(57)【要約】  可変の光学および／またはエネルギー特性を有し、電気活性層の第１のスタック３と結合される導電性層４を備える少なくとも１つの第１のキャリア基板Ｓ１と、電気活性層の第２のスタック３’と結合される導電性層４’を備える少なくとも１つの第２のキャリア基板Ｓ１’とを含む、電気化学的な／電気的に制御可能な素子であって、第１および第２のスタックそれぞれが、それらの表面の少なくとも一部の上で光学的に直列に機能し、電気的に絶縁する手段７によって分離されることを特徴とする、素子。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変の光学および／またはエネルギー特性を有し、電気的に活性の層の第１のスタックと結合される導電性層を備える第１のキャリア基板と、電気的に活性の層の第２のスタックと結合される導電性層を備える第２のキャリア基板とを含む、電気化学的な／電気的に制御可能な素子であって、前記第１および第２のスタックそれぞれが、それらの表面の少なくとも一部分の上で、光学的に直列に機能し、有機材料の系統群、具体的には積層挿入体、または無機材料の系統群、具体的には気体から選択される、もしくは真空である、電気的に絶縁する手段によって分離されることを特徴とする、素子。
【請求項２】
第１および第２のスタックが、同じ供給部から電気を供給されることを特徴とする、請求項１に記載の素子。
【請求項３】
第１および第２のスタックが、直列に電気を供給されることを特徴とする、請求項２に記載の素子。
【請求項４】
第１および第２のスタックが、並列に電気を供給されることを特徴とする、請求項２に記載の素子。
【請求項５】
電気的に絶縁する手段が、積層挿入体であって、積層挿入体のそれぞれの面が、第１および第２のスタックとそれぞれ結合される導電性層と結合されることを特徴とする、請求項１に記載の素子。
【請求項６】
第１のスタックおよび第２のスタックが、ＴＣ１／ＥＣ１／ＥＬ／ＥＣ２／ＴＣ２構造を有する「全固体」エレクトロクロミックスタックであることを特徴とする、請求項１に記載の素子。
【請求項７】
電解質機能を有する層ＥＬが、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化アンチモン、酸化ニオブ、酸化クロム、酸化コバルト、酸化チタン、酸化スズ、酸化ニッケル、アルミニウムと任意選択で合金された酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、アルミニウムと任意選択で合金された酸化ケイ素、アルミニウムまたはホウ素と任意選択で合金された窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、アルミニウムと任意選択で合金された酸化バナジウム、酸化スズ亜鉛、任意選択で水素化され、または窒化されたこれらの酸化物のうちの少なくとも１つから選択された材料ベースの少なくとも１つの層を含むことを特徴とする、請求項６に記載の素子。
【請求項８】
電気的に活性の層ＥＣ１またはＥＣ２それぞれが、以下の化合物のうちの少なくとも１つ、タングステンＷ、ニオブＮｂ、スズＳｎ、ビスマスＢｉ、バナジウムＶ、ニッケルＮｉ、イリジウムＩｒ、アンチモンＳｂ、タンタルＴａの酸化物を、単独でまたは混合物として含み、任意選択でチタン、レニウム、コバルトなどの追加の金属を含むことを特徴とする、請求項６に記載の素子。
【請求項９】
導電性層ＴＣ１またはＴＣ２が、金属タイプ、もしくはＩｎ２Ｏ３：Ｓｎ（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２：Ｆ、ＺｎＯ：Ａｌで形成されているＴＣＯ（透明導電性酸化物）タイプであり、または金属が、具体的には銀、金、白金、銅から選択されるＴＣＯ／金属／ＴＣＯタイプの複数層であり、もしくは金属が同様に、銀、金、白金、銅から選択されるＮｉＣｒ／金属／ＮｉＣｒタイプの複数層であることを特徴とする、請求項６に記載の素子。
【請求項１０】
