(57)【要約】  回転制限モータの回転子とともに回転する照明反射器に照明を向ける照明源と、照明源に隣接し照明反射器からの変調反射照明を受ける複数の検出器区域とを含む回転制限モータ用の位置変換器システムが開示される。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転制限モータ用の位置変換器システムであって、
前記回転制限モータの回転子とともに回転する照明反射器に照明を向ける照明源と、
前記照明源に隣接し、前記照明反射器からの変調された反射照明を受ける複数の検出器区域と、を備える位置変換器システム。
【請求項２】
請求項１に記載の位置変換器システムにおいて、前記照明源が、単一のＬＥＤ光源を含む位置変換器システム。
【請求項３】
請求項１に記載の位置変換器システムにおいて、前記照明反射器が、交互鏡面反射照明吸収領域を含む、位置変換器システム。
【請求項４】
請求項３に記載の位置変換器システムにおいて、前記照明反射器が、３組の鏡面反射領域と３組の吸収領域を含む、位置変換器システム。
【請求項５】
請求項１に記載の位置変換器システムにおいて、前記複数の検出器区域が、複数対の相補隣接検出器領域を含む、位置変換器システム。
【請求項６】
請求項５に記載の位置変換器システムにおいて、前記複数の検出器区域が、３対の相補隣接検出器領域を含み、前記各検出器領域の出力が平均されて相対位置情報を与える、位置変換器システム。
【請求項７】
請求項１に記載の位置変換器システムにおいて、前記照明源が、前記照明源を囲む前記複数の検出器区域とほぼ同一面にある位置変換器システム。
【請求項８】
請求項１に記載の位置変換器システムにおいて、走査システムに結合されている位置変換器システム。 
【請求項９】
請求項１に記載の位置変換器システムにおいて、レーザ穴あけシステムに結合されている位置変換器システム。
【請求項１０】
請求項１に記載の位置変換器システムにおいて、レーザ・マーキング・システムに結合されている位置変換器システム。
【請求項１１】
請求項１に記載の位置変換器システムにおいて、基板機械加工システムに結合されている位置変換器システム。
【請求項１２】
請求項１に記載の位置変換器システムにおいて、レーザ・トリミング・システムに結合されている位置変換器システム。
【請求項１３】
回転制限モータ用の位置変換器システムであって、
前記回転制限モータの回転子とともに回転する照明反射器に照明を向ける照明源と、
前記照明源とほぼ同一面にあり前記照明源を囲みかつ前記照明反射器からの変調された反射照明を受ける複数組の機能的に相補な検出器区域対と、
を備える位置変換器システム。
【請求項１４】
請求項１３に記載の位置変換器システムにおいて、前記複数組の機能的に相補な検出器区域対が、複数組の検出器区域の各対の第１検出器出力の平均を表す第１平均出力信号を提供し、複数組の検出器区域の各対の第２検出器出力の平均を表す第２平均出力信号を提供する出力回路に結合される、位置変換器システム。
【請求項１５】
請求項１３に記載の位置変換器システムにおいて、前記照明反射器が、３つの相互に離隔された鏡面反射面を含み、前記複数組の機能的に相補な検出器区域対が、３対の検出器区域を含む位置変換器システム。
【請求項１６】
請求項１３に記載の位置変換器システムにおいて、走査システムに結合される位置変換器システム。
【請求項１７】
回転制限モータシステム内で相対位置信号を提供する方法であって、照明源からの照明を前記回転制限モータの回転子とともに回転する照明反射器に向けるステップと、前記照明源とほぼ同一面にあり前記照明源を囲む複数組の機能的に相補な検出器区域対において前記照明反射器からの変調反射照明を受けるステップとを含む方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法において、複数組の検出器区域の各対の第１検出器出力の平均を表す第１平均出力信号を提供するステップをさらに含む方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法において、複数組の検出器区域の各対の第２検出器出力の平均を代表する第２平均出力信号を提供するステップをさらに含む方法。
【請求項２０】
請求項１７に記載の方法において、第１平均出力信号および第２平均出力信号に応答するミラー位置制御信号を調整するステップをさらに含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
