(57)【要約】  本発明は、マイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法及びこれにより製造されたフィルムに関するもので、より詳細には様々な光学的な用途に用いることができるマイクロパターンが形成されたフィルムを効率的に製造することができる方法及びそれから製造された光学用フィルムに関するものである。  本発明によると、フィルムの片面にマイクロパターンを形成する段階と、上記片面に形成されたマイクロパターンをフォトマスクを用いて他の面にフォトリソグラフィー方式で先に形成されたマイクロパターンと同じ形態のマイクロパターンを形成する段階を含むことを特徴とするマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法が提供される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムの片面にマイクロパターンを形成する段階と、
前記片面に形成されたマイクロパターンをフォトマスクとして用いて他の面にフォトリソグラフィー方式で先に形成されたマイクロパターンと同じ形態のマイクロパターンを形成する段階と、
を含むことを特徴とするマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項２】
前記先に形成されたマイクロパターンは、フォトリソグラフィー方式で形成されることを特徴とする請求項１に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項３】
前記フォトリソグラフィーは、フォトレジスト材料を前記フィルムに塗布した後、露光、現像、洗浄及び乾燥させる過程からなることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項４】
前記先に形成されたマイクロパターンと同じ形態のマイクロパターンを形成するとき用いられる前記フォトレジスト材料は、ポジ型フォトレジスト材料であることを特徴とする請求項３に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項５】
前記フォトレジスト材料は、ダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、コンマ（Ｃｏｍｍａ）、スロットダイコーティング（Ｓｌｏｔ  ｄｉｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スリットコーティング（Ｓｌｉｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）、カーテンコーティング（Ｃｕｒｔａｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、キャピラリーコーティング（Ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレイコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）、シルクスクリーン及びスピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）を含むグループのうち選ばれた１つの方法によりフィルム表面に塗布されることを特徴とする請求項３に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項６】
露光前に塗布された前記フォトレジスト材料をプリベーキングする段階または現像、洗浄及び乾燥されて残ったマイクロパターンをポストベーキングする段階をさらに含むことを特徴とする請求項３に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項７】
前記先に形成されたマイクロパターンは、プリンティング方式または無電解メッキ方式で形成されることを特徴とする請求項１に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項８】
前記プリンティングされる材料は、ダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、オフセット（Ｏｆｆ−ｓｅｔ）、リバースオフセット（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｏｆｆ−ｓｅｔ）、インクジェット（Ｉｎｋ  ｊｅｔ）及びシルクスクリーンを含むグループのうち選ばれた１つの方法によりフィルム表面に塗布されることを特徴とする請求項７に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項９】
前記フォトリソグラフィーは、フォトレジスト材料を前記フィルムに塗布した後、露光、現像、洗浄及び乾燥させる過程からなることを特徴とする請求項７に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項１０】
露光前に塗布された前記フォトレジスト材料をプリベーキングする段階または現像、洗浄及び乾燥されて残ったマイクロパターンをポストベーキングする段階をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記フォトレジスト材料は、ダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、コンマ（Ｃｏｍｍａ）、スロットダイコーティング（Ｓｌｏｔ  ｄｉｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スリットコーティング（Ｓｌｉｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）、カーテンコーティング（Ｃｕｒｔａｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、キャピラリーコーティング（Ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレイコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）、シルクスクリーン及びスピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）を含むグループのうち選ばれた１つの方法によりフィルム表面に塗布されることを特徴とする請求項９に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項１２】
