(57)【要約】  １つ以上のホールを備えた上部金属表面を有する半導体チップに対しボンドパッドを固定する方法。この方法は、上部金属表面の上にパッシベーション層を形成する工程と、パッシベーション層は同パッシベーション層にホールを有することと、同ホールは上側金属層のホールにほぼ対応し、ほぼ上側金属層のホール以下のサイズであることと、パッシベーション層の上にボンドパッドを形成する工程とを備え、ボンドパッドを形成する工程は、ボンドパッドを形成するとき、ボンドパッドからの材料の一部をパッシベーション層および上側金属層のホールへ導入し、同材料をパッシベーション層の表面の下へ流動させ、上側金属層に取り付けずにパッシベーション層に取り付けることによって、ボンドパッドをパッシベーション層に対し固定する工程を含む。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上のホールを備えた上部金属表面を有する半導体チップに対しボンドパッドを固定する方法であって、
上部金属表面の上にパッシベーション層を形成するパッシベーション層形成工程と、パッシベーション層は同パッシベーション層にホールを有することと、同ホールは上側金属層のホールにほぼ対応し、ほぼ上側金属層のホール以下のサイズであることと、
パッシベーション層の上にボンドパッドを形成するボンドパッド形成工程と、を備え、
ボンドパッド形成工程は、ボンドパッドを形成するとき、ボンドパッドからの材料の一部をパッシベーション層および上側金属層のホールへ導入することによって、ボンドパッドをパッシベーション層に対し固定する材料導入工程を含む方法。
【請求項２】
前記材料をパッシベーション層の表面の下へ流動させ、上側金属層に取り付けずにパッシベーション層に取り付けることによって、固定手段を形成する工程をさらに備える請求項１に記載の方法。
【請求項３】
材料導入工程は、溶融した材料がホールへ入りパッシベーション層の下側に沿って流動するように、溶融した材料をパッシベーション層に適用する工程を含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】
パッシベーション層形成工程は、前記金属層のホールより小さいホールを有するパッシベーション層を形成する工程を含む請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
ほぼ直線で囲まれた形のホールを形成する工程をさらに備える請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
ほぼ円形のホールを形成する工程をさらに備える請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
１つ以上のホールを備える上部金属表面を有する半導体チップであって、
上側金属層のホールにほぼ対応し、ほぼ上側金属層のホール以下のサイズである１つ以上のホールを有する、上部金属表面の上のパッシベーション層と、
パッシベーション層の上に形成されたボンドパッドと、を備え、
ボンドパッドは、ボンドパッドが形成されるとき、パッシベーション層および上側金属層のホールへ入り、ボンドパッドを固定する半導体チップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、チップ製造および設計を改良するための方法および装置に関する。詳細には、本発明は、次に限らないが、頑健性の強化および金属層におけるボンドパッドまたはバンプへの繋止について、チップ製造および設計を改良するための方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
チップに関する技術は変化を続けており、このことは、さらなるサイズの減少を一般に意味している。サイズが減少する毎に、克服する必要のあるさらなる問題が提示される。特に、小型のデバイスについては、生じる主要な問題のうちの１つはチップの強度すなわち頑健性である。これはチップの全部分に当てはまるが、探査その他の種類の試験が行われる範囲において、より問題となる。
【０００３】
試験の荷重の拡散に関する問題については、マイクロ技術（すなわち、〜１０−６ｍ）の領域に関する複数の文書において説明されている。例えば、モトローラ（Ｍｏｔｏｒｏｌａ）による特許文献１および２には、プローブ・オーバ・パッシベーション（ＰＯＰ；ｐｒｏｂｅ−ｏｖｅｒ−ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ）、ボンド・オーバ・パッシベーション（ＢＯＰ；ｂｏｎｄ−ｏｖｅｒ−ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ）およびボンド・オーバ・活性化層（ＢＯＡ；ｂｏｎｄ  ｏｖｅｒ  ａｃｔｉｖａｔｅｄ  ｌａｙｅｒ）プロセスの使用について記載されている。
【０００４】
