(57)【要約】  ビームの選択された軸方向の強度の対称性を向上させるためのビーム・ミキサー（ビームは軸に沿って第１の端から第２の端まで広がる）が開示され、これは空間的な反転経路を設定する複数のミラーを含むことができる。ビーム・ミキサーに関して、反転経路は始点及び終点を有することができ、経路の始点における第１のビーム端近くのビームの一部分が経路の終点における第２のビーム端に移動することで特徴付けることができる。この態様では、ビーム・ミキサーは、ビームを第１及び第２のビーム部分に分割し、第１の部分を反転経路上に配置し、第１の部分が反転経路に沿って進んだ後、第１及び第２の部分を共通経路上で再結合させてビームを混合する、光学部品をさらに含むことができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択された軸に沿ったビームの強度の対称性を向上させるためのビーム・ミキサーであって、前記ビームは前記軸に沿って第１の端から第２の端まで延び、前記ビーム・ミキサーは、
空間的な反転経路を設定する複数のミラーであって、該空間的な反転経路は、始点及び終点を有し、該経路の該始点における前記第１のビーム端の近くの前記ビームの一部分が該経路の該終点における前記第２のビーム端に移動することで特徴付けられる、前記複数のミラーと、
前記ビームを第１及び第２のビーム部分に分割し、該第１の部分を前記反転経路上に配置し、前記第１の部分が前記反転経路に沿って進んだ後、前記第１及び第２の部分を共通経路上で再結合させて前記ビームを混合する、光学部品と、
を備えることを特徴とするビーム・ミキサー。
【請求項２】
前記光学部品は前記ビームの前記第１の部分を前記反転経路上に反射するビーム・スプリッタであることを特徴とする、請求項１に記載のビーム・ミキサー。
【請求項３】
前記複数のミラーは３つのミラーを含むことを特徴とする、請求項１に記載のビーム・ミキサー。
【請求項４】
前記ミラーは平面ミラーであることを特徴とする、請求項３に記載のビーム・ミキサー。
【請求項５】
前記反転経路は前記共通経路に実質的に直交して延びることを特徴とする、請求項１に記載のビーム・ミキサー。
【請求項６】
前記反転経路の長さは前記ミキサーに入射するパルスのパルス長より短いことを特徴とする、請求項１に記載のビーム・ミキサー。
【請求項７】
選択された軸に沿ったビームの強度プロファイルを変えるためのビーム・ミキサーであって、前記ビームは前記軸に沿って第１の端から第２の端まで延び、前記ビーム・ミキサーは、
前記ビームに沿った第１の位置における前記第１のビーム端の近くの前記ビームの一部分を、前記ビームに沿った第２の位置における前記第２のビーム端に移動させるための光学的な反転手段と、
前記ビームの第１の部分を前記反転手段の方に方向付け、第２の部分を共通ビーム経路に方向付け、及び、前記反転手段の出力を前記共通ビーム経路に方向つけるための手段と
を備えることを特徴とするビーム・ミキサー。
【請求項８】
前記方向付ける手段はビーム・スプリッタを含むことを特徴とする、請求項７に記載のビーム・ミキサー。
【請求項９】
前記ビーム・スプリッタは、該ビーム・スプリッタに入射する光の４０乃至６０パーセントを前記反転手段に向けて反射することを特徴とする、請求項７に記載のビーム・ミキサー。
【請求項１０】
前記反転手段は複数のミラーを含むことを特徴とする、請求項７に記載のビーム・ミキサー。
【請求項１１】
前記複数のミラーは３つの平面ミラーであることを特徴とする、請求項１０に記載のビーム・ミキサー。
【請求項１２】
前記３つの平面ミラーは、第１のミラー、第２のミラー及び第３のミラーであり、前記第１のミラーは前記方向付け手段からのビームを約３０度の入射角度で受けるように配向され、前記第２のミラーは前記第１のミラーからのビームを約３０度の入射角度で受けるように配向され、前記第３のミラーは前記第２のミラーからのビームを約３０度の入射角度で受けるように配向されることを特徴とする、請求項１１に記載のビーム・ミキサー。
【請求項１３】
ビームを生成する発振器と、
前記ビームを増幅する増幅器と、
