(57)【要約】  本発明は、非導電性の基体上に金属層を施すための分散物（この分散物は、有機バインダー成分、異なる金属及び／又は金属粒子形状を有する金属成分及び溶媒成分を含む。）に関する。本発明は、更に、分散物を製造する方法、所望により構造化された金属層を製造するために分散物を使用する方法、及び結果として得られた基体及びその使用方法に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非導電性である基体上に金属層を施すための分散物であって、
Ａ  分散物の合計質量に対して０．０１〜３０質量％の有機バインダー成分、
Ｂ  分散物の合計質量に対して３０〜８９．９９質量％であり、そして、少なくとも以下のＢ１、Ｂ２、
Ｂ１  金属成分Ｂの合計質量に対して、０．０１〜９９．９９質量％の、第１の金属粒子形状を有する第１の金属、
Ｂ２  金属成分Ｂの合計質量に対して、９９．９９〜０．０１質量％の、第２の金属粒子形状を有する第２の金属、
を含む金属成分、
Ｃ  分散物の合計質量に対して１０〜６９．９９質量％の溶媒成分、
を含み、以下の条件、
（１）  第１と第２の金属は異なること、
（２）  第１と第２の粒子形状は異なること、
の内、少なくとも１つを満たすことを特徴とする分散物。
【請求項２】
更に、以下の成分、
Ｄ  分散物の合計質量に対して０．０１〜５０質量％の分散剤成分；及び
Ｅ  分散物の合計質量に対して０．０１〜５０質量％の充填剤成分、
の内少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１に記載の分散物。
【請求項３】
バインダ成分Ａが、ポリマー又はポリマー混合物からなることを特徴とする請求項１又は２の何れかに記載の分散物。
【請求項４】
前記第１及び第２の金属は、所望により被覆され、そして、亜鉛、ニッケル、銅、錫、コバルト、マンガン、鉄、マグネシウム、鉛、クロム、ビスマス、銀、金、アルミニウム、チタン、パラジウム、白金、タンタル、及びこれらの合金から成る群から、互いに独立して選ばれたことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の分散物。
【請求項５】
前記第１及び第２の粒子形状は、針状、シリンダー状、薄層状、及び球状から成る群から、互いに独立して選ばれたことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の分散物。
【請求項６】
第１と第２の金属が異なることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の分散物。
【請求項７】
第１と第２の金属が、鉄、銅、亜鉛及びアルミニウムから成る群から選ばれたことを特徴とする請求項６に記載の分散物。
【請求項８】
第１と第２の粒子形状は異なることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の分散物。
【請求項９】
第１の粒子形状は球状であり、そして、第２の粒子形状は薄層又は針状であることを特徴とする請求項８に記載の分散物。
【請求項１０】
第１と第２の金属の平均粒子径が、０．０１〜１００μｍであることを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載の分散物。
【請求項１１】
Ａ  成分Ａ〜Ｃ及び所望によりＤ及びＥ及び更なる成分を混合する工程、
Ｂ  混合物を分散させる工程、
を含むことを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項に記載の分散物を製造する方法。
【請求項１２】
非導電性の基体の表面の少なくとも一部に、金属層を製造する方法であって、
ａ）  請求項１〜１０の何れか１項に記載の分散物を基体上に施す工程；
ｂ）  基体上に施した層を乾燥及び／又は硬化させる工程；及び
ｃ）  所望により、無電流法及び／又は電気メッキ法を使用し、乾燥及び／又は硬化した分散物層上に金属を沈殿させる工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
工程ａ）で、分散物を、構造状又は平面状に施すことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
工程ａ）、ｂ）及び所望によりｃ）の少なくとも１工程が、少なくともある範囲では連続的操作により行われることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１２〜１４の何れか１項に記載の方法から得ることができる、導電性の金属層を少なくとも部分的に有する基体表面。
【請求項１６】
請求項１５に記載の基体表面を、電流又は熱の伝導のために、又は装飾金属表面として、又は電磁放射のスクリーニングのために、又は磁化のために使用する方法。
【請求項１７】
サーキットボード、ＲＦＩＤアンテナ、トランスポンダーアンテナ、シート加熱システム、リボンケーブル、又は非接触式チップカードとして使用することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
請求項１〜１０の何れか１項に従う金属層の施しのために、懸濁物を使用する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属層を施すための分散物、その製造方法、及び基体上に金属層を製造するために分散物を使用する方法に関する。更に本発明は、このように被覆された基体表面及びその使用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電流を通さない基体上に導電性の金属層を製造するための種々の技術が公知である。例えば、非導電性の基体、例えば、プラスチック（合成樹脂）を、高度の真空下で金属化（金属処理：metallize）することが可能であるが、しかしこれら公知の方法は複雑で高価なものである。
【０００３】
プラスチックを金属化する通常の方法は、複数の工程段階を順序に従い次々に行うことによって行われる。ここで、この方法は、表面活性化工程で、強い酸又は塩基を使用することにより開始される。健康に害を及ぼす物質、例えば、クロム−硫黄酸（chromic-sulfuric acid）が、ここでしばしば使用される。従って、溶液を使用して、適切な遷移金属錯体で、プラスチック表面が被覆される。この方法で、活性化されたプラスチック表面の金属化が可能になる。
【０００４】
