(57)【要約】  本発明は、基板とモールドとの間に位置するガスを排出させる方法及びシステムを対象とし、基板及びモールドはそれらの間に位置する流体をさらに有する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板とモールド組立体の間に液体を有していて、前記基板と前記モールド組立体との間にあるガスを排出させるための方法において、
第１領域と第２領域を有する前記モールド組立体が前記基板に近接するように、前記モールド組立体と前記基板とを配置するステップと、
前記モールド組立体の前記第２領域と前記基板との間に形成された間隙を減少させるために前記第２領域が前記基板に向かって湾曲するように、前記第１領域を前記基板から離れるように湾曲させることによって前記モールド組立体の形状を変形させるステップと、
前記ガスを前記基板と前記モールド組立体との間から排出し、かつ前記液体が前記モールド組立体と前記基板との間に規制された容積を充填するように、前記液体の副部分を前記モールド組立体の前記第２領域に接触させるステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記形状を変形させるステップは、前記モールド組立体に結合されたチャックの部分と前記モールド組立体の前記第１領域との間に形成された第１チャンバと、前記チャックの部分と前記モールド組立体の前記第２領域との間に形成された第２チャンバとの間で差異がある圧力を作るステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記形状を変形させるステップは、前記モールド組立体に結合されたチャックの部分と前記モールド組立体の前記第１領域との間に形成されたチャンバを真空にさらすステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記副部分を接触させるステップは、前記液体の中央領域を前記モールド組立体に接触させるステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記モールド組立体と前記層との間の接触時間の大きさが、前記液体から形成される層の均一性を最大化するように選択される請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記液体を固化させるために化学線作用のあるエネルギーを前記液体に当てるステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項７】
基板とモールド組立体の間に液体を有していて、前記基板と前記モールド組立体との間にあるガスを排出させるための方法において、
第１領域と第２領域を有する前記モールド組立体が前記基板から間隔を隔てて配置されるように前記モールド組立体と前記基板とを配置するステップと、
前記液体が前記モールド組立体と前記基板との間に規制された容積を充填する際に、前記ガスを前記基板と前記モールド組立体との間から排出させるために、前記第２領域が前記基板に向かって湾曲し、かつ前記第２領域が前記液体の副部分に接触するように、前記第１領域を前記基板から離れるように湾曲させることによって前記モールド組立体の形状を変形させるステップと、
を含む方法。
【請求項８】
前記形状を変形させるステップは、前記モールド組立体に結合されたチャックの部分と前記モールド組立体の前記第１領域との間に形成された第１チャンバと、前記チャックの部分と前記モールド組立体の前記第２領域との間に形成された第２チャンバとの間で差異がある圧力を作るステップをさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記形状を変形させるステップは、前記モールド組立体に結合されたチャックの部分と前記モールド組立体の前記第１領域との間に形成されたチャンバを真空にさらすステップをさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記形状を変形させるステップは、前記液体の中央領域を前記モールド組立体に接触させるステップをさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記モールド組立体と前記層との間の接触時間の大きさが、前記液体から形成される層の均一性を最大化するように選択される請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記液体を固化させるために化学線作用のあるエネルギーを前記液体に当てるステップをさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
モールド組立体の形状を変形させるためのシステムにおいて、
第１の側とその反対側の第２の側を有するチャック本体であって、前記第１の側は、間隔を空けて配置される第１と第２の支持領域となる第１と第２の間隔を空けて配置された凹部を含み、前記第１支持領域は、前記第２支持領域及び前記第１と第２凹部を取り巻き、前記第２支持領域は前記第２凹部を取り巻き、流体チャネルが前記チャック本体を通り抜けて前記第１凹部に延びるチャック本体と、
前記チャック本体の前記第１の側に結合されたモールド組立体であって、前記モールドの一部分が第１チャンバを形成する前記第１凹部に重ね合わされ、前記モールドの他の部分が第２チャンバを形成する前記第２凹部に重ね合わされたモールド組立体と、
前記モールド組立体の前記第２部分が前記チャック本体から湾曲して離れるように前記モールド組立体の前記第１部分を前記チャック本体に向けて湾曲させるために真空圧力を前記流体チャネルを通じて前記第１チャンバに供給するために前記チャック本体に結合された圧力制御システムと、
を備えたシステム。
【請求項１４】
前記第１凹部は、そこから延びる複数の間隔を隔てて配置されたピンをさらに備える請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記第２凹部に重ね合わされた前記チャック本体の部分は、所定の波長を有する放射に対して透明である請求項１３に記載のシステム。
【請求項１６】
前記システムは、前記第１チャンバを前記第２チャンバから分離させるために前記第２支持領域に隣接して配置された規格に準拠したシーリングをさらに備える請求項１３に記載のシステム。
【請求項１７】
前記第１と第２支持領域のそれぞれがそれに付随した支持面を有し、前記第２支持領域からは離れて向いており、前記支持面は、前記モールド組立体の輪郭に従うように構成された材料で形成されている請求項１３に記載のシステム。
