(57)【要約】  本発明は、反応チャンバの内側部分（２８）を画定する、底壁と、頂壁と、底壁と頂壁との間に延在する側壁とを備えるＡＬＤ反応容器の反応チャンバに関する。この反応容器は、反応チャンバの中へガスを供給する１つまたは複数の供給開口部（３０）と、反応チャンバから反応容器の中へ供給されたガスを排出する１つまたは複数の排出開口部（４０、５０）とをさらに備える。この反応チャンバは、反応チャンバの各側壁が、１つまたは複数の供給開口部（３０）を備え、この場合、反応チャンバの全側壁がガス交換に関与することを特徴とする。【選択図】図１Ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応チャンバの内側部分（２８）を画定する、底壁と、頂壁と、前記底壁と前記頂壁との間に延在する側壁とを備えるＡＬＤ反応容器の反応チャンバにおいて、前記反応容器が、前記反応チャンバの中へガスを供給する１つまたは複数の供給開口部（３０）と、前記反応チャンバから前記反応容器の中へ供給されたガスを排出する１つまたは複数の排出開口部（４０、５０）とをさらに備える反応チャンバであって、
前記反応チャンバの各側壁が、１つまたは複数の供給開口部（３０）を備え、この場合、前記反応チャンバの全側壁がガス交換に関与することを特徴とする反応チャンバ。
【請求項２】
請求項１に記載の反応チャンバであって、前記反応チャンバが、前記供給開口部（３０）と流体連通する１つまたは複数の入口（１４、１２）と、前記排出開口部（４０、５０）と流体連通する１つまたは複数の出口（１６、１８）とが設けられることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項３】
請求項１または２に記載の反応チャンバであって、
各側壁が、１つまたは複数の供給開口部（３０）を備えることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
少なくともいくつかの側壁が、１つまたは複数の排出開口部（４０）をさらに備えることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記供給開口部（３０）、または、前記供給開口部（３０）および排出開口部（４０）が、前記側壁の全長に沿って延在し、前記反応チャンバの前記側壁を少なくとも部分的に形成することを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項６】
請求項２から５のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記出口（１６、１８）および入口（１４、１２）が、ベースプレート（４）に配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項７】
請求項２から６のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記反応チャンバが、前記反応チャンバの前記内側部分（２８）の中へ供給されるガスの量を調整するため、および／または前記反応チャンバの前記内側部分（２８）から排出されるガスの量を調整するために、供給パイプ（１４、１２）および／または供給開口部（３０）、ならびに／あるいは出口（１６、１８）および／または排出開口部（４０、５０）を調整する調整手段（１０、２６）をさらに備えることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項８】
請求項７に記載の反応チャンバであって、
前記調整手段（１０、２６）が、前記供給開口部（３０）および／または排出開口部（４０、５０）の位置および／またはサイズおよび／または数を調整するように配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項９】
請求項７に記載の反応チャンバであって、
前記調整手段（１０、２６）が、前記供給パイプ（１４、１２）および／または出口の数および／または位置を調整するように配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１０】
