(57)【要約】本発明は、焼成状態で式：          ｘＸ2Ｏ3：ｎＹＯ2：ｍＧｅＯ2（式中、（ｎ＋ｍ）は少なくとも５であり、Ｘは１種または複数の三価元素であり、ＹはＧｅ以外の１種または複数の四価元素に相当し、Ｙ／Ｇｅ比は０．１より大きく、「ｘ」は０を含む任意の値をとることができ、Ｙ／Ｇｅ比は０．１より大きい）で記載される化学組成を有し、特徴的なＸ線回折パターンを有するミクロ多孔質結晶性材料に関する。本発明は、その調製方法および有機化合物食品の変換におけるその使用にも関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
焼成状態で式：
ｘＸ2Ｏ3：ｎＹＯ2：ｍＧｅＯ2
（式中、
−（ｎ＋ｍ）は少なくとも５であり、
−Ｘは三価元素であり、
−ＹはＧｅ以外の１種または複数の四価元素に相当し、
−ｘは、０を含む任意の値をとることができ、
−Ｙ／Ｇｅ比は０．１より大きい）
で表される化学組成を有し、その未焼成の合成形で主線が以下：
【表１】
2009528244.tif 000009
（表中、最大強度のピークに関してパーセンテージで計算して、（ｖｓ）は相対強度８０〜１００を表し、「ｗ」は相対強度２０〜４０を表し、「ｖｗ」は相対強度０〜２０を表す）であるＸ線回折パターンを有することを特徴とする、多孔質結晶性材料。
【請求項２】
焼成状態で主線が以下：
【表２】
2009528244.tif 000010
（表中、「ｖｓ」、「ｗ」、および「ｖｗ」は請求項１に示される意味を有する）であるＸ線回折パターンを有することを特徴とする、請求項１に記載の多孔質結晶性材料。
【請求項３】
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｆｅ、Ｃｒおよびそれらの組合せからなる群より選択される、１種または複数の三価元素であることを特徴とする、請求項１または２の一項に記載の結晶性材料。
【請求項４】
Ｙは、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｖおよびそれらの組合せから選択される、１種または複数の四価元素であることを特徴とする、請求項１または２の一項に記載の結晶性材料。
【請求項５】
−Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｆｅ、Ｃｒおよびそれらの組合せからなる群より選択される、１種または複数の三価元素であり、かつ−Ｙは、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｖおよびそれらの組合せから選択される、１種または複数の四価元素であることを特徴とする、請求項１または２の一項に記載の結晶性材料。
【請求項６】
ＸはＢ、Ａｌ、および両者の混合物から選択され、かつＹはＳｉであることを特徴とする、請求項３に記載の結晶性材料。
【請求項７】
前記請求項のいずれか一項に記載の材料を、１種または複数の水素化／脱水素化成分と組み合わせて含むことを特徴とする、触媒。
【請求項８】
前記水素化／脱水素化成分は、白金、パラジウム、ニッケル、レニウム、コバルト、タングステン、モリブデン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、およびそれらの組合せから選択されることを特徴とする、請求項５に記載の触媒。
【請求項９】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の四価元素Ｙの源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物と、
を含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項１〜６の一項に記載の結晶性材料の合成方法。
【請求項１０】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の四価元素Ｙの酸化物と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機成分と、
を、酸化物について以下のモル比：
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2）  １〜５０
Ｒ／（ＹＯ2）  ０．１〜３．０
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項１〜６の一項に記載の結晶性材料の合成方法。
【請求項１１】
酸化物について、
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2）  １〜２０
Ｒ／（ＹＯ2）  ０．１〜１．０
のモル比を有することを特徴とする、請求項１０に記載の結晶性材料の合成方法。
【請求項１２】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の四価元素Ｙの源と、
−フッ素イオン源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物と、
を含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項１〜６の一項に記載の結晶性材料の合成方法。
【請求項１３】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の四価元素Ｙの酸化物と、
−フッ素イオン源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機成分と、
を、酸化物について以下のモル比：
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2）  １〜５０
Ｒ／（ＹＯ2）  ０．１〜３．０
Ｆ／（ＹＯ2）  ０．１〜３．０
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