【請求項１８】
前記圧力制御システムを前記第２チャンバに流体連結させて配置するために、前記チャック本体を通り抜けて前記第２凹部に延びる付加的な流体チャネルをさらに含む請求項１３に記載のシステム。
【請求項１９】
前記モールド組立体は複数の突出部と凹部とをさらに備える請求項１３に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【関連出願】
【０００１】
（関連出願の相互引用）
本出願は、発明者としてＢｙｕｎｇ−Ｊｉｎ  Ｃｈｏｉ、Ｓｉｄｌｇａｔａ  Ｖ．Ｓｒｅｅｎｉｖａｓａｎ、Ｉａｎ  Ｍ．ＭｃＭａｃｋｉｎ、及びＰａｎｋａｊ  Ｂ．Ｌａｄが記載された「Ｍｅｔｈｏｄ  ａｎｄ  Ａｐｐａｒａｔｕｓ  ｆｏｒ  Ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ  ｗｉｔｈ  Ｐｒｅｓｈａｐｅｄ  Ｔｅｍｐｌａｔｅｓ  ａｎｄ／ｏｒ  Ｌｉｇｈｔ  Ｃｕｒａｂｌｅ  Ｌｉｑｕｉｄｓ」という名称の２００５年１２月８日出願の米国特許仮出願６０／７４８３８０の優先権、及び、発明者としてＢｙｕｎｇ−Ｊｉｎ  Ｃｈｏｉ、Ｒｏｎａｌｄ  Ｄ．Ｖｏｉｓｏｎ、Ｓｉｄｌｇａｔａ  Ｖ．Ｓｒｅｅｎｉｖａｓａｎ、Ｍｉｃｈａｅｌ  Ｐ．Ｃ．Ｗａｔｔｓ、Ｄａｎｉｅｌ  Ａ．Ｂａｂｂｓ、Ｍａｒｉｏ  Ｊ．Ｍｅｉｓｓｌ、Ｈｉｌｌｍａｎ  Ｌ．Ｂａｉｌｅｙ、及びＮｏｒｍａｎ  Ｅ．Ｓｃｈｕｍａｋｅｒが共に記載された「Ｃｈｕｃｋｉｎｇ  Ｓｙｓｔｅｍ  ｆｏｒ  Ｍｏｄｕｌａｔｉｎｇ  Ｓｈａｐｅｓ  ｏｆ  Ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ」という名称の２００２年１１月１３日出願の現在は米国特許第７０１９８１９号である米国特許出願１０／２９３２２４の継続である、「Ｉｍｐｒｉｎｔ  Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ  Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｔｏｏｌ  ｆｏｒ  Ｍｏｄｕｌａｔｉｎｇ  Ｓｈａｐｅｓ  ｏｆ  Ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ」という名称の２００６年３月２７日出願の米国特許出願１１／３８９７３１の継続を主張し、これらの全ては参照により本明細書に組み込まれる。
【技術分野】
【０００２】
本発明の分野は、一般に構造体のナノファブリケーションに関する。より詳細には、本発明は、基板とモールドとの間に位置するガスを排出する方法及びシステムが対象とされる。
【背景技術】
【０００３】
ナノファブリケーションは、例えば、ナノメートル又はそれより小さい程度のフィーチャを有する極めて小さな構造体の製造を含む。ナノファブリケーションがかなり大きな影響を与えるようになった１つの分野は集積回路のプロセシングの分野においてである。半導体プロセシング産業は、より大きな生産収率のための努力を続ける一方、基板上に形成される単位面積当たりの回路を増加させるので、ナノファブリケーションはますます重要になっている。ナノファブリケーションはより大きなプロセス制御を行なう一方、形成される構造体の最小フィーチャ寸法のさらなる縮小を可能にする。ナノファブリケーションが使用されている開発の他の分野は、バイオテクノロジー、光学技術、機械システム等を含む。
【０００４】
例としてのナノファブリケーション技法は、一般にインプリントリソグラフィと呼ばれる。例としてのインプリントリソグラフィのプロセスは、「Ｍｅｔｈｏｄ  ａｎｄ  ａ  Ｍｏｌｄ  ｔｏ  Ａｒｒａｎｇｅ  Ｆｅａｔｕｒｅｓ  ｏｎ  ａ  Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ  ｔｏ  Ｒｅｐｌｉｃａｔｅ  Ｆｅａｔｕｒｅｓ  ｈａｖｉｎｇ  Ｍｉｎｉｍａｌ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ  Ｖａｒｉａｂｉｌｉｔｙ」という名称の米国特許出願１０／２６４９６０として出願の米国特許出願２００４／００６５９７６公報、「Ｍｅｔｈｏｄ  ｏｆ  Ｆｏｒｍｉｎｇ  ａ  Ｌａｙｅｒ  ｏｎ  ａ  Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ  ｔｏ  Ｆａｃｉｌｉｔａｔｅ  Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｍｅｔｒｏｌｏｇｙ  Ｓｔａｎｄａｒｄｓ」という名称の米国特許出願１０／２６４９２６として出願の米国特許出願２００４／００６５２５２公報、及び、「Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ  Ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  ｆｏｒ  Ｉｍｐｒｉｎｔ  Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ」という名称の米国特許第６９３６１９４号などの多くの刊行物で詳細に説明されており、これらの全ては本発明の譲受人に譲渡されている。
【０００５】
前述の米国特許出願刊行物及び米国特許のそれぞれの中で開示された基本的なインプリントリソグラフィ技法は、重合可能な層の中へレリーフ・パターンを形成し、かつレリーフ・パターンに対応するパターンを下にある基板の中に転写することである。基板は、そのパターン形成を容易にするために所望の位置を得るように移動ステージの上に配置される。そのために、テンプレートが基板から間隔を隔てて配置され、テンプレートと基板との間に存在する成形可能な液体と共に使用される。液体は、液体に接触した状態にあるテンプレートの面の形状に従って記録されたパターンを有する固化された層を形成するために固化される。次いで、テンプレートは、テンプレートと基板とが間隔を隔てて配置されるように固化された層から分離される。次いで、基板と固化された層とは、固化された層の中のパターンに対応するレリーフ像を基板の中に転写するための処理を受ける。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
