱手段によって所望の反応温度に予熱され、水素の実質的不在下、液相で、第一の異性化触媒の固定床（一つ又は複数）を含有する第一の異性化ゾーンに投入される。“水素の実質的不在下”という用語は、供給混合物に遊離水素が添加されないこと、及び先行処理由来の何らかの溶解水素が実質的に０．０５モル／モル供給物未満、しばしば０．０１モル／モル未満であること、そしておそらくは通常の分析手段で検出できないことを意味する。第一の異性化ゾーンは、単一の反応器又は二つ以上の別の反応器（各反応器への入口で所望の異性化温度が確実に維持されるように各反応器間に適切な手段を備えている）を含みうる。反応物を触媒床と上昇流、下降流、又は半径流式に接触させると、供給混合物とは異なる比率のアルキル芳香族異性体を含有する中間体ストリームが得られる。好適なＣ８芳香族化合物の処理においては、中間体ストリームは、供給混合物中よりも平衡に近い割合のキシレンと、供給混合物中の割合と関連した割合のエチルベンゼンを含有する。
【００１６】
アルキル芳香族供給混合物、好ましくはＣ８芳香族化合物の非平衡混合物は、液相で第一の異性化触媒と適切な第一の異性化条件で接触する。そのような条件は、１００℃〜５００℃、好ましくは２００℃〜４００℃の範囲の温度を含む。圧力は供給混合物を液相に維持するのに足る圧力、一般的に５００ｋＰａ〜５ＭＰａ絶対圧である。第一の異性化ゾーンは、供給混合物に対して０．５〜５０ｈｒ−１、好ましくは０．５〜２０ｈｒ−１の毎時液空間速度を提供するのに十分な体積の触媒を含有している。
【００１７】
中間体ストリームの少なくとも一部、好ましくは中間体ストリームの全部は、更なる処理ステップなしに第二の異性化ゾーンで第二の異性化触媒と接触する。好ましくは分離手段を通過することなく、中間体ストリームは、水素豊富ガスの存在下、適切な加熱手段によって所望の反応温度に予熱されてから、第二の異性化触媒の固定床（一つ又は複数）を含有する第二の異性化ゾーンに投入される。第二の異性化ゾーンは、単一の反応器又は二つ以上の別の反応器（各反応器への入口で所望の異性化温度が確実に維持されるように各反応器間に適切な手段を備えている）を含みうる。反応物を触媒床と上昇流、下降流、又は半径流式に接触させて異性化生成物を得るが、反応物は触媒と接触される際、液相、液−気混合相、又は気相であってよい。
【００１８】
中間体ストリーム、好ましくはＣ８芳香族化合物の混合物は、水素の存在下、第二の異性化触媒と適切な第二の異性化条件で接触する。そのような条件は、２００℃〜６００℃以上、好ましくは３００℃〜５００℃の範囲の温度を含む。圧力は一般的に１００ｋＰａ〜５ＭＰａ絶対圧、好ましくは３ＭＰａ未満である。第二の異性化ゾーンは、中間体ストリームに対して０．５〜５０ｈｒ−１、好ましくは０．５〜２０ｈｒ−１の毎時液空間速度を提供するのに十分な体積の触媒を含有している。中間体ストリームは、水素／炭化水素モル比０．５：１〜２５：１で水素と混合されて最適に反応する。窒素、アルゴン及び軽質炭化水素のようなその他の不活性希釈剤が存在してもよい。
【００１９】
異性化生成物は、第二の異性化条件における平衡濃度より高い濃度の少なくとも一つのアルキル芳香族異性体を含む。異性化生成物は、好ましくは第二の異性化条件における平衡濃度より高い濃度のパラキシレンを有するＣ８芳香族化合物の混合物である。好ましくは、パラキシレンの濃度は、少なくとも２４．２ｗｔ％、しばしば２４．４ｗｔ％以上であり、２５ｗｔ％以上であり得る。供給混合物に対するＣ８芳香環の損失は通常３．５％未満、好ましくは３％未満である。
【００２０】
