(57)【要約】本発明は、透明プラスチック材料、特にポリカーボネート、およびマトリックス材料の光学密度と異なる光学密度を有する透明ポリマー粒子を含有するプラスチック組成物、並びにシート、特にフラットスクリーンにおける拡散シート、へのこのプラスチック組成物の使用に関する。この組成物は、特に散乱顔料の低い微粉含量に優れる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明プラスチック材料８０〜９９．９ｗｔ．％および平均粒度が実質的に１〜１００μｍであるポリマー粒子０．０１〜２０ｗｔ．％を含有するプラスチック組成物であって、原子間力顕微鏡法によって表面を調査することによって決定される平均粒度８０〜２００ｎｍの粒子含量が該プラスチック組成物の表面積１００μｍ２あたり２０個未満、好ましくは１００μｍ２あたり１０個未満、特に好ましくは１００μｍ２あたり５個未満であることを特徴とするプラスチック組成物。
【請求項２】
該透明プラスチック材料がポリカーボネートであることを特徴とする、請求項１に記載のプラスチック組成物。
【請求項３】
厚さ１．０〜４．０ｍｍのシートの製造における請求項１または２に記載のプラスチック組成物の使用。
【請求項４】
請求項１または２に記載のプラスチック組成物を含有するソリッドシート。
【請求項５】
同時押出によって製造される別の層を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のソリッドシート。
【請求項６】
少なくとも一つの同時押出層がＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする、請求項５に記載のソリッドシート。
【請求項７】
少なくとも一つの同時押出層が滑剤を含有することを特徴とする、請求項５または６に記載のソリッドシート。
【請求項８】
該ソリッドシートの対向面に置かれる二つの同時押出層を有することを特徴とする、請求項５〜７のいずれか一項に記載のソリッドシート。
【請求項９】
各同時押出層の厚さが１０〜１００μｍであることを特徴とする、請求項５〜８のいずれか一項に記載のソリッドシート。
【請求項１０】
フラットスクリーンにおける拡散シートとしての請求項４〜９のいずれか一項に記載のソリッドシートの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明プラスチック材料、特にポリカーボネート、およびマトリックス材料の光学密度と異なる光学密度を有する透明ポリマー粒子を含有するプラスチック組成物、並びにこのプラスチック組成物のシート、特にフラットスクリーンにおける拡散シートへの使用に関する。この組成物は、特に散乱顔料の微粉含量が低いことを特徴とする。
【背景技術】
【０００２】
さまざまな光散乱添加剤を有する透明プラスチック材料の光散乱半透明製品、およびそれらから製造される成形品は、先行文献で既に知られている。
【０００３】
例えば、ＥＰ−Ａ  ６３４  ４４５は、コア／シェルモルホロジーを有するビニル−アクリレートベースのポリマー粒子と共にＴｉＯ２を含有する光散乱組成物を開示している。
【０００４】
フラットスクリーンにおける光散乱ポリカーボネートフィルムの使用は、ＵＳ  ２００４／００６６６４５に記述されている。この文献において言及されている光散乱顔料は、ポリアクリレート、ＰＭＭＡ、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアルキルトリアルコキシシロキサンおよびこれらの成分の混合物である。
【０００５】
ＪＰ  ０９３１１２０５は、バックライトユニットにおけるディフューザー用のＰＣ／（ポリ（４−メチル−１−ペンテン）ブレンドのマトリックス材料としての使用を記述している。
【０００６】
ＪＰ  ０３０７８７０１は、カルシウムカーボネートおよび二酸化チタンを散乱顔料として含む、光透過率約４０％の光散乱ＰＣシートを記述している。
【０００７】
ＪＰ  ０５２５７００２は、シリカの散乱顔料を有する光散乱ＰＣシートを記述している。
【０００８】
ＪＰ  １００４６０２２は、ポリオルガノシロキサンの散乱顔料を有するＰＣシートを記述している。
【０００９】
ＪＰ  ０８２２０３１１は、アクリル散乱顔料を含む５〜２５μｍの同時押出拡散層および熱可塑性樹脂のベース層を有する二層シートを記述している。使用される散乱顔料のサイズは０．１〜２０μｍである。
【００１０】
ＪＰ  １００４６０１８は、架橋球状ポリアクリレート０．０１〜１％を含有するＰＣを請求項に記載している。
【００１１】
ＪＰ  ０９０１１３２８は、押出中に適用されるエンボス加工されたリブ付構造を有するＰＣシートを請求項に記載している。
【００１２】
ＪＰ  ２００４／０２９０９１は、散乱顔料０．３〜２０％および蛍光増白剤０．０００５〜０．１％を含有するＰＣ拡散シートを記述している。
【００１３】
ＥＰ  １４０４５２０は、ペルフルオロアルキルスルホン酸塩を帯電防止剤として含む多層シートを記述している。
【００１４】
ＵＳ  ２００４／０２２８１４１は、フッ素化ホスホニウムスルホネートを帯電防止剤として含む、帯電防止特性を有する厚さ０．０２５〜０．５ｍｍの光散乱ＰＣフィルムを記述している。
【００１５】
ＪＰ  １１−００５２４１は、無機散乱顔料を有するベース層および帯電防止剤を有する透明上層（ｔｏｐ  ｌａｙｅｒ）を備える、ＰＭＭＡベースの光散乱シートを記述している。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
先行技術で知られている拡散シートは、特に、いわゆるバックライトユニットにおいて通常使用されるフィルムのセットと併用される場合に、輝度が不充分である。ＬＣＤフラットスクリーン用のいわゆるバックライトユニット用の光散乱シートの好適性を評価するために、全体としてのシステムの輝度を考慮しなければならない。
【００１７】
原則として、バックライトユニット（直接光システム（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｇｈｔ  ｓｙｓｔｅｍ））は、以下に示される構造を有する。バックライトユニットは、一般的に、バックライトユニットのサイズに依存してさまざまな数の蛍光灯、いわゆるＣＣＦＬ（冷陰極蛍光ランプ）が配列されているハウジングからなる。ハウジング内には、光反射面が備えられている。厚さ１〜３ｍｍ、好ましくは厚さ１．５〜２ｍｍの拡散シートがこの照明システムに配置されている。拡散シート上に以下の機能：光散乱（拡散フィルム）、円偏光子、いわゆるＢＥＦ（輝度向上フィルム）による順方向における集光および直線偏光子、を有し得るフィルムのセットが置かれている。ＬＣＤディスプレイの真下に位置する直線偏光フィルムがその上に置かれる。
【００１８】
光学用途用光散乱プラスチック組成物は、通常、直径１〜５０マイクロメートル、場合によっては最大１２０μｍまで、の無機または有機粒子を常に含有する、すなわち拡散および集光特性両方に関与する散乱中心を含む。
【００１９】
先行技術によると、原則として、透明散乱顔料として、透明プラスチック材料、好ましくはポリカーボネートの加工温度において破壊されないように少なくとも３００℃までの充分高い熱安定性を有するアクリレートが使用され得る。加えて、顔料は、ポリカーボネートのポリマー鎖の分解をもたらす官能性を有してはならない。
