(57)【要約】  粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターン（２１，５７）を、受け入れ表面（１３）上に塗布する方法は順に、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、凝集液相（９，２０）と共に、および前記パターン（２１，５７）の原型（１０，１０ｂ，１８，５６）に従って転写表面（３）に結合することと、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）および前記液相（９，２０）を搬送する前記転写表面（３）を、転送ゾーン（１５，４５）において前記受け入れ表面（１３）に向かせることと、を具備し、前記方法は、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）から分離し、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記受け入れ表面上に塗布するために、前記転写ゾーン（１５，４５）において、前記液相（９，２０）の少なくとも１部分を加熱することを更に具備する。
2009527374.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターン（２１，５７）を、受け入れ表面（１３）上に塗布する方法であって、順に、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、凝集液相（９，２０）と共に、および前記パターン（２１，５７）の原型（１０，１０ｂ，１８，５６）に従って転写表面（３）に結合することと、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）および前記液相（９，２０）を搬送する前記転写表面（３）を、転送ゾーン（１５，４５）において前記受け入れ表面（１３）に向かせることと、を具備し、
前記方法は、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）から分離し、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記受け入れ表面上に塗布するために、前記転写ゾーン（１５，４５）において、前記液相（９，２０）の少なくとも１部分を加熱することを更に具備することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記加熱は、急激に加熱することを具備することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記加熱は、前記転写表面（３）に向いている前記液相（９，２０）を優先的に加熱することを具備することを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記加熱の後に、前記液相（９，２０）の急速な蒸発（Ｗ）が続き、前記液相（９，２０）は前記転写表面（３）を向いていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記分離の後に、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）は、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記受け入れ表面（１３）に接着させるのに適している前記凝集液相（９，２９）の相当な量を保持することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記加熱は、前記転写ゾーン（１５，４５）における前記転写表面（３）の温度の急激な上昇の後に続くことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記急激な上昇は、前記温度を３０ミリ秒よりも短い時間で８０℃から１５０℃に上げることを具備することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記転写表面（３）は電気的導体なので、前記加熱することは、前記転写表面（３）内にジュール効果を発生させることを具備することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記ジュール効果は、電磁誘導により引き起こされることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記加熱することは、熱波（Ｔ）を放射することを具備することを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記加熱することは、前記転写表面（３）が向けられている方向とは反対の方向から熱波（Ｔ）を放射することを具備することを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記放射することは、前記熱波（Ｔ）を前記転写ゾーン（１５，４５）において合焦することを具備することを特徴とする請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記放射することは、外部表面が前記転写表面（３）を画定する吸収層（２）に向けて、前記吸収層（２）の透過性支持体（５）を介して放射することを具備することを特徴とする請求項１０から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記放射することは、外部表面が前記転写表面（３）を画定する透過性体（５）を介して放射することを具備することを特徴とする請求項１０から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記結合することは、前記パターン（２１）の前記原型（１０）に従って、前記液相（９）を前もって塗布し、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記液相（９）に凝集させることを具備することを特徴とする請求項１から１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記散布することは、コンピュータ手段（Ｃ）により制御されるインクジェット装置（８）から噴出させることを具備することを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記凝集させることは、散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）の回転手段（３０）から、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、前記転写表面（３）に向けて投射することと、前記転写表面（３）により保持されなかった前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の余剰分（２４）を、前記回転手段（３０）を介して収集することと、を具備することを特徴とする請求項１５または１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記収集することは、前記余剰分（２４）を、前記回転手段（３０）の下にある経路に沿って、前記回転手段（３０）の表面凹部（３１）に移動することを具備することを特徴とする請求項１から１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記収集することは、前記出口（３８）を出る前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の流れと相互作用するように、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を供給する供給手段（３９，７５，７６）の前記下部出口（３８）に向けて、前記余剰分（２４）を移動することを更に具備することを特徴とする請求項１７または１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記相互作用することは、前記流れを、前記転写表面（３）により保持された前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の量と実質的に等価となるようにすることを特徴とする請求項１から１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記回転手段（３０）に、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の別個のタイプを提供することを具備することを特徴とする請求項１７から２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
前記方法は、セラミックタイル（１３，１４）を装飾するために使用されることを特徴とする請求項１から２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記塗布することは、０.０３ｍｍと０.８ｍｍの間の範囲のサイズを有する実質的に非多孔質粒状体から構成される粒状材料を塗布することを具備することを特徴とする請求項１から２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
前記結合することは、後続の段階において前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の種々のタイプを結合することを具備し、前記分離することは、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の前記種々のタイプを同時に分離することを具備することを特徴とする請求項１から２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記塗布することは、前記転写表面（３）が、前記受け入れ表面（１３）の速度よりもかなり速い速度で移動する間に起こることを特徴とする請求項１から２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
前記転写表面（３）の回転軸（７）を、前記受け入れ表面（１３）に平行な面において往復運動的に平行移動することを具備することを特徴とする請求項１から２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
前記受け入れ表面（１３，６１）を、前記進行方向（６２）に沿って、前記転写表面（３）に関連して割り出し（間歇移動設定）することを具備することを特徴とする請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記転写表面（３）を往復運動的に回転することを具備することを特徴とする請求項１から２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
前記回転の方向（６４，６８）に依存して、別個の散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）を交互に起動することを具備することを特徴とする請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記塗布することは、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の層を塗布するステップと、
前記層を、前記受け入れ表面（３）に対して水平化するステップと、
場合によっては、前記ステップを繰り返すことと、を具備することを特徴とする請求項１から３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
前記繰り返すことは、前記層（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、前もって塗布された前記層（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）に重ね合わせることを具備することを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記ステップは、同一ステーションにおいて繰り返されることを特徴とする請求項３０または３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記水平化することは、前記転写表面３により行われることを特徴とする請求項３０から３２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターン（２１，５７）を、受け入れ表面（１３）上に塗布する装置（１，１ｂ）であって、
前記受け入れ表面（１３）に面している部分において画定される転写ゾーン（１５）を有するループ経路に沿って可動である転写表面（３）と、
前記転写ゾーン（１５）の上流に配置される塗布手段（８，８ｂ，１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）であって、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、凝集液相（９）と共に、前記パターン（２１，５７）の原型（１０，１８，５６）に従って、前記転写表面（３）に塗布するのに適している塗布手段（８，８ｂ，１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）と、を具備し、
前記装置は、前記転写ゾーン（１５）において前記凝集液相（９，２０）の少なくとも１部分を急激に蒸発し、それにより、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）から分離させ、前記受け入れ表面（１３）上に前記塗布を行わせるのに適している加熱手段（１６，２５，２６，４６，４７，Ｔ）を更に具備することを特徴とする装置。
【請求項３５】
前記加熱手段（１６，２５，２６，４６，４７，Ｔ）は、前記転写表面（３）に面している前記凝集液相（９）の前記部分（２０）において優先的に作動するのに適していることを特徴とする請求項３４に記載の装置（１）。
【請求項３６】
前記加熱手段（１６，２５，２６，４６，４７，Ｔ）は、前記転写ゾーン（１５）において、前記転写表面（３）を急激に加熱するのに適していることを特徴とする請求項３４または３５に記載の装置（１）。
【請求項３７】
前記転写表面（３）は薄いシート（２）の前記表面であることを特徴とする請求項３４から３６のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項３８】
前記薄いシートは、５μｍよりも薄い厚さを有することを特徴とする請求項３７に記載の装置（１）。
【請求項３９】
前記薄いシート（２）はより厚い支持体（５）に結合されることを特徴とする請求項３７または３８に記載の装置（１）。
【請求項４０】
前記支持体（５）は円柱形管状体であることを特徴とする請求項３９に記載の装置（１）。
【請求項４１】
前記薄いシート（２）は電気的伝導性であることを特徴とする請求項３７から４０のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項４２】
前記薄いシート（２）はアンバー合金であることを特徴とする請求項３７から４１のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項４３】
前記薄いシート（２）は、材料の堆積により前記支持体（５）上に直接形成されることを特徴とする請求項３７から４２のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項４４】
前記支持体（５）は、絶縁電気的および熱的特性が与えられることを特徴とする請求項３９から４３のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項４５】
前記薄いシート（２）は、複数の近接する細片（４７）から構成され、前記近接する細片（４７）は相互に電気的に絶縁されており、前記回転軸（７）に平行に配置されていることを特徴とする請求項３７から４４のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項４６】
前記加熱手段（１６，２５，２６，４６，４７，Ｔ）は、前記薄いシート（２）内にジュール効果を発生させるのに適している電気的装置（１６，２５，４８）を具備することを特徴とする請求項３７から４５のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項４７】
前記電気的装置（１６，２５，４８）は、前記ループ経路内に配置された電磁インダクタ（１６，２５）を具備することを特徴とする請求項４６に記載の装置（１）。
【請求項４８】
前記電磁インダクタ（１６，２５）は、磁束（２６）のコンセントレータ（２５）を具備することを特徴とする請求項４７に記載の装置（１）。
【請求項４９】
前記加熱手段（１６，２５，２６，４６，４７，Ｔ）は、前記ループ経路内に配置された熱放射のトランスミッタ（４３，４４，４６，Ｔ）を具備することを特徴とする請求項３４から４８のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項５０】
前記トランスミッタ（４３，４４，４６，Ｔ）は、前記放射（Ｔ）を直線状の細片（４５）内に集中するのに適している合焦手段（４４）を具備することを特徴とする請求項４９に記載の装置（１）。
【請求項５１】
前記薄いシート（２）は、前記熱放射（Ｔ）に対して高い吸収性を有し、前記より厚い支持体（５）は、前記熱放射（Ｔ）に対して高い透過性を有する材料から構成されることを特徴とする請求項４７から５０のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項５２】
前記転写表面（３）は、前記熱放射（Ｔ）に対して高い透過性を有する材料から構成された管状体（５）の前記外部表面であることを特徴とする請求項４７から５１のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項５３】
前記高い透過性を有する材料はポリマーであることを特徴とする請求項５１または５２に記載の装置（１）。
