(57)【要約】式（Ａ）の新規化合物またはその薬理的に許容し得る塩：式中、記号は請求の範囲で定義されたとおりである。これらは、ＳＧＬＴ阻害剤として有用であり、また、糖尿病および関連疾患の処置に有用である。
2009544572.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ａ）：
【化４９】
2009544572.tif 000060
（式中、環Ａおよび環Ｂは、独立して、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環、または置換されていてもよいベンゼン環であり；
Ｘは、炭素または窒素であり；
Ｙは、−（ＣＨ２）ｎ−であり（ここで、ｎは１または２である）；
Ｚは、以下：
【化５０】
2009544572.tif 000061
の基のうちの１つであり、
ただし：
（ｉ）環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、Ｙは該二環縮合不飽和へテロ環のうちのＸ含有環に結合し；
（ii）環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、Ｚは：
【化５１】
2009544572.tif 000062
であり；
（iii）環Ａおよび環Ｂの両方が置換されていてもよいベンゼンであるとき、Ｚは：
【化５２】
2009544572.tif 000063
である）
で示される化合物、またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項２】
環Ａが、置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、Ｚが：
【化５３】
2009544572.tif 000064
である、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
（１）環Ａが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、およびアルケニレン
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環、二環縮合不飽和へテロ環、またはベンゼン環であり；
ここにおいて、上記環Ａおよび環Ｂ上の置換基は、それぞれ、以下：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいか；
（２）環Ａが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレン
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり；
ここにおいて、上記の環Ａおよび環Ｂ上の置換基は、それぞれ、以下：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいか；あるいは、
（３）環Ａが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソ；
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環またはベンゼン環であり；
ここにおいて、上記環Ａおよび環Ｂ上の置換基は、それぞれ、以下：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい、
請求項１記載の化合物。
【請求項４】
（１）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、
（ａ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよいベンゼン環；
（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、または
（ｃ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であるか；
（２）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、または低級アルケニレンで場合により置換されていてもよいベンゼン環であり、
環Ｂが、
（ａ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルまたはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、
（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であるか；あるいは
（３）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、
（ａ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよいベンゼン環、
（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、あるいは
（ｃ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環である、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
Ｙが−ＣＨ２−であって、Ｘを１位として３位の位置で環Ａと結合している、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
（１）環Ａが以下：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；フェニル；および低級アルキレン
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であるか；
（２）環Ａが、以下：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であるか、
（３）環Ａが、以下：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であるか、
（４）環Ａが、以下：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシ、で置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、ベンゼン環または単環不飽和へテロ環であるか；あるいは、
（５）環Ａが、以下：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環である、
請求項１記載の化合物。
【請求項７】
環Ａが、
【化５４】
2009544572.tif 000065
（式中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、フェニル、フェニルアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、またはフェニルスルホニルである）
であり；
環Ｂが、
【化５５】
2009544572.tif 000066
（式中、Ｒ4aおよびＲ5aは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、あるいはＲ4aおよびＲ5aは、互いに末端で結合してアルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、およびモノ−もしくはジ−アルキルアミノから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシおよびハロアルコキシから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルである）
であり、
Ｚが、
【化５６】
2009544572.tif 000067
である、請求項１記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはフェニルであり；
Ｒ4aおよびＲ5aが、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合して低級アルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシである、請求項７記載の化合物。
【請求項９】
環Ａが、
【化５７】
2009544572.tif 000068
（式中、Ｒ1aがハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素である）であり、；
環Ｂが、
【化５８】
2009544572.tif 000069
（式中、
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、
Ｒ5aが水素であるか、
あるいはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合してアルキレンを形成している）であり；
Ｙが、−ＣＨ２−である、
請求項７記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ1aが、ハロゲン、または低級アルキルであり、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、Ｒ5aが、水素である、請求項９記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリルである、請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されたフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されたヘテロシクリルである、請求項１１記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒ4aが、ハロゲンまたはシアノで置換されたフェニル；または、ハロゲンで置換されたピリジルである、請求項１２記載の化合物。
【請求項１４】
環Ａが、
【化５９】
2009544572.tif 000070
であり、式中、Ｒ１ａが、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ２ａおよびＲ３ａが共に水素であり；環Ｂが、
【化６０】
2009544572.tif 000071
であり、式中、Ｒ４ｂおよびＲ５ｂがそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシである、請求項７記載の化合物。
【請求項１５】
環Ａが、
【化６１】
2009544572.tif 000072
であり、式中、Ｒ6が、水素、ハロゲンまたはアルキルであり；環Ｂが、
【化６２】
2009544572.tif 000073
であり、式中、Ｒ7aおよびＲ7bは、独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニルであるか、あるいはＲ7aおよびＲ7bは、それらが結合している炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成し；ＹがＣＨ2である、請求項１記載の化合物。
【請求項１６】
Ｒ6がハロゲンであり、Ｚが、
【化６３】
2009544572.tif 000074
であり、Ｒ7aおよびＲ7bが、独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、またはハロピリジルであるか、あるいはＲ7aおよびＲ7bは、それらが結合する炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環、縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１５記載の化合物。
【請求項１７】
Ｒ7aおよびＲ7bが、独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオであるか、あるいはＲ7aおよびＲ7bは、それらが結合する炭素原子と共に、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１６記載の化合物。
【請求項１８】
Ｒ7aおよびＲ7bが、独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、またはハロアルコキシであるか、あるいはＲ7aおよびＲ7bは、それらが結合する炭素原子と共に、縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１７記載の化合物。
【請求項１９】
Ｒ6がハロゲンであり、環Ｂが、
【化６４】
2009544572.tif 000075
であり、Ｒ7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオである、請求項１６記載の化合物。
【請求項２０】
Ｒ7aが、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、またはアルコキシである、請求項１９記載の化合物。
【請求項２１】
化合物が、
３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール、
４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール、
４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール、
４−クロロ−３−（４−エトキシフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール、
３−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−４−クロロ−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）ベンゼン、
４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（６−フルオロ−６−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン、および
および４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン、または
その医薬的に許容しうる塩
から選択される、請求項１記載の化合物。
【請求項２２】
請求項１記載の化合物および医薬的に許容し得る担体または希釈剤を含む医薬組成物。
【請求項２３】
さらに他の抗糖尿病剤を含む、請求項２２に記載の医薬組成物。
【請求項２４】
有効治療物質として使用する、請求項１記載の化合物。
【請求項２５】
糖尿病、糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症、遅延創傷治癒、インスリン抵抗性、高血糖症、高インスリン血症、高脂肪酸血症、高グリセロール血症、高脂血症、肥満症、高トリグリセリド血症、Ｘ症候群、糖尿病性合併症、アテローム硬化症および高血圧症から選択される疾患の処置に使用するための医薬の製造における、請求項１記載の化合物の使用。
【請求項２６】
糖尿病、糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症、遅延創傷治癒、インスリン抵抗性、高血糖症、高インスリン血症、高脂肪酸血症、高グリセロール血症、高脂血症、肥満症、高トリグリセリド血症、Ｘ症候群、糖尿病性合併症、アテローム硬化症および高血圧症の処置または進行もしくは発症を遅らせる方法であって、治療有効量の請求項１に記載の化合物を、処置が必要な哺乳動物種に投与する工程を含む方法。
【請求項２７】
１型または２型糖尿病の処置方法であって、治療有効量の請求項１に記載の化合物を単独であるいは他の抗糖尿病剤、糖尿病性合併症の治療剤、抗肥満剤、抗高血圧剤、抗血小板剤、抗アテローム硬化症剤および／または脂質低下剤と組み合わせて、処置が必要な哺乳動物種に投与する工程を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、腸または腎臓において見出されるナトリウム依存性グルコース輸送担体（ＳＧＬＴ）の阻害剤としての活性を有する新規化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
糖尿病の治療においては、食事療法および運動療法が不可欠である。これらの療法が患者の状態を充分にコントロールしないときには、インスリンまたは抗糖尿病剤が使用される。現在、抗糖尿病剤として、ビグアナイド、スルホニルウレア、インスリン抵抗性改善剤およびα−グルコシダーゼ阻害剤が用いられている。しかしながら、これらの抗糖尿病剤は種々の副作用を有している。例えば、ビグアナイドは乳酸アシドーシスを引き起こし、スルホニルウレアは重篤な低血糖を引き起こし、インスリン抵抗性改善剤は浮腫および心不全を引き起こし、またα−グルコシダーゼ阻害剤は腹部膨満および下痢を引き起こす。これらの状況下で、これらの副作用のない新規な抗糖尿病薬が望まれている。
【０００３】
近年、糖尿病の発症および進行に、高血糖が関与することが報告されている。この理論は、グルコース・トキシシティー・セオリー（Glucose toxicity theory）と呼ばれている。すなわち、慢性的な高血糖は、インスリン分泌およびインスリン感受性を低下させ、血糖値が上昇し、その結果、糖尿病は自己増悪される（Diabetologia, vol. 28, p. 119 (1985); Diabetes Care, vol. 13, p. 610 (1990)など参照）。本理論によれば、血糖値を正常化することで、上記の自己増悪循環を断ち切り、糖尿病の予防または治療を達成することができる。
【０００４】
高血糖を治療するための一つの方法としては、過剰量のグルコースを尿中に直接排泄させ、血糖値を正常化することが考えられる。例えば、腎臓の近位尿細管に存在するナトリウム依存性グルコース輸送担体を阻害することにより、腎臓でのグルコース再吸収を阻害し、グルコースの尿中への排泄を促進して血糖値を低下させることができる。事実、ＳＧＬＴ阻害剤、フロリジンを、糖尿病動物モデルに持続的に皮下投与することにより、その血糖値を正常化することができ、また血糖値を長期間正常に保つことによって、インスリン分泌およびインスリン抵抗性を改善することができることが確認されている〔Journal of Clinical Investigation, vol. 79, p. 1510 (1987); 同文献 vol. 80, p. 1037 (1987); 同文献 vol. 87, p. 561 (1991)など参照〕。
【０００５】
さらに、糖尿病動物モデルをＳＧＬＴ阻害剤で長期間処置することにより、腎臓への一切の副作用または電解質の血中濃度の不均衡を招くことなく、動物モデルのインスリン分泌応答およびインスリン感受性が改善され、その結果、糖尿病性腎症や、糖尿病性神経障害の発症および進行が抑制される〔Journal of Medicinal Chemistry, vol. 42, p. 5311 (1999); British Journal of Pharmacology, vol. 132, p. 578 (2001)など参照〕。
【０００６】
以上のことから、ＳＧＬＴ阻害剤は、糖尿病患者において血糖値を低下させることによって、インスリン分泌およびインスリン抵抗性を改善し、かつ糖尿病および糖尿病性合併症の発症および進行を抑制することが期待される。
【０００７】
WO 2004/014931には、下記式：
【化１】
2009544572.tif 000003
（式中、ＹはＯまたはＮである）
で表されるアリールＯ−またはＮ−チオグルコピラノシドが記載されている。
【０００８】
US 2004/0259819 A1には、下記式：
【化２】
2009544572.tif 000004
で表されるヘテロシクリル  フルオログリコシド誘導体が記載されている。
【０００９】
US 2005/0014704 A1には、下記式：
【化３】
2009544572.tif 000005
で表されるアリールフルオログリコシド誘導体が記載されている。
【００１０】
これら化合物は、糖尿病および関連疾患の処置用のＳＧＬＴ阻害剤として記載されている。
【００１１】
さらに、WO 98/31697には、下記のようなアリールＣ−ガラクトピラノシドが記載されており：
【化４】
2009544572.tif 000006
この化合物は、炎症性疾患、自己免疫疾患などの治療または予防に有用であり得る。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、下記式（Ａ）で表される新規化合物またはその薬理的に許容し得る塩に関する：
【化５】
2009544572.tif 000007
式中、環Ａおよび環Ｂは、独立して、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環、または置換されていてもよいベンゼン環であり；