テンプレートと基板との間及び成形可能な液体の内部にガスが存在することがあり、これは、とりわけ、固化された層のパターン歪み、固化された層内に形成されたフィーチャの低い忠実度、固化された層の残りの層の不均一な厚さという結果になり、これら全ては望ましくない。そのために、基板とモールドとの間に位置するガスを排出するための方法及びシステムを提供するニーズが存在する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
図１を参照すると、基板１２の上にレリーフ・パターンを形成するためのシステム１０は、基板１２が支持されるステージ１４とテンプレート１６とを含む。テンプレート１６は、パターンニング面２０を備え、基板１２に向けて延びるメサ１８を有することができる。以降では、メサ１８はモールド１８と呼ばれる。さらなる実施形態では、テンプレート１６はモールド１８が実質的になくてもよい。さらに、基板１２は基板チャック（図示せず）に結合され、基板チャック（図示せず）は真空式及び電磁式を含むがこれに限定されない任意のチャックである。
【０００８】
テンプレート１６及び／又はモールド１８は、溶融シリカ、石英、シリコン、有機ポリマ、シロキサンポリマ、ホウケイ酸ガラス、フルオロカーボン・ポリマ、金属、強化サファイアを含むがこれらに限定されないこうした材料から形成される。示されたように、パターニング面２０は、複数の間隔を隔てて配置された凹部２２と突出部２４とによって形成されたフィーチャを備える。しかし、さらなる実施形態では、パターニング面２０は、実質的に平滑及び／又は平坦である。パターニング面２０は、基板１２の上に形成されるべきパターンの基礎を形成するオリジナルパターンを形成する。
【０００９】
テンプレート１６はテンプレート・チャック２８に結合され、テンプレート・チャック２８は、真空式及び電磁式を含むがこれに限定されない任意のチャックである。さらに、テンプレート・チャック２８は、テンプレート１６及びしたがってモールド１８の移動を容易にするためにインプリント・ヘッド２６に結合される。流体定量吐出システム３０が、基板１２の上にポリマ材料３２を堆積するように基板１２に流体連結した状態で選択的に配置されるべく結合される。流体定量吐出システム３０は、複数の定量吐出ユニットをその内部に備える。ポリマ材料３２は、例えば、液滴吐出、スピンコーティング、ディップ・コーティング、気相成長（ＣＶＤ）、物理的気相成長（ＰＶＤ）、薄膜堆積、圧膜堆積等の任意の知られた技法を使用して堆積されることを理解されたい。図２に示されるように、ポリマ材料３２は、マトリックス・アレイ３６を形成する複数の間隔を隔てて配置された液滴３４として基板１２の上に堆積される。例では、液滴３４の各液滴は約１〜１０ピコリットルの単位体積を有する。マトリックス・アレイ３６の液滴３４は、５列ｃ1〜ｃ5及び５行ｒ1〜ｒ5に配列されている。しかし、液滴３４は基板１２の上に任意の２次元構成に配置される。
【００１０】
ポリマ材料３２に関する例示の組成はシリコンがなく、下記のものからなる。
組成１
イソボルニルアクリレート
ｎ−へキシルアクリレート
エチレングリコールディアクリレート
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−１
【００１１】
これを受けて、組成１は、参照により本明細書に組み込まれる「Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ  ｆｏｒ  ａｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ  Ｍａｓｋ  Ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ  ａ  Ｓｉｌｉｃｏｎ−Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ」という名称の米国特許第７１２２０７９号の中で説明されている。
【００１２】
図１を参照する。モールド１８とポリマ材料３２の引き剥がし特性を向上させポリマ材料３２がモールド１８に粘着しないことを確実にするために、添加剤が組成１の中に含まれる。そのために、ポリマ材料３２は添加剤として界面活性剤を含む。この発明のために、界面活性剤はその片側が疎水性である任意の分子と定義される。界面活性剤は、例えばフッ素鎖を含むフッ素含有物であっても、又は界面活性剤の分子構造の中にいかなるフッ素も含まなくてよい。例示の界面活性剤は、ｙが１と７を含む１〜７の範囲にあるＲ1＝Ｆ（ＣＦ2ＣＦ2）Y、及び、ｘが０と１５を含む０〜１５の範囲にあるＲ2＝ＣＨ2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）XＨで表される、Ｒ1Ｒ2の一般構造を有するＤＵＰＯＮＴ（商標）社からＺＯＮＹＬ（登録商標）ＦＳＯ−１００の商品名で市販されている。これは、以下の組成を備えたポリマ材料３２を提供する。、
組成２
イソボルニルアクリレート
ｎ−へキシルアクリレート
エチレングリコールディアクリレート
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−１
ＲfＣＨ2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）XＨ
【００１３】
さらなる実施形態において、それからポリマ材料３２を形成するための例示の組成は、以下のとおりである。
組成３
ヒドロキシル機能のポリシロキサン
ヘキサメソキシメチルメラミン
トルエンスルホン酸
メチルアミルケトン
組成４
ヒドロキシル機能のポリシロキサン
ヘキサメソキシメチルメラミン
ガンマ−グリシドオキシプロピルトリメトキシレン
トルエンスルホン酸
メチルアミルケトン
【００１４】
これを受けて、また、組成２〜組成４も「Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ  ｆｏｒ  ａｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ  Ｍａｓｋ  Ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ  ａ  Ｓｉｌｉｃｏｎ−Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ」という名称の米国特許第７１２２０７９号の中で説明されている。
【００１５】
