(57)【要約】  マイクロリソグラフィック投影照明システムが、反射率を低減または増加させるために反射防止コーティング（３２）または反射コーティングを支持する光学エレメント（３６）を含む。本発明によれば反射防止コーティングが、相互に直交する偏光状態（４２ｐ，４２ｓ）に対する反射防止コーティングの透過係数の互いの相違が７０°の入射扇形の角度にわたって１０％を超えない、好ましくは３％を超えない、より好ましくは１％を超えない態様で設計される。同じことが反射コーティングの反射係数に適用される。中間の透過または反射係数のより大きな角度依存によって引き起こされる誤りおよび位相に対する効果を補正するために、この投影照明システムは、強度を均質化または分配するための手段（５０）を含み、好ましくはそれが、視野平面または瞳平面内またはそれらの近傍に配置される。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射率を低減するために反射防止コーティング（３２）がある光学エレメント（３６）を有するマイクロリソグラフィック投影露光装置であって、
前記反射防止コーティング（３２）は、相互に直交する偏光状態（４２ｐ，４２ｓ）に対する前記反射防止コーティングの透過係数の互いの相違が０°から７０°までの入射角度範囲にわたって１０％を超えない、好ましくは３％を超えない、より好ましくは１％を超えないように構成されると共に構成されると共に
前記投影露光装置は、強度分布を均質化するための手段（５０）を具備すること、
を特徴とするマイクロリソグラフィック投影露光装置。
【請求項２】
反射率を増加するために反射コーティングがある光学エレメントを有するマイクロリソグラフィック投影露光装置であって、
前記反射コーティングは、相互に直交する偏光状態に対する前記コーティングの反射係数の互いの相違が０°から７０°までの入射角度範囲にわたって１０％を超えない、好ましくは３％を超えない、より好ましくは１％を超えないように構成されると共に、
前記投影露光装置が、強度分布を均質化するための手段を具備すること、
を特徴とするマイクロリソグラフィック投影露光装置。
【請求項３】
反射率を低減するために反射防止コーティングがある複数の光学エレメントを有するマイクロリソグラフィック投影露光装置であって、
前記反射防止コーティングは、相互に直交する偏光状態に対する前記複数の反射防止コーティングの透過係数の互いの相違が総合的な効果に関して０°から７０°までの入射角度範囲にわたって１０％を超えない、好ましくは３％を超えない、より好ましくは１％を超えないように構成されると共に、
前記投影露光装置は、強度分布を均質化するための手段を具備すること、
を特徴とするマイクロリソグラフィック投影露光装置。
【請求項４】
反射率を増加するために反射コーティングがある複数の光学エレメントを有するマイクロリソグラフィック投影露光装置であって、
前記反射コーティングは、相互に直交する偏光状態に対する前記複数の反射コーティングの反射係数の互いの相違が総合的な効果に関して０°から７０°までの入射角度範囲にわたって１０％を超えない、好ましくは３％を超えない、より好ましくは１％を超えないように構成されると共に、
前記投影露光装置は、強度分布を均質化するための手段を具備すること、
を特徴とするマイクロリソグラフィック投影露光装置。
【請求項５】
前記強度分布を均質化するための手段は、局所的に変化するグレイ値を伴うグレイ・フィルタを具備することを特徴とする前記請求項１乃至４のいづれかに記載の投影露光装置。
【請求項６】
前記グレイ・フィルタは、局所的に変化する透過率を伴う透過性光学エレメントであることを特徴とする前記請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項７】
前記グレイ・フィルタは、局所的に変化する反射率を伴う反射性光学エレメントであることを特徴とする、前記請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項８】
前記グレイ・フィルタは、通過する投影光の位相分布に影響を与えないことを特徴とする前記請求項５乃至７のいづれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項９】
前記強度分布を均質化するための手段は、前記投影露光装置の照明システム内に配置される調整可能な開口エレメントを具備することを特徴とする、前記請求項１乃至９のいずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項１０】
前記強度分布を均質化するための手段は、視野または瞳平面の内または近傍に配置されることを特徴とする、前記請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項１１】
前記コーティングは、直交する偏光状態の間においてλ／１０より小さい位相差を生成するように構成され、且つ上記λは前記投影露光装置内に使用される前記投影光の波長であることを特徴とする前記請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項１２】
前記手段は、局所的かつ非軸対称の表面ひずみを包含することを特徴とする、前記請求項１０に記載の投影露光装置。
【請求項１３】
前記手段は、１つまたは複数のコーティングに起因する前記強度分布内の変動だけを均質化するように構成されることを特徴とする前記請求項１０に記載の投影露光装置。
【請求項１４】
支持材料層とその上に設けられた複数の層を有する反射防止コーティングを具備したマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、
相互に直交する偏光状態（４２ｐ，４２ｓ）に対する前記反射防止コーティングの透過係数は互いに０°から７０°までの入射角度範囲にわたって１％を超えない範囲にあり、且つ前記層のいずれもが前記反射防止コーティングが対応する動作波長に対して１．３５より小さい屈折率を有していないこと、
を特徴とする光学エレメント。
【請求項１５】
前記反射防止コーティングは６つの層を有し、前記支持材料層から数えて第１、第３、および第５層は前記支持材料より高い屈折率を有し、かつ第２、第４、および第６層が前記支持材料層より低い屈折率を有すること、および前記第１層が１．２と１．５λ／４の間、第２層が０．３５と０．６５λ／４の間、第３層が１．２と１．５λ／４の間、第４層が１．５と２．４λ／４の間、第５層が０．４と０．９の間、かつ第６層が０．１と１．１λ／４の間の光学的膜厚を有し、上記λは前記動作波長であることを特徴とする前記請求項１４に記載の光学エレメント。
【請求項１６】
前記のより高い屈折率は１．６０と１．９２の間にあり、かつ前記のより低い屈折率は１．３７と１．４４の間にあることを特徴とする前記、請求項１４または１５に記載の光学エレメント。
【請求項１７】