【請求項５４】
前記支持体（５）は、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、芳香族ポリケトン（ＰＫ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリフェニルスルフォン（ＰＰＳＵ）、ポリスルフォン（ＰＳＵ）、ポリエステル（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シリコンエラストマ、フルオロエラストマから構成されるグループから選択されるポリマーを具備することを特徴とする請求項３９から５３のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項５５】
前記薄いシート（２）は、本来の場所で形成されたポリマーマトリックスから構成され、前記薄いシート（２）において、ポリマーマトリックス粉末および／またはファイバーは分散していることを特徴とする請求項３９から５４のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項５６】
前記粉末および／またはファイバーは、ブラックカーボン、グラファイト、金属、酸化金属、セラミック、サーメット、鉱物、カーバイド、窒化物、硼化物、カーボンナノチューブから構成されるグループにおいて選択されることを特徴とする請求項５５に記載の装置（１）。
【請求項５７】
前記塗布手段（８，８ｂ，１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）は、前記凝集液相（９）を塗布するのに適している塗布装置（８，８ｂ，５８）と、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を散布するのに適している散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）と、を具備することを特徴とする請求項３２から５６のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項５８】
前記塗布装置（８，８ｂ，５８）は、コンピュータ手段（Ｃ）により制御されるインクジェット装置（８，８ｂ）を具備することを特徴とする請求項５７に記載の装置（１）。
【請求項５９】
前記散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）は、前記転写表面（３）の近くに配置される回転手段（３０）であって、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）に向けて投射するのに適していて且つ前記転写表面（３）により保持されなかった前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の前記余剰分（２４）を収集するのに適している、回転手段（３０）を具備することを特徴とする請求項５７または５８に記載の装置（１）。
【請求項６０】
前記回転手段（３０）は、少なくともその下部部分において、前記転写表面（３）と前記回転手段（３０）の間にある第１壁（３６）と、前記回転手段（３０）の反対側にある第２壁（３７）とを具備する容器（１９）内に配置されていることを特徴とする請求項５９に記載の装置（１）。
【請求項６１】
前記散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）は、前記下部出口（３８，７５，７６）が前記回転手段（３０）と前記第２壁（３７）の間に配置されている供給手段（３９，７５，７６）を具備することを特徴とする請求項６０に記載の装置（１）。
【請求項６２】
前記供給手段（３９，７５，７６）は、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の別個のタイプに関連していることを特徴とする請求項６１に記載の装置（１）。
【請求項６３】
前記回転手段（３０）は、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）に向けて搬送するのに適している第１スクリーン手段（５２）と協働することを特徴とする請求項５９から６２のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項６４】
前記回転手段（３０）は、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記回転手段（３０）に向けて搬送するのに適している第２スクリーン手段（４０）と協働することを特徴とする請求項５９から６３のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項６５】
前記回転手段（３０）は、前記回転手段（３０）の回転軸（３５）に垂直な面に従って、前記ローター（３０）と前記転写表面（３）の間に配置されている分割ダイアフラム（８３）と協働することを特徴とする請求項５９から６４のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項６６】
前記回転手段（３０）の表面には、凹部および／または突起部（３１）が設けられることを特徴とする請求項５９から６５のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項６７】
前記散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）は、前記転写表面（３）の、降下して下方に向けられている部分の近くに配置されていることを特徴とする請求項５９から６６のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項６８】
前記受け入れ表面（１３，６１）は進行方向（１７，６２）において可動であり、前記転写表面（３）は少なくとも１つの軸（７）の周りを回転可能であるため、前記軸（７）は、前記進行方向（１７，６２）に対して横方向（６３，６７）において、前記受け入れ表面（１３，６１）に対して往復運動的に平行移動可能であることを特徴とする請求項３４から６７のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項６９】
前記進行方向（１７，６２）および前記少なくとも１つの軸（７）は平行であることを特徴とする請求項６８に記載の装置（１）。
【請求項７０】
前記受け入れ表面（１３，６１）および前記転写表面（３）は、前記進行方向（１７，６２）に平行な方向において相互に割り出し（間歇移動設定）が可能であることを特徴とする請求項６８または６９に記載の装置（１）。
【請求項７１】
前記転写表面（３）は、１つの軸（７）の周りの前記２方向（６４，６８）において往復運動的に回転可能であることを特徴とする請求項３４から７０のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項７２】
前記転写表面（３）は、前記回転（６４，６８）の前記方向に依存して、前記別個の散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）と交互に協働することを特徴とする請求項７１に記載の装置（１）。
【請求項７３】
１台または２台以上の前記装置（１）に結合されて、前記平行移動（６３，６７）の方向に沿って平行且つ連続する軸（７）を有する複合体（Ｋ）を形成することを特徴とする請求項３４から７２のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項７４】
前記４台以上の散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）のそれぞれには、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の異なるタイプが供給されることを特徴とする請求項７３に記載の装置（１）。
【請求項７５】
請求項１から３３のいずれか一項に記載の前記方法に従って、粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を転写および塗布する要素（２，３，５）であって、
前記要素は、内部は誘電体材料（５）により構成され、外部は電気伝導性層（２，４７）から構成される本体（５，５３）を具備することを特徴とする要素。
【請求項７６】
請求項１から３３のいずれか一項に記載の前記方法に従って、粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を転写および塗布する要素（２，３，５，５３）であって、
前記要素は、前記熱放射（Ｔ）に対して透過性材料の管状体（５，５３）を具備することを特徴とする要素。
【請求項７７】
前記管状体（５，５３）の前記外部表面上に薄い層（２）が配置され、前記薄い層（２）は、その前記内部表面（４）上において、前記熱放射（Ｔ）に対して高い吸収性を有することを特徴とする請求項７６に記載の要素（２，３，５，５３）。
【請求項７８】
前記管状体（５，５３）はポリマーを具備することを特徴とする請求項７６又は７７に記載の要素（２，３，５，５３）。
【請求項７９】
前記管状体（５）を形成する材料は、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、芳香族ポリケトン（ＰＫ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリフェニルスルフォン（ＰＰＳＵ）、ポリスルフォン（ＰＳＵ）、ポリエステル（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エラストマ、ガラス、シリコンエラストマ、フルオロエラストマから構成されるグループから選択されることを特徴とする請求項７８に記載の要素（２，３，５，５３）。
【請求項８０】
前記薄い層（２）は、本来の場所において形成されたポリマーマトリックスから構成されており、前記薄い層（２）内において、ポリマーマトリックス粉末および／またはファイバーが分散されていることを特徴とする請求項７５から７９のいずれか一項に記載の要素（２，３，５，５３）。
【請求項８１】
前記粉末および／またはファイバーは、ブラックカーボン、グラファイト、金属、酸化金属、セラミック、サーメット、鉱物、カーバイド、窒化物、硼化物、カーボンナノチューブから構成されるグループにおいて選択されることを特徴とする請求項８０に記載の要素（２，３，５，５３）。
【請求項８２】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、受け入れ表面（１３，４９）上に塗布する方法であって、順に、
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を転写表面（３）上に配置することと、
前記転写表面（３）を前記受け入れ表面（１３，４９）に向かせ、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、前記受け入れ表面（１３，４９）上に塗布することと、を具備し、
前記配置することは、回転手段（３０）から前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）に向けて投射し、前記転写表面（３）により保持されなかった前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の前記余剰分（２４）を、前記回転手段（３０）により収集することを具備することを特徴とする方法。
【請求項８３】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、受け入れ表面（１３，４９）上に塗布する装置（１）であって、
可動転写表面（３）と、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）に塗布するのに適している散布装置（１１，３０）とを具備し、
前記散布装置（１１，３０）は、前記転写表面（３）の近くに配置され且つ前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）に向けて投射できるようにするのに適していて且つ前記転写表面（３）により保持されなかった前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の前記余剰分（２４）を収集するのに適している、回転手段（３０）を具備することを特徴とする装置。
【請求項８４】
材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、受け入れ表面（１３）上に塗布する方法であって、
前記材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、少なくとも１つの回転軸（７）の周りのループ経路に沿って可動な転写表面（３）に結合することと、
コンピュータ手段（Ｃ，８）を介して、前記パターンに対応する前記材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の１部分を選択し、前記１部分を前記受け入れ表面（１３）に向けて移動することと、を具備し、
前記方法は、前記受け入れ表面（１３）に平行な面において、前記軸（７）を平行移動（６３，６７）により往復運動的に移動することを更に具備することを特徴とする方法。
【請求項８５】
材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、進行方向（６２）において可動な受け入れ表面（１３）上に塗布する装置（１）であって、
少なくとも１つの回転軸（７）の周りのループ経路に沿って可動な転写表面（３）と、
前記材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、前記転写表面（３）に結合するのに適している塗布手段（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）と、
前記パターンに対応する前記材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の１部分を選択するのに適しているコンピュータ制御手段（Ｃ，８，８ｂ）と、を具備し、
前記軸（７）は、前記受け入れ表面（１３）に平行な面において平行移動（６３，６７）により往復運動的に可動であることを特徴とする装置。
【請求項８６】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、整合性のない受け入れ表面（１３）上に塗布する方法であって、順に、
前記パターンに従って配置されている前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の層を、前記受け入れ表面（１３）上に塗布するステップと、
前記受け入れ表面（１３）に対して、前記層（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を水平化するステップと、を具備することを特徴とする方法。
【請求項８７】
前記方法は、前記ステップを１回または２回以上繰り返すことを更に具備することを特徴とする請求項８６に記載の方法。
【請求項８８】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、進行方向（６２）において整合性のある且つ可動な受け入れ表面（１３）上に塗布する装置（１，１ｂ）であって、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の層を塗布するのに適している回転塗布手段（３，５，５ｂ）と、
前記受け入れ表面（１３）に対して、前記層を水平化するのに適している水平化手段（３，５，５ｂ，８２）と、を具備することを特徴とする装置。
【請求項８９】
前記装置は、前記回転塗布手段（３，５，５ｂ）と協働する、往復運動的平行移動手段（６３，６７）を更に具備することを特徴とする請求項８８に記載の装置。
【請求項９０】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）のパターンを、整合性のない材料の層（６１）上に塗布する方法であって、順に、
前記パターンの原型を形成する配置（１０）に従って、転写表面（３）上に液体（９）を塗布することと、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）を前記液体（９）に結合して、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）を前記転写表面（３）に接着させることと、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）を前記受け入れ表面（１３）に接触させて、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）を、実質的に整合性のない前記層（６１）に維持することにより、前記転写表面（３）から前記受け入れ表面（１３）に転写することとを具備する方法。
【請求項９１】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）のパターンを、整合性のない材料の層（６１）の受け入れ表面（１３）上に塗布するのに適している装置（１，１ｂ）であって、
回転転写表面（３）と、
前記パターンの原型に従って、液体（９）を前記転写表面（１３）上に配置するのに適している塗布手段（８，８ｂ）と、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）を前記液体（９）に結合するのに適している散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）と、を具備し、
前記回転転写表面（３）は、前記受け入れ表面（１３）と干渉するように配置され、前記干渉は、前記整合性のない層（６１）において任意の実質的整合性を生成しないことを特徴とする装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粒状材料を装飾する表面に転写する、特別には、セラミックタイル上の装飾を得るためのシステムおよび装置に関し、随意的に、コンピュータ化された手段により、リアルタイムで制御されるパターンにも従う。
