(57)【要約】  基板上に配置された層積層体のパターンを備えるタッチスクリーン構造体が開示される。層積層体はそれぞれ、透明導電体層及び、基板と透明導電体層の間に配置された中間層を備える。中間層は、透明導電体層よりも低く、基板よりも低い屈折率を有する。層積層体構造は、積層体に覆われた基板の領域と積層体に露出されたままの基板の領域との可視光線透過率の差異を低減する。基板と透明導電体パターンとの間に中間層パターンを配置させることで、タッチスクリーンにおけるパターン化された透明導電体の可視性を低減する方法も開示され、ここで中間層パターン及び透明導電体パターンは一致する。
2009532777.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板；
前記基板のある領域を露出させ、前記基板のある領域を覆う、前記基板上に配置された複数の積層体であって、各積層体は透明導電体層及び中間層を含み、前記中間層は前記基板と前記透明導電体層との間に配置され、前記中間層は前記透明導電体層よりも低くかつ前記基板よりも低い屈折率を有する、複数の積層体；及び
前記透明導電体層と電気的に接続されており、タッチ入力が透明導電体と接続されるときに受信する信号に基づくタッチ入力情報を決定するように適合した制御電子装置と接続するように構成されている、複数のリード線、
を含む透過型タッチスクリーン構造体であって、
前記積層体によって覆われた領域と前記積層体によって露出した領域を通る可視光線透過率の差異は、最大で約１％以下及び平均で０．５％以下である、透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項２】
各積層体はさらに、前記透明導電体層が前記中間層と上層との間に存在するように前記透明導電体上に上層を含み、前記上層は前記透明導電体層よりも低い屈折率を有する、請求項１に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項３】
前記複数の積層体及び前記複数の積層体によって露出した領域を被覆する、前記基板上に配置された充填剤材料をさらに含む、請求項１に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項４】
前記充填剤材料は光学接着剤である、請求項３に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項５】
前記基板はプラスチックである、請求項１に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項６】
前記基板はＰＥＴである、請求項１に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項７】
前記中間層はシリコン酸化物である、請求項１に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項８】
前記透明導電体層はインジウムスズ酸化物である、請求項１に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項９】
前記基板は約１．６〜１．７の屈折率を有し、前記中間層は約１．４〜１．６の屈折率を有し、前記透明導電体は約１．８〜２．１の屈折率を有し、及び前記充填剤材料は約１．４〜１．８の屈折率を有する、請求項３に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項１０】
前記基板は第１基板であって、光学的に透明な接着剤を使用して前記第１基板に接着される内部表面及び前記内部表面と反対の外部表面を有する第２基板をさらに含む、請求項４に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項１１】
前記第２基板はプラスチックである、請求項１０に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項１２】
前記第２基板はＰＥＴである、請求項１０に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項１３】
前記第２基板はガラスである、請求項１０に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項１４】
前記第２基板は前記外部表面上に反射防止コーティングを備える、請求項１０に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項１５】