支持材料層およびその上に設けた複数の層を有する反射防止コーティングを具備したマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、
前記反射防止コーティングは、０°と６０°の間にある少なくとも１０°を構成する入射角度範囲内でｓ偏光をｐ偏光より少なく反射すること、
を特徴とする光学エレメント。
【請求項１８】
支持材料層およびその上に与えられた反射防止コーティングを有するマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、前記反射防止コーティングは、少なくとも４０°と５０°の間の入射角度範囲内でｓ偏光をｐ偏光より少なく反射することを特徴とする光学エレメント。
【請求項１９】
前記反射防止コーティングは４つの層を有し、前記支持材料層から数えて第１および第３層は前記支持材料より高い屈折率を有し、かつ第２および第４層は前記支持材料層より低い屈折率を有すること、および前記第１層が１．６と２．２λ／４の間、第２層が０．８と１．５λ／４の間、第３層が１．２と１．５λ／４の間、第４層が０．９と１．１λ／４の間の光学的膜厚を有し、前記λは前記動作波長であることを特徴とする前記請求項１８に記載の光学エレメント。
【請求項２０】
前記反射防止コーティングは、少なくとも５０°と６０°の間の入射角度範囲内においてｓ偏光をｐ偏光より少なく反射することを特徴とする前記請求項１９に記載の光学エレメント。
【請求項２１】
前記反射防止コーティングが８つの層を有し、前記支持材料層から数えて第１、第３、第５、および第７層は前記支持材料より高い屈折率を有し、かつ第２、第４、第６、および第８層は前記支持材料より低い屈折率を有し、かつ前記第１層が１．５と２．４λ／４の間、第２層が１．７と２．１λ／４の間、第３層が０．８と１．５λ／４の間、第４層が１．６と２．１λ／４の間、第５層が１．３と１．８の間、第６層が１．２と１．５λ／４の間、第７層が１．２と１．５λ／４の間、かつ第８層が０．９と１．１λ／４の間の光学的膜厚を有し、前記λは前記動作波長であることを特徴とする前記請求項２０に記載の光学エレメント。
【請求項２２】
前記より高い屈折率は１．６０と１．９２の間にあり、かつ前記のより低い屈折率が１．３７と１．４４の間にあることを特徴とする前記請求項１９または２０に記載の光学エレメント。
【請求項２３】
前記入射角度範囲内に、ｓ偏光がｐ偏光より０．２％少なく反射される部分範囲が存在することを特徴とする前記請求項１７乃至２２のいづれか１項に記載の光学エレメント。
【請求項２４】
前記入射角度範囲内に、ｓ偏光がｐ偏光より０．５％少なく反射される部分範囲が存在することを特徴とする、前記請求項２３に記載の光学エレメント。
【請求項２５】
支持材料層およびその上に設けた複数の層を有する反射防止コーティングを具備したマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、
前記反射防止コーティングは、０°と７０°の間にある少なくとも１０°を構成する入射角度範囲内においてｓ偏光をｐ偏光より少なく反射し、且つ前記層のいずれも前記反射防止コーティングが対応する動作波長に対して１．３５より小さい屈折率を有していないことを特徴とする光学エレメント。
【請求項２６】
支持材料層およびその上に設けられた複数の層を有する反射防止コーティングを具備したマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、
相互に直交する偏光状態（４２ｐ，４２ｓ）に対する前記反射防止コーティングの透過係数の互いの相違が０°から６０°までの入射角度範囲にわたって０．２％を超えないことを特徴とする光学エレメント。
【請求項２７】
前記反射防止コーティングが７つの層を有し、前記支持材料から数えて第１、第３、第５、および第７層が前記支持材料より低い屈折率を有し、かつ第２、第４、および第６層が前記支持材料より高い屈折率を有すること、および前記第１層が０．９６と１．４４λ／４の間、第２層が０．４と０．９１λ／４の間、第３層が０．２と０．４λ／４の間、第４層が０．５９と１．１λ／４の間、第５層が１．０６と１．２４の間、第６層が１．０６と１．２λ／４の間、かつ第７層が１．０と１．２λ／４の間の光学的膜厚を有し、上記λは前記動作波長であることを特徴とする前記請求項２５に記載の光学エレメント。
【請求項２８】
支持材料層およびその上に設けられた少なくとも４つの層を有する反射防止コーティングを具備したマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、
λを動作波長とするとき、前記支持材料層から数えて２番目に最外側の層が１．２λ／４を超える光学的膜厚を有し、かつ３番目に最外側の層が０．８と１．５λ／４の間の光学的膜厚を有することを特徴とする光学エレメント。
【請求項２９】
前記反射防止コーティングは少なくとも６つの層を包含することを特徴とする、前記請求項２８に記載の光学エレメント。
【請求項３０】
支持材料層およびその上に与えられた反射防止コーティングを有するマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、
λを動作波長とするとき、前記支持材料層から数えて２番目に最外側の層が１．２λ／４を超える光学的膜厚を有し、かつ３番目に最外側の層が０．８と１．５λ／４の間の光学的膜厚を有することを特徴とする光学エレメント。
【請求項３１】
支持材料層およびその上に設けられた複数の層を有する反射防止コーティングを具備したマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、
相互に直交する偏光状態（４２ｐ，４２ｓ）の位相の互いの相違が、０°から７０°までの入射角度範囲にわたって前記反射防止コーティングを通過した後の大きさにおいて８°を超えないことを特徴とする光学エレメント。
【請求項３２】
相互に直交する偏光状態（４２ｐ，４２ｓ）の前記位相の互いの相違が、０°から５０°までの入射角度範囲にわたって前記反射防止コーティングを通過した後の大きさにおいて２°を超えないことを特徴とする前記請求項３１に記載の光学エレメント。
【請求項３３】
前記反射防止コーティングが８つの層を有し、前記支持材料層から数えて第１、第３、第５、および第７層が前記支持材料より高い屈折率を有し、かつ第２、第４、第６、および第８層が前記支持材料より低い屈折率を有し、更に前記第１層が１．８と２．６λ／４の間、第２層が０．０５と０．４λ／４の間、第３層が０．３と１．４λ／４の間、第４層が０．０５と０．４λ／４の間、第５層が０．０５と０．４の間、第６層が０．８と１．５λ／４の間、第７層が１．２と１．５λ／４の間、かつ第８層が０．９と１．１λ／４の間の光学的膜厚を有し、前記λは前記動作波長であることを特徴とする前記請求項３１または３２に記載の光学エレメント。
【請求項３４】
