(57)【要約】【解決手段】磁石アッセンブリ（２００）が、本発明の実施形態に従って提供されている。磁石アッセンブリ（２００）は、少なくとも１つの磁石（２１０）と、この少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるための実質的に平坦な磁石受け面（２２２）を含んでいる磁石保持器（２２０）と、この少なくとも１つの磁石（２１０）を磁石保持器（２２０）の磁石受け面（２２２）に取り付ける蝋付け（２３０）と、を含んでいる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの磁石（２１０）と、前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるための実質的に平坦な磁石受け面（２２２）を含んでいる磁石保持器（２２０）と、を備えている磁石アッセンブリ（２００）において、前記磁石アッセンブリ（２００）は、
前記少なくとも１つの磁石（２１０）を、前記磁石保持器（２２０）の磁石受け面（２２２）に取り付ける蝋付け（２３０）を特徴とする、磁石アッセンブリ。
【請求項２】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）は、サマリウムコバルト磁石を備えている、請求項１に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項３】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）は、ニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石を備えている、請求項１に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項４】
前記磁石受け面（２２２）は、前記磁石保持器（２２０）に形成されている沈み穴領域（２２９）を備えており、前記沈み穴領域（２２９）は、前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるように作られている、請求項１に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項５】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えている、請求項１に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項６】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えており、前記極片（２１１）は蝋付け孔（２１２）を含んでいる、請求項１に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項７】
少なくとも１つの磁石（２１０）と、前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受け入れるための磁石保持器（２２０）と、を備えている磁石アッセンブリ（２００）において、
前記前記磁石保持器（２２０）に形成されている、前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるように作られている沈み穴領域（２２９）と、
前記少なくとも１つの磁石（２１０）を、前記磁石保持器（２２０）の前記沈み穴領域（２２９）に取り付ける蝋付け（２３０）と、を特徴とする、磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項８】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）は、サマリウムコバルト磁石を備えている、請求項７に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項９】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）は、ニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石を備えている、請求項７に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えている、請求項７に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えており、前記極片（２１１）は蝋付け孔（２１２）を含んでいる、請求項７に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１２】
少なくとも１つの磁石（２１０）と、
前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるための実質的に平坦な磁石受け面（２２２）を含んでいる磁石保持器（２２０）と、