しかしながら、電気伝導性ではない表面（非導電性の表面）に伝導性被膜（conductive coating）を得る他の方法では、伝導性ラッカー又は伝導性ペーストが使用され、そして、これらはプラスチックに施されるが、これらは材料への良好な粘着性（付着性）を有していなければならない。
【０００５】
特許文献１（ＤＥ−Ａ１６１５７８６）には、非導電性の表面に導電性の層を製造するための方法で、例えば、微細に分散した鉄を含むラッカーを使用することが開示されている。ラッカーは、更に有機溶媒を含むことが意図されており、そしてバインダーを所定割合で含むことも意図されている。
【０００６】
しかしながら、これら伝導性ラッカーは、比較的小さい伝導性しか有していないことが知られている。この理由は、分散した金属粒子がバインダーを介して凝集した伝導層を形成しないからである。従って、これら層の伝導性は、比較的厚い金属ホイルの伝導性までにはならない。層内の金属顔料の増加は、伝導性の増加をももたらすが、しかし、伝導性層のプラスチック表面上への粘着（付着）が不適切なために、ここで問題がしばしば発生する。
【０００７】
特許文献２（ＤＥ−Ａ１５２１１５２）は、従って、導電性でない表面（非導電性の表面）に、バインダーと微細に分散した鉄を含む伝導性ラッカーを施し、次に伝導性ラッカーに、無電流法（currentless method）によって銀又は銅の層を施すことを提案している。そして、無電流法又は電気メッキ法を使用して更なる層を施すことができる。
【０００８】
特許文献３（ＥＰ−Ｂ２００７７２）には、１０ｋＨｚを超える周波数で電磁気スクリーニングを行うために、流動性有機ペイントバインダーを使用して導電性ではない物品を被覆することが記載されている。この方法では、流動性有機ペイントバインダー（この中には、活性金属粒子が分散されている）で第１の層を施すことから始まり、そして第１の層の上に、無電流法を使用して銅の第２の層が沈殿（析出）され、そして最後に電気メッキ金属（electroplatinized metal）が、第２の層に施される。
【０００９】
特許文献４（ＤＥ−Ａ１９９４５４００）には、特に、特定のバインダーと磁気材料又は磁化可能な材料を含むことが意図された磁気分散物が記載されている。
【００１０】
【特許文献１】ＤＥ−Ａ１６１５７８６
【特許文献２】ＤＥ−Ａ１５２１１５２
【特許文献３】ＥＰ−Ｂ２００７７２
【特許文献４】ＤＥ−Ａ１９９４５４００
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
非導電性の基体の金属性被膜（金属性被覆物）のための最適化されたシステム（組成物）、特に、改良された粘着性（付着性）を有し、そして環境に順応し、費用がかからず、信頼性が高く、そして迅速な取り扱いが可能であるシステムが必要とされている。従来技術のシステムでは、現在に至るまで、大規模な工業的使用は可能ではなかった。
【００１２】
従って、本発明の目的は、非導電性の基体の上に金属層を施すことを可能にする、特に、金属層の粘着性の増加及び／又は層の均一性の改良を達成可能とする分散物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
この目的は、非導電性である基体上に金属層を施すための分散物であって、
Ａ  分散物の合計質量に対して０．０１〜３０質量％の有機バインダー成分、
Ｂ  分散物の合計質量に対して３０〜８９．９９質量％であり、そして、少なくとも、以下のＢ１、Ｂ２、
Ｂ１  金属成分Ｂの合計質量に対して、０．０１〜９９．９９質量％の第１の金属粒子形状を有する、第１の金属、
Ｂ２  金属成分Ｂの合計質量に対して、９９．９９〜０．０１質量％の第２の金属粒子形状を有する、第２の金属、
を含む金属成分、
Ｃ  分散物の合計質量に対して１０〜６９．９９質量％の溶媒成分
を含み、以下の条件、
（１）  第１と第２の金属は異なること、
（２）  第１と第２の粒子形状は異なること、
の内、少なくとも１つを有することを特徴とする分散物によって達成される。
【００１４】
特に、本発明の分散物の中に、異なる金属及び／又は粒子形状が存在することは、分散物を施した後、金属性の第１の層を与え、この第１の層は、更なる金属性層（この更なる金属層は無電流法及び／又は電気メッキ法によって施される）と共に、特性が改良された金属層を与える。
【００１５】
この分散物は、更に、以下の成分、
Ｄ  分散物の合計質量に対して０．０１〜５０質量％の分散剤成分；及び
Ｅ  分散物の合計質量に対して０．０１〜５０質量％の充填剤成分、
の内、少なくとも一つを含むことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
成分Ａ
有機バインダー成分Ａは、バインダー又はバインダー混合物である。可能なバインダーは、顔料類似アンカー基、天然又は合成ポリマー及びその誘導体、天然樹脂及び合成樹脂及びその誘導体、天然ゴム、合成ゴム、プロテイン、セルロース誘導体、乾燥及び非乾燥オイル及びこれらに類似するものを有するバインダーである。これらは、化学的又は物理的に硬化する物質、例えば空気硬化、照射硬化、又は加熱硬化物質であることが可能であるが、しかしこれに限られるものではない。
【００１７】
バインダー成分Ａは、ポリマー又はポリマー混合物であることが好ましい。
【００１８】
成分Ａとして好ましいポリマーは、ＡＢＳ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン）；ＡＳＡ（アクリロニトリル−スチレン−アクリレート）；アクリレート化アクリレート；アルキド樹脂；アクリルビニルアセテート；アクリレン−ビニルアセテートコポリマー、特にメチレン−ビニルアセテート、エチレン−ビニルアセテート、ブチレン−ビニルアセテート；アルキレン−ビニルクロリドコポリマー；アミノ樹脂；アルデヒド樹脂及びケトン樹脂；セルロース及びセルロース誘導体、特にアルキルセルロース、セルロースアセテート等のセルロースエステル、セルロースプロピネート、セルロースブチレート、セルロースエーテル、カルボキシアルキルセルロース、セルロースニトレート；エポキシアクリレート；エポキシ樹脂；エチレン−アクリル酸コポリマー；炭化水素樹脂；ＭＡＢＳ（アクリレート単位を有する透明なＡＢＳを含む）；マレイン無水物コポリマー；メトアクリレート、所望によりアミン官能化されたもの；天然ゴム；合成ゴム；塩素化ゴム；天然樹脂；ロジン；シェラック；フェノール樹脂；ポリエステル；フェニルエステル樹脂等のポリエステル樹脂；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリアミド；ポリイミド；ポリアニリン；ポリピロール；ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）；ポリカルボネート（例えば、Ｂａｙｅｒ  ＡＧからのＭａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）；ポリエステルアクリレート；ポリエーテルアクリレート；ポリエチレン；ポリエチレン−チオフェン；ポリエチレンナフタレート；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）；ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）；ポリプロピレン；ポリメチルメトアクリレート（ＰＭＭＡ）；ポリフェニレンオキシド（ＰＰＯ）；ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）；ポリテトラヒドロフラン；ポリビニル化合物、特にポリビニルクロリド（ＰＶＣ）、ＰＶＣコポリマー，ＰＶｄＣ、ポリビニルアセテート、及びこれらのコポリマー、所望により部分的に加水分解された状態のポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリビニルピロリドン、ポリビニルエーテル、ポリビニルアクリレート、及びポリビニルメトアクリレート（溶液中又は分散物状態のもの）、及びこれらのコポリマー、ポリアクリルエステル、及びポリスチレンコポリマー；ポリスチレン（耐衝撃性のもの又は衝撃改質されていないもの）；ポリウレタン、架橋していないもの又はイソシアネートで処理されたもの；ポリウレタンアクリレート；スチレン−アクリル性コポリマー；スチレン−ブタジエンブロックコポリマー（例えば、ＢＡＳＦ  ＡＧからのＳｔｙｒｏｆｌｅｘ（登録商標）又はＳｔｙｏｌｕｘ（登録商標）、ＣＰＣからのＫ−ＲｅｓｉｎTM）；プロテイン例えばカゼイン；ＳＩＳ；ＳＩＳブロックコポリマーである。２種以上のポリマーの混合物が、更に、有機バインダー成分Ａを形成可能である。
【００１９】
成分Ａとして好ましいポリマーは、ポリアルキレン、ポリイミド、エポキシ樹脂、及びフェノール性樹脂、スチレン−ブタジエンブロックコポリマー、アルキレン−ビニルアセテート及びアルキレン−ビニルクロリドコポリマー、ポリアミド及びそのコポリマーである。
【００２０】
有機バインダー成分Ａ）の含有量は、分散物の合計質量に対して０．０１〜３０質量％である。この含有量は、０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。
【００２１】
成分Ｂ
金属成分Ｂは、少なくとも１種の第１の金属（第１の金属は、第１の金属粒子形状を有する）及び第２の金属（第２の金属は、第２の金属粒子形状を有する）を含む。
【００２２】
第１の金属は、第２の金属と同一であって良く又は異なることができる。
【００２３】
第１の金属粒子形状は、同様に、第２の金属粒子形状と同一又はであって良く又は異なることができる。しかしながら、少なくとも１種の金属又は粒子形状が異なることが重要である。しかしながら、第１と第２の金属だけでなく、しかし第１と第２の粒子形状が互いに異なることも可能である。
【００２４】
分散物は、金属成分Ｂ１及びＢ２に加えて、更なる金属を含むことができ、この更なる金属は、第１と第２の金属とは異なる、又は第１又は第２の金属とは異なる、又は第１及び第２の金属と同一のものである。同様の考察（consideration）が、更なる金属の金属粒子形状に適用される。本発明の目的のための必要事項は、第１及び第２の金属が異なり及び／又は第１と第２の粒子形状が互いに異なるという条件で、少なくとも１種の第１及び第２の金属が存在し、そして少なくとも１種の金属粒子形状及び少なくとも１種の第２の金属粒子形状が存在するということである。
【００２５】
本発明の目的のために、金属の酸化状態は０であり、そしてこれらは金属粉の状態で分散物に加えることができる。
【００２６】
金属の平均粒径（粒子の直径）は、０．０１〜１００μｍが好ましく、０．０５〜５０μｍがより好ましく、そして０．１〜１０μｍが特に好ましい。平均粒径は、レーザー分散測定装置、例えば、Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ  Ｘ１００装置で測定可能である。粒径分布は、粒子の製造方法に依存する。この直径分布は、最高点を一箇所のみに有して良く、又、２箇所以上に有していても良い。
【００２７】
適切な金属の例は、亜鉛、ニッケル、銅、錫、コバルト、マンガン、鉄、マグネシウム、鉛、クロム、ビスマス、銀、金、アルミニウム、チタン、パラジウム、白金、タンタル、及びこれらの合金である。適切な合金の例は、ＣｕＺｎ、ＣｕＳｎ、ＣｕＮｉ、ＳｎＰｂ、ＳｎＢｉ、ＳｎＣｏ、ＮｉＰｂ、ＺｎＦｅ、ＺｎＮｉ、ＺｎＣｏ、及びＺｎＭｎである。鉄、亜鉛、アルミニウム及び銅が特に好ましい。
【００２８】
金属は、金属性成分（部分）と共に非金属成分をも含んで良い。例えば、金属表面は、少なくとも一部に被膜が設けられていても良い。適切な被膜は、無機（例えば、ＳｉＯ2、ホスフェート）が可能であり、又は有機タイプが可能である。当然、金属は、別の金属又は金属酸化物（酸化金属）で被覆されていても良い。同様に、金属は、部分的に酸化された状態で存在することが可能である。
【００２９】
２種類の異なる金属が金属成分Ｂを形成することが意図される場合、このことは、２種類の金属を混合することによって達成される。この２種類の金属は、鉄、亜鉛、アルミニウム、及び銅から成る群から選ばれることが特に好ましい。しかしながら、金属成分Ｂは、第１の金属と、第２の金属（この場合では、第２の金属は、第１の金属又は１種以上の他の金属と共に合金の状態で存在する）を含むこともでき、又、金属成分Ｂは、２種類の異なる合金を含むこともできる。また、これら２例においては、金属成分Ｂ１とＢ２は互いに異なるもので、従って、その金属粒子形状を互いに独立して、同一又は異なるように選択することができる。
【００３０】
金属の選択と共に、金属の金属粒子形状は、被覆工程の後、本発明の分散物の特性に影響を及ぼす。形状に関し、この技術分野の当業者にとって公知の種々の可能なバリエーションが存在する。例えば、金属粒子の形状は、針状、シリンダー状、薄層、又は球状が可能である。粒子形状は、理想化（概略化）された形状を表し、そして、実際の形状は、例えば、製造工程の影響を受けて、理想化された形状から多少なりとも変化可能なものである。従って、例えば、本発明の目的のために、滴状粒子は、球状という理想化された形状の実際的な変化である。
【００３１】
種々の粒子形状を有する金属が市販されている。