Ｘは、炭素または窒素であり；
Ｙは、−（ＣＨ２）ｎ−（ここで、ｎは１または２である）であり；
Ｚは、以下：
【化６】
2009544572.tif 000008
の基のうちの１つであり；
ただし：
（ｉ）環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、Ｙは該二環縮合不飽和へテロ環のうちのＸ含有環に結合し；
（ii）環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、Ｚは：
【化７】
2009544572.tif 000009
であり；
（iii）環Ａおよび環Ｂの両方が置換されていてもよいベンゼンであるとき、Ｚは：
【化８】
2009544572.tif 000010
である。
【００１３】
式（Ａ）の化合物は、哺乳類の腸および腎臓で見出されるＳＧＬＴの阻害剤としての活性を有し、糖尿病および糖尿病性合併症、例えば、糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症および遅延創傷治癒、ならびに関連疾患の治療または予防に有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
用語「ハロゲン」または「ハロ」とは、塩素、臭素、フッ素およびヨウ素をいい、塩素およびフッ素が好ましい。
【００１５】
用語「アルキル」とは、１〜４個の下記置換基で置換されていてもよい、炭素数１〜１２の、好ましくは炭素数１〜６の、より好ましくは炭素数１〜４の直鎖または分枝鎖の１価の飽和炭化水素鎖をいう。アルキルの例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、およびこれらの各種分枝鎖異性体が挙げられる。
【００１６】
用語「アルキレン」とは、炭素数１〜１２の、好ましくは炭素数１〜６の、より好ましくは炭素数１〜４の直鎖または分枝鎖の２価の炭化水素鎖をいい、このアルキレンは、１〜４個の下記置換基で場合により置換されていてもよいし、またはベンゼン環、単環不飽和へテロ環、もしくは二環縮合不飽和へテロ環の２つの異なる炭素原子に結合して、５、６または７員の縮合された炭素環を形成しても良い。この縮合された５、６または７員の炭素環は、必要に応じて、１個以上の後述の置換基で場合により置換されていてもよい。アルキレンの例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン等が挙げられる。
【００１７】
用語「アルケニル」とは、炭素数２〜１２、好ましくは炭素数２〜６、より好ましくは炭素数２〜４で、少なくとも１つの二重結合を含む直鎖または分枝鎖の１価の炭化水素鎖をいい、このアルケニルは、１〜４個の下記置換基で場合により置換されていてもよい。アルケニルの例としては、ビニル、２−プロペニル、３−ブテニル、２−ブテニル、４−ペンテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、２−ヘプテニル、３−ヘプテニル、４−ヘプテニル、３−オクテニル、３−ノネニル、４−デセニル、３−ウンデセニル、４−ドデセニル、４，８，１２−テトラデカトリエニル等が挙げられる。
【００１８】
用語「アルケニレン」とは、炭素数２〜１２、好ましくは炭素数２〜６、より好ましくは炭素数２〜４で、少なくとも１つの二重結合を含む直鎖または分枝鎖の２価の炭化水素鎖をいい、このアルケニレンは、１〜４個の下記置換基で場合により置換されていてもよいし、またはベンゼン環、単環不飽和へテロ環、もしくは二環縮合不飽和へテロ環の２つの異なる炭素原子に結合して、５、６または７員の縮合された炭素環を形成しても良い。この縮合された５、６または７員の炭素環は、１個以上の後述の置換基で場合により置換されていてもよい。アルケニレンの例としては、ビニレン、プロペニレン、ブタンジエニレン等が挙げられる。
【００１９】
用語「アルキニル」とは、炭素数２〜１２、好ましくは炭素数２〜６、より好ましくは炭素数２〜４で、少なくとも１つの三重結合を含む直鎖または分枝鎖の１価の炭化水素鎖をいい、このアルキニルは、１〜４個の下記置換基で場合により置換されていてもよい。アルキニルの例としては、２−プロピニル、３−ブチニル、２−ブチニル、４−ペンチニル、３−ペンチニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、２−ヘプチニル、３−ヘプチニル、４−ヘプチニル、３−オクチニル、３−ノニニル、４−デシニル、３−ウンデシニル、４−ドデシニル等が挙げられる。
【００２０】
用語「シクロアルキル」とは、炭素数３〜１２、好ましくは炭素数３〜７の単環または二環式の１価の飽和炭化水素環をいい、このシクロアルキルは、１〜４個の下記置換基で場合により置換されていてもよい。シクロアルキルの例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシル等が挙げられる。
【００２１】
用語「シクロアルケニル」とは、少なくとも１つの二重結合を含む、炭素数４〜１２、好ましくは炭素数４〜７の単環または二環式の１価の不飽和炭化水素環をいい、このシクロアルケニルは、１〜４個の下記置換基で場合により置換されていてもよい。シクロアルケニルの例としては、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル等が挙げられる。
【００２２】
用語「シクロアルキニル」とは、少なくとも１つの三重結合を含む、炭素数６〜１２、好ましくは炭素数６〜８の単環または二環式の不飽和炭化水素環をいい、このシクロアルキニルは、１〜４個の下記置換基で場合により置換されていてもよい。シクロアルキニルの例としては、シクロオクチニル、シクロデシニルが挙げられる。
【００２３】
用語「アリール」とは、炭素数６〜１０の単環または二環式の１価の芳香族炭素環をいい、このアリールは、１〜４個の下記置換基で場合により置換されていてもよい。アリールの例としては、フェニル、およびナフチル（例えば、１−ナフチル、２−ナフチルなど）が挙げられる。
【００２４】
用語「単環不飽和へテロ環」とは、二重結合もしくは三重結合を少なくとも１つ含み、かつ、窒素、酸素および硫黄から独立して選択されるヘテロ原子を少なくとも１つ含む３〜１２員、好ましくは４〜７員の不飽和炭化水素環をいい、この単環不飽和へテロ環は、１〜４個の下記置換基で場合により置換されていてもよい。単環不飽和へテロ環の例としては、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソキサゾール、４，５−ジヒドロオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、トリアゾール、テトラゾール等が挙げられる。
【００２５】
用語「二環縮合不飽和へテロ環」とは、二重結合もしくは三重結合を少なくとも１つ含み、かつ、窒素、酸素および硫黄から独立して選択されるヘテロ原子を少なくとも１つ含む７〜１２員、好ましくは８〜１０員の二環縮合不飽和炭化水素環をいい、この二環縮合不飽和へテロ環は、１〜４個の下記置換基で場合により置換されていてもよい。二環縮合不飽和へテロ環の例としては、ベンゾチオフェン、インドール、テトラヒドロベンゾチオフェン、ベンゾフラン、イソキノリン、チエノチオフェン、チエノピリジン、キノリン、インドリン、イソインドリン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、インダゾール、ジヒドロイソキノリン等が挙げられる。
【００２６】
用語「ヘテロシクリル」とは、上記単環不飽和ヘテロ環または二環縮合不飽和ヘテロ環の１価基、および上記単環不飽和ヘテロ環または二環縮合不飽和ヘテロ環が飽和されたものの１価基をいう。必要に応じて、このヘテロシクリルは、場合により、独立して、１〜４個の下記置換基で置換されていてもよい。
【００２７】
用語「アルカノイル」とは、カルボニルに結合した上記のアルキルをいう。
【００２８】
用語「アルコキシ」とは、酸素原子に結合した上記のアルキルをいう。
【００２９】
用語「アルキルチオ」とは、硫黄原子に結合した上記のアルキルをいう。
【００３０】
上記の基における置換基としては、例えば、ハロゲン（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシ、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフィニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、シクロアルキルスルフィニル、シクロアルケニルスルフィニル、シクロアルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、およびヘテロシクリルスルホニルが挙げられる。これらの基の各々は、場合により、これら置換基から選択される置換基で置換されていてもよい。
【００３１】
さらに、「ハロアルキル」、「ハロ低級アルキル」、「ハロアルコキシ」、「ハロ低級アルコキシ」、「ハロフェニル」および「ハロヘテロシクリル」などの用語は、それぞれ、１以上のハロゲン原子で置換された、アルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルおよびヘテロシクリルを指す。これらの用語は、好ましくは、１〜７個のハロゲン原子、より好ましくは１〜５のハロゲン原子で置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルおよびヘテロシクリルを包含する。さらに、「ハロピリジル」および「ハロチエニル」なる用語は、それぞれ、１つ以上のハロゲン原子（好ましくはＣｌまたはＦ）で置換された、ピリジルおよびチエニルを指す。「ハロアルキル」、「ハロアルコキシ」、「ハロフェニル」、「ハロピリジル」および「ハロチエニル」の例として、ＣＨＦ2、ＣＦ3、ＣＨＦ2Ｏ、ＣＦ3Ｏ、ＣＦ3ＣＨ2、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ、ＦＣＨ2ＣＨ2Ｏ、ＣｌＣＨ2ＣＨ2Ｏ、ＦＣ6Ｈ4、ＣｌＣ6Ｈ4、ＢｒＣ6Ｈ4、ＩＣ6Ｈ4、ＦＣ5Ｈ3Ｎ、ＣｌＣ5Ｈ3Ｎ、ＢｒＣ5Ｈ3Ｎ、ＦＣ4Ｈ2Ｓ、ＣｌＣ4Ｈ2Ｓ、およびＢｒＣ4Ｈ2Ｓが挙げられる。
【００３２】
同様に、「ヒドロキシアルキル」、「ヒドロキシ低級アルキル」、「ヒドロキシアルコキシ」、「ヒドロキシ低級アルコキシ」および「ヒドロキシフェニル」などの用語は、それぞれ、１個以上のヒドロキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、およびフェニルを包含する。これらの用語は、好ましくは、１〜４個のヒドロキシ、より好ましくは１〜２個のヒドロキシでそれぞれ置換された、アルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、およびフェニルを指す。さらに、「アルコキシアルキル」、「低級アルコキシアルキル」、「アルコキシ低級アルキル」、「低級アルコキシ低級アルキル」、「アルコキシアルコキシ」、「低級アルコキシアルコキシ」、「アルコキシ低級アルコキシ」、「低級アルコキシ低級アルコキシ」、「アルコキシフェニル」、および「低級アルコキシフェニル」などの用語は、それぞれ、１つ以上のアルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、およびフェニルを指称する。これらの用語は、好ましくは、１〜４個のアルコキシ、より好ましくは１〜２個のアルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、およびフェニルを指す。
【００３３】
同様に、用語「シアノフェニル」は、１以上のシアノで置換されているフェニルを指す。
【００３４】
用語「アリールアルキル」および「アリールアルコキシ」とは、単独で使用される場合も、または他の基の一部として使用される場合も、アリールで置換されているアルキルおよびアリールで置換されているアルコキシを指称する。
【００３５】
本明細書および請求の範囲で使用される用語「低級」とは、他で特に定義されていない限り、炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖の炭素鎖を指称する。好ましくは、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖の炭素鎖を意味する。
【００３６】
用語「プロドラッグ」とは、慣用の方法で式（Ａ）の化合物の１つ以上のヒドロキシ基と適切なアシル化剤とが縮合することによりアセタート、ピバラート、メチルカルボナート、ベンゾアート等を生成することにより形成され得る、エステルまたはカルボナートを指称する。用語「プロドラッグ」はまた、慣用の方法で式（Ａ）の化合物の１つ以上のヒドロキシ基とアミノ酸（例えば、αアミノ酸、およびβアミノ酸など）とが縮合することにより形成され得るエステルまたはアミドを指称する。
【００３７】
式（Ａ）の化合物の薬理的に許容し得る塩として、たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩；カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属塩；亜鉛またはアルミニウムとの塩；アンモニウム、コリン、ジエタノールアミン、リジン、エチレンジアミン、ｔ−ブチルアミン、ｔ−オクチルアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、Ｎ−メチル−グルコサミン、トリエタノールアミンおよびデヒドロアビエチルアミン等の有機塩基との塩；塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸との塩；またはギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機酸との塩；またはアスパラギン酸、グルタミン酸等の酸性アミノ酸との塩が挙げられる。
【００３８】
本発明の化合物は、場合により、置換基のいずれかに含まれている１以上の不斉炭素原子を有し得る。また、式（Ａ）の化合物は、エナンチオマーもしくはジアステレオマーの形態またはこれらの混合物で存在し得る。本発明の化合物は、立体異性体の混合物またはそれぞれ純粋なもしくは実質的に純粋な異性体を包含する。式（Ａ）の化合物がジアステレオマーまたはエナンチオマーの形態で得られる場合、これらをこの技術分野で周知の慣用の方法、例えばクロマトグラフィーまたは分別結晶法で分離することができる。
【００３９】
さらに、式（Ａ）の化合物は、それらの分子内塩、水和物、溶媒和物や結晶多形のものを包含する。
【００４０】
本発明の実施形態では、環Ａが置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、Ｚが：
【化９】
2009544572.tif 000011
である。
【００４１】
本発明の代替の実施形態では、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、好ましくは、ハロゲン、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフィニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、シクロアルキルスルフィニル、シクロアルケニルスルフィニル、シクロアルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、およびヘテロシクリルスルホニルからなる群より独立して選択される１〜５の置換基（ここにおいて、これら置換基の各々は、場合により、これら置換基から選択される基でさらに置換されていてもよい）で場合により置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり；
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、好ましくは、ハロゲン、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシ、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフィニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、シクロアルキルスルフィニル、シクロアルケニルスルフィニル、シクロアルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、およびヘテロシクリルスルホニルからなる群より独立して選択される１〜５の置換基（ここにおいて、これら置換基の各々は、場合により、これら置換基から選択される基でさらに置換されていてもよい）で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり；
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフィニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、シクロアルキルスルフィニル、シクロアルケニルスルフィニル、シクロアルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキレン、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシ、およびアルケニレンからなる群より独立して選択される１〜５の置換基（ここにおいて、これら置換基の各々は、場合により、これら置換基から選択される基でさらに置換されていてもよい）で場合により置換されていてもよいベンゼン環である。
【００４２】
置換されていてもよいベンゼン環とはまた、アルキレンまたはアルケニレンで置換されて、結合している炭素原子と共に縮環した炭素環を形成しているベンゼン環をもいう。そのような縮環した炭素環の例としては、縮合ベンゼン、縮合シクロペンテン等が挙げられる。
【００４３】
置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環の好ましい例としては、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が挙げられる。
【００４４】
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環の好ましい例としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が挙げられる。
【００４５】
置換されていてもよいベンゼン環の好ましい例としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシおよびアルケニレンからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環が挙げられる。
【００４６】
本発明の他の実施形態では、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり；
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり；
置換されていてもよいベンゼン環が、好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレンからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であり；
ここにおいて、上記のこれら単環不飽和ヘテロ環上、二環縮合不飽和ヘテロ環上、およびベンゼン環上の置換基の各々は、さらに、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、フェニル、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシ、オキソ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で置換されていてもよい。
【００４７】
本発明の別の実施形態では、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり；
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり；
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレンからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であり；
ここにおいて、上記のこれら単環不飽和ヘテロ環上、二環縮合不飽和ヘテロ環上、およびベンゼン環上の置換基の各々は、さらに、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で置換されていてもよい。
【００４８】
