(57)【要約】  足を支持するための靴の甲および底ユニットのアセンブリを含む靴であって、当該アセンブリが足を目標の（望ましい）三平面配列に配向し、足の解剖学的構造の３つの領域、すなわち（１）踵骨戴距突起、（２）外側踵骨、および（３）足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）に同時に影響を及ぼす足コンパートメントを規定する。特定の実施態様においては、靴コンパートメントが、（１）ＳＴの垂直持ち上げ、（２）踵骨の内反運動、および（３）足前方部を内転させる第５放射部（fifth ray）の圧力によって距骨の有害な内回転を矯正するべく構成される。
2009507566.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
靴の甲および底ユニットのアセンブリを含み、前記アセンブリが、足を目標の三平面配列に配向して、（１）踵骨戴距突起、（２）外側踵骨、および（３）足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）からなる足の解剖学的構造の３つの領域に同時に影響を及ぼす足コンパートメントを規定する靴。
【請求項２】
前記コンパートメントは、（１）前記踵骨戴距突起の垂直持ち上げ、（２）前記踵骨の内反運動、および（３）足前方部を内転させる第５放射部（fifth ray）の圧力によって距骨の有害な内回転を矯正するべく構成される、請求項１に記載の靴。
【請求項３】
前記アセンブリは、前記３つの領域のうちの少なくとも１つにおいて足を支持するべく適合された３次元三平面プレートを含む、請求項２に記載の靴。
【請求項４】
前記三平面プレートは、前記３つの領域のうちの少なくとも２つにおいて足を支持するべく適合される、請求項２に記載の靴。
【請求項５】
前記三平面プレートは、前記３つの領域のうちの３つにおいて足を支持するべく適合される、請求項３に記載の靴。
【請求項６】
さらに、前記履き物が装着されたときに踵骨の内側の踵骨戴距突起と係合することができる突出部を有する靴挿入物を含む、請求項２に記載の靴。
【請求項７】
前記靴挿入物の突出部は、前記三平面プレートの対応する部分と係合することができる、請求項６に記載の靴。
【請求項８】
前記甲は開口またはポートを規定し、それを通して前記中敷きの突出部が前記甲と重なる前記三平面プレートの部分と係合できる、請求項７に記載の靴。
【請求項９】
前記甲は、前記三平面プレートに結合されたストラップを有し、その結果、前記ストラップを締めることまたは緩めることで前記装着者の足に対する前記三平面プレートの適合性を変更できる、請求項８に記載の靴。
【請求項１０】
前記三平面プレートは、前記履き物の中底の部分を規定し、前記外側踵骨から、前記足のアーチの下を通り、前記踵骨戴距突起まで延び、かつ前記第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）の後ろに広がる、請求項３に記載の靴。
【請求項１１】
前記三平面プレートは、方向付けされた工学的強化構造を規定する表面を有する、請求項３に記載の靴または靴サブユニット。
【請求項１２】
装着者の足の動きが、それの矢状面、横行面、および冠状面に沿って同時に修正されるか、または安定化される、足の目標の三平面運動を支持するための手段を包含する靴。
【請求項１３】
前記足の三平面運動を安定化するための手段は、前記装着者の足の動作中に、踵骨戴距突起、外側踵骨、および足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）に同時に影響を及ぼす、請求項１２に記載の靴。
【請求項１４】
周囲で靴を組み立てることができる、足を目標の三平面配列に配向して、（１）踵骨戴距突起、（２）外側踵骨、および（３）足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）からなる足の解剖学的構造の３つの領域に同時に影響を及ぼす足コンパートメントを規定する型を含む靴型。
【請求項１５】
前記型は、（１）前記踵骨戴距突起の垂直持ち上げ、（２）前記踵骨の内反運動、および（３）足前方部を内転させる第５放射部（fifth ray）の圧力によって距骨の有害な内回転を矯正するべく構成されるコンパートメントを規定する、請求項１４に記載の靴型。
【請求項１６】
さらに、踵の靴型中心線によって決定される前記靴型の底の踵の頂部から測定された外側方向の約７度のオフセット（踵骨の内反）、つま先の中心線に対する前記靴型の踵の水平面から測定された内側方向の約７度の平面の足前方部内転、および追加材料を反映する修正された靴型底表面を伴う靴型コーンを含む、請求項１４に記載の靴型。
【請求項１７】
周囲で靴を組み立てることができる型を包含する靴型であって、前記型が、踵の靴型中心線によって決定される前記靴型の底の踵の頂部から測定された外側方向の約７度のオフセット（踵骨の内反）を伴う靴型コーンを含む靴型。
【請求項１８】
靴の甲および底ユニットを組み立てることを含み、前記アセンブリが、足を目標の三平面整列に配向して足の解剖学的構造の３つの領域、すなわち（１）踵骨戴距突起、（２）外側踵骨、および（３）足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）に同時に影響を及ぼす足コンパートメントを規定する、靴を作る方法。
【請求項１９】
前記コンパートメントは、（１）前記踵骨戴距突起の垂直持ち上げ、（２）前記踵骨の内反運動、および（３）足前方部を内転させる第５放射部（fifth ray）の圧力によって距骨の有害な内回転を矯正するべく構成される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２０】
周囲で靴を組み立てることができる型を形成することを含み、前記型が、足を目標の三平面整列に配向して足の解剖学的構造の３つの領域、すなわち（１）踵骨戴距突起、（２）外側踵骨、および（３）足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）に同時に影響を及ぼす足コンパートメントを規定する、靴型を作る方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願
この出願は、「トリプラナー・スタビライゼーション・フットウェア（TRIPLANAR STABILIZATION FOOTWEAR）」と題されて２００５年９月９日に出願された米国特許仮出願第６０／７１５，６２０号の優先権および恩典を主張するものであり、当該仮出願の内容は、すべての目的について完全にここに具陳されている如くに参照によってこれに援用される。
【背景技術】
【０００２】
足には３つの方向の動き、すなわち（１）航空機のピッチに類似した上下方向における矢状（サジタル：sagittal）の動き、（２）航空機のロールに類似した回転方向における横（トランスバース：transverse）の動き、および（３）航空機のヨーに類似した左右方向における冠状（コロナル：coronal）面または前平面に沿った動きがある。この動きの中心構成要素は、頸骨−腓骨の下に位置し、かつ踵骨（かかとの骨）の上に位置する距骨である。
【０００３】
身体的活動の間に、足の有害な動きまたは配列が人の全体的な運動連鎖（キネティック・チェーン）を通って伝えられ膝、腰、および下背に影響をもたらす。たとえばランニングの間における地面からの反作用との不充分な配列は、ストレスを生じ、膝、腰、および下背に痛みをもたらす可能性がある。動作中における最適配列では、踵骨が中立位置にとどまり、距骨が中心線ポジションで動き、膝が過剰に内側または外側に回転しない。距骨および膝のこの整列は、人に自分の膝を曲げさせることによって試験可能である。距骨が膝に対し最適に配列されていれば、その人の膝がわずかに曲げられたときに、膝の中心にあてがわれた下げ振り線（鉛直線）がまっすぐに第２中足骨放射部（second metatarsal ray）の上に落ちる。しかしながらほとんどの人は、膝を曲げたときに膝が足の第２中足骨放射部（second metatarsal ray）から内側に、または外側に離れて落ちる。
【０００４】
距骨が有害な回転をすると、足の残りの部分がそれに応じた補償を行わなければならない。距骨の内向き（内側）の回転は、足後方部に踵骨の外向（外反）の動きの補償、足中央部の押し下げ、および足前方部の外転を生じさせる。簡単な説明として、足は、距骨の過剰な内回転により回内することがあり、単純な回内に比べて解剖学的な複雑化を一層悪化させる。距骨の外向き（外側）の回転もまた、足の残りの部分による逆方向における補償、すなわち足の回外として単純に記述できるが、足後方部が内向きに動き（内反）、足中央部がアーチ状に曲がり（上昇）、かつ足前方部が内転することを必要とする。
【０００５】
これらの代償性の動きは、身体の全体的な運動連鎖内に歪みを誘導し、通常は運動連鎖のほかの部分がその種の誤配列を補償する。たとえば膝が内側に、または外側に押されて、または腰の種々の部分がシフトしてその歪みを補償できる。この歪みは、時間を経て（限定ではないが）足底筋膜炎、アキレス腱炎、後頸骨腱炎、靱帯または追従の問題を伴う膝痛、腱膜瘤、および腰痛等の医学上の状況を招き得る。動作の間に足の三平面運動を位置決めし、安定化することは、足および運動連鎖のほかの部分の有害な代償性の動きを低減すること、したがって対応する医学的問題を低減することが（または排除することさえ）可能である。