前記少なくとも１つの磁石（２１０）を前記磁石保持器（２２０）の前記磁石受け面（２２２）に取り付けるニッケルめっき層と、を備えている磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）は、サマリウムコバルト磁石を備えている、請求項１２に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１４】
前記磁石受け面（２２２）は、前記磁石保持器（２２０）に形成されている沈み穴領域（２２９）を備えており、前記沈み穴領域（２２９）は、前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるように作られている、請求項１２に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えている、請求項１２に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えており、前記極片（２１１）は蝋付け孔（２１２）を含んでいる、請求項１２に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１７】
少なくとも１つの磁石を磁石保持器上に設置する段階を含んでいる、磁石アッセンブリを形成する方法であって、前記磁石保持器は、前記少なくとも１つの磁石を受けるための実質的に平坦な磁石受け面を含んでいる、磁石アッセンブリを形成する方法において、
前記少なくとも１つの磁石を、振動流量計に取り付けられるようになっている前記磁石保持器に蝋付けする段階を特徴とする、方法。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの磁石は、サマリウムコバルト磁石を備えている、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの磁石は、ニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石を備えている、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記磁石受け面は、前記磁石保持器に形成されている沈み穴領域（２２９）を備えており、前記沈み穴領域は、前記少なくとも１つの磁石を受けるように作られている、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
極片を、前記少なくとも１つの磁石に取り付ける段階を更に含んでいる、請求項１７に記載の方法。
【請求項２２】
前記磁石アッセンブリを再磁化する段階を更に含んでいる、請求項１７に記載の方法。
【請求項２３】
少なくとも１つの磁石を磁石保持器上に設置する段階を含んでいる、磁石アッセンブリを形成する方法であって、前記磁石保持器は、前記少なくとも１つの磁石を受けるための実質的に平坦な磁石受け面を含んでいる、磁石アッセンブリを形成する方法において、
前記少なくとも１つの磁石を、振動流量計に取り付けられるようになっている前記磁石保持器にニッケルめっき留めする段階を特徴とする、方法。
【請求項２４】
前記少なくとも１つの磁石は、サマリウムコバルト磁石を備えている、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記磁石受け面は、前記磁石保持器に形成されている沈み穴領域を備えており、前記沈み穴領域は、前記少なくとも１つの磁石を受けるように作られている、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
極片を、前記少なくとも１つの磁石に取り付ける段階を更に含んでいる、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
前記磁石アッセンブリを再磁化する段階を更に含んでいる、請求項２３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁石アッセンブリに、より具体的には、高温用装置の磁石アッセンブリに関する。
【背景技術】
【０００２】
パイプラインを流れる材料の質量流量、密度、及び体積流量、及びその他の情報を測定するのにコリオリ質量流量計を使用することは知られており、１９８５年１月１日にＪ．Ｅ．スミスらに発行された米国特許第４，４９１，０２５号及び１９８２年２月１１日に同人に発行された第４，４３１，４５０号に開示されている。これらの流量計は、異なる構成の１つ又は複数の流れ導管を有している。各導管の構成は、例えば、単純な曲げ、ねじり、半径方向及び連成のモードを含む一組の固有振動モードを有していると考えられる。或る代表的なコリオリ質量流量測定装置では、導管の構成は、材料が導管を通って流れるときに、１つ又は複数の振動モードで加振され、導管の動きは、導管に沿って間隔を空けて配置されている複数の点で測定される。
【０００３】
材料が充填されているシステムの振動モードは、部分的はに、流れ導管と、流れ導管内の材料の質量を組み合わせることによって画定される。材料は、流量計の入口側に接続されているパイプラインから流量計に流れる。材料は、１つ又は複数の流れ導管を通過し、流量計を出て、出口側に接続されているパイプラインに送られる。