支持材料層およびその上に設けた複数の層を有する反射防止コーティングを具備したマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、少なくとも２０°の入射角度範囲にわたって、前記反射防止コーティングを通過した後のｓ偏光の位相が、ｐ偏光の位相より小さいことを特徴とする光学エレメント。
【請求項３５】
前記反射防止コーティングが８つの層を有し、前記支持材料層から数えて第１、第３、第５、および第７層が前記支持材料層より高い屈折率を有し、かつ第２、第４、第６、および第８層が前記支持材料より低い屈折率を有し、更に前記第１層が０．４と０．８５λ／４の間、第２層が０．３と０．５５λ／４の間、第３層が０．３と０．５５λ／４の間、第４層が１．１５と１．７λ／４の間、第５層が１．９と２．５の間、第６層が１．７と１．８λ／４の間、第７層が０．５と０．９５λ／４の間、かつ第８層が１．１５と１．４λ／４の間の光学的膜厚を有し、前記λは前記動作波長であることを特徴とする前記請求項３１〜３４のうちのいずれか１項に記載の光学エレメント。
【請求項３６】
支持材料層およびその上に設けた複数の層を有する反射防止コーティングを具備したマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、
λを前記投影露光装置の動作波長とするとき、０．４λ／４より小さい光学的膜厚を有する少なくとも３つの層を具備したことを特徴とする光学エレメント。
【請求項３７】
支持材料層およびその上に与えられた複数の層を有する反射防止コーティングを具備したマイクロリソグラフィック投影露光装置の光学エレメントであって、
λを前記投影露光装置の動作波長とするとき、少なくとも２つの第１の層は０．４λ／４より小さい光学的膜厚を有し、前記第１の層とは異なる少なくとも２つの第２の層が０．６λ／４より小さい光学的膜厚を有することを特徴とする光学エレメント。
【請求項３８】
反射率を低減するために反射防止コーティングがある複数の光学エレメントを有するマイクロリソグラフィック投影露光装置であって、少なくとも１つの第１の反射防止コーティングが第１の入射角度範囲内においてｐ偏光に対するよりｓ偏光に対する方が大きい反射率を有し、
少なくとも１つの第２の反射防止コーティングが第２の入射角度範囲内においてｓ偏光に対するよりｓ偏光に対する方が小さい反射率を有し、前記少なくとも１つの第１の反射防止コーティングおよび前記少なくとも１つの第２の反射防止コーティングが、それらが前記反射率における偏光依存の差を少なくとも部分的に補償するように前記ビーム経路内に配置されること、
を特徴とするマイクロリソグラフィック投影露光装置。
【請求項３９】
前記第１の入射角度範囲内の入射角を伴って前記少なくとも１つの第１の反射防止コーティングに衝突する少なくとも一部の光線が、前記第２の入射角度範囲内の入射角を伴って前記少なくとも１つの反射防止コーティングに衝突することを特徴とする、請求項３８に記載の投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大規模集積電気回路およびそのほかのマイクロ構造化コンポーネントの製造のために使用されるようなマイクロリソグラフィック投影露光装置に関する。本発明は、特に、反射率を増加または低減するための光学エレメントのコーティングに関する。
【背景技術】
【０００２】
集積電気回路およびそのほかのマイクロ構造化コンポーネントは、従来から、たとえばシリコン・ウェファとすることができる適切な基板上に複数の構造化された層を与えることによって製造されている。層を構造化するために、最初にそれらが、特定の波長範囲の光、たとえば深紫外線（ＤＵＶ）スペクトル範囲の光に感光性を有するフォトレジストを用いて覆われる。この方法でコーティングされたウェファは、その後に続き、投影露光装置内において露光される。構造のパターンを含むマスクがこのようにして照明システムによって照明され、投影対物鏡の補助を伴ってフォトレジスト上に結像される。結像倍率が一般に１より小さいことから、その種の投影対物鏡は、しばしば縮小対物鏡とも呼ばれる。
【０００３】
フォトレジストが現像された後、ウェファがエッチング処理を受け、その結果、それらの層がマスク上のパターンに従って構造化される。残存しているフォトレジストは、その後、層の残りの部分から除去される。このプロセスが、ウェファ上にすべての層が与えられるまで反復される。
【０００４】
投影露光装置内に使用されるミラーは、概して、複数の個別の層から作られる反射コーティングを包含し、それらの反射係数は、しばしば９０％を超える。これに対してレンズおよびそのほかの屈折光学エレメントには、光の損失および屈折光学エレメントの境界面における望ましくない二重反射に起因する結像誤りを低減するために反射防止コーティングが提供される。
【０００５】
これらのコーティングの構成時において、一般に、反射コーティングの場合であれば一貫して高い反射係数を、反射防止コーティングの場合であれば高い透過係数を大きな入射角度範囲にわたって達成する試みがなされる。さらにこれらの係数は、可能な限り入射光の偏光状態と独立である必要がある。
【０００６】
しかしながら、しばしばその種の特性を伴うコーティングを開発し、製造することは、特に技術的または経済的理由のために、非常に困難であるか、または不可能でさえあることがわかっている。この結果として、投影露光装置の光学特性において譲歩が余儀なくされるか、非常に高いコストに甘んじなければならない。
【０００７】
特許文献１は、０°と５０°の間の入射角度範囲にわたって、ｓおよびｐ偏光に対する反射係数の間に０．５％より小さい差を有する反射防止コーティングを開示している。
【０００８】
特許文献２は、０°と７０°の間の入射角度範囲にわたって、ｓおよびｐ偏光に対する反射係数の間に１％より小さい差を有する、投影露光装置に適した反射防止コーティングを開示している。角度スペクトルのある部分にわたってｓ偏光に対する反射係数Ｒｓが、ｐ偏光に対する反射係数Ｒｐより小さい。しかしながら、その中で述べられているコーティングに伴う欠点は、最外側層が非常に低いパッキング密度を有することである。この結果、それらの層が環境効果によってより強く攻撃され、そのため経時的な安定性がより低い。
【０００９】
特許文献３は、０°と４６°の間の入射角度範囲にわたって平均反射率が０．５％より小さく、約５６°の入射角までは２％より小さい、投影露光装置に適した反射防止コーティングを開示している。５６°未満の入射角においては、ｓおよびｐ偏光に対する反射係数の間の差が約０．３°より小さい。しかしながら５６°を超える入射角については、平均反射率および反射係数間の差がともに有意に増加し、７０°においては差が約５％である。特に高開口の投影対物鏡においては、レンズ形状およびポジションに応じて７０°に至る入射角が生じ得ることから、この公知の反射防止コーティングは、もっとも厳しい要件を満足しない。
【００１０】