【０００６】
足を安定化するための種々の従来技術の解決策が周知である。足に巻き付けることが可能な多くのタイプのブレースおよび包帯が存在するが、それらの矯正デバイスは、しばしばかさばり、靴の正しい嵌り合いと干渉する。ゲル・パッドおよび靴挿入物を靴の中敷きに追加できるが、それらの挿入物もまた靴の嵌り合いおよび性能と干渉することがある。またこれらの解決策は、人の足の重量および嵩を増す。これらのアプローチのいずれも、足を上記の３つの平面において同時に安定化しない。
【０００７】
いくつかの靴製造者が、前述したような障害または医学的状況の発生を低減させるためのメカニズムを開発し、または靴の設計を改善している。たとえば、ランニングまたはバスケットボール・シューズは、底の改良された屈曲溝許可された積層中底の設計、またはより大きなクッション性を提供するべく空気またはゲルのポケットを含むことが可能である。しかしながらこれらの周知の解決策のいずれも、上に明示されている３つの平面すべてに沿って足の動きを安定化することはない。
【０００８】
記述されている本発明の内容の発明者は、三平面矯正を行うカスタム矯正器具を作成することによって、個別的な事情に基づいて上記の問題に取り組むことを試みた。カスタム化された矯正器具は、従来的な靴の中に挿入される。残念ながらこの矯正器具アプローチは、有用ではあったが、カスタム矯正器具と従来的な靴の組み合わせに内在する非互換性から最適解決策を提供しない。たとえば、その矯正器具は余分な高さおよび嵩を靴に追加し、装着者を不安定にして、運動およびスポーツ活動における効率を下げることがある。また、その矯正器具は、靴の足コンパートメントの体積を減少させ、不充分で不快な嵌り合いを招き得る。靴の縫製およびデザインから圧点も生じ得る。さらに、従来の靴は、甲および／または底のユニットに、矯正器具が行おうとしている矯正を打ち消す構造を有することがある。しかしながら個別の事情に合わせるという矯正器具の本質のために、それにもかかわらず三平面矯正のための統合されたシステムを提供するカスタム化された靴と同様に既製の靴の必要性が残存している。
【０００９】
したがって、足の三平面運動を調整するか、または安定化する履き物に対する実質的な必要性が存在する。
【００１０】
【特許文献１】米国特許第６５９４９２２号明細書
【特許文献２】米国特許第６６１８９６０号明細書
【特許文献３】米国特許第６６９２４５４号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１１】
ここに開示されている本発明の内容は、足の三平面運動を安定化することにより運動連鎖（足、脚、膝、腰、および下背）の配列および配向を整える補助をする履き物システムを提供することによって上記の必要性に取り組む。このシステムは、ここで呼ぶところの三平面調整または安定化において、足の解剖学的構造の３つの領域、すなわち（１）踵骨戴距突起（『ＳＴ』と略される）、（２）外側踵骨、および（３）足の（小指に沿った）第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）に同時に影響を及ぼすべく適合される。たとえば、距骨の有害な内回転は、（１）ＳＴの垂直持ち上げ、（２）踵骨の内反運動、および（３）足前方部を内転させる第５放射部（fifth ray）の圧力によって矯正できる。図１２Ａおよび１２Ｂは、３つの領域に対する支持圧の同時印加について、方向性矢印とともにそれらの領域を図解している。
【００１２】
三平面調整または安定化は、前述したとおりの３つの関連する解剖学的構造領域、すなわち外側踵骨、ＳＴ、および第５中足骨領域の三平面配列をもたらすべく構成された１つまたは複数のコンポーネントから形成される靴構造によって達成できる。
【００１３】
これらの、およびこのほかの実施態様は、より詳細に以下の詳細な説明および図面に記述されている。
【００１４】
以上は、実施態様および特徴の網羅的なリストであることが意図されていない。当業者であれば、図面に関連した以下の詳細な説明からほかの実施態様および特徴を認識できる。
【００１５】
本発明の内容に従って図面の簡単な説明に示されるとおりの図面が提供されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
ここに開示されている本発明の内容は、足の三平面運動を調整するか、または安定化することによって運動連鎖（足、脚、腰、および下背）の配列および配向を整える補助をする履き物システムに指向されている。このシステムは、ここで呼ぶところの三平面調整または安定化において、足の解剖学的構造の３つの領域、すなわち（１）踵骨戴距突起（『ＳＴ』と略される）、（２）外側踵骨、および（３）足の（小指に沿った）第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）に同時に影響を及ぼすべく適合される。たとえば、距骨の有害な内回転は、（１）ＳＴの垂直持ち上げ、（２）踵骨の内反運動、および（３）足前方部を内転させる第５放射部（fifth ray）の圧力によって矯正できる。
【００１７】
三平面調整または安定化は、前述したとおりの３つの関連する解剖学的構造領域、すなわち外側踵骨、踵骨戴距突起、および第５放射部（fifth ray）の三平面整列をもたらすべく構成された１つまたは複数のコンポーネントから形成される靴構造によって達成できる。これらの調整または安定化は、人口のかなりの割合の人々の自然に立っているポジションを反映する、自然な回内されたポジションで立っている靴を履いていない装着者の足に関係する。図１２Ａおよび１２Ｂは、矯正されていない、つまりその種の回内された足の状態を示している。図１３Ａおよび１３Ｂは、その状態の三平面矯正を示している。ここで使用する場合、調整は、足の配列を自然なポジションまたは動態から変更することを意味する。安定化は、すでに目標の三平面配列を有している足の維持を補助することを意味する（その種の足をノルムとは考えず、またこれは、たとえばより詳細を後述する図１１．１〜１１．５８によって表される足の構造に概略で自然に対応することになる）。支持は、安定化および／または調整を意味する。以下においては、靴に組み込まれ、上記のとおりの目標の三平面整列を提供する単一または複合構造を『三平面システム』と呼ぶ。
【００１８】
特定の実施態様において、本発明の内容は、足を支持するための靴の甲および底ユニットのアセンブリを含むする靴を企図しており、当該アセンブリは、足の解剖学的構造の３つの領域、すなわち（１）踵骨戴距突起、（２）外側踵骨、および（３）足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）に対して同時に影響を及ぼす目標の（望ましい）三平面整列で足を配向する足コンパートメントを規定する。特定の実施態様においては、この靴コンパートメントが、距骨の有害な内回転を（１）ＳＴの垂直持ち上げ、（２）踵骨の内反運動、および（３）足前方部を内転させる第５放射部（fifth ray）の圧力によって矯正するべく構成される。靴の甲は、底ユニットから上に向かい、かつ（通常は）足の背を覆う任意の周知の甲構造としてよい。甲は、足の背を完全に覆う構造をはじめ足の背を部分的に覆う靴の甲としてよく、たとえばサンダル靴または類似の靴用の靴紐またはバンドから構成され得る。当業者が認識することになるとおり、底ユニットは、外底構造、中底構造および中敷き、中敷き、またはそのほかの靴挿入構造とすることができる。
【００１９】
三平面調整または安定化のための靴、靴構成部品、および靴を形成するための靴型の代表的な実施態様を図１〜１１．５８に示す。基本的な形式においては三平面システムが、前述したとおり、より最適な足の三平面軸に従って矯正され、より良好に支持され、かつより安定したポジションに足を調整し、または安定化するべく構成された靴からなる。これらの調整または安定化は、通常、足を目標の配列に従わせる底ユニットと甲の組み合わせによって行われる。
【００２０】
三平面システムは、（１）装着者の足と地面の間に配置される底ユニット、および（２）底ユニットを足に少なくとも固定するための甲を形成する１つまたは複数の構成部品のアセンブリとして実装することができる。図２〜８を参照し、本発明の内容を、甲１２、足を目標の三平面配列に従わせる補助となる３次元半硬質プレート１４、および同様に足を目標の三平面配列にする補助となるオプションの靴挿入物１６、中底および／または外底２４等の底ユニット１４から形成される規格化された靴１０アセンブリの点から説明する。この実施態様のこのプレゼンテーションは、限定ではなく例示であることが意図されており、当業者は、ここでの教示から、どのようにすれば１つまたは複数の構成部品のほかの実施態様が、足のための目標の三平面整列を規定する靴に組み立てられるかを認識することになろう。たとえば規格化・アセンブリに代えて、規格化構成部品の機能および特徴が、たとえば一体成形プロセスによって単一ユニットに実装されてもよい。
【００２１】