【０００４】
ドライバは、力を流れ導管に加える。力は、流れ導管を振動させる。流量計を通って流れる材料が無ければ、流れ導管の沿う全ての点が同じ位相で振動する。材料が流れ導管を通って流れ始めると、コリオリの加速度によって、流れ導管に沿う各点が、流れ導管に沿う他の点とは異なる位相を有するようにする。流れ導管の入口側の位相はドライバに遅れ、出口側の位相はドライバに先行する。センサーは、流れ導管の異なる地点に配置され、その異なる地点の流れ導管の運動を示す正弦波信号を作り出す。２つのセンサー信号の間の位相差は、１つ又は複数の流れ導管を通って流れる材料の質量流量に比例している。
【０００５】
流れ導管ドライバは、通常、固定磁石に相対するコイルを備えている。コイルと固定磁石は、一対の流れ導管、又は流れ導管と平衡梁に取り付けられている。作動時、ドライバコイルの磁界は迅速に代わる。固定されている相対する磁石は、流れ導管を交互に引き寄せたり離したりする振動力の生成を支援する。
【０００６】
同様に、流量計のピックオフセンサーは、磁気コイルピックアップと相対する磁石を備えており、先に述べた様に、一方又は両方が流れ導管に取り付けられている。作動時、流れ導管が振動しているときに、磁気コイルピックアップは、動いている磁石から実質的な正弦波信号を生成する。
【０００７】
流量計は、高温装置内の流れ材料を測定するのに用いることができる。華氏４００度又はそれより高い温度で連続使用しなければならない流量計装置もある。先行技術では、ドライバに用いられる磁石及び／又はピックオフセンサーアッセンブリは、磁石保持器内に締まり嵌めによって保持されている。磁石保持器は、流れ導管に取り付けられている。
【０００８】
先行技術では、アルミニウム−ニッケル−コバルト（ＡｌＮｉＣｏ）磁石が、流れ導管の剛性が低く発生する振動振幅が高い高温装置に用いられている。ＡｌＮｉＣｏ磁石を使用する際の欠点は、ＡｌＮｉＣｏ磁石が、他の磁石技術に比べて、Ｂフィールド強度は比較的低いが、質量は比較的高いことである。しかしながら、新しい流量計の設計では、剛性は高く、振幅は小さい。その結果、新しい流量計の設計は、正しく作動するために、低質量のドライバとピックオフのシステムを必要とする。ブラケットの間の空間は、流量計の設計によって一定になっているので、単純に大きな磁石の力を借りることはできない。
【特許文献１】米国特許第４，４９１，０２５号
【特許文献２】米国特許第４，４３１，４５０号
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記及びその他の問題は、本発明の何れかの実施形態による磁石アッセンブリを提供することによって解決され、技術の進歩が達成される。
【００１０】
磁石アッセンブリが、本発明の実施形態に従って提供されている。磁石アッセンブリは、少なくとも１つの磁石と、この少なくとも１つの磁石を受けるための実質的に平坦な磁石受け面を含んでいる磁石保持器と、この少なくとも１つの磁石を磁石保持器の磁石受け面に取り付ける蝋付けと、を備えている。
【００１１】
磁石アッセンブリが、本発明の実施形態に従って提供されている。磁石アッセンブリは、少なくとも１つの磁石と、この少なくとも１つの磁石を受けるための磁石保持器と、磁石保持器内に形成されており、この少なくとも１つの磁石を受けるように構成されている沈み穴領域と、この少なくとも１つの磁石を磁石保持器の沈み穴領域内に取り付ける蝋付けと、を備えている。
【００１２】
磁石アッセンブリが、本発明の実施形態に従って提供されている。磁石アッセンブリは、少なくとも１つの磁石と、この少なくとも１つの磁石を受けるための実質的に平坦な磁石受け面を含んでいる磁石保持器と、この少なくとも１つの磁石を磁石保持器の磁石受け面に取り付けるニッケルめっき層と、を備えている。
【００１３】
磁石アッセンブリを形成する方法が、本発明の実施形態に従って提供されている。本方法は、少なくとも１つの磁石を磁石保持器上に設置する段階を含んでいる。磁石保持器は、この少なくとも１つの磁石を受けるための実質的に平坦な磁石受け面を含んでいる。本方法は、更に、この少なくとも１つの磁石を磁石保持器に蝋付けする段階を含んでいる。磁石保持器は、振動流量計に取り付けられるようになっている。
【００１４】
磁石アッセンブリを形成する方法が、本発明の実施形態に従って提供されている。本方法は、少なくとも１つの磁石を磁石保持器上に設置する段階を含んでいる。磁石保持器は、この少なくとも１つの磁石を受けるための実質的に平坦な磁石受け面を含んでいる。本方法は、更に、この少なくとも１つの磁石を磁石保持器にニッケルめっき留めする段階を含んでいる。磁石保持器は、振動流量計に取り付けられるようになっている。
本発明の態様
磁石アッセンブリの１つの態様では、この少なくとも１つの磁石は、サマリウムコバルト磁石を備えている。
【００１５】
磁石アッセンブリの他の態様では、この少なくとも１つの磁石は、ニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石を備えている。