本発明の好ましい実施形態では、
（１）環Ａが、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり：；
環Ｂが、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、およびアルケニレンからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環、二環縮合不飽和へテロ環、またはベンゼン環であり；
ここにおいて、上記の環Ａおよび環Ｂ上の置換基はそれぞれ、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよいか；
（２）環Ａが、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレンからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であり；
環Ｂが、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり；
ここにおいて、上記の環Ａおよび環Ｂ上の置換基はそれぞれ、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよいか；あるいは、
（３）環Ａが、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり；
環Ｂが、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環またはベンゼン環であり；
ここにおいて、上記の環Ａおよび環Ｂ上の置換基はそれぞれ、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルからなる群より独立して選択される１〜３の置換基で場合により置換されていてもよい。
【００４９】
本発明の別の好ましい実施形態では、
（１）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、環Ｂが、（ａ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよいベンゼン環；（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環；または（ｃ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であるか；
（２）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、または低級アルケニレンで置換されていてもよいベンゼン環であり、環Ｂが、（ａ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイルまたはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環；（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であるか；あるいは
（３）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、環Ｂが、（ａ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよいベンゼン環；（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、または（ｃ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環である。
【００５０】
本発明の別の好ましい実施形態では、Ｙが−ＣＨ２−であって、Ｘを１位として３位の位置で環Ａと結合している。
【００５１】
本発明のさらに別の好ましい実施形態では、
（１）環Ａが、ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；フェニル；および低級アルキレンからなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であり、
環Ｂが、ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であるか、
（２）環Ａが、ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり；
環Ｂが、ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレンからなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であるか；
（３）環Ａが、ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であるか；
（４）環Ａが、ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり；
環Ｂが、ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレンからなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、ベンゼン環または単環不飽和へテロ環であるか；あるいは、
（５）環Ａが、ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり；
環Ｂが、ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソからなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環である。
【００５２】
単環不飽和ヘテロ環は好ましくは、窒素、酸素および硫黄から独立して選択されるヘテロ原子を１または２含む５または６員の不飽和ヘテロ環である。より具体的に、単環不飽和ヘテロ環の好ましい例としては、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ジヒドロイソオキサゾール、ジヒドロピリジン、およびチアゾールが挙げられる。二環縮合不飽和ヘテロ環は好ましくは、窒素、酸素および硫黄から独立して選択されるヘテロ原子を１〜４個含む９または１０員の縮合不飽和ヘテロ環である。より具体的に、二環縮合不飽和ヘテロ環の好ましい例は、インドリン、イソインドリン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、インドール、インダゾール、キノリン、イソキノリン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、チエノチオフェン、およびジヒドロイソキノリンである。
【００５３】
本発明のより好ましい実施形態では、環Ａが、
【化１０】
2009544572.tif 000012
（式中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、フェニル、フェニルアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、またはフェニルスルホニルである）
であり；環Ｂが、
【化１１】
2009544572.tif 000013
（式中、Ｒ4aおよびＲ5aは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、あるいはＲ4aおよびＲ5aは、互いに末端で結合してアルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、およびモノ−もしくはジ−アルキルアミノから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシおよびハロアルコキシから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルである）
であり；Ｚが
【化１２】
2009544572.tif 000014
である。
【００５４】
より好ましい実施形態では、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはフェニルであり；
Ｒ4aおよびＲ5aが、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合して低級アルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシである。
【００５５】
さらに好ましい実施形態では、環Ａが、
【化１３】
2009544572.tif 000015
であり、ここで、Ｒ1aがハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素であり；環Ｂが、
【化１４】
2009544572.tif 000016
であり、
ここで、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、Ｒ5aが水素であるか；またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合してアルキレンを形成しており；Ｙが−ＣＨ２−である。
【００５６】
この実施形態では、Ｒ1aが好ましくはハロゲンまたは低級アルキルであり；Ｒ4aが好ましくは、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり；Ｒ5aが、水素である。
【００５７】
この実施形態では、Ｒ4aが、好ましくは、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリルである。
【００５８】
より好ましい実施形態では、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されたフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されたヘテロシクリルである。
【００５９】
さらに好ましい実施形態では、ヘテロシクリルが、窒素、酸素および硫黄からなる群より独立して選択されるヘテロ原子を１または２個含有する５または６員のヘテロシクリルであるか、または、窒素、酸素および硫黄からなる群より独立して選択されるヘテロ原子を１〜４個含有する９または１０員のヘテロシクリルである。ヘテロシクリルの例としては、好ましくは、チエニル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピラゾリル、チアゾリル、キノリル、テトラゾリル、およびオキサゾリルが挙げられる。
【００６０】
さらに好ましい実施形態では、Ｒ4aが、ハロゲンもしくはシアノで置換されたフェニル；または、ハロゲンで置換されたピリジルである。
【００６１】
本発明の別の好ましい実施形態では、環Ａが
【化１５】
2009544572.tif 000017
であり、ここで、Ｒ１ａが、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ２ａおよびＲ３ａの両方が水素であり；環Ｂが
【化１６】
2009544572.tif 000018
であり、ここで、Ｒ４ｂおよびＲ５ｂがそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシである。
【００６２】
本発明のさらに別の好ましい実施形態では、環Ａが、
【化１７】
2009544572.tif 000019
であり、ここで、Ｒ6が水素、ハロゲンまたはアルキルであり；環Ｂが
【化１８】
2009544572.tif 000020
であり、ここで、Ｒ7aおよびＲ7bは、独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニルであるか、あるいはＲ7aとＲ7bは、結合している炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成し；ＹがＣＨ2である。
【００６３】
より好ましい実施形態では、Ｒ6がハロゲンであり、Ｚが
【化１９】
2009544572.tif 000021
であり、Ｒ7aおよびＲ7bが独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、またはハロピリジルであるか、あるいはＲ7aとＲ7bが結合する炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成する。
【００６４】
好ましい実施形態では、Ｒ7aおよびＲ7bが独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシまたはアルキルチオであるか、あるいはＲ7aおよびＲ7bは、結合する炭素原子と共に縮合ベンゼン環または縮合ジヒドロフラン環を形成する。
【００６５】
より好ましい実施形態では、Ｒ7aおよびＲ7bが独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、またはハロアルコキシであるか、あるいはＲ7aおよびＲ7bが、結合する炭素原子と共に縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成する。
【００６６】
別の好ましい実施形態では、Ｒ6がフッ素、塩素または臭素であり、好ましくはフッ素または塩素である。
【００６７】
さらに別の好ましい実施形態では、Ｒ6がハロゲンであり、環Ｂが
【化２０】
2009544572.tif 000022
である。
【００６８】
この実施形態において、Ｒ7aが好ましくは、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオである。
【００６９】
より好ましくは、Ｒ7aがハロゲン（例えば、塩素、臭素およびヨウ素）、アルキル（例えば、メチルおよびエチル）、シクロアルキル（例えば、シクロプロピル）、ハロアルキル（例えば、ジフルオロメチルおよびトリフルオロメチル）、アルコキシ（例えば、メトキシおよびエトキシ）またはハロアルコキシ（例えば、クロロエトキシ、ジフルオロメトキシおよびトリフルオロメトキシ）である。さらに好ましくは、Ｒ7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、またはアルコキシである。
【００７０】
別の好ましい実施形態では、環Ｂが
【化２１】
2009544572.tif 000023
である。
【００７１】
この実施形態では、好ましくは、Ｒ6がハロゲンであり、Ｒ7aがハロゲン（例えば、フッ素および塩素）またはアルキル（例えば、メチルまたはエチル）である。
【００７２】
さらに別の好ましい実施形態では、環Ｂが
【化２２】
2009544572.tif 000024
であり、式中、
【化２３】
2009544572.tif 000025
は単結合または二重結合を示し、Ｒ6がハロゲンである。
【００７３】
さらに別の好ましい実施形態では、環Ａが、インドール、クロロインドール、またはクロロベンゼンであり、環Ｂがエチルフェニル、エトキシフェニル、ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イル、または５−フェニル−２−チエニルであり、Ｙが−ＣＨ２−であり、Ｚが５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル、４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル、４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル、または６−フルオロ−６−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシルである。
【００７４】
本発明の好ましい化合物は、以下：
３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール；
４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール；
４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール；
４−クロロ−３−（４−エトキシフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール；
３−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−４−クロロ−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）ベンゼン；
４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（６−フルオロ−６−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン； 
４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン；および
その薬理的に許容しうる塩
から選択され得る。
【００７５】
本発明の化合物は、ナトリウム依存性グルコース輸送担体の阻害剤としての活性を有しており、優れた血糖低下作用を示す。
【００７６】
本発明の化合物は、糖尿病（１型および２型糖尿病など）、糖尿病性合併症（たとえば糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症）、食後高血糖症、遅延創傷治癒、インスリン抵抗性、高血糖症、高インスリン血症、高脂肪酸血症、高グリセロール血症、高脂血症、肥満症、高トリグリセリド血症、Ｘ症候群、アテローム硬化症または高血圧症の治療、予防または進行もしくは発症を遅らせる上で有用であると期待される。
【００７７】
本発明の化合物またはその薬理的に許容し得る塩は、経口的にも非経口的にも投与することができ、好適な医薬製剤の形態で使用することができる。経口投与に好適な医薬製剤として、例えば、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散剤等の固体製剤、または溶液製剤、懸濁液製剤、乳化液製剤等が挙げられる。非経口投与に好適な医薬製剤として、例えば、坐剤；注射用蒸留水、生理的食塩水またはグルコース水溶液を用いる注射剤や静脈内点滴剤；および吸入製剤が挙げられる。
【００７８】
本明細書の医薬組成物は、用量単位、例えば、錠剤、カプセル剤、散剤、注射剤、坐剤、茶匙一杯等あたり、有効成分を約０．０１mg／kg〜約１００mg／kg体重（好ましくは、約０．０１mg／kg〜約５０mg／kg、より好ましくは約０．０１mg／kg〜約３０mg／kg）含有し、約０．０１mg／kg／日〜約１００mg／kg／日（好ましくは、約０．０１mg／kg／日〜約５０mg／kg／日、より好ましくは約０．０１mg／kg／日〜約３０mg／kg／日）の用量で投与し得る。本発明で記載の疾患を処置する方法は、また、本明細書に定義された化合物のいずれかと薬理的に許容し得る担体を含む医薬組成物を用いて行われる。投与形態は、有効成分を約０．０１mg／kg〜約１００mg／kg（好ましくは、約０．０１mg／kg〜約５０mg／kg、より好ましくは約０．０１mg／kg〜約３０mg／kg）含有し、選択された投与モードに好適な任意の形態に構築し得る。しかしながら、用量は、投与経路、被験体の要求、処置される状態の重篤度および使用される化合物によって異なる。毎日投与または周期後投与のいずれをも使用し得る。
【００７９】
式（Ａ）の化合物は、必要ならば、１以上の他の抗糖尿病剤、抗高血糖症剤および／または他の疾患の治療剤と組み合わせて使用し得る。本化合物およびこれらの他の薬剤は、同じ投与形態で、または別々の経口投与形態で、または注射により投与し得る。
【００８０】
他の抗糖尿病剤および抗高血糖症剤の例として、インスリン、インスリン分泌促進剤、インスリン抵抗性改善剤、またはＳＧＬＴ阻害とは異なる作用機作を有する他の抗糖尿病剤が挙げられる。具体的に、これらの薬剤の例は、ビグアナイド、スルホニルウレア、α−グルコシダーゼ阻害剤、ＰＰＡＲγアゴニスト（例えば、チアゾリジンジオン化合物）、ＰＰＡＲα／γデュアルアゴニスト、ＰＰＡＲｐａｎアゴニスト、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ（ＤＰＰ４）阻害剤、ミチグリニド（mitiglinide）、ナテグリニド（nateglinide）、レパグリニド（repaglinide）、インスリン、グルカゴン様ペプチド−１（ＧＬＰ−１）およびその受容体アゴニスト、ＰＴＰ１Ｂ阻害剤、グリコーゲンホスホリラーゼ阻害剤、ＲＸＲモジュレーター、グルコース６−ホスファターゼ阻害剤、ＧＰＲ４０アゴニスト／アンタゴニスト、ＧＰＲ１１９アゴニスト、ＧＰＲ１２０アゴニスト、グルコキナーゼ（ＧＫ）アクチベーター、およびフルクトース１，６−ビスホスファターゼ（ＦＢＰアーゼ）阻害剤である。
【００８１】
他の疾患の処置用の薬剤の例として、抗肥満剤、抗高血圧剤、抗血小板剤、抗アテローム硬化症剤および脂質低下剤が挙げられる。