特許文献４は、投影露光装置に適した、低い平均反射率を有する反射防止コーティングを記述している。偏光状態または入射角に対する依存度は、その中で考慮されていない。
【００１１】
２００５年１２月０２日に出願された未公開の米国特許仮出願第６０／７４１，６０５号は、分相が特に小さい反射防止コーティングを開示している。これは、形状複屈折コーティングの使用によって達成され、形状複屈折に起因する遅延が、ｓおよびｐ成分についての異なるフレネル係数に起因する遅延を少なくとも実質的に補償する。しかしながらこの場合においてさえ、大きな入射角度範囲について反射率に有意の偏光依存度が生じることがある。
【００１２】
特許文献５は、カタディオプトリック投影対物鏡を開示しており、それにおいては第１のミラーが投影光のｓ成分をより強く反射するコーティングを有する。これに対して第２のミラーは、ｐ成分をより強く反射し、その結果、全体として実質的な分極率の偏光非依存が達成される。
【００１３】
【特許文献１】ＪＰ  ２００２−１８９１０１  Ａ
【特許文献２】ＪＰ  ２００４−３０２１１３  Ａ
【特許文献３】ＥＰ  ０  ９９４  ３６８  Ａ２
【特許文献４】ＵＳ  ６  ６２８  ４５６  Ｂ２
【特許文献５】ＵＳ  ２００５／０２５４１２０  Ａ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、一方において経済的であり、他方において投影対物鏡の結像特性を有意に損なわない反射（防止）コーティングを伴う光学エレメントを有する投影露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
反射防止コーティングに関して言えば、この目的は、反射率を下げるための反射防止コーティングがある光学エレメントを有するマイクロリソグラフィック投影露光装置によって達成される。これは、０°から７０°までの範囲内の入射角にわたって、相互に直交する偏光状態に対する反射防止コーティングの透過係数の相違が、互いに１０％を超えることのないように、好ましくは３％を超えることのないように、より好ましくは１％を超えることのないように構成される。この投影露光装置は、さらに、視野または瞳平面内またはその近傍に好ましく配置された強度分布を均質化するための手段を包含する。
【００１６】
同じことが、反射コーティングの反射係数にも当て嵌まる。
【００１７】
強度分布を均質化するための手段は、偏光の光学的最適化において生じ得るような透過係数または反射係数のかなりの角度依存度が結像特性に許容不能な効果を有さないことを保証する。強度分布の均質化は、これに関連して言えば、画像平面内における強度分布の望ましくない変動が抑圧されることを意味するべく意図されている。画像平面内における望ましい強度分布は、マスクが存在しないとき、すべてのポイントが同一の強度で露光されるような一様な分布である。
【００１８】
これに代わるものとしては、直交する偏光状態に対する透過または反射係数における小さい相違が、単一のコーティングではなく投影露光装置内に含まれるコーティングのうちのいくつか、さらにはその全部の包括的な効果によって達成されるようにコーティングを構成することもできる。個別の最適化は、この方法においては、全体の最適化によって置き換えられる。ここでもまた、強度分布を均質化するための手段が、透過係数または反射係数のかなりの角度依存度が結像特性に許容不能な効果を有さないことを保証する。
【００１９】
強度分布を均質化するための手段は、従来技術において公知のようなグレイ・フィルタとすることができる。１つまたは複数のグレイ・フィルタが、コーティング（または全体としてすべてのコーティング）に対して特別に調整されることが特に好ましい。グレイ・フィルタは、たとえば単純な透過フィルタとして設計できるが、たとえばコーティングに起因する強度分布の変動だけが補償されるように設計できる。異なる原因に帰する強度分布の変動は、たとえば、そのほかの、好ましくは調整可能なフィルタまたは異なる手段によって低減することもできる。
【００２０】
コーティングに起因するかなりの位相誤りは、位相誤り訂正手段、たとえばそれ自体は公知のマニプレータによって、または局所的な非軸対称表面ひずみによって訂正できる。
【００２１】
本発明は、さらに、特に有利な偏光光学特性を有する反射防止コーティングにも関係する。したがって、反射係数および位相がいずれもほとんどわずかしか偏光状態に依存しない反射防止コーティングが提供される。別の反射防止コーティングは、特定の入射角度範囲にわたってｐ偏光に対する反射係数がｓ偏光に対するより大きいか、または特定の入射角度範囲内においてｐ偏光が、ｓ偏光に対する遅延を伴ってこの反射防止コーティングを通過する特性を有する。これは、偏光に中立の振る舞いが全体として獲得されるように、複数の反射または反射防止コーティングを組み合わせることを可能にする。好ましい例示的実施態様においては、コーティングが、８５％を超えるパッキング密度を伴う層だけを包含し、したがって非常に耐久性があるという点において特徴付けられる。
【００２２】
本発明のさらに有利な構成は、従属請求項の発明の内容になる。
【００２３】
このほかの特徴および利点については、図面を参照した以下の例示的実施態様の説明から明らかになるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
図１は、包括的に１０によって示されるマイクロリソグラフィック投影露光装置を通る極めて略図化された縮尺に従っていない縦断面図を示している。投影露光装置１０は、投影光ビーム１３を生成するための光源１４を伴う照明システム１２を包含する。光源１４は、たとえばエキシマ・レーザとすることができるが、短い波の投影光を生成する。この例示的な実施態様においては、投影光の波長が１９３ｎｍである。たとえば、１５７ｎｍまたは２４８ｎｍといったほかの波長を使用することも同様に可能である。
【００２５】
照明システム１２は、さらに減偏光子１７および視野開口１８を伴う、１６によって示されている照明光学系を含む。照明光学系１６は、光源１４によって生成された投影光ビームを所望の方法で再整形し、異なる照明角度分布のセットアップを可能にする。このため照明光学系１６は、たとえば交換可能な回折光学エレメントおよび／またはマイクロレンズ・アレイを含むことができる。たとえば米国特許第６  ２８５  ４４３  Ａ号を参照されたいが、その種の照明光学系１６が従来技術において公知であることから、これについてのさらに詳細な説明は省略する。
【００２６】
照明システム１２の対物鏡１９は、視野開口１８を、その後に続く投影対物鏡２０の対物面上に鮮明に結像する。
【００２７】
投影対物鏡２０は、多数のレンズおよびそのほかの光学エレメントを含み、図１には、簡明のため、それらのうちのいくつかだけ（Ｌ１〜Ｌ６によって示されている）が例として示されている。投影対物鏡２０は、そのほかの光学エレメント、たとえばビーム経路を折り返すために使用される１つまたは複数のイメージング・ミラー、またはフィルタ・エレメントも含むことがある。たとえば１３ｎｍといった極度に短い波長の場合には、このように短い波長のために利用できる充分に透明なレンズ材料がないことから投影対物鏡２０が結像エレメントとしてミラーだけを含む。同じことが、照明システム１２について当て嵌まる。