前記第２基板は前記外部表面上にハードコートを備える、請求項１０に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項１６】
前記第１基板に前記第２基板を接着する前記光学的に透明な接着剤が前記充填剤材料である、請求項１０に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項１７】
前記第２基板はさらに、あるパターンに配列された複数の接触感知素子を含む、請求項１０に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項１８】
前記第２基板の複数の接触感知素子は、前記第１基板の複数の積層体と同様の層構造を有する、請求項１７に記載の透過型タッチスクリーン構造体。
【請求項１９】
基板上に透明導電体をパターン化する工程；及び
前記基板と前記パターン化された透明導電体との間に中間層をパターン化する工程を含み、前記透明導電体パターン及び中間層パターンは一致し、前記中間層は前記基板よりも低くかつ前記パターン化された透明導電体よりも低い屈折率を有する、タッチスクリーンにおいてパターン化された透明導電体の可視性を低減する方法。
【請求項２０】
前記パターン化された透明導電体及び中間層上に充填剤材料を配置する工程をさらに含み、前記充填剤材料は前記パターン化された透明導電体よりも低い屈折率を有する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
第２基板を前記充填剤材料上に配置する工程をさらに含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記透明導電体のパターン化工程及び前記中間層のパターン化工程が同時に行われる、請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
前記中間層のパターン化工程が前記透明導電体のパターン化工程よりも前に行われる、請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】
基板、タッチスクリーンの有効領域で前記基板上に配置された透明導電体感知素子パターン、及び前記透明導電体感知素子パターンと一致し前記基板と前記透明導電体感知素子パターンとの間に配置された中間層パターンを含む、タッチスクリーンオーバーレイであって、前記中間層は前記透明導電体よりも低くかつ前記基板よりも低い屈折率を有する、タッチスクリーンオーバーレイ；
前記透明導電体感知素子パターンに接続されており、前記有効領域におけるタッチ入力による前記タッチスクリーンオーバーレイから信号を受信し前記受信した信号からタッチ入力に関する情報を決定するように設計されている、制御電子装置；及び
前記タッチスクリーンオーバーレイを通して見ることができるディスプレイ装置、
を含むタッチ入力システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示はタッチスクリーンに関し、特に、接触感知素子として透明導電体のパターンを利用するオンディスプレイタッチスクリーンに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチスクリーンは、ユーザーが、典型的には情報を表示するためのディスプレイを備えるものである電子システムと直感的に操作するための方法として徐々に一般的となっている。透過型タッチスクリーンは、表示された情報及び画像はタッチスクリーンを通して見ることができるように、様々なディスプレイ及び／又は静止画像上に配置され得る。このような構成において使用するのに好適なタッチスクリーン技術には、抵抗式、（表面型）容量式、投影型静電容量式、誘導式、弾性表面波式、圧力式等が挙げられる。多くの投影型静電容量式及び誘導式タッチスクリーンは、感知素子として導電体のパターンを使用する。用語「投影型静電容量」は、薄層ガラスパネル、手袋をした指における手袋等のような比較的厚い誘電体を通して電界を投影する、導電体のパターンの能力を表す。誘導式タッチスクリーンには、例えばスタイラスのように、導電体のパターンに放射し、結合することのできる共振回路を励起する磁界を誘導するものが挙げられる。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