【背景技術】
【０００２】
装飾技術は、装飾材料を転写表面へ結合することを提供するものとして知られており、転写表面は、ループ経路に沿って可動であり、装飾材料を装飾対象表面に転写する。実際の適用は多数あり、それらは主に、装飾材料を転写表面に結合する方法、および装飾材料を装飾対象表面に転写する方法において異なっている。この後者の場合は、装飾対象表面への接着効果を利用して接触により、または他の力により接触なしで起こり得る。
【０００３】
接触による転写の例は、ＥＰ５３０６２７、  ＥＰ６３５３６９、  ＥＰ６７７３６４、  ＥＰ７２７７７８、  ＥＰ７６９７２８、  ＥＰ８３４７８４、  ＵＳ５８９００４３、  ＩＴ１２８７４７３、  ＩＴ１３０４９４２、  ＩＴ１３１０８３４、およびＩＴ１３１４６２４に開示されている。
【０００４】
これら例のすべてに対して共通な特徴は、転写の間、装飾材料は液状混濁液状態、またはできれば、溶融状態でなければならず、それにより、受け入れ表面に向けての接着効果を利用できるということである。そのため、装飾対象の表面との直接の相互作用は、操作上の限界をもたらし、例えば、整合性のない、湿った、または粗い表面は装飾できず、更に、転写表面は、接触中に何らかの変化を受け、または汚染される可能性がある。
【０００５】
ＩＴ１２６２６９１では、湿った、または乾燥した装飾材料が最初に、ベルト転写表面のキャビティ内に組み込まれ、転写表面を介して伝達される超音波振動の効果により、装飾対象表面上に投射される。
【０００６】
超音波装置の使用は、複雑さ、高いコスト、およびエネルギーの浪費を伴う。更に、主に転写表面の幅が２００〜２５０ｍｍを超えるときに、転写表面全体に対して振動を均一に伝達することは相当に困難である。また、操作速度が遅いこと、および装飾の不完全な転写という制限も存在する。
【０００７】
ＩＴ１２６２６９１は更に、網目状のマトリックスの貫通開口部に装飾材料を組み込み、装飾材料を接触によらず、エアー噴射の効果により装飾対象表面に投射するシステムを開示している。エアー噴射による放出は、対象表面上の装飾の配置を劇的に乱し、環境汚染をもたらす可能性もある。
【０００８】
ＥＰ１１７０１０４では、装飾粉末を回転マトリックスのキャビティに挿入し、粉末が装飾対象の表面に向いたときに落ちるようにすることを提案している。アプローチ経路に沿って粉末は、スライディングまたはローリングラッピングスクリーンから構成される支持保持手段によりキャビティ内に保持される。
【０００９】
ＥＰ１１７０１０４の欠点は、主に細かい粉末が使用された場合に、保持手段の効果が失われたときに装飾の分離が不正確であるということである。更に、スラインディングスクリーンの場合は、摩耗と漏洩が不可避であり、ローリングスクリーンの場合は、落下中の装飾の分解が不可避であり、これは、下部ラッピング手段は、ある程度の全体的な寸法を有することが必要であるからである。
【００１０】
ＥＰ１４１９８６３では、粉末状の装飾材料を、ベルト回転マトリックスのキャビティ内に圧縮し、粉末状装飾材料を、マトリックスを弾性的に拡張および変形することにより噴出することを提案している。この場合もまた、摩耗、材料をキャビティ内に信頼できる方法で保持する難しさ、および材料噴出の段階における多くの難しさの顕著な問題が存在し、それらの難しさは、主に粉末状材料の物理的特性の臨界状態に関連している。
【００１１】
ＥＰ１１６２０４７、ＥＰ１２６６７５７、およびＷＯ２００４０２８７６７は、可動層状または網目状マトリックスの穴を介して粉末を転写する乾燥装飾システムを開示している。これらのシステムは、主にドクターブレードにより強制されるときに、マトリックスの内面および穴の側壁を連続的に擦る摩耗性粒状材料による摩耗の問題を抱えている。また、マトリックスを介して通過する材料の量を一定に維持することも難しい。更に、穴のサイズは、粒体が容易に通過できるようでなければならないため、得られる鮮明度は限られている。
【００１２】
ＩＴ１３１４６２４では、転写回転表面に、「インクジェット」技術により投射される液状微小滴により形成されたパターンを塗布することが提案されている。続いて、粉末状装飾材料は微小滴に接着され、装飾対象表面に転写される。この転写は直接接触、または別の場合は、接触せず、転写表面に伝達された超音波振動の効果により行われる。ＩＴ１３１４６２４は、前もって形成されたパターンを有するマトリックスを必要としないという利点があるが、装飾が、装飾対象表面に転写される段階においては、ＩＴ１３１４６２４は、既に述べた欠点、つまり、接触または振動装置の使用といういくつかの欠点がある。
【００１３】
ＷＯ２００５０２５８２８では、粒状材料を、キサゲ手段により転写表面から分離するためのシステムが開示されている。
【００１４】
ＷＯ２００５０２５８２８の欠点は、動作速度が増すにつれて、より明白になってくるパターンの分解である。これは、そのようにして分離された粒状材料は、すべての粒子において均一で、装飾対象表面と同期している水平方向の速度成分を有していないという事実に起因する。言い換えれば、キサゲ手段は、各単一粒子の進行速度を、若干目立つ程度減少し、またその軌道を異なる方向に従って逸脱させるので、ディフューザ（拡散装置）として働くということである。この分解は、キサゲ手段上に凝固しないように、乾燥状態でなければならないので、粒状材料は、装飾対象表面に強固に接着せず、表面で跳ね返り、または表面上を摺動することによりある距離進んだあとに、幾分、不揃いに装飾対象表面上で止まってしまうという事実により更に顕著になる。
【００１５】
更に、キサゲ手段と装飾対象表面は、可能性のある摺動接触により相互に損傷を受けることがあるので、ある安全距離を転写表面と装飾対象表面の間に維持する必要がある。
【００１６】
更なる欠点は、キサゲ手段と転写表面の間の連続的な摩擦に起因するものであり、これら２つの要素を摩耗および劣化させる。
【００１７】
ＷＯ２００５０２５８２８の更なる欠点は、キサゲ手段の汚染であり、キサゲ手段は、必然的に、洗浄のためにアクセスするには危険で困難な場所に設置されるということである。この欠点は、主に細かい粉末において現れ、この細かい粉末は、通常は如何なる粒状材料においても少なくとも少量は常に存在するが、これは、細かい粉末は、粒体の分解により自発的に形成する傾向があることによる。これらの細かい粉末は、乾燥していても、キサゲ手段上で凝集する傾向があり、凝固した形状で、制御されていない方法で不揃いに落下する。実際、洗浄手段または可動キサゲ手段を設けることができるが、それらの手段は複雑であり、問題を完全には解決しない。
【００１８】
装飾を、転写表面から転写させるシステムが知られており、それらのシステムは、静電引力の原理に基づいている。これらのシステムは、特別および特殊な装飾粉末としか、そしてある装飾対象製品に対してしか使用できないという事実により、そして、これらのシステムは、セラミック産業の分野において実際の用途が見い出せないという事実により制限がある。
【００１９】
粒状材料を、直列に配置された複数の開口部を通して供給する装置が知られており、その起動は、コンピュータ手段に接続された弁により制御される。これらの装置の例は、ＩＴ１２９４９１５、ＩＴ１３１１０２２、およびイタリア特許出願ＲＥ２０００Ａ００００４０に開示されている。
【００２０】
これらの装置においては、開口部のサイズは粉末が自由に流出できるようなサイズでなければならず、そのため、容認できる画像の鮮明度を得ることができず、得られるのは、濃淡のある輪郭を有するスポットまたは縞模様だけである。更に、種々の電子機械装置により装置が複雑、高価、そしてあまり信頼性のないものになっている。
【００２１】
インクジェット装飾システムは、装飾インクが製品の表面上に直接投射されるセラミックの分野においても更に知られている。インクジェット装置のエジェクタ（放出装置）を通過するセラミック顔料は、個体材料（ナノ粒子）の非常に薄められた懸濁液、または溶液中の金属複合物であってよい。両者の場合、摩耗、障害、および化学的侵食が、繊細且つ高価なインクジェット装置に起きる可能性がある。更に、これらのインクは更に、結果として特別で高価なものとなり、高温においては、色彩力は貧弱であり、材料を実質的に活かすことには貢献しない。
【００２２】
ＩＴ１３１４６２４において開示された、粉末状材料を転写表面に塗布するためのシステムの１つは、転写表面とローリングおよび同期接触するローラーの使用を提案している。粉末状材料の薄層は、ナーリング加工（ローレット切り）（ｋｎｕｒｌｉｎｇ）により、またはローラーの表面が透過性であることにより、内部から作用する真空効果として、ローラーの表面への接着が維持される。
【００２３】
このシステムの欠点は、ローラーの表面と転写表面の間の接触が必要であり、それにより調整が困難になり、接触している２つの表面の間の危険な相互作用という結果になり、微小滴の配置を変えないようにするために、２つの表面間に完全な同期を維持することを更に強いられる。
【００２４】
更に、粉末状材料は、接触においてわずかに圧縮されることは避けられず、制御されない方法で転写する、つまり、粉末状材料は、ローラーからまったく分離できないか、または、過剰なサイズで塊の形状で分離できるかのいずれかである。更に、表面部分は、転写に関連する粒状材料の唯一の部分なので、基盤となる材料は、新しく補給されず、機能している間にますますコンパクトになっていき、ナーリング加工（ローレット切り）および／または真空効果を実質的に無効果にしてしまう。
【００２５】
真空の効果はまた、多孔質表面の障害物のため、漸進的に弱まることになり、この多孔質表面には、更に適切な洗浄手段を適用することはできない。
【００２６】
ＩＴ１３１４６２４に開示されている更なるシステムは、粒状材料を移動して、空気流または振動手段により転写表面に向けて投射する。このシステムの欠点は、容認できない粒度分析的分離を発生させる可能性があることである。更に、粒状材料は、時間と共に、吹き付け／振動ゾーンに対して、側方のアイドルゾーンに累積する傾向があるため、システムの有効性も、時間と共に弱まる傾向にある。更に、このシステムは供給ホッパーから材料を分散するときに、非平衡状態で機能する。実際、吹き付け／振動手段と、ホッパーの散布出口との間の相対位置と、吹き付け／振動手段の強度に依存して、そして転写表面から減じられる粒状材料の量に無関係に、粒状材料は、定常的に流出する傾向にあり、それにより容器をあふれさせるか、または逆に、まったく流出しないかのどちらかの傾向にある。その結果として、空気流による細かい粉末のドラッギング（引きずり）効果は、環境汚染を引き起こす可能性がある。
【００２７】
ＷＯ２００５／０２５８２８においては、粒状材料を、上方を向いていいる転写表面上に落下させ、付着しなかった余剰分を、昇降手段を有する搬送ベルトにより、基盤位置から収集して、それを再循環させている。
【００２８】
このシステムは、システムが複数の可動機械部を必要とするという事実により、非常に複雑という結果になる。更に、粒状材料は、過剰な移動に晒されるので、粒体の分離および粒状分析的分離が起こり得る。更に、粒状材料は、転写表面上を摺動することを強いられるので、パターンにおける分解、微小滴により捕獲される粒状材料の量における変化、または湿った粒体を有する過剰な粒状材料の汚染が起こり得る。
【００２９】
ＥＰ０９２７６８７では、粉末状装飾材料を、透過可能ゾーンを有する回転マトリックスを通して作用する真空効果により選択的に上昇し、装飾材料を、真空を遮断することにより装飾対象表面上に落下させる。
【００３０】
装飾材料は、この表面を、供給ホッパーから流出する粒状材料と直接接触して、下方を向いている上昇部分において摺動させることにより転写表面上に塗布する。ＥＰ０９２７６８７の欠点は、転写表面が粒状材料上を擦ることにより、塗布された粉末の配置およびその厚さを変更し、更に、摩擦と摩耗を引き起こす可能性があるということであり、これは粒状材料が、その重量と粒体間の摩擦の結果として、最小レベルではあるが、ある程度の強固さおよび強度を有しているためである。ＥＰ０９２７６８７に開示されたこの供給システムは、下方を向いている上昇部分にのみ適用できるので、摺動ベルトを有する転写表面が使用される場合は、真空チャンバは、ほぼ全経路に沿って延伸していなければならず、それにより、ベルトの進行対して相当な抵抗、摩擦、および摩耗の原因となる。転写表面を清掃するための有効な清掃手段（この清掃手段は、供給ホッパーの上流に配置しなければならない）を設置することは、極端に小さな空間しか利用できないため、そして主に円柱形転写表面が使用される場合は難しい。
【００３１】
セラミック産業においては、プレス技術が最近になって導入され、幅が、プレス機で処理できる最大幅に一致する幅を有するプレス対象の材料の形成層を、プレス機の上流に準備するようになった。一般的に、この形成層は、連続的に、または割り出し（間歇移動設定）された方法で準備ベルト上に直接プレスされ、または、種々の方法で鋳型に搬送される。従って、装飾をこの形成層上に配置する必要があり、そのため形成層はかなりの幅になる。
【００３２】
既知のタイプの装飾機械を使用することを所望するのであれば、幅の全体を覆うために、並べて配置された複数のこれらの機械を設置するか、または、単一機械の場合は、相当な幅の機械を設置する必要がある。言い換えると、機械は、幅が層の幅と等しい転写表面と一連のインクジェットヘッドを有する必要がある。
【００３３】
両者の場合、経済的な状況および機能的な難しさによる相当な困難を伴う。更に、この大きな形成層の進行速度は、一般的には比較的遅いので、このように、これらの装飾機械は、その最大の機能において使用されることはない。
【００３４】
別の制限は、装飾材料の種々の層を塗布しなければならず、塗布される色のすべてに対応する数の装飾機械を設置しなければならないので、装飾機械は連続するステーションに配置される。これは、購入する機械に対する相当な投資と、それほど頻繁には使用されない大きな空間と、保守および監視コストを意味する。
【００３５】
セラミック、セメント、または類似のものから製造される建築タイルの産業においては、貫通する装飾を有する表面を製造する必要があり、それにより、製品は摩耗または、表面を滑らかにする美的／機能的処理、または、そうでなければ得ることができない美的効果を得るため、または製造サイクルを簡素化するための処理により変更されない。一般的には、これらのタイルは、粒状混合物（微細化された混合物）を適切な鋳型にプレスすることにより製造される。装飾は、色付された粉末をプレスする層の表面に散布することにより得られ、その層は、種々の方法でプレスの鋳型に搬送でき、または、準備ベルト上で、連続的に、または割り出し（間歇移動設定）された方法で直接プレスできる。装飾はまた、自然の石を模倣するために、幾分濃淡のある縞模様の形状で、または、良好に画定されたエッジを有する幾何学的図形の形状で、タイルの全体の厚さに及ぶこともできる。
【００３６】
表面層上に形成される装飾においては、前記装飾粉末を、所望の輪郭で含むことができるようにするのは難しく、その難しさの程度は、塗布したいと所望する厚さに比例する。
【００３７】
これは、粉末が流動可能であり、重力の作用により、そして、主にプレス表面の推力により自然に拡張する傾向にあるという事実のためである。従って、輪郭は鋭くなく、良好に画定されているが、多少濃淡のある不規則な外観を有する。このあまり鮮明でない外観は、これらの装飾粉末が、ある距離から落下することにより、必然的に受け入れ表面上に塗布されるという事実により更に強調される。
【００３８】
この問題を解くいくつかの解決法は、ＥＰ０４７９５１２、ＥＰ０５１５０９８、およびＵＳ５７３６０８４に開示されており、表面全体に規則正しく分布されたセル内に粉末を一時的に含むことが提案されている。これらのセルは相当大きなサイズを有する必要があり、明らかに絶縁壁により区切られなければならないので、得られるパターンの輪郭は、それにより厳格に条件付けられる。
【００３９】
他の場合は、例えば、イタリア特許出願ＭＯ９８Ａ００００５５に開示されているように、これらの粉末を含むセルは、区切られるパターンに対応する周囲のサイズに合わせられる。この場合、輪郭はより良好に画定されるが、結果としてのパターンは、非常に基本的なものに過ぎず、粗く、更に装置全体は、パターンを変更するためには変更しなければならない。
【００４０】
ＩＴ０１２５１５３７においては、タイルの表面に直接、種々の色のための分割ダイアフラムを得ることを開示している。この目的のため、鋳型を介して予備的に圧縮して、鋳型によりいくらか隆起した、種々の色の間の区切りに対応する縞模様を形成する。この解決法もまた非常に制限があり、高価で、実際には二重のプレス操作を必要とする。
【００４１】
ＥＰ０６５９５２６においては、粉末を吸引チューブで除去することにより基底層にキャビティを得ることが開示されている。キャビティは、所望のパターンに合わせられており、その後、装飾材料により満たされる。
【００４２】
この解決法もまた、結果として複雑で制限のあるものとなる。
【００４３】
支持体において貫通する装飾を得る技術が知られており、この技術は、このパターンを、不規則な角ガラスの形状に押し固めて押し潰した装飾材料により形成する。この場合、色は明確に区切られるが、得られるパターンは、モザイクまたは「グリット（石質）形状構造」のようなものに過ぎない。更に、装飾材料が既に押し固められているので、異なる焼成収縮により、非互換性が発生する可能性がある。
【００４４】
表面を貫通する装飾を形成する別の方法は、色材料を液体溶液で使用し、その溶液をプレスされた製品に、従来の装飾システムで塗布する必要がある。この技術の制限は、低い色彩力と、高温焼成温度におけるこれらの製品の不安定性により、得られる色彩範囲は極めて限られていて、強度が弱いということである。更に、可溶性の塩は、毛細管吸収により、装飾表面上で深さ方向と横方向に広がり、結果としての輪郭は、あまり明確ではなく、かなり濃淡がある。この欠点は、装飾ゾーンが少量、例えば、数ミリの大きさの狭い縞模様または細い線の場合のようなときに、非常にはっきり現れる。
【００４５】
タイルの厚さを突き抜ける縞模様または形成層を形成するために、タイルを形成する粉末が直方体形状の、垂直に配置されたより大きな壁を有するチャンバ内に準備され、チャンバ内に色の種々の層が連続して落下するシステムが採用された。この目的のために適切な装置は、例えば、イタリア特許出願ＲＥ９７Ａ００００４４に開示されている。このシステムは、機能的に相当に複雑になることが要求されると共に、実際に正確なパターンを得ることはできず、得られるのは、種々の形状の縞模様またはスポットに過ぎない。