【００８２】
本発明の化合物と組み合わせて場合により使用されうる抗肥満剤として、β3アドレナリン作動性アゴニスト、リパーゼ阻害剤、セロトニン（およびドーパミン）再取り込み阻害剤、甲状腺ホルモン受容体ベータ薬、食欲抑制剤、ＮＰＹアンタゴニスト、レプチン類縁体ＭＣ４アゴニストおよびＣＢ１アンタゴニストが挙げられる。
【００８３】
本発明の化合物と組み合わせて場合により使用されうる抗血小板剤として、アブシキシマブ（abciximab）、チクロピジン（ticlopidine）、エプチフィバチド（eptifibatide）、ジピリダモール、アスピリン、アナグレリド（anagrelide）、チロフィバン（tirofiban）およびクロピドグレル（clopidogrel）が挙げられる。
【００８４】
本発明の化合物と組み合わせて場合により使用されうる抗高血圧剤として、ＡＣＥ阻害剤、カルシウムアンタゴニスト、アルファ−ブロッカー、利尿剤、中枢作用剤、アンジオテンシン−ＩＩアンタゴニスト、ベータ−ブロッカー、レニン阻害剤およびバソペプチダーゼ阻害剤が挙げられる。
【００８５】
本発明の化合物と組み合わせて場合により使用されうる脂質低下剤として、ＭＴＰ阻害剤、ＨＭＧＣｏＡ還元酵素阻害剤、スクアレンシンテターゼ阻害剤、スクアレンエポキシダーゼ阻害剤、フィブリン酸誘導体、ＡＣＡＴ阻害剤、リポキシゲナーゼ阻害剤、コレステロール吸収阻害剤、回腸Ｎａ+／胆汁酸共輸送体阻害剤、ＬＤＬ受容体活性のアップレギュレーター、胆汁酸抑制剤、ニコチン酸およびその誘導体、ＣＥＴＰ阻害剤、ならびにＡＢＣ Ａ１アップレギュレーターが挙げられる。
【００８６】
式（Ａ）の化合物は、必要により、糖尿病性合併症の処置用の薬剤と組み合わせて使用し得る。これらの薬剤として、例えば、ＰＫＣ阻害剤および／またはＡＣＥ阻害剤が挙げられる。
【００８７】
上記の種々の薬剤を、当該分野で一般的に知られている用量およびレジメンで、式（Ａ）の化合物と同じ投与形態で、または異なる投与形態で、使用し得る。
【００８８】
それらの薬剤の用量は、例えば、患者の年令、体重、状態、投与経路および投与形態によって異なりうる。
【００８９】
これらの医薬組成物は、ヒト、サルおよびイヌを含む哺乳動物種に、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤または散剤の投与形態で経口的に投与し得るか、あるいは注射製剤の形態で、あるいは鼻腔内に、あるいは経皮パッチの形態で、非経口的に投与し得る。
【００９０】
本発明の式（Ａ）の化合物またはその医薬的に許容しうる塩は、下記スキームのうちの１つに準じて製造することができる。
【００９１】
本発明の化合物のいずれの製造プロセスの間においても、関与する分子における感受性基または反応性基を保護することが、要求および／または所望されうる。これは、慣用の保護基を用いて達成し得る。保護基およびそれらの使用の一般的な記述については、T.W. Greeneら、"Protecting Groups in Organic Synthesis", John Wiley & Sons, New York, 1999を参照されたい。保護基は、当業者に公知の方法を用いて、その後の工程で除去し得る。
【００９２】
【化２４】
2009544572.tif 000026
（上記スキーム中、ＯＲ8は保護されたヒドロキシであり、Ｐｈはフェニルであり、他の記号は前記と同義である。）
【００９３】
工程I−1：
式（I−1）で示される化合物は、式（Ｂ）で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを縮合することにより製造することができる。この縮合反応は、当業者に周知の慣用方法により実施することが出来る。縮合は典型的に、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、および１，４−ジオキサン）、ハロゲノアルカン（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、および１，２−ジクロロエタン）およびこれら溶媒の混合物のような適切な溶媒中、酸（例えば、塩酸、硫酸、四フッ化ホウ酸およびｐ−トルエンスルホン酸）の存在下に実施される。
【００９４】
工程I−2：
式（I−2）で示される化合物は、式（I−1）で示される化合物のヒドロキシ基を保護することにより製造することができる。ヒドロキシ基の保護基は、ヒドロキシ基の保護基として慣用の保護基から選択することができる。ヒドロキシ基の保護基の例としては、アルカノイル（例えば、アセチル）、アリールカルボニル（例えば、ベンゾイル）、アリールアルキル（例えば、ベンジル、トリルおよびアニシル）、アルキルシリル（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルおよびトリエチルシリル）が挙げられる。好ましくは、Ｒ８はアセチルまたはベンゾイルのようなアルカノイルである。保護は、当業者に周知の慣用の方法により実施することができる。保護基およびその使用に関する一般的記載については、T.W. Green et al., "Protecting Groups in Organic Synthesis", John Wiley & Sons, New York, 1999 を参照のこと。
【００９５】
工程I−3：
式（I−3）で示される化合物は、式（I-2）で示される化合物を加水分解することにより製造することができる。加水分解は、典型的には、酸（例えば、塩酸、酢酸、およびスルホン酸）の存在下、適当な溶媒（例えば、メタノール、エチルアルコール、水およびこれら溶媒の混合物）中、または溶媒なしで実施される。
【００９６】
工程I−4：
式（I−4）で示される化合物は、式（I−3）で示される化合物の水酸基を保護することにより製造することができる。保護は、工程I−2に準じて行うことができる。
【００９７】
工程I−5：
式（I−5）で示される化合物は、式（I−4）で示される化合物をフッ化することにより、製造することができる。フッ化は、典型的には、式（I−4）で示される化合物を、ハロゲノアルカン（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム）およびエーテル（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）のような適当な溶媒中、フッ化剤（例えば、（ジエチルアミノ）スルファー  トリフルオリド）と反応させることにより実施される。
【００９８】
工程I−6：
式（A−1）で示される化合物は、式（I−5）で示される化合物を脱保護し、その後所望であれば、得られた化合物を医薬的に許容しうる塩に変換することにより製造することができる。
【００９９】
脱保護は、除去される保護基の種類に応じ実施することができ、脱保護には、還元、加水分解、酸処理、フッ化物処理などの常法を用いることができる。
【０１００】
保護基が加水分解により除去される場合、加水分解は、式（I−5）で示される化合物を適当な不活性な溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エチルアルコールおよび水）中、塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメトキシド、およびナトリウムエトキシド）で処理することにより実施することができる。
【０１０１】
脱保護反応は、好ましくは、低温、室温または高温で、例えば、０℃〜５０℃、より好ましくは０℃〜室温で実施することができる。
【０１０２】
式（I−5）で示される化合物は、新規であると考えられ、本発明のさらなる態様をなす。
【０１０３】
【化２５】
2009544572.tif 000027
【０１０４】
上記スキーム中、Ｔｒはトリチル（すなわちトリフェニルメチル）であり、他の記号は前記と同義である。
【０１０５】
工程II−1：
式（II−1）で示される化合物は、式（Ｂ）で示される化合物と塩化トリチルを反応させることにより製造することができる。この反応は、典型的には、塩基（例えば、ピリジンおよびＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類；トリエチルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンのようなアルキルアミン類；ＮａＨＣＯ３およびＫ２ＣＯ３のような無機塩基）の存在下、適当な溶媒（例えば、ジメチルホルムアミドおよびＮ−メチルピロリドンのようなアミド類；テトラヒドロフランのようなエーテル類；ジクロロメタンのようなハロゲノアルカン類；ならびにこれら溶媒の混合物）中、低温、室温または高温で、例えば、０℃〜５０℃、より好ましくは０℃〜室温で実施することができる。
【０１０６】
工程II−2：
式（II−2）で示される化合物は、式（II−1）で示される化合物の水酸基を保護することにより製造することができる。保護は工程I−2に従って実施することができる。 
【０１０７】
工程II−3：
式（II−3）で示される化合物は、式（II−2）で示される化合物の加水分解により製造することができる。加水分解は、典型的に、酸（例えば、酢酸、ギ酸、塩酸および硫酸）の存在下、適当な溶媒（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メタノールおよびエチルアルコール、水、ならびにこれら溶媒の混合物）中または無溶媒で、低温、室温または高温で、例えば、０℃〜５０℃、より好ましくは０℃〜室温で実施することができる。
【０１０８】
工程II−4：
式（II−4）で示される化合物は、式（II−3）で示される化合物のフッ化により調製することができる。フッ化は、工程I−5に従って実施することができる。 
【０１０９】
工程II−5：
式（A−2）で示される化合物は、式（II−4）で示される化合物を脱保護し、その後所望の場合、得られた化合物を医薬的に許容しうる塩に変換することより製造することができる。
【０１１０】
脱保護は、工程I−6に従って実施することができる。
【０１１１】
式（II−4）で示される化合物は、新規であると考えられ、本発明のさらなる態様をなす。
【０１１２】
【化２６】
2009544572.tif 000028
【０１１３】
上記スキーム中、Ｒ9は臭素またはヨウ素であり、他の記号は前記と同義である。
【０１１４】
工程III−1：
式（III−1）で示される化合物は、式（Ｃ）で示される化合物を、適当な溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類）中、低温（例えば、−７８℃〜０℃）で、アルキルリチウム（例えば、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム）でリチオ化した後、得られた化合物と式（Ｄ）で示される化合物とを、適当な溶媒中、低温または室温、例えば、−７８℃〜室温で反応させることにより製造することができる。
【０１１５】
工程III−2：
式（III−2）で示される化合物は、式（III−1）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は、典型的には、還元剤（例えば、トリエチルシランなどのシラン試薬）およびルイス酸（例えば、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩）の存在下、適当な溶媒中（例えば、アセトニトリル、ジクロロメタンなど）で、低温または室温、例えば、−７８℃〜室温で実施することができる。
【０１１６】
工程III−3：
式（A−3）で示される化合物は、式（III−2）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。
【０１１７】
脱保護は、典型的には、工程I−6に従って実施することができる。
【０１１８】
【化２７】
2009544572.tif 000029
【０１１９】
上記スキーム中、記号は前記と同義である。
【０１２０】
工程IV−1：
式（IV−1）で示される化合物は、式（Ｅ）で示される化合物と式（Ｆ）で示される化合物（例えば、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−ガラクトピラノシルクロリド）を、適当な溶媒中、塩基の存在下、縮合させることにより製造することができる。
【０１２１】
式（Ｅ）で示される化合物と式（Ｆ）で示される化合物との縮合反応は、適当な溶媒（例えば、テトラヒドロフランおよびジエチルエーテルなどのエーテル類、ならびにジメチルホルムアミドなどのアミド類）中、塩基（例えば、水素化ナトリウムおよび水酸化カリウム）の存在下、低温、室温または高温で、例えば、０℃〜１００℃で実施することができる。
【０１２２】
工程IV−2：
式（A−4）で示される化合物は、式（IV−1）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6に従って実施することができる。
【０１２３】
【化２８】
2009544572.tif 000030
【０１２４】
式中、記号は前記と同義である。
【０１２５】
工程V−1：
式（V−1）で示される化合物は、式（Ｃ）で示される化合物を、適当な溶媒中、低温で、アルキルリチウムでリチオ化した後、得られた化合物と式（Ｇ）で示される化合物とを、溶媒中、低温または室温で反応させることにより製造することができる。この工程は工程III−1に従って実施することができる。
【０１２６】
工程V−2：
式（V−2）で示される化合物は、式（V−1）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程III−2に従って実施することができる。
【０１２７】
工程V−3：
式（A−5）で示される化合物は、式（V−2）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は、典型的に、工程I−6に従って実施することができる。
【０１２８】
【化２９】
2009544572.tif 000031
【０１２９】
上記スキーム中、記号は前記と同義である。
【０１３０】
工程VI−1：
式（VI−1）で示される化合物は、式（A−3）または（A−4）で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールとを縮合させることにより製造することができる。縮合反応は工程I−1に従って実施することができる。
【０１３１】
工程VI−2：
式（VI−2）で示される化合物は、式（VI−1）で示される化合物の水酸基を保護することにより製造することができる。保護は工程I−2に従って実施することができる。
【０１３２】
工程VI−3：
式（VI−3）で示される化合物は、式（VI−2）で示される化合物を加水分解することにより製造することができる。加水分解は工程I−3に従って実施することができる。
【０１３３】
工程VI−4：
式（VI−4）で示される化合物は、式（VI−3）で示される化合物を保護することにより製造することができる。保護は工程I−2に従って実施することができる。
【０１３４】
工程VI−5：
式（VI−5）で示される化合物は、式（VI−4）で示される化合物をフッ化することにより製造することができる。フッ化は工程I−5に従って実施することができる。
【０１３５】
工程VI−6：
式（A−6）で示される化合物は、式（VI−5）で示される化合物を脱保護した後、所望の場合、得られた化合物を医薬的に許容しうる塩に変換することにより製造することができる。
【０１３６】
脱保護は工程I−6に従って実施することができる。
【０１３７】
式（VI−5）で示される化合物は、新規であると考えられ、本発明のさらなる態様をなす。
【０１３８】
【化３０】
2009544572.tif 000032
【０１３９】
上記スキーム中、記号は前記と同義である。
【０１４０】
工程VII−1：
式（VII−1）で示される化合物は、式（Ｃ）で示される化合物をリチオ化し、リチオ化された化合物をＣｕＩと反応させた後、得られた化合物を式（Ｈ）で示される化合物と適当な溶媒中低温または室温で反応させることにより製造することができる。
【０１４１】
式（Ｃ）で示される化合物のリチオ化は、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類）、低温（例えば、−７８℃〜０℃）で、アルキルリチウム（例えば、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム）を使用することにより実施することができる。リチオ化された化合物とＣｕＩとの反応は、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類）、低温（例えば、−７８℃〜０℃）で実施することができる。得られた化合物と式（Ｈ）の化合物との反応は、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類）低温または室温（例えば、−７８℃〜室温）で実施することができる。
【０１４２】
工程VII−2：
式（VII−2）で示される化合物は、式（VII−1）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程III−2に従って実施することができる。  
【０１４３】
工程VII−3：
式（A−7）で示される化合物は、式（VII−2）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。
【０１４４】
脱保護は、典型的には、工程I−6に従って実施する。
【０１４５】
【化３１】
2009544572.tif 000033
【０１４６】
上記スキーム中、記号は前記と同義である。
【０１４７】
工程VIII−1：
式（VIII−1）で示される化合物は、式（Ｅ）で示される化合物と式（Ｉ）で示される化合物（Graeme D.ら, Tetrahedron Lett., 2001, 42, 1197−1200参照）とを、適当な溶媒中、塩基の存在下、縮合することにより製造することができる。この工程は工程IV−1に従って実施することができる。
【０１４８】
工程VIII−2：
式（A−8）で示される化合物は、式（ＶＩＩＩ−１）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6に従って実施することができる。
【０１４９】
環Ａが：
【化３２】
2009544572.tif 000034
（ここでＲ6は前記と同義である）
であり、環Ｂが：
【化３３】
2009544572.tif 000035
（ここでＲ7aおよびＲ7bは前記と同義である。）
であり、ＹがＣＨ2である式（Ａ）で示される化合物は、典型的に、以下のスキームのうちの１つにより製造することができる。
【０１５０】
【化３４】
2009544572.tif 000036
【０１５１】
上記スキーム中、Ａｒは
【化３５】
2009544572.tif 000037
であり、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ7bおよびＲ8は前記と同義である。
【０１５２】
工程IX−1：
式（IX−1）で示される化合物は、式（Ｊ）で示される化合物と式（Ｋ）で示される化合物（すなわち５−チオ−Ｄ−グルコース）とを縮合することにより製造することができる。縮合反応は、典型的に、アセトニトリル、水およびアルコール類（例えば、メタノール、エチルアルコールおよび１−プロパノール）などの適当な溶媒中、触媒（例えば、塩化アンモニウムおよび酢酸）の存在下もしくは非存在下、室温または高温で縮合させることにより実施される。
【０１５３】
工程IX−2：
式（IX−2）で示される化合物は、式（IX−1）で示される化合物の水酸基を保護することにより製造することができる。保護は工程I−2に従って実施することができる。
【０１５４】
工程IX−3：
式（IX−3）で示される化合物は、式（IX−2）で示される化合物を酸化することにより製造することができる。酸化反応は、典型的には、酸化剤（例えば、パラジウム炭素、テトラヒドロ−１，４−ベンゾキノン（クロラニル）、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）またはエチレンビス（サリチルイミン）銅（ＩＩ）塩）の存在下、適当な溶媒（例えば、エーテル類（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよび１，４−ジオキサン）、ハロゲノアルカン類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン）、水ならびにこれら溶媒の混合物）中、室温または低温で実施することができる。
【０１５５】
工程IX−4：
式（IX−4）で示される化合物は、式（IX−3）で示される化合物とＡｒ−ＣＯＣｌ（ここで、Ａｒは前記と同義である）で示される化合物とを縮合することにより製造することができる。
【０１５６】