積層挿入体の各面が、導電性ストリップおよび／または導電性ワイヤ（６）を含む少なくとも１つの導電性層と結合されることを特徴とする、請求項５に記載の素子。
【請求項１１】
得られるコントラスト値が、９から１００００、好ましくは、１５から４０００であることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載の素子。
【請求項１２】
具体的には、可変の光学ならびに／またはエネルギー透過部および／もしくは反射部を備え、プラスチックで形成されている基板、または透明もしくは部分的に透明な基板のうちの少なくとも一部を有し、好ましくは、複数および／もしくは積層グレイジングとして、またはダブルグレイジングとして組み立てられる、請求項１から１１のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子を含むことを特徴とする、エレクトロクロミックグレイジング。
【請求項１３】
電気化学的素子の層のうちの少なくとも１つが、任意選択で磁場によりアシストされるカソードスパッタリングなど、真空を含む技術によって、熱蒸発もしくは電子ビームによりアシストされる蒸発によって、レーザアブレーションによって、任意選択でプラズマもしくはマイクロ波によりアシストされるＣＶＤによって、または大気圧技術によって、具体的には、ディップタイプ、スプレイコーティングもしくはローラコーティングの、具体的には、ゾル−ゲル合成を使用して層を蒸着することによって、蒸着されることを特徴とする、請求項１から１１に記載の電気化学的素子。
【請求項１４】
建物向けグレイジング、自動車向けグレイジング、工業用または公共用輸送の鉄道車両、海洋船、航空機向けグレイジング、具体的には、窓、サイドミラー、ミラー、ディスプレイおよびモニタ、画像取得装置のためのシャッタとして、請求項１２に記載のグレイジングの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可変の光学および／またはエネルギー特性を有するグレイジングタイプの電気化学的なおよび／または電気的に制御可能な素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
特に、現在では、ユーザの要件に適合することのできる、いわゆる「インテリジェント」グレイジングに対する要求が増大してきている。
【０００３】
「インテリジェント」グレイジングに関して、これは、建物、または自動車、列車もしくは航空機などの車両の外装上に固定されるグレイジング（例えば、窓）を通る日光の供給量を制御することを含むことが可能である。その目的は、室内／コックピット内の過度な温度上昇を制限することができることであるが、強い日光の場合だけである。
【０００４】
また、そのグレイジングは、特に、それを暗くするため、拡散状態にするため、またはそのように望まれる場合には、いずれの視覚も妨げるために、グレイジングを通る視覚度を制御することを含むことが可能である。これは、室内、列車内、機体内の内装仕切りとして固定され、または自動車サイド窓として固定されるグレイジングに関することが可能である。また、ドライバが局所的に眩惑しないようにするためのドアミラーとして使用されるミラー、またはこれが必要なときにメッセージが現れるような、もしくは断続的に注意をよりうまく引き付けるためのシグナル伝達パネルに関する。随意に拡散状態になることが可能であるグレイジングは、映写スクリーンとしてそのように所望されるときに使用可能である。
【０００５】
変形形態として、それは、光度のレベルまたは生成される色を制御するために、グレイジングによる光の生成を含むことが可能である。
【０００６】
これらのタイプの外観／熱特性の修正形態を可能にする様々な電気的に制御可能なシステムがある。
【０００７】
グレイジングによって光透過または光吸収を変調するために、米国特許第５  ２３９  ４０６号明細書および欧州特許第６１２  ８２６号明細書に記載されているものなどのいわゆるビオロゲンシステムがある。