【００３２】
金属成分Ｂ１及び金属成分Ｂ２が、その金属粒子形状について異なっている場合、第１のものは球状であり、そして第２のものは薄層状又は針状であることが好ましい。
【００３３】
粒子形状が異なる場合、好ましい金属は、同様に、鉄、銅、亜鉛、及びアルミニウムである。
【００３４】
上述のように、分散物中に加えられる場合、金属は、その粉の状態であることが可能である。これら金属粉は、市販されているか、又は公知の方法で容易に製造可能である。この公知の方法は、例えば、金属塩の溶液からの電気的沈殿又は化学的還元、又は例えば、水素を使用しての酸化粉の還元により、溶融金属の特に、ガス又は水等の冷却液へのスプレーによるものである。ガススプレー又は水スプレーが好ましい。
【００３５】
鉄の場合、カルボニル鉄粉法（ＣＩＰ）が、ガススプレー及び水スプレー法と並んで、カルボニル鉄粉の製造に好ましい。ＣＩＰ法は、ペンタカルボニル鉄の熱分解を使用する。この方法は、例えば、Ｕｌｌｍａｎ‘ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｉｓｔｒｙ，  ５ｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，  Ｖｏｌ．Ａ１４  ５９９頁に記載されている。ペンタカルボニル鉄の分解は、例えば、加熱可能な分解容器内で、昇温して及び昇圧して行うことができる。ここで、この分解容器は、石英ガラス又はＶ２Ａスチール等の耐熱材料からなるパイプを、好ましくは垂直位置に含み、パイプは、加熱器、例えば、加熱バスの、加熱ワイヤーの、又は加熱液体が流通する加熱ジャケットの加熱器によって囲まれている。
【００３６】
薄層の金属は、製造工程における条件の最適化によって制御可能であり、又、機械的処理、例えば、攪拌器付のボールミル内での処理により、後に得ることができる。
【００３７】
金属成分Ｂの含有量は、分散物の合計質量に対して、３０〜８９．９９質量％である。金属副成分Ｂ１の含有量は、成分Ｂの合計質量に対して、９９．９９〜０．０１質量％である。金属副成分Ｂ２の含有量は、０．０１〜９９．９９質量％である。更なる金属が存在しない場合、Ｂ１とＢ２で、金属成分Ｂが１００％になる。
【００３８】
Ｂのための好ましい範囲は、分散物の合計質量に対して５０〜８５質量％である。
【００３９】
成分Ｂ１とＢ２の質量割合は、１０００：１〜１：１の範囲が好ましく、１００：１〜１：１がより好ましく、２０：１〜１：１が最も好ましい。
【００４０】
成分Ｃ
本発明の分散物は、更に、溶媒成分Ｃを含む。これは、溶媒又は溶媒混合物から成る。
【００４１】
適切な溶媒は、アセトン、アルキルアセテート、アルコキシプロパノール（例えば、メトキシプロパノール）、アミルアルコール、ブタノール、ブチルアセテート、ブチルジグリコール、ブチルグリコールアセテート等のアルキルグリコールアセテート、ブチルグリコール、クロロホルム、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、ジエチルエーテル、ジグリコールジメチルエーテル、ジオキサン、エタノール、エチルアセテート、エチルベンゼン、エチレンクロリド、エチレングリコール、エチレングリコールアセテート、エチレングリコールジメチルエーテル、イソブタノール、イソブチルアセテート、イソプロピルアセテート、クレゾール、メタノール、メトキシブタノール、メチルアセテート、３−メチルブタノール、メチルジグリコール、メチレンクロリド、メチレングリコール、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルグリコールアセテート、メチルフェノール（オルト−、メタ−、パラ−クレゾール）、１−プロパノール、２−プロパノール、プロピルアセテート、プロピレングリコール、カルボンテトラクロリド、テトラヒドロフラン、トルエン、トリメチロールプロパン（ＴＭＰ）、アルコール性モノテルピン（例えば、テルピンオール）、水、及びこれら溶媒の２種以上の混合物である。
【００４２】
好ましい溶媒は、アルコキシプロパノール、シクロヘキサン、エタノール、エチルアセテート、ブチルアセテート、１−プロパノール、２−プロパノール、テトラヒドロフラン、エチルベンゼン、ブチルグリコールアセテート、水、及びこれらの混合物である。
【００４３】
溶媒成分Ｃの含有量は、分散物（dispersion）の合計量に対して、１０〜６９．９９質量％である。この含有量は、１５〜５０質量％が好ましい。
【００４４】
成分Ｄ
本発明の分散物は、更に、分散助剤成分Ｄを含むことができる。分散助剤成分Ｄは、１種以上の分散剤から成る。
【００４５】
原則として、従来技術文献に記載されている分散剤及びこの技術分野の当業者にとって公知の何れの分散剤も、分散物への使用に適切である。好ましい分散剤は、界面活性剤又は界面活性剤混合物、例えば、アニオン性、カチオン性、両性（amphoteric）、又は非イオン性界面活性剤である。
【００４６】
イオン性及びアニオン性界面活性剤は、例えば“Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”，  Ｊ．Ｗｉｌｙ＆Ｓｏｎｓ（１９６６），Ｖｏｌｕｍｅ  ５，ｐｐ．８１６〜８１８及び“Ｅｍｕｌｓｉｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｓａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｅｍｕｌｓｉｏｎ  Ｐｏｌｕｍｅｒｓ”，編集者Ｐ．Ｌｏｖｅｌｌ及びＭ．Ｅｌ−Ａｓｓｅｒ，Ｖｅｒｌａｇ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ（１９９７），ｐｐ．２２４−２２６に記載されている。
【００４７】
アニオン性界面活性剤の例は、鎖長さが８〜３０個の炭素原子、好ましくは１２〜１８個の炭素原子の、有機カルボン酸のアルカリ金属塩である。これらは通常、石鹸（soap）と称されている。通常使用される塩は、ナトリウ、カリウム、又はアンモニウム塩である。使用して良い他のアニオン性界面活性剤は、８〜３０個、好ましくは１２〜１８個の炭素原子を有するアルキルサフフェート、及びアルキル−又はアルキルアリールスルホネートである。特に適切な化合物は、アルカリ金属ドデシルサルフェート、例えば、ナトリウムドデシルサルフェート、又はカリウムドデシルサルフェート、及びＣ12−Ｃ16パラフィンスルホン酸のアルカリ金属塩である。他の適切な化合物は、ナトリウムドデシルベンゼンスルホネート及びナトリウムジオクチルスルホスシネートである。