【００１６】
磁石アッセンブリの他の態様では、磁石受け面は、磁石保持器に形成されている沈み穴領域を備えており、沈み穴領域は、この少なくとも１つの磁石を受けるように作られている。
【００１７】
磁石アッセンブリの他の態様では、磁石アッセンブリは、更に、この少なくとも１つの磁石に取り付けられている極片を備えている。
【００１８】
磁石アッセンブリの他の態様では、磁石アッセンブリは、更に、この少なくとも１つの磁石に取り付けられている極片を備えており、極片は蝋付け孔を含んでいる。
【００１９】
方法の１つの態様では、この少なくとも１つの磁石は、サマリウムコバルト磁石を備えている。
【００２０】
方法の他の態様では、この少なくとも１つの磁石は、ニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石を備えている。
【００２１】
方法の他の態様では、磁石受け面は、磁石保持器に形成されている沈み穴領域を備えており、沈み穴領域は、この少なくとも１つの磁石を受けるように作られている。
【００２２】
方法の他の態様では、方法は、極片をこの少なくとも１つの磁石に取り付ける段階を更に含んでいる。
【００２３】
方法の他の態様では、方法は、磁石アッセンブリを再磁化する段階を更に含んでいる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
同じ参照番号は、全ての図面で同じ要素を示している。
【００２５】
図１−５と以下の説明は、本発明の最良モードを作成及び使用する方法を当業者に教示するため、特定の例を示している。本発明の原理を教示するため、従来の態様の中には、単純化され、又は省略されているものもある。当業者であれば、本発明の範囲内に含まれるこれらの例から、各種変更例を理解頂けるであろう。当業者には理解頂けるように、以下に述べる特徴を様々な方式で組み合わせて、本発明の多数の変更例を形成することができる。従って、本発明は、以下に述べる特定の例ではなく、請求項とそれらの等価物によってのみ限定される。
【００２６】
図１は、計器アッセンブリ１０と計器電子機器２０とを備えている流量計５を示している。計器アッセンブリ１０は、処理材料の質量流量と密度に応答する。計器電子機器２０は、リード線１００を介して計器アッセンブリ１０に接続されており、経路２６を通して密度、質量流量、及び温度情報、並びに他の情報を提供する。コリオリ流量計の構造について述べるが、当業者には自明のように、本発明は、コリオリ質量流量計が提供する追加的測定能力無しに振動管濃度計として実施することができる。
【００２７】
計器アッセンブリ１０は、一対のマニホルド１５０と１５０’、フランジネック１１０と１１０’を有するフランジ１０３と１０３’、一対の平行な流れ導管１３０と１３０’、駆動機構１８０、温度センサー１９０、及び一対の速度センサー１７０Ｌと１７０Ｒを含んでいる。流れ導管１３０と１３０’は、２つの基本的に真っ直ぐな入口脚１３１及び１３１’と、出口脚１３４及び１３４’とを有しており、それらは、互いに向かって流れ導管取り付けブロック１２０と１２０’で収束している。流れ導管１３０と１３０’は、それらの長さに沿った２つの対称な場所で曲がり、基本的にそれらの長さ全体を通して平行である。ブレースバー１４０と１４０’は、各流れ導管がその回りに振動することになる軸ＷとＷ’を画定する働きをする。
【００２８】
流れ導管１３０と１３０’の側方脚１３１、１３１’と１３４、１３４’は、流れ導管取り付けブロック１２０と１２０’に固く取り付けられており、これらのブロックは、マニホルド１５０と１５０’に固く取り付けられている。これが、コリオリ計器アッセンブリ１０を通る、連続する閉じた材料経路を提供する。
【００２９】
穴１０２と１０２’を有するフランジ１０３と１０３’が、入口端１０４と出口端１０４’を介して、測定対象の処理材料を搬送する処理管（図示せず）に接続されているとき、材料は、フランジ１０３のオリフィス１０１を通って計器の端部１０４に入り、マニホルド１５０を通して、表面１２１を有する流れ導管取り付けブロック１２０へ送られる。マニホルド１５０内で、材料は、分割され、流れ導管１３０と１３０’へ導かれる。流れ導管１３０と１３０’を出ると、処理材料は、マニホルド１５０’内で再び組み合わされて１つの流れになり、その後、（ボルト穴１０２’を有するフランジ１０３’によって接続されている）端部１０４’ を通して、処理配管（図示せず）に送られる。
【００３０】
実質的に同じヤング係数を有する流れ導管１３０と１３０’は、それぞれ、曲げ軸Ｗ−ＷとＷ’−Ｗ’に関して実質的に同じ質量分布、慣性モーメント、及びシステム剛性を有するように、選択され、流れ導管取り付けブロック１２０と１２０’に適切に取り付けられている。これらの曲げ軸は、ブレースバー１４０と１４０’を通っている。流れ導管のヤング係数は温度によって変化し、この変化は流量と密度の計算に影響を与えるので、抵抗温度検出器（ＲＤＴ）１９０を流れ導管１３０’に取り付けて、流れ導管の温度を連続的に測定する。流れ導管を通って流れる所与の電流に対する、流れ導管の温度とＲＤＴを跨いて現れる電圧は、流れ導管を通過する材料の温度によって支配される。ＲＤＴを跨いで現れる温度依存電圧は、周知の方法で、計器電子機器２０によって、流れ導管の温度の変化に依る流れ導管１３０と１３０’の弾性係数の変化を補正するのに使用される。ＲＤＴは、リード線１９５によって計器電子機器２０に接続されている。