異性化生成物から特定の異性体生成物を回収するのに使用されるスキームは、本発明には重要でないとみなされている。従って当該技術分野で知られているあらゆる有効な回収スキームが使用できる。典型的には、反応器からの流出物は凝縮され、水素と軽質炭化水素成分はフラッシュ分離によってそれから除去される。次に、凝縮された液体生成物は分別されて軽質及び／又は重質副産物が除去され、異性化生成物が得られる。場合によっては、オルトキシレンのようなある種の生成物種が選択的分別によって異性化生成物から除去されることもある。Ｃ８芳香族化合物の異性化による異性化生成物は、通常パラキシレン異性体を選択的に回収するために、所望により結晶化によって処理される。米国特許第３，２０１，４９１号に従って、結晶性アルミノケイ酸塩を用いる選択的吸着が好適である。好適な吸着回収プロセスにおける改良及び代替法が、例えば、米国特許第３，６２６，０２０号；米国特許第３，６９６，１０７号；米国特許第４，０３９，５９９号；米国特許第４，１８４，９４３号；米国特許第４，３８１，４１９号及び米国特許第４，４０２，８３２号に記載されている（引用によって本明細書に援用する）。
【００２１】
エチルベンゼン／キシレン混合物の処理に関連する分離／異性化プロセスの組合せにおいて、新鮮なＣ８芳香族供給物は、異性化反応ゾーンからのＣ８芳香族化合物を含む異性化生成物と合わせてパラキシレン分離ゾーンへ送られる；Ｃ８芳香族化合物の非平衡混合物を含むパラキシレン枯渇ストリームは異性化反応ゾーンへ送られ、そこでＣ８芳香族異性体は近平衡レベルにまで異性化されて異性化生成物が得られる。このプロセススキームでは、回収されなかったＣ８芳香族異性体は、好ましくは、パラキシレンに変換されるか又は副反応のために失われるかして消滅するまでリサイクルされる。
【００２２】
第一の異性化触媒は、好ましくは、Ｓｉ：Ａｌ２の比が１０より大、好ましくは２０より大、そして孔径が５〜８オングストローム（Å）のものから選ばれるゼオライト型アルミノケイ酸塩を含む。適切なゼオライトの具体例は、ＭＦＩ、ＭＥＬ、ＥＵＯ、ＦＥＲ、ＭＦＳ、ＭＴＴ、ＭＴＷ、ＴＯＮ、ＭＯＲ及びＦＡＵタイプのゼオライトである。ペンタシルゼオライトのＭＦＩ及びＭＴＷが好適である。
【００２３】
特に好適なＭＦＩタイプのゼオライトは、ガリウムを結晶構造の成分として有するガリウム−ＭＦＩである。好適なＧａ−ＭＦＩは、Ｓｉ／Ｇａ２のモル比が５００未満、好ましくは１００未満である；付随してアルミニウム含量は極めて少なく、Ｓｉ／Ａｌ２のモル比は５００より大、好ましくは１０００より大である。
【００２４】
アルミナ及び／又はガリウム源、シリカ源及びアルカリ金属源を含む混合物の結晶化による好適なゼオライトの製造は当該技術分野で周知である。アルカリ金属形ゼオライトの水素形への変換は、鉱酸水溶液で処理することによって実施できる。あるいは、水酸化アンモニウム又は硝酸アンモニウムのようなアンモニウム塩によるイオン交換とその後の焼成によって水素イオンをペンタシルゼオライトに組み込むこともできる。
【００２５】
第二の異性化触媒の成分として好適な微結晶材料は、一つ又は複数のＢＥＡ、ＭＴＷ、ＦＡＵ、ＭＣＭ−２２、ＵＺＭ−８、ＭＯＲ、ＦＥＲ、ＭＦＩ、ＭＥＬ、ＭＴＴ、Ｏｍｅｇａ、ＵＺＭ−５、ＴＯＮ、ＥＵＯ、ＯＦＦ、ＮＵ−８７及びＭｇＡＰＳＯ−３１を含む。
【００２６】
第二の異性化触媒の好適なゼオライト型分子ふるい成分はＭＴＷで、ＺＳＭ−１２と特徴付けられることもある。シリカ対アルミナの比率の低い、実質的にモルデナイトを含まないＭＴＷが特に好適である；そのようなＭＴＷゼオライトは同時係属米国特許出願第１０／７４９，１５６号及び１０／７４９，１７９号に開示されている（引用によって本明細書に援用する）。
【００２７】
あるいは、第二の異性化触媒の好適な結晶性非ゼオライト型分子ふるい成分は、ＡＴＬＡＳ  ＯＦ  ＺＥＯＬＩＴＥ  ＳＴＲＵＣＴＵＲＥ  ＴＹＰＥＳによるところのＡＴＯ骨格タイプの一つ又は複数である。結晶学的自由直径５．４Åを有する米国特許第４，７５８，４１９号のＭｇＡＰＳＯ−３１分子ふるいは特に好適である。ＭｇＡＰＳＯふるいは、ＭｇＯ２−２、ＡｌＯ２−、ＰＯ２＋、及びＳｉＯ２の４面体単位の骨格構造を有し、無水ベースで、式：