請求項７から９のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記調整手段（１０、２６）が、前記供給開口部（３０）にその穴（２６）を介してガスを供給するように前記入口（１４）に配置された穴開きプレート（１０）を備え、前記穴開きプレートの穴（２６）の長さおよび／または数が調整可能であることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記反応チャンバの前記内側部分（２８）が円筒形であり、この場合、前記反応チャンバの前記内側部分（２８）が円周部の１つの側壁を備えることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１２】
請求項１１に記載の反応チャンバであって、
前記入口（１４、１２）および／または供給開口部（３０）が、前記円周部の側壁の全長に沿って前記反応チャンバの前記内側部分（２８）の中へガスが供給可能であるように配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の反応チャンバであって、
前記出口（１６、１８）および／または排出開口部（４０、５０）が、ベースプレート（４）またはカバープレート（２）の中央に配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１４】
請求項１１に記載の反応チャンバであって、
前記入口（１４、１２）および／または供給開口部（３０）、ならびに出口（１６、１８）および／または排出開口部（４０、５０）が、前記円周部の側壁の全長に沿って、ガスが、前記反応チャンバの中へ供給可能、および／または前記反応チャンバから排出可能であるように設けられることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１５】
請求項１１に記載の反応チャンバであって、
前記入口（１４、１２）および／または供給開口部（３０）、ならびに出口（１６、１８）および／または排出開口部（４０、５０）が、前記円周部の側壁の長さの一部に沿って、ガスが、前記反応チャンバの中へ供給可能、および／または前記反応チャンバから排出可能であるように配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１６】
請求項１から１５のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記反応チャンバの前記内側部分（２８）が立方体であることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１７】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記反応チャンバの前記内側部分（２８）が方形の角柱の形状を有することを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１８】
請求項１から１７のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記ベースプレート（４）および前記カバープレート（２）の両方に、基板用のホルダ（２２、２０）が設けられており、その場合、２つの基板が、同時に処理可能であることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１９】
請求項１８に記載の反応チャンバであって、
前記カバープレート（２）に設けられた前記ホルダ（２０）は、中に置かれた前記基板が、前記反応チャンバの前記頂壁の少なくとも一部を形成するように配置され、前記ベースプレートに設けられた前記ホルダ（２２）は、中に置かれた前記基板が、前記反応チャンバの前記底壁の少なくとも一部を形成するように配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＡＬＤ（原子層体積）反応容器の反応チャンバ、およびＡＬＤ反応容器の反応チャンバ内で基板を処理する方法に関する。さらに詳細には、本発明は、請求項１の前文に従ったＡＬＤ反応容器の反応チャンバに関し、この反応チャンバは、反応チャンバの内側の内側部分、底壁、頂壁、および底壁と頂壁との間に延在する側壁を形成するカバープレートとベースプレートとを備え、反応容器は、反応チャンバの中にガスを供給する１つまたは複数の入口開口部と、反応チャンバから反応容器の中へ供給されたガスを排出する１つまたは複数の排出開口部とをさらに備える。
【背景技術】
【０００２】