【００２０】
それらとしては、以下の種類のコア−シェルアクリレートが挙げられる。
【００２１】
例えば、Ｒｏｈｍ＆Ｈａａｓ製のＰａｒａｌｏｉｄ（登録商標）または積水製のＴｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ（登録商標）が透明プラスチック材料の顔料着色に非常にうまく使用され得る。多数の異なるタイプがこの製品ラインから入手可能である。Ｐａｒａｌｏｉｄ群のコア−シェルアクリレートの使用が好ましい。
【００２２】
１〜５０μｍの粒子が波長３５０〜８００ｎｍの光の光散乱に特に好適である。１０〜２００ｎｍのナノスケールの粒子は光散乱へごくわずかにしか貢献せず、従って、光学特性における役割は、ごくわずかである。
【００２３】
全く意外なことに、通常のμｍサイズのコア−シェルアクリレート散乱粒子に加えて特に少量のナノスケール粒子を含むプラスチック組成物から製造されるポリカーボネートシートが意外なことに、同じ光散乱度を示しながらＢＬＵにおいて高い輝度を示すことがわかった。この効果は、バックライトユニット（ＢＬＵ）において典型的に使用されるフィルムのセットとの併用において、より明白である。
【００２４】
先行技術の特許明細書はいずれも、本発明によるプラスチック組成物に対応するナノスケール相の形成を議論していない。従って、本発明によるプラスチック組成物の光学特性に関するこれらの粒子の重要性は、議論されていない。
【００２５】
意外なことに、平均粒径８０〜２００ｎｍの粒子の含量が、曇り度によって示される散乱作用に効果を有さないにもかかわらず、ＢＬＵにおける拡散シートの輝度に著しい悪影響を有することがわかった。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
従って、本発明は、マトリックス材料の屈折率と異なる屈折率を有する透明ポリマー粒子を含み、かつ平均粒径８０〜２００ｎｍのナノスケール粒子含量がプラスチック組成物の表面積１００μｍ２あたり２０個未満、好ましくは１００μｍ２あたり１０個未満、特に好ましくは１００μｍ２あたり５個未満であることを特徴とするプラスチック組成物およびそれらから製造される拡散シートを提供する。
【００２７】
表面積あたりの粒子数は、原子間力顕微鏡法（ＡＦＭ）によって表面を調査することによって決定される。この方法は当業者に知られており、実施例においてより詳細に記述される。
【００２８】
本発明の好ましい態様は、透明プラスチック材料、好ましくはポリカーボネート８０〜９９．９９ｗｔ．％、および粒度が実質的に１〜５０μｍのポリマー粒子０．０１〜２０ｗｔ．％を含有する組成物を含有し、粒度８０〜２００ｎｍの粒子の含量がプラスチック組成物の表面積１００μｍ２あたり２０個未満、好ましくは１００μｍ２あたり１０個未満、特に好ましくは１００μｍ２あたり５個未満であることを特徴とするプラスチック組成物である。
【００２９】
本発明は、更に、本発明によるプラスチック組成物の製造方法も提供する。
【００３０】
本発明によるプラスチック組成物は、好ましくは製造され、更に熱可塑性処理によって処理される。ナノスケールポリマー粒子は、熱可塑性処理中、剪断によって形成される。粒子の剪断速度および機械的安定性は、適合され得、当業者に既知である。しかしながら、そのモルホロジーのため、本発明によるプラスチック組成物を生じるので、コア／シェルアクリレートが好ましく使用される。
【００３１】
本発明は、更に、シート、特にＬＣＤディスプレイのバックライティングにおけるフラットスクリーン用の拡散シートの製造における本発明によるプラスチック組成物の使用にも関する。
【００３２】
本発明によるプラスチック組成物から製造される拡散シートは、高い光透過率を有し、一方、同時に、高い光散乱度を有し、例えば、高い光透過率および見る人に対する方向における集光と同時の高い光散乱度が極めて重要であるフラットスクリーン（ＬＣＤスクリーン）の照明システムにおいて使用され得る。そのようなフラットスクリーンの照明システムは、側面光入力（ｌａｔｅｒａｌ  ｌｉｇｈｔ  ｉｎｐｕｔ）（エッジライトシステム）または、側面光入力が充分でない、より大きなスクリーンサイズの場合、拡散シートの後ろの直接光が拡散シートによってできるだけ均一に分配されなければならないバックライトユニット（ＢＬＵ）（直接光システム）によって達成され得る。
【００３３】
好適なプラスチック材料は、透明熱可塑性樹脂：ポリアクリレート、ポリメタクリレート（ＰＭＭＡ；Ｒｏｅｈｍ製のＰｌｅｘｉｇｌａｓ（登録商標））、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ；Ｔｉｃｏｎａ製のＴｏｐａｓ（登録商標）；日本ゼオン製のＺｅｎｏｅｘ（登録商標）または日本合成ゴム製のＡｐｅｌ（登録商標））、ポリスルホン（ＢＡＳＦ製のＵｌｔｒａｓｏｎ（登録商標）またはＳｏｌｖａｙ製のＵｄｅｌ（登録商標））、ポリエステル、例えば、ＰＥＴまたはＰＥＮ、ポリカーボネート、ポリカーボネート／ポリエステルブレンド、例えば、ＰＣ／ＰＥＴ、ポリカーボネート／ポリシクロヘキシルメチルメタノールシクロヘキサンジカルボキシレート（ＰＣＣＤ；ＧＥ製のＸｙｌｅｃｓ（登録商標））、ポリカーボネート／ＰＢＴである。
【００３４】
ポリカーボネートの使用が好ましい。
【００３５】
本発明によるプラスチック組成物の製造に好適なポリカーボネートは、既知の全てのポリカーボネートである。それらは、ホモポリカーボネート、コポリカーボネートおよび熱可塑性ポリエステルカーボネートである。
【００３６】
好適なポリカーボネートは、好ましくは、ジクロロメタンにおいてまたはフェノール／ｏ−ジクロロベンゼンの等重量混合物において相対溶液粘度を測定し、光散乱によって較正することによって決定される平均分子量Ｍｗ１８，０００〜４０，０００、好ましくは２６，０００〜３６，０００、特に２８，０００〜３５，０００を有する。
【００３７】
ポリカーボネートの製造は、好ましくは、相界面法（ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ  ｐｒｏｃｅｓｓ）または溶融エステル交換法によって行われる。以下に相界面法の例を用いて記述する。
【００３８】
ポリカーボネートは、とりわけ、相界面法によって製造される。このポリカーボネートの合成方法は、何度も文献に記述されている。一例として、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｒｅｖｉｅｗｓ，第９巻，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク１９６４年３３頁以降、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｒｅｖｉｅｗｓ，第１０巻，“Ｃｏｎｄｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ  ｂｙ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ  ａｎｄ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ  Ｍｅｔｈｏｄｓ”，Ｐａｕｌ  Ｗ．Ｍｏｒｇａｎ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク１９６５年，第ＶＩＩＩ章，３２５頁、Ｄｒｅｓ．Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｋ．Ｋｉｒｃｈｅｒ  ａｎｄ  Ｐ．−Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ  “Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ”  ｉｎ  Ｂｅｃｋｅｒ／Ｂｒａｕｎ，Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ，第３／１巻，Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ，Ｐｏｌｙａｃｅｔａｌｅ，Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ，Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｅｓｔｅｒ，Ｃａｒｌ  Ｈａｎｓｅｒ  Ｖｅｒｌａｇ  Ｍｕｎｉｃｈ，ウィーン１９９２年，１１８〜１４５頁、およびＥＰ−Ａ  ０  ５１７  ０４４を参照し得る。
【００３９】
この方法によると、水性アルカリ溶液（または懸濁液）に導入されたビスフェノール（または異なるビスフェノールの混合物）の二ナトリウム塩のホスゲン化を第二の相を形成する不活性有機溶媒または溶媒混合物の存在下において行う。主に有機相に存在する生じるオリゴカーボネートを好適な触媒を用いて縮合し、有機相に溶解された高分子量ポリカーボネートを形成する。最後に、有機相を分離し、さまざまなワークアップ工程（ｗｏｒｋｉｎｇ−ｕｐ  ｓｔｅｐｓ）によってそこからポリカーボネートを単離する。
【００４０】
本発明により使用されるポリカーボネートの製造に好適なジフェノールの例は、ヒドロキノン、レソルシノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビス（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス−（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルホキシド、α，α’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼン並びにそれらのアルキル化、環アルキル化、および環ハロゲン化化合物である。
【００４１】
好ましいジフェノールは、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル−プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニル−エタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，３−ビス−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン（ビスフェノールＭ）、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−スルホン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，３−ビス−［２−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン、１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンおよび１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（ビスフェノールＴＭＣ）およびそれらの混合物である。
【００４２】
特に好ましいジフェノールは、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニル−エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンおよび１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（ビスフェノールＴＭＣ）およびそれらの混合物である。
【００４３】
これらおよび別の好適なジフェノールは、例えば、ＵＳ−Ａ  ２  ９９９  ８３５、３  １４８  １７２、２  ９９１  ２７３、３  ２７１  ３６７、４  ９８２  ０１４および２  ９９９  ８４６、ドイツ国公開特許第１  ５７０  ７０３号、第２  ０６３  ０５０号、第２  ０３６  ０５２号、第２  ２１１  ９５６号および第３  ８３２  ３９６号、フランス国特許明細書第１  ５６１  ５１８号、モノグラフ“Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク１９６４年，２８頁以降；１０２頁以降”および“Ｄ．Ｇ．Ｌｅｇｒａｎｄ，Ｊ．Ｔ．Ｂｅｎｄｌｅｒ，Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｍａｒｃｅｌ  Ｄｅｋｋｅｒニューヨーク２０００年、７２頁以降”に記述されている。
【００４４】
ホモポリカーボネートの場合、一種類のジフェノールのみが使用され、コポリカーボネートの場合、複数のジフェノールが使用され、もちろん、使用されるビスフェノールに関して、合成に添加される別の化学物質および助剤と同様に、できるだけ純粋な原料でワーク（ｗｏｒｋ）することが望ましいが、その合成、取扱および貯蔵由来の不純物で汚染されていてもよい。
【００４５】
分子量を調節するのに必要とされる一官能性連鎖停止剤、例えば、フェノールまたはアルキルフェノール、特にフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノール、イソオクチルフェノール、クミルフェノール、それらのクロロ炭酸エステルまたはモノカルボン酸の酸塩化物、またはこれらの連鎖停止剤の混合物を、反応にビスフェノレートと共に供給するかまたはホスゲンもしくはクロロ炭酸末端基が反応混合物中にまだ存在するかもしくは、連鎖停止剤として酸塩化物およびクロロ炭酸エステルの場合、形成中のポリマーの充分なフェノール性末端基が利用可能である所望の時点で合成に添加する。しかしながら、好ましくは、連鎖停止剤は、ホスゲン化の後に別のホスゲンが存在しないが触媒がまだ計量添加されていない場所または時間において添加される。すなわち、触媒の前に、触媒と共にまたはそれに平行して計量添加される。
【００４６】
使用される分枝剤または分枝剤混合物は同様に合成に添加されるが、通常、連鎖停止剤の前に添加される。トリスフェノール、第４フェノール（ｑｕａｔｅｒｎａｒｙ  ｐｈｅｎｏｌｓ）またはトリ−もしくはテトラ−カルボン酸の酸塩化物が通常使用されるか、またはポリフェノールの混合物または酸塩化物の混合物である。
【００４７】
使用され得る三以上のフェノール性ヒドロキシル基を有するいくつかの化合物の例は、
フロログルシノール、
４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ヘプテン、
４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、
１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゼン、