図１を参照すると、システム１０は、経路４２に沿って直接エネルギー４０に結合されたエネルギー４０のソース３８をさらに備える。インプリント・ヘッド２６及びステージ１４は、モールド１８と基板１２が経路４２の中に重ね合わされ配置されるようにそれぞれをアレンジするように構成される。インプリント・ヘッド２６又はステージ１４、あるいはその両者は、ポリマ材料３２によって充填されるそれらの間の所望の容積を形成するために、モールド１８と基板１２との間の距離を変化させる。
【００１６】
図１、図３を参照すると、通常、ポリマ材料３２は、所望の容積がモールド１８と基板１２との間に決められる前に基板１２の上に配置される。しかし、ポリマ材料３２は所望の容積が得られた後でその容積を満たすことができる。所望の容積がポリマ材料３２で満たされた後で、ソース３８は、例えば、基板１２の面４４とパターニング面２０の形状に従ってポリマ材料３２を固化及び／又は架橋させて基板１２上にパターン化された層４６を形成する広帯域紫外放射であるエネルギー４０を生成する。例では、エネルギー４０は約２４０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲の波長を有する。パターン化された層４６は、残りの層４８や突出部５０と凹部５２として示される複数のフィーチャを備えることができる。このプロセスの制御は、ステージ１４、インプリント・ヘッド２６、流体定量吐出システム３０、ソース３８にデータでつながれた状態にあり、メモリ５６に格納されたコンピュータが読めるプログラム上で動作するプロセッサ５４によって規制される。
【００１７】
図４、図５を参照すると、テンプレート・チャック２８は、モールド１８が取り付けられるテンプレート１６を、真空技法を使用して保持するように構成される。示されるように、テンプレート・チャック２８は実質的に円形の形状を備える。しかし、さらなる実施形態では、テンプレート・チャック２８は、所望の任意の幾何学的形状を備えることができる。テンプレート・チャック２８は第１側５８と反対側の第２側６０とを含む。側面又は端面６２は、第１側５８と第２側６０との間に延びる。第１側５８は、第１凹部６４と、第１凹部６４から間隔を隔てて配置された第２凹部６６とを含み、間隔を隔てて配置された第１、第２支持領域６８、７０を備えている。第１支持領域６８は、第２支持領域７０、第１凹部６４、第２凹部６６を取り巻いている。第２支持領域７０は第２凹部６６を取り巻いている。さらなる実施形態において、第１、第２支持領域６８、７０は規格に準拠した材料で形成される。第２凹部６６に重ね合わされているテンプレート・チャック２８の部分７２は、上述した化学線作用のある放射の波長などの所定の波長を有する放射に対して透明である。そのために、部分７２はガラスなどの透明材料の薄い層で作られる。しかし、部分７２が作られる材料は、図１に示されたソース３８によって発生される放射の波長によって決められる。部分７２は、第２側６０と第２凹部６６近傍の終端部との間に広がっており、モールド１８がその中に重ね合わられた状態になるようにモールド１８の領域と少なくとも同じ大きさの領域を形成すべきである。
【００１８】
テンプレート・チャック２８の内部に貫通路７４が形成されているが、しかし、テンプレート・チャック２８は任意の数の貫通路を備えることができる。貫通路７４は、第１凹部６４を側面６２と流体連結の状態に置くが、しかし、さらなる実施形態では、貫通路７４は第１凹部６４をテンプレート・チャック２８の任意の面を流体連結の状態に置くことができることを理解されたい。なお、さらなる実施形態で、テンプレート・チャック２８は、第２凹部６６をテンプレート・チャック２８の任意の面に流体連結の状態に置く貫通路（図示せず）を備えることができる。さらに、望まれることは、貫通路７４が第１凹部６４をポンプ・システム７６などの圧力制御システムに流体連結した状態にすることを容易にすることである。
【００１９】
図１、図４、図５を参照すると、ポンプ・システム７６は第１凹部６４の近傍の圧力を制御するために１つ又は複数のポンプを含む。特に、テンプレート１６は、テンプレート・チャック２８に取り付けられると、第１支持領域６８と第２支持領域７０に置かれ、第１凹部６４と第２凹部６６を覆う。第１凹部６４とそれに重ね合わされているテンプレート１６の部分７８とで、第１チャンバ８０を形成する。第２凹部６６とそれに重ね合わされているテンプレート１８の部分８１とで、第２チャンバ８２を形成する。ポンプ・システム７６は第１チャンバ８０の圧力を制御するために動作する。さらなる実施形態で、ポンプ・システム７６は第２チャンバ８２の圧力を制御する。特に、圧力は、テンプレート１８の位置をテンプレート・チャック２８に維持するように、及び重力のもとでテンプレート１８がテンプレート・チャック２８から離れるのを、回避できないならば、減少させるように、第１チャンバ８０の内部で設定される。ポンプ・システム７６は、ポンプ・システム７６を制御するためにメモリ５６に格納されたコンピュータが読めるプログラムで動作するプロセッサ５４にデータでつながれた状態にある。
【００２０】
図１、図２、図３を参照すると、上述のように、モールド１８と基板１２との間の距離は、ポリマ材料３２によって充填される所望の容積がそれらの間で規制されるように変化させられる。さらに、固化の後で、ポリマ材料３２は基板１２の面４４とパターニング面２０の形状に従い、基板１２の上にパターン化された層４６を形成する。マトリックス・アレイ３６の液滴３４の間に形成された容積８４の内部にガスが存在する。マトリックス・アレイ３６内部の液滴３４は、基板１２とモールド１８との間やパターン化された層４６の内部に、ガス及び／又はガス・ポケットが閉じ込められるのを、防止しないにせよ回避するように、基板１２の上に広げられる。ガス及び／又はガス・ポケットは、空気、窒素、二酸化炭素、ヘリウムを含むがこれらに限定されないガスである。基板１２とモールド１８との間、さらにパターン化された層４６内部のガス及び／又はガス・ポケットは、とりわけパターン化された層４６内に形成されたフィーチャのパターン歪みと、パターン化された層４６内に形成されたフィーチャの低い忠実度と、パターン化された層４６を横断する残りの層４８の不均一な厚さとをもたらす恐れがあり、これらの全てが望ましくない。このため、基板１２とモールド１８との間、さらにはパターン化された層４６内部のガス及び／又はガス・ポケットの閉じ込めを防止しないにせよ最小化する方法及びシステムが、以下において説明される。
【００２１】
図１、図６を参照すると、第１の実施形態において、基板１２とモールド１８との間のガスを排出する方法が示される。より具体的にはステップ９０で上述のようにポリマ材料３２が、液滴吐出、スピンコーティング、ディップ・コーティング、化学気相成長（ＣＶＤ）、物理的蒸着堆積（ＰＶＤ）、薄膜堆積、圧膜堆積等によって基板１２の上に配置される。さらなる実施形態で、ポリマ材料３２はモールド１８の上に配置される。