本発明は、基板及び積層体に露出された基板領域及び積層体に覆われた基板領域を残す基板上に配置された複数の層積層体を備える、透過型タッチスクリーン構造体を提供する。各層積層体は、透明導電体層及び中間層を備え、この中間層は基板と透明導電体層との間に配置され、この中間層は透明導電体層よりも低い屈折率を有し、基板よりも低い屈折率を有する構造を有する。積層体は、積層体に覆われた領域と積層体に露出された領域を通る可視光線透過率の差異が、最大で約１％以下であり、平均で約０．５％以下であるように設計される。透過型タッチスクリーンは、さらに透明導電体層と電気的に接続し、タッチ入力が透明導電体に接続される際、受信する信号をもとにしてタッチ入力情報を決定するのに適する制御電子機器と接続するように構成された複数のリード線を備える。
【０００４】
ある実施形態において、透過型タッチスクリーン構造体は、層積層体中に追加の層、基板及び層積層体上に配置された充填剤材料（光学接着剤等）、この構造体に積層される（例えば、積層接着剤として光学接着剤フィルターを使用する）さらなる基板を備えることが可能であり、さらなる基板は上述するものと同様に層積層体から成る感知素子も含んでよい。
【０００５】
本発明はまた、例えば、タッチ入力モニター、ＰＯＳ端末装置、公共の売店、ハンドヘルド機器、タブレット型ＰＣ（table PC）等のようなディスプレイ装置を通して見ることができる透過型タッチスクリーンオーバーレイを備えるタッチ入力システムを提供する。
【０００６】
本発明は、タッチスクリーンにおいてパターン化された透明導電体の可視性を低減する方法をさらに提供する。この工程には、基板上に透明導電体をパターン化し、基板とパターン化された透明導電体との間の中間層をパターン化することを含み、ここで、透明導電体のパターンと中間層のパターンは一致する。中間層は、基板よりも屈折率が低く、パターン化された透明導電体よりも屈折率が低い。
【０００７】
上記の概要は、本開示の各実施形態、又は、すべての実施法について記載することは意図していない。利点及び功績、並びに、本発明に対する更に徹底的な理解は、以下の「発明を実施するための最良の形態」及び請求項を添付図面と併せて参照すれば、明確化且つ評価されることになるだろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明はタッチスクリーンに関し、特に感知素子として透明導電体のパターンを使用するタッチスクリーン、より詳細には、画像が例えばオンディスプレイ（又は透過型）タッチスクリーンのようなタッチスクリーンを介して表示され得るように、可視光線を透過するようなタッチスクリーンに関する。多くのタッチスクリーンは感知素子として透明導電体を使用し、これらの素子は連続コーティングとして、又は間隔の空いたストリップ、線、パッド、グリッド等のパターンにおいて提供され得る。透明導電体は、一般的に、反射（例えば、透明導電体とその下にある基板との屈折率の相違による）、低透過（例えば、光の吸収及び反射による）、及び着色（例えば、可視スペクトルでの特定の波長範囲にわたる選択的な吸収による）をもたらし得る光学特性を有する。透明導電体は単一の連続コーティングとして提供され、このコーティングが装置の可視領域にわたって比較的均一である場合、このような光学効果は明白でないことがある。透明導電体パターンを使用する装置において、光学効果における差異によって、パターンに被覆された領域とパターンに被覆されていない領域を区別することは可能であり得る。これはユーザーを混乱させる可能性があり、ある用途においては、美的観点から望ましくないか、又はディスプレイに示される情報及び画像に干渉する可能性すらある。特に、装置が高い周辺光条件に露出され得る環境において、タッチセンサ装置の透明導電体パターンは、下側のディスプレイがオン又はオフ状態の際に目に見えるのは望ましくない。
【０００９】
本開示は、基板上に複数の層積層体を提供するパターニング又はそれに代わるものを包含する。各層積層体は、透明導電体層及び、基板と透明導電体との間に配置された低屈折率の中間層を含む。例えば、透明導電体がオーバーレイヤと中間層との間に位置するように配置されたオーバーレイヤのように、追加層を層積層体に含むことができる。中間層は、透明導電体層よりも低い屈折率を有する。透明導電体層及び中間層の厚さは、層積層体が、積層体を通る可視光の透過率が積層体に被覆されずにいる領域を通る可視光の透過率とほぼ同じになるような無反射特性を提供するように選択することができる。例えば、可視スペクトルにわたって積層体に被覆されない領域と、積層体に被覆された領域積層体を通る透過率パーセントとの最大差異は約１％以下であることが可能であり、積層体に被覆されない領域と積層体に被覆された領域積層体を通る透過率パーセントとの平均差異は約０．５％以下であり、好ましくは０．３％以下であることが可能である。これは、通常の作動条件下において、ほとんどのユーザーが透明導電体パターンが確認できないようにすることを可能とする。