反応チャンバは、処理される基板が置かれるＡＬＤ反応容器の主な構成要素である。ＡＬＤ工程は、表面が薄膜の成長を制御する、一連の飽和表面反応に基づく。工程中には、それぞれの反応成分が、別々に表面と接触させられる。反応チャンバでは、反応ガスが基板の上に連続的に供給され、合間にガスのパルスを流す。したがって、反応チャンバの流れの動態が良好でなければならない。石英パイプからなる従来技術の貫通供給式反応チャンバは、反応ガスがそこから供給される第１端部と、反応ガスがそこから送り出される第２端部とを有する。このような筒状の反応チャンバの流れの動態（流れの分配）は、それ自体、十分に良好ではないが、反応容器は、別個の流れガイドが設けられなければならない。この場合さえでも、このような反応チャンバの材料効率は悪く、基板上に生成される薄膜の厚さは不均一である。さらに、この種の反応チャンバでは処理が遅い。このような構造体の例は、たとえば米国特許第４，３８９，９７３号の図２に示されている。貫通供給式反応チャンバは、石英プレートからも製造されているが、この場合、供給パイプ、流れガイド、混合パイプ、出口、および基板用の空間は、石英プレートの処理により作製されている。この場合、反応チャンバおよびその流れシステムが、処理されるプレートをともに連結することにより形成され、この場合、流れシステムは、自由に構成されることができ、流れの分配がより良好に制御される。これらの解決法ではまた、反応ガスおよび洗浄ガスの流れが基板の上を、一方の側から他方へと導かれ、そこから反応ガスおよび洗浄ガスが吸収される。これが、反応チャンバの端部における流れの行き止まり、および壁の近くの流れにおける側壁効果を容易に発生し、それが流れの動態を減少させる。さらに、この種の構造では、反応チャンバを形成することによって、反応チャンバと反応チャンバの周囲との間に封止される必要のある複数の面を作ることになる。上述の構造の例は、米国特許第６，５７２，７０５号の図１および２に示されている。従来技術は、また、「高架シャワーヘッド」を備えたノズル構造体を含み、ここで、反応容器の中へ供給されるガスの流れが、基板に向かって直接導かれ、この場合、行き止まりの面の数が径方向において最小限にされる。このシャワー反応チャンバに関連する問題は、ガスの流れが基板の表面を打ち、基板の中央部分に働く出発原料の濃縮物が、基板の端部分に働く濃縮物より強くなることである。さらに、この流れシステムが用いられたとき、複数の基板を同時処理するチャンバを構成することは困難である。説明された構造の例は、米国特許第６，９０２，６２４号の図６および７に示されている。
【０００３】
上述のすべての反応チャンバでは、目的は流れの動態を改善することであるが、その結果は、複雑な構造または不利な流れの分配であり、その場合、反応チャンバは最適には機能しない。さらに、ガスの供給または排出がない反応チャンバの受動面は、濡れやすい。この文脈においては、濡れるというのは、反応チャンバ内を流れるガスのために、表面が出発原料の化学物質にさらされ、それがひいては、工程の原料効率を減少させ、反応容器の表面の腐食を起こすことがあることを意味する。
【０００４】
この文脈においては、基板は、反応容器の中で処理される材料を指し、たとえば、シリコンディスク、または固体（高密度）、多孔性、または粉末状の材料からなる３次元の物体であってよい。反応空間は、通常、真空チャンバの内側に配置されるか、または実際の真空チャンバの内表面が必要な反応空間を形成し、この反応空間は数百度の温度まで加熱されることができる。典型的な反応温度は、２００℃から５００℃の範囲である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、上述の問題を解決するように反応チャンバを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明による解決法は、請求項１の特徴部分に従った反応チャンバによって達成され、この反応チャンバは、反応チャンバの各側壁が、１つまたは複数の供給開口部を備え、この場合、反応チャンバのすべての側壁が、ガス交換に関与することを特徴とする。
【０００７】
本発明の好ましい実施形態は、従属請求項に開示される。
本発明は、反応チャンバの各側壁を介してガスが供給または排出される貫通供給式反応チャンバを設けることに基づく。言い換えると、すべての側壁が能動的にされ、すなわち、すべての側壁を介して反応チャンバの中へガスが供給可能である。また、同じ側壁を介してガスを供給および排出することも可能である。本発明によるこの解決法は、ガスの入口に連結された１つまたは複数の供給開口部を各側壁に設けることによって実施可能である。極端な場合では、反応チャンバは、有形の側壁を有さず、供給および排出の開口部が、反応チャンバの側壁を形成する。
【０００８】