【００２８】
投影対物鏡２０は、投影対物鏡２０の対物平面２２内に配置可能であり、かつ投影光ビーム１３によって照明されるマスク２４の縮小された画像を、たとえばフォトレジストとすることができる感光層２６上に投影するために使用される。層２６は、投影対物鏡２０の画像平面２８内に配置され、支持２９、たとえばシリコン・ウェファ上に与えられる。
【００２９】
照明システム１２内および投影対物鏡２０内に含まれるレンズには、反射防止コーティングが提供される。この反射防止コーティングの目的は、レンズの境界面において反射され、したがって投影が失われるか、または二重反射を招く光の割合を低減することである。コーティングは、一般に多数の薄い個別の層を含み、それらの屈折率および厚さは、投影光１３の波長について望ましい特性が達成されるように選択される。
【００３０】
反射防止コーティングの場合であれば、それらの特性が、主として９８％を超える非常に高い透過率になる。そのような高い透過率が、大きな入射角度範囲にわたって達成される必要がある。特に、非常に高開口の投影対物鏡２０の場合には入射角が７０°に至ることもあり、特定の場合にはそれを超えることさえある。入射角に対する透過率の依存が強すぎる場合には、これが、瞳に近いコーティングを伴って視野依存の構造の幅の変動を、近視野コーティングを伴って角度依存の構造の幅の変動を招くことになる。
【００３１】
さらに、レンズに与えられる反射防止コーティングには、それらが、入射投影光１３の偏光状態に関わりなくそれらの光学的特性を有することが期待される。直交する偏光状態について反射防止コーティング内の透過率の変動が大きすぎる場合には、この偏光依存度が望ましくない結像誤りを招くことがある。これは、照明システム１２内における減偏光子１７の使用にもかかわらず、投影対物鏡２０を通過するときに投影光１３が完全に偏光が取り除かれずに残るという事実に関係する。その理由は、たとえば内在的な、または応力複屈折レンズ材料、偏光性マスク構造をはじめ、ここで反射防止および反射コーティングの場合について考察した偏光依存度であると見られる。
【００３２】
反射防止コーティングが視野平面の近傍内に配置される場合には、投影光が視野にわたって変動する選択的な偏光方向を有するとき、その透過率における偏光依存度が画像野にわたって変動する強度を導く。視野平面内におけるその種の強度変動は、コンポーネント上の望ましくない視野依存の構造の幅の変動として顕在化する。これに対して、偏光依存の透過率を伴う反射防止コーティングが瞳の近傍に配置される場合には、すでに存在している偏光状態の角度依存度が同様に望ましくない構造の幅の変動を導くことがある。
【００３３】
この理由のため、反射防止コーティングの開発時には、直交する偏光状態についての透過係数の間の差ΔＴを１０％未満に、より好ましくは３％未満に維持する試みがなされる。
【００３４】
レンズおよびミラーの反射（防止）コーティングは、さらに、それらのコーティングを通過する光の位相を偏光状態の関数として変動させることがある。これは、コーティングを光学的に複屈折とし、画像平面内における結像品質に対して好ましくない効果を有する。この理由のため、直交する偏光状態の間における許容可能な位相差Δφは、投影光１３の波長λの１／１０未満とする必要がある。
【００３５】
しかしながら、一方における高い平均透過率をはじめ、他方における透過率および位相の低い偏光依存度は、かなりの入射角度範囲にわたって達成することが不可能であるか、またはよくても極端に大きな出費を伴って達成可能である。
【００３６】
したがって本発明によれば、投影露光装置１０内のコーティングが、透過係数の、および位相の偏光依存度が大きな入射角度範囲にわたって低く維持されるように構成される。しかしながら平均透過率および平均位相は、入射角度範囲にわたって知覚可能に変化することがある。同時に生じる結像の摂動は、比較的単純な方法で、たとえばグレイ・フィルタまたは−−位相誤りの場合であれば−−局所的な非軸対称表面ひずみの補助を伴って補正される。
【００３７】
実質的な偏光非依存度は、特に反射防止コーティングの場合に、相互に直交する偏光状態に対する透過係数の互いの相違が７０°の入射角度範囲にわたって１０％を超えないこと、好ましくは３％を超えないこと、より好ましくは１％を超えないことを意味する。同じことが反射コーティングの場合の反射係数について当て嵌まる。
【００３８】
そのような方法で構成される層システムは、比較的わずかな出費で開発および製造が可能である。これを行う方法の詳細は、標準的な教範、たとえばＴ．Ｗ．バウマイスター（Ｔ．Ｗ．  Ｂａｕｍｅｉｓｔｅｒ）著『オプティカル・コーティング・テクノロジ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）』に見ることができる。
【００３９】
図２は、相互に直交する偏光状態に対する透過係数の互いの相違が１％を超えない反射防止コーティング３２の例示的実施態様の詳細の横断面を示している。反射防止コーティング３２は、材料および光学的膜厚が表１に指定されている６つの薄い個別の層Ｌ１〜Ｌ６からなる。反射防止コーティング３２は、たとえば石英ガラスからなるレンズ３６の凹状の表面３４上に与えられ、λ＝１９３ｎｍの波長用に構成される。量ＱＷＯＴ（１／４波長光学膜厚）は、光学的膜厚、すなわち１／４波長を単位で表した屈折率と幾何学的な厚さの積を言う。
【００４０】
【表１】
2009507366.tif 000003
【００４１】
原理的に同様に適切なものに、低い耐久性からあまり好ましくはないが、導入部分で引用したとおり、ＪＰ  ２００４−３０２１１３  Ａの例示的実施態様４として述べられている３つの層から構成されるコーティングがある。同様に導入部分で述べたＥＰ  ０  ９９４  ３６８  Ａ２は、より耐久性のある５つの層を有するコーティングについて述べているが、前述した０°から７０°までの入射角度範囲において、直交する偏光状態に対する透過係数が互いから約５％異なる。
【００４２】
以下においては、光線３０が二重矢印によって示されるｐ偏光成分３８および黒丸によって示されるｓ偏光成分４０の両方を含むことを前提とする。反射防止コーティング３２に衝突する光の大半は、わずかに異なるｓ偏光成分４０およびｐ偏光成分３８それぞれに対する透過係数ＴｓおよびＴｐを伴って透過されることになる。図２においては、このわずかな相違が、透過されたｓ偏光成分４０については矢印４２ｓによって示されており、透過されたｐ偏光成分３８についての矢印４２ｐよりいくぶん長い。
【００４３】
概して言えば、反射防止コーティング３２の反射率もまた、入射光の偏光状態に従って異なり、図２においてはそれが４４に誇張表現された方法で示されている。
