(57)【要約】  基板1、第１電極2及び第２電極4を有し、また前記電極2・4間において配置される少なくとも１つの発光層3を有する、光を放射するための有機エレクトロルミネッセント装置であって、有機発光層3において発生される光5を透過させるように構成される第１電極2が、均一な発光を促進させるために、動作電流を伝導するように構成される窒化チタン21の伝導体トラックの構造と、前記伝導体トラックの構造に隣接し、発生される光5を透過させるように構成される酸化チタン22の複数の領域と、を有する電流分配層21・22を含む、有機エレクトロルミネッセント装置が開示される。
2009532839.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板、第１電極及び第２電極を有し、また前記電極間において配置される少なくとも１つの有機発光層を有する、光を放射するための有機エレクトロルミネッセント装置であって、前記有機発光層において発生される光を透過させるように構成される前記第１電極が、均一な発光を促進させるために、発生される前記光を透過させるように構成される酸化チタンの領域間において配置される動作電流を伝達するように構成される窒化チタンの接続された領域を有する平面電流分配層を有する、有機エレクトロルミネッセント装置。
【請求項２】
請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセント装置において、前記第１電極が、前記発光層に隣接する側において伝導層をも有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセント装置。
【請求項３】
請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセント装置において、前記伝導層が、有機ポリマを含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセント装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセント装置において、前記第１電極が、50nm及び1000nmの間の厚さであることを特徴とする、有機エレクトロルミネッセント装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセント装置において、高屈折率を有する透明材料の透過層が、前記有機発光層から離れた前記第１電極の側において構成されることを特徴とする、有機エレクトロルミネッセント装置。
【請求項６】
請求項１に記載の光を放射するための有機エレクトロルミネッセント装置を作製する方法であって、
−窒化チタンの平面電流分配層を基板に付加するステップと、
−酸素雰囲気における適切な局所的温度処理を用いて前記窒化チタンを酸化チタンへ局所的に変換することにより、動作電流を伝導させる接続された領域と、前記接続された領域の間において配置され、前記電流分配層における光を透過させる領域と、を作製するステップと、
−光を放射するための少なくとも１つの有機発光層を含む更なる層を付加するステップと、
を有する方法。
【請求項７】
請求項６に記載の作製する方法において、前記適切な局所的温度処理が、レーザによって実行されることを特徴とする、方法。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の作製する方法において、前記更なる層を付加するステップが、前記電流分配層へ伝導層を付加することを含むことを特徴とする、方法。
【請求項９】