【００１０】
本開示による代表的な構造体において、基板、中間層、任意でオーバーレイヤ、任意で充填剤材料、任意で接着剤等は、可視スペクトルにおいて実質的に透明である。好適な基板には、ガラス及びポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）のような種々のプラスチック材料、種々のアクリル樹脂、ポリカーボネート、及び、現在周知のもしくは後に開発されるディスプレイ用途に使用するのに好適な任意の他の基板が挙げられる。好適な透明導電体材料には、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、スズアンチモン酸化物（ＴＡＯ）、他のドープしたスズ酸化物等のような、透明導電体酸化物が挙げられる。好適な透明導電体には、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリフェニレンビニレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリｐ−フェニレン、ポリ複素環ビニレンのような導電性ポリマーも挙げられる。例えば、代表的な導電性ポリマーは、しばしばＰＥＤＯＴと呼ばれる置換ポリチオフェンである、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）である。好適な中間層材料、オーバーレイヤ材料、充填剤材料及び接着剤材料には、シリコン酸化物、被覆可能な有機材料、光学接着剤等が挙げられる。
【００１１】
本開示の代表的な構造体において、層積層体は基板上に提供されることが可能であり、この層積層体は基板上に配置された中間層及び中間層上に配置された透明導電体層を含み、層積層体上及び所望により基板上の露出された部分上にも任意の接着剤又は充填剤材料が配置される。代表的な材料選択は、各構成要素において以下の屈折率をもたらし得る：約１．４〜１．８の基板の屈折率（例えば、ＰＥＴにおいては約１．６７）；約１．４〜１．６の中間層の屈折率（例えば、ＳｉＯ２においては約１．４５）；約１．７〜２．２の透明導電体の屈折率（例えば、ＩＴＯにおいては約２．０）；及び約１．４〜１．８の充填剤材料の屈折率（例えば、光学接着剤においては約１．５）。代表的な構造体において、中間層の屈折率は透明導電体の屈折率より低く、基板の屈折率よりも低いことが可能であり、充填剤材料の屈折率は基板及び／又は中間層の屈折率に近い。
【００１２】
本開示の構造体を使用するのに好適であり得る接触感応オーバーレイには、感知素子としてパターン化された透明導電体を使用するものが挙げられる。これらには、離散マトリクスタッチセンサ（米国特許第６，８１３，９５７号；６，７６２，７５２号；６，１８８，３９１号；５，８４４，５０６号；５，３８６，２１９号；及び５，００７，０８５号、並びに国際公開ＷＯ０１／２７８６８号、ＷＯ０２／１０００７４号、及びＷＯ０１／５２４１６号等に開示され、各々は全て本文書に組み込まれる）、離別バーセンサ（米国特許第５，６５０，５９７号及び米国特許出願公開第２００３／０１０３０４３号等に開示され、各々は全て本文書に組み込まれる）、離別パッドセンサ（米国特許第４，７８９，７６７号等に記載され、全てが本文書に組み込まれる）、及び他の分離感知素子センサ、並びに電気的に連続したパターン化感知層センサ（米国特許第４，１９８，５３９号等に開示され、全てが本文書に組み込まれる）を含む。これらのセンサの種類は、容量式、投影型静電容量式、及び／又は誘導式の感知技術に有利に使用されることが可能であり、ハンドヘルド型デバイス（例えば、パームトップコンピュータ、個人携帯情報端末、移動電話、再生装置（音楽プレイヤー）等）、タブレットコンピュータ、自動車用ナビゲーションシステムディスプレイ、タッチ入力モニター、公共案内所、現金自動預入支払機、ゲーム及び娯楽装置等を含むオンスクリーン入力から利益を受ける様々な用途に使用することが可能である。
【００１３】
