(57)【要約】ジアステレオマーの混合物又は純粋なジアステレオマーの形態の式Ｉ及びＩａの化合物、（Ｉ）、（Ｉａ）、［式中、Ｒ１は水素原子又はＣ１−Ｃ４−アルキルであり、そしてＲ’１はＣ１−Ｃ４−アルキルであり；Ｘ１及びＸ２は、各々、互いに独立して、ｓｅｃ−ホスフィノ基であり；Ｔは、Ｃ６−Ｃ２０−アリーレン、又はＯ、Ｓ、−Ｎ＝及びＮ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）からなる群より選択されるヘテロ原子を有するＣ４−Ｃ１８−ヘテロアリーレンであり；ｖは、０又は１〜４の整数であり；Ｘ１は、Ｔ−Ｃ＊結合に対してオルト位に結合されており；Ｑは、ビニル、メチル、エチル、−ＣＨ２−ＯＲ、−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２、又は金属化試薬の金属をオルト位へ配向させるＣ−若しくはＳ−結合されたキラル基であり；Ｒは、水素、シリル基、或いは、１〜１８個の炭素原子を有し、かつ、非置換であるか又はＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｆ若しくはＣＦ３によって置換されている脂肪族、脂環式、芳香族又は芳香族−脂肪族炭化水素基である］は、不斉合成における均一系触媒としての金属錯体についての配位子である。
2009541451.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジアステレオマーの混合物又は純粋なジアステレオマーの形態の式Ｉ及びＩａの化合物：
【化４５】
2009541451.tif 000075
式中、
Ｒ１は水素原子又はＣ１−Ｃ４−アルキルであり、そしてＲ’１はＣ１−Ｃ４−アルキルであり；
Ｘ１及びＸ２は、各々、互いに独立して、ｓｅｃ−ホスフィノ基であり；
Ｔは、Ｃ６−Ｃ２０−アリーレン、又はＯ、Ｓ、−Ｎ＝及びＮ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）からなる群より選択されるヘテロ原子を有するＣ４−Ｃ１８−ヘテロアリーレンであり；
ｖは、０又は１〜４の整数であり；
Ｘ１は、Ｔ−Ｃ＊結合に対してオルト位に結合されており；
Ｑは、ビニル、メチル、エチル、−ＣＨ２−ＯＲ、−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２、又は金属化試薬の金属をオルト位へ配向させるＣ−若しくはＳ−結合されたキラル基であり；
Ｒは、水素、シリル基、或いは、１〜１８個の炭素原子を有し、かつ、非置換であるか又はＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｆ又はＣＦ３によって置換されている脂肪族、脂環式、芳香族又は芳香族−脂肪族炭化水素基であり；そして
＊は、ジアステレオマーの混合物又は純粋なジアステレオマーを示す。
【請求項２】
前記化合物が、式Ｉｂ又はＩｃの化合物：
【化４６】
2009541451.tif 000076
［式中、Ｑ、Ｒ１、Ｒ’１、Ｘ１、Ｘ２及びｖ並びに＊は、請求項１に記載の意味を有する］
であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
ｓｅｃ−ホスフィノ基であるＸ１及びＸ２が、互いに独立して、−Ｐ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２、−Ｐ（Ｃ５−Ｃ８−シクロアルキル）２、−Ｐ（Ｃ７−Ｃ８−ビシクロアルキル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２及び−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２−４−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ２］２からなる群より選択される非環式ｓｅｃ−ホスフィノ、或いは、非置換であるか又は１若しくは複数のＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ２−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ又はＣ１−Ｃ４−アルキリデンジオキシル基によって置換されている：
【化４７】
2009541451.tif 000077
からなる群より選択される環状ホスフィノ基
であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
基Ｑが、式−ＨＣ＊Ｒ５Ｒ６に対応し、ここで、Ｒ５が、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ５−Ｃ８−シクロアルキル、フェニル、又はベンジルであり、Ｒ６が、−ＯＲ７又は−ＮＲ８Ｒ９であり、Ｒ７が、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ５−Ｃ８−シクロアルキル、フェニル、又はベンジルであり、そしてＲ８及びＲ９は、同一であるか又は異なり、かつ、各々、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ５−Ｃ８−シクロアルキル、フェニル、又はベンジルであるか、或いはＲ８及びＲ９は、Ｎ原子と一緒になって、５〜８員のＮヘテロ環式環を形成することを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ５がＣ１−Ｃ４−アルキル又はフェニルであり、Ｒ７がＣ１−Ｃ４−アルキルであり、Ｒ８及びＲ９が同一の基であり、かつ、各々、Ｃ１−Ｃ４−アルキルであるか、或いは一緒になってテトラメチレン、ペンタメチレン又は３−オキサ−１，５−ペンチレンを形成することを特徴とする、請求項４記載の化合物。
【請求項６】
式Ｉ及びＩａの本発明に従う化合物を製造する方法であって、以下の工程：
ａ）式ＩＩ、ＩＩａの化合物又はそれらの混合物：
【化４８】
2009541451.tif 000078
［式中、Ｑ及びＲ１は、Ｑ＝−ＣＨ２ＯＨを除いて、請求項１に記載の意味を有し、そしてハロゲンは、臭素又はヨウ素である］と、少なくとも当量の脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド又はハロゲン−Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドとを反応させ、式ＩＩＩ、ＩＩＩａの化合物又はそれらの混合物：
【化４９】
2009541451.tif 000079
［式中、ＭはＬｉ又は−ＭｇＸ３であり、そしてＸ３はＣｌ、Ｂｒ又はＩである］を形成する工程；
ｂ）式ＩＩＩ又はＩＩＩａの化合物と式Ｘ２−Ｈａｌｏ［式中、Ｈａｌｏは、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである］の化合物とを反応させ、基Ｘ２を導入し、そして式ＩＶ又はＩＶａの化合物：
【化５０】
2009541451.tif 000080
を形成する工程；
ｃ）式ＩＶ又はＩＶａの化合物と、少なくとも当量のアルキルリチウム又はマグネシウムグリニャール化合物とを、次いで少なくとも当量の、
ｃ１）以下の式のα−ｓｅｃ−ホスフィノベンズアルデヒド：
【化５１】
2009541451.tif 000081
とを、
又は
ｃ２）式Ｖ又はＶａのフェロセンアルデヒド：
【化５２】
2009541451.tif 000082
を形成するために最初にジアルキルホルムアミドとを、
次いで、以下の式の有機金属化合物：
【化５３】
2009541451.tif 000083
とを反応させることによって基−（ＣＨ（ＯＨ）−Ｔ（Ｒ’１）ｖ−Ｘ１を導入し［式中、Ｒ’１、Ｘ１、Ｔ、Ｍ及びｖは、請求項１に記載の意味を有し、そしてＭは、Ｘ１に対してオルト位に結合されている］、式Ｉ又はＩａの化合物を得る工程；並びに
ｄ）Ｑが−ＣＨ２ＯＨである化合物を製造するために、−ＣＨ２ＯＲ基を誘導体化する工程
を含む、方法。
【請求項７】
式Ｖ及びＶａの化合物：
【化５４】
2009541451.tif 000084
式中、Ｒ１、Ｘ２及びＱは、請求項１に記載の意味を有し、但し、以下の式の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ホルミル−３（ジフェニルホスフィノ）フェロセン：
【化５５】
2009541451.tif 000085
を除く。
【請求項８】
遷移金属Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ及びＩｒの群より選択される金属と、配位子としての式Ｉ及び／又はＩａの化合物のうちの１つとの錯体。
【請求項９】
触媒の存在下でのプロキラル有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加によるキラル有機化合物の製造方法であって、該付加反応が、触媒量の少なくとも１つの請求項８に記載の金属錯体の存在下で行われることを特徴とする、方法。
【請求項１０】
キラル有機化合物の製造のための、好ましくはプロキラル有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加のための、均一系触媒としての請求項８に記載の金属錯体の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シクロペンタジエニル環の３位に追加的な置換基を有する１−ｓｅｃ−ホスフィノ−２−［（２’−ｓｅｃ−ホスフィノ）ヒドロキシ−ベンジル］フェロセン、またこれらの化合物の誘導体、それらの製造、これらの配位子と遷移金属との錯体、並びに有機化合物の均一系立体選択的合成における該金属錯体の使用に関する。
【０００２】
キラル配位子は、均一系立体選択的触媒作用における触媒について極めて重要な助剤であることがわかった。このような触媒の有効性は、しばしば、特定の基質について特異的であると示されてきた。従って、特定の基質についての最適化を達成し得るためには、充分に多数のキラル配位子を利用可能にすることが必要である。従って、製造し易くかつ立体選択的触媒反応において良好な結果を与える、さらに有効なキラル配位子についての継続的な要求が存在する。性質が特定の触媒目的物について適応及び最適化され得る配位子が、特に関心の対象である。モジュール様式で構築され得る配位子は、この目的に対し特に適している。
【０００３】
フェロセンは、配位子の製造についての非常に有用な骨格であり、これは、第２級ホスフィノ基との種々の置換を提供することについて首尾よく使用されてきた。WO 00/037478は、Taniaphosと呼ばれる式：
【化１】
2009541451.tif 000003
の配位子を記載している。しかし、２個のホスフィノ基が１つのプロセス工程で導入されるため、特に、２種の異なるＲＰ２基が骨格へ結合される場合には、それらの製造が複雑かつ高価となるため、それらの産業的な重要性は低いままとなっている。
【０００４】
WO 2005/068477は、キラルＰ原子を有するフェロセンジホスフィンの製造を記載している。Taniaphosタイプの配位子の製造について、この公報は、先ず、金属化においてオルト配向性補助基（ortho-directing auxiliary group）を有するフェロセンへＲ’Ｒ”Ｐ−基を導入し、次いで、該補助基をアルデヒド基に加水分解し、次いで該アルデヒド基とオルトメタル化ｓｅｃ−ホスフィノベンゼンとを反応させることを提案している。加水分解性キラル補助基の使用は、プロセスを高価かつ不経済とする。WO 2005/108409によれば、Ｐ（ＩＩＩ）基がオルト配向性キラル補助基として使用され、金属化の生成物がｏ−ｓｅｃ−ホスフィノベンズアルデヒドと反応され、次いで該Ｐ（ＩＩＩ）補助基がｓｅｃ−ホスフィノ基へ変換される。この合成は、複雑であると考えられる。得られ得る式：
【化２】
2009541451.tif 000004
の化合物は、Taniaphos-OHと呼ばれ、Ｃｐ−ＰＲ２基は、不斉であり得る（Ｃｐは、シクロペンタジエニルである）。