１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、
トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタン、
２，２−ビス−（４，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プロパン、
２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェノール、
テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン
である。
【００４８】
別の三官能性化合物のいくつかは、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌルおよび３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールである。
【００４９】
好ましい分枝剤は、３，３−（ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールおよび１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタンである。
【００５０】
相界面合成において使用される触媒は、第三級アミン、特に、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−ｉ／ｎ−プロピルピペリジン；第四級アンモニウム塩、例えばテトラブチルアンモニウム／トリブチルベンジルアンモニウム／テトラエチルアンモニウム  水酸化物／塩化物／臭化物／硫酸水素塩／テトラフルオロボレート；および更にアンモニウム化合物に対応するホスホニウム化合物である。これらの化合物は、典型的な相界面触媒として、文献に記述されており、市販されており、当業者に既知である。これらの触媒は合成に単独で添加されても混合物で添加されても同時にかつ連続して、任意に更にホスゲン化の前に添加されてもよいが、オニウム化合物またはオニウム化合物の混合物が触媒として使用されなければ、ホスゲンの導入後の計量添加が好ましく、オニウム化合物またはオニウム化合物の混合物が触媒として使用される場合、ホスゲンが計量添加される前に触媒を添加することが好ましい。触媒は、溶媒なしで、不活性溶媒、好ましくはポリカーボネート合成において使用される溶媒、中で、または水性溶液の形態で、三級アミンの場合、それらの酸、好ましくは無機酸、特に塩化水素酸とのアンモニウム塩の形態で計量添加され得る。複数の触媒が使用される場合、または触媒総量の部分量が計量添加される場合、異なる場所または異なる時間において異なる計量添加法を使用することがもちろん可能である。使用される触媒の総量は、使用されるビスフェノールのモルに基づいて０．００１〜１０ｍｏｌ．％、好ましくは０．０１〜８ｍｏｌ．％、特に好ましくは０．０５〜５ｍｏｌ．％である。
【００５１】
ポリカーボネートを、ジアリールカーボネートとジフェノールとから、ポリカーボネートの溶融状態における既知の方法、いわゆる溶融エステル交換法（これは、例えば、ＷＯ−Ａ  ０１／０５８６６およびＷＯ−Ａ  ０１／０５８６７に記述されている。）によって製造することも可能である。加えて、エステル交換法（アセテート法およびフェニルエステル法）は、例えば、ＵＳ−Ａ  ３４  ９４  ８８５、４３  ８６  １８６、４６  ６１  ５８０、４６  ８０  ３７１および４６  ８０  ３７２、ＥＰ−Ａ  ２６  １２０、２６  １２１、２６  ６８４、２８  ０３０、３９  ８４５、３９  ８４５、９１  ６０２、９７  ９７０、７９  ０７５、１４  ６８  ８７、１５  ６１  ０３、２３  ４９  １３および２４  ０３  ０１並びにＤＥ−Ａ  １４  ９５  ６２６および２２  ３２  ９７７に記述されている。
【００５２】
ホモポリカーボネートおよびコポリカーボネートの両方が好適である。本発明による成分Ａとしてのコポリカーボネートの製造に関して、ヒドロキシ−アリールオキシ末端基を有するポリジオルガノシロキサン１〜２５ｗｔ．％、好ましくは２．５〜２５ｗｔ．％（使用されるジフェノールの総量に基づく。）を使用することも可能である。これらは既知（例えば、米国特許第３  ４１９  ６３４号参照。）であるかまたは文献で知られている方法によって製造されうる。ポリジオルガノシロキサンを含むコポリカーボネートの製造の製造は、例えば、ＤＥ−ＯＳ  ３３  ３４  ７８２に記述されている。
【００５３】
ビスフェノールＡのホモポリカーボネートに加えて好ましいポリカーボネートは、ビスフェノールＡと好ましいかまたは特に好ましいと言及されたジフェノール以外のジフェノール、特に、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、ジフェノールのモルの合計に基づいて１５ｍｏｌ．％以下とのコポリカーボネートである。
【００５４】
ポリエステルカーボネートおよびブロックコポリエステルカーボネート、特にＷＯ  ２０００／２６２７５に記述されているものが更に好適である。芳香族ポリエステルカーボネートの製造に関する芳香族ジカルボン酸二ハロゲン化物は、好ましくは、イソフタル酸、テレフタル酸、ジフェニルエーテル４，４’−ジカルボン酸およびナフタレン−２，６−ジカルボン酸の二酸二塩化物である。
【００５５】
イソフタル酸およびテレフタル酸の二酸二塩化物の１：２０〜２０：１の混合物が特に好ましい。
【００５６】
ポリエステルカーボネートの製造において、炭酸ハロゲン化物、好ましくはホスゲン、が二官能性酸誘導体として更に付随して使用される。
【００５７】
芳香族ポリエステルカーボネートの製造に関する連鎖停止剤として、既に言及したモノフェノールに加えて、更に、それらのクロロ炭酸エステルおよび任意にＣ１〜Ｃ２２−アルキル基によってまたはハロゲン原子によって置換されていてもよい芳香族モノカルボン酸の酸塩化物、並びに脂肪族Ｃ２〜Ｃ２２−モノカルボン酸塩化物も考慮に入る。
【００５８】
連鎖停止剤の量は、フェノール性連鎖停止剤の場合ジフェノールのモルに基づいて、モノカルボン酸塩化物連鎖停止剤の場合ジカルボン酸二塩化物のモルに基づいて、いずれの場合も０．１〜１０ｍｏｌ．％である。
【００５９】
芳香族ポリエステルカーボネートは、更にそれに組み込まれた芳香族ヒドロキシカルボン酸を含みうる。
【００６０】
芳香族ポリエステルカーボネートは、直線的にかつ既知の方法で分枝されていてもよい（これに関連して、更にＤＥ−ＯＳ  ２９  ４０  ０２４およびＤＥ−ＯＳ  ３０  ０７  ９３４参照。）。
【００６１】