請求項６ないし８のいずれか一項に記載の作製する方法において、前記電流分配層の付加に関して構成される前記基板の側が、前記電流分配層が付加される前に、高屈折率を有する透明材料の透過層を用いて被膜されることを特徴とする、方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の作製する方法において、前記透過層が、二酸化チタンを含むことを特徴とする、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れた伝導特性を有する透明電極を有する有機ルミネッセント装置、及びこのような有機ルミネッセント装置を作製する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス装置（ＯＬＥＤｓ）は、基板に付加される層構造（ＥＬ構造）を有し、この層構造は、通常、ルミネッセント有機層（発光層）、空孔伝導層、アノード、及びカソードを含む。個別の層の通常の厚さは、100nmのオーダである。ＥＬ構造へ適用される通常の電圧は、2Vから10Vの間である。いわゆるボトムエミッタにおいて、有機エレクトロルミネッセント装置は、光を、通常ガラス製の透明基板を介して放射する。この場合、基板及び発光層の間に配置される電極は、同様に透明である。アノードに関する標準的な透明且つ電気伝導性材料は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）であり、酸化インジウムスズは、薄層として基板に十分に沈着され得る。数百平方センチメートルの発光領域を有する大面積ＯＬＥＤにおいて、高電流（動作電流）は、ＯＬＥＤに、領域にわたって均一である輝度の光を放射させるために、ほとんど損失なしに、前述の動作電圧で、アノードの領域にわたって分配させる必要がある。電流の損失のない移送は、電極の抵抗値が十分に低い場合にのみ可能である。ボトムエミッタの場合、この要件は、基板から離れた側における第２電極に関して、通常用いられるアルミニウムなどの反射金属を用いて、充足される。他方の側における透明ＩＴＯ電極は、90%の透過率に関して、少なくとも10Ω/領域の単位領域毎の抵抗値を有する。ＩＴＯが有するこの単位領域毎の抵抗値は高過ぎであり、大領域ＯＬＥＤからの均一な輝度が存在することを保証することが出来ない。
【０００３】
米国特許第5,399,936号は、ＩＴＯアノードに沿った電気抵抗値を低減するための局所的に差し込まれた金属ストリップを有する透明ＩＴＯアノードを開示する。金属ストリップは、ＩＴＯアノードに並行な低抵抗値の伝導体を構成する。大面積ＯＬＥＤに関して、電流は、金属格子を用いてＩＴＯアノードにわたって分配される必要があり得る。この種類の金属格子は、高価なリソグラフィック工程によって作製される必要がある。加えて、この種類の格子は、ＯＬＥＤを構成する層のスタックの残りの適用に関して、非平面な表面を構成し、このことは、適用されるべき層が成長する方法に逆の効果を有し、金属ストリップの縁部において電界の局所的増加を生じさせ得る。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
したがって、本発明の目的は、発光領域にわたって均一な輝度の光を放射する信頼性が高く、安価な大面積有機エレクトロルミネッセント装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的は、基板、第１電極及び第２電極を有し、また前記電極間において配置される少なくとも１つの発光層を有する、光を放射するための有機エレクトロルミネッセント装置であって、前記有機発光層において発生される光を透過させるように構成される前記第１電極が、均一な発光を促進させるために、発生される前記光を透過させるように構成される酸化チタンの領域間において配置される動作電流を伝導するように構成される窒化チタンの接続された領域を有する平面電流分配層を有する、有機エレクトロルミネッセント装置によって達成される。窒化チタン及び酸化チタンという用語は、この場合、それぞれ、0.5≦x≦1.5であるようなTiNx、及び1.0≦y≦2.5であるようなTiOy、の組成を有する材料を意味する。窒化チタンは、優れた電気伝導特性を有する材料であって、この特性は、0.5≦x≦1.5の範囲において、通常の透明電極材料のＩＴＯの特性よりも4倍以上優れている。しかし、窒化チタンは、透明ではない。約1の窒素含有xにおいて、TiNxは金色である。一方で酸化チタンは、1.0≦y≦2.5の酸素含有において本当に高抵抗材料であるが、窒化チタンと違い、透明である。この場合、単層において、光の発生に関して必要とされる電流が、ＩＴＯ電極を用いた場合よりも遥かに低い電流損失で窒化チタン伝導体トラックの構造によって大面積の電極にわたり分配させること、及び、発光層において発生される光が、酸化チタンの透明領域を通じて放射されること、の両方が可能である。