図１は、基板１２０上に配列された複数の層積層体１１０を備えるセンサ構造１００の概略的側面図を示す。層積層体１１０は、中間層１１２及び透明導電体層１１４を備える。層積層体１１０は、積層体１１０に覆われた領域１３０を通る可視光線透過率が、積層体１１０に露出された領域１４０を通る可視光線透過率と近くなるように設計される。層１１２及び１１４は同じ横寸法を有することが示されるが、これらのパターンが一致する限りこの状況である必要はない。層積層体における層の横寸法は、偶然（例えば、不正確なパターニング又は配列によるもの）もしくは設計によって互いに変動し得る。例えば、中間層１１２が透明導電体層１１４を越えて横に伸張するように、中間層１１２が透明導電体層１１４よりも広いことが望まれ得る。これによって、透明導電体層１１４とその下側の基板との接触において、このような接触が好ましくは避けられる場合に接触しないことが確実になり得る。
【００１４】
層積層体は、各層においてパターンが一致するような任意の好適な手段でパターン化されることが可能である。例えば、各層は基板上に連続的に堆積されることが可能であり、次に、積層体部分はパターンを形成するために基板から除去されることが可能である。積層体部分を除去するために、フォトリソグラフィー、レーザーアブレーション、エッチング、パターン化リフトオフ等の様々な技術が採用され得る。好適なパターン化リフトオフプロセスには、米国特許第４，７１４，６３１号及び４，８９５，６３０号に開示されるものが挙げられ、これらは全て本文書に組みこまれる。これらのプロセスには、層積層体に覆われないでいる基板の領域における（つまり、所望の層積層体パターンとは逆であるパターン）下塗りのパターニング、目的の全領域上での層の積層体の形成、及び所望の層積層体のパターンを残すために、パターン化された領域から層の積層体を除去するための基板の洗浄を包含する。好適な除去方法には、米国特許第６，６８９，５４４号に開示されるものが挙げられてよく、この全てが本文書に組み込まれる。好適なエッチング方法には、米国特許第６，８３８，０１３号に開示されるものが挙げられてよく、この全てが本文書に組み込まれる。
【００１５】
あるいは、各層は、例えば、マスクを通した堆積、印刷染色法（例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷等）、各層における個別エッチング及び／又はリソグラフィー工程、パターン化転写、又は任意の好適な組み合わせ、によって個別にパターン化することが可能である。層において一致したパターンを形成するために、個別のパターニングは一般的に、積層体の新規の各層において配列工程を含む。
【００１６】
図２は、基板２２０上に配列された複数の層積層体２１０を備える他のセンサ構造２００の概略的側面図を示す。層積層体２１０は、中間層２１２、中間層２１２上の透明導電体層２１４、及び透明導電体層２１４上に配列されたオーバーレイヤ２１６を備える。図２は、積層体２１０に覆われた領域２３０及び積層体２１０に露出された領域２４０も示す。
【００１７】
図３は、基板３２０上に配列された複数の層積層体３１０を備える他のセンサ構造３００の概略的側面図を示す。層積層体３１０は、例えば、図１に示される積層体１１０又は図２に示される積層体２１０のような任意の好適な構造であってよい。図３は、積層体に覆われた領域３００及び積層体に露出された領域３４０上に配置された充填剤コーティング３５０をさらに示す。充填剤材料は、例えば、その屈折率が基板の屈折率と一致する材料（例えば、積層体に露出された領域における界面反射を低減するため）、又は所望により透明な接着剤等の接着剤（例えば、基板、ディスプレイ装置、保護フィルム、光学フィルム等のような他の構成要素（図示せず）と結合するため）のような任意の好適な材料であってよい。
【００１８】
図４は、積層体４１０に覆われた領域４３０及び積層体４１０に露出された領域４４０を形成するための、基板４２０上に配列された複数の層積層体４１０を備え、積層体４１０は本開示にしたがって任意の好適な構造である、他のセンサ構造４００の概略的側面図を示す。第２基板４６０は、層積層体４１０の配列上に配置され、光学接着剤等の接着剤４５０を介して構造体４００に共に結合される。基板４６０は保護性、剛性、光学機能（例えば、光制御、偏光、遅延等）等を提供することができる。基板４６０は、追加の層積層体が形成され得る追加の表面も提供し得る。例えば、透明導電体層を含む層積層体（つまり、積層体４１０と同様）は、マトリックスタッチスクリーンにおいて感知素子をグリッド状に構成するために、基板上に形成され、積層体４１０の方向に対して直交する方向で配置され得る。