マイクロパターンが形成されたフィルムの両面にフォトレジスト材料を塗布する段階と、
前記フィルムの上部にフォトマスクを位置させてから露光、現像、洗浄及び乾燥することで両面にマイクロパターンが形成されたフィルムを得る段階と、
を含むことを特徴とするマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項１３】
前記フォトレジスト材料は、ダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、コンマ（Ｃｏｍｍａ）、スロットダイコーティング（Ｓｌｏｔ  ｄｉｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スリットコーティング（Ｓｌｉｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）、カーテンコーティング（Ｃｕｒｔａｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、キャピラリーコーティング（Ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレイコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）、シルクスクリーン及びスピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）を含むグループのうち選ばれた１つの方法によりフィルム表面に塗布されることを特徴とする請求項１２に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項１４】
露光前に塗布されたフォトレジスト材料をプリベーキングする段階または現像、洗浄及び乾燥されて残ったマイクロパターンをポストベーキングする段階をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法。
【請求項１５】
請求項１または請求項１２に記載の方法により製造されたマイクロパターンが形成されたフィルムで、前面と後面に対応する複数対のマイクロパターンを含み、対応する各マイクロパターンの幅の差が各対のパターンのうち前記フィルムの前面に形成されたパターンの幅対比２０％以内、対応する１対のパターンの中心軸間の距離の差が各対のパターンのうち前記フィルムの前面に形成されたパターンの幅対比１０％以内であることを特徴とするマイクロパターンが形成されたフィルム。
【請求項１６】
ディスプレイ装置のコントラスト向上用フィルム、保安フィルムまたはタッチパッド用フィルムを用いることを特徴とする請求項１５に記載のマイクロパターンが形成されたフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法及びこれにより製造されたフィルムに関するもので、より詳細には様々な光学的な用途に用いることができるマイクロパターンが形成されたフィルムを効率的に製造することができる方法及びそれから製造された光学用フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フィルムは、透明な材質からなりディスプレイ装置等に付着される場合に放出される画像（光）が観察者の目に届くようにする役割をする。しかし、様々な理由により上記フィルムは単純に光を通過させるだけではなく、特性条件に該当する光のみを通過させてディスプレイ装置の画質を向上させる役割をすることもある。
【０００３】
その例として、ＰＤＰ、ＬＣＤ、ＲＰＴＶまたはＯＬＥＤのような多様なディスプレイ装置に用いられるコントラスト向上用フィルムを挙げることができる。上記コントラスト向上用フィルムは図１に図示したようにフィルムの上下の表面にマイクロパターンの一形態であるストライプパターンが形成される場合に外部から入射する光がパネルに入射してから反射されてパネルから放出される画面の光と共に観察者の視野に届くと、コントラストが減少するという問題点を解決する。即ち、一定の角度（遮光角度）以上でパネルに向かって入射する光がフィルムを通過することができないようにフィルムの両面に透明なストライプパターンを形成させることによりディスプレイパネルから放出される光のうち、外部から入射されて反射される光の比率を減少させる役割をする。外部の光が存在する明室条件におけるコントラスト比率は下記数１で表されることができるが、反射光（外部の光が入射してから反射される光）の明るさが減少するほど、数学式中の分子と分母が同時に減少するようになるため、結局同じ白色光と黒色光の明るさを有してもコントラスト比率が増加するという効果を得ることができる。
【０００４】
【数１】
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【０００５】
また、上記のようなフィルムのさらに他の用途としては、一定の角度上の位置で画面を観察する場合、光が遮断されるようにする保安フィルムの機能を挙げることができる。即ち、図１のフィルムは入射角の見地において述べたが、逆にパネルから放出される光が一定の角度以上に傾いて放出される場合には遮断されるようにする役割も行う。
【０００６】