この文脈においては、供給および排出の開口部は、反応チャンバの中へ開口し、ガスが、反応チャンバの中へおよび／または外へ、そこを介して流れることのできる開口部を指す。さらに、この文脈においては、入口および出口は、反応チャンバの中へ導かれるガスを供給開口部へ供給し、反応チャンバから排出されるガスを排出開口部を介して排出するすべてのチャネル、パイプなどを指す。側壁は、反応チャンバの端壁同士の間に延在する反応チャンバの壁を指す。たとえば、円筒形の反応チャンバでは、ケースが側壁を形成し、立方体の反応チャンバでは、２つの向き合う壁の間に延在する壁が側壁を形成する。別の多角形の反応チャンバでは、多角形の端壁同士の間に延在する壁が、反応チャンバの中へガスを供給する反応チャンバの側壁を形成する。全般的に、すべての側壁は、端壁に対して平行および直角に延在するが、円錐形の解決法では、側壁は一点に集まる。
【０００９】
本発明による方法およびシステムの利点は、反応チャンバのすべての側壁を、ガス供給に対して能動的にすることによって、濡れる表面の数および面積がかなり減少可能であり、それが、反応チャンバの壁に原料の成長が起こらないので、使用されるガスの原料効率を改善する。さらに、反応チャンバの流れの動態も改善し、この場合、反応チャンバの中へ供給されるガスの分配が良好になり、原料が、基板の上で均一に混合および／または沈積される。すべての壁が能動的にされるという事実は、また、反応チャンバ内の逆流および行き止まりのポケットをかなり除去する。この文脈においては、側壁は、また、接線が平坦な基板に表面の接線に対して直角をなす壁を指す。この文脈においては、上壁および下壁は、反応空間または反応チャンバの位置にかかわらず、端壁を指すことにも留意されたい。言い換えると、いくつかの実施形態では、たとえば、反応チャンバが水平位置にあり、一方で板状の基板が垂直位置にある場合、上壁および下壁は垂直位置にあってよい。板状または円板状の基板の場合、側壁は、基板の表面に対して実質的に垂直な壁をなす。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
ここで、添付の図面を参照して、本発明が、好ましい実施形態によって詳細に説明される。
図１Ａおよび１Ｂは、本発明によるＡＬＤ反応容器の円筒形の反応チャンバ１を示し、この反応チャンバは、カバープレート２とベースプレート４とを備える。カバープレート２とベースプレート４とは、反応チャンバの内側部分２８の底壁、頂壁、および側壁を画定する。図１に示された実施形態では、カバープレート２は、円形のつば状の板であり、反応チャンバの内側部分２８を形成するように、ベースプレート４の頂部に配置および／またはしっかりと固定されてよい。反応チャンバの側壁は、供給開口部３０と排出開口部４０とが設けられており、これらの開口部を介して、ガスが、反応チャンバの内側部分２８に供給され、反応チャンバの内側部分２８から排出されることができる。さらに、ベースプレート４は、ガスが供給開口部３０へと、ここに沿って供給可能である入口１２および１４と、ガスが反応チャンバの内側部分２８から排出開口部４０を介して、ここに沿って排出可能である出口１６とが設けられている。１つまたは複数の入口１２、１４および出口１６があってよい。たとえば、２つの入口１４があってよく、そのうちの一方は反応ガス用に、他方は、出発原料の群用に意図され、この場合、必要に応じて、入口は、所望の入口１４を閉じる弁手段などをさらに備えてよい。
【００１１】
図１Ａおよび１Ｂの実施形態では、入口開口部３０および排出開口部４０が、カバープレート２とベースプレート４との間に隙間が残されるように構成されており、この隙間が、反応チャンバの内側部分２８の側壁の全周に沿って延在する。この場合、この隙間は、少なくとも部分的に内側部分２８の側壁を形成する。この隙間は、さらに、入口１２、１４および出口１６と流体連通しており、この場合、隙間が、反応チャンバの内側部分２８のための入口開口部３０および排出開口部４０を形成する。
【００１２】