【００１９】
図５は、基板５２０の第１側面上に配置された第１の複数の層積層体５１０、及び基板５２０上の反対の側面上に配置され、例えば直交するように第１の複数の層積層体とは異なる方向に配向された第２の複数の層積層体５７０を備える他のセンサ構造５００の概略的側面図を示す。層積層体５１０は本開示にしたがって構成され、積層体に覆われた領域５３０と積層体に露出された領域を通る光透過率の差異を低減する。層積層体５７０も同様に構成することができる。基板５２０は支持構造体を提供し、並びに、層積層体５２０に形成された感知素子及び層積層体５７０に形成された感知素子を電気的に絶縁するように働くことが可能である。
【００２０】
図６は、本開示のセンサにおいて有用であり得るセンサレイアウトの概略的側面図を示す。センサ６００は、基板６２０の片側に配置された第１の複数の感知素子６１０、及び基板６２０の反対側に配置され、第１の複数の感知素子６１０に対して直交するように配向された第２の複数の感知素子６７０を備える。各感知素子６１０及び６７０は、比較的狭い線で連結される一連のひし形形状として示されるが、均一幅のバーのような任意の好適な構成で提供され得る。図６に示されるレイアウトにおいて、第１の複数の感知素子６１０におけるひし形形状は、ひし形形状の隙間、又はウィンドウが４つの隣接するひし形の各組によって形成されるように並ぶ。第２の複数の感知素子６７０は、垂直な線６７０のひし形が水平な線６１０のひし形によって形成されるウィンドウ内に適合し、例えば、タッチする目的物とセンサ構造中の水平な感知素子の裏に配置された垂直な感知素子とのより効果的な連結を可能とする。第１セットの下にひし形形状素子の第２セットを有するかかる構成において、第２のひし形セットは、第１セットよりも若干大きく形成することが可能であり、タッチ入力と第２の感知素子セットとの間の増加した距離（つまり、連結力の低下）に対する補正を行う連結領域を増加する。感知素子は、垂直線及び水平線がタッチ入力に最も近いことを同定するのに役立つように配列された一連のリード線６８０に接続する。示されるように、感知素子は両端でリード線と接続するが、感知素子が一端のみでリード線と連結する実施形態も本発明において企図される。リード線６８０は、センサ６００周辺を巡っており、電子尾部６９０に接続され得る地点で集められる。電子尾部６９０は、反対側においてタッチ信号を読み取りタッチ位置を決定する制御電子装置（図示せず）と接続され得る。
【００２１】
図７は、本発明によるパターン化された層積層体を有するタッチセンサを構成する際に有用であり得る様々な層積層体パターンのさらなる非限定的な実施例を示す。図７（ａ）は、全有効タッチ領域にわたって電気的に連続する透明導電体層を備え得る層積層体７３０Ａのパターンを示す。覆われていない領域７４０Ａは正方形の規則的な配列として示されているが、任意の所望な構成に配列され得る。図７（ｂ）は、バーを分離する覆われていない領域７４０Ｂを有する、平行バー７３０Ｂが線状配列となるように配列された層積層体パターンを示す。図７（ｃ）は、三角形のバー７３０Ｃを分離する覆われていない領域７４０Ｃを有する、三角形のバー７３０Ｃが線状配列となるように配列された層積層体パターンを示す。他の配列が可能であることは、当業者には明白である。
【００２２】
図８は、ディスプレイ装置をセンサ８００を通して見ることができるように、本開示にしたがって、ディスプレイ装置８０５上に配置されたセンサ８００を備えるタッチセンサシステムの概略的側面図を示す。センサ８００は、タッチ位置等のセンサにおけるタッチ入力に関する情報が決定され得るように、センサと信号を送受信する制御電子装置８０１と接続される。ディスプレイ装置８０５は、ディスプレイ装置に示されるべきものと通信するコンピュータのＣＰＵ等の処理ユニット８０６に接続され得る。他の実施形態において、ディスプレイ装置は処理ユニットとの接続が必要ではないように静的（つまり、非変更）なディスプレイであり得る。制御電子装置８０１及び処理ユニット８０６は、タッチ入力情報がコンピュータ（図示せず）によって使用され、その結果がディスプレイ装置に表示されるように、接続され得る。
【００２３】
本開示の層積層体構造体と特定の比較構造体の可視光線の内部透過率を比較するために、光学モデルを使用した。構造体及び比較構造体の各々を、透明導電体パターンを備えない同様の制御構造体とも比較した。各層積層体構造体と対応する制御構造体との透過率の差異は、層積層体に覆われた領域対層積層体に覆われない領域の区別可能性の相対的レベルを示す。以下の構造体を評価し、各構造体において層を設計した：