【００２２】
図４、図６、図７を参照すると、ステップ９２で、テンプレート１６とモールド１８の形状は、モールド１８の中央部の副部分におけるモールド１８と基板１２との間で規制される距離ｄ1が、モールド１８の残りの部分におけるモールド１８と基板１２との間で規制される距離より小さくなるように変形される。例では、距離ｄ1は、モールド１８の端部において規制された距離ｄ2よりも小さい。さらなる実施形態で、距離ｄ1はモールド１８の任意の所望の位置で規制される。テンプレート１６とモールド１８の形状は、第１チャンバ８０内の圧力を制御することによって変形される。より具体的には上述のように、ポンプ・システム７６は第１チャンバ８０内の圧力を制御するために動作する。このために、ポンプ・システム７６は、テンプレート１８の部分７８が基板１２から離れるように湾曲しテンプレート・チャック２８に向かって湾曲するように、貫通路７４を介して第１チャンバ８０内に真空を発生させる。テンプレート１８の部分７８を基板１２から離れるように湾曲させる結果、テンプレート１８の部分８１は基板１２に向かって、テンプレート・チャック２８から離れるように湾曲する。例では、テンプレート１８の部分８１の湾曲は１００ｍｍにわたって５０μｍの程度である。
【００２３】
図６、図８、図９を参照すると、ステップ９４で、図１に関連して説明したように、図１に示されるインプリント・ヘッド２６又はステージ１４あるいはその両者によって、モールド１８の副部分が液滴３４の副部分に接触するように図７に示される距離ｄ1を変化させる。示されているように、モールド１８の残りの部分が液滴３４の残りの液滴に接触するのに先立ってモールド１８の中央部の副部分が液滴３４の副部分に接触する。しかし、さらなる実施形態では、モールド１８の任意の部分が、モールド１８の残りの部分に先立って液滴３４に接触してもよい。そのために、示されているように、モールド１８は図２に示された列ｃ3に関連づけられた全ての液滴３４に実質的に同時に接触する。これは、液滴３４を広げさせ、ポリマ材料３２の連続した液体シート８５を生じさせる。液体シート８５の端部８６ａ、８６ｂは、容積８４内のガスを端部８８ａ、８８ｂ、８８ｃ、８８ｄに向けて押しやる働きをする液体−ガス境界面８７ａ、８７ｂをそれぞれ形成する。列ｃ1〜ｃ5内の液滴３４の間の容積８４は、そこを通ってガスが端部８８ａ、８８ｂ、８８ｃ、８８ｄに押し進められるガスの通路となる。その結果、液体−ガス境界面８７ａ、８７ｂは、ガスの通路と共に、液体シート８５内のガスの閉じ込めを防止しないにせよ減少させることができる。
【００２４】
図４、図６、図８、図１０を参照すると、ステップ９６で、テンプレート１６とモールド１８の形状は、図１に関連して上で説明したように、モールド１８と基板１２との間で規制される所望の容積がポリマ材料３２によって満たされるように変形させられる。より具体的には、テンプレート１６とモールド１８の形状は、第１チャンバ８０内の圧力を制御することと、ポリマ材料３２とモールド１８との間の接触の結果として図１に示されたインプリント・ヘッド２６及び／又はステージ１４によってテンプレート１６とモールド１８に作用される力との組合せによって、変形させられる。より具体的には、上述したように、ポンプ・システム７６は第１チャンバ８０内の圧力を制御するために動作する。このために、ポンプ・システム７６は、図２に示された列ｃ2とｃ4内の液滴３４の後続の部分のセットに関連づけられるポリマ材料３２が広がって連続した液体シート８５に含まれるように、貫通路７４を介して第１チャンバ８０内に生成された真空度を減少させる。テンプレート１６とモールド１８の形状は、図１１に示されるように、モールド１８が列ｃ1とｃ5に関連づけられた液滴３４と続いて接触状態になり、それによってそれに関連づけられたポリマ材料３２が広がって連続したシート８５に含まれるように、引き続き変形させられる。図からわかるように、ガスのための障害のない経路が図９に示された残りの容積８４の中に存在しガスがそれに沿って進むように、境界面８７ａ、８７ｂは端部８８ｃ、８８ａに向かってそれぞれ移動する。これは、図９に示された容積８４の中のガスが端部８８ａ、８８ｂ、８８ｃ、８８ｄへ向かってモールド１８と基板１２との間から出てゆくことを可能にする。このようにして、図３に示された基板１２とモールド１８との間ならびにパターン化された層４６の内部のガス及び／又はガス・ポケットの閉じ込めは、防止されないにせよ最小化される。さらなる実施形態で、テンプレート１６とモールド１８の形状は、図８に関連して上述したように、距離ｄ1の減少と並行して変形される。さらに、ポリマ材料３２がモールド１８と基板１２との間の所望の容積を充填する速度をバランスさせることが望ましい。より具体的には、境界面８７ａ、８７ｂが、端部８８ｃ、８８ａに向かってあまりに速く伝搬すると、ガスのポケットがモールド１８と基板１２との間に生成される恐れがあり、これは望ましくない。そのため、例では、テンプレート１６とモールド１８の形状は、ポリマ材料３２がモールド１８と基板１２との間の所望の容積を数秒の間で１００ｍｍの速度で充填するように変形させられる。
【００２５】
図６を参照して、ステップ９８で、図１に関連して上述したように、次いで、ポリマ材料３２は固化され及び／又は架橋されて図３に示されるパターン化された層４６を形成する。その後、ステップ９９で、モールド１８は図３に示されるようにパターン化された層４６から分離させられる。
【００２６】
図４と図１２を参照すると、上で説明したように、テンプレート１６とモールド１８は第１方向に沿って変形させられる。しかし、さらなる実施形態で、テンプレート１６とモールド１８の形状を、第１方向とその第１方向に直交して延びる第２方向に同時に変形させる。より具体的には、テンプレート１６とモールド１８は、図９に関連して上で説明したようにモールド１８の残りの部分が液滴３４の残りの部分に接触するのに先立ってモールド１８の中央部の副部分が液滴３４の副部分に接触するように変形させられる。これは、液滴３４を広げさせ、ポリマ材料３２の連続した液体シート８５を生じさせ、容積８４内のガスを放射状に外側に押しやる働きをする連続的な流体−ガス境界面８７を形成することになる。例では、液体シート８５は、円形又は円形に似た広がりの液体−ガス境界面８７で容積８４内のガスを、端部８８ａ、８８ｂ、８８ｃ、８８ｄに向かって外側に放射状に押しやることができる。しかし、さらなる実施形態で、テンプレート１６とモールド１８の形状を任意の方向に変形させることができ、基板１２とモールド１８との間さらにはパターン化された層４６の内部のガス及び／又はガス・ポケットの閉じ込めを防止しないにせよ最小化するために、容積８４内のガスを端部８８ａ、８８ｂ、８８ｃ、８８ｄに向かって外側に放射状に押しやることを容易にする上で望まれる任意の幾何学的形状を有する液体シート８５を生じさせる。
