(57)【要約】  電子部品の試験に使用する取扱装置は、少なくとも１つの弾性ワッシャ(6)により案内されて直線状運動を行うプランジャ(3)を有する加速装置(1)を備え、弾性ワッシャは、２組の弾性舌片(9,11)を有し、一方の組の弾性舌片は、プランジャ(3)に固定され、他方の組の弾性舌片は、運動発生装置(2)のハウジング(21)に相対的に固定されるフレーム(7)に固定される。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品を収容する空洞形成部(5)と、空洞形成部内に保持される電子部品に加速度試験を実施する加速装置(1)とを備え、空洞形成部(5)に固定可能なプランジャ(3)と、軸方向にプランジャ(3)を加速する運動発生装置(2)とを加速装置(1)に設けた電子部品試験取扱装置において、
２組の弾性舌片(9,9',9''；11,11',11'')を有する少なくとも１つの弾性ワッシャ(6,6',6'')により直線状にプランジャ(3)を案内し、一方の組の弾性舌片をプランジャ(3)に固定し、運動発生装置(2)のハウジング(21)に対して相対的に固定されるフレーム(7)に他方の組の弾性舌片を固定したことを特徴とする取扱装置。
【請求項２】
各組の弾性舌片(9,9',9''；11,11',11'')の数は、２個から６個、特に３個から５個である請求項１に記載の取扱装置。
【請求項３】
弾性舌片(9,9'',9''；11,11',11'')は、リング状に閉ループとなる弾性ワッシャの環状領域(18)から少なくとも基本的に半径方向内側に延伸する請求項１又は２に記載の取扱装置。
【請求項４】
環状領域(18)を円環状に形成した請求項３に記載の取扱装置。
【請求項５】
弾性ワッシャ(6,6',6'')の円周方向に等角度間隔に弾性舌片(9,9',9''；11,11',11'')を配置した請求項１〜４の何れか１項に記載の取扱装置。
【請求項６】
直線状に弾性舌片(9,11)を形成した請求項１〜５の何れか１項に記載の取扱装置。
【請求項７】
湾曲して弾性舌片(9',9''；11',11'')を形成した請求項１〜５の何れか１項に記載の取扱装置。
【請求項８】
Ｓ字状に湾曲するベンド部を弾性舌片(9',9''；11',11'')に設けた請求項７に記載の取扱装置。
【請求項９】
全ての弾性舌片(9',11')のＳ字状に湾曲するベンド部を同一方向に配置した請求項８に記載の取扱装置。
【請求項１０】
弾性舌片(9'',11'')の一部、好ましくは全ての弾性舌片(9'',11'')のＳ字状に湾曲するベンド部の半分を、弾性舌片(9'',11'')のＳ字状に湾曲するベンド部の他の部分に対して逆に方向に配置した請求項８に記載の取扱装置。
【請求項１１】
単一の共通円周上に配置される固着位置でプランジャ(3)及びフレーム(7)に弾性舌片(9,9',9''；11,11',11'')を連結した請求項１〜１０の何れか１項に記載の取扱装置。
【請求項１２】
軸方向に離間する少なくとも２つの弾性ワッシャ(6,6',6'')により直線状にプランジャ(3)を案内する請求項１〜１１の何れか１項に記載の取扱装置。
【請求項１３】
少なくとも１つの第１の弾性ワッシャ(6,6',6'')を空洞形成部(5)に隣接して配置し、第１の弾性ワッシャ(6,6',6'')と同一側又は運動発生装置(2)の側に運動発生装置(2)に隣接して少なくとも１つの別の弾性ワッシャ(6,6',6'')を配置した請求項１２に記載の取扱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品を収容する空洞形成部と、空洞形成部内に保持される電子部品に加速度試験を実施する加速装置とを備え、空洞形成部に固着可能なプランジャと、プランジャを軸方向に加速する運動発生装置とを加速装置に設けた電子部品試験取扱装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
公知のように、電子部品試験取扱装置は、試験ヘッドに接触する電子部品に電気試験を実施するために、例えばＩＣ等の電子部品を試験装置の試験ヘッドに供給するのに役立つ。電子部品に加速度試験を実施するとき、必要に応じて温度を調節する電子部品を空洞形成部内に配置し、試験装置に接触させ、例えば電子部品の接触面に対して垂直な方向に試験装置が加速される。
【０００３】
これに関して、空洞形成部内に電子部品を自動的に供給せず、手動で空洞形成部内に電子部品を配備する装置も明らかに取扱装置と呼ばれる。
【０００４】
また、公知のように、加速装置は、空洞形成部に固着できる自由端を備えるプランジャを有する。プランジャは、運動発生装置により軸方向に往復運動される。例えばコイルから構成される運動加速装置は、スピーカの原理により動作（振動）される。