【０００６】
窒化チタン／酸化チタン・システムの有利な点は、このシステムが、高価なリソグラフィック及びエッチング処理が必要とされるような薄いアルミニウムストリップなどの既知の伝導体トラックシステムと対照的に、容易に作製され得ることである。窒化チタン／酸化チタン・システムは、窒化チタンの小型平面層として基板へ付加され、温度処理によって、この層の平面としての性質を変化させることなく、局所的に酸化チタンへ変換される。この温度変換処理は、いずれの高価なリソグラフィック又はエッチング処理も必要とせず、例えば、レーザなどを用いて容易に、正確に、及び迅速に実行され得る。このようにして、アルミニウム伝導体トラックの構造に対応し、間に存在する透明領域を有する伝導体の構造が更なる層の付加のために非平面土台の不利な点を受け入れる必要なく、作製され得る。同時に、電流分配層は、基板から付加されるべき更なる層を化学的に保護するための層を構成する。均一な発光を生成するために、伝導体トラックの構造を用いた電流の均一な分配が、個々の窒化チタン伝導体トラック間における小さい間隔を有することによって達成され得る。一方で第１電極の透過能力、したがってエレクトロルミネッセント装置の輝度は、電流分配層における窒化チタン及び酸化チタンの領域間の比率によって決定される。
【０００７】
別の有利な点は、例えば、2.3(Ti2O3)から2.4(TiO)及び、最大値の2.71(TiO2)までの酸素含有量に依存して変化し得る、例えば550nmの波長に関する、酸化チタンの高屈折率である。有機エレクトロルミネッセント装置は、通常、1.8から2.0の屈折率を有し、このことは、光が電流分配層へ入射する場合に、光学的に薄い媒体から、何の全反射も発生しない光学的により密度の高い媒体への光学的な遷移が存在することを意味する。このような場合、酸化チタンの領域を直撃する光の全ては、電流分配層へ結合される。このことは、光が電流分配層へ発生するまでに光が進む平均距離を短くさせ、したがって、発光層における再吸収のリスクを低減させ、このことは、有機エレクトロルミネッセント装置の光歩留りを向上させる。
【０００８】
別の実施例において、前記第１電極が、前記発光層に隣接する側において伝導層をも有する。この伝導層は、ある実施例において、有機ポリマを含む。この伝導層によって、伝導体トラックの構造によって分配される電流が、伝導体トラックの周辺により更に広く分配され、このことは、個々の伝導体トラック間において大きい間隔が存在する場合、それにもかかわらず、電流は、均一な分布で発光層へ入射し、したがって、同一の均一な発光が達成され得ることを意味する。個々の伝導体トラック間において可能であるより大きい間隔は、透明領域が、電流分配層の全体領域のより高い比率を表すことを可能にする。
【０００９】
更なる実施例において、前記第１電極は、追加的な伝導層が前記電流分配層へ付加されるか否かに応じて、50nm及び1000nmの間の厚さである。第１電極が所要の伝導特性を有するために、電流分配層を単に有する第１電極に関する最小厚さは、50nmである。伝導層を含み、1000nm厚さより厚い第１電極は、効果的な作製工程の目的に関してもはや適合しない。
【００１０】
更なる実施例において、高屈折率を有する透明材料の透明層が、前記有機発光層から離れた前記第１電極の側において構成される。高屈折率として意味されるものは、発光層の屈折率よりも高いいずれの屈折率である、又は更なる伝導層が、この更なる伝導層の屈折率よりも高い、発光層と電流分配層との間に存在することである。電流分配層における酸化チタンの領域に光が入射する場合に全反射を完全に防ぐために、光学的に密度の高い材料の厚さは、発光層によって放射される光の波長よりも大きくあるべきである。例えば100nmのオーダの薄い電流分配層を用いて、高屈折率を有する透過層は、高屈折率の層の全体厚さ（電流分配層の厚さ及び透過層の厚さ）が可視スペクトルにおける全ての波長よりも大きくあるべき場合、少なくとも600nmの厚さである必要があり得る。より厚い電流分配層を用いると、透過層は、適切な量だけより薄くあり得る。
