(57)【要約】  閉じ込められた第２の層を第１の層上に形成する方法であって：第１の表面エネルギーを有する第１の層を形成するステップと；第１の層上に、第１の層に直接接触する中間層を形成するステップであって、上記中間層が、第１の表面エネルギーよりも低い第２の表面エネルギーを有するステップと；中間層の選択された部分を除去して、第１の層の非被覆領域と第１の層の被覆領域とを含むパターンを形成するステップと；閉じ込められた第２の層を第１の層の非被覆領域上に形成するステップとを含む方法を提供する。この方法により製造された有機電子デバイスも提供する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
閉じ込められた第２の層を第１の層上に形成する方法であって：
第１の表面エネルギーを有する前記第１の層を形成するステップと；
前記第１の層上に、前記第１の層に直接接触する中間層を形成するステップであって、前記中間層が、前記第１の表面エネルギーよりも低い第２の表面エネルギーを有するステップと；
前記中間層の選択された部分を除去して、前記第１の層の非被覆領域と前記第１の層の被覆領域とを含むパターンを形成するステップと；
閉じ込められた第２の層を前記第１の層の前記非被覆領域上に形成するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記中間層がフッ素化材料を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記中間層が、あるパターンで前記第１の層上に形成されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記中間層がパターン化されずに前記第１の層上に形成されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記中間層の前記選択された部分が、放射線でパターン処理することによって除去されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記放射線が赤外線であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の層が有機または無機の基体であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の層が電極であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の層が有機活性層であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記フッ素化材料がフッ素化酸であることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項１１】
前記フッ素化酸がオリゴマーであることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記オリゴマーフッ素化酸が、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびエーテルスルホンイミドから選択されるフッ素化ペンダント基を有するフッ素化オレフィン主鎖を有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
電極上に配置された第１の有機活性層と第２の有機活性層とを含む有機電子デバイスの製造方法であって、
第１の表面エネルギーを有する前記第１の有機活性層を前記電極上に形成するステップと
前記第１の層上に、前記第１の層に直接接触する中間層を形成するステップであって、前記中間層が、前記第１の表面エネルギーよりも低い第２の表面エネルギーを有するステップと；
前記中間層の選択された部分を除去して、前記第１の層の非被覆領域と前記第１の層の被覆領域とを含むパターンを形成するステップと；
閉じ込められた第２の層を前記第１の層の前記非被覆領域上に形成するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１４】
前記中間層がフッ素化材料を含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記中間層がパターン化される、またはパターン化されないことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記中間層の前記選択された部分が、放射線でパターン処理することによって除去されることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
前記フッ素化材料が、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびエーテルスルホンイミドから選択されるフッ素化ペンダント基を有するフッ素化オレフィン主鎖を有するオリゴマーフッ素化酸であることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記中間層が少なくとも１つの液体閉じ込め構造を形成することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
電極上に配置された第１の有機活性層と第２の有機活性層とを含む有機電子デバイスであって、前記第１の有機活性層と前記第２の有機活性層との間にパターン化された中間層をさらに含むことを特徴とする有機電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、一般に電子デバイスの製造方法に関する。本発明は、さらにその方法によって製造されたデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
多くの種類の電子装置中には、有機活性材料を利用する電子デバイスが存在する。このようなデバイスにおいては、２つの電極の間に有機活性層が挟まれている。
【０００３】
電子デバイスの種類の１つに有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）がある。ＯＬＥＤは高電力変換効率および低加工費であるためにディスプレイ用途として有望である。このようなディスプレイは、携帯電話、携帯情報端末、携帯型パーソナルコンピュータ、およびＤＶＤプレイヤなどの電池式携帯型電子デバイス用に特に有望である。これらの用途では、低電力消費以外に高情報量、フルカラー、および速いビデオ速度応答時間がディスプレイに要求される。
【０００４】
フルカラーＯＬＥＤの製造における現在の研究は、費用対効果が大きく高生産性であるカラーピクセル製造方法の開発に向けられている。液処理によるモノクロディスプレイの製造の場合、スピンコーティング法が広く採用されている（たとえば、（非特許文献１）を参照されたい）。しかし、フルカラーディスプレイの製造では、モノクロディスプレイの製造に使用される方法に対してある変更を行う必要がある。たとえば、フルカラー画像を表示するために、各表示ピクセルを３つのサブピクセルに分解され、そのそれぞれがディスプレイの三原色の赤、緑、および青の１つを発する。このようなフルカラーピクセルの３つのサブピクセルへの分割の結果、液体着色材料（すなわちインク）の拡散および色の混合を防止するために現行方法を修正する必要が生じた。