【０００８】
グレイジングの光透過および／または熱透過を変調するためにはまた、いわゆるエレクトロクロミックシステムがある。知られているように、これらは、一般に、電解質層によって分離され、かつ２つの導電性層によって構成されている２つのエレクトロクロミック材料層を含み、導電性層は、電力供給部に接続されている電流フィードと結合される。
【０００９】
これらのエレクトロクロミック材料層のそれぞれは、カチオンおよび電子を可逆的に挿入することが可能であり、これらの挿入／離脱によりそれらの酸化状態を修正することは、その光学および／または熱特性の変化につながる。具体的には、可視および／または赤外線の波長において、それらの吸収および／またはそれらの反射が修正可能である。
【００１０】
エレクトロクロミックシステムを３つのカテゴリに分類することは通例である：
−  電解質がポリマまたはゲルの形態であるもの。例えば、欧州特許第２５３  ７１３号明細書もしくは欧州特許第６７０  ３４６号明細書に記載されているものなどのプロトン伝導を有するポリマ、または欧州特許第３８２  ６２３号明細書、欧州特許第５１８  ７５４号明細書および欧州特許第５３２  ４０８号明細書に記載されているものなどのリチウムイオン伝導を有するポリマであり、システムの他の層は、一般に、無機的性質である。
−  電解質が、無機性層であるもの。このカテゴリは、用語「全固体（ａｌｌ  ｓｏｌｉｄ）」システムで呼ばれることが多く、その実施例は、欧州特許第８６７  ７５２号明細書、欧州特許第８３１  ３６０号明細書、国際公開第００／５７２４３号パンフレットおよび国際公開第００／７１７７７号パンフレットに見られる。
−  すべての層が、ポリマベースであるもの。このカテゴリは、用語「全ポリマ（ａｌｌ  ｐｏｌｙｍｅｒ）」システムで呼ばれることが多い。
【００１１】
本発明は「全固体」エレクトロクロミックに関する。
【００１２】
これらすべてのシステムの共通の特徴は、システムの活性層または様々な活性層のいずれかの側に、導電性層に供給する電流フィードを備える必要があることである。
【００１３】
これらの電流フィードは、電圧を印加し、スタックに電流を流すことを可能にし、電流の流れは、着色状態から未着色状態への切替えを確実にするように意図され、その逆も同様である。
【００１４】
ある状態から他の状態への変化は、このように推進されるグレイジングの暗化によって、または明化によって生じることが理解されるであろう。現在の傾向は、供給部の影響の下で、迅速かつ均一な効果をもたらすシステムを有することであり、２つの状態（未着色／着色）の間のコントラストは、着色状態において実質的に不透明なシステムを達成するためにできる限り高く、そのコントラストは、未着色状態の光透過値（ＯＴ）対着色状態の光透過値の比率と定義される。
【００１５】
これを行うために、様々な解決策が従来技術において知られている：
電流フィードの端子における電荷の量または電圧レベルを増大させること。この解決策の主な弱点は、一般に、システムのロバスト性の低さにつながるということにある。
光学的に、より活性の層を使用して、光透過の達成可能な範囲を拡大すること。このような層の開発は、既存の材料の修正形態または置換形態とともに相当な研究活動を必要とする可能性がある。
複数グレイジングシステムにおいて組み立てられる少なくとも２つの完全なシステムを並置すること（米国特許第５  ０７６  ６７３号明細書を参照してよい）。この解決策は、一方のシステム上に存在する欠陥が、他方のシステム上に存在する欠陥に隣接していることになる可能性を最小限に抑える。この解決策の主な弱点は、供給部が各システムに必要であるということにあり、それは、価格に影響を及ぼし、さらには、システムを並置することは、少なくとも４つの基板がアセンブリに必要であることから考えると、全体的な構造体の重量の増大を伴う。この複数グレイジングアセンブリ、具体的には、ダブルグレイジングは、必然的に、光インターフェースの数を増大させ、そのため、未着色状態の光透過率の低下につながることになる。