ｍＲ：（ＭｇｗＡｌｘＰｙＳｉｚ）Ｏ２
で表される実験的化学組成を有する。式中、“Ｒ”は結晶内細孔系に存在する少なくとも一つの有機テンプレート剤を表し；“ｍ”は（ＭｇｗＡｌｘＰｙＳｉｚ）Ｏ２  １モルあたり存在する“Ｒ”のモル量を表し、０〜０．３の値をとり；“ｗ”、“ｘ”、“ｙ”及び“ｚ”はそれぞれ４面体酸化物として存在する元素のマグネシウム、アルミニウム、リン及びケイ素のモル分率を表す。モル分率“ｗ”、“ｘ”、“ｙ”及び“ｚ”は、一般的に以下のような限定的な組成上の値又は点の範囲内にあるように定義される。
【００２８】
【表１】
2009500324.tif 000002
【００２９】
ＭｇＡＰＳＯ−３１分子ふるいは、好ましくは０．００３〜０．０３５モル分率の骨格マグネシウム含量を有しうる。これは米国特許第５，２４０，８９１号（引用によって本明細書に援用する）の教示と一致する。
【００３０】
第一の異性化触媒及び第二の異性化触媒それぞれの多孔質微結晶材料は、好ましくは触媒粒子の形成に便利なようにバインダと複合体化されている。第一の触媒中のＮＺＭＳの割合は５〜９０質量％、好ましくは１０〜８０質量％で、本明細書中で論じられている金属及びその他の成分以外の残りはバインダ成分である。第二の触媒中のゼオライトの相対割合は１０〜９９質量％の範囲であり得るが、２０〜９０質量％が好適である。
【００３１】
通常、第一及び第二の各異性化触媒の触媒粒子は均質で、触媒成分の濃度勾配はない。しかしながら、一方又は両方の触媒が層化されているのも本発明の範囲に含まれる。例えば、比較的不活性なコアに結合された結合ゼオライトの外層と層化させるなどである。層化触媒の例は、米国特許第６，３７６，７３０号；米国特許第４，４８２，７７４号及び米国特許第４，２８３，５８３号に見つけることができる（引用によって本明細書に援用するが、本発明はそのように限定されない）。
【００３２】
バインダは、表面積が２５〜５００ｍ２／ｇで、炭化水素変換プロセスに利用される条件に対して比較的耐火性の多孔質吸着担体であるべきである。炭化水素変換触媒に従来利用されてきた担体材料が本発明の範囲内に含まれるとする。例えば、（１）耐火性無機酸化物、例えばアルミナ、チタニア、ジルコニア、クロミア、酸化亜鉛、マグネシア、トリア、ボリア、シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、クロミア−アルミナ、アルミナ−ボリア、シリカ−ジルコニアなど；（２）セラミック、磁器、ボーキサイト；（３）シリカ又はシリカゲル、炭化ケイ素、粘土及びケイ酸塩（合成及び天然のものを含む、酸処理されていてもいなくてもよい、例えばアタパルジャイト粘土、珪藻土(diatomaceous earth)、フラー土、カオリン、珪藻土(kieselguhr)など）；（４）天然又は合成いずれかの結晶性ゼオライト型アルミノケイ酸塩、例えばＦＡＵ、ＭＥＬ、ＭＦＩ、ＭＯＲ、ＭＴＷ（ゼオライト命名法に関するＩＵＰＡＣ委員会）の水素形又は金属カチオン交換形；（５）スピネル、例えばＭｇＡｌ２Ｏ４、ＦｅＡｌ２Ｏ４、ＺｎＡｌ２Ｏ４、ＣａＡｌ２Ｏ４、及び式ＭＯ−Ａｌ２Ｏ３（式中、Ｍは価数２の金属）を有するその他の類似化合物；及び（６）これらのグループの一つ又は複数から選ばれた材料の組合せなどである。
【００３３】
本発明の触媒複合体に使用するための好適な耐火性無機酸化物はアルミナである。適切なアルミナ材料は、ガンマ−、エータ−、及びシータ−アルミナとして知られている結晶性アルミナで、ガンマ−又はエータ−アルミナが最良の結果をもたらす。
【００３４】