【００４４】
反射防止コーティング３２の平均透過率〈Ｔ〉は次の式（１）によって与えられる。
〈Ｔ〉＝（｜Ｔｓ｜＋｜Ｔｐ｜）／２    （１）
【００４５】
透過率の偏光依存度は、透過係数ＴｓとＴｐの間の差により、式（２）に従ってもっとも良好に記述される。
ΔＴ＝｜Ｔｓ｜−｜Ｔｐ｜    （２）
【００４６】
平均位相〈φ〉および位相差Δφについては、それぞれ式（３）および（４）が適用される。
〈φ〉＝（ａｒｇ（Ｔｓ）＋ａｒｇ（Ｔｐ））／２    （３）
Δφ＝ａｒｇ（Ｔｓ）−ａｒｇ（Ｔｐ）    （４）
【００４７】
図３、４，および５は、平均透過率〈Ｔ〉、式（２）に従った透過係数間の差ΔＴ、および式（４）に従った位相差が、反射防止コーティング３２について入射角αの関数としてそれぞれプロットされたグラフを示している。ΔＴ＜１％およびΔφ＜０．１・λが、７０°の角度範囲にわたって当て嵌まることが理解できる。しかしながら平均透過率〈Ｔ〉は、この入射角度範囲にわたって一貫して９８％より高くなく、むしろ大きい入射角については９２％より低い値まで落ち込んでいる。これは、したがって前述した視野および／または角度依存の強度変動を導き得る。
【００４８】
画像平面２８内における強度変動を回避するために、同様に視野の近傍に位置決めされるグレイ・フィルタを使用することができる。これに代わるものとして、角度依存の透過率を伴うフィルタ・エレメントを瞳の近傍に位置決めすることも可能である。その種の角度依存グレイ・フィルタが、図１に５０によって示されている。この状況に適しているグレイ・フィルタのこのほかの設計は、ＵＳ  ２００５／００１８３１２  Ａ１号に見ることができる。
【００４９】
走査型投影露光装置１０においては、照明システム１２内に、多数の個別に置換可能な開口エレメントを包含する視野開口を使用することも可能である。たとえばＥＰ  ０  ９５２  ４９１  Ａ２内で述べられているとおり、それ自体は公知であるその種の視野開口は、画像平面２８内における放射線量を、スリット形状の明視野の長さ方向のポジションの関数として変化させることを可能にする。
【００５０】
しかしながら反射防止コーティング３２が瞳平面の近傍に位置する場合には、これが瞳アポダイゼーションを生成することになる。その種の瞳アポダイゼーションは、瞳平面の近傍の適切に構成された反射防止層によって補正できる。ゼルニケ係数Ｚ２／Ｚ３によって記述可能な瞳アポダイゼーションの傾きは、ミラー層によって補正できる。
【００５１】
特定の角度において平均透過率〈Ｔ〉が低いことに起因して生じることがあるより強い二重反射は、散乱防止開口によって吸収できる。
【００５２】
平均位相〈φ〉も同様に反射防止コーティングの最適化において優先権が与えられないことから、反射防止コーティング３２に起因する位相誤りが結像誤りを導くことがある。
【００５３】
その種の結像誤りは、少なくとも特定の範囲内において、それ自体は公知のマニプレータによって補正できる。特に良好な補正は、光学エレメント、またはここで別々に提供されているプレートの境界面に局所的に、かつ非軸対称にひずみが与えられるときに達成される。このひずみは、材料の追加または除去によって生成できるが、この場合、数ナノメートル台であり、好ましくは５０ナノメートル未満である。
【００５４】
最小偏光依存度に関して個別の反射防止コーティングをそれぞれ最適化することに代えて、投影対物鏡２０内に含まれる反射防止コーティングのいくつかまたはすべての、またオプションとして投影露光装置１０全体を通じて包括的な最適化を行うことも可能である。その場合の前述した条件は、次のとおりに記述できる。
ΔＴｔｏｔａｌ＜１０％
好ましくは＜３％、より好ましくは＜１％であり、かつ
Δφｔｏｔａｌ＜λ／１０。
【００５５】
当然のことながら、上記の考察は、投影露光装置１０内の湾曲結像ミラーまたは平面偏向ミラーに使用されるような反射コーティングにも当て嵌まる。
【００５６】
以下、反射防止コーティングの種々の例示的実施態様について述べるが、それらのうちのいくつかは、直交する偏光状態対する透過係数間の差が特に小さい。そのほかの例示的実施態様においては、この差がより大きいが、それにもかかわらず特に高い平均透過係数および／または特に小さい分相がかなりの入射角度範囲にわたって達成される。なお、注意する必要があるが、ここからは透過係数Ｔを指定することによってではなく、反射係数Ｒを指定することによって透過性能を述べることになる。コーティングが無視できる吸収を有する場合には、Ｔ＝１−Ｒが当て嵌まる。したがって小さい反射係数は大きい透過係数に対応し、その逆も同じである。
【００５７】
例示的実施態様２
表２は、合計で４つの層を包含する反射防止コーティングの例示的実施態様についての層仕様を与える。図６は、ｓ偏光、ｐ偏光、および非偏光に対する反射係数Ｒｓ、Ｒｐ、およびＲａが、この反射防止コーティングについて入射角の関数としてそれぞれプロットされたグラフを示している。
【００５８】
【表２】
2009507366.tif 000004
【００５９】
前述した例示的実施態様１の場合と同様に、層は、たとえばレンズまたは平面平行平板とすることができる支持材料から開始してカウントされる。１９３ｎｍの波長において約１．５６の屈折率を有するＣａＦ２が、この例示的実施態様および以下に述べる実施態様の支持（サブストレート）の材料として採用されることになる。しかしながら、ほかの支持材料、たとえば合成石英ガラス（ＳｉＯ２）またはフッ化バリウム（ＢａＦ２）を使用することも可能であり、反射防止コーティングの光学特性は、これによって比較的わずかしか変更されない。
【００６０】
１９３ｎｍの波長において約１．６９の屈折率を有するフッ化ランタン（ＬａＦ３）は、より高い屈折性の層のために採用された。同じ波長において約１．４３の屈折率を有するフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）は、より低い屈折性の層のために採用された。これらの層を製造するために、公知の製造方法、たとえばＰＶＤまたはＣＶＤ方法を採用することができる。
【００６１】
当然のことながら、より高い屈折性の層およびより低い屈折性の層のための前述した材料は、類似の屈折率を伴うほかの材料にそれぞれ置き換えてもよい。ＬａＦ３のほかに、より高い屈折性の材料として、特にＮｄＦ３、Ａｌ２Ｏ３、およびＥｒＦ３も適している。ＭｇＦ２のほかに、より低い屈折性の材料として、たとえばＡｌＦ３、チオライト、またはクリオライトも考えられる。これらの材料が、表２の中で述べている材料といくぶん異なる屈折率を有することから、その中にＱＷＯＴ（１／４波長光学膜厚）の単位で指定されている光学膜厚について差が生じることがある。それらが、表２の最後の行に範囲指定の形で述べられている。ＬａＦ３およびＭｇＦ２を採用する場合であっても、たとえば微調整を行うために、表中の値範囲内の光学膜厚の使用が得策となることがある。