【０００５】
簡単で、モジュールの、経済的な様式で製造され得、かつ、不斉触媒における金属錯体についての配位子として好適である、Taniaphos-OHタイプの配位子についての大きな要求が存在している。
【０００６】
今回、予期し得ないことに、出発材料として任意で修飾可能なオルト配向性キラル基が１つのＣｐ環へ結合されているフェロセンを使用した場合、Taniaphos-OHタイプの光学的に純粋な異性体の製造をとりわけ簡単に達成し得ることが、見出された。追加的な光学中心の存在が、二座配位子の合成における優れたジアステレオ選択性を導き、そしてさらに、結晶化又は分取クロマトグラフィー（アキラルなカラム上においてさえ）による立体異性体の簡単な精製又は分離を可能とする。
【０００７】
さらに、予期し得ないことに、シクロペンタジエニル環（Ｃｐ）中において、Ｃｐ−ＣＨＯＨ結合に対してオルト位に、追加的な置換基を含むこれらの配位子は、Taniaphos-OHと比べて、エナンチオ選択的均一系触媒についての金属錯体において少なくともほぼ等しい良好な効果を有し、かつ、プロキラル基質次第で、非常に良好〜非常に高い立体選択性を達成させることが見出された。この置換基の選択により、触媒特性に影響を与えることが可能であり、そして特定の基質についてそれらを最適化することも可能である。
【０００８】
本発明は、先ず、ジアステレオマーの混合物又は純粋なジアステレオマーの形態の式Ｉ及びＩａの化合物：
【化３】
2009541451.tif 000005
［式中、
Ｒ１は水素原子又はＣ１−Ｃ４−アルキルであり、そしてＲ’１はＣ１−Ｃ４−アルキルであり；
Ｘ１及びＸ２は、各々、互いに独立して、ｓｅｃ−ホスフィノ基であり；
Ｔは、Ｃ６−Ｃ２０−アリーレン、又はＯ、Ｓ、−Ｎ＝及びＮ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）からなる群より選択されるヘテロ原子を有するＣ４−Ｃ１８−ヘテロアリーレンであり；
ｖは、０又は１〜４の整数であり；
Ｘ１は、Ｔ−Ｃ＊結合に対してオルト位に結合されており；
Ｑは、ビニル、メチル、エチル、−ＣＨ２−ＯＲ、−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ１−Ｃ１２−アルキル）２、又は金属化試薬（metallation reagent）の金属をオルト位へ配向させるＣ−若しくはＳ−結合されたキラル基であり；
Ｒは、水素、シリル基、或いは、１〜１８個の炭素原子を有し、かつ、非置換であるか又はＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｆ若しくはＣＦ３によって置換されている脂肪族、脂環式、芳香族又は芳香族−脂肪族炭化水素基であり；そして
＊は、ジアステレオマーの混合物又は純粋なジアステレオマーを示す］
を提供する。
【０００９】
本発明に従う好ましい化合物は、式Ｉｂ又はＩｃの化合物：
【化４】
2009541451.tif 000006
［式中、Ｑ、Ｒ１、Ｒ’１、Ｘ１、Ｘ２及びｖ並びに＊は、上記の記載の意味を有する］
である。
【００１０】
Ｒ１は、シクロペンタジエニル環に１回若しくは２回又は１〜５回存在し得る。アルキル基Ｒ１は、例えば、メチル、エチル、ｎ−若しくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−若しくはｔ−ブチルであり得、好ましいのはメチルである。Ｒ１は、好ましくは水素原子である。Ｒ’１は、芳香族又はヘテロ芳香族基Ｔにおいて１〜４回存在し得る。好ましいのは、ｖが０であり、そして従ってＲ’１が水素であることである。
【００１１】
アルキル基Ｒ’１は、例えば、メチル、エチル、ｎ−若しくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−若しくはｔ−ブチルであり得、好ましいのはメチルである。
【００１２】
アリーレン基Ｔは、好ましくは、６〜１４個の炭素原子を有する。アリーレンの例は、フェニレン、ナフチレン、アントラシレン（anthracylene）及びフェナントリレンである。好ましいのは、１，２−フェニレン及び１，２−ナフチレンである。
【００１３】
ヘテロアリーレン基Ｔは、好ましくは、４〜１４個の炭素原子、そして特に好ましくは４〜５個の炭素原子、及び好ましくは１個のヘテロ原子を有する。ヘテロアリーレンの例は、１，２−若しくは２，３−チオフェニレン、１，２−若しくは２，３−フラニレン、並びにＮ−メチル−１，２−若しくは−２，３−ピロリレン及びまた２，３−若しくは３，４−ピリジニレンである。
【００１４】
Ｘ１及びＸ２は、同一又は異なる炭化水素基及び／又はヘテロ炭化水素基を含む第２級ホスフィノ基であり得る。さらに、Ｘ１及びＸ２は、同一であるか又は異なり得る。
【００１５】
炭化水素基は、非置換であるか又は置換され得、及び／又は、Ｏ、Ｓ、−Ｎ＝及びＮ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）からなる群より選択されるヘテロ原子を含み得る。それらは、１〜２２個、好ましくは１〜１２個、そして特に好ましくは１〜８個の炭素原子を含有し得る。好ましいｓｅｃ−ホスフィノ基は、該ホスフィノ基が、直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ１２−アルキル；非置換の又はＣ１−Ｃ６−アルキル−若しくはＣ１−Ｃ６−アルコキシ−置換されたＣ５−Ｃ１２−シクロアルキル若しくはＣ５−Ｃ１２−シクロアルキル−ＣＨ２−；フェニル、ナフチル、フリル、及びベンジル；並びにハロゲン−、Ｃ１−Ｃ６−アルキル−、トリフルオロメチル−、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−、トリフルオロメトキシ−、（Ｃ６Ｈ５）３Ｓｉ−、（Ｃ１−Ｃ１２−アルキル）３Ｓｉ−、又はｓｅｃ−アミノ置換されたフェニル又はベンジルからなる群より選択される２種の同一又は異なる基を含むものである。
【００１６】
好ましくは１〜６個の炭素原子を含有する、Ｐにおけるアルキル置換基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、並びにペンチル及びヘキシルの異性体である。Ｐにおける非置換又はアルキル置換されたシクロアルキル置換基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、及びエチルシクロヘキシル、及びジメチルシクロヘキシルである。Ｐにおけるアルキル−及びアルコキシ−置換されたフェニル及びベンジル置換基の例は、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル、ビストリフルオロメトキシフェニル、フルオロフェニル及びクロロフェニル、並びに３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルである。
【００１７】
好ましい第２級ホスフィノ基は、Ｃ１−Ｃ６−アルキル；非置換シクロペンチル若しくはシクロヘキシル；及び置換基として１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキル若しくはＣ１−Ｃ４−アルコキシ基を有するシクロペンチル若しくはシクロヘキシル；非置換であるか又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−フルオロアルキル、若しくはＣ１−Ｃ４−フルオロアルコキシ、Ｆ及びＣｌ基によって置換されているベンジル及び特にフェニルからなる群より選択される同一又は異なる基を有するものである。
【００１８】
ｓｅｃ−ホスフィノ基は、好ましくは、式−ＰＲ２Ｒ３に対応し、ここで、Ｒ２及びＲ３は、各々、互いに独立して、１〜１８個の炭素原子を有し、そして、非置換であるか又はＣ１−Ｃ６−アルキル、トリフルオロメチル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、トリフルオロメトキシ、（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２アミノ、（Ｃ６Ｈ５）３Ｓｉ、（Ｃ１−Ｃ１２−アルキル）３Ｓｉ又はハロゲンによって置換されており、そして／又はヘテロ原子Ｏを含有する、炭化水素基である。
【００１９】
Ｒ２及びＲ３は、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ６−アルキル；非置換シクロペンチル若しくはシクロヘキシル、及び置換基として１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキル若しくはＣ１−Ｃ４−アルコキシ基を有するシクロペンチル若しくはシクロヘキシル；フリル；非置換ベンジル、及び置換基として１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキル若しくはＣ１−Ｃ４−アルコキシ基を有するベンジル；並びに特に、非置換フェニル、及び置換基として１〜３個のＦ、Ｃｌ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−フルオロアルキル又はＣ１−Ｃ４−フルオロアルコキシ基を有するフェニルからなる群より選択される基である。
【００２０】
Ｒ２及びＲ３は、特に好ましくは、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フリル、並びに非置換フェニル、及び１〜３個のＦ、Ｃｌ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ及び／又はＣ１−Ｃ４−フルオロアルキル基によって置換されたフェニルからなる群より選択される基である。
【００２１】
−ＰＲ２Ｒ３基中のＲ２及びＲ３が異なる場合、配位子は、さらにＰ−キラルである。
【００２２】
第２級ホスフィノ基は、環状ｓｅｃ−ホスフィノ、例えば、式：
【化５】
2009541451.tif 000007
の１つを有する基であり得、これらは、非置換であるか、又は、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ４−Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ４−アルキルフェニル若しくはＣ１−Ｃ４−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ１−Ｃ４−アルキルベンジル若しくはＣ１−Ｃ４−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルキルベンジルオキシ若しくはＣ１−Ｃ４−アルコキシベンジルオキシ、又はＣ１−Ｃ４−アルキリデンジオキシルによって１回以上置換される。
【００２３】
置換基は、キラル炭素原子を導入するために、Ｐ原子に対して一方又は両方のα位に結合され得る。一方又は両方のα位における置換基は、好ましくは、Ｃ１−Ｃ４−アルキル又はベンジル、例えば、メチル、エチル、ｎ−若しくはｉ−プロピル、ベンジル、又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ６−Ｃ１０−アリールである。
【００２４】
β、γ位における置換基は、例えば、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、ベンジルオキシ、又は−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）−Ｏ−、及び−Ｏ−Ｃ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２−Ｏ−であり得る。いくつかの例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−Ｏ−ＣＨ（メチル）−Ｏ−、及び−Ｏ−Ｃ（メチル）２−Ｏ−である。
【００２５】