図１Ａから分かるように、ベースプレートは、所定の間隔で穴１２を備える穴開きプレート１０が設けられている。穴開きプレート１０の穴は、入口１４と流体連通しており、この場合、反応チャンバの内側部分２８に供給されるガスが、円周部に延在する入口開口部３０に均一に分配される。こうして、ガスは、穴開きプレート１０の長さにわたってのみ、穴１２を介して内側部分２８に供給可能であるので、穴開きプレート１０の長さが、排出開口部４０に対する入口開口部３０のサイズを決める。穴開きプレートの両端部は、穴開きプレート１０の両端部間の領域から、入口開口部を介して内側部分２８の中以外にガスが流れるのを実質的に防ぐ封止部が、さらに設けられる。しかしながら、流れのポケットの形成を防止するために、ある場合には一定量の漏れを残すことが有利であることもある。図１Ａの場合では、穴開きプレート１０は、円筒形の内側部分２８の側壁から１８０度延在し、この場合、内側開口部も１８０度である。これは、排出開口部４０も１８０度であることを意味する。しかし、穴開きプレート１０は、穴開きプレート１０の長さを調整するピン調整手段２６を備える。たとえば、穴開きプレート１０のサイズ、およびしたがって入口開口部３０のサイズを２２０度に調整することによって、この場合、排出開口部のサイズは、これに対応して１４０度に減少し、反応チャンバの内側部分２８の中へのガス供給が強化可能である。穴開きプレート１０のサイズ、およびしたがって入口開口部のサイズが１４０度に調整された場合、この場合、排出開口部のサイズが２２０度に増大し、反応チャンバの入口部分２８からのガス排出が強化可能である。このように調整可能であることの利点は、各出発原料の必要条件に対応して、流れがよりよく調整可能であることである。図１Ａによるこの種の調整可能な穴開きプレート１０は、調整されたとき、互いに重なり合うように滑動することのできる、重なり合いの可能な２つの部分からなってよい。調整は、ピン２６を下に押すことによって実行可能であり、この場合、穴開きプレートの一部が、互いに対して重なり合う位置へと移動することができる。入口開口部３０へとガスがここから流れる、穴開きプレート１０の穴１２は、ピン２６を受けることができ、このため、ピン２６は、別の穴を必要としない。さらに、穴１２は、同じ所定の間隔で穴開きプレート１０の両方の部分に設けられ、この場合、この部分が一方を他方の上に滑動させるにつれて、穴が垂直方向に整列される。
【００１３】
出口１６は、円周部に延在する溝としてベースプレート４の端部の近傍に開口し、これがさらに排出開口部４０の中へと開口する。出口は、入口の流れと同様のやり方で排出の流れを側壁の長さに沿って均一に分配することはしばしば不必要であるので、出口は必ずしも穴開きプレートを必要としない。当然ながら、より均一な吸引を達成することが望ましい場合、出口にも穴開きプレートが設けられてよい。
【００１４】
円筒形の反応チャンバの円周部の側壁全体が、上述のやり方で能動的にされ、この場合、側壁の全長が、ガスを反応チャンバの内側部分へと供給し、反応チャンバの内側部分から排出するのに用いられる。言い換えると、側壁の全長が、入口開口部または排出開口部からなり、この場合、入口開口部または排出開口部が、側壁の全長に沿って延在する。この場合、実質的に、側壁に非能動的部分はない。
【００１５】
図１Ｂによると、ベースプレート４は、基板を受けるホルダ２２が設けられる。この実施形態では、ホルダ２２は、ベースプレート４の頂面に形成された凹部であり、たとえば薄いシリコンディスクが処理のためにここに配置可能である。シリコンディスクがホルダ２２に配置されると、これが、反応チャンバの内側部分２８の底壁の主要部分を形成する。この実施形態では、カバープレート２は、円形の開口部３２を備え、その縁部が、別の基板を受ける別のホルダ２２として機能する。この場合、たとえば、シリコンディスクが縁部２０の上に配置可能であり、それによって、このシリコンディスクが反応チャンバの内側部分２８の頂壁の主要部分を形成する。この場合、ベースプレート４のホルダ２２の中に配置されたシリコンディスクの上面が処理され、同様に、カバープレート２のホルダ２０の中に配置されたシリコンディスクの下面が処理されるように、２つのシリコンディスクが反応チャンバ内で同時に処理可能である。この場合、シリコンディスクが、濡れる反応チャンバのほとんどの表面を形成し、それが、実際のカバープレート２およびベースプレート４の濡れる表面の数を最小限にし、ひいては、ベースプレート４およびカバープレート２に用いられるガスの望ましくない効果を最小限にする。
【００１６】
