(57)【要約】本発明は、アリールスルホネート基、スペーサーおよび基Ｙを含み、ここでＹが、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−、ＳＦ５−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２Ｓ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−もしくは［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］ＮＨ−（式中、ａは０〜５の範囲から選択される整数を表す）、または式（Ｉ）（式中ＲｆがＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３-（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−もしくは［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−もしくは（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、Ｂが単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２もしくはＳＯ２−Ｏを表し、Ｒが１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、ｂが０もしくは１を表し、ｃが０もしくは１を表し、ｑが０もしくは１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルが１を表し、ｒが０、１、２、３、４もしくは５を表す）を表す化合物、これらの化合物の製造方法、ならびにこれらの界面活性化合物の使用に関する。2009541402.tif 000106
2009541402.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アリールスルホネート基、スペーサーおよび少なくとも１つの基Ｙを含む化合物であって、Ｙが、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−、ＳＦ５−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２Ｓ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−または［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］ＮＨ−（式中ａは０〜５の範囲から選択される整数を表す）、または、
【化１】
2009541402.tif 000103
式中、
Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、
Ｂは、単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２またはＳＯ２−Ｏを表し、
Ｒは、１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、
ｂは、０または１を表し、ｃは、０または１を表し、
ｑは、０または１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルは、１を表し、ならびに
ｒは、０、１、２、３、４または５を表す、
を表す、前記化合物。
【請求項２】
スペーサーがフッ素原子を含まないことを特徴とする、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
スペーサーが、飽和または不飽和の、分枝状または非分枝状の炭化水素単位を示し、ここで鎖中または分枝中の炭化水素単位が、任意に１個または２個以上のヘテロ原子を有していてもよいことを特徴とする、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項４】
式ＩＡまたはＩＢ
【化２】
2009541402.tif 000104
式中、Ｙは、請求項１において定義したとおりであり、
スペーサーは、請求項１〜３のいずれかにおいて定義したとおりであり、
Ｍは、金属カチオンを示し、および
ｍは、１、２または３を示す、
に適合することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の化合物。
【請求項５】
スペーサーが、以下の意味：
−（ＣＨ２）ｎ−、
−（ＣＨ２）−ＣＨ（Ｈａｌ）−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−、
−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−（ＣＨ２）ｎ−１−Ａｒ−（ＣＨ２）（ｎ’−１）−、
−（ＣＨ２）ｎ−１−Ｃ≡Ｃ−（ＣＨ２）ｎ−または
−（ＣＨ２）ｎ−Ｑ−（ＣＨ２）ｎ’−、
式中、
ｎおよびｎ’は、互いに独立して、１〜３０の範囲からの整数を表し、
Ｈａｌは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを示し、および
ｐは、１〜４の範囲からの整数を表し、
Ａｒは、アリールを示し、
Ｑは、Ｏ、ＳまたはＮを表す、
の１つを有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物。
【請求項６】
基ＹがＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−を示し、ここでａ＝０、１、２、３、４または５、好ましくはａ＝０、１または２であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の化合物。
【請求項７】
基ＹがＳＦ５を示すことを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の化合物。
【請求項８】
基ＹがＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｓ−を示し、ここでａ＝０、１、２、３、４または５、好ましくはａ＝０、１または２であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の化合物。
【請求項９】
基ＹがＣＦ３−ＣＦ２−Ｓ−を示すことを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の化合物。
【請求項１０】
基Ｙが［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−を示し、ここでａ＝０、１、２、３、４または５、好ましくはａ＝０、１または２であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の化合物。
【請求項１１】
基Ｙが［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］ＮＨ−を示し、ここでａ＝０、１、２、３、４または５、好ましくはａ＝０、１または２であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載の化合物。
【請求項１２】
基Ｙが、
【化３】
2009541402.tif 000105
式中、
Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、
Ｂは、単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２またはＳＯ２−Ｏを表し、
Ｒは、１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、
ｂは、０または１を表し、ｃは、０または１を表し、
ｑは、０または１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルは、１を表し、ならびに
ｒは、０、１、２、３、４または５を表す、
を示すことを特徴とする、請求項１〜１１のいずれかに記載の化合物。
【請求項１３】
本発明の化合物の製造方法であって、式ＩＩ
Ｙ−スペーサー−Ｚ          ＩＩ
式中Ｙおよび−スペーサー−は、請求項１〜１２のいずれかにおいて示した意味の１つを有し、
Ｚは、ＯＨ、Ｂｒ、Ｃｌまたはビニルを示す、
で表される化合物を、ベンゼンおよびナフタレンの群から選択される対応する芳香族化合物と反応させ、その後スルホン化および塩形成を行うことを特徴とする、前記方法。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれかに記載の少なくとも１種の化合物を含む、組成物。
【請求項１５】
それぞれの用途に適するビヒクルおよび任意にさらなる特定の活性化合物が存在することを特徴とする、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
組成物が、塗料またはコーティング調製物、消火組成物、潤滑剤、洗浄または清浄組成物、除氷剤または織物仕上げもしくはガラス処理のための疎水化剤であることを特徴とする、請求項１４または１５に記載の組成物。
【請求項１７】
請求項１４〜１６のいずれかに記載の組成物の製造方法であって、請求項１〜１２のいずれかに記載の少なくとも１種の化合物を、好適なビヒクル、および任意にさらなる特定の活性化合物と混合することを特徴とする、前記方法。
【請求項１８】
請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物の、界面活性剤としての使用。
【請求項１９】
請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物の、疎水化剤または疎油化剤としての、特に織物、紙、ガラス、多孔質建築材料または吸着剤の表面改質における疎水化剤または疎油化剤としての使用。
【請求項２０】
請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物の、帯電防止剤としての、特に衣類、カーペットおよび敷物類などの織物、家具の張材および自動車の内装、不織布材料、革商品、紙および厚紙物品、木材および木材をベースとする材料、石、セメント、コンクリート、しっくいなどの鉱物基材、施釉または無釉タイル、土器、磁器などの陶磁器およびガラスの処理における、ならびにプラスチックおよび金属基材のための帯電防止剤としての使用。
【請求項２１】
請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物の、印刷インク、塗料、コーティング、写真コーティングなどの表面コーティング、、フォトレジスト、最上部の反射防止コーティング、底部の反射防止コーティングなどの半導体フォトリソグラフィー用の特殊コーティングのための調製物における添加剤としての、または対応する調製物に添加するための添加剤調製物における使用。
【請求項２２】
請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物の、気泡安定剤としての、および／または成膜を支持するための、特に泡消火剤における使用。
【請求項２３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物の、界面プロモーターまたは乳化剤としての、特にフッ素重合体を調製するための使用。
【請求項２４】
請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物の、抗菌活性化合物としての、特に抗菌性表面改質のための試薬としての使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アリールスルホネート基、スペーサーおよび基Ｙを含む化合物、これらの化合物の製造方法、およびこれらの表面活性化合物の使用に関し、ここでＹは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−、ＳＦ５−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２Ｓ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−または［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］ＮＨ−（式中ａは０〜５の範囲から選択される整数を表す）、または、
【化１】
2009541402.tif 000003
式中、
Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、
Ｂは、単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２またはＳＯ２−Ｏを表し、
Ｒは、１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、
ｂは、０または１を表し、ｃは、０または１を表し、