置換のタイプ及び置換基の数に依存して、環状ホスフィノ基は、Ｃ−キラル、Ｐ−キラル、又はＣ−及びＰ−キラルであり得る。
【００２６】
上記式の基において、脂肪族５員若しくは６員環又はベンゼンは、２個の隣接する炭素原子へ縮合され得る。
【００２７】
環状ｓｅｃ−ホスフィノ基は、例えば、以下の式に対応し得る（可能なジアステレオマーの１つのみを示す）：
【化６】
2009541451.tif 000008
式中、基Ｒ’及びＲ”は、各々、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−若しくはｉ−プロピル、ベンジル、又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、或いは−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ６−Ｃ１０−アリールであり、そしてＲ’及びＲ”は、同一であるか又は異なる。
【００２８】
式Ｉの化合物において、ｓｅｃ−ホスフィノ基Ｘ１及びＸ２は、互いに独立して、好ましくは、−Ｐ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２、−Ｐ（Ｃ５−Ｃ８−シクロアルキル）２、−Ｐ（Ｃ７−Ｃ８−ビシクロアルキル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２及び−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２−４−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ２］２からなる群より選択される非環式ｓｅｃ−ホスフィノ、或いは、非置換であるか、或いは１若しくは複数のＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ２−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ又はＣ１−Ｃ４−アルキリデンジオキシル基によって置換されている：
【化７】
2009541451.tif 000009
からなる群より選択される環状ホスフィノ基である。
【００２９】
いくつかの具体的な例は、−Ｐ（ＣＨ３）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ３Ｈ７）２、−Ｐ（ｎ−Ｃ４Ｈ９）２、Ｐ（ｉ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（ｔ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（Ｃ５Ｈ９）、−Ｐ（Ｃ６Ｈ１１）２、−Ｐ（ノルボルニル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、Ｐ［２−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、Ｐ［３−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）２Ｃ６Ｈ３］２、及び−Ｐ［３，５−ビス（メチル）２−４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２、並びに以下の式の基であり：
【化８】
2009541451.tif 000010
式中、Ｒ’は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、又はベンジルオキシメチルであり、そしてＲ”は、独立して、Ｒ’と同一の意味を有し、かつ、Ｒ’とは異なる。
【００３０】
オルト配向性キラル基（ortho-directing, chiral group）Ｑにおいて、キラル原子は、好ましくは、シクロペンタジエニル−Ｑ結合に対して１、２又は３位に結合されている。基Ｑは、１〜２０個、そして好ましくは１〜１２個の原子を有する置換又は非置換の開鎖基（open-chain radical）、或いは、４又は８個の環原子、及び、合計で４〜２０個、そして好ましくは４〜１６個の原子を有する環式基であり得、該原子は、Ｃ、Ｏ、Ｓ、Ｎ及びＰからなる群より選択される。Ｃ、Ｏ、Ｓ、Ｎ及びＰ原子上の水素原子は、勘定に入れない。
【００３１】
基Ｑは、例えば、式−Ｓ＊（＝Ｏ）−Ｒ４のスルホキシル基であり得、ここで、Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、そして好ましくは、Ｃ２−Ｃ６−アルキル、若しくはＣ５−Ｃ８−シクロアルキル、又はＣ６−Ｃ１０−アリールである。いくつかの例は、メチルスルホキシル、エチルスルホキシル、ｎ−若しくはｉ−プロピルスルホキシル、及びｎ−、ｉ−若しくはｔ−ブチルスルホキシル、及びフェニルスルホキシルである。
【００３２】
基Ｑは、例えば、式−ＨＣ＊Ｒ５Ｒ６（キラル原子が＊によって示される）に対応し得、ここで、Ｒ５は、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ５−Ｃ８−シクロアルキル、フェニル、又はベンジルであり、Ｒ６は、−ＯＲ７又は−ＮＲ８Ｒ９であり、Ｒ７は、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ５−Ｃ８−シクロアルキル、フェニル、又はベンジルであり、そしてＲ８及びＲ９は、同一であるか又は異なり、そして各々、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ５−Ｃ８−シクロアルキル、フェニル、又はベンジルであるか、或いはＲ８及びＲ９は、Ｎ原子と一緒になって、５〜８員環を形成する。Ｒ５は、好ましくは、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、又はフェニルである。Ｒ７は、好ましくは、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、又はｎ−若しくはｉ−ブチルである。Ｒ８及びＲ９は、好ましくは、同一の基であり、そして各々、好ましくは、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、又はｎ−若しくはｉ−ブチルであるか、或いは、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレン、又は３−オキサ−１，５−ペンチレンを形成する。式−ＨＣＲ５Ｒ６の特に好ましい基は、１−メトキシエタ−１−イル、１−ジメチルアミノエタ−１−イル、及び１−（ジメチルアミノ）１−フェニルメチルである。
【００３３】
Ｑがアキラルのオルト配向性基−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ１−Ｃ１２−アルキル）２である場合、該アルキル基は、好ましくは、直鎖アルキル、そして非常に特に好ましくは、メチル又はエチルである。
【００３４】
Ｑがアキラルのオルト配向性基−ＣＨ２−ＯＲである場合、炭化水素基としてのＲは、例えば、アルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル（Ｏ、Ｓ、−Ｎ＝又は−Ｎ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）からなる群より選択されるヘテロ原子を含有する）であり、ここで、環式基は、好ましくは、５〜７環メンバーを有し、アルキルは、好ましくは、１〜６個の炭素原子を有し、そして環式基中の「アルキル」は、好ましくは、１又は２個の炭素原子を有する。好ましい態様において、炭化水素基としてのＲは、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ５−Ｃ６−シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０−アリール、Ｃ７−Ｃ１２−アラルキル、又はＣ７−Ｃ１２−アルカラルキル（alkaralkyl）である。Ｒのいくつかの例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、テトラヒドロフリル、フェニル、ベンジル、フラニル、及びフラニルメチルである。
【００３５】
基−ＣＨ２−ＯＲ中のシリル基Ｒは、トリ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）Ｓｉ、又はトリフェニルシリルであり得る。トリアルキルシリルの例は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、トリ−ｎ−ブチルシリル、及びジメチル−ｔ−ブチルシリルである。
【００３６】
Ｑがアキラルのオルト配向性基−ＣＨ２−ＯＲである場合、Ｒは、特に好ましくは、アルキル基、好ましくは、直鎖アルキル、そして非常に特に好ましくは、メチル又はエチルである。
【００３７】
Ｑがキラルα炭素原子を有しない基である場合、それは、直接又は架橋基を介して、シクロペンタジエニル環へ炭素原子を介して結合されている。架橋基は、例えば、メチレン、エチレン、又はイミン基であり得る。架橋基へ結合された環式基は、好ましくは、飽和されており、そして特に好ましくは、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２ＮＣＨ２−、（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２ＮＣＨ２ＣＨ２−、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシメチル、又はＣ１−Ｃ４−アルコキシエチルによって置換され、かつ、合計５又は６環原子を有する、Ｎ−、Ｏ−、又はＮ，Ｏ−ヘテロシクロアルキルである。開鎖基は、好ましくは、ＣＨ２基を介してシクロペンタジエニル環へ結合されており、そして該基は、好ましくは、アミノ酸又はエフェドリンから誘導される。いくつかの好ましい例は、以下である：
【化９】
2009541451.tif 000011
式中、Ｒ１０は、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、フェニル、（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２ＮＣＨ２−、（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２ＮＣＨ２ＣＨ２−、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシメチル、又はＣ１−Ｃ４−アルコキシエチルである。Ｒ１０は、特に好ましくは、メトキシメチル、又はジメチルアミノメチルである。
【００３８】
本発明の化合物は、置換基Ｑに対してα位においてハロゲン化されているフェロセンから出発する新規の方法によって得られ得、そして、金属アミドによって該ハロゲン原子に対してオルト位において位置選択的にかつ化学選択的に金属化され得る。次いで、該金属原子は、基Ｘ２によって、公知の様式で置換され得る。次いで、−Ｃ＊Ｈ（ＯＨ）−Ｔ−Ｘ１基を導入するために、α−臭素原子が金属化され得、これらの最終段階は、正確に、不斉Ｃ＊原子の形成を含み、予期し得ないほど高いジアステレオ選択性を導く。
【００３９】
本発明は、さらに、式Ｉ及びＩａの本発明に従う化合物を製造する方法であって、以下の工程を含む方法を提供する：
ａ）式ＩＩ、ＩＩａの化合物又はそれらの混合物：
【化１０】
2009541451.tif 000012
［式中、Ｑ及びＲ１は、Ｑ＝−ＣＨ２ＯＨを除いて、上記の意味を有し、そしてハロゲンは、臭素又はヨウ素である］と、少なくとも当量の脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド又はハロゲン−Ｍｇ  ｓｅｃ−アミドとを反応させ、式ＩＩＩ、ＩＩＩａの化合物又はそれらの混合物：
【化１１】
2009541451.tif 000013