図１Ａおよび１Ｂによる解決法は、特許請求の範囲に定義された本発明の範囲から逸脱することなく、様々な方法に変形されてよい。反応チャンバの内側部分の形状は、自由に選択されてよく、立方体、方形の角柱、多角形であるか、あるいは長円形の断面または別の適切な幾何学形状を有してよい。たとえば、反応チャンバの内側部分が立方体である場合、反応チャンバは４つの側壁を有し、この場合、少なくとも１つの側壁に入口開口部が設けられ、他の側壁に排出開口部が設けられる。反応チャンバの内側部分の寸法も、処理される物体または製品によって調整可能である。たとえば、三次元の物体が処理されるとき、物体が反応チャンバの内側部分に嵌るように、側壁の高さが増されてよい。この場合、図１Ａおよび１Ｂによる反応チャンバの円周部の側壁は、たとえば、カバープレート２とベースプレート４との間の距離を増すことにより伸ばされることができ、この場合、反応チャンバは筒状の構造体となり、そのケーシングが反応チャンバの側壁を形成する。この反応チャンバの筒状の解決法では、ガスを供給する開口部を内壁に設けること、またはケーシングの内壁を、ガス透過性である焼結金属／セラミック材料のような多孔性材料から作製することによって、ケーシングの内壁に供給開口部が形成される。多孔性の側壁の場合では、ガスが側壁の後ろに導かれ、ガスはそこから多孔性材料を介して反応チャンバの内側部分の中へ浸透する。同様に、ケーシングに排出開口部が設けられてよいか、または多孔性の側壁を介してガスを吸収することにより排出が行われてよい。多孔性材料の場合では、反応チャンバは、互いの内側にある２つのパイプから形成されてよい。パイプのうちの内側のものは、多孔性材料からなり、反応空間がその内側に形成される。ケーシングの全周および全長に沿って、あるいは長さまたは円周の一部に沿ってのみ、反応チャンバの中へガスが供給可能であるように、ケーシングは供給開口部または多孔性材料が設けられてよい。たとえば、ガスは、ケーシングの全長に沿ってケーシングの円周の半分のみに供給されてよい。同様に、排出開口部は、ケーシングの全周および全長に沿って、あるいは、ケーシングの円周および／または長さの一部のみに沿って配置されてよい。１つの代替例は、円筒の１つまたは両方の端壁に排出開口部を設けることであり、この場合、反応チャンバのケーシングの全周および全長に沿ってガスを反応空間の中へ供給することが有利である。さらに、ケーシング内の供給部分の排出部分に対する比率が、穴開きプレートについて説明された原理に従って分割可能であり、この場合、ガス供給のガス排出に対する比率は、ケーシングの供給領域と排出領域との比率を調整することによって調整可能である。このような細長い反応チャンバは、２００ｍｍの直径を有するシリコンディスクを受けることができるように、２３０ｍｍの内径および３００から３５０ｍｍの外径を有してよい。さらに、反応チャンバは支持手段が設けられてよく、この支持手段は、同時処理のために、１つまたは複数のシリコンディスクまたは他の基板を受けてよい。反応チャンバの長さが増された場合、反応チャンバは、数百のシリコンディスクを同時に処理するよう用いることができる。さらに、シリコンディスクは、ディスク同士の間の隙間が流れを収縮させる隙間として機能するように配置可能である。この場合、多孔性／穴開きの内側パイプは必要ない。これが、構造をさらに簡単にする。
【００１７】
反応チャンバの各側壁は、１つまたは複数の入口開口部および／または排出開口部が設けられている。たとえば、立方体の反応チャンバの内側部分の向かい合う側壁は、それぞれ、入口開口部および排出開口部を備えてよい。代替として、２つの隣接する壁が入口開口部を備え、他の２つの隣接する壁が排出開口部を備えてよい。さらに、入口開口部を備えた１つのみの壁と、排出開口部を備えた他の３つの壁とを設けること、またはその逆も可能である。同じ側壁は、また、排出開口部および入口開口部の両方が備えられてもよい。反応チャンバの形状にかかわらず、反応チャンバの長さが、筒状の反応チャンバの場合と同じように増されてもよいことに、さらに留意されたい。立方体の反応チャンバは、たとえば、上述のように伸ばされてもよい。
【００１８】
入口および出口は、さらに、所望のやり方で配置されてよく、その数は必要に応じて選択されてよい。さらに、入口および出口は、ベースプレートと同じやり方でカバープレートに設けられてもよい。穴開きプレートの代わりに、入って来る流れを側壁の所望の長さにわたって均一に分配するのに、別の同様の手段が用いられてよい。穴開きのパイプ、ベースプレートまたはカバープレートは、分岐されたチャネルなどが設けられてもよい。入口および／または出口、ならびに／もしくは排出開口部および／または排出開口部のための調整手段は、入口開口部および出口開口部、または入口および出口を互いに制御されたやり方で分離する流れ閉塞部、弁、または可動式の封止部などの他の種類の手段を備えてもよい。この調整手段は、各側壁またはすべての側壁における、あるいは互いに対する、供給開口部および／または排出開口部の位置および／またはサイズおよび／または数、ならびに／あるいは供給パイプおよび／または出口の数および／または位置を調整可能である。