【００２７】
図１３を参照すると、本発明のさらなる実施形態が示される。より具体的には、ステップ１００で、図６に示したステップ９０に関連して上述したことに類似して、ポリマ材料３２は基板１２又はモールド１８の上に配置させられる。
【００２８】
図１３と図１４を参照すると、ステップ１０２で、モールド１８と基板１２は距離ｄ3がそれらの間で規制されるように配置される。図１に示されたインプリント・ヘッド２６、ステージ１４又はその両方は、基板１２とモールド１８との間の距離ｄ3を得るようにモールド１８と基板１２とを配置する。さらなる実施形態で、モールド１８は第１面内で広がっており、基板１２は第２面内で広がっており、第１面と第２面とは実質的に並行である。例では、距離ｄ3は５〜５０ミクロンの範囲の大きさである。距離ｄ3は、より詳細には以下で説明されるが、テンプレート１６とモールド１８の形状が変形するや否やモールド１８の副部分が液滴３４の副部分に接触するように規制される。
【００２９】
図８と図１３を参照すると、ステップ１０４で、テンプレート１６とモールド１８の形状は、モールド１８の残りの部分が液滴３４の残りの液滴に接触するのに先立ってモールド１８の中央部の副部分が液滴３４の副部分に接触するように変形させられる。しかし、さらなる実施形態で、モールド１８の任意の部分を、モールド１８の残りの部分に先立って液滴３４に接触させることができる。そのために、図９に関連して上述したことに類似して、モールド１８は図２に示された列ｃ3に関連づけられた全ての液滴３４に実質的に同時に接触する。これは、液滴３４を広げ、ポリマ材料３２の連続した液体シート８５を生じさせる。液体シート８５の端部８６ａ、８６ｂは、容積８４内のガスを端部８８ａ、８８ｂ、８８ｃ、８８ｄに向けて押しやる働きをする液体−ガス境界面８７ａ、８７ｂをそれぞれ規制する。列ｃ1〜ｃ5内の液滴３４の間の容積８４は、ガスが端部８８ａ、８８ｂ、８８ｃ、８８ｄに押しやられるガスの通路となる。その結果、液体−ガス境界面８７ａ、８７ｂは、ガスの通路によって液体シート８５内のガスの閉じ込めを防止しないにせよ減少させる。
【００３０】
さらに、列ｃ3に関連づけられた液滴３４のモールド１８との接触の後で、テンプレート１６とモールド１８の形状は、図１に関連して上で説明したように、モールド１８と基板１２との間に形成される所望の容積がポリマ材料３２によって満たされるように、さらに変形させられる。より具体的には、図１０〜図１２に関連して上述したことに類似して、テンプレート１６とモールド１８の形状は、第１チャンバ８０内の圧力を制御することと、ポリマ材料３２とモールド１８との間の接触の結果としてインプリント・ヘッド２６及び／又はステージ１２によってテンプレート１６とモールド１８に作用される力との組合せによって変形させられる。より具体的には、上述のように、ポンプ・システム７６は第１チャンバ８０内の圧力を制御するために動作する。そのために、ポンプ・システム７６は、図２に示された列ｃ2とｃ4内の液滴３４の後続の部分のセットに関連づけられるポリマ材料３２が広がって図１０に示されるように連続した液体シート８５の中に含まれるように、貫通路７４を介して第１チャンバ８０内に生成された真空度を減少させる。テンプレート１６とモールド１８の形状は、モールド１８が続いて列ｃ1とｃ5に関連づけられた液滴３４と接触状態になり、それによってそれに関連づけられたポリマ材料３２が広がって図１１に示されるように液体シート８５に含まれるように、引き続き変形される。図からわかるように、ガスのための障害のない経路が図９に示される残りの容積８４の中に存在しそれに沿って進むように、境界面８７ａ、８８ｂは端部８８ａ、８８ｂに向かってそれぞれ移動している。これは、図９に示される容積８４の内部のガスが、端部８８ａ、８８ｂ、８８ｃ、８８ｄに向かってモールド１８と基板１２との間から出てゆくことを可能にする。このようにして、基板１２とモールド１８との間さらにはパターン化された層４６内のガス及び／又はガス・ポケットの閉じ込めは、図３に示されるように、防止されないにせよ最小化される。さらなる実施形態で、テンプレート１６とモールド１８の形状は、図８に関連して上述したように、距離ｄ1の減少と並行して変形させられる。
【００３１】
図１３を参照して、ステップ１０６で、図１に関連して上述したように、次いで、ポリマ材料３２は固化され及び／又は架橋されて、図３に示されるようなパターン化された層４６を形成する。続いて、ステップ１０８で、モールド１８は、図３に示されるパターン化された層４６から分離させられる。さらなる実施形態で、基板１２は、基板１２とモールド１８との間及びパターン化された層４６の内部のガス及び／又はガス・ポケットの閉じ込めを防止しないにせよ最小化するために基板１２の形状が変形されるように上述された処理を受ける。さらに、テンプレート１６、モールド１８、基板１２は上述の処理を同時に受けることができる。
【００３２】
図１５、図１６を参照すると、テンプレート・チャック２８の第２の実施形態が示される。より具体的には、図４に関連して上述したテンプレート・チャック２８に類似して、テンプレート・チャック１２８は第１側１５８とその反対側の第２側１６０を含む。側面又は端面１６２は、第１側１５８と第２側１６０との間に広がっている。示されているように、テンプレート・チャック１２８は実質的に円形の形状を備える。しかし、さらなる実施形態で、テンプレート・チャック１２８は、所望の任意の幾何学的形状を備えることができる。第１側１５８は、第１凹部１６４と、第１凹部１６４から間隔を隔てて配置された第２凹部１６６とを含み、間隔を隔てて配置された第１支持領域１６８と第２支持領域１７０を形成している。第１支持領域１６８は、第２支持領域１７０、第１凹部１６４、第２凹部１６６を取り巻く。第２支持領域１７０は第２凹部１６６を取り巻く。さらなる実施形態で、第１支持領域１６８と第２支持領域１７０は、規格に準拠した材料で形成される。第２凹部１６６に重ね合わされているテンプレート・チャック１２８の部分１７２は、上述した化学線作用のある放射の波長などの所定の波長を有する放射に対して透明である。そのために、部分１７２はガラスなどの透明材料の薄い層で作られる。しかし、部分１７２が作られる材料は、図１に示されたソース３８によって発生される放射の波長によって決められる。部分１７２は、第２側１６０と第２凹部１６６近傍の終端部との間に広がっており、モールド１８がその中に重ね合わせられるようにモールド１８の領域と少なくとも同じ大きさの領域を形成するべきである。