優先権
本願は、２００６年６月１９日出願の米国仮特許出願第６０／８１４７１８号の優先権を主張する。
【０００２】
本発明は、スキャナ内で光ビームを案内するためのミラーなどの光学素子を駆動するために使用される回転制限モータに関し、詳しくはそのような回転制限モータ用の位置変換器に関する。
【背景技術】
【０００３】
回転制限モータ用の位置変換器は、通常、回転制限モータの回転子に取り付けられた可動要素と固定要素とを含む。たとえば、米国特許第３９７０９７９号は、回転制限モータの回転子の相対位置を決定する際に静電容量プレートを使用する静電容量位置変換器を開示している。米国特許第４８６４２９５号は、静電容量位置変換器システムを開示している。静電容量位置検出システムは、ある回転制限モータの適用例には適切であるが、他の適用例では、静電容量位置検出システムによって提供される位置検出精度よりも高い位置検出精度が必要とされる。
【０００４】
米国特許第５２３５１８０号には、１対の発光ダイオードと、回転子軸に取り付けられた交互拡散反射面を含む回転素子と、回転素子の反射面からの反射光を受けるクワッドセル検出器とを使用する光学感知技法による位置検出が開示されている。
【０００５】
米国特許第５６７１０４３号は、第１および第２光源が、回転子軸に取り付けられた不透明素子に向けられる位置検出システムを開示している。回転子軸が回転するとき、不透明素子により、不透明素子の回転軸の周りに位置する４つの固定位置のフォトセルに光が到達することが阻止される。米国特許第５８４４６７３号は、回転子軸の周りに位置する複数の光検出器に光を向ける固定位置の軸方向光源と、回転子とともに回転する蝶型の遮断部材とを含む位置検出器を開示している。
【０００６】
米国特許第６９２１８９３号は、回転シャフトの両側に１対の光源と、回転シャフトに対して固定された複数の検出器と、光源と検出器の間に介在する回転遮光板とを含む走査装置用の位置検出システムを開示している。
【０００７】
しかし、このような位置検出システムは、光源と光検出器の精密な位置合せおよび整合を必要とし、さらに回転子軸が電子回路の平面を通過することが必要になり、それによって、製造コストが増大し位置合せが複雑になる。ある種の適用例では、ドリフトが減少し、機械的不整合に対する感応性が低下し、電気雑音が低減し、しかも部品が減少し、サイズが縮小し、製造コストが低減した位置検出システムを提供することも望まれる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって、回転制限モータシステム用の改良型の位置検出システムが必要とされ、より具体的には、効率的および経済的に製造される、回転制限モータシステム用の位置検出システムが必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、照明源と複数の検出器区域とを含む一実施形態による、回転制限モータ用の位置変換器システムを提供する。照明源は、回転制限モータの回転子とともに回転する照明反射器、および照明源に隣接し照明反射器からの変調された反射照明を受ける複数の検出器区域に照明を向ける。
【００１０】
別の実施形態によれば、本発明は、回転制限モータの回転子とともに回転する照明反射器に照明を向ける照明源と、照明源とほぼ同一面にありその照明源を囲みかつ照明反射器から変調反射照明を受ける、複数組の機能的相補対の検出器区域を含む、回転制限モータ用の位置変換器システムを提供する。
【００１１】
他の一実施形態によれば、本発明は、回転制限モータシステム内で相対位置信号を提供する方法を提供する。この方法は、照明源からの照明を回転制限モータの回転子とともに回転する照明反射器に向けるステップと、照明源とほぼ同一面にありその照明源を囲む複数組の機能的相補対の検出器区域において照明反射器からの変調された反射照明を受けるステップとを含む。
【００１２】
以下の説明は、添付の図面を参照すればさらに理解することができるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態による位置変換器システムを示す例示的概略等角図である。
【図２】図１に示す位置変換器システム内の反射器要素を示す例示的概略等角底面図である。
【図３】図１に示す位置変換器システムの光源および検出器回路を示す例示的概略平面図である。