【０００５】
インクを閉じ込めるためのいくつかの方法が文献に記載されている。これらは閉じ込め構造、表面張力の不連続性、およびこれら両方の組み合わせに基づいている。閉じ込め構造は、ピクセルのウェル、バンクなどの拡散の幾何学的な障害物である。効果的にするためには、これらの構造が、堆積される材料の湿潤厚さと同等の大きさとなる必要がある。これらの構造内に発光インクが印刷される場合、そのインクが構造表面をぬらし、そのためその構造付近で厚さの均一性が低下する。したがって、発光「ピクセル」領域の外側に移動させる必要があり、それによって動作中に不均一性が見えなくなる。ディスプレイ（特に高解像度ディスプレイ）上の空間は限られているため、これによってピクセルの利用可能な発光領域が減少する。実際の閉じ込め構造は、一般に、電荷注入層および電荷輸送層の連続層を堆積する場合の品質に悪影響を与える。この結果、すべての層を印刷する必要がある。
【０００６】
さらに、低表面張力材料の印刷または気相堆積のいずれかが行われた領域が存在する場合には、表面張力の不連続性が生じる。これらの低表面張力材料は、一般に、ピクセル領域内に第１の有機活性層を印刷またはコーティングする前に適用する必要がある。一般に、これらの処理を使用すると、連続的な非発光層をコーティングする場合に品質に影響が生じるので、すべての層を印刷する必要がある。
【０００７】
２つのインク閉じ込め技術の併用の一例が、フォトレジストのバンク構造（ピクセルのウェル、チャネル）のＣＦ４−プラズマ処理である。一般に、ピクセル領域内のすべての活性層を印刷する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００４−００９４７６８号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００４−０１０２５７７号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００４−０１２７６３７号明細書
【特許文献４】米国特許第６，６７０，６４５号明細書
【特許文献５】国際公開第０３／０６３５５５号パンフレット
【特許文献６】国際公開第２００４／０１６７１０号パンフレット
【特許文献７】国際公開第０３／００８４２４号パンフレット
【特許文献８】国際公開第０３／０９１６８８号パンフレット
【特許文献９】国際公開第０３／０４０２５７号パンフレット
【特許文献１０】米国特許第６，３０３，２３８号明細書
【特許文献１１】国際公開第００／７０６５５号パンフレット
【特許文献１２】国際公開第０１／４１５１２号パンフレット
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】デビッド・ブラウン（Ｄａｖｉｄ  Ｂｒａｕｎ）およびアラン・Ｊ・ヒーガー（Ａｌａｎ  Ｊ．  Ｈｅｅｇｅｒ），Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔｅｒｓ  ５８，１９８２（１９９１）
【非特許文献２】ＣＲＣ化学物理ハンドブック第８１版（ＣＲＣ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ，８１ｓｔ  Ｅｄｉｔｉｏｎ）（２０００−２００１）
【非特許文献３】Ｙ．ワン（Ｗａｎｇ），カーク・オスマー工業化学百科事典第４版（Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｆｏｕｒｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ），Ｖｏｌ．１８，ｐ．８３７−８６０，１９９６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
これらすべての閉じ込め方法は、連続コーティングの妨害となる欠点を有する。より多い生産量およびより低い設備費用を得ることができるので、１つまたは複数の層の連続コーティングが望まれる。したがって、電子デバイスの改善された形成方法が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
閉じ込められた第２の層を第１の層上に形成する方法であって：
第１の表面エネルギーを有する第１の層を形成するステップと；
第１の層上に、第１の層に直接接触する中間層を形成するステップであって、前記中間層が、第１の表面エネルギーよりも低い第２の表面エネルギーを有するステップと；
中間層の選択された部分を除去して、第１の層の非被覆領域と第１の層の被覆領域とを含むパターンを形成するステップと；
閉じ込められた第２の層を第１の層の非被覆領域上に形成するステップとを含む方法を提供する。
【００１２】
電極上に配置された第１の有機活性層と第２の有機活性層とを含む有機電子デバイスの製造方法であって：
第１の表面エネルギーを有する第１の層を電極上に形成するステップと；
第１の層上に、第１の層に直接接触する中間層を形成するステップであって、前記中間層が、第１の表面エネルギーよりも低い第２の表面エネルギーを有するステップと；
中間層の選択された部分を除去して、第１の層の非被覆領域と第１の層の被覆領域とを含むパターンを形成するステップと；
閉じ込められた第２の層を第１の層の非被覆領域上に形成するステップとを含む方法を提供する。
【００１３】
電極上に配置された第１の有機活性層と第２の有機活性層とを含む有機電子デバイスであって、第１の有機活性層と第２の有機活性層との間にパターン化された中間層をさらに含む有機電子デバイスも提供する。
【００１４】
以上の概要および以下の詳細な説明は、単に例示的および説明的なものであり、添付の特許請求の範囲によって規定される本発明を限定するものではない。
【００１５】
本明細書において提示される概念の理解をすすめるために、添付の図面において実施形態を説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】接触角を説明する図である。
【図２】有機電子デバイスの図である。
【００１７】
当業者であれば理解しているように、図面中の物体は、平易かつ明快にするために示されており、必ずしも縮尺通りに描かれているわけではない。たとえば、実施形態を理解しやすいようにするために、図面中の一部の物体の寸法が他の物体よりも誇張されている場合がある。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
閉じ込められた第２の層を第１の層上に形成する方法であって：
第１の表面エネルギーを有する第１の層を形成するステップと；
第１の層上に、第１の層に直接接触する中間層を形成するステップであって、前記中間層が、第１の表面エネルギーよりも低い第２の表面エネルギーを有するステップと；