マイクロパターンが形成されたフィルムのさらに他の形態としては現金自動預け払い機（ＡＴＭ機）のような機器のタッチパッド（ｔｏｕｃｈ  ｐａｄ）に用いられる保安フィルムを挙げることができる。現金自動預け払い機の場合は暗証番号やその他重要な情報が使用者の視野以外には画像が送出されないようにする必要があるが、このような場合に上記タッチパッドの正面以外の全角度に対して保安が確保されることが好ましい。上記のようなタッチパッドは上記のようなストライプパターンではない図２に図示したような格子型パターンがフィルムの上下に同じ形態で形成されている場合が好ましい。
【０００７】
また、上記マイクロパターンが形成されたフィルムのさらに他の一例として自動車ナビゲーション用フィルムを挙げることができる。これはナビゲーションも出来るだけ運転者に向けてのみ画面を放出する必要があるもので、若し、画面が正面方向ではない斜め方向に放出される場合、自動車の前面や側面または後面のガラスにナビゲーション装置の像が写る恐れがあり、運転者の視野を遮る要素になり得るためである。
【０００８】
しかし、様々な光学フィルムのうち、上述の光学フィルムは全てフィルムの上下面に平行な（即ち、同じ形態を有し、フィルムを正面から見て上下のパターンが完全に重なる）マイクロパターンを有する必要がある。特に、上記フィルムの前面及び後面に形成される１対の対応するマイクロパターンはフィルムの断面方向から見て、その幅や位置（厚さ方向の位置を除いた位置）が同一であることが好ましい。
【０００９】
フィルムの幅や位置が異なる場合、ディスプレイ装置を見る角度によって得られるコントラスト向上効果や保安効果等に非対称性が発生することがあるため、ディスプレイ装置の画面品質を悪化させる要因になることがある。
【００１０】
しかし、現在までは上述の形態のマイクロパターンが形成されたフィルムが提供された例がない。また、フィルムの表面にマイクロパターンを形成する方式として現在まで提供された各面に対するプリンティングやフォトレジスト等の方法によっても位置及び幅を同一に維持することは非常に難しいため、上記マイクロパターンが形成されたフィルムを提供するための技術は現在まで提供された例がない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上述の従来技術の問題点を解決するためのもので、本発明の一側面による場合にはフィルムの前後面に形成された各対に対応するマイクロパターンの位置及び幅が一致するように制御することができるマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法及びこれにより製造されたフィルムが提供されることができる。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上述の本発明の目的を達成するための一側面で、フィルムの片面にマイクロパターンを形成する段階と、上記片面に形成されたマイクロパターンをフォトマスクを用いて他の面にフォトリソグラフィー方式で先に形成されたマイクロパターンと同じ形態のマイクロパターンを形成する段階を含むことを特徴とするマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法が提供される。
【００１３】
このとき、上記先に形成されたマイクロパターンはフォトリソグラフィー方式で形成されることが好ましい。
【００１４】
そして、上記フォトリソグラフィーは、フォトレジスト材料をフィルムに塗布した後、露光、現像、洗浄及び乾燥させる過程からなることが好ましい。
【００１５】
また、上記先に形成されたマイクロパターンと同じ形態のマイクロパターンを形成するとき用いられるフォトレジスト材料は、ポジ型フォトレジスト材料であることが効果的である。
【００１６】
そして、上記フォトレジスト材料は、ダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、コンマ（Ｃｏｍｍａ）、スロットダイコーティング（Ｓｌｏｔ  ｄｉｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スリットコーティング（Ｓｌｉｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）、カーテンコーティング（Ｃｕｒｔａｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、キャピラリーコーティング（Ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレイコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）、シルクスクリーン及びスピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）を含むグループのうち選ばれた１つの方法によりフィルム表面に塗布されるのがよい。
【００１７】
また、露光前に塗布されたフォトレジスト材料をプリベーキングする段階または現像、洗浄及び乾燥されて残ったマイクロパターンをポストベーキングする段階をさらに含むことが好ましい。
【００１８】
また、上記先に形成されたマイクロパターンは、プリンティング方式または無電解メッキ方式で形成されることが好ましい。
【００１９】
そして、上記プリンティングされる材料は、ダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、オフセット（Ｏｆｆ−ｓｅｔ）、リバースオフセット（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｏｆｆ−ｓｅｔ）、インクジェット（Ｉｎｋ  ｊｅｔ）及びシルクスクリーンを含むグループのうち選ばれた１つの方法によりフィルム表面に塗布されるのがよい。
【００２０】
また、上記フォトリソグラフィーは、フォトレジスト材料をフィルムに塗布した後、露光、現像、洗浄及び乾燥させる過程からなることが好ましい。
【００２１】
また、露光前に塗布されたフォトレジスト材料をプリベーキングする段階または現像、洗浄及び乾燥されて残ったマイクロパターンをポストベーキングする段階をさらに含むことが好ましい。