【図４】図２の反射器要素を示す例示的概略底面図である。
【図５】本発明の一実施形態による回転制限モータシステムを示す例示的概略側断面図である。
【図６】本発明の一実施形態による位置変換器システムの回路図を示す例示的概略図である。
【図７】本発明の他の一実施形態による位置変換器システムを示す例示的概略機能図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図面は例示のために示したものにすぎない。
一実施形態によれば、本発明は、光源と、光変調器と、多セグメント化光検出器と、支持電子回路とを含む位置変換器を提供する。この変換器は、光源から隣接検出器の互いに異なるセグメントへの放出放射線を反射によって変調することにより動作する。位置変換器は、回転制限モータに使用することができ、このような回転制限モータは、たとえば、高速表面形状測定など、様々なレーザ走査適用例で使用することができる。他のレーザ加工適用例には、レーザ溶接（たとえば高速スポット溶接）、表面処理、切断、穴あけ、マーキング、トリミング、レーザ修理、ラピッドプロトタイピング、微細構造の形成、または様々な材料でのナノ構造の高密度アレイの形成などが含まれる。さらなる諸実施形態においては、本発明は、基準入力走査およびたとえば米国特許第５２５２９２３号の図１および関連する本文に開示されている共焦点顕微鏡法を含めた他の適用例に使用することができる。同特許では、そこに示されている対物レンズ１２、物体平面１４、像平面１６、レーザ光源１８、走査レンズ２０、検出器２６、およびラスタ走査ディスプレイ４０を含む。
【００１５】
図１に示すように、システム１０は反射型光変調器１２と回路基板１４を含む。反射型光変調器１２は、図２および４に示すように、その下側に反射面１６と光吸収面１８を交互に３対有する。基板１４は、３対のセグメント化された検出器領域２０ａと２０ｂ、２２ａと２２ｂ、および２４ａと２４ｂ（さらに図３に示す）と、単一光源２６（カリフォルニア州サン・ホセのＬｕｍｉｌｅｄｓ  Ｌｉｇｈｔｉｎｇ  Ｕ．Ｓ．から市販のＬｕｘｅｏｎ  ＤＳ２５  ＬＥＤ  Ｅｍｉｔｔｅｒなど）と、普通なら光源から検出器セグメントのいずれかに直接投射するはずの直接光を阻止する任意選択の遮光器２８（たとえばＯリング）とを含む。発光体によってはこのような遮光器を必要としないものもある。様々な諸実施形態において、光源は、様々な種類の発光体によって提供することができ、離れた場所から装置に照明を与える１つまたは複数の光ファイバをさらに含むことができる。
【００１６】
光が基板に到達して信号に影響を及ぼす恐れのある電荷を基板内に生じることを防止するために、検出器は、金属皮膜などの不透明層でマスキングすることができる、不活性領域（検出器の下の中央領域など）も任意選択で含むことができる。検出器領域２０ａ、２０ｂ、２２ａ、２２ｂ、２４ａおよび２４ｂは、図３に示すように、単一のモノリシック検出器で形成され、一般に６分割構造の６つの活性領域を含むことが好ましいが、パターン化された活性区域を有する離散型検出器、または活性区域を画定するためのマスクを使用してアレイを製造することも可能である。また、１対、２対、または３対以上の検出器を含む一実施形態のシステムを製作することも可能であるが、光学スキャナ検流計用には、広い走査角度およびより高い信号レベルならびに平均化を得るために３対が好ましい。好ましくは８５０ｎｍで放出するＬＥＤ光源２６は、単一素子であり、検出器の中央の検出器の不活性区域内に直接取り付ける。光源はＬＥＤである必要はなく、ＶＣＥＬレーザチップまたはリン光性ドットでもよく、あるいは適切なコーン形パターンの放射線を放出する小さな光源であって、変調器で変調することができ、誤った迷光放射なしで均一に検出器に向けることができるものでもよい。反射型光変調器１２の中央および周辺の領域は好ましくは吸収性であり、反射性領域１６は主として鏡面反射性である。吸収性領域（１８）は、発光体の波長において鏡面反射領域に対してかなりのコントラストがあることが好ましい。
【００１７】