酸化物について、
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2）：１〜２０
Ｒ／（ＹＯ2）：０．１〜１．０
Ｆ-／（ＹＯ2）：０．１〜１．０
のモル比を有することを特徴とする、請求項１３に記載の結晶性材料の合成方法。
【請求項１５】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の四価元素Ｙの源と、
−Ｇｅ源と、
−フッ素イオン源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物と、
を含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の四価元素Ｙの酸化物と、
−Ｇｅ源と
−フッ素イオン源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機成分と、
を、酸化物について以下のモル比：
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  １〜５０
Ｒ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３．０
Ｆ-／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３．０
ＹＯ2／ＧｅＯ2  ０．１より大きい
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
酸化物について：
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  １〜２０
Ｒ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜１．０
Ｆ-／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜１．０
ＹＯ2／ＧｅＯ2  ０．１より大きい
のモル比を有することを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の三価元素Ｘの源と、
−１種または複数の四価元素Ｙの源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物と、
を含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１９】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の三価元素Ｘの源と、
−１種または複数の四価元素Ｙの源と、
−フッ素イオン源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物と、
を含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項２０】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の三価元素Ｘの源と、
−１種または複数の四価元素Ｙの源と、
−フッ素イオン源と
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物と、
を、酸化物について以下のモル比：
ＹＯ2／Ｘ2Ｏ3  少なくとも５
Ｈ2Ｏ／ＹＯ2  １〜５０の間
Ｒ／ＹＯ2  ０．１〜３．０の間
Ｆ-／（ＹＯ2）  ０．１〜３．０の間
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
好適な酸化物について、
ＹＯ2／Ｘ2Ｏ3  少なくとも７
Ｈ2Ｏ／ＹＯ2  １〜２０の間
Ｒ／ＹＯ2  ０．１〜１．０の間
Ｆ-／（ＹＯ2）  ０．１〜１．０の間
のモル比を有することを特徴とする、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の三価元素Ｘの源と、
−１種または複数の四価元素Ｙの源と、
−酸化Ｇｅと、
−フッ素イオン源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物と、
を含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の三価元素Ｘの源と、
−１種または複数の四価元素Ｙの源と、
−酸化Ｇｅと、
−フッ素イオン源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物と、
を、酸化物について以下のモル比：
（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）／Ｘ2Ｏ3  ５より大きい
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  １〜５０の間
Ｒ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３．０の間
Ｆ-／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３．０の間
ＹＯ2／ＧｅＯ2  ０．１より大きい
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
酸化物について、
（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）／Ｘ2Ｏ3  ７より大きい
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  １〜２０の間
Ｒ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜１．０の間
Ｆ-／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜１．０の間