ｑは、０または１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルは、１を表し、ならびに
ｒは、０、１、２、３、４または５を表す、
を表す。
【背景技術】
【０００２】
フッ素系界面活性剤(fluorosurfactant)は、表面エネルギーを低減させる極めて優れた能力を有し、これは、例えば、表面の疎水化、例えば織物含浸（textile impregnation）、ガラスの疎水化、または航空機翼の除氷に用いられる。
しかし、一般的に、フッ素系界面活性剤は、パーフルオロアルキル置換基を含み、これは、生物学的および他の酸化プロセスにより環境中で分解されて、パーフルオロアルカンカルボン酸類およびパーフルオロアルカンスルホン酸類を生成する。これらは、難分解性であると見なされ、一部のケースでは健康被害をもたらすことが疑われる(G. L. Kennedy, Jr., J. L. Butenhoff, G. W. Olsen, J. C. O'Connor, A. M. Seacat, R. G. Perkins, L. B. Biegel, S. R. Murphy, D. G. Farrar, Critical Reviews in Toxicology 2004, 34, 351-384)。さらに、比較的長鎖のパーフルオロアルカンカルボン酸類およびパーフルオロアルカンスルホン酸類は、食物連鎖において蓄積する。
【０００３】
したがって、古典的なフッ素系界面活性剤に匹敵する特性プロフィールを有し、好ましくは酸化的または還元的に分解され得る、界面活性物質についての要求がある。ここで特に有利な化合物は、酸化的または還元的分解の際に難分解性の有機フッ素分解生成物を何ら後に残留させないものである。
既知のパーフルオロ化されたアリールスルホネートは、４−（ヘプタデカフルオロオクチル）ベンゼンスルホン酸のナトリウム塩である(CAN 118:126988)。
Omnova社は、側鎖が末端ＣＦ３またはＣ２Ｆ５基を含むポリマーを市販している。国際公報WO 03/010128には、Ｃ３〜２０パーフルオロアルキル基を含むパーフルオロアルキル置換アミン類、酸類、アミノ酸類およびチオエーテル酸類が記載されている。
【０００４】
特開２００１−１３３９８４号公報には、反射防止コーティングに用いるのに適するパーフルオロアルコキシ鎖を含む界面活性化合物が開示されている。特開平９−１１１２８６号公報には、エマルジョンにおけるパーフルオロポリエーテル界面活性剤の使用が開示されている。
しかし、これらの既知のフッ素系界面活性剤は、最終的には分解の際に難分解性のパーフルオロアルカンスルホン酸およびパーフルオロアルカンカルボン酸の生成をもたらす。環境により優しいとして導入された末端ＣＦ３基を含む置換基さえも、分解されて、難分解性のトリフルオロ酢酸を生成し得る。
先のドイツ国特許出願DE 102005000858には、少なくとも１つの末端ペンタフルオロスルフラニル基または少なくとも１つの末端トリフルオロメトキシ基を担持し、極性末端基を含む化合物が、界面活性性であり、界面活性剤として高度に好適であることが記載されている。
【０００５】
フッ素化を伴わない直鎖状アリールスルホネート類、例えばノニルベンゼンスルホン酸ナトリウムは、これらが生分解性であるため、最も用いられている界面活性剤の１つである。これらは、良好な化学的および熱的安定性を有し、噴霧乾燥配合物において用いることができる。その製造が安価なために、直鎖状アリールスルホネート類は、家庭用合成洗剤として、洗浄剤として、および工業製品において用いられている。
ＯＣＦ３またはＳＦ５基を修飾として含むこのクラスのアリールスルホネート類は、DE 102005000858には記載されていない。
パーフルオロ化された界面活性剤のためのさらなる、好ましくは分解性の代替物に対する要求が継続している。
【発明の概要】
【０００６】
今回、基ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−、ＳＦ５−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２Ｓ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−または［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］ＮＨ−（式中ａは０〜５の範囲から選択される整数を表す）、または、
【化２】
2009541402.tif 000004
式中、
Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、
Ｂは、単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２またはＳＯ２−Ｏを表し、
Ｒは、１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、
ｂは、０または１を表し、ｃは、０または１を表し、
ｑは、０または１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルは、１を表し、ならびに
ｒは、０、１、２、３、４または５を表す、
から選択される少なくとも１つの基Ｙ（好ましくは末端位に配置される）を含む本発明の化合物が、界面活性性であり、界面活性剤に極めて好適であることが見出された。
【０００７】
したがって、本発明は第１に、アリールスルホネート基、スペーサーおよび基Ｙを含む化合物であって、Ｙが、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−、ＳＦ５−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２Ｓ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−または［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］ＮＨ−（式中ａは０〜５の範囲から選択される整数を表す）、または、
【化３】
2009541402.tif 000005
式中、
Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、
Ｂは、単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２またはＳＯ２−Ｏを表し、
Ｒは、１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、
ｂは、０または１を表し、ｃは、０または１を表し、
ｑは、０または１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルは、１を表し、ならびに
ｒは、０、１、２、３、４または５を表す、
を表す、前記化合物に関する。
【０００８】
本発明の化合物は、好ましくは、言及するフッ素化された末端基以外には、フッ素化された基をさらに含まない。
界面活性化合物中の基Ｙは、飽和の、または不飽和の、分枝状または非分枝状の炭化水素単位であるスペーサーに好ましくは結合しており、ここで鎖中または分枝中の炭化水素単位は、任意に１個または２個以上のヘテロ原子を有していてもよい。炭化水素単位は、脂肪族または芳香族単位であり得る。
本発明の変形において、基Ｙは、界面活性化合物中に多数回出現し、界面活性化合物は、好ましくはオリゴマーまたはポリマーである。
本発明の他の同様に好ましい変形において、基Ｙは、界面活性化合物中に１回、２回または３回のみ出現し、ここで当該基が１回のみ出現する化合物が、特に好ましい。
【０００９】
本発明の化合物は、好ましくは式ＩＡ〜ＩＢ
【化４】
2009541402.tif 000006
式中、Ｙは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−、ＳＦ５−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２Ｓ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−または［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］ＮＨ−（式中、ａは、０〜５の範囲から選択される整数を表す）、または
【化５】
2009541402.tif 000007
【００１０】
式中、
Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、
Ｂは、単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２またはＳＯ２−Ｏを表し、
Ｒは、１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、
ｂは、０または１を表し、ｃは、０または１を表し、
ｑは、０または１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルは、１を表し、ならびに
ｒは、０、１、２、３、４または５を表す、
を表し、
スペーサーは、飽和または不飽和の、分枝状または非分枝状の、任意に置換されている炭化水素単位を表し、鎖中または分枝中の炭化水素単位は、任意に１個または２個以上のヘテロ原子を有していてもよく、
Ｍは、金属カチオンを表し、
ｍは、１、２または３を表す
で表される低分子量化合物である。
【００１１】
本発明において、式ＩＡおよび／またはＩＢで表される化合物が、特に好ましい。
式ＩＡおよびＩＢにおいて、Ｍは、金属カチオン、特にアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオンまたはアンモニウムイオンから選択される金属カチオンを示す。リチウム、ナトリウムもしくはカリウムカチオンまたはＮＨ４＋は、Ｍのために好ましく用いられる。
【００１２】
式ＩＡおよびＩＢにおいて、ｍは、存在するスルホニル基の数を示し、ここでｍは、好ましくは１または２、極めて特に好ましくは１である。
【００１３】
ｍ＝１について、式ＩＡについてのスルホニル基の位置は、オルト、メタまたはパラ位において可能である。パラ位が好ましい。
ｍ＝１について、式ＩＢについてのスルホニル基の位置は、好ましくは炭素原子Ｃ−４、Ｃ−５またはＣ−６上、特に好ましくはＣ−５またはＣ−６上であり、これは、以下の従属式により例示される：
【化６】
2009541402.tif 000008
基Ｙを担持するスペーサーの位置は、好ましくはＣ−１またはＣ−２上、特に好ましくはＣ−１上である。
スペーサーの炭化水素単位中のヘテロ原子は、例えばＯ、ＳまたはＮＨ、好ましくはＯまたはＳ、極めて特に好ましくはＯであり得る。
【００１４】
本発明の化合物の他の好ましい態様において、スペーサーを、
−（ＣＨ２）ｎ−、
−（ＣＨ２）−ＣＨ（Ｈａｌ）−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−または
−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−（ＣＨ２）ｎ−１−Ａｒ−（ＣＨ２）（ｎ’−１）−、
−（ＣＨ２）ｎ−１−Ｃ≡Ｃ−（ＣＨ２）ｎ−、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｑ−（ＣＨ２）ｎ’−
による式の表現で記載することができ、ここで
Ａｒは、アリールを表し、
Ｑは、Ｏ、ＳまたはＮを表し、
ｎおよびｎ’は、１〜３０の範囲からの整数を表し、
Ｈａｌは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを表し、また
ｐは、１〜４の範囲からの整数を表す。
【００１５】
ｎおよび／またはｎ’は、好ましくは、４〜２４の範囲からの整数、特に好ましくは６〜１８の範囲からの整数を表す。本発明の変形において、ｎが偶数であることも好ましい。
本発明の変形において、Ｈａｌは、好ましくはＣｌまたはＢｒ、極めて特に好ましくはＢｒを表す。
本発明の変形において、ｐは、好ましくは２または３、極めて特に好ましくは３を表す。
本発明の変形において、スペーサー
−（ＣＨ２）−ＣＨ（Ｈａｌ）−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）（ｎ−１）−
は、Ｙ＝ＳＦ５について好ましい。
【００１６】
本発明の変形において、スペーサー
−（ＣＨ２）ｎ−、
−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−または
−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）（ｎ−１）−
は、Ｙ＝ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２Ｓ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−または［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］ＮＨ−（式中、ａは、０〜５の範囲から選択される整数を表す）、または