【００２２】
そして、上記フォトレジスト材料は、ダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、コンマ（Ｃｏｍｍａ）、スロットダイコーティング（Ｓｌｏｔ  ｄｉｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スリットコーティング（Ｓｌｉｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）、カーテンコーティング（Ｃｕｒｔａｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、キャピラリーコーティング（Ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレイコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）、シルクスクリーン及びスピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）を含むグループのうち選ばれた１つの方法によりフィルム表面に塗布されることがよい。
【００２３】
本発明のさらに他の一側面によると、マイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法は、フィルムの両面にフォトレジスト材料を塗布する段階と、上記フィルムの上部にフォトマスクを位置させてから露光、現像、洗浄及び乾燥することで両面にマイクロパターンが形成されたフィルムを得る段階を含むことを特徴とするマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法が提供される。
【００２４】
このとき、上記フォトレジスト材料は、ダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、コンマ（Ｃｏｍｍａ）、スロットダイコーティング（Ｓｌｏｔ  ｄｉｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スリットコーティング（Ｓｌｉｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）、カーテンコーティング（Ｃｕｒｔａｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、キャピラリーコーティング（Ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレイコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）、シルクスクリーン及びスピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）を含むグループのうち選ばれた１つの方法によりフィルム表面に塗布されることが好ましい。
【００２５】
そして、露光前に塗布されたフォトレジスト材料をプリベーキングする段階または現像、洗浄及び乾燥されて残ったマイクロパターンをポストベーキングする段階をさらに含むことが効果的である。
【００２６】
本発明のさらに他の一側面によると、上記方法により製造されたマイクロパターンが形成されたフィルムで、前面と後面に対応する複数対のマイクロパターンを含み、対応する各マイクロパターンの幅の差が各対のパターンのうち、フィルムの前面に形成されたパターンの幅対比２０％以内、対応する１対のパターンの中心軸間の距離の差が各対のパターンのうちフィルムの前面に形成されたパターンの幅対比１０％以内のフィルムが提供される。
【００２７】
このとき、ディスプレイ装置のコントラスト向上用フィルム、保安フィルムまたはタッチパッド用フィルムとして用いることがよい。
【発明の効果】
【００２８】
本発明による場合、フィルムの両面に同じ形態のマイクロパターンを形成するとき、上記フィルムの両面に形成されたパターンの形状が同一に制御されたフィルムを得ることができ、上記フィルムはコントラスト向上用フィルム、保安フィルムまたはタッチパッド用フィルムのように表面にマイクロパターンが形成された様々な種類の光学フィルムとして用いることができる。
【００２９】
また、本発明のマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法は、従来の方法より非常に簡単で、且つ正確度の高いマイクロパターンが形成されたフィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】マイクロパターンが形成されたフィルムの一形態を示す斜視図である。
【図２】正面方向以外の方向における保安を確保するために用いられるフィルムの一形態を示す概略図である。
【図３】本発明のマイクロパターンが形成されたフィルムの一製造例を示す工程の流れ図である。
【図４】本発明のマイクロパターンが形成されたフィルムのさらに他の製造例を示す工程の流れ図である。
【図５】本発明のマイクロパターンが形成されたフィルムのさらに他の製造例を示す工程の流れ図である。
【図６】本発明において言及する中心軸間の距離を説明するための概略図である。
【図７】本発明において提供する方法を用いてロールツロール工程でマイクロパターンが形成されたフィルムを製造する方法を示す工程図である。
【図８】本発明の実施例において製造するためのフィルムの形態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００３２】
本発明の発明者らは、従来のようにフィルムの前面と後面に夫々のマイクロパターンを独立的に形成させる方法による場合には、いくら精密なプリンティング技法や、同じフォトレジストマスクを用いても幅や位置に偏差があることができるという問題点を発見し、これを解決するために深く研究した結果、本発明に至った。
【００３３】