ＹＯ2／ＧｅＯ2  ０．１より大きい
のモル比を有することを特徴とする、請求項２３に記載の方法
【請求項２５】
種として作用するＩＴＱ−３７ゼオライト結晶を、前記合成混合物に加えることを特徴とする、請求項９〜２４の一項に記載の方法。
【請求項２６】
種として作用する前記ＩＴＱ−３７ゼオライト結晶は、酸化物の合計重量に関して上限２５重量％の割合まで加えられることを特徴とする、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
構造誘導剤として用いられる前記有機化合物は、アミンおよびテトラアルキルアンモニウム塩から選択されることを特徴とする、請求項９〜２４の一項に記載の方法。
【請求項２８】
構造誘導剤として用いられる前記有機化合物は、４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエ
チル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロヒドロキシドであることを特徴とする、請求項９〜２４の一項に記載の方法。
【請求項２９】
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−Ａｌ、Ｂ、および両者の混合物から選択される１種または複数の三価元素Ｘの酸化物と、
−Ｓｉの酸化物と、
−酸化Ｇｅと、
−フッ素イオン源と、
−構造誘導剤Ｒとしての４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ
，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロ塩と、
を、酸化物について以下のモル比：
（ＳｉＯ2＋ＧｅＯ2）／Ｘ2Ｏ3  少なくとも５
Ｈ2Ｏ／（ＳｉＯ2＋ＧｅＯ2）  １〜５０の間
Ｒ／（ＳｉＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３．０の間
Ｆ-／（ＳｉＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３．０の間
ＳｉＯ2／ＧｅＯ2  ０．１より大きい
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に前記合成混合物を維持することと、
−前記結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含むことを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項３０】
前記材料内に封じ込められた有機物の除去段階を含むことを特徴とする、請求項７〜２９の一項に記載の方法。
【請求項３１】
前記有機物の除去段階は、抽出、２５０℃より高い温度で２分〜２５時間の間の熱処理、または両者の組合せにより行われることを特徴とする、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
有機化合物で形成された食品の変換の触媒としての、請求項１〜６の一項に記載の多孔質結晶性材料の活性型の使用。
【請求項３３】
前記変換は、炭化水素の触媒的分解および炭化水素の触媒水素化分解から選択されることを特徴とする、請求項３２に記載の使用。
【請求項３４】
前記変換は、アルキル化、エステル化、およびアシル化のプロセスから選択されることを特徴とする、請求項３２に記載の使用。
【請求項３５】
前記材料は、触媒の成分であることを特徴とする、請求項３３または３４に記載の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、新規ミクロ多孔質結晶性材料、ＩＴＱ−３７、その調製方法、および有機化合物の触媒変換におけるその使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
ゼオライトは、触媒、吸着剤、およびイオン交換体として重要な用途が見つかっている多孔質結晶性アルミノケイ酸塩である。こうしたゼオライト材料の多くは、内部に均一な大きさと形のチャンネルおよび空洞を形成する明確な構造を有し、それらは、これによりある分子の吸着は可能であるが、一方で大き過ぎる他の分子は結晶の内側を通過させ孔を通じて拡散させる。この特徴が、こうした材料に分子スクリーニング性を与えている。こうした分子スクリーンは、Ｓｉおよび周期表の第ＩＩＩＡ族の元素を、ネットワークに全て四面体配位で含むことができ、四面体はその頂点で酸素を通じて結合して三次元ネットワークを形成する。ネットワークの各位置で第ＩＩＩＡ族の元素がもたらす負電荷は、結晶中のカチオン（例えば、アルカリまたはアルカリ土類）の存在で補償される。ある種類のカチオンは、イオン交換技法により別の種類のカチオンに全体的にまたは部分的に交換されてもよく、こうして所定のケイ酸が所望のカチオンを選択するよう性質を変更することができる。
【０００３】
多くのゼオライトは、構造誘導剤（ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ−ｄｉｒｅｃｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）として作用する有機分子の存在下で合成されている。構造誘導剤（ＳＤＡ）として作用する有機分子は一般に、その組成中に窒素を含有し、反応媒体中で安定な有機カチオンをもたらす。
【０００４】
シリカの可動化は、ＯＨ-基および塩基性媒体の存在下で行うことができ、ＳＤＡと同じような水酸化物、例えば、ＺＳＭ−５ゼオライトの場合の水酸化テトラプロピルアンモニウムなどを含めることができる。フッ素イオンも、例えば、ＥＰ−Ａ−０３３７４７９に、ＺＳＭ−５合成用のシリカ可動化剤としての低ｐＨでのＨ2Ｏ中のＨＦの使用が開示されるように、ゼオライト合成におけるシリカの可動化剤として作用することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明は、焼成状態で式：