縮合は、適当な溶媒中、ルイス酸の存在下、当該分野で周知のフリーデル・クラフツアシル化に従って実施することができる。
【０１５７】
ルイス酸の例としては、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩、塩化スズ（ＩＶ）および四塩化チタンが挙げられる。
【０１５８】
溶媒は、フリーデル・クラフツ反応を妨げない任意のものから選択することができ、溶媒の例としては、ジクロロメタン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲノアルカン類が挙げられる。
【０１５９】
この反応は、低温、室温または高温、例えば、−３０℃〜６０℃で実施することができる。
【０１６０】
工程IX−5：
式（IX−5）で示される化合物は、式（IX−4）で示される化合物を還元することにより製造することができる。
【０１６１】
還元は、適当な溶媒中、式（IX−4）で示される化合物を還元剤で処理することにより実施することができる。
【０１６２】
還元剤の例としては、ホウ化水素類（例えば、水素化ホウ素ナトリウム（塩化セリウム（ＩＩＩ）七水和物の存在下または非存在下に使用）、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム）、ならびにアルミニウム水素化物（例えば、水素化アルミニウムリチウム、および水素化ジイソブチルアルミニウム）が挙げられる。
【０１６３】
溶媒は、反応を妨げない任意のものから選択することができ、溶媒の例としては、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンおよびジオキサン）、アルコール類（例えば、メタノール、エチルアルコールおよび２−プロパノール）ならびにこれら溶媒の混合物が挙げられる。
【０１６４】
還元反応は、低温または室温、例えば、−３０℃〜２５℃で実施することができる。
【０１６５】
工程IX−6：
式（IX−6）で示される化合物は、式（IX−5）で示される化合物を還元することにより製造することができる。
【０１６６】
式（IX−5）で示される化合物の還元は、酸の存在下、適当な溶媒中または無溶媒で、シラン試薬またはホウ化水素で処理することにより実施することが出来る。
【０１６７】
酸の例としては、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体および四塩化チタンなどのルイス酸、ならびにトリフルオロ酢酸およびメタンスルホン酸などの強有機酸が挙げられる。
【０１６８】
シラン試薬の例としては、トリエチルシラン、トリイソプロピルシランなどのトリアルキルシラン類が挙げられる。
【０１６９】
ホウ化水素類の例としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウムが挙げられる。
【０１７０】
溶媒は、反応を妨げない任意のものから選択することができ、溶媒の例としては、アセトニトリル、ハロゲノアルカン類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルムおよびジクロロエタン）、ならびにこれら溶媒の混合物が挙げられる。
【０１７１】
還元は、低温または室温、例えば、−３０℃〜２５℃で実施することができる。
【０１７２】
工程IX−7：
式（A−9）で示される化合物またはその医薬的に許容しうる塩は、式（IX−6）で示される化合物を脱保護に付した後、所望の場合、得られた化合物を医薬的に許容しうる塩に変換することにより製造することができる。
【０１７３】
脱保護は工程I−6に従って実施することができる。
【０１７４】
式（IX−6）で示される化合物は、新規であると考えられ、本発明のさらなる態様をなす。
【０１７５】
【化３６】
2009544572.tif 000038
【０１７６】
上記スキーム中、記号は前記と同義である。
【０１７７】
工程X−1：
式（X−1）で示される化合物は、式（XII−7）（後記スキームXIIに記載）で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを縮合させることにより製造することができる。縮合反応は工程I−1に従って実施することができる。
【０１７８】
工程X−2：
式（X−2）で示される化合物は式（X−1）で示される化合物の水酸基を保護することにより製造することができる。保護は工程I−2に従って実施することができる。
【０１７９】
工程X−3：
式（X−3）で示される化合物は、式（X−2）で示される化合物を加水分解することにより製造することができる。加水分解は工程I−3に従って実施することができる。
【０１８０】
工程X−4：
式（X−4）で示される化合物は、式（X−3）で示される化合物を保護することにより製造することができる。保護は工程I−2に従って実施することができる。
【０１８１】
工程X−5：
式（X−5）で示される化合物は、式（X−4）で示される化合物をフッ化することにより製造することができる。フッ化は、典型的に、工程I−5に従って実施することができる。
【０１８２】
工程X−6：
式（A−10）で示される化合物は、式（X−5）で示される化合物を脱保護に付した後、所望の場合、得られた化合物を医薬的に許容しうる塩に変換することにより製造することができる。
【０１８３】
この工程は工程I−6に従って実施することができる。
【０１８４】
式（X−5）で示される化合物は、新規であると考えられ、本発明のさらなる態様をなす。
【０１８５】
【化３７】
2009544572.tif 000039
【０１８６】
（上記スキーム中、Ａｒ1はフェニルまたはチエニルであり、Ｒ11は臭素またはヨウ素であり、Ａｒ2はフェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニルであり、Ｒ12はシクロアルキルであり、ｎＢｕはｎ−ブチルであり、Ｒ10は以下の基：
【化３８】
2009544572.tif 000040
（ここでＯＲ8は保護されたヒドロキシ基である）のうちの１つであり、Ｒ6およびＺは前記と同義である。）
【０１８７】
工程XI−1：
式（XI−1）で示される化合物は、式（Ｌ）で示される化合物と、Ａｒ2Ｂ（ＯＨ）2、Ａｒ2ＢＦ3Ｋ、Ａｒ2ＳｎnＢｕ3またはＲ6Ｂ（ＯＨ）2（式中、Ａｒ2、Ｒ12およびnＢｕは、上で定義されたとおりである）とカップリングさせることにより製造することができる。
【０１８８】
カップリング反応は、慣用のアリールカップリング法、例えば、スズキカップリング法（参考文献として、Suzuki et al., Synth. Commun. 11:513 (1981); Suzuki, Pure and Appl. Chem. 57:1749-1758 (1985); Suzuki et al., Chem. Rev. 95:2457-2483 (1995); Shieh et al., J. Org. Chem. 57:379-381 (1992); Martin et al., Acta Chemica Scandinavica 47:221-230 (1993); Wallace et al., Tetrahedron Lett. 43:6987-6990 (2002)およびMolander et al., J. Org. Chem. 68:4302-4314 (2003)参照）およびスチレ（Stille）カップリング法（参考文献として、Stille, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 25:508-524 (1986)およびLiebeskind et al., J. Org. Chem. 59:5905-5911 (1994)参照）により実施することができる。
【０１８９】
カップリング反応は、適当な溶媒中、リガンドおよび添加剤を伴ってまたは伴わずにＰｄ触媒および塩基の存在下に実施することができる。
【０１９０】
Ｐｄ触媒の例としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、ビス（アセトニトリル）ジクロロパラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）のジクロロメタンとの錯体、トリス（ジベンジリデン−アセトン）ジパラジウム（０）−クロロホルム付加体および塩化パラジウム（ＩＩ）が挙げられる。塩基の例として、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび重炭酸ナトリウム）、アルカリ金属リン酸塩（例えば、三塩基性リン酸カリウム、リン酸ナトリウムおよびリン酸水素ナトリウム）、有機塩基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン）およびアルカリ金属フッ化物（例えば、フッ化セシウムおよびフッ化カリウム）が挙げられる。リガンドの例として、トリシクロヘキシルホスフィンおよびトリ（ｏ−トリル）ホスフィンが挙げられる。添加物の例として、ヨウ化銅（Ｉ）が挙げられる。
【０１９１】
溶媒は、カップリング反応を妨げない任意のものから選択することができ、溶媒の例としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼンおよびトルエン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンおよび１，４−ジオキサン）、アミド（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンおよびＮ−メチルピロリドン）、アルコール（メタノール、エチルアルコールおよび２−プロパノール）、水およびこれらの溶媒の混合物である。
【０１９２】
カップリング反応は、室温または高温、例えば、２５℃〜１５０℃、好ましくは８０℃〜１５０℃で実施することができる。
【０１９３】
工程XI−2：
式（A−11）で示される化合物またはその医薬的に許容しうる塩は、式（XI−1）で示される化合物を脱保護に付した後、所望の場合、得られた化合物を医薬的に許容しうる塩に変換することにより製造することができる。
【０１９４】
この工程は工程I−6に従って実施することができる。
【０１９５】
このようにして得られた本発明の化合物は、有機合成化学において周知の慣用の方法、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーなどにより、単離・精製することができる。
【０１９６】
式（Ｂ）で示される出発化合物は、WO 2004/080990パンフレットまたはWO 2005/012326パンフレットに記載され、従って、式（Ｂ）で示される化合物は、これらのパンフレットに記載の手順に従って調製することができる。
【０１９７】
式（Ｃ）または式（Ｅ）で示される化合物は、WO 2004/080990パンフレットまたはWO 2005/012326に開示され、これらのパンフレットに記載の手順に従って調製することができる。
【０１９８】
【化３９】
2009544572.tif 000041
【０１９９】
（上記スキーム中、記号は前記と同義である。）
【０２００】
工程XII−1：
式（XII−1）で示される化合物は、式（Ｍ）で示される化合物と式（Ｎ）で示される化合物（すなわち、Ｄ−ガラクトース）を縮合させることにより製造することができる。縮合は工程IX−1に従って実施することができる。
【０２０１】
工程XII−2：
式（XII−2）で示される化合物は、式（XII−1）で示される化合物の水酸基を保護することにより製造することができる。保護は工程I−2に従って実施することができる。
【０２０２】
工程XII−3：
式（XII−3）で示される化合物は、式（XII−2）で示される化合物を酸化することにより製造することができる。酸化反応は工程IX−3に従って実施することができる。
【０２０３】
工程XII−4：
式（XII−4）で示される化合物は、式（XII−3）で示される化合物とＡｒ−ＣＯＣｌ（ここで、Ａｒは前記と同義である）を縮合することにより製造することができる。縮合は工程IX−4に従って実施することができる。
【０２０４】
工程XII−5：
式（XII−5）で示される化合物は、式（XII−4）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程IX−5に従って実施することができる。
【０２０５】
工程XII−6：
式（XII−6）で示される化合物は、式（XII−5）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程IX−6に従って実施することができる。
【０２０６】
工程XII−7：
式（XII−7）で示される化合物またはその医薬的に許容しうる塩は、式（XII−6）で示される化合物を脱保護に付した後、所望により、得られた化合物を医薬的に許容しうる塩に変換することにより製造することができる。この工程は工程I−6に従って実施することができる。
【０２０７】
式（Ｊ）の化合物は、以下のスキームに従って製造することができる。
【０２０８】
【化４０】
2009544572.tif 000042
【０２０９】
（上記スキーム中、Ｒ13はアルキルであり、他の記号は前記と同義である。）
【０２１０】
工程XIII−1：
式（XIII−1）で示される化合物は、式（Ｏ）で示される化合物を環化することにより製造することができる。環化反応は、当該分野で周知のフィッシャーのインドール合成（Chem. Rev., 63, 373, 1963参照）に従って実施することができる。この反応は、典型的に、アルコール類（例えば、メタノールおよびエチルアルコール）ならびに炭化水素類（例えば、トルエン、ニトロベンゼン）などの適当な溶媒中または無溶媒で、ルイス酸（例えば、塩化亜鉛）、無機酸（例えば、塩酸およびポリリン酸）ならびに有機酸（例えば、酢酸およびトリフルオロ酢酸）などの酸の存在下、高温で実施される。
【０２１１】
工程XIII−2：
式（XIII−2）で示される化合物は、式（XIII−1）で示される化合物を加水分解することにより製造することができる。加水分解反応は、典型的に、水、アルコール（例えば、メタノールおよびエチルアルコール）ならびにエーテル（例えば、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン）などの適当な溶媒中、水酸化アルカリ金属（例えば、水酸化リチウム、水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム）などの塩基の存在下、低温、室温または高温で実施される。
【０２１２】
工程XIII−3：
式（XIII−3）で示される化合物は、式（XIII−2）で示される化合物を脱炭酸することにより製造することができる。脱炭酸は、典型的に、キノリンなどの適当な溶媒中、銅などの触媒の存在下に高温で実施することができる。
【０２１３】
工程XIII−4：
式（Ｊ）で示される化合物は、式（XIII−3）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元反応は、典型的に、適当な溶媒中（例えば、アセトニトリル、ハロゲノアルカン類（例えば、ジクロロメタンおよびジクロロエタン）ならびにエーテル類（例えば、ジエチルエーテルおよびテトラヒドロフラン））、還元剤（例えば、トリエチルシラン、水素化ホウ素亜鉛）およびルイス酸（例えば、トリフルオロ酢酸、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩）を含む酸の存在下、室温または高温で実施することができる。
【０２１４】
式（Ｏ）で示される化合物は、式（Ｐ）
【化４１】
2009544572.tif 000043
（式中、記号は前記と同義である）
で示される化合物と、ＣＨ３ＣＯＣＯ２Ｒ１３（ここで、Ｒ13は前記と同義である）とを縮合させることにより製造することができる。この縮合反応は、典型的に、適当な溶媒中（例えば、アセトニトリル、水およびアルコール（例えば、メタノール、エチルアルコールおよび１−プロパノール））、塩基（例えば、酢酸ナトリウムおよび酢酸カリウム）または酸（例えば、塩酸および酢酸）の存在下または非存在下、室温または高温で実施することができる。
【０２１５】
あるいは、式（Ｏ）で示される化合物は、（１）式（Ｑ）：
【化４２】
2009544572.tif 000044
（式中、記号は前記と同義である）
で示される化合物を、塩酸などの酸の存在下、水およびアルコール（例えば、メタノールおよびエチルアルコール）などの適当な溶媒中、室温または低温で、亜硝酸ナトリウムと反応させて対応するアリールジアゾニウム塩を製し、（２）このアリールジアゾニウム塩とＣＨ３ＣＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＯ２Ｒ１３（ここで、Ｒ13は前記と同義である）とを、塩基（酢酸ナトリウム、水酸化カリウムなど）の存在下、水およびアルコール（例えば、メタノールおよびエチルアルコール）などの適当な溶媒中、低温または室温で縮合することにより製造することができる。
【０２１６】
式（Ｇ）で示される化合物は、以下のスキームに従って製造することができる。
【０２１７】
【化４３】
2009544572.tif 000045
【０２１８】
上記スキーム中、Ｍｅはメチルであり、他の記号は前記と同義である。
【０２１９】
式（XIV−1）の化合物は、式（Ｒ）の化合物をフッ化することにより製造することができる。フッ化は、工程I−5に従って実施することができる。
【０２２０】
式（XIV−2）の化合物は、式（XIV−1）の化合物を脱アルキル化することにより製造することができる。脱アルキル化は、典型的に、硫酸と酢酸の混合物中、高温で実施される。
【０２２１】
式（Ｇ）の化合物は、式（XIV−2）の化合物を酸化することにより製造することができる。酸化は、代表的に、酸化剤（例えば、無水酢酸−ＤＭＳＯ）の存在下、適当な溶媒中（例えば、ジクロロメタン）または無溶媒で、低温または室温で実施される。
【０２２２】
式（Ｒ）の化合物は、当業者に周知の慣用の方法（例えば、Tetrahedron Lett., 2000, 41, 5547−5551参照）により容易に製造することができる。
【０２２３】
他の出発化合物は市販されているか、あるいは当業者に周知の慣用の方法（例えば、J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 1990, 2763-2769; Tetrahedron 1994, 50, 4215-4224; J. Chem. Soc. 1964, 3242-3254）により容易に製造することができる。
【０２２４】
以下、本発明を実施例および参考例により説明するが、本発明はそれらに限定されるものではない。
【実施例】
【０２２５】
実施例1：
３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール
（1）ペンタ−Ｏ−アセチル−５−チオ−Ｄ−グルコピラノース（８１３mg）をエチルアルコール（２０ml）に懸濁し、そこにナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、２滴）を加えた。この混合物をアルゴン雰囲気下室温で１時間攪拌し、５−チオ−Ｄ−グルコピラノースの溶液を得た。この溶液にインドリン（２３８mg）を加え、得られた混合物を一晩還流した。そこに酢酸（２滴）を加え、この混合物を再び７時間還流した。室温に冷却後、溶媒を減圧下留去し、粗体の１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドリンを得た。この化合物はさらに精製することなく次の工程に用いた。
【０２２６】
（2）上記化合物をクロロホルム（２０ml）に溶解し、そこに無水酢酸（１．５１ml）、ピリジン（１．２９ml）および４−ジメチルアミノピリジン（２４mg）を加えた。室温で２．５日間攪拌した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、混合物を１Ｎ塩酸、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理した後、不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、メタノールから再結晶して、１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドリン（３２１mg）を無色の針状物として得た。融点：163−165℃. APCI−Mass m/Z 466（M+H）。
【０２２７】
（3）上記化合物（３１０mg）を1,4−ジオキサン（１０ml）に溶解し、そこに２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（１５９mg）およびＨ２Ｏ（３滴）を加えた。室温で２時間攪拌後、そこに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ml）を加え、有機溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチルで抽出し、有機層をブラインで洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール（３０８mg）を無色の固体として得た。APCI−Mass m/Z 481（M+NH4）。