【０００５】
前記加速度試験では、振動周波数は、低ヘルツ領域からキロヘルツ領域まで変化する。加速行程（加速ストローク）範囲は、ほんの数マイクロメータから数センチメートルまででよい。
【０００６】
この場合、運動発生装置、例えばコイルにより、意図しない空間方向への２次加速度と回転運動とが、プランジャと試験すべき電子部品に伝達されて、測定結果が劣化する可能性がある。部分的に非常に高い運動周波数と、−５５℃から＋１５５℃までの試験を実施する環境温度範囲とにより、プランジャを直線状に案内する軸受が厳しい負荷に曝される別の問題も在る。前記厳しい負荷に通常耐えられない従来の軸受は、所望の安定性を生じない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、有害な２次加速度及び／又はプランジャの回転を回避しかつ高い安定性を有する加速装置を備えた簡素な構成の頭記種類の取扱装置を提供する課題に基づく。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明では、請求項１の特徴を備える取扱装置により、この課題が解決される。本発明の有利な実施の形態を他の請求項に示す。
【発明の効果】
【０００９】
本発明では、プランジャは、２組の弾性舌片を有する少なくとも１つの弾性ワッシャにより直線状に案内され、一方の組の弾性舌片は、プランジャに固定され、運動発生装置のハウジングに相対的に固定されたフレームに他方の組の弾性舌片が固着される。
【００１０】
不適当な方向へのプランジャの移動又は加速を前記弾性ワッシャにより回避できる。例えば、ｚ方向にプランジャを往復運動するとき、弾性ワッシャは、プランジャのｘ方向及びｙ方向への移動又はその縦軸周りの回転を回避する。一方の組の弾性舌片をプランジャに固定すると共に、他の組の弾性舌片をフレームに固定することにより、一方でプランジャと弾性ワッシャとの間の相対的な転動又は滑動を防止すると共に、他方で弾性ワッシャとフレームとの間の相対的な転動又は滑動を防止できるので、この領域での有害な温度上昇及び摩擦発生を回避できる。従って、より小さい寸法の部品でも、弾性ワッシャにより僅かな摩擦とより高い安定性をもって、非常に正確かつ確実に所望の方向にプランジャを直線状に案内することができる。
【００１１】
有利な実施の形態では、各組の弾性舌片の数は、２個から６個、特に３個から５個である。この場合、前記個数の弾性舌片により、弾性舌片の縦軸に直角な全方向にプランジャを支持する一方、他方で弾性ワッシャの非常に簡単な構造を達成できるので、１組当たり３個から４個の弾性舌片が特に好適である。
【００１２】
本発明の有利な実施の形態では、弾性舌片は、リング状に閉ループとなる環状領域から少なくとも実質的に半径方向内側に延伸する。これにより、非常に小型の構成形態で弾性ワッシャを形成できる。しかしながら、これとは別の構成として、リング状に閉ループとなる環状領域から内側に向かって、プランジャに連結される一方の組の弾性舌片を延伸させ、リング状に閉ループとなる環状領域から外側に向かって、フレームに連結される他の組の弾性舌片を延伸させても原則的によい。また、例えば、プランジャを管状に構成し、プランジャの内側に弾性ワッシャを配置するとき、全ての弾性舌片を外側に向かって延伸させてもよい。
【００１３】
環状領域を円環状に構成することが好ましい。しかしながら、これとは別の構成では、例えば、多角形状等の他の形態に環状領域を形成してもよい。
【００１４】
弾性ワッシャの円周方向に等角度間隔で均等に弾性舌片を配置することが好ましい。これにより、弾性ワッシャに均等に応力を分散すると共に、プランジャからフレームに均等かつ確実に応力を伝達することができる。
【００１５】
直線状に又は湾曲して弾性舌片を形成してもよく、その際、湾曲させる場合には、弾性舌片は、Ｓ字状に湾曲するベンド部を設けることが好ましい。弾性舌片の直線状の設計が非常に簡単で価格上有利な弾性ワッシャを製造できるが、これにより、湾曲形状により弾性舌片の長さを増加できるので、湾曲する弾性舌片は、小さい構成寸法でも特に大きな移動量を実現できる利点がある。
【００１６】
全ての弾性舌片のＳ字状に湾曲するベンド部を同一方向に向いて配置してもよい。しかしながら、これとは別の構成では、弾性舌片のＳ字状に湾曲するベンド部の一部、例えば、全ての弾性舌片の半分を、弾性舌片のＳ字状に湾曲するベンド部の他の部分に対向して整列することも好ましい。これにより、プランジャが往復運動を行う際に、各弾性舌片が発生する可能性のあるプランジャの縦軸周りの回転力を互いに相殺できる。