【００１１】
本発明は、請求項１に記載の光を放射するための有機エレクトロルミネッセント装置を作製する方法であって、
−窒化チタンの平面電流分配層を基板に付加するステップと、
−酸素雰囲気における適切な局所的温度処理を用いて前記窒化チタンを酸化チタンへ局所的に変換することにより、動作電流を伝導させる接続された領域と、前記接続された領域の間において配置され、前記電流分配層における光を透過させる領域と、を作製するステップと、
−光を放射するための少なくとも１つの有機発光層を含む更なる層を付加するステップと、
を有する方法にも関する。
【００１２】
電流分配層（結果的に、窒化チタン／酸化チタンである）は、始めに、窒化チタンの層として、基板へ付加される。窒化チタンを局所的に酸化チタンへ変換させるステップは、発生させる際に、この層の平面としての性質を変化させない。この温度変換処理は、いずれの高価なリソグラフィック又はエッチング処理も必要とせず、更なる実施例において、レーザなどを用いて容易に、正確に、及び迅速に実行され得る。同時に、電流分配層は、基板から付加されるべき更なる層を化学的に保護するための層を構成し、この場合に、この機能を実行するために追加的な層が付加される必要はない。この方法により、有機エレクトロルミネッセント装置が、信頼性が高く且つ安価に入手可能にされ得るが、この有機エレクトロルミネッセント装置において、有機エレクトロルミネッセント装置を動作させるための電流は、有機エレクトロルミネッセント装置がその全体領域において均一な輝度の光を放射することが可能であるように、大面積の電極にわたって均一に分配され得る。「温度処理(treatment  at  temperature)」という用語によって意味されるものは、標的にされ局所的に限定される材料の加熱である。酸素雰囲気として適しているものは、例えば空気である。
【００１３】
有機エレクトロルミネッセント装置を作製する方法の別の実施例において、前記更なる層を付加するステップは、前記電流分配層へ伝導層を付加することを含む。この伝導層によって、伝導体トラックの構造によって分配される電流は、伝導体トラックの周辺の領域において幾分より広く分配され、このことは、個々の伝導体トラック間における間隔がより大きい場合、それにもかかわらず、同一の均一な発光が達成され得ることを意味する。個々の伝導体トラック間において可能であるより大きい間隔は、透明領域が、電流分配層の全体領域のより高い比率を表すことを可能にする。この伝導層を付加する処理は、前記層が平面電流分配層へ付加され得るということによって促進される。
【００１４】
有機エレクトロルミネッセント装置を作製する方法の一つの実施例において、前記電流分配層の付加に関して構成される前記基板の側が、前記電流分配層が付加される前に、高屈折率を有する透明材料の透過層を用いて被膜される。高屈折率として意味されるものは、発光層の屈折率よりも高いいずれかの屈折率である。有機エレクトロルミネッセント装置を作製する更なる実施例において、二酸化チタンは相に依存して2.25から2.71の間の屈折率を有するので、透過層は、二酸化チタンを含む。
【００１５】
本発明のこれら及び他の点は、後述の実施例から明らかであり、これらの実施例を参照して説明される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図1は、基板１と、電流分配層２１・２２及び伝導層２３を含む第１電極２と、有機発光層３と、第２電極４と、を有する、本発明に従う有機エレクトロルミネッセント装置の実施例を示し、当該装置は、いわゆるボトムエミッタ（透明基板を介した発光）を形成する。ボトムエミッタにおいて、カソードを形成する第２電極４は、通常、アルミニウムなどの金属などからなり反射型であるように作製される一方で、透明第１電極２は、アノードとして動作する。透明基板１の屈折率は、この場合1.4から2.0の間で変更し得、このことは、例えば、n=1.45の屈折率を有するボロンシリケート、n=1.49を有するＰＭＭＡ、n=1.65を有するＰＥＴ、又はn=1.85を有するＳＦ５７などのショット社の高屈折率ガラスなどを用いて達成される。