構造体Ａ（制御）：
１．６７の屈折率層（ＰＥＴ基板をシミュレートするため）
１．５の屈折率層（光学接着剤をシミュレートするため）
構造体Ｂ（制御）：
１．６７の屈折率層（ＰＥＴ基板をシミュレートするため）
厚さ３０ｎｍ、１．４５の屈折率層（酸化シリコンをシミュレートするため）
１．５の屈折率層（光学接着剤をシミュレートするため）
構造体Ｃ：
１．６７の屈折率層（ＰＥＴ基板をシミュレートするため）
厚さ３０ｎｍ、１．４５の屈折率層（酸化シリコンをシミュレートするため）
厚さ２０ｎｍ、２．０の屈折率層（ＩＴＯをシミュレートするため）
厚さ３０ｎｍ、１．４５の屈折率層（酸化シリコンをシミュレートするため）
１．５の屈折率層（光学接着剤をシミュレートするため）
構造体Ｄ：
１．６７の屈折率層（ＰＥＴ基板をシミュレートするため）
厚さ３０ｎｍ、１．４６の屈折率層（酸化シリコンをシミュレートするため）
厚さ２０ｎｍ、２．０の屈折率層（ＩＴＯをシミュレートするため）
１．５の屈折率層（光学接着剤をシミュレートするため）
構造体Ｅ（比較）：
１．６７の屈折率層（ＰＥＴ基板をシミュレートするため）
厚さ２０ｎｍ、２．０の屈折率層（ＩＴＯをシミュレートするため）
１．５の屈折率層（光学接着剤をシミュレートするため）
構造体Ｆ（比較）：
１．６７の屈折率層（ＰＥＴ基板をシミュレートするため）
厚さ２０ｎｍ、２．０の屈折率層（ＩＴＯをシミュレートするため）
厚さ３０ｎｍ、１．４５の屈折率層（酸化シリコンをシミュレートするため）
１．５の屈折率層（光学接着剤をシミュレートするため）
図９は、これらの各構造体において可視スペクトルにわたる波長関数としての内部透過率を示す。構造体Ｃ及び構造体Ｄの各々を構造体Ａと比較することで、対応する層積層体構造体のパターンを有するセンサ構造において、層積層体に覆われた領域における内部透過率と層積層体に露出されたままの領域における内部透過率をどのように比較するかを示す。構造体Ｃ及び構造体Ｄの各々において、覆われた領域と露出された領域との間の可視光線の内部透過率の最大差異は約１％以下であって、可視スペクトルを超える内部透過率の平均差異は約０．５％以下であって、好ましくは０．３％以下である。ＰＥＴ基板とＩＴＯ導電性層との間の酸化シリコン層が構造体Ｃ及びＤの層積層体から除去される際、生じる構造体は比較構造体Ｆ及びＥによってそれぞれ例示される。図９から分かるように、比較構造体Ｆ及びＥにおける内部透過率は、全可視スペクトルにわたって構造体Ｃ及びＤよりも著しく低い。このように、本開示の構造体は、接触感応オーバーレイにおいて全体の透過率を改善し、層積層体に覆われた領域対層積層体に覆われない領域においてセンサを通る光透過率の差異を低減し得る。
【００２４】
本発明は、上に記載した特定の実施例に限られるとみなすべきではなく、添付の請求項で明確に提示されているとおり、本発明のあらゆる態様を網羅していると理解すべきである。本発明に関連する当業者には、本発明の明細書を検討することにより、様々な修正、同等の方法、並びに、本発明を適用可能と思われる多くの構造は容易に明らかになるであろう。
【００２５】
添付の図面と共に以下の本発明の様々な実施形態の詳細な説明を検討することで、本発明はより完全に理解され得る。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本開示によるセンサ構造体の概略的側面図。
【図２】本開示による他のセンサ構造体の概略的側面図。
【図３】本開示による他のセンサ構造体の概略的側面図。
【図４】本開示による他のセンサ構造体の概略的側面図。
【図５】本開示による他のセンサ構造体の概略的側面図。
【図６】本開示による他のセンサ構造体の概略的平面図。
【図７ａ】感知素子配列の概略的平面図。
【図７ｂ】感知素子配列の概略的平面図。
【図７ｃ】感知素子配列の概略的平面図。
【図８】タッチセンサシステムの略図。
【図９】本開示による構造体及び比較構造体を含む様々なセンサ構造における可視スペクトルにわたる透過率のプロット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図７ｃ】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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