選択された軸に沿った前記ビームの強度の対称性を向上させるビーム・ミキサーと、
を備えることを特徴とするレーザ光源。
【請求項１４】
前記増幅器は増幅されたビームを出力し、前記ビーム・ミキサーは選択された軸に沿った前記増幅されたビームの強度の対称性を向上させるように配置されることを特徴とする、請求項１３に記載のレーザ光源。
【請求項１５】
前記ビーム・ミキサーは、
空間的な反転経路を設定する複数のミラーであって、該空間的な反転経路は、始点及び終点を有し、該経路の該始点における前記第１のビーム端の近くの前記ビームの一部分が該経路の該終点における前記第２のビーム端に移動することで特徴付けられる、前記複数のミラーと、
前記ビームを第１及び第２のビーム部分に分割し、該第１の部分を前記反転経路上に配置し、前記第１の部分が前記反転経路に沿って進んだ後、前記第１及び第２の部分を共通経路上で再結合させて前記ビームを混合する、光学部品と、
を備えることを特徴とする、請求項１４に記載のレーザ光源。
【請求項１６】
前記光学部品は前記ビームの前記第１の部分を前記反転経路上に反射するビーム・スプリッタであり、前記複数のミラーは３つのミラーを含むことを特徴とする、請求項１５に記載のビーム・ミキサー。
【請求項１７】
前記発振器はシード・ビームを出力し、前記ビーム・ミキサーは選択された軸に沿った前記シード・ビームの強度の対称性を向上させ、前記増幅器により増幅するための出力を生成するように配置されることを特徴とする、請求項１３に記載のレーザ光源。
【請求項１８】
前記ビーム・ミキサーは、
空間的な反転経路を設定する複数のミラーであって、該空間的な反転経路は、始点及び終点を有し、該経路の該始点における前記第１のビーム端の近くの前記ビームの一部分が該経路の該終点における前記第２のビーム端に移動することで特徴付けられる、前記複数のミラーと、
前記ビームを第１及び第２のビーム部分に分割し、該第１の部分を前記反転経路上に配置し、前記第１の部分が前記反転経路に沿って進んだ後、前記第１及び第２の部分を共通経路上で再結合させて前記ビームを混合する、光学部品と、
を備えることを特徴とする、請求項１７に記載のレーザ光源。
【請求項１９】
前記光学部品は前記ビームの前記第１の部分を前記反転経路上に反射するビーム・スプリッタであることを特徴とする、請求項１７に記載のビーム・ミキサー。
【請求項２０】
前記複数のミラーは３つのミラーを含むことを特徴とする、請求項１７に記載のビーム・ミキサー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パルス気体放電レーザに関する。本発明は、高出力のエキシマ気体放電レーザ・ビームの強度の対称性を向上させるためのビーム・ミキサーとして、特に、しかし排他的にではなく有用である。
本発明は、２００６年６月５日出願の「ＤＥＶＩＣＥ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤ  ＴＯ  ＳＴＡＢＩＬＩＺＥ  ＢＥＡＭ  ＳＨＡＰＥ  ＡＮＤ  ＳＹＭＭＥＴＲＹ  ＦＯＲ  ＨＩＧＨ  ＥＮＥＲＧＹ  ＰＵＬＳＥＤ  ＬＡＳＥＲ  ＡＰＰＬＩＣＡＴＩＯＮＳ」と題する米国特許出願第１１／４４７，３８０号の優先権を主張する。本出願はまた、同時に出願された代理人整理番号２００６−００３５−０１の、Ｈｏｆｍａｎｎによる「ＤＥＶＩＣＥ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤ  ＴＯ  ＣＲＥＡＴＥ  Ａ  ＬＯＷ  ＤＩＶＥＲＧＥＮＣＥ、ＨＩＧＨ  ＰＯＷＥＲ  ＬＡＳＥＲ  ＢＥＡＭ  ＦＯＲ  ＭＡＴＥＲＩＡＬ  ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ  ＡＰＰＬＩＣＡＴＩＯＮＳ」と題する同時係属中の同一出願人による米国特許出願、これと共に同時に出願された代理人整理番号２００６−００４０−０１の、Ｈｏｆｍａｎｎ他による「ＨＩＧＨ  ＰＯＷＥＲ  ＥＸＣＩＭＥＲ  ＬＡＳＥＲ  ＷＩＴＨ  ＰＵＬＳＥ  