【化７】
2009541402.tif 000009
【００１７】
式中、
Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、
Ｂは、単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２またはＳＯ２−Ｏを表し、
Ｒは、１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、
ｂは、０または１を表し、ｃは、０または１を表し、
ｑは、０または１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルは、１を表し、ならびに
ｒは、０、１、２、３、４または５を表す、
について好ましい。
【００１８】
基Ｙにおいて、ａは、好ましくは０、１または２、特に好ましくは０または２、極めて特に好ましくは０を表す。
以下でＲｆとも略すアリール置換基としてのフッ素基の中で、好ましいのは、ｒが０、１または２を表すものであり、ここでｒは好ましくは０を表す。特に好ましいのは、本発明において、基Ｒｆ＝ＣＦ３−、ＣＦ３−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−または（ＣＦ３）２Ｎ−である。
【００１９】
本発明の好ましい変形において、基Ｙは、上記で定義したように、ＣＦ３−Ｏ−、ＣＦ３−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、（ＣＦ３）２Ｎ−、ＣＦ３ＮＨ−、または
【化８】
2009541402.tif 000010
式中、
Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、
Ｂは、単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２またはＳＯ２−Ｏを表し、
Ｒは、１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、
ｂは、０または１を表し、ｃは、０または１を表し、
ｑは、０または１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルは、１を表し、ならびに
ｒは、０を表す、
からなる。
【００２０】
Ｒｆは、好ましくは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓまたは［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−を表す。本発明の好ましい変形は、式中ｒが、０、１、２または３、特に０、１または２を表す、以下でまたＲｆと略すフッ素基を包含し、ここでｒは、好ましくは０を表す。
本発明の特に好ましい態様において、Ｒｆは、ＣＦ３−、ＣＦ３−Ｏ−、ＣＦ３−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、ＣＦ３−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−、ＣＦ３−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ−、（ＣＦ３）２−Ｎ−および（ＣＦ３−ＣＨ２−ＣＨ２）２−Ｎ−、特にＣＦ３−、ＣＦ３−Ｏ−、ＣＦ３−Ｓ−および（ＣＦ３）２−Ｎ−を表す。
本発明の他の好ましい変形は、ＣＦ３−、ＣＦ３−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−または（ＣＦ３）２Ｎ−に等しい基Ｒｆを包含する。
【００２１】
特に好ましい基Ｂは、Ｏ、Ｓ、ＣＨ２Ｏ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）およびＯＣ（Ｏ）である。特に、ＯおよびＯＣ（Ｏ）に等しいＢが、好ましい。
本発明の特に好ましい変形は、ＣＦ３−Ａｒ−Ｏ、ＣＦ３−Ｏ−Ａｒ−Ｏ、ＣＦ３−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ａｒ−Ｏ、ＣＦ３−Ｓ−Ａｒ−Ｏ、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−Ａｒ−Ｏ、ＳＦ５−Ａｒ−Ｏ、ＣＦ３−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ−Ａｒ−Ｏ、（ＣＦ３）２−Ｎ−Ａｒ−Ｏ、（ＣＦ３−ＣＨ２−ＣＨ２）２−Ｎ−Ａｒ−Ｏ、ＣＦ３−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）、ＣＦ３−Ｏ−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）、ＣＦ３−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）、ＣＦ３−Ｓ−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）、ＳＦ５−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）、ＣＦ３−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）、（ＣＦ３）２−Ｎ−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）および（ＣＦ３−ＣＨ２−ＣＨ２）２−Ｎ−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）に等しい、特にＣＦ３−Ａｒ−Ｏ、ＣＦ３−Ｏ−Ａｒ−Ｏ、ＣＦ３−Ｓ−Ａｒ−Ｏ、（ＣＦ３）２−Ｎ−Ａｒ−Ｏ、ＣＦ３−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）、ＣＦ３−Ｏ−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）、ＣＦ３−Ｓ−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）および（ＣＦ３）２−Ｎ−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）に等しい基Ｙを包含する。
本発明の特に好ましい変形は、ＣＦ３−Ａｒ−ＯおよびＣＦ３−Ａｒ−ＯＣ（Ｏ）に等しいＹを包含する。
【００２２】
本発明の変形において、ｑが０を表し、少なくとも１つのｃおよび／またはｂが各々１を表すのが好ましい。すべてのｃおよびｂが１を表す、即ち芳香環がｏ，ｐ，ｏ位においてフッ素基により置換されているのが特に好ましい。
本発明の他の変形において、すべてのｑおよびｂが各々０を表し、少なくとも１つのｃが１を表すのが好ましい。両方のｃが１を表す、即ち芳香環がｏ，ｏ位においてフッ素基により置換されているのが特に好ましい。
本発明の他の変形において、すべてのｃおよびｑが各々０を表し、ｂが１を表す、即ち芳香環がｐ位においてフッ素基により置換されているのが好ましい。
【００２３】
特に好ましいのは、好ましいかまたは特に好ましい範囲における変数の組み合わせを有する化合物の使用である。
さらなる好ましい組み合わせは、特許請求の範囲中に開示されている。
【００２４】
本発明の化合物、または本発明の組成物もしくは剤の利点は、特に、以下のものであり得る：
−  効率および／または有効性に関して、従来の炭化水素界面活性剤と同一またはこれより優秀たり得る界面活性性、および／または
−  難分解性のパーフルオロ化された分解生成物の生成を伴わない、物質の生物学的および／または非生物的分解性、および／または
−  配合物への良好な加工可能性、および／または
−  貯蔵安定性。
ここで特に好ましい化合物は以下の化合物を含む：
【００２５】
【化９】
2009541402.tif 000011
【００２６】
【化１０】
2009541402.tif 000012
【００２７】
【化１１】
2009541402.tif 000013
界面活性剤として本発明により用いることができる化合物は、疎水化剤または疎油化剤(oleophobicising agent)として用いるのに特に適する。
【００２８】
使用領域は、例えば、織物、紙、ガラス、多孔質建築材料または吸着剤の表面改質である。塗料、コーティング、インク、写真コーティング（写真乾板、フィルムおよび紙用）、半導体フォトリソグラフィー用の特別のコーティング（フォトレジスト、最上部の反射防止コーティング、底部の反射防止コーティング）または表面コーティング用の他の調製物において、本発明の化合物および本発明により用いる化合物を、１または２以上の以下の機能を伴って有利に用いることができる：かぶり防止剤、分散剤、エマルジョン安定剤、消泡剤、脱気剤、帯電防止剤、難燃剤、光沢増進剤、潤滑剤、顔料または充填剤適合性増進剤、耐引っかき性増進剤、基材付着増進剤、表面付着減力液、皮膚保護剤(skin preventer)、疎水化剤、疎油化剤、ＵＶ安定剤、湿潤剤、流動制御剤、粘度低下剤、マイグレーション防止剤、乾燥促進剤。印刷インクにおいて、本発明の化合物および本発明により用いる化合物を、同様に有利に用いることができ、１または２以上の以下の機能を有し得る：消泡剤、脱気剤、摩擦制御剤、湿潤剤、流動制御剤、顔料適合性増進剤、印刷解像度増進剤、乾燥促進剤。
【００２９】
したがって、本発明はさらに、本発明の化合物または本発明により用いる化合物の、表面コーティング、例えば印刷インク、塗料、コーティング、写真コーティング、半導体フォトリソグラフィー用の特殊コーティング、例えばフォトレジスト、最上部の反射防止コーティング、底部の反射防止コーティングのための調製物における添加剤としての、または対応する調製物に添加するための添加剤調製物における使用に関する。
本発明の化合物または本発明により用いる化合物の本発明によるさらなる使用は、界面プロモーターまたは乳化剤としての使用である。これらの特性を、特に、エマルジョン重合によるフッ素重合体を調製するために、有利に用いることができる。
【００３０】
本発明の化合物および本発明により用いる化合物を、気泡安定剤として、特に「泡消火薬剤」として知られている調製物において、用いることができる。したがって、本発明はさらに、本発明の化合物または本発明により用いる化合物の、気泡安定剤としての、および／または成膜を支持するための、特に、合成の、およびまたタンパク質をベースとする水成膜泡消火薬剤における、ならびにまたアルコール耐性配合物（ＡＦＦＦおよびＡＦＦＦ−ＡＲ、ＦＰ、ＦＦＦＰおよびＦＦＦＰ−ＡＲ泡消火薬剤）のための使用に関する。
【００３１】
本発明の化合物および本発明により用いる化合物をまた、帯電防止剤として用いることができる。帯電防止作用は、織物、特に衣類、カーペットおよび敷物類、家具の張材および自動車の内装、不織布材料、革商品、紙および厚紙物品、木材および木材をベースとする材料、鉱物基材、例えば石、セメント、コンクリート、しっくい、陶磁器（施釉または無釉タイル、土器、磁器）およびガラスの処理において、ならびにプラスチックおよび金属基材のために、特に重要である。本出願は、対応する使用に関する。
【００３２】
金属基材について、本発明はさらにまた、本発明の化合物の防食剤における使用に関する。
本発明はさらにまた、プラスチック加工における離型剤としてのその使用に関する。
一般的に、本発明の化合物および本発明により用いる化合物は、汚点および染みに対する保護剤、染み除去剤、かぶり防止剤、潤滑剤として、ならびに耐摩擦性および耐機械的摩耗性増進剤として、適する。
【００３３】
本発明の化合物および本発明により用いる化合物を、織物（特に衣類、カーペットおよび敷物類、家具の張材および自動車の内装）ならびに硬質表面（特に台所表面、衛生設備、タイル、ガラス）のための洗浄組成物および染み除去剤における、ならびに光沢剤およびワックス（特に家具、フローリングおよび自動車用の）における添加剤として有利に用いることができ、これは、以下の機能の１または２以上を有する：湿潤剤、流動制御剤、疎水化剤、疎油化剤、汚点および染みに対する保護剤、潤滑剤、消泡剤、脱気剤、乾燥促進剤。洗浄組成物および染み除去剤の場合において、洗浄剤または汚れ乳化剤および分散剤としての使用は、さらにまた本発明の有利な態様である。したがって、本発明はさらに、本発明の化合物または本発明により用いる化合物の、洗浄組成物および染み除去剤における、または湿潤剤、流動制御剤、疎水化剤、疎油化剤、汚点および染みに対する保護剤、潤滑剤、消泡剤、脱気剤もしくは乾燥促進剤としての使用に関する。
【００３４】
本発明の化合物および本発明により用いる化合物をまた、以下の機能の１または２以上を有するポリマー材料（プラスチック）における添加剤として、有利に用いることができる：潤滑剤、内部摩擦低下剤、ＵＶ安定剤、疎水化剤、疎油化剤、汚点および染みに対する保護剤、充填剤のための結合剤、難燃剤、マイグレーション防止剤（特に可塑剤のマイグレーションに対するもの）、かぶり防止剤。
【００３５】