【０２２８】
（4）上記化合物（３０５mg）および塩化４−エチルベンゾイル（１６６mg）のジクロロメタン（１５ml）攪拌溶液に，塩化アルミニウム（４３９mg）を０℃で加えた。０℃で３０分間攪拌し、次いで室温で５時間攪拌した後、混合物を氷水に注いだ。そこに１Ｎ塩酸（１０ml）を加え、得られた混合物をクロロホルムで２回抽出した。合わせた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１−２：１）で精製して、４−エチルフェニル  １−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール−３−イル  ケトン（３５４mg）を無色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 596（M+H）。
【０２２９】
（5）上記化合物（３４７mg）のエチルアルコール（５ml）−テトラヒドロフラン（１０ml）攪拌溶液に塩化セリウム（III）５水和物（６４８mg）および水素化ホウ素ナトリウム（６６mg）を０℃で加えた。同温で２時間攪拌後、そこに０．５Ｎ塩酸（８．５ml）を加え、混合物を酢酸エチル（２５ml）で２回抽出した。合わせた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去し、粗体の４−エチルフェニル  １−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール−３−イル  メタノール（３８７mg）を得た。この化合物はさらに精製することなく次の工程に用いた。
【０２３０】
（6）上記化合物をアセトニトリル（１０ml）−ジクロロメタン（５ml）に溶解し、そこにアルゴン雰囲気下−１０℃でトリエチルシラン（０．４６ml）および三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（０．３７ml）を加えた。同温で１時間攪拌後、そこに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２５ml）を加え、有機溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチル（２５ml）で２回抽出し、合わせた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール（２９０mg）を無色の固体として得た。APCI−Mass m/Z 599（M+NH4）。
【０２３１】
（7）上記化合物（２８１mg）をメタノール（５ml）−テトラヒドロフラン（５ml）に溶解し、そこにナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、２滴）を加えた。アルゴン雰囲気下、室温で２時間攪拌後、反応溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１９：１）で精製して標記化合物である３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール（１９０mg）を無色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 414（M+H）。1H-NMR (DMSO-d6) δ 1.14 (t, J = 7.5 Hz, 3H), 2.54 (q, J = 7.5 Hz, 2H), 3.07 (m, 1H), 3.20 - 3.45 (m, 2H), 3.57(m, 1H), 3.79 (m, 1H), 3.91 (m, 1H), 3.96 (s, 2H), 4.69 (t, J = 5.5 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 4.8 Hz, 1H), 5.09 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 5.15 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 5.51 (d, J = 10.1 Hz, 1H), 6.98 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.11 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.17 (s, 1H), 7.20 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.42 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.57 (d, J = 8.3 Hz, 1H).
【０２３２】
実施例2：
４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール
（1）ペンタ−Ｏ−アセチル−５−チオ−Ｄ−グルコピラノース（１３２３mg）をエチルアルコール（３０ml）に懸濁し、そこにナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、２滴）を加えた。混合物をアルゴン雰囲気下室温で１時間攪拌し、５−チオ−Ｄ−グルコピラノースの溶液を得た。この溶液に４−クロロインドリン（５００mg）と塩化アンモニウム（１７４mg）を加え、得られた混合物を２２時間還流した。室温に冷却後、溶媒を減圧下留去して、粗体の４−クロロ−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドリンを得た。この化合物はさらに精製せずに次の工程に用いた。
【０２３３】
（2）上記化合物をクロロホルム（２０ml）に溶解し、そこに無水酢酸（２．４５ml）、ピリジン（２．１０ml）および４−（ジメチルアミノ）ピリジン（４０mg）を順次加えた。室温で一晩攪拌後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、混合物を１０％クエン酸水溶液、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理した後、不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して、４−クロロ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドリン（１１５７mg）を淡黄色の固体として得た。APCI−Mass m/Z 500/502（M+H）。
【０２３４】
（3）上記化合物を実施例1−（3）と同様に処理することにより、４−クロロ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドールを無色の固体として得た。 APCI−Mass m/Z 515/517 （M+NH4）。
【０２３５】
（4）上記化合物および塩化４−エチルベンゾイルを実施例1−（4）、（5）、（6）および（7）と同様に処理することにより、標記化合物である４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドールを無色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 448/450（M+H）。1H-NMR (DMSO-d6) δ 1.15 (t, J = 7.5 Hz, 3H), 2.56 (q, J = 7.7 Hz, 2H), 3.09 (m, 1H), 3.23 (t, J = 8.0 Hz, 1H), 3.41 (m, 1H), 3.57 (m, 1H), 3.79 (d, J = 10.0 Hz, 1H), 3.85 (m, 1H), 4.20 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 4.23 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 4.71 (m, 1H), 5.05 - 5.15 (m, 2H), 5.21 (d, J = 5.3 Hz, 1H), 5.55 (d, J = 10.1 Hz, 1H), 7.01 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.08 - 7.15 (m, 5H), 7.17 (s, 1H), 7.61 (d, J = 8.3 Hz, 1H).
【０２３６】
実施例3：
４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール
（1）４−クロロインドリン（１．００g）およびＤ−ガラクトース（１．９４g）のＨ２Ｏ（３．０ml）−エチルアルコール（２０ml）懸濁液を、アルゴン雰囲気下２９時間還流した。溶媒を減圧下留去して、粗体の４−クロロ−１−（β−Ｄ−ガラクトピラノシル）インドリンを得た。この化合物はさらに精製せずに次の工程に用いた。
【０２３７】
（2）上記化合物をクロロホルム（２０ml）に懸濁し、そこに無水酢酸（４．９２ml）、ピリジン（４．２１ml）および４−（ジメチルアミノ）ピリジン（８０mg）を順次加えた。室温で１．５時間攪拌後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチル（７０ml）に溶解し、混合物を１０％硫酸銅（ＩＩ）水溶液および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ml）で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０−６０：４０）で精製して、４−クロロ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）インドリン（２．３４g）を淡黄色の固体として得た。APCI−Mass m/Z 484/486 （M+H）。
【０２３８】
（3）上記化合物を実施例1−（3）と同様に処理して、４−クロロ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）インドールを無色の固体として得た。APCI−Mass m/Z 499/501 （M+NH4）。
【０２３９】
（4）上記化合物および塩化４−エチルベンゾイルを実施例1−（4）、（5）、（6）および（7）と同様に処理することにより、４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（β−Ｄ−ガラクトピラノシル）インドールを無色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 432/434（M+H）。1H-NMR (DMSO-d6) δ 1.15 (t, J = 7.5 Hz, 3H), 2.56 (q, J = 7.5 Hz, 2H), 3.43 - 3.55 (m, 3H), 3.67 (t, J = 6.0 Hz, 1H), 3.77 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 3.98 (t, J = 9.0 Hz, 1H), 4.23 (s, 2H), 4.64 (t, J = 5.5 Hz, 1H), 4.68 (d, J = 4.7 Hz, 1H), 4.93 (d, J = 5.6 Hz, 1H), 5.04 (d, J = 5.8 Hz, 1H), 5.29 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.02 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.06 - 7.15 (m, 5H), 7.17 (s, 1H), 7.58 (d, J = 8.2 Hz, 1H).
【０２４０】
（5）上記化合物（６．８０g）をクロロホルム（３００ml）に懸濁し、そこにベンズアルデヒドジメチルアセタール（３．５４ml）およびｐ−トルエンスルホン酸１水和物（０．１５g）を加えた。室温で４０分間攪拌後、溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチル（２００ml）に溶解した。混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ml）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１００：０−９０：１０）で精製して、４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（４，６−Ｏ−ベンジリデン−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）インドール（７．１２g）を淡黄色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 520/522（M+H）。
【０２４１】
（6）上記化合物（７．１２g）をクロロホルム（３００ml）に懸濁し、そこにピリジン（６．６４ml）および塩化ベンゾイル（４．７７ml）を０℃で加えた。混合物を室温に昇温し、３日間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル（２００ml）で希釈し、１０％塩酸（３６０ml）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ml）で２回、およびブライン（５０ml）で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去して、粗体の４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（２，３−ジ−Ｏ−ベンゾイル−４，６−Ｏ−ベンジリデン−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）インドールを得た。この化合物はさらに精製せずに次の工程に用いた。
【０２４２】
（7）上記化合物の酢酸（２４０ml）−Ｈ2Ｏ（３０ml）溶液を７０℃で一晩攪拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣を酢酸エチル（３００ml）に溶解した。混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ml）で２回、およびブライン（３０ml）で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸エチル＝１００：０−９５：５）で精製して、４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（２，３−ジ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）インドール（７．０６g）を淡黄色の固体として得た。APCI−Mass m/Z 657/659 （M+NH4）。
【０２４３】
（8）上記化合物（７．０６g）を２，４，６−トリメチルピリジン（７０ml）に懸濁し、そこに塩化ベンゾイル（１．５４ml）を−４０℃で加えた。混合物を０℃に昇温し、一晩攪拌した。２Ｎ塩酸を用いて反応混合物のｐＨを５に合わせ、酢酸エチル（１００ml）−テトラヒドロフラン（１００ml）で抽出した。混合物を水（５０ml）で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ml）で２回、およびブライン（２０ml）で２回、順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０−５０：５０）で精製し、エチルアルコール（１００ml）から再結晶して、４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（２，３，６−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）インドール（５．１７g）を無色の結晶として得た。融点：192−193℃. APCI−Mass m/Z 761/763（M+NH4）。
【０２４４】
（9）上記化合物（７００mg）をジクロロメタン（７０ml）に溶かし、そこに（ジエチルアミノ）スルファー  トリフルオリド（１．２４ml）をアルゴン雰囲気下、０℃で加えた。室温で２４時間攪拌後、そこに冷水を加え、混合物をクロロホルム（１００ml）で２回抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ml）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸エチル＝１００：０−９５：５）で精製し、ジイソプロピルエーテル（２０ml）から再結晶して、４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（２，３，６−トリ−Ｏ−ベンゾイル−４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール（４５２mg）を淡黄色の結晶として得た。融点：137−138℃. APCI−Mass m/Z 746/748（M+H）。
【０２４５】
（10）上記化合物を実施例1−（7）と同様に処理することにより、標記化合物である４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドールを無色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 434/436 （M+H）。1H-NMR (DMSO-d6) δ 1.16 (t, J = 7.5 Hz, 3H), 2.55 (q, J = 7.7 Hz, 2H), 3.50 (ddd, J = 12.3, 6.5 and 6.3 Hz, 1H), 3.61 (dd, J = 12.1, 5.5 Hz, 1H), 3.70 - 3.76 (m, 2H), 3.78 - 3.80 (m, 1H), 4.23 (d, J = 3.1 Hz, 2H), 4.32 (dt, J = 50.7, 9.2 Hz, 1H), 4.84 (t, J = 5.7 Hz, 1H), 5.53 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 5.56 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 5.69 (d, J = 5.0 Hz, 1H), 7.04 (d, J = 7.4 Hz, 1H), 7.09 - 7.15 (m, 5H), 7.24 (s, 1H), 7.55 (d, J = 8.2 Hz, 1H).
【０２４６】
実施例4：
４−クロロ−３−（４−エトキシフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール
実施例2−（3）で得られた４−クロロ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドールおよび塩化４−エトキシベンゾイルを実施例1−（4）、（5）、（6）および（7）と同様に処理して、題記化合物を無色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 464/466（M+H） 1H-NMR (DMSO-d6) δ 1.30 (t, J = 7.0 Hz, 3H), 3.08 (m, 1H), 3.23 (m, 1H), 3.40 (td, J = 9.6, 4.8 Hz, 1H), 3.54 - 3.59 (m, 1H), 3.77 - 3.88 (m, 2H), 3.97 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 4.16 and 4.21 (ABq, J = 15.8 Hz, 2H), 4.71 (t, J = 5.4 Hz, 1H), 5.09 (d, J = 4.8 Hz, 1H), 5.11 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 5.21 (d, J = 5.3 Hz, 1H), 5.55 (d, J = 9.5 Hz, 1H), 6.82 (d, J = 8.5 Hz, 2H), 7.01 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.09 - 7.15 (m, 2H), 7.11 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.60 (d, J = 8.2 Hz, 1H).