「ビルディング」タイプのこのダブルグレイジングアセンブリは、自動車分野には適用不可能である。自動車分野においては通例である積層アセンブリは、ただ、実質的に平坦な基板により、および限定された数の基板（２つまたは３つ）により可能であることが分かる。３つまたはさらに４つ以上の基板がある場合は特に、非常に湾曲した基板では実質的に不可能であり、一般に、それは、光学的歪みの危険性につながる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】米国特許第５  ２３９  ４０６号明細書
【特許文献２】欧州特許第６１２  ８２６号明細書
【特許文献３】欧州特許第２５３  ７１３号明細書
【特許文献４】欧州特許第６７０  ３４６号明細書
【特許文献５】欧州特許第３８２  ６２３号明細書
【特許文献６】欧州特許第５１８  ７５４号明細書
【特許文献７】欧州特許第５３２  ４０８号明細書
【特許文献８】欧州特許第８６７  ７５２号明細書
【特許文献９】欧州特許第８３１  ３６０号明細書
【特許文献１０】国際公開第００／５７２４３号パンフレット
【特許文献１１】国際公開第００／７１７７７号パンフレット
【特許文献１２】米国特許第５  ０７６  ６７３号明細書
【特許文献１３】仏国特許出願第２  ７８１  ０８４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
したがって、単一の供給部によって駆動可能であるシステムを提供することによって、従来技術の解決策を超えることが本発明の目的であり、その動作性能は、２つの並置されたシステムのものと少なくとも等しい。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明は、可変の光学および／またはエネルギー特性を有し、電気的に活性の層の第１のスタックと結合される導電性層を備える第１のキャリア基板と、電気的に活性の層の第２のスタックと結合される導電性層を備える第２のキャリア基板とを含む、電気化学的な／電気的に制御可能な素子に関し、第１および第２のスタックそれぞれが、それらの表面の少なくとも一部分の上で、光学的に直列に機能し、有機材料の系統群、具体的には積層挿入体、または無機材料の系統群、具体的には気体から選択される、もしくは真空である、電気的に絶縁する手段によって分離されることを特徴とする。
【００１９】
２つの活性スタックの間の絶縁する手段の存在により、低価格で、高い暗化度を有するシステムを得ることが可能である。
【００２０】
本発明の好ましい実施形態においては、以下の提供の１つおよび／または残りが任意選択で利用可能である：
積層挿入体が後の具体的な実施形態に利用される場合、それは、アセンブリを共に接合するとともに、活性スタックの導電性層のうちの一部に電気的に接続するための手段を提供する。
−  第１および第２のスタックが、同じ供給部から電気を供給される。
−  第１および第２のスタックが、直列に電気を供給される。
−  第１および第２のスタックが、並列に電気を供給される。
−  電気的に絶縁する手段が、積層挿入体であり、積層挿入体のそれぞれの面は、第１および第２のスタックとそれぞれ結合される導電性層と結合される。
−  第１のスタックおよび第２のスタックが、ＴＣ１／ＥＣ１／ＥＬ／ＥＣ２／ＴＣ２構造を有する「全固体」エレクトロクロミックスタックである。
−  電解質機能を有する層ＥＬが、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化アンチモン、酸化ニオブ、酸化クロム、酸化コバルト、酸化チタン、酸化スズ、酸化ニッケル、アルミニウムと任意選択で合金された酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、アルミニウムと任意選択で合金された酸化ケイ素、アルミニウムまたはホウ素と任意選択で合金された窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、アルミニウムと任意選択で合金された酸化バナジウム、酸化スズ亜鉛、任意選択で水素化され、または窒化されたこれらの酸化物のうちの少なくとも１つから選択された材料ベースの少なくとも１つの層を含む。