電流分配層２１・２２は、電流を分配する窒化チタン２１の領域、及び酸化チタン２２の領域を含む。例えばガラスを含む多くの基板において、窒化チタン２１（TiNx）の薄い層は、優れた電気伝導性を有することに関して注目すべきであり、ｘが１にほぼ等しい場合、TiNxに関して約25×10-6Ωcmの抵抗値を有し、この値は、ＩＴＯの対応する層の抵抗値よりも数倍低い。窒化チタン２１の層は、例えばガラスなどの滑らかな基板へ非常によく接着し、いずれのラフネスも有さない滑らかな表面を有し、非常に機械的に強い。窒化チタンの薄い層は、スパッタリングなどの沈着処理によって付加され得る。この処理において、チタン材料は、いわゆる粒子衝突によってターゲットから除去され、反対に位置される基板に沈着される。このことが窒素雰囲気下において行われる場合、基板に沈着されるのは、チタンではなく窒化チタンであり、窒素含有量は、窒素の分圧を用いて被膜処理において設定される。沈着される窒化チタンの層は、金色である。酸化チタンへの局所的変換に関して構成される窒化チタンの層の通常の厚さは、150nmのオーダであり、この場合、厚さは、応用例の分野及び温度処理に適するように変化され得る。
【００１７】
図1において示される酸化チタン２２の領域は、窒化チタンを酸素雰囲気において加熱することによって作製される。600℃より上の温度において、チタンは、酸素と結合し、酸化チタンを形成し、窒化チタンの元の層の窒素は放出される。TiOyの層の酸素含有量yは、この場合、変換処理における環境の温度及び酸素含有量に依存する。窒化チタンの伝導体トラックの構造を作製するために、加熱は、平面層において酸化チタンの十分な大面積を維持するために局所的であるように制限される必要がある。
【００１８】
このことは、例えば、レーザを用いて窒化チタンの層に照射することによって達成される。局所的な温度プロファイル（横方向の温度分布及び深さ方向の温度分布）は、パルス動作のレーザを用いてパルス長及びパルス出力により作用され得る。短いパルスは、レーザ処理される層の表面から距離が増加すると減少する加熱を与える。高レーザ出力は、温度プロファイルにおいて高い最大温度を与える。レーザビームが適切な速度で、そしてパルス高さ及びパルス長の適切な比率で、窒化チタンの層にわたって移動される場合、窒化チタンが酸素雰囲気において酸化チタンへ変換される領域は、横方向に（窒化チタンの層の表面に並行に）及び垂直方向に（窒化チタンの層の表面に直角に）非常に正確に設定され得る。垂直温度プロファイルの設定は重要であるが、その理由は、一方では、光５によって有機エレクトロルミネッセント装置から第１電極２を介して従われる経路に沿ってのみ透明酸化チタンを有することが望ましくあり得るが、他方では、レーザ処理による過剰に高い温度が原因で基板が溶け始めるリスクに対して、可能な限り低く維持されることが所望であるからである。例えば、200nm厚さの窒化チタンの層は、647nmの波長、80μsのパルス長、30mWのパルス出力（パルス高さ）、1μmの窒化チタンの層の表面における光のビームの直径、及び5m/sの速度での表面をわたるレーザビームの動き、によるレーザを用いた照射によって酸化チタンへ変換され得る。
【００１９】
電流分配層２１・２２へ付加される伝導層２３の目的は、伝導体トラックの構造によって達成されるよりも横方向へより広く電流を分配させることである。このことは、伝動層２３がより厚いほど、大きく生じる。伝導層２３が適切な厚さであり、窒化チタン２１及び酸化チタン２２の領域が適切に構成される場合、領域全体に均一な電流分布を得ることが可能である。放射される光５が伝導層２３を通過する必要があるので、透明材料のみが前記伝導層２３に関して使用され得る。作製に関して有益な特性を有する伝動材料は、例えばＰＥＤＯＴ(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)などの伝導性ポリマである。
【００２０】