通常、目標の、または望ましい足の配列を表す靴型１００（図１および図９．１〜９．３）が作成され、靴型の周囲に甲および底ユニットの構成部品が組み立てられ、靴型の形状に対応する足を受け入れるための足コンパートメントが作られる。しかしながら、本発明の内容は靴型に合わせられる構造に関して例示されているが、足コンパートメントを表す３次元空間を作成するための任意のこのほかの周知の、または開発された技術、手法を使用することができる。
【００２２】
本発明の靴型は、足の三平面整列の型を表し、またそれに代わるものとして、調整されるか、または安定化されたとおりの代表的な足自体の表現と考えることができる。本発明の内容に従った靴型は、靴内における三平面支持の達成を補助するために次の１つまたは複数の特徴を企図することができる。すなわち対応する足の解剖学的中心線から外側方向に測定されるオフセットを伴う靴型コーン、オフセットが好ましくは約７度である前述したとおりの靴型コーン、靴型の踵の中心線の水平面から測定した内側方向の足前方部の内転、オフセットが好ましくは約７度である前述したとおりの足前方部の内転、足前方部領域内における中立または回内、および／または約７度の踵骨の内反のうちの１つまたは複数の特徴を企図することができる。
【００２３】
図１、１０．１〜１０．５８、および１１．１〜１１．５８の実施態様においては、靴型コーン１１０が、より外側に（すなわち、矯正されたポジションで）構成されている。選択された靴型の実施態様においては、靴型のコーン１１０が靴型の中心線および領域から約７度の外側オフセットを有し、相応じて足前方部が、内側に向かって（業界標準の３度の回転ではなく）約７度の平面の回転（足前方部の内転）を有するが、ほかの実施態様においてはこれらのオフセットをより大きく、またはより小さくすることが可能である。たとえば、いくつかの代替実施態様においては、靴型が中心線から約１度〜約１２度の外側オフセットを有し、一方、足前方部に対応する靴型の領域は約１度〜約１２度の内側に向かう回転を有する。中心線からのコーンの外側オフセット、および内側に向かう足前方部の回転は、両方ともに約１度〜約１２度、または約３度〜約１０度、または約７度にするというように同値の度数とすることが可能である。しかしながら中心線からのコーンの外側オフセット、および内側に向かう足前方部の回転を異なる度数とすることも可能である。単なる１つの非限定的な例として、三平面システムの靴型が、中心線から約７度の角度の外側オフセットを有することが可能であり、かつ足前方部に対応する靴型の領域が、内側に向かう約９度の回転を有することが可能である。
【００２４】
いくつかの実施態様においては、靴型の正面下側が、業界標準より実質的に平坦になるが、靴型の全体的な寸法がほとんど同じにとどまるようにできる。たとえば、図１０．１〜１０．５８に示されている１つのその種の実施態様の靴型２００においては（１）約４ｍｍの材料が、靴型の下側の内側中足骨領域に追加され、かつ（２）靴型の上端側の内側ボール領域から相補的な量の材料が削られた。したがって、靴型が実質的に変更されたが、その靴型から形成される結果の甲のための足のボール周りについては、同一の全体的な寸法が保持されている。この実施態様には、有意の回外または過剰な回転偏位を矯正することが意図されている。
【００２５】
図９．１〜９．３は、靴型を通る断面を規定する平行輪郭線と共に靴型２００または３００を概略で表している。これらの断面輪郭線のそれぞれは、その後、靴型２００については図１０．１〜１０．５８に、靴型３００については図１１．１〜１１．５８に示されている。当業者であれば、図１０．１〜１１．５８をスキャンし、それらのスキャンから３次元モデルを構築することが可能な従来的なコンピュータ援用設計ソフトウエアの使用を通じてこの靴型を複製できる。図１０．１〜１０．５８に示されている実施態様は、著しい、または有意な回外に向かう自然な傾向のある足を支持するため、または有意の回転偏位のための目標の三平面足配列を表す。図１１．１〜１１．５８に示されている実施態様は、軽い回外、中立、または回内に向かう自然な傾向のある足を支持するための目標の三平面足配列を表す。これら２つの実施態様は、足後方部において同一であるが、一方の足前方部は第１放射部（first ray）の４ｍｍの下げを有し、強い回外（suprinator）を安定化する。他方は平坦な中立の第１放射部（first ray）を有し、中間姿勢において中立のロールオフを確保する。これは強い回外（suprinator）を除くすべての足に有効である。
【００２６】
業界標準の靴型は、製造目的のために通常はプラスティックから作られる。いくつかのより小規模な専門ショップは、各顧客専用の木製のハンドメイド靴型を使用して個別の顧客の要求を満たしている。ここで述べている靴型は、靴業界で広く使用されている任意の材料から、または特別な材料から構成することができる。
【００２７】
３次元三平面プレート１４（図３Ａおよび３Ｂ参照）は、三平面ポイントの１つまたは複数において目標の足の三平面運動の調整、安定化、および／または方向づけを助ける材料から形成され、作成される。通常、このプレートは、支持を提供するが、必要な足の動きを過度に限定すること、または不快を生じさせることがない半硬質材料から作られることになる。
【００２８】
いくつかの実施態様においては、三平面プレートが外側踵骨からＳＴに向かって足のアーチの後方部分の下側を包み込み、また外側踵骨から外側足前方部の第５中足骨のちょうど後ろまでを包むことによって足の外側を連続的に支持する。外側踵骨の支持プレート領域から上向きに突出部１５が延びている。突出部１７は、第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）の領域における支持のためのプレートから上向きに延びる。伝統的な矯正器具の修正とは異なり、三平面プレートは、常に靴の中底の最上位に位置していない。それに代わり履き物の中底内に配置されるか、または中底またはそのほかの底ユニット構造の部分として形成される。たとえば、接合、接着、またはそのほかの靴の中底との一体成形等の何らかのプロセスを介して靴の甲の外側に三平面プレートを取り付けることが可能である。三平面プレートは、追加の有向および機能的剛性および補強を提供するオプションの工学的凸状グルーブまたはリッジを外表面上に含むことができる。これらの工学的グルーブまたはリッジは、三平面プレートによって与えられる、装着者の運動する力に抗するか、またはそのほかの形で修正を加える調整または安定化の力を方向付けすることもできる。プレートは、任意の適切な材料から作成可能である。特定の実施態様は、約１０〜６０の範囲内のデュロメータ値（ショア硬度Ａ）を提供するプラスティックまたは合成材料を採用できる。多数ある最新のナイロン、ウレタン、グラスファイバ製品のいずれも、さらにはカーボン・ファイバさえ、この特定のデュロメータ値で作り、製造し、または射出することが可能である。
【００２９】
いくつかの実施態様においては、三平面システム・システムが、中敷きの性質を帯びた靴挿入物１６を含むことができる。１つの特定の発明性のある中敷き（図２参照）は、従来技術に類似であり、解剖学的構造の踵カップおよび対応する屈曲グルーブを伴う。しかしながらこの新しい中敷きは、靴を履いたときに踵骨の内側でＳＴと係合するオプションの突出部２０を含む。この突出部がＳＴの下側から足の内側へ上に延び、足のアーチを上向きに、かつ外側方向に持ち上げる。この突出部２０および／または三平面プレート１４上の対応する突出部１８は『鮫のひれ』構造の形にすることができるが、そのほかの多様なサイズの構造を作成して、靴を履いたときにいくらかの望ましい度合いで踵骨の内側でＳＴと係合させることができる。
【００３０】
中敷き突出部２０は、ＳＴに圧力ゾーンを作り出すための何らかのタイプのデバイスまたはメカニズムを含むこともできる。この中敷きは、三平面プレートとの組み合わせで、または三平面プレートに代わってそれを行うことができる。たとえば中敷きがＳＴの領域内において三平面プレートに係合する部分を含み、圧力ゾーンを作り出すことができる。中敷きは、三平面プレートに固定的に、または取り外し可能に結合するか、単純に三平面プレートに隣接させることができる。たとえば、取り外し可能な結合を与えるために、ベルクロ（Velcro(登録商標））タブを突出部の外側（内側の外面）に取り付け、靴の甲の対応する部分を通して部分的に挿入し、三平面プレートの内面または内側の対応するベルクロ（Velcro(登録商標））タブに係合させ、または取り付けることが可能である。当然のことながらベルクロ（Velcro(登録商標））に代えて、（限定ではないが）スナップ、クリップ、タブおよびスロット構造、またはそのほかの機械的なファスナ、糊、接着剤、またはそのほかの一時的または恒久的化学接合剤、または磁気ファスナ等の何らかのタイプの電気機械式取り付けといった代替結合メカニズムを使用することもできる。伝統的な中敷きは、酢酸エチルビニル（ＥＶＡ）を構造材料として使用しているが、任意の適切な材料を使用することが可能である。たとえば、特定の実施態様においては、ポリウレタン（ＰＵ）を使用して中敷きが作られ、より長い耐久性を提供する。
【００３１】