【００４６】
いわゆる二重プレス技術が知られており、最終プレス段階の前に、装飾操作を実行できるようにするために主に使用される。この技術においては、最大の鮮明度を得るために、シルクスクリーン印刷装置またはインタリオ（凹版）印刷装置もまた一般的に使用され、それらの装置は接触マトリックスと共に、液状懸濁液中の装飾材料を使用して機能する。そのような技術は、２台のプレス機を使用するために、非常に複雑で高価である。更に、これらの湿性装飾装置は、一般的には装飾材料の実際的な貢献を可能にすることはなく、接触により壊れやすい半完成品を破壊し、他の欠点を生み出すある応力を及ぼす。この理由のため、一般的には、非常に注意深く行動することが求められ、その結果、製造サイクルにおける遅延となる。移動におけるそのような注意は、滑らかな表面上に塗布される装飾は、非常に注意深く位置決めされるため、接触のない「乾燥」装飾システムの場合もまた必要である。更に、この技術においては、乾燥装飾は、依然としてより厳格に、確定された輪郭を超える「拡張」の欠点に晒され易い。これは、基底層が既に個体であるので、最終プレスの間、装飾は、層内に貫通される前に、更に拡張する傾向があることによる。更に、最初のプレスによる半完成品は、必然的に完全なプレスの鋳型キャビティよりもわずかに小さな寸法を有しなければならないため、更なる欠点がエッジ部分に現れ、その部分は良好でなく不規則なプレスのため、場合によっては、完成したタイルのエッジを除去し研磨する必要がある。
【００４７】
ＷＯ０１７２４８９においては、粉末状の装飾材料を回転転写表面上に配置する。その後、装飾材料はプレス段階の間、プレス表面と同じ転写表面を使用して、粒状材料の層の表面上で吸収される。
【００４８】
これは、従来の鋳型を使用することを更に可能にしないプレス段階の問題を意味しており、鋳型は、マトリックスに入り込むパンチを有している。
【００４９】
更に、極端に応力がかかることになる転写表面は、相当な寸法を有する必要があり、プレス機全体を取り囲む必要がある。
【００５０】
更に再び、重ねて複数の装飾材料を塗布することを所望する場合は、プレス操作は固有なため、種々の装飾材料は、転写表面上に前もって重ねなければならない。これは、デジタル画像制御システムの採用を可能にしない障害である。
【００５１】
ＷＯ９８２３４２４においては、粒状装飾材料を、ベルトまたはローラーの上部の滑らかな表面上に、または同じ表面のキャビティ内に配置し、そして続く段階において、この装飾材料を、粒状材料の層上に転写する。下方に回転するときは、粒状材料は、摺動スクリーンまたはローリングベルトから構成される収容手段により、または粒状材料の下方への経路に追従する粒状材料の同じ層により落下が防止される。
【００５２】
そのようなシステムは、まず第一に、非常に複雑な結果となる。
【００５３】
このシステムは、装飾粉末が、上方を向いている滑らかな転写表面上にあるときは、輪郭に含まれることを可能にしない。
【００５４】
更に、滑らかな転写表面を有するバージョンは、更なる装飾手段を使用して、これらの装飾粉末を転写表面上に堆積する必要がある。
【００５５】
本発明の目的は、既知の技術の上記の状態を改善することである。
【００５６】
本発明の第１形態においては、粒状材料のパターンを受け入れ表面上に塗布する方法が提供され、順に、
前記粒状材料を、凝集液相と共に、および前記パターンの原型に従って転写表面に関連させる（即ち、結合する）ことと、
前記粒状材料および前記液相を搬送する前記転写表面を、転写ゾーンにおいて前記受け入れ表面に向かせることと、を具備し、
前記方法は、前記粒状材料を前記転写表面から分離し、前記粒状材料を前記受け入れ表面上に塗布するために、前記転写ゾーンにおいて、前記液相の少なくとも１部分を加熱することを更にに具備することを特徴とする。
【００５７】
前記加熱は急激で、転写表面に向いている液相を優先的に加熱し、その液相は急速に蒸発し、そのようにして分離された後、粒状材料は、前記粒状材料を受け入れ表面に接着させるのに適した凝集液相の相当な量を保持すると有利である。
【００５８】
本発明の第２形態においては、粒状材料のパターンを、受け入れ表面上に塗布する装置が提供され、
転写表面であって、前記受け入れ表面に面している部分において画定される前記転写ゾーンを有するループ経路に沿って可動である転写表面と、
前記転写ゾーンの上流に配置される塗布手段であって、前記粒状材料を、凝集液相と共に、前記パターンの原型に従って、前記転写表面に塗布するのに適した塗布手段と、を具備し、
前記装置は、前記凝集液相の少なくとも１つの部分を、前記転写ゾーンで急激に蒸発し、それにより、前記粒状材料を前記転写表面から分離させ、前記受け入れ表面上に塗布を行わせるのに適している加熱手段を更に具備することを特徴とする。
【００５９】
本発明の第３形態においては、粒状材料を転写し塗布する要素が提供され、前記要素は、内部は誘電体材料により構成され、外部は電気伝導性層から構成される本体を具備することを特徴とする。
【００６０】
本発明の第４形態においては、粒状材料を転写し塗布する要素が提供され、前記要素は、熱放射に対して透過性の材料から構成される管状体を具備することを特徴とする。
【００６１】
この第４形態の有利な実施の形態においては、前記管状体の外部表面は、前記熱放射に関して高い吸収性を有している。
【００６２】
本発明のこれら４つの形態は、転写表面から装飾対象表面への粒状材料の転写において、下記の利点の１つまたは２つ以上を可能にする。
速い操作速度においても、より良好なパターンの鮮明化、
装飾対象表面上への、装飾粒状材料のより良好な固着、
前記表面と相互作用する機械手段を伴うことのない、粒状材料の転写表面からの安全な分離、
装置をより簡単かつ信頼できるものにすること、
従来の装飾材料を使用するときの、障害および／または摩耗の問題の削減。
【００６３】
本発明の第５形態においては、粒状材料のパターンを、受け入れ表面上に塗布する方法が提供され、順に、
前記粒状材料を転写表面上に配置することと、
前記転写表面を前記受け入れ表面に向かせ、粒状材料の前記パターンを、前記受け入れ表面上に塗布することと、を具備し、
前記配置することは、回転手段から前記粒状材料を前記転写表面に向けて投射し、前記転写表面により保持されなかった前記粒状材料の余剰分を、前記回転手段により収集することを具備することを特徴とする。
【００６４】
有利な実施の形態においては、前記配置することは、前記余剰分を、前記粒状材料を供給するための供給容器の下部の出口に向けて移動し、前記出口から出る前記粒状材料の流れと相互作用させることを更に具備する。
【００６５】
更なる実施の形態においては、前記移動することは、前記余剰分を、前記回転手段の下にある経路に沿って、前記回転手段の表面凹部内に移動することを具備する。
【００６６】
更なる有利な実施の形態においては、前記配置することは、前記投射することの前に、前記パターンの原型に従って、前記転写表面上に液体を散布することを更に具備する。
【００６７】
更なる有利な実施の形態においては、前記散布することは、前記液体を、コンピュータ制御インクジェット装置により噴出することを具備する。
【００６８】
本発明の第６形態においては、粒状材料のパターンを、受け入れ表面上に塗布する装置が提供され、
可動転写表面と、
前記粒状材料を前記転写表面に塗布するのに適している散布手段とを具備し、
前記散布手段は、前記転写表面の近くに配置された回転手段を具備し、前記回転手段は、前記粒状材料を前記転写表面に向けて投射できるようにすることに適しており、前記転写表面により保持されなかった前記粒状材料の余剰分を収集するのに適していることを特徴とする。
【００６９】
１つの有利な実施の形態においては、前記回転手段は、前記転写表面と前記回転手段の間にある第１壁と、前記回転手段の反対側にある第２壁を具備する容器内の少なくとも下部部分に配置される。
【００７０】
更なる有利な実施の形態においては、前記散布手段は、下部出口が前記回転手段と前記第２壁の間に配置されている供給容器を具備する。
【００７１】
更なる有利な実施の形態においては、前記回転手段の表面には、凹部および／または突起部が設けられる。
【００７２】
有利な実施の形態においては、液体を散布する散布手段は、前記散布手段の上流に存在する。
【００７３】
更なる有利な実施の形態においては、液体を散布する前記散布手段は、コンピュータ制御インクジェット噴出装置を具備する。
【００７４】
本発明のこれら第５および第６形態は、転写表面により、粒状材料を受け入れ表面に塗布するときにおいて、下記の利点の１つまたは２つ以上を可能にする。
機能の改善と簡素化、
得られるパターンの鮮明度と正確性を改善すること、
摩擦と摩耗を削減すること、
塗布される材料の量の制御を改善すること、
再循環粒状材料の量を削減すること、
粒状分析的分離と、粒状材料上の応力を削減すること、
特別な輸送手段を使用することなく、粒状材料を簡単な方法で再循環すること、
粒状材料を、簡単かつ信頼できる方法で自動供給すること。
【００７５】
本発明の第７形態においては、粒状材料のパターンを受け入れ表面上に塗布する方法が提供され、順に、
インクジェット装置により、凝集液を、前記パターンの原型に従って、少なくとも１つの軸の周りを回転する転写表面上に塗布することと、
前記粒状材料を、散布手段を介して前記転写表面上の前記液体に凝集することと、
前記粒状材料と前記液相を搬送する前記転写表面を、転写ゾーン内の前記受け入れ表面に向けることと、
前記粒状材料を、前記受け入れ表面に向けて移動することと、を具備し、
前記方法は、１つの方向において前記軸を往復運動的に移動することを更に具備し、前記方向は、前記受け入れ表面の進行方向に対して横方向であることを特徴とする。
【００７６】
本発明の第８形態においては、受け入れ表面上に材料のパターンを塗布する装置が提供され、前記表面は進行方向において可動であり、前記装置は、
転写表面であって、少なくとも１つの回転軸の周りのループ経路に沿って移動する転写表面と、
前記材料を、前記転写表面に結合するのに適している散布手段と、
前記材料を、前記受け入れ表面に向けて移動するのに適している移動手段と、を具備し、
前記軸は、平面において往復運動的に平行移動が可能で、前記平面は、前記受け入れ表面に平行であることを特徴とする。
【００７７】
本発明のこれら第７および第８形態は、粒状または粉末状材料を広い表面上に配置するときに、下記の利点の１つまたは２つ以上を可能にする。
コンピュータ手段によりリアルタイムで、良好に画定かつ制御されるパターンを達成すること、
美的効果を、障害および摩耗の問題なしで、更に装飾対象表面との接触なしで改善すること、
簡単かつ低価な機能的機械の使用と、
異なる所望の装飾材料の重ね合わせの可能性と、随意的に、装飾材料を柔軟体に深く貫通させる可能性。
【００７８】
本発明の第９形態においては、粒状材料のパターンを、整合性のない受け入れ表面上に塗布する方法が提供され、順に、下記の段階（ステップ）、
前記パターンに従って配置されている前記粒状材料の層を、前記受け入れ表面上に塗布する段階と、
前記層を、前記受け入れ表面に対して水平化する段階と、を具備する。
【００７９】
この第９形態の有利な実施の形態においては、前記段階を１回または２回以上繰り返すことが更に提供される。
【００８０】
本発明の第１０形態においては、粒状材料のパターンを柔軟な受け入れ表面上に塗布する装置が提供され、前記受け入れ表面は、進行方向に可動であり、前記装置は、
前記粒状材料の層を塗布するのに適している回転塗布手段と、
前記層を、前記受け入れ表面に対して水平化するのに適している水平化手段と、を具備する。
【００８１】
この第１０形態の有利な実施の形態においては、装置は、前記回転塗布手段と協働する、往復運動的に平行移動する手段を更に具備する。
【００８２】
本発明の第１１形態においては、粒状材料のパターンを、整合性のない材料の層上に塗布する方法が提供され、方法は、
前記パターンの原型を示す配置に従って、転写表面上に液体を塗布することと、
前記粒状材料を前記転写表面に接着させるために、前記粒状材料を前記液体に結合することと、
前記粒状材料を前記受け入れ表面と接触させ、前記粒状材料を、前記転写表面から前記受け入れ表面に、前記層を実質的に整合性のないように維持することにより転写することと、を順に具備する。
【００８３】
本発明の第１２形態においては、粒状材料のパターンを、整合性のない材料層の受け入れ表面に塗布するのに適している装置が提供され、装置は、
回転転写表面と、
前記パターンの原型に従って、液体を前記転写表面上に配置するのに適している塗布手段と、
前記粒状材料を前記液体に結合するのに適している散布装置と、を具備し、
前記回転転写表面は、前記受け入れ表面と干渉するように配置され、前記干渉は、前記整合性のない層内に任意の実質的整合性を生成しないことを特徴とする。
【００８４】
本発明のこれら第９、第１０、第１１、および第１２形態は、良好に画定され且つ安定したパターンに従って、装飾物質を、粒状材料の柔軟な表面上に配置することを可能にし、有利な実施の形態においては、貫通の特定の深度と、リアルタイムのパターンのデジタル制御を伴う。
【００８５】
少なくとも、上記に定義した本発明の異なる形態は、独立請求項および従属請求項の対象を構成できる。
【００８６】
本発明は、本発明の例としての、そして制限的でないバージョンを表現する添付図面により、更に良好に理解されるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００８７】
図１、２、および３を参照すると、装置１は、円柱管の形状の閉じたリングであり、外部表面は転写表面３を構成する薄い金属シート２を備える。薄いシート２の内部表面４は、電気的且つ熱的に絶縁性であり、少なくとも２５０℃、好ましくは、少なくとも３５０℃の温度に対する耐性を有する材料から構成される管状体５により支持される。
【００８８】
管状体５は、薄いシート２と共に、その軸７の周りを、図示しない電動化手段により矢印６の方向に回転できる。
【００８９】
転写表面３の外部で、高所ゾーンにおいて、コンピュータ手段Ｃにより作動されるインクジェット装置８がある。より下流で、下方に向けられている、表面３の下降部分において、粒状材料１２を表面３に対して投射するのに適している散布装置１１が配置されている。
【００９０】
転写ゾーン１５は、タイル１４の上部表面１３に面している転写表面３の下方部分において構成されている。
【００９１】
この転写ゾーン１５において、管状体５の内部で、その内部壁の近くの部分に、適切な周波数および強度の電流が供給されるソレノイドインダクタ１６があり、ソレノイドインダクタ１６は、シート２内に誘導電流を生成でき、ジュール効果によりシート２を急激に加熱する。
【００９２】
装置１の操作は下記に開示される。
【００９３】
転写表面３が均一速度で回転する間、タイル１４は、転写表面３と同期して方向１７に進行する。インクジェット装置は、パターンの原型１０に従って配置された一連の水の微小滴９を表面３上に噴出する。散布手段１１における後続の転写において、これらの微小滴は粒状材料１２を捕捉し、粒状材料１２を表面３に接着させる。水９がないゾーンにおいて表面３に当たる粒体１２は、はねつけられて容器１９内に落下する。
【００９４】
従って、表面３のゾーン１８に、水により凝集され、プログラムされたパターンの原型に従って配置された粒状材料１２の層がある。
【００９５】
転写ゾーン１５の近くの経路を辿り、シート２は、水の沸点の温度よりも非常に高い、例えば、２４０℃またはそれ３５０℃以上の温度に加熱されており、粒状体１２と表面３の間に介在された水の薄い層２０に熱を素早く伝達し、水層２０を蒸気Ｗに変換する。このようにして、爆発のようなものが起こり、それにより粒状体１２を積極的に分離し、プログラムされたパターン１０の配置に従って、受け入れ表面１３に向けて粒状体１２を投射する。
【００９６】
この加熱速度が可能な限り速いと、例えば、８０℃から１５０℃の推移が３０ミリ秒、好ましくは５ミリ秒よりも短い範囲の大きさであると有利である。これを達成するために、加熱のためにエネルギー的に影響を受けるゾーンを、表面３の進行方向において限られた空間に集中させることにより可能な限り小さくすると更に好都合である。従って、インダクタソレノイド１６は、磁束２６を集中させる適切な集中手段と協働する。粒状体１２は非常に短い時間の間に分離され、粒状体１２が分離される瞬間と同時に、粒状体１２は伝導による加熱にこれ以上晒されないので、粒状体１２は、粒状体１２が表面１３に衝突するまで、もともとの水９のかなりの部分を保持する。これは、図２において強調されているように、粒状体２２のグループは移行中でさえも相互に整合性を有し続けることができ、受け入れ表面１３に衝突するとき、粒状体は表面１３上で瞬間的に阻止された状態で留まるので、元々の配置を維持し、より良好な鮮明度を促進する。最良の鮮明度を促進する本発明の別の重要な形態は、転写ゾーンにおいて粒状材料１２は、種々の粒状体における水平方向の速度Ｖの均一性を変更し、その分散の原因となる可能性のある干渉体（ドクターブレード、キサゲ手段、スクリーン収容手段、エアージェットなど）に晒されないということである。更に、このようにして、表面３と受け入れ表面１３の間の距離Ｄは、他の障害が起きないときは、最小化することができ、除去することさえもできる。実際、最大の鮮明度を達成するために、または他の機能的な理由により、粉末状材料の層のように整合性のない表面は、接触により装飾できる。本発明は、接触がない転写のみに制限されるわけではなく、本発明は上記に開示された場合も具備し、そこにおいては接触は、接着効果による転写を決定する条件ではないということを明示しておく必要がある。
【００９７】
転写ゾーンの下流において、シート２は、熱を自然の方法で発散させ、またはファン冷却手段２３またはその他を介して強制的な方法で、元々のより低い温度、例えば、４０−５０℃に戻る。このエネルギー発散を可能な限り更に制御するために、そして更に、最も急速な加熱速度を可能にするために、シート２が可能な限り薄く、好ましくは、低い比熱および高い熱伝導率を有する材料から構成されると好都合である。シート２は、管状体５の外側で、電気的伝導性層の堆積（電気分解的、真空、または類似の堆積）による製造方法を採用することにより、例えば、５μｍまたは好ましくは、１μｍよりも更に薄い厚さを有することができる。熱膨張による欠点を防止するために、シート２は、低い熱膨張係数を有する材料、例えば、ＩＮＶＡＲ（アンバー）合金により製造でき、および／または、シート２は、近接する複数の部分に分割でき、または、シート２は、例えば、レーザービームにより切削することにより得られる、その厚さを通過する薄い「ラビリンス（迷路模様）」ノッチを有することができる。