分枝剤として、例えば、３以上の官能性を有するカルボン酸塩化物、例えば、トリメシン酸三塩化物、シアヌル酸三塩化物、３，３’−４，４’−ベンゾフェノン−テトラカルボン酸四塩化物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸四塩化物またはピロメリット酸四塩化物、０．０１〜１．０ｍｏｌ．％（使用されるジカルボン酸二塩化物に基づく）または３以上の官能性を有するフェノール、例えば、フロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−２，４，４−ヘプテン、ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタン、２，２−ビス［４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェノール、テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，６−ビス−（２−ヒドロキシ−５−メチル−ベンジル）−４−メチル−フェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−プロパン、テトラ−（４−［４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル］−フェノキシ）−メタン、１，４−ビス−［４，４’−ジヒドロキシトリフェニル）−メチル］−ベンゼン、使用されるジフェノールに基づいて０．０１〜１．０ｍｏｌ．％が使用され得る。フェノール性分枝剤は、ジフェノールと共に容器に入れられ得、酸塩化物分枝剤は、酸二塩化物と共に導入され得る。
【００６２】
熱可塑性芳香族ポリエステルカーボネートにおけるカーボネート構造単位の割合は所望の通り変化され得る。
【００６３】
カーボネート基の割合は、エステル基とカーボネート基の合計に基づいて、好ましくは１００ｍｏｌ．％以下、特に８０ｍｏｌ．％以下、特に好ましくは５０ｍｏｌ．％以下である。
【００６４】
芳香族ポリエステルカーボネートに含まれるエステルおよびカーボネート両方がブロックの形態またはランダム分布形態において重縮合生成物中に存在し得る。
【００６５】
芳香族ポリエステルカーボネートの相対溶液粘度（ηｒｅｌ）は、１．１８〜１．４、好ましくは１．２２〜１．３の範囲内である（塩化メチレン溶液１００ｍｌ中ポリエステルカーボネート０．５ｇの溶液において２５℃において測定。）。
【００６６】
熱可塑性芳香族ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネートは、単独で使用されても互いの所望の混合物において使用されてもよい。
【００６７】
本発明の範囲内のコポリカーボネートは、特に、平均分子量Ｍｗ約１０，０００〜２００，０００、好ましくは２０，０００〜８０，０００（事前の較正後、ゲルクロマトグラフィーによって決定。）かつ芳香族カーボネート構造単位含量約７５〜９７．５ｗｔ．％、好ましくは８５〜９７ｗｔ．％、かつポリジオルガノシロキサン構造単位含量約２５〜２．５ｗｔ．％、好ましくは１５〜３ｗｔ．％であり、α，ω−ビスヒドロキシアリールオキシ末端基を含み、重合度Ｐｎ５〜１００、好ましくは２０〜８０のポリジオルガノシロキサンから製造されるポリジオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーである。
【００６８】
ポリジオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックポリマーは、更に、ポリジオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーと常套のポリシロキサンフリーの熱可塑性ポリカーボネートとの、ポリジオルガノシロキサン構造単位の総量約２．５〜２５ｗｔ．％の混合物であってもよい。
【００６９】
そのようなポリジオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーは、ポリマー鎖中に、一方で芳香族カーボネート構造単位（１）を含み、他方でアリールオキシ末端基を含むポリジオルガノシロキサン（２）を含むことを特徴とする。
【００７０】
そのようなポリジオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーは、例えば、ＵＳ−ＰＳ  ３  １８９  ６６２、ＵＳ−ＰＳ  ３  ８２１  ３２５およびＵＳ−ＰＳ  ３  ８３２  ４１９で知られている。
【００７１】
好ましいポリジオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーは、α，ω−ビスヒドロキシアリールオキシ末端基を含むポリジオルガノシロキサンと別のジフェノールとを、任意に分枝剤を常套の量で併用して、例えば、二相界面法（これに関連して、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｒｅｖ．第ＩＸ巻，２７頁以降，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓニューヨーク１９６４年参照。）によって、二官能性フェノール性反応物の比を、芳香族カーボネート構造単位とジオルガノシロキシ単位の本発明による含量がそれらから生じるように選択して反応させることによって製造する。
【００７２】
そのようなα，ω−ビスヒドロキシアリールオキシ末端基を含むポリジオルガノシロキサンは、例えば、ＵＳ  ３  ４１９  ６３４で知られている。
【００７３】
本発明により使用される、コア−シェルモルホロジーを有するアクリレートベースのポリマー粒子は、例えば、好ましくは、ＥＰ−Ａ  ６３４  ４４５に開示されているアクリレートベースのポリマー粒子である。
【００７４】
これらのポリマー粒子は、ゴム様ビニルポリマーのコアを有する。ゴム様ビニルポリマーは、少なくとも一つのエチレン様不飽和基を有し、当業者に水性媒体においてエマルジョン重合の条件下において付加重合に参加すると知られている所望のモノマーのホモ−またはコ−ポリマーであり得る。そのようなモノマーは、ＵＳ  ４  ２２６  ７５２，第３段、４０〜６２行に列挙されている。
【００７５】
ゴム様ビニルポリマーは、好ましくは、重合アクリレート、メタクリレート、モノビニルアレーンまたは任意に置換されていてもよいブタジエン、ゴム様ビニルポリマーの総重量に基づいて、少なくとも１５％、より好ましくは少なくとも２５％、最も好ましくは少なくとも４０％および一種類以上の共重合ビニルモノマー、０〜８５％、より好ましくは０〜７５％、最も好ましくは０〜６０％を含有する。
【００７６】
好ましいアクリレートおよびメタクリレートは、炭素原子を好ましくは１〜１８個、特に好ましくは１〜８個、最も好ましくは２〜８個を含むアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ．−ブチルまたはｔｅｒｔ．−ブチルまたはヘキシル、ヘプチルまたはオクチル基）を有するアルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートである。アルキル基は直鎖であっても分枝していてもよい。好ましいアルキルアクリレートは、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレートまたは２−エチルヘキシルアクリレートである。最も好ましいアルキルアクリレートは、ブチルアクリレートである。
【００７７】
別の好適なアクリレートの例は、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチルチオエチルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、ｔｅｒｔ．−ブチルアミノエチルメタクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、グリシジルメタクリレートおよびベンジルメタクリレートである。