図解されている実施態様の三平面システムは、従来的な、または周知の伝統的な靴の甲を基礎として修正された甲１２を採用できる。いくつかの実施態様においては、甲１２が、三平面プレート１４および／または中敷き１６と結合するべく修正される。中敷きは、その内側の足首近傍に、中敷き上の取り付けデバイスが甲を通って三平面プレート（または、三平面プレート上の対応するデバイス）と係合することを可能にする孔またはポート２１を含むことができる。たとえば、ベルクロ（Velcro(登録商標））を介して中敷きおよび三平面プレートを互いに取り付けることができる場合には、この開口によってベルクロ（Velcro(登録商標））の２つの面が互いに接触することが可能になる。別の実施態様においては、中敷きと三平面プレートの係合に使用される磁気取り付け等のように、中敷きが甲を通って三平面プレートと係合する上でその種の開口またはポートが必要とされない。
【００３２】
いくつかの実施態様においては、甲１２が、その内側に沿って調整可能なストラップ２３を含むことができ、それを三平面プレートに接続すること、および甲のいずれかの場所に固定することが可能になる。装着者は、このストラップを使用して、全体の三平面システムの、特に三平面システム・システムの内側の適合を調整できる。別の実施態様においては、第５中足骨ヘッドのちょうど後ろで三平面プレートの調整を可能にする類似のストラップを含むことができる。
【００３３】
それに加えて甲１２は、三平面プレート１４を係合するためのオプションの受け入れ領域を含むことができる。これらの受け入れ領域は、特定の材料から、または特定の凹部またはそのほかの、三平面プレート１４と甲１２の間の係合を容易にする構造を伴って構成可能である。
【００３４】
甲１２は、（限定ではないが）天然または合成皮革、ナイロン、ポリエステル、ライクラおよびそのほかのファブリック、プラスティックおよびそのほかの高分子、天然または合成ゴム、またはこれらの材料の種々の組み合わせを含む伝統的な材料から作成することができる。それに加えて特別に作られた成形部品を採用して独特な機能またはデザインの提供をはじめ、消費者の便益の増加を行うことが可能である。
【００３５】
前述したとおり底ユニット２４、三平面プレート１４、中敷き１６、および甲１２を含む完全な三平面システムの実施態様を伴う履き物１０を図７および８に示す。
【００３６】
三平面システムは、ほとんどすべてのタイプの活動のための実質的にすべてのタイプの靴の中に使用し、または作成することが可能である。特定の実施態様においては、三平面システムが、運動用の履き物、たとえば（限定ではないが）ランニング、バスケットボール、テニス、ハイキング、アメリカンフットボール、サッカー、野球、およびそのほかの足および脚の反復的な動きを伴うスポーツのための靴の部品として使用される。三平面システムは、異なる履き物サイズに応じて再サイズ設定が可能であるが、製造者には、運動、カジュアル、労働、または医療応用のために使用されることになる矯正済みの靴型のタイプに関連して三平面プレートの構造のわずかな修正が必要となるであろう。三平面システムは、単純に、特定の活動に関係する広い範囲の履き物のための異なるサイズで作るか、または類別することができる。三平面システムはまた、運動、矯正器具、または医療用の履き物以外の、（限定ではないが）特定のビジネス、職業、軍事、または専門家の制服または衣服、たとえば警官または看護師の制服のための靴、シェフおよびレストラン従業員のための靴、軍事用長靴または短靴、またはスキー、モトクロス、または乗馬用のブーツといった応用に適合させることも可能である。
【００３７】
当業者は認識することになろうが、本発明の本質を説明するために述べられ、図解されている部品および作用の詳細、材料、および配置において多くの修正および変形が可能であり、その種の修正および変形は、これに含まれている教示および請求項の精神および範囲から逸脱しない。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１Ａ】従来技術の靴型に対する比較とともに示した、約７度のオフセットの靴型コーンおよびより平坦な下側を伴う発明性のある一実施態様の靴型の図である。
【図１Ｂ】従来技術の靴型に対する比較とともに示した、約７度のオフセットの靴型コーンおよびより平坦な下側を伴う発明性のある一実施態様の靴型の図である。
【図１Ｃ】従来技術の靴型に対する比較とともに示した、約７度のオフセットの靴型コーンおよびより平坦な下側を伴う発明性のある一実施態様の靴型の図である。
【図２Ａ】鮫のひれ状突出部の円がベルクロ（Velcro(登録商標））タブ等の取り付け部分、デバイス、またはメカニズムを示している本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための中敷きの実施態様の図である。
【図２Ｂ】鮫のひれ状突出部の円がベルクロ（Velcro(登録商標））タブ等の取り付け部分、デバイス、またはメカニズムを示している本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための中敷きの実施態様の図である。
【図２Ｃ】鮫のひれ状突出部の円がベルクロ（Velcro(登録商標））タブ等の取り付け部分、デバイス、またはメカニズムを示している本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための中敷きの実施態様の図である。
【図２Ｄ】鮫のひれ状突出部の円がベルクロ（Velcro(登録商標））タブ等の取り付け部分、デバイス、またはメカニズムを示している本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための中敷きの実施態様の図である。
【図３Ａ】円が、中敷き上の類似の円に対応するベルクロ（Velcro(登録商標））タブ等の取り付け部分、デバイス、またはメカニズムを示している本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための三平面プレートの１つの実施態様の種々の図である。
【図３Ｂ】円が、中敷き上の類似の円に対応するベルクロ（Velcro(登録商標））タブ等の取り付け部分、デバイス、またはメカニズムを示している本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための三平面プレートの１つの実施態様の種々の図である。
【図３Ｃ】円が、中敷き上の類似の円に対応するベルクロ（Velcro(登録商標））タブ等の取り付け部分、デバイス、またはメカニズムを示している本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための三平面プレートの１つの実施態様の種々の図である。
【図３Ｄ】円が、中敷き上の類似の円に対応するベルクロ（Velcro(登録商標））タブ等の取り付け部分、デバイス、またはメカニズムを示している本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための三平面プレートの１つの実施態様の種々の図である。
【図３Ｅ】円が、中敷き上の類似の円に対応するベルクロ（Velcro(登録商標））タブ等の取り付け部分、デバイス、またはメカニズムを示している本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための三平面プレートの１つの実施態様の種々の図である。
【図３Ｆ】円が、中敷き上の類似の円に対応するベルクロ（Velcro(登録商標））タブ等の取り付け部分、デバイス、またはメカニズムを示している本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための三平面プレートの１つの実施態様の種々の図である。
【図４Ａ】中敷きおよび三平面プレートの取り合わせの図である。
【図４Ｂ】中敷きおよび三平面プレートの取り合わせの図である。
【図４Ｃ】中敷きおよび三平面プレートの取り合わせの図である。
【図５Ａ】本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための靴の甲の１つの可能実施態様の、三平面プレートおよび中敷きが互いに取り付けられることを可能にする開口が示された図である。
【図５Ｂ】本発明の内容に従った１つの可能実施態様において使用するための靴の甲の１つの可能実施態様の、三平面プレートおよび中敷きが互いに取り付けられることを可能にする開口が示された図である。
【図６Ａ】三平面プレートの取り付け前および後の甲内側の中敷きの取り合わせを、三平面プレートに接続する調整ストラップとともに示した図である。
【図６Ｂ】三平面プレートの取り付け前および後の甲内側の中敷きの取り合わせを、三平面プレートに接続する調整ストラップとともに示した図である。
【図６Ｃ】三平面プレートの取り付け前および後の甲内側の中敷きの取り合わせを、三平面プレートに接続する調整ストラップとともに示した図である。
【図７Ａ】底を伴って完全に組み立てられた靴を併せて示した、中敷き、三平面プレート、および甲の取り合わせのいくつかの異なる図である。
【図７Ｂ】底を伴って完全に組み立てられた靴を併せて示した、中敷き、三平面プレート、および甲の取り合わせのいくつかの異なる図である。
【図７Ｃ】底を伴って完全に組み立てられた靴を併せて示した、中敷き、三平面プレート、および甲の取り合わせのいくつかの異なる図である。
【図７Ｄ】底を伴って完全に組み立てられた靴を併せて示した、中敷き、三平面プレート、および甲の取り合わせのいくつかの異なる図である。