【００９８】
この装置により塗布するのに非常に適している粒状材料は、非多孔質粒状体を有するタイプの粒状材料であり、例えば、３０μｍから８００μｍの粒状分析的種々の範囲、有利には５０μｍから１５０μｍの範囲の粒状分析的区間の、ガラス質材料、または焼結混合物、砂などの石質である。
【００９９】
実際、これらの条件下では、水分９は、粒状体１２の周りの薄層に配置されたまま残留し、粒状体１２と表面３の間の空間２０を充填し、本発明の機能的原理が、できるだけより良好に実践されるようにする。
【０１００】
しかし、他のタイプの材料および粒状体、例えば、微細粘土質材料を扱うこともでき、その場合は、転写表面３（金属シート２）は反接着特性を有するか、または反接着性特性を有する材料で外部を被覆すると都合がよい。場合によっては、水の代わりに他の液体を有利に使用することもできる。
【０１０１】
意図されている目的によれば、重大な摺動摩擦は装置１には存在しない。転写表面３が受けなければならない唯一の機械的な応力は、水９の微小滴の重要でない衝突と、転写表面３に対して投射された粒状材料１２の衝突だけである。しかし、後者の衝突は、既に述べたように、最小速度で行うことができ、表面３にいかなる摺動または力を発生させることはない。
【０１０２】
更に、表面３は自動洗浄式、つまり、通常の作動中は下記に説明するように、表面３はその上に残る可能性のある材料の残留物を除去するのに適した手段を必要としないということを指摘しておく。
【０１０３】
例えば、粒状材料の残留物が表面３のゾーン上に付着して残っているときは、前記残留物は、表面３の完全な回転の異なるサイクルに対してさえも付着して残ることができ、残留物が受け入れ表面１３に転写されるパターンを変えることはない。しかし、汚れたゾーンがパターンにより再度影響され、従って、水の微小滴により噴霧されると、この残留粒状材料は散布器１１により投射された材料と結合し、転写ゾーン１５において分離される。
【０１０４】
そのような動作は、この分離システムは、液相が存在しないときは有効でないという事実から推論される。
【０１０５】
この動作特性は、従来技術においては反対に、転写表面から分離しなかった材料の残留物は、常に転写ゾーン１５を介してすべての後続の転写において分離が誘導され、いわゆる「ファントム画像」を生成するので重要である。
【０１０６】
しかし、これらの残留粉末または粒状体が不安定に付着していると、散布手段１１により投射される粒状体１２の動作は、これらの残留粉末または粒状体を分離し、悪影響なしに後者を再びサイクルに戻す。いずれにせよ、必要な場合は、適切な洗浄手段を、転写ゾーンの下流に配置して設けることができる。
【０１０７】
他の重要な特徴は、高湿度の環境条件が存在するときでさえ容易に作動するということである。これは、水溶性懸濁液における上薬が、タイルの熱い表面上に塗布されるときは、セラミック装飾の分野ではよく起こる条件である。
【０１０８】
転写表面３において、液相９で凝縮した粒状材料１２の塗布は、ここまで開示した例に制限されるわけではなく、任意の他の既知の方法で行うことができ、例えば、ＷＯ２００５０２５８２８において提供される方法がある。
【０１０９】
特に、
インクジェットヘッド８の代わりに、表面３と接触するように作動する彫刻プレート（インタリオプレート）を、液相９を塗布するのに使用できる。
インクジェットヘッド８と散布器１１の代わりに、表面３と接触するように作動する彫刻プレート（インタリオプレート）を、粒状材料と凝集液相を同時に塗布するのに使用できる。
【０１１０】
誘導加熱用装置は、作動周波数とパワーにおいて調整可能であり、パラメータを粒状材料のタイプと作動速度に従って最適化することができる。過熱による損傷を防止するために、転写表面３が停止したり、または異常に減速した場合は、加熱を即座に中断するのに適している安全システムが存在する。
【０１１１】
支持体５を形成する材料は、例えば、プラスチック、ポリマー材料、エラストマ材料、セラミックまたはガラスであってよい。特に、電気および熱特性のために適切なポリマーは、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、芳香族ポリケトン（ＰＫ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリフェニルスルフォン（ＰＰＳＵ）、ポリスルフォン（ＰＳＵ）、ポリエステル（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シリコンエラストマ、フルオロエラストマであってよい。
【０１１２】
図６において、本発明の１つのバージョンが示されており、シート２の加熱は、熱放射Ｔにより達成される。支持体５は、赤外線に対して透過性の材料から構成され、一方、シート２の内部表面は、この放射に対して吸収性がある。
【０１１３】
放射要素４３は、放射を薄い帯域４５に合焦するのに適している反射および／または屈折手段４４と協働する。このバージョンにおいては、電気的伝導性は必要ではなく、シート２は非金属材料であってもよい。
【０１１４】
この目的に適した放射装置４６は、例えば、米国ミネソタ州にある会社Reserach Inc.，のLineIR（登録商標）Heaterがある。
【０１１５】
支持体５は、赤外線に対して高い透過性を有する、既に一覧を示した材料から選択される材料から構成してもよい。特に、適切なポリマーは、ポリエーテルイミド（ＲＥＩ）およびポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）である。
【０１１６】
図７の第２バージョンにおいてはシート２は存在せず、従って、透過性支持体５を通過する放射Ｔは、水の薄層２０の上、そして可能性として、粒状体１２の内部表面上で直接作用する。
【０１１７】
この場合、放射Ｔの波長が、約１０14Ｈｚの周波数に対応する、水の吸収スペクトルが最大値のピークを示す３μｍの値の近くに集中していると都合がよい（この周波数では、放射の約６３％が、わずか１μｍの水を貫通した後に吸収される）。
【０１１８】
この３μｍの帯域に集中する最大のエネルギーを有する放射は、本発明においては容易に使用できる７００℃付近において、放射要素４３により放射される放射である。
【０１１９】
図７において、複数の放射装置が、単一の薄い帯域４５に収束して示されている。この装置は、放射要素４３の温度を変えることなく（または、容認できる限度内でのみ温度を変えることにより）、加熱パワーを種々の作動速度に調整するのに有効である。実際、この温度の変化により、放射帯域は、水により、または支持体５によってさえもわずかしか吸収されない周波数の方へシフトできる。パワーの調整はこのように、厳密に必要な数だけの放射装置４６のみを作動状態に保つことにより得られる。この配置は、３μｍの波長における放射がここでは不要であっても、放射要素４３の温度を変えることにより、放射Ｔを、支持体５により吸収される周波数に向けてシフトする危険性が存在するので、図６のバージョンにおいても有効である。
【０１２０】
吸収性シート２を使用して、または使用しないで、透過性管状体５を内部から加熱することは、走査レーザータイプの整合性のある且つ単色放射、または使用される放射に関連する吸収性且つ透過性タイプの材料を使用することにより、マイクロウェーブによっても達成できる。レーザービームを有する装置１は、より高いコストにより不利な立場になる可能性もあるが、下記の理由により、ある場合には有利になることがある。
装置は、エネルギーの最大濃度を可能にし、それにより、分離における（時間的および空間的）精度を改善する。
装置は、伝達されたパワーを、作動速度にパワーを調整するために、容易に制御できるようにする（そして波長を変えることはない）。
装置は、支持体５のより低速な加熱を可能にする。実際、支持体５の材料の吸収スペクトルが、レーザー波長に近い吸収帯域を有していても、前記吸収帯域は、放射が単色なので完全に無関係である。
【０１２１】
図８と９に示されている第３バージョンにおいては、シート２の加熱は、直接供給によるジュール効果により達成される。シート２は、接近して配置されているが、お互いに電気的に絶縁されており、回転軸７に平行に配置されている複数の細片４７から構成されている。これらの細片４７は、コレクタ５０（または他の適切なシステム）において作動するブラシ接触子４８により、転写セクション１５において移行するときに、電流の通過に順に晒される。熱膨張による欠点を防止するために、これらの帯域４７は、図９に強調されているように、有利なように波形を有し、薄い保護層により被膜することができる。
【０１２２】
しかし、表面３の加熱は、図示しないが、他の方法で実行でき、例えば、下記の方法がある。
シート２の内部表面４の、適切な一定温度に維持されるローリング要素（ローラー）または摺動要素との接触による伝導。
熱いガスによるシート２の内部表面４における直接加熱。この場合は、前述の場合において更に、シート２に対する支持管状体５は存在できない。
管状体５の外側で、装飾対象１４から離れて配置されるインダクタコイル１６を介する。
【０１２３】
加熱手段１６、４６、４８は、表面３の進行方向６に平行な位置Ｚ（図１、８）において、有利なように手動または自動でに調整でき、それにより、作動速度に関連して、および／または他の要因に従って加熱動作を予測または遅延でき、その結果、粒状材料１２の分離が最適な場所、例えば、受け入れ表面１３から最少距離Ｄの位置において起こり得る。
【０１２４】
装飾対象表面１３の進行速度１７は、転写表面３の進行速度に対して、より速くまたは遅くてもよく、それにより特別な美的効果を達成でき、または、受け入れ表面１３上により多くのまたは少ない量の粒状材料１２を塗布できる。
【０１２５】
開示された機能的特徴による種々の実施の形態においては、シート２は支持体５の一部であってもよく、例えば、シート２を支持体５の化学的／物理的処理により「現場」で形成し、場合によっては、レーザービーム処理により絶縁ゾーン５１を得ることにより、シート２は支持体５と共に、離断なしに単一体を形成できる。
【０１２６】
図６に示されているタイプのシート２が完備された支持体５は、赤外線加熱の目的を有しているが、０.５と０.０５ｍｍ、好ましくは、０.１と０.２ｍｍの間で変化する厚さを有するポリエーテルイミドのフィルムから開始して製造できる。フィルムは適切なサイズに切断され、圧延且つ熱溶接され、連続円柱形表面を形成する。溶接シームは適切に研磨され、厚さは均一になる。このフィルムは、円柱形回転鋳型内の液状ポリマーを遠心分離機にかけることにより、溶接なしに、予め円柱形に形成されたものとして得ることもできる。フィルム５の外部表面は耐熱ペイントにより噴霧処理され、シート２を形成する。この弾性ペイント（例えば、蛍光エラストマが基剤）は、水または他の適切な希釈液において薄められるが、ブラックカーボンおよび金属粉末の含有量が高く、赤外線対して高い吸収性を有し、良好な電気および熱伝導性を有する。
【０１２７】
電気伝導率は静電現象を防止するために必要である。弾性は熱膨張と応力に容易に耐えるために必要である。ペイントは、２つまたは３つ以上の層において塗布できると有利である。第１層はロードされていないので、最大の透過性を有し、後続の層は、開示されたタイプである。これらの層が単一の処理により重合化され、層がより良好に相互に統合されると有利である。
【０１２８】
金属粉末および／またはブラックカーボンの電荷は、基質マトリックスにある量のカーボンナノチューブを導入することにより、有利に削減または削除できる。実際、これらのナノチューブは、例えば、Cheap Tubes Inc.（米国バーモント州）により市場に出荷されているものがあるが、電気および熱伝導率の例外的に優れた特性を有している。このようにして、最小量、例えば、３から１０％重量で、基質マトリックスの他の特性を維持し、または改善しながら、電気および熱伝導率の注目できる特性が達成できる。
【０１２９】
この基質マトリックスには、ブラックカーボン、グラファイト、金属、金属酸化物、セラミックス、サーメット、鉱物、カーバイド、窒化物、硼化物、カーボンナノチューブを含むグループから選択される粉末および／またはファイバーもまた分散できる。
【０１３０】
装飾の実用テストは、画質および作動速度の両者に対して、非常に満足すべき結果を達成する表面の異なるタイプに対して行われた。特に、驚くべきことに、装飾材料は、既につや出しされたセラミックタイルから構成されるガラス性支持体材料上で、更に、周辺の傾斜エッジの近くでさえも良好に堅固に固定されているということが検出された。
【０１３１】
装飾５７の厚さは、インクジェット装置８により転写表面３上に投射される液体９の量を変えることにより、または、散布手段１１により投射される粒状材料１２の量を変えることにより、または転写表面３の速度と装飾対象表面１３の速度の比を変えることにより、大幅に調整することができる。
【０１３２】
下記において、散布手段１１がより詳細に開示される。
【０１３３】
図１と３を参照すると、散布手段１１は、縦方向の「鋸歯状」の溝３１が、その周辺表面上に設けられた円柱形回転手段３０（ローター）を具備する。捕捉に適している溝３１の壁３２、つまり、半径方向により近い方向に向いて配置された壁は、回転方向３３に対して前方に向けられている。
【０１３４】
ローター３０は容器１９内に配置され、容器１９の形状は、接近した位置においてローター３０の低部輪郭に従っており、回転軸３５に対して横方向に延伸し、傾斜壁３６、３７を有している。
【０１３５】
粒状材料１２を含むホッパー３９の端部３８は、ローター３０に対して中間の高さで、ローター３０と傾斜壁３７の間の空間において、溝の壁３２が上方を向いている部分（図３において右側）につながる。反対側においてローター３０は、下方を向いている降下部分において、転写表面３から数ミリメートルに位置している。壁３６の上部エッジもまた表面３の近くの位置に配置されているが、表面３には接触していない。ローター３０には、遠心力により溝３１内で上昇された粒状材料１２が、表面３に対して方向Ｈに投射されるような回転速度が与えられる。
【０１３６】
既に上記に説明したように、水の微小滴９、１０があると、材料１２は表面３に付着し、邪魔されることなく壁３６を超えて前記表面３上を進む。水の微小滴９、１０により捕捉されなかった材料１２ははねつけられて、壁３６により収集される落下流２４を引き起こす。壁３６の上流に、安全スクリーン４０が、壁３６と転写表面３の間のスロット４１から粒子が漏洩することを防止するために存在している。容器１９の底部にそのように収集された粒状材料１２は、溝３１の中に引きずり込まれる。このようにして、粒状材料１２の再循環が開始し、回転手段３０の高所部分における材料１２は、ホッパーの出口３８から遠ざかるように移動され、一方、低所部分においては、出口３８に接近するように移動される。粒状材料の流量は、ローター３０の低所においては潜在的により高く、溝３１のキャビティをここで充填することができるので、粒状材料１２は、壁３６を超えることにより容器１９からあふれ出すことはできない。しかし、垂直線と、壁３６とローター３０内の接線の低部点を接続する直線Ｙにより形成される角度Ａが、粒状材料１２の摺動摩擦による傾斜角Ｓよりも小さいことは重要なことである。このように、粒状材料１２の移動において平衡条件が確立され、それにより、粒状材料１２は出口３８の近くで、障害効果が減少するときのみホッパー３９から流出し、転写表面３により除去された粒状材料１２の量のみが置き換えられる。
【０１３７】
図３と２４において、ローター３０は、出口３８方向に向いているその高所部分において、包み込むようにおよび近接して、しかし接触しないようにして配置されるシールド５２と協働する。このようにして、材料１２を上方に投射する効果はより効果的になるが、介在する材料１２は「流体」状態にあるので、材料１２とローター３０上に過剰な応力を及ぼすことはない。粒状材料１２の漏洩を効果的に防止するために、複数のシールド４０が垂直にカスケード状に配置され、上部エッジを表面３に可能な限り接近させる。
【０１３８】
図２３において、回転手段３０はその高所部分において、ローター３０の速度よりも速い周辺速度で反対方向に回転する円柱形ブラシ８６と接触する。この場合、回転手段３０はより緩速に回転でき、それ自体、材料を遠心効果により遠ざけて移動させることはなく、一方、粒状材料１２を投射するための推進効果がブラシ８６に与えられる。この構成は、例えば、投射速度に影響を与えることなく、回転手段３０の速度を変えることにより粒状材料１２の流量調整を変更することが所望される場合に有益である。
【０１３９】
この図は、粒状材料１２の状態を模式的に強調しており、種々の粒状体がお互いに接触している場所では、より暗い色合いで示されており、種々の粒状体が空気中に拡散して、粒状体がお互いに実質的に分離している浮遊状態にあるときは、より明るい色合いで示されている。この拡散状態は、材料が表面３上にほとんど直交する方向Ｈで投射されるという事実と相まって、表面３によりすでに捕捉された粒状体上の歪みを防止する。
【０１４０】
この散布器１１は、更なる一連の重要な利点を提供する。まず第１に、散布器１１は、再循環、ベルト、エレベータなどに対して複雑な搬送システムを必要としないので単純である。散布器１１は、お互いに摺動する機械部分を有していない。散布器１１は、ローリングの様態（ベルトおよびローラー）で係合するように意図されている部品であって、粒状材料が存在するときは、係合表面の間に粒状材料が捕捉されると、粒状材料は重大な損傷と問題を引き起こすので、管理するのに問題となる機械部品を有しない。散布器１１は、表面３の任意の速度で最適に作動する、つまり、回転手段３０の周辺速度は、表面３の周辺速度と同期することを必要としない。このため、回転手段３０の速度、または溝３１およびそのキャビティの形状さえも変えることにより、他のパラメータに作用することなく、装飾対象表面１３上に塗布される粒状材料１２の量を変更することが可能である。散布器１１は、転写表面３と接触しない。散布器１１は環境を汚染せず、吹き出し手段を有しない。散布器１１は、粒状材料１２上に歪みを生成しない。散布器１１は自己供給型で、粒状材料１２のレベルを制御する装置、または粒状材料１２を供給する装置を必要としない。