他の好適なバインダはアモルファスシリカの形態である。好適なアモルファスシリカは合成白色アモルファスシリカ（二酸化ケイ素）粉末で、湿式水和シリカに分類される。このタイプのシリカは、水溶液中での化学反応によって製造され、水溶液から超微細球状粒子として析出する。シリカのＢＥＴ表面積は１２０〜１６０ｍ２／ｇの範囲であるのが好ましい。硫酸塩の含量が少ないのが望ましく、好ましくは０．３質量％未満である。アモルファスシリカバインダは非酸性、例えば５％水懸濁液のｐＨが中性又は塩基性（ｐＨ７以上）であるのが特に好適である。
【００３５】
各触媒複合体の好適な形状は押出物である。よく知られた押出法では、最初に非ゼオライト型分子ふるいを金属成分の添加前又は後のいずれかにバインダ及び適切なしゃく解剤と混合し、均質なドウ又は粘稠性ペーストを形成させる。前記ドウ又はペーストは、直接焼成に耐える許容可能な完全性を有する押出物が形成できるように正確な水分含量を有する。押出適性はドウの水分含量の分析から決定され、３０〜５０質量％の範囲の水分含量が好適である。次にドウは、当該技術分野で周知の技術に従って、多数の穴を開けたダイから押し出され、スパゲティ状の押出物は切断されて粒子になる。多数の異なる押出物形状が可能である。例えば、円柱状、クローバー葉状、ダンベル状並びに対称及び非対称の多葉状などであるが、これらに限定されない。該押出物を更に任意の所望の形に成形することも本発明の範囲に含まれる。例えば球形化(marumerization)又は当該技術分野で公知のいずれかその他の手段によって球状にするなどである。
【００３６】
どちらかの複合体の好適な他の形状は、よく知られたオイルドロップ法によって連続製造される球体である。アルミナ結合球体の製造は、一般的に、分子ふるい、アルミナゾル、及びゲル化剤の混合物を高めた温度に維持された油浴に落とすことを含む。あるいは、シリカヒドロゾルのゲル化をオイルドロップ法を用いて実施してもよい。この混合物をゲル化する一つの方法は、ゲル化剤を該混合物と合わせ、得られた混合物を油浴又は塔に分散させることを含む。前記油浴又は塔は、回転楕円体粒子(spheroidal particles)の形成と共にゲル化が起こるように高めた温度に加熱されている。このプロセスで使用できるゲル化剤は、ヘキサメチレンテトラアミン、尿素又はそれらの混合物である。該ゲル化剤は高められた温度でアンモニアを放出し、これがヒドロゾル球体をヒドロゲル球体に硬化又は変換する。次に該球体は油浴から連続的に回収され、典型的にはそれらの物理的特性を更に改良するためにオイル及びアンモニア性溶液中で特定の時効処理を受ける。
【００３７】
次に、得られた複合体は好ましくは洗浄され、５０℃〜２００℃の比較的低温で乾燥され、そして４５０℃〜７００℃の温度で１〜２０時間焼成される。
第一の触媒は所望によりその酸活性に合わせるために蒸気処理されてもよい。蒸気処理はゼオライト処理の任意の段階で実行できる。蒸気処理条件は、５〜１００ｖｏｌ％の水分濃度、１００ｋＰａ〜２ＭＰａの圧力、及び６００℃〜１２００℃の温度を含む。蒸気処理温度は好ましくは６５０℃〜１０００℃、更に好ましくは少なくとも７５０℃、所望により７７５℃以上でもよい。場合によっては８００℃〜８５０℃以上の温度が使用されることもある。蒸気処理は少なくとも１時間は行われるべきであり、６〜４８時間が好適である。あるいは、又は蒸気処理に加えて、複合体は硝酸アンモニウム溶液、鉱酸、及び／又は水の中の一つ又は複数で洗浄してもよい。洗浄は製造の任意の段階で実施でき、二つ以上の洗浄段階を用いることもできる。
【００３８】
白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、オスミウム、及びイリジウムの一つ又は複数を含む白金族金属は、第二の異性化触媒の必須成分である。好適な白金族金属は白金である。白金族金属は一般的に、元素ベースでの計算で最終触媒の０．１〜２質量％を構成する。白金族金属成分は、最終触媒複合体中に、酸化物、硫化物、ハロゲン化物、オキシ硫化物などのような化合物として、又は元素金属として、又は触媒複合体の一つ又は複数の他の成分と組み合わさって存在しうる。最良の結果は、実質的にすべての白金族金属成分が還元状態で存在する場合に得られると考えられる。