ｘＸ2Ｏ3：ｎＹＯ2：ｍＧｅＯ2
（式中、（ｎ＋ｍ）は少なくとも５であり、Ｘは１種または複数の三価元素であり、ＹはＧｅ以外の１種または複数の四価元素に相当し、Ｙ／Ｇｅ比は０．１より大きく、「ｘ」は、０を含む任意の値をとることができる）で記載される化学組成を有し、その未焼成の合成形で主線が以下であるＸ線回折パターン：
【０００８】
【表３】
2009528244.tif 000002
（表中、最大強度のピークに関してパーセンテージで計算して、（ｖｓ）は相対強度８０〜１００を表し、「ｗ」は相対強度２０〜４０を表し、「ｖｗ」は相対強度０〜２０を表す）を有する新規ミクロ多孔質結晶性材料、ＩＴＱ−３７、に関する。
【０００９】
この新規材料（ＩＴＱ−３７と呼ぶ）は、その焼成状態および未焼成の合成された状態の両方で、他のゼオライト材料とは異なるＸ線回折パターンを有し、焼成状態についてその最も重要な回折線を表１にまとめる。
【００１０】
表１
【００１１】
【表４】
2009528244.tif 000003
格子面間隔、ｄ、は、オングストロームで計算したが、回折線の相対強度は、最大強度のピークに関してパーセンテージで計算し、以下のように判断する：非常に強い（ｖｓ）＝８０〜１００、強い（ｓ）６０〜８０、平均的（ａ）＝４０〜６０、弱い（ｗ）２０〜４０、および非常に弱い（ｗｖ）＝０〜２０。
【００１２】
好適な実施形態のＩＴＱ−３７は、その未焼成状態で、表２に示す回折線を有する。
【００１３】
表２
【００１４】
【表５】
2009528244.tif 000004
グラファイトモノクロメータおよび固定された発散格子（ｄｉｖｅｒｇｅｎｃｅ  ｇｒｉｌｌｅ）を備えたＰｈｉｌｉｐｓ  Ｘ’Ｐｅｒｔ回折装置で銅のＫα線を用いて、これ
らの回折図を得た。回折データは、０．０１°の２θステップで記録し、ここでθはブラッグ角度で１ステップあたり１０秒の計測時間である。格子面間隔、ｄ、は、オングストロームで計算したが、回折線の相対強度は、最大強度のピークに関してパーセンテージで計算し、以下のように判断する：非常に強い（ｖｓ）＝８０〜１００、強い（ｓ）６０〜８０、平均的（ａ）＝４０〜６０、弱い（ｗ）２０〜４０、および非常に弱い（ｗｖ）＝０〜２０。
【００１５】
この試料について単線すなわち独特な回折線として表に記載された回折データが複数の反射の重複または重ね合わせにより形成された可能性があることを忘れてはならない。こうした線は、ある条件、例えば結晶学的変化などにより、分解された線または一部分解された線として出現する可能性がある。一般に、結晶学的変化は、構造に変化を起こさない、単位格子のパラメーターの小さなばらつきおよび／または結晶の対称性の変化を含むことがある。こうした変化には相対強度の変化も含まれるが、これらは補償カチオンの種類と量、ネットワーク構造、結晶の大きさとその形、好適な向き、または行われた熱処理もしくは水熱処理の種類の変化によるものでもありえる。
【００１６】
先に示した一般式において、「ｍ」は０という値を有してもよい。
【００１７】
結晶性材料は、その無水焼成形において、好ましくは以下で示される組成を有する：
Ｘ2Ｏ3：ｎＹＯ2：ｍＧｅＯ2
式中、（ｎ＋ｍ）は少なくとも５であり、ｎ／ｍの値は少なくとも０．１であり、ＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｆｅ、Ｃｒおよびその組合せの群から選択される１種または複数の三価元素である。
【００１８】
また好ましくは、その無水焼成状態において先の式（式中、（ｎ＋ｍ）は少なくとも５であり、ｎ／ｍの値は少なくとも０．１である）で表される結晶性材料において、Ｙは、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｖおよびその組合せから選択される１種または複数の四価元素である。
【００１９】
さらにより好ましくは、その無水焼成状態において先の式で表される結晶性材料は、（ｎ＋ｍ）が少なくとも５であり、ｎ／ｍの値が少なくとも０．１であり、ＸがＡｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｆｅ、Ｃｒおよびその組合せの群から選択される１種または複数の三価元素であり、ＹがＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｖおよびその組合せから選択される１種または複数の四価元素であるものである。
【００２０】
特に好適な実施形態は、結晶性材料が上記の式を有して、式中ＸがＢ、Ａｌおよび両者の混合物から選択され、ＹがＳｉであるものである。
【００２１】
与えられた値から、結晶性材料ＩＴＱ−３７が、付加される三価元素の存在なしに合成され得ることが明らかに推定される。
【００２２】
この材料の有機成分は、それが合成されたあと、例えば、抽出によるか、または２５０℃より高い温度で２分〜２５時間熱処理により除去することができる。
【００２３】
その未焼成状態、または熱処理後の材料中の補償カチオンは、カチオンが存在する場合には、他のカチオン（金属カチオン、Ｈ+、および例えばＮＨ4+などのＨ+前駆体など）に交換することができる。イオン交換により導入することができるカチオンの中で、材料の活性に触媒として積極的役割を有し得るものが好ましく、より詳細には、Ｈ+、希土類カチオン、ならびに元素周期表の第ＶＩＩＩ族の金属、および第ＩＩＡ、ＩＩＩＡ、ＩＶＡ、ＶＡ、ＩＢ、ＩＩＢ、ＩＩＩＢ、ＩＶＢ、ＶＢ、ＶＩＩＢ族のなどのカチオンが好ましい。
【００２４】
本発明の結晶性材料は、１種または複数の水素化／脱水素化成分（白金、パラジウム、ニッケル、レニウム、コバルト、タングステン、モリブデン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、およびそれらの組合せなど）と密接に組み合わせることもできる。こうした元素の導入は、結晶の段階で、交換（もしあれば）により、および／または含浸により、または物理的混合により、行うことができる。こうした元素は、そのカチオン形で導入されるか、および／または塩もしくは他の化合物から分解によりその適したカチオン形で金属または酸化物成分を生成することで導入される。