［式中、ＭはＬｉ又は−ＭｇＸ３であり、そしてＸ３はＣｌ、Ｂｒ又はＩである］を形成する工程；
ｂ）式ＩＩＩ又はＩＩＩａの化合物と式Ｘ２−Ｈａｌｏ［式中、Ｈａｌｏは、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである］の化合物とを反応させ、基Ｘ２を導入し、そして式ＩＶ又はＩＶａの化合物：
【化１２】
2009541451.tif 000014
を形成する工程；
ｃ）式ＩＶ又はＩＶａの化合物と、少なくとも当量のアルキルリチウム又はマグネシウムグリニャール化合物とを、次いで少なくとも当量の、
ｃ１）以下の式のα−ｓｅｃ−ホスフィノベンズアルデヒド：
【化１３】
2009541451.tif 000015
とを、
又は
ｃ２）式Ｖ又はＶａのフェロセンアルデヒド：
【化１４】
2009541451.tif 000016
を形成するために最初にジアルキルホルムアミドとを、
次いで、以下の式の有機金属化合物：
【化１５】
2009541451.tif 000017
とを反応させることによって基−（ＣＨ（ＯＨ）−Ｔ（Ｒ’１）ｖ−Ｘ１を導入し［式中、Ｒ’１、Ｘ１、Ｔ、Ｍ及びｖは、上記の意味を有し、そしてＭは、Ｘ１に対してオルト位に結合されている］、式Ｉ又はＩａの化合物を得る工程；並びに
ｄ）Ｑが−ＣＨ２ＯＨである化合物を製造するために、−ＣＨ２ＯＲ基を誘導体化する工程。
【００４０】
Ｑがメチルである式ＩＩ及びＩＩａの化合物、例えば、１−メチル−２−ブロモフェロセンは、T. Arantani et al., Tetrahedron 26 (1970), p5453-5464、及びT. E. Picket et al., J. Org. Chem. 68 (2003), p2592-2599によって記載されている。
【００４１】
Ｑがビニル又はエチルである式ＩＩ及びＩＩａの化合物は、例えば、１−［（ジアルキルアミノ）エタ−１−イル］−２−ハロフェロセン、例えば、式：
【化１６】
2009541451.tif 000018
の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ブロモフェロセンにおけるアミンを除去し、１−ビニル−２−ハロフェロセン、好ましくは、１−ビニル−２−ブロモフェロセンを形成し、そして、必要に応じて、引き続いて、形成されたビニル基をエチル基へ水素化することによって製造され得る。１−［（ジアルキル−アミノ）エタ−１−イル］−２−ハロフェロセンにおいて、アミノ基は、カルボン酸無水物によりアシルオキシによって置換され得、次いで、他の第２級アミノ基又は−ＯＲ基によって置換され得る。
【００４２】
Ｑが−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ１−Ｃ１２−アルキル）２基である式ＩＩ及びＩＩａの化合物は、例えば、ＨＮ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２によって、四級化ＣＨ２−結合されたキラルｓｅｃ−アミノ基を置換することによって得られ得る。このようなＣＨ２−結合されたｓｅｃ−アミノ基の例は、以下の式のものであり：
【化１７】
2009541451.tif 000019
式中、
Ｒ１０は、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、フェニル、（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２ＮＣＨ２−、（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２ＮＣＨ２ＣＨ２−、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシメチル、又はＣ１−Ｃ４−アルコキシエチルである。Ｒ１０は、特に好ましくは、メトキシメチル、又はジメチルアミノメチルである。四級化は、有利には、ハロゲン化アルキル（ヨウ化アルキル）、例えば、ヨウ化メチルによって行われる。
【００４３】
Ｑが−ＣＨ２−ＯＲである式ＩＩ及びＩＩａの化合物は、先ず、カルボン酸無水物（例えば、無水酢酸）によって１−（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２ＮＣＨ２−２−ハロフェロセンを（例えば、１−アセチルオキシ−ＣＨ２−）へアシルオキシ化し、１−アシルオキシ−ＣＨ２−２−ハロフェロセンを形成し、そして次いで、これらの中間体と塩基の存在下でアルコールとを、或いはアルカリ金属アルコキシドとを反応させ、１−ＲＯ−ＣＨ２−２−ハロフェロセンを得ることによって、得られ得る。Ｑが−ＨＣＲ５−ＯＲ７である式ＩＩの化合物は、アルコールＨＯＲ７での基Ｑ＝−ＨＣＲ５−Ｎ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２の修飾によって、類似の様式で得られ得る。
【００４４】
予期しないことに、基ビニル、メチル、エチル、−ＣＨ２−ＯＲ、及び（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２ＮＣＨ２−の存在においてさえ、求電子試薬の引き続いての導入についての、臭素原子に対してオルト位における金属化の位置選択性は、本質的に維持される。
【００４５】
アルキルリチウム又はマグネシウムグリニャール化合物を使用するフェロセンの金属化は、公知の反応であり、これらは、例えば、T. Hayashi et al., Bull. Chem. Soc. Jpn. 53 (1980), p1138-1151、又はJonathan Clayden Organolithiums: Selectivity for Synthesis (Tetrahedron Organic Chemistry Series), Pergamon Press (2002) に記載されている。アルキルリチウム中のアルキルは、例えば、１〜４個の炭素原子を含み得る。メチルリチウム及びブチルリチウムが、しばしば使用される。マグネシウムグリニャール化合物は、好ましくは、式（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）ＭｇＸ０の化合物であり、ここで、Ｘ０は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである。
【００４６】
反応は、有利には、低温、例えば、２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で行われる。反応時間は、約１〜２０時間である。反応は、有利には、不活性保護ガス、例えば、窒素、又は希ガス、例えば、ヘリウム又はアルゴン下で行われる。
【００４７】
反応は、有利には、不活性溶媒の存在下で行われる。このような溶媒は、単独で、又は少なくとも２種の溶媒の組み合わせとして、使用され得る。溶媒の例は、脂肪族、脂環式、及び芳香族炭化水素、並びにまた、開鎖又は環状エーテルである。具体例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチル又はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、及びジオキサンである。
【００４８】
ハロゲン化は、一般的に、金属化におけるのと同様の反応条件が維持されながら、同一の反応混合物中において、金属化の直後に行われる。本発明の目的のために、「少なくとも当量」は、好ましくは１〜１．４当量のハロゲン化試薬の使用を意味する。ハロゲン化試薬は、Ｂｒ又はＩの導入について、例えば、ハロゲン（Ｂｒ２、Ｉ２）、ハロゲン間化合物（Ｃｌ−Ｂｒ、Ｃｌ−Ｉ）、及び脂肪族、過ハロゲン化炭化水素［ＨＣＩ３（ヨードホルム（iodo form））、ＢｒＦ２Ｃ−ＣＦ２Ｂｒ、又は１，１，２，２−テトラブロモエタン］である。
【００４９】
金属化及びハロゲン化は位置選択的に進行し、そして式ＩＩの化合物が高収率で得られる。反応はまた、キラル基Ｑの存在に起因して、立体選択的である。さらに、必要に応じて、光学異性体はまた、例えば、キラルカラムによってクロマトグラフィー的に、この段階で分別され得る。
【００５０】
プロセス工程ａ）において、フェロセン骨格は、再度、式ＩＩ又はＩＩａにおけるハロゲン原子に対してオルト位で、同一のシクロペンタジエニル環において、位置選択的に金属化される。ここで、金属アミドは、ハロゲン原子に対してオルト位にある酸性Ｈ原子を置換するに充分である。本発明の目的について、「少なくとも当量」は、フェロセンのシクロペンタジエニル環におけるＣＨ基当たり１〜１０当量の脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド又はＸ０Ｍｇ−ｓｅｃ−アミドの使用を意味する。Ｘ０は、Ｃｌ、Ｂｒ、又はヨウ素である。
【００５１】
脂肪族Ｌｉ  ｓｅｃ−アミド又はＸ０Ｍｇ−ｓｅｃ−アミドは、２〜１８個、好ましくは２〜１２個、そして特に好ましくは２〜８個の炭素原子を含有する第２級アミンから誘導され得る。Ｎ原子へ結合された脂肪族基は、アルキル、シクロアルキル、又はシクロアルキルアルキルであり得、或いは該基は、Ｎ原子と一緒になって、４〜１２個、そして好ましくは５〜７個の炭素原子を有するＮ−ヘテロ環式環を形成し得る。Ｎ原子へ結合された基の例は、メチル、エチル、ｎ−及びｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びシクロヘキシルメチルである。Ｎ−ヘテロ環式環の例は、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、Ｎ−メチルピペラジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、及びアザノルボルナンである。代わりに、アミド窒素へ２個のトリアルキルシリル基が結合されているＬｉ  ｓｅｃ−アミド又はＸ０Ｍｇ−ｓｅｃ−アミドを使用することも可能である。好ましい態様において、前記アミドは、式Ｌｉ−Ｎ（Ｃ３−Ｃ４−アルキル）２又はＸ０Ｍｇ−Ｎ（Ｃ３−Ｃ４−アルキル）２に対応し、ここで、アルキルは、特に、ｉ−プロピルである。別の好ましい態様において、前記アミドは、Ｌｉ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）である。
【００５２】
プロセス工程ａ）の反応は、上述の溶媒中において、そして式ＩＩ及びＩＩａの化合物の製造のための反応条件下で、行われ得る。反応温度は、ここで、−１０℃以下、好ましくは−３０℃以下であるべきである。式ＩＩＩ及びＩＩＩａの化合物は、一般的に、単離されず、しかし代わりに、得られた反応混合物は、好ましくは、引き続いての工程ｂ）において使用される。
【００５３】
プロセス工程ｂ）の反応は、少なくとも当量、又は１．５当量までの過剰量の式Ｘ２−Ｈａｌｏの化合物を使用して行われる。
【００５４】
プロセス工程ｂ）において、基Ｘ２は、Ｍの置換を伴う式Ｘ２−Ｈａｌｏの化合物との反応によって導入される。本発明の目的について、「少なくとも当量」は、シクロペンタジエニル環において反応する＝ＣＭ基当たりの反応性化合物の１〜１．２当量の使用を意味する。しかし、５当量までの明らかな過剰量を使用することも可能である。
【００５５】
反応は、有利には、低温、例えば、２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で行われる。反応は、有利には、不活性保護ガス、例えば、希ガス、例えばアルゴン、又は窒素下で行われる。反応性求電子性化合物の添加後、混合物は、有利には、室温へ加温されるか、又は高温（例えば、１００℃まで、そして好ましくは５０℃まで）へ加熱され、そして反応を完了させるためにこれらの条件下でしばらくの間撹拌される。
【００５６】