−  電気的に活性の層ＥＣ１またはＥＣ２それぞれが、以下の化合物のうちの少なくとも１つ、タングステンＷ、ニオブＮｂ、スズＳｎ、ビスマスＢｉ、バナジウムＶ、ニッケルＮｉ、イリジウムＩｒ、アンチモンＳｂ、タンタルＴａの酸化物を、単独でまたは混合物として含み、任意選択でチタン、レニウム、コバルトなどの追加の金属を含む。
−  導電性層ＴＣ１またはＴＣ２が、金属タイプ、もしくはＩｎ２Ｏ３：Ｓｎ（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２：Ｆ、ＺｎＯ：Ａｌで形成されているＴＣＯ（透明導電性酸化物）タイプであり、または金属が、具体的には銀、金、白金、銅から選択されるＴＣＯ／金属／ＴＣＯタイプの複数層であり、もしくは金属が同様に、銀、金、白金、銅から選択されるＮｉＣｒ／金属／ＮｉＣｒタイプの複数層である。
−  積層挿入体の各面が、導電性ストリップおよび／または導電性ワイヤを含む少なくとも１つの導電性層と結合される。
−  得られるコントラスト値が、９から１００００、好ましくは、１５から４０００である。
【００２１】
本発明の別の態様によれば、それは、具体的には、可変の光学ならびに／またはエネルギー透過部および／もしくは反射部を備え、プラスチックで形成されている基板、または透明もしくは部分的に透明な基板のうちの少なくとも一部を有し、好ましくは、複数および／もしくは積層グレイジングとして、またはダブルグレイジングとして組み立てられる、上述されているようなエレクトロクロミック素子を含むことを特徴とするエレクトロクロミックグレイジングに関する。
【００２２】
本発明のさらなる別の態様によれば、それは、上述されているような電気化学的素子を製造するための方法に関し、電気化学的素子の層のうちの少なくとも１つが、任意選択で磁場によりアシストされるカソードスパッタリングなど、真空を含む技術によって、熱蒸発もしくは電子ビームによりアシストされる蒸発によって、レーザアブレーションによって、任意選択でプラズマもしくはマイクロ波によりアシストされるＣＶＤによって、または大気圧技術によって、具体的には、ディップタイプ、スプレイコーティングもしくはローラコーティングの、具体的には、ゾル−ゲル合成を使用して層を蒸着することによって、蒸着される。
【００２３】
最後に、本発明のさらなる別の態様によれば、それは、建物向けグレイジング、自動車向けグレイジング、工業用または公共用輸送の鉄道車両、海洋船、航空機向けグレイジング、具体的には、窓、サイドミラー、ミラー、ディスプレイおよびモニタ、画像取得装置のためのシャッタとして、上述されているグレイジングの使用に関する。
【００２４】
本発明の文脈においては、用語「下側の」導電性層は、基準として見なされるキャリア基板により近接して位置する導電性層を意味すると意図され、その導電性層上に、活性層（例えば、「全固体」エレクトロクロミックシステムにおけるすべての活性層）のうちの少なくとも一部が蒸着される。「上側の」導電性層は、他方の側に蒸着された導電性層である。
【００２５】
導電性層は、後述される厚さ範囲では透明な状態のままであり、すなわち、それは、可視範囲で低い光吸収性を示す。しかし、かなり厚い層を有すること（エレクトロクロミックタイプの電気的に活性のシステムが、透過ではなく、反射において機能する場合は特に）、またはかなり薄い層を有すること（それらが、導電性層における別のタイプの導電性層、例えば、金属と結合される場合は特に）が、実現できなくはない。上述されているように、本発明は、様々なタイプの電気化学的なまたは電気的に制御可能なシステムに適用可能である。より具体的には、それは、エレクトロクロミックシステムに関し、具体的には、「全固体」であるシステムに関する。
【００２６】