【００４８】
適切なカチオン性界面活性剤の例は、アミン又はジアミンの塩、四級アンモニウム塩、例えば、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、及びまた、ピリジン、モルホリン、ピペリジン等の長鎖置換環式アミンである。トリアルキルアミンの四級アンモニウム塩、例えば、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミドが特に使用される。ここで、アルキル基は、１〜２０個の炭素原子を有している。
【００４９】
本発明に従えば、非イオン性界面活性剤は、成分Ｄに特に使用されて良い。非イオン性界面活性剤は、例えば、ＣＤ  Ｒｏｍｐｐ  Ｃｈｅｍｉｅ  Ｌｅｘｉｋｏｎ−Ｖｅｒｓｉｏｎ  １．０，  Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ／Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ：Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ  Ｖｅｒｌａｇ  １９９５，  ｋｅｙｗａｒｄ  “Ｎｉｃｈｔｏｎｉｓｃｈｅ  Ｔｅｎｓｉｄｅ”［Ｎｏｎｉｏｎｉｃ  ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ］に記載されている。
【００５０】
適切な非イオン性界面活性剤の例は、ＢＡＳＦ  ＡｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔからのＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）又はＴｅｔｒｏｎｉｃ（登録商標）等の物質に基づく、ポリエチレン−オキシド−又はポリプロピレン−オキシド−である。
【００５１】
非イオン性界面活性剤として適切なポリアルキレングリコールは、通常、モル量（モラーマス：molar mass）が、１０００〜１５０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは２０００〜１３０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは４０００〜１１０００ｇ／ｍｏｌである。好ましい非イオン性界面活性剤は、ポリエチレングリコールである。
【００５２】
ポリエチレングリコールは、それ自身公知のものであるか、又はそれ自身公知の方法で製造して良いものである。この公知の方法は、例えば、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物触媒を使用した又はナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、又はカリウムイソプロポキシド等のアルカリ金属アルコキシド触媒を使用した、及び、２〜８個の反応性水素原子、好ましくは２〜６個の反応性水素原子を含む少なくとも１種の出発分子を付加したアニオン性重合であるか、又はアンチモニペンタクロリド、ボロンフルオリドエテレート又は漂白土等のルイス酸を触媒として使用し、そして、出発材料は、アルキレン基に２〜４個の炭素原子を有する１種以上のアルキレンオキシドを使用したカチオン性重合である。
【００５３】
適切なアルキレンオキシドの例は、テトラヒドロフラン、ブチレン１，２−又は２，３−オキシド、スチレンオキシドであり、そして、エチレンオキシド及び／又はプロピレン１，２−オキシドが好ましい。アルキレンオキシドは、個々に、前後して交互に、又は混合物として使用して良い。使用して良い出発分子（starter molecule）は、水、琥珀酸、アジピン酸、フタル酸、又はテレフタル酸等の有機ジカルボン酸、脂肪族又は芳香族の、所望により、Ｎ−モノ−、又はＮ，Ｎ−又はＮ，Ｎ’−ジアルキル−置換された、１〜４個の炭素原子をアルキル基内に有するジアミン、例えば、所望により、モノ−、又はジアルキル−置換された、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、１，３−プロピレンジアミン、１，３−又は１，４−ブチレンジアミン又は１，２−、１，３−、１，４−、１，５−又は１，６−ヘキサメチレンジアミンである。
【００５４】
使用して良い他の出発分子は、アルカノールアミン、例えば、エタノールアミン、Ｎ−メチル−又はＮ−エチルエタノールアミン、ジアルカノールアミン、例えば、ジエタノールアミン、及びＮ−メチル−及びＮ−エチルジエタノールアミン、及びトリアルカノールアミン、例えば、トリアルカノールアミン及びアンモニアである。多価（polyhydric）アルコール、特に２価又は３価のアルコール又は３価を超える官能価を有するアルコール、例えば、エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、グリセロール、トリメチロールプロパン、ペンタエリチリトール、サッカロース及びソルビトールを使用することが好ましい。
【００５５】
他の適切な成分Ｄは、上述したポリアルキレングリコールのモノ−、ジ−、トリ−又はポリエステル等のエステル化ポリアルキレングリコールで、上述したポリアルキレングリコールの末端ＯＨ基を、有機酸、好ましくはアジピン酸又はテレフタル酸とそれ自身公知の方法で反応させることによって製造可能なものである。
【００５６】
非イオン性界面活性剤は、活性水素を有する化合物をアルコキシル化することによって製造される物質、例えば、脂肪アルコール、オキソアルコール、又はアルキルフェノールにアルキレンオキシドが付加した生成物である。アルコキシル化反応のために、エチレンオキシド、又は１，２−プロピレンオキシドを使用することが好ましい。
【００５７】
他の可能な非イオン性界面活性剤は、アルコキシル化された、又はアルコキシル化されていないシュガーエステル又はシュガーエーテルである。
【００５８】
シュガーエーテルは、脂肪アルコールをシュガーと反応させることによって得られるアルキルグリコシドであり、そして、シュガーエステルは、シュガーを脂肪酸と反応させることによって得られる。上述した物質を製造するのに必要とされる、シュガー、脂肪アルコール、及び脂肪酸は、この技術分野の当業者にとって公知である。
【００５９】