光変調器は、反射性領域が金メッキされ、吸収性領域が反射防止コーティングされたシリコンである、リソグラフィプロセスを使用してパターニングされた、剛性モノリシックシリコン構造であることが好ましい。あるいは、黒クローム、黒ニッケル、または黒色酸化物などの拡散黒色をシリコン基板上で、またはそれだけには限定されないが電鋳金属などの他の基板上で使用することができる。他の諸実施形態は、複合構造、印刷されたフィーチャ、あるいはレーザまたはグリットブラスティングなどのテクスチャ化されたフィーチャを含み得る。変調器のフィーチャは、回転子軸の端部と一体に製作することができる。必要なのは、光源の発光によって検出器を選択的に照明する、良い形状および適切な寸法の反射性および非反射性パターンだけである。吸収性領域は透過性であってもよい。透過性の設計にすると、変調器を通過する光が、特に走査角度で変調される場合に、後で検出器に当たらないような予防策が必要となる。位置検出信号処理の動作は、たとえば米国特許第５２３５１８０号に開示されている処理と同様のものでよく、その開示を参照により本明細書に組み込む。本発明の位置変換器は、米国特許第５２３５１８０号の図３および関連する本文のモータシステム、ならびに米国特許第５４２４６３２号の図１〜４および関連する本文のモータシステムなど、様々な回転制限モータシステムに使用することができ、これらの開示は参照によりその全体を本明細書に組み込む。
【００１８】
図５に示すように、図１のシステムを回転制限モータシステムに使用するとき、反射型光変調器１２は、ハウジング３２内で回転する回転子軸３０に結合される。回路基板１４は、回転子が回転するとき静止したままであり、ＬＥＤ光源２６からの照明が、回転子３０の回転につれて回転変調器１２の反射性領域１６から反射される。システムは、温度によって誘発される変動を最小限に抑えるための加熱器として、好ましくは回路基板１４の裏側に、１つまたは複数の任意選択の自己調節ＰＴＣ抵抗発熱体を使用してもよい。
【００１９】
位置検出は、３対の検出器２０ａ、２０ｂ、２２ａ、２２ｂ、２４ａ、および２４ｂのそれぞれについて、より多量の相対照明が１対の第１検出器から１対の第２検出器に切り替わったことを各対からの信号が示す瞬間を監視することによって行われる。回転制限モータの回転子の可動域は、好ましくは各検出器対の全角度範囲未満である（たとえば、１対の検出器の中間点を中心として、６０度未満であり、好ましくは約４５度未満であり、より好ましくは、約４０度でもよい）。信号ＶａおよびＶｂは、ａ検出器とｂ検出器を合算することによって生成される。位置比例信号はＶａとＶｂの差である。具体的には、検出器２０ａ、２２ａおよび２４ａの３つの領域を合算してＶａとし、検出器２０ｂ、２２ｂおよび２４ｂの３つの領域を合算してＶｂとする。図６に示すように、計算は電子回路によって行われる。帰還ループは、Ｖｒｅｆ（５０）と（Ｖａ＋Ｖｂ）の間の誤差を積分する積分器５２を含む。Ｖｒｅｆ信号（または目標合算信号）を、別の温度感知デバイスまたは利得感知デバイスで補正し、それによってシステムの固有温度関連パラメータ利得変化を大きく補償することもできる。
【００２０】
図６に示すように、この電子回路は、ＬＥＤ４０（図１の光源２６として）と複数の検出器アレイ４２ａおよび４２ｂ（検出器対２０ａ、２２ａ、２４ａと２０ｂ、２２ｂ、２４ｂ）を含む。３組のａ検出器のＶａの平均値は４４に提供され、３組のｂ検出器のＶｂの平均値は４６に提供される。位置比例出力はノード４８に提供される。基準電圧がノード５０に印加され、負帰還増幅器回路５２が検出信号レベル設定点を提供する。
【００２１】
したがって、出力位置は（Ｖａ−Ｖｂ）／（Ｖａ＋Ｖｂ）である。電子回路は（Ｖａ＋Ｖｂ）をほとんど固定利得となるように調節する。（Ｖａ＋Ｖｂ）項は、温度関連利得ドリフトを補償するように調整することができる。負帰還増幅器回路５２内の抵抗器（Ｒｔｅｍｐ）の値は、正の利得係数を補償するように選択される。負の温度係数は、Ｒｔｅｍｐ抵抗器の一方の側を増幅器の反転入力から非反転入力に移動することによって補償される。この補償はＬＥＤの大きな感温性を利用しているが、他の諸実施形態ではサーミスタなどその他の帰還デバイスを使用することもできる。
【００２２】
図７は、本発明のシステムの機能ブロック図を示す。所望のミラー角度が７０でサーボ制御器７２（たとえばＰＩＤ制御器や状態空間制御器など）に入力される。制御器７２の出力は増幅器７４に提供され、増幅器７４は回転子軸７９上のミラー７８などの負荷を駆動する回転制御モータ７６を制御する。反射型光変調器８０は、回転子軸７９のもう１つの部分上に位置し、ＬＥＤ光源８２からの照明が変調器８０から選択的に反射される。変調器８０が回転するとき、基板８４上の検出器領域が受けた照明は、図６の回路を含む検出器電子装置８６に信号を提供する。信号９０および９２は、電流出力回路（図示せず）により、ａおよびｂ電圧（ＶａおよびＶｂ）またはａおよびｂ電流（ＩａおよびＩｂ）として提供することができる。検出器電子装置はまた、ＬＥＤ光源８２にＬＥＤ電圧信号を、サーボ制御器７２に帰還角度信号９４を提供する。いくつかの諸実施形態においては、システムは単一のプリント回路板に集積することができる。帰還信号９４は、雑音耐性およびサーボ制御器との適合性を得るために、ＶａおよびＶｂに比例した差信号としてもよい。