本発明が適用可能であるエレクトロクロミックシステムまたはグレイジングは、上述されている特許明細書に記載されている。それらは、活性システムを形成するスタックを間に含む少なくとも２つのキャリア基板を有することが可能であり、それぞれは、電流フィードに接続されている少なくとも１つの第１の導電性層と、Ｈ＋、Ｌｉ＋、ＯＨ−などのイオンを可逆的に挿入可能な、アノードまたはカソードそれぞれのエレクトロクロミック材料タイプの少なくとも１つの電気化学的に活性の層と、電解質層と、Ｈ＋、Ｌｉ＋、ＯＨ−などのイオンを可逆的に挿入可能な、カソードまたはアノードそれぞれのエレクトロクロミック材料タイプの少なくとも１つの第２の電気化学的に活性の層と、電流フィードに接続されている第２の導電性層とを、順に含む（用語「層」は、単一の層、または複数の連続的なもしくは不連続的な層のスタックを意味すると理解されるべきである）。
【００２７】
また、本発明は、本出願のプリアンブルに説明されている電気化学的素子を、反射（ミラー）において、または透過において機能するグレイジングに組み込むことに関する。用語「グレイジング」は、広い意味で解釈されるべきであり、ガラスで形成されている任意の基本的に透明な材料、および／または（ポリカーボネートＰＣもしくはポリメチルメタクリレートＰＭＭＡなどの）ポリマ材料をカバーする。キャリア基板および／または対向基板、すなわち、活性システムを構成する基板は、堅くてよく、可撓性または半可撓性であってもよい。
【００２８】
このグレイジングは、建物向けグレイジング、自動車向けグレイジング、工業用または公共用輸送の鉄道車両、海洋船、航空機向けグレイジングとして、具体的には、窓、サイドミラー、ミラーとして使用可能である。このグレイジングは、具体的には、可変の光学ならびに／またはエネルギーの透過部および／もしくは反射部を備え、プラスチックで形成されている基板、または透明もしくは部分的に透明な基板のうちの少なくとも一部を有し、好ましくは、複数および／もしくは積層グレイジングとして、またはダブルグレイジングとして組み立てられる。
【００２９】
本発明はまた、これらの素子、グレイジングまたはミラーについて見られる様々な用途にも関し、これは、建物向けグレイジング、特に、外部グレイジング、内部仕切り、またはガラス張りドアを形成することを含むことが可能である。また、それは、列車、航空機（例えば窓）、自動車、ボートなどの輸送の手段のための窓、屋根、または内部仕切りを含むことが可能である。また、それは、映写スクリーンなどの視覚化またはディスプレイスクリーン、テレビまたはコンピュータのスクリーン、一般に、「ディスプレイ」と呼ばれるタッチセンサスクリーンを含むことが可能である。また、それらは、メガネもしくはカメラレンズを製造すること、またはソーラパネルを保護することにも使用可能である。
【００３０】
次に、本発明を、限定ではない実施例および図面によって、より詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明によるエレクトロクロミックセルの概略断面図である。
【図２】図１の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
図１は、読みやすくするために、意図的に非常に概略的であり、必ずしも縮尺通りではなく、それは、本発明の教示による「全固体」エレクトロクロミック素子の断面を示しており、
−  厚さが２．１ｍｍであるクリアなシリカ−ソーダ−石灰ガラスＳ１の基板と、
−  それぞれの厚さが、１５ｎｍから２０ｎｍのＩＴＯ（スズがドープされた酸化インジウム）／６０ｎｍから８０ｎｍのＺｎＯ：Ａｌ／３ｎｍから１５ｎｍの銀／６０ｎｍから８０ｎｍのＺｎＯ：Ａｌ／１５ｎｍから２０ｎｍのＩＴＯであるＩＴＯ／ＺｎＯ：Ａｌ／Ａｇ／ＺｎＯ：Ａｌ／ＩＴＯタイプの層スタックを含み、または５００ｎｍである熱蒸着されたＩＴＯベースである、下側の導電性層２と、
−  構造体が後述される第１のエレクトロクロミックシステム３と、