特許文献３は、内部強化されたボンドパッドに関する。この強化ボンドパッドは、平坦でない誘電体構造と、その平坦でない誘電体構造に形の従う金属ボンド層とを有する。この発明には、デュアル・インレイ・ボンド面（多くの工程を用いる非常に複雑なプロセスを必要とする）が必要である。特許文献４には、いわゆる「装甲された」ボンドパッドについて開示されている。この特許では、絶縁体１４の上に延びている銅金属１８からなる複数のアイランドを有する構造が教示されている。加えて、この特許では、同じ範囲で結合および探査を行うことが対処されている。金属誘電体パターンは最上部の金属（例えば、アルミニウム）であり、微細なピッチのボンドパッドに互換するものではない。また、下にある金属層によってボンド面が電気的に接続される必要があるため、このことによってボンド・オーバ・アクティベーション（ＢＯＡ）の互換性も制限される。銅のアイランドおよびパッシベーションの交互配置によって、垂直接続性が提供される。この銅のアイランドおよびパッシベーション層の交互配置を行うには、デバイス製造のコストおよび時間を増大させる、さらに幾つもの追加の工程が必要である。
【０００５】
本発明では、添付の特許請求の範囲に記載の方法および装置を提供する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第６，５６３，２２６号明細書
【特許文献２】米国特許第６，７１７，２７０号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００００５／０１２１８０３号明細書
【特許文献４】米国特許第６，５３１，３８４号明細書
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の一実施形態による、チップの第１の実施形態の断面図。
【図２】本発明の一実施形態による、図１に示すパッシベーション層領域における複数の層の詳細な部分の図。
【図３】本発明の一実施形態によるパッシベーション層の平面図。
【図４】本発明の一実施形態による方法の工程を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
図１を参照すると、ナノメートル技術の活性デバイス１００が示されている。このデバイスはシリコンベースで製造されてよく、ＭＯＳＦＥＴ、ダイオードなどであってよい。シリコン層を１０２として示す。このデバイスは、金属および絶縁体の複数の層１０４からなり、それらの層には層間に適切にビアその他の接続１０６が形成されている。層の性質および設計はデバイスの特定の性質に応じて異なる。金属の層は、通常、銅または任意の他の適切な金属からなり、絶縁体の層は、プロセスおよびデバイスの要求に適切であるような任意の誘電体からなる。最上部の金属層１０８はチップの最終設計にしたがって形成される。次いで、パッシベーション層１１０がチップの表面の上に適用され、ワイヤボンド領域１１２において結合が行われることを可能とするのに適切であるように、パターン形成される。パッシベーション層のパターニングは上部金属層１０８のパターニングと同様であり、金属層の任意のホールにほぼ対応するホールがパッシベーション層に存在する。これらのホールの理由について、より詳細に以下に記載する。そのような２つのホールについて、プローブ範囲１１８の領域において、１１４，１１６とラベルを付ける。ボンドパッド層（アルミニウム層）１２０が適用され、プローブ範囲またはプローブ領域１１８の表面において、複数のパッシベーションビア１２２がパターン形成される。ボンドパッド層１２０は、銅、アルミニウムその他の適切な材料であってよく、デバイスの表面を完全に覆わずに、様々な範囲または領域に存在してもよい。パッシベーションビア１２２の機能については、本願と同日に出願され、引用によって本明細書に援用される、本出願人の同時継続出願ＳＣ１４０２１  ＣＦにおいて、より詳細に記載されている。
【０００９】
プローブ１２４が探査領域に接触し、荷重が加えられる。ビアがプローブの下に存在するという事実のため、探査の全応力が１つの特定の点に集中されることはなく、実際には、プローブの最大応力はビアの周囲に全領域に広がる。プローブ・オーバ・パッシベーション空間に対しパターン形成されたビアが、探査の応力を有効に分散させる。探査プロセスが行われ、チップが必要な試験を通過すると、その後、ワイヤボンド１２６がワイヤボンド領域１１２へ取り付けられることができる。
【００１０】
ビアが、プローブ領域およびワイヤボンド領域の両方の上にパターン形成されてもよい。これは、試験がワイヤボンド領域またはバンプ領域（バンプ用の領域）の上で行われる場合、有用であることがある。また、パターニング（ｐａｔｔｅｒｉｎｇ）が層１２０の全体に対して同じであり、これは、より複雑でない組立プロセスを採用できることを意味している。
【００１１】
パッシベーションビアは、どのような形状とされてもよい（例えば、正方形、ハニカム、円形など）。ホールの形状およびサイズは、ホールがプローブチップより小さく、チップがホールの縁に掛からないように構成される。ホールは、例えば、角が面取りされた縁や同様の縁を有してよい。加えて、上述の一般設計要求が様々なホール形状について満たされる場合、ビアに関して形状、配置、数などの制限はない。
【００１２】
ここで図２を参照する。図２には、パッシベーション層の領域についてのより詳細な図を示す。示した領域には、その上にパッシベーション層１１０を備えたチップ１０８の最上部層が含まれている。パッシベーション層１１４，１１６のホールも、より詳細に示されている。パッシベーション層１１０はわずかに金属層１０８に重なり、突出領域２００を与えている。ボンドパッド層１２０が適用されるとき、金属のうちの一部はホールへ浸出し、突出領域の長さのうちの一部に沿って延び、アンカー２０２を生じさせる。このアンカーはホールの縁の周囲に有効に「引っ掛かり」、金属が凝固するにつれ縁への取付部を形成する。他の任意の適切な手法によりアンカーまたはアンカーポイントが形成されてよく、本発明が溶融金属の流動およびその凝固によって形成されるアンカーまたはアンカーポイントに限定されないことが認識される。