【００２３】
検出器アレイは、モノリシックデバイスで形成していてもよく、光源および電力線は検出器アレイに直接取り付けてもよい。この形状の検出器領域により、非直線性があってもそれを補償することが可能となる。検出器アレイおよび光源は共に、信号処理回路、増幅器回路、制御器回路、またはこれらの回路の組合せのいずれの傍に配置することもできる。この構造により、ＬＥＤパワートレースをモノリシック検出器アレイ上に直接印刷することも可能となる。したがって、本発明の様々な諸実施形態のシステムでは、位置変換器は（軸の周りに離散要素を配置するのではなく）回路製作技術を使用して形成されたモノリシック検出器アレイを含むことができるようになっている。この対向する反射性構造により、セグメントの優れた相対配置およびよく整合された活性区域を有するモノリシックアレイが可能となる。本発明の様々な諸実施形態のシステムにより、光源を直接検出器に取り付けることも可能となる。これにより、ＬＥＤの検出器アレイに対する配置が変わらないことが保証され、ＰＣ板上への容易な集積が可能となる。本発明により、短いワイヤボンドを使用して、ＰＣ板、検出器、および光源の回路接続を形成することができるようになる。
【００２４】
光源と検出器の間の遮光により、反射（変調）光だけが検出器セグメントに到達するようになり、それにより雑音が低減する。反射素子が鏡面反射性であるので、単一のＬＥＤダイを使用することができ、それにより点光源に近似した光源が得られる。鏡面反射型変調器の使用はこの光源によく適している。反射および検出構成部品の構造は、３重であり、回転軸の周りに対称に位置し、それによって信号性能が改善され、機械的不整合に対する感応性が低減する。 
【００２５】
補償のベースとしてＬＥＤ電流（または図６の感温素子）を利用した温度補償も、提供される。検出器１４上に位置する自己調節加熱器も、動作を安定させるために使用することができる。同一ＰＣ板上に変換器８４、サーボ制御器７２および増幅器７４を含むシステムにより、効率的で経済的な製造および保守がもたらされる。集積された光源を伴うモノリシック検出器に隣接する反射型変調器を含む構造により、従来可能であったよりもより高いレベルの集積が可能になる。さらなる諸実施形態によれば、変調器または検出器アレイセグメントの形状も、非線形性をさらに補償するように形成することができる。システムは、クロストークを最小限に抑えるために検出器上にガードリングを含むこともできる。
【００２６】
本発明の位置変換器を使用する回転制限モータは、たとえば、プリント回路板（ＰＣＢ）内にバイア（または穴）を作製するためのレーザ穴あけシステムに使用することができる。このようなシステムは、検流計をベースとする１対のＸ−Ｙスキャナ、ＰＣＢを移送するためのＸ−Ｙステージ、ならびにスキャナおよびレンズがカバーするフィールド内での回路板領域の並列処理をもたらす走査レンズを含むことができる。Ｘ−Ｙステージは、全体をカバーするのに必要な行と列に沿って回路板を移送する。回路板は、通常は走査フィールドよりもかなり大きい。
【００２７】
このような回転制限モータは、本発明のもう１つの実施形態によれば、多層穴あけシステムに使用することもできる。これらの動作は、１つまたは複数のレーザパルスが物体に対するビームの相対的な動きなしで有効スポット直径の範囲内の単一の穴を形成する、穴あけ（または衝撃式穴あけ）を含むこともあり、あるいは（穴あけ動作中にビームと物体の間の相対的な動きを伴う）トレパニングを含むこともある。トレパニング中に、スポット直径よりかなり大きい直径を有する穴が形成される。基板は、好ましくは円形にトレパニングされる複数のレーザパルスを使用して、基板の上面から基板の露出底面にレーザ穴あけされるが、楕円形や四角形など他のトレパニングパターンを使用してもよい。たとえば、レーザ焦点スポットの動きの１つのトレパニングパターンは、所望のバイアの中心からビームスポットがスタートし、次第に外側に螺旋運動してバイアの外径に至るものである。この時点で、ビームを、この特定のバイアに必要と判断される回転数だけバイアの中心の周りを周回させる。完了すると、焦点スポットを螺旋運動で中心に戻し、その後、次の指令を待つ。トレパニング速度は、一例として、毎秒３ミリメートルである。このような穴あけの適用例では、ビームの２点間の位置決めが迅速に行われ、この２点間の軌跡に関わらず整定時間が短くなることは、時に有利である。