【０２４７】
実施例5：
３−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−４−クロロ−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）ベンゼン
【０２４８】
【化４４】
2009544572.tif 000046
【０２４９】
（1）１−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−５−ブロモ−２−クロロベンゼン（１．００g）をテトラヒドロフラン（８ml）−トルエン（１６ml）に溶解し、混合物をアルゴン雰囲気下、−７８℃に冷却した。そこへｎ−ブチルリチウム（１．５９Ｍヘキサン溶液、１．８６ml）を１５分間にわたって滴下し、混合物を同温で３０分間攪拌した。２，３，４，６−テトラキス−Ｏ−トリメチルシリル−Ｄ−グルコノ−１，５−ラクトン（USP 6,515,117参照）(１．２６g）のトルエン（１０ml）溶液を３０分間にわたって反応溶液に滴下し、得られた混合物をさらに同温で１．５時間攪拌した。そこにメタンスルホン酸（０．５８ml）のメタノール（２０ml）溶液を加え、混合物を室温で一晩攪拌した。氷冷下、混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ml）を加え、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１０：０−９：１）で精製して、３−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−４−クロロ−１−（１−α−メトキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン（８７５mg）を無色の粉末として得た。
【０２５０】
（2）上記化合物（１．９１g）およびトリエチルシラン（２．０３ml）のジクロロメタン（８０ml）溶液を、アルゴン雰囲気下、−７８℃に冷却し、そこに三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（１．６１ml）を加えた。混合物を０℃に昇温し、同温で３時間攪拌した。得られた混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、混合物をクロロホルムで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１０：０−９：１）で精製し、酢酸エチル−ジエチルエーテルから再結晶して、３−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−４−クロロ−１−（β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン（１．２９g）を無色の結晶として得た。融点：153−154℃. APCI−Mass m/Z 438/440 （M+NH4）。
【０２５１】
（3）上記化合物を実施例3−（5）、（6）、（7）および（8）と同様に処理することにより、３−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−４−クロロ−１−（２，３，６−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼンを無色の結晶として得た。融点：215−217℃. APCI−Mass m/Z 750/752 （M+NH4）。
【０２５２】
（4）上記化合物（７９６mg）および4−ジメチルアミノピリジン（７８０mg）のジクロロメタン（５０ml）溶液を、アルゴン雰囲気下、０℃に冷却し、そこに（ジエチルアミノ）スルファー  トリフルオリド（０．６３ml）を加えた。混合物を室温に昇温し、同温で１９時間攪拌した。そこへ氷冷下冷水を加え、混合物をクロロホルムで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１−２：１）で精製し，酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、３−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−４−クロロ−１−（２，３，６−トリ−Ｏ−ベンゾイル−４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）ベンゼン（３０５mg）を無色の結晶として得た。融点：204−207℃. APCI−Mass m/Z 752/754 （M+NH4）。
【０２５３】
（5）上記化合物を実施例1−（7）と同様に処理することにより、３−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−４−クロロ−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）ベンゼンを無色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 440/442（M+NH4）。β-D-galactopyranosyl)benzene as a colorless powder. APCI-Mass m/Z 440/442 (M+NH4). 1H-NMR (DMSO-d6) δ 3.40 - 3.70 (m, 5H), 4.09 (d, J = 9.2 Hz, 1H), 4.34 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 4.37 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 4.73 (dd, J = 50.5, 2.2 Hz, 1H), 4.86 (t, J = 5.6 Hz, 1H), 4.97 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 5.28 (d, J = 5.3 Hz, 1H), 7.14 (s, 1H), 7.24 - 7.34 (m, 3H), 7.42 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 7.45 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.73 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.85 (d, J = 7.7 Hz, 1H).
【０２５４】
実施例6：
４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（６−フルオロ−６−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン
【０２５５】
【化４５】
2009544572.tif 000047
【０２５６】
（1）５−ブロモ−２−クロロ−１−（５−フェニル−２−チエニルメチル）ベンゼンを実施例5−（1）および（2）と同様に処理することにより、４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼンを無色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 464/466 （M+NH4）。
【０２５７】
（2）上記化合物（１．００g）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ml）に溶解し、そこに塩化トリチル（６８６mg）、４−ジメチルアミノピリジン（１４mg）およびトリエチルアミン（０．４７ml）を加えた。室温で6日間攪拌後、混合物を酢酸エチルで希釈した。溶液を１Ｎ塩酸、水で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およびブラインで順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１００：１−１９：１）で精製して、４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（６−Ｏ−トリチル−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン（８７０mg）を淡黄色の粉末して得た。ESI−Mass m/Z 711/713 （M+Na）。
【０２５８】
（3）上記化合物を実施例1−（2）と同様に処理することにより、４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−６−Ｏ−トリチル−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼンを無色の粉末として得た。ESI−Mass m/Z 837/839 （M+Na）。
【０２５９】
（4）上記化合物（１．４５g）のギ酸（１０ml）およびジエチルエーテル（５ml）溶液を室温で３．５時間攪拌し、次いで水で希釈した。混合物を酢酸エチルで抽出後、有機層をＨ２Ｏ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およびブラインで順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１−１：１）で精製して，４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン（６８９mg）を無色の結晶として得た。融点：166−168℃. APCI−Mass m/Z 590/592 （M+NH4）。
【０２６０】
（5）上記化合物を実施例5−（4）および1−（7）と同様に処理することにより、４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（６−フルオロ−６−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼンを無色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 466/468 （M+NH4）。 1H-NMR (DMSO-d6) δ 3.14 (m, 1H), 3.23 (m, 1H), 3.32 (m, 1H), 3.50 (m, 1H), 4.10 (d, J = 9.5 Hz, 1H), 4.24 (d, J = 15.4 Hz, 1H), 4.28 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 4.53 (ddd, J = 47.8, 10.1 and 5.3 Hz, 1H), 4.58 (dd, J = 47.8, 10.3 Hz, 1H), 4.95 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 5.10 (d, J = 5.0 Hz, 1H), 5.27 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 6.88 (d, J = 3.5 Hz, 1H), 7.25 (m, 2H), 7.32 (d, J = 3.5 Hz, 1H), 7.35 - 7.45 (m, 4H), 7.56 (d, J = 7.4 Hz, 2H).
【０２６１】
実施例7：
４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン
【０２６２】
【化４６】
2009544572.tif 000048
【０２６３】
（1）５−ブロモ−２−クロロ−１−（５−フェニル−２−チエニルメチル）ベンゼン（３９７mg）をテトラヒドロフラン（１０ml）に溶解し、混合物をアルゴン雰囲気下、−７８℃に冷却した。そこへｎ−ブチルリチウム（１．５６Ｍヘキサン溶液、０．７０ml）を滴下し、混合物を同温で２０分間攪拌した。２，３，６−トリ−Ｏ−ベンジル−４−フルオロ−４−デオキシ−Ｄ−グルコノ−１，５−ラクトン（４９６mg）のテトラヒドロフラン（５ml）溶液を反応溶液に５分間にわたって滴下し、得られた混合物をさらに同温で1.5時間攪拌した。そこに飽和塩化アンモニウム水溶液（５ml）を加え、混合物を室温に昇温した。混合物をＨ２Ｏおよび酢酸エチルで希釈し、有機層を分離し、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去して、粗体の４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（１−ヒドロキシ−２，３，６−トリ−Ｏ−ベンジル−４−フルオロ−４−デオキシ−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。この化合物はさらに精製せずに次の工程に用いた。
【０２６４】
（2）上記化合物のジクロロメタン（１０ml）溶液をアルゴン雰囲気下、−７８℃に冷却し、そこにトリイソプロピルシラン（０．６８ml）および三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（０．４２ml）を順次加えた。−７８℃で１時間攪拌後、混合物を０℃に昇温し、同温で１時間攪拌した。得られた混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１９：１−９：１）で精製して、４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（２，３，６−トリ−Ｏ−ベンジル−４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン（２２６mg）を淡黄色のカラメル状物得た。APCI−Mass m/Z 736/738 （M+NH4）。
【０２６５】
（3）ヨウ化ナトリウム（５５０mg）のアセトニトリル（５ml）溶液に、アルゴン雰囲気下、０℃で、クロロトリメチルシラン（０．４７ml）を加え、混合物を同温で２０分間攪拌した。そこへ上記化合物（２２０mg）のアセトニトリル（５ml）溶液を滴下し、得られた混合物を０℃で１時間、ついで室温で２．５時間攪拌した。反応混合物を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液で０℃でクエンチし、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層をＨ２Ｏ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およびブラインで順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝３０：１）で精製して、標記化合物の４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン（１２３mg）を無色の粉末として得た。APCI−Mass m/Z 466/468 （M+NH4）。 1H-NMR (DMSO-d6) δ 3.18 (m, 1H), 3.48 - 3.67 (m, 4H), 4.14 (d, J = 9.5 Hz, 1H), 4.23 (d, J = 16.4 Hz, 1H), 4.26 (dt, J = 49.3, 9.2 Hz, 1H), 4.27 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 4.77 (t, J = 5.5 Hz, 1H), 5.17 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 5.49 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 6.88 (d, J = 3.7 Hz, 1H), 7.24 - 7.29 (m, 2H), 7.32 (d, J = 3.7 Hz, 1H), 7.37 (t, J = 7.7 Hz, 2H), 7.41 - 7.45 (m, 2H), 7.57 (d, J = 7.4 Hz, 2H).
【０２６６】
上記実施例の化学構造を以下の表１および２に示す。
【０２６７】
【表１】
2009544572.tif 000049
【０２６８】
【表２】
2009544572.tif 000050
【０２６９】
実施例8 - 36：
上記実施例のいずれかと同様にして、以下の表３記載の化合物を製造した。
【０２７０】
【表３】
2009544572.tif 000051
2009544572.tif 000052
2009544572.tif 000053
2009544572.tif 000054
2009544572.tif 000055
【０２７１】
上記表１〜３中、Ｍｅはメチルであり、ＭｅＯはメトキシであり、Ｅｔはエチルであり、ＥｔＯはエトキシであり、「５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル」、「４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル」、「β−Ｄ−ガラクトピラノシル」、「４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル」および「６−フルオロ−６−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル」は、それぞれ、下化学式を示す。
【０２７２】
【化４７】
2009544572.tif 000056
【０２７３】
参考例1：４−クロロインドリン
４−クロロインドール（３．１５g）およびトリエチルシラン（８．３０ml）のトリフルオロ酢酸（３２ml）溶液を５０℃で３０分間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で塩基性とした。混合物を酢酸エチルで２回抽出し、合わせた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１００：０−８０：２０）で精製して、標記化合物（２．８９g）を無色の油状物として得た。APCI-Mass m/Z 154/156 (M+H). 1H-NMR (DMSO-d6) δ 2.94 (t, J = 8.7 Hz, 2H), 3.46 (t, J = 8.7 Hz, 2H), 5.83 (s, 1H), 6.40 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 6.50 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 6.90 (t, J = 7.9 Hz, 1H).
【０２７４】
参考例2：
１−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−５−ブロモ−２−クロロベンゼン
（1）５−ブロモ−２−クロロ安息香酸（１０．０g）をジクロロメタン（８０ml）に懸濁し、そこへＮ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（４．５６g）、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（８．９６g）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（６．３１g）およびトリエチルアミン（８．８８ml）を順次加えた。室温で６４時間攪拌後、そこに１０％塩酸を０℃で加え、混合物をクロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去して、粗体の５−ブロモ−２−クロロ−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルベンズアミドを得た。この化合物はさらに精製せずに次の工程に用いた。
【０２７５】
（2）上記化合物のテトラヒドロフラン（２００ml）溶液をアルゴン雰囲気下−７８℃に冷却し、そこへ水素化ジイソブチルアルミニウム（１．０Ｍトルエン溶液、６４ml）を滴下した。混合物を−７８℃で３０分間、ついで０℃で４０分間攪拌した。得られた混合物に１０％塩酸を０℃で加え、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１９：１）で精製して、５−ブロモ−２−クロロベンズアルデヒド（８．９０g）を無色の固体として得た。
【０２７６】
（3）チアナフタレン（５．１８g）のテトラヒドロフラン（６０ml）溶液にアルゴン雰囲気下、−７８℃でｎ−ブチルリチウム（２．４４Ｍヘキサン溶液、１５．８ml）を滴下し、混合物を−７８℃で３０分間、ついで０℃で３０分間攪拌した。混合物を−７８℃に冷却後、そこに上記化合物（８．９０g）のテトラヒドロフラン（６０ml）溶液を一度に加えた。同温で１．５時間攪拌した後、そこに飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１５：１）で精製して、ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イル−（５−ブロモ−２−クロロフェニル）メタノール（１２．２５g）を橙色の油状物として得た。
【０２７７】
（4）上記化合物（１２．２５g）のジクロロメタン（３００ml）溶液を０℃に冷却し、そこにトリエチルシラン（１２．１７ml）および三フッ化ホウ素・ジエチル  エーテル錯塩（６．５８ml）を順次加えた。同温で２時間攪拌後、そこに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、混合物をクロロホルムで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサンのみ）で精製して、標記化合物である１−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−５−ブロモ−２−クロロベンゼン（９．３０g）を無色の固体として得た。1H-NMR (CDCl3) δ 4.30 (s, 2H), 7.02 (d, J = 0.9 Hz, 1H), 7.23 - 7.36 (m, 4H), 7.43 (m, 1H), 7.65 - 7.69 (m, 1H), 7.73 - 7.77 (m, 1H).