【００２５】
本発明はまた、上記の結晶性材料の調製方法にも関し、この方法は、
−少なくとも、Ｈ2Ｏと、１種または複数の四価元素Ｙの源と、構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物とを含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含む。
【００２６】
好適な実施形態に従って、上記の結晶性材料の調製方法は、
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の四価元素Ｙの酸化物と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機成分と、
を、酸化物について以下のモル比：
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2）  １〜５０
Ｒ／（ＹＯ2）  ０．１〜３．０
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含む。
【００２７】
この実施形態において、特に好適な様式では、酸化物についてのモル比は以下のとおりである：
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2）  １〜２０
Ｒ／（ＹＯ2）  ０．１〜１．０
本方法のさらに好適な実施形態は、
−少なくとも、Ｈ2Ｏと、１種または複数の四価元素Ｙの源と、フッ素イオン源と、構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物とを含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を含む。
【００２８】
好適な実施形態に従って、上記の結晶性材料の調製方法は、
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の四価元素Ｙの酸化物と、
−フッ素イオン源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機成分と、
を、酸化物について以下のモル比：
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2）  １〜５０
Ｒ／（ＹＯ2）  ０．１〜３．０
Ｆ-／（ＹＯ2）  ０．１〜３．０
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含む。
【００２９】
この実施形態において、特に好適な様式では、酸化物についてのモル比は以下のとおりである：
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2）  １〜２０
Ｒ／（ＹＯ2）  ０．１〜１．０
Ｆ-／（ＹＯ2）  ０．１〜１．０
本方法のさらに別の好適な実施形態は、
−少なくとも、Ｈ2Ｏと、１種または複数の四価元素Ｙの源と、Ｇｅ源と、フッ素イオン源と、構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物とを含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を含む。
【００３０】
好適な実施形態に従って、上記の結晶性材料の調製方法は、
−少なくとも：
−Ｈ2Ｏと、
−１種または複数の四価元素Ｙの酸化物と、
−酸化Ｇｅと、
−フッ素イオン源と、
−構造誘導剤（Ｒ）としての有機成分と、
を、酸化物について以下のモル比：
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  １〜５０
Ｒ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３．０
Ｆ-／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３．０
ＹＯ2／ＧｅＯ2  ０．１より大きい
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を少なくとも含む。
【００３１】
この実施形態において、特に好適な様式では、酸化物についてのモル比は以下のとおりである：
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  １〜２０
Ｒ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜１．０
Ｆ-／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜１．０
ＹＯ2／ＧｅＯ2  ０．１より大きい
本方法のさらに別の好適な実施形態は、
−少なくとも、Ｈ2Ｏと、１種または複数の三価元素Ｘの源と、１種または複数の四価元素Ｙの源と、構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物とを含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を含む。
【００３２】
本方法のさらに別の好適な実施形態は、
−少なくとも、Ｈ2Ｏと、１種または複数の三価元素Ｘの酸化物と、１種または複数の四価元素Ｙの酸化物と、フッ素イオン源と、構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物とを、酸化物について以下のモル比：
Ｈ2Ｏ／Ｘ2Ｏ3  少なくとも５
Ｈ2Ｏ／ＹＯ2  １〜５０の間
Ｒ／ＹＯ2  ０．１〜３０の間
Ｆ-／（ＹＯ2）  ０．１〜３０の間