【０１４１】
回転手段３０の任意の回転においても、溝３１に含まれる粒状材料は完全にアンロードされ、その後再ロードされるので、粒状材料がアクティブゾーンに停滞して残留することが防止され、その間の均一な作業を確実にするということに留意されたい。
【０１４２】
散布器１１は再循環において、最小量の材料１２（溝内の量）を移動し、その量は短時間で新しいものにより補充されるので、粒状体にかかる長時間の応力、粒状分析的（粒の大きさによる）分離などは防止される。この特徴はまた、図４と５に示されるように、別個のダクト７５、７６により別個に供給することにより種々の粒状材料１２、１２ｂ、および１２ｃが同時に使用できるようにするため重要である。この可能性はまた、この散布器１１では、横方向においては最少の再混合しか起こらないので、種々の色１２、１２ｂ、および１２ｃは実質的に分離されたまま長時間留まることができるということによっても実現される。
【０１４３】
更に、既に述べたように、循環における粒状材料の量は最小なので、同じゾーンはまた、前記ダクト７５、７６を横方向に移動することにより、またはその流量を変えることにより、急速に連続して種々の色を供給でき、他の方法では得られない美的効果を得ることができる。
【０１４４】
種々の粒状材料１２、１２ｂ、１２ｃ、および１２ｄの横方向の再混合をより効果的に防止するために、前記ローター３０と前記転写表面３の間に、ローター３０の回転軸３５に垂直な平面に従って配置される薄い分割ダイアフラム８３を使用することができる。
【０１４５】
ローター３０の軸３５と容器１９の側壁７７の間に、摺動シーリング手段の支援なしに粒状材料１２を横方向に含むために、且つ、材料１２が、ローター３０の横にあるゾーン内に過度に累積することを防止するために、軸３５には相互に対向するスパイラル手段７８が都合よく設けられ、スパイラル手段７８は、材料１２をローター３０に搬送するのに適している。
【０１４６】
散布器１１はまた、例えば、図２１、２２および２３に示されるような、異なるタイプの装飾機械に適用することもできる。
【０１４７】
図２１と２２を参照すると、装置１は円柱体５を具備し、その外部の滑らかな表面は転写表面３を構成している。
【０１４８】
円柱５はその軸７の周りを矢印６の方向に、図示しない電動手段により回転する。
【０１４９】
転写表面３の外側で、高所ゾーンにおいて、コンピュータ手段Ｃにより制御されるインクジェット装置８があり、この装置は、プログラムされたパターン１０に従って配置された一連の水の微小滴９を表面３上に噴出できる。更に下流の、下方を向いている表面３の降下部分においては、粒状材料１２の散布装置１１が配置され、粒状材料１２は、水の微小滴９により形成されたパターン１０で表面３に接着する。水９がないゾーンにおいて表面３に当たった粒子１２ははねつけられて容器１９内に落下し、直接サイクルに戻る。
【０１５０】
このため、表面３のゾーン１８においては、水により凝集され、プログラムされたパターンに従って配置された粒状材料１２の層がある。
【０１５１】
タイル１４の上部表面１３に面している転写表面３の下部部分には、粒状材料１２を、転写表面３から受け入れ表面１３に移動させるのに適している転写手段がある。図２１においては、単に例としてであるが、この転写手段は、キサゲ（ｓｃｒａｐｉｎｇ）手段７０として示されている。
【０１５２】
図２３においては、転写表面は、柔軟性があり、リング状に閉じたダイヤフラム４２から構成され、ダイヤフラム４２には透過可能ゾーン４３と透過不可能ゾーン４４が設けられ、透過可能支持壁４５上を、駆動ローラーＲを介して摺動して可動であり、透過可能支持壁４５の背後のチャンバ４７内は、わずかな真空が維持されている。チャンバ４７は、装飾対象表面４９に面している下部部分４８まで、短い距離だけ延伸している。散布装置１１は、図２１と２２の例において既に開示された散布装置と同じように機能するので、透過可能ゾーン４３において、粒状材料はダイヤフラム４２に接着し、粒状材料は、真空が中断する結果として重力により落下する受け入れ表面４９に転写される。
【０１５３】
ダイヤフラム４２の降下部分における粒状材料１２の接触なしの塗布により、ＥＰ０９２７６８７との関連において既に強調された欠点を克服することができる。更に、洗浄手段５０をダイヤフラム４２の高所部分に容易に配置することは、ダイヤフラム４２が剛性タイプで、円柱形である場合でも可能である。更に、真空チャンバ４７を最小化することにより、必要な減圧された空気の流量が少なくなるという利点がもたらされ、従って、ダイヤフラム４２を介して吸入される細かい粒状体の分散も少なくなるという利点ももたらされる。
【０１５４】
図２５は更なるバージョンを示し、回転手段は、２つのローラー５５、８８により支持されるエンドレス搬送ベルト８７であり、２つのローラーの少なくとも１つは、図示しない手段により電動化される。ベルト８７は、転写表面３に向かうある傾斜を有して、ほぼ垂直な場所に配置されており、粒状材料１２を上昇させるのに適しているキャビティ８４を有する外部表面を有しており、その高さ方向において、転写表面３が下方に向けられている低所部分から、転写表面３が上方に向けられている高所部分に延伸している。この場合、粒状材料１２は、重力の影響による単純な落下により転写表面３上に投射される。
【０１５５】
粒状材料１２の、表面３上への接触は、ベルト８７の上部部分が、転写表面に接する垂直線８５をある高さＱだけ超えているということと、また、落下開始段階にある粒状材料１２が、キャビティ８４の傾斜表面上を摺動することにより、表面３の方向にある程度押されるということにより促進される。低所における再循環の機能は、他の例において既に開示された機能と類似している。
【０１５６】
エレベータベルト８７を有するこのバージョンにおいては、下部ローラー８８の表面とベルト８７の内部表面８９の間に粒状材料１２が捕捉されることを防止するために適切な注意が必要であり、例えば、ローラー８８を、円柱形のケージのように、周囲に散布される狭い横方向の要素から構成されるようにする。
【０１５７】
散布器１１に隣接するゾーンにおいては、転写表面３は下方に向けられている運動で常に示されているが、機械は表面３の反転運動、つまり、上方に向かう運動でも同様に機能できる。
【０１５８】
ここで装置１の異なる構成を開示する。
【０１５９】
図１０において、転写表面３はエンドレスベルト５３から構成され、ローラー５４により張力が与えられて駆動される。ベルト５３は、赤外線に対して透過性の材料で構成され、下部分岐において、既に開示されたタイプの放射装置４６と協働する。ベルト５３の上部分岐において、４つの塗布装置１ｃが連続して配置され、それぞれは、粒状材料の薄い層１２、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄに種々の色を塗布し、お互いに重ね合わされた、または接近して連続する種々の色を有するパターン５６の原型を形成する。
【０１６０】
転写ゾーン１５において、これらの層１２、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄは混合により同時に転写され、４つの異なる色の割合に従って、種々の色彩グラデーションを有する装飾層５７を形成する。
【０１６１】
装飾対象表面１３は、転写表面３の速度よりもかなり低い速度で進行できるので、装飾材料の厚い層５７を得ることができ、その色彩特性は、厚さ全体において実質的に一定である。このタイプの装飾５７は、摩耗または研磨により、美的効果または機能的特性を大きく変えることなしに、大幅な表面の除去を行うことができる。
【０１６２】
図１０の装置においてもまた、塗布装置１ｃは本発明によるタイプであるが、塗布装置１ｃは、任意の他のタイプであってもよく、コンピュータの制御なしで、任意の数であってもよい。
【０１６３】
装飾層をより良好に接着させるために、主に、装飾層がベルト５３の下部分岐において下方に露出されたときに、転写表面３を、塗布装置１ｃの上流の位置において、適切なローラー手段またはスポンジ手段５８、または接触なしでも機能する別の装置によりわずかに湿らせる。
【０１６４】
図１０の組み合わせ、つまり、分離システムの、急速加熱および、厚い形成層において再混合された異なる粒状材料の塗布による結合は特に独創的である。実際、厚い層５７が漸進的に展開する前線５９は、湿った粒状体が摺動の可能性がなく即座にお互いに固着するので、良好に画定された状態に留まる。従来技術の現在の問題はこのように解決され、例えば、ＷＯ０１７２４８９に開示されたように、粒状体が、厚い層の前線において摺動することを防止するために、厚い層が垂直進行方向に形成され、その後、水平方向に方向を変えられる。更に同じ目的のために、水平位置まで厚い層に付随する、水平方向の収容薄膜の密なアレイが使用される。これらの従来技術の解決法は複雑であり、いずれにせよ、主に収容薄膜の場合、形成された層において変化および不連続性を引き起こす。
【０１６５】
図１１から１５を参照すると、２つの散布器１１、１１ｂは、図６と７において開示されたタイプの転写表面３と結合され、２つの散布器１１、１１ｂは、回転軸７を通過する垂直面に対して鏡面対称的に配置されているので、インクジェットヘッド８は、２つの散布器１１、１１ｂから等距離で上部に配置される。装置１は、装飾対象層６１の表面１３の上方に配置され、軸７は表面１３の進行方向６２に平行である。
【０１６６】
装置１は、図示しない平行移動手段により支持され、平行移動手段は装置１を、表面１３の横方向の２つの端部位置Ｐ１、Ｐ２の間で、方向６３、６７に沿って往復運動的に平行移動するのに適している。
【０１６７】
同一な装置１ｂが装置１に結合され、平行移動方向６３に沿って装置１に先行している。
【０１６８】
このように形成された複合体Ｋは、従って、４つの散布器１１、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄを具備し、そのそれぞれは、対応する供給ホッパー３９に含まれる粒状材料を転写表面３に対して投射できるように独立して起動される。４つのホッパー３９のそれぞれは、異なる色の材料１２、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄを含む。
【０１６９】
図１１に示されている第１段階においては、表面１３は、方向６２に沿ってある量６６の進行ステップを完了したばかりなので、表面１３は静止状態にあり、前記量６６は、装置１の幅に対応し（または、パターンの連続性が必要でない場合は、更に大きい）、複合体Ｋは端部位置Ｐ１にあり、平行移動６３を開始する準備ができている。
【０１７０】
図１２に強調されているように、この平行移動段階６３の間、２つのインクジェットヘッド８、８ｂのそれぞれは、対応する表面３上にパターン１０、１０ｂを投射し、両者の転写表面３は反時計方向６４に回転し、対応する材料１２、１２ｄを投射する２つの散布器１１、１１ｄはアクティブ状態である。表面１３の細片６５上において、まず材料１２ｄが、そして短い距離おいて材料１２がこの順番で堆積される。
【０１７１】
端部停止点Ｐ２（図１３）の位置にいったん到達すると、サイクルは反転され、複合体Ｋは方向６７に平行移動を開始し、転写表面３は時計回り方向６８に回転し、散布器１１、１１ｄは停止され、散布器１１ｂと１１ｃが起動される。
【０１７２】
この段階において、同じ細片６５上に、まず材料１２ｂが、そして短い時間後に、材料１２ｃがこの順に堆積され、位置Ｐ１に到達すると、サイクルは繰り返される。
【０１７３】
このようにして、単一装飾ステーションＤにおいて、４色１２ｄ、１２、１２ｂ、１２ｃがこの順に塗布され、お互いに重ね合わされ、または、模式図において星印により示されるように同一面に並べて置かれて４色印刷におけるパターンが完成する。
【０１７４】
装置のこの構成は、装飾対象表面が非常に幅が広く、装飾対象の表面１３の進行速度６２が比較的遅いときに特に適している。このため、広い表面を、縮小したサイズ（主に、インクジェットヘッド８に関して）の機械より装飾でき、そしてその機械は非常に簡単で経済的である。この状況は、一般的には、プレス機の上流に配置された装飾ラインにおいて起こり、プレス加工のために準備された層は、プレス機を介して転写されるのに適している最大幅と、比較的遅く、割り出し（間歇移動設定）タイプの進行速度を有している。
【０１７５】
機械は効率を落とすことなく、平行移動ストロークを単に変えることによりこれらの層の異なる幅に適合させることができる。
【０１７６】
本発明による装置１、１ｂは非常に融通性があり、下記に説明するように、多数の異なる方法においても、また非常に異なる準備に従っても、相当な利点を伴って使用できる。
【０１７７】
まず、方向６２における受け入れ表面１３の進行ステップ６６は、すべての前進平行移動６３およびすべての後退平行移動６７において実行でき、または、複数の平行移動６３、６７の後でのみ実行できる。
【０１７８】
第１の場合は生産速度の量的側面が優先され、第２の場合は質的側面が優先され、今までは考えられなかった美的効果を、更に空間を占める必要なく、または新しくプラントを設置する必要なく、更に、自動的に、ある状態から他の状態に変更なしに自動的に移行する可能性を有して得ることができる。
【０１７９】
いくつかの例によりこれらの利点をより明確にでき、機械は開示されたタイプの配置を有し、４つの散布器１１を有すると仮定する。
【０１８０】
第１の場合、４つすべての散布器１１は同一の材料で充填され、ステップ６６がすべての前進平行移動６３および後退平行移動６７において行われる。機械はこのようにして最大速度を呈示し、層が独立して制御される２つの層から構成されるので、層の厚さを良好に制御できる可能性を維持する。
【０１８１】
第２の場合、４つの散布器を同一の材料で常に維持しながら、ステップ６６が２回の完全な前進６３および後退６７平行移動の後に行われる。堆積された材料の層はこのため同じ色の８層から構成され、使用される材料によっては、数ミリの厚さになることもあり、この厚さの極端に制御されたモジュール性を有することができる。
【０１８２】
第３の場合、４つの散布器は４種類の異なる材料が供給され、ステップ６６はすべての単一前進平行移動６３および後退平行移動６７において行われる。機械は最大速度を呈示し、装飾表面３は２色の組み合わせで画定されたパターンの細片６５と、他の２色の組み合わせで画定されたパターンの細片６５により形成される。プレス加工されるタイルのサイズに対応する細片６５の寸法６６を有しているので、タイルは、同様に色において多彩な結果となる。
【０１８３】
第４の場合、４つの散布器は４種類の異なる材料が供給され、ステップ６６は完全な前進６３および後退６７平行移動の後に行われる。結果としてのパターンは、４色の無制限の組み合わせにより形成される。
【０１８４】
第５の場合、機械は前述の場合と同様に配置されるが、ステップ６６は、３回の完全な前進６３および後退６７平行移動の後に行われる。導出される装飾層は、ＡＢＣＤ−ＡＢＣＤ−ＡＢＣＤの順に従う重ね合わせ方式により散布された異なる４色を有する１２の層から構成され、従って装飾層は非常に厚くなり、無制限に多彩になり、概してこの多彩な特徴は厚さ全体において実質的に一定となる。同様な結果を現在の最先端技術で得るためには、１２台の別個の機械を連続して設置し、更にデジタル制御が必要である。
【０１８５】
層が重ね合わせ方式で配置されても、上部層の粒状体は下部層の空の空間を満たすので、塗布の間ある再混合が起こるということを指摘すべきであろう。更に、焼成の間この統合は、溶融および焼結の現象により更に強化される。
【０１８６】
複合体Ｋにおいて、平行移動ライン６３、６７に沿う装置１の数を変えることにより、使用される色の数を変えることにより、そして、１つのステップと他のステップの間で平行移動６３、６７の数を変えることにより、可能な組み合わせは無数になる。更に、画像デジタル制御および下記に開示される他の手段により、これらの可能性は更に増大される。
【０１８７】
例えば、下記のように、種々の実行および作動バージョンを採用することができる。
【０１８８】
表面１３は、連続運動６２で前進し、装置１（または複合体Ｋ）は平行移動６３（６７）のアクティブ段階の間その前進に追従し、いったん端部停止位置Ｐ２（Ｐ２）の場所に到達すると、装置１は素早く、平行移動６３（６７）の他のアクティブ段階を開始する元の位置に戻る。
【０１８９】
それぞれの側における２つまたは３つ以上の散布器１１、１１ｂは、異なる４色（またはそれ以上）が供給されるが、単一の転写表面３に結合できる。このようにして、各散布器１１、１１ｂは細片６５上に、複数の接近して混合された層において重ね合わせられた４色の画像（または多色画）を散布する各ストローク６３、６７において順に起動される。
【０１９０】
この後者のバージョンを参照すると、散布器１１、１１ｂは、固定して設置することができ、転写表面３の後続のゾーン上に設置でき、または散布器１１、１１ｂは、平行移動６３、６７のすべての停止端において、表面３の同じゾーン上に自動的に位置するように可動にすることもできる。
【０１９１】
このバージョンの利点は、動作速度は遅くなるが、４色以上を単一インクジェット装置８により制御できるということである。
【０１９２】
２台の異なるインクジェット装置を各転写表面３に結合することができ、各インクジェット装置は回転方向６４、６８の１つにおいて起動され、それにより、前記インクジェット装置は、対応する散布器１１、１１ｂに対してより接近した位置において作動できる。
【０１９３】
同様な理由により、単一インクジェット装置８は、回転方向６４、６８に依存して、２つの異なるステーションにおいて交互に位置することができる。
【０１９４】
転写表面３の回転速度６４、６８もまた平行移動速度６３、６７よりも速く、または遅く維持することができ、特に、厚い装飾層６５を、より速い回転速度で得ることができる。
【０１９５】
受け入れ表面１３は、横方向に不連続であってもよく、つまり、更に多くの平行表面１３から、または、例えば、平行前進するタイルまたは鋳型のキャビティような、周辺が区切られている更に多くの要素から構成することができる。
【０１９６】
図示しないバージョンにおいては、装置１は、表面１３の進行方向６２に直交する軸７が配置され、この軸は前記進行方向６２に対して平行に、往復運動的平行移動ができる。この場合、表面１３が１ステップ前進する間装置１は静止しており、既知の方法で、上流を向いている散布器１１の装飾材料を表面１３上に散布できる。表面１３がいったん停止すると、装置１は、ステップに等価な量だけ方向６２に沿って平行移動することにより前進し、装飾されたばかりの表面１３に、下流を向いている散布器１１の装飾材料を重ね合わせる。