反応は、有利には、不活性溶媒の存在下で行われる。このような溶媒は、単独で、又は少なくとも２種の溶媒の組み合わせとして、使用され得る。溶媒の例は、脂肪族、脂環式、及び芳香族炭化水素、並びにまた、開鎖又は環状エーテルである。具体例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチル又はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、及びジオキサンである。
【００５７】
式ＩＶの化合物は、公知の方法（抽出、蒸留、結晶化、クロマトグラフィー法）によって単離され得、そして必要に応じて、それ自体公知の様式で精製される。
【００５８】
プロセス工程ｃ）の金属化は、（アルキルリチウムを使用する）上述のリチウム化及び置換反応に類似する様式で行われる。当量のリチウム化試薬又は１．２当量までの過剰量を使用することも可能である。金属化は、好ましくは、−８０〜約３０℃の温度で行われる。金属の置換は、有利には、先ず、＋２０〜−１００℃の温度で行われ、次いで反応後に８０℃までへ加熱される。上述の溶媒が使用され得る。
【００５９】
プロセス工程ｃ１）におけるα−ｓｅｃ−ホスフィノベンズアルデヒドとの反応は、有利には、溶媒中において、−８０〜８０℃、好ましくは−４０〜４０℃の温度で行われる。水の添加後、反応混合物を有機溶媒で抽出し、そして本発明の化合物を公知の様式で単離する。好適な溶媒は上記に記載した。α−ｓｅｃ−ホスフィノベンズアルデヒドは、公知であるか、又は類似の方法によって得られ得る。得られた化合物は、例えば、シリカゲルカラムにおけるクロマトグラフィーによって精製され得、又は次の工程において直接使用され得る。
【００６０】
プロセス工程ｃ２）におけるジアルキルホルムアミドとの反応は、有利には、溶媒中において、−３０〜５０℃、好ましくは−２０〜３０℃の温度で行われる。反応混合物を水の添加及び有機溶媒での抽出によって後処理する。好適な溶媒は上記に記載した。次の工程において使用される式：
【化１８】
2009541451.tif 000020
の化合物は、１−ブロモ−２−ヨード芳香族化合物を金属化し、引き続いてＨａｌｏＸ１（Ｈａｌｏは、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである）と反応させ１−ブロモ−２−Ｘ１−芳香族化合物を形成し、引き続いてアルキルリチウム又はアルキルＭｇハライドによってこれらを金属化することによって、簡単な様式で得られ得る。さらなる詳細は、実施例において見られ得る。式Ｖ又はＶａの化合物の添加及び引き続いての反応は、有利には、溶媒中において、−２０〜−８０℃の温度で行われる。後処理前に、反応を完了させるために、反応混合物は、室温へ加温されそしてしばらくの間撹拌され得る。反応混合物は、水と混合され、次いで有機溶媒で抽出される。次いで、本発明の化合物は、溶媒の除去によって単離される。粗生成物は、例えばシリカゲルカラムにおける、クロマトグラフィーによって精製され得る。さらなる詳細は実施例に記載される。
【００６１】
式Ｉ及びＩａの化合物が、本発明の方法によって、充分な収率及び高い純度で得られる。基Ｘ１及びＸ２の導入についての高い柔軟性は、本方法の特有の利点を示し、何故ならば、多くの異なる基Ｘ１が、同一の中間体における基Ｘ２の導入後に結合され得るためである。
【００６２】
式Ｉ及びＩａの化合物は、例えば、T. Hayashi et al., Bull. Chem. Soc. Jpn. 53 (1980), p1138-1151によって記載されるように、基Ｑにおいて修飾され得る（アシルオキシ及び−ＯＲ又は−ＯＲ７又は第２級アミン基の導入）。修飾について、ベンジルのＯＨ基は、有利には、二次反応を回避するために、それ自体公知の保護基が提供される。式ＩＩ及びＩＩａの化合物の製造について上述した同一の修飾が、可能である。Ｒ１が水素であり、かつ、Ｑが、−ＣＨ２−ＯＲ、−ＣＨ２−Ｎ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２、又はオルト位Ｘ１中へ金属化試薬の金属を配向させるＣ−結合されたキラル基である、式Ｉ及びＩａの化合物において、水素でない基Ｒ１を導入することが可能である。当然ながら、ＯＨ基、例えば、ベンジルのＣＨＯＨ基又はＣＨ２ＯＨ基としてのＱが、それ自体公知の様式で、誘導体化されることも可能である（例えば、エーテル、エステル、カーボネート又はウレタンへの変換）。
【００６３】
本発明はまた、式Ｖ及びＶａの中間体を提供する：
【化１９】
2009541451.tif 000021
式中、Ｒ１、Ｘ２及びＱは、上記の意味を有し、但し、以下の式の１−［（ジメチル−アミノ）エタ−１−イル］−２−ホルミル−３（ジフェニルホスフィノ）フェロセンを除く：
【化２０】
2009541451.tif 000022
【００６４】
式Ｉ及びＩａの新規の化合物は、好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ及びＩｒの群より、特にＲｕ、Ｒｈ及びＩｒからなる群より選択される、遷移金属の錯体についての配位子であり、これらは、不斉合成、例えば、プロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化についての優れた触媒又は触媒前駆体である。プロキラル不飽和有機化合物が使用される場合、非常に高過剰量の光学異性体が、有機化合物の合成において誘導され得、そして高化学変換が、短い反応時間で達成され得る。達成され得るエナンチオ選択性及び触媒活性は優れており、そして不斉水素化の場合、公知の触媒と比較してかなり高い。さらに、このような配位子はまた、他の不斉付加又は環化反応においても使用され得る。
【００６５】
本発明は、さらに、周期表の遷移金属の群より選択される金属と配位子としての式Ｉ及び／又はＩＩａの化合物の１つとの錯体を提供する。
【００６６】
可能な金属は、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｕ及びＰｔである。好ましい金属は、ロジウム及びイリジウム、並びにまた、ルテニウム、白金及びパラジウムである。
【００６７】
特に好ましい金属は、ルテニウム、ロジウム及びイリジウムである。金属錯体は、金属原子の酸化数及び配位数に依存して、追加的な配位子及び／又はアニオンを含み得る。それらはまた、カチオン性金属錯体であり得る。このような類似の金属錯体及びそれらの製造は、文献に広く記載されている。
【００６８】
金属錯体は、例えば、一般式ＶＩ及びＶＩＩに対応し得：
【化２１】
2009541451.tif 000023
式中、Ａ１は、式Ｉ及び／又はＩａの化合物の１つであり、配位子Ｌは、同一又は異なる単座のアニオン性若しくは非イオン性配位子、或いは同一又は異なる二座のアニオン性若しくは非イオン性配位子であり；
Ｌが単座配位子である場合、ｒは２、３又は４であり、或いは、Ｌが二座配位子である場合、ｒは１又は２であり；
ｚは、１、２又は３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ及びＲｕからなる群より選択される金属であり、該金属は、０、１、２、３又は４の酸化状態を有し；
Ｅ−は、オキソ酸又は錯酸のアニオンであり；そして
アニオン性配位子は、金属の酸化状態１、２、３又は４の電荷を釣り合わせる。
【００６９】
上記の好ましいもの及び態様は、式Ｉ及びＩａの化合物に当てはまる。
【００７０】
単座非イオン性配位子は、例えば、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン）、溶媒和する溶媒（ニトリル、直鎖又は環状エーテル、アルキル化されていない又はＮ−アルキル化されたアミド及びラクタム、アミン、ホスフィン、アルコール、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル）、一酸化窒素及び一酸化炭素からなる群より選択され得る。
【００７１】
好適な多座アニオン性配位子は、例えば、アリル（アリル、２−メタリル）又は脱保護１，３−ジケト化合物、例えば、アセチルアセトネートである。
【００７２】
単座アニオン性配位子は、例えば、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、擬ハロゲン化物（シアン化物、シアネート、イソシアネート）、並びにカルボン酸、スルホン酸及びホスホン酸のアニオン（カーボネート、ホルメート、アセテート、プロピオネート、メチルスルホネート、トリフルオロメチルスルホネート、フェニルスルホネート、トシレート）からなる群より選択され得る。
【００７３】
二座非イオン性配位子は、例えば、線形又は環状ジオレフィン（例えば、ヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン）、ジニトリル（マロノニトリル）、カルボン酸のアルキル化されていない又はＮ−アルキル化されたジアミド、ジアミン、ジホスフィン、ジオール、ジカルボン酸ジエステル、及びジスルホン酸ジエステルからなる群より選択され得る。
【００７４】
二座アニオン性配位子は、例えば、ジカルボン酸、ジスルホン酸、及びジホスホン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、メチレンジスルホン酸、及びメチレンジホスホン酸）のアニオンからなる群より選択され得る。
【００７５】
好ましい金属錯体としてはまた、Ｅが、−Ｃｌ−、−Ｂｒ−、−Ｉ−、ＣＩＯ４−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＨＳＯ４−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ−、テトラアリールボレート、例えば、Ｂ（フェニル）４−、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］４−、Ｂ［ビス（３，５−ジメチル）フェニル］４−、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−、及びＢ（４−メチルフェニル）４−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＡｓＦ６−、又はＳｂＦ６−であるものが挙げられる。
【００７６】
水素化に特に適している非常に特に好ましい金属錯体は、式ＶＩＩＩ及びＩＸに対応し：
【化２２】
2009541451.tif 000024
式中、
Ａ１は、式Ｉ及び／又はＩａの化合物の１つであり；
Ｍｅ２は、ロジウム又はイリジウムであり；
Ｙ１は、２個のオレフィン又はジエンであり；
Ｚは、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり；そして
Ｅ１−は、オキソ酸又は錯酸のアニオンである。
【００７７】
上述の態様及び好ましいものは、式Ｉ及びＩａの化合物に当てはまる。
【００７８】
オレフィンＹ１は、Ｃ２−Ｃ１２−、好ましくはＣ２−Ｃ６−、そして特に好ましくはＣ２−Ｃ４−オレフィンであり得る。例えば、プロペン、ブタ−１−エン、及び特にエチレンである。ジエンは、５〜１２個、好ましくは５〜８個の炭素原子を含み得、そして開鎖、環状、又は多環式ジエンであり得る。ジエンの２個のオレフィン基は、好ましくは、１又は２個のＣＨ２基によって連結されている。例えば、１，４−ペンタジエン、シクロペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−若しくは１，５−ヘプタジエン、１，４−若しくは１，５−シクロヘプタジエン、１，４−若しくは１，５−オクタジエン、１，４−若しくは１，５−シクロオクタジエン、及びノルボルナジエンである。Ｙは、好ましくは、２個のエチレン分子、若しくは１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエン、又はノルボルナジエンである。
【００７９】