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を含む。
【００３３】
先の実施形態に従って、好適な酸化物についてのモル比は以下のとおりである：
Ｈ2Ｏ／Ｘ2Ｏ3  ７より大きい
Ｈ2Ｏ／ＹＯ2  １〜２０の間
Ｒ／ＹＯ2  ０．１〜１．０の間
Ｆ-／（ＹＯ2）  ０．１〜１．０の間
本方法のさらに別の好適な実施形態は、
−少なくとも、Ｈ2Ｏと、１種または複数の三価元素Ｘの源と、１種または複数の四価元素Ｙの源と、酸化Ｇｅと、フッ素イオン源と、構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物とを含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を含む。
【００３４】
本方法のさらに好適な実施形態は、
−少なくとも、Ｈ2Ｏと、１種または複数の三価元素Ｘの酸化物と、１種または複数の四価元素Ｙの酸化物と、酸化Ｇｅと、フッ素イオン源と、構造誘導剤（Ｒ）としての有機化合物とを、酸化物について以下のモル比：
（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）／Ｘ2Ｏ3  ５より大きい
Ｈ２Ｏ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  １〜５０の間
Ｒ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３０の間
Ｆ-／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３０の間
ＹＯ2／ＧｅＯ2  ０．１より大きい
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を含む。
【００３５】
この実施形態に従って、好適な酸化物についてのモル比は好ましくは以下のとおりである：
（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）／Ｘ2Ｏ3  ７より大きい
Ｈ2Ｏ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  １〜２０の間
Ｒ／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜１．０の間
Ｆ-／（ＹＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜１．０の間
ＹＯ2／ＧｅＯ2  ０．１より大きい
本発明の方法のいずれの実施形態においても、種として作用するＩＴＱ−３７ゼオライト結晶を合成混合物に加えることができる（上限２５重量％まで）。
【００３６】
本発明の方法のいずれの実施形態においても、構造誘導剤として用いられる有機化合物は、好ましくは、アミンおよびテトラアルキルアンモニウム塩、好ましくは水酸化物から選択される。
【００３７】
本発明の方法は、その目的が焼成した結晶性材料を製造することである場合は、材料内に封じ込められた有機材料の除去の段階を含み、これは、抽出により、および／または２５℃を越える温度で２分〜２５時間の間の熱処理により行うことができる。
【００３８】
本発明のプロセスのさらに好適な実施形態に従って、本方法は、
−少なくともＨ2Ｏと、Ａｌ、Ｂ、および両者の混合物から選択される１種または複数の三価元素Ｘの酸化物と、Ｓｉの酸化物と、酸化Ｇｅと、フッ素イオン源と、Ｒとしての４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４
−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロ塩とを、酸化物について以下のモル比：
（ＳｉＯ2＋ＧｅＯ2）／Ｘ2Ｏ3  少なくとも５
Ｈ2Ｏ／（ＳｉＯ2＋ＧｅＯ2）  １〜５０の間
Ｒ／（ＳｉＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３．０の間
Ｆ-／（ＳｉＯ2＋ＧｅＯ2）  ０．１〜３．０の間
ＳｉＯ2／ＧｅＯ2  ０．１より大きい
で含む合成混合物を調製することと、
−多孔質結晶性材料の結晶が形成されるまで、６０℃〜２００℃の間の温度に合成混合物を維持することと、
−結晶性材料を回収することと、
を含む。
【００３９】
ＩＴＱ−３７の結晶化は、オートクレーブ中、６０℃〜２００℃の間の温度で、結晶化を達成するのに十分な時間、例えば２時間から６０日間、静置して、または撹拌しながら行うことができる。
【００４０】
結晶化段階が終わったら、ＩＴＱ−３７結晶を母液から分離して、それらを回収する。合成混合物の成分は、様々な源から由来することができ、それらに依存して時間および結晶化条件も変化してよいことを考慮にいれるべきである。合成を促進する目的で、ＩＴＱ−３７結晶を種として、酸化物の合計に関して上限２５重量％の量まで、合成混合物に加えることができる。種は、ＩＴＱ−３７の結晶化の前または最中に加えることができる。
【００４１】
本発明により製造された材料は、既知の技法によりペレット化されてもよい。それらは様々なプロセスにも用いることができる。
【００４２】
好ましくは、前記プロセスは、炭化水素の触媒分解および炭化水素の触媒水素化分解から選択される。
【００４３】
また好ましくは、前記プロセスは、アルキル化プロセス（芳香族オレフィンのアルキル化など）、エステル化プロエス、およびアシル化から選択される。本発明により製造された材料は、その酸形、適したカチオンで交換されたもの、および／または両者の組合せであってもよい。好ましくは、材料は、他の触媒の成分として存在する。
【００４４】
本発明はまた、有機化合物で形成された食品を変換する方法にも関し、この方法はこの食品を活性型の本発明の多孔質結晶性材料と接触させることを含むことを特徴とする。
【００４５】
好ましくは、前記方法は、炭化水素の触媒分解および炭化水素の触媒水素化分解から選択される。
【００４６】