図２は、発光面の平面図であり、この場合、発光面は、図１に示される、本発明に従う有機エレクトロルミネッセント装置の透明基板１である。線Ａ−Ｂは、図１における側から見られる断面の平面を示す。図２に示される、電流分配層２１・２２が窒化チタン２１及び酸化チタン２２の領域へ分割される手法は、単なる一つの例である。窒化チタン２１の接続された領域を有する伝導体トラックの構造は、実施例に依存して、例えばレーザによる異なる温度処理によって異なる方法で作製され得る。レーザビームがガイドされ得る自由な方法は、窒化チタン及び酸化チタンの領域からなるいかなる設計パターンも可能にする。しかし、電流分配の目的に関して、窒化チタン２１の領域は、伝導体トラックの接続された構造を形成するべきである。酸化チタン２２の領域間における窒化チタン２１の領域の表面（横方向に関して）に並行な幅は、有機エレクトロルミネッセント装置の所望な放射特性に依存する。望まれるのが、酸化チタン２２の全ての領域だけでなく基板１の領域全体における均一の輝度である場合、窒化チタン２１の領域は、隣接する透明領域２２からの光５が混合され得るように、横方向に関して小さくなければならない。基板へ付加される光拡散に関する追加的な層は、基板の領域全体における輝度の均一性を更に向上させ得る。
【００２１】
本発明に従うルミネッセント装置は、伝動層２３を有さない第１電極２を用いても作製され得る。均一な輝度に関して必要とされる第１電極の領域全体にわたる均一な電流分布は、電流分配層における窒化チタン伝導体トラックの構造によって与えられる。伝導体トラックの構造が、横方向に同様に薄い酸化チタンの挟む形状の領域２２を有する窒化チタンの横方向に薄い線の網状形体として配置される場合、これを見る者は、有機エレクトロルミネッセント装置から均一に知覚される輝度を見るが、その理由は、酸化チタンの個々の透明領域２２を通じて放射される光は、重なり合い、基板の領域にわたり均一な輝度の放射を可能にするからである。
【００２２】
図３において示される本発明に従う有機エレクトロルミネッセント装置の実施例は、電流分配層２１・２２及び基板１の間に、光の結合を向上させるための高屈折率を有する追加的な透過層６を有する。高屈折率として意味されるものは、伝導層２３の屈折率よりも高いいずれかの屈折率である。何の伝導層２３も存在しない代替的な実施例において、「高屈折率」という用語は、発光層３の屈折率よりも高い屈折率を意味する。電流分配層２１・２２における酸化チタンの透明領域２２に光５が入射する場合に全反射を完全に防ぐために、光学的に密度の高い材料（酸化チタン、及び光の伝播の方向においての酸化チタン上に配置される透過層６の材料）の厚さは、発光層３によって放射される光５の波長よりも大きくあるべきである。例えば100nmのオーダの薄い電流分配層を用いる場合、高屈折率を有する透過層６は、光５の放射の方向における高屈折率の層の全体厚さ（電流分配層２１・２２の厚さ及び透過層の厚さ６）が可視スペクトルにおける全ての波長よりも大きくあるべき場合、少なくとも600nmの厚さである必要があり得る。より厚い電流分配層２１・２２を用いると、透過層６は、適切な量だけより薄くあり得る。放射される光５の波長が可視スペクトルにおける、例えば青色光などの、短い波長に制限される場合も、同様に当てはまる。透過層６に関して適切な材料は、例えば2.52から2.72の間の屈折率を有する酸化チタンである。酸化チタンの、透過層６に関する材料として使用は有利であるが、その理由は、このような場合、同一の酸素含有量に関して、電流分配層２１・２２における酸化チタン２２の透明領域との何の光学的界面も存在しないからである。
【００２３】
更なる実施例において、窒化チタン２１の接続される領域を有する伝導体トラックの構造は、電流分配機能を実行することと同様に、伝導体トラックの構造が光学的拡散体格子も形成するように、作製される。このような場合は、伝導体トラックの構造が窒化チタン２１の薄いストリップの網状形体として作製される場合である。伝導層２３との又は発光層３との界面に並行な窒化チタン２１のストリップの幅は、この場合、放射される光５の波長と同一の大きさのオーダであるべきである。光拡散効果に関して有利であるものは、同様に波長と同一の大きさのオーダである窒化チタン２１の隣接するストリップ間の間隙である。光学的効果と同時に、この種類の伝導体トラックの構造は、電流が、第１電極の領域にわたって均一に分配されることも可能にし、このことは、伝導層２３が、光の均一な透過に関して必要とされ得ないことを意味する。