適切なシュガーは、例えば、Ｂｅｙｅｒ／Ｗａｌｔｅｒ，Ｌｅｈｒｂｕｃｈ  ｄｅｒ  ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ，Ｓ．Ｈｉｒｚｅｌ  Ｖｅｒｌａｇ  Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ，１９ｔｈ  ｅｄｉｔｉｏｎ，１９８１，ｐｐ３９２〜４２５に記載されている。可能なシュガーは、Ｄ−ソルビトール及びＤ−ソルビトールを脱水素化することによって得られるソルビトールである。
【００６０】
適切な脂肪酸は、飽和、又は単一又は複数不飽和の、非分岐又は分岐した、６〜２６個の炭素原子、好ましくは８〜２２個の炭素原子、特に好ましくは１０〜２０個の炭素原子を有するカルボン酸、例えば、ＣＤ  Ｒｏｍｐｐ  Ｃｈｅｍｉｅ  Ｌｅｘｉｋｏｎ−Ｖｅｒｓｉｏｎ  １．０，  Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ／Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ；Ｇｅｏｒｇ  Ｖｅｒｌａｇ  １９９５，  キーワード“Ｆｅｔｔａｕｒｅｎ”［Ｆａｔｔｙ  ａｃｉｄｓ］に記載されているものである。好ましい脂肪酸は、ルイス酸、パルミチン酸、ステアリン酸、及びオレイン酸である。
【００６１】
適切な脂肪アルコールの炭素骨格は、適切な脂肪酸として記載されている化合物のものである。
【００６２】
シュガーエーテル、シュガーエステル及びこれらを製造する方法は、この技術分野の当業者にとって公知である。好ましいシュガーエーテルは、上述したシュガーを上述した脂肪アルコールと反応させることにより、公知の方法によって製造される。好ましいシュガーエステルは、上述したシュガーを上述した脂肪酸と反応させることにより、公知の方法で製造される。好ましいシュガーエステルは、ソルビタンの脂肪酸との、モノ−、ジ−、及びトリエステルで、特に、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンジラウレート、ソルビタントリラウレート、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンジオレート、ソルビタントリオレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンジパルミテート、ソルビタントリパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、及びソルビタンセスキオレート、ソルビタンモノ−及びジオレートの混合物である。
【００６３】
従って、可能な成分Ｄは、上述したシュガーエーテルとシュガーエステルをアルコキシル化することによって得られる、アルコキシル化されたシュガーエーテル及びシュガーエステルである。好ましいアルコキシル化剤は、エチレンオキシド及びプロピレン１，２−オキシドである。アルコキシル化の程度は、通常、１〜２０、好ましくは２〜１０、特に好ましくは２〜６である。これらの例は、上述したソルビタンエステルをエトキシル化することによって得られるポリソルベート、例えば、ＣＤ  Ｒｏｍｐｐ  Ｃｈｅｍｉｅ  Ｌｅｘｉｋｏｎ−Ｖｅｒｓｉｏｎ  １．０，  Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ／Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ；Ｇｅｏｒｇ  Ｖｅｒｌａｇ  １９９５，  キーワード“Ｐｏｌｙｓｏｒｂａｔｅ”［Ｐｏｌｙｓｏｒｂａｔｅｓ］に記載されているものである。適切なポリソルベートは、ポリエトキシソルビタンラウレート、ステアレート、パルミテート、トリステアレート、オレート、トリオレート、特に、ポリエトキシソルビタンステアレートで、例えば、ＩＣＩ  Ａｍｅｒｉｃａ  Ｉｎｃ．からのＴｗｅｅｎ（登録商標）６０（例えば、ＣＤ  Ｒｏｍｐｐ  Ｃｈｅｍｉｅ  Ｌｅｘｉｋｏｎ−Ｖｅｒｓｉｏｎ  １．０，  Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ／Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ；Ｇｅｏｒｇ  Ｖｅｒｌａｇ  １９９５，  キーワード“Ｔｗｅｅｎ（登録商標）”に記載されている。）として得られるものである。
【００６４】
ポリマーを分散剤として使用することも可能である。
【００６５】
分散剤成分Ｄの使用量は、分散物（dispersion）の合計量に対して、０．０１〜５０質量％である。この含有量は、０．１〜１０質量％が好ましく、０．３〜５質量％が特に好ましい。
【００６６】
成分Ｅ
本発明の分散物は、更に、充填剤成分Ｅを含むことができる。これは、１種類の充填剤又は２種以上の充填剤からなることが可能である。例えば、金属化可能な組成物の成分Ｅは、ファイバー状、又は粒子状充填剤、又はこれらの混合物を含むことができる。これらは、カーボンファイバー又はガラスファイバー等、市販されている製品であることが好ましい。
【００６７】
使用可能なガラスファイバーは、Ｅ、Ａ又はＣガラスからなることができ、そして糊と接着剤を有していることが好ましい。これらの直径は、通常、１〜２０μｍである。連続的なフィラメントファイバー（ロービング）又は他に、その長さが１〜１０ｍｍ、好ましくは３〜６ｍｍの切断（chopped）ガラスファイバー（ステープル）を使用することも可能である。
【００６８】
ガラス粉、ガラステキスタイル、ガラス腐織布、無機ファイバー、ウィスカー、アルミニウムオキシドファイバー、マイカ、粉状石英又は珪石灰等の充填剤又は補強剤を使用することも可能である。カーボン、シリカ、シリケート、例えば、エアゾール（Aerosils）、又はフィロシリケート、染料、脂肪酸、脂肪アミド、可塑剤、湿潤剤、乾燥剤、錯体化剤、カルシウムカルボネート、バリウムサルフェート、ワックス、顔料、伝導性ポリマー粒子、又はアラミドファイバーを使用することも可能である。
【００６９】
成分Ｅの含有量は、分散物の合計量に対して、０．０１〜５０質量％であることが好ましい。０．１〜１０質量％が更に好ましく、そして、０．３〜５質量％が特に好ましい。
【００７０】
更に、加工助剤及び安定化剤が本発明の分散物中に存在して良く、例は、ＵＶ安定剤、潤滑剤、腐食防止剤、及び難燃剤である。これらの含有量は、分散物の合計量に対して、通常、０．０１〜５質量％である。この含有量は、０．０５〜３質量％が好ましい。
【００７１】
本発明は、更に、
Ａ  成分Ａ〜Ｃ及び所望によりＤ及びＥ及び更なる成分を混合する工程、及び
Ｂ  混合物を分散させる工程、
を含む本発明の分散物を製造するための方法を提供する。
【００７２】