即ち、本発明の製造方法は、フィルムの前面と後面に複数対のマイクロパターンを形成するとき、各対に対応する前後のマイクロパターンは同じ位置及び幅の情報を用いることにより同じ幅と位置を有しながら形成されるようにすることを主な特徴とする。
【００３４】
各対のマイクロパターンが同じ位置及び幅の情報を用いるようにする方式はいくつかあることができるが、そのうち、主な例を挙げると以下の通りである。先ず、前後面のうち１つの面にマイクロパターンを形成させた後、上記マイクロパターンをフォトレジストのマスクに用いて反対面に残りのマイクロパターンを形成させる方法がある。
【００３５】
このような方法による場合、１つの面に形成されたマイクロパターンを他の面のマイクロパターンを形成させるためのマスクとして用いるため、両面のマイクロパターンが完全に一致する幅及び位置を有することができる。
【００３６】
図３を参照して上記方法をより具体的に説明すると以下の通りである。先ず、フィルム１０の片面にマイクロパターン４０を形成する段階が先行する。上記マイクロパターンを形成させる方法としては、フォトリソグラフィー（ｐｈｏｔｏ  ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）方式またはプリンティング方法を用いることができる。
【００３７】
フォトリソグラフィー方式によりフィルム１０の表面にマイクロパターンを形成させるためにはフォトレジスト材料２０をフィルムの表面に塗布する段階（図３（ａ））が必要である。上記フォトレジスト材料は、ダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、コンマ（Ｃｏｍｍａ）、スロットダイコーティング（Ｓｌｏｔ  ｄｉｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スリットコーティング（Ｓｌｉｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）、カーテンコーティング（Ｃｕｒｔａｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、キャピラリーコーティング（Ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレイコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）、シルクスクリーンまたはスピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）等により塗布されることができる。
【００３８】
図３に図示したようにフォトレジスト材料２０が塗布されたフィルム１０は、その上にフォトマスク３０を設けて露光（図３（ｂ））させてから、現像、洗浄及び乾燥する過程によって、その上にマイクロパターン４０を形成させることができる（図３（ｃ））。このとき、露光前に塗布されたフォトレジスト材料をプリベーキング（ｐｒｅ−ｂａｋｉｎｇ）して堅固なコーティング層を形成させることもでき、また、場合によっては現像、洗浄及び乾燥されて残ったマイクロパターンをポストベーキング（ｐｏｓｔ−ｂａｋｉｎｇ）することによりマイクロパターンの強度を確保することができる。
【００３９】
このとき、フィルムに塗布されるマイクロパターン４０は光を遮断するためのものである上、以後反対面に形成されるパターンを形成させるためのフォトマスクの機能も行うものであるため、下記の数２で表されるパターンの光学密度（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ、以下、ＯＤと記載）を０．５以上に制限する必要がある。上記パターンの光学密度は塗布される材料の厚さ及び材料の種類によって異なることができるが、当業者であれば具体的な条件を変更させることにより容易に得ることができる。
【００４０】
【数２】
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【００４１】
また、露光時に用いられる光源６０としては、通常のフォトレジスト工程と同様に、高、中または低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等を用いることができ、現像液も用いられるフォトレジスト材料の種類によって適切に選択して用いることができる。現像液の例としてはＴＭＡＨ、ＫＯＨ等のようなアルカリ水溶液を挙げることができる。
【００４２】
但し、図３では上記フォトマスクが残留させようとするパターン４０に光が到達するような形状を有するが、このような場合には上記フォトレジスト材料２０はネガ型フォトレジスト材料であることが好ましく、除去しようとする部分に光が到達するようにする場合には上記フォトレジスト材料はポジ型フォトレジスト材料であることが好ましい。従って、フォトマスク３０の形態のみを適切にとる場合、フォトレジスト材料はネガ型かポジ型かは特に制限されない。
【００４３】
残りのフォトリソグラフィー過程によりマイクロパターンを形成させる具体的な方法は、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の出願前に既に提供されて広く用いられているフォトリソグラフィー方法により如何なる者でも容易に実施できるため、特別な言及は必要ない。
【００４４】
上記のような過程により片面に微細なマイクロパターンが形成されたフィルムを得ることができる。
【００４５】
片面に微細なマイクロパターンが形成されたフィルムを得るための方法として、上記のようなフォトリソグラフィー方法の他にも図４に図示したようにマイクロパターン形態で直接プリンティングまたはコーティングする方法（図４（ａ））を挙げることが出来る。
【００４６】