【図８Ａ】靴および三平面システム・システムの種々の部品の図である。
【図８Ｂ】靴および三平面システム・システムの種々の部品の図である。
【図９．１】図１０．１〜１１．５８に図解されている断面輪郭線の全体索引図である。
【図９．２】図１０．１〜１１．５８に図解されている断面輪郭線の踵側立面図である。
【図９．３】図１０．１〜１１．５８に図解されている断面輪郭線の側面図である。
【図１０．１】ここで述べられている靴または靴の甲の実施態様の作成に使用できる靴型の、図９．１〜９．３に図解されている測定値がミリメートルで示された平行線に輪郭線が対応する断面輪郭線図であって、図１０．１の輪郭線が図９．１〜９．３の靴型の踵に対応し、図１０．５８の輪郭線が靴型のつま先に対応する断面輪郭線図である。
【図１０．２】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．５】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．６】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．７】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．８】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．９】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．１０】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．１１】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．１２】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．１３】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．１４】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．１５】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．１６】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．１７】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．１８】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．１９】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．２０】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．２１】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．２２】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．２３】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．２４】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．２５】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．２６】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．２７】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．２８】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．２９】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３０】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３１】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３２】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３３】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３４】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３５】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３６】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３７】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３８】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．３９】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４０】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４１】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４２】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４３】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４４】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４５】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４６】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４７】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４８】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．４９】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．５０】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．５１】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．５２】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．５３】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．５４】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．５５】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．５６】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．５７】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１０．５８】図１０．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１】ここで述べられている靴または靴の甲の実施態様の作成に使用できる靴型の、図１０．１〜１１．５８の場合と同様に図９．１〜９．３に図解されている平行線に輪郭線が対応する断面輪郭線図である。