ＳＴＲＥＴＣＨＥＲ」と題する同時係属中の同一出願人による米国特許出願、２００５年１０月２８日出願の「ＳＹＳＴＥＭＳ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ  ＦＯＲ  ＧＥＮＥＲＡＴＩＮＧ  Ａ  ＬＡＳＥＲ  ＳＨＡＰＥＤ  ＡＳ  Ａ  ＬＩＮＥ  ＢＥＡＭ」と題する米国特許出願第１１／２６１，９４８号、２００４年２月１８日出願の「ＶＥＲＹ  ＨＩＧＨ  ＥＮＥＲＧＹ、ＨＩＧＨ  ＳＴＡＢＩＬＩＴＹ  ＧＡＳ  ＤＩＳＣＨＡＲＧＥ  ＬＡＳＥＲ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＴＲＥＡＴＭＥＮＴ  ＳＹＳＴＥＭ」と題する米国特許出願第１０／７８１，２５１号、２００４年７月１日出願の「ＬＡＳＥＲ  ＴＨＩＮ  ＦＩＬＭ  ＰＯＬＹ−ＳＩＬＩＣＯＮ  ＡＮＮＥＡＬＩＮＧ  ＯＰＴＩＣＡＬ  ＳＹＳＴＥＭ」と題する米国特許出願第１０／８８４、１０１号、及び、２００５年５月２６日出願の「ＳＹＳＴＥＭＳ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ  ＦＯＲ  ＩＭＰＬＥＭＥＮＴＩＮＧ  ＡＮ  ＩＮＴＥＲＡＣＴＩＯＮ  ＢＥＴＷＥＥＮ  Ａ  ＬＡＳＥＲ  ＳＨＡＰＥＤ  ＡＳ  Ａ  ＬＩＮＥ  ＢＥＡＭ  ＡＮＤ  Ａ  ＦＩＬＭ  ＤＥＰＯＳＩＴＥＤ  ＯＮ  Ａ  ＳＵＢＳＴＲＡＴＥ」と題する米国特許出願第１１／１３８，００１号に関連し、これら各々の開示は引用により本明細書に組み入れられる。
【背景技術】
【０００２】
多くの用途において、高エネルギー・パルス列内のパルスの形状及び／又は対称性はパルス間で安定していることが望ましい。一例として、限定的ではないが、１つのそのような用途は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を製造するための、アモルファス・シリコン膜を溶融させて再凝固により膜の結晶化を誘導するための高エネルギーのパルスレーザ・ビームの使用である。
【０００３】
基板、例えば、ガラス上に堆積させたアモルファス・シリコン膜のレーザ結晶化は、比較的高い電子移動度を有する材料膜の製造のための有望な技術を代表するものである。一旦、結晶化されると、この材料は次に、ＴＦＴを製造するために、そして１つの特定の用途においては、比較的大きな液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いるのに適したＴＦＴを製造するのに使用することができる。結晶化シリコン膜の他の用途は、有機ＬＥＤ（ＯＬＥＤ）、システム・オン・パネル（ＳＯＰ）、フレキシブル・エレクトロニクス及び太陽光発電を含む。より定量的に言えば、約９０ｎｍの厚さ及び約７００ｍｍ又はそれより長い幅を有する膜を迅速に結晶化することができる大量生産システムが、近い将来に市販される可能性がある。
【０００４】
レーザ結晶化は、光学的にラインビームに成形されたパルスレーザ光、例えば、第１の軸、例えば、短軸方向に集束され、且つ、第２の軸、例えば、長軸方向に広げられたレーザ光、を使用して実施することができる。典型的には、第１及び第２の軸は互いに直交し、且つ、両方の軸は膜に向って進む中心光線に概ね直交する。レーザ結晶化のための例示的なラインビームは、約２０ミクロン未満の薄膜において、例えば、３−４ミクロンのビーム幅、及び、約７００ｍｍ又はそれ以上のビーム長を有することができる。この配置により、膜をビーム幅に平行な方向に走査して又は段階的に進めて逐次的に溶解させ、次いで結晶化させて、例えば、９００ｍｍ又はそれ以上の実質的な長さを有する結晶膜にすることができる。
【０００５】
幾つかの場合、例えば、逐次的な横方向の凝固プロセスにおいて、シリコン膜を、長軸にわたって相対的に均一な強度を有するビームを使用して確実に露光することが望ましい。この目的のために、ホモジナイザ、例えば、小型レンズ・アレイ（いわゆるフライ・アイ・アレイ）又はディフューザを、普通、レーザの下流の投射光学系内で用いて均一な強度のビームを生成する。しかしながら、これらのホモジナイザは、ホモジナイザに入射するビームが対称的な強度プロファイルを有する場合に、最も効果的に機能する。レーザ・ビームの形状及び対称性の揺らぎは、ビーム・ホモジナイザの出口でのビームの均一性に、対応する劣化を生じる可能性がある。この不均一性は、次に、望ましくないことに、不均一結晶化シリコン領域を造る可能性がある。