上記プリンティング方法はフィルムの表面にパターンを形成させる従来の方法のうち如何なるものを用いてもよい。上記プリンティングのためにはパターンを形成することができるダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、オフセット（Ｏｆｆ−ｓｅｔ）、リバースオフセット（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｏｆｆ−ｓｅｔ）、インクジェット（Ｉｎｋ  ｊｅｔ）またはシルクスクリーン等の方法を用いることができる。以後、パターンがプリンティングされたフィルムを乾燥させることにより一方面のパターン形成過程が完成される。
【００４７】
その上、上記印刷法の代わりに金属製パターン材料を無電解メッキする方法も考えられる。即ち、無電解メッキというのは、電気分解方式をとらず、金属を電気方式でメッキするメッキ法で、より詳細に説明すると、表面に触媒が塗布された物体をメッキされる金属のイオンが溶解されたメッキ液に浸漬すると上記触媒が金属イオンの還元に必要な活性化エネルギーを減少させることにより金属イオンが触媒がコーティングされた物体の表面に析出されるようにする方法のことを言う。本発明において上記無電解メッキ法を用いて片面にパターンを形成させるためには、先ず、フィルム表面に形成しようとするパターンと同じ形態で触媒物質をコーティングしてから上記触媒物質がコーティングされたフィルムをメッキ液に浸漬させることにより所望の形態で金属性物質がコーティングされたフィルムを得ることができる。上記無電解メッキに必要な触媒物質及びメッキ液は通常の無電解メッキ法において用いられる如何なる物質も用いることができ、その詳細な手続きを説明しなくても本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、特別な問題なく本発明の具現例を再現することができる。
【００４８】
このとき、フィルムに塗布されるパターンは光を遮断するためのものである上、以後反対面に形成されるパターンを形成させるためのフォトマスクの機能も行うものであるため、パターンの光学密度を０．５以上に制限する必要がある。上記パターンの光学密度は塗布される材料の厚さ及び材料の種類によって異なることができるが、当業者であれば具体的な条件を変更させることにより容易に得ることができる。
【００４９】
上述の過程により片面にマイクロパターンが形成されたフィルムを得ることができる。以後、上記マイクロパターンが形成された面の反対面にも同じ形態と位置を有するマイクロパターンを形成する段階を行う必要がある。
【００５０】
反対側のフィルム面にマイクロパターンを形成させる方法は図３の（ｄ）〜（ｆ）及び図４の（ｂ）〜（ｄ）に図示したように上記片面にフォトリソグラフィー方式を用いてマイクロパターンを形成するのとほぼ類似である。即ち、反対側のフィルム面にフォトレジスト材料５０を塗布（図３（ｄ）及び図４（ｂ））し、上記フォトレジスト材料５０に露光（図３（ｅ）及び図４（ｃ））、現像、洗浄及び乾燥過程によりマイクロパターンを形成（図３（ｆ）及び図４（ｄ））させ、選択的にプリベーキングまたはポストベーキングを行うことができる。
【００５１】
但し、反対側のフィルム面（即ち、２番目のパターンが形成される面）に塗布されたフォトレジスト材料５０を露光して所望のパターンに感光させるときに別途のフォトマスクを用いない点が１番目のパターンを形成させるとき、及び通常のフォトレジスト工程とは異なる点である。本発明は１番目に形成されたパターンを２番目のパターンのフォトマスクとして用いて１番目のパターンと２番目のパターンの形状が完全に一致するようにすることを特徴としているためである。即ち、２番目のパターン７０のフォトレジスト材料を塗布した後、これを露光させるためには１番目のパターン４０が形成されたフィルム１０面を光源に向かうようにしてから露光すればよい。このような場合、１番目のパターン４０の高い光学密度により１番目のパターン４０は優れたフォトマスクの役割を行うようになり、１番目のパターンが２番目のパターン用のフォトレジスト材料５０上に投影されることにより１番目のパターン４０と同じ形態を有した領域を除いた残りの領域が感光されるようになる。
【００５２】
このとき、反対側のフィルム面に塗布されるフォトレジスト材料５０はポジ型フォトレジスト材料であることが好ましい。即ち、フォトレジスト材料をネガ型及びポジ型フォトマスクのうちから選んで用いることができた１番目のパターン４０とは異なり、１番目のパターン４０がポジ型フォトマスクの役割しか行うことができないため、上記フォトレジスト材料５０はポジ型フォトレジスト材料であることが好ましい。
【００５３】
上述の過程により前後面のパターン形状の一致度の高いマイクロパターンが形成されたフィルムを得ることができるようになる。本発明の１つ目の側面によるマイクロパターンフィルムの製造方法をまとめると、本発明のマイクロパターンフィルムの製造方法はフィルムの片面にマイクロパターンを形成する段階及び上記片面に形成されたマイクロパターンをフォトマスクとして用いて他の面にフォトリソグラフィー方式で先に形成されたマイクロパターンと同じ形態のマイクロパターンを形成させる段階を含む。このとき、先に形成されたマイクロパターンはフォトレジスト、プリンティングまたは無電解メッキ方式により形成されることができる。
【００５４】
図５に本発明の他の一側面によるマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法が図示されている。以下で詳細に説明する。本発明の他の一側面によると１つ目の側面とは異なり、フィルム１０の両面にフォトレジスト材料２０、５０を同時に塗布する過程（図５（ａ））が必要である。上記フォトレジスト材料２０、５０を塗布する方式は上述と同様である。
【００５５】