【０１９７】
そして、後退して、装置１は上流を向いている散布器１１の装飾材料を再び塗布する。
【０１９８】
表面１３が停止している間、塗布しようとしている色のタイプに従って、２つの段階の両者を繰り返すことができ、または前進段階のみ、または後退段階のみを更に多くの回数繰り返すことができる。このバージョンにおいては、装置１の軸方向の幅は、表面１３の幅に一致するということは明白である。
【０１９９】
この開示された例において、平行移動における装飾の２つの段階は、まず前進において行われ、そして後退において行われるが、２つの段階は逆の順でも行うことができる。
【０２００】
下記に整合性のない基板に浸透する装飾層を塗布する方法を開示する。
【０２０１】
図２７を参照すると、図示しない搬送手段（例えば、搬送ベルト）上に配置された整合性のない粒状材料の層６１の表面１３上に、１つ以上の装飾材料１２、１２ｂが既知の技術により塗布され、装飾材料１２、１２ｂは、色の付いた粒状材料から構成されている。従って、これらの装飾材料１２、１２ｂの上部表面８０は、塗布された装飾材料の量に依存する量だけ表面１３に対して現れてくる。
【０２０２】
後続の段階を示している図２８に示されるように、水平化表面８２の降下６９により、これらの装飾材料１２、１２ｂは層６１の内部に浸透し、表面８０は表面１３と同一平面になる。更なる段階においては、図２９に示されているように、更なる装飾材料１２、１２ｂが、先に塗布された装飾１２、１２ｂ材料において塗布され、水平化操作が再び繰り返される（図３０）。後続する図３１から３６に示されているように、サイクルは何回も繰り返すことができ、その都度、装飾材料は所望の深度Ｐに到達するまで更に深く浸透する。
【０２０３】
開示された手順により、装飾材料が、装飾材料１２、１２ｂを実質的に拡散することなく基底層６１の内部に浸透することが可能になる。粒状装飾材料の同様な厚さＰが、表面１３に対して完全に突出して残されると、前記厚さＰは不可避的に崩壊し、寸法Ｘよりもはるかに大きな底面の、いくぶん三角形に近い断面を有するマウンドを形成する。下記のプレス段階において、このマウンドは、横方向には制限を受けないので、更に幅が広くなり、その結果、外部エッジに向けてだんだん厚さが減少し、浸透量Ｐが非常に少ない、非常に幅の広い細片を形成する。
【０２０４】
本発明による手順においても、寸法Ｘがある程度広がる可能性があるが、この広がりは、表面１３から現れる装飾材料の層のみに限られることが時折ある。この層は、非常に薄いので、それほど広がることはできず、いったん層１２、１２ｂが浸透すると、この層は基底材料６１の閉じ込め効果の影響を受け、それ以上は移動できない。２つの上部および下部表面の相互の進行するアプローチにより起こるプレス段階においても、装飾材料は水平方向には移動できず、基底材料６１と共に、垂直方向において圧縮変形の影響のみを受ける。
【０２０５】
図２７と２８から推測できるように、水平化段階は、より多くのタイプの装飾材料１２、１２ｂが堆積された後、開示された場合と同様に、装飾材料１２、１２ｂが異なるゾーンを覆うときに行うことができるが、水平化段階は、単一の塗布のそれぞれの後に行うこともできる。
【０２０６】
開示された例においては、重ね合わせられる装飾材料の薄い層は、交互に異なるタイプ１２、１２ｂであるが、これらの薄い層は、単色装飾が所望される場合には、すべて同じタイプであってもよい。
【０２０７】
より多くの層の重ね合わせは、装飾材料を浸透させる上記の目的のためだけでなく、異なる色を混合し、種々の色彩グラデーションを作成するためにも利用できる。
【０２０８】
１つの例がこの概念を明確にできる。
【０２０９】
色合いが三原色のそれぞれ、例えば、黄色（Ｇ）、シアン（Ｔ）、および赤（Ｒ）に非常に近い３種類の粉末を有し、これらの粉末が、表面１３の２つの別個のゾーンＡとＢの装飾に使用され、厚さが１ｍｍと０.５ｍｍ（しかし、０ｍｍおよびすべての中間の値でもよいことは明白である）のこれらの薄い層を塗布する可能性があると仮定しよう。ここで、これらの３種類の粉末Ｇ、Ｔ、Ｒを、重ね合わせの下記の（繰り返し）計画に従って、厚さ１ｍｍまたは０.５ｍｍの２つのゾーンＡおよびＢに配置するとする。
【０２１０】
【表１】
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【０２１１】
薄い層は、実質的に相互に再混合する結果になるので（主に、種々の色の間で、焼結または溶融により統合が起こり得る焼成段階の後）、より黄色の傾向が強い色がゾーンＡに現れ、よりシアンの傾向が強い色がゾーンＢに現れ、そして、非常に重要なことであるが、この色は、装飾の全体の深さＰにおいて実質的に一定である。
【０２１２】
この方法は、これらの層の塗布において、リアルタイムのデジタル制御を有する最高の機能を呈示できる。既に示された「複合体Ｋ」タイプの装置は、上記の方法で機能するために適しており、下記に開示される。
【０２１３】
図１７から２０は、表面１３とローリング接触している前記転写表面３により、種々の層１２ｄ、１２、１２ｂ、１２ｃが順に押されて浸透する様子を示している。
【０２１４】
この接触により、装飾材料は自由落下されないので、より良好なパターンの鮮明度を達成することが可能になる。
【０２１５】
図１７と１８は、第１前進ストローク６７において起こることを示し、図１９は、装置１ｂにおいて後続する後退ストローク６３において起こることを示している。図２０は、前進および後退ストロークの２回の完全な平行移動の後の最終結果を示している。
【０２１６】
この同じステーション上で、または後続のステーション上で操作を繰り返すことにより、所望の厚さＰが達成できる。
【０２１７】
２つの表面３と１３が、ローリングの方法で相互の摺動なく接触するということは明確である。開示された例において、表面１３は、転写表面３がその上をローリングしながら前進する間は静止しているが、このローリングは逆のモードでも起こり、表面１３が前進する。
【０２１８】
転写表面３とは異なる手段、例えば、ローラーにより貫通のために押され、それにより、転写表面３は、受け入れ表面１３との接触なしに機能できる。
【０２１９】
装置１もまた、複合体Ｋにおいて同じタイプの他の装置１ｂと結合することはできず、装置１は静止状態であってよく、それもまた１台の散布器１１のみを有することができる。
【０２２０】
図２６に示されている複合体Ｋにおいて、粒状材料の分離はキサゲ加工により達成される。受け入れ表面１３に面している転写表面３の下部部分において、転写ゾーン１５は、ブレード７０がある場所において構成され、そのブレード７０のエッジは、その全長において、表面３に対する完全な接平面となっている。同様なブレード７０ｂが、間隔をおいて離れている非作動位置において鏡面対称的に面して設置される。両者のブレード７０、７０ｂは、図示しない手段により移動され、この手段は、ブレード７０、７０ｂを、複合体Ｋの平行移動方向６３、６７に依存して、受動位置からアクティブ位置へ交互に移動でき、その逆も可能である。
【０２２１】
この実施の形態の特別な利点は、２つのブレード７０、７０ｂが存在し、そのうちの１つが常にアクティブ（作動状態）でないので、ブレード７０、７０ｂのエッジを常に完全にきれいに保つことができ、前記エッジは、平行移動のストロークの間に清浄され、または、エッジが表面１３の外部の端部停止位置にあるときは更により良好に清浄される。これは既知のタイプの機能においては、ブレードが連続的に操作され、その上、アクセスが難しい位置に設置されるので不可能である。
【０２２２】
しかし、ブレード７０、７０ｂに対して、ブレード７０、７０ｂを清浄且つ効率的に維持するのに適しているすべての既知の手段を適用でき、それらの手段には、加熱、反接着被膜、振動の手段がある。
【０２２３】
複合体Ｋのこの装置１において、装飾材料の転写表面３からの分離は別の方法でも、例えば、受け入れ表面１３との接触の擾乱作用により、または、ＩＴ１３１４６２４において開示されたシステムにより起こすことができる。
【０２２４】
デジタルパターンの形成もまた、インクジェットとは異なるシステムにより、例えば、ＷＯ０１／７２４８９に開示された振動選択分離および転写手段を使用することにより決定できる。
【０２２５】
図３７と３８を参照して、本発明による、転写表面３から整合性のない表面１３への装飾材料の転写を達成する特別な方法が説明される。
【０２２６】
従来技術においては、単純な接着効果の手段によっては、装飾材料を、粒状または粉末状材料の整合性のない表面へ転写する可能性はないということを指摘すべきであろう。接触のある接着効果による転写は、個体の整合性のあるタイプの受け入れ表面と、湿った状態の装飾材料に対してのみ知られている。これらの技術の例は、シルクスクリーン印刷、インタリオ印刷、インクパッド印刷などがある。粉末または液状懸濁液の、整合性のない表面への転写は常に、装飾材料に作用し、装飾材料を受け入れ表面に移動させる外力を伴うことによって起こる。これらの力は、重力（装飾材料がいったんマトリックスを通過すると、または転写表面から分離すると作用する）、静電力、振動、転写表面の変形、エアー噴射などであり得る。外力を伴うことは、そのことが、転写表面と受け入れ表面の間に一定の距離を維持するという事実と共に、良好な鮮明度を達成させることはない。更に、静電力の場合は、セラミックの使用のための通常の材料には適用できない。
【０２２７】
図３７に示すように、表面３上にはパターン１０があり、インクジェット装置８により噴出された微小滴９により形成される。装飾材料１２ｅは、表面３に対して方向ＰＲに投射されるが、薄く研磨された材料の塊ＡＧから構成され、この塊は、例えば、微細化により得られ、微量の粘土状材料も具備すると有利である。多孔質である塊ＡＧは、そのため、液体９を毛管現象により吸収できる。従って、液体９の各微小滴は複数の重ね合わされた塊１２ｅを捕捉でき、それは、非常に限られた広がりを有する接触ＣＰの数点により表面３に接着し続ける。液体９は、塊ＡＧ内において広く散布されており、更に、捕捉された塊ＡＧの量に対して非常に限られた比で散布されている。
【０２２８】
図３８において強調されているように、塊ＡＧが受け入れ表面内に浸透すると、これらの塊ＡＧと受け入れ層６１の粒子ＰＷの間にその結果として起こる接触点は、接触ＣＰの点よりも更に数が多く強制的であり、このようにして装飾材料ＡＧは受け入れ層６１に吸収される。
【０２２９】
滑らかで、湾曲しており、ローリングしている表面３が、装飾材料ＡＧと受け入れ表面１３から、「ピーリング（剥がれるように離れること）」により離れて置かれているということによっても分離が促進される。
【０２３０】
言い換えると、粒子ＰＷの引力ＡＴは、広く、同時にすべての塊ＡＧ上に作用するが、転写表面３の塊ＡＧ上への牽引作用ＴＲは、前進的に移動している小さな接触領域（ＣＰ）上にのみ弱く加わる。この分離を促進する要因は、層６１の、塊ＡＧ内に含まれる湿度に対して働く吸収作用からも導出される。
【０２３１】
この結果を達成するために、粒状装飾が表面３上に加えられる方法の重要性も更に強調される。実際、液体９の予防的塗布、および装飾粒状材料ＡＧの後続する結合は、表面３上に良好に画定されたパターンが得られることを可能にし、前記パターンは、クリーンで比較的厚く、一時的に安定であるが、液体９が極端に減少された比で存在し、既述したように、最小の接着表面ＣＰを有するので容易に分離する。他方、既に液体懸濁液にある粒状材料が、この懸濁液を接着させるために、例えば、表面３上に塗布されると、装飾材料と表面３の間の密な接触の拡大したゾーンを有する液体フェーズの相当な量が必要となり、この方法では、転写のための後続の分離は不可能という結果になる。
【０２３２】
本発明による方法においては、これとは対照的に、この転写が正確且つ容易な方法で、接触のために必要なわずかな圧力を加えることにより起こり得る様子は驚異である。
【０２３３】
塊状材料ＡＧの代わりに、細かく粉末状にされた材料もまた使用できる。この場合、そのような材料はそれほど流動性はないので、前記材料を液体９に、図３７に示すような投射ＰＲではなく、ベルト、または供給ローラー上に配置されたこの粉末状材料の薄い層のローリング接触によると都合がよい。
【０２３４】
特に、非多孔質粒状体から構成される装飾材料が使用される場合は、分離は転写表面３を加熱することにより促進できる。
【０２３５】
この加熱は、図１、２、６、７、８に既に開示した方法により達成できる。
【０２３６】
図３９、４０および４１に、接着によるこの転写方法により作動し、上述の加熱システムを備えるいくつかの装置が示されている。
【０２３７】
転写表面３に対しては、更に多様な金属またはプラスチック材料が使用できる。しかし、表面は滑らかで静電気防止特性を有していることが好ましい。
【０２３８】
行われたテストによると、優れた結果をもたらした材料は、ステンレス鋼鉄およびポリプロピレンである。
【０２３９】
本発明は前もって決めた目的を達成し、特に、受け入れ層の整合性のない状態を変えることなく維持しながら接触による転写を可能にし、それにより、異なる転写操作を連続して行うことができ、また異なる重ね合わせ装飾材料および画像のデジタル制御も可能になるということを指摘できる。
【０２４０】
上記の図を参照して示され、開示された種々のデバイス、装置、および手段は単独でも使用でき、または、ここで示され、開示された他のデバイス、装置、および手段との可能な組み合わせでも使用でき、または、ここで示され、開示されたものとは異なるデバイス、装置、および手段を組み合わせることもできる。
【図面の簡単な説明】
【０２４１】
【図１】図１は、装飾材料を分離する加熱手段を有する、本発明による装飾装置の模式側面図である。
【図２】図２は、加熱手段を強調する、図１の詳細の模式側面図である。
【図３】図３は、粒状材料の散布器を強調する、図１の詳細の模式側面図である。
【図４】図４は、粒状材料の異なるタイプを同時に塗布するための異なる構成における、図３の詳細と類似の詳細図である。
【図５】図５は、図４のＶ−Ｖ断面である。
【図６】図６は、本発明による加熱手段の１つのバージョンの部分的且つ模式側面図である。
【図７】図７は、本発明による加熱手段の第２バージョンの部分的且つ模式側面図である。
【図８】図８は、本発明による加熱手段の第３バージョンの透視部分図である。
【図９】図９は、図８の詳細の拡大図である。
【図１０】図１０は、本発明による、粒状材料のより多くのタイプを同時に塗布するのに適している装置の第４バージョンの模式側面図である。
【図１１】図１１は、本発明による、同じステーションで、後続の段階においてより多くの粒状材料を塗布するのに適している装置の第５バージョンの模式平面図である。
【図１２】図１２は、本発明による、同じステーションで、後続の段階においてより多くの粒状材料を塗布するのに適している装置の第５バージョンの模式平面図である。
【図１３】図１３は、本発明による、同じステーションで、後続の段階においてより多くの粒状材料を塗布するのに適している装置の第５バージョンの模式平面図である。
【図１４】図１４は、本発明による、同じステーションで、後続の段階においてより多くの粒状材料を塗布するのに適している装置の第５バージョンの模式平面図である。
【図１５】図１５は、図１２の部分的ＸＶ−ＸＶ断面である。
【図１６】図１６は、受け入れ表面において粒状材料を貫通させるのに適している、異なる操作モードでの最後の段階における、図１５にの図に類似する図である。
【図１７】図１７は、図１６の操作モードの最初の３段階を示す模式且つ拡大断面図である。
【図１８】図１８は、図１６の操作モードの最初の３段階の１つを示す模式且つ拡大断面図である。
【図１９】図１９は、図１６の操作モードの最初の３段階の１つを示す模式且つ拡大断面図である。
【図２０】図２０は、図１６の詳細Ｇの模式且つ拡大断面図である。
【図２１】図２１は、図３の散布器の、異なる状況での使用法を強調する、本発明による装置の模式側面図である。
【図２２】図２２は、図２１の散布器の模式側面図である。
【図２３】図２３は、更に異なる状況で使用される、図３の散布器の異なる実施の形態の模式側面図である。
【図２４】図２４は、更に異なる状況における散布器の使用を強調する、図３の散布器と類似の散布器の模式側面図である。
【図２５】図２５は、図２２の散布器の更に異なる実施の形態の模式側面図である。
【図２６】図２６は、材料を分離するための異なる分離システムを強調する、図１５の図に類似する側面図である。
【図２７】図２７は、基板を貫通する装飾を形成するための、本発明による後続の段階を示す部分的且つ模式断面図である。
【図２８】図２８は、基板を貫通する装飾を形成するための、本発明による後続の段階を示す部分的且つ模式断面図である。
【図２９】図２９は、基板を貫通する装飾を形成するための、本発明による後続の段階を示す部分的且つ模式断面図である。
【図３０】図３０は、基板を貫通する装飾を形成するための、本発明による後続の段階を示す部分的且つ模式断面図である。
【図３１】図３１は、基板を貫通する装飾を形成するための、本発明による後続の段階を示す部分的且つ模式断面図である。
【図３２】図３２は、基板を貫通する装飾を形成するための、本発明による後続の段階を示す部分的且つ模式断面図である。
【図３３】図３３は、基板を貫通する装飾を形成するための、本発明による後続の段階を示す部分的且つ模式断面図である。
【図３４】図３４は、基板を貫通する装飾を形成するための、本発明による後続の段階を示す部分的且つ模式断面図である。
【図３５】図３５は、基板を貫通する装飾を形成するための、本発明による後続の段階を示す部分的且つ模式断面図である。
【図３６】図３６は、基板を貫通する装飾を形成するための、本発明による後続の段階を示す部分的且つ模式断面図である。
【図３７】図３７は、粒状材料を、接触および貫通を介して整合性のない基板に転写することを可能にする、図１６の装置の特別な操作モードの２つの段階の１つを模式的に示す。
【図３８】図３８は、粒状材料を、接触および貫通を介して整合性のない基板に転写することを可能にする、図１６の装置の特別な操作モードの２つの段階の１つを模式的に示す。
【図３９】図３９は、誘導加熱の支援を伴う、図３７と３８に示された操作を強調する、本発明による装置の異なる実施の形態の側面図である。