【００７８】
好ましいモノビニルアレーンは、スチレンまたはα−メチルスチレンであり、任意に芳香族環がアルキル基（例えば、メチル、エチルまたはｔｅｒｔ．−ブチル）、またはハロゲン（例えば、クロロスチレン）で置換されていてもよい。
【００７９】
置換されている場合、ブタジエンは、好ましくは炭素原子１〜６個を含む一以上のアルキル基または一以上のハロゲン、最も好ましくは一以上のメチル基および／または一以上の塩素原子で置換されている。好ましブタジエンは、１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロブタジエンおよび２，３−ジメチル−１，３−ブタジエンである。
【００８０】
ゴム様ビニルポリマーは、一以上の（共）重合アクリレート、メタクリレート、モノビニルアレーンおよび／または任意に置換されていてもよいブタジエンを含有し得る。これらのモノマーは、一種類以上の別の共重合性ビニルポリマー、例えば、ジアセトンアクリルアミド、ビニルナフタレン、４−ビニルベンジルアルコール、ビニルベンゾエート、ビニルプロピオネート、ビニルカプロエート、ビニルクロリド、ビニルオレエート、ジメチルマレエート、マレイン酸無水物、ジメチルフマレート、ビニルスルホン酸、ビニルスルホンアミド、メチルビニルスルホネート、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ジビニルベンゼン、ビニルアセテート、ビニルバーサテート（ｖｉｎｙｌ  ｖｅｒｓａｔａｔｅ）、アクリル酸、メタクリル酸、Ｎ−メチルメタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミドまたはＮ−（イソブトキシメチル）−アクリルアミドと共重合していてもよい。
【００８１】
上記モノマーの一種類以上が、任意に共重合性多官能性架橋剤、コアの総重量に基づいて、０〜１０％、好ましくは０〜５％および／または共重合性多官能性グラフト架橋剤０〜１０％、好ましくは０〜５％と反応していてもよい。架橋モノマーが使用される場合、好ましくは、コアモノマーの総重量に基づいて、０．０５〜５％、より好ましくは０．１〜１％の含量で使用される。架橋モノマーは専門家分野においてよく知られており、一般に、エチレン様不飽和基がおおよそ同じ反応性を有するポリエチレン様不飽和を有する（例えば、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、１，３−もしくは１，４−トリオールアクリレートもしくはメタクリレート、グリコールジ−もしくはトリ−メタクリレートもしくはアクリレート、例えば、エチレングリコールジメタクリレートもしくはジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレートもしくはジアクリレート、１，３−もしくは１，４−ブチレングリコールジメタクリレートまたは、最も好ましくは、１，３−もしくは１，４−ブチレングリコールジアクリレート）。グラフト架橋モノマーが使用される場合、コアモノマーの総重量に基づいて、好ましくは０．１〜５％、より好ましくは０．５〜２．５％の含量で使用される。グラフト−架橋モノマーは、専門家分野においてよく知られており、一般に不飽和基が充分低い反応性を有して重合後にコアに残る著しい残留不飽和が可能であるポリエチレン様不飽和モノマーである。好ましいグラフト架橋剤は、α，β−エチレン様不飽和カルボン酸またはジカルボン酸の共重合性アリル、メタリルまたはクロチルエステル、例えば、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、ジアリルマレエートおよびアリルアクリルオキシプロピオネート、最も好ましくはアリルメタクリレートである。
【００８２】
最も好ましくは、ポリマー粒子は、アルキル基が炭素原子を２〜８個有し、任意にコアの総重量に基づいて架橋剤０〜５％およびグラフト架橋剤０〜５％と共重合していてもよい、ゴム様アルキルアクリレートポリマーのコアを含む。ゴム様アルキルアクリレートは、好ましくは、一種類以上の共重合性ビニルモノマー（例えば、上記モノマー）５０％以下と共重合している。好適な架橋モノマーおよびグラフト架橋モノマーは、当業者によく知られており、好ましくは、ＥＰ−Ａ  ０  ２６９  ３２４に記述されているものである。
【００８３】
ポリマー粒子のコアは、重合工程においてポリマー粒子を膨潤させるために使用された残留オリゴマー材料を含み得るが、そのようなオリゴマー材料はその拡散を防ぐかまたは加工もしくは使用中に抽出されるのを防ぐのに充分な分子量を有する。
【００８４】
ポリマー粒子は、一つのジャケットまたは複数のジャケットを含む。この一つのジャケットまたは複数のジャケットは、好ましくは、ビニルホモ−またはコ−ポリマーから製造される。ジャケットの製造に好適なモノマーは、米国特許第４  ２２６  ７５２号，第４段，２０〜４６行に列挙されている（その情報を参照する。）。一つのジャケットまたは複数のジャケットは、好ましくはメタクリレート、アクリレート、ビニルアレーン、ビニルカルボキシレート、アクリル酸および／またはメタクリル酸のポリマーである。
【００８５】
好ましいアクリレートおよびメタクリレートは、アルキル基中に炭素原子を好ましくは１〜１８個、より好ましくは１〜８個、最も好ましくは２〜８個含む（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチルまたはｔｅｒｔ．−ブチル、２−エチルヘキシルまたはヘキシル、ヘプチルまたはオクチル基）アルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートである。アルキル基は、直鎖であっても分枝していてもよい。好ましいアルキルアクリレートは、エチルアクリレートである。使用され得る別のアクリレートおよびメタクリレートは、コアに関して上文で言及したアクリレートおよびメタクリレート、好ましくは３−ヒドロキシプロピルメタクリレートである。最も好ましいアルキルメタクリレートは、メチルメタクリレートである。
【００８６】
好ましいビニルアレーンは、スチレンまたはα−メチルスチレンであり、任意に芳香環がアルキル基、例えば、メチル、エチルまたはｔｅｒｔ．−ブチル、またはハロゲン、例えばクロロスチレンで置換されていてもよい。
【００８７】
好ましいビニルカルボキシレートは、ビニルアセテートである。
【００８８】
ジャケットは、好ましくは、重合メタクリレート、アクリレートまたはモノビニルアレーン、少なくとも１５％、より好ましくは少なくとも２５％、最も好ましくは少なくとも４０％、および一種類以上のビニルコモノマー（例えば、別のアルキルメタクリレート、アリールメタクリレート、アルキルアクリレート、アリールアクリレート、アルキル−およびアリール−アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイミドおよび／または一以上の置換基、例えば、ハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、シアノアルキルまたはアミノで置換されたアルキルおよびアリールアクリレートおよびメタクリレート）、０〜８５％、より好ましくは０〜７５％、最も好ましくは０〜６０％を含有する。好適なビニルコモノマーの例は、上文に挙げられている。二種類以上のモノマーを共重合してもよい。