分散物は、この技術分野の当業者にとって公知であるアセンブリを使用して、強く攪拌及び分散させることによって製造することができる。このことは、溶解器（dissolver）又は比較的強く分散させるアセンブリ内での成分の攪拌、攪拌器付のボールミル内での分散、又は大量処理用の粉流動装置内での分散を含む。
【００７３】
更に、本発明は、非導電性の基体の少なくとも一部の表面に、金属層を製造する方法であって、
ａ）  本発明の分散物を基体上に施す工程；
ｂ）  基体上に施した層を乾燥及び／又は硬化させる工程；及び
ｃ）  所望により、無電流法及び／又は電気メッキ法を使用し、乾燥及び／又は硬化した分散物層上に金属を沈殿（析出）させる工程、
を含む方法を提供する。
【００７４】
適切な基体は、非導電性の材料、例えば、ポリマーによって提供される。適切なポリマーは、エポキシ樹脂、例えば、２官能性又は多官能性アラミド補強又はガラスファイバー補強、又はペーパー補強のエポキシ樹脂（例えば、ＦＲ４）、ガラスファイバー補強のプラスチック、液晶ポリマー（ＬＣＰｓ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳｓ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭｓ）、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫｓ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫｓ）、ポリアミド（ＰＡｓ）、ポリカルボネート（ＰＣｓ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴｓ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴｓ）、ポリイミド（ＰＩｓ）、ポリイミド樹脂、シアネートエステル、ビスマレイミド−トリアジン樹脂、ナイロン、ビニルエステル樹脂、ポリエステル、ポリエステル樹脂、ポリアミド、ポリアニリン、フェノール樹脂、ポリピロール、ポリナフタレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、燐−変性エポキシ樹脂、ポリエチレンジオキシチオフェン、フェノール樹脂被覆アラミドペーパー、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、メラミン樹脂、シリコン樹脂、フルオロ樹脂、誘電体材料、ＡＰＰＥ、ポリエーテルイミド（ＰＥＩｓ）、ポリフェニレンオキシド（ＰＰＯｓ）、ポリプロピレン（ＰＰｓ）、ポリエチレン（ＰＥｓ）、ポリスルホン（ＰＳＵｓ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳｓ）、ポリアリールアミド（ＰＡＡｓ）、ポリビニルクロリド（ＰＶＣｓ）、ポリスチレン（ＰＳｓ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳｓ）、アクリロニトリル−スチレン−アクリレート（ＡＳＡｓ）、スチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮｓ）、及び上述したポリマーの２種以上の混合物（ブレンド）であり、ポリマーの２種以上の混合物（ブレンド）は、広く種々の状態で存在して良い。基体は、この技術分野の当業者に公知の添加剤（additive）を含んで良く、例は、難燃剤である。
【００７５】
原則として、成分Ａの下に列挙されたポリマーの何れもが使用可能である。印刷回路ボード（printed-circuit-board）産業では通常の他の基体も適切である。
【００７６】
他の適切な基体は、複合体、フォーム状ポリマー、Ｓｔｙｏｐｏｒ（登録商標）、Ｓｔｙｒｏｄｕｒ（登録商標）、セラミック表面、テキスタイル、カードボード、ペーパーボード、ペーパー、ポリマー被覆ペーパー、ウッド、無機材料、ガラス、植物ティッシュ、及び動物ティッシュである。
【００７７】
本発明の目的のために、「非導電性」は、１０9ｏｈｍ×ｃｍを超える特定の抵抗を意味することが好ましい。
【００７８】
分散物は、この技術分野の当業者にとって公知の方法で施されることが可能である。基体表面への施しは、１面以上に行うことができ、そして、１、２又は３次元に渡って広げることができる。通常、基体は、意図される使用に適切な、所望の如何なるジオメトリー（幾何学的形状）をも有することができる。
【００７９】
施された層は、通常の方法によって乾燥することもできる。この代わりに、バインダーは、化学的又は物理的方法、例えば、ＵＶ照射又は加熱によって硬化させることができる。
【００８０】
乾燥及び／又は硬化は、完全に又は部分的に行うことができる。
【００８１】
分散物の施しと、乾燥及び／又は硬化の後に得られた層については、次に、乾燥した分散層上に無電流法及び／又は電気メッキ法によって金属を沈殿させることができる。
【００８２】
本発明の分散物は、工程ａ）で、構造状又は平面状に施すことができる。施しを行う工程（工程ａ）、乾燥及び／又は硬化工程（工程ｂ）、及び所望により、更なる金属の沈殿工程（工程ｃ）が、連続的手順で行われることが好ましい。工程ａ）、ｂ）及び所望によりｃ）を一通りに行うことが可能である。しかし、過程を、非連続法（バッチ式）又は準連続方式で行うことも可能である。
【００８３】
被覆工程は、キャスティング、スプレッディング、ドクトリング、ブラッシング、印刷（版印刷、スクリーン印刷、フォトグラフ印刷、タンポン印刷、インクジェット、オフセット、等）、スプレイング、浸漬、パウダリング、流動床、等、通常の、及び公知の被覆法を使用することができる。層厚さは、０．０１〜１００μｍの範囲で変化することが好ましく、０．１〜５０μｍの範囲での変化が更に好ましく、１〜２５μｍの範囲の変化が特に好ましい。層は、平面状又は構造状の何れの状態でも施すことができる。
【００８４】
工程ｃ）で行われる、無電流法及び／又は電気メッキ法による金属沈殿は、この技術分野の当業者にとって公知の、そして文献に記載されている方法で行うことができる。無電流法及び／又は電気メッキ法によって、すなわち、外部電圧及び電流の供給下に、１層以上の金属層が施されて良い。原則として、無電流法及び／又は電気メッキ法による沈殿のために使用可能な金属は、分散物の最も貴でない金属よりも、貴（noble）であるか又は同程度の貴であるものである。電気メッキ法による、銅層、クロム層、銀層、金層、及び／又はニッケル層の沈殿が好ましい。電気メッキ法による、アルミニウムからなる層の沈殿が好ましい。工程ｃ）で沈殿される１種以上の層の厚さは、この技術分野の当業者にとって公知の範囲であり、そして、本発明では重要ではない。