【００３１】
流れ導管１３０と１３０’の両方は、ドライバ１８０によって、それぞれの曲げ軸Ｗ−ＷとＷ’−Ｗ’の回りに反対方向に、流量計の一次位相外れ曲げモードと呼ばれるモードで駆動される。この駆動機構１８０は、多くの周知の配置の何れを備えていてもよく、例えば、流れ導管１３０’に磁石を取り付け、流れ導管１３０に相対するコイルを取り付けて、このコイルに交流を流して両方の導管を振動させる。適した駆動信号が、計器電子機器２０によって、リード線１８５を介して駆動機構１８０に送られる。
【００３２】
計器電子機器２０は、ＲＤＴ温度信号をリード線１９５で、左右の速度信号をリード線１６５Ｌと１６５Ｒで、それぞれ受け取る。計器電子機器２０は、駆動信号を生成し、リード線１８５を介して駆動要素１８０に送り、流れ導管１３０と１３０’を振動させる。計器電子機器２０は、左右の速度信号とＲＤＴ信号を処理し、計器アッセンブリ１０を通過する材料の質量流量と密度を計算する。この情報は、他の情報と共に、計器電子機器２０によって、経路２６を介して利用手段２９へ送られる。
【００３３】
図２は、本発明の或る実施形態による磁石アッセンブリ２００を示している。磁石アッセンブリ２００は、少なくとも１つの磁石２１０と磁石保持器２２０を含んでいる。１つの実施形態では、磁石アッセンブリ２００は、振動流量計５の計器アッセンブリ１０に用いられている。振動流量計５は、例えば、コリオリ流量計又は振動濃度計を備えている。
【００３４】
磁石２１０は、流量計ドライバアッセンブリ１８０の一部、又は流量計ピックオフセンサー１７０の一部である（図１参照）。図示の実施形態の磁石２１０は、実質的に円筒形である。しかしながら、磁石は他の形状であってもよい。
【００３５】
磁石２１０は、１つ又は複数の構成要素磁石を備えることができる。磁石２１０は、例えば、一体に蝋付けされた構成要素磁石の積み重ねを備えていてもよい。
【００３６】
１つの実施形態の磁石２１０は、サマリウムコバルト（ＳｍＣｏ）磁石を備えている。ＳｍＣｏ磁石は、実質的に、その磁気特性を高温で保持するので、高温の流動材料を受け入れる流量計で使用する際に好都合である。ＳｍＣｏ磁石は、例えば、華氏４００度又はそれを越える温度でも、流れ導管のドライバ又は流れ導管のピックオフセンサーで作動するのに必要な満足できるレベルの磁束を生成することができる。しかしながら、ＡｌＮｉＣｏ磁石の様な他の磁石材料を使用してもよいし、それも説明及び請求項の範囲に含まれるものと理解されたい。
【００３７】
磁石保持器２２０は、１つ又は複数の保持器構成要素部分を備えている。磁石保持器２２０は、磁石２１０を受ける磁石受け面２２２を含んでいる。１つの実施形態の磁石受け面２２２は、実質的に平坦である。磁石保持器２２０は、更に、壁２２４と取り付け機構２２６を含んでいる。壁２２４は、磁石２１０を取り囲んでいるが、磁石２１０に接触してはいない。磁石２１０と壁２２４の間には間隙Ｇが在り（図３参照）、ドライバ又はセンサー構成要素の対応する部分は、この間隙Ｇに出入りすることができる。壁２２４は、従って、磁束を、概略、磁石２１０と、対応するドライバ又はセンサー構成要素との間にある領域に拘束する働きをする。
【００３８】
壁２２４は、磁石保持器２２０に必要不可欠な部分ではないものと理解されたい。磁石保持器２２０は、間隙Ｇが磁石２１０と他の構成要素の間に形成されるような様式の基部を備えていてもよい。
【００３９】
１つの実施形態では、磁石２１０は、ニッケルめっきされている。ニッケルめっき層は、磁石２１０の少なくとも一部分と、磁石保持器２２０の磁石受け面２２２の少なくとも一部分に亘り伸張している。ニッケルめっきは、ＳｍＣｏ磁石の高温性能を改良する。加えて、ニッケルめっきは、取り付けの一部又は全部を提供する。例えば、磁石アッセンブリ２００を形成する１つの実施形態では、磁石２１０は、磁石受け面２２２上に置かれ、次に、磁石アッセンブリ２００全体がニッケルめっきされる。これで出来たニッケルめっきが、この実施形態では、磁石２１０を磁石保持器２２０に取り付ける。
【００４０】
この図は、更に、磁石２１０に取り付けられている随意の極片２１１を示している。極片２１１は、追加の磁石を備えていてもよい。代わりに、極片２１１は、磁石２１０から壁２２４へ磁束を成形するか又は導く働きをする磁気伝導材料を備えていてもよい。極片２１１は、極片２１１を磁石２１０に蝋付け（又は取り付け）するための開口部を提供する孔２１２を含んでいてもよい。加えて、極片２１１は、磁石２１０を実質的に覆って嵌るリム２１３を更に含んでいてもよい。
【００４１】