【００８９】
ジャケットポリマーは、コアポリマーに関して上で示したタイプの架橋剤および／またはグラフト架橋剤を含有し得る。
【００９０】
ジャケットポリマーは、全粒子重量の好ましくは５〜４０％、より好ましくは１５〜３５％の割合を占める。
【００９１】
ポリマー粒子は、重合アルキルアクリレートまたはメタクリレート、ポリマーの総重量に基づいて、少なくとも１５％、好ましくは２０〜８０％、より好ましくは２５〜６０％、最も好ましくは３０〜５０％を含有する。好ましいアルキルアクリレートおよびメタクリレートを上文に示した。アルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレート構成成分は、ポリマー粒子のコアおよび／またはジャケット中に存在し得る。コアおよび／またはジャケットにおいてアルキルアクリレートまたはメタクリレートのホモポリマーが使用され得るが、アルキル（メタ）アクリレートは、好ましくは、一種類以上の別のタイプのアルキル（メタ）アクリレートおよび／または一種類以上の別のビニルポリマー、好ましくは上に列挙したものと共重合される。最も好ましくは、ポリマー粒子は、ポリ（ブチルアクリレート）のコアとポリ（メチルメタクリレート）のジャケットとを含有する。
【００９２】
ポリマー粒子は、透明プラスチック材料、好ましくはポリカーボネートに光散乱特性を与えるのに使用され得る。ポリマー粒子のコアおよびジャケットの屈折率ｎは、好ましくは、ポリカーボネートの屈折率の＋／−０．２５ユニット以内、より好ましくは＋／−０．１８ユニット以内、最も好ましくは＋／−０．１２ユニット以内である。コアおよびジャケットの屈折率ｎは、好ましくは、ポリカーボネートの屈折率に対して＋／−０．００３ユニットよりも近くなく、より好ましくは＋／−０．０１ユニットよりも近くなく、最も好ましくは＋／−０．０５ユニットよりも近くない。屈折率は、規格ＡＳＴＭ  Ｄ  ５４２−５０および／またはＤＩＮ  ５３  ４００に従って測定される。相応じて、屈折率の差は、異なるマトリックス材料が使用される場合、同じ値を有する。
【００９３】
ポリマー粒子は、一般的に平均粒径少なくとも０．５μｍ、好ましくは少なくとも２μｍ、より好ましくは２〜５０μｍ、最も好ましくは２〜１５μｍを有する。語句「平均粒径」は、数平均を意味すると理解されるべきである。好ましくは少なくとも９０％、最も好ましくは少なくとも９５％のポリマー粒子が２μｍ超の直径を有する。ポリマー粒子は、さらさらのパウダー、好ましくは圧縮形態である。
【００９４】
ポリマー粒子は、既知の方法で製造され得る。一般的に、コアポリマーの少なくとも一種類のモノマー成分をエマルジョンポリマー粒子の形成を伴ってエマルジョン重合する。エマルジョンポリマー粒子をコアポリマーのモノマー成分と同一または一種類以上の異なるモノマー成分で膨潤し、モノマーをエマルジョンポリマー粒子内で重合する。膨潤工程および重合工程は、粒子が所望のコアサイズに成長するまで繰り返され得る。コアポリマー粒子を第二水性モノマーエマルジョン中で懸濁し、モノマーのポリマージャケットを第二エマルジョンにおいてポリマー粒子上に重合する。一つのジャケットまたは複数のジャケットがコアポリマー上に重合され得る。コア／ジャケットポリマー粒子の製造は、ＥＰ−Ａ  ０  ２６９  ３２４および米国特許第３，７９３，４０２号および第３，８０８，１８０号に記述されている。
【００９５】
意外なことに、少量の蛍光増白剤の使用が輝度値を更に増加させ得ることが更に示された。
【００９６】
従って、本発明の態様は、更にビスベンズオキサゾール、フェニルクマリンまたはビススチリルビフェニルの種類の蛍光増白剤０．００１〜０．２ｗｔ．％、好ましくは約１０００ｐｐｍを含有し得る、本発明によるプラスチック組成物によって構成される。
【００９７】
特に好ましい蛍光増白剤は、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｚｉａｌｉｔａｅｔｅｎｃｈｅｍｉｅ製のＵｖｉｔｅｘ  ＯＢである。
【００９８】
本発明によるプラスチック組成物は、射出成形または押出によって製造され得る。
【００９９】
大きな表面積を有するソリッドシート（ｓｏｌｉｄ  ｓｈｅｅｔ）の場合、射出成形による製造は、技術的理由により経済的に行われ得ない。そのような場合、押出法が好ましい。押出に関して、ポリカーボネートグラニュールを押出機に供給し、押出機の可塑化システムにおいて溶融する。プラスチック溶融物をシートダイを通してプレスし、それにより成形し、フリクションカレンダーのロールスリットにおいて所望の最終形態にし、その形態を平滑ローラーおよび周囲空気における交互冷却によって固定する。押出に使用される高い溶融粘度を有するポリカーボネートは、通常、溶融温度２６０〜３２０℃において処理され、可塑化シリンダーのシリンダー温度およびダイ温度はそれに応じて調節される。
【０１００】
一種類以上の側面押出機（ｌａｔｅｒａｌ  ｅｘｔｒｕｄｅｒｓ）およびシートダイの上流における好適な溶融アダプターの使用によって、異なる組成を有するポリカーボネート溶融物を互いの上に置き、従って多層シートまたはフィルムを製造することが可能である（例えば、ＥＰ−Ａ  ０  １１０  ２２１およびＥＰ−Ａ  ０  １１０  ２３８参照。）。
【０１０１】
本発明による成形物体のベース層および任意に存在してもよい同時押出層の両方が、更に添加剤、例えば、ＵＶ吸収剤および別の常套の加工助剤、特に離型剤およびフロー剤、並びにポリカーボネートに常套の安定剤、特に熱安定剤、並びに帯電防止剤、蛍光増白剤、を含有してもよい。異なる添加剤または異なる添加剤濃度が各層に存在してもよい。
【０１０２】
好ましい態様において、ソリッドシートの組成物は、更に、ベンゾトリアゾール誘導体、二量体ベンゾトリアゾール誘導体、トリアジン誘導体、二量体トリアジン誘導体、ジアリールシアノアクリレートの種類のＵＶ吸収剤０．０１〜５ｗｔ．％を含有する。
【０１０３】
特に、同時押出層は、ＵＶ吸収剤および離型剤を含有し得る。
【０１０４】
好適な安定剤は、例えば、ホスフィン、ホスフィットまたはＳｉ含有安定剤、およびＥＰ−Ａ  ０  ５００  ４９６に記述されている別の化合物である。言及され得る例としては、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス−（ノニルフェニル）ホスフィット、テトラキス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィットおよびトリアリールホスフィットが挙げられる。トリフェニルホスフィンおよびトリス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）ホスフィットが特に好ましい。
【０１０５】
好適な離型剤は、例えば、一価〜六価アルコール、特にグリセロール、ペンタエリトリトールまたはゲルベアルコールのエステルまたは部分エステルである。
【０１０６】
一価アルコールの例は、ステアリルアルコール、パルミチルアルコールおよびゲルベアルコールであり、二価アルコールの例は、グリコールであり、三価アルコールの例は、グリセロールであり、四価アルコールの例は、ペンタエリトリトールおよびメソエリトリトールであり、五価アルコールの例は、アラビトール、リビトールおよびキシリトールであり、六価アルコールの例は、マンニトール、グルシトール（ソルビトール）およびズルシトールである。