【００８５】
更に、本発明は、上述した、金属層を製造するための本発明の方法により得ることができる、導電性の金属層が少なくとも部分的に存在する基体表面を提供する。
【００８６】
この種の基体表面は、伝導電流又は伝熱用に、電磁放射をスクリーニングするために使用可能であり、また他に、磁化のために使用可能である。
【００８７】
更に、本発明は、金属層を施すために、本発明の分散物を使用する方法を提供する。
【００８８】
本発明の基体表面は、特に、以下に列挙した種々の使用のために使用することができる。
【００８９】
可能な例は、コンダクター−トラック構造の製造、例えば、ＲＦＩＤアンテナ、トランスポーターアンテナ等のアンテナの製造、印刷回路ボード（多層内及び外層、ミクロビア（microvia）、チップ−オン−ボード、可撓性及び硬質印刷回路ボード、ペーパー、及び複合体等）、リボンケーブル、シートヒーティングシステム、非接触式チップカード、キャパシター、レジスタンス、コネクター、ホイルコンダクター、又は電気フューズの製造である。
【００９０】
更に可能な例は、有機電子成分（organic electronic component）のための接触を有するアンテナの製造、又は他に電磁スクリーニング（シールディング）の目的のための、非導電性の材料からなる表面への被膜の製造である。
【００９１】
他の可能な例は、非導電性の材料からなる機械的負荷に耐性を有する構造である、高周波信号用の中空コンダクターを製造するための金属性内部被膜の製造である。基体表面は、フィルムキャパシターの一部であっても良い。
【００９２】
他の可能な例は、燃料電池に使用するための、２極性プレートのフローフィールドのセクターへの使用である。
【００９３】
他の可能な例は、上述した非導電性の基体からなる成形物の、後の装飾的金属化のための、平面状又は構造化された導電性の層の製造である。金属フォーム（例えば、衝撃吸収用）の製造も考えられる。
【００９４】
本発明の分散物及び本発明の基体表面の補助下での、金属層を製造するための本発明の方法の使用の範囲は、金属化された基体（基体そのものは伝導性ではない。）の安価な製造を可能にし、特に、スイッチ、センサー、及びＭＩＤｓ（ｍｏｌｄｅｄ  ｉｎｔｅｒｃｏｎｎｅｃｔ  ｄｅｖｉｃｅｓ）、電磁放射の吸収材、又はガスバリヤ、又は装飾部分として使用するための、特に、自動車、衛生物、おもちゃ、ハウスホールド、又はオフィス部門、及び包装及びホイルのための装飾部分として使用するための安価な製造を可能にする。本発明は、銀行券、クレジットカード、身分証明書等のセキュリティ印刷の部門に使用可能である。本発明の方法の補助下に、テキスタイルを磁気的に又は電気的に機能化することができる（トランスミッタ、ＲＦＩＤアンテナ、トランスポーターアンテナ、及び他のアンテナ、センサー、加熱エレメント、帯電防止材料（特にプラスチック用）、スクリーニング材料、等）。
【００９５】
これら適用の例は、コンピューターハウジング等のハウジング、ディスプレースクリーン、移動式電話、音響装置、ビデオ装置、ＤＶＤｓ、カメラ用のハウジング、電子部品用ハウジング、軍用又は非軍用スクリーニング装置、シャワーフィッティング、ワッシュスタンドフィッティング、シャワーヘッド、シャワーレイル、及びシャワーホルダー金属化ドアハンドル、及びドアノブ、トイレットペーパーロールホルダー、バスタブグリップ、家具と鏡のための金属化装飾ストリップ、シャワー区分のフレーム、包装材料のフレームである。
【００９６】
記載して良い他の製造物は、自動車分野の金属化プラスチック表面、例えば、装飾ストリップ、外部ミラー、ラジエーターグリル、フロントエンドメタリゼーション、翼表面、外部ボディワーク表面、内部ボディワーク、ドア敷居、トレッドプレート（踏板）の代用、装飾ホイールカバーである。
【００９７】
更に、従来、部分的又は全面的に金属から製造されていた部分を非伝導性材料で製造することが可能である。例えば、ここで、ダウンパイプ、水路、ドア、及び窓枠を記載して良い。
【００９８】
ここで、他の可能な例は、接触サイト、又は接触パッドの製造、又は統合電気モジュールの電気配線である。
【００９９】
本発明の分散物は、同様に、印刷回路ボードにおいて、印刷回路ボードの上部と下部を通しての接触を設定することを目的として、ホール、ビアホール（vias）、ブラインドホール等を金属化するために使用可能である。このことは、他の基体が使用された場合にも適用可能である。
【０１００】
本発明に従い製造された金属化物品は、（これらが磁化可能な金属を含む範囲で）更に、磁化可能な機能的部分、例えば、磁気パネル（マグネティックパネル）、磁気ゲーム、及び磁気表面、例えば冷蔵庫のドアの分野に使用される。これらは、良好な熱伝導性が有利になる分野、例えば、シート加熱システム、床加熱システム中のホイル及び絶縁材料にも使用される。
【０１０１】
本発明に従い金属化された表面は、結果として得られた基体が、印刷回路ボード、ＲＦＩＤアンテナ、トランスポーダーアンテナ、シート加熱システム、リボンケーブル、非接触式チップカードとして作用するように使用することが好ましい。
【０１０２】
実施例
実施例１
８．４ｇのエチレン−ビニルアセテートコポリマーを１２６ｇのｎ−ブチルアセテート中に溶解した。３７８ｇの球状鉄粉及び４２．０ｇの薄層状銅粉を、溶解攪拌器の補助下に、この溶液中に分散させた。結果として得られた分散物を、用意したＰＥＴホイルに４μｍの厚さで施した。乾燥工程の後、酸性硫化銅槽中で、９μｍの厚さの銅層を施した。
【０１０３】
実施例２
８．４ｇのエチレン−ビニルアセテートコポリマーを、９６．６ｇのｎ−ブチルアセテートに溶解させた。３７８ｇの球状鉄粉及び４２．０ｇの薄層状銅粉を、溶解攪拌器の補助下に、この溶液中に分散させた。結果として得られた分散物を、用意したＰＥＴホイルに４μｍの厚さで施した。乾燥工程の後、酸性硫化銅槽中で、９μｍの厚さの銅層を施した。
【０１０４】
実施例３
薄層状銅粉の代わりに、薄層状鉄粉を使用して、実施例１を繰り返した。
【０１０５】
実施例４
通常の鉄粉の代わりに、カルボニル鉄粉を使用して、実施例１を繰り返した。
【０１０６】
各場合において、１金属成分を省略すると、銅層の均一性が劣化し、そして粘着性（付着性）も劣化することが見出された。
【国際調査報告】
2009507952.tif 000002
2009507952.tif 000003
2009507952.tif 000004
2009507952.tif 000005
2009507952.tif 000006
2009507952.tif 000007