【００６２】
上記のより高い、およびより低い屈折性材料の共通の特徴は、それらによって約１．６０と１．９２の間の範囲内または約１．３７と１．４４の間の範囲内の屈折率が、パッキング密度を８５％の値より下に減少させることなくそれぞれ達成されることが可能であるということである。それらの層は、したがってより耐久性があり、長期の動作時間の後および異なる環境効果の下においてさえ実質的に光学特性が変化しない。
【００６３】
図６に示されているグラフは、この４層だけからなる反射防止コーティングを用いれば、ｓ偏光およびｐ偏光に対する反射係数ＲｓおよびＲｐが、０°と６０°の間の入射角度範囲にわたって互いに非常にわずかしか変化しないこと、詳細には１％を超えないことを明らかにしている。０°と５０°の間の入射角度範囲については、差だけでなく、反射係数ＲｓおよびＲｐの絶対値も１％未満になっている。
【００６４】
この反射防止コーティングの特有の特徴は、約３５°と５５°の間の入射角についてｓ偏光に対する反射係数Ｒｓが、ｐ偏光に対する反射係数Ｒｐより小さいことである。その種の−−５５°を超える入射角度範囲についてではあるが−−導入部分で引用したＪＰ  ２００４−３０２１１３の中で最初に述べられた振る舞いは、フレネルの式によればｐ偏光がｓ偏光より原則的に良好に透過されることから異常である。
【００６５】
反射の振る舞いのこの逆転は、それ自体新しくはないが、特定の角度範囲にわたってほかのコーティングにおける従来的な偏光依存の反射の振る舞いに起因する効果の補償に好適に使用することが可能である。第１の例示的実施態様およびその後に続く例示的実施態様のいくつかによって示されるとおりにｓ偏光およびｐ偏光に対する反射係数間の差を非常に小さく維持することが可能であるとしても、それにもかかわらずこれは、相応じて製造が精巧になる６つまたはそれより多くの個別の層を伴うより複雑な層システムをしばしば必要とする。しかしながら、図６に示されている特性を有する反射防止コーティングが、ある入射角度範囲にわたってｐ偏光に対するより高いｓ偏光に対する反射率を有する別の単純に構成された反射防止コーティングと組み合わされるとすれば、偏光に中立の振る舞いが全体として達成可能である。
【００６６】
このために、偏光依存度を互いに補償することが意図された反射防止コーティングが同一の入射角度範囲内において記述された振る舞いを呈するべきとすることは、無条件に必要とならない。一方の光学表面に大きな入射角で衝突する光線が、他方の光学表面に小さい入射角で衝突することができ、その逆も当て嵌まる。Ｒｓ＞ＲｐおよびＲｓ＜Ｒｐを伴う範囲を有するまったく同じに構成された２つの反射防止コーティングが、このような方法で選択された光学表面上に与えられた場合には、それらの偏光依存度を互いに中立化できる。しかしながら概して、補償する反射防止コーティングが光学エレメントの、たとえばレンズの入口および出口表面に与えられるとき、状況がもっとも単純になる。これは、光学システムが構成されるとき、光学レンズの入口および出口表面上の入射角を類似にすることがしばしば試みられることによる。しかしながら、反射防止コーティングの間にそのほかの多くの光学エレメントが存在する場合には、それらの間にある光学エレメントによって入射角の分布が比較的複雑な方法で変更されることがある。
【００６７】
理解される必要があるが、表２に与えられている層仕様が光学エレメントの全表面にわたってまったく同じである必要はない。光学エレメント上の異なる領域がしばしば入射角の異なる分布にさらされることから、それぞれが出会う角度スペクトルに最適に適合された異なる反射防止コーティングが異なる領域上に与えられることが得策となり得る。
【００６８】
例示的実施態様３
表３は、合計で８つの層を包含する反射防止コーティングの例示的実施態様についての層仕様を与える。図７は、ｓ偏光、ｐ偏光、および非偏光に対する反射係数Ｒｓ、Ｒｐ、およびＲａが、この反射防止コーティングについて入射角の関数としてそれぞれプロットされたグラフを示している。
【００６９】
【表３】
2009507366.tif 000005
【００７０】
図７のグラフを見ると、この場合には約４０°を超える入射角における反射の振る舞いが、ｓ偏光がｐ偏光よりはるかに少なく反射されることから、本質的に従来的な振る舞いと異なることがわかる。反射係数ＲｓとＲｐの負の差ΔＲ＝Ｒｓ−Ｒｐは、約５０°の入射角において、ＪＰ  ２００４−３０２１１３の図１２の補助を伴って示される反射防止コーティングの場合より実質的にはるかに強く増加している。表３の中で与えられている層仕様を用いる反射防止コーティングは、したがって、例示的実施態様２に関連して前述したとおり、ほかの層の偏光依存度の補償にさらに良好に使用できる。
【００７１】
ＪＰ  ２００４−３０２１１３に記述された反射防止コーティングを超える実質的な利点は、特に、８５％を超えるパッキング密度を有する層だけがここで述べている反射防止コーティング内に使用されることである。しかしながら、ＪＰ  ２００４−３０２１１３の中で述べられている例示的実施態様においては、１．２１の低屈折率を達成できるようにするために最下層のパッキング密度が４９％しかない。このタイプの低いパッキング密度は、その種の稠密でない層が環境効果の影響を受けやすく、したがって、時間の関数として比較的短時間でその光学特性を変化させることから不都合である。
【００７２】
例示的実施態様４
表４は、合計で７つの層を包含する反射防止コーティングの別の例示的実施態様についての層仕様を与える。図８は、ｓ偏光、ｐ偏光、および非偏光に対する反射係数が、この反射防止コーティングについて入射角の関数としてそれぞれプロットされたグラフを示している。
【００７３】
【表４】
2009507366.tif 000006
【００７４】
ｓ偏光およびｐ偏光に対する反射係数は、０°と６０°の入射角の間において非常にわずかしか変化せず、詳細には０．１％を超えない。４％においては、約２０°と５０°の間の角度範囲内で絶対値ＲｓおよびＲｐが同様に非常に類似している。この反射防止コーティングは、したがって、前述の範囲内の入射角を伴って光が斜めにだけ、または少なくとも主として斜めに衝突する光学エレメントに特に適している。
【００７５】
表４の中で与えられている層仕様を用いる反射防止コーティングは、反射防止コーティングを通過した後のｓ偏光とｐ偏光の間における最小位相差Δφを達成するためにも最適化されている。小さい位相差Δφを得るためには、コーティングが可能な限り少ない層からなり、しかも少なくとも提供される層の厚さが可能な限り小さいことが好ましい。表４の中で与えられている層仕様と、例示的実施態様３の表３の中で与えられている層仕様を比較すると、この法則が満足され得ることがわかり、それによって許容不能に大きな差ΔＲ＝Ｒｓ−Ｒｐは伴うことはない。例示的実施態様４においては、０°と５０°の間の入射角に対して０．５°未満であり、かつ７０°の入射角まで約６°に達しない位相差が達成される。
【００７６】