【図１１．２】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．５】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．６】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．７】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．８】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．９】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１０】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１１】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１２】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１３】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１４】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１５】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１６】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１７】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１８】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．１９】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．２０】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．２１】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．２２】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．２３】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．２４】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．２５】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．２６】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．２７】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．２８】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．２９】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３０】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３１】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３２】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３３】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３４】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３５】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３６】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３７】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３８】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．３９】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４０】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４１】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４２】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４３】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４４】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４５】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４６】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４７】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４８】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．４９】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．５０】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．５１】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．５２】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．５３】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．５４】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．５５】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．５６】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．５７】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１１．５８】図１１．１と同様の断面輪郭線図である。
【図１２Ａ】三平面調整または安定化を伴わない足の解剖学的説明図である。
【図１２Ｂ】三平面調整または安定化を伴わない足の解剖学的説明図である。
【図１３Ａ】２つの三平面領域（図１３Ａ）および３つの三平面領域（図１３Ｂ）の同時矯正の下における足の説明図である。
【図１３Ｂ】２つの三平面領域（図１３Ａ）および３つの三平面領域（図１３Ｂ）の同時矯正の下における足の説明図である。
【図１Ａ】
2009507566.tif 000003
【図１Ｂ】
2009507566.tif 000004
【図１Ｃ】
2009507566.tif 000005
【図２Ａ】
2009507566.tif 000006
【図２Ｂ】
2009507566.tif 000007
【図２Ｃ】
2009507566.tif 000008
【図２Ｄ】
2009507566.tif 000009
【図３Ａ】
2009507566.tif 000010
【図３Ｂ】
2009507566.tif 000011
【図３Ｃ】
2009507566.tif 000012
【図３Ｄ】
2009507566.tif 000013
【図３Ｅ】
2009507566.tif 000014
【図３Ｆ】
2009507566.tif 000015
【図４Ａ】
2009507566.tif 000016
【図４Ｂ】
2009507566.tif 000017
【図４Ｃ】
2009507566.tif 000018
【図５Ａ】
2009507566.tif 000019
【図５Ｂ】
2009507566.tif 000020
【図６Ａ】
2009507566.tif 000021
【図６Ｂ】
2009507566.tif 000022
【図６Ｃ】
2009507566.tif 000023
【図７Ａ】
2009507566.tif 000024
【図７Ｂ】
2009507566.tif 000025
【図７Ｃ】
2009507566.tif 000026
【図７Ｄ】
2009507566.tif 000027
【図８Ａ】
2009507566.tif 000028
【図８Ｂ】
2009507566.tif 000029
【図９】
2009507566.tif 000030
2009507566.tif 000031
【図９．２】
2009507566.tif 000032
【図９．３】
2009507566.tif 000033
【図１０．１】
2009507566.tif 000034
【図１０．２】
2009507566.tif 000035
【図１０．３】
2009507566.tif 000036
【図１０．４】
2009507566.tif 000037
【図１０．５】
2009507566.tif 000038
【図１０．６】
2009507566.tif 000039
【図１０．７】
2009507566.tif 000040
【図１０．８】
2009507566.tif 000041
【図１０．９】
2009507566.tif 000042
【図１０．１０】
2009507566.tif 000043
【図１０．１１】
2009507566.tif 000044
【図１０．１２】
2009507566.tif 000045
【図１０．１３】
2009507566.tif 000046
【図１０．１４】
2009507566.tif 000047
【図１０．１５】
2009507566.tif 000048
【図１０．１６】
2009507566.tif 000049
【図１０．１７】
2009507566.tif 000050