金属表面上の洗浄、エッチング、反応性改質および／または物質堆積（特にまた電気めっきおよび陽極酸化）または半導体表面（特に、半導体フォトリソグラフィー用）のための液体媒体中の添加剤として用いる際に、本発明の化合物および本発明により用いる化合物は、現像剤、リムーバー、エッジビーズ除去剤、エッチングおよび洗浄組成物として、湿潤剤および／または堆積フィルム品質増進剤として作用する。電気めっきプロセス（特にクロムめっき）の場合において、本発明はさらにまた、発泡作用を伴うかまたは伴わないフューム防止剤（fume inhibitor）としての機能に関する。
【００３６】
さらに、界面活性剤として本発明において用いることができる化合物は、洗浄および清浄用途、特に織物の洗浄および清浄用途に適する。硬質表面の清浄および光沢化はまた、界面活性剤として本発明において用いることができる化合物についての可能な適用領域である。さらに、界面活性剤として本発明において用いることができる化合物を、化粧品、例えばフォームバス(foam bath)およびヘアシャンプーにおいて、またはクリームおよびローションにおける乳化剤として、有利に用いることができる。本発明の化合物および本発明により用いる化合物を同様に、ヘアケアおよびボディーケア製品（例えばヘアリンスおよびヘアコンディショナー）における添加剤として有利に用いることができ、これは、以下の機能の１または２以上を有する：湿潤剤、発泡剤、潤滑剤、帯電防止剤、皮脂耐性増進剤。
【００３７】
本発明の化合物および本発明により用いる化合物は、除草剤、殺虫剤および殺菌剤における添加剤として作用し、これは、以下の機能の１または２以上を有する：基材湿潤剤、アジュバント、気泡防止剤、分散剤、エマルジョン安定剤。
本発明の化合物および本発明により用いる化合物を同様に、接着剤における添加剤として有益に用いることができ、これは、以下の機能の１または２以上を有する：湿潤剤、浸透剤、基材接着増進剤、消泡剤。
本発明の化合物および本発明により用いる化合物はまた、潤滑剤および油圧油における添加剤として作用することができ、これは、以下の機能の１または２以上を有する：湿潤剤、腐食防止剤。潤滑剤の場合において、分散剤（特にフッ素重合体粒子のためのもの）としての使用は、さらにまた重要な観点である。
【００３８】
パテおよび充填組成物における添加剤として用いる際には、本発明の化合物および本発明により用いる化合物は、以下の機能の１または２以上を伴って作用し得る：疎水化剤、疎油化剤、染みに対する保護剤、耐候性増進剤、ＵＶ安定剤、シリコーンブリード防止剤。
界面活性剤として本発明において用いることができる化合物についての適用のさらなる領域は、浮遊選鉱、即ち廃棄岩(dead rock)からの鉱石および鉱物の回収および分離である。このために、これらを、鉱石加工のための調製物、特に浮遊選鉱液およびリーチング液における添加剤として用い、これらは以下の機能の１または２以上を伴う：湿潤剤、発泡剤、気泡防止剤。関連する使用はまた、油井の刺激のための剤における添加剤としてのものであり、これは以下の機能の１または２以上を伴う：湿潤剤、発泡剤、乳化剤。
【００３９】
さらに、これらを、除氷剤または氷結防止剤における添加剤として用いることができる。
さらに、本発明において界面活性剤として用いることができる好ましい化合物をまた、食物における乳化剤または分散助剤として用いることができる。他の適用分野は、金属処理において、革補助剤として、建設化学および作物保護においてである。
本発明の界面活性剤はさらにまた、抗菌活性化合物として、特に抗菌性表面改質のための試薬として好適である。
【００４０】
本発明は、本発明において用いる化合物の本明細書中で言及するすべての使用に関する。前記目的のための界面活性剤のそれぞれの使用は、当業者に知られており、したがって本発明において用いる化合物の使用は、問題を提示しない。
適用のために、本発明の化合物は、通常適切に配合された調製物中に導入される。本発明は同様に、本発明の少なくとも１種の化合物を含むそれぞれの組成物に関する。このような組成物は、好ましくは特定の用途に適するビヒクルおよび任意に他の特定の活性化合物および／または任意に補助剤を含む。
【００４１】
ここで好ましい組成物は、塗料およびコーティング調製物、消火組成物、潤滑剤、洗浄および清浄組成物、除氷剤または織物仕上げもしくはガラス処理のための疎水化剤である。本発明の好ましい変形において、組成物は、織物およびカーペットを仕上げるための疎水化剤である。
織物の疎水性仕上げのために、ポリシロキサン類、フッ素化炭化水素またはアルミニウムもしくはジルコニウム塩のパラフィン類との混合物をベースとする疎水化剤が、一般的に用いられる（この点に関して、"Handbuch der Textilhilfsmittel" [Handbook of Textile Assistants], A. Chwala, V. Anger, Verlag Chemie, New York 1977, Chapter 3.24 "Phobiermittel" [Proofing Agents], ７３５頁以降を参照）。織物の疎水性仕上げは、特に雨具の場合において、これらを耐水性または防水性のいずれかにする役割を果たす。疎水化剤は、織物の繊維に適用され、ここでこれは、それ自体分子の疎水性部分が繊維表面に対して垂直であるように整列する。このようにして、水が表面全体にわたり拡散する傾向は、大幅に低減される。水は、凝集力のために球形の形状を採り、織物表面から水滴の形態で流出する。
【００４２】
本発明の組成物についてのさらなる適用領域は、塗料およびコーティング調製物、消火組成物（粉末および泡）、潤滑剤、洗浄および清浄組成物ならびに除氷剤である。
組成物は、自体公知の方法により、例えば本発明の化合物を特定の用途に適するビヒクルおよび任意にさらなる特定の活性化合物および任意に補助剤と混合することにより、調製することができる。本発明において用いる化合物は、文献から当業者に自体公知の方法により調製することができる。
本発明の化合物は、文献から当業者に自体公知の方法により調製することができる。例を、以下に記載する。
【００４３】
したがって、本発明はさらに、本発明の化合物の製造方法であって、式ＩＩ
Ｙ−スペーサー−Ｚ          ＩＩ
式中、Ｙおよび−スペーサー−は、上記で示した意味の１つを有することができ、および
Ｚは、ＯＨ、Ｂｒ、Ｃｌまたはビニルを示す、
で表される化合物を、ベンゼンおよびナフタレンの群から選択される対応する芳香族化合物と反応させ、その後スルホン化および塩形成を行うことを特徴とする、前記方法に関する。
【００４４】
上記で定義した式ＩＩで表される化合物の結合は、好ましくはフリーデル−クラフツアルキル化により行う。フリーデル−クラフツアルキル化についての反応条件および反応手順は、当業者に知られており、標準的な文献中に詳細に記載されている。式ＩＩで表される化合物の芳香族化合物との反応は、ルイス酸である三塩化アルミニウムの存在下で行う。Ｙにより修飾された両方のアルコールおよびまた塩化物もしくは臭化物、または末端二重結合を含む式ＩＩで表される化合物を、ここで用いることができる。これらの化合物の合成を、以下に記載する。
フリーデル−クラフツアルキル化によるスルホン化は、同様に標準的な方法であり、例えば三酸化硫黄との反応により行うことができる。アルカリ金属水酸化物／水におけるその後の塩形成により、対応する塩が得られる。
フリーデル−クラフツアルキル化の代替として、グリニヤール反応もまた可能である。この反応もまた、専門家の間で標準的な反応として知られている。
【００４５】
式ＩＩ
Ｙ−スペーサー−Ｚ          ＩＩ
式中、
スペーサーは、式の表現において
−（ＣＨ２）ｎ−、
−（ＣＨ２）−ＣＨ（Ｈａｌ）−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−または
−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）（ｎ−１）−、
−（ＣＨ２）ｎ−１−Ａｒ−（ＣＨ２）（ｎ’−１）−、
−（ＣＨ２）ｎ−１−Ｃ≡Ｃ−（ＣＨ２）ｎ−、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｑ−（ＣＨ２）ｎ’−
により記載され、ここで
Ａｒは、アリールを表し、
Ｑは、Ｏ、ＳまたはＮを表し、
ｎおよびｎ’は、１〜３０の範囲からの整数を表し、
Ｈａｌは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを表し、
ｐは、１〜４の範囲からの整数を表し、
【００４６】
Ｙは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−、ＳＦ５−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２Ｓ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−または［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］ＮＨ−（式中、ａは、０〜５の範囲から選択される整数を表す）、または
【化１２】
2009541402.tif 000014
式中、
Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、
Ｂは、単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２またはＳＯ２−Ｏを表し、
Ｒは、１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、
ｂは、０または１を表し、ｃは、０または１を表し、
ｑは、０または１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルは、１を表し、ならびに
ｒは、０、１、２、３、４または５を表す、
を表し、
Ｚ＝ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒまたはビニルである、
で表される化合物の合成を、これから各々の基Ｙについて詳細に記載する。
【００４７】
基Ｙは、一般的に以下のスキームに従って導入することができる：
【化１３】
2009541402.tif 000015
【００４８】
【化１４】
2009541402.tif 000016
【００４９】
【化１５】
2009541402.tif 000017
【００５０】
さらに、鎖延長は、エステルまたはアミド形成により可能である／行うことができる。
アリールスルホネートに対するさらなる官能化（界面活性剤最終生成物）：
【化１６】
2009541402.tif 000018
【００５１】
アリールスルホネートを結合させるためのこれらの方法に加えて、以下に示すリンカー官能基を用いることも可能である（リンカーを用いた芳香族Ｙの結合）。
ＣＦ３−Ｏ基は、以下のスキームに従って導入することができる：
【化１７】
2009541402.tif 000019
【００５２】
以下のことが、Ｙ＝ＣＦ３−Ｏに適用される：
脂肪族ＯＣＦ３基は、例えばキサントゲン酸塩類のフルオロ脱硫(fluorodesulfuration)によりアルコール類から得ることができる（K. Kanie, Y. Tanaka, K. Suzuki, M. Kuroboshi, T. Hiyama, Bull. Chem. Soc. Jpn. 2000, 73, 471-484; P. Kirsch, Modern Fluoroorganic Chemistry: Synthesis, Reactivity, Applications, Wiley-VCH, Weinheim, 2004, ６７頁以降、１４４頁以降）。したがって、引用した参考文献中の前記方法の対応する開示はまた、本出願の開示内容に明確に属する。アリールスルホネート基の導入は、当業者に知られている方法により可能である。
【００５３】
【化１８】
2009541402.tif 000020
【００５４】
ビニル化合物Ｇは、化合物ＤまたはＥから、脱離により得ることができる。
以下のことが、ａ＝２であるＹ＝ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−に適用される：
ＣＦ３−（ＣＨ２）２−Ｏ−基は、ＣＦ３−（ＣＨ２）２−ＯＨと化合物Ｚ−（ＣＨ２）ｎ−Ｂｒとの反応（ここで、ＣＦ３−（ＣＨ２）２−ＯＨは商業的に入手でき、Ｚは保護されたＯＨ基を表す）およびその後の水酸基の脱保護により導入する。
【００５５】
【化１９】
2009541402.tif 000021
【００５６】
ＣＦ３（ＣＨ２）ａＳ−基はまた、Mitsunobu反応または求核置換により同様に導入することができる。図式中に示すように、同様の転位（transformation）により、対応する化合物（例えば末端においてアルコール、ハロゲン化物またはオレフィン官能基を有するもの）が得られる。
【００５７】
ＳＦ５基は、以下のスキームに従って導入することができる：
アルコール類およびハロゲン化物類について：
【化２０】
2009541402.tif 000022
【００５８】