また好ましくは、前記方法は、アルキル化プロセス（芳香族オレフィンのアルキル化など）、エステル化プロエス、およびアシル化から選択される
好ましくは、前記方法は、その酸形、カチオンで交換されたもの、および両者の組合せから選択される形で材料をペレット化することを含む。より好ましくは、前記材料は、他の触媒の成分として存在する。
【実施例】
【００４７】
実施例１
構造誘導剤：４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジ
ピロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロヒドロキシドの合成
５．０５ｇ（４０．７ｍｍｏｌ）の４，６−ジメチル−２−ピロンと７．９ｇ（８１．５ｍｍｏｌ）の無水マレイン酸を、トルエン（１００ｍＬ）還流下で４日間加熱する。生成した沈殿を吸引濾過し、ヘキサンで洗い、所望の二無水物を定量的に得る（１１．１ｇ）。
【００４８】
【化１】
2009528244.tif 000005
２５０ｍＬのエチルアミン水溶液（７０％）の存在下、１１．１ｇ（４０．２ｍｍｏｌ）の二無水物を７５℃で５日間加熱する。この後、混合物を部分的に減圧濃縮して沈殿を出現させ、これを濾過して減圧乾燥により予想されるジイミド１２．０ｇを得る（９０．５％）。
【００４９】
【化２】
2009528244.tif 000006
３．８ｇのＬｉＡＩＨ4（１００．０ｍｍｏｌ）をＮ2でパージして、１００ｍＬの無水ＴＨＦに懸濁させる。混合物を氷浴中に置いて、そこに先の工程で生成したジイミド６．７ｇ（２０．１ｍｍｏｌ）をゆっくりと加える。加えた後、これを還流下で６時間加熱し、それから周辺温度で一晩中撹拌し続ける。
【００５０】
この後、混合物を氷浴中に置いて、４ｍＬのＨ2Ｏ、３ｍｌのＮａＯＨ（１５％）、および、３ｍＬのＨ2Ｏを加え、周辺温度で１時間撹拌し続ける。粗混合物を濾過し、濾液をほぼ乾燥するまで濃縮する。これをＨ2Ｏに注いでＣＨ2Ｃｌ2で抽出し、抽出物をＮａ2ＳＯ4で乾燥させ、濃縮して４．８ｇのジアミン（８７％）を得る。
【００５１】
【化３】
2009528244.tif 000007
４．８ｇ（１７．５ｍｍｏｌ）のジアミンを２５ｍＬのＥｔＯＨに溶解し、溶液に４．２ｍＬのＣＨ3ＣＨ2Ｉ（５２ｍｍｏｌ）を滴下する。混合物を還流下で４日間加熱する。得られる沈殿を吸引濾過して、結晶化でＨ2Ｏを２分子含む９．９ｇの４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４−メチル−２，
２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロヨウ化物を得る（収率９１％）。
【００５２】
【化４】
2009528244.tif 000008
イオン交換樹脂を用いてヨウ素物を水酸化物と交換する。
【００５３】
実施例２
ＩＴＱ−３７合成。
【００５４】
０．１３１ｇのＧｅＯ2を１，１２４ｇの４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−
１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロヒドロキシド溶液（２０．３重量％）に溶解し、０．１９５ｇのＬｕｄｏｘ  ＡＳ−４０をこの溶液に加え、ゲルが完全に均一になったら、０．４６６ｇのフッ化アンモニウム溶液（１０重量％）を加え、混合物を、撹拌下、最終組成が以下に達するまで蒸発させる：
０．５１ＳｉＯ2：０．４９ＧｅＯ2：０．２４Ｒ（ＯＨ）2：０．４９ＮＨ4Ｆ：５．００Ｈ2Ｏ
ここでＲは４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピ
ロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロである。
【００５５】
内側をテフロン（登録商標）コーティングした鋼のオートクレーブ中、１７５℃で静置して、ゲルを２０時間加熱する。濾過して得られた固体を蒸留水で洗い１００℃で乾燥させたものがＩＴＱ−３７である。
【００５６】
この材料を、空気流中、５４０℃で３時間焼成して有機物を除去する。得られた固体の粉末のＸ線回折パターンは表１の値と一致する。
【００５７】
実施例３
０．１１５ｇのＧｅＯ2を１，２４０ｇの４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−
１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロヒドロキシド溶液（１６．２重量％）に溶解する。０．１７３ｇのＬｕｄｏｘ  ＡＳ−４０をこの溶液に加え、ゲルが完全に均一になったら、０．４０２ｇのフッ化アンモニウム溶液（１０重量％）を加え、混合物を、撹拌下、最終組成が以下に達するまで蒸発させる：
０．５１ＳｉＯ2：０．４９ＧｅＯ2：０．２４Ｒ（ＯＨ）2：０．４８ＮＨ4Ｆ：３．１０Ｈ2Ｏ
ここでＲは４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピ
ロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロである。
【００５８】
内側をテフロン（登録商標）コーティングした鋼のオートクレーブ中、１７５℃で静置して、ゲルを２０時間加熱する。濾過して得られた固体を蒸留水で洗い１００℃で乾燥させたものがＩＴＱ−３７である。
【００５９】
実施例４
０．１３１ｇのＧｅＯ2を１，０６１ｇの４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−
１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロヒドロキシド溶液（２１．７重量％）に溶解する。０．０６８ｇのＨ3ＢＯ4溶液（５重量％）および０．１８６ｇのＬｕｄｏｘ  ＡＳ−４０をこの溶液に加え、ゲルが完全に均一になったら、０．４５６ｇのフッ化アンモニウム溶液（１０重量％）を加え、混合物を、撹拌下、最終組成が以下に達するまで蒸発させる：