図３は、図２の磁石アッセンブリ２００のＡ−Ａ断面図である。断面図は、磁石２１０を磁石保持器２２０の磁石受け面２２２に取り付ける蝋付け２３０を示している。蝋付け２３０は、溶けた溶加材を使って、同様な又は異なる金属を接合する段階を含んでいる。蝋付けは、幾らか青銅を含んでいる溶加材を使用することが多い。しかしながら、蝋付けは、銅、ニッケル、亜鉛、銀、燐を含め様々な金属を使用することもできる。蝋付けは、蝋付けされる基板の金属部片を溶かさず、毛管作用によって溶けた溶加材を分布させる。溶解した溶加材は、その液体温度で、基板金属の薄い層と相互作用し、冷却すると、粒子構造の相互作用に依り優れて強力な密閉接合が形成される。蝋付けは、通常、華氏９００から２２００度の温度を必要とするが、蝋付けには華氏４５０度もの低い温度も含まれると考える人もいる。
【００４２】
この図は、更に、本発明の或る実施形態による取付機構２２６の詳細を示している。図示の実施形態の取付機構２２６は、取付孔２２８を含んでいる。取付孔２２８は、磁石保持器２２０を、流れ導管又は流れ導管構造に取り付け又は取り外し可能に取り付けるのに用いられる。図示の取付孔２２８は、ねじ山を含んでいるので、或る種のねじ付きファスナーを受け入れることができる。しかしながら、取付孔２２８、更には取付機構２２６全体は、どの様な方式で流量計構造に取り付けてもよいものと理解されたい。
【００４３】
図４は、本発明の或る実施形態による磁石アッセンブリ２００を示している。この実施形態では、磁石受け面２２２は、磁石２１０を受けるように作られている沈み穴領域２２９を含んでいる。沈み穴領域２２９は、磁石の整列と組み立てに役立つ。沈み穴領域２２９は、磁石２１０を磁石保持器２２０の中心に合わせる働きをするので好都合である。加えて、沈み穴領域２２９は、磁石２１０を磁石保持器２２０に蝋付けするためにより広い領域を提供することができる。
【００４４】
図５は、図４の磁石アッセンブリ２００のＢ−Ｂ断面図である。断面図は、沈み穴領域２２９に着座している磁石２１０を示している。蝋付け２３０は、磁石２１０を沈み穴領域２２９に、そして磁石保持器２２０に取り付ける。図から分かる様に、沈み穴領域２２９は、実質的に平坦でもよい。沈み穴領域２２９が磁石２１０の形状と実質的に合致することも、図から分かる。更に、沈み穴領域２２９は、追加の蝋付け体積を提供する任意の様式の溝切り２３４を含んでいてもよい。代わりに、溝切り２３４は、任意の様式の畝立て、粗面化、織り加工などを含んでいてもよい。
【００４５】
何れの実施形態による磁石アッセンブリ２００も、様々な方法で作ることができる。１つの方法では、磁石２１０は、磁石保持器２２０の磁石受け面２２２に押し付けて置かれ、適所に蝋付けされる。他の方法では、磁石２１０は、磁石保持器２２０の沈み穴領域２２９内に置かれ、適所に蝋付けされる。別の方法では、磁化前の磁石が、部品同士を一体に取り付ける手段として、適所にめっき留めされる。蝋付け又はめっき留めされたアッセンブリは、再磁化処理を受ける。再磁化処理は、蝋付け処理の熱のために失われた磁気能力を実質的に回復させるために行われる。
【００４６】
本発明による磁石アッセンブリは、必要に応じて幾つかの利点を提供するために、何れの実施形態に従って利用することもできる。本発明は、振動流量計用の高温磁石アッセンブリを提供する。本発明は、流れ導管のドライバシステム又は流れ導管のセンサーシステム用の高温磁石アッセンブリを提供する。本発明は、振動流量計用の強力で効果的な磁石取付を提供する。本発明は、サマリウムコバルト磁石を使った高温磁石アッセンブリを提供する。本発明は、ニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石を使った高温磁石アッセンブリを提供する。本発明は、磁石取付が磁石に圧縮力を掛けない、サマリウムコバルト磁石用の磁石取付を提供する。本発明は、磁石の寸法を大きくしないで、高温磁石アッセンブリを提供する。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】計器アッセンブリと計器電子機器を備えた流量計を示している。
【図２】本発明の或る実施形態による振動流量計のための磁石アッセンブリを示している。
【図３】図２の磁石アッセンブリのＡ−Ａ断面図である。
【図４】本発明の或る実施形態による磁石アッセンブリを示している。
【図５】図４の磁石アッセンブリのＢ−Ｂ断面図である。
【図１】
2009511875.tif 000003
【図２】
2009511875.tif 000004
【図３】
2009511875.tif 000005
【図４】
2009511875.tif 000006
【図５】
2009511875.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月21日(2008.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの磁石（２１０）と、前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるための実質的に平坦な磁石受け面（２２２）を含んでいる磁石保持器（２２０）と、を備えている磁石アッセンブリ（２００）において、前記磁石アッセンブリ（２００）は、