【０１０７】
エステルは、好ましくは、飽和脂肪族Ｃ１０−〜Ｃ３６−モノカルボン酸および要すればヒドロキシ−モノカルボン酸、好ましくは飽和脂肪族Ｃ１４−〜Ｃ３２−モノカルボン酸および要すればヒドロキシ−モノカルボン酸の、モノエステル、ジエステル、トリエステル、テトラエステル、ペンタエステルおよびヘキサエステルまたはそれらの混合物、特にランダム混合物である。
【０１０８】
市販の脂肪酸エステル、特にペンタエリトリトールの脂肪酸エステルおよびグリセロールの脂肪酸エステルは、その製造により６０％未満の異なる部分エステルを含み得る。
【０１０９】
炭素原子を１０〜３６個有する飽和脂肪族モノカルボン酸は、例えば、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ヒドロキシステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸およびモンタン酸である。
【０１１０】
好適な帯電防止剤の例は、カチオン性化合物、例えば、第四級アンモニウム、ホスホニウムまたはスルホニウム塩、アニオン性化合物、例えば、アルキルスルホネート、アルキルスルフェート、アルキルホスフェート、アルカリまたはアルカリ土類金属塩の形態のカルボキシレート、非イオン性化合物、例えば、ポリエチレングリコールエステル、ポリエチレングリコールエーテル、脂肪酸エステル、エトキシル化脂肪族アミンである。好ましい帯電防止剤は、非イオン性化合物である。
【０１１１】
以下の実施例は、本発明を限定することなく説明することを意図する。
【実施例】
【０１１２】
実施例
実施例１および２において言及される２ｍｍソリッドシートは、以下のように製造された：
１．  常套の二軸配合押出機（例えば、ＺＳＫ  ３２）を用いるポリカーボネートに常套の加工温度２５０〜３３０℃におけるコンパウンドの製造
２．  任意に同時押出であってもよい２ｍｍソリッドシートを製造するのに用いられる機械および装置は以下のものを含む：
−  長さ３３Ｄかつ直径７０ｍｍのスクリューを有し、ガス抜きを有する主押出機
−  長さ２５Ｄかつ直径３５ｍｍのスクリューを有する、上層を適用するための同時押出機
−  幅４５０ｍｍを有する専用同時押出シートダイ
−  フリクションカレンダー
−  ローラーコンベア
−  テイクオフ（ｔａｋｅ−ｏｆｆ）装置
−  切断装置（ソー）および送出テーブル（ｄｅｌｉｖｅｒｙ  ｔａｂｌｅ）
【０１１３】
ベース材料のポリカーボネートグラニュールを主押出機の充填漏斗（ｆｉｌｌｉｎｇ  ｆｕｎｎｅｌ）に供給した。問題になっている材料を溶融し、シリンダー／スクリュー可塑化システムに運搬した。別の装置を使用して押出シートを輸送し、それらを所定の長さに切断し、堆積した。
【０１１４】
以下のタイプのポリカーボネートを以下に記述する実施例に使用した：
Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ製のＭａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１００  ００００００。
【０１１５】
実施例１
以下の組成を有するコンパウンドを製造した：
・ポリカーボネートＭａｋｒｏｌｏｎ  ３１００、９８．７ｗｔ．％
・ブタジエン／スチレンコアおよびメチルメタクリレートシェルを有し、粒度２〜１５μｍかつ平均粒度８μｍのコア−シェル粒子Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ  ＸＸ−０３ＥＪ、１．２ｗｔ．％
・熱安定剤トリフェニルホスフィン、０．１ｗｔ．％
【０１１６】
同時押出層なしの２ｍｍソリッドシートをこのコンパウンドから押し出した。
【０１１７】
実施例２
以下の組成を有するコンパウンドを製造した：
・ポリカーボネートＭａｋｒｏｌｏｎ  ３１００、９８．７ｗｔ．％
・ブタジエン／スチレンコアおよびメチルメタクリレートシェルを有し、粒度２〜１５μｍかつ平均粒度８μｍのＲｏｈｍ＆Ｈａａｓ製のコア−シェル粒子Ｐａｒａｌｏｉｄ  ＥＸＬ  ５１３７、１．２ｗｔ．％
・熱安定剤トリフェニルホスフィン、０．１ｗｔ．％
【０１１８】
同時押出層なしの２ｍｍソリッドシートをこのコンパウンドから押し出した。
【０１１９】
実施例１および２におけるＡＦＭ試験
測定をＤｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製の市販の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）において行った。
【０１２０】
実施例１および２において製造された拡散シートを、その８０〜２００ｎｍのナノスケール粒子の含量に関して原子間力顕微鏡法（ＡＦＭ）を用いて調査した。
【０１２１】
三回反復測定を、実施例１および２の拡散シートの二つの異なるサンプルにおいて、それぞれ異なる位置において行った。それによって以下の粒子数が決定された。
【０１２２】
表１：１０×１０μｍ２の領域における８０〜２００ｎｍの粒子の数
2009510237.tif 000002
【０１２３】
本発明による拡散シートが粒度８０〜２２０ｎｍの粒子を非常に少ししか有さないことが測定から明らかである。
【０１２４】
実施例１および２における光学調査
実施例１および２に列挙される拡散シートを以下の規格により、以下の測定装置を用いてその光学特性に関して試験した：
光透過率（Ｔｙ（Ｄ６５１０°））および光反射（Ｒｙ（Ｄ６５１０°）白地に対する）を決定するために、Ｈｕｎｔｅｒ  Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ，Ｉｎｃ．製のＵｌｔｒａ  Ｓｃａｎ  ＸＥを使用した。加えて、黄色度指数（ＹＩ（Ｄ６５，Ｃ２°），ＡＳＴＭ  Ｅ３１３）、ｘ，ｙ明度（Ｄ６５，Ｃ２°，ＣＩＥ標準カラーテーブル（ｃｏｌｏｒ  ｔａｂｌｅ））およびＬ，ａ，ｂ明度（Ｄ６５，Ｃ２°，ＣＩＥＬＡＢカラーシステム，ＤＩＮ  ６１７４）を決定する測定をこの装置を用いて行った。曇り度決定（ＡＳＴＭ  Ｄ  １００３による）に関して、Ｂｙｋ−Ｇａｒｄｎｅｒ製のＨａｚｅｇａｒｄ  Ｐｌｕｓを使用した。
【０１２５】
輝度測定（明るさ測定）を、Ｍｉｎｏｌｔａ製のＬＳ１００輝度計を用いてＤＳ  ＬＣＤ（ＬＴＡ１７０ＷＰ，１７”ＬＣＤ  ＴＶパネル）由来のバックライトユニット（ＢＬＵ）において行った。シリアル拡散シート（ｓｅｒｉａｌ  ｄｉｆｆｕｓｅｒ  ｓｈｅｅｔ）をＢＬＵから取り除き、実施例１〜６において製造される２ｍｍソリッドシートに置き換えた。
【０１２６】
表２：光学測定結果
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【０１２７】
表に列挙された二つの実施例１および２において、散乱顔料の含量は、一定である。プレートの散乱効果は同等（曇り度＝１００％）であり、使用されるベース材料も更に同一である。中でも、意外なことに、実施例１由来の拡散プレートは、通常使用されるフィルムのセットなしの実施例２と比較して最初に同じ輝度を示すが、フィルムのセットが適用されると輝度の明らかな優位性が認められる。
【国際調査報告】
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