【図１０．１８】
2009507566.tif 000051
【図１０．１９】
2009507566.tif 000052
【図１０．２０】
2009507566.tif 000053
【図１０．２１】
2009507566.tif 000054
【図１０．２２】
2009507566.tif 000055
【図１０．２３】
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【図１０．２４】
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【図１０．２５】
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【図１０．２６】
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【図１０．２７】
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【図１０．２８】
2009507566.tif 000061
【図１０．２９】
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【図１０．３０】
2009507566.tif 000063
【図１０．３１】
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【図１０．３２】
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【図１０．３３】
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【図１０．３４】
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【図１０．３５】
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【図１０．３６】
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【図１０．３７】
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【図１０．３８】
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【図１０．３９】
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【図１０．４０】
2009507566.tif 000073
【図１０．４１】
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【図１０．４２】
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【図１０．４３】
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【図１０．４４】
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【図１０．４５】
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【図１０．４６】
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【図１０．４７】
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【図１０．４８】
2009507566.tif 000081
【図１０．４９】
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【図１０．５０】
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【図１０．５１】
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【図１０．５２】
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【図１０．５３】
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【図１０．５４】
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【図１０．５５】
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【図１０．５６】
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【図１０．５７】
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【図１０．５８】
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【図１１．１】
2009507566.tif 000092
【図１１．２】
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【図１１．３】
2009507566.tif 000094
【図１１．４】
2009507566.tif 000095
【図１１．５】
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【図１１．６】
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【図１１．７】
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【図１１．８】
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【図１１．９】
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【図１１．１０】
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【図１１．１１】
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【図１１．１２】
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【図１１．１３】
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【図１１．１４】
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【図１１．１５】
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【図１１．１６】
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【図１１．１７】
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【図１１．１８】
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【図１１．１９】
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【図１１．２０】
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【図１１．２１】
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【図１１．２２】
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【図１１．２３】
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【図１１．２４】
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【図１１．２５】
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【図１１．２６】
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【図１１．２７】
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【図１１．２８】
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【図１１．２９】
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【図１１．３０】
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【図１１．３１】
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【図１１．３２】