【００１９】
基板用のホルダは、かなり異なっていてもよい。図１Ａに示された場合では、カバープレート２は、封入されることもできるが、その場合、ベースプレート４のホルダ２２のみが使用可能である。同様に、カバープレートに設けられたホルダ２０のみが使用可能である。図１Ａおよび１Ｂは、また、第２出口１８および排出開口部５０を示す。この排出開口部５０および出口１８は、カバープレートに配置されるシリコンディスク２が処理されるときにのみ使用可能である。この場合、ガスは、側壁の全長に沿って反応チャンバの内側部分２８の中へ導かれることができる。言い換えると、側壁は、排出開口部を備えないが、側壁全体の回り、すなわち３６０度に延在する入口開口部を備える。この場合、ガスは、各方向から径方向に内側部分２８に入り、ベースプレート４の中央の排出開口部５０を介して内側部分２８から流れ出る。同様に、排出開口部５０および出口１８が、カバープレート２の中央に配置可能であり、この場合、ベースプレート４のホルダ２２のみが、基板を受けるのに用いられる。この実施形態では、ガスは基板の上を流れ、中央の排出開口部を介して出る。
【００２０】
図１Ａおよび１Ｂの場合、内側部分２８の側壁の入口開口部３０および排出開口部４０が一様であり、こうして、内側部分２８の側壁を概ね形成する。入口開口部３０は、たとえば側壁の長さの１８０度延在し、排出開口部が残りの１８０度延在して、この場合、側壁は、その全長に沿って能動的である。代替として、入口開口部および排出開口部が、所定の間隔で側壁に配置された穴、サイズ通りに切削された隙間として、または同様の開口部として形成されてよい。
【００２１】
ガスが、少なくとも１つの側壁を介して反応チャンバの内側部分の中へ供給され、他方の側壁を介して排出可能であることが、本発明にとって重要である。この場合、側壁は、入口開口部および排出開口部の両方が設けられる。代替として、ガスは、すべての側壁を介して供給可能であり、この場合、ガスは、底部または頂壁を介して排出される。この場合、各側壁は入口開口部と底部が設けられ、頂壁は排出開口部（複数も可）が設けられる。これが、すべての側壁が能動的である反応チャンバをもたらす。
【００２２】
技術が進歩するにつれて、本発明の概念は様々なやり方で実施可能であることが当業者には明らかであろう。本発明およびその実施形態は、したがって、上述の実施例には限定されないが、特許請求の範囲の範囲内において異なってよい。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１Ａ】本発明による反応チャンバの図である。
【図１Ｂ】本発明による反応チャンバの図である。
【図１Ａ】
2009516077.tif 000003
【図１Ｂ】
2009516077.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月14日(2007.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応チャンバの内側部分（２８）を画定する、底壁と、頂壁と、前記底壁と前記頂壁との間に延在し且つ前記反応チャンバの円周部を画定するする側壁とを備えるＡＬＤ反応容器の反応チャンバにおいて、前記底壁、頂壁及び側壁が前記反応チャンバの内側部分（２８）を画定し、前記反応容器が、前記反応チャンバの中へガスを供給する１つまたは複数の供給開口部（３０）と、前記反応チャンバから前記反応容器の中へ供給されたガスを排出する１つまたは複数の排出開口部（４０）とをさらに備える反応チャンバであって、
前記供給開口部（３０）及び排出開口部（４０）は、前記側壁によって画定される円周部上に配置され、供給ガスが前記円周部の一部に沿って前記反応チャンバに入り且つ前記円周部の他の部分に沿って前記反応チャンバから排出されるように、前記円周部の全長が、供給部、排出部に分割される、ことを特徴とする反応チャンバ。
【請求項２】
請求項１に記載の反応チャンバであって、前記反応チャンバが、前記供給開口部（３０）と流体連通する１つまたは複数の入口（１４、１２）と、前記排出開口部（４０、５０）と流体連通する１つまたは複数の出口（１６、１８）とが設けられることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項３】