以後、上記両側にフォトレジスト材料が塗布されたフィルム１０の上部にフォトマスク３０を置いて露光を行う（図５（ｂ））。フィルムの両面にフォトレジスト材料２０、５０が塗布されているため、両面のフォトレジスト材料２０、５０は同じ形状で感光されるようになる。ネガ型用及びポジ型用フォトマスクのうちから選んで露光に用いることができるため、フォトレジスト材料の種類は特に制限されない。但し、フィルムに塗布されるパターンは光を遮断するためのものであるため、残留するパターンの光学密度を０．５以上になるようにフォトレジスト材料を制限する必要がある。また、本発明の上記具現例のようにフィルムの両面にフォトレジスト材料を塗布してから同時に露光させる場合には、露光用光が前面のフォトレジスト材料を透過して後面のフォトレジスト材料まで感光させなければならないため、前面のフォトレジスト材料の光学密度が非常に高いと好ましくない。従って、上記前面のフォトレジスト材料の光学密度の上限を５に設定することが好ましい。上記パターンの光学密度は塗布される材料の厚さ及び材料の種類によって異なることができるが、当業者であれば具体的な条件を変更させることにより容易に得ることができる。
【００５６】
以後、露光されたフォトレジスト材料を現像してから洗浄及び乾燥する過程により両面にマイクロパターン４０、７０が同時に形成されたフィルムを得ることができる（図５（ｃ））。このとき、露光前に塗布されたフォトレジスト材料をプリベーキング（ｐｒｅ−ｂａｋｉｎｇ）して堅固なコーティング層を形成させることもでき、また、場合によっては現像されて残ったマイクロパターンをポストベーキング（ｐｏｓｔ−ｂａｋｉｎｇ）することによりマイクロパターンの強度を確保することが出来る。
【００５７】
即ち、本発明の２つ目の側面により提供されるマイクロパターンが形成されたフィルムの製造方法はフィルムの両面にフォトレジスト材料を塗布する段階、上記フィルムの上部にフォトマスクを位置させてからフォトリソグラフィー 過程（露光、現像、洗浄及び乾燥）により両面にマイクロパターンが形成されたフィルムを得る段階を含む。
【００５８】
残りの言及していないフォトリソグラフィー過程は上述と同様である。
【００５９】
上述の過程により形成された本発明のマイクロパターンが形成されたフィルムは、コントラスト向上用フィルム、保安フィルム及びタッチパッド用フィルムとして用いることが出来る。
【００６０】
本発明の製造方法で製造されたフィルムは従来の前、後面に独立的にフィルムを形成させる方法により製造されたフィルムに比べてパターンの幅及び位置の正確度が非常に優れたもので、対応されるマイクロパターンの幅の差が各対のパターンのうち、フィルムの前面に形成されたパターンの幅対比２０％以内、図６に図示したように対応する１対のパターンの中心軸間の水平距離γが各対のパターンのうちフィルムの前面に形成されたパターンの幅対比１０％以内のフィルムである。
【００６１】
また、本発明のフィルム上に形成されるパターンは様々な形態があることができる。ＰＤＰ、ＬＣＤ、ＲＰＴＶまたはＯＬＥＤ等のようなディスプレイ装置のコントラスト向上用フィルム、保安フィルムまたはタッチパッド用フィルム等を上記の用途に用いる場合には、ストライプ形態または格子形態のパターンであることが好ましい。また、上下面のパターンが同じ形状で形成されることができる場合には全てのパターンが可能で、上記形態の他にも蜂の巣、特定文字の形状等のような様々な形態を有するものであれば本発明により全て具現可能であるため、本発明の権利範囲は上記パターンの形態により制限されないという点に留意する必要がある。
【００６２】
本発明の方法でフィルムを製造する場合得られるさらに他の利点としては図７に図示した形態のようにマイクロパターンが形成されたフィルムをロールツロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）方式で製造することができるということである。即ち、ロールツロール工程というのはロールの巻取られたフィルムを解いてから次のロールに再び巻取るまでの過程において所望のパターンをすべて形成することができるもので、本発明の方法による場合、その一例として示した図７の方法またはこれと類似な方法によりロールツロール工程の具現が可能である。無論、上記ロールツロール工程は図７に図示した形態でロールを解いて巻取る段階まで全て連続的に行われることもできるが、適切な段階で工程を止めてから次の段階に進める方式で工程を分離して行うこともできる。
【００６３】
上記ロールツロール方法でフォトレジスト材料をフィルム上にコーティングする場合には、上述のコーティング方法のうち、ダイレクトグラビア（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、リバースグラビア（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｇｒａｖｕｒｅ）、マイクログラビア、コンマ（Ｃｏｍｍａ）、スロットダイコーティング（Ｓｌｏｔ  ｄｉｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スリットコーティング（Ｓｌｉｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）、カーテンコーティング（Ｃｕｒｔａｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、キャピラリーコーティング（Ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレイコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）またはディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）等の方法を用いることが好ましく、パターンを直接フィルム上にプリンティングする場合には上述の印刷法のうち、ダイレクトグラビア、リバースグラビア、マイクログラビア、オフセット、リバースオフセットまたはインクジェット等の方法を用いることが好ましい。
【００６４】
また、図７のロールツロール方法ではないシート（ｓｈｅｅｔ）やプレート（ｐｌａｔｅ）形態を有するフィルムまたは板１つ１つに非連続的にパターンを形成するバッチ（ｂａｔｃｈ）方式でフォトレジスト材料をコーティングするか、パターンをプリンティングすることも可能である。このとき、バッチ方式でフォトレジスト材料をコーティングする場合には上述のコーティング方法のうち、シルクスクリーン、スピンコーティングまたはディップコーティング等の方法を用いることがより好ましく、パターンを直接フィルム上にプリンティングする場合には上述の印刷法のうち、シルクスクリーン、オフセット、リバースオフセットまたはインクジェット等の方法を用いることがより好ましい。