前記少なくとも１つの磁石（２１０）を、前記磁石保持器（２２０）の磁石受け面（２２２）に取り付ける蝋付け（２３０）を特徴とする、磁石アッセンブリ。
【請求項２】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）は、サマリウムコバルト磁石を備えている、請求項１に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項３】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）は、ニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石を備えている、請求項１に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項４】
前記磁石受け面（２２２）は、前記磁石保持器（２２０）に形成されている沈み穴領域（２２９）を備えており、前記沈み穴領域（２２９）は、前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるように作られている、請求項１に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項５】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えている、請求項１に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項６】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えており、前記極片（２１１）は蝋付け孔（２１２）を含んでいる、請求項１に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項７】
少なくとも１つの磁石（２１０）と、前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受け入れるための磁石保持器（２２０）と、を備えている磁石アッセンブリ（２００）において、
前記前記磁石保持器（２２０）に形成されている、前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるように作られている沈み穴領域（２２９）と、
前記少なくとも１つの磁石（２１０）を、前記磁石保持器（２２０）の前記沈み穴領域（２２９）に取り付ける蝋付け（２３０）と、を特徴とする、磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項８】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）は、サマリウムコバルト磁石を備えている、請求項７に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項９】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）は、ニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石を備えている、請求項７に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えている、請求項７に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えており、前記極片（２１１）は蝋付け孔（２１２）を含んでいる、請求項７に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１２】
少なくとも１つの磁石（２１０）と、
前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるための実質的に平坦な磁石受け面（２２２）を含んでいる磁石保持器（２２０）と、
前記少なくとも１つの磁石（２１０）を前記磁石保持器（２２０）の前記磁石受け面（
２２２）に取り付けるニッケルめっき層と、を備えている磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）は、サマリウムコバルト磁石を備えている、請求項１２に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１４】
前記磁石受け面（２２２）は、前記磁石保持器（２２０）に形成されている沈み穴領域（２２９）を備えており、前記沈み穴領域（２２９）は、前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受けるように作られている、請求項１２に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えている、請求項１２に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えており、前記極片（２１１）は蝋付け孔（２１２）を含んでいる、請求項１２に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項１７】