０．５１ＳｉＯ2：０．４９ＧｅＯ2：０．０１Ｂ2Ｏ3：０．２４Ｒ（ＯＨ）2：０．４８ＮＨ4Ｆ：５Ｈ2Ｏ
ここでＲは４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピ
ロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロである。
【００６０】
内側をテフロン（登録商標）コーティングした鋼のオートクレーブ中、１７５℃で静置して、ゲルを６時間加熱する。濾過して得られた固体を蒸留水で洗い１００℃で乾燥させたものがＩＴＱ−３７である。
【００６１】
実施例５
０．１７４ｇのＧｅＯ2を１，１１９ｇの４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−
１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロヒドロキシド溶液（２０．３重量％）に溶解する。０．１３２ｇのＬｕｄｏｘ  ＡＳ−４０をこの溶液に加え、ゲルが完全に均一になったら、０．４６１ｇのフッ化アンモニウム溶液（１０重量％）を加え、混合物を、撹拌下、最終組成が以下に達するまで蒸発させる：
０．３５ＳｉＯ2：０．６５ＧｅＯ2：０．２４Ｒ（ＯＨ）2：０．４８ＮＨ4Ｆ：３Ｈ2Ｏ
ここでＲは４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピ
ロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロである。
【００６２】
内側をテフロン（登録商標）コーティングした鋼のオートクレーブ中、１７５℃で静置して、ゲルを２０時間加熱する。濾過して得られた固体を蒸留水で洗い１００℃で乾燥させたものがＩＴＱ−３７である。
【００６３】
実施例６
０．０７７ｇのＧｅＯ2を１，０５３ｇの４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−
１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロヒドロキシド溶液（１９重量％）に溶解する。０．２１９ｇのＬｕｄｏｘ  ＡＳ−４０、および最後に、０．４０９ｇのフッ化アンモニウム溶液（１０重量％）を加え、混合物を、撹拌下、最終組成が以下に達するまで蒸発させる：
０．３４ＳｉＯ2：０．６６ＧｅＯ2：０．２５Ｒ（ＯＨ）2：０．５０ＮＨ4Ｆ：５Ｈ2Ｏ
ここでＲは４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピ
ロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロである。
【００６４】
内側をテフロン（登録商標）コーティングした鋼のオートクレーブ中、１７５℃で静置して、ゲルを２日間加熱する。濾過して得られた固体を蒸留水で洗い１００℃で乾燥させたものがＩＴＱ−３７である。
【００６５】
実施例７
０．１３１ｇのＧｅＯ2を１，０４６ｇの４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−
１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロヒドロキシド溶液（２１．７重量％）に溶解する。０．０７１ｇのＨ3ＢＯ4溶液（５重量％）および０．１９２ｇのＬｕｄｏｘ  ＡＳ−４０をこの溶液に加え、ゲルが完全に均一になったら、０．４７４ｇのフッ化アンモニウム溶液（１０重量％）を加え、混合物を、撹拌下、最終組成が以下に達するまで蒸発させる：
０．５０ＳｉＯ2：０．５０ＧｅＯ2：０．０２３Ｈ2ＢＯ3：０．２５Ｒ（ＯＨ）2：０．５０ＮＨ4Ｆ：５Ｈ2Ｏ
ここでＲは４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピ
ロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロである。
【００６６】
内側をテフロン（登録商標）コーティングした鋼のオートクレーブ中、１７５℃で静置して、ゲルを１４日間加熱する。濾過して得られた固体を蒸留水で洗い１００℃で乾燥させたものがＩＴＱ−３７である。
【００６７】
実施例８
０．１３１ｇのＧｅＯ2を１，０６１ｇの４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−
１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロヒドロキシド溶液（２１．７重量％）に溶解する。０．００３ｇのＡｌ2Ｏ3および０．１８５ｇのＬｕｄｏｘ  ＡＳ−４０をこの溶液に加え、ゲルが完全に均一になったら、０．４６８ｇのフッ化アンモニウム溶液（１０重量％）を加え、混合物を、撹拌下、最終組成が以下に達するまで蒸発させる：
０．５０ＳｉＯ2：０．５０ＧｅＯ2：０．０１２Ａｌ2Ｏ3：０．２５Ｒ（ＯＨ）2：０．５０ＮＨ4Ｆ：５Ｈ2Ｏ
ここでＲは４，８−（２−メチル）−エテノベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ’］ジピ
ロリウム−４−メチル−２，２，６，６−テトラエチル−１，２，３，３ａ，４ａ，５，６，７，７ａ，８ａ−デカヒドロである。
【００６８】
内側をテフロン（登録商標）コーティングした鋼のオートクレーブ中、１７５℃で静置して、ゲルを２０時間加熱する。得られた固体がＩＴＱ−３７である。
【国際調査報告】
2009528244.tif 000011
2009528244.tif 000012
2009528244.tif 000013
2009528244.tif 000014
2009528244.tif 000015
2009528244.tif 000016