式ＶＩＩＩにおいて、Ｚは、好ましくは、Ｃｌ又はＢｒである。Ｅ１の例は、ＢＦ４−、ＣｌＯ４−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＨＳＯ４−、Ｂ（フェニル）４−、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］４−、ＰＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＡｓＦ６−、又はＳｂＦ６−である。
【００８０】
本発明の金属錯体は、文献から公知の方法によって製造される（また、US-A-5,371,256、US-A-5,446,844、US-A-5,583,241、及びE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999、並びに本明細書中において引用される参考文献を参照のこと）。
【００８１】
本発明の金属錯体は、反応条件下で活性化され得、かつ、プロキラル不飽和有機化合物に対する不斉付加反応のために使用され得る、均一系触媒又は触媒前駆体である。
【００８２】
前記金属錯体は、例えば、炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合を有するプロキラル化合物の不斉水素化（水素の付加）のために使用され得る。可溶性均一系金属錯体を使用するこのような水素化は、例えば、Pure and Appl. Chem., Vol. 68, No. 1, p131-138, (1996) に記載されている。水素化についての好ましい不飽和化合物は、基Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏを含む。本発明によれば、ルテニウム、ロジウム及びイリジウムの錯体が、水素化のために好ましくは使用される。
【００８３】
本発明は、さらに、キラル有機化合物の製造のための、好ましくは、プロキラル有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加のための、均一系触媒としての本発明の金属錯体の使用を提供する。
【００８４】
本発明のさらなる局面は、触媒の存在下でのプロキラル有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加によるキラル有機化合物の製造方法であって、該付加反応が、触媒量の少なくとも１つの本発明に従う金属錯体の存在下で行われることを特徴とする、方法である。
【００８５】
好ましい水素化されるプロキラル不飽和化合物は、開鎖又は環状有機化合物中に１若しくは複数の、同一又は異なる基Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏを含み得、該基Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏは、環系の一部であり得るか、或いは環外基であり得る。プロキラル不飽和化合物は、アルケン、シクロアルケン、ヘテロシクロアルケン、或いは開鎖若しくは環状ケトン、α，β−ジケトン、α−若しくはβ−ケトカルボン酸又はそれらの、α，β−ケトアセタール若しくは−ケタール、エステル及びアミド、ケチミン及びケチドラゾン（kethydrazone）であり得る。
【００８６】
不飽和有機化合物のいくつかの例は、アセトフェノン、４−メトキシ−アセトフェノン、４−トリフルオロメチルアセトフェノン、４−ニトロアセトフェノン、２−クロロ−アセトフェノン、対応の非置換又はＮ−置換アセトフェノン−ベンジルイミン、非置換又は置換ベンゾシクロヘキサノン若しくはベンゾシクロペンタノン及び対応のイミン、以下からなる群由来のイミン：非置換又は置換テトラヒドロキノリン、テトラヒドロピリジン及びジヒドロピロール、及び不飽和カルボン酸、エステル、アミド、及び塩、例えば、α−及び、必要に応じて、β−置換されたアクリル酸又はクロトン酸である。好ましいカルボン酸は、式：
【化２３】
2009541451.tif 000025
のもの、並びにまた、それらの塩、エステル及びアミドであり、式中、Ｒ０１は、Ｃ１−Ｃ６−アルキル；非置換Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、若しくは１〜４個のＣ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ基によって置換されたＣ３−Ｃ８−シクロアルキル；又は、非置換Ｃ６−Ｃ１０−アリール、若しくは１〜４個のＣ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ基によって置換されたＣ６−Ｃ１０−アリール、そして好ましくはフェニルであり、そしてＲ０２は、直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ６−アルキル（例えば、イソプロピル）、非置換若しくは置換（上記に規定される通り）シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、又は保護アミノ（例えば、アセチルアミノ）である。
【００８７】
本発明の方法は、低温又は高温、例えば、−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃、そして特に好ましくは１０〜８０℃の温度で行われ得る。光学収率は、一般的に、より高い温度よりも比較的低い温度で、より良好である。
【００８８】
本発明の方法は、大気圧又は超大気圧（super-atmospheric pressure）で行われ得る。圧力は、例えば、１０５〜２×１０７ Pa（パスカル）であり得る。水素化は、大気圧又は超大気圧で行われ得る。
【００８９】
触媒は、水素化される化合物に基づいて、好ましくは、０．０００１〜１０ mol％、特に好ましくは、０．００１〜１０ mol％、そして非常に特に好ましくは０．００２〜５ mol％の量で使用される。
【００９０】
配位子及び触媒の製造並びにまた水素化は、溶媒なしで、又は不活性溶媒の存在下で行われ得、１つの溶媒又は溶媒の混合物を使用することが可能である。好適な溶媒は、例えば、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素（ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン）、脂肪族ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、及びテトラクロロエタン）、ニトリル（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エーテル（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチル若しくはモノエチルエーテル）、ケトン（アセトン、メチルイソブチルケトン）、カルボン酸エステル及びラクトン（酢酸エチル若しくはメチル、バレロラクトン）、Ｎ−置換ラクタム（Ｎ−メチルピロリドン）、カルボキサミド（ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド）、非環式尿素（ジメチルイミダゾリン）、並びにスルホキシド及びスルホン（ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホン）、及びアルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル）並びに水である。溶媒は、単独で、又は少なくとも２種の溶媒の混合物として使用され得る。
【００９１】
反応は、共触媒、例えば、ハロゲン化第４級アンモニウム（ヨウ化テトラブチルアンモニウム）の存在下で、及び／又はプロトン酸、例えば、鉱酸、又は無機若しくは有機塩基の存在下で、行われ得る（例えば、US-A-5,371,256、US-A-5,446,844及びUS-A-5,583,241、並びにEP-A-0 691 949を参照のこと）。フッ素化アルコール、例えば、１，１，１−トリフルオロエタノールの存在は、同様に、触媒反応を促進させ得る。
【００９２】
触媒として使用される金属錯体は、別個に製造され単離された化合物として添加され得るか、又は、反応前に現場(in situ)で形成され、次いで、水素化される基質と混合され得る。単離された金属錯体を使用する場合、反応において、追加的な配位子を添加すること、又は、現場製造の場合、過剰量の配位子を使用することが、有利であり得る。過剰量は、例えば、製造のために使用される金属化合物に基づいて、１〜６、好ましくは１〜２モルであり得る。
【００９３】
本発明の方法は、一般的に、反応容器に触媒を配置し、次いで、基質、必要に応じて反応助剤、及び付加させる化合物を添加し、引き続いて反応を開始することによって、行われる。付加させるガス状化合物、例えば、水素又はアンモニアは、好ましくは、圧力下で導入される。該方法は、種々のタイプのリアクターにおいて、連続的に又はバッチ式で行われ得る。
【００９４】
本発明に従って製造されるキラル有機化合物は、特に、フレーバー（favour）及び香料、医薬品並びに農薬の製造の分野における、このような物質の製造についての活性物質又は中間体である。
【００９５】
以下の実施例は本発明を例示する。
【００９６】
出発材料及び略語
１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］フェロセンは、市販されている。
【００９７】
式：
【化２４】
2009541451.tif 000026
の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ブロモフェロセンは、文献J. W Han et al. HeIv. Chim. Acta, 85 (2002), 3848-3854 に記載されるように調製される。該化合物を、本明細書以下においてＣ１と呼ぶ。
【００９８】
式：
【化２５】
2009541451.tif 000027
の１−エチル−２−ブロモ−３−ジフェニルホスフィノフェロセンは、特許WO2006114438に記載されるように調製される。該化合物を、本明細書以下においてＣ２と呼ぶ。
【００９９】
反応は不活性ガス（アルゴン）下で行われる。
反応及び収率は最適化されない。
略語：ＴＭＰ＝２，２，６，６−テトラメチルピペリジン；ＴＢＭＥ＝ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル；ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ＴＨＦ＝テトラヒドロフラン、ＭｅＯＨ＝メタノール、ＥＡ＝酢酸エチル、Ｍｅ＝メチル、Ｅｔ＝エチル、ｉ−Ｐｒ＝ｉ−プロピル、ｎｂｄ＝ノルボルナジエン、Ｃｙ＝シクロヘキシル、ｎ−ＢｕＬｉ＝ｎ−ブチルリチウム、ｅｑ．＝当量。
【０１００】
ｓｅｃ−ホスフィノ−ｏ−ブロモベンゼンを、下記の通り調製する：
【０１０１】
ａ）２−ジフェニルホスフィノ−１−ブロモベンゼン
１７．５ ml（３５ mmol）のｉ−プロピルマグネシウムクロリド（ＴＨＦ中２．０ M）を、−３０℃〜−３５℃で撹拌しながら、２５ mlのＴＨＦ中の５ ml（３５ mmol）の２−ブロモヨードベンゼンの溶液中へ滴下する。温度を維持し、そして反応混合物をさらに１時間撹拌する。次いで、９．３ g（４２ mmol）のジフェニルホスフィンクロリドを徐々に添加し、混合物をさらに３０分間撹拌し、次いで冷却物を除去する。室温で１時間撹拌後、２０ mlの水を添加し、混合物を酢酸エチルで抽出し、有機相を飽和ＮａＨＣＯ３及びＮａＣｌ水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を蒸留し、無色油状物が得られ、これは、１００ mlのエタノールの添加で固体となる。濾過及び少量のエタノールでの洗浄によって、所望の生成物が白色粉末として収率９０％で得られる。
【表１】
2009541451.tif 000028
【０１０２】
ｂ）２−ジ（パラ−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィノ−１−ブロモベンゼン