【００１７】
単一の共通円上に配置されるプランジャ及びフレームに固着位置で、弾性舌片を連結することが好ましい。これにより、全ての側で特に均等にプランジャを支持することができる。
【００１８】
本発明の他の実施の形態では、少なくとも２つの軸方向に離間する複数の弾性ワッシャにより、プランジャは、直線状に案内される。この場合、空洞形成部に隣接して第１の弾性ワッシャを配置し、運動発生装置に隣接して少なくとも１つの別の弾性ワッシャを配置すると共に、第１の弾性ワッシャと同一側又は運動発生装置と同一側に別の弾性ワッシャを配置してもよい。多数の弾性ワッシャによりプランジャを半径方向に支持する構造により、特に良好な所望の方向に直線状にプランジャを案内することができる。その際、プランジャが運動発生装置を通り、その背面を越えて突出する加速装置にのみ、少なくとも１つの更なる弾性ワッシャを運動発生装置と同一側に配置できるのは当然である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明を例示する実施の形態を図面についてより詳細に以下説明する。
図１は、詳細には図示しないＩＣ等の電子部品の加速度試験を実施するために、取扱装置内に電子部品を装着できる加速装置1を示す。
【００２０】
矢印4で示す軸方向に所定の周波数でプランジャ3の往復運動を行う例えばコイル等の運動発生装置2が加速装置1に設けられる。この場合、試験振動周波数は、電子部品の種類及び所望の使用目的に依存し、数ヘルツから数キロヘルツに至る。図示の実施の形態では、例えば、円形断面を有する直線状のロッドをプランジャ3として例示するが、プランジャ3を他形状の断面に形成してもよい。
【００２１】
試験すべき電子部品を保持する空洞形成部5、即ち収容装置をプランジャ3の自由端に固着できる。矢印方向にプランジャ3を往復運動させると、空洞形成部5及び電子部品も同様に、対応して同一方向に移動される。
【００２２】
図３及び図４に明示する弾性ワッシャ6により案内されながら、プランジャ3は、フレーム7上で矢印4方向、即ちｚ方向のみに直線状に往復運動されるので、ｚ方向に対し横向き（直角）のｘ方向又はｙ方向への２次運動及び２次加速並びにプランジャ3の縦軸周りの回転運動を回避することができる。この目的で、例えば、一体成形、溶接又は焼き嵌めにより、プランジャ3に固定的に連結される図２に明示する固着フランジ8がプランジャ3に設けられる。
【００２３】
弾性ワッシャ6の一方の組の弾性舌片9は、特にねじ10により螺着されて固着フランジ8に固定して連結され、他方の組の弾性舌片11は、特にねじ12により螺着されてフレーム7に連結される。この場合、弾性ワッシャ6は、専ら弾性舌片11を介してフレーム7に接触する。従って、図１及び図２から明らかなように、弾性ワッシャ6の外周部が開口13の内周壁に接触しないように、弾性ワッシャ6は、フレーム7の開口13内に挿入される。
【００２４】
図示の実施の形態では、開口13は、フレーム7の垂直要素14をｚ方向に完全には貫通しない円形孔の形状を有し、開口13の周壁から半径方向内側に延伸する壁部15は、肩部を構成する。固着フランジ8と共にプランジャ3を嵌入できる軸方向の貫通孔16が開口13と同軸上に壁部15に設けられる。
【００２５】
図２に示すように、貫通孔16の近傍で壁部15に設けられる４つの台座状の突出部17は、壁部15を越えて軸方向に突出する。突出部17は、貫通孔16の周りに等角度間隔で規則的に配置され、突出部17上に弾性舌片11の内端が配置される。ねじ12により突出部17上に内端が固着される弾性舌片11の残部は、壁部15に対して間隔をあけて径方向外側に延伸することは明らかである。このように、弾性舌片11は、壁部15に直接当接せずに、突出部17の外側で軸方向に移動できる。
【００２６】
弾性舌片9の内端は、固着フランジ8の４つの角領域にそれぞれ固着される。
【００２７】
図１及び図２に示す弾性ワッシャ6を図３及び図４について以下より詳細に説明する。平坦な板ばね状に形成される弾性ワッシャ6は、円形の外形輪郭を備えるリング状の環状領域18を有する。４つの弾性舌片9と４つの弾性舌片11は、環状領域18から直線状に半径方向内側に延伸する。弾性舌片9と弾性舌片11は、円周方向に交互に配置されるので、円周方向に弾性舌片9の後に弾性舌片11が追従し、続いて再び弾性舌片9が追従する。円周方向に等角度間隔で規則的に分散して弾性舌片9,11が配置されるので、互いに４５度の角度を見込んで離間しかつ隣接する弾性舌片9,11の縦軸は、弾性ワッシャ6の中心で交差する（図３）。また、プランジャ3の外形より大きい直径を有する円周上に弾性舌片9,11の内端が配置されるように、弾性舌片9,11は、選定された同一長さを有する。弾性舌片9,11の内端領域に形成される貫通孔19内にねじ10,12（図２）を挿入できる。全ての弾性舌片9,11の貫通孔19は、弾性ワッシャ6の中心の周りで同一円周上に配置される。