中間層の選択された部分を除去して、第１の層の非被覆領域と第１の層の被覆領域とを含むパターンを形成するステップと；
閉じ込められた第２の層を第１の層の非被覆領域上に形成するステップとを含む方法を提供する。
【００１９】
多数の態様および実施形態を以上に説明してきたが、これらは単に例示的で非限定的なものである。本明細書を読めば、本発明の範囲から逸脱しない他の態様および実施形態が実現可能であることが、当業者には分かるであろう。
【００２０】
いずれか１つまたは複数の本発明の実施形態のその他の特徴および利点は、以下の詳細な説明および特許請求の範囲から明らかとなるであろう。この詳細な説明では、最初に、用語の定義および説明を扱い、続いて、材料、方法、有機電子デバイス、ならびに最後に実施例を扱う。
【００２１】
（１．用語の定義および説明）
以下に説明する実施形態の詳細を扱う前に、一部の用語について定義または説明を行う。
【００２２】
層または材料について言及される場合の用語「活性」は、電子的または電気放射的（ｅｌｅｃｔｒｏ−ｒａｄｉａｔｉｖｅ）性質を示す層または材料を意味することを意図している。電子デバイス中、活性材料は、デバイスの動作を電子的に促進する。活性材料の例としては、電子または正孔のいずれであってもよい電荷を伝導、注入、輸送、または遮断する材料、ならびに、放射線を受けた場合に、放射線を放出したり電子−正孔対の濃度変化を示したりする材料が挙げられるが、これらに限定されるものではない。不活性材料の例としては、平坦化材料、絶縁材料、および環境障壁材料が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２３】
層について言及される場合の用語「閉じ込められた」は、その層が堆積される領域を大きく越えて層が広がらないことを意味することを意図している。この層は、表面エネルギーの作用、または表面エネルギーの作用と物理的障壁構造との組み合わせによって閉じ込めることができる。
【００２４】
用語「電極」は、電子部品内のキャリアを移送するように構成された部材または構造を意味することを意図している。たとえば、電極は、アノード、カソード、コンデンサ電極、ゲート電極などであってよい。電極は、トランジスタ、コンデンサ、抵抗器、インダクタ、ダイオード、電子部品、電源、またはそれらのあらゆる組み合わせの一部を含むことができる。
【００２５】
用語「有機電子デバイス」は、１つまたは複数の有機半導体の層または材料を含むデバイスを意味することを意図している。有機電子デバイスとしては：（１）電気エネルギーを放射線に変換するデバイス（たとえば、発光ダイオード、発光ダイオードディスプレイ、ダイオードレーザー、または照明パネル）、（２）電子的過程を介して信号を検出するデバイス（たとえば、光検出器、光導電セル、フォトレジスタ、光スイッチ、光トランジスタ、光電管、赤外線（「ＩＲ」）検出器、またはバイオセンサー）、（３）放射線を電気エネルギーに変換するデバイス（たとえば、光起電力デバイスまたは太陽電池）、ならびに（４）１つまたは複数の有機半導体層を含む１つまたは複数の電子部品（たとえば、トランジスタまたはダイオード）を含むデバイス、ならびに項目（１）〜（４）のあらゆる組み合わせが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２６】
有機化合物に言及される場合の用語「フッ素化」は、化合物中の１つまたは複数の水素原子がフッ素で置き換えられていることを意味することを意図している。この用語は、部分フッ素化材料および完全フッ素化材料を含んでいる。
【００２７】
用語「表面エネルギー」は、材料から単位面積の表面を形成するために必要なエネルギーである。表面エネルギーの特徴の１つは、ある表面エネルギーを有する液体材料が、それより低い表面エネルギーを有する表面をぬらさないということである。
【００２８】
用語「層」は、用語「フィルム」と交換可能に使用され、希望する領域を覆うコーティングを意味する。この用語は大きさによって限定されない。この領域は、デバイス全体の大きさであってもよいし、実際の視覚的表示などの特殊な機能の領域の小ささ、または１つのサブピクセルの小ささであってもよい。層およびフィルムは、気相堆積、液相堆積（連続的技術および不連続技術）、および熱転写などの従来のあらゆる堆積技術によって形成することができる。
【００２９】
用語「液体組成物」は、材料が溶解して溶液を形成する液体媒体、材料が分散して分散液を形成する液体媒体、あるいは材料が懸濁して懸濁液またはエマルジョンを形成する液体媒体を意味することを意図している。「液体媒体」は、溶媒または担体流体を加えなくても液体である材料、すなわちその凝固温度よりも高い温度における材料を意味することを意図している。
【００３０】
用語「液体閉じ込め構造」は、工作物の内部または上の構造であって、そのような１つまたは複数の構造が、それ自体または集合的に、工作物上を液体が流れる時にある領域内または範囲内に液体を束縛または案内する主機能を果たす構造を意味することを意図している。液体閉じ込め構造としては、カソードセパレーターまたはウェル構造を挙げることができる。
【００３１】
用語「液体媒体」は、純液体、複数の液体の組み合わせ、溶液、分散液、懸濁液、およびエマルジョンなどの液体材料を意味することを意図している。液体媒体は、１種類の溶媒が存在するか、複数の溶媒が存在するかとは無関係に使用される。
【００３２】
本明細書において使用される場合、用語「〜の上」は、ある層、部材、または構造が、別の層、部材、または構造のすぐ隣にあったり接触していたりすることを必ずしも意味しない。介在する層、部材、または構造がさらに存在する場合がある。
【００３３】
本明細書において使用される場合、用語「含んでなる」、「含んでなること」、「含む」、「含むこと」、「有する」、「有すること」、またはそれらの他のあらゆる変形は、非排他的な包含を扱うことを意図している。たとえば、ある一連の要素を含むプロセス、方法、物品、または装置は、それらの要素にのみに必ずしも限定されるわけではなく、そのようなプロセス、方法、物品、または装置に関して明示されず固有のものでもない他の要素を含むことができる。さらに、反対の意味で明記されない限り、「または」は、包含的なまたはを意味するのであって、排他的なまたはを意味するのではない。たとえば、条件ＡまたはＢが満たされるのは、Ａが真であり（または存在し）Ｂが偽である（または存在しない）、Ａが偽であり（または存在せず）Ｂが真である（または存在する）、ならびにＡおよびＢの両方が真である（または存在する）のいずれか１つによってである。
【００３４】
また、本発明の要素および成分を説明するために「ａ」または「ａｎ」も使用されている。これは単に便宜的なものであり、本発明の一般的な意味を提供するために行われている。この記述は、１つまたは少なくとも１つを含むものと読むべきであり、明らかに他の意味となる場合を除けば、単数形は複数形も含んでいる。
【００３５】