エステル類、カルボン酸類および酸塩化物について：
【化２１】
2009541402.tif 000023
【００５９】
ニトリル類、アミン類、アルデヒド類およびケトン類について：
【化２２】
2009541402.tif 000024
【００６０】
段階的または直接的酸化：
【化２３】
2009541402.tif 000025
【００６１】
オレフィン類およびアルキン類について：
【化２４】
2009541402.tif 000026
【００６２】
脂肪族ＳＦ５基は、例えば、末端二重結合に、ＳＦ５ＣｌまたはＳＦ５Ｂｒのフリーラジカル付加反応により導入することができる。例えば、脱ハロゲン化水素または水素添加を、その後任意に行うことができる。これらの反応工程の最初の２つは、ＳＦ５官能基の存在下での接触水素化(P. Kirsch, M. Bremer, M. Heckmeier, K. Tarumi, Angew. Chem. 1999, 111, 2174-2178; Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1999, 38,1989-1992)と同様に、文献(R. Winter, P. G. Nixon, G. L. Gard, D. H. Radford, N. R. Holcomb, D. W. Grainger, J. fluorine Chem. 2001, 107, 23-30)中に記載されている。したがって、引用した参考文献中の前記方法の対応する開示はまた、本出願の開示内容に明確に属する。親水性、反応性または重合性成分の導入は、対応するω−ＳＦ５−アルコールを介して、当業者に知られている方法により可能である。例は、以下のスキームにより明らかになる：
【００６３】
【化２５】
2009541402.tif 000027
ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−ＳまたはＣ２Ｆ５−Ｓ−基は、以下のスキームに従って導入することができる：
【００６４】
【化２６】
2009541402.tif 000028
【００６５】
【化２７】
2009541402.tif 000029
【００６６】
ｙ＝０または１である末端基ＣＦ３（ＣＦ２）ｙＳ−はまた、好ましくは、好適な分子または中間体中に、対応するＲｆ臭化物のチオレートとの反応により導入することができ、これは、N.V. Ignatiev et al., Zh. Organich. Khim. 1985, 21(3), ６５３頁に記載されている通りである。チオールとＲｆ−ＢｒまたはＲｆ−Ｉとの直接的な反応をまた、N.V. Ignatiev, Ukr. Khim. Zh. 2001, No. 10, ９８〜１０２頁に記載されているように行うことができる。ＣＦ３Ｓ−基をまた、N.V. Kondartenko et al. Ukr. Khim. Zh. 1975, 41(6), ５１６頁以降により記載されているようにＡｇＳＣＦ３により、またはW.A. Sheppard, J. Org. Chem. 1964, 29(4), ８９５頁以降に記載されているようにＣＦ３ＳＣｌにより導入することができる。したがって、引用した参考文献中の前記方法の対応する開示はまた、本出願の開示内容に明確に属する。
【化２８】
2009541402.tif 000030
【００６７】
ａ＝２であるＹ＝ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ−Ｓ−について：
ＣＦ３−（ＣＨ２）２−Ｓ−基は、ＣＦ３−（ＣＨ２）２−Ｉと化合物Ｚ−（ＣＨ２）ｎ−ＳＨとの反応（ここで、Ｚ−（ＣＨ２）ｎ−ＳＨは対応するハロゲン化物から容易に入手でき、Ｚは保護されたＯＨ基を表す）、およびその後の水酸基の脱保護により導入する。
【化２９】
2009541402.tif 000031
【００６８】
【化３０】
2009541402.tif 000032
【００６９】
（ＣＦ３）２Ｎ基は、以下のスキームに従って導入することができる：
【化３１】
2009541402.tif 000033
【００７０】
【化３２】
2009541402.tif 000034
【００７１】
【化３３】
2009541402.tif 000035
【００７２】
【化３４】
2009541402.tif 000036
【００７３】
以下のことが、Ｙ＝（ＣＦ３）２Ｎ−に適用される：
【化３５】
2009541402.tif 000037
末端二重結合を、フリーデル−クラフツアルキル化において直ちに用いることができる。対応するアルコール類または臭化物類を得るための修飾を、以下のスキームに示す：
【００７４】
【化３６】
2009541402.tif 000038
【００７５】
ａが０〜５の範囲から選択される整数を表すアミンビルディングブロック［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−を、Gabriel合成(Organikum: Organisch-Chemisches Grundpraktikum [Basic Practical Organic Chemistry]、第１６版、VEB Deutscher Verlag der Wissenschaften, Berlin, 1986)、続いてヒドラジンとの反応による第一アミンの遊離により、導入することができる。ＣＦ３（ＣＨ２）ＨａＩを用いたこのアミンのその後のアルキル化および脱ベンジル化により、第三アミノアルコールが重要なビルディングブロックとして得られる。
【化３７】
2009541402.tif 000039
【００７６】
以下のことが、Ｙ＝ＣＦ３ＮＨ−に適用される：
化合物ＣＦ３ＮＨ−Ｒ中の末端基ＣＦ３ＮＨ−は、対応する化合物Ｃｌ２Ｃ＝Ｎ−Ｒの過剰のＨＦとの反応により、文献から知られている方法により導入することができる（対応する合成は、例えば、Petrow et al., Zh. Obshch. Khim. 29 (1959) 2169-2172に記載されている）。あるいはまた、イソシアン酸トリフルオロメチルを、アルコールと反応させて、化合物ＣＦ３−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒを得ることも可能である（Knunyants et al. Mendeleev Chem. J. 22 (1977) 15-105またはMotornyi et al., Zh. Obshch. Khim. 29 (1959) 2157-2122に記載のとおり）。対応する出発物質は、各々、文献から知られている方法により得ることができ、生成物の基Ｒは、確立された方法により化学的に修飾することができる。
【００７７】
Ｙ＝
【化３８】
2009541402.tif 000040
式中、
Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、
Ｂは、単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ２またはＳＯ２−Ｏを表し、
Ｒは、１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、
ｂは、０または１を表し、ｃは、０または１を表し、
ｑは、０または１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルは、１を表し、ならびに
ｒは、０、１、２、３、４または５を表す、
である基Ｙは、以下のスキームに従って導入できる：
【００７８】
【化３９】
2009541402.tif 000041
【００７９】
【化４０】
2009541402.tif 000042
【００８０】
【化４１】
2009541402.tif 000043
【００８１】
【化４２】
2009541402.tif 000044
【００８２】
【化４３】
2009541402.tif 000045
【００８３】
【化４４】
2009541402.tif 000046
【００８４】
この芳香族基は、例えば示したスキームに従ってジオールまたはアルケン上に導入される。いくつかの場合において、それぞれのＲｆ置換芳香族化合物は、商業的に入手できる。そうでない場合は、合成方法をまた、各々の場合において示す。したがって、引用した参考文献中の前記方法の対応する開示はまた、本出願の開示内容に明確に属する。
基Ｒｆは、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−、ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−、ＣＦ３ＣＦ２−Ｓ−、ＳＦ５−（ＣＨ２）ｒ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］２Ｎ−、［ＣＦ３−（ＣＨ２）ｒ］ＮＨ−または（ＣＦ３）２Ｎ−（ＣＨ２）ｒ−を表し、指数は上記の通りであり、これを芳香族化合物に対する置換反応により導入することができる。Ｒｆを以下のスキームにおいて用いる場合には、他に示さない限り、本明細書中に示す定義が適用される。
【００８５】
Ｒｆ置換アリールビルディングブロックは、エーテル架橋の形成を伴うMitsunobu反応における対応するフェノール類の反応により導入することができる(O. Mitsunobu Synthesis 1981, 1)。
アリール基のＮＨまたはＮＲ結合を介しての結合は、以下のスキームに従って同様にMitsunobu条件下で行う：
【化４５】
2009541402.tif 000047
【００８６】
前記Ｒｆ置換基を含むアリールビルディングブロックは、以下の反応に従って合成することができる：
以下のことは、ＣＦ３置換基に適用される：ＣＦ３基は、以下のスキームに示す通り、芳香族カルボン酸のＨＦおよびＳＦ４との超大気圧(superatmospheric pressure)および高温の下での反応により得ることができる：
【化４６】
2009541402.tif 000048
【００８７】
式
【化４７】
2009541402.tif 000049
式中、Ｇ＝−ＣＯ２Ｈ、ＣＨ２ＮＨ２、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨＯ、−ＣＯＣｌ、−ＣＨ２Ｂｒ、−ＣＨ２ＣＯ２Ｈ、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＯ２Ｈ、−Ｃ≡ＣＣＨ２ＯＨである、
で表される化合物は、商業的に入手できる。
【００８８】
３つのフッ素化されたＣＦ３基を含む芳香族系についての誘導体化：
【化４８】
2009541402.tif 000050
ＤＣＣ：ジシクロヘキシルカルボジイミド
ＴＰＡＰ：過ルテニウム酸テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム
ＴＨＰ：テトラヒドロピラニル
【００８９】
以下のことは、ＳＦ５に適用される：
市販のｐ−ニトロペンタフルオロスルフラニル化合物の修飾は、P. Kirsch et al. Angewandte Chemie 1999, 111, 2174-2178に記載されているようにして行うことができる。
【化４９】
2009541402.tif 000051
市販の試薬は、以下のものである：
Ｇ’＝−ＯＨ、−Ｂｒ、−ＮＨ２、−ＮＯ２、−ＣＨＯ、−ＣＯ２Ｈ
【化５０】
2009541402.tif 000052
【００９０】
ｍ，ｍ−ビスペンタフルオロスルフラニル化合物は、W. A. Sheppard J. Am. Chem. Soc. 1962, 84, 3064-3072またはUS 3073861もしくはUS 3135736に記載されているようにして入手可能である：
【化５１】
2009541402.tif 000053
【００９１】
引用した参考文献中の上記の方法の対応する開示は、このようにまた、本出願の開示内容に明確に属する。
以下のことは、Ｆ３ＣＳ−またはＦ５Ｃ２Ｓ−に適用される：
【化５２】
2009541402.tif 000054
市販の試薬は、以下のものである：
Ｇ’’＝−ＯＨ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−ＮＨ２、−ＮＯ２、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ、−ＣＨＯ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＮ、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ２Ｂｒ
【００９２】
芳香族トリフルオロメチルチオエーテル類およびペンタフルオロエチルチオエーテル類は、以下のスキームに示す通り、ヨウ化芳香族化合物の置換またはチオフェノール類のエーテル化により入手可能である：
【化５３】
2009541402.tif 000055
【００９３】
以下のことは、Ｆ３ＣＯに適用される：
【化５４】
2009541402.tif 000056
市販の試薬は、以下のものである：