−  ＩＴＯもしくはＳｎＯ２：Ｆベースの上側の導電性層４、または変形形態としては、他の導電性要素を有する上側の導電性層（より具体的には、これは、導電性層を、それに比べて、より導電性である層および／または複数の導電ストリップまたはワイヤと結合することを含むことが可能である。さらなる詳細には、このような多成分の導電性層の実装に関して、国際公開第００／５７２４３号パンフレットを参照してよい。このタイプの導電性層の好ましい実施形態は、ポリマのシート７の表面上に覆われた導電ワイヤのネットワークを、ＩＴＯ層（任意選択で１つまたは複数の他の導電性層によりカバーされている）上に加えることに存し、シート７は、積層中間体として働き、第１のエレクトロクロミックスタックと結合される上側の導電性層および第２のエレクトロクロミックスタックと結合される上側の導電性層を、複数の導電ストリップもしくは１つの導電ストップまたは導電ワイヤ６によって、電流フィードのうちの１つに接続することを可能にし、上側の導電性層４’は、電流フィード９および９’に接続されている上側の導電性層４と本質的に同一である。）と、
−  構造体が後述される第２のエレクトロクロミックシステム３’と、
−  電流フィード１０および１０’に接続されている下側の導電性層２と本質的に類似している下側の導電性層２’と、
−  厚さが２．１ｍｍであるクリアなシリカ−ソーダ−石灰ガラスＳ１’の基板とを、順に含む。
【００３３】
第１および第２のエレクトロクロミックスタック３および３’は、
−  ４０ｎｍから１００ｎｍである（水和された）酸化イリジウム、または４０ｎｍから４００ｎｍである任意選択で水和され、任意選択で他の金属と合金された酸化ニッケルで形成されているエレクトロクロミック材料のアノードの第１の層ＥＣ１と、
−  １００ｎｍである酸化タングステンの層と、
１００ｎｍである水和された酸化タンタル、または水和された酸化ケイ素、または水和された酸化ジルコニウムの層（酸化タングステンの層と、この層とは、電解質機能を有する層ＥＬを形成する）と、
−  ３７０ｎｍである酸化タングステンＷＯ３ベースのエレクトロクロミック材料のカソードの第２の層ＥＣ２とを含む。
【００３４】
すべてのこれらの層は、磁場アシストのカソードスパッタリングによって蒸着された。変形形態としては、熱蒸発もしくは電子ビームによりアシストされる蒸発によって、レーザアブレーションによって、任意選択でプラズマによりもしくはマイクロ波によりアシストされるＣＶＤによって、または大気圧技術によって、具体的には、ディップタイプ、スプレイコーティングもしくはローラコーティングの、具体的には、ゾル−ゲル合成を使用して層を蒸着することによって得ることが可能になる。
【００３５】
活性スタック３および／または３’は、機械的手段によって、または任意選択で走査されるレーザ光照射によって形成される溝部の手段によって、その周辺の一部またはすべてにわたって切断可能であり、その意図するものは、仏国特許出願第２  ７８１  ０８４号明細書に記載されているように、周辺の漏電を制限することである。
【００３６】
さらには、図１、図２に示されているグレイジングは、面２および３（２および３は、従来通りに、基板Ｓ１およびＳ１’の内部面の番号である）と接触している第１の周辺シール（図には示されていない）を組み込み、この第１のシールは、外部の化学攻撃に対する障壁を形成するようになされている。
【００３７】
第２の周辺シールは、障壁、輸送手段とのアセンブリの手段、内部と外部の間のシール、美的機能、補強要素を組み込む手段を設けるために、Ｓ１の側縁部、Ｓ１’の側縁部ならびに面１および４（１および４は、従来通りに、基板Ｓ１およびＳ１’の外部面の番号である）と接触している。
【００３８】
上述されているエレクトロクロミック素子は、実施例１を構成する。
【００３９】
この実施例１のエレクトロクロミック素子は、それが着色状態と未着色状態の間で切り替わることを可能にするためにエネルギー源に接続され、その逆も同様であった。エレクトロクロミックスタックは、それらの表面の少なくとも一部分の上で光学的に直列に機能する。（変形形態としては、電力供給は、直列にまたは並列に行われることが可能であるが、直列における素子の光学的機能に影響を与えない）。