【００３９】
白金族金属成分は第二の異性化触媒複合体に任意の適切な様式で組み込むことができる。触媒製造の一つの方法は、白金族金属の水溶性、分解性化合物を利用して焼成されたふるい／バインダ複合体を含浸することを含む。あるいは、ふるい成分とバインダを複合体化するときに白金族金属化合物を加えることもできる。含浸溶液に使用できる、ふるい及びバインダと共に同時押出できる、又はその他の公知法によって添加できる白金族金属の化合物は、塩化白金酸、塩化パラジウム酸、塩化白金酸アンモニウム、臭化白金酸、三塩化白金、四塩化白金水和物、白金ジクロロカルボニルジクロリド、テトラミン塩化白金、ジニトロジアミノ白金、テトラニトロ白金（II）酸ナトリウム、塩化パラジウム、硝酸パラジウム、硫酸パラジウム、水酸化ジアミンパラジウム（II）、塩化テトラミンパラジウム（II）などである。好ましくは、白金族金属成分は、当該技術分野で公知の任意の方法によって触媒のバインダ成分上に集中させる。この好適な金属分布を実行する一つの方法は、ふるいとバインダを同時押出する前に金属成分をバインダと複合体化させることによる。白金族金属成分は、好ましくはＳＭ−３ふるい成分上よりも触媒バインダ上で高濃度である。更に好ましくは６０％以上、最も好ましくは少なくとも８０％の白金成分がバインダ上にある。
【００４０】
第二の触媒複合体は、白金族金属成分の効果を修飾することが知られているその他の金属成分を含有しうることも本発明の範囲内である。そのような金属修飾剤は、レニウム、スズ、ゲルマニウム、鉛、コバルト、ニッケル、インジウム、ガリウム、亜鉛、ウラン、ジスプロシウム、タリウム、及びそれらの混合物などであろう。触媒有効量のそのような金属修飾剤を当該技術分野で公知の任意の手段によって触媒に組み込み、均一又は層状分布を達成することができる。
【００４１】
本発明の触媒は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素のいずれか、又はそれらの混合物を含むハロゲン成分を含有してもよい。塩素が好適である。しかしながら、触媒は他の触媒成分に随伴する以外の追加的ハロゲンは含有しないのが好ましい。
【００４２】
第二の異性化触媒複合体は、１００℃〜３２０℃の温度で２〜２４時間以上乾燥され、通常、空気中４００℃〜６５０℃の温度で０．１〜１０時間、存在する金属化合物が実質的に酸化形に変換されるまで焼成される。所望であれば、ハロゲン又はハロゲン含有化合物を空気中に含めることによって所望によるハロゲン成分を調整することもできる。
【００４３】
得られた第二の異性化触媒の焼成複合体は、最適には、実質的に無水の還元ステップにかけて所望による金属成分の一様及び微細分布を確実にする。還元は所望により本発明のプロセス装置中で実施できる。実質的に純粋で乾燥した水素（すなわちＨ２Ｏが２０ｖｏｌ．ｐｐｍ未満）をこのステップの還元剤として使用するのが好ましい。還元剤は、実質的にすべてのVIII族金属成分を金属状態に還元するのに有効な、２００℃〜６５０℃の温度及び０．５〜１０時間の期間を含む条件で触媒と接触させる。場合によっては、得られた還元触媒複合体を当該技術分野で公知の方法によって予備硫化して、元素ベースの計算で０．０５〜１．０質量％の硫黄を触媒複合体に組み込むのも有益であり得る。
【００４４】
上記説明及び下記実施例は本発明のある特定の態様を説明するためだけに提供されたものであり、特許請求の範囲に示されている本発明の範囲を制限するものと解釈されるべきでない。当業者には分かるとおり、本発明の精神の範囲内で多数のその他の変形が可能である。
【００４５】
実施例Ｉ
比較パイロットプラント試験のために触媒のサンプルを製造した。まず、エチルベンゼンからパラキシレンへの異性化用の公知技術の触媒を表す触媒Ａを製造した。