元素周期表中の縦列に対応する族の番号は、（非特許文献２）に見ることができる「新表記法」（Ｎｅｗ  Ｎｏｔａｔｉｏｎ）の規則を使用している。
【００３６】
特に定義しない限り、本明細書において使用されるすべての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般に理解されている意味と同じ意味を有する。本明細書に記載されているものと類似または同等の方法および材料を使用して、本発明の実施形態の実施または試験を行うことができるが、好適な方法および材料については以下に説明する。本明細書において言及されるあらゆる刊行物、特許出願、特許、およびその他の参考文献は、特に明記しない限り、それらの記載内容全体が援用される。矛盾が生じる場合には、定義を含めて本明細書に従うものとする。さらに、材料、方法、および実施例は、単に説明的なものであって、限定を意図したものではない。
【００３７】
本明細書に記載されていない程度の、具体的な材料、処理行為、および回路に関する多くの詳細は従来通りであり、それらについては、有機発光ダイオードディスプレイ、光源、光検出器、光電池、および半導体要素の技術分野の教科書およびその他の情報源中に見ることができる。
【００３８】
（２．材料）
第１および第２の層の材料は、それらが含まれる物品の意図する最終用途によって大部分は決定される。中間層の材料は、第２の層が閉じ込められるように選択される。これは、中間層の表面エネルギーが第１の層の表面エネルギー未満となるように調整することで行われる。
【００３９】
相対表面エネルギーの測定方法の１つは、層上で特定の液体の接触角を比較することである。本明細書において使用される場合、用語「接触角」は、図１に示される角度Φを意味することを意図している。液体媒体の液滴の場合、角度Φは、表面の面と、液滴の外側端部から表面までの線との交差部分によって定義される。さらに、角度Φは、液滴が適用された後で表面上で平衡位置に達した後で測定され、すなわち「静的接触角」である。さまざまな製造者が、接触角を測定可能な装置を製造している。
【００４０】
ある実施形態においては、第１の表面エネルギーは十分高く、多くの従来の溶媒によってぬらすことができる。ある実施形態においては、第１の層は、フェニルヘキサンでぬらすことができ、４０°以下の接触角を有する。
【００４１】
中間層は、第１の表面エネルギーよりも低い第２の表面エネルギーを有する。ある実施形態においては、中間層は、フェニルヘキサンでぬらすことはできず、少なくとも７０°の接触角を有する。
【００４２】
一実施形態においては、中間層はフッ素化材料を含む。一実施形態においては、中間層は、パーフルオロアルキルエーテル基を有する材料を含む。一実施形態においては、このフルオロアルキル基は２〜２０個の炭素原子を有する。一実施形態においては、中間層は、パーフルオロアルキルエーテルペンダント側鎖を有するフッ素化アルキレン主鎖を含む。
【００４３】
一実施形態においては、中間層はフッ素化酸を含む。一実施形態においては、このフッ素化酸はオリゴマーである。一実施形態においては、このオリゴマーは、フッ素化オレフィン主鎖と、フッ素化エーテルスルホネート、フッ素化エステルスルホネート、またはフッ素化エーテルスルホンイミドのペンダント基とを有する。一実施形態においては、フッ素化酸は、１，１−ジフルオロエチレンと、２−（１，１−ジフルオロ−２−（トリフルオロメチル）アリルオキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホン酸とのオリゴマーである。一実施形態においては、フッ素化酸は、エチレンと、２−（２−（１，２，２−トリフルオロビニルオキシ）−１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロポキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホン酸とのオリゴマーである。これらのオリゴマーは、対応するフッ化スルホニルオリゴマーとして製造され、続いてスルホン酸形態に変換することができる。一実施形態においては、フッ素化酸ポリマーは、フッ素化および部分スルホン化ポリ（アリーレンエーテルスルホン）のオリゴマーである。
【００４４】
（３．方法）
本明細書において提供される方法では、第１の層が形成され中間層が第１の層上に形成され、中間層の選択された部分が除去されてパターン化された中間層と第１の層の非被覆領域とが形成され、閉じ込められた第２の層が第１の層の非被覆領域上に形成される。
【００４５】
一実施形態においては、第１の層は基体である。この基体は無機であっても有機であってもよい。基体の例としては、ガラス、セラミック、およびポリエステルフィルムやポリイミドフィルムなどのポリマーフィルムが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４６】
一実施形態においては、第１の層は電極である。この電極は、パターン化されない場合もあるし、パターン化される場合もある。一実施形態においては、この電極は、平行なラインでパターン化される。この電極は基体上に存在することができる。
【００４７】
一実施形態においては、第１の層が基体上に堆積される。第１の層は、パターン化されない場合もあるし、パターン化される場合もある。一実施形態においては、第１の層は、電子デバイス中の有機活性層である。
【００４８】
第１の層は、気相堆積技術、液相堆積技術、および熱転写技術などのあらゆる堆積技術によって形成することができる。一実施形態においては、第１の層は液相堆積技術によって堆積され、続いて乾燥される。この場合、第１の材料が、液体媒体中に溶解または分散される。液相堆積方法は、連続的であっても不連続であってもよい。連続液相堆積技術としては、スピンコーティング、ロールコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、スロットダイコーティング、スプレーコーティング、および連続ノズルコーティングが挙げられるが、これらに限定されるものではない。不連続液相堆積技術としては、インクジェット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、およびスクリーン印刷が挙げられるが、これらに限定されるものではない。一実施形態においては、第１の層は連続液相堆積技術によって堆積される。第１の材料および下にあるあらゆる材料が損傷しないのであれば、乾燥ステップを室温または高温で行うことができる。
【００４９】
中間層は、第１の層上に、第１の層に直接接触して形成される。ある実施形態においては、第１の層の実質的にすべてが中間層で覆われる。ある実施形態においては、縁端部および対象の有効領域外の領域は覆われないままで維持される。中間層は、気相堆積技術、液相堆積技術、および熱転写技術などのあらゆる堆積技術によって形成することができる。
【００５０】
一実施形態においては、中間層は、化学的または物理的であってよい気相堆積方法によって形成される。
【００５１】