【００３３】
図１５、図１６、図１７を参照すると、テンプレート・チャック１２８は、第１凹部１６４の底面１８８から突出している複数のピン１８６をさらに含む。ピン１８６は、真空を介してテンプレート・チャック１２８の上に保持されるテンプレート１６のための機械的支持を行なう。ピン１８６は、通常、円形断面を有する剛性のある柱である。しかし、さらなる実施形態で、ピン１８６は所望の任意の幾何学的形状を有することができる。
【００３４】
図１５を参照すると、テンプレート・チャック１２８の内部に貫通路１７４ａ、１７４ｂ形成されているが、しかし、テンプレート・チャック１２８は任意の数の貫通路を備えることができる。貫通路１７４ｂは、第１凹部１６４を側面１６２と流体連結の状態に置くが、しかし、さらなる実施形態では、貫通路１７４ａは、第１凹部１６４をテンプレート・チャック１２８の任意の面に流体連結した状態に置くことができることを理解されたい。貫通路１７４ｂは、第２凹部１６６を第２側１６０と流体連結の状態に置くが、しかし、さらなる実施形態で、貫通路１７４ｂは、第２凹部１６６をテンプレート・チャック１２８の任意の面に流体連結した状態に置くことができることを理解されたい。さらに、望まれることは、貫通路１７４ａ、１７４ｂが、第１凹部１６４と第２凹部１６６をポンプ・システム１７６などの圧力制御システムに流体連結した状態にそれぞれ置くことを容易にすることである。
【００３５】
図１５、図１６を参照すると、ポンプ・システム１７６は第１凹部１６４と第２凹部１６６近傍の圧力を制御するために１つ又は複数のポンプを含む。特に、テンプレート・チャック１２８に取り付けられる場合は、テンプレート１６は、第１支持領域１６８と第２支持領域１７０に載せられて第１凹部１６４と第２凹部１６６を覆う。第１凹部１６４及びそれに重ね合わされたテンプレート１１６の部分１７８は、第１チャンバ１８０を形成する。第２凹部１６６及びそれに重ね合わされたテンプレート１６の部分１８１は、第２チャンバ１８２を形成する。ポンプ・システム１７６は、第１チャンバ１８０と第２チャンバ１８２の圧力を制御するように動作する。特に、圧力は、テンプレート１６の位置をテンプレート・チャック１２８に維持するように、第１チャンバ１８０と第２チャンバ１８２内で設定され、重力のもとテンプレート１６がテンプレート・チャック１２８から離れることを防止しないにせよ減少させる。そのために、テンプレート・チャック１２８は第２支持領域１７０に隣接して位置する規格準拠のシーリング１９０をさらに備え、第１と第２チャンバ１８０、１８２の内部で所望の圧力及び／又は真空を得やすくするために第１チャンバ１８０を第２チャンバ１８２から分離する。そのために、ポンプ・システム１７６は、図１８に示すようにテンプレート１８の部分１８１が基板１２に向かって湾曲しテンプレート・チャック１２８から湾曲して離れるように、第２チャンバ１８２の内部に圧力を発生させることができる。それゆえ、テンプレート・チャック１２８は、基板１２とモールド１８との間及び図３に示されたパターン化された層４６の内部のガス及び／又はガス・ポケットの閉じ込めを防止しないにせよ最小化することに関連した上述の任意の方法の中で使用される。
【００３６】
図１、図３を参照すると、さらに、基板１２とモールド１８との間ならびにパターン化された層４６の内部のガス及び／又はガス・ポケットの閉じ込めを防止しないにせよ最小化することに加えて、また、残りの層４８が実質的に均一であることも望まれる。より具体的には、残りの層４８が、パターン化された層４６にわたって実質的に均一な高さｈ1を有することが望まれる。そのため、実質的に均一な高さｈ1を有する残りの層４８を得るために、参照により本明細書に組み込まれる「Ｃａｐｉｌｌａｒｙ  Ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ」という名称の米国特許出願１０／６４５３０６として出願された米国特許出願刊行物２００５／００６１７７３の中で説明されているように、モールド１８と基板１２との間で規制される所望の容積がポリマ材料３２の毛管力によって充填させられる。より具体的には、液滴３４の各液滴の単位容積が、残りの層４８のｈ1が数ナノメートル〜数ミクロンの範囲にあるように制御される場合には、液滴３４の各液滴はそれに隣接する領域に数秒間又はそれよりも急速に広がることができ、このようにして、残りの層の高さｈ1はパターン化された層４６の一面にわたって実質的に均一になることができる。
【００３７】
テンプレート１６とモールド１８との厚さｔ1は、残りの層４８の概ね均一な高さｈ1を得ることをさらに容易にすることができる。より具体的には、テンプレート１６とモールド１８との厚さｔ1は、残りの層４８が概ね均一な高さｈ1を得るのを容易にするために、テンプレート１６とモールド１８との曲げ剛性がポリマ材料３２の前述の毛管力とバランスされるような大きさを有する。より具体的には、テンプレート１６とモールド１８との曲げ剛性はそれらの３次関数である。このため、厚さｔ1が厚すぎる場合は残りの層４８の厚さｈ1は概ね不均一になる。しかし、テンプレート１６とモールド１８との厚さｔ1が薄すぎる場合には、図２に示された液滴３４の間の局部的な欠陥が、残りの層４８の厚さｈ1の複数の不均一な局在した微動をもたらす恐れがある。したがって、テンプレート１６とモールド１８とのｔ1は、テンプレート１６及び／又は基板１２内の数ミクロンの面外変動が存在する下では、１００μｍ〜２ｍｍの範囲にある。
【００３８】
テンプレート１６とモールド１８との厚さｔ1は、テンプレート１６とモールド１８の面の非平面性による残りの層４８の高さｈ1の間の変動が妨げられないならば最小化されるような大きさを有することができる一方、図４に示された第１チャンバ８０と第２チャンバ８２内の流体圧力に起因するテンプレート１６とモールド１８の変形による残りの層４８の高さｈ1の間の局部的な望ましくない変動の発生を防止しないにせよ最小化するための大きさを有する。しかし、また、厚さｔ1の大きさは、システム１０によるテンプレート１６とモールド１８のハンドリングや、パターン化された層４６からのそれらの分離も容易にすべきである。さらなる実施形態で、基板１２の厚さｔ2は、テンプレート１６とモールド１８との厚さｔ1に関連して上で説明したような大きさを有してもよい。