【００４６】
ＭＴＷ型ゼオライトを含有する触媒Ａを米国特許第４，４５２，７６９号及び出願第１０／７４９，１５６号に従って製造した。０．２質量部の水酸化ナトリウムの９質量部の蒸留水中溶液に０．１９５質量部の水酸化アルミニウム水和物を加え、合わせた溶液を溶解するまで撹拌した。第二の、１．５質量部のメチルトリエチルアンモニウムクロリドの９質量部の蒸留水中溶液を調製し、溶解するまで撹拌した。次に二つの溶液を均質化するまで一緒に撹拌した。次に、３質量部の沈降シリカを加え、室温で１時間撹拌し、テフロン（登録商標）で内張りされたオートクレーブに１５０℃で８日間密封した。冷却、ろ過、及び蒸留水での洗浄後、ゼオライトタイプＭＴＷを回収した。乾燥後、回収生成物を５５０℃で焼成してテンプレートを除去し、ＮＨ４ＮＯ３で３回イオン交換して乾燥させたところ、０．９ＮＨ４：Ａｌ２Ｏ３：４１ＳｉＯ２：８４Ｈ２Ｏの分析を示した。Ｘ線回折パターンはＭＴＷ構造のゼオライトと一致した。
【００４７】
触媒Ａを形成するために、５質量％の乾燥１００質量％ＭＴＷゼオライトをアルミナと複合体化して球状の触媒粒子を形成した。次に、該粒子を塩化白金酸の溶液を用いて金属含浸させた。含浸の完了後、触媒を乾燥、酸化、還元、及び硫化して、０．３質量％の白金と０．１質量％の硫黄を含有する触媒を得た。この最終触媒を触媒Ａと標識した。
【００４８】
実施例II
触媒Ｂを実施例ＩのＭＴＷゼオライトを用いて製造した。８０質量％の乾燥ゼオライトを２０質量％のアルミナと共に押出して触媒Ｂの粒子を形成させた。該触媒に金属は加えなかった。
【００４９】
実施例III
触媒Ｃを米国特許第４，９５７，８９１号の教示に従って製造した。Ｘ線回折パターンがＺＳＭ−５のそれに等しい一定量のガリウム置換ペンタシルゼオライトを、有機テンプレートのテトラプロピルアンモニウムブロミド含有水溶液にシリカ源のＬｕｄｏｘ  ＨＳ−４０を加えることによって製造した。シリカ対テンプレートの重量比は４．９：１であった。ガリウム酸ナトリウムの溶液を、完成ゼオライトを基にして２質量％のガリウムになるような量で、シリカとテンプレートの混合物に加えた。得られた混合物を１２５℃で約７２時間オートクレーブ処理した。得られたゼオライトを洗浄、ろ過及び乾燥させて、約３質量％のガリウムを含有するガリウム置換ペンタシルゼオライトを得た。
【００５０】
上記ゼオライトの一部を、金属アルミニウムを塩酸中でダイジェスト（digest）することによって製造したアルミナヒドロゾルと混合し、５０質量％に等しい完成触媒中ゼオライト含量を得た。この混合物に、完成ゼオライトジルコニア−アルミナ複合体が約５質量％のＺｒＯ２を含有するようになるのに十分な、約２０質量％のＺｒＯ２を含有するオキシ塩化ジルコニウムゾルを加えた。最後に、ヘキサメチレンテトラミンの溶液をゲル化剤として加えた。最終混合物を９５℃の温度の油浴中に小滴として分散させた。小滴はヒドロゲルの球体になるまで油浴中に保持した。該球体を油浴から取り出し、０．５質量％のアンモニアを含有する水溶液で洗浄した。次に該球体を１１０℃で１２時間空気乾燥させ、次いで６５０℃の温度で焼成した。焼成後、複合体を９５℃の０．５％ＮＨ３／Ｈ２Ｏ溶液で洗浄し、１１０℃でオーブン乾燥させた。該触媒には白金も硫黄も加えなかった。
【００５１】
実施例IV