一実施形態においては、中間層は液相堆積技術によって堆積される。
【００５２】
ある実施形態においては、中間材料は、液体媒体中に溶解または分散される。液相堆積方法は、前述したように連続的であっても不連続であってもよい。中間材料を堆積するための液体媒体の選択は、材料自体の厳密な性質に依存する。一実施形態においては、中間材料はフッ素化材料であり、液体媒体はフッ素化液体である。フッ素化液体の例としては、パーフルオロオクタン、トリフルオロトルエン、およびヘキサフルオロキシレンが挙げられるが、これらに限定されるものではない。第１の層に関して前述したように、液体組成物を堆積した後、その材料を乾燥させて層を形成させる。
【００５３】
ある実施形態においては、中間層は液相堆積によって形成されるが、それが液体媒体に加えられることはない。一実施形態においては、中間材料は室温において液体であり、液相堆積によって第１の層上に堆積される。液体中間材料はフィルム形成性である場合もあるし、第１の層の表面上に吸収または吸着される場合もある。一実施形態においては、第１の層上に中間層を形成するために、液体中間材料が、その融点未満の温度まで冷却される。一実施形態においては、中間材料が室温において液体ではなく、その融点を超える温度まで加熱され、第１の層上に堆積され、室温まで冷却することで、中間層が第１の層上に形成される。液相堆積の場合、前述のあらゆる方法を使用することができる。
【００５４】
中間層の厚さは、材料の最終用途に依存しうる。ある実施形態においては、中間層の厚さは少なくとも１００Åである。ある実施形態においては、中間層は１００〜３０００Åの範囲内であり、ある実施形態においては１０００〜２０００Åの範囲内である。
【００５５】
次に、中間層が処理されることで選択された部分が除去されて、中間材料のパターンが第１の層上に形成される。
【００５６】
一実施形態においては、中間層の選択された部分はフォトレジスト技術を使用して除去される。フォトレジスト技術の使用は当技術分野において周知である。感光性材料の１つであるフォトレジストを、中間層の表面全体の上に堆積する。このフォトレジストを活性化放射線にパターン露光する。次にフォトレジストを現像して、露光部分または未露光部分のいずれかが除去される。ある実施形態においては、可溶性、膨潤性、または分散性がより高いフォトレジストの領域を除去するために溶媒で処理することによって現像が行われる。フォトレジストの領域を除去した後、これによって、被覆されていない中間層の領域が得られる。続いて、制御されたエッチングステップによって、中間層のこれらの領域が除去される。ある実施形態においては、エッチングは、中間層を除去するが下にある第１の層は除去しない溶媒を使用して行うことができる。ある実施形態においては、エッチングはプラズマで処理することによって行うことができる。続いて、通常は溶媒で処理することによって、残りのフォトレジストが除去される。
【００５７】
一実施形態においては、放射線でパターン処理することによって、中間層の選択された部分が除去される。用語「放射する」および「放射」は、このような放射が放射線、波、または粒子のいずれの形態であるかとは無関係に、あらゆる形態の熱、電磁スペクトル全体、または亜原子粒子などのあらゆる形態のエネルギーの適用を意味することを意図している。一実施形態においては、中間層は熱不安定性材料を含み、赤外線で処理することによって一部が除去される。ある実施形態においては、レーザーによって赤外線が照射される。赤外ダイオードレーザーは周知であり、中間層にパターン露光するために使用することができる。一実施形態においては、中間層の一部は、ＵＶ線に露光することによって除去することができる。
【００５８】
一実施形態においては、中間層の選択された部分はレーザーアブレーションによって除去される。一実施形態においては、エキシマレーザーが使用される。
【００５９】
一実施形態においては、中間層の選択された部分は、ドライエッチングによって除去される。本明細書において使用される場合、用語「ドライエッチング」は、ガスを使用して行われるエッチングを意味する。ドライエッチングは、イオン化ガスを使用して行うこともできるし、イオン化ガスを使用せずに行うこともできる。一実施形態においては、少なくとも１つの酸素含有ガスが、使用されるガス中に存在する。代表的な酸素含有ガスとしては、Ｏ２、ＣＯＦ２、ＣＯ、Ｏ３、ＮＯ、Ｎ２Ｏ、およびそれらの混合物が挙げられる。少なくとも１つのハロゲン含有ガスを、少なくとも１つの酸素含有ガスとともに使用することもできる。ハロゲン含有ガスは、フッ素含有ガス、塩素含有ガス、臭素含有ガス、またはヨウ素含有ガス、およびそれらの混合物の任意の１つまたは複数を含むことができる。
【００６０】
続いて、第１の層の非被覆領域上に第２の層が適用される。第２の層は、あらゆる堆積技術によって適用することができる。一実施形態においては、第２の層は液相堆積技術によって適用される。ある実施形態においては、液体媒体中に溶解または分散させた第２の材料を含む液体組成物をパターン化された中間層上に適用し、乾燥させることで第２の層が形成される。この液体組成物は、中間層の表面エネルギーより高いが、第１の層の表面エネルギーとほぼ同じかそれ未満である表面エネルギーを有するように選択される。この液体組成物は、第１の層をぬらすが、中間層からはじかれる。この液体は、中間層の領域上に広がることができるが、非ぬれ性である。このようにして、閉じ込められた第２の層が形成される。
【００６１】
一実施形態においては、第２の層は連続液相堆積技術を使用して適用される。一実施形態においては、第２の層は不連続液相堆積技術を使用して適用される。
【００６２】
一実施形態においては、第１の層は、液体閉じ込め構造の上に適用される。完全な閉じ込めには不十分であるが、印刷した層の厚さの均一性は依然として調整可能となる構造を使用することが望ましい場合がある。この場合、厚さ調節構造の上のぬれを制御でき、閉じ込めおよび均一性の両方が得られることが望ましい場合がある。その後、発光インクの接触角を調節できることが望ましい。閉じ込めに使用される大部分の表面処理（たとえば、ＣＦ４プラズマ）では、このレベルの制御が行えない。
【００６３】
一実施形態においては、第１の層が、いわゆるバンク構造の上に適用される。バンク構造は、典型的にはフォトレジスト、有機材料（たとえば、ポリイミド）、または無機材料（酸化物、窒化物など）から形成される。バンク構造は、液体の形態の第１の層を閉じ込めて色の混合を防止するため、および／または液体の形態から乾燥するときの第１の層の厚さの均一性を改善するため、および／または下にある特徴を液体との接触から保護するために使用することができる。このような下にある特徴としては、導電性トレース、導電性トレース間の間隙、薄膜トランジスタ、電極などを挙げることができる。
【００６４】
本明細書において提供される方法の一実施形態においては、第１および第２の層は有機活性層である。第１の有機活性層は第１の電極上に形成され、第１の有機活性層が、層の表面エネルギーを低下させる反応性界面活性組成物で処理され、第２の有機活性層が、処理された第１の有機活性層の上に形成される。