【０００６】
エキシマ気体放電レーザ光源は、上述のように、レーザ結晶化ラインビームを生成するのに好適な高出力パルスを生成することができる。例えば、典型的なエキシマ・レーザ光源は、約３ｍｍの短軸及び約１２ｍｍの長軸をもつ断面を有するビームを放射することができる。このビームは、次に、上述のように、均一化し、ラインビームに成形することができる。短軸方向のパルス形状及び強度の対称性は普通は安定しており、ガウス形に近いが、一方、長軸方向の強度は、一般に非対称的であり、パルス間で変わり易い。従って、未処理の場合には、これらのパルスは適切に均一化できず、その長さ方向に望ましくない強度変動を有するラインビームを生じる可能性がある。
【０００７】
上述の考察を考慮して、本出願人は、ビームの選択された軸方向の強度の対称性を向上させるためのビーム・ミキサー、及びビーム・ミキサーを組み込んだレーザ光源を開示する。
【発明の開示】
【０００８】
本発明の実施形態の第１の態様において、ビームの選択された軸方向（ビームは軸方向に第１の端から第２の端まで広がる）の強度の対称性を向上させるためのビーム・ミキサーは、空間的な反転経路を設定する複数のミラーを含むことができる。ビーム・ミキサーに関して、反転経路は始点及び終点を有することができ、そして、経路の始点における第１のビーム端近くのビームの一部分が経路の終点における第２の端に移動することで特徴付けることができる。この態様では、ビーム・ミキサーは、ビームを第１及び第２のビーム部分に分割し、第１の部分を反転経路に配置し、第１の部分が反転経路に沿って進んだ後に、第１及び第２の部分を共通経路上で再結合させてビームを混合する光学部品をさらに含むことができる。
【０００９】
１つの実施形態において、光学部品は、ビームの第１の部分を反転経路上に反射するビーム・スプリッタとすることができ、特定の実施形態において、複数のミラーは３つのミラー、例えば、３つの平面ミラーを含むことができる。１つの配置において、反転経路は、共通ビーム経路に対して実質的に直交するように延びることができる。
【００１０】
実施形態の別の態様において、ビームの選択された軸方向（ビームは軸方向に第１の端から第２の端まで広がる）の強度プロファイルを変えるためのビーム・ミキサーは、ビームに沿った第１の位置における第１のビーム端近くのビームの一部分を、ビームに沿った第２の位置における第２のビーム端に移動させるための光学的反転手段と、ビームの第１の部分を反転手段に向け、第２の部分を共通ビーム経路に向け、そして反転手段の出力を共通ビーム経路に向けるための方向付け手段とを含むことができる。
【００１１】
この態様の１つの実施形態において、方向付け手段はビーム・スプリッタを含むことができ、特定の実施形態において、ビーム・スプリッタはビーム・スプリッタに入射した光の約４０乃至６０パーセントを反転手段に向けて反射することができる。反転手段は複数のミラーを含むことができ、１つの配置において、複数のミラーは３つの平面ミラーとすることができる。特定の配置において、３つの平面ミラーは、第１のミラー、第２のミラー及び第３のミラーを含むことができ、第１の平面ミラーは方向付け手段からのビームを約３０度の入射角度で受けるように配向させ、第２のミラーは第１のミラーからのビームを約３０度の入射角度で受けるように配向させ、そして、第３のミラーは第２のミラーからのビームを約３０度の入射角度で受けるように配向させる。
【００１２】
実施形態の付加的な態様は、ビームを生成する発振器、ビームを増幅する増幅器、及びビームの選択された軸方向の強度の対称性を向上させるビーム・ミキサーを備えたレーザ光源を含むことができる。１つの配置において、増幅器は増幅されたビームを出力することができ、そしてビーム・ミキサーは、増幅されたビームの選択された軸方向の強度の対称性を向上させるように配置することができる。別の配置において、発振器はシード・ビームを出力することができ、そしてビーム・ミキサーは、シード・ビームの選択された軸方向の強度の対称性を向上させるように配置して、増幅器により増幅するための出力を生成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