【００２８】
本実施の形態では、弾性舌片9,11の幅は、環状領域18の幅にほぼ一致するが、必要に応じてそれぞれ変更できる。図３に示す実施の形態では、貫通孔19の中心を配置する円周の直径は、弾性ワッシャ6の外径のほぼ４６％に相当するが、必要に応じて他の寸法に変更できる。また、全て同一長さに弾性舌片9,11を形成することは絶対に必要ではない。弾性舌片11とは異なる長さで弾性舌片9を形成し又は１つの組の弾性舌片を互いに異なる長さに形成することも考えられる。
【００２９】
弾性ワッシャ6の機能は、固着フランジ8を介してプランジャ3から弾性舌片9に伝達される応力を、環状領域18を介して弾性舌片11に伝達し、弾性舌片11からフレーム7の垂直要素14に応力を伝達することにある。従って、弾性舌片9,11を介してフレーム7に対して半径方向に支持されるプランジャ3は、弾性ワッシャ6と同時に軸方向の往復運動が可能となる。
【００３０】
再び図１から明らかなように、フレーム7の垂直要素14を固定して連結する水平要素20には、運動発生装置2のハウジング21が固着される。
【００３１】
弾性ワッシャ6と同様の原理により構成される図５に示す弾性ワッシャ6'の第２の実施の形態では、直線状の弾性舌片9,11の代わりに、湾曲する弾性舌片9',11'が設けられる。弾性舌片9',11'は、Ｓ字状に湾曲するベンド部又は弾性ワッシャ6'の向く側に対応して、逆「Ｓ」状に湾曲するベンド部を有する。従って、弾性舌片9',11'は、湾曲するベンド部により少なくとも基本的に弾性ワッシャ6'の円周方向に延伸する部分を構成し、これにより、弾性舌片9',11'の長さを延長して、軸方向にプランジャ3をより大きく移動できるが、弾性ワッシャ6'の場合と同じ直径の円周上にベンド部の内端が配置される。
【００３２】
また、図５に示すように、全ての弾性舌片9',11'の湾曲するベンド部は、同一方向に向いて配置されかつ全て同一円周方向に延伸する。
【００３３】
図５に示す弾性ワッシャ6'と完全に同様に構成される図６に示す弾性ワッシャ6''の更なる実施の形態では、環状領域18から半径方向内側に蛇行する弾性舌片9'',11''が設けられる。しかしながら、この場合、弾性舌片9''の湾曲するベンド部の半分は、弾性舌片9''の湾曲する他の半分のベンド部に対して逆に向く。同様に、弾性舌片11''の半分の湾曲するベンド部は、弾性舌片11''の他の部分の湾曲するベンド部に対して逆に向く。この場合、湾曲するベンド部の対向する方向付けによって、弾性舌片9'',11''が軸方向に移動する際に、弾性舌片9'',11''自体から発生する回転力を相殺することができる。
【００３４】
発生する負荷に耐える種々の材料、例えばばね鋼又はガラス繊維結合材料を弾性ワッシャ6,6',6''の材料として選定できる。終端ストッパは、所望の移動装置内での装置の酷使を回避できる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】電子部品に加速度試験を実施する取扱装置の運動発生装置の略示斜視図
【図２】プランジャとフレームの一部に固着された弾性ワッシャの拡大斜視図
【図３】図２に示す弾性ワッシャ単体の正面図
【図４】図３の弾性ワッシャの側面図
【図５】弾性ワッシャの第２の実施の形態を示す正面図
【図６】弾性ワッシャの第３の実施の形態を示す正面図
【符号の説明】
【００３６】
1・・加速装置、  2・・運動発生装置、  3・・プランジャ、  4・・矢印、  5・・空洞形成部、  6,6',6''・・弾性ワッシャ、  7・・フレーム、  8・・固着フランジ、  9,9',9''・・弾性舌片、  10,12・・ねじ、  11,11',11''・・弾性舌片、  13・・開口、  14・・垂直要素、  15・・壁部、  16・・貫通孔、  17・・突出部、  18・・環状領域、  19・・貫通孔、  20・・水平要素、  21・・ハウジング
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
2009528512.tif 000009
2009528512.tif 000010
2009528512.tif 000011
2009528512.tif 000012
2009528512.tif 000013
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