【００６５】
一実施形態においては、第１の有機活性層は、第１の有機活性材料と液体媒体とを含む液体組成物の液相堆積によって形成される。この液体組成物が第１の電極上に堆積され、続いて乾燥させることで層が形成される。一実施形態においては、第１の有機活性層は、連続液相堆積方法によって形成される。このような方法では、歩留まりが高くなり設備費が低くなる場合がある。
【００６６】
一実施形態においては、中間層は液体組成物から形成される。この液相堆積方法は、前述のように連続滴であっても不連続であってもよい。一実施形態においては、連続液相堆積方法を使用して中間層液体組成物が堆積される。
【００６７】
（４．有機電子デバイス）
本発明の方法を、電子デバイスにおける使用に関してさらに説明するが、本発明の方法がそのような使用に限定されるものではない。
【００６８】
図２は、代表的な電子デバイスの有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイであり、２つの電気接触層の間に配置された少なくとも２つの有機活性層を含む。電子デバイス１００は、アノード層１１０から光活性層１４０への正孔の注入を促進するための１つまたは複数の層１２０および１３０を含む。一般に、２つの層が存在する場合、アノードに隣接する層１２０は正孔注入層または緩衝層と呼ばれる。光活性層に隣接する層１３０は正孔輸送層と呼ばれる。場合により電子輸送層１５０が光活性層１４０とカソード層１６０との間に配置される。デバイス１００の用途に依存するが、光活性層１４０は、印加電圧によって励起する発光層（発光ダイオード中または発光電気化学セル中など）、放射エネルギーに応答し、バイアス電圧の印加を使用してまたは使用せずに信号を発生する材料層（光検出器中など）であってよい。本発明のデバイスは、システム、駆動方法、および利用形態に関しては限定されない。
【００６９】
マルチカラーデバイスの場合、光活性層１４０は、少なくとも３つの異なる色の異なる領域で構成される。異なる色の領域は、別々の着色領域を印刷することによって形成することができる。あるいは、層全体を形成し、異なる色の発光材料を層の異なる領域にドープすることによって形成することができる。このような方法は、たとえば米国特許公報（特許文献１）に記載されている。
【００７０】
ある実施形態においては、本明細書に記載される新規方法は、有機層（第２の層）を電極層（第１の層）に適用するために使用することができる。一実施形態においては、第１の層がアノード１１０であり、第２の層が緩衝層１２０である。
【００７１】
ある実施形態においては、本明細書に記載される新規方法は、デバイス中のあらゆる連続する有機層の組に使用され、第２の層が特定の領域内に閉じ込められる。本発明の新規方法の一実施形態においては、第２の有機活性層が光活性層１４０であり、第１の有機活性層は、層１４０の直前に適用されるデバイス層である。多くの場合、デバイスはアノード層から始まって製造される。正孔輸送層１３０が存在する場合、光活性層１４０が適用される前に、中間層が層１３０に適用される。層１３０が存在しない場合、中間層は層１２０に適用される。カソードから始まってデバイスが製造される場合、光活性層１４０が適用される前に、中間層が電子輸送層１５０に適用される。
【００７２】
本発明の新規方法の一実施形態においては、第２の有機活性層が正孔輸送層１３０であり、第１の有機活性層は、層１３０の直前に適用されるデバイス層である。アノード層から始まってデバイスが製造される実施形態においては、正孔輸送層１３０を適用する前に、緩衝層１２０に対してＲＳＡ処理が行われる。
【００７３】
一実施形態においては、アノード１１０は平行なストライプのパターンで形成される。緩衝層１２０、および場合により正孔輸送層１３０は、アノード１１０の上に連続層として形成される。中間層は、層１３０（存在する場合）または層１２０（層１３０が存在しない場合）の上に別個の層として直接適用される。少なくともアノードストライプ間の領域は非被覆となるようなパターンで中間層が除去される。ある実施形態においては、アノードストライプの間の領域とアノードストライプの外側端部とが非被覆となる。
【００７４】
デバイス中の他の層は、そのような層が果たすべき機能を考慮することによってそのような層に有用であることが知られているあらゆる材料でできていてよい。本発明のデバイスは、アノード層１１０またはカソード層１５０に隣接することができる支持体または基体（図示せず）を含むことができる。ほとんどの場合、支持体はアノード層１１０に隣接している。支持体は、可撓性の場合も剛性の場合もあるし、有機の場合も無機の場合もある。一般に、ガラスまたは可撓性有機フィルムが支持体として使用される。アノード層１１０は、カソード層１６０よりも正孔の注入が効率的な電極である。アノードは、金属、混合金属、合金、金属酸化物、または混合酸化物を含有する材料を含むことができる。好適な材料としては、２族元素（すなわち、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ）の混合酸化物、１１族元素、４族、５族、および６族の元素、ならびに８〜１０族の遷移元素が挙げられる。アノード層１１０を光透過性にするためには、インジウム・スズ酸化物などの１２族、１３族、および１４族の元素の混合酸化物を使用することができる。本明細書において使用される場合、語句「混合酸化物」は、２族元素、あるいは１２族、１３族、または１４族の元素から選択される２つ以上の異なる陽イオンを有する酸化物を意味する。アノード層１１０の材料の一部の非限定的な具体例としては、インジウム・スズ酸化物（「ＩＴＯ」）、インジウム・亜鉛酸化物、アルミニウム・スズ酸化物、金、銀、銅、およびニッケルが挙げられるが、これらに限定されるものではない。アノードは、ポリアニリン、ポリチオフェン、またはポリピロールなどの有機材料を含むこともできる。
【００７５】
アノード層１１０は、化学蒸着法または物理蒸着法、あるいはスピンキャスト法によって形成することができる。化学蒸着は、プラズマ化学蒸着（「ＰＥＣＶＤ」）または金属有機化学蒸着（「ＭＯＣＶＤ」）として行うことができる。物理蒸着としては、イオンビームスパッタリングなどのスパッタリング、ならびにｅビーム蒸発、および抵抗蒸発のあらゆる形態を挙げることができる。物理蒸着の具体的な形態としては、高周波マグネトロンスパッタリング、および誘導結合プラズマ物理蒸着（「ＩＭＰ−ＰＶＤ」）が挙げられる。これらの堆積技術は、半導体製造分野においては周知である。
【００７６】
通常、アノード層１１０は、リソグラフィ作業中にパターン化される。このパターンは、希望に応じて変更することができる。これらの層は、第１の電気接触層材料を適用する前に、第１の可撓性複合バリア構造上にパターンニングされたマスクまたはレジストを配置することなどによってパターンを形成することができる。あるいは、これらの層は、全体の層として適用することができ（ブランケット堆積とも呼ばれる）、続いて、たとえば、パターン化されたレジスト層と湿式化学エッチングまたはドライエッチング技術とを使用してパターン化することができる。当技術分野において周知の他のパターニング方法を使用することもできる。電子デバイスがアレイ内に配置される場合、典型的にはアノード層１１０は、実質的に同方向に延在する長さを有する実質的に平行なストリップに成形される。