初めに図１を参照すると、ビーム・ミキサー１０はビーム１２（例示のために、上部の白半分及び下部の黒半分を有するように示される）に作用するように示される。以下に詳細に説明するように、ビーム・ミキサー１０は、ビームの強度プロファイルを変えるため、例えば、ビームの選択された軸方向の強度の対称を向上させるために使用することができ、或いは、ビーム・コヒーレンシを減少させるため、又はそれら両方のために使用することができる。図示された実施形態に関しては、ビーム・ミキサー１０はビーム・スプリッタ１４及びミラー１６ａ〜１６ｃを含む。
【００１４】
図１に示される配置では、ビームは最初にビーム・スプリッタ１４に入射し、そこでビームの一部分が反射によりミラー１６ａの方向に向けられ、残り部分はビーム・スプリッタ１４を透過（実質的に方向は変化しない）し、ビーム・ミキサーを出射して出力ビーム経路上に出る。１つのセットアップにおいて、入射光の約４０乃至６０パーセント、例えば、５０パーセントを反射するビーム・スプリッタを使用することができる。このセットアップでは、ビーム・スプリッタ１４に入射した最初のビームの約５０パーセントがミラー１６ａの方向に向けられる。ビーム・ミキサー１０に関しては、ミラー１６ａ〜１６ｃは、典型的には平面の、最大反射率のミラーである。図１に示されるように、ミラー１６ａは、ビーム・スプリッタ１４からの光を約３０度の入射角度で受けるように配置及び配向させることができる。さらに示されるように、ミラー１６ｂは、ミラー１６ａから反射された光を約３０度の入射角度で受けるように配置及び配向させることができ、ミラー１６ｃは、ミラー１６ｂから反射された光を約３０度の入射角度で受けるように配置及び配向させることができる。
【００１５】
引き続き図１を参照すると、ミラー１６ｃから反射された光は、約４５度の入射角度でビーム・スプリッタ１４に入射する。５０パーセント反射率のビーム・スプリッタに関しては、図示されるように、ミラー１６ｃからの光の約半分が出力ビーム経路上へ反射され、ミラー１６ｃからの光の約半分がビーム・スプリッタを透過してミラー１６ａに向かうビーム経路上に出る。従って、出力ビーム経路は、初めのビーム１２のビーム・スプリッタ１４を透過した部分、及び、ミラー１６ｃからの光のビーム・スプリッタ１４から反射された部分を含む結合されたビームを含む。同様に、ビーム・スプリッタ１４からミラー１６ａに至る経路上の光は、初めのビーム１２のビーム・スプリッタ１４によって反射された部分、及び、ミラー１６ｃからの光のビーム・スプリッタ１４を透過した部分を含む結合されたビームを含む。
【００１６】
図１においてビーム・ミキサー１０に入射するビームは、長軸１８を定める長方形の断面を有するように示されている。この型のビームは、エキシマ・レーザによって生成されるレーザ・ビームの典型であり、長軸は一方の放電電極から他方に向う方向に対応する。典型的なビームは約３ｍｍ×１２ｍｍの大きさを有することができる。さらに、エキシマ・レーザの出力に対して、長軸１８方向の強度プロファイルは普通、非対称（図２のグラフ５０を参照）であり、一方、短軸（即ち、長軸に対して垂直な軸）方向の強度プロファイルは、概ねガウス形である（図３のグラフ５２を参照）。図示されたビーム・ミキサー１０は高出力エキシマ放電レーザの対称性を向上させるのに特に適しているが、これは他の型のレーザ・システムと共に及び他の用途に使用できること、例えば、このビーム・ミキサーは固体レーザによって生成されるビームのコヒーレンシを減少させるのに使用できることを認識されたい。
【００１７】