すべての層が、表４の中で与えられている層仕様に基づいて約７％薄く作られる場合には、特に小さい反射係数を伴う範囲が、図９のグラフによって明らかにされるとおり、より小さい入射角にシフトされることになる。この変更は、反射防止コーティングを０°と約４０°の間の入射角に特に適したものにする。この入射角度範囲においては、ｓ偏光およびｐ偏光に対する反射係数ＲｓおよびＲｐがいずれも約０．２％未満であり、それらの反射係数の間の差ΔＲは、より小さい大きさの位数である。ここでは、位相差Δφも同様に、より小さい入射角にシフトされる。したがって、７０°の入射角における位相差Δφはいくぶん大きく、詳細には１０°になる。
【００７７】
例示的実施態様５
例示的実施態様２および３においても、特に、より厚い層をより薄くすることが可能であれば、分相を低減することができる。
【００７８】
表５は、例示的実施態様３について表３の中に示されていた層仕様に基づく反射防止コーティングのための層仕様を示している。そこに規定されていたより厚い層２、４、および５が、ここでは、はるかに薄くなっている。
【００７９】
【表５】
2009507366.tif 000007
【００８０】
図１０は、ｓ偏光、ｐ偏光、および非偏光に対する反射係数が、この反射防止コーティングについて入射角の関数としてそれぞれプロットされたグラフを示している。例示的実施態様５についての位相差Δφは破線のラインを用いて、例示的実施態様３については、比較のために一点鎖線を用いてプロットされている。はるかに小さい位相差Δφが層の厚さの低減によって約３０°を超える入射角に伴うことが明確に理解できる。それに対して反射の振る舞いは、図１０と７の比較によって示されるとおり、実行された修正によって有意に損なわれていない。
【００８１】
例示的実施態様６
表６は、合計で８つの層を包含する反射防止コーティングの別の例示的実施態様についての層仕様を与える。図１１は、図１０に対応するグラフを示しており、そこには、ｐ偏光、ｓ偏光、および非偏光に対する反射係数をはじめ、位相差Δφが入射角の関数としてプロットされている。
【００８２】
【表６】
2009507366.tif 000008
【００８３】
この例示的実施態様に従った反射防止コーティングは、特に小さい位相差によって特徴付けられ、その絶対値は、０°と７０°の間の入射角度範囲を通して５°を超えない。この反射防止コーティングでは、さらに、０°と約６５°の間の角度範囲において位相差Δφが負になることが注目される。これは、この入射角度範囲内においては、その反射防止コーティングを通過するｐ偏光が、ｓ偏光に対して遅延を伴うことを意味する。この普通でない振る舞いは、反射係数Ｒｓ、Ｒｐについて例示的実施態様２に関連して前述した方法と類似の方法で正の位相差の補償に使用することができる。ここでもまた、正の位相差を有する少なくとも１つの反射防止コーティングと負の分相を有する別の反射防止コーティングの組み合わせが、それら２つの反射防止コーティングを通過した後にｓ偏光およびｐ偏光が有意の位相差を持たなくなっているという効果を達成可能であることが事実となる。
【００８４】
この場合には、たとえば、相当な正の位相差に対する多数の反射防止コーティングの寄与が、負の位相差を伴う単一の反射防止コーティングまたはいくつかの反射防止コーティングによって補償されることも可能である。ここでもまた、正の位相差を伴う反射防止コーティングと負の位相差を伴うものの角度範囲が必ずしも一致する必要はない。
【００８５】
コンピュータ補助最適化方法、たとえば変分方法を、異なる反射防止コーティングの組み合わせによって、反射率および位相に関する実質的に偏光に中立の振る舞いを達成するために採用してもよい。
【００８６】
概して言えば、第１の段階において、直交する偏光状態に対する反射率に全体として最小の差が得られるように反射防止コーティングを最適化することがもっとも単純となろう。第２の段階においては、１つまたはいくつか、たとえば４つの反射防止コーティングに残存する位相差を低減することができる。当然のことながら、位相差の低減を伴って開始し、その後に続いて反射率を最適化することによって逆の手順を採用してもよい。反射率および位相差両方に関する同時の最適化も原理的に可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本発明に従った投影露光装置を通る縦断面図である。
【図２】本発明の例示的実施態様に従った反射防止コーティングを伴うレンズの断面図表現（縮尺に従わない）である。
【図３】図２内に示されている反射防止コーティングの例示的実施態様について平均透過率が入射角の関数としてプロットされたグラフである。
【図４】図２内に示されている例示的実施態様についてｓおよびｐ偏光に対する透過係数の間の差が入射角の関数としてプロットされたグラフである。
【図５】図２内に示されている例示的実施態様についてｓおよびｐ偏光の間の位相差が入射角の関数としてプロットされたグラフである。
【図６−９】別の例示的実施態様に従った反射防止コーティングについてｓ偏光、ｐ偏光、および非偏光に対する反射係数がそれぞれ入射角の関数としてプロットされたグラフである。
【図１０−１１】２つの別の例示的実施態様に従った反射防止コーティングについてｓ偏光、ｐ偏光、および非偏光に対する反射係数をはじめ位相差がそれぞれ入射角の関数としてプロットされたグラフである。
【符号の説明】
【００８８】
１０  マイクロリソグラフィック投影露光装置；投影露光装置
１２  照明システム
１３  投影光ビーム；投影光
１４  光源
１６  照明光学系
１７  減偏光子
１８  視野開口
１９  対物鏡
２０  投影対物鏡
２２  対物平面
２４  マスク
２６  感光層；層
２８  イメージ平面
２９  支持
３０  光線
３２  反射防止コーティング
３４  表面
３６  レンズ
３８  ｐ偏光成分
４０  ｓ偏光成分
【図１】
2009507366.tif 000009
【図２】
2009507366.tif 000010
【図３】
2009507366.tif 000011
【図４】
2009507366.tif 000012
【図５】
2009507366.tif 000013
【図６】
2009507366.tif 000014
【図７】
2009507366.tif 000015
【図８】
2009507366.tif 000016
【図９】
2009507366.tif 000017
【図１０】
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【図１１】
2009507366.tif 000019
【国際調査報告】
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2009507366.tif 000028
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