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【図１１．３３】
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【図１１．３４】
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【図１１．３５】
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【図１１．３６】
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【図１１．３７】
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【図１１．３８】
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【図１１．３９】
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【図１１．４０】
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【図１１．４１】
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【図１１．４２】
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【図１１．４３】
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【図１１．４４】
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【図１１．４５】
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【図１１．４６】
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【図１１．４７】
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【図１１．４８】
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【図１１．４９】
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【図１１．５０】
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【図１１．５１】
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【図１１．５２】
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【図１１．５３】
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【図１１．５４】
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【図１１．５５】
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【図１１．５６】
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【図１１．５７】
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【図１１．５８】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年6月10日(2008.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
靴の甲および底ユニットのアセンブリを含み、前記アセンブリが、足を目標の三平面配列に配向して、（１）踵骨戴距突起、（２）外側踵骨、および（３）足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）からなる足の解剖学的構造の３つの領域に同時に影響を及ぼす足コンパートメントを規定する靴。
【請求項２】
前記コンパートメントは、（１）前記踵骨戴距突起の垂直持ち上げ、（２）前記踵骨の内反運動、および（３）足前方部を内転させる第５放射部（fifth ray）の圧力によって距骨の有害な内回転を矯正するべく構成される、請求項１に記載の靴。
【請求項３】
前記アセンブリは、前記３つの領域のうちの少なくとも１つにおいて足を支持するべく適合された３次元三平面プレートを含む、請求項２に記載の靴。
【請求項４】
前記三平面プレートは、前記３つの領域のうちの少なくとも２つにおいて足を支持するべく適合される、請求項２に記載の靴。
【請求項５】
前記三平面プレートは、前記３つの領域のうちの３つにおいて足を支持するべく適合される、請求項３に記載の靴。
【請求項６】
さらに、前記履き物が装着されたときに踵骨の内側の踵骨戴距突起と係合することができる突出部を有する靴挿入物を含む、請求項２に記載の靴。
【請求項７】
前記靴挿入物の突出部は、前記三平面プレートの対応する部分と係合することができる、請求項６に記載の靴。
【請求項８】
前記甲は開口またはポートを規定し、それを通して前記中敷きの突出部が前記甲と重なる前記三平面プレートの部分と係合できる、請求項７に記載の靴。
【請求項９】
前記甲は、前記三平面プレートに結合されたストラップを有し、その結果、前記ストラップを締めることまたは緩めることで前記装着者の足に対する前記三平面プレートの適合性を変更できる、請求項８に記載の靴。
【請求項１０】
前記三平面プレートは、前記靴の中底の部分を規定し、前記外側踵骨から、前記足のアーチの下を通り、前記踵骨戴距突起まで延び、かつ前記第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）の後ろに広がる、請求項３に記載の靴。
【請求項１１】
前記三平面プレートは、方向付けされた工学的強化構造を規定する表面を有する、請求項３に記載の靴。
【請求項１２】
装着者の足の動きが、それの矢状面、横行面、および冠状面に沿って同時に修正されるか、または安定化される、足の目標の三平面運動を支持するための手段を包含する靴。
【請求項１３】
前記足の三平面運動を安定化するための手段は、前記装着者の足の動作中に、踵骨戴距突起、外側踵骨、および足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）に同時に影響を及ぼす、請求項１２に記載の靴。
【請求項１４】
周囲で靴を組み立てることができる、足を目標の三平面配列に配向して、（１）踵骨戴距突起、（２）外側踵骨、および（３）足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）からなる足の解剖学的構造の３つの領域に同時に影響を及ぼす足コンパートメントを規定する型を含む靴型。
【請求項１５】
前記型は、（１）前記踵骨戴距突起の垂直持ち上げ、（２）前記踵骨の内反運動、および（３）足前方部を内転させる第５放射部（fifth ray）の圧力によって距骨の有害な内回転を矯正するべく構成されるコンパートメントを規定する、請求項１４に記載の靴型。
【請求項１６】
さらに、踵の靴型中心線によって決定される前記靴型の底の踵の頂部から測定された外側方向の約７度のオフセット（踵骨の内反）、つま先の中心線に対する前記靴型の踵の水平面から測定された内側方向の約７度の平面の足前方部内転、および追加材料を反映する修正された靴型底表面を伴う靴型コーンを含む、請求項１４に記載の靴型。
【請求項１７】
周囲で靴を組み立てることができる型を包含する靴型であって、前記型が、踵の靴型中心線によって決定される前記靴型の底の踵の頂部から測定された外側方向の約７度のオフセット（踵骨の内反）を伴う靴型コーンを含む靴型。
【請求項１８】
靴の甲および底ユニットを組み立てることを含み、前記靴の甲および底ユニットが、足を目標の三平面整列に配向して足の解剖学的構造の３つの領域、すなわち（１）踵骨戴距突起、（２）外側踵骨、および（３）足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）に同時に影響を及ぼす足コンパートメントを規定する、靴を作る方法。
【請求項１９】
前記コンパートメントは、（１）前記踵骨戴距突起の垂直持ち上げ、（２）前記踵骨の内反運動、および（３）足前方部を内転させる第５放射部（fifth ray）の圧力によって距骨の有害な内回転を矯正するべく構成される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
周囲で靴を組み立てることができる型を形成することを含み、前記型が、足を目標の三平面整列に配向して足の解剖学的構造の３つの領域、すなわち（１）踵骨戴距突起、（２）外側踵骨、および（３）足の第５中足骨放射部（fifth metatarsal ray）に同時に影響を及ぼす足コンパートメントを規定する、靴型を作る方法。
【国際調査報告】
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