【００２８】
穴あけシステム全体のスループットは、フィールド内の必要とする穴の数、穴のサイズ、ステージ速度など、多くの要因の影響を受けることがある。システムの処理能力の改善は、基板穴あけシステム内では一般に有用である可能性があり、そのような改善は、トレパニングまたは同様の動きが穴の形成に使用される基板穴あけシステムでは特に有利である可能性がある。上記に論じた回転制限モータは、電子パッケージ、半導体基板、および同様のワークピースなど、他の基板の穴あけに使用することもできる。
【００２９】
このような回転制限モータは、レーザを使用する基板マーキング、すなわち、基板の表側または裏側のいずれかにある、たとえば半導体やウェーハなどの、レーザマーキングに使用することもできる。レーザ（ダイオード励起の固体レーザなど）によって作製されるマークは、表側であれ裏側であれ、一次元または二次元マトリックスとして様々な業界基準に従って形成することができる。このようなシステムの性能は、少なくとも部分的には、マーキング速度、密度および品質に依存していることがあり、回転制限モータの性能を改善すると、マーキング速度、密度および品質が改善されることがある。あるフィールドにおけるマーキング速度は、たとえばｍｍ／秒単位で測定したとき、レーザ反復速度、スポットサイズ、ならびにシステム内で使用される１つまたは複数のモータ（たとえば、低速および高速走査方向モータ）の速度の関数である。
【００３０】
さらなる諸実施形態によれば、本発明のシステムは、たとえば、パッケージのマーキングまたはトレー内のデバイス、あるいはその他の同様のワークピースなど、電子産業における他の高速マーキング適用例に提供することができる。
【００３１】
上記に論じた回転制限モータは、本発明のさらなる諸実施形態によれば、レーザ・トリミング・システムで使用することもできる。本発明の一実施形態また諸実施形態は、レーザ・トリミング・システムまたは基板微細加工システムで使用することもできる。たとえば、このようなシステムは、各デバイスが少なくとも１つの測定可能な特性（抵抗など）を有する、デバイスのアレイ（抵抗器など）を高速で精密に微細加工する方法を提供することができる。この方法は、ａ）測定可能な特性の値を変化させるようにアレイ内のデバイスを選択的に微細加工するステップと、ｂ）選択的に微細加工するステップを中断するステップと、ｃ）選択的に微細加工するステップを中断している間に、測定可能な特性の値が変化するようにアレイ内の少なくとも１つの他のデバイスを選択的に微細加工するステップと、ｄ）中断された、デバイスの測定可能な特性が変化するように選択的に微細加工するステップを、その値が所望の範囲内に入るまで再開するステップとを含む。選択的に微細加工するステップのうちの少なくとも１つは、レーザビームを生成し、相対的に位置決めして、デバイス両端間で第１の走査パターン内を移動させるステップと、第２の走査パターンを第１の走査パターンに重ねるステップと、少なくとも１つのレーザパルスを用いて少なくとも１つのデバイスを照射するステップとを含むことができる。
【００３２】
本発明のもう１つの実施形態によれば、微細加工システムは、上記に論じた回転制限モータを使用して実施される第２のより低速の走査パターン上に重ねられた、音響光学偏向器を使用して実施される高速走査パターンを提供することができる。一般に、音響光学偏向器のアクセス時間または帰線時間は、数十マイクロ秒程度である。いくつかの諸実施形態においては、モータ速度の改善は、直接トリミング速度の改善をもたらす。
【００３３】
本発明の趣旨および範囲を逸脱することなく、上記に開示された諸実施形態に数多くの変更および変形を加えることができることが当業者には理解されよう。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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