【００７７】
緩衝層１２０は、光活性層中への正孔の注入を促進し、デバイス中の短絡を防止するためにアノード表面を滑らかにする機能を果たす。典型的には緩衝層は、プロトン酸がドープされることが多いポリアニリン（ＰＡＮＩ）またはポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）などのポリマー材料で形成される。プロトン酸は、たとえば、ポリ（スチレンスルホン酸）、ポリ（２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸）などであってよい。緩衝層１２０は、銅フタロシアニンやテトラチアフルバレン−テトラシアノキノジメタン系（ＴＴＦ−ＴＣＮＱ）などの電荷輸送化合物などを含むことができる。一実施形態においては、緩衝層１２０は、導電性ポリマーとコロイド形成性ポリマー酸との分散体から作製される。このような材料は、たとえば、米国特許公報（特許文献２）および米国特許公報（特許文献３）に記載されている。
【００７８】
緩衝層１２０はあらゆる堆積技術によって適用することができる。一実施形態においては、この緩衝層は、前述のような溶液堆積法によって適用される。一実施形態においては、この緩衝層は連続溶液堆積法によって適用される。
【００７９】
任意選択の層１３０の正孔輸送材料の例は、たとえば、（非特許文献３）にまとめられている。正孔輸送分子および正孔輸送ポリマーの両方を使用することができる。一般に使用される正孔輸送分子としては：４，４’，４”−トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニル−アミノ）−トリフェニルアミン（ＴＤＡＴＡ）；４，４’，４”−トリス（Ｎ−３−メチルフェニル−Ｎ−フェニル−アミノ）−トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）；Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）；１，１−ビス［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）；Ｎ，Ｎ’−ビス（４−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（４−エチルフェニル）−［１，１’−（３，３’−ジメチル）ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ＥＴＰＤ）；テトラキス−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−２，５−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）；α−フェニル−４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチレン（ＴＰＳ）；ｐ−（ジエチルアミノ）−ベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン（ＤＥＨ）；トリフェニルアミン（ＴＰＡ）；ビス［４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−２−メチルフェニル］（４−メチルフェニル）メタン（ＭＰＭＰ）；１−フェニル−３−［ｐ−（ジエチルアミノ）スチリル］−５−［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］ピラゾリン（ＰＰＲまたはＤＥＡＳＰ）；１，２−ｔｒａｎｓ−ビス（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）シクロブタン（ＤＣＺＢ）；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（ＴＴＢ）；Ｎ，Ｎ’−ビス（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（フェニル）ベンジジン（α−ＮＰＢ）；および銅フタロシアニンなどのポルフィリン系化合物が挙げられるがこれらに限定されるものではない。一般に使用される正孔輸送ポリマーとしては、限定するものではないが、ポリビニルカルバゾール、（フェニルメチル）ポリシラン、ポリ（ジオキシチオフェン）、ポリアニリン、およびポリピロールが挙げられる。ポリスチレンやポリカーボネートなどのポリマー中に上述のものなどの正孔輸送分子をドープすることによって正孔輸送ポリマーを得ることもできる。ある実施形態においては、正孔輸送材料は、架橋性のオリゴマー材料またはポリマー材料を含む。正孔輸送層を形成した後、材料を放射線で処理することで架橋させる。ある実施形態においては、放射線が熱放射である。
【００８０】
正孔輸送層１３０は、あらゆる堆積技術によって適用することができる。一実施形態においては、正孔輸送層は、前述のような溶液堆積法によって適用される。一実施形態においては、正孔輸送層は連続溶液堆積法によって適用される。
【００８１】
限定するものではないが、小分子有機蛍光化合物、蛍光性およびリン光性の金属錯体、共役ポリマー、およびそれらの混合物などのあらゆる有機エレクトロルミネッセンス（「ＥＬ」）材料を、光活性層１４０中に使用することができる。蛍光化合物の例としては、ピレン、ペリレン、ルブレン、クマリン、それらの誘導体、およびそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。金属錯体の例としては、トリス（８−ヒドロキシキノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）などの金属キレート化オキシノイド化合物；ペトロフ（Ｐｅｔｒｏｖ）らの米国特許公報（特許文献４）、ならびに（特許文献５）および（特許文献６）に開示されるような、フェニルピリジン配位子、フェニルキノリン配位子、またはフェニルピリミジン配位子を有するイリジウムの錯体などのシクロメタレート化イリジウムおよび白金エレクトロルミネッセンス化合物、ならびに、たとえば、（特許文献７）、（特許文献８）、および（特許文献９）に記載されているような有機金属錯体、ならびにそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。電荷輸送ホスト材料と金属錯体とを含むエレクトロルミネッセンス発光層が、トンプソン（Ｔｈｏｍｐｓｏｎ）らによる米国特許公報（特許文献１０）、ならびにバローズ（Ｂｕｒｒｏｗｓ）およびトンプソン（Ｔｈｏｍｐｓｏｎ）による（特許文献１１）および（特許文献１２）に記載されている。共役ポリマーの例としては、ポリ（フェニレンビニレン）、ポリフルオレン、ポリ（スピロビフルオレン）、ポリチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレン）、それらのコポリマー、およびそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８２】