【００６５】
また、本発明のマイクロパターンが形成されたフィルムの基材、即ち、パターンが形成される部分は透明な薄膜の構造体であれば、特に制限されない。但し、その例としてはＰＥＴフィルム、ＴＡＣフィルム、ＰＥＮフィルム、ガラス（Ｇｌａｓｓ）またはアクリル（Ａｃｒｙｌ）系、ポリオレフィン（Ｐｏｌｙｏｌｅｆｉｎ）系、ＰＭＭＡ、ＰＣ等のようにロール（ｒｏｌｌ）、シート（ｓｈｅｅｔ）またはプレート（ｐｌａｔｅ）形状を有したものを挙げることが出来る。
【００６６】
以下、実施例を通じ本発明をより具体的に説明する。但し、下記の実施例は本発明を例示し具体的に説明するためのもので、本発明の権利範囲を制限するためのものでないという点に留意する必要がある。本発明の権利範囲は特許請求の範囲に記載の事項とそれから合理的に類推される事項により決まる。
【００６７】
（実施例）
図８に図示した形態のマイクロパターンが形成されたフィルムを下記の各実施例により製造した。図８に図示したように、本実施例で製造しようとするフィルムは１００μｍ厚さのＰＥＴフィルムに、３２μｍ幅のパターンを６９μｍ間隔で複数形成したもので、前後面共に対を成すようにしたものである。
【００６８】
実施例１
ネガ型フォトレジスト材料（Ｔｏｋｙｏ  Ｏｈａｋａ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．のＣＫ  ｓｅｒｉｅｓ材料）をスピンコーター（ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｅｒ）を用いてフィルム上に約１０μｍの厚さを有するように均一に塗布した。上記塗布されたフォトレジスト材料は、以後、９０℃で１分間プリベーキングした。このとき可視光領域の光学密度は約３．５であった。以後所望の形状のフォトマスクを用いて露光を行った。露光時の光源としては高圧水銀ランプを用いて、露光後に０．０４wt％  ＫＯＨ水溶液に浸漬してから洗浄及び乾燥過程を経て片面にマイクロパターンが形成されたＰＥＴフィルムを得ることができた。上記ＰＥＴフィルムの反対面にポジ型フォトレジスト材料（ＤＯＮＧＪＩＮ  ＳＥＭＩＣＨＥＭのＪＣ−８００材料に透過率の調整のためにＣａｒｂｏｎ  ｂｌａｃｋ材料を混合したもの）をスピンコーターを用いて厚さ１０μｍにコーティングしてから、９０℃で１分間プリベーキングし、先に形成されたパターンが光源側を向かうようにし上述と同じ方法で露光、現像、洗浄及び乾燥を行った。但し、現像液は２．３８ｗｔ％  ＴＭＡＨ水溶液を用いた。
【００６９】
実施例２
印刷用インク（Ｅｎｃｒｅｓ  Ｄｕｂｕｉｔ（Ｆｒａｎｃｅ）社の８５１１材料）をグラビア（Ｇｒａｖｕｒｅ）印刷方法を用いてフィルム上に幅３３μｍのストライプパターンを６９μｍ間隔を置いて形成した。このフィルムの反対面にポジ型フォトレジスト材料をスピンコーターを用いて厚さ１０μｍでコーティングした後、９０℃で１分間プリベーキングしてから印刷方法を用いて形成されたパターンが光源側に向かうようにした後、上述と同じ方法で露光、現像、洗浄及び乾燥を行った。
【００７０】
実施例３
実施例１のネガ型フォトレジスト材料を同じ方法でＰＥＴフィルムの両面にコーティングした後、フォトマスクを用いて両面にコーティングされたフォトレジスト材料を一緒に露光し、両面の露光が円滑に行われるように高圧水銀ランプを光源に用いた。露光後、上述の例と同じ方法で現像、洗浄及び乾燥した。
【００７１】
実施例１〜実施例３のような方式でマイクロパターンが形成されたフィルムのうち対応するパターンの幅の差の最大値は１μｍ、中心軸間の距離の最大値は０．５μｍであった。
【図１】
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【図２】
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【図３（ａ）】
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【図３（ｂ）】
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【図３（ｃ）】
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【図３（ｄ）】
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【図３（ｅ）】
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【図３（ｆ）】
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【図４（ａ）】
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【図４（ｂ）】
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【図４（ｃ）】
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【図４（ｄ）】
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【図５（ａ）】
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【図５（ｂ）】
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【図５（ｃ）】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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