図１は、ビームが第１の端２０から第２の端２２まで軸１８に沿って広がることを示す。図１はまた、ミラー１６ａ〜１６ｃが始点２４及び終点２６を有する空間的な反転経路を設定することを示す。図１に示されるように、反転経路は、反転経路の始点２４における第１のビーム端２０の近くのビームの一部分が反転経路の終点２６における第２のビーム端に移動することで特徴付けることができる。より具体的には、図示されたミキサー１０に関して、ミラー１６ａに入射するビームの「頂部」の光子はミラー１６ｃに移動し、ビームの「底部」でミラー１６ｃを出射する。反転経路は遅延経路を構成するので、パルスのある程度の一時的な伸びが存在することになるが、これは遅延経路を最小にすることによって最小化することができる。
【００１８】
図４は、ビーム１０４を生成する発振器１０２と、ビーム１０４を受け取って増幅する増幅器１０６とを有するレーザ光源（一般的に１００で示す）を示す。図４はまた、光源１００は、上述のように、ビームの選択された軸方向の強度の対称性を向上させるためのビーム・ミキサー１０´を含むことができることを示す。図示された配置において、増幅器１０６は増幅されたビーム１０８を出力し、この出力がビーム・ミキサー１０´に供給される。光源１００に関して、発振器は、ＫｒＦエキシマ・レーザ、ＸｅＦエキシマ・レーザ、ＡｒＦエキシマ・レーザ又はフッ素分子レーザのようなパルス気体放電レーザとすることができ、そして、１つ又はそれ以上の格子、プリズム、エタロンなどのような分散光学部品を使用して細幅にしたラインとしても又はそうしなくてもよい。キャビティ・ダンプ型レーザ、モードロック型又はＱスポイル型のような他の型のレーザを使用することができる。発振器はパルス型又は連続型とすることができ、そして、ＣＯ2気体放電レーザ、色素レーザ、又は、例えばファイバ・レーザ、ダイオード・レーザなどのような固体レーザとすることができる。光源１００に関して、増幅器はパルス型又は連続型とすることができ、そして、エキシマ・レーザ、フッ素分子レーザ、ＣＯ2気体放電レーザ、色素レーザ、又は、例えばファイバ・レーザ、ダイオード・レーザなどの固体レーザとすることができる。１つより多くの増幅器を直列又は並列に使用することができる。
【００１９】
図５は、レーザ光源（一般的に２００で示す）がシード・ビーム２０４を生成する発振器２０２及び増幅器２０６を有する別の実施形態を示す。図５はまた、光源２００が、上述のように、シード・ビームの選択された軸方向の強度の対称性を向上させるための、ビーム・ミキサー１０´´を含むことができることを示す。図示された配置において、発振器２０２はシード・ビーム２０４を出力し、これがビーム・ミキサー１０´´に供給される。混合ビーム２０８は、次に、増幅器２０６に供給され、この増幅器がビーム２０８を増幅して増幅されたビーム２１０を出力する。
【００２０】
光源２００に関して、発振器は、ＫｒＦエキシマ・レーザ、ＸｅＦエキシマ・レーザ、ＡｒＦエキシマ・レーザ又はフッ素分子レーザのようなパルス気体放電レーザとすることができ、そして、１つ又はそれ以上の格子、プリズム、エタロンなどのような分散光学部品を使用して細幅にしたラインとしても又はそうしなくてもよい。キャビティ・ダンプ型レーザ、モードロック型又はＱスポイル型のような他の型のレーザを使用することができる。発振器は、パルス型又は連続型とすることができ、そして、ＣＯ2気体放電レーザ、色素レーザ、又は、例えばファイバ・レーザ、ダイオード・レーザなどの固体レーザとすることができる。光源２００に関して、増幅器はパルス型又は連続型とすることができ、そして、エキシマ・レーザ、フッ素分子レーザ、ＣＯ2気体放電レーザ、色素レーザ、又は、例えばファイバ・レーザ、ダイオード・レーザなどの固体レーザとすることができる。１つより多くの増幅器を直列又は並列に使用することができる。
【００２１】
単一のビーム・ミキサー１０´、１０´´が図４及び図５に示されるが、ビームの選択された軸方向の強度プロファイルを変えるためには、２つのビーム・ミキサーを直列に使用して、第１のビーム・ミキサーがビームの第１の軸方向の強度プロファイルを変え、第２のビーム・ミキサーがビームの第２の軸方向の強度プロファイルを変えるようにすることが可能であることを認識されたい。例えば、第１の軸と第２の軸は直交することができる。
【００２２】