前記化合物を、方法ａ）と類似の方法によって調製する。ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィンクロリドを、ジフェニルホスフィンクロリドの代わりに使用する。表題化合物が、白色粉末として収率９０％で得られる。
【表２】
2009541451.tif 000029
【０１０３】
ｃ）２−ジエチルホスフィノ−１−ブロモベンゼン
前記化合物を、方法ａ）と類似の方法によって調製する。ジエチルホスフィンクロリドを、ジフェニルホスフィンクロリドの代わりに使用する。表題化合物が、無色油状物として収率６３％で得られる。
【表３】
2009541451.tif 000030
【０１０４】
Ａ）２−ハロ−３−ｓｅｃ−ホスフィノフェロセンの調製
実施例Ａ１：以下の式の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ブロモ−３（ジシクロヘキシルホスフィノ）−フェロセン（Ａ１）
【化２６】
2009541451.tif 000031
１１．２ ml（６６．９ mmol、３．０ eq.）の２，２−６，６−テトラメチルピペリジン（ＴＭＰ、９８％）を、１００ mlの無水ＴＨＦに溶解し、そして０℃へ冷却する。４０．０ ml（６４．７ mmol、２．９ eq.）のｎ−ブチルリチウム溶液（ヘキサン中１．６ M）を滴下する。引き続いて、混合物を０℃で１時間撹拌する（溶液Ａ）。７．４６ g（２２．３ mmol、１．０ eq.）の化合物Ｃ１を６０ mlの無水ＴＨＦに溶解し、そして−６０℃へ冷却する（溶液Ｂ）。次いで、溶液Ａを３０分間にわたって溶液Ｂへ滴下し、次いで、温度を−４０℃へ上げながら、混合物を１．５時間撹拌する。反応混合物を−７８℃へ冷却し、そして６．００ ml（２６．９ mmol、１．２当量）のジシクロヘキシルホスフィンクロリドを添加する。−７８℃でさらに２．５時間撹拌後、１５０ mlの水を添加し、次いで有機相を単離する。水相を飽和塩化アンモニウム水溶液で酸性化し、そして１００ mlのＴＢＭＥで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、そして溶媒を除去する。得られる褐色油状物をクロマトグラフィー［シリカゲル、溶離剤＝アセトン：ヘプタン（１：２）］によって精製する。これによって、９．７５ g（８２％）の表題化合物が褐色油状物として得られる。
【表４】
2009541451.tif 000032
【０１０５】
実施例Ａ２：以下の式の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ブロモ−３（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（Ａ２）
【化２７】
2009541451.tif 000033
化合物Ａ２を実施例Ａ１と類似の様式によって調製する。ジフェニルホスフィンクロリドをジシクロヘキシルホスフィンクロリドの代わりに使用する。粗生成物をクロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離剤＝２％のトリエチルアミンを含有するＥＡ）によって精製する。表題化合物が橙色固体として収率７３％で得られる。
【表５】
2009541451.tif 000034
【０１０６】
実施例Ａ３：以下の式の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ブロモ−３−（ジ−オルト−アニシルホスフィノ）−フェロセン（Ａ３）
【化２８】
2009541451.tif 000035
化合物Ａ３を実施例Ａ１と類似の様式によって調製する。ジ−オルト−アニシル−ホスフィンクロリドを、ジシクロヘキシルホスフィンクロリドの代わりに使用する。粗生成物を先ずクロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離剤＝１％のトリエチルアミンを含有するトルエン）によってそして引き続いてＭｅＯＨからの再結晶によって精製する。表題化合物が黄色固体として収率６４％で得られる。
【表６】
2009541451.tif 000036
【０１０７】
実施例Ａ４：以下の式の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ブロモ−３−（ジ（３，５−ジメチル−４−メトキシ−フェニル）ホスフィノ）フェロセン（Ａ４）
【化２９】
2009541451.tif 000037
化合物Ａ４を実施例Ａ１と類似の様式によって調製する。ジ（３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル）ホスフィンクロリドを、ジシクロヘキシルホスフィンクロリドの代わりに使用する。粗生成物をクロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離剤＝アセトン）によって精製する。表題化合物が黄色−橙色固体として収率８７％で得られる。
【表７】
2009541451.tif 000038
【０１０８】
Ｂ）２−ホルミル−３−ｓｅｃ−ホスフィノフェロセンの調製
実施例Ｂ１：以下の式の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ホルミル−３−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（Ｂ１）
【化３０】
2009541451.tif 000039
２．８ ml（４．６ mmol）のｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中１．６ M溶液）を、撹拌しながら０℃で、３０ mlのＴＢＭＥ中の２．０ g（３．８４ mmol）の化合物Ａ２の溶液へ滴下し、そして反応混合物をこの温度でさらに１時間撹拌する。次いで、０．６３ ml（７．６ mmol）のＤＭＦを３０分間にわたって徐々に滴下する。混合物を０℃でさらに３０分間撹拌し、次いで冷却浴を除去し、そして温度を室温へ上げる。反応混合物を２０ mlの水と混合し、そして酢酸エチルで抽出する。有機相を合わせ、飽和ＮａＣ水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、ロータリーエバポレーターにおいて蒸発乾固させる。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離剤＝１％のトリエチルアミンを含有するＥＡ／ヘプタン１：１）による精製によって、表題化合物Ｂ１が赤−橙色泡状体として収率＞９５％で得られる。
【表８】
2009541451.tif 000040
【０１０９】
実施例Ｂ２：以下の式の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ホルミル−３−（ジ−オルト−アニシルホスフィノ）−フェロセン（Ｂ２）
【化３１】
2009541451.tif 000041
化合物Ｂ２を、化合物Ａ３から出発して実施例Ｂ１と類似の方法によって調製する。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離剤＝１％のトリエチルアミンを含有するＥＡ）による精製によって、表題化合物が赤−橙色泡状体として収率＞９５％で得られる。
【表９】
2009541451.tif 000042
【０１１０】
実施例Ｂ３：以下の式の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ホルミル−３−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−フェロセン（Ｂ３）
【化３２】
2009541451.tif 000043
化合物Ｂ３を、化合物Ａ１から出発して実施例Ｂ１と類似の方法によって調製する。クロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離剤＝１％のトリエチルアミンを含有するＥＡ／ヘプタン１：１）による精製によって、表題化合物が赤−橙色泡状体として収率５６％で得られる。
【表１０】
2009541451.tif 000044
【０１１１】
実施例Ｂ４：以下の式の１−［（ジメチルアミノ）エタ−１−イル］−２−ホルミル−３−（ビス（３，５−ジメチル−４−メトキシ−フェニル）ホスフィノ）フェロセン（Ｂ４）
【化３３】
2009541451.tif 000045
化合物Ｂ４を、化合物Ａ４から出発して実施例Ｂ１と類似の方法によって調製する。化合物Ａ４のリチウム化当量当たり、３当量のＤＭＦを添加する。表題化合物が、実質的に定量的な収率で赤−橙色固体泡状体として得られ、これは、依然として少量の脱臭素化材料で汚染されている。生成物をさらに精製することなく使用する。
【表１１】
2009541451.tif 000046
【０１１２】
実施例Ｂ５：以下の式の１−エチル−２−ホルミル−３（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（Ｂ５）
【化３４】
2009541451.tif 000047
化合物Ｂ５を、化合物Ｃ２から出発して実施例Ｂ４と類似の方法によって調製する。化合物Ｃ２のリチウム化当量当たり、３当量のＤＭＦを添加する。表題化合物が、実質的に定量的な収率で赤色固体泡状体として得られる。生成物をさらに精製することなく使用する。
【表１２】
2009541451.tif 000048
【０１１３】
Ｃ）フェロセンジホスフィンの調製
実施例Ｃ１：以下の調製
【化３５】
2009541451.tif 000049
１ ml（１．６ mmol）のｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中１．６モル濃度）を、撹拌しながら−７０℃の温度で、５ mlのＴＨＦ及び５ mlのＴＢＭＥの混合液中の０．５３２ g（１．６ mmol）の化合物２−ジフェニルホスフィノ−１−ブロモベンゼンの溶液へ滴下する。赤色反応溶液を−７０℃〜４０℃の温度で１時間撹拌する。次いで、この溶液を、５ mlのＴＢＭＥ中の０．５４ g（１．２ mmol）の化合物Ｂ１の溶液へ徐々に添加し、そして混合物を−７０℃でさらに撹拌する。１５分後、冷却を除去し、そして混合物を室温でさらに１．５時間撹拌する。反応混合物を２０ mlの水と混合し、有機相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして溶媒をロータリーエバポレーターで蒸留除去する。粗生成物のＮＭＲスペクトルは、２つの可能性のあるジアステレオマーのうち実質的に１つのみが形成されたことを示している。クロマトグラフィー（シリカゲル；溶離剤＝１％のトリエチルアミンを含有するＥＡ／ヘプタン１：２）による精製によって、純粋なジアステレオマーの形態の表題化合物が、橙色泡状体として収率８０％で得られる。
【表１３】
2009541451.tif 000050
【０１１４】
実施例Ｃ１．１：Ｃ１の他方のエピマーの調製（アルコール炭素における他の立体配置）
２．８ ml（４．６ mmol）のｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中１．６ M溶液）を、撹拌しながら０℃で、３０ mlのＴＢＭＥ中の０．９６ g（１．８４ mmol）の化合物Ａ２の溶液へ添加し、そして反応混合物をこの温度でさらに１時間撹拌する。次いで、５ mlのＴＨＦ中の１当量の２−（ジフェニルホスフィノ）ベンズアルデヒド（市販されている）の溶液を滴下する。混合物を０℃でさらに３０分間撹拌し、次いで冷却浴を除去し、そして温度を室温へ上げる。反応混合物を２０ mlの水と混合し、そして酢酸エチルで抽出する。有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、そしてロータリーエバポレーターにおいて蒸発乾固させる。粗生成物のＮＭＲスペクトルは、主に他方のエピマーが形成されたことを示している（Ｃ１：Ｃ１．１の比は約１：４である）。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０；溶離剤＝１％のトリエチルアミンを含有するＥＡ／ヘプタン１：１）によって、第１画分において少量の化合物Ｃ１、及び第２画分において表題化合物Ｃ１．１が橙色−黄色泡状体として得られる（収率６８％）。