【００３９】
図１、図１９を参照すると、突出部１９２と突出部１９４を備えた基板１２が示されている。厚さｚ1は突出部１９２とパターン化された層１４６の面１９６との間の厚さで、厚さｚ2は突出部１９４と面１９６との間の厚さである。示されているように、厚さｚ2はｚ1よりも大きい。これは、ポリマの流体３２をスピンコーティングによって基板１２の上に配置することに起因し、したがって、パターン化された層１４６は基板１２の面トポロジと反対になる傾向があり、パターン化された層１４６の間で望ましくない局部的な膜厚変動をもたらす。そのため、上述した方法は、パターン化された層１４６が図２０に示されるように概ね平面になるように基板１２の上でのポリマの流体３２の平坦化に使用される。より具体的には、上述のような湾曲した形状を有するテンプレート１６とモールド１８の使用が、概ね平坦な形状を有するパターン化された層１４６を容易にすることができる。これを受けて、図２０に示されるように、厚さｚ2は概ね厚さｚ1と同じになり、これは望ましいことである。例では、突出部１９２は２００ｎｍ未満の幅になる一方、突出部１９４は５０ミクロン〜１００ミクロン程度の幅になる。
【００４０】
図２１を参照すると、パターン化された層１４６の面１９６の平坦化を促進するために、パターン化された層１４６及び／又は基板１２に接触したときにテンプレート２１６はそれらに従わない状態になるような所定の厚さを有するテンプレート２１６が使用される。そのために、示されるように、テンプレート２１６は厚さｘ1を有する。しかし、テンプレート２１６の厚さｘ1は、テンプレート２１６を長い空間的うねりが存在する状態のパターン化された層１４６に従わせるように促す。そのような均一な層は、参照により本明細書に組み込まれる、「Ｐｏｓｉｔｉｖｅ  Ｔｏｎｅ  Ｂｉ−Ｌａｙｅｒ  Ｉｍｐｒｉｎｔ  Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ  Ｍｅｔｈｏｄ」という名称の米国特許出願１０／３９６６１５として出願された米国特許出願刊行物２００４／０１８８３８１の中で説明されるように、階調フィーチャを反転させるためのエッチングマスクを形成するために使用される。そのため、テンプレート２１６は、図２２に示されるようにパターン化された層１４６又は基板１２に従わない厚さｘ2を有する。第１位置におけるテンプレート２１６の面１９８とパターン化された層１４６の面１９６との間の厚さａ1は、第１位置とは異なる第２位置における面１９８と面１９６との間の厚さａ2と異なる。その結果、パターン化された層１４６の面１９６は概ね平坦になる。例では、テンプレート２１６の厚さｘ2は６．２５ｍｍである。
【００４１】
上で説明された本発明の実施形態は例としてのものである。本発明の範囲に留まると同時に、多くの変更と修正とが上に列挙された開示に対して成させられる。したがって、本発明の範囲は上記の説明によって限定されるべきではなく、しかしそのかわりに、等価物のそれらの完全な範囲と共に添付の特許請求の範囲を参照して決定されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】基板から間隔を隔てて配置されたテンプレートを有し、このテンプレートはテンプレート・チャックに結合されているリソグラフィシステムの簡略化した側面図である。
【図２】図１に示された基板の領域の上に配置されたインプリンティング材料の液滴のアレイを示す上から見下ろした図である。
【図３】その上に配置されたパターン化された層を有する図１に示された基板の簡略化した側面図である。
【図４】共に図１に示されているテンプレート及びテンプレート・チャックの側面図である。
【図５】図４に示されたテンプレート・チャックの下から見上げた平面図である。
【図６】第１実施形態における、図１に示された基板の領域をパターニングする方法を示す流れ図である。
【図７】変形されたモールド及びテンプレートの形状を有する、図１に示されたテンプレートに結合されたモールドの側面図である。
【図８】図２に示されたインプリンティング材料の液滴の一部と接触した状態にある、図７に示されたモールドの側面図である。
【図９】図８に示されたテンプレートの変形された形状を使用した場合の、図２に示された液滴の圧縮状態を示す上から見下ろした図である。
【図１０】図８に示されたテンプレートの変形された形状を使用し他場合の、図２に示された液滴の圧縮状態を示す上から見下ろした図である。
【図１１】図８に示されたテンプレートの変形された形状を使用し他場合の、図２に示された液滴の圧縮状態を示す上から見下ろした図である。
【図１２】さらなる実施形態における、図８に示されたテンプレートの変形された形状を使用した場合の、図２に示された液滴の圧縮状態を示す上から見下ろした図である。
【図１３】第２実施形態における、図１に示された基板の領域をパターニングする方法を示す流れ図である。
【図１４】図１に示された基板から間隔を隔てて配置された、図１に示されたテンプレートに結合されたモールドの側面図である。
【図１５】さらなる実施形態における、共に図１に示されたテンプレート及びテンプレート・チャックの側面図である。
【図１６】図１５に示されたテンプレート・チャックの下から見上げた平面図である。
【図１７】図１５に示されたテンプレート・チャックの領域の分解図である。
【図１８】変形されたモールド及びテンプレートの形状を有する、図１に示されたテンプレートに結合されたモールドの側面図である。
【図１９】基板の上に配置され実質的に非平坦な面を有するパターン化された層を有する、図１に示された基板の側面図である。
【図２０】基板の上に配置され実質的に平坦な面を有するパターン化された層を有する、図１に示された基板の側面図である。
【図２１】図１に示された基板の上に配置されたパターン化された層に接触した状態にあり、パターン化された層に実質的に従う図１に示されたテンプレートの側面図である。
【図２２】図１に示された基板の上に配置されたパターン化された層に接触した状態にあり、実質的に平坦な面を有するパターン化された層を備えた、図１に示されたテンプレートの側面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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