【００４０】
達成されるコントラスト値を、様々なスタック構成について以下に示す。
【００４１】
エレクトロクロミック素子が供給される場合、活性システム３および３’はそれぞれ、
−  ６０ｎｍから９０ｎｍ、好ましくは、８５ｎｍである（水和された）酸化イリジウムで形成されているエレクトロクロミック材料のアノードの第１の層ＥＣ１であり、
１００ｎｍである酸化タングステンの層であり、
−  水和された酸化タンタルの層（酸化タングステンの層と、この層とは、電解質機能ＥＬを有する）であり、
−  ３５０ｎｍから３９０ｎｍ、好ましくは、３８０ｎｍである酸化タングステンＷＯ３ベースのエレクトロクロミック材料のカソードの第２の層ＥＣ２である。
【００４２】
スタック３および３’は、その表面上に電気接続手段を有する積層挿入体７によって電気的に分離され、機械的に接続される。
【００４３】
その場合、グレイジングの切替えが、光透過率（ＯＴ）が３８％である未着色状態と、ＯＴが０．０１％である着色状態との間で得られる。このグレイジングと関連付けられるコントラストは、３８００である。
【００４４】
第２の例示的な構成においては、
厚さが１５０ｎｍであるＩＴＯ層と結合される、ＰＥＴで形成されているプラスチック基板Ｓ１およびＳ１’について、第１および第２のエレクトロクロミックシステム３および３’の結合には、
−  ６０ｎｍから９０ｎｍ、好ましくは、８５ｎｍである（水和された）酸化イリジウムで形成されているエレクトロクロミック材料のアノードの第１の層ＥＣ１と、
−  １００ｎｍである酸化タングステンの層と、
水和された酸化タンタルの層（酸化タングステンの層と、この層とは、電解質機能ＥＬを有する）と、
−  ３５０ｎｍから３９０ｎｍ、好ましくは、３８０ｎｍである酸化タングステンＷＯ３ベースのエレクトロクロミック材料のカソードの第２の層ＥＣ２とが含まれる。
【００４５】
スタック３および３’は、その表面上に電気接続手段を有する積層挿入体７によって電気的に分離され、機械的に接続されている。
【００４６】
その場合、グレイジングの切替えが、光透過率（ＯＴ）が２２％である未着色状態と、ＯＴが０．０４％である着色状態との間で得られる。このグレイジングと関連付けられるコントラストは、５５０である。
【００４７】
第３の例示的な構成においては、
厚さが６ｎｍであるＳｎＯ２：Ｆ層によりコーティングされているガラス基板について、第１および第２のエレクトロクロミックシステム３および３’の結合には、
−  １８０ｎｍから２５０ｎｍ、好ましくは、２００ｎｍである（水和された）酸化ニッケルで形成されているエレクトロクロミック材料のアノードの第１の層ＥＣ１と、
−  １００ｎｍである、任意選択で合金された窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）または窒化ホウ素または窒化アルミニウムの層と、
−  水和された酸化タンタルの第２の層（任意選択で合金された窒化ケイ素または窒化ホウ素または窒化アルミニウムの層と、この層とは、電解質機能ＥＬを有する）と、
−  ３５０ｎｍから３９０ｎｍ、好ましくは、３８０ｎｍである酸化タングステンＷＯ３ベースのエレクトロクロミック材料のカソードの第２の層ＥＣ２とが含まれる。
【００４８】
スタック３および３’は、その表面上に電気接続手段を有する積層挿入体７によって電気的に分離され、機械的に接続されている。
【００４９】
その場合、グレイジングの切替えが、光透過率（ＯＴ）が６５％である未着色状態と、ＯＴが４．５％である着色状態との間で得られる。このグレイジングと関連付けられるコントラストは、１４である。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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