米国特許法第１１２条を満たすように要求される本特許出願において詳細に説明され例証された実施形態の特定の態様は、上記の実施形態の態様により、又は何らかの理由でそのために、又はその目的で、解決されるべき問題に対して、何れかの上述の目的を完全に達成することができるが、当業者であれば、本発明の説明された実施形態のここで説明された態様は、本発明によって広く企図される対象物の例示的、例証的及び代表的なものにすぎないことを理解されたい。ここで説明され、及び特許請求される実施形態の態様の範囲は、本明細書の教示に基づけば当業者には明らかである、又は、明らかとなる他の実施形態を完全に包含する。本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲のみによって単独で及び完全に限定され、そして、添付の特許請求の範囲の詳細を超えるものはない。それら請求項中の単数形の要素に対する言及は、明記しない限り、それら請求項の要素「１つ及び１つのみ」を意味することを意図せず、又はそのように解釈すべきではなく、むしろ「１つ又はそれ以上」を意味する。当業者には既知であるか又は後に既知となる、実施形態の上述の態様のあらゆる要素に対する全ての構造的及び機能的な同等物は、引用によりここに明白に組み込まれ、そして本特許請求の範囲によって包含されることが意図されている。本明細書及び／又は特許請求の範囲において使用され、そして本出願の本明細書及び／又は特許請求の範囲内において明白に意味を与えられたどの用語も、それら用語の如何なる辞書による又は他の通常に使用される意味には関わらず、その与えられた意味を有するものとする。実施形態の何らかの態様として本明細書で説明された装置又は方法は、本特許請求の範囲に包含されるべきものであり、本出願において開示された実施形態の態様により解決するために調べられた各々及び全ての問題を扱うことを意図したものではなく、或いはそれを必要とするものでもない。本開示におけるどの要素、構成要素又は方法ステップも、その要素、構成要素又は方法ステップが特許請求の範囲内に明確に説明されるかどうかに関わらず、公開のために意図したものではない。添付の特許請求の範囲内のどの特許請求の要素も、その要素が「のための手段」という句を使用して明白に説明されない限り、又は、方法の特許請求の場合において、要素が「行為」の代わりに「ステップ」として説明されない限り、米国特許法第１１２条第６項の条項の下で解釈されるべきではない。
【００２３】
当業者であれば、上に開示された本発明の実施形態の態様は、好ましい実施形態にのみ向けられたものであり、本発明の開示を多少なりとも限定することを意図したものではなく、そして、特定の好ましい実施形態にだけ限定することを意図したものではないことを理解するであろう。多くの変形及び修正を、開示された本発明の実施形態の開示された態様に加えることができることは、当業者によって理解され認識されるであろう。添付の特許請求の範囲は、本発明の実施形態の開示された態様のみならず、当業者には明らかとなるそのような同等物及び他の修正物及び変形物をも範囲に含むことを意図したものであり、意味するものである。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】例証のために示された、ミキサーに入射する白半分及び黒半分を有するビームを混合するビーム・ミキサーの簡略化した斜視図を示す。
【図２】エキシマ放電レーザから出射したビームの軸方向の典型的なビーム・プロファイルを示す。
【図３】対称的なビーム・プロファイルを示す。
【図４】ビーム・ミキサーを有するレーザ光源の第１の実施形態を示す。
【図５】ビーム・ミキサーを有するレーザ光源の別の実施形態を示す。
【図１】
2009540567.tif 000003
【図２】
2009540567.tif 000004
【図３】
2009540567.tif 000005
【図４】
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【図５】
2009540567.tif 000007
【国際調査報告】
2009540567.tif 000008