光活性層１４０は、あらゆる堆積技術によって適用することができる。一実施形態においては、光活性層は、前述のような溶液堆積法によって。一実施形態においては、光活性層は連続溶液堆積法によって適用される。
【００８３】
任意選択の層１５０は、電子の注入／輸送の両方を促進する機能を果たす場合もあるし、層界面における消光反応を防止する閉じ込め層として機能する場合もある。より具体的には、層１５０は、電子の移動を促進し、この層がなければ層１４０および１６０が直接接触する場合の消光反応の可能性を減少させることができる。任意選択の層１５０の材料の例としては、金属キレート化オキシノイド化合物（たとえば、Ａｌｑ３など）；フェナントロリン系化合物（たとえば、２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（「ＤＤＰＡ」）、４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（「ＤＰＡ」）など）；アゾール化合物（たとえば、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（「ＰＢＤ」など）、３−（４−ビフェニリル）−４−フェニル−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（「ＴＡＺ」など）；他の類似の化合物；ならびにそれらの１つまたは複数のあらゆる組み合わせが挙げられるが、これらに限定されるものではない。あるいは、任意選択の層１５０は無機であってよく、ＢａＯ、ＬｉＦ、Ｌｉ２Ｏなどを含むことができる。
【００８４】
カソード層１６０は、電子または負電荷キャリアの注入に特に有効な電極である。カソード層１６０は、第１の電気接触層（この場合、アノード層１１０）よりも低い仕事関数を有するあらゆる金属または非金属であってよい。一実施形態においては、用語「低い仕事関数」は、約４．４ｅＶ以下の仕事関数を有する材料を意味することを意図している。一実施形態においては、「高い仕事関数」は、少なくとも約４．４ｅＶの仕事関数を有する材料を意味することを意図している。
【００８５】
カソード層の材料は、１族のアルカリ金属（たとえば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ，）、２族金属（たとえば、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａなど）、１２族金属、ランタニド（たとえば、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｅｕなど）、およびアクチニド（たとえば、Ｔｈ、Ｕなど）から選択することができる。アルミニウム、インジウム、イットリウム、およびそれらの組み合わせなどの材料を使用することもできる。カソード層１６０の材料の非限定的な具体例としては、バリウム、リチウム、セリウム、セシウム、ユウロピウム、ルビジウム、イットリウム、マグネシウム、サマリウム、ならびにそれらの合金および組み合わせが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８６】
通常、カソード層１６０は、化学蒸着法または物理蒸着法によって形成される。
【００８７】
別の実施形態においては、追加層が有機電子デバイス内に存在することができる。
【００８８】
デバイスがアノード側から始まって製造される場合、本明細書に記載の新規方法の中間層は、アノード１１０の形成後、緩衝層１２０の形成後、正孔輸送層１３０の後、またはそれらのあらゆる組み合わせで行うことができる。デバイスがカソード側から始まって製造される場合、本明細書に記載の新規方法の中間層は、カソード１６０の形成後、電子輸送層１５０の形成後、またはそれらのあらゆる組み合わせで行うことができる。
【００８９】
種々の層はあらゆる好適な厚さを有することができる。無機アノード層１１０は通常約５００ｎｍ以下、たとえば約１０〜２００ｎｍであり；緩衝層１２０および正孔輸送層１３０はそれぞれ通常約２５０ｎｍ以下、たとえば約５０〜２００ｎｍであり；光活性層１４０は通常約１０００ｎｍ以下、たとえば約５０〜８０ｎｍであり；任意選択の層１５０は通常約１００ｎｍ以下、たとえば約２０〜８０ｎｍであり；カソード層１６０は通常約１００ｎｍ以下、たとえば約１〜５０ｎｍである。アノード層１１０またはカソード層１６０が少なくとも一部の光を透過する必要がある場合、そのような層の厚さは約１００ｎｍを超えないほうがよい。
【実施例】
【００９０】
本明細書に記載される概念を以下の実施例でさらに説明するが、特許請求の範囲に記載される本発明の範囲がこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００９１】
概要または実施例において前述したすべての行為が必要なわけではなく、特定の行為の一部は不要である場合があり、１つまたは複数のさらに別の行為が、前述の行為に加えて実施される場合があることに留意されたい。さらに、行為が列挙されている順序は、必ずしもそれらが実施される順序ではない。
【００９２】
以上の明細書において、具体的な実施形態を参照しながら本発明の概念を説明してきた。しかし、当業者であれば、特許請求の範囲に記載される本発明の範囲から逸脱せずに種々の修正および変更を行えることが理解できよう。したがって、本明細書および図面は、限定的な意味ではなく説明的なものであると見なすべきであり、すべてのこのような修正は本発明の範囲内に含まれることを意図している。
【００９３】
特定の実施形態に関して、利益、その他の利点、および問題に対する解決法を以上に記載してきた。しかし、これらの利益、利点、問題の解決法、ならびに、なんらかの利益、利点、または解決法を発生させたり、より顕著にしたりすることがある、あらゆる特徴が、特許請求の範囲のいずれかまたはすべての重要、必要、または本質的な特徴であるとして解釈すべきではない。
【００９４】
別々の実施形態の状況において、明確にするために本明細書に記載されている特定の複数の特徴は、１つの実施形態の中で組み合わせても提供できることを理解されたい。逆に、簡潔にするため１つの実施形態の状況において説明した種々の特徴も、別々に提供したり、あらゆる副次的な組み合わせで提供したりすることができる。さらに、ある範囲において記載される値への言及は、その範囲内にあるすべての値を含んでいる。
【図１】
2009540506.tif 000003
【図２】
2009540506.tif 000004
【国際調査報告】
2009540506.tif 000005
2009540506.tif 000006
2009540506.tif 000007