【表１４】
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【０１１５】
実施例Ｃ１．２：以下の調製
【化３６】
2009541451.tif 000052
３ mlのＴＨＦ中の１７５ mg（０．２４ mmol）の化合物Ｃ１の溶液を、０〜５℃で、１ｍｌのＴＨＦ中の４２ mg（０．３６ mmol）の水素化カリウムの懸濁液へ滴下する。続いて、温度を５０℃へ上げ、そして混合物を３０分間撹拌する。０〜５℃へ冷却後、１８μl（０．２９ mmol）のヨウ化メチルを添加する。冷却を除去後、混合物を室温でさらに３０分間か撹拌する。黄色懸濁液を水と混合する。ＴＢＭＥで抽出後、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、そして溶媒を除去する。クロマトグラフィー（シリカゲル；溶離剤＝１％ＮＥｔ３を含有する酢酸エチル）による精製によって、表題化合物が固体黄色泡状体として収率９２％で得られる。
【表１５】
2009541451.tif 000053
【０１１６】
実施例Ｃ２：以下の調製
【化３７】
2009541451.tif 000054
化合物Ｃ２を、化合物Ｂ１及び２−ジ（パラ−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィノ−１−ブロモベンゼンから出発して、実施例Ｃ１と類似の方法によって調製する。粗生成物のＮＭＲによれば、２つの可能性のあるジアステレオマーのうち１つのみが形成される。クロマトグラフィー（シリカゲル；溶離剤＝ＥＡ／ヘプタン１：１．５）による精製によって、純粋なジアステレオマーの形態の表題化合物が、黄色固体泡状体として収率８９％で得られる。
【表１６】
2009541451.tif 000055
【０１１７】
実施例Ｃ３：以下の調製
【化３８】
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化合物Ｃ３を、化合物Ｂ１及び２−ジエチルホスフィノ−１−ブロモベンゼンから出発して、実施例Ｃ１と類似の方法によって調製する。粗生成物のＮＭＲによれば、２つの可能性のあるジアステレオマーのうち１つのみが形成される（＞９５％）。クロマトグラフィー（シリカゲル；溶離剤＝１％のＮＥｔ３を含有するＥＡ／ヘプタン１：１）による精製によって、純粋なジアステレオマーの形態の表題化合物が、黄色固体泡状体として収率８１％で得られる。
【表１７】
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【０１１８】
実施例Ｃ４：以下の調製
【化３９】
2009541451.tif 000058
化合物Ｃ４を、化合物Ｂ２及び２−ジフェニルホスフィノ−１−ブロモベンゼンから出発して、実施例Ｃ１と類似の方法によって調製する。クロマトグラフィー（シリカゲル；溶離剤＝１％のトリエチルアミンを含有するＥＡ／ヘプタン１：２）による精製によって、純粋なジアステレオマーの形態の表題化合物が、橙色泡状体として収率５６％で得られる。
【表１８】
2009541451.tif 000059
【０１１９】
実施例Ｃ５：以下の調製
【化４０】
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０．９ ml（１．４ mmol）のｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中１．６モル濃度）を、撹拌しながら−７０℃の温度で、２０ mlのＴＨＦ及び３０ mlのＴＢＭＥの混合液中の１．７ g（５ mmol）の２−ジフェニルホスフィノ−１−ブロモベンゼンの溶液へ滴下する。赤色反応溶液を−７０℃〜−４０℃の温度で１時間撹拌する。次いで、この溶液を、３０ mlのＴＢＭＥ中の２ g（４．２ mmol）の化合物Ｂ３の溶液へ徐々に添加し、そして混合物を−７０℃で撹拌する。１時間後、温度を−５０℃へ上げる。反応混合物を２０ mlの水と混合し、有機相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして溶媒をロータリーエバポレーターで蒸留除去する。粗生成物のＮＭＲスペクトルは、２つの可能性のあるジアステレオマーのうち実質的に１つのみが形成されたことを示している。クロマトグラフィー（シリカゲル；溶離剤＝アセトン／トルエン１：１０）による精製によって、純粋なジアステレオマーの形態の表題化合物が、橙色泡状体として収率５５％で得られる。
【表１９】
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【０１２０】
実施例Ｃ６：以下の調製
【化４１】
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化合物Ｃ６を、化合物Ｂ３及び２−ジ（パラ−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィノ−１−ブロモベンゼンから出発して、実施例Ｃ５と類似の方法によって調製する。クロマトグラフィー（シリカゲル；溶離剤＝１％のトリエチルアミンを含有するＥＡ／ヘプタン１：２０）による精製によって、純粋なジアステレオマーとしての表題化合物が、橙色泡状体として収率７５％で得られる。
【表２０】
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【０１２１】
実施例Ｃ７：以下の化合物の調製
【化４２】
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化合物Ｃ７を、化合物Ｂ４及び２−ジフェニルホスフィノ−１−ブロモベンゼンから出発して、実施例Ｃ１と類似の方法によって調製する。粗生成物のＮＭＲによれば、２つの可能性のあるジアステレオマーのうち１つのみが形成される（＞９５％）。クロマトグラフィー（シリカゲル；溶離剤＝０．５％のトリエチルアミンを含有するＥＡ／ヘプタン１：５）による精製によって、純粋なジアステレオマーの形態の表題化合物が、黄色固体泡状体として収率５１％で得られる。
【表２１】
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【０１２２】
実施例Ｃ８：以下の化合物の調製
【化４３】
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化合物Ｃ８を、化合物Ｂ４及び２−ジ（パラ−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィノ−１−ブロモベンゼンから出発して、実施例Ｃ１と類似の方法によって調製する。粗生成物のＮＭＲによれば、２つの可能性のあるジアステレオマーのうち１つのみが形成される（＞９５％）。クロマトグラフィー（シリカゲル；溶離剤＝０．５％のトリエチルアミンを含有するＥＡ／ヘプタン１：５）による精製によって、純粋なジアステレオマーの形態の表題化合物が、黄色固体泡状体として収率５０％で得られる。
【表２２】
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【０１２３】
実施例Ｃ９：以下の化合物の調製
【化４４】
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（主なジアステレオマーＣ９ａ及び第２ジアステレオマーＣ９ｂ）
化合物Ｃ９を、化合物Ｂ５から出発して、実施例Ｃ１と類似の方法によって調製する。粗生成物のＮＭＲによれば、約２：８の比の２つの可能性のあるジアステレオマーの混合物が形成される。２つのジアステレオマーは、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル；溶離剤＝ＥＡ／ヘプタン１：２５）によって分離され得る。第１画分は、ジアステレオマーＣ９ｂを提供し、これはほんの少量で形成される。それは、橙色固体として収率１５％で単離される。
【表２３】
2009541451.tif 000069
【０１２４】
第２画分は、主なジアステレオマーＣ９ａを橙色固体として収率７５％で提供する。
【表２４】
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【０１２５】
Ｄ）金属錯体の調製
手順：約１０ mgの配位子と０．９５モル当量の［Ｒｈ（ノルボルナジエン）２］ＢＦ４とを、アルゴン雰囲気下で０．７ mlのＣＤ３ＯＤに溶解する。赤色溶液をＮＭＲチューブへアルゴン下で移し、そして３１Ｐ−ＮＭＲによって検査する。
【０１２６】
実施例Ｄ１：配位子Ｃ１とのロジウム錯体
【表２５】
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【０１２７】
実施例Ｄ２：配位子Ｃ１．１とのロジウム錯体
【表２６】
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【０１２８】
Ｅ）使用実施例
全ての作業を、脱気した溶媒を使用して、アルゴン下で行った。
【０１２９】
実施例Ｅ１−Ｅ２３：水素化
４．７３ mg（０．０１２７ mmol）の［Ｒｈ（ノルボルナジエン）２］ＢＦ４及び（０．０１３３ mmol）の配位子Ｃ１（金属に対する配位子の比＝１．０５）を、２ mlのメタノール中において１０分間撹拌する。４ mlのメタノール中の５５０ mg（２．５ mmol）のメチルアセトアミドシンナメート（ＭＡＣ）の溶液を、この溶液へ添加し、続いて物質濃度が０．２５ Mとなるために必要とされる量のメタノール（４ ml）を添加する。アルゴンを真空によって除去し、そして容器を水素供給（１ bar）へ連結する。スターラーのスイッチを入れることによって、水素化を開始する。１時間後、スターラーのスイッチを切り、そして溶液を再びアルゴンで覆う。変換及び鏡像体過剰率（ｅｅ）を、キラルカラム（Lipodex E）を使用してガスクロマトグラフィーによって測定する：変換は定量的であり、そして光学収率ｅｅ（鏡像体過剰率）は９８％である。
【０１３０】
下記表１に示される追加的な物質の水素化を、類似の様式で行う。相対的に高い水素圧を使用する水素化を、スチールオートクレーブ中において行う。反応溶液を、アルゴンの逆流下で、中空針を使用して、アルゴンフラッシュしたオートクレーブへ注入する。結果を表２に報告する。
【０１３１】
【表２７】
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略語：ｅｅ＝鏡像体過剰率、ＧＣ＝ガスクロマトグラフィー、ＨＰＬＣ＝高圧液体クロマトグラフィー
【０１３２】
【表２８】
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付加：１）１Ｎ  ＨＣｌ（１．２体積％）；２）２当量のヨウ化テトラブチルアンモニウム／Ｉｒのモル及びＣＦ３ＣＯＯＨ（０．６体積％）；３）１０％ＣＦ３−ＣＨ２−ＯＨ（体積で）の存在下での反応。
実施例番号１１において、温度は８０℃であるが、その他は２５℃である。
ここで使用される略語：
［Ｓ］は、モル基質濃度であり；Ｓ／Ｃは、基質／触媒比であり；ｔは、水素化時間であり；Ｓｏｌｖ．は、溶媒であり（ＭｅＯＨ＝メタノール；ＥｔＯＨ＝エタノール；Ｔｏｌ＝トルエン；ＴＨＦ＝テトラヒドロフラン；ＤＣＥ＝１，２−ジクロロエタン）；金属：水素化において使用される金属前駆体：Ｒｈａ）＝［Ｒｈ（ノルボルナジエン）２］ＢＦ４；Ｒｈｂ）＝［Ｒｈ（シクロオクタジエン）Ｃｌ］２；Ｉｒｃ）＝［Ｉｒ（シクロオクタジエン）Ｃｌ］２；Ｒｕｄ）＝［Ｒｕｌ２（ｐ−シメン）］２；Ｃ＝変換；Ｃｏｎｆ．＝立体配置；Ｐ＝水素圧（bar）。
【国際調査報告】
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