請求項１または２のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記反応チャンバの前記内側部分（２８）が円筒形であり、この場合、前記反応チャンバの前記内側部分（２８）が円周部の１つの側壁を備えることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項４】
請求項１または２のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記反応チャンバの前記内側部分（２８）が立方体であることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項５】
請求項１または２のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記反応チャンバの前記内側部分（２８）が方形の角柱の形状を有することを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記入口（１４、１２）および／または供給開口部（３０）、ならびに出口（１６、１８）および／または排出開口部（４０、５０）が、前記円周部の側壁の全長に沿って、ガスが、前記反応チャンバの中へ供給可能、および／または前記反応チャンバから排出可能であるように設けられることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記出口（１６、１８）および入口（１４、１２）が、ベースプレート（４）に配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記反応チャンバは、前記供給部及び前記排出部の割合を調整するための調整手段を有することを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項９】
請求項８に記載の反応チャンバであって、
前記反応チャンバが、前記反応チャンバの前記内側部分（２８）の中へ供給されるガスの量を調整するため、および／または前記反応チャンバの前記内側部分（２８）から排出されるガスの量を調整するために、入口（１４、１２）および／または供給開口部（３０）、ならびに／あるいは出口（１６、１８）および／または排出開口部（４０、５０）を調整する調整手段（１０、２６）をさらに備えることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１０】
請求項９に記載の反応チャンバであって、
前記調整手段（１０、２６）が、前記供給開口部（３０）および／または排出開口部（４０、５０）の位置および／またはサイズおよび／または数を調整するように配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１１】
請求項９に記載の反応チャンバであって、
前記調整手段（１０、２６）が、前記供給パイプ（１４、１２）および／または出口の数および／または位置を調整するように配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１２】
請求項８から１１のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記調整手段（１０、２６）が、前記供給開口部（３０）にその穴（２６）を介してガスを供給するように前記入口（１４）に配置された穴開きプレート（１０）を備え、前記穴開きプレートの穴（２６）の長さおよび／または数が調整可能であることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか一項に記載の反応チャンバであって、
前記ベースプレート（４）および前記カバープレート（２）の両方に、基板用のホルダ（２２、２０）が設けられており、その場合、２つの基板が、同時に処理可能であることを特徴とする、反応チャンバ。
【請求項１４】
請求項１３に記載の反応チャンバであって、
前記カバープレート（２）に設けられた前記ホルダ（２０）は、中に置かれた前記基板が、前記反応チャンバの前記頂壁の少なくとも一部を形成するように配置され、前記ベースプレートに設けられた前記ホルダ（２２）は、中に置かれた前記基板が、前記反応チャンバの前記底壁の少なくとも一部を形成するように配置されることを特徴とする、反応チャンバ。
【国際調査報告】
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2009516077.tif 000006
2009516077.tif 000007
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