【００１３】
チップ３００の最上部金属層を、上から見て図３に示す。上面は、一般に３０４にて示すグリッドの形態で複数のホール３０２を備える。図では、グリッドは上部金属層の全面に広がっていないが、その要件を環境が要求する場合には全面に広げることも可能である。加えて、この層は１つの層でなく複数の領域であってもよい。ホールを正方形のホールとして示しているが、これについても正方形のホールである必要はない。ホールは任意の形状およびサイズであってよい。パッシベーション層の適用時、上部金属層のグリッド構成は、ホールが依然として上から見えるように維持される。ホールは、パッシベーション層によって形成された突出領域の存在のため、わずかに小さくなる。したがって、ボンドパッドが適用されるとき、溶融した金属は、複数のホール３０２の各々へ入り、そこでアンカーを形成する。
【００１４】
用語「アンカー」を、ホールに形成され、突出領域の領域へ延びる金属プラグの用語として用いる。しかしながら、アンカーは多くの異なる形状および形態を取ってよいことが認識される。用語「アンカー」には、同じ機能を有する、すなわち、ボンドパッド層をパッシベーション層に対し取り付ける追加の要素を追加する、他の任意の種類の掛止手段、固定手段または接続手段が含まれる。
【００１５】
突出領域のサイズは、アンカーの金属が最上部金属層１０８と接触して短絡などを引き起こさないように、注意深く決定される必要がある。この決定は、用いられる金属の種類、金属の流動性、ホールおよび突出部のサイズ、全ての層の材料の性質、チップの設計およびサイズに関する他の細目、ならびにそれらのうちの１つ以上に応じてよい。アンカーと金属層１０８との間の最小距離は、対象の技術が最終のチップにおいて電気的な問題を回避するために適用される設計規則に応じて異なる。
【００１６】
アルミニウム層１２０は、接続または探査が行われ得るチップ上の層の一例である。アンカーポイントが適用可能であり有用である他の環境においては、他の種類の層が存在してよい。例えば、チップ上の異なる場所に異なる金属の層が存在してよい。必要であるのは、上部層、すなわち、上述のアンカーポイントを与えるように形成されているパッシベーション層の上の領域が存在することのみである。
【００１７】
アンカーポイントを追加することによって、ボンドパッド層におけるボンドパッドの信頼性が改良される。これは、例えば、ピール試験において実証され得る。そのようなピール試験の結果について、本発明の一実施形態によるアンカーの形成されたチップでは、試験されたチップについて成功率は１００％となる。
【００１８】
アンカーおよびこのアンカーが形成される手法のため、ＰＯＰまたはボンドパッドの直ぐ下の金属層は配線用に用いられておらず、本発明の一実施形態によるデバイスには、より多くの機能が利用可能となる。加えて、本発明の一実施形態の利点を有しない同じ型のチップと比較して、ボンドパッドの機械的性能が相当増大する。これに加えて、本発明の一実施形態のボンドパッドでは、探査および結合の適用のクラックの危険が減少され、そのため、より大きなプロセスウィンドウの使用が可能となる。
【００１９】
上述のように、ボンドパッド層１２０の上面に含まれてよい複数のパッシベーションビア１２２が存在する。それらのビアによって、探査試験が出願人の同時継続出願ＳＣ１４０２１  ＣＦにおいて記載されているように行われるとき、デバイスの表面が耐えられる応力が増大する。図２に見られるように、ビア１２２およびホール１１４，１１６は位置整合されてもよい。換言すると、パッシベーションビアは、ホールの上に、または部分的にホールの上に配置される。この場合、特に任意の探査または結合操作中、または一般に組立および試験操作中に、チップにはさらに大きい強度および頑健性が存在する。
【００２０】
上述のようなアンカーを備えるチップを製造するステップについて、ここで図４に関連して記載する。チップが、チップ設計および要件に応じて、通常の手法により製造される（工程４００）。チップの最上部または上部の金属層が適用される（工程４０２）。この工程は、任意の適切なプロセスによって実行されてよい。最上部金属層は、その表面の上に複数のホール（ドーナツと呼ばれることがある）を備える。次いで、ボンドパッドのアンカー固定が必要な任意の領域においてホールが保持されるように、パッシベーション層が形成される（工程４０４）。次いで、ボンドパッド層または領域が適用される（工程４０６）。パッシベーションおよびボンドパッドは任意の適切なプロセスによって製造されてよい。
【００２１】
本明細書に提示した要素および実施例に関して本発明の変形が可能であることと、それらの変形が本明細書に含まれていることが認識される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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