Ｇ’’’＝−ＯＨ、−Ｉ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−ＮＨ２、−ＳＨ、−Ｂ（ＯＨ）２、−ＣＨＯ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２Ｍｅ、−ＣＯＮＨ２、−ＣＮ、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ２Ｂｒ、−ＣＨ２ＣＮ。
【００９４】
トリフルオロメトキシ芳香族化合物は、フェノール類の四塩化炭素およびフッ化水素との反応により得ることができる。
【化５５】
2009541402.tif 000057
【００９５】
【化５６】
2009541402.tif 000058
【００９６】
出発物質ニトロレゾルシノールは、以下の文献に従って調製することができる：
Ref. 1  Funke; Krucker; BSCFAS; Bull. Soc. Chim. Fr.; 1953; 744, 746または
Ref. 1  Grosheintz; Fischer; JACSAT; J. Am. Chem. Soc.; 70; 1948; 1476, 1478。
【００９７】
ａが０〜５の範囲から選択される整数を表すアミンビルディングブロック［ＣＦ３−（ＣＨ２）ａ］２Ｎ−は、Gabriel合成(Organikum: Organisch-Chemisches Grundpraktikum [Basic Practical Organic Chemistry]、第１６版、VEB Deutscher Verlag der Wissenschaften, Berlin, 1986)、続いてヒドラジンとの反応による第一アミンの遊離により、導入することができる。ＣＦ３（ＣＨ２）ａＨａＩを用いたこのアミンのその後のアルキル化および脱ベンジル化により、第三アミノアルコールが重要なビルディングブロックとして得られる。
【００９８】
【化５７】
2009541402.tif 000059
【００９９】
以下のことは、（ＣＦ３）２Ｎ−に適用される：
【化５８】
2009541402.tif 000060
市販の試薬は、以下のものである：
Ｇ’’’’＝−ＯＨ、−Ｉ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−ＮＨ２、−ＮＨＡｃ、−ＣＨＯ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２Ｍｅ、−ＣＯＮＨ２、−ＣＮ、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ２Ｂｒ、−ＣＨ２ＣＮ。
【０１００】
（ＣＦ３）２Ｎ置換基は、F.S. Fawcett; J. Am. Chem. Soc. 84 (No.22) (1962) 4275-4285に記載のとおりに、イソシアネート類から開始して、フルオロホスゲンとの反応およびＳＦ４／ＨＦを用いたその後のフッ素化により、またはイソチオシアネート類から開始して、二フッ化水銀との反応およびその後のフルオロホスゲンとの反応、およびＳＦ４／ＨＦを用いたその後のフッ素化により、得ることができる：
【化５９】
2009541402.tif 000061
【０１０１】
ビストリフルオロメチルアニリン類を調製するための代替経路は、芳香族アルデヒド類から開始し、R.E. Banks, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 (1973) 80-82に詳細に記載されている：
【化６０】
2009541402.tif 000062
【０１０２】
以下のことは、ＣＦ３ＮＨ−に適用される：
化合物ＣＦ３ＮＨ−Ｒ中の末端基ＣＦ３ＮＨ−は、対応する化合物Ｃｌ２Ｃ＝Ｎ−Ｒの過剰のＨＦとの反応により、文献から知られている方法により導入することができる（対応する合成は、例えば、Petrow et al., Zh. Obshch. Khim. 29 (1959) 2169-2173またはE. Kuhle, Angew. Chem. 89 (No.11) (1977), 797-804に記載されている）。あるいは、イソシアン酸トリフルオロメチルを、アルコールと反応させて、化合物ＣＦ３−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒを得ることができる（Knunyants et al. Mendeleev Chem. J. 22 (1977) 15-105またはMotornyi et al., Zh. Obshch. Khim. 29 (1959) 2157-2122に記載のとおり）。対応する出発物質は、各々、文献から知られている方法により得ることができ、またはＣｌ２Ｃ＝Ｎ−Ｒタイプの化合物は、化合物Ｒ−ＮＨ−ＣＨＯの塩素およびＳＯＣｌ２との反応により得ることができ、生成物の基Ｒは、確立された方法により化学的に修飾することができる。
【０１０３】
したがって、ここで引用した参考文献中の前記方法の対応する開示もまた、本出願の開示内容に明確に属する。
前記反応についての好適な溶媒および反応条件の選択は、当業者に全く困難を与えない(Organikum: Organisch-Chemisches Grundpraktikum [Basic Practical Organic Chemistry]、第１６版、VEB Deutscher Verlag der Wissenschaften, Berlin, 1986)。
【０１０４】
明細書中で言及した好ましい化合物、その使用、組成物および方法に加えて、本発明の主題のさらなる好ましい組み合わせは、特許請求の範囲中に開示されている。
したがって、引用した参考文献中の開示もまた、本出願の開示内容に明確に属する。
以下の例は、保護の範囲を限定せずに本発明を一層詳細に説明する。特に、特定の例が基づく化合物の例中に記載した特徴、特性および利点はまた、詳細に述べていないが、保護の範囲内にある他の物質および化合物に、他の箇所に逆のことが記載されていない限り該当し得る。さらに、本発明は、特許請求の範囲に記載された全範囲にわたって行うことができ、本明細書中で述べる例には限定されない。
【０１０５】
例
用いる略語のリスト：
Ｂｎ：ベンジル
ＤＢＨ：１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン
ＤＣＭ：ジクロロメタン
ＤＭＡＰ：４−（ジメチルアミノ）ピリジン
Ｍｅ：メチル
ＭＴＢＥ：メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル
ＲＴ  室温（２０℃）
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＰＥ：石油エーテル
ＤＣＣ  Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド
ＴＰＡＰ  過ルテニウム酸テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム
９−ＢＢＮ  ９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナン
【０１０６】
例１
１．アルコールの合成
【化６１】
2009541402.tif 000063
１５ｇのデセノールを、２５０ｍｌのＤＣＭに溶解し、−４０℃に冷却する。２７ｇのＳＦ５Ｃｌ（コールドトラップにより予め凝縮させたもの）を、装置中にガスとして通じる。活性化のために、２ｍｌの１ＭのＥｔ３Ｂ溶液を加える。活性化を、ガスの導入の間バッチがもはや加温されなくなるまで繰り返す。混合物を、同一の温度にてさらに２時間撹拌する。反応混合物を、氷／ＮａＨＣＯ３溶液（飽和）に加えることにより加水分解し、次にＮａＯＨを用いてｐＨ１０に調整する。分離した水性相をＭＴＢエーテルで２回洗浄する。採集した有機相をＮａＣｌ溶液で１回抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、溶媒を蒸留により除去する。
【０１０７】
【化６２】
2009541402.tif 000064
９ｇの出発物質を、還流凝縮器を備えた２５０ｍｌの一口フラスコ中の１２０ｍｌのエタノールに溶解し、その後ＫＯＨ粉末を加える。反応混合物を一晩撹拌する。反応混合物を濃縮し、水およびＭＴＢＥを加え、相を分離し、水性相をＭＴＢＥで３回抽出し、採集した有機相を飽和ＮａＣｌで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、濾過し、溶媒を蒸留により除去する。
【０１０８】
【化６３】
2009541402.tif 000065
２．フリーデル−クラフツアルキル化：
アルコール（２８ｇ）を、２００ｇのクロロベンゼンに溶解し、１３ｇのナフタレンを加え、その後１３ｇのＡｌＣｌ３を加える。１００℃にて１２時間加温した後、反応混合物を氷に加え、有機相を分離する。有機相を濃縮し、アルキルナフタレンを再結晶させる。
３．スルホネートへの変換
アルキルナフタレン（３９ｇ）を、４０℃より低い温度にて溶媒を用いずに三酸化硫黄（８ｇ）を用いてスルホニル化し、単離する。単離した生成物を、ＮａＯＨ（６ｇ）と水（３０ｇ）との混合物に加え、スルホネートを生成する。
【０１０９】
例２
臭化物の合成：
【化６４】
2009541402.tif 000066
１．臭素化
アルコール（８．３ｇ、２９．４ｍｍｏｌ）を、最初に乾燥ＤＣＭ（０．２モル溶液）中に導入し、トリフェニルホスフィン（１１．６ｇ、４４ｍｍｏｌ、１．４当量）およびその後分割してテトラブロモメタン（ＣＢｒ４：１６．６ｇ、５０ｍｍｏｌ、１．５当量）を加える。反応を４時間撹拌し、次に飽和ＮａＨＣＯ３溶液を用いてクエンチし、ＭＴＢＥで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥する。
生成した粗生成物を、ヘプタンを有するカラムに通じ、９ｇの無色油を得る。
【０１１０】
２．フリーデル−クラフツアルキル化：
臭素化物（３４ｇ）を、２００ｇのクロロベンゼンに溶解し、１３ｇのナフタレンを加え、その後１３ｇのＡｌＣｌ３を加える。１００℃にて１２時間加温した後、反応混合物を氷に加え、有機相を分離する。有機相を濃縮し、アルキルナフタレンを再結晶させる。
【化６５】
2009541402.tif 000067
３．スルホネートへの変換
アルキルナフタレン（３９ｇ）を、４０℃より低い温度にて溶媒を用いずに三酸化硫黄（８ｇ）を用いてスルホニル化し、単離する。単離した生成物を、ＮａＯＨ（６ｇ）と水（３０ｇ）との混合物に加え、スルホネートを生成する。
【０１１１】
４．ベンゼンを有する類似の界面活性剤
【化６６】
2009541402.tif 000068
１．（Ｅ）−１０−ブロモ−１−ペンタフルオロスルファニルデク−１−エン（３５ｇ）を、Ｃ６Ｈ６（２００ｇ）中でＡｌＣｌ３触媒（２６ｇ）によりアルキルベンゼンに変換する。
２．第２の工程において、（Ｅ）−１０−（ペンタフルオロ）スルファニルデク−９−エニル）ベンゼン（３４ｇ）を、三酸化硫黄（１６ｇ）を用いてスルホニル化する。塩生成を、ＮａＯＨ／水（４ｇ／２０ｇ）を用いて行う。
【０１１２】
例３
工程１：
ペンタフルオロチオブロモデク−１−エンの合成
チオデセノール（臭化チオデセニルの前駆体）を、ＳＦ５Ｃｌを１０−ブロモデク−１−エン上に加え、その後ＨＣｌを脱離させることにより得る（例２を参照）。
オレフィン−変法１
【化６７】
2009541402.tif 000069
１）Ｋ−Ｏ−ｔ−Ｂｕ（０．１２ｍｏｌ）を、テトラヒドロフラン（７５ｇ）に加え、次にペンタフルオロチオブロモデク−１−エン（０．１ｍｏｌ）を計量して加え、混合物を５０℃にて１２時間撹拌する。反応混合物を氷に加える。（Ｅ）−１−ペンタフルオロスルファニルデカ−１，９−ジエンビルディングブロックを、慣用の実験室方法を用いて単離、精製する。
【０１１３】
オレフィン−変法２
【化６８】
2009541402.tif 000070
アルコール（０．１ｍｏｌ）を、メタンスルホン酸エステル中間体に、ＴＨＦ（７５ｇ）中のＭｅＳＯ２Ｃｌ（０．１１ｍｏｌ）および０．１５ｍｏｌのＮａＨＣＯ３を用いて１０〜２０℃にて変換する（反応時間：１〜３時間）。Ｎａ−Ｏ−ｔ−Ｂｕ（０．１５ｇ）を反応混合物に加え、次にこれを２５℃にて６時間撹拌する。反応混合物を氷に加える。（Ｅ）−１−ペンタフルオロスルファニルデカ−１，９−ジエンを、慣用の実験室方法を用いて単離、精製する。
【０１１４】
【化６９】
2009541402.tif 000071
１）（Ｅ）−１−ペンタフルオロスルファニルデカ−１，９−ジエン（２６ｇ）を、最初にベンゼン（１２０ｇ）中に導入し、ＡｌＣｌ３触媒（１６ｇ）を用いて対応するアルキルベンゼンに変換する。単離のために、混合物を、氷を用いてクエンチし、有機相を分離し、濾過し、濃縮する。
２）アルキルベンゼン（３４ｇ）を、三酸化硫黄（１７ｇ）を用いてスルホニル化する。塩生成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１１５】
例４
【化７０】
2009541402.tif 000072