触媒Ｄを米国特許第５，２４０，８９１号の教示に従って製造した。反応混合物は、Ａｌ２Ｏ３を擬ベーマイト（Ｖｅｒｓａｌ ２５０）としてＨ３ＰＯ４と水の中に徐々に混ぜ込み、均質混合物が観察されるまでブレンドすることによって製造した。酢酸マグネシウムを少しの水に溶解して加えた後、ＬＵＤＯＸ−ＬＳを加えた。合わせた混合物を均質混合物が観察されるまでブレンドした。有機テンプレート剤（エチルブチルアミン）及びＡｌＰＯ４−３１の種をこの混合物に加え、均質混合物が観察されるまでブレンドした。得られた混合物の一部を静止結晶化の場合には内張りされた（ポリテトラフルオロエチレン）ステンレススチール製圧力容器に入れ、又は内張無しの撹拌ステンレススチール製圧力容器に入れ、２００℃に加熱して自己圧力での結晶化を行なった。生成物を反応容器から取り出し、遠心分離して固体を回収した。これを洗浄、乾燥及び６５０℃で焼成した。得られたＭｇＡＰＳＯふるい（０．００４モル分率の骨格マグネシウム含量を有する）を、５０／５０の質量比でアルミナと共に押出し、含浸して白金含量０．３質量％を達成し、焼成し、還元及び硫化して触媒Ｄを得た。
【００５２】
実施例Ｖ
公知技術の単一触媒系の実施例で、触媒Ａを、エチルベンゼンからパラキシレンへの異性化について、以下のおよその組成（ｗｔ％）を有する非平衡Ｃ８芳香族供給物を処理するパイロットプラントフロー反応器を用いて評価した。
【００５３】
【表２】
2009500324.tif 000003
【００５４】
上記供給物は触媒Ａと気相で接触させた。プロセス条件と得られた性能測定値を以下に示す。
【００５５】
【表３】
2009500324.tif 000004
【００５６】
“Ｃ８環損失”は、“（１−（生成物中のＣ８ナフテン及び芳香族化合物）／（供給物中のＣ８ナフテン及び芳香族化合物））＊１００”と定義され、ｍｏｌ％で表記される。これは、芳香族化合物施設の別の装置に循環されなくてはならない材料を表す。そのような循環は費用がかかるので、Ｃ８環損失が少ないことが好適である。
【００５７】
実施例VI
本発明の第一の異性化ゾーンの性能を示す実施例で、触媒Ｂを、メタキシレン及びオルトキシレンからパラキシレンへの異性化について、実施例Ｖと同一の組成を有する非平衡Ｃ８芳香族供給物を処理するパイロットプラントフロー反応器を用いて評価した。
【００５８】
この供給物は触媒Ｂと液相で接触させた。プロセス条件と得られた性能測定値を以下に示す。
【００５９】
【表４】
2009500324.tif 000005
【００６０】
実施例VII
本発明の第一の異性化ゾーンの性能を示す別の実施例で、触媒Ｃを、メタキシレン及びオルトキシレンからパラキシレンへの異性化について、実施例Ｖと同一の組成を有する非平衡Ｃ８芳香族供給物を処理するパイロットプラントフロー反応器を用いて評価した。
【００６１】
この供給物は触媒Ｃと液相で接触させた。プロセス条件と得られた性能測定値を以下に示す。
【００６２】
【表５】
2009500324.tif 000006
【００６３】
実施例VIII
本発明の第二の異性化ゾーンの実施例で、触媒Ｄを、エチルベンゼンからパラキシレンへの異性化について、実施例VIの反応からの流出物と同一の組成を有する近平衡Ｃ８芳香族供給物を処理するパイロットプラントフロー反応器を用いて評価した。この供給物は触媒Ｄと気相で接触させた。プロセス条件と得られた性能測定値を以下に示す。
【００６４】
【表６】
2009500324.tif 000007
【００６５】
実施例IX
本発明の第二の異性化ゾーンの実施例で、触媒Ｄを、エチルベンゼンからパラキシレンへの異性化について、実施例VIIの反応からの流出物と同一の組成を有する近平衡Ｃ８芳香族供給物を処理するパイロットプラントフロー反応器を用いて評価した。この供給物は触媒Ｄと気相で接触させた。プロセス条件と得られた性能測定値を以下に示す。
【００６６】
【表７】
2009500324.tif 000008
【００６７】
実施例Ｘ
二つの異性化ゾーン系からの結果を総合して公知技術の単一触媒気相系と比較すると次のようになる。
【００６８】
【表８】
2009500324.tif 000009
【００６９】
３７５℃における平衡ｐ−キシレン／キシレン比は２４．０ｗｔ％なので、二ゾーン式の例は平衡レベルより高いｐ−キシレンを提供し、Ｃ８芳香環損失も公知技術の例と同等かそれ未満である。
【国際調査報告】
2009500324.tif 000010