【００２４】
ほかの実施例において、本発明に従う有機エレクトロルミネッセント装置は、図１に示される層に加えて、更なる層を有し得る。例えば、通常第２電極４であるカソードと発光層３との間において、低仕事関数を有する材料の電子注入層が配置され得、通常第１電極２であるアノードと発光層３との間において、加えて空孔注入層が配置され得る。
【００２５】
発光層３に関する有機材料として使用されるのは、例えば、発光ポリマ（ＰＬＥＤ）又は有機空孔輸送又は電子輸送マトリクス材料に埋め込まれる小型発光有機分子などである。有機エレクトロルミネッセント層において小型発光分子を有するＯＬＥＤは、ＳＭＯＬＥＤ（小型分子有機発光ダイオード）としても呼ばれる。効率を向上させるために、有機エレクトロルミネッセント層３は、加えて、アノード側に空孔輸送層（ＨＴＬ）及びカソード側に電子輸送層（ＥＴＬ）を含む。ＨＴＬ層に関する材料として使用され得るものは、例えば、F4-TCNQ(tetrafluorotetracyanoquinodimethane)をドープされたMTDATA(4,4',4"-tris(N-(3-methyl-phenyl)-N-phenylamino)-triphenyl  amine)、及び、例えば、トリアリルアミン（triaryl  amines）、ジアリルアミン（diaryl  amines）、トリスチルベンアミン（tristilbene  amines）、又はPDOT(polyethylene  dioxythiophene)及びポリ（スチレンスルホネート）（poly(styrene  sulfonate)の混合などの空孔輸送層である。ＥＴＬ層に関する材料として使用され得るのは、例えば、Alq3(tris(8-hydroxyquinoline)aluminum)、TPBI(1,3,5-tris(1-phenyl-1H-benzimidiazol-2-yl)benzene)、又は1,3,4-oxadiazoles若しくは1,2,4-triazolesなどの低電子複素環化合物である。ＳＭＯＬＥＤと記されるものを有する実施例において、発光層は、例えば、TCTA(4,4',4"-tris(N-carbazolyl)-triphenylamine)、BCP(2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline)、TPBI(1,3,5-tris(1-phenyl-1H-benzimidazol-2-yl)benzene)、又はTPD(N,N-diphenyl-N,N-di(3-methyl-phenyl)-benzidine)などの、マトリクス材料に埋め込まれた発光材料のようなイリジウム複合物を含む。有機発光層３は、通常、100nmから150nmの間の全体厚さである。
【００２６】
図面及び詳細な説明において参照されて説明された実施例は、本発明に従う有機エレクトロルミネッセント装置の例のみであって、これらの例に請求項を制限するように解釈されるべきでない。代替的な実施例も、当業者によって着想され得、同様に請求の範囲によって含まれる。従属項の順序付けの数字は、請求項の他の組み合わせが本発明の有利な実施例を構成し得ないことを示唆するように意図されていない。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】図１は、図２に示される部分線Ａ−Ｂにおける、本発明に従う有機エレクトロルミネッセント装置の実施例の側面からの断面図である。
【図２】図２は、部分線Ａ−Ｂが示される、図１に示される本発明に従う有機エレクトロルミネッセント装置の発光側の平面図である。
【図３】図３は、本発明に従う有機エレクトロルミネッセント装置の更なる実施例を示す側面断面図である。
【図１】
2009532839.tif 000003
【図２】
2009532839.tif 000004
【図３】
2009532839.tif 000005
【国際調査報告】
2009532839.tif 000006
2009532839.tif 000007