１）例１に従って調製したアルコール（２８ｇ）、塩基Ｎａ−Ｏ−ｔ−Ｂｕ（０．２ｇ）および触媒Ｐｄ−ＤＢＡ（５ｇ）を、トルエン（１００ｇ）中の２−（３−）クロロナフタレン（１６ｇ）に加える。加温（６時間；１００℃）および冷却の後、アルコキシナフタレンを、慣用の実験室方法を用いて単離する。
２）例２に従って調製したブロモ化合物（３５ｇ）および塩基Ｎａ２ＣＯ３（１１ｇ）を、トルエン（１００ｇ）中の２−（３−）ヒドロキシナフタレン（１５ｇ）に加える。加温（３時間、８０℃）および冷却の後、アルコキシナフタレンを、慣用の実験室方法を用いて単離する。
３）アルコキシナフタレン（４１ｇ）を、三酸化硫黄（１２ｇ）を用いて溶媒を用いずにスルホニル化し（４０℃より低い温度）、次に、単離した後、ＮａＯＨ（６ｇ）および水（３０ｇ）の混合物を用いて塩生成。
【０１１６】
例５
【化７１】
2009541402.tif 000073
【０１１７】
１）例１に従って調製したヘキセノール（２８ｇ）を、ブロモクロロエタン（１４ｇ）を用いて２００ｍｌのＴＨＦ中で、トリエチルアミン（１０ｇ）を加えて４０℃にてエーテル化する。生成物を、慣用の実験室方法を用いて単離する。
２）クロロエチルエーテル（３５ｇ）およびナフタレン（１３ｇ）を、その後ＡｌＣｌ３触媒（２６ｇ）を用いてアルキルナフタレンに変換する。生成物を、同様に慣用の実験室方法を用いて単離する。
３）アルキルナフタレン（４４ｇ）を、三酸化硫黄（１７ｇ）を用いてスルホニル化し、塩生成のために氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。まずエタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１１８】
例６
【化７２】
2009541402.tif 000074
【０１１９】
１）例１に従って調製したアルコール（２８ｇ）を、５０℃で４時間、ＴＨＦ（１００ｇ）中の塩化ホモアリル（０．１ｍｏｌ）およびＮａ２ＣＯ３（１１ｇ）と共に撹拌し、次にホモアリルエーテルを、慣用の実験室方法を用いて単離する。
２）ホモアリルエーテル（０．１ｍｏｌ）を、クロロベンゼン（１００ｇ）に溶解し、ナフタレン（１３ｇ）およびＡｌＣｌ３（２６ｇ）を加え、混合物を、８０℃で６時間撹拌し、次にアルキルナフタレンを、慣用の実験室方法を用いて単離する。
３）アルキルナフタレン（４５ｇ）を、三酸化硫黄（１２ｇ）を用いてアルキルナフタレンスルホン酸に変換する。塩生成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１２０】
例７
【化７３】
2009541402.tif 000075
１）例３と同様にして、例１に従って調製した２８ｇのアルコールを、１８ｇの２−（３）−クロロメチルナフタレンと、０．２ｇのＮａ−Ｏ−ｔ−Ｂｕおよび５ｇのＰｄ−ＤＢＡの存在下で反応させる。
２）アルコキシメチルナフタレン（４２ｇ）を、ＳＯ３（１２ｇ）を用いてスルホン化し、塩生成のために、氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加える。水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１２１】
例８
【化７４】
2009541402.tif 000076
１）エーテル化／変法１。ブロモヘキサン（２７ｇ）およびＮａ２ＣＯ３（１４ｇ）を、ＴＨＦ（５０ｇ）中の３，３，３−トリフルオロプロパン−１−オール（１１ｇ）に加え、混合物を５０℃で６時間撹拌する。慣用の実験室方法を用いた単離により、エーテルを得る。
【０１２２】
２）エーテル化／変法２。ヘキサノール（２１ｇ）およびトリフェニルホスフィン（６０ｇ）を、ＴＨＦ（５０ｇ）中の３，３，３−トリフルオロプロパノール（１１ｇ）に加え、適切な混合のために、混合物を超音波浴中に１０分間置く。アゾジカルボン酸ジイソプロピル（ＤＩＡＤ、５０ｇ）を１５分かけて滴加し、反応混合物を合計３時間激しく撹拌する。溶媒を蒸発させる。その後、冷ｎ−ヘキサン（９０ｍｌ）を加え、この間酸化トリフェニルホスフィンが沈殿する。固体を濾別し、溶液を蒸発させ、残留物をジクロロメタン（１００ｇ）中に回収し、溶液を、ＳｉＯ２の層を通して濾過する。溶出液を濃縮し、残留物は生成物からなる。
【０１２３】
３）脱ベンジル化。［６−（３，３，３−トリフルオロプロポキシ）ヘキシルオキシメチル］ベンゼン（５ｇ）を、エタノール（３０ｇ）中に回収し、触媒Ｐｄ／Ｃ（５％）（０．５ｇ）および水素（大気圧）を加えて３０℃で水素添加する。反応溶液を濾過し、濃縮し、生成物６−（３，３，３−トリフルオロプロポキシ）ヘキサン−１−オールを得る。
４）フリーデル−クラフツアルキル化
【化７５】
2009541402.tif 000077
【０１２４】
１）アルキルナフタレン。アルコール（２０ｇ）をクロロベンゼン（１００ｇ）に溶解し、ナフタレン（１３ｇ）および次いでＡｌＣｌ３（２６ｇ）を加える。混合物を１００℃で１２時間加温した後、これを氷に加え、有機相を分離する。これを濾過し、濃縮し、アルキルナフタレンを再結晶させる。
２）アルキルナフタレンスルホン酸
アルキルナフタレン（３１ｇ）を、三酸化硫黄（１２ｇ）を用いて、溶媒を用いずにスルホニル化する（４０℃より低い温度）。塩形成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１２５】
例９
【化７６】
2009541402.tif 000078
【０１２６】
１）ペンタンアルコールを、例６と同様にして、Williamsonエーテル合成により得る。
２）アルコキシナフタレン。ペンタノール（０．１ｍｏｌ）、Ｎａ−Ｏ−ｔ−Ｂｕ（０．２ｇ）および触媒Ｐｄ−ＤＢＡ（５ｇ）を、２−（３−）クロロナフタレン（１６ｇ）に加え、混合物を８０℃にて４時間加温し、冷却後、アルコキシナフタレンを、慣用の実験室方法を用いて単離する。
３）アルコキシナフタレンスルホン酸。アルコキシナフタレン（３３ｇ）を、ＳＯ３（１２ｇ）を用いてスルホニル化する。塩形成のために、反応混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１２７】
例１０
【化７７】
2009541402.tif 000079
【０１２８】
１）例６に従って得られるアルコール（２０ｇ）を、ＴＨＦ（１００ｇ）中の１−クロロブト−３−エン（０．１ｍｏｌ）およびＮａ２ＣＯ３（１１ｇ）と共に５０℃にて４時間撹拌し、次にホモアリルエーテルを、慣用の実験室方法を用いて単離する。
２）ホモアリルエーテル（０．１ｍｏｌ）を、クロロベンゼン（１００ｇ）に溶解し、ナフタレン（１３ｇ）およびＡｌＣｌ３（２６ｇ）を加え、混合物を８０℃で６時間撹拌し、次にアルキルナフタレンを、慣用の実験室方法を用いて単離する。
３）アルキルナフタレン（０．１ｍｏｌ）を、三酸化硫黄（１２ｇ）を用いてアルキルナフタレンスルホン酸に変換する。塩形成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１２９】
例１１
【化７８】
2009541402.tif 000080
キサントゲン酸塩の変形
１）キサントゲン酸塩。水素化ナトリウム（０．１２ｍｏｌ、６０％パラフィン懸濁液として）を、２００ｍｌのジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に加え、混合物を０℃に冷却し、次にベンジルオキシペンタノール（０．１ｍｏｌ、３０ｍｌのＤＭＦに溶解したもの）を加える。混合物を、さらに６０〜９０分間撹拌する。次に、二硫化炭素（０．２ｍｏｌ）を−５〜０℃にて滴加し、混合物をさらに２時間撹拌する。最後に、ヨウ化メチル（０．１２ｍｏｌ）を計量して加え、混合物を２０℃で１０〜１４時間撹拌する。生成物を、慣用の実験室方法を用いて単離し、精製する。
【０１３０】
２）ＣＦ３エーテル。まず、（ＨＦ）９／Ｐｙ（１６０ｍｌ、６５％）および次にキサントゲン酸メチル（１００ｍｍｏｌ、８０ｍｌのＤＣＭ中）を、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン（０．２９ｍｏｌ）をＤＣＭ（５００ｍｌ）に懸濁させた懸濁液に、−７８℃で加える。反応混合物を−７８℃でさらに１時間撹拌し、その後２時間かけて０℃に加温し、この温度でさらに２時間撹拌する。反応が完了した際に、生成物を、慣用の実験室方法を用いて単離し、精製する。
３）トリフルオロメトキシペンタノール。トリフルオロメトキシペンチルベンジルエーテル（０．１ｍｏｌ）を、エタノール（６０ｇ）中に回収し、触媒Ｐｄ／Ｃ（５％）（０．５ｇ）および水素（大気圧）を加えて３０℃で水素添加する。反応溶液を濾過し、濃縮し、生成物を得る。
【０１３１】
４）アルコール（１７ｇ）を、クロロベンゼン（１００ｇ）に溶解し、ナフタレン（１３ｇ）、次いでＡｌＣｌ３（２６ｇ）を加える。混合物を１００℃で１２時間加温した後、これを氷に加え、有機相を分離し、濾過し、濃縮し、アルキルナフタレンを再結晶させる。
５）アルキルナフタレン（２８ｇ）を、三酸化硫黄（１２ｇ）を用いて、溶媒を用いずにスルホニル化（４０℃より低い温度）／単離する。塩形成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１３２】
例１２
【化７９】
2009541402.tif 000081
【０１３３】
１）例１１に従って調製したアルコール（１７ｇ）、塩基Ｎａ−Ｏ−ｔ−Ｂｕ（０．２ｇ）および触媒Ｐｄ−ＤＢＡ（５ｇ）を、１−（２−）クロロナフタレン（１６ｇ）に加え、混合物を７０℃にて６時間加温し、次に冷却する。慣用の実験室方法を用いた生成物の単離により、アルコキシナフタレンが得られる。
２）アルコキシナフタレン（３０ｇ）を、ＳＯ３（１０ｇ）を用いてスルホニル化する。塩形成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１３４】
例１３
【化８０】
2009541402.tif 000082
【０１３５】
１）例１１に従って調製したアルコール（１７ｇ）を、２００ｍｌのＴＨＦ中のブロモクロロエタン（１４ｇ）を用いて、トリエチルアミン（１０ｇ）を加えて、４０℃にてエーテル化する。生成物を、慣用の実験室方法を用いて単離する。
２）その後、クロロエチルエーテル（２３ｇ）およびナフタレン（１３ｇ）をアルキルナフタレンに、６０℃で３時間において、ＡｌＣｌ３触媒（２６ｇ）を用いて変換する。生成物を、同様に慣用の実験室方法を用いて単離する。
３）アルキルナフタレンスルホン酸
アルキルナフタレン（３４ｇ）を、三酸化硫黄（１７ｇ）を用いてスルホニル化し、塩形成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。まずエタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１３６】
例１４
【化８１】
2009541402.tif 000083
【０１３７】
１）ＴＨＦ（１００ｇ）中の１−クロロペント−４−エン（０．１ｍｏｌ）およびＮａ２ＣＯ３（１１ｇ）を、３，３，３−トリフルオロプロパン−１−オール（１１ｇ）に加え、混合物を還流下で４時間撹拌し、次にアリルエーテルを、慣用の実験室方法を用いて単離する。
２）５−（３，３，３−トリフルオロプロポキシ）ペント−１−エン（１８ｇ）を、最初にベンゼン（１００ｇ）中に導入し、次にＡｌＣｌ３触媒（２６ｇ）と共に６０℃で６時間加温し、対応するアルキルベンゼンに変換する。生成物を、慣用の実験室方法により単離する。
３）アルキルベンゼン（２５ｇ）を、三酸化硫黄（１２ｇ）を用いてスルホニル化する。塩形成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１３８】
例１５
【化８２】
2009541402.tif 000084
【０１３９】
例１１と同様に、中間体５−トリフルオロメトキシペント−１−エンを、まずペント−４−エン−１−オールから、キサントゲン酸塩法により得る。
１）５−トリフルオロメトキシペント−１−エン（１５ｇ）を、最初にベンゼン（１２０ｇ）中に導入し、ＡｌＣｌ３触媒（１６ｇ）を用いて対応するアルキルベンゼンに変換する。単離のために、混合物を、氷を用いてクエンチし、有機相を分離し、濾過し、濃縮する。
２）アルキルベンゼン（２２ｇ）を、三酸化硫黄（１７ｇ）を用いてスルホニル化する。塩形成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１４０】
例１６
３−（ビストリフルオロメチルアミノ）プロパン−１−オール：
【化８３】
2009541402.tif 000085
ビストリフルオロアリルアミン（２３．２ｇ、１２０ｍｍｏｌ）を、ＲＴにて、９−ＢＢＮ（２４０ｍｌ）をＴＨＦ（２００ｍｌ）に溶解した撹拌溶液に滴加する。
２４時間後、反応混合物を０℃に冷却し、その後３ＭのＮａＯＨ（４４ｍｌ、熱の発生）および３０％のＨ２Ｏ２溶液（４０ｍｌ、ドライアイス／アセトン浴を用いて対向冷却する(countercool)）を滴加する。混合物を５０℃で１時間加熱し（無色固体が再溶解する）、次にＲＴに冷却する。