【図４０】図４０は、放射加熱の支援を伴う、図３７と３８に開示された操作を強調する、本発明による装置の異なる実施の形態の側面図である。
【図４１】図４１は、放射加熱の支援を伴う、図３７と３８に開示された操作を強調する、本発明による装置の異なる実施の形態の側面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年10月6日(2008.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、受け入れ表面（１３，４９）上に塗布する方法であって、順に、
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を転写表面（３）上に配置することと、
前記転写表面（３）を前記受け入れ表面（１３，４９）に向かせ、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、前記受け入れ表面（１３，４９）上に塗布することと、を具備し、
前記配置することは、回転手段（３０）から前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）に向けて投射し、前記転写表面（３）により保持されなかった前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の前記余剰分（２４）を、前記回転手段（３０）により収集することを具備することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記収集することは、前記余剰分（２４）を、前記回転手段（３０）の下にある経路に沿って、前記回転手段（３０）の表面凹部（３１）に移動することを具備することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記収集することは、前記出口（３８）を出る前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の流れと相互作用するように、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を供給する供給手段（３９，７５，７６）の前記下部出口（３８）に向けて、前記余剰分（２４）を移動することを更に具備することを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記相互作用することは、前記流れを、前記転写表面（３）により保持された前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の量と実質的に等価となるようにすることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記投射することは、下方を向く前記転写表面（３）の第１の区域において前記転写表面（３）に向かって、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を投射することを具備しており、
前記収集することは、やはり下方を向く前記転写表面（３）の第２の区域の近くにおいて収集することを具備することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記投射することは、下方を向く前記転写表面（３）の第１の区域において前記転写表面（３）に向かって、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を投射することを具備しており、
前記収集することは、下方を向く前記転写表面（３）の第２の区域の近くにおいて収集することを具備することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記回転手段（３０）に、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の別個のタイプを提供することを具備することを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記配置することは、前記投射することの前に、インクジェット装置（８）により前記パターンの原型（１０）に従って、前記転写表面（３）に液体を塗布することを更に具備することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記方法は、セラミックタイル（１３，１４）を装飾するために使用されることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、受け入れ表面（１３，４９）上に塗布する装置（１）であって、
可動転写表面（３）と、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）に塗布するのに適している散布装置（１１，３０）とを具備し、
前記散布装置（１１，３０）は、前記転写表面（３）の近くに配置され且つ前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）に向けて投射できるようにするのに適していて且つ前記転写表面（３）により保持されなかった前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の前記余剰分（２４）を収集するのに適している、回転手段（３０）を具備することを特徴とする装置。
【請求項１１】
前記回転手段（３０）は、少なくともその下部部分において、前記転写表面（３）と前記回転手段（３０）の間にある第１壁（３６）と、前記回転手段（３０）の反対側にある第２壁（３７）とを具備する容器（１９）内に配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の装置（１）。
【請求項１２】
前記散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）は、前記下部出口（３８，７５，７６）が前記回転手段（３０）と前記第２壁（３７）の間に配置されている供給手段（３９，７５，７６）を具備することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の装置（１）。
【請求項１３】
前記供給手段（３９，７５，７６）は、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の別個のタイプに関連していることを特徴とする請求項１２に記載の装置（１）。
【請求項１４】
前記回転手段（３０）は、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）に向けて搬送するのに適している第１スクリーン手段（５２）と協働することを特徴とする請求項１０から１３のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項１５】
前記回転手段（３０）は、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記回転手段（３０）に向けて搬送するのに適している第２スクリーン手段（４０）と協働することを特徴とする請求項１０から１４のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項１６】
前記回転手段（３０）は、前記回転手段（３０）の回転軸（３５）に垂直な面に従って、前記ローター（３０）と前記転写表面（３）の間に配置されている分割ダイアフラム（８３）と協働することを特徴とする請求項１０から１５のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項１７】
前記回転手段（３０）の表面には、凹部および／または突起部（３１）が設けられることを特徴とする請求項１０から１６のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項１８】
前記散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）は、下方を向く前記転写表面（３）の区域の近くに配置されていることを特徴とする請求項１０から１７のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項１９】
前記散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）は、上部投射領域から伸張しており、前記上部投射領域において、前記転写表面（３）は、下部収集領域に向かって上方を向いており、前記下部投射領域において、前記転写表面（３）は下方を向くことを特徴とする請求項１０から１８のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項２０】
前記インクジェット装置（８）は、前記散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）の上流に設置されており、
前記インクジェット装置（８）は、液体（９）を有する前記転写表面（３）上に前記パターンの原型を形成することを特徴とする請求項１０から１９のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項２１】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターン（２１，５７）を、受け入れ表面（１３）上に塗布する方法であって、順に、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、凝集液相（９，２０）と共に、および前記パターン（２１，５７）の原型（１０，１０ｂ，１８，５６）に従って転写表面（３）に結合することと、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）および前記液相（９，２０）を搬送する前記転写表面（３）を、転送ゾーン（１５，４５）において前記受け入れ表面（１３）に向かせることと、を具備し、
前記方法は、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）から分離し、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記受け入れ表面上に塗布するために、前記転写ゾーン（１５，４５）において、前記液相（９，２０）の少なくとも１部分を加熱することを更に具備することを特徴とする方法。
【請求項２２】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターン（２１，５７）を、受け入れ表面（１３）上に塗布する装置（１，１ｂ）であって、
前記受け入れ表面（１３）に面している部分において画定される転写ゾーン（１５）を有するループ経路に沿って可動である転写表面（３）と、
前記転写ゾーン（１５）の上流に配置される塗布手段（８，８ｂ，１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）であって、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、凝集液相（９）と共に、前記パターン（２１，５７）の原型（１０，１８，５６）に従って、前記転写表面（３）に塗布するのに適している塗布手段（８，８ｂ，１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）と、を具備し、
前記装置は、前記転写ゾーン（１５）において前記凝集液相（９，２０）の少なくとも１部分を急激に蒸発し、それにより、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を前記転写表面（３）から分離させ、前記受け入れ表面（１３）上に前記塗布を行わせるのに適している加熱手段（１６，２５，２６，４６，４７，Ｔ）を更に具備することを特徴とする装置。
【請求項２３】
請求項２１に記載の前記方法に従って、粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を転写および塗布する要素（２，３，５）であって、
前記要素は、内部は誘電体材料（５）により構成され、外部は電気伝導性層（２，４７）から構成される本体（５，５３）を具備することを特徴とする要素。
【請求項２４】
請求項２１に記載の前記方法に従って、粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を転写および塗布する要素（２，３，５，５３）であって、
前記要素は、前記熱放射（Ｔ）に対して透過性材料の管状体（５，５３）を具備することを特徴とする要素。
【請求項２５】
材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、受け入れ表面（１３）上に塗布する方法であって、
前記材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、少なくとも１つの回転軸（７）の周りのループ経路に沿って可動な転写表面（３）に結合することと、
コンピュータ手段（Ｃ，８）を介して、前記パターンに対応する前記材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の１部分を選択し、前記１部分を前記受け入れ表面（１３）に向けて移動することと、を具備し、
前記方法は、前記受け入れ表面（１３）に平行な面において、前記軸（７）を平行移動（６３，６７）により往復運動的に移動することを更に具備することを特徴とする方法。
【請求項２６】
材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、進行方向（６２）において可動な受け入れ表面（１３）上に塗布する装置（１）であって、
少なくとも１つの回転軸（７）の周りのループ経路に沿って可動な転写表面（３）と、
前記材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を、前記転写表面（３）に結合するのに適している塗布手段（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）と、
前記パターンに対応する前記材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の１部分を選択するのに適しているコンピュータ制御手段（Ｃ，８，８ｂ）と、を具備し、
前記軸（７）は、前記受け入れ表面（１３）に平行な面において平行移動（６３，６７）により往復運動的に可動であることを特徴とする装置。
【請求項２７】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、整合性のない受け入れ表面（１３）上に塗布する方法であって、順に、
前記パターンに従って配置されている前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の層を、前記受け入れ表面（１３）上に塗布するステップと、
前記受け入れ表面（１３）に対して、前記層（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）を水平化するステップと、を具備することを特徴とする方法。
【請求項２８】
前記方法は、前記ステップを１回または２回以上繰り返すことを更に具備することを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）のパターンを、進行方向（６２）において整合性のある且つ可動な受け入れ表面（１３）上に塗布する装置（１，１ｂ）であって、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ）の層を塗布するのに適している回転塗布手段（３，５，５ｂ）と、
前記受け入れ表面（１３）に対して、前記層を水平化するのに適している水平化手段（３，５，５ｂ，８２）と、を具備することを特徴とする装置。
【請求項３０】
前記装置は、前記回転塗布手段（３，５，５ｂ）と協働する、往復運動的平行移動手段（６３，６７）を更に具備することを特徴とする請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）のパターンを、整合性のない材料の層（６１）上に塗布する方法であって、順に、
前記パターンの原型を形成する配置（１０）に従って、転写表面（３）上に液体（９）を塗布することと、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）を前記液体（９）に結合して、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）を前記転写表面（３）に接着させることと、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）を前記受け入れ表面（１３）に接触させて、前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）を、実質的に整合性のない前記層（６１）に維持することにより、前記転写表面（３）から前記受け入れ表面（１３）に転写することとを具備する方法。
【請求項３２】
粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）のパターンを、整合性のない材料の層（６１）の受け入れ表面（１３）上に塗布するのに適している装置（１，１ｂ）であって、
回転転写表面（３）と、
前記パターンの原型に従って、液体（９）を前記転写表面（１３）上に配置するのに適している塗布手段（８，８ｂ）と、
前記粒状材料（１２，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，ＡＧ）を前記液体（９）に結合するのに適している散布装置（１１，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ）と、を具備し、
前記回転転写表面（３）は、前記受け入れ表面（１３）と干渉するように配置され、前記干渉は、前記整合性のない層（６１）において任意の実質的整合性を生成しないことを特徴とする装置。
【国際調査報告】
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