少なくとも１つの磁石を磁石保持器上に設置する段階を含んでいる、磁石アッセンブリを形成する方法であって、前記磁石保持器は、前記少なくとも１つの磁石を受けるための実質的に平坦な磁石受け面を含んでいる、磁石アッセンブリを形成する方法において、
前記少なくとも１つの磁石を、振動流量計に取り付けられるようになっている前記磁石保持器に蝋付けする段階を特徴とする、方法。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの磁石は、サマリウムコバルト磁石を備えている、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの磁石は、ニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石を備えている、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記磁石受け面は、前記磁石保持器に形成されている沈み穴領域（２２９）を備えており、前記沈み穴領域は、前記少なくとも１つの磁石を受けるように作られている、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
極片を、前記少なくとも１つの磁石に取り付ける段階を更に含んでいる、請求項１７に記載の方法。
【請求項２２】
前記磁石アッセンブリを再磁化する段階を更に含んでいる、請求項１７に記載の方法。
【請求項２３】
少なくとも１つの磁石を磁石保持器上に設置する段階を含んでいる、磁石アッセンブリを形成する方法であって、前記磁石保持器は、前記少なくとも１つの磁石を受けるための実質的に平坦な磁石受け面を含んでいる、磁石アッセンブリを形成する方法において、
前記少なくとも１つの磁石を、振動流量計に取り付けられるようになっている前記磁石保持器にニッケルめっき留めする段階を特徴とする、方法。
【請求項２４】
前記少なくとも１つの磁石は、サマリウムコバルト磁石を備えている、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記磁石受け面は、前記磁石保持器に形成されている沈み穴領域を備えており、前記沈み穴領域は、前記少なくとも１つの磁石を受けるように作られている、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
極片を、前記少なくとも１つの磁石に取り付ける段階を更に含んでいる、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
前記磁石アッセンブリを再磁化する段階を更に含んでいる、請求項２３に記載の方法。
【請求項２８】
前記磁石アッセンブリの全体がニッケルめっきされていることを特徴とする、請求項２３に記載の方法。
【請求項２９】
少なくとも１つの磁石（２１０）と、
該少なくとも１つの磁石（２１０）を受設するためのほぼ平坦な磁石受け面（２２２）を受けるほぼ平坦な磁石を含む磁石保持器（２２０）と、
磁石アッセンブリ（２００）のほぼ全体に拡開し前記少なくとも１つの磁石（２１０）を前記磁石保持器（２２０）に取り付けるニッケルめっき層と、
からなることを特徴とする、磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項３０】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）がサマリウムコバルト磁石からなる、請求項２９に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項３１】
前記磁石受け面（２２２）が前記磁石保持器（２２０）に形成された沈み穴領域（２２９）からなり、前記沈み穴領域（２２９）が前記少なくとも１つの磁石（２１０）を受設するような形状にされている、請求項２９に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項３２】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えている、請求項２９に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【請求項３３】
前記少なくとも１つの磁石（２１０）に取り付けられている極片（２１１）を更に備えており、該極片（２１１）が蝋付け孔（２１２）を含んでいる、請求項２９に記載の磁石アッセンブリ（２００）。
【国際調査報告】
2009511875.tif 000008
2009511875.tif 000009
2009511875.tif 000010
2009511875.tif 000011
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