精製操作のために、飽和ＮａＣｌ溶液を加え、相を分離し、有機相を、Ｎａ２ＳＯ３溶液と共に振盪することにより再び洗浄し、次に硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤を濾別する。溶媒を除去し、残留物（生成物）を蒸留する。
【０１４１】
例１７
１−ブロモ−３−（ビストリフルオロメチルアミノ）プロパン：
【化８４】
2009541402.tif 000086
アルコール（１１０ｍｍｏｌ）を、最初に乾燥ＤＣＭ（０．２モル溶液）中に導入し、トリフェニルホスフィン（１５４ｍｍｏｌ、１．４当量）およびその後分割してテトラブロモメタン（ＣＢｒ４、１６５ｍｍｏｌ、１．５当量）を加える。反応物を４時間撹拌し、次に飽和ＮａＨＣＯ３溶液を用いてクエンチし、ＭＴＢＥで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥する。
生成した粗生成物を、蒸留により単離する。
【０１４２】
【化８５】
2009541402.tif 000087
【０１４３】
１）１−ブロモ−３−（ビストリフルオロメチルアミノ）プロパン（１８．２ｇ）を、１００ｇのクロロベンゼンに溶解し、ナフタレン（１３ｇ）および次にＡｌＣｌ３（１３ｇ）を加える。１００℃で１２時間加温した後、混合物を氷に加え、有機相を分離する。有機相を濃縮し、アルキルナフタレンを再結晶させる。
２）アルキルナフタレン（３２ｇ）を、三酸化硫黄（１２ｇ）を用いて、溶媒を用いずにスルホニル化する（４０℃より低い温度）。塩形成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１４４】
例１８
【化８６】
2009541402.tif 000088
【０１４５】
１）例１６に従って調製した３−（ビストリフルオロメチルアミノ）プロパン−１−オール（２１ｇ）および塩基Ｎａ−Ｏ−ｔ−Ｂｕ（０．２ｇ）および触媒Ｐｄ−ＤＢＡ（５ｇ）を、１−（２−）クロロナフタレン（１６ｇ）に加える。加温（６時間、１００℃）および冷却の後、アルコキシナフタレンを、慣用の実験室方法を用いて単離する。
２）アルコキシナフタレン（３０ｇ）を、三酸化硫黄（１２ｇ）を用いてアルキルナフタレンスルホン酸に変換する。塩形成のために、混合物を氷／メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに加え、水相をこの溶媒で抽出し、すべての有機相を蒸発させる。エタノール、次にＮａＯＨ（４ｇ）を加え、混合物を短時間加温し、冷却し、生成した結晶を単離し、乾燥する。
【０１４６】
例１９
４−（１２−トリフルオロメトキシドデシル）ベンゼンスルホン酸ナトリウム塩
（１２−トリフルオロメトキシドデシル）ベンゼン
【化８７】
2009541402.tif 000089
０．５ｇのＡｌＣｌ３を、窒素下０℃で撹拌しながら、３．３３ｇの１−ブロモ−１２−トリフルオロメトキシドデカンを１０ｍｌのベンゼンに溶解した溶液に加え、混合物を、２０〜２５℃で４８時間撹拌する（Gilman; Meals; J. Org. Chem., 1943; 126と同様にして）。生成物を単離するために、反応混合物を氷に加え、有機相を分離し、濾過し、溶媒を５０℃にて真空中で除去し、無色のろう状固体を得る。
【０１４７】
４−（１２−トリフルオロメトキシドデシル）ベンゼンスルホン酸ナトリウム塩
【化８８】
2009541402.tif 000090
２．６７ｇのクロロスルホン酸を、窒素下０℃で撹拌しながら、５．８ｇの（１２−トリフルオロメトキシドデシル）ベンゼンを２６ｍｌの１，２−ジクロロエタンに溶解した溶液に加え、混合物を、１５〜２０℃で３時間撹拌する。生成物を単離するために、反応混合物を氷に加え、有機相を分離し、濾過し、溶媒を４０℃にて真空中で除去する。１８ｍｌの１ＭのＮａＯＨを残留物に加え、混合物を撹拌し、次に水を水性相から真空中で注意深く除去し、淡黄色の無定形固体を得る。
【化８９】
2009541402.tif 000091
【０１４８】
例２０
４−（１２−トリフルオロメチルスルファニルドデシル）ベンゼンスルホン酸ナトリウム塩
（１２−トリフルオロメチルスルファニルドデシル）ベンゼン
【化９０】
2009541402.tif 000092
（１２−トリフルオロメトキシドデシル）ベンゼンの調製と同様に、０．５ｇのＡｌＣｌ３を、窒素下０℃でで撹拌しながら、３．４９ｇの１−ブロモ−１２−トリフルオロメチルスルファニルドデカンを１０ｍｌのベンゼンに溶解した溶液中に計量して加え、混合物を、２０〜２５℃で４８時間撹拌する（Gilman; Meals; J. Org. Chem., 1943; 126と同様にして）。生成物を単離するために、反応混合物を氷に加え、有機相を分離し、濾過し、溶媒を５０℃にて真空中で除去し、ほぼ無色の固体を得る。
【０１４９】
４−（１２−トリフルオロメチルスルファニルドデシル）ベンゼンスルホン酸ナトリウム塩
【化９１】
2009541402.tif 000093
２．４３ｇのクロロスルホン酸を、窒素下０℃で撹拌しながら、５．６ｇの（１２−トリフルオロメチルスルファニルドデシル）ベンゼンを２４ｍｌの１，２−ジクロロエタンに溶解した溶液に加え、混合物を、１５〜２０℃で３時間撹拌する。生成物を単離するために、反応混合物を氷に加え、有機相を分離し、濾過し、溶媒を４０℃にて真空中で除去する。１６ｍｌの１ＭのＮａＯＨを残留物に加え、混合物を撹拌し、次に水を水性相から真空中で注意深く除去し、無定形固体を得る。
【化９２】
2009541402.tif 000094
【０１５０】
例２１
４−［１０−（ビストリフルオロメチルアミノ）デシル］ベンゼンスルホン酸ナトリウム塩
（１０−フェニルデシル）ビストリフルオロメチルアミン
【化９３】
2009541402.tif 000095
（１２−トリフルオロメトキシドデシル）ベンゼンの調製と同様に、０．５ｇのＡｌＣｌ３を、窒素下０℃で撹拌しながら、３．７２ｇの（１０−ブロモデシル）ビストリフルオロメチルアミンを１０ｍｌのベンゼンに溶解した溶液中に計量して加え、混合物を、２０〜２５℃で４８時間撹拌する（Gilman; Meals; J. Org. Chem., 1943; 126と同様にして）。生成物を単離するために、反応混合物を氷に加え、有機相を分離し、濾過し、溶媒を５０℃にて真空中で除去し、無定形固体を得る。
【０１５１】
４−［１０−（ビストリフルオロメチルアミノ）デシル］ベンゼンスルホン酸ナトリウム塩
【化９４】
2009541402.tif 000096
２．８９ｇのクロロスルホン酸を、窒素下０℃で撹拌しながら、７．００ｇの（１０−フェニルデシル）ビストリフルオロメチルアミンを２９ｍｌの１，２−ジクロロエタンに溶解した溶液に加え、混合物を、１５〜２０℃で３時間撹拌する。生成物を単離するために、反応混合物を氷に加え、有機相を分離し、濾過し、溶媒を４０℃にて真空中で除去する。１９ｍｌの１ＭのＮａＯＨを残留物に加え、混合物を撹拌し、次に水を水性相から真空中で注意深く除去し、帯黄色の無定形固体を得る。
【化９５】
2009541402.tif 000097
【０１５２】
例２２
１２−（ビストリフルオロメチルアミノ）ドデカンカルボン酸４−スルホフェニルナトリウム塩
１２−（ビストリフルオロメチルアミノ）ドデカンカルボン酸
【化９６】
2009541402.tif 000098
Jones試薬（２．５６ｇのＣｒＯ３を１１ｍｌの水に溶解した溶液に１．６８ｍｌの濃Ｈ２ＳＯ４を０℃で加えることにより得られる）を、窒素下０℃で撹拌しながら、４．７２ｇの１２−（ビストリフルオロメチルアミノ）ドデカン−１−オールを５６ｍｌのアセトンに溶解した溶液に加え、混合物を、２０℃で１時間撹拌する。生成物を単離するために、反応混合物を濾過し、溶媒を得られた溶出液から３０℃で真空中で除去する。粗生成物を、シクロヘキサン／酢酸エチル（８：２）の混合物中、シリカゲル上でクロマトグラフィー分離し、無定形固体を得る。
【０１５３】
１２−（ビストリフルオロメチルアミノ）ドデカンカルボン酸４−スルホフェニルナトリウム塩
【化９７】
2009541402.tif 000099
１２ｇのＳＯＣｌ２を、窒素下０℃で撹拌しながら、３．５１ｇの１２−（ビストリフルオロメチルアミノ）ドデカンカルボン酸を２５ｍｌのアセトンに溶解した溶液中に計量して加え、混合物を、６０〜７０℃にて０．７５時間撹拌し、次に過剰のＳＯＣｌ２および約５０％のトルエンを、蒸留により除去する。次に、１０ｍｌのＴＨＦ、２．４５ｇの４−ヒドロキシフェニルスルホン酸ナトリウム塩および４ｍｌのトリエチルアミンを、０〜１０℃にてトルエン中に残留する酸塩化物に順次加え、混合物を、２５℃で４時間撹拌する。生成物を単離するために、反応混合物を濾過し、溶媒を得られた溶出液から３０〜４０℃で真空中で除去し、部分的に結晶性の固体を得る。
【化９８】
2009541402.tif 000100
【０１５４】
例２３
４−［１２−（ビストリフルオロメチルアミノ）ドデシルオキシ］ベンゼンスルホン酸ナトリウム塩
【化９９】
2009541402.tif 000101
４．８４ｇの４−ヒドロキシフェニルスルホン酸ナトリウム塩および０．９７ｇのＮａＯＨ（粉末状）を、２０℃にて窒素下で撹拌しながら、８．８０ｇの（１２−ブロモドデシル）ビストリフルオロメチルアミンを４４ｍｌのＤＭＦに溶解した溶液に加え、混合物を、５５〜６５℃にて２４時間撹拌する。生成物を単離するために、反応混合物を濾過し、溶媒を得られた溶出液から４０〜６０℃で真空中で除去する。５５ｍｌのエタノールを生成した粗生成物に加え、混合物を４０℃に加温し、懸濁液を０℃に冷却する。固相の分離により淡褐色の固体を得、これを３０℃にて真空中で乾燥する。
【化１００】
2009541402.tif 000102
【０１５５】
例２４：生化学的分解性の決定
化合物の生化学的分解性を、European Commission publication: Classification, Packaging and Labelling of Dangerous Substances in the European Union, Part II - Testing Methods, Annex V - Methods for the Determination of Physico-Chemical Properties, Toxicity and Ecotoxicity, Part B, Biochemical Degradability - Zahn-Wellens Test (C.9.)、１９９７年１月、３５３〜３５７頁に対応するZahn-Wellens試験により決定する。
バッチ容積：１．５ｌ
活性化スラッジ濃度：１ｇの固体／ｌ
スラッジの由来：Merck KGaA; Darmstadtの処理プラント（調整していない（not adapted））
用いる試験物質の量：ＤＯＣとして約１００〜２００ｍｇ／ｌ
曝気：精製空気を用いる
試料の精製操作(work-up)：濾過（ミディアム〜ハードフィルター）
ＤＯＣの決定：Dimatec機器を用いた差分法（difference method）による
【０１５６】
方法についてのさらなる詳細は、上記の刊行物およびまたOECD Guideline for the testing of chemicals, 第３章、degradation and accumulation, method 302 B, １〜８頁、採用：１９９２年７月１７日中に示されており、この内容は、この点において本出願の開示内容に明確に属する。
さらに、試験における化合物自体の分解に加えて、フッ化物定量によりフッ素含有基の分解をも観察する：
方法：イオンクロマトグラフィー
機器：Dionex 120
検出器のタイプ：電導度検出器
カラム：ＡＳ９ＨＣ溶離剤：炭酸ナトリウム溶液、９ｍｍｏｌ／ｌ流量：１ｍｌ／分
文献：EN ISO 10304-2
【０１５７】
例２５：表面張力の決定
機器：Kruess張力計（モデルＫ１２）
測定溶液の温度：２０℃
用いる測定モジュール：リング
測定溶液の濃度：脱イオン水中約０．５〜３．０ｇ／ｌ
方法についてのさらなる詳細は、the European Commission publication: Classification, Packaging and Labelling of Dangerous Substances in the European Union, Part II - Testing Methods, Annex V - Methods for the Determination of Physico-Chemical Properties, Toxicity and Ecotoxicity, Part A, Surface Tension (A.5), １９９７年１月、５１〜５７頁およびまたOECD Guideline for the testing of chemicals, section 1, physical-chemical properties,  method 115, １〜７頁、採用：１９９５年７月２７日により示されており、この内容は、この点において本出願の開示内容に明確に属する。
【国際調査報告】
2009541402.tif 000107
2009541402.tif 000108
2009541402.tif 000109
2009541402.tif 000110