【０２７８】
参考例3：
５−ブロモ−２−クロロ−１−（５−フェニル−２−チエニルメチル）ベンゼン
（1）５−ブロモ−２−クロロ安息香酸（５５．９５g）をジクロロメタン（５００ml）に懸濁し、そこに塩化オキサリル（２５ml）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５滴）を加えた。室温で一晩攪拌後、そこにテトラヒドロフラン（５０ml）を加え、混合物をさらに同温で１時間攪拌した。溶媒および揮発性物質を減圧下留去して、塩化５−ブロモ−２−クロロベンゾイルを得た。この化合物および２−フェニルチオフェン（３４．６３g）をジクロロメタン（１０００ml）に溶解し、そこに塩化アルミニウム（３１．７０g）を０℃で少しずつ加えた。混合物を０℃で３０分間、ついで室温で１８時間攪拌した。反応混合物を氷水（１５００ml）に注ぎ、混合物をクロロホルム（１０００ml）で抽出した。有機層をＨ２Ｏ（１０００ml）で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０００ml）で２回洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理した後、不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残留固体をヘキサン（１０００ml）中で粉末化して濾過により収集し、４−ブロモ−２−クロロフェニル  ５−フェニル−２−チエニル  ケトン（５０．２２g）を淡緑色の結晶として得た。融点：132−134℃. APCI−Mass m/Z 377/379 （M+H）。
【０２７９】
（2）上記化合物（５０．００g）およびトリエチルシラン（６３．４４ml）のジクロロメタン（３００ml）−アセトニトリル（３００ml）懸濁液に、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（５０．１８ml）を０℃で滴下した。室温で３時間攪拌後、そこに炭酸水素ナトリウム水溶液（８００ml）を加え、混合物をクロロホルム（３００ml）で２回抽出した。合わせた有機層をブライン（５００ml）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣を酢酸エチル（３００ml）に溶解し、溶液を活性炭で処理した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をメタノール（１５０ml）から結晶化して、標記化合物である５−ブロモ−２−クロロ−１−（５−フェニル−２−チエニルメチル）ベンゼン（４２．９２g）を淡黄色の結晶として得た。 融点：80−81℃。 1H-NMR (CDCl3) δ 4.22 (s, 2H), 6.79 (dt, J = 3.5, 1.0 Hz, 1H), 7.14 (d, J = 3.7 Hz, 1H), 7.21 - 7.38 (m, 5H), 7.41 (dd, J = 2.4, 0.4 Hz, 1H), 7.52 - 7.57 (m, 2H).
【０２８０】
参考例４：
２，３，６−トリ−Ｏ−ベンジル−４−フルオロ−４−デオキシ−Ｄ−グルコノ−１，５−ラクトン
【０２８１】
【化４８】
2009544572.tif 000057
【０２８２】
（1）メチル２，３，６−トリ−Ｏ−ベンジル−β−Ｄ−ガラクトピラノシド（Sakagami, M.; Hamana, H. Tetrahedron Lett. 2000, 41, 5547-5551参照）(16.99 g）をジクロロメタン（１７２ml）に溶解し、（ジエチルアミノ）スルファー  トリフルオリド（９．７１ml）を０℃で加えた。混合物を０℃で２時間、ついで室温で５時間攪拌した。得られた混合物を０℃に冷却し、そこに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１００：０−９０：１０）で精製して、メチル  ２，３，６−トリ−Ｏ−ベンジル−４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド（５．８６g）を淡黄色の油状物として得た。APCI−Mass m/Z 484 （M+NH4）。
【０２８３】
（2）上記化合物（５．３９g）と３Ｍ硫酸（１０ml）−酢酸（５０ml）の混合物を９０℃で５時間攪拌した。室温に冷却後、そこにＨ２Ｏを加え、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層をＨ２Ｏで２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およびブラインで順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、２，３，６−トリ−Ｏ−ベンジル−４−フルオロ−４−デオキシ−Ｄ−グルコース（２．３９g）を淡黄色の油状物として得た。APCI−Mass m/Z 470（M+NH4）。
【０２８４】
（3）上記化合物（２．７６g）をジメチルスルホキシド（１６ml）に溶解し、そこにアルゴン雰囲気下、０℃で無水酢酸（１１ml）を加えた。混合物を室温で一晩攪拌し、そこに０℃で氷水を加えた。得られた混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を冷水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１９：１−９：１）で精製して、標記化合物である２，３，６−トリ−Ｏ−ベンジル−４−フルオロ−４−デオキシ−Ｄ−グルコノ−１，５−ラクトン（２．０８g）を無色の固体として得た。APCI−Mass m/Z 468（M+NH4）。 1H-NMR (CDCl3) δ 3.74 (ddd, J = 11.0, 3.3 and 1.7 Hz, 1H), 3.79 (ddd, J = 11.2, 2.6 and 1.7 Hz, 1H), 3.99 (ddd, J = 19.8, 6.8 and 6.0 Hz, 1H), 4.15 (d, J = 6.8 Hz, 1H), 4.52 - 4.65 (m, 4H), 4.70 (s, 2H), 4.92 (ddd, J = 49.6, 7.6 and 6.0 Hz, 1H), 4.93 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 7.23 - 7.38 (m, 15H).
【０２８５】
薬理学的実験
１．ＳＧＬＴ２阻害アッセイ
試験化合物：
上記実施例に記載の化合物を、ＳＧＬＴ２阻害アッセイに用いた。
方法：
２４穴プレート中、１０％ウシ胎児血清、４００μｇ／mlゲネチシン（Geneticin）、５０単位／mlペニシリンＧナトリウム（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ）および５０μｇ／ml硫酸ストレプトマイシンを含むＦ−１２培地（Ｈａｍ’ｓ  Ｆ−１２）にヒトＳＧＬＴ２発現ＣＨＯＫ１細胞を４００，０００個／穴の密度で播種した。３７℃で、５％ＣＯ2を含む加湿雰囲気で２日間培養した後、細胞を、アッセイ緩衝液（１３７mM  ＮａＣｌ、５mM  ＫＣｌ、１mM  ＣａＣｌ2、１mM  ＭｇＣｌ2、５０mM  Ｈｅｐｅｓ、および２０mM  Ｔｒｉｓ、ｐＨ  ７．４）で１回洗浄し、試験化合物を含む緩衝液２５０μlと共に３７℃で１０分間インキュベートした。試験化合物はＤＭＳＯに溶解した。ＤＭＳＯの終濃度は０．５％であった。輸送反応は、５０μl［14Ｃ］−メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド（14Ｃ−ＡＭＧ）溶液（終濃度、０．５mM）を加えて開始した。３７℃で２時間インキュベートしたのち、取り込みをインキュベーション混合物の吸引により停止し、細胞を氷冷ＰＢＳで３回洗浄した。次いで、細胞を０．３N ＮａＯＨで可溶化し、アリコートを、放射活性を液体シンチレーションカウンターで測定するのに供した。非特異的なＡＭＧ取り込みを、ナトリウム依存性グルコース共輸送担体の特異的阻害剤であるフロリジン１００μＭの存在下に生じるものと定義した。特異的な取り込みは、Bradfordの方法で測定されたタンパク質濃度に対して正規化した。５０％阻害濃度（ＩＣ50）値を、最小二乗法により、用量反応曲線から算出した。
【０２８６】
結果：
結果を下表に示す：
【０２８７】
【表４】
2009544572.tif 000058
【０２８８】
２．ラットでの尿糖排泄試験
試験化合物：
上記実施例に記載の化合物を、ラットでの尿糖排泄試験に用いた。
方法：
６週齢の雄性Spraque-Dawley（ＳＤ）ラットを、実験２日前から、餌と水を自由に与えて、個別の代謝ケージ中で収容した。実験の朝に、ラットに、ビヒクル（０．２％  Ｔｗｅｅｎ８０を含む０．２％カルボキシメチルセルロース溶液）または試験化合物（３０mg／kg）を１０ml／kgの容量で経口で投与した。次いで、ラットの尿を２４時間採集し、尿量を測定した。その後、酵素的アッセイキットを用いて、尿中のグルコース濃度を測定し、個体あたりの、１日あたりの尿糖排泄量を算出した。
【０２８９】
結果：
尿糖量の範囲は、ＡおよびＢで表した。これらの範囲は以下のとおりである：Ａ≧２４００mg；２４００mg＞Ｂ≧２０００mg。
【０２９０】
【表５】
2009544572.tif 000059
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月11日(2009.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ａ）：
【化４９】
2009544572.tif 000076
（式中、環Ａおよび環Ｂは、独立して、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環、または置換されていてもよいベンゼン環であり；
Ｘは、炭素または窒素であり；
Ｙは、−（ＣＨ２）ｎ−であり（ここで、ｎは１または２である）；
Ｚは、以下：
【化５０】
2009544572.tif 000077
の基のうちの１つであり、
ただし：
（ｉ）環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、Ｙは該二環縮合不飽和へテロ環のうちのＸ含有環に結合し；
（ii）環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、Ｚは：
【化５１】
2009544572.tif 000078
であり；
（iii）環Ａおよび環Ｂの両方が置換されていてもよいベンゼンであるとき、Ｚは：
【化５２】
2009544572.tif 000079
である）
で示される化合物、またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項２】
環Ａが、置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、Ｚが：
【化５３】
2009544572.tif 000080
である、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
（１）環Ａが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、およびアルケニレン
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環、二環縮合不飽和へテロ環、またはベンゼン環であり；
ここにおいて、上記環Ａおよび環Ｂ上の置換基は、それぞれ、以下：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいか；
（２）環Ａが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレン
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり；
ここにおいて、上記の環Ａおよび環Ｂ上の置換基は、それぞれ、以下：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいか；あるいは、
（３）環Ａが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソ；
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環またはベンゼン環であり；
ここにおいて、上記環Ａおよび環Ｂ上の置換基は、それぞれ、以下：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい、
請求項１記載の化合物。
【請求項４】
（１）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、
（ａ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよいベンゼン環；
（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、または
（ｃ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であるか；
（２）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、または低級アルケニレンで場合により置換されていてもよいベンゼン環であり、
環Ｂが、
（ａ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルまたはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、
（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であるか；あるいは
（３）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、
（ａ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよいベンゼン環、
（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、あるいは
（ｃ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選択される基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環である、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
Ｙが−ＣＨ２−であって、Ｘを１位として３位の位置で環Ａと結合している、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
（１）環Ａが以下：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；フェニル；および低級アルキレン
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であるか；
（２）環Ａが、以下：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよいベンゼン環であるか、
（３）環Ａが、以下：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であるか、
（４）環Ａが、以下：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシ、で置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、ベンゼン環または単環不飽和へテロ環であるか；あるいは、
（５）環Ａが、以下：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合により置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、
環Ｂが、以下：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
からなる群より独立して選択される１〜３個の置換基で場合によりそれぞれ置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環である、
請求項１記載の化合物。
【請求項７】
環Ａが、
【化５４】
2009544572.tif 000081
（式中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、フェニル、フェニルアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、またはフェニルスルホニルである）
であり；
環Ｂが、
【化５５】
2009544572.tif 000082
（式中、Ｒ4aおよびＲ5aは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、あるいはＲ4aおよびＲ5aは、互いに末端で結合してアルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、およびモノ−もしくはジ−アルキルアミノから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシおよびハロアルコキシから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルである）
であり、
Ｚが、
【化５６】
2009544572.tif 000083
である、請求項１記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはフェニルであり；
Ｒ4aおよびＲ5aが、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合して低級アルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシである、請求項７記載の化合物。
【請求項９】
環Ａが、
【化５７】
2009544572.tif 000084
（式中、Ｒ1aがハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素である）であり、；
環Ｂが、
【化５８】
2009544572.tif 000085
（式中、
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、
Ｒ5aが水素であるか、
あるいはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合してアルキレンを形成している）であり；
Ｙが、−ＣＨ２−である、
請求項７記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ1aが、ハロゲン、または低級アルキルであり、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選択される１〜３個の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、Ｒ5aが、水素である、請求項９記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリルである、請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されたフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されたヘテロシクリルである、請求項１１記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒ4aが、ハロゲンまたはシアノで置換されたフェニル；または、ハロゲンで置換されたピリジルである、請求項１２記載の化合物。
【請求項１４】
環Ａが、
【化５９】
2009544572.tif 000086
であり、式中、Ｒ１ａが、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ２ａおよびＲ３ａが共に水素であり；環Ｂが、
【化６０】
2009544572.tif 000087
であり、式中、Ｒ４ｂおよびＲ５ｂがそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシである、請求項７記載の化合物。
【請求項１５】
環Ａが、
【化６１】
2009544572.tif 000088
であり、式中、Ｒ6が、水素、ハロゲンまたはアルキルであり；環Ｂが、
【化６２】
2009544572.tif 000089
であり、式中、Ｒ7aおよびＲ7bは、独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニルであるか、あるいはＲ7aおよびＲ7bは、それらが結合している炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成し；ＹがＣＨ2である、請求項１記載の化合物。
【請求項１６】
Ｒ6がハロゲンであり、Ｚが、
【化６３】
2009544572.tif 000090
であり、Ｒ7aおよびＲ7bが、独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、またはハロピリジルであるか、あるいはＲ7aおよびＲ7bは、それらが結合する炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環、縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１５記載の化合物。
【請求項１７】
Ｒ7aおよびＲ7bが、独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオであるか、あるいはＲ7aおよびＲ7bは、それらが結合する炭素原子と共に、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１６記載の化合物。
【請求項１８】
Ｒ7aおよびＲ7bが、独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、またはハロアルコキシであるか、あるいはＲ7aおよびＲ7bは、それらが結合する炭素原子と共に、縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１７記載の化合物。
【請求項１９】
Ｒ6がハロゲンであり、環Ｂが、
【化６４】
2009544572.tif 000091
であり、Ｒ7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオである、請求項１６記載の化合物。
【請求項２０】
Ｒ7aが、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、またはアルコキシである、請求項１９記載の化合物。
【請求項２１】
３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール、
４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール、
４−クロロ−３−（４−エチルフェニルメチル）−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール、
４−クロロ−３−（４−エトキシフェニルメチル）−１−（５−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール、
３−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメチル）−４−クロロ−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）ベンゼン、
４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（６−フルオロ−６−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン、および
および４−クロロ−３−（５−フェニル−２−チエニルメチル）−１−（４−フルオロ−４−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン、
から選択される化合物、またはその医薬的に許容しうる塩。
【国際調査報告】
2009544572.tif 000092
2009544572.tif 000093
2009544572.tif 000094
2009544572.tif 000095